JP2023174312A - 感光性樹脂組成物及びパターン化された樹脂膜を備える基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】金属表面を備える基板上において、感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィー法によりパターン化された樹脂膜形成する際に、フォトマスクの寸法が良好に再現され、現像時の基板表面への密着性が良好な樹脂膜を形成できる感光性組樹脂成物と、当該感光性樹脂組成物を用いる、パターン化された樹脂膜を備える基板の製造方法とを提供すること。【解決手段】アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、光重合性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）とを含む感光性樹脂組成物に、特定の構造のイミダゾール化合物である塩基性化合物（Ｄ）と、特定の構造のシランカップリング剤（Ｅ）とを配合する。【選択図】なし

Description

本発明は、感光性樹脂組成物と、当該感光性樹脂組成物を用いて形成されたパターン化された樹脂膜を備える基板の製造方法と、に関する。

種々の半導体素子における絶縁層等の機能層の製造や、液晶表示パネル、有機ＥＬ表示パネル等の画像表示パネルの製造表示装置における絶縁層や種々の光学的機能層の製造において、露光により硬化し得るネガ型の感光性組成物が広く使用されている。

かかる感光性組成物としては、例えば、基材に対する十分な密着性を有する硬化膜を形成できる感光性組成物として、アクリル樹脂と、特定の構造のシランカップリング剤と、重合性化合物と、を含む感光性組成物が提案されている（特許文献１を参照）。

国際公開第２０１５／１９４６３９号

このような機能層等（硬化膜）は、例えば、感光性組成物を塗布及び露光した後に加熱することで製造される。また、位置選択的な露光を行った後に、現像液による現像を行う方法等により、所望の形状を有するパターン化された硬化膜を形成できる。
しかしながら、特許文献１等の従来の感光性組成物を用いて、低温の加熱により、微細にパターニングされた硬化物を製造する場合、金属表面を有する基板の金属表面との密着性に優れる硬化物を形成しにくいという問題がある。

本発明は、上記の課題に鑑みなされたものであって、金属表面を備える基板上において、感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィー法によりパターン化された樹脂膜形成する際に、フォトマスクの寸法が良好に再現され、現像時の基板表面への密着性が良好な樹脂膜を形成できる感光性組樹脂成物と、当該感光性樹脂組成物を用いる、パターン化された樹脂膜を備える基板の製造方法とを提供することを目的とする。

本発明者らは、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、光重合性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）とを含む感光性樹脂組成物に、特定の構造のイミダゾール化合物である塩基性化合物（Ｄ）と、特定の構造のシランカップリング剤（Ｅ）とを配合することにより上記課題を解決できることを見出し、本発明に至った。具体的には本発明は以下のものを提供する。

本発明の第１の態様は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、光重合性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、塩基性化合物（Ｄ）と、シランカップリング剤（Ｅ）と、含む感光性樹脂組成物であって、
塩基性化合物（Ｄ）が下記式（ｄ１）：

（式（ｄ１）中、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホナト基、又は有機基を示す。Ｒ^ｄ４及びＲ^ｄ５は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、又は有機基を示す。Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、アミノ基、アンモニオ基、又は有機基を示す。Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０は、それらの２つ以上が結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。）
で表される化合物であり、
シランカップリング剤（Ｅ）が、下記式（ｅ１）：
（Ｒ^ｅ１Ｏ）^ａ（Ｒ^ｅ２）^３－ａＳｉ－Ｒ^ｅ３－Ｒ^ｅ４－Ｒ^ｅ５・・・（ｅ１）
（式（ｅ１）、（ｅ２）中、Ｒ^ｅ１及びＲ^ｅ２は、それぞれ独立に、炭素原子数１以上６以下の炭化水素基であり、ａは、２又は３であり、Ｒ^ｅ３は、炭素原子数１以上１０以下のアルキレン基であり、Ｒ^ｅ４は、－ＣＯ－ＮＨ－であり、Ｒ^ｅ５は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基である。）
で表されるアルコキシシラン化合物を含む、感光性樹脂組成物である。

本発明の第２の態様は、金属表面を有する基板の金属表面上に、第一の態様にかかる感光性樹脂組成物からなる感光性層を積層する積層工程と、
感光性層に、位置選択的に活性光線又は放射線を照射する露光工程と、
露光後の感光性層を現像して、パターン化された樹脂膜を形成する現像工程と、を含む、パターン化された樹脂膜を備える基板の製造方法である。

本発明によれば、金属表面を備える基板上において、感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィー法によりパターン化された樹脂膜形成する際に、フォトマスクの寸法が良好に再現され、現像時の基板表面への密着性が良好な樹脂膜を形成できる感光性組樹脂成物と、当該感光性樹脂組成物を用いる、パターン化された樹脂膜を備える基板の製造方法とを提供することができる。

テーパーの断面形状を備える、感光性樹脂組成物を用いて形成された樹脂膜のパターン断面形状を模式的に示す図である。

＜感光性樹脂組成物＞
感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、光重合性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、塩基性化合物（Ｄ）と、シランカップリング剤（Ｅ）と、を含む。
塩基性化合物（Ｄ）は、下記式（ｄ１）：

（式（ｄ１）中、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホナト基、又は有機基を示す。Ｒ^ｄ４及びＲ^ｄ５は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、又は有機基を示す。Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、アミノ基、アンモニオ基、又は有機基を示す。Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０は、それらの２つ以上が結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。）
で表される化合物である。
シランカップリング剤（Ｅ）は、下記式（ｅ１）：
（Ｒ^ｅ１Ｏ）^ａ（Ｒ^ｅ２）^３－ａＳｉ－Ｒ^ｅ３－Ｒ^ｅ４－Ｒ^ｅ５・・・（ｅ１）
（式（ｅ１）中、Ｒ^ｅ１及びＲ^ｅ２は、それぞれ独立に、炭素原子数１以上６以下の炭化水素基であり、ａは、２又は３であり、Ｒ^ｅ３は、炭素原子数１以上１０以下のアルキレン基であり、Ｒ^ｅ４は、－ＣＯ－ＮＨ－であり、Ｒ^ｅ５は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基である。）
で表されるアルコキシシラン化合物を含む。
感光性樹脂組成物の用途は特に限定されない、感光性樹脂組成物は、金属表面上のパターン化された樹脂膜の形成に用いられる。

＜アルカリ可溶性樹脂（Ａ）＞
感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）（以下、（Ａ）成分ともいう。）を含有する。感光性樹脂組成物にアルカリ可溶性樹脂（Ａ）を配合することで、感光性樹脂組成物にアルカリ現像性を付与することができる。

本明細書においてアルカリ可溶性樹脂とは、樹脂濃度２０質量％の樹脂溶液（溶媒：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）により、膜厚１μｍの樹脂膜を基板上に形成し、濃度０．０５質量％のＫＯＨ水溶液に１分間浸漬した際に、膜厚０．０１μｍ以上溶解するものをいう。

アルカリ可溶性樹脂（Ａ）として好適な樹脂としては、カルド構造を有する樹脂（ａ－１）（以下、「カルド樹脂（ａ－１）」とも記す。）が挙げられる。
アルカリ可溶性樹脂としてカルド構造を有する樹脂（ａ－１）を用いる場合、解像性に優れる感光性樹脂組成物を得やすく、感光性樹脂組成物を用いて加熱により過度にフローしにくい硬化膜を形成しやすい。このため、形状の良好な硬化膜を形成しやすい。

〔カルド構造を有する樹脂（ａ－１）〕
カルド骨格を有する樹脂（ａ－１）としては、その構造中にカルド骨格を有し、所定のアルカリ可溶性を有する樹脂を用いることができる。カルド骨格とは、第１の環状構造を構成している１つの環炭素原子に、第２の環状構造と第３の環状構造とが結合した骨格をいう。なお、第２の環状構造と、第３の環状構造とは、同一の構造であっても異なった構造であってもよい。
カルド骨格の代表的な例としては、フルオレン環の９位の炭素原子に２つの芳香環（例えばベンゼン環）が結合した骨格が挙げられる。

カルド樹脂（ａ－１）としては、特に限定されず、従来公知の樹脂を用いることができる。その中でも、下記式（ａ－１）で表される樹脂が好ましい。

式（ａ－１）中、Ｘ^ａは、下記式（ａ－２）で表される基を示す。ｍ１は０以上２０以下の整数を示す。

上記式（ａ－２）中、Ｒ^ａ１は、それぞれ独立に水素原子、炭素原子数１以上６以下の炭化水素基、又はハロゲン原子を示し、Ｒ^ａ２は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^ａ３は、それぞれ独立に直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し、ｍ２は、０又は１を示し、Ｗ^ａは、下記式（ａ－３）で表される基を示す。

式（ａ－２）中、Ｒ^ａ３としては、炭素原子数１以上２０以下のアルキレン基が好ましく、炭素原子数１以上１０以下のアルキレン基がより好ましく、炭素原子数１以上６以下のアルキレン基が特に好ましく、エタン－１，２－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、及びプロパン１，３－ジイル基が最も好ましい。

式（ａ－３）中の環Ａは、芳香族環と縮合していてもよく置換基を有していてもよい脂肪族環を示す。脂肪族環は、脂肪族炭化水素環であっても、脂肪族複素環であってもよい。
脂肪族環としては、モノシクロアルカン、ビシクロアルカン、トリシクロアルカン、テトラシクロアルカン等が挙げられる。
具体的には、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等のモノシクロアルカンや、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカンが挙げられる。
脂肪族環に縮合してもよい芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族複素環でもよく、芳香族炭化水素環が好ましい。具体的にはベンゼン環、及びナフタレン環が好ましい。

式（ａ－３）で表される２価基の好適な例としては、下記の基が挙げられる。

式（ａ－１）中の２価基Ｘ^ａは、残基Ｚ^ａを与えるテトラカルボン酸二無水物と、下式（ａ－２ａ）で表されるジオール化合物とを反応させることにより、カルド樹脂（ａ－１）中に導入される。

式（ａ－２ａ）中、Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、Ｒ^ａ３、及びｍ２は、式（ａ－２）について説明した通りである。式（ａ－２ａ）中の環Ａについては、式（ａ－３）について説明した通りである。

式（ａ－２ａ）で表されるジオール化合物は、例えば、以下の方法により製造し得る。
まず、下記式（ａ－２ｂ）で表されるジオール化合物が有するフェノール性水酸基中の水素原子を、必要に応じて、常法に従って、－Ｒ^ａ３－ＯＨで表される基に置換した後、エピクロルヒドリン等を用いてグリシジル化して、下記式（ａ－２ｃ）で表されるエポキシ化合物を得る。
次いで、式（ａ－２ｃ）で表されるエポキシ化合物を、アクリル酸又はメタクリル酸と反応させることにより、式（ａ－２ａ）で表されるジオール化合物が得られる。
式（ａ－２ｂ）及び式（ａ－２ｃ）中、Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ３、及びｍ２は、式（ａ－２）について説明した通りである。式（ａ－２ｂ）及び式（ａ－２ｃ）中の環Ａについては、式（ａ－３）について説明した通りである。
なお、式（ａ－２ａ）で表されるジオール化合物の製造方法は、上記の方法に限定されない。

式（ａ－２ｂ）で表されるジオール化合物の好適な例としては、以下のジオール化合物が挙げられる。

上記式（ａ－１）中、Ｒ^ａ０は水素原子又は－ＣＯ－Ｙ^ａ－ＣＯＯＨで表される基である。ここで、Ｙ^ａは、ジカルボン酸無水物から酸無水物基（－ＣＯ－Ｏ－ＣＯ－）を除いた残基を示す。ジカルボン酸無水物の例としては、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水グルタル酸等が挙げられる。

また、上記式（ａ－１）中、Ｚ^ａは、テトラカルボン酸二無水物から２個の酸無水物基を除いた残基を示す。テトラカルボン酸二無水物の例としては、下記式（ａ－４）で表されるテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
また、上記式（ａ－１）中、ｍは、０以上２０以下の整数を示す。

（式（ａ－４）中、Ｒ^ａ４、Ｒ^ａ５、及びＲ^ａ６は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１以上１０以下のアルキル基及びフッ素原子からなる群より選択される１種を示し、ｍ３は、０以上１２以下の整数を示す。）

式（ａ－４）中のＲ^ａ４として選択され得るアルキル基は、炭素原子数が１以上１０以下のアルキル基である。アルキル基の備える炭素原子数をこの範囲に設定することで、得られるカルボン酸エステルの耐熱性を一段と向上させることができる。Ｒ^ａ４がアルキル基である場合、その炭素原子数は、耐熱性に優れるカルド樹脂を得やすい点から、１以上６以下が好ましく、１以上５以下がより好ましく、１以上４以下がさらに好ましく、１以上３以下が特に好ましい。
Ｒ^ａ４がアルキル基である場合、当該アルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよい。

式（ａ－４）中のＲ^ａ４としては、耐熱性に優れるカルド樹脂を得やすい点から、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１以上１０以下のアルキル基がより好ましい。式（ａ－４）中のＲ^ａ４は、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基又はイソプロピル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が特に好ましい。
式（ａ－４）中の複数のＲ^ａ４は、高純度のテトラカルボン酸二無水物の調製が容易であることから、同一の基であるのが好ましい。

式（ａ－４）中のｍ３は０以上１２以下の整数を示す。ｍ３の値を１２以下とすることによって、テトラカルボン酸二無水物の精製を容易にすることができる。
テトラカルボン酸二無水物の精製が容易である点から、ｍ３の上限は５が好ましく、３がより好ましい。
テトラカルボン酸二無水物の化学的安定性の点から、ｍ３の下限は１が好ましく、２がより好ましい。
式（ａ－４）中のｍ３は、２又は３が特に好ましい。

式（ａ－４）中のＲ^ａ５、及びＲ^ａ６として選択され得る炭素原子数１以上１０以下のアルキル基は、Ｒ^ａ４として選択され得る炭素原子数１以上１０以下のアルキル基と同様である。
Ｒ^ａ５、及びＲ^ａ６は、テトラカルボン酸二無水物の精製が容易である点から、水素原子、又は炭素原子数１以上１０以下（好ましくは１以上６以下、より好ましくは１以上５以下、さらに好ましくは１以上４以下、特に好ましくは１以上３以下）のアルキル基であるのが好ましく、水素原子又はメチル基であるのが特に好ましい。

式（ａ－４）で表されるテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロペンタノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物（別名「ノルボルナン－２－スピロ－２’－シクロペンタノン－５’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物」）、メチルノルボルナン－２－スピロ－α－シクロペンタノン－α’－スピロ－２’’－（メチルノルボルナン）－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロヘキサノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物（別名「ノルボルナン－２－スピロ－２’－シクロヘキサノン－６’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物」）、メチルノルボルナン－２－スピロ－α－シクロヘキサノン－α’－スピロ－２’’－（メチルノルボルナン）－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロプロパノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロブタノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロヘプタノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロオクタノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロノナノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロデカノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロウンデカノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロドデカノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロトリデカノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロテトラデカノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロペンタデカノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－（メチルシクロペンタノン）－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－（メチルシクロヘキサノン）－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。

カルド樹脂（ａ－１）の重量平均分子量は、１０００以上４００００以下であることが好ましく、１５００以上３００００以下であることがより好ましく、２０００以上１００００以下であることがさらに好ましい。上記の範囲とすることにより、良好な現像性を得ながら、感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜について十分な耐熱性と、機械的強度とを得ることができる。

〔ノボラック樹脂（ａ－２）〕
加熱により過度にフローしにくい硬化膜を形成しやすい点から、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）がノボラック樹脂（ａ－２）を含むのも好ましい。
ノボラック樹脂（ａ－２）としては、従来から感光性樹脂組成物に配合されている種々のノボラック樹脂を用いることができる。ノボラック樹脂（ａ－２）としては、フェノール性水酸基を有する芳香族化合物（以下、単に「フェノール類」という。）とアルデヒド類とを酸触媒下で付加縮合させることにより得られるものが好ましい。

（フェノール類）
ノボラック樹脂（ａ－２）を作製する際に用いられるフェノール類としては、例えば、フェノール；ｏ－クレゾール、ｍ－クレゾール、ｐ－クレゾール等のクレゾール類；２，３－キシレノール、２，４－キシレノール、２，５－キシレノール、２，６－キシレノール、３，４－キシレノール、３，５－キシレノール等のキシレノール類；ｏ－エチルフェノール、ｍ－エチルフェノール、ｐ－エチルフェノール等のエチルフェノール類；２－イソプロピルフェノール、３－イソプロピルフェノール、４－イソプロピルフェノール、ｏ－ブチルフェノール、ｍ－ブチルフェノール、ｐ－ブチルフェノール、並びにｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール等のアルキルフェノール類；２，３，５－トリメチルフェノール、及び３，４，５－トリメチルフェノール等のトリアルキルフェノール類；レゾルシノール、カテコール、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、及びフロログリシノール等の多価フェノール類；アルキルレゾルシン、アルキルカテコール、及びアルキルハイドロキノン等のアルキル多価フェノール類（いずれのアルキル基も炭素原子数１以上４以下である。）；α－ナフトール；β－ナフトール；ヒドロキシジフェニル；並びにビスフェノールＡ等が挙げられる。これらのフェノール類は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

これらのフェノール類の中でも、ｍ－クレゾール及びｐ－クレゾールが好ましく、ｍ－クレゾールとｐ－クレゾールとを併用することがより好ましい。この場合、両者の配合割合を調整することにより、感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜の耐熱性等の諸特性を調節することができる。
ｍ－クレゾールとｐ－クレゾールの配合割合は特に限定されるものではないが、ｍ－クレゾール／ｐ－クレゾールのモル比で、３／７以上８／２以下が好ましい。ｍ－クレゾール及びｐ－クレゾールをかかる範囲の比率で用いることにより、耐熱性に優れる硬化膜を形成可能な感光性樹脂組成物を得やすい。

また、ｍ－クレゾールと、２，３，５－トリメチルフェノールとを併用して製造されるノボラック樹脂も好ましい。かかるノボラック樹脂を用いる場合、耐熱性に優れる硬化膜を形成できる感光性樹脂組成物を、特に得やすい。
ｍ－クレゾールと２，３，５－トリメチルフェノールの配合割合は特に限定されるものではないが、ｍ－クレゾール／２，３，５－トリメチルフェノールのモル比で、７０／３０以上９５／５以下が好ましい。

（アルデヒド類）
ノボラック樹脂（ａ－２）を作製する際に用いられるアルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、フルフラール、ベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、及びアセトアルデヒド等が挙げられる。これらのアルデヒド類は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

（酸触媒）
ノボラック樹脂（ａ－２）を作製する際に用いられる酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、及び亜リン酸等の無機酸類；蟻酸、シュウ酸、酢酸、ジエチル硫酸、及びパラトルエンスルホン酸等の有機酸類；並びに酢酸亜鉛等の金属塩類等が挙げられる。これらの酸触媒は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

（分子量）
ノボラック樹脂（ａ－２）のポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ；以下、単に「重量平均分子量」ともいう。）は、感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜の耐熱性の観点から、下限値として２０００が好ましく、５０００がより好ましく、１００００が特に好ましく、１５０００がさらに好ましく、２００００が最も好ましく、上限値として５００００が好ましく、４５０００がより好ましく、４００００がさらに好ましく、３５０００が最も好ましい。

ノボラック樹脂（ａ－２）としては、ポリスチレン換算の重量平均分子量が異なるものを少なくとも２種組み合わせて用いることができる。重量平均分子量が異なるものを大小組み合わせて用いることにより、感光性樹脂組成物の現像性と、感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜の耐熱性とのバランスをとることができる。

〔変性エポキシ樹脂（ａ－３）〕
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、エポキシ化合物（ａ－３ａ）と不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ）との反応物の、多塩基酸無水物（ａ－３ｃ）付加体（ａ－３）を含んでいてもよい。かかる付加体について、「変性エポキシ樹脂（ａ－３）」とも記す。
なお、本出願の明細書及び特許請求の範囲において、上記の定義に該当する化合物であって、前述のカルド構造を有する樹脂（ａ－１）に該当しない化合物を、変性エポキシ樹脂（ａ－３）とする。

以下、エポキシ化合物（ａ－３ａ）、不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ）、及び多塩基酸無水物（ａ－３ｃ）について説明する。

＜エポキシ化合物（ａ－３ａ）＞
エポキシ化合物（ａ－３ａ）は、エポキシ基を有する化合物であれば特に限定されず、芳香族基を有する芳香族エポキシ化合物であっても、芳香族基を含まない脂肪族エポキシ化合物であってもよく、芳香族基を有する芳香族エポキシ化合物が好ましい。
エポキシ化合物（ａ－３ａ）は、単官能エポキシ化合物であっても、２官能以上の多官能エポキシ化合物であってもよく、多官能エポキシ化合物が好ましい。

エポキシ化合物（ａ－３ａ）の具体例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、及びビフェニル型エポキシ樹脂等の２官能エポキシ樹脂；ダイマー酸グリシジルエステル、及びトリグリシジルエステル等のグリシジルエステル型エポキシ樹脂；テトラグリシジルアミノジフェニルメタン、トリグリシジル－ｐ－アミノフェノール、テトラグリシジルメタキシリレンジアミン、及びテトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサン等のグリシジルアミン型エポキシ樹脂；トリグリシジルイソシアヌレート等の複素環式エポキシ樹脂；フロログリシノールトリグリシジルエーテル、トリヒドロキシビフェニルトリグリシジルエーテル、トリヒドロキシフェニルメタントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、２－［４－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］－２－［４－［１，１－ビス［４－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］エチル］フェニル］プロパン、及び１，３－ビス［４－［１－［４－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］－１－［４－［１－［４－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］－１－メチルエチル］フェニル］エチル］フェノキシ］－２－プロパノール等の３官能型エポキシ樹脂；テトラヒドロキシフェニルエタンテトラグリシジルエーテル、テトラグリシジルベンゾフェノン、ビスレゾルシノールテトラグリシジルエーテル、及びテトラグリシドキシビフェニル等の４官能型エポキシ樹脂が挙げられる。

また、エポキシ化合物（ａ－３ａ）としては、ビフェニル骨格を有するエポキシ化合物が好ましい。
ビフェニル骨格を有するエポキシ化合物は、主鎖に下記式（ａ－３ａ－１）で表されるビフェニル骨格を少なくとも１つ以上有するのが好ましい。
ビフェニル骨格を有するエポキシ化合物は、２以上のエポキシ基を有する多官能エポキシ化合物であるのが好ましい。
ビフェニル骨格を有するエポキシ化合物を用いることにより、感度と現像性とのバランスに優れ、基板への密着性に優れる硬化膜を形成できる感光性樹脂組成物を得やすい。

（式（ａ－３ａ－１）中、Ｒ^ａ７は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１以上１２以下のアルキル基、ハロゲン原子、又は置換基を有してもよいフェニル基であり、ｊは１以上４以下の整数である。）

Ｒ^ａ７が炭素原子数１以上１２以下のアルキル基である場合、アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ－オクチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、ｎ－ノニル基、イソノニル基、ｎ－デシル基、イソデシル基、ｎ－ウンデシル基、及びｎ－ドデシル基が挙げられる。

Ｒ^ａ７がハロゲン原子である場合、ハロゲン原子の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。

Ｒ^ａ７が置換基を有してもよいフェニル基である場合、フェニル基上の置換基の数は特に限定されない。フェニル基上の置換基の数は、０以上５以下であり、０又は１が好ましい。
置換基の例としては、炭素原子数１以上４以下のアルキル基、炭素原子数１以上４以下のアルコキシ基、炭素原子数２以上４以下の脂肪族アシル基、ハロゲン原子、シアノ基、及びニトロ基が挙げられる。

上記式（ａ－３ａ－１）で表されるビフェニル骨格を有するエポキシ化合物（ａ－３ａ）としては特に限定されないが、例えば、下記式（ａ－３ａ－２）で表されるエポキシ化合物を挙げることができる。

（式（ａ－３ａ－２）中、Ｒ^ａ７及びｊは、式（ａ－３ａ－１）と同様であり、ｋは括弧内の構成単位の平均繰り返し数であって０以上１０以下である。）

式（ａ－３ａ－２）で表されるエポキシ化合物の中では、感度と現像性とのバランスに優れる感光性樹脂組成物を特に得やすいことから、下記式（ａ－３ａ－３）で表される化合物が好ましい。

（式（ａ－３ａ－３）中、ｋは、式（ａ－３ａ－２）と同様である。）

（不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ））
変性エポキシ化合物（ａ－３）と調製するにあたって、エポキシ化合物（ａ－３ａ）と、不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ）とを反応させる。
不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ）としては、分子中にアクリル基やメタクリル基等の反応性の不飽和二重結合を含有するモノカルボン酸が好ましい。このような不飽和基含有カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、β－スチリルアクリル酸、β－フルフリルアクリル酸、α－シアノ桂皮酸、桂皮酸等を挙げることができる。また、不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ）は、単独又は２種類以上を組み合わせて用いてもよい。

エポキシ化合物（ａ－３ａ）と、不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ）とは、公知の方法により反応させることができる。好ましい反応方法としては、例えば、エポキシ化合物（ａ－３ａ）と不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ）とを、トリエチルアミン、ベンジルエチルアミン等の３級アミン、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム塩、ピリジン、又はトリフェニルホスフィン等を触媒として、有機溶剤中、反応温度５０℃以上１５０℃以下で数時間以上数十時間以下の間反応させる方法が挙げられる。

エポキシ化合物（ａ－３ａ）と不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ）との反応における両者の使用量の比率は、エポキシ化合物（ａ－３ａ）のエポキシ当量と、不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ）のカルボン酸当量との比として、通常１：０．５～１：２が好ましく、１：０．８～１：１．２５がより好ましく、１：０．９～１：１．１が特に好ましい。
エポキシ化合物（ａ－３ａ）の使用量と不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ）の使用量との比率が、前述の当量比で１：０．５～１：２であると、架橋効率が向上する傾向があり好ましい。

（多塩基酸無水物（ａ－３ｃ））
多塩基酸無水物（ａ－３ｃ）は、２個以上のカルボキシル基を有するカルボン酸の無水物である。
多塩基酸無水物（ａ－３ｃ）としては、特に限定されないが、例えば、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３－メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、４－メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、３－エチルヘキサヒドロ無水フタル酸、４－エチルヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、３－メチルテトラヒドロ無水フタル酸、４－メチルテトラヒドロ無水フタル酸、３－エチルテトラヒドロ無水フタル酸、４－エチルテトラヒドロ無水フタル酸、下記式（ａ－３ｃ－１）で表される化合物、及び下記式（ａ－３ｃ－２）で表される化合物を挙げることができる。また、多塩基酸無水物（ａ－３ｃ）は、単独又は２種類以上を組み合わせて用いてもよい。

（式（ａ－３ｃ－２）中、Ｒ^ａ８は、炭素原子数１以上１０以下の置換基を有してもよいアルキレン基を示す。）

多塩基酸無水物（ａ－３ｃ）としては、感度と現像性とのバランスに優れる感光性樹脂組成物を得やすいことから、ベンゼン環を２個以上有する化合物であることが好ましい。また、多塩基酸無水物（ａ－３ｃ）は、上記式（ａ－３ｃ－１）で表される化合物、及び上記式（ａ－３ｃ－２）で表される化合物の少なくとも一方を含むのがより好ましい。

エポキシ化合物（ａ－３ａ）と不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ）とを反応させた後、多塩基酸無水物（ａ－３ｃ）を反応させる方法は、公知の方法から適宜選択できる。
また、使用量比は、エポキシ化合物（ａ－３ａ）と不飽和基含有カルボン酸（ａ－３ｂ）との反応後の成分中のＯＨ基のモル数と、多塩基酸無水物（ａ－３ｃ）の酸無水物基の当量比で、通常１：１～１：０．１であり、好ましくは１：０．８～１：０．２である。上記範囲とすることにより、現像性が良好である感光性樹脂組成物を得やすい。

また、変性エポキシ樹脂（ａ－３）の酸価は、樹脂固形分で、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、より好ましくは、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。樹脂の酸価を１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上にすることにより現像液に対する充分な溶解性が得られ、また、酸価を１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下にすることにより充分な硬化性を得ることができ、表面性を良好にすることができる。

また、変性エポキシ樹脂（ａ－３）の重量平均分子量は、１０００以上４００００以下であることが好ましく、より好ましくは、２０００以上３００００以下である。重量平均分子量が１０００以上であることにより耐熱性、及び強度に優れる硬化膜を形成しやすい。また、４００００以下であることにより現像液に対する十分な溶解性を示す感光性樹脂組成物を得やすい。

〔アクリル系樹脂（ａ－４）〕
アクリル系樹脂（ａ－４）もまたアルカリ可溶性樹脂（Ａ）を構成する成分として好ましい。
アクリル系樹脂（ａ－４）としては、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位、及び／又は（メタ）アクリル酸エステル等の他のモノマーに由来する構成単位を含むものを用いることができる。（メタ）アクリル酸は、アクリル酸、又はメタクリル酸である。（メタ）アクリル酸エステルは、下記式（ａ－４－１）で表されるものであって、本発明の目的を阻害しない限り特に限定されない。

上記式（ａ－４－１）中、Ｒ^ａ９は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ^ａ１０は、１価の有機基である。この有機基は、該有機基中にヘテロ原子等の炭化水素基以外の結合や置換基を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。

Ｒ^ａ１０の有機基中の炭化水素基以外の置換基としては、本発明の効果が損なわれない限り特に限定されず、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シアノ基、イソシアノ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、シリル基、シラノール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシ基、カルボキシラート基、アシル基、アシルオキシ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、ヒドロキシイミノ基、アルキルエーテル基、アルキルチオエーテル基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アミノ基（－ＮＨ_２、－ＮＨＲ、－ＮＲＲ’：Ｒ及びＲ’はそれぞれ独立に炭化水素基を示す）等が挙げられる。上記置換基に含まれる水素原子は、炭化水素基によって置換されていてもよい。また、上記置換基に含まれる炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれでもよい。

また、Ｒ^ａ１０としての有機基は、アクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基等の反応性の官能基を有していてもよい。
アクリロイルオキシ基やメタアクリロイルオキシ基等の、不飽和二重結合等を有するアシル基は、例えば、エポキシ基を有する構成単位を含むアクリル系樹脂（ａ－４）における、エポキシ基の少なくとも一部に、アクリル酸やメタクリル酸等の不飽和カルボン酸を反応させることにより製造することができる。
また、アクリロイルオキシ基やメタアクリロイルオキシ基等の、不飽和二重結合等を有するアシル基は、カルボキシ基を有するアクリル系樹脂（ａ－４）におけるカルボキシ基の少なくとも一部と、不飽和二重結合を有するエポキシ化合物とを反応させることによっても、アクリル系樹脂（ａ－４）に導入され得る。
不飽和二重結合を有するエポキシ化合物としては、グリシジル（メタ）アクリレートや、後述する脂環式エポキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル等を用いることができる。

Ｒ^ａ１０としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基、又は複素環基が好ましく、これらの基は、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、又は複素環基で置換されていてもよい。また、これらの基がアルキレン部分を含む場合、アルキレン部分は、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合により中断されていてもよい。

アルキル基が、直鎖状又は分岐鎖状のものである場合、その炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上１５以下がより好ましく、１以上１０以下が特に好ましい。好適なアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ－オクチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、ｎ－ノニル基、イソノニル基、ｎ－デシル基、イソデシル基等が挙げられる。

アルキル基が、脂環式基、又は脂環式基を含む基である場合、アルキル基に含まれる好適な脂環式基としては、シクロペンチル基、及びシクロヘキシル基等単環の脂環式基や、アダマンチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、及びテトラシクロドデシル基等の多環の脂環式基が挙げられる。

式（ａ－４－１）で表される化合物が、エポキシ基を有する鎖状の基をＲ^ａ１０として有する場合の、式（ａ－４－１）で表される化合物の具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、２－メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシブチル（メタ）アクリレート、６，７－エポキシヘプチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エポキシアルキルエステル類が挙げられる。

また、式（ａ－４－１）で表される化合物は、脂環式エポキシ基含有（メタ）アクリル酸エステルであってもよい。脂環式エポキシ基を構成する脂環式基は、単環であっても多環であってもよい。単環の脂環式基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。また、多環の脂環式基としては、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等が挙げられる。

式（ａ－４－１）で表される化合物が脂環式エポキシ基含有（メタ）アクリル酸エステルである場合の具体例としては、例えば下記式（ａ－４－１ａ）～（ａ－４－１ｏ）で表される化合物が挙げられる。これらの中でも、現像性を適度なものするためには、下記式（ａ－４－１ａ）～（ａ－４－１ｅ）で表される化合物が好ましく、下記式（ａ－４－１ａ）～（ａ－４－１ｃ）で表される化合物がより好ましい。

上記式中、Ｒ^ａ２０は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^ａ２１は炭素原子数１以上６以下の２価の脂肪族飽和炭化水素基を示し、Ｒ^ａ２２は炭素原子数１以上１０以下の２価の炭化水素基を示し、ｔは０以上１０以下の整数を示す。Ｒ^ａ２１としては、直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基が好ましい。Ｒ^ａ２２としては、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、フェニレン基、シクロヘキシレン基、－ＣＨ_２－Ｐｈ－ＣＨ_２－（Ｐｈはフェニレン基を示す）が好ましい。

また、アクリル系樹脂（ａ－４）は、（メタ）アクリル酸エステル以外のモノマーを重合させたものであってもよい。このようなモノマーとしては、（メタ）アクリルアミド類、不飽和カルボン酸類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン類等が挙げられる。これらのモノマーは、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

（メタ）アクリルアミド類としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ－アルキル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－アリール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジアルキル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－アリール（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチル－Ｎ－フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシエチル－Ｎ－メチル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。

不飽和カルボン酸類としては、クロトン酸等のモノカルボン酸；マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカルボン酸；これらジカルボン酸の無水物；等が挙げられる。

アリル化合物としては、酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリル等のアリルエステル類；アリルオキシエタノール；等が挙げられる。

ビニルエーテル類としては、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロロエチルビニルエーテル、１－メチル－２，２－ジメチルプロピルビニルエーテル、２－エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル；ビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロロフェニルエーテル、ビニル－２，４－ジクロロフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアントラニルエーテル等のビニルアリールエーテル；等が挙げられる。

ビニルエステル類としては、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート、ビニルジクロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルフェニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル－β－フェニルブチレート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ安息香酸ビニル、テトラクロロ安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニル等が挙げられる。

スチレン類としては、スチレン；メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン等のアルキルスチレン；メトキシスチレン、４－メトキシ－３－メチルスチレン、ジメトキシスチレン等のアルコキシスチレン；クロロスチレン、ジクロロスチレン、トリクロロスチレン、テトラクロロスチレン、ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、トリフルオロスチレン、２－ブロモ－４－トリフルオロメチルスチレン、４－フルオロ－３－トリフルオロメチルスチレン等のハロスチレン；等が挙げられる。

アクリル系樹脂（ａ－４）における、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位の量と、他のモノマーに由来する構成単位の量とは、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。アクリル系樹脂（ａ－４）における、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位の量は、アクリル系樹脂（ａ－４）の質量に対して、５質量％以上５０質量％以下が好ましく、１０質量％以上３０質量％以下がより好ましい。

アクリル系樹脂（ａ－４）が、不飽和二重結合を有する構成単位を有する場合、アクリル系樹脂（ａ－４）における、不飽和二重結合を有する構成単位の量は、１質量％以上５０質量％以下が好ましく、１質量％以上３０質量％以下がより好ましく、１質量％以上２０質量％以下が特に好ましい。
アクリル系樹脂（ａ－４）が、上記の範囲内の量の不飽和二重結合を有する構成単位を含むことにより、アクリル系樹脂（ａ－４）をレジスト膜内の架橋反応に取り込んで均一化できるため硬化膜の耐熱性、機械特性の向上に有効である。

アクリル系樹脂（ａ－４）の重量平均分子量は、２０００以上５００００以下であることが好ましく、３０００以上３００００以下であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、感光性樹脂組成物の膜形成能、露光後の現像性のバランスがとりやすい傾向がある。

感光性樹脂組成物中のアルカリ可溶性樹脂（Ａ）の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分中、５質量％以上９０質量％以下が好ましく、１０質量％以上８０質量％以下がより好ましく、４０質量％以上７０質量％以下が特に好ましい。なお、本明細書において、固形分とは、感光性樹脂組成物に含まれる溶剤以外の成分の総和を示す。

＜光重合性化合物（Ｂ）＞
感光性樹脂組成物が含有する光重合性化合物（Ｂ）（以下、（Ｂ）成分ともいう。）は、特に限定されず、従来公知の光重合性化合物を用いることができる。その中でも、エチレン性不飽和基を有する化合物が好ましい。
エチレン性不飽和基を有する化合物には、単官能化合物と多官能化合物とがある。以下、単官能化合物、及び多官能化合物について順に説明する。

単官能化合物の例としては、（メタ）アクリルアミド、メチロール（メタ）アクリルアミド、メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、エトキシメチル（メタ）アクリルアミド、プロポキシメチル（メタ）アクリルアミド、ブトキシメトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、クロトン酸、２－アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸、ｔｅｒｔ－ブチルアクリルアミドスルホン酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２－フェノキシ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイルオキシ－２－ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノ（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、フタル酸誘導体のハーフ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの単官能化合物は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

多官能化合物の例としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、２，２－ビス（４－（メタ）アクリロキシジエトキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（メタ）アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、２－ヒドロキシ－３－（メタ）アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート（すなわち、トリレンジイソシアネート）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートとヘキサメチレンジイソシアネートと２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物、メチレンビス（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリルアミドメチレンエーテル、多価アルコールとＮ－メチロール（メタ）アクリルアミドとの縮合物等の多官能化合物や、トリアクリルホルマール等が挙げられる。これらの多官能化合物は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

感光性樹脂組成物中の光重合性化合物（Ｂ）の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分中、５質量％以上６０質量％以下が好ましく、７質量％以上５０質量％以下がより好ましく、１０質量％以上４０質量％以下が特に好ましい。

＜光重合開始剤（Ｃ）＞
光重合開始剤（Ｃ）としては、特に限定されず、従来公知の光重合開始剤を用いることができる。光重合開始剤は、１種単独で用いても、２種以上を併用してもよい。光重合開始剤としては、アセトフェノン、２，２－ジエトキシアセトフェノン、ｐ－ジメチルアセトフェノン、ｐ－ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルアセトフェノン等のアセトフェノン類；ベンゾフェノン、２－クロロベンゾフェノン、ｐ，ｐ’－ビスジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエ－テル類；チオキサンテン、２－クロロチオキサンテン、２，４－ジエチルチオキサンテン、２－メチルチオキサンテン、２－イソプロピルチオキサンテン等の硫黄化合物；２－エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２－ベンズアントラキノン、２，３－ジフェニルアントラキノン等のアントラキノン類；ベンゾイルパーオキシド、クメンパーオキシド等の有機過酸化物；２－メルカプトベンゾイミダール、２－メルカプトベンゾオキサゾール、２－メルカプトベンゾチアゾール等のチオール化合物；２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジ（ｍ－メトキシフェニル）－イミダゾリル二量体等のイミダゾリル化合物；ｐ－メトキシトリアジン等のトリアジン化合物；２，４，６－トリス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－メチル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－［２－（５－メチルフラン－２－イル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－［２－（フラン－２－イル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－［２－（４－ジエチルアミノ－２－メチルフェニル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－［２－（３，４－ジメトキシフェニル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－メトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－エトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－ｎ－ブトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン等のハロメチル基を有するトリアジン化合物；２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタン－１－オン等のアミノケトン化合物；オキシムエステル化合物（例えば、エタノン－１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－１－（Ｏ－アセチルオキシム））等のオキシム系光重合開始剤；等が挙げられる。

これらの中でも、感光性組成物の感度を十分に保つ観点から、オキシム系光重合開始剤が好ましく、オキシムエステル化合物がより好ましい。このようなオキシムエステル化合物としては、下記式（ｃ１）で表される部分構造を有する化合物が好ましい。

（式（ｃ１）中、ｎ１は、０、又は１であり、Ｒ^ｃ２は、一価の有機基であり、Ｒ^ｃ３は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数１以上２０以下の脂肪族炭化水素基、又は置換基を有してもよいアリール基であり、＊は結合手である。）

式（ｃ１）で表される部分構造を有する化合物は、カルバゾール骨格、フルオレン骨格、ジフェニルエーテル骨格や、フェニルスルフィド骨格を有することが好ましい。
式（ｃ１）で表される部分構造を有する化合物は、式（ｃ１）で表される部分構造を１つ又は２つ有することが好ましい。

式（ｃ１）で表される部分構造を有する化合物としては、下記式（ｃ２）で表される化合物が挙げられる。

（式（ｃ２）中、Ｒ^ｃ１は、下記式（ｃ３）、（ｃ４）、又は（ｃ５）で表される基であり、ｎ１は、０、又は１であり、Ｒ^ｃ２は、一価の有機基であり、Ｒ^ｃ３は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数１以上２０以下の脂肪族炭化水素基、又は置換基を有してもよいアリール基である。）

（式（ｃ３）中、Ｒ^ｃ４及びＲ^ｃ５は、それぞれ独立に、１価の有機基であり、ｎ２は、０以上３以下の整数であり、ｎ２が２又は３の場合、複数のＲ^ｃ５は同一でも異なっていてもよく、複数のＲ^ｃ５は互いに結合して環を形成してもよい。＊は結合手である。）

（式（ｃ４）中、Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい鎖状アルコキシ基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子であり、Ｒ^ｃ６とＲ^ｃ７とは互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ^ｃ７とフルオレン骨格中のベンゼン環とが互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ^ｃ８は、ニトロ基、又は１価の有機基、であり、ｎ３は、０以上４以下の整数であり、＊は結合手である。）

（式（ｃ５）中、Ｒ^ｃ９は、１価の有機基、ハロゲン原子、ニトロ基、又はシアノ基であり、Ａは、Ｓ又はＯであり、ｎ４は、０以上４以下の整数であり、＊は結合手である。）

式（ｃ３）中、Ｒ^ｃ４は、１価の有機基である。Ｒ^ｃ４は、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。有機基としては、炭素原子含有基が好ましく、１以上の炭素原子、並びにＨ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｎ、Ｂ、Ｐ、Ｓｉ、及びハロゲン原子からなる群より選択される１以上の原子からなる基がより好ましい。炭素原子含有基の炭素原子数は特に限定されず、１以上５０以下が好ましく、１以上２０以下がより好ましい。
Ｒ^ｃ４の好適な例としては、炭素原子数１以上２０以下の置換基を有してもよいアルキル基、炭素原子数３以上２０以下の置換基を有してもよいシクロアルキル基、炭素原子数２以上２０以下の置換基を有してもよい飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２以上２０以下の置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数７以上２０以下のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数１１以上２０以下のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ４の中では、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基が好ましい。当該アルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。式（ｃ３）で表される化合物の感光性樹脂組成物中での溶解性が良好である点から、Ｒ^ｃ４としてのアルキル基の炭素原子数は、２以上が好ましく、５以上がより好ましく、７以上が特に好ましい。また、感光性樹脂組成物中での、式（ｃ３）で表される化合物と、他の成分との相溶性が良好である点から、Ｒ^ｃ４としてのアルキルの基の炭素原子数は、１５以下が好ましく、１０以下がより好ましい。

Ｒ^ｃ４が置換基を有する場合、当該置換基の好適な例としては、水酸基、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数１以上２０以下のアルコキシ基、炭素原子数２以上２０以下の脂肪族アシル基、炭素原子数２以上２０以下の脂肪族アシルオキシ基、フェノキシ基、ベンゾイル基、ベンゾイルオキシ基、－ＰＯ（ＯＲ）_２で表される基（Ｒは炭素原子数１以上６以下のアルキル基）、ハロゲン原子、シアノ基、ヘテロシクリル基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ４が、ヘテロシクリル基である場合、当該ヘテロシクリル基は、脂肪族複素環基であっても、芳香族複素環基であってもよい。Ｒ^ｃ４がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、１以上のＮ、Ｓ、Ｏを含む５員又は６員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数３までのものとする。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、キノキサリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピペリジン、テトラヒドロピラン、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。
Ｒ^ｃ４がヘテロシクリル基である場合、当該ヘテロシクリル基が有していてもよい置換基としては、水酸基、炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。

以上説明したＲ^ｃ４の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ペンタン－３－イル基、ｓｅｃ－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、及び２－エチルヘキシル基が挙げられる。
また、感光性樹脂組成物中での式（ｃ３）で表される化合物の溶解性が良好である点から、ｎ－オクチル基、及び２－エチルヘキシル基が好ましく、２－エチルヘキシル基がより好ましい。

式（ｃ３）中、Ｒ^ｃ５は、１価の有機基である。Ｒ^ｃ５は、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。有機基としては、炭素原子含有基が好ましく、１以上の炭素原子、並びにＨ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｎ、Ｂ、Ｐ、Ｓｉ、及びハロゲン原子からなる群より選択される１以上の原子からなる基がより好ましい。炭素原子含有基の炭素原子数は特に限定されず、１以上５０以下が好ましく、１以上２０以下がより好ましい。
Ｒ^ｃ５として好適な１価の有機基の例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、１、２の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン－１－イル基、ピペラジン－１－イル基、ハロゲン、ニトロ基、シアノ基、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含む置換基（ただし、Ｘは、各々独立に、ハロゲン原子である）等が挙げられる。

Ｒ^ｃ５がアルキル基である場合、アルキル基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。また、Ｒ^ｃ５がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｒ^ｃ５がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ－オクチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、ｎ－ノニル基、イソノニル基、ｎ－デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Ｒ^ｃ５がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合（－Ｏ－）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ５がアルコキシ基である場合、アルコキシ基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。また、Ｒ^ｃ５がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｒ^ｃ５がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ－ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ－ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルオキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ｓｅｃ－ペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ペンチルオキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－ヘプチルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｓｅｃ－オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ－オクチルオキシ基、ｎ－ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Ｒ^ｃ５がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合（－Ｏ－）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ５がシクロアルキル基又はシクロアルコキシ基である場合、シクロアルキル基又はシクロアルコキシ基の炭素原子数は、３以上１０以下が好ましく、３以上６以下がより好ましい。Ｒ^ｃ５がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。Ｒ^ｃ５がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ５が飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、２以上２１以下が好ましく、２以上７以下がより好ましい。Ｒ^ｃ５が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、ｎ－ブタノイル基、２－メチルプロパノイル基、ｎ－ペンタノイル基、２，２－ジメチルプロパノイル基、ｎ－ヘキサノイル基、ｎ－ヘプタノイル基、ｎ－オクタノイル基、ｎ－ノナノイル基、ｎ－デカノイル基、ｎ－ウンデカノイル基、ｎ－ドデカノイル基、ｎ－トリデカノイル基、ｎ－テトラデカノイル基、ｎ－ペンタデカノイル基、及びｎ－ヘキサデカノイル基等が挙げられる。Ｒ^ｃ５が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ｎ－ブタノイルオキシ基、２－メチルプロパノイルオキシ基、ｎ－ペンタノイルオキシ基、２，２－ジメチルプロパノイルオキシ基、ｎ－ヘキサノイルオキシ基、ｎ－ヘプタノイルオキシ基、ｎ－オクタノイルオキシ基、ｎ－ノナノイルオキシ基、ｎ－デカノイルオキシ基、ｎ－ウンデカノイルオキシ基、ｎ－ドデカノイルオキシ基、ｎ－トリデカノイルオキシ基、ｎ－テトラデカノイルオキシ基、ｎ－ペンタデカノイルオキシ基、及びｎ－ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ５がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２以上２０以下が好ましく、２以上７以下がより好ましい。Ｒ^ｃ５がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ－プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ｎ－ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ－ブチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ－ブチルオキシカルボニル基、ｎ－ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ－ペンチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ－ペンチルオキシカルボニル基、ｎ－ヘキシルオキシカルボニル基、ｎ－ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ－オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ－オクチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ－オクチルオキシカルボニル基、ｎ－ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、ｎ－デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ５がフェニルアルキル基である場合、フェニルアルキル基の炭素原子数は、７以上２０以下が好ましく、７以上１０以下がより好ましい。また、Ｒ^ｃ５がナフチルアルキル基である場合、ナフチルアルキル基の炭素原子数は、１１以上２０以下が好ましく、１１以上１４以下がより好ましい。Ｒ^ｃ５がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、２－フェニルエチル基、３－フェニルプロピル基、及び４－フェニルブチル基が挙げられる。Ｒ^ｃ５がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α－ナフチルメチル基、β－ナフチルメチル基、２－（α－ナフチル）エチル基、及び２－（β－ナフチル）エチル基が挙げられる。Ｒ^ｃ５が、フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、Ｒ^ｃ５は、フェニル基、又はナフチル基上にさらに置換基を有していてもよい。

Ｒ^ｃ５がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、式（ｃ３）中のＲ^ｃ４がヘテロシクリル基である場合と同様であり、ヘテロシクリル基はさらに置換基を有していてもよい。
Ｒ^ｃ５がヘテロシクリルカルボニル基である場合、ヘテロシクリルカルボニル基に含まれるヘテロシクリル基は、Ｒ^ｃ５がヘテロシクリル基である場合と同様である。

Ｒ^ｃ５が１又は２の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数３以上１０以下のシクロアルキル基、炭素原子数２以上２１以下の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数７以上２０以下のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数１１以上２０以下のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、Ｒ^ｃ５と同様である。１、又は２の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ｎ－プロピルアミノ基、ジ－ｎ－プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ｎ－ブチルアミノ基、ジ－ｎ－ブチルアミノ基、ｎ－ペンチルアミノ基、ｎ－ヘキシルアミノ基、ｎ－ヘプチルアミノ基、ｎ－オクチルアミノ基、ｎ－ノニルアミノ基、ｎ－デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ｎ－ブタノイルアミノ基、ｎ－ペンタノイルアミノ基、ｎ－ヘキサノイルアミノ基、ｎ－ヘプタノイルアミノ基、ｎ－オクタノイルアミノ基、ｎ－デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α－ナフトイルアミノ基、及びβ－ナフトイルアミノ基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ５に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含む置換基（例えば、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルキル基）、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基、炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２以上７以下のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン－１－イル基、ピペラジン－１－イル基、ベンゾイル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Ｒ^ｃ５に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されず、１以上４以下が好ましい。Ｒ^ｃ５に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。

Ｒ^ｃ５に含まれる、ベンゾイル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、モルホリン－１－イル基、ピペラジン－１－イル基、２－テノイル基（チオフェン－２－イルカルボニル基）、フラン－３－イルカルボニル基及びフェニル基等が挙げられる。

Ｘで表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられ、フッ素原子であることが好ましい。

ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含む置換基としては、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基を有する基、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルキル基、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルキル基を有する基等が挙げられ、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基、又はＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基を有する基であることがより好ましい。

ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルキル基を有する基としては、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルキル基で置換されている芳香族基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルキル基で置換されているシクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）等が挙げられ、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルキル基で置換されている芳香族基であることが好ましい。

ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基を有する基としては、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基で置換されている芳香族基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基で置換されているアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基等）、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基で置換されているシクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）等が挙げられ、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基で置換されている芳香族基であることが好ましい。

また、Ｒ^ｃ５としてはシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェノキシアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基、も好ましい。フェノキシアルキル基、及びフェニルチオアルキル基が有していてもよい置換基は、Ｒ^ｃ５に含まれるフェニル基が有していてもよい置換基と同様である。

１価の有機基の中でも、Ｒ^ｃ５としては、アルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、又はシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基が好ましい。アルキル基としては、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基が好ましく、炭素原子数１以上８以下のアルキル基がより好ましく、炭素原子数１以上４以下のアルキル基が特に好ましく、メチル基が最も好ましい。置換基を有していてもよいフェニル基の中では、メチルフェニル基が好ましく、２－メチルフェニル基がより好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるシクロアルキル基の炭素原子数は、５以上１０以下が好ましく、５以上８以下がより好ましく、５又は６が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、１以上８以下が好ましく、１以上４以下がより好ましく、２が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基の中では、シクロペンチルエチル基が好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、１以上８以下が好ましく、１以上４以下がより好ましく、２が特に好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基の中では、２－（４－クロロフェニルチオ）エチル基が好ましい。

式（ｃ３）で表される基において、Ｒ^ｃ５が複数存在し、複数のＲ^ｃ５が互いに結合して環を形成する場合、形成される環としては、炭化水素環や、複素環等が挙げられる。複素環に含まれるヘテロ原子としては、例えば、Ｎ、ＯやＳが挙げられる。複数のＲ^ｃ５が互いに結合して形成する環としては、特に芳香族環が好ましい。かかる芳香族環は、芳香族炭化水素環であっても、芳香族複素環であってもよい。かかる芳香族環としては、芳香族炭化水素環が好ましい。式（ｃ３）において、複数のＲ^ｃ５が互いに結合してベンゼン環を形成した場合の具体例を、以下に示す。

式（ｃ４）で表される基において、Ｒ^ｃ８は、ニトロ基又は１価の有機基である。Ｒ^ｃ８は、式（ｃ４）中の縮合環上で、－（ＣＯ）ｎ１－で表される基に結合する芳香環とは異なる６員芳香環に、結合する。式（ｃ４）中、Ｒ^ｃ８の結合位置は特に限定されない。式（ｃ４）で表される基が１以上のＲ^ｃ８を有する場合、式（ｃ４）で表される化合物の合成が容易であること等から、１以上のＲ^ｃ８のうちの１つが、フルオレン骨格の７位の位置に結合することが好ましい。すなわち、式（ｃ４）で表される基が１以上のＲ^ｃ８を有する場合、式（ｃ４）で表される基は、下記式（ｃ６）で示されることが好ましい。Ｒ^ｃ８が複数の場合、複数のＲ^ｃ８は同一であっても異なっていてもよい。

（式（ｃ６）中、Ｒ^ｃ６、Ｒ^ｃ７、Ｒ^ｃ８、ｎ３は、それぞれ式（ｃ４）におけるＲ^ｃ６、Ｒ^ｃ７、Ｒ^ｃ８、ｎ３と同様である。）

Ｒ^ｃ８が１価の有機基である場合、Ｒ^ｃ８は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。有機基としては、炭素原子含有基が好ましく、１以上の炭素原子、並びにＨ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｎ、Ｂ、Ｐ、Ｓｉ、及びハロゲン原子からなる群より選択される１以上の原子からなる基がより好ましい。炭素原子含有基の炭素原子数は特に限定されず、１以上５０以下が好ましく、１以上２０以下がより好ましい。
Ｒ^ｃ８が１価の有機基である場合の好適な例としては、式（ｃ３）中のＲ^ｃ５としての１価の有機基の好適な例と同様の基が挙げられる。

式（ｃ４）中、Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７は、それぞれ、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい鎖状アルコキシ基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子である。Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７とは相互に結合して環を形成してもよい。これらの基の中では、Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７として、置換基を有してもよい鎖状アルキル基が好ましい。Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が置換基を有してもよい鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基は直鎖アルキル基でも分岐鎖アルキル基でもよい。

Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が置換基を持たない鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上１０以下がより好ましく、１以上６以下が特に好ましい。Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が鎖状アルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ－オクチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、ｎ－ノニル基、イソノニル基、ｎ－デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合（－Ｏ－）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が置換基を有する鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上１０以下がより好ましく、１以上６以下が特に好ましい。この場合、置換基の炭素原子数は、鎖状アルキル基の炭素原子数に含まれない。置換基を有する鎖状アルキル基は、直鎖状であるのが好ましい。

アルキル基が有してもよい置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。置換基の好適な例としては、アルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、環状有機基、及びアルコキシカルボニル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。これらの中では、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が好ましい。環状有機基としては、シクロアルキル基、芳香族炭化水素基、ヘテロシクリル基が挙げられる。シクロアルキル基の具体例としては、Ｒ^ｃ８がシクロアルキル基である場合の好適な例と同様である。芳香族炭化水素基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。ヘテロシクリル基の具体例としては、Ｒ^ｃ８がヘテロシクリル基である場合の好適な例と同様である。Ｒ^ｃ８がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基の炭素原子数は、１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。

鎖状アルキル基が置換基を有する場合、置換基の数は特に限定されない。好ましい置換基の数は鎖状アルキル基の炭素原子数に応じて変わる。置換基の数は、典型的には、１以上２０以下であり、１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。

Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が置換基を持たない鎖状アルコキシ基である場合、鎖状アルコキシ基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上１０以下がより好ましく、１以上６以下が特に好ましい。Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が鎖状アルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ－ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ－ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルオキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ｓｅｃ－ペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ペンチルオキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－ヘプチルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｓｅｃ－オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ－オクチルオキシ基、ｎ－ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合（－Ｏ－）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が置換基を有する鎖状アルコキシ基である場合に、アルコキシ基が有してもよい置換基は、Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が鎖状アルキル基である場合と同様である。

Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が環状有機基である場合、環状有機基は、脂環式基であっても、芳香族基であってもよい。環状有機基としては、脂肪族環状炭化水素基、芳香族炭化水素基、ヘテロシクリル基が挙げられる。Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が環状有機基である場合に、環状有機基が有してもよい置換基は、Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が鎖状アルキル基である場合と同様である。

Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が芳香族炭化水素基である場合、芳香族炭化水素基は、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が炭素－炭素結合を介して結合して形成される基であるか、複数のベンゼン環が縮合して形成される基であるのが好ましい。芳香族炭化水素基が、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が結合又は縮合して形成される基である場合、芳香族炭化水素基に含まれるベンゼン環の環数は特に限定されず、３以下が好ましく、２以下がより好ましく、１が特に好ましい。芳香族炭化水素基の好ましい具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が脂肪族環状炭化水素基である場合、脂肪族環状炭化水素基は、単環式であっても多環式であってもよい。脂肪族環状炭化水素基の炭素原子数は特に限定されないが、３以上２０以下が好ましく、３以上１０以下がより好ましい。単環式の環状炭化水素基の例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基、及びアダマンチル基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７がヘテロシクリル基である場合、式（ｃ３）中のＲ^ｃ５としてのヘテロシクリル基と同様の基が挙げられる。

Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７とは相互に結合して環を形成してもよい。Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７とが形成する環からなる基は、シクロアルキリデン基であるのが好ましい。Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７とが結合してシクロアルキリデン基を形成する場合、シクロアルキリデン基を構成する環は、５員環～６員環であるのが好ましく、５員環であるのがより好ましい。

Ｒ^ｃ７とフルオレン骨格のベンゼン環と環を形成する場合、当該環は、芳香族環でもよく、脂肪族環でもよい。

Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が結合して形成する基がシクロアルキリデン基である場合、シクロアルキリデン基は、１以上の他の環と縮合していてもよい。シクロアルキリデン基と縮合していてもよい環の例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピリジン環、ピラジン環、及びピリミジン環等が挙げられる。

以上説明したＲ^ｃ６及びＲ^ｃ７の中でも好適な基の例としては、－Ａ^１－Ａ^２で表される基が挙げられる。式中、Ａ^１は直鎖アルキレン基であり、Ａ^２は、アルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、環状有機基、又はアルコキシカルボニル基である挙げられる。

Ａ^１の直鎖アルキレン基の炭素原子数は、１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。Ａ^２がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシ基の炭素原子数は、１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。Ａ^２がハロゲン原子である場合、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。Ａ^２がハロゲン化アルキル基である場合、ハロゲン化アルキル基に含まれるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。ハロゲン化アルキル基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。Ａ^２が環状有機基である場合、環状有機基の例は、Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が置換基として有する環状有機基と同様である。Ａ^２がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の例は、Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７が置換基として有するアルコキシカルボニル基と同様である。

Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７の好適な具体例としては、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、及びｎ－オクチル基等のアルキル基；２－メトキシエチル基、３－メトキシ－ｎ－プロピル基、４－メトキシ－ｎ－ブチル基、５－メトキシ－ｎ－ペンチル基、６－メトキシ－ｎ－ヘキシル基、７－メトキシ－ｎ－ヘプチル基、８－メトキシ－ｎ－オクチル基、２－エトキシエチル基、３－エトキシ－ｎ－プロピル基、４－エトキシ－ｎ－ブチル基、５－エトキシ－ｎ－ペンチル基、６－エトキシ－ｎ－ヘキシル基、７－エトキシ－ｎ－ヘプチル基、及び８－エトキシ－ｎ－オクチル基等のアルコキシアルキル基；２－シアノエチル基、３－シアノ－ｎ－プロピル基、４－シアノ－ｎ－ブチル基、５－シアノ－ｎ－ペンチル基、６－シアノ－ｎ－ヘキシル基、７－シアノ－ｎ－ヘプチル基、及び８－シアノ－ｎ－オクチル基等のシアノアルキル基；２－フェニルエチル基、３－フェニル－ｎ－プロピル基、４－フェニル－ｎ－ブチル基、５－フェニル－ｎ－ペンチル基、６－フェニル－ｎ－ヘキシル基、７－フェニル－ｎ－ヘプチル基、及び８－フェニル－ｎ－オクチル基等のフェニルアルキル基；２－シクロヘキシルエチル基、３－シクロヘキシル－ｎ－プロピル基、４－シクロヘキシル－ｎ－ブチル基、５－シクロヘキシル－ｎ－ペンチル基、６－シクロヘキシル－ｎ－ヘキシル基、７－シクロヘキシル－ｎ－ヘプチル基、８－シクロヘキシル－ｎ－オクチル基、２－シクロペンチルエチル基、３－シクロペンチル－ｎ－プロピル基、４－シクロペンチル－ｎ－ブチル基、５－シクロペンチル－ｎ－ペンチル基、６－シクロペンチル－ｎ－ヘキシル基、７－シクロペンチル－ｎ－ヘプチル基、及び８－シクロペンチル－ｎ－オクチル基等のシクロアルキルアルキル基；２－メトキシカルボニルエチル基、３－メトキシカルボニル－ｎ－プロピル基、４－メトキシカルボニル－ｎ－ブチル基、５－メトキシカルボニル－ｎ－ペンチル基、６－メトキシカルボニル－ｎ－ヘキシル基、７－メトキシカルボニル－ｎ－ヘプチル基、８－メトキシカルボニル－ｎ－オクチル基、２－エトキシカルボニルエチル基、３－エトキシカルボニル－ｎ－プロピル基、４－エトキシカルボニル－ｎ－ブチル基、５－エトキシカルボニル－ｎ－ペンチル基、６－エトキシカルボニル－ｎ－ヘキシル基、７－エトキシカルボニル－ｎ－ヘプチル基、及び８－エトキシカルボニル－ｎ－オクチル基等のアルコキシカルボニルアルキル基；２－クロロエチル基、３－クロロ－ｎ－プロピル基、４－クロロ－ｎ－ブチル基、５－クロロ－ｎ－ペンチル基、６－クロロ－ｎ－ヘキシル基、７－クロロ－ｎ－ヘプチル基、８－クロロ－ｎ－オクチル基、２－ブロモエチル基、３－ブロモ－ｎ－プロピル基、４－ブロモ－ｎ－ブチル基、５－ブロモ－ｎ－ペンチル基、６－ブロモ－ｎ－ヘキシル基、７－ブロモ－ｎ－ヘプチル基、８－ブロモ－ｎ－オクチル基、３，３，３－トリフルオロプロピル基、及び３，３，４，４，５，５，５－ヘプタフルオロ－ｎ－ペンチル基等のハロゲン化アルキル基が挙げられる。

Ｒ^ｃ６及びＲ^ｃ７として、上記の中でも好適な基は、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、２－メトキシエチル基、２－シアノエチル基、２－フェニルエチル基、２－シクロヘキシルエチル基、２－メトキシカルボニルエチル基、２－クロロエチル基、２－ブロモエチル基、３，３，３－トリフルオロプロピル基、及び３，３，４，４，５，５，５－ヘプタフルオロ－ｎ－ペンチル基である。

式（ｃ５）中、感度に優れる光重合開始剤を得やすい点から、ＡはＳであることが特に好ましい。

式（ｃ５）中、Ｒ^ｃ９は、１価の有機基、ハロゲン原子、ニトロ基、又はシアノ基である。
式（ｃ５）におけるＲ^ｃ９が１価の有機基である場合、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。有機基としては、炭素原子含有基が好ましく、１以上の炭素原子、並びにＨ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｎ、Ｂ、Ｐ、Ｓｉ、及びハロゲン原子からなる群より選択される１以上の原子からなる基がより好ましい。炭素原子含有基の炭素原子数は特に限定されず、１以上５０以下が好ましく、１以上２０以下がより好ましい。
式（ｃ５）においてＲ^ｃ９が有機基である場合の好適な例としては、式（ｃ３）中のＲ^ｃ５としての１価の有機基と同様の基が挙げられる。

Ｒ^ｃ９の中では、ベンゾイル基；ナフトイル基；炭素原子数１以上６以下のアルキル基、モルホリン－１－イル基、ピペラジン－１－イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基；ニトロ基；置換基を有していてもよいベンゾフラニルカルボニル基が好ましく、ベンゾイル基；ナフトイル基；２－メチルフェニルカルボニル基；４－（ピペラジン－１－イル）フェニルカルボニル基；４－（フェニル）フェニルカルボニル基がより好ましい。

また、式（ｃ５）において、ｎ４は、０以上３以下の整数が好ましく、０以上２以下の整数がより好ましく、０、又は１であるのが特に好ましい。ｎ４が１である場合、Ｒ^ｃ９の結合する位置は、Ｒ^ｃ９が結合するフェニル基が酸素原子又は硫黄原子と結合する結合手に対して、パラ位であるのが好ましい。

式（ｃ１）及び（ｃ２）中、Ｒ^ｃ２としての１価の有機基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。有機基としては、炭素原子含有基が好ましく、１以上の炭素原子、並びにＨ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｎ、Ｂ、Ｐ、Ｓｉ、及びハロゲン原子からなる群より選択される１以上の原子からなる基がより好ましい。炭素原子含有基の炭素原子数は特に限定されず、１以上５０以下が好ましく、１以上２０以下がより好ましい。
Ｒ^ｃ２としての１価の有機基の好適な例としては、式（ｃ３）中のＲ^ｃ５としての１価の有機基と同様の基が挙げられる。これらの基の具体例は、式（ｃ３）中のＲ^ｃ５について説明した基と同様である。
また、Ｒ^ｃ２としてはシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェノキシアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基、も好ましい。フェノキシアルキル基、及びフェニルチオアルキル基が有していてもよい置換基は、式（ｃ３）中のＲ^ｃ５に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基と同様である。

有機基の中でも、Ｒ^ｃ２としては、上記ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含む置換基、アルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、又はシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基が好ましい。アルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、シクロアルキルアルキル基に含まれるシクロアルキル基の炭素原子数、シクロアルキルアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数、シクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数、又は芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基については、式（ｃ３）のＲ^ｃ５と同様である。

また、Ｒ^ｃ２としては、－Ａ^３－ＣＯ－Ｏ－Ａ^４で表される基も好ましい。Ａ^３は、２価の有機基であり、２価の炭化水素基であるのが好ましく、アルキレン基であるのが好ましい。Ａ^４は、１価の有機基であり、１価の炭化水素基であるのが好ましい。

Ａ^３がアルキレン基である場合、アルキレン基は直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。Ａ^３がアルキレン基である場合、アルキレン基の炭素原子数は１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましく、１以上４以下が特に好ましい。

Ａ^４の好適な例としては、炭素原子数１以上１０以下のアルキル基、炭素原子数７以上２０以下のアラルキル基、及び炭素原子数６以上２０以下の芳香族炭化水素基が挙げられる。Ａ^４の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、ベンジル基、フェネチル基、α－ナフチルメチル基、及びβ－ナフチルメチル基等が挙げられる。

－Ａ^３－ＣＯ－Ｏ－Ａ^４で表される基の好適な具体例としては、２－メトキシカルボニルエチル基、２－エトキシカルボニルエチル基、２－ｎ－プロピルオキシカルボニルエチル基、２－ｎ－ブチルオキシカルボニルエチル基、２－ｎ－ペンチルオキシカルボニルエチル基、２－ｎ－ヘキシルオキシカルボニルエチル基、２－ベンジルオキシカルボニルエチル基、２－フェノキシカルボニルエチル基、３－メトキシカルボニル－ｎ－プロピル基、３－エトキシカルボニル－ｎ－プロピル基、３－ｎ－プロピルオキシカルボニル－ｎ－プロピル基、３－ｎ－ブチルオキシカルボニル－ｎ－プロピル基、３－ｎ－ペンチルオキシカルボニル－ｎ－プロピル基、３－ｎ－ヘキシルオキシカルボニル－ｎ－プロピル基、３－ベンジルオキシカルボニル－ｎ－プロピル基、及び３－フェノキシカルボニル－ｎ－プロピル基等が挙げられる。

また、Ｒ^ｃ２としては、下記式（ｃ７）又は（ｃ８）で表される基も好ましい。

（式（ｃ７）及び（ｃ８）中、Ｒ^ｃ１０及びＲ^ｃ１１は、それぞれ独立に、１価の有機基であり、ｎ５は０以上４以下の整数であり、Ｒ^ｃ１０及びＲ^ｃ１１がベンゼン環上の隣接する位置に存在する場合、Ｒ^ｃ１０及びＲ^ｃ１１とが互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ^ｃ１２は、１価の有機基であり、ｎ６は１以下８以下の整数であり、ｎ７は１以上５以下の整数であり、ｎ８は０以上（ｎ７＋３）以下の整数である。）

式（ｃ７）中のＲ^ｃ１０及びＲ^ｃ１１としての有機基は、式（ｃ４）中のＲ^ｃ８と同様である。Ｒ^ｃ１０としては、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基、ＨＸ_２Ｃ－又はＨ_２ＸＣ－で表される基を含むハロゲン化アルキル基、アルキル基又はフェニル基が好ましい。Ｒ^ｃ１０及びＲ^ｃ１１とが結合して環を形成する場合、当該環は、芳香族環でもよく、脂肪族環でもよい。式（ｃ７）で表される基であって、Ｒ^ｃ１０とＲ^ｃ１１とが環を形成している基の好適な例としては、ナフタレン－１－イル基や、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－５－イル基等が挙げられる。
上記式（ｃ７）中、ｎ７は０以上４以下の整数であり、０又は１であるのが好ましく、０であるのがより好ましい。

上記式（ｃ８）中、Ｒ^ｃ１２は有機基である。有機基としては、式（ｃ４）中のＲ^ｃ８について説明した有機基と同様の基が挙げられる。有機基の中では、アルキル基が好ましい。アルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよい。アルキル基の炭素原子数は１以上１０以下が好ましく、１以上５以下がより好ましく、１以上３以下が特に好ましい。Ｒ^ｃ１２としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基であることがより好ましい。

上記式（ｃ８）中、ｎ７は１以上５以下の整数であり、１以上３以下の整数が好ましく、１又は２がより好ましい。上記式（ｃ８）中、ｎ８は０以上（ｎ７＋３）以下であり、０以上３以下の整数が好ましく、０以上２以下の整数がより好ましく、０が特に好ましい。
上記式（ｃ８）中、ｎ８は１以上８以下の整数であり、１以上５以下の整数が好ましく、１以上３以下の整数がより好ましく、１又は２が特に好ましい。

式（ｃ２）中、Ｒ^ｃ３は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数１以上２０以下の脂肪族炭化水素基、又は置換基を有してもよいアリール基である。Ｒ^ｃ３が脂肪族炭化水素基である場合に有してもよい置換基としては、フェニル基、ナフチル基等が好ましく例示される。

式（ｃ１）及び（ｃ２）中、Ｒ^ｃ３としては、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、２－シクロペンチルエチル基、２－シクロブチルエチル基、シクロヘキシルメチル基、フェニル基、ベンジル基、メチルフェニル基、ナフチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基又はフェニル基がより好ましい。

式（ｃ２）で表され、且つＲ^ｃ１として式（ｃ３）で表される基を有する化合物の好適な具体例としては、以下の化合物が挙げられる。

式（ｃ２）で表され、且つＲ^ｃ１として式（ｃ４）で表される基を有する化合物の好適な具体例としては、以下の化合物が挙げられる。

式（ｃ２）で表され、且つＲ^ｃ１として式（ｃ５）で表される基を有する化合物の好適な具体例としては、以下の化合物が挙げられる。

感光性樹脂組成物中の、光重合開始剤（Ｃ）の含有量は、典型的には、感光性樹脂組成物の固形分の質量に対して、０．０１質量％以上１０質量％以下が好ましく、０．０５質量％以上８質量％以下がより好ましく、０．１質量％以上５質量％以下が特に好ましい。

＜塩基性化合物（Ｄ）＞
塩基性化合物（Ｄ）は、後述する式（ｄ１）で表される化合物である。塩基性化合物（Ｄ）は、光又は熱等のエネルギーにより下記式（ｄ０）で表されるイミダゾール化合物を発生させる化合物である。

（式（ｄ０）中、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、ホスフィノ基、スルホナト基、ホスフィニル基、ホスホナト基、又は有機基を示す。）

Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３における有機基としては、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。この有機基は、該有機基中にヘテロ原子等の炭化水素基以外の結合や置換基を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。この有機基は、通常は１価であるが、環状構造を形成する場合等には、２価以上の有機基となり得る。

Ｒ^ｄ１及びＲ^ｄ２は、それらが結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合をさらに含んでいてもよい。環状構造としては、ヘテロシクロアルキル基、ヘテロアリール基等が挙げられ、縮合環であってもよい。

Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３の有機基に含まれる結合は、本発明の効果が損なわれない限り特に限定されず、有機基は、酸素原子、窒素原子、珪素原子等のヘテロ原子を含む結合を含んでいてもよい。ヘテロ原子を含む結合の具体例としては、エーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、チオカルボニル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、イミノ結合（－Ｎ＝Ｃ（－Ｒ^ｄ０）－、－Ｃ（＝ＮＲ^ｄ０）－：Ｒ^ｄ０は水素原子又は有機基を示す）、カーボネート結合、スルホニル結合、スルフィニル結合、アゾ結合等が挙げられる。

Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３の有機基が有してもよいヘテロ原子を含む結合としては、イミダゾール化合物の耐熱性の観点から、エーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、チオカルボニル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、イミノ結合（－Ｎ＝Ｃ（－Ｒ^ｄ０）－、－Ｃ（＝ＮＲ^ｄ０）－：Ｒ^ｄ０は水素原子又は有機基を示す）、カーボネート結合、スルホニル結合、スルフィニル結合が好ましい。

Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３の有機基が炭化水素基以外の置換基である場合、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３は本発明の効果が損なわれない限り特に限定されない。Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３の具体例としては、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シアノ基、イソシアノ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、シリル基、シラノール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシラート基、アシル基、アシルオキシ基、スルフィノ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホナト基、アルキルエーテル基、アルケニルエーテル基、アルキルチオエーテル基、アルケニルチオエーテル基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基等が挙げられる。上記置換基に含まれる水素原子は、炭化水素基によって置換されていてもよい。また、上記置換基に含まれる炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれでもよい。

Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３としては、水素原子、炭素原子数１以上１２以下のアルキル基、炭素原子数６以上１２以下のアリール基、炭素原子数１以上１２以下のアルコキシ基、及びハロゲン原子が好ましく、水素原子がより好ましい。

好適な塩基性化合物（Ｄ）としては、下記式（ｄ１）：

（式（ｄ１）中、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホナト基、又は有機基を示す。Ｒ^ｄ４及びＲ^ｄ５は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、又は有機基を示す。Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、アミノ基、アンモニオ基、又は有機基を示す。Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０は、それらの２つ以上が結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。）で表される化合物が挙げられる。

式（ｄ１）において、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３は、式（ｄ０）について説明したものと同様である。

式（ｄ１）において、Ｒ^ｄ４及びＲ^ｄ５は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、又は有機基を示す。

Ｒ^ｄ４及びＲ^ｄ５における有機基としては、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３について例示したものが挙げられる。この有機基は、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３の場合と同様に、該有機基中にヘテロ原子を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。

以上の中でも、Ｒ^ｄ４及びＲ^ｄ５としては、それぞれ独立に水素原子、炭素原子数１以上１０以下のアルキル基、炭素原子数４以上１３以下のシクロアルキル基、炭素原子数４以上１３以下のシクロアルケニル基、炭素原子数７以上１６以下のアリールオキシアルキル基、炭素原子数７以上２０以下のアラルキル基、シアノ基を有する炭素原子数２以上１１以下のアルキル基、水酸基を有する炭素原子数１以上１０以下のアルキル基、炭素原子数１以上１０以下のアルコキシ基、炭素原子数２以上１１以下のアミド基、炭素原子数１以上１０以下のアルキルチオ基、炭素原子数１以上１０以下のアシル基、炭素原子数２以上１１以下のエステル基（－ＣＯＯＲｃ、－ＯＣＯＲｃ：Ｒｃは炭化水素基を示す）、炭素原子数６以上２０以下のアリール基、電子供与性基及び／又は電子吸引性基が置換した炭素原子数６以上２０以下のアリール基、電子供与性基及び／又は電子吸引性基が置換したベンジル基、シアノ基、メチルチオ基であることが好ましい。より好ましくは、Ｒ^ｄ４及びＲ^ｄ５の両方が水素原子であるか、又はＲ^ｄ４がメチル基であり、Ｒ^ｄ５が水素原子である。

式（ｄ２）において、Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、アミノ基、アンモニオ基、又は有機基を示す。

Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０における有機基としては、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３において例示したものが挙げられる。この有機基は、Ｒ^ｄ１及びＲ^ｄ２の場合と同様に、該有機基中にヘテロ原子等の炭化水素基以外の結合や置換基を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。

Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０は、それらの２つ以上が結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。環状構造としては、ヘテロシクロアルキル基、ヘテロアリール基等が挙げられ、縮合環であってもよい。例えば、Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０は、それらの２つ以上が結合して、Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０が結合しているベンゼン環の原子を共有してナフタレン、アントラセン、フェナントレン、インデン等の縮合環を形成してもよい。

以上の中でも、Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０としては、それぞれ独立に水素原子、炭素原子数１以上１０以下のアルキル基、炭素原子数４以上１３以下のシクロアルキル基、炭素原子数４以上１３以下のシクロアルケニル基、炭素原子数７以上１６以下のアリールオキシアルキル基、炭素原子数７以上２０以下のアラルキル基、シアノ基を有する炭素原子数２以上１１以下のアルキル基、水酸基を有する炭素原子数１以上１０以下のアルキル基、炭素原子数１以上１０以下のアルコキシ基、炭素原子数２以上１１以下のアミド基、炭素原子数１以上１０以下のアルキルチオ基、炭素原子数１以上１０以下のアシル基、炭素原子数２以上１１以下のエステル基、炭素原子数６以上２０以下のアリール基、電子供与性基及び／又は電子吸引性基が置換した炭素原子数６以上２０以下のアリール基、電子供与性基及び／又は電子吸引性基が置換したベンジル基、シアノ基、メチルチオ基、ニトロ基であることが好ましい。

また、Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０としては、それらの２つ以上が結合して、Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０が結合しているベンゼン環の原子を共有してナフタレン、アントラセン、フェナントレン、インデン等の縮合環を形成している場合も好ましい。

上記式（ｄ２）で表される化合物の中では、下記式（ｄ３）：

（式（ｄ３）中、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３は、式（ｄ１）及び（ｄ２）と同義である。Ｒ^ｄ４～Ｒ^ｄ９は式（ｄ２）と同義である。Ｒ^ｄ１１は、水素原子又は有機基を示す。Ｒｃ６及びＲｃ７が水酸基となることはない。Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、及びＲ^ｄ９は、それらの２つ以上が結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。）で表される化合物が好ましい。

式（ｄ３）で表される化合物は、置換基－Ｏ－Ｒ^ｄ１１を有するため、感光性樹脂組成物中での溶解性に優れる。

式（ｄ３）において、Ｒ^ｄ１１は、水素原子又は有機基である。Ｒ^ｄ１１が有機基である場合、有機基としては、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３において例示したものが挙げられる。この有機基は、該有機基中にヘテロ原子を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。Ｒ^ｄ１１としては、水素原子、炭素原子数１以上１２以下のアルキル基若しくはアルコキシアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基がより好ましい。

塩基性化合物（Ｄ）として特に好適な化合物の具体例を以下に示す。

感光性樹脂組成物は、塩基性化合物（Ｄ）を２種以上含んでいてもよい。
感光性樹脂組成物中の、塩基性化合物（Ｄ）の含有量は、典型的には、感光性樹脂組成物の固形分の質量に対して、０．０１質量％以上４０質量％以下が好ましく、０．１質量％以上２０質量％以下がより好ましく、０．５質量％以上１０質量％以下が特に好ましい。

＜シランカップリング剤（Ｅ）＞
シランカップリング剤（Ｅ）は、下記式（ｅ１）で表されるアルコキシシラン化合物を必須に含む。
（Ｒ^ｅ１Ｏ）^ａ（Ｒ^ｅ２）^３－ａＳｉ－Ｒ^ｅ３－Ｒ^ｅ４－Ｒ^ｅ５・・・（ｅ１）
（式（ｅ１）中、Ｒ^ｅ１及びＲ^ｅ２は、それぞれ独立に、炭素原子数１以上６以下の炭化水素基であり、ａは、２又は３であり、Ｒ^ｅ３は、炭素原子数１以上１０以下のアルキレン基であり、Ｒ^ｅ４は、－ＣＯ－ＮＨ－であり、Ｒ^ｅ５は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基である。）

シランカップリング剤（Ｅ）は、ケイ素原子に結合するアルコキシ基及び／又は反応性基を介して、感光性樹脂組成物に含まれる種々の成分と結合又は相互作用したり、基板等の支持体の表面と結合したりする。
このため、式（ｅ１）で表されるシラン化合物をシランカップリング剤として含む着色組成物を用いると、有機溶剤やアルカリ性現像液に過度に溶解しにくく、基板への密着性が良好な着色硬化物を形成しやすい。

式（ｅ１）中、Ｒ^ｅ１Ｏで表されるアルコキシ基の炭素原子数は１以上６以下が好ましく、１以上４以下がより好ましく、シランカップリング剤の反応性の観点から１又は２が特に好ましい。アルコキシ基の好ましい具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、及びｎ－ヘキシルオキシ基が挙げられる。これらのアルコキシ基の中では、メトキシ基、及びエトキシ基が好ましい。

アルコキシ基であるＲ^ｅ１が加水分解されて生成するシラノール基が基板の表面等と反応することで、感光性樹脂組成物を用いて形成される塗膜や樹脂膜の基板等の支持体の表面への密着性が向上されやすい。このため、塗膜や樹脂膜の基板等の支持体の表面への密着性を向上させやすい点から、ａは３であるのが好ましい。

式（ｅ１）中、Ｒ^ｅ２はアルキル基である。Ｒ^ｅ２について、アルキル基の炭素原子数は１以上１２以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。シランカップリング剤の反応性の観点から、アルキル基の炭素原子数は、１又は２が特に好ましい。Ｒ^ｅ２の好ましい具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ウンデシル基、及びｎ－ドデシル基が挙げられる。

式（ｅ１）中、Ｒ^ｅ３はアルキレン基である。Ｒ^ｅ３について、アルキレン基の炭素原子数は１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましく、２以上４以下が特に好ましい。Ｒ^ｅ３の好ましい具体例としては、メチレン基、エタン－１，２－ジイル基（エチレン基）、エタン－１，１－ジイル基、プロパン－１，３－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、プロパン－１，１－ジイル基、プロパン－２，２－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、ブタン－１，２－ジイル基、ブタン－１，１－ジイル基、ブタン－２，２－ジイル基、ブタン－２，３－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、ノナン－１，９－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、ウンデカン－１，１１－ジイル基、及びドデカン－１，１２－ジイル基が挙げられる。これらのアルキレン基の中では、エタン－１，２－ジイル基（エチレン基）、プロパン－１，３－ジイル基、及びブタン－１，４－ジイル基が好ましい。

式（ｅ１）中、Ｒ^ｅ４は－ＣＯ－ＮＨ－で表される結合である。式（ｅ１）中、Ｒ^ｅ４の方向は特に限定されない。つまり、式（ｅ１）で表される化合物の末端の構造は、－Ｒ^ｅ３－ＣＯ－ＮＨ－Ｒ^ｅ５で表されても、－Ｒ^ｅ３－ＮＨ－－ＣＯ－Ｒ^ｅ５で表されてもよい。

式（ｅ１）中、Ｒ^ｅ５は置換基を有してもよい芳香族炭化水素基である。

芳香族炭化水素基の種類は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。芳香族炭化水素基は、単環式の芳香族基であってもよく、２以上の芳香族炭化水素基が縮合して形成されたものであってもよく、２以上の芳香族炭化水素基が単結合により結合して形成されたものであってもよい。芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アンスリル基、及びフェナンスレニル基が好ましい。

芳香族炭化水素基が有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、カルボニル基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、アミノ基、アンモニオ基、及び有機基が挙げられる。芳香族炭化水素基が複数の置換基を有する場合、当該複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。

芳香族炭化水素基が有する置換基が有機基である場合、当該有機基としては、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、及びアラルキル基等が挙げられる。この有機基は、該有機基中にヘテロ原子等の炭化水素基以外の結合や置換基を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。この有機基は、通常は１価であるが、環状構造を形成する場合等には、２価以上の有機基となり得る。

芳香族炭化水素基が、当該芳香族炭化水素基を構成する芳香族炭化水素環中の隣接する炭素原子上に置換基を有する場合、隣接する炭素原子に結合する２つの置換基は、互いに結合して環を形成してもよい。環としては、脂肪族炭化水素環や、ヘテロ原子を含む脂肪族環が挙げられる。

芳香族炭化水素基が有する置換基が有機基である場合に、当該有機基に含まれる結合は本発明の効果が損なわれない限り特に限定されない。置換基としての有機基は、酸素原子、窒素原子、珪素原子等のヘテロ原子を含む結合を含んでいてもよい。ヘテロ原子を含む結合の具体例としては、エーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、チオカルボニル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、イミノ結合（－Ｎ＝Ｃ（－Ｒ）－、－Ｃ（＝ＮＲ）－：Ｒは水素原子又は有機基を示す）、カーボネート結合、スルホニル結合、スルフィニル結合、及びアゾ結合等が挙げられる。

有機基が有してもよいヘテロ原子を含む結合としては、エーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、チオカルボニル結合、エステル結合、アミド結合、アミノ結合（－ＮＲ－：Ｒは水素原子又は１価の有機基を示す）ウレタン結合、イミノ結合（－Ｎ＝Ｃ（－Ｒ）－、－Ｃ（＝ＮＲ）－：Ｒは水素原子又は１価の有機基を示す）、カーボネート結合、スルホニル結合、及びスルフィニル結合が挙げられる。

置換基が炭化水素基以外の基である場合、炭化水素基以外の置換基の種類は、所望する効果が阻害されない範囲で特に限定されない。炭化水素基以外の置換基の具体例としては、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シアノ基、イソシアノ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、シリル基、シラノール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアルミ基、モノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシラート基、アシル基、アシルオキシ基、スルフィノ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホナト基、アルキルエーテル基、アルケニルエーテル基、アルキルチオエーテル基、アルケニルチオエーテル基、アリールエーテル基、及びアリールチオエーテル基等が挙げられる。上記置換基に含まれる水素原子は、炭化水素基によって置換されていてもよい。また、上記置換基に含まれる炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれでもよい。

式（ｅ１）で表される化合物の好適な具体例としては、
Ｎ－（２－カルボキシフェニルカルボニル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、
Ｎ－（２－カルボキシフェニルカルボニル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、
Ｎ－（２－カルボキシフェニルカルボニル）－３－アミノプロピル（メチル）ジメトキシシラン、
Ｎ－（２－カルボキシフェニルカルボニル）－３－アミノプロピル（エチル）ジメトキシシラン、
Ｎ－（２－カルボキシフェニルカルボニル）－３－アミノプロピル（メチル）ジエトキシシラン、
Ｎ－（２－カルボキシフェニルカルボニル）－３－アミノプロピル（エチル）ジエトキシシラン、
Ｎ－（４－カルボキシフェニルカルボニル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、
Ｎ－（４－カルボキシフェニルカルボニル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、
Ｎ－（４－カルボキシフェニルカルボニル）－３－アミノプロピル（メチル）ジメトキシシラン、
Ｎ－（４－カルボキシフェニルカルボニル）－３－アミノプロピル（エチル）ジメトキシシラン、
Ｎ－（４－カルボキシフェニルカルボニル）－３－アミノプロピル（メチル）ジエトキシシラン、
Ｎ－（４－カルボキシフェニルカルボニル）－３－アミノプロピル（エチル）ジエトキシシラン、
Ｎ－（３－カルボキシフェニルカルボニル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、
Ｎ－（３－カルボキシフェニルカルボニル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、
Ｎ－（３－カルボキシフェニルカルボニル）－３－アミノプロピル（メチル）ジメトキシシラン、
Ｎ－（３－カルボキシフェニルカルボニル）－３－アミノプロピル（エチル）ジメトキシシラン、
Ｎ－（３－カルボキシフェニルカルボニル）－３－アミノプロピル（メチル）ジエトキシシラン、
Ｎ－（３－カルボキシフェニルカルボニル）－３－アミノプロピル（エチル）ジエトキシシラン、
Ｎ－ベンゾイル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、
Ｎ－ベンゾイル－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、
Ｎ－ベンゾイル－３－アミノプロピル（メチル）ジメトキシシラン、
Ｎ－ベンゾイル－３－アミノプロピル（エチル）ジメトキシシラン、
Ｎ－ベンゾイル－３－アミノプロピル（メチル）ジエトキシシラン、及び
Ｎ－ベンゾイル－３－アミノプロピル（エチル）ジエトキシシランが挙げられる。

シランカップリング剤（Ｅ）は、式（ｅ１）で表されるシラン化合物以外のシランカップリング剤を含んでいてもよい。かかるシランカップリング剤としては、特に限定されない。
シランカップリング剤の好適な例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ－プロピルトリメトキシシラン、ｎ－プロピルトリエトキシシラン、ｎ－ブチルトリメトキシシラン、ｎ－ブチルトリエトキシシラン等のモノアルキルトリアルコキシシラン；ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等のジアルキルジアルコキシシラン；フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等のモノフェニルトリアルコキシシラン；ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等のジフェニルジアルコキシシラン；ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等のモノビニルトリアルコキシシラン；３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン等の（メタ）アクリロキシアルキルモノアルキルジアルコキシシラン；３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリロキシアルキルトリアルコキシシラン；３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチル－ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ基含有トリアルコキシシラン；３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等の非脂環式エポキシ基含有アルキルトリアルコキシシラン；３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン等の非脂環式エポキシ基含有アルキルモノアルキルジアルコキシシラン；２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン等の脂環式エポキシ基含有アルキルトリアルコキシシラン；２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジエトキシシラン等の脂環式エポキシ基含有アルキルモノアルキルジアルコキシシラン；〔（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシ〕プロピルトリメトキシシラン、〔（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシ〕プロピルトリエトキシシラン等のオキセタニル基含有アルキルトリアルコキシシラン；３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプトアルキルトリアルコキシシラン；３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等のメルカプトアルキルモノアルキルジアルコキシシラン；３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン等のウレイドアルキルトリアルコキシシラン；３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のイソシアネートアルキルトリアルコキシシラン；３－トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物等の酸無水物基含有アルキルトリアルコキシシラン；Ｎ－ｔ－ブチル－３－（３－トリメトキシシリルプロピル）コハク酸イミド等のイミド基含有アルキルトリアルコキシシラン；等が挙げられる。これらのシランカップリング剤は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

シランカップリング剤（Ｅ）の質量に対する、式（ｅ１）で表されるシラン化合物の質量の比率は、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、９０質量％以上が特に好ましく、１００質量％が最も好ましい。

感光性樹脂組成物中のシランカップリング剤（Ｅ）の含有量は特に限定されない。シランカップリング剤（Ｅ）の含有量は、感光性樹脂組成物全体の質量に対して、０．１質量％以上２０質量％以下が好ましく、１質量％以上１０質量％以下がより好ましく、２質量％以上５質量％以下が特に好ましい。

＜溶剤（Ｓ）＞
感光性樹脂組成物は、塗布性の調整の目的等で溶剤（Ｓ）を含んでいてもよい。溶剤（Ｓ）の種類は特に限定されないが、典型的には有機溶剤である。

感光性樹脂組成物に配合され得る有機溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール－ｎ－プロピルエーテル、エチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン等のケトン類；２－ヒドロキシプロピオン酸メチル、２－ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類；２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオン酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２－ヒドロキシ－３－メチルブタン酸メチル、３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、蟻酸ｎ－ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸ｎ－ブチル、酪酸エチル、酪酸ｎ－プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸ｎ－ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ－プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２－オキソブタン酸エチル等の他のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウレア等の含窒素極性有機溶剤等が挙げられる。

感光性組成物における溶剤（Ｓ）の含有量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。例えば、感光性組成物における溶剤（Ｓ）の含有量は、感光性組成物の質量に対して、９５質量％以下でもよく、８０質量％以下でもよく、５０質量％以下でもよく、３０質量％以下でもよく、２０質量％以下でもよい。
また、感光性樹脂組成物が溶剤（Ｓ）を含む場合、感光性樹脂組成物における溶剤（Ｓ）の含有量は、１質量％以上でもよく、５質量％以上でもよく、１０質量％以上でもよく、２０質量％以上でもよく、３０質量％以上でもよい。

＜その他の成分（Ｆ）＞
感光性樹脂組成物は、必要に応じて、その他の成分（Ｆ）として各種の添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、増感剤、硬化促進剤、充填剤、分散剤等の密着促進剤、酸化防止剤、凝集防止剤、熱重合禁止剤等の重合禁止剤、消泡剤、界面活性剤、連鎖移動剤、染料や顔料等の着色剤等が挙げられる。

界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤、非イオン系界面活性剤が挙げられ、好ましくはシリコン系界面活性剤である。シリコン系界面活性剤としては、例えば、ポリエーテル変性ポリシロキサンが挙げられ、より具体的な例としては、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンが挙げられる。

連鎖移動剤としては、メルカプタン系化合物、ハロゲン系化合物、キノン系化合物、α－メチルスチレンダイマー等が挙げられる。連鎖移動剤を含有することで、パターン形状（特に、ホールパターンのＣＤ変化、露光マージン）を良好にコントロールすることができる。連鎖移動剤としては、例えば、２，４－ジフェニル－４－メチル－１－ペンテン（α－メチルスチレンダイマー）が挙げられる。

＜感光性樹脂組成物の調製方法＞
感光性樹脂組成物は、上記の各成分を通常の方法で混合、撹拌して調製される。上記の各成分を、混合、撹拌する際に使用できる装置としては、ディゾルバー、ホモジナイザー、３本ロールミル等が挙げられる。上記の各成分を均一に混合した後に、得られた混合物を、さらにメッシュ、メンブランフィルタ等を用いて濾過してもよい。

＜パターン化された樹脂膜＞
上記説明した感光性樹脂組成物を用いて、基板上に、パターン化された樹脂膜を形成する方法は特に限定されない。
好適な方法としては、
基板上に、感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層を積層する積層工程と、
感光性樹脂層に、位置選択的に活性光線又は放射線を照射して露光する露光工程と、
露光後の感光性樹脂層を現像して、パターン化された樹脂膜を形成する現像工程と、を含むパターン化された樹脂膜の製造方法が挙げられる。

感光性樹脂層を積層する基板としては、特に限定されず、従来公知のものを用いることができ、例えば、電子部品用の基板や、表面に金属膜や、金属膜からなる所定の配線パターンが形成された基板等を例示することができる。基板としては、シリコン基板やガラス基板等を用いることもできる。
本発明に係る感光性樹脂組成物により形成される樹脂膜は金属表面との密着性に優れていることから、基板としては、金属表面を有する基板が好ましい。金属表面を有する基板は、前述の表面に金属膜や、金属膜からなる所定の配線パターンが形成された基板や、金属製の基板である。金属としては、銅、銀等が好ましい。

感光性樹脂層は、例えば以下のようにして、基板上に積層される。すなわち、液状の感光性樹脂組成物を基板上に塗布し、加熱により溶剤を除去することによって所望の膜厚の感光性樹脂層を形成する。
感光性樹脂層の厚さは、レジストパターンを所望の膜厚で形成できる限り特に限定されない。感光性樹脂層の膜厚は特に限定されないが、０．５μｍ以上が好ましく、０．５μｍ以上３００μｍ以下がより好ましく、１μｍ以上１５０μｍ以下が特に好ましく、３μｍ以上１００μｍ以下が最も好ましい。

基板上への感光性樹脂組成物の塗布方法としては、スピンコート法、スリットコート法、ロールコート法、スクリーン印刷法、アプリケーター法等の方法を採用することができる。感光性樹脂層に対してはプレベークを行うのが好ましい。プレベーク条件は、感光性樹脂組成物中の各成分の種類、配合割合、塗布膜厚等によって異なるが、通常は７０℃以上２００℃以下で、好ましくは８０℃以上１５０℃以下で、２分以上１２０分以下程度である。

上記のようにして形成された感光性樹脂層に対して、所定のパターンのマスクを介して、活性光線又は放射線、例えば波長が３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の紫外線又は可視光線が選択的に照射（露光）される。

放射線の線源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、アルゴンガスレーザー等を用いることができる。また、放射線には、マイクロ波、赤外線、可視光線、紫外線、Ｘ線、γ線、電子線、陽子線、中性子線、イオン線等が含まれる。放射線照射量は、感光性樹脂組成物の組成や感光性樹脂層の膜厚等によっても異なるが、例えば超高圧水銀灯使用の場合、１００ｍＪ／ｃｍ２以上１００００ｍＪ／ｃｍ２以下である。

感光性層が位置選択的に露光された場合、露光後の膜を現像液により現像することによって、未露光部が現像液に溶解して除去され、パターン化された樹脂膜が形成される。現像方法は、特に限定されず、例えば、浸漬法、スプレー法等を用いることができる。現像液は、感光性樹脂組成物の組成に応じて適宜選択される。現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア、４級アンモニウム塩等の塩基性の水溶液を用いることができる。

次いで、パターン化された樹脂膜に対するベーク（ポストベーク）が行われる。ベーク温度は、特に限定されないが、１８０℃以上２５０℃以下が好ましく、２２０℃以上２３０℃以下がより好ましい。ベーク時間は、典型的には、１０分以上９０分以下であり、２０分以上６０分以下が好ましい。
以上のようにベークを行うことにより、感光性樹脂組成物の樹脂膜が得られる。

以上の通り、本発明者により、以下の（１）～（４）が提供される。
（１）アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、
光重合性化合物（Ｂ）と、
光重合開始剤（Ｃ）と、
塩基性化合物（Ｄ）と、
シランカップリング剤（Ｅ）と、
を含む感光性樹脂組成物であって、
塩基性化合物（Ｄ）が下記式（ｄ１）：

（式（ｄ１）中、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホナト基、又は有機基を示す。Ｒ^ｄ４及びＲ^ｄ５は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、又は有機基を示す。Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、アミノ基、アンモニオ基、又は有機基を示す。Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０は、それらの２つ以上が結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。）
で表される化合物であり、
シランカップリング剤（Ｅ）が、下記式（ｅ１）：
（Ｒ^ｅ１Ｏ）^ａ（Ｒ^ｅ２）^３－ａＳｉ－Ｒ^ｅ３－Ｒ^ｅ４－Ｒ^ｅ５・・・（ｅ１）
（式（ｅ１）中、Ｒ^ｅ１及びＲ^ｅ２は、それぞれ独立に、炭素原子数１以上６以下の炭化水素基であり、ａは、２又は３であり、Ｒ^ｅ３は、炭素原子数１以上１０以下のアルキレン基であり、Ｒ^ｅ４は、－ＣＯ－ＮＨ－であり、Ｒ^ｅ５は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基である。）
で表されるアルコキシシラン化合物を含む、感光性樹脂組成物。
（２）固形分量の質量に対する、塩基性化合物（Ｄ）の質量の比率が、０．１質量％以上１０質量％以下である、（１）に記載の感光性樹脂組成物。
（３）金属表面上での、パターン化された樹脂膜の形成に用いられる、（１）、又は（２）に記載の感光性樹脂組成物。
（４）金属表面を有する基板の前記金属表面上に、（１）～（３）のいずれか１つに記載の感光性樹脂組成物からなる感光性層を積層する積層工程と、
感光性層に、位置選択的に活性光線又は放射線を照射する露光工程と、
露光後の感光性層を現像して、パターン化された樹脂膜を形成する現像工程と、を含む、パターン化された樹脂膜を備える基板の製造方法。

以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

〔実施例１～８、及び比較例１～５〕
それぞれ、表１に記載の量（質量部）のアルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、光重合性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）、塩基性化合物（Ｄ）と、シランカップリング剤（Ｅ）と、その他の成分（Ｆ）とを、溶剤（Ｓ）に分散、溶解させて、感光性樹脂組成物を調製した。溶剤（Ｓ）は、感光性樹脂組成物の固形分濃度が２０質量％であるように使用された。

＜アルカリ可溶性樹脂（Ａ）＞
実施例、及び比較例では、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）として、以下に示すＩ～Ｖの単位からなる樹脂（Ａ－１）を用いた。下式中、各単位の右下の数字は、アルカリ可溶性樹脂中の各単位の含有量（質量％）を意味する。樹脂（Ａ－１）の質量平均分子量は、８０００であった。

実施例６～８では、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）として以下に示すＶＩ～ＶＩＩＩの単位からなる樹脂（Ａ－２）を用いた。下式中、各単位の右下の数字は、アルカリ可溶性樹脂中の各単位の含有量（質量％）を意味する。樹脂（Ａ－２）の質量平均分子量は、７０００であった。

＜光重合性化合物（Ｂ）＞
実施例、及び比較例において、光重合性化合物（Ｂ）として、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製、下記式で表されるジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ａ＝６、ｂ＝０）／ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ａ＝５、ｂ＝１）の混合物、ＨＬＢ値：０．６５以下）を用いた。

＜光重合開始剤（Ｃ）＞
実施例、及び比較例において、光重合開始剤（Ｃ）として、以下のＣ－１～Ｃ－４を用いた。

＜塩基性化合物（Ｄ）＞
実施例、及び比較例において、塩基性化合物（Ｄ）として、以下のＤ－１～Ｄ－３を用いた。

＜シランカップリング剤（Ｅ）＞
実施例、及び比較例において、シランカップリング剤として以下のＥ－１を用いた。

＜その他の添加剤（Ｆ）＞
実施例、及び比較例において、その他の添加剤（Ｆ）として、以下のＦ－１～Ｆ－３を用いた。

Ｆ－３：ＢＹＫ－３１０（ポリエステル変性シリコーン系界面活性剤、ビックケミー社製）

溶剤（Ｓ）として以下のＳ－１、Ｓ－２、及びＳ－３を混合し、混合溶剤として用いた。混合比（重量比）は、Ｓ－１：Ｓ－２：Ｓ－３＝４０：３０：３０、である。
Ｓ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
Ｓ－２：ジエチレングリコールメチルエチルエーテル
Ｓ－３：Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウレア

得られた感光性樹脂組成物を用いて、以下の方法に従い、表２に記載の項目の評価を行った。

＜樹脂膜を備える基板の作成＞
各実施例及び比較例で得た感光性樹脂組成物を、スピンコーター（コーニングＥＸＧ）を用いて１００×１００ｍｍ、０．７ｍｍ厚の銅基板上に塗布した後、塗膜を１００℃で１２０秒間プリベークし、膜厚３．０μｍの樹脂膜を得た。
次いで、露光装置ＴＭＥ１５０ＲＴＯ（トプコン製）を用いて、塗膜に対して、３０ｍＪ／ｃｍ_２（Ｇａｐ１５０μｍ）の露光量で露光を行った（超高圧水銀灯による紫外線露光）。
露光後、濃度２．３８質量％の水酸化テトラメチルアンモニウムの水溶液を現像液として用いて、２５℃６０秒の条件で現像を行った。
現像後の露光された塗膜を、１５０℃で３０分間の条件でポストベークして、基板Ｃｇを得た。

＜耐水性の測定＞
基板上の樹脂膜に、幅１ｍｍの格子状切込み（クロスカット）を入れた。
続いて、クロスカットされた樹脂膜を備える基板を、１２０℃、湿度１００％、２気圧の環境下に３６時間暴露する、ＰＣＴ試験（プレッシャークッカー試験）を行った。
ＰＣＴ試験後、基板の温度を室温に戻した。冷却、及び乾燥された基板に対して、ＡＳＴＭ－Ｄ３３５９－０９ｅ２に規定されたテープ剥離テストを行い、各格子の剥離有無を観察した。テープ剥離テストの結果について、以下の基準にて評価した。結果を、表２に記載する。
◎（ランク５Ｂ）：剥がれが全くなかった。
○（ランク４Ｂ）：格子状切込みにより分割された樹脂膜の総数に対する、剥離した樹脂膜の数の比率が５％以下であった。
△（ランク３Ｂ）：格子状切込みにより分割された樹脂膜の総数に対する、剥離した樹脂膜の数の比率が５％超１５％以下であった。剥がれが１５超％以上であった。
×（ランク２Ｂ～０Ｂ）：格子状切込みにより分割された樹脂膜の総数に対する、剥離した樹脂膜の数の比率が１５％以上であった。

＜パターン化された樹脂膜を備える基板の作成＞
各実施例及び比較例で得た感光性組成物を、スピンコーター（コーニングＥＸＧ）を用いて１００×１００ｍｍ、０．７ｍｍ厚の銅基板上に塗布した後、塗膜を１００℃で１２０秒間プリベークし、膜厚３．０μｍの樹脂膜を得た。
次いで、露光装置（トプコン製、ＴＭＥ１５０ＲＴＯ）を用いて、塗膜に対して、３０μｍコンタクトホールパターンを有するフォトマスクを介して、３０ｍＪ／ｃｍ_２（Ｇａｐ１５０μｍ）の露光量で露光を行った（超高圧水銀灯による紫外線露光）。
露光後、濃度２．３８質量％の水酸化テトラメチルアンモニウムの水溶液を現像液として用いて、２５℃６０秒の条件で現像を行った。
現像後の露光された塗膜を、１５０℃で３０分間の条件でポストベークして、パターン化された樹脂膜を備える基板を得た。

＜パターン形状評価（溶解不良、剥がれ、テーパー角、防食）＞
基板に形成されたホールパターン備える樹脂膜を、走査型電子顕微鏡Ｓ－９２２０（日立製作所製）により観察した。実施例１～３及び比較例１～５のいずれもホールパターンが形成できていた。これにより、各感光性樹脂組成物が露光量３０ｍＪ／ｃｍ^２（Ｇａｐ１５０μｍ）にて又はそれ以下の露光量で硬化する感度を有するネガタイプの感光性樹脂組成物であることを確認した。
次いで、より詳細に、ホール内溶解不良、パターン剥がれ、テーパー角、銅防食を評価した。

ホール内溶解不良は、ＡＯＩ装置検査による１０個のホールパターンの監察結果に基づき、以下の基準に従い評価した。
〇：残渣が無かった。
△：１０個中、残渣が観察されたホールパターンの数が１又は２個であった。
×：１０個中、残渣が観察されたホールパターンの数が３個から１０個であった。

パターン剥がれは、１０個のホールパターンの観察結果に基づき、以下の基準に従い評価した。
○：パターン剥がれが無かった。
△：１０個中、剥がれが観察されたホールパターンの数が１又は２個であった。
×：１０個中、剥がれが観察されたホールパターンの数が３個から１０個であった。

テーパー角は、樹脂膜のホール部１０の断面について、図１に示すように基板９０ａとホール部１０の側面のなす角度θを計測した。テーパー角（パターン断面形状）について、以下の基準に従い評価した。
◎：測定角度θが、７５度以上８５度以下
○：測定角度θが、４５度以上７５度以下
△：測定角度θが、１５度以上４５度以下
×：測定角度θが、測定角度１５度未満
なお図１では、基板９０ａと樹脂膜のホール部１０の接する面を基準面とし、基準面の平行線と、ホール側面のなす角度をθとして表現しているが、上記θと同じである。

銅防食は、樹脂膜剥離後の目視による色変化の観察結果に基づき、以下の基準に従い評価した。
〇：変化なし
×：変化あり

表２によれば、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、光重合性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、塩基性化合物（Ｄ）と、シランカップリング剤（Ｅ）とを含み、且つ塩基性化合物（Ｄ）が前記式（ｄ１）で表される化合物であり、シランカップリング剤（Ｅ）が前記式（ｅ１）で表されるアルコキシシラン化合物である、実施例の感光性樹脂組成物は、耐水性に優れ、溶解不良が無く、良好な密着性を有し、銅に対する腐食性が無く、適度なテーパー角を有するテーパー形状の断面を有するパターン化された樹脂膜を与えることが分かる。
他方、塩基性化合物として前記式（ｄ１）で表される化合物を含まなかったり、シランカップリング剤（Ｅ）として前記式（ｅ１）で表されるアルコキシシラン化合物を含まなかったりする比較例の感光性樹脂組成物は耐水性に優れ、溶解不良が無く、良好な密着性を有し、銅に対する腐食性が無く、適度なテーパー角を有するテーパー形状の断面を有するパターン化された樹脂膜を形成することが困難であった。

Claims (4)

1. アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、
   光重合性化合物（Ｂ）と、
   光重合開始剤（Ｃ）と、
   塩基性化合物（Ｄ）と、
   シランカップリング剤（Ｅ）と、
   を含む感光性樹脂組成物であって、
   前記塩基性化合物（Ｄ）が下記式（ｄ１）：
   

   

   （式（ｄ１）中、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホナト基、又は有機基を示す。Ｒ^ｄ４及びＲ^ｄ５は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、又は有機基を示す。Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、アミノ基、アンモニオ基、又は有機基を示す。Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０は、それらの２つ以上が結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。）
   で表される化合物であり、
   前記シランカップリング剤（Ｅ）が、下記式（ｅ１）：
   （Ｒ^ｅ１Ｏ）^ａ（Ｒ^ｅ２）^３－ａＳｉ－Ｒ^ｅ３－Ｒ^ｅ４－Ｒ^ｅ５・・・（ｅ１）
   （式（ｅ１）中、Ｒ^ｅ１及びＲ^ｅ２は、それぞれ独立に、炭素原子数１以上６以下の炭化水素基であり、ａは、２又は３であり、Ｒ^ｅ３は、炭素原子数１以上１０以下のアルキレン基であり、Ｒ^ｅ４は、－ＣＯ－ＮＨ－であり、Ｒ^ｅ５は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基である。）
   で表されるアルコキシシラン化合物を含む、感光性樹脂組成物。
2. 固形分量の質量に対する、前記塩基性化合物（Ｄ）の質量の比率が、０．１質量％以上１０質量％以下である、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
3. 金属表面上での、パターン化された樹脂膜の形成に用いられる、請求項１、又は２に記載の感光性樹脂組成物。
4. 金属表面を有する基板の前記金属表面上に、請求項１、又は２に記載の感光性樹脂組成物からなる感光性層を積層する積層工程と、
   前記感光性層に、位置選択的に活性光線又は放射線を照射する露光工程と、
   露光後の前記感光性層を現像して、パターン化された樹脂膜を形成する現像工程と、を含む、パターン化された樹脂膜を備える基板の製造方法。

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