AT14334B - Verfahren und Einrichtung zur Verminderung der bei elektrolytischen Prozessen auftretenden sekundären Reaktionen. - Google Patents
Verfahren und Einrichtung zur Verminderung der bei elektrolytischen Prozessen auftretenden sekundären Reaktionen.Info
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Landscapes
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Description
<Desc/Clms Page number 1> EMI1.1 EMI1.2 EMI1.3 EMI1.4 <Desc/Clms Page number 2> Zur Vermeidung von schädlichen Strömungen wird zwischen die beiden Elektroden ein z. B. aus Salz oder Glaspulver bestehendes Diaphragma e eingeschaltet, welches zwar jede grössere Ftüssigkeitsbowogung bintanhält, jedoch das Vordringen desd Elektrolyten gegen die Kathode nicht hindert. Der an Kathoden-Resdktionsprodukten angereicherte Elcktrolyt wird an der Kathode abgezogen. PATENT-ANSPRÜCHE : l. Verfahren zur Verminderung der bei elektrolytischen Prozessen auftretenden sekundären Reaktionen, dadurch gekennzeichnet, dass der Elektrolyt in einen der elektro- lytischen Wirkung fast vollständig entzogenen Raum eingeführt wird, aus welchem ihm der Eintritt in die elektrolytische Zelle nur durch enge Öffnungen, in welchen sich die Anoden befinden, gestattet ist, so dass die Anoden fortwährend von ziemlich rasch gegen die Kathode hin strömender Elektrolytflüssigkeit umhüllt werden, welche die jeweilig entstandenen Kathodenprodukte von den Anoden zurückdrängt. 2. Zur Durchführung des unter 12 gekennzeichneten Verfahrens die Anordnung einer oder mehrerer Anoden in Verbindung mit einem isolierenden Körper, dadurch gekenn- zeichnet, dass der isolierende Körper (b) einen Abschluss der elektrolytischen Zelle (a) darstellt, welcher nur durch Kleine bezw. schmale Öffnungen (c) unterbrochen ist, durch welche die Anoden (d) in die Zelle hineinragen. 3. Mine Ansführungsform der unter 2 gekennzeichneten Anordnung, bei we) chor die EMI2.1 hineinragen (Fig. 1). **WARNUNG** Ende DESC Feld kannt Anfang CLMS uberlappen**.
Claims (1)
- 4. Eine Ausführungsform der unter 2 gekennzeichneten Anordnung, bei welcher die isolierende Scheidewand durch eine Reihe nebeneinander gelegter Streifen (b) aus Glas oder einem beliebigen anderen isolierenden Material gebildet wird, während die Anoden ( (1) in schmale, zwischen den genannten Streifen freigelassene Spalten (c) hineinragen. EMI2.2 **WARNUNG** Ende CLMS Feld Kannt Anfang DESC uberlappen**.
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| AT14334T | 1903-04-20 |
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