WO2024161789A1 - 粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法 - Google Patents

粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法 Download PDF

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WO2024161789A1
WO2024161789A1 PCT/JP2023/043743 JP2023043743W WO2024161789A1 WO 2024161789 A1 WO2024161789 A1 WO 2024161789A1 JP 2023043743 W JP2023043743 W JP 2023043743W WO 2024161789 A1 WO2024161789 A1 WO 2024161789A1
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film
adhesive layer
layer
laser light
work
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PCT/JP2023/043743
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清貴 堤
そら 道下
真也 山本
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日東電工株式会社
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    • B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36—Removing material
    • B23K26/362—Laser etching
    • B23K26/364—Laser etching for making a groove or trench, e.g. for scribing a break initiation groove
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B38/00—Ancillary operations in connection with laminating processes
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    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
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    • B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/10—Adhesives in the form of films or foils without carriers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30—Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/38—Pressure-sensitive adhesives [PSA]

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a laminated film having an adhesive layer.
  • Display panels have a laminated structure that includes elements such as a pixel panel, a polarizing film, a touch panel, and a cover film.
  • an optically transparent adhesive sheet (optical adhesive sheet) is used to bond the elements included in the laminated structure.
  • the optical adhesive sheet is manufactured, for example, in a form in which both sides of the sheet are covered with release liners (in the form of a laminated film having an adhesive layer).
  • a foldable display panel can be repeatedly deformed between a curved shape and a flat, non-bent shape.
  • each element in the laminated structure is made to be repeatedly foldable, and a thin optical adhesive sheet is used to bond such elements together.
  • Optical adhesive sheets for flexible devices such as foldable display panels are described, for example, in Patent Document 1 below.
  • Optical adhesive sheets for display panels are conventionally manufactured, for example, as follows:
  • a work film W' is prepared.
  • the work film W' consists of a laminate sheet 90 as a long original sheet, and a long carrier film C' that supports the laminate sheet 90.
  • the laminate sheet 90 has a release liner 91, an adhesive layer 92, and a release liner 93, in that order in the thickness direction H.
  • the release liner 91 is in releasable contact with one side of the adhesive layer 92.
  • the release liner 93 is in releasable contact with the other side of the adhesive layer 92.
  • the carrier film C' supports the laminate sheet 90 from the release liner 91 side.
  • the laminate sheet 90 is pressed to form a plurality of sheets of laminate film 90A (press processing step).
  • the blade 101 of the blade die 100 is pressed into the laminate sheet 90 from the release liner 93 side to the carrier film C'.
  • the laminate film 90A has a release liner 91A, an adhesive layer 92A, and a release liner 93A in this order in the thickness direction H.
  • a peripheral portion 90B is formed around the laminate film 90A.
  • a cutting groove 95 (FIG. 8B) is formed in the laminate sheet 90, extending from the release liner 93 side to the carrier film C'.
  • FIG. 10 shows an example of a conventional press processing process.
  • the work film W' flowing on the production line passes between a pair of nip rollers 201, 201, a press processing machine 202, and between a pair of nip rollers 203, 203, in that order.
  • the press processing machine 202 is equipped with an intermittent feed device, a processing stage, and a blade mold arranged above the stage (all not shown).
  • the work film W' is slackened.
  • the work film W' is slackened.
  • the work film W' is intermittently fed by the intermittent feed device of the press processing machine 202.
  • the unprocessed areas of the workpiece film W' are intermittently supplied onto the processing stage of the press machine 202.
  • press processing is performed using a blade die for each unprocessed area of the workpiece film W' that is intermittently supplied.
  • the peripheral portion 90B is removed from the release liner 91 (removal process). This results in a sheet-like laminated film 90A (release liner 91A/adhesive sheet 92A/release liner 93A) having an adhesive layer.
  • Adhesive sheets (adhesive layers) for flexible devices are required to be highly flexible so that they can conform to the adherend when the device is bent and have excellent stress relaxation properties.
  • the release liners 91 and 93 are cut at the same location in a plan view. That is, the edges of the release liners 91A and 93A formed in the press processing step are aligned in a plan view. Therefore, in the laminated film 90A, as shown in FIG. 11, a protruding portion 92a of the adhesive sheet 92A (highly flexible) is likely to be formed.
  • the protruding portion 92a is a portion of the adhesive sheet 92A that extends outward beyond the edges 91e and 93e of the release liners 91A and 93A.
  • the protruding portion 92a is formed, for example, in the press processing step (FIG. 8B), when the adhesive layer 92 (highly flexible) adheres to a blade die 100 (FIG. 9) and is pulled by the blade die 100.
  • the protruding portion 92a causes the ends of adjacent laminate films 90A to adhere to each other (end blocking). End blocking reduces the handleability of the laminate film 90A.
  • This type of problem also occurs when a surface protection film with an adhesive layer (with the release liner 91A attached to the adhesive layer side) is formed on the release liner 91A instead of the adhesive layer 92A and release liner 93A.
  • a press processing step (FIG. 8B) is performed on each unprocessed area of the work film W' that is intermittently fed onto the processing stage of the press processing machine 202. That is, the work film W' is alternately transported and stopped in order to process the outer shape of the laminated film.
  • an intermittent feeding device is required, and this device must be controlled. This conventional manufacturing method is not preferable from the viewpoint of the manufacturing efficiency of the laminated film having an adhesive layer.
  • the present invention provides a method for efficiently producing a laminated film having a soft adhesive layer and suitable for suppressing edge blocking.
  • the present invention [1] is a roll-to-roll manufacturing method for a laminated film having an adhesive layer, comprising the steps of: preparing a long work film having a carrier film, a first film layer, an adhesive layer, and a second film layer in this order in the thickness direction; irradiating and scanning the work film with laser light from the second film layer side to melt and cut the second film layer, the adhesive layer, and the first film layer on the carrier film to form cut grooves, thereby forming a first film that has been singulated at the first film layer, an adhesive layer that has been singulated at the adhesive layer, and a second film layer that has been singulated at the second film layer.
  • the adhesive layer has a shear storage modulus of 100 kPa or less at 25°C
  • the first film has an extended end portion that extends outward beyond the edge of the singulated adhesive layer in a plane direction perpendicular to the thickness direction
  • the spot diameter of the laser light irradiated to the work film in the contour processing step on the surface of the adhesive layer facing the second film layer is 200 ⁇ m or more and 500 ⁇ m or less.
  • the first film layer, the adhesive layer, and the second film layer on the carrier film are melted by irradiating and scanning the work film with laser light.
  • the material of that layer is evaporated and removed.
  • the soft adhesive layer which has a shear storage modulus of 100 kPa or less at 25°C, is not cut by the pressing of the press blade (the adhesive layer does not adhere to the blade). Therefore, in the contour processing step, the formation of protruding parts such as protruding part 92a ( Figure 11) formed at the end of the adhesive layer in the conventional press processing step described above can be suppressed. This is suitable for suppressing the above-mentioned end blocking in a laminated film having a soft adhesive layer.
  • the work film is irradiated with laser light from the second film layer side, and the first and second film layers and the adhesive layer on the carrier film are melted.
  • the irradiation energy of the laser light is accumulated in the thickness direction in the order of the second film layer, the adhesive layer, and the first film layer, and each layer is melted by heating.
  • the influence of heating by the laser light irradiation becomes greater in the order of the first film layer, the adhesive layer, and the second film layer.
  • a first film in the contour processing step, can be formed that has an extended end portion that extends outward from the edge of the adhesive layer at the end face (end face facing the cut groove) of the laminated film (first film, adhesive layer, second film). Specifically, the first film has an outermost end further outward than the outermost end of the adhesive layer in the surface direction.
  • the spot diameter of the laser light used in the contour processing step on the surface of the adhesive layer facing the second film layer is relatively large, at 200 ⁇ m or more, as described above. This is suitable for forming a first film having an extended end portion of significant length.
  • a laminated film in which the first film has such an extended end portion is suitable for suppressing the above-mentioned end blocking.
  • the spot diameter of the laser light used in the contour processing step on the surface of the adhesive layer facing the second film layer is 500 ⁇ m or less.
  • This configuration is suitable for reducing the exposed area of the adhesive layer on the second film side at the end of the laminated film facing the cut groove (which becomes wider the further away from the carrier film). Therefore, this configuration is suitable for suppressing the above-mentioned end blocking when the laminated films are stacked in the thickness direction.
  • the laminated film having an adhesive layer is contour processed by laser processing.
  • Laser processing is suitable for continuous contour processing while continuously flowing the work film (there is no need to feed the work film intermittently for contour processing). Therefore, this manufacturing method is suitable for efficiently manufacturing laminated films having an adhesive layer.
  • this manufacturing method is suitable for efficiently manufacturing a laminated film having a soft adhesive layer and suitable for suppressing edge blocking.
  • the present invention [2] includes a method for producing a laminated film having the adhesive layer described in [1] above, in which the cut groove is formed by one-pass processing with the laser light.
  • Cutting grooves into the work film using a single pass process is suitable for shortening the takt time in the production of laminated films, and is therefore suitable for the efficient production of laminated films.
  • the present invention [3] includes the method for producing a laminated film having a pressure-sensitive adhesive layer according to the above [1] or [2], wherein the laser light is a CO2 laser.
  • the CO2 laser is suitable for simultaneously melting the first and second film layers and the adhesive layer, which are made of different materials and have different optical properties (such as absorbance).
  • the present invention [4] includes a method for manufacturing a laminated film having an adhesive layer according to any one of [1] to [3] above, in which, in the external processing step, the work film is slid along the processing stage in the length direction while the carrier film side of the work film is sucked by a processing stage capable of adsorbing the work film, and the laser light is irradiated and scanned onto the work film from the second film layer side.
  • This type of configuration is preferable for precisely focusing the laser light on the work film that is continuously moving along the production line during the external processing step, and is therefore preferable for efficiently and precisely laser processing the work film.
  • the present invention [5] includes a method for manufacturing a laminated film having an adhesive layer according to any one of [1] to [4] above, in which the first cut groove and the second cut groove extending in a direction intersecting the length direction of the work film are formed adjacent to each other in the length direction, and the separation distance between adjacent adhesive layers in the length direction via the first cut groove and the second cut groove is 2 mm or less.
  • This type of configuration is preferable for achieving high productivity of laminated films.
  • the present invention [6] includes a method for producing a laminated film having a pressure-sensitive adhesive layer according to any one of [1] to [5] above, in which the laser light is a Gaussian type laser light.
  • Gaussian laser light is preferred for forming cut grooves that become wider the further away from the carrier film in the contour processing step. Therefore, Gaussian laser light is preferred for forming a first film that has an extended end of significant length.
  • FIG. 1A shows a preparation step
  • FIG 1B shows a contour processing step
  • FIG 1C shows a removal step in one embodiment of the method for producing a laminated film having a pressure-sensitive adhesive layer of the present invention
  • 1B is a schematic plan view of an example of a region in a work film after a contour processing process (FIG. 1B).
  • 1 is a partially enlarged cross-sectional view of a laminate film produced by the method for producing a laminate film having a pressure-sensitive adhesive layer of the present invention.
  • FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view showing a contour processing step.
  • FIG. 2 is a schematic diagram of an internal configuration of a laser processing unit.
  • FIG. 1 is a perspective view of an example of a galvanometer scanner.
  • FIG. 8A shows an example of a conventional method for producing a laminated film having a pressure-sensitive adhesive layer, in which Fig. 8A shows a preparation step, Fig. 8B shows a press processing step, and Fig. 8C shows a removal step.
  • 1 shows an example of a conventional press working process.
  • FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of a conventional laminated film having a soft pressure-sensitive adhesive layer after a press processing step.
  • the laminated film manufacturing method is a roll-to-roll method for manufacturing a sheet-shaped laminated film having an adhesive layer. As shown in Figures 1A to 1C, this manufacturing method includes a preparation process (Figure 1A), a contour processing process (Figure 1B), and a removal process (Figure 1C).
  • a long work film W is prepared.
  • the work film W includes a laminate sheet X and a carrier film C.
  • the laminate sheet X is a long original sheet of the laminate film Y (FIG. 1C) described below.
  • the carrier film C supports the laminate sheet X.
  • the laminated sheet X comprises a film layer 10 (first film layer), an adhesive layer 20, and a film layer 30 (second film layer) in this order in the thickness direction H.
  • the adhesive layer 20 has a first surface 20a and a second surface 20b opposite the first surface 20a.
  • the film layer 10 is in contact with the first surface 20a.
  • the film layer 30 is in contact with the second surface 20b.
  • the laminated sheet X extends in a planar direction perpendicular to the thickness direction H.
  • the carrier film C is a single-sided adhesive film having an adhesive surface on one side in the thickness direction H.
  • the adhesive surface of the carrier film C is bonded to the film layer 10 side of the laminated sheet X. That is, the work film W specifically comprises the carrier film C, the film layer 10, the adhesive layer 20, and the film layer 30, in this order in the thickness direction H.
  • the carrier film C is wider than the laminated sheet X in the width direction D2 (FIG. 2) perpendicular to the flow direction D1 of the work film W.
  • the laminated sheet X is, for example, disposed at the center position in the width direction D2 on the carrier film C.
  • the width (length in the width direction D2) of the laminated sheet X is, for example, 200 mm or more, preferably 280 mm or more, more preferably 400 mm or more, and, for example, 2000 mm or less, preferably 1800 mm or less, more preferably 1600 mm or less.
  • Such a work film W is run through the production line.
  • the film layer 10 is a release liner.
  • materials for the release liner include polyester, polyolefin, and polycarbonate.
  • polyester include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and polybutylene terephthalate.
  • polyolefin include polyethylene, polypropylene, and cycloolefin polymer (COP).
  • the film layer 10 as a release liner is in peelable contact with the first surface 20a of the adhesive layer 20.
  • the surface of such a film layer 10 (the surface on the adhesive layer 20 side) is preferably subjected to a release treatment.
  • the release treatment include a silicone release treatment and a fluorine release treatment.
  • the thickness of the film layer 10 is preferably 10 ⁇ m or more, more preferably 15 ⁇ m or more, and even more preferably 20 ⁇ m or more. From the viewpoint of making the laminated film Y thinner, the thickness of the film layer 10 is preferably 150 ⁇ m or less, more preferably 120 ⁇ m or less, and even more preferably 100 ⁇ m or less.
  • the adhesive layer 20 is formed from an adhesive composition.
  • the adhesive composition includes a base polymer.
  • the base polymer is an adhesive component that exhibits adhesiveness.
  • Examples of base polymers include acrylic polymers, polyurethane polymers, polyamide polymers, and polyvinyl ether polymers.
  • the base polymers may be used alone or in combination of two or more types. From the viewpoint of ensuring good transparency and adhesiveness in the adhesive layer 20, an acrylic polymer is preferably used as the base polymer.
  • An acrylic polymer is a polymer of monomer components containing 50% or more by mass of (meth)acrylic acid ester.
  • “(Meth)acrylic” means acrylic and/or methacrylic.
  • As the (meth)acrylic acid ester preferably, a (meth)acrylic acid alkyl ester is used, and more preferably, a (meth)acrylic acid alkyl ester in which the alkyl group has 1 to 20 carbon atoms is used.
  • Examples of (meth)acrylic acid alkyl esters include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, n-hexyl (meth)acrylate, heptyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, n-octyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, nonyl (meth)acrylate, isononyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, undecyl (meth)acrylate, dodecyl (meth)acrylate (i.e.
  • the (meth)acrylic acid alkyl esters may be used alone or in combination of two or more.
  • the (meth)acrylic acid alkyl ester is preferably at least one selected from the group consisting of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA), lauryl acrylate (LA), and n-butyl acrylate (BA).
  • the proportion of the (meth)acrylic acid alkyl ester in the monomer component is preferably 60% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and even more preferably 90% by mass or more, from the viewpoint of appropriately expressing basic properties such as adhesion in the adhesive layer 20, and is, for example, 99% by mass or less.
  • the monomer component may include a copolymerizable monomer that is copolymerizable with the (meth)acrylic acid alkyl ester.
  • the copolymerizable monomer include a monomer having a polar group.
  • the polar group-containing monomer include a hydroxy group-containing monomer, a monomer having a nitrogen atom-containing ring, and a carboxy group-containing monomer. The polar group-containing monomer is useful for modifying the acrylic polymer, such as introducing crosslinking points into the acrylic polymer and ensuring the cohesive force of the acrylic polymer.
  • hydroxyl group-containing monomer examples include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate.
  • the hydroxyl group-containing monomer at least one selected from the group consisting of 2-hydroxyethyl acrylate (2HEA) and 4-hydroxybutyl acrylate (4HBA) is preferably used.
  • the ratio of the hydroxyl group-containing monomer in the monomer component is preferably 1% by mass or more, more preferably 2% by mass or more, and even more preferably 3% by mass or more, from the viewpoint of introducing a crosslinked structure into the acrylic polymer and ensuring the cohesive force in the adhesive layer 20.
  • the ratio is preferably 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or less.
  • the polarity of the acrylic polymer is related to the compatibility of the acrylic polymer with various additive components in the adhesive layer 20.
  • Examples of monomers having a nitrogen atom-containing ring include N-vinyl-2-pyrrolidone, N-methylvinylpyrrolidone, N-vinylpyridine, N-vinylpiperidone, N-vinylpyrimidine, N-vinylpiperazine, N-vinylpyrrole, N-vinylimidazole, N-(meth)acryloyl-2-pyrrolidone, and acryloylmorpholine.
  • N-vinyl-2-pyrrolidone (NVP) is preferably used as the monomer having a nitrogen atom-containing ring.
  • the proportion of the monomer having a nitrogen atom-containing ring in the monomer components is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.5% by mass or more, and even more preferably 1% by mass or more, from the viewpoints of ensuring the cohesive force in the adhesive layer 20 and ensuring the adhesive force to the adherend in the adhesive layer 20.
  • the proportion is preferably 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less, and even more preferably 3% by mass or less, from the viewpoints of adjusting the glass transition temperature of the acrylic polymer and adjusting the polarity of the acrylic polymer.
  • the base polymer preferably has a crosslinked structure.
  • methods for introducing a crosslinked structure into a base polymer include the following first and second methods.
  • a base polymer having a functional group capable of reacting with the crosslinking agent and a crosslinking agent are blended into an adhesive composition, and the base polymer and the crosslinking agent are reacted in an adhesive sheet.
  • a polyfunctional compound is included as a crosslinking agent in the monomer components forming the base polymer, and a base polymer in which a branched structure (crosslinked structure) is introduced into the polymer chain is formed by polymerization of the monomer components.
  • the crosslinking agent used in the first method is, for example, a compound that reacts with functional groups (such as hydroxyl groups and carboxyl groups) contained in the base polymer.
  • functional groups such as hydroxyl groups and carboxyl groups
  • crosslinking agents include isocyanate crosslinking agents, peroxide crosslinking agents, and epoxy crosslinking agents.
  • the crosslinking agents may be used alone or in combination of two or more types.
  • the monomer components may be polymerized in one step or in multiple steps.
  • the multistep polymerization method first, a monofunctional monomer for forming a base polymer is polymerized (preliminary polymerization), thereby preparing a prepolymer composition containing a partial polymer (a mixture of a polymer with a low degree of polymerization and an unreacted monomer).
  • a multifunctional monomer is added as a crosslinking agent to the prepolymer composition, and then the partial polymer and the multifunctional monomer are polymerized (main polymerization).
  • a multifunctional (meth)acrylate containing two or more ethylenically unsaturated double bonds in one molecule can be mentioned.
  • a multifunctional acrylate is preferable from the viewpoint of being able to introduce a crosslinked structure by active energy ray polymerization (photopolymerization).
  • polyfunctional (meth)acrylates include dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), ethylene glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, and trimethylolpropane tri(meth)acrylate.
  • Acrylic polymers can be formed by polymerizing the above-mentioned monomer components.
  • Polymerization methods include, for example, solution polymerization, solvent-free photopolymerization (e.g., UV polymerization), bulk polymerization, and emulsion polymerization. Ethyl acetate and toluene are used as solvents for solution polymerization. Thermal polymerization initiators and photopolymerization initiators are used as polymerization initiators.
  • the weight average molecular weight of the base polymer is preferably 100,000 or more, more preferably 300,000 or more, and even more preferably 500,000 or more.
  • the weight average molecular weight is preferably 5 million or less, more preferably 3 million or less, and even more preferably 2 million or less.
  • the weight average molecular weight of the base polymer is measured by gel permeation chromatography (GPC) and calculated in terms of polystyrene.
  • the glass transition temperature (Tg) of the base polymer can be determined by the following Fox formula (theoretical value).
  • the Fox formula is a relational expression between the glass transition temperature Tg of a polymer and the glass transition temperature Tg i of a homopolymer of a monomer constituting the polymer.
  • Tg represents the glass transition temperature (°C) of a polymer
  • Wi represents the weight fraction of the monomer i constituting the polymer
  • Tgi represents the glass transition temperature (°C) of a homopolymer formed from the monomer i.
  • the glass transition temperature of a homopolymer can be determined by a literature value.
  • the glass transition temperatures of various homopolymers are listed in “Polymer Handbook” (4th edition, John Wiley & Sons, Inc., 1999).
  • the glass transition temperature of a homopolymer of a monomer can also be determined by a method specifically described in JP-A-2007-51271.
  • the glass transition temperature (Tg) of the base polymer is preferably 0°C or lower, more preferably -10°C or lower, and even more preferably -20°C or lower, from the viewpoint of ensuring the softness of the adhesive layer 20.
  • the glass transition temperature is, for example, -80°C or higher.
  • the adhesive composition may contain other components as necessary.
  • other components include a solvent, a silane coupling agent, an ultraviolet absorber, a tackifier, a softener, and an antioxidant.
  • the haze of the adhesive layer 20 is preferably 3% or less, more preferably 2% or less, and even more preferably 1% or less.
  • the haze of the adhesive layer 20 can be measured using a haze meter in accordance with JIS K7136 (2000). Examples of haze meters include the "NDH2000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. and the “HM-150” manufactured by Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd.
  • the shear storage modulus of the adhesive layer 20 at 25°C is preferably 10 kPa or more, more preferably 15 kPa or more, even more preferably 20 kPa or more, and particularly preferably 25 kPa or more, from the viewpoint of ensuring the cohesive force of the adhesive layer 20.
  • the shear storage modulus of the adhesive layer 20 at 25°C is 100 kPa or less, preferably 80 kPa or less, more preferably 70 kPa or less, even more preferably 60 kPa or less, and particularly preferably 50 kPa or less, from the viewpoint of realizing the softness required for an optical adhesive sheet for flexible device use in the adhesive layer 20.
  • Examples of methods for adjusting the shear storage modulus include selecting the type of base polymer in the adhesive layer 20, adjusting the molecular weight, adjusting the amount of the base polymer, adjusting the glass transition temperature, and adjusting the degree of crosslinking. Examples of methods for adjusting the shear storage modulus include selecting components other than the base polymer in the adhesive layer 20 and adjusting the amount of the base polymer.
  • the shear storage modulus of the adhesive layer is determined by dynamic viscoelasticity measurement. The measurement can be performed using the Advanced Rheometric Expansion System (ARES), a dynamic viscoelasticity measuring device manufactured by Rheometric Scientific.
  • the measurement mode is shear mode, the measurement temperature range is -40°C to 100°C, the heating rate is 5°C/min, and the frequency is 1Hz.
  • the film layer 30 is, for example, a release liner, a surface protection film, a functional optical film, or a substrate film (support film).
  • the film layer 30 as a release liner is in peelable contact with the second surface 20b of the adhesive layer 20.
  • the surface of such a film layer 30 (the surface on the adhesive layer 20 side) is preferably subjected to a release treatment.
  • the release treatment include a silicone release treatment and a fluorine release treatment.
  • the thickness of the film layer 30 as a release liner is preferably 10 ⁇ m or more, more preferably 15 ⁇ m or more, and even more preferably 20 ⁇ m or more.
  • the thickness of the film layer 30 as a release liner is preferably 150 ⁇ m or less, more preferably 120 ⁇ m or less, and even more preferably 100 ⁇ m or less.
  • the film layer 30 is a surface protection film
  • the second surface 20b of the adhesive layer 20 is bonded to the film layer 30.
  • the film layer 30 as a surface protection film and the adhesive layer 20 form a surface protection film with an adhesive layer.
  • the thickness of the film layer 30 as a surface protection film is preferably 10 ⁇ m or more, more preferably 15 ⁇ m or more, and even more preferably 20 ⁇ m or more. From the viewpoint of making the surface protection film with the adhesive layer thinner, the thickness of the film layer 30 as a surface protection film is preferably 100 ⁇ m or less, more preferably 70 ⁇ m or less, and even more preferably 50 ⁇ m or less.
  • Examples of functional optical films include polarizing films and phase difference films.
  • the functional optical film may be other optical films such as panel reinforcement materials.
  • the film layer 30 is a functional optical film
  • the second surface 20b of the adhesive layer 20 is bonded to such a film layer 30.
  • the film layer 30 as a functional optical film and the adhesive layer 20 form a functional optical film with an adhesive layer.
  • the polarizing film may be, for example, a hydrophilic polymer film that has been dyed with a dichroic substance and then stretched.
  • the dichroic substance may be, for example, iodine and a dichroic dye.
  • the hydrophilic polymer film may be, for example, a polyvinyl alcohol (PVA) film, a partially formalized PVA film, and a partially saponified film of an ethylene-vinyl acetate copolymer.
  • PVA polyvinyl alcohol
  • the polarizing film may also be a polyene-oriented film. Examples of materials for the polyene-oriented film include a dehydrated PVA film and a dehydrochlorinated polyvinyl chloride film.
  • the polarizing film may have a protective film bonded to one side and/or the other side in the thickness direction via an adhesive.
  • the thickness of the polarizing film is preferably 10 ⁇ m or more, more preferably 20 ⁇ m or more, from the viewpoint of ensuring the function, strength, and durability of the polarizing film.
  • the thickness of the polarizing film is preferably 500 ⁇ m or less, more preferably 300 ⁇ m or less, from the viewpoint of making the laminated film Y thinner.
  • the retardation film may be, for example, a ⁇ /2 wavelength film, a ⁇ /4 wavelength film, or a viewing angle compensation film.
  • the retardation film may be made of a polymer film that has been birefringent by stretching.
  • the polymer film may be, for example, a cellulose film or a polyester film.
  • the cellulose film may be, for example, a triacetyl cellulose film.
  • the polyester film may be, for example, a polyethylene terephthalate film, a polyethylene naphthalate film, or a polybutylene terephthalate film.
  • the retardation film may be a film having a substrate such as a cellulose film and an orientation layer on the substrate.
  • the orientation layer is formed from a liquid crystal compound such as a liquid crystal polymer.
  • the thickness of the retardation film is preferably 1 ⁇ m or more, more preferably 2 ⁇ m or more, from the viewpoint of ensuring the function and strength of the retardation film.
  • the thickness of the retardation film is preferably 100 ⁇ m or less, more preferably 80 ⁇ m or less, from the viewpoint of making the laminated film Y thinner.
  • Materials for the base film include, for example, the materials mentioned above as materials for the release liner.
  • the film layer 30 is a base film
  • the second surface 20b of the adhesive layer 20 is bonded to such a film layer 30.
  • the film layer 30 as a base film and the adhesive layer 20 form a one-sided adhesive sheet.
  • the thickness of the base film is preferably 10 ⁇ m or more, more preferably 20 ⁇ m or more, and even more preferably 30 ⁇ m or more.
  • the thickness of the base film is preferably 200 ⁇ m or less, more preferably 150 ⁇ m or less, and even more preferably 100 ⁇ m or less.
  • the laminated sheet X can be manufactured, for example, as follows. First, the above-mentioned adhesive composition is applied onto the film layer 30 to form a coating film. Next, the film layer 10 is laminated onto the coating film on the film layer 30. Next, the coating film between the film layers 10 and 30 is dried, and the coating film is irradiated with light as necessary. In this way, the adhesive layer 20 is formed between the film layers 10 and 30. Examples of methods for applying the adhesive composition include roll coating, kiss roll coating, gravure coating, and die coating. The drying temperature for the coating film is, for example, 50°C to 200°C. The drying time is, for example, 5 seconds to 20 minutes.
  • the work film W is laser processed to form an individualized laminated film Y in the laminated sheet X.
  • a laser processing device irradiates and scans the work film W with laser light L from the film layer 30 side to melt and cut the film layer 30, adhesive layer 20, and film layer 10 on the carrier film C to form a cut groove G.
  • the spot diameter S of the laser light L irradiated to the work film W on the surface 20b (surface on the film layer 30 side) of the adhesive layer 20 is 200 ⁇ m or more and 500 ⁇ m or less.
  • the cut groove G is formed so as to follow a predetermined processing planned line (designed cutting line) in the work film W.
  • the cut groove G has a depth in the thickness direction H.
  • the cut groove G has a shape in which the groove width increases the further away from the carrier film C.
  • an individualized film 31 is formed in the film layer 30.
  • An individualized adhesive layer 21 is formed in the adhesive layer 20.
  • the film layer 10 is formed with an individualized film 11.
  • the film layers 11, 31 and the adhesive layer 21 form the laminated film Y.
  • a peripheral portion Xa is formed around the laminated film Y.
  • FIG. 2 is a plan view that shows a schematic example of an area of the workpiece film W after the contour processing process. In FIG. 2, the cut groove G is shown with hatching.
  • the partial cross-sectional view shown in FIG. 1B corresponds to the partial cross-sectional view of the workpiece film W taken along line I-I shown in FIG. 2.
  • the laminated film Y comprises a film 11, an adhesive layer 21, and a film 31, in this order in the thickness direction H.
  • the film 11 has an end face 11a facing the cut groove G.
  • the adhesive layer 21 has an end face 21a facing the cut groove G.
  • the end face 21a is flush with the end face 11a.
  • the film 31 has an end face 31a facing the cut groove G.
  • the end face 31a is flush with the end face 21a.
  • the end faces 11a, 21a, and 31a form an inclined surface that inclines so as to widen outward as it approaches the carrier film C in the thickness direction H, or a curved surface that curves so as to widen outward as it approaches the carrier film C in the thickness direction H (FIG.
  • the angle ⁇ formed by the end face 11a and the surface of the film 11 facing the carrier film C (the inclination angle of the end face 11a) is, for example, 20° to 80°.
  • the angle ⁇ (inclination angle of end face 21a) formed between end face 21a and the surface of the adhesive layer 21 on the film 11 side is, for example, equal to or greater than angle ⁇ and is between 40° and 80°.
  • the angle ⁇ (inclination angle of end face 31a) formed between end face 31a and the surface of the film 31 on the adhesive layer 21 side is, for example, approximately the same as angle ⁇ and is between 20° and 80°.
  • the film 11 has an extended end 11A.
  • the extended end 11A extends outward from the end surface 21a of the pressure-sensitive adhesive layer 21 in the plane direction D perpendicular to the thickness direction H. That is, the film 11 has an outer end 11e further outward than the outer end 21e of the pressure-sensitive adhesive layer 21 in the plane direction D.
  • the extension length d 1 of the extended end 11A from the end surface 21a in the plane direction D is preferably 70 ⁇ m or more, more preferably 90 ⁇ m or more, and even more preferably 100 ⁇ m or more.
  • the extension length d 1 is preferably 200 ⁇ m or less, more preferably 170 ⁇ m or less, and even more preferably 150 ⁇ m or less.
  • the extension length d1 is the length in the planar direction D from the outer end 21e of the adhesive layer 21 to the outer end 11e of the film 11, and is the maximum length of the extension end portion 11A.
  • the distance between the outer end 11e of the film 11 and the inner end 31e of the film 31 in the surface direction D is defined as the edge width d2 (shown in FIG. 3). That is, the edge width d2 is the maximum length in the surface direction D from the outer end 11e of the film 11 to the inner end 31e of the film 31.
  • the edge width d2 is preferably 600 ⁇ m or less, more preferably 550 ⁇ m or less.
  • the edge width d2 is, for example, 100 ⁇ m or more or 200 ⁇ m or more.
  • the region of the edge width d2 is a part of the edge region that can be used as an alignment mark (edge alignment mark) for detecting the end of the laminated film Y to be manufactured.
  • edge alignment mark an alignment mark for detecting the end of the laminated film Y to be manufactured.
  • a cut groove G first cut groove
  • another cut groove G second cut groove
  • the separation distance d 3 shown in FIG. 1B
  • Such a configuration is preferable for realizing high productivity of the laminated film Y.
  • the separation distance d 3 is, for example, 0.5 mm or more, 0.7 mm or more, or 1.0 mm or more. In press processing using a blade mold, a separation distance d 3 of 2 mm or less cannot be realized.
  • the separation distance d 3 is the shortest length between the adhesive layers 21 adjacent to each other in the flow direction D1.
  • Examples of lasers for laser processing include gas lasers, solid lasers, and semiconductor lasers.
  • Examples of gas lasers include excimer lasers and CO2 lasers.
  • Examples of excimer lasers include F2 excimer lasers (157 nm), ArF excimer lasers (193 nm), KrF excimer lasers (248 nm), and XeCl excimer lasers (308 nm) (numbers in parentheses indicate laser wavelengths. The same applies below for lasers).
  • Examples of solid lasers include Nd:YAG lasers (1064 nm), the second harmonic of Nd:YAG lasers (532 nm), the third harmonic of Nd:YAG lasers (355 nm), and the fourth harmonic of Nd:YAG lasers (266 nm).
  • Examples of semiconductor lasers include semiconductor lasers with a wavelength of 405 nm.
  • a CO2 laser is preferred from the viewpoint of simultaneously cutting the film layers 10, 30 and the adhesive layer 20, which are different in material and optical properties (such as absorbance).
  • a CO2 laser is also preferred because it is easy to increase the spot diameter S of the laser light L.
  • the spot diameter S of the laser light L on the surface 20b of the adhesive layer 20 can be adjusted, for example, by defocus adjustment of the laser light L.
  • the focal position of the laser light L is moved up and down in the thickness direction H relative to the surface 20b. The farther the focal position of the laser light L is from the surface 20b, the larger the spot diameter S on the surface 20b.
  • the laser light L is preferably a Gaussian type laser light.
  • Gaussian type laser light is laser light whose energy intensity distribution is a Gaussian distribution.
  • Gaussian type laser light is preferable for forming cut grooves G that become wider the further away from the carrier film C. Therefore, Gaussian type laser light is preferable for forming a film 11 having an extended end portion 11A of significant length.
  • the cut groove G is preferably formed by one-pass processing using laser light. Forming the cut groove G in the work film W by one-pass processing is suitable for shortening the takt time in the manufacture of the laminated film Y, and is therefore suitable for efficiently manufacturing the laminated film Y.
  • one-pass processing means that the cut groove G is carved by a single scan of the irradiation spot of the laser light.
  • the output of the laser light L is, for example, 2 to 500 W.
  • the pulse frequency of the laser light L is, for example, 10 to 30 kHz.
  • the laser processing device 100 shown in Figures 4 and 5 is used as the laser processing device that performs the external processing step ( Figure 1B).
  • the laser processing device 100 includes a processing stage 110, a laser processing unit 120, and a control unit (not shown).
  • the processing stage 110 is a stage that supports the work film W flowing through the production line. As shown in FIG. 5, the processing stage 110 has a support table 111 and a suction path 112.
  • the support table 111 forms a support surface for the work film W in the processing stage 110.
  • the support table 111 has a plurality of suction holes 111a that penetrate the support table 111 in the thickness direction H.
  • the suction path 112 is a space formed within the processing stage 110.
  • the suction path 112 is located below the support table 111.
  • Each suction hole 111a of the support table 111 is connected to the suction path 112.
  • the suction path 112 is connected to the suction path of a vacuum pump (not shown).
  • the suction path 112 is depressurized by the operation of the vacuum pump.
  • the vacuum pump can select an operating state or a non-operating state according to the control by the control unit.
  • the suction path 112 is depressurized, and the workpiece film W is sucked onto the support table 111 of the processing stage 110.
  • a pair of nip rollers N1, N1 are arranged on the upstream side of the manufacturing line of the processing stage 110.
  • the work film W is pinched between the pair of nip rollers N1, N1, and each nip roller N1 is rotated at a constant speed to pull and send the work film W toward the processing stage 110.
  • a pair of nip rollers N2, N2 are arranged on the downstream side of the manufacturing line of the processing stage 110.
  • the work film W is pinched between the pair of nip rollers N2, N2, and each nip roller N2 is rotated at a constant speed to pull and send the work film W toward the downstream side of the nip rollers N2, N2.
  • the nip rollers N1, N1 and the nip rollers N2, N2 cause the work film W to flow in the length direction of the film (flow direction D1) on the support stage 111 of the processing stage 110.
  • the suction path 112 (FIG. 5) of the processing stage 110 is depressurized, so that the workpiece film W slides on the processing stage 110 while being sucked into the processing stage 110.
  • This is preferable for precisely focusing the laser light L on the workpiece film W that is continuously flowing on the production line during the external processing step, and is therefore preferable for efficient and highly accurate laser processing of the workpiece film W.
  • the laser processing unit 120 includes a housing 121, a laser light source 122, a beam expander 123, a movable lens 124, a condenser lens 125, and a galvanometer scanner Sc.
  • the laser light source 122, the beam expander 123, the movable lens 124, the condenser lens 125, and the galvanometer scanner Sc are housed in the housing 121.
  • the housing 121 has a laser light emission port (not shown).
  • the laser light source 122 oscillates laser light L.
  • a CO2 laser light source is preferable from the viewpoint of appropriately cutting a plurality of layers having different materials and optical properties (such as absorbance).
  • the beam expander 123 is an optical component that adjusts the beam size of the laser light L.
  • Other optical components may be disposed between the beam expander 123 and the movable lens 124. Examples of the other optical components include a collimator lens and a homogenizer.
  • the movable lens 124 is a lens that can be displaced in the optical axis direction of the laser light L. As the movable lens 124 is displaced in the optical axis direction, the position of the focal point of the laser light L focused by the focusing lens 125 (the position of the focal point on the work film W) changes. The position of the movable lens 124 in the optical axis direction can be adjusted according to the control by the control unit (position control of the movable lens 124).
  • the galvanometer scanner Sc includes a galvanometer mirror 126 (first galvanometer mirror), a galvanometer motor 127 (first galvanometer motor), a galvanometer mirror 128 (second galvanometer mirror), and a galvanometer motor 129 (second galvanometer motor).
  • the galvanometer mirror 126 has a mirror surface 126a capable of reflecting the laser light L.
  • the galvanometer motor 127 has a motor shaft 127a connected to the galvanometer mirror 126.
  • the motor shaft 127a extends in a first direction.
  • the first direction is preferably perpendicular to each of the flow direction D1 and width direction D2 of the work film W.
  • the galvanometer motor 127 can swing the direction in which the mirror surface 126a of the galvanometer mirror 126 faces (first mirror surface direction) around a rotation axis extending along the motor shaft 127a.
  • the galvanometer motor 127 can control the first mirror surface direction of the galvanometer mirror 126 according to control by the control unit.
  • the galvanometer mirror 128 has a mirror surface 128a capable of reflecting the laser light L.
  • the galvanometer motor 129 has a motor shaft 129a connected to the galvanometer mirror 128.
  • the motor shaft 129a extends in a second direction.
  • the second direction intersects with the first direction.
  • the second direction is preferably perpendicular to the first direction.
  • the second direction is preferably the width direction D2.
  • the galvanometer motor 129 can swing the direction in which the mirror surface 128a of the galvanometer mirror 128 faces (second mirror surface direction) around a rotation axis extending along the motor shaft 129a.
  • the galvanometer motor 129 can control the second mirror surface direction of the galvanometer mirror 128 according to control by the control unit.
  • the laser light L is reflected successively by the mirror surface 126a of the galvanometer mirror 126 and the mirror surface 128a of the galvanometer mirror 128. After passing through the laser light emission port of the housing 121, the laser light L is irradiated onto the work film W on the processing stage 110.
  • the laser light L is scanned onto the work film W by controlling the first and second mirror surface directions of the galvanometer motors 127 and 129. Specifically, the laser light L is scanned in the flow direction D1 and the surface direction D2 by controlling the first and second mirror surface directions of the galvanometer motors 127 and 129 so that the irradiation spot of the laser light L on the work film W from the laser processing unit 120 follows the planned processing line on the work film W. In the laser processing unit 120, the laser light L is scanned within a predetermined range (scanning area) centered substantially directly below the galvanometer scanner Sc.
  • the movable lens 124 is position-controlled according to the first and second mirror surface directions so that the size of the irradiation spot of the scanned laser light L is the same regardless of changes in the angle of incidence with respect to the work film W (the angle formed by the normal direction of the film surface and the optical axis direction of the laser light L).
  • the control unit controls the galvanometer scanner Sc (galvanometer motors 127, 129) so that the position of the irradiation spot, which is determined by the combined speed (vector) of the transport speed (vector) of the workpiece film W and the scanning speed (vector) of the laser light L, follows the intended processing line on the workpiece film W.
  • the laser processing unit 120 may be provided with a telecentric type f ⁇ lens at a position where the laser light L passes after the galvano scanner Sc.
  • the f ⁇ lens serves to make the spot diameter S of the laser light L the same regardless of changes in the angle of incidence of the laser light L with respect to the work film W.
  • the laser processing unit 120 is provided with such an f ⁇ lens, it does not necessarily have to be provided with the movable lens 124.
  • a telecentric type f ⁇ lens with a diameter larger than the width (length in the width direction D2) of the scanning area assigned to the laser processing unit 120 can be used, it is preferable to use such an f ⁇ lens.
  • the telecentric type f ⁇ lens and the above-mentioned movable lens 124 may be used in combination.
  • laminated film Y (a laminated film having an adhesive layer) can be manufactured. After film 31 is peeled off from adhesive layer 21, another film may be laminated to adhesive layer 21.
  • the film layer 10, adhesive layer 20, and film layer 30 on the carrier film C are melted by irradiating and scanning the work film W with laser light L.
  • the material of the layer is evaporated and removed.
  • the workpiece film W is irradiated with the laser light L from the film layer 30 side, and the film layers 10, 30 and the adhesive layer 20 on the carrier film C are melted.
  • the irradiation energy of the laser light L is accumulated in the order of the film layer 30, the adhesive layer 20, and the film layer 10 in the thickness direction H, and each layer is melted by heating.
  • the influence of heating by the irradiation of the laser light L becomes greater in the order of the film layer 10, the adhesive layer 20, and the film layer 30.
  • a cut groove G that is wider the farther away from the carrier film C can be formed. Therefore, in the contour processing step, a film 11 having an extended end 11A that extends outward from the end face 21a of the adhesive layer 21 at the end face (the end face facing the cut groove G) of the laminated film Y can be formed.
  • the spot diameter S of the laser light L used in the contour processing step on the surface 20b of the pressure-sensitive adhesive layer 20 (the surface on the film layer 30 side) is 200 ⁇ m or more as described above, which is relatively large. This is suitable for forming a film 11 having a significant length of extended end 11A.
  • the laminated film Y having such an extended end 11A is suitable for suppressing the above-mentioned end blocking.
  • the spot diameter S is preferably 230 ⁇ m or more, more preferably 250 ⁇ m or more, and even more preferably 270 ⁇ m or more.
  • the spot diameter S of the laser light L used in the contour processing step on the surface 20b of the adhesive layer 20 is 500 ⁇ m or less as described above.
  • Such a configuration is suitable for reducing the exposed area of the adhesive layer 21 on the film 30 side at the end of the laminated film Y facing the cut groove G (which becomes wider as it moves away from the carrier film C). Therefore, this configuration is suitable for suppressing the above-mentioned end blocking when the laminated film Y is stacked in the thickness direction.
  • the spot diameter S being 500 ⁇ m or less is suitable for suppressing the edge width d 2 from becoming excessive, and therefore, erroneous detection of the edge alignment mark by the detection camera can be suppressed.
  • the spot diameter S is preferably 470 ⁇ m or less, more preferably 400 ⁇ m or less.
  • the laminated film Y (laminate film having an adhesive layer) is contour processed by laser processing.
  • Laser processing is suitable for continuous contour processing while continuously flowing the work film W (there is no need to feed the work film W intermittently for contour processing). Therefore, this manufacturing method is suitable for efficiently manufacturing the laminated film Y.
  • this manufacturing method is suitable for efficiently manufacturing a laminated film Y having a soft adhesive layer 21 and suitable for suppressing edge blocking.
  • Example 1 A laminated film having a pressure-sensitive adhesive layer was produced as follows.
  • DPHA dipentaerythritol hexaacrylate
  • silane coupling agent product name "KBM-403", 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • a silicone-based release treatment agent product name "KE-3703", a 28.5 mass% toluene solution of an addition type silicone-based release treatment agent containing a polyorganosiloxane having a hexenyl group in the molecule and a polyorganosiloxane crosslinker having a hydrosilyl group in the molecule, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • a silicone-based release control agent product name "KS-3800", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • a platinum catalyst for silicone curing product name "CAT-PL-50T”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • the solvent was a mixed solvent of toluene and hexane in a volume ratio of 1:1.
  • a biaxially stretched polyester film product name "Lumirror XD500P", thickness 50 ⁇ m, manufactured by Toray Advanced Materials Korea Co., Ltd.
  • the release treatment solution was first applied to one side of the polyester film to form a coating film.
  • a wire bar #9 was used for application.
  • the coating film on the film was heated and dried at 130°C for 1 minute using a hot air dryer. This resulted in a silicone release layer with a thickness of 0.1 ⁇ m being formed on the polyester film (release treatment). In this manner, a release liner having a release-treated surface on one side was produced.
  • a pressure-sensitive adhesive composition was applied onto the release-treated surface of the release liner to form a coating film.
  • the plasma-treated surface of a surface protection film one side of which had been plasma-treated, was attached to the coating film on the release liner.
  • the surface protection film was a specified polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 50 ⁇ m.
  • PET polyethylene terephthalate
  • a plasma irradiation device name "AP-TO5", manufactured by Sekisui Kogyo Co., Ltd.
  • the voltage was set to 160 V
  • the frequency was set to 10 kHz
  • the treatment speed was set to 5000 mm/min.
  • ultraviolet rays were irradiated onto the coating film from the surface protection film side to cure the coating film with ultraviolet rays, thereby forming an adhesive layer having a thickness of 25 ⁇ m.
  • a laminated sheet release liner/adhesive layer/surface protection film
  • the irradiation intensity was set to 5 mW/cm 2.
  • a carrier film was attached to the laminated sheet.
  • the carrier film is a single-sided adhesive film having an adhesive surface on one side in the thickness direction. The adhesive surface of the carrier film was attached to the release liner side of the laminate sheet.
  • the work film has a carrier film, a release liner (first film layer), an adhesive layer, and a surface protection film (second film layer) in this order in the thickness direction.
  • the release liner, adhesive layer and surface protection film on the carrier film were processed by laser processing on the work film. Specifically, the work film was irradiated with laser light from the surface protection film side and scanned to form a cut groove by melting the surface protection film, adhesive layer and release liner so as to follow a predetermined cutting line in the laminated sheet.
  • a laser processing device product name "LC500”, Takei Electric Industry Co., Ltd.
  • a CO2 laser with a wavelength of 9360 nm was used as the laser light
  • the spot diameter S of the laser light was 258 ⁇ m
  • the laser output was 20 W
  • the pulse frequency was 30 kHz
  • the cutting speed by the laser light was 500 mm/sec
  • the number of scans number of passes
  • the spot diameter S is the spot diameter on the surface of the adhesive layer on the surface protection film side (the same applies to the examples and comparative examples described later).
  • the laminated film includes a release liner (first film), a pressure-sensitive adhesive layer, and a surface protection film (second film) in this order in the thickness direction.
  • the release liner has an extended end portion that extends outward beyond the edge of the pressure-sensitive adhesive layer in the surface direction. After the contour processing step, the peripheral portion is removed from the carrier film.
  • Example 1 a laminated film having an adhesive layer
  • Example 2 A laminated film of Example 2 was produced in the same manner as in Example 1, except for the following: In the contour processing step, a CO2 laser having a wavelength of 10,250 nm was used as the laser light instead of a CO2 laser having a wavelength of 9,360 nm, and the spot diameter S was set to 230 ⁇ m.
  • Example 3 A laminated film of Example 3 was produced in the same manner as in Example 1, except that the spot diameter S in the contour processing step was set to 353 ⁇ m.
  • Example 4 A laminated film of Example 4 was produced in the same manner as in Example 1, except that the spot diameter S in the contour processing step was set to 462 ⁇ m.
  • Comparative Example 1 A laminated film of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1, except that the spot diameter S in the contour processing step was set to 100 ⁇ m.
  • Comparative Example 2 A laminated film of Comparative Example 2 was produced in the same manner as in Example 1, except for the following: In the contour processing step, a CO2 laser having a wavelength of 10,250 nm was used as the laser light instead of a CO2 laser having a wavelength of 9,360 nm, and the spot diameter S was set to 100 ⁇ m.
  • Comparative Example 3 A laminated film of Comparative Example 3 was produced in the same manner as in Example 1, except that the spot diameter S in the contour processing step was set to 155 ⁇ m.
  • Comparative Example 4 A laminated film of Comparative Example 4 was produced in the same manner as in Example 1, except that the spot diameter S in the contour processing step was set to 572 ⁇ m.
  • Comparative Example 5 A laminated film of Comparative Example 5 was produced in the same manner as in Example 1, except that the spot diameter S in the contour processing step was set to 1130 ⁇ m.
  • the measurement samples were fixed to a parallel plate jig with a diameter of 7.9 mm and subjected to dynamic viscoelasticity measurement using a dynamic viscoelasticity measuring device (name: Advanced Rheometric Expansion System (ARES), manufactured by Rheometric Scientific).
  • the measurement mode was shear mode
  • the measurement temperature range was -40°C to 100°C
  • the heating rate was 5°C/min
  • the frequency was 1 Hz.
  • the shear storage modulus at 25°C was read from the measurement results. The values are shown in Table 1.
  • the laminated films of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 5 were examined for their resistance to extrusion of the adhesive layer. Specifically, for each laminated film, 10 evaluation samples of substantially the same size were prepared, and the 10 evaluation samples were stacked to form a film stack. In the film stack, the ends of the 10 laminated films were substantially flush with each other in the thickness direction. Next, the end faces of the film stack were touched with a finger to check whether the end faces were sticky. The suppression of extrusion of the adhesive layer in the laminated film was evaluated as follows. The case where no stickiness was felt at all at the end faces was evaluated as "good", and the case where stickiness was felt at the end faces was evaluated as "poor". The evaluation results are shown in Table 1.
  • the method for manufacturing a laminated film having an adhesive layer of the present invention can be applied to, for example, a method for manufacturing a laminated film (having an adhesive layer) as a supply material for an optical adhesive sheet for a foldable display panel.

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Abstract

積層フィルムの製造方法は、用意工程と外形加工工程を含む。用意工程では、長尺のワークフィルム（Ｗ）[キャリアフィルム（Ｃ）／フィルム層（１０）／粘着剤層（２０）／フィルム層（３０）]を用意する。粘着剤層（２０）は、２５℃にて１００ｋＰａ以下のせん断貯蔵弾性率を有する。外形加工工程では、ワークフィルム（Ｗ）に対してフィルム層（３０）側からレーザー光（Ｌ）を照射・走査し、キャリアフィルム（Ｃ）上でフィルム層（３０）からフィルム層（１０）までを溶断する。これにより、積層シート（Ｘ）を形成する。積層シート（Ｘ）は、延出端部（１１Ａ）を有するフィルム（１１）を備える。ワークフィルム（Ｗ）に照射されるレーザー光（Ｌ）の、粘着剤層（２０）におけるフィルム層（３０）側の表面（２０ｂ）でのスポット径は、２００～５００μｍである。

Description

粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法
　本発明は、粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法に関する。
　ディスプレイパネルは、例えば、画素パネル、偏光フィルム、タッチパネルおよびカバーフィルムなどの要素を含む積層構造を有する。そのようなディスプレイパネルの製造過程では、積層構造に含まれる要素どうしの接合のために、例えば、光学的に透明な粘着シート（光学粘着シート）が用いられる。光学粘着シートは、例えば、同シートの両面がはく離ライナーで被覆された形態（粘着剤層を有する積層フィルムの形態）で製造される。
　一方、例えばスマートフォン用およびタブレット端末用に、繰り返し折り曲げ可能（フォルダブル）なディスプレイパネルの開発が進んでいる。フォルダブルディスプレイパネルは、具体的には、屈曲形状とフラットな非屈曲形状との間で、繰り返し変形可能である。このようなフォルダブルディスプレイパネルでは、積層構造中の各要素が、繰り返し折り曲げ可能に作製されており、そのような要素間の接合に薄い光学粘着シートが用いられている。フォルダブルディスプレイパネルなどフレキシブルデバイス用の光学粘着シートについては、例えば下記の特許文献１に記載されている。
特開２０１８－１１１７５４号公報
　ディスプレイパネル用の光学粘着シートは、従来、例えば次のようにして製造される。
　まず、図８Ａに示すように、ワークフィルムＷ’を用意する。ワークフィルムＷ’は、長尺の原反シートとしての積層シート９０と、積層シート９０を支持する長尺のキャリアフィルムＣ’とからなる。積層シート９０は、はく離ライナー９１と、粘着剤層９２と、はく離ライナー９３とを、厚さ方向Ｈにこの順で有する。はく離ライナー９１は、粘着剤層９２の一方面に剥離可能に接している。はく離ライナー９３は、粘着剤層９２の他方面に剥離可能に接している。キャリアフィルムＣ’は、積層シート９０をはく離ライナー９１側から支持する。
　次に、図８Ｂに示すように、積層シート９０に対するプレス加工により、複数の枚葉状の積層フィルム９０Ａを形成する（プレス加工工程）。プレス加工では、図９に示すように、積層シート９０に対して、刃型１００の刃１０１を、はく離ライナー９３側からキャリアフィルムＣ’に至るまで押し入れる。これにより、積層シート９０において、所定の平面視形状の積層フィルム９０Ａを形成する。積層フィルム９０Ａは、はく離ライナー９１Ａと、粘着剤層９２Ａと、はく離ライナー９３Ａとを、厚さ方向Ｈにこの順で有する。本工程では、積層フィルム９０Ａまわりに、周囲部９０Ｂが形成される。また、積層シート９０において、はく離ライナー９３側からキャリアフィルムＣ’に至る切断溝９５（図８Ｂ）が形成される。
　図１０は、従来のプレス加工工程の一例を表す。図１０に示すプレス加工工程では、製造ラインを流れるワークフィルムＷ’が、一対のニップローラ２０１,２０１間と、プレス加工機２０２と、一対のニップローラ２０３,２０３間とを、この順で通過する。プレス加工機２０２は、間欠送り装置と、加工ステージと、同ステージの上方に配置された刃型とを備える（いずれも図示略）。一対のニップローラ２０１,２０１とプレス加工機２０２との間では、ワークフィルムＷ’は弛ませられる。プレス加工機２０２と一対のニップローラ２０３,２０３との間では、ワークフィルムＷ’は弛ませられる。ニップローラ２０１,２０１とニップローラ２０３,２０３との間では、ワークフィルムＷ’は、プレス加工機２０２の間欠送り装置によって間欠的に送られる。これにより、ワークフィルムＷ’における未加工領域が、プレス加工機２０２の加工ステージ上に間欠的に供給される。加工ステージ上では、間欠的に供給されるワークフィルムＷ’の未加工領域ごとに、刃型によるプレス加工が実施される。
　このようなプレス加工工程の後、図８Ｃに示すように、はく離ライナー９１上から周囲部９０Ｂを除去する（除去工程）。これにより、粘着剤層を有する枚葉状の積層フィルム９０Ａ（はく離ライナー９１Ａ／粘着シート９２Ａ／はく離ライナー９３Ａ）が得られる。
　フレキシブルデバイス用の粘着シート（粘着剤層）には、デバイス屈曲時の被着体への充分な追従性と、優れた応力緩和性とを有するように、高度に軟質であることが求められる。また、上述のプレス加工工程（図８Ｂ）では、はく離ライナー９１,９３は、平面視において同一箇所が切断される。すなわち、プレス加工工程で形成されるはく離ライナー９１Ａ,９３Ａの端縁は、平面視において揃っている。そのため、積層フィルム９０Ａでは、図１１に示すように、粘着シート９２Ａ（高度に軟質）のはみ出し部９２ａが形成されやすい。はみ出し部９２ａは、粘着シート９２Ａにおいて、はく離ライナー９１Ａ,９３Ａの端縁９１ｅ,９３ｅよりも外方に延出した部分である。はみ出し部９２ａは、例えば、プレス加工工程（図８Ｂ）において、粘着剤層９２（高度に軟質）が、刃型１００（図９）に付着して、当該刃型１００によって引っ張られて形成される。
　はみ出し部９２ａは、複数の積層フィルム９０Ａを厚さ方向Ｈに積み重ねた場合に、隣り合う積層フィルム９０Ａの端部どうしが付着すること（端部ブロッキング）の原因となる。端部ブロッキングは、積層フィルム９０Ａの取り扱い性を低下させる。このような不具合は、はく離ライナー９１Ａ上に、粘着剤層９２Ａおよびはく離ライナー９３Ａに代えて粘着剤層付き表面保護フィルム（粘着剤層側にはく離ライナー９１Ａが貼着している）を形成する場合にも、生じる。
　また、上述の従来の製造方法では、プレス加工機２０２の加工ステージ上に間欠的に送られてくる、ワークフィルムＷ’の未加工領域ごとに、プレス加工工程（図８Ｂ）が実施される。すなわち、積層フィルムの外形加工のために、ワークフィルムＷ’の搬送と搬送停止とが交互に繰り返される。このような間欠送りを実現するためには、間欠送り装置が必要であり、且つ、同装置を制御する必要がある。このような従来の製造方法は、粘着剤層を有する積層フィルムの製造効率の観点から好ましくない。
　本発明は、軟質な粘着剤層を有する積層フィルムであって、端部ブロッキングを抑制するのに適した積層フィルムを、効率よく製造するのに適した積層フィルムの製造方法を提供する。
　本発明［１］は、粘着剤層を有する積層フィルムのロールトゥロール方式の製造方法であって、キャリアフィルムと、第１フィルム層と、粘着剤層と、第２フィルム層とを厚さ方向にこの順で備える長尺のワークフィルムを用意する用意工程と、前記ワークフィルムに対し、前記第２フィルム層側からレーザー光を照射および走査して、前記キャリアフィルム上で前記第２フィルム層、前記粘着剤層および前記第１フィルム層を溶断してカット溝を形成することにより、前記第１フィルム層において個片化された第１フィルムと、前記粘着剤層において個片化された粘着剤層と、前記第２フィルム層において個片化された第２フィルムとを厚さ方向にこの順で備える積層フィルムを形成する、外形加工工程とを含み、前記粘着剤層は、２５℃において１００ｋＰａ以下のせん断貯蔵弾性率を有し、前記第１フィルムは、延出端部を有し、当該延出端部は、前記厚さ方向と直交する面方向において、前記個片化された粘着剤層の端縁よりも外方に延出し、前記外形加工工程において、前記ワークフィルムに照射される前記レーザー光の、前記粘着剤層における前記第２フィルム層側の表面でのスポット径が、２００μｍ以上５００μｍ以下である、粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法を含む。
　本製造方法の外形加工工程では、上記のように、ワークフィルムに対するレーザー光の照射および走査により、キャリアフィルム上の第１フィルム層、粘着剤層および第２フィルム層が溶断される。各層に対してレーザー光が照射された部分では、同層の材料が蒸発して除去される。２５℃でのせん断貯蔵弾性率が１００ｋＰａ以下の柔らかい粘着剤層は、プレス加工用の刃型の押し入りによって切断されるのではない（粘着剤層が刃型に付着することはない）。そのため、外形加工工程では、上述の従来のプレス加工工程では粘着剤層の端部に形成されるはみ出し部９２ａ（図１１）のようなはみ出し部の形成を、抑制できる。このことは、軟質な粘着剤層を有する積層フィルムにおいて、上述の端部ブロッキングを抑制するのに適する。
　外形加工工程では、上記のように、ワークフィルムに対して第２フィルム層側からレーザー光が照射されて、キャリアフィルム上の第１・第２フィルム層および粘着剤層が溶断される。ワークフィルムに対するレーザー光の照射箇所では、厚さ方向において、第２フィルム層、粘着剤層および第１フィルム層の順で、レーザー光の照射エネルギーが蓄積されて、各層が加熱によって溶断される。厚さ方向と直交する面方向において、レーザー光照射による加熱の影響は、第１フィルム層、粘着剤層および第２フィルム層の順で大きくなる。このようなレーザー光照射によると、キャリアフィルムから離れるほど幅が広いカット溝を形成できる。したがって、外形加工工程では、積層フィルム（第１フィルム，粘着剤層，第２フィルム）の端面（カット溝に臨む端面）において粘着剤層の端縁よりも外方に延出する延出端部を有する第１フィルムを、形成できる。当該第１フィルムは、具体的には、面方向において、粘着剤層の最外端よりも更に外方に最外端を有する。そして、外形加工工程で用いられるレーザー光の、粘着剤層における第２フィルム層側の表面でのスポット径は、上記のように２００μｍ以上であり、比較的大きい。このことは、有意な長さの延出端部を有する第１フィルムを形成するのに適する。第１フィルムがこのような延出端部を有する積層フィルムは、上述の端部ブロッキングを抑制するのに適する。
　外形加工工程で用いられるレーザー光の、粘着剤層における第２フィルム層側の表面でのスポット径は、上記のように、５００μｍ以下である。このような構成は、カット溝（キャリアフィルムから離れるほど幅が広い）に臨む積層フィルムの端部において、粘着剤層の第２フィルム側への露出面積を低減するのに適する。したがって、当該構成は、積層フィルムを厚さ方向に積み重ねた場合の上述の端部ブロッキングを抑制するのに適する。
　また、外形加工工程では、上記のように、粘着剤層を有する積層フィルムがレーザー加工によって外形加工される。レーザー加工は、ワークフィルムを連続的に流しながら連続的に外形加工するのに適する（外形加工のためにワークフィルムを間欠的に送る必要がない）。したがって、本製造方法は、粘着剤層を有する積層フィルムを効率よく製造するのに適する。
　以上のように、本製造方法は、軟質な粘着剤層を有する積層フィルムであって、端部ブロッキングを抑制するのに適した積層フィルムを、効率よく製造するのに適する。
　本発明［２］は、前記カット溝が、前記レーザー光による１パス加工によって形成される、上記［１］に記載の粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法を含む。
　ワークフィルムに対してカット溝を１パス加工によって形成することは、積層フィルムの製造におけるタクトタイムを短くするのに適し、従って、積層フィルムを効率よく製造するのに適する。
　本発明［３］は、前記レーザー光がＣＯ２レーザーである、上記［１］または［２］に記載の粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法を含む。
　ＣＯ２レーザーは、材質および光学特性（吸光度など）の異なる第１・第２フィルム層および粘着剤層を一括的に溶断するのに適する。
　本発明［４］は、前記外形加工工程では、前記ワークフィルムを吸着可能な加工ステージによって前記ワークフィルムの前記キャリアフィルム側を吸引しつつ、当該ワークフィルムを長さ方向に前記加工ステージ上をスライド走行させ、当該ワークフィルムに対して前記第２フィルム層側から前記レーザー光を照射および走査する、上記［１］から［３］のいずれか一つに記載の粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法を含む。
　このような構成は、外形加工工程において、製造ラインを連続的に流れるワークフィルムに対してレーザー光の焦点を高精度に合わせるのに好ましく、従って、ワークフィルムを効率的かつ高精度にレーザー加工するのに好ましい。
　本発明［５］は、前記ワークフィルムの長さ方向と交差する方向に延びる第１の前記カット溝と第２の前記カット溝とが、前記長さ方向に隣り合って形成され、前記第１のカット溝および前記第２のカット溝を介して前記長さ方向に隣り合う粘着剤層の間の離隔距離が２ｍｍ以下である、上記［１］から［４］のいずれか一つに記載の粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法を含む。
　このような構成は、積層フィルムの高い生産性を実現するのに好ましい。
　本発明［６］は、前記レーザー光がガウシアン型レーザー光である、上記［１］から［５］のいずれか一つに記載の粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法を含む。
　ガウシアン型レーザー光は、外形加工工程において、キャリアフィルムから離れるほど幅が広いカット溝を形成するのに好ましい。したがって、ガウシアン型レーザー光は、有意な長さの延出端部を有する第１フィルムを形成するのに好ましい。
本発明の粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法の一実施形態の工程を表す。図１Ａは用意工程を表し、図１Ｂは外形加工工程を表し、図１Ｃは除去工程を表す。 ワークフィルムにおける外形加工工程（図１Ｂ）後の領域の一例の模式的な平面図である。 本発明の粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法によって製造された積層フィルムの部分拡大断面図である。 外形加工工程を表す斜視図である。 外形加工工程を表す断面図である。 レーザー加工ユニットの内部構成の模式図である。 ガルバノスキャナの一例の斜視図である。 従来の粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法の一例を表す。図８Ａは用意工程を表し、図８Ｂはプレス加工工程を表し、図８Ｃは除去工程を表す。 刃型によるプレス加工工程を表す。 従来のプレス加工工程の一例を表す。 軟質な粘着剤層を有する従来の積層フィルムのプレス加工工程後の拡大断面図である。
　本発明の一実施形態としての積層フィルム製造方法は、粘着剤層を有する枚葉状の積層フィルムのロールトゥロール方式での製造方法である。本製造方法は、図１Ａから図１Ｃに示すように、用意工程（図１Ａ）と、外形加工工程（図１Ｂ）と、除去工程（図１Ｃ）とを含む。
　用意工程では、図１Ａに示すように、長尺のワークフィルムＷを用意する。ワークフィルムＷは、積層シートＸと、キャリアフィルムＣとを含む。積層シートＸは、後記の積層フィルムＹ（図１Ｃ）の長尺の原反シートである。キャリアフィルムＣは、積層シートＸを支持する。
　積層シートＸは、フィルム層１０（第１フィルム層）と、粘着剤層２０と、フィルム層３０（第２フィルム層）とを、厚さ方向Ｈにこの順で備える。粘着剤層２０は、第１面２０ａと、当該第１面２０ａとは反対の第２面２０ｂとを有する。フィルム層１０は第１面２０ａに接している。フィルム層３０は第２面２０ｂに接している。積層シートＸは、厚さ方向Ｈと直交する面方向に広がる。
　キャリアフィルムＣは、厚さ方向Ｈの一方側に粘着面を有する片面粘着フィルムである。ワークフィルムＷにおいて、キャリアフィルムＣの粘着面が、積層シートＸのフィルム層１０側に貼り合わせられている。すなわち、ワークフィルムＷは、具体的には、キャリアフィルムＣと、フィルム層１０と、粘着剤層２０と、フィルム層３０とを、厚さ方向Ｈにこの順で備える。
　また、キャリアフィルムＣは、本実施形態では、ワークフィルムＷの流れ方向Ｄ１と直交する幅方向Ｄ２（図２）において、積層シートＸよりも幅広である。積層シートＸは、例えば、キャリアフィルムＣ上において幅方向Ｄ２の中央位置に配置される。積層シートＸの幅（幅方向Ｄ２の長さ）は、例えば２００ｍｍ以上、好ましくは２８０ｍｍ以上、より好ましくは４００ｍｍ以上であり、また、例えば２０００ｍｍ以下、好ましくは１８００ｍｍ以下、より好ましくは１６００ｍｍ以下である。このようなワークフィルムＷが、製造ラインを流される。
　フィルム層１０は、本実施形態では、はく離ライナーである。はく離ライナーの材料としては、例えば、ポリエステル、ポリオレフィン、およびポリカーボネートが挙げられる。ポリエステルとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、およびポリブチレンテレフタレートが挙げられる。ポリオレフィンとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、およびシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）が挙げられる。はく離ライナーとしてのフィルム層１０は、粘着剤層２０の第１面２０ａに剥離可能に接している。そのようなフィルム層１０の表面（粘着剤層２０側の表面）は、好ましくは剥離処理されている。剥離処理としては、例えば、シリコーン剥離処理およびフッ素剥離処理が挙げられる。フィルム層１０の厚さは、粘着剤層２０に対する保護機能を確保する観点から、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは１５μｍ以上、更に好ましくは２０μｍ以上である。フィルム層１０の厚さは、積層フィルムＹの薄型化の観点から、好ましくは１５０μｍ以下、より好ましくは１２０μｍ以下、更に好ましくは１００μｍ以下である。
　粘着剤層２０は、粘着剤組成物から形成されている。粘着剤組成物は、ベースポリマーを含む。ベースポリマーは、粘着性を発現させる粘着成分である。ベースポリマーとしては、例えば、アクリルポリマー、ポリウレタンポリマー、ポリアミドポリマー、およびポリビニルエーテルポリマーが挙げられる。ベースポリマーは、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。粘着剤層２０における良好な透明性および粘着性を確保する観点から、ベースポリマーとしては、好ましくはアクリルポリマーが用いられる。
　アクリルポリマーは、(メタ)アクリル酸エステルを５０質量％以上の割合で含むモノマー成分の重合体である。「(メタ)アクリル」は、アクリルおよび／またはメタクリルを意味する。(メタ)アクリル酸エステルとしては、好ましくは、(メタ)アクリル酸アルキルエステルが用いられ、より好ましくは、アルキル基の炭素数が１～２０である(メタ)アクリル酸アルキルエステルが用いられる。
　(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ｎ－ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸ｎ－ヘキシル、(メタ)アクリル酸ヘプチル、(メタ)アクリル酸２－エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ｎ－オクチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸イソデシル、(メタ)アクリル酸ウンデシル、(メタ)アクリル酸ドデシル（即ちラウリル(メタ)アクリレート）、(メタ)アクリル酸イソトリデシル、および(メタ)アクリル酸テトラデシルが挙げられる。(メタ)アクリル酸アルキルエステルは、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、好ましくは、アクリル酸２－エチルヘキシル（２ＥＨＡ）と、ラウリルアクリレート（ＬＡ）と、アクリル酸ｎ－ブチル（ＢＡ）とからなる群より選択される少なくとも一つである。モノマー成分における(メタ)アクリル酸アルキルエステルの割合は、粘着剤層２０において粘着性等の基本特性を適切に発現させる観点から、好ましくは６０質量％以上、より好ましくは７０質量％以上、更に好ましくは９０質量％以上であり、また、例えば９９質量％以下である。
　モノマー成分は、(メタ)アクリル酸アルキルエステルと共重合可能な共重合性モノマーを含んでもよい。共重合性モノマーとしては、例えば、極性基を有するモノマーが挙げられる。極性基含有モノマーとしては、例えば、ヒドロキシ基含有モノマー、窒素原子含有環を有するモノマー、およびカルボキシ基含有モノマーが挙げられる。極性基含有モノマーは、アクリルポリマーへの架橋点の導入、アクリルポリマーの凝集力の確保など、アクリルポリマーの改質に役立つ。
　ヒドロキシ基含有モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸２－ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸２－ヒドロキシプロピル、および(メタ)アクリル酸４－ヒドロキシブチルが挙げられる。ヒドロキシ基含有モノマーとしては、好ましくは、アクリル酸２－ヒドロキシエチル（２ＨＥＡ）およびアクリル酸４－ヒドロキシブチル（４ＨＢＡ）からなる群より選択される少なくとも一つが用いられる。モノマー成分におけるヒドロキシ基含有モノマーの割合は、アクリルポリマーへの架橋構造の導入、および、粘着剤層２０における凝集力の確保の観点から、好ましくは１質量％以上、より好ましくは２質量％以上、更に好ましくは３質量％以上である。同割合は、アクリルポリマーの極性の調整の観点から、好ましくは２０質量％以下、より好ましくは１０質量％以下である。アクリルポリマーの極性は、粘着剤層２０におけるアクリルポリマーと各種添加剤成分との相溶性に関わる。
　窒素原子含有環を有するモノマーとしては、例えば、Ｎ－ビニル－２－ピロリドン、Ｎ－メチルビニルピロリドン、Ｎ－ビニルピリジン、Ｎ－ビニルピペリドン、Ｎ－ビニルピリミジン、Ｎ－ビニルピペラジン、Ｎ－ビニルピロール、Ｎ－ビニルイミダゾール、Ｎ－(メタ)アクリロイル－２－ピロリドン、およびアクリロイルモルホリンが挙げられる。窒素原子含有環を有するモノマーとしては、好ましくは、Ｎ－ビニル－２－ピロリドン（ＮＶＰ）が用いられる。モノマー成分における、窒素原子含有環を有するモノマーの割合は、粘着剤層２０における凝集力の確保、および、粘着剤層２０における対被着体密着力の確保の観点から、好ましくは０.１質量％以上、より好ましくは０.５質量％以上、更に好ましくは１質量％以上である。同割合は、アクリルポリマーのガラス転移温度の調整、および、アクリルポリマーの極性の調整の観点から、好ましくは１０質量％以下、より好ましくは５質量％以下、更に好ましくは３質量％以下である。
　ベースポリマーは、好ましくは、架橋構造を有する。ベースポリマーへの架橋構造の導入方法としては、例えば、次の第１の方法および第２の方法が挙げられる。第１の方法では、架橋剤と反応可能な官能基を有するベースポリマーと架橋剤とを粘着剤組成物に配合し、ベースポリマーと架橋剤とを粘着シート中で反応させる。第２の方法では、ベースポリマーを形成するモノマー成分に、架橋剤としての多官能化合物を含め、当該モノマー成分の重合により、ポリマー鎖に分枝構造（架橋構造）が導入されたベースポリマーを形成する。これらの方法は、併用されてもよい。
　上記第１の方法で用いられる架橋剤としては、例えば、ベースポリマーに含まれる官能基（ヒドロキシ基およびカルボキシ基など）と反応する化合物が挙げられる。そのような架橋剤としては、例えば、イソシアネート架橋剤、過酸化物架橋剤、およびエポキシ架橋剤が挙げられる。架橋剤は、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。
　上記第２の方法では、モノマー成分（架橋構造を導入するための多官能モノマーと他のモノマーとを含む）は、一度で重合させてもよいし、多段階で重合させてもよい。多段階重合の方法では、まず、ベースポリマーを形成するための単官能モノマーを重合させ（予備重合）、これによって部分重合物（低重合度の重合物と未反応のモノマーとの混合物）を含有するプレポリマー組成物を調製する。次に、プレポリマー組成物に架橋剤としての多官能モノマーを添加した後、部分重合物と多官能モノマーとを重合させる（本重合）。多官能モノマーとしては、例えば、エチレン性不飽和二重結合を１分子中に２個以上含有する多官能(メタ)アクリレートが挙げられる。多官能モノマーとしては、活性エネルギー線重合（光重合）によって架橋構造を導入可能な観点から、多官能アクリレートが好ましい。多官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、１,６－ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、およびトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートが挙げられる。
　アクリルポリマーは、上述のモノマー成分を重合させることによって形成できる。重合方法としては、例えば、溶液重合、無溶剤での光重合（例えばＵＶ重合）、塊状重合、および乳化重合が挙げられる。溶液重合の溶媒としては、例えば、酢酸エチルおよびトルエンが用いられる。また、重合の開始剤としては、例えば、熱重合開始剤および光重合開始剤が用いられる。
　ベースポリマーの重量平均分子量は、粘着剤層２０における凝集力の確保の観点から、好ましくは１０万以上、より好ましくは３０万以上、更に好ましくは５０万以上である。同重量平均分子量は、好ましくは５００万以下、より好ましくは３００万以下、更に好ましくは２００万以下である。ベースポリマーの重量平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフ（ＧＰＣ）によって測定してポリスチレン換算により算出される。
　ベースポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）については、下記のＦｏｘの式に基づき求められるガラス転移温度（理論値）を用いることができる。Ｆｏｘの式は、ポリマーのガラス転移温度Ｔｇと、当該ポリマーを構成するモノマーのホモポリマーのガラス転移温度Ｔｇｉとの関係式である。下記のＦｏｘの式において、Ｔｇはポリマーのガラス転移温度（℃）を表し、Ｗｉは当該ポリマーを構成するモノマーｉの重量分率を表し、Ｔｇｉは、モノマーｉから形成されるホモポリマーのガラス転移温度（℃）を示す。ホモポリマーのガラス転移温度については文献値を用いることができる。例えば、「Polymer Handbook」（第４版，John Wiley & Sons, Inc., 1999年）には、各種のホモポリマーのガラス転移温度が挙げられている。一方、モノマーのホモポリマーのガラス転移温度については、特開２００７－５１２７１号公報に具体的に記載されている方法によって求めることも可能である。
Ｆｏｘの式　　１／（２７３＋Ｔｇ）＝Σ［Ｗｉ／（２７３＋Ｔｇｉ）］
　ベースポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）は、粘着剤層２０の柔らかさを確保する観点から、好ましくは０℃以下、より好ましくは－１０℃以下、更に好ましくは－２０℃以下である。同ガラス転移温度は、例えば－８０℃以上である。
　粘着剤組成物は、必要に応じて他の成分を含有してもよい。他の成分としては、例えば、溶剤、シランカップリング剤、紫外線吸収剤、粘着付与剤、軟化剤、および酸化防止剤が挙げられる。
　粘着剤層２０のヘイズは、好ましくは３％以下、より好ましくは２％以下、更に好ましくは１％以下である。粘着剤層２０のヘイズは、ＪＩＳ Ｋ７１３６（２０００年）に準拠して、ヘイズメーターを使用して測定できる。ヘイズメーターとしては、例えば、日本電色工業社製の「ＮＤＨ２０００」、および、村上色彩技術研究所社製の「ＨＭ-１５０型」が挙げられる。
　粘着剤層２０の２５℃でのせん断貯蔵弾性率は、粘着剤層２０の凝集力を確保する観点から、好ましくは１０ｋＰａ以上、より好ましくは１５ｋＰａ以上、更に好ましくは２０ｋＰａ以上、特に好ましくは２５ｋＰａ以上である。粘着剤層２０の２５℃でのせん断貯蔵弾性率は、フレキシブルデバイス用途の光学粘着シートに求められる柔らかさを粘着剤層２０において実現する観点から、１００ｋＰａ以下であり、好ましくは８０ｋＰａ以下、より好ましくは７０ｋＰａ以下、更に好ましくは６０ｋＰａ以下、特に好ましくは５０ｋＰａ以下である。せん断貯蔵弾性率の調整方法としては、例えば、粘着剤層２０におけるベースポリマーの種類の選択、分子量の調整、配合量の調整、ガラス転移温度の調整、および架橋度の調整が挙げられる。せん断貯蔵弾性率の調整方法としては、粘着剤層２０におけるベースポリマー以外の成分の選択および配合量の調整も挙げられる。粘着剤層のせん断貯蔵弾性率は、動的粘弾性測定によって求められる。同測定は、Rheometric Scientific社製の動的粘弾性測定装置「Advanced Rheometric Expansion System (ARES)」によって実施できる。同測定では、測定モードをせん断モードとし、測定温度範囲を－４０℃～１００℃とし、昇温速度を５℃/分とし、周波数を１Ｈｚとする。
　フィルム層３０は、例えば、はく離ライナー、表面保護フィルム、機能性光学フィルム、または基材フィルム（支持フィルム）である。
　はく離ライナーの材料としては、例えば、ポリエステル、ポリオレフィン、およびポリカーボネートが挙げられる。具体的には、フィルム層１０に関して上記したはく離ライナーの材料が挙げられる。はく離ライナーとしてのフィルム層３０は、粘着剤層２０の第２面２０ｂに剥離可能に接している。そのようなフィルム層３０の表面（粘着剤層２０側の表面）は、好ましくは剥離処理されている。剥離処理としては、例えば、シリコーン剥離処理およびフッ素剥離処理が挙げられる。はく離ライナーとしてのフィルム層３０の厚さは、粘着剤層２０に対する保護機能を確保する観点から、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは１５μｍ以上、更に好ましくは２０μｍ以上である。はく離ライナーとしてのフィルム層３０の厚さは、積層フィルムＹの薄型化の観点から、好ましくは１５０μｍ以下、より好ましくは１２０μｍ以下、更に好ましくは１００μｍ以下である。
　フィルム層３０が表面保護フィルムである場合、そのようなフィルム層３０に対し、粘着剤層２０の第２面２０ｂは接合している。表面保護フィルムとしてのフィルム層３０と、粘着剤層２０とは、粘着剤層付き表面保護フィルムを形成する。
　表面保護フィルムの材料としては、例えば、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエステル、ポリオレフィン、およびポリカーボネートが挙げられる。ポリエステルとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、およびポリブチレンテレフタレートが挙げられる。ポリオレフィンとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、およびシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）が挙げられる。表面保護フィルムとしてのフィルム層３０の厚さは、表面保護フィルムとしての保護機能の確保の観点から、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは１５μｍ以上、更に好ましくは２０μｍ以上である。表面保護フィルムとしてのフィルム層３０の厚さは、粘着剤層付き表面保護フィルムの薄型化の観点から、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは７０μｍ以下、更に好ましくは５０μｍ以下である。
　機能性光学フィルムとしては、例えば、偏光フィルムおよび位相差フィルムが挙げられる。機能性光学フィルムは、パネル補強材などの他の光学フィルムであってもよい。フィルム層３０が機能性光学フィルムである場合、そのようなフィルム層３０に対し、粘着剤層２０の第２面２０ｂは接合している。機能性光学フィルムとしてのフィルム層３０と、粘着剤層２０とは、粘着剤層付き機能性光学フィルムを形成する。
　偏光フィルムとしては、例えば、二色性物質による染色処理とその後の延伸処理とを経た親水性高分子フィルムが挙げられる。二色性物質としては、例えば、ヨウ素および二色性染料が挙げられる。親水性高分子フィルムとしては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡフィルム、および、エチレン・酢酸ビニル共重合体の部分ケン化フィルムが挙げられる。偏光フィルムとしては、ポリエン配向フィルムも挙げられる。ポリエン配向フィルムの材料としては、例えば、ＰＶＡの脱水処理物、および、ポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物が挙げられる。偏光フィルムは、厚さ方向の一方面および／または他方面に、接着剤を介して接合された保護フィルムを有していてもよい。偏光フィルムの厚さは、偏光フィルムの機能、強度および耐久性を確保する観点から、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上である。偏光フィルムの厚さは、積層フィルムＹの薄型化の観点から、好ましくは５００μｍ以下、より好ましくは３００μｍ以下である。
　位相差フィルムとしては、例えば、λ／２波長フィルムおよびλ／４波長フィルム、および視野角補償フィルムが挙げられる。位相差フィルムの材料としては、例えば、延伸処理によって複屈折化された高分子フィルムが挙げられる。高分子フィルムとしては、例えば、セルロースフィルムおよびポリエステルフィルムが挙げられる。セルロースフィルムとしては、例えばトリアセチルセルロースフィルムが挙げられる。ポリエステルフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、およびポリブチレンテレフタレートフィルムが挙げられる。位相差フィルムとしては、セルロースフィルムなどの基材と、当該基材上の配向層とを備えるフィルムも挙げられる。配向層は、液晶性ポリマーなどの液晶化合物から形成される。位相差フィルムの厚さは、位相差フィルムの機能および強度を確保する観点から、好ましくは１μｍ以上、より好ましくは２μｍ以上である。位相差フィルムの厚さは、積層フィルムＹの薄型化の観点から、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは８０μｍ以下である。
　基材フィルムの材料としては、例えば、はく離ライナーの材料として上記した材料が挙げられる。フィルム層３０が基材フィルムである場合、そのようなフィルム層３０に対し、粘着剤層２０の第２面２０ｂは接合している。基材フィルムとしてのフィルム層３０と、粘着剤層２０とは、片面粘着シートを形成する。基材フィルムの厚さは、基材としての強度を確保する観点から、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上、更に好ましくは３０μｍ以上である。基材フィルムの厚さは、積層フィルムＹの薄型化の観点から、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１５０μｍ以下、更に好ましくは１００μｍ以下である。
　積層シートＸは、例えば次のようにして製造できる。まず、上述の粘着剤組成物をフィルム層３０上に塗布して塗膜を形成する。次に、フィルム層３０上の塗膜の上にフィルム層１０を貼り合わせる。次に、フィルム層１０,３０間の塗膜を乾燥させ、且つ、必要に応じて塗膜に対して光照射する。これにより、フィルム層１０,３０間に粘着剤層２０を形成する。粘着剤組成物の塗布方法としては、例えば、ロールコート、キスロールコート、グラビアコート、およびダイコートが挙げられる。塗膜の乾燥温度は、例えば５０℃～２００℃である。乾燥時間は、例えば５秒～２０分である。
　外形加工工程では、図１Ｂに示すように、ワークフィルムＷに対するレーザー加工により、積層シートＸにおいて、個片化された積層フィルムＹを形成する。具体的には、レーザー加工装置により、ワークフィルムＷに対してフィルム層３０側からレーザー光Ｌを照射および走査することにより、キャリアフィルムＣ上においてフィルム層３０、粘着剤層２０およびフィルム層１０を溶断してカット溝Ｇを形成する。ワークフィルムＷに照射されるレーザー光Ｌの、粘着剤層２０の表面２０ｂ（フィルム層３０側の表面）でのスポット径Ｓは、２００μｍ以上５００μｍ以下とする。カット溝Ｇは、ワークフィルムＷにおける所定の加工予定ライン（設計上の切断ライン）をたどるように形成される。カット溝Ｇは、厚さ方向Ｈに深さを有する。カット溝Ｇは、キャリアフィルムＣから離れるほど溝幅が広がる形状を有する。本工程において、フィルム層３０には、個片化されたフィルム３１が形成される。粘着剤層２０には、個片化された粘着剤層２１が形成される。フィルム層１０には、個片化されたフィルム１１が形成される。フィルム層１１,３１および粘着剤層２１が、積層フィルムＹを形成する。積層フィルムＹまわりには、周囲部Ｘａが形成される。図２は、ワークフィルムＷにおける外形加工工程後の領域の一例を模式的に表す平面図である。図２では、カット溝Ｇを、ハッチングを付して示す。図１Ｂに示される部分断面図は、図２に示すワークフィルムＷにおけるＩ－Ｉ線に沿った部分断面図に相当する。
　積層フィルムＹは、図３に示すように、フィルム１１と、粘着剤層２１と、フィルム３１とを、厚さ方向Ｈにこの順で備える。フィルム１１は、カット溝Ｇに臨む端面１１ａを有する。粘着剤層２１は、カット溝Ｇに臨む端面２１ａを有する。端面２１ａは、端面１１ａと面一である。フィルム３１は、カット溝Ｇに臨む端面３１ａを有する。端面３１ａは、端面２１ａと面一である。端面１１ａ,２１ａ,３１ａは、厚さ方向ＨにおいてキャリアフィルムＣに向かうに従って外側に広がるように傾斜する傾斜面、または、厚さ方向ＨにおいてキャリアフィルムＣに向かうに従って外側に広がるように湾曲する湾曲面を形成する（図３では、傾斜している場合を例示的に示す）。端面１１ａと、フィルム１１のキャリアフィルムＣ側の表面とが形成する角度α（端面１１ａの傾斜角度）は、例えば２０°～８０°である。端面２１ａと、粘着剤層２１のフィルム１１側の表面とが形成する角度β（端面２１ａの傾斜角度）は、例えば、角度α以上であって４０°～８０°である。端面３１ａと、フィルム３１の粘着剤層２１側の表面とが形成する角度γ（端面３１ａの傾斜角度）は、例えば、角度αと同程度であって、２０°～８０°である。
　フィルム１１は、延出端部１１Ａを有する。延出端部１１Ａは、厚さ方向Ｈと直交する面方向Ｄにおいて、粘着剤層２１の端面２１ａよりも外方に延出している。すなわち、フィルム１１は、面方向Ｄにおいて、粘着剤層２１の外方端２１ｅよりも更に外方に外方端１１ｅを有する。積層フィルムＹにおける上述の端部ブロッキングの抑制の観点から、面方向Ｄ（平面視において、端面２１ａと直交する方向）における、端面２１ａからの延出端部１１Ａの延出長さｄ１は、好ましくは７０μｍ以上、より好ましくは９０μｍ以上、更に好ましくは１００μｍ以上である。積層フィルムＹの効率的製造の観点から、延出長さｄ１は、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１７０μｍ以下、更に好ましくは１５０μｍ以下である。延出長さｄ１は、粘着剤層２１の外方端２１ｅからフィルム１１の外方端１１ｅまでの面方向Ｄにおける長さであり、延出端部１１Ａの最大長さである。
　カット溝Ｇに露出するフィルム１１,３１において、面方向Ｄにおけるフィルム１１の外方端１１ｅと、フィルム３１の内方端３１ｅとの間の距離を、エッジ幅ｄ２（図３に示す）とする。すなわち、エッジ幅ｄ２は、フィルム１１の外方端１１ｅからフィルム３１の内方端３１ｅまでの面方向Ｄにおける最大長さである。エッジ幅ｄ２は、好ましくは６００μｍ以下、より好ましくは５５０μｍ以下である。エッジ幅ｄ２は、例えば１００μｍ以上または２００μｍ以上である。エッジ幅ｄ２の領域は、製造される積層フィルムＹの端部検知用のアライメントマーク（エッジアライメントマーク）として利用できるエッジ領域の一部である。エッジ幅ｄ２が６００μｍ以下（好ましくは５５０μｍ以下）である場合、エッジアライメントマークの、検出用カメラによる誤検知を抑制できる（エッジアライメントマークが大きすぎると、誤検知を生じる）。
　ワークフィルムＷの流れ方向Ｄ１（長さ方向）において隣り合う積層フィルムＹ間では、流れ方向Ｄ１（長さ方向）と交差する方向に延びる一のカット溝Ｇ（第１のカット溝）と別のカット溝Ｇ（第２のカット溝）とが、流れ方向Ｄ１において隣り合って形成される。これらカット溝Ｇ,Ｇを介して流れ方向Ｄ１に隣り合う粘着剤層２１の間の離隔距離ｄ３（図１Ｂに示す）は、好ましくは２ｍｍ以下、より好ましくは１.７ｍｍ以下、更に好ましくは１.５ｍｍ以下である。このような構成は、積層フィルムＹの高い生産性を実現するのに好ましい。離隔距離ｄ３は、例えば０.５ｍｍ以上、０.７ｍｍ以上または１.０ｍｍ以上である。刃型よるプレス加工では、２ｍｍ以下の離隔距離ｄ３は実現できない。離隔距離ｄ３は、流れ方向Ｄ１において隣り合う粘着剤層２１間の最短長さである。
　レーザー加工用のレーザーとしては、例えば、気体レーザー、固体レーザー、および半導体レーザーが挙げられる。気体レーザーとしては、例えば、エキシマレーザーおよびＣＯ２レーザーが挙げられる。エキシマレーザーとしては、例えば、Ｆ２エキシマレーザー（１５７ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザー（１９３ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザー（２４８ｎｍ）、およびＸｅＣｌエキシマレーザー（３０８ｎｍ）が挙げられる（括弧内の数値はレーザー波長を表す。レーザーに関して以下同じ）。固体レーザーとしては、例えば、Ｎｄ:ＹＡＧレーザー（１０６４ｎｍ）、Ｎｄ:ＹＡＧレーザーの第２高調波（５３２ｎｍ）、Ｎｄ:ＹＡＧレーザーの第３高調波（３５５ｎｍ）、およびＮｄ:ＹＡＧレーザーの第４高調波（２６６ｎｍ）が挙げられる。半導体レーザーとしては、例えば、波長４０５ｎｍの半導体レーザーが挙げられる。外形加工工程（図１Ｂ）のレーザー光Ｌとしては、材質および光学特性（吸光度など）の異なるフィルム層１０,３０と粘着剤層２０とを一括的に切断する観点から、ＣＯ２レーザーが好ましい。ＣＯ２レーザーは、レーザー光Ｌのスポット径Ｓを大きくしやすいことからも、好ましい。
　粘着剤層２０の表面２０ｂでのレーザー光Ｌのスポット径Ｓは、例えば、レーザー光Ｌに関するデフォーカス調整により、調整できる。デフォーカス調整では、レーザー光Ｌの焦点位置が、表面２０ｂに対して厚さ方向Ｈに上下動される。レーザー光Ｌの焦点位置が表面２０ｂから遠いほど、表面２０ｂでのスポット径Ｓは大きい。
　レーザー光Ｌは、好ましくは、ガウシアン型レーザー光である。ガウシアン型レーザー光とは、エネルギー強度分布がガウシアン分布のレーザー光である。ガウシアン型レーザー光は、キャリアフィルムＣから離れるほど幅が広いカット溝Ｇを形成するのに好ましい。したがって、ガウシアン型レーザー光は、有意な長さの延出端部１１Ａを有するフィルム１１を形成するのに好ましい。
　カット溝Ｇは、好ましくは、レーザー光による１パス加工によって形成される。ワークフィルムＷに対してカット溝Ｇを１パス加工によって形成することは、積層フィルムＹの製造におけるタクトタイムを短くするのに適し、従って、積層フィルムＹを効率よく製造するのに適する。本実施形態において、１パス加工とは、レーザー光の照射スポットの１度の走査によってカット溝Ｇを掘ることを意味する。
　レーザー光Ｌの出力は、例えば２～５００Ｗである。レーザー光Ｌのパルスの周波数は、例えば１０～３０ｋＨｚである。
　本実施形態では、外形加工工程（図１Ｂ）を実施するレーザー加工装置として、図４および図５に示すレーザー加工装置１００が用いられる。
　レーザー加工装置１００は、本実施形態では、加工ステージ１１０と、レーザー加工ユニット１２０と、制御部（図示略）とを備える。
　加工ステージ１１０は、製造ラインを流れるワークフィルムＷを支持するステージである。加工ステージ１１０は、図５に示すように、支持テーブル１１１と、吸引路１１２とを有する。支持テーブル１１１は、加工ステージ１１０において、ワークフィルムＷに対する支持面を形成する。支持テーブル１１１は、当該支持テーブル１１１を厚さ方向Ｈに貫通する複数の吸引孔１１１ａを有する。吸引路１１２は、加工ステージ１１０内に形成された空間である。吸引路１１２は、支持テーブル１１１の下方に位置する。支持テーブル１１１の各吸引孔１１１ａは、吸引路１１２と連通する。吸引路１１２は、減圧ポンプ（図示略）の吸引路と連結されている。減圧ポンプの稼働により、吸引路１１２は減圧される。減圧ポンプは、制御部による制御に従って、稼働状態と非稼働状態とを選択可能である。支持テーブル１１１上にワークフィルムＷがある場合、吸引路１１２が減圧されることにより、ワークフィルムＷは加工ステージ１１０の支持テーブル１１１に対して吸引される。
　加工ステージ１１０の製造ライン上流側には、図４に示すように、一対のニップローラＮ１,Ｎ１が配置されている。一対のニップローラＮ１,Ｎ１によってワークフィルムＷを挟んだ状態で各ニップローラＮ１を一定速度で回転させることにより、ワークフィルムＷを引っ張って加工ステージ１１０に向けて送る。一方、加工ステージ１１０の製造ライン下流側には、一対のニップローラＮ２,Ｎ２が配置されている。一対のニップローラＮ２,Ｎ２によってワークフィルムＷを挟んだ状態で各ニップローラＮ２を一定速度で回転させることにより、ワークフィルムＷを引っ張ってニップローラＮ２,Ｎ２より下流側に向けて送る。ニップローラＮ１,Ｎ１とニップローラＮ２,Ｎ２とにより、ワークフィルムＷは、加工ステージ１１０の支持ステージ１１１上を同フィルムの長さ方向（流れ方向Ｄ１）に流される。この状態において加工ステージ１１０の吸引路１１２（図５）が減圧されることにより、ワークフィルムＷは、加工ステージ１１０に吸引されつつ、加工ステージ１１０上をスライド走行する。このことは、外形加工工程において、製造ラインを連続的に流れるワークフィルムＷに対してレーザー光Ｌの焦点を高精度に合わせるのに好ましく、従って、ワークフィルムＷを効率的かつ高精度にレーザー加工するのに好ましい。
　レーザー加工ユニット１２０は、図６に模式的に示すように、筐体１２１と、レーザー光源１２２と、ビームエキスパンダ１２３と、可動レンズ１２４と、集光レンズ１２５と、ガルバノスキャナＳｃとを備える。レーザー光源１２２、ビームエキスパンダ１２３、可動レンズ１２４、集光レンズ１２５、およびガルバノスキャナＳｃは、筐体１２１内に収容されている。筐体１２１はレーザー光出射口（図示略）を有する。
　レーザー光源１２２は、レーザー光Ｌを発振する。レーザー光源としては、材質および光学特性（吸光度など）の異なる複数の層を適切に切断する観点から、ＣＯ２レーザー光源が好ましい。
　ビームエキスパンダ１２３は、レーザー光Ｌのビームサイズを調整する光学部品である。ビームエキスパンダ１２３と可動レンズ１２４との間には、他の光学部品が配置されてもよい。他の光学部品としては、例えば、コリメータレンズおよびホモジナイザが挙げられる。
　可動レンズ１２４は、レーザー光Ｌの光軸方向に変位可能なレンズである。可動レンズ１２４が光軸方向に変位することにより、集光レンズ１２５で集光されるレーザー光Ｌの焦点の位置（ワークフィルムＷでの焦点の位置）が変化する。可動レンズ１２４は、制御部による制御に従って、光軸方向の位置を調節可能である（可動レンズ１２４の位置制御）。
　集光レンズ１２５を通過したレーザー光Ｌは、ガルバノスキャナＳｃで反射される。ガルバノスキャナＳｃは、図６および図７に示すように、ガルバノミラー１２６（第１ガルバノミラー）と、ガルバノモータ１２７（第１ガルバノモータ）と、ガルバノミラー１２８（第２ガルバノミラー）と、ガルバノモータ１２９（第２ガルバノモータ）とを備える。
　ガルバノミラー１２６は、レーザー光Ｌを反射可能なミラー面１２６ａを有する。ガルバノモータ１２７は、ガルバノミラー１２６に連結されたモータ軸芯１２７ａを有する。モータ軸芯１２７ａは、第１方向に延びる。第１方向は、好ましくは、ワークフィルムＷの流れ方向Ｄ１および幅方向Ｄ２のそれぞれと直交する方向である。ガルバノモータ１２７は、ガルバノミラー１２６のミラー面１２６ａが向く方向（第１ミラー面方向）を、モータ軸芯１２７ａに沿って延びる回転軸まわりに揺動させることができる。ガルバノモータ１２７は、制御部による制御に従って、ガルバノミラー１２６における第１ミラー面方向を制御可能である。
　ガルバノミラー１２８は、レーザー光Ｌを反射可能なミラー面１２８ａを有する。ガルバノモータ１２９は、ガルバノミラー１２８に連結されたモータ軸芯１２９ａを有する。モータ軸芯１２９ａは、第２方向に延びる。第２方向は、第１方向と交差する。第２方向は、好ましくは、第１方向と直交する。第２方向は、好ましくは、幅方向Ｄ２である。ガルバノモータ１２９は、ガルバノミラー１２８のミラー面１２８ａが向く方向（第２ミラー面方向）を、モータ軸芯１２９ａに沿って延びる回転軸まわりに揺動させることができる。ガルバノモータ１２９は、制御部による制御に従って、ガルバノミラー１２８における第２ミラー面方向を制御可能である。
　ガルバノスキャナＳｃにおいて、レーザー光Ｌは、ガルバノミラー１２６のミラー面１２６ａと、ガルバノミラー１２８のミラー面１２８ａとで順次に反射される。このレーザー光Ｌは、筐体１２１のレーザー光出射口を通過した後、加工ステージ１１０上のワークフィルムＷに照射される。
　レーザー加工ユニット１２０において、レーザー光Ｌは、ガルバノモータ１２７,１２９の第１・第２ミラー面方向の制御により、ワークフィルムＷに対して走査される。具体的には、レーザー加工ユニット１２０からのレーザー光ＬのワークフィルムＷ上の照射スポットが、ワークフィルムＷにおける加工予定ラインをたどるように、ガルバノモータ１２７,１２９の第１・第２ミラー面方向の制御により、流れ方向Ｄ１および面方向Ｄ２に走査される。レーザー加工ユニット１２０において、レーザー光Ｌは、ガルバノスキャナＳｃの実質的に直下を中心とする所定の範囲（走査エリア）内を走査される。また、走査されるレーザー光Ｌにおいて、ワークフィルムＷに対する入射角（同フィルムの表面の法線方向と、レーザー光Ｌの光軸方向とが形成する角度）の変化に関わらず照射スポットのサイズが同じになるように、第１・第２ミラー面方向に応じて可動レンズ１２４は位置制御される。加えて、レーザー光Ｌの走査においては、ワークフィルムＷの搬送速度（ベクトル）とレーザー光Ｌの走査速度（ベクトル）との合成速度（ベクトル）によって定まる照射スポットの位置が、ワークフィルムＷにおける加工予定ラインをたどるように、制御部によってガルバノスキャナＳｃ（ガルバノモータ１２７,１２９）が制御される。
　レーザー加工ユニット１２０は、レーザー光ＬがガルバノスキャナＳｃの後に通過する位置に、テレセントリックタイプのｆθレンズを備えてもよい。当該ｆθレンズは、レーザー光ＬのワークフィルムＷに対する入射角の変化に関わらずレーザー光Ｌのスポット径Ｓが同じになるようにするのに役立つ。レーザー加工ユニット１２０は、そのようなｆθレンズを備える場合、必ずしも可動レンズ１２４を備えなくてもよい。レーザー加工ユニット１２０に割り当てられる走査エリアの幅（幅方向Ｄ２の長さ）よりも直径が大きなテレセントリックタイプfθレンズを用いることができる場合、そのようなfθレンズを用いることが好ましい。また、レーザー加工ユニット１２０においては、テレセントリックタイプfθレンズと上述の可動レンズ１２４とを併用してもよい。
　本製造方法では、外形加工工程（図１Ｂ）の後、図１Ｃに示すように、キャリアフィルムＣ上から周囲部Ｘａを除去する（除去工程）。
　以上のようにして、積層フィルムＹ（粘着剤層を有する積層フィルム）を製造できる。フィルム３１を粘着剤層２１から剥離した後、粘着剤層２１に他のフィルムを貼り合わせてもよい。
　本製造方法の外形加工工程（図１Ｂ）では、上述のように、ワークフィルムＷに対するレーザー光Ｌの照射および走査により、キャリアフィルムＣ上のフィルム層１０、粘着剤層２０およびフィルム層３０が溶断される。各層に対してレーザー光Ｌが照射された部分では、同層の材料が蒸発して除去される。２５℃でのせん断貯蔵弾性率が１００ｋＰａ以下の柔らかい粘着剤層２０は、プレス加工用の刃型の押し入りによって切断されるのではない（粘着剤層２０が刃型に付着することはない）。そのため、外形加工工程では、上述の従来のプレス加工工程では粘着剤層の端部に形成されるはみ出し部９２ａ（図１１）のようなはみ出し部の形成を、抑制できる。このことは、軟質な粘着剤層２１を有する積層フィルムＹにおいて、上述の端部ブロッキングを抑制するのに適する。
　外形加工工程では、上述のように、ワークフィルムＷに対してフィルム層３０側からレーザー光Ｌが照射されて、キャリアフィルムＣ上のフィルム層１０,３０および粘着剤層２０が溶断される。ワークフィルムＷに対するレーザー光Ｌの照射箇所では、厚さ方向Ｈにおいて、フィルム層３０、粘着剤層２０およびフィルム層１０の順で、レーザー光Ｌの照射エネルギーが蓄積されて、各層が加熱によって溶断される。厚さ方向Ｈと直交する面方向Ｄにおいて、レーザー光Ｌの照射による加熱の影響は、フィルム層１０、粘着剤層２０およびフィルム層３０の順で大きくなる。このようなレーザー光照射によると、キャリアフィルムＣから離れるほど幅が広いカット溝Ｇを形成できる。したがって、外形加工工程では、積層フィルムＹの端面（カット溝Ｇに臨む端面）において粘着剤層２１の端面２１ａよりも外方に延出する延出端部１１Ａを有するフィルム１１を、形成できる。そして、外形加工工程で用いられるレーザー光Ｌの、粘着剤層２０の表面２０ｂ（フィルム層３０側の表面）でのスポット径Ｓは、上述のように２００μｍ以上であり、比較的大きい。
このことは、有意な長さの延出端部１１Ａを有するフィルム１１を形成するのに適する。フィルム１１がこのような延出端部１１Ａを有する積層フィルムＹは、上述の端部ブロッキングを抑制するのに適する。延出端部１１Ａの延出長さｄ１を長くする観点から、スポット径Ｓは、好ましくは２３０μｍ以上、より好ましくは２５０μｍ以上、更に好ましくは２７０μｍ以上である。
　外形加工工程で用いられるレーザー光Ｌの、粘着剤層２０の表面２０ｂでのスポット径Ｓは、上述のように５００μｍ以下である。このような構成は、カット溝Ｇ（キャリアフィルムＣから離れるほど幅が広い）に臨む積層フィルムＹの端部において、粘着剤層２１のフィルム３０側への露出面積を低減するのに適する。したがって、当該構成は、積層フィルムＹを厚さ方向に積み重ねた場合の上述の端部ブロッキングを抑制するのに適する。また、スポット径Ｓが５００μｍ以下であることは、エッジ幅ｄ２が過大になることを抑制するのに適し、従って、検出用カメラによるエッジアライメントマークの誤検知を抑制できる。端部ブロッキングの抑制の観点、および、エッジアライメントマークの誤検知の抑制の観点から、スポット径Ｓは、好ましくは４７０μｍ以下、より好ましくは４００μｍ以下である。
　また、外形加工工程では、上述のように、積層フィルムＹ（粘着剤層を有する積層フィルム）がレーザー加工によって外形加工される。レーザー加工は、ワークフィルムＷを連続的に流しながら連続的に外形加工するのに適する（外形加工のためにワークフィルムＷを間欠的に送る必要がない）。したがって、本製造方法は、積層フィルムＹを効率よく製造するのに適する。
　以上のように、本製造方法は、軟質な粘着剤層２１を有する積層フィルムＹであって、端部ブロッキングを抑制するのに適した積層フィルムＹを、効率よく製造するのに適する。
　本発明について、以下に実施例を示して具体的に説明する。ただし、本発明は、実施例に限定されない。また、以下に記載されている配合量（含有量）、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上述の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合量（含有量）、物性値、パラメータなどの上限（「以下」または「未満」として定義されている数値）または下限（「以上」または「超える」として定義されている数値）に代替できる。
〔実施例１〕
　以下のようにして、粘着剤層を有する積層フィルムを製造した。
〈粘着剤組成物の調製〉
　まず、アクリル酸２－エチルヘキシル（２ＥＨＡ）５０質量部と、ラウリルアクリレート（ＬＡ）４０質量部と、アクリル酸ｎ－ブチル（ＢＡ）２質量部と、アクリル酸４－ヒドロキシブチル（４ＨＢＡ）６質量部と、Ｎ－ビニル－２－ピロリドン（ＮＶＰ）２質量部と、光重合開始剤（品名「Ｏｍｎｉｒａｄ １８４」，ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製）０.０１５質量部とを含む混合物に対して紫外線を照射し（重合反応）、プレポリマー組成物（重合率は約１０％）を得た（プレポリマー組成物は、重合反応を経ていないモノマー成分を含有する）。次に、プレポリマー組成物１００質量部と、多官能アクリレートモノマーとしてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）０.０８質量部と、シランカップリング剤（品名「ＫＢＭ－４０３」，３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン，信越化学工業社製）０.３質量部とを混合し、粘着剤組成物を得た。
〈はく離ライナーの作製〉
　まず、シリコーン系剥離処理剤（品名「ＫＥ－３７０３」，分子中にヘキセニル基を有するポリオルガノシロキサンと、分子中にヒドロシリル基を有するポリオルガノシロキサン架橋剤とを含有する、付加型シリコーン系剥離処理剤の２８.５質量％トルエン溶液，信越化学工業社製）９０質量部と、シリコーン系剥離コントロール剤（品名「ＫＳ－３８００」，信越工業化学社製）０.９質量部と、シリコーン硬化用白金触媒（品名「ＣＡＴ－ＰＬ－５０Ｔ」，信越工業化学社製）０.３質量部と、溶媒とを混合して、シリコーン固形分濃度０.７質量％の剥離処理剤溶液を調製した。溶媒は、トルエンとヘキサンとの体積比１：１の混合溶媒である。次に、二軸延伸ポリエステルフィルム（品名「ルミラーＸＤ５００Ｐ」，厚さ５０μｍ，東レアドバンストマテリアルズコリア製）を剥離処理した。具体的には、まず、当該ポリエステルフィルムの片面に、上述の剥離処理剤溶液を塗布して塗膜を形成した。塗布には、ワイヤーバー＃９を用いた。次に、熱風乾燥機により、フィルム上の塗膜を、１３０℃で１分間、加熱して乾燥させた。これより、ポリエステルフィルム上に、厚さ０.１μｍのシリコーン剥離層を形成した（剥離処理）。以上のようにして、片面に剥離処理面を有するはく離ライナーを作製した。
〈ワークフィルムの作製〉
　まず、上述のはく離ライナーの剥離処理面上に、粘着剤組成物を塗布して塗膜を形成した。次に、はく離ライナー上の塗膜に、片面がプラズマ処理された表面保護フィルムのプラズマ処理面を貼り合わせた。表面保護フィルムは、厚さ５０μｍの所定のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムである。プラズマ処理では、プラズマ照射装置（品名「ＡＰ－ＴＯ５」，積水工業社製）を使用し、電圧を１６０Ｖとし、周波数を１０ｋＨｚとし、処理速度を５０００ｍｍ/分とした。次に、塗膜に対して表面保護フィルム側から紫外線を照射して塗膜を紫外線硬化させ、厚さ２５μｍの粘着剤層を形成した。これにより、粘着剤層を有する積層フィルムの原材としての積層シート（はく離ライナー／粘着剤層／表面保護フィルム）を得た。紫外線照射では、照射光源としてブラックライトを用い、照射強度を５ｍＷ/ｃｍ２とした。そして、積層シートにキャリアフィルムを貼り合わせた。キャリアフィルムは、厚さ方向の一方側に粘着面を有する片面粘着フィルムである。キャリアフィルムの粘着面を、積層シートのはく離ライナー側に貼り合わせた。
　以上のようにして、ワークフィルムを用意した。ワークフィルムは、キャリアフィルムと、はく離ライナー（第１フィルム層）と、粘着剤層と、表面保護フィルム（第２フィルム層）とを、厚さ方向にこの順で有する。
〈外形加工工程〉
　次に、ワークフィルムに対するレーザー加工により、キャリアフィルム上のはく離ライナー、粘着剤層および表面保護フィルムを、外形加工した。具体的には、ワークフィルムに対して表面保護フィルム側からレーザー光を照射および走査することにより、積層シートにおける所定の切断予定ラインを辿るように、表面保護フィルム、粘着剤層およびはく離ライナーを溶断してカット溝を形成した。本工程では、レーザー加工装置（品名「ＬＣ５００」，武井電機工業製）を使用し、波長９３６０ｎｍのＣＯ２レーザーをレーザー光として用い、レーザー光のスポット径Ｓを２５８μｍとし、レーザー出力を２０Ｗとし、パルスの周波数を３０ｋＨｚとし、レーザー光による切断速度を５００ｍｍ/秒とし、走査回数（パス回数）を１とした。スポット径Ｓとは、粘着剤層における表面保護フィルム側の表面でのスポット径である（後記の実施例および比較例においても同様である）。本工程により、キャリアフィルム上に、個片化された積層フィルムと、積層フィルムまわりの周囲部とを形成した。積層フィルムは、はく離ライナー（第１フィルム）と、粘着剤層と、表面保護フィルム（第２フィルム）とを、厚さ方向にこの順で備える。はく離ライナーは、面方向において粘着剤層の端縁よりも外方に延出する延出端部を有する。そして、外形加工工程の後、キャリアフィルム上から周囲部を除去した。
　以上のようにして、実施例１の積層フィルム（粘着剤層を有する積層フィルム）を作製した。
〔実施例２〕
　次のこと以外は実施例１と同様にして、実施例２の積層フィルムを作製した。外形加工工程において、波長９３６０ｎｍのＣＯ２レーザーの代わりに波長１０２５０ｎｍのＣＯ２レーザーをレーザー光として用い、スポット径Ｓを２３０μｍとした。
〔実施例３〕
　外形加工工程においてスポット径Ｓを３５３μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして、実施例３の積層フィルムを作製した。
〔実施例４〕
　外形加工工程においてスポット径Ｓを４６２μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして、実施例４の積層フィルムを作製した。
〔比較例１〕
　外形加工工程においてスポット径Ｓを１００μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして、比較例１の積層フィルムを作製した。
〔比較例２〕
　次のこと以外は実施例１と同様にして、比較例２の積層フィルムを作製した。外形加工工程において、波長９３６０ｎｍのＣＯ２レーザーの代わりに波長１０２５０ｎｍのＣＯ２レーザーをレーザー光として用い、スポット径Ｓを１００μｍとした。
〔比較例３〕
　外形加工工程においてスポット径Ｓを１５５μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして、比較例３の積層フィルムを作製した。
〔比較例４〕
　外形加工工程においてスポット径Ｓを５７２μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして、比較例４の積層フィルムを作製した。
〔比較例５〕
　外形加工工程においてスポット径Ｓを１１３０μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして、比較例５の積層フィルムを作製した。
〈せん断貯蔵弾性率〉
　実施例および比較例における上記の粘着剤層について、動的粘弾性を測定した。
　まず、粘着剤層から切り出した複数の粘着剤層片を貼り合わせて、約１.５ｍｍの厚さのサンプルシートを作製した。次に、このシートを打抜いて、測定用サンプルである円柱状のペレット（直径７.９ｍｍ）を得た。
　そして、測定用サンプルについて、動的粘弾性測定装置（品名「Advanced Rheometric Expansion System (ARES)」，Rheometric Scientific社製）を使用して、直径７.９ｍｍのパラレルプレートの治具に固定した後に動的粘弾性測定を行った。本測定において、測定モードをせん断モードとし、測定温度範囲を－４０℃～１００℃とし、昇温速度を５℃/分とし、周波数を１Ｈｚとした。測定結果から２５℃におけるせん断貯蔵弾性率を読み取った。その値を表１に示す。
〈形状解析〉
　実施例１～４および比較例１～５によって製造した積層フィルムについて、形状解析レーザー顕微鏡（品名「ＶＫ－Ｘ１０００」，ＫＥＹＥＮＣＥ製）により、形状を解析した。具体的には、同顕微鏡により、積層フィルムにおけるはく離ライナーの延出端部の延出長さｄ１（図３）およびエッジ幅ｄ２（図３）を測定した。その結果を表１に示す。また、アライメントエラーの抑制について、エッジ幅ｄ２が６００μｍ以下である場合を“良”と評価し、エッジ幅ｄ２６００μｍ超である場合を“不良”と評価した。この評価結果を表１に示す。
〈端部ブロッキングの抑制〉
　実施例１～４および比較例１～５の各積層フィルムについて、端部ブロッキングのしにくさを調べた。具体的には、まず、積層フィルムごとに、実質的に同じサイズの１０枚の評価サンプルを作製し、１０枚の評価サンプルを積み重ねてフィルム束を形成した（第１工程）。フィルム束では、厚さ方向において、１０枚の積層フィルムの端部が実質的に面一で連なっている。次に、フィルム束において一番上に位置する積層フィルムに対し、先端に粘着面を有する円柱のロッド（直径１０ｍｍ）の先端粘着面を上方から押し付けた後、当該ロッドを上方に引き上げて、ロッドに伴って持ち上がった積層フィルムの枚数を数えた（第２工程）。第１工程とその後の第２工程とからなる試行を、フィルム束ごとに１０回行った。そして、端部ブロッキングの抑制について、次のように評価した。１０回の試行において、ロッドに伴って持ち上がった積層フィルムが１枚のみであった試行の数が１０である場合を“優”と評価し、６～９である場合を“良”と評価し、５以下である場合を“不良”と評価した。その評価結果を表１に示す。
〈粘着剤層のはみ出しの抑制〉
　実施例１～４および比較例１～５の各積層フィルムについて、粘着剤層のはみ出しにくさを調べた。具体的には、まず、積層フィルムごとに、実質的に同じサイズの１０枚の評価サンプルを作製し、１０枚の評価サンプルを積み重ねてフィルム束を形成した。フィルム束では、厚さ方向において、１０枚の積層フィルムの端部が実質的に面一で連なっている。次に、フィルム束の端面を指で触り、当該端面におけるべたつきを感じるかどうかを調べた。そして、積層フィルムにおける粘着剤層のはみ出しの抑制について、次のように評価した。端面においてべたつきを全く感じない場合を“良”と評価し、端面においてべたつきを感じる場合を“不良”と評価した。その評価結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　上述の実施形態は本発明の例示であり、当該実施形態によって本発明を限定的に解釈してはならない。当該技術分野の当業者によって明らかな本発明の変形例は、後記の請求の範囲に含まれる。
　本発明の、粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法は、例えば、フォルダブルディスプレイパネル用の光学粘着シートの供給材としての積層フィルム（粘着剤層を有する）の製造方法に適用できる。
Ｗ　　　　　ワークフィルム
Ｘ　　　　　積層シート
Ｙ　　　　　積層フィルム
Ｃ　　　　　キャリアフィルム
Ｈ　　　　　厚さ方向
Ｄ　　　　　面方向
Ｄ１　　　　流れ方向
Ｄ２　　　　幅方向
１０　　　　フィルム層（第１フィルム層）
１１　　　　フィルム
１１Ａ　　　延出端部
２０，２１　粘着剤層
２０ｂ　　　表面
３０　　　　フィルム層（第２フィルム層）
３１　　　　フィルム
Ｌ　　　　　レーザー光
１００　　　レーザー加工装置
１１０　　　加工ステージ
１１１　　　支持テーブル
１１１ａ　　吸引孔
１１２　　　吸引路
１２０　　　レーザー加工ユニット
Ｓｃ　　　　ガルバノスキャナ
 

Claims (6)

  1. 　粘着剤層を有する積層フィルムのロールトゥロール方式の製造方法であって、
    　キャリアフィルムと、第１フィルム層と、粘着剤層と、第２フィルム層とを厚さ方向にこの順で備える長尺のワークフィルムを用意する用意工程と、
    　前記ワークフィルムに対し、前記第２フィルム層側からレーザー光を照射および走査して、前記キャリアフィルム上で前記第２フィルム層、前記粘着剤層および前記第１フィルム層を溶断してカット溝を形成することにより、前記第１フィルム層において個片化された第１フィルムと、前記粘着剤層において個片化された粘着剤層と、前記第２フィルム層において個片化された第２フィルムとを厚さ方向にこの順で備える積層フィルムを形成する、外形加工工程とを含み、
    　前記粘着剤層は、２５℃において１００ｋＰａ以下のせん断貯蔵弾性率を有し、
    　前記第１フィルムは、延出端部を有し、当該延出端部は、前記厚さ方向と直交する面方向において、前記個片化された粘着剤層の端縁よりも外方に延出し、
    　前記外形加工工程において、前記ワークフィルムに照射される前記レーザー光の、前記粘着剤層における前記第２フィルム層側の表面でのスポット径が、２００μｍ以上５００μｍ以下である、粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法。
  2. 　前記カット溝が、前記レーザー光による１パス加工によって形成される、請求項１に記載の粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法。
  3. 　前記レーザー光がＣＯ２レーザーである、請求項１に記載の粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法。
  4. 　前記外形加工工程では、前記ワークフィルムを吸着可能な加工ステージによって前記ワークフィルムの前記キャリアフィルム側を吸引しつつ、当該ワークフィルムを長さ方向に前記加工ステージ上をスライド走行させ、当該ワークフィルムに対して前記第２フィルム層側から前記レーザー光を照射および走査する、請求項１に記載の粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法。
  5. 　前記ワークフィルムの長さ方向と交差する方向に延びる第１の前記カット溝と第２の前記カット溝とが、前記長さ方向に隣り合って形成され、前記第１のカット溝および前記第２のカット溝を介して前記長さ方向に隣り合う粘着剤層の間の離隔距離が２ｍｍ以下である、請求項１に記載の粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法。
  6. 　前記レーザー光がガウシアン型レーザー光である、請求項１から５のいずれか一つに記載の粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法。
     
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