AT152260B

AT152260B - Verfahren zur Herstellung von abgegrenzten Schichten in Vakuumgefäßen.

Info

Publication number: AT152260B
Authority: AT
Original assignee: Fernseh Ag
Priority date: 1936-03-21
Filing date: 1937-03-18
Publication date: 1938-01-25

Description

Verfahren zur Herstellung von abgegrenzten Schichten in Vakuumgefässen.
EMI1.1

Das Verfahren nach der Erfindung empfiehlt sich besonders bei der Herstellung eines leitenden Grundbelages für den Leuchtschirm einer Kathodenstrahlröhre oder für die Photokathode einer Bildzerlegerröhre nach Farnthworth. Eine solche Bildzerlegerröhre ist in Fig. 3 dargestellt. Innerhalb des Vakuumgefässes j ! ist die Strahlenquelle 2 angeordnet, die mit einer Abschirmung 4 umgeben ist.

Mittels der Strahlenquelle werden zwei leitende Beläge 5 und 6 hergestellt, die durch eine nichtbedampfte Zone 13 voneinander isoliert sind. Diese Zone wird dadurch gewonnen, dass die Gefässwand bei 7 zu einer Rille eingezogen ist, so dass ein Teil der Rillenwandung den andern Teil beschattet. Die die ebene Abschlusswand der Röhre bedeckende Schicht 6 wird durchsichtig ausgebildet und danach mit einem geeigneten Material so weiter behandelt, dass sie als Photokathode dienen kann. Die Schicht 5 steht mit einem bereits vorher aufgebrachten leitenden Belag 8 in unmittelbarer Verbindung und wird z. B. auf Anodenpotential gebracht. Das die Strahlenquelle tragende System dient später als Anode und enthält eine Zerlegeröffnung.

Die Erfindung kann ferner mit Vorteil bei Sekundärelektronenverstärkern angewendet werden.

Eine solche Verstärkerröhre zeigt Fig. 4. Die Bestrahlung ist dabei von einer ganz links gelegenen Quelle aus vorgenommen worden. Das Vakuumgefäss 1 besitzt eine Anzahl von ringsherumlaufenden Rillen 9 und von nach innen vorspringenden Warzen 10, die so angeordnet sind, dass beim Aufdampfen voneinander isolierte, sich paarweise gegenüberliegende Elektroden 11 entstehen. Auf einer der am weitesten links gelegenen Elektroden werden in geeigneter Weise Elektronen ausgelöst. Diese werden auf eine der weiteren Elektroden gerichtet und lösen dort eine vergrösserte Anzahl von Sekundärelektronen aus. Eine Platte 12 dient als Endanode.

Es können auch Fälle vorkommen, in denen auf einer leitenden Innenwand voneinander abgegrenzte Schichten nach dem Aufdampfverfahren hergestellt werden sollen. Das Verfahren der Erfindung ist naturgemäss auch in diesen Fällen anwendbar. Als weitere Anwendungsmöglichkeit sei noch die Herstellung von Elektronenlinsen, die aus zahlreichen aufeinanderfolgenden, leitenden Ringen bestehen, genannt. Solche Linsen sind beispielsweise beschrieben im Archiv für Elektrotechnik XXVIII, S. 6 und 7 (1934), insbesondere Fig. 13.

PATENT-ANSPRÜCHE ;
1. Verfahren zur Herstellung von abgegrenzten, vorzugsweise metallischen Schichten in Vakuumgefässen mittels einer Strahlenquelle, insbesondere durch Aufdampfung, dadurch gekennzeichnet, dass die Gefässwand und die Strahlenquelle so ausgebildet bzw. angeordnet werden, dass ein Teil der Gefässwand von der Strahlenquelle aus gesehen einen andern Wandteil beschattet oder dass an der Gefässwand entsprechende Blenden angebracht werden.

Claims

2. Verfahren nach Anspruch 1 zur Herstellung eines Ereisflächenbelages auf dem Schirmboden eines Kolbens, dadurch gekennzeichnet, dass der vor dem Boden liegende Wandteil eine vertiefte oder erhabene Rille erhält oder sich nach dem Schirm zu plötzlich erweitert und dass die Strahlquelle auf der der zu bestäubenden Bodenfläche abgewandten Seite dieser Rille oder Erweiterung liegt.

3. Verfahren nach Anspruch 1 zur Herstellung eines oder mehrerer hintereinanderliegender zylinderförmiger Beläge auf der Innenwand eines zylindrischen Gefässes, dadurch gekennzeichnet, dass auf der zylindrischen Wand eine oder mehrere hintereinanderliegende vertiefte oder erhabene Rillen vorgesehen sind oder dass sich die Weite des Gefässes in einer oder mehreren Stufen plötzlich vergrössert und dass die Strahlenquelle sich von jeder Rille oder Erweiterung aus gesehen auf der gleichen Seite befindet.

4. Verfahren nach Anspruch 1 zur Herstellung eines kappenförmigen Belages auf dem Boden eines Kolbens und eines davon getrennten zylindrischen Belages, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen Zylinder und Kappe eine erhabene oder hohle Rille oder ein plötzlicher Übergang von einem engeren zu einem weiteren Durchmesser vorhanden ist und dass die Strahlenquelle im engeren Teil so angeordnet ist, dass eine genügend lange Zylinderfläche noch bestrahlt wird.