KR890007120A - 염료를 함유하는 양성-작용성 감광성 조성물 및 이러한 조성물로부터 제조된 양성-작용성 감광성 기록물질 - Google Patents
염료를 함유하는 양성-작용성 감광성 조성물 및 이러한 조성물로부터 제조된 양성-작용성 감광성 기록물질 Download PDFInfo
- Publication number
- KR890007120A KR890007120A KR1019880014064A KR880014064A KR890007120A KR 890007120 A KR890007120 A KR 890007120A KR 1019880014064 A KR1019880014064 A KR 1019880014064A KR 880014064 A KR880014064 A KR 880014064A KR 890007120 A KR890007120 A KR 890007120A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- photosensitive
- positive
- compound
- composition according
- photosensitive composition
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/091—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by antireflection means or light filtering or absorbing means, e.g. anti-halation, contrast enhancement
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (8)
- 감광성 화합물, 물에 불용성이고 알칼리성 수용액에 가용성이거나 팽윤성인 결합제 및 염료로 이루어진 양성-작용성 감광성 조성물에 있어서, 염료가 λ=365±15㎚에서 광을 흡수하고 일반식(Ⅰ)에 상응하는 비표백성 화합물임을 특징으로 하는 조성물.상기식에서, R1내지 R4는 동일하거나 상이하며, 수소, 알킬, 하이드록시알킬 또는 알콕시알킬을 나타내고, R5및 R6은 동일하거나 상이하며, 수소, 알킬, 하이드록시알킬 알콕시알킬 또는 할로겐을 나타낸다.
- 제 1 항에 있어서, O-퀴논 디아지드가 감광성 화합물로서 존재하는 감광성 조성물.
- 제 1 항에 있어서, C-O-C그룹을 함유하는 산분리성 화합물과의 혼합물 형태의 광분해성 산 공여체가 감광서 화합물로서 존재하는 감광성 조성물.
- 제 3 항에 있어서, 유기 할로겐 화합물이 광분해성 산 공여체로서 존재하는 감광성 조성물.
- 제 1 항 내지 제 4 항중의 어느 한 항에 있어서, 노볼락 축합 수지가 결합제로서 존재하는 감광성 조성물.
- 제 5 항에 있어서, 알칼리 가용성 노볼락 축합수지가 20중량%이하의 비율로 다른 수지와 함께 혼합된 감광성 조성물.
- 필수적으로, 통상적으로 감광성 내식막용으로 사용되는 형태의 지지체와 감광성 층으로 이루어진 양성-작용성 감광성 기록물질에 있어서, 기록물질이 감광성 층으로서 제 1 항 내지 제 6 항에서 청구한 조성물을 포함함을 특징으로 하는 양성-작용성 감광성 기록물질.
- 제 7 항에서 청구한 양성-작용성 기록물질을 λ=365㎚에서 마스크 원본을 통해 노출시키고, 수성알칼리성 현상제로 형상하거나, 또는 120˚C 로 가열한 다음, λ=365 내지 436㎚에서 전체 노출시키고, 이어서 수성 알칼리성 현상제로 현상함을 특징으로 하여 감광성 내식막 패턴을 제조하는 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEP3736758.7 | 1987-10-30 | ||
DE19873736758 DE3736758A1 (de) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | Positiv arbeitendes lichtempfindliches gemisch, enthaltend einen farbstoff, und daraus hergestelltes positiv arbeitendes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR890007120A true KR890007120A (ko) | 1989-06-19 |
KR960015638B1 KR960015638B1 (ko) | 1996-11-18 |
Family
ID=6339393
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019880014064A KR960015638B1 (ko) | 1987-10-30 | 1988-10-28 | 염료를 함유하는 포지티브-작용성 감광성 조성물 및 이러한 조성물로부터 제조된 포지티브-작용성 감광성 기록물질 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0314037B1 (ko) |
JP (1) | JP2608940B2 (ko) |
KR (1) | KR960015638B1 (ko) |
DE (2) | DE3736758A1 (ko) |
HK (1) | HK25596A (ko) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2711590B2 (ja) * | 1990-09-13 | 1998-02-10 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ型フオトレジスト組成物 |
JP2579387B2 (ja) * | 1990-12-12 | 1997-02-05 | 三菱化学株式会社 | フォトレジスト組成物 |
JP2838335B2 (ja) * | 1992-02-03 | 1998-12-16 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
US5275909A (en) * | 1992-06-01 | 1994-01-04 | Ocg Microelectronic Materials, Inc. | Positive-working radiation sensitive mixtures and articles containing alkali-soluble binder, o-quinonediazide photoactive compound and BLANKOPHOR FBW acting dye |
US5290418A (en) * | 1992-09-24 | 1994-03-01 | Applied Biosystems, Inc. | Viscous electrophoresis polymer medium and method |
JPH08146599A (ja) * | 1994-11-24 | 1996-06-07 | Nec Corp | 感光性組成物とこれを用いた微細パターン形成方法 |
JP3436843B2 (ja) * | 1996-04-25 | 2003-08-18 | 東京応化工業株式会社 | リソグラフィー用下地材及びそれを用いたリソグラフィー用レジスト材料 |
JP4333095B2 (ja) * | 1998-10-30 | 2009-09-16 | 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 | 感光性重合体組成物、レリーフパターンの製造法及び電子部品 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3307943A (en) * | 1963-05-14 | 1967-03-07 | Du Pont | Image reproduction elements and processes |
JPS6088941A (ja) * | 1983-10-21 | 1985-05-18 | Nagase Kasei Kogyo Kk | フオトレジスト組成物 |
JPS61231541A (ja) * | 1985-04-06 | 1986-10-15 | Nippon Seihaku Kk | 感光性平版印刷版材 |
JPS61241759A (ja) * | 1985-04-18 | 1986-10-28 | Toray Ind Inc | 水なし平版印刷版 |
-
1987
- 1987-10-30 DE DE19873736758 patent/DE3736758A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-10-24 EP EP88117655A patent/EP0314037B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-24 DE DE88117655T patent/DE3887955D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-28 KR KR1019880014064A patent/KR960015638B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1988-10-28 JP JP63271079A patent/JP2608940B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-02-08 HK HK25596A patent/HK25596A/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR960015638B1 (ko) | 1996-11-18 |
JPH01154049A (ja) | 1989-06-16 |
DE3736758A1 (de) | 1989-05-11 |
JP2608940B2 (ja) | 1997-05-14 |
DE3887955D1 (de) | 1994-03-31 |
EP0314037B1 (de) | 1994-02-23 |
HK25596A (en) | 1996-02-16 |
EP0314037A3 (en) | 1990-10-31 |
EP0314037A2 (de) | 1989-05-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA1094379A (en) | Photosensitive composition | |
US5547808A (en) | Resist composition having a siloxane-bond structure | |
KR890007117A (ko) | 염료를 함유하는 양성-작용성 감광성 조성물 및 이 조성물로부터 제조된 양성-작용성 감광성 기록물질 | |
KR890010614A (ko) | 페놀성수지와 디아조퀴논 화합물을 함유하는 광민감성 조성물 | |
KR850004660A (ko) | 감-방사선 조성물 | |
KR900018746A (ko) | 공중합체 결합제를 사용한 감광성 내식막 | |
KR860004334A (ko) | 방사선감수성 조성물, 이를 사용하여 제조한 기록물질 및 내열성 기록 양각 상의 제조방법 | |
US5348838A (en) | Photosensitive composition comprising alkali soluble binder and photoacid generator having sulfonyl group | |
JPS56110927A (en) | Manufacture of silver halide photographic material | |
JPS5587151A (en) | Developing solution composition for lithographic printing plate | |
JPS5555335A (en) | Photosensitive composition | |
KR860008476A (ko) | 심부 자외선 석판인쇄 내식막 조성물 및 그의 이용법 | |
KR870011503A (ko) | 혼합 에스테르 o-퀴논 감광제 | |
US4931381A (en) | Image reversal negative working O-quinone diazide and cross-linking compound containing photoresist process with thermal curing treatment | |
KR900702421A (ko) | 주형 용매로서 에틸 락테이트와 에틸 3-에톡시 프로피오네이트의 선택된 혼합물을 사용하는 포지티브 작용성 감광성 내식막 | |
TW312754B (ko) | ||
KR890007120A (ko) | 염료를 함유하는 양성-작용성 감광성 조성물 및 이러한 조성물로부터 제조된 양성-작용성 감광성 기록물질 | |
KR940020179A (ko) | 범용 네가티브 톤 포토레지스트 | |
KR920018521A (ko) | 광감지성 조성물 및 방법 | |
JPS56162744A (en) | Formation of fine pattern | |
KR890013459A (ko) | 폴리설폰 차단층을 포함하는 감조사성 기록재료 | |
KR910012756A (ko) | 렌즈 형성용의 포지티브 감광성 조성물 | |
KR890008606A (ko) | 포지티브-워킹 포토레지스트 조성물 | |
KR870011502A (ko) | 감광제 조성물 | |
EP0420827B1 (en) | Aqueous base developable negative resist compositions |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
G160 | Decision to publish patent application | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20081110 Year of fee payment: 13 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |