WO2022225002A1 - トリアジン環含有重合体、及びそれを含む膜形成用組成物 - Google Patents

Abstract

下記式（１）で表される繰り返し単位構造を含むトリアジン環含有重合体。（式中、ＲおよびＲ'は、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を表し、Ｑは、環構造を有する炭素数３～３０の２価の基を表し、Ｚは、架橋基（水酸基、カルボキシ基、及びマレイミド基からなる群から選択される少なくとも１種を有するアリール基を除く。）を有するアミノ基を表す。＊は結合手を表す。）

Description

トリアジン環含有重合体、及びそれを含む膜形成用組成物

　本発明は、トリアジン環含有重合体、及びそれを含む膜形成用組成物に関する。

　近年、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子（有機ＥＬディスプレイや有機ＥＬ照明）、タッチパネル、光半導体（発光ダイオード（ＬＥＤ）等）素子、固体撮像素子、有機薄膜太陽電池、色素増感太陽電池、および有機薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等の電子デバイスを開発する際に、高機能な高分子材料が要求されるようになってきた。
　求められる具体的な特性としては、１）耐熱性、２）透明性、３）高屈折率、４）高溶解性、５）低体積収縮率、６）高温高湿耐性、７）高膜硬度などが挙げられる。
　この点に鑑み、本出願人は、トリアジン環および芳香環を有する繰り返し単位を含む重合体が高屈折率を有し、ポリマー単独で高耐熱性、高透明性、高屈折率、高溶解性、低体積収縮を達成でき、電子デバイスを作製する際の膜形成用組成物として好適であることを既に見出している（特許文献１）。
　また、本出願人は、トリアジン環および芳香環を有する繰り返し単位を含む線状ポリマーが、それ単独で高耐熱性、高透明性、高屈折率、高溶解性を達成できることを見出している（特許文献２）。

　ところで、有機ＥＬ照明における、平坦化層や光散乱層などでは、高屈折率材料を有機溶媒に溶かした組成物を用い、塗布法によって薄膜を作製することが一般的であるが、透明導電膜の種類によっては高極性の溶媒を使用することができない場合があった。
　また、塗布装置を用いて高屈折ポリマーを含む膜形成用組成物を塗布した後に、装置のライン洗浄溶媒として低極性溶媒等が用いられることがあり、そのような溶媒に対する溶解性が低いポリマーであると、ラインが目詰まりしてしまうという問題が生じることもあった。さらに、電子デバイスの製造時において薄膜が溶剤に暴露される際、条件によっては作製した薄膜にクラックが発生することがあり、その耐久性についてもさらなる改善が求められている。

国際公開第２０１０／１２８６６１号 国際公開第２０１２／０２９６１７号

　本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、高透明性、及び高屈折率を有しつつ、高い耐溶剤性を持つ硬化膜を形成できるトリアジン環含有重合体を提供することを目的とする。

　本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、トリアジン環及び架橋基を有する繰り返し単位を含む線状ポリマーが、高透明性、及び高屈折率を有しつつ、高い耐溶剤性を持つ硬化膜を形成できることを見出し、本発明を完成した。

　すなわち、本発明は、下記のトリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物を提供する。
　［１］　下記式（１）で表される繰り返し単位構造を含むことを特徴とするトリアジン環含有重合体。

（式（１）中、ＲおよびＲ’は、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を表し、Ｑは、環構造を有する炭素数３～３０の２価の基を表し、Ｚは、架橋基（ただし、水酸基、カルボキシ基、及びマレイミド基からなる群から選択される少なくとも１種を有するアリール基を除く。）を有するアミノ基を表す。＊は結合手を表す。）
　［２］　前記式（１）中Ｑが、式（２）～（１３）及び式（１０２）～（１１５）で示される群から選ばれる少なくとも１種を表す、［１］に記載のトリアジン環含有重合体。

〔式（２）～式（１３）中、Ｒ^１～Ｒ^９２は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基、または炭素数１～１０のアルコキシ基を表し、
　Ｒ^９３およびＲ^９４は、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表し、
　Ｗ^１およびＷ^２は、互いに独立して、単結合、ＣＲ^９５Ｒ^９６（Ｒ^９５およびＲ^９６は、互いに独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基（ただし、これらは一緒になって環を形成していてもよい。）、または炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基を表す。）、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ_２、またはＮＲ^９７（Ｒ^９７は、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基またはフェニル基を表す。）を表し、
　Ｘ^１およびＸ^２は、互いに独立して、単結合、炭素数１～１０のアルキレン基、または式（１４）

（式（１４）中、Ｒ^９８～Ｒ^１０１は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基、または炭素数１～１０のアルコキシ基を表し、
　Ｙ^１およびＹ^２は、互いに独立して、単結合または炭素数１～１０のアルキレン基を表す。）で示される基を表す。
　＊は結合手を表す。〕

（式（１０２）～式（１１５）中、Ｒ^１およびＲ^２は、互いに独立して、分岐構造を有していてもよい炭素数１～５のアルキレン基を表す。＊は結合手を表す。）
　［３］　前記式（２）～（１３）における前記Ｒ^１～Ｒ^９２およびＲ^９８～Ｒ^１０１が、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子または炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基である［２］に記載のトリアジン環含有重合体。
　［４］　前記Ｚが、式（１５）で示される［１］～［３］のいずれかに記載のトリアジン環含有重合体。

（式（１５）中、Ｒ^１０２は、前記架橋基を表す。＊は結合手を表す。）
　［５］　前記Ｚが、式（１６）で示される［４］に記載のトリアジン環含有重合体。

（式（１６）中、Ｒ^１０２は、上記と同じ意味を表す。＊は結合手を表す。）
　［６］　前記Ｒ^１０２が、ヒドロキシ含有基または（メタ）アクリロイル含有基である［４］又は［５］に記載のトリアジン環含有重合体。
　［７］　前記Ｒ^１０２が、ヒドロキシアルキル基、（メタ）アクリロイルオキシアルキル基または下記式（ｉ）で表される基である［６］に記載のトリアジン環含有重合体。

（式（ｉ）中、Ａ^１は、炭素数１～１０のアルキレン基を表し、Ａ^２は、単結合または下記式（ｊ）

で表される基を表し、Ａ^３は、ヒドロキシ基で置換されてもよい（ａ＋１）価の脂肪族炭化水素基を表し、Ａ^４は、水素原子またはメチル基を表し、ａは、１または２を表し、＊は結合手を表す。）
　［８］　前記Ｒ^１０２が、ヒドロキシメチル基、２－ヒドロキシエチル基、（メタ）アクリロイルオキシメチル基、（メタ）アクリロイルオキシエチル基、および下記式（ｉ－２）～式（ｉ－５）で表される基から選ばれる基である［７］に記載のトリアジン環含有重合体。

（式（ｉ－２）～式（ｉ－５）中、＊は結合手を表す。）
　［９］　前記式（１）中Ｑが、式（１７）で示される［１］～［８］のいずれかに記載のトリアジン環含有重合体。

（式（１７）中、＊は結合手を表す。）
　［１０］　［１］～［９］のいずれかに記載のトリアジン環含有重合体を含む膜形成用組成物。
　［１１］　さらに架橋剤を含む［１０］に記載の膜形成用組成物。
　［１２］　前記架橋剤が、多官能（メタ）アクリル化合物である［１１］に記載の膜形成用組成物。
　［１３］　さらに有機溶媒を含む［１０］～［１２］のいずれかに記載の膜形成用組成物。
　［１４］　前記有機溶媒が、グリコールエステル系溶媒、ケトン系溶媒、およびエステル系溶媒から選ばれる少なくとも１種を含む［１３］に記載の膜形成用組成物。
　［１５］　［１０］～［１４］のいずれかに記載の膜形成用組成物から得られる膜。
　［１６］　基材と、前記基材上に形成された［１５］に記載の膜とを備える電子デバイス。
　［１７］　基材と、前記基材上に形成された［１５］に記載の膜とを備える光学部材。

　本発明によれば、高透明性、及び高屈折率を有しつつ、高い耐溶剤性を持つ硬化膜を形成できるトリアジン環含有重合体を提供できる。
　本発明の膜形成用組成物から作製された膜は、高耐熱性、高屈折率、耐溶剤性（耐クラック性）という特性を発揮し得るため、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ素子（有機ＥＬディスプレイや有機ＥＬ照明）、タッチパネル、光半導体素子、固体撮像素子、有機薄膜太陽電池、色素増感太陽電池、有機薄膜トランジスタ、レンズ、プリズム、カメラ、双眼鏡、顕微鏡、半導体露光装置等を作製する際の一部材など、電子デバイスや光学材料の分野に好適に利用できる。
　特に、本発明の膜形成用組成物から作製された膜は透明性が高く、屈折率や耐溶剤性（耐クラック性）も高いため、有機ＥＬ照明の平坦化層や光散乱層として使用することで、その光取出し効率（光拡散効率）を改善することができるとともに、その耐久性を改善することができる。

実施例１－１で得られた高分子化合物［４］の¹Ｈ－ＮＭＲスペクトル図である。 実施例２－１における硬化膜の溶剤暴露前における表面を観察した光学顕微鏡写真である。 実施例２－１における硬化膜の溶剤暴露後における表面を観察した光学顕微鏡写真である。

　以下、本発明についてさらに詳しく説明する。
（トリアジン環含有重合体）
　トリアジン環含有重合体は、下記式（１）で表される繰り返し単位構造を含むものである。
　トリアジン環含有重合体は、いわゆる線状ポリマーである。
　トリアジン環含有重合体においては、繰り返し単位構造が、本質的に式（１）で表される繰り返し単位構造のみからであってもよい。

＜式（１）＞

　＊は結合手を表す。

＜＜Ｒ、及びＲ’＞＞
　上記式中、ＲおよびＲ’は、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を表すが、屈折率をより高めるという観点から、ともに水素原子であることが好ましい。
　本発明において、アルキル基の炭素数としては特に限定されるものではないが、１～２０が好ましく、ポリマーの耐熱性をより高めることを考慮すると、アルキル基の炭素数としては、１～１０がより好ましく、１～３がより一層好ましい。また、アルキル基の構造は、特に限定されず、例えば、直鎖状、分岐状、環状、およびこれらの２以上の組み合わせのいずれでもよい。

　アルキル基の具体例としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル、シクロブチル、１－メチル－シクロプロピル、２－メチル－シクロプロピル、ｎ－ペンチル、１－メチル－ｎ－ブチル、２－メチル－ｎ－ブチル、３－メチル－ｎ－ブチル、１，１－ジメチル－ｎ－プロピル、１，２－ジメチル－ｎ－プロピル、２，２－ジメチル－ｎ－プロピル、１－エチル－ｎ－プロピル、シクロペンチル、１－メチル－シクロブチル、２－メチル－シクロブチル、３－メチル－シクロブチル、１，２－ジメチル－シクロプロピル、２，３－ジメチル－シクロプロピル、１－エチル－シクロプロピル、２－エチル－シクロプロピル、ｎ－ヘキシル、１－メチル－ｎ－ペンチル、２－メチル－ｎ－ペンチル、３－メチル－ｎ－ペンチル、４－メチル－ｎ－ペンチル、１，１－ジメチル－ｎ－ブチル、１，２－ジメチル－ｎ－ブチル、１，３－ジメチル－ｎ－ブチル、２，２－ジメチル－ｎ－ブチル、２，３－ジメチル－ｎ－ブチル、３，３－ジメチル－ｎ－ブチル、１－エチル－ｎ－ブチル、２－エチル－ｎ－ブチル、１，１，２－トリメチル－ｎ－プロピル、１，２，２－トリメチル－ｎ－プロピル、１－エチル－１－メチル－ｎ－プロピル、１－エチル－２－メチル－ｎ－プロピル、シクロヘキシル、１－メチル－シクロペンチル、２－メチル－シクロペンチル、３－メチル－シクロペンチル、１－エチル－シクロブチル、２－エチル－シクロブチル、３－エチル－シクロブチル、１，２－ジメチル－シクロブチル、１，３－ジメチル－シクロブチル、２，２－ジメチル－シクロブチル、２，３－ジメチル－シクロブチル、２，４－ジメチル－シクロブチル、３，３－ジメチル－シクロブチル、１－ｎ－プロピル－シクロプロピル、２－ｎ－プロピル－シクロプロピル、１－イソプロピル－シクロプロピル、２－イソプロピル－シクロプロピル、１，２，２－トリメチル－シクロプロピル、１，２，３－トリメチル－シクロプロピル、２，２，３－トリメチル－シクロプロピル、１－エチル－２－メチル－シクロプロピル、２－エチル－１－メチル－シクロプロピル、２－エチル－２－メチル－シクロプロピル、２－エチル－３－メチル－シクロプロピル基等が挙げられる。

　上記アルコキシ基の炭素数としては特に限定されるものではないが、１～２０が好ましく、ポリマーの耐熱性をより高めることを考慮すると、アルコキシ基の炭素数としては、１～１０がより好ましく、１～３がより一層好ましい。また、そのアルキル部分の構造は、特に限定されず、例えば、直鎖状、分岐状、環状、およびこれらの２以上の組み合わせのいずれでもよい。

　アルコキシ基の具体例としては、メトキシ、エトキシ、ｎ－プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ－ブトキシ、イソブトキシ、ｓ－ブトキシ、ｔ－ブトキシ、ｎ－ペントキシ、１－メチル－ｎ－ブトキシ、２－メチル－ｎ－ブトキシ、３－メチル－ｎ－ブトキシ、１，１－ジメチル－ｎ－プロポキシ、１，２－ジメチル－ｎ－プロポキシ、２，２－ジメチル－ｎ－プロポキシ、１－エチル－ｎ－プロポキシ、ｎ－ヘキシルオキシ、１－メチル－ｎ－ペンチルオキシ、２－メチル－ｎ－ペンチルオキシ、３－メチル－ｎ－ペンチルオキシ、４－メチル－ｎ－ペンチルオキシ、１，１－ジメチル－ｎ－ブトキシ、１，２－ジメチル－ｎ－ブトキシ、１，３－ジメチル－ｎ－ブトキシ、２，２－ジメチル－ｎ－ブトキシ、２，３－ジメチル－ｎ－ブトキシ、３，３－ジメチル－ｎ－ブトキシ、１－エチル－ｎ－ブトキシ、２－エチル－ｎ－ブトキシ、１，１，２－トリメチル－ｎ－プロポキシ、１，２，２－トリメチル－ｎ－プロポキシ、１－エチル－１－メチル－ｎ－プロポキシ、１－エチル－２－メチル－ｎ－プロポキシ基等が挙げられる。

　上記アリール基の炭素数としては特に限定されるものではないが、６～４０が好ましく、ポリマーの耐熱性をより高めることを考慮すると、アリール基の炭素数としては、６～１６がより好ましく、６～１３がより一層好ましい。
　本発明において上記アリール基には、置換基を有するアリール基が含まれる。置換基としては、例えば、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基などが挙げられる。
　アリール基の具体例としては、フェニル、ｏ－クロルフェニル、ｍ－クロルフェニル、ｐ－クロルフェニル、ｏ－フルオロフェニル、ｐ－フルオロフェニル、ｏ－メトキシフェニル、ｐ－メトキシフェニル、ｐ－ニトロフェニル、ｐ－シアノフェニル、α－ナフチル、β－ナフチル、ｏ－ビフェニリル、ｍ－ビフェニリル、ｐ－ビフェニリル、１－アントリル、２－アントリル、９－アントリル、１－フェナントリル、２－フェナントリル、３－フェナントリル、４－フェナントリル、９－フェナントリル基等が挙げられる。

　アラルキル基の炭素数としては特に限定されるものではないが、炭素数７～２０が好ましく、そのアルキル部分の構造は、特に限定されず、例えば、直鎖、分岐、環状、およびこれらの２以上の組み合わせのいずれでもよい。
　本発明において、アラルキル基には、置換基を有するアラルキル基が含まれる。置換基としては、例えば、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基などが挙げられる。
　その具体例としては、ベンジル、ｐ－メチルフェニルメチル、ｍ－メチルフェニルメチル、ｏ－エチルフェニルメチル、ｍ－エチルフェニルメチル、ｐ－エチルフェニルメチル、２－プロピルフェニルメチル、４－イソプロピルフェニルメチル、４－イソブチルフェニルメチル、α－ナフチルメチル基等が挙げられる。

＜＜Ｑ＞＞
　式（１）中のＱとしては、環構造を有する炭素数３～３０の２価の基であれば特に限定されるものではない。
　環構造は、芳香族環構造であってもよいし、脂環構造であってもよい。

　上記Ｑは、好ましくは、式（２）～（１３）で示される群から選ばれる少なくとも１種を表す。

　＊は結合手を表す。

　上記Ｒ^１～Ｒ^９２は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基、または炭素数１～１０のアルコキシ基を表し、
　Ｒ^９３およびＲ^９４は、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表し、
　Ｗ^１およびＷ^２は、互いに独立して、単結合、ＣＲ^９５Ｒ^９６（Ｒ^９５およびＲ^９６は、互いに独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基（ただし、これらは一緒になって環を形成していてもよい。）、または炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基を表す。）、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ_２、またはＮＲ^９７（Ｒ^９７は、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基またはフェニル基を表す。）を表す。
　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
　なお、アルキル基、アルコキシ基としては上記と同様のものが挙げられる。

　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
　なお、アルキル基、アルコキシ基としては、Ｒ，Ｒ’におけるアルキル基、アルコキシ基と同様のものが挙げられる。

　炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基は、上記炭素数１～１０のアルキル基中の水素原子の少なくとも１つをハロゲン原子で置換したものであり、その具体例としては、例えば、トリフルオロメチル、２，２，２－トリフルオロエチル、パーフルオロエチル、３，３，３－トリフルオロプロピル、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル、２，２，２－トリフルオロ－１－（トリフルオロメチル）エチル、パーフルオロプロピル、４，４，４－トリフルオロブチル、３，３，４，４，４－ペンタフルオロブチル、２，２，３，３，４，４，４－ヘプタフルオロブチル、パーフルオロブチル、２，２，３，３，４，４，５，５，５－ノナフルオロペンチル、２，２，３，３，４，４，５，５－オクタフルオロペンチル、パーフルオロペンチル、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６－ウンデカフルオロヘキシル、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－デカフルオロヘキシル、３，３，４，４，５，５，６，６，６－ノナフルオロヘキシル、およびパーフルオロヘキシル基が挙げられる。本発明では、屈折率を維持しつつトリアジン環含有重合体の低極性溶媒等に対する溶解性を高めることを考慮すると、炭素数１～１０のパーフルオロアルキル基が好ましく、特に、炭素数１～５のパーフルオロアルキル基がより好ましく、トリフルオロメチル基がより一層好ましい。

　また、Ｘ^１およびＸ^２は、互いに独立して、単結合、炭素数１～１０のアルキレン基、または式（１４）で示される基を表す。
　これらのアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、及びアルキレン基の構造は、特に限定されず、例えば、直鎖状、分岐状、環状、およびこれらの２以上の組み合わせのいずれでもよい。

　＊は結合手を表す。

　上記Ｒ^９８～Ｒ^１０１は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基、または炭素数１～１０のアルコキシ基を表し、
　Ｙ^１およびＹ^２は、互いに独立して、単結合または炭素数１～１０のアルキレン基を表す。
　これらハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基としては、Ｒ^１～Ｒ^９２におけるハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基と同様のものが挙げられる。

　炭素数１～１０のアルキレン基としては、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン基等が挙げられる。
　上記アルキレン基の構造は、特に限定されず、例えば、直鎖状、分岐状、環状、およびこれらの２以上の組み合わせのいずれでもよい。

　これらの中でも、Ｒ^１～Ｒ^９２およびＲ^９８～Ｒ^１０１としては、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のハロゲン化アルキル基、または炭素数１～５のアルコキシ基が好ましく、水素原子がより好ましい。

　本発明のトリアジン環含有重合体は、Ａが芳香族環を含む場合、上記Ａに含まれる芳香族環の中の、少なくとも１つの芳香族環中にハロゲン原子または炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基を少なくとも１つ含有することが好ましい。一般的に、化合物にフッ素原子を導入することで、その屈折率は低下する傾向にあることが知られているが、本発明のトリアジン環含有重合体は、フッ素原子が導入されているにもかかわらず、１．７を超える屈折率を維持している。芳香族環中のハロゲン原子またはハロゲン化アルキル基の数は、当該芳香族環上に置換可能な任意の数とすることができるが、屈折率維持と溶媒に対する溶解性とのバランスを考慮すると、１～４個が好ましく、１～２個がより好ましく、１個がより一層好ましい。なお、芳香族環がナフタレン環などの複数の芳香族環が縮環したものである場合は、全体として少なくとも１つの上記基を有していればよい。
　また、Ａが複数の芳香族環を含む場合、少なくとも１つの芳香族環中にハロゲン原子またはハロゲン化アルキル基を少なくとも１つ含有していればよいが、全ての芳香族環がハロゲン原子またはハロゲン化アルキル基を少なくとも１つ含有していることが好ましく、全ての芳香族環がハロゲン原子またはハロゲン化アルキル基を１つ含有していることがより好ましい。

　特に、Ｑとしては、式（２）、（５）～（１３）で示される少なくとも１種が好ましく、式（２）、（５）、（７）、（８）、（１１）～（１３）で示される少なくとも１種がより好ましい。上記式（２）～（１３）で表される２価の基の具体例としては、下記式で示されるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

　「Ｐｈ」はフェニル基を表す。＊は結合手を表す。

　（式中、Ａは、互いに独立して、ハロゲン原子または炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基を表し、ｐは、互いに独立して、０～４の整数、ｑは、互いに独立して、０～３の整数、ｒは、互いに独立して、０～２の整数、ｓは、互いに独立して、０～５の整数、ｔは１～６の整数、ｕは１～４の整数を表す。ただし、それぞれの基において、ｐ、ｑ、ｒ、ｓの合計は１以上である。「Ｐｈ」はフェニル基を表す。＊は結合手を表す。）

　これらの中でも、より高い屈折率のポリマーが得られることから、Ｑは下記式で示される２価の基がより好ましい。

　「Ｐｈ」はフェニル基を表す。＊は結合手を表す。

（式中、Ａ、ｐ、ｑ、ｒおよびｕは、上記と同じ意味を表す。「Ｐｈ」はフェニル基を表す。＊は結合手を表す。）

　特に、低極性溶剤等の有機溶媒に対するトリアジン環含有重合体の溶解性をより高めることを考慮すると、Ｑとしては、式（１７）で示されるｍ－フェニレン基が好ましい。

（式中、＊は結合手を表す。）

　また、式（１）中のＱは、例えば、式（１０２）～（１１５）で示される群から選ばれる少なくとも１種を表す。

　＊は結合手を表す。

　式（１０２）～（１１５）において、上記Ｒ^１およびＲ^２は、互いに独立して、分岐構造を有していてもよい炭素数１～５のアルキレン基を表す。
　このようなアルキレン基としては、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン基等が挙げられるが、得られるポリマーの屈折率をより高めるということを考慮すると、炭素数１～３のアルキレン基が好ましく、炭素数１～２のアルキレン基、具体的には、メチレン、エチレン基がより好ましく、メチレン基が最適である。

＜＜架橋基を有するアミノ基（Ｚ）＞＞
　架橋基を有するアミノ基（Ｚ）における架橋基としては、水酸基、カルボキシ基、及びマレイミド基からなる群から選択される少なくとも１種を有するアリール基以外の基であって、架橋に寄与する官能基を有する限り、特に限定されない。
　ここで、水酸基、カルボキシ基、及びマレイミド基からなる群から選択される少なくとも１種を有するアリール基としては、例えば、式（２０１）～（２０３）で表される基が挙げられる。

（式中、Ｒ^１１０２～Ｒ^１１１０は、互いに独立して、上記Ｒ^１と同様の意味を表す。＊は結合手を表す。）

　架橋基を有するアミノ基における架橋基の数は特に限定されるものではなく、任意の数とすることができるが、耐溶剤性と有機溶媒に対する溶解性とのバランスを考慮すると、１～４個が好ましく、１～２個がより好ましく、１個がより一層好ましい。
　架橋基を有するアミノ基が複数の架橋基を有する場合、複数の架橋基は同じ構造であってもよいし、異なる構造であってもよい。

　架橋基を有するアミノ基は、例えば、下記式（Ｘ）で表される。

（式中、Ｚ^１は、架橋基を有する基を表す。＊は結合手を表す。）

　式（Ｘ）中、Ｚは、架橋基自体であってもよい。
　架橋基は、アリーレン基によってアミノ基に結合していることが好ましい。

　そして、架橋基を有するアミノ基は、より好ましくは下記式（１５）で示され、特に好ましくは下記式（１６）で示される。

（式中、Ｒ^１０２は、架橋基を表す。＊は結合手を表す。）

（式中、Ｒ^１０２は、上記と同じ意味を表す。＊は結合手を表す。）

　架橋基としては、ヒドロキシ含有基、ビニル含有基、エポキシ含有基、オキセタン含有基、カルボキシ含有基、スルホ含有基、チオール含有基、（メタ）アクリロイル含有基等を挙げることができ、トリアジン環含有重合体の耐熱性、および得られる膜の耐溶剤性（耐クラック性）を向上させることを考慮すると、ヒドロキシ含有基および（メタ）アクリロイル含有基が好ましい。

　ヒドロキシ含有基としては、ヒドロキシ基およびヒドロキシアルキル基等が挙げられるが、炭素数１～１０のヒドロキシアルキル基が好ましく、炭素数１～５のヒドロキシアルキル基がより好ましく、炭素数１～３のヒドロキシアルキル基がより一層好ましい。
　炭素数１～１０のヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル、２－ヒドロキシエチル、３－ヒドロキシプロピル、４－ヒドロキシブチル、５－ヒドロキシペンチル、６－ヒドロキシヘキシル、７－ヒドロキシヘプチル、８－ヒドロキシオクチル、９－ヒドロキシノニル、１０－ヒドロキシデシル、２－ヒドロキシ－１－メチルエチル、２－ヒドロキシ－１，１－ジメチルエチル、３－ヒドロキシ－１－メチルプロピル、３－ヒドロキシ－２－メチルプロピル、３－ヒドロキシ－１，１－ジメチルプロピル、３－ヒドロキシ－１，２－ジメチルプロピル、３－ヒドロキシ－２，２－ジメチルプロピル、４－ヒドロキシ－１－メチルブチル、４－ヒドロキシ－２－メチルブチル、４－ヒドロキシ－３－メチルブチル基等のヒドロキシ基が結合する炭素原子が第１級炭素原子であるもの；１－ヒドロキシエチル、１－ヒドロキシプロピル、２－ヒドロキシプロピル、１－ヒドロキシブチル、２－ヒドロキシブチル、１－ヒドロキシヘキシル、２－ヒドロキシヘキシル、１－ヒドロキシオクチル、２－ヒドロキシオクチル、１－ヒドロキシデシル、２－ヒドロキシデシル、１－ヒドロキシ－１－メチルエチル、２－ヒドロキシ－２－メチルプロピル基等のヒドロキシ基が結合する炭素原子が第２級または第３級炭素原子であるものが挙げられる。

　特に、耐熱性および高温高湿耐性を向上させることを考慮すると、ヒドロキシ基が結合する炭素原子が第１級炭素原子であるものが好ましく、その中でも、炭素数１～５のヒドロキシアルキル基がより好ましく、炭素数１～３のヒドロキシアルキル基がより一層好ましく、ヒドロキシメチル基および２－ヒドロキシエチル基がさらに好ましく、２－ヒドロキシエチル基が最も好ましい。

　（メタ）アクリロイル含有基としては、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシアルキル基および下記式（ｉ）で表される基等が挙げられるが、炭素数１～１０のアルキレン基を有する（メタ）アクリロイルオキシアルキル基および下記式（ｉ）で表される基が好ましく、下記式（ｉ）で表される基がより好ましい。

（式中、Ａ^１は、炭素数１～１０のアルキレン基を表し、Ａ^２は、単結合または下記式（ｊ）

で表される基を表し、Ａ^３は、ヒドロキシ基で置換されてもよい（ａ＋１）価の脂肪族炭化水素基を表し、Ａ^４は、水素原子またはメチル基を表し、ａは、１または２を表し、＊は結合手を表す。）

　炭素数１～１０のアルキレン基（アルカンジイル基）を有する（メタ）アクリロイルオキシアルキル基に含まれるアルキレン基としては、メチレン、エチレン、トリメチレン、プロパン－１，２－ジイル、テトラメチレン、ブタン－１，３－ジイル、ブタン－１，２－ジイル、２－メチルプロパン－１，３－ジイル、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタメチレン、オクタメチレン、ノナメチレン、デカメチレン基等が挙げられる。耐熱性および高温高湿耐性を向上させることを考慮すると、これらの中でも、炭素数１～５のアルキレン基を有するものが好ましく、炭素数１～３のアルキレン基を有するものが好ましく、炭素数１または２のアルキレン基を有するものがより好ましい。

　上記（メタ）アクリロイルオキシアルキル基の具体例としては、例えば、（メタ）アクリロイルオキシメチル基、２－（メタ）アクリロイルオキシエチル基、３－（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、４－（メタ）アクリロイルオキシブチル基が挙げられる。

　式（ｉ）において、Ａ^１は、炭素数１～１０のアルキレン基であるが、炭素数１～５のアルキレン基が好ましく、メチレン基およびエチレン基がより好ましい。炭素数１～１０のアルキレン基としては、上記の（メタ）アクリロイルオキシアルキル基に含まれるアルキレン基と同様のものが挙げられる。

　Ａ^２は、単結合または式（ｊ）で表される基を表すが、式（ｊ）で表される基が好ましい。

　Ａ^３は、ヒドロキシ基で置換されてもよい（ａ＋１）価の脂肪族炭化水素基であるが、その具体例としては、例えば、炭素数１～５のアルキレン基および下記式（ｋ－１）～（ｋ－３）

（式中、＊は、上記と同様である。）
で表される基が挙げられ、炭素数１～５のアルキレン基が好ましく、炭素数１～３のアルキレン基がより好ましく、メチレン基およびエチレン基がより一層好ましい。Ａ^３のアルキレン基としては、Ａ^１で例示したアルキレン基のうち、炭素数１～５のアルキレン基を挙げることができる。

　ａは、１または２を表すが、１が好ましい。

　式（ｉ）で表される基の好適な態様としては、下記式（ｉ－１）で表されるものが挙げられる。

（式中、Ａ^１、Ａ^３、Ａ^４および＊は、上記と同様である。）

　式（ｉ）で表される基のより好適な態様としては、下記式（ｉ－２）～（ｉ－５）で表されるものが挙げられる。

（式中、＊は、上記と同様である。）

　ビニル含有基としては、末端にビニル基を有する炭素数２～１０のアルケニル基等が挙げられる。具体例としては、エテニル、１－プロペニル、アリル、イソプロペニル、１－ブテニル、２－ブテニル、２－ペンテニル基等が挙げられる。

　エポキシ含有基としては、エポキシ、グリシジル、グリシジルオキシ基等が挙げられる。具体例としては、グリシジルメチル、２－グリシジルエチル、３－グリシジルプロピル、４－グリシジルブチル基等が挙げられる。

　オキセタン含有基としては、オキセタン－３－イル、（オキセタン－３－イル）メチル、２－（オキセタン－３－イル）エチル、３－（オキセタン－３－イル）プロピル、４－（オキセタン－３－イル）ブチル基等が挙げられる。

　カルボキシ含有基としては、カルボキシ基および炭素数２～１０のカルボキシアルキル基等が挙げられる。炭素数２～１０のカルボキシアルキル基としては、カルボキシ基が結合する炭素原子が第二級炭素原子であるものが好ましく、具体例として、カルボキシメチル、２－カルボキシエチル、３－カルボキシプロピルおよび４－カルボキシブチル基等が挙げられる。

　スルホ含有基としては、スルホ基および炭素数１～１０のスルホアルキル基等が挙げられる。炭素数１～１０のスルホアルキル基としては、スルホ基が結合する炭素原子が第１級炭素原子であるものが好ましく、具体例として、スルホメチル、２－スルホエチル、３－スルホプロピルおよび４－スルホブチル基等が挙げられる。

　チオール含有基としては、チオール基および炭素数１～１０のメルカプトアルキル基等が挙げられる。炭素数１～１０のメルカプトアルキル基としては、チオール基が結合する炭素原子が第１級炭素原子であるものが好ましく、具体例として、メルカプトメチル、２－メルカプトエチル、３－メルカプトプロピルおよび４－メルカプトブチル基等が挙げられる。

　架橋基を有するアミノ基の具体例としては、下記式で示されるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

　式中、＊は結合手を表す。

　なお、ヒドロキシアルキル基を有するアリールアミノ基は、後述の製造法において、対応するヒドロキシアルキル基置換アリールアミノ化合物を用いて導入することができる。
　ヒドロキシアルキル基置換アリールアミノ化合物の具体例としては、（４－アミノフェニル）メタノールおよび２－（４－アミノフェニル）エタノール等が挙げられる。

　（メタ）アクリロイルオキシアルキル基を有するアリールアミノ基は、対応する（メタ）アクリロイルオキシアルキル基置換アリールアミノ化合物を用いる方法や、トリアジン環含有重合体にヒドロキシアルキル基を有するアリールアミノ基を導入した後、さらに上記ヒドロキシアルキル基に含まれるヒドロキシ基に対して、（メタ）アクリル酸ハライドや（メタ）アクリル酸グリシジルを作用させる方法により導入することができる。

　式（ｉ）で表される基を有するアリールアミノ基は、目的とする架橋基を有するアリールアミノ化合物を用いる方法や、トリアジン環含有重合体にヒドロキシアルキル基を有するアリールアミノ基を導入した後、さらに上記ヒドロキシアルキル基に含まれるヒドロキシ基に対して下記式（ｉ’）で表されるイソシアネート基を有する（メタ）アクリル酸エステル化合物を作用させる方法により導入することができる。

（式中、Ａ^３、Ａ^４およびａは、上記と同様である。）

　（メタ）アクリロイルオキシアルキル基置換アリールアミノ化合物の具体例としては、例えば、上記のヒドロキシアルキル基置換アリールアミノ化合物のヒドロキシ基に（メタ）アクリル酸ハライドまたは（メタ）アクリル酸グリシジルを作用させて得られるエステル化合物が挙げられる。
　上記（メタ）アクリル酸ハライドとしては、（メタ）アクリル酸クロリド、（メタ）アクリル酸ブロミドおよび（メタ）アクリル酸ヨージドを挙げることができる。
　上記式（ｉ’）で表されるイソシアネート基を有する（メタ）アクリル酸エステル化合物の具体例としては、例えば、２－イソシアナトエチルアクリラート、２－イソシアナトエチルメタクリレートおよび１，１－（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネートを挙げることができる。本発明では、簡便な合成法という観点から、２－イソシアナトエチルアクリラートが好ましい。

　本発明における重合体の重量平均分子量は、特に限定されるものではないが、５００～５００，０００が好ましく、５００～１００，０００がより好ましく、より耐熱性を向上させる点から、２，０００以上が好ましく、より溶解性を高め、得られた組成物の粘度を低下させるという点から、５０，０００以下が好ましく、３０，０００以下がより好ましく、２５，０００以下がより一層好ましく、１０，０００以下が最も好ましい。
　なお、本発明における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下、ＧＰＣという）分析による標準ポリスチレン換算で得られる平均分子量である。

＜トリアジン環含有重合体の製造方法＞
　本発明のトリアジン環含有重合体は、国際公開第２０１５／０９８７８７号、国際公開第２０１７／０９４６４３号に開示された手法に準じて製造することができる。

　例えば、下記スキーム１に示されるように、トリアジン環含有重合体（２５）は、トリアジン化合物（２１）と、架橋基を有する基（Ｚ^１）を有するアミン化合物（２２）とを、適当な有機溶媒中で反応させて化合物（２３）を得た後、化合物（２３）とジアミノ化合物（２４）とを反応させて得ることができる。

（式中、Ｘは、互いに独立してハロゲン原子を表し、Ｚ^１は、架橋基を有する基を表し、Ｑは、環構造を有する炭素数３～３０の２価の基を表す。）

　上記スキーム１において、架橋基（Ｚ^１）を有するアミン化合物（２２）の使用量は、トリアジン化合物（２１）のハロゲン原子１当量に対し、０．０５～０．５当量程度が好ましく、０．１～０．４当量がより好ましい。また、ジアミノ化合物（２４）の仕込み比は、目的とする重合体が得られる限り任意であるが、トリアジン化合物（２１）１当量に対し、ジアミノ化合物（２４）０．０１～１０当量が好ましく、０．７～５当量がより好ましい。ジアミノ化合物（２４）は、ニートで加えても、有機溶媒に溶かした溶液で加えてもよいが、操作の容易さや反応のコントロールのし易さなどを考慮すると、後者の手法が好適である。
　反応温度は、用いる溶媒の融点から溶媒の沸点までの範囲で適宜設定すればよいが、－３０～１５０℃程度が好ましく、－１０～１００℃がより好ましい。

　別の態様としては、下記スキーム２に示す手法が挙げられる。この手法では、トリアジン環含有重合体（３７）は、トリアジン化合物（３１）と、ヒドロキシアルキル基を有するアリールアミノ化合物（３２）とを、適当な有機溶媒中で反応させて化合物（３３）を得た後、化合物（３３）とジアミノ化合物（３４）とを反応させて、トリアジン環含有重合体（３５）を得る（第１段階）。その後、さらに当該トリアジン環含有重合体（３５）に含まれるヒドロキシアルキル基のヒドロキシ基に対して式（ｉ’）で表されるイソシアネート基を有する（メタ）アクリル酸エステル化合物（３６）を作用させる（第２段階）ことにより得ることができる。
　なお、トリアジン環含有重合体（３５）を目的物とする場合は、第２段階の反応を実施せず、第１段階で終了すればよい。

（式中、Ｘは、互いに独立してハロゲン原子を表し、Ａ^１’は、炭素数１～１０のヒドロキシアルキル基を表し、Ｑは、環構造を有する炭素数３～３０の２価の基を表し、Ａ^３は、ヒドロキシ基で置換されてもよい（ａ＋１）価の脂肪族炭化水素基を表し、Ａ^４は、水素原子、又はメチル基を表し、Ａ^１は、炭素数１～１０のアルキレン基を表す。）

　上記スキーム２おいて、第１段階でのヒドロキシアルキル基を有するアリールアミノ化合物（３２）及びジアミノ化合物（３３）の仕込み比および添加方法、トリアジン環含有重合体（３５）を得るまでの反応における反応温度は、スキーム１で説明したものと同様とすることができる。
　また、第２段階において、トリアジン環含有重合体（３５）に対する式（ｉ’）で表されるイソシアネート基を有する（メタ）アクリル酸エステル化合物（３６）の仕込み比は、ヒドロキシアルキル基と式（ｉ）で表される基との比に応じて任意に設定することができ、使用したヒドロキシアルキル基を有するアリールアミノ化合物の１当量に対して、好ましくは０．１～１０当量、より好ましくは０．５～５当量、より一層好ましくは０．７～３当量、さらに好ましくは０．９～１．５当量である。例えば、トリアジン環含有重合体（３５）に含まれるヒドロキシアルキル基を全て式（ｉ）で表される基とする場合、その仕込み比は、使用したヒドロキシアルキル基を有するアリールアミノ化合物（３２）の１当量に対して、上記（メタ）アクリル酸エステル化合物（３６）を好ましくは１．０～１０当量、より好ましくは１．０～５当量、より一層好ましくは１．０～３当量、さらに好ましくは１．０～１．５当量である。
　当該反応における反応温度は、トリアジン環含有重合体（３５）を得る反応における反応温度と同様であるが、反応中に（メタ）アクリロイル基が重合を起こさないようにすることを考慮すると、３０～８０℃が好ましく、４０～７０℃がより好ましく、５０～６０℃がより一層好ましい。

　スキーム２の第２段階においては、反応中に（メタ）アクリロイル基が重合を起こさないようにするために、反応を重合禁止剤存在下で行ってもよい。
　重合禁止剤としては、例えば、Ｎ－メチル－Ｎ－ニトロソアニリン、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミンまたはその塩類、ベンゾキノン類、フェノール系重合禁止剤、フェノチアジンなどが挙げられる。これらの中でも、重合禁止効果に優れる点で、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミンまたはその塩類が好ましい。
　Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩類としては、例えば、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミンアンモニウム塩、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩などが挙げられる。
　ベンゾキノン類としては、例えば、ｐ－ベンゾキノン、２－メチル－１，４－ベンゾキノンなどが挙げられる。
　フェノール系重合禁止剤としては、例えば、ヒドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、４－ｔ－ブチルカテコール、２－ｔ－ブチルヒドロキノン、２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－メチルフェノールなどが挙げられる。
　重合禁止剤の使用量としては、特に制限されないが、例えば、式（ｉ’）で表されるイソシアネート基を有する（メタ）アクリル酸エステル化合物に対して、質量比で、１～２００ｐｐｍであってもよいし、１０～１００ｐｐｍであってもよい。
　重合禁止剤を用いることで、反応温度を６０～８０℃程度まで上げても、（メタ）アクリロイル基の重合を抑えて第２段階の反応を行うことができる。

　有機溶媒としては、この種の反応において通常用いられる種々の溶媒を用いることができ、例えば、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、ジメチルスルホキシド；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、Ｎ－メチル－２－ピペリドン、Ｎ，Ｎ’－ジメチルエチレン尿素、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルマロン酸アミド、Ｎ－メチルカプロラクタム、Ｎ－アセチルピロリジン、Ｎ，Ｎ－ジエチルアセトアミド、Ｎ－エチル－２－ピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルプロピオン酸アミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルイソブチルアミド、Ｎ－メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ’－ジメチルプロピレン尿素等のアミド系溶媒、およびそれらの混合溶媒が挙げられる。
　中でもＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、およびそれらの混合系が好ましく、特に、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミドが好適である。

　また、上記スキーム１またはスキーム２の１段階目の反応では、重合時または重合後に通常用いられる種々の塩基を添加してもよい。
　この塩基の具体例としては、炭酸カリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ナトリウムエトキシド、酢酸ナトリウム、炭酸リチウム、水酸化リチウム、酸化リチウム、酢酸カリウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、水酸化バリウム、リン酸三リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、フッ化セシウム、酸化アルミニウム、アンモニア、ｎ－プロピルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ－メチルピペリジン、２，２，６，６－テトラメチル－Ｎ－メチルピペリジン、ピリジン、４－ジメチルアミノピリジン、Ｎ－メチルモルホリン、２－アミノエタノール、エチルジエタノールアミン、ジエチルアミノエタノール等が挙げられる。
　塩基の添加量は、トリアジン化合物１当量に対して１～１００当量が好ましく、１～１０当量がより好ましい。なお、これらの塩基は水溶液にして用いてもよい。
　得られる重合体には、原料成分が残存していないことが好ましいが、本発明の効果を損なわなければ一部の原料が残存していてもよい。
　反応終了後、生成物は再沈法等によって容易に精製できる。

　また、トリアジン環含有重合体は、式（１）で表される繰り返し単位構造の他に、下記式（１’）で表される繰り返し単位構造を有していてもよい。トリアジン環含有重合体が式（１’）で表される繰り返し単位構造（特にＺ’）を有することにより、得られる膜を更に高屈折率にすることができる。

（式中、Ｚ’は、特定のヘテロ原子含有置換基を有するアリールアミノ基を表し、特定のヘテロ原子含有置換基は、シアノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ニトロ基、アルキルメルカプト基、アリールメルカプト基、アルコキシカルボニル基又はアルコキシカルボニルオキシ基を表す。ＲおよびＲ’は、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を表し、Ｑは、環構造を有する炭素数３～３０の２価の基を表す。＊は結合手を表す。）
　Ｒ、Ｒ’、及びＡの具体例は、式（１）におけるＲ、Ｒ’、及びＡの具体例が挙げられる。

　特定のヘテロ原子含有置換基を有するアリールアミノ基としては、例えば、下記式（４１）で表される基が挙げられる。

　式中、Ｙは、「特定のヘテロ原子含有置換基」であって、シアノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ニトロ基、アルキルメルカプト基、アリールメルカプト基、アルコキシカルボニル基又はアルコキシカルボニルオキシ基を表す。ｍは、１～５の整数を表す。ｍが２以上の場合、Ｙは同じであってもよいし、異なっていてもよい。＊は結合手を表す。

　これらの中でも、Ｙは、シアノ基、ニトロ基が好ましい。ｍは１が好ましい。ｍが１のとき、Ｙはパラ位又はメタ位に置換していることが好ましい。

　トリアジン環含有重合体における、式（１）で表される繰り返し単位と、式（１’）で表される繰り返し単位との比率は、耐溶剤性と高屈折率化とをバランスよく発揮させる観点から、式（１）における架橋基１モルに対し、式（１’）における特定のヘテロ原子含有置換基０．１～１．０モルが好ましく、０．１～０．５モルがより好ましく、０．１～０．３モルがより一層好ましい。

（膜形成用組成物）
　本発明の膜形成用組成物は、本発明のトリアジン環含有重合体を少なくとも含み、更に必要に応じて、架橋剤などを含む。
　本発明の膜形成用組成物の一実施形態は、無溶剤型組成物である。無溶剤型組成物は、有機溶剤を含まない。
　ここで、「有機溶剤を含まない」とは、実質的に有機溶剤を含まないことを意味し、具体的に有機溶剤の含有量が１０質量％以下であることを示す。

　膜形成用組成物におけるトリアジン環含有重合体の含有量としては、特に限定されないが、膜構成成分に対して０．１～５０質量％が好ましく、１～３０質量％がより好ましい。なお、本発明において、膜構成成分とは、組成物に含まれる、溶媒以外の成分を意味する。

＜架橋剤＞
　架橋剤としては、上述したトリアジン環含有重合体の架橋基と反応し得る置換基を２つ以上有する化合物であれば特に限定されるものではない。
　そのような化合物としては、メチロール基、メトキシメチル基などの架橋形成置換基を有するメラミン系化合物（例えば、フェノプラスト化合物、アミノプラスト化合物など）、置換尿素系化合物、エポキシ基またはオキセタン基などの架橋形成置換基を含有する化合物（例えば、多官能エポキシ化合物、多官能オキセタン化合物など）、ブロックイソシアナート基を含有する化合物、酸無水物基を有する化合物、（メタ）アクリル基を有する化合物等が挙げられるが、耐熱性や保存安定性の観点からエポキシ基、ブロックイソシアネート基、（メタ）アクリル基を含有する化合物が好ましく、特に、ブロックイソシアネート基を有する化合物や、開始剤を用いなくとも光硬化可能な組成物を与える多官能エポキシ化合物および／または多官能（メタ）アクリル化合物が好ましい。

　多官能エポキシ化合物としては、エポキシ基を一分子中２個以上有するものであれば特に限定されるものではない。
　その具体例としては、トリス（２，３－エポキシプロピル）イソシアヌレート、１，４－ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，２－エポキシ－４－（エポキシエチル）シクロヘキサン、グリセロールトリグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、２，６－ジグリシジルフェニルグリシジルエーテル、１，１，３－トリス［ｐ－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］プロパン、１，２－シクロヘキサンジカルボン酸ジグリシジルエステル、４，４’－メチレンビス（Ｎ，Ｎ－ジグリシジルアニリン）、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、ビスフェノール－Ａ－ジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル等が挙げられる。

　また、市販品として、少なくとも２個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂である、ＹＨ－４３４、ＹＨ４３４Ｌ（日鉄ケミカル＆マテリアル（株）製）、シクロヘキセンオキサイド構造を有するエポキシ樹脂である、エポリードＧＴ－４０１、同ＧＴ－４０３、同ＧＴ－３０１、同ＧＴ－３０２、セロキサイド２０２１、同３０００（（株）ダイセル製）、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂である、ｊＥＲ１００１、同１００２、同１００３、同１００４、同１００７、同１００９、同１０１０、同８２８（以上、三菱ケミカル（株）製）、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂である、ｊＥＲ８０７（三菱ケミカル（株）製）、フェノールノボラック型エポキシ樹脂である、ｊＥＲ１５２、同１５４（以上、三菱ケミカル（株）製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０２（以上、日本化薬（株）製）、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂である、ＥＯＣＮ－１０２、同１０３Ｓ、同１０４Ｓ、同１０２０、同１０２５、同１０２７（以上、日本化薬（株）製）、ｊＥＲ１８０Ｓ７５（三菱ケミカル（株）製）、脂環式エポキシ樹脂である、デナコールＥＸ－２５２（ナガセケムテックス（株）製）、ＣＹ１７５、ＣＹ１７７、ＣＹ１７９（以上、ＣＩＢＡ－ＧＥＩＧＹ　Ａ．Ｇ製）、アラルダイトＣＹ－１８２、同ＣＹ－１９２、同ＣＹ－１８４（以上、ＣＩＢＡ－ＧＥＩＧＹ　Ａ．Ｇ製）、エピクロン２００、同４００（以上、ＤＩＣ（株）製）、ｊＥＲ８７１、同８７２（以上、三菱ケミカル（株）製）、ＥＤ－５６６１、ＥＤ－５６６２（以上、セラニーズコーティング（株）製）、脂肪族ポリグリシジルエーテルである、デナコールＥＸ－６１１、同ＥＸ－６１２、同ＥＸ－６１４、同ＥＸ－６２２、同ＥＸ－４１１、同ＥＸ－５１２、同ＥＸ－５２２、同ＥＸ－４２１、同ＥＸ－３１３、同ＥＸ－３１４、同ＥＸ－３２１（ナガセケムテックス（株）製）等を用いることもできる。

　多官能（メタ）アクリル化合物としては、（メタ）アクリル基を一分子中２個以上有するものであれば特に限定されるものではない。
　その具体例としては、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリメタクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート、エトキシ化グリセリントリメタクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、エトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ポリグリセリンモノエチレンオキサイドポリアクリレート、ポリグリセリンポリエチレングリコールポリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジメタクリレート、多塩基酸変性アクリルオリゴマー等が挙げられる。

　また、多官能（メタ）アクリル化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＮＫエステルＡ－２００、同Ａ－４００、同Ａ－６００、同Ａ－１０００、同Ａ－９３００（イソシアヌル酸トリス（２－アクリロイルオキシエチル））、同Ａ－９３００－１ＣＬ、同Ａ－ＴＭＰＴ、同ＵＡ－５３Ｈ、同１Ｇ、同２Ｇ、同３Ｇ、同４Ｇ、同９Ｇ、同１４Ｇ、同２３Ｇ、同ＡＢＥ－３００、同Ａ－ＢＰＥ－４、同Ａ－ＢＰＥ－６、同Ａ－ＢＰＥ－１０、同Ａ－ＢＰＥ－２０、同Ａ－ＢＰＥ－３０、同ＢＰＥ－８０Ｎ、同ＢＰＥ－１００Ｎ、同ＢＰＥ－２００、同ＢＰＥ－５００、同ＢＰＥ－９００、同ＢＰＥ－１３００Ｎ、同Ａ－ＧＬＹ－３Ｅ、同Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、同Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、同Ａ－ＴＭＰＴ－３ＥＯ、同Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯ、同ＡＴ－２０Ｅ、同ＡＴＭ－４Ｅ、同ＡＴＭ－３５Ｅ、ＡＰＧ－１００、ＡＰＧ－２００（以上、新中村化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＥＡ－１２、同ＰＥＧ４００ＤＡ、同ＴＨＥ－３３０、同ＲＰ－１０４０（以上、日本化薬（株）製）、アロニックスＭ－２１０、Ｍ－３５０（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＨＡ、同ＮＰＧＤＡ、同ＰＥＴ３０（以上、日本化薬（株）製）、ＮＫエステル　Ａ－ＤＰＨ、同Ａ－ＴＭＰＴ、同Ａ－ＤＣＰ、同Ａ－ＨＤ－Ｎ、同ＴＭＰＴ、同ＤＣＰ、同ＮＰＧ、同ＨＤ－Ｎ（以上、新中村化学工業（株）製）、ＮＫオリゴ　Ｕ－１５ＨＡ（新中村化学工業（株）製）、ＮＫポリマー　バナレジンＧＨ－１２０３（新中村化学工業（株）製）、ＤＮ－００７５（日本化薬（株）製）等が挙げられる。
　上記多塩基酸変性アクリルオリゴマーも市販品として入手が可能であり、その具体例としては、アロニックスＭ－５１０，５２０（以上、東亞合成（株）製）等が挙げられる。

　酸無水物基を有する化合物としては、２分子のカルボン酸を脱水縮合させたカルボン酸無水物であれば、特に限定されるものではなく、その具体例としては、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸、無水マレイン酸、無水コハク酸、オクチル無水コハク酸、ドデセニル無水コハク酸等の分子内に１個の酸無水物基を有するもの；１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸無水物、３，４－ジカルボキシ－１，２，３，４－テトラヒドロ－１－ナフタレンコハク酸二無水物、ビシクロ［３．３．０］オクタン－２，４，６，８－テトラカルボン酸二無水物、５－（２，５－ジオキソテトラヒドロ－３－フラニル）－３－メチル－３－シクロヘキセン－１，２－ジカルボン酸無水物、１，２，３，４－ブタンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物、１，３－ジメチル－１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物等の分子内に２個の酸無水物基を有するもの等が挙げられる。

　ブロックイソシアネート基を含有する化合物としては、イソシアネート基（－ＮＣＯ）が適当な保護基によりブロックされたブロックイソシアネート基を一分子中２個以上有し、熱硬化の際の高温に曝されると、保護基（ブロック部分）が熱解離して外れ、生じたイソシアネート基が本発明のトリアジン環含有重合体の架橋基（例えば、ヒドロキシ含有基）との間で架橋反応を起こすものであれば特に限定されるものではなく、例えば、下記式で示される基を一分子中２個以上（なお、これらの基は同一のものでも、また各々異なっているものでもよい）有する化合物が挙げられる。

（式中、Ｒ_ｂはブロック部の有機基を表す。）

　このような化合物は、例えば、一分子中２個以上のイソシアネート基を有する化合物に対して適当なブロック剤を反応させて得ることができる。
　一分子中２個以上のイソシアネート基を有する化合物としては、例えば、イソホロンジイソシアネート、１，６－ヘキサメチレンジイソシアネート、メチレンビス（４－シクロヘキシルイソシアネート）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートのポリイソシアネートや、これらの二量体、三量体、および、これらとジオール類、トリオール類、ジアミン類、またはトリアミン類との反応物などが挙げられる。
　ブロック剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノール、２－エトキシヘキサノール、２－Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエタノール、２－エトキシエタノール、シクロヘキサノール等のアルコール類；フェノール、ｏ－ニトロフェノール、ｐ－クロロフェノール、ｏ－、ｍ－またはｐ－クレゾール等のフェノール類；ε－カプロラクタム等のラクタム類、アセトンオキシム、メチルエチルケトンオキシム、メチルイソブチルケトンオキシム、シクロヘキサノンオキシム、アセトフェノンオキシム、ベンゾフェノンオキシム等のオキシム類；ピラゾール、３，５－ジメチルピラゾール、３－メチルピラゾール等のピラゾール類；ドデカンチオール、ベンゼンチオール等のチオール類などが挙げられる。

　ブロックイソシアネート基を含有する化合物は、市販品としても入手が可能であり、その具体例としては、タケネート（登録商標）Ｂ－８３０、Ｂ－８１５Ｎ、Ｂ－８４２Ｎ、Ｂ－８７０Ｎ、Ｂ－８７４Ｎ、Ｂ－８８２Ｎ、Ｂ－７００５、Ｂ－７０３０、Ｂ－７０７５、Ｂ－５０１０（以上、三井化学（株）製）、デュラネート（登録商標）１７Ｂ－６０ＰＸ、同ＴＰＡ－Ｂ８０Ｅ、同ＭＦ－Ｂ６０Ｘ、同ＭＦ－Ｋ６０Ｘ、同Ｅ４０２－Ｂ８０Ｔ（以上、旭化成（株）製）、カレンズＭＯＩ－ＢＭ（登録商標）（以上、昭和電工（株）製）、ＴＲＩＸＥＮＥ（登録商標）　ＢＩ－７９５０、ＢＩ－７９５１、ＢＩ－７９６０、ＢＩ－７９６１、ＢＩ－７９６３、ＢＩ－７９８２、ＢＩ－７９９１、ＢＩ－７９９２（Ｂａｘｅｎｄｅｎ　ｃｈｅｍｉｃａｌｓ　ＬＴＤ社製）等が挙げられる。

　アミノプラスト化合物としては、メトキシメチル基を一分子中２個以上有するものであれば、特に限定されるものではなく、例えば、ヘキサメトキシメチルメラミン　ＣＹＭＥＬ（登録商標）３０３、テトラブトキシメチルグリコールウリル　同１１７０、テトラメトキシメチルベンゾグアナミン　同１１２３（以上、日本サイテックインダストリーズ（株）製）等のサイメルシリーズ、メチル化メラミン樹脂であるニカラック（登録商標）ＭＷ－３０ＨＭ、同ＭＷ－３９０、同ＭＷ－１００ＬＭ、同ＭＸ－７５０ＬＭ、メチル化尿素樹脂である同ＭＸ－２７０、同ＭＸ－２８０、同ＭＸ－２９０（以上、（株）三和ケミカル製）等のニカラックシリーズ等のメラミン系化合物が挙げられる。
　多官能オキセタン化合物としては、オキセタニル基を一分子中２個以上有するものであれば、特に限定されるものではなく、例えば、オキセタニル基を含有するＯＸＴ－２２１、ＯＸ－ＳＱ－Ｈ、ＯＸ－ＳＣ（以上、東亜合成（株）製）等が挙げられる。

　フェノプラスト化合物は、ヒドロキシメチル基を一分子中２個以上有し、そして熱硬化の際の高温に曝されると、本発明のトリアジン環含有重合体の架橋基との間で脱水縮合反応により架橋反応が進行するものである。
　フェノプラスト化合物としては、例えば、２，６－ジヒドロキシメチル－４－メチルフェノール、２，４－ジヒドロキシメチル－６－メチルフェノール、ビス（２－ヒドロキシ－３－ヒドロキシメチル－５－メチルフェニル）メタン、ビス（４－ヒドロキシ－３－ヒドロキシメチル－５－メチルフェニル）メタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジヒドロキシメチルフェニル）プロパン、ビス（３－ホルミル－４－ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４－ヒドロキシ－２，５－ジメチルフェニル）ホルミルメタン、α，α－ビス（４－ヒドロキシ－２，５－ジメチルフェニル）－４－ホルミルトルエン等が挙げられる。
　フェノプラスト化合物は、市販品としても入手が可能であり、その具体例としては、２６ＤＭＰＣ、４６ＤＭＯＣ、ＤＭ－ＢＩＰＣ－Ｆ、ＤＭ－ＢＩＯＣ－Ｆ、ＴＭ－ＢＩＰ－Ａ、ＢＩＳＡ－Ｆ、ＢＩ２５Ｘ－ＤＦ、ＢＩ２５Ｘ－ＴＰＡ（以上、旭有機材工業（株）製）等が挙げられる。

　これらの中でも、架橋剤配合による屈折率低下を抑制し得るとともに、硬化反応が速やかに進行するという点から、多官能（メタ）アクリル化合物が好適であり、その中でも、トリアジン環含有重合体との相溶性に優れていることから、下記イソシアヌル酸骨格を有する多官能（メタ）アクリル化合物がより好ましい。
　このような骨格を有する多官能（メタ）アクリル化合物としては、例えば、ＮＫエステルＡ－９３００、同Ａ－９３００－１ＣＬ（いずれも、新中村化学工業（株）製）が挙げられる。

（式中、Ｒ^１１１～Ｒ^１１３は、互いに独立して、末端に少なくとも１つの（メタ）アクリル基を有する一価の有機基である。）

　また、硬化速度をより向上させるとともに、得られる硬化膜の耐溶剤性および耐酸性、耐アルカリ性を高めるという観点から、２５℃で液体であり、かつ、その粘度が５，０００ｍＰａ・ｓ以下、好ましくは１～３，０００ｍＰａ・ｓ、より好ましくは１～１，０００ｍＰａ・ｓ、より一層好ましくは１～５００ｍＰａ・ｓの多官能（メタ）アクリル化合物（以下、低粘度架橋剤という）を、単独もしくは２種以上組み合わせて、または、上記イソシアヌル酸骨格を有する多官能（メタ）アクリル化合物と組み合わせて用いることが好適である。
　このような低粘度架橋剤も市販品として入手可能であり、例えば、上述した多官能（メタ）アクリル化合物のうち、ＮＫエステルＡ－ＧＬＹ－３Ｅ（８５ｍＰａ・ｓ，２５℃）、同Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ（９５ｍＰａ・ｓ，２５℃）、同Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ（２００ｍＰａ・ｓ，２５℃）、同Ａ－ＴＭＰＴ－３ＥＯ（６０ｍＰａ・ｓ，２５℃）、同Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯ、同ＡＴＭ－４Ｅ（１５０ｍＰａ・ｓ，２５℃）、同ＡＴＭ－３５Ｅ（３５０ｍＰａ・ｓ，２５℃）（以上、新中村化学工業（株）製）等の、（メタ）アクリル基間の鎖長が比較的長い架橋剤が挙げられる。

　さらに、得られる硬化膜の耐アルカリ性をも向上させることを考慮すると、ＮＫエステルＡ－ＧＬＹ－２０Ｅ（新中村化学工業（株）製）、および同ＡＴＭ－３５Ｅ（新中村化学工業（株）製）の少なくとも一方と、上記イソシアヌル酸骨格を有する多官能（メタ）アクリル化合物と組み合わせて用いることが好適である。

　また、ＰＥＴやポリオレフィンフィルム等の保護フィルムに本発明のトリアジン環含有重合体からなる膜を積層し、保護フィルムを介して光照射する場合、膜積層フィルムにおいても酸素阻害を受けることなく良好な硬化性を得ることができる。この場合、保護フィルムは硬化後に剥離する必要があるため、剥離性の良好な膜を与える多塩基酸変性アクリルオリゴマーを用いることが好ましい。

　上述した架橋剤は単独で使用しても、２種以上組み合わせて使用してもよい。
　膜形成用組成物における架橋剤の含有量は、トリアジン環含有重合体１００質量部に対して、１～５００質量部が好ましいが、屈折率をコントロールすることを考慮すると、好ましくは５０～３００質量部、より好ましくは１００～１５０質量部である。

＜反応性希釈剤＞
　本発明の膜形成用組成物は、反応性希釈剤を含んでいてもよい。
　特に本発明の膜形成用組成物が無溶剤型組成物の場合は、反応性希釈剤を含むことが好ましい。
　反応性希釈剤は、トリアジン環含有重合体の架橋基、及び架橋剤の少なくともいずれかと反応する反応性基を１つ有する低分子化合物であり、特に常温で液状・低粘度のものは粘度調整機能も有するため有機溶剤の代わりに用いることができる。

　このような反応性希釈剤としては、ラジカル重合性基を１つ有する化合物や、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基のようなカチオン重合性基を１つ有する化合物が、一般に用いられる。

　反応性希釈剤の分子量としては、特に限定されず、例えば、２００以下などが挙げられる。

　反応性希釈剤としては、ラジカル重合性基を１つ有する化合物が好ましく、トリアジン環含有重合体の溶解性に優れる点で、下記式（Ａ）および（Ｂ）の少なくともいずれかの化合物がより好ましい。

　式（Ａ）中、Ｒ^２０１およびＲ^２０３は、互いに独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、または重合性炭素－炭素二重結合含有基を表し、Ｒ^２０２は、水素原子、または炭素数１～１０のアルキル基を表す。ただし、Ｒ^２０１およびＲ^２０３のいずれか一方は、重合性炭素－炭素二重結合含有基であり、かつ、Ｒ^２０１およびＲ^２０３の両者が同時に重合性炭素－炭素二重結合含有基となることはない。また、Ｒ^２０１が重合性炭素－炭素二重結合含有基であるとき、Ｒ^２０２およびＲ^２０３は、Ｎと一緒になって環構造を形成してもよい。
　上記アルキル基の構造は、特に限定されず、例えば、直鎖状、分岐状、環状、およびこれらの２以上の組み合わせのいずれでもよい。
　式（Ｂ）中、Ｒ^２０４は、水素原子またはメチル基を表す。ｎは、１～２の整数を表す。

　炭素数１～１０のアルキル基の具体例としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル、ｎ－ペンチル、１－メチル－ｎ－ブチル、２－メチル－ｎ－ブチル、３－メチル－ｎ－ブチル、１，１－ジメチル－ｎ－プロピル、１，２－ジメチル－ｎ－プロピル、２，２－ジメチル－ｎ－プロピル、１－エチル－ｎ－プロピル、ｎ－ヘキシル、１－メチル－ｎ－ペンチル、２－メチル－ｎ－ペンチル、３－メチル－ｎ－ペンチル、４－メチル－ｎ－ペンチル、１，１－ジメチル－ｎ－ブチル、１，２－ジメチル－ｎ－ブチル、１，３－ジメチル－ｎ－ブチル、２，２－ジメチル－ｎ－ブチル、２，３－ジメチル－ｎ－ブチル、３，３－ジメチル－ｎ－ブチル、１－エチル－ｎ－ブチル、２－エチル－ｎ－ブチル、１，１，２－トリメチル－ｎ－プロピル、１，２，２－トリメチル－ｎ－プロピル、１－エチル－１－メチル－ｎ－プロピル、１－エチル－２－メチル－ｎ－プロピル、ｎ－ヘプチル、ｎ－オクチル、２－エチルヘキシル、ｎ－ノニル、ｎ－デシル基等が挙げられる。
　好ましくは、炭素数１～５のアルキル基である。

　重合性炭素－炭素二重結合含有基としては、特に限定されるものではないが、炭素数２～１０、好ましくは炭素数２～５の炭素－炭素二重結合含有炭化水素基（アルケニル基）が好ましく、例えば、エテニル（ビニル）、ｎ－１－プロペニル、ｎ－２－プロペニル（アリール基）、１－メチルエテニル、ｎ－１－ブテニル、ｎ－２－ブテニル、ｎ－３－ブテニル、２－メチル－１－プロペニル、２－メチル－２－プロペニル、１－エチルエテニル、１－メチル－１－プロペニル、１－メチル－２－プロペニル、ｎ－１－ペンテニル、ｎ－２－ペンテニル、ｎ－３－ペンテニル、ｎ－４－ペンテニル、１－ｎ－プロピルエテニル、１－メチル－１－ブテニル、１－メチル－２－ブテニル、１－メチル－３－ブテニル、２－エチル－２－プロペニル、２－メチル－１－ブテニル、２－メチル－２－ブテニル、２－メチル－３－ブテニル、３－メチル－１－ブテニル、３－メチル－２－ブテニル、３－メチル－３－ブテニル、１，１－ジメチル－２－プロペニル、１－ｉ－プロピルエテニル、１，２－ジメチル－１－プロペニル、１，２－ジメチル－２－プロペニル、ｎ－１－ヘキセニル、ｎ－２－ヘキセニル、ｎ－３－ヘキセニル、ｎ－４－ヘキセニル、ｎ－５－ヘキセニル、ｎ－ヘプテニル、ｎ－オクテニル、ｎ－ノネニル、ｎ－デセニル基等が挙げられる。

　式（Ａ）で示される化合物の具体例としては、Ｎ－ビニルホルムアミド、Ｎ－ビニルアセトアミド、Ｎ－アリールホルムアミド、Ｎ－アリールアセトアミド、４－アクリロイルモルホリン、（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピル（メタ）アクリルアミド等が挙げられるが、Ｎ－ビニルホルムアミド、４－アクリロイルモルホリン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチル（メタ）アクリルアミドが好ましい。
　式（Ｂ）で示される化合物の具体例としては、アクリル酸テトラヒドロフラン－２－イルメチル、メタクリル酸テトラヒドロフラン－２－イルメチル、アクリル酸テトラヒドロフラン－２－イルエチル、メタクリル酸テトラヒドロフラン－２－イルエチルが挙げられる。
　なお、上述した反応性希釈剤は単独で使用しても、２種以上組み合わせて使用してもよい。

　膜形成用組成物における反応性希釈剤の含有量は、特に限定されるものではなく、トリアジン環含有重合体１００質量部に対して、１～２０００質量部が好ましいが、得られる膜の屈折率向上の程度、溶剤耐性及び粘度を考慮すると、好ましくは５００～１８００質量部、より好ましくは１０００～１５００質量部である。

＜有機溶媒＞
　本発明の膜形成用組成物は、有機溶媒を含有していてもよい。
　有機溶媒としては、例えば、トルエン、ｐ－キシレン、ｏ－キシレン、ｍ－キシレン、エチルベンゼン、スチレン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、１－オクタノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、トリメチレングリコール、１－メトキシ－２－ブタノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、プロピレングリコール、ベンジルアルコール、１，３－ブタンジオール、１，４－ブタンジオール、２，３－ブタンジオール、γ－ブチロラクトン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルｎ－ブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ－ブチル、乳酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、アリルアルコール、ｎ－プロパノール、２－メチル－２－ブタノール、イソブタノール、ｎ－ブタノール、２－メチル－１－ブタノール、１－ペンタノール、２－メチル－１－ペンタノール、２－エチルヘキサノール、１－メトキシ－２－プロパノール、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、Ｎ－シクロヘキシル－２－ピロリジノン等が挙げられ、これらは単独で用いても、２種以上混合して用いてもよい。

　上述したとおり、本発明のトリアジン環含有重合体は、有機溶媒に対する溶解性に優れているため、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等のケトン系溶媒；酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸メトキシブチル、酢酸セロソルブ、酢酸アミル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸イソプロピル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル等のエステル系溶媒にもよく溶解するため、これらの溶媒が必要とされる部位に膜を形成する場合に特に適している。

　この際、組成物中の固形分濃度は、保存安定性に影響を与えない範囲であれば特に限定されず、目的とする膜の厚みに応じて適宜設定すればよい。具体的には、溶解性および保存安定性の観点から、固形分濃度０．１～５０質量％が好ましく、より好ましくは０．１～４０質量％である。

　本発明の組成物には、それぞれの架橋剤に応じた開始剤を配合することもできる。なお、上述のとおり、架橋剤として多官能エポキシ化合物および／または多官能（メタ）アクリル化合物を用いる場合、開始剤を使用せずとも光硬化が進行して硬化膜を与えるものであるが、その場合に開始剤を使用しても差し支えない。

　多官能エポキシ化合物を架橋剤として用いる場合には、光酸発生剤や光塩基発生剤を用いることができる。
　光酸発生剤としては、公知のものから適宜選択して用いればよく、例えば、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩やヨードニウム塩などのオニウム塩誘導体を用いることができる。
　その具体例としては、フェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、４－メトキシフェニルジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、４－メチルフェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート等のアリールジアゾニウム塩；ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート等のジアリールヨードニウム塩；トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（４－メトキシフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル－４－チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル－４－チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４，４’－ビス（ジフェニルスルフォニオ）フェニルスルフィド－ビスヘキサフルオロアンチモネート、４，４’－ビス（ジフェニルスルフォニオ）フェニルスルフィド－ビスヘキサフルオロホスフェート、４，４’－ビス［ジ（β－ヒドロキシエトキシ）フェニルスルホニオ］フェニルスルフィド－ビスヘキサフルオロアンチモネート、４，４’－ビス［ジ（β－ヒドロキシエトキシ）フェニルスルホニオ］フェニルスルフィド－ビス－ヘキサフルオロホスフェート、４－［４’－（ベンゾイル）フェニルチオ］フェニル－ジ（４－フルオロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４－［４’－（ベンゾイル）フェニルチオ］フェニル－ビス（４－フルオロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート等のトリアリールスルホニウム塩等が挙げられる。

　これらのオニウム塩は市販品を用いてもよく、その具体例としては、サンエイドＳＩ－６０、ＳＩ－８０、ＳＩ－１００、ＳＩ－６０Ｌ、ＳＩ－８０Ｌ、ＳＩ－１００Ｌ、ＳＩ－Ｌ１４５、ＳＩ－Ｌ１５０、ＳＩ－Ｌ１６０、ＳＩ－Ｌ１１０、ＳＩ－Ｌ１４７（以上、三新化学工業（株）製）、ＵＶＩ－６９５０、ＵＶＩ－６９７０、ＵＶＩ－６９７４、ＵＶＩ－６９９０、ＵＶＩ－６９９２（以上、ユニオンカーバイド社製）、ＣＰＩ－１００Ｐ、ＣＰＩ－１００Ａ、ＣＰＩ－２００Ｋ、ＣＰＩ－２００Ｓ（以上、サンアプロ（株）製）、アデカオプトマーＳＰ－１５０、ＳＰ－１５１、ＳＰ－１７０、ＳＰ－１７１（以上、旭電化工業（株）製）、イルガキュア　２６１（ＢＡＳＦ社製）、ＣＩ－２４８１、ＣＩ－２６２４、ＣＩ－２６３９、ＣＩ－２０６４（以上、日本曹達（株）製）、ＣＤ－１０１０、ＣＤ－１０１１、ＣＤ－１０１２（以上、サートマー社製）、ＤＳ－１００、ＤＳ－１０１、ＤＡＭ－１０１、ＤＡＭ－１０２、ＤＡＭ－１０５、ＤＡＭ－２０１、ＤＳＭ－３０１、ＮＡＩ－１００、ＮＡＩ－１０１、ＮＡＩ－１０５、ＮＡＩ－１０６、ＳＩ－１００、ＳＩ－１０１、ＳＩ－１０５、ＳＩ－１０６、ＰＩ－１０５、ＮＤＩ－１０５、ＢＥＮＺＯＩＮ　ＴＯＳＹＬＡＴＥ、ＭＢＺ－１０１、ＭＢＺ－３０１、ＰＹＲ－１００、ＰＹＲ－２００、ＤＮＢ－１０１、ＮＢ－１０１、ＮＢ－２０１、ＢＢＩ－１０１、ＢＢＩ－１０２、ＢＢＩ－１０３、ＢＢＩ－１０９（以上、ミドリ化学（株）製）、ＰＣＩ－０６１Ｔ、ＰＣＩ－０６２Ｔ、ＰＣＩ－０２０Ｔ、ＰＣＩ－０２２Ｔ（以上、日本化薬（株）製）、ＩＢＰＦ、ＩＢＣＦ（三和ケミカル（株）製）等を挙げることができる。

　一方、光塩基発生剤としても、公知のものから適宜選択して用いればよく、例えば、Ｃｏ－アミン錯体系、オキシムカルボン酸エステル系、カルバミン酸エステル系、第四級アンモニウム塩系光塩基発生剤などを用いることができる。
　その具体例としては、２－ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート、トリフェニルメタノール、Ｏ－カルバモイルヒドロキシルアミド、Ｏ－カルバモイルオキシム、［［（２，６－ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミン、ビス［［（２－ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサン１，６－ジアミン、４－（メチルチオベンゾイル）－１－メチル－１－モルホリノエタン、（４－モルホリノベンゾイル）－１－ベンジル－１－ジメチルアミノプロパン、Ｎ－（２－ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン、ヘキサアンミンコバルト（ＩＩＩ）トリス（トリフェニルメチルボレート）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン、２，６－ジメチル－３，５－ジアセチル－４－（２’－ニトロフェニル）－１，４－ジヒドロピリジン、２，６－ジメチル－３，５－ジアセチル－４－（２’，４’－ジニトロフェニル）－１，４－ジヒドロピリジン等が挙げられる。
　また、光塩基発生剤は市販品を用いてもよく、その具体例としては、ＴＰＳ－ＯＨ、ＮＢＣ－１０１、ＡＮＣ－１０１（いずれも製品名、みどり化学（株）製）等が挙げられる。

　光酸または塩基発生剤を用いる場合、多官能エポキシ化合物１００質量部に対して、０．１～１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１～１０質量部の範囲である。
　なお、必要に応じてエポキシ樹脂硬化剤を、多官能エポキシ化合物１００質量部に対して、１～１００質量部の量で配合してもよい。

　一方、多官能（メタ）アクリル化合物を用いる場合には、光ラジカル重合開始剤を用いることができる。
　光ラジカル重合開始剤としても、公知のものから適宜選択して用いればよく、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのベンゾイルベンゾエート、アミロキシムエステル、オキシムエステル類、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン類等が挙げられる。
　特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、最新ＵＶ硬化技術（１５９頁、発行人：高薄一弘、発行所：（株）技術情報協会、１９９１年発行）に記載されている。
　市販の光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ＢＡＳＦ社製　商品名：イルガキュア　１２７、１８４、３６９、３７９、３７９ＥＧ、６５１、５００、７５４、８１９、９０３、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１８５０、ＣＧ２４－６１、ＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２、ダロキュア　１１１６、１１７３、ＭＢＦ、ＢＡＳＦ社製　商品名：ルシリン　ＴＰＯ、ＵＣＢ社製　商品名：エベクリル　Ｐ３６、フラテツリ・ランベルティ社製　商品名：エザキュアー　ＫＩＰ１５０、ＫＩＰ６５ＬＴ、ＫＩＰ１００Ｆ、ＫＴ３７、ＫＴ５５、ＫＴＯ４６、ＫＩＰ７５／Ｂ等が挙げられる。
　光ラジカル重合開始剤を用いる場合、多官能（メタ）アクリレート化合物１００質量部に対して、０．１～２００質量部の範囲で使用することが好ましく、１～１５０質量部の範囲で使用することがより好ましい。

　さらに、本発明の組成物には、トリアジン環含有重合体と架橋剤との反応を促進させることなどを目的として、分子内に２個以上のメルカプト基を有する多官能チオール化合物を添加してもよい。
　具体的には、下記式で示される多官能チオール化合物が好ましい。

　上記Ｌは、２～４価の有機基を表すが、２～４価の炭素数２～１２の脂肪族基または２～４価のヘテロ環含有基が好ましく、２～４価の炭素数２～８の脂肪族基、または下記式で示されるイソシアヌル酸骨格（１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン環）を有する３価の基がより好ましい。
　上記ｎは、Ｌの価数に対応して２～４の整数を表す。

（式中、「・」は、酸素原子との結合部を示す。）

　具体的な化合物としては、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン、１，３，５－トリス（３－メルカプトブチリルオキシエチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６－（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、トリメチロールエタントリス（３－メルカプトブチレート）等が挙げられる。
　これらの多官能チオール化合物は、市販品として入手することもでき、例えば、カレンズＭＴ－ＢＤ１、カレンズＭＴ　ＮＲ１、カレンズＭＴ　ＰＥ１、ＴＰＭＢ、ＴＥＭＢ（以上、昭和電工（株）製）等が挙げられる。
　これらの多官能チオール化合物は、１種単独で用いても、２種以上組み合わせて用いてもよい。

　多官能チオール化合物を用いる場合、その添加量としては、得られる膜に悪影響を及ぼさない限り特に限定されるものではないが、本発明では、固形分１００質量％中に、０．０１～１０質量％が好ましく、０．０３～６質量％がより好ましい。

　本発明の組成物には、本発明の効果を損なわない限りにおいて、トリアジン環含有重合体、架橋剤および有機溶媒以外のその他の成分、例えば、レベリング剤、界面活性剤、シランカップリング剤などの添加剤が含まれていてもよい。
　界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンオクチルフェノールエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェノールエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類；ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類；ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類；ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤、商品名エフトップＥＦ３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５２（三菱マテリアル電子化成（株）製（旧（株）ジェムコ製））、商品名メガファックＦ１７１、Ｆ１７３、Ｒ－０８、Ｒ－３０、Ｒ－４０、Ｆ－５５３、Ｆ－５５４、ＲＳ－７５、ＲＳ－７２－Ｋ（ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、商品名アサヒガードＡＧ７１０，サーフロンＳ－３８２、ＳＣ１０１、ＳＣ１０２、ＳＣ１０３、ＳＣ１０４、ＳＣ１０５、ＳＣ１０６（ＡＧＣ（株）製）等のフッ素系界面活性剤、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ＢＹＫ－３０２、ＢＹＫ－３０７、ＢＹＫ－３２２、ＢＹＫ－３２３、ＢＹＫ－３３０、ＢＹＫ－３３３、ＢＹＫ－３７０、ＢＹＫ－３７５、ＢＹＫ－３７８（ビックケミー・ジャパン（株）製）等が挙げられる。

　これらの界面活性剤は、単独で使用しても、２種以上組み合わせて使用してもよい。界面活性剤の使用量は、トリアジン環含有重合体１００質量部に対して０．０００１～５質量部が好ましく、０．００１～１質量部がより好ましく、０．０１～０．５質量部がより一層好ましい。

　本発明の膜形成用組成物は、基材に塗布し、その後、必要に応じて加熱して溶剤を蒸発させた後、加熱または光照射して所望の硬化膜とすることができる。
　組成物の塗布方法は任意であり、例えば、スピンコート法、ディップ法、フローコート法、インクジェット法、ジェットディスペンサー法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、スリットコート法、ロールコート法、転写印刷法、刷毛塗り、ブレードコート法、エアーナイフコート法等の方法を採用できる。

　また、基材としては、シリコン、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）が成膜されたガラス、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）が成膜されたガラス、金属ナノワイヤ、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、プラスチック、ガラス、石英、セラミックス等からなる基材等が挙げられ、可撓性を有するフレキシブル基材を用いることもできる。
　焼成温度は、溶媒を蒸発させる目的では特に限定されず、例えば１１０～４００℃で行うことができる。
　焼成方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、ホットプレートやオーブンを用いて、大気、窒素等の不活性ガス、真空中等の適切な雰囲気下で蒸発させればよい。
　焼成温度および焼成時間は、目的とする電子デバイスのプロセス工程に適合した条件を選択すればよく、得られる膜の物性値が電子デバイスの要求特性に適合するような焼成条件を選択すればよい。
　光照射する場合の条件も特に限定されるものではなく、用いるトリアジン環含有重合体および架橋剤に応じて、適宜な照射エネルギーおよび時間を採用すればよい。

　以上のようにして得られた本発明の膜や硬化膜は、高耐熱性、及び高屈折率を達成できるため、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ素子（有機ＥＬディスプレイや有機ＥＬ照明）、タッチパネル、光半導体（ＬＥＤ）素子、固体撮像素子、有機薄膜太陽電池、色素増感太陽電池、有機薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、レンズ、プリズムカメラ、双眼鏡、顕微鏡、半導体露光装置などを作製する際の一部材など、電子デバイスや光学材料分野に好適に利用できる。
　特に、本発明の組成物から作製された膜や硬化膜は、透明性が高く、屈折率も高いため、有機ＥＬ照明の平坦化膜や光散乱層として用いた場合に、その光取出し効率（光拡散効率）を改善することができるとともに、その耐久性を改善することができる。

　なお、本発明の組成物を有機ＥＬ素子の光散乱層に用いる場合、光拡散剤としては公知の有機無機複合光拡散剤、有機光拡散剤、無機光拡散剤を用いることができ、特に限定されるものではない。これらはそれぞれ単独で用いても、同種の２種以上を組み合わせて用いても、異種の２種以上を組み合わせて用いてもよい。

　有機無機複合光拡散剤としては、メラミン樹脂・シリカ複合粒子等が挙げられる。
　有機光拡散剤としては、架橋ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）粒子、架橋ポリメチルアクリレート粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋スチレンアクリル共重合粒子、メラミン－ホルムアルデヒド粒子、シリコーン樹脂粒子、シリカ・アクリル複合粒子、ナイロン粒子、ベンゾグアナミン－ホルムアルデヒド粒子、ベンゾグアナミン・メラミン・ホルムアルデヒド粒子、フッ素樹脂粒子、エポキシ樹脂粒子、ポリフェニレンスルフィド樹脂粒子、ポリエーテルスルホン樹脂粒子、ポリアクリロニトリル粒子、ポリウレタン粒子等が挙げられる。
　無機光拡散剤としては、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ₃）、酸化チタン（ＴｉＯ₂）、硫酸バリウム（ＢａＳＯ₄）、水酸化アルミニウム（Ａｌ（ＯＨ）₃）、シリカ（ＳｉＯ₂）、タルク等が挙げられるが、得られる硬化膜の光拡散性をより高めるという観点から、酸化チタン（ＴｉＯ₂）や凝集シリカ粒子が好ましく、非凝集性の酸化チタン（ＴｉＯ₂）がより好ましい。
　これらの光拡散剤は、適宜な表面修飾剤により表面処理したものを用いてもよい。

　以下、実施例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。なお、実施例で用いた各測定装置は以下のとおりである。

［^１Ｈ－ＮＭＲ］
　装置：Ｂｒｕｋｅｒ　ＮＭＲ　Ｓｙｓｔｅｍ　ＡＶＡＮＣＥ　ＩＩＩ　ＨＤ　５００（５００ＭＨｚ）
　測定溶媒：ＤＭＳＯ－ｄ６
　基準物質：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）（δ０．０ｐｐｍ）
［ＧＰＣ］
　装置：東ソー（株）製　ＨＬＣ－８２００　ＧＰＣ
　カラム：東ソーＴＳＫｇｅｌ　α－３０００　＋東ソーＴＳＫｇｅｌ　α－４０００
　カラム温度：４０℃
　溶媒：ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）
　検出器：ＵＶ（２７１ｎｍ）
　検量線：標準ポリスチレン
［エリプソメーター］
　装置：ジェー・エー・ウーラム・ジャパン製　多入射角分光エリプソメーターＶＡＳＥ
［分光測色計］
　装置：コニカミノルタ製　ＣＭ－３７００Ａ
［濁度計］
　装置：日本電色工業株式会社製　ＨＡＺＥ　ＭＥＴＥＲ　ＮＤＨ　５０００
［光学顕微鏡］
　装置：オリンパス光学工業株式会社製　ＯＬＹＭＰＵＳ　ＢＸ５１
［露光］
　装置：アイグラフィックス（株）製ＵＶ照射装置

［１］トリアジン環含有重合体の合成
［実施例１－１］高分子化合物［４］の合成
 

　３，０００ｍＬ四口フラスコに、２－（４－アミノフェニル）エタノール［１］（５２．１ｇ、０．３８０ｍｏｌ、Ｏａｋｗｏｏｄ社製）、およびＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド４４９．２ｇ（ＤＭＡｃ、関東化学（株）製）を加え、窒素置換した後、撹拌して２－（４－アミノフェニル）エタノール［１］をＤＭＡｃに溶解させた。その後、エタノール－ドライアイス浴により－５℃まで冷却し、２，４，６－トリクロロ－１，３，５－トリアジン［２］（７０．００ｇ、０．３８０ｍｏｌ、東京化成工業（株）製）を内温が５℃以上にならないよう確認しながら投入し、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド３７．４ｇで洗い流した。３０分間撹拌後、予めＤＭＡｃ１４９．７ｇにて溶解させた１，３－フェニレンジアミン［３］（３６．９ｇ、０．３４２ｍｏｌ、Ａｍｉｎｏ－Ｃｈｅｍ社製）を滴下し、ＤＭＡｃ３７．４ｇにて洗い流した後、オイルバスへ反応容器ごと移し、内温が８５℃±５にて１時間撹拌した。１時間撹拌後、ＤＭＡｃ１１２．３ｇに溶解させた２－（４－アミノフェニル）エタノール［１］（１５．６ｇ、０．１１４ｍｏｌ、東京化成工業（株）製）を滴下した後、ＤＭＡｃ３７．４ｇにて洗い流し、３時間撹拌した。３時間撹拌後、２－アミノエタノール（６９．６ｇ、１．１３９ｍｏｌ、東京化成工業（株）製）を滴下し、３０分撹拌後、撹拌を停止した。反応溶液に、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ、３９７ｇ）、酢酸アンモニウム（４４７ｇ）およびイオン交換水（４４７ｇ）を加え、３０分撹拌した。撹拌停止後、溶液を分液ロートに移し、有機層と水層に分け、有機層を回収した。回収した有機層をメタノール（９９３ｇ）およびイオン交換水（１，９８６ｇ）の混合液に滴下し、再沈殿させた。得られた沈殿物をろ別し、減圧乾燥機で１５０℃、８時間乾燥し、目的とする高分子化合物［４］（以下、Ｐ－１という）９８．１ｇを得た。
　化合物Ｐ－１のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは３，４７７、多分散度Ｍｗ／Ｍｎは２．２であった。化合物Ｐ－１の^１Ｈ－ＮＭＲスペクトルの測定結果を図１に示す。

［実施例１－２］高分子化合物［５］の合成

　３００ｍＬ四口フラスコに、実施例１－１で得られたＰ－１［４］（１３．６０ｇ）、およびシクロペンタノン８４．２０ｇ（ＣＰＮ、日本ゼオン（株）製）を加え、窒素置換した後、撹拌して溶解させた。その後、内温を７０℃となるまで溶液を昇温させ、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン　アルミニウム塩０．００１４ｇ（Ｑ－１３０１、富士フィルム和光純薬（株）製）及び２－イソシアナトエチルアクリラート７．４５ｇ（ＡＯＩ－ＶＭ、昭和電工（株）製）を滴下し、内温を７０℃±５℃にて１時間撹拌させ、高分子化合物［５］を２０質量％含むＣＰＮ溶液を調製した（以下、Ｐ－１溶液という）。

［実施例２－１］
　実施例１－２で得られたＰ－１溶液（１９．４０ｇ）と、光ラジカル重合開始剤として、Ｏｍｎｉｒａｄ２９５９（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）０．１２ｇ、界面活性剤として１０質量％プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）溶液のメガファックＲ－４０（ＤＩＣ（株）製）０．０４０ｇ、並びにＰＧＭＥ０．４４６ｇ、を加えて目視で溶解したことを確認し、固形分２０質量％のワニスを調製した（以下、ＳＰ－１溶液という）。
　このＳＰ－１溶液を５０ｍｍ×５０ｍｍ×０．７ｍｍの無アルカリガラス基板上に、スピンコーターにて２００ｒｐｍで５秒間、１，０００ｒｐｍで３０秒間スピンコートし、ホットプレートを用いて８０℃で２分間仮乾燥後、ＵＶ照射装置にて３６５ｎｍの波長の光にて、２００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量を照射して硬化膜（以下、ＳＰ－１膜という）を得た。

［溶剤耐性（耐クラック性）及び透過率、HAZE測定］
　上記で作製した硬化膜付きの基板をスピンコーターにセットし、ＰＧＭＥ１ｍｌを塗布した。次に、基板から液が飛散しないように、５０ｒｐｍで６０秒間回転させて硬化膜を溶剤に暴露させた。その後、１，０００ｒｐｍで３０秒間回転させて溶剤を基板上から除去した。最後に、ホットプレートを用いて８０℃で１０秒間乾燥させた後、屈折率および膜厚の測定、残膜率の算出および光学顕微鏡による膜表面の観察を行った。
　残膜率は、以下の式により算出した。
　　　残膜率（％）＝〔（溶剤暴露後の膜厚）÷（溶剤暴露前の膜厚）〕×１００
　また、溶剤暴露前には透過率も測定した。
　屈折率、膜厚測定、残膜率及び４００～８００ｎｍの平均透過率、ＨＡＺＥの結果は表１に、溶剤暴露前の硬化膜表面の顕微鏡写真は図２に、溶剤暴露後の硬化膜表面の顕微鏡写真は図３に示した。
　また、溶剤暴露前には透過率及びＨＡＺＥも測定した。

　表１より、実施例１－２で得られた高分子化合物を用いて作製した薄膜は、有機溶媒への溶解性を向上させつつ、１．６５を超える屈折率を有していることがわかる。

 

Claims (17)

1. 　下記式（１）で表される繰り返し単位構造を含むことを特徴とするトリアジン環含有重合体。
   

   

   （式（１）中、ＲおよびＲ’は、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を表し、Ｑは、環構造を有する炭素数３～３０の２価の基を表し、Ｚは、架橋基（ただし、水酸基、カルボキシ基、及びマレイミド基からなる群から選択される少なくとも１種を有するアリール基を除く。）を有するアミノ基を表す。＊は結合手を表す。）
2. 　前記式（１）中のＱが、式（２）～（１３）及び式（１０２）～（１１５）で示される群から選ばれる少なくとも１種を表す、請求項１に記載のトリアジン環含有重合体。
   

   

   〔式（２）～式（１３）中、Ｒ^１～Ｒ^９２は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基、または炭素数１～１０のアルコキシ基を表し、
   　Ｒ^９３およびＲ^９４は、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表し、
   　Ｗ^１およびＷ^２は、互いに独立して、単結合、ＣＲ^９５Ｒ^９６（Ｒ^９５およびＲ^９６は、互いに独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基（ただし、これらは一緒になって環を形成していてもよい。）、または炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基を表す。）、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ_２、またはＮＲ^９７（Ｒ^９７は、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基またはフェニル基を表す。）を表し、
   　Ｘ^１およびＸ^２は、互いに独立して、単結合、炭素数１～１０のアルキレン基、または式（１４）
   

   

   （式（１４）中、Ｒ^９８～Ｒ^１０１は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基、または炭素数１～１０のアルコキシ基を表し、
   　Ｙ^１およびＹ^２は、互いに独立して、単結合または炭素数１～１０のアルキレン基を表す。）で示される基を表す。
   　＊は結合手を表す。〕
   

   

   （式（１０２）～式（１１５）中、Ｒ^１およびＲ^２は、互いに独立して、分岐構造を有していてもよい炭素数１～５のアルキレン基を表す。＊は結合手を表す。）
3. 　前記式（２）～（１３）における前記Ｒ^１～Ｒ^９２およびＲ^９８～Ｒ^１０１が、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子または炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基である請求項２に記載のトリアジン環含有重合体。
4. 　前記Ｚが、式（１５）で示される請求項１に記載のトリアジン環含有重合体。
   

   

   （式（１５）中、Ｒ^１０２は、前記架橋基を表す。＊は結合手を表す。）
5. 　前記Ｚが、式（１６）で示される請求項４に記載のトリアジン環含有重合体。
   

   

   （式（１６）中、Ｒ^１０２は、上記と同じ意味を表す。＊は結合手を表す。）
6. 　前記Ｒ^１０２が、ヒドロキシ含有基または（メタ）アクリロイル含有基である請求項４に記載のトリアジン環含有重合体。
7. 　前記Ｒ^１０２が、ヒドロキシアルキル基、（メタ）アクリロイルオキシアルキル基または下記式（ｉ）で表される基である請求項６に記載のトリアジン環含有重合体。
   

   

   （式（ｉ）中、Ａ^１は、炭素数１～１０のアルキレン基を表し、Ａ^２は、単結合または下記式（ｊ）
   

   

   で表される基を表し、Ａ^３は、ヒドロキシ基で置換されてもよい（ａ＋１）価の脂肪族炭化水素基を表し、Ａ^４は、水素原子またはメチル基を表し、ａは、１または２を表し、＊は結合手を表す。）
8. 　前記Ｒ^１０２が、ヒドロキシメチル基、２－ヒドロキシエチル基、（メタ）アクリロイルオキシメチル基、（メタ）アクリロイルオキシエチル基、および下記式（ｉ－２）～式（ｉ－５）で表される基から選ばれる基である請求項７に記載のトリアジン環含有重合体。
   

   

   （式（ｉ－２）～式（ｉ－５）中、＊は結合手を表す。）
9. 　前記式（１）中Ｑが、式（１７）で示される請求項１に記載のトリアジン環含有重合体。
   

   

   （式（１７）中、＊は結合手を表す。）
10. 　請求項１～９のいずれかに記載のトリアジン環含有重合体を含む膜形成用組成物。
11. 　さらに架橋剤を含む請求項１０に記載の膜形成用組成物。
12. 　前記架橋剤が、多官能（メタ）アクリル化合物である請求項１１に記載の膜形成用組成物。
13. 　さらに有機溶媒を含む請求項１０に記載の膜形成用組成物。
14. 　前記有機溶媒が、グリコールエステル系溶媒、ケトン系溶媒、およびエステル系溶媒から選ばれる少なくとも１種を含む請求項１３に記載の膜形成用組成物。
15. 　請求項１０に記載の膜形成用組成物から得られる膜。
16. 　基材と、前記基材上に形成された請求項１５に記載の膜とを備える電子デバイス。
17. 　基材と、前記基材上に形成された請求項１５に記載の膜とを備える光学部材。
    
     

Images