WO2023181282A1

WO2023181282A1 - エアロゾル生成システム、制御方法、及びプログラム

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Publication number: WO2023181282A1
Application number: PCT/JP2022/014059
Authority: WO
Inventors: 純司湊; 徹長浜; 達也青山
Original assignee: 日本たばこ産業株式会社
Priority date: 2022-03-24
Filing date: 2022-03-24
Publication date: 2023-09-28

Abstract

【課題】ユーザ体験の質をより向上させることが可能な仕組みを提供する。【解決手段】エアロゾル源を加熱する加熱部と、前記加熱部の温度を前記加熱部の外から検出する温度センサと、前記加熱部の温度の目標値である目標温度に対応するパラメータを含む制御情報に基づいて前記加熱部の動作を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度に基づいて前記加熱部の動作を制御する期間において、前記目標温度又は前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度を補正する補正処理を実施し、前記加熱部の動作を制御する、エアロゾル生成システム。

Description

エアロゾル生成システム、制御方法、及びプログラム

　本発明は、エアロゾル生成システム、制御方法、及びプログラムに関する。

　電子タバコ及びネブライザ等の、ユーザに吸引される物質を生成する吸引装置が広く普及している。例えば、吸引装置は、エアロゾルを生成するためのエアロゾル源、及び生成されたエアロゾルに香味成分を付与するための香味源等を含む基材を用いて、香味成分が付与されたエアロゾルを生成する。ユーザは、吸引装置により生成された、香味成分が付与されたエアロゾルを吸引することで、香味を味わうことができる。ユーザがエアロゾルを吸引する動作を、以下ではパフ又はパフ動作とも称する。

　吸引装置を用いたユーザ体験の質を向上させるための様々な技術が検討されている。例えば、下記特許文献１では、エアロゾル生成基質を加熱するヒータに供給される電力を、比例積分微分（ＰＩＤ）方式を通じて制御する技術が開示されている。

特表２０２１－５１２６０３号公報

　しかし、上記特許文献に開示された技術は、開発されてから未だ日が浅く、様々な観点で向上の余地があった。

　そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、ユーザ体験の質をより向上させることが可能な仕組みを提供することにある。

　上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、エアロゾル源を加熱する加熱部と、前記加熱部の温度を前記加熱部の外から検出する温度センサと、前記加熱部の温度の目標値である目標温度に対応するパラメータを含む制御情報に基づいて前記加熱部の動作を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度に基づいて前記加熱部の動作を制御する期間において、前記目標温度又は前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度を補正する補正処理を実施し、前記加熱部の動作を制御する、エアロゾル生成システムが提供される。

　前記制御部は、前記補正処理として、前記目標温度又は前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度を、前記加熱部の初期温度に対応するパラメータに基づいて補正してもよい。

　前記制御部は、前記目標温度を補正量分低くなるよう補正し、前記補正量は、前記加熱部の前記初期温度が第１の温度の場合と比較して、前記加熱部の前記初期温度が前記第１の温度よりも低い第２の温度の場合のほうが大きくてもよい。

　前記制御部は、前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度を補正量分高くなるよう補正し、前記補正量は、前記加熱部の前記初期温度が第１の温度の場合と比較して、前記加熱部の前記初期温度が前記第１の温度よりも低い第２の温度の場合のほうが大きくてもよい。

　前記制御部は、複数の前記制御情報から選択された前記制御情報に基づいて前記加熱部の動作を制御し、複数の前記制御情報のいずれが選択された場合であっても、前記補正量として所定値を用いてもよい。

　前記制御部は、前記補正量を、前記制御情報に基づく前記エアロゾル源の加熱が開始されてからの経過時間に応じて切り替えてもよい。

　前記制御情報は、前記加熱部の温度の変化傾向が異なる複数の単位期間の情報を含み、前記制御部は、前記補正処理を実施し、前記単位期間に設定された前記目標温度に前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度が到達したことをトリガとして、前記単位期間の移行を判定してもよい。

　前記制御部は、前記加熱部の温度が上昇又は低下する前記単位期間において、前記補正処理を実施してもよい。

　前記エアロゾル生成システムは、電源部を備え、前記加熱部は、前記電源部から供給された電力を使用して前記エアロゾル源を加熱し、前記制御部は、前記加熱部への給電を停止している前記単位期間において前記補正処理を実施しながら、前記単位期間に設定された前記目標温度まで前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度が低下したことをトリガとして前記加熱部への給電を再開してもよい。

　前記制御部は、前記制御情報に基づいて前記加熱部の動作を制御する期間の前半において、前記補正処理を行ってもよい。

　前記制御情報に基づいて前記加熱部の動作を制御する期間は、前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度に代えて、前記加熱部の電気抵抗値に基づいて前記加熱部の動作を制御する期間を含んでもよい。

　前記エアロゾル生成システムは、前記加熱部により加熱される前記エアロゾル源を含有した基材をさらに備えてもよい。

　また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、エアロゾル生成システムを制御する制御方法であって、前記エアロゾル生成システムは、エアロゾル源を加熱する加熱部と、前記加熱部の温度を前記加熱部の外から検出する温度センサと、を含み、前記制御方法は、前記加熱部の温度の目標値である目標温度に対応するパラメータを含む制御情報に基づいて前記加熱部の動作を制御すること、を含み、前記制御情報に基づいて前記加熱部の動作を制御することは、前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度に基づいて前記加熱部の動作を制御する期間において、前記目標温度又は前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度を補正する補正処理を実施し、前記加熱部の動作を制御することを含む、制御方法が提供される。

　また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、エアロゾル生成システムを制御するコンピュータにより実行されるプログラムであって、前記エアロゾル生成システムは、エアロゾル源を加熱する加熱部と、前記加熱部の温度を前記加熱部の外から検出する温度センサと、を含み、前記プログラムは、前記コンピュータを、前記加熱部の温度の目標値である目標温度に対応するパラメータを含む制御情報に基づいて前記加熱部の動作を制御する制御部、として機能させ、前記制御部は、前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度に基づいて前記加熱部の動作を制御する期間において、前記目標温度又は前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度を補正する補正処理を実施し、前記加熱部の動作を制御する、プログラムが提供される。

　以上説明したように本発明によれば、ユーザ体験の質をより向上させることが可能な仕組みが提供される。

吸引装置の構成例を模式的に示す模式図である。表１に示した加熱プロファイルに基づき温度制御を行った場合の加熱部の温度の推移の一例を示すグラフである。本実施形態に係るサーミスタ温度に基づく制御の一例を説明するための図である。本実施形態に係るサーミスタ温度に基づく制御の一例を説明するための図である。本実施形態に係る吸引装置により実行される処理の流れの一例を示すフローチャートである。

　以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。

　＜１．吸引装置の構成例＞
　吸引装置は、ユーザにより吸引される物質を生成する装置である。以下では、吸引装置により生成される物質が、エアロゾルであるものとして説明する。他に、吸引装置により生成される物質は、気体であってもよい。

　図１は、吸引装置の構成例を模式的に示す模式図である。図１に示すように、本構成例に係る吸引装置１００は、電源部１１１、センサ部１１２、通知部１１３、記憶部１１４、通信部１１５、制御部１１６、加熱部１２１、保持部１４０、及び断熱部１４４を含む。

　電源部１１１は、電力を蓄積する。そして、電源部１１１は、制御部１１６による制御に基づいて、吸引装置１００の各構成要素に電力を供給する。電源部１１１は、例えば、リチウムイオン二次電池等の充電式バッテリにより構成され得る。

　センサ部１１２は、吸引装置１００に関する各種情報を取得する。一例として、センサ部１１２は、コンデンサマイクロホン等の圧力センサ、流量センサ又は温度センサ等により構成され、ユーザによる吸引に伴う値を取得する。他の一例として、センサ部１１２は、ボタン又はスイッチ等の、ユーザからの情報の入力を受け付ける入力装置により構成される。

　さらに、センサ部１１２は、サーミスタを有する。サーミスタは、加熱部１２１の温度を加熱部１２１の外から検出する温度センサの一例である。サーミスタは、加熱部１２１の付近に配置され、加熱部１２１の熱により温まる。そして、サーミスタの温度が、加熱部１２１の温度として検出される。サーミスタは、例えば、ＮＴＣ（negative temperature coefficient）サーミスタ、ＰＴＣ（positive temperature coefficient）サーミスタ、又はＣＴＲ（critical temperature resistor）サーミスタとして構成される。他に、加熱部１２１の温度を加熱部１２１の外から検出する温度センサとしては、白金等により構成される測温抵抗体が用いられてもよい。測温抵抗体は、ＲＴＤ（Resistance Temperature Detector）とも称される場合がある。

　通知部１１３は、情報をユーザに通知する。通知部１１３は、例えば、発光する発光装置、画像を表示する表示装置、音を出力する音出力装置、又は振動する振動装置等により構成される。

　記憶部１１４は、吸引装置１００の動作のための各種情報を記憶する。記憶部１１４は、例えば、フラッシュメモリ等の不揮発性の記憶媒体により構成される。

　通信部１１５は、有線又は無線の任意の通信規格に準拠した通信を行うことが可能な通信インタフェースである。かかる通信規格としては、例えば、Ｗｉ－Ｆｉ（登録商標）、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）、又はＬＰＷＡ（Low Power Wide Area）を用いる規格等が採用され得る。

　制御部１１６は、演算処理装置及び制御装置として機能し、各種プログラムに従って吸引装置１００内の動作全般を制御する。制御部１１６は、例えばＣＰＵ（Central　Processing　Unit）、及びマイクロプロセッサ等の電子回路によって実現される。

　保持部１４０は、内部空間１４１を有し、内部空間１４１にスティック型基材１５０の一部を収容しながらスティック型基材１５０を保持する。保持部１４０は、内部空間１４１を外部に連通する開口１４２を有し、開口１４２から内部空間１４１に挿入されたスティック型基材１５０を保持する。例えば、保持部１４０は、開口１４２及び底部１４３を底面とする筒状体であり、柱状の内部空間１４１を画定する。保持部１４０には、内部空間１４１に空気を供給する空気流路が接続される。空気流路への空気の入口である空気流入孔は、例えば、吸引装置１００の側面に配置される。空気流路から内部空間１４１への空気の出口である空気流出孔は、例えば、底部１４３に配置される。

　スティック型基材１５０は、基材部１５１、及び吸口部１５２を含む。基材部１５１は、エアロゾル源を含む。エアロゾル源は、例えば、グリセリン及びプロピレングリコール等の多価アルコール、並びに水等の液体である。エアロゾル源は、たばこ由来又は非たばこ由来の香味成分を含んでいてもよい。吸引装置１００がネブライザ等の医療用吸入器である場合、エアロゾル源は、薬剤を含んでもよい。なお、本構成例において、エアロゾル源は液体に限られるものではなく、固体であってもよい。スティック型基材１５０が保持部１４０に保持された状態において、基材部１５１の少なくとも一部は内部空間１４１に収容され、吸口部１５２の少なくとも一部は開口１４２から突出する。そして、開口１４２から突出した吸口部１５２をユーザが咥えて吸引すると、図示しない空気流路を経由して内部空間１４１に空気が流入し、基材部１５１から発生するエアロゾルと共にユーザの口内に到達する。

　加熱部１２１は、エアロゾル源を加熱することで、エアロゾル源を霧化してエアロゾルを生成する。図１に示した例では、加熱部１２１は、フィルム状に構成され、保持部１４０の外周を覆うように配置される。そして、加熱部１２１が発熱すると、スティック型基材１５０の基材部１５１が外周から加熱され、エアロゾルが生成される。加熱部１２１は、電源部１１１から給電されると発熱する。一例として、ユーザが吸引を開始したこと、及び／又は所定の情報が入力されたことが、センサ部１１２により検出された場合に、給電されてもよい。そして、ユーザが吸引を終了したこと、及び／又は所定の情報が入力されたことが、センサ部１１２により検出された場合に、給電が停止されてもよい。

　断熱部１４４は、加熱部１２１から他の構成要素への伝熱を防止する。例えば、断熱部１４４は、真空断熱材、又はエアロゲル断熱材等により構成される。

　以上、吸引装置１００の構成例を説明した。もちろん吸引装置１００の構成は上記に限定されず、以下に例示する多様な構成をとり得る。

　一例として、加熱部１２１は、ブレード状に構成され、保持部１４０の底部１４３から内部空間１４１に突出するように配置されてもよい。その場合、ブレード状の加熱部１２１は、スティック型基材１５０の基材部１５１に挿入され、スティック型基材１５０の基材部１５１を内部から加熱する。他の一例として、加熱部１２１は、保持部１４０の底部１４３を覆うように配置されてもよい。また、加熱部１２１は、保持部１４０の外周を覆う第１の加熱部、ブレード状の第２の加熱部、及び保持部１４０の底部１４３を覆う第３の加熱部のうち、２以上の組み合わせとして構成されてもよい。

　他の一例として、保持部１４０は、内部空間１４１を形成する外殻の一部を開閉する、ヒンジ等の開閉機構を含んでいてもよい。そして、保持部１４０は、外殻を開閉することで、内部空間１４１に挿入されたスティック型基材１５０を挟持してもよい。その場合、加熱部１２１は、保持部１４０における当該挟持箇所に設けられ、スティック型基材１５０を押圧しながら加熱してもよい。

　スティック型基材１５０は、エアロゾル源を含有し、エアロゾルの生成に寄与する基材の一例である。吸引装置１００は、スティック型基材１５０を加熱してエアロゾルを生成する、エアロゾル生成装置の一例である。吸引装置１００とスティック型基材１５０との組み合わせにより、エアロゾルが生成される。そのため、吸引装置１００とスティック型基材１５０との組み合わせは、エアロゾル生成システムとして捉えられてもよい。

　＜２．技術的特徴＞
　＜２．１．加熱プロファイル＞
　制御部１１６は、加熱プロファイルに基づいて、加熱部１２１の動作を制御する。加熱部１２１の動作の制御は、電源部１１１から加熱部１２１への給電を制御することにより、実現される。加熱部１２１は、電源部１１１から供給された電力を使用してスティック型基材１５０を加熱する。

　加熱プロファイルとは、エアロゾル源を加熱する温度を制御するための制御情報である。加熱プロファイルは、加熱部１２１の温度を制御するための制御情報であってよい。一例として、加熱プロファイルは、加熱部１２１の温度の目標値（以下、目標温度とも称する）を含み得る。目標温度は加熱開始からの経過時間に応じて変化してもよく、その場合、加熱プロファイルは、目標温度の時系列推移を規定する情報を含む。他の一例として、加熱プロファイルは、加熱部１２１への電力の供給方式を規定するパラメータ（以下、給電パラメータとも称する）を含み得る。給電パラメータは、例えば、加熱部１２１に印可される電圧、加熱部１２１への給電のＯＮ／ＯＦＦ、又は採用すべきフィードバック制御の方式等を含む。加熱部１２１への給電ＯＮ／ＯＦＦは、加熱部１２１のＯＮ／ＯＦＦとして捉えられてもよい。

　制御部１１６は、加熱部１２１の温度（以下、実温度とも称する）が、加熱プロファイルにおいて規定された目標温度と同様に推移するように、加熱部１２１の動作を制御する。加熱プロファイルは、典型的には、スティック型基材１５０から生成されるエアロゾルをユーザが吸引した際にユーザが味わう香味が最適になるように設計される。よって、加熱プロファイルに基づいて加熱部１２１の動作を制御することにより、ユーザが味わう香味を最適にすることができる。

　加熱部１２１の温度制御は、例えば公知のフィードバック制御によって実現できる。フィードバック制御は、例えばＰＩＤ制御（Proportional-Integral-Differential　Controller）であってよい。制御部１１６は、電源部１１１からの電力を、パルス幅変調（ＰＷＭ）又はパルス周波数変調（ＰＦＭ）によるパルスの形態で、加熱部１２１に供給させ得る。その場合、制御部１１６は、フィードバック制御において、電力パルスのデューティ比、又は周波数を調整することによって、加熱部１２１の温度制御を行うことができる。若しくは、制御部１１６は、フィードバック制御において、単純なオン／オフ制御を行ってもよい。例えば、制御部１１６は、実温度が目標温度に到達するまで加熱部１２１による加熱を実行し、実温度が目標温度に到達した場合に加熱部１２１による加熱を中断し、実温度が目標温度より低くなると加熱部１２１による加熱を再開してもよい。

　加熱部１２１の温度は、例えば、加熱部１２１（より正確には、加熱部１２１を構成する発熱抵抗体）の電気抵抗値を測定又は推定することによって定量できる。これは、発熱抵抗体の電気抵抗値が、温度に応じて変化するためである。発熱抵抗体の電気抵抗値は、例えば、発熱抵抗体での電圧低下量を測定することによって推定できる。発熱抵抗体での電圧低下量は、発熱抵抗体に印加される電位差を測定する電圧センサによって測定できる。他の例では、加熱部１２１の温度は、加熱部１２１付近に設置されたサーミスタ等の温度センサによって測定されることができる。

　スティック型基材１５０を用いてエアロゾルを生成する処理が開始してから終了するまでの期間を、以下では加熱セッションとも称する。換言すると、加熱セッションとは、加熱プロファイルに基づいて加熱部１２１への給電が制御される期間である。加熱セッションの始期は、加熱プロファイルに基づく加熱が開始されるタイミングである。加熱セッションの終期は、十分な量のエアロゾルが生成されなくなったタイミングである。加熱セッションは、予備加熱期間、及び予備加熱期間に後続するパフ可能期間を含む。パフ可能期間とは、十分な量のエアロゾルが発生すると想定される期間である。予備加熱期間とは、加熱が開始されてからパフ可能期間が開始されるまでの期間である。予備加熱期間において行われる加熱は、予備加熱とも称される。

　加熱プロファイルの一例を、下記の表１に示す。

　表１に示すように、加熱プロファイルは、複数の期間に区分され、各期間において目標温度の時系列推移、及び給電パラメータの時系列推移が規定されてよい。表１に示した例では、加熱プロファイルは、ＳＴＥＰ０～ＳＴＥＰ９の計１０個の期間に区分されている。各ＳＴＥＰにおいて、目標温度の時系列推移、及び給電パラメータの時系列推移が規定される。加熱プロファイルに規定されたＳＴＥＰは、本実施形態における単位期間の一例である。

　ＳＴＥＰ１、２及びＳＴＥＰ４～ＳＴＥＰ９では、時間制御が実施される。時間制御とは、所定の時間（即ち、各ＳＴＥＰに設定された持続時間）の経過をトリガとしてＳＴＥＰを終了する制御である。なお、時間制御が実施される場合、持続時間の終期に加熱部１２１の温度が目標温度に到達するよう、加熱部１２１の温度の変化速度が制御されてよい。他にも、時間制御が実施される場合、持続時間の途中で加熱部１２１の温度が目標温度に到達し、その後持続時間が経過するまで加熱部１２１の温度が目標温度を維持するよう、加熱部１２１の温度が制御されてよい。

　他方、ＳＴＥＰ０及びＳＴＥＰ３では、時間制御は実施されない。時間制御が実施されない場合、加熱部１２１の温度が所定の温度（即ち、各ＳＴＥＰに設定された目標温度）に到達したことをトリガとしてＳＴＥＰが終了する。そのため、ＳＴＥＰ０の持続時間は、昇温速度に応じて拡縮する。ＳＴＥＰ３の持続時間は、降温速度に応じて拡縮する。

　制御部１１６が表１に示した加熱プロファイルに従い温度制御を行った場合の、加熱部１２１の温度の推移について、図２を参照しながら説明する。図２は、表１に示した加熱プロファイルに基づき温度制御を行った場合の加熱部１２１の温度の推移の一例を示すグラフ２０である。グラフ２０の横軸は、時間（秒）である。グラフ２０の縦軸は、加熱部１２１の温度である。線２１は、加熱部１２１の温度の推移を示している。図２に示すように、加熱部１２１の温度は、加熱プロファイルにおいて規定された目標温度の推移と同様に推移している。以下、表１及び図２を参照しながら、加熱プロファイルの一例について説明する。

　表１及び図２に示すように、ＳＴＥＰ０において、加熱部１２１の温度は初期温度から２８０℃まで上昇する。初期温度とは、加熱開始時の加熱部１２１の温度である。ＳＴＥＰ０においては、時間制御が実施されない。そのため、ＳＴＥＰ０は、加熱部１２１の温度が２８０℃に到達したことをトリガとして、終了する。図２に示した例では、ＳＴＥＰ０は、２０秒で終了している。その後、ＳＴＥＰ１において、加熱部１２１の温度は３００℃まで上昇し、ＳＴＥＰ２において、加熱部１２１の温度は３００℃に維持される。ＳＴＥＰ１の終了をもって予備加熱期間が終了し、ＳＴＥＰ２の開始と共にパフ可能期間が開始する。

　ユーザにとっては、予備加熱時間が短い方が望ましい。ただし、スティック型基材１５０が十分に加熱されていない場合、スティック型基材１５０の内部に水分が蒸発しきれずに残ってしまう場合がある。その状態でユーザがパフを行うと、ユーザの口内に熱い水蒸気が送達されてしまうおそれがある。そのため、ＳＴＥＰ０において加熱部１２１の温度を２８０℃に到達するまで急速に上昇させること、及びＳＴＥＰ１の持続時間がある程度確保されることが望ましい。

　ここで、ＳＴＥＰ０～ＳＴＥＰ２においては、高い電圧で、加熱部１２１への給電が実行される。そのため、加熱部１２１の温度を最速で２８０℃に到達させ、その後も高温を維持することが可能となる。また、予備加熱期間を短縮することが可能となる。

　表１及び図２に示すように、ＳＴＥＰ３において、加熱部１２１の温度は２２０℃まで低下する。ＳＴＥＰ３においては、加熱部１２１への給電がＯＦＦにされる。そのため、加熱部１２１の温度を最速で低下させることが可能となる。他方、加熱部１２１への印可電圧は高い電圧から低い電圧に切り替えられる。加熱部１２１への給電を実行している期間に電圧を切り替える場合、ＰＩＤ制御のゲインにノイズが乗る等の理由で、温度制御の精度が低下し得る。この点、加熱部１２１への給電を実行していない期間に電圧を切り替えることで、電圧の切り替えに伴う温度制御の精度の低下を防止することが可能となる。

　表１及び図２に示すように、次に、ＳＴＥＰ４～ＳＴＥＰ７にかけて、加熱部１２１の温度は２７０℃まで緩やかに上昇する。このように、複数のＳＴＥＰをまたいだ制御情報が規定されてもよい。その後、ＳＴＥＰ８において、加熱部１２１の温度は２７０℃に維持される。

　ここで、ＳＴＥＰ４～ＳＴＥＰ８においては、低い電圧で、加熱部１２１への給電が実行される。ＳＴＥＰ４～ＳＴＥＰ８においては、加熱部１２１の温度を急速に上昇させる必要も、高温に維持する必要もないためである。ＳＴＥＰ４～ＳＴＥＰ８における電圧を低くすることで、加熱セッション全体における消費電力を抑制することが可能となる。

　表１及び図２に示すように、ＳＴＥＰ９において、加熱部１２１の温度は低下する。ＳＴＥＰ９においては、加熱部１２１への給電がＯＦＦにされる。他方、加熱部１２１への印可電圧は低い電圧から高い電圧に切り替えられる。これにより、次回の加熱セッションを、高い電圧で開始することが可能となる。また、加熱部１２１への給電を実行していない期間に電圧を切り替えることで、電圧の切り替えに伴う温度制御の精度の低下を防止することが可能となる。ＳＴＥＰ９では、持続時間が規定される一方で、目標温度は規定されない。そのため、ＳＴＥＰ９は、持続時間終了をトリガとして終了する。ＳＴＥＰ９においては、スティック型基材１５０の余熱により、十分な量のエアロゾルが生成され得る。そのため、本例では、ＳＴＥＰ９の終了と共に、パフ可能期間、即ち加熱セッションが終了する。

　通知部１１３は、予備加熱が終了するタイミングを示す情報をユーザに通知してもよい。例えば、通知部１１３は、予備加熱が終了する前に予備加熱の終了を予告する情報を通知したり、予備加熱が終了したタイミングで予備加熱が終了したことを示す情報を通知したりする。ユーザへの通知は、例えば、ＬＥＤの点灯又は振動等により行われ得る。ユーザは、かかる通知を参考に、予備加熱の終了直後からパフを行うことが可能となる。

　同様に、通知部１１３は、パフ可能期間が終了するタイミングを示す情報をユーザに通知してもよい。例えば、通知部１１３は、パフ可能期間が終了する前にパフ可能期間の終了を予告する情報を通知したり、パフ可能期間が終了したタイミングでパフ可能期間が終了したことを示す情報を通知したりする。ユーザへの通知は、例えば、ＬＥＤの点灯又は振動等により行われ得る。ユーザは、かかる通知を参考に、パフ可能期間が終了するまでパフを行うことが可能となる。

　なお、上記説明した加熱プロファイルはあくまで一例であって、他の様々な例が考えられる。一例として、ＳＴＥＰの数、各ＳＴＥＰの持続時間、及び目標温度は、適宜変更されてよい。他の一例として、ＳＴＥＰ４において、加熱部１２１の温度が２２０℃に維持されてもよい。

　＜２．２．サーミスタ温度に基づく制御＞
　制御部１１６は、加熱部１２１の温度を参照しながら、加熱部１２１の動作を制御する。加熱部１２１の温度は、加熱部１２１の電気抵抗値に基づいて算出される他に、センサ部１１２が有するサーミスタにより検出され得る。加熱部１２１の電気抵抗値に基づいて算出された加熱部１２１の温度を、ヒータ温度とも称する。センサ部１１２が有するサーミスタにより検出された加熱部１２１の温度を、サーミスタ温度とも称する。

　加熱セッションは、ヒータ温度に基づいて加熱部１２１の動作を制御する期間と、サーミスタ温度に基づいて加熱部１２１の動作を制御する期間とを含む。例えば、制御部１１６は、上記表１及び図２に示した加熱セッションのうちＳＴＥＰ３において、サーミスタ温度に基づいて加熱部１２１の動作を制御してもよい。ＳＴＥＰ３においては、加熱部１２１への給電がＯＦＦにされ、加熱部１２１の電気抵抗値が検出困難になるためである。他方、制御部１１６は、上記表１及び図２に示した加熱セッションのうちＳＴＥＰ３以外の期間において、ヒータ温度に基づいて加熱部１２１の動作を制御してもよい。かかる構成によれば、加熱セッションの大部分において、ヒータ温度に基づく精密な温度制御を実現することが可能となる上に、ヒータ温度の算出が困難な期間においても加熱プロファイルに沿った温度制御を実現することが可能となる。

　加熱部１２１の温度とヒータ温度とは一致すると考えられる。一方で、加熱部１２１の温度とサーミスタ温度とは、乖離する場合がある。サーミスタは、加熱部１２１の熱により遅れて温まるためである。即ち、サーミスタ温度は、加熱部１２１の温度の上昇に追随するように、遅れて上昇する。また、サーミスタ温度は、加熱部１２１の温度の低下に追随するように、遅れて低下する。そのため、サーミスタ温度に基づいて加熱部１２１の動作を制御する期間では、加熱部１２１の温度が加熱プロファイルに規定された通りに推移せず、ユーザに送達される喫味が劣化するおそれがあった。

　そこで、制御部１１６は、サーミスタ温度に基づいて加熱部１２１の動作を制御する期間において、目標温度を補正する補正処理を実施し、加熱部１２１の動作を制御する。一例として、制御部１１６は、加熱部１２１の温度の目標温度として設定された目標値をより低くなるよう補正する。典型的には、加熱部１２１の温度よりも、サーミスタ温度の方が低いためである。制御部１１６は、サーミスタ温度と補正後の目標温度とが一致するよう加熱部１２１の動作を制御することで、加熱プロファイルに規定された通りに加熱部１２１の温度を推移させることができる。かかる構成によれば、加熱部１２１の温度とサーミスタ温度との乖離に起因する、ユーザに送達される喫味の劣化を防止することが可能となる。

　表１及び図２を参照しながら説明したように、加熱プロファイルは、加熱部１２１の温度の変化傾向が異なる複数のＳＴＥＰの情報を含む。例えば、加熱プロファイルは、加熱部１２１の温度が上昇するＳＴＥＰ、加熱部１２１の温度が低下するＳＴＥＰ、及び加熱部１２１の温度が維持されるＳＴＥＰを含む。制御部１１６は、時間制御を実施しない期間において、補正処理を実施してもよい。即ち、制御部１１６は、補正処理を実施し、ＳＴＥＰに設定された目標温度にサーミスタ温度が到達したことをトリガとして、ＳＴＥＰの移行を判定してもよい。詳しくは、制御部１１６は、ＳＴＥＰに設定された目標温度を補正し、補正後の目標温度にサーミスタ温度が到達したことをトリガとして、ＳＴＥＰの移行を判定してもよい。かかる構成によれば、加熱部１２１の温度とサーミスタ温度との乖離に起因する、ＳＴＥＰの移行を判定するタイミングのズレを防止することができる。その結果、ユーザに送達される喫味の劣化を防止することが可能となる。

　制御部１１６は、加熱部１２１の温度が上昇又は低下するＳＴＥＰにおいて、補正処理を実施してもよい。サーミスタ温度は、加熱部１２１の温度の上昇又は低下に追随するように、遅れて上昇又は遅れて低下するためである。かかる構成によれば、加熱部１２１の温度変化に対してサーミスタの温度変化が遅れて追随するＳＴＥＰにおいて、効果的に補正を行うことができる。その結果、加熱部１２１の温度とサーミスタ温度との乖離に起因する、ユーザに送達される喫味の劣化を防止することが可能となる。

　制御部１１６は、加熱部１２１への給電を停止しているＳＴＥＰにおいて、補正処理を実施しながら、当該ＳＴＥＰに設定された目標温度までサーミスタ温度が低下したことをトリガとして、加熱部１２１への給電を再開してもよい。詳しくは、制御部１１６は、加熱部１２１への給電を停止しているＳＴＥＰに設定された目標温度を補正し、補正後の目標温度にサーミスタ温度が到達したことをトリガとして、加熱部１２１への給電を再開してもよい。加熱部１２１への給電を停止してから再開するまでタイミングでは、特に、加熱部１２１の温度とサーミスタ温度との乖離が大きくなる傾向にある。この点、かかる構成によれば、加熱部１２１への給電を適切なタイミングで再開することが可能となる。

　サーミスタ温度に基づいて加熱部１２１の動作を制御する場合の加熱プロファイルについて、表２及図３を参照しながら説明する。上記表２は、表１に示した加熱プロファイルのＳＴＥＰ３を、より詳細化したものである。他のＳＴＥＰについては、表１と同様である。

　図３は、本実施形態に係るサーミスタ温度に基づく制御の一例を説明するための図である。図３に示したグラフ３０Ａは、上記表２に示した加熱プロファイルに基づき温度制御を行った場合の、ＳＴＥＰ０～ＳＴＥＰ４の前半部分における加熱部１２１の温度の推移及びサーミスタ温度の推移を示している。線３１Ａは、加熱部１２１の温度の推移を示している。線３２Ａは、サーミスタ温度の推移を示している。なお、図３における線３１Ａ及び線３２Ａは、後述するチェーンスモークが行われていない場合の温度推移を示している。

　表２及び線３１Ａに示すように、ＳＴＥＰ３は、ＳＴＥＰ３－１、ＳＴＥＰ３－２、及びＳＴＥＰ３－３の３つの期間に区分される。ＳＴＥＰ２の持続時間が経過すると、制御部１１６は、ＳＴＥＰ３－１において、電源部１１１から加熱部１２１への給電を中断する。これにより、加熱部１２１の温度は低下する。しかしながら、加熱部１２１の温度が過度に低下すると、ユーザに送達される喫味が劣化し得る。そこで、制御部１１６は、加熱部１２１の温度が２００℃を下回ると、ＳＴＥＰ３－１からＳＴＥＰ３－２への移行を判定する。即ち、制御部１１６は、加熱部１２１への給電を再開し、加熱を再開させる。次いで、制御部１１６は、ＳＴＥＰ３－２において、加熱部１２１の温度が２２０℃に到達するまで、加熱部１２１の温度を上昇させる。喫味の劣化を防止するために、ＳＴＥＰ３－２においては、制御部１１６は、時間制御を実施しない。加熱部１２１の温度を急速に上昇させることが望ましいためである。そして、制御部１１６は、ＳＴＥＰ３－３において、ＳＴＥＰ３－１、ＳＴＥＰ３－２、及びＳＴＥＰ３－３の合計の持続時間が２０秒になるよう、時間制御を実施する。そのため、制御部１１６は、２０秒の持続時間が終了するまで、加熱部１２１の温度を２２０℃に維持する。

　線３２Ａに示すように、サーミスタ温度は、加熱部１２１の温度上昇及び低下に追随するように、遅れて上昇及び低下している。ただし、加熱部１２１の温度とサーミスタ温度との乖離は、加熱開始から時間が経過するほど、縮小していることが分かる。サーミスタが加熱開始から時間が経過するほど温まるためである。例えば、ＳＴＥＰ０及びＳＴＥＰ１において、加熱部１２１の温度上昇に遅れてサーミスタ温度が上昇している。一方で、ＳＴＥＰ２において、加熱部１２１の温度が維持されている期間にもサーミスタ温度は上昇し、加熱部１２１の温度とサーミスタ温度との乖離が縮小している。その後、ＳＴＥＰ３－１に入って加熱部１２１の温度が低下すると、それに伴いサーミスタ温度も低下している。ＳＴＥＰ３－１において、加熱部１２１の温度が２００℃に低下したタイミングでは、サーミスタ温度は１７０℃になっている。

　ＳＴＥＰ３－２、及びＳＴＥＰ３－３は、ヒータ温度に基づいて加熱部１２１の動作を制御する期間に相当する。そのため、制御部１１６は、補正処理を実施せず、目標温度、ヒータ温度、及び持続時間に基づいて、加熱部１２１の動作を制御する。

　他方、ＳＴＥＰ３－１は、サーミスタ温度に基づいて加熱部１２１の動作を制御する期間に相当する。即ち、制御部１１６は、ＳＴＥＰ３－１において、加熱部１２１への給電を停止し、目標温度を補正する補正処理を実施しながら、加熱部１２１への給電再開を判定する。例えば、制御部１１６は、ＳＴＥＰ３－１において、目標温度を３０℃低下させる補正を行う。ＳＴＥＰ３－１における目標温度は２００℃であるので、補正後の目標温度は１７０℃となる。そこで、制御部１１６は、ＳＴＥＰ３－１において、サーミスタ温度が補正後の目標温度１７０℃まで低下したか否かを判定し、１７０℃まで低下したと判定した場合に加熱部１２１への給電を再開する。これにより、加熱部１２１の温度が２００℃まで低下したタイミングで、加熱部１２１への給電を再開することが可能となる。即ち、線３１Ａに示すように、加熱部１２１の温度を加熱プロファイルに規定した通りに推移させることが可能となる。

　制御部１１６は、ＳＴＥＰ３－１のような加熱セッションの前半において、補正処理を行う。加熱セッションの前半では、サーミスタが十分に温まっておらず、加熱部１２１の温度とサーミスタ温度との乖離が大きいと考えられるためである。かかる構成によれば、ユーザに送達される喫味の劣化を、より効果的に防止することが可能となる。

　ここで、短い間隔でスティック型基材１５０を差し替えながら複数回加熱する、いわゆるチェーンスモークが行われる場合がある。チェーンスモークが行われる場合、２回目以降の加熱時のサーミスタ温度は、１回目の加熱時のサーミスタ温度と比較して、高くなる。サーミスタが、前回の加熱時に温められたまま、冷め切る前に２回目の加熱が開始されるためである。そのため、何らの対処もされない場合、補正処理において過度な補正が実施されるおそれがある。即ち、サーミスタ温度に基づいて加熱部１２１の動作を制御する期間において、加熱部１２１の温度が加熱プロファイルに規定された通りに推移せず、ユーザに送達される喫味が劣化するおそれがある。

　そこで、制御部１１６は、サーミスタ温度に基づいて加熱部１２１の動作を制御する期間における補正処理として、目標温度を、加熱部１２１の初期温度に基づいて補正する。加熱部１２１の初期温度は、加熱部１２１への給電開始時に測定された加熱部１２１の電気抵抗値に基づいて算出されてもよいし、加熱部１２１への給電開始時のサーミスタ温度であってもよい。かかる構成によれば、チェーンスモークに起因する、ユーザに送達される喫味の劣化を防止することが可能となる。なお、初期温度の検出は、加熱開始を指示するユーザ操作が検出された後、加熱開始よりも前若しくは同時に実施されてもよい。

　具体的には、制御部１１６は、目標温度を補正量分低くなるよう補正する。ただし、補正量は、加熱部１２１の初期温度が第１の温度の場合と比較して、加熱部１２１の初期温度が当該第１の温度よりも低い第２の温度の場合のほうが大きい。より簡易には、補正量は、加熱部１２１の初期温度が高いほど小さく、加熱部１２１の初期温度が低いほど大きい。即ち、制御部１１６は、加熱部１２１の初期温度が高いほど目標温度を小さく下げる。加熱部１２１の初期温度が高いほど、サーミスタ温度は高くなり、加熱部１２１の温度とサーミスタ温度との乖離が小さくなると考えられるためである。他方、制御部１１６は、加熱部１２１の初期温度が低いほど目標温度を大きく下げる。加熱部１２１の初期温度が低いほど、サーミスタ温度は低くなり、加熱部１２１の温度とサーミスタ温度との乖離が大きくなると考えられるためである。なお、制御部１１６は、加熱部１２１の初期温度が所定の閾値よりも低い場合には補正量を３０℃とし、加熱部１２１の初期温度が所定の閾値よりも高い場合には補正量を１０℃にする等、閾値に基づく補正量の設定を行ってもよい。もちろん、１つ以上の任意の数の閾値が設定されてもよい。かかる構成によれば、チェーンスモークに起因する、ユーザに送達される喫味の劣化を、防止することが可能となる。

　加熱部１２１の初期温度に基づく補正処理について、図３と図４と比較しながら具体的に説明する。

　図４は、本実施形態に係るサーミスタ温度に基づく制御の一例を説明するための図である。図４に示したグラフ３０Ｂは、チェーンスモークが行われた際に、上記表２に示した加熱プロファイルに基づき温度制御を行った場合の、ＳＴＥＰ０～ＳＴＥＰ４の前半部分における加熱部１２１の温度の推移及びサーミスタ温度の推移を示している。線３１Ｂは、加熱部１２１の温度の推移を示している。線３２Ｂは、サーミスタ温度の推移を示している。

　図３における線３１Ａと図４における線３１Ｂとを比較すると、チェーンスモークが行われた場合、チェーンスモークが行われていない場合と比較して、加熱部１２１の初期温度が高くなっていることが分かる。図３における線３２Ａと図４における線３２Ｂとを比較すると、チェーンスモークが行われた場合、チェーンスモークが行われていない場合と比較して、加熱部１２１の温度とサーミスタ温度との乖離が小さくなっていることが分かる。例えば、ＳＴＥＰ３－１において、加熱部１２１の温度が２００℃に低下したタイミングでは、サーミスタ温度は１９０℃になっている。

　そこで、図４に示した例では、制御部１１６は、ＳＴＥＰ３－１において、目標温度を１０℃低下させる補正を行う。かかる補正量１０℃は、図３に示した例における補正量３０℃よりも小さい。ＳＴＥＰ３－１における目標温度は２００℃であるので、補正後の目標温度は１９０℃となる。そこで、制御部１１６は、ＳＴＥＰ３－１において、サーミスタ温度が補正後の目標温度１９０℃まで低下したか否かを判定し、１９０℃まで低下したと判定した場合に加熱部１２１への給電を再開する。これにより、加熱部１２１の温度が２００℃まで低下したタイミングで、加熱部１２１への給電を再開することが可能となる。即ち、線３１Ｂに示すように、加熱部１２１の温度を加熱プロファイルに規定した通りに推移させることが可能となる。

　なお、制御部１１６は、複数の加熱プロファイルから選択されたひとつの加熱プロファイルに基づいて、加熱部１２１の動作を制御してもよい。制御部１１６が使用可能な複数の加熱プロファイルは、記憶部１１４に記憶され、どの加熱プロファイルを使用すべきかが例えばユーザにより選択される。その場合、制御部１１６は、複数の加熱プロファイルのいずれが選択された場合であっても、補正量として所定値を用いてもよい。例えば、制御部１１６は、複数の加熱プロファイルのいずれが選択された場合であっても、加熱部１２１の初期温度が低い場合は補正量を３０℃とし、加熱部１２１の初期温度が高い場合は補正量を１０℃としてもよい。かかる構成によれば、加熱プロファイルが切り替えられ、それに伴いＳＴＥＰ３－１の目標温度が切り替えられた場合であっても、適切に補正することが可能となる。かかる構成は、新たな加熱プロファイルをダウンロードして使用したり、加熱プロファイルをユーザがカスタマイズしたりすることが可能な環境において、特に有効である。加熱プロファイルごとに、加熱部１２１の初期温度に応じた補正量を予め定め、記憶する必要がないためである。

　以下では、図５を参照しながら、本実施形態に係る吸引装置１００により実行される処理の流れを説明する。

　図５は、本実施形態に係る吸引装置１００により実行される処理の流れの一例を示すフローチャートである。本フローは、図３及び図４に示した温度制御を行う場合の処理の流れの一例を示している。

　図５に示すように、まず、制御部１１６は、加熱開始を指示するユーザ操作が検出されたか否かを判定する（ステップＳ１０２）。加熱開始を指示するユーザ操作の一例は、吸引装置１００に設けられたスイッチ等を操作すること等の、吸引装置１００に対する操作である。加熱開始を指示するユーザ操作の他の一例は、吸引装置１００にスティック型基材１５０を挿入することである。

　加熱開始を指示するユーザ操作が検出されていないと判定された場合（ステップＳ１０２：ＮＯ）、制御部１１６は、加熱開始を指示するユーザ操作が検出されるまで待機する。

　他方、加熱開始を指示するユーザ操作が検出されたと判定された場合（ステップＳ１０２：ＹＥＳ）、制御部１１６は、加熱部１２１の初期温度を取得する（ステップＳ１０４）。加熱部１２１の初期温度は、サーミスタにより検出される。

　次いで、制御部１１６は、加熱部１２１の初期温度に基づいて、ＳＴＥＰ３－１の目標温度を補正する（ステップＳ１０６）。例えば、制御部１１６は、加熱部１２１の初期温度が所定の閾値よりも低い場合には補正量を３０℃に設定し、加熱部１２１の初期温度が所定の閾値よりも高い場合には補正量を１０℃に設定する。そして、制御部１１６は、ＳＴＥＰ３－１の目標温度を補正量分低くなるよう補正する。即ち、加熱部１２１の初期温度が所定の閾値よりも低い場合、制御部１１６は、ＳＴＥＰ３－１の目標温度を１７０℃に設定する。他方、加熱部１２１の初期温度が所定の閾値よりも高い場合、制御部１１６は、ＳＴＥＰ３－１の目標温度を１９０℃に設定する。

　次いで、制御部１１６は、補正後の加熱プロファイルに基づく加熱を開始する（ステップＳ１０８）。例えば、制御部１１６は、補正後の加熱プロファイルに基づいて、電源部１１１から加熱部１２１への給電を開始する。とりわけ、制御部１１６は、ＳＴＥＰ３－１においては、補正後の目標温度に基づいて加熱部１２１の動作を制御する。一例として、制御部１１６は、加熱部１２１の初期温度が所定の閾値よりも低い場合、サーミスタ温度が補正後の目標温度１７０℃まで低下したことをトリガとして、加熱部１２１への給電を再開させる。この場合の温度推移は、図３を参照しながら上記説明した通りである。他の一例として、制御部１１６は、加熱部１２１の初期温度が所定の閾値よりも高い場合、サーミスタ温度が補正後の目標温度１９０℃まで低下したことをトリガとして、加熱部１２１への給電を再開させる。この場合の温度推移は、図４を参照しながら上記説明した通りである。

　その後、制御部１１６は、終了条件が満たされたか否かを判定する（ステップＳ１１０）。終了条件の一例は、ＳＴＥＰ９の持続時間が経過したことである。終了条件の他の一例は、加熱開始からのパフ回数が所定回数に達したことである。

　終了条件が満たされていないと判定された場合（ステップＳ１１０：ＮＯ）、制御部１１６は、終了条件が満たされるまで待機する。

　他方、終了条件が満たされたと判定された場合（ステップＳ１１０：ＹＥＳ）、制御部１１６は、加熱プロファイルに基づく加熱を終了する（ステップＳ１１２）。その後、処理は終了する。

　なお、上記フローは、加熱部１２１の初期温度が加熱部１２１への給電開始時にサーミスタにより検出される例を示している。これに対し、加熱部１２１の初期温度は、加熱部１２１への給電開始時の加熱部１２１の電気抵抗値に基づいて取得されてもよい。その場合、ステップＳ１０２～Ｓ１０８に係る処理の順序は、Ｓ１０２、Ｓ１０８、Ｓ１０４、Ｓ１０６の順に入れ替わる。

　＜３．補足＞
　以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。

　上記実施形態では、補正処理において目標温度を補正する例を説明したが、本発明はかかる例に限定されない。制御部１１６は、補正処理において、サーミスタ温度を補正してもよい。一例として、制御部１１６は、検出したサーミスタ温度をより高くなるよう補正する。典型的には、加熱部１２１の温度よりも、サーミスタ温度の方が低いためである。制御部１１６は、補正後のサーミスタ温度と目標温度とが一致するよう加熱部１２１の動作を制御することで、加熱プロファイルに規定された通りに加熱部１２１の温度を推移させることができる。かかる構成によれば、上記実施形態と同様に、加熱部１２１の温度とサーミスタ温度との乖離に起因する、ユーザに送達される喫味の劣化を防止することが可能となる。

　さらに、制御部１１６は、サーミスタ温度に基づいて加熱部１２１の動作を制御する期間における補正処理として、サーミスタ温度を、加熱部１２１の初期温度に基づいて補正してもよい。具体的には、制御部１１６は、検出したサーミスタ温度を補正量分高くなるよう補正する。ただし、補正量は、加熱部１２１の初期温度が第１の温度の場合と比較して、加熱部１２１の初期温度が当該第１の温度よりも低い第２の温度の場合のほうが大きい。より簡易には、補正量は、加熱部１２１の初期温度が高いほど小さく、加熱部１２１の初期温度が低いほど大きい。即ち、制御部１１６は、加熱部１２１の初期温度が高いほどサーミスタ温度を小さく上げる。加熱部１２１の初期温度が高いほど、サーミスタ温度は高くなり、加熱部１２１の温度とサーミスタ温度との乖離が小さくなると考えられるためである。他方、制御部１１６は、加熱部１２１の初期温度が低いほどサーミスタ温度を大きく上げる。加熱部１２１の初期温度が低いほど、サーミスタ温度は低くなり、加熱部１２１の温度とサーミスタ温度との乖離が大きくなると考えられるためである。例えば、制御部１１６は、加熱部１２１の初期温度が所定の閾値よりも低い場合には補正量を３０℃とし、加熱部１２１の初期温度が所定の閾値よりも高い場合には補正量を１０℃にする等、閾値に基づく補正量の設定を行ってもよい。もちろん、１つ以上の任意の数の閾値が設定されてもよい。かかる構成によれば、チェーンスモークに起因する、ユーザに送達される喫味の劣化を、防止することが可能となる。

　上記実施形態では、制御部１１６が、時間制御を実施しない期間において補正処理を実施する例を説明したが、本発明はかかる例に限定されない。制御部１１６は、時間制御を実施する期間において、補正処理を実施してもよい。例えば、制御部１１６は、ＳＴＥＰに設定された目標温度を補正し、持続時間の終期にサーミスタ温度を補正後の目標温度に到達させ、持続時間の経過をトリガとしてＳＴＥＰの移行を判定してもよい。かかる構成によれば、加熱部１２１の温度とサーミスタ温度との乖離に起因する、ＳＴＥＰ移行時の加熱部１２１の温度と目標温度とのズレを防止することができる。その結果、ユーザに送達される喫味の劣化を防止することが可能となる。

　上記実施形態では、ＳＴＥＰ３－１においてサーミスタ温度に基づく加熱部１２１の動作の制御、及び補正処理が実施される例を説明したが、本発明はかかる例に限定されない。加熱プロファイルに規定された任意の期間において、サーミスタ温度に基づく加熱部１２１の動作の制御、及び補正処理が実施されてもよい。例えば、ＳＴＥＰ０において、サーミスタ温度に基づく加熱部１２１の動作の制御、及び補正処理が実施されてもよい。もちろん、加熱プロファイルに規定された全期間において、サーミスタ温度に基づく加熱部１２１の動作の制御、及び補正処理が実施されてもよい。

　上記実施形態では、１回の加熱セッションにおいて１つの補正量が用いられる例を説明したが、本発明はかかる例に限定されない。１回の加熱セッションにおいて複数の補正量が用いられてもよい。その場合、制御部１１６は、補正量を、加熱プロファイルに基づく加熱が開始されてからの経過時間に応じて切り替えてもよい。例えば、ＳＴＥＰ０及びＳＴＥＰ３－１においてサーミスタ温度に基づく加熱部１２１の動作の制御、及び補正処理が実施される場合、制御部１１６は、ＳＴＥＰ０において第１の補正量を使用し、ＳＴＥＰ３－１において第２の補正量を使用してもよい。このとき、加熱プロファイルに基づく加熱が開始されてから時間が経過するほど、補正量が小さくなることが望ましい。加熱開始から時間が経過するほど、サーミスタが温まり、加熱部１２１の温度とサーミスタ温度との乖離が小さくなっていくためである。即ち、第２の補正量は、第１の補正量よりも小さいことが望ましい。かかる構成によれば、加熱部１２１の温度とサーミスタ温度との乖離の推移に応じた、適切な補正処理を実施することが可能となる。

　上記実施形態では、加熱部１２１の初期温度に基づいて補正処理が実施される例を説明したが、本発明はかかる例に限定されない。補正処理は、加熱部１２１の初期温度に対応する任意のパラメータに基づいて実施されればよい。一例として、加熱部１２１の初期温度に対応するパラメータとして、加熱開始時の加熱部１２１の電気抵抗値、又は加熱部１２１付近に設けられたサーミスタの電気抵抗値が用いられてもよい。他の一例として、加熱部１２１の初期温度に対応するパラメータとして、吸引装置１００の温度に対応するパラメータが用いられてもよい。吸引装置１００の温度に対応するパラメータは、例えば、加熱部１２１とは離れた位置に設けられたサーミスタにより検出される温度であってよい。そして、加熱開始時の吸引装置１００の温度が高いほど加熱部１２１の初期温度が高く、加熱開始時の吸引装置１００の温度が低いほど加熱部１２１の初期温度が低いものとして取り扱われてもよい。他の一例として、加熱部１２１の初期温度に対応するパラメータとして、加熱部１２１による前回の加熱が終了してからの経過時間、即ちチェーンスモークの間隔が用いられてもよい。そして、チェーンスモークの間隔が短いほど加熱部１２１の初期温度が高く、チェーンスモークの間隔が長いほど加熱部１２１の初期温度が低いものとして取り扱われてもよい。

　上記実施形態では、加熱プロファイルが、加熱部１２１の温度の目標値を含む例を説明したが、本発明はかかる例に限定されない。加熱プロファイルは、加熱部１２１の温度に関するパラメータの目標値を含んでいればよい。加熱部１２１の温度に関するパラメータとしては、上記実施形態において説明した加熱部１２１の温度そのものの他に、加熱部１２１の電気抵抗値が挙げられる。サーミスタ温度に基づいて加熱部１２１の動作が制御される期間に関しては、サーミスタの電気抵抗値の目標値が、加熱プロファイルに含まれていてもよい。

　上記実施形態では、加熱部１２１が発熱抵抗体として構成され、電気抵抗により発熱する例を説明したが、本発明はかかる例に限定されない。例えば、加熱部１２１は、磁場を発生させるコイル等の電磁誘導源と、誘導加熱により発熱するサセプタと、を含んでいてもよく、サセプタによりスティック型基材１５０が加熱されてもよい。この場合、制御部１１６は、電磁誘導源に交流電流を印可して交番磁場を発生させ、サセプタに交番磁場を侵入させることで、サセプタを発熱させる。誘導加熱により発熱するサセプタは、吸引装置１００に設けられる。この場合、加熱プロファイルに基づいて制御されるエアロゾル源を加熱する温度は、サセプタの温度となる。サセプタの温度は、電磁誘導源を含む回路のインピーダンスから算出されるサセプタの電気抵抗値に基づいて推定可能である。この場合、加熱部１２１の温度に関するパラメータとして前述した加熱部１２１の電気抵抗値とは、算出されるサセプタの電気抵抗値でもよい。

　なお、本明細書において説明した各装置による一連の処理は、ソフトウェア、ハードウェア、及びソフトウェアとハードウェアとの組合せのいずれを用いて実現されてもよい。ソフトウェアを構成するプログラムは、例えば、各装置の内部又は外部に設けられる記録媒体（詳しくは、コンピュータにより読み取り可能な非一時的な記憶媒体）に予め格納される。そして、各プログラムは、例えば、本明細書において説明した各装置を制御するコンピュータによる実行時にＲＡＭに読み込まれ、ＣＰＵなどの処理回路により実行される。上記記録媒体は、例えば、磁気ディスク、光ディスク、光磁気ディスク、フラッシュメモリ等である。また、上記のコンピュータプログラムは、記録媒体を用いずに、例えばネットワークを介して配信されてもよい。また、上記のコンピュータは、ASICのような特定用途向け集積回路、ソフトウエアプログラムを読み込むことで機能を実行する汎用プロセッサ、又はクラウドコンピューティングに使用されるサーバ上のコンピュータ等であってよい。また、本明細書において説明した各装置による一連の処理は、複数のコンピュータにより分散して処理されてもよい。

　また、本明細書においてフローチャート及びシーケンス図を用いて説明した処理は、必ずしも図示された順序で実行されなくてもよい。いくつかの処理ステップは、並列的に実行されてもよい。また、追加的な処理ステップが採用されてもよく、一部の処理ステップが省略されてもよい。

　なお、以下のような構成も本発明の技術的範囲に属する。
（１）
　エアロゾル源を加熱する加熱部と、
　前記加熱部の温度を前記加熱部の外から検出する温度センサと、
　前記加熱部の温度の目標値である目標温度に対応するパラメータを含む制御情報に基づいて前記加熱部の動作を制御する制御部と、
　を備え、
　前記制御部は、前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度に基づいて前記加熱部の動作を制御する期間において、前記目標温度又は前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度を補正する補正処理を実施し、前記加熱部の動作を制御する、
　エアロゾル生成システム。
（２）
　前記制御部は、前記補正処理として、前記目標温度又は前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度を、前記加熱部の初期温度に対応するパラメータに基づいて補正する、
　前記（１）に記載のエアロゾル生成システム。
（３）
　前記制御部は、前記目標温度を補正量分低くなるよう補正し、
　前記補正量は、前記加熱部の前記初期温度が第１の温度の場合と比較して、前記加熱部の前記初期温度が前記第１の温度よりも低い第２の温度の場合のほうが大きい、
　前記（２）に記載のエアロゾル生成システム。
（４）
　前記制御部は、前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度を補正量分高くなるよう補正し、
　前記補正量は、前記加熱部の前記初期温度が第１の温度の場合と比較して、前記加熱部の前記初期温度が前記第１の温度よりも低い第２の温度の場合のほうが大きい、
　前記（２）に記載のエアロゾル生成システム。
（５）
　前記制御部は、複数の前記制御情報から選択された前記制御情報に基づいて前記加熱部の動作を制御し、複数の前記制御情報のいずれが選択された場合であっても、前記補正量として所定値を用いる、
　前記（３）又は（４）に記載のエアロゾル生成システム。
（６）
　前記制御部は、前記補正量を、前記制御情報に基づく前記エアロゾル源の加熱が開始されてからの経過時間に応じて切り替える、
　前記（３）～（５）のいずれか一項に記載のエアロゾル生成システム。
（７）
　前記制御情報は、前記加熱部の温度の変化傾向が異なる複数の単位期間の情報を含み、
　前記制御部は、前記補正処理を実施し、前記単位期間に設定された前記目標温度に前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度が到達したことをトリガとして、前記単位期間の移行を判定する、
　前記（１）～（６）のいずれか一項に記載のエアロゾル生成システム。
（８）
　前記制御部は、前記加熱部の温度が上昇又は低下する前記単位期間において、前記補正処理を実施する、
　前記（７）に記載のエアロゾル生成システム。
（９）
　前記エアロゾル生成システムは、電源部を備え、
　前記加熱部は、前記電源部から供給された電力を使用して前記エアロゾル源を加熱し、
　前記制御部は、前記加熱部への給電を停止している前記単位期間において前記補正処理を実施しながら、前記単位期間に設定された前記目標温度まで前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度が低下したことをトリガとして前記加熱部への給電を再開する、
　前記（８）に記載のエアロゾル生成システム。
（１０）
　前記制御部は、前記制御情報に基づいて前記加熱部の動作を制御する期間の前半において、前記補正処理を行う、
　前記（１）～（９）のいずれか一項に記載のエアロゾル生成システム。
（１１）
　前記制御情報に基づいて前記加熱部の動作を制御する期間は、前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度に代えて、前記加熱部の電気抵抗値に基づいて前記加熱部の動作を制御する期間を含む、
　前記（１）～（１０）のいずれか一項に記載のエアロゾル生成システム。
（１２）
　前記エアロゾル生成システムは、前記加熱部により加熱される前記エアロゾル源を含有した基材をさらに備える、
　前記（１）～（１１）のいずれか一項に記載のエアロゾル生成システム。

（１３）
　エアロゾル生成システムを制御する制御方法であって、
　前記エアロゾル生成システムは、
　エアロゾル源を加熱する加熱部と、
　前記加熱部の温度を前記加熱部の外から検出する温度センサと、
　を含み、
　前記制御方法は、
　前記加熱部の温度の目標値である目標温度に対応するパラメータを含む制御情報に基づいて前記加熱部の動作を制御すること、
　を含み、
　前記制御情報に基づいて前記加熱部の動作を制御することは、前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度に基づいて前記加熱部の動作を制御する期間において、前記目標温度又は前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度を補正する補正処理を実施し、前記加熱部の動作を制御することを含む、
　制御方法。
（１４）
　エアロゾル生成システムを制御するコンピュータにより実行されるプログラムであって、
　前記エアロゾル生成システムは、
　エアロゾル源を加熱する加熱部と、
　前記加熱部の温度を前記加熱部の外から検出する温度センサと、
　を含み、
　前記プログラムは、前記コンピュータを、
　前記加熱部の温度の目標値である目標温度に対応するパラメータを含む制御情報に基づいて前記加熱部の動作を制御する制御部、
　として機能させ、
　前記制御部は、前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度に基づいて前記加熱部の動作を制御する期間において、前記目標温度又は前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度を補正する補正処理を実施し、前記加熱部の動作を制御する、
　プログラム。

　１００　　吸引装置
　１１１　　電源部
　１１２　　センサ部
　１１３　　通知部
　１１４　　記憶部
　１１５　　通信部
　１１６　　制御部
　１２１　　加熱部
　１４０　　保持部
　１４１　　内部空間
　１４２　　開口
　１４３　　底部
　１４４　　断熱部
　１５０　　スティック型基材
　１５１　　基材部
　１５２　　吸口部

Claims

　エアロゾル源を加熱する加熱部と、
　前記加熱部の温度を前記加熱部の外から検出する温度センサと、
　前記加熱部の温度の目標値である目標温度に対応するパラメータを含む制御情報に基づいて前記加熱部の動作を制御する制御部と、
　を備え、
　前記制御部は、前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度に基づいて前記加熱部の動作を制御する期間において、前記目標温度又は前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度を補正する補正処理を実施し、前記加熱部の動作を制御する、
　エアロゾル生成システム。
　前記制御部は、前記補正処理として、前記目標温度又は前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度を、前記加熱部の初期温度に対応するパラメータに基づいて補正する、
　請求項１に記載のエアロゾル生成システム。
　前記制御部は、前記目標温度を補正量分低くなるよう補正し、
　前記補正量は、前記加熱部の前記初期温度が第１の温度の場合と比較して、前記加熱部の前記初期温度が前記第１の温度よりも低い第２の温度の場合のほうが大きい、
　請求項２に記載のエアロゾル生成システム。
　前記制御部は、前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度を補正量分高くなるよう補正し、
　前記補正量は、前記加熱部の前記初期温度が第１の温度の場合と比較して、前記加熱部の前記初期温度が前記第１の温度よりも低い第２の温度の場合のほうが大きい、
　請求項２に記載のエアロゾル生成システム。
　前記制御部は、複数の前記制御情報から選択された前記制御情報に基づいて前記加熱部の動作を制御し、複数の前記制御情報のいずれが選択された場合であっても、前記補正量として所定値を用いる、
　請求項３又は４に記載のエアロゾル生成システム。
　前記制御部は、前記補正量を、前記制御情報に基づく前記エアロゾル源の加熱が開始されてからの経過時間に応じて切り替える、
　請求項３～５のいずれか一項に記載のエアロゾル生成システム。
　前記制御情報は、前記加熱部の温度の変化傾向が異なる複数の単位期間の情報を含み、
　前記制御部は、前記補正処理を実施し、前記単位期間に設定された前記目標温度に前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度が到達したことをトリガとして、前記単位期間の移行を判定する、
　請求項１～６のいずれか一項に記載のエアロゾル生成システム。
　前記制御部は、前記加熱部の温度が上昇又は低下する前記単位期間において、前記補正処理を実施する、
　請求項７に記載のエアロゾル生成システム。
　前記エアロゾル生成システムは、電源部を備え、
　前記加熱部は、前記電源部から供給された電力を使用して前記エアロゾル源を加熱し、
　前記制御部は、前記加熱部への給電を停止している前記単位期間において前記補正処理を実施しながら、前記単位期間に設定された前記目標温度まで前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度が低下したことをトリガとして前記加熱部への給電を再開する、
　請求項８に記載のエアロゾル生成システム。
　前記制御部は、前記制御情報に基づいて前記加熱部の動作を制御する期間の前半において、前記補正処理を行う、
　請求項１～９のいずれか一項に記載のエアロゾル生成システム。
　前記制御情報に基づいて前記加熱部の動作を制御する期間は、前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度に代えて、前記加熱部の電気抵抗値に基づいて前記加熱部の動作を制御する期間を含む、
　請求項１～１０のいずれか一項に記載のエアロゾル生成システム。
　前記エアロゾル生成システムは、前記加熱部により加熱される前記エアロゾル源を含有した基材をさらに備える、
　請求項１～１１のいずれか一項に記載のエアロゾル生成システム。
　エアロゾル生成システムを制御する制御方法であって、
　前記エアロゾル生成システムは、
　エアロゾル源を加熱する加熱部と、
　前記加熱部の温度を前記加熱部の外から検出する温度センサと、
　を含み、
　前記制御方法は、
　前記加熱部の温度の目標値である目標温度に対応するパラメータを含む制御情報に基づいて前記加熱部の動作を制御すること、
　を含み、
　前記制御情報に基づいて前記加熱部の動作を制御することは、前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度に基づいて前記加熱部の動作を制御する期間において、前記目標温度又は前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度を補正する補正処理を実施し、前記加熱部の動作を制御することを含む、
　制御方法。
　エアロゾル生成システムを制御するコンピュータにより実行されるプログラムであって、
　前記エアロゾル生成システムは、
　エアロゾル源を加熱する加熱部と、
　前記加熱部の温度を前記加熱部の外から検出する温度センサと、
　を含み、
　前記プログラムは、前記コンピュータを、
　前記加熱部の温度の目標値である目標温度に対応するパラメータを含む制御情報に基づいて前記加熱部の動作を制御する制御部、
　として機能させ、
　前記制御部は、前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度に基づいて前記加熱部の動作を制御する期間において、前記目標温度又は前記温度センサにより検出された前記加熱部の温度を補正する補正処理を実施し、前記加熱部の動作を制御する、
　プログラム。