WO2024157674A1

WO2024157674A1 - 化粧シート

Info

Publication number: WO2024157674A1
Application number: PCT/JP2023/045696
Authority: WO
Inventors: 英士青木; 洋平西川; 真志服部
Original assignee: Ｔｏｐｐａｎホールディングス株式会社
Priority date: 2023-01-25
Filing date: 2023-12-20
Publication date: 2024-08-02

Abstract

化粧シート１は、原反層２と、前記原反層２の一方の表面に設けられた表面保護層５とを備え、前記表面保護層５の表面に、各々が畝状に突出した複数の畝状部を含んだ凹凸構造が設けられており、前記表面保護層５の前記凹凸構造は、前記表面保護層５の厚さｔに対する切断レベル差Ｒｄｃの比Ｒｄｃ／ｔが０．１５以上０．４４以下であり、前記表面保護層５の厚さｔは、２μｍ以上１８μｍ以下であり、前記表面保護層５のフーリエ型赤外分光測定において得られる吸光スペクトルは、１０８５乃至１１０５ｃｍ－１の波数範囲における最大値Ｉ１０９５と、１７１５乃至１７３５ｃｍ－１の波数範囲における最大値Ｉ１７２５との比Ｉ１０９５／Ｉ１７２５が０．６５以上である。

Description

化粧シート

　本発明は、化粧シートに関する。化粧シートは、例えば、建築物の内外装や、建具、家具、造作材、床材等の表面化粧等に使用することができる。

　近年、特許文献１に示すとおり、環境保護上の問題が懸念されているポリ塩化ビニル製の化粧シートに替わる化粧シートとして、オレフィン系樹脂を使用した化粧シート（例えば、ポリプロピレンシート）が数多く提案されている。これらの化粧シートは、塩化ビニル樹脂を使用しないことで、焼却時における有毒ガス等の発生は抑制される。

　化粧シートは建築物において、その表面に意匠性や耐久性を付与するため、木材、木質ボード、金属板、不燃ボード、紙質基板、あるいは樹脂基板等の表面に接着剤等を介して貼り合わせて化粧板とすることで、一般に広く用いられている。意匠性の付与については、木目や石目といった柄を、各種印刷方法を用いて形成したものから、柄の無い無地表面まで、要求や用途に応じて選択される。また同様に、表面の光沢感も意匠性として重要な項目であり、鏡面のような高光沢から映り込みの全くない低光沢まで、要求や用途に応じて選択されるものである。また、意匠性と並んで重要な化粧シートの機能として、耐久性の付与が挙げられる。耐久性とは耐傷性や耐汚染性、更にそれらが長期間継続して担保されるかを総合的に評価したものである。化粧シートは、住宅や公共施設の建築内装材、玄関ドア等の建築外装部材、建具の表面材、家電品の表面材に用いられる。そのため、日々直射日光や風雨に曝されることになり、極めて高い耐候性が要求される。

　耐久性の付与には、化粧シートにおける最表面に表面保護層を形成するのが一般的である。また、前述の光沢感を調整するため、特に低光沢を達成するために、表面保護層中に艶調整剤（艶消し添加剤）を添加することが一般的である。このように、意匠性（低光沢）、耐傷性、耐汚染性が考慮された化粧シートとして、例えば特許文献２に記載の化粧シートがある。

　一方、特許文献３～７には、波長２００ｎｍ未満のエキシマ光を用いて皺を形成させることで、低光沢の化粧シートを製造する方法が提案されている。

日本国特許第３２７１０２２号公報日本国特開２０１９－１１９１３８号公報国際公開第２０２１／２０１１０５号日本国特開２０２２－００８０２４号公報国際公開第２０２２／０５４６４４号国際公開第２０２２／０５４６４５号国際公開第２０２２／０５４６４６号

　本発明は、低光沢であり、しっとりした触感を与える化粧シートを提供することを目的とする。

　本発明の一側面によると、原反層と、前記原反層の一方の表面に設けられた表面保護層とを備え、前記表面保護層の表面に、各々が畝状に突出した複数の畝状部を含んだ凹凸構造が設けられており、前記表面保護層の前記凹凸構造は、前記表面保護層の厚さｔに対する切断レベル差Ｒｄｃの比Ｒｄｃ／ｔが０．１５以上０．４４以下であり、前記表面保護層の厚さｔは、２μｍ以上１８μｍ以下であり、前記表面保護層のフーリエ型赤外分光測定において得られる吸光スペクトルは、１０８５乃至１１０５ｃｍ^－１の波数範囲における最大値Ｉ_１０９５と、１７１５乃至１７３５ｃｍ^－１の波数範囲における最大値Ｉ_１７２５との比Ｉ_１０９５／Ｉ_１７２５が０．６５以上である化粧シートが提供される。

　本発明の他の側面によると、前記表面保護層の光沢度は、１０．０未満である上記側面に係る化粧シートが提供される。

　本発明の更に他の側面によると、前記比Ｒｄｃ／ｔは、０．１５以上０．３１以下である上記側面の何れかに係る化粧シートが提供される。

　本発明の更に他の側面によると、前記比Ｒｄｃ／ｔは、０．１５以上０．２５以下である上記側面の何れかに係る化粧シートが提供される。

　本発明の更に他の側面によると、前記比Ｉ_１０９５／Ｉ_１７２５は３．５以下である上記側面の何れかに係る化粧シートが提供される。

　本発明の更に他の側面によると、前記比Ｉ_１０９５／Ｉ_１７２５は０．７以上である上記側面の何れかに係る化粧シートが提供される。
　本発明の更に他の側面によると、前記比Ｉ_１０９５／Ｉ_１７２５は０．８５以上である上記側面の何れかに係る化粧シートが提供される。

　本発明の更に他の側面によると、前記比Ｉ_１０９５／Ｉ_１７２５は２．２以下である上記側面の何れかに係る化粧シートが提供される。
　本発明の更に他の側面によると、前記比Ｉ_１０９５／Ｉ_１７２５は１．３以下である上記側面の何れかに係る化粧シートが提供される。

　本発明の更に他の側面によると、前記表面保護層は、樹脂の硬化物と粒子とを含み、前記粒子は、平均粒径が３μｍ以上１１μｍ以下であり、前記粒子は、前記樹脂１００質量部に対して３質量部以上１１質量部以下の量で前記表面保護層に含まれる上記側面の何れかに係る化粧シートが提供される。

　本発明の更に他の側面によると、前記樹脂は、電離放射線硬化性樹脂である上記側面の何れかに係る化粧シートが提供される。

　本発明の更に他の側面によると、前記樹脂は、アクリレートである上記側面の何れかに係る化粧シートが提供される。

　本発明の更に他の側面によると、前記樹脂は、繰り返し構造を含む３官能アクリレートであり、前記繰り返し構造の繰り返し回数は、３個以上２０個以下である上記側面の何れかに係る化粧シートが提供される。

　本発明の更に他の側面によると、前記樹脂は、繰り返し構造を含む４官能アクリレートであり、前記繰り返し構造の繰り返し回数は、２０個以上３５個以下である上記側面の何れかに係る化粧シートが提供される。

　本発明の更に他の側面によると、絵柄層を前記原反層と前記表面保護層との間に更に備えた上記側面の何れかに係る化粧シートが提供される。

　本発明の更に他の側面によると、上記側面の何れかに係る化粧シートと、前記化粧シートが貼り付けられた基材とを備えた化粧材が提供される。

　本発明によれば、低光沢であり、しっとりした触感を与える化粧シートを提供することが可能となる。

図１は、本発明の一実施形態に係る化粧シートを含んだ化粧材の断面図である。図２は、本発明の別の実施形態に係る化粧シートを含んだ化粧材の断面図である。図３は、図１及び図２の化粧シートの表面保護層の断面図である。図４は、本発明の一例に係る化粧シートの表面保護層の顕微鏡画像である。

　以下に、本発明の実施形態に係る化粧シートの構成について図面を参照して説明する。以下に説明する実施形態は、上記側面の何れかをより具体化したものである。以下に記載する事項は、単独で又は複数を組み合わせて、上記側面の各々に組み入れることができる。

　以下で参照する図面において、同様又は類似した機能を有する要素については同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。また、図面は模式的なものであり、厚さと平面寸法との関係、各層の厚さの比率等は現実のものとは異なる。

　また、以下に示す実施形態は、本発明の技術的思想を具体化するための構成を例示するものであって、本発明の技術的思想は、構成部品の材質、形状及び構造等を下記のものに特定するものでない。本発明の技術的思想は、特許請求の範囲に記載された請求項が規定する技術的範囲内において、種々の変更を加えることができる。

　＜１＞化粧材及び化粧シート
　図１は、本発明の一実施形態に係る化粧シートを含んだ化粧材の断面図である。図２は、本発明の別の実施形態に係る化粧シートを含んだ化粧材の断面図である。図３は、図１及び図２の化粧シートの表面保護層の断面図である。図４は、本発明の一例に係る化粧シートの表面保護層の顕微鏡写真である。

　なお、図３に示す断面は、表面保護層の厚さ方向に沿った断面である。また、図４の顕微鏡写真は、レーザー顕微鏡（オリンパス社製　ＯＬＳ－４０００）により得た平面写真である。

　図１及び図２に示す化粧材１１は、基材Ｂと、これに貼り付けられた化粧シート１とを含んでいる。ここでは、化粧材１１は、化粧板である。化粧板は、平板であってもよく、曲げられているか又は折られていてもよい。化粧材１１は、板以外の形状を有していてもよい。

　基材Ｂは、ここでは、板材である。板材は、例えば、木質ボード、無機質ボード、金属板、又は、複数の材料からなる複合板である。基材Ｂは、板以外の形状を有していてもよい。

　図１に示す化粧シート１は、原反層２の一方の面である表面側に、絵柄層３及び表面保護層５が、原反層２側からこの順に設けられており、原反層２の他方の面（すなわち、基材Ｂと向き合った面）に、プライマー層６が設けられている。図１において、絵柄層３及びプライマー層６の１以上は省略してもよい。

　また、図２に示す化粧シート１は、原反層２の一方の面である表面側に、絵柄層３、接着性樹脂層４ｂ、透明樹脂層４、及び表面保護層５が、原反層２側からこの順に設けられており、原反層２の他方の面（すなわち、基材Ｂと向き合った面）に、プライマー層６が設けられている。ここで、透明樹脂層４には、エンボスによる凹凸模様（エンボス模様４ａ）が付与されている。図２において、絵柄層３、接着性樹脂層４ｂ、透明樹脂層４、及びプライマー層６の１以上は省略してもよい。また、エンボス模様４ａは、付与されていなくてもよい。

　更に、耐傷性等の要求から、透明樹脂層４及び表面保護層５の少なくとも一つの層を複数層積層してもよい。また、各層間の密着性を考慮して、その他公知の他の層を配置する構成としてもよい。また、原反層２とプライマー層６との間に、適宜、隠蔽層（不図示）等を設けてもよい。

　次に、化粧シート１を構成する各層について説明する。

　＜１．１＞原反層
　原反層２としては、例えば紙、合成樹脂、あるいは合成樹脂の発泡体、ゴム、不織布、合成紙、金属箔等から任意に選定したものが使用可能である。紙としては、薄葉紙、チタン紙、樹脂含浸紙等が例示できる。合成樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、エチレン－酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール、アクリル等が例示できる。ゴムとしては、エチレン－プロピレン共重合ゴム、エチレン－プロピレン－ジエン共重合ゴム、スチレン－ブタジエン共重合ゴム、スチレン－イソプレン－スチレンブロック共重合ゴム、スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合ゴム、ポリウレタン等が例示できる。不織布としては、有機系や無機系の不織布が使用できる。金属箔の金属としては、アルミニウム、鉄、金、銀等が例示できる。また、原反層２は、透明樹脂層４と同一の樹脂組成物からなるシートでもよい。この場合、原反層２は、樹脂材料や樹脂組成物を膜状に成形することにより得られる。成形方法としては、例えば、カレンダー成形、押出成形等が挙げられる。

　原反層２は無機顔料を合成樹脂に混合してなる着色層と、合成樹脂からなるスキン層とを有することが望ましい。スキン層の厚さは３μｍ以上２０μｍ以下が好ましく、スキン層と着色層の厚さの比が１：６から１：５０であることが望ましい。原反層２を、共押出法で形成する場合、着色層が最外層にあると、着色層に含まれる顔料成分がブレードし、押出機のＴダイや搬送中のロールが汚染するため、最外層は顔料を含まないスキン層であることが望ましい。着色層の両面にスキン層を設けることが望ましい。スキン層を厚くし、着色層に対する比率を大きくすると、着色層の比率が低下するため、隠蔽性が低下するので好ましくない。

　また、原反層２の厚さは、５０μｍ以上１５０μｍ以下であることが好ましい。原反層２が５０μｍ未満の場合、下地の凹凸をカバーする性能（不陸性）が低下する。一方、原反層２の厚さが１５０μｍを超える場合、曲げ加工において白化や割れといった不具合が生じてしまうおそれがある。

　（無機顔料）
　無機顔料は、隠蔽性を付与するための酸化チタンに代表される公知の無機顔料を用いることができる。原反層２は基材Ｂの模様を隠蔽する役割を担う。化粧シート１の意匠性の観点から要求される隠蔽性を得るために、光透過率が４０％以下であることが好ましい。隠蔽性が低いと絵柄層３の模様と基材Ｂの模様とが混在し、好ましくない。無機顔料を含有することにより、隠蔽性が良好な化粧シート１を得ることができる。無機顔料の混合量は、樹脂材料を１００質量部として、５質量部以上５０質量部以下とすることが好ましい。無機顔料の混合量が少ないと隠蔽性が悪く、また、混合量が５０質量部以上の場合は原反層２の脆化が起こり好ましくない。含有する無機顔料としては、特に限定されないが、例えば天然無機顔料、合成無機顔料が挙げられる。天然無機顔料としては、例えば、土系顔料、焼成土、鉱物性顔料等が挙げられる。合成無機顔料としては、酸化物顔料、水酸化物顔料、硫化物顔料、珪酸塩顔料、燐酸塩顔料、炭酸塩顔料、金属粉顔料、炭素顔料等が挙げられる。また、合成無機顔料として、天然無機顔料、合成無機顔料の中から、一種類もしくは二種類以上を混合した混合顔料を用いてもよい。また、合成無機顔料として、カーボンブラックのような有機顔料を併用しても構わない。

　更に、無機顔料には、分散性の向上や、押出適性を改善するために脂肪酸金属塩等の添加剤を加えても構わない。

　原反層２として、オレフィン系のような表面が不活性な基材を用いる場合は、原反層２の表裏にコロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理、電子線処理、紫外線処理、重クロム酸処理等を行うことが望ましい。

　＜１．２＞絵柄層
　原反層２の表面には、化粧シート１に柄模様を付加するための絵柄層３を設けることができる。柄模様としては、木目模様、石目模様、砂目模様、タイル貼模様、煉瓦積模様、布目模様、皮絞模様、幾何学図形等を用いることができる。

　更に、原反層２と絵柄層３との間には、目的とする意匠の程度に応じて下地ベタインキ層（不図示）を設けるようにしてもよい。下地ベタインキ層は、原反層２の全面を被覆するように設けられる。また、下地ベタインキ層は、隠蔽性等、必要に応じて２層以上の多層としてもよい。更に、絵柄層３は、求められる意匠を表現するために必要な分版の数だけ積層して形成してもよい。このように、絵柄層３と下地ベタインキ層とは、求められる意匠、つまり、表現したい意匠に応じて様々な組み合わせとなるが、特に限定されるものではない。

　下地ベタインキ層及び絵柄層３の構成材料は、特に限定されるものではない。下地ベタインキ層及び絵柄層３の構成材料としては、例えば、マトリックスと、染料、顔料等の着色剤とを溶剤中に溶解、分散してなる印刷インキやコーティング剤を用いることができる。マトリックスとしては、油性の硝化綿樹脂、２液ウレタン樹脂、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニル系樹脂、アルキド樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、ゴム系樹脂等の各種合成樹脂類、またはこれらの混合物、共重合体等を用いることができる。また、着色剤としては、カーボンブラック、チタン白、亜鉛華、弁柄、黄鉛、紺青、カドミウムレッド等の無機顔料や、アゾ顔料、レーキ顔料、アントラキノン顔料、フタロシアニン顔料、イソインドリノン顔料、ジオキサジン顔料等の有機顔料、またはこれらの混合物を用いることができる。また、溶剤としては、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、水等、もしくはこれらの混合物等を用いることができる。

　また、下地ベタインキ層及び絵柄層３には、各種機能を付与するために、体質顔料、可塑剤、分散剤、界面活性剤、粘着付与剤、接着助剤、乾燥剤、硬化剤、硬化促進剤及び硬化遅延剤等の機能性添加剤を添加してもよい。

　ここで、下地ベタインキ層及び絵柄層３は、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、静電印刷法、インクジェット印刷法等の各種印刷方法によって形成することができる。また、下地ベタインキ層は、原反層２の全面を被覆しているため、ロールコート法、ナイフコート法、マイクログラビアコート法、ダイコート法等の各種コーティング方法によっても形成することができる。これらの印刷方法、コーティング方法は、形成する層によって別々に選択してもよいが、同じ方法を選択して一括加工することが効率的である。

　絵柄層３の厚さは、３μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましい。絵柄層３の厚さがこの範囲である場合、印刷を明瞭にすることができるとともに、化粧シート１を製造する際の印刷作業性が向上し、かつ製造コストを抑制することができる。

　＜１．３＞透明樹脂層
　透明樹脂層４の主成分として用いる樹脂材料は、オレフィン系樹脂からなることが好適であり、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の他に、αオレフィン（例えば、プロピレン、１－ブテン、１－ペンテン、１－ヘキセン、１－ヘプテン、１－オクテン、１－ノネン、１－デセン、１－ウンデセン、１－ドデセン、トリデセン、１－テトラデセン、１－ペンタデセン、１－ヘキサデセン、１－ヘプタデセン、１－オクタデセン、１－ノナデセン、１－エイコセン、３－メチル－１－ブテン、３－メチル－１－ペンテン、３－エチル－１－ペンテン、４－メチル－１－ペンテン、４－メチル－１－ヘキセン、４、４－ジメチル－１－ペンテン、４－エチル－１－ヘキセン、３－エチル－１－ヘキセン、９－メチル－１－デセン、１１－メチル－１－ドデセン、１２－エチル－１－テトラデセン等）を単独重合あるいは２種類以上を共重合させたものや、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体、エチレン・メチルメタクリレート共重合体、エチレン・エチルメタクリレート共重合体、エチレン・ブチルメタクリレート共重合体、エチレン・メチルアクリレート共重合体、エチレン・エチルアクリレート共重合体、エチレン・ブチルアクリレート共重合体等のように、エチレンまたはαオレフィンとそれ以外のモノマーとを共重合させたものが挙げられる。また、化粧シート１の表面強度の向上を図る場合には、高結晶性のポリプロピレンを用いることが好ましい。

　ここで、本明細書で主成分とは、特に特定が無い場合には、対象とする材料の９０質量％以上を指す。

　透明樹脂層４を設ける場合、透明樹脂層４の層厚は５０μｍ以上１００μｍ以下が好ましい。５０μｍ未満の場合、透明樹脂層４表面の耐傷性の向上効果が低く、透明樹脂層４を設ける意義が少なくなってしまう。透明樹脂層４の層厚が１００μｍを超える場合、化粧シート１の剛性が高すぎて、曲げ加工において白化や割れといった不具合が生じてしまうおそれがある。

　もっとも、透明樹脂層４の上に表面保護層５を設ける場合には、透明樹脂層４の層厚は５０μｍ未満としてもよい。

　なお、透明樹脂層４を構成する樹脂組成物には、必要に応じて熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、ブロッキング防止剤、触媒捕捉剤、着色剤、光散乱剤及び艶調整剤等の各種機能性添加剤を含有させてもよい。これらの各種機能性添加剤は、周知のものから適宜選択して用いることができる。

　また、絵柄層３と透明樹脂層４を密着させるために用いる接着剤は、接着方法に応じて任意の材料選定が可能である。接着方法としては、例えば、熱ラミネート、押出ラミネート、ドライラミネート等による積層方法が挙げられ、接着剤は、例えば、アクリル系、ポリエステル系、ポリウレタン系等の材料から選定できる。通常はその凝集力から、イソシアネートとポリオールとの反応を利用した２液硬化タイプのウレタン系材料が望ましい。なお、透明樹脂層４の積層方法にも特に規制はないが、熱圧を応用した方法、押出ラミネート法、ドライラミネート法等が一般的である。

　また、透明樹脂層４には、エンボスによる凹凸模様（エンボス模様４ａ）が付与されていてもよい。エンボス模様４ａには、インキを埋め込み、更に意匠性を向上させることも可能である。エンボス模様４ａを施す場合には、一旦各種方法でラミネートしたシートに後から熱圧によりエンボスを入れる方法や、冷却ロールに凹凸模様を設け押出ラミネートと同時にエンボスを施す方法がある。

　また、押出と同時にエンボスを施した絵柄層３と透明樹脂層４とを熱あるいはドライラミネートで貼り合わせる方法等を用いることができる。

　また、絵柄層３と透明樹脂層４との密着性を高めるために、絵柄層３と透明樹脂層４との間に接着性樹脂層４ｂを設けてもよい。具体的には、押出ラミネート法でさらなるラミネート強度を求める場合、透明樹脂層４と接着剤との間に接着性樹脂層４ｂを設けてもよい。接着性樹脂層４ｂを設ける場合、透明樹脂層４と接着性樹脂層４ｂとの共押出法でラミネートを行うことができる。接着性樹脂層４ｂは、ポリプロピレン、ポリエチレン、アクリル系等の樹脂に酸変性を施したものとすることができる。接着性樹脂層４ｂの厚さは、接着力向上の目的から２μｍ以上であることが望ましい。

　透明樹脂層４にエンボス模様４ａを施す場合には、凹凸構造を切断レベル差Ｒｄｃで表現することができる。「切断レベル差Ｒｄｃ」は、ＪＩＳＢ０６０１：２０１３に規定された表面性状パラメータである。切断レベル差Ｒｄｃは、粗さ曲線の切断レベル差を示し、凹凸形状の急峻さを表現している。ここでは、粗さ曲線の最高の山頂の位置を、切断レベルｃの基準とする。また、ここでは、ｃ（Ｒｍｒ１）を、粗さ曲線の負荷長さ率Ｒｍｒが１０％である場合の切断レベルであるとし、ｃ（Ｒｍｒ２）を、粗さ曲線の負荷長さ率Ｒｍｒが２５％である場合の切断レベルであるとする。粗さ曲線の切断レベル差Ｒｄｃ（μｍ）は、切断レベルｃ（Ｒｍｒ１）と切断レベルｃ（Ｒｍｒ２）との差である。
　透明樹脂層４のＲｄｃは、０．２μｍ以上２．９μｍ以下が望ましい。Ｒｄｃが０．２μｍより小さいと、インキを埋め込む等の効果が弱くなり、また、２．９μｍより大きくなると、透明樹脂層４の上に表面保護層５を製膜した際に、本発明のしっとりとした触感よりも粗いざらざらとした触感となるため、好ましくない。透明樹脂層４のＲｄｃは、好ましくは０．２μｍ以上１．０μｍ以下である。

　＜１．４＞表面保護層
　表面保護層５は、図３に示すようにコア部５Ａと、コア部５Ａの一方の面から畝状に突出して設けられた畝状部５Ｂとを有している。これにより、表面保護層５には凹凸形状が形成されている。ここで、本実施形態に係る化粧シート１において、「畝状」とは、細長く盛り上がり、平面視で線状に連なった形状であることをいう。畝状部５Ｂは、平面視で曲線状であっても直線状であってもよいが、化粧シート１の耐指紋性の観点から曲線状であることが好ましい。また、本実施形態において、畝状部５Ｂは、例えば、表面保護層５の凹凸形状の最も低い部分から最も高い部分までの部分を言い、コア部５Ａは表面保護層５の畝状部５Ｂを除く部分を言うものとする。なお、畝状部５Ｂの表面保護層５の厚さ方向における断面形状は、正弦波形状であってもよい。ここでいう正弦波形状とは、畝状部５Ｂの最も低い位置から最も高い位置に至る線を正弦波で表現可能な形状をいう。

　図３は、表面保護層５の畝状部５Ｂの断面（表面保護層５の厚さ方向における断面）を模式的に示す断面図であり、図４は、表面保護層５の表面の構成を示す平面写真である。ここで、図４は、レーザー顕微鏡（オリンパス株式会社製ＯＬＳ－４０００）により得た平面写真である。

　畝状部５Ｂは、図４の平面写真に示すように、細長く盛り上がり、平面視で線状に連なった形状となっている。畝状部５Ｂは、後述するように、電離放射線硬化性樹脂の表面に対して特定波長の光を照射して、電離放射線硬化性樹脂の硬化膜が座屈することにより形成される。

　このような畝状部５Ｂの形状は、横方向（表面保護層５の平面方向であって、図３においては左右方向）の表面粗さの指標ＲＳｍ（μｍ）と、縦方向（畝状部５Ｂの深さ方向、透明賦形層５の厚さ方向であって、図３においては上下方向）の表面粗さの指標Ｒａ（μｍ）との比ＲＳｍ／Ｒａで示すことができる。比ＲＳｍ／Ｒａは、１０以上３００以下であることが好ましい。より好ましくは、ＲＳｍ／Ｒａは、１０以上２５０以下である。比ＲＳｍ／Ｒａの値が小さくなると、畝状部５Ｂの形状が細かくなるため、汚れをふき取りにくくなり、耐汚染性が低下する傾向がある。比ＲＳｍ／Ｒａの値が大きくなると、畝形状の間隔が広くなるため、光沢度が高くなる傾向がある。ここで、表面粗さの指標Ｒａ及びＲＳｍは、線粗さ計を用いて測定した場合の測定値であり、ＪＩＳＢ０６０１に準拠して測定した測定値である。

　表面保護層５の凹凸構造は、表面保護層５の厚さｔに対する切断レベル差Ｒｄｃの比Ｒｄｃ／ｔ（以下、単に「比Ｒｄｃ／ｔ」ともいう）が０．１５以上０．４４以下である。比Ｒｄｃ／ｔは、好ましくは０．１５以上０．３１以下であり、より好ましくは０．１５以上０．２５以下である。

　上述のとおり、「切断レベル差Ｒｄｃ」は、ＪＩＳＢ０６０１：２０１３に規定された表面性状パラメータである。切断レベル差Ｒｄｃは、粗さ曲線の切断レベル差を示し、凹凸形状の急峻さを表現している。ここでは、粗さ曲線の最高の山頂の位置を、切断レベルｃの基準とする。また、ここでは、ｃ（Ｒｍｒ１）を、粗さ曲線の負荷長さ率Ｒｍｒが１０％である場合の切断レベルであるとし、ｃ（Ｒｍｒ２）を、粗さ曲線の負荷長さ率Ｒｍｒが２５％である場合の切断レベルであるとする。粗さ曲線の切断レベル差Ｒｄｃ（μｍ）は、切断レベルｃ（Ｒｍｒ１）と切断レベルｃ（Ｒｍｒ２）との差である。切断レベル差Ｒｄｃを表面保護層５の厚さｔで割って比Ｒｄｃ／ｔを求めると、表面保護層５の単位厚さあたりの凹凸形状の急峻さを表現することができる。
　なお、表面保護層の表面のうち、粗さ曲線の負荷長さ率Ｒｍｒが１０％未満の部分に対応した領域は、表面保護層を指先で押したときに、指先が最初に接触する領域である。しっとりした触感には、表面保護層の表面のうち、表面保護層を指先で押した場合に指先が表面保護層に最初に接触する領域が及ぼす影響は小さい。また、しっとりした触感には、表面保護層の表面のうち、指先から表面保護層へ加える圧力を極めて大きくした場合に指先が初めて接触する領域が及ぼす影響も小さい。しっとりした触感には、表面保護層の表面のうち、指先から表面保護層へ加える圧力を或る程度高めた場合に指先が初めて接触する領域の傾きが大きな影響を及ぼす。この領域が、粗さ曲線の負荷長さ率Ｒｍｒが１０％乃至２５％の範囲内にある部分に対応した領域に相当する。

　比Ｒｄｃ／ｔの値が０．１５以上０．４４以下であると、凹凸形状の斜面が比較的緩やかである。この場合、化粧シートの表面を指で押圧しながら表面上で指を滑らせたときに、指と表面の接触による押し込み抵抗が小さい上に、指と凸部表面との接触面積が徐々に増加するため、化粧シートの表面が指に吸い付くような触感が得られる。この触感は、「しっとりした触感」と対応づけることができる。

　一方、比Ｒｄｃ／ｔが０．４４より大きくなると、凹凸形状の斜面が急峻になる。この場合、化粧シートの表面を指で押圧しながら表面上で指を滑らせたときに、指と表面の接触による押し込み抵抗が大きく、凹凸の存在を感じる。この触感は、「ざらざらした触感」と対応づけることができる。

　また、比Ｒｄｃ／ｔが０．１５より小さくなると、凹凸形状の斜面がかなり緩やかである。この場合、化粧シートの表面を指で押圧しながら表面上で指で滑らせたときに、指と表面の接触による押し込み抵抗が小さい上に、指と凸部表面との接触面積が押圧動作の開始時から大きく、押圧動作に伴うこの接触面積の増加がかなり緩やかである。このため、この場合には、化粧シートの表面が指に吸い付くような触感が得られる一方、凹凸形状の斜面がかなり緩やかであることに基づいて、上述の「しっとりとした触感」の場合と比較して滑りの良い触感が得られ、全体としては滑りの良い触感の印象が強くなる。この触感は、「すべすべした触感」に対応づけることができる。

　表面保護層５の厚さｔは、２μｍ以上１８μｍ以下である。表面保護層５の厚さｔは、３μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。表面保護層５を厚くすると、比Ｒｄｃ／ｔの値が大きくなる傾向がみられる。また、凹凸のある透明樹脂層４上の表面保護層５を薄くすると、透明樹脂層４の凹凸の影響が大きくなり、比Ｒｄｃ／ｔの値が大きくなる傾向がみられる。このため、表面保護層５が厚すぎたり薄すぎたりすると、「しっとりした触感」を達成することが難しくなる。更に、表面保護層５を薄くすると低い光沢度を達成することが難しくなり、厚くすると加工性が低下し折り曲げ時に白化してしまう。

　ここで、表面保護層５の厚さは、表面保護層５と見かけ上の面積及び体積が等しく且つ表面が平坦な層の厚さである。表面保護層５の厚さは、例えば、以下の方法により求める。先ず、表面保護層５の厚さ方向に平行であり且つ畝状部５Ｂの長さ方向に垂直な断面を撮像する。次に、この断面画像から、畝状部５Ｂの幅方向における表面保護層５の寸法と、表面保護層５の断面の面積とを求める。表面保護層５の厚さは、この面積を上記の寸法で割ることにより得られる値である。また、表面保護層５の厚さは、断面を走査電子顕微鏡で観察し、２５点平均により求めたものである。具体的には、表面保護層５の厚さは、後述の実施例で記載したとおり求めることができる。なお、後述する表面保護層用塗液が溶媒を含んでいない場合、表面保護層用塗液からなる塗膜の厚さは、表面保護層５の厚さと等しい。

　ここで、表面保護層５は、例えば、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、静電印刷法、インクジェット印刷法等の各種の各種印刷方法によって形成することができる。また、表面保護層５は、原反層２の表面側の面の全面を被覆しているため、例えば、ロールコート法、ナイフコート法、マイクログラビアコート法、ダイコート法等の各種コーティング法によっても形成することができる。これらの印刷方法、あるいはコーティング方法は、形成する層によって別々に選択してもよいし、同じ方法を選択して一括加工してもよい。

　絵柄層３と表面保護層５は、意匠性の観点から同調させてもよい。同調させる場合は、絵柄層３を形成した後に表面保護層５を一括形成する必要があるため、グラビア印刷法を用いることが好ましい。また、グラビア印刷法は比較的高速対応が可能なことから、コスト面でも有利であり好ましい。ここで、同調とは、表面保護層５が形成された部分の５０％以上、好ましくは７０％以上、最も好ましくは９０％以上が絵柄層３の絵柄部分と平面視で重なっていることを意味する。

　表面保護層５の層厚を調整するには、前述の印刷方法及びコーティング方法において塗布量を調整すればよい。塗布量は、各種印刷方法及びコーティング方法において、ベースのシート（原反層を含む）に表面保護層５を形成したものと、しないものとを作製し、その質量差から算出することができる。

　表面保護層５は、主材料が電離放射線硬化性樹脂であることが好ましい。主材料とは、１００質量部の表面保護層５に対して６０質量部以上、より好ましくは、７０質量部以上、最も好ましくは８０質量部以上含むことを指す。ここで、「電離放射線」は、電子線等の荷電粒子線である。電離放射線硬化性樹脂は、電離放射線の照射によって硬化する。また、電離放射線硬化性樹脂は、紫外線照射によっても硬化し得る。ここで使用する電離放射線硬化性樹脂は、波長が２００ｎｍ以下の光を照射することによって硬化する一方で、この光に対する吸収係数が大きい。表面保護層５を構成する電離放射線硬化性樹脂としては、各種モノマーや市販されているオリゴマー等、公知のものを用いることができ、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂を使用できる。電離放射線硬化性樹脂は、水系樹脂または非水系（有機溶剤系）樹脂の何れであってもよく、単独で用いてもよいし、複数種を組み合わせて使用してもよい。

　電離放射線硬化性樹脂の主成分は、アクリレートであることが好ましい。ここで、電離放射線硬化性樹脂の主成分とは、電離放射線硬化性樹脂中に占める割合が６０質量％以上である成分を意味する。電離放射線硬化性樹脂は、アクリレートを７０質量部以上の量で含んでいることが好ましく、８０質量部以上の量で含んでいることがより好ましい。

　アクリレートは、２官能以上のアクリレートであることが好ましく、３官能以上のアクリレートであることがより好ましい。耐傷性に優れた表面保護層５を得るうえでは、アクリレートは３官能以上であることが好ましい。アクリレートの官能基数に上限はないが、一例によれば６官能以下である。

　アクリレートは、繰り返し構造を含んでいることが好ましい。この繰り返し構造は、例えば、エチレンオキサイド（ＥＯ）構造、プロピレンオキサイド（ＰＯ）構造、及びε－カプロラクトン（ＣＬ）構造の何れかである。繰り返し構造は、エチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドであることが好ましい。アクリレートにおいて、上記の繰り返し構造は、開環した状態でアクリロイル基とメチロール基との間に介在し得る。

　繰り返し構造の繰り返し回数は３以上であることが好ましい。この繰り返し回数が多いアクリレートを使用すると、後述する第１照射工程において、硬化膜の面内方向への膨張が生じ易くなり、それ故、畝状部５Ｂに対応した皺が塗膜表面に生じ易くなる。また、繰り返し回数が多いアクリレートを使用すると、比Ｒｄｃ／ｔの値が大きくなる傾向がみられる。但し、この繰り返し回数を多くすると、架橋密度が低下し、表面保護層の耐傷性が低下する。

　好ましい態様において、電離放射線硬化性樹脂は、繰り返し構造を含んだ３官能のアクリレートである。繰り返し構造を含んだ３官能のアクリレートは、例えば、ＥＯ変性、ＰＯ変性又はＣＬ変性させたトリメチロールプロパントリアクリレート、グリセリントリアクリレート、イソシアヌレートトリアクリレート、又はペンタエリスリトールトリアクリレート等を用いることができる。電離放射線硬化性樹脂は、塗工方式としてグラビア印刷法を用いる場合、最適粘度範囲は１０～５００ｍＰa・sである。そのため、３官能のアクリレート樹脂としては、トリメチロールプロパントリアクリレートや、グリセリントリアクリレートを用いると、最適粘度範囲に収めることが可能であり好ましい。水素結合やπ‐πスタッキングを引き起こす骨格を有する樹脂は、５００ｍＰａ・ｓ以上の高粘度である場合が多く好ましくない。また、粘度調整をするために、有機溶剤や粘度の低い２官能アクリレート樹脂を添加することができる。しかし、有機溶剤は環境負荷の観点から、使用しない方が好ましい。２官能アクリレート樹脂は、添加量が多いと耐傷性が低下するため好ましくない。そのため、２官能アクリレート樹脂の添加量は、３官能アクリレート樹脂の含有量（質量）の１０質量％以上３０質量％以下の範囲内が好ましい。

　繰り返し構造を含んだ３官能のアクリレートでは、繰り返し構造の繰り返し回数は、３以上であることが好ましく、３以上３０以下であることがより好ましく、３以上２０以下であることが更に好ましい。繰り返し回数が少ないと、真空紫外光（ＶＵＶ光）を照射した場合に、表面保護層５を構成する電離放射線硬化性樹脂の硬化膜が、面内方向へ膨潤し難く、それ故、皺が十分に形成されないため表面保護層５が低光沢になり難い。繰り返し回数が多いと、架橋密度が低下し表面保護層５の耐傷性が低下する傾向がある。

　別の好ましい態様において、電離放射線硬化性樹脂は、繰り返し構造を含んだ４官能のアクリレートである。繰り返し構造を含んだ４官能のアクリレートは、例えば、ＥＯ変性、ＰＯ変性又はＣＬ変性させたペンタエリスリトールテトラアクリレート等を用いることができる。繰り返し構造を含んだ４官能のアクリレートでは、繰り返し構造の繰り返し回数は、１２以上であることが好ましく、１２以上５０以下であることがより好ましく、２０以上５０以下であることが更に好ましく、２０以上３５以下であることが更に好ましい。繰り返し回数が少ないと、ＶＵＶ光を照射した場合に、表面保護層５を構成する電離放射線硬化性樹脂の硬化膜が、面内方向へ膨潤し難く、それ故、皺が十分に形成されないため表面保護層５が低光沢になり難い。繰り返し回数が多いと、架橋密度が低下し表面保護層５の耐傷性が低下する傾向がある。

　上記繰り返し構造の繰り返し回数は、ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ－ＭＳを使用することで分析可能である。電離放射線硬化性樹脂は、分子量分布を持つ場合がある。分子量分布がある場合、上記の繰り返し回数は、ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ－ＭＳのマススペクトルの最も強いピークを持つ分子量に相当する繰り返し回数とする。また、上記繰り返し構造の繰り返し回数は、後述するとおり、フーリエ型赤外分光測定により比Ｉ_１０９５／Ｉ_１７２５を算出し、かかる比に基づいて求めてもよい。

　表面保護層５のフーリエ型赤外分光測定において得られる吸光スペクトルは、１０８５乃至１１０５ｃｍ^－１の波数範囲における最大値Ｉ_１０９５と、１７１５乃至１７３５ｃｍ^－１の波数範囲における最大値Ｉ_１７２５との比Ｉ_１０９５／Ｉ_１７２５が０．６５以上である。比Ｉ_１０９５／Ｉ_１７２５の値が０．６５未満だと繰り返し回数が少ないので、ＶＵＶ光を照射した場合に、表面保護層５を構成する電離放射線硬化性樹脂の硬化膜が、面内方向へ膨潤し難く、それ故、皺が十分に形成されないため表面保護層５が低光沢にならない。比Ｉ_１０９５／Ｉ_１７２５の値は、好ましくは０．７以上、より好ましくは０．８５以上である。

　比Ｉ_１０９５／Ｉ_１７２５の値が大き過ぎると架橋密度が低下し表面保護層５の耐傷性が低下するため、比Ｉ_１０９５／Ｉ_１７２５の値が３．５以下であることが望ましい。比Ｉ_１０９５／Ｉ_１７２５の値は、より好ましくは２．２以下、更に好ましくは１．３以下である。

　ここで、上記のフーリエ型赤外分光測定について説明する。
　波長が２．５乃至２５μｍの範囲内にある赤外光は、分子における振動や回転の状態を変化させ得る。そして、この振動や回転の状態を変化させるのに必要なエネルギーは、分子の構造に応じて異なる。赤外分光測定は、これを利用して、物質の化学構造や状態に関する情報を得る測定方法である。

　フーリエ型赤外分光測定では、例えば、以下のようにして測定を行う。先ず、光源からの光を半透鏡へ斜めに入射させて、透過光と反射光との２つの光束へと分割する。半透鏡を透過した光束は、固定鏡によって反射させて、半透鏡へ斜めに再入射させる。半透鏡によって反射された光束は、移動鏡によって反射させて、半透鏡へ斜めに再入射させる。固定鏡からの反射光のうち半透鏡によって反射された光束と、移動鏡からの反射光のうち半透鏡を透過した光束とは合成されて、干渉波を生じる。半透鏡から移動鏡までの距離を変化させながら、この干渉波を試料へ照射するとともに、試料を透過した光の強度を測定する。このようにして取得した強度データを、計算によって波数成分毎の強度へ分離して（フーリエ変換して）、透過率スペクトルを得る。

　ここで利用するフーリエ型赤外分光測定では、上記のフーリエ型赤外分光測定において、透過光強度の測定を行う代わりに、以下の全反射測定法（ＡＴＲ法）による反射光強度の測定を行う。

　ＡＴＲ法を利用したフーリエ変換型赤外分光測定では、干渉波を試料へ直接入射させる代わりに、試料の表面に接触させた測定用プリズムへ干渉波を入射させる。干渉波は、プリズムと試料との界面で全反射されるように測定用プリズムへ入射させる。こうすると、試料のうち上記界面近傍の領域にエバネッセント波が染み出し、特定の波数成分の光はこの領域内の分子によって吸収される。そして、ＡＴＲ法を利用したフーリエ変換型赤外分光測定では、透過光の強度を測定する代わりに、反射光の強度を測定する。その後、このようにして取得した強度データを、計算によって波数成分毎の強度へ分離して（フーリエ変換して）、ＡＴＲスペクトルを得る。

　エバネッセント波の染み出し深さ（もぐり込み深さ）は、波長が長くなるほど大きくなる。それ故、横軸を波長とし、縦軸を反射光強度（又は反射率）としたＡＴＲスペクトルのベースラインは、右下がりになる。また、エバネッセント波の染み出し深さには、上記界面への干渉波の入射角やプリズム及び試料の屈折率も影響を及ぼす。従って、ＡＴＲスペクトルは、波長の逆数等で補正する。このような補正をすることにより、上記の透過率スペクトルと同様のピーク強度比を有するスペクトルが得られる。そして、このスペクトルを変換することにより、横軸を波数とし、縦軸を吸光度とした吸光スペクトルを得る。

　エバネッセント波の染み出し深さは小さく、また、干渉波の入射角やプリズムの屈折率で調節可能である。従って、ＡＴＲ法を利用したフーリエ変換型赤外分光測定によると、測定すべき対象が薄い層である場合であっても、その下地がノイズになるのを防ぐことができる。また、ＡＴＲ法を利用したフーリエ変換型赤外分光測定によると、測定対象が試料の表面に露出していれば、非破壊での測定が可能である。

　上記の通り、表面保護層５のフーリエ型赤外分光測定において得られる吸光スペクトルは、比Ｉ_１０９５／Ｉ_１７２５が所定の範囲内にある。１０８５乃至１１０５ｃｍ^－１の波数範囲における最大値Ｉ_１０９５は、表面保護層５が含むエーテル結合の数に関連した値である。また、１７１５乃至１７３５ｃｍ^－１の波数範囲における最大値Ｉ_１７２５は、エステル結合の数に関連した値である。従って、比Ｉ_１０９５／Ｉ_１７２５は、後述する表面保護層用塗液の電離放射性樹脂が含んでいるアクリレートのエーテル結合数と官能基数との比に相当するものである。

　表面保護層５は、粒子を含んでいてもよい。最適な粒径及び最適な含有量の粒子を添加することで、均一な面を形成することができる。粒子としては、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）ワックス、ポリプロピレン（ＰＰ）ワックス、樹脂ビーズ等の有機材料、あるいは、シリカ、ガラス、アルミナ、チタニア、ジルコニア、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等の無機材料を用いることができる。粒子の平均粒径（Ｄ５０）が３μｍ以上であることが望ましい。粒子の平均粒径（Ｄ５０）は、好ましくは３μｍ以上１１μｍ以下であり、より好ましくは４μｍ以上１０μｍ以下である。

　表面保護層５が粒子を含むと、後述する第１照射工程において、塗膜表面に皺をより均一に生じさせることができる。粒子の平均粒径（Ｄ５０）が大きくなると、比Ｒｄｃ／ｔの値が低下する傾向がみられる。このため、平均粒径（Ｄ５０）が小さすぎたり大きすぎたりすると、「しっとりした触感」を達成することが難しくなる。また、大きな粒子を使用した場合、表面保護層５からの粒子の脱落を生じ易く、高い耐傷性を実現することが難しくなる場合がある。粒子が小さい場合、皺を均一に生じさせる効果が小さい。

　ここで、「平均粒径（Ｄ５０）」は、レーザー回折／散乱式粒子径分布測定装置で測定されるメジアン径（Ｄ５０）である。なお、表面保護層用塗液が粒子を含んでいる場合、この塗液から得られる表面保護層５も粒子を含むことになる。表面保護層５が含んでいる粒子の平均粒径は、その断面観察を行い、複数の粒子の粒径を実測して平均化した値とすることができる。このようにして得られる値は、レーザー回折／散乱式粒子径分布測定装置で測定されるメジアン径（Ｄ５０）と実質的に同じ値となる。従って、上述した平均粒径の範囲は、表面保護層５が含んでいる粒子の平均粒径の範囲と読み替えることもできる。

　粒子は、電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して３質量部以上１１質量部以下の量で表面保護層５に含まれることが好ましい。粒子の添加量は、樹脂１００質量部に対して４質量部以上１０質量部以下であることがより好ましい。なお、「樹脂１００質量部」は、樹脂の固形分の質量部を指す。

　粒子の添加量が上記範囲内にある場合、皺を均一に生じさせる効果が特に大きい。粒子の添加量が多くなると、比Ｒｄｃ／ｔの値が低下する傾向がみられる。このため、粒子の添加量が少なすぎたり多すぎたりすると、「しっとりした触感」を達成することが難しくなる。また、粒子の添加量が多い場合、表面保護層５からの粒子の脱落を生じ易く、高い耐傷性を実現することが難しくなる場合がある。粒子の添加量が少ない場合、皺を均一に生じさせる効果が小さい。

　表面保護層５全体をＵＶ光により硬化させる場合には、表面保護層５に光重合開始剤を添加する必要がある。光重合開始剤としては、特に限定されるものはないが、例えば、ベンザフェノン系、アセトフェノン系、ベンゾインエーテル系、チオキサントン系等があげられる。

　表面保護層５は、要求される機能を付与するために、抗菌剤、防カビ剤等の添加剤を更に含んでいてもよい。また、他の添加剤として、必要に応じて、紫外線吸収剤、光安定剤を更に含んでいてもよい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、ベンゾフェノン系、トリアジン系等を、また光安定剤としては、例えば、ヒンダードアミン系等を、任意の組み合わせで添加するのが一般的である。

　ヒンダードアミン系光安定剤としては、例えば、ビス（１、２、２、６、６－ペンタメチル－４－ピペリジル）[[３，５－ビス（１、１－ジメチルエチル）－４－ヒドロキシフェニル]メチル]ブチルマロネート（代表例としては、ＢＡＳＦ社製の商品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ１４４」）、ＢＡＳＦ社製の商品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ１２３」、デカン二酸ビス（２、２、６、６－テトラメチル－１－（オクチルオキシ）－４－ピペリジニル）エステル（１、１－ジメチルエチルヒドロペルオキシド）と、オクタンとの反応生成物等を用いることができる。

　ヒンダードアミン系光安定剤を表面保護層５へ添加する場合、電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して、０．０５質量部以上５質量部以下の範囲内で添加することが好ましい。ヒンダードアミン系光安定剤の添加量は、より好ましくは、０．２質量部以上３質量部以下の範囲内である。ヒンダードアミン系光安定剤の添加量が０．０５質量部よりも少ないと紫外線に対する樹脂の安定性の効果が低いおそれがある。一方、５質量部よりも多いとブリードアウトが生じる可能性が高くなる。また、表面保護層５は、２００ｎｍ以下の光を照射して表面近傍を硬化収縮させて微細な凹凸形状を形成することにより形成され得るが、この場合、ヒンダードアミン系光安定剤を３質量部より多い量で含有すると、該表面近傍の硬化を阻害するおそれがある。低光沢と耐候性を両立させるためには、ヒンダードアミン系光安定剤を３質量部以下の範囲内で含有することが望ましい。

　表面保護層５の光沢度は、１０．０未満であることが望ましい。表面保護層５の光沢度は、５．０以下であることがより好ましい。ここで、「光沢度」は、ＪＩＳＺ８７４１：１９９７に準拠した光沢度計を用いて入射角６０度で測定した場合の測定値である。

　＜１．５＞プライマー層
　プライマー層６の材料としては、基本的に絵柄層３と同じ材料を用いることができる。プライマー層６が、化粧シート１の裏面に施され、ウエブ状で巻取りを行うことを考慮すると、ブロッキングを避け、接着剤との密着を高めるために、シリカ、アルミナ、マグネシア、酸化チタン、硫酸バリウム等の無機充填剤を添加してもよい。プライマー層６の塗布厚さは、基材Ｂとの密着を確保することが目的であるので、０．１μｍ以上３．０μｍ以下が好ましい。なお、プライマー層６は、原反層２がオレフィン系材料のように表面が不活性なものである場合には必要であるが、表面が活性なものである場合には特に必要なものではない。

　＜２＞化粧シートの製造方法
　化粧シート１は、例えば、以下の方法により製造する。ここでは、簡略化のため、絵柄層３、透明樹脂層４、接着性樹脂層４ｂ、及びプライマー層６に関する説明は省略する。

　先ず、原反層２の一方の面に、表面保護層用塗液からなる塗膜を形成する。表面保護層用塗液は、＜１．４＞表面保護層の欄で述べたとおり、電離放射線硬化性樹脂、および必要に応じて、粒子や添加剤を含んでいる。表面保護層用塗液からなる塗膜は、例えば印刷によって形成することができる。

　表面保護層用塗液からなる塗膜を形成した後、第１照射工程を実施する。第１照射工程では、波長が２００ｎｍ以下の光（以下、第１放射線という）を塗膜へ照射する。表面保護層用塗液が含んでいる電離放射線硬化性樹脂は、第１放射線に対する吸光係数が大きい。それ故、塗膜に入射した第１放射線は、その最表面からの距離が数十乃至数百ｎｍの位置までしか到達できない。従って、第１照射工程では、塗膜の表面領域において架橋反応が進行して極めて薄い硬化膜が形成される一方、他の領域では架橋反応が進行せずに未硬化のままとなる。

　第１照射工程後の塗膜は、畝状部５Ｂに対応した皺を表面に有している。本発明者は、第１照射工程によって塗膜表面に皺を生じる理由を以下のように考えている。

　上記の通り、第１放射線は、塗膜の最表面からの距離が数十乃至数百ｎｍの位置までしか到達できない。即ち、電離放射線硬化性樹脂の架橋反応は、塗膜の表面においてのみ生じ、最表面からの距離が数十乃至数百ｎｍより離れた領域は未硬化であり、流動性の高い分子が存在することとなる。そうした流動性の高い分子は、硬化膜を膨潤させることで、硬化膜の体積を増加させる。面内方向への体積増加によって生じる面内圧縮応力に対して、硬化膜が座屈することにより、塗膜表面に皴形状が生じる。

　第１放射線は、エキシマＶＵＶ光より取り出すことができる。エキシマＶＵＶ光は、希ガスや希ガスハライド化合物を使用したランプから生み出すことができる。希ガスや希ガスハライド化合物のガスが封じられたランプに外部から高いエネルギーを有する電子を与えると、放電プラズマ（誘電体バリア放電）が多数発生する。このプラズマ放電により、放電ガス（希ガス）の原子が励起され、瞬間的にエキシマ状態となる。このエキシマ状態から基底状態に戻るときに、そのエキシマ特有の波長領域の光を発する。

　エキシマランプに用いるガスは、２００ｎｍ以下の光を発するものであれば、従来用いられた何れのガスであってもよい。ガスとしては、Ｘｅ、Ａｒ、Ｋｒ等の希ガスや、ＡｒＢｒ、ＡｒＦ等の希ガスとハロゲンガスとの混合ガスを用いることができる。エキシマランプは、ガスによって中心波長が異なり、例えば約１７２ｎｍ（Ｘｅ）、約１２６ｎｍ（Ａｒ）、約１４６ｎｍ（Ｋｒ）、約１６５ｎｍ（ＡｒＢｒ）、約１９３ｎｍ（ＡｒＦ）等の波長を有する。

　光子エネルギーの大きさや、波長と有機物の結合エネルギーとの差を考慮すると、中心波長が１７２ｎｍのエキシマ光を発するキセノンランプを光源として用いることが好ましい。また、設備維持にかかるコストや材料の入手等を考慮しても、キセノンランプを光源として用いることが好ましい。

　第１照射工程は、酸素濃度が低い雰囲気下で行う。酸素は、２００ｎｍ以下の光に対する吸収係数が大きい。従って、第１照射工程は、例えば、窒素ガス雰囲気下で行うことが好ましい。第１照射工程における気相中の酸素濃度、即ち、反応雰囲気中の残留酸素濃度は、２０００ｐｐｍ以下とすることが好ましく、１０００ｐｐｍ以下とすることがより好ましい。

　また、雰囲気中の酸素は、ラジカル重合を阻害する。それ故、反応雰囲気中の残留酸素濃度は、塗膜表面への皺の形成に影響を及ぼす。それ故、反応雰囲気中の残留酸素濃度を変化させると、表面保護層５の表面性状も変化し得る。

　第１放射線の積算光量は、０．５ｍＪ／ｃｍ^２以上２００ｍＪ／ｃｍ^２以下とすることが好ましく、１ｍＪ／ｃｍ^２以上１００ｍＪ／ｃｍ^２以下とすることがより好ましく、３ｍＪ／ｃｍ^２以上５０ｍＪ／ｃｍ^２以下とすることが更に好ましく、５ｍＪ／ｃｍ^２以上３０ｍＪ／ｃｍ^２以下とすることが最も好ましい。積算光量を少なくすると、硬化膜の面内方向への膨張が小さくなる。積算光量を多くすると、塗膜の表面状態が劣化する。

　第１照射工程を終了後、第２照射工程を実施する。第２照射工程では、塗膜へ第２放射線を照射して、塗膜全体を硬化させる。これにより、表面保護層５を得る。

　第２放射線は、電子線等の電離放射線であるか、又は、第１放射線と比較して波長が長い紫外線である。第２放射線として紫外線を利用する場合、この紫外線は、電離放射線硬化性樹脂が小さな吸収係数を示す波長を有しているものとする。

　第２放射線の積算光量は、１０ｍＪ／ｃｍ^２以上５００ｍＪ／ｃｍ^２以下とすることが好ましく、５０ｍＪ／ｃｍ^２以上４００ｍＪ／ｃｍ^２以下とすることがより好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ^２以上３００ｍＪ／ｃｍ^２以下とすることが更に好ましい。
　化粧シート１は、例えば、以上の方法により製造することができる。化粧シート１は、他の方法で製造してもよい。例えば、表面保護層５について上述した方法を利用して版を形成し、この版を使用した転写によって、表面に凹凸構造を有する表面保護層５を形成してもよい。

　＜３＞作用その他
　図１乃至図４を参照しながら説明した化粧シート１は、表面保護層５が上述した表面性状を有している。このような化粧シート１は、ユーザーが表面保護層５の表面を肌で押圧しながら表面上で指を滑らせたときに、例えば、表面保護層５の表面を指で押圧しながら表面上で指を滑らせたときに、ユーザーへしっとりした触感を与える。即ち、この化粧シート１は、表面保護層５の表面にある凹凸形状の斜面が比較的緩やかであるため、上記動作により触ったときに、指と表面の接触による押し込み抵抗を小さく抑えたまま、指と凸部表面との接触面積を徐々に増加させることができる。これにより、化粧シートの表面が指に吸い付くような触感が得られる。

　しっとりした触感は、化粧シート１に触れた人に心地よさや温もりを感じさせることができる。また、しっとりした触感は、化粧シート１に高級感を付与することができる。したがって、ユーザーへしっとりした触感を与える化粧シート１は、ユーザーの肌に触れる機会が多い用途やユーザーの肌が長時間に亘って触れる用途、例えば、机の天板、椅子の肘掛、階段や通路の手すり等での使用に適している。

　化粧シート１の表面保護層５は、上述した表面性状を有しているので、艶調整剤（艶消し添加剤）を含んでいなくても、低い光沢度を達成し得る。艶調整剤は、樹脂材料により形成した層の撥油性を低下させるため、艶調整剤を含んだ表面保護層５は指紋が付き易い。艶調整剤を含まない表面保護層５は、油を吸収し難いため、指紋が付着し難い。また、撥油性に優れた表面保護層５は、油染みや汚染物質の吸着を生じ難い。更に、艶調整剤を含まない表面保護層５は、その表面を引っ掻いた際に艶調整剤の粒子が脱落せず、それ故、そのような表面保護層５を含んだ化粧シート１は、艶変化や引っ掻き傷を生じ難い。化粧シート１は、耐指紋性、耐汚染性、及び耐傷性に優れていることに加えて、耐候性や加工性にも優れている。

　上述した方法により、上記の表面性状を有している表面保護層５が得られるのは、以下の理由による。

　気相中の酸素は、短波長の紫外線を吸収するだけでなく、ラジカル重合を阻害する。気相中に含まれる酸素がラジカル重合へ及ぼす影響は、電離放射線硬化性樹脂からなる塗膜のうち、気相と隣接した部分において最も大きく、塗膜表面からの距離が大きくなるのに従って小さくなる。それ故、第１照射工程において、気相中の酸素濃度を変化させることにより、塗膜表面からの距離と架橋反応の進行度との関係を変化させることができる。

　この関係が変化すると、第１照射工程によって塗膜の表面に生じる硬化膜の厚さや、架橋反応の進行に応じた面内方向への硬化膜の膨張の程度が変化する。硬化膜の厚さや面内方向への硬化膜の膨張の程度には、第１照射工程における積算光量も影響を及ぼす。そして、硬化膜の厚さや面内方向への硬化膜の膨張の程度は、表面保護層の表面性状へ影響を及ぼす。更に、塗膜中の粒子の粒径および添加量、並びに塗膜の厚さも、皺の形成へ影響を及ぼす。

　従って、例えば、電離放射線硬化性樹脂の組成と、塗膜の厚さと、第１照射工程における気相中の酸素濃度と、第１照射工程における積算光量とを適宜設定することにより、所望の表面性状を有する表面保護層を得ることができる。

　以下に、本発明の例を記載する。

　＜例１＞
　厚さ５５μｍのオレフィンフィルム（リケンテクノス社製）を原反層２とし、原反層２の一方の面にコロナ処理を施し、その一方の面に対して、絵柄印刷を施して絵柄層３を形成した。絵柄層３は、２液型ウレタンインキ（Ｖ１８０；東洋インキ株式会社製）に、当該インキのバインダー樹脂分に対してヒンダードアミン系光安定化剤（キマソーブ９４４；ＢＡＳＦ社製）を０．５質量部添加したインキを用いて形成した。絵柄層３表面の切断レベル差Ｒｄｃは、０．４μｍであった。切断レベル差Ｒｄｃは、表面粗さ計（ミツトヨ社製、ＳＪ－３１０）を用い、カットオフ値λｃを２．５ｍｍ、カットオフ値λｓを８μｍ、評価長さ１２．５ｍｍの測定条件で測定した。測定は任意の５点において、製膜方向と直行する方向に沿って測定し、平均値を測定値とした。

　次に、原反層２の裏面にプライマー層６を形成した。プライマー層６は絵柄層３と同様の２液型ウレタンインキを印刷することにより形成した。

　次いで、絵柄層３上に、表面保護層用塗液を塗布した。表面保護層用塗液の層厚は、５μｍとした。表面保護層用塗液としては、下記の電離放射線硬化性樹脂に、下記の添加剤（粒子、光重合開始剤）を配合してなるものを使用した。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（ＥＯ１５モル付加）
　品名：ＳＲ９０３５（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製）
　配合：１００質量部
・粒子
　品名：サイリシア２５０Ｎ（富士シリシア化学社製）
　粒径：５μｍ
　配合：５質量部
・光重合開始剤
　品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社製）
　配合：３質量部。

　その後、第１照射工程を実施した。具体的には、大気圧下、酸素濃度が１００ｐｐｍの窒素ガス雰囲気中で、表面保護層用塗液からなる塗膜の表面に対して、Ｘｅエキシマランプを用いて、波長１７２ｎｍの紫外線を積算光量が３０ｍＪ／ｃｍ^２となるように照射した。これにより、塗膜の表面に皺を生じさせた。

　続いて、第２照射工程を実施した。具体的には、塗膜へ高圧水銀灯を用いて２００ｍＪ／ｃｍ^２となるように紫外線を照射して、その全体を硬化させることで、表面保護層５を形成した。
　以上のようにして、総厚６０μｍの化粧シート１を得た。

　＜例２＞
　例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て例１と同様にして、総厚６０μｍの化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（ＥＯ１５モル付加）
　品名：ＳＲ９０３５（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製）
　配合：７５質量部
　種類：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
　配合：２５質量部。

　＜例３＞
　例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て例１と同様にして、総厚６０μｍの化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（ＥＯ１５モル付加）
　品名：ＳＲ９０３５（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製）
　配合：５０質量部
　種類：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
　配合：５０質量部。

　＜比較例１＞
　例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て例１と同様にして、総厚６０μｍの化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（ＥＯ１５モル付加）
　品名：ＳＲ９０３５（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製）
　配合：２５質量部
　種類：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
　配合：７５質量部。

　＜比較例２＞
　例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て例１と同様にして、総厚６０μｍの化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
　配合：１００質量部。

　＜例４＞
　例１と同様に、プライマー層６、原反層２、絵柄層３からなるシートを作製した。続いて、結晶性ポリプロピレン樹脂（ペンタッド分率９７．８％）、分子量分布２．３、ＭＦＲ１８ｇ／１０ｍｉｎ）１００質量部に対して、ヒンダードアミン系光安定化剤（ＢＡＳＦ社製「キマソーブ９４４」）０．５質量部、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ社製「チヌビン３２８」）０．５質量部を混合した混合物と、ポリエチレン系の易接着性樹脂とを溶融押出機を用いて共押出しして、厚さ６０μｍの透明樹脂層４と厚さ１０μｍの接着性樹脂層４ｂとを製膜した。次に、絵柄層３の表面にドライラミネート用接着剤（タケラックＡ５４０；三井化学株式会社製；塗布量２ｇ／ｍ^２）を塗布した。続いて、製膜した接着性樹脂層４ｂを介して、接着剤を塗布した上記シートの絵柄層３面と透明樹脂層４とを押出ラミネート法により貼り合わせた。更に、貼り合わせて形成したシートの透明樹脂層４側の面に、エンボス形成用の金型ロールを用いてプレスをしてエンボス模様４ａを施した。その結果、透明樹脂層４表面の切断レベル差Ｒｄｃは、０．５μｍであった。

　次いで、透明樹脂層４上に、表面保護層用塗液を塗布した。表面保護層用塗液の層厚は、５μｍとした。表面保護層用塗液としては、下記の電離放射線硬化性樹脂に、下記の添加剤（粒子、光重合開始剤）を配合してなるものを使用した。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（ＥＯ１５モル付加）
　品名：ＳＲ９０３５（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製）
　配合：１００質量部
・粒子
　品名：サイリシア２５０Ｎ（富士シリシア化学社製）
　粒径：５μｍ
　配合：５質量部
・光重合開始剤
　品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社製）
　配合：３質量部。

　続いて、第２照射工程を実施した。具体的には、塗膜へ高圧水銀灯を用いて２００ｍＪ／ｃｍ^２となるように紫外線を照射して、その全体を硬化させることで、表面保護層５を形成した。
　以上のようにして、総厚１３０μｍからなる化粧シートを得た。

　＜例５＞
　例４の透明樹脂層４にエンボス模様４ａを付与する際、例４で使用したものとは異なる金型ロールを用いてプレスして、透明樹脂層４表面の切断レベル差Ｒｄｃを変化させた以外は全て例４と同様にして、総厚１３０μｍからなる化粧シートを得た。例５では、透明樹脂層４表面の切断レベル差Ｒｄｃは、２．６μｍであった。

　＜例６＞
　例４の透明樹脂層４にエンボス模様４ａを付与する際、例４で使用したものとは異なる金型ロールを用いてプレスして、透明樹脂層４表面の切断レベル差Ｒｄｃを変化させた以外は全て例４と同様にして、総厚１３０μｍからなる化粧シートを得た。例６では、透明樹脂層４表面の切断レベル差Ｒｄｃは、３．２μｍであった。

　＜比較例３＞
　例４の透明樹脂層４にエンボス模様４ａを付与する際、例４で使用したものとは異なる金型ロールを用いてプレスして、透明樹脂層４表面の切断レベル差Ｒｄｃを変化させた以外は全て例４と同様にして、総厚１３０μｍからなる化粧シートを得た。比較例３では、透明樹脂層４表面の切断レベル差Ｒｄｃは、３．５μｍであった。

　＜比較例４＞
　例４の第１照射工程を実施せず、第２照射工程を実施したこと以外は全て例４と同様にして、総厚１３０μｍからなる化粧シートを得た。

　＜例７＞
　例４の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（ＥＯ２０モル付加）
　品名：ＮＫエステルＡＴ－２０Ｅ（新中村化学社製）
　配合：１００質量部。

　＜例８＞
　例４の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（ＥＯ９モル付加）
　品名：ＳＲ５０２（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製）
　配合：１００質量部。

　＜例９＞
　例４の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（ＥＯ６モル付加）
　品名：Ｍｉｒａｍｅｒ　Ｍ３１６０（Ｍｉｗｏｎ社製）
　配合：１００質量部。

　＜例１０＞
　例４の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（ＥＯ３モル付加）
　品名：Ｍｉｒａｍｅｒ　Ｍ３１３０（Ｍｉｗｏｎ社製）
　配合：１００質量部。

　＜比較例５＞
　例４の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：トリメチロールプロパントリアクリレート
　品名：ＮＫエステルＡ‐ＴＭＰＴ（新中村化学社製）
　配合：１００質量部。

　＜例１１＞
　例４の粒子(品名サイリシア２５０Ｎ)を添加しなかった以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。

　＜比較例６＞
　例５の粒子(品名サイリシア２５０Ｎ)を添加しなかった以外は、全て例５と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。

　＜比較例７＞
　例６の粒子(品名サイリシア２５０Ｎ)を添加しなかった以外は、全て例６と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。

　＜比較例８＞
　例７の粒子(品名サイリシア２５０Ｎ)を添加しなかった以外は、全て例７と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。

　＜例１２＞
　例８の粒子(品名サイリシア２５０Ｎ)を添加しなかった以外は、全て例８と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。

　＜例１３＞
　例９の粒子(品名サイリシア２５０Ｎ)を添加しなかった以外は、全て例９と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。

　＜例１４＞
　例１０の粒子(品名サイリシア２５０Ｎ)を添加しなかった以外は、全て例１０と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。

　＜比較例９＞
　例４の表面保護層用塗液の層厚を１μｍとした以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。

　＜例１５＞
　例４の表面保護層用塗液の層厚を２μｍとした以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。

　＜例１６＞
　例４の表面保護層用塗液の層厚を１０μｍとした以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。

　＜例１７＞
　例４の表面保護層用塗液の層厚を１８μｍとした以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。

　＜比較例１０＞
　例４の表面保護層用塗液の層厚を２０μｍとした以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。

　＜例１８＞
　例４の粒子を下記に変更した以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。
・粒子
　品名：サイリシア３１０Ｐ（富士シリシア化学社製）
　粒径：２μｍ。

　＜例１９＞
　例４の粒子を下記に変更した以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。
・粒子
　品名：サイリシア４２０（富士シリシア化学社製）
　粒径：３μｍ。

　＜例２０＞
　例４の粒子を下記に変更した以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。
・粒子
　品名：サイリシア４５０（富士シリシア化学社製）
　粒径：８μｍ。

　＜例２１＞
　例４の粒子を下記に変更した以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。
・粒子
　品名：サイリシア７８０（富士シリシア化学社製）
　粒径：１１μｍ。

　＜例２２＞
　例４の粒子を下記に変更した以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。
・粒子
　品名：ｓｉｃａｓｔａｒ４３－００－１５４（コアフロント社製）
　粒径：１４μｍ。

　＜例２３＞
　例４の粒子の配合量を下記に変更した以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。
・粒子
　品名：サイリシア２５０Ｎ（富士シリシア化学社製）
　粒径：５μｍ
　配合：２質量部。

　＜例２４＞
　例４の粒子の配合量を下記に変更した以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。
・粒子
　品名：サイリシア２５０Ｎ（富士シリシア化学社製）
　粒径：５μｍ
　配合：３質量部。

　＜例２５＞
　例４の粒子の配合量を下記に変更した以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。
・粒子
　品名：サイリシア２５０Ｎ（富士シリシア化学社製）
　粒径：５μｍ
　配合：１１質量部。

　＜例２６＞
　例４の粒子の配合量を下記に変更した以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。
・粒子
　品名：サイリシア２５０Ｎ（富士シリシア化学社製）
　粒径：５μｍ
　配合：１２質量部。

　＜例２７＞
　例４の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＥＯ２０モル付加）。

　＜例２８＞
　例４の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＥＯ３５モル付加）
　品名：ＮＫエステルＡＴＭ－３５Ｅ（新中村化学社製）。

　＜比較例１１＞
　例４の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：エチレングリコールジアクリレート（ＥＯ９モル付加）
　品名：ライトアクリレート９ＥＧ－Ａ（共栄社化学社製）。

　＜比較例１２＞
　例４の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：エトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＥＯ１２モル付加）
　品名：ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ－１２Ｅ（新中村化学社製）。

　＜比較例１３＞
　例４の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：ペンタエリスリトールテトラアクリレート
　品名：ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ（新中村化学社製）。

　＜例２９＞
　例４の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：トリメチロールプロパンＰＯ変性トリアクリレート（ＰＯ６モル付加）
　品名：ＮＫエステルＡ－ＴＭＰＴ－６ＰＯ（新中村化学社製）。

　＜例３０＞
　例４の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：カプロラクトン変性トリス－（２－アクリロキシエチル）イソシアヌレート（カプロラクトン３モル付加）
　品名：ＮＫエステルＡ－９３００－３ＣＬ（新中村化学社製）。

　＜例３１＞
　例４の電離放射線硬化性樹脂に光重合開始剤を添加しなかった。また、第２照射工程で、塗膜へ電離放射線を照射して、その全体を硬化させることで、表面保護層５を形成した。それ以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。

　＜例３２＞
　例４の電離放射線硬化性樹脂に、下記光安定剤を添加した以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。
・光安定剤
品名：Ｔｉｎｕｖｉｎ１２３（ＢＡＳＦ社製）
　配合：１質量部。

　＜例３３＞
　例４の電離放射線硬化性樹脂に、下記光安定剤を添加した以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。
・光安定剤
品名：Ｔｉｎｕｖｉｎ１２３（ＢＡＳＦ社製）
　配合：３質量部。

　＜例３４＞
　例４の電離放射線硬化性樹脂に、下記光安定剤を添加した以外は、全て例４と同様にして、総厚１３０μｍの化粧シートを得た。
・光安定剤
品名：Ｔｉｎｕｖｉｎ１２３（ＢＡＳＦ社製）
　配合：５質量部。

　＜評価＞
　上記の化粧シートの各々に対し、以下に記載する評価を行った。
　（１）表面保護層５の厚さ
　表面保護層５の厚さの測定は以下のとおり行った。化粧シートを冷間硬化タイプのエポキシ樹脂やＵＶ硬化性樹脂などの樹脂に包埋して十分に硬化させた後に、化粧シートの断面が現れるように切断し、機械研磨を施すことによって測定面を得た。続いて、カールツァイスマイクロスコピー社製の走査型電子顕微鏡ＳＩＧＭＡ５００を使用して、表面保護層５の厚さを測長した。測長は任意の２５点について行い、該２５点を平均した測長値を「表面保護層の厚さｔ」と定義した。測定条件は、加速電圧０．５ｋｅＶ（低加速電圧）、撮影モードはＳＥ２モード、倍率は２０００倍とした。測定サンプルへのスパッタは行わなかった。「表面保護層の厚さｔ」は、表面保護層用塗液からなる塗膜の厚さと等しかった。また、例１～３及び比較例１～２の化粧シートの総厚は、表面保護層５の厚さと原反層２の厚さの和に等しかった。例４～３４及び比較例３～１３の化粧シートの総厚は、表面保護層５の厚さと透明樹脂層４の厚さと接着性樹脂層４ｂの厚さと原反層２の厚さの和に等しかった。

　（２）面状態
　面状態は、目視にて、面の均一性を評価した。
評価基準は下記のとおりとした。
〇：均一な面状態
△：一部に不均一な部分あり
×：全面不均一な面状態。

　（３）光沢度
　光沢度は、Ｒｈｏｐｏｉｎｔ　ＩＱ（コニカミノルタ社製）を用いて、６０度光沢度を測定した。以下の表における「６０°光沢度」は、この６０度光沢度を表している。

　（４）フーリエ型赤外分光測定
　フーリエ型赤外分光測定には、日本分光社製フーリエ型赤外分光測定装置（ＦＴ/ＩＲ－６３００）、及び試料接触面積２ｍｍφのダイヤモンドプリズムによる１回反射型（入射角４５°）のＡＴＲユニット（ＡＴＲ　ＰＲＯ４７０－Ｈ）を用いた。

　測定条件を以下の通りとした。　
　　測定波数範囲：４０００ｃｍ^－１から４００ｃｍ^－１
　　分解能：４．０ｃｍ^－１
　　光源：標準光源
　　検出器：ＴＧＳ
　　試料室：標準
　　感度（ゲイン）：３２倍
　　アパーチャー径：７．１ｍｍ
　　干渉計測定（スキャンスピード）：２ｍｍ／ｓｅｃ
　　フィルター：１００００Ｈｚ
　　ビームスプリッター：Ｇｅ／ＫＢｒ
　　アポダイゼーション関数：Ｃоｓｉｎｅ
　　ゼロフィリング：оｎ
　光学系内を窒素雰囲気置換して、積算１６０回にて吸光スペクトルを得た。尚、試料の吸光スペクトルを測定する前に、ダイヤモンドプリズムに何も接触させず、積算３２０回とした以外は試料と同じ条件にてバックグラウンド測定を実施した。

　得られた吸光スペクトルを日本分光社製Ｓｐｅｃｔｒａ　Ｍａｎａｇｅｒ　Ｖｅｒｓｉｏｎ　２を用いて、「もぐり込み深さ」方式によるＡＴＲ補正した。その後、比Ｉ_１０９５／Ｉ_１７２５の値を算出した。ここで、Ｉ_１０９５は１０９５±１０ｃｍ^－１の波数範囲に検出されるピークの最大吸光度を指し、Ｉ_１７２５は１７２５±１０ｃｍ^－１の波数範囲に検出されるピークの最大吸光度を指す。

　（５）耐指紋性
　耐指紋性評価として、指紋のふき取り性評価を実施した。各化粧シートの表面の６０°光沢度を測定して、「初期光沢度」とした。続いて、最表層に耐指紋評価液を付着させた後、化粧シート表面に付着した耐指紋評価液を拭き取った。その後、耐指紋評価液を拭き取った部分の６０°光沢度を測定して、「拭き取り後光沢度」とした。ここでは、耐指紋評価液として、高級脂肪酸を用いた。

　指紋拭き取り率は、下記の式から算出した。　
　　指紋拭き取り率（％）＝（拭き取り後光沢度／初期光沢度）×１００
　評価基準は、下記の通りとした。　
　　ＡＡ：７０％以上２５０％未満
　　Ａ：５０％以上７０％未満、又は、２５０％以上３００％未満
　　Ｂ：５０％未満、又は、３００％以上。

　（６）耐汚染性
　耐汚染性評価として、日本農林規格（JAS：Japanese Agricultural Standards）に規定された汚染Ａ試験を行った。即ち、各化粧シートの表面保護層に、青色インキ、黒色速乾性インキ及び赤色クレヨンで各々の幅が１０ｍｍの線を引き、４時間放置した。その後、エタノールを含ませた布で、青色インキ、黒色速乾性インキ及び赤色クレヨンの線を拭き取り、インキによる耐汚染性を評価した。

　評価基準は、下記の通りとした。　
　　ＡＡ：各色の線を容易に拭き取ることができた
　　Ａ：各色の線の一部を拭き取ることができるが、一部に汚れが残る
　　Ｂ：各色の線を拭き取ることができない。

　（７）耐傷性：スチールウールラビング試験
　得られた化粧シートをウレタン系の接着剤を用いて木質基板Ｂに貼り付けた後、耐傷性評価として、スチールウールラビング試験を実施した。具体的には、スチールウールに１００ｇの荷重をかけて２０往復擦り、化粧シート表面に生じた傷や光沢の変化を目視にて確認した。

　評価基準は、下記の通りとした。　
　　ＡＡ：表面に傷や光沢の変化が発生しなかった。　
　　Ａ：表面に軽微な傷や光沢の変化が発生した。　
　　Ｂ：表面に著しい傷や光沢の変化が発生した。

　（８）加工性
　加工性の評価については、曲げ加工性試験を実施した。曲げ加工性試験においては、木質基板に各シートを貼り付け、基板の他方の面に対して、反対側の化粧シートにキズが付かないようにＶ型の溝を基板と化粧シートとを貼り合わせている境界まで入れる。次に、化粧シートの面が山折りとなるように基板を当該Ｖ型の溝に沿って９０度まで曲げ、化粧シートの表面の折れ曲がった部分に白化や亀裂等が生じていないかを光学顕微鏡を用いて観察し、曲げ加工性の状態について評価を行った。

　評価基準は、下記の通りとした。「Ａ」以上の評価であれば、実用上問題ないとした。
　　ＡＡ：白化や亀裂等が見られない
　　Ａ：一部に白化が見える
　　Ｂ：全面に白化が見えるか、一部に亀裂が見える。

　（９）耐候性：スーパーＵＶテスター
　化粧シートの耐候促進試験後の外観を以下の基準により目視評価した。耐候促進試験はアイスーパーＵＶテスター（ＳＵＶ－Ｗ１６１；岩崎電気株式会社製）を用い、ブラックパネル温度６３℃、照度６５ｍＷ／ｃｍ^２にて、（ＵＶ照射２０時間＋結露４時間）を１サイクルとし、３０サイクル（７２０時間）実施した後の化粧シートの外観を目視評価した。

　評価基準は、下記の通りとした。
　　ＡＡ：化粧シートに外観変化なし
　　Ａ：化粧シートに白化が認められる
　　Ｂ：化粧シートにワレが認められる。

　（１０）肌感触
　肌感触は、以下の方法により評価した。
　先ず、評価者間で評価基準を一致させるための事前準備を行った。具体的には、表面性状が異なる３個の標準試験片を準備した。次に、５名の評価者の各々に、目隠しした状態で標準試験片の表面を指で押圧しながら表面上で指を滑らせてもらい、その後、触感を以下の３つの群に分類してもらった。
　　第１群：押し込み抵抗を殆ど感じなかったが、化粧シートの表面が指に吸い付くような触感が得られるとともに、滑りの良い触感が得られ、全体としては、滑りの良い触感の印象が強かった。すなわち、すべすべした触感が得られた。
　　第２群：押し込み抵抗を殆ど感じなかったが、化粧シートの表面が指に吸い付くような触感が得られた。ただし、滑りの良い触感の印象はなかった。すなわち、しっとりした触感が得られた。
　　第３群：押し込み抵抗を感じるととともに、凹凸の存在を感じた。すなわち、ざらざらした触感が得られた。

　各評価者による評価が連続して３回以上一致し、且つ、評価者間で評価結果が連続して３回一致するまで、以上の手順を繰り返した。

　次に、上記の化粧シートの各々について、上記評価者の各々に、目隠しした状態で表面保護層の表面を指で押圧しながら表面上で指を滑らせてもらい、その後、触感を上記の３つの群に分類してもらった。そして、各評価者による評価が連続して３回以上一致し、且つ、評価者間で評価結果が連続して３回一致するまで、この手順を繰り返した。この結果から、以下の基準に従って肌感触を評価した。
　　Ａ（すべすべ）：第１群
　　Ｂ（しっとり）：第２群
　　Ｃ（ざらざら）：第３群。
　評価結果を以下の表に示す。表において、肌感触の評価結果がＡ（すべすべ）の場合は、「Ａ（すべすべ）」の欄にＹの文字を記入することにより表し、肌感触の評価結果がＢ（しっとり）の場合は、「Ｂ（しっとり）」の欄にＹの文字を記入することにより表し、肌感触の評価結果がＣ（ざらざら）の場合は、「Ｃ（ざらざら）」の欄にＹの文字を記入することにより表す。

　（１１）透明樹脂層の切断レベル差Ｒｄｃ、並びに表面保護層の切断レベル差Ｒｄｃおよび比Ｒｄｃ／ｔ
　透明樹脂層の切断レベル差Ｒｄｃは、表面保護層の形成前に、詳細な説明の欄に記載したとおり求めた。また、表面保護層の切断レベル差Ｒｄｃおよび比Ｒｄｃ／ｔは、化粧シートの作製後に、詳細な説明の欄に記載したとおり求めた。

　表に示すように、例１乃至３４に係る化粧シートは、評価者へしっとりした触感を与えた。また、例１乃至３４に係る化粧シートは、低光沢であり、耐指紋性、耐汚染性、耐傷性、加工性、および耐候性に優れていた。特に、透明樹脂層を含む例４乃至３４に係る化粧シートは、耐傷性、耐候性を更に向上させることができた。

　比較例１、２、４、５、９、１２および１３は、表に示すように、評価者へしっとりした触感を与えず、すべすべした触感を与えた。また比較例３、６、７、８、１０および１１は、評価者へしっとりとした触感を与えず、ざらざらした触感を与えた。

　１…化粧シート、２…原反層、３…絵柄層、４…透明樹脂層、４ａ…エンボス模様、４ｂ…接着性樹脂層、５…表面保護層、５Ａ…コア部、５Ｂ…畝状部、６…プライマー層、１１…化粧材、Ｂ…基材

Claims

　原反層と、前記原反層の一方の表面に設けられた表面保護層とを備え、
　前記表面保護層の表面に、各々が畝状に突出した複数の畝状部を含んだ凹凸構造が設けられており、
　前記表面保護層の前記凹凸構造は、前記表面保護層の厚さｔに対する切断レベル差Ｒｄｃの比Ｒｄｃ／ｔが０．１５以上０．４４以下であり、
　前記表面保護層の厚さｔは、２μｍ以上１８μｍ以下であり、
　前記表面保護層のフーリエ型赤外分光測定において得られる吸光スペクトルは、１０８５乃至１１０５ｃｍ^－１の波数範囲における最大値Ｉ_１０９５と、１７１５乃至１７３５ｃｍ^－１の波数範囲における最大値Ｉ_１７２５との比Ｉ_１０９５／Ｉ_１７２５が０．６５以上である化粧シート。
　前記表面保護層の光沢度は、１０．０未満である請求項１に記載の化粧シート。
　前記比Ｒｄｃ／ｔは、０．１５以上０．３１以下である請求項１又は２に記載の化粧シート。
　前記比Ｒｄｃ／ｔは、０．１５以上０．２５以下である請求項１乃至３の何れか１項に記載の化粧シート。
　前記比Ｉ_１０９５／Ｉ_１７２５は３．５以下である請求項１乃至４の何れか１項に記載の化粧シート。
　前記表面保護層は、樹脂の硬化物と粒子とを含み、前記粒子は、平均粒径が３μｍ以上１１μｍ以下であり、前記粒子は、前記樹脂１００質量部に対して３質量部以上１１質量部以下の量で前記表面保護層に含まれる請求項１乃至５の何れか１項に記載の化粧シート。
　前記樹脂は、電離放射線硬化性樹脂である請求項６に記載の化粧シート。
　前記樹脂は、アクリレートである請求項６又は７に記載の化粧シート。
　前記樹脂は、繰り返し構造を含む３官能アクリレートであり、前記繰り返し構造の繰り返し回数は、３個以上２０個以下である請求項６乃至８の何れか１項に記載の化粧シート。
　前記樹脂は、繰り返し構造を含む４官能アクリレートであり、前記繰り返し構造の繰り返し回数は、２０個以上３５個以下である請求項６乃至８の何れか１項に記載の化粧シート。
　絵柄層を前記原反層と前記表面保護層との間に更に備えた請求項１乃至１０の何れか１項に記載の化粧シート。
　請求項１乃至１１の何れか１項に記載の化粧シートと、
　前記化粧シートが貼り付けられた基材と
を備えた化粧材。