WO2023027016A1 - ガラス部材、及びガラス部材積層体、入力装置、入力表示装置、外装用ガラス部材、筐体、扉体、容器、並びにガラス部材の製造方法 - Google Patents

ガラス部材、及びガラス部材積層体、入力装置、入力表示装置、外装用ガラス部材、筐体、扉体、容器、並びにガラス部材の製造方法 Download PDF

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WO2023027016A1
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WO
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glass member
pass filter
main surface
cutoff value
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Inventor
直樹 藤田
沢泉 木下
Original Assignee
日本電気硝子株式会社
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C19/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by mechanical means
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
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    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means

Definitions

  • the present invention relates to techniques for a glass member, a glass member laminate including the glass member, an input device, an input display device, an exterior glass member, a housing, a door body, a container, and a method for manufacturing the glass member.
  • a cover member made of a transparent glass member such as a glass substrate is arranged on the front side (front side) of a display device such as a liquid crystal display.
  • a display device such as a liquid crystal display.
  • the surface of the cover member is intended to improve tactile sensations such as writing comfort with an input pen and touch comfort with a fingertip, and to ensure visibility of a display device through the cover member. , unevenness is provided in advance.
  • Patent Document 1 discloses a cover glass for a pen input device having fine unevenness with a haze value of less than 1% and a Martens hardness in the range of 2000 to 4000 N/mm 2 . .
  • the present invention has been made in view of the above-described problems of the current situation, and provides a glass member having excellent tactile sensations such as writing comfort with an input pen and touch comfort with a fingertip, and a glass member laminate comprising the glass member. , an input device, an input display device, an exterior glass member, a housing, a door, a container, and a method for manufacturing the glass member.
  • the glass member according to aspect 1 of the present invention is a glass member having a main surface having unevenness, wherein the unevenness has a cutoff value of 14 ⁇ m for the high-pass filter ⁇ c1 and a cutoff value for the low-pass filter ⁇ s1.
  • the arithmetic mean height Sa1 is 2 to 500 nm
  • the average length RSm1 of the roughness curve element is 2 to 100 ⁇ m.
  • second unevenness having an arithmetic mean height Sa2 of 0.7 to 50 nm when the cutoff value of the high-pass filter ⁇ c2 is 2.5 ⁇ m.
  • the pen tip of the input pen when an input operation is performed with an input pen on the main surface, the pen tip of the input pen is not excessively slippery, and may be easily slippery. Therefore, it is possible to improve writing comfort with the input pen.
  • the main surface when the main surface is operated with the fingertips, it is possible to provide excellent touch feeling with the fingertips without feeling excessive roughness.
  • the cutoff value of the high-pass filter ⁇ c1 is set to 14 ⁇ m
  • the cutoff value of the low-pass filter ⁇ s1 is set to 0.35 ⁇ m.
  • the maximum height roughness Rz1 is preferably 25 to 700 nm.
  • a glass member according to aspect 3 of the present invention is a glass member having a main surface having unevenness, wherein the unevenness has a cutoff value of 50 ⁇ m for the high-pass filter ⁇ c1 and a cutoff value for the low-pass filter ⁇ s1.
  • the arithmetic mean height Sa1 is 2 to 500 nm
  • the average length RSm1 of the roughness curve element is 2 to 100 ⁇ m.
  • second unevenness having an arithmetic mean height Sa2 of 0.7 to 50 nm when the cutoff value of the high-pass filter ⁇ c2 is 2.5 ⁇ m.
  • the pen tip of the input pen when an input operation is performed with an input pen on the main surface, the pen tip of the input pen is not excessively slippery, and may be easily slippery. Therefore, it is possible to improve writing comfort with the input pen.
  • the main surface when the main surface is operated with the fingertips, it is possible to provide excellent touch feeling with the fingertips without feeling excessive roughness.
  • the cutoff value of the high-pass filter ⁇ c1 is set to 50 ⁇ m
  • the cutoff value of the low-pass filter ⁇ s1 is set to 0.35 ⁇ m.
  • the maximum height roughness Rz1 is preferably 25 to 1500 nm.
  • the cutoff value of the high-pass filter ⁇ c2 in a square region with a side of 5 ⁇ m is 2.5 ⁇ m
  • the developed area ratio Sdr2 of the interface is preferably 3 to 60%.
  • the cutoff value of the high-pass filter ⁇ c2 in a square region with a side of 5 ⁇ m is 2.5 ⁇ m
  • the root-mean-square slope Sdq2 is preferably 2 to 80.
  • the cutoff value of the high-pass filter ⁇ c2 in a square region with a side of 5 ⁇ m is 2.5 ⁇ m
  • the maximum height Sz2 is preferably 10 to 400 nm.
  • the cutoff value of the high-pass filter ⁇ c2 in a square region with a side of 5 ⁇ m is 2.5 ⁇ m
  • the maximum peak height Sp2 is preferably 6 to 200 nm.
  • a glass member laminate according to aspect 9 of the present invention includes the glass member according to any one aspect of aspects 1 to 8, and an antifouling layer provided on at least a part of the main surface of the glass member. It is characterized by having By having such a configuration, it is possible to realize a glass member laminate that is excellent in tactile sensation such as writing comfort with an input pen and tactile sensation with a fingertip, and also has an antifouling function.
  • an input device comprises the glass member according to any one of aspects 1 to 8 or the glass member laminate according to aspect 9, and a detection circuit for detecting an input position. Characterized by having such a configuration, it is possible to realize an input device that has excellent tactile sensations such as writing comfort with an input pen and touch comfort with a fingertip, or an input device that also has an antifouling function.
  • an input display device is characterized by comprising the input device of aspect 10 and a display device.
  • a display device By having such a configuration, it is possible to realize an input display device that is excellent in tactile sensation such as writing comfort with an input pen and touch comfort with a fingertip, or an input display device that also has an antifouling function.
  • An exterior glass member according to Aspect 12 of the present invention is characterized by comprising the glass member according to any one of Aspects 1 to 8 or the glass member laminate according to Aspect 9.
  • a housing according to aspect 13 of the present invention is characterized by including the exterior glass member of aspect 12.
  • a door body according to aspect 14 of the present invention is characterized by including the exterior glass member of aspect 12.
  • the exterior glass member of aspect 12 By having such a configuration, it is possible to realize a door body that is excellent in tactile sensation such as touch feeling with a fingertip, or a door body that also has an antifouling function.
  • a container according to aspect 15 of the present invention is characterized by comprising the exterior glass member of aspect 12.
  • a method for manufacturing a glass member according to the present invention is a method for manufacturing the glass member according to any one of modes 1 to 8, wherein the main surface of the glass member is etched with hydrofluoric acid. a first forming step of forming the first unevenness; and wet blasting or sandblasting the first unevenness formed by the first forming step to form the second unevenness. and a second forming step.
  • the following effects are obtained. That is, according to the glass member according to the present invention, the glass member laminate, the input device, the input display device, the exterior glass member, the housing, the door body, the container, and the method for manufacturing the glass member, which include the glass member , the tactile feeling such as the feeling of writing with an input pen and the feeling of touch with a fingertip can be improved.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional side view showing the configuration of an input display device according to an embodiment of the present invention
  • FIG. FIG. 4 is a diagram for explaining a measured cross-sectional curve on the main surface of the glass member, and is a schematic enlarged cross-sectional view showing the shapes of the first unevenness and the second unevenness.
  • FIG. 1 is a diagram for explaining various parameters representing roughness of unevenness, wherein (a) is a schematic diagram for explaining various parameters in surface roughness, and (b) is a schematic diagram for explaining various parameters in line roughness; It is a schematic diagram for doing.
  • FIG. 1 is a diagram for explaining various parameters representing roughness of unevenness, wherein (a) is a schematic diagram for explaining various parameters in surface roughness, and (b) is a schematic diagram for explaining various parameters in line roughness; It is a schematic diagram for doing.
  • FIG. 10 is a diagram for explaining the cutoff values of the high-pass filter ⁇ c1 and the low-pass filter ⁇ s1, and is a graph showing the relationship between the wavelength and the amplitude transmissibility;
  • FIG. 4 is a diagram for explaining the reason for setting the upper limit of the average length RSm1 of the roughness curve element in the first unevenness, (a) is a schematic diagram when RSm1 exceeds 100 ⁇ m, and (b) is a schematic diagram. is a schematic diagram when RSm1 is 100 ⁇ m or less.
  • FIG. 10 is a diagram for explaining the developed area ratio Sdr and the root-mean-square slope Sdq of the interface, which are parameters representing surface roughness, and (a) is a schematic diagram showing the case where the defined region is a completely flat surface , and (b) is a schematic diagram showing a case where the defined area is a bellows-shaped plane having an inclination. It is process drawing which showed the manufacturing method of the glass member which concerns on one Embodiment of this invention.
  • FIG. 3 is a diagram showing an example of another embodiment of the present invention, in which (a) is a schematic diagram showing an example of an electronic device including a housing made of an exterior glass member, and (b) is an exterior glass BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is the model which showed an example of the electronic device provided with the housing
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional side view showing another configuration of the input display device according to one embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 is a diagrammatic representation of FIG. 1 to 9.
  • the input display device 1 mainly includes a display element 10 that is an example of a display device that displays images, and an input device 20 that inputs information such as characters and graphics with an input pen 2 or a fingertip 3 .
  • the input device 20 also includes a digitizer circuit 21 that is an example of a detection circuit that detects the above information (more specifically, the input position of the input pen 2 or the fingertip 3), and a cover member that is an example of a glass member.
  • a glass substrate 22 or the like is provided.
  • the display element 10, the digitizer circuit 21, and the glass substrate 22 are laminated with each other. is placed. Further, as shown in FIG. 9, the digitizer circuit 21 and the glass substrate 22 may be arranged on the front side of the display element 10, or the digitizer circuit 21 may be integrated with the display element 10 as a built-in type.
  • One digitizer circuit 21 may be provided in the input device 20, or two or more digitizer circuits 21 may be provided.
  • the "front side” of the display element 10 means the side on which an image is displayed
  • the “back side” of the display element 10 means the side opposite to the side on which the image is displayed. means.
  • the "front side” of the display element 10 is the upper side of the paper surface in FIG. 1
  • the "back side” of the display element 10 is the lower side of the paper surface in FIG.
  • the tip 2a of the input pen 2 and the fingertip 3 are brought into contact with the main surface 22a of the glass substrate 22 (the surface on the opposite side of the glass substrate 22 from the display element 10 side).
  • the digitizer circuit 21 detects the positions (input positions) of the pen tip 2a and the input operation of characters, graphics, and the like can be executed.
  • An example of such an input display device 1 is a tablet terminal.
  • the tablet terminal broadly means an input display device having both a display function and an input function, and includes devices such as tablet PCs, mobile PCs, smartphones, and game machines.
  • the glass substrate 22 is formed of a transparent glass plate having unevenness formed on at least one main surface (in this embodiment, the main surface 22a described above). Further, the glass substrate 22 is arranged so that the main surface 22a on which the unevenness is formed becomes the surface on the side with which the input pen 2 or the fingertip 3 comes into contact.
  • the glass substrate 22 for example, a glass plate made of aluminosilicate glass, borosilicate glass, alkali-free glass, soda lime glass, tempered glass, Li 2 O—Al 2 O 3 —SiO 2 -based crystallized glass, or the like is used. can be used.
  • the glass substrate 22 when the glass substrate 22 is composed of a glass plate made of alkali-containing aluminosilicate glass, the glass substrate 22 may have a chemically strengthened layer on its surface. Details of the glass substrate 22 will be described later.
  • the digitizer circuit 21 has a detection sensor that detects an input operation with the input pen 2 or fingertip 3 .
  • the input pen 2 is an input instrument having a shape similar to a writing instrument such as a pencil or a ballpoint pen, and has a pen tip 2a, which is an example of a friction element that contacts the glass substrate 22, and the pen tip 2a is made of an elastomer. , synthetic resin material such as polyacetal resin, conductive fiber, felt, or the like.
  • the pen tip 2a is made of the above members, it is easy to get caught on irregularities. Therefore, when the pen tip 2a of the input pen 2 is brought into contact with the main surface 22a of the glass substrate 22 having the unevenness and is moved, a particularly excellent writing comfort can be realized.
  • FIG. 1 the glass substrate 22 is an example of the glass member according to the present invention, and as shown in FIG.
  • the unevenness is mainly composed of two types of large and small unevenness, namely, first unevenness and second unevenness.
  • the first unevenness has an arithmetic mean height Sa1 of 2 to 500 nm and an average length RSm1 of the roughness curve element of 2 to 100 ⁇ m.
  • the second unevenness has an arithmetic mean height Sa2 of 0.7 to 50 nm, preferably 0.8 nm or more, 0.9 nm or more, 1.0 nm or more, 1.5 nm or more, 2.0 nm or more, 2 .5 nm or more.
  • the above-mentioned “arithmetic mean height Sa (Sa1 and Sa2)” is a parameter defined by ISO25178, and is a parameter obtained by extending a profile curve indicating the cross-sectional shape of the unevenness to a surface.
  • the arithmetic mean height Sa is the first unevenness or the second unevenness that constitutes the unevenness with respect to the average plane Z on the main surface 22a of the glass member 22.
  • (Sa ((Xh 1 +Xh 2 + ⁇ . . +Xh n )+(Yh 1 +Yh 2 + . . . +Yh n )/2n).
  • the above-mentioned "average length RSm (RSm1) of roughness curve element” is a parameter defined by JISB0601:2001, and is a A parameter representing the average pitch.
  • the profile curve indicating the cross-sectional shape of the first unevenness is formed by a plurality of continuous undulating curves 22a1, 22a1, . It is composed of a peak portion Xb and a valley portion Yb adjacent to each other.
  • the peak Xb and the valley Yb each further have a plurality of unevennesses, and these further unevenness have a predetermined threshold value (for example, the maximum height (or the maximum height) of the peak Xb (or the valley Yb). If it is less than 10% of the depth), it is considered noise and recognized as part of the peak Xb or valley Yb.
  • a predetermined threshold value for example, the maximum height (or the maximum height) of the peak Xb (or the valley Yb). If it is less than 10% of the depth), it is considered noise and recognized as part of the peak Xb or valley Yb.
  • the values of the arithmetic mean height Sa1 of the first unevenness and the mean length RSm1 of the roughness curve element are obtained by subtracting the long wavelength component from the measured contour curve of the main surface 22a.
  • the cutoff value of the high-pass filter ⁇ c1 for blocking is set to 14 ⁇ m or 50 ⁇ m, and the cutoff value of the low-pass filter ⁇ s1 for blocking short wavelength components from the cartwheel contour curve of the main surface 22a is set to 0.35 ⁇ m. is the value obtained when set to .
  • the arithmetic mean height Sa2 in the second unevenness is a value obtained in a microscopic measurement area compared to the setting range of the high-pass filter ⁇ c1 and the low-pass filter ⁇ s1 in the first unevenness described above.
  • the cutoff value of the high-pass filter ⁇ c2 is 2.5 ⁇ m in a square area of 5 ⁇ m on a side.
  • the unevenness formed on the main surface 22a of the glass substrate 22 is composed of the first unevenness and the second unevenness that is more microscopic than the first unevenness, and the second unevenness is continuously connected.
  • the first irregularities are formed by undulating the irregularities.
  • the shape of the first unevenness and the shape of the second unevenness on the main surface 22a of the glass substrate 22 are within the ranges of the conditions described above. By being formed inside, it is possible to improve tactile sensations such as writing comfort with the input pen 2 and touch comfort with the fingertip 3 while maintaining the visibility of the display element 10 .
  • the pen tip 2a of the input pen 2 is not excessively slippery and slippery, and the writing comfort with the input pen 2 is excellent. can be assumed. Further, when an input operation is performed with the fingertip 3 on the main surface 22a, the touch feeling with the fingertip 3 can be excellent without feeling excessive roughness.
  • the first unevenness and the second unevenness are formed to have uneven shapes within the range of the conditions described above, glare called sparkling is caused by interference of scattered light due to the uneven shapes. You can prevent it from happening.
  • a resin layer or the like is not formed on the main surface 22a of the glass substrate 22, and the uneven shape is formed directly on the main surface 22a. Since it is hard to be scratched, the visibility of the display element 10 is not deteriorated.
  • the first unevenness affects the contact between the main surface 22 a of the glass substrate 22 and the input pen 2 or the fingertip 3 . That is, the pen tip 2a and the fingertip 3 of the input pen 2 mainly come into contact with the convex portions of the first unevenness on the main surface 22a of the glass substrate 22, and hardly come into contact with the concave portions of the unevenness. In other words, the contact area between the main surface 22a of the glass substrate 22 and the input pen 2 or fingertip 3 can be reduced by forming the first unevenness within the range of the conditions described above.
  • the pen tip 2a of the input pen 2 or the fingertip 3 is brought into contact with and moved against the main surface 22a of the glass substrate 22 on which the unevenness is formed, there will be a gap between the pen tip 2a and the fingertip 3.
  • the generated frictional force repeats moderate increases and decreases. Therefore, it is possible to prevent an excessive increase or an excessive decrease in the frictional force between the pen tip 2a or the fingertip 3 and the main surface 22a of the glass substrate 22.
  • the tactile sensation such as the tactile sensation of 3 can be made excellent.
  • the upper limit of the average length RSm1 (see FIG. 2) of the roughness curve elements in the first unevenness is set to 100 ⁇ m. , preferably set to 80 ⁇ m, more preferably set to 60 ⁇ m, even more preferably set to 50 ⁇ m, and preferably set to 49 ⁇ m, 48 ⁇ m, 45 ⁇ m, 40 ⁇ m, 35 ⁇ m, 30 ⁇ m and 25 ⁇ m. It is particularly preferred and most preferably set to 20 ⁇ m.
  • the lower limit of the average length RSm1 of the roughness curve elements in the first unevenness is set to 2 ⁇ m, but the lower limit is preferably set to 2.5 ⁇ m.
  • ⁇ m more preferably set to 3 ⁇ m, even more preferably set to 3.5 ⁇ m, particularly preferably set to 4 ⁇ m, more than 4 ⁇ m, 4.5 ⁇ m, 5 ⁇ m, 6 ⁇ m, 7 ⁇ m, 8 ⁇ m and 9 ⁇ m, Most preferably it is set to 10 ⁇ m.
  • the reason for setting the upper limit of the average length RSm1 of the roughness curve element in the first unevenness as described above is as follows. That is, although the average value of the height of each projection in the first unevenness is defined by the arithmetic average height Sa1 as described above, the value is a random value.
  • the contact surfaces of the pen tip 2a and the fingertip 3 of the input pen 2 are likely to enter the gaps between the vertexes of the adjacent convex portions, and the pen tip 2a and the fingertip 3 of the input pen 2 and the first irregularities can easily enter the gaps.
  • the contact area in the vicinity of the contact point P with the apex of the convex portion in B inevitably increases.
  • the frictional force between the pen tip 2a and the fingertip 3 of the input pen 2 and the first unevenness increases, and there is a possibility that tactile sensations such as writing comfort with the input pen 2 and touch comfort with the fingertip 3 are reduced.
  • the upper limit of the average length RSm1 of the roughness curve elements in the first unevenness is set within a range of 100 ⁇ m or less. Therefore, the distance between the convex portions adjacent to each other is also appropriately narrowed.
  • the contact surfaces of the pen tip 2a and the fingertip 3 of the input pen 2 are less likely to enter the gaps between the vertexes of the convex portions adjacent to each other. Since the contact area near the contact point P with the apex of the convex portion inevitably decreases, the frictional force between the pen tip 2a and the fingertip 3 of the input pen 2 and the first unevenness increases. However, the tactile sensation such as the writing comfort with the input pen 2 and the tactile sensation with the fingertip 3 can be reliably improved.
  • the second unevenness contributes to the frictional force between the pen tip 2 a and the finger tip 3 of the input pen 2 and the main surface 22 a of the glass substrate 22 . Also, the contribution of the frictional force changes depending on the material of the pen tip 2a.
  • the pen tip 2a made of elastomer the flatter the main surface 22a of the glass substrate 22, the greater the frictional force due to the adhesive force.
  • the tip 2a becomes less slippery. Therefore, by providing the main surface 22a of the glass substrate 22 with the second unevenness, the contact area between the main surface 22a and the pen tip 2a of the input pen 2 can be reduced.
  • the pen tip 2a can be moderately slippery on the surface 22a.
  • Thermosetting elastomers and thermoplastic elastomers are available as the elastomer pen tip 2a.
  • Thermosetting elastomers include, for example, silicone-based elastomers, and thermoplastic elastomers include styrene-based, olefin-based, polyester-based, polyurethane-based, vinyl chloride-based, and polyamide-based elastomers.
  • the pen tip 2a made of a hard material such as polyacetal the flatter the main surface 22a of the glass substrate 22, the lower the frictional force. 2a becomes slippery. Therefore, by providing the main surface 22a of the glass substrate 22 with the second unevenness, the pen point 2a of the input pen 2 is easily caught on the main surface 22a, the frictional force increases, and the glass substrate 22
  • the pen tip 2a can be made moderately slippery with respect to the main surface 22a.
  • the pen tip 2a made of a material such as conductive fiber or felt behaves like the pen tip 2a made of polyacetal described above, and the main surface 22a of the glass substrate 22 is provided with the second unevenness.
  • the pen tip 2a of the input pen 2 is easily caught on the main surface 22a, the frictional force is increased, and the pen tip 2a is moderately hard to slip on the main surface 22a of the glass substrate 22. can be done.
  • the fingertip 3 exhibits a behavior similar to that of the elastomer pen tip 2a described above. can be reduced, the fingertips 3 can be moderately slippery without feeling excessive roughness, and the touch feeling can be improved.
  • the pen tip 2a of the input pen 2 made of various materials (elastomer, polyacetal, conductive fiber, felt), It is possible to moderately suppress the slipping of the pen tip 2a on the main surface 22a, or moderately reduce the difficulty of slipping of the pen tip 2a on the main surface 22a, and improve the writing comfort with the input pen 2. can be made excellent. In addition, it is possible to make the fingertips 3 more comfortable to touch.
  • the developed area ratio Sdr2 of the interface is 3 to 60%. is preferred.
  • the above-mentioned “developed area ratio Sdr (Sdr2) of the interface” is a parameter defined by ISO25178 as well as the above-described arithmetic mean height Sa, and is a defined area assumed to be a completely flat surface (this embodiment is a parameter representing how much the actual surface area of the defined region increases with respect to the virtual area of a square region with a side of 5 ⁇ m.
  • this embodiment is a parameter representing how much the actual surface area of the defined region increases with respect to the virtual area of a square region with a side of 5 ⁇ m.
  • the value of the developed area ratio Sdr of the interface is zero. Further, as shown in FIG.
  • the value of the developed area ratio Sdr of the interface is 0.414. (about 40%). That is, the surface area of the defined region R2 is increased by about 40% compared to the surface area of the defined region R1.
  • the developed area ratio Sdr2 of the interface on the main surface 22a of the glass substrate 22 is less than 3%, the second unevenness is relatively gently undulating.
  • the pentip 2a of the input pen 2 and the fingertip 3 become slippery, and there is a risk that the writing comfort with the input pen 2 and the touch comfort with the fingertip 3 will deteriorate.
  • the expansion area ratio Sdr2 of the interface exceeds 60%, the second unevenness has a relatively large difference in height, so that an input operation is performed with the input pen 2 and the fingertip 3 on the main surface 22a. In this case, the pen tip 2a of the input pen 2 becomes less slippery, and the fingertip 3 feels excessively rough.
  • the root-mean-square slope Sdq2 is preferably 2 to 80 when the cutoff value of the high-pass filter ⁇ c2 is 2.5 ⁇ m in the square region with one side of 5 ⁇ m.
  • the above-mentioned "root-mean-square slope Sdq (Sdq2)” is a parameter defined by ISO 25178, similar to the above-described arithmetic mean height Sa and interface development area ratio Sdr, and is a defined region (in this embodiment, is a parameter calculated from the root mean square of the slopes at all points within a square area of 5 ⁇ m on a side).
  • the value of the root-mean-square slope Sdq is zero.
  • FIG. 6B when the actual surface of the defined region R2 is formed in a bellows shape with an inclination angle of 45°, the value of the root-mean-square inclination Sdq is 1.
  • the tips of the second irregularities have a relatively gentle slope.
  • the pen tip 2a of the input pen 2 and the fingertip 3 become slippery, and there is a risk that the writing comfort with the input pen 2 and the touch comfort with the fingertip 3 will deteriorate.
  • the maximum height roughness Rz1 when the cutoff value of the high-pass filter ⁇ c1 is 14 ⁇ m and the cutoff value of the low-pass filter ⁇ s1 is 0.35 ⁇ m is 25 to 700 nm.
  • the maximum height Sz2 in the square region with one side of 5 ⁇ m is preferably 10 to 400 nm when the cutoff value of the high-pass filter ⁇ c2 is 2.5 ⁇ m.
  • the maximum height roughness Rz1 when the cutoff value of the high-pass filter ⁇ c1 is 50 ⁇ m and the cutoff value of the low-pass filter ⁇ s1 is 0.35 ⁇ m is 25 to 1500 nm.
  • the cutoff value of the low-pass filter ⁇ s1 is 0.35 ⁇ m is 25 to 1500 nm.
  • maximum height Sz (Sz2) is a parameter defined by ISO25178, like the above-described arithmetic mean height Sa, and is a parameter obtained by expanding the contour curve indicating the cross-sectional shape of the unevenness to the surface. .
  • the unevenness on the main surface 22a of the glass substrate 22 By configuring the unevenness on the main surface 22a of the glass substrate 22 in this way, when performing an input operation with the input pen 2 and the fingertip 3 on the main surface 22a, the first unevenness and the second unevenness are formed. Frictional force transmitted to the pen tip 2a of the input pen 2 and the fingertip 3 through the input pen 2 repeats moderate increases and decreases, thereby further improving the writing comfort with the input pen 2 and the touch comfort with the fingertip 3. be able to.
  • the maximum peak height Sp2 when the cutoff value of the high-pass filter ⁇ c2 is 2.5 ⁇ m in a square region with one side of 5 ⁇ m is more preferably 6 to 200 nm. .
  • maximum peak height Sp (Sp2) is a parameter defined by ISO25178, like the above-described arithmetic mean height Sa and maximum height Sz, and is a parameter extended to Specifically, as described above, the maximum peak height Sp represents the height to the apex of the maximum peak Xa (MAX) with respect to the average plane Z on the main surface 22a of the glass member 22 .
  • the second unevenness is a relatively gentle protrusion.
  • the pen tip 2a and the fingertip 3 become slippery, and there is a risk that the writing comfort with the input pen 2 and the touch comfort with the fingertip 3 will be deteriorated.
  • the maximum peak height Sp2 exceeds 200 nm
  • the second unevenness becomes a relatively sharp protrusion.
  • the pen tip 2a becomes less slippery, and the fingertip 3 feels excessively rough.
  • the writing comfort with the input pen 2 and the touch comfort with the fingertip 3 are improved. , can be even better.
  • the glass substrate 22 has a haze value representing the degree of cloudiness, which is an index related to transparency, from the viewpoint of visibility of the image when the image of the display element 10 is viewed through the glass substrate 22. is preferably less than 10% in the wavelength range (380 nm to 780 nm).
  • the haze value of the glass substrate 22 is preferably less than 60% in the visible light wavelength range (380 nm to 780 nm).
  • the upper limit of the haze value is preferably 60% or less, more preferably 55% or less, 50% or less, 45% or less, and less than 45%.
  • the haze value of the glass substrate 22 is preferably more than 10%, more preferably 15% or more, 20% or more, 25% or more, 30% or more, 35% or more.
  • the main surface 22a of the glass substrate 22 is provided with an antireflection film for reducing the reflectance of the side with which the input pen 2 and the fingertip 3 come into contact, and/or to prevent fingerprints from adhering, thereby improving water repellency and oil repellency.
  • An antifouling film for application can be formed.
  • the antireflection film is arranged at least on the main surface 22a on the front side of the glass substrate 22 (the side with which the input pen 2 and the fingertip 3 come into contact). . Moreover, if there is a gap between the glass substrate 22 and the display element 10, it is preferable to dispose an antireflection film also on the main surface 22b on the back side of the glass substrate 22 (on the display element 10 side).
  • the antireflection film for example, a low refractive index film having a lower refractive index than the glass substrate 22, or a low refractive index film having a relatively low refractive index and a high refractive index film having a relatively high refractive index are alternately laminated. dielectric multilayer film is used.
  • the antireflection film can be formed by a sputtering method, a CVD method, or the like.
  • the unevenness of the surface of the antireflection film is the above-mentioned surface roughness (the arithmetic average height Sa1 of the first unevenness, the average length of the roughness curve element RSm1, maximum height roughness Rz1, second unevenness arithmetic mean height Sa2, interface development area ratio Sdr2, root mean square inclination Sdq2, maximum height Sz2, and maximum peak height Sp2).
  • the unevenness of the main surface 22a of the glass substrate 22 is formed.
  • the roughness of the principal surface 22a of the glass substrate 22 is formed so that the haze value of the glass substrate 22 having the antireflection film is within the above range. be.
  • the antifouling film is at least part of the main surface 22a on the front side of the glass substrate 22 (the side with which the input pen 2 and the fingertip 3 come into contact). (In this embodiment, it is arranged on the entire main surface 22a). Thereby, the glass member laminate 30 including the antifouling layer 23 made of an antifouling film and the glass substrate 22 can be obtained.
  • the antifouling film preferably contains an organic silicon compound or a fluorine-containing polymer containing silicon in the chain.
  • a fluorine-containing polymer for example, a polymer having a --Si--O--Si-- unit in the main chain and a water-repellent functional group containing fluorine in the side chain can be used.
  • an antireflection film is formed on the main surface 22a of the glass substrate 22, and an antifouling film is formed on the antireflection film. is formed.
  • the irregularities on the surface of the antifouling film correspond to the surface roughness described above.
  • the unevenness of the main surface 22a of the glass substrate 22 is formed so as to fall within the ranges of the mean square slope Sdq2, the maximum height Sz2, and the maximum peak height Sp2).
  • the glass substrate 22 after forming the antifouling film has an antifouling film, or when the main surface 22a of the glass substrate 22 has an antireflection film and an antifouling film, the glass substrate 22 after forming the antifouling film.
  • the roughness of the main surface 22a of the glass substrate 22 is formed so that the haze value, or the haze value of the glass substrate 22 after forming the antireflection film and the antifouling film, falls within the range described above.
  • FIG. 1 The manufacturing method of the glass member embodied by the present embodiment is a method of forming unevenness on at least one main surface 22a of the glass substrate 22 described above, and as shown in FIG. It includes a first forming step S01 and a second forming step S02 that are performed in order.
  • the first forming step S01 is a step of performing chemical etching treatment, silica coating treatment, or the like on the main surface 22a of the glass substrate 22 to form the above-described first unevenness.
  • the second forming step S02 is a step of performing wet blasting, sandblasting, or the like on the first unevenness formed in the first forming step S01 to form the second unevenness described above.
  • the chemical etching process in the first forming step S01 is a hydrofluoric acid etching process for chemically etching the main surface 22a of the glass substrate 22 with hydrogen fluoride (HF) gas, hydrofluoric acid, or a mixed solution containing hydrofluoric acid. is. Also, it is preferable to perform wet blasting or sandblasting prior to chemical etching. By performing chemical etching after wet blasting or sandblasting, it is possible to increase the size of unevenness (first unevenness) formed after chemical etching.
  • HF hydrogen fluoride
  • the first unevenness is formed by chemical etching after performing wet blasting or sandblasting
  • the first unevenness is formed only by wet blasting or sandblasting. Since it is sufficient to form slight unevenness, the glass substrate 22 is less likely to be damaged such as broken. Also, if chemical etching is performed after pre-forming irregularities by wet blasting or sandblasting, random and highly uniform irregularities can be easily obtained on the main surface 22a of the glass substrate 22.
  • the surface roughness of the first unevenness formed on the main surface 22a of the glass substrate 22 is various conditions in the wet blasting and sandblasting, such as the particle size distribution of the abrasive grains contained in the slurry, and the injection pressure adjustment when the slurry is injected to the work.
  • it can be adjusted by various conditions in the chemical etching process, ie, the etching process time, the concentration of the processing solution, and the like.
  • the silica coating treatment is a treatment in which a coating agent containing a matrix precursor such as a silica precursor and a liquid medium for dissolving the matrix precursor is applied to the main surface 22a of the glass substrate 22 and heated.
  • abrasive grains composed of solid particles such as alumina and a liquid such as water are uniformly stirred to form a slurry on the main surface 22a of the glass substrate 22.
  • This is a process for forming the second unevenness on the main surface 22a by ejecting a substance from an ejection nozzle at high speed using compressed air.
  • the surface of the main surface 22a is scraped, hit, or rubbed by the abrasive grains in the slurry.
  • the second unevenness is formed on the surface of the main surface 22a.
  • the abrasive grains sprayed onto the main surface 22a of the glass substrate 22 and the fragments of the main surface 22a scraped by the abrasive grains are washed away by the liquid sprayed together with the abrasive grains. Fewer particles remain on the surface 22a.
  • the surface roughness of the second unevenness formed on the main surface 22a of the glass substrate 22 by the wet blasting (arithmetic mean height Sa2, interface expansion area ratio Sdr2, root mean square slope Sdq2, maximum height Sz2 , and the maximum peak height Sp2) can be adjusted mainly by the particle size distribution of the abrasive grains contained in the slurry and the injection pressure when the slurry is injected onto the main surface 22a of the glass substrate 22.
  • the liquid carries the abrasive grains to the main surface 22a.
  • the impact of the abrasive grains colliding with the main surface 22a of the glass substrate 22 becomes smaller, and precise processing can be performed.
  • the main surface 22a of the glass substrate 22 having moderate first unevenness is subjected to wet blasting, thereby forming moderate second unevenness on the main surface 22a. It is possible to improve the writing comfort with the input pen 2 and the touch comfort with the fingertip 3 without impairing the transparency of the glass substrate 22 . It is also possible to form the second unevenness on the main surface 22a of the glass substrate 22 by performing a dry sandblasting process.
  • the method for manufacturing a glass member embodied by the present embodiment includes the first forming step S01 of performing hydrofluoric acid etching on the main surface 22a of the glass substrate 22 to form the first unevenness, and a second forming step S02 of performing wet blasting or sandblasting on the first unevenness formed in the first forming step S01 to form second unevenness.
  • the glass member manufacturing method of the present embodiment when an input operation is performed with the input pen 2 on the main surface 22a, the pen tip 2a of the input pen 2 does not excessively slip. Moreover, it is possible to manufacture the glass substrate 22 which is excellent in writing comfort with the input pen 2 without becoming slippery. In addition, when an input operation is performed with the fingertip 3 on the main surface 22a, the glass substrate 22 can be manufactured with excellent touch feeling with the fingertip 3 without feeling excessive roughness.
  • Portable car navigation systems broadcast receivers such as portable radios, portable televisions, and one-segment receivers, information terminals such as digital cameras, video cameras, portable music players, sound recorders, portable DVD players, portable game machines, notebooks Examples include personal computers, tablet PCs, electronic dictionaries, electronic notebooks, electronic book readers, portable printers, and portable scanners.
  • Examples include vacuum cleaners, microwave ovens, microwave ovens, toaster ovens, air purifiers, dishwashers/dryers, electric pots, and electric kettles.
  • an exterior glass member 100 on the outer peripheral surface 103a of the container 103 for the purpose of making it less slippery and improving the feel when held by hand. be.
  • examples of the glass substrate 22 in which two types of large and small irregularities consisting of the first irregularities and the second irregularities are formed on one main surface 22a are shown in FIG. 1 to Table 8 are used for detailed description.
  • the examples of the glass substrate 22 shown below are examples of the glass member according to the present invention, and are not limited thereto.
  • samples 1 to 19, 26 and 27 were prepared as examples of the glass substrate 22, and samples 20 to 25 were prepared as comparative examples for these examples.
  • the material of the glass substrate 22 in these samples 1 to 27 alkali-containing aluminosilicate glass with a thickness of 0.55 mm was used.
  • Tables A1 to A5 show the manufacturing conditions for each of the glass substrates 22.
  • a first forming step S01 (see FIG. 7) comprising two steps (a first step and a second step to be described later). ) to produce the first unevenness (hereinafter referred to as “unevenness A” as appropriate), and then the second unevenness (hereinafter referred to as , appropriately described as “unevenness B”) on the unevenness A, the unevenness composed of the unevenness A and the unevenness B was formed.
  • the unevenness A was formed by a first step and a second step which were sequentially performed over time.
  • 10 to 13 vol % of abrasive grains made of alumina having a grain size of #320 to #8000 and pure water are uniformly stirred to prepare a slurry, and one main surface 22a of each glass substrate 22 is prepared.
  • the nozzle is scanned while moving at a processing speed of 5 to 10 mm / s, and the slurry prepared from the nozzle is sprayed using air at a processing pressure of 0.1 to 0.25 MPa.
  • Preliminary unevenness Aa was formed by blasting.
  • the glass substrate 22 having the preliminary unevenness Aa formed on the main surface 22a in the first step is treated with 2 to 5 wt% hydrofluoric acid, 0 to 50 wt% sulfuric acid, and
  • the final unevenness A was formed from the preliminary unevenness Aa by immersing it in an etching solution containing 48 to 95 wt% pure water and leaving it for 5 to 30 minutes at a liquid temperature of 30°C.
  • the arithmetic mean height Sa1 of the unevenness A finally formed by increasing the particle size of alumina, the arithmetic mean height Sa1 of the unevenness A finally formed, the mean length RSm1 of the roughness curve element, and the maximum height roughness Rz1 can be increased. Further, by increasing the processing pressure of the air ejected from the nozzle, the values of the arithmetic mean height Sa1 of the unevenness A finally formed, the mean length RSm1 of the roughness curve element, and the maximum height roughness Rz1 are You can make it bigger.
  • the arithmetic mean height Sa1 of the unevenness A finally formed can be reduced.
  • the standing time in the etching process it is possible to increase the average length RSm1 of the roughness curve elements of the unevenness A finally formed.
  • the unevenness B was formed by the third step.
  • 3 to 13 vol % of abrasive grains made of alumina having a particle size of #2000 to #8000 are applied to the main surface 22a having the unevenness A formed by the first and second steps described above. and a slurry prepared by uniformly stirring pure water is scanned while moving the nozzle at a processing speed of 0.1 to 10 mm / s, and using air at a processing pressure of 0.1 to 0.25 MPa.
  • the unevenness B was formed on the unevenness A by performing a wet blasting process in which the prepared slurry was sprayed from the nozzle.
  • the shape of the abrasive grains polygonal abrasive grains were used.
  • the finally formed unevenness B has an arithmetic mean height Sa2, an interface development area ratio Sdr2, a root mean square slope Sdq2, and a maximum height Sz2.
  • the maximum peak height Sp2 can be increased.
  • the processing pressure of the air ejected from the nozzle the arithmetic mean height Sa2 of the unevenness B finally formed, the expansion area ratio Sdr2 of the interface, the root-mean-square slope Sdq2, the maximum height Sz2, and the maximum The value of the peak height Sp2 can be increased.
  • One main surface 22a of the glass substrate 22 of the comparative example 20 was not treated. That is, the glass substrate 22 of the sample 20 is untreated.
  • the liquid containing the SiO2 component was applied by spraying onto one main surface 22a, and the applied liquid containing the SiO2 component was dried.
  • a SiO 2 coating film was formed on the main surface 22a. That is, in sample 25, the main surface 22a of the glass substrate 22 was coated with SiO 2 .
  • one main surface 22a is coated with a resin coating layer having through-holes at intervals of 50 ⁇ m, and wet blasting is performed from above to remove the resin.
  • the unevenness A and the unevenness B were simultaneously formed by utilizing the difference in processing rate between the coated portion and the non-resin coated portion. After processing was completed, the resin coat layer was removed with acetone.
  • the arithmetic mean height Sa1 the average length RSm1 of the roughness curve element, and the maximum height roughness Rz1.
  • ⁇ Measurement A-1> Regarding the measurement conditions of unevenness A, a 50x objective lens and a 2x zoom lens were used, the number of camera pixels was 640x480, and the number of integrations was 10 for a measurement area of 74x55 ⁇ m. . Further, when measuring the arithmetic mean height Sa1 in the unevenness A, the mean length RSm1 of the roughness curve element, and the maximum height roughness Rz1, the high-pass filter ⁇ c1 cutoff value is set to 14 ⁇ m, and the low-pass The cutoff value of filter ⁇ s1 was set to 0.35 ⁇ m.
  • the measurement area is performed in the same manner as described above, the high-pass filter ⁇ c1 cutoff value is set to 50 ⁇ m, the low-pass filter ⁇ s1 cutoff value is set to 0.35 ⁇ m, and arithmetic in the unevenness A
  • the average height Sa1, the average length RSm1 of the roughness curve element, and the maximum height roughness Rz1 were measured.
  • the parameters of the surface roughness to be measured in the unevenness B are the arithmetic mean height Sa2, the interface expansion area ratio Sdr2, the root mean square slope Sdq2, the maximum height Sz2, and the maximum peak height Sp2.
  • a force microscope (AFM) was used to measure these parameters.
  • Bruker's atomic force microscope Dimension Icon (SPM unit) and Nano Scope V (controller unit) were used, and the measurement was carried out based on ISO 25178.
  • the tapping mode was used, the scan rate was 1 Hz, and the number of acquired data was 512 ⁇ 512 for a measurement area of 5 ⁇ 5 ⁇ m. Then, based on the acquired data, each parameter of the surface roughness described above was measured within a square area of 5 ⁇ m on a side. Also, the cutoff value of the high-pass filter ⁇ c2 was set to 2.5 ⁇ m, and the analysis was performed.
  • Tables 1 to 8 show the measurement results of the surface roughness of Samples 1 to 27 measured by the measurement method described above.
  • Samples 20 to 25 which are comparative examples, the arithmetic mean height Sa1 of the irregularities A of the untreated sample 20 is 0.1 nm, and the maximum height roughness Rz1 is 0.8 nm. , and the average length RSm1 of the roughness curve element was 0.9 ⁇ m, and these numerical values were all significantly smaller than those of Samples 1 to 19 of Examples.
  • the arithmetic mean height Sa1 of the unevenness A was a numerical value within the range of 10.7 to 36.7 nm, and the maximum height roughness Rz1 was 51.0 to 36.7 nm.
  • the numerical value was within the range of 211.5 nm, and the average length RSm1 of the roughness curve element was within the range of 4.7 to 10.8 ⁇ m.
  • the arithmetic mean height Sa1 obtained by the method for measuring the unevenness A described above was 2.3 nm
  • the maximum height roughness Rz1 was 24.8 nm
  • the average length RSm1 of the curvilinear elements was 1.9 ⁇ m.
  • the arithmetic mean height Sa1 of the unevenness A was 71.6 nm
  • the maximum height roughness Rz1 was 595.7 nm
  • the mean length of the roughness curve element RSm1 was 6.5 ⁇ m.
  • samples 20 to 25 which are comparative examples, the arithmetic mean height Sa1 of the unevenness A of the untreated sample 20 was 0.1 nm, and the maximum height roughness Rz1 was 0.9 nm. , and the average length RSm1 of the roughness curve element was 1.4 ⁇ m, and these numerical values were all considerably small values compared to Samples 1 to 19 of Examples.
  • the arithmetic average height Sa1 of the unevenness A was a numerical value within the range of 14.0 to 38.0 nm, and the maximum height roughness Rz1 was 78.8 to 78.8 nm.
  • the numerical value was within the range of 236.5 nm, and the average length RSm1 of the roughness curve element was within the range of 5.1 to 9.2 ⁇ m.
  • the arithmetic mean height Sa1 obtained by the method for measuring the unevenness A described above was 2.8 nm
  • the maximum height roughness Rz1 was 26.7 nm
  • the average length RSm1 of the curvilinear elements was 1.9 ⁇ m.
  • the arithmetic mean height Sa1 of the unevenness A was 118.3 nm
  • the maximum height roughness Rz1 was 716.3 nm
  • the mean length of the roughness curve element RSm1 was 11.6 ⁇ m.
  • the arithmetic mean height Sa2 of the unevenness B was a numerical value within the range of 4.9 to 30.7 nm. rice field.
  • samples 20 to 25 which are comparative examples, the arithmetic mean height Sa2 of untreated sample 20 is 0.2 nm, and the arithmetic mean height Sa2 of samples 21 to 23 having only unevenness A is 0. .5 to 0.6 nm, the arithmetic mean height Sa2 of sample 24 having only unevenness B is 4.7 nm, and the arithmetic mean height Sa2 of sample 25 with SiO 2 coating is 0 0.6 nm.
  • the maximum height Sz2 of the unevenness B was within the range of 87.5 to 283.0 nm.
  • the maximum height Sz2 of untreated sample 20 is 1.4 nm
  • the maximum height Sz2 of samples 21 to 23 having only unevenness A is 6.4 nm.
  • the maximum height Sz2 of sample 25 with SiO 2 coating is 7.6 nm. All of them were considerably small values.
  • the arithmetic mean height Sz2 of the sample 24 having only the unevenness B was 79.5 nm.
  • the maximum peak height Sp2 of the unevenness B was within the range of 28.1 to 106.0 nm.
  • samples 20 to 25, which are comparative examples the maximum peak height Sp2 of untreated sample 20 is 0.7 nm, and the maximum peak height Sp2 of samples 21 to 23 having only unevenness A is 3.6. 5.1 nm, and the maximum peak height Sp2 of sample 25 coated with SiO 2 is 4.8 nm. All of them were considerably small values. Note that the maximum peak height Sp2 of the sample 24 having only the unevenness B was 34.5 nm.
  • the root-mean-square slope Sdq2 of the unevenness B was a numerical value within the range of 16.8 to 43.7.
  • samples 20 to 27, which are comparative examples the root mean square slope Sdq2 of untreated sample 20 is 0.5, and the root mean square slope Sdq2 of samples 21 to 23 having only unevenness A is 2. .2 to 3.3, the root mean square slope Sdq2 of sample 24 having only unevenness B is 15.7, and the root mean square slope Sdq2 of sample 25 with SiO 2 coating is 2. 0.8, and these numerical values were all small values compared to Samples 1 to 19 of Examples.
  • the developed area ratio Sdr2 of the interface in the unevenness B was a numerical value within the range of 4.4 to 37.8.
  • the interface development area ratio Sdr2 of untreated sample 20 is 0.005
  • the interface development area ratio Sdr2 of samples 21 to 23 having only unevenness A is 0.005.
  • the developed area ratio Sdr2 of the interface of sample 24 having only unevenness B is 4.2
  • the ratio Sdr2 was 0.2, and these numerical values were all small values compared to Samples 1 to 15 of Examples.
  • Samples 1 to 19, 26 and 27 of Examples had haze values within the range of 1.2 to 49.8.
  • samples 20 to 25 which are comparative examples, the haze value of untreated sample 20 is extremely low and cannot be measured, and the haze value of samples 21 to 23 having only unevenness A is 0.9. 9.6, the haze value of sample 24 having only unevenness B was 0.4, and the haze value of sample 25 with SiO 2 coating was 47.6.
  • the evaluation criteria of four stages that is, "good writing comfort: ⁇ ”, “relatively good writing comfort: ⁇ ”, “relatively poor writing comfort: ⁇ ”, and "writing comfort It was decided to set four criteria consisting of "bad: ⁇ " for evaluation.
  • Tables 1 to 8 similarly described above show the results of evaluating the writing comfort of Samples 1 to 27.
  • samples 1 to 27 were evaluated for their tactile sensation with the fingertip 3 by sensory evaluation.
  • each glass substrate 22 was placed on a desk with the main surface 22a facing upward, and the touch feeling when the fingertip 3 of the index finger was slid multiple times on the main surface 22a was evaluated. bottom.
  • the index finger was wiped with ethanol before evaluation of each sample, and the evaluation was started after one minute.
  • Tables 1 to 8 similarly described above show the evaluation results of touch feeling performed on Samples 1 to 27.
  • the evaluation result for the untreated sample 20 is "I'm worried about the reflection: ⁇ "
  • the evaluation result for the samples 21 to 23 having only the unevenness A is " Reflection can be seen, but it does not bother me: ⁇ ” or “I am concerned about reflection: ⁇ ”.
  • the evaluation result for the sample 25 with SiO 2 coating was "I don't mind reflection at all: ⁇ ".
  • Sample 20 which is an untreated comparative example
  • the irregularities formed on the main surface 22a with which the pen tip 2a of the input pen 2 is in contact are small, and the elastomer pen tip 2a is very difficult to slip.
  • the result of the comfort evaluation was poor.
  • the unevenness formed on the main surface 22a with which the fingertip 3 contacts is small, and the fingertip 3 is very difficult to slip, so the evaluation result of the tactile feeling was poor.
  • the unevenness formed on the main surface 22a was small, so the visibility was good, but the evaluation result of reflection was poor.
  • Samples 21 to 23 which are comparative examples having only unevenness A (first unevenness), the unevenness formed on the main surface 22a with which the pen tip 2a of the input pen 2 contacts is large, and the elastomer pen tip 2a is very uneven. The result of the evaluation of writing comfort was poor. Further, in the samples 21 to 23 of the comparative examples having only the unevenness A (first unevenness), the unevenness formed on the principal surface 22a with which the fingertip 3 is in contact is large, and the contact between the fingertip 3 and the principal surface 22a of the glass substrate 22 is large. Since the contact area between the surfaces was not sufficiently reduced, the fingertip 3 became very difficult to slip, and the evaluation result of the tactile feeling was poor.
  • Samples 21 to 23 which are comparative examples having only unevenness A (first unevenness), the unevenness formed on the main surface 22a was large, and the visibility was good, but the evaluation result of reflection was good. or was bad.
  • Sample 24 which is a comparative example having only unevenness B (second unevenness)
  • the unevenness formed on the main surface 22a with which the pen tip 2a of the input pen 2 contacts is small, and the elastomer pen tip 2a is slightly slippery.
  • the contact area was not sufficiently reduced due to the lack of unevenness A (first unevenness)
  • the fingertip 3 was still difficult to slip, and the evaluation result of writing comfort was poor.
  • Sample 24 which is a comparative example having only unevenness B (second unevenness), there was no unevenness A (first unevenness), visibility was good, and the evaluation result of reflection was poor.
  • Sample 25 which is a comparative example with SiO 2 coating
  • the main surface 22a with which the pen tip 2a of the input pen 2 is in contact has large irregularities, and the elastomer pen tip 2a is very difficult to slip.
  • the evaluation result of writing comfort was poor.
  • the unevenness formed on the main surface 22a with which the fingertip 3 contacts is large, and the contact area between the fingertip 3 and the main surface 22a of the glass substrate 22 is reduced. is not sufficient, the fingertip 3 becomes very difficult to slip, and the evaluation result of the feeling of touch is poor.
  • Sample 25 which is a comparative example in which SiO 2 coating was applied, the irregularities formed on the main surface 22a were large, the visibility was poor, and the evaluation result of reflection was good.

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Abstract

入力ペンによる書き心地や指先による触り心地などの触感が優れたガラス部材、及び当該ガラス部材を備えるガラス部材積層体、入力装置、入力表示装置、外装用ガラス部材、筐体、扉体、容器、並びに当該ガラス部材の製造方法を提供する。　凹凸を有する主面を備えるガラス部材であって、前記凹凸は、高域フィルタλｃ１のカットオフ値を１４μｍとし、且つ低域フィルタλｓ１のカットオフ値を０．３５μｍとしたときの算術平均高さＳａ１が２～５００ｎｍであり、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１が２～１００μｍである第一の凹凸と、一辺が５μｍの正方形の領域において、高域フィルタλｃ２のカットオフ値を２．５μｍとしたときに、算術平均高さＳａ２が０．７～５０ｎｍである第二の凹凸とを有する。

Description

ガラス部材、及びガラス部材積層体、入力装置、入力表示装置、外装用ガラス部材、筐体、扉体、容器、並びにガラス部材の製造方法
　本発明は、ガラス部材、及び当該ガラス部材を備えるガラス部材積層体、入力装置、入力表示装置、外装用ガラス部材、筐体、扉体、容器、並びに当該ガラス部材の製造方法の技術に関する。
　従来より、例えばタッチパネル等のような、入力ペンや指先によって文字及び図形等の入力操作を行うことができる入力装置が知られている。
　このような入力装置においては、液晶ディスプレイ等によるディスプレイ装置の前面側（正面側）に、ガラス基板等の透明なガラス部材からなるカバー部材が配置されており、当該カバー部材の表面（主面）に対して、入力ペンや指先を接触及び移動させることで、様々な入力操作を行うことができる構成となっている。
　ここで一般的に、上記カバー部材の表面においては、例えば、入力ペンによる書き心地や指先による触り心地などの触感の向上や、上記カバー部材を介したディスプレイ装置の視認性の確保などを目的とする、凹凸が予め付与されている。
　また、近年においては、このような触感に対して、より質の高いものを求める要望が、増々高くなっている。
　そこで、上記触感をさらに向上させるための技術として、例えば、特許文献１においては、カットオフ値０．２５ｍｍのＪＩＳ　Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さＲａ０．２５、カットオフ値２．５ｍｍのＪＩＳ　Ｂ０６０１：２００１の粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑ２．５、及びカットオフ値０．０２５ｍｍのＪＩＳ　Ｂ０６０１：２００１の粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑ０．０２５が、下記条件、即ち０．０８μｍ≦Ｒａ０．２５≦１．３５μｍであり、且つ０．１１＜［ＲΔｑ２．５／ＲΔｑ０．０２５］≦０．８０を満たす凹凸面からなる表面を有したタッチパネル用表面部材が開示されている。
　また、特許文献２においては、ヘイズ値が１％未満であり、マルテンス硬さが２０００～４０００Ｎ／ｍｍ２の範囲である微細な凹凸を有した、ペン入力装置用のカバーガラスが開示されている。
特許第６８１９４４６号公報 国際公開第２０１５／０７２２９７号
　しかしながら、前記特許文献１におけるタッチパネル用表面部材においては、表面に形成される凹凸が比較的大きいことから、入力ペンによる書き心地の向上については多少期待できるものの、指先による触り心地についてはザラザラした感じを受け、質の高い触感を実現することが困難である。
　また、ヘイズ値が高く、当該表面を通してディスプレイ装置の画面が白っぽく見えるため、十分な視認性を維持することも困難である。
　また、前記特許文献２におけるカバーガラスにおいては、表面に形成される微細な凹凸によってヘイズ値が抑えられていることから、十分な視認性を確保し得るものの、このような一様な凹凸では、入力ペンや指先を接触及び移動させる際に生じる摩擦力が強くなり過ぎ、入力ペンによる書き心地や指先による触り心地などの触感が悪くなる虞がある。
　本発明は、以上に示した現状の問題点に鑑みてなされたものであり、入力ペンによる書き心地や指先による触り心地などの触感が優れたガラス部材、及び当該ガラス部材を備えるガラス部材積層体、入力装置、入力表示装置、外装用ガラス部材、筐体、扉体、容器、並びに当該ガラス部材の製造方法を提供することを課題とする。
　本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、次にこの課題を解決するための各態様について説明する。
　即ち、本発明の態様１に係るガラス部材は、凹凸を有する主面を備えるガラス部材であって、前記凹凸は、高域フィルタλｃ１のカットオフ値を１４μｍとし、且つ低域フィルタλｓ１のカットオフ値を０．３５μｍとしたときの算術平均高さＳａ１が２～５００ｎｍであり、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１が２～１００μｍである第一の凹凸と、一辺が５μｍの正方形の領域において、高域フィルタλｃ２のカットオフ値を２．５μｍとしたときに、算術平均高さＳａ２が０．７～５０ｎｍである第二の凹凸とを有することを特徴とする。
　このような構成を有することにより、本発明に係るガラス部材によれば、主面に対して入力ペンによる入力操作を行う場合、入力ペンのペン先が過剰に滑り難く、且つ滑り易くなることもなく、入力ペンによる書き心地を優れたものとすることができる。
　また、主面に対して指先による操作を行う場合、過剰なザラツキ感を感じることもなく、指先による触り心地を優れたものとすることができる。
　また、本発明の態様２に係るガラス部材は、態様１における、前記第一の凹凸において、高域フィルタλｃ１のカットオフ値を１４μｍとし、且つ低域フィルタλｓ１のカットオフ値を０．３５μｍとしたときの最大高さ粗さＲｚ１が２５～７００ｎｍであることが好ましい。
　このような構成を有することにより、本発明に係るガラス部材によれば、主面に対して入力ペン及び指先による入力操作を行う場合、第一の凹凸及び第二の凹凸を介して、入力ペンのペン先及び指先に伝わる摩擦力は、適度に増加及び減少を繰り返すこととなり、入力ペンによる書き心地、及び指先による触り心地を、さらに優れたものとすることができる。
　また、本発明の態様３に係るガラス部材は、凹凸を有する主面を備えるガラス部材であって、前記凹凸は、高域フィルタλｃ１のカットオフ値を５０μｍとし、且つ低域フィルタλｓ１のカットオフ値を０．３５μｍとしたときの算術平均高さＳａ１が２～５００ｎｍであり、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１が２～１００μｍである第一の凹凸と、一辺が５μｍの正方形の領域において、高域フィルタλｃ２のカットオフ値を２．５μｍとしたときに、算術平均高さＳａ２が０．７～５０ｎｍである第二の凹凸とを有することを特徴とする。
　このような構成を有することにより、本発明に係るガラス部材によれば、主面に対して入力ペンによる入力操作を行う場合、入力ペンのペン先が過剰に滑り難く、且つ滑り易くなることもなく、入力ペンによる書き心地を優れたものとすることができる。
　また、主面に対して指先による操作を行う場合、過剰なザラツキ感を感じることもなく、指先による触り心地を優れたものとすることができる。
　また、本発明の態様４に係るガラス部材は、態様３における、前記第一の凹凸において、高域フィルタλｃ１のカットオフ値を５０μｍとし、且つ低域フィルタλｓ１のカットオフ値を０．３５μｍとしたときの最大高さ粗さＲｚ１が２５～１５００ｎｍであることが好ましい。
　このような構成を有することにより、本発明に係るガラス部材によれば、主面に対して入力ペン及び指先による入力操作を行う場合、入力ペンのペン先及び指先に伝わる摩擦力は、適度に増加及び減少を繰り返すこととなり、入力ペンによる書き心地、及び指先による触り心地を、さらに優れたものとすることができる。
　また、本発明の態様５に係るガラス部材は、態様１～態様４の何れか１つの態様における、前記第二の凹凸において、一辺が５μｍの正方形の領域における、高域フィルタλｃ２のカットオフ値を２．５μｍとしたときの、界面の展開面積比Ｓｄｒ２が３～６０％であることが好ましい。
　このような構成を有することにより、本発明に係るガラス部材によれば、入力ペンによる書き心地、及び指先による触り心地を、より優れたものとすることができる。
　また、本発明の態様６に係るガラス部材は、態様１～態様５の何れか１つの態様における、前記第二の凹凸において、一辺が５μｍの正方形の領域における、高域フィルタλｃ２のカットオフ値を２．５μｍとしたときの、二乗平均平方根傾斜Ｓｄｑ２が２～８０であることが好ましい。
　このような構成を有することにより、本発明に係るガラス部材によれば、入力ペンによる書き心地、及び指先による触り心地を、より優れたものとすることができる。
　また、本発明の態様７に係るガラス部材は、態様１～態様６の何れか１つの態様における、前記第二の凹凸において、一辺が５μｍの正方形の領域における、高域フィルタλｃ２のカットオフ値を２．５μｍとしたときの、最大高さＳｚ２が１０～４００ｎｍであることが好ましい。
　このような構成を有することにより、本発明に係るガラス部材によれば、主面に対して入力ペン及び指先による入力操作を行う場合、第一の凹凸及び第二の凹凸を介して、入力ペンのペン先及び指先に伝わる摩擦力は、適度に増加及び減少を繰り返すこととなり、入力ペンによる書き心地、及び指先による触り心地を、さらに優れたものとすることができる。
　また、本発明の態様８に係るガラス部材は、態様１～態様７の何れか１つの態様における、前記第二の凹凸において、一辺が５μｍの正方形の領域における、高域フィルタλｃ２のカットオフ値を２．５μｍとしたときの、最大山高さＳｐ２が６～２００ｎｍであることが好ましい。
　このような構成を有することにより、本発明に係るガラス部材によれば、入力ペンによる書き心地、及び指先による触り心地を、さらに優れたものとすることができる。
　また、本発明の態様９に係るガラス部材積層体は、態様１～態様８の何れか１つの態様のガラス部材と、前記ガラス部材の前記主面における少なくとも一部に設けられる防汚層とを備えることを特徴とする。
　このような構成を有することにより、入力ペンによる書き心地や指先による触り心地などの触感に優れており、且つ防汚機能を有したガラス部材積層体を実現することができる。
　また、本発明の態様１０に係る入力装置は、態様１～態様８の何れか１つの態様のガラス部材、または態様９のガラス部材積層体と、入力位置を検出する検出回路とを備えることを特徴とする。
　このような構成を有することにより、入力ペンによる書き心地や指先による触り心地などの触感に優れた入力装置、或いはさらに防汚機能も有した入力装置を実現することができる。
　また、本発明の態様１１に係る入力表示装置は、態様１０の入力装置と、ディスプレイ装置とを備えることを特徴とする。
　このような構成を有することにより、入力ペンによる書き心地や指先による触り心地などの触感に優れた入力表示装置、或いはさらに防汚機能も有した入力表示装置を実現することができる。
　また、本発明の態様１２に係る外装用ガラス部材は、態様１～態様８の何れか１つの態様のガラス部材、または態様９のガラス部材積層体により構成されることを特徴とする。
　このような構成を有することにより、指先による触り心地などの触感に優れた外装用ガラス部材、或いはさらに防汚機能も有した外装用ガラス部材を実現することができる。
　また、本発明の態様１３に係る筐体は、態様１２の外装用ガラス部材を備えることを特徴とする。
　このような構成を有することにより、指先による触り心地などの触感に優れた筐体、或いはさらに防汚機能も有した筐体を実現することができる。
　また、本発明の態様１４に係る扉体は、態様１２の外装用ガラス部材を備えることを特徴とする。
　このような構成を有することにより、指先による触り心地などの触感に優れた扉体、或いはさらに防汚機能も有した扉体を実現することができる。
　また、本発明の態様１５に係る容器は、態様１２の外装用ガラス部材を備えることを特徴とする。
　このような構成を有することにより、指先による触り心地などの触感に優れた容器、或いはさらに防汚機能も有した容器を実現することができる。
　また、本発明に係るガラス部材の製造方法は、態様１～態様８の何れか１つの態様のガラス部材を製造する製造方法であって、前記ガラス部材の前記主面に対してフッ酸エッチングを施し、前記第一の凹凸を形成する第一形成工程と、前記第一形成工程によって形成された前記第一の凹凸に対してウェットブラスト処理またはサンドブラスト処理を施し、前記第二の凹凸を形成する第二形成工程とを備えることを特徴とする。
　このような構成を有することにより、本発明に係るガラス部材の製造方法によれば、主面に対して入力ペンによる入力操作を行う場合、入力ペンのペン先が過剰に滑り難く、且つ滑り易くなることもなく、入力ペンによる書き心地の優れたガラス部材を製造することができる。
　また、主面に対して指先による入力操作を行う場合、過剰なザラツキ感を感じることもなく、指先による触り心地の優れたガラス部材を製造することができる。
　本発明の効果として、以下に示すような効果を奏する。
　即ち、本発明に係るガラス部材、及び当該ガラス部材を備えるガラス部材積層体、入力装置、入力表示装置、外装用ガラス部材、筐体、扉体、容器、並びに当該ガラス部材の製造方法によれば、入力ペンによる書き心地や指先による触り心地などの触感を、優れたものとすることができる。
本発明の一実施形態に係る入力表示装置の構成を示した概略断面側面図である。 ガラス部材の主面における測定断面曲線を説明するための図であって、第一の凹凸及び第二の凹凸の形状を各々示した概略拡大断面図である。 凹凸の粗さを表す各種パラメータを説明するための図であって、（ａ）は面粗さにおける各種パラメータを説明するための模式図であり、（ｂ）は線粗さにおける各種パラメータを説明するための模式図である。 高域フィルタλｃ１及び低域フィルタλｓ１のカットオフ値を説明するための図であって、波長と振幅伝達率との関係を示したグラフである。 第一の凹凸において、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１における上限を設定する理由を説明するための図であって、（ａ）はＲＳｍ１が１００μｍを超える場合の模式図であり、（ｂ）はＲＳｍ１が１００μｍ以下である場合の模式図である。 面粗さを表すパラメータである界面の展開面積比Ｓｄｒ及び二乗平均平方根傾斜Ｓｄｑを説明するための図であって、（ａ）は定義領域が完全に平坦な面である場合を示した模式図であり、（ｂ）は定義領域が傾斜を有した蛇腹状の平面である場合を示した模式図である。 本発明の一実施形態に係るガラス部材の製造方法を示した工程図である。 本発明の別実施形態の一例を示した図であって、（ａ）は外装用ガラス部材からなる筐体を備えた電子機器の一例を示した模式図であり、（ｂ）は外装用ガラス部材からなる筐体及び扉体を備えた電子機器の一例を示した模式図であり、（ｃ）は外装用ガラス部材を備える容器の一例を示した模式図である。 本発明の一実施形態に係る入力表示装置の別の構成を示した概略断面側面図である。
　次に、本発明の一実施形態について、図１乃至図９を用いて説明する。
　［入力表示装置１の全体構成］
　先ず、本実施形態によって具現化される入力表示装置１の全体構成について、図１を用いて説明する。
　入力表示装置１は、主に、映像を表示するディスプレイ装置の一例であるディスプレイ素子１０、及び入力ペン２や指先３によって文字及び図形等の情報が入力される入力装置２０などを備える。
　また、入力装置２０は、上記情報（より具体的には、入力ペン２や指先３の入力位置）を検出する検出回路の一例であるデジタイザ回路２１、及びガラス部材の一例であってカバー部材として設けられるガラス基板２２などを備える。
　ディスプレイ素子１０、デジタイザ回路２１、及びガラス基板２２は、互いに積層された構成からなり、ディスプレイ素子１０の正面側にはガラス基板２２が配置され、また、ディスプレイ素子１０の背面側にはデジタイザ回路２１が配置される。
　また、図９に示すように、ディスプレイ素子１０の正面側にデジタイザ回路２１及びガラス基板２２が配置されていてもよいし、デジタイザ回路２１がディスプレイ素子１０と一体になった内蔵型としてもよい。なお、デジタイザ回路２１は、入力装置２０に１つ備えられていてもよいし、２つ以上備えられていてもよい。
　なお、上記の記載において、ディスプレイ素子１０の「正面側」とは、映像が表示される側を意味し、ディスプレイ素子１０の「背面側」とは、映像が表示される側との反対側を意味する。
　本実施形態においては、例えば、ディスプレイ素子１０の「正面側」は、図１中における紙面上方側となり、ディスプレイ素子１０の「背面側」は、図１中における紙面下方側となる。
　そして、入力表示装置１は、ガラス基板２２の主面２２ａ（ガラス基板２２に対してディスプレイ素子１０側とは反対側の面）に対して、入力ペン２のペン先２ａや指先３を接触させた状態で移動させることにより、これらペン先２ａや指先の位置（入力位置）がデジタイザ回路２１によって検知され、文字及び図形などの入力操作を実行可能な構成となっている。
　このような入力表示装置１の例示としては、例えばタブレット端末が挙げられる。
　なお、上記タブレット端末は、表示機能及び入力機能の双方を備えた入力表示装置を広く意味し、タブレットＰＣ、モバイルＰＣ、スマートフォン、及びゲーム機などの機器を含むものである。
　ガラス基板２２は、少なくとも一方の主面（本実施形態においては、上記の主面２２ａ）に凹凸が形成された、透明なガラス板により形成されている。
　また、ガラス基板２２は、凹凸が形成された主面２２ａが、入力ペン２または指先３が接触する側の面となるように配置されている。
　ここで、ガラス基板２２としては、例えばアルミノシリケートガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、ソーダ石灰ガラス、強化ガラス、Ｌｉ２Ｏ－Ａｌ２Ｏ３－ＳｉＯ２系結晶化ガラス等からなるガラス板を用いることができる。
　また、アルカリ含有アルミノシリケートガラスからなるガラス板によって、ガラス基板２２が構成される場合、当該ガラス基板２２は、表面に化学強化層を有していても良い。
　なお、ガラス基板２２の詳細については後述する。
　デジタイザ回路２１は、入力ペン２または指先３による入力操作を検出する、検出センサを備えている。
　ここで、入力ペン２は、鉛筆やボールペンなどの筆記具に似た形状の入力器具であり、ガラス基板２２と接触する摩擦子の一例であるペン先２ａを有し、当該ペン先２ａが、エラストマー、ポリアセタール樹脂などの合成樹脂材、または導電性繊維、フェルトなどで構成されている。
　入力ペン２において、上記の部材からなるペン先２ａであれば、凹凸に対しても引掛り易い。
　従って、入力ペン２のペン先２ａを、凹凸が形成されたガラス基板２２の主面２２ａに接触させて移動させた場合、特に優れた書き心地を実現することができる。
　［ガラス基板２２の構成］
　次に、ガラス基板２２の構成について、図１乃至図６を用いて詳細に説明する。
　前述したように、ガラス基板２２は、本発明に係るガラス部材の一例であって、図１に示すように、凹凸からなる主面２２ａを備える。
　上記凹凸は、図２に示すように、主に第一の凹凸、及び第二の凹凸からなる大小２種類の凹凸により構成されている。
　第一の凹凸は、算術平均高さＳａ１が２～５００ｎｍ、且つ粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１が２～１００μｍである。
　また、第二の凹凸は、算術平均高さＳａ２が０．７～５０ｎｍであり、好ましくは０．８ｎｍ以上、０．９ｎｍ以上、１．０ｎｍ以上、１．５ｎｍ以上、２．０ｎｍ以上、２．５ｎｍ以上、である。
　ここで、上記「算術平均高さＳａ（Ｓａ１及びＳａ２）」は、ＩＳＯ２５１７８によって規定されるパラメータであって、凹凸の断面形状を示す輪郭曲線を面に拡張したパラメータである。
　具体的には、図３（ａ）に示すように、算術平均高さＳａは、ガラス部材２２の主面２２ａにおける平均面Ｚに対して、凹凸を構成する第一の凹凸または第二の凹凸の各点の離間距離（例えば、山部Ｘａの頂点までの高さＸｈ、及び谷部Ｙａの頂点までの深さＹｈ）の絶対値の平均を表す（Ｓａ＝（（Ｘｈ１＋Ｘｈ２＋・・・＋Ｘｈｎ）+（Ｙｈ１＋Ｙｈ２＋・・・＋Ｙｈｎ））／２ｎ）。
　また、上記「粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ（ＲＳｍ１）」は、ＪＩＳＢ０６０１：２００１によって規定されるパラメータであって、凹凸の断面形状を示す輪郭曲線において、互いに隣り合う凹部と凸部との平均ピッチを表すパラメータである。
　具体的には、図３（ｂ）に示すように、第一の凹凸の断面形状を示す輪郭曲線は、連続する複数の起伏曲線２２ａ１・２２ａ１・・・によって形成され、各起伏曲線２２ａ１は、互いに隣り合う山部Ｘｂ及び谷部Ｙｂによって構成される。
　なお、上記の山部Ｘｂ及び谷部Ｙｂは、さらに複数の凹凸を各々有するが、これらのさらに凹凸は、所定の閾値（例えば、山部Ｘｂ（または谷部Ｙｂ）の最高高さ（または最高深さ）の１０％）に満たない場合、ノイズと見なされ、山部Ｘｂまたは谷部Ｙｂの一部として認識される。
　そして、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍは、これら複数の起伏曲線２２ａ１・２２ａ１・・・の平均長さによって表される（ＲＳｍ＝（ＲＳｍ１＋ＲＳｍ２＋・・・ＲＳｍｎ）／ｎ）。
　なお、図２及び図４に示すように、上記第一の凹凸における算術平均高さＳａ１、及び粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１の値は、主面２２ａの測定輪郭曲線から長波長成分を遮断するための高域フィルタλｃ１のカットオフ値を１４μｍまたは５０μｍに設定し、且つ主面２２ａの側転輪郭曲線から短波長成分を遮断するための低域フィルタλｓ１のカットオフ値を０．３５μｍに設定した場合に得られる値である。
　また、上記第二の凹凸における算術平均高さＳａ２は、上述した第一の凹凸における高域フィルタλｃ１及び低域フィルタλｓ１の設定範囲に比べて、さらにミクロな測定領域において得られる値であって、本願では、一辺が５μｍの正方形の領域において、高域フィルタλｃ２のカットオフ値を２．５μｍとしたときに得られる値である。
　このように、ガラス基板２２の主面２２ａに形成される凹凸は、第一の凹凸、及び当該第一の凹凸に比べてさらにミクロな第二の凹凸により構成され、連続的に繋がる第二の凹凸が波状に起伏することにより、第一の凹凸の形状が形成される。
　そして、本実施形態における入力表示装置１（図１を参照）においては、ガラス基板２２の主面２２ａにおける、第一の凹凸の形状、及び第二の凹凸の形状が、それぞれ上述した条件の範囲内にて形成されていることにより、ディスプレイ素子１０の視認性を保持しつつ、入力ペン２による書き心地や指先３による触り心地などの触感を向上させることが可能となっている。
　具体的には、主面２２ａに対して入力ペン２による入力操作を行う場合、入力ペン２のペン先２ａが過剰に滑り難く、且つ滑り易くなることもなく、入力ペン２による書き心地を優れたものとすることができる。
　また、主面２２ａに対して指先３による入力操作を行う場合、過剰なザラツキ感を感じることもなく、指先３による触り心地を優れたものとすることができる。
　また、このような、第一の凹凸、及び第二の凹凸を上述した条件の範囲内で構成された凹凸形状とすることにより、当該凹凸形状による散乱光の干渉によって、スパークリングと呼ばれるギラつきが発生するのを、抑制することができる。
　さらに、本実施形態においては、ガラス基板２２の主面２２ａに樹脂層等が形成されておらず、当該主面２２ａに対して直接的に凹凸形状が形成されているため、耐傷性が高く、傷が付き難いことから、ディスプレイ素子１０の視認性を低下させることがない。
　ところで、第一の凹凸は、ガラス基板２２の主面２２ａと、入力ペン２や指先３との接触に影響する。
　即ち、入力ペン２のペン先２ａや指先３は、ガラス基板２２の主面２２ａに対して、主に、第一の凹凸における凸部と接触し、当該凹凸の凹部とは接触し難い。
　つまり、第一の凹凸が、上述した条件の範囲内にて形成されていることにより、ガラス基板２２の主面２２ａと、入力ペン２や指先３との接触面積の低減を図ることができる。
　よって、凹凸が形成されたガラス基板２２の主面２２ａに対して、入力ペン２のペン先２ａ、または指先３を接触させて移動させた場合、これらのペン先２ａや指先３との間に発生する摩擦力は、適度に増加及び減少を繰り返すこととなる。
　従って、これらのペン先２ａや指先３と、ガラス基板２２の主面２２ａとの間において、摩擦力の過度な増加、または過度な減少を防止することができ、入力ペン２による書き心地や指先３による触り心地などの触感を、優れたものにすることができる。
　ここで、上述したように、本実施形態においては、第一の凹凸における粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１（図２を参照）の上限値が１００μｍに設定されているが、当該上限値は、８０μｍに設定されるのが好ましく、６０μｍに設定されるのがより好ましく、５０μｍに設定されるのがさらに好ましく、４９μｍ、４８μｍ、４５μｍ、４０μｍ、３５μｍ、３０μｍ、及び２５μｍに設定されるのが特に好ましく、２０μｍに設定されるのが最も好ましい。
　また、本実施形態においては、第一の凹凸における粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１の下限値が２μｍに設定されているが、当該下限値は、２．５μｍに設定されるのが好ましく、３μｍに設定されるのがより好ましく、３．５μｍに設定されるのがさらに好ましく、４μｍ、４μｍ超、４．５μｍ、５μｍ、６μｍ、７μｍ、８μｍ、及び９μｍに設定されるのが特に好ましく、１０μｍに設定されるのが最も好ましい。
　なお、第一の凹凸において、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１の上限値を、上記のように設定するのは、以下の理由による。
　即ち、第一の凹凸における各凸部の高さについては、上述したように、算術平均高さＳａ１によって平均値が規定されているものの、その値は各々ランダムな値となる。
　ここで、図５（ａ）に示すように、第一の凹凸における粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１の上限値が、１００μｍを超える場合、互いに隣接する上記凸部間の離間距離も長くなる。
　一方、ガラス基板２２の主面２２ａと接触する入力ペン２のペン先２ａや指先３の接触面は、当該主面２２ａに向かって凸状の曲面からなる。
　従って、これら入力ペン２のペン先２ａや指先３の接触面は、互いに隣接する上記凸部の頂点間の隙間に入り込み易く、これら入力ペン２のペン先２ａや指先３と、第一の凹凸における凸部の頂点との接触箇所Ｐ付近の接触面積は、必然的に増加する。
　その結果、これら入力ペン２のペン先２ａや指先３と、第一の凹凸との摩擦力が増加し、入力ペン２による書き心地や指先３による触り心地などの触感を低減させる虞がある。
　これに対して、図５（ｂ）に示すように、本実施形態においては、第一の凹凸における粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１の上限値を、１００μｍ以下の範囲内に設定しているため、互いに隣接する上記凸部間の離間距離も適度に狭まることとなる。
　従って、これら入力ペン２のペン先２ａや指先３の接触面は、互いに隣接する上記凸部の頂点間の隙間に入り込み難く、これら入力ペン２のペン先２ａや指先３と、第一の凹凸における凸部の頂点との接触箇所Ｐ付近の接触面積は、必然的に減少することから、これら入力ペン２のペン先２ａや指先３と、第一の凹凸との摩擦力が増加することもなく、入力ペン２による書き心地や指先３による触り心地などの触感を、確実に向上させることができる。
　第二の凹凸は、入力ペン２のペン先２ａや指先３と、ガラス基板２２の主面２２ａとの間の摩擦力に寄与する。
　また、上記摩擦力の寄与は、ペン先２ａの材質によって変化する。
　具体的には、エラストマー製のペン先２ａの場合、ガラス基板２２の主面２２ａが平らであればあるほど、凝着力による大きな摩擦力が生じ、ガラス基板２２の主面２２ａに対して、ペン先２ａが滑り難くなる。
　そこで、ガラス基板２２の主面２２ａに第二の凹凸を付与することにより、当該主面２２ａと、入力ペン２のペン先２ａとの接触面積の低減を図ることができ、ガラス基板２２の主面２２ａに対して、ペン先２ａを適度に滑り易くすることができる。
　なお、エラストマー製のペン先２ａとして、熱硬化性エラストマー及び熱可塑性エラストマーがある。熱硬化性エラストマーとしては、例えばシリコン系があり、熱可塑性エラストマーとしては、スチレン系、オレフィン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、塩ビ系、ポリアミド系などがある。
　一方、ポリアセタールのような硬い材質からなるペン先２ａの場合、ガラス基板２２の主面２２ａが平らであればあるほど、摩擦力が低下し、ガラス基板２２の主面２２ａに対して、ペン先２ａが滑り易くなる。
　そこで、ガラス基板２２の主面２２ａに第二の凹凸を付与することにより、当該主面２２ａに対して、入力ペン２のペン先２ａが引掛り易くなり、摩擦力が増加し、ガラス基板２２の主面２２ａに対して、ペン先２ａを適度に滑り難くすることができる。
　なお、導電性繊維、フェルトのような材質からなるペン先２ａの場合、上述したポリアセタール製のペン先２ａに似た挙動を示し、ガラス基板２２の主面２２ａに第二の凹凸を付与することにより、当該主面２２ａに対して、入力ペン２のペン先２ａが引掛り易くなり、摩擦力が増加し、ガラス基板２２の主面２２ａに対して、ペン先２ａを適度に滑り難くすることができる。
　また、指先３については、上述したエラストマー製のペン先２ａに似た挙動を示し、ガラス基板２２の主面２２ａに第二の凹凸を付与することにより、当該主面２２ａに対する指先３の接触面積の低減を図ることができるため、過剰なザラツキ感を感じることもなく、指先３を適度に滑り易くすることができ、触り心地を優れたものとすることができる。
　このように、ガラス基板２２の主面２２ａに第二の凹凸を付与することにより、様々な材質（エラストマー、ポリアセタール、及び導電性繊維、フェルト）からなる入力ペン２のペン先２ａに対して、当該ペン先２ａが主面２２ａ上で滑ることを適度に抑制し、または主面２２ａ上での当該ペン先２ａの滑り難さを適度に低下させることができ、入力ペン２による書き心地を、優れたものにすることができる。
　また、指先３による触り心地を優れたものにすることができる。
　ところで、上記第二の凹凸において、一辺が５μｍの正方形の領域における、高域フィルタλｃ２のカットオフ値を２．５μｍとしたときの、界面の展開面積比Ｓｄｒ２は、３～６０％であることが好ましい。
　ここで、上記「界面の展開面積比Ｓｄｒ（Ｓｄｒ２）」は、上述した算術平均高さＳａと同じく、ＩＳＯ２５１７８によって規定されるパラメータであって、完全な平坦面と仮定した定義領域（本実施形態においては、一辺が５μｍの正方形の領域）の仮想面積に対して、当該定義領域の実際の表面の実面積がどれだけ増大しているかを表すパラメータである。
　例えば、図６（ａ）に示すように、上記定義領域Ｒ１の実際の表面が完全な平坦面である場合、界面の展開面積比Ｓｄｒの値は０となる。
　また、図６（ｂ）に示すように、上記定義領域Ｒ２の実際の表面が、４５°の傾斜角からなる蛇腹状に形成されている場合、界面の展開面積比Ｓｄｒの値は０．４１４（約４０％）となる。つまり、定義領域Ｒ２の表面積は、定義領域Ｒ１の表面積に比べて約４０％増加している。
　本実施形態において、ガラス基板２２の主面２２ａにおける、上記界面の展開面積比Ｓｄｒ２が３％未満である場合、第二の凹凸は比較的緩やか起伏となることから、主面２２ａに対して入力ペン２及び指先３による入力操作を行う場合、入力ペン２のペン先２ａ、及び指先３は滑り易くなり、入力ペン２による書き心地、及び指先３による触り心地を低下させる虞がある。
　一方、上記界面の展開面積比Ｓｄｒ２が６０％を超える場合、第二の凹凸は比較的高低差の激しい起伏となることから、主面２２ａに対して入力ペン２及び指先３による入力操作を行う場合、入力ペン２のペン先２ａは滑り難くなり、また指先３によって過剰なザラツキ感を感じることとなり、入力ペン２による書き心地、及び指先３による触り心地を低下させる虞がある。
　このようなことから、上述したように、上記界面の展開面積比Ｓｄｒ２を、３～６０％の範囲内に設定することにより、入力ペン２による書き心地、及び指先３による触り心地を、より優れたものとすることができる。
　また、上記第二の凹凸において、一辺が５μｍの正方形の領域における、高域フィルタλｃ２のカットオフ値を２．５μｍとしたときの二乗平均平方根傾斜Ｓｄｑ２は、２～８０であることが好ましい。
　ここで、上記「二乗平均平方根傾斜Ｓｄｑ（Ｓｄｑ２）」は、上述した算術平均高さＳａや界面の展開面積比Ｓｄｒと同じく、ＩＳＯ２５１７８によって規定されるパラメータであって、定義領域（本実施形態においては、一辺が５μｍの正方形の領域）内の全ての点における傾斜の、二乗平均平方根により算出されるパラメータである。
　例えば、図６（ａ）に示すように、上記定義領域Ｒ１の実際の表面が完全な平坦面である場合、二乗平均平方根傾斜Ｓｄｑの値は０となる。
　また、図６（ｂ）に示すように、上記定義領域Ｒ２の実際の表面が、４５°の傾斜角からなる蛇腹状に形成されている場合、二乗平均平方根傾斜Ｓｄｑの値は１となる。
　本実施形態において、ガラス基板２２の主面２２ａにおける、上記二乗平均平方根傾斜Ｓｄｑ２が２未満である場合、第二の凹凸の先端部は比較的緩やかな傾斜となることから、主面２２ａに対して入力ペン２及び指先３による入力操作を行う場合、入力ペン２のペン先２ａ、及び指先３は滑り易くなり、入力ペン２による書き心地、及び指先３による触り心地を低下させる虞がある。
　一方、上記二乗平均平方根傾斜Ｓｄｑ２が８０を超える場合、第二の凹凸の先端部は鋭く尖った傾斜となることから、主面２２ａに対して入力ペン２及び指先３による入力操作を行う場合、入力ペン２のペン先２ａは滑り難くなり、また指先３によって過剰なザラツキ感を感じることとなり、入力ペン２による書き心地、及び指先３による触り心地を低下させる虞がある。
　このようなことから、上述したように、上記二乗平均平方根傾斜Ｓｄｑ２を、２～８０の範囲内に設定することにより、入力ペン２による書き心地、及び指先３による触り心地を、より優れたものとすることができる。
　さらに、上記第一の凹凸において、高域フィルタλｃ１のカットオフ値を１４μｍとし、且つ低域フィルタλｓ１のカットオフ値を０．３５μｍとしたときの最大高さ粗さＲｚ１は、２５～７００ｎｍであることが好ましい。
　また、上記第二の凹凸において、一辺が５μｍの正方形の領域における、高域フィルタλｃ２のカットオフ値を２．５μｍとしたときの最大高さＳｚ２は、１０～４００ｎｍであることが好ましい。
　さらに、上記第一の凹凸において、高域フィルタλｃ１のカットオフ値を５０μｍとし、且つ低域フィルタλｓ１のカットオフ値を０．３５μｍとしたときの最大高さ粗さＲｚ１は、２５～１５００ｎｍであることが好ましい。
　ここで、上記「最大高さ粗さＲｚ（Ｒｚ１）」は、上述した粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍと同じく、ＪＩＳＢ０６０１：２００１によって規定されるパラメータであって、凹凸の断面形状を示す輪郭曲線において、最も高い山の高さと最も深い谷の深さの和である。
　具体的には、図３（ｂ）に示すように、最大高さ粗さＲｚは、最大山部Ｘｂ（ＭＡＸ）の頂点までの高さＲｐ、及び最大谷部Ｙｂ（ＭＡＸ）の頂点までの深さＲｖの絶対値の和を表す（Ｒｚ＝Ｒｐ＋Ｒｖ）。
　また、上記「最大高さＳｚ（Ｓｚ２）」は、上述した算術平均高さＳａと同じく、ＩＳＯ２５１７８によって規定されるパラメータであって、凹凸の断面形状を示す輪郭曲線を面に拡張したパラメータである。
　具体的には、図３（ａ）に示すように、最大高さＳｚは、ガラス部材２２の主面２２ａにおける平均面Ｚに対して、最大山部Ｘａ（ＭＡＸ）の頂点までの高さＳｐ、及び最大谷部Ｙａ（ＭＡＸ）の頂点までの深さＳｖの絶対値の和を表す（Ｓｚ＝Ｓｐ＋Ｓｖ）。
　ガラス基板２２の主面２２ａにおける凹凸を、このような構成とすることにより、当該主面２２ａに対して入力ペン２及び指先３による入力操作を行う場合、第一の凹凸及び第二の凹凸を介して、入力ペン２のペン先２ａ及び指先３に伝わる摩擦力は、適度に増加及び減少を繰り返すこととなり、入力ペン２による書き心地、及び指先３による触り心地を、さらに優れたものとすることができる。
　また、上記第二の凹凸において、一辺が５μｍの正方形の領域における、高域フィルタλｃ２のカットオフ値を２．５μｍとしたときの最大山高さＳｐ２は、６～２００ｎｍであることが、さらに好ましい。
　ここで、上記「最大山高さＳｐ（Ｓｐ２）」は、上述した算術平均高さＳａや最大高さＳｚと同じく、ＩＳＯ２５１７８によって規定されるパラメータであって、凹凸の断面形状を示す輪郭曲線を面に拡張したパラメータである。
　具体的には、上述したように、最大山高さＳｐは、ガラス部材２２の主面２２ａにおける平均面Ｚに対して、最大山部Ｘａ（ＭＡＸ）の頂点までの高さを表す。
　上記最大山高さＳｐ２が６ｎｍ未満である場合、第二の凹凸は比較的緩やかな隆起となることから、主面２２ａに対して入力ペン２及び指先３による入力操作を行う場合、入力ペン２のペン先２ａ、及び指先３は滑り易くなり、入力ペン２による書き心地、及び指先３による触り心地を低下させる虞がある。
　一方、上記最大山高さＳｐ２が２００ｎｍを超える場合、第二の凹凸は比較的激しい隆起となることから、主面２２ａに対して入力ペン２及び指先３による入力操作を行う場合、入力ペン２のペン先２ａは滑り難くなり、また指先３によって過剰なザラツキ感を感じることとなり、入力ペン２による書き心地、及び指先による触り心地を低下させる虞がある。
　このようなことから、ガラス基板２２の主面２２ａにおける凹凸において、上記最大山高さＳｐ２が６～２００ｎｍの範囲内に設定されることにより、入力ペン２による書き心地、及び指先３による触り心地を、さらに優れたものとすることができる。
　図１において、ガラス基板２２は、当該ガラス基板２２を介してディスプレイ素子１０の映像を見たときの、映像の視認性の観点から、透明性に関する指標で曇度を表すヘイズ値が、可視光の波長域（３８０ｎｍ～７８０ｎｍ）において１０％未満となることが好ましい。
　ガラス基板２２のヘイズ値を１０％未満とすることで、ガラス基板２２の透明度を保持することができ、ディスプレイ素子１０の視認性を保持することができる。
　また、反射防止の観点からは、ガラス基板２２のヘイズ値が、可視光の波長域（３８０ｎｍ～７８０ｎｍ）において６０％未満となることが好ましい。
　ヘイズ値の上限値は、好ましくは６０％以下、より好ましくは５５％以下、５０％以下、４５％以下、４５％未満である。
　ガラス基板２２のヘイズ値を６０％未満とすることで、ガラス基板２２の透明度を一定確保することができ、ディスプレイ素子１０の視認性を一定保持することができる。
　また、この場合、ヘイズ値の下限値は、好ましくは１０％超であり、より好ましくは１５％以上、２０％以上、２５％以上、３０％以上、３５％以上である。
　また、ガラス基板２２の主面２２ａには、入力ペン２や指先３が接触する側の反射率を低下させるための反射防止膜、及び／または指紋の付着を防止し、撥水性、撥油性を付与するための防汚膜を形成することができる。
　上記の反射防止膜は、ガラス基板２２を入力表示装置１のカバー部材として使用する場合には、少なくともガラス基板２２の表側（入力ペン２や指先３が接触する側）の主面２２ａに配置する。
　また、ガラス基板２２とディスプレイ素子１０との間に隙間がある場合には、ガラス基板２２の裏側（ディスプレイ素子１０側）の主面２２ｂにも反射防止膜を配置することが好ましい。
　反射防止膜としては、例えばガラス基板２２よりも屈折率が低い低屈折率膜、または相対的に屈折率が低い低屈折率膜と相対的に屈折率が高い高屈折率膜とが交互に積層された誘電体多層膜が用いられる。
　反射防止膜は、スパッタリング法、またはＣＶＤ法などにより形成することができる。
　ガラス基板２２の主面２２ａに反射防止膜を有する場合、当該反射防止膜の表面の凹凸が、上述の表面粗さ（第一の凹凸の算術平均高さＳａ１、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１、及び最大高さ粗さＲｚ１、並びに第二の凹凸の算術平均高さＳａ２、界面の展開面積比Ｓｄｒ２、二乗平均平方根傾斜Ｓｄｑ２、最大高さＳｚ２、及び最大山高さＳｐ２）の範囲となるように、ガラス基板２２の主面２２ａの凹凸が形成される。
　また、ガラス基板２２の主面２２ａに反射防止膜を有する場合、反射防止膜を有するガラス基板２２のヘイズ値が、上述の範囲となるように、ガラス基板２２の主面２２ａの凹凸が形成される。
　なお、反射防止膜を形成した後において、第一の凹凸の算術平均高さＳａ１、及び粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１、並びに第二の凹凸の算術平均高さＳａ２を測定する場合は、１０ｎｍのＡｕ膜を形成し、その後これらの値を測定する。
　上記の防汚膜は、ガラス基板２２を入力表示装置１のカバー部材として使用する場合には、ガラス基板２２の表側（入力ペン２や指先３が接触する側）の主面２２ａにおける少なくとも一部（本実施形態においては、主面２２ａの全面）に配置する。
　これにより、防汚膜からなる防汚層２３とガラス基板２２とを備えるガラス部材積層体３０を得ることができる。
　防汚膜は、有機ケイ素化合物や、鎖中にケイ素を含む含フッ素重合体を含むことが好ましい。
　含フッ素重合体としては、例えば、主鎖中に、－Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ－ユニットを有し、且つ、フッ素を含む撥水性の官能基を側鎖に有する重合体を用いることができる。
　なお、ガラス基板２２の表側の主面２２ａに反射防止膜と防汚膜とを有する場合には、ガラス基板２２の主面２２ａ上に反射防止膜を形成し、反射防止膜上に防汚膜が形成される。
　ガラス基板２２の主面２２ａに防汚膜を有する場合、またはガラス基板２２の主面２２ａに反射防止膜と防汚膜とを有する場合、防汚膜の表面の凹凸が、上述の表面粗さ（第一の凹凸の算術平均高さＳａ１、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１、及び最大高さ粗さＲｚ１、並びに第二の凹凸の算術平均高さＳａ２、界面の展開面積比Ｓｄｒ２、二乗平均平方根傾斜Ｓｄｑ２、最大高さＳｚ２、及び最大山高さＳｐ２）の範囲となるように、ガラス基板２２の主面２２ａの凹凸が形成される。
　また、ガラス基板２２の主面２２ａに防汚膜を有する場合、またはガラス基板２２の主面２２ａに反射防止膜と防汚膜とを有する場合、防汚膜を形成した後のガラス基板２２のヘイズ値、または反射防止膜と防汚膜とを形成した後のガラス基板２２のヘイズ値が、上述の範囲となるように、ガラス基板２２の主面２２ａの凹凸が形成される。
　［ガラス部材の製造方法］
　次に、ガラス部材の製造方法について、図１及び図７を用いて説明する。
　本実施形態によって具現化されるガラス部材の製造方法は、前述したガラス基板２２の少なくとも一方の主面２２ａに、凹凸を形成する方法であって、図７に示すように、主に経時的に順に実施される第一形成工程Ｓ０１と第二形成工程Ｓ０２とを備える。
　第一形成工程Ｓ０１は、ガラス基板２２の主面２２ａに対して、化学エッチング処理、またはシリカコーティング処理等を施し、前述した第一の凹凸を形成する工程である。
　また、第二形成工程Ｓ０２は、上記第一形成工程Ｓ０１によって形成された第一の凹凸に対して、ウェットブラスト処理、サンドブラスト処理等を施し、前述した第二の凹凸を形成する工程である。
　第一形成工程Ｓ０１における化学エッチング処理は、ガラス基板２２の主面２２ａを、フッ化水素（ＨＦ）ガス、フッ化水素酸、またはフッ化水素酸を含む混合溶液によって化学エッチングするフッ酸エッチング処理である。
　また、化学エッチング処理に先立って、ウェットブラスト処理やサンドブラスト処理を施すことが好ましい。ウェットブラスト処理やサンドブラスト処理を施した後に化学エッチング処理を行うことで、化学エッチング処理後に形成される凹凸（第一の凹凸）のサイズを大きくすることができる。
　第一形成工程Ｓ０１において、ウェットブラスト処理やサンドブラスト処理を施した後に化学エッチング処理を行うことで第一の凹凸を形成する場合、ウェットブラスト処理やサンドブラスト処理のみで第一の凹凸を形成する場合よりも軽微な凹凸形成で足りうるため、ガラス基板２２に破損等のダメージを与えにくい。
　また、ウェットブラスト処理やサンドブラスト処理を行うことで予め凹凸形成を施した後に化学エッチング処理を行うと、ガラス基板２２の主面２２ａに対して、ランダムで均一性が高い凹凸形状を得やすくなる。
　なお、ウェットブラスト処理やサンドブラスト処理を施した後に化学エッチング処理を行う場合、ガラス基板２２の主面２２ａに形成される、第一の凹凸の表面粗さ（算術平均高さＳａ１、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１、及び最大高さ粗さＲｚ１）は、当該ウェットブラスト処理やサンドブラスト処理における各種条件、例えばスラリーに含まれる砥粒の粒度分布、及びスラリーをワークに噴射する際の噴射圧力調整や、当該化学エッチング処理における各種条件、即ちエッチング処理時間、及び処理液の濃度などによって調整可能である。
　このように、ウェットブラス処理やサンドブラスト処理を施した後に化学エッチング処理を行う場合、細やかに製造条件を変更できるため、求められる凹凸形状を形成しやすく、ひいては、凹凸の間隔、高さ等のパラメータの制御性が向上する。
　シリカコーティング処理は、ガラス基板２２の主面２２ａに対して、シリカ前駆体等のマトリックス前駆体、及びマトリックス前駆体を溶解する液状媒体を含むコーティング剤を塗布して加熱する処理である。
　第二形成工程Ｓ０２におけるウェットブラスト処理は、ガラス基板２２の主面２２ａに対して、アルミナ等の個体粒子にて構成される砥粒と、水等の液体とを均一に攪拌してスラリーとしたものを、圧縮エアを用いて噴射ノズルから高速で噴射することにより、当該主面２２ａに第二の凹凸を形成する処理である。
　ウェットブラスト処理においては、ガラス基板２２の主面２２ａに対して、高速で噴射されたスラリーを衝突させた際に、当該スラリー内の砥粒によって主面２２ａの表面を削ったり、叩いたり、こすったりすることにより、当該主面２２ａの表面に第二の凹凸が形成されることとなる。
　この場合、ガラス基板２２の主面２２ａに噴射された砥粒や、砥粒により削られた当該主面２２ａの破片は、当該砥粒とともに噴射された液体によって洗い流されるため、ガラス基板２２の主面２２ａに残留する粒子が少なくなる。
　なお、ウェットブラスト処理によってガラス基板２２の主面２２ａに形成される、第二の凹凸の表面粗さ（算術平均高さＳａ２、界面の展開面積比Ｓｄｒ２、二乗平均平方根傾斜Ｓｄｑ２、最大高さＳｚ２、及び最大山高さＳｐ２）は、主にスラリーに含まれる砥粒の粒度分布と、ガラス基板２２の主面２２ａにスラリーを噴射する際の噴射圧力とにより調整可能である。
　ウェットブラスト処理においては、ガラス基板２２の主面２２ａに対してスラリーを噴射した場合、液体によって当該主面２２ａまで砥粒が運ばれるため、乾式のサンドブラスト処理に比べて、より微細な砥粒を使用することができるとともに、砥粒がガラス基板２２の主面２２ａに衝突する際の衝撃もより小さくなり、精密な加工を行うことが可能である。
　このように、本実施形態においては、適度な第一の凹凸を有するガラス基板２２の主面２２ａに対して、ウェットブラスト処理を施すことにより、当該主面２２ａに適度な第二の凹凸を形成し易く、ガラス基板２２の透明度を損なうことなく、入力ペン２による書き心地や、指先３による触り心地を優れたものとすることが可能となる。
　なお、乾式のサンドブラスト処理を施すことにより、ガラス基板２２の主面２２ａに第二の凹凸を形成することも可能である。
　以上のように、本実施形態によって具現化されるガラス部材の製造方法は、ガラス基板２２の主面２２ａに対してフッ酸エッチングを施し、第一の凹凸を形成する第一形成工程Ｓ０１と、当該第一形成工程Ｓ０１によって形成された第一の凹凸に対してウェットブラスト処理またはサンドブラスト処理を施し、第二の凹凸を形成する第二形成工程Ｓ０２とを備える。
　このような構成を有することにより、本実施形態におけるガラス部材の製造方法によれば、主面２２ａに対して入力ペン２による入力操作を行う場合、入力ペン２のペン先２ａが過剰に滑り難く、且つ滑り易くなることもなく、入力ペン２による書き心地の優れたガラス基板２２を製造することができる。
　また、主面２２ａに対して指先３による入力操作を行う場合、過剰なザラツキ感を感じることもなく、指先３による触り心地の優れたガラス基板２２を製造することができる。
　［別実施形態］
　ところで図８において、本実施形態におけるガラス基板２２、または当該ガラス基板２２と防汚層２３とを備えるガラス部材積層体３０については、主に指先３による触り心地が向上する点に着目し、電子機器の外装を構成する外装用ガラス部材１００として用いることが可能である。
　具体的には、電子機器の筐体１０１または扉体１０２として外装用ガラス部材１００を用いることが可能である。
　ここで、上記の筐体１０１を有する電子機器としては、例えば図８（ａ）に示すように、通信端末である携帯電話、スマートフォン、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ　Ｄａｔａ　Ａｓｓｉｓｔａｎｃｅ）、ＰＮＤ（Ｐｏｒｔａｂｌｅ　Ｎａｖｉｇａｔｉｏｎ　Ｄｅｖｉｃｅ）、及び携帯型カーナビゲーションシステムや、放送受信機である携帯ラジオ、携帯テレビ、及びワンセグ受信機や、情報端末であるデジタルカメラ、ビデオカメラ、携帯音楽プレーヤー、サウンドレコーダー、ポータブルＤＶＤプレーヤー、携帯ゲーム機、ノートパソコン、タブレットＰＣ、電子辞書、電子手帳、電子書籍リーダー、携帯プリンター、及び携帯スキャナなどが挙げられる。
　また、上記の筐体１０１及び扉体１０２を有する電子機器としては、例えば図８（ｂ）に示すように、家庭用電子機器である、電気冷蔵庫、電気洗濯機、炊飯器、ＩＨクッキングヒータ、電気掃除機、オーブンレンジ、電子レンジ、オーブントースター、空気清浄機、食器洗い乾燥機、電気ポット、電気ケトルなどが挙げられる。
　なお、図８（ｃ）に示すように、滑り難く、且つ手で保持した際の触り心地を向上させることを目的として、容器１０３の外周面１０３ａに外装用ガラス部材１００を用いることも可能である。
　次に、第一の凹凸、及び第二の凹凸からなる大小２種類の凹凸が一方の主面２２ａに形成された、ガラス基板２２の実施例について、図１、表Ａ１乃至表Ａ５、及び表１乃至表８を用いて詳細に説明する。
　なお、以下に示すガラス基板２２の実施例については、本発明に係るガラス部材の一例であって、これに限定されるものではない。
　[試料の作製]
　先ず始めに、ガラス基板２２の実施例として試料１～１９、２６、２７を各々作製し、これらの実施例に対する比較例として試料２０～２５を各々作製した。
　なお、これらの試料１～２７におけるガラス基板２２の素材としては、厚さが０．５５ｍｍのアルカリ含有アルミノシリケートガラスを使用することとした。
　ガラス基板２２の各々の作製条件を表Ａ１乃至表Ａ５に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
　実施例となる試料１～１９の各ガラス基板２２については、以下に示すように、２つの工程（後述する第一の工程、及び第二の工程）からなる第一形成工程Ｓ０１（図７を参照）によって第一の凹凸（以下、適宜「凹凸Ａ」と記載する）を作製し、その後、１つの工程（後述する第三の工程）からなる第二形成工程Ｓ０２によって第二の凹凸（以下、適宜「凹凸Ｂ」と記載する）を当該凹凸Ａ上に形成することにより、これらの凹凸Ａ及び凹凸Ｂからなる凹凸を形成した。
　［凹凸Ａの形成］
　凹凸Ａは、経時的に順に実施する第一の工程、及び第二の工程によって形成した。
　第一の工程においては、粒度が♯３２０～♯８０００のアルミナからなる砥粒１０～１３ｖｏｌ％と、純水とを均一に攪拌してスラリーを調製し、各ガラス基板２２の一方の主面２２ａの全体に対して、処理速度５～１０ｍｍ／ｓの速度にてノズルを移動させながら走査させ、処理圧力０．１～０．２５ＭＰａのエアを用いて、当該ノズルから調製したスラリーを噴射するウェットブラスト処理を施すことにより、予備凹凸Ａａを形成した。
　また、第二の工程においては、上記第一の工程によって、主面２２ａに予備凹凸Ａａが形成されたガラス基板２２を、２～５ｗｔ％のフッ化水素酸、０～５０ｗｔ％の硫酸、及び４８～９５ｗｔ％の純水からなるエッチング液に浸漬させ、液温３０℃で５～３０分間放置することでエッチング処理を行うことで、当該予備凹凸Ａａから最終的な凹凸Ａを形成した。
　なお、第一の工程においては、アルミナの粒度を大きくすることで、最終的に形成される凹凸Ａの算術平均高さＳａ１、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１、及び最大高さ粗さＲｚ１の値を大きくすることができる。
　また、ノズルから噴出するエアの処理圧力を上げることで、最終的に形成される凹凸Ａの算術平均高さＳａ１、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１、及び最大高さ粗さＲｚ１の値を大きくすることができる。
　一方、ノズルの処理速度を上げることで、最終的に形成される凹凸Ａの算術平均高さＳａ１、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１、及び最大高さ粗さＲｚ１の値を小さくすることができる。
　また、第二の工程においては、エッチング液中の硫酸の濃度を上げることで、最終的に形成される凹凸Ａの算術平均高さＳａ１を小さくすることができる。
　一方、エッチング処理における放置時間を長くすることで、最終的に形成される凹凸Ａの粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１を大きくすることができる。
　［凹凸Ｂの形成］
　凹凸Ｂは、第三の工程によって形成した。
　第三の工程においては、上述した第一の工程及び第二の工程によって形成された凹凸Ａを有する主面２２ａに対して、粒度が♯２０００～♯８０００のアルミナからなる砥粒３～１３ｖｏｌ％と、純水とを均一に攪拌して調製したスラリーを、処理速度０．１～１０ｍｍ／ｓの速度にてノズルを移動させながら走査させ、処理圧力０．１～０．２５ＭＰａのエアを用いて、当該ノズルから調製したスラリーを噴射するウェットブラスト処理を施すことにより、上記凹凸Ａ上に凹凸Ｂを形成した。
　また、上記砥粒の形状としては、多角形状を有する砥粒を用いることとした。
　なお、第三の工程においては、アルミナの粒度を大きくすることで、最終的に形成される凹凸Ｂの算術平均高さＳａ２、界面の展開面積比Ｓｄｒ２、二乗平均平方根傾斜Ｓｄｑ２、最大高さＳｚ２、及び最大山高さＳｐ２の値を大きくすることができる。
　また、ノズルから噴出するエアの処理圧力を上げることで、最終的に形成される凹凸Ｂの算術平均高さＳａ２、界面の展開面積比Ｓｄｒ２、二乗平均平方根傾斜Ｓｄｑ２、最大高さＳｚ２、及び最大山高さＳｐ２の値を大きくすることができる。
　一方、ノズルの処理速度を上げることで、最終的に形成される凹凸Ｂの算術平均高さＳａ２、界面の展開面積比Ｓｄｒ２、二乗平均平方根傾斜Ｓｄｑ２、最大高さＳｚ２、及び最大山高さＳｐ２の値を小さくすることができる。
　比較例となる試料２０のガラス基板２２については、一方の主面２２ａに対して、処理を施していない。
　つまり、試料２０のガラス基板２２は、未処理である。
　比較例となる試料２１～２３のガラス基板２２については、一方の主面２２ａに対して、上述した試料１～１９と同様の方法で、第一の工程及び第二の工程による凹凸のみを形成した。
　つまり、試料２１～２３においては、ガラス基板２２の主面２２ａに凹凸Ａのみが形成されている。
　比較例となる試料２４のガラス基板２２については、一方の主面２２ａに対して、上述した試料１～１５と同様の方法で、第三の工程による凹凸のみを形成した。
　つまり、試料２４においては、ガラス基板２２の主面２２ａに凹凸Ｂのみが形成されている。
　比較例となる試料２５のガラス基板２２については、一方の主面２２ａに対して、ＳｉＯ２成分を含む液体を噴射することにより塗布し、塗布したＳｉＯ２成分を含む液体を乾燥させることにより、当該主面２２ａにＳｉＯ２コーティング膜を形成した。
　つまり、試料２５においては、ガラス基板２２の主面２２ａにＳｉＯ２コーティングを施した。
　実施例となる試料２６～２７のガラス基板２２については、一方の主面２２ａに対して、５０μｍ間隔に貫通孔を有する樹脂コート層を被覆し、その上部からウェットブラスト加工を行うことにより、樹脂コート部と非樹脂コート部の加工レートの違いを利用することにより、凹凸Ａ及び凹凸Ｂを同時に形成した。加工完了後、樹脂コート層をアセトンで除去した。
　[表面粗さの測定]
　次に、上述した試料１～２７の各ガラス基板２２に対して、主面２２ａの表面粗さを測定した。
　表面粗さの測定は、試料１～１９については凹凸Ａ及び凹凸Ｂを有する主面２２ａに対して行い、試料２０については一方の主面２２ａに対して行い、試料２１～２３については凹凸Ａのみを有する主面２２ａに対して行い、試料２４については凹凸Ｂのみを有する主面に対して行い、試料２５についてはＳｉＯ２コーティングを施した主面に対して行い、試料２６～２７については凹凸Ａ及び凹凸Ｂを有する主面２２ａに対して行った。
　測定対象とする表面粗さのパラメータとしては、凹凸Ａに関しては、算術平均高さＳａ１、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１、及び最大高さ粗さＲｚ１とし、白色干渉顕微鏡を用いて、これらのパラメータを測定することとした。
　なお、上記白色干渉顕微鏡については、Ｚｙｇｏ社製の白色干渉顕微鏡Ｎｅｗ　Ｖｉｅｗ　７３００を用いることとした。
　＜測定Ａ－１＞
　凹凸Ａの測定条件については、対物レンズ５０倍、ズームレンズ２倍を使用し、測定エリア７４×５５μｍの領域に対して、カメラ画素数が６４０×４８０、積算回数１０回となるように実施した。
　また、凹凸Ａにおける算術平均高さＳａ１、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１、及び最大高さ粗さＲｚ１を測定する際の、高域フィルタλｃ１カットオフ値は、１４μｍに設定し、低域フィルタλｓ１のカットオフ値は、０．３５μｍに設定した。
　＜測定Ａ－２＞
　また、更に、測定領域については上記と同様に実施し、高域フィルタλｃ１カットオフ値を、５０μｍに設定し、低域フィルタλｓ１のカットオフ値は、０．３５μｍに設定し、凹凸Ａにおける算術平均高さＳａ１、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１、及び最大高さ粗さＲｚ１を測定した。
　一方、凹凸Ｂにおける測定対象とする表面粗さのパラメータとしては、算術平均高さＳａ２、界面の展開面積比Ｓｄｒ２、二乗平均平方根傾斜Ｓｄｑ２、最大高さＳｚ２、及び最大山高さＳｐ２とし、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて、これらのパラメータを測定することとした。
　なお、上記原子間力顕微鏡については、Ｂｒｕｋｅｒ社製の原子間力顕微鏡Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ　Ｉｃｏｎ（ＳＰＭ　ｕｎｉｔ）及びＮａｎｏ　Ｓｃｏｐｅ　Ｖ（Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ　ｕｎｉｔ）を用いることとし、ＩＳＯ　２５１７８に基づき測定を実施した。
　凹凸Ｂの測定条件については、タッピングモードを使用し、測定エリア５×５μｍの領域に対して、スキャンレートが１Ｈｚ、取得データ数が５１２×５１２となるようにして実施した。
　その後、得られた取得データに基づき、一辺が５μｍの正方形の領域内を対象として、上述した表面粗さの各パラメータについて測定することとした。
　また、高域フィルタλｃ２のカットオフ値を２．５μｍに設定し、解析を行った。
　[表面粗さの測定結果]
　以上に示した測定方法によって測定された、試料１～２７における表面粗さの測定結果を、表１乃至表８によって示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
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Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000012
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　＜測定Ａ－１＞
　表１乃至表８に示すように、実施例である試料１～１９、２６、２７については、凹凸Ａにおける算術平均高さＳａ１が４．６～１６４．３ｎｍの範囲内の数値であり、最大高さ粗さＲｚ１が１０～５４８．４ｎｍの範囲内の数値であり、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１が５．５～５０μｍの範囲内の数値であった。
　これに対して、比較例である試料２０～２５において、未処理の試料２０については、凹凸Ａにおける算術平均高さＳａ１が０．１ｎｍであり、最大高さ粗さＲｚ１が０．８ｎｍであり、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１が０．９μｍであり、これらの数値は、実施例である試料１～１９と比較して、何れもかなり小さな値であった。
　また、凹凸Ａのみを付与した試料２１～２３については、凹凸Ａにおける算術平均高さＳａ１が１０．７～３６．７ｎｍの範囲内の数値であり、最大高さ粗さＲｚ１が５１．０～２１１．５ｎｍの範囲内の数値であり、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１が４．７～１０．８μｍの範囲内の数値であった。
　また、凹凸Ｂのみを付与した試料２４については、上述した凹凸Ａの測定方法によって得られた算術平均高さＳａ１が２．３ｎｍであり、最大高さ粗さＲｚ１が２４．８ｎｍであり、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１が１．９μｍであった。
　また、ＳｉＯ２コーティングを施した試料２５については、凹凸Ａにおける算術平均高さＳａ１が７１．６ｎｍであり、最大高さ粗さＲｚ１が５９５．７ｎｍであり、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１が６．５μｍであった。
　＜測定Ａ－２＞
　表１乃至表８に示すように、実施例である試料１～１９、２６、２７については、凹凸Ａにおける算術平均高さＳａ１が４．６～２２６．１ｎｍの範囲内の数値であり、最大高さ粗さＲｚ１が１０～１１７４．２ｎｍの範囲内の数値であり、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１が５．０～５０μｍの範囲内の数値であった。
　これに対して、比較例である試料２０～２５において、未処理の試料２０については、凹凸Ａにおける算術平均高さＳａ１が０．１ｎｍであり、最大高さ粗さＲｚ１が０．９ｎｍであり、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１が１．４μｍであり、これらの数値は、実施例である試料１～１９と比較して、何れもかなり小さな値であった。
　また、凹凸Ａのみを付与した試料２１～２３については、凹凸Ａにおける算術平均高さＳａ１が１４．０～３８．０ｎｍの範囲内の数値であり、最大高さ粗さＲｚ１が７８．８～２３６．５ｎｍの範囲内の数値であり、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１が５．１～９．２μｍの範囲内の数値であった。
　また、凹凸Ｂのみを付与した試料２４については、上述した凹凸Ａの測定方法によって得られた算術平均高さＳａ１が２．８ｎｍであり、最大高さ粗さＲｚ１が２６．７ｎｍであり、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１が１．９μｍであった。
　また、ＳｉＯ２コーティングを施した試料２５については、凹凸Ａにおける算術平均高さＳａ１が１１８．３ｎｍであり、最大高さ粗さＲｚ１が７１６．３ｎｍであり、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１が１１．６μｍであった。
　一方、表１乃至表８に示すように、実施例である試料１～１９、２６、２７については、凹凸Ｂにおける算術平均高さＳａ２が４．９～３０．７ｎｍの範囲内の数値であった。
　これに対して、比較例である試料２０～２５において、未処理の試料２０の算術平均高さＳａ２は０．２ｎｍであり、凹凸Ａのみを有する試料２１～２３の算術平均高さＳａ２は０．５～０．６ｎｍの範囲内の数値であり、凹凸Ｂのみを有する試料２４の算術平均高さＳａ２は４．７ｎｍであり、ＳｉＯ２コーティングを施した試料２５の算術平均高さＳａ２は０．６ｎｍであった。
　また、実施例である試料１～１９、２６、２７については、凹凸Ｂにおける最大高さＳｚ２が８７．５～２８３．０ｎｍの範囲内の数値であった。
　これに対して、比較例である試料２０～２５において、未処理の試料２０の最大高さＳｚ２は１．４ｎｍであり、凹凸Ａのみを有する試料２１～２３の最大高さＳｚ２は６．４～８．２ｎｍの範囲内の数値であり、ＳｉＯ２コーティングを施した試料２５の最大高さＳｚ２は７．６ｎｍであり、これらの数値は、実施例である試料１～１９と比較して、何れもかなり小さな値であった。
　また、凹凸Ｂのみを有する試料２４の算術平均高さＳｚ２は７９．５ｎｍであった。
　また、実施例である試料１～１９、２６、２７については、凹凸Ｂにおける最大山高さＳｐ２が２８．１～１０６．０ｎｍの範囲内の数値であった。
　これに対して、比較例である試料２０～２５において、未処理の試料２０の最大山高さＳｐ２は０．７ｎｍであり、凹凸Ａのみを有する試料２１～２３の最大山高さＳｐ２は３．６～５．１ｎｍの範囲内の数値であり、ＳｉＯ２コーティングを施した試料２５の最大山高さＳｐ２は４．８ｎｍであり、これらの数値は、実施例である試料１～１９と比較して、何れもかなり小さな値であった。なお、凹凸Ｂのみを有する試料２４の最大山高さＳｐ２は３４．５ｎｍであった。
　また、実施例である試料１～１９、２６、２７については、凹凸Ｂにおける二乗平均平方根傾斜Ｓｄｑ２が１６．８～４３．７の範囲内の数値であった。
　これに対して、比較例である試料２０～２７において、未処理の試料２０の二乗平均平方根傾斜Ｓｄｑ２は０．５であり、凹凸Ａのみを有する試料２１～２３の二乗平均平方根傾斜Ｓｄｑ２は２．２～３．３の範囲内の数値であり、凹凸Ｂのみを有する試料２４の二乗平均平方根傾斜Ｓｄｑ２は１５．７であり、ＳｉＯ２コーティングを施した試料２５の二乗平均平方根傾斜Ｓｄｑ２は２．８であり、これらの数値は、実施例である試料１～１９と比較して、何れも小さな値であった。
　さらに、実施例である試料１～１９、２６、２７については、凹凸Ｂにおける界面の展開面積比Ｓｄｒ２が４．４～３７．８の範囲内の数値であった。
　これに対して、比較例である試料２０～２５において、未処理の試料２０の界面の展開面積比Ｓｄｒ２は０．００５であり、凹凸Ａのみを有する試料２１～２３の界面の展開面積比Ｓｄｒ２は０．１～０．２の範囲内の数値であり、凹凸Ｂのみを有する試料２４の界面の展開面積比Ｓｄｒ２は４．２であり、ＳｉＯ２コーティングを施した試料２５の界面の展開面積比Ｓｄｒ２は０．２であり、これらの数値は、実施例である試料１～１５と比較して、何れも小さな値であった。
　［ヘイズの測定］
　次に、試料１～２７について、ヘイズの測定を行った。ヘイズの測定は、島津製作所社製紫外可視近赤外分析光度計（ＵＶ－３１００ＰＣ）を用い、ＪＩＳ　Ｋ７３６１－１-１９９７に基づいて測定した。
　［ヘイズの評価結果］
　試料１～２７について行った、ヘイズの測定結果について、同じく上述した表１乃至表４によって示す。
　表１乃至表８に示すように、実施例である試料１～１９、２６、２７については、ヘイズ値が１．２～４９．８の範囲内の数値であった。
　これに対して、比較例である試料２０～２５において、未処理の試料２０のヘイズはヘイズ値が限りなく低く測定不可であり、凹凸Ａのみを有する試料２１～２３のヘイズ値は０．９～９．６の範囲内の数値であり、凹凸Ｂのみを有する試料２４のヘイズ値は０．４であり、ＳｉＯ２コーティングを施した試料２５のヘイズ値は４７．６であった。
　［書き心地の官能評価］
　次に、試料１～２７について、入力ペン２を用いて、各ガラス基板２２の主面２２ａに「あ」の文字の入力を行った際の書き心地を、官能試験により評価した。
　評価方法としては、エラストマー製のペン先２ａを有するワコム社製の替え芯（製品名：ＡＣＫ－２０００４、ペン先の直径：１．４ｍｍ）を、３Ｄプリンターで作製した治具にはめ込み、三菱鉛筆製のボールペン（製品名：ＪＥＴＳＴＲＥＡＭ）の筐体に取付けたものを入力ペン２として使用し、ガラス基板２２の主面２２ａ上での書き心地を評価した。
　評価の判定については、４段階の評価基準、即ち「書き心地が良好：◎」、「書き心地が比較的良好：〇」、「書き心地がどちらかというと悪い：△」、及び「書き心地が悪い：×」からなる４項目の基準を設けて評価することとした。
　［書き心地の評価結果］
　試料１～２７について行った、書き心地の評価結果について、同じく上述した表１乃至表８によって示す。
　表１乃至表８に示すように、実施例である試料１～１９、２６、２７については、エラストマー製のペン先２ａを有する入力ペン２の書き心地として、「書き心地が良好：◎」または「書き心地が比較的良好：〇」の評価を得ることができた。
　これに対して、比較例である試料２０～２５において、未処理の試料２０についての評価結果は「書き心地が悪い：×」であり、凹凸Ａのみを有する試料２１～２３についての評価結果は「書き心地が悪い：×」であり、凹凸Ｂのみを有する試料２４についての評価結果は「書き心地がどちらかというと悪い：△」であり、ＳｉＯ２コーティングを施した試料２５についての評価結果は「書き心地が悪い：×」であり、何れも良好な評価結果を得ることができなかった。
　［触り心地の官能評価］
　次に、試料１～２７について、指先３による触り心地を官能評価により評価した。
　評価方法としては、主面２２ａを上方に向けた状態で各ガラス基板２２を机上に載置し、当該主面２２ａに対して、人差し指の指先３を複数回滑らせた際の触り心地を評価した。
　なお、各試料の評価を行う際には、指先３の状態を一定にするため、各試料の評価前にエタノールで人差し指を拭き、１分後に評価を開始することとした。
　評価の判定については、４段階の評価基準、即ち「触り心地が良好：◎」、「触り心地が比較的良好：〇」、及び「触り心地がどちらかというと悪い：△」、及び「触り心地が悪い：×」からなる４項目の基準を設けて評価することとした。
　［触り心地の評価結果］
　試料１～２７について行った、触り心地の評価結果について、同じく上述した表１乃至表８によって示す。
　表１乃至表８に示すように、実施例である試料１～１９、２６、２７については、人差し指の指先３による触り心地として、「触り心地が良好：◎」または「触り心地が比較的良好：〇」の評価を得ることができた。
　これに対して、比較例である試料２０～２５において、未処理の試料２０についての評価結果は「触り心地が悪い：×」であり、凹凸Ａのみを有する試料２１～２３についての評価結果は「触り心地が悪い：×」であり、凹凸Ｂのみを有する試料２４についての評価結果は「触り心地がどちらかというと悪い：△」であり、ＳｉＯ２コーティングを施した試料２５についての評価結果は「触り心地が悪い：×」であり、何れも良好な評価結果を得ることができなかった。
　［視認性の官能評価］
　次に、試料１～２７について、視認性を官能評価により評価した。
　評価方法としては、主面２２ａを上方に向けた状態で各ガラス基板２２をモニター電源を入れたアップル社製ｉｐａｄ　ｐｒｏ上に載置し、画面上に表示された文字、画像を目視で鮮明に確認できるかを次に示す判定基準を用いて評価した。
　評価の判定については、４段階の評価基準、即ち「視認性が良好：◎」、「視認性が比較的良好：〇」、「視認性がどちらかというと悪い：△」及び「視認性が悪い：×」からなる４項目の基準を設けて評価することとした。
　［視認性の評価結果］
　試料１～２７について行った、視認性の評価結果について、同じく上述した表１乃至表８によって示す。
　表１乃至表８に示すように、実施例である試料１～１９、２６、２７については、視認性として、「視認性が良好：◎」の評価を得ることができた。
　これに対して、比較例である試料２０～２５において、未処理の試料２０についての評価結果は「視認性が良好：◎」であり、凹凸Ａのみを有する試料２１～２３についての評価結果は「視認性が良好：◎」であり、凹凸Ｂのみを有する試料２４についての評価結果は「視認性が良好：◎」であり、ＳｉＯ２コーティングを施した試料２５についての評価結果は「視認性がどちらかというと悪い：△」であった。
　［映り込みの官能評価］
　次に、試料１～２７について、映り込みを官能評価により評価した。
　評価方法としては、天井に蛍光灯が設置されている部屋で、主面２２ａを上方に向けた状態で各ガラス基板２２をアップル社製ｉｐａｄ　ｐｒｏ上に載置し、ｉｐａｄ　ｐｒｏのモニター電源を入れた状態のまま、ガラス基板２２の垂直方向から見て、ガラス基板２２上に光の反射による評価者自身の映り込みが、ｉｐａｄ　ｐｒｏ画面上に表示された画像の観察の妨げになるかを以下に示す評価項目を用いて評価した。
　評価の判定については、４段階の評価基準、即ち「映り込みが全く気にならない：◎」、「映り込みが見られるが、気にならない：〇」、「映り込みがどちらかというと気になる：△」及び「映り込みが気になる：×」からなる４項目の基準を設けて評価することとした。
　［映り込みの評価結果］
　試料１～２７について行った、映り込みの評価結果について、同じく上述した表１乃至表８によって示す。
　表１乃至表８に示すように、実施例である試料１～１９、２６、２７について、映り込みとして、「映り込みが全く気にならない：◎」、「映り込みが見られるが、気にならない：〇」、「映り込みがどちらかというと気になる：△」及び「映り込みが気になる：×」の様々な評価が得られた。
　また、比較例である試料２０～２５において、未処理の試料２０についての評価結果は「映り込みが気になる：×」であり、凹凸Ａのみを有する試料２１～２３についての評価結果は「映り込みが見られるが、気にならない：〇」または「映り込みが気になる：×」であり、凹凸Ｂのみを有する試料２４についての評価結果は「映り込みが気になる：×」であり、ＳｉＯ２コーティングを施した試料２５についての評価結果は「映り込みが全く気にならない：◎」であった。
　[各試料の総合評価]
　以上の結果から、表１乃至表８に示すように、実施例である試料１～１９、２６、２７については、入力ペン２のペン先２ａが接する主面２２ａに形成された、適切な凹凸Ａ（即ち、前述した第一の凹凸）及び凹凸Ｂ（即ち、前述した第二の凹凸）によって、ペン先２ａと主面２２ａとの間で、摩擦力の適度な増加と減少が組み合わさることとなり、書き心地についての良好な評価結果を得ることができた。
　また、実施例である試料１～１９、２６、２７については、指先３が接する主面２２ａに形成された、適切な凹凸Ａ（第一の凹凸）及び凹凸Ｂ（第二の凹凸）によって、指先３と主面２２ａとの間における接触面積を低下させ、指先３を滑り易くさせることができ、触り心地についての良好な評価結果を得ることができた。
　さらに、実施例である試料１～１９、２６、２７については、主面２２ａに形成された、適切な凹凸Ａ（第一の凹凸）及び凹凸Ｂ（第二の凹凸）によって、適切なヘイズ値を有するため、当該表面を通した像が十分な視認性を維持できた。一方、映り込みの評価結果は良い～悪いものまで様々なバリエーションがあるため、設置環境や使用者のニーズに合わせて必要に応じて使い分けることが望ましい。
　一方、未処理の比較例である試料２０については、入力ペン２のペン先２ａが接する主面２２ａに形成された凹凸が小さく、エラストマー製のペン先２ａが非常に滑り難くなるために、書き心地の評価結果は悪かった。
　また、未処理の比較例である試料２０については、指先３が接する主面２２ａに形成された凹凸が小さく、指先３が非常に滑り難くなるために、触り心地の評価結果は悪かった。
　また、未処理の比較例である試料２０については、主面２２ａに形成された凹凸が小さかったため、視認性は良好であったが、映り込みの評価結果が悪かった。
　凹凸Ａ（第一の凹凸）のみを有する比較例である試料２１～２３については、入力ペン２のペン先２ａが接する主面２２ａに形成された凹凸が大きく、エラストマー製のペン先２ａが非常に滑り難くなるために、書き心地の評価結果は悪かった。
　また、凹凸Ａ（第一の凹凸）のみを有する比較例の試料２１～２３については、指先３が接する主面２２ａに形成された凹凸が大きく、指先３とガラス基板２２の主面２２ａとの間の接触面積の低下が十分でないため、指先３が非常に滑り難くなり、触り心地の評価結果は悪かった。
　凹凸Ａ（第一の凹凸）のみを有する比較例である試料２１～２３については、主面２２ａに形成された凹凸が大きく、視認性は良好であったが、映り込みの評価結果は良い、または悪かった。
　凹凸Ｂ（第二の凹凸）のみを有する比較例である試料２４については、入力ペン２のペン先２ａが接する主面２２ａに形成された凹凸が小さく、エラストマー製のペン先２ａがやや滑り易くなるが、凹凸Ａ（第一の凹凸）がなく接触面積の低下が十分でないため、書き心地が十分に向上せず、評価結果は悪かった。
　また、凹凸Ｂ（第二の凹凸）のみを有する比較例である試料２４については、指先３が接する主面２２ａに形成された凹凸が小さく、指先３とガラス基板２２の主面２２ａとの間でやや滑り易くなるが、凹凸Ａ（第一の凹凸）がなく接触面積の低下が十分でないため、指先３は依然として滑り難く、書き心地の評価結果は悪かった。
　凹凸Ｂ（第二の凹凸）のみを有する比較例である試料２４については、凹凸Ａ（第一の凹凸）がなく、視認性は良好であり、映り込みの評価結果は悪かった。
　ＳｉＯ２コーティングを施した比較例である試料２５については、入力ペン２のペン先２ａが接する主面２２ａに形成された凹凸が大きく、エラストマー製のペン先２ａが非常に滑り難くなるために、書き心地の評価結果は悪かった。
　また、ＳｉＯ２コーティングを施した比較例である試料２５については、指先３が接する主面２２ａに形成された凹凸が大きく、指先３とガラス基板２２の主面２２ａとの間の接触面積の低下が十分でないため、指先３が非常に滑り難くなり、触り心地の評価結果は悪かった。
　ＳｉＯ２コーティングを施した比較例である試料２５については、主面２２ａに形成された凹凸が大きく、視認性は不良であり、映り込みの評価結果は良好であった。
　以上、本願の実施の形態について説明を行ったが、本願はこうした実施の形態に何等限定されるものではなく、あくまで例示であって、本願の要旨を逸脱しない範囲内において、さらに種々なる形態で実施し得ることは勿論のことであり、本願の範囲は、特許請求の範囲の記載によって示され、さらに特許請求の範囲に記載の均等の意味、及び範囲内のすべての変更を含む。
　１０　　ディスプレイ素子（ディスプレイ装置）
　２０　　入力装置
　２１　　デジタイザ回路（検出回路）
　２２　　ガラス基板（ガラス部材）
　２２ａ　　主面
　２３　　防汚層
　３０　　ガラス部材積層体
　１００　　外装用ガラス部材
　１０１　　筐体
　１０２　　扉体
　１０３　　容器
　Ｓ０１　　第一形成工程
　Ｓ０２　　第二形成工程
　

Claims (16)

  1. 　凹凸を有する主面を備えるガラス部材であって、
    　前記凹凸は、
    　高域フィルタλｃ１のカットオフ値を１４μｍとし、且つ低域フィルタλｓ１のカットオフ値を０．３５μｍとしたときの算術平均高さＳａ１が２～５００ｎｍであり、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１が２～１００μｍである第一の凹凸と、
    　一辺が５μｍの正方形の領域において、高域フィルタλｃ２のカットオフ値を２．５μｍとしたときに、算術平均高さＳａ２が０．７～５０ｎｍである第二の凹凸とを有する、
    　ことを特徴とするガラス部材。
  2. 　前記第一の凹凸において、
    　高域フィルタλｃ１のカットオフ値を１４μｍとし、且つ低域フィルタλｓ１のカットオフ値を０．３５μｍとしたときの最大高さ粗さＲｚ１が２５～７００ｎｍである、
    　ことを特徴とする、請求項１に記載のガラス部材。
  3. 　凹凸を有する主面を備えるガラス部材であって、
    　前記凹凸は、
    　高域フィルタλｃ１のカットオフ値を５０μｍとし、且つ低域フィルタλｓ１のカットオフ値を０．３５μｍとしたときの算術平均高さＳａ１が２～５００ｎｍであり、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ１が２～１００μｍである第一の凹凸と、
    　一辺が５μｍの正方形の領域において、高域フィルタλｃ２のカットオフ値を２．５μｍとしたときに、算術平均高さＳａ２が０．７～５０ｎｍである第二の凹凸とを有する、
    　ことを特徴とするガラス部材。
  4. 　前記第一の凹凸において、
    　高域フィルタλｃ１のカットオフ値を５０μｍとし、且つ低域フィルタλｓ１のカットオフ値を０．３５μｍとしたときの最大高さ粗さＲｚ１が２５～１５００ｎｍである、
    　ことを特徴とする、請求項２に記載のガラス部材。
  5. 　前記第二の凹凸において、
    　一辺が５μｍの正方形の領域における、高域フィルタλｃ２のカットオフ値を２．５μｍとしたときの、界面の展開面積比Ｓｄｒ２が３～６０％である、
    　ことを特徴とする、請求項１～請求項４の何れか一項に記載のガラス部材。
  6. 　前記第二の凹凸において、
    　一辺が５μｍの正方形の領域における、高域フィルタλｃ２のカットオフ値を２．５μｍとしたときの、二乗平均平方根傾斜Ｓｄｑ２が２～８０である、
    　ことを特徴とする、請求項１～請求項４の何れか一項に記載のガラス部材。
  7. 　前記第二の凹凸において、
    　一辺が５μｍの正方形の領域における、高域フィルタλｃ２のカットオフ値を２．５μｍとしたときの、最大高さＳｚ２が１０～４００ｎｍである、
    　ことを特徴とする、請求項１～請求項４の何れか一項に記載のガラス部材。
  8. 　前記第二の凹凸において、
    　一辺が５μｍの正方形の領域における、高域フィルタλｃ２のカットオフ値を２．５μｍとしたときの、最大山高さＳｐ２が６～２００ｎｍである、
    　ことを特徴とする、請求項１～請求項４の何れか一項に記載のガラス部材。
  9. 　請求項１～請求項４、請求項６の何れか一項に記載のガラス部材と、
    　前記ガラス部材の前記主面における少なくとも一部に設けられる防汚層とを備える、
    　ことを特徴とするガラス部材積層体。
  10. 　請求項１～請求項４、請求項６の何れか一項に記載に記載のガラス部材と、
    　入力位置を検出する検出回路とを備える、
    　ことを特徴とする入力装置。
  11. 　請求項１０に記載の入力装置と、ディスプレイ装置とを備える、
    　ことを特徴とする入力表示装置。
  12. 　請求項１～請求項４、請求項６の何れか一項に記載のガラス部材により構成される、
    　ことを特徴とする外装用ガラス部材。
  13. 　請求項１２に記載の外装用ガラス部材を備える、
    　ことを特徴とする筐体。
  14. 　請求項１２に記載の外装用ガラス部材を備える、
    　ことを特徴とする扉体。
  15. 　請求項１２に記載の外装用ガラス部材を備える、
    　ことを特徴とする容器。
  16. 　請求項１～請求項４、請求項６の何れか一項に記載のガラス部材を製造する製造方法であって、
    　前記ガラス部材の前記主面に対してフッ酸エッチングを施し、前記第一の凹凸を形成する第一形成工程と、
    　前記第一形成工程によって形成された前記第一の凹凸に対してウェットブラスト処理またはサンドブラスト処理を施し、前記第二の凹凸を形成する第二形成工程とを備える、
    　ことを特徴とするガラス部材の製造方法。
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