WO2023032685A1 - 粘着シート付き反射防止フィルム及び画像表示装置 - Google Patents

粘着シート付き反射防止フィルム及び画像表示装置 Download PDF

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WO2023032685A1
WO2023032685A1 PCT/JP2022/031141 JP2022031141W WO2023032685A1 WO 2023032685 A1 WO2023032685 A1 WO 2023032685A1 JP 2022031141 W JP2022031141 W JP 2022031141W WO 2023032685 A1 WO2023032685 A1 WO 2023032685A1
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meth
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antireflection film
less
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雅人 藤田
雄祐 外山
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日東電工株式会社
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    • C08K2201/00—Specific properties of additives
    • C08K2201/017—Additives being an antistatic agent

Definitions

  • the present invention relates to an antireflection film with an adhesive sheet and an image display device.
  • image display devices typified by electroluminescence (EL) display devices and liquid crystal display devices have rapidly spread.
  • These image display devices have a laminated structure including, for example, an image forming layer such as an EL light-emitting layer or a liquid crystal layer, and an optical laminate including an optical film and an adhesive sheet.
  • the pressure-sensitive adhesive sheet is mainly used for bonding between films included in the optical layered body and bonding between the image forming layer and the optical layered body.
  • the optical film are a polarizing plate, a retardation film, and a polarizing plate with a retardation film in which the polarizing plate and the retardation film are integrated.
  • a circularly polarizing plate including a polarizing plate and a retardation film is sometimes used as an optical film in order to suppress reflection of light entering the device (for example, Patent Document 1).
  • the polarizer included in the circularly polarizing plate absorbs the light from the EL light-emitting layer, the brightness of the light emitted from the EL display device including the circularly polarizing plate tends to be low. Also, increasing the emission intensity of the element to obtain the desired luminance increases the required power consumption.
  • Patent Documents 2 and 3 disclose an EL display device using a film having an antireflection function instead of the circularly polarizing plate.
  • a film having an antireflection function includes a film provided with an antireflection (AR) function, an antiglare (AG) function, or both of these functions.
  • OLED organic EL display device
  • OLED organic EL display device
  • an object of the present invention is to provide an antireflection film with an adhesive sheet that is suitable for use in OLEDs.
  • the present invention An antireflection film with an adhesive sheet, comprising an adhesive sheet and an antireflection film,
  • the antireflection film with an adhesive sheet does not contain a polarizer
  • the pressure-sensitive adhesive sheet provides an antireflection film with a pressure-sensitive adhesive sheet having a surface resistivity of 9 ⁇ 10 11 ⁇ / ⁇ or less.
  • the invention provides a Provided is an image display device comprising the antireflection film with an adhesive sheet of the present invention.
  • the unintended light emission of the OLED when the display portion is touched is mainly caused by the static electricity generated by the contact. Charging of OLED can be suppressed. Therefore, the antireflection film with adhesive sheet of the present invention is suitable for use in OLEDs.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of the antireflection film with a pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an example of the antireflection film.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing another example of the antireflection film with a pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing an example of the image display device of the present invention.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing another example of the image display device of the present invention.
  • (meth)acrylic means acrylic and methacrylic.
  • (meth)acrylate means acrylate and methacrylate.
  • the adhesive sheet-attached antireflection film 10 (10A) of the present embodiment includes an adhesive sheet 1 and an antireflection film 2, and for example, is composed of only the adhesive sheet 1 and the antireflection film 2. ing.
  • the adhesive sheet 1 is arranged, for example, on the surface of the antireflection film 2 and joined to the antireflection film 2 .
  • the adhesive sheet-attached antireflection film 10A can be attached to an object (for example, an image forming layer of an image display device) via the adhesive sheet 1 .
  • 10 A of antireflection films with an adhesive sheet do not contain a polarizer.
  • the adhesive sheet-attached antireflection film 10A does not include a polarizing plate or a circularly polarizing plate.
  • the antireflection film 10A with an adhesive sheet may not contain a retardation film.
  • the adhesive sheet 1 has a surface resistivity of 9 ⁇ 10 11 ⁇ / ⁇ or less.
  • the surface resistivity of the adhesive sheet 1 is 5 ⁇ 10 11 ⁇ / ⁇ or less, 1 ⁇ 10 11 ⁇ / ⁇ or less, 9 ⁇ 10 10 ⁇ / ⁇ or less, 5 ⁇ 10 10 ⁇ / ⁇ or less, 3 ⁇ 10 10 ⁇ or less. / ⁇ or less, 1 ⁇ 10 10 ⁇ / ⁇ or less, 9 ⁇ 10 9 ⁇ / ⁇ or less, 5 ⁇ 10 9 ⁇ / ⁇ or less, 3 ⁇ 10 9 ⁇ / ⁇ or less, 2 ⁇ 10 9 ⁇ / ⁇ or less, and further may be 1 ⁇ 10 9 ⁇ / ⁇ or less.
  • the lower limit of surface resistivity is, for example, 1 ⁇ 10 7 ⁇ / ⁇ or more.
  • the surface resistivity of the adhesive sheet 1 can be evaluated by, for example, a high resistance resistivity meter (eg, Hiresta series manufactured by Mitsubishi Chemical Analytic Tech).
  • the adhesive sheet 1 is, for example, a sheet formed from an adhesive composition (I) containing a (meth)acrylic polymer (A).
  • the pressure-sensitive adhesive sheet 1 formed from the pressure-sensitive adhesive composition (I) contains, for example, a cured product of a (meth)acrylic polymer (A).
  • the adhesive sheet 1 is not limited to the above examples.
  • the pressure-sensitive adhesive composition (I) contains, for example, a (meth)acrylic polymer (A) as a main component.
  • the pressure-sensitive adhesive composition (I) is an acrylic pressure-sensitive adhesive composition.
  • a main component means the component with the largest content rate in a composition.
  • the content of the main component is, for example, 50% by weight or more, and may be 60% by weight or more, 70% by weight or more, 75% by weight or more, or even 80% by weight or more.
  • the (meth)acrylic polymer (A) preferably has structural units derived from the (meth)acrylic monomer (A1) having an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms in its side chain.
  • the (meth)acrylic polymer (A) may have the above structural unit as a main unit.
  • the alkyl group may be linear or branched.
  • the (meth)acrylic polymer (A) may have one or more structural units derived from the (meth)acrylic monomer (A1).
  • Examples of (meth) acrylic monomers (A1) include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, s-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate.
  • the term "main unit" refers to the total structural units of the poly
  • the (meth)acrylic polymer (A) may have structural units derived from the (meth)acrylic monomer (A1) having a long-chain alkyl group in its side chain.
  • An example of said monomer (A1) is n-dodecyl (meth)acrylate (lauryl (meth)acrylate).
  • the term "long-chain alkyl group” means an alkyl group having 6 to 30 carbon atoms.
  • the (meth)acrylic polymer (A) is a structural unit derived from the (meth)acrylic monomer (A1) having a glass transition temperature (Tg) in the range of ⁇ 70 to ⁇ 20° C. when homopolymerized. may have An example of said monomer (A1) is n-butyl acrylate.
  • the (meth)acrylic polymer (A) may have structural units other than the structural units derived from the (meth)acrylic monomer (A1).
  • the structural unit is derived from the monomer (A2) copolymerizable with the (meth)acrylic monomer (A1).
  • the (meth)acrylic polymer (A) may have one or more of these structural units.
  • the monomer (A2) is an aromatic ring-containing monomer.
  • the aromatic ring-containing monomer may be an aromatic ring-containing (meth)acrylic monomer.
  • aromatic ring-containing monomers include phenyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, ethylene oxide-modified nonylphenol (meth) acrylate, hydroxyethylated ⁇ - naphthol (meth)acrylate and biphenyl (meth)acrylate.
  • the content of structural units derived from aromatic ring-containing monomers in the (meth)acrylic polymer (A) is, for example, 0 to 50% by weight, 1 to 30% by weight, 5 to 25% by weight, 8 to 20% by weight. % by weight, 10 to 19% by weight, or even 13 to 18% by weight, or even 0% by weight (without including the structural unit).
  • the hydroxyl group-containing monomer may be a hydroxyl group-containing (meth)acrylic monomer.
  • hydroxyl-containing monomers are 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 8-hydroxyoctyl ( hydroxyalkyl (meth)acrylates such as meth)acrylates, 10-hydroxydecyl (meth)acrylate and 12-hydroxylauryl (meth)acrylate, and (4-hydroxymethylcyclohexyl)-methylacrylate.
  • the content of structural units derived from hydroxyl group-containing monomers in the (meth)acrylic polymer (A) may be 5% by weight or less, 3% by weight or less, 2% by weight or less, 1% by weight or less, It may be 0.5% by weight or less, further 0.1% by weight or less, or even 0% by weight (without including the structural unit).
  • R 1 in Formula (1) is a hydrogen atom or a methyl group.
  • R 2 in formula (1) is an alkyl group. The alkyl group may be linear or branched.
  • R 2 is preferably a linear alkyl group. Examples of R 2 are methyl and ethyl groups.
  • n in formula (1) is an integer of 1-15.
  • Examples of (meth)acrylates shown in formula (1) are 2-methoxyethyl (meth)acrylate, 2-ethoxyethyl (meth)acrylate and methoxytriethylene glycol (meth)acrylate, preferably 2-methoxyethyl acrylate (MEA).
  • the structural unit derived from the (meth)acrylate of formula (1) can contribute to reducing the surface resistivity of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 .
  • the surface resistivity of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 tends to be reduced while suppressing the amount of the antistatic agent (B) to be described later.
  • the (meth)acrylic polymer (A) may have a structural unit derived from the (meth)acrylate of formula (1) as a main unit.
  • the monomer (A2) may be a carboxyl group-containing monomer, an amino group-containing monomer, or an amide group-containing monomer.
  • carboxyl group-containing monomers are (meth)acrylic acid, carboxyethyl (meth)acrylate, carboxypentyl (meth)acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid and crotonic acid.
  • amino group-containing monomers are N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate and N,N-dimethylaminopropyl (meth)acrylate.
  • amide group-containing monomers are (meth)acrylamide, N,N-dimethyl(meth)acrylamide, N,N-diethyl(meth)acrylamide, N-isopropylacrylamide, N-methyl(meth)acrylamide, N- Butyl (meth)acrylamide, N-hexyl (meth)acrylamide, N-methylol (meth)acrylamide, N-methylol-N-propane (meth)acrylamide, aminomethyl (meth)acrylamide, aminoethyl (meth)acrylamide, mercaptomethyl acrylamide-based monomers such as (meth)acrylamide and mercaptoethyl (meth)acrylamide; N-acryloyl heterocycles such as N-(meth)acryloylmorpholine, N-(meth)acryloylpiperidine and N-(meth)acryloylpyrrolidine and N-vinyl group-containing lactam monomers such as N-vinylpyrrolidon
  • the monomer (A2) may be a polyfunctional monomer.
  • multifunctional monomers are hexanediol di(meth)acrylate (1,6-hexanediol di(meth)acrylate), butanediol di(meth)acrylate, (poly)ethylene glycol di(meth)acrylate, (Poly)propylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, trimethylolpropane tri( polyfunctional acrylates such as meth)acrylates, tetramethylolmethane tri(meth)acrylates, allyl (meth)acrylates, vinyl (meth)acrylates, epoxy acrylates, polyester acrylates and urethane acrylates; and divin
  • the total content of structural units derived from the carboxyl group-containing monomer, amino group-containing monomer, amide group-containing monomer and polyfunctional monomer in the (meth)acrylic polymer (A) is preferably is 20% by weight or less, more preferably 10% by weight or less, and still more preferably 8% by weight or less.
  • the total content is, for example, 0.01% by weight or more, 1% by weight or more, 2% by weight or more, or even 3% by weight or more. There may be.
  • the (meth)acrylic polymer (A) may not contain structural units derived from polyfunctional monomers.
  • Examples of other monomers (A2) include epoxy group-containing monomers such as glycidyl (meth)acrylate and methylglycidyl (meth)acrylate; sulfonic acid group-containing monomers such as sodium vinyl sulfonate; Acid group-containing monomers; (meth)acrylic acid esters having an alicyclic hydrocarbon group such as cyclopentyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate and isobornyl (meth)acrylate; vinyl acetate and vinyl propionate aromatic vinyl compounds such as styrene and vinyl toluene; olefins or dienes such as ethylene, propylene, butadiene, isoprene and isobutylene; vinyl ethers such as vinyl alkyl ethers; and vinyl chloride.
  • epoxy group-containing monomers such as glycidyl (meth)acrylate and methylglycidyl (meth)acrylate
  • the total content of structural units derived from the other monomer (A2) in the (meth)acrylic polymer (A) is, for example, 30% by weight or less, and may be 10% by weight or less, or 0 % by weight (not including the structural unit).
  • the (meth)acrylic polymer (A) can be formed by polymerizing one or more of the above monomers by a known method. A monomer and a partial polymer of the monomer may be polymerized. Polymerization can be carried out, for example, by solution polymerization, emulsion polymerization, bulk polymerization, thermal polymerization, or active energy ray polymerization. Solution polymerization and active energy ray polymerization are preferable from the viewpoint of forming a pressure-sensitive adhesive sheet having excellent optical transparency. Polymerization is preferably carried out while avoiding contact of the monomer and/or partial polymer with oxygen. Polymerization in shutdown can be employed.
  • the (meth)acrylic polymer (A) to be formed may be in any form such as a random copolymer, a block copolymer, or a graft copolymer.
  • the polymerization system forming the (meth)acrylic polymer (A) may contain one or more polymerization initiators.
  • the type of polymerization initiator can be selected depending on the polymerization reaction, and may be, for example, a thermal polymerization initiator or a photopolymerization initiator.
  • Solvents used for solution polymerization include esters such as ethyl acetate and n-butyl acetate; aromatic hydrocarbons such as toluene and benzene; aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and n-heptane; alicyclic hydrocarbons such as methylcyclohexane; and ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone.
  • the solvent is not limited to the above examples.
  • the solvent may be a mixed solvent of two or more solvents.
  • Polymerization initiators used for solution polymerization are, for example, azo polymerization initiators, peroxide polymerization initiators, and redox polymerization initiators.
  • Peroxide polymerization initiators are, for example, dibenzoyl peroxide and t-butyl permaleate.
  • the azo polymerization initiator disclosed in JP-A-2002-69411 is preferable.
  • the azo polymerization initiator for example, 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN), 2,2'-azobis-2-methylbutyronitrile, 2,2'-azobis (2-methylpropion acid) dimethyl, 4,4'-azobis-4-cyanovaleric acid.
  • AIBN 2,2'-azobisisobutyronitrile
  • 2,2'-azobis-2-methylbutyronitrile 2,2'-azobis (2-methylpropion acid) dimethyl
  • 4,4'-azobis-4-cyanovaleric acid is not limited to the above examples.
  • the active energy rays used for active energy ray polymerization are, for example, ionizing radiation such as ⁇ -rays, ⁇ -rays, ⁇ -rays, neutron beams and electron beams, and ultraviolet rays.
  • the active energy rays are preferably ultraviolet rays.
  • Polymerization by irradiation with ultraviolet rays is also called photopolymerization.
  • a polymerization system for active energy ray polymerization typically contains a photopolymerization initiator. Polymerization conditions for active energy polymerization are not limited as long as the (meth)acrylic polymer (A) is formed.
  • Photopolymerization initiators include, for example, benzoin ether-based photopolymerization initiators, acetophenone-based photopolymerization initiators, ⁇ -ketol-based photopolymerization initiators, aromatic sulfonyl chloride-based photopolymerization initiators, and photoactive oxime-based photopolymerization initiators. , a benzoin-based photopolymerization initiator, a benzyl-based photopolymerization initiator, a benzophenone-based photopolymerization initiator, a ketal-based photopolymerization initiator, and a thioxanthone-based photopolymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator is not limited to the above examples.
  • Benzoin ether-based photopolymerization initiators include, for example, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, anisolemethyl is ether.
  • Acetophenone-based photopolymerization initiators include, for example, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-(t-butyl)dichloro Acetophenone.
  • Examples of ⁇ -ketol photopolymerization initiators are 2-methyl-2-hydroxypropiophenone and 1-[4-(2-hydroxyethyl)phenyl]-2-methylpropan-1-one.
  • the aromatic sulfonyl chloride photopolymerization initiator is, for example, 2-naphthalenesulfonyl chloride.
  • a photoactive oxime-based photopolymerization initiator is, for example, 1-phenyl-1,1-propanedione-2-(o-ethoxycarbonyl)-oxime.
  • a benzoin-based photopolymerization initiator is, for example, benzoin.
  • a benzylic photopolymerization initiator is, for example, benzyl.
  • benzophenone-based photopolymerization initiators examples include benzophenone, benzoylbenzoic acid, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, polyvinylbenzophenone, and ⁇ -hydroxycyclohexylphenyl ketone.
  • a ketal photopolymerization initiator is, for example, benzyl dimethyl ketal.
  • Thioxanthone-based photopolymerization initiators are, for example, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, and dodecylthioxanthone.
  • the amount of the photopolymerization initiator used is, for example, 0.01 to 1 part by weight, and may be 0.05 to 0.5 part by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the monomers.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the (meth)acrylic polymer (A) is, for example, 1,000,000 to 2,800,000, and from the viewpoint of the durability and heat resistance of the pressure-sensitive adhesive sheet, it is 1,200,000 or more, further 1,400,000 or more. may be
  • the weight average molecular weight (Mw) of polymers and oligomers in this specification is a value (converted to polystyrene) based on GPC (gel permeation chromatography) measurement.
  • the content of the (meth)acrylic polymer (A) in the pressure-sensitive adhesive composition (I) is, for example, 50% by weight or more, 60% by weight or more, 70% by weight or more, and further 80% by weight in terms of solid content. or more.
  • the upper limit of the content is, for example, 99% by weight or less, and may be 97% by weight or less, 95% by weight or less, 93% by weight or less, or even 90% by weight or less.
  • the pressure-sensitive adhesive composition (I) further contains, for example, an antistatic agent (B).
  • the amount of the antistatic agent (B) is, for 100 parts by weight of the (meth)acrylic polymer (A), for example less than 10 parts by weight, 8 parts by weight or less, 7 parts by weight or less, 6 parts by weight or less, 5 parts by weight or less, 4 parts by weight or less, 3 parts by weight or less, 2 parts by weight or less, 1 part by weight or less, 0.8 parts by weight or less, 0.6 parts by weight or less, 0.5 parts by weight or less, 0.3 parts by weight parts or less, 0.1 parts by weight or less, or even 0.05 parts by weight or less.
  • a touch panel may be incorporated inside an image display device, typically an OLED used in a mobile device such as a smart phone. There is also an on-cell or the like in which a touch panel is arranged on the viewing side of the image forming layer.
  • a touch panel usually includes a conductive layer such as a metal layer. According to the studies of the present inventors, the conductive layer, especially the metal layer, is susceptible to corrosion by the antistatic agent (B). From this point of view, the smaller the content of the antistatic agent (B), the more suitable the PSA composition (I) is for use in OLEDs.
  • antistatic agents (B) are ionic compounds such as salts.
  • the ionic compound may be an ionic liquid that is liquid at normal temperature (25° C.). Ionic compounds generally have higher compatibility with the adhesive composition (I) than, for example, conductive fine particles, and are suitable for forming adhesive sheets with excellent optical transparency.
  • the pressure-sensitive adhesive composition (I) may be substantially free of conductive fine particles.
  • the pressure-sensitive adhesive composition (I) does not substantially contain 0.5 parts by weight or less, preferably 0.1 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the (meth)acrylic polymer (A) parts by weight or less, more preferably 0.05 parts by weight or less, and still more preferably 0.01 parts by weight or less.
  • Examples of cations that make up ionic compounds are metal ions and onium ions.
  • metal ions are alkali metal ions and alkaline earth metal ions.
  • Alkali metal ions are, for example, lithium ions, sodium ions and potassium ions, and may also be lithium ions.
  • Alkaline earth metal ions are, for example, magnesium ions and calcium ions.
  • metal ions are not limited to the above examples.
  • onium ions are ions in which at least one atom selected from a nitrogen atom, a phosphorus atom and a sulfur atom is positively (+) charged.
  • the onium ion may be an organic ion, in which case it may be an ion of a cyclic organic compound or an ion of a chain organic compound.
  • the cyclic organic compounds may be aromatic or non-aromatic such as aliphatic.
  • onium ions are N-ethyl-N,N-dimethyl-N-(2-methoxyethyl)ammonium ion, N,N-diethyl-N-methyl-N-(2-methoxyethyl)ammonium ion, N- Ethyl-N,N-dimethyl-N-propylammonium ion, N-methyl-N,N,N-trioctylammonium ion, N,N,N-trimethyl-N-propylammonium ion, tetrabutylammonium ion, tetramethyl quaternary ammonium ions such as ammonium ions, tetrahexylammonium ions and N-methyl-N,N,N-tributylammonium ions; pyridinium ions such as N-alkylpyridinium substituted with alkyl groups having 4 to 16 carbon atoms; carbon 1,3-alkyl
  • onium ions are not limited to the above examples.
  • anions constituting ionic compounds are fluoride, chloride, bromide, iodide, perchlorate (ClO 4 ⁇ ), hydroxide (OH ⁇ ), carbonate (CO 3 2 ⁇ ), nitrate (NO 3 ⁇ ), sulfonate (SO 4 ⁇ ), methylbenzenesulfonate (CH 3 (C 6 H 4 )SO 3 ⁇ ), p-toluenesulfonate (CH 3 C 6 H 4 SO 3 ⁇ ), carboxybenzenesulfonate (COOH(C 6 H 4 ) SO 3 ⁇ ), trifluoromethanesulfonate (CF 3 SO 2 ⁇ ), benzoate (C 6 H 5 COO ⁇ ), acetate (CH 3 COO ⁇ ), trifluoroacetate (CF 3 COO ⁇ ), tetrafluoroborate (BF 4 - ), tetrabenzylborate (B(C 6 H 5 )
  • the antistatic agent (B) may contain an anion containing a sulfur atom.
  • anions containing a sulfur atom are bisfluorosulfonylimide (N( SO2F ) 2- ) and bistrifluoromethanesulfonylimide (N( SO2CF3 ) 2- ).
  • the antistatic agent (B) may be an organic salt. Also, the antistatic agent (B) may be a lithium salt, or a lithium organic salt containing lithium ions and organic ions as cations and anions, respectively.
  • antistatic agent (B) examples include 1-ethyl-3-methylimidazolium bisfluorosulfonylimide, lithium bis(trifluoromethane)sulfonimide (LiTFSi), ethylmethylpyrrolidinium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide (EMPTFSi) and tributylmethylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide (TBMATFSi).
  • LiTFSi lithium bis(trifluoromethane)sulfonimide
  • EMPTFSi ethylmethylpyrrolidinium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide
  • TBMATFSi tributylmethylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide
  • the antistatic agent (B) does not have to contain phosphorus atoms. According to studies by the present inventors, the antistatic agent (B) containing phosphorus atoms tends to corrode (the conductive layer of) the touch panel.
  • the adhesive composition (I) may contain one or more antistatic agents (B).
  • the pressure-sensitive adhesive composition (I) may further contain an ultraviolet absorber (C) or may not contain an ultraviolet absorber (C).
  • the maximum absorption wavelength in the absorption spectrum of the ultraviolet absorber (C) is 320 nm or more and 380 nm or less.
  • Ultraviolet rays with a wavelength of 320 nm or less are contained in external light in a smaller amount than ultraviolet rays with a wavelength of 320 nm or more, and more are absorbed by layers located on the external light side (visible side) than the organic EL light emitting layer. Therefore, there is relatively little need to consider deterioration of the OLED due to external light.
  • the absorption spectrum can be evaluated, for example, by spectrophotometric measurement of a solution in which the ultraviolet absorber (C) is dissolved in a solvent such as isopropyl alcohol at a concentration of 0.001% by weight.
  • the maximum absorption wavelength in the absorption spectrum of the ultraviolet absorber (C) may be 330 nm or more and 375 nm or less, 335 nm or more and 370 nm or less, or further 340 nm or more and 370 nm or less.
  • the ultraviolet absorber (C) has an absorbance of 0.1 or more, further 0.2 or more over a wavelength range of 320 nm or more and 370 nm or less in an absorption spectrum in which the absorbance is normalized to a maximum value of 1. good.
  • These ultraviolet absorbers (C) are particularly suitable for suppressing deterioration of OLEDs due to ultraviolet rays.
  • the amount of the ultraviolet absorber (C) is, for example, less than 15 parts by weight, 10 parts by weight or less, 7 parts by weight or less, 5 parts by weight or less, relative to 100 parts by weight of the (meth)acrylic polymer (A). 3 parts by weight or less, 2.5 parts by weight or less, 2 parts by weight or less, 1.5 parts by weight or less, 1 part by weight or less, 0.8 parts by weight or less, 0.7 parts by weight or less, 0.6 parts by weight or less, Furthermore, it may be 0.5 parts by weight or less.
  • the lower limit of the blending amount is, for example, 0.1 parts by weight or more.
  • the ultraviolet absorber (C) is, for example, a triazine-based ultraviolet absorber, a benzotriazole-based ultraviolet absorber, a benzophenone-based ultraviolet absorber, or an oxybenzophenone-based ultraviolet absorber, as long as the maximum absorption wavelength in the absorption spectrum is 320 nm or more and 380 nm or less. , a salicylate-based UV absorber, or a cyanoacrylate-based UV absorber.
  • Each ultraviolet absorber is a compound having a triazine skeleton, a benzotriazole skeleton, a benzophenone skeleton, an oxybenzophenone skeleton, a salicylate structure, and a cyanoacrylate structure, respectively.
  • the ultraviolet absorber (C) is preferably triazine-based or benzotriazole-based, more preferably triazine-based.
  • the triazine-based ultraviolet absorber (C) has at least one, preferably two, more preferably three hydroxyphenyl groups and/or alkoxy (methoxy, ethoxy, propoxy, etc.) phenyl groups in one molecule. You may have In addition, the triazine-based UV absorber (C) may have at least one, preferably two hydroxyphenyl groups in one molecule.
  • UV absorbers (C) especially UV absorbers (C) having three hydroxyphenyl groups and/or alkoxyphenyl groups in one molecule, have little variation in absorbance in the wavelength range of 320 nm or more and 370 nm or less. For this reason, it is particularly suitable for suppressing deterioration of OLEDs due to ultraviolet rays.
  • triazine-based UV absorbers examples include 2,4-bis-[ ⁇ 4-(4-ethylhexyloxy)-4-hydroxy ⁇ -phenyl]-6-(4-methoxyphenyl)-1,3,5-triazine (Tinosorb S, manufactured by BASF), 2,4-bis[2-hydroxy-4-butoxyphenyl]-6-(2,4-dibutoxyphenyl)-1,3,5-triazine (TINUVIN 460, manufactured by BASF) , 2-(4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl)-5-hydroxyphenyl and [(C10-C16 (mainly C12-C13) alkyloxy) Reaction product with methyl]oxirane (TINUVIN400, manufactured by BASF), 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-[3- (dodecyloxy)-2-hydroxypropoxy
  • benzotriazole-based UV absorbers examples include 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-6-(1-methyl-1-phenylethyl)-4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl ) phenol (TINUVIN 928, manufactured by BASF), 2-(2-hydroxy-5-tert-butylphenyl)-2H-benzotriazole (TINUVIN PS, manufactured by BASF), benzenepropanoic acid and 3-(2H-benzotriazole-2 -yl)-5-(1,1-dimethylethyl)-4-hydroxy (C7-9 side chain and linear alkyl) ester compound (TINUVIN384-2, BASF), 2-(2H-benzotriazole-2 -yl)-4,6-bis(1-methyl-1-phenylethyl)phenol (TINUVIN900, manufactured by BASF), methyl-3-(3-(2H-benzotriazol-2-yl)-5-t-butyl -4-hydroxy
  • the adhesive composition (I) may contain one or more ultraviolet absorbers (C).
  • the pressure-sensitive adhesive composition (I) may contain other additives.
  • additives include cross-linking agents, silane coupling agents, colorants such as pigments and dyes, surfactants, plasticizers, tackifiers, surface lubricants, leveling agents, rework improvers, softeners, antioxidants, agents, anti-aging agents, light stabilizers, polymerization inhibitors, anti-rust agents, inorganic fillers, organic fillers, powders such as metal powders, particles, and foil-like substances.
  • the rust inhibitor may be a benzotriazole-based agent (eg, BT120, BT-LX, TT-LX, manufactured by Johoku Kagaku Kogyo Co., Ltd.).
  • the additive can be blended in an amount of, for example, 10 parts by weight or less, preferably 5 parts by weight or less, and more preferably 1 part by weight or less per 100 parts by weight of the (meth)acrylic polymer (A).
  • cross-linking agents are organic cross-linking agents and multifunctional metal chelates.
  • organic cross-linking agents are isocyanate cross-linking agents, peroxide cross-linking agents, epoxy cross-linking agents and imine cross-linking agents.
  • the organic cross-linking agent and polyfunctional metal chelate can be used for both solvent-type and active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive compositions.
  • the cross-linking agent is preferably a peroxide-based cross-linking agent or an isocyanate-based cross-linking agent.
  • a peroxide-based cross-linking agent and an isocyanate-based cross-linking agent may be used in combination.
  • the amount thereof is, for example, 0.01 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the (meth)acrylic polymer (A), and 0.1 to 5 parts by weight, or even 0.1 to 3 parts by weight.
  • the amount thereof is, for example, 0.01 to 5 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the (meth)acrylic polymer (A), and 3 Part by weight or less, 1 part by weight or less, 0.5 part by weight or less, 0.2 part by weight or less, 0.1 part by weight or less, or even 0.05 part by weight or less may be used.
  • the adhesive composition (I) may not contain a silane coupling agent.
  • the pressure-sensitive adhesive composition (I) may be substantially free of color-developing compounds whose maximum absorption wavelength in the absorption spectrum exceeds 380 nm.
  • the maximum absorption wavelength of the color-forming compound may be 385 nm or longer, 390 nm or longer, 395 nm or longer, 400 nm or longer, 410 nm or longer, and further 420 nm or longer.
  • Substantial absence of a color-developing compound having a maximum absorption wavelength in visible light can contribute to improving the color-developing performance of the OLED.
  • the absorption spectrum of the color forming compound can be evaluated in the same manner as the absorption spectrum of the ultraviolet absorber (C).
  • Types of the pressure-sensitive adhesive composition (I) are, for example, emulsion type, solvent type (solution type), active energy ray-curable type (light-curing type), and heat-melting type (hot-melt type).
  • the pressure-sensitive adhesive composition (I) may be a solvent type from the viewpoint of forming a pressure-sensitive adhesive sheet with more excellent uniformity of properties and durability.
  • a photocurable pressure-sensitive adhesive composition containing an ultraviolet absorber tends to exhibit variations in properties (eg, peel strength) between the incident side of active energy rays and the opposite side during photocuring.
  • the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition (I) may not contain a photocuring agent such as an ultraviolet curing agent.
  • the adhesive sheet 1 can be formed from the adhesive composition (I) as follows.
  • the pressure-sensitive adhesive composition (I) or a mixture of the pressure-sensitive adhesive composition (I) and a solvent is applied to a base film to form a coating film, and the formed coating film is dried. An adhesive sheet 1 is formed.
  • the pressure-sensitive adhesive composition (I) is thermally cured by heat during drying.
  • active energy ray-curable (photocurable) for example, a monomer (group) that becomes a (meth)acrylic polymer (A) by polymerization, and, if necessary, partial polymerization of the monomer (group) A mixture of substances, a polymerization initiator, an additive, a solvent, etc.
  • the base film may be a film (release liner) whose coating surface has undergone a release treatment.
  • the adhesive sheet 1 formed on the base film can be transferred to any member.
  • the base film may be the antireflection film 2, and in this case, the antireflection film 10 with the adhesive sheet including the adhesive sheet 1 and the antireflection film 2 is obtained.
  • Coating is, for example, roll coating, kiss roll coating, gravure coating, reverse coating, roll brushing, spray coating, dip roll coating, bar coating, knife coating, air knife coating, curtain coating, lip coating, extrusion coating using a die coater, or the like. can be implemented by
  • the drying temperature after coating is, for example, 40 to 200°C.
  • the drying temperature may be 160° C. or lower, 150° C. or lower, 130° C. or lower, 120° C. or lower, or even 100° C. or lower.
  • the drying time is, for example, 5 seconds to 20 minutes, and may be 5 seconds to 10 minutes, or even 10 seconds to 5 minutes.
  • the drying temperature and drying time when drying after coating may be within the above ranges.
  • composition and mixture to be applied to the base film preferably have a viscosity suitable for handling and coating. Therefore, for the active energy ray-curable type, the mixture to be applied preferably contains a partial polymer of the monomer (group).
  • the coated surface is treated with a silicone compound.
  • the thickness of the adhesive sheet 1 is, for example, 1 to 200 ⁇ m, and may be 1 to 150 ⁇ m, 5 to 100 ⁇ m, 8 to 50 ⁇ m, 10 to 30 ⁇ m, or even 10 to 25 ⁇ m.
  • the adhesive sheet 1 may have a transmittance of less than 80% for light with a wavelength of 380 nm (hereinafter referred to as T380) when the thickness is 20 ⁇ m.
  • T380 a transmittance of less than 80% for light with a wavelength of 380 nm (hereinafter referred to as T380) when the thickness is 20 ⁇ m.
  • the T380 of the adhesive sheet 1 having a thickness of 20 ⁇ m may be 75% or less, 70% or less, or even 65% or less.
  • the lower limit of T380 is, for example, 1% or more, and may be 5% or more.
  • the adhesive sheet 1 may have a substantially uniform cured state in the thickness direction. Having a substantially uniform cure state across the thickness is particularly suitable for use in OLEDs. A substantially uniform cured state can be confirmed, for example, by checking that the peel force a on one main surface of the adhesive sheet 1 is substantially the same as the peel force b on the other main surface.
  • the ratio a/b of the peel force a to the peel force b is, for example, 0.5 or more and 2 or less, 0.67 or more and 1.5 or less, 0.75 or more and 1.33 or less, further 0.91 or more and 1 .1 or less.
  • the peel strength (of the main surface) of the adhesive sheet 1 is, for example, the 180° peel strength evaluated by the test method specified in Method 1 of Item 10.3 of Japanese Industrial Standards (JIS) Z0237:2009. good too.
  • a glass plate may be used instead of a stainless steel plate as the test plate for carrying out this test method.
  • the adhesive sheet 1 may be a sheet formed from a solvent-type adhesive composition.
  • a pressure-sensitive adhesive sheet formed from a solvent-based pressure-sensitive adhesive composition can have a substantially uniform cured state in the thickness direction. This can, for example, contribute to the stability of the OLED.
  • the antireflection film 2 has an antireflection layer 4 and further has, for example, a transparent resin film 3 , a hard coat layer 6 , an adhesion layer 5 and an antifouling layer 7 .
  • the antireflection film 2 may not have the adhesion layer 5 , the hard coat layer 6 and the antifouling layer 7 .
  • a transparent resin film 3 for example, a transparent resin film 3, a hard coat layer 6, an adhesion layer 5, an antireflection layer 4 and an antifouling layer 7 are laminated in this order.
  • the antireflection film 2 may have a plurality of antireflection layers 4 , and the transparent resin film 3 may be positioned between the plurality of antireflection layers 4 .
  • the antireflection film 2 may further have other layers such as an antiglare layer.
  • the adhesive sheet 1 is, for example, placed on the surface of the transparent resin film 3 and joined to the transparent resin film 3 .
  • the adhesive sheet 1 may be arranged on the surface of the antireflection film 2 opposite to the transparent resin film 3 , that is, on the surface of the antireflection layer 4 or the antifouling layer 7 .
  • the structure of the antireflection layer 4 is, for example, (i) a single layer of a low refractive index layer having an optical thickness of 120 nm to 140 nm and a refractive index of 1.35 or more and 1.50 or less, and (ii) a medium refractive index layer.
  • a laminate in which the index layer, the high refractive index layer and the low refractive index layer are arranged in this order from the transparent resin film 3 side, and (iii) a multilayer laminate in which the high refractive index layer and the low refractive index layer are arranged alternately. is mentioned.
  • the low refractive index layer is, for example, a layer having a refractive index of 1.35 or more and 1.50 or less.
  • Materials capable of forming the high refractive index layer include, for example, titanium oxide (TiO 2 ), niobium oxide (Nb 2 O 3 or Nb 2 O 5 ), tin-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), ZrO 2 --TiO 2 can be mentioned.
  • a high refractive index layer is, for example, a layer having a refractive index of more than 1.80 and not more than 2.20.
  • Materials capable of forming the medium refractive index layer include, for example, titanium oxide (TiO 2 ), a mixture of a material capable of forming a low refractive index layer and a material capable of forming a high refractive index layer (for example, titanium oxide and oxide mixtures with silicon).
  • the medium refractive index layer is, for example, a layer having a refractive index of more than 1.50 and not more than 1.80.
  • each of the low refractive index layer, the medium refractive index layer, and the high refractive index layer is determined according to the layer structure of the antireflection layer 4, the desired antireflection performance, etc., so that an appropriate optical film thickness is realized. can be set.
  • the thickness of the antireflection layer 4 is not particularly limited, and is, for example, 20 nm to 300 nm.
  • the antireflection layer 4 can be formed, for example, by a dry process.
  • dry processes include PVD (Physical Vapor Deposition) and CVD (Chemical Vapor Deposition).
  • PVD methods include a vacuum deposition method, a reactive deposition method, an ion beam assist method, a sputtering method, and an ion plating method.
  • CVD method there is a plasma CVD method.
  • the difference between the maximum reflectance and the minimum reflectance in the wavelength range of 380 nm to 780 nm is preferably 10% or less, more preferably 7% or less, and still more preferably 5% or less.
  • the difference between the maximum reflectance and the minimum reflectance is within the above range, it is easy to suppress the coloring of the reflected light.
  • the transparent resin film 3 is not particularly limited, and known films can be used.
  • a material for the transparent resin film 3 a material having excellent transparency, mechanical strength, thermal stability, water barrier property, isotropy, etc. is preferable.
  • polyester polymers such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; diacetylcellulose.
  • Cellulose-based polymers such as triacetyl cellulose (TAC); (meth)acrylic polymers such as polymethyl methacrylate; styrene-based polymers such as polystyrene, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin); polycarbonate-based polymers; polyethylene, polypropylene , cycloolefin-based polymers, polyolefins having a norbornene structure, polyolefin-based polymers such as ethylene-propylene copolymers; vinyl chloride-based polymers; amide-based polymers such as nylon and aromatic polyamides; imide-based polymers; sulfone-based polymers; sulfone-based polymer; polyetheretherketone-based polymer; polyphenylene sulfide-based polymer; vinyl alcohol-based polymer; vinylidene chloride-based polymer; vinyl butyral-based polymer; arylate-based polymer; etc.
  • the transparent resin film 3 may further contain an ultraviolet absorber, or may not contain an ultraviolet absorber.
  • Examples of the ultraviolet absorber contained in the transparent resin film 3 include those described above for the ultraviolet absorber (C).
  • the amount of the ultraviolet absorbent compounded in the transparent resin film 3 is, for example, less than 20 parts by weight, 15 parts by weight or less, 10 parts by weight or less, or 8 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the main component (eg, TAC) of the transparent resin film 3. It may be not more than 6 parts by weight, or even not more than 6 parts by weight.
  • the lower limit of the blending amount is, for example, 0.1 parts by weight or more.
  • the content of the main component in the transparent resin film 3 is, for example, 50% by weight or more, and may be 60% by weight or more, 70% by weight or more, 75% by weight or more, or even 80% by weight or more.
  • the thickness of the transparent resin film 3 is not particularly limited, and is preferably 3 to 200 ⁇ m in terms of strength, workability such as handleability, and thinness, and 5 to 150 ⁇ m in terms of transparency and cost. is more preferable, 10 to 100 ⁇ m is more preferable, and 20 to 25 ⁇ m may be used. It should be noted that when the thickness of the transparent resin film 3 increases, there is a tendency for the transmittance of light with a wavelength of 380 nm to decrease. From the viewpoint of reducing the transmittance for light with a wavelength of 380 nm, the thickness of the transparent resin film 3 may be 30 ⁇ m or more, or may be about 40 ⁇ m.
  • the transparent resin film 3 may be a single layer, or may be composed of a plurality of layers.
  • the hard coat layer 6 is formed, for example, on the surface of the transparent resin film 3 on the antireflection layer 4 side.
  • the hard coat layer 6 tends to improve wear resistance and scratch resistance. Furthermore, by appropriately adjusting the difference between the refractive index of the hard coat layer 6 and the refractive index of the antireflection layer 4, the reflectance can be further reduced.
  • the hard coat layer 6 preferably has sufficient surface hardness, excellent mechanical strength, and excellent light transmittance.
  • the hard coat layer 6 can be made of, for example, a resin that satisfies the above properties.
  • Specific examples of the resin forming the hard coat layer 6 include thermosetting resins, thermoplastic resins, ultraviolet curable resins, electron beam curable resins, and two-liquid mixed resins. From the viewpoint that the hard coat layer 6 can be formed, an ultraviolet curable resin is preferable.
  • UV-curable resins include UV-curable resins such as polyester, acrylic, urethane, amide, silicone, and epoxy.
  • UV-curable resins include, for example, UV-curable monomers, oligomers, and polymers.
  • the UV-curable resin preferably contains an acrylic monomer component or oligomer component having two or more, preferably three to six, UV-polymerizable functional groups.
  • a photopolymerization initiator is blended in the ultraviolet curable resin.
  • the hard coat layer 6 may further contain metal oxide particles in addition to the resin.
  • the metal oxide particles may be exposed on the surface of the hard coat layer 6, particularly on the surface of the hard coat layer 6 on the adhesion layer 5 side.
  • Materials for the metal oxide particles include, for example, oxides of at least one metal selected from the group consisting of Si, Al, Ti, Zr, Ce, Mg, Zn, Ta, Sb, Sn, and Mn.
  • the hard coat layer 6 can be formed, for example, by the following method. First, a resin composition for forming the hard coat layer 6 is applied onto the transparent resin film 3 to obtain a coating film. The hard coat layer 6 can be formed by drying the coating film and then curing it by irradiating it with ultraviolet rays.
  • the thickness of the hard coat layer 6 is, for example, 0.5 ⁇ m to 20 ⁇ m, preferably 1 ⁇ m to 15 ⁇ m.
  • the adhesion layer 5 can improve adhesion between the hard coat layer 6 and the antireflection layer 4, for example.
  • the hard coat layer 6 contains metal oxide particles
  • the adhesion layer 5 contains the same metal as the metal oxide particles or an oxygen-deficient metal oxide containing the metal. You can Examples of the same metal as the metal oxide particles include the metals described above for the hard coat layer 6 .
  • the oxygen-deficient metal oxide means a metal oxide in which the number of oxygen atoms is less than the stoichiometric composition, specifically SiO x , AlO x , TiO x , ZrO x , CeO x .
  • x in SiO x of the adhesion layer 5 is 0 or more and less than 2.0.
  • the thickness of the adhesion layer is, for example, 10 nm or less, preferably 1 to 10 nm.
  • the antifouling layer 7 is provided on the surface of the antireflection layer 4, for example.
  • materials for the antifouling layer 7 include silane compounds containing fluorine-containing groups (for example, alkoxysilane compounds containing perfluoropolyether groups), organic compounds containing fluorine-containing groups, and the like.
  • the antifouling layer 7 preferably has a water contact angle of 110° or more, which indicates water repellency.
  • the antireflection film 2 can be produced by forming the antireflection layer 4 on the transparent resin film 3, for example. Before forming the antireflection layer 4, the transparent resin film 3 may be subjected to surface treatment, if necessary. Examples of surface treatment include low-pressure plasma treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona treatment, flame treatment, acid or alkali treatment, and the like. An adhesion layer 5 made of a material such as SiO x may be formed on the surface of the transparent resin film 3 .
  • the antireflection layer 4 can be formed by a dry process (eg, sputtering).
  • the antireflection layer 4 including a medium refractive index layer, a high refractive index layer and a low refractive index layer in this order is formed by sputtering on the surface of the transparent resin film 3 to form a medium refractive index layer (for example, antimony-doped layer).
  • a medium refractive index layer for example, antimony-doped layer.
  • tin oxide film a high refractive index layer (eg Nb 2 O 5 film) and a low refractive index layer (eg SiO 2 film) in this order.
  • the antireflection layer 4 in which high refractive index layers and low refractive index layers are alternately arranged is formed by sputtering on the surface of the transparent resin film 3 to form a high refractive index layer (for example, Nb 2 O 5 film).
  • a low refractive index layer e.g. SiO2 film
  • a high refractive index layer e.g. Nb2O5 film
  • a low refractive index layer e.g. SiO2 film
  • the antireflection film 2 may have an antireflection (AR) function, an antiglare (AG) function, or both functions. Among these functions, when the antireflection film 2 provided with only the AR function is used, interference unevenness may occur strongly. Therefore, the antireflection film 2 is preferably provided with both the AR function and the AG function. However, the antireflection film 2 may have only the AR function among the AR function and the AG function.
  • the antireflection film 2 imparted with only the AR function can be used in an image display device having a COE (Color Filter On Encapsulation) structure. In an image display device having a COE structure, the combination of a ⁇ -cavity and a color filter increases internal light emission, thereby suppressing reflection of external light without using a polarizing plate.
  • COE Color Filter On Encapsulation
  • FIG. 3 Another example of the antireflection film with adhesive sheet of this embodiment is shown in FIG.
  • the adhesive sheet-attached antireflection film 10B of FIG. 3 has the same structure as the adhesive sheet-attached antireflection film 10A of FIG.
  • the release liner 11 is typically a resin film.
  • resins that make up the release liner 11 are polyesters such as polyethylene terephthalate (PET), polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polycarbonates, acrylics, polystyrenes, polyamides, and polyimides.
  • PET polyethylene terephthalate
  • the surface of the release liner 11 that contacts the adhesive sheet 1 may be subjected to a release treatment.
  • the release treatment is, for example, treatment with a silicone compound.
  • the release liner 11 is not limited to the above example.
  • the release liner 11 is peeled off when the adhesive sheet-attached antireflection film 10B is used, for example, when attached to the image forming layer.
  • the antireflection film 10 with an adhesive sheet of the present embodiment can be distributed and stored, for example, as a wound body in which a belt-like antireflection film with an adhesive sheet is wound, or as a sheet-like antireflection film with an adhesive sheet. be.
  • the antireflection film 10 with an adhesive sheet of this embodiment is typically used in an image display device.
  • An example of an image display device is OLED.
  • the application of the antireflection film 10 with adhesive sheet is not limited to the above example.
  • the antireflection film 10 with adhesive sheet of this embodiment does not contain a polarizer. With this configuration, there is a tendency to suppress reduction in luminance of light emitted from the image display device and to reduce necessary power consumption.
  • the antireflection film 10 with an adhesive sheet of the present embodiment may have a transmittance (T380) of 5% or less for light with a wavelength of 380 nm.
  • T380 of the antireflection film 10 with adhesive sheet may be 4% or less, further 3.5% or less.
  • T380 is the transmittance of the antireflection film 10 with adhesive sheet in the stacking direction.
  • the lower limit of T380 of the antireflection film 10 with adhesive sheet is, for example, 0.01% or more.
  • FIG. 4 An example of the image display device of this embodiment is shown in FIG.
  • the image display device 21A of FIG. 4 has a laminated structure in which a substrate 13, an image forming layer 12, an adhesive sheet 1 and an antireflection film 2 are laminated in this order.
  • the image display device 21A has the adhesive sheet-attached antireflection film 10A of FIG.
  • the image forming layer 12 and the substrate 13 may have the same configurations as those of the substrate and the image forming layer of a known image display device.
  • the image forming layer 12 is, for example, an organic EL light emitting layer.
  • Substrate 13 is typically a resin film.
  • the resin constituting the substrate 13 is, for example, polyester such as PET, polyolefin such as polyethylene and polypropylene, acrylic, cycloolefin, polyimide, and polyamide, preferably polyester.
  • the substrate 13 is not limited to the above example.
  • Substrate 13 may be a film made of glass or a laminated film containing a film made of glass.
  • An undercoat layer may be provided on the surface of the substrate 13 on the image forming layer 12 side.
  • An antistatic layer may be provided on the surface of the substrate 13 opposite to the image forming layer 12 .
  • Known layers can be applied to the undercoat layer and the antistatic layer. Any pressure-sensitive adhesive or adhesive can be used to bond the image forming layer 12 and the substrate 13 together.
  • the adhesive sheet 1 may be used for bonding.
  • FIG. 5 Another example of the image display device of this embodiment is shown in FIG.
  • the image display device 21B of FIG. 5 is the same as the image display device 21A of FIG. have a configuration.
  • Known layers can be applied to the touch panel 14 and the protective layer 15 .
  • the touch panel 14 typically includes a conductive layer such as a metal layer.
  • Protective layer 15 is typically a resin layer such as an acrylic resin layer.
  • the adhesive sheet 1 is suitable for suppressing corrosion of the touch panel 14 depending on its configuration.
  • the adhesive sheet 1 and the antireflection film 10 with the adhesive sheet are normally positioned closer to the external light side (visible side) than the image forming layer 12 .
  • the image display devices 21A and 21B may be OLED.
  • the image display devices 21A and 21B may be for mobile devices such as smart phones and smart watches.
  • the image display devices 21A and 21B may be flexible image display devices that can be bent.
  • the image display devices 21A and 21B may be a foldable image display device that can be folded, a rollable image display device that can be rolled up, or the like.
  • the types of the image display devices 21A and 21B are not limited to the above examples.
  • the image display device of this embodiment can have any configuration as long as it includes the antireflection film with an adhesive sheet of this embodiment.
  • the image display device of the present embodiment does not need to have an antistatic layer on the outside light side of the image forming layer 12 .
  • the image display device of this embodiment may include a transparent substrate (for example, cover glass) and a transparent adhesive (OCA: Optical Clear Adhesive) on the outside light side of the antireflection film 10 with an adhesive sheet.
  • OCA Optical Clear Adhesive
  • the transparent adhesive is positioned between the transparent substrate and the antireflection film 10 with adhesive sheet to join them.
  • a commercial item can be used as a transparent adhesive.
  • the transparent adhesive may or may not contain an ultraviolet absorber. Examples of the ultraviolet absorber contained in the transparent pressure-sensitive adhesive include those described above for the ultraviolet absorber (C).
  • the amount of the ultraviolet absorber in the transparent adhesive is, for example, less than 20 parts by weight, 15 parts by weight or less, 10 parts by weight or less, 8 parts by weight or less, and further, with respect to 100 parts by weight of the main component of the transparent adhesive. It may be 6 parts by weight or less.
  • the lower limit of the blending amount is, for example, 0.1 parts by weight or more.
  • the content of the main component in the transparent adhesive is, for example, 50% by weight or more, and may be 60% by weight or more, 70% by weight or more, 75% by weight or more, or even 80% by weight or more.
  • Tinuvin928 (benzotriazole-based) had a wide absorption range from 320 nm to 370 nm, and had an absorbance of 0.2 or more in the maximum absorption wavelength region around 349 nm.
  • T380 Transmittance of light with a wavelength of 380 nm
  • the antistatic ability of the pressure-sensitive adhesive sheet was evaluated as follows by producing an OLED using the pressure-sensitive adhesive sheet.
  • An adhesion layer (thickness: 10 nm) made of SiO x was formed by sputtering on the surface of a TAC film manufactured by Konica Minolta (product name: KC2UA, thickness: 25 ⁇ m, containing an ultraviolet absorber). Further, on the adhesion layer, Nb2O5 film ( high refractive index layer), SiO2 film (low refractive index layer), Nb2O5 film (high refractive index layer ) and SiO2 film (low refractive index layer) layer) to form an antireflection layer (optical film thickness: 200 nm). Furthermore, an antifouling layer (thickness: 10 nm) made of an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group was formed on the antireflection layer to prepare an antireflection film.
  • the corrosion prevention performance of the pressure-sensitive adhesive sheet for touch panels was evaluated by the following method. Assuming a touch panel, an aluminum vapor-deposited glass plate was prepared by laminating a glass plate, an aluminum layer (thickness: 0.4 ⁇ m), and an acrylic resin protective layer (thickness: 2 ⁇ m) in this order. Next, the antireflection film with adhesive sheet prepared above was attached to the acrylic resin protective layer to obtain a test sample for evaluation. Next, the specimen was left for 336 hours in a heated humidified atmosphere at a temperature of 65° C. and a relative humidity of 95%. Next, after returning the test piece to an atmosphere with a temperature of 25 ° C.
  • the antireflection film with adhesive sheet was cut into a size of 3 cm ⁇ 3 cm and used.
  • Table 3 below shows the evaluation results for each pressure-sensitive adhesive sheet produced.
  • the antireflection films with pressure-sensitive adhesive sheets of Examples having pressure-sensitive adhesive sheets having a surface resistivity of 9 ⁇ 10 11 ⁇ / ⁇ or less ensured high antistatic performance.
  • the antireflection film with adhesive sheet of the present invention is suitable for use with OLEDs.

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Abstract

本発明は、有機ＥＬ表示装置（ＯＬＥＤ）への使用に適した粘着シート付き反射防止フィルムを提供する。本発明の粘着シート付き反射防止フィルム１０は、粘着シート１及び反射防止フィルム２を備える。粘着シート付き反射防止フィルム１０は、偏光子を含まない。粘着シート１は、９×１０11Ω／□以下の表面抵抗率を有する。本発明の画像表示装置２１は、例えば、粘着シート付き反射防止フィルム１０を備える。

Description

粘着シート付き反射防止フィルム及び画像表示装置
　本発明は、粘着シート付き反射防止フィルム及び画像表示装置に関する。
　近年、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置及び液晶表示装置に代表される画像表示装置が急速に普及している。これらの画像表示装置は、例えば、ＥＬ発光層や液晶層等の画像形成層と、光学フィルム及び粘着シートを含む光学積層体と、を備える積層構造を有する。粘着シートは、主として、光学積層体に含まれるフィルム間の接合や、画像形成層と光学積層体との接合に使用される。光学フィルムの例は、偏光板、位相差フィルム、及び偏光板と位相差フィルムとを一体化した位相差フィルム付き偏光板である。
　ＥＬ表示装置では、装置内に入射した光の反射を抑制するために、光学フィルムとして、偏光板及び位相差フィルムを含む円偏光板が利用されることがある（例えば、特許文献１）。ただし、円偏光板に含まれる偏光子がＥＬ発光層からの光を吸収するため、円偏光板を含むＥＬ表示装置では、当該装置から出射される光の輝度が低い傾向がある。また、所望の輝度を得るために素子の発光強度を増加させると、必要な消費電力が増加する。特許文献２及び３には、円偏光板に代えて、反射防止機能を有するフィルムを利用したＥＬ表示装置が開示されている。反射防止機能を有するフィルムとしては、アンチリフレクション（ＡＲ）機能、アンチグレア（ＡＧ）機能、又はこれらの両方の機能が付与されたフィルムが挙げられる。
特開２００３－３３２０６８号公報 特開２０１８－１１２７１５号公報 特開２００９－７０８１５号公報
　ＥＬ表示装置の一種である有機ＥＬ表示装置（以下、ＯＬＥＤと記載）には、タッチパネルが組み込まれることがあるが、このＯＬＥＤの表示部に指で触れたときに、意図せぬ発光がＯＬＥＤに生じることがある。ＯＬＥＤに要求されている更なる高精細化や優れた発色性能を考慮すると、上記発光は抑制することが望まれる。
　そこで本発明は、ＯＬＥＤへの使用に適した粘着シート付き反射防止フィルムの提供を目的とする。
　本発明は、
　粘着シート及び反射防止フィルムを備えた粘着シート付き反射防止フィルムであって、
　前記粘着シート付き反射防止フィルムは、偏光子を含まず、
　前記粘着シートは、９×１０11Ω／□以下の表面抵抗率を有する、粘着シート付き反射防止フィルムを提供する。
　別の側面において、本発明は、
　上記本発明の粘着シート付き反射防止フィルムを備えた、画像表示装置を提供する。
　本発明者らの検討によれば、表示部に触れた際のＯＬＥＤの意図せぬ発光は、主として、接触により生じた静電気の帯電に起因するが、上記の粘着シート付き反射防止フィルムの使用によってＯＬＥＤの帯電を抑制できる。このため、本発明の粘着シート付き反射防止フィルムは、ＯＬＥＤへの使用に適している。
図１は、本発明の粘着シート付き反射防止フィルムの一例を模式的に示す断面図である。 図２は、反射防止フィルムの一例を模式的に示す断面図である。 図３は、本発明の粘着シート付き反射防止フィルムの別の一例を模式的に示す断面図である。 図４は、本発明の画像表示装置の一例を模式的に示す断面図である。 図５は、本発明の画像表示装置の別の一例を模式的に示す断面図である。
　以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。本発明は、以下に示す実施形態に限定されない。
　本明細書において、「（メタ）アクリル」とは、アクリル及びメタクリルを意味する。また、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート及びメタクリレートを意味する。
［粘着シート付き反射防止フィルム］
　図１に示すように、本実施形態の粘着シート付き反射防止フィルム１０（１０Ａ）は、粘着シート１及び反射防止フィルム２を備えており、例えば、粘着シート１及び反射防止フィルム２のみから構成されている。粘着シート１は、例えば、反射防止フィルム２の表面上に配置されており、反射防止フィルム２と接合されている。粘着シート付き反射防止フィルム１０Ａは、粘着シート１を介して、対象物（例えば、画像表示装置の画像形成層）と貼り合わせることが可能である。粘着シート付き反射防止フィルム１０Ａは、偏光子を含まない。詳細には、粘着シート付き反射防止フィルム１０Ａは、偏光板や円偏光板を含まない。粘着シート付き反射防止フィルム１０Ａは、位相差フィルムを含んでいなくてもよい。
［粘着シート］
　粘着シート１は、９×１０11Ω／□以下の表面抵抗率を有する。粘着シート１の表面抵抗率は、５×１０11Ω／□以下、１×１０11Ω／□以下、９×１０10Ω／□以下、５×１０10Ω／□以下、３×１０10Ω／□以下、１×１０10Ω／□以下、９×１０9Ω／□以下、５×１０9Ω／□以下、３×１０9Ω／□以下、２×１０9Ω／□以下、更には１×１０9Ω／□以下であってもよい。表面抵抗率の下限は、例えば１×１０7Ω／□以上である。粘着シート１の表面抵抗率は、例えば、高抵抗抵抗率計（一例として、三菱化学アナリテック製、ハイレスタシリーズ）により評価できる。
　粘着シート１は、例えば、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）を含む粘着剤組成物（Ｉ）から形成されたシートである。粘着剤組成物（Ｉ）から形成された粘着シート１は、例えば、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）の硬化物を含む。ただし、粘着シート１は、上記例に限定されない。
（粘着剤組成物）
＜（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）＞
　粘着剤組成物（Ｉ）は、例えば、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）を主成分として含む。換言すれば、粘着剤組成物（Ｉ）は、アクリル系粘着剤組成物である。主成分とは、組成物において最も含有率の大きな成分を意味する。主成分の含有率は、例えば５０重量％以上であり、６０重量％以上、７０重量％以上、７５重量％以上、更には８０重量％以上であってもよい。
　（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）は、炭素数１～３０のアルキル基を側鎖に有する（メタ）アクリル系単量体（Ａ１）に由来する構成単位を有することが好ましい。（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）は、上記構成単位を主たる単位として有していてもよい。アルキル基は、直鎖状であっても分岐を有していてもよい。（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）は、（メタ）アクリル系単量体（Ａ１）に由来する構成単位を１種又は２種以上有していてもよい。（メタ）アクリル系単量体（Ａ１）の例は、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、ｓ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｎ－ペンチル（メタ）アクリレート、イソペンチル（メタ）アクリレート、ｎ－へキシル（メタ）アクリレート、イソヘキシル（メタ）アクリレート、イソヘプチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ｎ－ノニル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ－デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ｎ－ドデシル（メタ）アクリレート（ラウリル（メタ）アクリレート）、ｎ－トリデシル（メタ）アクリレート及びｎ－テトラデシル（メタ）アクリレートである。本明細書において「主たる単位」とは、ポリマーが有する全構成単位のうち、例えば５０重量％以上、好ましくは６０重量％以上、より好ましくは７０重量％以上、更に好ましくは８０重量％以上を占める単位を意味する。
　（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）は、長鎖アルキル基を側鎖に有する（メタ）アクリル系単量体（Ａ１）に由来する構成単位を有していてもよい。当該単量体（Ａ１）の例は、ｎ－ドデシル（メタ）アクリレート（ラウリル（メタ）アクリレート）である。本明細書において「長鎖アルキル基」とは、炭素数６～３０のアルキル基を意味する。
　（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）は、ホモポリマーとしたときにガラス転移温度（Ｔｇ）が－７０～－２０℃の範囲にある（メタ）アクリル系単量体（Ａ１）に由来する構成単位を有していてもよい。当該単量体（Ａ１）の例は、ｎ－ブチルアクリレートである。
　（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）は、（メタ）アクリル系単量体（Ａ１）に由来する構成単位以外の構成単位を有していてもよい。当該構成単位は、（メタ）アクリル系単量体（Ａ１）と共重合可能な単量体（Ａ２）に由来する。（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）は、当該構成単位を１種又は２種以上有していてもよい。
　単量体（Ａ２）の例は、芳香環含有単量体である。芳香環含有単量体は、芳香環含有（メタ）アクリル系単量体であってもよい。芳香環含有単量体の例は、フェニル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル化β－ナフトール（メタ）アクリレート及びビフェニル（メタ）アクリレートである。（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）における芳香環含有単量体に由来する構成単位の含有率は、例えば０～５０重量％であり、１～３０重量％、５～２５重量％、８～２０重量％、１０～１９重量％、更には１３～１８重量％であってもよく、０重量％であっても（当該構成単位を含まなくても）よい。
　単量体（Ａ２）の別の例は、水酸基含有単量体である。水酸基含有単量体は、水酸基含有（メタ）アクリル系単量体であってもよい。水酸基含有単量体の例は、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６－ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、８－ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、１０－ヒドロキシデシル（メタ）アクリレート及び１２－ヒドロキシラウリル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、並びに（４－ヒドロキシメチルシクロヘキシル)－メチルアクリレートである。（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）における水酸基含有単量体に由来する構成単位の含有率は、５重量％以下であってもよく、３重量％以下、２重量％以下、１重量％以下、０．５重量％以下、更には０．１重量％以下であってもよく、０重量％であっても（当該構成単位を含まなくても）よい。
　単量体（Ａ２）の別の例は、以下の化学式（１）に示す（メタ）アクリレートである。式（１）のＲ1は、水素原子又はメチル基である。式（１）のＲ2は、アルキル基である。アルキル基は、直鎖状であっても分岐を有していてもよい。Ｒ2は、好ましくは直鎖状のアルキル基である。Ｒ2の例は、メチル基及びエチル基である。式（１）のｎは、１～１５の整数である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　式（１）に示す（メタ）アクリレートの例は、２－メトキシエチル（メタ）アクリレート、２－エトキシエチル（メタ）アクリレート及びメトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレートであり、好ましくは２－メトキシエチルアクリレート（ＭＥＡ）である。式（１）の（メタ）アクリレートに由来する構成単位は、粘着シート１の表面抵抗率の低減に寄与しうる。詳細には、式（１）の（メタ）アクリレートに由来する構成単位によれば、後述する帯電防止剤（Ｂ）の配合量を抑制しつつ、粘着シート１の表面抵抗率を低減できる傾向がある。（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）は、式（１）の（メタ）アクリレートに由来する構成単位を、主たる単位として有していてもよい。
　単量体（Ａ２）は、カルボキシル基含有単量体、アミノ基含有単量体、アミド基含有単量体であってもよい。カルボキシル基含有単量体の例は、(メタ)アクリル酸、カルボキシエチル(メタ)アクリレート、カルボキシペンチル(メタ)アクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸及びクロトン酸である。アミノ基含有単量体の例は、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート及びＮ，Ｎ－ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレートである。アミド基含有単量体の例は、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－イソプロピルアクリルアミド、Ｎ－メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチロール－Ｎ－プロパン（メタ）アクリルアミド、アミノメチル（メタ）アクリルアミド、アミノエチル（メタ）アクリルアミド、メルカプトメチル（メタ）アクリルアミド及びメルカプトエチル（メタ）アクリルアミド等のアクリルアミド系単量体；Ｎ－（メタ）アクリロイルモルフォリン、Ｎ－（メタ）アクリロイルピペリジン及びＮ－（メタ）アクリロイルピロリジン等のＮ－アクリロイル複素環単量体；並びにＮ－ビニルピロリドン及びＮ－ビニル－ε－カプロラクタム等のＮ－ビニル基含有ラクタム系単量体である。
　単量体（Ａ２）は、多官能性単量体であってもよい。多官能性単量体の例は、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート（１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート）、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、ビニル（メタ）アクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート及びウレタンアクリレート等の多官能アクリレート；並びにジビニルベンゼンである。多官能アクリレートは、好ましくは１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートである。
　（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）におけるカルボキシル基含有単量体、アミノ基含有単量体、アミド基含有単量体及び多官能性単量体に由来する構成単位の含有率の合計は、好ましくは２０重量％以下であり、より好ましくは１０重量％以下、更に好ましくは８重量％以下である。（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）が当該構成単位を有する場合、含有率の合計は、例えば０．０１重量％以上であり、１重量％以上、２重量％以上、更には３重量％以上であってもよい。（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）は、多官能性単量体に由来する構成単位を含まなくてもよい。
　その他の単量体（Ａ２）の例は、（メタ）アクリル酸グリシジル及び（メタ）アクリル酸メチルグリシジル等のエポキシ基含有単量体；ビニルスルホン酸ナトリウム等のスルホン酸基含有単量体；リン酸基含有単量体；（メタ）アクリル酸シクロペンチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル及び（メタ）アクリル酸イソボルニル等の脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリル酸エステル；酢酸ビニル及びプロピオン酸ビニル等のビニルエステル類；スチレン及びビニルトルエン等の芳香族ビニル化合物；エチレン、プロピレン、ブタジエン、イソプレン及びイソブチレン等のオレフィン類、又はジエン類；ビニルアルキルエーテル等のビニルエーテル類；並びに塩化ビニルである。
　（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）における上記その他の単量体（Ａ２）に由来する構成単位の含有率の合計は、例えば３０重量％以下であり、１０重量％以下であってもよく、０重量％である（当該構成単位を含まない）ことが好ましい。
　（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）は、上述した１種又は２種以上の単量体を公知の方法により重合して形成できる。単量体と、単量体の部分重合物とを重合してもよい。重合は、例えば、溶液重合、乳化重合、塊状重合、熱重合、活性エネルギー線重合により実施できる。光学的透明性に優れる粘着シートを形成できる観点からは、溶液重合、活性エネルギー線重合が好ましい。重合は、単量体及び／又は部分重合物と酸素との接触を避けて実施することが好ましく、このために、例えば、窒素等の不活性ガス雰囲気下における重合、あるいは樹脂フィルム等により酸素を遮断した状態での重合を採用できる。形成する（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）は、ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体等のいずれの態様であってもよい。
　（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）を形成する重合系は、１種又は２種以上の重合開始剤を含んでいてもよい。重合開始剤の種類は、重合反応により選択でき、例えば、熱重合開始剤、光重合開始剤であってもよい。
　溶液重合に使用する溶媒は、例えば、酢酸エチル、酢酸ｎ－ブチル等のエステル類；トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素類；ｎ－ヘキサン、ｎ－ヘプタン等の脂肪族炭化水素類；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類である。ただし、溶媒は上記例に限定されない。溶媒は、２種以上の溶媒の混合溶媒であってもよい。
　溶液重合に使用する重合開始剤は、例えば、アゾ系重合開始剤、過酸化物系重合開始剤、レドックス系重合開始剤である。過酸化物系重合開始剤は、例えば、ジベンゾイルペルオキシド、ｔ－ブチルペルマレエートである。なかでも、特開２００２－６９４１１号公報に開示のアゾ系重合開始剤が好ましい。当該アゾ系重合開始剤は、例えば、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、２，２’－アゾビス－２－メチルブチロニトリル、２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオン酸）ジメチル、４，４’－アゾビス－４－シアノバレリアン酸である。ただし、重合開始剤は上記例に限定されない。アゾ系重合開始剤の使用量は、例えば、単量体の全量１００重量部に対して０．０５～０．５重量部であり、０．１～０．３重量部であってもよい。
　活性エネルギー線重合に使用する活性エネルギー線は、例えば、α線、β線、γ線、中性子線、電子線等の電離性放射線、及び紫外線である。活性エネルギー線は、紫外線が好ましい。紫外線の照射による重合は、光重合とも称される。活性エネルギー線重合の重合系は、典型的には、光重合開始剤を含む。活性エネルギー重合の重合条件は、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）が形成される限り、限定されない。
　光重合開始剤は、例えば、ベンゾインエーテル系光重合開始剤、アセトフェノン系光重合開始剤、α－ケトール系光重合開始剤、芳香族スルホニルクロリド系光重合開始剤、光活性オキシム系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンジル系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、ケタール系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤である。ただし、光重合開始剤は上記例に限定されない。
　ベンゾインエーテル系光重合開始剤は、例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、アニソールメチルエーテルである。アセトフェノン系光重合開始剤は、例えば、２，２－ジエトキシアセトフェノン、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、４－フェノキシジクロロアセトフェノン、４－（ｔ－ブチル）ジクロロアセトフェノンである。α－ケトール系光重合開始剤は、例えば、２－メチル－２－ヒドロキシプロピオフェノン、１－［４－（２－ヒドロキシエチル）フェニル］－２－メチルプロパン－１－オンである。芳香族スルホニルクロリド系光重合開始剤は、例えば、２－ナフタレンスルホニルクロライドである。光活性オキシム系光重合開始剤は、例えば、１－フェニル－１，１－プロパンジオン－２－（ｏ－エトキシカルボニル）－オキシムである。ベンゾイン系光重合開始剤は、例えば、ベンゾインである。ベンジル系光重合開始剤は、例えば、ベンジルである。ベンゾフェノン系光重合開始剤は、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、３，３’－ジメチル－４－メトキシベンゾフェノン、ポリビニルベンゾフェノン、α－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンである。ケタール系光重合開始剤は、例えば、ベンジルジメチルケタールである。チオキサントン系光重合開始剤は、例えば、チオキサントン、２－クロロチオキサントン、２－メチルチオキサントン、２，４－ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４－ジイソプロピルチオキサントン、ドデシルチオキサントンである。
　光重合開始剤の使用量は、例えば、単量体の全量１００重量部に対して０．０１～１重量部であり、０．０５～０．５重量部であってもよい。
　（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、例えば、１００万～２８０万であり、粘着シートの耐久性及び耐熱性の観点からは、１２０万以上、更には１４０万以上であってもよい。本明細書におけるポリマー及びオリゴマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー）の測定に基づく値（ポリスチレン換算）である。
　粘着剤組成物（Ｉ）における（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）の含有率は、固形分比で、例えば５０重量％以上であり、６０重量％以上、７０重量％以上、更には８０重量％以上であってもよい。含有率の上限は、例えば９９重量％以下であり、９７重量％以下、９５重量％以下、９３重量％以下、更には９０重量％以下であってもよい。
＜帯電防止剤（Ｂ）＞
　粘着剤組成物（Ｉ）は、例えば、帯電防止剤（Ｂ）を更に含む。帯電防止剤（Ｂ）の配合量は、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）１００重量部に対して、例えば１０重量部未満であり、８重量部以下、７重量部以下、６重量部以下、５重量部以下、４重量部以下、３重量部以下、２重量部以下、１重量部以下、０．８重量部以下、０．６重量部以下、０．５重量部以下、０．３重量部以下、０．１重量部以下、更には０．０５重量部以下であってもよい。配合量の下限は、例えば０．００５重量部以上である。スマートフォン等の携帯機器に用いるＯＬＥＤを典型例として、画像表示装置の内部にタッチパネルが組み込まれることがある。画像形成層よりも視認側にタッチパネルが配置されたオンセル等も存在する。タッチパネルには、金属層等の導電層が通常含まれているが、本発明者らの検討によれば、導電層、特に金属層は、帯電防止剤（Ｂ）による腐食を受けやすい。この観点からは、帯電防止剤（Ｂ）の配合量が少ないほど、粘着剤組成物（Ｉ）はＯＬＥＤへの使用に特に適している。
　帯電防止剤（Ｂ）の例は、塩等のイオン性化合物である。イオン性化合物は、常温（２５℃）で液体のイオン液体であってもよい。イオン性化合物は、例えば導電性微粒子に比べて、通常、粘着剤組成物（Ｉ）への相溶性が高く、光学的透明性に優れる粘着シートの形成に適している。なお、粘着剤組成物（Ｉ）は、導電性微粒子を実質的に含まなくてもよい。本明細書において、粘着剤組成物（Ｉ）が実質的に含まないとは、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）１００重量部に対して、０．５重量部以下、好ましくは０．１重量部以下、より好ましくは０．０５重量部以下、更に好ましくは０．０１重量部以下の含有量であることを意味する。
　イオン性化合物を構成するカチオンの例は、金属イオン及びオニウムイオンである。金属イオンの例は、アルカリ金属イオン及びアルカリ土類金属イオンである。アルカリ金属イオンは、例えば、リチウムイオン、ナトリウムイオン及びカリウムイオンであり、リチウムイオンであってもよい。アルカリ土類金属イオンは、例えば、マグネシウムイオン及びカルシウムイオンである。ただし、金属イオンは、上記例に限定されない。
　オニウムイオンの例は、窒素原子、リン原子及び硫黄原子から選ばれる少なくとも１つの原子がプラス（＋）に帯電したイオンである。オニウムイオンは有機イオンであってもよく、この場合、環状有機化合物のイオンであっても、鎖状有機化合物のイオンであってもよい。環状有機化合物は、芳香族であっても、脂肪族等の非芳香族であってもよい。オニウムイオンの例は、Ｎ－エチル－Ｎ，Ｎ－ジメチル－Ｎ－（２－メトキシエチル）アンモニウムイオン、Ｎ，Ｎ－ジエチル－Ｎ－メチル－Ｎ－（２－メトキシエチル）アンモニウムイオン、Ｎ－エチル－Ｎ，Ｎ－ジメチル－Ｎ－プロピルアンモニウムイオン、Ｎ－メチル－Ｎ，Ｎ，Ｎ－トリオクチルアンモニウムイオン、Ｎ，Ｎ，Ｎ－トリメチル－Ｎ－プロピルアンモニウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオン、テトラメチルアンモニウムイオン、テトラヘキシルアンモニウムイオン及びＮ－メチル－Ｎ，Ｎ，Ｎ－トリブチルアンモニウムイオン等の４級アンモニウムイオン；炭素数４～１６のアルキル基により置換されたＮ－アルキルピリジニウム等のピリジニウムイオン；炭素数２～１０のアルキル基（例えばエチル基）で置換された１，３－アルキルメチルイミダゾリウムイオン、炭素数２～１０のアルキル基で置換された１，２－ジメチル－３－アルキルイミダゾリウム等のイミダゾリウムイオン；ホスホニウムイオン、ピロリジニウムイオン、ピリダジニウムイオン、ピリミジニウムイオン、ピラジニウムイオン、ピラゾリウムイオン、チアゾリウムイオン、オキサゾリウムイオン、トリアゾリウムイオン、並びにピペリジニウムイオンである。ただし、オニウムイオンは、上記例に限定されない。
　イオン性化合物を構成するアニオンの例は、フルオライド、クロライド、ブロマイド、ヨーダイド、ペルクロレート（ＣｌＯ4 -）、ヒドロキシド（ＯＨ-）、カーボネート（ＣＯ3 2-）、ニトレート（ＮＯ3 -）、スルホネート（ＳＯ4 -）、メチルベンゼンスルホネート（ＣＨ3（Ｃ6Ｈ4）ＳＯ3 -）、ｐ－トルエンスルホネート（ＣＨ3Ｃ6Ｈ4ＳＯ3 -）、カルボキシベンゼンスルホネート（ＣＯＯＨ（Ｃ6Ｈ4）ＳＯ3 -）、トリフルオロメタンスルホネート（ＣＦ3ＳＯ2 -）、ベンゾエート（Ｃ6Ｈ5ＣＯＯ-）、アセテート（ＣＨ3ＣＯＯ-）、トリフルオロアセテート（ＣＦ3ＣＯＯ-）、テトラフルオロボレート（ＢＦ4 -）、テトラベンジルボレート（Ｂ（Ｃ6Ｈ5）4 -）、ヘキサフルオロホスフェート（ＰＦ6 -）、トリスペンタフルオロエチルトリフルオロホスフェート（Ｐ（Ｃ2Ｆ5）3Ｆ3 -）、ビスフルオロスルホニルイミド（Ｎ（ＳＯ2Ｆ）2 -）、ビストリフルオロメタンスルホニルイミド（Ｎ（ＳＯ2ＣＦ3）2 -）、ビスペンタフルオロエタンスルホニルイミド（Ｎ（ＳＯＣ2Ｆ5）2 -）、ビスペンタフルオロエタンカルボニルイミド（Ｎ（ＣＯＣ2Ｆ5）2 -）、ビスペルフルオロブタンスルホニルイミド（Ｎ（ＳＯ2Ｃ4Ｆ9）2 -）、ビスペルフルオロブタンカルボニルイミド（Ｎ（ＣＯＣ4Ｆ9）2 -）、トリストリフルオロメタンスルホニルメチド（Ｃ（ＳＯ2ＣＦ3）3 -）及びトリストリフルオロメタンカルボニルメチド（Ｃ（ＳＯ2ＣＦ3）3 -）である。ただし、アニオンは、上記例に限定されない。
　帯電防止剤（Ｂ）は、硫黄原子を含むアニオンを含んでいてもよい。硫黄原子を含むアニオンの例は、ビスフルオロスルホニルイミド（Ｎ（ＳＯ2Ｆ）2 -）及びビストリフルオロメタンスルホニルイミド（Ｎ（ＳＯ2ＣＦ3）2 -）である。
　帯電防止剤（Ｂ）は、有機塩であってもよい。また、帯電防止剤（Ｂ）は、リチウム塩であってもよく、カチオン及びアニオンとして、それぞれリチウムイオン及び有機イオンを含むリチウム有機塩であってもよい。
　帯電防止剤（Ｂ）の具体例は、１－エチル－３－メチルイミダゾリウムビスフルオロスルホニルイミド、リチウムビス（トリフルオロメタン）スルホンイミド（ＬｉＴＦＳｉ）、エチルメチルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（ＥＭＰＴＦＳｉ）及びトリブチルメチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（ＴＢＭＡＴＦＳｉ）である。
　帯電防止剤（Ｂ）は、リン原子を含んでいなくてもよい。本発明者らの検討によれば、リン原子を含む帯電防止剤（Ｂ）はタッチパネル（の導電層）を腐食しやすい傾向にある。
　粘着剤組成物（Ｉ）は、１種又は２種以上の帯電防止剤（Ｂ）を含んでいてもよい。
＜紫外線吸収剤（Ｃ）＞
　粘着剤組成物（Ｉ）は、紫外線吸収剤（Ｃ）を更に含んでいてもよく、紫外線吸収剤（Ｃ）を含んでいなくてもよい。紫外線吸収剤（Ｃ）の吸収スペクトルにおける最大吸収波長は、３２０ｎｍ以上３８０ｎｍ以下にある。なお、波長３２０ｎｍ以下の紫外線は、波長３２０ｎｍ以上の紫外線に比べて外光に含まれる量が少なく、また、有機ＥＬ発光層よりも外光側（視認側）に位置する層により多くが吸収されうるため、外光によるＯＬＥＤの劣化に関して考慮の必要性が相対的に小さい。吸収スペクトルは、例えば、イソプロピルアルコール等の溶媒に濃度０．００１重量％で紫外線吸収剤（Ｃ）を溶解させた溶液に対する分光光度測定により評価できる。
　紫外線吸収剤（Ｃ）の吸収スペクトルにおける最大吸収波長は、３３０ｎｍ以上３７５ｎｍ以下にあってもよく、３３５ｎｍ以上３７０ｎｍ以下、更には３４０ｎｍ以上３７０ｎｍ以下にあってもよい。また、紫外線吸収剤（Ｃ）は、最大値１に吸光度を規格化した吸収スペクトルにおいて、波長３２０ｎｍ以上３７０ｎｍ以下の帯域にわたって０．１以上、更には０．２以上の吸光度を有していてもよい。これらの紫外線吸収剤（Ｃ）は、紫外線によるＯＬＥＤの劣化の抑制に特に適している。
　紫外線吸収剤（Ｃ）の配合量は、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）１００重量部に対して、例えば１５重量部未満であり、１０重量部以下、７重量部以下、５重量部以下、３重量部以下、２．５重量部以下、２重量部以下、１．５重量部以下、１重量部以下、０．８重量部以下、０．７重量部以下、０．６重量部以下、更には０．５重量部以下であってもよい。配合量の下限は、例えば０．１重量部以上である。
　紫外線吸収剤（Ｃ）は、吸収スペクトルにおける最大吸収波長が３２０ｎｍ以上３８０ｎｍ以下にある限り、例えば、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、オキシベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤、又はシアノアクリレート系紫外線吸収剤であってもよい。各紫外線吸収剤は、それぞれ、トリアジン骨格、ベンゾトリアゾール骨格、ベンゾフェノン骨格、オキシベンゾフェノン骨格、サリチル酸エステル構造、及びシアノアクリレート構造を有する化合物である。紫外線吸収剤（Ｃ）は、好ましくはトリアジン系又はベンゾトリアゾール系であり、より好ましくはトリアジン系である。トリアジン系である紫外線吸収剤（Ｃ）は、１分子中に少なくとも１個、好ましくは２個、より好ましくは３個のヒドロキシフェニル基及び／又はアルコキシ（メトキシ、エトキシ、プロポキシ等）フェニル基を有していてもよい。また、トリアジン系である紫外線吸収剤（Ｃ）は、１分子中に少なくとも１個、好ましくは２個のヒドロキシフェニル基を有していてもよい。これらの紫外線吸収剤（Ｃ）、なかでも１分子中に３個のヒドロキシフェニル基及び／又はアルコキシフェニル基を有する紫外線吸収剤（Ｃ）は、波長３２０ｎｍ以上３７０ｎｍ以下の帯域における吸光度の変動が少ないこともあって、紫外線によるＯＬＥＤの劣化の抑制に特に適している。
　トリアジン系紫外線吸収剤の例は、２，４－ビス－［｛４－（４－エチルヘキシルオキシ）－４－ヒドロキシ｝－フェニル］－６－（４－メトキシフェニル）－１,３,５－トリアジン（Ｔｉｎｏｓｏｒｂ　Ｓ、ＢＡＳＦ製）、２，４－ビス［２－ヒドロキシ－４－ブトキシフェニル］－６－（２，４－ジブトキシフェニル）－１,３,５－トリアジン（ＴＩＮＵＶＩＮ　４６０、ＢＡＳＦ製）、２－（４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－ヒドロキシフェニルと［（Ｃ１０－Ｃ１６（主としてＣ１２－Ｃ１３）アルキルオキシ）メチル］オキシランとの反応生成物（ＴＩＮＵＶＩＮ４００、ＢＡＳＦ製）、２－［４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン－２－イル］－５－［３－（ドデシルオキシ）－２－ヒドロキシプロポキシ］フェノール）、２－（２，４－ジヒドロキシフェニル）－４，６－ビス－（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジンと（２－エチルヘキシル）－グリシド酸エステルの反応生成物（ＴＩＮＵＶＩＮ４０５、ＢＡＳＦ製）、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－［（ヘキシル）オキシ］－フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１５７７、ＢＡＳＦ製）、２－（４，６－ジフェニルー１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－［２－（２－エチルヘキサノイルオキシ）エトキシ］－フェノール（ＡＤＫ　ＳＴＡＢ　ＬＡ４６、ＡＤＥＫＡ製）、２－（２－ヒドロキシ－４－［１－オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）－４，６－ビス（４－フェニルフェニル）－１，３，５－トリアジン（ＴＩＮＵＶＩＮ４７９、ＢＡＳＦ社製）である。
　ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の例は、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－６－（１－メチル－１－フェニルエチル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ　９２８、ＢＡＳＦ製）、２－（２－ヒドロキシ－５－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール（ＴＩＮＵＶＩＮ　ＰＳ、ＢＡＳＦ製）、ベンゼンプロパン酸及び３－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－５－（１，１－ジメチルエチル）－４－ヒドロキシ（Ｃ７－９側鎖及び直鎖アルキル）のエステル化合物（ＴＩＮＵＶＩＮ３８４－２、ＢＡＳＦ製）、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４，６－ビス（１－メチル－１－フェニルエチル）フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ９００、ＢＡＳＦ製）、メチル－３－（３－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－５－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート／ポリエチレングリコール３００の反応生成物（ＴＩＮＵＶＩＮ１１３０、ＢＡＳＦ製）、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－ｐ－クレゾール（ＴＩＮＵＶＩＮ　Ｐ、ＢＡＳＦ製）、２（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－６－ビス（１－メチル－１－フェニルエチル）フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ２３４、ＢＡＳＦ製）、２－〔５－クロロ（２Ｈ）－ベンゾトリアゾール－２－イル〕－４－メチル－６－（ｔｅｒｔ－ブチル）フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ３２６、ＢＡＳＦ製）、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４，６－ジ－ｔｅｒｔ－ペンチルフェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ３２８、ＢＡＳＦ製）、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ３２９、ＢＡＳＦ製）、メチル３－（３－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－５－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネートとポリエチレングリコール３００との反応生成物（ＴＩＮＵＶＩＮ２１３、ＢＡＳＦ製）、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－６－ドデシル－４－メチルフェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ５７１、ＢＡＳＦ製）、２－［２－ヒドロキシ－３－（３、４、５，６－テトラヒドロフタルイミドーメチル）－５－メチルフェニル］ベンゾトリアゾール（Ｓｕｍｉｓｏｒｂ２５０、住友化学工業製）である。
　粘着剤組成物（Ｉ）は、１種又は２種以上の紫外線吸収剤（Ｃ）を含んでいてもよい。
＜添加剤＞
　粘着剤組成物（Ｉ）は、その他の添加剤を含んでいてもよい。添加剤の例は、架橋剤、シランカップリング剤、顔料及び染料等の着色剤、界面活性剤、可塑剤、粘着性付与剤、表面潤滑剤、レベリング剤、リワーク向上剤、軟化剤、酸化防止剤、老化防止剤、光安定剤、重合禁止剤、防錆剤、無機充填材、有機充填材、金属粉等の粉体、粒子、箔状物である。防錆剤は、ベンゾトリアゾール系（例えば、城北化学工業製、ＢＴ１２０、ＢＴ－ＬＸ、ＴＴ－ＬＸ等）であってもよい。添加剤は、(メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）１００重量部に対して、例えば１０重量部以下、好ましくは５重量部以下、より好ましくは１重量部以下の範囲で配合できる。
　架橋剤の例は、有機系架橋剤及び多官能性金属キレートである。有機系架橋剤の例は、イソシアネート系架橋剤、過酸化物系架橋剤、エポキシ系架橋剤及びイミン系架橋剤である。有機系架橋剤及び多官能性金属キレートは、溶剤型及び活性エネルギー線硬化型のいずれの型の粘着剤組成物に対しても使用できる。粘着剤組成物（Ｉ）が溶剤型である場合、架橋剤は、好ましくは過酸化物系架橋剤、イソシアネート系架橋剤である。過酸化物系架橋剤とイソシアネート系架橋剤とを併用してもよい。
　粘着剤組成物（Ｉ）が架橋剤を含む場合、その配合量は、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）１００重量部に対して、例えば０．０１～１０重量部であり、０．１～５重量部、更には０．１～３重量部であってもよい。
　粘着剤組成物（Ｉ）がシランカップリング剤を含む場合、その配合量は、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）１００重量部に対して、例えば０．０１～５重量部以下であり、３重量部以下、１重量部以下、０．５重量部以下、０．２重量部以下、０．１重量部以下、更には０．０５重量部以下であってもよい。粘着剤組成物（Ｉ）は、シランカップリング剤を含まなくてもよい。
　粘着剤組成物（Ｉ）は、吸収スペクトルにおける最大吸収波長が３８０ｎｍを超える発色性化合物を実質的に含まなくてもよい。発色性化合物の最大吸収波長は、３８５ｎｍ以上、３９０ｎｍ以上、３９５ｎｍ以上、４００ｎｍ以上、４１０ｎｍ以上、更には４２０ｎｍ以上であってもよい。可視光に最大吸収波長を有する発色性化合物を実質的に含まないことは、ＯＬＥＤの発色性能の向上に寄与しうる。発色性化合物の吸収スペクトルは、紫外線吸収剤（Ｃ）の吸収スペクトルと同様に評価できる。
　粘着剤組成物（Ｉ）の型は、例えば、エマルション型、溶剤型（溶液型）、活性エネルギー線硬化型（光硬化型）、熱溶融型（ホットメルト型）である。特性の均一性及び耐久性により優れる粘着シートを形成できる観点からは、粘着剤組成物（Ｉ）は溶剤型であってもよい。紫外線吸収剤を含む光硬化型の粘着剤組成物は、光硬化時における活性エネルギー線の入射側とその反対側との間で特性（例えば、剥離力）の変動が生じる傾向にある。溶剤型の粘着剤組成物（Ｉ）は、紫外線硬化剤等の光硬化剤を含まなくてもよい。
　粘着シート１は、粘着剤組成物（Ｉ）から、以下のように形成できる。
　溶剤型については、例えば、粘着剤組成物（Ｉ）又は粘着剤組成物（Ｉ）と溶剤との混合物を基材フィルムに塗布して塗布膜を形成し、形成された塗布膜を乾燥して粘着シート１を形成する。乾燥時の熱により粘着剤組成物（Ｉ）は熱硬化する。活性エネルギー線硬化型（光硬化型）については、例えば、重合により（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）となる単量体（群）、並びに必要に応じて、単量体（群）の部分重合物、重合開始剤、添加剤及び溶剤等の混合物を基材フィルムに塗布し、活性エネルギー線を照射して粘着シート１を形成する。活性エネルギー線の照射前に、乾燥により溶剤を除去してもよい。基材フィルムは、塗布面に剥離処理がなされたフィルム（はく離ライナー）であってもよい。
　基材フィルム上に形成された粘着シート１は、任意の部材に転写できる。また、基材フィルムは反射防止フィルム２であってもよく、この場合、粘着シート１と反射防止フィルム２とを含む粘着シート付き反射防止フィルム１０が得られる。
　基材フィルムへの塗布には、公知の方法を採用できる。塗布は、例えば、ロールコート、キスロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、ディップロールコート、バーコート、ナイフコート、エアーナイフコート、カーテンコート、リップコート、ダイコーター等による押出しコートにより実施できる。
　溶剤型について、塗布後の乾燥温度は、例えば、４０～２００℃である。乾燥温度は、１６０℃以下、１５０℃以下、１３０℃以下、１２０℃以下、更には１００℃以下であってもよい。乾燥時間は、例えば、５秒～２０分であり、５秒～１０分、更には１０秒～５分であってもよい。活性エネルギー線硬化型について、塗布後の乾燥を行う場合の乾燥温度及び乾燥時間は、上記範囲であってもよい。
　基材フィルムに塗布する組成物及び混合物は、取り扱い及び塗工に適した粘度を有することが好ましい。このため、活性エネルギー線硬化型については、塗布する混合物は、単量体（群）の部分重合物を含むことが好ましい。
　はく離ライナーの一例では、シリコーン化合物により塗布面の剥離処理がなされている。
　粘着シート１の厚さは、例えば、１～２００μｍであり、１～１５０μｍ、５～１００μｍ、８～５０μｍ、１０～３０μｍ、更には１０～２５μｍであってもよい。
　粘着シート１は、厚さ２０μｍのときに、波長３８０ｎｍの光に対する透過率（以下、Ｔ３８０と記載）が８０％未満であってもよい。厚さ２０μｍの粘着シート１のＴ３８０は、７５％以下、７０％以下、更には６５％以下であってもよい。Ｔ３８０の下限は、例えば１％以上であり、５％以上であってもよい。
　粘着シート１は、厚さ方向にほぼ均一な硬化状態を有していてもよい。厚さ方向にほぼ均一な硬化状態を有することは、ＯＬＥＤへの使用に特に適している。ほぼ均一な硬化状態であることは、例えば、粘着シート１の一方の主面の剥離力ａと他方の主面の剥離力ｂとがほぼ同一であることにより確認できる。剥離力ａと剥離力ｂとの比ａ／ｂは、例えば０．５以上２以下であり、０．６７以上１．５以下、０．７５以上１．３３以下、更には０．９１以上１．１以下であってもよい。粘着シート１の（主面の）剥離力は、例えば、日本産業規格（ＪＩＳ）Ｚ０２３７：２００９の項目１０．３の方法１に定められた試験方法により評価した１８０°引きはがし剥離力であってもよい。なお、この試験方法を実施する際の試験板には、ステンレス板の代わりにガラス板を使用してもよい。
　粘着シート１は、溶剤型の粘着剤組成物から形成されたシートであってもよい。溶剤型の粘着剤組成物から形成された粘着シートは、厚さ方向にほぼ均一な硬化状態を有しうる。このことは、例えば、ＯＬＥＤの安定性に寄与しうる。
［反射防止フィルム］
　図２に示すように、反射防止フィルム２は、反射防止層４を有し、例えば、透明樹脂フィルム３、ハードコート層６、密着層５及び防汚層７をさらに有する。反射防止フィルム２は、密着層５、ハードコート層６及び防汚層７を有していなくてもよい。反射防止フィルム２では、例えば、透明樹脂フィルム３、ハードコート層６、密着層５、反射防止層４及び防汚層７がこの順に積層されている。反射防止フィルム２は、複数の反射防止層４を有し、複数の反射防止層４の間に透明樹脂フィルム３が位置していてもよい。反射防止フィルム２は、防眩層などの他の層をさらに有していてもよい。
　粘着シート１は、例えば、透明樹脂フィルム３の表面上に配置されており、透明樹脂フィルム３と接合されている。ただし、粘着シート１は、透明樹脂フィルム３とは反対側の反射防止フィルム２の表面上、すなわち反射防止層４又は防汚層７の表面上、に配置されていてもよい。
（反射防止層）
　反射防止層４の構成としては、例えば、（ｉ）光学膜厚が１２０ｎｍ～１４０ｎｍであり、屈折率が１．３５以上１．５０以下である低屈折率層の単一層、（ｉｉ）中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層が、透明樹脂フィルム３側からこの順に並んでいる積層体、及び（ｉｉｉ）高屈折率層及び低屈折率層が交互に並んでいる多層積層体が挙げられる。（ｉｉ）中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順で含む積層体の詳細は、例えば、特開２０１８－１７３４４７号公報に開示されている。（ｉｉｉ）高屈折率層及び低屈折率層が交互に並んでいる多層積層体の詳細は、例えば、特開２０１７－２２７８９８号公報に開示されている。多層積層体において、高屈折率層の数と低屈折率層の数との合計値は、特に限定されず、例えば２～１０である。
　低屈折率層を形成しうる材料としては、例えば、酸化ケイ素（ＳｉＯ2）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）などが挙げられる。低屈折率層は、例えば、１．３５以上１．５０以下の屈折率を有する層である。
　高屈折率層を形成しうる材料としては、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ3又はＮｂ2Ｏ5）、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、ＺｒＯ2－ＴｉＯ2が挙げられる。高屈折率層は、例えば、１．８０超２．２０以下の屈折率を有する層である。
　中屈折率層を形成しうる材料としては、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ2）、低屈折率層を形成しうる材料と高屈折率層を形成しうる材料との混合物（例えば、酸化チタンと酸化ケイ素との混合物）が挙げられる。中屈折率層は、例えば、１．５０超１．８０以下の屈折率を有する層である。
　低屈折率層、中屈折率層及び高屈折率層のそれぞれの厚さは、反射防止層４の層構造、所望の反射防止性能等に応じて、適切な光学膜厚が実現されるように設定されうる。反射防止層４の厚さは、特に限定されず、例えば２０ｎｍ～３００ｎｍである。
　反射防止層４は、例えば、ドライプロセスによって形成することができる。ドライプロセスの具体例としては、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition）法、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法が挙げられる。ＰＶＤ法としては、真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト法、スパッタリング法、イオンプレーティング法が挙げられる。ＣＶＤ法としては、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。
　反射防止層４では、波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの範囲における最大反射率と最小反射率との差が、好ましくは１０％以下であり、より好ましくは７％以下であり、さらに好ましくは５％以下である。最大反射率と最小反射率との差が上記の範囲である場合、反射光の色づきを抑制しやすい。
（透明樹脂フィルム）
　透明樹脂フィルム３は、特に限定されず、公知のフィルムを使用できる。透明樹脂フィルム３の材料としては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性などに優れるものが好ましく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系ポリマー；ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などのセルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレートなどの（メタ）アクリル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）などのスチレン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィン系ポリマー、ノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体などのポリオレフィン系ポリマー；塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミドなどのアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；これらのポリマーの混合物などが挙げられる。透明樹脂フィルム３は、ＴＡＣフィルムであることが好ましい。
　透明樹脂フィルム３は、紫外線吸収剤を更に含んでいてもよく、紫外線吸収剤を含んでいなくてもよい。透明樹脂フィルム３に含まれる紫外線吸収剤としては、紫外線吸収剤（Ｃ）について上述したものが挙げられる。透明樹脂フィルム３における紫外線吸収剤の配合量は、透明樹脂フィルム３の主成分（例えばＴＡＣ）１００重量部に対して、例えば２０重量部未満であり、１５重量部以下、１０重量部以下、８重量部以下、更には６重量部以下であってもよい。配合量の下限は、例えば０．１重量部以上である。透明樹脂フィルム３における主成分の含有率は、例えば５０重量％以上であり、６０重量％以上、７０重量％以上、７５重量％以上、更には８０重量％以上であってもよい。
　透明樹脂フィルム３の厚さは、特に限定されず、強度や取扱性等の作業性、薄層性などの点より３～２００μｍであることが好ましく、透明性やコストの点から、５～１５０μｍがより好ましく、１０～１００μｍがさらに好ましく、２０～２５μｍであってもよい。なお、透明樹脂フィルム３の厚さが増加すると、波長３８０ｎｍの光に対する透過率が低下する傾向がある。波長３８０ｎｍの光に対する透過率を低下させる観点から、透明樹脂フィルム３の厚さは、３０μｍ以上であってもよく、４０μｍ程度であってもよい。透明樹脂フィルム３は、単一の層であってもよく、複数の層から構成されていてもよい。
（ハードコート層）
　ハードコート層６は、例えば、透明樹脂フィルム３の反射防止層４側の表面に形成されている。ハードコート層６によれば、耐摩耗性や耐スクラッチ性が向上する傾向がある。さらに、ハードコート層６の屈折率と反射防止層４の屈折率との差を適切に調整することにより、反射率をさらに低下させることができる。
　ハードコート層６は、十分な表面硬度、優れた機械的強度、及び優れた光透過性を有することが好ましい。ハードコート層６は、例えば、上記の特性を満たす樹脂から形成されうる。ハードコート層６を形成する樹脂の具体例としては、熱硬化型樹脂、熱可塑型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、二液混合型樹脂が挙げられ、簡便な操作及び効率よくハードコート層６を形成できる観点から、紫外線硬化型樹脂が好ましい。
　紫外線硬化型樹脂の具体例としては、ポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アミド系、シリコーン系、エポキシ系などの紫外線硬化型樹脂が挙げられる。紫外線硬化型樹脂は、例えば、紫外線硬化型のモノマー、オリゴマー、ポリマーなどが含まれる。紫外線硬化型樹脂は、紫外線重合性の官能基を２個以上、好ましくは３～６個有するアクリル系のモノマー成分又はオリゴマー成分を含むことが好ましい。紫外線硬化型樹脂には、例えば、光重合開始剤が配合されている。
　ハードコート層６は、樹脂以外に金属酸化物粒子をさらに含んでいてもよい。金属酸化物粒子は、ハードコート層６の表面、特に密着層５側のハードコート層６の表面、に露出していてもよい。金属酸化物粒子の材料としては、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｔａ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｍｎからなる群より選ばれる少なくとも１つの金属の酸化物が挙げられる。
　ハードコート層６は、例えば、次の方法によって形成することができる。まず、透明樹脂フィルム３上に、ハードコート層６を形成するための樹脂組成物を塗工し、塗工膜を得る。塗工膜を乾燥させ、さらに紫外線を照射して硬化させることによってハードコート層６を形成することができる。
　ハードコート層６の厚さは、例えば０．５μｍ～２０μｍであり、好ましくは１μｍ～１５μｍである。
（密着層）
　密着層５は、例えば、ハードコート層６と反射防止層４との密着性を向上することができる。反射防止フィルム２では、ハードコート層６が金属酸化物粒子を含み、かつ、密着層５が、当該金属酸化物粒子と同じ金属、又は、当該金属を有する酸素欠損状態の金属酸化物を含んでいてもよい。金属酸化物粒子と同じ金属としては、例えば、ハードコート層６について上述した金属が挙げられる。酸素欠損状態の金属酸化物は、化学量論組成よりも酸素原子の数が不足した状態の金属酸化物を意味し、具体的には、ＳｉＯx、ＡｌＯx、ＴｉＯx、ＺｒＯx、ＣｅＯx、ＭｇＯx、ＺｎＯx、ＴａＯx、ＳｂＯx、ＳｎＯx、ＭｎＯx（ｘは０以上化学量論量未満）などが挙げられる。例えば、ハードコート層６に含まれる金属酸化物粒子がＳｉＯ2である場合、密着層５のＳｉＯxにおけるｘは、０以上２．０未満である。
　密着層の厚さは、例えば１０ｎｍ以下であり、好ましくは１～１０ｎｍである。
　ハードコート層６及び密着層５についての詳細は、例えば、特開２０１６－２２４４４３号公報に開示されている。
（防汚層）
　防汚層７は、例えば、反射防止層４の表面上に設けられる。防汚層７の材料としては、例えば、フッ素含有基を含むシラン系化合物（例えば、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物）、フッ素含有基を含む有機化合物などが挙げられる。防汚層７において、撥水性を示す水接触角が１１０°以上であることが好ましい。
（反射防止フィルムの作製方法）
　反射防止フィルム２は、例えば、透明樹脂フィルム３に反射防止層４を形成することによって作製することができる。反射防止層４を形成する前において、透明樹脂フィルム３には、必要に応じて、表面処理が施されてもよい。表面処理としては、例えば、低圧プラズマ処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又はアルカリ処理などが挙げられる。透明樹脂フィルム３の表面上には、ＳｉＯxなどの材料からなる密着層５が形成されていてもよい。
　上述のとおり、反射防止層４は、ドライプロセス（例えば、スパッタリング）により形成することができる。例えば、（ｉｉ）中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順で含む反射防止層４は、スパッタリングによって、透明樹脂フィルム３の表面上に、中屈折率層（例えばアンチモンドープ酸化スズ膜）、高屈折率層（例えばＮｂ2Ｏ5膜）及び低屈折率層（例えばＳｉＯ2膜）をこの順で製膜することによって作製することができる。例えば、（ｉｉｉ）高屈折率層及び低屈折率層が交互に並んでいる反射防止層４は、スパッタリングによって、透明樹脂フィルム３の表面上に、高屈折率層（例えばＮｂ2Ｏ5膜）、低屈折率層（例えばＳｉＯ2膜）、高屈折率層（例えばＮｂ2Ｏ5膜）、及び低屈折率層（例えばＳｉＯ2膜）をこの順で製膜することによって作製することができる。
（反射防止フィルムの特性）
　反射防止フィルム２は、アンチリフレクション（ＡＲ）機能、アンチグレア（ＡＧ）機能、又はこれらの両方の機能を有していてもよい。これらの機能のうち、ＡＲ機能のみが付与された反射防止フィルム２を用いた場合、干渉ムラが強く生じることがある。そのため、反射防止フィルム２は、ＡＲ機能及びＡＧ機能の両方が付与されていることが好ましい。ただし、反射防止フィルム２は、ＡＲ機能及びＡＧ機能のうち、ＡＲ機能のみが付与されていてもよい。ＡＲ機能のみが付与された反射防止フィルム２は、ＣＯＥ（Color filter On Encapsulation）構造を有する画像表示装置に用いられうる。ＣＯＥ構造を有する画像表示装置では、μキャビティとカラーフィルターの組み合わせにより内部発光を増加させ、これにより、偏光板を使用せずに外光の反射を抑制する。
［その他の態様］
　本実施形態の粘着シート付き反射防止フィルムの別の一例を図３に示す。図３の粘着シート付き反射防止フィルム１０Ｂは、粘着シート１に接合されたはく離ライナー１１を更に含む以外は、図１の粘着シート付き反射防止フィルム１０Ａと同様の構造を有する。
　はく離ライナー１１は、典型的には、樹脂フィルムである。はく離ライナー１１を構成する樹脂の例は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル、ポリエチレン及びポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリカーボネート、アクリル、ポリスチレン、ポリアミド、並びにポリイミドである。はく離ライナー１１における粘着シート１と接する面には、剥離処理がなされていてもよい。剥離処理は、例えばシリコーン化合物による処理である。ただし、はく離ライナー１１は上記例に限定されない。はく離ライナー１１は、粘着シート付き反射防止フィルム１０Ｂの使用時、例えば画像形成層への貼付時、には剥離される。
　本実施形態の粘着シート付き反射防止フィルム１０は、例えば、帯状の粘着シート付き反射防止フィルムを巻回した巻回体として、あるいは枚葉状の粘着シート付き反射防止フィルムとして、流通及び保管が可能である。
　本実施形態の粘着シート付き反射防止フィルム１０は、典型的には、画像表示装置に用いられる。画像表示装置の例はＯＬＥＤである。ただし、粘着シート付き反射防止フィルム１０の用途は、上記例に限定されない。
　上述のとおり、本実施形態の粘着シート付き反射防止フィルム１０は、偏光子を含まない。この構成により、画像表示装置から出射される光の輝度の低下を抑制し、必要な消費電力を低減することができる傾向がある。
　本実施形態の粘着シート付き反射防止フィルム１０は、波長３８０ｎｍの光に対する透過率（Ｔ３８０）が５％以下であってもよい。粘着シート付き反射防止フィルム１０のＴ３８０は、４％以下、更には３．５％以下であってもよい。Ｔ３８０は、粘着シート付き反射防止フィルム１０の積層方向の透過率である。粘着シート付き反射防止フィルム１０のＴ３８０の下限は、例えば０．０１％以上である。
［画像表示装置］
　本実施形態の画像表示装置の一例を図４に示す。図４の画像表示装置２１Ａは、基板１３、画像形成層１２、粘着シート１及び反射防止フィルム２がこの順に積層された積層構造を有している。画像表示装置２１Ａは、図１の粘着シート付き反射防止フィルム１０Ａを有している。画像形成層１２及び基板１３は、公知の画像表示装置が備える基板及び画像形成層と、それぞれ同様の構成を有していればよい。画像形成層１２は、例えば、有機ＥＬ発光層である。基板１３は、典型的には、樹脂フィルムである。基板１３を構成する樹脂は、例えば、ＰＥＴ等のポリエステル、ポリエチレン及びポリプロピレン等のポリオレフィン、アクリル、シクロオレフィン、ポリイミド、並びにポリアミドであり、ポリエステルが好ましい。ただし、基板１３は上記例に限定されない。基板１３は、ガラス製のフィルム、又はガラス製のフィルムを含む積層フィルムであってもよい。基板１３の画像形成層１２側の面には、下塗層が設けられていてもよい。基板１３の画像形成層１２とは反対側の面には、帯電防止層が設けられていてもよい。下塗層及び帯電防止層には、公知の層を適用できる。画像形成層１２と基板１３との接合には、任意の粘着剤や接着剤を使用できる。粘着シート１を接合に使用してもよい。
　本実施形態の画像表示装置の別の一例を図５に示す。図５の画像表示装置２１Ｂは、画像形成層１２と粘着シート１との間に、画像形成層１２の側から順にタッチパネル１４及び保護層１５を備える以外は、図４の画像表示装置２１Ａと同じ構成を有する。タッチパネル１４及び保護層１５には、公知の層を適用できる。タッチパネル１４は、典型的には、金属層等の導電層を備えている。保護層１５は、典型的には、アクリル樹脂層等の樹脂層である。粘着シート１は、その構成によっては、タッチパネル１４の腐食の抑制に適している。
　本実施形態の画像表示装置において、粘着シート１、及び粘着シート付き反射防止フィルム１０は、通常、画像形成層１２よりも外光側（視認側）に位置している。
　画像表示装置２１Ａ，２１Ｂは、ＯＬＥＤであってもよい。画像表示装置２１Ａ，２１Ｂは、スマートフォンやスマートウォッチ等の携帯機器用であってもよい。画像表示装置２１Ａ，２１Ｂは、曲げることができるフレキシブル画像表示装置であってもよい。特に、画像表示装置２１Ａ，２１Ｂは、折りたたむことができるフォルダブル画像表示装置、丸めることができるローラブル画像表示装置などであってもよい。ただし、画像表示装置２１Ａ，２１Ｂの種類は、上記例に限定されない。
　本実施形態の画像表示装置は、本実施形態の粘着シート付き反射防止フィルムを備える限り、任意の構成を有しうる。本実施形態の画像表示装置は、画像形成層１２よりも外光側に帯電防止層を備えていなくてもよい。
　本実施形態の画像表示装置は、粘着シート付き反射防止フィルム１０よりも外光側に、透明基板（例えばカバーガラス）及び透明粘着剤（ＯＣＡ：Optical Clear Adhesive）を備えていてもよい。透明粘着剤は、透明基板と粘着シート付き反射防止フィルム１０との間に位置し、これらを接合している。透明粘着剤としては、市販品を用いることができる。透明粘着剤は、紫外線吸収剤を含んでいてもよく、紫外線吸収剤を含んでいなくてもよい。透明粘着剤に含まれる紫外線吸収剤としては、紫外線吸収剤（Ｃ）について上述したものが挙げられる。透明粘着剤における紫外線吸収剤の配合量は、透明粘着剤の主成分１００重量部に対して、例えば２０重量部未満であり、１５重量部以下、１０重量部以下、８重量部以下、更には６重量部以下であってもよい。配合量の下限は、例えば０．１重量部以上である。透明粘着剤における主成分の含有率は、例えば５０重量％以上であり、６０重量％以上、７０重量％以上、７５重量％以上、更には８０重量％以上であってもよい。
　以下、実施例により、本発明を更に詳細に説明する。本発明は、以下に示す実施例に限定されない。
　以下の説明に示す略称又は名称と化合物との対応は、次のとおりである。
　ＢＡ：ｎ－ブチルアクリルレート
　ＡＡ：アクリル酸
　ＨＢＡ：４－ヒドロキシブチルアクリレート
　ＮＶＰ：Ｎ－ビニルピロリドン
　ＰＥＡ：フェノキシエチルアクリレート
　ＭＥＡ：メトキシエチルアクリレート
　ＡＣＭＯ：アクリロイルモルフォリン
　ＡＩＢＮ：２，２’－アゾビスイソブチロニトリル
　ＬｉＴＦＳｉ：リチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド
　ＡＳ１１０：１－エチル－３－メチルイミダゾリウムビス（フルオロスルホニル）イミド（第一工業製薬製、エレクセルＡＳ－１１０）
　Tinosorb S：２，４－ビス－［｛４－（４－エチルヘキシルオキシ）－４－ヒドロキシ｝－フェニル］－６－（４－メトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン（ＢＡＳＦジャパン製）
　Tinuvin 928：２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－６－（１－メチル－１－フェニルエチル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール（ＢＡＳＦジャパン製）
　Ｃ／Ｌ：トリメチロールプロパン／トリレンジイソシアネート３量体付加物（イソシアネート系架橋剤；東ソー製、コロネートＬ）
　Ｘ－４１－１８１０：シランカップリング剤（信越化学工業製）
　Ｘ－４１－１０５６：シランカップリング剤（信越化学工業製）
［（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）の作製］
（合成例１）
　撹拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、及び冷却器を備えた４つ口フラスコに、ＢＡ９９．０重量部及びＨＢＡ１．０重量部を仕込んだ。次に、ＢＡ及びＨＢＡの混合物１００重量部に対して、重合開始剤としてＡＩＢＮ０．１重量部を加え、緩やかに撹拌しながら窒素ガスを導入してフラスコ内を窒素置換した後、フラスコ内の液温を５５℃付近に保って重合反応を７時間進行させた。次に、得られた反応液に酢酸エチルを加えて固形分濃度１２重量％に調整して、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ－１）の溶液を得た。
（合成例２～５）
　使用する単量体及びその仕込み量を以下の表１に示す種類及び量とした以外は、合成例１と同様にして、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ－２）～（Ａ－５）の溶液を得た。
　合成例１～５で使用した単量体及び仕込み量を以下の表１にまとめる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
［粘着剤組成物及び粘着シートの作製］
（実施例１～１４、比較例１～３）
　以下の表２に示すように（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）の固形分１００重量部に対して帯電防止剤（Ｂ）、紫外線吸収剤（Ｃ）及び架橋剤を混合して、溶剤型の粘着剤組成物を得た。紫外線吸収剤（Ｃ）に用いたＴｉｎｏｓｏｒｂ　Ｓ（トリアジン系）は、１分子中に２個のヒドロキシフェニル基と１個のアルコキシフェニル基とを有すると共に、３４６ｎｍ付近の最大吸収波長域において０．５５以上の吸光度を有していた。また、Ｔｉｎｕｖｉｎ９２８（ベンゾトリアゾール系）は、３２０ｎｍ以上３７０ｎｍ以下にわたって広く吸収を持つと共に、３４９ｎｍ付近の最大吸収波長域において０．２以上の吸光度を有していた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
　作製した各粘着剤組成物を、それぞれ、剥離面にシリコーン処理が施されたはく離ライナーである、厚さ３８μｍのＰＥＴフィルム（三菱化学ポリエステルフィルム製、ＭＲＦ３８）の剥離面にファウンテンコーターにより塗布した後、１５５℃に設定した空気循環式恒温オーブンにて２分間乾燥させて、厚さ２０μｍの粘着シートを形成した。次に、形成した粘着シートの露出面に対して更なる上記はく離ライナーを接合して、一対のはく離ライナーにより挟持された粘着シートを得た。更なるはく離ライナーは、当該はく離ライナーの剥離面と粘着シートとが接するように接合した。作製した各粘着シートについて、双方の主面の剥離力ａ，ｂを上述の方法により評価したところ、いずれも、１近傍の剥離力の比ａ／ｂを有していた。
　作製した各粘着シートの評価方法を示す。
［波長３８０ｎｍの光の透過率（Ｔ３８０）］
　一方のはく離ライナーを剥がして、粘着シートをガラス板の表面に接合させた。次に、他方のはく離ライナーを剥がした後、紫外可視光分光光度計（大塚電子製、ＬＰＦ－２００）を用いて、粘着シートの厚さ方向のＴ３８０を評価した。Ｔ３８０の評価では、予め測定しておいた波長３８０ｎｍの光に対するガラス板（厚さ方向）の透過率をベースラインとする補正を実施した。
［表面抵抗率］
　一方のはく離ライナーを剥がして室内（温度２５±５℃、相対湿度５０±１０％）で１分間放置した後、露出面の表面抵抗率を高抵抗抵抗率計（三菱化学アナリテック製、ハイレスタＭＣＰ－ＨＴ４５０）を用いて評価した。
［帯電抑制能］
　粘着シートの帯電抑制能は、当該粘着シートを用いてＯＬＥＤを作製し、以下のように評価した。
＜反射防止フィルムの作製＞
　コニカミノルタ社製のＴＡＣフィルム（製品名：ＫＣ２ＵＡ、厚さ：２５μｍ、紫外線吸収剤を含有）の表面上に、ＳｉＯxからなる密着層（厚さ：１０ｎｍ）をスパッタリングにより形成した。さらに、当該密着層の上に、Ｎｂ2Ｏ5膜（高屈折率層）、ＳｉＯ2膜（低屈折率層）、Ｎｂ2Ｏ5膜（高屈折率層）及びＳｉＯ2膜（低屈折率層）を順次製膜することによって、反射防止層（光学膜厚：２００ｎｍ）を形成した。さらに、反射防止層上に、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物からなる防汚層（厚さ：１０ｎｍ）を形成し、反射防止フィルムを作製した。
＜粘着シート付き反射防止フィルムの作製＞
　次に、得られた反射防止フィルムについて、ＴＡＣフィルムの表面（密着層とは反対側の表面）に、作製した粘着シートを貼り付けた。これにより、粘着シート付き反射防止フィルムを作製した。
＜ＯＬＥＤの作製＞
　有機ＥＬ発光層、粘着シート付き反射防止フィルム、透明粘着剤及びカバーガラス（コーニング製、ゴリラガラス（０．７ｔ））をこの順に積層して評価用のＯＬＥＤ（表示部が縦７０ｍｍ×横１６０ｍｍの長方形）を得た。
＜帯電抑制能の評価＞
　作製したＯＬＥＤの表示部に黒色を表示させた状態で、最表面に位置するカバーガラスの周縁を黄銅棒（直径７－８ｍｍの円柱形状）により８時間こすり続けた。黄銅棒は、１００ｇｆの力をかけながら、速度１００ｍｍ／秒にて、カバーガラスの周縁を繰り返し周回させた。８時間の経過後、ＯＬＥＤの表示部を目視により観察し、緑色の発光が観察されなかった場合をＡ（良）、観察された場合をＣ（不可）とした。
［ＯＬＥＤの耐紫外線特性］
　作製したＯＬＥＤに対してキセノンアーク試験を実施し、試験の前後におけるＯＬＥＤの白色表示輝度の劣化の有無を目視により確認した。紫外線は、最表面に位置するカバーガラス側から照射した。試験の前後において表示輝度の劣化が見られなかった場合をＡ、劣化が見られた場合をＣとした。キセノンアーク試験は、卓上キセノンアークランプ式促進耐光性試験機（ＡＴＬＡＳ製、ＳＵＮＴＥＳＴ　ＸＬＳ＋）を用いて、ＵＶ露光量９５４００ｋＪ／ｍ2で実施した。
［腐食防止性能］
　タッチパネルに対する粘着シートの腐食防止性能は、以下の方法により評価した。タッチパネルを想定した、ガラス板、アルミ層（厚さ０．４μｍ）及びアクリル樹脂保護層（厚さ２μｍ）がこの順に積層されたアルミ蒸着ガラス板を準備した。次に、アクリル樹脂保護層に、上記で作製した粘着シート付き反射防止フィルムを貼り付け、評価用の試験体を得た。次に、温度６５℃及び相対湿度９５％の加熱加湿雰囲気に試験体を３３６時間放置した。次に、温度２５℃及び相対湿度５０％の雰囲気に試験体を戻した後、点灯させたバックライトの上に戴置し、アルミ層の腐食の状態を目視により確認して、粘着シートの腐食防止性能を評価した。粘着シート付き反射防止フィルムは、３ｃｍ×３ｃｍのサイズに切り出して使用した。
　Ａ（良）：腐食がみられない。
　Ｂ（可）：腐食はみられるが、腐食された領域の最大径は１ｍｍ未満である。
　Ｃ（不可）：最大径１ｍｍ以上の腐食された領域がみられる。
　作製した各粘着シートについて、評価結果を以下の表３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
　表３に示すように、９×１０11Ω／□以下の表面抵抗率を有する粘着シートを備えた実施例の粘着シート付き反射防止フィルムでは、高い帯電抑制能が確保された。
　本発明の粘着シート付き反射防止フィルムは、ＯＬＥＤへの使用に適している。

Claims (8)

  1. 　粘着シート及び反射防止フィルムを備えた粘着シート付き反射防止フィルムであって、
    　前記粘着シート付き反射防止フィルムは、偏光子を含まず、
    　前記粘着シートは、９×１０11Ω／□以下の表面抵抗率を有する、粘着シート付き反射防止フィルム。
  2. 　前記粘着シートは、前記反射防止フィルムの表面上に配置されている、請求項１に記載の粘着シート付き反射防止フィルム。
  3. 　前記粘着シートは、（メタ）アクリル系ポリマーを含む粘着剤組成物から形成されたシートである、請求項１又は２に記載の粘着シート付き反射防止フィルム。
  4. 　前記粘着シートは、溶剤型の粘着剤組成物から形成されたシートである、請求項１～３のいずれか１項に記載の粘着シート付き反射防止フィルム。
  5. 　前記粘着シートは、帯電防止剤を含む、請求項１～４のいずれか１項に記載の粘着シート付き反射防止フィルム。
  6. 　有機エレクトロルミネッセンス表示装置用である、請求項１～５のいずれか１項に記載の粘着シート付き反射防止フィルム。
  7. 　請求項１～６のいずれか１項に記載の粘着シート付き反射防止フィルムを備えた、画像表示装置。
  8. 　前記画像表示装置が、有機エレクトロルミネッセンス表示装置である、請求項７に記載の画像表示装置。
     
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