AT153459B - Mosaikplatte mit durchgehenden Mosaikelektroden, insbesondere für Bildzerlegerröhren. - Google Patents

Description

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  Mosaikplatte mit durchgehenden Mosaikelektroden, insbesondere für   Bildzerlegerröhren.   
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 zusammenhängende Metallschicht 3 erzeugt (Fig. 1). Sodann wird die Platte von unten her durch das Netz 2 hindurch mit Karborundpulver beschossen, so dass an den Stellen 4 Löcher entstehen. 



  Es wurde gefunden, dass die so entstehenden Löcher wesentlich kleiner sind als die Öffnungen des
Netzes. Nach der Durchlochung geht die zusammenhängende Metallschicht 3 nicht mehr ganz bis zum Rand des Loches, sondern hört in gewisser Entfernung vor dem Rand auf. Vielfach entsteht auch bei der Durchlochung ein Gratrand, welcher verhindert, dass die Metallisierung bis an den Rand des Loches stehenbleibt. 



   Nunmehr wird auf der metallisierten, Seite eine dünne Kollodiumschicht 6 aufgetragen, die auch die Löcher überdeckt. Als nächster Arbeitsgang wird von unten her ein Metall aufgedampft, u. zw. wiederum durch ein Netz oder eine andere geeignete Schablone. Am besten erfolgt die Auf- dampfung durch dasselbe Netz wie die Durchlöcherung, so dass das Netz während des ganzen Her- stellungsganges der Platte anliegen kann und nur gegebenenfalls während des Auftragens der Kollodium- schicht abgehoben zu werden braucht. Es entstehen nunmehr lauter voneinander und gegen die Metall- sierung 3 isolierte Mosaikelemente   5,   die die Löcher abdecken (Fig. 2). 



   Werden nunmehr die Kollodiumschicht (z. B. durch Auflösung in Aceton) und das Netz ent- fernt, so wird eine betriebsfertige und allen Anforderungen genügende Mosaikplatte erhalten (Fig. 3). 



   Durch die Verwendung von Glimmer wird dabei noch der Vorteil erhalten, dass beim Betrieb keine nachträgliche Gasabgabe zu befürchten ist. Eine entsprechend hergestellte Mosaikplatte ist natürlich auch bei einseitigen Ikonoskopen verwendbar. In diesem Fall kann die Hilfsschicht 6 auf der Platte verbleiben. 



   Um das Netz während der Herstellung der Platte fest gegen diese zu drücken, wird zweckmässig eine Spannvorrichtung benutzt. Am einfachsten werden Glimmerplatte und Netz gegen eine Pass- fläche gedrückt, die eine geringe Wölbung aufweist. In der Zeichnung würde eine solche Passfläche von unten her angedrückt werden. 



   Die bei Verwendung der Mosaikplatte in Bildzerlegerröhren erforderliche Gegenelektrode braucht nicht als zusammenhängende Metallschicht auf oder auch innerhalb der Isolierplatte ausgebildet zu sein. Es kann auch das für die Herstellung benutzte Netz nach Beendigung des Verfahrens auf die andere Seite der Platte umgesetzt und an dieser befestigt werden. In diesem Fall kann eine besondere zusammenhängende Metallisierung fortfallen, da das Netz als Gegenelektrode für alle Mosaik- elektroden dient. 



   Bei Photomosaiks für Bildzerlegerröhren wird die eine Oberfläche der Mosaikelektroden mit einem stark photoelektrischen Material, vorzugsweise Caesium, aktiviert, während die andere, vom Kathoden- strahl bestrichen Fläche   zweckmässig   auf einem andern Metall gebildet wird, welches weder selbst noch als Oxyd Caesium bindet. Hiefür kommt besonders Nickel in Frage. Es werden dann bei der
Aufdampfung zwei aus verschiedenen Metallen, z. B. Silber und Nickel, bestehende Schichten unmittelbar aufeinander erzeugt. Die Silberschicht wird dann oberflächlich oxydiert und mit Caesium aktiviert. 



   PATENT-ANSPRÜCHE :
1. Verfahren zur. Herstellung von doppelseitigen   Mosaikplatten,'insbesondere   für Photomosaike in   Bildzerlegerröhren,   dadurch gekennzeichnet, dass eine durchlochte Isolierplatte (1) auf der einen
Seite mit einer Hilfsschicht   (6)   versehen, dann die Mosaikelemente   (5)   durch Bedampfen der andern
Seite hergestellt und schliesslich die Hilfsschicht   (6)   wieder entfernt wird.

Claims (1)

1. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass als Hilfsschicht (6) eine Kollodium- schicht verwendet wird, die nach Herstellung des Mosaiks, z. B. durch Auflösen in Aceton, entfernt wird.

   3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Aufdampfung der Mosaik- elemente (5) durch eine Schablone, z. B. ein Netz (2), vorgenommen wird.

   4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass bei der Herstellung von einer homogenen Isolierschicht (1), z. B. einer Glimmer-oder Glasfolie, ausgegangen wird.

   5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Löcher in der Isolierplatte (1) mittels eines Strahlgebläses, welches beispielsweise mit Karborund betrieben wird, hergestellt werden, wobei zwischen Gebläse und Isolierplatte eine Schablone (2) angeordnet ist.

   6. Verfahren nach den Ansprüchen 3 und 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Durchlochung der Isolierplatte (1) und die Aufdampfung der Elemente (5) durch dieselbe Schablone (2) vorge- nommen wird.

   7. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Isolierplatte vor der Durchlochung auf der einen Seite, z. B. durch Aufdampfung, mit einer zusammenhängenden, später als Gegenelektrode dienenden Metallschicht (3) versehen wird.

   8. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass nacheinander zwei aus verschiedenen Metallen, z. B. Nickel und Silber, bestehende Schichten aufgedampft werden.

   9. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Netz (2) während des ganzen Herstellungsganges der Glas-oder Glimmerfolie dicht anliegt und nur während der Auftragung der Kollodiumschicht (6) gegebenenfalls abgehoben wird. <Desc/Clms Page number 3>

   10. Verfahren nach Anspruch 9, gekennzeichnet durch die Verwendung einer z. B. aus einer gewölbten Passfläche bestehenden Spannvorrichtung, mittels derer das Netz (2) gegen die Folie gedrückt wird.

   11. Mosaikplatte, hergestellt nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass das bei der Herstellung verwendete Netz (2) nach Fertigstellung der Platte als Gegenelektrode verwendet wird.

   12. Mosaikplatte nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass das Netz (2) nach Fertigstellung der Platte auf der andern Plattenseite befestigt ist. EMI3.1