WO2022045113A1

WO2022045113A1 - 下層膜形成用組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置

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Publication number: WO2022045113A1
Application number: PCT/JP2021/030943
Authority: WO
Inventors: 和也尾田; 明夫水野; 翔一中村; 全弘森; 拓貴本橋
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2020-08-28
Filing date: 2021-08-24
Publication date: 2022-03-03
Also published as: JPWO2022045113A1; JP7408821B2; US20230350289A1; TW202208461A; KR20230038241A

Abstract

カラーフィルタの下層膜形成用組成物であって、樹脂Ａと、溶剤Ｂとを含み、樹脂Ａはアルキレンオキシ構造を有する樹脂ａ－１を含み、下層膜形成用組成物の全固形分中における樹脂ａ－１の含有量が５０質量％以上であり、下層膜形成用組成物の固形分濃度が１質量％以下である下層膜形成用組成物。下層膜形成用組成物を用いたカラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置。

Description

下層膜形成用組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置

　本発明は、カラーフィルタの下層膜形成用組成物に関する。また、本発明は、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置に関する。

　近年、デジタルカメラ、カメラ付き携帯電話等の普及から、電荷結合素子（ＣＣＤ）イメージセンサなどの固体撮像素子の需要が大きく伸びている。ディスプレイや光学素子のキーデバイスとしてカラーフィルタが使用されている。

　カラーフィルタの製造にあたり、画素の支持体との密着性を向上させるなど目的で、支持体上に下層膜を形成したのち、下層膜上に画素を形成することが行われている。

　特許文献１には、特定の構造単位を有するホモポリマー又はコポリマー、酸化合物、溶剤及び樹脂組成物中の固形分の含有量に基づいて０～３５質量％の架橋剤を含有するカラーフィルタの下層膜形成用樹脂組成物に関する発明が記載されている。

国際公開第２０１６／０１３３４４号

　カラーフィルタの製造にあたり、支持体上に下層膜を形成することにより、画素の密着性を向上できるものの、下層膜上にカラーフィルタの画素を形成した際に、画素間（非画素部）の下層膜上に残渣が発生しやすい傾向にあった。特許文献１に記載された発明においても、下層膜上の残渣の発生を十分に抑制できるとは言えず、更なる改善の余地があった。

　よって、本発明の目的は、下層膜上に画素を形成した際において、下層膜上の残渣の発生が抑制された下層膜を形成できる下層膜形成用組成物を提供することにある。また、本発明は、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置を提供することにある。

　本発明者の検討によれば、後述する下層膜形成用組成物を用いることで上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。本発明は以下を提供する。
＜１＞　カラーフィルタの下層膜形成用組成物であって、
　樹脂Ａと、溶剤Ｂとを含み、
　上記樹脂Ａは、アルキレンオキシ構造を有する樹脂ａ－１を含み、
　上記下層膜形成用組成物の全固形分中における上記樹脂ａ－１の含有量が５０質量％以上であり、
　上記下層膜形成用組成物の固形分濃度が１質量％以下である、下層膜形成用組成物。
＜２＞　上記下層膜形成用組成物の全固形分中における上記樹脂Ａの含有量が５０質量％以上である、＜１＞に記載の下層膜形成用組成物。
＜３＞　上記樹脂ａ－１が有するアルキレンオキシ構造は、式（ＡＯ－１）で表される構造である、＜１＞または＜２＞に記載の下層膜形成用組成物；
　－（Ｒ^１－Ｏ）_ｎ－　　　・・・（ＡＯ－１）
　式中、Ｒ^１はアルキレン基を表し、ｎは２以上の数を表す。
＜４＞　上記樹脂ａ－１の酸価が４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の下層膜形成用組成物。
＜５＞　上記樹脂ａ－１は重合性基を含む、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の下層膜形成用組成物。
＜６＞　上記樹脂ａ－１は、アルキレンオキシ構造を含む基を有する繰り返し単位と、重合性基を有する繰り返し単位とを含む、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の下層膜形成用組成物。
＜７＞　上記重合性基がエチレン性不飽和結合含有基または環状エーテル基である、＜５＞または＜６＞に記載の下層膜形成用組成物。
＜８＞　さらに界面活性剤を含む、＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の下層膜形成用組成物。
＜９＞　更に、上記樹脂Ａ以外の重合性化合物を含む、＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の下層膜形成用組成物。
＜１０＞　上記下層膜形成用組成物の全固形分中における上記樹脂Ａと上記重合性化合物の合計の含有量が７０～１００質量％である、＜９＞に記載の下層膜形成用組成物。
＜１１＞　上記重合性化合物は、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物を含み、
　上記下層膜形成用組成物は、更に光重合開始剤を含む、＜９＞または＜１０＞に記載の下層膜形成用組成物。
＜１２＞　支持体と、支持体上に形成された下層膜と、上記下層膜上に形成された画素とを有するカラーフィルタであって、
　上記下層膜は、アルキレンオキシ構造を有する樹脂ａ－１を５０質量％以上含み、
　上記下層膜の膜厚が３０ｎｍ以下である、
　カラーフィルタ。
＜１３＞　上記支持体の表面に隔壁が形成されており、
　上記支持体上であって、上記隔壁で区画された領域に上記下層膜が形成されており、
　上記下層膜上に上記画素が形成されている、＜１２＞に記載のカラーフィルタ。
＜１４＞　支持体上に＜１＞～＜１０＞のいずれか１つに記載の下層膜形成用組成物を適用して下層膜を形成する工程と、
　上記下層膜上に画素を形成する工程と、を含み、
　上記画素を形成する工程は、画素形成用組成物を適用して画素形成用組成物層を形成する工程と、上記画素形成用組成物層をパターン状に露光する工程と、上記画素形成用組成物層の未露光部を現像除去する工程と、を含むカラーフィルタの製造方法。
＜１５＞　上記露光する工程では、上記画素形成用組成物層に波長３００ｎｍ以下の光を照射して露光する、＜１４＞に記載のカラーフィルタの製造方法。
＜１６＞　下層膜を形成する工程と上記画素を形成する工程とをそれぞれ交互に２回以上行い、２種以上の画素を形成する、＜１４＞または＜１５＞に記載のカラーフィルタの製造方法。
＜１７＞　＜１２＞または＜１３＞に記載のカラーフィルタを有する固体撮像素子。
＜１８＞　＜１２＞または＜１３＞に記載のカラーフィルタを有する画像表示装置。

　本発明によれば、下層膜上に画素を形成した際において、下層膜上の残渣の発生が抑制された下層膜を形成できる下層膜形成用組成物を提供することができる。また、本発明は、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置を提供することができる。

隔壁を有する支持体の一実施形態を示す側断面図である。同支持体の真上方向からみた平面図である。カラーフィルタの一実施形態を示す図である。

　以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
　本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
　本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、一般的に、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
　本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
　本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の合計質量をいう。
　本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アリル」は、アリルおよびメタリルの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
　本明細書において、構造式中のＭｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｂｕはブチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
　本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
　本明細書において、重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値として定義される。
　本明細書において、名称の前、又は名称の後に付記される記号（例えば、Ａ、Ｂなど）は、構成要素を区別するために使用する用語であり、構成要素の種類、構成要素の数、及び構成要素の優劣を制限するものではない。

＜下層膜形成用組成物＞
　本発明のカラーフィルタの下層膜形成用組成物は、
　樹脂Ａと、溶剤Ｂとを含み、
　樹脂Ａは、アルキレンオキシ構造を有する樹脂ａ－１を含み、
　下層膜形成用組成物の全固形分中における樹脂ａ－１の含有量が５０質量％以上であり、
　下層膜形成用組成物の固形分濃度が１質量％以下であることを特徴とする。

　本発明の下層膜形成用組成物を用いて形成される下層膜上に画素を形成してカラーフィルタを製造することで、下層膜上の非画素部（画素間）に残渣が発生することを抑制することができる。このような効果が得られる理由は以下によるものであると推測される。すなわち、本発明の下層膜形成用組成物は、アルキレンオキシ構造を有する樹脂ａ－１を全固形分中に５０質量％以上含むので、親水性の高い下層膜を形成することができる。下層膜の親水性が高いことにより、下層膜の表面上にて顔料などの色材との相互作用を弱めることができると推測される。このため、例えば、画素形成用組成物を適用して画素形成用組成物層を形成し、次いで、画素形成用組成物層をパターン状に露光し、次いで、画素形成用組成物層の未露光部を現像除去して画素を形成した際において、未露光部の画素形成用組成物層を十分に現像除去することができ、その結果、下層膜上の非画素部（画素間）に残渣が発生することを抑制できたと推測される。
　また、この下層膜形成用組成物は固形分濃度が１質量％以下であるので、支持体の表面に段差があったり、隔壁が設けられていても、支持体表面に下層膜を形成することができる。

　本発明の下層膜形成用組成物の固形分濃度は、０．０１～１質量％であることが好ましい。下限は、０．０５質量％以上であることが好ましく、０．１質量％以上であることがより好ましい。上限は０．７質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがより好ましい。下層膜形成用組成物の固形分濃度が上記範囲であれば、下層膜形成用組成物の塗布性が良好で、薄膜で、膜厚のばらつきの少ない下層膜を形成できる。

　以下、下層膜形成用組成物に用いる各素材について説明する。

＜＜樹脂＞＞
　本発明の下層膜形成用組成物は樹脂Ａ（以下、樹脂と記す）を含む。本発明の下層膜形成用組成物に含まれる樹脂は、アルキレンオキシ構造を有する樹脂ａ－１（以下、特定樹脂ともいう）を含む。

（特定樹脂）
　特定樹脂が有するアルキレンオキシ構造としては、式（ＡＯ－１）で表される構造であることが好ましい。
　－（Ｒ^１－Ｏ）_ｎ－　　　・・・（ＡＯ－１）
　式中、Ｒ^１はアルキレン基を表し、ｎは２以上の数を表す。

　式（ＡＯ－１）のＲ^１が表すアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～５が更に好ましく、２～５がより一層好ましく、２または３であることが特に好ましく、２であることが最も好ましい。Ｒ^１が表すアルキレン基は、直鎖または分岐のアルキレン基であることが好ましく、直鎖のアルキレン基であることがより好ましい。Ｒ^１が表すアルキレン基は、エチレン基、プロピレン基またはイソプロピレン基であることが好ましく、エチレン基であることがより好ましい。

　式（ＡＯ－１）のｎは、２以上の整数を表し、残渣の発生をより効果的に抑制できるという理由から３以上の整数であることが好ましく、４以上の整数であることがより好ましく、５以上の整数であることが更に好ましい。上限は、溶剤溶解性の観点で２００以下であることが好ましく、１００以下であることがより好ましい。

　特定樹脂が有するアルキレンオキシ構造の末端構造としては、特に限定されない。水素原子であってもよく、置換基であってもよい。置換基としては、アルキル基、重合性基、アリール基等が挙げられる。重合性基としては、エチレン性不飽和結合含有基および環状エーテル基などが挙げられる。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、スチレン基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられる。

　アルキレンオキシ構造の末端構造は、樹脂の製造適性、及び残渣軽減という理由からアルキル基であることが好ましい。

　特定樹脂は、式（ＡＯ－２）で表される基を有する樹脂であることが好ましい。
　－（Ｒ^１－Ｏ）_ｎ－Ｗ^１　　　・・・（ＡＯ－２）
　式中、Ｒ^１はアルキレン基を表し、Ｗ^１は水素原子または置換基を表し、ｎは２以上の数を表す。

　式（ＡＯ－２）のＲ^１およびｎは、式（ＡＯ－１）のＲ^１およびｎと同義である。
　式（ＡＯ－２）のＷ^１は置換基であることが好ましい。置換基としては上述した置換基が挙げられる。

　特定樹脂は、重合性基を含む樹脂であることが好ましい。この態様によれば、残渣の発生をより効果的に抑制できる。重合性基は、アルキレンオキシ構造の末端構造に含まれていてもよく、それ以外の部位に含まれていてもよい。

　特定樹脂は、アルキレンオキシ構造を含む基を有する繰り返し単位を含む樹脂であることが好ましい。

　アルキレンオキシ構造を含む基を有する繰り返し単位としては、下記式（ａ－１－１）で表される繰り返し単位が挙げられる。

　式（ａ－１－１）において、Ｘ^１は３価の連結基を表し、Ｌ^１は単結合または２価の連結基を表し、Ａ^１はアルキレンオキシ構造を含む基を表す。

　式（ａ－１－１）のＸ^１が表す３価の連結基としては、ポリ（メタ）アクリル系連結基、ポリアルキレンイミン系連結基、ポリエステル系連結基、ポリウレタン系連結基、ポリウレア系連結基、ポリアミド系連結基、ポリエーテル系連結基、ポリスチレン系連結基などが挙げられ、ポリ（メタ）アクリル系連結基、ポリアルキレンイミン系連結基およびポリエステル系連結基が好ましく、ポリ（メタ）アクリル系連結基がより好ましい。

　式（ａ－１－１）のＬ^１が表す２価の連結基としては、アルキレン基（好ましくは炭素数１～１２のアルキレン基）、アリーレン基（好ましくは炭素数６～２０のアリーレン基）、－ＮＨ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ－およびこれらの２以上を組み合わせてなる基が挙げられる。アルキレン基は、直鎖または分岐のアルキレン基であることが好ましく、直鎖のアルキレン基であることがより好ましい。アルキレン基及びアリーレン基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、ヒドロキシ基、アルコキシ基などが挙げられ、製造適性の観点からヒドロキシ基が好ましい。

　式（ａ－１－１）のＡ^１が表すアルキレンオキシ構造を含む基としては、上述した式（ＡＯ－２）で表される基が挙げられる。

　特定樹脂の全繰り返し単位中におけるアルキレンオキシ構造を含む基を有する繰り返し単位の含有量は、３０～１００質量％であることが好ましく、４０～１００質量％であることがより好ましく、６０～１００質量％であることが更に好ましい。

　特定樹脂は、アルキレンオキシ構造を有する基を含む繰り返し単位と、重合性基を有する繰り返し単位とをそれぞれ含む樹脂であることが好ましい。この態様によれば、残渣の発生をより効果的に抑制できる。

　重合性基を有する繰り返し単位としては、下記式（ａ－１－２）で表される繰り返し単位が挙げられる。

　式（ａ－１－２）において、Ｘ^２は３価の連結基を表し、Ｌ^２は単結合または２価の連結基を表し、Ａ^２は重合性基を表す。

　式（ａ－１－２）のＸ^２が表す３価の連結基としては、ポリ（メタ）アクリル系連結基、ポリアルキレンイミン系連結基、ポリエステル系連結基、ポリウレタン系連結基、ポリウレア系連結基、ポリアミド系連結基、ポリエーテル系連結基、ポリスチレン系連結基などが挙げられ、ポリ（メタ）アクリル系連結基、ポリアルキレンイミン系連結基およびポリエステル系連結基が好ましく、ポリ（メタ）アクリル系連結基がより好ましい。

　式（ａ－１－２）のＬ^２が表す２価の連結基としては、アルキレン基（好ましくは炭素数１～１２のアルキレン基）、アリーレン基（好ましくは炭素数６～２０のアリーレン基）、－ＮＨ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ－およびこれらの２以上を組み合わせてなる基が挙げられる。アルキレン基は、直鎖または分岐のアルキレン基であることが好ましく、直鎖のアルキレン基であることがより好ましい。アルキレン基及びアリーレン基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、ヒドロキシ基、アルコキシ基などが挙げられ、製造適性の観点からヒドロキシ基が好ましい。

　式（ａ－１－２）のＡ^２が表す重合性基としては、エチレン性不飽和結合含有基および環状エーテル基などが挙げられ、エチレン性不飽和結合含有基であることが好ましい。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、スチレン基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられる。

　特定樹脂の全繰り返し単位中における重合性基を有する繰り返し単位の含有量は、１～１００質量％であることが好ましく、５～６０質量％であることがより好ましく、５～４０質量％であることが更に好ましい。
　また、特定樹脂の全繰り返し単位中におけるアルキレンオキシ構造を有する基を含む繰り返し単位と重合性基を有する繰り返し単位との合計の含有量は、４０～１００質量％であることが好ましく、８０～１００質量％であることがより好ましく、９０～１００質量％であることが更に好ましい。
　また、特定樹脂におけるアルキレンオキシ構造を有する基を含む繰り返し単位と重合性基を有する繰り返し単位との割合は、アルキレンオキシ構造を有する基を含む繰り返し単位の１００質量部に対して、重合性基を有する繰り返し単位が１～２００質量部であることが好ましく、２～１００質量部であることがより好ましく、５～５０質量部であることが更に好ましい。

　特定樹脂は更に酸基を有する繰り返し単位を含むことができる。酸基としては、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられる。特定樹脂の全繰り返し単位中における酸基を有する繰り返し単位の含有量は、２０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以下であることがより好ましく、５質量％以下であることが更に好ましい。現像残渣の発生をより抑制できるという理由から、特定樹脂は、酸基を有する繰り返し単位を含まないことが特に好ましい。

　特定樹脂は、更に、上記以外の繰り返し単位（他の繰り返し単位ともいう）を含むことができる。特定樹脂の全繰り返し単位中における他の繰り返し単位の含有量は、３０質量％以下であることが好ましく、２０質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以下であることが更に好ましい。

　特定樹脂の重量平均分子量は、３０００～１０００００が好ましい。上限は、５００００以下が好ましく、３００００以下がより好ましい。下限は、５０００以上が好ましく、７０００以上がより好ましい。

　特定樹脂の酸価は、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましく、５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましく、１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより一層好ましく、０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。

　特定樹脂の重合性基価は、５ｍｍｏｌ／ｇ以下であることが好ましく、３．０ｍｍｏｌ／ｇ以下であることがより好ましく、１．５ｍｍｏｌ／ｇ以下であることが更に好ましい。下限は、０．０５ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましく、０．１ｍｍｏｌ／ｇ以上であることがより好ましい。なお、特定樹脂の重合性基価とは、特定樹脂の固形分１ｇあたりの重合性基のモル量を表した数値である。特定樹脂の重合性基価は、アルカリ処理によって特定樹脂から重合性基部位の低分子成分（ａ）を取り出し、その含有量を高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）により測定し、下記式から算出することができる。また、特定樹脂から重合性基部位をアルカリ処理で抽出することができない場合においては、ＮＭＲ法（核磁気共鳴）にて測定した値を用いる。
　特定樹脂のＣ＝Ｃ価［ｍｍｏｌ／ｇ］＝（低分子成分（ａ）の含有量［ｐｐｍ］／低分子成分（ａ）の分子量［ｇ／ｍｏｌ］）／（特定樹脂の秤量値［ｇ］×（試料中の特定樹脂の濃度［質量％］／１００）×１０）

　特定樹脂は、フッ素原子およびケイ素原子を含まない樹脂であることが好ましい。この態様によれば、残渣の発生をより効果的に抑制できる。

　特定樹脂は、ハロゲンの含有量が樹脂固形分に対して１．０質量％未満であることが好ましく、０．５質量％未満であることがより好ましく、遊離のハロゲンを実質的に含有しないことが特に好ましい。

（他の樹脂）
　本発明の下層膜形成用組成物は、上述した特定樹脂の他に、アルキレンオキシ構造を含まない樹脂（以下、他の樹脂ともいう）をさらに含有することができる。他の樹脂としては、特に限定はなく、（メタ）アクリル樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂などが挙げられる。

　他の樹脂の重量平均分子量は、３０００～１０００００が好ましい。上限は、５００００以下が好ましく、３００００以下がより好ましい。下限は、５０００以上が好ましく、７０００以上がより好ましい。

　他の樹脂の酸価は、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましく、５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましく、１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより一層好ましく、０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。

　他の樹脂は、重合性基を有する樹脂であることも好ましい。重合性基としては、エチレン性不飽和結合含有基および環状エーテル基が挙げられ、エチレン性不飽和結合含有基であることが好ましい。

　下層膜形成用組成物の全固形分中における特定樹脂の含有量は、５０質量％以上であり、７０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがより好ましい。上限は１００質量％以下とすることもできる。また、特定樹脂の含有量は、下層膜形成用組成物の全質量に対して０．００５～１質量％であることが好ましい。下限は、０．０２５質量％以上であることが好ましく、０．０５質量％以上であることがより好ましい。上限は０．７質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがより好ましい。

　また、樹脂中における特定樹脂の含有量は５０～１００質量％であることが好ましく、７０～１００質量％であることがより好ましく、９０～１００質量％であることが更に好ましく、９５質量％以上であることが特に好ましい。

　また、下層膜形成用組成物の全固形分中における樹脂の含有量は、５０質量％以上であることが好ましく、７０質量%以上であることがより好ましく、９０質量％以上であることが更に好ましい。上限は１００質量％以下とすることもできる。また、樹脂の含有量は、下層膜形成用組成物の全質量に対して０．００５～１質量％であることが好ましい。下限は、０．０２５質量％以上であることが好ましく、０．０５質量％以上であることがより好ましい。上限は０．７質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがより好ましい。
　樹脂は、１種のみを用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種以上を組み合わせて用いる場合は、それらの合計量を上記範囲とする。

＜＜溶剤＞＞
　本発明の下層膜形成用組成物は、溶剤Ｂ（以下、溶剤と記す）を含む。溶剤は有機溶剤が好ましい。溶剤は、各成分の溶解性や下層膜形成用組成物の塗布性を満足すれば特に制限はない。有機溶剤としては、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２２３を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤も好ましく用いることもできる。

　有機溶剤の沸点は１００～２００℃であることが好ましく、１０５～１９０℃であることがより好ましく、１１０～１８０℃であることが更に好ましい。

　有機溶剤の具体例としては、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジクロロメタン、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、３－ペンタノン、４－ヘプタノン、シクロヘキサノン、２－メチルシクロヘキサノン、３－メチルシクロヘキサノン、４－メチルシクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、プロピレングリコールジアセテート、３－メトキシブタノール、メチルエチルケトン、ガンマブチロラクトン、スルホラン、アニソール、１，４－ジアセトキシブタン、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、二酢酸ブタン－１，３－ジイル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセタート、ジアセトンアルコールなどが挙げられる。ただし有機溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、有機溶剤全量に対して、５０質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｍｉｌｌｉｏｎ）以下とすることもでき、１０質量ｐｐｍ以下とすることもでき、１質量ｐｐｍ以下とすることもできる）。

　本発明においては、金属含有量の少ない有機溶剤を用いることが好ましく、有機溶剤の金属含有量は、例えば、１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの有機溶剤を用いてもよく、そのような有機溶剤は、例えば、東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。

　有機溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフロロエチレン、ポリエチレンまたはナイロンが好ましい。

　有機溶剤は、異性体（原子数が同じであるが構造が異なる化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。

　有機溶剤中の過酸化物の含有率が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。

　溶剤の含有量は、下層膜形成用組成物の固形分濃度が１質量％以下となる量である。すなわち、溶剤の含有量は下層膜形成用組成物の全質量に対して９９質量％以上である。溶剤の含有量は下層膜形成用組成物の全質量に対して９９～９９．９９質量％であることが好ましい。下限は、９９．３質量％以上であることが好ましく、９９．５質量％以上であることがより好ましい。上限は、９９．９５質量％以下が好ましく、９９．９質量％以下がより好ましい。溶剤の含有量が上記範囲であれば、下層膜形成用組成物の塗布性が良好で、薄膜で、膜厚のばらつきの少ない下層膜を形成できる。

＜＜界面活性剤＞＞
　下層膜形成用組成物は、界面活性剤を含有することができる。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用することができる。界面活性剤については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２３８～０２４５に記載された界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。

　界面活性剤はフッ素系界面活性剤またはシリコーン系界面活性剤であることが好ましい。

　フッ素系界面活性剤としては、特開２０１４－０４１３１８号公報の段落番号００６０～００６４（対応する国際公開第２０１４／０１７６６９号の段落番号００６０～００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１－１３２５０３号公報の段落番号０１１７～０１３２に記載の界面活性剤、特開２０２０－００８６３４号公報に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７３、Ｆ－１７６、Ｆ－１７７、Ｆ－１４１、Ｆ－１４２、Ｆ－１４３、Ｆ－１４４、Ｆ－４３７、Ｆ－４７５、Ｆ－４７７、Ｆ－４７９、Ｆ－４８２、Ｆ－５５４、Ｆ－５５５－Ａ、Ｆ－５５６、Ｆ－５５７、Ｆ－５５８、Ｆ－５５９、Ｆ－５６０、Ｆ－５６１、Ｆ－５６３、Ｆ－５６５、Ｆ－５６８、Ｆ－５７５、Ｆ－７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０、Ｒ－０１、Ｒ－４０、Ｒ－４０－ＬＭ、Ｒ－４１、Ｒ－４１－ＬＭ、ＲＳ－４３、ＴＦ－１９５６、ＲＳ－９０、Ｒ－９４、ＲＳ－７２－Ｋ、ＤＳ－２１（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ　ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）、フタージェント２０８Ｇ、２１５Ｍ、２４５Ｆ、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２、６０２Ａ、６１０ＦＭ、７１０ＦＬ、７１０ＦＭ、７１０ＦＳ、ＦＴＸ－２１８、（以上、株）ＮＥＯＳ製）等が挙げられる。

　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報（２０１６年２月２２日）、日経産業新聞（２０１６年２月２３日））、例えばメガファックＤＳ－２１が挙げられる。

　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素化アルキル基またはフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。このようなフッ素系界面活性剤は、特開２０１６－２１６６０２号公報に記載されたフッ素系界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。

　フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。また、特開２０１０－０３２６９８号公報の段落番号００１６～００３７に記載されたフッ素含有界面活性剤や、下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。

　上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３０００～５００００であり、例えば、１４０００である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。

　また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０－１６４９６５号公報の段落番号００５０～００９０および段落番号０２８９～０２９５に記載された化合物、ＤＩＣ（株）製のメガファックＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ等が挙げられる。また、フッ素系界面活性剤は、特開２０１５－１１７３２７号公報の段落番号００１５～０１５８に記載の化合物を用いることもできる。

　また、国際公開第２０２０／０８４８５４号に記載の界面活性剤を、炭素数６以上のパーフルオロアルキル基を有する界面活性剤の代替として用いることも、環境規制の観点から好ましい。

　また、式（ｆｉ－１）で表される含フッ素イミド塩化合物を界面活性剤として用いることも好ましい。

　式（ｆｉ－１）において、ｍは１または２を表し、ｎは１～４の整数を表し、αは１または２を表し、Ｘ^α＋はα価の金属イオン、第１級アンモニウムイオン、第２級アンモニウムイオン、第３級アンモニウムイオン、第４級アンモニウムイオンまたはＮＨ_４ ^＋を表す。

　シリコーン系界面活性剤としては、例えば、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ８４００、ＦＺ－２１２２（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）、ＴＳＦ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２（以上、信越化学工業（株）製）、ＢＹＫ－３０７、ＢＹＫ－３２２、ＢＹＫ－３２３、ＢＹＫ－３３０、ＢＹＫ－３７６０、ＢＹＫ－ＵＶ３５１０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。

　ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（ＢＡＳＦ社製）、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（富士フイルム和光純薬（株）製）、パイオニンＤ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（日信化学工業（株）製）などが挙げられる。

　下層膜形成用組成物が界面活性剤を含有する場合、下層膜形成用組成物の全固形分中における界面活性剤の含有量は、０．０１～２．０質量％であることが好ましい。下限は、０．０３質量％以上が好ましく、０．０５質量％以上がより好ましい。上限は、１．５質量％以下が好ましく、１．０質量％以下がより好ましい。
　また、界面活性剤の含有量は、下層膜形成用組成物の全質量に対して０．０００１～０．１質量％であることが好ましい。下限は、０．０００５質量％以上が好ましく、０．００１質量％以上がより好ましい。上限は、０．０５質量％以下が好ましく、０．０１質量％以下がより好ましい。
　界面活性剤は、１種のみを用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種以上を組み合わせて用いる場合は、それらの合計量を上記範囲とする。

＜＜重合性化合物＞＞
　下層膜形成用組成物は、上述した樹脂の他に、更に重合性化合物を含有することができる。重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物、環状エーテル基を有する化合物等が挙げられ、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物であることが好ましい。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられる。エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物はラジカル重合性化合物として好ましく用いることができる。

　モノマータイプの重合性化合物（重合性モノマー）の分子量は、２０００未満であることが好ましく、１５００以下であることがより好ましい。重合性モノマーの分子量の下限は１００以上であることが好ましく、２００以上であることがより好ましい。樹脂タイプの重合性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２０００～２００００００であることが好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００００以下であることが好ましく、５０００００以下であることがより好ましい。重量平均分子量の下限は、３０００以上であることが好ましく、５０００以上であることがより好ましい。

　重合性モノマーとしてのエチレン性不飽和結合含有基を有する化合物は、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。具体例としては、特開２００９－２８８７０５号公報の段落番号００９５～０１０８、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落０２２７、特開２００８－２９２９７０号公報の段落番号０２５４～０２５７、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３４～００３８、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０４７７、特開２０１７－０４８３６７号公報、特許第６０５７８９１号公報、特許第６０３１８０７号公報、特開２０１７－１９４６６２号公報に記載されている化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、およびこれらの化合物の（メタ）アクリロイル基がエチレングリコールおよび／またはプロピレングリコール残基を介して結合している構造の化合物（例えば、サートマー社から市販されている、ＳＲ４５４、ＳＲ４９９）などが挙げられる。また、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ－４６０；東亞合成製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＨＤＤＡ）、ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製）、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、ＮＫオリゴＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（大成ファインケミカル（株）製）、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ０（共栄社化学（株）製）などを用いることもできる。

　また、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどの３官能の（メタ）アクリレート化合物を用いることも好ましい。３官能の（メタ）アクリレート化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０９、Ｍ－３１０、Ｍ－３２１、Ｍ－３５０、Ｍ－３６０、Ｍ－３１３、Ｍ－３１５、Ｍ－３０６、Ｍ－３０５、Ｍ－３０３、Ｍ－４５２、Ｍ－４５０（東亞合成（株）製）、ＮＫエステル　Ａ９３００、Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、Ａ－ＴＭＭ－３、Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ、Ａ－ＴＭＭ－３ＬＭ－Ｎ、Ａ－ＴＭＰＴ、ＴＭＰＴ（新中村化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＧＰＯ－３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ－３３０、ＴＰＡ－３３０、ＰＥＴ－３０（日本化薬（株）製）などが挙げられる。

　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物は、更に、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。このような化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０５、Ｍ－５１０、Ｍ－５２０、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）等が挙げられる。

　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、カプロラクトン構造を有する化合物を用いることもできる。カプロラクトン構造を有する化合物については、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落００４２～００４５の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。カプロラクトン構造を有する化合物は、例えば、日本化薬（株）からＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡシリーズとして市販されている、ＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０、ＤＰＣＡ－１２０等が挙げられる。

　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、エチレン性不飽和結合含有基とアルキレンオキシ基を有する化合物を用いることもできる。このような化合物は、エチレン性不飽和結合含有基と、エチレンオキシ基および／またはプロピレンオキシ基とを有する化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和結合含有基とエチレンオキシ基とを有する化合物であることがより好ましく、エチレンオキシ基を４～２０個有する３～６官能（メタ）アクリレート化合物であることがさらに好ましい。市販品としては、例えばサートマー社製のエチレンオキシ基を４個有する４官能（メタ）アクリレートであるＳＲ－４９４、イソブチレンオキシ基を３個有する３官能（メタ）アクリレートであるＫＡＹＡＲＡＤ　ＴＰＡ－３３０などが挙げられる。

　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、フルオレン骨格を有する重合性化合物を用いることもできる。市販品としては、オグソールＥＡ－０２００、ＥＡ－０３００（大阪ガスケミカル（株）製、フルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートモノマー）などが挙げられる。

　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物は、トルエンなどの環境規制物質を実質的に含まない化合物を用いることも好ましい。このような化合物の市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ　ＬＴ、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＥＡ－１２　ＬＴ（日本化薬（株）製）などが挙げられる。

　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物は、ＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、ＤＰＨＡ－４０Ｈ（日本化薬（株）製）、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＡＨ－６００、Ｔ－６００、ＡＩ－６００、ＬＩＮＣ－２０２ＵＡ（共栄社化学（株）製）、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（以上、大成ファインケミカル（株）製）、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ０（共栄社化学（株）製）などを用いることも好ましい。

　環状エーテル基を有する化合物としては、エポキシ基を有する化合物、オキセタニル基を有する化合物などが挙げられ、エポキシ基を有する化合物であることが好ましい。エポキシ基を有する化合物としては、１分子内にエポキシ基を１～１００個有する化合物が挙げられる。エポキシ基の数の上限は、例えば、１０個以下とすることもでき、５個以下とすることもできる。エポキシ基の数の下限は、２個以上が好ましい。エポキシ基を有する化合物としては、特開２０１３－０１１８６９号公報の段落番号００３４～００３６、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０１４７～０１５６、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落番号００８５～００９２に記載された化合物、特開２０１７－１７９１７２号公報に記載された化合物を用いることもでき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　エポキシ基を有する化合物は、低分子化合物（例えば分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）でもよい。エポキシ基を有する化合物の重量平均分子量は、２００～１０００００が好ましく、５００～５００００がより好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００以下が好ましく、５０００以下がより好ましく、３０００以下が更に好ましい。

　環状エーテル基を有する化合物の市販品としては、例えば、ＥＨＰＥ３１５０（（株）ダイセル製）、ＪＥＲ－１０３１Ｓ（三菱ケミカル（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５（ＤＩＣ（株）製）、マープルーフＧ－０１５０Ｍ、Ｇ－０１０５ＳＡ、Ｇ－０１３０ＳＰ、Ｇ－０２５０ＳＰ、Ｇ－１００５Ｓ、Ｇ－１００５ＳＡ、Ｇ－１０１０Ｓ、Ｇ－２０５０Ｍ、Ｇ－０１１００、Ｇ－０１７５８（以上、日油（株）製、エポキシ基含有ポリマー）等が挙げられる。

　下層膜形成用組成物が重合性化合物を含有する場合、下層膜形成用組成物の全固形分中における重合性化合物の含有量は、１～４５質量％であることが好ましい。下限は、３質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましい。上限は、３５質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましい。
　また、重合性化合物の含有量は、下層膜形成用組成物の全質量に対して０．００３～０．５質量％であることが好ましい。下限は、０．０１質量％以上であることが好ましく、０．０３質量％以上であることがより好ましい。上限は０．４質量％以下であることが好ましく、０．３質量％以下であることがより好ましい。
　また、下層膜形成用組成物の全固形分中における樹脂と重合性化合物の合計の含有量は７０～１００質量％であることが好ましい。下限は、８０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがより好ましい。上限は、１００質量％以下とすることもでき、９５質量％以下とすることもできる。
　また、樹脂と重合性化合物の含有量は、下層膜形成用組成物の全質量に対して０．００７～１質量％であることが好ましい。下限は、０．０３５質量％以上であることが好ましく、０．０７質量％以上であることがより好ましい。上限は０．７質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがより好ましい。
　重合性化合物は、１種のみを用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種以上を組み合わせて用いる場合は、それらの合計量を上記範囲とする。

＜＜光重合開始剤＞＞
　下層膜形成用組成物は光重合開始剤を含有することができる。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。

　光重合開始剤としては、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など）、アシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物などが挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物および３－アリール置換クマリン化合物であることが好ましく、オキシム化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、および、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物であることがより好ましく、オキシム化合物であることが更に好ましい。また、光重合開始剤としては、特開２０１４－１３０１７３号公報の段落００６５～０１１１、特許第６３０１４８９号公報に記載された化合物、ＭＡＴＥＲＩＡＬ　ＳＴＡＧＥ　３７～６０ｐ，ｖｏｌ．１９，Ｎｏ．３，２０１９に記載されたパーオキサイド系光重合開始剤、国際公開第２０１８／２２１１７７号に記載の光重合開始剤、国際公開第２０１８／１１０１７９号に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４３８６４号公報に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４４０３０号公報に記載の光重合開始剤、特開２０１９－１６７３１３号公報に記載の過酸化物系開始剤、特開２０２０－０５５９９２号公報に記載のオキサゾリジン基を有するアミノアセトフェノン系開始剤、特開２０１３－１９０４５９号公報に記載のオキシム系光重合開始剤などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　α－ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　１８４、Ｏｍｎｉｒａｄ　１１７３、Ｏｍｎｉｒａｄ　２９５９、Ｏｍｎｉｒａｄ　１２７（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１１７３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　２９５９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。α－アミノケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　９０７、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９Ｅ、Ｏｍｎｉｒａｄ　３７９ＥＧ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　９０７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９Ｅ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　８１９、Ｏｍｎｉｒａｄ　ＴＰＯ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　８１９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。

　オキシム化合物としては、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－０８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１６５３－１６６０）に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１５６－１６２）に記載の化合物、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年、ｐｐ．２０２－２３２）に記載の化合物、特開２０００－０６６３８５号公報に記載の化合物、特表２００４－５３４７９７号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、特開２０１７－０１９７６６号公報に記載の化合物、特許第６０６５５９６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１５／１５２１５３号に記載の化合物、国際公開第２０１７／０５１６８０号に記載の化合物、特開２０１７－１９８８６５号公報に記載の化合物、国際公開第２０１７／１６４１２７号の段落番号００２５～００３８に記載の化合物、国際公開第２０１３／１６７５１５号に記載の化合物などが挙げられる。オキシム化合物の具体例としては、３－ベンゾイルオキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、及び２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オンなどが挙げられる。市販品としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０２、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカオプトマーＮ－１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２－０１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）が挙げられる。また、オキシム化合物としては、着色性が無い化合物や、透明性が高く変色し難い化合物を用いることも好ましい。市販品としては、アデカアークルズＮＣＩ－７３０、ＮＣＩ－８３１、ＮＣＩ－９３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。

　光重合開始剤としては、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４－１３７４６６号公報に記載の化合物、特許６６３６０８１号公報に記載の化合物、韓国公開特許第１０－２０１６－０１０９４４４号公報に記載の化合物が挙げられる。

　光重合開始剤としては、カルバゾール環の少なくとも１つのベンゼン環がナフタレン環となった骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。そのようなオキシム化合物の具体例としては、国際公開第２０１３／０８３５０５号に記載の化合物が挙げられる。

　光重合開始剤としては、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられる。

　光重合開始剤としては、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３－１１４２４９号公報の段落番号００３１～００４７、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落番号０００８～００１２、００７０～００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７～００２５に記載されている化合物、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。

　光重合開始剤としては、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／０３６９１０号に記載されているＯＥ－０１～ＯＥ－７５が挙げられる。

　光重合開始剤としては、カルバゾール骨格にヒドロキシ基を有する置換基が結合したオキシム化合物を用いることもできる。このような光重合開始剤としては国際公開第２０１９／０８８０５５号に記載された化合物などが挙げられる。

　光重合開始剤としては、芳香族環に電子求引性基が導入された芳香族環基Ａｒ^ＯＸ１を有するオキシム化合物（以下、オキシム化合物ＯＸともいう）を用いることもできる。上記芳香族環基Ａｒ^ＯＸ１が有する電子求引性基としては、アシル基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基が挙げられ、アシル基およびニトロ基が好ましく、アシル基であることがより好ましく、ベンゾイル基であることが更に好ましい。ベンゾイル基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルケニル基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アシル基またはアミノ基であることが好ましく、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基またはアミノ基であることがより好ましく、アルコキシ基、アルキルスルファニル基またはアミノ基であることが更に好ましい。オキシム化合物ＯＸの具体例としては、特許第４６００６００号公報の段落番号００８３～０１０５に記載の化合物が挙げられる。

　本発明において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

　オキシム化合物は、波長３５０～５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、波長３６０～４８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物の波長３６５ｎｍ又は波長４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、高いことが好ましく、１０００～３０００００であることがより好ましく、２０００～３０００００であることが更に好ましく、５０００～２０００００であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ－５　ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。

　光重合開始剤としては、２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤を用いてもよい。そのような光ラジカル重合開始剤を用いることにより、光ラジカル重合開始剤の１分子から２つ以上のラジカルが発生するため、良好な感度が得られる。また、非対称構造の化合物を用いた場合においては、結晶性が低下して溶剤などへの溶解性が向上して、経時で析出しにくくなり、感光性組成物の経時安定性を向上させることができる。２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤の具体例としては、特表２０１０－５２７３３９号公報、特表２０１１－５２４４３６号公報、国際公開第２０１５／００４５６５号、特表２０１６－５３２６７５号公報の段落番号０４０７～０４１２、国際公開第２０１７／０３３６８０号の段落番号００３９～００５５に記載されているオキシム化合物の２量体、特表２０１３－５２２４４５号公報に記載されている化合物（Ｅ）および化合物（Ｇ）、国際公開第２０１６／０３４９６３号に記載されているＣｍｐｄ１～７、特表２０１７－５２３４６５号公報の段落番号０００７に記載されているオキシムエステル類光開始剤、特開２０１７－１６７３９９号公報の段落番号００２０～００３３に記載されている光開始剤、特開２０１７－１５１３４２号公報の段落番号００１７～００２６に記載されている光重合開始剤（Ａ）、特許第６４６９６６９号公報に記載されているオキシムエステル光開始剤などが挙げられる。

　下層膜形成用組成物が光重合開始剤を含有する場合、下層膜形成用組成物の全固形分中における光重合開始剤の含有量は、０．５～２０質量％であることが好ましい。下限は、０．７質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。上限は、１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましい。また、光重合開始剤の含有量は、下層膜形成用組成物の全質量に対して０．００１～０．５質量％であることが好ましい。下限は、０．００５質量％以上が好ましく、０．０１質量％以上がより好ましい。上限は、０．３質量％以下が好ましく、０．１質量％以下がより好ましい。
　光重合開始剤は、１種のみを用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種以上を組み合わせて用いる場合は、それらの合計量を上記範囲とする。

＜＜重合禁止剤＞＞
　下層膜形成用組成物は、重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）が挙げられる。中でも、ｐ－メトキシフェノールが好ましい。

　下層膜形成用組成物が重合禁止剤を含有する場合、下層膜形成用組成物の全固形分中における重合禁止剤の含有量は、０．０００１～１質量％であることが好ましい。下限は、０．００１質量％以上が好ましく、０．０１質量％以上がより好ましい。上限は、０．５質量％以下が好ましく、０．１質量％以下がより好ましい。
　また、重合禁止剤の含有量は、下層膜形成用組成物の全質量に対して０．００００１～０．１質量％であることが好ましい。下限は、０．０００１質量％以上が好ましく、０．００１質量％以上がより好ましい。上限は、０．０５質量％以下が好ましく、０．０１質量％以下がより好ましい。
　重合禁止剤は、１種のみを用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種以上を組み合わせて用いる場合は、それらの合計量を上記範囲とする。

＜＜他の成分＞＞
　下層膜形成用組成物は、更に、紫外線吸収剤、酸化防止剤、熱酸発生剤等の他の添加剤を更に含んでもよいが、これらの他の添加剤の含有量は、下層膜形成用組成物の全固形分に対して１質量％以下であることが好ましく、０．１質量％以下であることがより好ましく、含有しないことがより好ましい。

　下層膜形成用組成物は、ハロゲンの含有量が０．０１質量％以下であることが好ましく、０．００１質量％以下であることがより好ましく、０．０００１質量％以下であることが更に好ましく、実質的に含有しないことが特に好ましい。

＜カラーフィルタ＞
　次に、本発明のカラーフィルタについて説明する。
　本発明のカラーフィルタは、
　支持体と、支持体上に形成された下層膜と、下層膜上に形成された画素とを有し、
　上記下層膜は、アルキレンオキシ構造を有する樹脂ａ－１を５０質量％以上含み、
　上記下層膜の膜厚が３０ｎｍ以下である、ことを特徴とする。

　カラーフィルタにおける支持体の材質としては、特に限定はない。例えば、シリコン基板、ＳｉＮ基板、ＳｉＯ_２、ガラス基板、石英基板、ＩｎＧａＡｓ基板などが挙げられる。また、支持体１０には光電変換部が設けられていてもよい。光電変換部としては、シリコンフォトダイオード、ＩｎＧａＡｓフォトダイオード、有機光電変換膜、量子ドットなどが挙げられる。また、隣接する光電変換部同士の間には、隙間（ギャップ）が形成されていてもよい。

　また、図１、２に示すように、支持体１０の表面には隔壁１１が形成されていてもよい。なお、図２では、支持体１０上における隔壁１１によって区画された領域の形状（以下、隔壁の開口部の形状ともいう）は正方形状をなしているが、隔壁の開口部の形状は、特に限定されず、例えば、長方形状、円形状、楕円形状、または、多角形状等であっても良い。

　隔壁１１の材質としては、特に限定はないが、隔壁間に形成される画素よりも屈折率の小さい材料で形成されていることが好ましい。このようにすることで、屈折率の大きい画素から漏れ出そうとする光が、隔壁１１によって反射されて画素へ戻されやすくなり、隣の着色層への光の漏れ出しを抑制することができる。隔壁１１の材質の具体例としては、種々の無機材料や有機材料を用いることができる。例えば、有機材料としては、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリイミド系樹脂、有機ＳＯＧ（Ｓｐｉｎ　Ｏｎ　Ｇｌａｓｓ）系樹脂、シロキサン樹脂、フッ素樹脂などが挙げられる。無機材料としては、多孔質シリカ、多結晶シリコン、シリカ粒子、酸化シリコン、窒化シリコン、タングステンやアルミニウムなどの金属材料などが挙げられる。隔壁１１は、隔壁の強度を高めることができるという理由からシリカ粒子を含むものであることが好ましい。

　シリカ粒子としては、カラーフィルタが高温にさらされた場合において、隔壁から画素への熱の伝わりを抑制できるという理由から複数個の球状シリカが数珠状に連結した形状のシリカ粒子（以下、数珠状シリカともいう）、または、中空構造のシリカ粒子（以下、中空シリカともいう）であることが好ましく、数珠状シリカであることがより好ましい。また、シリカ粒子は、シリカ粒子表面のヒドロキシ基の少なくとも一部が、ヒドロキシ基と反応する疎水化処理剤で処理されているものであることも好ましい。疎水化処理剤としては、シリカ粒子表面のヒドロキシ基と反応する構造（好ましくは、シリカ粒子表面のヒドロキシ基とカップリング反応する構造）を有し、シリカ粒子の疎水性を向上させる化合物が用いられる。疎水化処理剤は有機化合物であることが好ましい。疎水化処理剤の具体例としては、有機シラン化合物、有機チタン化合物、有機ジルコニウム化合物および有機アルミニウム化合物が挙げられ、屈折率の上昇を抑制できるという理由から有機シラン化合物であることがより好ましい。なお、本明細書において「球状」とは、実質的に球形であれば良く、本発明の効果を奏する範囲で、変形していてもよい意味である。例えば、表面に凹凸を有する形状や、所定の方向に長軸を有する扁平形状も含む意味である。また、「複数個の球状シリカ粒子が数珠状に連結されている」とは、複数個の球状シリカ粒子同士が直鎖状および／または分岐した形で繋がった構造を意味する。例えば、複数個の球状シリカ粒子同士が、これよりも外径の小さい接合部で連結された構造が挙げられる。また、本発明において、「複数個の球状シリカ粒子が数珠状に連結されている」構造としては、リング状につながった形態をなしている構造のみならず、末端を有する鎖状の形態をなしている構造も含まれる。

　数珠状シリカは、動的光散乱法により測定された平均粒子径Ｄ_１と下記式（１）により得られる平均粒子径Ｄ_２との比Ｄ_１／Ｄ_２が３以上であることが好ましい。Ｄ_１／Ｄ_２の上限は特にないが、１０００以下であることが好ましく、８００以下であることがより好ましく、５００以下であることが更に好ましい。Ｄ_１／Ｄ_２をこのような範囲とすることにより、良好な光学特性を発現することができる。なお、数珠状シリカにおけるＤ_１／Ｄ_２の値は、球状シリカのつながり度合の指標でもある。
　Ｄ_２＝２７２０／Ｓ　　　・・・（１）
　式中、Ｄ_２は数珠状シリカの平均粒子径であって、単位はｎｍであり、Ｓは、窒素吸着法により測定された数珠状シリカの比表面積であって、単位はｍ^２／ｇである。

　数珠状シリカの上記平均粒子径Ｄ_２は、球状シリカの一次粒子の直径に近似する平均粒子径とみなすことができる。平均粒子径Ｄ_２は１ｎｍ以上であることが好ましく、３ｎｍ以上であることがより好ましく、５ｎｍ以上であることが更に好ましく、７ｎｍ以上であることが特に好ましい。上限としては、１００ｎｍ以下であることが好ましく、８０ｎｍ以下であることがより好ましく、７０ｎｍ以下であることが更に好ましく、６０ｎｍ以下であることがより一層好ましく、５０ｎｍ以下であることが特に好ましい。

　平均粒子径Ｄ_２は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）によって測定した球状部分の投影像における円相当直径（Ｄ０）で代用することができる。円相当直径による平均粒子径はとくに断らない限り、５０個以上の粒子の数平均で評価する。

　数珠状シリカの上記平均粒子径Ｄ_１は、複数の球状シリカがまとまった二次粒子の数平均粒子径とみなすことができる。したがって、通常、Ｄ_１＞Ｄ_２の関係が成り立つ。平均粒子径Ｄ_１は、５ｎｍ以上であることが好ましく、７ｎｍ以上であることがより好ましく、１０ｎｍ以上であることが特に好ましい。上限としては、１００ｎｍ以下であることが好ましく、７０ｎｍ以下であることがより好ましく、５０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、４５ｎｍ以下であることが特に好ましい。

　数珠状シリカの上記平均粒子径Ｄ_１の測定は、特に断らない限り、動的光散乱式粒径分布測定装置（日機装（株）製、マイクロトラックＵＰＡ－ＥＸ１５０）を用いて行う。手順は以下のとおりである。数珠状シリカの分散液を２０ｍｌサンプル瓶に分取し、プロピレングリコールモノメチルエーテルにより固形分濃度が０．２質量％になるように希釈調整する。希釈後の試料溶液は、４０ｋＨｚの超音波を１分間照射し、その直後に試験に使用する。温度２５℃で２ｍｌの測定用石英セルを使用してデータ取り込みを１０回行い、得られた「数平均」を平均粒子径とする。その他の詳細な条件等は必要によりＪＩＳＺ８８２８：２０１３「粒子径解析－動的光散乱法」の記載を参照する。１水準につき５つの試料を作製しその平均値を採用する。

　数珠状シリカは、平均粒子径１～８０ｎｍの球状シリカが、連結材を介して複数個連結していることが好ましい。球状シリカの平均粒子径の上限としては、７０ｎｍ以下であることが好ましく、６０ｎｍ以下であることがより好ましく、５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、球状シリカの平均粒子径の下限としては、３ｎｍ以上であることが好ましく、５ｎｍ以上であることがより好ましく、７ｎｍ以上であることが更に好ましい。なお、本発明において球状シリカの平均粒子径の値は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）によって測定した球状部分の投影像における円相当直径から求められる平均粒子径の値を用いる。

　数珠状シリカにおいて球状シリカ同士を連結する連結材としては、金属酸化物含有シリカが挙げられる。金属酸化物としては、例えば、Ｃａ、Ｍｇ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｙ、Ｔｉから選ばれる金属の酸化物などが挙げられる。金属酸化物含有シリカとしては、これらの金属酸化物とシリカ（ＳｉＯ_２）との反応物、混合物などが挙げられる。連結材については、国際公開第２０００／０１５５５２号の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

　数珠状シリカにおける球状シリカの連結数としては、３個以上が好ましく、５個以上がより好ましい。上限は、１０００個以下が好ましく、８００個以下がより好ましく、５００個以下が更に好ましい。球状シリカの連結数は、ＴＥＭで測定できる。

　数珠状シリカを含む粒子液の市販品としては、日産化学工業（株）製のスノーテックスシリーズ、オルガノシリカゾルシリーズ（メタノール分散液、イソプロピルアルコール分散液、エチレングリコール分散液、メチルエチルケトン分散液など。品番ＩＰＡ－ＳＴ－ＵＰ、ＭＥＫ－ＳＴ－ＵＰなど）が挙げられる。また、数珠状シリカを含む粒子液としては、例えば特許第４３２８９３５号公報に記載されているシリカゾル等を使用することができる。

　中空シリカの平均粒子径は、１０～５００ｎｍであることが好ましい。下限は１５ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましく、２５ｎｍ以上であることが更に好ましい。上限は、３００ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であることが更に好ましい。中空シリカの平均粒子径は、動的光散乱法で測定した値である。中空シリカを含む粒子液の市販品としては、日揮触媒化成（株）製の「スルーリア４１１０」などが挙げられる。

　隔壁１１は、従来公知の方法を用いて形成することができる。例えば、次のようにして隔壁を形成することができる。

　まず、支持体上に隔壁材料層を形成する。隔壁材料層は、例えば、シリカ粒子などの無機粒子を含む組成物（隔壁形成用組成物）を支持体上に塗布した後、硬化などを行うことで形成することができる。このような組成物としては、国際公開第２０１９／０１７２８０号の段落番号００１２～００７７、００９３～０１０５に記載された組成物、国際公開第２０１９／１１１７４８号の段落番号００８９～００９１に記載された組成物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。隔壁形成用組成物の固形分濃度は３～２０質量％であることが好ましく、５～１８質量％であることがより好ましく、７～１６質量％であることがあらに好ましい。

　また、隔壁材料層は、支持体上に、二酸化ケイ素などの無機材料を、化学蒸着（ＣＶＤ）、真空蒸着などの蒸着法や、スパッタリングなどの方法で製膜して形成することもできる。

　次いで、隔壁の形状に沿ったパターンを有するマスクを使用して隔壁材料層上にレジストパターンを形成する。

　次いで、このレジストパターンをマスクとして、隔壁材料層をエッチングしてパターン形成する。エッチング方法としては、ドライエッチング法及びウエットエッチング法が挙げられる。ドライエッチング法でのエッチングは、特開２０１６－０１４８５６号公報の段落番号０１２８～０１３３に記載された条件などで行うことができる。次いで、レジストパターンを隔壁材料層から剥離除去する。このようにして隔壁を形成することができる。

　隔壁１１の幅Ｗ１は８０～１５０ｎｍであることが好ましい。隔壁１１の幅Ｗ１の下限は隔壁の強度の観点から９０ｎｍ以上であることが好ましく、１００ｎｍ以上であることがより好ましく、１１０ｎｍ以上であることが更に好ましい。隔壁１１の幅Ｗ１の上限は有効な画素サイズの確保の観点から１４０ｎｍ以下であることが好ましく、１３０ｎｍ以下であることがより好ましい。

　隔壁１１の厚さ（高さ）Ｈ１は３００～６５０ｎｍであることが好ましい。隔壁１１の厚さＨ１の下限は３５０ｎｍ以上であることが好ましく、４００ｎｍ以上であることがより好ましく、４５０ｎｍ以上であることが更に好ましい。隔壁１１の厚さＨ１の上限は６００ｎｍ以下であることが好ましく、５５０ｎｍ以下であることがより好ましく、５００ｎｍ以下であることが更に好ましい。

　なお、本明細書において、隔壁の厚さとは、隔壁の縦方向の長さのことを意味し、隔壁の幅とは、隔壁の横方向の長さのことを意味する。

　隔壁１１の空隙率は２０～８０％であることが好ましい。空隙率の下限は３０％以上であることが好ましく、４０％以上であることがより好ましい。空隙率の上限は７０％以下であることが好ましく、６０％以下であることがより好ましい。隔壁１１の空隙率が上記範囲であれば、画素形成時において、隔壁によって露光光をより効果的に画素部に集めることができ、露光光の利用効率をより高めることができる。更には、カラーフィルタの画素に斜め方向から光が入射しても、隣接する画素への光漏れなどを効果的に抑制できる。隔壁の空隙率はＸ線反射率法で測定した値である。また、隔壁が空隙を有することにより、隔壁の熱伝導率が低下して、隔壁から画素部への熱の伝わりを抑制することもできる。

　支持体１０上に配置されている隔壁１１のピッチＷ３は、４００～１２００ｎｍであることが好ましい。ピッチＷ３の下限は４５０ｎｍ以上であることが好ましく、５００ｎｍ以上であることがより好ましい。ピッチＷ３の上限は１０００ｎｍ以下であることが好ましく、９００ｎｍ以下であることがより好ましく、８００ｎｍ以下であることが更に好ましい。なお、本明細書において、隔壁のピッチとは、隔壁の幅Ｗ１と、隔壁開口部１２の幅Ｗ２（対向配置された隔壁の対向面間の距離）との合計値である。

　また、隔壁開口部の幅Ｗ２は、３００～１１００ｎｍであることが好ましい。下限は４００ｎｍ以上であることが好ましく、４５０ｎｍ以上であることがより好ましい。上限は１０００ｎｍ以下であることが好ましく、９００ｎｍ以下であることがより好ましい。

　本発明のカラーフィルタは、支持体上に下層膜が形成されている。この下層膜は、アルキレンオキシ構造を有する樹脂ａ－１（特定樹脂）を５０質量％以上含む。樹脂ａ－１については、上述した特定樹脂として説明した樹脂が挙げられ、好ましい範囲も同様である。

　下層膜中における樹脂ａ－１（特定樹脂）の含有量は、５０質量％以上であり、７０質量%以上であることが好ましく、９０質量％以上であることが更に好ましい。上限は１００質量％以下とすることもできる。

　下層膜の膜厚は３０ｎｍ以下であり、１～２０ｎｍであることが好ましく、１～１０ｎｍであることがより好ましい。

　支持体上に隔壁が形成されている場合には、隔壁の側面にも下層膜が形成されていてもよい。

　カラーフィルタにおける下層膜は上述した本発明の下層膜形成用組成物を用いて形成した下層膜であることが好ましい。

　本発明のカラーフィルタは、支持体上に画素が形成されている。画素の種類としては、特に限定はない。赤色画素、青色画素、緑色画素、黄色画素、マゼンタ色画素、シアン色画素などの着色画素、透明画素、赤外線透過フィルタの画素、赤外線カットフィルタの画素などが挙げられる。画素の少なくとも１種は着色画素であることが好ましい。着色画素は従来公知の着色画素形成用組成物を用いて形成することができる。例えば、色材と重合性化合物と光重合開始剤と樹脂と溶剤とを含む組成物などを用いることができる。

　画素の膜厚は、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、５μｍ以下であることがさらに好ましい。膜厚の下限は、０．１μｍ以上であることが好ましく、０．２μｍ以上であることがより好ましく、０．３μｍ以上であることがさらに好ましい。

　画素の幅は、０．４～１０．０μｍであることが好ましい。下限は、０．４μｍ以上であることが好ましく、０．５μｍ以上であることがより好ましく、０．６μｍ以上であることが更に好ましい。上限は、５．０μｍ以下であることが好ましく、２．０μｍ以下であることがより好ましく、１．０μｍ以下であることが更に好ましく、０．８μｍ以下であることがより一層好ましい。

　本発明のカラーフィルタは画素の側面や表面にも下層膜が形成されていてもよい。

　本発明のカラーフィルタは、各画素の表面に保護層が設けられていてもよい。保護層を設けることで、酸素遮断化、低反射化、親疎水化、特定波長の光（紫外線、近赤外線等）の遮蔽等の種々の機能を付与することができる。保護層の厚さとしては、０．０１～１０μｍが好ましく、０．１～５μｍがより好ましい。保護層の形成方法としては、保護層形成用の樹脂組成物を塗布して形成する方法、化学気相蒸着法、成型した樹脂を接着材で貼りつける方法等が挙げられる。保護層を構成する成分としては、（メタ）アクリル樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、ポリオール樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アラミド樹脂、ポリアミド樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、変性シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、セルロース樹脂、Ｓｉ、Ｃ、Ｗ、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｍｏ、ＳｉＯ_２、Ｓｉ_２Ｎ_４などが挙げられ、これらの成分を二種以上含有しても良い。例えば、酸素遮断化を目的とした保護層の場合、保護層はポリオール樹脂と、ＳｉＯ_２と、Ｓｉ_２Ｎ_４を含むことが好ましい。また、低反射化を目的とした保護層の場合、保護層は（メタ）アクリル樹脂とフッ素樹脂を含むことが好ましい。

　保護層は、必要に応じて、有機・無機微粒子、特定波長の光（例えば、紫外線、近赤外線等）の吸収剤、屈折率調整剤、酸化防止剤、密着剤、界面活性剤等の添加剤を含有しても良い。有機・無機微粒子の例としては、例えば、高分子微粒子（例えば、シリコーン樹脂微粒子、ポリスチレン微粒子、メラミン樹脂微粒子）、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化インジウム、酸化アルミニウム、窒化チタン、酸窒化チタン、フッ化マグネシウム、中空シリカ、シリカ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等が挙げられる。特定波長の光の吸収剤は公知の吸収剤を用いることができる。これらの添加剤の含有量は適宜調整できるが、保護層の全質量に対して０．１～７０質量％が好ましく、１～６０質量％がさらに好ましい。

　また、保護層としては、特開２０１７－１５１１７６号公報の段落番号００７３～００９２に記載の保護層を用いることもできる。

　本発明のカラーフィルタの好ましい一形態として、支持体の表面に隔壁が形成されており、
　支持体上であって、隔壁で区画された領域に下層膜が形成されており、
　下層膜上に画素が形成されている態様のカラーフィルタが挙げられる。このような態様のカラーフィルタとしては、図３に示す態様のカラーフィルタが挙げられる。図３は、図１、２に示す構造の隔壁を有する支持体を用いたカラーフィルタの一実施形態を示す図であって、同支持体の真上方向からみた平面図であり、符号１１は隔壁であり、符号３１～３３は画素である。

＜カラーフィルタの製造方法＞
　次に、本発明のカラーフィルタの製造方法について説明する。

　本発明のカラーフィルタの製造方法は、支持体上に上述した本発明の下層膜形成用組成物を適用して下層膜を形成する工程と、下層膜上に画素を形成する工程と、を含む。

　下層膜を形成する工程では、支持体上に上述した本発明の下層膜形成用組成物を適用して下層膜を形成する。支持体としては、上述したものが挙げられる。

　下層膜形成用組成物の適用方法としては、特に限定は無く、スピンコート法、スリットコート法、インクジェット法、ディップコート法、スクリーン印刷法などが挙げられる。なかでも、少量で均一に製膜できるという理由からスピンコート法が好ましい。

　支持体上に下層膜形成用組成物を適用した後、更に乾燥処理を行ってもよい。乾燥条件は、特に限定はない。例えば、乾燥温度は、６０～１５０℃が好ましい。乾燥温度の上限は、１３０℃以下が好ましく、１１０℃以下がより好ましい。乾燥温度の下限は、８０℃以上が好ましく、９０℃以上がより好ましい。乾燥時間は、６０～６００秒が好ましい。乾燥時間の上限は、３００秒以下が好ましく、１８０秒以下がより好ましい。乾燥時間の下限は、８０秒以上が好ましく、１００秒以上がより好ましい。乾燥は、ホットプレート、オーブン等を用いて行うことができる。

　支持体上に適用した下層膜形成用組成物に対して乾燥処理を施した後、更に加熱処理（ポストベーク）を行ってもよい。ポストベークを行う場合、ポストベーク温度は、例えば１８０～２６０℃が好ましい。ポストベーク温度の上限は、２５０℃以下が好ましく、２４０℃以下がより好ましい。ポストベーク温度の下限は、１９０℃以上が好ましく、２００℃以上がより好ましい。ポストベーク時間は、６０秒～６００秒が好ましい。ポストベーク時間の上限は、３００秒以下が好ましく、１８０秒以下がより好ましい。ポストベーク時間の下限は、８０秒以上が好ましく、１００秒以上がより好ましい。ポストベークは、ホットプレート、オーブン等を用いて行うことができる。

　画素を形成する工程では、上述のようにして形成した下層膜上に画素を形成する。画素を形成する工程は、画素形成用組成物を適用して画素形成用組成物層を形成する工程と、画素形成用組成物層をパターン状に露光する工程と、画素形成用組成物層の未露光部を現像除去する工程と、を含む。以下、各工程について説明する。

（画素形成用組成物層を形成する工程）
　画素形成用組成物層を形成する工程では、下層膜上に画素形成用組成物を適用して画素形成用組成物層を形成する。画素形成用組成物の塗布方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（例えば、特開２００９－１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えば、オンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット－特許に見る無限の可能性－、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法（特に１１５ページ～１３３ページ）や、特開２００３－２６２７１６号公報、特開２００３－１８５８３１号公報、特開２００３－２６１８２７号公報、特開２０１２－１２６８３０号公報、特開２００６－１６９３２５号公報などに記載の方法が挙げられる。また、着色組成物の塗布方法については、国際公開第２０１７／０３０１７４号、国際公開第２０１７／０１８４１９号の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　支持体上に画素形成用組成物を塗布した後、更に乾燥（プリベーク）を行ってもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１１０℃以下が更に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができ、８０℃以上とすることもできる。プリベーク時間は、１０～３０００秒が好ましく、４０～２５００秒がより好ましく、８０～２２００秒が更に好ましい。プリベークは、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。

（露光する工程）
　露光する工程では、下層膜上に形成した画素形成用組成物層をパターン状に露光する。例えば、画素形成用組成物層に対し、ステッパー露光機やスキャナ露光機などを用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、パターン状に露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。

　露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等が挙げられる。露光に際して用いることができる放射線（光）は、波長３００ｎｍ以下の光（好ましくは波長１８０～３００ｎｍの光）であることが好ましい。すなわち、露光する工程では、波長３００ｎｍ以下の光を照射して露光すること行うことが好ましい。波長３００ｎｍ以下の光としては、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ線（波長１９３ｎｍ）などが挙げられ、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）が好ましい。また、波長３００ｎｍを超える光を用いて露光を行ってもよい。

　また、露光に際して、光を連続的に照射して露光してもよく、パルス的に照射して露光（パルス露光）してもよい。なお、パルス露光とは、短時間（例えば、ミリ秒レベル以下）のサイクルで光の照射と休止を繰り返して露光する方式の露光方法のことである。

　照射量（露光量）は、例えば、０．０３～２．５Ｊ／ｃｍ^２が好ましく、０．０５～１．０Ｊ／ｃｍ^２がより好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば、酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、または、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、または、５０体積％）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常１０００Ｗ／ｍ^２～１０００００Ｗ／ｍ^２（例えば、５０００Ｗ／ｍ^２、１５０００Ｗ／ｍ^２、または、３５０００Ｗ／ｍ^２）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１００００Ｗ／ｍ^２、酸素濃度３５体積％で照度２００００Ｗ／ｍ^２などとすることができる。

（現像除去する工程）
　次に、画素形成用組成物層の未露光部を現像除去する。画素形成用組成物層の未露光部の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の画素形成用組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが残り、画素が形成される。現像液の温度は、例えば、２０～３０℃が好ましい。現像時間は、２０～１８０秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、さらに新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。

　現像液は、有機溶剤、アルカリ現像液などが挙げられ、アルカリ現像液が好ましく用いられる。アルカリ現像液としては、アルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液（アルカリ現像液）が好ましい。アルカリ剤としては、例えば、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス（２－ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ－［５．４．０］－７－ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。アルカリ剤は、分子量が大きい化合物の方が環境面および安全面で好ましい。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％がより好ましい。また、現像液は、さらに界面活性剤を含有していてもよい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば１．５～１００倍の範囲に設定することができる。また、現像後純水で洗浄（リンス）することも好ましい。また、リンスは、現像後の画素形成用組成物層が形成された支持体を回転させつつ、現像後の画素形成用組成物層へリンス液を供給して行うことが好ましい。また、リンス液を吐出させるノズルを支持体の中心部から支持体の周縁部に移動させて行うことも好ましい。この際、ノズルの支持体中心部から周縁部へ移動させるにあたり、ノズルの移動速度を徐々に低下させながら移動させてもよい。このようにしてリンスを行うことで、リンスの面内ばらつきを抑制できる。また、ノズルを支持体中心部から周縁部へ移動させつつ、支持体の回転速度を徐々に低下させても同様の効果が得られる。

　現像後、乾燥を施した後に追加露光処理や加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。追加露光処理やポストベークは、硬化を完全なものとするための現像後の硬化処理である。ポストベークにおける加熱温度は、例えば、１００～２４０℃が好ましく、２００～２４０℃がより好ましい。ポストベークは、現像後の膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。追加露光処理を行う場合、露光に用いられる光は、波長４００ｎｍ以下の光であることが好ましい。また、追加露光処理は、韓国公開特許第１０－２０１７－０１２２１３０号公報に記載された方法で行ってもよい。

　複数種類の画素を形成する場合には、上述した画素を形成する工程を画素の種類毎に繰り返し行うことで複数の画素を備えたカラーフィルタを製造することができる。

　複数種類の画素を形成する場合、上述した下層膜を形成する工程と上述した画素を形成する工程とをそれぞれ交互に２回以上行い、２種以上の画素を形成することが好ましい。この態様によれば、下層膜を形成する工程と各色の画素を形成する工程とをそれぞれ交互に行うことで、先に形成する画素上にその次に形成する画素形成用組成物の残渣が残ることを抑制でき、より良好な画像性能を有するカラーフィルタを製造することができる。

　次に、画素形成用組成物について説明する。

　画素形成用組成物は色材を含有することが好ましい。色材としては黄色色材、オレンジ色色材、赤色色材、緑色色材、紫色色材、青色色材などが挙げれる。色材は顔料であってもよく、染料であってもよい。顔料と染料とを併用してもよい。また、顔料は、無機顔料、有機顔料のいずれでもよい。また、顔料には、無機顔料または有機－無機顔料の一部を有機発色団で置換した材料を用いることもできる。無機顔料や有機－無機顔料を有機発色団で置換することで、色相設計をしやすくできる。

　顔料の平均一次粒子径は、１～２００ｎｍが好ましい。下限は５ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましい。上限は、１８０ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以下が更に好ましい。顔料の平均一次粒子径が上記範囲であれば、感光性組成物中における顔料の分散安定性が良好である。なお、本発明において、顔料の一次粒子径は、顔料の一次粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた画像写真から求めることができる。具体的には、顔料の一次粒子の投影面積を求め、それに対応する円相当直径を顔料の一次粒子径として算出する。また、本発明における平均一次粒子径は、４００個の顔料の一次粒子についての一次粒子径の算術平均値とする。また、顔料の一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。

　色材は、顔料を含むものを用いることが好ましい。色材中における顔料の含有量は、５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上であることが更に好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。顔料としては以下に示すものが挙げられる。

　カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１，２，３，４，５，６，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２０，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，８６，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２５，１２６，１２７，１２８，１２９，１３７，１３８，１３９，１４７，１４８，１５０，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９３，１９４，１９９，２１３，２１４，２１５，２２８，２３１，２３２（メチン系），２３３（キノリン系），２３４（アミノケトン系），２３５（アミノケトン系），２３６（アミノケトン系）等（以上、黄色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｏｒａｎｇｅ　２，５，１３，１６，１７：１，３１，３４，３６，３８，４３，４６，４８，４９，５１，５２，５５，５９，６０，６１，６２，６４，７１，７３等（以上、オレンジ色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　１，２，３，４，５，６，７，９，１０，１４，１７，２２，２３，３１，３８，４１，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５２：１，５２：２，５３：１，５７：１，６０：１，６３：１，６６，６７，８１：１，８１：２，８１：３，８３，８８，９０，１０５，１１２，１１９，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１５０，１５５，１６６，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１６，２２０，２２４，２２６，２４２，２４６，２５４，２５５，２６４，２６９，２７０，２７２，２７９，２９１，２９４（キサンテン系、Ｏｒｇａｎｏ　Ｕｌｔｒａｍａｒｉｎｅ、Ｂｌｕｉｓｈ　Ｒｅｄ），２９５（モノアゾ系），２９６（ジアゾ系），２９７（アミノケトン系）等（以上、赤色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　７，１０，３６，３７，５８，５９，６２，６３，６４（フタロシアニン系），６５（フタロシアニン系），６６（フタロシアニン系）等（以上、緑色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　１，１９，２３，２７，３２，３７，４２，６０（トリアリールメタン系），６１（キサンテン系）等（以上、紫色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１，２，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，２２，２９，６０，６４，６６，７９，８０，８７（モノアゾ系），８８（メチン系）等（以上、青色顔料）。

　また、緑色色材として、１分子中のハロゲン原子数が平均１０～１４個であり、臭素原子数が平均８～１２個であり、塩素原子数が平均２～５個であるハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／１１８７２０号に記載の化合物が挙げられる。また、緑色色材として中国特許出願第１０６９０９０２７号明細書に記載の化合物、国際公開第２０１２／１０２３９５号に記載のリン酸エステルを配位子として有するフタロシアニン化合物、特開２０１９－００８０１４号公報に記載のフタロシアニン化合物、特開２０１８－１８００２３号公報に記載のフタロシアニン化合物、特開２０１９－０３８９５８号公報に記載の化合物などを用いることもできる。また、緑色色材として、特開２０２０－０７６９９５号公報に記載のコアシェル型色素も使用することができる。

　また、青色色材として、リン原子を有するアルミニウムフタロシアニン化合物を用いることもできる。具体例としては、特開２０１２－２４７５９１号公報の段落番号００２２～００３０、特開２０１１－１５７４７８号公報の段落番号００４７に記載の化合物が挙げられる。

　また、黄色色材としては、下記構造のアゾバルビツール酸ニッケル錯体を用いることもできる。

　また、黄色色材として、特開２０１７－２０１００３号公報に記載の化合物、特開２０１７－１９７７１９号公報に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１２号公報の段落番号００１１～００６２、０１３７～０２７６に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１３号公報の段落番号００１０～００６２、０１３８～０２９５に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１４号公報の段落番号００１１～００６２、０１３９～０１９０に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１５号公報の段落番号００１０～００６５、０１４２～０２２２に記載の化合物、特開２０１３－０５４３３９号公報の段落番号００１１～００３４に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０２６２２８号公報の段落番号００１３～００５８に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０６２６４４号公報に記載のイソインドリン化合物、特開２０１８－２０３７９８号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０６２５７８号公報に記載のキノフタロン化合物、特許第６４３２０７６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－１５５８８１号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－１１１７５７号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０４０８３５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１７－１９７６４０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１６－１４５２８２号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０８５５６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０２１１３９号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－２０９６１４号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－２０９４３５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－１８１０１５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－０６１６２２号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－０３２４８６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１２－２２６１１０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８７号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０８１５６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０５０４２０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０３１２８１号公報に記載のキノフタロン化合物、特公昭４８－０３２７６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１９－００８０１４号公報に記載のキノフタロン化合物、特許第６６０７４２７号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１９－０７３６９５号公報に記載のメチン染料、特開２０１９－０７３６９６号公報に記載のメチン染料、特開２０１９－０７３６９７号公報に記載のメチン染料、特開２０１９－０７３６９８号公報に記載のメチン染料、下記式（ＱＰ１）で表される化合物、下記式（ＱＰ２）で表される化合物、韓国公開特許第１０－２０１４－００３４９６３号公報に記載の化合物、特開２０１７－０９５７０６号公報に記載の化合物、台湾特許出願公開第２０１９２０４９５号公報に記載の化合物、特許第６６０７４２７号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２１号公報に記載のキノフタロン二量体を用いることもできる。また、これらの化合物を多量体化したものも、色価向上の観点から好ましく用いられる。

　赤色色材として、特開２０１７－２０１３８４号公報に記載の構造中に少なくとも１つの臭素原子が置換したジケトピロロピロール化合物、特許第６２４８８３８号の段落番号００１６～００２２に記載のジケトピロロピロール化合物、国際公開第２０１２／１０２３９９号に記載のジケトピロロピロール化合物、国際公開第２０１２／１１７９６５号に記載のジケトピロロピロール化合物、特開２０１２－２２９３４４号公報に記載のナフトールアゾ化合物、特許第６５１６１１９号公報に記載の赤色色材、特許第６５２５１０１号公報に記載の赤色色材、特開２０２０－０９０６３２号公報の段落番号０２２９に記載の臭素化ジケトピロロピロール化合物、韓国公開特許第１０－２０１９－０１４０７４１号公報に記載のアントラキノン化合物、韓国公開特許第１０－２０１９－０１４０７４４号公報に記載のアントラキノン化合物、特開２０２０－０７９３９６号公報に記載のペリレン化合物などを用いることもできる。また、赤色顔料として、芳香族環に対して、酸素原子、硫黄原子または窒素原子が結合した基が導入された芳香族環基がジケトピロロピロール骨格に結合した構造を有する化合物を用いることもできる。

　また、色材として特表２０２０－５０４７５８号公報に記載のジアリールメタン化合物を用いることもできる。

　各種顔料が有していることが好ましい回折角については、特許第６５６１８６２号公報、特許第６４１３８７２号公報、特許第６２８１３４５号公報、特開２０２０－０２６５０３号公報の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、ピロロピロール系顔料は結晶格子面のうち（±１±１±１）の８個の面の中でＸ線回折パターンにおける最大ピークに対応する面方向の結晶子サイズが１４０Å以下とすることも好ましい。また、ピロロピロール系顔料の物性については、特開２０２０－０９７７４４号公報の段落番号００２８～００７３に記載の通り設定することも好ましい。

　画素形成用組成物の全固形分中における色材の含有量は、１０質量％以上であることが好ましく、２０質量％以上がより好ましく、３０質量％以上がさらに好ましい。上限は、８０質量％以下であることが好ましく、７５質量％以下がより好ましく、７０質量％以下がさらに好ましい。画素形成用組成物に含まれる色材は１種のみであってもよく、２種以上であってもよい。画素形成用組成物が色材を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

　色材として顔料を用いた場合には、画素形成用組成物は顔料誘導体を含有することが好ましい。顔料誘導体としては、色素骨格に酸基または塩基性基が結合した構造を有する化合物が挙げられる。顔料誘導体を構成する色素骨格としては、キノリン色素骨格、ベンゾイミダゾロン色素骨格、ベンゾイソインドール色素骨格、ベンゾチアゾール色素骨格、イミニウム色素骨格、スクアリリウム色素骨格、クロコニウム色素骨格、オキソノール色素骨格、ピロロピロール色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、アゾ色素骨格、アゾメチン色素骨格、フタロシアニン色素骨格、ナフタロシアニン色素骨格、アントラキノン色素骨格、キナクリドン色素骨格、ジオキサジン色素骨格、ペリノン色素骨格、ペリレン色素骨格、チオインジゴ色素骨格、イソインドリン色素骨格、イソインドリノン色素骨格、キノフタロン色素骨格、イミニウム色素骨格、ジチオール色素骨格、トリアリールメタン色素骨格、ピロメテン色素骨格等が挙げられる。酸基としては、スルホ基、カルボキシル基、リン酸基及びこれらの塩が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、Ｋ^＋など）、アルカリ土類金属イオン（Ｃａ^２＋、Ｍｇ^２＋など）、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。塩基性基としては、アミノ基、ピリジニル基およびその塩、アンモニウム基の塩、並びにフタルイミドメチル基が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、水酸化物イオン、ハロゲンイオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオンなどが挙げられる。

　顔料誘導体として可視透明性に優れた顔料誘導体（以下、透明顔料誘導体ともいう）を含有することもできる。透明顔料誘導体の４００～７００ｎｍの波長領域におけるモル吸光係数の最大値（εｍａｘ）は３０００Ｌ・ｍｏｌ^－１・ｃｍ^－１以下であることが好ましく、１０００Ｌ・ｍｏｌ^－１・ｃｍ^－１以下であることがより好ましく、１００Ｌ・ｍｏｌ^－１・ｃｍ^－１以下であることがさらに好ましい。εｍａｘの下限は、例えば１Ｌ・ｍｏｌ^－１・ｃｍ^－１以上であり、１０Ｌ・ｍｏｌ^－１・ｃｍ^－１以上でもよい。

　顔料誘導体の具体例としては、後述する実施例に記載の化合物、特開昭５６－１１８４６２号公報、特開昭６３－２６４６７４号公報、特開平０１－２１７０７７号公報、特開平０３－００９９６１号公報、特開平０３－０２６７６７号公報、特開平０３－１５３７８０号公報、特開平０３－０４５６６２号公報、特開平０４－２８５６６９号公報、特開平０６－１４５５４６号公報、特開平０６－２１２０８８号公報、特開平０６－２４０１５８号公報、特開平１０－０３００６３号公報、特開平１０－１９５３２６号公報、国際公開第２０１１／０２４８９６号の段落番号００８６～００９８、国際公開第２０１２／１０２３９９号の段落番号００６３～００９４、国際公開第２０１７／０３８２５２号の段落番号００８２、特開２０１５－１５１５３０号公報の段落番号０１７１、特開２０１１－２５２０６５号公報の段落番号０１６２～０１８３、特開２００３－０８１９７２号公報、特許第５２９９１５１号公報、特開２０１５－１７２７３２号公報、特開２０１４－１９９３０８号公報、特開２０１４－０８５５６２号公報、特開２０１４－０３５３５１号公報、特開２００８－０８１５６５号公報に記載の化合物が挙げられる。

　顔料誘導体の含有量は、顔料１００質量部に対して１～３０質量部が好ましく、３～２５質量部がより好ましく、５～２０質量部が更に好ましい。顔料誘導体は１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。２種以上併用する場合はそれらの合計量が上記範囲であることが好ましい。

　画素形成用組成物は重合性化合物を含有することが好ましい。重合性化合物としては、上述した下層膜形成用組成物が含有するものとして説明した重合性化合物が挙げられ、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物であることが好ましい。また、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物と環状エーテル基を有する化合物とを併用することも好ましい。画素形成用組成物の全固形分中における重合性化合物の含有量は、０．１～５０質量％が好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。上限は、４０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましい。画素形成用組成物に含まれる重合性化合物は１種のみであってもよく、２種以上であってもよい。画素形成用組成物が重合性化合物を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

　画素形成用組成物は光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としては、上述した下層膜形成用組成物が含有するものとして説明した光重合開始剤が挙げられ、好ましい範囲も同様である。画素形成用組成物の全固形分中における光重合開始剤の含有量は、０．１～３０質量％が好ましく、０．５～２０質量％がより好ましく、１～１５質量％が更に好ましい。画素形成用組成物に含まれる光重合開始剤は１種のみであってもよく、２種以上であってもよい。画素形成用組成物が光重合開始剤を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

　画素形成用組成物は樹脂を含有することが好ましい。樹脂は、例えば、顔料などの粒子を画素形成用組成物中で分散させる用途やバインダーの用途で配合される。なお、主に顔料などの粒子を分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外の目的で使用することもできる。

　樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、３０００～２００００００が好ましい。上限は、１００００００以下が好ましく、５０００００以下がより好ましい。下限は、４０００以上が好ましく、５０００以上がより好ましい。

　樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂などが挙げられる。これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。また、特開２０１７－２０６６８９号公報の段落番号００４１～００６０に記載の樹脂、特開２０１８－０１０８５６号公報の段落番号００２２～００７１に記載の樹脂、特開２０１７－０５７２６５号公報に記載の樹脂、特開２０１７－０３２６８５号公報に記載の樹脂、特開２０１７－０７５２４８号公報に記載の樹脂、特開２０１７－０６６２４０号公報に記載の樹脂を用いることもできる。

　樹脂としては、酸基を有する樹脂を用いることが好ましい。この態様によれば、画素形成用組成物の現像性を向上させることができる。酸基としては、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられ、カルボキシル基が好ましい。酸基を有する樹脂は、例えば、アルカリ可溶性樹脂として用いることができる。酸基を有する樹脂は、酸基を側鎖に有する繰り返し単位を含む樹脂であることが好ましく、酸基を側鎖に有する繰り返し単位を樹脂の全繰り返し単位中５～７０モル％含む樹脂であることがより好ましい。酸基を側鎖に有する繰り返し単位の含有量の上限は、５０モル％以下であることがさらに好ましく、３０モル％以下であることが特に好ましい。酸基を側鎖に有する繰り返し単位の含有量の下限は、１０モル％以上であることがさらに好ましく、２０モル％以上であることが特に好ましい。酸基を有する樹脂については、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０５５８～０５７１（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０６８５～０７００）の記載、特開２０１２－１９８４０８号公報の段落番号００７６～００９９の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、酸基を有する樹脂は市販品を用いることもできる。

　また、樹脂にはエチレン性不飽和結合含有基を有する樹脂を用いることも好ましい。

　また、樹脂には、分散剤としての樹脂を用いることもできる。分散剤としては、酸性分散剤（酸性樹脂）、塩基性分散剤（塩基性樹脂）が挙げられる。ここで、酸性分散剤（酸性樹脂）とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性分散剤（酸性樹脂）は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、酸基の量が７０モル％以上を占める樹脂が好ましく、実質的に酸基のみからなる樹脂がより好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）が有する酸基は、カルボキシル基が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）の酸価は、４０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、６０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇがさらに好ましい。また、塩基性分散剤（塩基性樹脂）とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基性分散剤（塩基性樹脂）は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、塩基性基の量が５０モル％を超える樹脂が好ましい。塩基性分散剤が有する塩基性基は、アミノ基であることが好ましい。また、分散剤として用いる樹脂は、グラフト樹脂であることも好ましい。グラフト樹脂としては、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号００２５～００９４に記載された樹脂が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、分散剤として用いる樹脂は、主鎖及び側鎖の少なくとも一方に窒素原子を含むポリイミン系分散剤であることも好ましい。ポリイミン系分散剤としては、ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造を有する主鎖と、原子数４０～１００００の側鎖とを有し、かつ主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂が好ましい。塩基性窒素原子とは、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はない。ポリイミン系分散剤としては、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号０１０２～０１６６に記載された樹脂が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、分散剤として用いる樹脂は、コア部に複数個のポリマー鎖が結合した構造の樹脂であることも好ましい。このような樹脂としては、例えばデンドリマー（星型ポリマーを含む）が挙げられる。また、デンドリマーの具体例としては、特開２０１３－０４３９６２号公報の段落番号０１９６～０２０９に記載された高分子化合物Ｃ－１～Ｃ－３１などが挙げられる。また、分散剤には、国際公開第２０１６／１０４８０３号に記載のポリエステル側鎖を有するポリエチレンイミン、国際公開第２０１９／１２５９４０号に記載のブロック共重合体、特開２０２０－０６６６８７号公報に記載のアクリルアミド構造単位を有するブロックポリマー、特開２０２０－０６６６８８号公報に記載のアクリルアミド構造単位を有するブロックポリマーなどを用いることもできる。分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫシリーズ（例えば、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１１１、１６１など）、日本ルーブリゾール（株）製のソルスパースシリーズ（例えば、ソルスパース７６５００など）などが挙げられる。また、特開２０１４－１３０３３８号公報の段落番号００４１～０１３０に記載された顔料分散剤を用いることもでき、この内容は本明細書に組み込まれる。なお、上記分散剤として説明した樹脂は、分散剤以外の用途で使用することもできる。例えば、バインダーとして用いることもできる。

　画素形成用組成物の全固形分中における樹脂の含有量は、１～５０質量％であることが好ましい。下限は、５質量％以上であることがより好ましく、１０質量％以上がさらに好ましい。上限は、４０質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以下がさらに好ましい。画素形成用組成物に含まれる樹脂は１種のみであってもよく、２種以上であってもよい。画素形成用組成物が樹脂を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

　画素形成用組成物は、溶剤を含有することが好ましい。溶剤としては、上述した下層膜形成用組成物が含有するものとして説明した溶剤が挙げられ、好ましい範囲も同様である。画素形成用組成物中における溶剤の含有量は、１０～９５質量％であることが好ましく、２０～９０質量％であることがより好ましく、３０～９０質量％であることが更に好ましい。画素形成用組成物に含まれる溶剤は、１種のみでもよく、２種以上でもよい。画素形成用組成物が溶剤を２種以上含む場合はそれらの合計量が上記範囲であることが好ましい。

　画素形成用組成物は、界面活性剤を含有することができる。界面活性剤としては、上述した下層膜形成用組成物が含有するものとして説明した界面活性剤が挙げられ、好ましい範囲も同様である。画素形成用組成物の全固形分中における界面活性剤の含有量は、０．００１質量％～５．０質量％が好ましく、０．００５～３．０質量％がより好ましい。画素形成用組成物に含まれる界面活性剤は１種のみであってもよく、２種以上であってもよい。画素形成用組成物が界面活性剤を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

　画素形成用組成物は、重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、上述した下層膜形成用組成物が含有するものとして説明した溶剤が挙げられ、好ましい範囲も同様である。画素形成用組成物の全固形分中における重合禁止剤の含有量は、０．０００１～５質量％が好ましい。画素形成用組成物に含まれる重合禁止剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。画素形成用組成物が重合禁止剤を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

　画素形成用組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤は、共役ジエン化合物、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物、インドール化合物、トリアジン化合物などを用いることができる。このような化合物としては、特開２００９－２１７２２１号公報の段落番号００３８～００５２、特開２０１２－２０８３７４号公報の段落番号００５２～００７２、特開２０１３－０６８８１４号公報の段落番号０３１７～０３３４、特開２０１６－１６２９４６号公報の段落番号００６１～００８０に記載された化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、ＵＶ－５０３（大東化学（株）製）などが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としては、ミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）が挙げられる。また、紫外線吸収剤は、特許第６２６８９６７号公報の段落番号００４９～００５９に記載された化合物を用いることもできる。画素形成用組成物の全固形分中における紫外線吸収剤の含有量は、０．０１～１０質量％が好ましく、０．０１～５質量％がより好ましい。画素形成用組成物に含まれる紫外線吸収剤は、１種のみでもよく、２種以上でもよい。画素形成用組成物が紫外線吸収剤を２種以上含む場合はそれらの合計量が上記範囲であることが好ましい。

　画素形成用組成物は、シランカップリング剤を含有することができる。本発明において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応及び縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、フェニル基などが挙げられ、アミノ基、（メタ）アクリロイル基およびエポキシ基が好ましい。シランカップリング剤の具体例としては、特開２００９－２８８７０３号公報の段落番号００１８～００３６に記載の化合物、特開２００９－２４２６０４号公報の段落番号００５６～００６６に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。画素形成用組成物の全固形分中におけるシランカップリング剤の含有量は、０．１～５質量％が好ましい。上限は、３質量％以下が好ましく、２質量％以下がより好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。画素形成用組成物に含まれるシランカップリング剤は、１種のみでもよく、２種以上でもよい。画素形成用組成物がシランカップリング剤を２種以上含む場合はそれらの合計量が上記範囲であることが好ましい。

　画素形成用組成物は、必要に応じて、酸化防止剤、増感剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、可塑剤及びその他の助剤類（例えば、導電性粒子、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を含有してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、膜物性などの性質を調整することができる。これらの成分は、例えば、特開２０１２－００３２２５号公報の段落番号０１８３以降（対応する米国特許出願公開第２０１３／００３４８１２号明細書の段落番号０２３７）の記載、特開２００８－２５００７４号公報の段落番号０１０１～０１０４、０１０７～０１０９等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、画素形成用組成物は、必要に応じて、潜在酸化防止剤を含有してもよい。潜在酸化防止剤としては、酸化防止剤として機能する部位が保護基で保護された化合物であって、１００～２５０℃で加熱するか、又は酸／塩基触媒存在下で８０～２００℃で加熱することにより保護基が脱離して酸化防止剤として機能する化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤としては、国際公開第２０１４／０２１０２３号、国際公開第２０１７／０３０００５号、特開２０１７－００８２１９号公報に記載された化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤の市販品としては、アデカアークルズＧＰＡ－５００１（（株）ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。

＜固体撮像素子＞
　本発明の固体撮像素子は、上述した本発明のカラーフィルタを有する。固体撮像素子の構成としては、本発明の構造体を備え、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はないが、例えば、以下のような構成が挙げられる。

　基板上に、固体撮像素子（ＣＣＤ（電荷結合素子）イメージセンサ、ＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）イメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口した遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、カラーフィルタを有する構成である。更に、デバイス保護膜上であってカラーフィルタの下（基板に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、カラーフィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、特開２０１９－２１１５５９号公報の中で示しているように固体撮像素子の構造内に紫外線吸収層を設けて耐光性を改良してもよい。本発明の固体撮像素子を備えた撮像装置は、デジタルカメラや、撮像機能を有する電子機器（携帯電話等）の他、車載カメラや監視カメラ用としても用いることができる。

＜画像表示装置＞
　本発明の画像表示装置は、上述した本発明のカラーフィルタを有する。画像表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や各画像表示装置の詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木昭夫著、（株）工業調査会、１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男編集、（株）工業調査会、１９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。

　以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。

＜下層膜形成用組成物の製造＞
　各素材を、以下に示す処方１から５の割合で混合し、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して各下層膜形成用組成物を製造した。なお、樹脂、重合性化合物、光重合開始剤、界面活性剤、重合禁止剤の合計は固形分換算値である。

　（処方１）
　樹脂と重合性化合物と光重合開始剤と界面活性剤と重合禁止剤の合計　　・・・０．３質量部
　溶剤　　・・・９９．７質量部

　（処方２）
　樹脂と重合性化合物と光重合開始剤と界面活性剤と重合禁止剤の合計　　・・・０．１質量部
　溶剤　　・・・９９．９質量部

　（処方３）
　樹脂と重合性化合物と光重合開始剤と界面活性剤と重合禁止剤の合計　　・・・０．５質量部
　溶剤　　・・・９９．５質量部

　（処方４）
　樹脂と重合性化合物と光重合開始剤と界面活性剤と重合禁止剤の合計　　・・・０．７質量部
　溶剤　　・・・９９．３質量部

（処方５）
　樹脂と重合性化合物と光重合開始剤と界面活性剤と重合禁止剤の合計　　・・・０．９質量部
　溶剤　　・・・９９．１質量部

　上記表に記載の素材は以下の通りである。

（樹脂）

　上記構造式中、主鎖に付記した数値は質量比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。

　上記樹種の固形分中のハロゲン量はＵ－７が０．３重量％で、Ｕ－７以外は検出限界以下であった。

（重合性化合物）
　Ｍ－１：ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物）
　Ｍ－２：下記構造の化合物（エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物）

　Ｍ－３：下記構造の化合物（エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物）

　Ｍ－４：下記構造の化合物（エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物）

　Ｍ－５：ＪＥＲ－１０３１Ｓ（三菱ケミカル（株）製、エポキシ基を有する化合物）

（光重合開始剤）
　Ｉ－１：下記構造の化合物

　Ｉ－２：Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製、オキシム化合物）
　Ｉ－３：Ｏｍｎｉｒａｄ　２９５９、Ｏｍｎｉｒａｄ　１２７（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）

（界面活性剤）
　Ｗ－５：ＢＹＫ－３３０（ビックケミー社製、シリコーン系界面活性剤）
　Ｗ－８：ＫＦ－６００１（信越化学工業、シリコーン系界面活性剤）

（重合禁止剤）
　Ｉｎ－１：ｐ－メトキシフェノール

（溶剤）
　Ｓ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
　Ｓ－２：３－メチルシクロヘキサノン
　Ｓ－３：シクロペンタノン
　Ｓ－４：ジアセトンアルコール
　Ｓ－５：アニソール
　Ｓ－６：プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）

＜着色組成物の製造＞
－分散液の製造－
　顔料と顔料誘導体とを合計で１４．０質量部と、分散剤を１６．３質量部と、溶剤を６９．７質量部との混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．１ｍｍ径）を用いて３時間混合および分散して、分散液を調製した。その後、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ－３０００－１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて、圧力２０００ｋｇ／ｃｍ３および流量５００ｇ／ｍｉｎの条件の下、分散処理を行なった。この分散処理を全１０回まで繰り返して分散液を得た。顔料、顔料誘導体、分散剤、および溶剤はそれぞれ下記表に示す素材を用いた。また、下記表中における各素材の混合比率は固形分換算での値である。

（顔料）
　Ｐ－１：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ５８（緑色顔料）
　Ｐ－２：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ３６（緑色顔料）
　Ｐ－３：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ１８５（黄色顔料）
　Ｐ－４：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ１５０（黄色顔料）
　Ｐ－５：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ２７２（赤色顔料）
　Ｐ－６：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ２５４（赤色顔料）
　Ｐ－７：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ１３９（黄色顔料）
　Ｐ－８：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ１５：６（青色顔料）
　Ｐ－９：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ２３（紫色顔料）

（顔料誘導体）
　Ｓｙｎ－１～Ｓｙｎ－４：下記構造の化合物

（分散剤）
　Ｂ－１：以下の方法で合成した樹脂Ｂ－１の３０質量％ＰＧＭＥＡ溶液
　１－チオグリセロール１０８質量部、ピロメリット酸無水物１７４質量部、メトキシプロピルアセテート６５０質量部、触媒としてモノブチルスズオキシド０．２質量部を反応容器に仕込み、雰囲気ガスを窒素ガスで置換した後、１２０℃で５時間反応させた（第一工程）。酸価の測定で９５％以上の酸無水物がハーフエステル化していることを確認した。次に、第一工程で得られた化合物を固形分換算で１６０質量部、２－ヒドロキシプロピルメタクリレート２００質量部、エチルアクリレート２００質量部、ｔ－ブチルアクリレート１５０質量部、２－メトキシエチルアクリレート２００質量部、メチルアクリレート２００質量部、メタクリル酸５０質量部、ＰＧＭＥＡ６６３質量部を反応容器に仕込み、反応容器内を８０℃に加熱して、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）１．２質量部を添加し、１２時間反応させた（第二工程）。固形分測定により９５％が反応したことを確認した。最後に、第二工程で得られた化合物の５０質量％ＰＧＭＥＡ溶液５００質量部、２－メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（ＭＯＩ）２７．０質量部、ヒドロキノン０．１質量部を反応容器に仕込み、イソシアネート基に基づく２２７０ｃｍ^－１のピークの消失を確認するまで反応を行った（第三工程）。ピーク消失の確認後、反応溶液を冷却して、酸価６８ｍｇＫＯＨ／ｇ、エチレン性不飽和結合基価０．６２ｍｍｏｌ／ｇ、重量平均分子量１３０００の下記構造の樹脂Ｂ－１（酸基を有する樹脂）を得た。

　Ｂ－２：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。酸基を有する樹脂、重量平均分子量２４０００、酸価５２．５ｍｇＫＯＨ／ｇ）の３０質量％ＰＧＭＥＡ溶液

　Ｂ－３：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。酸基を有する樹脂、重量平均分子量１８０００、酸価８２．１ｍｇＫＯＨ／ｇ）の３０質量％ＰＧＭＥＡ溶液

　Ｂ－４：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。酸基を有する樹脂、重量平均分子量１８０００、酸価８２．１ｍｇＫＯＨ／ｇ）の３０質量％ＰＧＭＥＡ溶液

（溶剤）
　Ｓ－１～Ｓ－５：上述した溶剤Ｓ－１～Ｓ－５

－着色組成物の製造－
　各素材を、以下に示す処方１または２の割合で混合し、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して着色組成物を製造した。

　（処方１）
　下記表に記載の分散液　　　・・・７７．１質量部
　下記表に記載の重合性化合物　　　・・・０．９質量部
　樹脂Ｂ－５の３０質量％ＰＧＭＥＡ溶液　　　・・・５．９質量部
　下記表に記載の光重合開始剤　　　・・・０．７質量部
　下記表に記載の界面活性剤　　　・・・０．０２質量部
　重合禁止剤（ｐ－メトキシフェノール）　　　・・・０．０００２質量部
　溶剤（ＰＧＭＥＡ）　　　・・・１５．３質量部

（処方２）
　下記表に記載の分散液　　　・・・８３．６質量部
　下記表に記載の重合性化合物　　　・・・０．７質量部
　樹脂Ｂ－５の３０質量％ＰＧＭＥＡ溶液　　　・・・１．３質量部
　下記表に記載の光重合開始剤　　　・・・１．１質量部
　下記表に記載の界面活性剤　　　・・・０．０２質量部
　重合禁止剤（ｐ－メトキシフェノール）　　　・・・０．０００２質量部
　溶剤（ＰＧＭＥＡ）　　　・・・１３．３質量部

（分散液）
　Ｇ－１～Ｇ－４、Ｒ－１～Ｒ－４、Ｂ－１～Ｂ－４：上述した分散液Ｇ－１～Ｇ－４、Ｒ－１～Ｒ－４、Ｂ－１～Ｂ－４

（樹脂）
　Ｂ－５：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比である。酸基を有する樹脂、重量平均分子量１１０００、酸価６９．２ｍｇＫＯＨ／ｇ）

（重合性化合物）
　Ｍ－１～Ｍ－４：上述した重合性化合物Ｍ－１～Ｍ－４

（光重合開始剤）
　Ｉ－１、Ｉ－２：上述した光重合開始剤Ｉ－１、Ｉ－２

（界面活性剤）
　Ｗ－５：ＢＹＫ－３３０（ビックケミー社製、シリコーン系界面活性剤）

＜試験例１＞
　支持体として、下記表に記載の材質の支持体（直径８インチ（＝２０３．２ｍｍ））を用いた。この支持体上に下記表に記載の下層膜形成用組成物をスピンコート法で塗布し、ホットプレートを用いて２２０℃で５分加熱して下記表に記載の下層膜を形成した。この下層膜付きの支持体上に、下記表に記載の着色組成物をポストベーク後の膜厚が０．４μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて１００℃で２分間加熱して組成物層を形成した。次いで、この組成物層に対して、ｉ線ステッパー露光装置（ＦＰＡ－３０００ｉ５＋、キヤノン（株）製）を使用し、一辺１．０μｍの正方ピクセルがそれぞれ支持体上の４ｍｍ×３ｍｍの領域に配列されたマスクパターンを介して、３６５ｎｍの波長の光を５００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で照射して露光した。露光後の組成物層に対し、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにて水を用いてリンスを行い、更に純水にて水洗いを行った。その後、水滴を高圧のエアーで飛ばし、シリコンウエハを自然乾燥させたのち、ホットプレートを用いて２００℃で３００秒間ポストベークを行い、画素を形成した。得られた画素について、測長ＳＥＭ「Ｓ－９２６０Ａ」（日立ハイテクノロジーズ（株）製）を用いて画素と画素の周囲８画素分（未露光の下地部分）を含む画像を取得し、画像解析により下地部分の残渣占有面積を算出し、以下の基準で残渣を評価した。０％の場合残渣が全くないことを意味し、１００％の場合全て残渣で埋め尽くされていることを意味する。以下の評価基準で「５」が、最も優れている。
〔評価基準〕
　１：５１％～１００％
　２：３１％～５０％
　３：１１％～３０％
　４：４％～１０％
　５：０％～３％

　上記表に示すように、実施例は残渣の発生が抑制されていた。

＜試験例２＞
－隔壁を有する支持体の製造－
　直径８インチ（＝２０３．２ｍｍ）のシリコンウエハ上に隔壁用組成物をポストベーク後の膜厚が０．４μｍとなるようにスピンコート法で塗布した後、ホットプレートを用いて１００℃で１２０秒加熱した後、２００℃で３００秒加熱して隔壁材料層を形成した。
　この隔壁材料層上に、ＫｒＦ用ポジ型フォトレジストをスピンコーターにて塗布し、１００℃で２分間の加熱処理を行い、膜厚が１．０μｍの厚さになるようにフォトレジスト層を形成した。次に対応する領域を、ＫｒＦスキャナを用いて３０ｍＪ／ｃｍ^２の露光量でパターン状に露光した後、１１０℃で１分間の加熱処理を行った。その後、現像液で１分間の現像処理した後、１００℃で１分間のポストベーク処理を行い、画素を形成すべき領域のフォトレジストを除去した。次いで、下記のドライエッチング条件で隔壁材料層の処理を行い、画素サイズが１．０μｍの場合は、幅０．１μｍの隔壁を、ピッチ幅１．１μｍで格子状に形成した。隔壁開口部の幅は１．０μｍであった。また、画素サイズが０．７μｍの場合は、幅０．１μｍの隔壁を、ピッチ幅０．８μｍで格子状に形成した。隔壁開口部の幅は０．７μｍであった。なお、隔壁のピッチ幅は、隔壁の開口部の幅と隔壁の幅との合計のことである。

（隔壁用組成物）
　隔壁用組成物には、シリカ粒子液１を４４．８質量部と、界面活性剤（ＫＦ－６００１、信越化学工業、シリコーン系界面活性剤）を０．２質量部と、１，４－ブタンジオールジアセテートを８質量部と、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）を４３質量部と、メタノールを２質量部と、エタノールを１質量部と、水を１質量部とを混合し、日本ポール製ＤＦＡ４２０１ＮＩＥＹ（０．４５μｍナイロンフィルター）を用いてろ過を行って製造した隔壁用組成物を用いたい。

　隔壁用組成物に用いた素材は以下の通りである。
　・シリカ粒子液１：平均粒子径１５ｎｍの球状シリカの複数個が金属酸化物含有シリカ（連結材）によって数珠状に連結された形状のシリカ粒子（数珠状シリカ）のＰＧＭＥ）溶液（シリカ粒子濃度２０質量％）の１００．０ｇに疎水化処理剤としてトリメチルメトキシシランの３．０ｇを添加し、２０℃で６時間反応させて調製したシリカ粒子液である。なお、シリカ粒子液１において、球状シリカの平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）によって測定した５０個の球状シリカの球状部分の投影像における円相当直径の数平均を算出して求めた。また、シリカ粒子液１において、ＴＥＭ観察の方法で、複数個の球状シリカが数珠状に連結された形状のシリカ粒子を含むものであるかどうか調べた。

（ドライエッチング条件）
　ドライエッチング条件は以下の通りである。
　使用装置：日立ハイテクノロジーズ社製　Ｕ－６２１
　圧力：２．０Ｐａ
　使用ガス：Ａｒ／Ｃ_４Ｆ^６／Ｏ_２＝１０００／２０／５０ｍＬ／ｍｉｎ
　処理温度：２０℃
　ソースパワー：５００Ｗ
　上部バイアス／電極バイアス＝５００／１０００Ｗ
　処理時間：２２０ｓｅｃ

　なお、隔壁の波長３００ｎｍの光に対する屈折率は、１．２６であった。隔壁の屈折率は、以下の方法で測定した。すなわち、隔壁用組成物をスピンコーター（ミカサ（株）製）を用いて石英ガラス基板上に塗布して塗膜を形成し、次いで、ホットプレートを用いて、１００℃、１２０秒間の加熱（プリベーク）を行い、次いで、ホットプレートを用いて２００℃、３００秒間の加熱（ポストベーク）を行い、厚さ０．３μｍの膜を形成した。得られた膜について、エリプソメトリー　ＶＵＶ－ＶＡＳＥ（ジェー・エー・ウーラム・ジャパン社製）を用いて波長３００ｎｍの光に対する屈折率を測定した。

－残渣の評価－
　上記の隔壁を形成した支持体上に下記表に記載の下層膜形成用組成物をスピンコート法で塗布し、ホットプレートを用いて２２０℃で５分加熱して下記表に記載の下層膜を形成した。この下層膜付きの支持体を用いて試験例１と同様にして画素を形成し、試験例１と同様の手法で残渣を評価した。

　Ｇｒｅｅｎ組成物１～４、Ｒｅｄ組成物１～４、Ｂｌｕｅ組成物１～４から界面活性剤Ｗ－５を以下に示す界面活性剤Ｗ－１～Ｗ－４、Ｗ－６～Ｗ－４４に変更しても同様の効果が得られた。

（界面活性剤）
　Ｗ－１：下記構造の化合物（重量平均分子量１４０００）。下記の式中、繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。

　Ｗ－２：ＦＺ－２１２２（東レ・ダウコーニング（株）製、シリコーン系界面活性剤）
　Ｗ－３：ＢＹＫ－３２２（ビックケミー社製、シリコーン系界面活性剤）
　Ｗ－４：ＢＹＫ－３２３（ビックケミー社製、シリコーン系界面活性剤）
　Ｗ－６：ＢＹＫ－３７６０（ビックケミー社製、シリコーン系界面活性剤）
　Ｗ－７：ＢＹＫ－ＵＶ３５１０（ビックケミー社製、シリコーン系界面活性剤）
　Ｗ－８：ＫＦ－６００１（信越化学工業、シリコーン系界面活性剤）
　Ｗ－９：メガファックＦ－４７７（ＤＩＣ（株）、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－１０：メガファックＦ－５５４（ＤＩＣ（株）、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－１１：メガファックＦ－５５５－Ａ（ＤＩＣ（株）、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－１２：メガファックＦ－５５６（ＤＩＣ（株）、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－１３：メガファックＦ－５５７（ＤＩＣ（株）、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－１４：メガファックＦ－５５８（ＤＩＣ（株）、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－１５：メガファックＦ－５５９（ＤＩＣ（株）、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－１６：メガファックＦ－５６０（ＤＩＣ（株）、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－１７：メガファックＦ－５６１（ＤＩＣ（株）、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－１８：メガファックＦ－５６３（ＤＩＣ（株）、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－１９：メガファックＦ－５６５（ＤＩＣ（株）、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－２０：メガファックＦ－５６８（ＤＩＣ（株）、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－２１：メガファックＦ－５７５（ＤＩＣ（株）、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－２２：メガファックＲ－０１（ＤＩＣ（株）、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－２３：メガファックＲ－４０（ＤＩＣ（株）、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－２４：メガファックＲ－４０－ＬＭ（ＤＩＣ（株）、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－２５：メガファックＲ－４１（ＤＩＣ（株）、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－２６：メガファックＲ－４１－ＬＭ（ＤＩＣ（株）、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－２７：メガファックＲ－９４（ＤＩＣ（株）、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－２８：メガファックＤＳ－２１（ＤＩＣ（株）、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－２９：メガファックＲＳ－４３（ＤＩＣ（株）、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－３０：メガファックＲＳ－７２－Ｋ（ＤＩＣ（株）、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－３１：メガファックＲＳ－９０（ＤＩＣ（株）、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－３２：メガファックＴＦ－１９５６（ＤＩＣ（株）、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－３３：フタージェント２０８Ｇ（（株）ＮＥＯＳ、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－３４：フタージェント２１５Ｍ（（株）ＮＥＯＳ、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－３５：フタージェント２４５Ｆ（（株）ＮＥＯＳ、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－３６：フタージェント６０１ＡＤ（（株）ＮＥＯＳ、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－３７：フタージェント６０１ＡＤＨ２（（株）ＮＥＯＳ、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－３８：フタージェント６０２Ａ（（株）ＮＥＯＳ、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－３９：フタージェント６１０ＦＭ（（株）ＮＥＯＳ、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－４０：フタージェント７１０ＦＬ（（株）ＮＥＯＳ、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－４１：フタージェント７１０ＦＭ（（株）ＮＥＯＳ、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－４２：フタージェント７１０ＦＳ（（株）ＮＥＯＳ、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－４３：フタージェントＦＴＸ－２１８（（株）ＮＥＯＳ、フッ素系界面活性剤）
　Ｗ－４４：ＰｏｌｙＦｏｘ　ＰＦ６３２０（ＯＭＮＯＶＡ社製、フッ素系界面活性剤）

＜試験例３＞
　直径８インチ（＝２０３．２ｍｍ）のシリコンウエハ上に下層膜形成用組成物４０または４１をスピンコート法で塗布し、ホットプレートを用いて９０℃で２分加熱して乾燥させた。さらに紫外線フォトレジスト硬化装置（ＵＭＡ－８０２－ＨＣ－５５２；ウシオ電機株式会社製）を用いて３０００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量にて下層膜形成用組成物に紫外線を全面照射して厚さ３ｎｍの下層膜を形成した。この下層膜付きの支持体を用いて試験例１と同様にして画素を形成し、試験例１と同様の手法で残渣を評価した。なお、着色組成物はＧｒｅｅｎ組成物１を用いた。下層膜形成用組成物４０、４１のいずれを用いた場合であっても、残渣の評価は上記の評価基準で「５」であった。

＜試験例４＞
　シリコンフォトダイオードが形成された直径８インチ（＝２０３．２ｍｍ）の支持体上に上記試験例２と同様の方法で隔壁を形成した後、支持体上に下層膜形成用組成物１をスピンコート法で塗布し、ホットプレートを用いて２２０℃で５分加熱して膜厚３ｎｍの下層膜を形成した。この下層膜付きの支持体上に、Ｇｒｅｅｎ組成物１をポストベーク後の膜厚が０．４μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて１００℃で２分間加熱して組成物層を形成した。次いで、この組成物層に対して、ＫｒＦスキャナ露光装置（ＦＰＡ－６３００ＥＳ６ａ、キヤノン（株）製）を使用し、一辺０．７μｍのベイヤーパターンがそれぞれ支持体の４ｍｍ×３ｍｍの領域に配列されたマスクパターンを介して、２４８ｎｍの波長の光を２００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で照射して露光した。露光後の組成物層に対し、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにて水を用いてリンスを行い、更に純水にて水洗いを行った。その後、水滴を高圧のエアーで飛ばし、支持体を自然乾燥させたのち、ホットプレートを用いて２００℃で３００秒間ポストベークを行い、緑色画素を形成した。
　緑色画素が形成された支持体上にＢｌｕｅ組成物１をポストベーク後の膜厚が０．４μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて１００℃で２分間加熱して組成物層を形成した。次いで、この組成物層に対して、ＫｒＦスキャナ露光装置（ＦＰＡ－６３００ＥＳ６ａ、キヤノン（株）製）を使用し、一辺０．７μｍの正方形パターンがそれぞれ支持体上の４ｍｍ×３ｍｍの領域に配列されたマスクパターンを介して、２４８ｎｍの波長の光を２００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で照射して露光した。露光後の組成物層に対し、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにて水を用いてリンスを行い、更に純水にて水洗いを行った。その後、水滴を高圧のエアーシリコンウエハコンウエハを自然乾燥させたのち、ホットプレートを用いて２００℃で３００秒間ポストベークを行い、青色画素を形成した。
　緑色画素と青色画素が形成された支持体上にＲｅｄ組成物１をポストベーク後の膜厚が０．４μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて１００℃で２分間加熱して組成物層を形成した。次いで、この組成物層に対して、ＫｒＦスキャナ露光装置（ＦＰＡ－６３００ＥＳ６ａ、キヤノン（株）製）を使用し、一辺０．７μｍの正方形パターンがそれぞれ支持体上の４ｍｍ×３ｍｍの領域に配列されたマスクパターンを介して、２４８ｎｍの波長の光を２００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で照射して露光した。露光後の組成物層に対し、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにて水を用いてリンスを行い、更に純水にて水洗いを行った。その後、水滴を高圧のエアーで飛ばし、支持体を然乾燥させたのち、ホットプレートを用いて２００℃で３００秒間ポストベークを行い、赤色画素を形成し、緑色画素、青色画素、赤色画素からなるカラーフィルタを製造した。このカラーフィルタを公知の方法に従い固体撮像素子に組み込んだ結果、良好な画像性能が得られた。

＜試験例５＞
　シリコンフォトダイオードが形成された直径８インチ（＝２０３．２ｍｍ）の支持体上に上記試験例２と同様の方法で隔壁を形成した後、支持体上に下層膜形成用組成物１をスピンコート法で塗布し、ホットプレートを用いて２２０℃で５分加熱して膜厚３ｎｍの下層膜を形成した。この下層膜付きの支持体上に、Ｇｒｅｅｎ組成物１をポストベーク後の膜厚が０．４μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて１００℃で２分間加熱して組成物層を形成した。次いで、この組成物層に対して、ＫｒＦスキャナ露光装置（ＦＰＡ－６３００ＥＳ６ａ、キヤノン（株）製）を使用し、一辺０．７μｍのベイヤーパターンがそれぞれ支持体上の４ｍｍ×３ｍｍの領域に配列されたマスクパターンを介して、２４８ｎｍの波長の光を２００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で照射して露光した。露光後の組成物層に対し、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにて水を用いてリンスを行い、更に純水にて水洗いを行った。その後、水滴を高圧のエアーで飛ばし、シリコンウエハを自然乾燥させたのち、ホットプレートを用いて２００℃で３００秒間ポストベークを行い、緑色画素を形成した。
　緑色画素が形成されたシリコンウエハ上に下層膜形成用組成物１をスピンコート法で塗布し、ホットプレートを用いて２２０℃で５分加熱して膜厚３ｎｍの下層膜を形成した。さらにＢｌｕｅ組成物１をポストベーク後の膜厚が０．４μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて１００℃で２分間加熱して組成物層を形成した。次いで、この組成物層に対して、ＫｒＦスキャナ露光装置（ＦＰＡ－６３００ＥＳ６ａ、キヤノン（株）製）を使用し、一辺０．７μｍの正方形パターンがそれぞれ支持体上の４ｍｍ×３ｍｍの領域に配列されたマスクパターンを介して、２４８ｎｍの波長の光を２００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で照射して露光した。露光後の組成物層に対し、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにて水を用いてリンスを行い、更に純水にて水洗いを行った。その後、水滴を高圧のエアーシリコンウエハコンウエハを自然乾燥させたのち、ホットプレートを用いて２００℃で３００秒間ポストベークを行い、青色画素を形成した。
　緑色画素と青色画素が形成された支持体上に下層膜形成用組成物１をスピンコート法で塗布し、ホットプレートを用いて２２０℃で５分加熱して膜厚３ｎｍの下層膜を形成した。さらにＲｅｄ組成物１をポストベーク後の膜厚が０．４μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて１００℃で２分間加熱して組成物層を形成した。次いで、この組成物層に対して、ＫｒＦスキャナ露光装置（ＦＰＡ－６３００ＥＳ６ａ、キヤノン（株）製）を使用し、一辺０．７μｍの正方形パターンがそれぞれ支持体上の４ｍｍ×３ｍｍの領域に配列されたマスクパターンを介して、２４８ｎｍの波長の光を２００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で照射して露光した。露光後の組成物層に対し、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにて水を用いてリンスを行い、更に純水にて水洗いを行った。その後、水滴を高圧のエアーで飛ばし、支持体を然乾燥させたのち、ホットプレートを用いて２００℃で３００秒間ポストベークを行い、赤色画素を形成し、緑色画素、青色画素、赤色画素からなるカラーフィルタを作製した。このカラーフィルタを公知の方法に従い固体撮像素子に組み込んだ結果、試験例４よりもより良好な画像性能が得られた。これは下層膜を形成する工程と各色の画素を形成する工程とをそれぞれ交互に行うことで、先に形成する画素上にその次に形成する着色組成物の残渣が残ることを抑制できたためと推測される。

１０：支持体
１１：隔壁
３１～３３：画素

Claims

　カラーフィルタの下層膜形成用組成物であって、
　樹脂Ａと、溶剤Ｂとを含み、
　前記樹脂Ａは、アルキレンオキシ構造を有する樹脂ａ－１を含み、
　前記下層膜形成用組成物の全固形分中における前記樹脂ａ－１の含有量が５０質量％以上であり、
　前記下層膜形成用組成物の固形分濃度が１質量％以下である、下層膜形成用組成物。
　前記下層膜形成用組成物の全固形分中における前記樹脂Ａの含有量が５０質量％以上である、請求項１に記載の下層膜形成用組成物。
　前記樹脂ａ－１が有するアルキレンオキシ構造は、式（ＡＯ－１）で表される構造である、請求項１または２に記載の下層膜形成用組成物；
　－（Ｒ^１－Ｏ）_ｎ－　　　・・・（ＡＯ－１）
　式中、Ｒ^１はアルキレン基を表し、ｎは２以上の数を表す。
　前記樹脂ａ－１の酸価が４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である、請求項１～３のいずれか１項に記載の下層膜形成用組成物。
　前記樹脂ａ－１は重合性基を含む、請求項１～４のいずれか１項に記載の下層膜形成用組成物。
　前記樹脂ａ－１は、アルキレンオキシ構造を含む基を有する繰り返し単位と、重合性基を有する繰り返し単位とを含む、請求項１～４のいずれか１項に記載の下層膜形成用組成物。
　前記重合性基がエチレン性不飽和結合含有基または環状エーテル基である、請求項５または６に記載の下層膜形成用組成物。
　さらに界面活性剤を含む、請求項１～７のいずれか１項に記載の下層膜形成用組成物。
　更に、前記樹脂Ａ以外の重合性化合物を含む、請求項１～８のいずれか１項に記載の下層膜形成用組成物。
　前記下層膜形成用組成物の全固形分中における前記樹脂Ａと前記重合性化合物の合計の含有量が７０～１００質量％である、請求項９に記載の下層膜形成用組成物。
　前記重合性化合物は、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物を含み、
　前記下層膜形成用組成物は、更に光重合開始剤を含む、請求項９または１０に記載の下層膜形成用組成物。
　支持体と、支持体上に形成された下層膜と、前記下層膜上に形成された画素とを有するカラーフィルタであって、
　前記下層膜は、アルキレンオキシ構造を有する樹脂ａ－１を５０質量％以上含み、
　前記下層膜の膜厚が３０ｎｍ以下である、
　カラーフィルタ。
　前記支持体の表面に隔壁が形成されており、
　前記支持体上であって、前記隔壁で区画された領域に前記下層膜が形成されており、
　前記下層膜上に前記画素が形成されている、請求項１２に記載のカラーフィルタ。
　支持体上に請求項１～１０のいずれか１項に記載の下層膜形成用組成物を適用して下層膜を形成する工程と、
　前記下層膜上に画素を形成する工程と、を含み、
　前記画素を形成する工程は、画素形成用組成物を適用して画素形成用組成物層を形成する工程と、前記画素形成用組成物層をパターン状に露光する工程と、前記画素形成用組成物層の未露光部を現像除去する工程と、を含むカラーフィルタの製造方法。
　前記露光する工程では、前記画素形成用組成物層に波長３００ｎｍ以下の光を照射して露光する、請求項１４に記載のカラーフィルタの製造方法。
　下層膜を形成する工程と前記画素を形成する工程とをそれぞれ交互に２回以上行い、２種以上の画素を形成する、請求項１４または１５に記載のカラーフィルタの製造方法。
　請求項１２または１３に記載のカラーフィルタを有する固体撮像素子。
　請求項１２または１３に記載のカラーフィルタを有する画像表示装置。