WO2023234603A1 - 유기 화합물 및 이를 포함하는 유기발광소자 - Google Patents
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- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 32
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 101
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims abstract description 43
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims abstract description 30
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims abstract description 29
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims abstract description 29
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 claims abstract description 17
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 28
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 claims description 27
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 24
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 22
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 21
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 claims description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000592 heterocycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 claims description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 100
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 100
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 72
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 55
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 51
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 48
- -1 1-methylpentyl group Chemical group 0.000 description 34
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 239000000463 material Substances 0.000 description 30
- 238000004895 liquid chromatography mass spectrometry Methods 0.000 description 24
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N sodium tert-butoxide Chemical compound [Na+].CC(C)(C)[O-] MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 21
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 20
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 14
- JAUCIDPGGHZXRP-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-n-(4-phenylphenyl)aniline Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1NC(C=C1)=CC=C1C1=CC=CC=C1 JAUCIDPGGHZXRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 9
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000005264 aryl amine group Chemical group 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- DKYRKAIKWFHQHM-UHFFFAOYSA-N (3,5-dichlorophenyl)boronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC(Cl)=CC(Cl)=C1 DKYRKAIKWFHQHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZXHUJRZYLRVVNP-UHFFFAOYSA-N dibenzofuran-4-ylboronic acid Chemical compound C12=CC=CC=C2OC2=C1C=CC=C2B(O)O ZXHUJRZYLRVVNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- UGOMMVLRQDMAQQ-UHFFFAOYSA-N xphos Chemical compound CC(C)C1=CC(C(C)C)=CC(C(C)C)=C1C1=CC=CC=C1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1 UGOMMVLRQDMAQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IWZSHWBGHQBIML-ZGGLMWTQSA-N (3S,8S,10R,13S,14S,17S)-17-isoquinolin-7-yl-N,N,10,13-tetramethyl-2,3,4,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydro-1H-cyclopenta[a]phenanthren-3-amine Chemical compound CN(C)[C@H]1CC[C@]2(C)C3CC[C@@]4(C)[C@@H](CC[C@@H]4c4ccc5ccncc5c4)[C@@H]3CC=C2C1 IWZSHWBGHQBIML-ZGGLMWTQSA-N 0.000 description 3
- MPDDTAJMJCESGV-CTUHWIOQSA-M (3r,5r)-7-[2-(4-fluorophenyl)-5-[methyl-[(1r)-1-phenylethyl]carbamoyl]-4-propan-2-ylpyrazol-3-yl]-3,5-dihydroxyheptanoate Chemical compound C1([C@@H](C)N(C)C(=O)C2=NN(C(CC[C@@H](O)C[C@@H](O)CC([O-])=O)=C2C(C)C)C=2C=CC(F)=CC=2)=CC=CC=C1 MPDDTAJMJCESGV-CTUHWIOQSA-M 0.000 description 3
- OIIOPWHTJZYKIL-PMACEKPBSA-N (5S)-5-[[[5-[2-chloro-3-[2-chloro-3-[6-methoxy-5-[[[(2S)-5-oxopyrrolidin-2-yl]methylamino]methyl]pyrazin-2-yl]phenyl]phenyl]-3-methoxypyrazin-2-yl]methylamino]methyl]pyrrolidin-2-one Chemical compound C1(=C(N=C(C2=C(C(C3=CC=CC(=C3Cl)C3=NC(OC)=C(N=C3)CNC[C@H]3NC(=O)CC3)=CC=C2)Cl)C=N1)OC)CNC[C@H]1NC(=O)CC1 OIIOPWHTJZYKIL-PMACEKPBSA-N 0.000 description 3
- UYZXLKMREZFZPU-UHFFFAOYSA-N (6-phenyldibenzofuran-4-yl)boronic acid Chemical compound C=12OC=3C(B(O)O)=CC=CC=3C2=CC=CC=1C1=CC=CC=C1 UYZXLKMREZFZPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KKHFRAFPESRGGD-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethyl-7-[3-(n-methylanilino)propyl]purine-2,6-dione Chemical compound C1=NC=2N(C)C(=O)N(C)C(=O)C=2N1CCCN(C)C1=CC=CC=C1 KKHFRAFPESRGGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KQZLRWGGWXJPOS-NLFPWZOASA-N 1-[(1R)-1-(2,4-dichlorophenyl)ethyl]-6-[(4S,5R)-4-[(2S)-2-(hydroxymethyl)pyrrolidin-1-yl]-5-methylcyclohexen-1-yl]pyrazolo[3,4-b]pyrazine-3-carbonitrile Chemical compound ClC1=C(C=CC(=C1)Cl)[C@@H](C)N1N=C(C=2C1=NC(=CN=2)C1=CC[C@@H]([C@@H](C1)C)N1[C@@H](CCC1)CO)C#N KQZLRWGGWXJPOS-NLFPWZOASA-N 0.000 description 3
- VKLKXFOZNHEBSW-UHFFFAOYSA-N 5-[[3-[(4-morpholin-4-ylbenzoyl)amino]phenyl]methoxy]pyridine-3-carboxamide Chemical compound O1CCN(CC1)C1=CC=C(C(=O)NC=2C=C(COC=3C=NC=C(C(=O)N)C=3)C=CC=2)C=C1 VKLKXFOZNHEBSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JQUCWIWWWKZNCS-LESHARBVSA-N C(C1=CC=CC=C1)(=O)NC=1SC[C@H]2[C@@](N1)(CO[C@H](C2)C)C=2SC=C(N2)NC(=O)C2=NC=C(C=C2)OC(F)F Chemical compound C(C1=CC=CC=C1)(=O)NC=1SC[C@H]2[C@@](N1)(CO[C@H](C2)C)C=2SC=C(N2)NC(=O)C2=NC=C(C=C2)OC(F)F JQUCWIWWWKZNCS-LESHARBVSA-N 0.000 description 3
- RAPBNVDSDCTNRC-UHFFFAOYSA-N Chlorobenzilate Chemical compound C=1C=C(Cl)C=CC=1C(O)(C(=O)OCC)C1=CC=C(Cl)C=C1 RAPBNVDSDCTNRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical group 0.000 description 3
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 3
- OTKPPUXRIADSGD-PPRNARJGSA-N avoparcina Chemical compound O([C@@H]1C2=CC=C(C(=C2)Cl)OC=2C=C3C=C(C=2O[C@H]2C([C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O2)O[C@@H]2O[C@@H](C)[C@H](O)[C@H](N)C2)OC2=CC=C(C=C2)[C@@H](O)[C@H](C(N[C@H](C(=O)N[C@H]3C(=O)N[C@H]2C(=O)N[C@@H]1C(N[C@@H](C1=CC(O)=CC(O)=C1C=1C(O)=CC=C2C=1)C(O)=O)=O)C=1C=CC(O)=CC=1)=O)NC(=O)[C@H](NC)C=1C=CC(O[C@H]2[C@@H]([C@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O2)O)=CC=1)[C@H]1C[C@@H](N)[C@@H](O)[C@H](C)O1 OTKPPUXRIADSGD-PPRNARJGSA-N 0.000 description 3
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 3
- 229940125877 compound 31 Drugs 0.000 description 3
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- DKHNGUNXLDCATP-UHFFFAOYSA-N dipyrazino[2,3-f:2',3'-h]quinoxaline-2,3,6,7,10,11-hexacarbonitrile Chemical compound C12=NC(C#N)=C(C#N)N=C2C2=NC(C#N)=C(C#N)N=C2C2=C1N=C(C#N)C(C#N)=N2 DKHNGUNXLDCATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004770 highest occupied molecular orbital Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- NSUOAKQZYABKRN-UHFFFAOYSA-N n-(4-phenylphenyl)-9,9'-spirobi[fluorene]-4-amine Chemical compound C=1C=CC(C2(C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C32)C2=CC=CC=C22)=C2C=1NC(C=C1)=CC=C1C1=CC=CC=C1 NSUOAKQZYABKRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SZOFSHPSDMYXKP-UHFFFAOYSA-N n-(4-phenylphenyl)dibenzofuran-3-amine Chemical compound C=1C=C(C2=CC=CC=C2O2)C2=CC=1NC(C=C1)=CC=C1C1=CC=CC=C1 SZOFSHPSDMYXKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- HYCYKHYFIWHGEX-UHFFFAOYSA-N (2-phenylphenyl)boronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 HYCYKHYFIWHGEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYQDHVBKUNNLGZ-UHFFFAOYSA-N (3-chloro-5-fluorophenyl)boronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC(F)=CC(Cl)=C1 XYQDHVBKUNNLGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUHOEUKIARFGPP-UHFFFAOYSA-N (3-chloro-5-phenylphenyl)boronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC(Cl)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 GUHOEUKIARFGPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000355 1,3-benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 2
- MYKQKWIPLZEVOW-UHFFFAOYSA-N 11h-benzo[a]carbazole Chemical group C1=CC2=CC=CC=C2C2=C1C1=CC=CC=C1N2 MYKQKWIPLZEVOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical group C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005916 2-methylpentyl group Chemical group 0.000 description 2
- XSJLDNSNUICSQC-UHFFFAOYSA-N 4,6-dibromodibenzofuran Chemical compound O1C2=C(Br)C=CC=C2C2=C1C(Br)=CC=C2 XSJLDNSNUICSQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHDHJYNTEFLIHY-UHFFFAOYSA-N 4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=NC2=C1C=CC1=C(C=3C=CC=CC=3)C=CN=C21 DHDHJYNTEFLIHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LGGSHXHPRHARFY-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-6-phenyldibenzothiophene Chemical compound BrC1=CC=CC(C2=CC=C3)=C1SC2=C3C1=CC=CC=C1 LGGSHXHPRHARFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QRMLAMCEPKEKHS-UHFFFAOYSA-N 9,9-dimethyl-n-(4-phenylphenyl)fluoren-2-amine Chemical compound C1=C2C(C)(C)C3=CC=CC=C3C2=CC=C1NC(C=C1)=CC=C1C1=CC=CC=C1 QRMLAMCEPKEKHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical group C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 2
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 2
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- DSSBJZCMMKRJTF-UHFFFAOYSA-N dibenzofuran-2-ylboronic acid Chemical compound C1=CC=C2C3=CC(B(O)O)=CC=C3OC2=C1 DSSBJZCMMKRJTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- GYQUYJZZRACXQE-UHFFFAOYSA-N n-(4-phenylphenyl)dibenzofuran-4-amine Chemical compound C=1C=CC(C2=CC=CC=C2O2)=C2C=1NC(C=C1)=CC=C1C1=CC=CC=C1 GYQUYJZZRACXQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001792 phenanthrenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C=CC12)* 0.000 description 2
- 125000001484 phenothiazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2SC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 2
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 2
- 125000001725 pyrenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001935 tetracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC4=CC=CC=C4C=C3C=C12)* 0.000 description 2
- 150000003852 triazoles Chemical group 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- MRBZYVMZUBUDAX-UHFFFAOYSA-N (3,5-diphenylphenyl)boronic acid Chemical compound C=1C(B(O)O)=CC(C=2C=CC=CC=2)=CC=1C1=CC=CC=C1 MRBZYVMZUBUDAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPEIJWZLPWNNOK-UHFFFAOYSA-N (4-phenylphenyl)boronic acid Chemical compound C1=CC(B(O)O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 XPEIJWZLPWNNOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMDPAJOXRYGXCB-UHFFFAOYSA-N (9,9-dimethylfluoren-2-yl)boronic acid Chemical compound C1=C(B(O)O)C=C2C(C)(C)C3=CC=CC=C3C2=C1 DMDPAJOXRYGXCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSAOVBUSKVZIBE-UHFFFAOYSA-N (9-phenylcarbazol-2-yl)boronic acid Chemical compound C=1C(B(O)O)=CC=C(C2=CC=CC=C22)C=1N2C1=CC=CC=C1 XSAOVBUSKVZIBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWJQEUDGBZMPAX-UHFFFAOYSA-N (9-phenylcarbazol-3-yl)boronic acid Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC(B(O)O)=CC=C2N1C1=CC=CC=C1 JWJQEUDGBZMPAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIXPSFYLBFVSII-UHFFFAOYSA-N (9-phenylcarbazol-4-yl)boronic acid Chemical compound C12=CC=CC=C2C=2C(B(O)O)=CC=CC=2N1C1=CC=CC=C1 QIXPSFYLBFVSII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical group C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006218 1-ethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- STTGYIUESPWXOW-UHFFFAOYSA-N 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline Chemical compound C=12C=CC3=C(C=4C=CC=CC=4)C=C(C)N=C3C2=NC(C)=CC=1C1=CC=CC=C1 STTGYIUESPWXOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006176 2-ethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006607 3,3-dimethylbutyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- DMEVMYSQZPJFOK-UHFFFAOYSA-N 3,4,5,6,9,10-hexazatetracyclo[12.4.0.02,7.08,13]octadeca-1(18),2(7),3,5,8(13),9,11,14,16-nonaene Chemical group N1=NN=C2C3=CC=CC=C3C3=CC=NN=C3C2=N1 DMEVMYSQZPJFOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXOCTSJQHHCASE-UHFFFAOYSA-N 3-phenyl-n-(3-phenylphenyl)aniline Chemical compound C=1C=CC(C=2C=CC=CC=2)=CC=1NC(C=1)=CC=CC=1C1=CC=CC=C1 LXOCTSJQHHCASE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULGFJZPCGNTWFK-UHFFFAOYSA-N 4,6-dibromodibenzothiophene Chemical compound S1C2=C(Br)C=CC=C2C2=C1C(Br)=CC=C2 ULGFJZPCGNTWFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004920 4-methyl-2-pentyl group Chemical group CC(CC(C)*)C 0.000 description 1
- XQNMSKCVXVXEJT-UHFFFAOYSA-N 7,14,25,32-tetrazaundecacyclo[21.13.2.22,5.03,19.04,16.06,14.08,13.020,37.024,32.026,31.034,38]tetraconta-1(36),2,4,6,8,10,12,16,18,20(37),21,23(38),24,26,28,30,34,39-octadecaene-15,33-dione 7,14,25,32-tetrazaundecacyclo[21.13.2.22,5.03,19.04,16.06,14.08,13.020,37.025,33.026,31.034,38]tetraconta-1(37),2,4,6,8,10,12,16,18,20,22,26,28,30,32,34(38),35,39-octadecaene-15,24-dione Chemical compound O=c1c2ccc3c4ccc5c6nc7ccccc7n6c(=O)c6ccc(c7ccc(c8nc9ccccc9n18)c2c37)c4c56.O=c1c2ccc3c4ccc5c6c(ccc(c7ccc(c8nc9ccccc9n18)c2c37)c46)c1nc2ccccc2n1c5=O XQNMSKCVXVXEJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005725 8-Hydroxyquinoline Substances 0.000 description 1
- IVLPUVAQMTXCFW-UHFFFAOYSA-N 9-(1-carbazol-9-yl-4-phenylcyclohexa-2,4-dien-1-yl)carbazole Chemical group C1=CC(N2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C32)(N2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C32)CC=C1C1=CC=CC=C1 IVLPUVAQMTXCFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical group N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USKZJRMLKWTASM-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=C(C=C1)N1C2=CC=CC=C2C=2C(=CC=CC1=2)B(O)O)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C1(=CC=C(C=C1)N1C2=CC=CC=C2C=2C(=CC=CC1=2)B(O)O)C1=CC=CC=C1 USKZJRMLKWTASM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical group C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- ZSIQJIWKELUFRJ-UHFFFAOYSA-N azepane Chemical compound C1CCCNCC1 ZSIQJIWKELUFRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXNDZONIWRINJR-UHFFFAOYSA-N azocane Chemical compound C1CCCNCCC1 QXNDZONIWRINJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- WZJYKHNJTSNBHV-UHFFFAOYSA-N benzo[h]quinoline Chemical group C1=CN=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 WZJYKHNJTSNBHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000499 benzofuranyl group Chemical group O1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000000051 benzyloxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- UFVXQDWNSAGPHN-UHFFFAOYSA-K bis[(2-methylquinolin-8-yl)oxy]-(4-phenylphenoxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CC=C([O-])C2=NC(C)=CC=C21.C1=CC=C([O-])C2=NC(C)=CC=C21.C1=CC([O-])=CC=C1C1=CC=CC=C1 UFVXQDWNSAGPHN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 125000002676 chrysenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=C4C=CC=CC4=C3C=CC12)* 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004210 cyclohexylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004851 cyclopentylmethyl group Chemical group C1(CCCC1)C* 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 125000005266 diarylamine group Chemical group 0.000 description 1
- TXCDCPKCNAJMEE-UHFFFAOYSA-N dibenzofuran Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3OC2=C1 TXCDCPKCNAJMEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJMKWIWQQJZXDP-UHFFFAOYSA-N dibenzothiophen-1-ylboronic acid Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C2=C1C=CC=C2B(O)O JJMKWIWQQJZXDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXNHPQCCUVWRO-UHFFFAOYSA-N dibenzothiophen-4-ylboronic acid Chemical compound C12=CC=CC=C2SC2=C1C=CC=C2B(O)O GOXNHPQCCUVWRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYYZUPMFVPLQIF-ALWQSETLSA-N dibenzothiophene Chemical group C1=CC=CC=2[34S]C3=C(C=21)C=CC=C3 IYYZUPMFVPLQIF-ALWQSETLSA-N 0.000 description 1
- 125000005509 dibenzothiophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthene Chemical group C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003037 imidazol-2-yl group Chemical group [H]N1C([*])=NC([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 125000002510 isobutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- 125000005921 isopentoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000000842 isoxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- IMKMFBIYHXBKRX-UHFFFAOYSA-M lithium;quinoline-2-carboxylate Chemical compound [Li+].C1=CC=CC2=NC(C(=O)[O-])=CC=C21 IMKMFBIYHXBKRX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000006610 n-decyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001298 n-hexoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000006609 n-nonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006608 n-octyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003935 n-pentoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JJGPFWKMBHXQHH-UHFFFAOYSA-N n-phenyl-9,9'-spirobi[fluorene]-4-amine Chemical compound C=1C=CC(C2(C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C32)C2=CC=CC=C22)=C2C=1NC1=CC=CC=C1 JJGPFWKMBHXQHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005484 neopentoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical group C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001715 oxadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229960003540 oxyquinoline Drugs 0.000 description 1
- 125000003538 pentan-3-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001644 phenoxazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2OC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 1
- 125000004592 phthalazinyl group Chemical group C1(=NN=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical group C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N rubrene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 125000005920 sec-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003548 sec-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 150000003413 spiro compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical group C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001113 thiadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K tri(quinolin-8-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000005259 triarylamine group Chemical group 0.000 description 1
- PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilicon Chemical group CO[Si](OC)OC PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005580 triphenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
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- H10K85/657—Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons
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Definitions
- the present invention relates to organic compounds, and more specifically, to organic compounds employed in organic layers such as electron blocking layers in organic light-emitting devices, and to organic light-emitting devices whose device characteristics, such as low-voltage operation, long life, and luminous efficiency, are significantly improved by employing the same. It's about.
- Organic light emitting devices not only can be formed on transparent substrates, but also can be driven at low voltages of 10 V or less compared to plasma display panels or inorganic electroluminescence (EL) displays, and consume relatively little power. , It has the advantage of excellent color and can display three colors of green, blue, and red, so it has recently been the subject of much attention as a next-generation display device.
- an organic light emitting device In an organic light emitting device, electrons injected from an electron injection electrode (cathode electrode) and holes injected from a hole injection electrode (anode electrode) combine in the light emitting layer to form an exciton, and the exciton produces energy. It is a self-luminous device that emits light while emitting light, and such organic light-emitting devices are attracting attention as next-generation light sources due to the advantages of low driving voltage, high luminance, wide viewing angle, fast response speed, and applicability to full-color flat panel light-emitting displays. .
- the structure of the organic layer within the device must be optimized, and the materials that make up each organic layer: hole injection material, hole transport material, hole blocking material, light-emitting material, electron transport material, and electron.
- injection materials, electron blocking materials, etc. must be supported by stable and efficient materials, there is still a need for the development of stable and efficient organic layer structures and materials for organic light-emitting devices.
- the present invention provides an organic compound that can be used as an organic layer material such as an electron blocking layer and a hole transport layer in an organic light emitting device to significantly improve device characteristics such as low voltage driving characteristics, long life, and luminous efficiency, and an organic light emitting device containing the same. We would like to provide.
- the present invention provides an organic compound represented by the following [Chemical Formula I] and an organic light-emitting device containing the same.
- the organic compound according to the present invention has excellent hole injection and transport performance, high triplet exciton confinement performance, excellent electron blocking performance, and excellent stability in a thin film state, and is used as an electron blocking layer, hole transport layer, etc.
- Organic light-emitting devices used in the organic layer have significantly superior device characteristics such as low-voltage operation, long lifespan, and luminous efficiency compared to conventional devices, and can be usefully used in various lighting devices and display devices.
- the present invention relates to an organic compound represented by the following [Chemical Formula I], which significantly improves device characteristics such as low-voltage driving, long life, and luminous efficiency when employed in various organic layers in an organic light-emitting device, preferably in an electron blocking layer. It is possible to implement organic light emitting devices.
- X is O or S.
- R 1 to R 3 are the same as or different from each other, and are each independently hydrogen or deuterium.
- Ar 1 to Ar 4 are the same or different from each other, and are each independently selected from a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms and a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 carbon atoms.
- D is deuterium
- n refers to the number of hydrogens in the formula (I) replaced with deuterium (D)
- n is an integer from 0 to 60.
- Forma I is characterized in that it is a compound in which not only the skeletal structure, but also R 1 to R 3 and Ar 1 to Ar 4 introduced therein are each partially substituted with deuterium (D), and in an embodiment of the present invention According to this, the deuterium (D) substitution rate may be 10 to 90%.
- the compound according to the present invention replaces some of the hydrogen in the structure of [Formula I] with deuterium, so that the compound represented by [Formula I] according to the present invention may be a compound containing at least one deuterium, and may be a conventional moiety
- the compound represented by [Formula I] according to the present invention may contain at least one or more deuterium in [Formula I], and accordingly, R 1 to R 3 and Ar 1 to Ar 4 At least one of them is a substituent having a structure containing deuterium.
- At least one of Ar 1 to Ar 4 is selected from the following [Structural Formula 1] to [Structural Formula 6].
- R and R' are each independently selected from hydrogen, deuterium, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 carbon atoms.
- R 4 to R 6 are the same or different from each other, and each independently represents deuterium, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted 6 to 20 carbon atoms. It is selected from an aryl group of 30 and a substituted or unsubstituted heteroaryl group of 3 to 30 carbon atoms.
- R 4 and R 5 may be connected to each other to form an alicyclic or aromatic monocyclic or polycyclic ring.
- the '*-' indicates a linking site, and in [Structural Formula 4], any one of R, R' and R 6 is '*-'.
- Ar 4 is any one selected from [Structural Formula 1] to [Structural Formula 6].
- R, R', R 1 to R 6 and Ar 1 to Ar 4 'substituted or unsubstituted' refers to R, R', R 1 to R 6 and Ar 1 to Ar 4 With one or two or more substituents selected from deuterium, cyano group, halogen group, hydroxy group, nitro group, alkyl group, alkoxy group, cycloalkyl group, heterocycloalkyl group, aryl group, fluorenyl group, heteroaryl group, silyl group and amine group. It means being substituted, being substituted with a substituent in which two or more of the above substituents are linked, or not having any substituents.
- a substituted aryl group refers to a phenyl group, biphenyl group, naphthalene group, fluorenyl group, pyrenyl group, phenanthrenyl group, perylene group, tetracenyl group, anthracenyl group, etc. substituted with another substituent such as deuterium.
- substituted heteroaryl group refers to pyridyl group, thiophenyl group, triazine group, quinoline group, phenanthroline group, imidazole group, thiazole group, oxazole group, carbazole group and condensed heterocyclic groups thereof, such as This means that benzquinoline group, benzimidazole group, benzoxazole group, benzthiazole group, benzcarbazole group, dibenzothiophenyl group, dibenzofuran group, etc. are also substituted with other substituents such as deuterium.
- the alkyl group may be straight chain or branched, and the number of carbon atoms is not particularly limited, but is preferably 1 to 20. Specific examples include methyl group, ethyl group, propyl group, n-propyl group, isopropyl group, butyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, sec-butyl group, 1-methyl-butyl group, 1- Ethyl-butyl group, pentyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, hexyl group, n-hexyl group, 1-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 4-methyl- 2-pentyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, heptyl group, n-heptyl group, 1-methylhexyl group, 2-e
- the alkoxy group may be straight chain or branched chain.
- the number of carbon atoms in the alkoxy group is not particularly limited, but is preferably 1 to 20, which is within a range that does not cause steric hindrance.
- neopentyloxy group isopentyloxy group, n-hexyloxy group, 3,3-dimethylbutyloxy group, 2-ethylbutyloxy group, n-octyloxy group, n-nonyloxy group, n-decyloxy group , benzyloxy group, p-methylbenzyloxy group, etc., but is not limited thereto.
- the alkyl group and the alkoxy group may be a deuterated alkyl group or alkoxy group, a halogenated alkyl group or an alkoxy group, respectively, which means an alkyl group or an alkoxy group in which the alkyl group or alkoxy group is substituted with a deuterium or halogen group.
- the aryl group may be monocyclic or polycyclic, and the number of carbon atoms is not particularly limited, but is preferably 6 to 30. It also includes a polycyclic aryl group structure fused with cycloalkyl, etc., and the monocyclic aryl group Examples of phenyl group (Ph), biphenyl group, terphenyl group, stilbene group, etc.
- polycyclic aryl groups include naphthyl group, anthracenyl group, phenanthrenyl group, pyrenyl group, perylenyl group, tetracenyl group, Chrysenyl group, fluorenyl group, acenaphthacenyl group, triphenylene group, fluoranthrene group, etc., but the scope of the present invention is not limited to these examples.
- fluorene in a fluorenyl group or fluorene moiety is a structure in which two ring organic compounds are connected through one atom, for example , , etc.
- open fluorene structure where open fluorene is a structure in which one ring compound is disconnected from a structure in which two ring organic compounds are connected through one atom, for example , etc.
- the carbon atom of the ring may be substituted with one or more heteroatoms selected from N, S, and O, for example , , , etc.
- the fluorenyl group may have a structure in which a monocyclic or polycyclic aromatic ring and a monocyclic or polycyclic alicyclic ring, etc. are further condensed to the above linked structure or open structure.
- the heteroaryl group is a heterocyclic group containing O, N or S as a heteroatom, and the number of carbon atoms is not particularly limited, but is preferably 2 to 30 carbon atoms, and is a polycyclic group fused with cycloalkyl or heterocycloalkyl, etc. It contains a heteroaryl group structure, and specific examples thereof in the present invention include thiophene group, furan group, pyrrole group, imidazole group, thiazole group, oxazole group, oxadiazole group, triazole group, pyridyl group, and bipyridyl group.
- pyrimidyl group triazine group, triazole group, acridyl group, pyridazine group, pyrazinyl group, quinolinyl group, quinazoline group, quinoxalinyl group, phthalazinyl group, pyrido pyrimidinyl group, pyrido pyrazinyl group, pyrazino pyrazinyl group, isoquinoline group, indole group, carbazole group, benzoxazole group, benzoimidazole group, benzothiazole group, benzocarbazole group, benzothiophene group, dibenzothiophene group, benzofuranyl group, Dibenzofuranyl group, phenanthroline group, thiazolyl group, isoxazolyl group, oxadiazolyl group, thiadiazolyl group, benzothiazolyl group, phenothiazinyl group, phenoxaziny
- the silyl group is an unsubstituted silyl group or a silyl group substituted with an alkyl group, an aryl group, etc.
- Specific examples of such silyl groups include trimethylsilyl, triethylsilyl, triphenylsilyl, trimethoxysilyl, and dimethoxysilyl.
- Examples include phenylsilyl, diphenylmethylsilyl, diphenylvinylsilyl, methylcyclobutylsilyl, dimethylfurylsilyl, etc., but are not limited thereto.
- halogen group used in the present invention include fluorine (F), chlorine (Cl), and bromine (Br).
- cycloalkyl groups refer to and include monocyclic, polycyclic and spiro alkyl radicals, and preferably contain ring carbon atoms having 3 to 20 carbon atoms, such as cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, and bicyclo. It includes heptyl, spirodecyl, spiroundecyl, adamantyl, etc., and the cycloalkyl group may be optionally substituted.
- heterocycloalkyl groups refer to and include aromatic and non-aromatic cyclic radicals containing one or more heteroatoms, wherein one or more heteroatoms are O, S, N, P, B, Si and Se, It is preferably selected from O, N or S, and specifically, when it contains N, it may be aziridine, pyrrolidine, piperidine, azepane, azocan, etc.
- the amine group may be -NH 2 , an alkylamine group, an arylamine group, an arylheteroarylamine group, etc.
- an arylamine group refers to an amine substituted with aryl
- an alkylamine group refers to an amine substituted with alkyl.
- the arylheteroarylamine group refers to an amine substituted with aryl and heteroaryl groups.
- arylamine group examples include a substituted or unsubstituted monoarylamine group, a substituted or unsubstituted diarylamine group, or a substituted or There is an unsubstituted triarylamine group, and the aryl group and heteroaryl group in the arylamine group and arylheteroarylamine group may be a monocyclic aryl group, a monocyclic heteroaryl group, or a polycyclic aryl group or a polycyclic heteroaryl group.
- the arylamine group containing two or more heteroaryl groups, and the arylheteroarylamine group include a monocyclic aryl group (heteroaryl group), a polycyclic aryl group (heteroaryl group), or a monocyclic aryl group (heteroaryl group). It may contain both an aryl group) and a polycyclic aryl group (heteroaryl group).
- the aryl group and heteroaryl group of the arylamine group and the arylheteroarylamine group may be selected from examples of the above-mentioned aryl group and heteroaryl group.
- the organic compound according to the present invention represented by [Chemical Formula I] can be used as an organic layer of an organic light-emitting device due to its structural specificity, and more specifically, electron blocking of the organic layer depending on the characteristics of various substituents introduced. It can be used as a material for layers, etc.
- Preferred specific examples of the compound represented by [Chemical Formula I] according to the present invention include the following compounds, but are not limited to these.
- organic compounds with unique properties of the skeletal structure and substituents can be synthesized.
- Compound materials can be manufactured, and in particular, when the compound of [Chemical Formula I] according to the present invention is used in the electron blocking layer, etc., device characteristics such as luminous efficiency of the device can be further improved.
- the organic compound according to the present invention can be applied to an organic light-emitting device according to a conventional manufacturing method.
- the organic light emitting device may have a structure including a first electrode, a second electrode, and an organic layer disposed between them, except that the organic compound according to the present invention is used in the organic layer of the device. It can be manufactured using conventional device manufacturing methods and materials.
- the organic layer of the organic light emitting device according to the present invention may have a single-layer structure, or may have a multi-layer structure in which two or more organic layers are stacked.
- it may have a structure including a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer, an electron blocking layer, etc.
- it is not limited to this and may include fewer or more organic layers.
- the organic light emitting device may include a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, etc. formed on an anode, and may also include a hole blocking layer, an electron injection layer, an electron transport layer, an electron blocking layer, It may include a light emitting auxiliary layer, etc., but is not limited thereto.
- the organic layer may include an electron blocking layer, etc., and one or more of the layers may include the organic compound represented by [Chemical Formula I].
- the organic light emitting device deposits a metal, a conductive metal oxide, or an alloy thereof on a substrate using a PVD (physical vapor deposition) method such as sputtering or e-beam evaporation. is deposited to form an anode, and an organic layer including a hole injection layer, a hole transport layer, a hole blocking layer, a light emitting layer, an electron blocking layer, an electron transport layer, an electron blocking layer, etc. is formed thereon, and then an organic layer that can be used as a cathode is formed thereon. It can be manufactured by depositing the material.
- PVD physical vapor deposition
- an organic light-emitting device can also be made by sequentially depositing a cathode material, an organic layer, and an anode material on a substrate.
- the organic layer may have a multilayer structure including a hole injection layer, a hole transport layer, a hole blocking layer, a light emitting layer, an electron blocking layer, an electron transport layer, an electron blocking layer, etc., but is not limited to this and may have a single layer structure.
- the organic layer uses a variety of polymer materials and is formed using a solvent process rather than a deposition method, such as spin coating, dip coating, doctor blading, screen printing, inkjet printing, or thermal transfer, to form a smaller number of layers. It can be manufactured in layers.
- the anode is usually preferably a material with a large work function to ensure smooth hole injection into the organic layer.
- anode materials that can be used in the present invention include metals such as vanadium, chromium, copper, zinc, and gold, or alloys thereof, zinc oxide, indium oxide, indium tin oxide (ITO), and indium zinc oxide (IZO).
- Metal oxides, combinations of metals and oxides such as ZnO:Al or SnO 2 :Sb, poly(3-methylthiophene), poly[3,4-(ethylene-1,2-dioxy)thiophene] (PEDT) , conductive polymers such as polypyrrole and polyaniline, but are not limited to these.
- the cathode is generally preferably made of a material with a low work function to facilitate electron injection into the organic layer.
- cathode materials include metals such as magnesium, calcium, sodium, potassium, titanium, indium, yttrium, lithium, gadolinium, aluminum, silver, tin and lead, or alloys thereof, multilayers such as LiF/Al or LiO 2 /Al. Structural materials, etc., but are not limited to these.
- the hole injection layer is a material that can easily receive holes from the anode at a low voltage, and it is preferable that the HOMO (highest occupied molecular orbital) of the hole injection material is between the work function of the anode material and the HOMO of the surrounding organic layer.
- hole injection materials include metal porphyrine, oligothiophene, arylamine-based organic substances, hexanitrile hexaazatriphenylene, quinacridone-based organic substances, perylene-based organic substances, Examples include anthraquinone, polyaniline, and polythiophene-based conductive polymers, but are not limited to these.
- the hole transport layer is a material that can transport holes from the anode or hole injection layer and transfer them to the light emitting layer, and a material with high mobility for holes is suitable.
- Specific examples include arylamine-based organic materials, conductive polymers, and block copolymers with both conjugated and non-conjugated portions, but are not limited to these.
- the electron blocking layer is a layer that blocks the movement of electrons and can be formed on the hole transport layer.
- An electron blocking layer that can block the movement of electrons without affecting the transport of holes can be used.
- a light-emitting layer may be formed on the electron blocking layer, and a hole blocking layer, an electron transport layer, and an electron injection layer may be formed.
- the hole blocking layer can be used to prevent the movement of holes without affecting the transport of electrons.
- An example of such a hole blocking layer is TPBi (1,3,5-tri(1-phenyl-1H-benzo). [d]imidazol-2-yl)phenyl), BCP (2,9-dimethyl4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline), CBP (4,4-bis(N-carbazolyl)-1,1'-biphenyl ), PBD (2-(4-biphenyl)-5-(4-t-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazole), PTCBI (bisbenzimidazo[2,1-a:1',2-b']anthra [2,1,9-def:6,5,10-d'e'f']diisoguinoline-10,21-dione) or BPhen (4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline), etc. It is not limited.
- the light-emitting layer is a material that can emit light in the visible light range by transporting holes and electrons from the hole transport layer and the electron transport layer, respectively, and combining them, and a material with good quantum efficiency for fluorescence or phosphorescence is preferable.
- Specific examples include 8-hydroxy-quinoline aluminum complex (Alq 3 ), carbazole-based compounds, dimerized styryl compounds, BAlq, 10-hydroxybenzoquinoline-metal compounds, benzoxazole, benzthiazole, and Examples include benzimidazole-based compounds, poly(p-phenylenevinylene) (PPV)-based polymers, spiro compounds, polyfluorene, and rubrene, but are not limited to these.
- PV poly(p-phenylenevinylene)
- the electron injection layer can be one that has high injection efficiency of electrons transferred from the cathode.
- electron injection layers include, but are not limited to, lithium quinolate (Liq).
- the electron transport layer is a material that can easily receive electrons from the cathode and transfer them to the light emitting layer, and a material with high electron mobility is suitable.
- a material with high electron mobility includes, but are not limited to, an Al complex of 8-hydroxyquinoline, a complex containing Alq 3 , an organic radical compound, and a hydroxyflavone-metal complex.
- the organic light emitting device may be a front emitting type, a back emitting type, or a double-sided emitting type depending on the material used.
- organic compound according to the present invention can function in organic electronic devices, including organic solar cells, organic photoreceptors, organic transistors, etc., on a principle similar to that applied to organic light-emitting devices.
- Synthesis example 8 Synthesis of Compound 62
- Synthesis example 12 Synthesis of compound 113
- Synthesis example 17 Synthesis of Compound 199
- the ITO transparent electrode is patterned so that the light emitting area is 2 mm ⁇ 2 mm using an ITO glass substrate to which the ITO transparent electrode is attached on a glass substrate of 25 mm ⁇ 25 mm ⁇ 0.7 mm. and then washed. After the substrate was mounted in a vacuum chamber and the base pressure was set to 1 ⁇ 10 -6 torr, organic materials and metals were deposited on the ITO in the following structure.
- the compound implemented according to the present invention was employed in the electron blocking layer to manufacture an organic light-emitting device having the following device structure, and then the light emission and driving characteristics of the compound implemented according to the present invention were measured.
- ITO / hole injection layer HAT-CN, 5 nm
- hole transport layer HT1, 100 nm
- electron blocking layer 10 nm
- emission layer 20 nm
- electron transport layer E1:Liq, 30 nm
- LiF LiF ( 1 nm) / Al (100 nm)
- [HAT-CN] was deposited to a thickness of 5 nm on the top of the ITO transparent electrode to form a hole injection layer, and then [HT1] was deposited to a thickness of 100 nm to form a hole transport layer.
- the compound according to the present invention shown in [Table 1] below was deposited to a thickness of 10 nm to form an electron blocking layer, and the light emitting layer was formed at a thickness of 20 nm using [BH1] as the host compound and [BD1] as the dopant compound. It was formed by vapor deposition.
- an organic light emitting device was manufactured by forming Al into a film with a thickness of 100 nm.
- the organic light emitting device for Device Comparative Example 1 was manufactured in the same manner as the device structures of Examples 1 to 80 except that [EB1] was used instead of the compound according to the present invention in the electron blocking layer.
- the organic light emitting device for Device Comparative Example 2 was manufactured in the same manner as the device structures of Examples 1 to 80, except that [EB2] was used instead of the compound according to the present invention in the electron blocking layer.
- the organic light emitting device for Device Comparative Example 3 was manufactured in the same manner as the device structures of Examples 1 to 80, except that [EB3] was used in the electron blocking layer instead of the compound according to the present invention.
- the organic light-emitting device for Comparative Device Example 4 was manufactured in the same manner as the device structures of Examples 1 to 80, except that [EB4] was used in the electron blocking layer instead of the compound according to the present invention.
- the driving voltage, current efficiency, and color coordinates of the organic light emitting devices manufactured according to the above examples and comparative examples were measured using a source meter (Model 237, Keithley) and a luminance meter (PR-650, Photo Research), and were measured at 1,000 nit.
- the standard result values are shown in [Table 1] below.
- Example electronic low layer V cd/A CIEx CIey One Formula 1 3.89 7.56 0.1361 0.1340 2 Formula 4 4.07 7.46 0.1366 0.1333 3 Formula 6 3.82 7.61 0.1341 0.1359 4 Formula 8 3.96 7.55 0.1340 0.1358 5 Formula 10 3.81 7.66 0.1351 0.1350 6 Formula 12 3.99 7.33 0.1327 0.1376 7 Formula 13 3.81 7.90 0.1351 0.1351 8 Formula 16 4.16 7.48 0.1329 0.1373 9 Formula 18 4.03 7.30 0.1328 0.1374 10 Formula 19 4.01 7.64 0.1317 0.1386 11 Formula 28 3.62 7.56 0.1345 0.1355 12 Formula 31 3.74 7.59 0.1314 0.1392 13 Formula 33 4.20 7.52 0.1316 0.1385 14 Formula 35 4.03 7.38 0.1317 0.1389 15 Formula 37 4.12 7.79 0.1326 0.1378 16 Formula 39 3.66 7.70 0.1329 0.1372 17 Formula 41 3.95 7.35 0.1360 0.1344 18 Formula 48 3.76 7.84 0.1329 0.1382 19 Formula 50
- the organic compound according to the present invention has excellent hole injection and transport performance, high triplet exciton confinement performance, excellent electron blocking performance, and excellent stability in a thin film state, and is used as an electron blocking layer, hole transport layer, etc.
- Organic light-emitting devices used in the organic layer have significantly superior device characteristics such as low-voltage operation, long lifespan, and luminous efficiency compared to conventional devices, and can be used industrially in various lighting devices and display devices.
Landscapes
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Abstract
본 발명은 정공수송층, 전자저지층 등의 유기발광소자 내의 유기층에 채용되는 유기 화합물에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 유기 화합물은 정공주입 및 수송 성능이 우수하고, 삼중항 여기자를 가두는 성능이 높으며, 전자저지 성능이 우수하면서 박막 상태에서의 안정성이 우수하여, 이를 유기발광소자 내의 유기층, 바람직하게는 정공수송층 등에 채용하는 경우, 발광 효율, 양자 효율 등 발광 특성이 매우 우수한 유기발광소자의 구현이 가능하다.
Description
본 발명은 유기 화합물에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 유기발광소자 내의 전자저지층 등의 유기층에 채용되는 유기 화합물 및 이를 채용하여 저전압 구동, 장수명, 발광 효율 등의 소자 특성이 현저히 향상된 유기발광소자에 관한 것이다.
유기발광소자는 투명 기판 위에도 소자를 형성할 수 있을 뿐 아니라, 플라즈마 디스플레이 패널 (Plasma Display Panel)이나 무기전계발광 (EL) 디스플레이에 비해 10 V 이하의 저전압 구동이 가능하고, 전력 소모가 비교적 적으며, 색감이 뛰어나다는 장점이 있고, 녹색, 청색, 적색의 3가지 색을 나타낼 수가 있어 최근에 차세대 디스플레이 소자로 많은 관심의 대상이 되고 있다.
유기발광소자는 전자 주입 전극 (캐소드 전극)으로부터 주입된 전자 (electron)와 정공 주입 전극 (애노드 전극)으로부터 주입된 정공 (hole)이 발광층에서 결합하여 엑시톤 (exciton)을 형성하고 그 엑시톤이 에너지를 방출하면서 발광하는 자체 발광형 소자이며, 이와 같은 유기발광소자는 낮은 구동 전압, 높은 휘도, 넓은 시야각 및 빠른 응답속도를 가지며 풀-컬러 평판 발광 디스플레이에 적용 가능하다는 이점 때문에 차세대 광원으로서 각광을 받고 있다.
다만, 이러한 유기발광소자가 상기와 같은 특징을 발휘하기 위해서는 소자 내 유기층의 구조를 최적화하고, 각 유기층을 이루는 물질인 정공주입 물질, 정공수송 물질, 정공저지 물질, 발광물질, 전자수송 물질, 전자주입 물질, 전자저지 물질 등이 안정하고 효율적인 재료에 의하여 뒷받침되는 것이 선행되어야 하나, 여전히 안정하고 효율적인 유기발광소자용 유기층의 구조 및 각 재료의 개발이 계속하여 필요한 실정이다.
특히, 보다 높은 발광효율을 구현하기 위하여 정공 이동도도 증가하여 정공주입층 또는 정공수송층에도 이용될 뿐만 아니라, 전자저지층으로 보다 적합하게 활용할 수 있는 재료에 대한 개발이 요구되고 있다.
따라서, 본 발명은 유기발광소자 내의 전자저지층, 정공수송층 등의 유기층 재료로 채용되어 저전압 구동 특성과, 장수명, 발광 효율 등의 소자 특성을 현저히 향상시킬 수 있는 유기 화합물 및 이를 포함하는 유기발광소자를 제공하고자 한다.
본 발명은 상기 과제를 해결하기 위하여, 하기 [화학식 Ⅰ]로 표시되는 유기 화합물 및 이를 포함하는 유기발광소자를 제공한다.
[화학식 Ⅰ]
상기 [화학식 Ⅰ]의 구체적인 구조와 이에 의하여 구현되는 구체적인 화합물, 그리고 X, R1 내지 R3, Ar1 내지 Ar4 및 D (중수소) 및 n의 정의에 대해서는 후술한다.
본 발명에 따른 유기 화합물은 정공주입 및 수송 성능이 우수하고, 삼중항 여기자를 가두는 성능이 높으며, 전자저지 성능이 우수하면서 박막 상태에서의 안정성이 우수하여, 이를 전자저지층, 정공수송층 등의 유기층에 채용한 유기발광소자는 종래 소자에 비하여 저전압 구동, 장수명 특성, 발광 효율 등의 소자 특성이 현저히 우수하여 다양한 조명 소자 및 디스플레이 소자 등에 유용하게 사용될 수 있다.
이하, 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.
본 발명은 하기 [화학식 Ⅰ]로 표시되는 유기 화합물에 관한 것으로서, 유기발광소자 내의 다양한 유기층에, 바람직하게는 전자저지층 등에 채용하는 경우에 저전압 구동, 장수명, 발광 효율 등의 소자 특성이 현저히 향상된 유기발광소자의 구현이 가능하다.
[화학식 Ⅰ]
상기 [화학식 Ⅰ]에서,
X는 O 또는 S이다.
R1 내지 R3은 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소 또는 중수소이다.
Ar1 내지 Ar4는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기 및 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기 중에서 선택된다.
D는 중수소이고, n은 상기 [화학식 Ⅰ내의 수소가 중수소 (D)로 대체된 개수를 의미하고, n은 0 내지 60의 정수이다.
상기 [화학식 Ⅰ]은 골격 구조는 물론, 이에 도입되는 R1 내지 R3, Ar1 내지 Ar4가 각각 부분적으로 중수소 (D)로 치환된 화합물인 것을 특징으로 하고, 본 발명의 일 실시예에 의하면, 상기 중수소 (D) 치환율이 10 ~ 90%일 수 있다.
이와 같이 본 발명에 따른 화합물은 [화학식 Ⅰ] 구조 내의 일부 수소를 중수소로 대체함으로써, 본 발명에 따른 [화학식 Ⅰ]로 표시되는 화합물은 중수소를 적어도 하나 이상 포함하는 화합물일 수 있고, 종래 모이어티 구조에 따라 확인되는 유기발광소자의 낮은 수명 단점을 보완하여 보다 장수명을 갖는 유기발광소자를 구현 가능케 한다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 의하면, 본 발명에 따른 [화학식 Ⅰ]로 표시되는 화합물은 [화학식 Ⅰ] 내에 적어도 하나 이상의 중수소를 포함할 수 있고, 이에 따라 [화학식 Ⅰ]에서의 R1 내지 R3 및 Ar1 내지 Ar4 중 적어도 하나 이상은 중수소를 포함하는 구조를 갖는 치환기인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 일 실시예에 의하면, 상기 Ar1 내지 Ar4 중에서 적어도 하나 이상은 하기 [구조식 1] 내지 [구조식 6] 중에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 한다.
[구조식 1] [구조식 2] [구조식 3]
[구조식 4] [구조식 5] [구조식 6]
상기 [구조식 1] 내지 [구조식 6]에서,
R 및 R'는 각각 독립적으로 수소, 중수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기 및 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기 중에서 선택된다.
R4 내지 R6은 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 중수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기 및 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기 중에서 선택된다.
상기 R4와 R5는 서로 연결되어 지환족 또는 방향족의 단일환 또는 다환의 고리를 형성할 수 있다.
상기 '*-'는 연결 사이트를 나타내는 것이고, 상기 [구조식 4]에서 R, R' 및 R6 중 어느 하나는 '*-'이다.
본 발명의 일 실시예에 의하면, 상기 Ar4가 상기 [구조식 1] 내지 [구조식 6] 중에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 한다.
한편, 상기 R, R', R1 내지 R6 및 Ar1 내지 Ar4의 정의에서, '치환 또는 비치환된'이라 함은 상기 R, R', R1 내지 R6 및 Ar1 내지 Ar4가 중수소, 시아노기, 할로겐기, 히드록시기, 니트로기, 알킬기, 알콕시기, 시클로알킬기, 헤테로시클로알킬기, 아릴기, 플루오레닐기, 헤테로아릴기, 실릴기 및 아민기 중에서 선택된 1 또는 2 이상의 치환기로 치환되거나, 상기 치환기 중 2 이상의 치환기가 연결된 치환기로 치환되거나, 또는 어떠한 치환기도 갖지 않는 것을 의미한다.
구체적인 예를 들면, 치환된 아릴기라 함은, 페닐기, 비페닐기, 나프탈렌기, 플루오레닐기, 파이레닐기, 페난트레닐기, 페릴렌기, 테트라세닐기, 안트라센닐기 등이 중수소 등의 다른 치환기로 치환된 것을 의미하고, 치환된 헤테로아릴기라 함은, 피리딜기, 티오페닐기, 트리아진기, 퀴놀린기, 페난트롤린기, 이미다졸기, 티아졸기, 옥사졸기, 카바졸기 및 이들의 축합헤테로고리기, 예컨대 벤즈퀴놀린기, 벤즈이미다졸기, 벤즈옥사졸기, 벤즈티아졸기, 벤즈카바졸기, 디벤조티오페닐기, 디벤조퓨란기 등이 역시 중수소 등의 다른 치환기로 치환된 것을 의미한다.
본 발명에 있어서, 상기 치환기들의 예시들에 대해서 아래에서 구체적으로 설명하나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명에 있어서, 상기 알킬기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 1 내지 20인 것이 바람직하다. 구체적인 예로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, n-프로필기, 이소프로필기, 부틸기, n-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, sec-부틸기, 1-메틸-부틸기, 1-에틸-부틸기, 펜틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 헥실기, n-헥실기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 4-메틸-2-펜틸기, 3,3-디메틸부틸기, 2-에틸부틸기, 헵틸기, n-헵틸기, 1-메틸헥실기, 시클로펜틸메틸기, 시클로헥틸메틸기, 옥틸기, n-옥틸기, tert-옥틸기, 1-메틸헵틸기, 2-에틸헥실기, 2-프로필펜틸기, n-노닐기, 2,2-디메틸헵틸기, 1-에틸-프로필기, 1,1-디메틸-프로필기, 이소헥실기, 2-메틸펜틸기, 4-메틸헥실기, 5-메틸헥실기 등이 있으나, 이들에 한정되지 않는다.
본 발명에 있어서, 알콕시기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있다. 알콕시기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 입체적 방해를 주지 않는 범위인 1 내지 20개인 것이 바람직하다. 구체적으로, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, i-프로필옥시기, n-부톡시기, 이소부톡시기, tert-부톡시기, sec-부톡시기, n-펜틸옥시기, 네오펜틸옥시기, 이소펜틸옥시기, n-헥실옥시기, 3,3-디메틸부틸옥시기, 2-에틸부틸옥시기, n-옥틸옥시기, n-노닐옥시기, n-데실옥시기, 벤질옥시기, p-메틸벤질옥시기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명에 있어서, 알킬기 및 알콕시시는 각각 중수소화된 알킬기 또는 알콕시기, 할로겐화된 알킬기 또는 알콕시기일 수 있으며, 이는 상기 알킬기 또는 알콕시기가 중수소 또는 할로겐기로 치환된 알킬기 또는 알콕시기를 의미한다.
본 발명에 있어서, 아릴기는 단환식 또는 다환식일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 6 내지 30인 것이 바람직하며, 또한 시클로알킬 등이 융합된 다환식 아릴기 구조를 포함하고, 단환식 아릴기의 예로는 페닐기 (Ph), 비페닐기, 터페닐기, 스틸벤기 등이 있고, 다환식 아릴기의 예로는 나프틸기, 안트라세닐기, 페난트레닐기, 파이레닐기, 페릴레닐기, 테트라세닐기, 크라이세닐기, 플루오레닐기, 아세나프타센닐기, 트리페닐렌기, 플루오안트렌기 (fluoranthrene) 등이 있으나, 본 발명의 범위가 이들 예로만 한정되는 것은 아니다.
본 발명에 있어서, 플루오레닐기 또는 플루오렌 모이어티 등에서 플루오렌은 2개의 고리 유기화합물이 1개의 원자를 통하여 연결된 구조로서, 예로는 
, 
, 
등이 있다.
또한, 열린 플루오렌 구조를 포함하며, 여기서 열린 플루오렌은 2개의 고리 유기화합물이 1개의 원자를 통하여 연결된 구조에서 한쪽 고리 화합물의 연결이 끊어진 상태의 구조로서, 예로는 
, 
등이 있다.
또한, 상기 고리의 탄소원자는 N, S 및 O 중에서 선택되는 어느 하나 이상의 헤테로원자로 치환될 수 있으며, 예로는 
, 
, 
, 
등이 있다.
또한, 본 발명에 있어서, 플루오레닐기는 상기 연결된 구조, 열린구조에 단환 또는 다환의 방향족 고리와 단환 또는 다환의 지환족 고리 등이 더 축합된 구조일 수 있다.
본 발명에 있어서, 헤테로아릴기는 이종원자로 O, N 또는 S를 포함하는 헤테로고리기로서, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 탄소수 2 내지 30인 것이 바람직하며, 시클로알킬 또는 헤테로시클로알킬 등이 융합된 다환식 헤테로아릴기 구조를 포함하며, 본 발명에서 이의 구체적인 예를 들면, 티오펜기, 퓨란기, 피롤기, 이미다졸기, 티아졸기, 옥사졸기, 옥사디아졸기, 트리아졸기, 피리딜기, 비피리딜기, 피리미딜기, 트리아진기, 트리아졸기, 아크리딜기, 피리다진기, 피라지닐기, 퀴놀리닐기, 퀴나졸린기, 퀴녹살리닐기, 프탈라지닐기, 피리도 피리미디닐기, 피리도 피라지닐기, 피라지노 피라지닐기, 이소퀴놀린기, 인돌기, 카바졸기, 벤조옥사졸기, 벤조이미다졸기, 벤조티아졸기, 벤조카바졸기, 벤조티오펜기, 디벤조티오펜기, 벤조퓨라닐기, 디벤조퓨라닐기, 페난트롤린기, 티아졸릴기, 이소옥사졸릴기, 옥사디아졸릴기, 티아디아졸릴기, 벤조티아졸릴기, 페노티아지닐기, 페녹사진기, 페노티아진기 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
본 발명에 있어서, 실릴기는 비치환된 실릴기 또는 알킬기, 아릴기 등으로 치환된 실릴기로서, 이러한 실릴기의 구체적인 예로는 트리메틸실릴, 트리에틸실릴, 트리페닐실릴, 트리메톡시실릴, 디메톡시페닐실릴, 디페닐메틸실릴, 디페닐비닐실릴, 메틸사이클로뷰틸실릴, 디메틸퓨릴실릴 등을 들 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명에서 사용되는 할로겐기의 구체적인 예로는 플루오르(F), 클로린(Cl), 브롬(Br) 등을 들 수 있다.
본 발명에 있어서, 시클로알킬기는 단환, 다환 및 스피로 알킬 라디칼을 지칭하고, 이를 포함하며, 바람직하게는 탄소수 3 내지 20의 고리 탄소 원자를 함유하는 것으로서, 시클로프로필, 시클로펜틸, 시클로헥실, 비시클로헵틸, 스피로데실, 스피로운데실, 아다만틸 등을 포함하며, 시클로알킬기는 임의로 치환될 수 있다.
본 발명에 있어서, 헤테로시클로알킬기는 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 방향족 및 비방향족 시클릭 라디칼을 지칭하고, 이를 포함하며, 하나 이상의 헤테로원자는 O, S, N, P, B, Si 및 Se, 바람직하게는 O, N 또는 S로부터 선택되며, 구체적으로 N을 포함하는 경우 아지리딘, 피롤리딘, 피페리딘, 아제판, 아조칸 등일 수 있다.
본 발명에 있어서, 아민기는 -NH2, 알킬아민기, 아릴아민기, 아릴헤테로아릴아민기 등일 수 있고, 아릴아민기는 아릴로 치환된 아민을 의미하고, 알킬아민기는 알킬로 치환된 아민을 의미하는 것이며, 아릴헤테로아릴아민기는 아릴 및 헤테로아릴기로 치환된 아민을 의미하는 것으로서, 아릴아민기의 예로는 치환 또는 비치환된 모노아릴아민기, 치환 또는 비치환된 디아릴아민기, 또는 치환 또는 비치환된 트리아릴아민기가 있고, 상기 아릴아민기 및 아릴헤테로아릴아민기 중의 아릴기 및 헤테로아릴기는 단환식 아릴기, 단환식 헤테로아릴기일 수 있고, 다환식 아릴기, 다환식 헤테로아릴기일 수 있으며, 상기 아릴기, 헤테로아릴기를 2 이상을 포함하는 아릴아민기, 아릴헤테로아릴아민기는 단환식 아릴기(헤테로아릴기), 다환식 아릴기(헤테로아릴기), 또는 단환식 아릴기(헤테로아릴기)와 다환식 아릴기(헤테로아릴기)를 동시에 포함할 수 있다. 또한, 상기 아릴아민기 및 아릴헤테로아릴아민기 중의 아릴기, 헤테로아릴기는 전술한 아릴기, 헤테로아릴기의 예시 중에서 선택될 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 치환기의 다양한 구체적인 예는 하기 기재된 구체적인 화합물에서 명확하게 확인할 수 있다.
상기 [화학식 Ⅰ]로 표시되는 본 발명에 따른 유기 화합물은 상술한 바와 같이 그 구조적 특이성으로 인하여 유기발광소자의 유기층으로 사용될 수 있고, 보다 구체적으로는 도입되는 다양한 치환기의 특성에 따라 유기층의 전자저지층 등의 재료로 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 [화학식 Ⅰ]로 표시되는 화합물의 바람직한 구체예로는 하기 화합물들이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기와 같은 특징적 골격 구조 및 치환기를 통하여 골격 구조 및 치환기의 고유 특성을 갖는 유기 화합물을 합성할 수 있으며, 예컨대, 유기발광소자의 제조시 전자저지층 등의 각 유기층에서 요구하는 조건들을 충족시키는 유기 화합물 물질을 제조할 수 있으며, 특히, 본 발명에 따른 [화학식 Ⅰ]의 화합물을 전자저지층 등에 채용한 경우 소자의 발광 효율 등의 소자 특성을 더욱 향상시킬 수 있다.
본 발명에 따른 유기 화합물을 이용하여 통상의 제조방법에 따라 유기발광소자에 적용할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광소자는 제1 전극과 제2 전극 및 이 사이에 배치된 유기층을 포함하는 구조로 이루어질 수 있으며, 본 발명에 따른 유기 화합물을 소자의 유기층에 사용한다는 것을 제외하고는 통상의 소자의 제조 방법 및 재료를 사용하여 제조될 수 있다.
본 발명에 따른 유기발광소자의 유기층은 단층 구조로 이루어질 수도 있으나, 2층 이상의 유기층이 적층된 다층 구조로 이루어질 수 있다. 예컨대, 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층, 전자주입층, 전자저지층 등을 포함하는 구조를 가질 수 있다. 그러나, 이에 한정되지 않고 더 적은 수 또는 더 많은 수의 유기층을 포함할 수도 있다.
이와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광소자는 양극 상에 형성된 정공주입층, 정공수송층, 발광층 등을 포함할 수 있으며, 또한 정공저지층, 전자주입층, 전자수송층, 전자저지층, 발광보조층 등을 포함할 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다.
따라서, 본 발명에 따른 유기발광소자에서, 상기 유기층은 전자저지층 등을 포함할 수 있고, 상기 층들 중 1층 이상이 상기 [화학식 Ⅰ]로 표시되는 유기 화합물을 포함할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 유기발광소자는 스퍼터링 (sputtering)이나 전자빔 증발 (e-beam evaporation)과 같은 PVD (physical vapor deposition) 방법을 이용하여, 기판 상에 금속 또는 전도성을 가지는 금속 산화물 또는 이들의 합금을 증착시켜 양극을 형성하고, 그 위에 정공주입층, 정공수송층, 정공저지층, 발광층, 전자저지층, 전자수송층, 전자저지층 등을 포함하는 유기층을 형성한 후, 그 위에 음극으로 사용할 수 있는 물질을 증착시킴으로써 제조될 수 있다.
이와 같은 방법 외에도, 기판 상에 음극 물질부터 유기층, 양극 물질을 차례로 증착시켜 유기발광소자를 만들 수도 있다. 상기 유기층은 정공주입층, 정공수송층, 정공저지층, 발광층, 전자저지층, 전자수송층, 전자저지층 등을 포함하는 다층 구조일 수도 있으나, 이에 한정되지 않고 단층 구조일 수 있다. 또한, 상기 유기층은 다양한 고분자 소재를 사용하여 증착법이 아닌 솔벤트 프로세스(solvent process), 예컨대 스핀 코팅, 딥 코팅, 닥터 블레이딩, 스크린 프린팅, 잉크젯 프린팅 또는 열 전사법 등의 방법에 의하여 더 적은 수의 층으로 제조할 수 있다.
양극은 통상 유기층으로 정공주입이 원활할 수 있도록 일함수가 큰 물질이 바람직하다. 본 발명에서 사용될 수 있는 양극 물질의 구체적인 예로는 바나듐, 크롬, 구리, 아연, 금과 같은 금속 또는 이들의 합금, 아연 산화물, 인듐 산화물, 인듐 주석 산화물(ITO), 인듐 아연 산화물(IZO)과 같은 금속 산화물, ZnO:Al 또는 SnO2:Sb와 같은 금속과 산화물의 조합, 폴리(3-메틸티오펜), 폴리[3,4-(에틸렌-1,2-디옥시)티오펜](PEDT), 폴리피롤 및 폴리아닐린과 같은 전도성 고분자 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
음극은 통상 유기층으로 전자 주입이 용이하도록 일함수가 작은 물질인 것이 바람직하다. 음극 물질의 구체적인 예로는 마그네슘, 칼슘, 나트륨, 칼륨, 타이타늄, 인듐, 이트륨, 리튬, 가돌리늄, 알루미늄, 은, 주석 및 납과 같은 금속 또는 이들의 합금, LiF/Al 또는 LiO2/Al과 같은 다층 구조 물질 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
정공주입층은 낮은 전압에서 양극으로부터 정공을 잘 주입받을 수 있는 물질로서, 정공주입 물질의 HOMO (highest occupied molecular orbital)가 양극 물질의 일함수와 주변 유기층의 HOMO 사이인 것이 바람직하다. 정공주입 물질의 구체적인 예로는 금속 포피린 (porphyrine), 올리고티오펜, 아릴아민 계열의 유기물, 헥사니트릴 헥사아자트리페닐렌, 퀴나크리돈 (quinacridone) 계열의 유기물, 페릴렌 (perylene) 계열의 유기물, 안트라퀴논 및 폴리아닐린과 폴리티오펜 계열의 전도성 고분자 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
정공수송층은 양극이나 정공주입층으로부터 정공을 수송 받아 발광층으로 옮겨줄 수 있는 물질로 정공에 대한 이동성이 큰 물질이 적합하다. 구체적인 예로는 아릴아민 계열의 유기물, 전도성 고분자, 및 공액 부분과 비공액 부분이 함께 있는 블록 공중합체 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
전자저지층은 전자의 이동을 저지하는 층으로, 정공수송층 위에 형성될 수 있으며, 전자저지층으로는 정공의 수송에는 영향을 미치지 않으면서 전자의 이동을 저지시킬 수 있는 것을 사용할 수 있다. 또한, 상기 전자저지층 상에는 발광층이 형성될 수 있고, 정공저지층, 전자수송층 및 전자주입층이 형성될 수 있다.
정공저지층은 전자의 수송에는 영향을 미치지 않으면서 정공의 이동을 저지시킬 수 있는 것을 사용할 수 있으며, 이러한 정공저지층의 예로는 TPBi (1,3,5-tri(1-phenyl-1H-benzo[d]imidazol-2-yl)phenyl), BCP (2,9-dimethyl4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline), CBP (4,4-bis(N-carbazolyl)-1,1'-biphenyl), PBD (2-(4-biphenyl)-5-(4-t-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazole), PTCBI (bisbenzimidazo[2,1-a:1',2-b']anthra[2,1,9-def:6,5,10-d'e'f']diisoguinoline-10,21-dione) 또는 BPhen (4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline) 등이 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다.
발광층은 정공수송층과 전자수송층으로부터 정공과 전자를 각각 수송받아 결합시킴으로써 가시광선 영역의 빛을 낼 수 있는 물질로서, 형광이나 인광에 대한 양자효율이 좋은 물질이 바람직하다. 구체적인 예로는 8-히드록시-퀴놀린 알루미늄 착물 (Alq3), 카르바졸 계열 화합물, 이량체화 스티릴 (dimerized styryl) 화합물, BAlq, 10-히드록시벤조 퀴놀린-금속 화합물, 벤족사졸, 벤즈티아졸 및 벤즈이미다졸 계열의 화합물, 폴리(p-페닐렌비닐렌) (PPV) 계열의 고분자, 스피로 (spiro) 화합물, 폴리플루오렌, 루브렌 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
전자주입층은 음극으로부터 전달된 전자의 주입 효율이 높은 것을 사용할 수 있다. 이러한 전자 주입층의 예로는 리튬 퀴놀레이트(Liq) 등이 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다.
전자수송층은 음극으로부터 전자를 잘 주입 받아 발광층으로 옮겨줄 수 있는 물질로서, 전자에 대한 이동성이 큰 물질이 적합하다. 구체적인 예로는 8-히드록시퀴놀린의 Al 착물, Alq3를 포함한 착물, 유기 라디칼 화합물, 히드록시플라본-금속 착물 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
본 발명에 따른 유기발광소자는 사용되는 재료에 따라 전면 발광형, 후면 발광형 또는 양면 발광형일 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 유기 화합물은 유기 태양 전지, 유기 감광체, 유기 트랜지스터 등을 비롯한 유기전자소자에서도 유기발광소자에 적용되는 것과 유사한 원리로 작용할 수 있다.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 화합물의 합성예 및 소자 실시예를 제시한다. 그러나, 하기의 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 이에 의하여 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
합성예
1 : 화합물 1의 합성
(1)
제조예
1 : 중간체 1-1의 합성
(6-phenyldibenzo[b,d]furan-4-yl)boronic acid (10.0 g, 0.031 mol), 3,5-dichlorophenylboronic acid (7.1 g, 0.037 mol), K2CO3 (12.8 g, 0.093 mol), Pd(PPh3)4 (0.7 g, 0.6 mmol)에 toluene 200 mL, ethanol 50 mL, H2O 50 mL를 넣고 6시간 동안 80 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후 추출하여 농축한 후 컬럼하여 <중간체 1-1>을 9.1 g (수율 75.6%) 수득하였다.
(2)
제조예
2 : 중간체 1-2의 합성
중간체 1-1 (10.0 g, 0.026 mol), dibenzo[b,d]furan-4-ylboronic acid (6.5 g, 0.031 mol), K2CO3 (10.7 g, 0.077 mol), Pd(OAc)2 (1.5 g, 1.3 mmol), X-Phos (1.3 g, 2.6 mmol), THF 200 mL와 H2O 50 mL를 넣고 70 ℃에서 6시간 동안 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <중간체 1-2>를 6.1 g (수율47.5%) 수득하였다.
(3)
제조예
3 : 화합물 1의 합성
중간체 1-2 (10.0 g, 0.019 mol), Bis-biphenyl-4-yl-amine (9.3 g, 0.029 mol), NaOtBu (5.5 g, 0.058 mol), Pd(dba)2 (0.4 g, 0.8 mmol), t-Bu3P (0.3 g, 1.5 mmol)에 Xylene 150 mL를 넣고 4시간 동안 110 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <화합물 1>을 11.3 g (수율 66.3%) 수득하였다.
LC/MS: m/z=805[(M)+]
합성예
2 : 화합물 4의 합성
(1)
제조예
1 : 화합물 4의 합성
중간체 1-2 (10.0 g, 0.019 mol), N-(biphenyl-4-yl)-9,9-dimethyl-9H-fluoren-2-amine (10.4 g, 0.029 mol), NaOtBu (5.5 g, 0.058 mol), Pd(dba)2 (0.4 g, 0.8 mmol), t-Bu3P (0.3 g, 1.5 mmol)에 Xylene 150 mL를 넣고 4시간 동안 110 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <화합물 4>를 10.2 g (수율 62.8%) 수득하였다.
LC/MS: m/z=845[(M)+]
합성예
3 : 화합물 6의 합성
(1)
제조예
1 : 화합물 6의 합성
중간체 1-2 (10.0 g, 0.019 mol), N-[1,1'-Biphenyl]-4-yl-3-dibenzofuranamine (9.7 g, 0.029 mol), NaOtBu (5.5 g, 0.058 mol), Pd(dba)2 (0.4 g, 0.8 mmol), t-Bu3P (0.3 g, 1.5 mmol)에 Xylene 150 mL를 넣고 4시간 동안 110 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <화합물 6>을 9.8 g (수율 62.3%) 수득하였다.
LC/MS: m/z=819[(M)+]
합성예
4 : 화합물 19의 합성
(1)
제조예
1 : 중간체 19-1의 합성
중간체 1-1 (10.0 g, 0.026 mol), dibenzo[b,d]furan-2-ylboronic acid (6.5 g, 0.031 mol), K2CO3 (10.7 g, 0.077 mol), Pd(OAc)2 (1.5 g, 1.3 mmol), X-Phos (1.3 g, 2.6 mmol), THF 200 mL와 H2O 50 mL를 넣고 70 ℃에서 6시간 동안 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <중간체 19-1>을 8.4 g (수율 62.7%) 수득하였다.
(2)
제조예
2 : 화합물 19의 합성
중간체 19-1 (10.0 g, 0.019 mol), N-([1,1'-biphenyl]-4-yl)dibenzo[b,d]furan-4-amine (9.7 g, 0.029 mol), NaOtBu (5.5 g, 0.058 mol), Pd(dba)2 (0.4 g, 0.8 mmol), t-Bu3P (0.3 g, 1.5 mmol)에 Xylene 150 mL를 넣고 4시간 동안 110 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <화합물 19>를 8.7 g (수율 55.3%) 수득하였다.
LC/MS: m/z=819[(M)+]
합성예
5 : 화합물 31의 합성
(1)
제조예
1 : 중간체 31-1의 합성
중간체 1-1 (10.0 g, 0.026 mol), dibenzothiophene-4-boronic acid (7.0 g, 0.031 mol), K2CO3 (10.7 g, 0.077 mol), Pd(OAc)2 (1.5 g, 1.3 mmol), X-Phos (1.3 g, 2.6 mmol), THF 200 mL와 H2O 50 mL를 넣고 70 ℃에서 6시간 동안 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <중간체 31-1>을 7.8 g (수율 56.5%) 수득하였다.
(2)
제조예
2 : 화합물 31의 합성
중간체 31-1 (10.0 g, 0.019 mol), N-(biphenyl-4-yl)-9,9-dimethyl-9H-fluoren-2-amine (10.1 g, 0.028 mol), NaOtBu (5.4 g, 0.056 mol), Pd(dba)2 (0.4 g, 0.7 mmol), t-Bu3P (0.3 g, 1.5 mmol)에 Xylene 150 mL를 넣고 4시간 동안 110 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <화합물 31>을 9.1 g (수율 56.7%) 수득하였다.
LC/MS: m/z=861[(M)+]
합성예
6 : 화합물 50의 합성
(1)
제조예
1 : 중간체 50-1의 합성
중간체 1-1 (10.0 g, 0.026 mol), dibenzothiophen-1-ylboronic acid (7.0 g, 0.031 mol), K2CO3 (10.7 g, 0.077 mol), Pd(OAc)2 (1.5 g, 1.3 mmol), X-Phos (1.3 g, 2.6 mmol), THF 200 mL와 H2O 50 mL를 넣고 70 ℃에서 6시간 동안 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <중간체 50-1>을 8.3 g (수율 60.1%) 수득하였다.
(2)
제조예
2 : 화합물 50의 합성
중간체 50-1 (10.0 g, 0.019 mol), N-([1,1'-biphenyl]-4-yl)-9,9'-spirobi[fluoren]-4-amine (13.5 g, 0.028 mol), NaOtBu (5.4 g, 0.056 mol), Pd(dba)2 (0.4 g, 0.7 mmol), t-Bu3P (0.3 g, 1.5 mmol)에 Xylene 150 mL를 넣고 4시간 동안 110 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <화합물 50>을 10.5 g (수율 57.3%) 수득하였다.
LC/MS: m/z=984[(M)+]
합성예
7 : 화합물 52의 합성
(1)
제조예
1 : 중간체 52-1의 합성
(6-phenyldibenzo[b,d]furan-4-yl)boronic acid (10.0 g, 0.031 mol), 5-chloro[1,1'-biphenyl]-3-ylboronic acid (8.6 g, 0.037 mol), K2CO3 (12.8 g, 0.093 mol), Pd(PPh3)4 (0.7 g, 0.6 mmol)에 toluene 200 mL, ethanol 50 mL, H2O 50 mL를 넣고 6시간 동안 80 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <중간체 52-1>을 9.6 g (수율 71.9%) 수득하였다.
(2)
제조예
2 : 화합물 52의 합성
중간체 52-1 (10.0 g, 0.023 mol), Bis-biphenyl-4-yl-amine (11.2 g, 0.035 mol), NaOtBu (6.7 g, 0.070 mol), Pd(dba)2 (0.5 g, 0.9 mmol), t-Bu3P (0.4 g, 1.9 mmol)에 Xylene 150 mL를 넣고 4시간 동안 110 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <화합물 52>를 12.7 g (수율 76.5%) 수득하였다.
LC/MS: m/z=715[(M)+]
합성예
8 : 화합물 62의 합성
(1)
제조예
1 : 중간체 62-1의 합성
중간체 1-1 (10.0 g, 0.026 mol), 2-biphenylboronic acid (6.1 g, 0.031 mol), K2CO3 (10.7 g, 0.077 mol), Pd(OAc)2 (1.5 g, 1.3 mmol), X-Phos (1.3 g, 2.6 mmol), THF 200 mL와 H2O 50 mL를 넣고 70 ℃에서 6시간 동안 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <중간체 62-1>을 7.2 g (수율 55.2%) 수득하였다.
(2)
제조예
2 : 화합물 62의 합성
중간체 62-1 (10.0 g, 0.020 mol), Bis(3-biphenylyl)amine (9.5 g, 0.030 mol), NaOtBu (5.7 g, 0.059 mol), Pd(dba)2 (0.5 g, 0.8 mmol), t-Bu3P (0.3 g, 1.6 mmol)에 Xylene 150 mL를 넣고 4시간 동안 110 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <화합물 62>를 10.5 g (수율 67.2%) 수득하였다.
LC/MS: m/z=791[(M)+]
합성예
9 : 화합물 64의 합성
(1)
제조예
1 : 화합물 64의 합성
중간체 62-1 (10.0 g, 0.020 mol), N-[1,1'-Biphenyl]-4-yl-3-dibenzofuranamine (9.9 g, 0.030 mol), NaOtBu (5.7 g, 0.059 mol), Pd(dba)2 (0.5 g, 0.8 mmol), t-Bu3P (0.3 g, 1.6 mmol)에 Xylene 150 mL를 넣고 4 시간 동안 110 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <화합물 64>를 10.2 g (수율 64.2%) 수득하였다.
LC/MS: m/z=805[(M)+]
합성예
10 : 화합물 86의 합성
(1)
제조예
1 : 중간체 86-1의 합성
중간체 1-1 (10.0 g, 0.026 mol), [1,1':3',1"-terphenyl]-5'-ylboronic acid (8.5 g, 0.031 mol), K2CO3 (10.7 g, 0.077 mol), Pd(OAc)2 (1.5 g, 1.3 mmol), X-Phos (1.3 g, 2.6 mmol), THF 200 mL와 H2O 50 mL를 넣고 70 ℃에서 6시간 동안 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <중간체 86-1>을 6.3 g (수율 42.0%) 수득하였다.
(2)
제조예
2 : 화합물 86의 합성
중간체 86-1 (10.0 g, 0.017 mol), Bis-biphenyl-4-yl-amine (8.3 g, 0.026 mol), NaOtBu (4.9 g, 0.051 mol), Pd(dba)2 (0.4 g, 0.7 mmol), t-Bu3P (0.3 g, 1.4 mmol)에 Xylene 150 mL를 넣고 4시간 동안 110 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <화합물 86>을 9.6 g (수율 64.5%) 수득하였다.
LC/MS: m/z=867[(M)+]
합성예
11 : 화합물 96의 합성
(1)
제조예
1 : 중간체 96-1의 합성
중간체 1-1 (10.0 g, 0.026 mol), (9,9-dimethyl-9H-fluoren-2-yl)boronic acid (7.3 g, 0.031 mol), K2CO3 (10.7 g, 0.077 mol), Pd(OAc)2 (1.5 g, 1.3 mmol), X-Phos (1.2 g, 2.6 mmol), THF 200 mL와 H2O 50 mL를 넣고 70 ℃에서 6시간 동안 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <중간체 96-1>을 5.7 g (수율 40.5%) 수득하였다.
(2)
제조예
2 : 화합물 96의 합성
중간체 96-1 (10.0 g, 0.018 mol), N-Phenyl-9,9'-spirobi[9H-fluoren]-4-amine (11.2 g, 0.027 mol), NaOtBu (5.3 g, 0.055 mol), Pd(dba)2 (0.4 g, 0.7 mmol), t-Bu3P (0.3 g, 1.5 mmol)에 Xylene 150 mL를 넣고 4시간 동안 110 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <화합물 96>을 11.5 g (수율 62.6%) 수득하였다.
LC/MS: m/z=917[(M)+]
합성예
12 : 화합물 113의 합성
(1)
제조예
1 : 중간체 113-1의 합성
4,6-dibromodibenzofuran (10.0 g, 0.031 mol), 2-biphenylboronic acid (7.3 g, 0.037 mol), K2CO3 (12.7 g, 0.092 mol), Pd(PPh3)4 (0.7 g, 0.0006 mol)에 toluene 200 mL, ethanol 50 mL, H2O 50 mL를 넣고 6시간 동안 80 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후 추출하여 농축한 후 컬럼 하여 <중간체 113-1>을 6.3 g (수율 51.4%) 수득하였다.
(2)
제조예
2 : 중간체 113-2의 합성
중간체 113-1 (10.0 g, 0.025 mol), (3,5-dichlorophenyl)boronic acid (5.7 g, 0.030 mol), K2CO3 (10.4 g, 0.075 mol), Pd(PPh3)4 (0.6 g, 0.0005 mol)에 toluene 200 mL, ethanol 50 mL, H2O 50 mL를 넣고 6시간 동안 80 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후 추출하여 농축한 후 컬럼하여 <중간체 113-2>를 7.2 g (수율 61.8%) 수득하였다.
(3)
제조예
3 : 중간체 113-3의 합성
중간체 113-2 (10.0 g, 0.022 mol), dibenzo[b,d]furan-4-ylboronic acid (5.5 g, 0.026 mol), K2CO3 (8.9 g, 0.065 mol), Pd(OAc)2 (1.2 g, 0.001 mol), X-Phos (1.0 g, 0.002 mol), THF 200 mL와 H2O 50 mL를 넣고 70 ℃에서 6시간 동안 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <중간체 113-3>을 6.1 g (수율47.5%) 수득하였다.
(4)
제조예
4 : 화합물 113의 합성
중간체 113-3 (10.0 g, 0.017 mol), Bis-biphenyl-4-yl-amine (8.1 g, 0.025 mol), NaOtBu (4.8 g, 0.050 mol), Pd(dba)2 (0.4 g, 0.7 mmol), t-Bu3P (0.3 g, 1.3 mmol)에 Xylene 150 mL를 넣고 4시간 동안 110 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <화합물 113>을 10.8 g (수율 73.1%) 수득하였다.
LC/MS: m/z=852[(M)+]
합성예
13 : 화합물 123의 합성
(1)
제조예
1 : 중간체 123-1의 합성
4,6-dibromodibenzofuran (10.0 g, 0.031 mol), dibenzo[b,d]furan-2-ylboronic acid (7.8 g, 0.037 mol), K2CO3 (12.7 g, 0.092 mol), Pd(PPh3)4 (0.7 g, 0.6 mmol)에 toluene 200 mL, ethanol 50 mL, H2O 50 mL를 넣고 6시간 동안 80 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후 추출하여 농축한 후 컬럼하여 <중간체 123-1>을 6.8 g (수율 53.6%) 수득하였다.
(2)
제조예
2 : 중간체 123-2의 합성
중간체 123-1 (10.0 g, 0.024 mol), 5-chloro[1,1'-biphenyl]-3-ylboronic acid (6.8 g, 0.029 mol), K2CO3 (10.0 g, 0.073 mol), Pd(PPh3)4 (0.6 g, 0.0005 mol)에 toluene 200 mL, ethanol 50 mL, H2O 50 mL를 넣고 6시간 동안 80 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <중간체 123-2>를 7.8 g (수율 61.9%) 수득하였다.
(3)
제조예
3 : 화합물 123의 합성
중간체 123-2 (10.0 g, 0.019 mol), Bis-biphenyl-4-yl-amine (9.3 g, 0.029 mol), NaOtBu (5.5 g, 0.058 mol), Pd(dba)2 (0.4 g, 0.8 mmol), t-Bu3P (0.3 g, 1.5 mmol)에 Xylene 150 mL를 넣고 4시간 동안 110 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <화합물 123>을 12.2 g (수율 78.9%) 수득하였다.
LC/MS: m/z=805[(M)+]
합성예
14 : 화합물 139의 합성
(1)
제조예
1 : 중간체 139-1의 합성
(6-phenyldibenzo[b,d]furan-4-yl)boronic acid (10.0 g, 0.031 mol), 3-chloro-5-fluorophenylboronic acid (6.5 g, 0.037 mol), K2CO3 (12.8 g, 0.093 mol), Pd(PPh3)4 (0.7 g, 0.6 mmol)에 toluene 200 mL, ethanol 50 mL, H2O 50 mL를 넣고 6시간 동안 80 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후 추출하여 농축한 후 컬럼하여 <중간체 139-1>을 8.1 g (수율 70.1%) 수득하였다.
(2)
제조예
2 : 중간체 139-2의 합성
중간체 139-1 (10 g, 0.027 mol), 9H-Carbazole (5.4 g, 0.032 mol), Cs2CO3 (5.6 g, 0.040 mol)에 DMF를 넣고 150℃에서 12시간 동안 환류 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <중간체 139-2>를 9.1 g (수율 65.3%) 수득하였다.
(3)
제조예
3 : 화합물 139의 합성
중간체 139-1 (10.0 g, 0.019 mol), Bis-biphenyl-4-yl-amine (9.3 g, 0.029 mol), NaOtBu (3.7 g, 0.039 mol), Pd(dba)2 (0.6 g, 1.0 mmol), t-Bu3P (0.4 g, 1.9 mmol)에 Xylene 150 mL를 넣고 4시간 동안 110 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <화합물 139>를 10.2 g (수율 65.9%) 수득하였다.
LC/MS: m/z=804[(M)+]
합성예
15 : 화합물 165의 합성
(1)
제조예
1 : 화합물 165의 합성
중간체 139-2 (10.0 g, 0.019 mol), N-([1,1'-Biphenyl]-4-yl)-9,9'-spirobi[fluoren]-4-amine (14.0 g, 0.029 mol), NaOtBu (3.7 g, 0.039 mol), Pd(dba)2 (0.6 g, 1.0 mmol), t-Bu3P (0.4 g, 1.9 mmol)에 Xylene 150 mL를 넣고 4시간 동안 110 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <화합물 165>를 9.4 g (수율 50.6%) 수득하였다.
LC/MS: m/z=966[(M)+]
합성예
16 : 화합물 180의 합성
(1)
제조예
1 : 화합물 180의 합성
중간체 139-1 (10.0 g, 0.019 mol), N-[1,1'-Biphenyl]-4-yl-3-dibenzofuranamine (9.7 g, 0.029 mol), NaOtBu (3.7 g, 0.039 mol), Pd(dba)2 (0.6 g, 1.0 mmol), t-Bu3P (0.4 g, 1.9 mmol)에 Xylene 150 mL를 넣고 4시간 동안 110 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <화합물 180>을 9.6 g (수율 61.0%) 수득하였다.
LC/MS: m/z=818[(M)+]
합성예
17 : 화합물 199의 합성
(1)
제조예
1 : 중간체 199-1의 합성
중간체 1-1 (10.0 g, 0.026 mol), (9-Phenyl-9H-carbazol-2-yl)boronic acid (8.9 g, 0.031 mol), K2CO3 (10.7 g, 0.077 mol), Pd(OAc)2 (1.5 g, 1.3 mmol), X-Phos (1.2 g, 2.6 mmol), THF 200 mL와 H2O 50 mL를 넣고 70 ℃에서 6시간 동안 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <중간체 199-1>을 8.2 g (수율 53.5%) 수득하였다.
(2)
제조예
2 : 화합물 199의 합성
중간체 199-1 (10.0 g, 0.017 mol), Bis-biphenyl-4-yl-amine (8.1 g, 0.025 mol), NaOtBu (3.2 g, 0.034 mol), Pd(dba)2 (0.5 g, 0.8 mmol), t-Bu3P (0.3 g, 1.7 mmol)에 Xylene 150 mL를 넣고 4시간 동안 110 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <화합물 199>를 10.7 g (수율 72.4%) 수득하였다.
LC/MS: m/z=880[(M)+]
합성예
18 : 화합물 221의 합성
(1)
제조예
1 : 중간체 221-1의 합성
중간체 1-1 (10.0 g, 0.026 mol), (9-Phenyl-9H-carbazol-3-yl)boronic acid (8.9 g, 0.031 mol), K2CO3 (10.7 g, 0.077 mol), Pd(OAc)2 (1.5 g, 1.3 mmol), X-Phos (1.2 g, 2.6 mmol), THF 200 mL와 H2O 50 mL를 넣고 70 ℃에서 6시간 동안 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <중간체 221-1>을 8.5 g (수율 55.5%) 수득하였다.
(2)
제조예
2 : 화합물 221의 합성
중간체 221-1 (10.0 g, 0.017 mol), N-[1,1'-biphenyl]-4-yl-9,9'-spiro bi[9H-fluoren]-2-amine (12.2 g, 0.025 mol), NaOtBu (3.2 g, 0.034 mol), Pd(dba)2 (0.5 g, 0.8 mmol), t-Bu3P (0.3 g, 1.7 mmol)에 Xylene 150 mL를 넣고 4시간 동안 110 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <화합물 221>을 9.5 g (수율 54.3%) 수득하였다.
LC/MS: m/z=1042[(M)+]
합성예
19 : 화합물 248의 합성
(1)
제조예
1 : 중간체 248-1의 합성
중간체 1-1 (10.0 g, 0.026 mol), (9-Phenyl-9H-carbazol-4-yl)boronic acid (8.9 g, 0.031 mol), K2CO3 (10.7 g, 0.077 mol), Pd(OAc)2 (1.5 g, 1.3 mmol), X-Phos (1.2 g, 2.6 mmol), THF 200 mL와 H2O 50 mL를 넣고 70 ℃에서 6시간 동안 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <중간체 248-1>을 7.6 g (수율 49.6%) 수득하였다.
(2)
제조예
2 : 화합물 248의 합성
중간체 248-1 (10.0 g, 0.017 mol), N-([1,1'-biphenyl]-4-yl)dibenzo[b,d]furan-4-amine (8.4 g, 0.025 mol), NaOtBu (3.2 g, 0.034 mol), Pd(dba)2 (0.5 g, 0.8 mmol), t-Bu3P (0.3 g, 1.7 mmol)에 Xylene 150 mL를 넣고 4시간 동안 110 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <화합물 248>을 8.1 g (수율 53.9%) 수득하였다.
LC/MS: m/z=894[(M)+]
합성예
20 : 화합물 254의 합성
(1)
제조예
1 : 중간체 254-1의 합성
4-Bromo-6-phenyldibenzo[b,d]thiophene (10.0 g, 0.030 mol), (3,5-dichlorophenyl)boronic acid (6.8 g, 0.035 mol), K2CO3 (12.2 g, 0.089 mol), Pd(PPh3)4 (0.7 g, 0.0006 mol)에 toluene 200 mL, ethanol 50 mL, H2O 50 mL를 넣고 6시간 동안 80 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후 추출하여 농축한 후 컬럼하여 <중간체 254-1>을 8.1 g (수율 67.8%) 수득하였다.
(2)
제조예
2 : 중간체 254-2의 합성
중간체 254-1 (10.0 g, 0.025 mol), dibenzo[b,d]furan-4-ylboronic acid (6.3 g, 0.030 mol), K2CO3 (10.2 g, 0.074 mol), Pd(OAc)2 (1.4 g, 0.001 mol), X-Phos (1.2 g, 0.003 mol), THF 200 mL와 H2O 50 mL를 넣고 70 ℃에서 6시간 동안 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <중간체 254-2>를 7.1 g (수율 53.6%) 수득하였다.
(3)
제조예
3 : 화합물 254의 합성
중간체 254-2 (10.0 g, 0.019 mol), Bis-biphenyl-4-yl-amine (9.0 g, 0.028 mol), NaOtBu (5.4 g, 0.056 mol), Pd(dba)2 (0.4 g, 0.7 mmol), t-Bu3P (0.3 g, 1.5 mmol)에 Xylene 150 mL를 넣고 4시간 동안 110 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <화합물 254>를 11.8 g (수율 77.1%) 수득하였다.
LC/MS: m/z=822[(M)+]
합성예
21 : 화합물 338의 합성
(1)
제조예
1 : 중간체 338-1의 합성
4,6-dibromodibenzothiophene (10.0 g, 0.029 mol), 4-biphenylboronic acid (7.0 g, 0.035 mol), K2CO3 (12.1 g, 0.088 mol), Pd(PPh3)4 (0.7 g, 0.0006 mol)에 toluene 200 mL, ethanol 50 mL, H2O 50 mL를 넣고 6시간 동안 80 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후 추출하여 농축한 후 컬럼하여 <중간체 338-1>을 6.8 g (수율 56.0%) 수득하였다.
(2)
제조예
2 : 중간체 338-2의 합성
중간체 338-1 (10.0 g, 0.024 mol), (3,5-dichlorophenyl)boronic acid (5.5 g, 0.029 mol), K2CO3 (10.0 g, 0.072 mol), Pd(PPh3)4 (0.6 g, 0.0005 mol)에 toluene 200 mL, ethanol 50 mL, H2O 50 mL를 넣고 6시간 동안 80 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후 추출하여 농축한 후 컬럼하여 <중간체 338-2>를 7.4 g (수율 63.8%) 수득하였다.
(3)
제조예
3 : 중간체 338-3의 합성
중간체 338-2 (10.0 g, 0.021 mol), dibenzo[b,d]furan-4-ylboronic acid (5.3 g, 0.025 mol), K2CO3 (8.6 g, 0.062 mol), Pd(OAc)2 (1.2 g, 0.001 mol), X-Phos (1.0 g, 0.002 mol), THF 200 mL와 H2O 50 mL를 넣고 70 ℃에서 6시간 동안 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <중간체 338-3>을 7.6 g (수율 59.7%) 수득하였다.
(4)
제조예
4 : 화합물 338의 합성
중간체 338-3 (10.0 g, 0.016 mol), Bis-biphenyl-4-yl-amine (7.9 g, 0.025 mol), NaOtBu (4.7 g, 0.049 mol), Pd(dba)2 (0.4 g, 0.7 mmol), t-Bu3P (0.3 g, 1.3 mmol)에 Xylene 150 mL를 넣고 4시간 동안 110 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <화합물 338>을 11.2 g (수율 76.5%) 수득하였다.
LC/MS: m/z=898[(M)+]
합성예
22 : 화합물 360의 합성
(1)
제조예
1 : 중간체 360-1의 합성
4-bromo-6-phenyldibenzo[b,d]thiophene (10.0 g, 0.030 mol), 3-chloro-5-fluorophenylboronic acid (6.2 g, 0.035 mol), K2CO3 (12.2 g, 0.089 mol), Pd(PPh3)4 (0.7 g, 0.6 mmol)에 toluene 200 mL, ethanol 50 mL, H2O 50 mL를 넣고 6시간 동안 80 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후 추출하여 농축한 후 컬럼하여 <중간체 360-1>을 6.1 g (수율 53.2%) 수득하였다.
(2)
제조예
2 : 중간체 360-2의 합성
중간체 360-1 (10 g, 0.027 mol), 9H-Carbazole (5.4 g, 0.032 mol), Cs2CO3 (5.6 g, 0.040 mol)에 DMF를 넣고 150 ℃에서 12시간 동안 환류 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <중간체 360-2>를 9.1 g (수율 68.1%) 수득하였다.
(3)
제조예
3 : 화합물 360의 합성
중간체 360-2 (10.0 g, 0.019 mol), Bis-biphenyl-4-yl-amine (9.0 g, 0.028 mol), NaOtBu (3.6 g, 0.037 mol), Pd(dba)2 (0.5 g, 0.9 mmol), t-Bu3P (0.4 g, 1.9 mmol)에 Xylene 150 mL를 넣고 4시간 동안 110 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <화합물 360>을 9.5 g (수율 62.0%) 수득하였다.
LC/MS: m/z=820[(M)+]
합성예
23 : 화합물 375의 합성
(1)
제조예
1 : 화합물 375의 합성
중간체 360-1 (10.0 g, 0.019 mol), N-([1,1'-Biphenyl]-4-yl)-9,9'-spirobi[fluoren]-4-amine (13.5 g, 0.028 mol), NaOtBu (3.6 g, 0.037 mol), Pd(dba)2 (0.5 g, 0.9 mmol), t-Bu3P (0.4 g, 1.9 mmol)에 Xylene 150 mL를 넣고 4시간 동안 110 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <화합물 375>를 8.9 g (수율 48.5%) 수득하였다.
LC/MS: m/z=982[(M)+]
합성예
24 : 화합물 419의 합성
(1)
제조예
1 : 중간체 419-1의 합성
중간체 254-1 (10.0 g, 0.025 mol), (9-([1,1'-biphenyl]-4-yl)-9H-carbazol-4- yl)boronic acid (10.8 g, 0.030 mol), K2CO3 (10.2 g, 0.074 mol), Pd(OAc)2 (1.4 g, 1.2 mmol), X-Phos (1.2 g, 2.5 mmol), THF 200 mL와 H2O 50 mL를 넣고 70 ℃에서 6시간 동안 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <중간체 419-1>을 7.3 g (수율 43.0%) 수득하였다.
(2)
제조예
2 : 화합물 419의 합성
중간체 419-1 (10.0 g, 0.015 mol), diphenylamine (3.7 g, 0.022 mol), NaOtBu (2.8 g, 0.029 mol), Pd(dba)2 (0.4 g, 0.7 mmol), t-Bu3P (0.3 g, 1.5 mmol)에 Xylene 150 mL를 넣고 4시간 동안 110 ℃에서 교반하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 추출하여 농축한 후 컬럼 및 재결정하여 <화합물 419>를 8.1 g (수율 67.9%) 수득하였다.
LC/MS: m/z=820[(M)+]
소자
실시예
(
EBL
)
본 발명에 따른 실시예에서, ITO 투명 전극은 25 mm × 25 mm × 0.7 mm의 유리 기판 위에, ITO 투명 전극이 부착된 ITO 유리 기판을 이용하여, 발광 면적이 2 mm × 2 mm 크기가 되도록 패터닝한 후 세정하였다. 기판을 진공 챔버에 장착한 후 베이스 압력이 1 × 10-6 torr가 되도록 한 후 유기물을 상기 ITO 위에 하기 구조로 유기물과 금속을 증착하였다.
소자
실시예
1 내지 80
본 발명에 따라 구현되는 화합물을 전자저지층에 채용하여, 하기와 같은 소자 구조를 갖는 유기발광소자를 제작 후, 본 발명에 따라 구현되는 화합물이 갖는 발광 및 구동 특성을 측정하였다.
ITO / 정공주입층 (HAT-CN, 5 nm) / 정공수송층 (HT1, 100 nm) / 전자저지층 (10 nm) / 발광층 (20 nm) / 전자수송층 (ET1:Liq, 30 nm) / LiF (1 nm) / Al (100 nm)
ITO 투명 전극 상부에 [HAT-CN]을 5 nm 두께로 성막하여 정공주입층을 형성한 후에, [HT1]을 100 nm로 성막하여 정공수송층을 형성하였다. 이후, 하기 [표 1]에 기재된 본 발명에 따른 화합물을 10 nm 두께로 성막하여 전자저지층을 형성하였으며, 발광층은 호스트 화합물로 [BH1], 도펀트 화합물로 [BD1]을 사용하여 20 nm로 공증착하여 형성하였다. 이후, 전자수송층 (하기 [ET1] 화합물 Liq 50% 도핑)을 30 nm 증착한 후, LiF를 1 nm의 두께로 성막하여 전자주입층을 형성하였다. 이후, Al을 100 nm의 두께로 성막하여 유기발광소자를 제작하였다.
소자
비교예
1
소자 비교예 1을 위한 유기발광소자는 상기 실시예 1 내지 80의 소자구조에서 전자저지층에 본 발명에 따른 화합물 대신에 [EB1]을 사용한 것을 제외하고 동일하게 제작하였다.
소자
비교예
2
소자 비교예 2를 위한 유기발광소자는 상기 실시예 1 내지 80의 소자구조에서 전자저지층에 본 발명에 따른 화합물 대신에 [EB2]를 사용한 것을 제외하고 동일하게 제작하였다.
소자
비교예
3
소자 비교예 3을 위한 유기발광소자는 상기 실시예 1 내지 80의 소자구조에서 전자저지층에 본 발명에 따른 화합물 대신에 [EB3]을 사용한 것을 제외하고 동일하게 제작하였다.
소자
비교예
4
소자 비교예 4를 위한 유기발광소자는 상기 실시예 1 내지 80의 소자구조에서 전자저지층에 본 발명에 따른 화합물 대신에 [EB4]를 사용한 것을 제외하고 동일하게 제작하였다.
실험예
1 : 소자
실시예
1 내지 80의 발광 특성
상기 실시예 및 비교예에 따라 제조된 유기발광소자에 대해서 Source meter (Model 237, Keithley)와 휘도계 (PR-650, Photo Research)를 이용하여 구동 전압, 전류 효율 및 색좌표를 측정하였고, 1,000 nit 기준의 결과값은 하기 [표 1]과 같다.
| 실시예 | 전자저지층 | V | cd/A | CIEx | CIEy |
| 1 | 화학식 1 | 3.89 | 7.56 | 0.1361 | 0.1340 |
| 2 | 화학식 4 | 4.07 | 7.46 | 0.1366 | 0.1333 |
| 3 | 화학식 6 | 3.82 | 7.61 | 0.1341 | 0.1359 |
| 4 | 화학식 8 | 3.96 | 7.55 | 0.1340 | 0.1358 |
| 5 | 화학식 10 | 3.81 | 7.66 | 0.1351 | 0.1350 |
| 6 | 화학식 12 | 3.99 | 7.33 | 0.1327 | 0.1376 |
| 7 | 화학식 13 | 3.81 | 7.90 | 0.1351 | 0.1351 |
| 8 | 화학식 16 | 4.16 | 7.48 | 0.1329 | 0.1373 |
| 9 | 화학식 18 | 4.03 | 7.30 | 0.1328 | 0.1374 |
| 10 | 화학식 19 | 4.01 | 7.64 | 0.1317 | 0.1386 |
| 11 | 화학식 28 | 3.62 | 7.56 | 0.1345 | 0.1355 |
| 12 | 화학식 31 | 3.74 | 7.59 | 0.1314 | 0.1392 |
| 13 | 화학식 33 | 4.20 | 7.52 | 0.1316 | 0.1385 |
| 14 | 화학식 35 | 4.03 | 7.38 | 0.1317 | 0.1389 |
| 15 | 화학식 37 | 4.12 | 7.79 | 0.1326 | 0.1378 |
| 16 | 화학식 39 | 3.66 | 7.70 | 0.1329 | 0.1372 |
| 17 | 화학식 41 | 3.95 | 7.35 | 0.1360 | 0.1344 |
| 18 | 화학식 48 | 3.76 | 7.84 | 0.1329 | 0.1382 |
| 19 | 화학식 50 | 3.91 | 7.73 | 0.1307 | 0.1390 |
| 20 | 화학식 52 | 3.79 | 7.80 | 0.1306 | 0.1396 |
| 21 | 화학식 55 | 3.98 | 7.44 | 0.1353 | 0.1363 |
| 22 | 화학식 56 | 3.77 | 7.71 | 0.1306 | 0.1391 |
| 23 | 화학식 58 | 3.90 | 7.37 | 0.1320 | 0.1382 |
| 24 | 화학식 60 | 4.09 | 7.56 | 0.1307 | 0.1395 |
| 25 | 화학식 62 | 3.97 | 7.77 | 0.1310 | 0.1393 |
| 26 | 화학식 63 | 3.85 | 7.91 | 0.1313 | 0.1393 |
| 27 | 화학식 64 | 3.72 | 7.62 | 0.1323 | 0.1382 |
| 28 | 화학식 66 | 3.66 | 7.79 | 0.1339 | 0.1363 |
| 29 | 화학식 69 | 3.84 | 7.72 | 0.1341 | 0.1362 |
| 30 | 화학식 71 | 4.13 | 7.37 | 0.1342 | 0.1363 |
| 31 | 화학식 72 | 3.78 | 7.78 | 0.1326 | 0.1376 |
| 32 | 화학식 73 | 4.13 | 7.37 | 0.1342 | 0.1363 |
| 33 | 화학식 74 | 4.13 | 7.37 | 0.1342 | 0.1363 |
| 34 | 화학식 75 | 4.13 | 7.37 | 0.1342 | 0.1363 |
| 35 | 화학식 78 | 3.93 | 7.57 | 0.1345 | 0.1356 |
| 36 | 화학식 79 | 3.67 | 7.55 | 0.1314 | 0.1391 |
| 37 | 화학식 82 | 3.80 | 7.68 | 0.1328 | 0.1375 |
| 38 | 화학식 86 | 4.06 | 7.87 | 0.1326 | 0.1368 |
| 39 | 화학식 90 | 3.74 | 7.35 | 0.1349 | 0.1354 |
| 40 | 화학식 93 | 3.81 | 7.69 | 0.1346 | 0.1365 |
| 41 | 화학식 96 | 3.93 | 7.51 | 0.1348 | 0.1357 |
| 42 | 화학식 99 | 4.11 | 7.41 | 0.1353 | 0.1350 |
| 43 | 화학식 101 | 3.86 | 7.56 | 0.1328 | 0.1376 |
| 44 | 화학식 105 | 4.00 | 7.50 | 0.1327 | 0.1375 |
| 45 | 화학식 113 | 3.85 | 7.61 | 0.1338 | 0.1367 |
| 46 | 화학식 123 | 4.03 | 7.28 | 0.1314 | 0.1393 |
| 47 | 화학식 139 | 3.85 | 7.85 | 0.1338 | 0.1368 |
| 48 | 화학식 165 | 4.20 | 7.43 | 0.1316 | 0.1390 |
| 49 | 화학식 180 | 4.07 | 7.25 | 0.1315 | 0.1391 |
| 50 | 화학식 199 | 4.05 | 7.59 | 0.1304 | 0.1403 |
| 51 | 화학식 201 | 3.66 | 7.51 | 0.1332 | 0.1372 |
| 52 | 화학식 221 | 3.78 | 7.54 | 0.1301 | 0.1409 |
| 53 | 화학식 233 | 4.24 | 7.47 | 0.1303 | 0.1402 |
| 54 | 화학식 238 | 4.07 | 7.33 | 0.1304 | 0.1406 |
| 55 | 화학식 241 | 4.16 | 7.74 | 0.1313 | 0.1395 |
| 56 | 화학식 246 | 3.70 | 7.65 | 0.1316 | 0.1389 |
| 57 | 화학식 248 | 3.99 | 7.30 | 0.1347 | 0.1361 |
| 58 | 화학식 250 | 3.80 | 7.79 | 0.1316 | 0.1399 |
| 59 | 화학식 254 | 3.95 | 7.68 | 0.1304 | 0.1407 |
| 60 | 화학식 261 | 3.83 | 7.75 | 0.1303 | 0.1404 |
| 61 | 화학식 266 | 4.02 | 7.39 | 0.1340 | 0.1380 |
| 62 | 화학식 275 | 3.81 | 7.66 | 0.1304 | 0.1401 |
| 63 | 화학식 280 | 3.94 | 7.32 | 0.1307 | 0.1399 |
| 64 | 화학식 283 | 4.13 | 7.51 | 0.1304 | 0.1412 |
| 65 | 화학식 292 | 4.01 | 7.72 | 0.1301 | 0.1410 |
| 66 | 화학식 301 | 3.89 | 7.86 | 0.1300 | 0.1410 |
| 67 | 화학식 310 | 3.76 | 7.57 | 0.1310 | 0.1399 |
| 68 | 화학식 338 | 3.70 | 7.74 | 0.1326 | 0.1380 |
| 69 | 화학식 357 | 3.88 | 7.67 | 0.1328 | 0.1379 |
| 70 | 화학식 360 | 4.17 | 7.32 | 0.1329 | 0.1380 |
| 71 | 화학식 375 | 3.82 | 7.73 | 0.1313 | 0.1393 |
| 72 | 화학식 388 | 3.96 | 7.52 | 0.1303 | 0.1402 |
| 73 | 화학식 392 | 3.81 | 7.39 | 0.1318 | 0.1389 |
| 74 | 화학식 397 | 3.89 | 7.75 | 0.1312 | 0.1401 |
| 75 | 화학식 398 | 3.97 | 7.52 | 0.1332 | 0.1373 |
| 76 | 화학식 401 | 3.71 | 7.50 | 0.1301 | 0.1408 |
| 77 | 화학식 406 | 3.84 | 7.63 | 0.1315 | 0.1392 |
| 78 | 화학식 413 | 4.10 | 7.82 | 0.1313 | 0.1385 |
| 79 | 화학식 419 | 3.78 | 7.30 | 0.1336 | 0.1371 |
| 80 | 화학식 420 | 3.85 | 7.64 | 0.1333 | 0.1382 |
| 비교예 1 | EB1 | 4.67 | 6.65 | 0.1353 | 0.1517 |
| 비교예 2 | EB2 | 4.71 | 6.52 | 0.1361 | 0.1337 |
| 비교예 3 | EB3 | 4.82 | 6.68 | 0.1366 | 0.1344 |
| 비교예 4 | EB4 | 4.65 | 6.54 | 0.1357 | 0.1359 |
상기 [표 1]에 나타낸 결과를 살펴보면, 본 발명에 따른 화합물을 유기발광소자 내의 전자저지층에 채용한 경우에 종래 전자저지층 재료로 사용된 화합물로서 본 발명에 따른 화합물의 특징적 구조와 대비되는 화합물을 채용한 소자 (비교예 1 내지 4)에 비하여 저전압 구동 특성과 발광 효율, 양자 효율 등의 발광 특성이 현저히 우수함을 확인할 수 있다.
[HAT-CN] [HT1] [BH1] [BD1] [ET1]
[EB1] [EB2] [EB3] [EB4]
본 발명에 따른 유기 화합물은 정공주입 및 수송 성능이 우수하고, 삼중항 여기자를 가두는 성능이 높으며, 전자저지 성능이 우수하면서 박막 상태에서의 안정성이 우수하여, 이를 전자저지층, 정공수송층 등의 유기층에 채용한 유기발광소자는 종래 소자에 비하여 저전압 구동, 장수명 특성, 발광 효율 등의 소자 특성이 현저히 우수하여 다양한 조명 소자 및 디스플레이 소자 등에 산업적으로 유용하게 사용될 수 있다.
Claims (12)
- 하기 [화학식 Ⅰ]로 표시되는 유기 화합물:[화학식 Ⅰ]
상기 [화학식 Ⅰ]에서,X는 O 또는 S이고,R1 내지 R3은 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소 또는 중수소이고,Ar1 내지 Ar4는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기 및 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기 중에서 선택되는 어느 하나이고,D는 중수소이고, n은 상기 [화학식 Ⅰ내의 수소가 중수소 (D)로 대체된 개수를 의미하고, n은 0 내지 60의 정수이다. - 제1항에 있어서,상기 Ar1 내지 Ar4 중에서 적어도 하나 이상은 하기 [구조식 1] 내지 [구조식 6] 중에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 유기 화합물:[구조식 1] [구조식 2] [구조식 3]
[구조식 4] [구조식 5] [구조식 6]
상기 [구조식 1] 내지 [구조식 6]에서,R 및 R'는 각각 독립적으로 수소, 중수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기 및 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기 중에서 선택되는 어느 하나이고,R4 내지 R6은 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 중수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기 및 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기 중에서 선택되는 어느 하나이고,상기 R4와 R5는 서로 연결되어 지환족 또는 방향족의 단일환 또는 다환의 고리를 형성할 수 있으며,상기 '*-'는 연결 사이트를 나타내는 것이고, 상기 [구조식 4]에서 R, R' 및 R6 중 어느 하나는 '*-'이다. - 제2항에 있어서,상기 Ar4가 상기 [구조식 1] 내지 [구조식 6] 중에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 유기 화합물.
- 제1항에 있어서,상기 [화학식 Ⅰ]에서의 R1 내지 R3 및 Ar1 내지 Ar4 중 적어도 하나 이상은 중수소를 포함하는 구조를 갖는 치환기인 것을 특징을 하는 유기 화합물.
- 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 R, R', R1 내지 R6 및 Ar1 내지 Ar4의 정의에서, '치환 또는 비치환된'이라 함은 상기 R, R', R1 내지 R6 및 Ar1 내지 Ar4가 중수소, 시아노기, 할로겐기, 히드록시기, 니트로기, 알킬기, 알콕시기, 시클로알킬기, 헤테로시클로알킬기, 아릴기, 플루오레닐기, 헤테로아릴기, 실릴기 및 아민기 중에서 선택된 1 또는 2 이상의 치환기로 치환되거나, 상기 치환기 중 2 이상의 치환기가 연결된 치환기로 치환되거나, 또는 어떠한 치환기도 갖지 않는 것을 의미하는 유기 화합물.
- 제1항에 있어서,상기 [화학식 Ⅰ은 [화학식 Ⅰ내에 존재하는 수소가 부분적으로 중수소(D)로 치환된 화합물인 것을 특징으로 하고, 상기 중수소 (D) 치환율이 10 ~ 90%인 것을 특징으로 하는 유기 화합물.
- 제6항에 있어서,상기 중수소 (D) 치환율이 20 ~ 80%인 것을 특징으로 하는 유기 화합물.
- 제7항에 있어서,상기 중수소 (D) 치환율이 30 ~ 70%인 것을 특징으로 하는 유기 화합물.
- 제1항에 있어서,상기 [화학식 Ⅰ]은 하기 [화학식 1] 내지 [화학식 420] 중에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 유기 화합물:
- 제1 전극, 제2 전극, 및 상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 배치된 1층 이상의 유기층을 포함하는 유기발광소자로서,상기 유기층 중 1 층 이상은 제1항에 따른 [화학식 Ⅰ]로 구현되는 유기 화합물을 하나 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자.
- 제10항에 있어서,상기 유기층은 전자주입층, 전자수송층, 정공주입층, 정공수송층, 전자저지층, 정공저지층 및 발광층 중 1층 이상을 포함하고,상기 층들 중 1층 이상이 상기 [화학식 Ⅰ]로 표시되는 유기 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자.
- 제11항에 있어서,상기 전자저지층에 상기 [화학식 Ⅰ]로 표시되는 유기 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2022-0065840 | 2022-05-30 | ||
| KR20220065840 | 2022-05-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| WO2023234603A1 true WO2023234603A1 (ko) | 2023-12-07 |
Family
ID=89025344
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PCT/KR2023/006768 WO2023234603A1 (ko) | 2022-05-30 | 2023-05-18 | 유기 화합물 및 이를 포함하는 유기발광소자 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20230167304A (ko) |
| WO (1) | WO2023234603A1 (ko) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20140035737A (ko) * | 2012-09-14 | 2014-03-24 | 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 | 신규한 유기 전계 발광 화합물 및 이를 포함하는 유기 전계 발광 소자 |
| KR20190114636A (ko) * | 2018-03-30 | 2019-10-10 | 주식회사 동진쎄미켐 | 신규 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자 |
| KR20210049244A (ko) * | 2019-10-24 | 2021-05-06 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 전계 발광 소자 및 유기 전계 발광 소자용 아민 화합물 |
| CN113135903A (zh) * | 2020-01-17 | 2021-07-20 | 江苏三月科技股份有限公司 | 一种芳香族二苯并呋喃类衍生物及其应用 |
| KR20220043026A (ko) * | 2020-09-28 | 2022-04-05 | 엘티소재주식회사 | 헤테로고리 화합물, 이를 포함하는 유기 발광 소자, 및 유기물층용 조성물 |
| KR20220170383A (ko) * | 2021-06-21 | 2022-12-30 | (주)피엔에이치테크 | 유기발광 화합물 및 이를 포함하는 유기발광소자 |
-
2023
- 2023-05-18 KR KR1020230064335A patent/KR20230167304A/ko unknown
- 2023-05-18 WO PCT/KR2023/006768 patent/WO2023234603A1/ko unknown
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20140035737A (ko) * | 2012-09-14 | 2014-03-24 | 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 | 신규한 유기 전계 발광 화합물 및 이를 포함하는 유기 전계 발광 소자 |
| KR20190114636A (ko) * | 2018-03-30 | 2019-10-10 | 주식회사 동진쎄미켐 | 신규 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자 |
| KR20210049244A (ko) * | 2019-10-24 | 2021-05-06 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 전계 발광 소자 및 유기 전계 발광 소자용 아민 화합물 |
| CN113135903A (zh) * | 2020-01-17 | 2021-07-20 | 江苏三月科技股份有限公司 | 一种芳香族二苯并呋喃类衍生物及其应用 |
| KR20220043026A (ko) * | 2020-09-28 | 2022-04-05 | 엘티소재주식회사 | 헤테로고리 화합물, 이를 포함하는 유기 발광 소자, 및 유기물층용 조성물 |
| KR20220170383A (ko) * | 2021-06-21 | 2022-12-30 | (주)피엔에이치테크 | 유기발광 화합물 및 이를 포함하는 유기발광소자 |
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| Publication number | Publication date |
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| KR20230167304A (ko) | 2023-12-08 |
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