WO2023090295A1 - 排ガス浄化触媒装置の製造方法 - Google Patents

排ガス浄化触媒装置の製造方法 Download PDF

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裕己 岡田
剛治 大賀
和宏 溝口
仁美 鈴木
祐司 河原崎
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株式会社キャタラー
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    • Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
    • Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
    • Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters

Definitions

  • the present invention relates to a method for manufacturing an exhaust gas purification catalyst device.
  • Exhaust gas emitted from internal combustion engines such as automobile engines is released into the atmosphere after being purified by an exhaust gas purification catalyst device installed in the exhaust system.
  • This exhaust gas purifying catalytic device has a structure including, for example, a honeycomb substrate having a plurality of cell flow paths partitioned by partition walls, and a catalyst coat layer formed on and/or in the partition walls of the honeycomb substrate. have.
  • Such an exhaust gas purifying catalytic device is manufactured, for example, by coating a honeycomb base material with a coating liquid containing the raw material components of the catalyst coating layer and then firing the coating liquid.
  • the honeycomb base material is coated with the coating liquid by placing the coating liquid on one end face of the honeycomb base material and sucking it from the opposite end face.
  • a frame-shaped storage jig capable of storing the coating liquid is attached to the first end face of the honeycomb base material, and the coating liquid is stored on the first end face,
  • the pressure on the side of the second end face opposite to the first end face relatively low with respect to the pressure on the side of the first end face and causing the coating liquid to flow from the first end face to the second end face , describes coating a honeycomb substrate with a coating solution.
  • Industrial production of exhaust gas purifying catalyst devices is usually carried out by an automatic processing system.
  • an automatic processing system a plurality of processing stations are provided from the upstream side to the downstream side, and processing is performed sequentially.
  • the processing time at each processing station does not necessarily match.
  • the processing at the processing station requiring the longest processing time becomes the rate-determining step of the entire process.
  • Patent Literature 2 discloses a conveying device configured by conveying means for conveying a workpiece (object to be processed) along a conveying line and processing means provided in the vicinity of the conveying line. It is described that an overtaking auxiliary means is provided for gripping and raising the work so that the succeeding work overtakes the preceding work and is conveyed first.
  • the suction process When the honeycomb base material is coated with the coating liquid by placing the coating liquid on one end face of the honeycomb base material and sucking it from the opposite end face, the suction process often becomes rate-determining.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to coat the honeycomb substrate with the coating liquid, place the coating liquid on one end surface of the honeycomb substrate, and vice versa.
  • an exhaust gas purifying catalyst device capable of increasing the speed of the entire process while securing a predetermined suction time when suction is performed from a side end face.
  • the present invention is as follows.
  • step (C) the time for sucking the substrate after the coating liquid is placed from the lower end surface is less than the time required for the coating for forming the catalyst coating layer on the upper end surface of the substrate in the step (A).
  • the step (B) is (B1) transferring the base material after mounting the coating liquid from the coating liquid mounting station to a branching station; and (B2) transferring the base material after mounting the coating liquid from the branching station.
  • step (B2) transferring the substrate on which the coating liquid has been placed to one of the two or more suction devices of the suction station that is free, A method for manufacturing an exhaust gas purification catalyst device.
  • the steps (A) to (D) are performed such that the time from the end of the step (A) to the start of the step (C) is within a predetermined range.
  • method for manufacturing an exhaust gas purifying catalyst device ⁇ Aspect 3>> The exhaust gas purifying catalyst according to Aspect 2, wherein in the step (A), the coating liquid for forming the catalyst coat layer is placed on the upper end surface of the base material after waiting for a predetermined time. Method of manufacturing the device.
  • ⁇ Aspect 4>> The step (D) is (D1) removing the base material coated with the coating liquid from the suction station and transferring it to the branching station; and (D2) transferring the base material coated with the coating liquid from the branching station to the next process.
  • a honeycomb substrate having a plurality of cell channels partitioned by cell walls is held so that the flow direction of the cell channels is vertical, and a catalyst coating layer is formed on the upper end surface of the substrate.
  • a coating liquid placing station for placing the forming coating liquid; Two or more suction devices for sucking the substrate after the coating liquid is placed from the lower end surface and coating the coating liquid on one or more cell walls and in the cell walls of the substrate.
  • the honeycomb substrate when the honeycomb substrate is coated with the coating liquid by placing the coating liquid on one end surface of the honeycomb substrate and sucking it from the opposite end surface, the predetermined suction time is ensured, the speed of the entire process can be increased, and a high-quality coating layer can be obtained.
  • FIG. 1 is a conceptual diagram showing an outline of a method for manufacturing an exhaust gas purifying catalytic device of Embodiment 1.
  • FIG. 2 is a conceptual diagram showing an overview of the manufacturing method of the exhaust gas purifying catalytic device of the second embodiment.
  • the method for manufacturing an exhaust gas purifying catalyst device of the present invention comprises: (A) In a coating liquid placing station, a honeycomb base material having a plurality of cell flow paths partitioned by cell walls is held so that the flow direction of the cell flow paths is vertical. placing a coating solution for forming a catalyst coating layer on the upper end surface; (B) transferring the base material after mounting the coating liquid from the coating liquid mounting station to a suction station; (C) At the suction station, the base material after the coating liquid is placed is sucked from the lower end surface, and the coating liquid is coated on one or more of the cell walls and the cell walls of the base material.
  • step (C) the time for sucking the substrate after the coating liquid is placed from the lower end surface is less than the time required for the coating for forming the catalyst coating layer on the upper end surface of the substrate in the step (A).
  • the step (B) is (B1) transferring the base material after mounting the coating liquid from the coating liquid mounting station to a branching station; and (B2) transferring the base material after mounting the coating liquid from the branching station. transferring to the aspiration station;
  • step (B2) transferring the substrate on which the coating liquid has been placed to one of the two or more suction devices of the suction station that is free, A method for manufacturing an exhaust gas purifying catalytic device.
  • the coating liquid placement station may be equipped with a coating device.
  • This coating apparatus is, for example, a coating apparatus capable of placing a coating liquid on the upper end surface of a honeycomb substrate held so that the flow direction of cell flow paths is vertical. good.
  • the mounting jig has, for example, a frame shape, and can be detachably arranged on the upper end surface of the honeycomb substrate. It may be one that can form a placement portion.
  • the coating liquid supply device may have, for example, the function of supplying and placing the coating liquid on the placement section.
  • the coating liquid feeder may be, for example, a shower-type feeder or a spray-type feeder.
  • the suction station is a processing station for sucking the honeycomb substrate after the coating liquid is placed from the lower end face and coating the coating liquid on one or more of the cell walls and inside the cell walls of the substrate.
  • a suction station includes two or more suction devices.
  • Each suction device may have at least a vacuum channel and a vacuum jig for connecting the vacuum channel and the bottom surface of the honeycomb substrate.
  • the suction jig can be detachably attached to the lower end surface of the honeycomb base material, and the base material with the suction jig attached thereto is subjected to reduced pressure near the lower end of the cell channel.
  • the vacuum channel of the suction device may be connected to a vacuum generator, the vacuum channels of two or more suction devices may each be connected to its own vacuum generator, or the vacuum channels may be connected to two or more vacuum channels.
  • One vacuum generator may be shared.
  • two or more reduced pressure channels may be divided into groups, each group of reduced pressure channels sharing one reduced pressure generator.
  • the reduced pressure generator may be, for example, a vacuum pump or the like.
  • the number of suction devices included in the suction station may be 2 or more, 3 or more, or 4 or more.
  • the number of suction devices may be 8 or less, or 6 or less.
  • the number of suction devices included in the suction station is typically between 2 and 8, or between 3 and 6.
  • the method for manufacturing an exhaust gas purification catalyst device of the present invention includes: (A) In a coating liquid placing station, a honeycomb base material having a plurality of cell flow paths partitioned by cell walls is held so that the flow direction of the cell flow paths is vertical.
  • the time for sucking the substrate after the coating liquid is placed from the lower end surface is less than the time required for the coating for forming the catalyst coating layer on the upper end surface of the substrate in the step (A).
  • the step (B) is (B1) transferring the base material after mounting the coating liquid from the coating liquid mounting station to a branching station (first transfer step); and (B2) transferring the base material after mounting the coating liquid.
  • step (B2) transferring the substrate on which the coating liquid has been placed to one of the two or more suction devices of the suction station that is free, A method for manufacturing an exhaust gas purifying catalytic device.
  • the time for sucking the honeycomb base material after the coating liquid is placed from the lower end face is equal to (A) the coating liquid placement step.
  • the advantageous effects of the present invention are exhibited.
  • the suction time in the (C) suction coating step is twice or more, three times or more, or four times or more the coating liquid placement time in the (A) coating liquid placement step, The effects of the present invention are particularly advantageous.
  • the suction time in the suction coating step may be 20 times or less, or 15 times or less, the coating liquid placement time in the (A) coating liquid placement step.
  • the step of carrying in the suction station is (B1) a first transfer step of transferring the honeycomb base material after the coating liquid has been placed from the coating liquid placing station to the branching station; (B2) a second transfer step of transferring the base material after the coating liquid has been placed from the branching station to the suction station; (B2) In the second transfer step, the substrate after the coating liquid has been placed is transferred to one of the two or more suction devices of the suction station that is free.
  • the substrate in the coating liquid placement step By placing the coating liquid on the upper end face of the material after waiting for a predetermined period of time, the time from placement of the coating liquid to the start of suction can be made constant.
  • the number of suction devices in the suction station is two or more, and A branch station is provided between the coating liquid placing station and the suction station, transferring the substrate after the coating liquid has been placed to any one of the two or more suction devices of the suction station that is free, and if necessary, (A) coating the substrate;
  • a branch station is provided between the coating liquid placing station and the suction station, transferring the substrate after the coating liquid has been placed to any one of the two or more suction devices of the suction station that is free, and if necessary, (A) coating the substrate;
  • the base material after coating with the coating liquid may be directly transferred from the suction station to the next process, or may be returned from the suction station to the branching station and then transferred from the branching station to the next process.
  • the (D) suction station carry-out step in which the substrate after coating with the coating liquid is once returned from the suction station to the branching station and transferred from the branching station to the next step, (D1) A third transfer step in which the base material coated with the coating liquid is taken out from the suction station and transferred to the branching station, and (D2) The base material coated with the coating liquid is transferred from the branching station to the next process. and a fourth transfer step.
  • the time from (A) the end of the coating liquid placement step to (C) the start of the suction coating step is within a predetermined range.
  • steps (A) to (D) can be performed.
  • the difference between the time from A) the end of the coating liquid placement step to the start of the (C) suction coating step from the predetermined time is within ⁇ 50%, ⁇ Within 40%, within ⁇ 30%, within ⁇ 20%, within ⁇ 10%, within ⁇ 5%, within ⁇ 3%, within ⁇ 1%, within ⁇ 0.5%, within ⁇ 0.3%, or ⁇ It can be within 0.1%.
  • the next step of the method for manufacturing an exhaust gas purifying catalyst device of the present invention is any step such as, for example, a firing step, a step of forming a second catalyst coat layer, a step of supporting a catalyst component, a condition adjustment step, and a casing loading step. you can
  • a honeycomb base material having a plurality of cell flow paths partitioned by cell walls is held so that the flow direction of the cell flow paths is vertical, and a coating for forming a catalyst coating layer is applied to the upper end surface of the base material.
  • a coating liquid placing station for placing the liquid;
  • a suction station, and a branch station for feeding the substrate after the coating liquid has been placed to any of the two or more suction devices included in the suction station An apparatus for manufacturing an exhaust gas purifying catalytic device is provided.
  • FIG. 1 shows a conceptual diagram for explaining the outline of the manufacturing method of the exhaust gas purifying catalytic device of Embodiment 1. As shown in FIG. 1
  • the manufacturing method of FIG. 1 includes a coating liquid placing station, a branching station, and a suction station.
  • the suction station has three suction devices (suction device (1), suction device (2) and suction device (3)) and the diverting station has one redirecting device.
  • the substrate after the coating liquid placement step in the coating liquid placement station is transferred to the branching station by the first transfer step.
  • the diverting device changes the traveling direction of the substrate to the direction of the suction device (1), and the substrate is transferred to the suction device (1). 1) to perform the (C) suction coating process.
  • the direction is changed.
  • the apparatus changes the traveling direction of the substrate to the direction of the suction device (3), the substrate is transferred to the suction device (3), and (C) the suction coating step is performed.
  • the substrate coated with the coating liquid by any one of the suction devices (1) to (3) is transferred to the direction changing device in the (D1) third transfer step, (D2) Transferred to the next step by the fourth transfer step.
  • FIG. 1 A conceptual diagram for explaining the outline of the manufacturing method of the exhaust gas purifying catalyst device of Embodiment 2 is shown in FIG.
  • the manufacturing method of FIG. 1 includes a coating liquid placing station, a branching station, and a suction station.
  • the aspiration station has three aspiration devices (aspiration device (1), aspiration device (2) and aspiration device (3)) and the diverting station has three diversions equal to the number of aspiration devices in the aspiration station. It has devices (Redirecting device (1), Reversing device (2) and Reversing device (3)).
  • the base material after the coating liquid placement step in the coating liquid placement station is transferred to the branch station by the first transfer step.
  • the substrate first reaches the diverting device (1).
  • the direction changing device (1) changes the traveling direction of the substrate to the direction of the suction device (1), and the substrate is transferred to the suction device (1).
  • (C) a suction coating step is performed.
  • the redirecting device (1) when the substrate reaches the redirecting device (1), in the suction device (1), if the (C) suction coating step for another substrate has been performed, the redirecting device (1) does not change the direction of travel of the substrate, the substrate is transferred to the turning device (2). At this time, if the suction device (2) is vacant, the direction changing device (2) changes the traveling direction of the substrate to the direction of the suction device (2), and the substrate is transferred to the suction device (2). Then, (C) a suction coating step is performed.
  • the direction changing device (2) when the substrate reaches the direction changing device (2), if the suction device (2) is performing the (C) suction coating step for another substrate, the direction changing device (2 ) does not change the direction of travel of the substrate, and the substrate is transferred to the turning device (3). Then, the direction changing device (3) changes the traveling direction of the substrate to the direction of the suction device (3), the substrate is transferred to the suction device (3), and (C) the suction coating step is performed.
  • the base material coated with the coating liquid by the suction device (1) is transferred to the direction changing device (1) by the (D1) third transfer step. This base material is further transferred to the next step via the direction changing device (2) and the direction changing device (3) in the (D2) fourth transfer step.
  • the base material coated with the coating liquid by the suction device (2) is transferred to the direction changing device (2) by the (D1) third transfer step.
  • This base material is further transferred to the next step through the direction changing device (3) in the (D2) fourth transfer step.
  • the base material coated with the coating liquid by the suction device (3) is transferred to the direction changing device (3) by the (D1) third transfer step.
  • This base material is further transferred to the next step by the (D2) fourth transfer step.
  • the turning device (1) comprises: A function to send the substrate transferred from the coating liquid station toward the suction device (1) or the direction changing device (2), and a function to transfer the substrate transferred from the suction device (1) to the direction changing device ( 2) has the function of sending out towards
  • the turning device (2) is A function of sending the substrate transferred from the coating liquid station through the direction changing device (1) toward the suction device (2) or the direction changing device (3), and from the suction device (2) It has a function of sending out the transferred substrate toward the direction changing device (3)
  • the turning device (3) is A function to feed the substrate transferred from the coating liquid station through the direction changing devices (1) and (2) toward the suction device (3), and the substrate transferred from the suction device (3) to the next process.

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Abstract

（Ａ）塗工液載置ステーションにおいて、セル壁によって区画された複数のセル流路を有するハニカム基材の上端面上に触媒コート層形成用塗工液を載置すること、（Ｂ）塗工液載置後の基材を、塗工液載置ステーションから吸引ステーションまで移送すること、並びに（Ｃ）吸引ステーションにおいて、塗工液載置後の基材を下端面から吸引して、塗工液を基材のセル壁上にコートすることを含み、吸引ステーションが、２個以上の吸引装置を含み、工程（Ｂ）が、（Ｂ１）塗工液載置後の基材を、塗工液載置ステーションから分岐ステーションまで移送すること、及び（Ｂ２）塗工液載置後の基材を、分岐ステーションの吸引装置のうちの空いている吸引装置まで移送することを含む、排ガス浄化触媒装置の製造方法。

Description

排ガス浄化触媒装置の製造方法
　本発明は、排ガス浄化触媒装置の製造方法に関する。
　自動車エンジン等の内燃機関から排出される排ガスは、排気系に設置される排ガス浄化触媒装置によって浄化された後、大気に放出されている。この排ガス浄化触媒装置は、例えば、隔壁によって区画された複数のセル流路を有するハニカム基材と、該ハニカム基材の隔壁上及び／又は隔壁中に形成された触媒コート層とを含む構造を有する。
　このような排ガス浄化触媒装置は、例えば、ハニカム基材上に、触媒コート層の原料成分を含有する塗工液をコートした後、焼成することにより、製造されている。
　ハニカム基材上への塗工液のコートを、ハニカム基材の片方の端面に塗工液を載置し、反対側の端面から吸引する方法によって行うことが知られている。例えば、特許文献１には、ハニカム基材の第１端面に塗工液を貯留可能とする枠型形状の貯留治具を装着して、第１端面上に塗工液を貯留したうえで、第１端面と反対側の第２端面側の圧力を、第１端面側の圧力に対して相対的に低くして、第１端面から第２端面への塗工液の流れを生じさせることにより、ハニカム基材上へ塗工液をコートすることが記載されている。
　排ガス浄化触媒装置の工業的な製造は、自動加工システムによって行われることが通常である。自動加工システムでは、上流側から下流側に向けて複数の加工ステーションを設けて、順次に加工が行われる。
　このような自動加工システムでは、各加工ステーションにおける加工時間はかならずしも一致しない。この場合、上流側から下流側に向けて設けられた一連の加工ステーションのうちの、最も長い加工時間を要する加工ステーションにおける加工が、工程全体の律速段階となる。
　このような場合、律速となる加工装置を複数設け、これらを自動加工システムの上流側から下流側に向けて並べて配置して、律速工程を分担して行わせることが考えられる。
　例えば、特許文献２には、搬送ラインに沿ってワーク（被加工体）を搬送する搬送手段と、この搬送ラインの近傍に設けられた加工手段とで構成した搬送装置において、搬送ライン上の先行のワークを把持して上昇させる追い越し補助手段を設け、後行のワークが先行のワークを追い越して先に搬送されるようにすることが記載されている。
特開２０１８－０１５７０４号公報 特開２００３－２３７９４０号公報
　ハニカム基材上への塗工液のコートが、ハニカム基材の片端面への塗工液の載置、及び反対側端面からの吸引によって行われる場合、吸引工程が律速となる場合が多い。
　具体的には、ハニカム基材の端面への塗工液の載置、及び吸引を伴うコート方法では、ハニカム基材の片端面への塗工液の載置工程よりも、反対側端面からの吸引工程の方が長時間を要する場合が多く、したがって、吸引工程が塗工液コートの律速になる場合が多い。
　吸引工程が律速になるハニカム基材上への塗工液のコートに対して、特許文献２に記載の方法を適用すると、塗工液の載置から吸引開始までの時間がハニカム基材ごとに区々になり、得られるコート層の品質がハニカム基材ごとにばらつくことが懸念される。
　特許文献２に記載の方法に代えて、所定の加工時間を要するある加工について、１つのワークを複数の加工装置に順次に受け渡して、それぞれの加工装置において少ない時間の加工を分割して行い、複数の加工装置の全体で所定の加工時間を確保することが考えられる。
　しかし、ハニカム基材上への塗工液のコートにおいて、端面への塗工液の載置後の吸引を分割して行うと、コート層にムラができ、排ガス浄化能が損なわれることが懸念される。
　本発明は、上記に事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、ハニカム基材上への塗工液のコートが、ハニカム基材の片端面への塗工液の載置、及び反対側端面からの吸引によって行われる場合に、所定の吸引時間を確保しつつ、工程全体の速度を速くすることのできる、効率の高い排ガス浄化触媒装置の製造方法を提供することである。
　本発明は、以下のとおりである。
　《態様１》（Ａ）塗工液載置ステーションにおいて、セル壁によって区画された複数のセル流路を有するハニカム基材を、前記セル流路の流路方向が鉛直となるように保持し、前記基材の上端面上に触媒コート層形成用塗工液を載置すること、
　（Ｂ）前記塗工液載置後の基材を、前記塗工液載置ステーションから吸引ステーションまで移送すること、
　（Ｃ）前記吸引ステーションにおいて、前記塗工液載置後の基材を下端面から吸引して、前記塗工液を前記基材のセル壁上及びセル壁中の１つ以上にコートすること、並びに
　（Ｄ）前記塗工液コート後の基材を、前記吸引ステーションから取り出して、次工程まで移送すること
を含み、
　前記工程（Ｃ）において、前記塗工液載置後の基材を下端面から吸引するための時間が、前記工程（Ａ）において、前記基材の上端面上に触媒コート層形成用塗工液を載置するための時間よりも長い、排ガス浄化触媒装置の製造方法であって、
　前記吸引ステーションが、２個以上の吸引装置を含み、
　前記工程（Ｂ）が、
　　（Ｂ１）前記塗工液載置後の基材を、前記塗工液載置ステーションから分岐ステーションまで移送すること、及び
　　（Ｂ２）前記塗工液載置後の基材を、前記分岐ステーションから前記吸引ステーションまで移送すること
を含み、
　前記工程（Ｂ２）において、前記塗工液載置後の基材を、前記吸引ステーションの前記２個以上の吸引装置のうちの空いている吸引装置のいずれかに移送する、
排ガス浄化触媒装置の製造方法。
　《態様２》前記工程（Ａ）の終了時から前記工程（Ｃ）の開始時までの時間が所定の範囲内となるように、前記工程（Ａ）～（Ｄ）を行う、態様１に記載の排ガス浄化触媒装置の製造方法。
　《態様３》前記工程（Ａ）において、前記基材の上端面上への前記触媒コート層形成用塗工液の載置を、所定時間の待機の後に行う、態様２に記載の排ガス浄化触媒装置の製造方法。
　《態様４》前記工程（Ｄ）が、
　　（Ｄ１）前記塗工液コート後の基材を、前記吸引ステーションから取り出して、前記分岐ステーションまで移送すること、及び
　　（Ｄ２）前記塗工液コート後の基材を、前記分岐ステーションから次工程まで移送すること
を含む、態様１～３のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置の製造方法。
　《態様５》前記吸引ステーションに含まれる前記吸引装置の数が、３個以上６個以下である、態様１～４のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置の製造方法。
　《態様６》セル壁によって区画された複数のセル流路を有するハニカム基材を、前記セル流路の流路方向が鉛直となるように保持し、前記基材の上端面上に触媒コート層形成用塗工液を載置するための塗工液載置ステーション、
　前記塗工液載置後の基材を、下端面から吸引して、前記塗工液を前記基材のセル壁上及びセル壁中の１つ以上にコートするための吸引装置を２個以上含む、吸引ステーション、並びに
　前記塗工液載置後の基材を、前記吸引ステーションに含まれる前記２個以上の吸引装置のいずれかに送り出すための分岐ステーション
を含む、
排ガス浄化触媒装置の製造装置。
　本発明によると、ハニカム基材上への塗工液のコートが、ハニカム基材の片端面への塗工液の載置、及び反対側端面からの吸引によって行われる場合に、所定の吸引時間を確保しつつ、工程全体の速度を速くすることができ、しかも、高品質のコート層が得られる、排ガス浄化触媒装置の製造方法が提供される。
図１は、実施形態１の排ガス浄化触媒装置の製造方法の概要を示す概念図である。 図２は、実施形態２の排ガス浄化触媒装置の製造方法の概要を示す概念図である。
　本発明の排ガス浄化触媒装置の製造方法は、
　　（Ａ）塗工液載置ステーションにおいて、セル壁によって区画された複数のセル流路を有するハニカム基材を、前記セル流路の流路方向が鉛直となるように保持し、前記基材の上端面上に触媒コート層形成用塗工液を載置すること、
　　（Ｂ）前記塗工液載置後の基材を、前記塗工液載置ステーションから吸引ステーションまで移送すること、
　　（Ｃ）前記吸引ステーションにおいて、前記塗工液載置後の基材を下端面から吸引して、前記塗工液を前記基材のセル壁上及びセル壁中の１つ以上にコートすること、並びに
　　（Ｄ）前記塗工液コート後の基材を、前記吸引ステーションから取り出して、次工程まで移送すること
を含み、
　　前記工程（Ｃ）において、前記塗工液載置後の基材を下端面から吸引するための時間が、前記工程（Ａ）において、前記基材の上端面上に触媒コート層形成用塗工液を載置するための時間よりも長い、排ガス浄化触媒装置の製造方法であって、
　　前記吸引ステーションが、２個以上の吸引装置を含み、
　　前記工程（Ｂ）が、
　　　（Ｂ１）前記塗工液載置後の基材を、前記塗工液載置ステーションから分岐ステーションまで移送すること、及び
　　　（Ｂ２）前記塗工液載置後の基材を、前記分岐ステーションから前記吸引ステーションまで移送すること
を含み、
　　前記工程（Ｂ２）において、前記塗工液載置後の基材を、前記吸引ステーションの前記２個以上の吸引装置のうちの空いている吸引装置のいずれかに移送する、
排ガス浄化触媒装置の製造方法である。
　本発明の方法では、塗工液載置後のハニカム基材を、分岐ステーション経由で、空いている吸引装置に移送する。そのため、特定の吸引装置における吸引待ちの渋滞が発生しない。したがって、ハニカム基材への塗工液の載置から吸引開始までの時間を、容易に所定の時間に制御することができる。
　また、本発明の方法では、１つのハニカム基材についての吸引工程が、１つの吸引装置で中断を経ずに行われる。したがって、得られるコート層にムラが発生し難く、高品質のコート層が得られる。
　以下、本発明の排ガス浄化触媒装置の製造方法における各要素について、順に説明する。以下では、先ず、基材、塗工液載置ステーション、吸引ステーション、及び分岐ステーションについて説明し、次に、本発明の排ガス浄化触媒装置の製造方法を構成する各工程について説明する。
　〈基材〉
　本発明の排ガス浄化触媒装置の製造方法に適用される基材は、セル壁によって区画された複数のセル流路を有するハニカム基材である。このハニカム基材は、例えば、コージェライト、ＳｉＣ、ステンレス鋼、無機酸化物粒子等の材料から構成されている、例えば、ストレートフロー型又はウォールフロー型のモノリスハニカム基材であってよい。
　〈塗工液載置ステーション〉
　塗工液載置ステーションは、セル壁によって区画された複数のセル流路を有するハニカム基材を、前記セル流路の流路方向が鉛直となるように保持し、前記基材の上端面上に触媒コート層形成用塗工液を載置するための加工ステーションである。
　塗工液載置ステーションは、塗工装置を備えていてよい。この塗工装置は、例えば、セル流路の流路方向が鉛直となるように保持されたハニカム基材の上端面上に、塗工液を載置することが可能な塗工装置であってよい。
　塗工装置は、例えば、枠形状の載置治具、及び塗工液供給機を備えていてよい。
　載置治具は、例えば、枠形状を有し、ハニカム基材の上端面に着脱可能に配置することができ、かつ、基材の上端面、及び載置治具によって、塗工液の載置部を形成しできるものであってよい。
　塗工液供給機は、例えば、上記の載置部に塗工液を供給して載置することができる機能を有していてよい。この塗工液供給機は、例えば、シャワー式、スプレー式等の供給機であってよい。
　《吸引ステーション》
　吸引ステーションは、塗工液載置後のハニカム基材を下端面から吸引して、塗工液を基材のセル壁上及びセル壁中の１つ以上にコートするための加工ステーションである。
　塗工液を基材のセル壁上にコートするとは、塗工液のコート層が、セル流路に面するセル壁の表面上に形成される態様のコートを意味する。また、塗工液を基材のセル壁中にコートするとは、塗工液のコート層が、多孔質のセル壁の細孔壁の表面上に形成される態様のコートを意味する。
　吸引ステーションは、２つ以上の吸引装置を含む。各吸引装置は、少なくとも減圧チャネル、及び減圧チャネルとハニカム基材を下端面とを連結するための吸引治具を有していてよい。吸引治具は、ハニカム基材の下端面に着脱自在に装着することができ、吸引治具を装着された基材は、セル流路の下端近傍に減圧が印加される。
　これにより、基材のセル流路の上端から下端への空気の流れが生じ、これにより、基材の上端面上に載置された塗工液がセル流路中に流れ込んで、塗工液のコートが行われて、コート層が形成される。
　吸引装置の減圧チャネルは、減圧発生機に連結されていてよい、２つ以上の吸引装置の減圧チャネルは、それぞれ固有の減圧発生機に連結されていてもよいし、２つ以上の減圧チャネルで１つの減圧発生機を共有していてもよい。又は、２つ以上の減圧チャネルがいくつかのグループに分割されており、減圧チャネルのグループごとに１つの減圧発生機を共有していてもよい。
　減圧発生機は、例えば、真空ポンプ等であってよい。
　吸引ステーションに含まれる吸引装置の数は、２個以上であり、３個以上、又は４個以上であってよい。吸引装置の数は、８個以下、又は６個以下であってよい。吸引ステーションに含まれる吸引装置の数は、典型的には、２個以上８個以下、又は３個以上６個以下である。
　《分岐ステーション》
　分岐ステーションは、塗工液載置ステーションから移送されてきた、上端面上に触媒コート層形成用塗工液が載置されたハニカム基材を受け入れ、吸引ステーション中のいずれかの吸引装置に向けて送り出す機能を有する。
　分岐ステーションにおいて、塗工液載置ステーションから受け入れたハニカム基材を、吸引ステーション中のいずれかの吸引装置に向けて送り出すのは、例えば、方向転換装置によって行われてよい。方向転換装置は、塗工液載置ステーションから分岐ステーションに向けて移送されてきたハニカム基材を、分岐ステーションから吸引ステーション中のいずれか特定の吸引装置に向けて送り出すように、ハニカム基材の進行方向を変更する機能を有していてよい。
　分岐ステーションは、吸引ステーション中の２個以上の吸引装置のうちの任意の吸引装置に向けて送り出す機能を有する多方向型の方向転換装置を１つだけ有していてもよいし、特定の吸引装置のみに向けて送り出す機能を有する単方向型の方向転換装置を、吸引ステーション中の吸引装置と同じ数だけ有していてもよい。又は、２つ以上の吸引装置がいくつかのグループに分割されており、吸引装置のグループごとに１つの多方向型方向転換装置を共有していてもよい。
　《排ガス浄化触媒装置の製造方法》
　上述したとおり、本発明の排ガス浄化触媒装置の製造方法は、
　　（Ａ）塗工液載置ステーションにおいて、セル壁によって区画された複数のセル流路を有するハニカム基材を、前記セル流路の流路方向が鉛直となるように保持し、前記基材の上端面上に触媒コート層形成用塗工液を載置すること（塗工液載置工程）、
　　（Ｂ）前記塗工液載置後の基材を、前記塗工液載置ステーションから吸引ステーションまで移送すること（吸引ステーション搬入工程）、
　　（Ｃ）前記吸引ステーションにおいて、前記塗工液載置後の基材を下端面から吸引して、前記塗工液を前記基材のセル壁上及びセル壁中の１つ以上にコートすること（吸引コート工程）、並びに
　　（Ｄ）前記塗工液コート後の基材を、前記吸引ステーションから取り出して、次工程まで移送すること（吸引ステーション搬出工程）
を含み、
　　前記工程（Ｃ）において、前記塗工液載置後の基材を下端面から吸引するための時間が、前記工程（Ａ）において、前記基材の上端面上に触媒コート層形成用塗工液を載置するための時間よりも長い、排ガス浄化触媒装置の製造方法であって、
　　前記吸引ステーションが、２個以上の吸引装置を含み、
　　前記工程（Ｂ）が、
　　　（Ｂ１）前記塗工液載置後の基材を、前記塗工液載置ステーションから分岐ステーションまで移送すること（第１移送工程）、及び
　　　（Ｂ２）前記塗工液載置後の基材を、前記分岐ステーションから前記吸引ステーションまで移送すること（第２移送工程）
を含み、
　　前記工程（Ｂ２）において、前記塗工液載置後の基材を、前記吸引ステーションの前記２個以上の吸引装置のうちの空いている吸引装置のいずれかに移送する、
排ガス浄化触媒装置の製造方法である。
　本発明の排ガス浄化触媒装置の製造方法では、（Ｃ）吸引コート工程において、塗工液載置後のハニカム基材を下端面から吸引するための時間が、（Ａ）塗工液載置工程において、基材の上端面上に触媒コート層形成用塗工液を載置するための時間よりも長い場合に、本発明の有利な効果が発現する。特に、（Ｃ）吸引コート工程における吸引時間が、（Ａ）塗工液載置工程における塗工液載置時間に対して、２倍以上、３倍以上、又は４倍以上である場合に、本発明の効果が特に有利に発現する。（Ｃ）吸引コート工程における吸引時間は、（Ａ）塗工液載置工程における塗工液載置時間に対して、２０倍以下、又は１５倍以下であってよい。
　本発明の排ガス浄化触媒装置の製造方法は、（Ｂ）吸引ステーション搬入工程が、
　　（Ｂ１）塗工液載置後のハニカム基材を、塗工液載置ステーションから分岐ステーションまで移送する第１移送工程と、
　　（Ｂ２）塗工液載置後の基材を、分岐ステーションから吸引ステーションまで移送する第２移送工程と
を含み、
　　（Ｂ２）第２移送工程において、塗工液載置後の基材を、吸引ステーションの２個以上の吸引装置のうちの空いている吸引装置のいずれかに移送する
ことを特徴とする。
　このような本発明の排ガス浄化触媒装置の製造方法では、基材が分岐ステーションに至った時点で、吸引ステーションの有する２つ以上の吸引装置のうちの少なくとも１つが開いている状態にあることが望まれる。これを実現するためには、吸引ステーションにおける吸引装置の数を、（Ｃ）吸引コート工程における吸引時間の（Ａ）塗工液載置工程における塗工液載置時間に対する比（倍数）よりも多くすることが望ましい。例えば、吸引時間が塗工液載置時間の２倍かかるのであれば、分岐ステーションは２個以上の吸引装置を有することが望まれる。また、吸引時間が塗工液載置時間の２．５倍かかるのであれば、分岐ステーションは３個以上の吸引装置を有することが望まれる。
　しかしながら、塗工液の載置から吸引開始までの時間を一定の範囲内に制御して、得られるコート層の品質のばらつきを抑制するためには、吸引ステーションが、上記の基準で算出された数の吸引装置を具備することは、必ずしも必須の要件ではない。
　例えば、基材が分岐ステーションに至った時点で、吸引ステーションの有する２つ以上の吸引装置のうちの少なくとも１つが開いているようにするために、（Ａ）塗工液載置工程における、基材の上端面上への塗工液の載置を、所定時間の待機の後に行うことによっても、塗工液の載置から吸引開始までの時間を一定にすることができる。
　本発明の方法では、
　　吸引ステーションの吸引装置の数を２個以上とし、かつ、
　　塗工液載置ステーションと吸引ステーションとの間に、分岐ステーションを設けて、
塗工液載置後の基材を、吸引ステーションの前記２個以上の吸引装置のうちの空いている吸引装置のいずれかに移送すること、及び
　　必要に応じて、（Ａ）塗工液載置工程における、基材の上端面上への塗工液の載置を、所定時間の待機の後に行うこと
によって、塗工液の載置から吸引開始までの時間を一定の範囲内に制御して、得られるコート層の品質のばらつきを抑制しつつ、工程全体の速度を速くすることができる。
　本発明の排ガス浄化触媒装置の製造方法では、次いで、（Ｄ）吸引ステーション搬出工程において、塗工液コート後の基材を、吸引ステーションから取り出して、次工程まで移送する。
　このとき、塗工液コート後の基材を、吸引ステーションから次工程まで直接移送してもよいし、吸引ステーションから一旦分岐ステーションに戻して、分岐ステーションから次工程まで移送してもよい。
　塗工液コート後の基材を、吸引ステーションから一旦分岐ステーションに戻して、分岐ステーションから次工程まで移送する場合の（Ｄ）吸引ステーション搬出工程は、
　　（Ｄ１）塗工液コート後の基材を、吸引ステーションから取り出して、分岐ステーションまで移送する第３移送工程、及び
　　（Ｄ２）塗工液コート後の基材を、分岐ステーションから次工程まで移送する第４移送工程
を含んでいてよい。
　上記のような本発明の排ガス浄化触媒装置の製造方法によると、（Ａ）塗工液載置工程の終了時から（Ｃ）吸引コート工程の開始時までの時間が所定の範囲内となるように、工程（Ａ）～（Ｄ）を行うことができる。本発明の方法によると、Ａ）塗工液載置工程の終了時から（Ｃ）吸引コート工程の開始時までの時間の、予め定められた所定の時間に対する差を、±５０％以内、±４０％以内、±３０％以内、±２０％以内、±１０％以内、±５％以内、±３％以内、±１％以内、±０．５％以内、±０．３％以内、又は±０．１％以内にすることができる。
　本発明の排ガス浄化触媒装置の製造方法の次工程は、例えば、焼成工程、第２の触媒コート層の形成工程、触媒成分の担持工程、状態調節工程、ケーシング装填工程等の任意の工程であってよい。
　《排ガス浄化触媒装置の製造装置》
　本発明の別の観点では、
　　セル壁によって区画された複数のセル流路を有するハニカム基材を、前記セル流路の流路方向が鉛直となるように保持し、前記基材の上端面上に触媒コート層形成用塗工液を載置するための塗工液載置ステーション、
　　前記塗工液載置後の基材を、下端面から吸引して、前記塗工液を前記基材のセル壁上及びセル壁中の１つ以上にコートするための吸引装置を２個以上含む、吸引ステーション、並びに
　　前記塗工液載置後の基材を、前記吸引ステーションに含まれる前記２個以上の吸引装置のいずれかに送り出すための分岐ステーション
を含む、
排ガス浄化触媒装置の製造装置が提供される。
　《実施形態》
　以下、具体的な実施形態を示して、本発明の排ガス浄化触媒装置の製造について詳細に説明する。しかしながら、本発明は、以下に記載の実施形態に限定されない。
　〈実施形態１〉
　実施形態１の排ガス浄化触媒装置の製造方法の概要を説明するための概念図を、図１に示した。
　図１の製造方法は、塗工液載置ステーション、分岐ステーション、及び吸引ステーションを含む。吸引ステーションは、３つの吸引装置（吸引装置（１）、吸引装置（２）、及び吸引装置（３））を有し、分岐ステーションは、１つの方向転換装置を有する。
　図１に示した方法では、塗工液載置ステーションにおける塗工液載置工程後の基材は、第１移送工程によって、分岐ステーションまで移送される。基材が分岐ステーションに移送されたとき、吸引装置（１）が空いていれば、方向転換装置は基材の進行方向を、吸引装置（１）の方向に転換し、基材は吸引装置（１）に移送されて、（Ｃ）吸引コート工程が行われる。
　しかしながら、基材が方向転換装置に至ったとき、吸引装置（１）において、他の基材についての（Ｃ）吸引コート工程が行われており、かつ、吸引装置（２）が空いていた場合には、方向転換装置は基材の進行方向を、吸引装置（１）の方向に転換し、基材は吸引装置（２）に移送されて、（Ｃ）吸引コート工程が行われる。
　同様に、基材が分岐ステーションに移送されたとき、吸引装置（１）及び吸引装置（２）において、他の基材についての（Ｃ）吸引コート工程が行われていた場合には、方向転換装置は基材の進行方向を、吸引装置（３）の方向に転換し、基材は吸引装置（３）に移送されて、（Ｃ）吸引コート工程が行われる。
　図１の製造方法では、吸引装置（１）～（３）のいずれかによって塗工液コートが行われた基材は、（Ｄ１）第３移送工程によって、方向転換装置に移送された後、（Ｄ２）第４移送工程によって、次工程に移送される。
　したがって、実施形態１の製造方法における方向転換装置は、
　　塗工液ステーションから移送されてきた基材を、吸引装置（１）、吸引装置（２）、又は吸引装置（３）に向けて送りだす機能、及び
　　吸引装置（１）、吸引装置（２）、又は吸引装置（３）から移送されてきた基材を、次工程に向けて送りだす機能を有する。
　〈実施形態２〉
　実施形態２の排ガス浄化触媒装置の製造方法の概要を説明するための概念図を、図２に示した。
　図１の製造方法は、塗工液載置ステーション、分岐ステーション、及び吸引ステーションを含む。吸引ステーションは、３つの吸引装置（吸引装置（１）、吸引装置（２）、及び吸引装置（３））を有し、分岐ステーションは、吸引ステーションにおける吸引装置の数と同数の３つの方向転換装置（方向転換装置（１）、方向転換装置（２）、及び方向転換装置（３））を有する。
　塗工液載置ステーションにおける塗工液載置工程後の基材は、第１移送工程によって、分岐ステーションまで移送される。分岐ステーションにおいて、基材は、先ず、方向転換装置（１）に至る。このとき、吸引装置（１）が空いていれば、方向転換装置（１）は基材の進行方向を、吸引装置（１）の方向に転換し、基材は吸引装置（１）に移送されて、（Ｃ）吸引コート工程が行われる。
　しかしながら、基材が方向転換装置（１）に至ったとき、吸引装置（１）において、他の基材についての（Ｃ）吸引コート工程が行われていた場合には、方向転換装置（１）は基材の進行方向を転換せず、基材は、方向転換装置（２）に移送される。このとき、吸引装置（２）が空いていれば、方向転換装置（２）は基材の進行方向を、吸引装置（２）の方向に転換し、基材は吸引装置（２）に移送されて、（Ｃ）吸引コート工程が行われる。
　同様に、基材が方向転換装置（２）に至ったとき、吸引装置（２）において、他の基材についての（Ｃ）吸引コート工程が行われていた場合には、方向転換装置（２）は基材の進行方向を転換せず、基材は、方向転換装置（３）に移送される。そして、方向転換装置（３）は基材の進行方向を、吸引装置（３）の方向に転換し、基材は吸引装置（３）に移送されて、（Ｃ）吸引コート工程が行われる。
　吸引装置（１）によって塗工液コートが行われた基材は、（Ｄ１）第３移送工程によって、方向転換装置（１）に移送される。この基材は、更に、（Ｄ２）第４移送工程によって、方向転換装置（２）及び方向転換装置（３）を介して、次工程に移送される。
　また、吸引装置（２）によって塗工液コートが行われた基材は、（Ｄ１）第３移送工程によって、方向転換装置（２）に移送される。この基材は、更に、（Ｄ２）第４移送工程によって、方向転換装置（３）を介して、次工程に移送される。
　そして、吸引装置（３）によって塗工液コートが行われた基材は、（Ｄ１）第３移送工程によって、方向転換装置（３）に移送される。この基材は、更に、（Ｄ２）第４移送工程によって、次工程に移送される。
　したがって、実施形態２の製造方法において、
　　方向転換装置（１）は、
　　　塗工液ステーションから移送されてきた基材を、吸引装置（１）又は方向転換装置（２）に向けて送りだす機能、及び
　　　吸引装置（１）から移送されてきた基材を、方向転換装置（２）に向けて送りだす機能を有し、
　　方向転換装置（２）は、
　　　塗工液ステーションから方向転換装置（１）を介して移送されてきた基材を、基材を吸引装置（２）又は方向転換装置（３）に向けて送りだす機能、及び
　　　吸引装置（２）から移送されてきた基材を、方向転換装置（３）に向けて送りだす機能を有し、
　　方向転換装置（３）は、
　　　塗工液ステーションから方向転換装置（１）及び（２）を介して移送されてきた基材を、吸引装置（３）に向けて送りだす機能、並びに
　　吸引装置（３）から移送されてきた基材を、次工程に向けて送りだす機能を有する。

Claims (6)

  1. 　（Ａ）塗工液載置ステーションにおいて、セル壁によって区画された複数のセル流路を有するハニカム基材を、前記セル流路の流路方向が鉛直となるように保持し、前記基材の上端面上に触媒コート層形成用塗工液を載置すること、
    　（Ｂ）前記塗工液載置後の基材を、前記塗工液載置ステーションから吸引ステーションまで移送すること、
    　（Ｃ）前記吸引ステーションにおいて、前記塗工液載置後の基材を下端面から吸引して、前記塗工液を前記基材のセル壁上及びセル壁中の１つ以上にコートすること、並びに
    　（Ｄ）前記塗工液コート後の基材を、前記吸引ステーションから取り出して、次工程まで移送すること
    を含み、
    　前記工程（Ｃ）において、前記塗工液載置後の基材を下端面から吸引するための時間が、前記工程（Ａ）において、前記基材の上端面上に触媒コート層形成用塗工液を載置するための時間よりも長い、排ガス浄化触媒装置の製造方法であって、
    　前記吸引ステーションが、２個以上の吸引装置を含み、
    　前記工程（Ｂ）が、
    　　（Ｂ１）前記塗工液載置後の基材を、前記塗工液載置ステーションから分岐ステーションまで移送すること、及び
    　　（Ｂ２）前記塗工液載置後の基材を、前記分岐ステーションから前記吸引ステーションまで移送すること
    を含み、
    　前記工程（Ｂ２）において、前記塗工液載置後の基材を、前記吸引ステーションの前記２個以上の吸引装置のうちの空いている吸引装置のいずれかに移送する、
    排ガス浄化触媒装置の製造方法。
  2. 　前記工程（Ａ）の終了時から前記工程（Ｃ）の開始時までの時間が所定の範囲内となるように、前記工程（Ａ）～（Ｄ）を行う、請求項１に記載の排ガス浄化触媒装置の製造方法。
  3. 　前記工程（Ａ）において、前記基材の上端面上への前記触媒コート層形成用塗工液の載置を、所定時間の待機の後に行う、請求項２に記載の排ガス浄化触媒装置の製造方法。
  4. 　前記工程（Ｄ）が、
    　　（Ｄ１）前記塗工液コート後の基材を、前記吸引ステーションから取り出して、前記分岐ステーションまで移送すること、及び
    　　（Ｄ２）前記塗工液コート後の基材を、前記分岐ステーションから次工程まで移送すること
    を含む、請求項１～３のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置の製造方法。
  5. 　前記吸引ステーションに含まれる前記吸引装置の数が、３個以上６個以下である、請求項１～４のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置の製造方法。
  6. 　セル壁によって区画された複数のセル流路を有するハニカム基材を、前記セル流路の流路方向が鉛直となるように保持し、前記基材の上端面上に触媒コート層形成用塗工液を載置するための塗工液載置ステーション、
    　前記塗工液載置後の基材を、下端面から吸引して、前記塗工液を前記基材のセル壁上及びセル壁中の１つ以上にコートするための吸引装置を２個以上含む、吸引ステーション、並びに
    　前記塗工液載置後の基材を、前記吸引ステーションに含まれる前記２個以上の吸引装置のいずれかに送り出すための分岐ステーション
    を含む、
    排ガス浄化触媒装置の製造装置。
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