WO2024070381A1 - 積層体付きディスプレイ - Google Patents

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WO2024070381A1
WO2024070381A1 PCT/JP2023/030807 JP2023030807W WO2024070381A1 WO 2024070381 A1 WO2024070381 A1 WO 2024070381A1 JP 2023030807 W JP2023030807 W JP 2023030807W WO 2024070381 A1 WO2024070381 A1 WO 2024070381A1
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WO
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layer
liquid crystal
louver
display
compounds
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Application number
PCT/JP2023/030807
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English (en)
French (fr)
Inventor
佑一 早田
Original Assignee
富士フイルム株式会社
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Filing date
Publication date
Application filed by 富士フイルム株式会社 filed Critical 富士フイルム株式会社
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B3/00—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form
    • B32B3/10—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a discontinuous layer, i.e. formed of separate pieces of material
    • B32B3/14—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a discontinuous layer, i.e. formed of separate pieces of material characterised by a face layer formed of separate pieces of material which are juxtaposed side-by-side
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B33/00—Layered products characterised by particular properties or particular surface features, e.g. particular surface coatings; Layered products designed for particular purposes not covered by another single class
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G—PHYSICS
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    • G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
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    • G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • G09F9/30—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements

Definitions

  • This disclosure relates to a display with a laminate.
  • JP 2020-507128 A describes a light control film having a substrate defining first and second main surfaces, wherein the first main surface includes a plurality of louvers extending in a first direction substantially perpendicular to a normal to the first main surface, and the second main surface includes a plurality of linear microstructures extending in the first direction.
  • a conventional display decoration material is known from JP-A-2022-90637.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 2022-90637 describes a decorative sheet having a design layer and a transparent resin layer laminated with the design layer, in which a light-transmitting portion is provided at an opening of the design layer and unevenness is provided on the surface of the transparent resin layer opposite the design layer, and a display device using the same.
  • the problem that one embodiment of the present disclosure aims to solve is to provide a display with a laminate that has excellent visibility from oblique viewing angles.
  • a display with a laminate comprising: a laminate having a louver structure layer and a decorative layer; and a display on the decorative layer side of the laminate, wherein the louver structure in the louver structure layer is a striped structure, and the stripe direction of the striped structure is oriented approximately parallel to a horizontal axis direction of the display.
  • ⁇ 3> The display with the laminate according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein the width of the louver plate constituting the louver structure is 1 ⁇ m to 50 ⁇ m.
  • ⁇ 4> The display with the laminate according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein the height of the louver plates constituting the louver structure is 10 ⁇ m to 300 ⁇ m.
  • ⁇ 5> The display with the laminate according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein the width of the louver plates constituting the louver structure is 1 ⁇ m to 50 ⁇ m, and the height of the louver structure is 10 ⁇ m to 300 ⁇ m.
  • ⁇ 6> The display with the laminate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, wherein the pitch between the louver plates constituting the louver structure is 20 ⁇ m to 100 ⁇ m.
  • ⁇ 7> The display with the laminate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, wherein the decorative layer is at least one layer selected from the group consisting of a print layer, a cholesteric liquid crystal layer, and a dielectric multilayer film.
  • the decorative layer is at least one layer selected from the group consisting of a print layer, a cholesteric liquid crystal layer, and a dielectric multilayer film.
  • the adhesive layer has a thickness of 10 ⁇ m to 100 ⁇ m.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of a louver structure in a display with a laminate according to the present disclosure.
  • FIG. 2 is a partially enlarged cross-sectional view of the louver structure shown in FIG. 1 taken along line aa.
  • FIG. 3 is a schematic diagram of a pattern used when forming the decorative layer 2.
  • FIG. 4 is a schematic diagram of a pattern used when forming the decorative layer 3.
  • FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing an example of a display with a laminate according to the present disclosure.
  • an "alkyl group” includes not only an alkyl group without a substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group with a substituent (substituted alkyl group).
  • light means actinic rays or radiation.
  • actinic rays or “radiation” refers to, for example, the emission line spectrum of a mercury lamp, far ultraviolet light represented by an excimer laser, extreme ultraviolet light (EUV light: extreme ultraviolet), X-rays, and electron beams (EB).
  • exposure in this disclosure includes not only exposure to the emission line spectrum of a mercury lamp, far ultraviolet light represented by an excimer laser, extreme ultraviolet light, X-rays, EUV light, and the like, but also exposure to particle beams such as electron beams and ion beams.
  • particle beams such as electron beams and ion beams.
  • the word "to” is used to mean that the numerical values before and after it are included as the lower limit and upper limit.
  • (meth)acrylate refers to acrylate and methacrylate
  • (meth)acrylic refers to acrylic and methacrylic
  • the weight average molecular weight (Mw) of the resin component, the number average molecular weight (Mn) of the resin component, and the dispersity (also referred to as molecular weight distribution) (Mw/Mn) of the resin component are defined as polystyrene equivalent values measured using a Gel Permeation Chromatography (GPC) device (HLC-8120GPC manufactured by Tosoh Corporation) (solvent: tetrahydrofuran, flow rate (sample injection amount): 10 ⁇ L, column: TSK gel Multipore HXL-M manufactured by Tosoh Corporation, column temperature: 40° C., flow rate: 1.0 mL/min, detector: differential refractive index detector).
  • GPC Gel Permeation Chromatography
  • the amount of each component in a composition means, when a plurality of substances corresponding to each component are present in the composition, the total amount of the corresponding substances present in the composition, unless otherwise specified.
  • the term “process” includes not only an independent process but also a process that cannot be clearly distinguished from other processes as long as the intended purpose of the process is achieved.
  • total solid content refers to the total mass of the components excluding the solvent from the entire composition of the composition.
  • solid content refers to the components excluding the solvent from the entire composition of the composition, and may be, for example, solid or liquid at 25°C.
  • “mass %" and “weight %” are synonymous, and “parts by mass” and “parts by weight” are synonymous.
  • combinations of two or more preferred aspects are more preferred aspects.
  • the display with a laminate comprises a laminate having a louver structure layer and a decorative layer, and a display on the decorative layer side of the laminate, wherein the louver structure in the louver structure layer is a striped structure, and the stripe direction of the striped structure is arranged approximately parallel to the horizontal axis direction of the display.
  • the use of the display with the laminate according to the present disclosure is not particularly limited, and it can be used, for example, in display devices for electronic devices (e.g., wearable devices and smartphones), home appliances, audio products, computers, in-vehicle products, etc.
  • the display with the laminate according to the present disclosure can be suitably used in display devices for in-vehicle products such as automobiles.
  • the decorative layer in the laminate may be difficult to see due to reflection of external light such as sunlight, especially when viewed from an oblique direction.
  • the inventors have found that the above-mentioned embodiment provides excellent visibility from a viewing angle inclined by 45° toward the horizontal axis of the display with respect to the normal direction of the laminate (hereinafter also referred to as "oblique viewing angle").
  • the display with laminate according to the present disclosure has a louver structure layer, and the louver structure in the louver structure layer is a striped structure, and the stripe direction of the striped structure is arranged approximately parallel to the horizontal axis direction of the display.
  • the display with the laminate according to the present disclosure includes a laminate having a louver structure layer and a decorative layer.
  • the louver structure in the louver structure layer is a striped structure, and the stripe direction of the striped structure is approximately parallel to the horizontal axis direction of the display.
  • the striped structure in the present disclosure is a linear striped structure as shown in Fig. 1.
  • reference numeral 10 denotes a laminate
  • reference numeral 12 denotes a light transmitting portion
  • reference numeral 14 denotes a louver plate.
  • the stripe direction refers to the longitudinal direction of a plurality of louver plates forming a striped structure.
  • substantially parallel to the horizontal axis direction of the display includes not only a state in which it is strictly parallel to the horizontal axis direction of the display, but also a state in which it is shifted from the parallel direction within a range of ⁇ 5° or less, preferably less than ⁇ 4° from the parallel direction, and more preferably less than ⁇ 3° from the parallel direction.
  • the laminate includes a louver structure layer.
  • the louver structure layer in the present disclosure has a louver structure.
  • the louver structure refers to a structure in which a plurality of louver plates are arranged in stripes at desired intervals along the width direction of the louver plate.
  • the louver structure is a structural part that at least reflects or absorbs light, and preferably does not include a light-transmitting part.
  • the width W (see Figure 2) of the louver plates that make up the louver structure is preferably 1 ⁇ m to 50 ⁇ m, more preferably 3 ⁇ m to 30 ⁇ m, even more preferably 4 ⁇ m to 25 ⁇ m, and particularly preferably 5 ⁇ m to 20 ⁇ m, from the standpoints of transparency, visibility from oblique viewing angles, and visibility from the front.
  • the height H (see FIG. 2) of the louver plates constituting the louver structure is, from the viewpoints of visibility from an oblique viewing angle and visibility from the front, preferably 5 ⁇ m to 500 ⁇ m, more preferably 10 ⁇ m to 400 ⁇ m, even more preferably 10 ⁇ m to 300 ⁇ m, particularly preferably 30 ⁇ m to 300 ⁇ m, and most preferably 50 ⁇ m to 200 ⁇ m.
  • the width of the louver plates constituting the louver structure is 1 ⁇ m to 50 ⁇ m and the height of the louver plates constituting the louver structure is 10 ⁇ m to 300 ⁇ m, and it is even more preferable that the width of the louver plates constituting the louver structure is 3 ⁇ m to 30 ⁇ m and the height of the louver plates constituting the louver structure is 10 ⁇ m to 200 ⁇ m.
  • the distance (pitch) P between adjacent louver structures may be on the order of millimeter or micrometer scale, for example, 10 ⁇ m to 200 ⁇ m, or 10 ⁇ m to 100 ⁇ m.
  • the pitch P between adjacent louver plates of the louver structure is preferably 20 ⁇ m to 100 ⁇ m, more preferably 30 ⁇ m to 90 ⁇ m, and particularly preferably 35 ⁇ m to 80 ⁇ m, from the viewpoints of visibility from an oblique viewing angle and visibility of the decoration.
  • the width of the louver plates constituting the louver structure layer is 1 ⁇ m to 50 ⁇ m
  • the height of the louver structure is 10 ⁇ m to 300 ⁇ m
  • the pitch between the louver plates is 20 ⁇ m to 100 ⁇ m.
  • the cross-sectional shape in the width direction of the louver plate constituting the louver structure is not particularly limited, and examples thereof include a square, a rectangle, a trapezoid, a triangle, etc. Among these, a triangle or a rectangle is preferable, and a rectangle is more preferable.
  • the sides forming the cross section may be straight lines, curves, etc.
  • a specific example of the louver structure is a striped structure as shown in FIG.
  • FIG. 2 is a partially enlarged cross-sectional view of the louver structure shown in FIG. 1 taken along line aa.
  • W represents the width of the louver board 14 in the in-plane direction of the base material 16 (the length of the short side of the louver board 14 in the in-plane direction of the base material 16)
  • H represents the height of the louver board 14 in the thickness direction of the base material 16
  • P represents the spacing (pitch) between the louver boards 14.
  • the aspect ratio of the louver board 14 represents the value of the height H of the louver board 14 divided by the width W of the louver board 14 .
  • the aspect ratio defined as the ratio of the height to the width of the base of the louver plate that constitutes the louver structure, is preferably 0.5 to 100, more preferably 1 to 80, even more preferably 2 to 50, and particularly preferably 5 to 20, from the standpoint of visibility from oblique viewing angles and visibility from the front.
  • the density of the louver boards in the louver structure is preferably 1% to 30% of the louver structure layer, more preferably 2% to 20%, even more preferably 3% to 18%, and particularly preferably 5% to 15%.
  • density refers to the ratio of the total area of the bottom surfaces of the louver boards that make up the louver structure to the area of the louver structure layer.
  • the thermal conductivity of the louver structure in the in-plane direction is preferably 3 W/mK or more, while the thermal conductivity (Kp) of the louver structure in the in-plane direction on the axis parallel to the stripe direction is preferably 10 W/mK or more, more preferably 20 W/mK or more, even more preferably 30 W/mK or more, and particularly preferably 50 W/mK or more.
  • the thermal conductivity (Kp) of the louver structure in the axis parallel to the stripe direction can be maintained at a high level. Note that no particular upper limit is set, but from the viewpoint of improving the temperature uniformity in the plane, it is preferable that it be 200 W/mK or less.
  • the material of the louver structure is not particularly limited, but is preferably an inorganic oxide or a metal material, and more preferably a metal material.
  • the metal material preferably contains at least one selected from the group consisting of Ni, Zr, Cu, Ag, Pd, Pt, and Au, more preferably contains Cu or Ag, and particularly preferably contains Cu.
  • the thermal conductivity (Kv) in the in-plane direction in the width direction perpendicular to the stripe direction of the louver structure is preferably 0.2 W/mK or more, more preferably 0.5 W/mK or more, even more preferably 1 W/mK or more, and particularly preferably 2 W/mK or more.
  • the thermal conductivity (Kv) in the axis perpendicular to the long side direction of the louver structure can be maintained high. Note that no particular upper limit is set, but from the viewpoint of improving the temperature uniformity in the plane, it is preferable that it be 50 W/mK or less.
  • the "width direction perpendicular to the stripe direction" of the louver structure does not only mean a state in which it is strictly perpendicular to the stripe direction of the louver structure, but also includes a state in which it is shifted within a range of ⁇ 5° or less, and is preferably less than ⁇ 4°, and is preferably less than ⁇ 3°.
  • the surface of the above-mentioned louver structure is black, and it is more preferable that the surfaces other than the surface on the display side are black.
  • the method for blackening the surface of the louver structure is not particularly limited, and any known metal blackening treatment method can be used, such as oxidation, nitriding, sulfurization, selenization, tellurization, halogenation or alloying of the metal surface, or roughening of the metal surface. Among them, a method of blackening a metal surface by oxidation, nitriding or sulfurization is preferred.
  • the surface of the louver structure contains a compound selected from the group consisting of metal oxides, metal nitrides, and metal sulfides. Also included are methods in which the surface of the louver structure is alloyed or roughened and blackened.
  • the thickness of the blackening treatment is preferably 1 nm to 3,000 nm from the surface of the louver structure, more preferably 2 nm to 1,500 nm, even more preferably 5 nm to 1,000 nm, and particularly preferably 10 nm to 500 nm.
  • the thickness of the louver plate (preferably the metal portion) constituting the above louver structure that is not blackened is preferably 0.5 ⁇ m to 50.0 ⁇ m, more preferably 1.0 ⁇ m to 30.0 ⁇ m, and even more preferably 3.0 ⁇ m to 10.0 ⁇ m.
  • louver structure and the light-transmitting portion described below may be present on the entire surface of the louver structure, or may be present only on a portion of the surface.
  • the peripheral portion in the surface direction of the laminate may be the light-shielding portion.
  • the louver structure layer has light transmitting portions between the louver plates that form the louver structure.
  • the light-transmitting portion refers to a portion through which visible light passes, and preferably has a transmittance of 50% or more for light with a wavelength of 400 nm to 700 nm.
  • the light-transmitting portion may be a portion on at least one surface of the decorative layer where nothing is provided, or a portion where the space between the louver plates is filled with a binder; however, from the viewpoint of heat dissipation, it is preferable that the portion is a portion on at least one surface of the decorative layer where nothing is provided, i.e., an air portion on which no light-absorbing portion is provided.
  • an example of the air portion is a portion between each of the louver plates 14 where no louver plate 14 is provided, as shown as the light transmitting portion 12 in FIG.
  • binder used in the light-transmitting portion there are no particular limitations on the binder used in the light-transmitting portion, but examples of the binder that can be used include general-purpose resins such as elastomer resins, polystyrene resins, polyolefin resins, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymers (ABS resins), and acrylonitrile-styrene copolymers (AS resins).
  • general-purpose resins such as elastomer resins, polystyrene resins, polyolefin resins, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymers (ABS resins), and acrylonitrile-styrene copolymers (AS resins).
  • polystyrene resins such as polyphenylene oxide-polystyrene resins, polycarbonate resins, polyacetal resins, acrylic resins, polycarbonate-modified polyphenylene ether resins, polybutylene terephthalate resins, and ultra-high molecular weight polyethylene resins
  • super engineering resins such as polysulfone resins, polyphenylene sulfide resins, polyphenylene oxide resins, polyarylate resins, polyetherimide resins, polyimide resins, liquid crystal polyester resins, and polyallyl heat-resistant resins.
  • the light-transmitting portion may be cured by light such as ultraviolet light.
  • a preferred example is a cured photocurable resin composition containing a reactive diluent monomer (M1) and a photopolymerization initiator (S1)
  • a more preferred example is a cured photocurable resin composition containing a photocurable prepolymer (P1), a reactive diluent monomer (M1), and a photopolymerization initiator (S1).
  • Examples of the photocurable prepolymer (P1) include epoxy acrylate, urethane acrylate, polyether acrylate, polyester acrylate, and polythiol prepolymers.
  • Examples of the reactive diluent monomer (M1) include vinylpyrrolidone, 2-ethylhexyl acrylate, ⁇ -hydroxyacrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, etc.
  • Examples of the photopolymerization initiator (S1) include hydroxybenzoyl compounds (2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzoin alkyl ether, etc.), benzoyl formate compounds (methyl benzoyl formate, etc.), thioxanthone compounds (isopropyl thioxanthone, etc.), benzophenones (benzophenone, etc.), phosphate compounds (1,3,5-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide, etc.), benzyl dimethyl ketal, etc.
  • the photopolymerization initiator (S1) is preferably contained in an amount of 0.5% by mass or more and 5.0% by mass or less based on the total amount of the photocurable resin composition (100% by mass).
  • photocurable prepolymers (P1), reactive diluent monomers (M1) and photopolymerization initiators (S1) can each be used alone or in combination of two or more.
  • various additives such as silicone additives, rheology control agents, defoamers, mold release agents, antistatic agents, and ultraviolet absorbers can be added to the photocurable resin composition to improve the coating film properties, application suitability, and mold releasability from the mold.
  • the light transmitting portion preferably further contains a thermally conductive filler from the viewpoint of heat dissipation.
  • the thermally conductive filler may be either non-conductive or conductive, but is preferably non-conductive. By using a non-conductive thermally conductive filler, the decrease in insulation tends to be suppressed.
  • non-conductive thermally conductive fillers examples include alumina (aluminum oxide), boron nitride, silicon nitride, silica (silicon oxide), aluminum hydroxide, barium sulfate, and aluminum nitride.
  • conductive thermally conductive fillers include graphite, gold, silver, nickel, and copper.
  • the thermally conductive filler preferably contains at least one selected from the group consisting of graphite, boron nitride, alumina, aluminum nitride, and silica. Among these, from the viewpoint of thermal conductivity and cost, it is more preferable that the thermally conductive filler contains at least one selected from the group consisting of boron nitride and graphite.
  • the thermally conductive filler may be used alone or in combination of two or more kinds.
  • the thermally conductive filler preferably has a volume average particle diameter of 0.001 ⁇ m to 5 ⁇ m, more preferably 0.005 ⁇ m to 0.5 ⁇ m, and particularly preferably 0.010 ⁇ m to 0.3 ⁇ m.
  • the thermally conductive filler is preferably contained in an amount of 10 to 90% by volume, and more preferably 20 to 80% by volume, based on the total amount of the binder added.
  • the method for producing the louver structure there are no particular limitations on the method for producing the louver structure, but it is preferable to use a method such as the subtractive method, the semi-additive method (SAP), the modified semi-additive method (MSAP), or the full-additive method (FAP), and it is more preferable to use the subtractive method.
  • SAP semi-additive method
  • MSAP modified semi-additive method
  • FAP full-additive method
  • a substrate with a conductive layer is used. It is preferable to use an insulating substrate as the substrate with a conductive layer.
  • a conductive layer for example, flexible resins such as polyimide resin, liquid crystal polymer, acrylic resin, polycarbonate resin, fluororesin, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc., rigid materials such as paper phenol, paper epoxy, glass composite, glass epoxy, Teflon (registered trademark), glass substrate, etc., rigid flexible materials that combine hard materials and soft materials, etc. can be used.
  • the thickness of the substrate in the substrate with the conductive layer is not particularly limited, but for example, the lower limit of the average thickness is preferably 5 ⁇ m, and more preferably 12 ⁇ m.
  • the upper limit of the average thickness of the substrate is preferably 2 mm, and more preferably 1.6 mm.
  • the conductive layer can be a copper-clad laminate in which a conductive layer and an insulating substrate are laminated in advance.
  • a conductive layer and an insulating substrate are laminated in advance.
  • Upicel N manufactured by Ube Industries, Ltd.
  • Ube Industries, Ltd. can be used.
  • the conductive pattern can be formed, for example, by the following method. First, a photosensitive resist is formed and coated on the conductive layer of a substrate with a conductive layer (e.g., a resin substrate with a conductive layer). Next, the resist layer is patterned by exposure, development, etc. through a mask that corresponds to the pattern of the louver structure. Next, an electrolytic plating process is performed, and copper is grown in the film thickness direction in the areas where there is no resist. Next, the conductive layer in areas other than the conductive pattern is removed by etching using the resist as a mask. Finally, the remaining resist is removed to form a louver-shaped conductive pattern on the substrate.
  • a photosensitive resist is formed and coated on the conductive layer of a substrate with a conductive layer (e.g., a resin substrate with a conductive layer).
  • the resist layer is patterned by exposure, development, etc. through a mask that corresponds to the pattern of the louver structure.
  • an electrolytic plating process is performed,
  • the louver structure is preferably subjected to a blackening treatment, which refers to the alteration and/or deformation of the metal surface to reduce the metallic luster.
  • a blackening treatment refers to the alteration and/or deformation of the metal surface to reduce the metallic luster.
  • the blackening step at least a portion of the surface of the louver structure is blackened.
  • the blackening method is not particularly limited, but examples thereof include methods of oxidizing, nitriding, sulfiding, chlorinating, alloying, and surface roughening of metals. Among these, a method of blackening the louver structure using a blackening treatment solution is preferred.
  • the surface of the louver structure is preferably blackened by oxidizing, nitriding, sulfiding and/or chlorinating.
  • oxidizing nitriding
  • sulfiding nitriding
  • chlorinating nitriding
  • the surface of the louver structure is preferably blackened by oxidizing, nitriding, sulfiding and/or chlorinating.
  • copper used as the metal
  • silver it is more preferable to blacken it by sulfurizing or chlorinating it, and even more preferable to blacken it by sulfurizing it.
  • the blackening solution used in the present invention is not particularly limited as long as it is capable of blackening, and any known blackening solution may be used. Also, commercially available blackening solutions may be used.
  • a cleaning step or the like may be carried out, if necessary.
  • Blackening due to oxidation is a process in which the metal surface is covered with an oxide film, which reduces the metallic luster.
  • the surface shape changes to needle-like shapes.
  • copper can be oxidized by treating with an aqueous solution of sodium chlorite and sodium hydroxide.
  • Blackening by nitriding is a process in which a nitride film is formed on the metal surface, which reduces the metallic luster.
  • Blackening by sulfurization is a process in which a sulfide film is formed on the metal surface, which reduces the metallic luster.
  • silver, copper, etc. can be sulfurized by treatment with an aqueous sodium sulfide solution.
  • Another example of a gas phase treatment method is a method of sulfurization by treatment with hydrogen sulfide.
  • Blackening by chlorination is a process in which a chlorinated film is formed on the metal surface, which reduces the metallic luster.
  • the blackening step preferably includes a treatment liquid application step of immersing the louver structure in and applying the blackening treatment liquid, a blackening treatment step of blackening the louver structure with the blackening treatment liquid, and a treatment liquid removal step of removing the blackening treatment liquid.
  • the blackening treatment liquid preferably contains an oxidizing agent, a sulfurizing agent, a nitriding agent, or a chlorinating agent.
  • the blackening treatment liquid may be an aqueous treatment liquid or an organic solvent solution, but is preferably an aqueous treatment liquid.
  • the blackening solution may contain other additives.
  • additives include oxidation, sulfurization, nitridation or chlorination aids, viscosity modifiers, surfactants, pH adjusters, and the like.
  • examples of the viscosity adjuster include polymer compounds and polyhydric alcohols.
  • preferred examples of the viscosity adjuster include water-soluble polymers and/or polyhydric alcohols.
  • the blackening treatment liquid more preferably contains at least a polyhydric alcohol and/or a polymer.
  • water-soluble polymers include soybean polysaccharides, modified starch, gum arabic, dextrin, cellulose derivatives (e.g., carboxymethyl cellulose, carboxyethyl cellulose, methyl cellulose, etc.) and modified forms thereof, pullulan, polyvinyl alcohol and derivatives thereof, polyvinylpyrrolidone, polyacrylamide and acrylamide copolymers, vinyl methyl ether/maleic anhydride copolymers, vinyl acetate/maleic anhydride copolymers, styrene/maleic anhydride copolymers, etc.
  • polyvinyl alcohol is preferred.
  • Suitable polyhydric alcohols include ethylene glycol, propylene glycol, triethylene glycol, butylene glycol, hexylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, diglycerin, etc.
  • glycerin is particularly preferred.
  • the viscosity modifier may be used alone or in combination of two or more kinds.
  • the content of the viscosity modifier is preferably 0.001% by mass to 10% by mass, and more preferably 0.01% by mass to 5% by mass, based on the total mass of the blackening treatment liquid.
  • the blackening solution may contain a surfactant from the viewpoint of improving the coating properties.
  • Preferred examples of the surfactant include fluorine-based surfactants and silicone-based surfactants.
  • the surfactant may be used alone or in combination of two or more kinds.
  • the content of the surfactant is preferably 0.001% by mass to 10% by mass, and more preferably 0.01% by mass to 2% by mass, based on the total mass of the blackening treatment liquid.
  • the laminate includes a decorative layer. Suitable examples of the decorative layer include a reflective layer or a printed layer, which will be described later.
  • the reflective layer may be a liquid crystal layer, a dielectric multilayer film, or the like.
  • the liquid crystal layer is preferably a cholesteric liquid crystal layer.
  • the dielectric multilayer film includes an organic multilayer film and an inorganic multilayer film. Among these, from the viewpoint of design, it is preferable that the layer be at least one layer selected from the group consisting of a print layer, a cholesteric liquid crystal layer, and a dielectric multilayer film, and it is more preferable that the layer be a cholesteric liquid crystal layer.
  • the printed layer is a layer on which an image pattern is printed, and is a layer formed by a known printing method.
  • the printing method include inkjet printing, screen printing, offset printing, and gravure printing.
  • As an example of a method for forming the printed layer printing can be performed using a UV inkjet printer, such as Acuity (registered trademark) 1600 manufactured by Fujifilm Corporation.
  • the thickness of the printed layer is not particularly limited, but is preferably 0.1 ⁇ m to 50 ⁇ m.
  • the printed layer is preferably a printed layer having a light transmitting portion that transmits light in the thickness direction.
  • the light transmitting portion preferably has a transmittance of 80% for light having a wavelength in the range of 380 nm to 780 nm in the thickness direction of the printed layer, more preferably 85% or more, and particularly preferably 90% or more.
  • the reflective layer is preferably a layer that selectively reflects at least a portion of light in the wavelength range of 380 nm to 780 nm.
  • the reflective layer are not particularly limited, and suitable examples include an organic multilayer film layer, an inorganic multilayer film layer, a cholesteric liquid crystal layer, etc. Among these, an inorganic multilayer film layer or a cholesteric liquid crystal layer is more preferable, and a cholesteric liquid crystal layer is particularly preferable.
  • the half-width of the peak showing the maximum integral reflectance in the reflective layer may be expanded to a preferred range.
  • Examples of a method for expanding the half-width of the peak showing the maximum integral reflectance in the reflective layer to a preferred range include a method of laminating a plurality of reflective films having different helical pitches of the cholesteric liquid crystal structure by varying the number and film thickness of cholesteric liquid crystal compound layers as the reflective layer, and a method of forming a reflective layer in which the helical pitch of the cholesteric liquid crystal structure changes in the layer thickness direction of the reflective layer, preferably changes in a gradational manner.
  • a method of laminating multiple reflective films having different numbers and film thicknesses of cholesteric liquid crystal compound layers to form a reflective layer and a method of forming a reflective layer in which the helical pitch of the cholesteric liquid crystal structure changes in the thickness direction of the reflective layer, preferably in a gradational manner
  • a method of forming a reflective layer in which the helical pitch of the cholesteric liquid crystal structure changes in the thickness direction of the reflective layer preferably in a gradational manner.
  • the reflective layer preferably contains a cholesteric liquid crystal compound. Furthermore, from the viewpoints of visibility of the display, visibility of the decoration, and suppression of color change due to viewing angle, it is particularly preferable that the reflective layer has a portion in which the helical pitch of the cholesteric liquid crystal structure changes in the thickness direction.
  • Preferred means for changing the helical pitch of the cholesteric liquid crystal structure, preferably for causing a gradation change include a means for preventing diffusion of the photosensitive chiral agent by exposure at a low temperature, and a means for controlling the activation of the photopolymerization initiator to appropriately maintain the time for which the cholesteric liquid crystal compound is oriented in a gradational manner.
  • Organic multilayer film is a layer having a structure in which a resin layer having a high refractive index (layer A) and a resin layer having a low refractive index (layer B) are laminated together.
  • the layer B is preferably a layer having a refractive index lower than the layer A by 0.1 or more, more preferably a layer having a refractive index lower by 0.15 or more, even more preferably a layer having a refractive index lower by 0.2 or more, particularly preferably a layer having a refractive index lower by 0.25 or more, and most preferably a layer having a refractive index lower by 0.25 or more and 0.60 or less.
  • the refractive index of the layer A is preferably 1.5 or more, more preferably 1.6 or more, even more preferably 1.65 or more, and particularly preferably 1.70 or more.
  • the upper limit is preferably 2.3 or less, more preferably 1.9 or less.
  • the refractive index of the layer B is preferably 1.5 or less, more preferably less than 1.5, even more preferably 1.4 or less, particularly preferably 1.35 or less, and most preferably 1.32 or less.
  • the lower limit is preferably 1.1 or more, more preferably 1.2 or more, and particularly preferably 1.28 or more.
  • the resin used in each layer such as Layer A and Layer B is not particularly limited, but examples thereof include acrylic resin, polycarbonate resin, polyester resin, polyolefin resin, epoxy resin, urethane resin, silicone resin, and the like.
  • the number of layers in the organic multilayer film is not particularly limited as long as it is 2 or more, but is preferably 2 to 20 layers, more preferably 4 to 16 layers, and further preferably 6 to 14 layers.
  • the thickness of Layer A and Layer B is preferably 50 nm to 1,000 nm, more preferably 80 nm to 800 nm, even more preferably 100 nm to 500 nm, and particularly preferably 100 nm to 300 nm, from the viewpoints of visibility of pale color tones and suppression of color change due to viewing angle.
  • a suitable example of the inorganic multilayer film is a layer having a structure in which two types of inorganic compounds are alternately laminated. From the viewpoints of visibility of pale color tones and suppression of color change due to the viewing angle, it is preferable that the two types of inorganic compounds are compounds having different refractive indices.
  • inorganic compounds include silicon dioxide, aluminum oxide, gallium oxide, tungsten oxide, magnesium oxide, barium fluoride, calcium fluoride, cerium fluoride, lanthanum fluoride, lithium fluoride, sodium fluoride, magnesium fluoride, neodymium fluoride, ytterbium fluoride, yttrium fluoride, gadolinium fluoride, calcium carbonate, potassium bromide, titanium monoxide, titanium dioxide, niobium pentoxide, chromium oxide, cerium oxide, silicon, and gallium arsenide.
  • niobium pentoxide Nb 2 O 5
  • TiO 2 titanium dioxide
  • SiO 2 silicon dioxide
  • Al 2 O 3 aluminum oxide
  • niobium pentoxide and silicon dioxide is particularly preferred.
  • the number of layers in the inorganic multilayer film is not particularly limited as long as it is 2 or more, but is preferably 2 to 20 layers, more preferably 4 to 16 layers, and further preferably 6 to 14 layers.
  • the thickness of each layer in the inorganic multilayer film is preferably 50 nm to 1,000 nm, more preferably 80 nm to 800 nm, even more preferably 100 nm to 500 nm, and particularly preferably 100 nm to 300 nm, from the viewpoints of visibility of pale color tones and suppression of color change due to viewing angle.
  • the reflective layer is preferably a cholesteric liquid crystal layer.
  • the cholesteric liquid crystal layer is a layer containing a cholesteric liquid crystal phase.
  • the cholesteric liquid crystal phase can be confirmed by known means (e.g., a polarizing microscope and a scanning electron microscope).
  • Cholesteric liquid crystal phases are known to be formed by arranging multiple liquid crystal compounds in a spiral shape.
  • the orientation state of the liquid crystal compounds in the cholesteric liquid crystal phase may be an orientation state that reflects right-handed circularly polarized light, left-handed circularly polarized light, or both right-handed and left-handed circularly polarized light.
  • the orientation state of the liquid crystal compounds in the cholesteric liquid crystal phase may be fixed.
  • the orientation state of the liquid crystal compounds is fixed, for example, by polymerization or crosslinking of the liquid crystal compounds.
  • the liquid crystallinity of the liquid crystal compounds may be lost in some or all of the liquid crystal compounds whose orientation state is fixed.
  • the cholesteric liquid crystal layer contributes to the design of the decorative layer.
  • the color of the decorative layer and the degree of color change of the decorative layer depending on the observation angle are adjusted by the helical pitch in the cholesteric liquid crystal phase, the refractive index of the cholesteric liquid crystal layer, and the thickness of the cholesteric liquid crystal layer.
  • the helical pitch may be adjusted by the amount of chiral agent added. The relationship between the helical structure and the chiral agent is described, for example, in "Fujifilm Research Report, No. 50 (2005), pp. 60-63.”
  • the helical pitch may also be adjusted by conditions such as temperature, illuminance, and exposure time when fixing the cholesteric liquid crystal phase.
  • the decorative layer may include two or more cholesteric liquid crystal layers, and the compositions of the two or more cholesteric liquid crystal layers may be the same or different from each other.
  • the thickness of the cholesteric liquid crystal layer is preferably 0.3 ⁇ m to 15 ⁇ m, more preferably 0.5 ⁇ m to 9 ⁇ m, and even more preferably 0.6 ⁇ m to 7 ⁇ m.
  • the decorative layer includes two or more cholesteric liquid crystal layers, it is preferable that the thicknesses of the two or more cholesteric liquid crystal layers are each independently within the ranges described above.
  • the components of the cholesteric liquid crystal layer are selected from known cholesteric liquid crystal layer components, for example, depending on the desired properties of the cholesteric liquid crystal layer.
  • Examples of the components of the cholesteric liquid crystal layer include the components of the liquid crystal composition described below.
  • some or all of the polymerizable compounds in the liquid crystal composition may form a polymer (including an oligomer) in the cholesteric liquid crystal layer.
  • Examples of the polymerizable compounds include compounds having a polymerizable group.
  • the cholesteric liquid crystal layer is preferably a layer formed by curing a composition containing a liquid crystal compound (hereinafter, sometimes referred to as a "liquid crystal composition"). The following is a detailed description of the liquid crystal composition.
  • the liquid crystal composition includes a liquid crystal compound.
  • the type of liquid crystal compound may be selected from known compounds having cholesteric liquid crystal properties (i.e., cholesteric liquid crystal compounds) depending on the characteristics of the desired cholesteric liquid crystal layer.
  • Examples of liquid crystal compounds include liquid crystal compounds having at least one type selected from the group consisting of ethylenically unsaturated groups and cyclic ether groups. From the viewpoint of improving moldability, it is preferable that the liquid crystal compound includes a cholesteric liquid crystal compound having one ethylenically unsaturated group or one cyclic ether group (hereinafter, sometimes referred to as a "specific liquid crystal compound").
  • the ethylenically unsaturated group in the specific liquid crystal compound examples include a (meth)acryloyloxy group, a (meth)acrylamide group, a vinyl group, a vinyl ester group, and a vinyl ether group.
  • the ethylenically unsaturated group is preferably a (meth)acryloyloxy group, a (meth)acrylamide group, or a vinyl group, more preferably a (meth)acryloyloxy group or a (meth)acrylamide group, even more preferably a (meth)acryloyloxy group, and particularly preferably an acryloyloxy group.
  • the cyclic ether group in the specific liquid crystal compound examples include an epoxy group and an oxetanyl group. From the viewpoint of reactivity, the cyclic ether group is preferably an epoxy group or an oxetanyl group, and more preferably an oxetanyl group.
  • the liquid crystal compound contains a liquid crystal compound having one ethylenically unsaturated group. Furthermore, it is preferable that the ratio of the total amount of the liquid crystal compound having one ethylenically unsaturated group to the total amount of solids in the liquid crystal composition is 25 mass% or more.
  • the specific liquid crystal compound may have a functional group other than the ethylenically unsaturated group (e.g., a polymerizable group).
  • a liquid crystal compound having one ethylenically unsaturated group may have one or more cyclic ether groups.
  • the specific liquid crystal compound may have a functional group other than the cyclic ether group (e.g., a polymerizable group).
  • a liquid crystal compound having one cyclic ether group may have one or more ethylenically unsaturated groups.
  • the liquid crystal compound preferably includes a liquid crystal compound having one ethylenically unsaturated group and no cyclic ether group, a liquid crystal compound having one cyclic ether group and no ethylenically unsaturated group, or a liquid crystal compound having one ethylenically unsaturated group and one cyclic ether group. Furthermore, the liquid crystal compound preferably includes a liquid crystal compound having one ethylenically unsaturated group and no cyclic ether group.
  • the specific liquid crystal compound may be a rod-shaped liquid crystal compound or a discotic liquid crystal compound. From the viewpoint of ease of adjusting the helical pitch in the cholesteric liquid crystal phase, rod-shaped liquid crystal compounds are preferred.
  • Preferred rod-shaped liquid crystal compounds include, for example, azomethine compounds, azoxy compounds, cyanobiphenyl compounds, cyanophenyl esters, benzoic acid esters, cyclohexanecarboxylic acid phenyl esters, cyanophenylcyclohexane compounds, cyano-substituted phenylpyrimidine compounds, alkoxy-substituted phenylpyrimidine compounds, phenyldioxane compounds, tolane compounds, and alkenylcyclohexylbenzonitrile compounds.
  • the rod-shaped liquid crystal compounds are not limited to low molecular weight compounds, and may be polymeric compounds.
  • Rod-shaped liquid crystal compounds are described, for example, in "Makromol. Chem., Vol. 190, p. 2255 (1989)", “Advanced Materials, Vol. 5, p. 107 (1993)", U.S. Pat. Nos. 4,683,327, 5,622,648, and 5,770,107, International Publication Nos. 95/22586, 95/24455, and 95/246,456, and in U.S. Pat.
  • the compound may be selected from compounds having one ethylenically unsaturated group and one cyclic ether group described in Japanese Patent Publication Nos.
  • a preferred rod-shaped liquid crystal compound may be selected from compounds having one ethylenically unsaturated group and one cyclic ether group described in Japanese Patent Publication Nos. 11-513019 and 2007-279688.
  • Preferred discotic liquid crystal compounds may be selected from compounds having one ethylenically unsaturated group and compounds having one cyclic ether group, for example, as described in JP-A-2007-108732 and JP-A-2010-244038.
  • the liquid crystal composition may contain one or more cholesteric liquid crystal compounds.
  • the ratio of the total amount of the specific liquid crystal compound to the total amount of solids in the liquid crystal composition is preferably 25% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, and even more preferably 40% by mass or more. Furthermore, the ratio of the total amount of the specific liquid crystal compound to the total amount of solids in the liquid crystal composition is preferably 60% by mass to 99% by mass, and more preferably 80% by mass to 98% by mass.
  • the liquid crystal composition may contain other liquid crystal compounds.
  • Other liquid crystal compounds refer to liquid crystal compounds other than the specific liquid crystal compound. Examples of other liquid crystal compounds include liquid crystal compounds that have no ethylenically unsaturated groups and no cyclic ether groups, liquid crystal compounds that have two or more ethylenically unsaturated groups and no cyclic ether groups, liquid crystal compounds that have two or more cyclic ether groups and no ethylenically unsaturated groups, and liquid crystal compounds that have two or more ethylenically unsaturated groups and two or more cyclic ether groups.
  • the other liquid crystal compound is preferably at least one selected from the group consisting of liquid crystal compounds having no ethylenically unsaturated group and no cyclic ether group, liquid crystal compounds having two or more ethylenically unsaturated groups and no cyclic ether group, and liquid crystal compounds having two or more cyclic ether groups and no ethylenically unsaturated group.
  • the other liquid crystal compound is preferably at least one selected from the group consisting of liquid crystal compounds having no ethylenically unsaturated group and no cyclic ether group, liquid crystal compounds having two ethylenically unsaturated groups and no cyclic ether group, and liquid crystal compounds having two cyclic ether groups and
  • the other liquid crystal compound is more preferably at least one selected from the group consisting of liquid crystal compounds having no ethylenically unsaturated group and no cyclic ether group, and liquid crystal compounds having two ethylenically unsaturated groups and no cyclic ether group.
  • liquid crystal compounds having rod-like structures are described in, for example, "Makromol. Chem., vol. 190, p. 2255 (1989)" and "Advanced Materials 5, p. 107 (1993) ", U.S. Pat. No. 4,683,327, U.S. Pat. No. 5,622,648, U.S. Pat. No. 5,770,107, WO 95/22586, WO 95/24455, WO 97/00600, WO 98/23580, WO 98/52905, JP-A-1-272551, JP-A-6-16616, JP-A-7-110469, JP-A-11-80081 and JP-A-2001-328973 may be selected from the compounds described in.
  • Other liquid crystal compounds may be selected from the compounds described in, for example, JP-T-11-513019 and JP-A-2007-279688.
  • Preferred discotic liquid crystal compounds among the other liquid crystal compounds may be selected from the compounds described in, for example, JP 2007-108732 A or JP 2010-244038 A.
  • the liquid crystal composition may contain one or more other liquid crystal compounds.
  • the ratio of the total amount of other liquid crystal compounds to the total amount of solids in the liquid crystal composition is preferably 70% by mass or less, more preferably 50% by mass or less, even more preferably 30% by mass or less, and particularly preferably 20% by mass or less.
  • the lower limit of the above ratio is 0% by mass.
  • the liquid crystal composition may contain one or more liquid crystal compounds.
  • the liquid crystal composition may contain a specific liquid compound and other liquid crystal compounds.
  • the ratio of the total amount of liquid crystal compounds to the total amount of solids in the liquid crystal composition is preferably 25% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, and even more preferably 40% by mass or more. Furthermore, the ratio of the total amount of liquid crystal compounds to the total amount of solids in the liquid crystal composition is preferably 60% by mass to 99% by mass, and more preferably 80% by mass to 98% by mass.
  • the liquid crystal composition preferably contains a chiral agent (that is, an optically active compound).
  • the type of chiral agent may be determined, for example, according to the type of liquid crystal compound and the desired helical structure (for example, the twisting method and helical pitch of the helix).
  • Examples of chiral agents include known compounds (for example, compounds described in Liquid Crystal Device Handbook, Chapter 3, Section 4-3, Chiral Agents for TN (twisted nematic) and STN (Super-twisted nematic), p. 199, edited by Committee 142 of the Japan Society for the Promotion of Science, 1989), isosorbide derivatives, and isomannide derivatives.
  • Chiral agents generally contain an asymmetric carbon atom.
  • axially asymmetric compounds and planarly asymmetric compounds that do not contain an asymmetric carbon atom can be used as chiral agents.
  • Preferred examples of axially asymmetric compounds and planarly asymmetric compounds include binaphthyl compounds, helicene compounds, and paracyclophane compounds.
  • the liquid crystal composition may contain a chiral agent having a polymerizable group.
  • the polymerizable group is preferably an ethylenically unsaturated group or a cyclic ether group, and more preferably an ethylenically unsaturated group.
  • the preferred embodiment of the ethylenically unsaturated group in the chiral agent is the same as the preferred embodiment of the ethylenically unsaturated group in the specific liquid crystal compound described above.
  • the preferred embodiment of the cyclic ether group in the chiral agent is the same as the preferred embodiment of the cyclic ether group in the specific liquid crystal compound described above.
  • the chiral agent has a polymerizable group
  • the type of polymerizable group in the chiral agent is the same as the type of polymerizable group in the specific liquid crystal compound.
  • the polymerizable group in the chiral agent is the same as the polymerizable group in the specific liquid crystal compound.
  • the chiral agent having a polymerizable group preferably includes a chiral agent having one ethylenically unsaturated group and no cyclic ether group, a chiral agent having one cyclic ether group and no ethylenically unsaturated group, or a chiral agent having one ethylenically unsaturated group and one cyclic ether group. Furthermore, the chiral agent having a polymerizable group preferably includes a chiral agent having one ethylenically unsaturated group and no cyclic ether group.
  • the chiral agent may be a liquid crystal compound.
  • the cholesteric liquid crystal layer or the reflective layer preferably contains a photosensitive chiral agent.
  • a photosensitive chiral agent whose helical twisting power changes upon irradiation with light.
  • the helical twist power (HTP) of a chiral agent is a factor indicating the helical orientation ability represented by the following formula (A).
  • HTP 1/(helical pitch length (unit: ⁇ m) ⁇ concentration of chiral agent relative to liquid crystal compound (mass %)) [ ⁇ m ⁇ 1 ]
  • the photosensitive chiral agent whose helical induction power changes upon irradiation with light, may be liquid crystalline or non-liquid crystalline.
  • Photosensitive chiral agents generally contain an asymmetric carbon atom.
  • photosensitive chiral agents may be axially asymmetric compounds or planarly asymmetric compounds that do not contain an asymmetric carbon atom.
  • the photosensitive chiral agent may be a chiral agent whose helical twisting power increases or decreases upon irradiation with light. Of these, a chiral agent whose helical twisting power decreases upon irradiation with light is preferred.
  • increase and decrease in helical induction power refers to an increase or decrease when the initial helical direction (before light irradiation) of the photosensitive chiral agent is taken as “positive.” Therefore, even when the helical induction power continues to decrease due to light irradiation and exceeds 0, causing the helical direction to become "negative” (i.e., when a helical direction opposite to the initial helical direction (before light irradiation) is induced), this also corresponds to "a chiral agent whose helical induction power decreases.”
  • the photosensitive chiral agent examples include so-called photoreactive chiral agents.
  • the photoreactive chiral agent is a compound that has a chiral moiety and a photoreactive moiety that undergoes a structural change upon irradiation with light, and that significantly changes the twisting power of a liquid crystal compound depending on the amount of irradiation, for example.
  • Examples of photoreactive sites that undergo a structural change upon irradiation with light include photochromic compounds (Kingo Uchida, Masahiro Irie, Chemical Industry, vol. 64, 640p, 1999; Kingo Uchida, Masahiro Irie, Fine Chemical, vol. 28(9), 15p, 1999).
  • the structural change refers to decomposition, addition reaction, isomerization, racemization, [2+2] photocyclization, dimerization, and the like that occur upon irradiation of the photoreactive site with light, and the structural change may be irreversible.
  • Examples of chiral sites include the asymmetric carbons described in Hiroyuki Nodaira, Chemistry Review, No. 22 Chemistry of Liquid Crystals, 73p: 1994.
  • photosensitive chiral agents include the photoreactive chiral agents described in paragraphs 0044 to 0047 of JP-A-2001-159709, the optically active compounds described in paragraphs 0019 to 0043 of JP-A-2002-179669, the optically active compounds described in paragraphs 0020 to 0044 of JP-A-2002-179633, the optically active compounds described in paragraphs 0016 to 0040 of JP-A-2002-179670, the optically active compounds described in paragraphs 0017 to 0050 of JP-A-2002-179668, the optically active compounds described in paragraph 001 of JP-A-2002-180051, 8 to 0044, optically active compounds described in paragraphs 0016 to 0055 of JP-A-2002-338575, optically active isosorbide derivatives described in paragraphs 0023 to 0032 of JP-A-2002-080478, photoreactive optically active compounds described in paragraphs 0019 to 0029 of JP-
  • the photoisomerization site has a photoisomerizable double bond.
  • a cinnamoyl site, a chalcone site, an azobenzene site, or a stilbene site is preferred in that photoisomerization is likely to occur and there is a large difference in helical induction force before and after light irradiation, and a cinnamoyl site, a chalcone site, or a stilbene site is even more preferred in that there is little visible light absorption.
  • the photoisomerization site corresponds to the photoreactive site that undergoes a structural change upon light irradiation described above.
  • the photosensitive chiral agent preferably has a trans-type photoisomerizable double bond, in that it has a high initial helical twisting power (before light irradiation) and a larger change in the helical twisting power due to light irradiation.
  • the photosensitive chiral agent preferably has a cis-type photoisomerizable double bond, in that the initial helical twisting power (before light irradiation) is low and the amount of change in the helical twisting power due to light irradiation is superior.
  • the photosensitive chiral agent preferably has any partial structure selected from the group consisting of a binaphthyl partial structure, an isosorbide partial structure (a partial structure derived from isosorbide), and an isomannide partial structure (a partial structure derived from isomannide).
  • the binaphthyl partial structure, the isosorbide partial structure, and the isomannide partial structure each refer to the following structures.
  • the portion where the solid line and the dashed line are parallel represents a single bond or a double bond.
  • * represents the bond position.
  • the photosensitive chiral agent may have a polymerizable group.
  • the type of polymerizable group is not particularly limited, and a functional group capable of an addition polymerization reaction is preferred, a polymerizable ethylenically unsaturated group or a ring-polymerizable group is more preferred, and a (meth)acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, or an allyl group is even more preferred.
  • the photosensitive chiral agent is preferably a compound represented by formula (C).
  • Formula (C) R-L-R Each R independently represents a group having at least one moiety selected from the group consisting of a cinnamoyl moiety, a chalcone moiety, an azobenzene moiety, and a stilbene moiety.
  • L represents a divalent linking group formed by removing two hydrogen atoms from the structure represented by formula (D) (a divalent linking group formed by removing two hydrogen atoms from the binaphthyl partial structure), a divalent linking group represented by formula (E) (a divalent linking group consisting of the isosorbide partial structure), or a divalent linking group represented by formula (F) (a divalent linking group consisting of the isomannide partial structure).
  • * represents a bonding position.
  • the reflective layer may be formed using one type of photosensitive chiral agent alone or two or more types.
  • the molar absorption coefficient of the photosensitive chiral agent is not particularly limited, but the molar absorption coefficient at the wavelength of the light irradiated in the twist change process described below (e.g., 365 nm) is preferably 100 L/(mol ⁇ cm) to 100,000 L/(mol ⁇ cm), and more preferably 500 L/(mol ⁇ cm) to 50,000 L/(mol ⁇ cm).
  • the cholesteric liquid crystal layer may contain a polymerizable chiral agent as a chiral agent from the viewpoint of more easily fixing the helical structure of the cholesteric liquid crystal compound.
  • the polymerizable chiral agent means a chiral agent having a polymerizable group.
  • the polymerizable chiral agent referred to here is one whose helical twisting power does not change upon irradiation with light, and is distinguished from a photosensitive chiral agent.
  • Examples of the polymerizable group possessed by the polymerizable chiral agent include a radically polymerizable group and a cationic polymerizable group.
  • the polymerizable group is preferably an ethylenically unsaturated group, an epoxy group, or an aziridinyl group, and more preferably an ethylenically unsaturated group.
  • the polymerizable chiral agent is preferably a compound containing an asymmetric carbon atom, but may be an axially asymmetric compound or a planarly asymmetric compound that does not contain an asymmetric carbon atom.
  • axially asymmetric compounds or planarly asymmetric compounds include binaphthyl, helicene, paracyclophane, and derivatives thereof.
  • the polymerizable chiral agent preferably contains the same type of polymerizable group as the cholesteric liquid crystal compound has.
  • the polymerizable chiral agent preferably also contains a radical polymerizable group.
  • the cholesteric liquid crystal compound having a polymerizable group and the polymerizable chiral agent are polymerized to form a polymer, and the helical structure of the cholesteric liquid crystal compound can be more easily fixed.
  • the polymerizable chiral agent is preferably an isosorbide derivative, an isomannide derivative, or a binaphthyl derivative.
  • An example of a commercially available isosorbide derivative is "Paliocolor LC756" manufactured by BASF.
  • the polymerizable chiral agent may be used alone or in combination of two or more types.
  • the liquid crystal composition may contain one or more chiral agents.
  • the content of the chiral agent may be determined, for example, according to the structure of the liquid crystal compound and the desired helical pitch. From the viewpoint of ease of forming a cholesteric liquid crystal layer and ease of adjusting the helical pitch, the ratio of the total amount of the chiral agent to the total amount of solids in the liquid crystal composition is preferably 1% by mass to 20% by mass, more preferably 2% by mass to 15% by mass, and even more preferably 3% by mass to 10% by mass.
  • the helical pitch in the cholesteric liquid crystal phase and the selective reflection wavelength of the reflective layer can be easily adjusted not only by the type of liquid crystal compound but also by the content of the chiral agent. For example, if the content of the chiral agent in the liquid crystal composition is doubled, the helical pitch will be halved and the central value of the selective reflection wavelength may also be halved.
  • the liquid crystal composition preferably contains a polymerization initiator.
  • the polymerization initiator promotes the curing reaction of the liquid crystal composition.
  • the liquid crystal composition When the liquid crystal composition is cured by exposure to light, it is preferable that the liquid crystal composition contains a photopolymerization initiator.
  • photopolymerization initiators include photoradical polymerization initiators and photocationic polymerization initiators.
  • photopolymerization initiators include ⁇ -carbonyl compounds (e.g., U.S. Pat. Nos. 2,367,661 and 2,367,670), acyloin ether compounds (e.g., U.S. Pat. No. 2,448,828), ⁇ -hydrocarbon-substituted aromatic acyloin compounds (e.g., U.S. Pat. No. 2,722,512), polynuclear quinone compounds (e.g., U.S. Pat. Nos. 3,046,127 and 2,951,758), combinations of triaryl imidazole dimers and p-aminophenyl ketones (e.g., U.S. Pat. No.
  • Preferred photoradical polymerization initiators include, for example, ⁇ -hydroxyalkylphenone compounds, ⁇ -aminoalkylphenone compounds, and acylphosphine oxide compounds.
  • Preferred photocationic polymerization initiators include, for example, iodonium salt compounds and sulfonium salt compounds.
  • the liquid crystal composition preferably contains a radical polymerization initiator or a cationic polymerization initiator, and more preferably contains a photoradical polymerization initiator or a photocationic polymerization initiator.
  • a liquid crystal composition containing a liquid crystal compound having one ethylenically unsaturated group preferably contains a radical polymerization initiator, and more preferably contains a photoradical polymerization initiator.
  • a liquid crystal composition containing a liquid crystal compound having one cyclic ether group preferably contains a cationic polymerization initiator, and more preferably contains a photocationic polymerization initiator.
  • the liquid crystal composition may contain one or more polymerization initiators.
  • the content of the polymerization initiator may be determined, for example, according to the structure of the specific liquid crystal compound and the desired helical pitch. From the viewpoints of ease of forming a cholesteric liquid crystal layer, ease of adjusting the helical pitch, polymerization rate, and strength of the cholesteric liquid crystal layer, the ratio of the total amount of polymerization initiator to the total amount of solids in the liquid crystal composition is preferably 0.05% by mass to 10% by mass, more preferably 0.05% by mass to 5% by mass or less, even more preferably 0.1% by mass to 2% by mass, and particularly preferably 0.2% by mass to 1% by mass.
  • the liquid crystal composition may contain a crosslinking agent.
  • Preferred crosslinking agents include compounds that are cured by external factors such as ultraviolet light, heat, and moisture.
  • crosslinking agent examples include the compounds shown below.
  • Polyfunctional acrylate compounds e.g., trimethylolpropane tri(meth)acrylate and pentaerythritol tri(meth)acrylate
  • Epoxy compounds e.g., glycidyl (meth)acrylate and ethylene glycol diglycidyl ether
  • Aziridine compounds e.g., 2,2-bishydroxymethylbutanol-tris[3-(1-aziridinyl)propionate] and 4,4-bis(ethyleneiminocarbonylamino)diphenylmethane
  • Isocyanate compounds e.g., hexamethylene diisocyanate and biuret isocyanate
  • Alkoxysilane compounds e.g., vinyltrimethoxysilane and N-(2-aminoethyl)3-aminopropy
  • the liquid crystal composition may contain one or more crosslinking agents.
  • the ratio of the total amount of crosslinking agent to the total amount of solids in the liquid crystal composition is preferably 1% by mass to 20% by mass, and more preferably 3% by mass to 15% by mass.
  • the liquid crystal composition may contain a known catalyst depending on the reactivity of the crosslinking agent.
  • the combined use of a crosslinking agent and a catalyst can improve productivity in addition to improving the strength and durability of the cholesteric liquid crystal layer.
  • the liquid crystal composition may contain a polyfunctional polymerizable compound.
  • a polyfunctional polymerizable compound means a compound having two or more polymerizable groups. It is preferable that the types of the two or more polymerizable groups contained in the polyfunctional polymerizable compound are the same.
  • polyfunctional polymerizable compound examples include liquid crystal compounds having two or more ethylenically unsaturated groups and no cyclic ether groups, liquid crystal compounds having two or more ethylenically unsaturated groups and two or more cyclic ether groups, liquid crystal compounds having two or more ethylenically unsaturated groups and two or more cyclic ether groups, chiral agents having two or more polymerizable groups, and crosslinking agents having two or more polymerizable groups.
  • the polyfunctional polymerizable compound preferably includes at least one selected from the group consisting of liquid crystal compounds having two or more ethylenically unsaturated groups and no cyclic ether groups, liquid crystal compounds having two or more cyclic ether groups and no ethylenically unsaturated groups, and chiral agents having two or more polymerizable groups, and more preferably includes chiral agents having two or more polymerizable groups.
  • the liquid crystal composition may contain one or more polyfunctional polymerizable compounds.
  • the ratio of the total amount of the polyfunctional polymerizable compound to the total amount of the solid content of the liquid crystal composition is preferably 0.5% by mass to 50% by mass, more preferably 1% by mass to 40% by mass, even more preferably 1.5% by mass to 30% by mass, and particularly preferably 2% by mass to 20% by mass.
  • the polyfunctional polymerizable compounds it is preferable that the content of the compound having two or more ethylenically unsaturated groups, the compound having two or more cyclic ether groups, and the compound having one or more ethylenically unsaturated groups and one or more cyclic ether groups is regulated.
  • the ratio of "the total amount of the compound having two or more ethylenically unsaturated groups, the compound having two or more cyclic ether groups, and the compound having one or more ethylenically unsaturated groups and one or more cyclic ether groups" to the total amount of the solid content of the liquid crystal composition is preferably 0.5% by mass to 50% by mass, more preferably 1% by mass to 40% by mass, even more preferably 1.5% by mass to 30% by mass, and particularly preferably 2% by mass to 20% by mass.
  • the liquid crystal composition may contain other additives as necessary.
  • the other additives include surfactants, polymerization inhibitors, antioxidants, horizontal alignment agents, UV absorbers, light stabilizers, colorants, and metal oxide particles.
  • the liquid crystal composition may contain one or more other additives.
  • the liquid crystal composition may contain a solvent.
  • the solvent is preferably an organic solvent.
  • organic solvents include ketones (e.g., methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone), alkyl halides, amides, sulfoxides, heterocyclic compounds, hydrocarbons, esters, and ethers. When the burden on the environment is taken into consideration, ketones are preferred.
  • the liquid crystal composition may contain one or more solvents.
  • the content of the solvent may be determined, for example, according to the coatability of the liquid crystal composition.
  • the ratio of the total amount of solids in the liquid crystal composition to the total amount of the liquid crystal composition is preferably 1% by mass to 90% by mass, more preferably 5% by mass to 80% by mass, and even more preferably 10% by mass to 80% by mass.
  • the ratio of the total amount of the solvent to the total amount of solids in the liquid crystal composition when the liquid crystal composition is cured is preferably 5% by mass or less, more preferably 3% by mass or less, even more preferably 2% by mass or less, and particularly preferably 1% by mass or less.
  • the ratio of the total amount of the solvent in the cholesteric liquid crystal layer to the total amount of the cholesteric liquid crystal layer is preferably 5% by mass or less, more preferably 3% by mass or less, even more preferably 2% by mass or less, and particularly preferably 1% by mass or less.
  • the method for producing the liquid crystal composition is not limited.
  • the liquid crystal composition is produced, for example, by mixing a liquid crystal compound with a component other than the liquid crystal compound.
  • the mixing method may be selected from known mixing methods.
  • the liquid crystal composition is cured, for example, by exposure.
  • the exposure is performed, for example, by irradiating the liquid crystal composition with light.
  • a preferred light source is, for example, a light source capable of irradiating at least one type of light selected from the group consisting of 365 nm and 405 nm.
  • a specific light source is, for example, a discharge lamp such as an ultra-high pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, or a metal halide lamp.
  • the exposure dose is preferably 5 mJ/cm 2 to 2,000 mJ/cm 2 , and more preferably 10 mJ/cm 2 to 1,000 mJ/cm 2.
  • the method described in paragraphs 0035 to 0051 of JP-A-2006-23696 may be applied.
  • the heating temperature is determined, for example, according to the composition of the liquid crystal composition.
  • the heating temperature is, for example, 60°C to 120°C.
  • Examples of heating means include a heater, an oven, a hot plate, an infrared lamp, and an infrared laser.
  • the liquid crystal composition may be cured, for example, by heating.
  • the heating temperature is preferably 60°C to 200°C.
  • the heating time is preferably 5 minutes to 2 hours. Examples of the heating means include the heating means already described.
  • the liquid crystal composition may be dried by a known method before curing.
  • the liquid crystal composition may be dried by leaving it or air drying.
  • the liquid crystal composition may be dried by heating.
  • the thickness of the reflective layer is not particularly limited, but from the viewpoint of obtaining a more appropriate reflectance, it is preferably 0.1 ⁇ m to 10 ⁇ m, more preferably 0.3 ⁇ m to 8 ⁇ m, and even more preferably 0.5 ⁇ m to 6 ⁇ m.
  • the method for forming the reflective layer is not particularly limited, and may be a known method or may be prepared by applying a known method.
  • the preferred example includes a step of preparing a liquid crystal material having a substrate, a liquid crystal compound oriented in a cholesteric helical shape, and a liquid crystal layer containing a photosensitive chiral agent (hereinafter also referred to as a "liquid crystal material preparation step”); a step of irradiating the liquid crystal layer with a first light to deactivate a part of the photosensitive chiral agent from the surface of the liquid crystal layer toward the inside in the thickness direction (hereinafter also referred to as a "first exposure step”); and a step of irradiating the second light to cure the uncured part (hereinafter also referred to as a "second exposure step”).
  • a reflective layer having a portion in which the helical pitch of the cholesteric liquid crystal structure gradually changes (i.e., in a gradational manner) in the thickness direction can be easily prepared.
  • the above-mentioned example of the method for forming the reflective layer preferably includes a step of heating the liquid crystal layer to convert it into a cholesteric liquid crystal phase (hereinafter also referred to as the "first heating step").
  • the liquid crystal material preparation step is a step of preparing a liquid crystal material having a base material, a liquid crystal compound oriented in a cholesteric spiral shape (i.e., a cholesteric liquid crystal compound), and a liquid crystal layer containing a photosensitive chiral agent.
  • the substrate may be any of those described above.
  • the liquid crystal layer preferably contains a cholesteric liquid crystal compound capable of being oriented in a cholesteric helical shape, and a photosensitive chiral agent, and may contain other components as necessary.
  • the method for preparing the liquid crystal composition is not particularly limited, and the liquid crystal composition may be prepared, for example, by mixing components such as a cholesteric liquid crystal compound and a chiral agent. As each component, those described above can be suitably used.
  • the method for applying the liquid crystal composition to the substrate is not particularly limited, and examples include spray coating, spin coating, blade coating, dip coating, casting, roll coating, bar coating, die coating, mist coating, inkjet coating, dispenser coating, screen printing, letterpress printing, and intaglio printing.
  • the liquid crystal composition may be dried after being applied to the substrate. Drying methods include, for example, heat drying and vacuum drying. When heat drying is performed, the heating temperature and heating time may be appropriately adjusted depending on the type of solvent. Heat drying may also be performed as part of the first heating step described below.
  • the first heating step is a step of heating the liquid crystal layer to form a cholesteric liquid crystal phase.
  • the cholesteric liquid crystal compound changes from a crystalline state to an oriented state, and further changes from the oriented state to an isotropic state.
  • the liquid crystal layer containing the cholesteric liquid crystal compound is heated to form the cholesteric liquid crystal compound into an oriented state, and the liquid crystal layer is formed into a cholesteric liquid crystal phase in which the cholesteric liquid crystal compound is oriented.
  • the heating temperature in the first heating step may be adjusted appropriately depending on the type of cholesteric liquid crystal compound so that the cholesteric liquid crystal compound is in an oriented state.
  • the heating time in the first heating step may be adjusted appropriately depending on the heating temperature, etc.
  • the heating means is not particularly limited, and an oven, a hot plate, etc. may be used.
  • the first exposure step is a step of irradiating the liquid crystal layer with a first light to deactivate a part of the photosensitive chiral agent from the surface of the liquid crystal layer toward the inside in the thickness direction.
  • the first light is irradiated from either the substrate side or the surface side, and the light is absorbed by the photosensitive chiral agent contained in the liquid crystal layer, thereby making the amount of deactivation of the photosensitive chiral agent on the side closer to the light source greater than the amount of deactivation of the photosensitive chiral agent on the side farther from the light source, preferably such that in the layer thickness direction, the amount of active photosensitive chiral agent increases in a gradational manner from the liquid crystal layer surface on the side irradiated with the first light.
  • the helix of the cholesteric liquid crystal structure is rewound in accordance with the amount of the photosensitive chiral agent by the time the liquid crystal layer is hardened in the second exposure process, and a liquid crystal layer in which the helical pitch changes in a gradational manner is obtained.
  • the first light may be irradiated only once or may be irradiated twice or more.
  • the exposure conditions e.g., exposure means, exposure wavelength, exposure amount, exposure atmosphere, etc.
  • the exposure conditions e.g., exposure means, exposure wavelength, exposure amount, exposure atmosphere, etc.
  • the type of the first light is not particularly limited, but considering the reactivity of the components contained in the liquid crystal layer, it is preferable to use ultraviolet light.
  • light sources for ultraviolet light include discharge lamps such as ultra-high pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, and metal halide lamps; and semiconductor light sources such as light-emitting diodes (LEDs).
  • the wavelength range of the first light is not particularly limited, but when the first light is ultraviolet light, it is preferably 400 nm or less, more preferably 360 nm or less, and even more preferably 300 nm or less. When light of 300 nm or less is used, the light absorption of the cholesteric liquid crystal compound makes it easier to control the photocuring in the thickness direction.
  • the wavelength range can be adjusted, for example, by a method using an optical filter, a method using two or more types of optical filters, or a method using a light source of a specific wavelength.
  • the exposure amount of the first light is not particularly limited, and when the first light is ultraviolet light, it is preferably, for example, 0.1 mJ/cm 2 to 2,000 mJ/cm 2. From the viewpoint of controlling the photocuring in the in-plane direction, the parallelism of the ultraviolet light is preferably 20° or less, and more preferably 10° or less.
  • the first exposure step When the first exposure step is performed from the side of the substrate opposite to the side having the liquid crystal layer, it may be performed in a low-oxygen atmosphere (oxygen concentration 1,000 ppm or less, i.e., an atmosphere containing no oxygen or more than 0 ppm and less than 1,000 ppm of oxygen), and is more preferably performed in an atmosphere containing oxygen (air or an atmosphere containing 1,000 ppm or more and less than 21% oxygen). Radical polymerization is inhibited by oxygen, making it easier to control photocuring in the thickness direction.
  • a low-oxygen atmosphere oxygen concentration 1,000 ppm or less, i.e., an atmosphere containing no oxygen or more than 0 ppm and less than 1,000 ppm of oxygen
  • an atmosphere containing oxygen air or an atmosphere containing 1,000 ppm or more and less than 21% oxygen
  • the first exposure step is preferably carried out in a low-oxygen atmosphere (preferably an atmosphere with an oxygen concentration of 1,000 ppm or less, i.e., an atmosphere containing no oxygen or more than 0 ppm and 1,000 ppm or less of oxygen), and more preferably in a nitrogen atmosphere.
  • a low-oxygen atmosphere preferably an atmosphere with an oxygen concentration of 1,000 ppm or less, i.e., an atmosphere containing no oxygen or more than 0 ppm and 1,000 ppm or less of oxygen
  • the first exposure step is preferably performed at 50°C or less, more preferably at 40°C or less, and particularly preferably at 0°C or more and 35°C or less.
  • the first light may be irradiated through a first patterning mask having a plurality of regions with different transmittances of the first light, whereby the plurality of regions of the liquid crystal layer can be exposed with different exposure doses, thereby forming a plurality of regions with different thicknesses in the in-plane direction in a single layer, and collectively controlling the reflectance in the in-plane direction.
  • the first light may be irradiated through a filter having a transmittance that varies depending on the wavelength.
  • the filter may be a filter that adjusts the exposure amount of the first light.
  • a mask having a reduced transmittance of the wavelength absorbed by the photopolymerization initiator for example, 0%, may be used so as to prevent the photopolymerization initiator used from generating polymerization initiating species.
  • Examples of the first patterning mask include photomasks patterned by etching a metal film, and photomasks pattern-printed using various printing methods (e.g., printing with a laser printer or inkjet printer, gravure printing, screen printing).
  • a photomask patterned by etching a metal film can be obtained, for example, by forming a metal chromium film on a quartz substrate by sputtering, and then patterning the film using a photoresist.
  • the filter may be a transparent substrate such as glass on which a dielectric multilayer film is deposited.
  • the filter may be, for example, a known bandpass filter.
  • the first patterning mask or filter may be disposed on the side of the substrate opposite to the side having the liquid crystal layer, or on the side of the substrate having the liquid crystal layer.
  • the first light may be irradiated by bringing the first patterning mask or filter into contact with the liquid crystal layer, or the first light may be irradiated by providing a gap between the liquid crystal layer and the first patterning mask.
  • the first patterning mask or filter is disposed on the side of the substrate opposite to the side having the liquid crystal layer, it is preferable to use a light-transmitting substrate since the liquid crystal layer is exposed to the first light through the substrate.
  • the transmittance of the first light is not particularly limited, but from the viewpoint of more easily curing the liquid crystal layer, the higher the transmittance, the more preferable.
  • first patterning mask or filter When the first light is irradiated using the first patterning mask or filter, only one type of first patterning mask or filter may be used, or two or more types of first patterning masks or filters may be used.
  • the first patterning mask may also be used in combination with a filter.
  • the second exposure step is a step of irradiating the liquid crystal layer with a second light to harden the liquid crystal layer.
  • the helical pitch of the liquid crystal layer changed in the first exposure step can be cured and fixed by irradiation with the second light.
  • the entire liquid crystal layer may be exposed, not just the uncured portion.
  • the second light may be irradiated from the side of the substrate having the liquid crystal layer.
  • the type of the second light is not particularly limited, but considering the reactivity of the components that may be contained in the liquid crystal compound, it is preferable to use ultraviolet light.
  • light sources for ultraviolet light include discharge lamps such as ultra-high pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, and metal halide lamps; and semiconductor light sources such as light-emitting diodes (LEDs).
  • the wavelength range of the second light is not particularly limited, and light in the wavelength range of 250 nm to 400 nm can be used, for example.
  • the wavelength range can be adjusted, for example, by using an optical filter, a method using two or more types of optical filters, or a method using a light source of a specific wavelength.
  • the exposure amount of the second light is not particularly limited, and when the second light is ultraviolet light, it is preferably, for example, 5 mJ/cm 2 to 2,000 mJ/cm 2 .
  • the second exposure step is preferably carried out in a low-oxygen atmosphere (preferably an atmosphere with an oxygen concentration of 1,000 ppm or less, i.e., an atmosphere containing no oxygen or more than 0 ppm and 1,000 ppm or less of oxygen), and more preferably in a nitrogen atmosphere.
  • a low-oxygen atmosphere preferably an atmosphere with an oxygen concentration of 1,000 ppm or less, i.e., an atmosphere containing no oxygen or more than 0 ppm and 1,000 ppm or less of oxygen
  • the second exposure step is preferably performed at 50°C or less, more preferably at 40°C or less, and particularly preferably at 0°C or more and 35°C or less.
  • the method for forming the reflective layer may include other steps in addition to the above steps, as necessary. Examples of the other steps include a step of peeling off the substrate from a laminate produced in a form including the substrate, and a laminate not including the substrate can be produced. Other steps include a step of forming an alignment layer, etc. Details of the alignment layer and the method of forming it will be described later.
  • the laminate may have an alignment layer, which is used to more easily align the molecules of the cholesteric liquid crystal compound in the reflective layer during formation of the laminate.
  • the alignment layer is provided, for example, by rubbing an organic compound (preferably a polymer), oblique deposition of an inorganic compound, or formation of a layer with microgrooves.
  • an organic compound preferably a polymer
  • alignment layers that generate an alignment function by applying an electric field, a magnetic field, or light irradiation are also known.
  • the thickness of the alignment layer is not particularly limited, but is preferably 0.01 ⁇ m to 10 ⁇ m.
  • the substrate can be directly subjected to an alignment treatment (e.g., a rubbing treatment) to function as an alignment layer.
  • an alignment treatment e.g., a rubbing treatment
  • An example of a substrate that can be directly subjected to an alignment treatment is a layer made of polyethylene terephthalate (PET), which may be subjected to a rubbing treatment as described below.
  • the rubbing treatment alignment layer is formed, for example, by performing a rubbing treatment on the surface of the base on which the liquid crystal composition is applied.
  • the rubbing treatment can be performed, for example, by rubbing the surface of a film mainly composed of a polymer with paper or cloth in a certain direction.
  • a general method of the rubbing treatment is described, for example, in "Liquid Crystal Handbook" (published by Maruzensha, October 30, 2000).
  • Polymers for alignment layers that form films mainly composed of the above-mentioned polymers include, for example, methacrylate copolymers, styrene copolymers, polyolefins, polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, poly(N-methylolacrylamide), polyesters, polyimides, vinyl acetate copolymers, carboxymethyl cellulose, and polycarbonates, as described in paragraph 0022 of JP-A-8-338913.
  • the polymer for alignment layers may also be a silane coupling agent.
  • the polymer for alignment layers is preferably a water-soluble polymer (e.g., poly(N-methylolacrylamide), carboxymethyl cellulose, gelatin, polyvinyl alcohol, or modified polyvinyl alcohol), more preferably gelatin, polyvinyl alcohol, or modified polyvinyl alcohol, and particularly preferably polyvinyl alcohol or modified polyvinyl alcohol.
  • the rubbing density can be changed by the method described in "Liquid Crystal Handbook” (published by Maruzensha).
  • the rubbing density (L) is quantified by the following formula (A).
  • Formula (A) L Nl (1 + 2 ⁇ rn / 60v)
  • N is the number of rubbings
  • l is the contact length of the rubbing roller
  • r is the radius of the roller
  • n is the number of rotations of the roller (rpm; revolutions per minute).
  • v is the stage movement speed (per second).
  • Methods for increasing the rubbing density include increasing the number of rubbings, increasing the contact length of the rubbing roller, increasing the roller radius, increasing the roller rotation speed, and slowing down the stage movement speed.
  • Methods for decreasing the rubbing density include decreasing the number of rubbings, shortening the contact length of the rubbing roller, decreasing the roller radius, decreasing the roller rotation speed, and increasing the stage movement speed.
  • the description in Patent No. 4052558 can be referred to for the conditions for the rubbing process.
  • photo-alignment materials used in the photo-alignment layer formed by light irradiation include azo compounds described in JP-A-2006-285197, JP-A-2007-76839, JP-A-2007-138138, JP-A-2007-94071, JP-A-2007-121721, JP-A-2007-140465, JP-A-2007-156439, JP-A-2007-133184, JP-A-2009-109831, Japanese Patent No. 3883848, and Japanese Patent No.
  • the photo-alignment material examples include aromatic ester compounds described in JP-A-02-229039, maleimide and/or alkenyl-substituted nadimide compounds having a photo-alignment unit described in JP-A-2002-265541 and JP-A-2002-317013, photo-crosslinkable silane derivatives described in JP-A-4205195 and JP-A-4205198, and photo-crosslinkable polyimides, polyamides, or esters described in JP-T-2003-520878, JP-T-2004-529220, and JP-T-4162850.
  • the photo-alignment material is preferably an azo compound, photo-crosslinkable polyimide, polyamide, or ester.
  • a layer formed from a photo-alignment material is exposed to linearly polarized light or non-polarized light to produce a photo-alignment layer.
  • linearly polarized light irradiation refers to an operation for causing a photoreaction in a photoalignment material.
  • the wavelength of the light used varies depending on the photoalignment material used, and is not particularly limited as long as it is the wavelength necessary for the photoreaction.
  • the light used for photoirradiation is preferably light with a peak wavelength of 200 nm to 700 nm, and more preferably ultraviolet light with a peak wavelength of 400 nm or less.
  • Light sources used for light irradiation include known light sources, such as lamps such as tungsten lamps, halogen lamps, xenon lamps, xenon flash lamps, mercury lamps, mercury xenon lamps, and carbon arc lamps, various lasers (e.g., semiconductor lasers, helium-neon lasers, argon ion lasers, helium-cadmium lasers, or YAG lasers), light-emitting diodes, and cathode ray tubes.
  • lamps such as tungsten lamps, halogen lamps, xenon lamps, xenon flash lamps, mercury lamps, mercury xenon lamps, and carbon arc lamps
  • various lasers e.g., semiconductor lasers, helium-neon lasers, argon ion lasers, helium-cadmium lasers, or YAG lasers
  • light-emitting diodes e.g., helium-neon lasers, argon ion lasers,
  • Methods for obtaining linearly polarized light include a method using a polarizing plate (e.g., an iodine polarizing plate, a dichroic dye polarizing plate, or a wire grid polarizing plate), a method using a prism-based element (e.g., a Glan-Thompson prism) or a reflective polarizer that utilizes the Brewster angle, and a method using light emitted from a polarized laser light source.
  • a filter or a wavelength conversion element may be used to selectively irradiate only light of the required wavelength.
  • one method is to irradiate the alignment layer from the top or back surface with light in a direction perpendicular or oblique to the alignment layer surface.
  • the angle of incidence of light varies depending on the photoalignment material, but is preferably 0° to 90° (perpendicular) to the alignment layer, and more preferably 40° to 90°.
  • the non-polarized light When using non-polarized light, the non-polarized light is irradiated obliquely from the top or back surface of the alignment layer.
  • the angle of incidence is preferably 10° to 80°, more preferably 20° to 60°, and even more preferably 30° to 50°.
  • the irradiation time is preferably 1 minute to 60 minutes, and more preferably 1 minute to 10 minutes.
  • the laminate preferably further includes an adhesive layer between the louver structure layer and the decorative layer, the adhesive layer being capable of improving adhesion between the substrate and each layer, for example.
  • the adhesive layer preferably contains an adhesive, and may further contain components other than the adhesive.
  • the type of adhesive is not limited, and the adhesive may be any known adhesive used for permanent adhesion.
  • the adhesive may be any known adhesive used for temporary adhesion.
  • adhesives examples include urethane resin adhesives, polyester adhesives, acrylic resin adhesives, ethylene vinyl acetate resin adhesives, polyvinyl alcohol adhesives, polyamide adhesives, and silicone adhesives. From the viewpoint of high adhesive strength, urethane resin adhesives and silicone adhesives are preferred.
  • the adhesive may be a thermosetting adhesive.
  • the adhesive may be an ultraviolet-curing adhesive.
  • the adhesive may be, for example, a pressure-sensitive adhesive.
  • the adhesive layer may contain a pressure-sensitive adhesive as an adhesive.
  • the pressure-sensitive adhesive include acrylic pressure-sensitive adhesives, rubber pressure-sensitive adhesives, and silicone pressure-sensitive adhesives.
  • the pressure-sensitive adhesive include acrylic pressure-sensitive adhesives, ultraviolet (UV) curing pressure-sensitive adhesives, and silicone pressure-sensitive adhesives described in "Evaluation of Properties of Release Paper, Release Film, and Adhesive Tape and Their Control Technology, Information Agency, 2004, Chapter 2.”
  • Acrylic pressure-sensitive adhesives refer to pressure-sensitive adhesives that contain a polymer of (meth)acrylic monomers.
  • the adhesive-containing layer may contain a tackifier in addition to the pressure-sensitive adhesive.
  • Examples of the adhesive include UVX-6282 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), NCF-D692 (manufactured by Lintec Corporation), and UF-3007 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.).
  • the thickness of the adhesive layer is preferably 2 ⁇ m to 200 ⁇ m, more preferably 10 ⁇ m to 100 ⁇ m, and particularly preferably 10 ⁇ m to 50 ⁇ m.
  • the method for forming the adhesive layer is not limited.
  • methods for forming the adhesive layer include a method of laminating a film having an adhesive layer, a method of laminating a single adhesive layer, and a method of applying a composition containing an adhesive.
  • the laminate may include a base material. This can increase the strength of the laminate, making it easier to handle.
  • the base material can be used as a member constituting a molded body obtained by molding the laminate.
  • the decorative layer may be provided directly on the substrate, or may be provided via another layer.
  • a substrate is provided between the decorative layer and the louver structure layer.
  • the shape and material of the substrate are not particularly limited and may be selected as desired.
  • Examples of the material of the resin substrate include polyethylene (PE), polyethylene naphthalate (PEN), polyamide (PA), polyethylene terephthalate (PET), polyvinyl chloride (PVC), polyvinyl alcohol (PVA), polyacrylonitrile (PAN), polyimide (PI), polymethyl methacrylate (PMMA), polycarbonate (PC), acrylic-polycarbonate resin, polyacrylate, polymethacrylate, polypropylene (PP), polystyrene (PS), polyacrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS), cyclic olefin copolymer (COC), cycloolefin polymer (COP), triacetyl cellulose (TAC), urethane resin, and urethane-acrylic resin.
  • PE polyethylene
  • PEN polyethylene naphthalate
  • PA polyamide
  • PET polyethylene terephthalate
  • PVC polyvinyl chloride
  • PVA polyvinyl alcohol
  • the material of the substrate is at least one resin selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, acrylic resin, urethane resin, urethane-acrylic resin, polycarbonate, acrylic-polycarbonate resin, and polypropylene.
  • the substrate may be a laminate of multiple resin layers made of different materials.
  • the resin base material may contain additives as necessary.
  • additives include lubricants such as mineral oil, hydrocarbons, fatty acids, alcohols, fatty acid esters, fatty acid amides, metal soaps, natural waxes, and silicones; inorganic flame retardants such as magnesium hydroxide and aluminum hydroxide; organic flame retardants such as halogen-based flame retardants and phosphorus-based flame retardants; organic or inorganic fillers such as metal powder, talc, calcium carbonate, potassium titanate, glass fiber, carbon fiber, and wood powder; antioxidants, ultraviolet inhibitors, lubricants, dispersants, coupling agents, foaming agents, colorants, and resins other than the main resin component.
  • the resin substrate may be a commercially available product.
  • Commercially available products include the Technoloy (registered trademark) series (acrylic resin film, polycarbonate resin film, or acrylic resin/polycarbonate resin laminate film, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), ABS film (manufactured by Okamoto Corporation), ABS sheet (manufactured by Sekisui Seikei Co., Ltd.), Teflex (registered trademark) series (PET film, manufactured by Teijin Film Solutions Co., Ltd.), Lumirror (registered trademark) easy-form type (PET film, manufactured by Toray Industries, Inc.), and Pure Thermo (polypropylene film, manufactured by Idemitsu Unitech Co., Ltd.).
  • Technoloy (registered trademark) series acrylic resin film, polycarbonate resin film, or acrylic resin/polycarbonate resin laminate film, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.
  • ABS film manufactured by Okamoto Corporation
  • ABS sheet manufactured
  • the thickness of the substrate is not particularly limited, but from the viewpoint of the strength of the laminate, it is preferably 1 ⁇ m or more, more preferably 10 ⁇ m or more, and even more preferably 20 ⁇ m or more. From the same viewpoint, the thickness of the substrate is preferably 300 ⁇ m or less, more preferably 200 ⁇ m or less, and even more preferably 150 ⁇ m or less.
  • the laminate may include a colored layer. This makes it easier to obtain a desired design.
  • the colored layer is a layer containing a colorant.
  • the colored layer may be one layer or two or more layers.
  • the position of the colored layer is not particularly limited and may be provided at a desired position.
  • the colored layer may be provided on the reflective layer.
  • the colored layer may be provided on the side of the substrate opposite to the side on which the reflective layer is formed.
  • the color of the colored layer is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the application, etc.
  • Examples of the color of the colored layer include black, gray, white, red, orange, yellow, green, blue, purple, and brown.
  • the color of the colored layer may also be a metallic color.
  • the colorant may be a pigment or a dye. From the viewpoint of durability, the colorant is preferably a pigment. In order to give the colored layer a metallic tone, metal particles, pearl pigments, etc. may be used as the colorant.
  • the pigment may be an inorganic pigment or an organic pigment.
  • inorganic pigments examples include white pigments such as titanium dioxide, zinc oxide, lithopone, precipitated calcium carbonate, white carbon, aluminum oxide, aluminum hydroxide, and barium sulfate; black pigments such as carbon black, titanium black, titanium carbon, iron oxide, and graphite; iron oxide, barium yellow, cadmium red, and chrome yellow.
  • inorganic pigments include those described in paragraphs 0015 and 0114 of JP-A-2005-7765.
  • organic pigments examples include phthalocyanine pigments such as phthalocyanine blue and phthalocyanine green; azo pigments such as azo red, azo yellow and azo orange; quinacridone pigments such as quinacridone red, shinkasha red and shinkasha magenta; perylene pigments such as perylene red and perylene maroon; carbazole violet, anthrapyridine, flavanthrone yellow, isoindoline yellow, industhrone blue, dibromoanzathrone red, anthraquinone red and diketopyrrolopyrrole.
  • phthalocyanine pigments such as phthalocyanine blue and phthalocyanine green
  • azo pigments such as azo red, azo yellow and azo orange
  • quinacridone pigments such as quinacridone red, shinkasha red and shinkasha magenta
  • perylene pigments such as perylene red and perylene maroon
  • organic pigments include red pigments such as C.I. Pigment Red 177, 179, 224, 242, 254, 255, and 264, yellow pigments such as C.I. Pigment Yellow 138, 139, 150, 180, and 185, and C.I. Pigment Orange pigments such as C.I. Orange 36, 38, and 71; C.I. Pigment Green green pigments such as C.I. Pigment Blue 15:6; and violet pigments such as C.I. Pigment Violet 23.
  • red pigments such as C.I. Pigment Red 177, 179, 224, 242, 254, 255, and 264
  • yellow pigments such as C.I. Pigment Yellow 138, 139, 150, 180, and 185
  • C.I. Pigment Orange pigments such as C.I. Orange 36, 38, and 71
  • C.I. Pigment Green green pigments such as C.I. Pigment Blue 15:6
  • violet pigments such as C.I. Pigment Violet 23.
  • organic pigments include those described in paragraph 0093 of JP 2009-256572 A.
  • the pigment may be a pigment that has light transmission and light reflection properties (so-called photoluminescent pigment).
  • photoluminescent pigments include metallic photoluminescent pigments made of aluminum, copper, zinc, iron, nickel, tin, aluminum oxide, and alloys thereof, interference mica pigments, white mica pigments, graphite pigments, and glass flake pigments. Photoluminescent pigments may be uncolored or colored.
  • One type of colorant may be used alone, or two or more types may be used in combination.
  • an inorganic pigment may be combined with an organic pigment.
  • the content of the colorant is preferably 1% by mass to 50% by mass, more preferably 5% by mass to 50% by mass, and particularly preferably 10% by mass to 40% by mass, relative to the total amount of the colored layer.
  • the colored layer preferably contains a binder resin from the viewpoints of strength, scratch resistance, and moldability.
  • the type of binder resin is not particularly limited.
  • the binder resin is preferably a transparent resin, specifically, a resin having a total light transmittance of 80% or more.
  • the total light transmittance can be measured by a spectrophotometer (for example, a spectrophotometer "UV-2100" manufactured by Shimadzu Corporation).
  • binder resins examples include acrylic resins, silicone resins, polyesters, polyurethanes, and polyolefins.
  • the binder resins may be homopolymers or copolymers.
  • the binder resin may be used alone or in combination of two or more types.
  • the binder resin content is preferably 5% by mass to 70% by mass, more preferably 10% by mass to 60% by mass, and particularly preferably 20% by mass to 60% by mass, relative to the total amount of the colored layer.
  • the colorant layer may contain a dispersant.
  • the dispersant is contained, the dispersibility of the colorant in the colorant layer is improved. Therefore, the color of the obtained laminate can be more easily made uniform.
  • the dispersant can be selected appropriately depending on the type and shape of the colorant, and is preferably a polymer dispersant.
  • polymeric dispersants examples include silicone polymers, acrylic polymers, and polyester polymers.
  • the dispersant is preferably a silicone polymer such as a grafted silicone polymer.
  • the weight-average molecular weight of the dispersant is preferably 1,000 to 5,000,000, more preferably 2,000 to 3,000,000, and particularly preferably 2,500 to 3,000,000. If the weight-average molecular weight is 1,000 or more, the dispersibility of the colorant is further improved.
  • the dispersant may be a commercially available product.
  • Commercially available dispersants include EFKA 4300 (acrylic polymer dispersant) manufactured by BASF Japan; Homogenol L-18, Homogenol L-95, and Homogenol L-100 manufactured by Kao Corporation; Solsperse 20000 and Solsperse 24000 manufactured by Lubrizol Japan; and DISPERBYK-110, DISPERBYK-164, DISPERBYK-180, and DISPERBYK-182 manufactured by BYK Japan.
  • EFKA 4300 acrylic polymer dispersant manufactured by BASF Japan
  • Homogenol L-18, Homogenol L-95, and Homogenol L-100 manufactured by Kao Corporation
  • the dispersant may be used alone or in combination with two or more types.
  • the content of the dispersant is preferably 1 to 30 parts by weight per 100 parts by weight of the colorant.
  • the colored layer may contain additives, if necessary, in addition to the above components.
  • the additives are not particularly limited, and examples thereof include surfactants described in paragraph 0017 of Japanese Patent No. 4502784 and paragraphs 0060 to 0071 of Japanese Patent Publication No. 2009-237362; thermal polymerization inhibitors (also called polymerization inhibitors, preferably phenothiazine) described in paragraph 0018 of Japanese Patent No. 4502784; and additives described in paragraphs 0058 to 0071 of Japanese Patent Publication No. 2000-310706.
  • the thickness of the colored layer is not particularly limited, but from the viewpoint of visibility, it is preferably 0.5 ⁇ m or more, more preferably 3 ⁇ m or more, even more preferably 3 ⁇ m to 50 ⁇ m, and particularly preferably 3 ⁇ m to 20 ⁇ m.
  • each colored layer independently has a thickness in the above range.
  • the method for forming the colored layer examples include a method using a colored layer-forming composition, a method of laminating a colored film, etc.
  • the method for forming the colored layer is preferably a method using a colored layer-forming composition.
  • Methods for forming a colored layer using a colored layer-forming composition include a method for forming a colored layer by applying the colored layer-forming composition, for example, a method for forming a colored layer by printing the colored layer-forming composition.
  • printing methods include screen printing, inkjet printing, flexographic printing, gravure printing, and offset printing.
  • the colored layer forming composition may contain a colorant and, if necessary, at least one of a binder resin, a dispersant, and an additive.
  • the types of each component may be the same as those described above for the colored layer.
  • the content of the colorant is preferably 1% by mass to 50% by mass, more preferably 5% by mass to 50% by mass, and particularly preferably 10% by mass to 40% by mass, based on the total solid content of the composition for forming a colored layer.
  • the content of the binder resin is preferably 5% by mass to 70% by mass, more preferably 10% by mass to 60% by mass, and particularly preferably 20% by mass to 60% by mass, based on the total solid content of the composition for forming the colored layer.
  • the content of the dispersant is preferably 1 part by mass to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the colorant.
  • the colored layer may be a layer formed by curing a colored layer-forming composition, and for example, a colored layer-forming composition containing a polymerizable compound and a polymerization initiator may be used.
  • the polymerizable compound and the polymerization initiator are not particularly limited, and a known polymerizable compound and a known polymerization initiator may be used.
  • the polymerizable compound may be used alone or in combination of two or more types.
  • the polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more types.
  • the colored layer forming composition may contain an organic solvent to facilitate application.
  • the organic solvent is not particularly limited, and any known organic solvent may be used. Examples of the organic solvent include alcohols, esters, ethers, ketones, and aromatic hydrocarbons. One type of organic solvent may be used alone, or two or more types may be used in combination.
  • the content of the organic solvent is preferably 5% by mass to 90% by mass, and more preferably 30% by mass to 70% by mass, based on the total amount of the color layer forming composition.
  • composition for forming the colored layer for example, commercially available paints such as the nax Real series, nax Admira series, and nax Multi series (manufactured by Nippon Paint Co., Ltd.); Retan PG series (manufactured by Kansai Paint Co., Ltd.) may be used.
  • the method for preparing the colored layer forming composition is not particularly limited, and for example, the colored layer forming composition may be prepared by mixing each component such as the colorant.
  • the colored layer forming composition contains a pigment as a colorant, from the viewpoint of further improving the uniform dispersion and dispersion stability of the pigment, it is preferable to prepare the colored layer forming composition by previously preparing a pigment dispersion liquid containing the pigment and dispersant, and mixing other components into the pigment dispersion liquid.
  • the laminate may have layers other than the louver structure layer, the decorative layer, the adhesive layer, the substrate, the colored layer, and the alignment layer.
  • ⁇ layers include, for example, layers well known in decorative films, such as a protective layer, an easy-adhesion layer, an ultraviolet absorbing layer, a self-repairing layer, an antistatic layer, an antifouling layer, an electromagnetic wave-proof layer, and a conductive layer.
  • the other layers can be formed by known methods. For example, a composition containing the components contained in these layers (layer-forming composition) can be applied in layers and then dried.
  • the display with the laminate according to the present disclosure has a display on the decorative layer side of the laminate.
  • the display is not particularly limited, and examples thereof include a liquid crystal display, an organic EL (Electro Luminescence) display, a plasma display, a micro LED display, and a touch panel display.
  • the shape, such as the size, of the display is not particularly limited and can be appropriately selected as desired.
  • the ratio (LDv/LDp) of the display width (unit: mm) parallel to the stripe direction of the louver structure (LDp) to the display width (unit: mm) perpendicular to the stripe direction of the louver structure (LDv) is not particularly limited, but is preferably 1/20 to 1/1, and more preferably 1/10 to 1/1.5.
  • An adhesive layer may be provided between the laminate and the display. Suitable examples of the adhesive layer include the adhesive layer described above in the laminate. A space may be provided between the laminate and the display from the viewpoint of heat dissipation, etc. In that case, it is preferable to have a support member or the like for fixing the laminate.
  • FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing an example of a display with a laminate according to the present disclosure.
  • the display 20 with the laminate shown in FIG. 5 has a louver structure layer 22 and a decorative layer 24 , and has a display 26 spaced apart from the decorative layer 24 .
  • the decorative layer 24 and the display 26 may be separated from each other as shown in FIG. 5, or may be in contact with each other.
  • a support member (not shown) may be further provided.
  • each layer of the display with the laminate is not limited.
  • Each layer of the laminate may be arranged as follows. "/" indicates the boundary between layers. The left side is the viewing side.
  • Louver structure layer/decorative layer/display (2) Louver structure layer/substrate/decorative layer/display (3) Louver structure layer/substrate/adhesive layer/decorative layer/display (4) Louver structure layer/decorative layer/adhesive layer/display (5) Louver structure layer/substrate/decorative layer/adhesive layer/display (6) Louver structure layer/substrate/adhesive layer 1/decorative layer/adhesive layer 2/display (7) Louver structure layer/adhesive layer 1/substrate/adhesive layer 2/decorative layer/adhesive layer 3/display
  • Example 1 [Preparation of substrate] As a substrate, a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 ⁇ m and having an easy-adhesion layer on one side (Cosmoshine (registered trademark, the same applies hereinafter) A4160, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was prepared and used as a transparent support 1.
  • PET polyethylene terephthalate
  • A4160 manufactured by Toyobo Co., Ltd.
  • undercoat layer coating solution 1 having the composition described below was applied with a #4 wire bar coater onto the surface of the transparent support 1 that did not have an easy-adhesion layer.
  • the coating solution was then dried at 80° C. for 120 seconds, and irradiated with ultraviolet light at 180 mJ/ cm2 using an ultraviolet light irradiation device using a metal halide lamp (MAL625NAL, manufactured by GS Yuasa Corp.) at 25° C. to prepare a support 1 with an undercoat layer.
  • MAL625NAL metal halide lamp
  • Surfactant 1 The following compound
  • Rod-shaped liquid crystal compound 1 The following compound
  • Surfactant 2 The following compound
  • the liquid crystal composition 1 was applied to the surface of the undercoat layer 1 in the support 1 with the undercoat layer by using a wire bar coater #5. Thereafter, the substrate was dried at 80° C. for 120 seconds, and irradiated with 130 mJ/cm 2 ultraviolet light through a bandpass filter 1 having the following characteristics by using an ultraviolet irradiation device using a metal halide lamp (MAL625NAL, manufactured by GS Yuasa Corporation) at an oxygen concentration of 5% or less and 25° C.
  • a metal halide lamp MAL625NAL, manufactured by GS Yuasa Corporation
  • the liquid crystal composition 1 was cured by irradiating with 500 mJ/cm 2 ultraviolet light by using an ultraviolet irradiation device using a metal halide lamp (MAL625NAL, manufactured by GS Yuasa Corporation) at an oxygen concentration of 5% or less and 25 ° C., and further, the liquid crystal composition 1 was completely cured by performing the same exposure under a low oxygen concentration (1,000 ppm or less), thereby forming a reflective layer 1 (decorative layer) having a thickness of 2.4 ⁇ m, and a film 1-1 having a decorative layer was produced.
  • a metal halide lamp MAL625NAL, manufactured by GS Yuasa Corporation
  • the bandpass filter 1 is formed by depositing a dielectric multilayer film on a glass substrate (TEMPAX Float t2.0 mm, manufactured by SHOTT Corporation) and has a transmittance of 0% for wavelengths of 350 nm to 450 nm or more and an average transmittance of 70% to 75% for wavelengths of 310 nm to 330 nm.
  • TEMPAX Float t2.0 mm manufactured by SHOTT Corporation
  • composition A for forming plateable layer ⁇ Preparation of composition A for forming plateable layer>> The following components were mixed to obtain a composition A for forming a plateable layer.
  • Polybutadiene maleic acid (butadiene-maleic acid copolymer) aqueous solution (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.; 42% by weight aqueous solution): 6 parts by weight Acrylamide monomer described below: 2.5 parts by weight Omnirad 127 (manufactured by IGM Resins): 0.13 parts by weight Isopropanol (IPA): 91.5 parts by weight
  • composition A for forming an intermediate layer.
  • Acrylit 8UA-122A manufactured by Aica Kogyo Co., Ltd.
  • IPA isopropanol
  • MFG 1-methoxy-2-propanol
  • composition A for forming an intermediate layer was applied onto a substrate (PC (polycarbonate resin) film manufactured by Teijin Limited, Panlite PC, thickness: 250 ⁇ m, A3 size) using a bar coater.
  • the formed composition layer for forming an intermediate layer was then irradiated with UV (ultraviolet rays) to form an intermediate layer (film thickness 2.0 ⁇ m).
  • UV ultraviolet
  • a substrate with an intermediate layer was obtained, which had a substrate and an intermediate layer disposed on the substrate.
  • the plateable layer-forming composition was applied to the intermediate layer with a bar coater to a thickness of 0.8 ⁇ m to obtain a plateable layer precursor layer.
  • a substrate with a plateable layer precursor layer was obtained, which had a substrate with an intermediate layer and a plateable layer precursor layer disposed on the intermediate layer.
  • the plateable layer-forming composition was applied to the intermediate layer with a bar coater to a thickness of 0.8 ⁇ m to obtain a plateable layer precursor layer. That is, a substrate with a plateable layer precursor layer was obtained, which had a substrate with an intermediate layer and a plateable layer precursor layer disposed on the intermediate layer.
  • the above-mentioned plated layer precursor layer was exposed (0.2 J/cm 2 ) to a metal halide light source through a quartz mask having a predetermined opening pattern so as to obtain a pattern with an area ratio of the metal layer of 10%, a line width W of 10 ⁇ m, and an area of the pattern portion of 290 mm ⁇ 205 mm (a stripe structure pattern shown in FIG. 1 , pitch P: 50 ⁇ m, the unexposed portion becoming the louver plate 14).
  • the exposed plating layer precursor layer was shower-washed with water at room temperature and developed to obtain a plating layer formed in a pattern with a line width of 10 ⁇ m (pattern-shaped plating layer).
  • the substrate with the patterned plating layer was immersed in a 1% by mass aqueous solution of sodium carbonate at room temperature (25°C) for 5 minutes, and the substrate with the plating layer was removed and washed twice with pure water.
  • a Pd catalyst imparting solution (Omni Shield 1573 Activator, manufactured by Rohm and Haas Electronic Materials Co., Ltd.) at 30°C for 5 minutes, and then the substrate with the plating layer was removed and washed twice with pure water.
  • the obtained substrate with the plating layer was immersed in a reducing solution (Circuposit P13 Oxide Converter 60C, manufactured by Rohm and Haas Electronic Materials Co., Ltd.) at 30°C for 5 minutes, and then the substrate with the plating layer was removed and washed twice with pure water.
  • the obtained substrate with the plated layer was immersed in an electroless plating solution (Circuposit 4500, manufactured by Rohm and Haas Electronic Materials Co., Ltd.) at 45°C for 15 minutes, and then the substrate with the plated layer was taken out and washed with pure water to obtain a substrate with a metal pattern.
  • a resist composition having the following composition was applied onto the above-mentioned substrate having a metal pattern to a film thickness of 50 ⁇ m, and dried at 80° C. for 30 minutes.
  • the numbers in the parentheses at the bottom right of each structural unit of the acrylic polymer described above represent the molar ratio.
  • the weight average molecular weight of the acrylic polymer described above is 20 ⁇ 103 .
  • ⁇ Formation of Resist Pattern> The surface of the substrate having a metal pattern on which the photosensitive composition layer (resist layer) prepared by the formation of the resist layer was formed was exposed to light through the metal pattern using an MPA5500CF (high pressure mercury lamp) manufactured by Canon Inc.
  • the exposed photosensitive composition layer was developed with an alkaline developer (a 0.4% aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide) and then rinsed with ultrapure water. By these operations, only the resist layer laminated on the wiring portion was removed without being hardened.
  • the substrate having the louver-shaped wiring pattern produced by the above stripe-shaped wiring pattern formation was immersed in a resist remover (N-300, Nagase ChemteX Corp.) at 60° C. for 2 minutes, and then rinsed with ultrapure water. By these operations, the patterned resist layer was removed.
  • a resist remover N-300, Nagase ChemteX Corp.
  • Blackening treatment The following components were mixed to prepare blackening solution 1 having a viscosity of 10 mPa ⁇ s.
  • Sodium chlorite 25 parts by weight
  • Sodium hydroxide 10 parts by weight
  • Trisodium phosphate 2 parts by weight
  • Polyvinyl alcohol (VP-18, manufactured by Japan Vinyl Acetate & Poval Co., Ltd.) 5 parts by weight
  • Pure water 1,000 parts by weight
  • the prepared blackening treatment solution 1 was applied to a substrate having a striped wiring pattern produced by the above-mentioned striped wiring pattern formation. After heating this substrate at 60° C. for 5 minutes, the substrate was thoroughly washed with pure water to remove the blackening solution.
  • a resin layer-forming composition A having the following composition was applied to a substrate having a blackened wiring pattern to a thickness of 50 ⁇ m, and then dried at 80° C. for 30 minutes to produce a film 1-2 having a louver structure layer laminated thereon.
  • ⁇ Resin layer forming composition A> The following components were dissolved and mixed to obtain a resist composition.
  • PHS-EVE p-hydroxystyrene 1-ethoxyethyl protected/p-hydroxystyrene copolymer (30 mol%/70 mol%), weight average molecular weight: 8 ⁇ 10 3 , structure as above): 71.4 parts; acrylic polymer as above: 28.6 parts; IRGACURE PAG103 (manufactured by BASF): 2.7 parts; dibutoxyanthracene: 2.7 parts; epoxy resin (JER157S65, manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd.): 2.7 parts; nano aluminum oxide particles (NP-ALO-1, manufactured by Alpha Corporation, average particle size 80 nm): 40.0 parts; solvent PGMEA (propylene glycol monomethyl ether acetate): adjusted so that the nonvolatile content was 10% by mass relative to the entire composition.
  • a liquid crystal tablet with a touch panel manufactured by Microsoft SurfacePro7 was prepared as a display device.
  • the film 1-1 having the decorative layer was attached to the surface of the display device using an adhesive (SK Dyne 2057, manufactured by Soken Chemical Industries, Ltd., thickness 25 ⁇ m), and then the film 1-2 having the louver structure layer laminated thereon was attached to the surface of the attached film 1-1 from the substrate side of the film 1 using an adhesive (SK Dyne 2057, manufactured by Soken Chemical Industries, Ltd., thickness 25 ⁇ m) so that the stripe direction of the louver structure was parallel to the long axis direction (horizontal direction) of the display device, thereby producing a display device (display with laminate) of Example 1.
  • Display visibility The visibility of the display when the display was ON was evaluated by displaying characters of font size 12 with the display device ON.
  • the display with the laminate was placed 3 m away from an LED light source (LDL 40S, manufactured by Mitsubishi Electric Corporation) so that the display plane was parallel to the stripe structure directly below, and the luminance was observed from directly in front of the display and from a position shifted 45° in the long axis direction of the display, each 1 m away.
  • the evaluation criteria are shown below. A to C are preferable, A or B is more preferable, and A is even more preferable.
  • the evaluation results are shown in Table 1.
  • C The characters were slightly blurred, but were recognizable. At the same time, the decorative layer was also visible.
  • D The image was blurred and the characters were difficult to read. At the same time, the decorative layer was strongly visible.
  • the evaluation results are shown in Table 1.
  • the evaluation result is preferably A or B, and more preferably A.
  • A The decorative layer was clearly visible.
  • B The visibility of the decorative layer was low, but the decoration was at a level that could be recognized.
  • C The visibility of the decorative layer was low, and there were areas where the decoration was not visible.
  • Example 2 A display with a laminate was produced in the same manner as in Example 1, except that the width, height and pitch of the louver plates constituting the louver structure were changed as shown in Table 1. Moreover, evaluation was performed in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.
  • Example 11 to 16 A display with a laminate was produced in the same manner as in Example 1, except that the decorative layer was changed to a decorative layer produced by the method described below. Moreover, evaluation was performed in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 2.
  • ⁇ Decorative layer 2> The pattern shown in FIG. 3 was printed on the easy-adhesion surface of a 100 ⁇ m-thick polyethylene terephthalate (PET) film (Cosmoshine A4160, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having an easy-adhesion layer on one side, using a wet electrophotographic printer (Indigo 20000, 175 lPi, black monochrome mode) to prepare a mask film 2.
  • a decorative layer 2 was produced in the same manner as in Example 1, except that ultraviolet light of 130 mJ/cm 2 was irradiated through a bandpass filter and a mask film 2 that were overlapped in Example 1.
  • a decorative layer 3 was produced in the same manner as the decorative layer 2, except that the design printed in Example 2 was changed to the pattern shown in FIG.
  • PET polyethylene terephthalate
  • a decorative layer 5 was formed in the same manner as the decorative layer 4, except that the design was changed from a uniform solid blue color to a gradation pattern as shown in FIG.
  • a dielectric multilayer film (Picasus GB41, blue solid reflective film (dielectric multilayer film), manufactured by Toray Industries, Inc., A4 size) was used as the decorative layer 6 .
  • ⁇ Decorative layer 7> A total of six layers of silicon oxide and niobium oxide were alternately laminated on the easy-adhesion surface of a 100 ⁇ m-thick polyethylene terephthalate (PET) film (Cosmoshine A4160, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having an easy-adhesion layer on one side using a vacuum sputtering device (VEP-1000, manufactured by ULVAC, Inc.), and the film thickness was adjusted so that the center wavelength was 520 nm to form a film, thereby forming decorative layer 7, which is a dielectric multilayer film.
  • PET polyethylene terephthalate
  • VEP-1000 vacuum sputtering device
  • Example 1 A display with the laminate was produced in the same manner as in Example 1, Example 13, Example 15 or Example 16, except that the louver structure layer was not provided. Moreover, evaluation was performed in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 2.
  • Example 17 Except for producing the louver board without carrying out the blackening treatment, a display with the laminate was produced in the same manner as in Example 1. Evaluation was also carried out in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 3.
  • Example 18 A display with the laminate was produced in the same manner as in Example 1, except that the louver structure layer was produced by the following method. Evaluations were also carried out in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 3.
  • a master batch was prepared by kneading 100 parts of a cyclic polyolefin resin ('TOPAS' 6013, Tg 136°C, manufactured by Polyplastics Co., Ltd.) and 30 parts of carbon black (MA-100, manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) at 150°C and 90 rpm for 1 hour using a kneader mixer (TDR100-3, manufactured by Toshin Co., Ltd.). These were dried at 120°C for 6 hours and then melted at a temperature of 260°C. The resin extruded from the melt extrusion die was extruded in the form of a sheet onto a metal drum maintained at 100°C.
  • a cyclic polyolefin resin 'TOPAS' 6013, Tg 136°C, manufactured by Polyplastics Co., Ltd.
  • MA-100 carbon black
  • MA-100-3 manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.
  • the speed of the metal drum was set to 25 m/min and the resin was wound up to obtain a resin sheet 1.
  • the mold 1 and resin sheet 1 described below were heated at 175° C. for 1 minute, and the mold 1 and resin sheet 1 were pressure-bonded for 30 seconds at a pressure of 2 MPa while maintaining the temperature at 175° C.
  • the mold was released from the resin sheet 1. In this manner, a louver structure layer having a grooved louver structure in which a pattern that is an inverse of the shape of the mold 1 was formed on one side of the resin sheet 1 was produced.
  • Example 19 A display with a laminate was produced in the same manner as in Example 1, except that the width, height and pitch of the louver plates constituting the louver structure were changed as shown in Table 3. Moreover, evaluation was performed in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 3.
  • the displays with the laminate of the Examples were superior in visibility of the displays from oblique viewing angles compared to the displays with the laminate of the Comparative Examples. Furthermore, as shown in Tables 1 to 3, the displays with the laminates of the examples also had excellent visibility from the front.
  • louver plate 10: laminate, 12: light-transmitting portion, 14: louver plate, 16: substrate, 20: display with laminate, 22: louver structure layer, 24: decorative layer, 26: display, W: width of louver plate 14 in the in-plane direction of substrate 16, H: height of louver plate 14 in the thickness direction of substrate 16, P: spacing (pitch) between louver plates 14

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Abstract

ルーバー構造層、及び、加飾層を有する積層体と、上記積層体の上記加飾層側に、ディスプレイとを有し、上記ルーバー構造層におけるルーバー構造が、ストライプ構造であり、上記ストライプ構造のストライプ方向が、上記ディスプレイの横軸方向と略平行に配置されている積層体付きディスプレイ。

Description

積層体付きディスプレイ
　本開示は、積層体付きディスプレイに関する。
　従来のルーバーフィルムとしては、特表２０２０－５０７１２８号公報に記載されたものが知られている。
　特表２０２０－５０７１２８号公報には、第１及び第２の主表面を画定する基材を備える光制御フィルムであって、上記第１の主表面が、上記第１の主表面の法線に対して実質的に垂直な第１の方向に延びる複数のルーバーを含み、上記第２の主表面が、上記第１の方向に延びる複数の直線的微細構造を含む、光制御フィルムが記載されている。
　従来のディスプレイ用加飾材料としては、特開２０２２－９０６３７号公報に記載されたものが知られている。
　特開２０２２－９０６３７号公報には、意匠層と、上記意匠層と積層された透明樹脂層と、を有し、上記意匠層の開口部に光透過部が設けられ、上記透明樹脂層の前記意匠層と反対側の面に凹凸が設けられている加飾シート、及び、これを用いた表示装置が記載されている。
　本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、斜め視野角からの視認性に優れる積層体付きディスプレイを提供することである。
　本開示には、以下の態様が含まれる。
＜１＞　ルーバー構造層、及び、加飾層を有する積層体と、上記積層体の上記加飾層側に、ディスプレイとを有し、上記ルーバー構造層におけるルーバー構造が、ストライプ構造であり、上記ストライプ構造のストライプ方向が、上記ディスプレイの横軸方向と略平行に配置されている積層体付きディスプレイ。
＜２＞　上記ルーバー構造の表面の少なくとも一部が、黒色である＜１＞に記載の積層体付きディスプレイ。
＜３＞　上記ルーバー構造を構成するルーバー板の幅が、１μｍ～５０μｍである＜１＞又は＜２＞に記載の積層体付きディスプレイ。
＜４＞　上記ルーバー構造を構成するルーバー板の高さが、１０μｍ～３００μｍである＜１＞又は＜２＞に記載の積層体付きディスプレイ。
＜５＞　上記ルーバー構造を構成するルーバー板の幅が、１μｍ～５０μｍであり、かつ、上記ルーバー構造の高さが、１０μｍ～３００μｍである＜１＞又は＜２＞に記載の積層体付きディスプレイ。
＜６＞　上記ルーバー構造を構成するルーバー板間のピッチが、２０μｍ～１００μｍである＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の積層体付きディスプレイ。
＜７＞　上記加飾層が、印刷層、コレステリック液晶層、及び、誘電体多層膜よりなる群から選択される少なくとも１種の層である＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の積層体付きディスプレイ。
＜８＞　上記ルーバー構造層と上記加飾層との間に、接着層を更に有する＜１＞～＜７＞のいずれか１つの記載の積層体付きディスプレイ。
＜９＞　上記接着層の厚みが、１０μｍ～１００μｍである＜８＞に記載の積層体付きディスプレイ。
　本開示の一実施形態によれば、斜め視野角からの視認性に優れる積層体付きディスプレイを提供することができる。
図１は、本開示に係る積層体付きディスプレイにおけるルーバー構造の一例を示す模式図である。 図２は、図１に示すルーバー構造のａ－ａ線断面の部分拡大図である。 図３は、加飾層２の形成する際に用いるパターンの模式図である。 図４は、加飾層３の形成する際に用いるパターンの模式図である。 図５は、本開示に係る積層体付きディスプレイの一例を示す断面模式図である。
　以下、本開示について説明する。但し、本開示は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本開示の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施することができる。本開示の実施形態について図面を参照して説明する場合、重複する構成要素及び符号については、説明を省略することがある。図面において同一の符号を用いて示す構成要素は、同一の構成要素であることを意味する。図面における寸法の比率は、必ずしも実際の寸法の比率を表すものではない。
　本開示における基（原子団）の表記について、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
　本開示における「光」とは、活性光線又は放射線を意味する。
　本開示における「活性光線」又は「放射線」とは、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光：Ｅｘｔｒｅｍｅ　Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）、Ｘ線、及び電子線（ＥＢ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｂｅａｍ）等を意味する。
　本開示における「露光」とは、特に断らない限り、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線、Ｘ線、及びＥＵＶ光等による露光のみならず、電子線、及びイオンビーム等の粒子線による露光も含む。
　本開示において、「～」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
　本開示において、（メタ）アクリレートはアクリレート及びメタクリレートを表し、（メタ）アクリルはアクリル及びメタクリルを表す。
　本開示において、樹脂成分の重量平均分子量（Ｍｗ）、樹脂成分の数平均分子量（Ｍｎ）、及び樹脂成分の分散度（分子量分布ともいう）（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ＧＰＣ（Ｇｅｌ　Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ　Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ）装置（東ソー（株）製ＨＬＣ－８１２０ＧＰＣ）によるＧＰＣ測定（溶媒：テトラヒドロフラン、流量（サンプル注入量）：１０μＬ、カラム：東ソー（株）製ＴＳＫ　ｇｅｌ　Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ　ＨＸＬ－Ｍ、カラム温度：４０℃、流速：１．０ｍＬ／分、検出器：示差屈折率検出器（Ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅ　Ｉｎｄｅｘ　Ｄｅｔｅｃｔｏｒ））によるポリスチレン換算値として定義される。
　本開示において組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する該当する複数の物質の合計量を意味する。
　本開示において「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
　本開示において「全固形分」とは、組成物の全組成から溶媒を除いた成分の総質量をいう。また、「固形分」とは、組成物の全組成から溶媒を除いた成分であり、例えば、２５℃において固体であっても、液体であってもよい。
　本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
　また、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
（積層体付きディスプレイ）
　本開示に係る積層体付きディスプレイは、ルーバー構造層、及び、加飾層を有する積層体と、上記積層体の上記加飾層側に、ディスプレイとを有し、上記ルーバー構造層におけるルーバー構造が、ストライプ構造であり、上記ストライプ構造のストライプ方向が、上記ディスプレイの横軸方向と略平行に配置されている。
　本開示に係る積層体付きディスプレイの用途としては、特に制限はなく、例えば、電子デバイス（例えば、ウエアラブルデバイス、及びスマートフォン）、家電製品、オーディオ製品、コンピュータ、車載製品等の表示装置に用いることができる。中でも、本開示に係る積層体付きディスプレイは、自動車等の車載製品の表示装置に好適に用いることができる。
　従来のディスプレイ及び積層体付きディスプレイでは、太陽光などの外光反射により、特に斜め方向から視認した際において、積層体における加飾層が見えにくくなる場合があった。
　本発明者が詳細に検討した結果、上記態様とすることにより、積層体の法線方向に対してディスプレイの横軸方向へ４５°傾斜した視野角（以下、「斜め視野角」ともいう。）からの視認性に優れることを本発明者は見出した。
　本開示に係る積層体付きディスプレイは、ルーバー構造層を有し、上記ルーバー構造層におけるルーバー構造が、ストライプ構造であり、上記ストライプ構造のストライプ方向が、上記ディスプレイの横軸方向と略平行に配置されていることにより、外光の反射による影響を低減させ、例えば、車載製品の表示装置において、運転席又は助手席から視認する場合において、ディスプレイの視認性に大きく影響すると考えられる、斜め視野角からの視認性に優れると推定している。
〔積層体〕
　本開示に係る積層体付きディスプレイは、ルーバー構造層、及び、加飾層を有する積層体を有する。
　また、上記ルーバー構造層におけるルーバー構造が、ストライプ構造であり、上記ストライプ構造のストライプ方向は、上記ディスプレイの横軸方向と略平行となっている。
　本開示におけるストライプ構造とは、図１に示すような直線状の縞構造である。図１中、符号１０は積層体、符号１２は光透過部、符号１４はルーバー板をそれぞれ示す。
　また、ストライプ方向とは、ストライプ構造を構成するための複数のルーバー板の長手方向を指す。
　本開示において、上記ディスプレイの横軸方向と「略平行」とは、上記ディスプレイの横軸方向に対して厳密に平行である状態のみならず、平行方向に対して±５°以下の範囲でずれている状態をも含み、平行方向に対して±４°未満であることが好ましく、平行方向に対して±３°未満であることがより好ましい。
＜ルーバー構造層＞
　上記積層体は、ルーバー構造層を有する。
　本開示におけるルーバー構造層は、ルーバー構造を有する。
　本開示において、ルーバー構造は、複数のルーバー板がルーバー板の幅方向に沿って所望の間隔を空けて縞様に並んだ構造を指す。また、ルーバー構造は、光を少なくとも反射又は吸収する構造部であり、光透過部は、含まないことが好ましい。
　ルーバー構造を構成するルーバー板の幅Ｗ（図２参照）は、透明性、斜め視野角からの視認性、及び、正面からの視認性の観点から、１μｍ～５０μｍであることが好ましく、３μｍ～３０μｍであることがより好ましく、４μｍ～２５μｍであることが更に好ましく、５μｍ～２０μｍであることが特に好ましい。
　ルーバー構造を構成するルーバー板の高さＨ（図２参照）は、斜め視野角からの視認性、及び、正面からの視認性の観点から、５μｍ～５００μｍであることが好ましく、１０μｍ～４００μｍであることがより好ましく、１０μｍ～３００μｍであることが更に好ましく、３０μｍ～３００μｍであることが特に好ましく、５０μｍ～２００μｍであることが最も好ましい。
　また、上記ルーバー構造は、透明性、斜め視野角からの視認性、及び、正面からの視認性の観点から、上記ルーバー構造を構成するルーバー板の幅が、１μｍ～５０μｍであり、かつ、上記ルーバー構造を構成するルーバー板の高さが、１０μｍ～３００μｍであることが好ましく、上記ルーバー構造を構成するルーバー板の幅が、３μｍ～３０μｍであり、かつ、上記ルーバー構造を構成するルーバー板の高さが、１０μｍ～２００μｍであることがより好ましい。
　隣接するルーバー構造間の距離（ピッチ）Ｐは、およそミリメートル又はマイクロメートルのスケール、例えば、１０μｍ～２００μｍ、又は、１０μｍ～１００μｍであってもよい。
　また、ルーバー構造の隣り合うルーバー板間のピッチＰ（図２参照）は、斜め視野角からの視認性、及び、加飾の視認性の観点から、２０μｍ～１００μｍであることが好ましく、３０μｍ～９０μｍであることがより好ましく、３５μｍ～８０μｍであることが特に好ましい。
　上記ルーバー構造層を構成するルーバー板の幅が、１μｍ～５０μｍであり、ルーバー構造の高さが、１０μｍ～３００μｍであり、かつ、ルーバー板間のピッチが、２０μｍ～１００μｍであることが好ましい。
　ルーバー構造を構成するルーバー板の幅方向の断面形状は、特に制限はなく、正方形、長方形、台形、三角形等が挙げられる。中でも、三角形、又は、四角形であることが好ましく、四角形であることがより好ましい。また、断面を形成する辺は、直線、曲線等であってもよい。
　ルーバー構造として、具体的には、図１に示すようなストライプ構造が好適に挙げられる。
　また、図２は、図１に示すルーバー構造のａ－ａ線断面の部分拡大図である。
　図２におけるＷは、ルーバー板１４の基材１６の面内方向における幅（基材１６の面内方向におけるルーバー板１４の短手方向の長さ）を表し、Ｈは、ルーバー板１４の基材１６の厚さ方向における高さを表し、Ｐはルーバー板１４間の間隔（ピッチ）を表す。
　また、本開示において、ルーバー板１４のアスペクト比は、ルーバー板１４の高さＨ／ルーバー板１４の幅Ｗの値を表す。
　ルーバー構造を構成するルーバー板の底辺部の幅に対する高さの比率で定義されるアスペクト比は、斜め視野角からの視認性、及び、正面からの視認性の観点から、０．５～１００であることが好ましく、１～８０であることがより好ましく、２～５０であることが更に好ましく、５～２０が特に好ましい。
　ルーバー構造におけるルーバー板の密度は、ルーバー構造層の１％～３０％が好ましく、２％～２０％がより好ましく、３％～１８％が更に好ましく、５％～１５％が特に好ましい。ここでの密度とは、ルーバー構造層の面積に対する、ルーバー構造を構成するルーバー板の底面の合計面積の比率を意味する。
　ルーバー構造の面内方向の熱伝導率は、３Ｗ／ｍＫ以上であることが好ましいが、ルーバー構造のストライプ方向と平行方向の軸における面内方向の熱伝導率（Κｐ）が、１０Ｗ／ｍＫ以上であることが好ましく、２０Ｗ／ｍＫ以上であることがより好ましく、３０Ｗ／ｍＫ以上であることが更に好ましく、５０Ｗ／ｍＫ以上であることが特に好ましい。ルーバーの材質として、熱伝導率の高い材料を含むことで、ルーバー構造のストライプ方向と平行方向の軸における熱伝導率（Κｐ）が高く維持できる。なお、特に上限値は設定されないが、面内の温度均一性を高める観点からは、２００Ｗ／ｍＫ以下であることが好ましい。
　ルーバー構造の材質は、特に制限はないが、無機酸化物、又は、金属材料であることが好ましく、金属材料であることがより好ましい。
　金属材料としては、Ｎｉ，Ｚｒ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｐｄ、Ｐｔ及びＡｕよりなる群から選ばれた少なくとも１種を含むことが好ましく、Ｃｕ又はＡｇを含むことがより好ましく、Ｃｕを含むことが特に好ましい。
　また、ルーバー構造のストライプ方向と直交する幅方向の軸における面内方向の熱伝導率（Ｋｖ）は、０．２Ｗ／ｍＫ以上であることが好ましく、０．５Ｗ／ｍＫ以上であることがより好ましく、１Ｗ／ｍＫ以上であることが更に好ましく、２Ｗ／ｍＫ以上であることが特に好ましい。ルーバーの構造間を充填する材質として、熱伝導率の高い材料を含むことで、ルーバー構造の長辺方向と垂直方向の軸における熱伝導率（Ｋｖ）が高く維持できる。なお、特に上限値は設定されないが、面内の温度均一性を高める観点からは、５０Ｗ／ｍＫ以下であることが好ましい。
　ルーバー構造の「ストライプ方向と直交する幅方向」とは、ルーバー構造のストライプ方向に対して厳密に垂直である状態のみならず、±５°以下の範囲でずれている状態をも含み、±４°未満であることが好ましく、±３°未満である。
　上記ルーバー構造は、視野角制御性、ルーバー構造の視認抑制性、斜め視野角からの視認性、及び、正面からの視認性の観点から、表面の少なくとも一部が黒色であることが好ましく、ディスプレイ側の表面以外の表面が黒色であることがより好ましい。
　上記ルーバー構造の表面を黒色にする方法としては、特に制限はないが、公知の金属の黒化処理方法を用いることができ、例えば、金属表面の、酸化、窒化、硫化、セレン化、テルル化、ハロゲン化若しくは合金化、又は、金属表面の粗面化等が挙げられる。
　中でも、金属表面を酸化、窒化又は硫化して黒化する方法が好適に挙げられる。すなわち、視野角制御性及びルーバー構造の視認抑制性の観点から、上記ルーバー構造の表面の少なくとも一部が、金属酸化物、金属窒化物、及び、金属硫化物よりなる群から選ばれた化合物を含むことが好ましい。
　また、上記ルーバー構造の表面を合金化させたり、表面粗面化して黒化する方法も挙げることができる。
　また、上記ルーバー構造を構成するルーバー板の幅や厚みによるが、放熱性及びルーバー構造の視認抑制性の観点から、黒化処理される厚さは、上記ルーバー構造の表面から、１ｎｍ～３，０００ｎｍであることが好ましく、２ｎｍ～１，５００ｎｍであることがより好ましく、５ｎｍ～１，０００ｎｍであることが更に好ましく、１０ｎｍ～５００ｎｍであることが特に好ましい。
　また、黒化処理されない上記ルーバー構造を構成するルーバー板（好ましくは金属部分）の厚さは、０．５μｍ～５０．０μｍであることが好ましく、１．０μｍ～３０．０μｍであることがより好ましく、３．０μｍ～１０．０μｍであることが更に好ましい。
　上記ルーバー構造及び後述する光透過部は、ルーバー構造の全面に有していても、一部に有していてもよい。例えば、積層体の面方向の周縁部が、遮光部であってもよい。
－光透過部－
　上記ルーバー構造層は、ルーバー構造を構成するルーバー板間に、光透過部を有する。
　本開示に係る光透過部とは、可視光が透過する部分のことを示し、４００ｎｍ～７００ｎｍの波長の光に対し、５０％以上の透過率を有することが好ましい。
　光透過部は、上記加飾層の少なくとも一方の面において、何も設けられていない部分であっても、バインダーによりルーバー板間を埋めた部分であってもよいが、放熱性の観点から、何も設けられていない部分、すなわち、上記加飾層の少なくとも一方の面において、光吸収部が設けられていない空気部分であることが好ましい。
　例えば、上記空気部分の一例としては、図２の光透過部１２として示されているように、ルーバー板１４の設けられていない各ルーバー板１４の間の部分が挙げられる。
　光透過部に用いられるバインダーとしては、特に制限はないが、例えば、エラストマー樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル－スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）などの汎用樹脂を用いることができる。また、ポリフェニレンオキシド・ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアセタール系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート変性ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、超高分子量ポリエチレン樹脂などの汎用エンジニアリング樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、ポリフェニレンオキシド系樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリイミド樹脂、液晶ポリエステル樹脂、ポリアリル系耐熱樹脂などのスーパーエンジニアリング樹脂などが挙げられる。
　光透過部は、紫外線などの光で硬化させてなるものであってもよい。例えば、反応性希釈モノマー（Ｍ１）及び光重合開始剤（Ｓ１）を配合した光硬化型樹脂組成物を硬化させてなるものが好ましく挙げられ、光硬化型プレポリマー（Ｐ１）、反応性希釈モノマー（Ｍ１）及び光重合開始剤（Ｓ１）を配合した光硬化型樹脂組成物を硬化させてなるものがより好ましく挙げられる。
　上記光硬化型プレポリマー（Ｐ１）としては、例えば、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリエーテルアクリレート系、ポリエステルアクリレート系、ポリチオール系等のプレポリマーを挙げることができる。
　上記反応性希釈モノマー（Ｍ１）としては、例えば、ビニルピロリドン、２－エチルヘキシルアクリレート、β－ヒドロキシアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート等を挙げることができる。
　上記光重合開始剤（Ｓ１）としては、例えば、ヒドロキシベンゾイル化合物（２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインアルキルエーテル等）、ベンゾイルホルメート化合物（メチルベンゾイルホルメート等）、チオキサントン化合物（イソプロピルチオキサントン等）、ベンゾフェノン（ベンゾフェノン等）、リン酸エステル化合物（１，３，５－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキシド等）、ベンジルジメチルケタール等が挙げられる。
　なお、上記光重合開始剤（Ｓ１）は、光硬化型樹脂組成物全量を基準（１００質量％）として、０．５質量％以上５．０質量％以下含まれていることが好ましい。
　これらの光硬化型プレポリマー（Ｐ１）、反応性希釈モノマー（Ｍ１）及び光重合開始剤（Ｓ１）はそれぞれ、１種あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
　また必要に応じて、光硬化型樹脂組成物中に、塗膜の改質や塗布適性、金型からの離型性を改善させるため、種々の添加剤としてシリコーン系添加剤、レオロジーコントロール剤、脱泡剤、離型剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤等を添加することも可能である。
　また、光透過部は、上記バインダーに加え、放熱性の観点から、熱伝導フィラーを更に含むことが好ましい。
　熱伝導性フィラーとしては、非導電性であっても、導電性であってもよいが、非導電性であることが好ましい。非導電性の熱伝導性フィラーを使用することによって絶縁性の低下が抑制される傾向にある。
　非導電性の熱伝導性フィラーとしては、アルミナ（酸化アルミニウム）、窒化ホウ素、窒化ケイ素、シリカ（酸化ケイ素）、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム、窒化アルミニウム等が挙げられる。また、導電性の熱伝導性フィラーとしては、黒鉛、金、銀、ニッケル、銅等が挙げられる。熱伝導性フィラーは、黒鉛、窒化ホウ素、アルミナ、窒化アルミニウム及びシリカよりなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。中でも熱伝導率とコストの観点から、熱伝導性フィラーとして、窒化ホウ素及び黒鉛よりなる群から選択される少なくとも１種を含むことがより好ましい。
　熱伝導性フィラーは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
　熱伝導性フィラーは、透明性の観点から、体積平均粒子径０．００１μｍ～５μｍであることが好ましく、体積平均粒子径０．００５μｍ～０．５μｍであることがより好ましく、０．０１０μｍ～０．３μｍであることが特に好ましい。
　また、熱伝導性フィラーは、バインダーの添加量全体に対して、１０体積％～９０体積％含むことが好ましく、２０体積％～８０体積％含むことがより好ましい。
　ルーバー構造の作製方法は、特に制限はないが、サブトラクティブ法、セミアディティブ法（ＳＡＰ）、モディファイドセミアディティブ法（ＭＳＡＰ）、フルアディティブ法（ＦＡＰ）などの方法を用いて製造することが好ましく、サブトラクティブ法を用いて製造することがより好ましい。
－サブトラクティブ法－
　サブトラクティブ法を用いる場合、導電層つき基材を用いる。導電層付き基材は、絶縁性の基材を用いることが好ましい。基材には、例えば、ポリイミド樹脂、液晶ポリマー、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、フッ素樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等の可撓性を有する樹脂、紙フェノール、紙エポキシ、ガラスコンポジット、ガラスエポキシ、テフロン（登録商標）、ガラス基材等のリジッド材、硬質材料と軟質材料とを複合したリジッドフレキシブル材等を用いることが可能である。これらの中でも、導電層を構成する金属との結合力が大きいことから、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、及び、ポリイミド樹脂よりなる群から選ばれた少なくとも１種の樹脂を用いることが好ましい。
　上記導電層つき基材における基材の厚みは、特に限定されないが、例えば平均厚みの下限としては、５μｍが好ましく、１２μｍがより好ましい。一方、基材の平均厚みの上限としては、２ｍｍが好ましく、１．６ｍｍがより好ましい。
　導電層は、あらかじめ、導電層と絶縁性基材とが積層された、銅張り積層板等を用いることができる。例えば、ユピセルＮ（宇部興産（株）製）等が挙げられる。
　導電パターンを形成方法としては、例えば、以下に示す方法が挙げられる。先ず、導電層つき基材（例えば、導電層つき樹脂基材）の導電層状に、感光性のレジストを被覆形成する。次に、ルーバー構造のパターンに対応したマスク越しに、露光、現像等により、レジスト層のパターニングを行う。次に、電解メッキ処理を行い、レジストの無い部分の銅を膜厚方向に成長させる。次に、レジストをマスクとしてエッチングにより導電パターン以外の部分の導電層を除去する。そして最後に、残ったレジストを除去することにより、ルーバー状導電パターンが基材上に形成される。
－黒化処理－
　上記ルーバー構造は、黒化処理を行うことが好ましい。黒化とは、金属表面を変質及び／又は変形させ、金属光沢を低減することをいう。
　なお、黒化工程においては、ルーバー構造の表面の少なくとも一部を黒化すればよい。
　黒化の方法としては、特に限定されないが、金属を酸化させたり、窒化させたり、硫化させたり、塩化させたり、合金化させたり、表面粗面化する方法を挙げることができる。中でも、黒化処理液を用いてルーバー構造を黒化する方法が好ましい。
　黒化工程においては、ルーバー構造の表面を酸化、窒化、硫化及び／又は塩素化して黒化することが好ましい。
　金属として銅を用いた場合は、酸化又は硫化して黒化することがより好ましく、酸化して黒化することが更に好ましい。
　金属として銀を用いた場合は、硫化又は塩素化して黒化することがより好ましく、硫化して黒化することが更に好ましい。
　本発明に用いられる黒化処理液としては、黒化可能であれば特に制限はなく、公知の黒化処理液を用いることができ、また、市販されている黒化処理液を用いることもできる。
　また、黒化工程後、必要に応じて、洗浄工程等を行ってもよい。
　酸化による黒化とは、金属表面を酸化皮膜にしたもので、これにより金属光沢を抑えることができる。中には、表面形状が針のように変化した態様もある。
　酸化方法としては、例えば、亜塩素酸ナトリウム及び水酸化ナトリウムの水溶液で処理することにより銅を酸化することができる。この液の濃度は、亜塩素酸ナトリウム：水酸化ナトリウム＝２０：１～２：１程度、水酸化ナトリウム濃度が４ｇ／Ｌ～２０ｇ／Ｌであることが好ましい。銅をこのような水溶液で処理することで、ＣｕＯ及び／又はＣｕ２Ｏを形成し、表面を黒化することができる。
　窒化による黒化とは、金属表面を窒化皮膜にしたもので、これにより金属光沢を抑えられる。
　硫化による黒化とは、金属表面を硫化皮膜にしたものであり、これにより金属光沢を抑えられる。
　例えば、硫化ナトリウム水溶液で処理することにより、銀や銅などを硫化することができる。また、気相処理方法としては、硫化水素による処理により硫化する方法も挙げられる。
　塩素化による黒化とは、金属表面を塩素化皮膜にしたものであり、これにより金属光沢を抑えられる。
　黒化工程は、黒化処理液を、ルーバー構造に浸漬及び付着する処理液付与工程と、黒化処理液により、ルーバー構造を黒化処理する黒化処理工程と、黒化処理液を除去する処理液除去工程と、を含むことは好ましい。黒化処理液には、酸化剤、硫化剤、窒化剤、又は、塩素化剤を含有することが好ましい。また、黒化処理液は、水性処理液であっても、有機溶剤溶液であってもよいが、水性処理液であることが好ましい。
　黒化処理液は、他の添加剤を含有していてもよい。
　他の添加剤としては、酸化、硫化、窒化、又は、塩素化助剤や、粘度調整剤、界面活性剤、ｐＨ調整剤等が挙げられる。
　粘度調整剤としては、高分子化合物や多価アルコール等が挙げられるが、黒化処理液が水性処理液である場合、水溶性高分子、及び／又は、多価アルコールが好ましく挙げられる。
　黒化処理液は、粘度調整の観点から、多価アルコール及び／又は高分子を少なくとも含有することがより好ましい。
　水溶性高分子としては、大豆多糖類、変性澱粉、アラビアガム、デキストリン、繊維素誘導体（例えば、カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース等）及びその変性体、プルラン、ポリビニルアルコール及びその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド及びアクリルアミド共重合体、ビニルメチルエーテル／無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル／無水マレイン酸共重合体、スチレン／無水マレイン酸共重合体などが挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。
　多価アルコールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリエチレングリコール、ブチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ジグリセリン等が好適に用いられる。中でも、グリセリンが特に好ましい。
　粘度調整剤は、１種単独で用いてもよいが、２種以上併用してもよい。
　粘度調整剤の含有量は、黒化処理液の全質量に対して、０．００１質量％～１０質量％であることが好ましく、０．０１～５質量％であることがより好ましい。
　黒化処理液は、塗布性改良の観点から、界面活性剤を含有することができる。
　界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤やシリコーン系界面活性剤を好ましく例示することができる。
　界面活性剤は、１種単独で用いてもよいが、２種以上併用してもよい。
　界面活性剤の含有量は、黒化処理液の全質量に対して、０．００１質量％～１０質量％であることが好ましく、０．０１質量％～２質量％であることがより好ましい。
＜加飾層＞
　上記積層体は、加飾層を有する。
　加飾層としては、後述する、反射層、又は、印刷層が好適に挙げられる。
　反射層としては、液晶層、誘電体多層膜等が挙げられる。
　液晶層としては、コレステリック液晶層が好ましく挙げられる。
　誘電体多層膜としては、有機多層膜層、及び、無機多層膜層が挙げられる。
　中でも、意匠性の観点から、印刷層、コレステリック液晶層、及び、誘電体多層膜よりなる群から選択される少なくとも１種の層であることが好ましく、コレステリック液晶層であることがより好ましい。
－印刷層－
　印刷層とは、画像パターンを印刷した層であり、公知の印刷方法により形成された層である。印刷方法としては、例えば、インクジェット印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、グラビア印刷等が挙げられる。印刷層の形成方法の一例としては、ＵＶインクジェットプリンター、例えば富士フイルム（株）製Ａｃｕｉｔｙ（登録商標）１６００等を用いて印刷することができる。上記印刷層の厚みは、特に制限はないが、０．１μｍ～５０μｍであることが好ましい。
　ディスプレイの透過性の観点から、印刷層は、厚み方向において光を透過する透光部を有する印刷層であることが好ましい。
　上記透光部は、上記印刷層の厚み方向において、波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの範囲の光の透過率が、８０％であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが特に好ましい。
－反射層－
　反射層は、波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの範囲の少なくとも一部の光を選択的に反射する層であることが好ましい。
　反射層の例としては、特に制限はないが、有機多層膜層、無機多層膜層、コレステリック液晶層等が好適に挙げられる。中でも、無機多層膜層、又は、コレステリック液晶層がより好ましく、コレステリック液晶層が特に好ましい。
　反射層における最大積分反射率を示すピークの半値幅を好ましい範囲に拡大してもよい。反射層における最大積分反射率を示すピークの半値幅を好ましい範囲に拡大する方法としては、反射層として、コレステリック液晶化合物層の数及び膜厚が異なることによりコレステリック液晶構造の螺旋ピッチの異なる反射膜を複数積層する方法、反射層の層厚方向において、コレステリック液晶構造の螺旋ピッチが変化、好ましくはグラデーション状に変化している反射層とする方法が挙げられる。
　中でも、反射層として、コレステリック液晶化合物層の数及び膜厚が異なることによりコレステリック液晶構造の螺旋ピッチの異なる反射膜を複数積層する方法、反射層の層厚方向において、コレステリック液晶構造の螺旋ピッチが変化、好ましくはグラデーション状に変化している反射層とする方法が好ましく挙げられ、反射層の層厚方向において、コレステリック液晶構造の螺旋ピッチが変化、好ましくはグラデーション状に変化している反射層とする方法がより好ましく挙げられる。
　また、上記反射層は、ディスプレイ表示の視認性の観点から、コレステリック液晶化合物を含むことが好ましい。
　更に、上記反射層は、ディスプレイ表示の視認性、加飾の視認性、及び、視認角度による色味変化抑制の観点から、厚さ方向において、コレステリック液晶構造の螺旋ピッチが変化している部分を有することが特に好ましい。
　コレステリック液晶構造の螺旋ピッチの変化、好ましくはグラデーション変化を起こす手段としては、低温での露光を行い感光性カイラル剤の拡散を防ぐ手段、光重合開始剤の活性化を制御し、コレステリック液晶化合物がグラデーション状に配向する時間を適切に保つ手段等が好ましく挙げられる。
＜＜有機多層膜層＞＞
　有機多層膜層としては、屈折率の高い樹脂層（層Ａ）と屈折率の低い樹脂層（層Ｂ）とを積層した構造を有する層が好適に挙げられる。
　淡い色調の視認性、及び、視認角度による色味変化抑制の観点から、上記層Ｂは、上記層Ａよりも、屈折率が０．１以上低い層であることが好ましく、屈折率が０．１５以上低い層であることがより好ましく、屈折率が０．２以上低い層であることが更に好ましく、屈折率が０．２５以上低い層であることが特に好ましく、屈折率が０．２５以上０．６０以下低い層であることが最も好ましい。
　上記層Ａの屈折率は、淡い色調の視認性、及び、視認角度による色味変化抑制の観点から、１．５以上であることが好ましく、１．６以上であることがより好ましく、１．６５以上であることが更に好ましく、１．７０以上であることが特に好ましい。また、上限は、２．３以下であることが好ましく、１．９以下であることがより好ましい。
　上記層Ｂの屈折率は、淡い色調の視認性、及び、視認角度による色味変化抑制の観点から、１．５以下であることが好ましく、１．５未満であることがより好ましく、１．４以下であることが更に好ましく、１．３５以下であることが特に好ましく、１．３２以下であることが最も好ましい。また、下限は、１．１以上であることが好ましく、１．２以上であることがより好ましく、１．２８以上であることが特に好ましい。
　上記層Ａ及び層Ｂ等の各層に用いられる樹脂としては、特に制限はないが、例えば、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。
　有機多層膜層における積層数は、２層以上であれば特に制限はないが、好ましくは２層～２０層、より好ましくは４層～１６層、更に好ましくは６層～１４層である。
　上記層Ａ及び上記層Ｂの厚さはそれぞれ独立に、淡い色調の視認性、及び、視認角度による色味変化抑制の観点から、５０ｎｍ～１，０００ｎｍであることが好ましく、８０ｎｍ～８００ｎｍであることがより好ましく、１００ｎｍ～５００ｎｍであることが更に好ましく、１００ｎｍ～３００ｎｍであることが特に好ましい。
＜＜無機多層膜層＞＞
　無機多層膜層としては、２種の無機化合物を交互に積層した構造を有する層が好適に挙げられる。
　また、淡い色調の視認性、及び、視認角度による色味変化抑制の観点から、２種の無機化合物は、屈折率の異なる化合物であることが好ましい。
　無機化合物としては、例えば、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ガリウム、酸化タングステン、酸化マグネシウム、フッ化バリウム、フッ化カルシウム、フッ化セリウム、フッ化ランタン、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化マグネシウム、フッ化ネオジム、フッ化イッテルビウム、フッ化イットリウム、フッ化ガドリニウム、炭酸カルシウム、臭化カリウム、一酸化チタン、二酸化チタン、五酸化ニオブ、酸化クロム、酸化セリウム、シリコン、ガリウム砒素などが挙げられる。
　中でも、２種の無機化合物としては、淡い色調の視認性、及び、視認角度による色味変化抑制の観点から、無機酸化物の組み合わせが好ましく、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）又は二酸化チタン（ＴｉＯ２）と、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）又は酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）との組み合わせがより好ましく、五酸化ニオブと、二酸化ケイ素との組み合わせが特に好ましい。
　無機多層膜層における積層数は、２層以上であれば特に制限はないが、好ましくは２層～２０層、より好ましくは４層～１６層、更に好ましくは６層～１４層である。
　無機多層膜層における各層の厚さはそれぞれ独立に、淡い色調の視認性、及び、視認角度による色味変化抑制の観点から、５０ｎｍ～１，０００ｎｍであることが好ましく、８０ｎｍ～８００ｎｍであることがより好ましく、１００ｎｍ～５００ｎｍであることが更に好ましく、１００ｎｍ～３００ｎｍであることが特に好ましい。
＜＜コレステリック液晶層＞＞
　反射層は、コレステリック液晶層であることが好ましい。コレステリック液晶層は、コレステリック液晶相を含む層である。コレステリック液晶相は、公知の手段（例えば、偏光顕微鏡及び走査型電子顕微鏡）によって確認される。
　コレステリック液晶相は、複数の液晶化合物が螺旋状に並ぶことによって形成されることが知られている。コレステリック液晶相における液晶化合物の配向状態は、右円偏光、左円偏光又は右円偏光及び左円偏光の両方を反射する配向状態であってもよい。コレステリック液晶相における液晶化合物の配向状態は、固定化されていてもよい。液晶化合物の配向状態は、例えば、液晶化合物の重合又は架橋によって固定化される。配向状態が固定化された液晶化合物の一部又は全部において、液晶化合物の液晶性は失われてもよい。
　コレステリック液晶層は、加飾層の意匠に寄与する。例えば、加飾層の色及び観察角度に応じた加飾層の色の変化の度合いは、コレステリック液晶相における螺旋ピッチ、コレステリック液晶層の屈折率及びコレステリック液晶層の厚さによって調整される。螺旋ピッチは、カイラル剤の添加量によって調整されてもよい。螺旋構造とカイラル剤との関係は、例えば、「富士フイルム研究報告、Ｎｏ．５０（２００５年）、ｐ．６０－６３」に記載されている。また、螺旋ピッチは、コレステリック液晶相を固定する際の温度、照度及び照射時間といった条件によって調整されてもよい。
　上記加飾層は、２つ以上のコレステリック液晶層を含んでもよい、２つ以上のコレステリック液晶層の組成は、同じであっても互いに異なっていてもよい。
　反射率の観点から、コレステリック液晶層の厚さは、０．３μｍ～１５μｍであることが好ましく、０．５μｍ～９μｍであることがより好ましく、０．６μｍ～７μｍであることが更に好ましい。加飾層が２つ以上のコレステリック液晶層を含む場合、２つ以上のコレステリック液晶層の厚さは、それぞれ独立に、既述した範囲内であることが好ましい。
　コレステリック液晶層の成分は、例えば、目的とするコレステリック液晶層の特性に応じて、公知のコレステリック液晶層の成分から選択される。コレステリック液晶層の成分としては、例えば、後述する液晶組成物の成分が挙げられる。ただし、コレステリック液晶層が液晶組成物の硬化を経て形成される場合、液晶組成物における重合性化合物の一部又は全部は、コレステリック液晶層において重合体（オリゴマーを含む。）を形成してもよい。重合性化合物としては、例えば、重合性基を有する化合物が挙げられる。
　コレステリック液晶層は、液晶化合物を含む組成物（以下、「液晶組成物」という場合がある。）を硬化してなる層であることが好ましい。以下、液晶組成物の態様を具体的に説明する。
　液晶組成物は、液晶化合物を含む。液晶化合物の種類は、例えば、目的とするコレステリック液晶層の特性に応じて、コレステリック液晶性を有する公知の化合物（すなわち、コレステリック液晶化合物）から選択されてもよい。液晶化合物としては、例えば、エチレン性不飽和基及び環状エーテル基からなる群より選択される少なくとも１種を有する液晶化合物が挙げられる。成型性の向上の観点から、液晶化合物は、エチレン性不飽和基を１つ有するか又は環状エーテル基を１つ有するコレステリック液晶化合物（以下、「特定液晶化合物」という場合がある。）を含むことが好ましい。
　特定液晶化合物におけるエチレン性不飽和基としては、例えば、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、ビニルエステル基及びビニルエーテル基が挙げられる。反応性の観点から、エチレン性不飽和基は、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基又はビニル基であることが好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基又は（メタ）アクリルアミド基であることがより好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基であることが更に好ましく、アクリロイルオキシ基であることが特に好ましい。
　特定液晶化合物における環状エーテル基としては、例えば、エポキシ基及びオキセタニル基が挙げられる。反応性の観点から、環状エーテル基は、エポキシ基又はオキセタニル基であることが好ましく、オキセタニル基であることがより好ましい。
　反応性の向上の観点から、液晶化合物は、１つのエチレン性不飽和基を有する液晶化合物を含むことが好ましい。更に、液晶組成物の固形分の総量に対する１つのエチレン性不飽和基を有する液晶化合物の総量の割合は、２５質量％以上であることが好ましい。
　分子内に含まれるエチレン性不飽和基の数が１つである場合、特定液晶化合物は、エチレン性不飽和基以外の官能基（例えば、重合性基）を有してもよい。例えば、１つのエチレン性不飽和基を有する液晶化合物は、１つ以上の環状エーテル基を有してもよい。
　分子内に含まれる環状エーテル基の数が１つである場合、特定液晶化合物は、環状エーテル基以外の官能基（例えば、重合性基）を有してもよい。例えば、１つの環状エーテル基を有する液晶化合物は、１つ以上のエチレン性不飽和基を有してもよい。
　液晶化合物は、１つのエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しない液晶化合物、１つの環状エーテル基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を有しない液晶化合物又は１つのエチレン性不飽和基と１つの環状エーテル基とを有する液晶化合物を含むことが好ましい。更に、液晶化合物は、１つのエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しない液晶化合物を含むことが好ましい。
　特定液晶化合物は、棒状液晶化合物又は円盤状液晶化合物であってもよい。コレステリック液晶相における螺旋ピッチの調整容易性の観点から、棒状液晶化合物が好ましい。
　好ましい棒状液晶化合物としては、例えば、アゾメチン系化合物、アゾキシ系化合物、シアノビフェニル系化合物、シアノフェニルエステル、安息香酸エステル、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル、シアノフェニルシクロヘキサン系化合物、シアノ置換フェニルピリミジン系化合物、アルコキシ置換フェニルピリミジン系化合物、フェニルジオキサン系化合物、トラン系化合物及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル系化合物が挙げられる。棒状液晶化合物は、低分子化合物に限られず、高分子化合物であってもよい。
　棒状液晶化合物は、例えば、「Ｍａｋｒｏｍｏｌ．　Ｃｈｅｍ．，　１９０巻、２２５５頁（１９８９年）」、「Ａｄｖａｎｃｅｄ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ　５巻、１０７頁（１９９３年）」、米国特許第４６８３３２７号明細書、米国特許第５６２２６４８号明細書、米国特許第５７７０１０７号明細書、国際公開第９５／２２５８６号、国際公開第９５／２４４５５号、国際公開第９７／００６００号、国際公開第９８／２３５８０号、国際公開第９８／５２９０５号、特開平１－２７２５５１号公報、特開平６－１６６１６号公報、特開平７－１１０４６９号公報、特開平１１－８００８１号公報及び特開２００１－３２８９７３号公報に記載された、１つのエチレン性不飽和基を有する化合物及び１つの環状エーテル基を有する化合物から選択されてもよい。好ましい棒状液晶化合物は、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報及び特開２００７－２７９６８８号公報に記載された、１つのエチレン性不飽和基を有する化合物及び１つの環状エーテル基を有する化合物から選択されてもよい。
　好ましい円盤状液晶化合物は、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報及び特開２０１０－２４４０３８号公報に記載された、１つのエチレン性不飽和基を有する化合物及び１つの環状エーテル基を有する化合物から選択されてもよい。
　特定液晶化合物の具体例を以下に示す。ただし、特定液晶化合物の種類は、以下の具体例に制限されるものではない。
　液晶組成物は、１種又は２種以上のコレステリック液晶化合物を含んでもよい。
　熱耐久性の向上の観点から、液晶組成物の固形分の総量に対する特定液晶化合物の総量の割合は、２５質量％以上であることが好ましく、３０質量％以上であることがより好ましく、４０質量％以上であることが更に好ましい。更に、液晶組成物の固形分の総量に対する特定液晶化合物の総量の割合は、６０質量％～９９質量％であることが好ましく、８０質量％～９８質量％であることがより好ましい。
　液晶組成物は、他の液晶化合物を含んでもよい。他の液晶化合物とは、特定液晶化合物以外の液晶化合物を意味する。他の液晶化合物としては、例えば、エチレン性不飽和基及び環状エーテル基を有しない液晶化合物、２つ以上のエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しない液晶化合物、２つ以上の環状エーテル基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を有しない液晶化合物及び２つ以上のエチレン性不飽和基及び２つ以上の環状エーテル基を有する液晶化合物が挙げられる。
　、他の液晶化合物は、エチレン性不飽和基及び環状エーテル基を有しない液晶化合物、２つ以上のエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しない液晶化合物及び２つ以上の環状エーテル基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を有しない液晶化合物からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。他の液晶化合物は、エチレン性不飽和基及び環状エーテル基を有しない液晶化合物、２つのエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しない液晶化合物、及び、２つの環状エーテル基を有し、
かつ、エチレン性不飽和基を有しない液晶化合物からなる群より選択される少なくとも１種であることがより好ましい。他の液晶化合物は、エチレン性不飽和基及び環状エーテル基を有しない液晶化合物及び２つのエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しない液晶化合物からなる群より選択される少なくとも１種であることが更に好ましい。
　他の液晶化合物における棒状液晶化合物は、例えば、「Ｍａｋｒｏｍｏｌ．　Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）」、「Ａｄｖａｎｃｅｄ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ
　５巻、１０７頁（１９９３年）」、米国特許第４６８３３２７号明細書、米国特許第５６２２６４８号明細書、米国特許第５７７０１０７号明細書、国際公開第９５／２２５８６号、国際公開第９５／２４４５５号、国際公開第９７／００６００号、国際公開第９８／２３５８０号、国際公開第９８／５２９０５号、特開平１－２７２５５１号公報、特開平６－１６６１６号公報、特開平７－１１０４６９号公報、特開平１１－８００８１号公報及び特開２００１－３２８９７３号公報に記載された化合物から選択されてもよい。他の液晶化合物における好ましい棒状液晶化合物は、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報及び特開２００７－２７９６８８号公報に記載された化合物から選択されてもよい。
　他の液晶化合物における好ましい円盤状液晶化合物は、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報又は特開２０１０－２４４０３８号公報に記載された化合物から選択されてもよい。
　他の液晶化合物の具体例を以下に示す。ただし、他の液晶化合物の種類は、以下の具体例に制限されるものではない。
　液晶組成物は、１種又は２種以上の他の液晶化合物を含んでもよい。
　液晶組成物の固形分の総量に対する他の液晶化合物の総量の割合は、７０質量％以下であることが好ましく、５０質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以下であることが更に好ましく、２０質量％以下であることが特に好ましい。なお、上記した割合の下限は、０質量％である。
　液晶組成物は、１種又は２種以上の液晶化合物を含んでもよい。液晶組成物は、特定液用化合物と、他の液晶化合物と、を含んでもよい。
　液晶組成物の固形分の総量に対する液晶化合物の総量の割合は、２５質量％以上であることが好ましく、３０質量％以上であることがより好ましく、４０質量％以上であることが更に好ましい。更に、液晶組成物の固形分の総量に対する液晶化合物の総量の割合は、６０質量％～９９質量％であることが好ましく、８０質量％～９８質量％であることがより好ましい。
－カイラル剤－
　コレステリック液晶層形成の容易性及び螺旋ピッチの調整容易性の観点から、液晶組成物は、カイラル剤（すなわち、光学活性化合物）を含むことが好ましい。
　カイラル剤の種類は、例えば、液晶化合物の種類及び目的の螺旋構造（例えば、螺旋のよじれ方法及び螺旋ピッチ）に応じて決定されてもよい。カイラル剤としては、例えば、公知の化合物（例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章４－３項、ＴＮ（twisted nematic）、ＳＴＮ（Super-twisted nematic）用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９に記載された化合物）、イソソルビド誘導体及びイソマンニド誘導体が挙げられる。
　カイラル剤は、一般に不斉炭素原子を含む。ただし、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物及び面性不斉化合物をカイラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物又は面性不斉化合物の例には、ビナフチル化合物、ヘリセン化合物又はパラシクロファン化合物が好ましく挙げられる。
　熱耐久性の向上の観点から、液晶組成物は、重合性基を有するカイラル剤を含んでもよい。反応性及び熱耐久性の向上の観点から、重合性基は、エチレン性不飽和基又は環状エーテル基であることが好ましく、エチレン性不飽和基であることがより好ましい。カイラル剤におけるエチレン性不飽和基の好ましい態様は、既述した特定液晶化合物におけるエチレン性不飽和基の好ましい態様と同じである。カイラル剤における環状エーテル基の好ましい態様は、既述した特定液晶化合物における環状エーテル基の好ましい態様と同じである。
　カイラル剤が重合性基を有する場合、反応性及び熱耐久性の向上の観点から、カイラル剤における重合性基の種類は、特定液晶化合物における重合性基の種類と同じであることが好ましい。更に、カイラル剤における重合性基は、特定液晶化合物における重合性基と同じであることが好ましい。
　重合性基を有するカイラル剤は、１つのエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しないカイラル剤、１つの環状エーテル基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を有しないカイラル剤又は１つのエチレン性不飽和基と１つの環状エーテル基とを有するカイラル剤を含むことが好ましい。更に、重合性基を有するカイラル剤は、１つのエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しないカイラル剤を含むことが好ましい。
　カイラル剤は、液晶化合物であってもよい。
－－感光性カイラル剤－－
　コレステリック液晶層又は反射層は、感光性カイラル剤を含むことが好ましい。
　光照射により螺旋誘起力が変化する感光性カイラル剤について詳述する。
　なお、カイラル剤の螺旋誘起力（ＨＴＰ）は、下記式（Ａ）で表される螺旋配向能力を示すファクターである。
　式（Ａ）　ＨＴＰ＝１／（螺旋ピッチの長さ（単位：μｍ）×液晶化合物に対するカイラル剤の濃度（質量％））［μｍ－１］
　螺旋ピッチの長さとは、コレステリック液晶相の螺旋構造のピッチＰ（＝螺旋の周期）の長さをいい、液晶便覧（丸善株式会社出版）の１９６ページに記載の方法で測定できる。
　光照射により螺旋誘起力が変化する感光性カイラル剤は、液晶性であっても、非液晶性であってもよい。感光性カイラル剤は、一般に不斉炭素原子を含む場合が多い。なお、感光性カイラル剤は、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物又は面性不斉化合物であってもよい。
　感光性カイラル剤は、光照射によって螺旋誘起力が増加するカイラル剤であってもよいし、減少するカイラル剤であってもよい。中でも、光照射により螺旋誘起力が減少するカイラル剤であることが好ましい。
　なお、本明細書において「螺旋誘起力の増加及び減少」とは、感光性カイラル剤の初期（光照射前）の螺旋方向を「正」としたときの増減を表す。したがって、光照射により螺旋誘起力が減少し続け、０を超えて螺旋方向が「負」となった場合（つまり、初期（光照射前）の螺旋方向とは逆の螺旋方向の螺旋を誘起する場合）にも、「螺旋誘起力が減少するカイラル剤」に該当する。
　感光性カイラル剤としては、いわゆる光反応型カイラル剤が挙げられる。光反応型カイラル剤とは、カイラル部位と光照射によって構造変化する光反応部位を有し、例えば、照射量に応じて液晶化合物の捩れ力を大きく変化させる化合物である。
　光照射によって構造変化する光反応部位の例としては、フォトクロミック化合物（内田欣吾、入江正浩、化学工業、ｖｏｌ．６４、６４０ｐ，１９９９、内田欣吾、入江正浩、ファインケミカル、ｖｏｌ．２８（９）、１５ｐ，１９９９）などが挙げられる。また、上記構造変化とは、光反応部位への光照射により生ずる、分解、付加反応、異性化、ラセミ化、［２＋２］光環化及び２量化反応などを意味し、上記構造変化は不可逆的であってもよい。また、カイラル部位としては、例えば、野平博之、化学総説、Ｎｏ．２２液晶の化学、７３ｐ：１９９４に記載の不斉炭素などが相当する。
　感光性カイラル剤としては、例えば、特開２００１－１５９７０９号公報の段落００４４～００４７に記載の光反応型カイラル剤、特開２００２－１７９６６９号公報の段落００１９～００４３に記載の光学活性化合物、特開２００２－１７９６３３号公報の段落００２０～００４４に記載の光学活性化合物、特開２００２－１７９６７０号公報の段落００１６～００４０に記載の光学活性化合物、特開２００２－１７９６６８号公報の段落００１７～００５０に記載の光学活性化合物、特開２００２－１８００５１号公報の段落００１８～００４４に記載の光学活性化合物、特開２００２－３３８５７５号公報の段落００１６～００５５に記載の光学活性イソソルビド誘導体、特開２００２－０８０４７８号公報の段落００２３～００３２に記載の光反応型光学活性化合物、特開２００２－０８０８５１号公報の段落００１９～００２９に記載の光反応型カイラル剤、特開２００２－１７９６８１号公報の段落００２２～００４９に記載の光学活性化合物、特開２００２－３０２４８７号公報の段落００１５～００４４に記載の光学活性化合物、特開２００２－３３８６６８号公報の段落００１５～００５０に記載の光学活性ポリエステル、特開２００３－０５５３１５号公報の段落００１９～００４１に記載のビナフトール誘導体、特開２００３－０７３３８１号公報の段落０００８～００４３に記載の光学活性フルギド化合物、特開２００３－３０６４９０号公報の段落００１５～００５７に記載の光学活性イソソルビド誘導体、特開２００３－３０６４９１号公報の段落００１５～００４１に記載の光学活性イソソルビド誘導体、特開２００３－３１３１８７号公報の段落００１５～００４９に記載の光学活性イソソルビド誘導体、特開２００３－３１３１８８号公報の段落００１５～００５７に記載の光学活性イソマンニド誘導体、特開２００３－３１３１８９号公報の段落００１５～００４９に記載の光学活性イソソルビド誘導体、特開２００３－３１３２９２号公報の段落００１５～００５２に記載の光学活性ポリエステル／アミド、国際公開第２０１８／１９４１５７号の段落００１２～００５３に記載の光学活性化合物、及び、特開２００２－１７９６８２号公報の段落００２０～００４９に記載の光学活性化合物などが挙げられる。
　感光性カイラル剤としては、中でも、光異性化部位を少なくとも有する化合物が好ましく、光異性化部位は光異性化可能な二重結合を有することがより好ましい。上記光異性化可能な二重結合を有する光異性化部位としては、光異性化が起こりやすく、かつ、光照射前後の螺旋誘起力差が大きいという点で、シンナモイル部位、カルコン部位、アゾベンゼン部位又はスチルベン部位が好ましく、更に可視光の吸収が小さいという点で、シンナモイル部位、カルコン部位又はスチルベン部位がより好ましい。なお、光異性化部位は、上述した光照射によって構造変化する光反応部位に該当する。
　また、感光性カイラル剤は、初期（光照射前）の螺旋誘起力が高く、かつ、光照射による螺旋誘起力の変化量がより優れる点で、トランス型の光異性化可能な二重結合を有していることが好ましい。
　また、感光性カイラル剤は、初期（光照射前）の螺旋誘起力が低く、かつ、光照射による螺旋誘起力の変化量がより優れる点で、シス型の光異性化可能な二重結合を有していることが好ましい。
　感光性カイラル剤は、ビナフチル部分構造、イソソルビド部分構造（イソソルビドに由来する部分構造）、及び、イソマンニド部分構造（イソマンニドに由来する部分構造）よりなる群から選ばれるいずれかの部分構造を有していることが好ましい。なお、ビナフチル部分構造、イソソルビド部分構造、及び、イソマンニド部分構造とは、各々以下の構造を意図する。
　ビナフチル部分構造中の実線と破線が平行している部分は、一重結合又は二重結合を表す。なお、以下に示す構造において、＊は、結合位置を表す。
　感光性カイラル剤は、重合性基を有していてもよい。重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基又は環重合性基がより好ましく、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、又は、アリル基が更に好ましい。
　感光性カイラル剤としては、式（Ｃ）で表される化合物が好ましい。
　式（Ｃ）　　Ｒ－Ｌ－Ｒ
　Ｒは、それぞれ独立に、シンナモイル部位、カルコン部位、アゾベンゼン部位、及び、スチルベン部位からなる群から選択される少なくとも１つの部位を有する基を表す。
　Ｌは、式（Ｄ）で表される構造から２個の水素原子を除いた形成される２価の連結基（上記ビナフチル部分構造から２個の水素原子を除いて形成される２価の連結基）、式（Ｅ）で表される２価の連結基（上記イソソルビド部分構造からなる２価の連結基）、又は、式（Ｆ）で表される２価の連結基（上記イソマンニド部分構造からなる２価の連結基）を表す。
　式（Ｅ）及び式（Ｆ）中、＊は結合位置を表す。
　反射層の形成には、感光性カイラル剤を１種単独で用いる態様であっても、２種以上用いる態様であってもよい。
　感光性カイラル剤のモル吸光係数は、特に制限されないが、後述する捩れ変化工程で照射される光の波長（例えば、３６５ｎｍ）におけるモル吸光係数は１００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）～１００，０００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）が好ましく、５００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）～５０，０００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）がより好ましい。
－－重合性カイラル剤－－
　コレステリック液晶層は、コレステリック液晶化合物の螺旋構造をより容易に固定する観点から、カイラル剤として、重合性カイラル剤を含んでよい。重合性カイラル剤は、重合性基を有するカイラル剤を意味する。ここでいう重合性カイラル剤は、光照射により螺旋誘起力が変化しないものとし、感光性カイラル剤とは区別される。
　重合性カイラル剤が有する重合性基としては、例えば、ラジカル重合性基及びカチオン重合性基が挙げられる。重合性基は、エチレン性不飽和基、エポキシ基又はアジリジニル基であることが好ましく、エチレン性不飽和基であることがより好ましい。
　重合性カイラル剤は、不斉炭素原子を含む化合物であることが好ましいが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物又は面性不斉化合物であってもよい。軸性不斉化合物又は面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファン及びこれらの誘導体が含まれる。
　コレステリック液晶層が重合性基を有するコレステリック液晶化合物を含む場合、重合性カイラル剤は、コレステリック液晶化合物が有する重合性基と同種の重合性基を含むことが好ましい。例えば、コレステリック液晶化合物がラジカル重合性基を有する場合、重合性カイラル剤もラジカル重合性基を含むことが好ましい。これにより、重合性基を有す
るコレステリック液晶化合物と重合性カイラル剤とが重合したポリマーが形成され、コレステリック液晶化合物の螺旋構造をより容易に固定することができる。
　重合性カイラル剤は、イソソルビド誘導体、イソマンニド誘導体、又はビナフチル誘導体であることが好ましい。イソソルビド誘導体の市販品としては、例えば、ＢＡＳＦ社製の「パリオカラー　ＬＣ７５６」が挙げられる。
　重合性カイラル剤は、１種を単独で用いてよく、２種以上を併用してもよい。
　液晶組成物は、１種又は２種以上のカイラル剤を含んでもよい。
　カイラル剤の含有量は、例えば、液晶化合物の構造及び目的とする螺旋ピッチに応じて決定されてもよい。コレステリック液晶層形成の容易性及び螺旋ピッチの調整容易性の観点から、液晶組成物の固形分の総量に対するカイラル剤の総量の割合は、１質量％～２０質量％であることが好ましく、２質量％～１５質量％であることがより好ましく、３質量％～１０質量％であることが更に好ましい。
　コレステリック液晶相における螺旋ピッチ及び反射層の選択反射波長は、液晶化合物の種類だけでなく、カイラル剤の含有量によっても容易に調整される。例えば、液晶組成物におけるカイラル剤の含有量が２倍になると、螺旋ピッチは１／２となり、選択反射波長の中心値も１／２となる場合がある。
　液晶組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。重合開始剤は、液晶組成物の硬化反応を促進する。
　液晶組成物が露光により硬化される場合、液晶組成物は、光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、例えば、光ラジカル重合開始剤及び光カチオン重合開始剤が挙げられる。
　光重合開始剤としては、例えば、α－カルボニル化合物（例えば、米国特許第２３６７６６１号明細書及び米国特許第２３６７６７０号明細書）、アシロインエーテル化合物（例えば、米国特許第２４４８８２８号明細書）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（例えば、米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（例えば、米国特許第３０４６１２７号明細書及び米国特許第２９５１７５８号明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（例えば、米国特許第３５４９３６７号明細書）、オキサジアゾール化合物（例えば、米国特許第４２１２９７０号明細書）、アクリジン化合物及びフェナジン化合物（例えば、特開昭６０－１０５６６７号公報及び米国特許第４２３９８５０号明細書）が挙げられる。
　好ましい光ラジカル重合開始剤としては、例えば、α－ヒドロキシアルキルフェノン化合物、α－アミノアルキルフェノン化合物及びアシルホスフィンオキサイド化合物が挙げられる。
　好ましい光カチオン重合開始剤としては、例えば、ヨードニウム塩化合物及びスルホニウム塩化合物が挙げられる。
　液晶組成物は、ラジカル重合開始剤又はカチオン重合開始剤を含むことが好ましく、光ラジカル重合開始剤又は光カチオン重合開始剤を含むことがより好ましい。
　熱耐久性の向上の観点から、１つのエチレン性不飽和基を有する液晶化合物を含む液晶組成物は、ラジカル重合開始剤を含むことが好ましく、光ラジカル重合開始剤を含むことがより好ましい。
　熱耐久性の向上の観点から、１つの環状エーテル基を有する液晶化合物を含む液晶組成物は、カチオン重合開始剤を含むことが好ましく、光カチオン重合開始剤を含むことがより好ましい。
　液晶組成物は、１種又は２種以上の重合開始剤を含んでもよい。
　重合開始剤の含有量は、例えば、特定液晶化合物の構造及び目的とする螺旋ピッチに応じて決定されてもよい。コレステリック液晶層形成の容易性、螺旋ピッチの調整容易性、重合速度及びコレステリック液晶層の強度の観点から、液晶組成物の固形分の総量に対する重合開始剤の総量の割合は、０．０５質量％～１０質量％であることが好ましく、０．０５質量％～５質量％以下であることがより好ましく、０．１質量％～２質量％であることが更に好ましく、０．２質量％～１質量％であることが特に好ましい。
　硬化後のコレステリック液晶層の強度向上及び耐久性向上の観点から、液晶組成物は、架橋剤を含んでもよい。好ましい架橋剤としては、例えば、紫外線、熱及び湿気といった外的要因により硬化する化合物が挙げられる。
　架橋剤としては、例えば、以下に示される化合物が挙げられる。
　（１）多官能アクリレート化合物（例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート及びペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート）
　（２）エポキシ化合物（例えば、グリシジル（メタ）アクリレート及びエチレングリコールジグリシジルエーテル）
　（３）アジリジン化合物（例えば、２，２－ビスヒドロキシメチルブタノール－トリス［３－（１－アジリジニル）プロピオネート］及び４，４－ビス（エチレンイミノカルボニルアミノ）ジフェニルメタン）
　（４）イソシアネート化合物（例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート及びビウレット型イソシアネート）
　（５）オキサゾリン基を側鎖に有するポリオキサゾリン化合物
　（６）アルコキシシラン化合物（例えば、ビニルトリメトキシシラン及びＮ－（２－アミノエチル）３－アミノプロピルトリメトキシシラン）
　液晶組成物は、１種又は２種以上の架橋剤を含んでもよい。
　コレステリック液晶層の強度及び耐久性の観点から、液晶組成物の固形分の総量に対する架橋剤の総量の割合は、１質量％～２０質量％であることが好ましく、３質量％～１５質量％であることがより好ましい。
　液晶組成物は、架橋剤の反応性に応じて公知の触媒を含んでもよい。架橋剤及び触媒の併用は、コレステリック液晶層の強度及び耐久性の向上に加えて、生産性を向上できる。
　液晶組成物は、多官能重合性化合物を含んでもよい。多官能重合性化合物とは、２つ以上の重合性基を有する化合物を意味する。多官能重合性化合物に含まれる２つ以上の重合性基の種類は、同じであることが好ましい。
　多官能重合性化合物としては、例えば、２つ以上のエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しない液晶化合物、２つ以上の環状エーテル基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を有しない液晶化合物、２つ以上のエチレン性不飽和基と２つ以上の環状エ
ーテル基とを有する液晶化合物及び２つ以上の重合性基を有するカイラル剤及び２つ以上の重合性基を有する架橋剤が挙げられる。多官能重合性化合物は、２つ以上のエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しない液晶化合物、２つ以上の環状エーテル基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を有しない液晶化合物及び２つ以上の重合性基を有するカイラル剤からなる群より選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、２つ以上の重合性基を有するカイラル剤を含むことがより好ましい。
　液晶組成物は、１種又は２種以上の多官能重合性化合物を含んでもよい。
　重合後の配向構造変化の抑制の観点から、液晶組成物の固形分の総量に対する多官能重合性化合物の総量の割合は、０．５質量％～５０質量％であることが好ましく、１質量％～４０質量％であることがより好ましく、１．５質量％～３０質量％であることが更に好ましく、２質量％～２０質量％であることが特に好ましい。多官能重合性化合物の中でも、２つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、２つ以上の環状エーテル基を有する化合物及び１つ以上のエチレン性不飽和基と１つ以上の環状エーテル基とを有する化合物の含有量が規制されることが好ましい。すなわち、液晶組成物の固形分の総量に対する「２つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、２つ以上の環状エーテル基を有する化合物及び１つ以上のエチレン性不飽和基と１つ以上の環状エーテル基とを有する化合物の総量」の割合は、０．５質量％～５０質量％であることが好ましく、１質量％～４０質量％であることがより好ましく、１．５質量％～３０質量％であることが更に好ましく、２質量％～２０質量％であることが特に好ましい。
　液晶組成物は、必要に応じて、他の添加剤を含んでもよい。他の添加剤としては、例えば、界面活性剤、重合禁止剤、酸化防止剤、水平配向剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、着色剤及び金属酸化物粒子が挙げられる。液晶組成物は、１種又は２種以上の他の添加剤を含んでもよい。
　液晶組成物は、溶剤を含んでもよい。溶剤は、有機溶剤であることが好ましい。有機溶剤としては、例えば、ケトン類（例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及びシクロヘキサノン）、アルキルハライド類、アミド類、スルホキシド類、ヘテロ環化合物、炭化水素類、エステル類及びエーテル類が挙げられる。環境への負荷を考慮した場合、ケトン類が好ましい。
　液晶組成物は、１種又は２種以上の溶剤を含んでもよい。
　溶剤の含有量は、例えば、液晶組成物の塗布性に応じて決定されてもよい。
　液晶組成物の総量に対する液晶組成物の固形分の総量の割合は、１質量％～９０質量％であることが好ましく、５質量％～８０質量％であることがより好ましく、１０質量％～８０質量％であることが更に好ましい。
　コレステリック液晶層の形成過程で液晶組成物が硬化される場合、液晶組成物の硬化時における液晶組成物の固形分の総量に対する溶剤の総量の割合は、５質量％以下であることが好ましく、３質量％以下であることがより好ましく、２質量％以下であることが更に好ましく、１質量％以下であることが特に好ましい。
　コレステリック液晶層の総量に対するコレステリック液晶層における溶剤の総量の割合は、５質量％以下であることが好ましく、３質量％以下であることがより好ましく、２質量％以下であることが更に好ましく、１質量％以下であることが特に好ましい。
　液晶組成物の製造方法は、制限されない。液晶組成物は、例えば、液晶化合物と、液晶化合物以外の成分との混合によって製造される。混合方法は、公知の混合方法から選択されてもよい。
　液晶組成物の硬化は、例えば、露光により実施される。露光は、例えば、液晶組成物に光を照射することによって実施される。好ましい光源としては、例えば、３６５ｎｍ及び４０５ｎｍからなる群より選択される少なくとも１種を含む光を照射できる光源が挙げられる。具体的な光源としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等の放電ランプが挙げられる。露光量は、５ｍＪ／ｃｍ２～２，０００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ２～１，０００ｍＪ／ｃｍ２であることがより好ましい。露光方法として、例えば、特開２００６－２３６９６号公報の段落００３５～段落００５１に記載された方法が適用されてもよい。
　液晶化合物の配列を容易にするため、液晶組成物を加熱しながら露光することが好ましい。加熱温度は、例えば、液晶組成物の組成に応じて決定される。加熱温度は、例えば、６０℃～１２０℃である。加熱手段としては、例えば、ヒーター、オーブン、ホットプレート、赤外線ランプ及び赤外線レーザーが挙げられる。
　液晶組成物の硬化は、例えば、加熱により実施されてもよい。加熱温度は、６０℃～２００℃～であることが好ましい。加熱時間は、５分間～２時間であることが好ましい。加熱手段としては、例えば、既述した加熱手段が挙げられる。
　液晶組成物は、硬化前に、公知の方法によって乾燥されてもよい。液晶組成物は、放置又は風乾によって乾燥されてもよい。液晶組成物は、加熱によって乾燥されてもよい。
　また、反射層の厚さは、特に限定されないが、より適切な反射率を得る観点から、０．１μｍ～１０μｍであることが好ましく、０．３μｍ～８μｍであることがより好ましく、０．５μｍ～６μｍであることが更に好ましい。
　反射層の形成方法は、特に制限はなく、公知の方法を用いてもよいし、公知の方法を応用して作製してもよい。例えば、反射層がコレステリック液晶層である場合には、基材と、コレステリック螺旋状に配向した液晶化合物、及び、感光性カイラル剤を含む液晶層とを有する液晶材料を準備する工程（以下、「液晶材料準備工程」ともいう。）、上記液晶層に、第１光を照射して、上記液晶層の表面から厚さ方向の内部に向けて上記感光性カイラル剤の一部を失活させる工程（以下、「第１露光工程」ともいう。）、及び、第２光を照射して上記未硬化部を硬化させる工程（以下、「第２露光工程」ともいう。）を含むことが好ましい例として挙げられる 。上記方法であると、厚さ方向において、コレステリック液晶構造の螺旋ピッチが徐々に（即ち、グラデーション状に）変化している部分を有する反射層を容易に作製することができる。
　以下、上記の例について、詳細に説明する。
　また、上記した反射層の形成方法の例においては、上記液晶層を加熱してコレステリック液晶相とする工程（以下、「第１加熱工程」ともいう。）を含むことが好ましい。
＜＜液晶材料準備工程＞＞
　液晶材料準備工程は、基材と、コレステリック螺旋状に配向した液晶化合物（即ち、コレステリック液晶化合物）、及び、感光性カイラル剤を含む液晶層とを有する液晶材料を準備する工程である。
－基材－
　基材は、上述したものを用いることができる。
－液晶層－
　液晶層は、コレステリック螺旋状に配向可能なコレステリック液晶化合物、及び、感光性カイラル剤を含むことが好ましく、必要に応じて、他の成分を含んでよい。
　液晶組成物の調製方法は、特に限定されず、例えば、コレステリック液晶化合物、カイラル剤等の各成分を混合する方法により液晶組成物を調製してよい。
　各成分としては、上述したものを好適に用いることができる。
　液晶組成物を基材に付与する方法は、特に限定されず、例えば、スプレーコート法、スピンコート法、ブレードコート法、ディップコート法、キャスト法、ロールコート法、バーコート法、ダイコート法、ミスト法、インクジェット法、ディスペンサー法、スクリーン印刷法、凸版印刷法、及び凹版印刷法が挙げられる。
　液晶組成物が溶剤を含む場合、液晶組成物を基材に付与した後に乾燥してよい。乾燥方法として、例えば、加熱乾燥、及び減圧乾燥が挙げられる。加熱乾燥する場合、加熱温度及び加熱時間は、溶剤の種類に応じて適宜調節してよい。また、加熱乾燥は、下記の第１加熱工程の一部として行ってもよい。
＜＜第１加熱工程＞＞
　第１加熱工程は、上記液晶層を加熱してコレステリック液晶相とする工程である。コレステリック液晶化合物を加熱すると、加熱温度が高くなるにつれて、コレステリック液晶化合物は、結晶状態から配向状態となり、更に、配向状態から等方状態となる。第１加熱工程では、コレステリック液晶化合物を含む液晶層を加熱することにより、コレステリック液晶化合物を配向状態として、液晶層をコレステリック液晶化合物が配向したコレステリック液晶相とする。
　コレステリック液晶化合物の上記状態の変化との加熱温度との関係は、コレステリック液晶化合物の種類により異なる。そのため、第１加熱工程における加熱温度は、コレステリック液晶化合物が配向状態となるように、コレステリック液晶化合物の種類に応じて、適宜調節してよい。第１加熱工程における加熱時間は、加熱温度等に応じて適宜調節してよい。また、加熱手段は、特に限定されず、オーブン、ホットプレート等を用いてよい。
＜＜第１露光工程＞＞
　第１露光工程は、上記液晶層に、第１光を照射して、上記液晶層の表面から厚さ方向の内部に向けて上記感光性カイラル剤の一部を失活させる工程である。
　第１露光工程では、例えば、第１光を基材側、もしくは、表層側のいずれかから照射し、液晶層に含まれる感光性カイラル剤によって光を吸収させることで、光源に近い側での上記感光性カイラル剤の失活量を、光源に遠い側での上記感光性カイラル剤の失活量より大きくする、好ましくは層厚方向において、第１光の照射側の液晶層表面からグラデーション状に活性な上記感光性カイラル剤の量が多くなる態様とすることができる。
　第１光の照射側の液晶層表面からグラデーション状に活性な上記感光性カイラル剤の量が多くなる態様であると、第２露光工程での液晶層の硬化までに、上記感光性カイラル剤の量に応じたコレステリック液晶構造の螺旋の巻き直しが生じ、螺旋ピッチがグラデーション状に変化した液晶層が得られる。
　また、第１露光工程において、第１光の照射を１回のみ行ってもよいし、２回以上行ってもよい。２回以上露光を行う場合、各露光において、露光条件（例えば、露光手段、露光波長、露光量、露光雰囲気等）を適宜調整してもよい。
　第１光の種類は、特に限定されないが、液晶層に含まれる成分の反応性を考慮すると、紫外線を用いることが好ましい。紫外線の光源としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等の放電ランプ；発光ダイオード（ＬＥＤ；Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｓｓｉｏｎ　Ｄｉｏｄｅ）等の半導体光源が挙げられる。
　第１光の波長範囲は、特に限定されないが、第１光が紫外線である場合、４００ｎｍ以下が好ましく、３６０ｎｍ以下がより好ましく、３００ｎｍ以下が更に好ましい。３００ｎｍ以下の光を用いる場合、コレステリック液晶化合物の光吸収により、厚み方向における光硬化の制御がより容易となる。波長範囲は、例えば、光学フィルタを用いる方法、２種以上の光学フィルタを用いる方法、又は特定波長の光源を用いる方法により調整することができる。
　第１光の露光量は、特に限定されず、第１光が紫外線である場合、例えば、０．１ｍＪ／ｃｍ２～２，０００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましい。面内方向における光硬化の制御の観点から、紫外線の平行度は２０°以下であることが好ましく、１０°以下であることがより好ましい。
　第１露光工程は、基材の液晶層を有する側と反対側から露光する場合には、低酸素雰囲気（酸素濃度１，０００ｐｐｍ以下、すなわち、酸素を含まないか、０ｐｐｍ超１，０００ｐｐｍ以下の酸素を含む雰囲気）で行ってよく、酸素を含む雰囲気下（大気又は１０００ｐｐｍ以上２１％未満の酸素を含む雰囲気下）で行われることがより好ましい。酸素によってラジカル重合が阻害されるため、厚み方向における光硬化の制御がより容易となる。
　第１露光工程は、液晶層の硬化を促進させる観点から、低酸素雰囲気下（好ましくは、酸素濃度１，０００ｐｐｍ以下、すなわち、酸素を含まないか、０ｐｐｍ超１，０００ｐｐｍ以下の酸素を含む雰囲気）で行われることが好ましく、窒素雰囲気下で行われることがより好ましい。
　第１露光工程は、液晶層の螺旋ピッチの変化を維持させる観点から、５０℃以下で行うことが好ましく、４０℃以下で行うことがより好ましく、０℃以上３５℃以下で行うことが特に好ましい。
　第１露光工程において、第１光の透過率が互いに異なる複数の領域を有する第１パターニングマスクを介して第１光を照射してよい。これにより、液晶層の複数の領域を異なる露光量で露光することができるため、上記領域の厚さが互いに異なる複数の領域を単一層内に面内方向に形成し、面内方向の反射率を一括して制御することができる。
　また、第１露光工程において、波長に応じ透過率が異なるフィルタを介して第１光を照射してよい。更に、上記フィルタとしては、第１光の露光量を調整するフィルタであってもよい。
　例えば、使用する光重合開始剤から重合開始種を生じさせないように、光重合開始剤が吸収する波長の透過率を下げた、例えば、０％としたマスクが挙げられる。
　第１パターニングマスクとしては、例えば、金属膜をエッチングすることによりパターン形成されたフォトマスク、及び各種印刷方法（例えば、レーザープリンタ又はインクジェットプリンターによる印刷、グラビア印刷、スクリーン印刷）を用いてパターン印刷されたフォトマスクが挙げられる。金属膜をエッチングすることによりパターン形成されたフォトマスクは、例えば、石英基板上に金属クロム膜をスパッタで形成した後、フォトレジストを用いてパターニングすることにより得られる。
　上記フィルタとしては、ガラス等の透明基板上に、誘電体多層膜を蒸着したもの等が好適に挙げられる。また、上記フィルタとしては、例えば、公知のバンドパスフィルタを用いることができる。
　第１パターニングマスク又はフィルタを用いて第１光を照射する場合、第１パターニングマスク又はフィルタは、基材の液晶層を有する側とは反対側に配置してよく、基材の液晶層を有する側に配置してよい。
　第１パターニングマスク又はフィルタを基材の液晶層を有する側に配置する場合、液晶層に第１パターニングマスク又はフィルタを接触させて第１光を照射してよく、液晶層と第１パターニングマスクとの間に間隙を設けて第１光を照射してもよい。
　第１パターニングマスク又はフィルタを基材の液晶層を有する側とは反対側に配置する場合、基材を介して第１光で液晶層を露光するため、透光性の基材を用いることが好ましい。
　基材の透光性について、第１光の透過率は、特に限定されないが、液晶層をより容易に硬化させる観点から、高い程好ましい。
　第１パターニングマスク又はフィルタを用いて第１光を照射する場合、第１パターニングマスク又はフィルタは、１種のみ用いてよく、２種以上用いてもよい。
　また、第１パターニングマスクとフィルタとを併用してもよい。
［第２露光工程］
　第２露光工程は、第２光を照射して上記液晶層を硬化させる工程である。
　第１露光工程において変化した液晶層の螺旋ピッチを、第２光の照射により硬化し、固定することができる。
　第２露光工程において、未硬化部だけでなく、液晶層全体を露光してよい。例えば、基材の液晶層を有する側から、第２光を照射してよい。
　第２光の種類は、特に限定されないが、液晶化合物に含まれ得る成分の反応性を考慮すると、紫外線を用いることが好ましい。紫外線の光源としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等の放電ランプ；発光ダイオード（ＬＥＤ）等の半導体光源が挙げられる。
　第２光の波長範囲は、特に限定されず、例えば、２５０ｎｍ～４００ｎｍの波長範囲の光を用いることができる。波長範囲は、例えば、光学フィルタを用いる方法、２種以上の光学フィルタを用いる方法、又は特定波長の光源を用いる方法により調整することができる。
　第２光の露光量は、特に限定されず、第２光が紫外線である場合、例えば、５ｍＪ／ｃｍ２～２，０００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましい。
　第２露光工程は、硬化を促進させる観点から、低酸素雰囲気下（好ましくは、酸素濃度１，０００ｐｐｍ以下、すなわち、酸素を含まないか、０ｐｐｍ超１，０００ｐｐｍ以下の酸素を含む雰囲気）で行われることが好ましく、窒素雰囲気下で行われることがより好ましい。
　第２露光工程は、液晶層の螺旋ピッチの変化を硬化まで維持させる観点から、５０℃以下で行うことが好ましく、４０℃以下で行うことがより好ましく、０℃以上３５℃以下で行うことが特に好ましい。
＜＜その他の工程＞＞
　反射層の形成方法は、必要に応じて、上記工程以外の他工程を含んでいてもよい。その他の工程としては、例えば、基材を含む態様で製造した積層体から基材を剥離する工程が挙げられ、基材を含まない態様の積層体を製造することができる。
　また、その他の工程としては、配向層形成工程等が挙げられる。配向層の詳細及び形成方法は後述する。
＜配向層＞
　積層体は、配向層を有してよい。配向層は、積層体の形成の際、反射層中のコレステリック液晶化合物の分子をより容易に配向させるために用いられる。
　配向層は、例えば、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成等によって設けられる。配向層としては、電場の付与、磁場の付与、又は光照射により配向機能が生じる配向層も知られている。
　配向層の厚さは、特に限定されないが、０．０１μｍ～１０μｍであることが好ましい。
　基材、下地の種類によっては、配向層を別途設けることなく、下地を配向層とすることができる。
　例えば、基材を直接配向処理（例えば、ラビング処理）することで、配向層として機能させることができる。直接配向処理可能な基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなる層が挙げられ、後述の要領でラビング処理を施してよい。
　以下、好ましい例として、ラビング処理配向層及び光配向層について説明する。
－ラビング処理配向層－
　ラビング処理配向層は、例えば、液晶組成物が塗布される下地の表面に対して、ラビング処理を行うことにより形成される。ラビング処理は、例えば、ポリマーを主成分とする膜の表面を、紙又は布で一定方向に擦ることにより行うことができる。ラビング処理の一般的な方法については、例えば、「液晶便覧」（丸善社発行、平成１２年１０月３０日）に記載されている。
　上記のようなポリマーを主成分とする膜を形成する配向層用ポリマーとしては、例えば、特開平８－３３８９１３号公報の段落００２２に記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ－メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、及びポリカーボネートが挙げられる。また、配向層用ポリマーは、シランカップリング剤であってもよい。配向層用ポリマーは、水溶性ポリマー（例えば、ポリ（Ｎ－メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、又は変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールがより好ましく、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。
　ラビング密度を変える方法としては、「液晶便覧」（丸善社発行）に記載されている方法を用いることができる。ラビング密度（Ｌ）は、下記式（Ａ）で定量化されている。
　　式（Ａ）　　Ｌ＝Ｎｌ（１＋２πｒｎ／６０ｖ）
　式（Ａ）中、Ｎはラビング回数、ｌはラビングローラーの接触長、ｒはローラーの半径、ｎはローラーの回転数（ｒｐｍ；ｒｅｖｏｌｕｔｉｏｎｓ　ｐｅｒ　ｍｉｎｕｔｅ）、
ｖはステージ移動速度（秒速）である。
　ラビング密度を高くする方法としては、ラビング回数を増やす方法、ラビングローラーの接触長を長くする方法、ローラーの半径を大きくする方法、ローラーの回転数を大きくする方法、及びステージ移動速度を遅くする方法が挙げられる。一方、ラビング密度を低くする方法としては、ラビング回数を減らす方法、ラビングローラーの接触長を短くする方法、ローラーの半径を小さくする方法、ローラーの回転数を小さくする方法、及びステージ移動速度を速くする方法が挙げられる。また、ラビング処理の際の条件としては、特許第４０５２５５８号公報の記載を参照することもできる。
－光配向層－
　光照射により形成される光配向層に用いられる光配向材料としては、例えば、特開２００６－２８５１９７号公報、特開２００７－７６８３９号公報、特開２００７－１３８１３８号公報、特開２００７－９４０７１号公報、特開２００７－１２１７２１号公報、特開２００７－１４０４６５号公報、特開２００７－１５６４３９号公報、特開２００７－１３３１８４号公報、特開２００９－１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号公報、及び特許第４１５１７４６号公報に記載のアゾ化合物；特開２００２－２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物；特開２００２－２６５５４１号公報、及び特開２００２－３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミド及び／又はアルケニル置換ナジイミド化合物；特許第４２０５１９５号及び特許第４２０５１９８号公報に記載の光架橋性シラン誘導体；並びに、特表２００３－５２０８７８号公報、特表２００４－５２９２２０号公報、及び特許第４１６２８５０号公報に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド、又は、エステルが挙げられる。中でも、光配向材料は、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、又はエステルであることが好ましい。
　光配向材料から形成した層に、直線偏光照射又は非偏光照射を施し、光配向層を製造する。
　本開示において、「直線偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じさせるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光は、ピーク波長が２００ｎｍ～７００ｎｍの光であることが好ましく、ピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外線であることがより好ましい。
　光照射に用いる光源としては、公知の光源、例えば、タングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、カーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー（例えば、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、又はＹＡＧレーザー）、発光ダイオード、及び陰極線管が挙げられる。
　直線偏光を得る方法としては、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、二色色素偏光板、又はワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）又はブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、及び偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が挙げられる。また、フィルター又は波長変換素子等を用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。
　照射する光が直線偏光の場合、配向層の上面若しくは裏面から、配向層表面に対して垂直方向、又は斜め方向に光を照射する方法が挙げられる。光の入射角度は、光配向材料によって異なるが、配向層に対して、０°～９０°（垂直）であることが好ましく、４０°～９０°であることがより好ましい。
　非偏光を利用する場合には、配向層の上面若しくは裏面から、斜め方向に非偏光を照射する。入射角度は、１０°～８０°であることが好ましく、２０°～６０°であることがより好ましく、３０°～５０°であることが更に好ましい。照射時間は、１分～６０分であることが好ましく、１分～１０分であることがより好ましい。
＜接着層＞
　上記積層体は、上記ルーバー構造層と上記加飾層との間に、接着層を更に有することが好ましい。接着層は、例えば、基材及び各層間の密着性を向上できる。
　接着層は、接着剤を含むことが好ましく、また、接着剤以外の成分を更に含んでいてもよい。
　接着剤の種類は、制限されない、接着剤は、永久的な接着に用いられる公知の接着剤であってもよい。接着剤は、一時的な接着に用いられる公知の接着剤であってもよい。
　接着剤としては、例えば、ウレタン樹脂接着剤、ポリエステル接着剤、アクリル樹脂接着剤、エチレン酢酸ビニル樹脂接着剤、ポリビニルアルコール接着剤、ポリアミド接着剤及びシリコーン接着剤が挙げられる。接着強度が高いという観点から、ウレタン樹脂接着剤又はシリコーン接着剤が好ましい。接着剤は、熱硬化性の接着剤であってもよい。接着剤は、紫外線硬化性の接着剤であってもよい。
　接着剤としては、例えば、粘着剤が挙げられる。つまり、接着層は、接着剤として粘着剤を含んでいてもよい。粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤及びシリコーン系粘着剤が挙げられる。粘着剤としては、例えば、「剥離紙・剥離フィルムおよび粘着テープの特性評価とその制御技術、情報機構、２００４年、第２章」に記載されたアクリル系粘着剤、紫外線（ＵＶ）硬化型粘着剤及びシリコーン粘着剤が挙げられる。アクリル系粘着剤とは、（メタ）アクリルモノマーの重合体を含む粘着剤をいう。接着剤含有層は、粘着剤に加えて粘着付与剤を含んでいてもよい。接着剤としては、例えば、ＵＶＸ－６２８２（東亞合成株式会社製）、ＮＣＦ－Ｄ６９２（リンテック株式会社製）、ＵＦ－３００７（共栄社化学株式会社製）が挙げられる。
　接着層の厚さは、耐折り曲げ性、接着性、及び、ハンドリング性の観点から、２μｍ～２００μｍであることが好ましく、１０μｍ～１００μｍであることがより好ましく、１０μｍ～５０μｍであることが特に好ましい。
　接着層の形成方法は、制限されない。接着層の形成方法としては、例えば、接着層を有するフィルムと貼り合わせる方法、単独の接着層と貼り合わせる方法及び接着剤を含む組成物を塗布する方法が挙げられる。
＜基材＞
　上記積層体は、基材を含んでよい。これにより、上記積層体の強度を高めることができるため取り扱いがより容易となる。また、上記積層体が基材を含む場合、上記積層体を成型してなる成型体を構成する部材として基材を用いることができる。
　上記積層体が基材を含む態様において、加飾層は、基材上に直接設けられていてよく、他の層を介して設けられていてもよい。
　また、加飾層とルーバー構造層との間に、基材を有する態様も好ましく挙げられる。
　基材の形状及び材質は、特に限定されず、所望に応じ適宜選択すればよい。
　樹脂基材の材質として、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリアクリルニトリル（ＰＡＮ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、アクリル－ポリカーボネート樹脂、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリアクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ）、環状オレフィン－コポリマー（ＣＯＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ウレタン樹脂、及びウレタン－アクリル樹脂が挙げられる。積層体の強度の観点、また、積層体を成型する場合の成型加工性の観点から、基材の材質は、ポリエチレンテレフタレート、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ウレタン－アクリル樹脂、ポリカーボネート、アクリル－ポリカーボネート樹脂及びポリプロピレンからなる群より選択される少なくとも１種の樹脂であることが好ましい。基材は、材質が異なる複数の樹脂層の積層体であってよい。
　樹脂基材は、必要に応じ、添加剤を含有していてよい。添加剤としては、例えば、鉱油、炭化水素、脂肪酸、アルコール、脂肪酸エステル、脂肪酸アミド、金属石けん、天然ワックス、シリコーン等の潤滑剤；水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム等の無機難燃剤；ハロゲン系難燃剤、リン系難燃剤等の有機難燃剤；金属粉、タルク、炭酸カルシウム、チタン酸カリウム、ガラス繊維、カーボン繊維、木粉等の有機又は無機の充填剤；酸化防止剤、紫外線防止剤、滑剤、分散剤、カップリング剤、発泡剤、着色剤、及び主成分の樹脂以外の樹脂が挙げられる。
　樹脂基材は、市販品であってよい。市販品としては、例えば、テクノロイ（登録商標）シリーズ（アクリル樹脂フィルム、ポリカーボネート樹脂フィルム、又はアクリル樹脂／ポリカーボネート樹脂積層フィルム、住友化学社製）、ＡＢＳフィルム（オカモト社製）、ＡＢＳシート（積水成型工業社製）、テフレックス（登録商標）シリーズ（ＰＥＴフィルム、帝人フィルムソリューション社製）、ルミラー（登録商標）易成型タイプ（ＰＥＴフィルム、東レ社製）、及びピュアサーモ（ポリプロピレンフィルム、出光ユニテック社製）が挙げられる。
　基材の厚さは、特に限定されないが、上記積層体の強度の観点から、１μｍ以上が好ましく、１０μｍ以上がより好ましく、２０μｍ以上が更に好ましい。また、同様の観点から、基材の厚さは、３００μｍ以下が好ましく、２００μｍ以下がより好ましく、１５０μｍ以下が更に好ましい。
＜着色層＞
　上記積層体は、着色層を含んでよい。これにより、所望の意匠を得ることがより容易となる。着色層は、着色剤を含む層である。着色層は、１層であってよく、２層以上であってもよい。
　積層体において、着色層の位置は、特に限定されず、所望の位置に設けてよい。例えば、着色層は、反射層上に設けられてもよい。また、積層体が基材を含む場合、基材の反射層が形成されている側とは反対側に設けられてよい。
　着色層の色は、特に限定されず、用途等に応じて適宜選択することができる。着色層の色としては、例えば、黒、灰、白、赤、橙、黄、緑、青、紫、茶等が挙げられる。また、着色層の色は、金属調の色であってもよい。
－着色剤－
　着色剤は、顔料であってよく、染料であってもよい。耐久性の観点から、着色剤は、顔
料であることが好ましい。着色層を金属調とするために、着色剤として、金属粒子、パール顔料等を用いてもよい。
　顔料は、無機顔料であってもよく、有機顔料であってもよい。
　無機顔料としては、例えば、二酸化チタン、酸化亜鉛、リトポン、軽質炭酸カルシウム、ホワイトカーボン、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム等の白色顔料；カーボンブラック、チタンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、黒鉛等の黒色顔料；酸化鉄、バリウムイエロー、カドミウムレッド、及びクロムイエローが挙げられる。
　無機顔料としては、特開２００５－７７６５号公報の段落００１５及び段落０１１４に記載の無機顔料も挙げられる。
　有機顔料としては、例えば、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン等のフタロシアニン系顔料；アゾレッド、アゾイエロー、アゾオレンジ等のアゾ系顔料；キナクリドンレッド、シンカシャレッド、シンカシャマゼンタ等のキナクリドン系顔料；ペリレンレッド、ペリレンマルーン等のペリレン系顔料；カルバゾールバイオレット、アントラピリジン、フラバンスロンイエロー、イソインドリンイエロー、インダスロンブルー、ジブロムアンザスロンレッド、アントラキノンレッド、及びジケトピロロピロールが挙げられる。
　有機顔料の具体例としては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　１７７、１７９、２２４、２４２、２５４、２５５、２６４等の赤色顔料、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１３８、１３９、１５０、１８０、１８５等の黄色顔料；Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ
　Ｏｒａｎｇｅ　３６、３８、７１等の橙色顔料；Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ
　７、３６、５８等の緑色顔料；Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１５：６等の青色顔料；及び、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　２３等の紫色顔料が挙げられる。
　有機顔料としては、特開２００９－２５６５７２号公報の段落００９３に記載の有機顔料も挙げられる。
　顔料は、光透過性及び光反射性を有する顔料（いわゆる、光輝性顔料）であってもよい。光輝性顔料としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、鉄、ニッケル、スズ、酸化アルミニウム、及びこれらの合金の金属製光輝性顔料、干渉マイカ顔料、ホワイトマイカ顔料、グラファイト顔料、並びに、ガラスフレーク顔料が挙げられる。光輝性顔料は、無着色のものであってよく、着色されたものであってもよい。
　着色剤は、１種を単独で用いてよく、２種以上を併用してもよい。２種以上の着色剤を用いる場合、無機顔料と有機顔料と組み合わせてもよい。
　着色剤の含有量は、目的とする色発現の観点から、着色層の全量に対して、１質量％～５０質量％であることが好ましく、５質量％～５０質量％であることがより好ましく、１０質量％～４０質量％であることが特に好ましい。
－バインダー樹脂－
　着色層は、強度、耐傷性、及び成型加工適正の観点から、バインダー樹脂を含むことが好ましい。バインダー樹脂の種類は、特に制限されない。バインダー樹脂は、所望の色を得る観点から、透明な樹脂であることが好ましく、具体的には、全光透過率が８０％以上の樹脂であることが好ましい。全光透過率は、分光光度計（例えば、島津製作所社製の分光光度計「ＵＶ－２１００」）により測定することができる。
　バインダー樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、及びポリオレフィンが挙げられる。バインダー樹脂は、単独重合体であってよく、共重合体であってもよい。
　バインダー樹脂は、１種を単独で用いてよく、２種以上を併用してもよい。
　バインダー樹脂の含有量は、着色層の全量に対して、５質量％～７０質量％であることが好ましく、１０質量％～６０質量％であることがより好ましく、２０質量％～６０質量％であることが特に好ましい。
－分散剤－
　着色層に含まれる着色剤、特に顔料の分散性を向上する観点から、着色層は、分散剤を含有してよい。分散剤が含まれると、着色層における着色剤の分散性が向上する。そのため、得られる積層体の色をより容易に均一にすることができる。
　分散剤は、着色剤の種類、形状等に応じて適宜選択することができ、高分子分散剤であることが好ましい。
　高分子分散剤としては、例えば、シリコーンポリマー、アクリルポリマー、及びポリエステルポリマーが挙げられる。例えば、積層体に耐熱性を付与したい場合には、分散剤は、グラフト型シリコーンポリマー等のシリコーンポリマーであることが好ましい。
　分散剤の重量平均分子量は、１，０００～５，０００，０００であることが好ましく、２，０００～３，０００，０００であることがより好ましく、２，５００～３，０００，０００であることが特に好ましい。重量平均分子量が１，０００以上であると、着色剤の分散性がより向上する。
　分散剤は、市販品であってよい。分散剤の市販品としては、ＢＡＳＦジャパン社製のＥＦＫＡ　４３００（アクリル系高分子分散剤）；花王社製のホモゲノールＬ－１８、ホモゲノールＬ－９５、及びホモゲノールＬ－１００；日本ルーブリゾール社製の、ソルスパース２００００、及びソルスパース２４０００；並びにビックケミー・ジャパン社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１１０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１６４、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１８０、及びＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１８２が挙げられる。なお、「ホモゲノール」、「ソルスパース」、及び「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ」はいずれも登録商標である。
　分散剤は、１種を単独で用いてよく、２種以上を併用してもよい。
　分散剤の含有量は、着色剤１００質量部に対して、１質量部～３０質量部であることが好ましい。
－添加剤－
　着色層は、上記の成分以外に、必要に応じて添加剤を含んでいてもよい。添加剤は、特に限定されず、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１７、及び特開２００９－２３７３６２号公報の段落００６０～００７１に記載の界面活性剤；特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載の熱重合防止剤（重合禁止剤ともいう。フェノチアジンが好ましく挙げられる。）；並びに、特開２０００－３１０７０６号公報の段落００５８～００７１に記載の添加剤が挙げられる。
－厚さ－
　着色層の厚さは、特に限定されないが、視認性の観点から、０．５μｍ以上であることが好ましく、３μｍ以上であることがより好ましく、３μｍ～５０μｍであることが更に好ましく、３μｍ～２０μｍであることが特に好ましい。
　着色層が２層以上である場合、各着色層がそれぞれ独立に、上記厚さの範囲であることが好ましい。
－着色層の形成方法－
　着色層の形成方法としては、例えば、着色層形成用組成物を用いる方法、着色されたフィルムを貼り合せる方法等が挙げられる。中でも、着色層の形成方法は、着色層形成用組成物を用いる方法が好ましい。
　着色層形成用組成物を用いて着色層を形成する方法としては、着色層形成用組成物を塗布して着色層を形成する方法、例えば、着色層形成用組成物を印刷して着色層を形成する方法が挙げられる。印刷方法としては、例えば、スクリーン印刷、インクジェット印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷、及びオフセット印刷が挙げられる。
　着色層形成用組成物は、着色剤と、必要に応じて、バインダー樹脂、分散剤及び添加剤の少なくとも１つとを含むものであってよい。各成分の種類は、着色層について上述したものであってよい。
　着色剤の含有量は、着色層形成用組成物の全固形分量に対して、１質量％～５０質量％であることが好ましく、５質量％～５０質量％であることがより好ましく、１０質量％～４０質量％であることが特に好ましい。
　バインダー樹脂の含有量は、着色層形成用組成物の全固形分量に対して、５質量％～７０質量％であることが好ましく、１０質量％～６０質量％であることがより好ましく、２０質量％～６０質量％であることが特に好ましい。
　分散剤の含有量は、着色剤１００質量部に対して、１質量部～３０質量部であることが好ましい。
　着色層は、着色層形成用組成物を硬化してなる層であってもよく、例えば、重合性化合物及び重合開始剤を含む着色層形成用組成物を用いてよい。重合性化合物及び重合開始剤は、特に限定されず、公知の重合性化合物及び公知の重合開始剤を用いてよい。重合性化合物は、１種を単独で用いてよく、２種以上を併用してもよい。重合開始剤は、１種を単独で用いてよく、２種以上を併用してもよい。
　着色層形成用組成物は、塗布をより容易にする観点から、有機溶剤を含んでよい。有機溶剤は、特に限定されず、公知の有機溶剤を適用することができる。有機溶剤としては、例えば、アルコール、エステル、エーテル、ケトン、及び芳香族炭化水素が挙げられる。有機溶剤は、１種を単独で用いてよく、２種以上を併用してもよい。
　有機溶剤の含有量は、着色層形成用組成物の全量に対して、５質量％～９０質量％であることが好ましく、３０質量％～７０質量％であることがより好ましい。
　着色層形成用組成物として、例えば、ｎａｘレアルシリーズ、ｎａｘアドミラシリーズ、及びｎａｘマルチシリーズ（日本ペイント社製）；レタンＰＧシリーズ（関西ペイント社製）等の市販の塗料を用いてよい。
　着色層形成用組成物の調製方法は、特に限定されず、例えば、着色剤等の各成分を混合することにより着色層形成用組成物を調製してよい。また、着色層形成用組成物が着色剤として顔料を含む場合、顔料の均一分散性及び分散安定性をより高める観点から、顔料と分散剤とを含む顔料分散液を予め調製し、顔料分散液に他の成分を混合することにより、着色層形成用組成物を調製することが好ましい。
＜その他の層＞
　上記積層体は、ルーバー構造層、加飾層、接着層、基材、着色層及び配向層以外のその他の層を有していてもよい。
　その他の層としては、例えば、加飾フィルムにおいて公知の層である、保護層、易接着層、紫外線吸収層、自己修復層、帯電防止層、防汚層、防電磁波層、導電性層等が挙げられる。
　その他の層は公知の方法により形成することができる。例えば、これらの層に含まれる成分を含む組成物（層形成用組成物）を層状に付与し、乾燥する方法が挙げられる。
〔ディスプレイ〕
　本開示に係る積層体付きディスプレイは、上記積層体の加飾層側に、ディスプレイを有する。
　ディスプレイとしては、特に制限はなく、例えば、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ　Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）ディスプレイ、プラズマディスプレイ、マイクロＬＥＤディスプレイ、タッチパネルディスプレイ等が挙げられる。
　ディスプレイの大きさ等の形状は、特に制限はなく、所望に応じ適宜選択することができる。
　上記ルーバー構造の上記ストライプ方向と平行方向のディスプレイの幅（単位：ｍｍ）（ＬＤｐ）と、上記ルーバー構造の上記ストライプ方向と垂直方向のディスプレイの幅（単位：ｍｍ）（ＬＤｖ）の比（ＬＤｖ／ＬＤｐ）は、特に制限されないが、１／２０～１／１が好ましく、１／１０～１／１．５がより好ましい。
　上記積層体と上記ディスプレイとの間に、接着層を有していてもよい。
　接着層としては、上記積層体において上述した接着層が好適に挙げられる。
　また、上記積層体と上記ディスプレイとの間に、放熱性等の観点から、空間を有していてもよい。また、その場合、上記積層体を固定する支持部材等を有することが好ましい。
　図５は、本開示に係る積層体付きディスプレイの一例を示す断面模式図である。
　図５に示す積層体付きディスプレイ２０は、ルーバー構造層２２及び加飾層２４を有し、上記加飾層２４とは距離をおいて、ディスプレイ２６を有する。
　加飾層２４とディスプレイ２６とは、図５に示すように、離れていてもよいし、接触していてもよい。
　また、ルーバー構造層２２及び加飾層２４と、ディスプレイ２６とを離して設けるため、支持部材（不図示）を更に有していてもよい。
＜各層の配置＞
　積層体付きディスプレイの各層の配置は制限されない。積層体の各層は、次のように配置されてもよい。「／」は、層の境界を示す。また、左側が視認側であるものとする。
　（１）ルーバー構造層／加飾層／ディスプレイ
　（２）ルーバー構造層／基材／加飾層／ディスプレイ
　（３）ルーバー構造層／基材／接着層／加飾層／ディスプレイ
　（４）ルーバー構造層／加飾層／接着層／ディスプレイ
　（５）ルーバー構造層／基材／加飾層／接着層／ディスプレイ
　（６）ルーバー構造層／基材／接着層１／加飾層／接着層２／ディスプレイ
　（７）ルーバー構造層／接着層１／基材／接着層２／加飾層／接着層３／ディスプレイ
　以下に実施例を挙げて本開示を更に具体的に説明する。本開示の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
（実施例１）
〔基材の準備〕
　基材として、片面に易接着層を有する厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（コスモシャイン（登録商標、以下同じ）Ａ４１６０、東洋紡（株）製）を用意し、透明支持体１として使用した。
〔下塗り層（粘着層）の形成〕
　透明支持体１の易接着層の無い面上に、下記に記載の組成を有する下塗り層塗布液１を＃４のワイヤーバーコーターで塗布した。その後８０℃で１２０秒乾燥し、２５℃にてメタルハライドランプ（ＭＡＬ６２５ＮＡＬ、（株）ＧＳユアサ製）を用いた紫外線照射装置により、１８０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、下塗り層付き支持体１を作製した。
－下塗り層塗布液１の組成－
　トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート（新中村化学工業（株）製）：７５質量部
　ＫＡＹＡＲＡＤ　ＰＥＴ３０（日本化薬（株）製）：２５質量部
　ＩＲＧＡＣＵＲＥ　９０７（チバガイギー社製）：３質量部
　光重合開始剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）：１質量部
　下記に示す構造を有する界面活性剤１：０．０１質量部
　有機溶剤１（メチルエチルケトン）：１３６質量部
　有機溶剤２（シクロヘキサノン）：１５６質量部
　界面活性剤１：下記化合物
〔反射層１の形成〕
　下記に記載の組成を有する液晶組成物１を調製した。
－液晶組成物１の組成－
　下記に示す構造を有する棒状液晶化合物１：１００質量部
　カイラル剤１（感光性カイラル剤、下記に示す構造を有する化合物）：８．５質量部
　光重合開始剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）：０．５質量部
　界面活性剤１（上記に示す構造を有する化合物）：０．０５４質量部
　界面活性剤２（下記に示す構造を有する化合物）：０．１３４質量部
　有機溶剤１（メチルエチルケトン）：１６５質量部
　有機溶剤２（シクロヘキサノン）：１０質量部
　棒状液晶化合物１：下記化合物
　カイラル剤１：下記化合物
　界面活性剤２：下記化合物
　下塗り層付き支持体１における下塗り層１の表面に、液晶組成物１を＃５のワイヤーバーコーターで塗布した。その後、８０℃で１２０秒乾燥し、酸素濃度５％以下、かつ２５℃にてメタルハライドランプ（ＭＡＬ６２５ＮＡＬ、（株）ＧＳユアサ製）を用いた紫外線照射装置にて、下記の特性を有するバンドパスフィルタ１を介して１３０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した。更に、酸素濃度５％以下、かつ２５℃にてメタルハライドランプ（ＭＡＬ６２５ＮＡＬ、（株）ＧＳユアサ製）を用いた紫外線照射装置にて、５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射することで、液晶組成物１を硬化させ、更に、同様の露光を低酸素濃度下（１，０００ｐｐｍ以下）で行うことで、液晶組成物１を完全に硬化させ、厚さ２．４μｍの反射層１（加飾層）を形成し、加飾層を有するフィルム１－１を作製した。
　なお、上記バンドパスフィルタ１は、ガラス基板（ＳＨＯＴＴ社製ＴＥＭＰＡＸ　Ｆｌｏａｔ　ｔ２．０ｍｍ）上に、誘電体多層膜を蒸着し、波長３５０ｎｍ～４５０ｎｍ以上の透過率０％、３１０ｎｍ～３３０ｎｍの平均透過率が７０％～７５％としたものである。
〔ルーバー構造層の作製〕
＜＜被めっき層形成用組成物Ａの調製＞＞
　以下の成分を混合し、被めっき層形成用組成物Ａを得た。
　ポリブタジエンマレイン酸（ブタジエン－マレイン酸共重合体）水溶液（富士フイルム和光純薬（株）製；４２質量％水溶液）：６質量部
　下記に記載のアクリルアミドモノマー：２．５質量部
　Ｏｍｎｉｒａｄ１２７（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社製）：０．１３質量部
　イソプロパノール（ＩＰＡ）：９１．５質量部
＜＜中間層形成用組成物Ａの調製＞＞
　以下の成分を混合し、中間層形成用組成物Ａを得た。
　アクリット８ＵＡ－１２２Ａ（アイカ工業（株）製）：４質量％
　イソプロパノール（ＩＰＡ）及び１－メトキシ－２－プロパノール（ＭＦＧ）の混合溶媒（ＩＰＡ：ＭＦＧ（質量比）＝３：１）：９６質量％
＜パターン状被めっき層の形成＞
　基材（帝人（株）製ＰＣ（ポリカーボネート系樹脂）フィルム、パンライトＰＣ、厚み：２５０μｍ、Ａ３サイズ）上に、中間層形成用組成物Ａをバーコーターにて塗布した。その後、形成された中間層形成用組成物層に対してＵＶ（紫外線）照射することにより、中間層（膜厚２．０μｍ）を形成した。つまり、基材と、基材上に配置された中間層とを有する中間層付き基材を得た。
　次に、上記中間層上に、被めっき層形成用組成物をバーコーターにて膜厚０．８μｍになるように塗布して、被めっき層前駆体層を得た。つまり、中間層付き基材と、上記中間層上に配置された被めっき層前駆体層とを有する被めっき層前駆体層付き基材を得た。
　次に、上記中間層上に、被めっき層形成用組成物をバーコーターにて膜厚０．８μｍになるように塗布して、被めっき層前駆体層を得た。つまり、中間層付き基材と、上記中間層上に配置された被めっき層前駆体層とを有する被めっき層前駆体層付き基材を得た。
　次に、金属層の面積率が１０％で、線幅Ｗが１０μｍ、パターン部の面積が２９０ｍｍ×２０５ｍｍのサイズのパターン（図１で示すストライプ構造のパターン、ピッチＰ：５０μｍ、未露光部がルーバー板１４となる。）になるように、所定の開口パターンを有する石英マスクを介して、メタルハライド光源にて上記被めっき層前駆体層を露光（０．２Ｊ／ｃｍ２）した。
　露光後、室温の水にて、露光された被めっき層前駆体層をシャワー洗浄して、現像処理し、線幅１０μｍのパターン状に形成された被めっき層（パターン状被めっき層）を得た。
＜金属層の形成＞
　次いで、パターン状被めっき層付き基材を炭酸ナトリウム１質量％水溶液に常温（２５℃）にて５分間浸漬し、取り出した被めっき層付き基材を純水にて２回洗浄した。次に純水に５分間浸漬した後、Ｐｄ触媒付与液（オムニシールド１５７３アクチベーター、ローム・アンド・ハース電子材料社製）に３０℃にて５分間浸漬し、その後、取り出した被めっき層付き基材を純水にて２回洗浄した。次に、得られた被めっき層付き基材を還元液（サーキュポジットＰ１３オキサイドコンバーター６０Ｃ、ローム・アンド・ハース電子材料社製）に３０℃にて５分間浸漬し、その後、取り出した被めっき層付き基材を純水にて２回洗浄した。次に、得られた被めっき層付き基材を無電解めっき液（サーキュポジット４５００、ローム・アンド・ハース電子材料社製）に４５℃にて１５分間浸漬し、その後、取り出した被めっき層付き基材を純水にて洗浄して、金属パターン付き基材を得た。
＜レジスト層の形成＞
　上記金属パターン付き基材上に、下記組成からなるレジスト組成物を膜厚５０μｍとなるように塗布し、８０℃で３０分乾燥させた。
＜＜レジスト組成物の調製＞＞
　下記の各成分を溶解混合し、レジスト組成物を得た。
・ＰＨＳ－ＥＶＥ（ｐ－ヒドロキシスチレンの１－エトキシエチル保護体／ｐ－ヒドロキシスチレン共重合体（３０モル％／７０モル％）、重量平均分子量：８×１０３、下記構造）：７１．４部
・下記記載のアクリルポリマー：２８．６部
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＰＡＧ１０３（ＢＡＳＦ社製）：２．７部
・ジブトキシアントラセン：２．７部
・エポキシ樹脂（ＪＥＲ１５７Ｓ６５、ジャパンエポキシレジン（株）製）：２．７部
・ナノ酸化アルミ粒子：（ＮＰ－ＡＬＯ－１、アルファ社製、平均粒子径８０ｎｍ）：４０．０部
・溶剤ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）：不揮発分が組成物全体に対して１０質量％となるように調整した。

 
　なお、上記記載のアクリルポリマー（Ａｃｒｙｌｉｃ　ｐｏｌｙｍｅｒ）の各構成単位における括弧の右下の数字は、モル比を表す。上記記載のアクリルポリマーの重量平均分子量は、２０×１０３である。
＜レジストパターンの形成＞
　上記レジスト層の形成で作製した感光性組成物層（レジスト層）が形成された金属パターン付き基材のレジスト層とは反対の面から、金属パターン越しに、キヤノン（株）製ＭＰＡ５５００ＣＦ（高圧水銀灯）を用いて、露光した。
　そして、露光後の感光性組成物層を、アルカリ現像液（０．４％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液）で現像した後、超純水でリンスした。これらの操作により、配線部分に積層されたレジスト層のみが硬化されずに除去された。
＜ストライプ状配線パターン形成＞
　配線部分に積層されたレジスト層に対し、電解メッキを施すことにより、幅Ｗ１０μｍ、高さＨ１００μｍのアスペクトを有する、ストライプ状配線パターンを形成した。
＜レジスト除去＞
　上記ストライプ状配線パターン形成で作製したルーバー状配線パターンを有する基材を、レジスト剥離剤（Ｎ－３００、ナガセケムテックス（株）製）６０℃に２分間浸漬させた後、超純水でリンスした。
　これらの操作により、パターン化されたレジスト層を除去した。
＜黒化処理＞
　下記成分を混合し、粘度１０ｍＰａ・ｓの黒化処理液１を調製した。
・亜塩素酸ナトリウム：２５質量部
・水酸化ナトリウム：１０質量部
・燐酸三ナトリウム：２質量部
・ポリビニルアルコール（日本酢ビ・ポバール（株）製、ＶＰ－１８）：５質量部
・純水：１，０００質量部
・グリセリン（粘度調整剤）：適量
　調製した黒化処理液１を、上記ストライプ状配線パターン形成で作製したストライプ状配線パターンを有する基材上に塗布した。
　この基板を６０℃、５分加熱した後、基板を純水で十分に洗浄し、黒化処理液を除去した。
＜樹脂層形成＞
　黒化処理した配線パターンを有する基材上に、下記組成からなる樹脂層形成用組成物Ａを膜厚５０μｍとなるように塗布し、８０℃で３０分乾燥させることで、ルーバー構造層を積層したフィルム１－２を作製した。
＜樹脂層形成用組成物Ａ＞
　下記の各成分を溶解混合し、レジスト組成物を得た。
・ＰＨＳ－ＥＶＥ（ｐ－ヒドロキシスチレンの１－エトキシエチル保護体／ｐ－ヒドロキシスチレン共重合体（３０モル％／７０モル％）、重量平均分子量：８×１０３、上記構造）：７１．４部
・上記記載のアクリルポリマー：２８．６部
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＰＡＧ１０３（ＢＡＳＦ社製）：２．７部
・ジブトキシアントラセン：２．７部
・エポキシ樹脂（ＪＥＲ１５７Ｓ６５、ジャパンエポキシレジン（株）製）：２．７部
・ナノ酸化アルミ粒子：（ＮＰ－ＡＬＯ－１、アルファ社製、平均粒子径８０ｎｍ）：４０．０部
・溶剤ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）：不揮発分が組成物全体に対して１０質量％となるように調整した。
〔表示装置の作製〕
　マイクロソフト社製のタッチパネル付き液晶タブレットＳｕｒｆａｃｅＰｒｏ７を表示装置として準備した。表示装置の表面に、上記加飾層を有するフィルム１－１を粘着剤（綜研化学（株）製、ＳＫダイン２０５７、厚さ２５μｍ）を用いて貼合した後、更に、貼り合わせた上記フィルム１－１の表面に、上記ルーバー構造層を積層したフィルム１－２を、ルーバー構造のストライプ方向が、表示装置の長軸方向（横方向）と平行になるように、上記フィルム１の基材側から、粘着剤（綜研化学（株）製、ＳＫダイン２０５７、厚さ２５μｍ）を用いて貼合することで、実施例１の表示装置（積層体付きディスプレイ）を作製した。
〔ディスプレイ表示の視認性〕
　ディスプレイＯＮ時の表示の視認性は、表示装置がＯＮ状態で、フォント１２サイズの文字を表示して、文字の視認性により評価した。積層体付きディスプレイは、ＬＥＤ光源（ＬＤＬ　４０Ｓ、三菱電機（株）製）から３ｍ離れた、真下にディスプレイ平面が、平行になるように、かつストライプ構造が設置し、輝度観察は、ディスプレイの真正面から、及び、ディスプレイの長軸方向に４５°ずれた位置から、それぞれ１ｍ離れて観察を行った。評価基準を以下に示す。Ａ～Ｃであることが好ましく、Ａ又はＢであることがより好ましく、Ａであることが更に好ましい。評価結果を、表１に示す。
　　Ａ：文字が鮮明に認識され、加飾層は視認されなかった。
　　Ｂ：文字が鮮明に認識されたが、加飾層が僅かに視認された。
　　Ｃ：ややぼやけているが、文字が認識された。同時に加飾層も視認された。
　　Ｄ：ぼやけており、文字の認識が困難であった。同時に加飾層も強く視認された。
〔加飾層の視認性〕
　ディスプレイＯＦＦ時に、ＯＮ時の視認性評価と同じ状態で、加飾層の視認性を確認した。評価基準を以下に示す。評価結果を、表１に示す。
　評価結果として、Ａ又はＢであることが好ましく、Ａがより好ましい。
　　Ａ：加飾層がクリアに視認された。
　　Ｂ：加飾層の視認性は低いが、加飾が認識できるレベルであった。
　　Ｃ：加飾層の視認性が低く、加飾が認識できない領域が存在した。
（実施例２～１０）
　ルーバー構造を構成するルーバー板の幅、高さ及びピッチを表１に記載のように変更した以外は、実施例１と同様にして、積層体付きディスプレイを作製した。
　また、実施例１と同様に、評価を行った。評価結果を、表１に示す。
（実施例１１～１６）
　加飾層を、下記に示す方法により作製した加飾層に変更した以外は、実施例１と同様にして、積層体付きディスプレイを作製した。
　また、実施例１と同様に、評価を行った。評価結果を、まとめて表２に示す。
＜加飾層２＞
　図３に示すパターンを、片面に易接着層を有する厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（コスモシャインＡ４１６０、東洋紡（株）製）の易接着面に、湿式電子写真印刷機（Ｉｎｄｉｇｏ２００００、１７５ｌＰｉ、黒単色モードを用いて印刷し、マスクフィルム２を作製した。
　実施例１にて、バンドパスフィルタと、マスクフィルム２を重ね合わせたものを介して１３０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射する以外は、実施例１と同様にして、加飾層２を作製した。
＜加飾層３＞
　実施例２で印刷する絵柄を、図４に示すパターンに変更する以外は、加飾層２と同様にして、加飾層３を作製した。
＜加飾層４＞
　片面に易接着層を有する厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（コスモシャインＡ４１６０、東洋紡（株）製）の易接着面に、湿式電子写真印刷機（Ｉｎｄｉｇｏ２００００、１７５ｌＰｉ、ヒューレットパッカード社製）を用いて、印刷物の色相が、青色（ａ＊＝－１１、ｂ＊＝－２５）になるように、均一な青色ベタの印刷物を作製した。その後、得られた印刷物に、Ｃｏ２レーザーマーカー（ＭＤ－Ｘ２０００Ａ、（株）キーエンス製）を用いて、直径５０μｍ円状のドット空孔を形成し、加飾層４を作製した。この際、ドットは、印刷物シートの角辺に対して、平行、垂直方向に、隣り合うドットの中心間の距離が、２００μｍになるように配置した。
＜加飾層５＞
　絵柄を均一な青色ベタから、図３に示すグラデーション柄に変更する以外は、加飾層４と同様にして、加飾層５を形成した。
＜加飾層６＞
　誘電体多層フィルム（ピカサスＧＢ４１、青色ベタ反射膜（誘電体多層膜）、東レ（株）製、Ａ４サイズ）を加飾層６とした。
＜加飾層７＞
　片面に易接着層を有する厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（コスモシャインＡ４１６０、東洋紡（株）製）の易接着面に、真空スパッタ装置（ＶＥＰ－１０００、アルバック社製）を用いて、酸化ケイ素、酸化ニオブを交互に、計６層積層し、中心波長が５２０ｎｍになるように膜厚を調整して、膜を形成することで、誘電体多層膜である加飾層７を形成した。
（比較例１～４）
　ルーバー構造層を設けなかった以外はそれぞれ、実施例１、実施例１３、実施例１５又は実施例１６と同様にして、積層体付きディスプレイを作製した。
　また、実施例１と同様に、評価を行った。評価結果を、表２に示す。
（実施例１７）
　黒化処理を行わずにルーバー板を作製した以外は、実施例１と同様にして、積層体付きディスプレイを作製した。また、実施例１と同様に、評価を行った。評価結果を、表３に示す。
（実施例１８）
　下記方法によりルーバー構造層を作製した以外は、実施例１と同様にして、積層体付きディスプレイを作製した。また、実施例１と同様に、評価を行った。評価結果を、表３に示す。
　環状ポリオレフィン系樹脂（‘ＴＯＰＡＳ’６０１３、Ｔｇ１３６℃、ポリプラスチックス（株）製）１００部と、カーボンブラック（ＭＡ－１００、三菱ケミカル（株）製）３０部を、ニーダー混錬機（ＴＤＲ１００－３、トーシン社製）を用いて、１５０℃、９０ｒｐｍで、１時間混錬し、マスターバッチを作成した。これらを１２０℃で６時間乾燥した後に２６０℃の温度で溶融した。次いで、溶融押出口金から押し出された樹脂を１００℃に保たれた金属ドラムにシート状に押出した。金属ドラムの速度を２５ｍ／分と設定して巻き取ることで樹脂シート１を得た。
　次に、下記金型１と樹脂シート１とを１７５℃で１分加熱し、１７５℃を維持しながら圧力２ＭＰａで、金型１と樹脂シート１とを３０秒間圧着した。続いて７０℃まで冷却後、樹脂シート１から金型を離型した。このようにして、樹脂シート１の片面に金型１の形状を反転したパターンを形成した溝付きルーバー構造を有するルーバー構造層を作製した。
－金型１－
　面内パターン：ストライプ状
　凸部の断面形状：等脚台形
　凸部の高さ：１００μｍ
　凸部の幅：（上部）７μｍ、（底部）１３μｍ
　凸部のピッチ：５０μｍ
　サイズ：２００ｍｍ×３００ｍｍ
（実施例１９～２４）
　ルーバー構造を構成するルーバー板の幅、高さ及びピッチを表３に記載のように変更した以外は、実施例１と同様にして、積層体付きディスプレイを作製した。
　また、実施例１と同様に、評価を行った。評価結果を、まとめて表３に示す。
　表１～表３に示すように、実施例の積層体付きディスプレイは、比較例の積層体付きディスプレイと比べ、斜め視野角からのディスプレイの視認性に優れるものであった。
　また、表１～表３に示すように、実施例の積層体付きディスプレイは、正面からのディスプレイの視認性にも優れるものであった。
（符号の説明）
　１０：積層体、１２：光透過部、１４：ルーバー板、１６：基材、２０：積層体付きデ
ィスプレイ、２２：ルーバー構造層、２４：加飾層、２６：ディスプレイ、Ｗ：ルーバー板１４の基材１６の面内方向における幅、Ｈ：ルーバー板１４の基材１６の厚さ方向における高さ、Ｐ：ルーバー板１４間の間隔（ピッチ）
　２０２２年９月２９日に出願された日本国特許出願２０２２－１５６３９３の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
　本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、および技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。

Claims (9)

  1. 　ルーバー構造層、及び、加飾層を有する積層体と、
    　前記積層体の前記加飾層側に、ディスプレイとを有し、
    　前記ルーバー構造層におけるルーバー構造が、ストライプ構造であり、
    　前記ストライプ構造のストライプ方向が、前記ディスプレイの横軸方向と略平行に配置されている
    　積層体付きディスプレイ。
  2. 　前記ルーバー構造の表面の少なくとも一部が、黒色である請求項１に記載の積層体付きディスプレイ。
  3. 　前記ルーバー構造を構成するルーバー板の幅が、１μｍ～５０μｍである請求項１又は請求項２に記載の積層体付きディスプレイ。
  4. 　前記ルーバー構造を構成するルーバー板の高さが、１０μｍ～３００μｍである請求項１又は請求項２に記載の積層体付きディスプレイ。
  5. 　前記ルーバー構造を構成するルーバー板の幅が、１μｍ～５０μｍであり、かつ、前記ルーバー構造の高さが、１０μｍ～３００μｍである請求項１又は請求項２に記載の積層体付きディスプレイ。
  6. 　前記ルーバー構造を構成するルーバー板間のピッチが、２０μｍ～１００μｍである請求項１又は請求項２に記載の積層体付きディスプレイ。
  7. 　前記加飾層が、印刷層、コレステリック液晶層、及び、誘電体多層膜よりなる群から選択される少なくとも１種の層である請求項１又は請求項２に記載の積層体付きディスプレイ。
  8. 　前記ルーバー構造層と前記加飾層との間に、接着層を更に有する請求項１又は請求項２に記載の積層体付きディスプレイ。
  9. 　前記接着層の厚みが、１０μｍ～１００μｍである請求項８に記載の積層体付きディスプレイ。
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