WO2023181867A1 - 化合物、組成物、表面処理剤、物品の製造方法、及び物品 - Google Patents

化合物、組成物、表面処理剤、物品の製造方法、及び物品 Download PDF

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WO2023181867A1
WO2023181867A1 PCT/JP2023/008168 JP2023008168W WO2023181867A1 WO 2023181867 A1 WO2023181867 A1 WO 2023181867A1 JP 2023008168 W JP2023008168 W JP 2023008168W WO 2023181867 A1 WO2023181867 A1 WO 2023181867A1
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WO
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group
compound
carbon atoms
surface treatment
formula
Prior art date
Application number
PCT/JP2023/008168
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English (en)
French (fr)
Inventor
弘之 原
元志 青山
弘毅 渡邉
Original Assignee
Ａｇｃ株式会社
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Filing date
Publication date
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Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
    • C07F7/02—Silicon compounds
    • C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/18—Materials not provided for elsewhere for application to surfaces to minimize adherence of ice, mist or water thereto; Thawing or antifreeze materials for application to surfaces
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements

Definitions

  • the present disclosure relates to compounds, compositions, surface treatment agents, methods of manufacturing articles, and articles.
  • Patent Document 1 describes a surface treatment agent made of n-octadecyltrimethoxysilane.
  • the present disclosure provides a compound capable of imparting good water repellency and abrasion resistance to a base material, a composition and a surface treatment agent containing the compound, an article using the surface treatment agent, and a method for manufacturing the article. Regarding.
  • Means for solving the above problems include the following aspects.
  • ⁇ 1> Contains at least two linear alkylene groups, a trivalent or higher valence linking group to which the at least two linear alkylene groups are bonded, and a reactive silyl group bonded to the trivalent or higher linking group.
  • ⁇ 2> The compound according to ⁇ 1>, wherein at least one linear alkylene group among the at least two linear alkylene groups has 10 or more carbon atoms.
  • the trivalent or higher valent linking group is a group having at least one branch selected from the group consisting of a carbon atom, a nitrogen atom, a silicon atom, and a cyclic group, in ⁇ 1> or ⁇ 2>.
  • Y 1 is a (j+g)-valent linking group
  • R is each independently a monovalent hydrocarbon group
  • L is each independently a hydrolyzable group or a hydroxyl group
  • n is an integer from 0 to 2
  • j is an integer of 2 or more
  • g is an integer greater than or equal to 1
  • m1 is an integer greater than or equal to 0.
  • g is 1.
  • ⁇ 6> The compound according to ⁇ 4> or ⁇ 5>, wherein in formula (1), m1 is an integer of 9 or more.
  • Y 1 is a group having at least one branch selected from the group consisting of a carbon atom, a nitrogen atom, a silicon atom, and a cyclic group, ⁇ 4> to ⁇ 6> The compound according to any one of .
  • Y 10a is a (j1+g1)-valent linking group
  • a composition comprising the compound according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7> and a liquid medium.
  • a surface treatment agent comprising the compound according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>.
  • a method for manufacturing an article comprising performing a surface treatment on a base material using the surface treatment agent described in ⁇ 10> or ⁇ 11> to manufacture an article in which a surface treatment layer is formed on the base material.
  • ⁇ 13> An article comprising a base material and a surface treatment layer disposed on the base material and surface treated with the surface treatment agent according to ⁇ 10>.
  • ⁇ 14> The article according to ⁇ 13>, wherein the article is an optical member.
  • a compound capable of imparting good water repellency and abrasion resistance to a base material, a composition and a surface treatment agent containing the compound, an article using the surface treatment agent, and a method for manufacturing the article are provided. be done.
  • step includes not only a step that is independent from other steps, but also a step that cannot be clearly distinguished from other steps, as long as the purpose of the step is achieved. .
  • numerical ranges indicated using “ ⁇ ” include the numerical values written before and after " ⁇ " as minimum and maximum values, respectively.
  • each component may contain multiple types of corresponding substances. If there are multiple types of substances corresponding to each component in the composition, the content rate or content of each component is the total content rate or content of the multiple types of substances present in the composition, unless otherwise specified. means quantity.
  • the term “layer” or “film” refers to the case where the layer or film is formed only in a part of the region, in addition to the case where the layer or film is formed in the entire region when observing the region where the layer or film is present. This also includes cases where it is formed.
  • “Surface treatment layer” means a layer formed on the surface of a base material by surface treatment.
  • a compound or group is represented by a specific formula (X)
  • the compound or group represented by the formula (X) may be referred to as a compound (X) and a group (X), respectively.
  • a (poly)oxyalkylene group means an oxyalkylene group or a polyoxyalkylene group.
  • the compound of the present disclosure comprises at least two linear alkylene groups, a trivalent or higher valent linking group to which the at least two linear alkylene groups are bonded, and a reactive silyl group bonded to the trivalent or higher valent linking group. , has. It has been surprisingly found that when the surface of a substrate is treated with a composition containing the compound of the present disclosure, the surface of the substrate has excellent water repellency and abrasion resistance. Although the reason for this is not clear, it is thought that excellent water repellency and abrasion resistance are exhibited by using a compound having a branched structure containing at least two linear alkylene groups.
  • the "straight chain alkylene group” in the compounds of the present disclosure means an unsubstituted straight chain alkylene group.
  • the above-mentioned "straight chain alkylene group” is, for example, a straight chain alkyl group represented by CH 3 (CH 2 ) m - (where m represents an integer of 0 or more) -CH 2 (CH 2 ) m - It is assumed that the substructure represented by is included.
  • both ends of the "linear alkylene group” are bonded to a group other than -CH 2 -.
  • a straight chain alkylene group refers to a straight chain from one end bonded to a group that is not -CH 2 - to the other end bonded to a group other than -CH 2 -. It means the number of carbon atoms in the chain alkylene group.
  • the number of carbon atoms in the linear alkylene group is 1 or more, preferably 5 or more, and more preferably 10 or more from the viewpoint of water repellency and abrasion resistance. From the viewpoint of excellent ease of production, the number of carbon atoms is preferably 30 or less, more preferably 28 or less, and even more preferably 26 or less. From this point of view, the number of carbon atoms is preferably 1 to 30, more preferably 5 to 28, and even more preferably 10 to 26. It is preferable that the carbon number of at least one of the at least two linear alkylene groups in the compound of the present disclosure is within the above range, and the carbon number of at least two linear alkylene groups is within the above range. is more preferable.
  • the number of linear alkylene groups bonded to the trivalent or higher valence linking group is 2 or more, and from the viewpoint of further improving water repellency and abrasion resistance, it may be 3 or more, or even 4 or more. good. From the viewpoint of excellent ease of production, the number of linear alkylene groups is preferably 8 or less, more preferably 6 or less, and even more preferably 4 or less. From this viewpoint, the number of linear alkylene groups is preferably 2 to 8, more preferably 2 to 6, and even more preferably 2 to 4.
  • a reactive silyl group means a group in which a reactive group is bonded to a Si atom.
  • the reactive group is preferably a hydrolyzable group or a hydroxyl group.
  • a hydrolyzable group is a group that becomes a hydroxyl group through a hydrolysis reaction. That is, the hydrolyzable silyl group represented by Si-L becomes a silanol group represented by Si-OH through a hydrolysis reaction.
  • the silanol groups further react among themselves to form Si--O--Si bonds. Further, the silanol group can undergo a dehydration condensation reaction with a silanol group derived from an oxide present on the surface of the base material to form a Si--O--Si bond.
  • the hydrolyzable group include an alkoxy group, an aryloxy group, a halogen atom, an acyl group, an acyloxy group, and an isocyanato group (-NCO).
  • the alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms.
  • the aryl group of the aryloxy group includes a heteroaryl group.
  • the halogen atom is preferably a chlorine atom.
  • the acyl group is preferably an acyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • the acyloxy group is preferably an acyloxy group having 1 to 6 carbon atoms.
  • the reactive silyl group is preferably an alkoxysilyl group or a trichlorosilyl group. From the viewpoint of ease of handling by-products generated in the reaction with the base material, the reactive silyl group is more preferably an alkoxysilyl group.
  • the alkoxysilyl group is preferably a dialkoxysilyl group or a trialkoxysilyl group, and more preferably a trialkoxysilyl group.
  • the number of reactive silyl groups possessed by the compound of the present disclosure is 1 or more, and from the viewpoint of further improving the wear resistance of the surface treatment layer, the number is preferably 1 to 18, more preferably 2 to 12, and 2 to 8. More preferred.
  • the number of reactive silyl groups may be one.
  • R is each independently a monovalent hydrocarbon group
  • L is each independently a hydrolyzable group or a hydroxyl group
  • n is an integer from 0 to 2.
  • the multiple groups (S1) may be the same or different. From the viewpoint of ease of obtaining raw materials and ease of manufacturing the compound, it is preferable that the plurality of groups (S1) are the same.
  • Each R is independently a monovalent hydrocarbon group, preferably a monovalent saturated hydrocarbon group.
  • the number of carbon atoms in R is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3, and even more preferably 1 to 2.
  • the hydrolyzable group is preferably the one described above.
  • L is preferably an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms) or a halogen atom from the viewpoint of ease of manufacturing the compound.
  • L is preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, from the viewpoint of less outgassing during coating and better storage stability of the compound.
  • L is more preferably an ethoxy group.
  • L is more preferably a methoxy group.
  • at least one L is preferably the above group, and more preferably all L are the above groups.
  • n is an integer of 0 to 2, preferably 0 or 1, and more preferably 0.
  • the presence of a plurality of L's makes the adhesion of the surface treatment layer to the base material stronger.
  • n is 1 or less, the plurality of L's present in one molecule may be the same or different from each other. From the viewpoint of ease of obtaining raw materials and ease of manufacturing the compound, it is preferable that the plurality of L's are the same.
  • n is 2
  • multiple R's present in one molecule may be the same or different from each other. From the viewpoint of ease of obtaining raw materials and ease of manufacturing the compound, it is preferable that a plurality of R's are the same.
  • the trivalent or higher-valent linking group in the compound of the present disclosure may be any group as long as it does not impair the purpose of the present disclosure.
  • the trivalent or higher-valent linking group is preferably a group having at least one branch selected from the group consisting of a carbon atom, a nitrogen atom, a silicon atom, and a cyclic group. In this case, it is preferable that a branched structure is formed in the compound of the present disclosure by each of the at least two linear alkylene groups bonding to the branching portion directly or via a linking group.
  • Examples of the trivalent or higher-valent linking group include a group explained as Y 1 in formula (1) below, and a linking group explained as Y 1a -Y 1b in formula (2) below.
  • the trivalent or higher-valent linking group may or may not have an organosiloxane residue. Note that among the trivalent or higher-valent linking groups, the terminals that bond to the at least two linear alkylene groups are not -CH 2 -, and the other terminals are -CH 2 - but not -CH 2 -. Good too.
  • the compound of the present disclosure may or may not have an organosiloxane residue.
  • the compound of the present disclosure is preferably a compound represented by the following formula (1) from the viewpoint of excellent water repellency and abrasion resistance.
  • Y 1 is a (j+g)-valent linking group
  • R is each independently a monovalent hydrocarbon group
  • L is each independently a hydrolyzable group or a hydroxyl group
  • n is an integer from 0 to 2
  • j is an integer of 2 or more
  • g is an integer greater than or equal to 1
  • m1 is an integer greater than or equal to 0.
  • Y 1 is a (j+g)-valent linking group.
  • Y 1 is preferably a group having at least one branch selected from the group consisting of a carbon atom, a nitrogen atom, a silicon atom, and a cyclic group. In this case, it is preferable that a branched structure is formed in the compound of the present disclosure by each of [CH 3 (CH 2 ) m1 ⁇ ] bonding to the branch portion directly or via a linking group.
  • Examples of Y 1 include at least one branch selected from the group consisting of carbon atoms, nitrogen atoms, silicon atoms, and cyclic groups, combinations of these with divalent linking groups, and combinations thereof.
  • Examples of the cyclic group include a cyclic group having a ring exemplified as the ring in X 31 described below.
  • Examples of the divalent linking group include a divalent hydrocarbon group and a divalent linking group exemplified as Q g in Y 1a in formula (2) described below.
  • Examples of the divalent hydrocarbon group include an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, and the like.
  • the divalent hydrocarbon group may or may not have an ether oxygen atom or a divalent organopolysiloxane residue. However, the end bonded to [CH 3 (CH 2 ) m1 -] of Y 1 is not -(CH 2 )-.
  • Examples of Y 1 include a group explained as Y 1a -Y 1b in formula (2) below. Y 1 may or may not have an organosiloxane residue.
  • j is an integer of 2 or more, and from the viewpoint of further improving water repellency and abrasion resistance, it may be an integer of 3 or more, or it may be an integer of 4 or more. From the viewpoint of excellent ease of manufacture, j is preferably an integer of 8 or less, more preferably an integer of 6 or less, and even more preferably an integer of 4 or less. From this viewpoint, j is preferably an integer of 2 to 8, more preferably an integer of 2 to 6, and even more preferably an integer of 2 to 4.
  • g is an integer of 1 or more. In one embodiment, from the viewpoint of excellent water repellency and abrasion resistance, g is preferably 1 to 15, more preferably 1 to 6. From the viewpoint of better expressing water repellency and abrasion resistance due to the at least two linear alkylene groups in the compound of the present disclosure, g is preferably 1 to 3, more preferably 1 or 2. , 1 is more preferable.
  • m1 is an integer greater than or equal to 0. From the viewpoint of excellent water repellency and abrasion resistance, the number is preferably 4 or more, more preferably 6 or more, and even more preferably 9 or more. From the viewpoint of excellent ease of production, m1 is preferably 29 or less, more preferably 27 or less, and even more preferably 25 or less. From this point of view, m1 is preferably 0 to 29, more preferably 4 to 27, even more preferably 6 to 27, and particularly preferably 9 to 25. It is preferable that m1 in at least one of the j [CH 3 (CH 2 ) m1 ⁇ ]s is within the above range, and more preferably at least two m1s are within the above range.
  • R, L, and n are the same as the definitions and specific examples of each symbol in the reactive silyl group.
  • a plurality of [CH 3 (CH 2 ) m1 ⁇ ] in compound (1) may be the same or different from each other.
  • compound (1) has a plurality of [-Si(R) n L 3-n ]
  • the plurality of [-Si(R) n L 3-n ] may be the same or different from each other. .
  • the compound (1) is preferably a compound represented by the following formula (2) from the viewpoint of excellent water repellency and abrasion resistance.
  • Y 1a is a (j+1)-valent linking group
  • Y 1b is a (g+1)-valent linking group
  • R is each independently a monovalent hydrocarbon group
  • L is each independently a hydrolyzable group or a hydroxyl group
  • n is an integer from 0 to 2
  • j is an integer of 2 or more
  • g is an integer greater than or equal to 1
  • m1 is an integer greater than or equal to 0.
  • Y 1a is a (j+1)-valent linking group.
  • Y 1a is preferably a group having at least one branch selected from the group consisting of a carbon atom, a nitrogen atom, a silicon atom, and a cyclic group.
  • a branched structure is formed in the compound of the present disclosure by each of [CH 3 (CH 2 ) m1 ⁇ ] bonding to the branch portion directly or via a linking group.
  • Examples of Y 1a include at least one branch selected from the group consisting of carbon atoms, nitrogen atoms, silicon atoms, and cyclic groups, combinations of these with divalent linking groups, and combinations thereof.
  • Examples of the cyclic group include a cyclic group having a ring exemplified as the ring in X 31 described below.
  • Examples of the divalent linking group include a divalent hydrocarbon group and a divalent linking group represented by Q g in Y 1a in formula (2) described below.
  • Examples of the divalent hydrocarbon group include an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, and the like.
  • the divalent hydrocarbon group may or may not have an ether oxygen atom or a divalent organopolysiloxane residue.
  • Y 1a may or may not have an organosiloxane residue. However, the end bonded to [CH 3 (CH 2 ) m1 -] of Y 1a is not -(CH 2 )-.
  • Examples of Y 1a include groups represented by the following formula.
  • Q g is each independently a single bond or a divalent linking group
  • Y 2 is a (j+1)-valent linking group
  • j is an integer of 2 or more.
  • j has the same meaning as j in formula (2).
  • the [CH 3 (CH 2 ) m1 -] end of Q g is not -(CH 2 )-. Further, it is assumed that no divalent linking group is connected to the Q g side of Y 2 . That is, when Q g is a divalent linking group, the region from the end bonded to [CH 3 (CH 2 ) m1 -] to the end of the divalent linking group is represented by Q g , and the atoms constituting the branch part Alternatively, a connecting group starting from an atomic group shall be represented by Y2 .
  • Q g is a single bond or a divalent linking group.
  • divalent linking groups include divalent hydrocarbon groups, divalent heterocyclic groups, -O-, -S-, -SO 2 -, -N(R d )-, -C(O)-, Examples thereof include -Si(R a ) 2 - and a combination of two or more thereof.
  • the divalent hydrocarbon group may be a divalent saturated hydrocarbon group, a divalent aromatic hydrocarbon group, an alkenylene group, or an alkynylene group.
  • the divalent saturated hydrocarbon group may be linear, branched, or cyclic, and includes, for example, an alkylene group.
  • the [CH 3 (CH 2 ) m1 -] end of Q g is not an alkylene group.
  • the divalent saturated hydrocarbon group preferably has 1 to 20 carbon atoms.
  • the divalent aromatic hydrocarbon group preferably has 5 to 20 carbon atoms, such as a phenylene group.
  • the divalent hydrocarbon group may be an alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms or an alkynylene group having 2 to 20 carbon atoms.
  • the above R a is an alkyl group (preferably having 1 to 10 carbon atoms) or a phenyl group.
  • the above R d is a hydrogen atom or an alkyl group (preferably having 1 to 10 carbon atoms).
  • Examples of groups combining two or more of the above-mentioned types include -OC(O)-, -C(O)O-, -C(O)S-, -C(O)N(R d )-, - N(R d )C(O)-, -N(R d )C(O)N(R d )-, -N(R d )C(O)O-, -OC(O)N(R d )-, -SO 2 N(R d )-, -N(R d )SO 2 -, -C(O)N(R d )-alkylene group, -N(R d )C(O)-alkylene group , (poly)oxyalkylene group, -OC(O)-alkylene group, -C(O)O-alkylene group, -C(O)S-alkylene group, -SO 2 N(R d )-al
  • Y 2 is a (j+1)-valent linking group.
  • Y 2 is preferably a group having at least one branch selected from the group consisting of a carbon atom, a nitrogen atom, a silicon atom, and a cyclic group.
  • Examples of Y 2 include at least one branch selected from the group consisting of carbon atoms, nitrogen atoms, silicon atoms, and cyclic groups, combinations of these with divalent linking groups, and combinations thereof.
  • the divalent linking group is connected to the side opposite to the Q g side of Y 2 .
  • the cyclic group include a cyclic group having a ring exemplified as the ring in X 31 described below.
  • Examples of the divalent linking group include an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, and the like, with an alkylene group being preferred.
  • Y 2 is preferably a group in which an alkylene group is bonded to at least one branch selected from the group consisting of a carbon atom, a nitrogen atom, a silicon atom, and a cyclic group.
  • the alkylene group is bonded to the Y 1b side of Y 2 .
  • the number of carbon atoms in the alkylene group is preferably 1 to 20, may be 1 to 10, may be 1 to 6, and may be 1 to 3. There may be.
  • the terminal of Y 1b bonded to Y 2 is not -CH 2 -.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group in Y 2 is the number of carbon atoms from the first -CH 2 - on the atom or atomic group side of the branch to the last -CH 2 - on the Y 1b side.
  • Y 1a A structural example of Y 1a is shown below.
  • * indicates the bonding position with the linear alkylene group
  • ** indicates the bonding position with Y 1b .
  • Y 1b is a single bond or a (g+1)-valent linking group.
  • the linking group include a hydrocarbon group, a carbon atom, a nitrogen atom, a silicon atom, a cyclic group, a divalent to octavalent organopolysiloxane residue, and combinations thereof, as well as formulas (3-1A) and ( 3-1B), and groups obtained by removing Si(R) n L 3-n from formulas (3-1A-1) to (3-1A-6).
  • the hydrocarbon group may be linear, branched, or cyclic.
  • the hydrocarbon group may or may not have an ether oxygen atom or a divalent organopolysiloxane residue.
  • Y 1b may be groups (g2-1) to (g2-14) described below. Y 1b may or may not have an organosiloxane residue. Note that the end of Y 1b on the Y 1a side is not -(CH 2 )-.
  • the group represented by -Y 1b [-Si(R) n L 3-n ] g in formula (2) is preferably groups (3-1A) and (3-1B).
  • Q a is a single bond or a divalent linking group
  • X 31 is a group having a single bond, an alkylene group, a carbon atom, a nitrogen atom, a silicon atom, a 2- to 8-valent organopolysiloxane residue, or a (h+i+1)-valent ring
  • Q b is a single bond or a divalent linking group
  • R 31 is a hydrogen atom, a hydroxyl group or an alkyl group
  • h is an integer of 1 or more
  • i is an integer of 0 or more
  • the definitions and specific examples of R, L, and n are the same as the definitions and specific examples of each symbol in the reactive silyl group.
  • Q c is a single bond or a divalent linking group
  • R 32 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms
  • Q d is a single bond or an alkylene group
  • R 33 is a hydrogen atom or a halogen atom
  • y is an integer from 1 to 10
  • the definitions and specific examples of R, L, and n are the same as the definitions and specific examples of each symbol in the reactive silyl group.
  • Q a is a single bond or a divalent linking group.
  • divalent linking groups include divalent hydrocarbon groups, divalent heterocyclic groups, -O-, -S-, -SO 2 -, -N(R d )-, -C(O) -, -Si(R a ) 2 -, and a combination of two or more thereof.
  • the divalent hydrocarbon group may be a divalent saturated hydrocarbon group, a divalent aromatic hydrocarbon group, an alkenylene group, or an alkynylene group.
  • the divalent saturated hydrocarbon group may be linear, branched, or cyclic, and includes, for example, an alkylene group.
  • the divalent saturated hydrocarbon group preferably has 1 to 20 carbon atoms.
  • the divalent aromatic hydrocarbon group preferably has 5 to 20 carbon atoms, such as a phenylene group.
  • the divalent hydrocarbon group may be an alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms or an alkynylene group having 2 to 20 carbon atoms.
  • the above R a is an alkyl group (preferably having 1 to 10 carbon atoms) or a phenyl group.
  • the above R d is a hydrogen atom or an alkyl group (preferably having 1 to 10 carbon atoms).
  • Examples of groups combining two or more of the above-mentioned types include -OC(O)-, -C(O)O-, -C(O)S-, -C(O)N(R d )-, - N(R d )C(O)-, -N(R d )C(O)N(R d )-, -N(R d )C(O)O-, -OC(O)N(R d )-, -SO 2 N(R d )-, -N(R d )SO 2 -, -C(O)N(R d )-alkylene group, -N(R d )C(O)-alkylene group , (poly)oxyalkylene group, -OC(O)-alkylene group, -C(O)O-alkylene group, -C(O)S-alkylene group, -SO 2 N(R d )-al
  • Q a includes a single bond, -C(O)N(R d )-, -OC(O)N(R d )-, and -N(R d )C(O)N(R d )- is preferred.
  • X 31 is a group having a single bond, an alkylene group, a carbon atom, a nitrogen atom, a silicon atom, a 2- to 8-valent organopolysiloxane residue, or a (h+i+1)-valent ring.
  • the alkylene group may or may not have -O-, a silphenylene skeleton group, a divalent organopolysiloxane residue, or a dialkylsilylene group.
  • the alkylene group may have a plurality of groups selected from the group consisting of -O-, a silphenylene skeleton group, a divalent organopolysiloxane residue, and a dialkylsilylene group.
  • the alkylene group represented by X 31 preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms.
  • Examples of the divalent to octavalent organopolysiloxane residues include divalent organopolysiloxane residues and (w2+1)-valent organopolysiloxane residues described below.
  • the ring is a ring other than an organopolysiloxane ring.
  • the ring in X 31 means a ring other than an organopolysiloxane ring.
  • the ring in X 31 may be a monocyclic ring, a fused polycyclic ring, a bridged ring, a spiro ring, or an assembled polycyclic ring, and the atoms constituting the ring may be a carbocyclic ring consisting only of carbon atoms, or a divalent ring.
  • a heterocycle consisting of a heteroatom having the above valence and a carbon atom may also be used.
  • the bond between atoms constituting the ring may be a single bond or a multiple bond.
  • the ring may be an aromatic ring or a non-aromatic ring.
  • the monocyclic ring is preferably a 4- to 8-membered ring, more preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • the fused polycyclic ring is preferably a fused polycyclic ring in which two or more 4- to 8-membered rings are fused together, and fused polycyclic rings in which 2 or 3 rings selected from 5-membered rings and 6-membered rings are bonded together; A fused polycyclic ring in which one or two rings selected from membered rings and six-membered rings and one four-membered ring are bonded is more preferred.
  • the bridged ring is preferably a bridged ring whose largest ring is a 5- or 6-membered ring
  • the spiro ring is preferably a spiro ring consisting of two 4- to 6-membered rings.
  • a collective polycyclic ring two or three rings selected from 5-membered rings and 6-membered rings are bonded via a single bond, 1 to 3 carbon atoms, or 1 heteroatom with a valence of 2 or 3.
  • a set of polycyclic rings is preferred.
  • the hetero atoms constituting the ring are preferably nitrogen atoms, oxygen atoms, and sulfur atoms, and more preferably nitrogen atoms and oxygen atoms.
  • the number of heteroatoms constituting the ring is preferably 3 or less. Furthermore, when the number of heteroatoms constituting the ring is two or more, these heteroatoms may be the same or different.
  • a heterocycle of a membered ring a condensed ring in which two or three of these rings are fused together, a bridged ring in which the largest ring is a 5- or 6-membered ring, and two or more of these rings
  • One type selected from the group consisting of a single bond, an alkylene group having 3 or less carbon atoms, an oxygen atom, or a sulfur atom as a linking group is preferable.
  • Preferred rings include a benzene ring, a 5- or 6-membered aliphatic ring, a 5- or 6-membered heterocycle having a nitrogen atom or an oxygen atom, and a 5- or 6-membered carbon ring and a 4- to 6-membered heterocycle.
  • rings include the rings shown below, 1,3-cyclohexadiene ring, 1,4-cyclohexadiene ring, anthracene ring, cyclopropane ring, decahydronaphthalene ring, norbornene ring, norbornadiene ring, furan ring, Examples include a pyrrole ring, a thiophene ring, a pyrazine ring, a morpholine ring, an aziridine ring, an isoquinoline ring, an oxazole ring, an isoxazole ring, a thiazole ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, a pyran ring, a pyridazine ring, a pyrimidine ring, and an indene ring.
  • the remaining bonds, if any, are bonded to hydrogen atoms or substituents.
  • X 31 is a group having a carbon atom, a nitrogen atom, a silicon atom, a 4- to 8-valent organopolysiloxane residue, or a (h+i+1)-valent ring, from the viewpoint of improving the abrasion resistance of the surface treatment layer. is preferable, and carbon atom is more preferable.
  • Q b is a single bond or a divalent linking group.
  • divalent linking groups include divalent hydrocarbon groups, divalent heterocyclic groups, -O-, -S-, -SO 2 -, -N(R d )-, -C(O) -, -Si(R a ) 2 -, and a combination of two or more thereof.
  • the divalent hydrocarbon group may be a divalent saturated hydrocarbon group, a divalent aromatic hydrocarbon group, an alkenylene group, or an alkynylene group.
  • the divalent saturated hydrocarbon group may be linear, branched, or cyclic, and includes, for example, an alkylene group.
  • the number of carbon atoms in the divalent saturated hydrocarbon group is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, even more preferably 2 to 20, may be 2 to 10, or may be 2 to 6. Examples include 2, 3, 8, 9, and 11.
  • the divalent aromatic hydrocarbon group preferably has 5 to 20 carbon atoms, such as a phenylene group.
  • the divalent hydrocarbon group may be an alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms or an alkynylene group having 2 to 20 carbon atoms.
  • the above R a is an alkyl group (preferably having 1 to 10 carbon atoms) or a phenyl group.
  • the above R d is a hydrogen atom or an alkyl group (preferably having 1 to 10 carbon atoms).
  • Examples of groups combining two or more of the above include -OC(O)-, -C(O)O-, -C(O)S-, -C(O)N(R d )- , -N(R d )C(O)-, -N(R d )C(O)N(R d )-, -N(R d )C(O)O-, -OC(O)N( R d )-, -SO 2 N(R d )-, -N(R d )SO 2 -, -C(O)N(R d )-, -N(R d )C(O )-, an alkylene group having an etheric oxygen atom, an alkylene group having -OC(O)-, an alkylene group having -C(O)O-, an alkylene group having -C(O)S- , an alkylene group having -SO 2 N(R d
  • R 31 is a hydrogen atom, a hydroxyl group or an alkyl group.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 3, and even more preferably 1.
  • h is an integer greater than or equal to 1
  • i is an integer greater than or equal to 0.
  • X 31 is a single bond or an alkylene group
  • h is 1 and i is 0.
  • X 31 is a nitrogen atom
  • h is an integer of 1 to 2
  • i is an integer of 0 to 1
  • X 31 is a carbon atom or a silicon atom
  • h is an integer of 1 to 3
  • i is an integer of 0 to 2
  • X 31 is a divalent to octavalent organopolysiloxane residue
  • h is an integer of 1 to 7
  • i is an integer of 0 to 6
  • X 31 is a group having a (h+i+1)-valent ring
  • h is an integer of 1 to 7
  • i is an integer of 0 to 6
  • two or more (-R 31 )s may be the same or different.
  • i is preferably 0 from the viewpoint of improving the wear resistance of the surface treatment layer.
  • Q c is a single bond or a divalent linking group.
  • the definition and details of the divalent linking group are the same as those explained in Q a above.
  • R 32 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and is preferably a hydrogen atom from the viewpoint of easy production of the compound.
  • the alkyl group a methyl group is preferred.
  • Q d is a single bond or an alkylene group.
  • the alkylene group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms. From the viewpoint of easy production of the compound, Q d is preferably a single bond or -CH 2 -.
  • R 33 is a hydrogen atom or a halogen atom, and is preferably a hydrogen atom from the viewpoint of easy production of the compound.
  • y is an integer from 1 to 10, preferably from 1 to 6.
  • Two or more [CH 2 C(R 32 )(-Q d -Si(R) n L 3-n )] may be the same or different.
  • groups (3-1A-1) to (3-1A-7) are preferable.
  • X 32 is -O-, -C(O)O-, -SO 2 N(R d )-, -N(R d )SO 2 -, -N(R d ) C(O)-, -C(O)N(R d )-, -OC(O)-, -OC(O)N(R d )-, -S-, -C(O)S- , or -N(R d )- (wherein N in the formula is bonded to Q b1 ).
  • the definition of R d is as described above. s1 is 0 or 1.
  • Q b1 is a single bond; alkylene group; or -O-, silphenylene skeleton group, divalent organopolysiloxane residue or dialkylsilylene group, -O-, silphenylene skeleton group, divalent organopolysiloxane
  • the alkylene group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and even more preferably 2 to 20 carbon atoms.
  • Q b1 is a single bond, -OCH 2 CH 2 CH 2 -, -OCH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 -, and -OCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) when s1 is 0. 2 OSi(CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 - is preferred.
  • (X 32 ) s1 is -O-, -CH 2 CH 2 CH 2 - and -CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 - are preferable as Q b1 .
  • (X 32 ) s1 is -C(O)N(R d )-, it is preferably an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms (however, N in the formula is bonded to Q b1 ).
  • Q b1 is one of these groups, the compound can be easily produced.
  • group (3-1A-1) include the following groups.
  • * represents the bonding position with Y 1a in formula (2).
  • X 33 is -O-, -NH-, -C(O)O-, -SO 2 N(R d )-, -N(R d )SO 2 -, -N(R d )C(O)- or -C(O)N(R d )-.
  • R d is as described above.
  • Q a2 is a single bond, an alkylene group, -C(O)-, or an etheric oxygen atom, -C(O)-, -C(O) between carbon atoms of an alkylene group having 2 or more carbon atoms.
  • the alkylene group represented by Q a2 preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, even more preferably 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 3 carbon atoms.
  • Q a2 is -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 OCH 2 CH 2 - , -CH 2 NHCH 2 CH 2 - from the viewpoint of easy production of the compound.
  • -CH 2 OC(O)CH 2 CH 2 -, or -C(O)- are preferred.
  • s2 is 0 or 1 (however, when Q a2 is a single bond, it is 0). From the viewpoint of easy production of the compound, 0 is preferable.
  • Q b2 is an alkylene group or a group having a divalent organopolysiloxane residue, an ether oxygen atom, or -NH- between carbon atoms of an alkylene group having 2 or more carbon atoms.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group represented by Q b2 is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, even more preferably 2 to 20, may be 2 to 10, or may be 2 to 6. . Examples include 2, 3, 8, 9, and 11. Further, the number of carbon atoms may be 1 to 10.
  • the number of carbon atoms in the group having a divalent organopolysiloxane residue, ether oxygen atom or -NH- between carbon atoms of the alkylene group having 2 or more carbon atoms represented by Q b2 is 2 to 10. is preferable, and 2 to 6 are more preferable.
  • the two [-Q b2 -Si(R) n L 3-n ] may be the same or different.
  • group (3-1A-2) include the following groups.
  • * represents the bonding position with Y 1a in formula (2).
  • ⁇ in (CH 2 ) ⁇ bonded to the reactive silyl group is an integer representing the number of methylene groups, preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, even more preferably 2 to 20, It may be from 2 to 10, or from 2 to 6. Examples include 2, 3, 8, 9, and 11. Further, the number of carbon atoms may be 1 to 10.
  • a plurality of ⁇ 's contained in the same compound may be the same or different, but are preferably the same. For example, all of the plurality of ⁇ s contained in the same compound are 2, 3, 8, 9, and 11. The same applies below.
  • Q a3 is a single bond or a (poly)oxyalkylene group, and a single bond is preferable from the viewpoint of easy production of the compound.
  • the number of carbon atoms in the (poly)oxyalkylene group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10, even more preferably 1 to 6, particularly preferably 1 to 3. Further, the number of carbon atoms may be 2 to 6.
  • R g is a hydrogen atom, a hydroxyl group or an alkyl group. From the viewpoint of easy production of the compound, R g is preferably a hydrogen atom or an alkyl group.
  • the alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms, and even more preferably a methyl group.
  • Q b3 is an alkylene group or a group having an ether oxygen atom or a divalent organopolysiloxane residue between carbon atoms of an alkylene group having 2 or more carbon atoms.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group represented by Q b3 is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, even more preferably 2 to 20, may be 2 to 10, or may be 2 to 6. . Examples include 2, 3, 8, 9, and 11. Further, the number of carbon atoms may be 1 to 10.
  • the carbon number of the group having an ether oxygen atom or a divalent organopolysiloxane residue between the carbon atoms of the alkylene group having 2 or more carbon atoms, represented by Q b3 is preferably 2 to 20, and 2 to 20. 10 is more preferable, and 2 to 6 is even more preferable.
  • Q b3 is preferably -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - from the viewpoint of easy production of the compound.
  • the two [-Q b3 -Si(R) n L 3-n ] may be the same or different.
  • group (3-1A-3) include the following groups.
  • * represents the bonding position with Y 1a in formula (2).
  • Q e is -C(O)O-, -SO 2 N(R d )-, -N(R d )SO 2 -, -N(R d )C( O)- or -C(O)N(R d )-.
  • R 31 is as described above.
  • s4 is 0 or 1.
  • Q a4 is a single bond, an alkylene group which may have an etheric oxygen atom (when s4 is 1), or a (poly)oxyalkylene group (when s4 is 0).
  • the number of carbon atoms in the alkylene group or (poly)oxyalkylene group which may have an etheric oxygen atom is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10, even more preferably 1 to 6, particularly 1 to 3. preferable. Further, the number of carbon atoms may be 2 to 6.
  • t4 is 0 or 1 (however, when Q a4 is a single bond, it is 0).
  • -Q a4 -(O) t4 - is a single bond, -O-, -OCH 2 -, -OCH 2 CH 2 O-, -OCH 2 CH 2 OCH 2 -, -OCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OCH 2 - is preferable (however, the left side is bonded to Y 1a ), and when s4 is 1, a single bond, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - is preferred.
  • Q b4 is an alkylene group, and the alkylene group is -O-, -C(O)N(R d )- (the definition of R d is as described above), a silphenylene skeleton group, a divalent It may or may not have an organopolysiloxane residue or a dialkylsilylene group.
  • the alkylene group has -O- or a silphenylene skeleton group, it is preferable to have -O- or a silphenylene skeleton group between carbon atoms.
  • the terminal between carbon atoms or the side bonded to (O) u4 preferably has these groups.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group represented by Q b4 is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, even more preferably 2 to 20, may be 2 to 10, or may be 2 to 6. . Examples include 2, 3, 8, 9, and 11. Further, the number of carbon atoms may be 1 to 10.
  • u4 is 0 or 1.
  • -(O) u4 -Q b4 - includes -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 from the viewpoint of easy production of the compound.
  • OCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -OCH 2 CH 2 CH 2 -, -OSi(CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -OSi(CH 3 ) 2 OSi(CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2 -- and --CH 2 CH 2 CH 2 Si(CH 3 ) 2 PhSi(CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 -- are preferred (however, the right side is bonded to Si).
  • w1 is an integer from 0 to 2, preferably 0 or 1, and more preferably 0. If there are two or more [-(O) u4 -Q b4 -Si(R) n L 3-n ], two or more [-(O) u4 -Q b4 -Si(R) n L 3- n ] may be the same or different. When there are two or more R 31 s, two or more (-R 31 )s may be the same or different.
  • group (3-1A-4) include the following groups.
  • * represents the bonding position with Y 1a in formula (2).
  • Q a5 is a single bond or a (poly)oxyalkylene group.
  • the number of carbon atoms in the (poly)oxyalkylene group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10, even more preferably 1 to 6, particularly preferably 1 to 3. Further, the number of carbon atoms may be 2 to 6.
  • Q a5 from the viewpoint of easy production of the compound, a single bond, -OCH 2 CH 2 CH 2 -, and -OCH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 - are preferable (provided that the right side is bonded to Si. ).
  • Q b5 is an alkylene group or a group having an ether oxygen atom or a divalent organopolysiloxane residue between carbon atoms of an alkylene group having 2 or more carbon atoms.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group represented by Q b5 is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, even more preferably 2 to 20, may be 2 to 10, or may be 2 to 6. . Examples include 2, 3, 8, 9, and 11. Further, the number of carbon atoms may be 1 to 10.
  • the number of carbon atoms in the group having an ether oxygen atom or a divalent organopolysiloxane residue between carbon atoms of the alkylene group having 2 or more carbon atoms represented by Q b5 is preferably 2 to 20, and 2 to 20. 10 is more preferable, and 2 to 6 is even more preferable. From the viewpoint of easy production of the compound, Q b5 is preferably -CH 2 CH 2 CH 2 - and -CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 - (provided that the right side is Si(R) n L 3- bond to n ).
  • the three [-Q b5 -Si(R) n L 3-n ] may be the same or different.
  • group (3-1A-5) include the following groups.
  • * represents the bonding position with Y 1a in formula (2).
  • Q a6 is a single bond, an alkylene group which may have an etheric oxygen atom (when v is 1), or a (poly)oxyalkylene group.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group or (poly)oxyalkylene group which may have an etheric oxygen atom is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10, even more preferably 1 to 6, particularly 1 to 3. preferable. Further, the number of carbon atoms may be 2 to 6.
  • Q a6 is -CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 OCH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 from the viewpoint of easy production of the compound .
  • Q a6 is preferably -OCH 2 CH 2 CH 2 - or -OCH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 - (provided that Z a on the right side ).
  • Z a is a (w2+1)-valent organopolysiloxane residue or a (w2+1)-valent group having an alkylene group between the organopolysiloxane residues.
  • w2 is an integer from 2 to 7.
  • Examples of (w2+1)-valent organopolysiloxane residues or (w2+1)-valent groups having an alkylene group between organopolysiloxane residues include the following groups: .
  • R a in the following formula is as described above.
  • Q b6 is an alkylene group or a group having an ether oxygen atom or a divalent organopolysiloxane residue between carbon atoms of an alkylene group having 2 or more carbon atoms.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group represented by Q b6 is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, even more preferably 2 to 20, may be 2 to 10, or may be 2 to 6. . Examples include 2, 3, 8, 9, and 11. Further, the number of carbon atoms may be 1 to 10.
  • the carbon number of the group having an ether oxygen atom or a divalent organopolysiloxane residue between the carbon atoms of the alkylene group having 2 or more carbon atoms represented by Q b6 is preferably 2 to 20, and 2 to 20. 10 is more preferable, and 2 to 6 is even more preferable.
  • Q b6 -CH 2 CH 2 - and -CH 2 CH 2 CH 2 - are preferable from the viewpoint of easy production of the compound.
  • w2 [-Q b6 -Si(R) n3 L 3-n ] may be the same or different.
  • group (3-1A-6) include the following groups.
  • * represents the bonding position with CH 3 (CH 2 ) m1 - or -(CH 2 ) m2 -.
  • Z c is a (w3+w4+1)-valent hydrocarbon group.
  • w3 is an integer of 4 or more.
  • w4 is an integer greater than or equal to 0.
  • the definitions and preferred ranges of Q e , s4, Q a4 , t4, Q b4 , and u4 are the same as the definitions of each symbol in group (3-1A-4).
  • Z c may consist of a hydrocarbon chain, may have an ether oxygen atom between carbon atoms of the hydrocarbon chain, and is preferably composed of a hydrocarbon chain.
  • the valence of Z c is preferably 5 to 20, more preferably 5 to 10, even more preferably 5 to 8, particularly preferably penta or hexavalent.
  • the number of carbon atoms in Z c is preferably 3 to 50, more preferably 4 to 40, even more preferably 5 to 30.
  • w3 is preferably 4 to 20, more preferably 4 to 16, even more preferably 4 to 8, and particularly preferably 4 or 5.
  • w4 is preferably 0 to 10, more preferably 0 to 8, even more preferably 0 to 6, particularly preferably 0 to 3, and most preferably 0 or 1.
  • two or more [-(O-Q b4 ) u4 -Si(R) n L 3-n ] may be the same or different.
  • group (3-1A-7) include the following groups.
  • * represents the bonding position with Y 1a in formula (2).
  • Y 1 in formula (1) or Y 1b in formula (2) may be a group shown in groups (g2-1) to (g2-7).
  • groups (g2-1) to (g2-7) when a plurality of A 1s exist, the group corresponds to Y 1 in formula (1), and when one A 1 exists, the group corresponds to Y 1 in formula (1).
  • the group corresponds to Y 1b in formula (2).
  • the A 1 side is [CH 3 (CH 2 ) m1 -] (if there is more than one A 1 ) or [CH 3 (CH 2 ) m1 -] j Y 1a - (when there is one A 1 ), and the Q 22 , Q 23 , Q 24 , Q 25 or Q 26 side is connected to [-Si(R) n L 3-n ].
  • a 1 is a single bond, -C(O)NR 6 -, -C(O)-, -OC(O)O-, -NHC(O)O-, -NHC(O)NR 6 -, -O -, -NR 6 -, or -SO 2 NR 6 -.
  • Q 11 is a single bond, -O-, an alkylene group, or a bond between carbon atoms of an alkylene group having 2 or more carbon atoms -C(O)NR 6 -, -C(O)-, -NR 6 -, or It is a group having O-.
  • Q 12 has -C(O)NR 6 -, -C(O)-, -NR 6 - or O- between carbon atoms of a single bond, an alkylene group, or an alkylene group having 2 or more carbon atoms. group, and when Y 1 or Y 1b has two or more Q 12 s, two or more Q 12s may be the same or different.
  • Q 13 is a single bond, an alkylene group, a group having -C(O)NR 6 -, -C(O)-, -NR 6 - or O- between carbon atoms of an alkylene group having 2 or more carbon atoms; , or a group having -C(O)- at the N-side end of the alkylene group.
  • Q 14 is Q 12 when the atom in Z 1 to which Q 14 is bonded is a carbon atom, and is Q 13 when the atom in Z 1 to which Q 14 is bonded is a nitrogen atom, and if Y 1 or Y 1b is When having two or more Q14s , two or more Q14s may be the same or different.
  • Q 15 has -C(O)NR 6 -, -C(O)-, -NR 6 - or O- between carbon atoms of a single bond, an alkylene group, or an alkylene group having 2 or more carbon atoms. group, and when Y 1 or Y 1b has two or more Q 15 s, two or more Q 15s may be the same or different.
  • Q 22 is an alkylene group, a group having -C(O)NR 6 -, -C(O)-, -NR 6 - or O- between carbon atoms of an alkylene group having 2 or more carbon atoms, an alkylene group A group having -C(O)NR 6 -, -C(O)-, -NR 6 - or O- at the end not connected to Si, or between carbon atoms of an alkylene group having 2 or more carbon atoms -C(O)NR 6 -, -C(O)-, -NR 6 - or O- at the end not connected to Si and -C(O)NR 6 -, -C(O) It is a group having -, -NR 6 - or O-, and when Y 1 or Y 1b has two or more Q 22s , the two or more Q 22s may be the same or different.
  • Q 23 is an alkylene group or a group having -C(O)NR 6 -, -C(O)-, -NR 6 - or O- between carbon atoms of an alkylene group having 2 or more carbon atoms; , two Q23s may be the same or different.
  • Q 24 is Q 22 when the atom in Z 1 to which Q 24 is bonded is a carbon atom, and Q 23 when the atom in Z 1 to which Q 24 is bonded is a nitrogen atom, and when Y 1 or Y 1b is When there are two or more Q24s , two or more Q24s may be the same or different.
  • Q 25 is an alkylene group or a group having -C(O)NR 6 -, -C(O)-, -NR 6 - or O- between carbon atoms of an alkylene group having 2 or more carbon atoms; , Y 1 or Y 1b has two or more Q 25s , the two or more Q 25s may be the same or different.
  • Q 26 has -C(O)NR 6 -, -C(O)-, -NR 6 - or O- between carbon atoms of a single bond, an alkylene group, or an alkylene group having 2 or more carbon atoms. It is the basis.
  • Z 1 is a group having an h1+h2 valent ring structure in which Q 14 has a carbon atom or nitrogen atom to which Q 14 is directly bonded, and Q 24 has a carbon atom or nitrogen atom to which Q 24 is directly bonded.
  • R e1 is a hydrogen atom or an alkyl group, and when Y 1 or Y 1b has two or more R e1s , the two or more R e1s may be the same or different.
  • R e2 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group, or an acyloxy group.
  • R e3 is an alkyl group.
  • R 6 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a phenyl group.
  • d1 is an integer from 0 to 3, preferably 1 or 2.
  • d2 is an integer from 0 to 3, preferably 1 or 2.
  • d1+d2 is an integer from 1 to 3.
  • d3 is an integer from 0 to 3, preferably 0 or 1.
  • d4 is an integer from 0 to 3, preferably 2 or 3.
  • d3+d4 is an integer from 1 to 3.
  • d1+d3 is an integer of 2 to 5 for Y 1 in formula (1), preferably 2, and is 1 for Y 1b in formula (2).
  • d2+d4 is an integer of 1 to 4, preferably 4, for Y 1 in formula (1), and is an integer of 3 to 5, and 4 or 5, for Y 1b in formula (2). is preferred.
  • e1+e2 is 3 or 4.
  • e1 is 2 or 3 in Y 1 in formula (1), preferably 2, and is 1 in Y 1b in formula (2).
  • e2 is 1 or 2 in Y 1 in formula (1), preferably 2, and is 2 or 3 in Y 1b in formula (2).
  • h1 is an integer of 2 or more in Y 1 in formula (1), preferably 2, and is 1 in Y 1b in formula (2).
  • h2 is an integer of 1 or more, preferably 2 or 3.
  • i1+i2 is 3 or 4.
  • i1 is 2 or 3 in Y 1 in formula (1), preferably 2, and is 1 in Y 1b in formula (2).
  • i2 is 1 or 2 in Y 1 in formula (1), preferably 2, and is 2 or 3 in Y 1b in formula (2).
  • i3 is 2 or 3.
  • the number of carbon atoms in the alkylene groups of Q 11 , Q 12 , Q 13 , Q 14 , Q 15 , Q 22 , Q 23 , Q 24 , Q 25 and Q 26 is determined from the viewpoint of ease of manufacturing the compound and the durability of the surface treatment layer. From the viewpoint of even better abrasion resistance, the number is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, even more preferably 2 to 20, may be 2 to 10, or may be 2 to 6. Examples include 2, 3, 8, 9, and 11. Further, the number of carbon atoms may be 1 to 10, 1 to 6, or 1 to 4. However, when the alkylene group has a specific bond between carbon atoms, the lower limit of the number of carbon atoms is 2.
  • Examples of the ring structure in Z 1 include the ring structures described above, and preferred forms are also the same.
  • Q 14 and Q 24 are directly bonded to the ring structure in Z 1 , for example, an alkylene group is not connected to the ring structure and Q 14 or Q 24 is not connected to the alkylene group.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group of R e1 , R e2 or R e3 is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3, and even more preferably 1 to 2 from the viewpoint of ease of manufacturing the compound.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group portion of the acyloxy group in R e2 is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3, and even more preferably 1 to 2 from the viewpoint of ease of manufacturing the compound.
  • h1 is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 4, even more preferably 1 or 2, and particularly preferably 1, from the viewpoint of easy production of the compound and the viewpoint of further excellent wear resistance of the surface treatment layer.
  • h2 is preferably 2 to 6, more preferably 2 to 4, and even more preferably 2 or 3, from the viewpoint of ease of manufacturing the compound and the viewpoint of further excellent wear resistance of the surface treatment layer.
  • Y 1 in formula (1) or Y 1b in formula (2) may be a group shown in groups (g2-8) to (g2-14).
  • groups (g2-8) to (g2-14) when a plurality of A 1s exist, the group corresponds to Y 1 in formula (1), and when one A 1 exists, the group corresponds to Y 1 in formula (1).
  • the group corresponds to Y 1b in formula (2).
  • the A 1 side is [CH 3 (CH 2 ) m1 -] (if there is more than one A 1 ) or [CH 3 (CH 2 ) m1 -] j Connect to Y 1a - (when there is one A 1 ), and connect the G 1 side to [-Si(R) n L 3-n ].
  • G 1 is a group (g3), and two or more G 1s in Y 1 or Y 1b may be the same or different.
  • the symbols other than G 1 are the same as those in equations (g2-1) to (g2-7).
  • R 8 is an alkyl group.
  • Q 3 is an alkylene group, a group having -C(O)NR 6 -, -C(O)-, -NR 6 - or -O- between carbon atoms of an alkylene group having 2 or more carbon atoms, or (OSi(R 9 ) 2 ) p -O-, and two or more Q 3 may be the same or different.
  • R 6 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a phenyl group.
  • R 9 is an alkyl group, a phenyl group, or an alkoxy group, and two R 9s may be the same or different.
  • p is an integer from 0 to 5, and when p is 2 or more, two or more (OSi(R 9 ) 2 ) may be the same or different.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group of Q 3 is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, and still more preferably 2 to 20, from the viewpoint of easy production of the compound and the viewpoint of further excellent wear resistance of the surface treatment layer. Preferably, it may be from 2 to 10, or from 2 to 6. Examples include 2, 3, 8, 9, and 11. Further, the number of carbon atoms may be 1 to 10, 1 to 6, or 1 to 4. However, when the alkylene group has a specific bond between carbon atoms, the lower limit of the number of carbon atoms is 2.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group of R 8 is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3, and even more preferably 1 to 2 from the viewpoint of ease of manufacturing the compound.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group of R 9 is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3, and even more preferably 1 to 2 from the viewpoint of ease of manufacturing the compound.
  • the number of carbon atoms in the alkoxy group of R 9 is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3, and even more preferably 1 to 2 from the viewpoint of excellent storage stability of the compound.
  • p is preferably 0 or 1.
  • Examples of the compound (1) include compounds of the following formula.
  • the compound of the following formula is preferred from the viewpoints of easy industrial production, ease of handling, and superior abrasion resistance of the surface treatment layer.
  • W in the compound of the following formula is [CH 3 (CH 2 ) m1 ⁇ ] in the above-mentioned formula (1) or [CH 3 (CH 2 ) m1 ⁇ ] j Y 1a ⁇ in the formula (2), respectively. (if present) or [CH 3 (CH 2 ) m1 ⁇ ] j Y 1a ⁇ (when there is one W) in formula (2), and preferred forms are also the same.
  • Examples of the compound (1) or (2) having the group (g2-1) include compounds of the following formula.
  • Examples of the compound (1) or (2) having the group (g2-2) include compounds of the following formula.
  • Examples of the compound (1) or (2) having the group (g2-3) include compounds of the following formula.
  • Examples of the compound (1) or (2) having the group (g2-4) include compounds of the following formula.
  • Examples of the compound (1) or (2) having the group (g2-5) include compounds of the following formula.
  • Examples of the compound (1) or (2) having the group (g2-6) include compounds of the following formula.
  • Examples of the compound (1) or (2) having the group (g2-7) include compounds of the following formula.
  • Examples of the compound (1) or (2) having the group (g2-8) include compounds of the following formula.
  • Examples of the compound (1) or (2) having the group (g2-9) include compounds of the following formula.
  • Examples of the compound (1) or (2) having the group (g2-10) include compounds of the following formula.
  • Examples of the compound (1) or (2) having the group (g2-11) include compounds of the following formula.
  • Examples of the compound (1) or (2) having the group (g2-12) include compounds of the following formula.
  • Examples of the compound (1) or (2) having the group (g2-13) include compounds of the following formula.
  • Examples of the compound (1) or (2) having the group (g2-14) include compounds of the following formula.
  • Examples of the compounds of the present disclosure include the following compounds.
  • the number average molecular weight (Mn) of the compound of the present disclosure is preferably 400 to 20,000, more preferably 500 to 18,000, and even more preferably 600 to 1,5000.
  • Mn is 400 or more, water repellency and abrasion resistance are excellent.
  • Mn is 20,000 or less, the viscosity can be easily controlled within an appropriate range, and solubility is improved, resulting in excellent handling properties during film formation.
  • Method for producing compound The method for producing the compound of the present disclosure is not particularly limited. Examples of synthetic schemes for compounds of the present disclosure are shown below.
  • LDA lithium diisopropylamide
  • the compound of the present disclosure is obtained by hydrosilylation of an intermediate represented by the following formula (1-1).
  • Y 10a is a (j1+g1)-valent linking group
  • j1 are the same as the definition and specific example of j in formula (1).
  • the definition and specific example of g1 are the same as the definition and specific example of g in formula (1).
  • the definition and specific example of m1 are the same as the definition and specific example of m1 in formula (1).
  • compositions of the present disclosure only needs to contain the compound of the present disclosure, and components other than the compound of the present disclosure are not particularly limited.
  • Compositions of the present disclosure preferably include a compound of the present disclosure and a liquid medium.
  • the composition of the present disclosure may be in a liquid state, and may be a solution or a dispersion.
  • the composition of the present disclosure only needs to contain the compound of the present disclosure, and may contain impurities such as by-products generated in the manufacturing process of the compound of the present disclosure.
  • the composition of the present disclosure may contain one type of compound of the present disclosure, or may contain two or more types of compounds of the present disclosure.
  • the content of the compound of the present disclosure is preferably 0.001 to 40% by mass, more preferably 0.01 to 20% by mass, and further preferably 0.1 to 10% by mass, based on the total amount of the composition of the present disclosure. preferable.
  • the content of the compound of the present disclosure may be 0.01 to 10% by mass, based on the total amount of the composition of the present disclosure, and 0. It may be 0.02 to 5% by weight, 0.03 to 3% by weight, or 0.05 to 2% by weight.
  • the composition of the present disclosure may contain only one type of liquid medium, or may contain two or more types.
  • the liquid medium is preferably an organic solvent.
  • organic solvents include compounds consisting only of hydrogen atoms and carbon atoms, and compounds consisting only of hydrogen atoms, carbon atoms, and oxygen atoms.
  • examples include hydrocarbon-based organic solvents, ketone-based organic solvents, and ethers.
  • examples include organic solvents based on organic solvents, organic solvents based on esters, organic solvents based on glycol, and organic solvents based on alcohol.
  • hydrocarbon organic solvents include pentane, hexane, heptane, octane, hexadecane, isohexane, isooctane, isononane, cycloheptane, cyclohexane, bicyclohexyl, benzene, toluene, ethylbenzene, o-xylene, m-xylene, Examples include p-xylene, o-diethylbenzene, m-diethylbenzene, p-diethylbenzene, n-butylbenzene, sec-butylbenzene, and tert-butylbenzene.
  • ketone organic solvents include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 4-heptanone, 3,5,5-trimethyl-2-cyclohexen-1-one, and 3,5,5-trimethyl-2-cyclohexen-1-one. Examples include 3,5-trimethylcyclohexanone and isophorone.
  • ether organic solvents include diethyl ether, cyclopentyl methyl ether, tetrahydrofuran, and 1,4-dioxane.
  • ester organic solvents include methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, tert-butyl acetate, amyl acetate, isoamyl acetate, ethyl 3-ethoxypropionate, and ethyl ethylene glycol lactate.
  • glycol-based organic solvents include ethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, tetraethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, and ethylene glycol mono-2.
  • alcoholic organic solvents include methanol, ethanol, 1-propanol, isopropyl alcohol, n-butanol, diacetone alcohol, isobutanol, sec-butanol, tert-butanol, pentanol, 3-methyl-1,3 -Butanediol, 1,3-butanediol, 1,3-butylene glycol, octanediol, 2,4-diethylpentanediol, butylethylpropanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 4-hydroxy-4 -Methyl-2-pentanone, 2-ethyl-1-hexanol, 3,5,5-trimethyl-1-hexanol, isodecanol, isotridecanol, 3-methoxy-3-methyl-1-butanol, 2-methoxybutanol , 3-methoxybutanol, cyclo
  • organic solvent examples include halogen-based organic solvents, nitrogen-containing compounds, sulfur-containing compounds, and siloxane compounds.
  • halogenated organic solvents include dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene, o-chlorotoluene, m-chlorotoluene, p-chlorotoluene, m-dichlorobenzene, 1,2,3-trichloropropane. can be mentioned.
  • nitrogen-containing compounds include nitrobenzene, acetonitrile, benzonitrile, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone.
  • sulfur-containing compounds include carbon disulfide and dimethyl sulfoxide.
  • siloxane compound examples include hexamethyldisiloxane, octamethyltrisiloxane, and decamethyltetrasiloxane.
  • the content of the liquid medium is preferably 60 to 99.999% by mass, more preferably 80 to 99.99% by mass, and even more preferably 90 to 99.9% by mass, based on the total amount of the composition of the present disclosure.
  • the content of the liquid medium may be 90-99.99% by weight, 95-99% by weight, based on the total amount of the composition of the present disclosure. It may be .98% by mass, 97 to 99.97% by mass, or 98 to 99.95% by mass.
  • composition of the present disclosure may contain other components in addition to the compound of the present disclosure and the liquid medium, as long as the effects of the present disclosure are not impaired.
  • other components include known additives such as acid catalysts and basic catalysts that promote hydrolysis and condensation reactions of reactive silyl groups.
  • a metal compound having a hydrolyzable group is also referred to as a "specific metal compound”
  • Specific metal compounds include the following formulas (M1) to (M3).
  • M represents a trivalent or tetravalent metal atom.
  • Each of X b1 independently represents a hydrolyzable group.
  • Each of X b2 independently represents a siloxane skeleton-containing group.
  • Each of X b3 independently represents a hydrocarbon chain-containing group.
  • m1 is an integer from 2 to 4
  • m2 and m3 are each independently an integer of 0 to 2
  • When M is a trivalent metal atom, m1+m2+m3 is 3, and when M is a tetravalent metal atom, m1+m2+m3 is 4.
  • X b4 represents a hydrolyzable silane oligomer residue.
  • Each of X b5 independently represents a hydrolyzable group or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • X b6 and X b7 each independently represent a hydrolyzable group or a hydroxyl group.
  • Y b1 represents a divalent organic group.
  • the metal represented by M also includes semimetals such as Si and Ge.
  • M is preferably a trivalent metal or a tetravalent metal, more preferably Al, Fe, In, Hf, Si, Ti, Sn, and Zr, even more preferably Al, Si, Ti, and Zr, and particularly preferably Si. .
  • the hydrolyzable group represented by X b1 is the same as the hydrolyzable group represented by L in [-Si(R 1 ) n L 3-n ] in the above reactive silyl group. Examples include:
  • the siloxane skeleton-containing group represented by X b2 has a siloxane unit (-Si-O-) and may be linear or branched.
  • the siloxane unit is preferably a dialkylsilyloxy group, such as a dimethylsilyloxy group or a diethylsilyloxy group.
  • the number of repeating siloxane units in the siloxane skeleton-containing group is 1 or more, preferably 1 to 5, more preferably 1 to 4, and even more preferably 1 to 3.
  • the siloxane skeleton-containing group may include a divalent hydrocarbon group in a part of the siloxane skeleton.
  • some oxygen atoms in the siloxane skeleton may be replaced with divalent hydrocarbon groups.
  • the divalent hydrocarbon group include alkylene groups such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, and a butylene group.
  • a hydrolyzable group, a hydrocarbon group (preferably an alkyl group), etc. may be bonded to the terminal silicon atom of the siloxane skeleton-containing group.
  • the number of elements in the siloxane skeleton-containing group is preferably 100 or less, more preferably 50 or less, and even more preferably 30 or less. The number of elements is preferably 10 or more.
  • the siloxane skeleton-containing group is preferably a group represented by * -(O-Si(CH 3 ) 2 ) n CH 3 , where n is an integer from 1 to 5, and * represents a bond with an adjacent atom. Represents a part.
  • the hydrocarbon chain-containing group represented by X b3 may be a group consisting only of a hydrocarbon chain, or may be a group having an etheric oxygen atom between carbon atoms of the hydrocarbon chain.
  • the hydrocarbon chain may be straight or branched, preferably straight.
  • the hydrocarbon chain may be a saturated hydrocarbon chain or an unsaturated hydrocarbon chain, with a saturated hydrocarbon chain being preferred.
  • the number of carbon atoms in the hydrocarbon chain-containing group is preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2, and even more preferably 1.
  • the hydrocarbon chain-containing group is preferably an alkyl group, more preferably a methyl group, an ethyl group, or a propyl group.
  • m1 is 3 or 4.
  • compound represented by formula (M1) compounds represented by the following formulas (M1-1) to (M1-5) where M is Si are preferable, and the compound represented by formula (M1-1) is More preferred.
  • compound represented by formula (M1-1) tetraethoxysilane, tetramethoxysilane, and triethoxymethylsilane are preferred.
  • the number of silicon atoms contained in the hydrolyzable silane oligomer residue represented by X b4 is preferably 3 or more, more preferably 5 or more, and even more preferably 7 or more.
  • the number of silicon atoms is preferably 15 or less, more preferably 13 or less, and even more preferably 10 or less.
  • the hydrolyzable silane oligomer residue may have an alkoxy group bonded to a silicon atom. Examples of the alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, and methoxy group and ethoxy group are preferred.
  • the hydrolyzable silane oligomer residue may have one or more types of these alkoxy groups, and preferably has one type. Examples of the hydrolyzable silane oligomer residue include (C 2 H 5 O) 3 Si-(OSi(OC 2 H 5 ) 2 ) 4 O- * and the like.
  • * represents a bonding site with an adjacent atom.
  • the hydrolyzable group represented by X b5 is the same as the hydrolyzable group represented by L in [-Si(R 1 ) n L 3-n ] in the above reactive silyl group.
  • Examples include a cyano group, a hydrogen atom, and an allyl group, with an alkoxy group or an isocyanato group being preferred.
  • the alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms.
  • X b5 a hydrolyzable group is preferable.
  • Examples of the compound represented by formula (M2) include (H 5 C 2 O) 3 -Si-(OSi(OC 2 H 5 ) 2 ) 4 OC 2 H 5 and the like.
  • the compound represented by formula (M3) is a compound having a reactive silyl group at both ends of a divalent organic group, that is, bissilane.
  • the hydrolyzable groups represented by X b6 and X b7 include an alkoxy group, an acyloxy group, a ketoxime group, an alkenyloxy group, an amino group, an aminoxy group, an amide group, an isocyanato group, and a halogen atom.
  • an alkoxy group and an isocyanato group are preferred.
  • the alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methoxy group or an ethoxy group.
  • X b6 and X b7 may be the same group or different groups. From the viewpoint of availability, it is preferable that X b6 and X b7 are the same group.
  • Y b1 is a divalent organic group that connects the reactive silyl groups at both ends.
  • the number of carbon atoms in Y b1 of the divalent organic group is preferably 1 to 8, more preferably 1 to 3.
  • Examples of Y b1 include an alkylene group, a phenylene group, and an alkylene group having an etheric oxygen atom between carbon atoms.
  • Examples of the compound represented by formula (M3) include (CH 3 O) 3 Si(CH 2 ) 2 Si(OCH 3 ) 3 , (C 2 H 5 O) 3 Si(CH 2 ) 2 Si(OC 2 H 5 ) 3 , (OCN) 3Si ( CH2 ) 2Si ( NCO ) 3 , Cl3Si( CH2 ) 2SiCl3 , ( CH3O ) 3Si ( CH2 ) 6Si ( OCH3 ) 3 , ( C2H5O ) 3Si ( CH2 ) 6Si ( OC2H5 ) 3 is mentioned.
  • the content of other components that may be included in the composition of the present disclosure is preferably 10% by mass or less, more preferably 1% by mass or less, based on the total amount of the composition of the present disclosure.
  • the content of the specific metal compound is preferably 0.01 to 30% by mass, more preferably 0.01 to 10% by mass based on the total amount of the composition of the present disclosure. , more preferably 0.05 to 5% by mass.
  • the total content of the compound of the present disclosure and other components is preferably 0.001 to 40% by mass, and 0.01% by mass, based on the total amount of the composition of the present disclosure. ⁇ 20% by mass is more preferred, and 0.1 ⁇ 10% by mass is even more preferred.
  • the solid content concentration of the composition of the present disclosure is a value calculated from the mass of the composition before heating and the mass after heating in a convection dryer at 120° C. for 4 hours.
  • composition of the present disclosure contains a liquid medium, it is useful for coating purposes and can be used as a coating liquid.
  • the surface treatment agent of the present disclosure comprises a compound of the present disclosure.
  • the surface treatment agent of the present disclosure may include the compound of the present disclosure and a liquid medium.
  • the surface treating agent of the present disclosure may be a composition of the present disclosure. Preferred embodiments of the liquid medium contained in the surface treatment agent are the same as those of the liquid medium contained in the composition of the present disclosure.
  • a surface treatment layer with excellent water repellency and abrasion resistance can be formed by using a surface treatment agent containing the compound of the present disclosure.
  • the article of the present disclosure includes a base material and a surface treatment layer surface treated with the surface treatment agent.
  • the surface treatment layer may be formed on a part of the surface of the base material, or may be formed on the entire surface of the base material.
  • the surface treatment layer may be spread over the surface of the base material in the form of a film, or may be scattered in the form of dots.
  • the compound of the present disclosure is contained in a state in which hydrolysis of some or all of the reactive silyl groups has proceeded, and a dehydration condensation reaction of the silanol groups has proceeded.
  • the thickness of the surface treatment layer is preferably 1 to 100 nm, more preferably 1 to 50 nm. If the thickness of the surface treatment layer is 1 nm or more, the effect of the surface treatment is likely to be sufficiently obtained. If the thickness of the surface treatment layer is 100 nm or less, the utilization efficiency is high.
  • the thickness of the surface treatment layer is determined by using an X-ray diffractometer for thin film analysis (product name "ATX-G", manufactured by RIGAKU) to obtain an interference pattern of reflected X-rays by the X-ray reflectance method. It can be calculated from the vibration period of
  • the type of base material is not particularly limited, and includes, for example, base materials that are required to have water repellency.
  • a base material for example, a base material that may be used in contact with another article (e.g., a stylus) or a person's fingers; a base material that may be held by a person's fingers during operation; , a mounting table).
  • the base material include metal, resin, glass, sapphire, ceramic, stone, fiber, nonwoven fabric, paper, wood, natural leather, artificial leather, and composite materials thereof.
  • the glass may be chemically strengthened.
  • Base materials include building materials, decorative building materials, interior goods, transportation equipment (e.g. automobiles), signboards, bulletin boards, drinking vessels, tableware, aquariums, ornamental equipment (e.g. frames, boxes), laboratory equipment, furniture, and textile products.
  • Packaging containers Glass or resin used for art, sports, games, etc.; Used for the exterior parts (excluding display parts) of devices such as mobile phones (e.g. smartphones), personal digital assistants, game consoles, remote controls, etc. Examples include glass or resin.
  • the shape of the base material may be plate-like or film-like.
  • touch panel base materials As the base material, touch panel base materials, display base materials, and eyeglass lenses are suitable, and touch panel base materials are particularly suitable.
  • touch panel base materials As the material for the touch panel base material, glass or transparent resin is preferable.
  • the base material may be a base material that has been subjected to surface treatment such as corona discharge treatment, plasma treatment, plasma graft polymerization treatment, etc. on one surface or both surfaces.
  • a surface-treated base material has better adhesion with the surface-treated layer, and the abrasion resistance of the surface-treated layer is further improved. Therefore, it is preferable to perform surface treatment on the surface of the base material that is in contact with the surface treatment layer.
  • the surface-treated base material is provided with a base layer, which will be described later, the adhesion with the base layer is better, and the wear resistance of the surface-treated layer is further improved. Therefore, when a base layer is provided, it is preferable to perform a surface treatment on the surface of the base material that is in contact with the base layer.
  • the surface treatment layer may be provided directly on the surface of the base material, or a base layer may be provided between the base material and the surface treatment layer.
  • the article of the present disclosure includes a base material, a base layer disposed on the base material, and a surface treatment of the present disclosure disposed on the base layer. It is preferable to include a surface treatment layer whose surface is treated with an agent.
  • the base layer includes silicon and at least one selected from the group consisting of a group 1 element, a group 2 element, a group 4 element, a group 5 element, a group 13 element, and a group 15 element of the periodic table.
  • a layer containing an oxide containing a specific element is preferable.
  • Group 1 elements of the periodic table mean lithium, sodium, potassium, rubidium, and cesium.
  • Group 1 elements lithium, sodium, and potassium are used because they enable the surface treatment layer to be formed more uniformly on the underlayer without defects, and from the viewpoint of suppressing variations in the composition of the underlayer between samples.
  • the underlayer may contain two or more types of Group 1 elements.
  • Group 2 elements of the periodic table mean beryllium, magnesium, calcium, strontium, and barium.
  • Group 2 elements magnesium, calcium, and barium are used because they enable the surface treatment layer to be formed more uniformly on the underlayer without defects, and from the viewpoint of suppressing variations in the composition of the underlayer between samples.
  • magnesium and calcium are more preferable.
  • the underlayer may contain two or more types of Group 2 elements.
  • Group 4 elements of the periodic table mean titanium, zirconium, and hafnium.
  • Group 4 element titanium and zirconium are preferable from the viewpoint of being able to form a surface treatment layer on the underlayer more uniformly without defects or from the viewpoint of suppressing variations in the composition of the underlayer between samples. Titanium is more preferred.
  • the base layer may contain two or more types of Group 4 elements.
  • Group 5 elements of the periodic table mean vanadium, niobium, and tantalum.
  • Group 5 element vanadium is particularly preferable from the viewpoint of providing better wear resistance of the surface treatment layer.
  • the underlayer may contain two or more types of Group 5 elements.
  • Group 13 elements of the periodic table mean boron, aluminum, gallium, and indium.
  • Group 13 elements boron, aluminum, and gallium are selected from the viewpoint of forming a surface treatment layer on the underlayer more uniformly without defects, or from the viewpoint of suppressing variations in the composition of the underlayer between samples.
  • boron and aluminum are more preferable.
  • the base layer may contain two or more types of Group 13 elements.
  • Group 15 elements of the periodic table mean nitrogen, phosphorus, arsenic, antimony, and bismuth.
  • Group 15 elements, phosphorus, antimony, and bismuth are used from the viewpoint of forming a surface treatment layer on the underlayer more uniformly without defects or from the viewpoint of suppressing variations in the composition of the underlayer between samples.
  • phosphorus and bismuth are more preferable.
  • the base layer may contain two or more types of Group 15 elements.
  • Group 1 elements, Group 2 elements, and Group 13 elements are preferable because the wear resistance of the surface treatment layer is better, and Group 1 elements and Group 2 elements are more preferable. , Group 1 elements are more preferred. As the specific element, only one type of element may be included, or two or more types of elements may be included.
  • the oxide contained in the base layer may be a mixture of oxides of the above elements (silicon and specific elements) alone (for example, a mixture of silicon oxide and an oxide of a specific element), or a mixture of the above elements (silicon and specific elements). It may be a composite oxide containing two or more types, or a mixture of an oxide of the above element alone and a composite oxide.
  • the ratio of the total molar concentration of the specific element in the underlayer to the molar concentration of silicon in the underlayer (specific element/silicon) is 0.02 to 2.90 from the viewpoint of better wear resistance of the surface treatment layer. It is preferably 0.10 to 2.00, even more preferably 0.20 to 1.80.
  • the molar concentration (mol %) of each element in the underlayer can be measured, for example, by depth direction analysis using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) using ion sputtering.
  • the base layer may be a single layer or a multilayer.
  • the base layer may have an uneven surface.
  • the thickness of the underlayer is preferably 1 to 100 nm, more preferably 1 to 50 nm, and even more preferably 2 to 20 nm. If the thickness of the base layer is equal to or greater than the above lower limit, the adhesion of the surface treatment layer to the base layer will be further improved, and the wear resistance of the surface treatment layer will be more excellent. If the thickness of the base layer is below the above upper limit, the base layer itself will have excellent wear resistance.
  • the thickness of the base layer is measured by observing a cross section of the base layer using a transmission electron microscope (TEM).
  • TEM transmission electron microscope
  • the base layer can be formed, for example, by a vapor deposition method using a vapor deposition material or a wet coating method.
  • the vapor deposition material used in the vapor deposition method preferably contains an oxide containing silicon and a specific element.
  • Specific examples of the form of the vapor deposition material include powder, molten body, sintered body, granulated body, and crushed body, and from the viewpoint of ease of handling, molten body, sintered body, and granulated body are preferable.
  • the melt means a solid obtained by melting the powder of the vapor deposition material at a high temperature and then cooling and solidifying the powder.
  • a sintered body means a solid obtained by firing a powder of a vapor deposition material, and if necessary, a molded body obtained by press-molding the powder may be used instead of a powder of a vapor deposition material.
  • the granule refers to a solid material obtained by kneading a powder of a vapor deposition material and a liquid medium (for example, water, an organic solvent) to obtain particles, and then drying the particles.
  • the vapor deposition material can be manufactured, for example, by the following method.
  • ⁇ Powders containing silicon e.g. powder of silicon oxide, silica sand, silica gel
  • powders containing specific elements e.g.
  • ⁇ Powders containing silicon e.g. powder of silicon oxide, silica sand, silica gel
  • powders containing specific elements e.g. powder of oxides of specific elements, carbonates, sulfates, nitrates, oxalic acid
  • a specific example of a vapor deposition method using a vapor deposition material includes a vacuum vapor deposition method.
  • the vacuum deposition method is a method in which a deposition material is evaporated in a vacuum chamber and adhered to the surface of a base material.
  • the temperature during vapor deposition (for example, the temperature of the boat in which the vapor deposition material is placed when using a vacuum vapor deposition apparatus) is preferably 100 to 3,000°C, more preferably 500 to 3,000°C.
  • the pressure during vapor deposition (for example, when using a vacuum vapor deposition apparatus, the pressure in the tank in which the vapor deposition material is placed) is preferably 1 Pa or less, more preferably 0.1 Pa or less.
  • one vapor deposition material may be used, or two or more vapor deposition materials containing different elements may be used.
  • evaporation methods include resistance heating, in which the evaporation material is melted and evaporated on a resistance heating boat made of high-melting-point metal, and irradiation of an electron beam onto the evaporation material to directly heat the evaporation material on the surface.
  • An example is the electron gun method, which melts and evaporates.
  • the method of evaporating the deposition material is that it can evaporate high-melting point substances because it can be heated locally, and that there is no risk of reaction with the container or contamination with impurities because the area that is not hit by the electron beam is at a low temperature. Gun law is preferred.
  • a plurality of boats may be used, or all the evaporation materials may be placed in a single boat.
  • the vapor deposition method may be codeposition, alternate vapor deposition, or the like. Specifically, examples include mixing silica and a specific element source in the same boat, co-evaporating silica and a specific element source in separate boats, and alternately depositing silica and a specific element source in separate boats. can be mentioned.
  • the conditions, order, etc. of vapor deposition are appropriately selected depending on the structure of the underlying layer.
  • the base layer on the base material by a wet coating method using a coating liquid containing a compound containing silicon, a compound containing a specific element, and a liquid medium.
  • silicon compounds include silicon oxide, silicic acid, partial condensates of silicic acid, alkoxysilanes, and partially hydrolyzed condensates of alkoxysilanes.
  • Specific examples of compounds containing specific elements include oxides of specific elements, alkoxides of specific elements, carbonates of specific elements, sulfates of specific elements, nitrates of specific elements, oxalates of specific elements, and water of specific elements. Examples include oxides.
  • liquid medium examples include those similar to the liquid medium contained in the composition of the present disclosure described above.
  • the content of the liquid medium is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass, based on the total amount of the coating liquid used to form the base layer.
  • wet coating methods for forming the base layer include spin coating, wipe coating, spray coating, squeegee coating, dip coating, die coating, inkjet, flow coating, roll coating, Examples include the cast method, Langmuir-Blodgett method, and gravure coating method.
  • the drying temperature of the coating film is preferably 20 to 200°C, more preferably 80 to 160°C.
  • the article of the present disclosure is preferably an optical member.
  • optical components include medical devices such as car navigation systems, mobile phones, smartphones, digital cameras, digital video cameras, PDAs, portable audio players, car audio, game devices, eyeglass lenses, camera lenses, lens filters, sunglasses, and gastrocameras.
  • medical devices such as car navigation systems, mobile phones, smartphones, digital cameras, digital video cameras, PDAs, portable audio players, car audio, game devices, eyeglass lenses, camera lenses, lens filters, sunglasses, and gastrocameras.
  • Examples include personal appliances, copying machines, PCs, displays (eg, liquid crystal displays, organic EL displays, plasma displays, touch panel displays), touch panels, protective films, and antireflection films.
  • the article is preferably a display or a touch panel.
  • a method for producing an article of the present disclosure is, for example, a method of surface-treating a base material using the surface treatment agent of the present disclosure to produce an article in which a surface-treated layer is formed on the base material.
  • Surface treatments include dry coating methods and wet coating methods.
  • Examples of the dry coating method include vacuum deposition, CVD, and sputtering.
  • a vacuum evaporation method is preferable from the viewpoint of suppressing decomposition of the compound and the simplicity of the apparatus.
  • a pellet-like substance obtained by impregnating a porous metal body such as iron or steel with the compound of the present disclosure may be used.
  • a pellet-like material impregnated with the compound of the present disclosure may be used by impregnating a porous metal body such as iron or steel with a composition containing the compound of the present disclosure and a liquid medium, and drying the liquid medium.
  • wet coating methods include spin coating, wipe coating, spray coating, squeegee coating, dip coating, die coating, inkjet coating, flow coating, roll coating, casting, and Langmuir-Blodgett methods. , gravure coating method.
  • an operation may be performed to accelerate the reaction between the compound of the present disclosure and the base material, if necessary.
  • Such operations include heating, humidification, light irradiation, and the like.
  • a hydrolysis reaction of hydrolyzable groups, a reaction between hydroxyl groups, etc. on the surface of the base material and silanol groups, and a condensation reaction of silanol groups. can promote reactions such as the formation of siloxane bonds.
  • compounds in the surface treatment layer that are not chemically bonded to other compounds or the base material may be removed as necessary. Examples of the removal method include a method of pouring a solvent onto the surface treatment layer, a method of wiping with a cloth impregnated with a solvent, and the like.
  • the base material was surface-treated using each compound obtained in Synthesis Examples 6, 11, 14, 15, and 17, and octadecyltrimethoxysilane (Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd., product code: O0256), and Examples 1 to 6 were prepared. of goods were obtained.
  • As a surface treatment method the following dry coating method was used for each example. Chemically strengthened glass was used as the base material.
  • the obtained article was evaluated by the following method. The results are shown in Table 1.
  • the dry coating was performed using a vacuum evaporation device (VTR350M, manufactured by ULVAC) (vacuum evaporation method).
  • VTR350M vacuum evaporation device
  • 0.5 g of a 20% ethyl acetate solution of each compound was filled into a molybdenum boat in a vacuum evaporation apparatus, and the inside of the vacuum evaporation apparatus was evacuated to 1 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa or less.
  • the boat containing the compound is heated at a temperature increase rate of 10°C/min or less, and when the deposition rate exceeds 1 nm/sec using a crystal oscillation film thickness meter, the shutter is opened to form a film on the surface of the substrate. started.
  • the shutter was closed to complete the film formation on the surface of the substrate.
  • the base material on which the compound was deposited was heat-treated at 150° C. for 30 minutes to obtain an article having a surface layer on the surface of the base material.
  • the contact angle of about 2 ⁇ L of distilled water placed on the surface of the surface treatment layer was measured using a contact angle measuring device (DM-500, manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). Measurements are taken at five different locations on the surface of the surface treatment layer, and the average value is calculated. The 2 ⁇ method was used to calculate the contact angle.
  • the evaluation criteria are as follows. A is at a level that causes no practical problems. Initial water contact angle: A: It is 108 degrees or more. B: Less than 108 degrees.
  • Examples 1 to 5 are examples, and Example 6 is a comparative example. As shown in Table 1, Examples 1 to 5 were evaluated as good in both water repellency and abrasion resistance, but Example 6 was unable to achieve both excellent water repellency and abrasion resistance.
  • the compounds of the present disclosure are useful as surface treatment agents.
  • the surface treatment agent can be used, for example, for substrates in display devices such as touch panel displays, optical elements, semiconductor elements, building materials, automobile parts, nanoimprint technology, and the like.
  • the surface treatment agent can be used for bodies, window glasses (windshields, side glasses, rear glasses), mirrors, bumpers, etc. of transportation equipment such as trains, automobiles, ships, and airplanes.
  • the surface treatment agent can be used for outdoor articles such as building exterior walls, tents, solar power generation modules, sound insulation boards, and concrete; fishing nets, insect nets, and aquariums.
  • the surface treatment agent can be used for various indoor equipment such as kitchens, bathrooms, washstands, mirrors, toilet peripheral parts; ceramics such as chandeliers and tiles; artificial marble, and air conditioners.
  • the surface treatment agent can be used as an antifouling treatment for jigs, inner walls, piping, etc. in a factory.
  • the surface treatment agent can be used for goggles, glasses, helmets, pachinko machines, textiles, umbrellas, play equipment, and soccer balls.
  • the surface treatment agent can also be used as an adhesion prevention agent for various packaging materials such as food packaging materials, cosmetic packaging materials, and the inside of pots.
  • surface treatment agents are used for medical applications such as car navigation systems, mobile phones, smartphones, digital cameras, digital video cameras, PDAs, portable audio players, car audio, game equipment, eyeglass lenses, camera lenses, lens filters, sunglasses, and gastrocameras. It can be used for optical members such as appliances, copying machines, PCs, displays (for example, liquid crystal displays, organic EL displays, plasma displays, touch panel displays), touch panels, protective films, and antireflection films.
  • medical applications such as car navigation systems, mobile phones, smartphones, digital cameras, digital video cameras, PDAs, portable audio players, car audio, game equipment, eyeglass lenses, camera lenses, lens filters, sunglasses, and gastrocameras.
  • optical members such as appliances, copying machines, PCs, displays (for example, liquid crystal displays, organic EL displays, plasma displays, touch panel displays), touch panels, protective films, and antireflection films.

Abstract

少なくとも２つの直鎖アルキレン基と、前記少なくとも２つの直鎖アルキレン基がそれぞれ結合する３価以上の連結基と、前記３価以上の連結基に結合する反応性シリル基と、を含む化合物、当該化合物を含む組成物及び表面処理剤、並びに当該表面処理剤を用いた物品及び物品の製造方法。

Description

化合物、組成物、表面処理剤、物品の製造方法、及び物品
　本開示は、化合物、組成物、表面処理剤、物品の製造方法、及び物品に関する。
　近年、外観、視認性等の性能を向上させるために、物品の表面に指紋を付きにくくする技術、汚れを落としやすくする技術等が求められている。具体的な方法として、物品の表面に表面処理剤を用いて表面処理を行う方法が知られている。例えば、特許文献１にはｎ－オクタデシルトリメトキシシランからなる表面処理剤が記載されている。
国際公開第２００８／０１６０２９号
　一方、表面処理剤には撥水性、耐摩耗性等の観点からさらなる改良が求められている。かかる状況に鑑み、本開示は基材に良好な撥水性及び耐摩耗性を付与しうる化合物、当該化合物を含む組成物及び表面処理剤、並びに当該表面処理剤を用いた物品及び物品の製造方法に関する。
　上記課題を解決するための手段は、以下の態様を含む。
＜１＞　少なくとも２つの直鎖アルキレン基と、前記少なくとも２つの直鎖アルキレン基がそれぞれ結合する３価以上の連結基と、前記３価以上の連結基に結合する反応性シリル基と、を含む化合物。
＜２＞　少なくとも２つの直鎖アルキレン基のうち少なくとも１つの直鎖アルキレン基の炭素数が１０以上である、＜１＞に記載の化合物。
＜３＞　前記３価以上の連結基は、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、及び環状基からなる群より選択される少なくとも１つの分岐部を有する基である、＜１＞又は＜２＞に記載の化合物。
＜４＞　下記式（１）で表される化合物：
［ＣＨ３（ＣＨ２）ｍ１－］ｊＹ１［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］ｇ　…（１）
　式（１）中、
　Ｙ１は（ｊ＋ｇ）価の連結基であり、
　Ｒはそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌはそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｎは０～２の整数であり、
　ｊは２以上の整数であり、
　ｇは１以上の整数であり、
　ｍ１は０以上の整数である。
＜５＞　前記式（１）において、ｇが１である、＜４＞に記載の化合物。
＜６＞　前記式（１）において、ｍ１が９以上の整数である、＜４＞又は＜５＞に記載の化合物。
＜７＞　前記式（１）において、Ｙ１が炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、及び環状基からなる群より選択される少なくとも１つの分岐部を有する基である、＜４＞～＜６＞のいずれか１項に記載の化合物。
＜８＞　下記式（１－１）で表される化合物：
　［ＣＨ３（ＣＨ２）ｍ１－］ｊ１Ｙ１０ａ（Ｂ）ｇ１　　　…（１－１）
　式（Ｉ－１）中、
　Ｙ１０ａは（ｊ１＋ｇ１）価の連結基であり、
　Ｂはそれぞれ独立に、－ＱＬ－ＣＨ＝ＣＨ２であり、ここでＱＬは単結合又は２価の連結基であり、
　ｊ１は２以上の整数であり、
　ｇ１は１以上の整数であり、
　ｍ１は０以上の整数である。
＜９＞　＜１＞～＜７＞のいずれか１項に記載の化合物と、液状媒体と、を含む組成物。＜１０＞　＜１＞～＜７＞のいずれか１項に記載の化合物を含む、表面処理剤。
＜１１＞　さらに液状媒体を含む、＜１０＞に記載の表面処理剤。
＜１２＞　基材に対して、＜１０＞又は＜１１＞に記載の表面処理剤を用いて表面処理を行い、基材上に表面処理層が形成された物品を製造する、物品の製造方法。
＜１３＞　基材と、前記基材上に配置され、＜１０＞に記載の表面処理剤で表面処理された表面処理層と、を含む物品。
＜１４＞　前記物品が光学部材である、＜１３＞に記載の物品。
＜１５＞　前記物品がディスプレイ又はタッチパネルである、＜１３＞に記載の物品。
　本開示によれば、基材に良好な撥水性及び耐摩耗性を付与しうる化合物、当該化合物を含む組成物及び表面処理剤、並びに当該表面処理剤を用いた物品及び物品の製造方法が提供される。
　以下、本開示の実施形態を実施するための形態について詳細に説明する。但し、本開示の実施形態は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の実施形態において、その構成要素（要素ステップ等も含む）は、特に明示した場合を除き、必須ではない。数値及びその範囲についても同様であり、本開示の実施形態を制限するものではない。
　本開示において「工程」との語には、他の工程から独立した工程に加え、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の目的が達成されれば、当該工程も含まれる。
　本開示において「～」を用いて示された数値範囲には、「～」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
　本開示において各成分は該当する物質を複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、各成分の含有率又は含有量は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率又は含有量を意味する。
　本開示において「層」又は「膜」との語には、当該層又は膜が存在する領域を観察したときに、当該領域の全体に形成されている場合に加え、当該領域の一部にのみ形成されている場合も含まれる。
　「表面処理層」とは、基材の表面に、表面処理によって形成される層を意味する。
　本開示において、化合物又は基が特定の式（Ｘ）で表される場合、当該式（Ｘ）で表される化合物又は基をそれぞれ化合物（Ｘ）及び基（Ｘ）と記すことがある。
　本開示において、（ポリ）オキシアルキレン基とは、オキシアルキレン基又はポリオキシアルキレン基を意味する。
［化合物］
　本開示の化合物は、少なくとも２つの直鎖アルキレン基と、前記少なくとも２つの直鎖アルキレン基がそれぞれ結合する３価以上の連結基と、前記３価以上の連結基に結合する反応性シリル基と、を有する。
　本開示の化合物を含む組成物を用いて基材表面の表面処理を行うと、驚くべきことに基材表面の撥水性及び耐摩耗性に優れることが見出された。この理由は明らかではないが、少なくとも２つの直鎖アルキレン基を含む分岐構造を有する化合物を用いることによって、優れた撥水性及び耐摩耗性が発現すると考えられる。
　本開示の化合物における「直鎖アルキレン基」とは非置換の直鎖アルキレン基を意味する。前記「直鎖アルキレン基」は、例えばＣＨ３（ＣＨ２）ｍ－で表される直鎖アルキル基（ここで、ｍは０以上の整数を表す。）における－ＣＨ２（ＣＨ２）ｍ－で表される部分構造を包含するものとする。
　本開示の化合物において「直鎖アルキレン基」の両末端は－ＣＨ２－ではない基に結合しているものとする。したがって、本開示において「直鎖アルキレン基」の炭素数に言及する場合、－ＣＨ２－ではない基に結合する一方の末端から、－ＣＨ２－ではない基に結合する他方の末端までの直鎖アルキレン基の炭素数を意味する。
　直鎖アルキレン基の炭素数は１以上であり、撥水性及び耐摩耗性の観点からは、５以上が好ましく、１０以上がより好ましい。製造の容易性に優れる観点からは、前記炭素数は３０以下が好ましく、２８以下がより好ましく、２６以下がさらに好ましい。かかる観点からは、前記炭素数は、１～３０が好ましく、５～２８がより好ましく、１０～２６がさらに好ましい。
　本開示の化合物における前記少なくとも２つの直鎖アルキレン基のうち少なくとも１つの直鎖アルキレン基の炭素数が前記範囲であることが好ましく、少なくとも２つの直鎖アルキレン基の炭素数が前記範囲であることがより好ましい。
　前記３価以上の連結基に結合する直鎖アルキレン基の数は２以上であり、撥水性及び耐摩耗性をより向上する観点からは、３以上であってもよく、４以上であってもよい。製造の容易性に優れる観点からは、前記直鎖アルキレン基の数は８以下が好ましく、６以下がより好ましく、４以下がさらに好ましい。かかる観点から、前記直鎖アルキレン基の数は、２～８が好ましく、２～６がより好ましく、２～４がさらに好ましい。
　反応性シリル基とは、Ｓｉ原子に反応性基が結合した基を意味する。反応性基としては、加水分解性基又は水酸基が好ましい。
　加水分解性基とは、加水分解反応により水酸基となる基である。すなわち、Ｓｉ－Ｌで表される加水分解性を有するシリル基は、加水分解反応によりＳｉ－ＯＨで表されるシラノール基となる。シラノール基は、さらにシラノール基間で反応してＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面に存在する酸化物に由来するシラノール基と脱水縮合反応して、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成できる。加水分解性基としては、例えば、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、及びイソシアナト基（－ＮＣＯ）が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましい。ただし、アリールオキシ基のアリール基は、ヘテロアリール基を含む。ハロゲン原子は、塩素原子であることが好ましい。アシル基は、炭素数１～６のアシル基であることが好ましい。アシルオキシ基は、炭素数１～６のアシルオキシ基であることが好ましい。
　均一な膜を作製しやすく、耐久性に優れる観点からは、反応性シリル基としてはアルコキシシリル基又はトリクロロシリル基が好ましい。基材との反応において生じる副生物の取り扱いやすさの観点から、反応性シリル基は、アルコキシシリル基であることがより好ましい。アルコキシシリル基としてはジアルコキシシリル基又はトリアルコキシシリル基が好ましく、トリアルコキシシリル基がより好ましい。
　本開示の化合物が有する反応性シリル基の数は、１以上であり、表面処理層の耐摩耗性をより向上させる観点から、１～１８が好ましく、２～１２がより好ましく、２～８がさらに好ましい。反応性シリル基の数は、１であってもよい。
　反応性シリル基としては、下記式（Ｓ１）で表される基が好ましい。
　－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ　　…（Ｓ１）
　式（Ｓ１）中、Ｒはそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、Ｌはそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、ｎは０～２の整数である。
　基（Ｓ１）が１分子中に複数ある場合、複数の基（Ｓ１）は、同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性、及び、化合物の製造容易性の観点からは、複数の基（Ｓ１）は、同じであることが好ましい。
　Ｒはそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、１価の飽和炭化水素基が好ましい。Ｒの炭素数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２がさらに好ましい。
　Ｌが加水分解性基の場合、加水分解性基としては、上述のものが好ましい。
　なかでも、Ｌは、化合物の製造容易性に優れる観点から、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～４のアルコキシ基）又はハロゲン原子であることが好ましい。Ｌは、塗布時のアウトガスが少なく、化合物の保存安定性がより優れる観点から、炭素数１～４のアルコキシ基であることが好ましい。化合物の長期の保存安定性が必要な場合には、Ｌは、エトキシ基であることがより好ましい。塗布後の反応時間を短時間とする場合には、Ｌは、メトキシ基であることがより好ましい。式（Ｓ１）において、Ｌの少なくとも１つが上記基であることが好ましく、Ｌのすべてが上記基であることがより好ましい。
　ｎは、０～２の整数であり、０又は１が好ましく、０がより好ましい。本開示の化合物を表面処理剤に用いる場合、Ｌが複数存在することによって、表面処理層の基材への密着性がより強固になる。
　ｎが１以下である場合、１分子中に存在する複数のＬは、同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。原料の入手容易性、及び、化合物の製造容易性の観点から、複数のＬは同じであることが好ましい。ｎが２である場合、１分子中に存在する複数のＲは同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。原料の入手容易性、及び、化合物の製造容易性の観点から、複数のＲは同じであることが好ましい。
　本開示の化合物における前記３価以上の連結基は、本開示の目的を損なわない基であればよい。３価以上の連結基は、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、及び環状基からなる群より選択される少なくとも１つの分岐部を有する基であることが好ましい。この場合、前記少なくとも２つの直鎖アルキレン基がそれぞれ前記分岐部に直接又は連結基を介して結合することにより、本開示の化合物に分岐構造が形成されていることが好ましい。前記３価以上の連結基としては、後述の式（１）中のＹ１として説明される基、及び後述の式（２）中のＹ１ａ－Ｙ１ｂとして説明される連結基も挙げられる。３価以上の連結基はオルガノシロキサン残基を有していてもよく、有していなくてもよい。なお、３価以上の連結基のうち、前記少なくとも２つの直鎖アルキレン基と結合する末端は－ＣＨ２－ではなく、その他の末端は－ＣＨ２－であっても－ＣＨ２－でなくてもよい。
　本開示の化合物はオルガノシロキサン残基を有していてもよく、有していなくてもよい。
　本開示の化合物は、撥水性及び耐摩耗性に優れる観点から、下記式（１）で表される化合物であることが好ましい。
　［ＣＨ３（ＣＨ２）ｍ１－］ｊＹ１［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］ｇ　…（１）
　式（１）中、
　Ｙ１は（ｊ＋ｇ）価の連結基であり、
　Ｒはそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌはそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｎは０～２の整数であり、
　ｊは２以上の整数であり、
　ｇは１以上の整数であり、
　ｍ１は０以上の整数である。
　Ｙ１は（ｊ＋ｇ）価の連結基である。Ｙ１は、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、及び環状基からなる群より選択される少なくとも１つの分岐部を有する基であることが好ましい。この場合、［ＣＨ３（ＣＨ２）ｍ１－］がそれぞれ前記分岐部に直接又は連結基を介して結合することにより、本開示の化合物に分岐構造が形成されていることが好ましい。
　Ｙ１としては、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、及び環状基からなる群より選択される少なくとも１つの分岐部、これらと２価の連結基との組み合わせ、並びにこれらの組み合わせが挙げられる。
　環状基としては、後述のＸ３１における環として例示する環を有する環状基が挙げられる。
　２価の連結基としては、２価の炭化水素基、後述の式（２）におけるＹ１ａ中のＱｇとして例示される２価の連結基等が挙げられる。２価の炭化水素基としては、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基等が挙げられる。２価の炭化水素基は、エーテル性酸素原子又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよく、有していなくてもよい。
　ただし、Ｙ１の［ＣＨ３（ＣＨ２）ｍ１－］に結合する末端は－（ＣＨ２）－ではない。
　Ｙ１としては、後述の式（２）中のＹ１ａ－Ｙ１ｂとして説明される基も挙げられる。
　Ｙ１はオルガノシロキサン残基を有していてもよく、有していなくてもよい。
　ｊは２以上の整数であり、撥水性及び耐摩耗性をより向上する観点からは、３以上の整数であってもよく、４以上の整数であってもよい。製造の容易性に優れる観点からは、ｊは８以下の整数であることが好ましく、６以下の整数であることがより好ましく、４以下の整数であることがさらに好ましい。かかる観点から、ｊは２～８の整数であることが好ましく、２～６の整数であることがより好ましく、２～４の整数であることがさらに好ましい。
　ｇは１以上の整数である。一態様において、撥水性及び耐摩耗性に優れる観点からは、ｇは、１～１５であることが好ましく、１～６であることがより好ましい。本開示の化合物における少なくとも２つの直鎖アルキレン基による撥水性及び耐摩耗性をより好適に発現する観点からは、ｇは、１～３であることが好ましく、１又は２であることがより好ましく、１であることがさらに好ましい。
　ｍ１は０以上の整数である。撥水性及び耐摩耗性に優れる観点からは、４以上が好ましく、６以上がより好ましく、９以上がさらに好ましい。製造の容易性に優れる観点からは、ｍ１は２９以下が好ましく、２７以下がより好ましく、２５以下がさらに好ましい。かかる観点からは、ｍ１は、０～２９が好ましく、４～２７がより好ましく、６～２７がさらに好ましく、９～２５が特に好ましい。
　ｊ個の［ＣＨ３（ＣＨ２）ｍ１－］のうち少なくとも１つにおけるｍ１が前記範囲であることが好ましく、少なくとも２つのｍ１が前記範囲であることがより好ましい。
　Ｒ、Ｌ、及びｎの定義及び具体例は、反応性シリル基内の各符号の定義及び具体例と同じである。
　化合物（１）における複数の［ＣＨ３（ＣＨ２）ｍ１－］は同一であってもよく、互いに異なってもよい。
　化合物（１）が［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］を複数有する場合、複数の［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］は同一であってもよく、互いに異なっていてもよい。
　化合物（１）は、撥水性及び耐摩耗性に優れる観点から、下記式（２）で表される化合物であることが好ましい。
　［ＣＨ３（ＣＨ２）ｍ１－］ｊＹ１ａ－Ｙ１ｂ［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］ｇ　…（２）
　式（２）中、
　Ｙ１ａは（ｊ＋１）価の連結基であり、
　Ｙ１ｂは（ｇ＋１）価の連結基であり、
　Ｒはそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌはそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｎは０～２の整数であり、
　ｊは２以上の整数であり、
　ｇは１以上の整数であり、
　ｍ１は０以上の整数である。
　式（２）中、Ｙ１ａ及びＹ１ｂを除く各符号の定義及び詳細は式（１）中の各符号の定義及び詳細と同じである。
　式（２）中、Ｙ１ａは（ｊ＋１）価の連結基である。Ｙ１ａは、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、及び環状基からなる群より選択される少なくとも１つの分岐部を有する基であることが好ましい。この場合、［ＣＨ３（ＣＨ２）ｍ１－］がそれぞれ前記分岐部に直接又は連結基を介して結合することにより、本開示の化合物に分岐構造が形成されていることが好ましい。
　Ｙ１ａとしては、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、及び環状基からなる群より選択される少なくとも１つの分岐部、これらと２価の連結基との組み合わせ、並びにこれらの組み合わせが挙げられる。
　環状基としては、後述のＸ３１における環として例示する環を有する環状基が挙げられる。
　２価の連結基としては、２価の炭化水素基、後述の式（２）におけるＹ１ａ中のＱｇで示される２価の連結基等が挙げられる。２価の炭化水素基としては、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基等が挙げられる。２価の炭化水素基は、エーテル性酸素原子又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有していても有していなくてもよい。
　Ｙ１ａはオルガノシロキサン残基を有していてもよく、有していなくてもよい。
　ただし、Ｙ１ａの［ＣＨ３（ＣＨ２）ｍ１－］に結合する末端は－（ＣＨ２）－ではない。
　Ｙ１ａとしては、下記式で表される基が挙げられる。
　式：（－Ｑｇ－）ｊＹ２－
　ここで、Ｑｇは、それぞれ独立に、単結合又は２価の連結基であり、Ｙ２は（ｊ＋１）価の連結基であり、ｊは２以上の整数である。ｊは式（２）中のｊと同義である。
　なお、上記式において、Ｑｇの［ＣＨ３（ＣＨ２）ｍ１－］側末端は－（ＣＨ２）－ではない。
　また、Ｙ２のＱｇ側には２価の連結基は連結されていないものとする。すなわち、Ｑｇが２価の連結基である場合、［ＣＨ３（ＣＨ２）ｍ１－］に結合する末端から２価の連結基の端部までをＱｇで表し、分岐部を構成する原子又は原子団を起点とする連結基をＹ２で表すものとする。
　Ｑｇは単結合又は２価の連結基である。２価の連結基としては、２価の炭化水素基、２価の複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒａ）２－及び、これらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。
　２価の炭化水素基としては、２価の飽和炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、アルケニレン基、アルキニレン基であってもよい。２価の飽和炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状又は環状であってもよく、例えば、アルキレン基が挙げられる。ただし、Ｑｇの［ＣＨ３（ＣＨ２）ｍ１－］側末端はアルキレン基ではない。
　２価の飽和炭化水素基の炭素数は、１～２０が好ましい。また、２価の芳香族炭化水素基としては、炭素数５～２０のものが好ましく、例えば、フェニレン基が挙げられる。それ以外にも、２価の炭化水素基は、炭素数２～２０のアルケニレン基、炭素数２～２０のアルキニレン基であってもよい。
　上記Ｒａは、アルキル基（好ましくは炭素数１～１０）又はフェニル基である。上記Ｒｄは、水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
　上記これらを２種以上組み合わせた基としては、例えば、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－アルキレン基、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－アルキレン基、（ポリ）オキシアルキレン基、－ＯＣ（Ｏ）－アルキレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－アルキレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－アルキレン基、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－アルキレン基、－Ｓｉ（Ｒａ）２－フェニレン基－Ｓｉ（Ｒａ）２等が挙げられる。
　一態様において、Ｑｇとしては、－Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）－アルキレン基、及びこれらの組み合わせが好ましい。
　Ｙ２は（ｊ＋１）価の連結基である。
　Ｙ２は、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、及び環状基からなる群より選択される少なくとも１つの分岐部を有する基であることが好ましい。Ｙ２としては、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、及び環状基からなる群より選択される少なくとも１つの分岐部、これらと２価の連結基との組み合わせ、並びにこれらの組み合わせが挙げられる。ただし、２価の連結基は、Ｙ２のＱｇ側とは反対側に連結されている。
　環状基としては、後述のＸ３１における環として例示する環を有する環状基が挙げられる。
　２価の連結基としては、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基等が挙げられ、アルキレン基が好ましい。
　Ｙ２としては、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、及び環状基からなる群より選択される少なくとも１つの分岐部にアルキレン基が結合した基が好ましい。ただし、アルキレン基はＹ２のＹ１ｂ側に結合している。製造の容易性、耐摩耗性等に優れる観点からは、前記アルキレン基の炭素数は１～２０が好ましく、１～１０であってもよく、１～６であってもよく、１～３であってもよい。
　Ｙ２が、前記分岐部にアルキレン基が結合した基である場合、かかるＹ２に結合するＹ１ｂの末端は－ＣＨ２－ではないものとする。この場合、Ｙ２におけるアルキレン基の炭素数は、分岐部の原子又は原子団側の最初の－ＣＨ２－からＹ１ｂ側の最後の－ＣＨ２－までの炭素数とする。
　Ｙ１ａの構造例を以下に示す。式中、＊は直鎖アルキレン基との結合位置を示し、＊＊はＹ１ｂとの結合位置を示す。
　式（２）中、Ｙ１ｂは単結合又は（ｇ＋１）価の連結基である。前記連結基としては、炭化水素基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、環状基、２～８価のオルガノポリシロキサン残基、及びこれらの組み合わせ、並びに後述する式（３－１Ａ）、式（３－１Ｂ）、及び式（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－６）からＳｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎを除いた基が挙げられる。前記炭化水素基は、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよく、環状であってもよい。前記炭化水素基は、エーテル性酸素原子又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有していても有していなくてもよい。また、Ｙ１ｂは、後述する基（ｇ２－１）～基（ｇ２－１４）であってもよい。
　Ｙ１ｂはオルガノシロキサン残基を有していてもよく、有していなくてもよい。
　なお、Ｙ１ｂのＹ１ａ側末端は－（ＣＨ２）－ではない。
　式（２）における－Ｙ１ｂ［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］ｇで表される基としては、基（３－１Ａ）及び（３－１Ｂ）が好ましい。
　－Ｑａ－Ｘ３１（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）ｈ（－Ｒ３１）ｉ　　　…（３－１Ａ）
　－Ｑｃ－［ＣＨ２Ｃ（Ｒ３２）（－Ｑｄ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）］ｙ－Ｒ３３…（３－１Ｂ）
　式（３－１Ａ）において、
　Ｑａは、単結合又は２価の連結基であり、
　Ｘ３１は、単結合、アルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２～８価のオルガノポリシロキサン残基、又は（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基であり、
　Ｑｂは、単結合又は２価の連結基であり、
　Ｒ３１は、水素原子、水酸基又はアルキル基であり、
　ｈは１以上の整数であり、ｉは０以上の整数であり、
　Ｒ、Ｌ、及びｎの定義及び具体例は、反応性シリル基内の各符号の定義及び具体例と同じである。
　式（３－１Ｂ）において、
　Ｑｃは、単結合又は２価の連結基であり、
　Ｒ３２は、水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基であり、
　Ｑｄは、単結合又はアルキレン基であり、
　Ｒ３３は、水素原子又はハロゲン原子であり、
　ｙは、１～１０の整数であり、
　Ｒ、Ｌ、及びｎの定義及び具体例は、反応性シリル基内の各符号の定義及び具体例と同じである。
　Ｑａは、単結合又は２価の連結基である。
　２価の連結基としては、例えば、２価の炭化水素基、２価の複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒａ）２－及び、これらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。
　上記２価の炭化水素基としては、２価の飽和炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、アルケニレン基、アルキニレン基であってもよい。２価の飽和炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状又は環状であってもよく、例えば、アルキレン基が挙げられる。２価の飽和炭化水素基の炭素数は、１～２０が好ましい。また、２価の芳香族炭化水素基としては、炭素数５～２０のものが好ましく、例えば、フェニレン基が挙げられる。それ以外にも、２価の炭化水素基は、炭素数２～２０のアルケニレン基、炭素数２～２０のアルキニレン基であってもよい。
　上記Ｒａは、アルキル基（好ましくは炭素数１～１０）又はフェニル基である。上記Ｒｄは、水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
　上記これらを２種以上組み合わせた基としては、例えば、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－アルキレン基、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－アルキレン基、（ポリ）オキシアルキレン基、－ＯＣ（Ｏ）－アルキレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－アルキレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－アルキレン基、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－アルキレン基、－Ｓｉ（Ｒａ）２－フェニレン基－Ｓｉ（Ｒａ）２等が挙げられる。
　一態様において、Ｑａとしては、単結合、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、及び－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－が好ましい。
　Ｘ３１は、単結合、アルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２～８価のオルガノポリシロキサン残基、又は（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基である。
　なお、上記アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基又はジアルキルシリレン基を有していても有していなくてもよい。アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基及びジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
　Ｘ３１で表されるアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましい。
　２～８価のオルガノポリシロキサン残基としては、２価のオルガノポリシロキサン残基、及び、後述する（ｗ２＋１）価のオルガノポリシロキサン残基が挙げられる。
　Ｘ３１が（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基である場合、Ｑａ、（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）、及び－Ｒ３１(ｉ＝１以上の場合）は該環を構成する原子に直接結合している。ただし、該環はオルガノポリシロキサン環以外の環である。以下、特に言及しない限り、Ｘ３１における環は、オルガノポリシロキサン環以外の環を意味する。
　Ｘ３１における環は、単環、縮合多環、橋かけ環、スピロ環及び集合多環のいずれであってもよく、環を構成する原子は、炭素原子のみからなる炭素環でもよく、２価以上の原子価を有するヘテロ原子と炭素原子とからなるヘテロ環でもよい。また、環を構成する原子間の結合は、単結合であってもよく、多重結合であってもよい。さらに、環は芳香族性の環であってもよく、非芳香族性の環であってもよい。
　単環としては、４員環～８員環が好ましく、５員環及び６員環がより好ましい。縮合多環としては、４員環～８員環の２以上が縮合した縮合多環が好ましく、５員環及び６員環から選ばれる環の２又は３個結合した縮合多環、及び、５員環及び６員環から選ばれる環の１又は２個と４員環１個が結合した縮合多環がより好ましい。橋かけ環としては、５員環又は６員環を最大の環とする橋かけ環が好ましく、スピロ環としては、４員環～６員環の２つからなるスピロ環が好ましい。集合多環としては、５員環及び６員環から選ばれる環の２又は３個が単結合、炭素原子の１～３個、又は原子価が２又は３のヘテロ原子１個を介して結合した集合多環が好ましい。なお、集合多環においては、各環にＱａ、（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）及びＲ３１(ｉ＝１以上の場合）のいずれかが結合している
ことが好ましい。
　上記環を構成するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が好ましく、窒素原子及び酸素原子がより好ましい。環を構成するヘテロ原子の数は３個以下が好ましい。また、環を構成するヘテロ原子の数が２個以上の場合、それらのヘテロ原子は同じでも異なっていてもよい。
　Ｘ３１における環としては、化合物を製造しやすい点及び表面処理層の耐摩耗性、耐光性及び耐薬品性がさらに優れる観点から、３～８員環の脂肪族環、ベンゼン環、３～８員環のヘテロ環、これらの環のうちの２又は３個が縮合した縮合環、５員環又は６員環を最大の環とする橋かけ環、及び、これらの環のうちの２つ以上を有し、連結基が単結合、炭素数３以下のアルキレン基、酸素原子又は硫黄原子である集合多環からなる群より選択される１種が好ましい。
　好ましい環は、ベンゼン環、５員又は６員の脂肪族環、窒素原子又は酸素原子を有する５員又は６員のヘテロ環、及び、５員又は６員の炭素環と４～６員のヘテロ環との縮合環である。
　具体的な環としては、以下に示す環と、１，３－シクロヘキサジエン環、１，４－シクロヘキサジエン環、アントラセン環、シクロプロパン環、デカヒドロナフタレン環、ノルボルネン環、ノルボルナジエン環、フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピラジン環、モルホリン環、アジリジン環、イソキノリン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピラン環、ピリダジン環、ピリミジン環、及びインデン環が挙げられる。なお、以下には、オキソ基（＝Ｏ）を有する環も示す。
　Ｘ３１における環を構成する原子の環を構成しない結合手は、Ｑａ、（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）又はＲ３１(ｉ＝１以上の場合）に結合する結合手であり、残余の結合手がある場合は水素原子や置換基に結合している。該置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基（炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を含んでいてもよい。）、シクロアルキル基、アルケニル基、アリル基、アルコキシ基、オキソ基（＝Ｏ）等が挙げられる。
　また、環を構成する炭素原子の１個がＱａ、（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）、又はＲ３１(ｉ＝１以上の場合）に結合できる結合手を２つ有する場合、その１個の炭素原子にＱａ、（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）、及び－Ｒ３１のうちの任意の２つが結合していてもよい。ＱａとＱｂとは別の環構成原子に結合していることが好ましい。ｉ個のＲ３１はそれぞれ別個の環構成原子に結合していてもよく、ｉ個のＲ３１のうちの２個が１個の環構成炭素原子に結合していてもよい。２個のＲ３１が結合した環構成炭素原子が２個以上存在してもよい。
　なかでも、Ｘ３１は、表面処理層の耐摩耗性を向上させる観点から、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、４～８価のオルガノポリシロキサン残基、又は（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基が好ましく、炭素原子がより好ましい。
　Ｑｂは、単結合又は２価の連結基である。
　２価の連結基としては、例えば、２価の炭化水素基、２価の複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒａ）２－及び、これらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。
　上記２価の炭化水素基としては、２価の飽和炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、アルケニレン基、アルキニレン基であってもよい。２価の飽和炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状又は環状であってもよく、例えば、アルキレン基が挙げられる。２価の飽和炭化水素基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、２価の芳香族炭化水素基としては、炭素数５～２０のものが好ましく、例えば、フェニレン基が挙げられる。それ以外にも、２価の炭化水素基は、炭素数２～２０のアルケニレン基、炭素数２～２０のアルキニレン基であってもよい。
　上記Ｒａは、アルキル基（好ましくは炭素数１～１０）又はフェニル基である。上記Ｒｄは、水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
　なお、上記これらを２種以上組み合わせた基としては、例えば、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－を有するアルキレン基、エーテル性酸素原子を有するアルキレン基、－ＯＣ（Ｏ）－を有するアルキレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－を有するアルキレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－を有するアルキレン基、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基、アルキレン基－Ｓｉ（Ｒａ）２－フェニレン基－Ｓｉ（Ｒａ）２等が挙げられる。
　Ｒ３１は、水素原子、水酸基又はアルキル基である。
　アルキル基の炭素数は、１～５が好ましく、１～３がより好ましく、１がさらに好ましい。
　ｈは１以上の整数であり、ｉは０以上の整数である。
　Ｘ３１が単結合又はアルキレン基の場合、ｈは１、ｉは０である。
　Ｘ３１が窒素原子の場合、ｈは１～２の整数であり、ｉは０～１の整数であり、ｈ＋ｉ＝２を満たす。
　Ｘ３１が炭素原子又はケイ素原子の場合、ｈは１～３の整数であり、ｉは０～２の整数であり、ｈ＋ｉ＝３を満たす。
　Ｘ３１が２～８価のオルガノポリシロキサン残基の場合、ｈは１～７の整数であり、ｉは０～６の整数であり、ｈ＋ｉ＝１～７を満たす。
　Ｘ３１が（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基の場合、ｈは１～７の整数であり、ｉは０～６の整数であり、ｈ＋ｉ＝１～７を満たす。
　（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）が２個以上ある場合は、２個以上の（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）は、同一であっても異なっていてもよい。Ｒ３１が２個以上ある場合は、２個以上の（－Ｒ３１）は、同一であっても異なっていてもよい。
　なかでも、表面処理層の耐摩耗性を向上させる観点からは、ｉは０であることが好ましい。
　Ｑｃは、単結合又は２価の連結基である。
　２価の連結基の定義及び詳細は、上述したＱａで説明した定義及び詳細と同じである。
　Ｒ３２は、水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基であり、化合物を製造しやすい観点から、水素原子であることが好ましい。
　アルキル基としては、メチル基が好ましい。
　Ｑｄは、単結合又はアルキレン基である。アルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましい。化合物を製造しやすい観点から、Ｑｄは、単結合又は－ＣＨ２－であることが好ましい。
　Ｒ３３は、水素原子又はハロゲン原子であり、化合物を製造しやすい観点から、水素原子であることが好ましい。
　ｙは、１～１０の整数であり、１～６の整数であることが好ましい。
　２個以上の［ＣＨ２Ｃ（Ｒ３２）（－Ｑｄ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）］は、同一であっても異なってもよい。
　基（３－１Ａ）としては、基（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）が好ましい。
　－（Ｘ３２）ｓ１－Ｑｂ１－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ　　　　　　　　　　…（３－１Ａ－１）
　－（Ｘ３３）ｓ２－Ｑａ２－Ｎ［－Ｑｂ２－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］２　　…（３－１Ａ－２）
　－Ｑａ３－Ｓｉ（Ｒｇ）［－Ｑｂ３－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］２　　　　…（３－１Ａ－３）
　－［Ｑｅ］ｓ４－Ｑａ４－（Ｏ）ｔ４－Ｃ［－（Ｏ）ｕ４－Ｑｂ４－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］３－ｗ１（－Ｒ３１）ｗ１　　…（３－１Ａ－４）
　－Ｑａ５－Ｓｉ［－Ｑｂ５－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］３　　　　　　　　…（３－１Ａ－５）
　－［Ｑｅ］ｖ－Ｑａ６－Ｚａ［－Ｑｂ６－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］ｗ２　　　…（３－１Ａ－６）
　－［Ｑｅ］ｓ４－Ｑａ４－（Ｏ）ｔ４－Ｚｃ［－（Ｏ－Ｑｂ４）ｕ４－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］ｗ３（－ＯＨ）ｗ４　　…（３－１Ａ－７）
　なお、式（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）中、Ｒ、Ｌ、及び、ｎの定義は、上述した通りである。
　基（３－１Ａ－１）において、Ｘ３２は、－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、又は－Ｎ（Ｒｄ）－である（ただし、式中のＮはＱｂ１に結合する）。
　Ｒｄの定義は、上述した通りである。
　ｓ１は、０又は１である。
　Ｑｂ１は、単結合；アルキレン基；又は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基若しくはジアルキルシリレン基に、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基、ジアルキルシリレン基を有していてもよいアルキレン基が結合した基；フェニレン基；又はフェニレン基にアルキレン基が結合した基である。前記アルキレン基の炭素数は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましい。
　Ｑｂ１としては、ｓ１が０の場合は、単結合、－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、及び－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい。
　（Ｘ３２）ｓ１が－Ｏ－の場合は、Ｑｂ１としては、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、及び－ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい。（Ｘ３２）ｓ１が－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－の場合は、炭素数２～６のアルキレン基が好ましい（ただし、式中のＮはＱｂ１に結合する）。Ｑｂ１がこれらの基であると化合物が製造しやすい。
　基（３－１Ａ－１）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、式（２）中のＹ１ａとの結合位置を表す。
　基（３－１Ａ－２）において、Ｘ３３は、－Ｏ－、－ＮＨ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、又は、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－である。
　Ｒｄの定義は、上述した通りである。
　Ｑａ２は、単結合、アルキレン基、－Ｃ（Ｏ）－、又は、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、若しくは－ＮＨ－を有する基である。
　Ｑａ２で表されるアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～６がさらに好ましく、１～３が特に好ましい。
　Ｑａ２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、又は－ＮＨ－を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６がより好ましい。
　Ｑａ２は、化合物を製造しやすい観点から、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２－、又は－Ｃ（Ｏ）－が好ましい。
　ｓ２は、０又は１（ただし、Ｑａ２が単結合の場合は０である。）である。化合物を製造しやすい観点から、０が好ましい。
　Ｑｂ２は、アルキレン基、又は、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に、２価のオルガノポリシロキサン残基、エーテル性酸素原子若しくは－ＮＨ－を有する基である。
　Ｑｂ２で表されるアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよい。
　Ｑｂ２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に、２価のオルガノポリシロキサン残基、エーテル性酸素原子又は－ＮＨ－を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６がより好ましい。
　Ｑｂ２としては、化合物を製造しやすい観点から、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。
　２個の［－Ｑｂ２－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　基（３－１Ａ－２）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、式（２）中のＹ１ａとの結合位置を表す。また、式中、反応性シリル基に結合する（ＣＨ２）αにおけるαはメチレン基の数を表す整数であり、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば、２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってよい。同一化合物中に含まれる複数のαは同一であっても異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。例えば、同一化合物中に含まれる複数のαが全て２、３、８、９、１１である。以下同様である。
　基（３－１Ａ－３）において、Ｑａ３は、単結合、又は、（ポリ）オキシアルキレン基であり、化合物を製造しやすい観点から、単結合が好ましい。
　（ポリ）オキシアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～６がさらに好ましく、１～３が特に好ましい。また、前記炭素数は２～６であってもよい。
　Ｒｇは、水素原子、水酸基又はアルキル基である。Ｒｇとしては、化合物を製造しやすい観点からは、水素原子又はアルキル基が好ましい。アルキル基の炭素数は１～１０が好ましく、１～４がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
　Ｑｂ３は、アルキレン基、又は、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子若しくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
　Ｑｂ３で表されるアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよい。
　Ｑｂ３で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１０がより好ましく、２～６がさらに好ましい。
　Ｑｂ３は、化合物を製造しやすい観点から、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、又は－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい。
　２個の［－Ｑｂ３－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　基（３－１Ａ－３）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、式（２）中のＹ１ａとの結合位置を表す。
　基（３－１Ａ－４）において、Ｑｅは、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、又は、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－である。
　Ｒ３１の定義は、上述した通りである。
　ｓ４は、０又は１である。
　Ｑａ４は、単結合、又は、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基（ｓ４が１の場合）、又は（ポリ）オキシアルキレン基（ｓ４が０の場合）である。
　エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基又は（ポリ）オキシアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～６がさらに好ましく、１～３が特に好ましい。また、前記炭素数は２～６であってもよい。
　ｔ４は、０又は１（ただし、Ｑａ４が単結合の場合は０である。）である。
　－Ｑａ４－（Ｏ）ｔ４－としては、化合物を製造しやすい観点から、ｓ４が０の場合は、単結合、－Ｏ－、－ＯＣＨ２－、－ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２－、－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２－が好ましく（ただし、左側がＹ１ａに結合する。）、ｓ４が１の場合は、単結合、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい。
　Ｑｂ４は、アルキレン基であり、上記アルキレン基は－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－（Ｒｄの定義は、上述した通りである。）、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基又はジアルキルシリレン基を有していてもよく、有していなくてもよい。
　なお、アルキレン基が－Ｏ－又はシルフェニレン骨格基を有する場合、炭素原子－炭素原子間に－Ｏ－又はシルフェニレン骨格基を有することが好ましい。また、アルキレン基が－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、ジアルキルシリレン基又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有する場合、炭素原子－炭素原子間又は（Ｏ）ｕ４と結合する側の末端にこれらの基を有することが好ましい。
　Ｑｂ４で表されるアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよい。
　ｕ４は、０又は１である。
　－（Ｏ）ｕ４－Ｑｂ４－としては、化合物を製造しやすい観点から、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、及び－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２ＰｈＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。
　ｗ１は、０～２の整数であり、０又は１が好ましく、０がより好ましい。
　［－（Ｏ）ｕ４－Ｑｂ４－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］が２個以上ある場合は、２個以上の［－（Ｏ）ｕ４－Ｑｂ４－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　Ｒ３１が２個以上ある場合は、２個以上の（－Ｒ３１）は、同一であっても異なっていてもよい。
　基（３－１Ａ－４）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、式（２）中のＹ１ａとの結合位置を表す。
　基（３－１Ａ－５）において、Ｑａ５は、単結合又は（ポリ）オキシアルキレン基である。
　（ポリ）オキシアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～６がさらに好ましく、１～３が特に好ましい。また、前記炭素数は２～６であってもよい。
　Ｑａ５としては、化合物を製造しやすい観点から、単結合、－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、及び－ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。
　Ｑｂ５は、アルキレン基、又は、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子若しくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
　Ｑｂ５で表されるアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよい。
　Ｑｂ５で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１０がより好ましく、２～６がさらに好ましい。
　Ｑｂ５としては、化合物を製造しやすい観点から、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、及び－ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい（ただし、右側がＳｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎに結合する。）。
　３個の［－Ｑｂ５－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　基（３－１Ａ－５）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、式（２）中のＹ１ａとの結合位置を表す。
　基（３－１Ａ－６）中のＱｅの定義は、上述の基（３－１Ａ－４）において定義した通りである。
　ｖは、０又は１である。
　Ｑａ６は、単結合、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基（ｖが１の場合）、又は（ポリ）オキシアルキレン基である。
　エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基又は（ポリ）オキシアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～６がさらに好ましく、１～３が特に好ましい。また、前記炭素数は２～６であってもよい。
　ｖが１の場合、Ｑａ６としては、化合物を製造しやすい観点から、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい（ただし、右側がＺａに結合する。）。
　ｖが０の場合、Ｑａ６としては、化合物を製造しやすい観点から、－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、又は－ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい（ただし、右側がＺａに結合する。）。
　Ｚａは、（ｗ２＋１）価のオルガノポリシロキサン残基、又は、（ｗ２＋１）価であって、オルガノポリシロキサン残基とオルガノポリシロキサン残基との間にアルキレン基を有する基である。
　ｗ２は、２～７の整数である。
　（ｗ２＋１）価のオルガノポリシロキサン残基、又は、（ｗ２＋１）価であって、オルガノポリシロキサン残基とオルガノポリシロキサン残基との間にアルキレン基を有する基としては、下記の基が挙げられる。ただし、下式におけるＲａは、上述の通りである。

 
 
　Ｑｂ６は、アルキレン基、又は、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子若しくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
　Ｑｂ６で表されるアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよい。
　Ｑｂ６で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１０がより好ましく、２～６がさらに好ましい。
　Ｑｂ６としては、化合物を製造しやすい観点から、－ＣＨ２ＣＨ２－、及び－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい。
　ｗ２個の［－Ｑｂ６－Ｓｉ（Ｒ）ｎ３Ｌ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　基（３－１Ａ－６）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、ＣＨ３（ＣＨ２）ｍ１－又は－（ＣＨ２）ｍ２－との結合位置を表す。
　基（３－１Ａ－７）において、Ｚｃは（ｗ３＋ｗ４＋１）価の炭化水素基である。
　ｗ３は、４以上の整数である。
　ｗ４は、０以上の整数である。
　Ｑｅ、ｓ４、Ｑａ４、ｔ４、Ｑｂ４、及びｕ４の定義及び好ましい範囲は基（３－１Ａ－４）中の各符号の定義と同じである。
　Ｚｃは炭化水素鎖からなってもよく、炭化水素鎖の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有してもよく、炭化水素鎖からなることが好ましい。
　Ｚｃの価数は５～２０価が好ましく、５～１０価がより好ましく、５～８価がさらに好ましく、５価又は６価が特に好ましい。
　Ｚｃの炭素数は３～５０が好ましく、４～４０がより好ましく、５～３０がさらに好ましい。
　ｗ３は、４～２０が好ましく、４～１６がより好ましく、４～８がさらに好ましく、４又は５が特に好ましい。
　ｗ４は、０～１０が好ましく、０～８がより好ましく、０～６がさらに好ましく、０～３が特に好ましく、０又は１が最も好ましい。
　［－（Ｏ－Ｑｂ４）ｕ４－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］が２個以上ある場合は、２個以上の［－（Ｏ－Ｑｂ４）ｕ４－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　基（３－１Ａ－７）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、式（２）中のＹ１ａとの結合位置を表す。
　式（１）におけるＹ１又は式（２）におけるＹ１ｂは、基（ｇ２－１）～（ｇ２－７）に示される基であってもよい。基（ｇ２－１）～（ｇ２－７）において、Ａ１が複数存在する場合には、当該基は式（１）におけるＹ１に相当し、Ａ１が１つ存在する場合には、当該基は式（２）におけるＹ１ｂに相当する。
（－Ａ１－Ｑ１２－）ｅ１Ｃ（Ｒｅ２）４－ｅ１－ｅ２（－Ｑ２２－）ｅ２　　　…（ｇ２－２）
－Ａ１－Ｑ１３－Ｎ（－Ｑ２３－）２　　　　　　　　　　　　　　　　…（ｇ２－３）
（－Ａ１－Ｑ１４－）ｈ１Ｚ１（－Ｑ２４－）ｈ２　　　　　　　　　　　…（ｇ２－４）
（－Ａ１－Ｑ１５－）ｉ１Ｓｉ（Ｒｅ３）４－ｉ１－ｉ２（－Ｑ２５－）ｉ２　　…（ｇ２－５）
－Ａ１－Ｑ２６－　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　…（ｇ２－６）
－Ａ１－Ｑ１２－ＣＨ（－Ｑ２２－）－Ｓｉ（Ｒｅ３）３－ｉ３（－Ｑ２５－）ｉ３　　…（ｇ２－７）
　ただし、式（ｇ２－１）～（ｇ２－７）においては、Ａ１側が［ＣＨ３（ＣＨ２）ｍ１－］（Ａ１が複数の場合）又は［ＣＨ３（ＣＨ２）ｍ１－］ｊＹ１ａ－（Ａ１が１つの場合）に接続し、Ｑ２２、Ｑ２３、Ｑ２４、Ｑ２５又はＱ２６側が［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］に接続する。
　Ａ１は、単結合、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｏ－、－ＮＲ６－、又は－ＳＯ２ＮＲ６－である。
　Ｑ１１は、単結合、－Ｏ－、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基である。
　Ｑ１２は、単結合、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基であり、Ｙ１又はＹ１ｂがＱ１２を２以上有する場合、２以上のＱ１２は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ１３は、単結合、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基、又はアルキレン基のＮ側の末端に－Ｃ（Ｏ）－を有する基である。
　Ｑ１４は、Ｑ１４が結合するＺ１における原子が炭素原子の場合、Ｑ１２であり、Ｑ１４が結合するＺ１における原子が窒素原子の場合、Ｑ１３であり、Ｙ１又はＹ１ｂがＱ１４を２以上有する場合、２以上のＱ１４は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ１５は、単結合、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基であり、Ｙ１又はＹ１ｂがＱ１５を２以上有する場合、２以上のＱ１５は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ２２は、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基、アルキレン基のＳｉに接続しない側の末端に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有しかつＳｉに接続しない側の末端に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基であり、Ｙ１又はＹ１ｂがＱ２２を２以上有する場合、２以上のＱ２２は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ２３は、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基であり、２個のＱ２３は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ２４は、Ｑ２４が結合するＺ１における原子が炭素原子の場合、Ｑ２２であり、Ｑ２４が結合するＺ１における原子が窒素原子の場合、Ｑ２３であり、Ｙ１又はＹ１ｂがＱ２４を２以上有する場合、２以上のＱ２４は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ２５は、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基であり、Ｙ１又はＹ１ｂがＱ２５を２以上有する場合、２以上のＱ２５は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ２６は、単結合、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基である。
　Ｚ１は、Ｑ１４が直接結合する炭素原子又は窒素原子を有しかつＱ２４が直接結合する炭素原子又は窒素原子を有するｈ１＋ｈ２価の環構造を有する基である。
　Ｒｅ１は、水素原子又はアルキル基であり、Ｙ１又はＹ１ｂがＲｅ１を２以上有する場合、２以上のＲｅ１は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｒｅ２は、水素原子、水酸基、アルキル基又はアシルオキシ基である。
　Ｒｅ３は、アルキル基である。
　Ｒ６は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基である。
　ｄ１は、０～３の整数であり、１又は２であることが好ましい。ｄ２は、０～３の整数であり、１又は２であることが好ましい。ｄ１＋ｄ２は、１～３の整数である。
　ｄ３は、０～３の整数であり、０又は１であることが好ましい。ｄ４は、０～３の整数であり、２又は３であることが好ましい。ｄ３＋ｄ４は、１～３の整数である。
　ｄ１＋ｄ３は、式（１）におけるＹ１においては２～５の整数であり、２であることが好ましく、式（２）におけるＹ１ｂにおいては１である。
　ｄ２＋ｄ４は、式（１）におけるＹ１においては１～４の整数であり、４であることが好ましく、式（２）におけるＹ１ｂにおいては３～５の整数であり、４又は５であることが好ましい。
　ｅ１＋ｅ２は、３又は４である。ｅ１は、式（１）におけるＹ１においては２又は３であり、２であることが好ましく、式（２）におけるＹ１ｂにおいては１である。ｅ２は、式（１）におけるＹ１においては１又は２であり、２であることが好ましく、式（２）におけるＹ１ｂにおいては２又は３である。
　ｈ１は、式（１）におけるＹ１においては２以上の整数であり、２であることが好ましく、式（２）におけるＹ１ｂにおいては１である。ｈ２は、１以上の整数であり、２又は３であることが好ましい。
　ｉ１＋ｉ２は、３又は４である。ｉ１は、式（１）におけるＹ１においては２又は３であり、２であることが好ましく、式（２）におけるＹ１ｂにおいては１である。ｉ２は、式（１）におけるＹ１においては１又は２であり、２であることが好ましく、式（２）におけるＹ１ｂにおいては２又は３である。
　ｉ３は、２又は３である。
　Ｑ１１、Ｑ１２、Ｑ１３、Ｑ１４、Ｑ１５、Ｑ２２、Ｑ２３、Ｑ２４、Ｑ２５及びＱ２６のアルキレン基の炭素数は、化合物を製造しやすい観点、及び表面処理層の耐摩耗性がさらに優れる観点から、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよく、１～６であってもよく、１～４であってもよい。ただし、炭素－炭素原子間に特定の結合を有する場合のアルキレン基の炭素数の下限値は２である。
　Ｚ１における環構造としては、上述した環構造が挙げられ、好ましい形態も同様である。なお、Ｚ１における環構造にはＱ１４やＱ２４が直接結合するため、例えば、環構造にアルキレン基が連結して、そのアルキレン基にＱ１４やＱ２４が連結することはない。
　Ｒｅ１、Ｒｅ２又はＲｅ３のアルキル基の炭素数は、化合物を製造しやすい観点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２がさらに好ましい。
　Ｒｅ２のアシルオキシ基のアルキル基部分の炭素数は、化合物を製造しやすい観点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２がさらに好ましい。
　ｈ１は、化合物を製造しやすい観点、並びに、表面処理層の耐摩耗性がさらに優れる観点から、１～６が好ましく、１～４がより好ましく、１又は２がさらに好ましく、１が特に好ましい。
　ｈ２としては、化合物を製造しやすい観点、並びに、表面処理層の耐摩耗性がさらに優れる観点から、２～６が好ましく、２～４がより好ましく、２又は３がさらに好ましい。
　式（１）におけるＹ１又は式（２）におけるＹ１ｂは、基（ｇ２－８）～（ｇ２－１４）に示される基であってもよい。基（ｇ２－８）～（ｇ２－１４）において、Ａ１が複数存在する場合には、当該基は式（１）におけるＹ１に相当し、Ａ１が１つ存在する場合には、当該基は式（２）におけるＹ１ｂに相当する。
（－Ａ１－Ｑ１２－）ｅ１Ｃ（Ｒｅ２）４－ｅ１－ｅ２（－Ｑ２２－Ｇ１）ｅ２　　…（ｇ２－９）
－Ａ１－Ｑ１３－Ｎ（－Ｑ２３－Ｇ１）２　　　　　　　　　　　　　 　…（ｇ２－１
０）
（－Ａ１－Ｑ１４－）ｈ１Ｚ１（－Ｑ２４－Ｇ１）ｈ２　　　　　　　　　　…（ｇ２－１１）
（－Ａ１－Ｑ１５－）ｉ１Ｓｉ（Ｒｅ３）４－ｉ１－ｉ２（－Ｑ２５－Ｇ１）ｉ２　…（ｇ２－１２）
－Ａ１－Ｑ２６－Ｇ１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 …（ｇ２－１３
）
－Ａ１－Ｑ１２－ＣＨ（－Ｑ２２－Ｇ１）－Ｓｉ（Ｒｅ３）３－ｉ３（－Ｑ２５－Ｇ１）ｉ３…（ｇ２－１４）
　ただし、式（ｇ２－８）～（ｇ２－１４）においては、Ａ１側が［ＣＨ３（ＣＨ２）ｍ１－］（Ａ１が複数の場合）又は［ＣＨ３（ＣＨ２）ｍ１－］ｊＹ１ａ－（Ａ１が１つの場合）に接続し、Ｇ１側が［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］に接続する。
　Ｇ１は、基（ｇ３）であり、Ｙ１又はＹ１ｂが有する２以上のＧ１は同一であっても異なっていてもよい。Ｇ１以外の符号は、式（ｇ２－１）～（ｇ２－７）における符号と同じである。
　－Ｓｉ（Ｒ８）３－ｋ３（－Ｑ３－）ｋ３　　…（ｇ３）
　ただし、式（ｇ３）においては、Ｓｉ側がＱ２２、Ｑ２３、Ｑ２４、Ｑ２５及びＱ２６に接続し、Ｑ３側が［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］に接続する。Ｒ８は、アルキル基である。Ｑ３は、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－若しくは－Ｏ－を有する基、又は（ＯＳｉ（Ｒ９）２）ｐ－Ｏ－であり、２以上のＱ３は同一であっても異なっていてもよい。ｋ３は、２又は３である。Ｒ６は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基である。Ｒ９は、アルキル基、フェニル基又はアルコキシ基であり、２個のＲ９は同一であっても異なっていてもよい。ｐは、０～５の整数であり、ｐが２以上の場合、２以上の（ＯＳｉ（Ｒ９）２）は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ３のアルキレン基の炭素数は、化合物を製造しやすい観点、並びに、表面処理層の耐摩耗性がさらに優れる観点から、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよく、１～６であってもよく、１～４であってもよい。ただし、炭素－炭素原子間に特定の結合を有する場合のアルキレン基の炭素数の下限値は２である。
　Ｒ８のアルキル基の炭素数は、化合物を製造しやすい観点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２がさらに好ましい。
　Ｒ９のアルキル基の炭素数は、化合物を製造しやすい観点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２がさらに好ましい。
　Ｒ９のアルコキシ基の炭素数は、化合物の保存安定性に優れる観点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２がさらに好ましい。
　ｐは、０又は１が好ましい。
　化合物（１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。下式の化合物は、工業的に製造しやすく、取扱いやすく、表面処理層の耐摩耗性がさらに優れる観点から好ましい。下式の化合物におけるＷはそれぞれ、上述した式（１）における［ＣＨ３（ＣＨ２）ｍ１－］若しくは式（２）における［ＣＨ３（ＣＨ２）ｍ１－］ｊＹ１ａ－（Ｗが複数存在する場合）、又は式（２）における［ＣＨ３（ＣＨ２）ｍ１－］ｊＹ１ａ－（Ｗが１つの場合）を表し、好ましい形態も同様である。
　基（ｇ２－１）を有する化合物（１）又は（２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　
　基（ｇ２－２）を有する化合物（１）又は（２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

 
　基（ｇ２－３）を有する化合物（１）又は（２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
　基（ｇ２－４）を有する化合物（１）又は（２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
　基（ｇ２－５）を有する化合物（１）又は（２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
　基（ｇ２－６）を有する化合物（１）又は（２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。　
　基（ｇ２－７）を有する化合物（１）又は（２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
　基（ｇ２－８）を有する化合物（１）又は（２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
　基（ｇ２－９）を有する化合物（１）又は（２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
　基（ｇ２－１０）を有する化合物（１）又は（２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
　基（ｇ２－１１）を有する化合物（１）又は（２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
　基（ｇ２－１２）を有する化合物（１）又は（２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
　基（ｇ２－１３）を有する化合物（１）又は（２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
　基（ｇ２－１４）を有する化合物（１）又は（２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
　本開示の化合物としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。
　本開示の化合物の数平均分子量（Ｍｎ）は、４００～２０，０００であることが好ましく、５００～１８，０００であることがより好ましく、６００～１，５０００であることがさらに好ましい。Ｍｎが４００以上であれば、撥水性かつ耐摩耗性に優れる。Ｍｎが２０，０００以下であれば、粘性を適切な範囲内に調節しやすく、また溶解性が向上するので、成膜時のハンドリング性が優れる。
〔化合物の製造方法〕
　本開示の化合物の製造方法は特に制限されない。本開示の化合物の合成スキームの例を以下に示す。
　上記式において、ＬＤＡはリチウムジイソプロピルアミドを表す。
　一態様において、本開示の化合物は、下記式（１－１）で表される中間体のヒドロシリル化により得られる。
　［ＣＨ３（ＣＨ２）ｍ１－］ｊ１Ｙ１０ａ（Ｂ）ｇ１　　　…（１－１）
　式（Ｉ－１）中、
　Ｙ１０ａは（ｊ１＋ｇ１）価の連結基であり、
　Ｂはそれぞれ独立に、－ＱＬ－ＣＨ＝ＣＨ２であり、ここでＱＬは単結合又は２価の連結基であり、
　ｊ１は２以上の整数であり、
　ｇ１は１以上の整数であり、
　ｍ１は０以上の整数である。
　ｊ１の定義及び具体例は式（１）中のｊの定義及び具体例と同じである。
　ｇ１の定義及び具体例は式（１）中のｇの定義及び具体例と同じである。
　ｍ１の定義及び具体例は式（１）中のｍ１の定義及び具体例と同じである。
　化合物（１－１）としては、化合物（１）又は（２）において末端が－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ基である場合に、当該－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ基が－ＣＨ＝ＣＨ２に置き換えられた化合物が挙げられる。
　本開示の化合物の中間体の一例を以下に示す。
［組成物］
　本開示の組成物は、本開示の化合物を含んでいればよく、本開示の化合物以外の成分は特に限定されない。本開示の組成物は、本開示の化合物と、液状媒体と、を含むことが好ましい。本開示の組成物が液状媒体を含む場合、本開示の組成物は、液状であればよく、溶液であってもよく、分散液であってもよい。
　本開示の組成物は、本開示の化合物を含んでいればよく、本開示の化合物の製造工程で生成した副生物等の不純物を含んでもよい。
　本開示の組成物は、本開示の化合物を１種含有してもよく、２種以上含有してもよい。
　本開示の化合物の含有量は、本開示の組成物の全量に対して、０．００１～４０質量％が好ましく、０．０１～２０質量％がより好ましく、０．１～１０質量％がさらに好ましい。ウェットコーティング法に使用する本開示の組成物の場合には、本開示の化合物の含有量は、本開示の組成物の全量に対して、０．０１～１０質量％であってもよく、０．０２～５質量％であってもよく、０．０３～３質量％であってもよく、０．０５～２質量％であってもよい。
　本開示の組成物に含まれる液状媒体は１種のみであってもよく、２種以上であってもよい。
　液状媒体は、有機溶媒が好ましい。
　有機溶媒としては、水素原子及び炭素原子のみからなる化合物、並びに、水素原子、炭素原子及び酸素原子のみからなる化合物が挙げられ、具体的には、炭化水素系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒、グリコール系有機溶媒、及びアルコール系有機溶媒が挙げられる。
　炭化水素系有機溶媒の具体例としては、ペンタン、ヘキサン、へプタン、オクタン、ヘキサデカン、イソヘキサン、イソオクタン、イソノナン、シクロヘプタン、シクロヘキサン、ビシクロヘキシル、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、ｏ－キシレン、ｍ－キシレン、ｐ－キシレン、ｏ－ジエチルベンゼン、ｍ－ジエチルベンゼン、ｐ－ジエチルベンゼン、ｎ－ブチルベンゼン、ｓｅｃ－ブチルベンゼン、ｔｅｒｔ－ブチルベンゼンが挙げられる。
　ケトン系有機溶媒の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、４－ヘプタノン、３，５，５－トリメチル－２－シクロヘキセン－１－オン、及び３，３，５－トリメチルシクロヘキサノン、イソホロンが挙げられる。
　エーテル系有機溶媒の具体例としては、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサンが挙げられる。
　エステル系有機溶媒の具体例としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｔｅｒｔ‐ブチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、３－エトキシプロピオン酸エチル、乳酸エチルエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、３－メトキシ－３－メチルブチルアセテート、３－メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルアセテート、プロピレングリコールジメチルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、シクロヘキサノールアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、ジプロピレングリコ－ルメチルエ－テルアセテ－ト、１，３－ブチレングリコールジアセテート、１，４－ブタンジオールジアセテート、１，３－ブチレングリコールジアセテート、１，６－ヘキサンジオールジアセテート、γ－ブチロラクトン、トリアセチン、２，２，４－トリメチル－１，３－ペンタンジオールモノイソブチレートが挙げられる。
　グリコール系有機溶媒の具体例としては、エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノ－２－エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ－２－エチルヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｔｅｒｔ－ブチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテルトリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、１，３－ブチレングリコール、プロピレングリコールｎ－プロピルエーテル、プロピレングリコールｎ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールｎ－プロピルエーテル、ジプロピレングリコールｎ－ブチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールｎ－ブチルエ－テル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテルペンタン、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ポリエチレングリコールジメチルエーテルが挙げられる。
　アルコール系有機溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロピルアルコール、ｎ－ブタノール、ジアセトンアルコール、イソブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ペンタノール、３－メチル－１，３－ブタンジオール、１，３－ブタンジオール、１，３－ブチレングリコール、オクタンジオール、２，４－ジエチルペンタンジオール、ブチルエチルプロパンジオール、２－メチル－１，３－プロパンジオール、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、２－エチル－１－ヘキサノール、３，５，５－トリメチル－１－ヘキサノール、イソデカノール、イソトリデカノール、３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノール、２－メトキシブタノール、３－メトキシブタノール、シクロヘキサノール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、ベンジルアルコール、及びメチルシクロヘキサノールが挙げられる。
　また、有機溶媒としては、ハロゲン系有機溶媒、含窒素化合物、含硫黄化合物、シロキサン化合物が挙げられる。
　ハロゲン系有機溶媒の具体例としては、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ｏ－クロロトルエン、ｍ－クロロトルエン、ｐ－クロロトルエン、ｍ－ジクロロベンゼン、１，２，３－トリクロロプロパンが挙げられる。
　含窒素化合物としては、ニトロベンゼン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノンが挙げられる。
　含硫黄化合物としては、二硫化炭素、ジメチルスルホキシドが挙げられる。
　シロキサン化合物としては、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサンが挙げられる。
　液状媒体の含有量は、本開示の組成物の全量に対して、６０～９９．９９９質量％が好ましく、８０～９９．９９質量％がより好ましく、９０～９９．９質量％がさらに好ましい。ウェットコーティング法に使用する本開示の組成物の場合には、液状媒体の含有量は、本開示の組成物の全量に対して、９０～９９．９９質量％であってもよく、９５～９９．９８質量％であってもよく、９７～９９．９７質量％であってもよく、９８～９９．９５質量％であってもよい。
　本開示の組成物は、本開示の化合物及び液状媒体以外に、本開示の効果を損なわない範囲で、他の成分を含んでいてもよい。
　他の成分としては、例えば、反応性シリル基の加水分解と縮合反応を促進する酸触媒、塩基性触媒等の公知の添加剤が挙げられる。
　また、他の成分としては、加水分解性基を有する金属化合物（以下、加水分解性基を有する金属化合物を「特定金属化合物」とも記す。）も挙げられる。本開示の組成物が特定金属化合物を含むと、表面処理層の滑り性及び防汚性をより向上しうる。特定金属化合物としては、下記式（Ｍ１）～（Ｍ３）が挙げられる。
　Ｍ（Ｘｂ１）ｍ１（Ｘｂ２）ｍ２（Ｘｂ３）ｍ３　　…（Ｍ１）
　Ｓｉ（Ｘｂ４）（Ｘｂ５）３　　　　　　…（Ｍ２）
　（Ｘｂ６）３Ｓｉ－（Ｙｂ１）－Ｓｉ（Ｘｂ７）３　　…（Ｍ３）
　式（Ｍ１）中、
　Ｍは、３価又は４価の金属原子を表す。
　Ｘｂ１はそれぞれ独立に、加水分解性基を表す。
　Ｘｂ２はそれぞれ独立に、シロキサン骨格含有基を表す。
　Ｘｂ３はそれぞれ独立に、炭化水素鎖含有基を表す。
　ｍ１は２～４の整数であり、
　ｍ２及びｍ３はそれぞれ独立に、０～２の整数であり、
　Ｍが３価の金属原子の場合、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３は３であり、Ｍが４価の金属原子の場合、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３は４である。
　式（Ｍ２）中、
　Ｘｂ４は、加水分解性シランオリゴマー残基を表す。
　Ｘｂ５は、それぞれ独立に、加水分解性基又は炭素数１～４のアルキル基を表す。
　式（Ｍ３）中、
　Ｘｂ６及びＸｂ７は、それぞれ独立に、加水分解性基又は水酸基を表す。
　Ｙｂ１は、２価の有機基を表す。
　式（Ｍ１）中、Ｍで表される金属には、Ｓｉ、Ｇｅ等の半金属も包含される。Ｍとしては、３価金属及び４価金属が好ましく、Ａｌ、Ｆｅ、Ｉｎ、Ｈｆ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｓｎ、及びＺｒがより好ましく、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、及びＺｒがさらに好ましく、Ｓｉが特に好ましい。
　式（Ｍ１）中、Ｘｂ１で表される加水分解性基としては、上記反応性シリル基における［－Ｓｉ（Ｒ１）ｎＬ３－ｎ］中のＬで示される加水分解性基と同様のものが挙げられる。
　Ｘｂ２で表されるシロキサン骨格含有基は、シロキサン単位（－Ｓｉ－Ｏ－）を有し、直鎖状でも分岐鎖状でもよい。シロキサン単位としては、ジアルキルシリルオキシ基が好ましく、ジメチルシリルオキシ基、ジエチルシリルオキシ基等が挙げられる。シロキサン骨格含有基におけるシロキサン単位の繰り返し数は、１以上であり、１～５が好ましく、１～４がより好ましく、１～３がさらに好ましい。
　シロキサン骨格含有基は、シロキサン骨格の一部に２価の炭化水素基を含んでいてもよい。具体的には、シロキサン骨格の一部の酸素原子が２価の炭化水素基で置き換わっていてもよい。前記２価の炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等のアルキレン基が挙げられる。
　シロキサン骨格含有基の末端のケイ素原子には、加水分解性基、炭化水素基（好ましくはアルキル基）等が結合していてもよい。
　シロキサン骨格含有基の元素数は、１００以下が好ましく、５０以下がより好ましく、３０以下がさらに好ましい。前記元素数は１０以上が好ましい。
　シロキサン骨格含有基としては、＊－（Ｏ－Ｓｉ（ＣＨ３）２）ｎＣＨ３で表される基が好ましく、ここで、ｎは１～５の整数であり、＊は隣接原子との結合部位を表す。
　Ｘｂ３で表される炭化水素鎖含有基は、炭化水素鎖のみからなる基でもよく、炭化水素鎖の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基でもよい。炭化水素鎖は直鎖でも分岐鎖でもよく、直鎖が好ましい。炭化水素鎖は飽和炭化水素鎖でも不飽和炭化水素鎖でもよく、飽和炭化水素鎖が好ましい。炭化水素鎖含有基の炭素数は、１～３が好ましく、１～２がより好ましく、１がさらに好ましい。炭化水素鎖含有基としては、アルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、又はプロピル基がより好ましい。
　ｍ１は３又は４であることが好ましい。
　式（Ｍ１）で表される化合物としては、ＭがＳｉである下記式（Ｍ１－1）～（Ｍ１－５）で表される化合物が好ましく、式（Ｍ１－１）で表される化合物がより好ましい。式（Ｍ１－１）で表される化合物としては、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、トリエトキシメチルシランが好ましい。
　Ｓｉ（Ｘｂ１）４　　　　　　　　　　　…（Ｍ１－１）
　ＣＨ３－Ｓｉ（Ｘｂ１）３ 　　　　　　　　…（Ｍ１－２）
　Ｃ２Ｈ５－Ｓｉ（Ｘｂ１）３　　　　　　　…（Ｍ１－３）
　ｎ－Ｃ３Ｈ７－Ｓｉ（Ｘｂ１）３　　　　　…（Ｍ１－４）
　（ＣＨ３）２ＣＨ－Ｓｉ（Ｘｂ１）３　　　…（Ｍ１－５）
　式（Ｍ２）中、Ｘｂ４で表される加水分解性シランオリゴマー残基に含まれるケイ素原子の数は、３以上が好ましく、５以上がより好ましく、７以上がさらに好ましい。前記ケイ素原子の数は、１５以下が好ましく、１３以下がより好ましく、１０以下がさらに好ましい。
　加水分解性シランオリゴマー残基は、ケイ素原子に結合するアルコキシ基を有していてもよい。前記アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられ、メトキシ基及びエトキシ基が好ましい。加水分解性シランオリゴマー残基は、これらアルコキシ基の１種又は２種以上を有してもよく、１種を有することが好ましい。
　加水分解性シランオリゴマー残基としては、（Ｃ２Ｈ５Ｏ）３Ｓｉ－（ＯＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）２）４Ｏ－＊等が挙げられる。ここで、＊は隣接原子との結合部位を表す。
　式（Ｍ２）中、Ｘｂ５で表される加水分解性基としては、上記反応性シリル基における［－Ｓｉ（Ｒ１）ｎＬ３－ｎ］中のＬで示される加水分解性基と同様のもの、シアノ基、水素原子、アリル基が挙げられ、アルコキシ基又はイソシアナト基が好ましい。アルコキシ基としては、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましい。
　Ｘｂ５としては、加水分解性基が好ましい。
　式（Ｍ２）で表される化合物としては、（Ｈ５Ｃ２Ｏ）３－Ｓｉ－（ＯＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）２）４ＯＣ２Ｈ５等が挙げられる。
　式（Ｍ３）で表される化合物は、２価の有機基の両末端に反応性シリル基を有する化合物、すなわち、ビスシランである。
　式（Ｍ３）中、Ｘｂ６及びＸｂ７で表される加水分解性基としては、アルコキシ基、アシロキシ基、ケトオキシム基、アルケニルオキシ基、アミノ基、アミノキシ基、アミド基、イソシアナト基、ハロゲン原子が挙げられ、アルコキシ基、イソシアナト基が好ましい。アルコキシ基としては、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基がより好ましい。
　式（Ｍ３）において、Ｘｂ６及びＸｂ７は互いに同じ基でもよく、互いに異なる基でもよい。入手しやすさの点で、Ｘｂ６及びＸｂ７は互いに同じ基であることが好ましい。
　式（Ｍ３）中、Ｙｂ１は、両末端の反応性シリル基を連結する２価の有機基である。２価の有機基のＹｂ１の炭素数は１～８が好ましく、１～３がより好ましい。
　Ｙｂ１としては、アルキレン基、フェニレン基、炭素原子間にエーテル性酸素原子を有するアルキレン基が挙げられる。例えば、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２－、－Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ６Ｈ４－が挙げられる。
　式（Ｍ３）で表される化合物としては、（ＣＨ３Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、（Ｃ２Ｈ５Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、（ＯＣＮ）３Ｓｉ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＮＣＯ）３、Ｃｌ３Ｓｉ（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３、（ＣＨ３Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ２）６Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、（Ｃ２Ｈ５Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ２）６Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３が挙げられる。
　本開示の組成物に含まれてもよい他の成分の含有量は、本開示の組成物の全量に対して、１０質量％以下が好ましく、１質量％以下がより好ましい。本開示の組成物が特定金属化合物を含む場合、特定金属化合物の含有量は本開示の組成物の全量に対して０．０１～３０質量％が好ましく、０．０１～１０質量％がより好ましく、０．０５～５質量％がさらに好ましい。
　本開示の化合物と他の成分の合計含有量（以下、「固形分濃度」ともいう。）は、本開示の組成物の全量に対して、０．００１～４０質量％が好ましく、０．０１～２０質量％がより好ましく、０．１～１０質量％がさらに好ましい。本開示の組成物の固形分濃度は、加熱前の組成物の質量と、１２０℃の対流式乾燥機にて４時間加熱した後の質量とから算出される値である。
　本開示の組成物は、液状媒体を含むことから、コーティング用途として有用であり、コーティング液として用い得る。
［表面処理剤］
　一態様において、本開示の表面処理剤は、本開示の化合物を含む。また、本開示の表面処理剤は、本開示の化合物と、液状媒体と、を含んでいてもよい。本開示の表面処理剤は、本開示の組成物でもよい。表面処理剤に含まれる液状媒体の好ましい態様は、本開示の組成物に含まれる液状媒体の好ましい態様と同様である。
　本開示の化合物は上述の構成を有するため、本開示の化合物を含む表面処理剤を用いることにより、撥水性及び耐摩耗性に優れた表面処理層を形成できる。
［物品］
　一態様において、本開示の物品は、基材と、前記表面処理剤で表面処理された表面処理層と、を含む。
　表面処理層は、基材の表面の一部に形成されてもよく、基材の表面全体に形成されてもよい。表面処理層は、基材の表面に膜状に拡がっていてもよく、ドット状に点在していてもよい。
　表面処理層において、本開示の化合物は、反応性シリル基の一部又は全部の加水分解が進行し、かつ、シラノール基の脱水縮合反応が進行した状態で含まれる。
　表面処理層の厚さは、１～１００ｎｍが好ましく、１～５０ｎｍがより好ましい。表面処理層の厚さが１ｎｍ以上であれば、表面処理による効果が充分に得られやすい。表面処理層の厚さが１００ｎｍ以下であれば、利用効率が高い。表面処理層の厚さは、薄膜解析用Ｘ線回折計（製品名「ＡＴＸ－Ｇ」、ＲＩＧＡＫＵ社製）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、干渉パターンの振動周期から算出できる。
　基材の種類は特に限定されず、例えば、撥水性の付与が求められている基材が挙げられる。基材として、例えば、他の物品（例えば、スタイラス）又は人の手指を接触させて使用することがある基材；操作時に人の手指で持つことがある基材；及び、他の物品（例えば、載置台）の上に置くことがある基材が挙げられる。
　基材の材料としては、金属、樹脂、ガラス、サファイア、セラミック、石、繊維、不織布、紙、木、天然皮革、人工皮革、及びこれらの複合材料が挙げられる。ガラスは化学強化されていてもよい。
　基材としては、建材、装飾建材、インテリア用品、輸送機器（例えば、自動車）、看板、掲示板、飲用器、食器、水槽、観賞用器具（例えば、額、箱）、実験器具、家具、繊維製品、包装容器；アート、スポーツ、ゲーム等に使用する、ガラス又は樹脂；携帯電話（例えば、スマートフォン）、携帯情報端末、ゲーム機、リモコン等の機器における外装部分（表示部を除く）に使用する、ガラス又は樹脂が挙げられる。基材の形状は、板状であってもよく、フィルム状であってもよい。
　基材としては、タッチパネル用基材、ディスプレイ用基材、メガネレンズが好適であり、タッチパネル用基材が特に好適である。タッチパネル用基材の材料としては、ガラス又は透明樹脂が好ましい。
　基材は、一方の表面又は両面が、コロナ放電処理、プラズマ処理、プラズマグラフト重合処理等の表面処理が施された基材であってもよい。表面処理が施された基材は、表面処理層との密着性がより優れ、表面処理層の耐摩耗性がより向上する。そのため、基材の表面処理層と接する側の表面に表面処理を施すことが好ましい。また、表面処理が施された基材は、後述する下地層が設けられる場合には、下地層との密着性がより優れ、表面処理層の耐摩耗性がより向上する。そのため、下地層が設けられる場合には、基材の下地層と接する側の表面に表面処理を施すことが好ましい。
　表面処理層は、基材の表面上に直接設けられていてもよく、基材と表面処理層との間に下地層が設けられていてもよい。表面処理層の撥水性及び耐摩耗性をより向上させる観点から、本開示の物品は、基材と、基材上に配置された下地層と、下地層上に配置された本開示の表面処理剤で表面処理された表面処理層と、を含むことが好ましい。
　下地層は、ケイ素と、周期表の第１族元素、第２族元素、第４族元素、第５族元素、第１３族元素、及び第１５族元素からなる群から選択される少なくとも１つの特定元素とを含む酸化物を含む層が好ましい。
　周期表の第１族元素（以下、「第１族元素」ともいう。）とは、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム及びセシウムを意味する。第１族元素としては、下地層上に表面処理層を欠陥なくより均一に形成できる点、又は、サンプル間での下地層の組成のバラツキがより抑制される観点から、リチウム、ナトリウム、カリウムが好ましく、ナトリウム、カリウムがより好ましい。下地層には、第１族元素が２種以上含まれていてもよい。
　周期表の第２族元素（以下、「第２族元素」ともいう。）とは、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム及びバリウムを意味する。第２族元素としては、下地層上に表面処理層を欠陥なくより均一に形成できる点、又は、サンプル間での下地層の組成のバラツキがより抑制される観点から、マグネシウム、カルシウム、バリウムが好ましく、マグネシウム、カルシウムがより好ましい。下地層には、第２族元素が２種以上含まれていてもよい。
　周期表の第４族元素（以下、「第４族元素」ともいう。）とは、チタン、ジルコニウム、及びハフニウムを意味する。第４族元素としては、下地層上に表面処理層を欠陥なくより均一に形成できる観点、又は、サンプル間での下地層の組成のバラツキがより抑制される観点から、チタン、ジルコニウムが好ましく、チタンがより好ましい。下地層には、第４族元素が２種以上含まれていてもよい。
　周期表の第５族元素（以下、「第５族元素」ともいう。）とは、バナジウム、ニオブ及びタンタルを意味する。第５族元素としては、表面処理層の耐摩耗性がより優れる観点から、バナジウムが特に好ましい。下地層には、第５族元素が２種以上含まれていてもよい。
　周期表の第１３族元素（以下、「第１３族元素」ともいう。）とは、ホウ素、アルミニウム、ガリウム及びインジウムを意味する。第１３族元素としては、下地層上に表面処理層を欠陥なくより均一に形成できる点、又は、サンプル間での下地層の組成のバラツキがより抑制される観点から、ホウ素、アルミニウム、ガリウムが好ましく、ホウ素、アルミニウムがより好ましい。下地層には、第１３族元素が２種以上含まれていてもよい。
　周期表の第１５族元素（以下、「第１５族元素」ともいう。）とは、窒素、リン、ヒ素、アンチモン及びビスマスを意味する。第１５族元素としては、下地層上に表面処理層を欠陥なくより均一に形成できる観点、又は、サンプル間での下地層の組成のバラツキがより抑制される観点から、リン、アンチモン、ビスマスが好ましく、リン、ビスマスがより好ましい。下地層には、第１５族元素が２種以上含まれていてもよい。
　下地層に含まれる特定元素としては、第１族元素、第２族元素、第１３族元素が表面処理層の耐摩耗性がより優れるため好ましく、第１族元素、第２族元素がより好ましく、第１族元素がさらに好ましい。
　特定元素として、１種のみの元素が含まれていても２種以上の元素が含まれていてもよい。
　下地層に含まれる酸化物は、上記元素（ケイ素及び特定元素）単独の酸化物の混合物（例えば、酸化ケイ素と、特定元素の酸化物と、の混合物）であってもよいし、上記元素を２種以上含む複合酸化物であってもよいし、上記元素単独の酸化物と複合酸化物との混合物であってもよい。
　下地層中のケイ素のモル濃度に対する、下地層中の特定元素の合計モル濃度の比（特定元素／ケイ素）は、表面処理層の耐摩耗性がより優れる観点から、０．０２～２．９０であるのが好ましく、０．１０～２．００であるのがより好ましく、０．２０～１．８０であるのがさらに好ましい。
　下地層中の各元素のモル濃度（モル％）は、例えば、イオンスパッタリングを用いたＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）による深さ方向分析によって測定できる。
　下地層は、単層であっても複層であってもよい。下地層は、表面に凹凸を有していてもよい。
　下地層の厚さは、１～１００ｎｍが好ましく、１～５０ｎｍがより好ましく、２～２０ｎｍがさらに好ましい。下地層の厚さが上記下限値以上であれば、下地層による表面処理層の密着性がより向上して、表面処理層の耐摩耗性がより優れる。下地層の厚さが上記上限値以下であれば、下地層自体の耐摩耗性が優れる。
　下地層の厚さは、透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）による下地層の断面観察によって測定される。
　下地層は、例えば、蒸着材料を用いた蒸着法、又は、ウェットコーティング法により形成できる。
　蒸着法で用いる蒸着材料は、ケイ素及び特定元素を含む酸化物を含有することが好ましい。
　蒸着材料の形態の具体例としては、粉体、溶融体、焼結体、造粒体、破砕体が挙げられ、取り扱い性の観点から、溶融体、焼結体、造粒体が好ましい。
　ここで、溶融体とは、蒸着材料の粉体を高温で溶融させた後、冷却固化して得られた固形物を意味する。焼結体とは、蒸着材料の粉体を焼成して得られた固形物を意味し、必要に応じて、蒸着材料の粉体の代わりに、粉体をプレス成形して成形体を用いてもよい。造粒体とは、蒸着材料の粉体と液状媒体（例えば、水、有機溶媒）とを混練して粒子を得た後、粒子を乾燥させて得られた固形物を意味する。
　蒸着材料は、例えば、以下の方法で製造できる。
・酸化ケイ素の粉体と、特定元素の酸化物の粉体と、を混合して、蒸着材料の粉体を得る方法。
・上記蒸着材料の粉体及び水を混練して粒子を得た後、粒子を乾燥させて、蒸着材料の造粒体を得る方法。
・ケイ素を含む粉体（例えば、酸化ケイ素からなる粉体、珪砂、シリカゲル）と、特定元素を含む粉体（例えば、特定元素の酸化物の粉体、炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、シュウ酸塩、水酸化物）と、水と、を混合した混合物を乾燥させた後、乾燥後の混合物又はこれをプレス成形した成形体を焼成して、焼結体を得る方法。
・ケイ素を含む粉体（例えば、酸化ケイ素からなる粉体、珪砂、シリカゲル）と、特定元素を含む粉体（例えば、特定元素の酸化物の粉体、炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、シュウ酸塩、水酸化物）と、を高温で溶融させた後、溶融物を冷却固化して、溶融体を得る方法。
　蒸着材料を用いた蒸着法の具体例としては、真空蒸着法が挙げられる。真空蒸着法は、蒸着材料を真空槽内で蒸発させ、基材の表面に付着させる方法である。
　蒸着時の温度（例えば、真空蒸着装置を用いる際には、蒸着材料を配置するボートの温度）としては、１００～３，０００℃が好ましく、５００～３，０００℃がより好ましい。
　蒸着時の圧力（例えば、真空蒸着装置を用いる際には、蒸着材料を配置する槽内の圧力）としては、１Ｐａ以下が好ましく、０．１Ｐａ以下がより好ましい。
　蒸着材料を用いて下地層を形成する場合、１つの蒸着材料を用いてもよいし、異なる元素を含む２つ以上の蒸着材料を用いてもよい。
　蒸着材料の蒸発方法の具体例としては、高融点金属製抵抗加熱用ボート上で蒸着材料を溶融し、蒸発させる抵抗加熱法、電子ビームを蒸着材料に照射し、蒸着材料を直接加熱して表面を溶融し、蒸発させる電子銃法が挙げられる。蒸着材料の蒸発方法としては、局所的に加熱できるため高融点物質も蒸発できる点、電子ビームが当たっていないところは低温であるため容器との反応や不純物の混入のおそれがない観点から、電子銃法が好ましい。
　蒸着材料の蒸発方法としては、複数のボートを用いてもよく、単独のボートに全ての蒸着材料を入れて用いてもよい。蒸着方法は、共蒸着であってもよく、交互蒸着等でもよい。具体的には、シリカと特定源を同一のボートに混合して用いる例、シリカと特定元素源とを別々のボートに入れて共蒸着する例、同様に別々のボートに入れて交互蒸着する例が挙げられる。蒸着の条件、順番等は下地層の構成により適宜選択される。
　ウェットコーティング法では、ケイ素を含む化合物と、特定元素を含む化合物と、液状媒体と、を含むコーティング液を用いたウェットコーティング法によって、基材上に下地層を形成することが好ましい。
　ケイ素化合物の具体例としては、酸化ケイ素、ケイ酸、ケイ酸の部分縮合物、アルコキシシラン、アルコキシシランの部分加水分解縮合物が挙げられる。
　特定元素を含む化合物の具体例としては、特定元素の酸化物、特定元素のアルコキシド、特定元素の炭酸塩、特定元素の硫酸塩、特定元素の硝酸塩、特定元素のシュウ酸塩、特定元素の水酸化物が挙げられる。
　液状媒体としては、上記本開示の組成物に含まれる液状媒体と同様のものが挙げられる。
　液状媒体の含有量は、下地層の形成に使用するコーティング液の全量に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．１～１０質量％がより好ましい。
　下地層を形成するためのウェットコーティング法の具体例としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法が挙げられる。
　コーティング液をウェットコーティングした後、塗膜を乾燥させるのが好ましい。塗膜の乾燥温度としては、２０～２００℃が好ましく、８０～１６０℃がより好ましい。
　本開示の物品は、光学部材であることが好ましい。光学部材としては、例えば、カーナビゲーション、携帯電話、スマートフォン、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、ＰＤＡ、ポータブルオーディオプレーヤー、カーオーディオ、ゲーム機器、眼鏡レンズ、カメラレンズ、レンズフィルター、サングラス、胃カメラ等の医療用器機、複写機、ＰＣ、ディスプレイ（例えば、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ、タッチパネルディスプレイ）、タッチパネル、保護フィルム、及び反射防止フィルムが挙げられる。特に、物品は、ディスプレイ又はタッチパネルであることが好ましい。
［物品の製造方法］
　本開示の物品の製造方法は、例えば、基材に対して、本開示の表面処理剤を用いて表面処理を行い、基材上に表面処理層が形成された物品を製造するという方法である。表面処理としては、ドライコーティング法及びウェットコーティング法が挙げられる。
　ドライコーティング法としては、真空蒸着、ＣＶＤ、スパッタリング等の手法が挙げられる。ドライコーティング法としては、化合物の分解を抑える点、及び装置の簡便さの観
点から、真空蒸着法が好ましい。真空蒸着時には、鉄、鋼等の金属多孔体に、本開示の化合物を含浸させたペレット状物質を用いてもよい。本開示の化合物及び液状媒体を含む組成物を、鉄、鋼等の金属多孔体に含浸させ、液状媒体を乾燥させて、本開示の化合物を含浸させたペレット状物質を用いてもよい。
　ウェットコーティング法としては、例えば、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法が挙げられる。
　表面処理層の耐摩耗性を向上させるために、必要に応じて、本開示の化合物と基材との反応を促進させるための操作を行ってもよい。該操作としては、加熱、加湿、光照射等が挙げられる。
　例えば、水分を有する大気中で表面処理層が形成された基材を加熱して、加水分解性基の加水分解反応、基材の表面の水酸基等とシラノール基との反応、シラノール基の縮合反応によるシロキサン結合の生成、等の反応を促進できる。
　表面処理後、表面処理層中の化合物であって、他の化合物又は基材と化学結合していない化合物は、必要に応じて除去してもよい。除去する方法としては、例えば、表面処理層に溶媒をかけ流す方法、溶媒をしみ込ませた布でふき取る方法等が挙げられる。
　次に本開示の実施形態を実施例により具体的に説明するが、本開示の実施形態はこれらの実施例に限定されるものではない。
［合成例１：化合物（２１）の合成］
　マロン酸ジメチル（１３ｇ）、ジメチルホルムアミド（３０ｍＬ）、１－ブロモウンデカン（５５ｇ）、及び炭酸カリウム（３０ｇ）を加え、１６時間、８０℃で攪拌したのち、塩酸、及びジクロロメタンを加え、抽出した。溶媒を留去後、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン）を行うことで、化合物（２１）を３５ｇ得た。
1H NMR (500 MHz, Chloroform-d) δ 3.72 (s, 6H), 2.12 (t, J = 7.0 Hz, 4H), 1.55 (p, J = 7.1 Hz, 4H), 1.48 - 1.17 (m, 32H), 0.99 - 0.80 (m, 6H).
［合成例２：化合物（２２）の合成］
　上記化合物（２１）（３５ｇ）にジメチルスルホキシド（６０ｇ）、塩化リチウム（２０ｇ）、及び水（１０ｇ）を加え、１６時間、１８０℃で加熱攪拌した。ヘキサンを加え、抽出したのち、溶媒を留去後、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン）を行うことで、化合物（２２）を２５ｇ得た。
1H NMR (500 MHz, Chloroform-d) δ 3.59 (s, 3H), 2.53 (p, J = 7.0 Hz, 1H), 1.72 - 1.11 (m, 40H), 0.99 - 0.77 (m, 6H).
［合成例３：化合物（３）の合成］
　上記化合物（２１）（１０ｇ）にテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（２０ｇ）、及び水素化リチウムアルミニウム（４．０ｇ）を加え、室温（約２５℃）で１６時間攪拌した。酒石酸カリウムナトリウムの飽和水溶液、及び酢酸エチルを加え、抽出したのち、溶媒を留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン）を行うことで、化合物（３）を７．５ｇ得た。
1H NMR (500 MHz, Chloroform-d) δ 3.31 (t, J = 6.8 Hz, 2H), 1.54 - 1.07 (m, 41H), 0.97 - 0.81 (m, 6H).
［合成例４：化合物（４）の合成］
　上記化合物（３）（７．５ｇ）に１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン（２０ｇ）を加え、攪拌したのち、塩化チオニル（５．０ｇ）を加え、６０℃で２４時間加熱攪拌した。溶媒を減圧留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン）を行うことで、化合物（４）を６．８ｇ得た。
1H NMR (500 MHz, Chloroform-d) δ 3.31 (d, J = 7.0 Hz, 2H), 1.70 (hept, J = 7.0 Hz, 1H), 1.53 - 1.07 (m, 40H), 0.98 - 0.82 (m, 6H).
［合成例５：化合物（５）の合成］
　上記化合物（４）（３．０ｇ）にＴＨＦ（８ｇ）を加え、攪拌したのち、削り状のマグネシウム（０．２３ｇ）を加え、６０℃で２４時間加熱攪拌した。その後、アリルブロミド（１．５ｇ）、及び塩化銅（０．０３ｇ）を加え、６０℃で２４時間加熱攪拌した。塩酸、及び酢酸エチルを加え抽出し、溶媒を減圧留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン）を行うことで、化合物（５）を２．１ｇ得た。
1H NMR (500 MHz, Chloroform-d) δ 5.68 (tt, J = 13.4, 6.2 Hz, 1H), 5.07 (dt, J = 13.4, 1.1 Hz, 2H), 2.11 - 1.92 (m, 2H), 1.48 (hept, J = 7.0 Hz, 1H), 1.41 - 1.09 (m, 42H), 0.98 - 0.80 (m, 6H).
［合成例６：化合物（６）の合成］
　上記化合物（５）（２．０ｇ）に１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン（１０ｇ）を加え、攪拌したのち、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液（白金含有量３％、０．１ｇ）、アニリン（０．１ｇ）、及びトリメトキシシラン（１．０ｇ）を加え、４０℃で２４時間撹拌した後、溶媒を減圧留去することで、化合物（６）を２．４ｇ得た。
1H NMR (500 MHz, Chloroform-d) δ 3.58 (s, 9H), 1.57 - 1.09 (m, 47H), 0.97 - 0.81 (m, 6H), 0.69 (t, J = 7.0 Hz, 2H).
［合成例７：化合物（７）の合成］
　上記化合物（２２）（１０ｇ）にＴＨＦ（３０ｇ）を加え、－７８℃に冷却した。その後、ジイソプロピルアミドリチウム溶液（３０ｍＬ、１．０Ｍ、ＴＨＦ／ヘキサン中）を加えて１５分間撹拌した。その後１－ブロモウンデカン（８．０ｇ）を加えて室温（約２５℃）まで温度を上げ、２４時間撹拌した。塩酸、酢酸エチルを加えて抽出後、溶媒を留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン）を行うことで、化合物（７）を９．５ｇ得た。
1H NMR (500 MHz, Chloroform-d) δ 3.61 (s, 3H), 1.64 (t, J = 7.0 Hz, 6H), 1.48 - 1.16 (m, 54H), 0.97 - 0.77 (m, 9H).
［合成例８：化合物（８）の合成］
　上記化合物（７）（９．５ｇ）にＴＨＦ（２０ｇ）、及び水素化リチウムアルミニウム（４．０ｇ）を加え、室温（約２５℃）で１６時間撹拌した。酒石酸カリウムナトリウムの飽和水溶液、及び酢酸エチルを加えて抽出したのち、溶媒を留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン）を行うことで、化合物（８）を７．０ｇ得た。
1H NMR (500 MHz, Chloroform-d) δ 3.35 (d, J = 6.6 Hz, 2H), 1.42 - 1.10 (m, 60H), 0.99 - 0.80 (m, 9H).
［合成例９：化合物（９）の合成］
　上記化合物（８）（７．０ｇ）に１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン（２０ｇ）を加え、撹拌したのち、塩化チオニル（５．０ｇ）を加え、６０℃で２４時間加熱撹拌した。溶媒を減圧留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン）を行うことで、化合物（９）を５．５ｇ得た。
1H NMR (500 MHz, Chloroform-d) δ 3.21 (s, 2H), 1.45 - 1.16 (m, 60H), 1.01 - 0.80 (m, 9H).
［合成例１０：化合物（１０）の合成］
　上記化合物（９）（３．０ｇ）にＴＨＦ（８ｇ）を加え、撹拌したのち、削り状のマグネシウム（０．１５ｇ）を加え、６０℃で２４時間加熱撹拌した。その後、アリルブロミド（１．０ｇ）、及び塩化銅（０．０３ｇ）を加え、６０℃で２４時間加熱撹拌した。塩酸、及び酢酸エチルを加え抽出し、溶媒を減圧留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン）を行うことで、化合物（１０）を２．３ｇ得た。
　式（１０）
1H NMR (500 MHz, Chloroform-d) δ 5.71 (tt, J = 13.5, 6.2 Hz, 1H), 5.03 (dt, J = 13.4, 1.2 Hz, 2H), 2.10 - 1.89 (m, 2H), 1.39 - 1.14 (m, 62H), 1.02 - 0.70 (m, 9H).
［合成例１１：化合物（１１）の合成］
　上記化合物（１０）（２．３ｇ）に１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン（１０ｇ）を加え、撹拌したのち、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液（白金含有量３％、０．１ｇ）、アニリン（０．１ｇ）、及びトリメトキシシラン（１．０ｇ）を加え、４０℃で撹拌した後、溶媒を減圧留去することで、化合物（１１）を２．７ｇ得た。
1H NMR (500 MHz, Chloroform-d) δ 3.58 (s, 9H), 1.54 - 1.14 (m, 66H), 0.97 - 0.82 (m, 9H), 0.70 (t, J = 7.0 Hz, 2H).
［合成例１２：化合物（１２）の合成］
　国際公開第２０２１／０５４４１３号に記載の方法で、化合物（１２）のＴＨＦ溶液（０．８０Ｍ）を得た。
［合成例１３：化合物（１３）の合成］
　上記化合物（４）（３．０ｇ）にＴＨＦ（１０ｇ）、及び塩化銅（０．０３ｇ）を加え、その後、上記化合物（１２）の０．８Ｍ　ＴＨＦ溶液（１０ｍＬ）を加えた。６０℃で２４時間加熱撹拌後に塩酸、及び酢酸エチルを加え抽出し、溶媒を減圧留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン）を行うことで、化合物（１３）を２．０ｇ得た。
1H NMR (500 MHz, Chloroform-d) δ 5.76 - 5.52 (m, 3H), 5.13 (dt, J = 13.6, 1.2 Hz, 6H), 1.84 (dt, J= 6.2, 0.9 Hz, 6H), 1.57 - 1.06 (m, 45H), 0.96 - 0.77 (m, 6H).
［合成例１４：化合物（１４）の合成］
　上記化合物（１３）（２．０ｇ）に１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン（１０ｇ）を加え、撹拌したのち、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液（白金含有量３％、０．１ｇ）、アニリン（０．１ｇ）、及びトリメトキシシラン（２．０ｇ）を加え、４０℃で撹拌した後、溶媒を減圧留去することで、化合物（１４）を３．３ｇ得た。
1H NMR (500 MHz, Chloroform-d) δ 3.58 (s, 27H), 1.54 - 1.05 (m, 57H), 0.94 - 0.83 (m, 6H), 0.69 (t, J = 7.1 Hz, 6H).
［合成例１５：化合物（１５）の合成］
　２－ｎ－オクチル－１－ドデカノール（３．０ｇ）に（３－イソシアナトプロピル）トリメトキシシラン（２．２ｇ）、及びアセトニトリル（１０ｍＬ）を加え、６０℃で２４時間加熱撹拌した。反応終了後、溶媒を減圧留去することで、化合物（１５）を４．９ｇ得た。
1H NMR (500 MHz, Chloroform-d) δ 4.00 (ddd, J = 49.3, 12.3, 7.0 Hz, 2H), 3.58 (s, 9H), 3.27 - 3.00 (m, 2H), 1.97 - 1.07 (m, 35H), 0.97 - 0.54 (m, 8H).
［合成例１６：化合物（１６）の合成］
　ＤＬ－アスパラギン酸（１．３ｇ）にＴＨＦ（２０ｇ）、１－オクタデカノール（３０ｇ）、及びｐ－トルエンスルホン酸一水和物（２．２ｇ）を加え、６０℃で４８時間加熱撹拌した。反応終了後、炭酸水素ナトリウム水溶液、及び酢酸エチルを加えて抽出し、溶媒を減圧留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：メタノール／ジクロロメタン）を行うことで、化合物（１６）を２．０ｇ得た。
1H NMR (500 MHz, Chloroform-d) δ 4.46 (tt, J = 9.6, 7.0 Hz, 1H), 4.18 - 3.84 (m, 4H), 2.84 (ddd, J= 89.4, 12.4, 7.0 Hz, 2H), 1.81 - 1.08 (m, 64H), 0.97 - 0.78 (m, 6H).
［合成例１７：化合物（１７）の合成］
　上記化合物（１６）（２．０ｇ）に（３－イソシアナトプロピル）トリメトキシシラン（０．８ｇ）、及びアセトニトリル（１０ｍＬ）加え、６０℃で２４時間加熱撹拌した。反応終了後、溶媒を減圧留去することで、化合物（１７）を２．５ｇ得た。
1H NMR (500 MHz, Chloroform-d) δ 4.16 - 3.88 (m, 5H), 3.58 (s, 9H), 2.92 - 2.47 (m, 4H), 1.77 - 1.11 (m, 66H), 0.98 - 0.80 (m, 6H), 0.66 (ddt, J = 46.9, 12.2, 7.1 Hz, 2H).
［物品の製造及び評価］
　合成例６，１１、１４、１５、及び１７で得た各化合物、並びにオクタデシルトリメトキシシラン（東京化成工業（株）、製品コード：Ｏ０２５６）を用いて基材を表面処理し、例１～６の物品を得た。表面処理方法として、各例について下記のドライコーティング法を用いた。基材としては化学強化ガラスを用いた。得られた物品について、下記の方法で評価した。結果を表１に示す。
（ドライコーティング法）
　ドライコーティングは、真空蒸着装置（ＵＬＶＡＣ社製、ＶＴＲ３５０Ｍ）を用いて行った（真空蒸着法）。各化合物の２０％酢酸エチル溶液の０．５ｇを真空蒸着装置内のモリブデン製ボートに充填し、真空蒸着装置内を１×１０－３Ｐａ以下に排気した。化合物を配置したボートを昇温速度１０℃／分以下の速度で加熱し、水晶発振式膜厚計による蒸着速度が１ｎｍ／秒を超えた時点でシャッターを開けて基材の表面への製膜を開始させた。膜厚が約５０ｎｍとなった時点でシャッターを閉じて基材の表面への製膜を終了させた。化合物が堆積された基材を、１５０℃で３０分間加熱処理し基材の表面に表面層を有する物品を得た。
（評価方法）
　＜撥水性＞
　表面処理層の表面に置いた約２μＬの蒸留水の接触角を、接触角測定装置（協和界面科学社製、ＤＭ－５００）を用いて測定した。表面処理層の表面における異なる５箇所で測定し、その平均値を算出する。接触角の算出には２θ法を用いた。評価基準は下記のとおりである。Ａは、実用上問題ないレベルである。
　初期水接触角：
　Ａ：１０８度以上である。
　Ｂ：１０８度未満である。
＜耐摩耗性（スチールウール）＞
　物品の表面処理層について、ＪＩＳ　Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ　１０５－Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、スチールウールボンスター（♯００００）を圧力：９８．０７ｋＰａ、速度：３２０ｃｍ／分で１万回往復させた後、前記方法により水接触角を測定した。摩耗後の撥水性（水接触角）の低下が小さいほど摩擦による性能の低下が小さく、耐摩耗性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
　ＡＡ：１万回往復後の水接触角の変化が５度以下である。
　Ａ　：１万回往復後の水接触角の変化が５度超１０度以下である。
　Ｂ　：１万回往復後の水接触角の変化が１０度超である。
　上記例において、例１～５は実施例であり、例６は比較例である。表１に示されるように、例１～５では撥水性及び耐摩耗性のいずれの評価も良好だが、例６では優れた撥水性及び耐摩耗性を両立できない。
　本開示の化合物は、表面処理剤として有用である。表面処理剤は、例えば、タッチパネルディスプレイ等の表示装置、光学素子、半導体素子、建築材料、自動車部品、ナノインプリント技術等における基材に対して用いることができる。また、表面処理剤は、電車、自動車、船舶、航空機等の輸送機器におけるボディー、窓ガラス(フロントガラス、サイドガラス、リアガラス)、ミラー、バンパー等に対して用いることができる。さらに、表面処理剤は、建築物外壁、テント、太陽光発電モジュール、遮音板、コンクリート等の屋外物品；漁網、虫取り網、水槽に対して用いることができる。また、表面処理剤は、台所、風呂場、洗面台、鏡、トイレ周辺部品；シャンデリア、タイル等の陶磁器；人工大理石、エアコン等の各種屋内設備に対して用いることができる。また、表面処理剤は、工場内の治具、内壁、配管等の防汚処理としても用いることができる。また、表面処理剤は、ゴーグル、眼鏡、ヘルメット、パチンコ、繊維、傘、遊具、サッカーボールに対して用いることができる。また、表面処理剤は、食品用包材、化粧品用包材、ポットの内部等の各種包材の付着防止剤としても用いることができる。また、表面処理剤は、カーナビゲーション、携帯電話、スマートフォン、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、ＰＤＡ、ポータブルオーディオプレーヤー、カーオーディオ、ゲーム機器、眼鏡レンズ、カメラレンズ、レンズフィルター、サングラス、胃カメラ等の医療用器機、複写機、ＰＣ、ディスプレイ（例えば、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ、タッチパネルディスプレイ）、タッチパネル、保護フィルム、及び反射防止フィルム等の光学部材に対して用いることができる。
　なお、２０２２年３月２４日に出願された日本国特許出願第２０２２－０４９０７５号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。また、本明細書に記載された全ての文献、特許出願及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。

Claims (15)

  1. 　少なくとも２つの直鎖アルキレン基と、前記少なくとも２つの直鎖アルキレン基がそれぞれ結合する３価以上の連結基と、前記３価以上の連結基に結合する反応性シリル基と、を含む化合物。
  2. 　少なくとも２つの直鎖アルキレン基のうち少なくとも１つの直鎖アルキレン基の炭素数が１０以上である、請求項１に記載の化合物。
  3. 　前記３価以上の連結基は、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、及び環状基からなる群より選択される少なくとも１つの分岐部を有する基である、請求項１又は２に記載の化合物。
  4. 　下記式（１）で表される化合物：
    ［ＣＨ３（ＣＨ２）ｍ１－］ｊＹ１［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］ｇ　…（１）
    　式（１）中、
    　Ｙ１は（ｊ＋ｇ）価の連結基であり、
    　Ｒはそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
    　Ｌはそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
    　ｎは０～２の整数であり、
    　ｊは２以上の整数であり、
    　ｇは１以上の整数であり、
    　ｍ１は０以上の整数である。
  5. 　前記式（１）において、ｇが１である、請求項４に記載の化合物。
  6. 　前記式（１）において、ｍ１が９以上の整数である、請求項４又は５に記載の化合物。
  7. 　前記式（１）において、Ｙ１が炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、及び環状基からなる群より選択される少なくとも１つの分岐部を有する基である、請求項４～６のいずれか１項に記載の化合物。
  8. 　下記式（１－１）で表される化合物：
    　［ＣＨ３（ＣＨ２）ｍ１－］ｊ１Ｙ１０ａ（Ｂ）ｇ１　　　…（１－１）
    　式（Ｉ－１）中、
    　Ｙ１０ａは（ｊ１＋ｇ１）価の連結基であり、
    　Ｂはそれぞれ独立に、－ＱＬ－ＣＨ＝ＣＨ２であり、ここでＱＬは単結合又は２価の連結基であり、
    　ｊ１は２以上の整数であり、
    　ｇ１は１以上の整数であり、
    　ｍ１は０以上の整数である。
  9. 　請求項１～７のいずれか１項に記載の化合物と、液状媒体と、を含む組成物。
  10. 　請求項１～７のいずれか１項に記載の化合物を含む、表面処理剤。
  11. 　さらに液状媒体を含む、請求項１０に記載の表面処理剤。
  12. 　基材に対して、請求項１０又は１１に記載の表面処理剤を用いて表面処理を行い、基材上に表面処理層が形成された物品を製造する、物品の製造方法。
  13. 　基材と、前記基材上に配置され、請求項１０に記載の表面処理剤で表面処理された表面処理層と、を含む物品。
  14. 　前記物品が光学部材である、請求項１３に記載の物品。
  15. 　前記物品がディスプレイ又はタッチパネルである、請求項１３に記載の物品。
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