WO2023210469A1

WO2023210469A1 - 表面処理剤、物品の製造方法、物品、及び化合物

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Publication number: WO2023210469A1
Application number: PCT/JP2023/015680
Authority: WO
Inventors: 愛理榊原; 亮平小口
Original assignee: Ａｇｃ株式会社
Priority date: 2022-04-26
Filing date: 2023-04-19
Publication date: 2023-11-02

Abstract

式（Ａ）で表される基Ａと、芳香環基及びビニレン基からなる群より選択される少なくとも一種である基Ｂと、反応性シリル基と、を有するオルガノシラン化合物を含む表面処理剤。ただし、式（Ａ）中、Ｒ^３はそれぞれ独立にアルキレン基であり、Ｚはそれぞれ独立に－Ｏ－又は－ＮＲ^４－であり、Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子又は炭化水素基であり、ｐは１以上の整数である。　（Ｒ^３Ｚ）_ｐ　…（Ａ）

Description

表面処理剤、物品の製造方法、物品、及び化合物

　本開示は、表面処理剤、物品の製造方法、物品、及び化合物に関する。

　近年、外観、視認性等の性能を向上させるために、物品の表面に付着した指紋汚れ等の汚れを目立ちにくくする技術が求められている。具体的な方法として、物品の表面に表面処理剤を用いて表面処理を行う方法が知られている。

　例えば、特許文献１には、特定のオルガノシリコーン化合物をマトリクス樹脂として含む硬化被膜を基材の最表面に備え、硬化被膜上に指紋付着させた場合の２次元表面粗さを特定の範囲とした硬化被膜付き基材が記載されている。

特開２０１１－００６６５３号公報

　一方、表面処理剤は、形成される表面処理層の表面に付着した指紋汚れの視認性を低減することに加え、指紋汚れの視認性のバラツキを抑制することが求められる。

　本開示はこのような事情に鑑みてなされたものであり、本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、基材に対して、指紋視認性を低減し、かつ、指紋視認性のバラツキが抑制された表面処理層を形成し得る表面処理剤を提供することにある。
　本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、指紋視認性を低減し、かつ、指紋視認性のバラツキが抑制された表面処理層を有する物品及びその製造方法を提供することにある。
　本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、基材に対して、指紋視認性を低減し、かつ、指紋視認性のバラツキが抑制された表面処理層を形成し得る表面処理剤として有用な新規な化合物を提供することにある。

　本開示は以下の態様を含む。
＜１＞　下記式（Ａ）で表される基Ａと、芳香環基及びビニレン基からなる群より選択される少なくとも一種である基Ｂと、反応性シリル基と、を有するオルガノシラン化合物を含む表面処理剤。
　（Ｒ^３Ｚ）_ｐ　　…（Ａ）
　式（Ａ）中、
　Ｒ^３はそれぞれ独立にアルキレン基であり、
　Ｚはそれぞれ独立に－Ｏ－又は－ＮＲ^４－であり、Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子又は炭化水素基であり、
　ｐは１以上の整数である。
＜２＞　前記基Ａが、単結合又は連結基を介して前記基Ｂに結合し、
　前記基Ａが、単結合又は連結基を介して前記反応性シリル基に結合している、
　＜１＞に記載の表面処理剤。
＜３＞　前記オルガノシラン化合物は、前記基Ｂとして、芳香環基を少なくとも含み前記芳香環基が前記オルガノシラン化合物の末端に位置する基Ｂを有する、
　＜２＞に記載の表面処理剤。
＜４＞　前記基Ｂが、単結合又は連結基を介して前記基Ａに結合し、
　前記基Ｂが、単結合又は連結基を介して前記反応性シリル基に結合している、
　＜１＞に記載の表面処理剤。
＜５＞　前記オルガノシラン化合物は、前記オルガノシラン化合物の末端に位置する基Ａを有する、
　＜４＞に記載の表面処理剤。
＜６＞　前記オルガノシラン化合物が、前記基Ａとして第１の基Ａ及び第２の基Ａを少なくとも有し、かつ、前記反応性シリル基として第１の反応性シリル基及び第２の反応性シリル基を少なくとも有し、
　前記基Ｂの一端が単結合又は連結基を介して前記第１の基Ａに結合し、前記第１の基Ａが単結合又は連結基を介して前記第１の反応性シリル基と結合し、
　前記基Ｂの他端が単結合又は連結基を介して前記第２の基Ａに結合し、前記第２の基Ａが単結合又は連結基を介して前記第２の反応性シリル基と結合している、
　＜１＞に記載の表面処理剤。
＜７＞　前記オルガノシラン化合物が、前記基Ｂとして第１の基Ｂ及び第２の基Ｂを少なくとも有し、かつ、前記反応性シリル基として第１の反応性シリル基及び第２の反応性シリル基を少なくとも有し、
　前記基Ａの一端が単結合又は連結基を介して前記第１の基Ｂに結合し、前記第１の基Ｂが単結合又は連結基を介して前記第１の反応性シリル基と結合し、
　前記基Ａの他端が単結合又は連結基を介して前記第２の基Ｂに結合し、前記第２の基Ｂが単結合又は連結基を介して前記第２の反応性シリル基と結合している、
　＜１＞に記載の表面処理剤。
＜８＞　下記式（１－１）、（１－２）、（１－３）、又は（１－４）で表されるオルガノシラン化合物を含む表面処理剤。

　式（１－１）、（１－２）、（１－３）、及び（１－４）中、
　Ａ^１、Ａ^２、及びＡ^３はそれぞれ独立に下記式（Ａ）で表される基であり、
　Ｂ^１は１価の芳香環基であり、
　Ｂ^２、Ｂ^３、及びＢ^４はそれぞれ独立に芳香環基及びビニレン基からなる群より選択される少なくとも一種である２価の基であり、
　Ｂ^５は（ｋ＋１）価の芳香環基であり
　Ｌ^１、Ｌ^４、Ｌ^５、Ｌ^６、及びＬ^７はそれぞれ独立に単結合又は２価の連結基であり、
　Ｙ^１はそれぞれ独立に単結合又は（ｇ＋１）価の連結基であり、
　Ｙ^２は単結合又は（ｊ＋１）価の連結基であり、
　Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌ^２及びＬ^３はそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ａ、ｂ、ｃ、及びｄはそれぞれ独立に０～３０の整数であり、
　ｍ及びｎはそれぞれ独立に０～２の整数であり、
　ｇ及びｊはそれぞれ独立に１以上の整数であり、
　ｋは１～５の整数である。
　（Ｒ^３Ｚ）_ｐ　　…（Ａ）
　式（Ａ）中、
　Ｒ^３はそれぞれ独立にアルキレン基であり、
　Ｚはそれぞれ独立に－Ｏ－又は－ＮＲ^４－であり、Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子又は炭化水素基であり、
　ｐは１以上の整数である。
＜９＞　さらに液状媒体を含む、＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の表面処理剤。
＜１０＞　基材に対して、＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の表面処理剤を用いて表面処理を行い、基材上に表面処理層が形成された物品を製造する、物品の製造方法。
＜１１＞　基材と、前記基材上に配置され、＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の表面処理剤で表面処理された表面処理層と、を含む物品。
＜１２＞　前記物品が光学部材である、＜１１＞に記載の物品。
＜１３＞　前記物品がディスプレイ又はタッチパネルである、＜１１＞に記載の物品。
＜１４＞　下記式（１－１－１）で表される化合物。

　式（１－１－１）中、
　Ｂ^１は１価の芳香環基であり、
　Ｒ^３はそれぞれ独立に炭素数１～６のアルキレン基であり、
　Ｚはそれぞれ独立に－Ｏ－又は－ＮＲ^４－であり、Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子又は炭化水素基であり、
　Ｌ^１は２価の連結基であり、
　Ｙ^１は（ｇ＋１）価の連結基であり、
　Ｒ^１はそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌ^２はそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｎは０～２の整数であり、
　ｇは１以上の整数であり、
　ｐは１以上の整数であり、
　ｐが１であるときＲ^３が炭素数３～６のアルキレン基であり、ｐが２以上の整数であるときＲ^３が炭素数１～６のアルキレン基である。
＜１５＞　下記式（１－２－１）で表される化合物。

　式（１－２－１）中、
　Ｂ^２は芳香環基及びビニレン基からなる群より選択される少なくとも一種である２価の基であり、
　Ｒ^３はそれぞれ独立に炭素数１～６のアルキレン基であり、
　Ｚはそれぞれ独立に－Ｏ－又は－ＮＲ^４－であり、Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子又は炭化水素基であり、
　Ｌ^１は２価の連結基であり、
　Ｙ^１は（ｇ＋１）価の連結基であり、
　Ｒ^１はそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌ^２はそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｎは０～２の整数であり、
　ｇは１以上の整数であり、
　ｐは２以上の整数である。
＜１６＞　下記式（１－３－１）で表される化合物。

　式（１－３－１）中、
　Ｂ^２及びＢ^４はそれぞれ独立に芳香環基及びビニレン基からなる群より選択される少なくとも一種である２価の基であり、
　Ｒ^３はそれぞれ独立に炭素数１～６のアルキレン基であり、
　Ｚはそれぞれ独立に－Ｏ－又は－ＮＲ^４－であり、Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子又は炭化水素基であり、
　Ｌ^１及びＬ^６はそれぞれ独立に２価の連結基であり、
　Ｙ^１は（ｇ＋１）価の連結基であり、
　Ｙ^２は（ｊ＋１）価の連結基であり、
　Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌ^２及びＬ^３はそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｍ及びｎはそれぞれ独立に０～２の整数であり、
　ｇ及びｊはそれぞれ独立に１以上の整数であり、
　ｐは１以上の整数であり、
　ｐが１であるときＲ^３が炭素数３～６のアルキレン基であり、ｐが２以上の整数であるときＲ^３が炭素数１～６のアルキレン基である。

　本発明の一実施形態によれば、基材に対して、指紋視認性を低減し、かつ、指紋視認性のバラツキが抑制された表面処理層を形成し得る表面処理剤が提供される。
　本発明の一実施形態によれば、指紋視認性を低減し、かつ、指紋視認性のバラツキが抑制された表面処理層を有する物品及びその製造方法が提供される。
　本発明の一実施形態によれば、基材に対して、指紋視認性を低減し、かつ、指紋視認性のバラツキが抑制された表面処理層を形成し得る表面処理剤として有用な新規な化合物が提供される。

　以下、本発明の一実施形態について詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の実施形態において、その構成要素（要素ステップ等も含む）は、特に明示した場合を除き、必須ではない。数値及びその範囲についても同様であり、本発明の実施形態を制限するものではない。

　本開示において「～」を用いて示された数値範囲には、「～」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
　本開示において各成分は該当する物質を複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、各成分の含有率又は含有量は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率又は含有量を意味する。
　本開示に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
　本開示において「層」又は「膜」との語には、当該層又は膜が存在する領域を観察したときに、当該領域の全体に形成されている場合に加え、当該領域の一部にのみ形成されている場合も含まれる。
　本開示において「表面処理層」とは、基材の表面に、表面処理によって形成される層を意味する。
　本開示において、化合物又は基が特定の式（Ｘ）で表される場合、当該式（Ｘ）で表される化合物又は基をそれぞれ化合物（Ｘ）もしくは化合物Ｘ、又は基（Ｘ）もしくは基Ｘと記すことがある。

［表面処理剤］
　本開示の表面処理剤は、下記式（Ａ）で表される基Ａと、芳香環基及びビニレン基からなる群より選択される少なくとも一種である基Ｂと、反応性シリル基と、を有するオルガノシラン化合物を含む。
　（Ｒ^３Ｚ）_ｐ　　…（Ａ）
　式（Ａ）中、
　Ｒ^３はそれぞれ独立にアルキレン基であり、
　Ｚはそれぞれ独立に－Ｏ－又は－ＮＲ^４－であり、Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子又は炭化水素基であり、
　ｐは１以上の整数である。
　以下、式（Ａ）で表される基Ａと、芳香環基及びビニレン基からなる群より選択される少なくとも一種である基Ｂと、反応性シリル基と、を有するオルガノシラン化合物を「特定化合物」ともいう。
　また、式（Ａ）で表される基Ａのうち、Ｚが－Ｏ－である基Ａを「アルキレンオキシド基」ともいい、Ｚが－ＮＲ^４－である基Ａを「アルキレンイミン基」ともいう。

　本開示の表面処理剤は、特定化合物を含むことで、指紋視認性を低減し、かつ、指紋視認性のバラツキが抑制された表面処理層を形成できる。
　まず、基材と密着性が高い反応性シリル基を特定化合物が有することで、基材上の表面に密着する表面処理層を形成できる。加えて、特定化合物は、親水性を有する基Ａと親油性を有する基Ｂとの両方を分子内に有する。そのため、親水性及び親油性の両方が高い表面処理層が形成され、表面処理層の表面に指紋汚れが付着しても、付着した指紋汚れの水分及び油分の両方が濡れ広がりやすく、液滴になりにくくなる。そして、指紋汚れに起因する光の乱反射が起こりにくいことで指紋汚れが目立ちにくく、表面処理層の指紋視認性が低減される。
　さらに、本開示の表面処理剤は、１つの分子内に親水性を有する基Ａと親油性を有する基Ｂとの両方を有する特定化合物を含む。そのため、親水性のみを有する化合物と親油性のみを有する化合物とを混合した表面処理剤を用いて形成された表面処理層に比べて、化合物の混合状態等の影響を受けにくく、形成される表面処理層における指紋視認性のバラツキが抑制されると考えられる。
　以下、本開示の表面処理剤に含まれる特定化合物について説明する。

＜特定化合物＞
　特定化合物は、式（Ａ）で表される基Ａと、芳香環基及びビニレン基からなる群より選択される少なくとも一種である基Ｂと、反応性シリル基と、を有する。

　特定化合物は、基Ａと、基Ｂと、反応性シリル基と、を少なくとも有する化合物であれば、特に限定されるものではない。
　特定化合物の一例としては、例えば、基Ａが単結合又は連結基を介して基Ｂに結合し、かつ、前記基Ａが単結合又は連結基を介して反応性シリル基に結合した化合物（以下「特定化合物Ａ」ともいう）が挙げられる。
　特定化合物Ａの一例としては、芳香環基を少なくとも含み芳香環基が特定化合物Ａの末端に位置する基Ｂを有する化合物が挙げられる。具体的には、例えば、芳香環基を少なくとも含み芳香環基が特定化合物Ａの末端に位置する基Ｂに、単結合又は連結基を介して基Ａが結合し、かつ、前記基Ａが単結合又は連結基を介して反応性シリル基に結合した特定化合物Ａ（以下「特定化合物Ａ１」ともいう）が挙げられる。特定化合物Ａ１では、特定化合物Ａ１の一端が芳香環基であり、他端が反応性シリル基であり、芳香環基を含む基Ｂと反応性シリル基とが少なくとも基Ａを介して結合している。

　特定化合物Ａの他の一例としては、第１の基Ａ及び第２の基Ａと、基Ｂと、第１の反応性シリル基及び第２の反応性シリル基と、を有する化合物が挙げられる。具体的には、例えば、基Ｂの一端が単結合又は連結基を介して第１の基Ａに結合し、前記第１の基Ａが単結合又は連結基を介して第１の反応性シリル基と結合し、かつ、基Ｂの他端が単結合又は連結基を介して第２の基Ａに結合し、前記第２の基Ａが単結合又は連結基を介して第２の反応性シリル基と結合した特定化合物Ａ（以下「特定化合物Ａ２」ともいう）が挙げられる。特定化合物Ａ２では、特定化合物Ａ２の一端及び他端の両方が反応性シリル基であり、第１の反応性シリル基と第２の反応性シリル基とが、少なくとも第１の基Ａ、基Ｂ、及び第２の基Ａを介して結合している。

　特定化合物の他の一例としては、例えば、基Ｂが単結合又は連結基を介して基Ａに結合し、かつ、前記基Ｂが単結合又は連結基を介して反応性シリル基に結合した化合物（以下「特定化合物Ｂ」ともいう）が挙げられる。
　特定化合物Ｂの一例としては、特定化合物Ｂの末端に位置する基Ａを有する化合物が挙げられる。具体的には、例えば、特定化合物Ｂの末端に位置する基Ａに、単結合又は連結基を介して基Ｂが結合し、かつ、前記基Ｂが単結合又は連結基を介して反応性シリル基に結合した特定化合物Ｂ（以下「特定化合物Ｂ１」ともいう）が挙げられる。特定化合物Ｂ１では、特定化合物Ｂ１の一端が基Ａであり、他端が反応性シリル基であり、基Ａと反応性シリル基とが少なくとも基Ｂを介して結合している。

　特定化合物Ｂの他の一例としては、基Ａと、第１の基Ｂ及び第２の基Ｂと、第１の反応性シリル基及び第２の反応性シリル基と、を有する化合物が挙げられる。具体的には、例えば、基Ａの一端が単結合又は連結基を介して第１の基Ｂに結合し、前記第１の基Ｂが単結合又は連結基を介して第１の反応性シリル基と結合し、かつ、基Ａの他端が単結合又は連結基を介して第２の基Ｂに結合し、前記第２の基Ｂが単結合又は連結基を介して第２の反応性シリル基と結合した特定化合物Ｂ（以下「特定化合物Ｂ２」ともいう）が挙げられる。特定化合物Ｂ２では、特定化合物Ｂ２の一端及び他端の両方が反応性シリル基であり、第１の反応性シリル基と第２の反応性シリル基とが、少なくとも第１の基Ｂ、基Ａ、及び第２の基Ｂを介して結合している。

　特定化合物は、一方の末端に基Ａ又は基Ｂが位置し他方の末端に反応性シリル基が位置する化合物であってもよく、両方の末端に反応性シリル基が位置し一端の反応性シリル基と他端の反応性シリル基とが基Ａ及び基Ｂを介して結合した化合物であってもよい。
　以下、基Ａ又は基Ｂが一方の末端に位置し反応性シリル基が他方の末端に位置する特定化合物を「片末端化合物」ともいい、反応性シリル基が両方の末端に位置する特定化合物を「両末端化合物」ともいう。
　片末端化合物の例としては、上記特定化合物Ａ１及び特定化合物Ｂ１等が挙げられる。
　両末端化合物の例としては、上記特定化合物Ａ２及び特定化合物Ｂ２等が挙げられる。

　特定化合物において、基Ａが連結基を介して基Ｂに結合する場合、基Ａが連結基を介して他の基Ａに結合する場合、及び基Ｂが連結基を介して他の基Ｂに結合する場合における連結基は、本開示の目的を損なわない基であればよい。上記連結基としては、例えば、後述の式（１－１）～（１－４）中のＬ^１、Ｌ^４、Ｌ^５、Ｌ^６、及びＬ^７として説明される基Ｌの連結基等が挙げられる。
　特定化合物において、基Ａが連結基を介して反応性シリル基に結合する場合、及び基Ｂが連結基を介して反応性シリル基に結合する場合における連結基は、本開示の目的を損なわない基であればよい。上記連結基としては、例えば、後述の式（１－１）～（１－４）中のＹ^１及びＹ^２として説明される基Ｙの連結基等が挙げられる。
　以下、基Ａ、基Ｂ、及び反応性シリル基のそれぞれについて説明する。

（基Ａ）
　特定化合物は、式（Ａ）で表される基Ａ、すなわち、アルキレンオキシド基及びアルキレンイミン基からなる群より選択される少なくとも一種である基Ａを有する。
　基Ａは、アルキレンオキシド基及びアルキレンイミン基からなる群より選択される少なくとも一種で構成された２価の連結基であればよい。基Ａは、アルキレンオキシド基のみで構成されてもよく、アルキレンイミン基のみで構成されてもよく、アルキレンオキシド基及びアルキレンイミン基で構成されてもよい。合成容易性に優れる観点から、基Ａはアルキレンオキシド基のみからなる２価の連結基又はアルキレンイミン基のみからなる２価の連結基であることが好ましい。

　基Ａは、下記式（Ａ）で表される。
　（Ｒ^３Ｚ）_ｐ　　…（Ａ）
　式（Ａ）中、Ｒ^３はそれぞれ独立にアルキレン基であり、Ｚはそれぞれ独立に－Ｏ－又は－ＮＲ^４－であり、Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子又は炭化水素基であり、ｐは１以上の整数である。

　Ｒ^３で表されるアルキレン基の炭素数は、表面処理層の親水性を向上させる観点から、１～６が好ましく、１～４がより好ましく、１～３がさらに好ましく、１～２が特に好ましい。
　Ｒ^３で表されるアルキレン基は、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれであってもよい。

　Ｒ^４で表される炭化水素基としては、例えば、脂肪族炭化水素基及び芳香族炭化水素基が挙げられる。
　Ｒ^４は、水素原子又は脂肪族炭化水素基が好ましく、水素原子又はアルキル基がより好ましい。アルキレン基の炭素数は１～１０が好ましく、１～６がより好ましい。Ｒ^４としては、水素原子又はメチル基がさらに好ましく、水素原子が特に好ましい。

　（Ｒ^３Ｚ）がアルキレンオキシド基である場合、（Ｒ^３Ｚ）の具体例としては、－ＣＨ_２－Ｏ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ－、－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２－Ｏ－、－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ－、－ｃｙｃｌｏＣ_４Ｈ_６－Ｏ－、－ｃｙｃｌｏＣ_５Ｈ_８－Ｏ－、及び－ｃｙｃｌｏＣ_６Ｈ_１０－Ｏ－が挙げられる。
　（Ｒ^３Ｚ）がアルキレンイミン基である場合、（Ｒ^３Ｚ）の具体例としては、－ＣＨ_２－ＮＨ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－ＮＨ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－ＮＨ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－ＮＨ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－ＮＨ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－ＮＨ－、－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２－ＮＨ－、－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２－ＮＨ－、－ｃｙｃｌｏＣ_４Ｈ_６－ＮＨ－、－ｃｙｃｌｏＣ_５Ｈ_８－ＮＨ－、及び－ｃｙｃｌｏＣ_６Ｈ_１０－ＮＨ－が挙げられる。

　ここで、－ｃｙｃｌｏＣ_４Ｈ_６－は、シクロブタンジイル基を意味する。シクロブタンジイル基としては、シクロブタン－１，２－ジイル基、及びシクロブタン－１，３－ジイル基が挙げられる。－ｃｙｃｌｏＣ_５Ｈ_８－は、シクロペンタンジイル基を意味する。シクロペンタンジイル基としては、シクロペンタン－１，２－ジイル基、及びシクロペンタン－１，３－ジイル基が挙げられる。－ｃｙｃｌｏＣ_６Ｈ_１０－は、シクロヘキサンジイル基を意味する。シクロヘキサンジイル基としては、シクロヘキサン－１，２－ジイル基、シクロヘキサン－１，３－ジイル基、及びシクロヘキサン－１，４－ジイル基が挙げられる。

　（Ｒ^３Ｚ）の繰り返し数ｐは、１以上の整数であり、表面処理層の親水性を向上させる観点から、２以上の整数が好ましく、５以上の整数がより好ましい。（Ｒ^３Ｚ）の繰り返し数ｐは、基材の表面に密着する特定化合物の分子数を多くして表面処理層の密度を向上させる観点から、２００以下の整数が好ましく、１５０以下の整数がより好ましく、１００以下の整数がさらに好ましく、５０以下の整数が特に好ましく、２０以下の整数が極めて好ましい。
　（Ｒ^３Ｚ）の繰り返し数ｐは、１～２００の整数が好ましく、１～５０の整数がより好ましく、２～５０の整数がさらに好ましく、２～２０の整数が特に好ましい。
　基Ａは、モノアルキレンオキシド基、モノアルキレンイミン基、ポリアルキレンオキシド基、ポリアルキレンイミン基、及びアルキレンオキシド基とアルキレンイミン基との両方を含む基のいずれであってもよい。基Ａは、表面処理層の親水性を向上させる観点から、ポリアルキレンオキシド基、ポリアルキレンイミン基、又はアルキレンオキシド基とアルキレンイミン基との両方を含む基が好ましく、ポリアルキレンオキシド基又はポリアルキレンイミン基がより好ましい。

　式（Ａ）中のｐが２以上の整数である場合、（Ｒ^３Ｚ）_ｐは、２種以上の（Ｒ^３Ｚ）を含んでいてもよい。
　２種以上の（Ｒ^３Ｚ）の結合順序は限定されず、ランダム、交互、及びブロックのいずれに配置されていてもよい。
　２種以上の（Ｒ^３Ｚ）を含むとは、化合物中において、Ｒ^３で表されるアルキレン基の炭素数が異なる２種以上の（Ｒ^３Ｚ）が存在すること、炭素数が同一であってもＲ^３で表されるアルキレン基の側鎖の有無や側鎖の種類（例えば、側鎖の数、側鎖の炭素数等）が異なる２種以上の（Ｒ^３Ｚ）が存在すること、及びＲ^３が同一であってもＺが異なる（Ｒ^３Ｚ）が存在することをいう。
　２種以上の（Ｒ^３Ｚ）の配置については、例えば、｛（－ＣＨ_２－Ｏ－）_ｐ２１（－Ｃ_２Ｈ_４－Ｏ－）_ｐ２２｝で表される構造は、ｐ２１個の（－ＣＨ_２－Ｏ－）とｐ２２個の（－Ｃ_２Ｈ_４－Ｏ－）とがランダムに配置されていることを表す。また、（－Ｃ_２Ｈ_４－Ｏ－Ｃ_３Ｈ_６－Ｏ－）_ｐ２５で表される構造は、ｐ２５個の（－Ｃ_２Ｈ_４－Ｏ－）とｐ２５個の（－Ｃ_３Ｈ_６－Ｏ－）とが交互に配置されていることを表す。

　中でも、（Ｒ^３Ｚ）_ｐは、［（－ＣＨ_２－Ｏ－）_ｐ１１（－Ｃ_２Ｈ_４－Ｏ－）_ｐ１２（－Ｃ_３Ｈ_６－Ｏ－）_ｐ１３（－Ｃ_４Ｈ_８－Ｏ－）_ｐ１４（－Ｃ_５Ｈ_１０－Ｏ－）_ｐ１５（－Ｃ_６Ｈ_１２－Ｏ－）_ｐ１６（－ｃｙｃｌｏＣ_４Ｈ_６－Ｏ－）_ｐ１７（－ｃｙｃｌｏＣ_５Ｈ_８－Ｏ－）_ｐ１８（－ｃｙｃｌｏＣ_６Ｈ_１０－Ｏ－）_ｐ１９］、又は［（－ＣＨ_２－ＮＨ－）_ｐ３１（－Ｃ_２Ｈ_４－ＮＨ－）_ｐ３２（－Ｃ_３Ｈ_６－ＮＨ－）_ｐ３３（－Ｃ_４Ｈ_８－ＮＨ－）_ｐ３４（－Ｃ_５Ｈ_１０－ＮＨ－）_ｐ３５（－Ｃ_６Ｈ_１２－ＮＨ－）_ｐ３６（－ｃｙｃｌｏＣ_４Ｈ_６－ＮＨ－）_ｐ３７（－ｃｙｃｌｏＣ_５Ｈ_８－ＮＨ－）_ｐ３８（－ｃｙｃｌｏＣ_６Ｈ_１０－ＮＨ－）_ｐ３９］が好ましい。
　ｐ１１、ｐ１２、ｐ１３、ｐ１４、ｐ１５、ｐ１６、ｐ１７、ｐ１８、ｐ１９、ｐ３１、ｐ３２、ｐ３３、ｐ３４、ｐ３５、ｐ３６、ｐ３７、ｐ３８、及びｐ３９は、それぞれ独立に、０以上の整数であり、１００以下の整数が好ましく、５０以下の整数がより好ましく、２０以下の整数がさらに好ましい。
　ｐ１１＋ｐ１２＋ｐ１３＋ｐ１４＋ｐ１５＋ｐ１６＋ｐ１７＋ｐ１８＋ｐ１９は１以上の整数であり、１～２００の整数が好ましく、１～５０の整数がより好ましく、２～５０の整数がさらに好ましく、２～２０の整数が特に好ましい。
　ｐ３１＋ｐ３２＋ｐ３３＋ｐ３４＋ｐ３５＋ｐ３６＋ｐ３７＋ｐ３８＋ｐ３９は１以上の整数であり、１～２００の整数が好ましく、１～５０の整数がより好ましく、２～５０の整数がさらに好ましく、２～２０の整数が特に好ましい。

　中でも、ｐ１２又はｐ３２は、１以上の整数が好ましく、１～２００の整数がより好ましく、１～５０の整数がさらに好ましく、２～５０の整数が特に好ましく、２～２０の整数が特に好ましい。
　また、Ｃ_３Ｈ_６、Ｃ_４Ｈ_８、Ｃ_５Ｈ_１０、及びＣ_６Ｈ_１２は、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよいが、表面処理層の耐摩耗性を向上させる観点から、直鎖状が好ましい。

　なお、上記式は単位の種類とその数を表すものであり、単位の配列を表すものではない。すなわち、ｐ１１～ｐ３９は単位の数を表すものであり、例えば、（－ＣＨ_２－Ｏ－）_ｐ１１は、（－ＣＨ_２－Ｏ－）単位がｐ１１個連続したブロックを表すものではない。同様に、（－ＣＨ_２－Ｏ－）～（－ｃｙｃｌｏＣ_６Ｈ_１０－Ｏ－）等の記載順は、その記載順にそれらが配列していることを表すものではない。
　上記式において、ｐ１１～ｐ１９の２以上が０でない場合及びｐ３１～ｐ３９の２以上が０でない場合（すなわち、（Ｒ^３Ｚ）_ｐが２種以上の単位から構成されている場合）、異なる単位の配列は、ランダム配列、交互配列、ブロック配列及びそれら配列の組合せのいずれであってもよい。

　（Ｒ^３Ｚ）_ｐは、下記の構造を有することが好ましい。
　（－Ｃ_２Ｈ_４－Ｏ－）_ｐ２１、
　（－Ｃ_３Ｈ_６－Ｏ－）_ｐ２２、
　（－Ｃ_２Ｈ_４－Ｏ－）_ｐ２３（－Ｃ_３Ｈ_６－Ｏ－）_ｐ２４、
　（－Ｃ_２Ｈ_４－Ｏ－Ｃ_３Ｈ_６－Ｏ－）_ｐ２５、
　（－ＣＨ_２－Ｏ－）_ｐ２６（－Ｃ_２Ｈ_４－Ｏ－）_ｐ２７。
　（－Ｃ_２Ｈ_４－ＮＨ－）_ｐ４１、
　（－Ｃ_３Ｈ_６－ＮＨ－）_ｐ４２、
　（－Ｃ_２Ｈ_４－ＮＨ－）_ｐ４３（－Ｃ_３Ｈ_６－ＮＨ－）_ｐ４４、
　（－Ｃ_２Ｈ_４－ＮＨ－Ｃ_３Ｈ_６－ＮＨ－）_ｐ４５、
　（－ＣＨ_２－ＮＨ－）_ｐ４６（－Ｃ_２Ｈ_４－ＮＨ－）_ｐ４７、
　（－Ｃ_２Ｈ_４－Ｏ－）_ｐ４８（－Ｃ_２Ｈ_４－ＮＨ－）_ｐ４９。
　ただし、ｐ２１は１以上の整数であり、ｐ２２は１以上の整数であり、ｐ２３及びｐ２４はそれぞれ独立に１以上の整数であり、ｐ２５は１以上の整数であり、ｐ２６及びｐ２７はそれぞれ独立に１以上の整数であり、ｐ４１は１以上の整数であり、ｐ４２は１以上の整数であり、ｐ４３及びｐ４４はそれぞれ独立に１以上の整数であり、ｐ４５は１以上の整数であり、ｐ４６及びｐ４７はそれぞれ独立に１以上の整数であり、ｐ４８及びｐ４９はそれぞれ独立に１以上の整数である。

　特定化合物は、１分子中に、基Ａを１つのみ有してもよく、基Ａを２つ以上有してもよい。特定化合物が１分子中に有する基Ａの数は、特に限定されるものではなく、１～１０が挙げられ、１～５が好ましく、１～２がより好ましい。
　特定化合物が１分子中に基Ａを２つ以上有する場合、２つ以上の基Ａは、後述する基Ｂ及び連結基からなる群より選択される少なくとも１つを介して結合される。２つ以上の基Ａは、基Ｂを介して結合してもよく、基Ｂを介さずに連結基を介して結合してもよい。
　１分子中に基Ａを２つ以上有する特定化合物としては、例えば前記特定化合物Ａ２が挙げられる。

　特定化合物は、分子の末端に基Ａを有してもよい。分子の末端に存在する基Ａのアルキレン基側末端には、水素原子が結合してもよく、水酸基が結合してもよく、アミノ基が結合してもよく、これらのうち水素原子が結合していることが好ましい。
　つまり、分子の末端に基Ａを有する特定化合物は、Ｈ－（Ｒ^３Ｚ）_ｐ－＊の構造を有することが好ましい。ただし＊は、単結合又は連結基を介して基Ｂと結合する結合部又は連結基を介して他の基Ａと結合する結合部である。分子の末端に基Ａを有する特定化合物としては、例えば前記特定化合物Ｂ１が挙げられる。

（基Ｂ）
　特定化合物は、芳香環基及びビニレン基からなる群より選択される少なくとも一種である基Ｂを有する。
　ここで、芳香環基は、芳香環から１つ以上の水素原子を除いた基を意味する。特定化合物の末端に位置する芳香環基は、芳香環から１つの水素原子を除いた１価の基である。特定化合物の末端以外に位置する芳香環基は、芳香環から２つ以上の水素原子を除いた２価以上の基である。
　また、ビニレン基は、特定化合物の末端以外に位置する。

　芳香環基における芳香環は、芳香族炭化水素環であってもよく、芳香族複素環であってもよく、表面処理層の親油性を向上させる観点から、芳香族炭化水素環が好ましい。芳香環は、単環であってもよく、縮合多環であってもよい。芳香環の炭素数は、４～１６が好ましく、５～１０がより好ましく、６～８がさらに好ましい。

　前記芳香環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、インデン環、アズレン環、フルオレン環、ピレン環；フラン環、チオフェン環、ピロール環、イミダゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、インドール環、プリン環、キノリン環、イソキノリン環、クロメン環、フェノチアジン環、フェノキサジン環、アクリジン環、フェナジン環、カルバゾール環等が挙げられる。表面処理層の親油性を向上させる観点から、芳香環は、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、インデン環、アズレン環、及びフルオレン環が好ましい。原料の入手容易性の観点から、芳香環は、ベンゼン環、ナフタレン環、及びピリジン環が好ましく、ベンゼン環及びナフタレン環がより好ましく、ベンゼン環がさらに好ましい。

　前記芳香環は置換基を有していてもよく、有していなくてもよい。芳香環が置換基を有する場合、１つの芳香環が有する置換基の数は１～１５であってもよく、１～９が好ましく、１～７がさらに好ましい。置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のハロアルキル基、－ＯＣＦ_３、－ＳＦ_５、－ＯＣ（Ｏ）Ｒ^ｓ、－Ｎ（Ｒ^ｓ）Ｃ（Ｏ）Ｒ^ｓ、－ＮＯ_２、－ＳＯ_２Ｒ^ｓ、－ＮＲ^ｓ _２、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^ｓ _２、－Ｃ（Ｏ）Ｒ^ｓ等が挙げられる。ここで、Ｒ^ｓは、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１～１０、より好ましくは炭素数１～５、さらに好ましくはメチル基）である。一態様において、置換基としては、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子）を含まない置換基が好ましく、水酸基、炭素数１～１０のアルキル基、－ＯＣ（Ｏ）Ｒ^ｓ、－Ｎ（Ｒ^ｓ）Ｃ（Ｏ）Ｒ^ｓ、－ＮＯ_２、－ＳＯ_２Ｒ^ｓ、－ＮＲ^ｓ _２、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^ｓ _２、及び－Ｃ（Ｏ）Ｒ^ｓがより好ましい。一態様において、表面処理層の親油性を向上させる観点からは、置換基としては、ヘテロ原子（例えば酸素原子、窒素原子、及び硫黄原子）を含まない置換基が好ましく、アルキル基が好ましい。一態様において、表面処理層の親油性を向上させる観点からは、芳香環は置換基を有さないことが好ましい。芳香環が複数の置換基を有する場合、それぞれの置換基は同じであっても互いに異なっていてもよい。

　基Ｂが特定化合物の末端に位置する場合、基Ｂは、少なくとも特定化合物の末端に位置する１価の芳香環基を含む１価の基であればよく、必要に応じて２価以上の芳香環基をさらに含んでもよく、ビニレン基をさらに含んでもよい。１価の基Ｂは、１つの芳香環基からなる基でもよく、２以上の芳香環基が直接結合した基でもよく、芳香環基とビニレン基とが直接結合した基でもよい。分子の末端に基Ｂを有する特定化合物としては、例えば前記特定化合物Ａ１が挙げられる。

　基Ｂが特定化合物の末端に位置する場合、１つの基Ｂに含まれる芳香環基の数は、１以上であり、有機溶媒への溶解性に優れる観点から１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～２がさらに好ましい。基Ｂが特定化合物の末端に位置する場合、１つの基Ｂに含まれるビニレン基の数は、有機溶媒への溶解性に優れる観点から０～５が好ましく、０～３がより好ましく、０～１がさらに好ましい。基Ｂが特定化合物の末端に位置する場合、１つの基Ｂに含まれる芳香環基及びビニレン基の合計数は、１以上であり、有機溶媒への溶解性に優れる観点から１～１５が好ましく、１～１０がより好ましく、１～２がさらに好ましい。

　１つの基Ｂに含まれる芳香環基が２以上である場合、２以上の芳香環基における芳香環は、同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。
　１つの基Ｂに含まれる芳香環基の数が２以上であり、基Ｂが２価の芳香環基としてフェニレン基を有する場合、フェニレン基における２つの結合部は、オルト位、メタ位、及びパラ位のいずれであってもよく、分子の配向性に優れる観点からパラ位であることが好ましい。
　１つの基Ｂに含まれる芳香環基及びビニレン基の合計数が２以上である場合、２以上の芳香環基及びビニレン基からなる群より選択される少なくとも一種は、互いに共役していることが好ましい。
　１つの基Ｂに含まれる芳香環基及びビニレン基がそれぞれ２以上である場合、２以上の芳香環基が連続して結合してもよく、２以上のビニレン基が連続して結合してもよく、芳香環基及びビニレン基が交互に結合してもよい。

　基Ｂが特定化合物の末端に位置する場合、基Ｂは１価の基であり、単結合又は連結基を介して基Ａと結合するか、又は連結基を介して他の基Ｂと結合する。
　１価の基である基Ｂの具体例としては、例えば下記構造の基が挙げられる。１価の基である基Ｂは、下記具体例に限定されるものではない。ただし、下記式中、＊は他の基に結合する結合部である。

　基Ｂが特定化合物の末端以外に位置する場合、基Ｂは、芳香環基及び炭素－炭素二重結合からなる群より選択される少なくとも一種で構成された２価以上の基であればよい。
　基Ｂが２価の基である場合、基Ｂは、芳香環基のみで構成されてもよく、ビニレン基のみで構成されてもよく、芳香環基及びビニレン基で構成されてもよい。つまり、２価の基Ｂは、１つの芳香環基又はビニレン基からなる基でもよく、２以上の芳香環基が直接結合した基でもよく、２以上のビニレン基が直接結合した基でもよく、芳香環基とビニレン基とが直接結合した基でもよい。表面処理層の親油性を向上させる観点から、基Ｂは、少なくとも芳香環基を含むことが好ましい。
　基Ｂが２価の芳香環基としてフェニレン基を有する場合、フェニレン基における２つの結合部は、オルト位、メタ位、及びパラ位のいずれであってもよく、分子の配向性に優れる観点からパラ位であることが好ましい。

　基Ｂが特定化合物の末端以外に位置する２価の基である場合、１つの基Ｂに含まれる芳香環基の数は、有機溶媒への溶解性に優れる観点から１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～２がさらに好ましい。基Ｂが特定化合物の末端以外に位置する２価の基である場合、１つの基Ｂに含まれるビニレン基の数は、有機溶媒への溶解性に優れる観点から０～５が好ましく、０～３がより好ましく、０～１がさらに好ましい。基Ｂが特定化合物の末端以外に位置する２価の基である場合、１つの基Ｂに含まれる芳香環基及びビニレン基の合計数は、１以上であり、表面処理剤の柔軟性に優れる観点から１～１５が好ましく、１～１０がより好ましく、１～２がさらに好ましい。

　１つの基Ｂに含まれる芳香環基が２以上である場合、２以上の芳香環基における芳香環は、同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。
　１つの基Ｂに含まれる芳香環基及びビニレン基の合計数が２以上である場合、２以上の芳香環基及びビニレン基からなる群より選択される少なくとも一種は、互いに共役していることが好ましい。
　１つの基Ｂに含まれる芳香環基及びビニレン基がそれぞれ２以上である場合、２以上の芳香環基が連続して結合してもよく、芳香環基及びビニレン基が交互に結合してもよい。

　基Ｂが特定化合物の末端以外に位置する２価の基である場合、基Ｂにおける２つの結合部は、それぞれ、単結合又は連結基を介して基Ａと結合するか、単結合又は連結基を介して反応性シリル基と結合するか、又は連結基を介して他の基Ｂと結合する。
　２価の基である基Ｂの具体例としては、例えば下記構造の基が挙げられる。２価の基である基Ｂは、下記具体例に限定されるものではない。ただし、下記式中、＊は他の基に結合する結合部である。

　基Ｂが３価以上の基である場合、基Ｂは、少なくとも３価以上の芳香環基を含み、必要に応じて２価以上の芳香環基をさらに含んでもよく、ビニレン基をさらに含んでもよい。３価以上の基Ｂは、１つの芳香環基からなる基でもよく、２以上の芳香環基が直接結合した基でもよく、芳香環基とビニレン基とが直接結合した基でもよい。

　基Ｂが特定化合物の末端以外に位置する３価以上の基である場合、１つの基Ｂに含まれる芳香環基の数は、１以上であり、有機溶媒への溶解性に優れる観点から１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３がさらに好ましい。基Ｂが特定化合物の末端以外に位置する３価以上の基である場合、１つの基Ｂに含まれるビニレン基の数は、有機溶媒への溶解性に優れる観点から０～５が好ましく、０～３がより好ましく、０～１がさらに好ましい。基Ｂが特定化合物の末端以外に位置する３価以上の基である場合、１つの基Ｂに含まれる芳香環基及びビニレン基の合計数は、１以上であり、有機溶媒への溶解性に優れる観点から１～１５が好ましく、１～１０がより好ましく、１～３がさらに好ましい。

　基Ｂが特定化合物の末端以外に位置する３価以上の基である場合、基Ｂにおける３つ以上の結合部は、それぞれ、単結合又は連結基を介して基Ａと結合するか、単結合又は連結基を介して反応性シリル基と結合するか、又は連結基を介して他の基Ｂと結合する。
　３価以上の基である基Ｂの具体例としては、例えば下記構造の基が挙げられる。３価以上の基である基Ｂは、下記具体例に限定されるものではない。ただし、下記式中、＊は他の基に結合する結合部である。

　特定化合物は、１分子中に、基Ｂを１つのみ有してもよく、基Ｂを２つ以上有してもよい。特定化合物が１分子中に有する基Ｂの数は、特に限定されるものではなく、１～１０が挙げられ、１～５が好ましく、１～２がより好ましい。
　特定化合物が１分子中に基Ｂを２つ以上有する場合、特定化合物は、１価の基Ｂと２価以上の基Ｂとを有してもよく、２価以上の基Ｂを２つ以上有してもよい。
　特定化合物が１分子中に基Ｂを２つ以上有する場合、２つ以上の基Ｂは、基Ａ及び連結基からなる群より選択される少なくとも１つを介して結合される。２つ以上の基Ｂは、基Ａを介して結合してもよく、基Ａを介さずに連結基を介して結合してもよい。
　１分子中に基Ｂを２つ以上有する特定化合物としては、例えば前記特定化合物Ｂ２が挙げられる。

（反応性シリル基）
　特定化合物は、反応性シリル基を有する。反応性シリル基は、特定化合物の末端に位置する。
　反応性シリル基とは、Ｓｉ原子に反応性基が結合した基を意味する。反応性基としては、加水分解性基又は水酸基が好ましい。

　加水分解性基とは、加水分解反応により水酸基となる基である。すなわち、Ｓｉ－Ｌで表される加水分解性を有するシリル基は、加水分解反応によりＳｉ－ＯＨで表されるシラノール基となる。シラノール基は、さらにシラノール基間で反応してＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面に存在する酸化物に由来するシラノール基と脱水縮合反応して、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成できる。加水分解性基としては、例えば、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、及びイソシアナト基（－ＮＣＯ）が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましい。ただし、アリールオキシ基のアリール基は、ヘテロアリール基を含む。ハロゲン原子は、塩素原子であることが好ましい。アシル基は、炭素数１～６のアシル基であることが好ましい。アシルオキシ基は、炭素数１～６のアシルオキシ基であることが好ましい。

　均一な膜を作製しやすく、耐久性に優れる観点からは、反応性シリル基としてはアルコキシシリル基又はトリクロロシリル基が好ましい。基材との反応において生じる副生物の取り扱いやすさの観点から、反応性シリル基は、アルコキシシリル基であることがより好ましい。アルコキシシリル基としてはジアルコキシシリル基又はトリアルコキシシリル基が好ましく、トリアルコキシシリル基がより好ましい。

　特定化合物が有する反応性シリル基の数は、１以上であり、表面処理層の耐摩耗性をより向上させる観点から、１～１８が好ましく、２～１２がより好ましく、２～８がさらに好ましい。特定化合物が有する反応性シリル基の数は、１であってもよい。

　反応性シリル基としては、下記式（２）で表される基が好ましい。
　－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ　　（２）
　式（２）中、Ｒはそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、Ｌはそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、ｎは０～２の整数である。

　基（２）が１分子中に複数ある場合、複数の基（２）は、同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性、及び、化合物の製造容易性の観点からは、複数の基（２）は、同じであることが好ましい。

　Ｒはそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、１価の飽和炭化水素基が好ましい。Ｒの炭素数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２がさらに好ましい。

　Ｌが加水分解性基の場合、加水分解性基としては、上述のものが好ましい。

　なかでも、Ｌは、化合物の製造容易性に優れる観点から、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～４のアルコキシ基）又はハロゲン原子であることが好ましい。Ｌは、塗布時のアウトガスが少なく、化合物の保存安定性がより優れる観点から、炭素数１～４のアルコキシ基であることが好ましい。化合物の長期の保存安定性が必要な場合には、Ｌは、エトキシ基であることがより好ましい。塗布後の反応時間を短時間とする場合には、Ｌは、メトキシ基であることがより好ましい。式（２）において、Ｌの少なくとも１つが上記基であることが好ましく、Ｌのすべてが上記基であることがより好ましい。

　ｎは、０～２の整数であり、０又は１が好ましく、０がより好ましい。特定化合物を表面処理剤に用いる場合、Ｌが複数存在することによって、表面処理層の基材への密着性がより強固になる。
　ｎが１以下である場合、１分子中に存在する複数のＬは、同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。原料の入手容易性、及び、化合物の製造容易性の観点から、複数のＬは同じであることが好ましい。ｎが２である場合、１分子中に存在する複数のＲは同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。原料の入手容易性、及び、化合物の製造容易性の観点から、複数のＲは同じであることが好ましい。

（式（１－１）～（１－４）で表される化合物）
　特定化合物は、指紋視認性を低減し、かつ、指紋視認性のバラツキが抑制された表面処理層を形成する観点から、下記式（１－１）、（１－２）、（１－３）、又は（１－４）で表される化合物であることが好ましい。

　式（１－１）、（１－２）、（１－３）、及び（１－４）中、
　Ａ^１、Ａ^２、及びＡ^３はそれぞれ独立に下記式（Ａ）で表される基であり、
　Ｂ^１は１価の芳香環基であり、
　Ｂ^２、Ｂ^３、及びＢ^４はそれぞれ独立に芳香環基及びビニレン基からなる群より選択される少なくとも一種である２価の基であり、
　Ｂ^５は（ｋ＋１）価の芳香環基であり
　Ｌ^１、Ｌ^４、Ｌ^５、Ｌ^６、及びＬ^７はそれぞれ独立に単結合又は２価の連結基であり、
　Ｙ^１はそれぞれ独立に単結合又は（ｇ＋１）価の連結基であり、
　Ｙ^２は単結合又は（ｊ＋１）価の連結基であり、
　Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌ^２及びＬ^３はそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ａ、ｂ、ｃ、及びｄはそれぞれ独立に０～３０の整数であり、
　ｍ及びｎはそれぞれ独立に０～２の整数であり、
　ｇ及びｊはそれぞれ独立に１以上の整数であり、
　ｋは１～５の整数である。
　（Ｒ^３Ｚ）_ｐ　　…（Ａ）
　式（Ａ）中、
　Ｒ^３はそれぞれ独立にアルキレン基であり、
　Ｚはそれぞれ独立に－Ｏ－又は－ＮＲ^４－であり、Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子又は炭化水素基であり、
　ｐは１以上の整数である。

　式（１－１）において、－（Ｌ^４－Ｂ^３）_ａ－（Ｌ^５－Ａ^２）_ｂ－は、－（Ｌ^４－Ｂ^３）－と－（Ｌ^５－Ａ^２）－とがいずれの順序で結合してもよく、ａ及びｂの少なくとも一方が２以上である場合に、ランダムで結合してもブロックで結合してもよい。ただし、式（１－１）において、Ａ^１又はＡ^２とＡ^２とがＬ^５を介して結合する場合Ｌ^５は２価の連結基であり、Ｂ^３とＢ^３とがＬ^４を介して結合する場合Ｌ^４は２価の連結基である。
　式（１－２）～（１－３）において、－（Ｌ^５－Ａ^２）_ｂ－（Ｌ^４－Ｂ^３）_ａ－は、－（Ｌ^５－Ａ^２）－と－（Ｌ^４－Ｂ^３）－とがいずれの順序で結合してもよく、ａ及びｂの少なくとも一方が２以上である場合に、ランダムで結合してもブロックで結合してもよい。ただし、式（１－２）～（１－３）において、Ａ^２とＡ^２とがＬ^５を介して結合する場合Ｌ^５は２価の連結基であり、Ｂ^２又はＢ^３とＢ^３とがＬ^４を介して結合する場合Ｌ^４は２価の連結基である。
　式（１－３）において、－（Ａ^３－Ｌ^７）_ｄ－（Ｂ^４－Ｌ^６）_ｃ－は、－（Ａ^３－Ｌ^７）－と－（Ｂ^４－Ｌ^６）－とがいずれの順序で結合してもよく、ｃ及びｄの少なくとも一方が２以上である場合に、ランダムで結合してもブロックで結合してもよい。ただし、式（１－３）において、Ａ^３とＡ^３又はＡ^１とがＬ^７を介して結合する場合Ｌ^７は２価の連結基であり、Ｂ^４とＢ^４とがＬ^６を介して結合する場合Ｌ^６は２価の連結基である。

＜式（１－１）で表される化合物＞
　式（１－１）で表される化合物のうち、式（１－１）中のａ及びｂがいずれも０である化合物は、前述の特定化合物Ａの一例であり、前述の特定化合物Ａ１に相当する。
　式（１－１）で表される化合物は、式（１－１）中のａ及びｂがいずれも０である化合物が好ましく、下記式（１－１－１）で表される化合物がより好ましく、下記式（１－１－１）中のＺがそれぞれ独立に－Ｏ－又は－ＮＨ－である化合物がさらに好ましい。

　式（１－１－１）中、
　Ｂ^１は１価の芳香環基であり、
　Ｒ^３はそれぞれ独立に炭素数１～６のアルキレン基であり、
　Ｚはそれぞれ独立に－Ｏ－又は－ＮＲ^４－であり、Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子又は炭化水素基であり、
　Ｌ^１は２価の連結基であり、
　Ｙ^１は（ｇ＋１）価の連結基であり、
　Ｒ^１はそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌ^２はそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｎは０～２の整数であり、
　ｇは１以上の整数であり、
　ｐは１以上の整数であり、
　ｐが１であるときＲ^３が炭素数３～６のアルキレン基であり、ｐが２以上の整数であるときＲ^３が炭素数１～６のアルキレン基である。
　なお、式（１－１－１）中のＲ^３、Ｚ、及びｐは、それぞれ、式（Ａ）中のＲ^３、Ｚ、及びｐと同様である。

＜式（１－２）で表される化合物＞
　式（１－２）で表される化合物のうち、式（１－２）中のａ及びｂがいずれも０である化合物は、前述の特定化合物Ｂの一例であり、前述の特定化合物Ｂ１に相当する。
　式（１－２）で表される化合物は、式（１－２）中のａ及びｂがいずれも０である化合物が好ましく、下記式（１－２－１）で表される化合物がより好ましく、下記式（１－２－１）中のＺがそれぞれ独立に－Ｏ－又は－ＮＨ－である化合物がさらに好ましい。

　式（１－２－１）中、
　Ｂ^２は芳香環基及びビニレン基からなる群より選択される少なくとも一種である２価の基であり、
　Ｒ^３はそれぞれ独立に炭素数１～６のアルキレン基であり、
　Ｚはそれぞれ独立に－Ｏ－又は－ＮＲ^４－であり、Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子又は炭化水素基であり、
　Ｌ^１は２価の連結基であり、
　Ｙ^１は（ｇ＋１）価の連結基であり、
　Ｒ^１はそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌ^２はそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｎは０～２の整数であり、
　ｇは１以上の整数であり、
　ｐは２以上の整数である。
　なお、式（１－２－１）中のＲ^３、Ｚ、及びｐは、それぞれ、式（Ａ）中のＲ^３、Ｚ、及びｐと同様である。

＜式（１－３）で表される化合物＞
　式（１－３）で表される化合物のうち、式（１－３）中のａ、ｂ、及びｄがいずれも０であり、かつ、ｃが１である化合物は、前述の特定化合物Ｂの一例であり、前述の特定化合物Ｂ２に相当する。
　式（１－３）で表される化合物のうち、式（１－３）中のａ、ｃ、及びｄがいずれも０であり、かつ、ｂが１である化合物は、前述の特定化合物Ａの一例であり、前述の特定化合物Ａ２に相当する。
　式（１－３）で表される化合物は、式（１－３）中のａ、ｂ、及びｄがいずれも０でありｃが１である化合物、並びに式（１－３）中のａ、ｃ、及びｄがいずれも０でありｂが１である化合物が好ましく、下記式（１－３－１）又は（１－３－２）で表される化合物がより好ましく、下記式（１－３－１）及び（１－３－２）中のＺがそれぞれ独立に－Ｏ－又は－ＮＨ－である化合物がさらに好ましく、下記式（１－３－１）で表される化合物であり下記式（１－３－１）中のＺがそれぞれ独立に－Ｏ－又は－ＮＨ－である化合物が特に好ましい。

　式（１－３－１）中、
　Ｂ^２及びＢ^４はそれぞれ独立に芳香環基及びビニレン基からなる群より選択される少なくとも一種である２価の基であり、
　Ｒ^３はそれぞれ独立に炭素数１～６のアルキレン基であり、
　Ｚはそれぞれ独立に－Ｏ－又は－ＮＲ^４－であり、Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子又は炭化水素基であり、
　Ｌ^１及びＬ^６はそれぞれ独立に２価の連結基であり、
　Ｙ^１は（ｇ＋１）価の連結基であり、
　Ｙ^２は（ｊ＋１）価の連結基であり、
　Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌ^２及びＬ^３はそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｍ及びｎはそれぞれ独立に０～２の整数であり、
　ｇ及びｊはそれぞれ独立に１以上の整数であり、
　ｐは１以上の整数であり、
　ｐが１であるときＲ^３が炭素数３～６のアルキレン基であり、ｐが２以上の整数であるときＲ^３が炭素数１～６のアルキレン基である。
　なお、式（１－３－１）中のＲ^３、Ｚ、及びｐは、それぞれ、式（Ａ）中のＲ^３、Ｚ、及びｐと同様である。

　式（１－３－２）中、
　Ｂ^２は芳香環基及びビニレン基からなる群より選択される少なくとも一種である２価の基であり、
　Ｒ^３Ｌ及びＲ^３Ｒはそれぞれ独立に炭素数１～６のアルキレン基であり、
　Ｚ^Ｌ及びＺ^Ｒはそれぞれ独立に－Ｏ－又は－ＮＲ^４－であり、Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子又は炭化水素基であり、
　Ｌ^１及びＬ^５はそれぞれ独立に２価の連結基であり、
　Ｙ^１は（ｇ＋１）価の連結基であり、
　Ｙ^２は（ｊ＋１）価の連結基であり、
　Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌ^２及びＬ^３はそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｍ及びｎはそれぞれ独立に０～２の整数であり、
　ｇ及びｊはそれぞれ独立に１以上の整数であり、
　ｐＬ及びｐＲはそれぞれ独立に１以上の整数であり、
　ｐＬが１であるときＲ^３Ｌが炭素数３～６のアルキレン基であり、ｐＬが２以上の整数であるときＲ^３Ｌが炭素数１～６のアルキレン基であり、
　ｐＲが１であるときＲ^３Ｒが炭素数３～６のアルキレン基であり、ｐＲが２以上の整数であるときＲ^３Ｒが炭素数１～６のアルキレン基である。
　なお、式（１－３－２）中のＲ^３Ｌ、Ｚ^Ｌ、及びｐＬは、それぞれ、式（Ａ）中のＲ^３、Ｚ、及びｐと同様である。また、式（１－３－２）中のＲ^３Ｒ、Ｚ^Ｒ、及びｐＲは、それぞれ、式（Ａ）中のＲ^３、Ｚ、及びｐと同様である。

＜式（１－４）で表される化合物＞
　式（１－４）で表される化合物は、前述の特定化合物Ｂの一例であり、前述の特定化合物Ｂ１に相当する。
　式（１－４）で表される化合物は、式（１－４）中のＢ５がベンゼン環からなる３価の基でありｋが２である化合物が好ましく、下記式（１－４－１）で表される化合物がより好ましく、下記式（１－４－１）で表される化合物であり下記式（１－４－１）中のＺがそれぞれ独立に－Ｏ－又は－ＮＨ－である化合物がさらに好ましい。

　式（１－４－１）中、
　Ｒ^３はそれぞれ独立に炭素数１～６のアルキレン基であり、
　Ｚはそれぞれ独立に－Ｏ－又は－ＮＲ^４－であり、Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子又は炭化水素基であり、
　Ｌ^１は２価の連結基であり、
　Ｙ^１は（ｇ＋１）価の連結基であり、
　Ｙ^２は（ｊ＋１）価の連結基であり、
　Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌ^２及びＬ^３はそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｍ及びｎはそれぞれ独立に０～２の整数であり、
　ｇ及びｊはそれぞれ独立に１以上の整数であり、
　ｐは１以上の整数である。
　なお、式（１－４－１）中のＲ^３、Ｚ、及びｐは、それぞれ、式（Ａ）中のＲ^３、Ｚ、及びｐと同様である。

＜Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３、Ｂ^１、Ｂ^２、Ｂ^３、Ｂ^４、Ｂ^５、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｌ^２、Ｌ^３、ｎ、及びｍ＞
　式（１－１）～（１－４）、（１－１－１）、（１－２－１）、（１－３－１）、（１－３－２）、及び（１－４－１）において、Ａ^１、Ａ^２、及びＡ^３は上述した基Ａと同様であり、Ｂ^１は上述した基Ｂのうち１価の基である基Ｂと同様であり、Ｂ^２、Ｂ^３、及びＢ^４は上述した基Ｂのうち２価の基である基Ｂと同様であり、Ｂ^５は上述した基Ｂのうち２価以上の基である基Ｂと同様であるため、説明を省略する。
　式（１－１）～（１－４）、（１－１－１）、（１－２－１）、（１－３－１）、（１－３－２）、及び（１－４－１）におけるＲ^１、Ｌ^２、及びｎ、並びにＲ^２、Ｌ^３、及びｍは、それぞれ、反応性シリル基として上述した式（２）におけるＲ、Ｌ、及びｎと同じである。

＜Ｌ^１、Ｌ^４、Ｌ^５、Ｌ^６、及びＬ^７＞
　式（１－１）～（１－４）、（１－１－１）、（１－２－１）、（１－３－１）、（１－３－２）、及び（１－４－１）におけるＬ^１、Ｌ^４、Ｌ^５、Ｌ^６、及びＬ^７は、それぞれ独立に、単結合又は２価の連結基である。以下、式（１－１）～（１－４）、（１－１－１）、（１－２－１）、（１－３－１）、（１－３－２）、及び（１－４－１）におけるＬ^１、Ｌ^４、Ｌ^５、Ｌ^６、及びＬ^７を、基Ｌともいう。
　基Ｌとしては、単結合、アルキレン基、カルボニル基、エーテル結合、チオエーテル結合、スルホニル基、－ＮＲ^４－、－ＳｉＲ^４ _２－、これらの組み合わせ等が挙げられる。なお、Ｒ^４は、水素原子又は炭化水素基である。

　上記アルキレン基は、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれであってもよく、その中でも直鎖状又は分岐鎖状が好ましく、直鎖状がより好ましい。アルキレン基の炭素数としては、例えば１～１０が挙げられ、１～５が好ましく、１～３がより好ましい。
　Ｒ^４で表される炭化水素基としては、例えば、脂肪族炭化水素基が挙げられ、アルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。－ＮＲ^４－は、－ＮＨ－、－Ｎ（ＣＨ_３）－が好ましく、－ＮＨ－がより好ましい。－ＳｉＲ^４ _２－は、－ＳｉＨ_２－、－ＳｉＨ（ＣＨ_３）－、－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－が好ましく、－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－がより好ましい。

　上記連結基を２以上組み合わせた連結基としては、エステル結合、チオエステル結合、アミド結合、スルホンアミド結合、アルキレン基とカルボニル基との組み合わせ、アルキレン基とエーテル結合との組み合わせ、アルキレン基とチオエーテル結合との組み合わせ、アルキレン基と－ＮＲ^４－との組み合わせ、アルキレン基とエステル結合との組み合わせ、アルキレン基とチオエステル結合との組み合わせ、アルキレン基とアミド結合との組み合わせ、アルキレン基とスルホンアミド結合との組み合わせ、アルキレン基とアミド結合とエーテル結合との組み合わせ、アルキレン基とアミド結合とスルホンアミド結合との組み合わせ等が挙げられる。

　基Ｌは、これらの中でも、単結合、アルキレン基、エーテル結合、－ＮＲ^４－、及びこれらの組み合わせが好ましく、単結合、エーテル結合、－ＮＨ－、及び－Ｎ（ＣＨ_３）－がより好ましく、単結合、エーテル結合、及び－ＮＨ－がさらに好ましい。

　基Ａの末端におけるアルキレンオキシド基の炭素原子が基Ｌを介して基Ｂに結合する場合、基Ｌは、単結合又はエーテル結合が好ましく、エーテル結合がより好ましい。
　基Ａの末端におけるアルキレンイミン基の炭素原子が基Ｌを介して基Ｂに結合する場合、基Ｌは、単結合又は－ＮＨ－が好ましく、－ＮＨ－がより好ましい。
　基Ａの末端の炭素原子が基Ｌを介して基Ｂに結合する場合の基Ｌとしては、前記式（１－１）中のＬ^１、式（１－１－１）中のＬ^１、式（１－３－１）中のＬ^６、並びに式（１－３－２）中のＬ^１及びＬ^５等が挙げられる。

　基Ａの末端におけるアルキレンオキシド基の酸素原子が基Ｌを介して基Ｂに結合する場合、基Ｌは、単結合又はアルキレン基が好ましく、単結合がより好ましい。
　基Ａの末端におけるアルキレンイミン基の窒素原子が基Ｌを介して基Ｂに結合する場合、基Ｌは、単結合又はアルキレン基が好ましく、単結合がより好ましい。
　基Ａの末端の酸素原子又は窒素原子が基Ｌを介して基Ｂに結合する場合の基Ｌとしては、前記式（１－２）中のＬ^１、式（１－２－１）中のＬ^１、式（１－３）中のＬ^１、式（１－３－１）中のＬ^１、式（１－４）中のＬ^１、及び式（１－４－１）中のＬ^１等が挙げられる。

＜ａ、ｂ、ｃ、及びｄ＞
　式（１－１）～（１－３）におけるａ、ｂ、ｃ、及びｄは、それぞれ独立に、０～３０の整数であり、有機溶媒への溶解性に優れる観点から、０～１０の整数が好ましく、０又は１がより好ましい。
　なかでも、式（１－１）におけるａ及びｂは、それぞれ独立に、０又は１であることが好ましく、０であることがより好ましい。式（１－２）におけるａ及びｂは、それぞれ独立に、０又は１であることが好ましく、０であることがより好ましい。式（１－３）におけるａ、ｂ、ｃ、及びｂは、それぞれ独立に、０又は１であることが好ましく、ａ、ｂ、及びｄがいずれも０でありｃが１であるか、又はａ、ｃ、及びｄがいずれも０でありｂが１であることがより好ましい。

＜Ｙ^１（－Ｓｉ（Ｒ^１）_ｎＬ^２ _３－ｎ）_ｇ及びＹ^２（－Ｓｉ（Ｒ^２）_ｍＬ^３ _３－ｍ）_ｊ＞
　式（１－１）～（１－４）、（１－１－１）、（１－２－１）、（１－３－１）、（１－３－２）、及び（１－４－１）におけるＹ^１は単結合又は（ｇ＋１）価の連結基である。ただし、Ｙ^１が単結合の場合ｇ＝１である。式（１－３）、（１－３－１）、（１－３－２）、及び（１－４－１）におけるＹ^２は単結合又は（ｊ＋１）価の連結基である。ただし、Ｙ^２が単結合の場合ｊ＝１である。以下、式（１－１）～（１－４）、（１－１－１）、（１－２－１）、（１－３－１）、（１－３－２）、及び（１－４－１）におけるＹ^１及びＹ^２を、基Ｙともいう。
　基Ｙとしては、例えば、単結合、エーテル性酸素原子又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基を含む基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２～８価のオルガノポリシロキサン残基、及び、後述する式（３－１Ａ）、式（３－１Ｂ）、又は式（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）からＳｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎを除いた基が挙げられる。ただし、基Ｙは、基Ａの末端におけるアルキレンオキシド基の酸素原子に結合する末端が酸素原子である場合、及び基Ａの末端におけるアルキレンイミン基の窒素原子に結合する末端が窒素原子である場合を除く。
　また、基Ｙは、後述する基（ｇ２－１）～基（ｇ２－１４）であってもよい。

　基Ｙは、これらの中でも、式（３－１Ａ－１）からＳｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎを除いた基、及び式（３－１Ａ－５）からＳｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎを除いた基が好ましい。
　基Ａの末端におけるアルキレンオキシド基の酸素原子が基Ｙを介して反応性シリル基に結合する場合、基Ｙは、基Ａの酸素原子に結合する末端がアルキレン基である連結基が好ましく、アルキレン基がより好ましい。
　基Ａの末端におけるアルキレンイミン基の窒素原子が基Ｙを介して反応性シリル基に結合する場合、基Ｙは、基Ａの窒素原子に結合する末端がカルボニル基である連結基が好ましく、カルボニルイミノアルキレン基がより好ましい。
　基Ｂが基Ｙを介して反応性シリル基に結合する場合、基Ｙは、基Ｂに結合する末端がアルキレン基である連結基が好ましく、アルキレン基がより好ましい。

　ｇ及びｊはそれぞれ独立に１以上の整数である。一態様において、表面処理層の耐摩耗性及び指紋視認性低減の観点からは、ｇ及びｊは、それぞれ独立に、１～１５であることが好ましく、１～６であることがより好ましい。一態様において、表面処理層の耐摩耗性に優れる観点からは、ｇ及びｊはそれぞれ独立に、２以上であることが好ましく、２～４であることがより好ましく、２又は３であることがさらに好ましい。一態様において、表面処理層の指紋視認性低減の観点からは、ｇ及びｊは、それぞれ独立に、１～３であることが好ましく、１又は２であることがより好ましく、１であることがさらに好ましい。

　表面処理層の耐摩耗性がより優れる観点からは、ｇ＋ｊは、２～２５であることが好ましく、４～１８であることがより好ましく、６～１２であることがさらに好ましい。一方で、表面処理層の指紋視認性低減の観点からは、ｇ＋ｊは、２～６であることが好ましく、２～４であることがより好ましく、２であることがさらに好ましい。

　ｇが２以上である場合、式（１－１）～（１－４）、（１－１－１）、（１－２－１）、（１－３－１）、（１－３－２）、及び（１－４－１）で表される化合物に含まれる２以上の［－Ｓｉ（Ｒ^１）_ｎＬ^２ _３－ｎ］は、同一であってもよく、互いに異なっていてもよい。
　ｊが２以上である場合、式（１－３）、（１－３－１）、（１－３－２）、及び（１－４－１）で表される化合物に含まれる２以上の［－Ｓｉ（Ｒ^２）_ｍＬ^３ _３－ｍ］は、同一であってもよく、互いに異なっていてもよい。

　式（１－１）～（１－４）、（１－１－１）、（１－２－１）、（１－３－１）、（１－３－２）、及び（１－４－１）におけるＹ^１（－Ｓｉ（Ｒ^１）_ｎＬ^２ _３－ｎ）_ｇで表さ
れる基及びＹ^２（－Ｓｉ（Ｒ^２）_ｍＬ^２ _３－ｍ）_ｊで表される基はそれぞれ、基（３－１Ａ）又は基（３－１Ｂ）が好ましい。

　－Ｑ^ａ－Ｘ^３１（－Ｑ^ｂ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）_ｈ（－Ｒ^３１）_ｉ　　…（３－１Ａ）
　－Ｑ^ｃ－［ＣＨ_２Ｃ（Ｒ^３２）（－Ｑ^ｄ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）］_ｙ－Ｒ^３３　　…（３－１Ｂ）

　なお、基（３－１Ａ）又は基（３－１Ｂ）のうち、基Ａの末端におけるアルキレンオキシド基の酸素原子と結合する末端は酸素原子ではなく、基Ａの末端におけるアルキレンイミン基の窒素原子に結合する末端は窒素原子ではない。

　式（３－１Ａ）において、
　Ｑ^ａは、単結合又は２価の連結基であり、
　Ｘ^３１は、単結合、アルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２～８価のオルガノポリシロキサン残基、又は（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基であり、
　Ｑ^ｂは、単結合又は２価の連結基であり、
　Ｒ^３１は、水素原子、水酸基又はアルキル基であり、
　ｈは１以上の整数であり、ｉは０以上の整数であり、
　Ｒ、Ｌ、及びｎの定義及び具体例は、反応性シリル基内の各符号の定義及び具体例と同じである。Ｒ、Ｌ、及びｎは、それぞれ、式（１－１）～（１－４）、（１－１－１）、（１－２－１）、（１－３－１）、（１－３－２）、及び（１－４－１）におけるＲ^１、Ｌ^２、及びｎ、並びにＲ^２、Ｌ^３、及びｍに相当する。以下同様である。

　式（３－１Ｂ）において、
　Ｑ^ｃは、単結合又は２価の連結基であり、
　Ｒ^３２は、水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基であり、
　Ｑ^ｄは、単結合又はアルキレン基であり、
　Ｒ^３３は、水素原子又はハロゲン原子であり、
　ｙは、１～１０の整数であり、
　Ｒ、Ｌ、及びｎの定義及び具体例は、反応性シリル基内の各符号の定義及び具体例と同じである。

　Ｑ^ａは、単結合又は２価の連結基である。
　２価の連結基としては、例えば、２価の炭化水素基、２価の複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ_２－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２－及び、これらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。Ｑ^ａのうち、基Ａの末端におけるアルキレンオキシド基の酸素原子に結合する末端が酸素原子である場合、及び基Ａの末端におけるアルキレンイミン基の窒素原子に結合する末端が窒素原子である場合を除く。
　上記２価の炭化水素基としては、２価の飽和炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、アルケニレン基、アルキニレン基であってもよい。２価の飽和炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状又は環状であってもよく、例えば、アルキレン基が挙げられる。２価の飽和炭化水素基の炭素数は、１～２０が好ましい。また、２価の芳香族炭化水素基としては、炭素数５～２０のものが好ましく、例えば、フェニレン基が挙げられる。それ以外にも、２価の炭化水素基は、炭素数２～２０のアルケニレン基、炭素数２～２０のアルキニレン基であってもよい。
　上記Ｒ^ａは、アルキル基（好ましくは炭素数１～１０）又はフェニル基である。上記Ｒ^ｄは、水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
　上記これらを２種以上組み合わせた基としては、例えば、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－ＳＯ_２Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）ＳＯ_２－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－を有するアルキレン基、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）－を有するアルキレン基、エーテル性酸素原子を有するアルキレン基、－ＯＣ（Ｏ）－を有するアルキレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－を有するアルキレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－を有するアルキレン基、－ＳＯ_２Ｎ（Ｒ^ｄ）－を有するアルキレン基、アルキレン基－Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２－フェニレン基－Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２等が挙げられる。
　一態様において、Ｑ^ａとしては、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、及び－Ｃ（Ｏ）Ｓ－が好ましく、単結合、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、及び－ＯＣ（Ｏ）－がより好ましい。

　Ｘ^３１は、単結合、アルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２～８価のオルガノポリシロキサン残基、又は（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基である。
　なお、上記アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基又はジアルキルシリレン基を有していてもよい。アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基及びジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
　Ｘ^３１で表されるアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましい。
　２～８価のオルガノポリシロキサン残基としては、２価のオルガノポリシロキサン残基、及び、後述する（ｗ２＋１）価のオルガノポリシロキサン残基が挙げられる。

　Ｘ^３１が（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基である場合、Ｑ^ａ、（－Ｑ^ｂ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）、及び－Ｒ^３１(ｉ＝１以上の場合）は該環を構成する原子に直接結合している。ただし、該環はオルガノポリシロキサン環以外の環である。以下、特に言及しない限り、Ｘ^３１における環は、オルガノポリシロキサン環以外の環を意味する。
　Ｘ^３１における環は、単環、縮合多環、橋かけ環、スピロ環及び集合多環のいずれであってもよく、環を構成する原子は、炭素原子のみからなる炭素環でもよく、２価以上の原子価を有するヘテロ原子と炭素原子とからなるヘテロ環でもよい。また、環を構成する原子間の結合は、単結合であってもよく、多重結合であってもよい。さらに、環は芳香族性の環であってもよく、非芳香族性の環であってもよい。
　単環としては、４員環～８員環が好ましく、５員環及び６員環がより好ましい。縮合多環としては、４員環～８員環の２以上が縮合した縮合多環が好ましく、５員環及び６員環から選ばれる環の２又は３個結合した縮合多環、及び、５員環及び６員環から選ばれる環の１又は２個と４員環１個が結合した縮合多環がより好ましい。橋かけ環としては、５員環又は６員環を最大の環とする橋かけ環が好ましく、スピロ環としては、４員環～６員環の２つからなるスピロ環が好ましい。集合多環としては、５員環及び６員環から選ばれる環の２又は３個が単結合、炭素原子の１～３個、又は原子価が２又は３のヘテロ原子１個を介して結合した集合多環が好ましい。なお、集合多環においては、各環にＱ^ａ、（－Ｑ^ｂ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）及びＲ^３１(ｉ＝１以上の場合）のいずれかが結合していることが好ましい。
　上記環を構成するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が好ましく、窒素原子及び酸素原子がより好ましい。環を構成するヘテロ原子の数は３個以下が好ましい。また、環を構成するヘテロ原子の数が２個以上の場合、それらのヘテロ原子は同じでも異なっていてもよい。

　Ｘ^３１における環としては、化合物を製造しやすい点及び表面処理層の耐摩耗性、耐光性及び耐薬品性がさらに優れる観点から、３～８員環の脂肪族環、ベンゼン環、３～８員環のヘテロ環、これらの環のうちの２又は３個が縮合した縮合環、５員環又は６員環を最大の環とする橋かけ環、及び、これらの環のうちの２つ以上を有し、連結基が単結合、炭素数３以下のアルキレン基、酸素原子又は硫黄原子である集合多環からなる群より選択される１種が好ましい。
　好ましい環は、ベンゼン環、５員又は６員の脂肪族環、窒素原子又は酸素原子を有する５員又は６員のヘテロ環、及び、５員又は６員の炭素環と４～６員のヘテロ環との縮合環である。
　具体的な環としては、以下に示す環と、１，３－シクロヘキサジエン環、１，４－シクロヘキサジエン環、アントラセン環、シクロプロパン環、デカヒドロナフタレン環、ノルボルネン環、ノルボルナジエン環、フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピラジン環、モルホリン環、アジリジン環、イソキノリン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピラン環、ピリダジン環、ピリミジン環、及びインデン環が挙げられる。なお、以下には、オキソ基（＝Ｏ）を有する環も示す。

　Ｘ^３１における環を構成する原子の環を構成しない結合手は、Ｑ^ａ、（－Ｑ^ｂ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）又はＲ^３１(ｉ＝１以上の場合）に結合する結合手であり、残余の結合
手がある場合は水素原子や置換基に結合している。該置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基（炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を含んでいてもよい。）、シクロアルキル基、アルケニル基、アリル基、アルコキシ基、オキソ基（＝Ｏ）等が挙げられる。
　また、環を構成する炭素原子の１個がＱ^ａ、（－Ｑ^ｂ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）、又は－Ｒ^３１(ｉ＝１以上の場合）に結合できる結合手を２つ有する場合、その１個の炭素原
子にＱ^ａ、（－Ｑ^ｂ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）、及び－Ｒ^３１のうちの任意の２つが結合していてもよい。Ｑ^ａとＱ^ｂとは別の環構成原子に結合していることが好ましい。ｉ個のＲ^３１はそれぞれ別個の環構成原子に結合していてもよく、ｉ個のＲ^３１のうちの２個が１個の環構成炭素原子に結合していてもよい。２個のＲ^３１が結合した環構成炭素原子が２個以上存在してもよい。

　なかでも、Ｘ^３１は、表面処理層の耐摩耗性を向上させる観点から、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、４～８価のオルガノポリシロキサン残基、又は（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基が好ましく、炭素原子がより好ましい。

　Ｑ^ｂは、単結合又は２価の連結基である。
　２価の連結基としては、例えば、２価の炭化水素基、２価の複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ_２－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２－及び、これらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。
　上記２価の炭化水素基としては、２価の飽和炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、アルケニレン基、アルキニレン基であってもよい。２価の飽和炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状又は環状であってもよく、例えば、アルキレン基が挙げられる。２価の飽和炭化水素基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。アルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。アルキニレン基の炭素数は２～２０が好ましく、例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、２価の芳香族炭化水素基としては、炭素数５～２０のものが好ましく、例えば、フェニレン基が挙げられる。それ以外にも、２価の炭化水素基は、炭素数２～２０のアルケニレン基、炭素数２～２０のアルキニレン基であってもよい。
　上記Ｒ^ａは、アルキル基（好ましくは炭素数１～１０）又はフェニル基である。上記Ｒ^ｄは、水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
　なお、上記これらを２種以上組み合わせた基としては、例えば、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－ＳＯ_２Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）ＳＯ_２－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－を有するアルキレン基、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）－を有するアルキレン基、エーテル性酸素原子を有するアルキレン基、－ＯＣ（Ｏ）－を有するアルキレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－を有するアルキレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－アルキレン基、－ＳＯ_２Ｎ（Ｒ^ｄ）－を有するアルキレン基、アルキレン基－Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２－フェニレン基－Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２等が挙げられる。
　一態様において、Ｑ^ｂとしては、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、及び－Ｃ（Ｏ）Ｓ－が好ましく、単結合、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、及び－ＯＣ（Ｏ）－がより好ましい。

　Ｒ^３１は、水素原子、水酸基、又はアルキル基である。
　アルキル基の炭素数は、１～５が好ましく、１～３がより好ましく、１がさらに好ましい。

　ｈは１以上の整数であり、ｉは０以上の整数である。
　Ｘ^３１が単結合又はアルキレン基の場合、ｈは１、ｉは０である。
　Ｘ^３１が窒素原子の場合、ｈは１～２の整数であり、ｉは０～１の整数であり、ｈ＋ｉ＝２を満たす。
　Ｘ^３１が炭素原子又はケイ素原子の場合、ｈは１～３の整数であり、ｉは０～２の整数であり、ｈ＋ｉ＝３を満たす。
　Ｘ^３１が２～８価のオルガノポリシロキサン残基の場合、ｈは１～７の整数であり、ｉは０～６の整数であり、ｈ＋ｉ＝１～７を満たす。
　Ｘ^３１が（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基の場合、ｈは１～７の整数であり、ｉは０～６の整数であり、ｈ＋ｉ＝１～７を満たす。
　（－Ｑ^ｂ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）が２個以上ある場合は、２個以上の（－Ｑ^ｂ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）は、同一であっても異なっていてもよい。Ｒ^３１が２個以上ある場合は、２個以上の（－Ｒ^３１）は、同一であっても異なっていてもよい。

　なかでも、表面処理層の耐摩耗性を向上させる観点からは、ｉは０であることが好ましい。

　Ｑ^ｃは、単結合又は２価の連結基である。
　２価の連結基の定義及び詳細は、上述したＱ^ａで説明した定義及び詳細と同じである。

　Ｒ^３２は、水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基であり、化合物を製造しやすい観点から、水素原子であることが好ましい。
　アルキル基としては、メチル基が好ましい。

　Ｑ^ｄは、単結合又はアルキレン基である。アルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましい。化合物を製造しやすい観点から、Ｑ^ｄは、単結合又は－ＣＨ_２－であることが好ましい。

　Ｒ^３３は、水素原子又はハロゲン原子であり、化合物を製造しやすい観点から、水素原子であることが好ましい。

　ｙは、１～１０の整数であり、１～６の整数であることが好ましい。
　２個以上の［ＣＨ_２Ｃ（Ｒ^３２）（－Ｑ^ｄ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）］は、同一であっても異なってもよい。

　基（３－１Ａ）としては、基（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）が好ましい。
　－（Ｘ^３２）_ｓ１－Ｑ^ｂ１－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ　　…（３－１Ａ－１）
　－（Ｘ^３３）_ｓ２－Ｑ^ａ２－Ｎ［－Ｑ^ｂ２－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_２　　…（３－１Ａ－２）
　－Ｑ^ａ３－Ｓｉ（Ｒ^ｇ）［－Ｑ^ｂ３－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_２　　…（３－１Ａ－３）
　－［Ｑ^ｅ］_ｓ４－Ｑ^ａ４－（Ｏ）_ｔ４－Ｃ［－（Ｏ）_ｕ４－Ｑ^ｂ４－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_３－ｗ１（－Ｒ^３１）_ｗ１　　…（３－１Ａ－４）
　－Ｑ^ａ５－Ｓｉ［－Ｑ^ｂ５－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_３　　…（３－１Ａ－５）
　－［Ｑ^ｅ］_ｖ－Ｑ^ａ６－Ｚ^ａ［－Ｑ^ｂ６－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｗ２　　…（３－１Ａ－６）
　－［Ｑ^ｅ］_ｓ４－Ｑ^ａ４－（Ｏ）_ｔ４－Ｚ^ｃ［－（Ｏ－Ｑ^ｂ４）_ｕ４－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｗ３（－ＯＨ）_ｗ４　　…（３－１Ａ－７）

　なお、式（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）中、Ｒ、Ｌ、及び、ｎの定義は、上述した通りである。
　また、式（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）のうち、基Ａの末端におけるアルキレンオキシド基の酸素原子に結合する末端は酸素原子ではなく、基Ａの末端におけるアルキレンイミン基の窒素原子に結合する末端は窒素原子ではない。

　基（３－１Ａ－１）において、Ｘ^３２は、－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＯ_２Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）ＳＯ_２－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、又は－Ｎ（Ｒ^ｄ）－である（ただし、式中のＮはＱ^ｂ１に結合する）。
　Ｒ^ｄの定義は、上述した通りである。
　ｓ１は、０又は１である。

　Ｑ^ｂ１は、アルキレン基である。なお、アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基又はジアルキルシリレン基を有していてもよい。アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基及びジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
　なお、アルキレン基が－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基又はジアルキルシリレン基を有する場合、炭素原子－炭素原子間にこれらの基を有することが好ましい。
　Ｑ^ｂ１で表されるアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、２～６がさらに好ましい。

　Ｑ^ｂ１としては、ｓ１が０の場合は、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい。（Ｘ^３２）_ｓ１が－Ｏ－の場合は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい。（Ｘ^３２）_ｓ１が－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－の場合は、炭素数２～６のアルキレン基が好ましい（ただし、式中のＮはＱ^ｂ１に結合する）。Ｑ^ｂ１がこれらの基であると化合物が製造しやすい。

　基（３－１Ａ－１）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、基Ａ又は基Ｂとの結合位置を表す。

　基（３－１Ａ－２）において、Ｘ^３３は、－Ｏ－、－ＮＨ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＯ_２Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）ＳＯ_２－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）－、又は、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－である。
　Ｒ^ｄの定義は、上述した通りである。

　Ｑ^ａ２は、単結合、アルキレン基、－Ｃ（Ｏ）－、又は、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－ＳＯ_２Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）ＳＯ_２－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、若しくは－ＮＨ－を有する基である。
　Ｑ^ａ２で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましい。
　Ｑ^ａ２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－ＳＯ_２Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）ＳＯ_２－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、又は－ＮＨ－を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６がより好ましい。

　Ｑ^ａ２は、化合物を製造しやすい観点から、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２－、又は－Ｃ（Ｏ）－が好ましい。

　ｓ２は、０又は１（ただし、Ｑ^ａ２が単結合の場合は０である。）である。化合物を製造しやすい観点から、０が好ましい。

　Ｑ^ｂ２は、アルキレン基、又は、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に、２価のオルガノポリシロキサン残基、エーテル性酸素原子若しくは－ＮＨ－を有する基である。
　Ｑ^ｂ２で表されるアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよい。
　Ｑ^ｂ２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に、２価のオルガノポリシロキサン残基、エーテル性酸素原子又は－ＮＨ－を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６がより好ましい。

　Ｑ^ｂ２としては、化合物を製造しやすい観点から、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。

　２個の［－Ｑ^ｂ２－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。

　基（３－１Ａ－２）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、基Ａ又は基Ｂとの結合位置を表す。また、式中、反応性シリル基に結合する（ＣＨ_２）_αにおけるαはメチレン基の数を表す整数であり、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば、２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよい。同一化合物中に含まれる複数のαは同一であっても異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。例えば、同一化合物中に含まれる複数のαが全て２、３、８、９、１１である。以下同様である。

　基（３－１Ａ－３）において、Ｑ^ａ３は、単結合、又は、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基であり、化合物を製造しやすい点から、単結合が好ましい。
　エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。

　Ｒ^ｇは、水素原子、水酸基又はアルキル基である。
　Ｒ^ｇとしては、化合物を製造しやすい観点からは、水素原子又はアルキル基が好ましい。アルキル基の炭素数は１～１０が好ましく、１～４がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。

　Ｑ^ｂ３は、アルキレン基、又は、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子若しくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
　Ｑ^ｂ３で表されるアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよい。
　Ｑ^ｂ３で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１０がより好ましく、２～６がさらに好ましい。
　Ｑ^ｂ３は、化合物を製造しやすい観点から、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、又は－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい。

　２個の［－Ｑ^ｂ３－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。

　基（３－１Ａ－３）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、基Ａ又は基Ｂとの結合位置を表す。

　基（３－１Ａ－４）において、Ｑ^ｅは、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＯ_２Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）ＳＯ_２－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）－、又は、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－である。
　Ｒ^３１の定義は、上述した通りである。
　ｓ４は、０又は１である。
　Ｑ^ａ４は、単結合、又は、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基である。
　エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６がより好ましい。
　ｔ４は、０又は１（ただし、Ｑ^ａ４が単結合の場合は０である。）である。
　－Ｑ^ａ４－（Ｏ）_ｔ４－としては、化合物を製造しやすい点から、ｓ４が０の場合は、単結合、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２－が好ましく（ただし、左側が基Ａ又は基Ｂに結合する。）、ｓ４が１の場合は、単結合、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい。

　Ｑ^ｂ４は、アルキレン基であり、上記アルキレン基は－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－（Ｒ^ｄの定義は、上述した通りである。）、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基又はジアルキルシリレン基を有していてもよく、有していなくてもよい。
　なお、アルキレン基が－Ｏ－又はシルフェニレン骨格基を有する場合、炭素原子－炭素原子間に－Ｏ－又はシルフェニレン骨格基を有することが好ましい。また、アルキレン基が－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、ジアルキルシリレン基又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有する場合、炭素原子－炭素原子間又は（Ｏ）_ｕ４と結合する側の末端にこれらの基を有することが好ましい。
　Ｑ^ｂ４で表されるアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記範囲は１～１０であってもよい。

　ｕ４は、０又は１である。
　－（Ｏ）_ｕ４－Ｑ^ｂ４－としては、化合物を製造しやすい観点から、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、及び－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＰｈＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。

　ｗ１は、０～２の整数であり、０又は１が好ましく、０がより好ましい。
　［－（Ｏ）_ｕ４－Ｑ^ｂ４－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］が２個以上ある場合は、２個以上の［－（Ｏ）_ｕ４－Ｑ^ｂ４－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　Ｒ^３１が２個以上ある場合は、２個以上の（－Ｒ^３１）は、同一であっても異なっていてもよい。

　基（３－１Ａ－４）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、基Ａ又は基Ｂとの結合位置を表す。

　基（３－１Ａ－５）において、Ｑ^ａ５は、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基である。
　エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
　Ｑ^ａ５としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。

　Ｑ^ｂ５は、アルキレン基、又は、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子若しくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
　Ｑ^ｂ５で表されるアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよい。
　Ｑ^ｂ５で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１０がより好ましく、２～６がさらに好ましい。
　Ｑ^ｂ５としては、化合物を製造しやすい観点から、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、及び－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい（ただし、右側がＳｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎに結合する。）。

　３個の［－Ｑ^ｂ５－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。

　基（３－１Ａ－５）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、基Ａ又は基Ｂとの結合位置を表す。

　基（３－１Ａ－６）中のＱ^ｅの定義は、上述の基（３－１Ａ－４）において定義した通りである。
　ｖは、０又は１である。

　Ｑ^ａ６は、単結合、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレンである。
　エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６がより好ましい。
　Ｑ^ａ６としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい（ただし、右側がＺ^ａに結合する。）。

　Ｚ^ａは、（ｗ２＋１）価のオルガノポリシロキサン残基、又は、（ｗ２＋１）価であって、オルガノポリシロキサン残基とオルガノポリシロキサン残基との間にアルキレン基を有する基である。
　ｗ２は、２～７の整数である。
　（ｗ２＋１）価のオルガノポリシロキサン残基、又は、（ｗ２＋１）価であって、オルガノポリシロキサン残基とオルガノポリシロキサン残基との間にアルキレン基を有する基としては、下記の基が挙げられる。ただし、下式におけるＲ^ａは、上述の通りである。

　Ｑ^ｂ６は、アルキレン基、又は、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子若しくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
　Ｑ^ｂ６で表されるアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよい。
　Ｑ^ｂ６で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１０がより好ましく、２～６がさらに好ましい。
　Ｑ^ｂ６としては、化合物を製造しやすい観点から、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、及び－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい。
　ｗ２個の［－Ｑ^ｂ６－Ｓｉ（Ｒ）_ｎ３Ｌ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。

　基（３－１Ａ－６）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、基Ａ又は基Ｂとの結合位置を表す。

　基（３－１Ａ－７）において、Ｚ^ｃは（ｗ３＋ｗ４＋１）価の炭化水素基である。
　ｗ３は、４以上の整数である。
　ｗ４は、０以上の整数である。
　Ｑ^ｅ、ｓ４、Ｑ^ａ４、ｔ４、Ｑ^ｂ４、及びｕ４の定義及び好ましい範囲は基（３－１Ａ－４）中の各符号の定義と同じである。

　Ｚ^ｃは炭化水素鎖からなってもよく、炭化水素鎖の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有してもよく、炭化水素鎖からなることが好ましい。
　Ｚ^ｃの価数は５～２０価が好ましく、５～１０価がより好ましく、５～８価がさらに好ましく、５価又は６価が特に好ましい。
　Ｚ^ｃの炭素数は３～５０が好ましく、４～４０がより好ましく、５～３０がさらに好ましい。
　ｗ３は、４～２０が好ましく、４～１６がより好ましく、４～８がさらに好ましく、４又は５が特に好ましい。
　ｗ４は、０～１０が好ましく、０～８がより好ましく、０～６がさらに好ましく、０～３が特に好ましく、０又は１が最も好ましい。
　［－（Ｏ－Ｑ^ｂ４）_ｕ４－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］が２個以上ある場合は、２個以上の［－（Ｏ－Ｑ^ｂ４）_ｕ４－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。

　基（３－１Ａ－７）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、基Ａ又は基Ｂとの結合位置を表す。

　式（１－１）、（１－２）、（１－３）、及び（１－４）におけるＹ^１及びＹ^２はそれぞれ独立に、基（ｇ２－１）（ただし、ｄ１＋ｄ３＝１、ｄ２＋ｄ４＝ｇ若しくはｄ２＋ｄ４＝ｊである。）、基（ｇ２－２）（ただし、ｅ１＝１、ｅ２＝ｇ若しくはｅ２＝ｊである。）、基（ｇ２－３）（ただし、ｇ＝２若しくはｊ＝２である。）、基（ｇ２－４）（ただし、ｈ１＝１、ｈ２＝ｇ若しくはｈ２＝ｊである。）、基（ｇ２－５）（ただし、ｉ１＝１、ｉ２＝ｇ若しくはｉ２＝ｊである。）、基（ｇ２－６）（ただし、ｇ＝１若しくはｊ＝１である。）、又は、基（ｇ２－７）（ただし、ｉ３＝ｇ若しくはｉ３＝ｊである。）であってもよい。

　（－Ａ^１－Ｑ^１２－）_ｅ１Ｃ（Ｒ^ｅ２）_{４－ｅ１－ｅ２}（－Ｑ^２２－）_ｅ２　　…（ｇ２－２）
　－Ａ^１－Ｑ^１３－Ｎ（－Ｑ^２３－）_２　　　　　　　　　　　　　　…（ｇ２－３）
　（－Ａ^１－Ｑ^１４－）_ｈ１Ｚ^１（－Ｑ^２４－）_ｈ２　　　　　　　　　　…（ｇ２－４）
　（－Ａ^１－Ｑ^１５－）_ｉ１Ｓｉ（Ｒ^ｅ３）_{４－ｉ１－ｉ２}（－Ｑ^２５－）_ｉ２　…（ｇ２－５）
　－Ａ^１－Ｑ^２６－　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　…（ｇ２－６）
　－Ａ^１－Ｑ^１２－ＣＨ（－Ｑ^２２－）－Ｓｉ（Ｒ^ｅ３）_３－ｉ３（－Ｑ^２５－）_ｉ３　
　…（ｇ２－７）

　ただし、式（ｇ２－１）～（ｇ２－７）においては、Ａ^１側が基Ａ又は基Ｂに接続し、Ｑ^２２、Ｑ^２３、Ｑ^２４、Ｑ^２５又はＱ^２６側が（－Ｓｉ（Ｒ^１）_ｎＬ^２ _３－ｎ）又は（－Ｓｉ（Ｒ^２）_ｍＬ^３ _３－ｍ）に接続する。
　また、式（ｇ２－１）～（ｇ２－７）のうち、基Ａの末端におけるアルキレンオキシド基の酸素原子に結合する末端は酸素原子ではなく、基Ａの末端におけるアルキレンイミン基の窒素原子に結合する末端は窒素原子ではない。
　Ａ^１は、単結合、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｏ－、－ＮＲ^６－、又は－ＳＯ_２ＮＲ^６－である。
　Ｑ^１１は、単結合、－Ｏ－、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－又は－Ｏ－を有する基である。
　Ｑ^１２は、単結合、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－又はＯ－を有する基である。
　Ｑ^１３は、単結合、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－又はＯ－を有する基、又はアルキレン基のＮ側の末端に－Ｃ（Ｏ）－を有する基である。
　Ｑ^１４は、Ｑ^１４が結合するＺ^１における原子が炭素原子の場合、Ｑ^１２であり、Ｑ^１４が結合するＺ^１における原子が窒素原子の場合、Ｑ^１３である。
　Ｑ^１５は、単結合、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－又はＯ－を有する基である。
　Ｑ^２２は、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－又はＯ－を有する基、アルキレン基のＳｉに接続しない側の末端に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－又はＯ－を有する基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－又はＯ－を有しかつＳｉに接続しない側の末端に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－又はＯ－を有する基であり、Ｙ^１又はＹ^２がＱ^２２を２以上有する場合、２以上のＱ^２２は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ^２３は、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－又はＯ－を有する基であり、２個のＱ^２３は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ^２４は、Ｑ^２４が結合するＺ^１における原子が炭素原子の場合、Ｑ^２２であり、Ｑ^２４が結合するＺ^１における原子が窒素原子の場合、Ｑ^２３であり、Ｙ^１又はＹ^２がＱ^２４を２以上有する場合、２以上のＱ^２４は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ^２５は、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－又はＯ－を有する基であり、Ｙ^１又はＹ^２がＱ^２５を２以上有する場合、２以上のＱ^２５は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ^２６は、単結合、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－又はＯ－を有する基である。
　Ｚ^１は、Ｑ^１４が直接結合する炭素原子又は窒素原子を有しかつＱ^２４が直接結合する炭素原子又は窒素原子を有するｈ１＋ｈ２価の環構造を有する基である。
　Ｒ^ｅ１は、水素原子又はアルキル基であり、Ｙ^１又はＹ^２がＲ^ｅ１を２以上有する場合、２以上のＲ^ｅ１は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｒ^ｅ２は、水素原子、水酸基、アルキル基又はアシルオキシ基である。
　Ｒ^ｅ３は、アルキル基である。
　Ｒ^６は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基である。

　ｄ１は、０又は１であり、１であることが好ましい。ｄ２は、０～３の整数であり、１又は２であることが好ましい。ｄ１＋ｄ２は、１～３の整数である。
　ｄ３は、０又は１であり、０であることが好ましい。ｄ４は、０～３の整数であり、２又は３であることが好ましい。ｄ３＋ｄ４は、１～３の整数である。
　ｄ１＋ｄ３は、１である。
　ｄ２＋ｄ４は、１～５の整数であり、４又は５であることが好ましい。
　ｅ１＋ｅ２は、３又は４である。ｅ１は、１である。ｅ２は、２又は３である。
　ｈ１は、１である。ｈ２は、１以上の整数であり、２又は３であることが好ましい。
　ｉ１＋ｉ２は、３又は４である。ｉ１は、１である。ｉ２は、２又は３である。
　ｉ３は、２又は３である。

　Ｑ^１１、Ｑ^１２、Ｑ^１３、Ｑ^１４、Ｑ^１５、Ｑ^２２、Ｑ^２３、Ｑ^２４、Ｑ^２５及びＱ^２６のアルキレン基の炭素数は、化合物を製造しやすい観点、及び表面処理層の耐摩耗性がさらに優れる観点から、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよく、１～６であってもよく、１～４であってもよい。ただし、炭素－炭素原子間に特定の結合を有する場合のアルキレン基の炭素数の下限値は２である。

　Ｚ^１における環構造としては、上述した環構造が挙げられ、好ましい形態も同様である。なお、Ｚ^１における環構造にはＱ^１４やＱ^２４が直接結合するため、例えば、環構造にアルキレン基が連結して、そのアルキレン基にＱ^１４やＱ^２４が連結することはない。

　Ｒ^ｅ１、Ｒ^ｅ２又はＲ^ｅ３のアルキル基の炭素数は、化合物を製造しやすい観点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２がさらに好ましい。
　Ｒ^ｅ２のアシルオキシ基のアルキル基部分の炭素数は、化合物を製造しやすい観点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２がさらに好ましい。
　ｈ２としては、化合物を製造しやすい観点、並びに、表面処理層の耐摩耗性がさらに優れる観点から、２～６が好ましく、２～４がより好ましく、２又は３がさらに好ましい。

　基Ｙの他の形態としては、それぞれ独立に、基（ｇ２－８）（ただし、ｄ１＋ｄ３＝１、ｄ２×ｋ３＋ｄ４×ｋ３＝ｇ若しくはｄ２×ｋ３＋ｄ４×ｋ３＝ｊである。）、基（ｇ２－９）（ただし、ｅ１＝１、ｅ２×ｋ３＝ｇ若しくはｅ２×ｋ３＝ｊである。）、基（ｇ２－１０）（ただし、ｇ＝２×ｋ３若しくはｊ＝２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１１）（ただし、ｈ１＝１、ｈ２×ｋ３＝ｇ若しくはｈ２×ｋ３＝ｊである。）、基（ｇ２－１２）（ただし、ｉ１＝１、ｉ２×ｋ３＝ｇ若しくはｉ２×ｋ３＝ｊである。）、基（ｇ２－１３）（ただし、ｇ＝ｋ３若しくはｊ＝ｋ３である。）、又は基（ｇ２－１４）（ただし、ｉ３×ｋ３＝ｇ若しくはｉ３×ｋ３＝ｊである。）が挙げられる。

　（－Ａ^１－Ｑ^１２－）_ｅ１Ｃ（Ｒ^ｅ２）_{４－ｅ１－ｅ２}（－Ｑ^２２－Ｇ^１）_ｅ２　　…（ｇ２－９）
　－Ａ^１－Ｑ^１３－Ｎ（－Ｑ^２３－Ｇ^１）_２　　　　　　　　　　　　　　…（ｇ２－１０）
　（－Ａ^１－Ｑ^１４－）_ｈ１Ｚ^１（－Ｑ^２４－Ｇ^１）_ｈ２　　　　　　　　　　…（ｇ２－１１）
　（－Ａ^１－Ｑ^１５－）_ｉ１Ｓｉ（Ｒ^ｅ３）_{４－ｉ１－ｉ２}（－Ｑ^２５－Ｇ^１）_ｉ２　…（ｇ２－１２）
　－Ａ^１－Ｑ^２６－Ｇ^１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　…（ｇ２－１３）
　－Ａ^１－Ｑ^１２－ＣＨ（－Ｑ^２２－Ｇ^１）－Ｓｉ（Ｒ^ｅ３）_３－ｉ３（－Ｑ^２５－Ｇ^１）_ｉ３　…（ｇ２－１４）

　ただし、式（ｇ２－８）～（ｇ２－１４）においては、Ａ^１側が基Ａ又は基Ｂに接続し、Ｇ^１側が（－Ｓｉ（Ｒ^１）_ｎＬ^２ _３－ｎ）又は（－Ｓｉ（Ｒ^２）_ｍＬ^３ _３－ｍ）に接続する。Ｇ^１は、基（ｇ３）であり、Ｙ^１又はＹ^２が有する２以上のＧ^１は同一であっても
異なっていてもよい。Ｇ^１以外の符号は、式（ｇ２－１）～（ｇ２－７）における符号と同じである。
　－Ｓｉ（Ｒ^８）_３－ｋ３（－Ｑ^３－）_ｋ３　　…（ｇ３）
　ただし、式（ｇ３）においては、Ｓｉ側がＱ^２２、Ｑ^２３、Ｑ^２４、Ｑ^２５及びＱ^２６に接続し、Ｑ^３側が（－Ｓｉ（Ｒ^１）_ｎＬ^２ _３－ｎ）又は（－Ｓｉ（Ｒ^２）_ｍＬ^３ _３－ｍ）に接続する。Ｒ^８は、アルキル基である。Ｑ^３は、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－若しくは－Ｏ－を有する基、又は（ＯＳｉ（Ｒ^９）_２）_ｐ－Ｏ－であり、２以上のＱ^３は同一であっても異なっていてもよい。ｋ３は、２又は３である。Ｒ^６は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基である。Ｒ^９は、アルキル基、フェニル基又はアルコキシ基であり、２個のＲ^９は同一であっても異なっていてもよい。ｐは、０～５の整数であり、ｐが２以上の場合、２以上の（ＯＳｉ（Ｒ^９）_２）は同一であっても異なっていてもよい。
　また、式（ｇ２－８）～（ｇ２－１４）のうち、基Ａの末端におけるアルキレンオキシド基の酸素原子に結合する末端は酸素原子ではなく、基Ａの末端におけるアルキレンイミン基の窒素原子に結合する末端は窒素原子ではない。

　Ｑ^３のアルキレン基の炭素数は、化合物を製造しやすい観点、並びに、表面処理層の耐摩耗性がさらに優れる観点から、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよく、１～６であってもよく、１～４であってもよい。ただし、炭素－炭素原子間に特定の結合を有する場合のアルキレン基の炭素数の下限値は２である。
　Ｒ^８のアルキル基の炭素数は、化合物を製造しやすい観点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２がさらに好ましい。
　Ｒ^９のアルキル基の炭素数は、化合物を製造しやすい観点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２がさらに好ましい。
　Ｒ^９のアルコキシ基の炭素数は、化合物の保存安定性に優れる観点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２がさらに好ましい。
　ｐは、０又は１が好ましい。

　化合物（１－１）、化合物（１－２）、化合物（１－３）、及び化合物（１－４）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。下式の化合物は、工業的に製造しやすく、取扱いやすく、表面処理層の耐摩耗性がさらに優れる観点から好ましい。下式の化合物におけるＲ^ｔは、上述した式（１－１）におけるＢ^１－Ｌ^１－Ａ^１－（Ｌ^４－Ｂ^３）_ａ－（Ｌ^５－Ａ^２）_ｂ－、式（１－２）におけるＨ－Ａ^１－Ｌ^１－Ｂ^２－（Ｌ^５－Ａ^２）_ｂ－（Ｌ^４－Ｂ^３）_ａ－、式（１－３）における（Ｌ^３ _３－ｍ（Ｒ^２）_ｍＳｉ－）_ｊＹ^２－（Ａ^３－Ｌ^７）_ｄ－（Ｂ^４－Ｌ^６）_ｃ－Ａ^１－Ｌ^１－Ｂ^２－（Ｌ^５－Ａ^２）_ｂ－（Ｌ^４－Ｂ^３）_ａ－及び－（Ａ^３－Ｌ^７）_ｄ－（Ｂ^４－Ｌ^６）_ｃ－Ａ^１－Ｌ^１－Ｂ^２－（Ｌ^５－Ａ^２）_ｂ－（Ｌ^４－Ｂ^３）_ａ－Ｙ^１（－Ｓｉ（Ｒ^１）_ｎＬ^２ _３－ｎ）_ｇ、並びに式（１－４）におけるＨ－Ａ^１－Ｌ^１－Ｂ^５－と同様であり、好ましい形態も同様である。下式の化合物におけるＱ^ｆは、上述した式（１－３）における－（Ａ^３－Ｌ^７）_ｄ－（Ｂ^４－Ｌ^６）_ｃ－Ａ^１－Ｌ^１－Ｂ^２－（Ｌ^５－Ａ^２）_ｂ－（Ｌ^４－Ｂ^３）_ａ－と同様であり、好ましい形態も同様である。

　Ｙ^１又はＹ^２が基（ｇ２－１）である片末端化合物としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１又はＹ^２が基（ｇ２－２）である片末端化合物としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１又はＹ^２が基（ｇ２－３）である片末端化合物としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１又はＹ^２が基（ｇ２－４）である片末端化合物としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１又はＹ^２が基（ｇ２－５）である片末端化合物としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１又はＹ^２が基（ｇ２－６）である片末端化合物としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１又はＹ^２が基（ｇ２－７）である片末端化合物としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１又はＹ^２が基（ｇ２－８）である片末端化合物としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１又はＹ^２が基（ｇ２－９）である片末端化合物としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１又はＹ^２が基（ｇ２－１０）である片末端化合物としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１又はＹ^２が基（ｇ２－１１）である片末端化合物としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１又はＹ^２が基（ｇ２－１２）である片末端化合物としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１又はＹ^２が基（ｇ２－１３）である片末端化合物としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１又はＹ^２が基（ｇ２－１４）である片末端化合物としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１及びＹ^２が基（ｇ２－１）である両末端化合物としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１及びＹ^２が基（ｇ２－２）である両末端化合物としては、例えば、下式の化合物が挙げられる

　Ｙ^１及びＹ^２が基（ｇ２－３）である両末端化合物としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１及びＹ^２が基（ｇ２－４）である両末端化合物としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１及びＹ^２が基（ｇ２－５）である両末端化合物としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１及びＹ^２が基（ｇ２－６）である両末端化合物としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１及びＹ^２が基（ｇ２－７）である両末端化合物としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１及びＹ^２が基（ｇ２－９）である両末端化合物としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　基Ｙの連結基の具体例としては、例えば下記構造の有機基が挙げられる。基Ｙの連結基は、下記具体例に限定されるものではない。ただし、下記式中、ａ、ｂ、ｃ、及びｄは、それぞれ独立に、１～５の整数であり、１～３の整数であることが好ましい。下記式中、^ＡＢ＊は基Ａ又は基Ｂに結合する結合部、＊^Ｓｉは反応性シリル基に結合する結合部である。

（特定化合物の具体例等）
　特定化合物としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。

　特定化合物の数平均分子量（Ｍｎ）は、１５０～２０，０００であることが好ましく、２００～１０，０００であることがより好ましく、２５０～６，０００であることがさらに好ましい。Ｍｎが１５０以上であれば、指紋視認性低減及び耐摩耗性に優れる。Ｍｎが２０，０００以下であれば、粘性を適切な範囲内に調節しやすく、また溶解性が向上するので、成膜時のハンドリング性が優れる。

　特定化合物の製造方法は特に制限されない。
　特定化合物は、基Ａ及び反応性シリル基を有する化合物に基Ｂを結合させることで得てもよく、基Ｂ及び反応性シリル基を有する化合物に基Ａを結合させることで得てもよく、基Ａ及び基Ｂを有する化合物に反応性シリル基を結合させることで得てもよい。

　本開示の表面処理剤は、特定化合物を１種含有してもよく、２種以上含有してもよい。
　本開示の表面処理剤は、片末端化合物と両末端化合物のいずれか一方を含有していてもよく、両方含有していてもよい。本開示の表面処理剤が片末端化合物と両末端化合物とを両方含有する場合、両者の比率は特に制限されず、片末端化合物：両末端化合物の比は質量比で１：９９～９９：１が好ましい。指紋視認性がより低減する観点からは、前記比は５０：５０～９９：１がより好ましく、７０：３０～９９：１がさらに好ましい。本開示の表面処理剤は片末端化合物を含有することが好ましく、片末端化合物を特定化合物の全量に対して７０質量％以上含有することがより好ましく、８０質量％以上含有することがさらに好ましい。
　片末端化合物と両末端化合物との組み合わせとしては、特定化合物Ａ１と特定化合物Ａ２、特定化合物Ａ１と特定化合物Ｂ２、特定化合物Ｂ１と特定化合物Ａ２、特定化合物Ｂ１と特定化合物Ｂ２が好ましく、特定化合物Ａ１と特定化合物Ａ２、特定化合物Ｂ１と特定化合物Ｂ２がより好ましい。
　本開示の表面処理剤における特定化合物全体の含有量は、本開示の表面処理剤の全量に対して、０．００１～４０質量％が好ましく、０．０１～２０質量％がより好ましく、０．１～１０質量％がさらに好ましい。ウェットコーティング法に使用する本開示の表面処理剤における特定化合物全体の含有量は、本開示の表面処理剤の全量に対して、０．０１～１０質量％であってもよく、０．０２～５質量％であってもよく、０．０３～３質量％であってもよく、０．０５～２質量％であってもよい。

＜特定化合物以外の成分＞
　本開示の表面処理剤は、特定化合物を含んでいればよく、特定化合物以外の成分を含んでもよい。特定化合物以外の成分は特に限定されない。本開示の表面処理剤は、特定化合物と、液状媒体と、を含むことが好ましい。本開示の表面処理剤が液状媒体を含む場合、本開示の表面処理剤は、液状であればよく、溶液であってもよく、分散液であってもよい。
　本開示の表面処理剤は、特定化合物の製造工程で生成した副生物等の不純物を含んでもよい。

　液状媒体は、有機溶媒と水とを含むことが好ましい。

　有機溶媒としては、水素原子及び炭素原子のみからなる化合物、並びに、水素原子、炭素原子及び酸素原子のみからなる化合物が挙げられ、具体的には、炭化水素系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒、グリコール系有機溶媒、及びアルコール系有機溶媒が挙げられる。
　炭化水素系有機溶媒の具体例としては、ペンタン、ヘキサン、へプタン、オクタン、ヘキサデカン、イソヘキサン、イソオクタン、イソノナン、シクロヘプタン、シクロヘキサン、ビシクロヘキシル、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、ｏ－キシレン、ｍ－キシレン、ｐ－キシレン、ｏ－ジエチルベンゼン、ｍ－ジエチルベンゼン、ｐ－ジエチルベンゼン、ｎ－ブチルベンゼン、ｓｅｃ－ブチルベンゼン、ｔｅｒｔ－ブチルベンゼンが挙げられる。
　ケトン系有機溶媒の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、４－ヘプタノン、３，５，５－トリメチル－２－シクロヘキセン－１－オン、及び３，３，５－トリメチルシクロヘキサノン、イソホロンが挙げられる。
　エーテル系有機溶媒の具体例としては、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサンが挙げられる。
　エステル系有機溶媒の具体例としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｔｅｒｔ‐ブチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、３－エトキシプロピオン酸エチル、乳酸エチルエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、３－メトキシ－３－メチルブチルアセテート、３－メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルアセテート、プロピレングリコールジメチルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、シクロヘキサノールアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、ジプロピレングリコ－ルメチルエ－テルアセテ－ト、１，３－ブチレングリコールジアセテート、１，４－ブタンジオールジアセテート、１，３－ブチレングリコールジアセテート、１，６－ヘキサンジオールジアセテート、γ－ブチロラクトン、トリアセチン、２，２，４－トリメチル－１，３－ペンタンジオールモノイソブチレートが挙げられる。
　グリコール系有機溶媒の具体例としては、エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノ－２－エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ－２－エチルヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｔｅｒｔ－ブチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテルトリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、１，３－ブチレングリコール、プロピレングリコールｎ－プロピルエーテル、プロピレングリコールｎ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールｎ－プロピルエーテル、ジプロピレングリコールｎ－ブチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールｎ－ブチルエ－テル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテルペンタン、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ポリエチレングリコールジメチルエーテルが挙げられる。
　アルコール系有機溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロピルアルコール、ｎ－ブタノール、ジアセトンアルコール、イソブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ペンタノール、３－メチル－１，３－ブタンジオール、１，３－ブタンジオール、１，３－ブチレングリコール、オクタンジオール、２，４－ジエチルペンタンジオール、ブチルエチルプロパンジオール、２－メチル－１，３－プロパンジオール、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、２－エチル－１－ヘキサノール、３，５，５－トリメチル－１－ヘキサノール、イソデカノール、イソトリデカノール、３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノール、２－メトキシブタノール、３－メトキシブタノール、シクロヘキサノール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、ベンジルアルコール、及びメチルシクロヘキサノールが挙げられる。

　また、有機溶媒としては、ハロゲン系有機溶媒、含窒素化合物、含硫黄化合物、シロキサン化合物が挙げられる。
　ハロゲン系有機溶媒の具体例としては、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ｏ－クロロトルエン、ｍ－クロロトルエン、ｐ－クロロトルエン、ｍ－ジクロロベンゼン、１，２，３－トリクロロプロパンが挙げられる。
　含窒素化合物としては、ニトロベンゼン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノンが挙げられる。
　含硫黄化合物としては、二硫化炭素、ジメチルスルホキシドが挙げられる。
　シロキサン化合物としては、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサンが挙げられる。

　有機溶媒は、２種以上を混合してもよく、例えば、グリコール系有機溶媒とアルコール系有機溶媒とを混合してもよい。
　有機溶媒の含有量は、液状媒体の全量に対して、９０～９９質量％が好ましく、９３～９９質量％がより好ましく、９５～９９質量％がさらに好ましい。また、水の含有量は、液状媒体の全量に対して、１～１０質量％が好ましく、１～７質量％がより好ましく、１～５質量％がさらに好ましい。

　液状媒体の含有量は、本開示の表面処理剤の全量に対して、６０～９９．９９９質量％が好ましく、８０～９９．９９質量％がより好ましく、９０～９９．９質量％がさらに好ましい。ウェットコーティング法に使用する本開示の表面処理剤の場合には、液状媒体の含有量は、本開示の表面処理剤の全量に対して、９０～９９．９９質量％であってもよく、９５～９９．９８質量％であってもよく、９７～９９．９７質量％であってもよく、９８～９９．９５質量％であってもよい。
　本開示の表面処理剤に含まれる液状媒体は１種のみであってもよく、２種以上であってもよい。

　本開示の表面処理剤は、特定化合物及び液状媒体以外に、本開示の効果を損なわない範囲で、他の成分を含んでいてもよい。
　他の成分としては、例えば、反応性シリル基の加水分解と縮合反応を促進する酸触媒、塩基性触媒等の公知の添加剤が挙げられる。酸触媒の具体例としては、塩酸、硝酸、酢酸、硫酸、燐酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸が挙げられる。塩基性触媒の具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアが挙げられる。

　また、他の成分としては、加水分解性基を有する金属化合物（以下、加水分解性基を有する金属化合物を「特定金属化合物」とも記す。）も挙げられる。本開示の表面処理剤が特定金属化合物を含むと、表面処理層の滑り性及び防汚性をより向上しうる。特定金属化合物としては、下記式（Ｍ１）～（Ｍ３）が挙げられる。

　Ｍ（Ｘ^ｂ１）_ｍ１（Ｘ^ｂ２）_ｍ２（Ｘ^ｂ３）_ｍ３　　…（Ｍ１）
　Ｓｉ（Ｘ^ｂ４）（Ｘ^ｂ５）_３　　　　　　…（Ｍ２）
　（Ｘ^ｂ６）_３Ｓｉ－（Ｙ^ｂ１）－Ｓｉ（Ｘ^ｂ７）_３　　…（Ｍ３）

　式（Ｍ１）中、
　Ｍは、３価又は４価の金属原子を表す。
　Ｘ^ｂ１はそれぞれ独立に、加水分解性基を表す。
　Ｘ^ｂ２はそれぞれ独立に、シロキサン骨格含有基を表す。
　Ｘ^ｂ３はそれぞれ独立に、炭化水素鎖含有基を表す。
　ｍ１は２～４の整数であり、
　ｍ２及びｍ３はそれぞれ独立に、０～２の整数であり、
　Ｍが３価の金属原子の場合、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３は３であり、Ｍが４価の金属原子の場合、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３は４である。

　式（Ｍ２）中、
　Ｘ^ｂ４は、加水分解性シランオリゴマー残基を表す。
　Ｘ^ｂ５は、それぞれ独立に、加水分解性基又は炭素数１～４のアルキル基を表す。
　式（Ｍ３）中、
　Ｘ^ｂ６及びＸ^ｂ７は、それぞれ独立に、加水分解性基又は水酸基を表す。
　Ｙ^ｂ１は、２価の有機基を表す。

　式（Ｍ１）中、Ｍで表される金属には、Ｓｉ、Ｇｅ等の半金属も包含される。Ｍとしては、３価金属及び４価金属が好ましく、Ａｌ、Ｆｅ、Ｉｎ、Ｈｆ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｓｎ、及びＺｒがより好ましく、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、及びＺｒがさらに好ましく、Ｓｉが特に好ましい。

　式（Ｍ１）中、Ｘ^ｂ１で表される加水分解性基としては、上記反応性シリル基における［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］中のＬで示される加水分解性基と同様のものが挙げられる。

　Ｘ^ｂ２で表されるシロキサン骨格含有基は、シロキサン単位（－Ｓｉ－Ｏ－）を有し、直鎖状でも分岐鎖状でもよい。シロキサン単位としては、ジアルキルシリルオキシ基が好ましく、ジメチルシリルオキシ基、ジエチルシリルオキシ基等が挙げられる。シロキサン骨格含有基におけるシロキサン単位の繰り返し数は、１以上であり、１～５が好ましく、１～４がより好ましく、１～３がさらに好ましい。
　シロキサン骨格含有基は、シロキサン骨格の一部に２価の炭化水素基を含んでいてもよい。具体的には、シロキサン骨格の一部の酸素原子が２価の炭化水素基で置き換わっていてもよい。前記２価の炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等のアルキレン基が挙げられる。
　シロキサン骨格含有基の末端のケイ素原子には、加水分解性基、炭化水素基（好ましくはアルキル基）等が結合していてもよい。
　シロキサン骨格含有基の元素数は、１００以下が好ましく、５０以下がより好ましく、３０以下がさらに好ましい。前記元素数は１０以上が好ましい。
　シロキサン骨格含有基としては、^＊－（Ｏ－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎＣＨ_３で表される基が好ましく、ここで、ｎは１～５の整数であり、＊は隣接原子との結合部位を表す。

　Ｘ^ｂ３で表される炭化水素鎖含有基は、炭化水素鎖のみからなる基でもよく、炭化水素鎖の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基でもよい。炭化水素鎖は直鎖でも分岐鎖でもよく、直鎖が好ましい。炭化水素鎖は飽和炭化水素鎖でも不飽和炭化水素鎖でもよく、飽和炭化水素鎖が好ましい。炭化水素鎖含有基の炭素数は、１～３が好ましく、１～２がより好ましく、１がさらに好ましい。炭化水素鎖含有基としては、アルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、又はプロピル基がより好ましい。

　ｍ１は３又は４であることが好ましい。

　式（Ｍ１）で表される化合物としては、ＭがＳｉである下記式（Ｍ１－1）～（Ｍ１－５）で表される化合物が好ましく、式（Ｍ１－１）で表される化合物がより好ましい。式（Ｍ１－１）で表される化合物としては、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、及びトリエトキシメチルシランが好ましい。

　Ｓｉ（Ｘ^ｂ１）_４　　　　　　　　　　　…（Ｍ１－１）
　ＣＨ_３－Ｓｉ（Ｘ^ｂ１）_３　　　　　　　…（Ｍ１－２）
　Ｃ_２Ｈ_５－Ｓｉ（Ｘ^ｂ１）_３　　　　　　　…（Ｍ１－３）
　ｎ－Ｃ_３Ｈ_７－Ｓｉ（Ｘ^ｂ１）_３　　　　　…（Ｍ１－４）
　（ＣＨ_３）_２ＣＨ－Ｓｉ（Ｘ^ｂ１）_３　　　…（Ｍ１－５）

　式（Ｍ２）中、Ｘ^ｂ４で表される加水分解性シランオリゴマー残基に含まれるケイ素原子の数は、３以上が好ましく、５以上がより好ましく、７以上がさらに好ましい。前記ケイ素原子の数は、１５以下が好ましく、１３以下がより好ましく、１０以下がさらに好ましい。
　加水分解性シランオリゴマー残基は、ケイ素原子に結合するアルコキシ基を有していてもよい。前記アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられ、メトキシ基及びエトキシ基が好ましい。加水分解性シランオリゴマー残基は、これらアルコキシ基の１種又は２種以上を有してもよく、１種を有することが好ましい。
　加水分解性シランオリゴマー残基としては、（Ｃ_２Ｈ_５Ｏ）_３Ｓｉ－（ＯＳｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_２）_４Ｏ－^＊等が挙げられる。ここで、＊は隣接原子との結合部位を表す。

　式（Ｍ２）中、Ｘ^ｂ５で表される加水分解性基としては、上記反応性シリル基における［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］中のＬで示される加水分解性基と同様のもの、シアノ基、水素原子、アリル基が挙げられ、アルコキシ基又はイソシアナト基が好ましい。アルコキシ基としては、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましい。
　Ｘ^ｂ５としては、加水分解性基が好ましい。

　式（Ｍ２）で表される化合物としては、（Ｈ_５Ｃ_２Ｏ）_３－Ｓｉ－（ＯＳｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_２）_４ＯＣ_２Ｈ_５等が挙げられる。

　式（Ｍ３）で表される化合物は、２価の有機基の両末端に反応性シリル基を有する化合物、すなわち、ビスシランである。
　式（Ｍ３）中、Ｘ^ｂ６及びＸ^ｂ７で表される加水分解性基としては、アルコキシ基、アシロキシ基、ケトオキシム基、アルケニルオキシ基、アミノ基、アミノキシ基、アミド基、イソシアナト基、ハロゲン原子が挙げられ、アルコキシ基、イソシアナト基が好ましい。アルコキシ基としては、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基がより好ましい。
　式（Ｍ３）において、Ｘ^ｂ６及びＸ^ｂ７は互いに同じ基でもよく、互いに異なる基でもよい。入手しやすさの点で、Ｘ^ｂ６及びＸ^ｂ７は互いに同じ基であることが好ましい。

　式（Ｍ３）中、Ｙ^ｂ１は、両末端の反応性シリル基を連結する２価の有機基である。２価の有機基のＹ^ｂ１の炭素数は１～８が好ましく、１～３がより好ましい。
　Ｙ^ｂ１としては、アルキレン基、フェニレン基、炭素原子間にエーテル性酸素原子を有するアルキレン基が挙げられる。例えば、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）－、－Ｃ_６Ｈ_４－が挙げられる。

　式（Ｍ３）で表される化合物としては、（ＣＨ_３Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、（Ｃ_２Ｈ_５Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３、（ＯＣＮ）_３Ｓｉ（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＮＣＯ）_３、Ｃｌ_３Ｓｉ（ＣＨ_２）_２ＳｉＣｌ_３、（ＣＨ_３Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_２）_６Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、（Ｃ_２Ｈ_５Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_２）_６Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３が挙げられる。

　本開示の表面処理剤に含まれてもよい他の成分の含有量は、本開示の表面処理剤の全量に対して、１０質量％以下が好ましく、１質量％以下がより好ましい。本開示の表面処理剤が特定金属化合物を含む場合、特定金属化合物の含有量は本開示の表面処理剤の全量に対して０．０１～３０質量％が好ましく、０．０１～１０質量％がより好ましく、０．０３～５質量％がさらに好ましい。

　特定化合物と他の成分の合計含有量（以下、「固形分濃度」ともいう。）は、本開示の表面処理剤の全量に対して、０．００１～４０質量％が好ましく、０．０１～２０質量％がより好ましく、０．１～１０質量％がさらに好ましい。本開示の表面処理剤の固形分濃度は、加熱前の表面処理剤の質量と、１２０℃の対流式乾燥機にて４時間加熱した後の質量とから算出される値である。

　本開示の表面処理剤は、液状媒体を含む場合、コーティング用途として有用であり、コーティング液として用い得る。

　特定化合物は上述の構成を有するため、本開示の表面処理剤を用いることにより、指紋視認性を低減し、かつ、指紋視認性のバラツキが抑制された表面処理層を形成できる。

［物品］
　一態様において、本開示の物品は、基材と、前記表面処理剤で表面処理された表面処理層と、を含む。

　表面処理層は、基材の表面の一部に形成されてもよく、基材の表面全体に形成されてもよい。表面処理層は、基材の表面に膜状に拡がっていてもよく、ドット状に点在していてもよい。
　表面処理層において、特定化合物は、反応性シリル基の一部又は全部の加水分解が進行し、かつ、シラノール基の脱水縮合反応が進行した状態で含まれる。

　表面処理層の厚さは、１～１００ｎｍが好ましく、１～５０ｎｍがより好ましい。表面処理層の厚さが１ｎｍ以上であれば、表面処理による効果が充分に得られやすい。表面処理層の厚さが１００ｎｍ以下であれば、利用効率が高い。表面処理層の厚さは、薄膜解析用Ｘ線回折計（製品名「ＡＴＸ－Ｇ」、ＲＩＧＡＫＵ社製）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、干渉パターンの振動周期から算出できる。

　基材の種類は特に限定されず、例えば、指紋視認性の低減が求められている基材が挙げられる。基材として、例えば、他の物品（例えば、スタイラス）又は人の手指を接触させて使用することがある基材；操作時に人の手指で持つことがある基材；及び、他の物品（例えば、載置台）の上に置くことがある基材が挙げられる。
　基材の材料としては、金属、樹脂、ガラス、サファイア、セラミック、石、繊維、不織布、紙、木、天然皮革、人工皮革、及びこれらの複合材料が挙げられる。ガラスは化学強化されていてもよい。

　基材としては、建材、装飾建材、インテリア用品、輸送機器（例えば、自動車）、看板、掲示板、飲用器、食器、水槽、観賞用器具（例えば、額、箱）、実験器具、家具、繊維製品、包装容器；アート、スポーツ、ゲーム等に使用する、ガラス又は樹脂；携帯電話（例えば、スマートフォン）、携帯情報端末、ゲーム機、リモコン等の機器における外装部分（表示部を除く）に使用する、ガラス又は樹脂が挙げられる。基材の形状は、板状であってもよく、フィルム状であってもよい。

　基材としては、タッチパネル用基材、ディスプレイ用基材、メガネレンズが好適であり、タッチパネル用基材が特に好適である。タッチパネル用基材の材料としては、ガラス又は透明樹脂が好ましい。

　基材は、一方の表面又は両面が、コロナ放電処理、プラズマ処理、プラズマグラフト重合処理等の表面処理が施された基材であってもよい。表面処理が施された基材は、表面処理層との密着性がより優れ、表面処理層の耐摩耗性がより向上する。そのため、基材の表面処理層と接する側の表面に表面処理を施すことが好ましい。また、表面処理が施された基材は、後述する下地層が設けられる場合には、下地層との密着性がより優れ、表面処理層の耐摩耗性がより向上する。そのため、下地層が設けられる場合には、基材の下地層と接する側の表面に表面処理を施すことが好ましい。

　表面処理層は、基材の表面上に直接設けられていてもよく、基材と表面処理層との間に下地層が設けられていてもよい。表面処理層の指紋視認性の低減及び耐摩耗性をより向上させる観点から、本開示の物品は、基材と、基材上に配置された下地層と、下地層上に配置された本開示の表面処理剤で表面処理された表面処理層と、を含むことが好ましい。

　下地層は、ケイ素と、周期表の第１族元素、第２族元素、第４族元素、第５族元素、第１３族元素、及び第１５族元素からなる群から選択される少なくとも１つの特定元素とを含む酸化物を含む層が好ましい。

　周期表の第１族元素（以下、「第１族元素」ともいう。）とは、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム及びセシウムを意味する。第１族元素としては、下地層上に表面処理層を欠陥なくより均一に形成できる点、又は、サンプル間での下地層の組成のバラツキがより抑制される観点から、リチウム、ナトリウム、カリウムが好ましく、ナトリウム、カリウムがより好ましい。下地層には、第１族元素が２種以上含まれていてもよい。

　周期表の第２族元素（以下、「第２族元素」ともいう。）とは、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム及びバリウムを意味する。第２族元素としては、下地層上に表面処理層を欠陥なくより均一に形成できる点、又は、サンプル間での下地層の組成のバラツキがより抑制される観点から、マグネシウム、カルシウム、バリウムが好ましく、マグネシウム、カルシウムがより好ましい。下地層には、第２族元素が２種以上含まれていてもよい。

　周期表の第４族元素（以下、「第４族元素」ともいう。）とは、チタン、ジルコニウム、及びハフニウムを意味する。第４族元素としては、下地層上に表面処理層を欠陥なくより均一に形成できる観点、又は、サンプル間での下地層の組成のバラツキがより抑制される観点から、チタン、ジルコニウムが好ましく、チタンがより好ましい。下地層には、第４族元素が２種以上含まれていてもよい。

　周期表の第５族元素（以下、「第５族元素」ともいう。）とは、バナジウム、ニオブ及びタンタルを意味する。第５族元素としては、表面処理層の耐摩耗性がより優れる観点から、バナジウムが特に好ましい。下地層には、第５族元素が２種以上含まれていてもよい。

　周期表の第１３族元素（以下、「第１３族元素」ともいう。）とは、ホウ素、アルミニウム、ガリウム及びインジウムを意味する。第１３族元素としては、下地層上に表面処理層を欠陥なくより均一に形成できる点、又は、サンプル間での下地層の組成のバラツキがより抑制される観点から、ホウ素、アルミニウム、ガリウムが好ましく、ホウ素、アルミニウムがより好ましい。下地層には、第１３族元素が２種以上含まれていてもよい。

　周期表の第１５族元素（以下、「第１５族元素」ともいう。）とは、窒素、リン、ヒ素、アンチモン及びビスマスを意味する。第１５族元素としては、下地層上に表面処理層を欠陥なくより均一に形成できる観点、又は、サンプル間での下地層の組成のバラツキがより抑制される観点から、リン、アンチモン、ビスマスが好ましく、リン、ビスマスがより好ましい。下地層には、第１５族元素が２種以上含まれていてもよい。

　下地層に含まれる特定元素としては、第１族元素、第２族元素、第１３族元素が表面処理層の耐摩耗性がより優れるため好ましく、第１族元素、第２族元素がより好ましく、第１族元素がさらに好ましい。
　特定元素として、１種のみの元素が含まれていても２種以上の元素が含まれていてもよい。

　下地層に含まれる酸化物は、上記元素（ケイ素及び特定元素）単独の酸化物の混合物（例えば、酸化ケイ素と、特定元素の酸化物と、の混合物）であってもよいし、上記元素を２種以上含む複合酸化物であってもよいし、上記元素単独の酸化物と複合酸化物との混合物であってもよい。

　下地層中のケイ素のモル濃度に対する、下地層中の特定元素の合計モル濃度の比（特定元素／ケイ素）は、表面処理層の耐摩耗性がより優れる観点から、０．０２～２．９０であるのが好ましく、０．１０～２．００であるのがより好ましく、０．２０～１．８０であるのがさらに好ましい。
　下地層中の各元素のモル濃度（モル％）は、例えば、イオンスパッタリングを用いたＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）による深さ方向分析によって測定できる。

　下地層は、単層であっても複層であってもよい。下地層は、表面に凹凸を有していてもよい。
　下地層の厚さは、１～１００ｎｍが好ましく、１～５０ｎｍがより好ましく、２～２０ｎｍがさらに好ましい。下地層の厚さが上記下限値以上であれば、下地層による表面処理層の密着性がより向上して、表面処理層の耐摩耗性がより優れる。下地層の厚さが上記上限値以下であれば、下地層自体の耐摩耗性が優れる。
　下地層の厚さは、透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）による下地層の断面観察によって測定される。

　下地層は、例えば、蒸着材料を用いた蒸着法、又は、ウェットコーティング法により形成できる。

　蒸着法で用いる蒸着材料は、ケイ素及び特定元素を含む酸化物を含有することが好ましい。
　蒸着材料の形態の具体例としては、粉体、溶融体、焼結体、造粒体、破砕体が挙げられ、取り扱い性の観点から、溶融体、焼結体、造粒体が好ましい。
　ここで、溶融体とは、蒸着材料の粉体を高温で溶融させた後、冷却固化して得られた固形物を意味する。焼結体とは、蒸着材料の粉体を焼成して得られた固形物を意味し、必要に応じて、蒸着材料の粉体の代わりに、粉体をプレス成形して成形体を用いてもよい。造粒体とは、蒸着材料の粉体と液状媒体（例えば、水、有機溶媒）とを混練して粒子を得た後、粒子を乾燥させて得られた固形物を意味する。

　蒸着材料は、例えば、以下の方法で製造できる。
・酸化ケイ素の粉体と、特定元素の酸化物の粉体と、を混合して、蒸着材料の粉体を得る方法。
・上記蒸着材料の粉体及び水を混練して粒子を得た後、粒子を乾燥させて、蒸着材料の造粒体を得る方法。
・ケイ素を含む粉体（例えば、酸化ケイ素からなる粉体、珪砂、シリカゲル）と、特定元素を含む粉体（例えば、特定元素の酸化物の粉体、炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、シュウ酸塩、水酸化物）と、水と、を混合した混合物を乾燥させた後、乾燥後の混合物又はこれをプレス成形した成形体を焼成して、焼結体を得る方法。
・ケイ素を含む粉体（例えば、酸化ケイ素からなる粉体、珪砂、シリカゲル）と、特定元素を含む粉体（例えば、特定元素の酸化物の粉体、炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、シュウ酸塩、水酸化物）と、を高温で溶融させた後、溶融物を冷却固化して、溶融体を得る方法。

　蒸着材料を用いた蒸着法の具体例としては、真空蒸着法が挙げられる。真空蒸着法は、蒸着材料を真空槽内で蒸発させ、基材の表面に付着させる方法である。
　蒸着時の温度（例えば、真空蒸着装置を用いる際には、蒸着材料を配置するボートの温度）としては、１００～３，０００℃が好ましく、５００～３，０００℃がより好ましい。
　蒸着時の圧力（例えば、真空蒸着装置を用いる際には、蒸着材料を配置する槽内の圧力）としては、１Ｐａ以下が好ましく、０．１Ｐａ以下がより好ましい。
　蒸着材料を用いて下地層を形成する場合、１つの蒸着材料を用いてもよいし、異なる元素を含む２つ以上の蒸着材料を用いてもよい。

　蒸着材料の蒸発方法の具体例としては、高融点金属製抵抗加熱用ボート上で蒸着材料を溶融し、蒸発させる抵抗加熱法、電子ビームを蒸着材料に照射し、蒸着材料を直接加熱して表面を溶融し、蒸発させる電子銃法が挙げられる。蒸着材料の蒸発方法としては、局所的に加熱できるため高融点物質も蒸発できる点、電子ビームが当たっていないところは低温であるため容器との反応や不純物の混入のおそれがない観点から、電子銃法が好ましい。
　蒸着材料の蒸発方法としては、複数のボートを用いてもよく、単独のボートに全ての蒸着材料を入れて用いてもよい。蒸着方法は、共蒸着であってもよく、交互蒸着等でもよい。具体的には、シリカと特定源を同一のボートに混合して用いる例、シリカと特定元素源とを別々のボートに入れて共蒸着する例、同様に別々のボートに入れて交互蒸着する例が挙げられる。蒸着の条件、順番等は下地層の構成により適宜選択される。

　ウェットコーティング法では、ケイ素を含む化合物と、特定元素を含む化合物と、液状媒体と、を含むコーティング液を用いたウェットコーティング法によって、基材上に下地層を形成することが好ましい。

　ケイ素化合物の具体例としては、酸化ケイ素、ケイ酸、ケイ酸の部分縮合物、アルコキシシラン、アルコキシシランの部分加水分解縮合物が挙げられる。

　特定元素を含む化合物の具体例としては、特定元素の酸化物、特定元素のアルコキシド、特定元素の炭酸塩、特定元素の硫酸塩、特定元素の硝酸塩、特定元素のシュウ酸塩、特定元素の水酸化物が挙げられる。

　液状媒体としては、上記本開示の表面処理剤に含まれる液状媒体と同様のものが挙げられる。

　液状媒体の含有量は、下地層の形成に使用するコーティング液の全量に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．１～１０質量％がより好ましい。

　下地層を形成するためのウェットコーティング法の具体例としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法が挙げられる。

　コーティング液をウェットコーティングした後、塗膜を乾燥させるのが好ましい。塗膜の乾燥温度としては、２０～２００℃が好ましく、８０～１６０℃がより好ましい。

　本開示の物品は、光学部材であることが好ましい。光学部材としては、例えば、カーナビゲーション、携帯電話、スマートフォン、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、ＰＤＡ、ポータブルオーディオプレーヤー、カーオーディオ、ゲーム機器、眼鏡レンズ、カメラレンズ、レンズフィルター、サングラス、胃カメラ等の医療用器機、複写機、ＰＣ、ディスプレイ（例えば、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ、タッチパネルディスプレイ）、タッチパネル、保護フィルム、及び反射防止フィルムが挙げられる。特に、物品は、ディスプレイ又はタッチパネルであることが好ましい。

［物品の製造方法］
　本開示の物品の製造方法は、例えば、基材に対して、本開示の表面処理剤を用いて表面処理を行い、基材上に表面処理層が形成された物品を製造するという方法である。表面処理としては、ドライコーティング法及びウェットコーティング法が挙げられる。

　ドライコーティング法としては、真空蒸着、ＣＶＤ、スパッタリング等の手法が挙げられる。ドライコーティング法としては、化合物の分解を抑える点、及び装置の簡便さの観点から、真空蒸着法が好ましい。真空蒸着時には、鉄、鋼等の金属多孔体に、特定化合物を含浸させたペレット状物質を、表面処理剤として用いてもよい。特定化合物及び液状媒体を含む組成物を、鉄、鋼等の金属多孔体に含浸させ、液状媒体を乾燥させて、特定化合物を含浸させたペレット状物質を、表面処理剤として用いてもよい。

　ウェットコーティング法としては、例えば、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法が挙げられる。

　表面処理層の耐摩耗性を向上させるために、必要に応じて、本開示の表面処理剤に含まれる特定化合物と基材との反応を促進させるための操作を行ってもよい。該操作としては、加熱、加湿、光照射等が挙げられる。
　例えば、水分を有する大気中で表面処理層が形成された基材を加熱して、加水分解性基の加水分解反応、基材の表面の水酸基等とシラノール基との反応、シラノール基の縮合反応によるシロキサン結合の生成、等の反応を促進できる。
　表面処理後、表面処理層中の化合物であって、他の化合物又は基材と化学結合していない化合物は、必要に応じて除去してもよい。除去する方法としては、例えば、表面処理層に溶媒をかけ流す方法、溶媒をしみ込ませた布でふき取る方法等が挙げられる。

　次に本開示の実施形態を実施例により具体的に説明するが、本開示の実施形態はこれらの実施例に限定されるものではない。

［特定化合物の合成］
＜化合物１Ｂの合成＞
　化合物１Ａ（６６．３ｇ）とＣｓＣＯ_３（４８．９ｇ）とをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（１００ｍＬ）に溶解し、０℃で３０分間撹拌した。次いで、（２－ブロモエチル）ベンゼン（２０ｇ）を滴下し、２５℃で５時間反応させて、反応生成物溶液を得た。反応生成物溶液から溶媒を留去した後、ジクロロメタンで抽出し有機層を再び留去し、化合物１Ｂを７６ｇ（純度９９％以上、収率９９％）得た。

＜化合物２Ｃの合成＞
　ｐ－ビニルフェノール（２０ｇ）と６０質量％水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨ）（７．３ｇ）とをＴＨＦ（５０ｍＬ）に溶解し、０℃で３０分撹拌した。次いで、化合物２Ａ（２７ｇ）を滴下し、２５℃で１０時間反応させることで、反応生成物溶液を得た。反応生成物溶液から溶媒を留去した後、ジクロロメタンで抽出し有機層を再び留去することで化合物２Ｂを３９ｇ（純度９９％以上、収率９９％）得た。

　温度計、還流冷却器、及び撹拌機を取り付けた１００ｍＬのナスフラスコに、化合物２Ｂ（１０．０ｇ）、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２質量％）（０．０３ｇ）、トリメトキシシラン（１１．４ｇ）、アニリン（０．０１ｇ）、及びキシレン（５ｇ）を入れ、５０℃で１２時間撹拌し、反応生成物溶液を得た。反応生成物溶液から溶媒等を減圧留去した後、孔径０．５μｍのメンブランフィルタでろ過し、化合物２Ｃを１５．０ｇ（純度９９％以上、収率９９％）得た。

＜化合物３Ｃの合成＞
　ｐ－ビニルフェノール（２０ｇ）と６０質量％水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨ）（７．３ｇ）とをＴＨＦ（５０ｍＬ）に溶解し、０℃で３０分撹拌した。次いで、化合物３Ａ（１４．６ｇ）を滴下し、２５℃で１０時間反応させることで、反応生成物溶液を得た。反応生成物溶液から溶媒を留去した後、ジクロロメタンで抽出し有機層を再び留去することで化合物３Ｂを２７．６ｇ（純度９９％以上、収率９９％）得た。

　温度計、還流冷却器、及び撹拌機を取り付けた１００ｍＬのナスフラスコに、化合物３Ｂ（１０．０ｇ）、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２質量％）（０．０３ｇ）、トリメトキシシラン（８．６２ｇ）、アニリン（０．０１ｇ）、及びキシレン（５ｇ）を入れ、５０℃で１２時間撹拌し、反応生成物溶液を得た。反応生成物溶液から溶媒等を減圧留去した後、孔径０．５μｍのメンブランフィルタでろ過し、化合物３Ｃを１３．４ｇ（純度９９％以上、収率９９％）得た。

＜化合物４Ｂの合成＞
　１００ｍＬの３つ口フラスコに、ＣｕＢｒ（２８６ｍｇ、２ｍｍｏｌ）、１，１’－ビナフチル－２，２’－ジオール（５７２ｍｇ、２ｍｍｏｌ）、及びリン酸カリウム（４．２５ｇ、２０ｍｍｏｌ）を加え、脱気と窒素置換を繰り返した。その後、Ｎ，Ｎ’－ジ（２－アミノエチル）エチレンジアミン（東京化成社製）（７．３１ｇ、５０ｍｍｏｌ）、ブロモベンゼン（１．５７ｇ、１０ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）５０ｍＬを加えた。フラスコを密閉し、混合物を窒素雰囲気下、２５℃で４時間攪拌させた。反応終了後、混合物を酢酸エチルで希釈し、溶液を濾過し、無機塩を除去した。濾液を水で抽出後、水層を酢酸エチルで洗浄した。有機層をまとめて濃縮することで、化合物４Ａを１．８ｇ（収率８０％）得た。

　５０ｍＬナス型フラスコに、化合物４Ａ（１．１１ｇ、５ｍｍｏｌ）、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン（信越化学工業株式会社製）（１．０３ｇ、５ｍｍｏｌ）を加えた。その後８０℃で１６時間撹拌し、化合物４Ｂを得た。収量は２．１ｇ（収率９９％以上）であった。

＜化合物５Ｂの合成＞
　１００ｍＬの３つ口フラスコに、ＣｕＢｒ（５７３ｍｇ、４ｍｍｏｌ）、１，１’－ビナフチル－２，２’－ジオール（１．１４ｇ、４ｍｍｏｌ）、及びリン酸カリウム（８．４９ｇ、４０ｍｍｏｌ）を加え、脱気と窒素置換を繰り返した。その後、Ｎ，Ｎ’－ジ（２－アミノエチル）エチレンジアミン（東京化成社製）（２．９２ｇ、２０ｍｍｏｌ）、１，４－ジブロモベンゼン（東京化成社製）（２．３６ｇ、１０ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ（５０ｍＬ）を加えた。フラスコを密閉し、混合物を窒素雰囲気下、２５℃で４時間攪拌させた。反応終了後、混合物を酢酸エチルで希釈し、溶液を濾過し、無機塩を除去した。濾液からロータリーエバポレーターを用いて溶媒を除去し、化合物５Ａを２．９ｇ（収率８０％）で得た。

　５０ｍＬナス型フラスコに、化合物５Ａ（１．８３ｇ、５ｍｍｏｌ）、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン（信越化学工業株式会社製）（２．０５ｇ、１０ｍｍｏｌ）を加えた。その後８０℃で１６時間撹拌し、化合物５Ｂを得た。収量は３．８ｇ（収率９９％以上）であった。

＜化合物６Ｂの合成＞
　１００ｍＬの３つ口フラスコに、ＣｕＢｒ（２８６ｍｇ、２ｍｍｏｌ）、１，１’－ビナフチル－２，２’－ジオール（５７２ｍｇ、２ｍｏｌ）、及びリン酸カリウム（４．２５ｇ、２０ｍｍｏｌ）を加え、フラスコ内を窒素置換した。その後、１－メチルジエチレントリアミン（１．２９ｇ、１１ｍｍｏｌ）、４－ブロモベンジルアルコール（１．８７ｇ、１０ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ（５０ｍＬ）を加えた。フラスコを密閉し、混合物を窒素雰囲気下、２５℃で４時間攪拌させた。反応終了後、混合物を酢酸エチルで希釈し、溶液を濾過し、無機塩を除去した。濾液を水で抽出後、有機層をロータリーエバポレーターによって加熱減圧し、溶媒を除去することで、化合物６Ａを１．８ｇ（収率８０％）で得た。

　５０ｍＬナス型フラスコに、化合物６Ａ（１．１１ｇ、５ｍｍｏｌ）、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン（信越化学工業株式会社製）（１．２３ｇ、５ｍｍｏｌ）を加えた。続いて、得られた混合物に対して１質量％のトリエチルアミン（東京化成社製）（２３ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を加え、その後、８０℃で１６時間撹拌した。続いて、得られた反応混合物をロータリーエバポレーターによって加熱減圧し、トリエチルアミンを除去して化合物６Ｂを得た。収量は２．３ｇ（収率９９％以上）であった。

［比較化合物］
　ヒドロキシ（ポリエチレンオキシド）プロピルトリエトキシシラン（アヅマックス社製）をそのまま用いて、化合物Ｃ１とした。
　ＨＯ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_８－１２－（ＣＨ_２）_３－Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３　　（Ｃ１）
　フェニルトリエトキシシラン（アヅマックス社製）をそのまま用いて、化合物Ｃ２とした。

［表面処理剤の調製（例１～８）］
　得られた特定化合物１Ｂ、２Ｃ、３Ｃ、４Ｂ、５Ｂ、６Ｂ、及び化合物Ｃ１～Ｃ２を用いて表面処理剤を調製した。
　具体的には、まず、プロピレングリコールモノメチルエーテルとジアセトンアルコールと０.１質量％硝酸水溶液とを質量比５１：９：４０で混合した溶媒を準備した。前記溶媒に、特定化合物１Ｂ、２Ｃ、３Ｃ、４Ｂ、５Ｂ、６Ｂ、化合物Ｃ１～Ｃ２、及びテトラエトキシシラン（以下「ＴＥＯＳ」ともいう）を、表１に示す添加量（モル部）で、固形分濃度１０質量％になるように添加し、５０℃、１６時間撹拌して、前記化合物の部分加水分解縮合物を含む液状組成物を得た。
　さらに、この液状組成物を、固形分濃度が１．０質量％となるように、プロピレングリコールモノメチルエーテルとジアセトンアルコールとの８５：１５（質量比）の混合溶媒に溶解させ、例１～８の表面処理剤を得た。表中「－」は、該当する成分を添加していないことを示す。

［物品の製造及び評価］
＜物品の製造＞
　洗浄した縦２３ｍｍ、幅２５ｍｍ、厚さ３ｍｍのガラス板表面に、例１～８で得た表面処理剤をディップコート法により塗布し、表面処理剤の塗膜を形成した。次いで、これを、１５０℃の熱風循環オーブンで１時間乾燥して、膜厚１．８ｎｍの表面処理層を形成して、例１～８の物品である表面処理層付きガラス基板を、それぞれ１０個ずつ得た。得られた物品について、下記の方法で評価した。結果を表１に示す。

＜指紋視認性及び指紋視認性バラツキの評価＞
　得られた物品の指紋視認性及び指紋視認性バラツキの評価として、以下の評価を行った。
　直径２９ｍｍのシリコーンゴム栓の端面をＪＩＳ　Ｒ６２５２に規定された基材Ｃｗ、研磨材Ａ、粒度Ｐ２４０の研磨紙を用いて粗らした人工指として用い、アクリル基板上に膜厚０．５ｍｍでスピンコーティングされたオレイン酸を人工指紋液として用いることで、定量的な擬似指紋付着試験を行った。該アクリル基板に対して人工指を２５０ｇ／ｃｍ^２で垂直に押し付けることで人工指紋液を人工指に転写した後、評価する物品の表面に対して２５０ｇ／ｃｍ^２で垂直に押し付けることで、例１～８の物品１０個ずつにおける表面処理層の表面に擬似指紋を付着させた。付着した各擬似指紋の視認性を以下の基準で評価し、１０個の物品における評価値の平均及び標準偏差をそれぞれ求めた。評価値の平均が高いほど指紋視認性が低減されており、評価値の標準偏差が低いほど指紋視認性バラツキが抑制されていることを意味する。

　１：擬似指紋が明確に視認できる
　２：擬似指紋が少し見えにくいが、視認できる
　３：擬似指紋が見えにくいが、指紋の線をある程度確認できる
　４：指紋の線は確認できないが、擬似指紋の付着部分をわずかに確認できる
　５：擬似指紋の付着部分をほとんど確認できない

＜水接触角評価＞
　例１～８の物品における表面処理層の表面に置いた約２μＬの蒸留水の接触角を、接触角測定装置（協和界面科学社製、ＤＭ－５００）を用いて測定した。表面処理層の表面における異なる５箇所で測定し、その平均値を算出した。接触角の算出には２θ法を用いた。
　上記水接触角の測定及び算出は、得られた物品の初期及び下記防汚試験後において行った。
防汚試験：表面処理層の表面にオレイン酸１ｍＬを滴下し、ウェットティッシュで３回ふき取りを行った。

　上記例において、例１～７は実施例であり、例８は比較例である。表１に示されるように、例１～７では指紋視認性評価の平均値が高く、かつ、標準偏差が低い。すなわち、例１～７では、指紋視認性が低減され、かつ、指紋視認性のバラツキが抑制されている。一方、例８では、指紋視認性評価の平均値が低く、かつ、標準偏差が高い。

　本開示の表面処理剤は、例えば、タッチパネルディスプレイ等の表示装置、光学素子、半導体素子、建築材料、自動車部品、ナノインプリント技術等における基材に対して用いることができる。また、表面処理剤は、電車、自動車、船舶、航空機等の輸送機器におけるボディー、窓ガラス(フロントガラス、サイドガラス、リアガラス)、ミラー、バンパー等に対して用いることができる。さらに、表面処理剤は、建築物外壁、テント、太陽光発電モジュール、遮音板、コンクリート等の屋外物品；漁網、虫取り網、水槽に対して用いることができる。また、表面処理剤は、台所、風呂場、洗面台、鏡、トイレ周辺部品；シャンデリア、タイル等の陶磁器；人工大理石、エアコン等の各種屋内設備に対して用いることができる。また、表面処理剤は、工場内の治具、内壁、配管等の防汚処理としても用いることができる。また、表面処理剤は、ゴーグル、眼鏡、ヘルメット、パチンコ、繊維、傘、遊具、サッカーボールに対して用いることができる。また、表面処理剤は、食品用包材、化粧品用包材、ポットの内部等の各種包材の付着防止剤としても用いることができる。また、表面処理剤は、カーナビゲーション、携帯電話、スマートフォン、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、ＰＤＡ、ポータブルオーディオプレーヤー、カーオーディオ、ゲーム機器、眼鏡レンズ、カメラレンズ、レンズフィルター、サングラス、胃カメラ等の医療用器機、複写機、ＰＣ、ディスプレイ（例えば、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ、タッチパネルディスプレイ）、タッチパネル、保護フィルム、及び反射防止フィルム等の光学部材に対して用いることができる。

　２０２２年４月２６日に出願された日本国特許出願第２０２２－０７２２０２号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。また、本明細書に記載された全ての文献、特許出願及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。

Claims

　下記式（Ａ）で表される基Ａと、芳香環基及びビニレン基からなる群より選択される少なくとも一種である基Ｂと、反応性シリル基と、を有するオルガノシラン化合物を含む表面処理剤。
　（Ｒ^３Ｚ）_ｐ　　…（Ａ）
　式（Ａ）中、
　Ｒ^３はそれぞれ独立にアルキレン基であり、
　Ｚはそれぞれ独立に－Ｏ－又は－ＮＲ^４－であり、Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子又は炭化水素基であり、
　ｐは１以上の整数である。
　前記基Ａが、単結合又は連結基を介して前記基Ｂに結合し、
　前記基Ａが、単結合又は連結基を介して前記反応性シリル基に結合している、
　請求項１に記載の表面処理剤。
　前記オルガノシラン化合物は、前記基Ｂとして、芳香環基を少なくとも含み前記芳香環基が前記オルガノシラン化合物の末端に位置する基Ｂを有する、
　請求項２に記載の表面処理剤。
　前記基Ｂが、単結合又は連結基を介して前記基Ａに結合し、
　前記基Ｂが、単結合又は連結基を介して前記反応性シリル基に結合している、
　請求項１に記載の表面処理剤。
　前記オルガノシラン化合物は、前記オルガノシラン化合物の末端に位置する基Ａを有する、
　請求項４に記載の表面処理剤。
　前記オルガノシラン化合物が、前記基Ａとして第１の基Ａ及び第２の基Ａを少なくとも有し、かつ、前記反応性シリル基として第１の反応性シリル基及び第２の反応性シリル基を少なくとも有し、
　前記基Ｂの一端が単結合又は連結基を介して前記第１の基Ａに結合し、前記第１の基Ａが単結合又は連結基を介して前記第１の反応性シリル基と結合し、
　前記基Ｂの他端が単結合又は連結基を介して前記第２の基Ａに結合し、前記第２の基Ａが単結合又は連結基を介して前記第２の反応性シリル基と結合している、
　請求項１に記載の表面処理剤。
　前記オルガノシラン化合物が、前記基Ｂとして第１の基Ｂ及び第２の基Ｂを少なくとも有し、かつ、前記反応性シリル基として第１の反応性シリル基及び第２の反応性シリル基を少なくとも有し、
　前記基Ａの一端が単結合又は連結基を介して前記第１の基Ｂに結合し、前記第１の基Ｂが単結合又は連結基を介して前記第１の反応性シリル基と結合し、
　前記基Ａの他端が単結合又は連結基を介して前記第２の基Ｂに結合し、前記第２の基Ｂが単結合又は連結基を介して前記第２の反応性シリル基と結合している、
　請求項１に記載の表面処理剤。
　下記式（１－１）、（１－２）、（１－３）、又は（１－４）で表されるオルガノシラン化合物を含む表面処理剤。

　式（１－１）、（１－２）、（１－３）、及び（１－４）中、
　Ａ^１、Ａ^２、及びＡ^３はそれぞれ独立に下記式（Ａ）で表される基であり、
　Ｂ^１は１価の芳香環基であり、
　Ｂ^２、Ｂ^３、及びＢ^４はそれぞれ独立に芳香環基及びビニレン基からなる群より選択される少なくとも一種である２価の基であり、
　Ｂ^５は（ｋ＋１）価の芳香環基であり
　Ｌ^１、Ｌ^４、Ｌ^５、Ｌ^６、及びＬ^７はそれぞれ独立に単結合又は２価の連結基であり、
　Ｙ^１はそれぞれ独立に単結合又は（ｇ＋１）価の連結基であり、
　Ｙ^２は単結合又は（ｊ＋１）価の連結基であり、
　Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌ^２及びＬ^３はそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ａ、ｂ、ｃ、及びｄはそれぞれ独立に０～３０の整数であり、
　ｍ及びｎはそれぞれ独立に０～２の整数であり、
　ｇ及びｊはそれぞれ独立に１以上の整数であり、
　ｋは１～５の整数である。
　（Ｒ^３Ｚ）_ｐ　　…（Ａ）
　式（Ａ）中、
　Ｒ^３はそれぞれ独立にアルキレン基であり、
　Ｚはそれぞれ独立に－Ｏ－又は－ＮＲ^４－であり、Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子又は炭化水素基であり、
　ｐは１以上の整数である。
　さらに液状媒体を含む、請求項１～８のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　基材に対して、請求項１～８のいずれか１項に記載の表面処理剤を用いて表面処理を行い、基材上に表面処理層が形成された物品を製造する、物品の製造方法。
　基材に対して、請求項９に記載の表面処理剤を用いて表面処理を行い、基材上に表面処理層が形成された物品を製造する、物品の製造方法。
　基材と、前記基材上に配置され、請求項１～８のいずれか１項に記載の表面処理剤で表面処理された表面処理層と、を含む物品。
　前記物品が光学部材である、請求項１２に記載の物品。
　前記物品がディスプレイ又はタッチパネルである、請求項１２に記載の物品。
　下記式（１－１－１）で表される化合物。

　式（１－１－１）中、
　Ｂ^１は１価の芳香環基であり、
　Ｒ^３はそれぞれ独立に炭素数１～６のアルキレン基であり、
　Ｚはそれぞれ独立に－Ｏ－又は－ＮＲ^４－であり、Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子又は炭化水素基であり、
　Ｌ^１は２価の連結基であり、
　Ｙ^１は（ｇ＋１）価の連結基であり、
　Ｒ^１はそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌ^２はそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｎは０～２の整数であり、
　ｇは１以上の整数であり、
　ｐは１以上の整数であり、
　ｐが１であるときＲ^３が炭素数３～６のアルキレン基であり、ｐが２以上の整数であるときＲ^３が炭素数１～６のアルキレン基である。
　下記式（１－２－１）で表される化合物。

　式（１－２－１）中、
　Ｂ^２は芳香環基及びビニレン基からなる群より選択される少なくとも一種である２価の基であり、
　Ｒ^３はそれぞれ独立に炭素数１～６のアルキレン基であり、
　Ｚはそれぞれ独立に－Ｏ－又は－ＮＲ^４－であり、Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子又は炭化水素基であり、
　Ｌ^１は２価の連結基であり、
　Ｙ^１は（ｇ＋１）価の連結基であり、
　Ｒ^１はそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌ^２はそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｎは０～２の整数であり、
　ｇは１以上の整数であり、
　ｐは２以上の整数である。
　下記式（１－３－１）で表される化合物。

　式（１－３－１）中、
　Ｂ^２及びＢ^４はそれぞれ独立に芳香環基及びビニレン基からなる群より選択される少なくとも一種である２価の基であり、
　Ｒ^３はそれぞれ独立に炭素数１～６のアルキレン基であり、
　Ｚはそれぞれ独立に－Ｏ－又は－ＮＲ^４－であり、Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子又は炭化水素基であり、
　Ｌ^１及びＬ^６はそれぞれ独立に２価の連結基であり、
　Ｙ^１は（ｇ＋１）価の連結基であり、
　Ｙ^２は（ｊ＋１）価の連結基であり、
　Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌ^２及びＬ^３はそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｍ及びｎはそれぞれ独立に０～２の整数であり、
　ｇ及びｊはそれぞれ独立に１以上の整数であり、
　ｐは１以上の整数であり、
　ｐが１であるときＲ^３が炭素数３～６のアルキレン基であり、ｐが２以上の整数であるときＲ^３が炭素数１～６のアルキレン基である。