WO2023127401A1

WO2023127401A1 - 感光性組成物、硬化物、パターン化された硬化膜の製造方法

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Publication number: WO2023127401A1
Application number: PCT/JP2022/044584
Authority: WO
Inventors: 二郎引田; 和之古谷
Original assignee: 東京応化工業株式会社
Priority date: 2021-12-28
Filing date: 2022-12-02
Publication date: 2023-07-06

Abstract

低温での加熱処理でも、有機溶剤耐性に優れ、硬度が高く、且つ断面形状が矩形であるパターン化された硬化物を形成できる感光性組成物と、当該感光性組成物の硬化物と、前述の感光性組成物を用いるパターン化された硬化膜の製造方法とを提供すること。　アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、光重合性モノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）とを含み、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）が、カルボキシ基を有する特定の構造の化合物（Ａ－１）と、オキシラン環以外の環式構造を含み、且つ、前記環式構造に結合する３以上のエポキシ基含有基を有するエポキシ化合物（Ａ－２）との反応物含み、光重合性モノマー（Ｂ）が、芳香族基を有する（メタ）アクリレート（Ｂ１）を含む感光性組成物。

Description

感光性組成物、硬化物、パターン化された硬化膜の製造方法

　本発明は、感光性組成物と、当該感光性組成物の硬化物と、前述の感光性組成物を用いるパターン化された硬化膜の製造方法とに関する。

　種々の半導体素子における絶縁層等の機能層の製造や、液晶表示パネル、有機ＥＬ表示パネル等の画像表示パネルの製造表示装置における絶縁層や種々の光学的機能層の製造において、露光により硬化し得るネガ型の感光性組成物が広く使用されている。

　かかる感光性組成物としては、例えば、基材に対する十分な密着性を有する硬化膜を形成できる感光性組成物として、アクリル樹脂と、特定の構造のシランカップリング材と、重合性化合物とを含む感光性組成物が提案されている（特許文献１を参照）。

国際公開第２０１５／１９４６３９号公

　このような機能層等（硬化物）は、例えば、感光性組成物を塗布及び露光した後に加熱することで製造される。また、位置選択的な露光を行うことにより、所望の形状を有するパターン化された硬化物を形成できる。
　しかしながら、特許文献１等の従来の感光性組成物を用いて、低温の加熱により、硬化物を製造する場合、有機溶剤耐性に優れる硬化物を形成しにくいという問題がある。種々の半導体素子における絶縁層等の機能層の製造や、液晶表示パネル、有機ＥＬ表示パネル等の画像表示パネルの製造においては、その製造工程において有機溶剤が使用されることが多いため、有機溶剤耐性に優れることが望ましい。
　また、特許文献１等の従来の感光性組成物を用いて、低温の加熱により、硬化物を製造する場合、形成される硬化物の硬度が低くなるという問題がある。

　有機溶剤耐性に優れ且つ硬度が高い硬化物を形成するために、感光性組成物の光架橋性を高くすることが考えられるが、光架橋性を高くすると、低温の加熱によりパターン化された硬化物を製造する場合、断面形状が矩形であるパターンを形成し難くなるという問題が生じる。

　本発明は、上記の課題に鑑みなされたものであって、低温での加熱処理でも、有機溶剤耐性に優れ、硬度が高く、且つ断面形状が矩形であるパターン化された硬化物を形成できる感光性組成物と、当該感光性組成物の硬化物と、前述の感光性組成物を用いるパターン化された硬化膜の製造方法とを提供することを目的とする。

　本発明者らは、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、光重合性モノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）とを含み、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）として、カルボキシ基を有する特定の構造の化合物（Ａ－１）と、オキシラン環以外の環式構造を含み、且つ、前記環式構造に結合する３以上のエポキシ基含有基を有するエポキシ化合物（Ａ－２）との反応物を用い、且つ、光重合性モノマー（Ｂ）として、芳香族基を有する（メタ）アクリレート（Ｂ１）を用いることにより上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明は以下のものを提供する。

　本発明の第１の態様は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、光重合性モノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）とを含み、
　アルカリ可溶性樹脂（Ａ）が、下記式（ａ－１）：

（式（ａ－１）中、Ｘ^ａは、下記式（ａ－２）：

で表される基を示し、Ｚ^ａは、テトラカルボン酸二無水物から２つのカルボン酸無水物基を除いた残基を示し、Ｒ^ａ０は、水素原子又は－ＣＯ－Ｙ^ａ－ＣＯＯＨで表される基を示し、Ｙ^ａは、ジカルボン酸無水物からカルボン酸無水物基を除いた残基を示し、ｔ１は、０以上２０以下の整数を示し、
　式（ａ－２）中、Ｒ^ａ１は、それぞれ独立に水素原子、炭素原子数１以上６以下の炭化水素基、又はハロゲン原子を示し、Ｒ^ａ２は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^ａ３は、それぞれ独立に直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し、ｔ２は、０又は１を示し、Ｗ^ａは、下記式（ａ－３）：

で表される基を示し、
　式（ａ－３）中の環Ａは、芳香族環と縮合していてもよく置換基を有していてもよい脂肪族環を示す。）
で表される化合物（Ａ－１）と、オキシラン環以外の環式構造を含み、且つ、前記環式構造に結合する３以上のエポキシ基含有基を有するエポキシ化合物（Ａ－２）との反応物を含み、
　前記光重合性モノマー（Ｂ）が、芳香族基を有する（メタ）アクリレート（Ｂ１）を含む、感光性組成物である。

　本発明の第２の態様は、第１の態様にかかる感光性組成物の硬化物である。

　本発明の第３の態様は、基板上に第１の態様にかかる感光性組成物を塗布して塗布膜を形成することと、
　前記塗布膜を位置選択的に露光することと、
　露光された前記塗布膜を現像液により現像することと、を含むパターン化された硬化膜の製造方法である。

　本発明によれば、低温での加熱処理でも、有機溶剤耐性に優れ、硬度が高く、且つ断面形状が矩形であるパターン化された硬化物を形成できる感光性組成物と、当該感光性組成物の硬化物と、前述の感光性組成物を用いるパターン化された硬化膜の製造方法とを提供することができる。

≪感光性組成物≫
　感光性組成物は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、光重合性モノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）とを含む。
　アルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、下記式（ａ－１）：

（式（ａ－１）中、Ｘ^ａは、下記式（ａ－２）：

で表される基を示し、
　式（ａ－３）中の環Ａは、芳香族環と縮合していてもよく置換基を有していてもよい脂肪族環を示す。）
で表される化合物（Ａ－１）と、オキシラン環以外の環式構造を含み、且つ、前記環式構造に結合する３以上のエポキシ基含有基を有するエポキシ化合物（Ａ－２）との反応物を含む。

　また、光重合性モノマー（Ｂ）は、芳香族基を有する（メタ）アクリレート（Ｂ１）を含む。

　感光性組成物が、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）としての上記の化合物（Ａ－１）とエポキシ化合物（Ａ－２）との反応物と、光重合性モノマー（Ｂ）としての芳香族基を有する（メタ）アクリレート（Ｂ１）とを組み合わせて含む場合、露光後の加熱処理（ポストベーク）を低温（例えば、１１０℃以下、好ましくは１００℃以下）で行っても、有機溶剤耐性に優れ、硬度が高く（例えば鉛筆硬度３Ｈ以上）、且つ断面形状が矩形であるパターン化された硬化物を形成できる。
　種々の半導体素子における絶縁層等の機能層の製造や、液晶表示パネル、有機ＥＬ表示パネル等の画像表示パネルの製造においては、その製造工程において有機溶剤が使用されることが多い。上記感光性組成物は、耐溶剤性が高い硬化物を与えるため、製造工程において有機溶剤が使用される用途に好適である。
　また、上記感光性組成物は、高い硬度や、パターンの断面が矩形形状であることが求められる用途に好適である。

　さらに、感光性組成物が、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）としての上記の化合物（Ａ－１）とエポキシ化合物（Ａ－２）との反応物と、光重合性モノマー（Ｂ）としての芳香族基を有する（メタ）アクリレート（Ｂ１）とを組み合わせて含み、且つ着色剤を含まない場合、感光性組成物を用いて光線透過率の高い透明性に優れる硬化物を形成できる。

　以下、感光性組成物に含まれる、必須又は任意の成分と、感光性組成物の調製方法とについて説明する。

＜アルカリ可溶性樹脂（Ａ）＞
　感光性組成物は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）を含む。アルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、前述の化合物（Ａ－１）と前述のエポキシ化合物（Ａ－２）との反応物を含む。以下、この反応物について、「反応物（Ａ－Ｉ）」とも記す。
　ここで、本明細書において、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）とは、分子内にアルカリ可溶性を持たせる官能基（例えば、フェノール性水酸基、カルボキシ基、スルホン酸基等）を備える樹脂を指す。

　感光性組成物は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）として、上記の反応物（Ａ－Ｉ）とともに、反応物（Ａ－Ｉ）以外の他のアルカリ可溶性樹脂を含んでいてもよい。反応物（Ａ－Ｉ）の使用による所望する効果を得やすい点から、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）中の反応物（Ａ－Ｉ）の質量の比率は、５０質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましく、９０質量％以上がさらに好ましく、１００質量％が特に好ましい。
　反応物（Ａ－Ｉ）以外の他のアルカリ可溶性樹脂としては、ノボラック樹脂（Ａ－ＩＩ）、変性エポキシ樹脂（Ａ－ＩＩＩ）、及びアクリル系樹脂（Ａ－ＩＶ）が挙げられる。

　以下、反応物（Ａ－Ｉ）、ノボラック樹脂（Ａ－ＩＩ）、変性エポキシ樹脂（Ａ－ＩＩＩ）、及びアクリル系樹脂（Ａ－ＩＶ）について説明する。

〔反応物（Ａ－Ｉ）〕
　前述の通り、前述の化合物（Ａ－１）と前述のエポキシ化合物（Ａ－２）との反応物である。以下の、化合物（Ａ－１）、エポキシ化合物（Ａ－２）、及び反応物（Ａ－Ｉ）の製造方法について説明する。

〔化合物（Ａ－１）〕
　化合物（Ａ－１）は、いわゆるカルド構造を有するカルド樹脂である。化合物（Ａ－１）はとしては、下記式（ａ－１）で表される化合物が使用される。

　式（ａ－１）中、Ｘ^ａは、下記式（ａ－２）で表される基を示す。ｔ１は、０以上２０以下の整数を示す。

　上記式（ａ－２）中、Ｒ^ａ１は、それぞれ独立に水素原子、炭素原子数１以上６以下の炭化水素基、又はハロゲン原子を示し、Ｒ^ａ２は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^ａ３は、それぞれ独立に直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し、ｔ２は、０又は１を示し、Ｗ^ａは、下記式（ａ－３）で表される基を示す。

　式（ａ－２）中、Ｒ^ａ３としては、炭素原子数１以上２０以下のアルキレン基が好ましく、炭素原子数１以上１０以下のアルキレン基がより好ましく、炭素原子数１以上６以下のアルキレン基が特に好ましく、エタン－１，２－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、及びプロパン１，３－ジイル基が最も好ましい。

　式（ａ－３）中の環Ａは、芳香族環と縮合していてもよく置換基を有していてもよい脂肪族環を示す。脂肪族環は、脂肪族炭化水素環であっても、脂肪族複素環であってもよい。
　脂肪族環としては、モノシクロアルカン、ビシクロアルカン、トリシクロアルカン、テトラシクロアルカン等が挙げられる。
　具体的には、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等のモノシクロアルカンや、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカンが挙げられる。
　脂肪族環に縮合してもよい芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族複素環でもよく、芳香族炭化水素環が好ましい。具体的にはベンゼン環、及びナフタレン環が好ましい。

　式（ａ－３）で表される２価基の好適な例としては、下記の基が挙げられる。

　式（ａ－１）中の２価基Ｘ^ａは、残基Ｚ^ａを与えるテトラカルボン酸二無水物と、下式（ａ－２ａ）で表されるジオール化合物とを反応させることにより、カルド樹脂（ａ－１）中に導入される。

　式（ａ－２ａ）中、Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、Ｒ^ａ３、及びｔ２は、式（ａ－２）について説明した通りである。式（ａ－２ａ）中の環Ａについては、式（ａ－３）について説明した通りである。

　式（ａ－２ａ）で表されるジオール化合物は、例えば、以下の方法により製造し得る。
　まず、下記式（ａ－２ｂ）で表されるジオール化合物が有するフェノール性水酸基中の水素原子を、必要に応じて、常法に従って、－Ｒ^ａ３－ＯＨで表される基に置換した後、エピクロルヒドリン等を用いてグリシジル化して、下記式（ａ－２ｃ）で表されるエポキシ化合物を得る。
　次いで、式（ａ－２ｃ）で表されるエポキシ化合物を、アクリル酸又はメタクリル酸と反応させることにより、式（ａ－２ａ）で表されるジオール化合物が得られる。
　式（ａ－２ｂ）及び式（ａ－２ｃ）中、Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ３、及びｔ２は、式（ａ－２）について説明した通りである。式（ａ－２ｂ）及び式（ａ－２ｃ）中の環Ａについては、式（ａ－３）について説明した通りである。
　なお、式（ａ－２ａ）で表されるジオール化合物の製造方法は、上記の方法に限定されない。

　式（ａ－２ｂ）で表されるジオール化合物の好適な例としては、以下のジオール化合物が挙げられる。

　上記式（ａ－１）中、Ｒ^ａ０は水素原子又は－ＣＯ－Ｙ^ａ－ＣＯＯＨで表される基である。ここで、Ｙ^ａは、ジカルボン酸無水物から酸無水物基（－ＣＯ－Ｏ－ＣＯ－）を除いた残基を示す。ジカルボン酸無水物の例としては、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水グルタル酸等が挙げられる。

　また、上記式（ａ－１）中、Ｚ^ａは、テトラカルボン酸二無水物から２個の酸無水物基を除いた残基を示す。テトラカルボン酸二無水物の例としては、下記式（ａ－４）で表されるテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
　また、上記式（ａ－１）中、ｔ１は、０以上２０以下の整数を示す。

（式（ａ－４）中、Ｒ^ａ４、Ｒ^ａ５、及びＲ^ａ６は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１以上１０以下のアルキル基及びフッ素原子からなる群より選択される１種を示し、ｔ３は、０以上１２以下の整数を示す。）

　式（ａ－４）中のＲ^ａ４として選択され得るアルキル基は、炭素原子数が１以上１０以下のアルキル基である。アルキル基の備える炭素原子数をこの範囲に設定することで、得られるカルボン酸エステルの耐熱性を一段と向上させることができる。Ｒ^ａ４がアルキル基である場合、その炭素原子数は、反応物（Ａ－Ｉ）の耐熱性を高めやすい点から、１以上６以下が好ましく、１以上５以下がより好ましく、１以上４以下がさらに好ましく、１以上３以下が特に好ましい。
　Ｒ^ａ４がアルキル基である場合、当該アルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよい。

　式（ａ－４）中のＲ^ａ４としては、反応物（Ａ－Ｉ）の耐熱性を高めやすい点から、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１以上１０以下のアルキル基がより好ましい。式（ａ－４）中のＲ^ａ４は、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基又はイソプロピル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が特に好ましい。
　式（ａ－４）中の複数のＲ^ａ４は、高純度のテトラカルボン酸二無水物の調製が容易であることから、同一の基であるのが好ましい。

　式（ａ－４）中のｔ３は０以上１２以下の整数を示す。ｔ３の値を１２以下とすることによって、テトラカルボン酸二無水物の精製を容易にすることができる。
　テトラカルボン酸二無水物の精製が容易である点から、ｔ３の上限は５が好ましく、３がより好ましい。
　テトラカルボン酸二無水物の化学的安定性の点から、ｔ３の下限は１が好ましく、２がより好ましい。
　式（ａ－４）中のｔ３は、２又は３が特に好ましい。

　式（ａ－４）中のＲ^ａ５、及びＲ^ａ６として選択され得る炭素原子数１以上１０以下のアルキル基は、Ｒ^ａ４として選択され得る炭素原子数１以上１０以下のアルキル基と同様である。
　Ｒ^ａ５、及びＲ^ａ６は、テトラカルボン酸二無水物の精製が容易である点から、水素原子、又は炭素原子数１以上１０以下（好ましくは１以上６以下、より好ましくは１以上５以下、さらに好ましくは１以上４以下、特に好ましくは１以上３以下）のアルキル基であるのが好ましく、水素原子又はメチル基であるのが特に好ましい。

　式（ａ－４）で表されるテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロペンタノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物（別名「ノルボルナン－２－スピロ－２’－シクロペンタノン－５’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物」）、メチルノルボルナン－２－スピロ－α－シクロペンタノン－α’－スピロ－２’’－（メチルノルボルナン）－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロヘキサノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物（別名「ノルボルナン－２－スピロ－２’－シクロヘキサノン－６’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物」）、メチルノルボルナン－２－スピロ－α－シクロヘキサノン－α’－スピロ－２’’－（メチルノルボルナン）－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロプロパノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロブタノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロヘプタノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロオクタノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロノナノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロデカノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロウンデカノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロドデカノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロトリデカノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロテトラデカノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロペンタデカノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－（メチルシクロペンタノン）－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－（メチルシクロヘキサノン）－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。

　化合物（Ａ－１）の重量平均分子量は、１０００以上４００００以下であることが好ましく、１５００以上３００００以下であることがより好ましく、２０００以上１００００以下であることがさらに好ましい。上記の範囲とすることにより、反応物（Ａ－Ｉ）をアルカリ可溶性樹脂（Ａ）として用いることにより、感光性組成物の硬化物の溶剤耐性を特に高めやすい。

〔エポキシ化合物（Ａ－２）〕
　エポキシ化合物（Ａ－２）は、オキシラン環以外の環式構造を含み、且つ、当該環式構造に結合する３以上のエポキシ基含有基を有するエポキシ化合物である。例えば、フロログルシノールトリグリジルエーテルが、エポキシ化合物（Ａ－２）に該当する。フロログルシノールトリグリシジルエーテルにおいて、ベンゼン環構造が「オキシラン環以外の環式構造」に該当する。また、３つのグリシジルオキシ基が、「環式構造に結合する３以上のエポキシ基含有基」に該当する。

　なお、環式構造が３以上のエポキシ基含有基を有するとは、単環式構造又は縮合環式構造に３以上のエポキシ基含有基が結合することを意味する。
　例えば、グリシジルエーテル型のフェノールノボラックエポキシ樹脂は、エポキシ化合物（Ａ－２）に該当しない。グリシジルエーテル型のフェノールノボラックエポキシ樹脂は、通常、環式構造として複数のベンゼン環構造を含み、３以上のエポキシ基含有基として３以上のグリシジルオキシ基を有する。しかし、グリシジルエーテル型のフェノールノボラックエポキシ樹脂において、単環式構造であるベンゼン環構造に１つのグリシジルオキシ基しか結合しない。このため、グリシジルエーテル型のフェノールノボラックエポキシ樹脂は、「単環式構造又は縮合環式構造に３以上のエポキシ基含有基が結合する」との要件を満たさない。

　エポキシ化合物（Ａ－２）として好適な化合物としては、下記式（Ａ－２ａ）又は下記式（Ａ－２ｂ）で表される化合物が挙げられる。

　式（Ａ－２ａ）中、Ｘ^ａ１、Ｘ^ａ２、及びＸ^ａ３は、エポキシ基含有基である。式（Ａ－２ｂ）中、Ｘ^ａ４、及びＸ^ａ５は、エポキシ基含有基、又はアルキル基である。式（Ａ－２ｂ）において、ｘ１個のＸ^ａ４及びｘ１個のＸ^ａ５のうちの少なくとも３つはエポキシ基含有基である。ｘ１は３以上の整数である。

　式（Ａ－２ａ）で表される化合物としては、下記式（Ａ－２ａ１）で表される化合物が好ましい。

　式（Ａ－２ａ１）中、Ｘ^ａ１１～Ｘ^ａ１３は、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキレン基、アリーレン基、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＨ－及びこれらの組み合わせからなる基である。Ｘ^ａ１１～Ｘ^ａ１３は、それぞれ同一であってもよく、異なっていてもよく、同一であるのが好ましい。Ｅ１～Ｅ３は、それぞれ独立に、オキシラニル基、エポキシシクロアルキル基、又はエポキシポリシクロアルキル基である。
　なお、エポキシシクロアルキル基は、シクロアルキル基における＞ＣＨ－ＣＨ＜として表される飽和炭素－炭素結合の少なくとも１つが下記のオキシラン環を含む構造に置換された基を意味する。また、エポキシポリシクロアルキル基は、ノルボルニル基、トリシクロデカニル基等のポリシクロアルキル基における飽和炭素－炭素結合の少なくとも１つが下記のオキシラン環を含む構造に置換された基を意味する。

　エポキシシクロアルキル基、及びエポキシポリシクロアルキル基の好適な具体例としては下記の基が挙げられる。

　式（Ａ－２ａ１）中、Ｘ^ａ１１～Ｘ^ａ１３としての直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキレン基としては、炭素原子数１以上１０以下のアルキレン基が好ましい。Ｘ^ａ１１～Ｘ^ａ１３としてのアリーレン基としては、炭素原子数６以上１０以下のアリーレン基が好ましい。
　Ｘ^ａ１１～Ｘ^ａ１３は、直鎖状の炭素原子数１以上３以下のアルキレン基、フェニレン基、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＨ－及びこれらの組み合わせからなる基であることが好ましく、メチレン基等の直鎖状の炭素原子数１以上３以下のアルキレン基及びフェニレン基の少なくとも１種、又は、これらと、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－及びＮＨ－の少なくとも１種との組み合わせからなる基が好ましい。

　式（Ａ－２ａ１）で表される化合物の好ましい具体例としては以下の化合物が挙げられる。

　前述の通り、下記式（Ａ－２ｂ）で表される環状シロキサン化合物を、エポキシ化合物（Ａ－２）として好ましく使用される。

　式（Ａ－２ｂ）中、Ｘ^ａ４、及びＸ^ａ５は、エポキシ基含有基、又はアルキル基である。式（Ａ－２ｂ）において、ｘ１個のＸ^ａ４及びｘ１個のＸ^ａ５のうちの少なくとも３つはエポキシ基含有基である。ｘ１は３以上の整数である。

　Ｘ^ａ４、及びＸ^ａ５としてのエポキシ基含有基は特に限定されない。Ｘ^ａ４、及びＸ^ａ５としては、式（Ａ－２ａ）におけるＸ^ａ１、Ｘ^ａ２、及びＸ^ａ３としてのエポキシ基含有基と同様の基を採用することができる。
　Ｘ^ａ４、及びＸ^ａ５としてのエポキシ基含有基としては、グリシジルオキシアルキル基、エポキシシクロアルキルアルキル基、及びエポキシポリシクロアルキルアルキル基が好ましい。
　グリシジルオキシアルキル基の好適な例としては、例えば３－グリシジルオキシ－ｎ－プロピル基、２－グリシジルオキシエチル基、及び４－グリシジルオキシ－ｎ－ブチル基が挙げられる。

　エポキシシクロアルキルアルキル基、及びエポキシポリシクロアルキルアルキル基の好適な例としては下記の基が挙げられる。

　Ｘ^ａ４、及びＸ^ａ５としてのアルキル基の炭素原子数は特に限定されない。上記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等の炭素原子数１以上１８以下（好ましくは炭素原子数１以上６以下、特に好ましくは炭素原子数１以上３以下）の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を挙げることができる。

　Ｘ^ａ４、及びＸ^ａ５の組み合わせとしては、アルキル基と、エポキシ基含有基との組み合わせが好ましい。

　式（Ａ－２ｂ）中のｘ１は３以上の整数を示し、なかでも、化合物（Ａ－１）との反応性に優れる点で３以上６以下の整数が好ましい。

　式（Ａ－２ｂ）で表されるエポキシ化合物が分子内に有するエポキシ基含有基の数は３以上であり、化合物（Ａ－１）との反応性の点から３以上６以下が好ましく、特に好ましくは３又は４である。

　式（Ａ－２ｂ）で表されるエポキシ化合物の好適な具体例としては、下記の化合物が挙げられる。

（反応物（Ａ－Ｉ）の製造方法）
　反応物（Ａ－Ｉ）の製造方法は、化合物（Ａ－１）と、エポキシ化合物（Ａ－２）との反応を良好に進行させることができる限り特に限定されない。化合物（Ａ－１）と、エポキシ化合物（Ａ－２）との反応は、具体的には、化合物（Ａ－１）が有するカルボキシ基と、エポキシ化合物が有するエポキシ基との間の反応である。

　反応物（Ａ－Ｉ）は、通常、下記式（Ａ－１ａ）で表される化合物、下記式（Ａ－１ｂ）で表される化合物、及び下記式（Ａ１－ｃ）で表される化合物からなる群より選択される１種以上からなる。

　式（Ａ－１ａ）、式（Ａ－１ｂ）、及び式（Ａ－１ｃ）中、Ｘ^ａ、Ｙ^ａ、Ｚ^ａ、及びｔ１は、式（ａ－１）についてそれぞれ前述した通りである。式（Ａ－１ａ）、式（Ａ－１ｂ）、及び式（Ａ－１ｃ）中、Ｒ^Ａは、それぞれ独立に、水素原子、下記式（Ａｉ）で表される基、又は下記式（Ａｉｉ）で表される基である。式（Ａ－１ａ）、式（Ａ－１ｂ）、及び式（Ａ－１ｃ）中、複数のＲ^Ａは、同一であっても、異なっていてもよい。

　式（Ａｉ）で表される基、及び式（Ａｉｉ）で表される基は、それぞれ、エポキシ化合物（Ａ－２）に由来する基である。式（Ａｉ）、及び式（Ａｉｉ）中、Ｒ^０２、Ｒ^０３、及びＲ^０４は、それぞれ独立に、水素原子、又はエポキシ化合物（Ａ－２）が有するエポキシ基含有基を構成する有機基である。Ｒ^０１は、それぞれ独立に、単結合、又はエポキシ化合物（Ａ－２）が有するエポキシ基含有基を構成する有機基である。Ｒ^０４とＲ^０１とは、両者がそれぞれエポキシ基含有基を構成する有機基である場合に、それぞれ結合して環を形成してもよい。Ｒ^ＥＰは、化合物（Ａ－１）中のカルボキシ基と反応していてもよいエポキシ基含有基を２つ以上有する、エポキシ化合物（Ａ－２）における環式構造を与える環式基である。

　前述の通り、式（Ａｉ）で表される基、及び式（Ａｉｉ）で表される基は、それぞれ、エポキシ化合物（Ａ－２）に由来する基である。式（Ａｉ）又は式（Ａｉｉ）で表される基を与えるＲ^ＥＰとエポキシ基含有基を有するエポキシ化合物は、下記式（Ａｉｉｉ）で表される。式（Ａｉｉｉ）において、Ｒ^０１、Ｒ^０２、Ｒ^０３、Ｒ^０４、及びＲ^ＥＰは、式（Ａｉ）及び式（Ａｉｉ）について前述した通りである。

　式（Ａ－１ａ）、式（Ａ－１ｂ）、及び式（Ａ－１ｃ）において、複数のＲ^Ａのうちの２つ以上が式（Ａｉ）で表される基、又は式（Ａｉｉ）で表される基である場合、これらの基において、複数のＲ^０１、複数のＲ^０２、複数のＲ^０３、複数のＲ^０４、及び複数のＲ^ＥＰは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。

　一例として、反応物が上記式（Ａ１－ｃ）で表される化合物であって、式（Ａ１－ｃ）における一部のＲ^Ａが式（Ａｉ）で表される基であり、式（Ａｉ）におけるＲ^ＥＰが有する２つ以上のエポキシ基含有基が化合物（Ａ－１）中のカルボキシ基と反応している場合の化合物の構造を下記式（Ａ－１ｄ）として示す。

　式（Ａ－１ｄ）中、Ｘ^ａ、Ｙ^ａ、Ｚ^ａ、及びｔ１は、式（ａ－１）についてそれぞれ前述した通りである。Ｒ^Ａは、それぞれ独立に、水素原子、上記式（Ａｉ）で表される基、又は上記式（Ａｉｉ）で表される基である。Ｒ^０２、Ｒ^０３、及びＲ^０４は、それぞれ独立に、水素原子、又はエポキシ化合物（Ａ－２）が有するエポキシ基含有基を構成する有機基である。Ｒ^０１は、それぞれ独立に、単結合、又はエポキシ化合物（Ａ－２）が有するエポキシ基含有基を構成する有機基である。Ｒ^０４とＲ^０１とは、エポキシ基含有基を構成する有機基である場合に、それぞれ結合して環を形成してもよい。Ｒ^ＥＰは、化合物（Ａ－１）中のカルボキシ基と反応していてもよいエポキシ基含有基を２つ以上有する、エポキシ化合物（Ａ－２）における環式構造を与える環式基である。なお、式（Ａ－１ｄ）に示すＲ^Ａが上記式（Ａｉ）で表される基、又は上記式（Ａｉｉ）で表される基となる場合、当該Ｒ^ＡにおけるＲ^ＥＰが有する２つ以上のエポキシ基含有基は、化合物（Ａ－１）中のカルボキシ基と反応していてもよい。Ｒ^ＥＰが有する２つ以上のエポキシ基含有基が、化合物（Ａ－１）中のカルボキシ基と反応する比率は、化合物（Ａ－１）及びエポキシ化合物（Ａ－２）の仕込み比率や化合物（Ａ－１）とエポキシ化合物（Ａ－２）との反応の条件を調整することにより適宜調整される。
　式（Ａ－１ｄ）中、ｘ２、及びｘ３は、それぞれ０以上の整数であり、１以上４以下の整数が好ましい。
　例えば、式（Ａ－１ｄ）におけるＲ^ＥＰが式（Ａ－２ａ）で表されるエポキシ化合物に由来する場合、ｘ２及びｘ３は、それぞれ１又は０であり、ｘ２とｘ３との和が１である。ｘ２が０の場合、ｘ３が１である。この場合、式（Ａ１－ｄ）で表される反応物中に、化合物（Ａ－１）が有するカルボキシ基と未反応のエポキシ基含有基が存在している。
　式（Ａ－１ｄ）におけるＲ^ＥＰが式（Ａ－２ｂ）で表されるエポキシ化合物に由来する場合、ｘ２及びｘ３は、それぞれ０以上（ｘ１×２－２）以下の整数である。ｘ１については、式（Ａ－２ｂ）について説明した通りである。式（Ａ１－ｄ）中のＲ^ＥＰが式（Ａ－２ｂ）で表されるエポキシ化合物に由来し、式（Ａ－２ｂ）におけるＸ^ａ４及びＸ^ａ５としてのエポキシ基含有基の総数をｘ４とする場合、ｘ２が０以上（ｘ４－２）よりも小であると、式（Ａ１－ｄ）で表される反応物中に、化合物（Ａ－１）が有するカルボキシ基と未反応のエポキシ基含有基が存在している。

　反応物（Ａ－Ｉ）を製造する際、例えば、エポキシ化合物（Ａ－２）１質量部に対して、化合物（Ａ－１）を５質量部以上９０質量部以下反応させるのが好ましく、５質量部以上５０質量部以下反応させるのがより好ましく、５質量部以上３０質量部以下反応させるのがさらに好ましい。
　化合物（Ａ－１）と、エポキシ化合物（Ａ－２）との反応は、通常、両者を混合することにより自然に進行する。

　なお、化合物（Ａ－１）と、エポキシ化合物（Ａ－２）との仕込み比率は、感光性組成物の用途に応じて適宜変更され得る。例えば、エポキシ化合物（Ａ－２）が有する全てのエポキシ基を、化合物（Ａ－１）が有するカルボキシ基と反応させる場合、未反応のエポキシ基が残存しないため、反応物（Ａ－Ｉ）や感光性組成物の保存安定性が良好である。この場合、感光性組成物の硬化反応は、反応物（Ａ－Ｉ）が有するエチレン性不飽和二重結合間の反応である。

　エポキシ基を残存させない場合、化合物（Ａ－１）及びエポキシ化合物（Ａ－２）の仕込み比率としては、エポキシ化合物（Ａ－２）が有するエポキシ基１当量に対して、化合物（Ａ－１）が有するカルボキシ基が０．９０当量以上１．２０当量以下となる比率が好ましい。
　この範囲内の仕込み比率であれば、エポキシ基の残存をごくわずかにでき、反応中のゲル化を抑制でき、保存安定性が良好な反応物（Ａ－Ｉ）を得やすい。

　また、化合物（Ａ－１）の使用量を減らし、未反応のエポキシ基を残存させることにより、化合物（Ａ－１）に由来するエチレン性不飽和二重結合と、エポキシ基とを組み合わせて有する反応物（Ａ－Ｉ）が得られる。このような反応物（Ａ－Ｉ）を用いる場合、エチレン性不飽和二重結合による反応と、エポキシ基による反応とを硬化のために複合的に利用できる。この場合、金属材料への硬化物の密着性が向上したり、硬化時の硬化物の収縮を抑制できたりする。

　エポキシ基を残存させる場合、化合物（Ａ－１）及びエポキシ化合物（Ａ－２）の仕込み比率としては、エポキシ化合物（Ａ－２）が有するエポキシ基１当量に対して、化合物（Ａ１）が有するカルボキシ基が０．２０当量以上０．９０当量未満となる比率が好ましい。

　化合物（Ａ－１）と、エポキシ化合物（Ａ－２）との反応は、有機溶媒中で行われるのが好ましい。
　化合物（Ａ－１）と、エポキシ化合物（Ａ－２）との反応に用いることができる溶媒としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール－ｎ－プロピルエーテル、エチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン等のケトン類；２－ヒドロキシプロピオン酸メチル、２－ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類；２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオン酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２－ヒドロキシ－３－メチルブタン酸メチル、３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、蟻酸ｎ－ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸ｎ－ブチル、酪酸エチル、酪酸ｎ－プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸ｎ－ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ－プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２－オキソブタン酸エチル等の他のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等が挙げられる。

　化合物（Ａ－１）と、エポキシ化合物（Ａ－２）とを良好に反応させて、分子量が十分に高まった反応物（Ａ－Ｉ）を得るためには、反応液中の、化合物（Ａ１）の濃度と、エポキシ化合物（Ａ－２）の濃度との合計が、３０質量％以上７０質量％以下であるのが好ましく、４０質量％以上６０質量％以下であるのがより好ましい。

　化合物（Ａ－１）と、エポキシ化合物（Ａ－２）とを反応させる温度は特に限定されない。例えば、化合物（Ａ－１）と、エポキシ化合物（Ａ－２）との反応は、－２０℃以上１００℃以下、好ましくは－１０℃以上６０℃以下、より好ましくは０℃以上４０℃以下で実施しうる。反応温度は、反応の間、一定であってもよく変化してもよい。

　化合物（Ａ－１）と、エポキシ化合物（Ａ－２）とを反応させる時間は特に限定されない。例えば、化合物（Ａ－１）と、エポキシ化合物（Ａ－２）とを反応させる時間は、１時間以上２４時間以下が好ましく、２時間以上１２時間以下がより好ましい。

　化合物（Ａ－１）と、エポキシ化合物（Ａ－２）との反応は、例えば、反応物（Ａ－Ｉ）の重量平均分子量が５０００以上になるまで行われるのが好ましく、６０００以上になるまで行われるのがより好ましい。なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定されるポリスチレン換算の分子量である。

〔ノボラック樹脂（Ａ－ＩＩ）〕
　感光性組成物は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）としてノボラック樹脂（Ａ－ＩＩ）を含んでいてもよい。ノボラック樹脂（Ａ－ＩＩ）としては、従来から感光性組成物に配合されている種々のノボラック樹脂を用いることができる。ノボラック樹脂（Ａ－ＩＩ）としては、フェノール性水酸基を有する芳香族化合物（以下、単に「フェノール類」という。）とアルデヒド類とを酸触媒下で付加縮合させることにより得られるものが好ましい。

（フェノール類）
　ノボラック樹脂（Ａ－ＩＩ）を作製する際に用いられるフェノール類としては、例えば、フェノール；ｏ－クレゾール、ｍ－クレゾール、ｐ－クレゾール等のクレゾール類；２，３－キシレノール、２，４－キシレノール、２，５－キシレノール、２，６－キシレノール、３，４－キシレノール、３，５－キシレノール等のキシレノール類；ｏ－エチルフェノール、ｍ－エチルフェノール、ｐ－エチルフェノール等のエチルフェノール類；２－イソプロピルフェノール、３－イソプロピルフェノール、４－イソプロピルフェノール、ｏ－ブチルフェノール、ｍ－ブチルフェノール、ｐ－ブチルフェノール、並びにｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール等のアルキルフェノール類；２，３，５－トリメチルフェノール、及び３，４，５－トリメチルフェノール等のトリアルキルフェノール類；レゾルシノール、カテコール、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、及びフロログリシノール等の多価フェノール類；アルキルレゾルシン、アルキルカテコール、及びアルキルハイドロキノン等のアルキル多価フェノール類（いずれのアルキル基も炭素原子数１以上４以下である。）；α－ナフトール；β－ナフトール；ヒドロキシジフェニル；並びにビスフェノールＡ等が挙げられる。これらのフェノール類は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

　これらのフェノール類の中でも、ｍ－クレゾール及びｐ－クレゾールが好ましく、ｍ－クレゾールとｐ－クレゾールとを併用することがより好ましい。この場合、両者の配合割合を調整することにより、感光性組成物を用いて形成される硬化物の耐熱性等の諸特性を調節することができる。
　ｍ－クレゾールとｐ－クレゾールの配合割合は特に限定されるものではないが、ｍ－クレゾール／ｐ－クレゾールのモル比で、３／７以上８／２以下が好ましい。ｍ－クレゾール及びｐ－クレゾールをかかる範囲の比率で用いることにより、耐熱性に優れる硬化物を形成可能な感光性組成物を得やすい。

　また、ｍ－クレゾールと、２，３，５－トリメチルフェノールとを併用して製造されるノボラック樹脂も好ましい。かかるノボラック樹脂を用いる場合、ポストベーク時の加熱により過度にフローしにくい硬化物を形成できる感光性組成物を、特に得やすい。
　ｍ－クレゾールと２，３，５－トリメチルフェノールの配合割合は特に限定されるものではないが、ｍ－クレゾール／２，３，５－トリメチルフェノールのモル比で、７０／３０以上９５／５以下が好ましい。

（アルデヒド類）
　ノボラック樹脂（Ａ－ＩＩ）を作製する際に用いられるアルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、フルフラール、ベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、及びアセトアルデヒド等が挙げられる。これらのアルデヒド類は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

（酸触媒）
　ノボラック樹脂（Ａ－ＩＩ）を作製する際に用いられる酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、及び亜リン酸等の無機酸類；蟻酸、シュウ酸、酢酸、ジエチル硫酸、及びパラトルエンスルホン酸等の有機酸類；並びに酢酸亜鉛等の金属塩類等が挙げられる。これらの酸触媒は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

（分子量）
　ノボラック樹脂（Ａ－ＩＩ）のポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ；以下、単に「重量平均分子量」ともいう。）は、感光性組成物を用いて形成される硬化物の加熱によるフローに対する耐性の観点から、下限値として２０００が好ましく、５０００がより好ましく、１００００が特に好ましく、１５０００がさらに好ましく、２００００が最も好ましく、上限値として５００００が好ましく、４５０００がより好ましく、４００００がさらに好ましく、３５０００が最も好ましい。

　ノボラック樹脂（Ａ－ＩＩ）としては、ポリスチレン換算の重量平均分子量が異なるノボラック樹脂を少なくとも２種組み合わせて用いることができる。重量平均分子量が異なるノボラック樹脂を大小組み合わせて用いることにより、感光性組成物の現像性と、感光性組成物を用いて形成される硬化物の耐熱性とのバランスをとることができる。

〔変性エポキシ樹脂（Ａ－ＩＩＩ）〕
　感光性組成物は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）として変性エポキシ樹脂（Ａ－ＩＩ）を含んでいてもよい。アルカリ可溶性樹脂（Ａ）としては、硬化物のベーク時のより高いフロー耐性を実現、また、硬化物に高い耐水性を付与しやすい点から、エポキシ化合物（ａ－３ａ）と不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ）との反応物の、多塩基酸無水物（ａ－３ｃ）付加体（Ａ－ＩＩＩ）を含んでいてもよい。かかる付加体について、「変性エポキシ樹脂（Ａ－ＩＩＩ）」とも記す。
　なお、本出願の明細書及び特許請求の範囲において、上記の定義に該当する化合物であって、前述の化合物（Ａ－１）に該当しない化合物を、変性エポキシ樹脂（Ａ－ＩＩＩ）とする。

　以下、エポキシ化合物（ａ－３ａ）、不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ）、及び多塩基酸無水物（ａ－３ｃ）について説明する。

＜エポキシ化合物（ａ－３ａ）＞
　エポキシ化合物（ａ－３ａ）は、エポキシ基を有する化合物であれば特に限定されず、芳香族基を有する芳香族エポキシ化合物であっても、芳香族基を含まない脂肪族エポキシ化合物であってもよく、芳香族基を有する芳香族エポキシ化合物が好ましい。
　エポキシ化合物（ａ－３ａ）は、単官能エポキシ化合物であっても、２官能以上の多官能エポキシ化合物であってもよく、多官能エポキシ化合物が好ましい。

　エポキシ化合物（ａ－３ａ）の具体例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、及びビフェニル型エポキシ樹脂等の２官能エポキシ樹脂；ダイマー酸グリシジルエステル、及びトリグリシジルエステル等のグリシジルエステル型エポキシ樹脂；テトラグリシジルアミノジフェニルメタン、トリグリシジル－ｐ－アミノフェノール、テトラグリシジルメタキシリレンジアミン、及びテトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサン等のグリシジルアミン型エポキシ樹脂；トリグリシジルイソシアヌレート等の複素環式エポキシ樹脂；フロログリシノールトリグリシジルエーテル、トリヒドロキシビフェニルトリグリシジルエーテル、トリヒドロキシフェニルメタントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、２－［４－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］－２－［４－［１，１－ビス［４－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］エチル］フェニル］プロパン、及び１，３－ビス［４－［１－［４－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］－１－［４－［１－［４－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］－１－メチルエチル］フェニル］エチル］フェノキシ］－２－プロパノール等の３官能型エポキシ樹脂；テトラヒドロキシフェニルエタンテトラグリシジルエーテル、テトラグリシジルベンゾフェノン、ビスレゾルシノールテトラグリシジルエーテル、及びテトラグリシドキシビフェニル等の４官能型エポキシ樹脂が挙げられる。

　また、エポキシ化合物（ａ－３ａ）としては、ビフェニル骨格を有するエポキシ化合物が好ましい。
　ビフェニル骨格を有するエポキシ化合物は、主鎖に下記式（ａ－３ａ－１）で表されるビフェニル骨格を少なくとも１つ以上有するのが好ましい。
　ビフェニル骨格を有するエポキシ化合物は、２以上のエポキシ基を有する多官能エポキシ化合物であるのが好ましい。
　ビフェニル骨格を有するエポキシ化合物を用いることにより、感度と現像性とのバランスに優れ、基板への密着性に優れた硬化物を形成できる感光性組成物を得やすい。

（式（ａ－３ａ－１）中、Ｒ^ａ７は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１以上１２以下のアルキル基、ハロゲン原子、又は置換基を有してもよいフェニル基であり、ｊは１以上４以下の整数である。）

　Ｒ^ａ７が炭素原子数１以上１２以下のアルキル基である場合、アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ－オクチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、ｎ－ノニル基、イソノニル基、ｎ－デシル基、イソデシル基、ｎ－ウンデシル基、及びｎ－ドデシル基が挙げられる。

　Ｒ^ａ７がハロゲン原子である場合、ハロゲン原子の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。

　Ｒ^ａ７が置換基を有してもよいフェニル基である場合、フェニル基上の置換基の数は特に限定されない。フェニル基上の置換基の数は、０以上５以下であり、０又は１が好ましい。
　置換基の例としては、炭素原子数１以上４以下のアルキル基、炭素原子数１以上４以下のアルコキシ基、炭素原子数２以上４以下の脂肪族アシル基、ハロゲン原子、シアノ基、及びニトロ基が挙げられる。

　上記式（ａ－３ａ－１）で表されるビフェニル骨格を有するエポキシ化合物（ａ－３ａ）としては特に限定されないが、例えば、下記式（ａ－３ａ－２）で表されるエポキシ化合物を挙げることができる。

（式（ａ－３ａ－２）中、Ｒ^ａ７及びｊは、式（ａ－３ａ－１）と同様であり、ｋは括弧内の構成単位の平均繰り返し数であって０以上１０以下である。）

　式（ａ－３ａ－２）で表されるエポキシ化合物の中では、感度と現像性とのバランスに優れる感光性組成物を特に得やすいことから、下記式（ａ－３ａ－３）で表される化合物が好ましい。

（式（ａ－３ａ－３）中、ｋは、式（ａ－３ａ－２）と同様である。）

（不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ））
　変性エポキシ化合物（ａ－３）と調製するにあたって、エポキシ化合物（ａ－３ａ）と、不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ）とを反応させる。
　不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ）としては、分子中にアクリル基やメタクリル基等の反応性の不飽和二重結合を含有するモノカルボン酸が好ましい。このような不飽和基含有カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、β－スチリルアクリル酸、β－フルフリルアクリル酸、α－シアノ桂皮酸、桂皮酸等を挙げることができる。また、不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ）は、単独又は２種類以上を組み合わせて用いてもよい。

　エポキシ化合物（ａ－３ａ）と、不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ）とは、公知の方法により反応させることができる。好ましい反応方法としては、例えば、エポキシ化合物（ａ－３ａ）と不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ）とを、トリエチルアミン、ベンジルエチルアミン等の３級アミン、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム塩、ピリジン、又はトリフェニルホスフィン等を触媒として、有機溶剤中、反応温度５０℃以上１５０℃以上で数時間以上数十時間以下の間反応させる方法が挙げられる。

　エポキシ化合物（ａ－３ａ）と不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ）との反応における両者の使用量の比率は、エポキシ化合物（ａ－３ａ）のエポキシ当量と、不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ）のカルボン酸当量との比として、通常１：０．５～１：２が好ましく、１：０．８～１：１．２５がより好ましく、１：０．９～１：１．１が特に好ましい。
　エポキシ化合物（ａ－３ａ）の使用量と不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ）の使用量との比率が、前記の当量比で１：０．５～１：２であると、架橋効率が向上する傾向があり好ましい。

（多塩基酸無水物（ａ－３ｃ））
　多塩基酸無水物（ａ－３ｃ）は、２個以上のカルボキシル基を有するカルボン酸の無水物である。
　多塩基酸無水物（ａ－３ｃ）としては、特に限定されないが、例えば、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３－メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、４－メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、３－エチルヘキサヒドロ無水フタル酸、４－エチルヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、３－メチルテトラヒドロ無水フタル酸、４－メチルテトラヒドロ無水フタル酸、３－エチルテトラヒドロ無水フタル酸、４－エチルテトラヒドロ無水フタル酸、下記式（ａ－３ｃ－１）で表される化合物、及び下記式（ａ－３ｃ－２）で表される化合物を挙げることができる。また、多塩基酸無水物（ａ－３ｃ）は、単独又は２種類以上を組み合わせて用いてもよい。

（式（ａ－３ｃ－２）中、Ｒ^ａ８は、炭素原子数１以上１０以下の置換基を有してもよいアルキレン基を示す。）

　多塩基酸無水物（ａ－３ｃ）としては、感度と現像性とのバランスに優れる感光性組成物を得やすいことから、ベンゼン環を２個以上有する化合物であることが好ましい。また、多塩基酸無水物（ａ－３ｃ）は、上記式（ａ－３ｃ－１）で表される化合物、及び上記式（ａ－３ｃ－２）で表される化合物の少なくとも一方を含むのがより好ましい。

　エポキシ化合物（ａ－３ａ）と不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ）とを反応させた後、多塩基酸無水物（ａ－３ｃ）を反応させる方法は、公知の方法から適宜選択できる。
　また、使用量比は、エポキシ化合物（ａ－３ａ）と不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ）との反応後の成分中のＯＨ基のモル数と、多塩基酸無水物（ａ－３ｃ）の酸無水物基の当量比で、通常１：１～１：０．１であり、好ましくは１：０．８～１：０．２である。上記範囲とすることにより、現像性が良好である感光性組成物を得やすい。

　また、変性エポキシ樹脂（Ａ－ＩＩＩ）の酸価は、樹脂固形分で、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、より好ましくは、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。樹脂の酸価を１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上にすることにより現像液に対する充分な溶解性が得られ、また、酸価を１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下にすることにより充分な硬化性を得ることができ、表面性を良好にすることができる。

　また、変性エポキシ樹脂（Ａ－ＩＩＩ）の重量平均分子量は、１０００以上４００００以下であることが好ましく、より好ましくは、２０００以上３００００以下である。重量平均分子量が１０００以上であることにより耐熱性、及び強度に優れる硬化物を形成しやすい。また、４００００以下であることにより現像液に対する十分な溶解性を示す感光性組成物を得やすい。

〔アクリル系樹脂（Ａ－ＩＶ）〕
　アクリル系樹脂（Ａ－ＩＶ）もまたアルカリ可溶性樹脂（Ａ）を構成する成分として好ましい。
　アクリル系樹脂（Ａ－ＩＶ）としては、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位、及び／又は（メタ）アクリル酸エステル等の他のモノマーに由来する構成単位を含む樹脂を用いることができる。（メタ）アクリル酸は、アクリル酸、又はメタクリル酸である。（メタ）アクリル酸エステルは、下記式（ａ－４－１）で表される化合物であって、本発明の目的を阻害しない限り特に限定されない。

　上記式（ａ－４－１）中、Ｒ^ａ９は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ^ａ１０は、１価の有機基である。この有機基は、該有機基中にヘテロ原子等の炭化水素基以外の結合や置換基を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。

　Ｒ^ａ１０の有機基中の炭化水素基以外の置換基としては、本発明の効果が損なわれない限り特に限定されず、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シアノ基、イソシアノ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、シリル基、シラノール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシ基、カルボキシラート基、アシル基、アシルオキシ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、ヒドロキシイミノ基、アルキルエーテル基、アルキルチオエーテル基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アミノ基（－ＮＨ_２、－ＮＨＲ、－ＮＲＲ’：Ｒ及びＲ’はそれぞれ独立に炭化水素基を示す）等が挙げられる。上記置換基に含まれる水素原子は、炭化水素基によって置換されていてもよい。また、上記置換基に含まれる炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれでもよい。

　また、Ｒ^ａ１０としての有機基は、アクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基等の反応性の官能基を有していてもよい。
　アクリロイルオキシ基やメタアクリロイルオキシ基等の、不飽和二重結等を有するアシル基は、例えば、エポキシ基を有する構成単位を含むアクリル系樹脂（Ａ－ＩＶ）における、エポキシ基の少なくとも一部に、アクリル酸やメタクリル酸等の不飽和カルボン酸を反応させることにより製造することができる。

　Ｒ^ａ１０としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基、又は複素環基が好ましく、これらの基は、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、又は複素環基で置換されていてもよい。また、これらの基がアルキレン部分を含む場合、アルキレン部分は、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合により中断されていてもよい。

　アルキル基が、直鎖状又は分岐鎖状の基である場合、その炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上１５以下がより好ましく、１以上１０以下が特に好ましい。好適なアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ－オクチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、ｎ－ノニル基、イソノニル基、ｎ－デシル基、イソデシル基等が挙げられる。

　アルキル基が、脂環式基、又は脂環式基を含む基である場合、アルキル基に含まれる好適な脂環式基としては、シクロペンチル基、及びシクロヘキシル基等単環の脂環式基や、アダマンチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、及びテトラシクロドデシル基等の多環の脂環式基が挙げられる。

　式（ａ－４－１）で表される化合物が、エポキシ基を有する鎖状の基をＲ^ａ１０として有する場合の、式（ａ－４－１）で表される化合物の具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、２－メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシブチル（メタ）アクリレート、６，７－エポキシヘプチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エポキシアルキルエステル類が挙げられる。

　また、式（ａ－４－１）で表される化合物は、脂環式エポキシ基含有（メタ）アクリル酸エステルであってもよい。脂環式エポキシ基を構成する脂環式基は、単環であっても多環であってもよい。単環の脂環式基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。また、多環の脂環式基としては、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等が挙げられる。

　式（ａ－４－１）で表される化合物が脂環式エポキシ基含有（メタ）アクリル酸エステルである場合の具体例としては、例えば下記式（ａ－４－１ａ）～（ａ－４－１ｏ）で表される化合物が挙げられる。これらの中でも、現像性を適度とするためには、下記式（ａ－４－１ａ）～（ａ－４－１ｅ）で表される化合物が好ましく、下記式（ａ－４－１ａ）～（ａ－４－１ｃ）で表される化合物がより好ましい。

　上記式中、Ｒ^ａ２０は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^ａ２１は炭素原子数１以上６以下の２価の脂肪族飽和炭化水素基を示し、Ｒ^ａ２２は炭素原子数１以上１０以下の２価の炭化水素基を示し、ｔは０以上１０以下の整数を示す。Ｒ^ａ２１としては、直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基が好ましい。Ｒ^ａ２２としては、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、フェニレン基、シクロヘキシレン基、－ＣＨ_２－Ｐｈ－ＣＨ_２－（Ｐｈはフェニレン基を示す）が好ましい。

　また、アクリル系樹脂（Ａ－ＩＶ）は、（メタ）アクリル酸エステル以外のモノマーを重合させた樹脂であってもよい。このようなモノマーとしては、（メタ）アクリルアミド類、不飽和カルボン酸類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン類等が挙げられる。これらのモノマーは、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

　（メタ）アクリルアミド類としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ－アルキル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－アリール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジアルキル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－アリール（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチル－Ｎ－フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシエチル－Ｎ－メチル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。

　不飽和カルボン酸類としては、クロトン酸等のモノカルボン酸；マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカルボン酸；これらジカルボン酸の無水物；等が挙げられる。

　アリル化合物としては、酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリル等のアリルエステル類；アリルオキシエタノール；等が挙げられる。

　ビニルエーテル類としては、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロロエチルビニルエーテル、１－メチル－２，２－ジメチルプロピルビニルエーテル、２－エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル；ビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロロフェニルエーテル、ビニル－２，４－ジクロロフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアントラニルエーテル等のビニルアリールエーテル；等が挙げられる。

　ビニルエステル類としては、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート、ビニルジクロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルフェニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル－β－フェニルブチレート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ安息香酸ビニル、テトラクロロ安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニル等が挙げられる。

　スチレン類としては、スチレン；メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン等のアルキルスチレン；メトキシスチレン、４－メトキシ－３－メチルスチレン、ジメトキシスチレン等のアルコキシスチレン；クロロスチレン、ジクロロスチレン、トリクロロスチレン、テトラクロロスチレン、ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、トリフルオロスチレン、２－ブロモ－４－トリフルオロメチルスチレン、４－フルオロ－３－トリフルオロメチルスチレン等のハロスチレン；等が挙げられる。

　アクリル系樹脂（Ａ－ＩＶ）における、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位の量と、他のモノマーに由来する構成単位の量とは、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。アクリル系樹脂（Ａ－ＩＶ）における、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位の量は、アクリル系樹脂（Ａ－ＩＶ）の質量に対して、５質量％以上５０質量％以下が好ましく、１０質量％以上３０質量％以下がより好ましい。

　アクリル系樹脂（Ａ－ＩＶ）が、不飽和二重結合を有する構成単位を有する場合、アクリル系樹脂（Ａ－ＩＶ）における、不飽和二重結合を有する構成単位の量は、１質量％以上５０質量％以下が好ましく、１質量％以上３０質量％以上がより好ましく、１質量％以上２０質量％以下が特に好ましい。
　アクリル系樹脂（感光性）が、上記の範囲内の量の不飽和二重結合を有する構成単位を含むことにより、アクリル系樹脂をレジスト膜内の架橋反応に取り込んで均一化できるためカラムスペーサの耐熱性、機械特性の向上に有効である。

　アクリル系樹脂（Ａ－ＩＶ）の重量平均分子量は、２０００以上５００００以下であることが好ましく、３０００以上３００００以下であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、感光性組成物の膜形成能、露光後の現像性のバランスがとりやすい傾向がある。

　アルカリ可溶性樹脂（Ａ）の含有量は、感光性組成物の固形分全体の質量に対して１５質量％以上７５質量％以下であることが好ましく、２０質量％以上６０質量％以下であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、現像性に優れる感光性組成物を得やすい。

＜光重合性モノマー（Ｂ）＞
　感光性組成物は、光重合性モノマー（Ｂ）を含む。
　光重合性モノマー（Ｂ）は、芳香族基を有する（メタ）アクリレート（Ｂ１）を含む。
　なお、本明細書において、（メタ）アクリレートは、アクリレート、及びメタクリレートの双方を意味し、（メタ）アクリロイルは、アクリロイル、及びメタクリロイルの双方を意味し、（メタ）アクリルは、アクリル、及びメタクリルの双方を意味する。

　感光性組成物は、芳香族基を有する（メタ）アクリレート（Ｂ１）を、上記の化合物（Ａ－１）とエポキシ化合物（Ａ－２）との反応物とともに含むことにより、露光後の加熱処理（ポストベーク）を低温（例えば、１１０℃以下、好ましくは１００℃以下）で行っても、有機溶剤耐性に優れ、硬度が高く、且つ断面形状が矩形であるパターン化された硬化物を形成できる。

　他方、感光性組成物が、芳香族基を有する（メタ）アクリレート（Ｂ１）を含まず、芳香族基を有する（メタ）アクリレート（Ｂ１）以外の光重合性モノマーのみを含む場合や、上記の化合物（Ａ－１）とエポキシ化合物（Ａ－２）との反応物を含まない場合、露光後の加熱処理を低温で行うと、有機溶剤耐性に優れ、硬度が高く、且つ断面形状が矩形であるパターン化された硬化物を形成し難い。例えば、芳香族基を有する（メタ）アクリレート（Ｂ１）を含まず、芳香族基を有する（メタ）アクリレート（Ｂ１）以外の光重合性モノマーのみを含む場合、パターン化された硬化物の断面形状を矩形にし難い。また、上記の化合物（Ａ－１）とエポキシ化合物（Ａ－２）との反応物を含まない場合、形成される硬化物は、有機溶剤耐性に劣り、硬度が低くなる。

　芳香族基を有する（メタ）アクリレート（Ｂ１）が有する芳香族基は、多環式芳香族基であることが好ましい。
　多環式芳香族基は、芳香族環を含む２以上の環が縮合した基であっても、芳香族環を含む２以上の環が単結合又は２価の連結基により相互に結合した基であってもよい。
　多環式芳香族基の環構成炭素原子数は、７以上１２以下であることが好ましい。
　多環式芳香族基は、環構成原子として、硫黄原子、窒素原子、酸素原子等のヘテロ原子を含んでいてもよい。
　多環式芳香族基は、１個以上の水素原子が、炭素原子数１以上５以下のアルキル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より選択される１以上の基で置換されていてもよい。
　炭素原子数１以上５以下のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、及びｔｅｒｔ－ペンチル基が挙げられる。これらの基の中では、メチル基、及びエチル基が好ましい。
　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。
　多環式芳香族基の具体例としては、ナフタレン、及びビフェニル等の芳香族炭化水素から、１個以上の水素原子を除いた基や、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、シンノリン、キナゾリン、フタラジン、ナフチリジン、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾール、インドール、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、イソインドール、及びイソベンゾフラン等の芳香族複素環化合物から、１個以上の水素原子を除いた基が挙げられる。

　芳香族基を有する（メタ）アクリレート（Ｂ１）は、下記式（ｂ１）で表される化合物であることが好ましい。
Ｒ^ｂ０１－（Ｘ^ｂ０３－Ｘ^ｂ０２）_ｍｂ２－（Ｘ^ｂ０１）_ｍｂ１－Ａｒ^ｂ０１－（（Ｘ^ｂ０４）_ｍｂ３－（Ｘ^ｂ０５））_ｍｂ４・・・（ｂ１）
（式（ｂ１）中、Ａｒ^ｂ０１は、炭素原子数１以上５以下のアルキル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より選択される１以上の基で置換されていてもよく、炭素原子数７以上１２以下である、（ｍｂ４＋１）価の芳香族基であり、Ｒ^ｂ０１は、（メタ）アクリロイル基含有基であり、Ｘ^ｂ０１は、Ｏであり、Ｘ^ｂ０２は、１以上のＯで中断されてもよいアルキレン基であり、Ｘ^ｂ０３は、Ｏであり、Ｘ^ｂ０４は、Ｏであり、Ｘ^ｂ０５は、１以上のＯで中断されてもよいアルキル基であり、ｍｂ１は、０又は１であり、ｍｂ２は、０又は１であり、ｍｂ３は、０又は１であり、ｍｂ４は０以上の整数である。）
　本出願の明細書において、式（ｂ１）で表される化合物を、「化合物（ｂ１）」とも記す。

　式（ｂ１）中、Ａｒ^ｂ０１は、炭素原子数１以上５以下のアルキル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より選択される１以上の基で置換されていてもよく、炭素原子数７以上１２以下である、（ｍｂ４＋１）価の芳香族基である。
　当該芳香族基は、芳香族炭化水素基であっても、芳香族複素環基であってもよい。
　当該芳香族基は、多環式芳香族基であることが好ましい。
　当該芳香族基としては、ナフタレン、及びビフェニル等の芳香族炭化水素から（ｍｂ４＋１）個の水素原子を除いた基や、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、シンノリン、キナゾリン、フタラジン、ナフチリジン、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾール、インドール、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、イソインドール、及びイソベンゾフラン等の芳香族複素環化合物から（ｍｂ４＋１）個の水素原子を除いた基が挙げられる。

　Ａｒ^ｂ０１としての芳香族基は、炭素原子数１以上５以下のアルキル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より選択される１以上の基で置換されていてもよい。
　Ａｒ^ｂ０１としての芳香族基に結合する、置換基の数は特に限定されない。
　炭素原子数１以上５以下のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、及びｔｅｒｔ－ペンチル基が挙げられる。これらの基の中では、メチル基、及びエチル基が好ましい。
　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。
　以上説明したＡｒ^ｂ０１としての芳香族基としては、ナフタレン、ビフェニル、キノリン、及びベンゾチアゾールから（ｍｂ４＋１）個の水素原子を除いた基が好ましい。
　また、感光性組成物の硬化物に高屈折率を付与したい場合、Ａｒ^ｂ０１としての芳香族基が、フッ素原子、及び／又はシアノ基で置換されているのが好ましい。

　Ｒ^ｂ０１は、（メタ）アクリロイル基含有基である。Ｒ^ｂ０１としての（メタ）アクリロイル基含有基としては、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

　Ｘ^ｂ０２は、１以上のＯで中断されてもよいアルキレン基である。Ｘ^ｂ０２は、１以上のＯで中断されたアルキレン基であるのが好ましい。
　Ｘ^ｂ０５は、１以上のＯで中断されてもよいアルキル基である。Ｘ^ｂ０５は、１以上のＯで中断されたアルキル基であるのが好ましい。
　Ｘ^ｂ０２としての、１以上のＯで中断されてもよいアルキレン基、及びＸ^ｂ０５としての、１以上のＯで中断されてもよいアルキル基の炭素原子数は、それぞれ、所望する効果が損なわれない範囲で特に限定されない。

　Ｘ^ｂ０２としての、１以上のＯで中断されてもよいアルキレン基、及びＸ^ｂ０５としての、１以上のＯで中断されてもよいアルキル基は、それぞれ、炭素原子数１以上４以下のアルキレン基、炭素原子数１以上４以下のアルカントリイル基、及び炭素原子数１以上４以下のアルキル基から選択されるｍｂ個の脂肪族鎖状飽和炭化水素基と、ｍｂ個の前記脂肪族鎖状飽和炭化水素基を連結する（ｍｂ－１）個のＯとからなる基であるのが好ましい。
　ここで、ｍｂは２以上６以下の整数である。

　炭素原子数１以上４以下のアルキレン基の好適な例としては、メチレン基、エタン－１，２－ジイル基（エチレン基）、プロパン－１，２－ジイル基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，２－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、及びブタン－１，４－ジイル基が挙げられる。これらの基の中では、エタン－１，２－ジイル基（エチレン基）、プロパン－１，２－ジイル基、及びプロパン－１，３－ジイル基が好ましい。
　炭素原子数１以上４以下のアルカントリイル基の好ましい例としては、プロパン－１，２，３－トリイル基、ブタン－１，２，３－トリイル基、及びブタン－１，２，４－トリイル基が挙げられる。これらの基の中では、プロパン－１，２，３－トリイル基が好ましい。
　炭素原子数１以上４以下のアルキル基の好ましい例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、及びｔｅｒｔ－ブチル基が挙げられる。これらの基の中はでは、メチル基、及びエチル基が好ましい。

　Ｘ^ｂ０２としての、１以上のＯで中断されてもよいアルキレン基は、ｍｂ個の炭素原子数１以上４以下のアルキレン基と、ｍｂ個のアルキレン基を連結する（ｍｂ－１）個のＯとからなる基であるのが好ましい。
　Ｘ^ｂ０５としての、１以上のＯで中断されてもよいアルキル基は、（ｍｂ－１）個の炭素原子数１以上４以下のアルキレン基と、１個の炭素原子数１以上４以下のアルキル基と、（ｍｂ－１）個の炭素原子数１以上４以下の前記アルキレン基、及び１個の炭素原子数１以上４以下の前記アルキル基を連結する（ｍｂ－１）個のＯとからなる基であるのが好ましい。
　ここで、ｍｂは２以上６以下の整数である。

　Ｘ^ｂ０２としての、１以上のＯで中断されてもよいアルキレン基の好適な具体例としては、以下の基が挙げられる。
－ＣＨ_２ＣＨ_２－
－ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ_２－
－（ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ）_２－ＣＨ_２ＣＨ_２－
－（ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ）_３－ＣＨ_２ＣＨ_２－
－（ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ）_４－ＣＨ_２ＣＨ_２－
－（ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ）_５－ＣＨ_２ＣＨ_２－
－（Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２）_２－Ｏ－Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２－
－（Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２）_３－Ｏ－Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２－
－（Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２）_４－Ｏ－Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２－
－（Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２）_５－Ｏ－Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２－
－（Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２）_２－Ｏ－Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２－
－（Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２）_３－Ｏ－Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２－
－（Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２）_４－Ｏ－Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２－
－（Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２）_５－Ｏ－Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２－
－（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２）_２－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－
－（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２）_３－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－
－（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２）_４－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－
－（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２）_５－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－
－ＣＨ_２Ｃ（ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３）ＨＣＨ_２－

　これらの基の中では、
－ＣＨ_２ＣＨ_２－、
－ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ_２－、
－（ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ）_２－ＣＨ_２ＣＨ_２－、及び
－（ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ）_３－ＣＨ_２ＣＨ_２－、が好ましい。

　Ｘ^ｂ０５としての、１以上のＯで中断されてもよいアルキレン基の好適な具体例としては、以下の基が挙げられる。
－ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_３
－ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ_３
－（ＣＨ_２ＣＨ_２）_２－Ｏ－ＣＨ_３
－（ＣＨ_２ＣＨ_２）_２－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ_３
－（ＣＨ_２ＣＨ_２）_３－Ｏ－ＣＨ_３
－（ＣＨ_２ＣＨ_２）_３－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ_３
－（ＣＨ_２ＣＨ_２）_４－Ｏ－ＣＨ_３
－（ＣＨ_２ＣＨ_２）_４－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ_３
－（ＣＨ_２ＣＨ_２）_５－Ｏ－ＣＨ_３
－（ＣＨ_２ＣＨ_２）_５－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ_３
－Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_３
－Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ_３
－（Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２－Ｏ）_２－ＣＨ_３
－（Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２－Ｏ）_２－ＣＨ_２ＣＨ_３
－（Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２－Ｏ）_３－ＣＨ_３
－（Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２－Ｏ）_３－ＣＨ_２ＣＨ_３
－（Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２－Ｏ）_４－ＣＨ_３
－（Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２－Ｏ）_４－ＣＨ_２ＣＨ_３
－（Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２－Ｏ）_５－ＣＨ_３
－（Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２－Ｏ）_５－ＣＨ_２ＣＨ_３
－ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）Ｈ－Ｏ－ＣＨ_３
－ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）Ｈ－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ_３
－（ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）Ｈ－Ｏ）_２－ＣＨ_３
－（ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）Ｈ－Ｏ）_２－ＣＨ_２ＣＨ_３
－（ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）Ｈ－Ｏ）_３－ＣＨ_３
－（ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）Ｈ－Ｏ）_３－ＣＨ_２ＣＨ_３
－（ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）Ｈ－Ｏ）_４－ＣＨ_３
－（ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）Ｈ－Ｏ）_４－ＣＨ_２ＣＨ_３
－（ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）Ｈ－Ｏ）_５－ＣＨ_３
－（ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）Ｈ－Ｏ）_５－ＣＨ_２ＣＨ_３

　式（ｂ１）において、Ｘ^ｂ０３は、Ｏであり、Ｘ^ｂ０４は、Ｏである。

　式（ｂ１）において、ｍｂ１は、０又は１であり、ｍｂ２は、０又は１であり、ｍｂ３は、０又は１であり、ｍｂ４は０以上の整数である。
　ｍｂ１、及びｍｂ２がともに１であるのが好ましい。
　ｍｂ４の上限は特に限定されない。ｍｂ４の値は、Ａｒ^ｂ０１としての芳香族基の構造を勘案して適宜定められる。ｍｂ４の値は、０以上２以下が好ましく、０又は１がより好ましい。化合物（ｂ１）の入手や合成が容易であることから、ｍｂ４が０であるのが好ましい。

　式（ｂ１）において、Ｘ^ｂ０１、Ｘ^ｂ０３、及びＸ^ｂ０４としてのＯの数と、Ｘ^ｂ０２及びＸ^ｂ０５に含まれるＯの数との合計は、特に限定されず、０でも１以上でもよく、４以上でもよい。
　Ｘ^ｂ０１、Ｘ^ｂ０３、及びＸ^ｂ０４としてのＯの数と、Ｘ^ｂ０２及びＸ^ｂ０５に含まれるＯの数との合計の上限は、所望する効果が損なわれない限り特に限定されないが、１０以下が好ましく、８以下がより好ましく、６以下がさらに好ましい。

　以上説明した化合物（ｂ１）としては、下記式（ｂ１－１）で表される化合物が好ましい。
Ｒ^ｂ０１－Ｘ^ｂ０３－Ｘ^ｂ０２－Ｘ^ｂ０１－Ａｒ^ｂ０２・・・（ｂ１－１）
（式（ｂ１－１）中、Ａｒ^ｂ０２は、炭素原子数１以上５以下のアルキル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より選択される１以上の基で置換されていてもよく、炭素原子数７以上１２以下である、１価の芳香族基であり、Ｒ^ｂ０１は、（メタ）アクリロイル基含有基であり、Ｘ^ｂ０１は、Ｏであり、Ｘ^ｂ０２は、１以上のＯで中断されていてもよいアルキレン基であり、Ｘ^ｂ０３は、Ｏである。）

　式（ｂ１－１）中、Ａｒ^ｂ０２は、炭素原子数１以上５以下のアルキル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より選択される１以上の基で置換されていてもよく、炭素原子数７以上１２以下である、１価の芳香族基である。
　当該芳香族基は、芳香族炭化水素基であっても、芳香族複素環基であってもよい。
　当該芳香族基は、多環式芳香族基であることが好ましい。
　当該芳香族基としては、ナフチル基、及びビフェニリル基等の芳香族炭化水素基や、キノリニル基、イソキノリニル基、キノキサリニル基、シンノリニル基、キナゾリニル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、インドリル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチオフェニル基、イソインドリル基、及びイソベンゾフラニル基等の芳香族複素環基が挙げられる。

　Ａｒ^ｂ０２としての芳香族基は、炭素原子数１以上５以下のアルキル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より選択される１以上の基で置換されていてもよい。
　Ａｒ^ｂ０２としての芳香族基に結合する、置換基の数は特に限定されない。
　炭素原子数１以上５以下のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、及びｔｅｒｔ－ペンチル基が挙げられる。これらの基の中では、メチル基、及びエチル基が好ましい。
　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。
　以上説明したＡｒ^ｂ０２としての芳香族基としては、ナフチル基、ビフェニリル基、キノリニル基、及びベンゾチアゾリル基が好ましい。
　また、感光性組成物の硬化物に高屈折率を付与したい場合、Ａｒ^ｂ０２としての芳香族基が、シアノ基で置換されているのが好ましい。

　式（ｂ１－１）中、Ｘ^ｂ０１、Ｘ^ｂ０２、Ｘ^ｂ０３、及びＲ^ｂ０１については、式（ｂ１）中のこれらと同様である。

　以上説明した式（ｂ１）で表される化合物である化合物（ｂ１）の製造方法は特に限定されない。
　以下、化合物（ｂ１）の中でも好ましい、式（ｂ１－１）で表される化合物の製造方法について説明する。式（ｂ１）で表されるが、式（ｂ１－１）に該当しない化合物も、式（ｂ１－１）で表される化合物の製造方法、適宜改変して製造することができる。

　式（ｂ１－１）で表される化合物の製造方法は特に限定されない。好ましい製造方法としては、塩基の存在下に、下記式（ｂ１－１ａ）で表される化合物と、下記式（ｂ１－１ｂ）で表される化合物を反応させて、下記式（ｂ１－１ｃ）で表される化合物を得ることと、
　下記式（ｂ１－１ｃ）で表される化合物の、－Ｘ^ｂ０３－Ｈで表される末端の水素原子をＲ^ｂ０１で表される基に置換することと、を含む方法が挙げられる。
Ｈ－Ｘ^ｂ０１－Ａｒ^ｂ０２・・・（ｂ１－１ａ）
Ｈ－Ｘ^ｂ０３－Ｘ^ｂ０２－Ｈａｌ・・・（ｂ１－１ｂ）
Ｈ－Ｘ^ｂ０３－Ｘ^ｂ０２－Ｘ^ｂ０１－Ａｒ^ｂ０２・・・（ｂ１－１ｃ）
（式（ｂ１－１ａ）、式（ｂ１－１ｂ）、及び式（ｂ１－１ｃ）において、Ａｒ^ｂ０２、Ｘ^ｂ０１～Ｘ^ｂ０３は、式（ｂ１－１）におけるこれらと同様であり、Ｈａｌはハロゲン原子である。）

　塩基の存在下での、式（ｂ１－１ａ）で表される化合物と、式（ｂ１－１ｂ）で表される化合物との反応は、通常、有機溶媒の存在下で行われる。
　式（ｂ１－１ａ）で表される化合物と、式（ｂ１－１ｂ）で表される化合物との反応に使用される有機溶媒は、反応の進行を阻害しない有機溶媒でなければ特に限定されない。塩基の存在下で反応を行うため、有機溶媒としては、カルボキシ基、スルホン酸基等の酸性基や、水酸基を持たない有機溶媒が好ましい。
　有機溶媒としては、反応を良好に進行させやすいことから非プロトン性極性有機溶媒が好ましい。非プロトン性極性有機溶媒の好適な例としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、アセトニトリル、及びヘキサメチルホスホリックトリアミド等が挙げられる。

　有機溶媒の使用量は特に限定されない。有機溶媒の使用量は、塩基の質量、式（ｂ１－１ａ）で表される化合物の質量、及び式（ｂ１－１ｂ）で表される化合物の質量に対して、０．５質量倍以上５０質量倍以下が好ましく、０．７質量倍以上２０質量倍以下がより好ましく、１質量倍以上１０質量倍以下がさらに好ましい。

　塩基としては、所謂Ｗｉｌｌｉａｍｓｏｎのエーテル合成において使用される塩基性化合物を特に限定なく用いることができる。塩基の好適な例としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、金属ナトリウム、及び金属カリウム等が挙げられる。

　式（ｂ１－１ａ）で表される化合物と、式（ｂ１－１ｂ）で表される化合物との反応における塩基の使用量は、式（ｂ１－１ｃ）で表される化合物を所望する量生成させることができる限り特に限定されない。
　塩基の使用量は、例えば、式（ｂ１－１ａ）で表される１モルに対して、０．８モル以上１０モル以下が好ましく、０．９モル以上５モル以下がより好ましく、１モル以上３モル以下がさらに好ましい。

　式（ｂ１－１ｂ）で表される化合物の使用量は、式（ｂ１－１ｃ）で表される化合物を所望する量生成させることができる限り特に限定されない。
　塩基式（ｂ１－１ｂ）で表される化合物の使用量は、例えば、式（ｂ１－１ａ）で表される１モルに対して、０．８モル以上１０モル以下が好ましく、０．９モル以上５モル以下がより好ましく、１モル以上３モル以下がさらに好ましい。

　式（ｂ１－１ａ）で表される化合物と、式（ｂ１－１ｂ）で表される化合物とを反応させる温度は、式（ｂ１－１ｃ）で表される化合物を所望する量生成させることができる限り特に限定されない。
　反応温度は、例えば、０℃以上２００℃以下が好ましく、１０℃以上１８０℃以下がより好ましく、２０℃以上１５０℃以下がさらに好ましい。
　有機溶媒の沸点よりも高い温度で反応を行う場合、耐圧容器を用いて反応を行えばよい。
　式（ｂ１－１ａ）で表される化合物と、式（ｂ１－１ｂ）で表される化合物とを反応させる時間は、式（ｂ１－１ｃ）で表される化合物を所望する量生成させることができる限り特に限定されない。
　反応時間は、典型的には、１時間以上２日以下が好ましく、２時間以上１日以下がより好ましく、３時間以上１８時間以下がより好ましい。

　次いで、上記の方法により得られた式（ｂ１－１ｃ）で表される化合物の、－Ｘ^ｂ０３－Ｈで表される末端の水素原子を、Ｒ^ｂ０１で表される基に置換する。
　－Ｘ^ｂ０３－Ｈで表される末端の水素原子を、Ｒ^ｂ０１で表される基に置換する方法は特に限定されない。－Ｘ^ｂ０３－Ｈで表される末端の水素原子を、Ｒ^ｂ０１で表される基に置換する方法は、Ｒ^ｂ０１で表される（メタ）アクリロイル基含有基の種類に応じて適宜選択される。

　例えば、Ｒ^ｂ０１が、（メタ）アクリロイル基である場合、例えば、（メタ）アクリロイルクロリドのような（メタ）アクリル酸ハライドを、式（ｂ１－１ｃ）で表される化合物中の－Ｘ^ｂ０３－Ｈで表される基と反応させることにより、－Ｘ^ｂ０３－Ｈで表される末端の水素原子を（メタ）アクリロイル基に置換できる。
　式（ｂ１－１ｃ）で表される化合物と、（メタ）アクリル酸ハライドとの反応は、好ましくは有機溶媒中で行われる。有機溶媒の種類は、式（ｂ１－１ｃ）で表される化合物、及び（メタ）アクリル酸ハライドと反応しない溶媒であれば特に限定されない。
　また、（メタ）アクリル酸と、式（ｂ１－１ｃ）で表される化合物とを、周知のエステル合成方法に従って縮合させることにより、式（ｂ１－１）で表される化合物を得ることもできる。

　また、塩基の存在下に、下記式（ｂ１－１ａ）で表される化合物と、下記式（ｂ１－ｄ）で表される化合物とを反応させて、式（ｂ１－１）で表される化合物を得ることを含む、方法によっても、式（ｂ１－１）で表される化合物を製造することができる。
Ｈ－Ｘ^ｂ０１－Ａｒ^ｂ０２・・・（ｂ１－１ａ）
Ｒ^ｂ０１－Ｘ^ｂ０３－Ｘ^ｂ０２－Ｈａｌ・・・（ｂ１－１ｄ）
（式（ｂ１－１ａ）、及び式（ｂ１－１ｄ）において、Ａｒ^ｂ０２、Ｘ^ｂ０１～Ｘ^ｂ０３は、式（ｂ１－１）におけるこれらと同様であり、Ｈａｌはハロゲン原子である。）

　塩基の存在下での、式（ｂ１－１ａ）で表される化合物と、式（ｂ１－ｄ）で表される化合物との反応は、前述の、塩基の存在下での、式（ｂ１－１ａ）で表される化合物と、式（ｂ１－ｂ）で表される化合物との反応と同様に行われる。

　以上の方法により製造された式（ｂ１－１）で表される化合物は、必要に応じて精製された後、感光性組成物に配合される。精製方法としては、カラムクロマトグラフ等のクロマトグラフや再結晶等の周知の方法が挙げられる。

　化合物（ｂ１）の好ましい具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
　下記の化合物において、アクリロイルオキシ基、又はメタクリロイルオキシ基と、アリールオキシ基、又はヘテロアリールオキシ基とを連結する連結基を、－（ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ）_２－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－（ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ）_３－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－（ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ）_２－ＣＨ_２ＣＨ_２－、及び－（ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ）_３－ＣＨ_２ＣＨ_２－からなる群より選択される基に変更した化合物も、化合物（ｂ１）として好ましい。

　光重合性モノマー（Ｂ）は、芳香族基を有する（メタ）アクリレート（Ｂ１）とともに、芳香族基を有する（メタ）アクリレート（Ｂ１）以外の光重合性モノマーを含んでいてもよい。
　芳香族基を有する（メタ）アクリレート（Ｂ１）以外の光重合性モノマーとしては、芳香族基を有さずエチレン性不飽和基を有するモノマーが好ましい。かかるモノマーには、単官能モノマーと多官能モノマーとがある。

　単官能モノマーとしては、（メタ）アクリルアミド、メチロール（メタ）アクリルアミド、メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、エトキシメチル（メタ）アクリルアミド、プロポキシメチル（メタ）アクリルアミド、ブトキシメトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、クロトン酸、２－アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸、ｔｅｒｔ－ブチルアクリルアミドスルホン酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２－フェノキシ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイルオキシ－２－ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの単官能モノマーは、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

　一方、多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、２，２－ビス（４－（メタ）アクリロキシジエトキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（メタ）アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、２－ヒドロキシ－３－（メタ）アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート（すなわち、トリレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、又はヘキサメチレンジイソシアネート等と２－ビドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物）、メチレンビス（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリルアミドメチレンエーテル、多価アルコールとＮ－メチロール（メタ）アクリルアミドとの縮合物等の多官能モノマーや、トリアクリルホルマール等が挙げられる。これらの多官能モノマーは、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

　これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの中でも、感光性組成物の硬化物の、基板への密着性、強度及び有機溶剤耐性を高める傾向にある点から、３官能以上の多官能モノマーが好ましく、４官能以上の多官能モノマーがより好ましく、５官能以上の多官能モノマーがさらに好ましい。
　具体的には、５官能以上の多官能モノマーが用いられるのが好ましく、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが用いられるのがより好ましい。

　光重合性モノマー（Ｂ）が、芳香族基を有する（メタ）アクリレート（Ｂ１）以外の光重合性モノマーを含む場合、光重合性モノマー（Ｂ）中の芳香族基を有する（メタ）アクリレート（Ｂ１）の質量の比率は、例えば１０質量％以上６０質量％以下であり、２０質量％以上５０質量％以下が好ましく、３０質量％以上４０質量％以下がより好ましい。

　光重合性モノマー（Ｂ）の感光性組成物中の含有量は、感光性組成物の固形分全体の質量に対して１質量％以上５０質量％以下が好ましく、５質量％以上４０質量％以下がより好ましい。上記の範囲とすることにより、感度、現像性、解像性のバランスがとりやすい傾向がある。本明細書において、固形分とは、有機溶剤（Ｓ）以外の成分である。

＜光重合開始剤（Ｃ）＞
　光重合開始剤（Ｃ）としては、特に限定されず、従来公知の光重合開始剤を用いることができるが、光ラジカル重合開始剤を用いることが好ましい。

　光重合開始剤（Ｃ）として具体的には、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、１－〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、１－（４－ドデシルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、ビス（４－ジメチルアミノフェニル）ケトン、２－メチル－１－〔４－（メチルチオ）フェニル〕－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタン－１－オン、Ｏ－アセチル－１－［６－（２－メチルベンゾイル）－９－エチル－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノンオキシム、Ｏ－アセチル－１－［６－（ピロール－２－イルカルボニル）－９－エチル－９Ｈカルバゾール－３－イル］エタノンオキシム、（９－エチル－６－ニトロ－９Ｈ－カルバゾール－３－イル）［４－（２－メトキシ－１－メチルエトキシ）－２－メチルフェニル］メタノンＯ－アセチルオキシム、２－（ベンゾイルオキシイミノ）－１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－１－オクタノン、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、４－ベンゾイル－４’－メチルジメチルスルフィド、４－ジメチルアミノ安息香酸、４－ジメチルアミノ安息香酸メチル、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸ブチル、４－ジメチルアミノ－２－エチルヘキシル安息香酸、４－ジメチルアミノ－２－イソアミル安息香酸、ベンジル－β－メトキシエチルアセタール、ベンジルジメチルケタール、１－フェニル－１，２－プロパンジオン－２－（Ｏ－エトキシカルボニル）オキシム、ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル、２，４－ジエチルチオキサントン、２－クロロチオキサントン、２，４－ジメチルチオキサントン、１－クロロ－４－プロポキシチオキサントン、チオキサンテン、２－クロロチオキサンテン、２，４－ジエチルチオキサンテン、２－メチルチオキサンテン、２－イソプロピルチオキサンテン、２－エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２－ベンズアントラキノン、２，３－ジフェニルアントラキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキシド、クメンヒドロペルオキシド、２－メルカプトベンゾイミダゾール、２－メルカプトベンゾオキサゾール、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジ（ｍ－メトキシフェニル）－イミダゾリル二量体、ベンゾフェノン、２－クロロベンゾフェノン、ｐ，ｐ’－ビスジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’－ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４’－ジクロロベンゾフェノン、３，３－ジメチル－４－メトキシベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン－ｎ－ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アセトフェノン、２，２－ジエトキシアセトフェノン、ｐ－ジメチルアセトフェノン、ｐ－ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルアセトフェノン、ｐ－ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルジクロロアセトフェノン、α，α－ジクロロ－４－フェノキシアセトフェノン、チオキサントン、２－メチルチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、ペンチル－４－ジメチルアミノベンゾエート、９－フェニルアクリジン、１，７－ビス－（９－アクリジニル）ヘプタン、１，５－ビス－（９－アクリジニル）ペンタン、１，３－ビス－（９－アクリジニル）プロパン、ｐ－メトキシトリアジン、２，４，６－トリス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－メチル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－［２－（５－メチルフラン－２－イル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－［２－（フラン－２－イル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－［２－（４－ジエチルアミノ－２－メチルフェニル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－［２－（３，４－ジメトキシフェニル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－メトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－エトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－ｎ－ブトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４－ビス－トリクロロメチル－６－（３－ブロモ－４－メトキシ）フェニル－ｓ－トリアジン、２，４－ビス－トリクロロメチル－６－（２－ブロモ－４－メトキシ）フェニル－ｓ－トリアジン、２，４－ビス－トリクロロメチル－６－（３－ブロモ－４－メトキシ）スチリルフェニル－ｓ－トリアジン、２，４－ビス－トリクロロメチル－６－（２－ブロモ－４－メトキシ）スチリルフェニル－ｓ－トリアジン等が挙げられる。

　これらの光重合開始剤は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。光重合開始剤（Ｃ）は、２種以上の光重合開始剤を組合わせて含むのが好ましい。
　この場合、露光光に含まれる幅広い範囲の波長の光線を有効に利用しやすく、また、感光性組成物の感度を適切な範囲に調整しやすい。

　光重合開始剤（Ｃ）の中では、感光性組成物の感度の点で、オキシムエステル化合物が好ましい。
　オキシムエステル化合物としては、下記式（ｃ１）で表される部分構造を有する化合物が好ましい。

（式（ｃ１）中、
ｎ１は、０、又は１であり、
Ｒ^ｃ２は、一価の有機基であり、
Ｒ^ｃ３は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数１以上２０以下の脂肪族炭化水素基、又は置換基を有してもよいアリール基であり、
＊は結合手である。）

　式（ｃ１）で表される部分構造を有する化合物は、カルバゾール骨格、フルオレン骨格、ジフェニルエーテル骨格や、フェニルスルフィド骨格を有することが好ましい。
　式（ｃ１）で表される部分構造を有する化合物は、式（ｃ１）で表される部分構造を１つ又は２つ有することが好ましい。

　式（ｃ１）で表される部分構造を有する化合物としては、下記式（ｃ２）で表される化合物が挙げられる。

（式（ｃ２）中、Ｒ^ｃ１は、下記式（ｃ３）、（ｃ４）、又は（ｃ５）で表される基であり、
ｎ１は、０、又は１であり、
Ｒ^ｃ２は、一価の有機基であり、
Ｒ^ｃ３は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数１以上２０以下の脂肪族炭化水素基、又は置換基を有してもよいアリール基である。）

（式（ｃ３）中、Ｒ^ｃ４及びＲ^ｃ５は、それぞれ独立に、１価の有機基であり、
ｎ２は、０以上３以下の整数であり、
ｎ２が２又は３の場合、複数のＲ^ｃ５は同一でも異なっていてもよく、複数のＲ^ｃ５は互いに結合して環を形成してもよい。
＊は結合手である。）

（式（ｃ４）中、Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい鎖状アルコキシ基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子であり、
Ｒ^ｃ６とＲ^ｃ７とは互いに結合して環を形成してもよく、
Ｒ^ｃ７とフルオレン骨格中のベンゼン環とが互いに結合して環を形成してもよく、
Ｒ^ｃ８は、ニトロ基、又は１価の有機基、であり、
ｎ３は、０以上４以下の整数であり、
＊は結合手である。）

（式（ｃ５）中、Ｒ^ｃ９は、１価の有機基、ハロゲン原子、ニトロ基、又はシアノ基であり、
Ａは、Ｓ又はＯであり、
ｎ４は、０以上４以下の整数であり、
＊は結合手である。）

　式（ｃ３）中、Ｒ^ｃ４は、１価の有機基である。Ｒ^ｃ４は、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。有機基としては、炭素原子含有基が好ましく、１以上の炭素原子と、Ｈ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｎ、Ｂ、Ｐ、Ｓｉ、及びハロゲン原子からなる群より選択される１以上の原子とからなる基がより好ましい。炭素原子含有基の炭素原子数は特に限定されず、１以上５０以下が好ましく、１以上２０以下がより好ましい。
　Ｒ^ｃ４の好適な例としては、炭素原子数１以上２０以下の置換基を有してもよいアルキル基、炭素原子数３以上２０以下の置換基を有してもよいシクロアルキル基、炭素原子数２以上２０以下の置換基を有してもよい飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２以上２０以下の置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数７以上２０以下のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数１１以上２０以下のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ４の中では、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基が好ましい。当該アルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。式（ｃ３）で表される化合物の感光性組成物中での溶解性が良好である点から、Ｒ^ｃ４としてのアルキル基の炭素原子数は、２以上が好ましく、５以上がより好ましく、７以上が特に好ましい。また、感光性組成物中での、式（ｃ３）で表される化合物と、他の成分との相溶性が良好である点から、Ｒ^ｃ４としてのアルキルの基の炭素原子数は、１５以下が好ましく、１０以下がより好ましい。

　Ｒ^ｃ４が置換基を有する場合、当該置換基の好適な例としては、水酸基、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数１以上２０以下のアルコキシ基、炭素原子数２以上２０以下の脂肪族アシル基、炭素原子数２以上２０以下の脂肪族アシルオキシ基、フェノキシ基、ベンゾイル基、ベンゾイルオキシ基、－ＰＯ（ＯＲ）_２で表される基（Ｒは炭素原子数１以上６以下のアルキル基）、ハロゲン原子、シアノ基、ヘテロシクリル基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ４が、ヘテロシクリル基である場合、当該ヘテロシクリル基は、脂肪族複素環基であっても、芳香族複素環基であってもよい。Ｒ^ｃ４がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、１以上のＮ、Ｓ、Ｏを含む５員又は６員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、縮合環を構成する単環の数を３以下とする。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、キノキサリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピペリジン、テトラヒドロピラン、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。
　Ｒ^ｃ４がヘテロシクリル基である場合、当該ヘテロシクリル基が有していてもよい置換基としては、水酸基、炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。

　以上説明したＲ^ｃ４の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ペンタン－３－イル基、ｓｅｃ－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、及び２－エチルヘキシル基が挙げられる。
　また、感光性組成物中での式（ｃ３）で表される化合物の溶解性が良好である点から、ｎ－オクチル基、及び２－エチルヘキシル基が好ましく、２－エチルヘキシル基がより好ましい。

　式（ｃ３）中、Ｒ^ｃ５は、１価の有機基、ハロゲン原子、又はニトロ基である。Ｒ^ｃ５としての１価の有機基は、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。有機基としては、炭素原子含有基が好ましく、１以上の炭素原子と、Ｈ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｎ、Ｂ、Ｐ、Ｓｉ、及びハロゲン原子からなる群より選択される１以上の原子とからなる基がより好ましい。炭素原子含有基の炭素原子数は特に限定されず、１以上５０以下が好ましく、１以上２０以下がより好ましい。
　Ｒ^ｃ５として好適な１価の有機基の例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、１、２の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン－１－イル基、ピペラジン－１－イル基、ハロゲン、ニトロ基、シアノ基、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含む置換基（ただし、Ｘは、各々独立に、ハロゲン原子である）等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ５がアルキル基である場合、アルキル基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。また、Ｒ^ｃ５がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｒ^ｃ５がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ－オクチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、ｎ－ノニル基、イソノニル基、ｎ－デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Ｒ^ｃ５がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合（－Ｏ－）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ５がアルコキシ基である場合、アルコキシ基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。また、Ｒ^ｃ５がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｒ^ｃ５がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ－ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ－ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルオキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ｓｅｃ－ペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ペンチルオキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－ヘプチルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｓｅｃ－オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ－オクチルオキシ基、ｎ－ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Ｒ^ｃ５がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合（－Ｏ－）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ５がシクロアルキル基又はシクロアルコキシ基である場合、シクロアルキル基又はシクロアルコキシ基の炭素原子数は、３以上１０以下が好ましく、３以上６以下がより好ましい。Ｒ^ｃ５がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。Ｒ^ｃ５がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ５が飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、２以上２１以下が好ましく、２以上７以下がより好ましい。Ｒ^ｃ５が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、ｎ－ブタノイル基、２－メチルプロパノイル基、ｎ－ペンタノイル基、２，２－ジメチルプロパノイル基、ｎ－ヘキサノイル基、ｎ－ヘプタノイル基、ｎ－オクタノイル基、ｎ－ノナノイル基、ｎ－デカノイル基、ｎ－ウンデカノイル基、ｎ－ドデカノイル基、ｎ－トリデカノイル基、ｎ－テトラデカノイル基、ｎ－ペンタデカノイル基、及びｎ－ヘキサデカノイル基等が挙げられる。Ｒ^ｃ５が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ｎ－ブタノイルオキシ基、２－メチルプロパノイルオキシ基、ｎ－ペンタノイルオキシ基、２，２－ジメチルプロパノイルオキシ基、ｎ－ヘキサノイルオキシ基、ｎ－ヘプタノイルオキシ基、ｎ－オクタノイルオキシ基、ｎ－ノナノイルオキシ基、ｎ－デカノイルオキシ基、ｎ－ウンデカノイルオキシ基、ｎ－ドデカノイルオキシ基、ｎ－トリデカノイルオキシ基、ｎ－テトラデカノイルオキシ基、ｎ－ペンタデカノイルオキシ基、及びｎ－ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ５がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２以上２０以下が好ましく、２以上７以下がより好ましい。Ｒ^ｃ５がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ－プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ｎ－ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ－ブチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ－ブチルオキシカルボニル基、ｎ－ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ－ペンチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ－ペンチルオキシカルボニル基、ｎ－ヘキシルオキシカルボニル基、ｎ－ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ－オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ－オクチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ－オクチルオキシカルボニル基、ｎ－ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、ｎ－デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ５がフェニルアルキル基である場合、フェニルアルキル基の炭素原子数は、７以上２０以下が好ましく、７以上１０以下がより好ましい。また、Ｒ^ｃ５がナフチルアルキル基である場合、ナフチルアルキル基の炭素原子数は、１１以上２０以下が好ましく、１１以上１４以下がより好ましい。Ｒ^ｃ５がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、２－フェニルエチル基、３－フェニルプロピル基、及び４－フェニルブチル基が挙げられる。Ｒ^ｃ５がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α－ナフチルメチル基、β－ナフチルメチル基、２－（α－ナフチル）エチル基、及び２－（β－ナフチル）エチル基が挙げられる。Ｒ^ｃ５が、フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、Ｒ^ｃ５は、フェニル基、又はナフチル基上にさらに置換基を有していてもよい。

　Ｒ^ｃ５がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、式（ｃ３）中のＲ^ｃ４がヘテロシクリル基である場合と同様であり、ヘテロシクリル基はさらに置換基を有していてもよい。
　Ｒ^ｃ５がヘテロシクリルカルボニル基である場合、ヘテロシクリルカルボニル基に含まれるヘテロシクリル基は、Ｒ^ｃ５がヘテロシクリル基である場合と同様である。

　Ｒ^ｃ５が１又は２の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数３以上１０以下のシクロアルキル基、炭素原子数２以上２１以下の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数７以上２０以下のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数１１以上２０以下のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、Ｒ^ｃ５と同様である。１、又は２の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ｎ－プロピルアミノ基、ジ－ｎ－プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ｎ－ブチルアミノ基、ジ－ｎ－ブチルアミノ基、ｎ－ペンチルアミノ基、ｎ－ヘキシルアミノ基、ｎ－ヘプチルアミノ基、ｎ－オクチルアミノ基、ｎ－ノニルアミノ基、ｎ－デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ｎ－ブタノイルアミノ基、ｎ－ペンタノイルアミノ基、ｎ－ヘキサノイルアミノ基、ｎ－ヘプタノイルアミノ基、ｎ－オクタノイルアミノ基、ｎ－デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α－ナフトイルアミノ基、及びβ－ナフトイルアミノ基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ５に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含む置換基（例えば、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルキル基）、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基、炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２以上７以下のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン－１－イル基、ピペラジン－１－イル基、ベンゾイル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Ｒ^ｃ５に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されず、１以上４以下が好ましい。Ｒ^ｃ５に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。

　Ｒ^ｃ５に含まれる、ベンゾイル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、モルホリン－１－イル基、ピペラジン－１－イル基、２－テノイル基（チオフェン－２－イルカルボニル基）、フラン－３－イルカルボニル基及びフェニル基等が挙げられる。

　Ｘで表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられ、フッ素原子であることが好ましい。

　ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含む置換基としては、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基を有する基、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルキル基、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルキル基を有する基等が挙げられ、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基、又はＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基を有する基であることがより好ましい。

　ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルキル基を有する基としては、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルキル基で置換されている芳香族基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルキル基で置換されているシクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）等が挙げられ、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルキル基で置換されている芳香族基であることが好ましい。

　ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基を有する基としては、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基で置換されている芳香族基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基で置換されているアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基等）、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基で置換されているシクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）等が挙げられ、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基で置換されている芳香族基であることが好ましい。

　また、Ｒ^ｃ５としてはシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェノキシアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基も好ましい。フェノキシアルキル基、及びフェニルチオアルキル基が有していてもよい置換基は、Ｒ^ｃ５に含まれるフェニル基が有していてもよい置換基と同様である。

　１価の有機基の中でも、Ｒ^ｃ５としては、アルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、又はシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基が好ましい。アルキル基としては、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基が好ましく、炭素原子数１以上８以下のアルキル基がより好ましく、炭素原子数１以上４以下のアルキル基が特に好ましく、メチル基が最も好ましい。置換基を有していてもよいフェニル基の中では、メチルフェニル基が好ましく、２－メチルフェニル基がより好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるシクロアルキル基の炭素原子数は、５以上１０以下が好ましく、５以上８以下がより好ましく、５又は６が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、１以上８以下が好ましく、１以上４以下がより好ましく、２が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基の中では、シクロペンチルエチル基が好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、１以上８以下が好ましく、１以上４以下がより好ましく、２が特に好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基の中では、２－（４－クロロフェニルチオ）エチル基が好ましい。

　式（ｃ３）で表される基において、Ｒ^ｃ５が複数存在し、複数のＲ^ｃ５が互いに結合して環を形成する場合、形成される環としては、炭化水素環や、複素環等が挙げられる。複素環に含まれるヘテロ原子としては、例えば、Ｎ、ＯやＳが挙げられる。複数のＲ^ｃ５が互いに結合して形成する環としては、特に芳香族環が好ましい。かかる芳香族環は、芳香族炭化水素環であっても、芳香族複素環であってもよい。かかる芳香族環としては、芳香族炭化水素環が好ましい。式（ｃ３）において、複数のＲ^ｃ５が互いに結合してベンゼン環を形成した場合の具体例を、以下に示す。

　式（ｃ４）で表される基において、Ｒ^ｃ８は、ニトロ基又は１価の有機基である。Ｒ^ｃ８は、式（ｃ４）中の縮合環上で、－（ＣＯ）_ｎ１－で表される基に結合する芳香環とは異なる６員芳香環に、結合する。式（ｃ４）中、Ｒ^ｃ８の結合位置は特に限定されない。式（ｃ４）で表される基が１以上のＲ^ｃ８を有する場合、式（ｃ４）で表される化合物の合成が容易であること等から、１以上のＲ^ｃ８のうちの１つが、フルオレン骨格の７位の位置に結合することが好ましい。すなわち、式（ｃ４）で表される基が１以上のＲ^ｃ８を有する場合、式（ｃ４）で表される基は、下記式（ｃ６）で示されることが好ましい。Ｒ^ｃ８が複数の場合、複数のＲ^ｃ８は同一であっても異なっていてもよい。

（式（ｃ６）中、Ｒ^ｃ６、Ｒ^ｃ７、Ｒ^ｃ８、ｎ３は、それぞれ式（ｃ４）におけるＲ^ｃ６、Ｒ^ｃ７、Ｒ^ｃ８、ｎ３と同様である。）

　Ｒ^ｃ８が１価の有機基である場合、Ｒ^ｃ８は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。有機基としては、炭素原子含有基が好ましく、１以上の炭素原子と、Ｈ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｎ、Ｂ、Ｐ、Ｓｉ、及びハロゲン原子からなる群より選択される１以上の原子とからなる基がより好ましい。炭素原子含有基の炭素原子数は特に限定されず、１以上５０以下が好ましく、１以上２０以下がより好ましい。
　Ｒ^ｃ８が１価の有機基である場合の好適な例としては、式（ｃ３）中のＲ^ｃ５としての１価の有機基の好適な例と同様の基が挙げられる。

　式（ｃ４）中、Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７は、それぞれ、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい鎖状アルコキシ基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子である。Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７とは相互に結合して環を形成してもよい。これらの基の中では、Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７として、置換基を有してもよい鎖状アルキル基が好ましい。Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が置換基を有してもよい鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基は直鎖アルキル基でも分岐鎖アルキル基でもよい。

　Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が置換基を持たない鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上１０以下がより好ましく、１以上６以下が特に好ましい。Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が鎖状アルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ－オクチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、ｎ－ノニル基、イソノニル基、ｎ－デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合（－Ｏ－）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が置換基を有する鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上１０以下がより好ましく、１以上６以下が特に好ましい。この場合、置換基の炭素原子数は、鎖状アルキル基の炭素原子数に含まれない。置換基を有する鎖状アルキル基は、直鎖状であるのが好ましい。

　アルキル基が有してもよい置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。置換基の好適な例としては、アルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、環状有機基、及びアルコキシカルボニル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。これらの中では、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が好ましい。環状有機基としては、シクロアルキル基、芳香族炭化水素基、ヘテロシクリル基が挙げられる。シクロアルキル基の具体例としては、Ｒ^ｃ８がシクロアルキル基である場合の好適な例と同様である。芳香族炭化水素基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。ヘテロシクリル基の具体例としては、Ｒ^ｃ８がヘテロシクリル基である場合の好適な例と同様である。Ｒ^ｃ８がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基の炭素原子数は、１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。

　鎖状アルキル基が置換基を有する場合、置換基の数は特に限定されない。好ましい置換基の数は鎖状アルキル基の炭素原子数に応じて変わる。置換基の数は、典型的には、１以上２０以下であり、１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。

　Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が置換基を持たない鎖状アルコキシ基である場合、鎖状アルコキシ基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上１０以下がより好ましく、１以上６以下が特に好ましい。Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が鎖状アルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ－ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ－ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルオキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ｓｅｃ－ペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ペンチルオキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－ヘプチルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｓｅｃ－オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ－オクチルオキシ基、ｎ－ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合（－Ｏ－）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が置換基を有する鎖状アルコキシ基である場合に、アルコキシ基が有してもよい置換基は、Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が鎖状アルキル基である場合と同様である。

Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が環状有機基である場合、環状有機基は、脂環式基であっても、芳香族基であってもよい。環状有機基としては、脂肪族環状炭化水素基、芳香族炭化水素基、ヘテロシクリル基が挙げられる。Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が環状有機基である場合に、環状有機基が有してもよい置換基は、Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が鎖状アルキル基である場合と同様である。

　Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が芳香族炭化水素基である場合、芳香族炭化水素基は、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が炭素－炭素結合を介して結合して形成される基であるか、複数のベンゼン環が縮合して形成される基であるのが好ましい。芳香族炭化水素基が、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が結合又は縮合して形成される基である場合、芳香族炭化水素基に含まれるベンゼン環の環数は特に限定されず、３以下が好ましく、２以下がより好ましく、１が特に好ましい。芳香族炭化水素基の好ましい具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が脂肪族環状炭化水素基である場合、脂肪族環状炭化水素基は、単環式であっても多環式であってもよい。脂肪族環状炭化水素基の炭素原子数は特に限定されないが、３以上２０以下が好ましく、３以上１０以下がより好ましい。単環式の環状炭化水素基の例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基、及びアダマンチル基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７がヘテロシクリル基である場合、式（ｃ３）中のＲ^ｃ５としてのヘテロシクリル基と同様の基が挙げられる。

　Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７とは相互に結合して環を形成してもよい。Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７とが形成する環からなる基は、シクロアルキリデン基であるのが好ましい。Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７とが結合してシクロアルキリデン基を形成する場合、シクロアルキリデン基を構成する環は、５員環～６員環であるのが好ましく、５員環であるのがより好ましい。

　Ｒ^ｃ７とフルオレン骨格のベンゼン環と環を形成する場合、当該環は、芳香族環でもよく、脂肪族環でもよい。

　Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が結合して形成する基がシクロアルキリデン基である場合、シクロアルキリデン基は、１以上の他の環と縮合していてもよい。シクロアルキリデン基と縮合していてもよい環の例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピリジン環、ピラジン環、及びピリミジン環等が挙げられる。

　以上説明したＲ^ｃ６及びＲ^ｃ７の中でも好適な基の例としては、式－Ａ^１－Ａ^２で表される基が挙げられる。式中、Ａ^１は直鎖アルキレン基であり、Ａ^２は、アルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、環状有機基、又はアルコキシカルボニル基である挙げられる。

　Ａ^１の直鎖アルキレン基の炭素原子数は、１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。Ａ^２がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシ基の炭素原子数は、１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。Ａ^２がハロゲン原子である場合、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。Ａ^２がハロゲン化アルキル基である場合、ハロゲン化アルキル基に含まれるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。ハロゲン化アルキル基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。Ａ^２が環状有機基である場合、環状有機基の例は、Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が置換基として有する環状有機基と同様である。Ａ^２がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の例は、Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が置換基として有するアルコキシカルボニル基と同様である。

　Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７の好適な具体例としては、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、及びｎ－オクチル基等のアルキル基；２－メトキシエチル基、３－メトキシ－ｎ－プロピル基、４－メトキシ－ｎ－ブチル基、５－メトキシ－ｎ－ペンチル基、６－メトキシ－ｎ－ヘキシル基、７－メトキシ－ｎ－ヘプチル基、８－メトキシ－ｎ－オクチル基、２－エトキシエチル基、３－エトキシ－ｎ－プロピル基、４－エトキシ－ｎ－ブチル基、５－エトキシ－ｎ－ペンチル基、６－エトキシ－ｎ－ヘキシル基、７－エトキシ－ｎ－ヘプチル基、及び８－エトキシ－ｎ－オクチル基等のアルコキシアルキル基；２－シアノエチル基、３－シアノ－ｎ－プロピル基、４－シアノ－ｎ－ブチル基、５－シアノ－ｎ－ペンチル基、６－シアノ－ｎ－ヘキシル基、７－シアノ－ｎ－ヘプチル基、及び８－シアノ－ｎ－オクチル基等のシアノアルキル基；２－フェニルエチル基、３－フェニル－ｎ－プロピル基、４－フェニル－ｎ－ブチル基、５－フェニル－ｎ－ペンチル基、６－フェニル－ｎ－ヘキシル基、７－フェニル－ｎ－ヘプチル基、及び８－フェニル－ｎ－オクチル基等のフェニルアルキル基；２－シクロヘキシルエチル基、３－シクロヘキシル－ｎ－プロピル基、４－シクロヘキシル－ｎ－ブチル基、５－シクロヘキシル－ｎ－ペンチル基、６－シクロヘキシル－ｎ－ヘキシル基、７－シクロヘキシル－ｎ－ヘプチル基、８－シクロヘキシル－ｎ－オクチル基、２－シクロペンチルエチル基、３－シクロペンチル－ｎ－プロピル基、４－シクロペンチル－ｎ－ブチル基、５－シクロペンチル－ｎ－ペンチル基、６－シクロペンチル－ｎ－ヘキシル基、７－シクロペンチル－ｎ－ヘプチル基、及び８－シクロペンチル－ｎ－オクチル基等のシクロアルキルアルキル基；２－メトキシカルボニルエチル基、３－メトキシカルボニル－ｎ－プロピル基、４－メトキシカルボニル－ｎ－ブチル基、５－メトキシカルボニル－ｎ－ペンチル基、６－メトキシカルボニル－ｎ－ヘキシル基、７－メトキシカルボニル－ｎ－ヘプチル基、８－メトキシカルボニル－ｎ－オクチル基、２－エトキシカルボニルエチル基、３－エトキシカルボニル－ｎ－プロピル基、４－エトキシカルボニル－ｎ－ブチル基、５－エトキシカルボニル－ｎ－ペンチル基、６－エトキシカルボニル－ｎ－ヘキシル基、７－エトキシカルボニル－ｎ－ヘプチル基、及び８－エトキシカルボニル－ｎ－オクチル基等のアルコキシカルボニルアルキル基；２－クロロエチル基、３－クロロ－ｎ－プロピル基、４－クロロ－ｎ－ブチル基、５－クロロ－ｎ－ペンチル基、６－クロロ－ｎ－ヘキシル基、７－クロロ－ｎ－ヘプチル基、８－クロロ－ｎ－オクチル基、２－ブロモエチル基、３－ブロモ－ｎ－プロピル基、４－ブロモ－ｎ－ブチル基、５－ブロモ－ｎ－ペンチル基、６－ブロモ－ｎ－ヘキシル基、７－ブロモ－ｎ－ヘプチル基、８－ブロモ－ｎ－オクチル基、３，３，３－トリフルオロプロピル基、及び３，３，４，４，５，５，５－ヘプタフルオロ－ｎ－ペンチル基等のハロゲン化アルキル基が挙げられる。

　Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７として、上記の中でも好適な基は、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、２－メトキシエチル基、２－シアノエチル基、２－フェニルエチル基、２－シクロヘキシルエチル基、２－メトキシカルボニルエチル基、２－クロロエチル基、２－ブロモエチル基、３，３，３－トリフルオロプロピル基、及び３，３，４，４，５，５，５－ヘプタフルオロ－ｎ－ペンチル基である。

　式（ｃ５）中、感度に優れる光重合開始剤を得やすい点から、ＡはＳであることが特に好ましい。

　式（ｃ５）中、Ｒ^ｃ９は、１価の有機基、ハロゲン原子、ニトロ基、又はシアノ基である。
　式（ｃ５）におけるＲ^ｃ９が１価の有機基である場合、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。有機基としては、炭素原子含有基が好ましく、１以上の炭素原子と、Ｈ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｎ、Ｂ、Ｐ、Ｓｉ、及びハロゲン原子からなる群より選択される１以上の原子とからなる基がより好ましい。炭素原子含有基の炭素原子数は特に限定されず、１以上５０以下が好ましく、１以上２０以下がより好ましい。
　式（ｃ５）においてＲ^ｃ９が有機基である場合の好適な例としては、式（ｃ３）中のＲ^ｃ５としての１価の有機基と同様の基が挙げられる。

　Ｒ^ｃ９の中では、ベンゾイル基；ナフトイル基；炭素原子数１以上６以下のアルキル基、モルホリン－１－イル基、ピペラジン－１－イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基；ニトロ基；置換基を有していてもよいベンゾフラニルカルボニル基が好ましく、ベンゾイル基；ナフトイル基；２－メチルフェニルカルボニル基；４－（ピペラジン－１－イル）フェニルカルボニル基；４－（フェニル）フェニルカルボニル基がより好ましい。

　また、式（ｃ５）において、ｎ４は、０以上３以下の整数が好ましく、０以上２以下の整数がより好ましく、０、又は１であるのが特に好ましい。ｎ４が１である場合、Ｒ^ｃ９の結合する位置は、Ｒ^ｃ９が結合するフェニル基が酸素原子又は硫黄原子と結合する結合手に対して、パラ位であるのが好ましい。

　式（ｃ１）及び（ｃ２）中、Ｒ^ｃ２としての１価の有機基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。有機基としては、炭素原子含有基が好ましく、１以上の炭素原子と、Ｈ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｎ、Ｂ、Ｐ、Ｓｉ、及びハロゲン原子からなる群より選択される１以上の原子とからなる基がより好ましい。炭素原子含有基の炭素原子数は特に限定されず、１以上５０以下が好ましく、１以上２０以下がより好ましい。
　Ｒ^ｃ２としての１価の有機基の好適な例としては、式（ｃ３）中のＲ^ｃ５としての１価の有機基と同様の基が挙げられる。これらの基の具体例は、式（ｃ３）中のＲ^ｃ５について説明した基と同様である。
　また、Ｒ^ｃ２としてはシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェノキシアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基、も好ましい。フェノキシアルキル基、及びフェニルチオアルキル基が有していてもよい置換基は、式（ｃ３）中のＲ^ｃ５に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基と同様である。

　有機基の中でも、Ｒ^ｃ２としては、上記ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含む置換基、アルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、又はシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基が好ましい。アルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、シクロアルキルアルキル基に含まれるシクロアルキル基の炭素原子数、シクロアルキルアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数、シクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数、又は芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基については、式（ｃ３）のＲ^ｃ５と同様である。

　また、Ｒ^ｃ２としては、－Ａ^３－ＣＯ－Ｏ－Ａ^４で表される基も好ましい。Ａ^３は、２価の有機基であり、２価の炭化水素基であるのが好ましく、アルキレン基であるのが好ましい。Ａ^４は、１価の有機基であり、１価の炭化水素基であるのが好ましい。

　Ａ^３がアルキレン基である場合、アルキレン基は直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。Ａ^３がアルキレン基である場合、アルキレン基の炭素原子数は１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましく、１以上４以下が特に好ましい。

　Ａ^４の好適な例としては、炭素原子数１以上１０以下のアルキル基、炭素原子数７以上２０以下のアラルキル基、及び炭素原子数６以上２０以下の芳香族炭化水素基が挙げられる。Ａ^４の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、ベンジル基、フェネチル基、α－ナフチルメチル基、及びβ－ナフチルメチル基等が挙げられる。

　－Ａ^３－ＣＯ－Ｏ－Ａ^４で表される基の好適な具体例としては、２－メトキシカルボニルエチル基、２－エトキシカルボニルエチル基、２－ｎ－プロピルオキシカルボニルエチル基、２－ｎ－ブチルオキシカルボニルエチル基、２－ｎ－ペンチルオキシカルボニルエチル基、２－ｎ－ヘキシルオキシカルボニルエチル基、２－ベンジルオキシカルボニルエチル基、２－フェノキシカルボニルエチル基、３－メトキシカルボニル－ｎ－プロピル基、３－エトキシカルボニル－ｎ－プロピル基、３－ｎ－プロピルオキシカルボニル－ｎ－プロピル基、３－ｎ－ブチルオキシカルボニル－ｎ－プロピル基、３－ｎ－ペンチルオキシカルボニル－ｎ－プロピル基、３－ｎ－ヘキシルオキシカルボニル－ｎ－プロピル基、３－ベンジルオキシカルボニル－ｎ－プロピル基、及び３－フェノキシカルボニル－ｎ－プロピル基等が挙げられる。

　また、Ｒ^ｃ２としては、下記式（ｃ７）又は（ｃ８）で表される基も好ましい。

（式（ｃ７）及び（ｃ８）中、Ｒ^ｃ１０及びＲ^ｃ１１は、それぞれ独立に、１価の有機基であり、
ｎ５は０以上４以下の整数であり、
Ｒ^ｃ１０及びＲ^ｃ１１がベンゼン環上の隣接する位置に存在する場合、Ｒ^ｃ１０とＲ^ｃ１１とが互いに結合して環を形成してもよく、
Ｒ^ｃ１２は、１価の有機基であり、
ｎ６は１以下８以下の整数であり、
ｎ７は１以上５以下の整数であり、
ｎ８は０以上（ｎ７＋３）以下の整数である。）

　式（ｃ７）中のＲ^ｃ１０及びＲ^ｃ１１としての有機基は、式（ｃ４）中のＲ^ｃ８と同様である。Ｒ^ｃ１０としては、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルキル基、アルキル基又はフェニル基が好ましい。Ｒ^ｃ１０とＲ^ｃ１１とが結合して環を形成する場合、当該環は、芳香族環でもよく、脂肪族環でもよい。式（ｃ７）で表される基であって、Ｒ^ｃ１０とＲ^ｃ１１とが環を形成している基の好適な例としては、ナフタレン－１－イル基や、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－５－イル基等が挙げられる。
　上記式（ｃ７）中、ｎ７は０以上４以下の整数であり、０又は１であるのが好ましく、０であるのがより好ましい。

　上記式（ｃ８）中、Ｒ^ｃ１２は有機基である。有機基としては、式（ｃ４）中のＲ^ｃ８について説明した有機基と同様の基が挙げられる。有機基の中では、アルキル基が好ましい。アルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよい。アルキル基の炭素原子数は１以上１０以下が好ましく、１以上５以下がより好ましく、１以上３以下が特に好ましい。Ｒ^ｃ１２としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基であることがより好ましい。

　上記式（ｃ８）中、ｎ７は１以上５以下の整数であり、１以上３以下の整数が好ましく、１又は２がより好ましい。上記式（ｃ８）中、ｎ８は０以上（ｎ７＋３）以下であり、０以上３以下の整数が好ましく、０以上２以下の整数がより好ましく、０が特に好ましい。
　上記式（ｃ８）中、ｎ６は１以上８以下の整数であり、１以上５以下の整数が好ましく、１以上３以下の整数がより好ましく、１又は２が特に好ましい。

　式（ｃ２）中、Ｒ^ｃ３は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数１以上２０以下の脂肪族炭化水素基、又は置換基を有してもよいアリール基である。Ｒ^ｃ３が脂肪族炭化水素基である場合に有してもよい置換基としては、フェニル基、ナフチル基等が好ましく例示される。

　式（ｃ１）及び（ｃ２）中、Ｒ^ｃ３としては、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、２－シクロペンチルエチル基、２－シクロブチルエチル基、シクロヘキシルメチル基、フェニル基、ベンジル基、メチルフェニル基、ナフチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基又はフェニル基がより好ましい。

　式（ｃ２）で表され、且つＲ^ｃ１として式（ｃ３）で表される基を有する化合物の好適な具体例としては、以下の化合物が挙げられる。

　式（ｃ２）で表され、且つＲ^ｃ１として式（ｃ４）で表される基を有する化合物の好適な具体例としては、以下の化合物が挙げられる。

　式（ｃ２）で表され、且つＲ^ｃ１として式（ｃ５）で表される基を有する化合物の好適な具体例としては、以下の化合物が挙げられる。

　光重合開始剤（Ｃ）としては、感光性組成物の深部硬化性が良好である点から、フォスフィンオキサイド化合物も好ましい。フォスフィンオキサイド化合物としては、下記式（ｃ９）で表される部分構造を含むフォスフィンオキサイド化合物が好ましい。

　式（ｃ９）中、Ｒ^ｃ２１及びＲ^ｃ２２は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、炭素原子数２以上２０以下の脂肪族アシル基、又は炭素原子数７以上２０以下の芳香族アシル基である。ただし、Ｒ^ｃ２１及びＲ^ｃ２２の双方が脂肪族アシル基又は芳香族アシル基ではない。

　Ｒ^ｃ２１及びＲ^ｃ２２としてのアルキル基の炭素原子数は、１以上１２以下が好ましく、１以上８以下がより好ましく、１以上４以下がさらに好ましい。Ｒ^ｃ２１及びＲ^ｃ２２としてのアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。
　アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、２，４，４，－トリメチルペンチル基、２－エチルヘキシル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ウンデシル基、及びｎ－ドデシル基が挙げられる。

　Ｒ^ｃ２１及びＲ^ｃ２２としてのシクロアルキル基の炭素原子数は、５以上１２以下が好ましい。シクロアルキル基の具体例としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基、及びシクロドデシル基が挙げられる。

　Ｒ^ｃ２１及びＲ^ｃ２２としてのアリール基の炭素原子数は、６以上１２以下が好ましい。アリール基は置換基を有してもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、炭素原子数１以上４以下のアルキル基、炭素原子数１以上４以下のアルコキシ基等が挙げられる。アリール基の具体例としては、フェニル基、及びナフチル基が挙げられる。

　Ｒ^ｃ２１及びＲ^ｃ２２としての脂肪族アシル基の炭素原子数は、２以上２０以下であり、２以上１２以下が好ましく、２以上８以下がより好ましく、２以上６以下がさらに好ましい。脂肪族アシル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。
　脂肪族アシル基の具体例としては、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、ウンデカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ペンタデカノイル基、ヘキサデカノイル基、ヘプタデカノイル基、オクタデカノイル基、ノナデカノイル基、及びイコサノイル基が挙げられる。

　Ｒ^ｃ２１及びＲ^ｃ２２としての芳香族アシル基の炭素原子数は、７以上２０以下である。芳香族アシル基は置換基を有してもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、炭素原子数１以上４以下のアルキル基、炭素原子数１以上４以下のアルコキシ基等が挙げられる。芳香族アシル基の具体例としては、ベンゾイル基、ｏ－トリル基、ｍ－トリル基、ｐ－トリル基、２，６－ジメチルベンゾイル基、２，６－ジメトキシベンゾイル基、２，４，６－トリメチルベンゾイル基、α－ナフトイル基、及びβ－ナフトイル基が挙げられる。

　式（ｃ９）で表される構造部分を含むフォスフィンオキサイド化合物の好ましい具体例としては、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、及びビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチル－ペンチルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。
　感光性組成物の深部硬化性の観点からは、式（ｃ９）で表される構造部分を含むフォスフィンオキサイド化合物は、２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオフェノンのようなα－ヒドロキシアルキルフェノン系の開始剤とともに使用されるのも好ましい。
　式（ｃ９）で表される構造部分を含むフォスフィンオキサイド化合物と、２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオフェノンのようなα－ヒドロキシアルキルフェノン系の開始剤とを併用する場合、両者の質量の合計に対する、式（ｃ９）で表される構造部分を含むフォスフィンオキサイド化合物の質量の比率は、２０質量％以上８０質量％以下が好ましく、３０質量％以上７０質量％以下がより好ましく、４０質量％以上６０質量％以下がさらに好ましい。

　光重合開始剤（Ｃ）の含有量は、後述する有機溶剤（Ｓ）の質量を除いた感光性組成物の質量（固形分全体）に対して０．５質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上２０質量％以下であることがより好ましい。光重合開始剤（Ｃ）の含有量を上記の範囲とすることにより、硬化性が良好であり、パターン形状の不良がより生じにくい感光性組成物を得ることができる。

　光重合開始剤（Ｃ）に、光開始助剤を組み合わせてもよい。光開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４－ジメチルアミノ安息香酸メチル、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４－ジメチルアミノ安息香酸２－エチルヘキシル、安息香酸２－ジメチルアミノエチル、Ｎ，Ｎ－ジメチルパラトルイジン、４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、９，１０－ジメトキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ジメトキシアントラセン、９，１０－ジエトキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ジエトキシアントラセン、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－メルカプトベンゾオキサゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール、２－メルカプト－５－メトキシベンゾチアゾール、３－メルカプトプロピオン酸、３－メルカプトプロピオン酸メチル、ペンタエリストールテトラメルカプトアセテート、３－メルカプトプロピオネート等のチオール化合物等が挙げられる。これらの光開始助剤は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

＜有機溶剤（Ｓ）＞
　感光性組成物は、希釈のための有機溶剤（Ｓ）を含有することが好ましい。有機溶剤（Ｓ）としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール－ｎ－プロピルエーテル、エチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン等のケトン類；２－ヒドロキシプロピオン酸メチル、２－ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類；２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオン酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２－ヒドロキシ－３－メチルブタン酸メチル、３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、蟻酸ｎ－ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸ｎ－ブチル、酪酸エチル、酪酸ｎ－プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸ｎ－ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ－プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２－オキソブタン酸エチル等の他のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド類等が挙げられる。

　これらの中でも、アルキレングリコールモノアルキルエーテル類、アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、上述した他のエーテル類、乳酸アルキルエステル類、上述した他のエステル類が好ましく、アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、上述した他のエーテル類、上述した他のエステル類がより好ましい。これらの溶剤は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。
　有機溶剤（Ｓ）の含有量は、感光性組成物の固形分濃度が１質量％以上６０質量％以下となる量が好ましく、５質量％以上５０質量％以下となる量がより好ましい。

＜その他の成分＞
　感光性組成物は、必要に応じて、各種の添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、増感剤、硬化促進剤、充填剤、分散剤、シランカップリング剤等の密着促進剤、酸化防止剤、凝集防止剤、熱重合禁止剤等の重合禁止剤、消泡剤、界面活性剤、染料や顔料等の着色剤等が挙げられる。

　界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤、非イオン系界面活性剤が挙げられ、好ましくはシリコン系界面活性剤である。シリコン系界面活性剤としては、例えば、ポリエーテル変性ポリシロキサンが挙げられ、より具体的な例としては、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンが挙げられる。

　界面活性剤の含有量は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００質量部を基準として、例えば０．０１～５質量部であり、０．０２～１質量部、又は０．０５～０．１質量部であることが好ましい。

　重合禁止剤としては、フェノール系重合禁止剤が挙げられ、例えば、下記式で表される化合物が挙げられる。なお、重合禁止剤は、光重合性モノマー（Ｂ）の容器経時変化（ゲル化）を抑制するために用いられる。

＜感光性組成物の調製方法＞
　感光性組成物は、上記の各成分を撹拌機で混合することにより調製される。なお、調製された感光性組成物が均一となるよう、メンブランフィルタ等を用いて濾過してもよい。

≪硬化膜の製造方法≫
　前述の感光性組成物を露光することにより硬化物が得られる。当該硬化物の形態は特に限定されないが、硬化膜であるのが好ましい。
　典型的な硬化膜の製造方法としては、
　基板上に前述の感光性組成物を塗布して塗布膜を形成することと、
　塗布膜を露光することと、を含む方法が挙げられる。

　また、塗布膜に対して位置選択的な露光を行い、露光された塗布膜を現像液により現像することにより、所望する形状にパターニングされた硬化膜（パターン化された硬化膜）を得ることができる。

　露光された塗布膜の現像を行わない場合には、露光された前記塗布膜に対して加熱処理（ポストベーク）を行い、露光された塗布膜の現像を行う場合には、現像された塗布膜に対して加熱処理（ポストベーク）を行う。
　前述の感光性組成物は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）として所定の要件を満たす反応物（Ａ－Ｉ）を含み、且つ、芳香族基を有する（メタ）アクリレート（Ｂ１）を含むため、露光後の加熱処理（ポストベーク）を低温（例えば、１１０℃以下、好ましくは１００℃以下）で行っても、有機溶剤耐性に優れ、硬度が高く、且つ断面形状が矩形であるパターン化された硬化膜を形成できる。勿論、露光後の加熱処理（ポストベーク）を高温（例えば、１１０℃超）で行っても、有機溶剤耐性に優れ、硬度が高く、且つ断面形状が矩形であるパターン化された硬化膜を形成できる。

　感光性組成物を基板上に塗布する方法としては、ロールコーター、リバースコーター、バーコーター等の接触転写型塗布装置やスピンナー（回転式塗布装置）、カーテンフローコーター等の非接触型塗布装置を用いる方法が挙げられる。感光性組成物の塗布後、必要に応じて、乾燥により塗布膜から有機溶剤等が除去される。

　次いで、塗布膜に対して、ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、及び／又はｉ線（３６５ｎｍ）を含む光（例えば、ブロードバンド光）や、紫外線、エキシマレーザー光等の活性エネルギー線を照射して露光を行う。露光には、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、カーボンアーク灯等の紫外線を発する光源を用いることができる。露光量は感光性組成物の組成によっても異なるが、例えば２０ｍＪ／ｃｍ^２以上５００ｍＪ／ｃｍ^２以下であり、２０ｍＪ／ｃｍ^２以上１００ｍＪ／ｃｍ^２以下程度が好ましい。
　位置選択的な露光を行う場合、所望するパターンを有するネガ型のマスクを介して露光が行われる。

　塗布膜に対して位置選択的な露光を行った場合、露光された塗布膜を現像液で現像する。現像方法は特に限定されず、浸漬法、スプレー法等を用いることができる。現像液の具体例としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の有機系の現像液や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア、４級アンモニウム塩等の水溶液が挙げられる。

　その後、現像によりパターニングされた硬化膜や露光後の硬化膜に対して、好ましくは低温（例えば、１１０℃以下、好ましくは１００℃以下）で加熱処理（ポストベーク）を行う。
　加熱処理（ポストベーク）後に、さらに露光してもよい。露光に用いる活性エネルギー線、露光装置や、露光量等は、上記と同様である。

　以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲は、これらの実施例に限定されない。

〔調製例１〕化合物Ａ－１－１（式（ａ－１）で表される化合物（Ａ－１））の合成
　化合物Ａ－１－１は、以下の調製例１で得た樹脂である。
　まず、５００ｍｌ四つ口フラスコ中に、ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂（エポキシ当量２３５）２３５ｇ、テトラメチルアンモニウムクロライド１１０ｍｇ、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノール１００ｍｇ、及びアクリル酸７２．０ｇを仕込み、これに２５ｍｌ／分の速度で空気を吹き込みながら９０℃以上１００℃以下の温度で加熱溶解した。次に、溶液が白濁した状態のまま徐々に昇温し、１２０℃に加熱して完全溶解させた。この際、溶液は次第に透明粘稠になったが、そのまま撹拌を継続した。この間、酸価を測定し、１．０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満になるまで加熱撹拌を続けた。酸価が目標値に達するまでに１２時間を要した。そして室温まで冷却し、無色透明で固体状の下記式で表されるビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレートを得た。

　次いで、このようにして得られた上記のビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレート３０７．０ｇに３－メトキシブチルアセテート６００ｇを加えて溶解した後、ピロメリット酸二無水物７７．２ｇ及び臭化テトラエチルアンモニウム１ｇを混合し、徐々に昇温して１１０℃以上１１５℃以下の温度で４時間反応させた。酸無水物基の消失を確認した後、１，２，３，６－テトラヒドロ無水フタル酸３８．０ｇを混合し、９０℃で６時間反応させ、化合物Ａ－１－１を得た。酸無水物基の消失はＩＲスペクトルにより確認した。

〔調整例２〕樹脂Ａ１（式（ａ－１）で表される化合物（Ａ－１）とエポキシ化合物（Ａ－２）との反応物（Ａ－Ｉ））の合成
　調製例１で得た化合物Ａ－１－１（重量平均分子量（Ｍｗ）：２０００、Ｍｗ／Ｍｎ：２．０）をプロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテート中に溶解させた溶液８６．８ｇ（化合物Ａ－１－１の濃度５４．７質量％）と、２．５ｇの下記構造のエポキシ化合物Ａ－２－１と、１０．７ｇのプロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテートとを混合して、室温で６時間両者を反応させた。その結果、化合物Ａ－１－１とエポキシ化合物Ａ－２－１との反応物を、濃度５０質量％で含む溶液を得た。反応物（樹脂Ａ１）の重量平均分子量（Ｍｗ）は９８００であり、Ｍｗ／Ｍｎは７．８であった。

〔調製例３〕化合物Ｂ２（芳香族基を有する（メタ）アクリレート）の合成
　容量３００ｍＬの反応器に、２－フェニルフェノール（２０．０ｇ，０．１１８ｍｏｌ）、炭酸カリウム（３２．５ｇ，０．２３５ｍｏｌ）、２－［２－（２－クロロエトキシ）エトキシ］エタノール（２３．８ｇ，０．１４１ｍｏｌ）、及びジメチルホルムアミド２００ｍＬを加えた。反応器内を窒素置換した後に、内温９０℃で１０時間、反応器内の反応液を撹拌して、２－フェニルフェノールと、２－［２－（２－クロロエトキシ）エトキシ］エタノールとを反応させた。
　その後、反応液を室温まで冷却した。冷却された反応液に水を加えた後、さらに反応液にトルエンを加え、トルエン中に生成物を抽出した。分液されたトルエン層から溶媒を除去した後、溶媒除去後の残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物ＩＭ１を２６．８ｇ（収率７５％）得た。
　次に、容量３００ｍＬの反応器内で、化合物ＩＭ１（２６．８ｇ，０．０８９ｍｏｌ）、トリエチルアミン（１０．８ｇ，０．１０６ｍｏｌ）、及びテトラヒドロフラン２７０ｍＬを混合した。得られた溶液を、氷浴で冷却した。冷却された溶液に、アクリル酸クロリド（９．６０ｇ，０．１０６ｍｏｌ）を、内温５℃以下に保持しながら滴下した。アクリル酸クロリドが添加された反応液を、室温で２時間撹拌した後、析出した塩をろ過した。得られたろ液から、溶媒をエバポレーターで除去して、粘性液体を得た。得られた粘性液体をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物Ｂ２を無色液体として１５．７ｇ（収率５０％）得た。化合物Ｂ２の^１Ｈ－ＮＭＲの測定結果は以下の通りである。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：３．５２（ｓ、４Ｈ）、３．６３（ｔ、２Ｈ）、３．７２（ｔ、２Ｈ）、４．１２（ｔ、２Ｈ）、４．２０（ｔ、２Ｈ）、５．９０（ｄｄ、１Ｈ）、６．１２（ｄｄ、１Ｈ）、６．３５（ｄｄ、１Ｈ）、７．０５－７．６０（ｍ、９Ｈ）

〔実施例１〕
　アルカリ可溶性樹脂（Ａ）としての調製例２で得た反応物（樹脂Ａ１）を５７．７質量部と、光重合性モノマー（Ｂ）としてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（Ｂ１）を２４．０質量部及び化合物Ｂ２を１２．０質量部と、光重合開始剤（Ｃ）としての下記構造のＣ１及びＣ２をそれぞれ２．８質量部（合計５．６質量部）と、下記構造のＥ１（重合禁止剤）を０．５質量部と、ＢＹＫ－３１０（ビックケミー社製、界面活性剤）を０．２質量部とを、固形分濃度４５質量％となるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＭ）に溶解させて、感光性組成物を得た。

〔比較例１〕
　アルカリ可溶性樹脂（Ａ）として、調製例２で得た反応物（樹脂Ａ１）を７４．９質量部用い、且つ、光重合性モノマー（Ｂ）として、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（Ｂ１）２４．０質量部及びＢ２　１２．０質量部の代わりに、Ｂ１を１８．８質量部用いたことの他は、実施例１と同様にして、感光性組成物を得た。

〔比較例２〕
　アルカリ可溶性樹脂（Ａ）として、調製例２で得た反応物（樹脂Ａ１）５７．７質量部の代わりに、調製例１で得た化合物Ａ－１－１を５７．７質量部用いたことの他は、実施例１と同様にして、感光性組成物を得た。

＜透過率＞
　実施例及び比較例で得られた感光組成物を、ガラス基板（コーニング社製ＥＡＧＬＥＸＧ、１００ｍｍ×１００ｍｍ×０．７ｍｍ）上にスピンコーターにより塗布した後、ガラス基板上の感光性組成物を７０℃で１２０秒間加熱して、厚さ８．０μｍの塗布膜を形成した。形成された塗布膜を、１００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で全面露光した。露光後の塗布膜を、１００℃で２０分間加熱（ポストベーク）して感光性組成物の硬化膜を得た。
　得られた硬化膜について、光線透過率（％）（波長４００ｎｍ）を、ＭＣＰＤ－３７００（大塚電子社製）により測定した。結果を表１に示す。

＜耐薬品性＞
　実施例及び比較例で得られた感光組成物を、ガラス基板（コーニング社製ＥＡＧＬＥＸＧ、１００ｍｍ×１００ｍｍ×０．７ｍｍ）上にスピンコーターにより塗布した後、ガラス基板上の感光性組成物を７０℃で１２０秒間加熱して、厚さ８．０μｍの塗布膜を形成した。形成された塗布膜を、紫外線照射装置（ＨＭＷ－５３２Ｄ、ＯＲＣ社製）を用い、ｇ，ｈ，ｉ線混合光を、１００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で全面露光した。露光された塗布膜に対して、濃度２．３８質量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）水溶液を滴下した後に６０秒間静置するパドル現像を行った。現像された塗布膜を、１００℃で２０分間加熱（ポストベーク）して、感光性組成物の硬化膜を得た。
　得られた硬化膜を室温（２３℃）でプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに５分間浸漬させた。浸漬前後の硬化膜の膜厚を測定し、浸漬後の膜厚の浸漬前の膜厚に対する比率である残膜率を算出した。
　残膜率が、９９％以上の場合を○評価、９７％超９９％未満の場合を△評価、９７％以下の場合を×評価とした。結果を表１に示す。

＜形状＞
　実施例及び比較例で得られた感光組成物を、ガラス基板（コーニング社製ＥＡＧＬＥＸＧ、１００ｍｍ×１００ｍｍ×０．７ｍｍ）上にスピンコーターにより塗布した後、ガラス基板上の感光性組成物を７０℃で１２０秒間加熱して、厚さ８．０μｍの塗布膜を形成した。形成された塗布膜に、露光ギャップを５０μｍとして、ライン幅１０μｍ／スペース幅１０μｍのラインアンドスペースパターン形成用のネガマスクを介して、プロキシミティ露光装置（製品名：ＴＭＥ－１５０ＲＴＯ、株式会社トプコン製）を用い、ｇ，ｈ，ｉ線混合光を照射（露光）した。露光量は２０ｍＪ／ｃｍ^２とした。露光された塗布膜に対して、濃度２．３８質量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）水溶液を滴下した後に６０秒間静置するパドル現像を行った。現像された塗布膜を、１００℃で２０分間加熱（ポストベーク）して、感光性組成物のパターン化された硬化膜（レジストパターン）を得た。
　得られたパターン化された硬化膜（レジストパターン）の断面形状をＳＥＭ写真にて観察し、以下の基準に従って形状を評価した。
〇：矩形形状
×：レジストパターンの基板とは反対側の表面近傍の幅が、レジストパターンの高さ方向中心部付近の幅よりも太い、Ｔトップ形状

＜密着性＞
　ライン幅１０μｍ／スペース幅１０μｍのラインアンドスペースパターン形成用のネガマスクの代わりに、露光ギャップを５０μｍとして、５μｍ～２０μｍの範囲において幅を５μｍから１μｍずつ変化させた１６種のラインを備えるラインアンドスペースパターンが形成されるように設計されたネガマスクを用いたことの他は、上記＜形状＞と同様にして、感光性組成物のパターン化された硬化膜（レジストパターン）を得た。
　得られた硬化膜を、光学顕微鏡で観察し、以下の基準に従って密着性を評価した。なお、剥がれは現像により生じたものである。
〇：全ての幅（５～２０μｍ）のラインに剥離が見られなかった。
×：全ての幅（５～２０μｍ）のラインに剥離が見られた。

　＜鉛筆硬度＞
　実施例及び比較例で得られた感光組成物を、ガラス基板（コーニング社製ＥＡＧＬＥＸＧ、１００ｍｍ×１００ｍｍ×０．７ｍｍ）上にスピンコーターにより塗布した後、ガラス基板上の感光性組成物を７０℃で１２０秒間加熱して、厚さ８．０μｍの塗布膜を形成した。形成された塗布膜を、プロキシミティ露光装置（製品名：ＴＭＥ－１５０ＲＴＯ、株式会社トプコン製）を用い、ｇ，ｈ，ｉ線混合光を、２０ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で全面露光した。露光された塗布膜に対して、濃度２．３８質量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）水溶液を滴下した後に６０秒間静置するパドル現像を行った。現像された塗布膜を、１００℃で２０分間加熱（ポストベーク）して、感光性組成物の硬化膜を得た。
　得られた硬化膜に対して、鉛筆硬度試験機を用い、角度４５°、加重７５０ｇの条件でＩＳＯ　１５１８４、及びＪＩＳ　Ｋ　５６００－５－４に従い鉛筆硬度を測定した。結果を表１の「１回目」欄に記載する。
　また、得られた硬化膜に対して、さらに、紫外線照射装置（ＨＭＷ－５３２Ｄ、ＯＲＣ社製）を用い、ｇ，ｈ，ｉ線混合光を照射（２回目の露光）した。露光量は５００ｍＪ／ｃｍ^２とした。２回目の露光後の硬化膜に対して、上記と同様にして鉛筆硬度を測定した。結果を表１の「２回目」欄に記載する。

　表１に示すように、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）としての上記の化合物（Ａ－１）とエポキシ化合物（Ａ－２）との反応物と、光重合性モノマー（Ｂ）としての芳香族基を有する（メタ）アクリレート（Ｂ１）とを組み合わせて含む実施例１の感光性組成物を用いた場合、露光後の加熱処理（ポストベーク）を低温で行っても、有機溶剤耐性に優れ、硬度が高く、且つ断面形状が矩形であるパターン化された硬化物を形成できることが分かる。また、ポストベーク後にさらに露光することにより、硬度をさらに高くすることができることも分かる。なお、実施例１の感光性組成物を用いて形成された硬化物は、波長４００ｎｍでの光線透過率も高かった。
　他方、芳香族基を有する（メタ）アクリレート（Ｂ１）を含まない比較例１や、上記の化合物（Ａ－１）とエポキシ化合物（Ａ－２）との反応物の代わりに、上記の化合物（Ａ－１）を用いた比較例２の感光性組成物では、有機溶剤耐性、硬度及び断面形状の全てを良好にすることはできなかった。

Claims

　アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、光重合性モノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）とを含み、
　前記アルカリ可溶性樹脂（Ａ）が、下記式（ａ－１）：

（式（ａ－１）中、Ｘ^ａは、下記式（ａ－２）：

で表される基を示し、Ｚ^ａは、テトラカルボン酸二無水物から２つのカルボン酸無水物基を除いた残基を示し、Ｒ^ａ０は、水素原子又は－ＣＯ－Ｙ^ａ－ＣＯＯＨで表される基を示し、Ｙ^ａは、ジカルボン酸無水物からカルボン酸無水物基を除いた残基を示し、ｔ１は、０以上２０以下の整数を示し、
　式（ａ－２）中、Ｒ^ａ１は、それぞれ独立に水素原子、炭素原子数１以上６以下の炭化水素基、又はハロゲン原子を示し、Ｒ^ａ２は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^ａ３は、それぞれ独立に直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し、ｔ２は、０又は１を示し、Ｗ^ａは、下記式（ａ－３）：

で表される基を示し、
　式（ａ－３）中の環Ａは、芳香族環と縮合していてもよく置換基を有していてもよい脂肪族環を示す。）
で表される化合物（Ａ－１）と、オキシラン環以外の環式構造を含み、且つ、前記環式構造に結合する３以上のエポキシ基含有基を有するエポキシ化合物（Ａ－２）との反応物を含み、
　前記光重合性モノマー（Ｂ）が、芳香族基を有する（メタ）アクリレート（Ｂ１）を含
む、感光性組成物。
　前記芳香族基が、多環式芳香族基である、請求項１に記載の感光性組成物。
　前記反応物は、前記エポキシ化合物（Ａ－２）１質量部に対して、前記化合物（Ａ－１）を５質量部以上９０質量部以下の範囲で反応させて得られる、請求項１又は２に記載の感光性組成物。
　前記エポキシ化合物（Ａ－２）が、下記式（Ａ－２ａ）又は下記式（Ａ－２ｂ）：

（式（Ａ－２ａ）中、Ｘ^ａ１、Ｘ^ａ２、及びＸ^ａ３は、エポキシ基含有基であり、
式（Ａ－２ｂ）中、Ｘ^ａ４、及びＸ^ａ５は、エポキシ基含有基、又はアルキル基であり、ｘ１個のＸ^ａ４及びｘ１個のＸ^ａ５のうちの少なくとも３つは前記エポキシ基含有基であり、ｘ１は３以上の整数である。）
で表される化合物である、請求項１～３のいずれか１項に記載の感光性組成物。
　前記エポキシ化合物が、前記式（Ａ－２ｂ）で表される化合物であり、エポキシ基含有基が、エポキシシクロアルキルアルキル基である、請求項４に記載の感光性組成物。
　請求項１～５のいずれか１項に記載の感光性組成物の硬化物。
　基板上に、請求項１～５のいずれか１項に記載の感光性組成物を塗布して塗布膜を形成することと、
　前記塗布膜を位置選択的に露光することと、
　露光された前記塗布膜を現像液により現像することと、を含むパターン化された硬化膜の製造方法。
　現像された前記塗布膜に対してポストベークを行う、請求項７に記載の硬化膜の製造方法。