JPS61241759A - 水なし平版印刷版 - Google Patents
水なし平版印刷版Info
- Publication number
- JPS61241759A JPS61241759A JP8321485A JP8321485A JPS61241759A JP S61241759 A JPS61241759 A JP S61241759A JP 8321485 A JP8321485 A JP 8321485A JP 8321485 A JP8321485 A JP 8321485A JP S61241759 A JPS61241759 A JP S61241759A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive layer
- silicone rubber
- weight
- layer
- rubber layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/091—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by antireflection means or light filtering or absorbing means, e.g. anti-halation, contrast enhancement
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、水なし平版印刷版に関するものであり、特に
微小網点再現性に優れ念水なし平版印刷版に関するもの
である。
微小網点再現性に優れ念水なし平版印刷版に関するもの
である。
水なし平版印刷版の感光性化合物として、〇−ナフトキ
ノンジアジドスルホン酸とフェノールノボラック樹脂の
エステル化合物が感光特性、保存安定性の点で優れてお
り、過去にい（つか提案されている。
ノンジアジドスルホン酸とフェノールノボラック樹脂の
エステル化合物が感光特性、保存安定性の点で優れてお
り、過去にい（つか提案されている。
例えば、特開昭５５−５９４６６号公報には。
アルミ板に裏打ちされた。キノンジアジド化合物からな
る光可溶化型感光層の上に接着層を介してシリコーンゴ
ム層を設けた水なし平版印刷版が開示されている。また
、特開昭５６−８００４６号公報には、ナフトキノン−
１，２−ジアジド−５−スルホン酸クロリドとフェノー
ルノボラック樹脂の部分エステル化物を多官能イソシア
ネートで架橋した光剥離性感光層の上にシリコーンゴム
層を設けた水なし平版印刷版が開示されている。
る光可溶化型感光層の上に接着層を介してシリコーンゴ
ム層を設けた水なし平版印刷版が開示されている。また
、特開昭５６−８００４６号公報には、ナフトキノン−
１，２−ジアジド−５−スルホン酸クロリドとフェノー
ルノボラック樹脂の部分エステル化物を多官能イソシア
ネートで架橋した光剥離性感光層の上にシリコーンゴム
層を設けた水なし平版印刷版が開示されている。
これらの従来技術による水なし平版印刷版は。
以下の問題がある。
（１）光可溶化型感光層の上に、シリコーンゴム層を設
けた水なし平版印刷版の場合９画線部は感光層ごと除去
して基板を露出させた平凹版である。
けた水なし平版印刷版の場合９画線部は感光層ごと除去
して基板を露出させた平凹版である。
従って、セルの深度は、シリコーンゴム層と感光層の膜
厚を合計したものになり、セルの深度が深い場合は、微
小網点部のインキが着肉しに＜＜。
厚を合計したものになり、セルの深度が深い場合は、微
小網点部のインキが着肉しに＜＜。
いわゆる素抜は現象がおこる。そのため、シリ；−ンゴ
ム層および感光層の膜厚を薄くすることが試みられたが
、シリコーン、ゴム層の膜厚を薄くシすぎると、＃４刷
性およびインキ反発性が低下する。
ム層および感光層の膜厚を薄くすることが試みられたが
、シリコーン、ゴム層の膜厚を薄くシすぎると、＃４刷
性およびインキ反発性が低下する。
一方、感光層の膜厚を薄くしすぎると、基板からのハレ
ーション等の影響により、微小な網点が再現されにくく
なる。
ーション等の影響により、微小な網点が再現されにくく
なる。
（２）光剥離性感光層の上に、シリコーンゴム層を設け
た水なし平版印刷版の場合は、シリコーンゴム層のみが
除去されて感光層が画線部となるため、セルの深度は実
質的に、シリコーンゴム層の膜厚ぶんだけになり、いわ
ゆる素抜は現象に対しては、非常に有利である。ところ
が、このように多官能インシアネートなどで架橋した光
剥離性感光層を用いた場合、印刷時の衝撃力を感光層が
緩和しきれず、印刷時にひび割れ、クラックなどが感光
層に入り、そのひび割れ、クラックなどにそってシリコ
ーンゴム層が破壊され、ｉｉ４刷性刷子低下因となる。
た水なし平版印刷版の場合は、シリコーンゴム層のみが
除去されて感光層が画線部となるため、セルの深度は実
質的に、シリコーンゴム層の膜厚ぶんだけになり、いわ
ゆる素抜は現象に対しては、非常に有利である。ところ
が、このように多官能インシアネートなどで架橋した光
剥離性感光層を用いた場合、印刷時の衝撃力を感光層が
緩和しきれず、印刷時にひび割れ、クラックなどが感光
層に入り、そのひび割れ、クラックなどにそってシリコ
ーンゴム層が破壊され、ｉｉ４刷性刷子低下因となる。
そのため、感光層の膜厚を薄くすることが試みられ念が
、印刷時のひび割れ、クラックの生成にとっては効果が
認められても、基板からのハレーション等によって微小
な網点が再現されにくくなる。
、印刷時のひび割れ、クラックの生成にとっては効果が
認められても、基板からのハレーション等によって微小
な網点が再現されにくくなる。
本発明の目的は、上述の従来技術の欠点を解消し、感光
層を薄くしても、微小網点再現性の良好な水なし平版印
刷版を提供することにある。
層を薄くしても、微小網点再現性の良好な水なし平版印
刷版を提供することにある。
本発明は、支持体、キノンジアジド化合物を含有する感
光層およびシリコーンゴム層をこの順に積層してなる水
なし平版印刷版において、該感光層に光吸収剤が含まれ
ていることを特徴とする水なし平版印刷版に関するもの
である。
光層およびシリコーンゴム層をこの順に積層してなる水
なし平版印刷版において、該感光層に光吸収剤が含まれ
ていることを特徴とする水なし平版印刷版に関するもの
である。
本発明の感光層に用いられるキノンジアジド化合物は１
例えば通常ポジ型ｐｓ版、ワイボン版。
例えば通常ポジ型ｐｓ版、ワイボン版。
フォトレジストなどに用、いられているキノンシア類を
さす。具体的な化合物としては９例えばベンゾキノン−
１，２−ジアジド−４−または−５−スルホン酸トポリ
ヒドロキシフェニルとのエステル、ナフトキノン−１，
２−ジアジド−４−または−５−スルホン酸とピロガロ
ールアセトン樹脂とのエステル、ナフトキノン−１，２
−ジアジド−４−１７１１−５−スルホン酸と７エノー
ルホルムアルテヒドノボラツク樹脂またはカシ臭変性ノ
ボラック樹脂とのエステルが挙げられる。また。
さす。具体的な化合物としては９例えばベンゾキノン−
１，２−ジアジド−４−または−５−スルホン酸トポリ
ヒドロキシフェニルとのエステル、ナフトキノン−１，
２−ジアジド−４−または−５−スルホン酸とピロガロ
ールアセトン樹脂とのエステル、ナフトキノン−１，２
−ジアジド−４−１７１１−５−スルホン酸と７エノー
ルホルムアルテヒドノボラツク樹脂またはカシ臭変性ノ
ボラック樹脂とのエステルが挙げられる。また。
特開昭５６−８００４６号公報で提案されているような
キノンジアジド類を多官能化合物で架橋せしめた光剥離
性感光層が挙げられる。
キノンジアジド類を多官能化合物で架橋せしめた光剥離
性感光層が挙げられる。
本発明におけるキノンジアジド化合物として。
特に好ましいものは、ナフトキノン−１，２−ジアジド
−５−スルホン酸とフェノールホルムア〃デヒドノボラ
ツク樹脂の部分エステル化物である。
−５−スルホン酸とフェノールホルムア〃デヒドノボラ
ツク樹脂の部分エステル化物である。
また、感光層中には、塗膜形成性の向上や接着性向上な
どの目的で、他のポリマや可塑剤などの成分を加えたり
することも可能である。
どの目的で、他のポリマや可塑剤などの成分を加えたり
することも可能である。
感光層中に添加すべき光吸収剤としては、紫外・可視吸
収スペクトルにおいて、 ５０．０ｎｍから４５０ｎｍ
の間に、吸収極大を肴し、極大値の分子吸光係数がｉｏ
ｏから５０，０００／争ｍｏｌ 、好ましくは、２０
０から４０．０００７−ｍｏｌ の範囲に入るものが
好ましい、具体的には、サルチル酸エステル系の光吸収
剤９例えば、フェニルサリシレート。
収スペクトルにおいて、 ５０．０ｎｍから４５０ｎｍ
の間に、吸収極大を肴し、極大値の分子吸光係数がｉｏ
ｏから５０，０００／争ｍｏｌ 、好ましくは、２０
０から４０．０００７−ｍｏｌ の範囲に入るものが
好ましい、具体的には、サルチル酸エステル系の光吸収
剤９例えば、フェニルサリシレート。
ｐ −ｔ、ｅｒｔ−プチルフェニルサリシレート、Ｐ−
オクチルフェニルサリシレートなど、ベンゾフェノン系
の光吸収剤９例えば、２，４−ジ−ヒドロキシベンゾフ
ェノン、２−ヒドロキシ−４−アセトキシベンゾフェノ
ン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２
，２／−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、
２，２／−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾ
フェノン、４，４／−ジメチルアミノベＸシフエノン、
４．４／−ジエチルアミノベンゾフェノンなど、ベンゾ
トリアゾール系の光吸収剤１例えば、２（２／−ヒドロ
苓シーダーメチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（
２′−ヒドロキシ−３／、５／−ジーｔａｒｔ−ブチル
フェール）ベンゾトリアゾールなど、その他、ニッケル
錯塩系、アゾ化合物系等の光吸収剤が挙げられる。これ
らの光吸収剤のうち、感光層との相溶性の点でベンゾフ
ェノン系の光吸収剤が特に好ましく用いられる。
オクチルフェニルサリシレートなど、ベンゾフェノン系
の光吸収剤９例えば、２，４−ジ−ヒドロキシベンゾフ
ェノン、２−ヒドロキシ−４−アセトキシベンゾフェノ
ン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２
，２／−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、
２，２／−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾ
フェノン、４，４／−ジメチルアミノベＸシフエノン、
４．４／−ジエチルアミノベンゾフェノンなど、ベンゾ
トリアゾール系の光吸収剤１例えば、２（２／−ヒドロ
苓シーダーメチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（
２′−ヒドロキシ−３／、５／−ジーｔａｒｔ−ブチル
フェール）ベンゾトリアゾールなど、その他、ニッケル
錯塩系、アゾ化合物系等の光吸収剤が挙げられる。これ
らの光吸収剤のうち、感光層との相溶性の点でベンゾフ
ェノン系の光吸収剤が特に好ましく用いられる。
特に好ましくは、下記の一般式で示されるアミノベンゾ
フェノン Ｃ式中、 Ｒ，、Ｒ，、Ｒ１１，Ｒ４はそれぞれ水素ま
たは炭素数が４以下のアルキル基である）が挙げられる
。
フェノン Ｃ式中、 Ｒ，、Ｒ，、Ｒ１１，Ｒ４はそれぞれ水素ま
たは炭素数が４以下のアルキル基である）が挙げられる
。
これらの光吸収剤は、単独あるいは二種以上を併用して
用いることが可能であるが、感光層中への添加量として
は９通常１重量係から２０重量俤の範囲が好ましい、１
重量％未満の場合は１本発明の効果が発現しないし、ま
た２０重量係を超えると、感光層との相溶性が悪くなり
、光吸収性剤が析出してくる可能性が大きい。
用いることが可能であるが、感光層中への添加量として
は９通常１重量係から２０重量俤の範囲が好ましい、１
重量％未満の場合は１本発明の効果が発現しないし、ま
た２０重量係を超えると、感光層との相溶性が悪くなり
、光吸収性剤が析出してくる可能性が大きい。
上記の感光層を形成するための組成物は適当な有機溶剤
（例えば、ジオキサン、テトラヒト四フラン、セロソル
ブ、セロソルブアセテートなど）に溶解させることによ
って調製される。
（例えば、ジオキサン、テトラヒト四フラン、セロソル
ブ、セロソルブアセテートなど）に溶解させることによ
って調製される。
感光層の厚さは、前述したように薄い方が好ましいが、
あまり薄すぎるとピンホールを生じ易くなり９通常０．
１〜２０μ、より好ましくは、０．１〜５μが選ばれる
。
あまり薄すぎるとピンホールを生じ易くなり９通常０．
１〜２０μ、より好ましくは、０．１〜５μが選ばれる
。
本発明で用いられるシリコーンゴム層は９通常次のよう
な繰り返し単位を有する分子量数千〜数十刃の線状有機
ポリシロキサンを主成分とするものである。
な繰り返し単位を有する分子量数千〜数十刃の線状有機
ポリシロキサンを主成分とするものである。
ここでｎは２以上の整数、Ｒは炭素数１〜１０のアルキ
ル基、アルケニル基あるいは７エエル基であり、Ｈの６
０係以上がメチル基であるものが好ましい。このような
線状有機ポリシロキサンをまばらに架橋してシリコーン
ゴムとするものである。架橋剤としては、いわゆる室温
（低温）硬化型のシリコーンゴムに使われているアセト
キシシラン、ケトオキシムシラン、アルコキシシラン、
゛アミノシラン、アミドシランなどであり９通常線状有
機ポリシロキサンとして末端が水酸基であるものと組み
合わせて、各々脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコール
型、脱アミン型、脱アミド型の“ シリコーンゴムとな
る。これらのシリコーンゴムには、更に触媒として少量
の有機スズ化合物等が添加されるのが一般的である。
ル基、アルケニル基あるいは７エエル基であり、Ｈの６
０係以上がメチル基であるものが好ましい。このような
線状有機ポリシロキサンをまばらに架橋してシリコーン
ゴムとするものである。架橋剤としては、いわゆる室温
（低温）硬化型のシリコーンゴムに使われているアセト
キシシラン、ケトオキシムシラン、アルコキシシラン、
゛アミノシラン、アミドシランなどであり９通常線状有
機ポリシロキサンとして末端が水酸基であるものと組み
合わせて、各々脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコール
型、脱アミン型、脱アミド型の“ シリコーンゴムとな
る。これらのシリコーンゴムには、更に触媒として少量
の有機スズ化合物等が添加されるのが一般的である。
シリコーンゴム層の厚さは約０．５〜１００μ。
約０．５〜３０μが適当であり、薄すぎる場合は耐刷性
およびインキ反発性の点で問題を生じることがあり、一
方、厚すぎる場合は経済的に不利であるばかりでなく、
現像時にシリコーンゴム層を除去しにくくなり１画像再
現性の低下をもたらすおそれもある。
およびインキ反発性の点で問題を生じることがあり、一
方、厚すぎる場合は経済的に不利であるばかりでなく、
現像時にシリコーンゴム層を除去しにくくなり１画像再
現性の低下をもたらすおそれもある。
本発明の水なし平版印刷原板において、感光層とシリコ
ーンゴム層との接着は１画像再現性、耐刷性などの基本
的な仮性能にとって重要である”ので、必要に応じて各
層間に接着剤層を設けたり。
ーンゴム層との接着は１画像再現性、耐刷性などの基本
的な仮性能にとって重要である”ので、必要に応じて各
層間に接着剤層を設けたり。
各層に接着性成分を添加したりすることがおこなわれる
。特に、感光層とシリコーンゴム層間の接着のために１
層間に公知のシリコーンプライマやシランカップリング
剤またはチタネート系カップリング剤層を設けたり、シ
リコーンゴム層あるいは感光層にシリコーンプライマや
シランカップリング剤あるいはチタネート系カップリン
グ剤を添加すると効果的である。
。特に、感光層とシリコーンゴム層間の接着のために１
層間に公知のシリコーンプライマやシランカップリング
剤またはチタネート系カップリング剤層を設けたり、シ
リコーンゴム層あるいは感光層にシリコーンプライマや
シランカップリング剤あるいはチタネート系カップリン
グ剤を添加すると効果的である。
本発明に使用される支持体は９通常の平版印刷機にセッ
トできるたわみ性と印刷時に加わる荷重に耐えつるもの
であればよい０代表的なものとしては、アルミニウム、
銅、亜鉛、鋼などの金属板。
トできるたわみ性と印刷時に加わる荷重に耐えつるもの
であればよい０代表的なものとしては、アルミニウム、
銅、亜鉛、鋼などの金属板。
ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ポリプロ
ピレン等のようなプラスチックフィルムないシバシート
、クロロプレンゴム、ＮＢＲのヨウなゴム弾性を有する
支持体、かかるゴム弾性を有する支持体と、グラスチッ
クフィルムないしは金属板との複合基板、もしくはコー
ト紙等が挙げられる。これらの支持体上にはハレーショ
ン防止その他の目的でさらに他の物質をコーティングし
て支持体として用いることも可能である。
ピレン等のようなプラスチックフィルムないシバシート
、クロロプレンゴム、ＮＢＲのヨウなゴム弾性を有する
支持体、かかるゴム弾性を有する支持体と、グラスチッ
クフィルムないしは金属板との複合基板、もしくはコー
ト紙等が挙げられる。これらの支持体上にはハレーショ
ン防止その他の目的でさらに他の物質をコーティングし
て支持体として用いることも可能である。
以上説明したようにして構成された水なし平版印刷原板
の表面を形成するシリコーンゴム層を保護するなどの目
的で、シリコーンゴム層の表面にプレーンまたは凹凸処
理した薄い保護フィルムをラミネートすることもできる
。
の表面を形成するシリコーンゴム層を保護するなどの目
的で、シリコーンゴム層の表面にプレーンまたは凹凸処
理した薄い保護フィルムをラミネートすることもできる
。
以下実施例によって本発明番さらに詳しく説明する。
実施例１
化成処理アルミ板（住友軽金属製）に、住友デュレズ■
製フェノールホルムアルデヒドレゾール樹脂を１ミクロ
ンの厚みに塗布し、２００℃で３分間硬化させ基板とし
た。
製フェノールホルムアルデヒドレゾール樹脂を１ミクロ
ンの厚みに塗布し、２００℃で３分間硬化させ基板とし
た。
この上に、下記の組成を有する感光液を塗布し。
１００℃、３分間乾燥させて、１．５μの感光層を設け
た。
た。
（１）フェノールノボラック樹脂（住友デュレズ製ニス
ミライトレジンＰＲ５０６２２）のナフトキノン−１，
２−ジアジド−５−スルホン酸のエステル（エステル化
度４０％） １００重量部（２） ４，４／−ジ
エチルアミノベンゾフェノン５重量部 （３） ジオキサン ５２５重景部こ
の感光層の上に、γ−アミノプロピルトリエ）＃−／シ
ラ／ （Ｕ ＣＣ社製、Ａ１１００ ）（７）０．２ｆ
［景俤のｎ−へキサン溶液をホエラで回転塗布後。
ミライトレジンＰＲ５０６２２）のナフトキノン−１，
２−ジアジド−５−スルホン酸のエステル（エステル化
度４０％） １００重量部（２） ４，４／−ジ
エチルアミノベンゾフェノン５重量部 （３） ジオキサン ５２５重景部こ
の感光層の上に、γ−アミノプロピルトリエ）＃−／シ
ラ／ （Ｕ ＣＣ社製、Ａ１１００ ）（７）０．２ｆ
［景俤のｎ−へキサン溶液をホエラで回転塗布後。
１１０℃、１分間乾燥した。更に、この上に次の組成を
持つシリコーンゴム組成物を塗布し、１２０℃、４分間
加熱硬化させて、２．０μのシリコーンゴム層を設けた
。
持つシリコーンゴム組成物を塗布し、１２０℃、４分間
加熱硬化させて、２．０μのシリコーンゴム層を設けた
。
（１） ポリジメチルポリシロキサン（分子量約２５
．０００末端ＯＨ基） １００重量部（２）
エチルトリアセトキシシラン ８重量部、（３）
ジプチル錫ジアセテート ０．２重量部（４）炭化
水素系溶媒“アイソパー”Ｅ（エクソン化学展）
５４０重量部得られたシリコーンゴム
層上に、厚さ１０ミクロンのポリプロピレンフィルム（
束し■製１トレ７アン″）をラミネートし、印刷原板と
した。
．０００末端ＯＨ基） １００重量部（２）
エチルトリアセトキシシラン ８重量部、（３）
ジプチル錫ジアセテート ０．２重量部（４）炭化
水素系溶媒“アイソパー”Ｅ（エクソン化学展）
５４０重量部得られたシリコーンゴム
層上に、厚さ１０ミクロンのポリプロピレンフィルム（
束し■製１トレ７アン″）をラミネートし、印刷原板と
した。
この印刷原板に真空密着した１５０線／インチの網点画
像を持つネガフィルム、を通してメタルハライドランプ
（岩崎電気■製アイドルフィン２０００）を用い、１ｍ
の距離から６０秒照射した。
像を持つネガフィルム、を通してメタルハライドランプ
（岩崎電気■製アイドルフィン２０００）を用い、１ｍ
の距離から６０秒照射した。
版面をエタノール／＠アイソパー’ Ｅ （２０７８０
重量比）に浸漬し、現像パッドで軽くこすると。
重量比）に浸漬し、現像パッドで軽くこすると。
露光部分は感光層ごと除去されて、基板が露出する。一
方、未露光部はシリコーンゴム層が強固に残存してセリ
、ネガフィルムを忠実に再現した画像が得られた。
方、未露光部はシリコーンゴム層が強固に残存してセリ
、ネガフィルムを忠実に再現した画像が得られた。
との印刷版をオフセット印刷機（小森スプリント２色機
）に取り付け、東洋インキ製“アクワレス”ＳＴ藍、を
用いて、湿し水を用いないで印刷したところ、１５０線
／インチの網点６％〜９５チが再現した極めて良好な画
像を持つ印刷物が得られた。
）に取り付け、東洋インキ製“アクワレス”ＳＴ藍、を
用いて、湿し水を用いないで印刷したところ、１５０線
／インチの網点６％〜９５チが再現した極めて良好な画
像を持つ印刷物が得られた。
比較例１．２
実施例１において、感光層がフェノールノボラック樹脂
（住友デュレズ製ニスミライトレジンＰＲ５０６２２）
のナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸の
エステル（エステル化度４０％）からなることおよび感
光層の膜厚を１．５μ（比較例１）と３．０（比較例２
）とした以外は。
（住友デュレズ製ニスミライトレジンＰＲ５０６２２）
のナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸の
エステル（エステル化度４０％）からなることおよび感
光層の膜厚を１．５μ（比較例１）と３．０（比較例２
）とした以外は。
実施°例１と同様にして印刷原板を作製した。
これらの印刷原板を用いて、実施例１と同様にして、露
光、現像処理を、施し、オフセット印刷機（小森スプリ
ント２色機）に取り付は印刷した。 ′感光層の膜厚が
１．５μの比較例１では、網点の再現性が３％〜９０％
であり、シャドウ部の再現性が不良であった。一方、感
光層の膜厚が３．０μの比較例２では、３％〜９５％ま
で再現していたが、印刷物をよく見ると、ハイライト部
の網点の一部が素抜けていた。
光、現像処理を、施し、オフセット印刷機（小森スプリ
ント２色機）に取り付は印刷した。 ′感光層の膜厚が
１．５μの比較例１では、網点の再現性が３％〜９０％
であり、シャドウ部の再現性が不良であった。一方、感
光層の膜厚が３．０μの比較例２では、３％〜９５％ま
で再現していたが、印刷物をよく見ると、ハイライト部
の網点の一部が素抜けていた。
実施例２
厚み０．３−のアルミ板（住友軽金属■製）に下記のプ
ライマ組成物を塗布し、２００℃、２分間熱処理して５
．ＯＰのプライマ層を設は次。
ライマ組成物を塗布し、２００℃、２分間熱処理して５
．ＯＰのプライマ層を設は次。
（１） ポリウレタン樹脂（サンブレンＬＱ−Ｔ１３
３１、三洋化成工業■製） １００重量部（２）
ブロックイソシアネート（タケネートＢ８３０、太田
薬品■製） ２０重量部（３） エポキ
シ−フェノール・尿素樹脂（ＳＪ９３７２、関西ペイン
ト■製） ８重量部（４） ジメチルホルム
アミド ７２５重量部続いて、この上に下記の感光
性組成物をバーコータを用いて塗布し、１１０℃の熱風
中で１分間乾燥して、厚さ１．５μの感光層を設けた。
３１、三洋化成工業■製） １００重量部（２）
ブロックイソシアネート（タケネートＢ８３０、太田
薬品■製） ２０重量部（３） エポキ
シ−フェノール・尿素樹脂（ＳＪ９３７２、関西ペイン
ト■製） ８重量部（４） ジメチルホルム
アミド ７２５重量部続いて、この上に下記の感光
性組成物をバーコータを用いて塗布し、１１０℃の熱風
中で１分間乾燥して、厚さ１．５μの感光層を設けた。
（１） す７トキノンー１．２−ジアジド−５−スル
ホン酸トフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂（
スミライトレジンｐＲ５０６２２，住友デュレズ製）の
部分エステル（エステル化度４０係）
１００重量部（２） ４，４／−ジフェ
ニルメタンジイソシアネート４０重量部 （３） ジプチル錫ジアセテート０．２重量部（４）
４．４’−ジエチルアミノベンゾフェノン５重量部 （５）テトラヒドロフラン ８００重量部ついで
、この感光層の上に次の組成を有するシリコーンゴム層
をバーコータで塗布後、１１５℃。
ホン酸トフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂（
スミライトレジンｐＲ５０６２２，住友デュレズ製）の
部分エステル（エステル化度４０係）
１００重量部（２） ４，４／−ジフェ
ニルメタンジイソシアネート４０重量部 （３） ジプチル錫ジアセテート０．２重量部（４）
４．４’−ジエチルアミノベンゾフェノン５重量部 （５）テトラヒドロフラン ８００重量部ついで
、この感光層の上に次の組成を有するシリコーンゴム層
をバーコータで塗布後、１１５℃。
露点３０℃中で３分間加熱硬化して、厚さ２．５Ｐのシ
リコーンゴム層を設けた。
リコーンゴム層を設けた。
（１） ポリジメチルシロキサン（分子量約２５．０
００、末端ＯＨ基） １００重量部（２）
ビニルトリ（メチルエチルケトオキシム）シラン
８重量部（３） ジブ
チル錫ジアセテート０．１重量部（４） γ−アミノ
プロピルトリメトキシシラン０．５重量部 （５）１アイソパー”Ｅ １４００重量部上記
のようにして得られた積層板に、厚さ１０μの束し■製
ポリプロピレンフィルム１トレファン″をカレンダーロ
ーラーを用いてうξネートシ。
００、末端ＯＨ基） １００重量部（２）
ビニルトリ（メチルエチルケトオキシム）シラン
８重量部（３） ジブ
チル錫ジアセテート０．１重量部（４） γ−アミノ
プロピルトリメトキシシラン０．５重量部 （５）１アイソパー”Ｅ １４００重量部上記
のようにして得られた積層板に、厚さ１０μの束し■製
ポリプロピレンフィルム１トレファン″をカレンダーロ
ーラーを用いてうξネートシ。
水なし平版印刷原板を得た。 ゛
かかる印刷原板にメタルハライドラング（岩崎電気■製
、アイドルフィン２０００）を用い、ＵＶメーター（オ
ーク製作所製ライトメジャータイプＵＶ−４０２Ａ）で
１１ｍＷ／ａｎの照度で全面露光を６秒間施し念。
、アイドルフィン２０００）を用い、ＵＶメーター（オ
ーク製作所製ライトメジャータイプＵＶ−４０２Ａ）で
１１ｍＷ／ａｎの照度で全面露光を６秒間施し念。
上記のようにして得られた印刷原板上に真空密着した１
５０線／インチの網点画像を持つネガフィルムを通して
上記のメタルハライドランプを用い、１ｍの距離から６
０秒画像露光した。次いで上記“トレファン”を剥離し
て、前処理液（“アイソパー”Ｈ／ブチルカルピトール
／エチルセロソルブ／モノエタノールアミン−９０／１
０１５１０．６重量比）にひたし、露光ずみの版面を完
全にぬらし、１分間処理する。ゴムスキージで版面上の
前処理液を除去し９次いで版面と現像パッドに現像液（
ブチルカルピトール／水／２−エチル酪酸／クリスタル
バイオレット（２０／８０／２１０．２重量比）を注ぎ
、現像パッドで版面を軽くこすると画像状に露光された
部分のシリコーンゴム層が除去されて感光層表面が露出
した。一方、全面露光された部分にはシリコーンゴム層
が強固に残存しており、ネガフィルムを忠実に再現した
画像が得られた。
５０線／インチの網点画像を持つネガフィルムを通して
上記のメタルハライドランプを用い、１ｍの距離から６
０秒画像露光した。次いで上記“トレファン”を剥離し
て、前処理液（“アイソパー”Ｈ／ブチルカルピトール
／エチルセロソルブ／モノエタノールアミン−９０／１
０１５１０．６重量比）にひたし、露光ずみの版面を完
全にぬらし、１分間処理する。ゴムスキージで版面上の
前処理液を除去し９次いで版面と現像パッドに現像液（
ブチルカルピトール／水／２−エチル酪酸／クリスタル
バイオレット（２０／８０／２１０．２重量比）を注ぎ
、現像パッドで版面を軽くこすると画像状に露光された
部分のシリコーンゴム層が除去されて感光層表面が露出
した。一方、全面露光された部分にはシリコーンゴム層
が強固に残存しており、ネガフィルムを忠実に再現した
画像が得られた。
この印刷版をオフセット印刷機（小森スプリント２色機
）に取り付け、東洋インキ■製１アクワレス’ＳＴ藍を
用いて、湿し水を用いないで印刷したところ１５０線／
インチの網点６チ〜９５チが再現した極めて良好な画像
をもつ印刷物が得られた。５万部刷了後も地汚れｉよび
版面の損傷は全く見られず、さらに印刷を継続できる状
態であった。
）に取り付け、東洋インキ■製１アクワレス’ＳＴ藍を
用いて、湿し水を用いないで印刷したところ１５０線／
インチの網点６チ〜９５チが再現した極めて良好な画像
をもつ印刷物が得られた。５万部刷了後も地汚れｉよび
版面の損傷は全く見られず、さらに印刷を継続できる状
態であった。
比較例３，４
実施例２において、感光層が光吸収剤４．４′−ジエチ
ルアミノベンゾフェノンを含まないこと、および感光層
の膜厚が１．５μ（比較例５）、３．０μ（比較例４）
とする以外は、実施例２と同様にして、印刷原板を作製
した。
ルアミノベンゾフェノンを含まないこと、および感光層
の膜厚が１．５μ（比較例５）、３．０μ（比較例４）
とする以外は、実施例２と同様にして、印刷原板を作製
した。
これらの印刷原板を用いて、実施例２と同様にして、露
光、現像処理を施し、オフセット印刷機（小森スプリン
ト２色機）に取り付は印刷した。
光、現像処理を施し、オフセット印刷機（小森スプリン
ト２色機）に取り付は印刷した。
感光層の膜厚が１．５μの比較例２では、網点再現性が
３チ〜９０チであり、シャドウ部の再現性が不良であっ
た。一方、感光層の膜厚が３．０μの比較例６では、３
％〜９５チまで再現していたが。
３チ〜９０チであり、シャドウ部の再現性が不良であっ
た。一方、感光層の膜厚が３．０μの比較例６では、３
％〜９５チまで再現していたが。
２万部刷る時点で感光層のひび割れに添って、シリコー
ンゴム層に亀裂が入り、地汚れに添って。
ンゴム層に亀裂が入り、地汚れに添って。
シリコーンゴム層に亀裂が入り、地汚れを生じた。
本発明になる水なし平版印刷版によれば１次のような効
果が達成される。
果が達成される。
（１） 感光層の膜厚を、従来よりも薄くしても良好
な画像再現性が得られる。
な画像再現性が得られる。
（２）感光層の膜厚が薄くできるので、微小網点の素抜
けがなくなる。
けがなくなる。
（３）感光層の膜厚が薄くできるので、印刷時の衝撃に
よって生じる感光層のひび割れ、クラックが軽減し、耐
刷性が向上する。
よって生じる感光層のひび割れ、クラックが軽減し、耐
刷性が向上する。
Claims (1)
- 支持体、キノンジアジド化合物を含有する感光層および
シリコーンゴム層をこの順に積層してなる水なし平版印
刷版において、該感光層に光吸収剤が含まれていること
を特徴とする水なし平版印刷版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8321485A JPS61241759A (ja) | 1985-04-18 | 1985-04-18 | 水なし平版印刷版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8321485A JPS61241759A (ja) | 1985-04-18 | 1985-04-18 | 水なし平版印刷版 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61241759A true JPS61241759A (ja) | 1986-10-28 |
| JPH042942B2 JPH042942B2 (ja) | 1992-01-21 |
Family
ID=13796065
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8321485A Granted JPS61241759A (ja) | 1985-04-18 | 1985-04-18 | 水なし平版印刷版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61241759A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01154049A (ja) * | 1987-10-30 | 1989-06-16 | Hoechst Ag | ポジ型のフォトレジスト組成物、ポジ型の感光性記録材料及びフォトレジストパターンの製造法 |
| US5478692A (en) * | 1993-11-29 | 1995-12-26 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Positive-working naphthoquinone diazide sulfonic acid ester photoresist composition containing 4,4'-bis(dialkylamino)benzophenone |
| US5576138A (en) * | 1994-04-22 | 1996-11-19 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Positive-working naphtho quinone diazide sulfonic acid ester photoresist composition containing select combination of additives |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5680046A (en) * | 1979-12-05 | 1981-07-01 | Toray Ind Inc | Lithographic plate requiring no dampening water and its manufacture |
| JPS59142538A (ja) * | 1983-02-04 | 1984-08-15 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPS6011845A (ja) * | 1983-07-01 | 1985-01-22 | Toray Ind Inc | 湿し水不要印刷原版 |
-
1985
- 1985-04-18 JP JP8321485A patent/JPS61241759A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5680046A (en) * | 1979-12-05 | 1981-07-01 | Toray Ind Inc | Lithographic plate requiring no dampening water and its manufacture |
| JPS59142538A (ja) * | 1983-02-04 | 1984-08-15 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPS6011845A (ja) * | 1983-07-01 | 1985-01-22 | Toray Ind Inc | 湿し水不要印刷原版 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01154049A (ja) * | 1987-10-30 | 1989-06-16 | Hoechst Ag | ポジ型のフォトレジスト組成物、ポジ型の感光性記録材料及びフォトレジストパターンの製造法 |
| US5478692A (en) * | 1993-11-29 | 1995-12-26 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Positive-working naphthoquinone diazide sulfonic acid ester photoresist composition containing 4,4'-bis(dialkylamino)benzophenone |
| US5576138A (en) * | 1994-04-22 | 1996-11-19 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Positive-working naphtho quinone diazide sulfonic acid ester photoresist composition containing select combination of additives |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH042942B2 (ja) | 1992-01-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5917552A (ja) | 画像形成用積層体の処理方法 | |
| US4743527A (en) | Dry presensitized plate including an overlying silicone rubber layer | |
| JPS6154222B2 (ja) | ||
| JPS61241759A (ja) | 水なし平版印刷版 | |
| JPS62161154A (ja) | 水なし平版印刷用原板 | |
| JPS63163857A (ja) | 水なし平版印刷版 | |
| JPS63317379A (ja) | 水なし平版製版用処理液 | |
| JP2507342B2 (ja) | 水なし平版印刷用原版 | |
| JPS60153048A (ja) | 湿し水不要平版印刷版 | |
| JPH0444262B2 (ja) | ||
| JP2921092B2 (ja) | 水なし平版製版用処理液 | |
| JPS61248055A (ja) | 水なし平版印刷版 | |
| JPH07104598B2 (ja) | 水なし平版印刷用原版 | |
| JP2507428B2 (ja) | 水なし平版印刷原版の製版方法 | |
| JPS61231556A (ja) | 水なし平版印刷版 | |
| JPS62111254A (ja) | 乾式感光性平版印刷版 | |
| JPS61163343A (ja) | 水なし平版印刷版 | |
| JPH07325389A (ja) | 水なし平版印刷版原版 | |
| JPH0356624B2 (ja) | ||
| JPS59148060A (ja) | 湿し水不要平版印刷版 | |
| JPH0262857B2 (ja) | ||
| JPS6322304B2 (ja) | ||
| JPS59202467A (ja) | ネガ型湿し水不要平版印刷版の刷版 | |
| JPH07295209A (ja) | 水なし平版印刷版原版 | |
| JPH09189993A (ja) | 水なし平版印刷版原版 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |