WO2023007989A1 - 磁気センサ - Google Patents

磁気センサ Download PDF

Info

Publication number
WO2023007989A1
WO2023007989A1 PCT/JP2022/024685 JP2022024685W WO2023007989A1 WO 2023007989 A1 WO2023007989 A1 WO 2023007989A1 JP 2022024685 W JP2022024685 W JP 2022024685W WO 2023007989 A1 WO2023007989 A1 WO 2023007989A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
magnetic
sensor chip
external magnetic
sensor
magneto
Prior art date
Application number
PCT/JP2022/024685
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
康二 黒木
承彬 林
郁人 小野寺
誠 亀野
Original Assignee
Tdk株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tdk株式会社 filed Critical Tdk株式会社
Publication of WO2023007989A1 publication Critical patent/WO2023007989A1/ja

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R33/00Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
    • G01R33/02Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R33/00Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
    • G01R33/02Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
    • G01R33/06Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using galvano-magnetic devices
    • G01R33/09Magnetoresistive devices

Definitions

  • the present invention relates to a magnetic sensor, and more particularly to a magnetic sensor provided with an external magnetic body that collects magnetic flux on a magneto-sensitive element.
  • Patent Document 1 discloses a magnetic sensor equipped with an external magnetic body that collects magnetic flux on a magneto-sensitive element.
  • the magnetic sensor described in Patent Literature 1 collects vertical magnetic flux with an external magnetic body and bends the collected magnetic flux in the horizontal direction, thereby detecting the horizontal component of the magnetic flux.
  • an object of the present invention is to provide a magnetic sensor that has less variation in detection sensitivity and that can obtain high detection sensitivity.
  • a magnetic sensor comprises: an element forming surface extending in a first direction and a second direction perpendicular to the first direction; a first sensor chip having a second side surface; and first and second external magnetic bodies having a longitudinal direction in the first direction.
  • a first magneto-sensitive magnetic path formed by first and second magnetic layers arranged in a first direction and a first magnetic gap, and having the first direction as a magneto-sensitive direction;
  • the first external magnetic body has a first inner surface covering the element forming surface and a second inner surface covering the first side surface so as to overlap with the first magnetic layer.
  • the external magnetic body has a third inner surface covering the element forming surface and a fourth inner surface covering the second side surface so as to overlap with the second magnetic layer.
  • the sensitivity there are many magnetic flux components that contribute to , and this makes it possible to obtain high detection sensitivity.
  • the first and second external magnetic bodies can be positioned by the first and second side surfaces of the sensor chip, the mounting positions of the first and second external magnetic bodies are less likely to be displaced, thereby improving the detection sensitivity. Variation is less likely to occur.
  • the first inner surface of the first external magnetic body and the third inner surface of the second external magnetic body have a shape in which the width in the second direction narrows toward the first magnetic gap. It doesn't matter if According to this, it is possible to further increase the density of the magnetic flux applied to the magneto-sensitive element.
  • the first external magnetic body has a structure in which the corners where the first inner surface and the second inner surface meet are removed, and the second external magnetic body has the third inner surface and the fourth inner surface. It may have a structure in which the corners against which the inner surface abuts are removed. According to this, the positioning accuracy of the first and second external magnetic bodies using the first and second side surfaces is enhanced.
  • the magnetic sensor according to the present invention further comprises a substrate on which the first sensor chip, the first external magnetic body and the second external magnetic body are mounted, the first sensor chip being perpendicular to the second direction.
  • the third side may be mounted so as to face the substrate. According to this, even if the first and second external magnetic bodies are long, they can be stably supported, and it is possible to shorten the connection wiring distance between the first sensor chip and the substrate. .
  • the magnetic sensor according to the present invention may further include an auxiliary substrate mounted on the substrate and arranged on the back surface opposite to the element forming surface of the first sensor chip. According to this, even if the first sensor chip is thin, the mechanical strength is increased, so it is possible to prevent damage to the first sensor chip.
  • a magnetic sensor according to the present invention is a second sensor having element formation surfaces extending in first and second directions and fourth and fifth side surfaces perpendicular to the first direction and parallel to each other.
  • a chip and third and fourth external magnetic bodies having the first direction as a longitudinal direction are further provided, and the first sensor chip is formed on the element forming surface of the second sensor chip via a second magnetic gap.
  • Third and fourth magnetic layers arranged in the same direction, and a second magneto-sensitive element arranged on the magnetic path formed by the second magnetic gap and having the first direction as the magneto-sensitive direction are formed.
  • the third external magnetic body has a fifth inner surface covering the element formation surface so as to overlap with the third magnetic layer and a sixth inner surface covering the fourth side surface, and a fourth external magnetic body has a seventh inner surface covering the element forming surface so as to overlap with the fourth magnetic layer, and an eighth inner surface covering the fifth side surface;
  • the sensitivity axis directions may differ from each other by 180°. This makes it possible to obtain a differential signal from the first and second magneto-sensitive elements.
  • the first sensor chip and the second sensor chip may be arranged so that the back surfaces located on the opposite sides of the element forming surface face each other.
  • a spacer may be provided in contact with the rear surface of the first sensor chip and the rear surface of the second sensor chip, and the rear surface of the first sensor chip and the rear surface of the second sensor chip are in contact with each other. I don't mind. According to these, it is possible to reduce the temperature difference between the first sensor chip and the second sensor chip.
  • FIG. 1 is a schematic perspective view showing the appearance of a magnetic sensor 1 according to a first embodiment of the invention.
  • FIG. 2 is a partial schematic perspective view of the magnetic sensor 1 viewed from another angle.
  • FIG. 3 is a schematic exploded perspective view of the magnetic sensor 1.
  • FIG. 4 is a schematic exploded perspective view of the magnetic sensor 1.
  • FIG. 5 is a partial schematic perspective view showing an example in which an auxiliary substrate 120 is added to the magnetic sensor 1.
  • FIG. FIG. 6 is a schematic perspective view for explaining the structure of the sensor chip 100.
  • FIG. FIG. 7 is a schematic perspective view showing a state in which the magnetic layers 111 and 112 are removed from the sensor chip 100.
  • FIG. FIG. 8 is an xz sectional view of the main part of the sensor chip 100.
  • FIG. 9 is a schematic partial perspective view showing an enlarged main part of the magnetic sensor 1.
  • FIG. FIG. 10 is a graph showing the relationship between the width of the magnetic gap G1, the thickness of the protrusions 12 and 22 in the z direction, and the magnetic flux density applied to the magneto-sensitive element R1.
  • FIG. 11(a) is a circuit diagram showing a circuit for obtaining the detection signal V1
  • FIG. 11(b) is a circuit diagram showing a circuit for obtaining the detection signals V2 and V3
  • FIG. 12 is a schematic perspective view showing the appearance of the magnetic sensor 2 according to the second embodiment of the invention.
  • FIG. 13 is a partially exploded perspective view of the magnetic sensor 2.
  • FIG. FIG. 14 is a partially schematic exploded perspective view of the magnetic sensor 2.
  • FIG. 15(a) is a circuit diagram showing a circuit for obtaining the detection signal V4
  • FIG. 15(b) is a circuit diagram showing a circuit for obtaining the differential signals V5 and V6
  • FIG. 16 is a partial schematic perspective view showing an example in which a spacer 300 is added to the magnetic sensor 2.
  • FIG. 17 is a schematic perspective view showing the external appearance of the magnetic sensor 3 according to the third embodiment of the invention.
  • FIG. 18 is a partially exploded perspective view of the magnetic sensor 3.
  • FIG. 1 is a schematic perspective view showing the appearance of the magnetic sensor 1 according to the first embodiment of the present invention.
  • 2 is a partial schematic perspective view of the magnetic sensor 1 viewed from another angle, and
  • FIGS. 3 and 4 are schematic exploded perspective views of the magnetic sensor 1.
  • FIG. 1 is a schematic perspective view showing the appearance of the magnetic sensor 1 according to the first embodiment of the present invention.
  • 2 is a partial schematic perspective view of the magnetic sensor 1 viewed from another angle
  • FIGS. 3 and 4 are schematic exploded perspective views of the magnetic sensor 1.
  • the magnetic sensor 1 includes a substrate 8, a sensor chip 100 mounted on the substrate 8, and external magnetic bodies 10 and 20.
  • the main surface of the substrate 8 is the xz plane, and a sensor chip 100 and external magnetic bodies 10 and 20 are mounted on the main surface.
  • the sensor chip 100 has side surfaces 101 and 102 that form the yz plane and are positioned opposite to each other, side surfaces 103 and 104 that form the xz plane and are positioned opposite to each other, and side surfaces 103 and 104 that form the xy plane and are positioned opposite to each other. It has an element formation surface 105 and a back surface 106 .
  • the sensor chip 100 is mounted upright on the substrate 8 so that the side surface 103 faces the main surface of the substrate 8 .
  • Both the external magnetic bodies 10 and 20 are made of a high magnetic permeability material such as ferrite.
  • the external magnetic body 10 is composed of a bar-shaped main body 11 whose longitudinal direction is the x direction, and a protrusion 12 provided at the end of the main body 11 in the x direction.
  • the external magnetic body 20 is composed of a bar-shaped main body 21 whose longitudinal direction is the x direction, and a protrusion 22 provided at the end of the main body 21 in the x direction.
  • the body portion 11 and the protruding portion 12 may be integrated, or may be formed of separate blocks. The same applies to the body portion 21 and the projecting portion 22 .
  • the thickness of the protrusions 12 and 22 in the z direction is thinner than the thickness of the main bodies 11 and 21 in the z direction.
  • an inner surface 12a forming an xy plane is formed on the projecting portion 12
  • an inner surface 11a forming a yz plane is formed on the end of the body portion 11 in the x direction.
  • the projecting portion 22 is formed with an inner surface 22a forming an xy plane
  • the end portion of the body portion 21 in the x direction is formed with an inner surface 21a forming a yz plane.
  • the substrate is arranged so that the side surface 101 of the sensor chip 100 is covered with the inner surface 11a of the external magnetic body 10, and the side surface 102 of the sensor chip 100 is covered with the inner surface 21a of the external magnetic body 20.
  • a sensor chip 100 and external magnetic bodies 10 and 20 are positioned on 8 . That is, the positional relationship in the x direction between the sensor chip 100 and the external magnetic body 10 is fixed by bringing the side surface 101 of the sensor chip 100 into contact with the inner surface 11a of the external magnetic body 10. The positional relationship in the x direction is fixed by bringing the side surface 102 of the sensor chip 100 into contact with the inner surface 21 a of the external magnetic body 20 .
  • the distance in the x direction of the magnetic gap G1 formed between the protruding portion 12 and the protruding portion 22 is fixed.
  • the element forming surface 105 of the sensor chip 100 is covered with the inner surface 12a of the external magnetic body 10 and the inner surface 22a of the external magnetic body 20.
  • a groove 13 is formed at the corner where the inner surface 11a and the inner surface 12a of the external magnetic body 10 meet.
  • grooves 23 are formed at the corners where the inner surfaces 12a and 22a of the external magnetic body 20 meet. This is because if the corners are rounded due to processing accuracy or the like, the rounded corners and the sensor chip 100 interfere with each other, and the sensor chip 100 cannot be correctly positioned. Removing the corners allows the sensor chip 100 to be correctly positioned.
  • the sensor chip 100 since the sensor chip 100 is mounted upright so that the side surface 103 faces the substrate 8, if the thickness of the sensor chip 100 is thin, the strength may be insufficient. In such a case, strength may be ensured by providing an auxiliary substrate 120 on the rear surface 106 of the sensor chip 100, as shown in FIG.
  • the auxiliary substrate 120 can be fixed to the sensor chip 100 and the substrate 8 using an adhesive or the like.
  • the material of the auxiliary substrate 120 the same material as that of the sensor chip 100 may be used.
  • FIG. 6 is a schematic perspective view for explaining the structure of the sensor chip 100.
  • FIG. 6 is a schematic perspective view for explaining the structure of the sensor chip 100.
  • a magneto-sensitive element R1 As shown in FIG. 6, on the element forming surface 105 of the sensor chip 100, a magneto-sensitive element R1, magnetic layers 111 and 112, and terminal electrodes T11 to T14 are formed.
  • the magnetic layers 111 and 112 are thin films made of a NiFe-based material such as permalloy, and the magneto-sensitive element R1 is arranged on the magnetic path formed by the magnetic gap G2 made up of the magnetic layers 111 and 112.
  • FIG. 7 is a schematic perspective view showing a state in which the magnetic layers 111 and 112 are removed from the sensor chip 100.
  • FIG. 7 is a schematic perspective view showing a state in which the magnetic layers 111 and 112 are removed from the sensor chip 100.
  • the magneto-sensitive element R1 extends in the y-direction on the element forming surface 105, one end of which is connected to the terminal electrode T11 via the wiring L1, and the other end of which is connected to the terminal electrode T11 via the wiring L2. It is connected to the electrode T12.
  • the magneto-sensitive element R1 is not particularly limited as long as it is an element whose electric resistance changes depending on the direction of the magnetic flux, and for example, an MR element or the like can be used.
  • the fixed magnetization direction which is the sensitivity axis direction of the magneto-sensitive element R1, is the x direction.
  • the terminal electrodes T13 and T14 are connected to compensation coils (not shown).
  • the compensating coil is used to perform so-called closed-loop control by canceling the magnetic field applied to the magneto-sensitive element R1.
  • the sensor chip 100 since the sensor chip 100 is mounted upright so that the side surface 103 of the sensor chip 100 faces the substrate 8, the wiring distance between the terminal electrodes T11 to T14 and the substrate 8 can be shortened. can. As a result, the land patterns provided on the substrate 8 and the terminal electrodes T11 to T14 can be directly connected using solder or the like.
  • FIG. 8 is an xz sectional view of the main part of the sensor chip 100.
  • a magneto-sensitive element R1 is formed on the element forming surface 105 of the sensor chip 100.
  • the magneto-sensitive element R1 is covered with an insulating layer 107, and magnetic layers 111 and 112 are formed on the surface of the insulating layer 107.
  • FIG. The magneto-sensitive element R1 is positioned between the magnetic layer 111 and the magnetic layer 112 in plan view (as seen from the z direction). As a result, a magnetic field passing through the magnetic gap G2 is applied to the magneto-sensitive element R1.
  • the magneto-sensitive element R1 is located near the magnetic gap G2 formed by the magnetic layer 111 and the magnetic layer 112, and is arranged on a magnetic path capable of detecting the detection target magnetic field passing through the magnetic gap G2.
  • the magneto-sensitive element R1 does not necessarily have to be arranged between the two magnetic layers 111 and 112, and at least part of the magnetic field passing through the magnetic gap G2 formed by the magnetic layers 111 and 112 is applied to the magneto-sensitive element R1. It is sufficient if the arrangement is such that the voltage is applied to .
  • the relationship between the width of the magnetic gap G2 and the width of the magneto-sensitive element R1 is not particularly limited. In the example shown in FIG.
  • the width G2x of the magnetic gap G2 in the x direction is narrower than the width Rx of the magneto-sensitive element R1 in the x direction. overlap and have an OV.
  • FIG. 9 is a schematic partial perspective view showing an enlarged main part of the magnetic sensor 1.
  • the magnetic layer 111 overlaps the inner surface 12a of the external magnetic body 10
  • the magnetic layer 112 overlaps the inner surface of the external magnetic body 20. 22a.
  • the magnetic flux in the x-direction collected by the body portion 11 of the external magnetic body 10 flows through the magnetic layer 111 via the projecting portion 12 of the external magnetic body 10 .
  • the magnetic flux that has flowed through the magnetic layer 111 flows through the magnetic gap G ⁇ b>2 to the magnetic layer 112 , and further flows through the protrusion 22 of the external magnetic body 20 to the main body 21 .
  • the magnetic flux in the x direction collected by the external magnetic bodies 10 and 20 flows through the magnetic gap G2, the magnetic flux in the x direction is applied to the magneto-sensitive element R1.
  • the direction and amount of magnetic flux can be detected based on
  • the width G1x in the x direction of the magnetic gap G1 formed by the protrusions 12 and 22 is sufficiently larger than the width G2x in the x direction of the magnetic gap G2 formed by the magnetic layers 111 and 112. preferably wide. This is because if the width G1x of the magnetic gap G1 is too narrow, the magnetic flux bypasses the magnetic gap G1 and the magnetic flux applied to the magneto-sensitive element R1 decreases.
  • the width G1x of the magnetic gap G1 may be about several hundred micrometers, and the width G2x of the magnetic gap G2 may be about several micrometers.
  • the magnetic sensor 1 can apply the magnetic flux in the x direction collected by the external magnetic bodies 10 and 20 to the magneto-sensitive element R1 whose sensitivity axis direction is the x direction without bending the magnetic flux. Therefore, it is possible to obtain high detection sensitivity. Moreover, since the sensor chip 100 having the magneto-sensitive element R1 formed thereon and the external magnetic bodies 10 and 20 are positioned in the x-direction, variations in the width G1x of the magnetic gap G1 are less likely to occur, thereby reducing variations in detection sensitivity. can do.
  • the magnetic flux applied to the magneto-sensitive element R1 It becomes possible to further increase the density.
  • the external magnetic bodies 10 and 20 have such a shape, and the width in the y direction of the inner surfaces 12a and 22a may be constant. This facilitates fabrication of the external magnetic bodies 10 and 20 .
  • FIG. 10 is a graph showing the relationship between the width of the magnetic gap G1 and the thickness of the protrusions 12 and 22 in the z direction and the magnetic flux density applied to the magneto-sensitive element R1.
  • the narrower the magnetic gap G1 the higher the magnetic flux density applied to the magneto-sensitive element R1. This is because the narrower the magnetic gap G1, the lower the magnetic resistance.
  • the magnetic gap G1 is less than 0.6 mm, the narrower the magnetic gap G1, the more rapidly the magnetic flux density applied to the magneto-sensitive element R1 decreases. This is because if the magnetic gap G1 is too narrow, the magnetic flux bypasses between the external magnetic bodies 10 and 20 and the magnetic flux applied to the magneto-sensitive element R1 decreases.
  • the thinner the protrusions 12 and 22 in the z-direction the thinner the protrusions 12 and 22, the higher the magnetic flux density applied to the magneto-sensitive element R1. This is because the thinner the protrusions 12 and 22 are in the z direction, the more difficult it is for the magnetic flux to bypass between the external magnetic bodies 10 and 20 .
  • the detection signal V1 can be obtained from the connection point between the two.
  • the fixed resistor R10 may be provided on the element forming surface 105 of the sensor chip 100 or may be provided on the substrate 8.
  • FIG. 11B When the fixed resistor R10 is provided on the element formation surface 105 of the sensor chip 100, a dummy element having the same configuration as the magneto-sensitive element R1 and whose resistance value does not change with a magnetic field may be used as the fixed resistor R10.
  • the detection signals V2 and V3 may be obtained by bridge-connecting the magneto-sensitive element R1 and the fixed resistors R11 to R13.
  • FIG. 12 is a schematic perspective view showing the appearance of the magnetic sensor 2 according to the second embodiment of the invention.
  • 13 and 14 are partially exploded perspective views of the magnetic sensor 2.
  • FIG. 12 is a schematic perspective view showing the appearance of the magnetic sensor 2 according to the second embodiment of the invention.
  • 13 and 14 are partially exploded perspective views of the magnetic sensor 2.
  • the magnetic sensor 2 according to the second embodiment further includes a sensor chip 200 mounted on the substrate 8 and external magnetic bodies 30, 40, which is different from the first embodiment. It is different from the magnetic sensor 1 by Since other basic configurations are the same as those of the magnetic sensor 1 according to the first embodiment, the same elements are denoted by the same reference numerals, and overlapping descriptions are omitted.
  • the sensor chip 200 has the same structure as the sensor chip 100, and includes side surfaces 201 and 202 forming the yz plane and located opposite to each other, side surfaces 203 and 204 forming the xz plane and located opposite to each other, and xy plane. It has an element formation surface 205 and a back surface 206 which form surfaces and are located on opposite sides of each other.
  • the sensor chip 200 is mounted on the substrate 8 so that the side surface 203 faces the main surface of the substrate 8 .
  • Both the external magnetic bodies 30 and 40 are made of a high magnetic permeability material such as ferrite, and have the same structure as the external magnetic bodies 20 and 10, respectively.
  • the external magnetic body 30 is composed of a rod-shaped body portion 31 whose longitudinal direction is the x direction, and a projecting portion 32 provided at the end portion of the body portion 31 in the x direction.
  • the external magnetic body 40 is composed of a bar-shaped body portion 41 whose longitudinal direction is the x direction, and a projecting portion 42 provided at the end portion of the body portion 41 in the x direction.
  • the external magnetic bodies 10 and 40 are arranged in the z-direction, and the external magnetic bodies 20 and 30 are arranged in the z-direction.
  • the thickness in the z-direction of the body portions 11 and 41 of the external magnetic bodies 10 and 40 is greater than the thickness in the z-direction of the body portions 21 and 31 of the external magnetic bodies 20 and 30 .
  • the body portions 11 and 41 of the external magnetic bodies 10 and 40 are in contact with each other, whereas the body portions 21 and 31 of the external magnetic bodies 20 and 30 are separated from each other in the z direction.
  • the external magnetic bodies 10 and 40 may be composed of a single block. With such a configuration, the tip of the external magnetic bodies 10 and 40 in the +x direction can be used as a detection head, and the magnetic flux in the x direction can be collected.
  • the substrate is arranged such that the side surface 201 of the sensor chip 200 is covered with the inner surface 31 a of the external magnetic body 30 and the side surface 202 of the sensor chip 200 is covered with the inner surface 41 a of the external magnetic body 40 .
  • a sensor chip 200 and external magnetic bodies 30, 40 are positioned. That is, the positional relationship in the x direction between the sensor chip 200 and the external magnetic body 30 is fixed by bringing the side surface 201 of the sensor chip 200 into contact with the inner surface 31a of the external magnetic body 30. The positional relationship in the x direction is fixed by bringing the side surface 202 of the sensor chip 200 into contact with the inner surface 41 a of the external magnetic body 40 .
  • a magneto-sensitive element R2 and magnetic layers 211 and 212 are formed on the element forming surface 205 of the sensor chip 200 .
  • the magnetic layers 211 and 212 are thin films made of a NiFe-based material such as permalloy, and the magneto-sensitive element R2 is arranged on the magnetic path formed by the magnetic gap formed by the magnetic layers 211 and 212.
  • FIG. When the sensor chip 200 and the external magnetic bodies 30 and 40 are positioned in the x-direction, the magnetic layer 211 overlaps the inner surface 32a of the external magnetic body 30, and the magnetic layer 212 overlaps the inner surface 42a of the external magnetic body 40.
  • the sensor chip 100 and the sensor chip 200 are arranged so that the rear surfaces 106 and 206 face each other.
  • the sensitivity axis directions of the magneto-sensitive element R1 and the magneto-sensitive element R2 are different from each other by 180°.
  • the sensitivity axis direction of the magneto-sensitive element R1 is the +x direction
  • the sensitivity axis direction of the magneto-sensitive element R2 is the -x direction. Therefore, as shown in FIG. 15(a), by connecting the magneto-sensitive element R1 and the magneto-sensitive element R2 in series between the power sources, a detection signal V4 having a larger amplitude can be obtained from the connection point between the two. .
  • FIG. 15(a) by connecting the magneto-sensitive element R1 and the magneto-sensitive element R2 in series between the power sources, a detection signal V4 having a larger amplitude can be obtained from the connection point between the two. .
  • FIG. 15(a) by connecting the magneto-sensitive element R1 and the magnet
  • the differential signals V5 and V6 may be obtained by bridge-connecting the magneto-sensitive elements R1 and R2 and the fixed resistors R14 and R15. Furthermore, a double full bridge may be configured by bridge-connecting the magneto-sensitive elements R1 and R2.
  • a spacer 300 may be provided between the sensor chip 100 and the sensor chip 200 so as to be in contact with the rear surfaces 106 and 206. According to this, heat conduction through the spacer 300 reduces the temperature difference between the sensor chip 100 and the sensor chip 200, so that it is possible to reduce the measurement error caused by the temperature difference. Moreover, since the back surfaces 106, 206 of the sensor chips 100, 200 are covered with the spacers 300, the mechanical strength of the whole is enhanced.
  • FIG. 17 is a schematic perspective view showing the appearance of the magnetic sensor 3 according to the third embodiment of the invention.
  • 18 is a partially exploded perspective view of the magnetic sensor 3.
  • the rear surface 106 of the sensor chip 100 and the rear surface 206 of the sensor chip 200 are in contact with each other, and the main bodies of the external magnetic bodies 20 and 30 are in contact with each other. It differs from the magnetic sensor 2 according to the second embodiment in that 21 and 31 are in contact with each other. Since other basic configurations are the same as those of the magnetic sensor 2 according to the second embodiment, the same elements are denoted by the same reference numerals, and overlapping descriptions are omitted.
  • the temperature difference between the sensor chips 100 and 200 becomes smaller. It is possible to further reduce the resulting measurement error.
  • the external magnetic bodies 10 and 40 may consist of a single block, and the external magnetic bodies 20 and 30 may consist of a single block.
  • Magnetic sensor 8 Substrate 10, 20, 30, 40 External magnetic body 11, 21, 31, 41 Main body 12, 22, 32, 42 Projection 11a, 12a, 21a, 22a, 31a, 32a, 41a, 42a inner surfaces 13, 23 grooves 100, 200 sensor chips 101 to 104, 201 to 204 side surfaces 105, 205 element forming surfaces 106, 206 back surface 107 insulating layers 111, 112, 211, 212 magnetic layer 120 auxiliary substrate 300 spacers G1, G2 magnetism Gaps L1, L2 Wiring R1, R2 Magnetosensitive elements R10 to R15 Fixed resistors T11 to T14 Terminal electrodes

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Measuring Magnetic Variables (AREA)

Abstract

【課題】検出感度のばらつきが少なく、且つ、高い検出感度を得ることが可能な磁気センサを提供する。 【解決手段】磁気センサ1は、センサチップ100とx方向を長手方向とする外部磁性体10,20とを備える。センサチップ100の素子形成面105上には、磁気ギャップG2を介してx方向に配列された磁性体層111,112と、x方向を感磁方向とする感磁素子R1とが形成される。外部磁性体10は、磁性体層111と重なるよう素子形成面105を覆う内面12aと側面101を覆う内面11aを有し、外部磁性体20は、磁性体層112と重なるよう素子形成面105を覆う内面22aと側面102を覆う内面21aを有する。これにより、外部磁性体10,20をセンサチップ100の側面101,102によって位置決めできることから、検出感度のばらつきが生じにくい。

Description

磁気センサ
 本発明は磁気センサに関し、特に、感磁素子に磁束を集める外部磁性体を備えた磁気センサに関する。
 特許文献1には、感磁素子に磁束を集める外部磁性体を備えた磁気センサが開示されている。特許文献1に記載された磁気センサは、外部磁性体によって垂直方向の磁束を集め、集めた磁束を水平方向に曲げることによって、磁束の水平方向成分を検出している。
特許第5297442号公報
 しかしながら、特許文献1に記載された磁気センサは、垂直方向の磁束を折り曲げることによって磁束の水平方向成分を検出していることから、感度に寄与する磁束成分が少なく、高い検出感度を得ることが困難であった。また、外部磁性体の搭載位置のズレによって検出感度が大きく変化するという問題もあった。
 したがって、本発明は、検出感度のばらつきが少なく、且つ、高い検出感度を得ることが可能な磁気センサを提供することを目的とする。
 本発明による磁気センサは、第1の方向及び第1の方向に対して垂直な第2の方向に延在する素子形成面と、第1の方向に対して垂直であり互いに平行な第1及び第2の側面とを有する第1のセンサチップと、第1の方向を長手方向とする第1及び第2の外部磁性体とを備え、素子形成面上には、第1の磁気ギャップを介して第1の方向に配列された第1及び第2の磁性体層と、第1の磁気ギャップによって形成される磁路上に配置され、第1の方向を感磁方向とする第1の感磁素子とが形成され、第1の外部磁性体は、第1の磁性体層と重なるよう素子形成面を覆う第1の内面と第1の側面を覆う第2の内面を有し、第2の外部磁性体は、第2の磁性体層と重なるよう素子形成面を覆う第3の内面と第2の側面を覆う第4の内面を有することを特徴とする。
 本発明によれば、第1の方向を長手方向とする第1及び第2の外部磁性体によって集めた磁束が第1の方向を感磁方向とする感磁素子に印加されることから、感度に寄与する磁束成分が多く、これにより高い検出感度を得ることが可能となる。しかも、第1及び第2の外部磁性体をセンサチップの第1及び第2の側面によって位置決めできることから、第1及び第2の外部磁性体の搭載位置にズレが生じにくく、このため検出感度のばらつきも生じにくい。
 本発明において、第1の外部磁性体の第1の内面及び第2の外部磁性体の第3の内面は、第1の磁気ギャップに近づくにつれて第2の方向における幅が狭くなる形状を有していても構わない。これによれば、感磁素子に印加される磁束の密度をより高めることが可能となる。
 本発明において、第1の外部磁性体は、第1の内面と第2の内面が突き当たる角部が除去された構造を有し、第2の外部磁性体は、第3の内面と第4の内面が突き当たる角部が除去された構造を有していても構わない。これによれば、第1及び第2の側面を用いた第1及び第2の外部磁性体の位置決め精度が高められる。
 本発明による磁気センサは、第1のセンサチップ、第1の外部磁性体及び第2の外部磁性体が搭載された基板をさらに備え、第1のセンサチップは、第2の方向に対して垂直な第3の側面が基板と向かい合うよう搭載されていても構わない。これによれば、第1及び第2の外部磁性体が長い場合であっても安定して支持することができるとともに、第1のセンサチップと基板の接続配線距離を短縮することが可能となる。
 本発明による磁気センサは、基板に搭載され、第1のセンサチップの素子形成面の反対側に位置する裏面に配置された補助基板をさらに備えていても構わない。これによれば、第1のセンサチップが薄い場合であっても機械的強度が高められることから、第1のセンサチップの破損を防止することが可能となる。
 本発明による磁気センサは、第1及び第2の方向に延在する素子形成面と、第1の方向に対して垂直であり互いに平行な第4及び第5の側面とを有する第2のセンサチップと、第1の方向を長手方向とする第3及び第4の外部磁性体とをさらに備え、第2のセンサチップの素子形成面上には、第2の磁気ギャップを介して第1の方向に配列された第3及び第4の磁性体層と、第2の磁気ギャップによって形成される磁路上に配置され、第1の方向を感磁方向とする第2の感磁素子とが形成され、第3の外部磁性体は、第3の磁性体層と重なるよう素子形成面を覆う第5の内面と、第4の側面を覆う第6の内面を有し、第4の外部磁性体は、第4の磁性体層と重なるよう素子形成面を覆う第7の内面と、第5の側面を覆う第8の内面を有し、第1の感磁素子と第2の感磁素子の感度軸方向は互いに180°異なっていても構わない。これによれば、第1及び第2の感磁素子から差動信号を得ることが可能となる。
 この場合、第1のセンサチップと第2のセンサチップは、素子形成面の反対側に位置する裏面同士が向かい合うよう配置されても構わない。これによれば、互いに同一構造を有する第1及び第2のセンサチップを用いることが可能となる。さらにこの場合、第1のセンサチップの裏面及び第2のセンサチップの裏面と接するスペーサーをさらに備えていても構わないし、第1のセンサチップの裏面と第2のセンサチップの裏面が互いに接していても構わない。これらによれば、第1のセンサチップと第2のセンサチップの温度差を低減することが可能となる。
 このように、本発明によれば、検出感度のばらつきが少なく、且つ、高い検出感度を得ることが可能な磁気センサを提供することが可能となる。
図1は、本発明の第1の実施形態による磁気センサ1の外観を示す略斜視図である。 図2は、磁気センサ1を別の角度から見た部分的な略斜視図である。 図3は、磁気センサ1の略分解斜視図である。 図4は、磁気センサ1の略分解斜視図である。 図5は、磁気センサ1に補助基板120を追加した例を示す部分的な略斜視図である。 図6は、センサチップ100の構造を説明するための略斜視図である。 図7は、センサチップ100から磁性体層111,112を除去した状態を示す略斜視図である。 図8は、センサチップ100の主要部のxz断面図である。 図9は、磁気センサ1の主要部を拡大して示す略部分斜視図である。 図10は、磁気ギャップG1の幅及び突出部12,22のz方向における厚みと感磁素子R1に印加される磁束密度との関係を示すグラフである。 図11(a)は検出信号V1を得るための回路を示す回路図であり、図11(b)は検出信号V2,V3を得るための回路を示す回路図であり、 図12は、本発明の第2の実施形態による磁気センサ2の外観を示す略斜視図である。 図13は、磁気センサ2の部分的な略分解斜視図である。 図14は、磁気センサ2の部分的な略分解斜視図である。 図15(a)は検出信号V4を得るための回路を示す回路図であり、図15(b)は差動信号V5,V6を得るための回路を示す回路図であり、 図16は、磁気センサ2にスペーサー300を追加した例を示す部分的な略斜視図である。 図17は、本発明の第3の実施形態による磁気センサ3の外観を示す略斜視図である。 図18は、磁気センサ3の部分的な略分解斜視図である。
 以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施形態について詳細に説明する。
 図1は、本発明の第1の実施形態による磁気センサ1の外観を示す略斜視図である。また、図2は磁気センサ1を別の角度から見た部分的な略斜視図であり、図3及び図4は磁気センサ1の略分解斜視図である。
 図1~図4に示すように、第1の実施形態による磁気センサ1は、基板8と、基板8に搭載されたセンサチップ100及び外部磁性体10,20とを備えている。基板8はxz面を主面とし、主面にセンサチップ100及び外部磁性体10,20が搭載されている。センサチップ100は、yz面を構成し互いに反対側に位置する側面101,102と、xz面を構成し互いに反対側に位置する側面103,104と、xy面を構成し互いに反対側に位置する素子形成面105及び裏面106とを有している。センサチップ100は、側面103が基板8の主面と向かい合うよう、基板8に立てて搭載されている。
 外部磁性体10,20は、いずれもフェライトなどの高透磁率材料によって構成される。外部磁性体10は、x方向を長手方向とする棒状の本体部11と、本体部11のx方向における端部に設けられた突出部12からなる。同様に、外部磁性体20は、x方向を長手方向とする棒状の本体部21と、本体部21のx方向における端部に設けられた突出部22からなる。本体部11と突出部12は、一体的であっても構わないし、それぞれ別のブロックからなるものであっても構わない。本体部21と突出部22についても同様である。
 突出部12,22のz方向における厚みは、本体部11,21のz方向における厚みよりも薄い。これにより、突出部12にはxy面を構成する内面12aが形成され、本体部11のx方向における端部にはyz面を構成する内面11aが形成される。同様に、突出部22にはxy面を構成する内面22aが形成され、本体部21のx方向における端部にはyz面を構成する内面21aが形成される。
 そして、図2及び図4に示すように、センサチップ100の側面101が外部磁性体10の内面11aで覆われ、センサチップ100の側面102が外部磁性体20の内面21aに覆われるよう、基板8上においてセンサチップ100と外部磁性体10,20が位置決めされる。つまり、センサチップ100と外部磁性体10のx方向における位置関係は、センサチップ100の側面101を外部磁性体10の内面11aに当接させることによって固定され、センサチップ100と外部磁性体20のx方向における位置関係は、センサチップ100の側面102を外部磁性体20の内面21aに当接させることによって固定される。これにより、突出部12と突出部22の間に形成される磁気ギャップG1のx方向における距離が固定される。また、センサチップ100と外部磁性体10,20をx方向に位置決めすると、センサチップ100の素子形成面105が外部磁性体10の内面12a及び外部磁性体20の内面22aで覆われる。
 さらに、外部磁性体10の内面11aと内面12aが突き当たる角部には、溝13が形成されている。同様に、外部磁性体20の内面12aと内面22aが突き当たる角部には、溝23が形成されている。これは、加工精度などに起因して上記角部が丸みを帯びると、丸みを帯びた角部とセンサチップ100が干渉し、センサチップ100を正しく位置決めできないからであり、溝13,23によって上記角部を除去することによってセンサチップ100を正しく位置決めすることが可能となる。
 また、センサチップ100は、側面103が基板8と向かい合うよう立てて搭載されることから、センサチップ100の厚みが薄い場合、強度が不足するおそれがある。このような場合には、図5に示すように、センサチップ100の裏面106に補助基板120を設けることによって強度を確保しても構わない。補助基板120は、接着剤などを用いて、センサチップ100及び基板8に固定することができる。補助基板120の材料としては、センサチップ100と同じ材料を用いても構わない。
 図6は、センサチップ100の構造を説明するための略斜視図である。
 図6に示すように、センサチップ100の素子形成面105上には感磁素子R1、磁性体層111,112、端子電極T11~T14が形成されている。磁性体層111,112は、パーマロイなどのNiFe系材料からなる薄膜であり、磁性体層111,112からなる磁気ギャップG2によって形成される磁路上に感磁素子R1が配置されている。
 図7は、センサチップ100から磁性体層111,112を除去した状態を示す略斜視図である。
 図7に示すように、感磁素子R1は、素子形成面105上においてy方向に延在し、その一端が配線L1を介して端子電極T11に接続され、他端が配線L2を介して端子電極T12に接続されている。感磁素子R1は、磁束の向きによって電気抵抗が変化する素子であれば特に限定されず、例えばMR素子などを用いることができる。感磁素子R1の感度軸方向である固定磁化方向はx方向である。端子電極T13,T14は、図示しない補償コイルに接続される。補償コイルは、感磁素子R1に印加される磁界を打ち消すことによって、いわゆるクローズドループ制御を行うために用いられる。そして、本実施形態においては、センサチップ100の側面103が基板8と向かい合うよう、センサチップ100を立てて搭載していることから、端子電極T11~T14と基板8の配線距離を短縮することができる。これにより、ハンダなどを用いて、基板8に設けられたランドパターンと端子電極T11~T14を直接接続することが可能となる。
 図8は、センサチップ100の主要部のxz断面図である。
 図8に示すように、センサチップ100の素子形成面105には、感磁素子R1が形成されている。感磁素子R1は絶縁層107で覆われており、絶縁層107の表面に磁性体層111,112が形成されている。そして、平面視で(z方向から見て)、感磁素子R1は磁性体層111と磁性体層112の間に位置する。これにより、磁気ギャップG2を通過する磁界が感磁素子R1に印加される。つまり、感磁素子R1は、磁性体層111と磁性体層112によって形成される磁気ギャップG2の近傍であり、磁気ギャップG2を通過する検出対象磁界を検出可能な磁路上に配置される。このように、感磁素子R1を必ずしも2つの磁性体層111,112間に配置する必要はなく、磁性体層111,112からなる磁気ギャップG2を通過する磁界の少なくとも一部が感磁素子R1に印加されるような配置であれば足りる。磁気ギャップG2の幅と感磁素子R1の幅の関係については特に限定されない。図8に示す例では、磁気ギャップG2のx方向における幅G2xが感磁素子R1のx方向における幅Rxよりも狭く、これにより、z方向から見て磁性体層111,112と感磁素子R1が重なりOVを有している。磁気ギャップG2を通過する磁界のより多くを感磁素子R1に印加するためには、重なりOVにおける磁性体層111,112と感磁素子R1のz方向における距離ができるだけ近いことが望ましく、磁気ギャップG2のx方向における幅G2xよりも磁性体層111,112と感磁素子R1のz方向における距離が近いことがより望ましい。これにより、感磁素子R1が磁気ギャップG2を通過する磁界の主な磁路となる。
 図9は、磁気センサ1の主要部を拡大して示す略部分斜視図である。
 図9に示すように、センサチップ100と外部磁性体10,20をx方向に位置決めすると、磁性体層111は外部磁性体10の内面12aと重なり、磁性体層112は外部磁性体20の内面22aと重なる。これにより、例えば外部磁性体10の本体部11によって集磁したx方向の磁束は、外部磁性体10の突出部12を介して磁性体層111に流れる。磁性体層111に流れた磁束は、磁気ギャップG2を介して磁性体層112に流れ、さらに、外部磁性体20の突出部22を介して本体部21に流れる。そして、外部磁性体10,20によって集磁したx方向の磁束が磁気ギャップG2を流れる際、感磁素子R1にx方向の磁束が印加されることから、例えば感磁素子R1の抵抗値の変化に基づいて磁束の向き及び量を検出することができる。
 ここで、突出部12と突出部22によって形成される磁気ギャップG1のx方向における幅G1xは、磁性体層111と磁性体層112によって形成される磁気ギャップG2のx方向における幅G2xよりも十分に広いことが好ましい。これは、磁気ギャップG1の幅G1xが狭すぎると磁束が磁気ギャップG1間をバイパスし、感磁素子R1に印加される磁束が減少するからである。一例として、磁気ギャップG1の幅G1xは数百μm程度、磁気ギャップG2の幅G2xは数μm程度とすればよい。
 このように、本実施形態による磁気センサ1は、外部磁性体10,20によって集磁したx方向の磁束を曲げることなく、感度軸方向がx方向である感磁素子R1に印加することができることから、高い検出感度を得ることが可能となる。しかも、感磁素子R1が形成されたセンサチップ100と外部磁性体10,20がx方向に位置決めされることから、磁気ギャップG1の幅G1xにばらつきが生じにくく、これにより検出感度のばらつきを低減することができる。
 また、外部磁性体10の内面12aや外部磁性体20の内面22aは、磁気ギャップG2に近づくにつれてy方向における幅が狭くなる形状を有していることから、感磁素子R1に印加される磁束密度をより高めることが可能となる。但し、外部磁性体10,20がこのような形状を有している点は必須でなく、内面12a,22aのy方向における幅が一定であっても構わない。これによれば、外部磁性体10,20の作製が容易となる。
 図10は、磁気ギャップG1の幅及び突出部12,22のz方向における厚みと感磁素子R1に印加される磁束密度との関係を示すグラフである。
 図10に示すように、磁気ギャップG1が0.6mm以下の領域では磁気ギャップG1が狭いほど感磁素子R1に印加される磁束密度が高くなる。これは、磁気ギャップG1が狭いほど磁気抵抗が低くなるからである。一方、磁気ギャップG1が0.6mm未満になると、磁気ギャップG1が狭いほど感磁素子R1に印加される磁束密度が急速に低下する。これは、磁気ギャップG1が狭すぎると、外部磁性体10,20間において磁束がバイパスし、感磁素子R1に印加される磁束が減少するからである。また、突出部12,22のz方向における厚みについては、薄いほど感磁素子R1に印加される磁束密度が高くなる。これは、突出部12,22のz方向における厚みが薄いほど、外部磁性体10,20間における磁束のバイパスが生じにくくなるからである。
 図11(a)に示すように、感磁素子R1と固定抵抗R10を電源間に直列に接続することにより、両者の接続点から検出信号V1を得ることができる。固定抵抗R10は、センサチップ100の素子形成面105に設けても構わないし、基板8に設けても構わない。固定抵抗R10をセンサチップ100の素子形成面105に設ける場合、感磁素子R1と同じ構成を有し、磁界によって抵抗値が変化しないダミー素子を固定抵抗R10として用いても構わない。また、図11(b)に示すように、感磁素子R1と固定抵抗R11~R13をブリッジ接続することによって検出信号V2,V3が得られるよう構成しても構わない。
 図12は、本発明の第2の実施形態による磁気センサ2の外観を示す略斜視図である。また、図13及び図14は磁気センサ2の部分的な略分解斜視図である。
 図12~図14に示すように、第2の実施形態による磁気センサ2は、基板8に搭載されたセンサチップ200及び外部磁性体30,40をさらに備えている点において、第1の実施形態による磁気センサ1と相違している。その他の基本的な構成については、第1の実施形態による磁気センサ1と同一であることから、同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
 センサチップ200は、センサチップ100と同じ構造を有し、yz面を構成し互いに反対側に位置する側面201,202と、xz面を構成し互いに反対側に位置する側面203,204と、xy面を構成し互いに反対側に位置する素子形成面205及び裏面206とを有している。センサチップ200は、側面203が基板8の主面と向かい合うよう、基板8に搭載されている。
 外部磁性体30,40は、いずれもフェライトなどの高透磁率材料によって構成され、それぞれ外部磁性体20,10と同じ構造を有している。外部磁性体30は、x方向を長手方向とする棒状の本体部31と、本体部31のx方向における端部に設けられた突出部32からなる。同様に、外部磁性体40は、x方向を長手方向とする棒状の本体部41と、本体部41のx方向における端部に設けられた突出部42からなる。そして、外部磁性体10,40はz方向に配列され、外部磁性体20,30はz方向に配列される。本実施形態においては、外部磁性体10,40の本体部11,41のz方向における厚みは、外部磁性体20,30の本体部21,31のz方向における厚みよりも厚い。外部磁性体10,40の本体部11,41が互い接しているのに対し、外部磁性体20,30の本体部21,31は互いにz方向に離間している。外部磁性体10,40については、単一のブロックからなるものであっても構わない。このような構成により、外部磁性体10,40の+x方向における先端部を検出ヘッドとし、x方向における磁束を集磁することができる。
 そして、図13及び図14に示すように、センサチップ200の側面201が外部磁性体30の内面31aで覆われ、センサチップ200の側面202が外部磁性体40の内面41aで覆われるよう、基板8上においてセンサチップ200と外部磁性体30,40が位置決めされる。つまり、センサチップ200と外部磁性体30のx方向における位置関係は、センサチップ200の側面201を外部磁性体30の内面31aに当接させることによって固定され、センサチップ200と外部磁性体40のx方向における位置関係は、センサチップ200の側面202を外部磁性体40の内面41aに当接させることによって固定される。これにより、突出部32と突出部42の間に形成される磁気ギャップのx方向における距離が固定される。また、センサチップ200と外部磁性体30,40をx方向に位置決めすると、センサチップ200の素子形成面205が外部磁性体30の内面32a及び外部磁性体40の内面42aで覆われる。
 センサチップ200の素子形成面205上には感磁素子R2、磁性体層211,212が形成されている。磁性体層211,212は、パーマロイなどのNiFe系材料からなる薄膜であり、磁性体層211,212からなる磁気ギャップによって形成される磁路上に感磁素子R2が配置されている。そして、センサチップ200と外部磁性体30,40をx方向に位置決めすると、磁性体層211は外部磁性体30の内面32aと重なり、磁性体層212は外部磁性体40の内面42aと重なる。
 そして、センサチップ100とセンサチップ200は、裏面106,206同士が向かい合うよう配置されている。これにより、感磁素子R1と感磁素子R2の感度軸方向は、互いに180°異なることになる。例えば、感磁素子R1の感度軸方向が+x方向であれば、感磁素子R2の感度軸方向は-x方向となる。このため、図15(a)に示すように、感磁素子R1と感磁素子R2を電源間に直列に接続することにより、両者の接続点からより振幅の大きい検出信号V4を得ることができる。また、図15(b)に示すように、感磁素子R1,R2と固定抵抗R14,R15をブリッジ接続することによって差動信号V5,V6が得られるよう構成しても構わない。さらに、感磁素子R1,R2をそれぞれブリッジ接続することによってダブルフルブリッジを構成しても構わない。
 また、図16に示すように、センサチップ100とセンサチップ200の間に、裏面106,206と接するスペーサー300を設けても構わない。これによれば、スペーサー300を介した熱伝導により、センサチップ100とセンサチップ200の温度差が小さくなることから、温度差に起因する測定誤差を低減することが可能となる。しかも、センサチップ100,200の裏面106,206がスペーサー300で覆われることから、全体の機械的強度も高められる。
 図17は、本発明の第3の実施形態による磁気センサ3の外観を示す略斜視図である。また、図18は磁気センサ3の部分的な略分解斜視図である。
 図17及び図18に示すように、第3の実施形態による磁気センサ3は、センサチップ100の裏面106とセンサチップ200の裏面206が互いに接しているとともに、外部磁性体20,30の本体部21,31が接している点において、第2の実施形態による磁気センサ2と相違している。その他の基本的な構成については、第2の実施形態による磁気センサ2と同一であることから、同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
 第3の実施形態による磁気センサ3のように、センサチップ100,200の裏面106,206を互いに接触させれば、センサチップ100とセンサチップ200の温度差がより小さくなることから、温度差に起因する測定誤差をより低減することが可能となる。本実施形態においても、外部磁性体10,40が単一のブロックからなるものであっても構わないし、外部磁性体20,30が単一のブロックからなるものであっても構わない。
 以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、上記の実施形態に限定されることなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
1~3  磁気センサ
8  基板
10,20,30,40  外部磁性体
11,21,31,41  本体部
12,22,32,42  突出部
11a,12a,21a,22a,31a,32a,41a,42a  内面
13,23  溝
100,200  センサチップ
101~104,201~204  側面
105,205  素子形成面
106,206  裏面
107  絶縁層
111,112,211,212  磁性体層
120  補助基板
300  スペーサー
G1,G2  磁気ギャップ
L1,L2  配線
R1,R2  感磁素子
R10~R15  固定抵抗
T11~T14  端子電極

Claims (9)

  1.  第1の方向及び前記第1の方向に対して垂直な第2の方向に延在する素子形成面と、前記第1の方向に対して垂直であり互いに平行な第1及び第2の側面とを有する第1のセンサチップと、
     前記第1の方向を長手方向とする第1及び第2の外部磁性体と、を備え、
     前記素子形成面上には、第1の磁気ギャップを介して前記第1の方向に配列された第1及び第2の磁性体層と、前記第1の磁気ギャップによって形成される磁路上に配置され、前記第1の方向を感磁方向とする第1の感磁素子とが形成され、
     前記第1の外部磁性体は、前記第1の磁性体層と重なるよう前記素子形成面を覆う第1の内面と、前記第1の側面を覆う第2の内面を有し、
     前記第2の外部磁性体は、前記第2の磁性体層と重なるよう前記素子形成面を覆う第3の内面と、前記第2の側面を覆う第4の内面を有することを特徴とする磁気センサ。
  2.  前記第1の外部磁性体の前記第1の内面及び前記第2の外部磁性体の前記第3の内面は、前記第1の磁気ギャップに近づくにつれて前記第2の方向における幅が狭くなる形状を有していることを特徴とする請求項1に記載の磁気センサ。
  3.  前記第1の外部磁性体は、前記第1の内面と前記第2の内面が突き当たる角部が除去された構造を有し、
     前記第2の外部磁性体は、前記第3の内面と前記第4の内面が突き当たる角部が除去された構造を有していることを特徴とする請求項1に記載の磁気センサ。
  4.  前記第1のセンサチップ、前記第1の外部磁性体及び前記第2の外部磁性体が搭載された基板をさらに備え、
     前記第1のセンサチップは、前記第2の方向に対して垂直な第3の側面が前記基板と向かい合うよう搭載されていることを特徴とする請求項1に記載の磁気センサ。
  5.  前記基板に搭載され、前記第1のセンサチップの前記素子形成面の反対側に位置する裏面に配置された補助基板をさらに備えることを特徴とする請求項4に記載の磁気センサ。
  6.  前記第1及び第2の方向に延在する素子形成面と、前記第1の方向に対して垂直であり互いに平行な第4及び第5の側面とを有する第2のセンサチップと、
     前記第1の方向を長手方向とする第3及び第4の外部磁性体と、をさらに備え、
     前記第2のセンサチップの前記素子形成面上には、第2の磁気ギャップを介して前記第1の方向に配列された第3及び第4の磁性体層と、前記第2の磁気ギャップによって形成される磁路上に配置され、前記第1の方向を感磁方向とする第2の感磁素子とが形成され、
     前記第3の外部磁性体は、前記第3の磁性体層と重なるよう前記素子形成面を覆う第5の内面と、前記第4の側面を覆う第6の内面を有し、
     前記第4の外部磁性体は、前記第4の磁性体層と重なるよう前記素子形成面を覆う第7の内面と、前記第5の側面を覆う第8の内面を有し、
     前記第1の感磁素子と前記第2の感磁素子の感度軸方向は、互いに180°異なっていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の磁気センサ。
  7.  前記第1のセンサチップと前記第2のセンサチップは、前記素子形成面の反対側に位置する裏面同士が向かい合うよう配置されることを特徴とする請求項6に記載の磁気センサ。
  8.  前記第1のセンサチップの前記裏面及び前記第2のセンサチップの前記裏面と接するスペーサーをさらに備えることを特徴とする請求項7に記載の磁気センサ。
  9.  前記第1のセンサチップの前記裏面と前記第2のセンサチップの前記裏面が互いに接することを特徴とする請求項7に記載の磁気センサ。
PCT/JP2022/024685 2021-07-30 2022-06-21 磁気センサ WO2023007989A1 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021-125510 2021-07-30
JP2021125510A JP2023020249A (ja) 2021-07-30 2021-07-30 磁気センサ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2023007989A1 true WO2023007989A1 (ja) 2023-02-02

Family

ID=85086604

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2022/024685 WO2023007989A1 (ja) 2021-07-30 2022-06-21 磁気センサ

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2023020249A (ja)
WO (1) WO2023007989A1 (ja)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100271018A1 (en) * 2009-04-24 2010-10-28 Seagate Technology Llc Sensors for minute magnetic fields
JP2016164549A (ja) * 2015-02-26 2016-09-08 エスアイアイ・セミコンダクタ株式会社 磁気センサおよびその製造方法
WO2018216651A1 (ja) * 2017-05-23 2018-11-29 Tdk株式会社 磁気センサ
JP2019215311A (ja) * 2018-06-07 2019-12-19 Tdk株式会社 磁気センサ
JP2020187084A (ja) * 2019-05-17 2020-11-19 Tdk株式会社 磁気センサ
JP2021105601A (ja) * 2019-12-27 2021-07-26 Tdk株式会社 磁気センサ

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100271018A1 (en) * 2009-04-24 2010-10-28 Seagate Technology Llc Sensors for minute magnetic fields
JP2016164549A (ja) * 2015-02-26 2016-09-08 エスアイアイ・セミコンダクタ株式会社 磁気センサおよびその製造方法
WO2018216651A1 (ja) * 2017-05-23 2018-11-29 Tdk株式会社 磁気センサ
JP2019215311A (ja) * 2018-06-07 2019-12-19 Tdk株式会社 磁気センサ
JP2020187084A (ja) * 2019-05-17 2020-11-19 Tdk株式会社 磁気センサ
JP2021105601A (ja) * 2019-12-27 2021-07-26 Tdk株式会社 磁気センサ

Also Published As

Publication number Publication date
JP2023020249A (ja) 2023-02-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5012939B2 (ja) 電流センサ
JP4877095B2 (ja) 電流センサおよびその製造方法
JP5066579B2 (ja) 磁気センサ及び磁気センサモジュール
JP5888402B2 (ja) 磁気センサ素子
CN110709720B (zh) 磁传感器
JP2018004618A (ja) 磁気センサ
WO2019167598A1 (ja) 磁気センサ
CN112005126A (zh) 磁传感器
CN112904246B (zh) 磁传感器
CN111198341B (zh) 磁传感器及位置检测装置
JP7095350B2 (ja) 磁気センサ
WO2023007989A1 (ja) 磁気センサ
JP2020134419A (ja) 磁気センサ及びその製造方法
WO2011111747A1 (ja) 磁気検出素子を備えた電流センサ
CN108780130B (zh) 磁传感器
JP2019144116A (ja) 磁気センサ
JP2022046892A (ja) 磁気センサ
WO2024047726A1 (ja) 磁気センサ
CN116609712A (zh) 磁传感器
WO2023162157A1 (ja) センサチップ及びこれを備えた磁気センサ、並びに、磁気センサの製造方法
WO2022030502A1 (ja) 磁気センサ及びその製造方法
JP2022143682A (ja) 磁気センサ
JP2021101168A (ja) 磁気センサ
JP7070020B2 (ja) 磁路形成部材及びこれを用いた磁気センサ
JP2022142942A (ja) 磁気センサ

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 22849065

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE