WO2023218890A1

WO2023218890A1 - 組成物、化合物、表面処理剤、物品、及び物品の製造方法

Info

Publication number: WO2023218890A1
Application number: PCT/JP2023/015688
Authority: WO
Inventors: 雄二郎富塚; 啓吾松浦
Original assignee: Ａｇｃ株式会社
Priority date: 2022-05-13
Filing date: 2023-04-19
Publication date: 2023-11-16

Abstract

芳香環と２つ以上の反応性シリル基とを有する第１の化合物、その加水分解物、及びその部分縮合物からなる群より選択される少なくとも１つと、ポリアルキレンオキシド基と２つ以上の反応性シリル基とを有する第２の化合物、その加水分解物、及びその部分縮合物からなる群より選択される少なくとも１つと、水と、水以外の溶媒と、酸又はアルカリと、を含む組成物；前記組成物を含む表面処理剤；並びに前記表面処理剤を用いた物品及び物品の製造方法。

Description

組成物、化合物、表面処理剤、物品、及び物品の製造方法

　本開示は、組成物、化合物、表面処理剤、物品、及び物品の製造方法に関する。

　近年、外観、視認性等の性能を向上させるために、物品の表面に指紋を付きにくくしたり、汚れを落としやすくしたりする技術が求められている。具体的な方法として、物品の表面に表面処理剤を用いて表面処理を行う方法が知られている。例えば、特許文献１には、多孔質シリカ微粒子と、４官能性アルコキシシランの加水分解物又は部分加水分解物と、フェニル基を有する加水分解性シラン化合物と、を含有するコーティング材組成物を用いて、基材の最表面に硬化被膜を形成する指紋汚れの防止方法が記載されている。

特開２０１０－１００８１９号公報

　一方、表面処理剤には低指紋視認性、指紋除去性、耐擦傷性、耐摩耗性等の観点からさらなる改良が求められている。かかる状況に鑑み、本開示は基材に良好な低指紋視認性、指紋除去性、耐擦傷性、及び耐摩耗性を付与しうる組成物、前記組成物を含む表面処理剤、並びに前記表面処理剤を用いた物品及び物品の製造方法に関する。

　上記課題を解決するための手段は、以下の態様を含む。
＜１＞　芳香環と２つ以上の反応性シリル基とを有する第１の化合物、その加水分解物、及びその部分縮合物からなる群より選択される少なくとも１つと、
　ポリアルキレンオキシド基と２つ以上の反応性シリル基とを有する第２の化合物、その加水分解物、及びその部分縮合物からなる群より選択される少なくとも１つと、
　水と、
　水以外の溶媒と、
　酸又はアルカリと、
を含む組成物。
＜２＞　前記芳香環がベンゼン環である、＜１＞に記載の組成物。
＜３＞　前記第１の化合物が下記式（１－１）又は（１－２）で表される化合物を含む、＜１＞又は＜２＞に記載の組成物。
（Ｚ^１－）_ｊ１Ｙ^１［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ１　　…（１－１）
［Ｌ_３－ｎ（Ｒ）_ｎＳｉ－］_ｇ２Ｙ^２－Ｚ^２－Ｙ^２［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ２…（１－２）
　式（１－１）中、
　Ｚ^１はそれぞれ独立に１価の芳香環基、又は側鎖に芳香環を有する１価の鎖状基であり、
　ｊ１は１以上の整数であり、
　Ｙ^１は単結合又は（ｇ１＋ｊ１）価の連結基であり、
　Ｒはそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌはそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｎはそれぞれ独立に０～２の整数であり、
　ｇ１は２以上の整数であり、
　式（１－２）中、
　Ｚ^２は２価の芳香環基、又は側鎖に芳香環を有する２価の鎖状基であり、
　Ｙ^２はそれぞれ独立に単結合又は（ｇ２＋１）価の連結基であり、
　Ｒはそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌはそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｎはそれぞれ独立に０～２の整数であり、
　ｇ２はそれぞれ独立に１以上の整数であり、ｇ２の少なくとも１つは２以上の整数である。
＜４＞　式（１－１）中、Ｙ^１が、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基、ポリアルキレンオキシド基、オルガノポリシロキサン残基、若しくはこれらの組み合わせを含むか、又は
　式（１－２）中、少なくとも１つのＹ^２が、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基、ポリアルキレンオキシド基、オルガノポリシロキサン残基、若しくはこれらの組み合わせを含む、
＜３＞に記載の組成物。
＜５＞　式（１－１）中、Ｚ^１が、側鎖に芳香環を有する１価のポリシロキサン残基を含むか、又は
　式（１－２）中、Ｚ^２が、側鎖に芳香環を有する２価のポリシロキサン残基を含む、＜３＞又は＜４＞に記載の組成物。
＜６＞　前記第２の化合物が下記式（２－１）又は（２－２）で表される化合物を含む、＜１＞～＜５＞のいずれか１項に記載の組成物。
［Ｒ^ｃ－Ｏ－（ＸＯ）_ｍ－］_ｊ３Ｙ^３［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ３　　…（２－１）
［Ｌ_３－ｎ（Ｒ）_ｎＳｉ－］_ｇ４Ｙ^４－Ｏ－（ＸＯ）_ｍ－Ｙ^４［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ４　　…（２－２）
　式（２－１）中、
　Ｒ^ｃは１価の脂肪族炭化水素基であり、
　Ｘはそれぞれ独立に炭素数２～６のアルキレン基であり
　ｍは２以上の整数であり、
　ｊ３は１以上の整数であり、
　Ｙ^３は（ｇ３＋ｊ３）価の連結基であり、
　Ｒはそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌはそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｎはそれぞれ独立に０～２の整数であり、
　ｇ３は２以上の整数であり、
　式（２－２）中、
　Ｘはそれぞれ独立に炭素数２～６のアルキレン基であり、
　ｍは２以上の整数であり、
　Ｙ^４はそれぞれ独立に（ｇ４＋１）価の連結基であり、
　Ｒはそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌはそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｎはそれぞれ独立に０～２の整数であり、
　ｇ４はそれぞれ独立に１以上の整数であり、ｇ４の少なくとも１つは２以上の整数である。
＜７＞　式（２－１）中、Ｘがエチレン基である、＜６＞に記載の組成物。
＜８＞　前記溶媒がアルコール系有機溶媒である、＜１＞～＜７＞のいずれか１項に記載の組成物。
＜９＞　前記酸がリン酸を含む、＜１＞～＜８＞のいずれか１項に記載の組成物。
＜１０＞　さらに、３官能以上のアルコキシシラン、その加水分解物、及びその部分縮合物からなる群より選択される少なくとも１つを含む、＜１＞～＜９＞のいずれか１項に記載の組成物。
＜１１＞　＜１＞～＜１０＞のいずれか１項に記載の組成物を含む表面処理剤。
＜１２＞　基材に対して、＜１１＞に記載の表面処理剤を用いて表面処理を行い、基材上に表面処理層が形成された物品を製造する、物品の製造方法。
＜１３＞　基材と、前記基材上に配置され、＜１１＞に記載の表面処理剤で表面処理された表面処理層と、を含む物品。
＜１４＞　前記物品が光学部材である、＜１３＞に記載の物品。
＜１５＞　前記物品がディスプレイ又はタッチパネルである、＜１３＞に記載の物品。

　本開示によれば、基材に良好な低指紋視認性、指紋除去性、耐擦傷性、及び耐摩耗性を付与しうる組成物、前記組成物を含む表面処理剤、並びに前記表面処理剤を用いた物品及び物品の製造方法が提供される。

　以下、本開示の実施形態を実施するための形態について詳細に説明する。但し、本開示の実施形態は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の実施形態において、その構成要素（要素ステップ等も含む）は、特に明示した場合を除き、必須ではない。数値及びその範囲についても同様であり、本開示の実施形態を制限するものではない。

　本開示において「工程」との語には、他の工程から独立した工程に加え、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の目的が達成されれば、当該工程も含まれる。
　本開示において「～」を用いて示された数値範囲には、「～」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
　本開示において各成分は該当する物質を複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、各成分の含有率又は含有量は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率又は含有量を意味する。
　本開示において「層」又は「膜」との語には、当該層又は膜が存在する領域を観察したときに、当該領域の全体に形成されている場合に加え、当該領域の一部にのみ形成されている場合も含まれる。
　「表面処理層」とは、基材の表面に、表面処理によって形成される層を意味する。
　本開示において、化合物又は基が特定の式（Ｘ）で表される場合、当該式（Ｘ）で表される化合物又は基をそれぞれ化合物（Ｘ）及び基（Ｘ）と記すことがある。
　本開示において、反応性シリル基を有する化合物の「部分縮合物」とは、溶媒中で、酸又はアルカリと水の存在下、前記化合物が有する反応性シリル基の全部又は一部が加水分解し、次いで脱水縮合することにより生成するオリゴマー（多量体）をいう。「部分縮合物」は１種の化合物の縮合物であってもよく、２種以上の化合物の縮合物であってもよい。例えば、「化合物Ｘの部分縮合物」は、化合物Ｘ同士の縮合物であってもよく、化合物Ｘと他の化合物との縮合物であってもよい。
　本開示において「芳香環基」とは、芳香環のみからなる基であり、芳香環から１個又は２個以上の水素原子を除いた基を意味する。ただし芳香環基の芳香環は置換基を有していてもよい。

［組成物］
　本開示の組成物は、芳香環と２つ以上の反応性シリル基とを有する第１の化合物、その加水分解物、及びその部分縮合物からなる群より選択される少なくとも１つと、ポリアルキレンオキシド基と２つ以上の反応性シリル基とを有する第２の化合物、その加水分解物、及びその部分縮合物からなる群より選択される少なくとも１つと、水と、水以外の溶媒と、酸又はアルカリと、を含む。

　本開示の組成物を用いて基材表面の表面処理を行うと、基材表面の低指紋視認性、指紋除去性、耐擦傷性、及び耐摩耗性に優れる。この理由は明らかではないが、以下のように推測される。本開示の組成物は、第１の化合物及び第２の化合物のゾルゲル反応により基材に表面処理層を形成し得る。このとき、芳香環を有する第１の化合物とポリアルキレンオキシド基を有する第２の化合物とを併用することにより、基材に親油性を付与でき、良好な低指紋視認性及び指紋除去性が得られると考えられる。また、第１の化合物と第２の化合物が架橋構造を形成することにより、基材に良好な耐擦傷性と耐摩耗性を付与でき、さらに、第１の化合物及び第２の化合物はそれぞれ２つ以上の反応性シリル基を有するため、耐擦傷性と耐摩耗性がより向上すると考えられる。

＜第１の化合物及び第２の化合物＞
（第１の化合物）
　第１の化合物は、芳香環と２つ以上の反応性シリル基とを有する。

　反応性シリル基とは、Ｓｉ原子に反応性基が結合した基を意味する。反応性基としては、加水分解性基又は水酸基が好ましい。

　加水分解性基とは、加水分解反応により水酸基となる基である。すなわち、Ｓｉ－Ｌで表される加水分解性を有するシリル基は、加水分解反応によりＳｉ－ＯＨで表されるシラノール基となる。シラノール基は、さらにシラノール基間で反応してＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面に存在する酸化物に由来するシラノール基と脱水縮合反応して、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成できる。加水分解性基としては、例えば、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、及びイソシアナト基（－ＮＣＯ）が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましい。ただし、アリールオキシ基のアリール基は、ヘテロアリール基を含む。ハロゲン原子は、塩素原子が好ましい。アシル基は、炭素数１～６のアシル基が好ましい。アシルオキシ基は、炭素数１～６のアシルオキシ基が好ましい。

　均一な膜を作製しやすく、耐久性に優れる観点からは、反応性シリル基としてはアルコキシシリル基又はトリクロロシリル基が好ましい。基材との反応において生じる副生物の取り扱いやすさの観点から、反応性シリル基は、アルコキシシリル基がより好ましい。アルコキシシリル基としてはジアルコキシシリル基又はトリアルコキシシリル基が好ましく、トリアルコキシシリル基がより好ましい。
　第１の化合物中の２つ以上の反応性シリル基は同じであっても異なっていてもよい。

　反応性シリル基としては、下記式（Ｓ１）で表される基が好ましい。
　－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ　　（Ｓ１）
　式（Ｓ１）中、Ｒはそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、Ｌはそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、ｎは０～２の整数である。

　複数の基（Ｓ１）は、同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性、及び、化合物の製造容易性に優れる観点からは、複数の基（Ｓ１）は、同じであることが好ましい。

　Ｒはそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、１価の飽和炭化水素基が好ましい。Ｒの炭素数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２がさらに好ましい。

　なかでも、Ｌは、化合物の製造容易性に優れる観点から、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～４のアルコキシ基）又はハロゲン原子が好ましい。Ｌは、塗布時のアウトガスが少なく、化合物の保存安定性により優れる観点から、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましい。化合物の長期の保存安定性が必要な場合には、Ｌは、エトキシ基がより好ましい。塗布後の反応時間を短時間とする場合には、Ｌは、メトキシ基がより好ましい。式（Ｓ１）において、Ｌの少なくとも１つが上記基であることが好ましく、Ｌのすべてが上記基であることがより好ましい。

　ｎは、０～２の整数であり、０又は１が好ましく、０がより好ましい。本開示の組成物を表面処理剤に用いる場合、Ｌが複数存在することによって、表面処理層の基材への密着性がより強固になる。
　ｎが１以下である場合、１分子中に存在する複数のＬは、同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。原料の入手容易性、及び、化合物の製造容易性に優れる観点から、複数のＬは同じであることが好ましい。ｎが２である場合、１分子中に存在する複数のＲは同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。原料の入手容易性、及び、化合物の製造容易性に優れる観点から、複数のＲは同じであることが好ましい。

　第１の化合物は反応性シリル基を２つ以上含み、耐擦傷性及び耐摩耗性の観点からは、３個以上含むことが好ましい。製造容易性に優れる観点からは、第１の化合物における反応性シリル基の数は３０以下が好ましく、１８以下がより好ましく、１２以下がさらに好ましい。かかる観点からは、第１の化合物における反応性シリル基の数は２～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がさらに好ましい。

　第１の化合物が含む芳香環は、芳香族炭化水素環であっても芳香族複素環であってもよく、親油性により優れる観点からは、ヘテロ原子を含まない芳香族炭化水素環が好ましい。芳香環は、単環であっても多環であってもよい。芳香環の炭素数は６～１４が好ましく、６～１０がより好ましい。

　第１の化合物が含む芳香環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、インデン環、アズレン環、フルオレン環；フラン環、チオフェン環、ピロール環、イミダゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、インドール環、プリン環、キノリン環、イソキノリン環、クロメン環、フェノチアジン環、フェノキサジン環、アクリジン環、フェナジン環、カルバゾール環等が挙げられる。親油性により優れる観点、及び製造容易性に優れる観点からは、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環が好ましい。

　第１の化合物は芳香環を１つ含んでもよく、２つ以上含んでもよい。第１の化合物が芳香環を２つ以上含む場合、複数の芳香環は同じであっても互いに異なっていてもよく、製造容易性に優れる観点からは同じであることが好ましい。
　親油性により優れる観点からは、芳香環の数は１～３２個が好ましく、１～１６個がより好ましい。

　第１の化合物が含む芳香環は置換基を有していても有していなくてもよい。芳香環が置換基を有する場合、置換基の数は１～１５であってよく、１～９が好ましく、１～７がより好ましい。置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のハロアルキル基、－ＯＣＦ_３、－ＳＦ_５、－ＯＣ（Ｏ）Ｒ^ｄ、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｒ^ｄ、－ＮＯ_２、－ＳＯ_２Ｒ^ｄ、－ＮＲ^ｄ _２、－Ｃ（Ｏ）ＯＲ^ｄ、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^ｄ _２等が挙げられる。ここで、Ｒ^ｄは、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１～１０、より好ましくは炭素数１～５、さらに好ましくはメチル基）である。一態様において、置換基としては、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子）を含まない置換基が好ましく、水酸基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、－ＯＣ（Ｏ）Ｒ^ｄ、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｒ^ｄ、－ＮＯ_２、－ＳＯ_２Ｒ^ｄ、－ＮＲ^ｄ _２、－Ｃ（Ｏ）ＯＲ^ｄ、及び－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^ｄ _２がより好ましい。一態様において、親油性の観点からは、置換基としては、ヘテロ原子（例えば酸素原子、窒素原子、及び硫黄原子）を含まない置換基が好ましく、アルキル基が好ましい。一態様において、親油性の観点からは、芳香環は置換基を有さないことが好ましい。芳香環が複数の置換基を有する場合、それぞれの置換基は同じでも異なっていてもよい。

　第１の化合物において、反応性シリル基は芳香環に直接結合していてもよく、連結基を介して結合していてもよい。一態様において、芳香環は鎖状基の側鎖に存在し、前記鎖状基が直接又は連結基を介して反応性シリル基と結合していてもよい。鎖状基としては、エーテル性酸素原子を有していてもよい鎖状アルキル基又は鎖状アルキレン基、ポリシロキサン残基等が挙げられる。
　連結基は、２価の連結基であってもよく、分岐部を有する３価以上の連結基であってもよい。

　２価の連結基としては、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基、ポリアルキレンオキシド基、オルガノポリシロキサン残基、これらの組み合わせ等が挙げられる。さらに、これらと、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ_２－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２－、これらの組み合わせと、を組み合わせた基も挙げられる。上記Ｒ^ａは、アルキル基（好ましくは炭素数１～１０）、又はフェニル基である。上記Ｒ^ｄは、水素原子、又はアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
　前記これらの組み合わせとしては、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－ＳＯ_２Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）ＳＯ_２－等が挙げられる。
　２価の連結基としては、後述の式（１－２）のＹ^２として説明される連結基のうち２価の連結基も挙げられる。

　３価以上の連結基としては、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、及び環状基からなる群より選択される少なくとも１つの分岐部と２価の連結基との組み合わせ等が挙げられる。ここで、２価の連結基としては前述した連結基が挙げられる。
　３価以上の連結基としては、後述の式（１－１）のＹ^１として説明される連結基、並びに式（１－２）のＹ^２として説明される連結基のうち３価以上の連結基も挙げられる。

　第１の化合物は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　第１の化合物は、ハロゲン原子（例えばフッ素原子）を含んでいても含んでいなくてもよい。一態様において、環境負荷の低減の観点からは、第１の化合物はハロゲン原子（例えばフッ素原子）を有しないことが好ましい。

　一態様において、第１の化合物は下記式（１－１）又は（１－２）で表される化合物を含むことが好ましい。
（Ｚ^１－）_ｊ１Ｙ^１［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ１　…（１－１）
［Ｌ_３－ｎ（Ｒ）_ｎＳｉ－］_ｇ２Ｙ^２－Ｚ^２－Ｙ^２［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ２…（１－２）
　式（１－１）中、
　Ｚ^１はそれぞれ独立に１価の芳香環基、又は側鎖に芳香環を有する１価の鎖状基であり、
　ｊ１は１以上の整数であり、
　Ｙ^１は単結合又は（ｇ１＋ｊ１）価の連結基であり、
　Ｒはそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌはそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｎはそれぞれ独立に０～２の整数であり、
　ｇ１は２以上の整数であり、
　式（１－２）中、
　Ｚ^２は２価の芳香環基、又は側鎖に芳香環を有する２価の鎖状基であり、
　Ｙ^２はそれぞれ独立に単結合又は（ｇ２＋１）価の連結基であり、
　Ｒはそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌはそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｎはそれぞれ独立に０～２の整数であり、
　ｇ２はそれぞれ独立に１以上の整数であり、ｇ２の少なくとも１つは２以上の整数である。

　式（１－１）及び（１－２）中、［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］の詳細は基（Ｓ１）の詳細と同じである。

　式（１－１）中、Ｚ^１はそれぞれ独立に１価の芳香環基、又は側鎖に芳香環を有する１価の鎖状基である。Ｚ^１に含まれる芳香環としては、前述した芳香環が挙げられる。芳香環は置換基を有しても置換基を有さなくてもよい。置換基としては前述した置換基が挙げられる。
　１価の芳香環基は、芳香環から１個の水素原子を除いた基である。
　側鎖に芳香環を有する１価の鎖状基は、少なくとも１つの芳香環を側鎖に有する。側鎖に芳香環を有する１価の鎖状基としては、側鎖に芳香環を有するエーテル性酸素原子を有していてもよい鎖状アルキル基、側鎖に芳香環を有する１価のポリシロキサン残基等が挙げられる。なかでも、Ｚ^１は、側鎖に芳香環を有する１価のポリシロキサン残基を含むことが好ましい。

　側鎖に芳香環を有するエーテル性酸素原子を有していてもよい鎖状アルキル基の主鎖の炭素数は１～３２が好ましく、１～１６がより好ましく、１～８がさらに好ましい。

　側鎖に芳香環を有する１価のポリシロキサン残基としては、下式で表される基が挙げられる。

　式中、Ｒ^４は一価の有機基であり、Ｒ^５はそれぞれ独立にアルキル基又は芳香環基であり、［－Ｓｉ（Ｒ^５）_２－Ｏ－］単位中の２つのＲ^５のうち少なくとも１つのＲ^５は芳香環基であり、［－Ｓｉ（Ｒ^５）_２－Ｏ－］_ｋに結合する－Ｓｉ（Ｒ^５）_２－中の２つのＲ^５のうち少なくとも１つのＲ^５は芳香環基である。ｋは２以上の整数を表す。＊は連結部位を表す。

　Ｒ^４で表される一価の有機基としては、アルキル基、芳香環基、シリルオキシ基等が挙げられる。
　前記アルキル基は、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれであってもよく、炭素数１～５のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、及びｔｅｒｔ－ブチル基がより好ましい。
　前記芳香環基としては、前述した芳香環基が挙げられ、フェニル基が好ましい。
　前記シリルオキシ基としては、トリアルキルシリルオキシ基、ジアルキルアリールシリルオキシ基、アルキルジアリールシリルオキシ基、トリアリールシリルオキシ基等が挙げられる。シリルオキシ基中のアルキル基部分としては、前記アルキル基として例示したものが挙げられる。シリルオキシ基中のアリール基部分としては、前記芳香環基として例示したものが挙げられる。

　Ｒ^５で表されるアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれであってもよく、炭素数１～５のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、及びｔｅｒｔ－ブチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
　Ｒ^５で表される芳香環基としては、前述した芳香環基が挙げられ、フェニル基が好ましい。

　ｋは、１～６００が好ましく、１～５００がより好ましく、１～５０がさらに好ましく、１～３２が特に好ましく、１～１６が最も好ましく、１～８であってもよい。

　なお、式（１－１）において、Ｚ^１が側鎖に芳香環を有する１価の鎖状基である場合、式左側を起点として、芳香環が結合する主鎖上の最後の原子を、Ｚ^１のＹ^１側末端と定義する。

　式（１－１）中、ｊ１は１以上の整数である。
　指紋除去性の観点からは、ｊ１は１～６が好ましい。製造容易性に優れる観点からは、ｊ１は１が好ましい。

　式（１－１）中、Ｙ^１は単結合又は（ｇ１＋ｊ１）価の連結基である。
　Ｙ^１が単結合の場合、Ｚ^１は芳香環基であり、ｇ１個の［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］はＺ^１中の芳香環を構成する原子に直接結合する。
　Ｙ^１が（ｇ１＋ｊ１）価の連結基である場合、Ｙ^１は、本開示の効果を損なわない基であればよく、例えば、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２～８価のオルガノポリシロキサン残基、環状基、これらと２価の連結基との組み合わせ等が挙げられる。
　前記２価の連結基としては、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基、ポリアルキレンオキシド基、オルガノポリシロキサン残基、これらの組み合わせ等が挙げられる。さらに、これらと、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ_２－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２－、又はこれらの組み合わせと、を組み合わせた基も挙げられる。上記Ｒ^ａは、アルキル基（好ましくは炭素数１～１０）、又はフェニル基である。上記Ｒ^ｄは、水素原子、又はアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
　前記これらの組み合わせとしては、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－ＳＯ_２Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）ＳＯ_２－、－ＯＳｉ（Ｒ^ａ）_２－等が挙げられる。
　なかでも、Ｙ^１は、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基、ポリアルキレンオキシド基、オルガノポリシロキサン残基、これらの組み合わせ、又はこれらと－ＯＳｉ（Ｒ^ａ）_２－との組み合わせを含むことが好ましい。
　Ｙ^１としては、後述する式（３－１Ａ）、式（３－１Ｂ）、及び式（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）からＳｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎを除いた基のうち、３価以上の基も挙げられる。
　また、Ｙ^１としては、後述する基（ｇ２－１）～基（ｇ２－１４）のうち、３価以上の基も挙げられる。

　式（１－１）中、ｇ１は２以上の整数であり、耐擦傷性及び耐摩耗性の観点からは、３以上の整数が好ましい。製造容易性に優れる観点からは、ｇ１は１５以下が好ましく、９以下がより好ましく、６以下がさらに好ましい。かかる観点からは、ｇ１は２～１５が好ましく、３～９がより好ましく、３～６がさらに好ましい。

　式（１－２）中、Ｚ^２は２価の芳香環基、又は側鎖に芳香環を有する２価の鎖状基である。Ｚ^２に含まれる芳香環としては、前述した芳香環が挙げられる。芳香環は置換基を有しても置換基を有さなくてもよい。置換基としては前述した置換基が挙げられる。
　２価の芳香環基は、芳香環から２個の水素原子を除いた基である。
　側鎖に芳香環を有する２価の鎖状基は、少なくとも１つの芳香環を側鎖に有する。側鎖に芳香環を有する２価の鎖状基としては、側鎖に芳香環を有するエーテル性酸素原子を有していてもよい鎖状アルキレン基、側鎖に芳香環を有する２価のポリシロキサン残基等が挙げられる。なかでも、Ｚ^２は、側鎖に芳香環を有する２価のポリシロキサン残基を含むことが好ましい。

　側鎖に芳香環を有するエーテル性酸素原子を有していてもよい鎖状アルキレン基の炭素数は１～３２が好ましく、１～１６がより好ましく、１～８がさらに好ましい。

　側鎖に芳香環を有する２価のポリシロキサン残基としては、下式で表される基が挙げられる。

　式中、Ｒ^５はアルキル基又は芳香環基であり、［－Ｓｉ（Ｒ^５）_２－Ｏ－］単位中の２つのＲ^５のうち少なくとも１つのＲ^５は芳香環基であり、［－Ｓｉ（Ｒ^５）_２－Ｏ－］_ｋに結合する－Ｓｉ（Ｒ^５）_２－中の２つのＲ^５のうち少なくとも１つのＲ^５は芳香環基である。ｋは２以上の整数を表す。＊は連結部位を表す。
　Ｒ^５で表されるアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれであってもよく、炭素数１～５のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、及びｎ－ブチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
　Ｒ^５で表される芳香環基としては、前述した芳香環基が挙げられる。
　ｋは、１～６００が好ましく、１～５００がより好ましく、１～５０がさらに好ましく、１～３２が特に好ましく、１～１６が最も好ましく、１～８であってもよい。

　なお、式（１－２）において、Ｚ^２が側鎖に芳香環を有する２価の鎖状基である場合、式左側を起点として、芳香環が結合する主鎖上の最初の原子及び最後の原子を、Ｚ^２のそれぞれのＹ^２側末端と定義する。

　式（１－２）中、Ｙ^２はそれぞれ独立に単結合又は（ｇ１＋１）価の連結基である。
　Ｙ^２が（ｇ１＋１）価の連結基である場合、Ｙ^２は、本開示の効果を損なわない基であればよく、式（１－２）の定義を満たす限り、２価の連結基であっても、３価以上の連結基であってもよい。
　２価の連結基としては、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基、ポリアルキレンオキシド基、オルガノポリシロキサン残基、これらの組み合わせ等が挙げられる。さらに、これらと、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ_２－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２－、又はこれらの組み合わせと、を組み合わせた基も挙げられる。上記Ｒ^ａは、アルキル基（好ましくは炭素数１～１０）、又はフェニル基である。上記Ｒ^ｄは、水素原子、又はアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
　前記これらの組み合わせとしては、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－ＳＯ_２Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）ＳＯ_２－、－ＯＳｉ（Ｒ^ａ）_２－等が挙げられる。
　３価以上の連結基としては、式（１－１）中のＹ^１の具体例として挙げた基が挙げられる。
　Ｙ^２としては、後述する式（３－１Ａ）、式（３－１Ｂ）、及び式（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）からＳｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎを除いた基も挙げられる。
　また、Ｙ^２としては、後述する基（ｇ２－１）～基（ｇ２－１４）も挙げられる。

　式（１－２）中、ｇ２はそれぞれ独立に１以上の整数であり、ｇ２の少なくとも１つは２以上の整数である。耐擦傷性及び耐摩耗性の観点からは、ｇ２はそれぞれ独立に、３以上の整数が好ましい。製造容易性に優れる観点からは、ｇ２は１５以下が好ましく、９以下がより好ましく、６以下がさらに好ましい。かかる観点からは、ｇ２は２～１５が好ましく、３～９がより好ましく、３～６がさらに好ましい。式（１－２）中の２つのｇ２はいずれも上記範囲であることが好ましい。

（第２の化合物）
　第２の化合物は、ポリアルキレンオキシド基と２つ以上の反応性シリル基とを有する。

　第２の化合物における反応性シリル基の詳細は、第１の化合物における反応性シリル基の詳細と同じである。
　第２の化合物は、反応性シリル基を２つ以上含み、耐擦傷性及び耐摩耗性の観点からは、３個以上含むことが好ましい。製造容易性に優れる観点からは、第２の化合物における反応性シリル基の数は３０以下が好ましく、１８以下がより好ましく、１２以下がさらに好ましい。かかる観点からは、第２の化合物における反応性シリル基の数は２～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がさらに好ましい。

　ポリアルキレンオキシド基は、下式で表されることが好ましい。
　（ＸＯ）_ｍ
　式中、Ｘは、それぞれ独立に、炭素数２～６のアルキレン基であり、ｍは２以上の整数である。

　Ｘで表される炭素数２～６のアルキレン基は、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれであってもよい。
　前記アルキレン基の炭素数は、表面処理層の低指紋視認性及び指紋除去性を向上させる観点から、２又は３が好ましい。基材に特に良好な低指紋視認性を付与する観点からは、アルキレン基としては、エチレン基が好ましい。基材に特に良好な指紋除去性を付与する観点からは、アルキレン基としては、プロピレン基が好ましい。

　ｍは、２以上の整数であり、２～２００の整数がより好ましく、５～１５０の整数がさらに好ましく、５～１００の整数が特に好ましく、１０～５０の整数が極めて好ましい。

　（ＸＯ）_ｍは、２種以上の（ＸＯ）を含んでいてもよい。
　２種以上の（ＸＯ）の結合順序は限定されず、ランダム、交互、及びブロックのいずれに配置されていてもよい。
　２種以上の（ＸＯ）を含むとは、化合物中において、炭素数の異なる２種以上の（ＸＯ）が存在すること、及び、炭素数が同一であっても側鎖の有無や側鎖の種類（例えば、側鎖の数、側鎖の炭素数等）が異なる２種以上の（ＸＯ）が存在することをいう。

　（ＸＯ）_ｍは、下記の構造を有することが好ましい。
　（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｍ２１、
　（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｍ２２、
　（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｍ２３（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｍ２４、
　（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ－Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｍ２５。
　ただし、ｍ２１は２以上の整数であり、ｍ２２は２以上の整数であり、ｍ２３及びｍ２４はそれぞれ独立に、１以上の整数であり、ｍ２５は、１以上の整数である。
　（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｍ２３（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｍ２４において、（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）単位と（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）単位との結合順序は限定されず、ランダムでもブロックでもよい。
　なかでも、（ＸＯ）_ｍは（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｍ２１の構造を有することが好ましい。

　第２の化合物において、ポリアルキレンオキシド基と反応性シリル基とは、連結基を介して結合されていることが好ましい。連結基としては、第１の化合物において芳香環と反応性シリル基とを連結する連結基として説明した２価の連結基又は３価以上の連結基が挙げられる。

　第２の化合物は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　第２の化合物は、ハロゲン原子（例えばフッ素原子）を含んでいても含んでいなくてもよい。一態様において、環境負荷の低減の観点からは、第２の化合物はハロゲン原子（例えばフッ素原子）を有しないことが好ましい。

　一態様において、第２の化合物は下記式（２－１）又は（２－２）で表される化合物を含むことが好ましい。
［Ｒ^ｃ－Ｏ－（ＸＯ）_ｍ－］_ｊ３Ｙ^３［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ３　　…（２－１）
［Ｌ_３－ｎ（Ｒ）_ｎＳｉ－］_ｇ４Ｙ^４－Ｏ－（ＸＯ）_ｍ－Ｙ^４［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ４　　…（２－２）
　式（２－１）中、
　Ｒ^ｃは１価の脂肪族炭化水素基であり、
　Ｘはそれぞれ独立に炭素数２～６のアルキレン基であり
　ｍは２以上の整数であり、
　ｊ３は１以上の整数であり、
　Ｙ^３は（ｇ３＋ｊ３）価の連結基であり、
　Ｒはそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌはそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｎは０～２の整数であり、
　ｇ３は２以上の整数であり、
　式（２－２）中、
　Ｘはそれぞれ独立に炭素数２～６のアルキレン基であり、
　ｍは２以上の整数であり、
　Ｙ^４はそれぞれ独立に（ｇ４＋１）価の連結基であり、
　Ｒはそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌはそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｎは０～２の整数であり、
　ｇ４はそれぞれ独立に１以上の整数であり、ｇ４の少なくとも１つは２以上の整数である。

　式（２－１）及び（２－２）中、［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］の詳細は基（Ｓ１）の詳細と同じである。
　式（２－１）及び（２－２）中、（ＸＯ）_ｍの詳細は上述の通りである。

　式（２－１）中、Ｒ^ｃは１価の脂肪族炭化水素基である。
　脂肪族炭化水素基は、脂肪族飽和炭化水素基であっても脂肪族不飽和炭化水素基であってもよい。脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状、又は環状であってもよい。脂肪族炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。
　脂肪族炭化水素基としては、アルキル基が好ましい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、３－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ－ヘキシル基、ｔｅｒｔ－ヘキシル基、ネオヘキシル基等が挙げられる。
　脂肪族炭化水素基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～６がさらに好ましい。

　式（２－１）中、ｊ３は１以上の整数である。ｊ３は１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１又は２がさらに好ましい。化合物の製造容易性に優れる観点からは、ｊ３は１が好ましい。

　式（２－１）中、Ｙ^３は（ｇ３＋ｊ３）価の連結基である。Ｙ^３は、本開示の効果を損なわない基であればよく、例えば、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２～８価のオルガノポリシロキサン残基、これらと２価の連結基との組み合わせ等が挙げられる。
　前記２価の連結基としては、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基、ポリアルキレンオキシド基、オルガノポリシロキサン残基、これらの組み合わせ等が挙げられる。さらに、これらと、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ_２－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２－、これらの組み合わせと、を組み合わせた基も挙げられる。上記Ｒ^ａは、アルキル基（好ましくは炭素数１～１０）、又はフェニル基である。上記Ｒ^ｄは、水素原子、又はアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
　前記これらの組み合わせとしては、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－ＳＯ_２Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）ＳＯ_２－等が挙げられる。
　Ｙ^３としては、後述する式（３－１Ａ）、式（３－１Ｂ）、式（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）からＳｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎを除いた基のうち、３価以上の基も挙げられる。
　また、Ｙ^３としては、後述する基（ｇ２－１）～基（ｇ２－１４）のうち、３価以上の基も挙げられる。
　ただし、Ｙ^３の－Ｏ－（ＸＯ）_ｍ－側末端は＊－（ＸＯ）ではない（＊は結合位置を表す。）。

　式（２－１）中、ｇ３は２以上の整数である。耐擦傷性及び耐摩耗性の観点からは、ｇ１は３以上の整数が好ましい。製造容易性に優れる観点からは、ｇ３は１５以下が好ましく、９以下がより好ましく、６以下がさらに好ましい。かかる観点からは、ｇ３は２～１５が好ましく、３～９がより好ましく、３～６がさらに好ましい。

　式（２－２）中、Ｙ^４はそれぞれ独立に（ｇ４＋１）価の連結基である。
　Ｙ^４は、本開示の効果を損なわない基であればよく、式（２－２）の定義を満たす限り、２価の連結基であっても、３価以上の連結基であってもよい。
　２価の連結基としては、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基、ポリアルキレンオキシド基、オルガノポリシロキサン残基、これらの組み合わせ等が挙げられる。さらに、これらと、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ_２－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２－、これらの組み合わせと、を組み合わせた基も挙げられる。上記Ｒ^ａは、アルキル基（好ましくは炭素数１～１０）、又はフェニル基である。上記Ｒ^ｄは、水素原子、又はアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
　前記これらの組み合わせとしては、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－ＳＯ_２Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）ＳＯ_２－等が挙げられる。
　３価以上の連結基としては、式（２－１）中のＹ^３の具体例として挙げた基が挙げられる。
　Ｙ^４としては、後述する式（３－１Ａ）、式（３－１Ｂ）、式（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）からＳｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎを除いた基も挙げられる。
　また、Ｙ^４としては、後述する基（ｇ２－１）～基（ｇ２－１４）も挙げられる。
　ただし、Ｙ^４の－Ｏ－（ＸＯ）_ｍ－側末端は（ＸＯ）ではない（＊は結合位置を表す。）。

　式（２－２）中、ｇ４はそれぞれ独立に１以上の整数であり、ｇ４の少なくとも１つは２以上の整数である。耐擦傷性及び耐摩耗性に優れる観点からは、ｇ４はそれぞれ独立に２以上の整数が好ましく、３以上の整数がより好ましい。製造容易性に優れる観点からは、ｇ４はそれぞれ独立に１５以下が好ましく、９以下がより好ましく、６以下がさらに好ましい。かかる観点からは、ｇ４はそれぞれ独立に２～１５が好ましく、３～９がより好ましく、３～６がさらに好ましい。

（第１の化合物及び第２の化合物の部分構造）
　以下に、化合物（１－１）におけるＹ^１［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ１、化合物（１－２）におけるＹ^２［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ２、化合物（２－１）におけるＹ^３［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ３、及び化合物（２－２）におけるＹ^４［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ４の具体的態様を例示する。

　化合物（１－１）におけるＹ^１［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ１、化合物（１－２）におけるＹ^２［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ２、化合物（２－１）におけるＹ^３［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ３、及び化合物（２－２）におけるＹ^４［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ４としてはそれぞれ、基（３－１Ａ）又は基（３－１Ｂ）が好ましい。
　ただし、化合物（１－１）では、ｇ１は２以上であるため、［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］が２個以上である基が選択される。
　化合物（１－２）では、ｇ２の少なくとも１つは２以上であるため、化合物（１－２）における少なくとも１つのＹ^２［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ２において、［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］が２個以上である基が選択される。
　化合物（２－１）では、ｇ３は２以上であるため、［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］が２個以上である基が選択される。
　化合物（２－２）では、ｇ４の少なくとも１つは２以上であるため、化合物（２－２）における少なくとも１つのＹ^４［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ４において、［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］が２個以上である基が選択される。
　また、化合物（２－１）及び（２－２）において、－Ｏ－（ＸＯ）_ｍ－に結合するＹ^３及びＹ^４の末端は＊－（ＸＯ）ではないものとする（＊は結合位置を表す。）。

　－Ｑ^ａ－Ｘ^３１（－Ｑ^ｂ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）_ｈ（－Ｒ^３１）_ｉ　　…（３－１Ａ）
　－Ｑ^ｃ－［ＣＨ_２Ｃ（Ｒ^３２）（－Ｑ^ｄ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）］_ｙ－Ｒ^３３…（３－１Ｂ）

　式（３－１Ａ）において、
　Ｑ^ａは、単結合又は２価の連結基であり、
　Ｘ^３１は、単結合、アルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２～８価のオルガノポリシロキサン残基、又は（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基であり、
　Ｑ^ｂは、単結合又は２価の連結基であり、
　Ｒ^３１は、水素原子、水酸基又はアルキル基であり、
　ｈは１以上の整数であり、ｉは０以上の整数であり、
　Ｒ、Ｌ、及びｎの定義及び具体例は、反応性シリル基内の各符号の定義及び具体例と同じである。

　式（３－１Ｂ）において、
　Ｑ^ｃは、単結合又は２価の連結基であり、
　Ｒ^３２は、水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基であり、
　Ｑ^ｄは、単結合又はアルキレン基であり、
　Ｒ^３３は、水素原子又はハロゲン原子であり、
　ｙは、１～１０の整数であり、
　Ｒ、Ｌ、及びｎの定義及び具体例は、反応性シリル基内の各符号の定義及び具体例と同じである。

　Ｑ^ａは、単結合又は２価の連結基である。
　２価の連結基としては、例えば、２価の炭化水素基、２価の複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ_２－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２－及び、これらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。上記Ｒ^ａは、アルキル基（好ましくは炭素数１～１０）、又はフェニル基である。上記Ｒ^ｄは、水素原子、又はアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
　２価の炭化水素基としては、２価の飽和炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、アルケニレン基、アルキニレン基等が挙げられる。
　２価の飽和炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状又は環状であってもよく、例えば、アルキレン基が挙げられる。
　２価の飽和炭化水素基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～６がさらに好ましく、１～３が特に好ましい。
　２価の芳香族炭化水素基としては、炭素数５～２０のものが好ましく、例えば、フェニレン基が挙げられる。
　２価の炭化水素基は、炭素数２～２０のアルケニレン基、炭素数２～２０のアルキニレン基であってもよい。
　前記これらを２種以上組み合わせた基としては、例えば、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－ＳＯ_２Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）ＳＯ_２－、－ＯＳｉ（Ｒ^ａ）_２－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－を有するアルキレン基、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）－を有するアルキレン基、エーテル性酸素原子を有するアルキレン基、－ＯＣ（Ｏ）－を有するアルキレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－を有するアルキレン基、－ＳＯ_２Ｎ（Ｒ^ｄ）－を有するアルキレン基、－ＯＳｉ（Ｒ^ａ）_２－を有するアルキレン基、アルキレン基－Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２－フェニレン基－Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２が挙げられる。

　Ｘ^３１は、単結合、アルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２～８価のオルガノポリシロキサン残基、又は（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基である。
　なお、上記アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基又はジアルキルシリレン基を有していてもよい。アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基及びジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
　Ｘ^３１で表されるアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましい。
　２～８価のオルガノポリシロキサン残基としては、２価のオルガノポリシロキサン残基、及び、後述する（ｗ２＋１）価のオルガノポリシロキサン残基が挙げられる。

　Ｘ^３１が（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基である場合、Ｑ^ａ、（－Ｑ^ｂ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）、及び－Ｒ^３１(ｉ＝１以上の場合）は該環を構成する原子に直接結合している。ただし、該環はオルガノポリシロキサン環以外の環である。以下、特に言及しない限り、Ｘ^３１における環は、オルガノポリシロキサン環以外の環を意味する。
　Ｘ^３１における環は、単環、縮合多環、橋かけ環、スピロ環及び集合多環のいずれであってもよく、環を構成する原子は、炭素原子のみからなる炭素環でもよく、２価以上の原子価を有するヘテロ原子と炭素原子とからなるヘテロ環でもよい。また、環を構成する原子間の結合は、単結合であってもよく、多重結合であってもよい。さらに、環は芳香族性の環であってもよく、非芳香族性の環であってもよい。
　単環としては、４員環～８員環が好ましく、５員環及び６員環がより好ましい。縮合多環としては、４員環～８員環の２以上が縮合した縮合多環が好ましく、５員環及び６員環から選ばれる環の２又は３個結合した縮合多環、及び、５員環及び６員環から選ばれる環の１又は２個と４員環１個が結合した縮合多環がより好ましい。橋かけ環としては、５員環又は６員環を最大の環とする橋かけ環が好ましく、スピロ環としては、４員環～６員環の２つからなるスピロ環が好ましい。集合多環としては、５員環及び６員環から選ばれる環の２又は３個が単結合、炭素原子の１～３個、又は原子価が２又は３のヘテロ原子１個を介して結合した集合多環が好ましい。なお、集合多環においては、各環にＱ^ａ、（－Ｑ^ｂ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）及びＲ^３１(ｉ＝１以上の場合）のいずれかが結合していることが好ましい。
　上記環を構成するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が好ましく、窒素原子及び酸素原子がより好ましい。環を構成するヘテロ原子の数は３個以下が好ましい。また、環を構成するヘテロ原子の数が２個以上の場合、それらのヘテロ原子は同じでも異なっていてもよい。

　Ｘ^３１における環としては、化合物を製造しやすい観点、及び表面処理層の耐摩耗性、耐光性及び耐薬品性がさらに優れる観点から、３～８員環の脂肪族環、ベンゼン環、３～８員環のヘテロ環、これらの環のうちの２又は３個が縮合した縮合環、５員環又は６員環を最大の環とする橋かけ環、及び、これらの環のうちの２つ以上を有し、連結基が単結合、炭素数３以下のアルキレン基、酸素原子又は硫黄原子である集合多環からなる群より選択される１種が好ましい。
　好ましい環は、ベンゼン環、５員又は６員の脂肪族環、窒素原子又は酸素原子を有する５員又は６員のヘテロ環、及び、５員又は６員の炭素環と４～６員のヘテロ環との縮合環である。
　具体的な環としては、以下に示す環と、１，３－シクロヘキサジエン環、１，４－シクロヘキサジエン環、アントラセン環、シクロプロパン環、デカヒドロナフタレン環、ノルボルネン環、ノルボルナジエン環、フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピラジン環、モルホリン環、アジリジン環、イソキノリン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピラン環、ピリダジン環、ピリミジン環、及びインデン環が挙げられる。なお、以下には、オキソ基（＝Ｏ）を有する環も示す。

　Ｘ^３１における環を構成する原子の環を構成しない結合手は、Ｑ^ａ、（－Ｑ^ｂ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）又はＲ^３１(ｉ＝１以上の場合）に結合する結合手であり、残余の結合手がある場合は水素原子や置換基に結合している。該置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基（炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を含んでいてもよい。）、シクロアルキル基、アルケニル基、アリル基、アルコキシ基、オキソ基（＝Ｏ）等が挙げられる。
　また、環を構成する炭素原子の１個がＱ^ａ、（－Ｑ^ｂ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）、又は－Ｒ^３１(ｉ＝１以上の場合）に結合できる結合手を２つ有する場合、その１個の炭素原子にＱ^ａ、（－Ｑ^ｂ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）、及び－Ｒ^３１のうちの任意の２つが結合していてもよい。Ｑ^ａとＱ^ｂとは別の環構成原子に結合していることが好ましい。ｉ個のＲ^３１はそれぞれ別個の環構成原子に結合していてもよく、ｉ個のＲ^３１のうちの２個が１個の環構成炭素原子に結合していてもよい。２個のＲ^３１が結合した環構成炭素原子が２個以上存在してもよい。

　なかでも、Ｘ^３１は、表面処理層の耐摩耗性を向上させる観点から、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、４～８価のオルガノポリシロキサン残基、又は（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基が好ましく、炭素原子又はケイ素原子がより好ましい。

　Ｑ^ｂは、単結合又は２価の連結基である。
　２価の連結基の定義は、上述したＱ^ａで説明した定義と同義である。
　ただし、Ｑ^ｂが２価の飽和炭化水素基の場合、飽和炭化水素基（例えばアルキレン基）の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。

　Ｒ^３１は、水素原子、水酸基又はアルキル基である。
　アルキル基の炭素数は、１～５が好ましく、１～３がより好ましく、１がさらに好ましい。

　ｈは１以上の整数であり、ｉは０以上の整数である。
　Ｘ^３１が単結合又はアルキレン基の場合、ｈは１、ｉは０である。
　Ｘ^３１が窒素原子の場合、ｈは１～２の整数であり、ｉは０～１の整数であり、ｈ＋ｉ＝２を満たす。
　Ｘ^３１が炭素原子又はケイ素原子の場合、ｈは１～３の整数であり、ｉは０～２の整数であり、ｈ＋ｉ＝３を満たす。
　Ｘ^３１が２～８価のオルガノポリシロキサン残基の場合、ｈは１～７の整数であり、ｉは０～６の整数であり、ｈ＋ｉ＝１～７を満たす。
　Ｘ^３１が（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基の場合、ｈは１～７の整数であり、ｉは０～６の整数であり、ｈ＋ｉ＝１～７を満たす。
　（－Ｑ^ｂ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）が２個以上ある場合は、２個以上の（－Ｑ^ｂ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）は、同一であっても異なっていてもよい。Ｒ^３１が２個以上ある場合は、２個以上の（－Ｒ^３１）は、同一であっても異なっていてもよい。

　なかでも、表面処理層の耐摩耗性を向上させる観点からは、ｉは０が好ましい。

　Ｑ^ｃは、単結合又は２価の連結基である。
　２価の連結基の定義及び詳細は、上述したＱ^ａで説明した定義及び詳細と同じである。

　Ｒ^３２は、水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基であり、化合物を製造しやすい観点から、水素原子が好ましい。
　アルキル基としては、メチル基が好ましい。

　Ｑ^ｄは、単結合又はアルキレン基である。アルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましい。化合物を製造しやすい観点から、Ｑ^ｄは、単結合又は－ＣＨ_２－が好ましい。

　Ｒ^３３は、水素原子又はハロゲン原子であり、化合物を製造しやすい観点から、水素原子が好ましい。

　ｙは、１～１０の整数であり、１～６の整数が好ましい。
　２個以上の［ＣＨ_２Ｃ（Ｒ^３２）（－Ｑ^ｄ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）］は、同一であっても異なってもよい。

　基（３－１Ａ）としては、基（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）が好ましい。
　－（Ｘ^３２）_ｓ１－Ｑ^ｂ１－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ　　　　　　　　　　…（３－１Ａ－１）
　－（Ｘ^３３）_ｓ２－Ｑ^ａ２－Ｎ［－Ｑ^ｂ２－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_２　　…（３－１Ａ－２）
　－Ｑ^ａ３－Ｓｉ（Ｒ^ｇ）［－Ｑ^ｂ３－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_２　　　　…（３－１Ａ－３）
　－［Ｑ^ｅ］_ｓ４－Ｑ^ａ４－（Ｏ）_ｔ４－Ｃ［－（Ｏ）_ｕ４－Ｑ^ｂ４－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_３－ｗ１（－Ｒ^３１）_ｗ１　　…（３－１Ａ－４）
　－Ｑ^ａ５－Ｓｉ［－Ｑ^ｂ５－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_３　　　　　　　…（３－１Ａ－５）
　－［Ｑ^ｅ］_ｖ－Ｑ^ａ６－Ｚ^ａ［－Ｑ^ｂ６－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｗ２　　…（３－１Ａ－６）
　－［Ｑ^ｅ］_ｓ４－Ｑ^ａ４－（Ｏ）_ｔ４－Ｚ^ｃ［－（Ｏ－Ｑ^ｂ４）_ｕ４－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ
_３－ｎ］_ｗ３（－ＯＨ）_ｗ４　　…（３－１Ａ－７）
　なお、式（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）中、Ｒ、Ｌ、及び、ｎの定義は、上述した通りである。

　基（３－１Ａ－１）において、Ｘ^３２は、－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＯ_２Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）ＳＯ_２－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－ＯＳｉ（Ｒ^ａ）_２－、又は２価の芳香環基である（ただし、式中のＮはＱ^ｂ１に結合する）。
　Ｒ^ａ及びＲ^ｄの定義は、上述した通りである。
　ｓ１は、０又は１である。

　Ｑ^ｂ１は、アルキレン基である。なお、アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基又はジアルキルシリレン基を有していてもよい。アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基及びジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
　なお、アルキレン基が－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基又はジアルキルシリレン基を有する場合、炭素原子－炭素原子間にこれらの基を有することが好ましい。
　Ｑ^ｂ１で表されるアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよい。

　Ｑ^ｂ１としては、ｓ１が０の場合は、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい。（Ｘ^３２）_ｓ１が－Ｏ－の場合は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい。（Ｘ^３２）_ｓ１が－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－の場合は、炭素数２～６のアルキレン基が好ましい（ただし、式中のＮはＱ^ｂ１に結合する）。Ｑ^ｂ１がこれらの基であると化合物が製造しやすい。

　基（３－１Ａ－１）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は結合位置を表す。

　基（３－１Ａ－２）において、Ｘ^３３は、－Ｏ－、－ＮＨ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＯ_２Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）ＳＯ_２－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、又は－ＯＳｉ（Ｒ^ａ）_２－である。
　Ｒ^ｄの定義は、上述した通りである。

　Ｑ^ａ２は、単結合、アルキレン基、－Ｃ（Ｏ）－、又は、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－ＳＯ_２Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）ＳＯ_２－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、若しくは－ＮＨ－を有する基である。
　Ｑ^ａ２で表されるアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～６がさらに好ましく、１～３が特に好ましい。
　Ｑ^ａ２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－ＳＯ_２Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）ＳＯ_２－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、又は－ＮＨ－を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６がより好ましい。

　Ｑ^ａ２は、化合物を製造しやすい観点から、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２－、又は－Ｃ（Ｏ）－が好ましい。

　ｓ２は、０又は１（ただし、Ｑ^ａ２が単結合の場合は０である。）である。化合物を製造しやすい観点から、０が好ましい。

　Ｑ^ｂ２は、アルキレン基、又は、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に、２価のオルガノポリシロキサン残基、エーテル性酸素原子若しくは－ＮＨ－を有する基である。
　Ｑ^ｂ２で表されるアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよい。
　Ｑ^ｂ２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に、２価のオルガノポリシロキサン残基、エーテル性酸素原子又は－ＮＨ－を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６がより好ましい。

　Ｑ^ｂ２としては、化合物を製造しやすい観点から、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。

　２個の［－Ｑ^ｂ２－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。

　基（３－１Ａ－２）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は結合位置を表す。また、式中、反応性シリル基に結合する（ＣＨ_２）_αにおけるαはメチレン基の数を表す整数であり、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば、２、３、８、９、１１が挙げられる。また、αは１～１０であってもよい。同一化合物中に含まれる複数のαは同一であっても異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。例えば、同一化合物中に含まれる複数のαが全て２、３、８、９、又は１１である。以下同様である。

　基（３－１Ａ－３）において、Ｑ^ａ３は、単結合、又は、エーテル性酸素原子若しくは－ＯＳｉ（Ｒ^ａ）_２－を有していてもよいアルキレン基である。
　エーテル性酸素原子又は－ＯＳｉ（Ｒ^ａ）_２－を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～６がさらに好ましく、１～３が特に好ましい。また、前記炭素数は２～６であってもよい。

　Ｒ^ｇは、水素原子、水酸基又はアルキル基である。
　化合物を製造しやすい観点からは、アルキル基の炭素数は１～１０が好ましく、１～４がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。

　Ｑ^ｂ３は、アルキレン基、又は、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子若しくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
　Ｑ^ｂ３で表されるアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよい。
　Ｑ^ｂ３で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１０がより好ましく、２～６がさらに好ましい。
　Ｑ^ｂ３は、化合物を製造しやすい観点から、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、又は－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい。

　２個の［－Ｑ^ｂ３－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。

　基（３－１Ａ－３）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は結合位置を表す。

　基（３－１Ａ－４）において、Ｑ^ｅは、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＯ_２Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）ＳＯ_２－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、又は－ＯＳｉ（Ｒ^ａ）_２－である。
　Ｒ^３１の定義は、上述した通りである。
　ｓ４は、０又は１である。
　Ｑ^ａ４は、単結合、又は、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基である。
　エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～６がさらに好ましく、１～３が特に好ましい。また、前記炭素数は２～６であってもよい。
　ｔ４は、０又は１（ただし、Ｑ^ａ４が単結合の場合は０である。）である。
　－Ｑ^ａ４－（Ｏ）_ｔ４－としては、化合物を製造しやすい観点から、ｓ４が０の場合は、単結合、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２－が好ましく（ただし、左側がＺ^１、Ｚ^２又は（ＸＯ）に結合する。）、ｓ４が１の場合は、単結合、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい。

　Ｑ^ｂ４は、アルキレン基であり、上記アルキレン基は－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－（Ｒ^ｄの定義は、上述した通りである。）、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基又はジアルキルシリレン基を有していてもよい。
　なお、アルキレン基が－Ｏ－又はシルフェニレン骨格基を有する場合、炭素原子－炭素原子間に－Ｏ－又はシルフェニレン骨格基を有することが好ましい。また、アルキレン基が－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、ジアルキルシリレン基又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有する場合、炭素原子－炭素原子間又は（Ｏ）_ｕ４と結合する側の末端にこれらの基を有することが好ましい。
　Ｑ^ｂ４で表されるアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記範囲は１～１０であってもよい。

　ｕ４は、０又は１である。
　－（Ｏ）_ｕ４－Ｑ^ｂ４－としては、化合物を製造しやすい観点から、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、及び－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＰｈＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。

　ｗ１は、０～２の整数であり、０又は１が好ましく、０がより好ましい。
　［－（Ｏ）_ｕ４－Ｑ^ｂ４－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］が２個以上ある場合は、２個以上の［－（Ｏ）_ｕ４－Ｑ^ｂ４－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　Ｒ^３１が２個以上ある場合は、２個以上の（－Ｒ^３１）は、同一であっても異なっていてもよい。

　基（３－１Ａ－４）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は結合位置を表す。ｒは０～１０の整数を表す。

　基（３－１Ａ－５）において、Ｑ^ａ５は、エーテル性酸素原子又は－ＯＳｉ（Ｒ^ａ）_２－を有していてもよいアルキレン基である。
　エーテル性酸素原子又は－ＯＳｉ（Ｒ^ａ）_２－を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～６がさらに好ましく、１～３が特に好ましい。また、前記炭素数は２～６であってもよい。
　Ｑ^ａ５としては、化合物を製造しやすい観点から、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。

　Ｑ^ｂ５は、アルキレン基、又は、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子若しくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
　Ｑ^ｂ５で表されるアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよい。
　Ｑ^ｂ５で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１０がより好ましく、２～６がさらに好ましい。
　Ｑ^ｂ５としては、化合物を製造しやすい観点から、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、及び－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい（ただし、右側がＳｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎに結合する。）。

　３個の［－Ｑ^ｂ５－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。

　基（３－１Ａ－５）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は結合位置を表す。ｒは１～１０の整数を表す。

　基（３－１Ａ－６）中のＱ^ｅの定義は、上述の基（３－１Ａ－４）において定義した通りである。
　ｖは、０又は１である。

　Ｑ^ａ６は、単結合、又はエーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基である。
　エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～６がさらに好ましく、１～３が特に好ましい。また、前記炭素数は２～６であってもよい。
　Ｑ^ａ６としては、化合物を製造しやすい観点から、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい（ただし、右側がＺ^ａに結合する。）。

　Ｚ^ａは、（ｗ２＋１）価のオルガノポリシロキサン残基である。
　ｗ２は、２～７の整数である。
　（ｗ２＋１）価のオルガノポリシロキサン残基としては、下記の基が挙げられる。ただし、下式におけるＲ^ａは、上述の通りである。

　Ｑ^ｂ６は、アルキレン基、又は、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子若しくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
　Ｑ^ｂ６で表されるアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよい。
　Ｑ^ｂ６で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１０がより好ましく、２～６がさらに好ましい。
　Ｑ^ｂ６としては、化合物を製造しやすい観点から、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、及び－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい。
　ｗ２個の［－Ｑ^ｂ６－Ｓｉ（Ｒ）_ｎ３Ｌ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。

　基（３－１Ａ－６）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は結合位置を表す。

　基（３－１Ａ－７）において、Ｚ^ｃは（ｗ３＋ｗ４＋１）価の炭化水素基である。
　ｗ３は、４以上の整数である。
　ｗ４は、０以上の整数である。
　Ｑ^ｅ、ｓ４、Ｑ^ａ４、ｔ４、Ｑ^ｂ４、及びｕ４の定義及び好ましい範囲は基（３－１Ａ－４）中の各符号の定義と同じである。

　Ｚ^ｃは炭化水素鎖からなってもよく、炭化水素鎖の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有してもよく、炭化水素鎖からなることが好ましい。
　Ｚ^ｃの価数は５～２０価が好ましく、５～１０価がより好ましく、５～８価がさらに好ましく、５価又は６価が特に好ましい。
　Ｚ^ｃの炭素数は３～５０が好ましく、４～４０がより好ましく、５～３０がさらに好ましい。
　ｗ３は、４～２０が好ましく、４～１６がより好ましく、４～８がさらに好ましく、４又は５が特に好ましい。
　ｗ４は、０～１０が好ましく、０～８がより好ましく、０～６がさらに好ましく、０～３が特に好ましく、０又は１が最も好ましい。
　［－（Ｏ－Ｑ^ｂ４）_ｕ４－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］が２個以上ある場合は、２個以上の［－（Ｏ－Ｑ^ｂ４）_ｕ４－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。

　基（３－１Ａ－７）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は結合位置を表す。ｒは０～１０の整数を表す。

　式（１－１）におけるＹ^１は、基（ｇ２－１）（ただし、ｊ１＝ｄ１＋ｄ３、ｇ１＝ｄ２＋ｄ４である。）、基（ｇ２－２）（ただし、ｊ１＝ｅ１、ｇ１＝ｅ２である。）、基（ｇ２－３）（ただし、ｊ１＝１、ｇ１＝２である。）、基（ｇ２－４）（ただし、ｊ１＝ｈ１、ｇ１＝ｈ２である。）、基（ｇ２－５）（ただし、ｊ１＝ｉ１、ｇ１＝ｉ２である。）、基（ｇ２－６）（ただし、ｊ１＝１、ｇ１＝１である。）、又は、基（ｇ２－７）（ただし、ｊ１＝１、ｇ１＝ｉ３である。）であってもよい。

　式（１－２）におけるＹ^２は、それぞれ独立に、基（ｇ２－１）（ただし、ｇ２＝ｄ２＋ｄ４である。）、基（ｇ２－２）（ただし、ｇ２＝ｅ２である。）、基（ｇ２－３）（ただし、ｇ２＝２である。）、基（ｇ２－４）（ただし、ｇ２＝ｈ２である。）、基（ｇ２－５）（ただし、ｇ２＝ｉ２である。）、基（ｇ２－６）（ただし、ｇ２＝１である。）、又は、基（ｇ２－７）（ただし、ｇ２＝ｉ３である。）であってもよい。

　式（２－１）におけるＹ^３は、基（ｇ２－１）（ただし、ｊ３＝ｄ１＋ｄ３、ｇ３＝ｄ２＋ｄ４である。）、基（ｇ２－２）（ただし、ｊ３＝ｅ１、ｇ３＝ｅ２である。）、基（ｇ２－３）（ただし、ｊ３＝１、ｇ３＝２である。）、基（ｇ２－４）（ただし、ｊ３＝ｈ１、ｇ３＝ｈ２である。）、基（ｇ２－５）（ただし、ｊ３＝ｉ１、ｇ３＝ｉ２である。）、基（ｇ２－６）（ただし、ｊ３＝１、ｇ３＝１である。）、又は、基（ｇ２－７）（ただし、ｊ３＝１、ｇ３＝ｉ３である。）であってもよい。

　式（２－１）におけるＹ^４は、それぞれ独立に、基（ｇ２－１）（ただし、ｇ４＝ｄ２＋ｄ４である。）、基（ｇ２－２）（ただし、ｇ４＝ｅ２である。）、基（ｇ２－３）（ただし、ｇ４＝２である。）、基（ｇ２－４）（ただし、ｇ４＝ｈ２である。）、基（ｇ２－５）（ただし、ｇ４＝ｉ２である。）、基（ｇ２－６）（ただし、ｇ４＝１である。）、又は、基（ｇ２－７）（ただし、ｇ４＝ｉ３である。）であってもよい。

　（－Ａ^１－Ｑ^１２－）_ｅ１Ｃ（Ｒ^ｅ２）_{４－ｅ１－ｅ２}（－Ｑ^２２－）_ｅ２　　…（ｇ２－２）
　－Ａ^１－Ｑ^１３－Ｎ（－Ｑ^２３－）_２　　…（ｇ２－３）
　（－Ａ^１－Ｑ^１４－）_ｈ１Ｚ^１１（－Ｑ^２４－）_ｈ２　…（ｇ２－４）
　（－Ａ^１－Ｑ^１５－）_ｉ１Ｓｉ（Ｒ^ｅ３）_{４－ｉ１－ｉ２}（－Ｑ^２５－）_ｉ２　…（ｇ２－５）
　－Ａ^１－Ｑ^２６－　　…（ｇ２－６）
　－Ａ^１－Ｑ^１２－ＣＨ（－Ｑ^２２－）－Ｓｉ（Ｒ^ｅ３）_３－ｉ３（－Ｑ^２５－）_ｉ３　…（ｇ２－７）

　ただし、式（ｇ２－１）～（ｇ２－７）においては、Ａ^１側がＺ^１、Ｚ^２又は（ＸＯ）に接続し、Ｑ^２２、Ｑ^２３、Ｑ^２４、Ｑ^２５又はＱ^２６側が［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］に接続する。
　Ａ^１は、単結合、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｏ－、ＳＯ_２ＮＲ^６－、又は－ＯＳｉ（Ｒ^ａ）_２－である。
　Ｑ^１１は、単結合、－Ｏ－、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－又はＯ－を有する基である。
　Ｑ^１２は、単結合、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－又はＯ－を有する基であり、Ｑ^１２が２以上存在する場合、２以上のＱ^１２は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ^１３は、単結合、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－又はＯ－を有する基、又はアルキレン基のＮ側の末端に－Ｃ（Ｏ）－を有する基である。
　Ｑ^１４は、Ｑ^１４が結合するＺ^１１における原子が炭素原子の場合、Ｑ^１２であり、Ｑ^１４が結合するＺ^１１における原子が窒素原子の場合、Ｑ^１３であり、Ｑ^１４が２以上存在する場合、２以上のＱ^１４は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ^１５は、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－又はＯ－を有する基であり、Ｑ^１５が２以上存在する場合、２以上のＱ^１５は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ^２２は、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－又はＯ－を有する基、アルキレン基のＳｉに接続しない側の末端に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－又はＯ－を有する基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－又はＯ－を有しかつＳｉに接続しない側の末端に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－又はＯ－を有する基であり、Ｑ^２２が２以上存在する場合、２以上のＱ^２２は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ^２３は、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－又はＯ－を有する基であり、２個のＱ^２３は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ^２４は、Ｑ^２４が結合するＺ^１１における原子が炭素原子の場合、Ｑ^２２であり、Ｑ^２４が結合するＺ^１１における原子が窒素原子の場合、Ｑ^２３であり、Ｑ^２４が２以上存在する場合、２以上のＱ^２４は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ^２５は、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－又はＯ－を有する基であり、Ｑ^２５が２以上存在する場合、２以上のＱ^２５は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ^２６は、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－又はＯ－を有する基である。
　Ｚ^１１は、Ｑ^１４が直接結合する炭素原子又は窒素原子を有しかつＱ^２４が直接結合する炭素原子又は窒素原子を有するｈ１＋ｈ２価の環構造を有する基である。
　Ｒ^ｅ１は、水素原子又はアルキル基であり、Ｒ^ｅ１が２以上存在する場合、２以上のＲ^ｅ１は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｒ^ｅ２は、水素原子、水酸基、アルキル基又はアシルオキシ基である。
　Ｒ^ｅ３は、アルキル基である。Ｒ^６は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基である。

　ｄ１は、０～３の整数であり、１又は２が好ましい。ｄ２は、０～３の整数であり、１又は２が好ましい。ｄ１＋ｄ２は、１～３の整数である。
　ｄ３は、０～３の整数であり、０又は１が好ましい。ｄ４は、０～３の整数であり、２又は３が好ましい。ｄ３＋ｄ４は、１～３の整数である。
　ｄ１＋ｄ３は、Ｙ^１及びＹ^３においては１～５の整数であり、１又は２が好ましく、Ｙ^２及びＹ^４においては１である。
　ｄ２＋ｄ４は、Ｙ^１及びＹ^３においては２～５の整数であり、４又は５が好ましく、Ｙ^２及びＹ^４においては２～５の整数であり、３～５の整数が好ましく、４又は５がより好ましい。
　ｅ１＋ｅ２は、３又は４である。ｅ１は、Ｙ^１及びＹ^３においては１又は２であり、Ｙ^２及びＹ^４においては１である。ｅ２は、Ｙ^１及びＹ^３においては２又は３であり、Ｙ^２及びＹ^４においては２又は３である。
　ｈ１は、Ｙ^１及びＹ^３においては１以上の整数であり、１又は２が好ましく、Ｙ^２及びＹ^４においては１である。ｈ２は、１以上の整数であり、２又は３が好ましい。
　ｉ１＋ｉ２は、３又は４である。ｉ１は、Ｙ^１及びＹ^３においては１又は２であり、Ｙ^２及びＹ^４においては１である。ｉ２は、Ｙ^１及びＹ^３においては２又は３であり、Ｙ^２及びＹ^４においては２又は３である。
　ｉ３は、２又は３である。

　Ｑ^１１、Ｑ^１２、Ｑ^１３、Ｑ^１４、Ｑ^１５、Ｑ^２２、Ｑ^２３、Ｑ^２４、Ｑ^２５及びＱ^２６のアルキレン基の炭素数は、化合物の製造容易性に優れる観点、及び表面処理層の耐摩耗性がさらに優れる観点から、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよく、１～６であってもよく、１～４であってもよい。ただし、炭素－炭素原子間に特定の結合を有する場合のアルキレン基の炭素数の下限値は２である。

　Ｚ^１１における環構造としては、上述した環構造が挙げられ、好ましい形態も同様である。なお、Ｚ^１１における環構造にはＱ^１４やＱ^２４が直接結合するため、例えば、環構造にアルキレン基が連結して、そのアルキレン基にＱ^１４やＱ^２４が連結することはない。

　Ｒ^ｅ１、Ｒ^ｅ２又はＲ^ｅ３のアルキル基の炭素数は、化合物の製造容易性に優れる観点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２がさらに好ましい。
　Ｒ^ｅ２のアシルオキシ基のアルキル基部分の炭素数は、化合物の製造容易性に優れる観点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２がさらに好ましい。
　ｈ１は、化合物の製造容易性に優れる観点、及び表面処理層の耐摩耗性がさらに優れる観点から、１～６が好ましく、１～４がより好ましく、１又は２がさらに好ましく、１が特に好ましい。
　ｈ２としては化合物の製造容易性に優れる観点、及び表面処理層の耐摩耗性がさらに優れる観点から、２～６が好ましく、２～４がより好ましく、２又は３がさらに好ましい。

　式（１－１）におけるＹ^１は、基（ｇ２－８）（ただし、ｊ１＝ｄ１＋ｄ３、ｇ１＝ｄ２×ｋ３＋ｄ４×ｋ３である。）、基（ｇ２－９）（ただし、ｊ１＝ｅ１、ｇ１＝ｅ２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１０）（ただし、ｊ１＝１、ｇ１＝２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１１）（ただし、ｊ１＝ｈ１、ｇ１＝ｈ２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１２）（ただし、ｊ１＝ｉ１、ｇ１＝ｉ２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１３）（ただし、ｊ１＝１、ｇ１＝ｋ３である。）、又は基（ｇ２－１４）（ただし、ｊ１＝１、ｇ１＝ｉ３×ｋ３である。）であってもよい。
　式（１－２）におけるＹ^２は、基（ｇ２－８）（ただし、ｇ２はそれぞれｄ２×ｋ３、ｄ４×ｋ３である。）、基（ｇ２－９）（ただし、ｇ２＝ｅ２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１０）（ただし、ｇ２＝２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１１）（ただし、ｇ２＝ｈ２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１２）（ただし、ｇ２＝ｉ２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１３）（ただし、ｇ２＝ｋ３である。）、又は基（ｇ２－１４）（ただし、ｇ２＝ｉ３×ｋ３である。）であってもよい。
　式（２－１）におけるＹ^３は、基（ｇ２－８）（ただし、ｊ３＝ｄ１＋ｄ３、ｇ３＝ｄ２×ｋ３＋ｄ４×ｋ３である。）、基（ｇ２－９）（ただし、ｊ３＝ｅ１、ｇ３＝ｅ２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１０）（ただし、ｊ３＝１、ｇ３＝２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１１）（ただし、ｊ３＝ｈ１、ｇ３＝ｈ２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１２）（ただし、ｊ３＝ｉ１、ｇ３＝ｉ２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１３）（ただし、ｊ３＝１、ｇ３＝ｋ３である。）、又は基（ｇ２－１４）（ただし、ｊ３＝１、ｇ３＝ｉ３×ｋ３である。）であってもよい。
　式（２－２）におけるＹ^４は、基（ｇ２－８）（ただし、ｇ４はそれぞれｄ２×ｋ３、ｄ４×ｋ３である。）、基（ｇ２－９）（ただし、ｇ４＝ｅ２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１０）（ただし、ｇ４＝２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１１）（ただし、ｇ４＝ｈ２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１２）（ただし、ｇ４＝ｉ２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１３）（ただし、ｇ４＝ｋ３である。）、又は基（ｇ２－１４）（ただし、ｇ４＝ｉ３×ｋ３である。）であってもよい。

　（－Ａ^１－Ｑ^１２－）_ｅ１Ｃ（Ｒ^ｅ２）_{４－ｅ１－ｅ２}（－Ｑ^２２－Ｇ^１）_ｅ２　…（ｇ２－９）
　－Ａ^１－Ｑ^１３－Ｎ（－Ｑ^２３－Ｇ^１）_２　　…（ｇ２－１０）
　（－Ａ^１－Ｑ^１４－）_ｈ１Ｚ^１１（－Ｑ^２４－Ｇ^１）_ｈ２　　…（ｇ２－１１）
　（－Ａ^１－Ｑ^１５－）_ｉ１Ｓｉ（Ｒ^ｅ３）_{４－ｉ１－ｉ２}（－Ｑ^２５－Ｇ^１）_ｉ２　…（ｇ２－１２）
　－Ａ^１－Ｑ^２６－Ｇ^１　…（ｇ２－１３）
　－Ａ^１－Ｑ^１２－ＣＨ（－Ｑ^２２－Ｇ^１）－Ｓｉ（Ｒ^ｅ３）_３－ｉ３（－Ｑ^２５－Ｇ^１）_ｉ３　…（ｇ２－１４）

　ただし、式（ｇ２－８）～（ｇ２－１４）においては、Ａ^１側がＺ^１、Ｚ^２又は（ＸＯ）に接続し、Ｇ^１側が［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］に接続する。Ｇ^１は、基（ｇ３）であり、２以上のＧ^１は同一であっても異なっていてもよい。Ｇ^１以外の符号は、式（ｇ２－１）～（ｇ２－７）における符号と同じである。
　－Ｓｉ（Ｒ^８）_３－ｋ３（－Ｑ^３－）_ｋ３　　…（ｇ３）
　ただし、式（ｇ３）においては、Ｓｉ側がＱ^２２、Ｑ^２３、Ｑ^２４、Ｑ^２５及びＱ^２６に接続し、Ｑ^３側が［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］に接続する。Ｒ^８は、アルキル基である。Ｑ^３は、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－若しくは－Ｏ－を有する基、又は（ＯＳｉ（Ｒ^９）_２）_ｐ－Ｏ－であり、２以上のＱ^３は同一であっても異なっていてもよい。ｋ３は、２又は３である。Ｒ^６は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基である。Ｒ^９は、アルキル基、フェニル基又はアルコキシ基であり、２個のＲ^９は同一であっても異なっていてもよい。ｐは、０～５の整数であり、ｐが２以上の場合、２以上の（ＯＳｉ（Ｒ^９）_２）は同一であっても異なっていてもよい。

　Ｑ^３のアルキレン基の炭素数は、化合物の製造容易性に優れる観点、及び表面処理層の耐摩耗性がさらに優れる観点から、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよく、１～６であってもよく、１～４であってもよい。ただし、炭素－炭素原子間に特定の結合を有する場合のアルキレン基の炭素数の下限値は２である。
　Ｒ^８のアルキル基の炭素数は、化合物の製造容易性に優れる観点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２がさらに好ましい。
　Ｒ^９のアルキル基の炭素数は、化合物の製造容易性に優れる観点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２がさらに好ましい。
　Ｒ^９のアルコキシ基の炭素数は、化合物の製造容易性に優れる観点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２がさらに好ましい。
　ｐは、０又は１が好ましい。

　化合物（１－１）、化合物（１－２）、化合物（２－１）、及び化合物（２－２）としては、例えば、それぞれ、下式の化合物が挙げられる。下式の化合物は、工業的に製造しやすく、取扱いやすく、表面処理層の耐摩耗性がさらに優れる観点から好ましい。下式の化合物におけるＷは、１価の基の場合、上述した式（１－１）におけるＺ^１、又は式（２－１）における［Ｒ^ｃ－Ｏ－（ＸＯ）_ｍ－］と同様であり、好ましい形態も同様である。Ｗは、２価の基の場合、上述した式（１－２）におけるＺ^２、又は式（２－２）における－Ｏ－（ＸＯ）_ｍ－と同様であり、好ましい形態も同様である。

　Ｙ^１が基（ｇ２－１）である化合物（１－１）、及びＹ^３が基（ｇ２－１）である化合物（２－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１が基（ｇ２－２）である化合物（１－１）、及びＹ^３が基（ｇ２－２）である化合物（２－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１が基（ｇ２－３）である化合物（１－１）、及びＹ^３が基（ｇ２－３）である化合物（２－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１が基（ｇ２－４）である化合物（１－１）、及びＹ^３が基（ｇ２－４）である化合物（２－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１が基（ｇ２－５）である化合物（１－１）、及びＹ^３が基（ｇ２－５）である化合物（２－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１が基（ｇ２－６）である化合物（１－１）、及びＹ^３が基（ｇ２－６）である化合物（２－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１が基（ｇ２－７）である化合物（１－１）としては、及びＹ^３が基（ｇ２－７）である化合物（２－１）例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１が基（ｇ２－８）である化合物（１－１）、及びＹ^３が基（ｇ２－８）である化合物（２－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１が基（ｇ２－９）である化合物（１－１）、及びＹ^３が基（ｇ２－９）である化合物（２－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１が基（ｇ２－１０）である化合物（１－１）、及びＹ^３が基（ｇ２－１０）である化合物（２－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１が基（ｇ２－１１）である化合物（１－１）、及びＹ^３が基（ｇ２－１１）である化合物（２－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１が基（ｇ２－１２）である化合物（１－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１が基（ｇ２－１３）である化合物（１－１）、及びＹ^３が基（ｇ２－１３）である化合物（２－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^１が基（ｇ２－１４）である化合物（１－１）、及びＹ^３が基（ｇ２－１４）である化合物（２－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^２が基（ｇ２－１）である化合物（１－２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^２が基（ｇ２－２）である化合物（１－２）、及びＹ^４が基（ｇ２－２）である化合物（２－２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる

　Ｙ^２が基（ｇ２－３）である化合物（１－２）、及びＹ^４が基（ｇ２－３）である化合物（２－２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^２が基（ｇ２－４）である化合物（１－２）、及びＹ^４が基（ｇ２－４）である化合物（２－２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^２が基（ｇ２－５）である化合物（１－２）、及びＹ^４が基（ｇ２－５）である化合物（２－２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^２が基（ｇ２－６）である化合物（１－２）、及びＹ^４が基（ｇ２－６）である化合物（２－２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^２が基（ｇ２－７）である化合物（１－２）、及びＹ^４が基（ｇ２－７）である化合物（２－２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　Ｙ^２が基（ｇ２－９）である化合物（１－２）、及びＹ^４が基（ｇ２－９）である化合物（２－２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。

　第１の化合物としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。式中、ｋはシロキサン単位の繰り返し数を表す。

　第２の化合物としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。式中、ｍはアルキレンオキシ基の繰り返し数を示す。

　第１の化合物は、組成物中で、上述した第１の化合物の形態で存在していてもよく、反応性シリル基の加水分解によって生じた加水分解物の形態で存在していてもよく、前記加水分解物が他の分子と縮合して生じた部分縮合物の形態で存在していてもよく、これらの一部又は全部の混合物の形態で存在していてもよい。部分縮合物は、第１の化合物同士の部分縮合物であってもよく、第１の化合物と第２の化合物との部分縮合物であってもよく、第１の化合物とその他の化合物との部分縮合物であってもよい。

　第２の化合物は、組成物中で、上述した第２の化合物の形態で存在していてもよく、反応性シリル基の加水分解によって生じた加水分解物の形態で存在していてもよく、前記加水分解物が他の分子と縮合して生じた部分縮合物の形態で存在していてもよく、これらの一部又は全部の混合物の形態で存在していてもよい。部分縮合物は、第２の化合物同士の部分縮合物であってもよく、第２の化合物と第１の化合物との部分縮合物であってもよく、第２の化合物とその他の化合物との部分縮合物であってもよい。

　組成物中の、第１の化合物、その加水分解物、及びその部分縮合物；並びに第２の化合物、その加水分解物、及びその部分縮合物の合計含有率は、第１の化合物及び第２の化合物による耐擦傷性及び耐摩耗性の効果を良好に発揮する観点からは、第１の化合物及び第２の化合物換算で、組成物中の固形分全量に対して１０質量％以上が好ましく、１５質量％以上がより好ましく、２０質量％以上がさらに好ましい。前記合計含有率は、他の成分による効果を発揮する観点からは、９９．９質量％以下であってもよく、９５質量％以下であってもよい。

＜水＞
　本開示の組成物は、第１の化合物、第２の化合物、及び必要に応じて用いられる後述のアルコキシシランの加水分解のため、水を含む。
　水の含有量は、第１の化合物、その加水分解物、及びその部分縮合物；第２の化合物、その加水分解物、及びその部分縮合物；並びに必要に応じて後述のアルコキシシラン、その加水分解物、及びその部分縮合物、の合計量１００質量部に対して、１～１，０００質量部が好ましく、５～５００質量部がより好ましく、１０～３００質量部がさらに好ましい。前記合計量は、第１の化合物、第２の化合物、及び必要に応じて用いられるアルコキシシラン化合物に換算したときの合計量とする。

＜水以外の溶媒＞
　本開示の組成物は、水以外の溶媒を含む。水以外の溶媒としては、組成物中の固形分を溶解可能な溶媒であれば特に制限されず、具体的には、炭化水素系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒、グリコール系有機溶媒、及びアルコール系有機溶媒が挙げられる。
　炭化水素系有機溶媒の具体例としては、ペンタン、ヘキサン、へプタン、オクタン、ヘキサデカン、イソヘキサン、イソオクタン、イソノナン、シクロヘプタン、シクロヘキサン、ビシクロヘキシル、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、ｏ－キシレン、ｍ－キシレン、ｐ－キシレン、ｏ－ジエチルベンゼン、ｍ－ジエチルベンゼン、ｐ－ジエチルベンゼン、ｎ－ブチルベンゼン、ｓｅｃ－ブチルベンゼン、ｔｅｒｔ－ブチルベンゼン、パラフィンが挙げられる。
　ケトン系有機溶媒の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、４－ヘプタノン、３，５，５－トリメチル－２－シクロヘキセン－１－オン、及び３，３，５－トリメチルシクロヘキサノン、イソホロンが挙げられる。
　エーテル系有機溶媒の具体例としては、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサンが挙げられる。
　エステル系有機溶媒の具体例としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｔｅｒｔ‐ブチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、３－エトキシプロピオン酸エチル、乳酸エチルエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、３－メトキシ－３－メチルブチルアセテート、３－メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルアセテート、プロピレングリコールジメチルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、シクロヘキサノールアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、ジプロピレングリコ－ルメチルエ－テルアセテ－ト、１，３－ブチレングリコールジアセテート、１，４－ブタンジオールジアセテート、１，３－ブチレングリコールジアセテート、１，６－ヘキサンジオールジアセテート、γ－ブチロラクトン、トリアセチン、２，２，４－トリメチル－１，３－ペンタンジオールモノイソブチレートが挙げられる。
　グリコール系有機溶媒の具体例としては、エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノ－２－エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ－２－エチルヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｔｅｒｔ－ブチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテルトリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、１，３－ブチレングリコール、プロピレングリコールｎ－プロピルエーテル、プロピレングリコールｎ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールｎ－プロピルエーテル、ジプロピレングリコールｎ－ブチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールｎ－ブチルエ－テル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテルペンタン、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ポリエチレングリコールジメチルエーテルが挙げられる。
　アルコール系有機溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロピルアルコール、ｎ－ブタノール、ジアセトンアルコール、イソブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ペンタノール、３－メチル－１，３－ブタンジオール、１，３－ブタンジオール、１，３－ブチレングリコール、オクタンジオール、２，４－ジエチルペンタンジオール、ブチルエチルプロパンジオール、２－メチル－１，３－プロパンジオール、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、２－エチル－１－ヘキサノール、３，５，５－トリメチル－１－ヘキサノール、イソデカノール、イソトリデカノール、３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノール、２－メトキシブタノール、３－メトキシブタノール、シクロヘキサノール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、ベンジルアルコール、及びメチルシクロヘキサノールが挙げられる。

　また、水以外の溶媒としては、ハロゲン系有機溶媒、含窒素化合物、含硫黄化合物、シロキサン化合物が挙げられる。
　ハロゲン系有機溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ｏ－クロロトルエン、ｍ－クロロトルエン、ｐ－クロロトルエン、ｍ－ジクロロベンゼン、１，２，３－トリクロロプロパンが挙げられる。
　含窒素化合物としては、ニトロベンゼン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノンが挙げられる。
　含硫黄化合物としては、二硫化炭素、ジメチルスルホキシドが挙げられる。
　シロキサン化合物としては、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサンが挙げられる。
　なかでも、水以外の溶媒としては、水への親和性及び化合物を溶解しやすい観点から、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、アルコール系有機溶媒が好ましく、アルコール系有機溶媒が特に好ましい。アルコールとしては、乾燥に適する観点からメタノール又はエタノールがより好ましい。
　水以外の溶媒は１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

　組成物中の水以外の溶媒の含有量は、組成物の塗布性等の観点からは、第１の化合物、その加水分解物、及びその部分縮合物；第２の化合物、その加水分解物、及びその部分縮合物；並びに必要に応じて後述のアルコキシシラン、その加水分解物、及びその部分縮合物、の合計量１００質量部に対して、１０～１０，０００質量部が好ましく、５０～２，０００質量部がより好ましく、８０～１，０００質量部がさらに好ましい。前記合計量は、第１の化合物、第２の化合物、及び必要に応じて用いられるアルコキシシラン化合物に換算したときの合計量とする。

＜酸又はアルカリ＞
　本開示の組成物は、酸又はアルカリを含む。酸又はアルカリは、それぞれ１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア又はアンモニウム化合物等が挙げられ、金属化合物を含まない観点からは、アンモニウム化合物が好ましい。一態様において、入手容易性に優れる観点からは、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、及び水酸化アンモニウムが好ましい。
　酸としては、塩酸、硝酸、酢酸、硫酸、リン酸、及び、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸等のスルホン酸等が挙げられ、半導体等における塩素混入を低減する観点からは、リン酸、硝酸、酢酸、及びスルホン酸が好ましい。

　本開示の組成物中の、酸又はアルカリの含有量は、第１の化合物、その加水分解物、及びその部分縮合物；第２の化合物、その加水分解物、及びその部分縮合物；並びに必要に応じて後述のアルコキシシラン、その加水分解物、及びその部分縮合物、の合計量１００質量部に対して、０．０１～１００質量部が好ましく、０．１～５０質量部がより好ましい。前記合計量は、第１の化合物、第２の化合物、及び必要に応じて用いられるアルコキシシラン化合物に換算したときの合計量とする。

＜他の成分＞
　本開示の組成物は、目的に応じて、上述の成分に加えて他の成分を含んでもよい。例えば、本開示の組成物は、金属酸化物（酸化ケイ素等の半金属の酸化物も含む）の粒子、染料又は顔料等の着色用材料、防汚性材料、樹脂、静電防止剤、抗菌・抗ウイルス剤等の添加剤を含んでもよい。添加剤は１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

　本開示の組成物は、加水分解性基を有する金属化合物（以下、加水分解性基を有する金属化合物を「特定金属化合物」とも記す。）、その加水分解物、及びその部分縮合物からなる群より選択される少なくとも１つを含んでいてもよい。本開示の組成物が特定金属化合物、その加水分解物、及びその部分縮合物からなる群より選択される少なくとも１つを含むと、表面処理層の滑り性及び防汚性をより向上しうる。前記特定金属化合物は、組成物中で、前記特定金属化合物の形態で存在していてもよく、加水分解性基の加水分解によって生じた加水分解物の形態で存在していてもよく、前記加水分解物同士又は前記加水分解物と他の化合物とが縮合して生じた部分縮合物の形態で存在していてもよく、これらの一部又は全部の混合物の形態で存在していてもよい。
　特定金属化合物としては、下記式（Ｍ１）～（Ｍ３）が挙げられる。

　Ｍ（Ｘ^ｂ１）_ｍ１（Ｘ^ｂ２）_ｍ２（Ｘ^ｂ３）_ｍ３　　…（Ｍ１）
　Ｓｉ（Ｘ^ｂ４）（Ｘ^ｂ５）_３　　　　　　　　　…（Ｍ２）
　（Ｘ^ｂ６）_３Ｓｉ－（Ｙ^ｂ１）－Ｓｉ（Ｘ^ｂ７）_３　　…（Ｍ３）

　式（Ｍ１）中、
　Ｍは、３価又は４価の金属原子を表す。
　Ｘ^ｂ１はそれぞれ独立に、加水分解性基を表す。
　Ｘ^ｂ２はそれぞれ独立に、シロキサン骨格含有基を表す。
　Ｘ^ｂ３はそれぞれ独立に、炭化水素鎖含有基を表す。
　ｍ１は２～４の整数であり、
　ｍ２及びｍ３はそれぞれ独立に、０～２の整数であり、
　Ｍが３価の金属原子の場合、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３は３であり、Ｍが４価の金属原子の場合、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３は４である。

　式（Ｍ２）中、
　Ｘ^ｂ４は、加水分解性シランオリゴマー残基を表す。
　Ｘ^ｂ５は、それぞれ独立に、加水分解性基又は炭素数１～４のアルキル基を表す。

　式（Ｍ３）中、
　Ｘ^ｂ６及びＸ^ｂ７は、それぞれ独立に、加水分解性基又は水酸基を表す。
　Ｙ^ｂ１は、２価の有機基を表す。

　式（Ｍ１）中、Ｍで表される金属には、Ｓｉ、Ｇｅ等の半金属も包含される。Ｍとしては、３価金属及び４価金属が好ましく、Ａｌ、Ｆｅ、Ｉｎ、Ｈｆ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｓｎ、及びＺｒがより好ましく、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、及びＺｒがさらに好ましく、Ｓｉが特に好ましい。

　式（Ｍ１）中、Ｘ^ｂ１で表される加水分解性基としては、上記反応性シリル基における［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］中のＬで示される加水分解性基と同様のものが挙げられる。

　Ｘ^ｂ２で表されるシロキサン骨格含有基は、シロキサン単位（－Ｓｉ－Ｏ－）を有し、直鎖状でも分岐鎖状でもよい。シロキサン単位としては、ジアルキルシリルオキシ基が好ましく、ジメチルシリルオキシ基、ジエチルシリルオキシ基等が挙げられる。シロキサン骨格含有基におけるシロキサン単位の繰り返し数は、１以上であり、１～５が好ましく、１～４がより好ましく、１～３がさらに好ましい。
　シロキサン骨格含有基は、シロキサン骨格の一部に２価の炭化水素基を含んでいてもよい。具体的には、シロキサン骨格の一部の酸素原子が２価の炭化水素基で置き換わっていてもよい。前記２価の炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等のアルキレン基が挙げられる。
　シロキサン骨格含有基の末端のケイ素原子には、加水分解性基、炭化水素基（好ましくはアルキル基）等が結合していてもよい。
　シロキサン骨格含有基の元素数は、１００以下が好ましく、５０以下がより好ましく、３０以下がさらに好ましい。前記元素数は１０以上が好ましい。
　シロキサン骨格含有基としては、^＊－（Ｏ－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎＣＨ_３で表される基が好ましく、ここで、ｎは１～５の整数であり、＊は隣接原子との結合部位を表す。

　Ｘ^ｂ３で表される炭化水素鎖含有基は、炭化水素鎖のみからなる基でもよく、炭化水素鎖の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基でもよい。炭化水素鎖は直鎖でも分岐鎖でもよく、直鎖が好ましい。炭化水素鎖は飽和炭化水素鎖でも不飽和炭化水素鎖でもよく、飽和炭化水素鎖が好ましい。炭化水素鎖含有基の炭素数は、１～３が好ましく、１～２がより好ましく、１がさらに好ましい。炭化水素鎖含有基としては、アルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、又はプロピル基がより好ましい。

　ｍ１は３又は４が好ましい。

　式（Ｍ１）で表される化合物としては、ＭがＳｉである下記式（Ｍ１－１）～（Ｍ１－５）で表される化合物が好ましく、式（Ｍ１－１）で表される化合物がより好ましい。式（Ｍ１－１）で表される化合物としては、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、トリエトキシメチルシランが好ましい。

　Ｓｉ（Ｘ^ｂ１）_４　　　　　　　　　　　…（Ｍ１－１）
　ＣＨ_３－Ｓｉ（Ｘ^ｂ１）_３　　　　　　　…（Ｍ１－２）
　Ｃ_２Ｈ_５－Ｓｉ（Ｘ^ｂ１）_３　　　　　　　…（Ｍ１－３）
　ｎ－Ｃ_３Ｈ_７－Ｓｉ（Ｘ^ｂ１）_３　　　　　…（Ｍ１－４）
　（ＣＨ_３）_２ＣＨ－Ｓｉ（Ｘ^ｂ１）_３　　　…（Ｍ１－５）

　式（Ｍ２）中、Ｘ^ｂ４で表される加水分解性シランオリゴマー残基に含まれるケイ素原子の数は、３以上が好ましく、５以上がより好ましく、７以上がさらに好ましい。前記ケイ素原子の数は、１５以下が好ましく、１３以下がより好ましく、１０以下がさらに好ましい。
　加水分解性シランオリゴマー残基は、ケイ素原子に結合するアルコキシ基を有していてもよい。前記アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられ、メトキシ基及びエトキシ基が好ましい。加水分解性シランオリゴマー残基は、これらアルコキシ基の１種又は２種以上を有してもよく、１種を有することが好ましい。
　加水分解性シランオリゴマー残基としては、（Ｃ_２Ｈ_５Ｏ）_３Ｓｉ－（ＯＳｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_２）_４Ｏ－^＊等が挙げられる。ここで、＊は隣接原子との結合部位を表す。

　式（Ｍ２）中、Ｘ^ｂ５で表される加水分解性基としては、上記反応性シリル基における［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］中のＬで示される加水分解性基と同様のもの、シアノ基、水素原子、アリル基が挙げられ、アルコキシ基又はイソシアナト基が好ましい。アルコキシ基としては、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましい。
　Ｘ^ｂ５としては、加水分解性基が好ましい。

　式（Ｍ２）で表される化合物としては、（Ｈ_５Ｃ_２Ｏ）_３－Ｓｉ－（ＯＳｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_２）_４ＯＣ_２Ｈ_５等が挙げられる。

　式（Ｍ３）で表される化合物は、２価の有機基の両末端に反応性シリル基を有する化合物、すなわち、ビスシランである。
　式（Ｍ３）中、Ｘ^ｂ６及びＸ^ｂ７で表される加水分解性基としては、アルコキシ基、アシロキシ基、ケトオキシム基、アルケニルオキシ基、アミノ基、アミノキシ基、アミド基、イソシアナト基、ハロゲン原子が挙げられ、アルコキシ基、イソシアナト基が好ましい。アルコキシ基としては、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基がより好ましい。
　式（Ｍ３）において、Ｘ^ｂ６及びＸ^ｂ７は互いに同じ基でもよく、互いに異なる基でもよい。入手しやすさの点で、Ｘ^ｂ６及びＸ^ｂ７は互いに同じ基であることが好ましい。

　式（Ｍ３）中、Ｙ^ｂ１は、両末端の反応性シリル基を連結する２価の有機基である。２価の有機基のＹ^ｂ１の炭素数は１～８が好ましく、１～３がより好ましい。
　Ｙ^ｂ１としては、アルキレン基、フェニレン基、炭素原子間にエーテル性酸素原子を有するアルキレン基が挙げられる。例えば、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）－、－Ｃ_６Ｈ_４－が挙げられる。

　式（Ｍ３）で表される化合物としては、（ＣＨ_３Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、（Ｃ_２Ｈ_５Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３、（ＯＣＮ）_３Ｓｉ（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＮＣＯ）_３、Ｃｌ_３Ｓｉ（ＣＨ_２）_２ＳｉＣｌ_３、（ＣＨ_３Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_２）_６Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、（Ｃ_２Ｈ_５Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_２）_６Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３が挙げられる。

　中でも、本開示の組成物は、３官能以上のアルコキシシラン、その加水分解物、及びその部分縮合物からなる群より選択される少なくとも１つを含んでいてもよい。組成物が３官能以上のアルコキシシランを含むことにより、ゾルゲル反応においてより密な架橋構造が形成されることから、より良好な耐擦傷性、耐摩耗性等が発揮され得る。
　前記アルコキシシランは、組成物中で、前記アルコキシシランの形態で存在していてもよく、アルコキシ基の加水分解によって生じた加水分解物の形態で存在していてもよく、前記加水分解物が他の化合物と縮合して生じた部分縮合物の形態で存在していてもよく、これらの一部又は全部の混合物の形態で存在していてもよい。部分縮合物は、前記アルコキシシラン同士の部分縮合物であってもよく、前記アルコキシシランと前記第１の化合物又は第２の化合物との部分縮合物であってもよい。
　３官能以上のアルコキシシランとしては、３官能アルコキシシラン及び４官能アルコキシシランが挙げられ、架橋密度を高める観点からは、４官能アルコキシシランが好ましい。

　３官能以上のアルコキシシランとしては、Ｓｉ（Ｒ^ａ１）_ｂ１（ＯＲ^ａ２）_ｂ２（式中、Ｒ^ａ１及びＲ^ａ２はそれぞれ独立に炭素数１～８の有機基であり、ｂ１は０又は１であり、ｂ２は３又は４であり、ｂ１＋ｂ２は４である。）で表される化合物が挙げられる。
　Ｒ^ａ１としては、炭素数１～８のアルキル基が好ましい。
　Ｒ^ａ２としては、炭素数１又は２のアルキル基が好ましい。

　３官能以上のアルコキシシランとしては、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、テトラメトキシシラン、ｎ－オクチルテトラエトキシシラン、トリエトキシメチルシラン、フェニルトリエトキシシラン等が挙げられ、ＴＥＯＳがより好ましい。

　３官能以上のアルコキシシラン、その加水分解物、及びその部分縮合物の合計含有量は、第１の化合物、その加水分解物、及びその部分縮合物；並びに第２の化合物、その加水分解物、及びその部分縮合物、の合計含有量１００質量部に対して、１～１，０００質量部が好ましく、５～５００質量部がより好ましい。前記合計含有量は、それぞれ、第１の化合物、第２の化合物、及び３官能以上のアルコキシシランに換算したときの合計含有量とする。

　一態様において、表面処理層を形成したときの膜強度の向上、低反射性等の観点から、本開示の組成物は、シリカ粒子を含んでいてもよい。シリカ粒子としては、多孔質シリカ粒子が好ましく、中空シリカ微粒子、メソポーラス状微粒子等が挙げられる。
　シリカ粒子の形状は特に制限されず、粉体状、ゾル状（コロイダルシリカ）等が挙げられる。コロイダルシリカを使用する場合、例えば、水分散性コロイダルシリカ、アルコール等の有機溶媒分散性コロイダルシリカとして使用してもよい。
　シリカ粒子の平均粒子径は、５～２，０００ｎｍが好ましく、５～１，０００ｎｍがより好ましく、５～１００ｎｍがさらに好ましい。前記平均粒子径は動的光散乱法によって求められる。
　組成物がシリカ粒子を含む場合、シリカ粒子の含有率は、膜強度、低反射性等の観点から、組成物中の固形分全量に対して０．１～５０質量％が好ましく、１～３０質量％がより好ましい。
　シリカ粒子は、例えば特開２０１０－１００８１９号公報に記載される多孔質シリカ微粒子を参照できる。

〔組成物の調製方法〕
　本開示の組成物の調製方法は特に制限されず、各成分を混合できる任意の方法を採用できる。
　一態様において、第１の化合物、第２の化合物、水、水以外の溶媒、酸又はアルカリ、及びその他の任意成分を混合することにより、ゾルゲル反応により、本開示の組成物が生成する。
　一態様において、３官能以上のアルコキシシランを用いる場合には、第１の化合物、第２の化合物、３官能以上のアルコキシシラン、水、水以外の溶媒、酸又はアルカリ、及びその他の任意成分を混合することにより、ゾルゲル反応により、本開示の組成物が生成する。
　一態様において、シリカ粒子を用いる場合には、前記ゾルゲル反応の前又はゾルゲル反応の間にシリカ粒子を混合することが好ましい。

［表面処理剤］
　一態様において、本開示の表面処理剤は、本開示の組成物を含む。本開示の組成物は上述の構成を有するため、本開示の組成物を含む表面処理剤を用いることにより、低指紋視認性及び指紋除去性及び耐摩耗性に優れた表面処理層を形成できる。

［物品］
　一態様において、本開示の物品は、基材と、前記表面処理剤で表面処理された表面処理層と、を含む。

　表面処理層は、基材の表面の一部に形成されてもよく、基材の表面全体に形成されてもよい。表面処理層は、基材の表面に膜状に拡がっていてもよく、ドット状に点在していてもよい。
　表面処理層において、本開示の組成物は、反応性シリル基の一部又は全部の加水分解が進行し、かつ、シラノール基の脱水縮合反応が進行した状態で含まれる。

　表面処理層の厚さは、１～１００ｎｍが好ましく、１～５０ｎｍがより好ましい。表面処理層の厚さが１ｎｍ以上であれば、表面処理による効果が充分に得られやすい。表面処理層の厚さが１００ｎｍ以下であれば、利用効率が高い。表面処理層の厚さは、薄膜解析用Ｘ線回折計（製品名「ＡＴＸ－Ｇ」、ＲＩＧＡＫＵ社製）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、干渉パターンの振動周期から算出できる。

　基材の種類は特に限定されず、例えば、低指紋視認性及び指紋除去性の付与が求められている基材が挙げられる。基材として、例えば、他の物品（例えば、スタイラス）又は人の手指を接触させて使用することがある基材；操作時に人の手指で持つことがある基材；及び、他の物品（例えば、載置台）の上に置くことがある基材が挙げられる。
　基材の材料としては、金属、樹脂、ガラス、サファイア、セラミック、石、繊維、不織布、紙、木、天然皮革、人工皮革、これらの複合材料が挙げられる。ガラスは化学強化されていてもよい。

　基材としては、建材、装飾建材、インテリア用品、輸送機器（例えば、自動車）、看板・掲示板、飲用器・食器、水槽、観賞用器具（例えば、額、箱）、実験器具、家具、繊維製品、包装容器；アート、スポーツ、ゲーム等に使用する、ガラス又は樹脂；携帯電話（例えば、スマートフォン）、携帯情報端末、ゲーム機、リモコン等の機器における外装部分（表示部を除く）に使用する、ガラス又は樹脂が挙げられる。基材の形状は、板状であってもよく、フィルム状であってもよい。

　基材としては、タッチパネル用基材、ディスプレイ用基材、メガネレンズが好適であり、タッチパネル用基材が特に好適である。タッチパネル用基材の材料としては、ガラス又は透明樹脂が好ましい。

　基材は、一方の表面又は両面が、コロナ放電処理、プラズマ処理、プラズマグラフト重合処理等の表面処理が施された基材であってもよい。表面処理が施された基材は、表面処理層との密着性がより優れ、表面処理層の耐摩耗性がより向上する。そのため、基材の表面処理層と接する側の表面に表面処理を施すことが好ましい。また、表面処理が施された基材は、後述する下地層が設けられる場合には、下地層との密着性がより優れ、表面処理層の耐摩耗性がより向上する。そのため、下地層が設けられる場合には、基材の下地層と接する側の表面に表面処理を施すことが好ましい。

　表面処理層は、基材の表面上に直接設けられていてもよく、基材と表面処理層との間に下地層が設けられていてもよい。表面処理層の低指紋視認性及び指紋除去性及び耐摩耗性をより向上させる観点から、本開示の物品は、基材と、基材上に配置された下地層と、下地層上に配置された本開示の表面処理剤で表面処理された表面処理層と、を含むことが好ましい。

　下地層は、ケイ素と、周期表の第１族元素、第２族元素、第４族元素、第５族元素、第１３族元素、及び第１５族元素からなる群から選択される少なくとも１つの特定元素とを含む酸化物を含む層が好ましい。

　周期表の第１族元素（以下、「第１族元素」ともいう。）とは、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム及びセシウムを意味する。第１族元素としては、下地層上に表面処理層を欠陥なくより均一に形成できる観点、又は、サンプル間での下地層の組成のバラツキがより抑制される観点から、リチウム、ナトリウム、カリウムが好ましく、ナトリウム、カリウムがより好ましい。下地層には、第１族元素が２種以上含まれていてもよい。

　周期表の第２族元素（以下、「第２族元素」ともいう。）とは、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム及びバリウムを意味する。第２族元素としては、下地層上に表面処理層を欠陥なくより均一に形成できる観点、又は、サンプル間での下地層の組成のバラツキがより抑制される観点から、マグネシウム、カルシウム、バリウムが好ましく、マグネシウム、カルシウムがより好ましい。下地層には、第２族元素が２種以上含まれていてもよい。

　周期表の第４族元素（以下、「第４族元素」ともいう。）とは、チタン、ジルコニウム、及びハフニウムを意味する。第４族元素としては、下地層上に表面処理層を欠陥なくより均一に形成できる観点、又は、サンプル間での下地層の組成のバラツキがより抑制される観点から、チタン、ジルコニウムが好ましく、チタンがより好ましい。下地層には、第４族元素が２種以上含まれていてもよい。

　周期表の第５族元素（以下、「第５族元素」ともいう。）とは、バナジウム、ニオブ及びタンタルを意味する。第５族元素としては、表面処理層の耐摩耗性がより優れる観点から、バナジウムが特に好ましい。下地層には、第５族元素が２種以上含まれていてもよい。

　周期表の第１３族元素（以下、「第１３族元素」ともいう。）とは、ホウ素、アルミニウム、ガリウム及びインジウムを意味する。第１３族元素としては、下地層上に表面処理層を欠陥なくより均一に形成できる観点、又は、サンプル間での下地層の組成のバラツキがより抑制される観点から、ホウ素、アルミニウム、ガリウムが好ましく、ホウ素、アルミニウムがより好ましい。下地層には、第１３族元素が２種以上含まれていてもよい。

　周期表の第１５族元素（以下、「第１５族元素」ともいう。）とは、窒素、リン、ヒ素、アンチモン及びビスマスを意味する。第１５族元素としては、下地層上に表面処理層を欠陥なくより均一に形成できる観点、又は、サンプル間での下地層の組成のバラツキがより抑制される観点から、リン、アンチモン、ビスマスが好ましく、リン、ビスマスがより好ましい。下地層には、第１５族元素が２種以上含まれていてもよい。

　下地層に含まれる特定元素としては、第１族元素、第２族元素、第１３族元素が表面処理層の耐摩耗性がより優れるため好ましく、第１族元素、第２族元素がより好ましく、第１族元素がさらに好ましい。
　特定元素として、１種のみの元素が含まれていても２種以上の元素が含まれていてもよい。

　下地層に含まれる酸化物は、上記元素（ケイ素及び特定元素）単独の酸化物の混合物（例えば、酸化ケイ素と、特定元素の酸化物と、の混合物）であってもよいし、上記元素を２種以上含む複合酸化物であってもよいし、上記元素単独の酸化物と複合酸化物との混合物であってもよい。

　下地層中のケイ素のモル濃度に対する、下地層中の特定元素の合計モル濃度の比（特定元素／ケイ素）は、表面処理層の耐摩耗性がより優れる観点から、０．０２～２．９０であるのが好ましく、０．１０～２．００であるのがより好ましく、０．２０～１．８０であるのがさらに好ましい。
　下地層中の各元素のモル濃度（モル％）は、例えば、イオンスパッタリングを用いたＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）による深さ方向分析によって測定できる。

　下地層は、単層であっても複層であってもよい。下地層は、表面に凹凸を有していてもよい。
　下地層の厚さは、１～１００ｎｍが好ましく、１～５０ｎｍがより好ましく、２～２０ｎｍがさらに好ましい。下地層の厚さが上記下限値以上であれば、下地層による表面処理層の密着性がより向上して、表面処理層の耐摩耗性がより優れる。下地層の厚さが上記上限値以下であれば、下地層自体の耐摩耗性が優れる。
　下地層の厚さは、透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）による下地層の断面観察によって測定される。

　下地層は、例えば、蒸着材料を用いた蒸着法、又は、ウェットコーティング法により形成できる。

　蒸着法で用いる蒸着材料は、ケイ素及び特定元素を含む酸化物を含有することが好ましい。
　蒸着材料の形態の具体例としては、粉体、溶融体、焼結体、造粒体、破砕体が挙げられ、取り扱い性の観点から、溶融体、焼結体、造粒体が好ましい。
　ここで、溶融体とは、蒸着材料の粉体を高温で溶融させた後、冷却固化して得られた固形物を意味する。焼結体とは、蒸着材料の粉体を焼成して得られた固形物を意味し、必要に応じて、蒸着材料の粉体の代わりに、粉体をプレス成形して成形体を用いてもよい。造粒体とは、蒸着材料の粉体と液状媒体（例えば、水、有機溶媒）とを混練して粒子を得た後、粒子を乾燥させて得られた固形物を意味する。

　蒸着材料は、例えば、以下の方法で製造できる。
・酸化ケイ素の粉体と、特定元素の酸化物の粉体と、を混合して、蒸着材料の粉体を得る方法。
・上記蒸着材料の粉体及び水を混練して粒子を得た後、粒子を乾燥させて、蒸着材料の造粒体を得る方法。
・ケイ素を含む粉体（例えば、酸化ケイ素からなる粉体、珪砂、シリカゲル）と、特定元素を含む粉体（例えば、特定元素の酸化物の粉体、炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、シュウ酸塩、水酸化物）と、水と、を混合した混合物を乾燥させた後、乾燥後の混合物又はこれをプレス成形した成形体を焼成して、焼結体を得る方法。
・ケイ素を含む粉体（例えば、酸化ケイ素からなる粉体、珪砂、シリカゲル）と、特定元素を含む粉体（例えば、特定元素の酸化物の粉体、炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、シュウ酸塩、水酸化物）と、を高温で溶融させた後、溶融物を冷却固化して、溶融体を得る方法。

　蒸着材料を用いた蒸着法の具体例としては、真空蒸着法が挙げられる。真空蒸着法は、蒸着材料を真空槽内で蒸発させ、基材の表面に付着させる方法である。
　蒸着時の温度（例えば、真空蒸着装置を用いる際には、蒸着材料を配置するボートの温度）としては、１００～３，０００℃が好ましく、５００～３，０００℃がより好ましい。
　蒸着時の圧力（例えば、真空蒸着装置を用いる際には、蒸着材料を配置する槽内の圧力）としては、１Ｐａ以下が好ましく、０．１Ｐａ以下がより好ましい。
　蒸着材料を用いて下地層を形成する場合、１つの蒸着材料を用いてもよいし、異なる元素を含む２つ以上の蒸着材料を用いてもよい。

　蒸着材料の蒸発方法の具体例としては、高融点金属製抵抗加熱用ボート上で蒸着材料を溶融し、蒸発させる抵抗加熱法、電子ビームを蒸着材料に照射し、蒸着材料を直接加熱して表面を溶融し、蒸発させる電子銃法が挙げられる。蒸着材料の蒸発方法としては、局所的に加熱できるため高融点物質も蒸発できる観点、電子ビームが当たっていないところは低温であるため容器との反応や不純物の混入のおそれがない観点から、電子銃法が好ましい。
　蒸着材料の蒸発方法としては、複数のボートを用いてもよく、単独のボートに全ての蒸着材料を入れて用いてもよい。蒸着方法は、共蒸着であってもよく、交互蒸着等でもよい。具体的には、シリカと特定源を同一のボートに混合して用いる例、シリカと特定元素源とを別々のボートに入れて共蒸着する例、同様に別々のボートに入れて交互蒸着する例が挙げられる。蒸着の条件、順番等は下地層の構成により適宜選択される。

　ウェットコーティング法では、ケイ素を含む化合物と、特定元素を含む化合物と、液状媒体と、を含むコーティング液を用いたウェットコーティング法によって、基材上に下地層を形成することが好ましい。

　ケイ素化合物の具体例としては、酸化ケイ素、ケイ酸、ケイ酸の部分縮合物、アルコキシシラン、アルコキシシランの部分加水分解縮合物が挙げられる。

　特定元素を含む化合物の具体例としては、特定元素の酸化物、特定元素のアルコキシド、特定元素の炭酸塩、特定元素の硫酸塩、特定元素の硝酸塩、特定元素のシュウ酸塩、特定元素の水酸化物が挙げられる。

　液状媒体としては、有機溶媒が好ましい。

　有機溶媒としては、水素原子及び炭素原子のみからなる化合物、並びに、水素原子、炭素原子及び酸素原子のみからなる化合物が挙げられ、具体的には、炭化水素系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒、グリコール系有機溶媒、及びアルコール系有機溶媒が挙げられる。
　炭化水素系有機溶媒の具体例としては、ペンタン、ヘキサン、へプタン、オクタン、ヘキサデカン、イソヘキサン、イソオクタン、イソノナン、シクロヘプタン、シクロヘキサン、ビシクロヘキシル、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、ｏ－キシレン、ｍ－キシレン、ｐ－キシレン、ｏ－ジエチルベンゼン、ｍ－ジエチルベンゼン、ｐ－ジエチルベンゼン、ｎ－ブチルベンゼン、ｓｅｃ－ブチルベンゼン、ｔｅｒｔ－ブチルベンゼンが挙げられる。
　ケトン系有機溶媒の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、４－ヘプタノン、３，５，５－トリメチル－２－シクロヘキセン－１－オン、及び３，３，５－トリメチルシクロヘキサノン、イソホロンが挙げられる。
　エーテル系有機溶媒の具体例としては、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサンが挙げられる。
　エステル系有機溶媒の具体例としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｔｅｒｔ‐ブチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、３－エトキシプロピオン酸エチル、乳酸エチルエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、３－メトキシ－３－メチルブチルアセテート、３－メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルアセテート、プロピレングリコールジメチルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、シクロヘキサノールアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、ジプロピレングリコ－ルメチルエ－テルアセテ－ト、１，３－ブチレングリコールジアセテート、１，４－ブタンジオールジアセテート、１，３－ブチレングリコールジアセテート、１，６－ヘキサンジオールジアセテート、γ－ブチロラクトン、トリアセチン、２，２，４－トリメチル－１，３－ペンタンジオールモノイソブチレートが挙げられる。
　グリコール系有機溶媒の具体例としては、エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノ－２－エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ－２－エチルヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｔｅｒｔ－ブチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテルトリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、１，３－ブチレングリコール、プロピレングリコールｎ－プロピルエーテル、プロピレングリコールｎ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールｎ－プロピルエーテル、ジプロピレングリコールｎ－ブチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールｎ－ブチルエ－テル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテルペンタン、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ポリエチレングリコールジメチルエーテルが挙げられる。
　アルコール系有機溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロピルアルコール、ｎ－ブタノール、ジアセトンアルコール、イソブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ペンタノール、３－メチル－１，３－ブタンジオール、１，３－ブタンジオール、１，３－ブチレングリコール、オクタンジオール、２，４－ジエチルペンタンジオール、ブチルエチルプロパンジオール、２－メチル－１，３－プロパンジオール、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、２－エチル－１－ヘキサノール、３，５，５－トリメチル－１－ヘキサノール、イソデカノール、イソトリデカノール、３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノール、２－メトキシブタノール、３－メトキシブタノール、シクロヘキサノール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、ベンジルアルコール、及びメチルシクロヘキサノールが挙げられる。

　また、有機溶媒としては、ハロゲン系有機溶媒、含窒素化合物、含硫黄化合物、シロキサン化合物が挙げられる。
　ハロゲン系有機溶媒の具体例としては、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ｏ－クロロトルエン、ｍ－クロロトルエン、ｐ－クロロトルエン、ｍ－ジクロロベンゼン、１，２，３－トリクロロプロパンが挙げられる。
　含窒素化合物としては、ニトロベンゼン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノンが挙げられる。
　含硫黄化合物としては、二硫化炭素、ジメチルスルホキシドが挙げられる。
　シロキサン化合物としては、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサンが挙げられる。

　液状媒体の含有量は、下地層の形成に使用するコーティング液の全量に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．１～１０質量％がより好ましい。

　下地層を形成するためのウェットコーティング法の具体例としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法が挙げられる。

　コーティング液をウェットコーティングした後、塗膜を乾燥させるのが好ましい。塗膜の乾燥温度としては、２０～２００℃が好ましく、８０～１６０℃がより好ましい。

　本開示の物品は、光学部材であることが好ましい。光学部材としては、例えば、カーナビゲーション、携帯電話、スマートフォン、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、ＰＤＡ、ポータブルオーディオプレーヤー、カーオーディオ、ゲーム機器、眼鏡レンズ、カメラレンズ、レンズフィルター、サングラス、胃カメラ等の医療用器機、複写機、ＰＣ、ディスプレイ（例えば、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ、タッチパネルディスプレイ）、タッチパネル、保護フィルム、及び反射防止フィルムが挙げられる。特に、物品は、ディスプレイ又はタッチパネルであることが好ましい。

［物品の製造方法］
　本開示の物品の製造方法は、例えば、基材に対して、本開示の表面処理剤を用いて表面処理を行い、基材上に表面処理層が形成された物品を製造するという方法である。表面処理方法としては、例えば、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法が挙げられる。

　表面処理層の耐摩耗性を向上させるために、必要に応じて、本開示の組成物と基材との反応を促進させるための操作を行ってもよい。該操作としては、加熱、加湿、光照射等が挙げられる。
　例えば、水分を有する大気中で表面処理層が形成された基材を加熱して、加水分解性基の加水分解反応、基材の表面の水酸基等とシラノール基との反応、シラノール基の縮合反応によるシロキサン結合の生成、等の反応を促進できる。
　表面処理後、表面処理層中の化合物であって、他の化合物又は基材と化学結合していない化合物は、必要に応じて除去してもよい。除去する方法としては、例えば、表面処理層に溶媒をかけ流す方法、溶媒をしみ込ませた布でふき取る方法等が挙げられる。

　次に本開示の実施形態を実施例により具体的に説明するが、本開示の実施形態はこれらの実施例に限定されるものではない。

〔第１の化合物の合成〕
（化合物（２）の合成）
　還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた４つ口フラスコに、モノビニル末端ポリフェニルメチルシロキサン(化合物（１））、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、トリアセトキシメチルシラン、及びトリクロロシランを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて５時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、化合物（２）を得た。式中、ｋは繰り返し単位数を表す。

（化合物（３）の合成）
　還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた４つ口フラスコに、化合物（２）、及び１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、アリルマグネシウムブロミドを０．７ｍｏｌ／Ｌ含むジエチルエーテル溶液を加えた後、室温（約２５℃）まで昇温させ、この温度にて１０時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、メタノールを加えた後、室温（約２５℃）まで昇温させて不溶物をろ過した。続いて、減圧下で揮発分を留去した後、不揮発分をペルフルオロヘキサンで希釈し、分液ロートでメタノールによる洗浄操作を行った。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、化合物（３）を得た。

（化合物（４）の合成）
　還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた４つ口フラスコに、化合物（３）、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、トリアセトキシメチルシラン、及びトリクロロシランを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて５時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、化合物（４）を得た。

（化合物（５）の合成）
　還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた４つ口フラスコに、化合物（４）、及び１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノールとオルソギ酸トリメチルの混合溶液を加えた後、６５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、化合物（５）を得た。

（化合物（７）の合成）
　化合物（１）の代わりに化合物（６）を用いる以外は化合物（２）～（５）の合成例と同様にして、化合物（７）を得た。

〔第２の化合物の合成〕
（化合物（９）の合成）
　１官能のポリエチレングリコール（化合物（８））をテトラヒドロフランの１０ｇに溶解させ、水素化ナトリウムを加えた。アリルブロミドを滴下し、５０℃で３時間撹拌した。室温（約２５℃）まで放冷した後、飽和塩化アンモニウム水溶液の７０ｍＬをゆっくり加え、分液後上層を回収し、溶剤及び未反応物を減圧留去して化合物（９）を得た。式中、ｍは繰り返し単位数を表す。

（化合物（１０）の合成）
　還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた４つ口フラスコに、化合物（９）、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、トリアセトキシメチルシラン、及びトリクロロシランを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて５時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、化合物（１０）を得た。

（化合物（１１）の合成）
　還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた４つ口フラスコに、化合物（１０）、及び１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、アリルマグネシウムブロミドを０．７ｍｏｌ／Ｌ含むジエチルエーテル溶液を加えた後、室温（約２５℃）まで昇温させ、この温度にて１０時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、メタノールを加えた後、室温（約２５℃）まで昇温させて不溶物をろ過した。続いて、減圧下で揮発分を留去した後、不揮発分をパーフルオロヘキサンで希釈し、分液ロートでメタノールによる洗浄操作を行った。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、化合物（１１）を得た。

（化合物（１２）の合成）
　還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた４つ口フラスコに、化合物（１１）、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、トリアセトキシメチルシラン、及びトリクロロシランを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて５時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、化合物（１２）を得た。

（化合物（１３）の合成）
　還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた４つ口フラスコに、化合物（１２）、及び１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノールとオルソギ酸トリメチルの混合溶液を加えた後、６５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、化合物（１３）を得た。

（化合物（１５）の合成）
　化合物（８）の代わりに２官能のポリエチレングリコール（化合物（１４））を用いる以外は化合物（９）～（１３）の合成と同様にして、化合物（１５）を得た。

（化合物（１７）の合成）
　化合物（８）の代わりに２官能のポリプロピレングリコール（化合物（１６））を用いる以外は化合物（９）～（１３）の合成と同様にして、化合物（１７）を得た。

〔組成物の調製〕
　表１に示す量(質量部）にて各成分を配合し、ディスパーを用いてよく混合して混合液を得た。この混合液を３０℃恒温槽中で４時間撹拌して、共重合加水分解物を、硬化被膜のマトリクス形成材料として得た。
　第１の化合物として、化合物（５）又は（７）を用いた。参照用化合物としては、フェニルトリメトキシシランを用いた。
　第２の化合物として、化合物（１３）、（１５）、又は（１７）を用いた。参照用化合物として、ヒドロキシ（ポリエチレンオキシド）プロピルトリエトキシシランを用いた。
　４官能アルコキシシランとして、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）を用いた。
　酸としては０．４規定のリン酸水溶液を用いた。
　多孔質シリカとしては、ＴＨＲＵＬＹＡ（登録商標、日揮触媒化成社）を用いた。

〔評価方法〕
　調製した組成物をガラス基材に対してスピンコートを実施した。１２０℃、２時間の加熱後に得られたガラス基板を評価した。Ａ及びＢが実用上好ましい範囲である。

＜耐擦傷性（スチールウール）＞
　物品の表面処理層について、ＪＩＳ　Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ　１０５－Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、スチールウールボンスター（♯００００）を圧力：９８．０７ｋＰａ、速度：３２０ｃｍ／分で３，０００回往復させた後、傷ついた程度を目視で評価した。判断基準は以下の通りである。なお、Ａ及びＢが実用上好ましい範囲である。
　Ａ…　まったく傷がつかない　
　Ｂ…　ほとんど傷がつかない　
　Ｃ…　少し傷がつく
　Ｄ…　ひどく傷がつく

＜低指紋視認性＞
　物品の表面処理層に指紋を付け、指紋が見える程度を目視で評価した。判断基準は以下の通りである。なお、Ａ及びＢが実用上好ましい範囲である。
　Ａ…　まったく見えない
　Ｂ…　ほとんど見えない
　Ｃ…　少し見える
　Ｄ…　はっきりと見える

＜指紋除去性＞
　物品の表面処理層に指紋を付け、キムワイプ（登録商標）にて、１００ｇｆ（９８０ｍＮ）の荷重で拭取り、指紋のふき取りやすさを目視で評価した。判断基準は以下の通りである。なお、Ａ及びＢが実用上好ましい範囲である。
　Ａ…　まったく見えない
　Ｂ…　ほとんど見えない
　Ｃ…　少し見える
　Ｄ…　はっきりと見える

＜耐摩耗性（スチールウール）＞
　物品の表面処理層に指紋を付け、表面処理層について、ＪＩＳ　Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ　１０５－Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、スチールウールボンスター（♯００００）を圧力：９８．０７ｋＰａ、速度：３２０ｃｍ／分で３，０００回往復させた後、摩耗前後の低指紋視認性及び指紋除去性に基づき、耐摩耗性を評価した。なお、Ａ及びＢが実用上好ましい範囲である。
　Ａ…　低指紋視認性及び指紋除去性の評価がいずれも維持されている
　Ｂ…　低指紋視認性及び指紋除去性のいずれか一方の評価が低下している
　Ｃ…　低指紋視認性及び指紋除去性の評価がいずれも低下している

　なお、例１は比較例であり、例２～８は実施例である。

　例２～８では、例１と比べて、優れた耐擦傷性が得られている。
　例２～８では、例１と比べて、初期の低指紋視認性に優れており、摩耗後も低指紋視認性が維持されている。
　例２～８では、例１と比べて、初期の指紋除去性に優れており、摩耗後も指紋除去性が維持されている。
　したがって、例２～８では、良好な耐摩耗性が得られている。

　第１の化合物及び第２の化合物として、それぞれ化合物の両末端に反応性シリル基を有する両末端化合物を用いた例５～８では、特に耐擦傷性に優れる。
　エチレンオキシド基を有する第２の化合物を用いた例２～７では、特に低指紋視認性に優れる。
　プロピレンオキシド基を有する第２の化合物を用いた例８では、特に指紋除去性に優れる。　
　以上より、本開示の組成物によれば基材に良好な耐擦傷性及び耐摩耗性を付与できる。

　本開示の組成物は、表面処理剤として有用である。表面処理剤は、例えば、タッチパネルディスプレイ等の表示装置、光学素子、半導体素子、建築材料、自動車部品、ナノインプリント技術等における基材に対して用いることができる。また、表面処理剤は、電車、自動車、船舶、航空機等の輸送機器におけるボディー、窓ガラス(フロントガラス、サイドガラス、リアガラス)、ミラー、バンパー等に対して用いることができる。さらに、表面処理剤は、建築物外壁、テント、太陽光発電モジュール、遮音板、コンクリート等の屋外物品；漁網、虫取り網、水槽に対して用いることができる。また、表面処理剤は、台所、風呂場、洗面台、鏡、トイレ周辺部品；シャンデリア、タイル等の陶磁器；人工大理石、エアコン等の各種屋内設備に対して用いることができる。また、表面処理剤は、工場内の治具、内壁、配管等の防汚処理としても用いることができる。また、表面処理剤は、ゴーグル、眼鏡、ヘルメット、パチンコ、繊維、傘、遊具、サッカーボールに対して用いることができる。また、表面処理剤は、食品用包材、化粧品用包材、ポットの内部等の各種包材の付着防止剤としても用いることができる。また、表面処理剤は、カーナビゲーション、携帯電話、スマートフォン、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、ＰＤＡ、ポータブルオーディオプレーヤー、カーオーディオ、ゲーム機器、眼鏡レンズ、カメラレンズ、レンズフィルター、サングラス、胃カメラ等の医療用器機、複写機、ＰＣ、ディスプレイ（例えば、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ、タッチパネルディスプレイ）、タッチパネル、保護フィルム、及び反射防止フィルム等の光学部材に対して用いることができる。

　２０２２年５月１３日に出願された日本国特許出願第２０２２－０７９８０８号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に援用されて取り込まれる。

Claims

　芳香環と２つ以上の反応性シリル基とを有する第１の化合物、その加水分解物、及びその部分縮合物からなる群より選択される少なくとも１つと、
　ポリアルキレンオキシド基と２つ以上の反応性シリル基とを有する第２の化合物、その加水分解物、及びその部分縮合物からなる群より選択される少なくとも１つと、
　水と、
　水以外の溶媒と、
　酸又はアルカリと、
を含む組成物。
　前記芳香環がベンゼン環である、請求項１に記載の組成物。
　前記第１の化合物が下記式（１－１）又は（１－２）で表される化合物を含む、請求項１に記載の組成物。
（Ｚ^１－）_ｊ１Ｙ^１［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ１　　　　　　　　　　　　…（１－１）
［Ｌ_３－ｎ（Ｒ）_ｎＳｉ－］_ｇ２Ｙ^２－Ｚ^２－Ｙ^２［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ２…（１－２）
　式（１－１）中、
　Ｚ^１はそれぞれ独立に１価の芳香環基、又は側鎖に芳香環を有する１価の鎖状基であり、
　ｊ１は１以上の整数であり、
　Ｙ^１は単結合又は（ｇ１＋ｊ１）価の連結基であり、
　Ｒはそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌはそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｎはそれぞれ独立に０～２の整数であり、
　ｇ１は２以上の整数であり、
　式（１－２）中、
　Ｚ^２は２価の芳香環基、又は側鎖に芳香環を有する２価の鎖状基であり、
　Ｙ^２はそれぞれ独立に単結合又は（ｇ２＋１）価の連結基であり、
　Ｒはそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌはそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｎはそれぞれ独立に０～２の整数であり、
　ｇ２はそれぞれ独立に１以上の整数であり、ｇ２の少なくとも１つは２以上の整数である。
　式（１－１）中、Ｙ^１が、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基、ポリアルキレンオキシド基、オルガノポリシロキサン残基、若しくはこれらの組み合わせを含むか、又は
　式（１－２）中、少なくとも１つのＹ^２が、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基、ポリアルキレンオキシド基、オルガノポリシロキサン残基、若しくはこれらの組み合わせを含む、
請求項３に記載の組成物。
　式（１－１）中、Ｚ^１が、側鎖に芳香環を有する１価のポリシロキサン残基を含むか、又は
　式（１－２）中、Ｚ^２が、側鎖に芳香環を有する２価のポリシロキサン残基を含む、
請求項３に記載の組成物。
　前記第２の化合物が下記式（２－１）又は（２－２）で表される化合物を含む、請求項１に記載の組成物。
［Ｒ^ｃ－Ｏ－（ＸＯ）_ｍ－］_ｊ３Ｙ^３［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ３　　…（２－１）
［Ｌ_３－ｎ（Ｒ）_ｎＳｉ－］_ｇ４Ｙ^４－Ｏ－（ＸＯ）_ｍ－Ｙ^４［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ４　　…（２－２）
　式（２－１）中、
　Ｒ^ｃは１価の脂肪族炭化水素基であり、
　Ｘはそれぞれ独立に炭素数２～６のアルキレン基であり
　ｍは２以上の整数であり、
　ｊ３は１以上の整数であり、
　Ｙ^３は（ｇ３＋ｊ３）価の連結基であり、
　Ｒはそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌはそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｎはそれぞれ独立に０～２の整数であり、
　ｇ３は２以上の整数であり、
　式（２－２）中、
　Ｘはそれぞれ独立に炭素数２～６のアルキレン基であり、
　ｍは２以上の整数であり、
　Ｙ^４はそれぞれ独立に（ｇ４＋１）価の連結基であり、
　Ｒはそれぞれ独立に１価の炭化水素基であり、
　Ｌはそれぞれ独立に加水分解性基又は水酸基であり、
　ｎはそれぞれ独立に０～２の整数であり、
　ｇ４はそれぞれ独立に１以上の整数であり、ｇ４の少なくとも１つは２以上の整数である。
　式（２－１）中、Ｘがエチレン基である、請求項６に記載の組成物。
　前記溶媒がアルコール系有機溶媒である、請求項１に記載の組成物。
　前記酸がリン酸を含む、請求項１に記載の組成物。
　さらに、３官能以上のアルコキシシラン、その加水分解物、及びその部分縮合物からなる群より選択される少なくとも１つを含む、請求項１に記載の組成物。
　請求項１～１０のいずれか１項に記載の組成物を含む表面処理剤。
　基材に対して、請求項１１に記載の表面処理剤を用いて表面処理を行い、基材上に表面処理層が形成された物品を製造する、物品の製造方法。
　基材と、前記基材上に配置され、請求項１１に記載の表面処理剤で表面処理された表面処理層と、を含む物品。
　前記物品が光学部材である、請求項１３に記載の物品。
　前記物品がディスプレイ又はタッチパネルである、請求項１３に記載の物品。