WO2022059740A1 - 表示素子用封止剤、その硬化物および表示装置 - Google Patents

表示素子用封止剤、その硬化物および表示装置 Download PDF

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WO2022059740A1
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meth
acrylate
display element
parts
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裕介 富田
航太郎 舘野
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三井化学株式会社
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    • H10K59/8722—Peripheral sealing arrangements, e.g. adhesives, sealants
    • H—ELECTRICITY
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    • C08F222/1006—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
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    • H10K59/873—Encapsulations

Definitions

  • the present invention relates to a sealant for a display element, a cured product thereof, and a display device.
  • Organic EL elements are being used in displays, lighting devices, and the like because they consume less power. Since organic EL elements are easily deteriorated by moisture and oxygen in the atmosphere, they are used by being sealed with various sealing members, and the durability of moisture and oxygen of various sealing members will be improved for practical use. It is desired.
  • a method for sealing the organic EL for example, a method is used in which a resin layer is formed on an organic EL element coated with a first layer of an inorganic material film, and then a second layer of the inorganic material film is coated. ing.
  • the method of coating with the inorganic material film include a method of forming an inorganic material film made of silicon nitride or silicon oxide by a sputtering method, an electron cyclotron resonance (ECR) plasma CVD method, or the like.
  • ECR electron cyclotron resonance
  • the encapsulant for an organic electroluminescence display element includes an acyclic alkanediol di (meth) acrylate having 6 or more carbon atoms, and a cyclic monofunctional (meth) acrylate and a cyclic bifunctional (meth) acrylate. It is described that it is used in combination with a cyclic monomer containing. According to the same document, it is said that a sealing agent having excellent ejection properties when using an inkjet and having excellent reliability of the obtained organic EL element can be obtained.
  • the present invention provides a sealant for a display element, which has excellent plasma resistance and has both a viscosity and a low dielectric constant that can be stably applied by an inkjet method.
  • a sealant for a display element containing a polymerizable compound and a curing agent contains the following components (A) and (B): (A) (meth) acrylate having a bifunctional or higher alicyclic structure (B) containing (meth) acrylate having a bifunctional chain structure.
  • the content of the component (A) is 60 parts by mass or less with respect to a total of 100 parts by mass of the components (A) and (B).
  • Component (C) in the sealant for a display element A sealant for a display element, wherein the content of the monofunctional (meth) acrylate is 1 part by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound.
  • the component (B) is 1,12-dodecanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate and tripropylene glycol di (meth).
  • a sealing agent for a display element which is excellent in plasma resistance and has both a viscosity and a low dielectric constant that can be stably applied by an inkjet method.
  • the sealing agent for a display element (hereinafter, also simply referred to as “sealing agent” as appropriate) is a composition used for sealing an element, and contains a polymerizable compound and a curing agent.
  • the polymerizable compound has the following components (A) and (B): (A) (Meta) acrylate having a bifunctional or higher alicyclic structure (B) Containing (meth) acrylate having a bifunctional chain structure, with respect to a total of 100 parts by mass of the components (A) and (B).
  • the content of the component (A) is 60 parts by mass or less.
  • the content of the component (C): monofunctional (meth) acrylate in the sealant for a display device is 1 part by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound.
  • (meth) acrylate means at least one of acrylate and methacrylate.
  • (meth) acrylic means at least one of acrylic and methacrylic.
  • the polymerizable compound may be any compound having a polymerizable functional group, and is preferably a compound having a radically polymerizable functional group.
  • the polymerizable compound contains the above-mentioned components (A) and (B).
  • the component (A) is a (meth) acrylate having a bifunctional or higher alicyclic structure.
  • the component (A) is a (meth) acrylate having an alicyclic structure in the molecular structure and two or more (meth) acrylic groups, and is preferably (meth) from the viewpoint of improving strength. It is a (meth) acrylate having two acrylic groups.
  • the component (A) has an alicyclic hydrocarbon structure in the molecular structure, and the number of carbon atoms in the alicyclic hydrocarbon structure is preferably 4 or more from the viewpoint of improving heat resistance. It is more preferably 5 or more, still more preferably 6 or more, preferably 14 or less, still more preferably 12 or less, still more preferably 10 or less.
  • the alicyclic hydrocarbon structure may be a saturated hydrocarbon structure or an unsaturated hydrocarbon structure. From the viewpoint of improving heat resistance, the alicyclic hydrocarbon structure is preferably a saturated hydrocarbon structure.
  • the alicyclic hydrocarbon structure may be a monocyclic hydrocarbon structure, a fused ring hydrocarbon structure, or a polycyclic hydrocarbon structure having a bridge ring hydrocarbon group structure.
  • the component (A) may contain a group containing these alicyclic hydrocarbon structures in the molecular structure, and preferably contains a divalent group containing the alicyclic hydrocarbon structure.
  • Specific examples of the monocyclic hydrocarbon group include a group having a cycloalkane structure such as a cyclohexylene group and a cyclohexyl group; and a group having a cycloalkene skeleton such as a cyclodecatoriendiyl group and a cyclodecatorien group.
  • polycyclic hydrocarbon group examples include a group having a dicyclopentadiene skeleton such as a tricyclodecandyl group, a dicyclopentanyl group, and a dicyclopentenyl group; a norbornanediyl group, an isobornandyl group, and a norbornyl group.
  • Groups having a norbornane skeleton such as an isobornyl group; groups having an adamantane skeleton such as an adamantane diyl group and an adamantane group can be mentioned.
  • the cyclic hydrocarbon group in the component (A) is preferably a group having a dicyclopentadiene skeleton from the viewpoint of improving plasma resistance and low moisture permeability. Further, the component (A) contains tricyclodecanedimethanol di (meth) acrylate from the viewpoint of improving plasma resistance and low moisture permeability, and is more preferably tricyclodecanedimethanol di (meth) acrylate. ..
  • the content of the component (A) in the encapsulant is preferably 5 parts by mass or more, more preferably 10 parts by mass or more, still more preferably 10 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound from the viewpoint of improving heat resistance. It is 15 parts by mass or more, more preferably 20 parts by mass or more, and even more preferably 25 parts by mass or more. Further, from the viewpoint of making the inkjet coatability more preferable, the content of the component (A) in the encapsulant is preferably 60 parts by mass or less, more preferably 58 with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound. It is not more than parts by mass, more preferably 56 parts by mass or less.
  • the component (B) is a (meth) acrylate having a bifunctional chain structure.
  • the component (B) is a (meth) acrylate having a chain structure in the molecular structure and two or more (meth) acrylic groups, and is preferably (meth) from the viewpoint of improving strength. It is a (meth) acrylate having two acrylic groups.
  • Specific examples of the component (B) include di (meth) acrylate of alkanediol and di (meth) acrylate of (poly) alkylene glycol.
  • the chain structure may be a linear structure or a structure having branches.
  • the chain structure preferably contains a divalent hydrocarbon group having a straight chain or a branched chain from the viewpoint of making the inkjet coatability more preferable.
  • the number of carbon atoms of the divalent hydrocarbon group is, for example, 1 or more, preferably 2 or more, and more preferably 4 or more, from the viewpoint of accessibility of the monomer. Further, from the viewpoint of improving heat resistance, the number of carbon atoms of the divalent hydrocarbon group is preferably 20 or less, more preferably 14 or less.
  • 1,6-hexanediol diacrylate for example, A-HD-N, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.
  • 1,9-nonanediol diacrylate for example, A-NOD-
  • Polypropylene glycol diacrylate eg A-400, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.
  • Polypropylene glycol diacrylate eg APG-400, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.
  • Tripropylene glycol diacrylate eg SR306H, Alchema
  • 1,3-Butanediol dimethacrylate eg BG, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry
  • 1,4-butanediol dimethacrylate eg BD, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry
  • 1,6-hexanediol Dimethacrylate eg HD-N, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.
  • 1,9-Nonandiol dimethacrylate eg NOD-N, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd .
  • Light acrylate 1,9-ND-M manufactured by Kyoeisha Chemical
  • the component (B) is 1,12-dodecanediol di (meth) acrylate and 1,9-nonanediol.
  • One or more (meth) acrylates selected from the group consisting of di (meth) acrylates, triethylene glycol di (meth) acrylates and tripropylene glycol di (meth) acrylates.
  • the content of the component (B) in the encapsulant is preferably 5 parts by mass or more, and more preferably 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound from the viewpoint of making the inkjet coatability more preferable.
  • the above is more preferably 15 parts by mass or more, further preferably 20 parts by mass or more, still more preferably 25 parts by mass or more, and further preferably 40 parts by mass or more.
  • the content of the component (B) in the encapsulant is, for example, 75 parts by mass or less, preferably 60 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the polymerizable compound. It is more preferably 58 parts by mass or less, still more preferably 56 parts by mass or less.
  • the content of the component (A) with respect to a total of 100 parts by mass of the components (A) and (B) is 60 parts by mass or less, preferably 58 parts by mass or less, from the viewpoint of making the inkjet coatability more preferable. , More preferably 55 parts by mass or less, still more preferably 50 parts by mass or less.
  • the lower limit of the content of the component (A) with respect to a total of 100 parts by mass of the components (A) and (B) is more than 0 parts by mass, preferably 10 parts by mass or more from the viewpoint of improving plasma resistance. It is more preferably 15 parts by mass or more, further preferably 20 parts by mass or more, still more preferably 25 parts by mass or more, still more preferably 30 parts by mass or more, still more preferably 40 parts by mass or more.
  • the component (C) is a monofunctional (meth) acrylate.
  • Specific examples of the component (C) include mono (meth) acrylate having a hydrocarbon group having a linear or branched chain in the molecular structure, and mono (meth) acrylate having an aromatic hydrocarbon group in the molecular structure. ..
  • An example of the former is lauryl methacrylate, and an example of the latter is 3-phenoxybenzyl acrylate.
  • the sealant for a display element preferably does not contain the component (C). That is, the content of the component (C) in the sealant for a display device is preferably 0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound.
  • the content of the component (C) in the sealant for display elements exceeds 0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound. It is 1 part by mass or less, preferably 0.5 part by mass or less, more preferably 0.1 part by mass or less, and further preferably 0.01 part by mass or less.
  • the content of the polymerizable compound in the sealant for a display element is preferably 70% by mass or more, more preferably 80% by mass, based on the total composition of the sealant from the viewpoint of improving the strength of the cured product. As mentioned above, it is more preferably 85% by mass or more, still more preferably 90% by mass or more, and even more preferably 93% by mass or more. Further, from the viewpoint of improving the weather resistance of the encapsulant, the content of the polymerizable compound in the encapsulant is preferably 99.9% by mass or less, more preferably 99.9% by mass or less, based on the total composition of the encapsulant. It is 99.5% by mass or less, more preferably 99% by mass or less, and even more preferably 98% by mass or less.
  • the curing agent include a polymerization initiator.
  • the polymerization initiator is preferably a photopolymerization initiator which is a compound that generates radicals or acids by irradiation with ultraviolet rays or visible light from the viewpoint of stably forming a cured product at a low temperature.
  • the photopolymerization initiator include an acylphosphine oxide-based initiator, an oxyphenylacetic acid ester-based initiator, a benzoylformic acid-based initiator, a hydroxyphenylketone-based initiator, and the like.
  • photopolymerization initiator examples include benzophenone, Michler's ketone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, xanthone, thioxanthone, isopropylxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-ethylanthraquinone, acetophenone, and 2-hydroxy-.
  • the photopolymerization initiator is preferably 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-1-propanol, 1- [4- ( 2-Hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propanone, 2-hydroxy-1- ⁇ 4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl ⁇ - 2-Methyl-1-propanol, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, oxy-phenyl-acetic acid 2- [2-oxo-2-phenyl-acetoxy-ethoxy] -ethyl ester, oxy-phenyl-acetic acid 2- [2-Hydroxy-ethoxy] -ethyl ester, methyl benzoylate, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, 2,4,6-
  • Irgacure184 As commercial products of the photopolymerization initiator, Irgacure184, Irgacure651, Irgacure127, Irgacure1173, Irgacure500, Irgacure2959, Irgacure754, IrgacureMBF, IrgacureMBF, IrgacureMBF, IrgacureTPO (above, BASF), etc.
  • the content of the polymerization initiator in the encapsulant is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.5% by mass or more, based on the total composition of the encapsulant, from the viewpoint of improving the curability. , More preferably 1% by mass or more, still more preferably 2% by mass or more. Further, from the viewpoint of suppressing the coloring of the encapsulant, the content of the polymerization initiator in the encapsulant is preferably 10% by mass or less, more preferably 8% by mass, based on the total composition of the encapsulant. Below, it is more preferably 7% by mass or less, still more preferably 6% by mass or less, and even more preferably 5% by mass or less.
  • the encapsulant may be composed of a polymerizable compound and a curing agent, or may contain components other than these. Specific examples of other components include tackifiers, fillers, curing accelerators, plasticizers, surfactants, heat stabilizers, flame retardants, antistatic agents, defoamers, leveling agents and UV absorbers. 1 or 2 or more additives selected from.
  • the glass transition temperature (Tg) of the cured product of the encapsulant is 50 ° C. or higher, preferably 60 ° C. or higher, and more preferably 70 ° C. or higher from the viewpoint of improving the heat resistance of the encapsulant. Further, from the viewpoint of improving the flexibility, the Tg of the cured product of the encapsulant is less than 200 ° C., preferably 190 ° C. or lower, more preferably 180 ° C. or lower.
  • the Tg of the encapsulant is specifically measured by the following method.
  • a 100 ⁇ m-thick Teflon (registered trademark) sheet is used as a mold, an uncured encapsulant is sandwiched between PET films, and an illuminance of 1000 mW / cm 2 is used with a UV-LED having a wavelength of 395 nm. It is obtained by curing under the condition of an integrated light amount of 1500 mJ / cm 2 .
  • the obtained cured product is cut into a size of 10 mm in width ⁇ 40 mm in length with a cutter to obtain a measurement sample.
  • the Tg of the cured product is heated from room temperature to 250 ° C.
  • the properties of the encapsulant are not limited, and the encapsulant is suitable from the viewpoint of improving the flexibility and plasma resistance of the encapsulating material and being suitable for forming a cured material by a coating method such as an inkjet method. It is preferably liquid.
  • the sealing agent is preferably a sealing agent used for coating, and more preferably a sealing used for coating by an inkjet method. It is a stop agent.
  • the viscosity of the encapsulant measured at 25 ° C. and 20 rpm using an E-type viscometer is preferably 5 mPa ⁇ s or more, more preferably 8 mPa ⁇ s or more, still more preferably, from the viewpoint of improving the inkjet ejection property. Is 10 mPa ⁇ s or more. Further, from the viewpoint of improving the inkjet ejection property, the viscosity of the encapsulant is preferably 30 mPa ⁇ s or less, more preferably less than 30.0 mPa ⁇ s, still more preferably 28.5 mPa ⁇ s or less, still more preferably. Is 27 mPa ⁇ s or less.
  • the dielectric constant of the cured product of the sealant is preferably less than 3.5, more preferably 3.4 or less, still more preferably 3.3 or less, and further, from the viewpoint of improving the sealing characteristics of the sealant. It is more preferably 3.2 or less, and even more preferably 3.1 or less. Further, the dielectric constant of the cured product of the encapsulant can be, for example, 1.0 or more.
  • the dielectric constant of the cured product of the encapsulant is the cured product obtained by curing the curable composition under the conditions of an illuminance of 1000 mW / cm 2 and an integrated light intensity of 1500 mJ / cm 2 with a UV-LED having a wavelength of 395 nm. Permittivity measured at a frequency of 100 kHz.
  • the method for producing the encapsulant is not limited, and includes, for example, mixing a polymerizable compound, a curing agent, and other components as appropriate, for example, various additives to be added as needed.
  • various known kneaders such as a planetary stirrer, a homodisper, a universal mixer, a Banbury mixer, a kneader, two rolls, three rolls, and an extruder are used alone or in combination. Examples thereof include a method of uniformly kneading under conditions such as normal pressure, reduced pressure, pressure, and an inert gas stream under normal temperature or heating.
  • a sealing material can be formed by using the obtained sealing agent.
  • a sealant may be applied onto the substrate and dried.
  • a known method such as an inkjet method, screen printing, or dispenser coating can be used. Further, the drying can be performed, for example, by heating to a temperature at which the polymerizable compound does not polymerize.
  • the shape of the obtained encapsulating material is not limited and may be, for example, a film or a layer.
  • the encapsulating material is, for example, a cured product obtained by curing the encapsulant in the present embodiment, and more specifically, a photocured product of the encapsulant.
  • methods for photocuring the encapsulant include low-pressure mercury lamps, medium-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high pressure mercury lamps, excima lasers, chemical lamps, black light lamps, microwave-excited mercury lamps, metal halide lamps, sodium lamps, and halogen lamps.
  • a method of curing by irradiating light using a light source such as a xenon lamp, an LED lamp, a fluorescent lamp, sunlight, or an electron beam irradiator.
  • the polymerizable compound contains the components (A) and (B) in a specific ratio and the content when the component (C) is contained is in a specific range, such a polymerizable compound and curing
  • a sealing agent containing an agent it is possible to obtain a sealing material having excellent plasma resistance and having both a viscosity and a low dielectric constant that can be stably applied by an inkjet method.
  • the resin layer obtained from such a polymerizable compound as a sealing material for example, it is possible to obtain a display device having excellent reliability.
  • the encapsulant obtained in the present embodiment is suitably used for encapsulating a display element, preferably an organic EL display element, for example.
  • a sealing agent having excellent plasma resistance being able to be stably applied by an inkjet method when forming a resin layer, and having an effectively reduced dielectric constant. Therefore, for example, damage to the display element in the manufacturing process of the display device can be effectively suppressed, and the manufacturing stability of the display device can be improved.
  • a configuration example of the display device will be given by taking an organic EL display device as an example.
  • the organic EL display device has a layer made of a cured product of a sealing agent.
  • the organic EL display device may have a top emission structure or a bottom emission structure.
  • the organic EL element is arranged on a substrate and is pre-coated with an inorganic material film so as to cover the region containing the organic EL element before being protected by the resin layer obtained by curing the encapsulant in the present embodiment. It is preferable that it is.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration example of an organic EL display device according to the present embodiment.
  • the display device 100 shown in FIG. 1 is an organic EL display device, and covers a substrate (base material layer 50), a display element (light emitting element 10) arranged on the base material layer 50, and a light emitting element 10.
  • the sealing layer 22 (which may be the overcoat layer 22 or the barrier layer 22) is included. Then, for example, the sealing layer 22 is composed of a cured product of the sealing agent in the present embodiment.
  • the light emitting element 10 is an organic EL display element. Further, in FIG.
  • the display device 100 has a barrier layer 21 (may be a touch panel layer 21 or a surface protection layer 21) and a sealing layer 22 (which may be a touch panel layer 21 or a surface protection layer 21) as layers located on the observation side of the light emitting element 10. It has an overcoat layer 22 or a barrier layer 22), a flattening layer 23 (may be a sealing layer 23), and a barrier layer 24.
  • the flattening layer 23 is provided on the base material layer 50 so as to cover the light emitting element 10, and the barrier layer 24 is provided on the surface of the flattening layer 23.
  • the sealing layer 22 is provided on the base material layer 50 so as to cover the flattening layer 23 and the barrier layer 24. Further, a barrier layer 21 is provided on the sealing layer 22.
  • the material of the base material layer 50 is not limited, and various materials such as a glass substrate, a silicon substrate, and a plastic substrate can be used.
  • a TFT substrate having a plurality of TFTs (thin film transistors) and a flattening layer on the substrate can also be used.
  • Examples of the inorganic material constituting the barrier layer 24, that is, the above-mentioned inorganic material film, include silicon nitride (SiN x ), silicon oxide (SiO x ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), and the like.
  • the inorganic material film may be a single layer or a laminated body of a plurality of types of layers.
  • Examples of the method of covering the light emitting element 10 with the inorganic material film include a sputtering method and an electron cyclotron resonance (ECR) plasma CVD method when the inorganic material film is made of silicon nitride or silicon oxide.
  • ECR electron cyclotron resonance
  • the sputtering method can be carried out under the conditions of room temperature, electric power of 50 to 1000 W, and pressure of 0.001 to 0.1 Torr, for example, using a single gas such as argon or nitrogen as a carrier gas or a mixed gas.
  • a mixed gas of SiH 4 and O 2 or a mixed gas of SiH 4 and N 2 is used, and the temperature is 30 ° C to 100 ° C, the pressure is 10 mTorr to 1Torr, the frequency is 2.45 GHz, and the power is increased. It can be performed under the condition of 10 to 1000 W.
  • the thickness of the inorganic material film formed on the light emitting device 10 is not limited, but is, for example, 0.01 to 10 ⁇ m, preferably 0.1 to 5 ⁇ m from the viewpoint of improving the sealing performance and the flexible performance. ..
  • a sealing layer 22 for example, a method of applying a sealing agent on the light emitting element 10 and curing the light emitting element 10. And so on.
  • a coating method it is preferable to use an inkjet method.
  • the thickness of the resin layer is not limited, but is, for example, 0.1 to 50 ⁇ m, preferably 1 to 20 ⁇ m from the viewpoint of improving the sealing performance and the flexible performance.
  • an inorganic material film (barrier layer 24) on the above-mentioned resin layer.
  • the inorganic material and the forming method for forming the inorganic material film laminated on the resin layer are the same as those for the inorganic material film covering the light emitting element 10 described above.
  • the thickness of the inorganic material film formed on the resin layer is not limited, but is, for example, 0.01 to 10 ⁇ m, preferably 0.1 to 5 ⁇ m from the viewpoint of improving the sealing performance and the flexible performance.
  • the barrier layer 24 and the sealing layer 22 are provided on the light emitting element 10, and the sealing layer 22 is composed of a resin layer obtained by curing the sealing agent in the present embodiment. Therefore, it is possible to obtain a display device 100 having excellent reliability. Specifically, damage to the barrier layer 24 can be suppressed even when the plasma treatment step is performed when the barrier layer 24 is formed on the sealing layer 22. Further, for example, it is possible to suppress the generation of pinholes in the barrier layer 24 which is a SiN x film.
  • (Polymerizable compound) (A) Alicyclic UV curable resin 1: Dimethylol-tricyclodecanediacrylate, light acrylate DCP-A, UV curable resin manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .2: Dimethylol-tricyclodecanedimethacrylate, light acrylate DCP-M, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. (B) Chain UV curable resin 3: 1,12-dodecanediol dimethacrylate, SR262, Alchema UV curable resin 4: 1,9-nonanediol diacrylate, light acrylate 1,9ND-A, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • UV curable resin 5 1,9-nonanediol dimethacrylate, light acrylate 1,9ND-M
  • UV curable resin 6 Triethylene glycol diacrylate, SR272
  • UV curable resin 7 Tri Propropylene glycol diacrylate, SR306H, manufactured by Alchema
  • (C) -1 Linear monofunctional UV curable resin 8: Lauryl methacrylate, light acrylate L, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • (C) -2 Aromatic monofunctional UV curable resin 9: 3-phenoxybenzyl acrylate, light acrylate POB -A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • UV Radical Initiator 1 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide, Omnirad TPO H, manufactured by IGM Resins
  • Example 1 Example 1 to 5, Comparative Examples 1 to 4
  • Each component was blended so as to have the blending composition shown in Table 1 to obtain a liquid curable composition as a sealing agent.
  • the characteristics of the encapsulant or the cured product thereof obtained in each example were measured by the following methods. The measurement results are also shown in Table 1.
  • viscosity The viscosity of the curable composition obtained in each example was measured at 25 ° C. and 20 rpm using an E-type viscometer (LV DV-II + Pro, manufactured by BROOKFIELD). Those having a measured viscosity of less than 30 mPa ⁇ s were regarded as acceptable.
  • a cured product of the encapsulant was obtained by the following procedure. That is, using a 100 ⁇ m thick Teflon (registered trademark) sheet as a mold, an uncured encapsulant is sandwiched between PET films, and a UV-LED with a wavelength of 395 nm has an illuminance of 1000 mW / cm 2 and an integrated light intensity of 1500 mJ / cm 2 . It was cured under the conditions to obtain a cured product. The obtained cured product was cut into a size of 10 mm in width ⁇ 40 mm in length with a cutter to obtain a measurement sample.
  • Teflon registered trademark
  • the tan ⁇ was measured by the dynamic viscoelasticity measuring device “DMS6100” while applying a frequency of 1 Hz to the measured sample of the cured product in the atmosphere and raising the temperature from room temperature to 250 ° C. at 5 ° C./min.
  • the temperature of the peak top of the obtained tan ⁇ was defined as Tg.
  • a coating film for obtaining a cured product for measuring the dielectric constant was prepared by the following method. That is, the obtained encapsulant was introduced into an inkjet cartridge DMC-11610 (manufactured by FUJIFILM Dimension). The inkjet cartridge was set in an inkjet device DMP-2831 (manufactured by Fujifilm Dimatix), and after adjusting the ejection state, the thickness after curing was increased on a substrate on which aluminum was vapor-deposited to a thickness of 100 nm on non-alkali glass. It was applied in a size of 5 cm ⁇ 5 cm so as to be 10 ⁇ m.
  • the obtained coating film was placed in a box at room temperature (25 ° C.) for 5 minutes to allow nitrogen to flow, and then irradiated with ultraviolet rays having a wavelength of 395 nm under the conditions of an illuminance of 1000 mW / cm 2 and an integrated light intensity of 1500 mJ / cm 2 , and cured. A film was formed. Then, aluminum was deposited on the inkjet coated surface to a thickness of 100 nm, and the dielectric constant was measured with an LCR meter HP4284A (manufactured by Agilent Technologies) under the condition of 100 kHz by an automatic balanced bridge method. Those with a measured dielectric constant of less than 3.5 were considered acceptable.
  • the encapsulant obtained in each example was introduced into an inkjet cartridge DMC-11610 (manufactured by FUJIFILM Dimension).
  • the inkjet cartridge is set in the inkjet device DMP-2831 (manufactured by Fujifilm Dimatic), and after adjusting the ejection state, the glass substrate has a size of 15 mm ⁇ 15 mm so that the cured thickness is 10 ⁇ m. Applied.
  • the obtained coating film was placed in a box at room temperature (25 ° C.) for 5 minutes to allow nitrogen to flow, and then irradiated with ultraviolet rays having a wavelength of 395 nm at 1500 mW / cm 2 for 1 second to form a cured film.
  • the sample on which the cured film was formed was plasma-treated for 1 minute under a pressure condition of 2500 W ICP power supply, 300 W RF power supply, DC bias 200 V, argon (Ar) flow rate 50 sccm, and 10 mtorr. Then, an inorganic sealing layer (SiN x film) having a film thickness of 100 nm was formed by an RF sputtering method using a SiN x target. On the other hand, an OLED element was vapor-deposited on a facing substrate and bonded to a substrate on which an inorganic sealing layer was formed to obtain an evaluation sample.
  • SiN x film SiN x film
  • the reliability test of the samples obtained in each example was carried out under the condition of 85 ° C. Specifically, the emission area ratio (%) after storing the samples obtained in each example at 85 ° C. for 100 hours was determined by the following method. That is, the light emitting area was calculated in the initial state and after storage for 100 hours using Motic Images Plus software (manufactured by Shimadzu Rika Co., Ltd.), and the light emitting area ratio was obtained. Those having a light emitting area ratio of 50% or more were regarded as acceptable.
  • the encapsulants obtained in each example were excellent in the effect of suppressing damage to the organic EL element against plasma irradiation.
  • the sealant obtained in each example had an excellent balance of viscosity, dielectric constant and Tg characteristics.

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Abstract

重合性化合物および硬化剤を含有する表示素子用封止剤であって、重合性化合物が、成分（Ａ）：２官能以上の脂環構造を有する（メタ）アクリレートおよび成分（Ｂ）：２官能の鎖状構造を有する（メタ）アクリレートと、を含み、成分（Ａ）および（Ｂ）の合計１００質量部に対して成分（Ａ）の含有量が６０質量部以下であり、表示素子用封止剤中の成分（Ｃ）：単官能の（メタ）アクリレートの含有量が、重合性化合物１００質量部に対して１質量部以下である、表示素子用封止剤。

Description

表示素子用封止剤、その硬化物および表示装置
　本発明は、表示素子用封止剤、その硬化物および表示装置に関する。
　表示素子の分野において、封止剤の特性を向上するための検討がなされている。以下、有機ＥＬ表示装置を例に挙げて説明する。
　有機ＥＬ素子は、消費電力が少ないことから、ディスプレイや照明装置などに用いられつつある。有機ＥＬ素子は、大気中の水分や酸素によって劣化しやすいことから、各種シール部材で封止されて使用されており、実用化に向けては各種シール部材の水分や酸素の耐久性の向上が望まれている。
　有機ＥＬの封止方法としては、たとえば、有機ＥＬ素子上に１層目の無機材料膜を被覆させた上に樹脂層を形成し、さらに２層目の無機材料膜を被覆させる方法が用いられている。上記無機材料膜によって被覆する方法としては、たとえば、スパッタリング法や電子サイクロトロン共鳴（ＥＣＲ）プラズマＣＶＤ法等によって、窒化珪素や酸化珪素からなる無機材料膜を形成する方法が挙げられる。
　上述の樹脂層としてアクリル系の樹脂を用いる技術として、特許文献１（国際公開第２０１９／８２９９６号）に記載のものがある。同文献には、有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤に非環式の炭素数６以上のアルカンジオールジ（メタ）アクリレート、および、環状単官能（メタ）アクリレートと環状２官能（メタ）アクリレートとを含有する環状モノマーとを組み合わせて用いることが記載されている。同文献によれば、インクジェットを用いる際の吐出性に優れ、かつ得られる有機ＥＬ素子の信頼性にも優れる封止剤が得られるとされている。
国際公開第２０１９／８２９９６号
　表示装置の封止層にアクリル系の樹脂を用いることについて本発明者らが検討したところ、アクリル系の樹脂を用いて製造された樹脂層はプラズマ耐性が低い場合があることが明らかになった。このため、樹脂層上にプラズマＣＶＤ法等により無機材料膜を形成する際に、樹脂層のダメージに起因して無機材料膜にピンホールが発生したり、樹脂層が基板から剥離したりする場合があった。
　さらに、上記特許文献に記載の技術について本発明らが検討したところ、特許文献１においては、硬化体のガラス転移温度が高いため、フレキシブル性が要求されるデバイスには適さない場合があると予想される点で、改善の余地があった。
　本発明は、耐プラズマ性に優れるとともに、インクジェット法で安定に塗布できる粘度と低誘電率とが両立される、表示素子用封止剤を提供する。
　本発明によれば、以下に示す表示素子用封止剤、硬化物および表示装置が提供される。
［１］　重合性化合物および硬化剤を含有する表示素子用封止剤であって、
　前記重合性化合物が、以下の成分（Ａ）および（Ｂ）：
　　（Ａ）２官能以上の脂環構造を有する（メタ）アクリレート
　　（Ｂ）２官能の鎖状構造を有する（メタ）アクリレート
　を含み、
　前記成分（Ａ）および（Ｂ）の合計１００質量部に対して前記成分（Ａ）の含有量が６０質量部以下であり、
　当該表示素子用封止剤中の成分（Ｃ）：単官能の（メタ）アクリレートの含有量が、前記重合性化合物１００質量部に対して１質量部以下である、表示素子用封止剤。
［２］　前記成分（Ａ）が、ジメチロール－トリシクロデカンジ（メタ）アクリレートを含む、［１］に記載の表示素子用封止剤。
［３］　前記成分（Ｂ）が、１，１２－ドデカンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレートおよびトリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートからなる群から選択される１または２以上の（メタ）アクリレートである、［１］または［２］に記載の表示素子用封止剤。
［４］　有機ＥＬ表示素子の封止用である、［１］乃至［３］いずれか１項に記載の表示素子用封止剤。
［５］　［１］乃至［４］いずれか１項に記載の表示素子用封止剤を硬化してなる硬化物。
［６］　基板と、
　前記基板上に配置された表示素子と、
　前記表示素子を被覆する封止層と、
　を含み、
　前記封止層が、［１］乃至［４］いずれか１項に記載の表示素子用封止剤の硬化物により構成されている、表示装置。
　本発明によれば、耐プラズマ性に優れるとともに、インクジェット法で安定に塗布できる粘度と低誘電率とが両立される、表示素子用封止剤を提供することができる。
実施形態における有機ＥＬ表示装置の構成例を示す断面図である。
　以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。なお、すべての図面において、同様な構成要素には共通の符号を付し、適宜説明を省略する。また、本実施形態において、各成分について、それぞれ、１種を用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、数値範囲を表す「～」は、以上、以下を表し、上限値および下限値をいずれも含む。
　（表示素子用封止剤）
　本実施形態において、表示素子用封止剤（以下、適宜単に「封止剤」とも呼ぶ。）は、素子の封止に用いられる組成物であって、重合性化合物および硬化剤を含有する。重合性化合物は、以下の成分（Ａ）および（Ｂ）：
（Ａ）２官能以上の脂環構造を有する（メタ）アクリレート
（Ｂ）２官能の鎖状構造を有する（メタ）アクリレート
を含み、成分（Ａ）および（Ｂ）の合計１００質量部に対して成分（Ａ）の含有量が６０質量部以下である。表示素子用封止剤中の成分（Ｃ）：単官能の（メタ）アクリレートの含有量が、重合性化合物１００質量部に対して１質量部以下である。
　ここで、（メタ）アクリレートとは、アクリレートとメタクリレートのうちの少なくとも一方を意味する。また、（メタ）アクリルとは、アクリルまたはメタクリルのうちの少なくとも一方を意味する。
（重合性化合物）
　重合性化合物は、重合性の官能基を有する化合物であればよく、好ましくはラジカル重合性の官能基を有する化合物である。重合性化合物は、上述の成分（Ａ）および（Ｂ）を含む。
（成分（Ａ））
　成分（Ａ）は、２官能以上の脂環構造を有する（メタ）アクリレートである。成分（Ａ）は、具体的には、分子構造中に脂環構造を有するとともに、（メタ）アクリル基を２個以上有する（メタ）アクリレートであり、強度向上の観点から、好ましくは（メタ）アクリル基を２個有する（メタ）アクリレートである。
　さらに具体的には、成分（Ａ）は分子構造中に脂環式炭化水素構造を有し、脂環式炭化水素構造における炭素数は、耐熱性向上の観点から、好ましくは４以上であり、より好ましくは５以上、さらに好ましくは６以上であり、また、好ましくは１４以下であり、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは１０以下である。
　脂環式炭化水素構造は、飽和炭化水素構造であってよいし不飽和炭化水素構造であってもよい。耐熱性向上の観点から、脂環式炭化水素構造は、好ましくは飽和炭化水素構造である。
　また、脂環式炭化水素構造は、単環式炭化水素構造であってもよいし、縮合環式炭化水素構造や橋架環式炭化水素基構造の多環式炭化水素構造であってもよい。成分（Ａ）は、分子構造中にこれらの脂環式炭化水素構造を含む基を含んでもよく、好ましくは脂環式炭化水素構造を含む２価の基を含む。
　単環式炭化水素基の具体例として、シクロヘキシレン基、シクロヘキシル基等のシクロアルカン構造を有する基；シクロデカトリエンジイル基、シクロデカトリエン基等のシクロアルケン骨格を有する基が挙げられる。
　多環式炭化水素基の具体例として、トリシクロデカンジイル基、ジシクロペンタニル基、ジシクロペンテニル基等のジシクロペンタジエン骨格を有する基；ノルボルナンジイル基、イソボルナンジイル基、ノルボルニル基、イソボルニル基等のノルボルナン骨格を有する基；アダマンタンジイル基、アダマンチル基等のアダマンタン骨格を有する基などが挙げられる。
　成分（Ａ）における環式炭化水素基は、耐プラズマ性向上の観点および低透湿性の観点から、好ましくはジシクロペンタジエン骨格を有する基である。
　また、成分（Ａ）は、耐プラズマ性向上の観点および低透湿性の観点から、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートを含み、より好ましくはトリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートである。
　封止剤中の成分（Ａ）の含有量は、耐熱性向上の観点から、重合性化合物１００質量部に対し、好ましくは５質量部以上であり、より好ましくは１０質量部以上、さらに好ましくは１５質量部以上、さらにより好ましくは２０質量部以上、よりいっそう好ましくは２５質量部以上である。
　また、インクジェット塗布性をより好ましいものとする観点から、封止剤中の成分（Ａ）の含有量は、重合性化合物１００質量部に対し、好ましくは６０質量部以下であり、より好ましくは５８質量部以下、さらに好ましくは５６質量部以下である。
（成分（Ｂ））
　成分（Ｂ）は、２官能の鎖状構造を有する（メタ）アクリレートである。成分（Ｂ）は、具体的には、分子構造中に鎖状構造を有するとともに、（メタ）アクリル基を２個以上有する（メタ）アクリレートであり、強度向上の観点から、好ましくは（メタ）アクリル基を２個有する（メタ）アクリレートである。
　成分（Ｂ）の具体例として、アルカンジオールのジ（メタ）アクリレート、（ポリ）アルキレングリコールのジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
　成分（Ｂ）において、鎖状構造は、直鎖構造であっても、分岐を有する構造であってもよい。
　鎖状構造は、インクジェット塗布性をより好ましいものとする観点から、好ましくは直鎖または分岐鎖を有する２価の炭化水素基を含む。２価の炭化水素基の炭素数は、モノマー入手容易性の観点から、たとえば１以上であり、好ましくは２以上、より好ましくは４以上である。また、耐熱性向上の観点から、２価の炭化水素基の炭素数は、好ましくは２０以下、より好ましくは１４以下である。
　成分（Ｂ）として、さらに具体的には、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（たとえばＡ－ＨＤ－Ｎ、新中村化学工業社製）、１，９－ノナンジオールジアクリレート（たとえばＡ－ＮＯＤ－Ｎ、新中村化学工業社製；ライトアクリレート１，９ＮＤ－Ａ、共栄社化学社製）、１，１０－デカンジオールジアクリレート（たとえばＡ－ＤＯＤ－Ｎ、新中村化学工業社製）、ネオペンチルグリコールジアクリレート（たとえばＡ－ＮＰＧ、新中村化学工業社製；ライトアクリレートＮＰ－Ａ、共栄社化学社製）、エチレングリコールジアクリレート（たとえばＳＲ２０６ＮＳ、アルケマ社製）、トリエチレングリコールジアクリレート（たとえばＳＲ２７２、アルケマ社製）、ポリエチレングリコールジアクリレート（たとえばＡ－４００、新中村化学工業社製）、ポリプロピレングリコールジアクリレート（たとえばＡＰＧ－４００、新中村化学工業社製）、トリプロピレングリコールジアクリレート（たとえばＳＲ３０６Ｈ、アルケマ社製）、１，３－ブタンジオールジメタクリレート（たとえばＢＧ、新中村化学工業社製）、１，４－ブタンジオールジメタクリレート（たとえばＢＤ、新中村化学工業社製）、１，６－ヘキサンジオールジメタクリレート（たとえばＨＤ－Ｎ、新中村化学工業社製）、１，９－ノナンジオールジメタクリレート（たとえばＮＯＤ－Ｎ、新中村化学工業社製；ライトアクリレート１，９－ＮＤ－Ｍ、共栄社化学社製）、１，１０－デカンジオールジメタクリレート（たとえばＤＯＤ－Ｎ、新中村化学工業社製）、１，１２－ドデカンジオールジメタクリレート（たとえばＳＲ２６２、アルケマ社製）、ネオペンチルグリコールジメタクリレート（たとえばＮＰＧ、新中村化学工業社製）が挙げられる。
　耐プラズマ性向上、インクジェット法での塗布安定性向上および低誘電率の効果のバランスを高める観点から、成分（Ｂ）は、１，１２－ドデカンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレートおよびトリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートからなる群から選択される１または２以上の（メタ）アクリレートである。
　封止剤中の成分（Ｂ）の含有量は、インクジェット塗布性をより好ましいものとする観点から、重合性化合物１００質量部に対し、好ましくは５質量部以上であり、より好ましくは１０質量部以上、さらに好ましくは１５質量部以上、さらにより好ましくは２０質量部以上、よりいっそう好ましくは２５質量部以上、さらにまた好ましくは４０質量部以上である。
　また、耐プラズマ性向上の観点から、封止剤中の成分（Ｂ）の含有量は、重合性化合物１００質量部に対し、たとえば７５質量部以下であり、好ましくは６０質量部以下であり、より好ましくは５８質量部以下、さらに好ましくは５６質量部以下である。
　また、成分（Ａ）および（Ｂ）の合計１００質量部に対する成分（Ａ）の含有量は、インクジェット塗布性をより好ましいものとする観点から、６０質量部以下であり、好ましくは５８質量部以下、より好ましくは５５質量部以下、さらに好ましくは５０質量部以下である。
　成分（Ａ）および（Ｂ）の合計１００質量部に対する成分（Ａ）の含有量の下限値は、０質量部超であり、耐プラズマ性向上の観点から、好ましくは１０質量部以上であり、より好ましくは１５質量部以上、さらに好ましくは２０質量部以上、さらにより好ましくは２５質量部以上、よりいっそう好ましくは３０質量部以上、さらにまた好ましくは４０質量部以上である。
（成分（Ｃ））
　成分（Ｃ）は、単官能の（メタ）アクリレートである。成分（Ｃ）の具体例として、分子構造中に直鎖または分岐鎖を有する炭化水素基を有するモノ（メタ）アクリレート、分子構造中に芳香族炭化水素基を有するモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。前者の例として、ラウリルメタクリレートが挙げられ、後者の例として、３－フェノキシベンジルアクリレートが挙げられる。
　耐プラズマ性向上と耐熱性向上の観点から、表示素子用封止剤は好ましくは成分（Ｃ）を含まない。すなわち、表示素子用封止剤中の成分（Ｃ）の含有量は、重合性化合物１００質量部に対して好ましくは０質量部である。
　同様の観点から、表示素子用封止剤が成分（Ｃ）を含むとき、表示素子用封止剤中の成分（Ｃ）の含有量は、重合性化合物１００質量部に対して０質量部超であり、また、１質量部以下であり、好ましくは０．５質量部以下、より好ましくは０．１質量部以下、さらに好ましくは０．０１質量部以下である。
　表示素子用封止剤中の重合性化合物の含有量は、硬化物の強度を向上する観点から、封止剤の全組成に対し、好ましくは７０質量％以上であり、より好ましくは８０質量％以上、さらに好ましくは８５質量％以上、さらにより好ましくは９０質量％以上、よりいっそう好ましくは９３質量％以上である。
　また、封止材料の耐候性を向上する観点から、封止剤中の重合性化合物の含有量は、封止剤の全組成に対し、好ましくは９９．９質量％以下であり、より好ましくは９９．５質量％以下、さらに好ましくは９９質量％以下、よりいっそう好ましくは９８質量％以下である。
（硬化剤）
　硬化剤として、具体的には、重合開始剤が挙げられる。重合開始剤は、低温で安定的に硬化物を形成する観点から、好ましくは、紫外線または可視光線の照射によりラジカルまたは酸を発生する化合物である光重合開始剤である。光重合開始剤としては、アシルフォスフィンオキサイド系開始剤、オキシフェニル酢酸エステル系開始剤、ベンゾイルギ酸系開始剤およびヒドロキシフェニルケトン系開始剤等が挙げられる。
　光重合開始剤の具体例としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、４，４'－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、２－エチルアントラキノン、アセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－４'－イソプロピルプロピオフェノン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、２，２－ジエトキシアセトフェノン、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、カンファーキノン、ベンズアントロン、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４，４'－ジ（ｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４，４'－トリ（ｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３'，４，４'－テトラ（ｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３'，４，４'－テトラ（ｔ－ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３'－ジ（メトキシカルボニル）－４，４'－ジ（ｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４'－ジ（メトキシカルボニル）－４，３'－ジ（ｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４'－ジ（メトキシカルボニル）－３，３'－ジ（ｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２－（４'－メトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（３'，４'－ジメトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（２'，４'－ジメトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（２'－メトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４'－ペンチルオキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、４－［ｐ－Ｎ，Ｎ－ジ（エトキシカルボニルメチル）］－２，６－ジ（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、１，３－ビス（トリクロロメチル）－５－（２'－クロロフェニル）－ｓ－トリアジン、１，３－ビス（トリクロロメチル）－５－（４'－メトキシフェニル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－ジメチルアミノスチリル）ベンズオキサゾール、２－（ｐ－ジメチルアミノスチリル）ベンズチアゾール、２－メルカプトベンゾチアゾール、３，３'－カルボニルビス（７－ジエチルアミノクマリン）、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，４'，５，５'－テトラフェニル－１，２'－ビイミダゾール、２，２'－ビス（２－クロロフェニル）－４，４'，５，５'－テトラキス（４－エトキシカルボニルフェニル）－１，２'－ビイミダゾール、２，２'－ビス（２，４－ジクロロフェニル）－４，４'，５，５'－テトラフェニル－１，２'－ビイミダゾール、２，２'－ビス（２，４－ジブロモフェニル）－４，４'，５，５'－テトラフェニル－１，２'－ビイミダゾール、２，２'－ビス（２，４，６－トリクロロフェニル）－４，４'，５，５'－テトラフェニル－１，２'－ビイミダゾール、３－（２－メチル－２－ジメチルアミノプロピオニル）カルバゾール、３，６－ビス（２－メチル－２－モルフォリノプロピオニル）－９－ｎ－ドデシルカルバゾール、ビス（η５－２，４－シクロペンタジエン－１－イル）－ビス（２，６－ジフルオロ－３－（１Ｈ－ピロール－１－イル）－フェニル）チタニウム、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－１－プロパノン、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパノン、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－１－プロパノン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルホリノ－１－プロパノン、２－（ジメチルアミノ）－１－（４－モルホリノフェニル）－２－ベンジル－１－ブタノン、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン、オキシ－フェニル－酢酸２－［２－オキソ－２－フェニル－アセトキシ－エトキシ］－エチルエステル、オキシ－フェニル－酢酸２－［２－ヒドロキシ－エトキシ］－エチルエステル、ベンゾイルギ酸メチル、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィン酸エステル、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－１，２－オクタンジオン２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－エタノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）などを挙げることができる。
　これらの中でも、硬化性を向上する観点から、光重合開始剤は、好ましくは、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－１－プロパノン、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパノン、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－１－プロパノン、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、オキシ－フェニル－酢酸２－［２－オキソ－２－フェニル－アセトキシ－エトキシ］－エチルエステル、オキシ－フェニル－酢酸２－［２－ヒドロキシ－エトキシ］－エチルエステル、ベンゾイルギ酸メチル、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィン酸エステルからなる群から選択される１または２以上の化合物である。
　光重合開始剤の市販品としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１１７３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ５００、Ｉｒｇａｃｕｒｅ２９５９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ７５４、ＩｒｇａｃｕｒｅＭＢＦ、ＩｒｇａｃｕｒｅＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ製）、Ｏｍｎｉｒａｄ　ＴＰＯ　Ｈ（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社製）などが好ましい。
　封止剤中の重合開始剤の含有量は、硬化性を向上する観点から、封止剤の全組成に対し、好ましくは０．１質量％以上であり、より好ましくは０．５質量％以上、さらに好ましくは１質量％以上、さらにより好ましくは２質量％以上である。
　また、封止剤の着色を抑制する観点から、封止剤中の重合開始剤の含有量は、封止剤の全組成に対し、好ましくは１０質量％以下であり、より好ましくは８質量％以下、さらに好ましくは７質量％以下、さらにより好ましくは６質量％以下、よりいっそう好ましくは５質量％以下である。
（その他成分）
　本実施形態において、封止剤は、重合性化合物および硬化剤から構成されてもよいし、これら以外の成分を含んでもよい。他の成分の具体例として、粘着付与剤、充填剤、硬化促進剤、可塑剤、界面活性剤、熱安定剤、難燃剤、帯電防止剤、消泡剤、レベリング剤および紫外線吸収剤からなる群から選択される１または２以上の添加剤が挙げられる。
　次に、封止剤の特性を説明する。
　封止剤の硬化物のガラス転移温度（Ｔｇ）は、封止材料の耐熱性向上の観点から、５０℃以上であり、好ましくは６０℃以上、より好ましくは７０℃以上である。
　また、屈曲性向上の観点から、封止剤の硬化物のＴｇは、２００℃未満であり、好ましくは１９０℃以下、より好ましくは１８０℃以下である。
　ここで、封止剤のＴｇは、具体的には以下の方法で測定される。まず、封止剤の硬化物は、１００μｍ厚のテフロン（登録商標）シートを型枠として、ＰＥＴフィルム間に未硬化の封止剤を挟みこみ、波長３９５ｎｍのＵＶ－ＬＥＤで照度１０００ｍＷ／ｃｍ2、積算光量１５００ｍＪ／ｃｍ2の条件で硬化させ、得られる。
　得られた硬化物をカッターで幅１０ｍｍ×長さ４０ｍｍの大きさに切りだして測定試料を得る。
　そして、硬化物のＴｇは、動的粘弾性測定装置「ＤＭＳ６１００」により、大気中にて硬化物の測定試料に１Ｈｚの周波数をかけながら、室温から２５０℃まで５℃／分で昇温しながら、ｔａｎδを測定して、ｔａｎδのピークトップの温度をＴｇとする。
　封止剤の性状は限定されず、封止材料のフレキシブル性および耐プラズマ性を向上する観点、および、インクジェット法等の塗布法による硬化材料の形成に好適であるという観点から、封止剤は好ましくは液状である。
　また、実施形態において、樹脂膜等の封止材料を安定的に形成する観点から、封止剤は、好ましくは塗布に用いられる封止剤であり、より好ましくはインクジェット法による塗布に用いられる封止剤である。
　Ｅ型粘度計を用いて２５℃、２０ｒｐｍにて測定される封止剤の粘度は、インクジェット吐出性向上の観点から、好ましくは５ｍＰａ・ｓ以上であり、より好ましくは８ｍＰａ・ｓ以上、さらに好ましくは１０ｍＰａ・ｓ以上である。
　また、インクジェット吐出性向上の観点から、上記封止剤の粘度は、好ましくは３０ｍＰａ・ｓ以下であり、より好ましくは３０．０ｍＰａ・ｓ未満、さらに好ましくは２８．５ｍＰａ・ｓ以下、さらにより好ましくは２７ｍＰａ・ｓ以下である。
　封止剤の硬化物の誘電率は、封止剤の封止特性を向上する観点から、好ましくは３．５未満であり、より好ましくは３．４以下、さらに好ましくは３．３以下、さらにより好ましくは３．２以下、よりいっそう好ましくは３．１以下である。
　また、封止剤の硬化物の誘電率は、たとえば１．０以上とすることができる。
　ここで、封止剤の硬化物の誘電率は、波長３９５ｎｍのＵＶ－ＬＥＤで照度１０００ｍＷ／ｃｍ2、積算光量１５００ｍＪ／ｃｍ2の条件で硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物について、周波数１００ｋＨｚにて測定される誘電率である。
　次に、封止剤の製造方法を説明する。
　封止剤の製造方法は限定されず、たとえば、重合性化合物、硬化剤、および、適宜その他の成分、たとえば必要に応じて添加する各種添加剤を混合することを含む。各成分を混合する方法として、たとえば、遊星式撹拌装置、ホモディスパー、万能ミキサー、バンバリーミキサー、ニーダー、２本ロール、３本ロール、押出機等の公知の各種混練機を単独または併用して、常温下または加熱下で、常圧下、減圧下、加圧下または不活性ガス気流下等の条件下で均一に混練する方法が挙げられる。
　また、得られた封止剤を用いて封止材料を形成することもできる。たとえば、封止剤を基材上に塗布し、乾燥してもよい。塗布には、インクジェット法、スクリーン印刷、ディスペンサー塗布等の公知の手法を用いることができる。また、乾燥は、たとえば重合性化合物が重合しない温度に加熱すること等によりおこなうことができる。得られる封止材料の形状に制限はなく、たとえば膜状または層状とすることができる。
　封止材料は、たとえば本実施形態における封止剤を硬化してなる硬化物であり、さらに具体的には封止剤の光硬化物である。
　封止剤を光硬化させる方法としては、たとえば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、エキシマレーザ、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ、ナトリウムランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、ＬＥＤランプ、蛍光灯、太陽光、電子線照射装置等の光源を使用して光照射して硬化させる方法が挙げられる。
　本実施形態において、重合性化合物が、成分（Ａ）および（Ｂ）を特定の割合で含むとともに、成分（Ｃ）を含むときの含有量が特定の範囲にあるため、かかる重合性化合物および硬化剤を含む封止剤を用いることにより、耐プラズマ性に優れるとともに、インクジェット法で安定に塗布できる粘度と低誘電率とが両立される封止材料を得ることができる。かかる重合性化合物から得られる樹脂層を封止材料として用いることにより、たとえば、信頼性に優れる表示装置を得ることも可能となる。
　また、本実施形態において得られる封止剤は、たとえば表示素子、好ましくは有機ＥＬ表示素子の封止用に好適に用いられる。本実施形態によれば、耐プラズマ性に優れ、樹脂層の形成時にインクジェット法で安定に塗布できるとともに、誘電率が効果的に低減されている封止剤を得ることができる。このため、たとえば、表示装置の製造工程における表示素子のダメージを効果的に抑制することができ、表示装置の製造安定性を向上することも可能となる。
　以下、有機ＥＬ表示装置を例に、表示装置の構成例を挙げる。
　（有機ＥＬ表示装置）
　本実施形態において、有機ＥＬ表示装置は、封止剤の硬化物により構成された層を有する。有機ＥＬ素子を、本実施形態の封止剤を硬化させて得られる樹脂層で保護することにより、有機ＥＬ素子内への水分の浸入を充分に防止して有機ＥＬ素子の性能および耐久性を高く維持することができる。
　有機ＥＬ表示装置は、トップエミッション構造であっても、ボトムエミッション構造であってもよい。
　有機ＥＬ素子は、基板上に配置され、本実施形態における封止剤を硬化させて得られる樹脂層により保護される前に、上記有機ＥＬ素子を含む領域を覆うように予め無機材料膜で被覆されていることが好ましい。
　図１は、本実施形態における有機ＥＬ表示装置の構成例を示す断面図である。図１に示した表示装置１００は、有機ＥＬ表示装置であって、基板（基材層５０）と、基材層５０上に配置された表示素子（発光素子１０）と、発光素子１０を被覆する封止層２２（オーバーコート層２２またはバリア性層２２であってもよい）と、を含む。そして、たとえば封止層２２が、本実施形態における封止剤の硬化物により構成されている。発光素子１０は、具体的には有機ＥＬ表示素子である。
　また、図１においては、表示装置１００が、発光素子１０よりも観察側に位置する層として、バリア性層２１（タッチパネル層２１または表面保護層２１であってもよい）、封止層２２（オーバーコート層２２またはバリア性層２２であってもよい）、平坦化層２３（封止層２３であってもよい）、バリア性層２４を有している。平坦化層２３は、発光素子１０を覆うように基材層５０上に設けられており、バリア性層２４は、平坦化層２３の表面に設けられている。封止層２２は、平坦化層２３およびバリア性層２４を覆うように基材層５０上に設けられている。また、封止層２２上にバリア性層２１が設けられている。
　基材層５０の材料は限定されず、たとえば、ガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板等種々のものを用いることができる。基板上に複数のＴＦＴ（薄膜トランジスタ）および平坦化層を備えたＴＦＴ基板を用いることもできる。
　バリア性層２４すなわち前述の無機材料膜を構成する無機材料としては、たとえば、窒化珪素（ＳｉＮx）、酸化珪素（ＳｉＯx）、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）等が挙げられる。無機材料膜は、１層でもよく、複数種の層の積層体でもよい。
　無機材料膜によって発光素子１０を被覆する方法は、たとえば上記無機材料膜が窒化珪素や酸化珪素からなる場合には、スパッタリング法や電子サイクロトロン共鳴（ＥＣＲ）プラズマＣＶＤ法等が挙げられる。
　このうち、スパッタリング法は、たとえば、キャリアガスとしてアルゴンや窒素等の単独または混合ガスを用い、室温、電力５０～１０００Ｗ、圧力０．００１～０．１Ｔｏｒｒの条件でおこなうことができる。
　また、ＥＣＲプラズマＣＶＤ法は、たとえば、ＳｉＨ4とＯ2との混合ガス又はＳｉＨ4とＮ2との混合ガスを用い、温度３０℃～１００℃、圧力１０ｍＴｏｒｒ～１Ｔｏｒｒ、周波数２．４５ＧＨｚ、電力１０～１０００Ｗの条件でおこなうことができる。
　発光素子１０の上に形成される無機材料膜の厚さは限定されないが、封止性能とフレキシブル性能を向上させる観点から、たとえば０．０１～１０μｍであり、好ましくは０．１～５μｍである。
　発光素子１０を、本実施形態の封止剤を硬化させて得られる樹脂層、たとえば封止層２２により保護する方法としては、たとえば、発光素子１０上に封止剤を塗工し硬化する方法等が挙げられる。塗工する方法としては、インクジェット法を用いることが好ましい。
　樹脂層の厚さは限定されないが、封止性能とフレキシブル性能を向上させる観点から、たとえば０．１～５０μｍであり、好ましくは１～２０μｍである。
　また、表示装置１００においては、発光素子１０を大気中の水分や酸素から保護する効果を高くするため、上述の樹脂層上にさらに無機材料膜（バリア性層２４）を積層することが好ましい。樹脂層上に積層される無機材料膜を構成する無機材料や形成方法としては、上述した発光素子１０を被覆する無機材料膜と同様である。
　上記樹脂層上に形成される無機材料膜の厚さは限定されないが、封止性能とフレキシブル性能を向上させる観点から、たとえば０．０１～１０μｍであり、好ましくは０．１～５μｍである。
　表示装置１００においては、発光素子１０上に、バリア性層２４および封止層２２が設けられており、封止層２２が本実施形態における封止剤を硬化させて得られる樹脂層により構成されているため、信頼性に優れた表示装置１００を得ることができる。具体的には、封止層２２の上部にバリア性層２４を形成する際にプラズマ処理工程をおこなう際にも、バリア性層２４へのダメージを抑制することができる。また、たとえば、ＳｉＮx膜であるバリア性層２４へのピンホールの発生を抑制することも可能となる。
　以下、本発明を実施例および比較例により説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
　はじめに、以下の例において用いた材料を示す。
（重合性化合物）
（Ａ）脂環式
ＵＶ硬化樹脂１：ジメチロール－トリシクロデカンジアクリレート、ライトアクリレートＤＣＰ－Ａ、共栄社化学社製
ＵＶ硬化樹脂２：ジメチロール－トリシクロデカンジメタクリレート、ライトアクリレートＤＣＰ－Ｍ、共栄社化学社製
（Ｂ）鎖状
ＵＶ硬化樹脂３：１，１２－ドデカンジオールジメタクリレート、ＳＲ２６２、アルケマ社製
ＵＶ硬化樹脂４：１，９－ノナンジオールジアクリレート、ライトアクリレート１，９ＮＤ－Ａ、共栄社化学社製
ＵＶ硬化樹脂５：１，９－ノナンジオールジメタクリレート、ライトアクリレート１，９ＮＤ－Ｍ、共栄社化学社製
ＵＶ硬化樹脂６：トリエチレングリコールジアクリレート、ＳＲ２７２、アルケマ社製
ＵＶ硬化樹脂７：トリプロピレングリコールジアクリレート、ＳＲ３０６Ｈ、アルケマ社製
（Ｃ）－１：直鎖単官能
ＵＶ硬化樹脂８：ラウリルメタクリレート、ライトアクリレートＬ、共栄社化学社製
（Ｃ）－２：芳香族単官能
ＵＶ硬化樹脂９：３－フェノキシベンジルアクリレート、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ、共栄社化学社製
（重合開始剤）
ＵＶラジカル開始剤１：２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニルホスフィンオキサイド、Ｏｍｎｉｒａｄ　ＴＰＯ　Ｈ、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社製
　（実施例１～５、比較例１～４）
　表１に示した配合組成となるように各成分を配合して、封止剤として液状の硬化性組成物を得た。
　各例で得られた封止剤またはその硬化物の特性を以下の方法で測定した。測定結果を表１にあわせて示す。
（粘度）
　各例で得られた硬化性組成物の粘度を、Ｅ型粘度計（LV DV-II+ Pro、BROOKFIELD社製）を用いて２５℃、２０ｒｐｍにて測定した。粘度の測定値が３０ｍＰａ・ｓ未満であるものを合格とした。
（ガラス転移温度）
　まず、以下の手順で封止剤の硬化物を得た。すなわち、１００μｍ厚のテフロン（登録商標）シートを型枠として、ＰＥＴフィルム間に未硬化の封止剤を挟みこみ、波長３９５ｎｍのＵＶ－ＬＥＤで照度１０００ｍＷ／ｃｍ2、積算光量１５００ｍＪ／ｃｍ2の条件で硬化させ、硬化物を得た。
　得られた硬化物をカッターで幅１０ｍｍ×長さ４０ｍｍの大きさに切りだした、測定試料を得た。
　そして、動的粘弾性測定装置「ＤＭＳ６１００」により、大気中にて硬化物の測定試料に１Ｈｚの周波数をかけながら、室温から２５０℃まで５℃／分で昇温しながらｔａｎδを測定した。得られたｔａｎδのピークトップの温度をＴｇとした。
（誘電率）
　誘電率測定のための硬化物を得るための塗膜を以下の方法により作製した。すなわち、得られた封止剤を、インクジェットカートリッジＤＭＣ－１１６１０（富士フイルムＤｉｍａｔｉｘ社製）に導入した。そのインクジェットカートリッジをインクジェット装置ＤＭＰ－２８３１（富士フイルムＤｉｍａｔｉｘ社製）にセットし、吐出状態の調整を行った後、無アルカリガラス上にアルミニウムを１００ｎｍの厚みで蒸着した基板に、硬化後の厚みが１０μｍとなるように、５ｃｍ×５ｃｍのサイズで塗布した。
　得られた塗膜を５分間、室温（２５℃）でボックスに入れて窒素をフローさせた後、波長３９５ｎｍの紫外線を照度１０００ｍＷ／ｃｍ2、積算光量１５００ｍＪ／ｃｍ2の条件で照射し、硬化膜を形成した。
　その後、インクジェット塗布面にアルミニウムを１００ｎｍの厚みで蒸着し、ＬＣＲメーターＨＰ４２８４Ａ（アジレント・テクノロジー社製）にて、自動平衡ブリッジ法により条件１００ｋＨｚにて誘電率を測定した。誘電率の測定値が３．５未満であるものを合格とした。
（有機ＥＬ素子ダメージ）
　封止剤のプラズマ耐性の指標として、プラズマ処理工程における有機ＥＬ素子ダメージを以下の方法で評価した。
　各例で得られた封止剤を、インクジェットカートリッジＤＭＣ－１１６１０（富士フイルムＤｉｍａｔｉｘ社製）に導入した。そのインクジェットカートリッジをインクジェット装置ＤＭＰ－２８３１（富士フイルムＤｉｍａｔｉｘ社製）にセットし、吐出状態の調整を行った後、ガラス基板に、硬化後の厚みが１０μｍとなるように、１５ｍｍ×１５ｍｍのサイズで塗布した。
　得られた塗膜を５分間、室温（２５℃）でボックスに入れて窒素をフローさせた後、波長３９５ｎｍの紫外線を１５００ｍＷ／ｃｍ2で１秒間照射し、硬化膜を形成した。
　硬化膜が形成されたサンプルに、２５００Ｗ　ＩＣＰ電源、３００Ｗ　ＲＦ電源、ＤＣバイアス２００Ｖ、アルゴン（Ａｒ）流量５０ｓｃｃｍ、１０ｍｔｏｒｒの圧力条件で１分間プラズマ処理した。
　その後、ＳｉＮxターゲットを用いてＲＦスパッタリング法により、膜厚１００ｎｍの無機封止層（ＳｉＮx膜）を形成した。
　一方、対向基板にＯＬＥＤ素子を蒸着して、無機封止層が形成された基板と貼り合わせて評価用試料を得た。
　各例で得られた試料の信頼性試験を８５℃の条件で実施した。具体的には、各例で得られた試料を８５℃にて１００時間保存した後の発光面積率（％）を以下の方法で求めた。すなわち、Ｍｏｔｉｃ　Ｉｍａｇｅｓ　Ｐｌｕｓソフト（島津理化社製）を用いて初期状態と１００時間保存後の発光面積を算出し、発光面積率を求めた。発光面積率が５０％以上であるものを合格とした。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１より、各実施例で得られた封止剤は、プラズマ照射に対する有機ＥＬ素子ダメージの抑制効果に優れるものであった。また、各実施例で得られた封止剤は、粘度、誘電率およびＴｇの各特性のバランスに優れたものであった。
　この出願は、２０２０年９月１８日に出願された日本出願特願２０２０－１５７６６０号を基礎とする優先権を主張し、その開示のすべてをここに取り込む。
１０　発光素子
２１　バリア性層、タッチパネル層または表面保護層
２２　封止層、オーバーコート層、またはバリア性層
２３　平坦化層または封止層
２４　バリア性層
５０　基材層
１００　表示装置

Claims (6)

  1. 　重合性化合物および硬化剤を含有する表示素子用封止剤であって、
    　前記重合性化合物が、以下の成分（Ａ）および（Ｂ）：
    　　（Ａ）２官能以上の脂環構造を有する（メタ）アクリレート
    　　（Ｂ）２官能の鎖状構造を有する（メタ）アクリレート
    　を含み、
    　前記成分（Ａ）および（Ｂ）の合計１００質量部に対して前記成分（Ａ）の含有量が６０質量部以下であり、
    　当該表示素子用封止剤中の成分（Ｃ）：単官能の（メタ）アクリレートの含有量が、前記重合性化合物１００質量部に対して１質量部以下である、表示素子用封止剤。
  2. 　前記成分（Ａ）が、ジメチロール－トリシクロデカンジ（メタ）アクリレートを含む、請求項１に記載の表示素子用封止剤。
  3. 　前記成分（Ｂ）が、１，１２－ドデカンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレートおよびトリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートからなる群から選択される１または２以上の（メタ）アクリレートである、請求項１または２に記載の表示素子用封止剤。
  4. 　有機ＥＬ表示素子の封止用である、請求項１乃至３いずれか１項に記載の表示素子用封止剤。
  5. 　請求項１乃至４いずれか１項に記載の表示素子用封止剤を硬化してなる硬化物。
  6. 　基板と、
    　前記基板上に配置された表示素子と、
    　前記表示素子を被覆する封止層と、
    　を含み、
    　前記封止層が、請求項１乃至４いずれか１項に記載の表示素子用封止剤の硬化物により構成されている、表示装置。
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