WO2022025071A1 - 化合物、樹脂、ポリカーボネート樹脂、および光学成形体 - Google Patents

化合物、樹脂、ポリカーボネート樹脂、および光学成形体 Download PDF

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真太朗 前川
由之 戸谷
昂裕 真野
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三井化学株式会社
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    • C07C2603/18—Fluorenes; Hydrogenated fluorenes

Definitions

  • the present invention relates to a compound, a resin obtained from the compound and a polycarbonate resin, and an optically molded body containing the resin and the polycarbonate resin.
  • Optical glass or optical resin is used as the material of the optical lens used in the optical system of various cameras such as cameras, film-integrated cameras, and video cameras.
  • Optical glass is excellent in heat resistance, transparency, dimensional stability, chemical resistance, etc., and there are various kinds of materials having various refractive indexes and Abbe numbers.
  • it has problems that the material cost is high, the molding processability is poor, and the productivity is low.
  • an optical lens made of an optical resin has an advantage that it can be mass-produced by injection molding.
  • a polycarbonate resin or the like is used in a camera lens.
  • a resin having a high refractive index due to the lightness, thinness, shortness and miniaturization of products.
  • a lens element having the same refractive index can be realized on a surface having a smaller curvature, so that the amount of aberration generated on this surface can be reduced.
  • Examples of the technology related to the optical resin include those described in Patent Documents 1 and 2.
  • Patent Document 1 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-241962 describes an optical lens made of a polycarbonate resin having a fluorene structure.
  • Patent Document 2 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-187661 describes a method for easily improving the refractive index by blending (mixing and adding) a sulfur-containing compound with a fluorene-containing polyester.
  • the polycarbonate resin as described in Patent Document 1 has a low refractive index and is not sufficiently satisfactory. Further, as described in Patent Document 2, when a sulfur-containing compound is blended with a fluorene-containing polyester, the refractive index is improved, but the thermal stability is lowered due to the addition of a low molecular weight component, and the compatibility of the two components to be blended is reduced. If it is bad, the transparency will decrease.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a resin and a polycarbonate resin capable of realizing an optical molded body having a high refractive index and excellent transparency.
  • the present inventors have diligently studied to provide a polycarbonate resin capable of realizing an optical molded body having a high refractive index and excellent transparency. As a result, they have found that a resin obtained by polymerizing a compound represented by the following formula (1) can realize an optical molded body having a high refractive index and excellent transparency, and have reached the present invention.
  • a compound represented by the following general formula (1) a resin obtained from the compound, a polycarbonate resin derived from the compound, and an optically molded body are provided.
  • Ar 1 and Ar 2 are independently Representing a group selected from, R 1 to R 6 represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group or a hetero atom-containing hydrocarbon group, and A 1 to A 5 and B 1 to B 5 represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group or Representing a heteroatomic hydrocarbon group, at least one of A 1 to A 5 is -Y 1 -Ar 3 and at least one of B 1 to B 5 is -Y 2 -Ar 4 and Y.
  • Y 2 represent a single bond or linking group
  • Ar 3 and Ar 4 represent an aromatic group
  • X 1 to X 4 represent -O-, -S-, -NR'-, or -C (Me).
  • 2- , Z 1 to Z 4 represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group or a hetero atom-containing hydrocarbon group
  • R' represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group or a hetero atom-containing hydrocarbon group
  • o and p are. Represents an integer from 1 to 4).
  • O and p in the general formula (1) are 2, the compound according to the above [1] [3] Ar 1 and Ar 2 in the general formula (1) are independently.
  • R 1 to R 6 represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group or a heteroatom-containing hydrocarbon group, and o and p represent an integer of 1 to 4, the above [1] or [2].
  • the compound described in. [4] A resin obtained by polymerizing a compound represented by the general formula (1) according to any one of the above [1] to [3].
  • [5] A polycarbonate resin derived from the compound represented by the general formula (1) according to any one of the above [1] to [3].
  • the compound according to this embodiment will be described.
  • the compound according to this embodiment is a compound represented by the general formula (1).
  • Ar 1 and Ar 2 are independently
  • Represents a group selected from R 1 to R 6 represent hydrogen atoms, hydrocarbon groups or heteroatom-containing hydrocarbon groups.
  • a 1 to A 5 and B 1 to B 5 represent hydrogen atoms, hydrocarbon groups or heteroatom-containing hydrocarbon groups, and at least one of A 1 to A 5 is -Y1 - Ar 3 groups.
  • At least one of B 1 to B 5 is -Y 2 -Ar 4 units, Y 1 and Y 2 represent a single bond or linking group, Ar 3 and Ar 4 represent an aromatic group, and X 1 to X 4 represent -O-, -S-, -NR'-, or -C (Me). ) 2 -and Z 1 to Z 4 represent hydrogen atoms, hydrocarbon groups or heteroatom-containing hydrocarbon groups.
  • R' represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group or a heteroatom-containing hydrocarbon group.
  • o and p represent integers from 1 to 4.
  • R 1 to R 6 are preferably independently selected from a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and R 1 to R 6 are each independently selected. It is more preferable to independently select from a hydrogen atom, a methyl group, a phenyl group, a biphenyl group, and a naphthyl group, and it is further preferable that R 1 to R 6 are hydrogen atoms.
  • o and p are integers of 1 to 4, preferably 1 or 2, and more preferably 2.
  • the polycarbonate resin obtained from the compound of the general formula (1) has excellent heat resistance.
  • Ar 1 and Ar 2 in the general formula (1) are independently Represents a group selected from, R 1 to R 6 represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group or a heteroatom-containing hydrocarbon group, and o and p represent an integer of 1 to 4.
  • Preferred embodiments of Ar 1 and Ar 2 in the general formula (1) include the following.
  • Examples of the compound represented by the above general formula (1) include 9,9-bis (1'-hydroxymethyl) -2,7-dinaphthalene-2 "-yl-9H-fluorene and 9,9-bis. (1'-Hydroxymethyl) -2,7-Dinaphthalene-1 "-yl-9H-Fluorene, 9,9-Bis (1'-Hydroxymethyl) -3,6-Dinaphthalene-2" -Il-9H -Fluorene, 9,9-bis (1'-hydroxymethyl) -3,6-dinaphthalene-1 "-yl-9H-fluorene, 9,9-bis (1'-hydroxymethyl) -2,7-di -P-biphenyl-9H-fluorene, 9,9-bis (1'-hydroxymethyl) -2,7-di-m-biphenyl-9H-fluorene, 9,9-bis (1'-hydroxymethyl) -2, 7-bis (3 ", 5" -diphen
  • 9,9-bis (2'-hydroxyethyl) -2,7-dinaphthalene-2 "-yl-9H-fluorene, 9,9-bis (2'-hydroxyethyl) -2 are preferable.
  • 7-Zinaphthalene-1 "-Il-9H-Fluorene can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.
  • a solvent eg, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, N, N-dimethyl.
  • N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, sulfolane, bases eg, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydride, potassium hydride, methoxysodium, ethoxysodium, t-
  • bases eg, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydride, potassium hydride, methoxysodium, ethoxysodium, t-
  • the hydrogen at the 9-position of dihalogeno-9H-fluorene is extracted, and then the hydroxyalkyl having a leaving group (here, the leaving group is referred to as hydroxyalkyl).
  • Halogen such as chlorine, bromine, iodine, p-toluenesulfonyloxy group, methylsulfonyloxy group, trifluoromethylsulfonyloxy group, etc. can be mentioned) to act 9,9-bis (hydroxyalkyl) -2, Produces 7,9-bis (hydroxyalkyl) -dihalogeno-9H-fluorene such as 7-dibromo-9H-fluorene or 9,9-bis (hydroxyalkyl-3,6-9H-fluorene, etc.).
  • Etc. 9,9-bis (hydroxyalkyl) -dihalogeno-9H-fluorene in a solvent eg, toluene and water, tetrahydrofuran and water, dimethyl sulfoxide and water
  • bases eg, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium acetate.
  • the reaction of step (i) can be carried out at any temperature between ⁇ 78 ° C. and the boiling point of the solvent. Further, as the reaction conditions, general alkylation reaction conditions can be applied. If desired, the hydroxy group of hydroxyalkyl having a desorbing group is protected with an arbitrary protecting group (for example, an ester group such as an acetyl group, an ether group such as a tetrahydropyranyl group, a carbonic acid ester group such as a t-butoxycarbonyl group). It may be deprotected at the end.
  • an ester group such as an acetyl group, an ether group such as a tetrahydropyranyl group, a carbonic acid ester group such as a t-butoxycarbonyl group.
  • the reaction of step (ii) can be carried out at any temperature from room temperature to the boiling point of the solvent.
  • the reaction conditions the reaction conditions generally used in the so-called Suzuki-Miyaura coupling can be applied.
  • One aspect of the present invention is a resin obtained by polymerizing a compound represented by the general formula (1).
  • examples of the resin obtained by polymerizing the compound represented by the general formula (1) include polyester resin, polyurethane resin, polycarbonate resin, and polyether resin.
  • the polyester resin includes a compound represented by the general formula (1) and an aromatic dicarboxylic acid (eg, terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid), or an aliphatic dicarboxylic acid (eg, oxalic acid, malonic acid). It is obtained by reacting with an acid (, succinic acid).
  • aromatic dicarboxylic acid eg, terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid
  • an aliphatic dicarboxylic acid eg, oxalic acid, malonic acid
  • the polyurethane resin includes a compound represented by the general formula (1) and an aromatic diisocyanate (for example, toluene diisocyanate or xylylene diisocyanate) or an aliphatic diisocyanate (for example, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, cyclohexanedimethylene diisocyanate). ) And the reaction.
  • aromatic diisocyanate for example, toluene diisocyanate or xylylene diisocyanate
  • an aliphatic diisocyanate for example, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, cyclohexanedimethylene diisocyanate.
  • the polycarbonate resin is obtained by reacting the compound represented by the general formula (1) with a carbonic acid precursor such as a carbonic acid diester.
  • the polyether resin is obtained by reacting a compound represented by the general formula (1) with an aliphatic dihalogen compound (for example, dibromoethane or dibromopropane) in the presence of a base.
  • an aliphatic dihalogen compound for example, dibromoethane or dibromopropane
  • reactants other than the compound represented by the general formula (1) of the present application may be used alone or in combination of two or more. It is also possible to polymerize the resin by using a dihydroxy compound other than the compound represented by the general formula (1) of the present application in combination.
  • the ratio of the compound represented by the general formula (1) is preferably 5 mol% or more and 99 mol% or less, more preferably 10 mol% or more and 99 mol% or less, and further preferably 15 mol% or more and 99 mol% or less. ..
  • examples of the dihydroxy compound other than the compound represented by the general formula (1) include 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene and 9,9-bis [4- ( 2-Hydroxyethoxy) -3-methylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-ethylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy)- 3-n-propylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-isopropylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-n- Butylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-sec-butylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-tert-butylphenyl ]
  • the polycarbonate resin according to the present embodiment is produced by using the compound represented by the general formula (1) of the present embodiment.
  • the polycarbonate resin of the present embodiment has a structural unit derived from a compound represented by the general formula (1) represented by the formula (1p).
  • Such a polycarbonate resin can realize an optically molded product having a high refractive index and excellent transparency. As a result, it can be suitably used as a material for an optical lens.
  • Ar 1 and Ar 2 , R 1 and R 2 , and o and p are synonymous with those in formula (1). The same applies to the preferred embodiment.
  • the polystyrene-equivalent weight average molecular weight (Mw) of the polycarbonate resin according to the present embodiment is preferably 1.5 ⁇ 10 3 or more and 2.0 ⁇ 105 or less, and more preferably 2.0 ⁇ 10 3 or more. It is 2 ⁇ 10 5 or less.
  • Mw is at least the above lower limit value, it is preferable because the obtained molded product can be more suppressed from becoming brittle.
  • Mw is not more than the above upper limit value, the melt viscosity becomes more appropriate, so that the resin can be taken out more easily after production, the fluidity becomes better, and injection molding becomes easier in the melted state, which is preferable.
  • the refractive index (nD) of the polycarbonate resin according to the present embodiment at 23 ° C. and a wavelength of 633 nm is preferably 1.70 or more and 1.85 or less, more preferably 1.70 or more and 1.82 or less, and further preferably 1.71. More than 1.81 or less, particularly preferably 1.72 or more and 1.81 or less.
  • the polycarbonate resin according to the present embodiment can be blended with another resin and used for manufacturing a molded product.
  • other resins include polyamide, polyacetal, polycarbonate, modified polyphenylene ether, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and the like.
  • an antioxidant may be added to the polycarbonate resin according to the present embodiment. can.
  • Examples of the molding method include, in addition to injection molding, compression molding, casting, roll processing, extrusion molding, stretching, etc., but are not limited to these.
  • the glass transition temperature (Tg) is preferably 80 ° C. or higher and 190 ° C. or lower, more preferably 85 ° C. or higher and 180 ° C. or lower, and further preferably 90 ° C. or higher. It is 170 ° C or lower.
  • Tg is at least the above lower limit value, the operating temperature range becomes wider, which is preferable.
  • Tg is not more than the above upper limit value, the melting temperature of the resin becomes lower, and decomposition and coloring of the resin are less likely to occur, which is preferable.
  • Tg is not more than the above upper limit value, the difference between the mold temperature and the resin glass transition temperature can be reduced even with a general-purpose mold temperature controller. Therefore, it is easy to use and preferable in applications where strict surface accuracy is required for the product.
  • the optically molded product obtained by using the polycarbonate resin according to the present embodiment has a total light transmittance of preferably 82% or more, more preferably 85%, as measured in accordance with JIS K-7361-1 (1997). As described above, it is comparable to bisphenol A type polycarbonate resin and the like.
  • the polycarbonate resin according to the embodiment can be produced by using the compound represented by the above general formula (1) as a raw material. Specifically, the compound represented by the general formula (1) and a carbonate precursor such as a carbonic acid diester are mixed in the presence of a basic compound catalyst, a transesterification catalyst, or a mixed catalyst composed of both, or in the absence of a catalyst. It can be produced by reacting by a melt transesterification method.
  • Examples of the carbonic acid diester used for producing the polycarbonate resin according to the present embodiment include diphenyl carbonate, di-p-tolyl carbonate, di-m-tolyl carbonate, di-o-tolyl carbonate, bis (p-chlorophenyl) carbonate, and bis. Examples thereof include (m-chlorophenyl) carbonate, bis (o-chlorophenyl) carbonate, m-cresyl carbonate, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, di-n-butyl carbonate, dicyclohexyl carbonate and the like. Among these, diphenyl carbonate is preferable.
  • the diphenyl carbonate is preferably used in a ratio of 0.97 to 1.20 mol, more preferably 0.98 to 1.10 mol, with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (1). be.
  • Examples of the basic compound catalyst used in the production of the polycarbonate resin according to the present embodiment include alkali metal compounds, alkaline earth metal compounds, nitrogen-containing compounds and the like.
  • Examples of such compounds include organic acid salts such as alkali metals and alkaline earth metal compounds, inorganic salts, oxides, hydroxides, hydrides or alkoxides, or quaternary ammonium hydroxides and salts thereof, amines and the like. Are preferably used, and these compounds can be used alone or in combination.
  • alkali metal compound examples include alkali metal organic acid salts, inorganic salts, oxides, hydroxides, hydrides and alkoxides.
  • alkaline earth metal compound examples include organic acid salts, inorganic salts, oxides, hydroxides, hydrides and alkoxides of alkaline earth metal compounds.
  • Magnesium, calcium acetate, strontium acetate, barium acetate, magnesium stearate, calcium stearate, calcium benzoate, magnesium phenylphosphate and the like are used.
  • nitrogen-containing compound examples include quaternary ammonium hydroxides and salts thereof, amines and the like. Specifically, quaternary ammonium having an alkyl group such as tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetran-propylammonium hydroxide, tetran-butylammonium hydroxide, trimethylbenzylammonium hydroxide, or an aryl group.
  • alkyl group such as tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetran-propylammonium hydroxide, tetran-butylammonium hydroxide, trimethylbenzylammonium hydroxide, or an aryl group.
  • Tertiary amines such as triethylamine, dimethylbenzylamine, triphenylamine; Secondary amines such as diethylamine and dibutylamine; Primary amines such as n-propylamine and n-butylamine; 2-Methylimidazole , 2-Phenylimidazoles, imidazoles such as benzoimidazoles; or bases such as ammonia, tetramethylammonium borohydrides, tetra n-butylammonium borohydrides, tetra n-butylammonium tetraphenylborates, tetraphenylammonium tetraphenylborates or Basic salts and the like are used.
  • the transesterification catalyst salts of zinc, tin, zirconium, lead and the like are preferably used, and these can be used alone or in combination.
  • Specific examples of the ester exchange catalyst include zinc acetate, zinc benzoate, zinc 2-ethylhexanate, tin chloride (II), tin chloride (IV), tin acetate (II), tin acetate (IV), and dibutyltin.
  • Dilaurate, dibutyltin oxide, dibutyltin dimethoxyde, zirconium acetylacetonate, zirconium oxyacetate, zirconium tetrabutoxide, lead acetate (II), lead acetate (IV) and the like are used.
  • These catalysts are used at a ratio of 10-9 to 10-3 mol, preferably 10-7 to 10-4 mol, with respect to a total of 1 mol of the compound represented by the general formula (1). ..
  • the melt polycondensation method uses the above-mentioned raw materials and catalyst to perform melt polycondensation while removing by-products by a transesterification reaction under normal pressure or reduced pressure.
  • the compound represented by the above general formula (1) and the carbonic acid diester are melted in a reaction vessel, and then the reaction is carried out in a state where the monohydroxy compound produced as a by-product is retained. Is desirable.
  • the pressure can be controlled by closing the reactor, reducing the pressure, pressurizing, etc. in order to retain the reaction device.
  • the reaction time in this step is preferably 20 minutes or more and 240 minutes or less, more preferably 40 minutes or more and 180 minutes or less, and particularly preferably 60 minutes or more and 150 minutes or less.
  • the finally obtained polycarbonate resin contains a small amount of high molecular weight material.
  • the finally obtained polycarbonate resin can be obtained in which the content of the high molecular weight substance is high.
  • the melt polycondensation reaction is carried out in a multi-step process of two or more steps.
  • the first-stage reaction is preferably carried out at a temperature of preferably 120 to 260 ° C., more preferably 180 to 240 ° C., preferably under normal pressure or pressure for 0.1 to 5 hours, more preferably 0. Allow to react for 5 to 3 hours.
  • the reaction temperature is increased while increasing the decompression degree of the reaction system to carry out the reaction between the compound represented by the general formula (1) and the carbonic acid diester, and finally the decompression degree of 133 Pa (1 mmHg) or less, 200 to 350 ° C. It is preferable to carry out the polycondensation reaction at the above temperature for 0.05 to 2 hours.
  • the melt polycondensation reaction may be carried out continuously or in a batch manner.
  • the reactor used for carrying out the reaction is a vertical type equipped with an anchor type stirring blade, a max blend stirring blade, a helical ribbon type stirring blade, etc., but a horizontal type equipped with a paddle type blade, a lattice blade, a glasses blade, etc. It may be an extruder type equipped with a screw. Further, it is preferably carried out by using a reaction device in which these reaction devices are appropriately combined in consideration of the viscosity of the polymer.
  • the polycarbonate resin according to the present embodiment may have the catalyst removed or inactivated in order to maintain thermal stability and hydrolysis stability after the polycondensation reaction is completed.
  • a method of deactivating the catalyst by adding a known acidic substance can be preferably carried out.
  • the acidic substance include esters such as butyl benzoate; aromatic sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid; aromatic sulfonic acid esters such as butyl p-toluenesulfonate and hexyl p-toluenesulfonic acid.
  • Sulfonic acids such as sulphonic acid, sulphonic acid, and sulphonic acid; triphenyl sulphonic acid, monophenyl sulphonic acid, diphenyl sulphate, diethyl sulphonate, din-propyl sulphate, di sulphonic acid.
  • Subphosphate esters such as n-butyl, din-hexyl sulfonate, din-octyl sulfonate, mono n-octyl sulfonate; triphenyl phosphate, diphenyl phosphate, monophenyl phosphate, phosphorus Phosphates such as di-n-butyl acid, di-n-octyl phosphate, mono-n-octyl phosphate; phosphonic acids such as diphenylphosphonic acid, din-octylphosphonic acid, din-butylphosphonic acid; phenylphosphon Phosphonic acid esters such as diethyl acid; phosphines such as triphenylphosphine and bis (diphenylphosphino) ethane; boric acids such as boric acid and phenylboric acid; aromatics such as n-dodecylbenzenesulfonic acid te
  • deactivating agents are preferably used in an amount of 0.01 to 50 times by mole, more preferably 0.3 to 20 times by mole with respect to the amount of the catalyst. If it is less than 0.01 times the molar amount of the catalyst amount, the deactivation effect becomes insufficient, which is not preferable. Further, if the amount is more than 50 times the molar amount of the catalyst amount, the heat resistance of the resin is lowered and the molded product is easily colored, which is not preferable.
  • a step of volatilizing and removing the low boiling point compound in the polymer at a pressure of 13 to 133 Pa (0.1 to 1 mmHg) and a temperature of 200 to 350 ° C. may be provided.
  • a horizontal device equipped with a stirring blade having excellent surface renewal ability, such as a paddle blade, a lattice blade, and a glasses blade, or a thin film evaporator is preferably used.
  • the polycarbonate resin according to the present embodiment has as little foreign matter content as possible, and filtration of the molten raw material, filtration of the catalyst solution, and the like are preferably performed.
  • the mesh of the filter is preferably 5 ⁇ m or less, more preferably 1 ⁇ m or less. Further, filtration of the produced resin with a polymer filter is preferably carried out.
  • the mesh of the polymer filter is preferably 100 ⁇ m or less, more preferably 30 ⁇ m or less. Further, the step of collecting the resin pellets is naturally preferably a low dust environment, and more preferably a class 1000 or less cleanliness.
  • the optical molded body according to the present embodiment contains the polycarbonate resin according to the present embodiment, and the optical molded body can be manufactured using the polycarbonate resin according to the present embodiment.
  • it is molded by an arbitrary method such as an injection molding method, a compression molding method, an injection compression molding method, an extrusion molding method, or a solution casting method.
  • the polycarbonate resin according to the present embodiment is excellent in moldability and heat resistance, it can be used particularly advantageously in an optical lens that requires injection molding.
  • the polycarbonate resin according to the present embodiment can be mixed with other resins such as other polycarbonate resins and polyester resins and used.
  • additives can be used in order to impart various properties within a range that does not impair the purpose of the present embodiment.
  • Additives include antioxidants, processing stabilizers, mold release agents, UV absorbers, brewing agents, elastomeric metal deactivators, flame retardants, lubricants, antistatic agents, heat ray shields, and fluorescent dyes (enhanced fluorescence). (Including whitening agent), pigments, light scattering agents, strengthening fillers, surfactants, antibacterial agents, plasticizers, compatibilizers, other resins, elastomers and the like can be mentioned.
  • antioxidants examples include triethylene glycol-bis [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate] and 1,6-hexanediol-bis [3- (3,5). -Di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], pentaerythritol-tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3- (3,5-) Di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, N, N- Hexamethylenebis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamide), 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy-benzylphosphonate-diethyl ester
  • processing stabilizer examples include phosphorus-based processing heat stabilizers and sulfur-based processing heat stabilizers.
  • Examples of the phosphorus-based processing heat stabilizer include phosphorous acid, phosphoric acid, phosphonic acid, phosphonic acid and esters thereof. Specifically, triphenylphosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, tris (2,6-di-tert-butylphenyl) phosphite, Tri-n-decylphosphite, tri-n-octylphosphite, tri-n-octadecylphosphite, din-decylmonophenylphosphite, din-octylmonophenylphosphite, diisopropylmonophenylphosphite, mono-n-butyldiphenyl Phenylphosphite, monodecyldiphenylphosphite
  • sulfur-based processing heat stabilizer examples include pentaerythritol-tetrakis (3-laurylthiopropionate), pentaerythritol-tetrakis (3-myristylthiopropionate), and pentaerythritol-tetrakis (3-stearylthiopropionate). Nate), dilauryl-3,3'-thiodipropionate, dimyristyl-3,3'-thiodipropionate, disstearyl-3,3'-thiodipropionate and the like.
  • the content of the sulfur-based processing heat stabilizer in the polycarbonate resin is preferably 0.001 to 0.2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polycarbonate resin.
  • the release agent it is preferable that 90% by mass or more thereof is composed of an ester of alcohol and fatty acid.
  • the ester of the alcohol and the fatty acid include an ester of a monohydric alcohol and a fatty acid, a partial ester of a polyhydric alcohol and a fatty acid, or a total ester.
  • the ester of the monohydric alcohol and the fatty acid an ester of a monohydric alcohol having 1 to 20 carbon atoms and a saturated fatty acid having 10 to 30 carbon atoms is preferable.
  • partial ester or total ester of the polyhydric alcohol and the fatty acid a partial ester or total ester of the polyhydric alcohol having 1 to 25 carbon atoms and the saturated fatty acid having 10 to 30 carbon atoms is preferable.
  • ester of the monohydric alcohol and the saturated fatty acid examples include stearyl stearate, palmityl palmitate, n-butyl stearate, methyl laurate, isopropyl palmitate and the like.
  • Partial or total esters of polyhydric alcohol and saturated fatty acids include, for example, stearic acid monoglyceride, stearic acid monoglyceride, stearic acid diglyceride, stearic acid triglyceride, stearic acid monosorbitate, behenic acid monoglyceride, capric acid monoglyceride, lauric acid.
  • Monoglyceride pentaerythritol monostearate, pentaerythritol tetrastearate, pentaerythritol tetrapelargonate, propylene glycol monostearate, biphenylbiphenate, sorbitan monostearate, 2-ethylhexyl stearate, dipentaerythritol hexastearate, etc. Examples thereof include full ester or partial ester of dipentaerythritol.
  • the content of these mold release agents is preferably in the range of 0.005 to 2.0 parts by mass, more preferably in the range of 0.01 to 0.6 parts by mass, and 0.02 to 0.02 to 100 parts by mass of the polycarbonate resin.
  • the range of 0.5 parts by mass is more preferable.
  • the UV absorber is at least one UV absorber selected from the group consisting of a benzotriazole-based UV absorber, a benzophenone-based UV absorber, a triazine-based UV absorber, a cyclic iminoester-based UV absorber, and a cyanoacrylate-based UV absorber.
  • Absorbents are preferred.
  • One of the following ultraviolet absorbers may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.
  • benzotriazole-based ultraviolet absorber examples include 2- (2-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazol, 2- (2-hydroxy-5-tert-octylphenyl) benzotriazol, 2- (2- (2-). Hydroxy-3,5-dicumylphenyl) phenylbenzotriazole, 2- (2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2,2'-methylenebis [4- (1) , 1,3,3-Tetramethylbutyl) -6- (2N-benzotriazole-2-yl) phenol], 2- (2-hydroxy-3,5-di-tert-butylphenyl) benzotriazol, 2 -(2-Hydroxy-3,5-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2-hydroxy-3,5-di-tert-amylphenyl) benzotriazole, 2- (2)
  • benzophenone-based ultraviolet absorber examples include 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-n-octyloxybenzophenone, 2-hydroxy-4-benzyloxybenzophenone, and 2-.
  • Hydroxy-4-methoxy-5-sulfoxybenzophenone 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfoxitrihydride benzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2', 4,4' -Tetrahydroxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxy-5-sodium sulfoxybenzophenone, bis (5-benzoyl-4-) Hydroxy-2-methoxyphenyl) methane, 2-hydroxy-4-n-dodecyloxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-2'-carboxybenzophenone and the like can be mentioned.
  • triazine-based ultraviolet absorber examples include 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazine-2-yl) -5-[(n-hexyl) oxy] -phenol, 2- (4, Examples thereof include 6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine-2-yl) -5-[(n-octyl) oxy] -phenol.
  • Examples of the cyclic iminoester-based ultraviolet absorber include 2,2'-bis (3,1-benzoxazine-4-one) and 2,2'-p-phenylenebis (3,1-benzoxazine-4-one).
  • 2,2'-m-phenylene bis (3,1-benzoxazine-4-one), 2,2'-(4,4'-diphenylene) bis (3,1-benzoxazine-4-on)
  • 2,2'-(2-methyl-p-phenylene) bis (3,1-benzoxazine-4-one), 2,2'-(2-nitro-p-phenylene) bis (3, 1-Benzoxazine-4-one) and 2,2'-(2-chloro-p-phenylene) bis
  • cyanoacrylate-based ultraviolet absorber examples include 1,3-bis-[(2'-cyano-3', 3'-diphenylacryloyl) oxy] -2,2-bis [(2-cyano-3,3). -Diphenylacryloyl) oxy] methyl) propane, 1,3-bis-[(2-cyano-3,3-diphenylacryloyl) oxy] benzene and the like can be mentioned.
  • the content of the ultraviolet absorber is preferably 0.01 to 3.0 parts by mass, more preferably 0.02 to 1.0 part by mass, and further preferably 0 with respect to 100 parts by mass of the polycarbonate resin. It is 0.05 to 0.8 parts by mass. Within the range of such a blending amount, it is possible to impart sufficient weather resistance to the polycarbonate resin depending on the application.
  • bluing agent examples include Bayer's Macrolex Violet B and Macrolex Blue RR, and Clariant's Polysynthslen Blue RLS.
  • the bluing agent is effective for eliminating the yellowness of the polycarbonate resin.
  • a certain amount of UV absorber is mixed, so the polycarbonate resin molded product tends to be yellowish due to the "action and color of the UV absorber", especially for sheets and sheets.
  • the blending amount of the bluing agent is, for example, preferably 0.05 to 1.5 ppm, more preferably 0.1 to 1.2 ppm, based on the polycarbonate resin.
  • the polycarbonate resin according to this embodiment exhibits a high refractive index and excellent heat resistance, and has a fluidity suitable for molding. Furthermore, since optical distortion is unlikely to occur due to low compound refraction, in addition to optical lenses, transparent conductive substrates, optical disks, liquid crystal panels, optical cards, sheets, and films used in liquid crystal displays, organic EL displays, solar cells, etc. , Optical fiber, connector, vapor-deposited plastic reflector, structural material or functional material of optical parts such as displays, can be advantageously used as an optical molded body suitable for applications.
  • a coat layer such as an antireflection layer or a hard coat layer may be provided on the surface of the optical molded body, if necessary.
  • the antireflection layer may be a single layer or a multilayer layer, and may be an organic substance or an inorganic substance, but is preferably an inorganic substance. Specific examples thereof include oxides or fluorides such as silicon oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, titanium oxide, cerium oxide, magnesium oxide and magnesium fluoride.
  • optical lens Since the optical lens manufactured by using the polycarbonate resin according to the present embodiment has a high refractive index and excellent heat resistance, an expensive high refractive index glass lens such as a telescope, binoculars, a television projector, etc. has been conventionally used. It can be used in various fields and is extremely useful. If necessary, it is preferably used in the form of an aspherical lens. Since it is possible to eliminate spherical aberration with a single lens for aspherical lenses, it is not necessary to remove spherical aberration by combining multiple spherical lenses, resulting in weight reduction and reduction of production costs. It will be possible. Therefore, the aspherical lens is particularly useful as a camera lens among optical lenses.
  • the optical lens according to this embodiment is molded by an arbitrary method such as an injection molding method, a compression molding method, or an injection compression molding method. According to this embodiment, it is possible to more easily obtain a high refractive index low birefringence aspherical lens which is technically difficult to process with a glass lens.
  • optical film The optical film produced by using the polycarbonate resin according to the present embodiment is excellent in transparency and heat resistance, and is therefore suitably used for a film for a liquid crystal substrate, an optical memory card, and the like.
  • GPC gel permeation chromatograph
  • Refractive index (n633): A chloroform solution of a resin having a concentration of 8.5 wt% was coated on a silicon wafer using a spin coater at 200 rpm for 20 seconds and 1000 rpm for 5 seconds, and baked at 120 ° C. for 5 minutes and at 200 ° C. for 2 minutes.
  • GES5E spectroscopic ellipsometer
  • Tg Glass transition temperature
  • distilled water 250 g and dimethyl 400 g of sulfoxide was charged.
  • methyl cellosolve 600 ml. 25 ml of distilled water and 7 ml of concentrated hydrochloric acid were charged, the temperature was raised to 115 ° C. with stirring, and the mixture was heated and stirred at the same temperature for 4 hours.
  • Example 3 Synthesis of 9,9-bis (2'-hydroxyethyl) -2,7-bis [dibenzo [b, d] furan-4 "-yl] -9H-fluorene
  • step (iii) of Example 2 2- The operation according to step (iii) of Example 2 except that 58.85 g (275 mmol) of dibenzo [b, d] furan-4-ylboronic acid was used instead of 47.29 g (275 mmol) of naphthaleneboronic acid.
  • step (iv) of Example 2 9,9-bis [2- (2'-tetrahydropyranyloxy) ethyl] -2,7-dinaphthalene-2 "-yl-9H-fluorene 60.00 g (88). .9 mmol), instead of using 600 ml of methyl cellosolve, 25 ml of distilled water and 7 ml of concentrated hydrochloric acid, 9,9-bis [2- (2'-tetrahydropyranyloxy) ethyl] -2,7-bis [dibenzo [b].
  • Example 4 Synthesis of 9,9-bis (2'-hydroxyethyl) -2,7-bis [4- (naphthalene-2-yl-) phenyl] -9H-fluorene
  • 2-naphthalene Following the procedure described in step (iii) of Example 2 except that instead of using 47.29 g (275 mmol) of boronic acid, 68.22 g (275 mmol) of 4- (naphthalene-2-yl) phenylboronic acid was used.
  • step (iv) of Example 2 9,9-bis [2- (2'-tetrahydropyranyloxy) ethyl] -2,7-dinaphthalene-2 "-yl-9H-fluorene 60.00 g (88). .9 mmol), 600 ml of methyl cellosolve, 25 ml of distilled water and 7 ml of concentrated hydrochloric acid, instead of 9,9-bis [2- (2'-tetrahydropyranyloxy) ethyl] -2,7-bis [4- ( Naphthalene-2-yl-) phenyl] -9H-fluorene 60.00 g, methyl cellosolve 500 ml, distilled water 20 ml and concentrated hydrochloric acid 6 ml, but according to the operation described in the step (iv) of Example 2, the target product 41.
  • Example 5 Synthesis of 9,9-bis (2'-hydroxyethyl) -2,7-bis [3- (naphthalene-2-yl-) phenyl] -9H-fluorene
  • 2-naphthalene Following the procedure described in step (iii) of Example 2 except that instead of using 47.29 g (275 mmol) of boronic acid, 68.22 g (275 mmol) of 3- (naphthalene-2-yl) phenylboronic acid was used.
  • step (iv) of Example 2 9,9-bis [2- (2'-tetrahydropyranyloxy) ethyl] -2,7-dinaphthalene-2 "-yl-9H-fluorene 60.00 g (88). .9 mmol), 600 ml of methyl cellosolve, 25 ml of distilled water and 7 ml of concentrated hydrochloric acid, instead of 9,9-bis [2- (2'-tetrahydropyranyloxy) ethyl] -2,7-bis [3-( Naphthalene-2-yl-) phenyl] -9H-fluorene 60.00 g (72.5 mmol), 500 ml of methyl cellosolve, 20 ml of distilled water and 5.7 g of concentrated hydrochloric acid are described in the step (iv) of Example 2.
  • Example 6 Synthesis of 9,9-bis (2'-hydroxyethyl) -2,7-diphenanthrene-9 "-yl-9H-fluorene
  • step (iii) of Example 2 47.29 g (275 mmol) of 2-naphthalenboronic acid.
  • phenanthrene-9-ylboronic acid 61.06 g (275 mmol) instead of using phenanthrene-9-ylboronic acid 61.06 g (275 mmol), according to the operation described in step (iii) of Example 2, 9,9-bis [2- (2'-). Tetrahydropyranyloxy) ethyl] -2,7-diphenanthrene 9 "-yl-9H-fluorene 73.62 g was obtained.
  • Example 7 Synthesis of 9,9-bis (2'-hydroxyethyl) -2,7-bis [dibenzo [b, d] thiophene-4 "-yl] -9H-fluorene
  • 2- The operation according to step (iii) of Example 2 except that 62.72 g (275 mmol) of dibenzo [b, d] thiophene-4-ylboronic acid was used instead of 47.29 g (275 mmol) of naphthaleneboronic acid.
  • step (iv) of Example 2 9,9-bis [2- (2'-tetrahydropyranyloxy) ethyl] -2,7-dinaphthalene-2 "-yl-9H-fluorene 60.00 g (88). .9 mmol), 600 ml of methyl cellosolve, 25 ml of distilled water and 7 ml of concentrated hydrochloric acid instead of 9,9-bis [2- (2'-tetrahydropyranyloxy) ethyl] -2,7-bis [dibenzo [b].
  • Example 8 Synthesis of 9,9-bis (2'-hydroxyethyl) -2,7-bis [4 "-phenoxyphenyl] -9H-fluorene
  • step (iii) of Example 2 47.29 g of 2-naphthaleneboronic acid (iii). 9.9-bis [2- (2') according to the procedure described in step (iii) of Example 2 except that 58.86 g (275 mmol) of 4-phenoxyphenylboronic acid was used instead of 275 mmol).
  • step (iv) of Example 2 9,9-bis [2- (2'-tetrahydropyranyloxy) ethyl] -2,7-dinaphthalene-2 "-yl-9H-fluorene 60.00 g (88). .9 mmol), instead of using 600 ml of methyl cellosolve, 25 ml of distilled water and 7 ml of concentrated hydrochloric acid, 9,9-bis [2- (2'-tetrahydropyranyloxy) ethyl] -2,7-bis [4 "- Phenoxyphenyl] -9H-fluorene 60.00 g (79.1 mmol), 530 ml of methyl cellosolve, 22 ml of distilled water and 6.2 ml of concentrated hydrochloric acid were used.
  • Example 9 Synthesis of 9,9-bis (2'-hydroxyethyl) -2,7-bis [4 "-phenylnaphthalene-1" -yl] -9H-fluorene
  • 2-naphthalene boron Following the procedure described in step (iii) of Example 2, 9,9, except that 68.22 g (275 mmol) of 4-phenylnaphthalene-1-ylboronic acid was used instead of 47.29 g (275 mmol) of acid.
  • step (iv) of Example 2 9,9-bis [2- (2'-tetrahydropyranyloxy) ethyl] -2,7-dinaphthalene-2 "-yl-9H-fluorene 60.00 g (88). .9 mmol), 600 ml of methyl cellosolve, 25 ml of distilled water and 7 ml of concentrated hydrochloric acid, instead of 9,9-bis [2- (2'-tetrahydropyranyloxy) ethyl] -2,7-bis [4 "- Described in step (iv) of Example 2 except that 70.00 g (84.6 mmol) of phenylnaphthalene-1 "-yl] -9H-fluorene, 570 ml of methyl cellosolve, 24 ml of distilled water and 7.0 ml of concentrated hydrochloric acid were used.
  • Example 10 Synthesis of 9,9-bis (2'-hydroxyethyl) -2,7-bis [9 ", 9" -dimethyl-9 "H-fluorene-2" -yl] -9H-fluorene Step 2 of Example 2 ( In iii), except that 49.29 g (275 mmol) of 2-naphthalenboronic acid was used instead of 65.47 g (275 mmol) of 9,9-dimethyl-9H-fluorene-2-ylboronic acid.
  • step (iii) 9,9-bis [2- (2'-tetrahydropyranyloxy) ethyl] -2,7-bis [9 ", 9" -dimethyl-9 "H-fluorene- 2 "-Il] -9H-fluorene 76.67 g was obtained. Yield 76%, HPLC purity 91.0%, viscous solid, 1 1 H-NMR (CDCl 3 ) ⁇ 1.25-1.50 (12H, m), 1.58 (12H, s), 2.56 (4H, t), 2.87 (2H, q), 3.
  • Example 11 Synthesis of 9,9-bis (2'-hydroxyethyl) -2,7-dinaphthalene-1 "yl-9H-fluorene
  • step (iii) of Example 2 47.29 g (275 mmol) of 2-naphthalene boronic acid.
  • 9,9-Bis [2- (2'-tetrahydro) according to the operation described in the step (iii) of Example 2 except that 47.29 g (275 mmol) of 1-naphthalene ruboronic acid was used instead of using.
  • Pyranyloxy) ethyl] -2,7-dinaphthyl-1 "-yl-9H-fluorene 65.80 g was obtained.
  • step (iv) of Example 2 9,9-bis [2- (2'-tetrahydropyranyloxy) ethyl] -2,7-dinaphthalene-2 "-yl-9H-fluorene 60.00 g (88). Instead of using .9 mmol), 9,9-bis [2- (2'-tetrahydropyranyloxy) ethyl] -2,7-dinaphthalene-1 "yl-9H-fluorene 60.00 g (88.9 mmol) ) was used, and 35.13 g of the target product was obtained according to the operation described in the step (iv) of Example 2.
  • Example 1 (Comparative synthesis example 1) In Example 1, according to the operation described in Example 1, except that 13.41 g (0.11 mol) of phenylboronic acid was used instead of 19.17 g (0.11 mol) of naphthalene-2-boronic acid. 19.9 g of 9,9-bis (2'-hydroxyethyl) -2,7-didiphenyl-9H-fluorene was obtained as colorless crystals.
  • the degree of decompression was adjusted to 19 kPa and reacted for 20 minutes, and then the reaction was carried out at the same temperature and pressure for 70 minutes. Next, the degree of decompression was adjusted to 16 kPa, reacted for 20 minutes, and further reduced. After adjusting the degree to 13 kPa and reacting for 20 minutes, the degree of decompression was set to 130 Pa over 40 minutes, and the reaction was carried out at the same pressure for 30 minutes, and when the predetermined torque was reached, the vacuum was released with nitrogen gas to release the polycarbonate resin. I pulled it out.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the obtained polycarbonate resin was 32300, and the Tg was 135 ° C.
  • the refractive index (n633) of this polycarbonate resin was 1.7608.
  • Example 12 (Comparative Example 2) In Example 12, instead of using 9,9-bis (2'-hydroxyethyl) -2,7-dinaphthalene-2 "-yl-9H-fluorene 20.26 g (40 mmol) obtained in Example 1. The operation described in Example 12 was carried out except that 9,9-bis (2'-hydroxyethyl) -2,7-diphenyl-9H-fluorene 16.26 g (40 mmol) was used, but a polycarbonate resin was obtained. rice field. The weight average molecular weight (Mw) of the obtained polycarbonate resin was 28300, and the Tg was 112 ° C. The refractive index (n633) of this polycarbonate resin was 1.6959.
  • Mw weight average molecular weight
  • Tg was 112 ° C.
  • the refractive index (n633) of this polycarbonate resin was 1.6959.
  • the decompression degree was adjusted to 22 kPa and reacted for 20 minutes, and then the reaction was carried out at the same temperature and pressure for 60 minutes.
  • the decompression degree was adjusted to 16 kPa, the reaction was carried out for 20 minutes, and the decompression degree was further adjusted to 13 kPa.
  • the degree of decompression was set to 130 Pa over 40 minutes, and the reaction was carried out at the same pressure for 30 minutes, and when a predetermined torque was reached, the vacuum was released with nitrogen gas to extract the polycarbonate resin.
  • the obtained polycarbonate resin had a weight average molecular weight (Mw) of 4250, and was a crystalline polymer having a Tg of 115 ° C. and a Tm of 172 ° C. (calorific value: 1.87 J / g).
  • the refractive index (n633) of this polycarbonate resin was 1.7708.
  • the decompression degree was set to 130 Pa over 40 minutes, and the reaction was carried out at the same pressure for 30 minutes to give a predetermined torque. At that point, the vacuum was released with nitrogen gas to extract the polycarbonate resin.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the obtained polycarbonate resin was 8430, and the Tg was 118 ° C.
  • the refractive index (n633) of this polycarbonate resin was 1.730.
  • Example 15 In Example 14, 9,9-bis (2'-hydroxyethyl) -2,7-bis [dibenzo [b, d] furan-4 "-yl] -9H-fluorene obtained in Example 3 23. Instead of using 46 g (40 mmol), 9,9-bis (2'-didroxyethyl) -2,7-bis [3- (naphthalene-2-yl-) phenyl] -9H- obtained in Example 5 A polycarbonate resin was produced according to the procedure described in Example 14, except that 26.35 g (40 mmol) of fluorene was used. The weight average molecular weight (Mw) of the obtained polycarbonate resin was 5240, and the Tg was 105 ° C. The refractive index (n633) of this polycarbonate resin was 1.735.
  • Example 16 9,9-bis (2'-hydroxyethyl) -2,7-bis [dibenzo [b, d] furan-4 "-yl] -9H-fluorene obtained in Example 3 23. Instead of using 46 g (40 mmol), the 9,9-bis (2'-didroxyethyl) -2,7-diphenanthrene-9 "-yl-9H-fluorene obtained in Example 6 was 24.27 g (40 mmol).
  • a polycarbonate resin was produced according to the operation described in Example 14 except that the above was used.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the obtained polycarbonate resin was 5550, and the Tg was 126 ° C.
  • the refractive index (n633) of this polycarbonate resin was 1.718.
  • Example 17 In Example 14, 9,9-bis (2'-hydroxyethyl) -2,7-bis [dibenzo [b, d] furan-4 "-yl] -9H-fluorene obtained in Example 3 23. Instead of using 46 g (40 mmol), 23.63 g (40 mmol) of 9,9-bis (2'-didroxyethyl) -2,7-bis (4 "-phenoxyphenyl) -9H-fluorene obtained in Example 8 ) was used, but the polycarbonate resin was produced according to the operation described in Example 14. The weight average molecular weight (Mw) of the obtained polycarbonate resin was 4870, and the Tg was 67 ° C. The refractive index (n633) of this polycarbonate resin was 1.715.
  • Mw weight average molecular weight
  • Example 18 In Example 14, 9,9-bis (2'-hydroxyethyl) -2,7-bis [dibenzo [b, d] furan-4 "-yl] -9H-fluorene obtained in Example 3 23. Instead of using 46 g (40 mmol), 9,9-bis (2'-didroxyethyl) -2,7-bis (4 "-phenylnaphthalene-1" -yl) -9H-fluorene obtained in Example 9 A polycarbonate resin was produced according to the procedure described in Example 14, except that 26.35 g (40 mmol) was used.
  • the obtained polycarbonate resin was a crystalline polymer having a weight average molecular weight (Mw) of 6170, a Tg of 122 ° C., and a Tm of 273 ° C. (calorific value: 8.82 J / g).
  • the refractive index (n633) of this polycarbonate resin was 1.796.
  • the decompression degree was adjusted to 22 kPa and reacted for 20 minutes, the decompression degree was further adjusted to 13 kPa and reacted for 20 minutes, then the decompression degree was adjusted to 130 Pa over 40 minutes, and the reaction was carried out at the same pressure for 30 minutes to give a predetermined value.
  • the vacuum was released with nitrogen gas to extract the polycarbonate resin.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the obtained polycarbonate resin was 32500, and the Tg was 139 ° C.
  • the refractive index (n633) of this polycarbonate resin was 1.713. Further, the total light transmittance of the 500 ⁇ m thick sheet of the polycarbonate resin heat-pressed at 250 ° C. was 82%.
  • the degree of decompression was adjusted to 22 kPa, and the reaction was carried out for 20 minutes, and further.
  • the decompression degree was set to 130 Pa over 40 minutes, and the reaction was carried out at the same pressure for 70 minutes, and when the predetermined torque was reached, the vacuum was released with nitrogen gas to release the polycarbonate resin. I pulled it out.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the obtained polycarbonate resin was 27,800, and the Tg was 157 ° C.
  • the appearance of the polycarbonate resin was colorless and transparent.
  • the degree of decompression was adjusted to 20 kPa and reacted for 20 minutes, the degree of decompression was further adjusted to 13 kPa, and the reaction was carried out for 20 minutes.
  • the vacuum was released with nitrogen gas to extract the polyester resin.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the obtained polyester resin was 6300, and the Tg was 118 ° C.
  • the polycarbonate resin obtained from the compound represented by the general formula (1) according to the present embodiment has a high refractive index.

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Abstract

一般式（１）で表される化合物。 （一般式（１）中、Ａｒ１およびＡｒ２は、独立して、 （ＡＡ）から選ばれる基を表し、Ｒ１～Ｒ６は、水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、Ａ１～Ａ５およびＢ１～Ｂ５は、水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、Ａ１～Ａ５の少なくとも一つは－Ｙ１－Ａｒ３基であり、Ｂ１～Ｂ５の少なくとも一つは－Ｙ２－Ａｒ４基であり、Ｙ１およびＹ２は単結合または連結基を表し、Ａｒ３およびＡｒ４は芳香族基を表し、Ｘ１～Ｘ４は－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ'－または－Ｃ（Ｍｅ）２－であり、Ｚ１～Ｚ４は水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、Ｒ'は水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、ｏおよびｐは１～４の整数を表す）。

Description

化合物、樹脂、ポリカーボネート樹脂、および光学成形体
　本発明は、化合物、当該化合物から得られる樹脂およびポリカーボネート樹脂、ならびに当該樹脂およびポリカーボネート樹脂を含む光学成形体に関する。
　カメラ、フィルム一体型カメラ、ビデオカメラ等の各種カメラの光学系に使用される光学レンズの材料として、光学ガラスあるいは光学用樹脂が使用されている。光学ガラスは、耐熱性、透明性、寸法安定性、耐薬品性等に優れ、様々な屈折率やアッベ数を有する多種類の材料が存在している。しかし、材料コストが高く、成形加工性が悪く、生産性が低いという問題点を有している。
　一方、光学用樹脂からなる光学レンズは、射出成形により大量生産が可能であるという利点を有している。例えば、カメラ用レンズにおいて、ポリカーボネート樹脂等が使用されている。しかしながら、近年、製品の軽薄短小化により、高い屈折率の樹脂の開発が求められている。一般に光学材料の屈折率が高いと、同一の屈折率を有するレンズエレメントを、より曲率の小さい面で実現できるため、この面で発生する収差量を小さくできる。その結果、レンズの枚数を減らしたり、レンズの偏心感度を低減したり、レンズ厚みを薄くして軽量化することが可能になる。
　光学用樹脂に関する技術としては、例えば、特許文献１および２に記載のものが挙げられる。
　特許文献１（特開２００５－２４１９６２号公報）にはフルオレン構造を有するポリカーボネート樹脂からなる光学レンズが記載されている。
　特許文献２（特開２００５－１８７６６１号公報）には、フルオレン含有ポリエステルに硫黄含有化合物をブレンド（混合、添加）することで簡便に屈折率を向上させる手法が記載されている。
特開２００５－２４１９６２号公報 特開２００５－１８７６６１号公報
　しかし、特許文献１に記載されているようなポリカーボネート樹脂は屈折率が低く、十分に満足するものではなかった。
　また、特許文献２に記載のように、フルオレン含有ポリエステルに硫黄含有化合物をブレンドすると屈折率が向上するが、低分子量成分を添加するために熱安定性が低下し、ブレンドする二成分の相溶性が悪い場合、透明性が低下してしまう。
　本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、高屈折率で、かつ、透明性に優れた光学成形体を実現できる樹脂およびポリカーボネート樹脂を提供するものである。
　本発明者らは、高屈折率で、かつ、透明性に優れた光学成形体を実現できるポリカーボネート樹脂を提供するために鋭意検討した。その結果、下記式（１）で表される化合物を重合して得られる樹脂が、高屈折率で、かつ、透明性に優れた光学成形体を実現できることを見出し、本発明に到達した。
　本発明によれば、以下の一般式（１）で表される化合物、当該化合物より得られる樹脂、当該化合物より誘導されるポリカーボネート樹脂、および光学成形体が提供される。
［１］一般式（１）で表される化合物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 （一般式（１）中、Ａｒ１およびＡｒ２は、独立して、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 から選ばれる基を表し、Ｒ１～Ｒ６は、水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、Ａ１～Ａ５およびＢ１～Ｂ５は、水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、Ａ１～Ａ５の少なくとも一つは－Ｙ１－Ａｒ３基であり、Ｂ１～Ｂ５の少なくとも一つは－Ｙ２－Ａｒ４基であり、Ｙ１およびＹ２は単結合または連結基を表し、Ａｒ３およびＡｒ４は芳香族基を表し、Ｘ１～Ｘ４は－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ'－、または－Ｃ（Ｍｅ）２－であり、Ｚ１～Ｚ４は水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、Ｒ'は水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、ｏおよびｐは１～４の整数を表す）。
［２］上記一般式（１）中のｏおよびｐは、２である、上記［１］に記載の化合物
［３］上記一般式（１）中のＡｒ１およびＡｒ２は、独立して、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 から選ばれる基を表し、Ｒ１～Ｒ６は、水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、ｏおよびｐは１～４の整数を表す、上記［１］または［２］に記載の化合物。
［４］上記［１］～［３］のいずれかに記載の一般式（１）で表される化合物を重合してなる樹脂。
［５］上記［１］～［３］のいずれかに記載の一般式（１）で表される化合物から誘導されるポリカーボネート樹脂。
［６］上記［４］または［５］に記載の樹脂を含む光学成形体。
［７］光学レンズである上記［６］に記載の光学成形体。
［８］光学フィルムである上記［６］に記載の光学成形体。
　本発明によれば、高屈折率で、かつ、透明性に優れた光学成形体を実現できる樹脂およびポリカーボネート樹脂を提供することができる。
　以下に、本発明の実施形態について説明する。なお、文中の数字の間にある「～」は特に断りがなければ、以上から以下を表す。
［化合物］
　本実施形態に係る化合物について説明する。本実施形態に係る化合物は、一般式（１）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 一般式（１）中、Ａｒ１およびＡｒ２は、独立して、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 から選ばれる基を表し、
Ｒ１～Ｒ６は、水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、
Ａ１～Ａ５およびＢ１～Ｂ５は、水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、Ａ１～Ａ５の少なくとも一つは－Ｙ１－Ａｒ３基であり、
Ｂ１～Ｂ５の少なくとも一つは－Ｙ２－Ａｒ４基であり、
Ｙ１およびＹ２は単結合または連結基を表し、Ａｒ３およびＡｒ４は芳香族基を表し、Ｘ１～Ｘ４は－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ'－、または－Ｃ（Ｍｅ）２－であり、
Ｚ１～Ｚ４は水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、
Ｒ'は水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、
ｏおよびｐは１～４の整数を表す。
　一般式（１）において、Ｒ１～Ｒ６はそれぞれ独立に水素原子および炭素数１～３のアルキル基または炭素数６～２０のアリール基から選ばれることが好ましく、Ｒ１～Ｒ６はそれぞれ独立に水素原子、メチル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基から選ばれることがより好ましく、Ｒ１～Ｒ６は水素原子であることがさらに好ましい。
　一般式（１）において、ｏおよびｐは１～４の整数であり、好ましくは１または２であり、より好ましくは、２である。ｏおよびｐが上記範囲であることにより、一般式（１）の化合物から得られるポリカーボネート樹脂は、優れた耐熱性を有する。
　一実施形態において、前記一般式（１）中のＡｒ１およびＡｒ２は、独立して、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 から選ばれる基を表し、Ｒ１～Ｒ６は、水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、ｏおよびｐは１～４の整数を表す。
　一般式（１）におけるＡｒ１およびＡｒ２の好ましい態様としては、以下が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　上記一般式（１）で表される化合物としては、例えば、９，９－ビス（１'－ヒドロキシメチル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（１'―ヒドロキシメチル）－２，７－ジナフタレン－１"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（１'―ヒドロキシメチル）－３，６－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（１'－ヒドロキシメチル）－３，６－ジナフタレン－１"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（１'－ヒドロキシメチル）－２，７－ジ－ｐ－ビフェニルー９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（１'－ヒドロキシメチル）－２，７－ジ－ｍ－ビフェニル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（１'－ヒドロキシメチル）－２，７－ビス（３"，５"－ジフェニルフェニル）－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（１'－ヒドロキシメチル）－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（１'－ヒドロキシメチル）－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ、ｄ］チオフェン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（１'－ヒドロキシメチル）－２，７－ビス（４"－フェノキシフェニル）－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（１'－ヒドロキシメチル）－２，７－ビス（４"－フェニルナフタレン－１"－イル）－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（１'－ヒドロキシメチル）－２，７－ビス〔４－（ナフタレン－２－イル）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（１'－ヒドロキシメチル）－２，７－ビス〔３－ナフタレン－２－イル〕フェニル〕－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'―ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－１"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'―ヒドロキシエチル）－３，６－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－３，６－ジナフタレン－１"－イル－９Ｈ－ナフタレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジ－ｐ－ビフェニル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジ－ｍ－ビフェニル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジ－ｏ－ビフェニル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス（３"，５"－ジフェニルフェニル）－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ、ｄ］チオフェン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス（４"－フェノキシフェニル）－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス（３"，５"－ジフェノキシフェニル）－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス（４"－フェニルナフタレン－１"－イル）－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔４－（ナフタレン－２－イル）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔３－（ナフタレン－２－イル）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔３－（ナフタレン－１－イル）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔４－（ナフタレン－１－イル）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジフェナントリル－９"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔９"，９"－ジメチル－９"－フルオレン－２"－イル〕－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（３'－ヒドロキシプロピル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（３'―ヒドロキシプロピル）－２，７－ジナフタレン－１"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（３'―ヒドロキシプロピル）－３，６－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（３'－ヒドロキシプロピル）－３，６－ジナフタレン－１"－イル－９Ｈ－ナフタレン、９，９－ビス（４'－ヒドロキシブチル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（４'―ヒドロキシブチル）－２，７－ジナフタレン－１"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（４'―ヒドロキシブチル）－３，６－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（４'－ヒドロキシブチル）－３，６－ジナフタレン－１"－イル－９Ｈ－ナフタレン、９，９－ビス（４'－ヒドロキシブチル）－３，６－ビス〔４－（ナフタレン－２－イル）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン等が挙げられる。
　これらの中でも、好ましくは、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'―ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－１"－イル－９Ｈ－フルオレンを挙げることができる。これらは単独で使用してもよく、または二種以上組み合わせて用いてもよい。
［一般式（１）で表される化合物の製造方法］
　本実施形態の一般式（１）で表される化合物は、以下の工程（ｉ）および工程（ｉｉ）により合成することができる。
　工程（ｉ）：２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレンまたは３，６－ジブロモ－９Ｈ－フルオレン等のジハロゲノ－９Ｈ－フルオレンを、溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン）中、塩基（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、メトキシナトリウム、エトキシナトリウム、ｔ－ブトキシナトリウム、ｔ－ブトキシカリウム、ｎ－ブチルリチウム）で処理することにより、ジハロゲノ－９Ｈ－フルオレンの９位の水素を引き抜き、その後、脱離基を有するヒドロキシアルキル（ここで脱離基としては、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン、ｐ－トルエンスルホニルオキシ基、メチルスルホニルオキシ基、トリフルオロメチルスルホニルオキシ基等を挙げることができる）を作用させ、９，９－ビス（ヒドロキシアルキル）－２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレンまたは９，９－ビス（ヒドロキシアルキル－３，６－９Ｈ－フルオレン等の９，９－ビス（ヒドロキシアルキル）－ジハロゲノ－９Ｈ－フルオレンを製造する。
　工程（ｉｉ）：工程（ｉ）で得られた、９，９－ビス（ヒドロキシアルキル）－２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレンまたは９，９－ビス（ヒドロキシアルキル－３，６－９Ｈ－フルオレン等の９，９－ビス（ヒドロキシアルキル）－ジハロゲノ－９Ｈ－フルオレンに、溶媒（例えば、トルエンおよび水、テトラヒドロフランおよび水、ジメチルスルホキシドおよび水）中、塩基（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム）およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム等のパラジウム系触媒の存在下で、ナフチルホウ酸を作用させ、所謂、鈴木－宮浦カップリングの条件により、目的の一般式（１）の化合物を製造する。
　ここで、工程（ｉ）の反応は－７８℃から溶媒の沸点の間の任意の温度により実施することができる。また、反応条件は、一般的なアルキル化反応の条件を適用することができる。所望により脱離基を有するヒドロキシアルキルのヒドロキシ基を、任意の保護基（例えば、アセチル基等のエステル基、テトラヒドロピラニル基等のエーテル基、ｔ－ブトキシカルボニル基等の炭酸エステル基で保護しておいて、最後に脱保護してもよい。
　工程（ｉｉ）の反応は室温から溶媒の沸点までの任意の温度により実施することができる。反応条件は、所謂、鈴木－宮浦カップリングで一般的に使用される反応条件を適用することができる。
［樹脂］
　本発明の一つの態様は、一般式（１）で表される化合物を重合してなる樹脂である。
ここで、一般式（１）で表される化合物を重合して得られる樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂などが挙げられる。
　ポリエステル樹脂は、一般式（１）で表される化合物と、芳香族ジカルボン酸（例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸）、または脂肪族ジカルボン酸（例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸）とを反応させることにより得られる。
　ポリウレタン樹脂は、一般式（１）で表される化合物と、芳香族ジイソシアネート（例えば、トルイレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート）、または脂肪族ジイソシアネート（例えば、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサンジメチレンジイソシアネート）とを反応させることにより得られる。
　ポリカーボネート樹脂は、後述するとおり、一般式（１）で表される化合物と、炭酸ジエステル等のカーボネート前駆物質とを反応させることにより得られる。
　ポリエーテル樹脂は、一般式（１）で表される化合物と、脂肪族ジハロゲン化合物（例えば、ジブロモエタン、ジブロモプロパン）とを、塩基の存在下で反応させることにより得られる。
　これらの樹脂において、本願の一般式（１）で表される化合物以外の反応物は単独で用いてもよく、複数併用してもよい。また、本願の一般式（１）で表される化合物以外のジヒドロキシ化合物を併用して樹脂を重合することも可能である。
　本願の一般式（１）で表される化合物以外のジヒドロキシ化合物を併用する場合、本願の一般式（１）で表される化合物と一般式（１）で表される化合物以外のジヒドロキシ化合物の合計に対して、一般式（１）で表される化合物の割合は５モル％以上９９モル以下が好ましく、１０モル％以上９９モル％以下がより好ましく、１５モル％以上９９モル％以下がさらに好ましい。
　ここで、一般式（１）で表される化合物以外のジヒドロキシ化合物としては、例えば、９，９－ビス〔４－（２―ヒドキシエトキシ）フェニル〕フルオレン、９，９－ビス〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－メチルフェニル〕フルオレン、９，９－ビス〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－エチルフェニル〕フルオレン、９，９－ビス〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－ｎ－プロピルフェニル〕フルオレン、９，９－ビス〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－イソプロピルフェニル〕フルオレン、９，９－ビス〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－ｎ－ブチルフェニル〕フルオレン、９，９－ビス〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－ｓｅｃ－ブチルフェニル〕フルオレン、９，９－ビス〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル〕フルオレン、９，９－ビス〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－シクロヘキシルフェニル〕フルオレン、９，９－ビス〔４－（２―ヒドロキシエトキシ）－２－フェニルフェニル〕フルオレン、９，９－ビス〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－フェニルフェニル〕フルオレン、９，９－ビス〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－（３－メチルフェニル）フェニル〕フルオレン、ビス〔４－（２'－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕スルフィド、ビス〔４－（２'－ヒドロキシエトキシ）－３－メチルフェニル〕スルフィド、ビス〔４－（２'－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕スルホン、ビス〔４－（２'－ヒドロキシエトキシ）－３－メチルフェニル〕スルホン、ビス〔４－（２'－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕スルホキシド、ビス〔４－（２'－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕スルホキシド、ビス（４－ヒドロキシフェニル）メタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）エタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フェニルエタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ヘプタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジクロロフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジブロモフェニル）プロパン、４，４－ジヒドロキシフェニル－１，１－ｍ－ジイソプロピルベンゼン等のビス（４－ヒドロキシアリール）アルカン類；１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、２，２，２，２－テトラヒドロ－３，３，３，３－テトラメチル－１，１－スピロビス〔１Ｈインデン〕－６，６－ジオール等のビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類；ビス（４－ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジクロロフェニル）エーテル等のジヒドロキシアリールエーテル類；９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－イソプロピルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－シクロヘキシルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－フェニルフェニル）フルオレン；エチレングリコール、１，３－プロパンジオール、１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、１，４－シクロヘキサンジメタノール、２，２－ジメチル－１，３－プロパンジオール、１，１０－デカンジオール、ジエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ノルボルナンジメタノール、デカヒドロナフタレンジメタノール、トリシクロ［５．２．１．０２．６］デカンジメタノール、ペンタシクロペンタデカンジメタノール、シクロペンタン－１，３－ジメタノール、スピログリコール等を挙げることができる。
［ポリカーボネート樹脂］
　本実施形態に係るポリカーボネート樹脂は、本実施形態の一般式（１）で表される化合物を用いて製造される。本実施形態のポリカーボネート樹脂は、式（１ｐ）で表される、一般式（１）で表される化合物由来の構造単位を有する。このようなポリカーボネート樹脂は、高屈折率であり、かつ、透明性に優れた光学成形体を実現できる。その結果、光学レンズの材料として好適に使用することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　式（１ｐ）において、Ａｒ１およびＡｒ２、Ｒ１およびＲ２、ならびにｏおよびｐは、式（１）におけるものと同義である。好ましい態様についても同様である。
　本実施形態に係るポリカーボネート樹脂のポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１．５×１０３以上２．０×１０５以下であり、より好ましくは２．０×１０３以上１．２×１０５以下である。
　Ｍｗが上記下限値以上であると、得られる成形体が脆くなることをより抑制できるため好ましい。Ｍｗが上記上限値以下であると、溶融粘度がより適度となるため製造後の樹脂の取り出しがより容易になり、さらに流動性がより良好になり溶融状態で射出成形しやすくなるため好ましい。
　本実施形態に係るポリカーボネート樹脂の２３℃、波長６３３ｎｍにおける屈折率（ｎＤ）は、好ましくは１．７０以上１．８５以下、より好ましくは１．７０以上１．８２以下、さらに好ましくは１．７１以上１．８１以下、特に好ましくは１．７２以上１．８１以下である。
　本実施形態に係るポリカーボネート樹脂に他の樹脂をブレンドして、成形体の製造に供することができる。他の樹脂としては、例えば、ポリアミド、ポリアセタール、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等が挙げられる。
　さらに本実施形態に係るポリカーボネート樹脂には、酸化防止剤、離型剤、紫外線吸収剤、流動性改質剤、結晶核剤、強化剤、染料、帯電防止剤、抗菌剤等を添加することができる。
　成形方法としては、射出成形の他、圧縮成形、注型、ロール加工、押出成形、延伸等が例示されるがこれらに限らない。
　本実施形態に係るポリカーボネート樹脂を射出成形に使用する場合、好ましいガラス転移温度（Ｔｇ）は８０℃以上１９０℃以下であり、より好ましくは８５℃以上１８０℃以下であり、さらに好ましくは９０℃以上１７０℃以下である。Ｔｇが上記下限値以上であると、使用温度範囲がより広くなるため好ましい。またＴｇが上記上限値以下であると、樹脂の溶融温度がより低くなり、樹脂の分解や着色がより発生し難くなるため好ましい。またＴｇが上記上限値以下であると、汎用の金型温調機でも、金型温度と樹脂ガラス転移温度の差を小さくすることができる。そのため、製品に厳密な面精度が求められる用途において使用し易く好ましい。
　本実施形態に係るポリカーボネート樹脂を用いて得られる光学成形体は、ＪＩＳ　Ｋ－７３６１－１（１９９７）に準拠して測定される全光線透過率が、好ましくは８２％以上、より好ましくは８５％以上であり、ビスフェノールＡ型ポリカーボネート樹脂等と比べても遜色がない。
［ポリカーボネート樹脂の製造方法］
　実施形態に係るポリカーボネート樹脂は、上記一般式（１）で表される化合物を原料として使用して製造することができる。具体的には、一般式（１）で表される化合物および炭酸ジエステル等のカーボネート前駆物質を、塩基性化合物触媒もしくはエステル交換触媒もしくはその双方からなる混合触媒の存在下、または無触媒下において、溶融重縮合法により反応させて製造することができる。
　本実施形態に係るポリカーボネート樹脂の製造に用いられる炭酸ジエステルとしては、ジフェニルカーボネート、ジ－ｐ－トリルカーボネート、ジ－ｍ－トリルカーボネート、ジ－ｏ－トリルカーボネート、ビス（ｐ－クロロフェニル）カーボネート、ビス（ｍ－クロロフェニル）カーボネート、ビス（ｏ－クロロフェニル）カーボネート、ｍ－クレジルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジ－ｎ－ブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネート等が挙げられる。これらの中でも、ジフェニルカーボネートが好ましい。ジフェニルカーボネートは、一般式（１）で表される化合物１モルに対して０．９７～１．２０モルの比率で用いられることが好ましく、より好ましくは０．９８～１．１０モルの比率である。
　本実施形態に係るポリカーボネート樹脂の製造に用いられる塩基性化合物触媒としては、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、および含窒素化合物等が挙げられる。このような化合物としては、アルカリ金属およびアルカリ土類金属化合物等の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物あるいはアルコキシド、または４級アンモニウムヒドロキシドおよびそれらの塩、アミン類等が好ましく用いられ、これらの化合物は単独もしくは組み合わせて用いることができる。
　アルカリ金属化合物としては、例えば、アルカリ金属の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物またはアルコキシド等が挙げられる。具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸セシウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸セシウム、安息香酸リチウム、リン酸水素２ナトリウム、リン酸水素２カリウム、リン酸水素２リチウム、フェニルリン酸２ナトリウム、ビスフェノールＡの２ナトリウム塩、２カリウム塩、２セシウム塩もしくは２リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩もしくはリチウム塩等が用いられる。
　アルカリ土類金属化合物としては、例えば、アルカリ土類金属化合物の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物又はアルコキシド等が挙げられる。具体的には、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素ストロンチウム、炭酸水素バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム、酢酸ストロンチウム、酢酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、安息香酸カルシウム、フェニルリン酸マグネシウム等が用いられる。
　含窒素化合物としては、例えば、４級アンモニウムヒドロキシドおよびそれらの塩、アミン類等が挙げられる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラｎ－プロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラｎ－ブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等のアルキル基、アリール基等を有する４級アンモニウムヒドロキシド類；トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミン等の３級アミン類；ジエチルアミン、ジブチルアミン等の２級アミン類；ｎ－プロピルアミン、ｎ－ブチルアミン等の１級アミン類；２－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、ベンゾイミダゾール等のイミダゾール類；あるいは、アンモニア、テトラメチルアンモニウムボロハイドライド、テトラｎ－ブチルアンモニウムボロハイドライド、テトラｎ－ブチルアンモニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルアンモニウムテトラフェニルボレート等の塩基もしくは塩基性塩等が用いられる。
　エステル交換触媒としては、亜鉛、スズ、ジルコニウム、鉛等の塩が好ましく用いられ、これらは単独もしくは組み合わせて用いることができる。エステル交換触媒としては、具体的には、酢酸亜鉛、安息香酸亜鉛、２－エチルヘキサン酸亜鉛、塩化スズ（ＩＩ）、塩化スズ（ＩＶ）、酢酸スズ（ＩＩ）、酢酸スズ（ＩＶ）、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズオキサイド、ジブチルスズジメトキシド、ジルコニウムアセチルアセトナート、オキシ酢酸ジルコニウム、ジルコニウムテトラブトキシド、酢酸鉛（ＩＩ）、酢酸鉛（ＩＶ）等が用いられる。
　これらの触媒は、一般式（１）で表される化合物の合計１モルに対して、１０－９～１０－３モルの比率で、好ましくは１０－７～１０－４モルの比率で用いられる。
　溶融重縮合法は、上記の原料および触媒を用いて、加熱下に、常圧または減圧下で、エステル交換反応により副生成物を除去しながら溶融重縮合を行うものである。
　本実施形態に係る溶融重縮合法は、上記一般式（１）で表される化合物、および炭酸ジエステルを反応容器中で溶融後、副生するモノヒドロキシ化合物を滞留させた状態で、反応を行うことが望ましい。
　滞留させるために、反応装置を閉塞したり、減圧したり加圧したりする等して圧力を制御することができる。この工程の反応時間は、好ましくは２０分以上２４０分以下であり、より好ましくは４０分以上１８０分以下、特に好ましくは６０分以上１５０分以下である。この際、副生するモノヒドロキシ化合物を生成後すぐに留去すると、最終的に得られるポリカーボネート樹脂は高分子量体の含有量が少ない。しかし、副生したモノヒドロキシ化合物を反応容器中に一定時間滞留させると、最終的に得られるポリカーボネート樹脂は高分子量体の含有量が多いものが得られる。
　一般的には溶融重縮合反応は二段以上の多段工程で実施される。具体的には、第一段目の反応を好ましくは１２０～２６０℃、より好ましくは１８０～２４０℃の温度で、常圧もしくは加圧下に好ましくは０．１～５時間、より好ましくは０．５～３時間反応させる。次いで反応系の減圧度を上げながら反応温度を高めて一般式（１）で表される化合物と炭酸ジエステルとの反応を行い、最終的には１３３Ｐａ（１ｍｍＨｇ）以下の減圧度、２００～３５０℃の温度で０．０５～２時間重縮合反応を行うことが好ましい。
　溶融重縮合反応は、連続式で行ってもよいし、バッチ式で行ってもよい。
　反応を行うに際して用いられる反応装置は、錨型攪拌翼、マックスブレンド攪拌翼、ヘリカルリボン型攪拌翼等を装備した縦型であっても、パドル翼、格子翼、メガネ翼等を装備した横型であっても、スクリューを装備した押出機型であってもよい。また、重合物の粘度を勘案してこれらの反応装置を適宜組み合わせた反応装置を使用することが好適に実施される。
　本実施形態に係るポリカーボネート樹脂は、重縮合反応終了後、熱安定性および加水分解安定性を保持するために、触媒を除去もしくは失活させてもよい。一般的には公知の酸性物質の添加による触媒の失活を行う方法を好適に実施できる。酸性物質としては、具体的には、安息香酸ブチル等のエステル類；ｐ－トルエンスルホン酸等の芳香族スルホン酸類；ｐ－トルエンスルホン酸ブチル、ｐ－トルエンスルホン酸ヘキシル等の芳香族スルホン酸エステル類；亜リン酸、リン酸、ホスホン酸等のリン酸類；亜リン酸トリフェニル、亜リン酸モノフェニル、亜リン酸ジフェニル、亜リン酸ジエチル、亜リン酸ジｎ－プロピル、亜リン酸ジｎ－ブチル、亜リン酸ジｎ－ヘキシル、亜リン酸ジｎ－オクチル、亜リン酸モノｎ－オクチル等の亜リン酸エステル類；リン酸トリフェニル、リン酸ジフェニル、リン酸モノフェニル、リン酸ジｎ－ブチル、リン酸ジｎ－オクチル、リン酸モノｎ－オクチル等のリン酸エステル類；ジフェニルホスホン酸、ジｎ－オクチルホスホン酸、ジｎ－ブチルホスホン酸等のホスホン酸類；フェニルホスホン酸ジエチル等のホスホン酸エステル類；トリフェニルホスフィン、ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン等のホスフィン類；ホウ酸、フェニルホウ酸等のホウ酸類；ｎ－ドデシルベンゼンスルホン酸テトラｎ－ブチルホスホニウム塩等の芳香族スルホン酸塩類；ステアリン酸クロライド、塩化ベンゾイル、ｐ－トルエンスルホン酸クロライド等の有機ハロゲン化物；ジメチル硫酸等のアルキル硫酸；塩化ベンジル等の有機ハロゲン化物等が好適に用いられる。これらの失活剤は、触媒量に対して好ましくは０．０１～５０倍モル、より好ましくは０．３～２０倍モル使用される。触媒量に対して０．０１倍モルより少ないと、失活効果が不充分となり好ましくない。また、触媒量に対して５０倍モルより多いと、樹脂の耐熱性が低下し、成形体が着色しやすくなるため好ましくない。
　触媒失活後、ポリマー中の低沸点化合物を、１３～１３３Ｐａ（０．１～１ｍｍＨｇ）の圧力、２００～３５０℃の温度で脱揮除去する工程を設けてもよい。この工程には、パドル翼、格子翼、メガネ翼等、表面更新能の優れた攪拌翼を備えた横型装置、あるいは薄膜蒸発器が好適に用いられる。
　本実施形態に係るポリカーボネート樹脂は、異物含有量が極力少ないことが望まれ、溶融原料の濾過、触媒液の濾過等が好適に実施される。フィルターのメッシュは、５μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１μｍ以下である。さらに、生成する樹脂のポリマーフィルターによる濾過が好適に実施される。ポリマーフィルターのメッシュは、１００μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは３０μｍ以下である。また、樹脂ペレットを採取する工程は、当然低ダスト環境であることが好ましく、クラス１０００以下のクリーン度であることがより好ましい。
［光学成形体］
　本実施形態に係る光学成形体は本実施形態に係るポリカーボネート樹脂を含むものであり、本実施形態に係るポリカーボネート樹脂を用いて光学成形体を製造できる。
　例えば、射出成形法、圧縮成形法、射出圧縮成形法、押出成形法、溶液キャスティング法等任意の方法により成形される。
　本実施形態に係るポリカーボネート樹脂は、成形性および耐熱性に優れているので、射出成形が必要となる光学レンズにおいて特に有利に使用することができる。成形の際には、本実施形態に係るポリカーボネート樹脂を他のポリカーボネート樹脂やポリエステル樹脂等の他の樹脂と混合して使用することができる。
　また、本実施形態の目的を損なわない範囲で各種特性を付与するために、各種添加剤を使用することができる。添加剤としては、酸化防止剤、加工安定剤、離型剤、紫外線吸収剤、ブルーイング剤、重合金属不活性化剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、熱線遮蔽剤、蛍光染料（蛍光増白剤含む）、顔料、光散乱剤、強化充填剤、界面活性剤、抗菌剤、可塑剤、相溶化剤、他の樹脂やエラストマー等を挙げることができる。
　酸化防止剤としては、例えば、トリエチレングリコール－ビス［３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６－ヘキサンジオール－ビス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリスリトール－テトラキス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル－３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，３，５－トリメチル－２，４，６－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）ベンゼン、Ｎ，Ｎ－ヘキサメチレンビス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ヒドロシンナマイド）、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ベンジルホスホネート－ジエチルエステル、トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）イソシアヌレートおよび３，９－ビス｛１，１－ジメチル－２－［β－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ］エチル｝－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカン等が挙げられる。
　ポリカーボネート樹脂中の酸化防止剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００質量部に対して０．００１～０．３質量部であることが好ましい。
　加工安定剤としては、例えば、リン系加工熱安定剤、硫黄系加工熱安定剤等が挙げられる。
　リン系加工熱安定剤としては、例えば、亜リン酸、リン酸、亜ホスホン酸、ホスホン酸およびこれらのエステル等が挙げられる。具体的には、トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、トリｎ－デシルホスファイト、トリｎ－オクチルホスファイト、トリｎ－オクタデシルホスファイト、ジｎ－デシルモノフェニルホスファイト、ジｎ－オクチルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノフェニルホスファイト、モノｎ－ブチルジフェニルホスファイト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノｎ－オクチルジフェニルホスファイト、ビス（２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、２，２－メチレンビス（４，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ビス（ｎ－ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４－ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリｎ－ブチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、ジｎ－ブチルホスフェート、ジｎ－オクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェート、ベンゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチル、ベンゼンホスホン酸ジプロピル、テトラキス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）－４，４'－ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）－４，３'－ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）－３，３'－ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－４－フェニル－フェニルホスホナイトおよびビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－３－フェニル－フェニルホスホナイト等が挙げられる。
　ポリカーボネート樹脂中のリン系加工熱安定剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００質量部に対して０．００１～０．２質量部が好ましい。
　硫黄系加工熱安定剤としては、例えば、ペンタエリスリトール－テトラキス（３－ラウリルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトール－テトラキス（３－ミリスチルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトール－テトラキス（３－ステアリルチオプロピオネート）、ジラウリル－３，３'－チオジプロピオネート、ジミリスチル－３，３'－チオジプロピオネート、ジステアリル－３，３'－チオジプロピオネート等が挙げられる。
　ポリカーボネート樹脂中の硫黄系加工熱安定剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００質量部に対して０．００１～０．２質量部が好ましい。
　離型剤としては、その９０質量％以上がアルコールと脂肪酸とのエステルからなるものが好ましい。アルコールと脂肪酸とのエステルとしては、具体的には一価アルコールと脂肪酸とのエステルや、多価アルコールと脂肪酸との部分エステルあるいは全エステルが挙げられる。上記一価アルコールと脂肪酸とのエステルとしては、炭素原子数１～２０の一価アルコールと炭素原子数１０～３０の飽和脂肪酸とのエステルが好ましい。また、上記多価アルコールと脂肪酸との部分エステルあるいは全エステルとしては、炭素原子数１～２５の多価アルコールと炭素原子数１０～３０の飽和脂肪酸との部分エステルまたは全エステルが好ましい。
　一価アルコールと飽和脂肪酸とのエステルとしては、例えば、ステアリルステアレート、パルミチルパルミテート、ｎ－ブチルステアレート、メチルラウレート、イソプロピルパルミテート等が挙げられる。多価アルコールと飽和脂肪酸との部分エステルまたは全エステルとしては、例えば、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸ジグリセリド、ステアリン酸トリグリセリド、ステアリン酸モノソルビテート、ベヘニン酸モノグリセリド、カプリン酸モノグリセリド、ラウリン酸モノグリセリド、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレート、ペンタエリスリトールテトラペラルゴネート、プロピレングリコールモノステアレート、ビフェニルビフェネ－ト、ソルビタンモノステアレート、２－エチルヘキシルステアレート、ジペンタエリスリトールヘキサステアレート等のジペンタエリスルトールの全エステルまたは部分エステル等が挙げられる。
　これら離型剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００質量部に対して０．００５～２．０質量部の範囲が好ましく、０．０１～０．６質量部の範囲がより好ましく、０．０２～０．５質量部の範囲がさらに好ましい。
　紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、環状イミノエステル系紫外線吸収剤およびシアノアクリレート系紫外線吸収剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の紫外線吸収剤が好ましい。以下に挙げる紫外線吸収剤は、いずれかを単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
　ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２－（２－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）ベンゾトリアゾ－ル、２－（２－ヒドロキシ－５－ｔｅｒｔ－オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ－ル、２－（２－ヒドロキシ－３，５－ジクミルフェニル）フェニルベンゾトリアゾール、２－（２－ヒドロキシ－３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２，２'－メチレンビス［４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－６－（２Ｎ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェノール］、２－（２－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ－ル、２－（２－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔｅｒｔ－アミルフェニル）ベンゾトリアゾ－ル、２－（２－ヒドロキシ－５－ｔｅｒｔ－オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ－ル、２－（２－ヒドロキシ－５－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ－ル、２－（２－ヒドロキシ－４－ｎ－オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾ－ル、２，２'－メチレンビス（４－クミル－６－ベンゾトリアゾールフェニル）、２，２'－ｐ－フェニレンビス（１，３－ベンゾオキサジン－４－オン）、２－［２－ヒドロキシ－３－（３，４，５，６－テトラヒドロフタルイミドメチル）－５－メチルフェニル］ベンゾトリアゾ－ル等が挙げられる。
　ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、２，４－ジヒドロキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－ｎ－オクチルオキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－ベンジルオキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－５－スルホキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－５－スルホキシトリハイドライドレイトベンゾフェノン、２，２'－ジヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２，２'，４，４'－テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２'－ジヒドロキシ－４，４'－ジメトキシベンゾフェノン、２，２'－ジヒドロキシ－４，４'－ジメトキシ－５－ソジウムスルホキシベンゾフェノン、ビス（５－ベンゾイル－４－ヒドロキシ－２－メトキシフェニル）メタン、２－ヒドロキシ－４－ｎ－ドデシルオキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－２'－カルボキシベンゾフェノン等が挙げられる。
　トリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－［（ｎ－ヘキシル）オキシ］－フェノール、２－（４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－［（ｎ－オクチル）オキシ］－フェノール等が挙げられる。
　環状イミノエステル系紫外線吸収剤としては、例えば、２，２'－ビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）、２，２'－ｐ－フェニレンビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）、２，２'－ｍ－フェニレンビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）、２，２'－（４，４'－ジフェニレン）ビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）、２，２'－（２，６－ナフタレン）ビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）、２，２'－（１，５－ナフタレン）ビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）、２，２'－（２－メチル－ｐ－フェニレン）ビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）、２，２'－（２－ニトロ－ｐ－フェニレン）ビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）および２，２'－（２－クロロ－ｐ－フェニレン）ビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）等が挙げられる。
　シアノアクリレート系紫外線吸収剤としては、例えば、１，３－ビス－［（２'－シアノ－３'，３'－ジフェニルアクリロイル）オキシ］－２，２－ビス［（２－シアノ－３，３－ジフェニルアクリロイル）オキシ］メチル）プロパン、および１，３－ビス－［（２－シアノ－３，３－ジフェニルアクリロイル）オキシ］ベンゼン等が挙げられる。
　紫外線吸収剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００質量部に対して、好ましくは０．０１～３．０質量部であり、より好ましくは０．０２～１．０質量部であり、さらに好ましくは０．０５～０．８質量部である。かかる配合量の範囲であれば、用途に応じ、ポリカーボネート樹脂に十分な耐候性を付与することが可能である。
　ブルーイング剤としては、例えば、バイエル社のマクロレックスバイオレットＢおよびマクロレックスブルーＲＲ並びにクラリアント社のポリシンスレンブルーＲＬＳ等が挙げられる。
　ブルーイング剤は、ポリカーボネート樹脂の黄色味を消すために有効である。特に耐候性を付与したポリカーボネート樹脂の場合は一定量の紫外線吸収剤が配合されるため、「紫外線吸収剤の作用や色」によってポリカーボネート樹脂成型品が黄色味を帯びやすい傾向があり、特にシートやレンズに自然な透明感を付与するためにはブルーイング剤の配合は有効である。
　ブルーイング剤の配合量は、例えば、ポリカーボネート樹脂に対して、好ましくは０．０５～１．５ｐｐｍであり、より好ましくは０．１～１．２ｐｐｍである。
　本実施形態に係るポリカーボネート樹脂は、高屈折率と優れた耐熱性を示し、しかも成形に適した流動性を有する。さらに、低複屈折で光学歪みが起こりづらいため、光学レンズの他に、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、太陽電池等に使用される透明導電性基板、光学ディスク、液晶パネル、光カード、シート、フィルム、光ファイバー、コネクター、蒸着プラスチック反射鏡、ディスプレイ等の光学部品の構造材料または機能材料用途に適した光学用成形体として有利に使用することができる。
　光学成形体の表面には、必要に応じ、反射防止層あるいはハードコート層といったコート層が設けられていてもよい。反射防止層は、単層であっても多層であっても良く、有機物であっても無機物であっても構わないが、無機物であることが好ましい。具体的には、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタニウム、酸化セリウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム等の酸化物あるいはフッ化物が例示される。
　（光学レンズ）
　本実施形態に係るポリカーボネート樹脂を用いて製造される光学レンズは、高屈折率であり、耐熱性に優れるため、望遠鏡、双眼鏡、テレビプロジェクター等、従来、高価な高屈折率ガラスレンズが用いられていた分野に用いることができ、極めて有用である。必要に応じて、非球面レンズの形で用いることが好ましい。非球面レンズは、１枚のレンズで球面収差を実質的にゼロとすることが可能であるため、複数の球面レンズの組み合わせによって球面収差を取り除く必要がなく、軽量化および生産コストの低減化が可能になる。したがって、非球面レンズは、光学レンズの中でも特にカメラレンズとして有用である。
　本実施形態に係る光学レンズは、例えば、射出成形法、圧縮成形法、射出圧縮成形法等任意の方法により成形される。本実施形態により、ガラスレンズでは技術的に加工の困難な高屈折率低複屈折非球面レンズをより簡便に得ることができる。
　（光学フィルム）
　本実施形態に係るポリカーボネート樹脂を用いて製造される光学フィルムは、透明性および耐熱性に優れるため、液晶基板用フィルム、光メモリーカード等に好適に使用される。
　以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。
　以下、本実施形態を、実施例・比較例を参照して詳細に説明する。なお、本実施形態は、これらの実施例の記載に何ら限定されるものではない。
１．測定・評価方法
　以下の実施例・比較例において、各物性の測定および評価は、以下の方法により行った。
１）ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）：ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ：Ｗａｔｅｒｓ社製　１５１５、２４１４および２４８９）を用い、クロロホルムを溶出液として、既知の分子量（分子量分布＝１）の標準ポリスチレンを用いて検量線を作成した。この検量線に基づいて、ＧＰＣのリテンションタイムからＭｗを算出した。
２）屈折率（ｎ６３３）：シリコンウエハー上に８．５ｗｔ％濃度の樹脂のクロロホルム溶液をスピンコーターを用いて２００ｒｐｍ２０秒、１０００ｒｐｍ５秒でコートし、１２０℃で５分、２００℃で２分ベークしてサンプルを調整し、分光エリプソメーターＧＥＳ５Ｅ（セミラボ［ＳＥＭＩＬＡＢ］社製）を用いて波長２００－１０００ｎｍにおける光学測定データに、次に示す光学モデルをフィッティングすることで、フィルムの屈折率および膜厚の算出を行った。
（光学モデル）
積層構造：フィルム／ＳｉＯ２（２ｎｍ厚）／Ｓｉ基板（５００μｍ厚）
フィルムの分散式：コーシー　＋　ローレンツ振動子モデル
３）ガラス転移温度（Ｔｇ）：示差熱走査熱量分析計（ＤＳＣ：島津製作所製ＤＳＣ－６０）により測定した。
１．式（１）で表される化合物の調製
（実施例１）
９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレンの合成
　工程（ｉ）：９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレンの合成
　５００ｍｌのフラスコに２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレン６６．５ｇ（０．２ｍｏｌ）、水酸化カリウム（粉末状）５６ｇ（０．９９８ｍｏｌ）、ヨウ化カリウム３．４ｇ（０．０２ｍｏｌ）、ジメチルスルホキシド１５０ｍｌを装入し、氷水で１０℃に冷却した。その後、２－ブロモエタノール５８．４ｇ（０．４６７ｍｏｌ）を４５分かけて滴下し、その後、室温で一晩攪拌した。その後、反応液を５０℃に加熱して４０時間加熱攪拌した。反応混合物を蒸留水２リットルに排出し、濃塩酸でｐＨを６に合わせた。得られた固体を濾別して水３リットルで洗浄した。得られた固体を酢酸エチル１リットルに溶解し、蒸留水５００ｍｌで洗浄後、エバポレーターで濃縮し、クロロホルムを添加することで、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレンを３４．８ｇの無色の結晶として得た。
　工程（ｉｉ）：９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレンの調製
　１リットルのフラスコに９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレン２０．７５ｇ（５０ｍｍｏｌ）、ナフタレン－２－ボロン酸１９．１７ｇ（０．１１ｍｏｌ）、炭酸カリウム１５．３ｇ（０．１１ｍｏｌ）、蒸留水２５０ｇおよびジメチルスルホキシド４００ｇを装入した。この反応混合物にテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム３．０ｇを添加して、１００℃に加熱して５時間加熱攪拌した。冷却後、生成した固体を濾別して、水５００ｇで洗浄し、５０℃で真空乾燥した。乾燥後、固体をクロロホルムで懸濁洗浄し、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン２０．８７ｇを無色の結晶として得た。ＤＳＣで測定した融点は２３６℃であった。
（実施例２）
９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレンの合成
　工程（ｉ）：２－（２'－ブロモエトキシ）テトラヒドロピランの合成
　撹拌機、温度計および滴下ロートを備えた２リットルの丸底フラスコに、２－ブロモエタノール１５０ｇ（１．２０ｍｏｌ）およびジクロロメタン８００ｍｌを装入し、氷水により冷却した。その後、内温が５℃になった時点で、３，４－ジヒドロ－２Ｈ－ピラン１３０ｇ（１．５６ｍｏｌ）を１０℃以下で滴下した。滴下終了後、ピリジニウムｐ－トルエンスルホネート３０ｇ（０．１２ｍｏｌ）を添加し、室温で一晩攪拌した。その後、炭酸水素ナトリウム飽和水を添加し、ジクロロメタン層を水洗した。得られたジクロロメタン層をエバポレーターにより濃縮して、淡黄色の油状物として、２－（２'－ブロモエトキシ）テトラヒドロピラン２５５ｇを得た。
　工程（ｉｉ）：９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレンの合成
　撹拌機、温度計および還流管を備えた２リットル丸底フラスコに２－（２'－ブロモエトキシ）テトラヒドロピラン２５５ｇ、トルエン２７０ｍｌおよび２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレン１６４ｇ（０．５０６ｍｏｌ）を仕込み、ここに５０％水酸化ナトリウム水溶液２７０ｍｌを添加した。その後、テトラブチルアンモニウムブロマイド８．５ｇ（２６．２ｍｍｏｌ）を添加し、１００℃に加熱して、１１．５時間加熱攪拌した。その後、反応混合物を室温まで冷却し、水層を分液した後、酢酸エチル７００ｍｌおよび蒸留水７００ｍｌを添加し、水洗を行った。さらに水洗を繰り返した後、酢酸エチルおよびトルエンからなる層を分離し、エバポレーターにて濃縮した。濃縮後得られた粘調な液体に、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレンの種結晶を少量添加し、メタノールを添加した結晶化を行った。得られた結晶をろ過し、少量のメタノールで洗浄した後、メタノール５００ｍｌから加熱再結晶を行い、目的とする９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニル）エトキシ〕－２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレン２４６ｇを淡黄色結晶として得た。
ｍ．ｐ．９８．５℃
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）　δ１．３０－１．５３（ｍ，１２Ｈ）、２．３４－２．３８（ｔ，４Ｈ）、２．７０－３．５（ｍ、８Ｈ）、４．１（ｔ、２Ｈ）、７．４３－７．５５（ｍ、６Ｈ）
　工程（ｉｉｉ）：９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレンの合成
　撹拌機、温度計および還流管を備えた１リット丸底フラスコに９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレン７２．５５ｇ（１２５ｍｍｏｌ）、トルエン４７５ｍｌ、炭酸カリウム６１ｇ（４４２ｍｍｏｌ）、２－ナフタレンボロン酸４７．２９ｇ（２７５ｍｍｏｌ）および蒸留水２１１ｍｌを仕込み攪拌しながら、この反応混合物にテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム１．４ｇを添加して、８０℃まで昇温した。８０℃で１２時間加熱攪拌を行い、その後、室温まで冷却した。水層を分液した後、蒸留水でトルエン層を洗浄し、その後、トルエン層をエバポレーターにより濃縮した。濃縮残渣にメタノール７３０ｍｌを添加し、生じた固体を濾別し、メタノールで洗浄した。その後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液トルエン～トルエン／酢酸エチル＝９／１）にて精製し、その後、メチルセロソルブから再結晶して目的物を１２１．０１ｇ得た。収率７２％、ＨＰＬＣ純度９９．３％、ｍ．ｐ．１４８℃、
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）　δ１．２０－１．７０（ｍ、１２Ｈ）、２，５５（ｔ、４Ｈ）、２．８－３．５（ｍ、８Ｈ）、４．１６（ｍ，２Ｈ）、７．４０－７．６５（ｍ、４Ｈ）、７．７０－８．０５（ｍ、１４Ｈ）、８．１（ｓ、２Ｈ）
　工程（ｉｖ）：９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレンの合成
　撹拌機、温度計および還流管を備えた１リットル丸底フラスコに、９，９‐ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフタレン－２"－イル‐９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（８８．９ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ６００ｍｌ、蒸留水２５ｍｌおよび濃塩酸７ｍｌを仕込み、攪拌しながら１１５℃に昇温し、同温度で４時間加熱攪拌した。その後、室温まで冷却し、水１８０ｍｌを添加して、生じた結晶を濾別した。得られた結晶を蒸留水で洗浄した後、５０℃で減圧乾燥し、その後、熱メチルセロソルブで懸濁洗浄を行い、目的物３８．７３ｇを得た。収率８５％、ｍ．ｐ．２４９．５℃、
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）　δ２．４３（ｔ、４Ｈ）、２．８０（ｔ、４Ｈ）、４．１６（ｔ、２Ｈ）、７．５０－７．６０（ｍ，４Ｈ）、７．８－８．１（ｍ，１２Ｈ）、８．３５（ｓ，２Ｈ）
（実施例３）
９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレンの合成
　実施例２の工程（ｉｉｉ）において、２－ナフタレンボロン酸４７．２９ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン－４－イルボロン酸５８．８５ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用した以外は実施例２の工程（ｉｉｉ）に記載の操作に従い、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン６６．０５ｇを得た。収率７０％、ＨＰＬＣ純度９７．５％、ｍ．ｐ．１７６．７℃、
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）　δ１．２９－１．４５　（１０Ｈ，　ｍ），　１．５８　（２Ｈ，　ｍ），　２．５８　（４Ｈ，　ｔ），　２．９８　（２Ｈ，　ｑ），　３．２４　（２Ｈ，　ｄｔ），　３．４０　（２Ｈ，　ｑ），　３．５５　（２Ｈ，　ｄｔ），　４．２３　（２Ｈ，　ｓ），　７．３９　（２Ｈ，　ｔ），　７．４８　（４Ｈ，　ｑ），　７．６４　（２Ｈ，　ｄ），　７．６８－７．７１　（２Ｈ，　ｍ），　７．９０－８．０３　（１０Ｈ，　ｍ）
　実施例２の工程（ｉｖ）において、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（８８．９ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ６００ｍｌ、蒸留水２５ｍｌおよび濃塩酸７ｍｌを使用する代わりに、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（７９．４ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ５４０ｍｌ、蒸留水２２ｍｌおよび濃塩酸６．２ｍｌを使用した以外は実施例２の工程（ｉｖ）に記載の操作に従い、目的物４１．０３ｇを得た。収率８８％、ＨＰＬＣ純度９９．４％、ｍ．ｐ．２４７．４℃、
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）　δ２．４０　（４Ｈ，　ｔ），　２．９８　（４Ｈ，　ｍ），　４．２４　（２Ｈ，　ｔ），　７．４６　（２Ｈ，　ｔ），　７．５８　（４Ｈ，　ｄｔ），　７．８２　（４Ｈ，　ｄｄ），　　８．０３－８．１０　（６Ｈ，　ｍ），　８．２２　（４Ｈ，　ｄｄ）
（実施例４）
９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔４－（ナフタレン－２－イル－）フェニル〕－９Ｈ－フルオレンの合成
　実施例２の工程（ｉｉｉ）において、２－ナフタレンボロン酸４７．２９ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、４－（ナフタレン－２－イル）フェニルボロン酸６８．２２ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用した以外は実施例２の工程（ｉｉｉ）に記載の操作に従い、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔４－（ナフタレン－２－イル－）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン６８．２３ｇを得た。収率６６％、ＨＰＬＣ純度９９．２％、ｍ．ｐ．２０９．４℃、
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）　δ１．２６－１．６１　（１２Ｈ，　ｍ），　２．５５　（４Ｈ，　ｔ），　２．８６　（２Ｈ，　ｑ），　３．２２－３．３２　（４Ｈ，　ｍ），　３．５１－３．５６　（２Ｈ，　ｍ），　４．１７　（２Ｈ，　ｔ），　７．４９－７．５５　（４Ｈ，　ｍ），　７．６７　（２Ｈ，　ｄ），　７．７５　（２Ｈ，　ｄ），　７．７８－７．８２　（６Ｈ，　ｍ），　７．８４－７．９０　（８Ｈ，　ｍ），　７．９５　（４Ｈ，　ｔ），　８．１３　（２Ｈ，　ｓ）
　実施例２の工程（ｉｖ）において、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（８８．９ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ６００ｍｌ、蒸留水２５ｍｌおよび濃塩酸７ｍｌを使用する代わりに、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔４－（ナフタレン－２－イル－）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ、メチルセロソルブ５００ｍｌ、蒸留水２０ｍｌおよび濃塩酸６ｍｌを使用した以外は実施例２の工程（ｉｖ）に記載の操作に従い、目的物４１．１０ｇを得た。収率８６％、ＨＰＬＣ純度９９．６％、ｍ．ｐ．３４１．３℃、
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）　δ２．４１　（４Ｈ，　ｔ），　２．８３　（４Ｈ，　ｑ），　４．２０　（２Ｈ，　ｔ），　７．５３－７．６０　（４Ｈ，　ｍ），　７．８３　（２Ｈ，　ｄ），　７．９４－８．００　（１６Ｈ，　ｍ），　　８．０６　（４Ｈ，　ｄ），　８．３３　（２Ｈ，　ｓ）
（実施例５）
９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔３－（ナフタレン－２－イル－）フェニル〕－９Ｈ－フルオレンの合成
　実施例２の工程（ｉｉｉ）において、２－ナフタレンボロン酸４７．２９ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、３－（ナフタレン－２－イル）フェニルボロン酸６８．２２ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用した以外は実施例２の工程（ｉｉｉ）に記載の操作に従い、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔３－（ナフタレン－２－イル－）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン７０．３０ｇを得た。収率６８％、ＨＰＬＣ純度９８．９％、ｍ．ｐ．１７１．６℃、
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）　δ１．２６－１．５８　（１２Ｈ，　ｍ），　２．５４　（４Ｈ，　ｔ），　２．８６　（２Ｈ，　ｑ），　３．２２－３．３０　（４Ｈ，　ｍ），　３．４９－３．５４　（２Ｈ，　ｍ），　４．１６　（２Ｈ，　ｔ），　７．５１－７．６１　（６Ｈ，　ｍ），　７．６６－７．７４　（８Ｈ，　ｍ），　７．８１　（２Ｈ，　ｄ），　７．８４　（２Ｈ，　ｄｄ），　７．９０　（２Ｈ，　ｄ），　７．９４－７．９９　（６Ｈ，　ｍ），　８．１４　（２Ｈ，　ｓ）
　実施例２の工程（ｉｖ）において、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（８８．９ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ６００ｍｌ、蒸留水２５ｍｌおよび濃塩酸７ｍｌを使用する代わりに、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔３－（ナフタレン－２－イル－）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（７２．５ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ５００ｍｌ、蒸留水２０ｍｌおよび濃塩酸５．７ｇを使用した以外は実施例２の工程（ｉｖ）に記載の操作に従い、目的物４１．５８ｇを得た。収率８７％。なお最終品の精製は、カラムクロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル／クロロホルム＝１／８⇒１／４）により実施した。ＨＰＬＣ純度９９．７％、ｍ．ｐ．１４３．１℃、
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）　δ：　２．５２　（４Ｈ，　ｔ），　３．１７　（４Ｈ，　ｑ），　７．５１－７．５４　（４Ｈ，　ｍ），　７．６０　（２Ｈ，　ｔ），　７．６７－７．６９　（２Ｈ，　ｍ），　　７．７４　（２Ｈ，　ｄｄ），　７．７６　（２Ｈ，　ｓ），　７．８２－７．９１　（６Ｈ，　ｍ），　７．９４－７．９９　（６Ｈ，　ｍ），　８．１４　（２Ｈ，　ｓ）
（実施例６）
９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジフェナントレン－９"－イル－９Ｈ－フルオレンの合成
　実施例２の工程（ｉｉｉ）において、２－ナフタレンボロン酸４７．２９ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、フェナントレン－９－イルボロン酸６１．０６ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用した以外は実施例２の工程（ｉｉｉ）に記載の操作に従い、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジフェナントレン９"－イル－９Ｈ－フルオレン７３．６２ｇを得た。収率７６％、ＨＰＬＣ純度９５．９％、粘調固体、
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）　δ１．３６－１．６４　（１２Ｈ，　ｍ），　２．５０　（４Ｈ，　ｔ），　２．９９　（２Ｈ，　ｑ），　３．３０－３．４３　（４Ｈ，　ｍ），　３．５８　（２Ｈ，　ｄｔ），　４．２９　（２Ｈ，　ｓ），　７．５７　（４Ｈ，　ｄ），　７．６３－７．７２　（８Ｈ，　ｍ），　７．７７　（２Ｈ，　ｓ），　７．９０　（２Ｈ，　ｄ），　７．９３－７．９５　（２Ｈ，　ｍ），　８．０３　（２Ｈ，　ｄ），　８．７９　（４Ｈ，　ｄｄ）
　実施例２の工程（ｉｖ）において、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（８８．９ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ６００ｍｌ、蒸留水２５ｍｌおよび濃塩酸７ｍｌを使用する代わりに、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジフェナントレン－９"－イル－９Ｈ－フルオレン７０．００ｇ（９０．３ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ６１０ｍｌ、蒸留水２５ｍｌおよび濃塩酸７ｍｌを使用した以外は、実施例２の工程（ｉｖ）に記載の操作に従い、目的物４８．２２ｇを得た。収率８８％。なお最終品の精製は、カラムクロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル／クロロホルム＝１／６⇒１／４）により実施した。ＨＰＬＣ純度９９．３％、ｍ．ｐ．２２６．９℃、
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）　δ２．４８　（４Ｈ，　ｔ），　３．３１　（４Ｈ，　ｑ），　７．５７－７．７３　（１２Ｈ，　ｍ），　７．７７　（２Ｈ，　ｓ），　７．９５　（６Ｈ，　ｄｄ），　　８．７９　（４Ｈ，　ｄｄ）
（実施例７）
９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレンの合成
　実施例２の工程（ｉｉｉ）において、２－ナフタレンボロン酸４７．２９ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、ジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェン－４－イルボロン酸６２．７２ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用した以外は実施例２の工程（ｉｉｉ）に記載の操作に従い、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン６８．８７ｇを得た。収率７０％、ＨＰＬＣ純度９９．１％、粘調固体、
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）　δ１．２８－１．４３　（１０Ｈ，　ｍ），　１．５５　（２Ｈ，　ｍ），　２．５６　（４Ｈ，　ｔ），　２．９５　（２Ｈ，　ｑ），　３．２２　（２Ｈ，　ｄｔ），　３．３７　（２Ｈ，　ｑ），　３．５２　（２Ｈ，　ｄｔ），　４．２０　（２Ｈ，　ｓ），　７．５１　（２Ｈ，　ｔ），　７．６８　（４Ｈ，　ｑ），　７．８５　（２Ｈ，　ｄ），　７．８２－７．８９　（２Ｈ，　ｍ），　８．１１－８．２４　（１０Ｈ，　ｍ）
　実施例２の工程（ｉｖ）において、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（８８．９ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ６００ｍｌ、蒸留水２５ｍｌおよび濃塩酸７ｍｌを使用する代わりに、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（７６．４ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ５００ｍｌ、蒸留水２０ｍｌおよび濃塩酸６．０ｍｌを使用した以外は実施例２の工程（ｉｖ）に記載の操作に従い、目的物４０．１０ｇを得た。収率８５％、ＨＰＬＣ純度９８．９％、ｍ．ｐ．２２３．６℃、
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）　δ２．３８　（４Ｈ，　ｔ），　２．９３　（４Ｈ，　ｄｔ），　４．２６　（２Ｈ，　ｔ），　７．５７　（４Ｈ，　ｄｄ），　７．６９－７．７１　（４Ｈ，　ｍ），　７．７９　（２Ｈ，　ｄ），　７．９７　（２Ｈ，　ｓ），　８．０４　（２Ｈ，　ｄｄ），　８．１０　（２Ｈ，　ｄ），　８．４３－８．４７　（４Ｈ，　ｄｄ）
（実施例８）
９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔４"－フェノキシフェニル〕－９Ｈ－フルオレンの合成
　実施例２の工程（ｉｉｉ）において、２－ナフタレンボロン酸４７．２９ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、４－フェノキシフェニルボロン酸５８．８６ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用した以外は実施例２の工程（ｉｉｉ）に記載の操作に従い、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔４－フェノキシフェニル〕－９Ｈ－フルオレン６８．３１ｇを得た。収率７２％、ＨＰＬＣ純度９８．８％、粘調固体、
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）　δ１．２４－１．５９　（１２Ｈ，　ｍ），　２．４８　（４Ｈ，　ｔ），　２．８１　（２Ｈ，　ｑ），　３．２０－３．２７　（４Ｈ，　ｍ），　３．４８－３．５４　（２Ｈ，　ｍ），　４．１４　（２Ｈ，　ｔ），　７．０７－７．１５　（１０Ｈ，　ｍ），　７．３７　（４Ｈ，　ｄｔ），　７．５５　（２Ｈ，　ｄ），　７．６０－７．６３　（６Ｈ，　ｍ），　７．７４　（２Ｈ，　ｄ）
　実施例２の工程（ｉｖ）において、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（８８．９ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ６００ｍｌ、蒸留水２５ｍｌおよび濃塩酸７ｍｌを使用する代わりに、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔４"－フェノキシフェニル〕－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（７９．１ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ５３０ｍｌ、蒸留水２２ｍｌおよび濃塩酸６．２ｍｌを使用した以外は実施例２の工程（ｉｖ）に記載の操作に従い、目的物３８．２９ｇを得た。収率８２％、ＨＰＬＣ純度９９．７％、ｍ．ｐ．１３４．１℃、
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）　δ２．３４　（４Ｈ，　ｔ），　２．７６　（４Ｈ，　ｑ），　４．１４　（２Ｈ，　ｔ），　７．０７－７．２０　（１０Ｈ，　ｍ），　７．４３　（４Ｈ，　ｔ），　７．６７　（２Ｈ，　ｄｄ），　７．８１　（６Ｈ，　ｔ），　７．９０　（２Ｈ，　ｄ）
（実施例９）
９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔４"－フェニルナフタレン－１"－イル〕－９Ｈ－フルオレンの合成
　実施例２の工程（ｉｉｉ）において、２－ナフタレンボロン酸４７．２９ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、４－フェニルナフタレン－１－イルボロン酸６８．２２ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用した以外は実施例２の工程（ｉｉｉ）に記載の操作に従い、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔４"－フェニルナフタレン－１"－イル〕－９Ｈ－フルオレン７３．４ｇを得た。収率７１％、ＨＰＬＣ純度９９．８％、ｍ．ｐ．２３０．３℃、
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）　δ１．３６－１．６１　（１２Ｈ，　ｍ），　２．５０　（４Ｈ，　ｔ），　２．９７　（２Ｈ，　ｑ），　３．３０　（２Ｈ，　ｄｔ），　３．３８　（２Ｈ，　ｑ），　３．５７　（２Ｈ，　ｄｔ），　４．２７　（２Ｈ，　ｓ），　７．４５－７．５８　（２０Ｈ，　ｍ），　７．６６　（２Ｈ，　ｓ），　７．８９　（２Ｈ，　ｄ），　７．９８－８．００　（２Ｈ，　ｍ），　８．０５－８．１０　（２Ｈ，　ｍ）
　実施例２の工程（ｉｖ）において、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（８８．９ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ６００ｍｌ、蒸留水２５ｍｌおよび濃塩酸７ｍｌを使用する代わりに、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔４"－フェニルナフタレン－１"－イル〕－９Ｈ－フルオレン７０．００ｇ（８４．６ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ５７０ｍｌ、蒸留水２４ｍｌおよび濃塩酸７．０ｍｌを使用した以外は実施例２の工程（ｉｖ）に記載の操作に従い、目的物４７．９５ｇを得た。収率８６％、ＨＰＬＣ純度９９．０％、ｍ．ｐ．２７１．４℃、
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）　δ２．３４　（４Ｈ，　ｔ），　２．９５　（４Ｈ，　ｄｔ），　４．２４　（２Ｈ，　ｔ），　７．５１－７．６３　（２０Ｈ，　ｍ），　７．７２　（２Ｈ，　ｓ），　７．９０－７．９３　（２Ｈ，　ｍ），　７．９９－８．０１　（２Ｈ，　ｍ），　８．０８　（２Ｈ，　ｄ）
（実施例１０）
９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔９"，９"－ジメチル－９"Ｈ－フルオレン－２"－イル〕－９Ｈ－フルオレンの合成
　実施例２の工程（ｉｉｉ）において、２－ナフタレンボロン酸４７．２９ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、９，９－ジメチル－９Ｈ－フルオレン－２－イルボロン酸６５．４７ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用した以外は実施例２の工程（ｉｉｉ）に記載の操作に従い、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔９"，９"－ジメチル－９"Ｈ－フルオレン－２"－イル〕－９Ｈ－フルオレン７６．６７ｇを得た。収率７６％、ＨＰＬＣ純度９１．０％、粘調固体、
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）　δ１．２５－１．５０　（１２Ｈ，　ｍ），　１．５８　（１２Ｈ，　ｓ），　２．５６　（４Ｈ，　ｔ），　２．８７　（２Ｈ，　ｑ），　３．２３－３．３２　（４Ｈ，　ｍ），　３．５１－３．５７　（２Ｈ，　ｍ），　４．１６　（２Ｈ，　ｔ），　７．３２－７．３９　（４Ｈ，　ｍ），　７．４７　（２Ｈ，　ｄｄ），　７．６２－７．６７　（４Ｈ，　ｍ），　７．６９－７．７２　（４Ｈ，　ｍ），　７．７６－７．８２　（６Ｈ，　ｍ）
　実施例２の工程（ｉｖ）において、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（８８．９ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ６００ｍｌ、蒸留水２５ｍｌおよび濃塩酸７ｍｌを使用する代わりに、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔９"，９"－ジメチル－９"Ｈ－フルオレン－２"－イル〕－９Ｈ－フルオレン７０．００ｇ（８９．７ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ５９０ｍｌ、蒸留水２４ｍｌおよび濃塩酸６．８ｍｌを使用した以外は実施例２の工程（ｉｖ）に記載の操作に従い、目的物４８．２１ｇを得た。収率８７％、ＨＰＬＣ純度９６．９％、ｍ．ｐ．２７２．３℃、
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）　δ１．５５　（１２Ｈ，　ｓ），　２．４２　（４Ｈ，　ｔ），　２．７９　（４Ｈ，　ｍ），　４．１８　（２Ｈ，　ｔ），　７．３３－７．４０　（４Ｈ，　ｍ），　７．５９　（２Ｈ，　ｄｄ），　７．７６－７．７９　（４Ｈ，　ｍ），　７．８８　（２Ｈ，　ｄ），　７．９５　（８Ｈ，　ｄｄ）
（実施例１１）
９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－１"イル－９Ｈ－フルオレンの合成
　実施例２の工程（ｉｉｉ）において、２－ナフタレンボロン酸４７．２９ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、１－ナフタレンルボロン酸４７．２９ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用した以外は実施例２の工程（ｉｉｉ）に記載の操作に従い、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフチル－１"－イル－９Ｈ－フルオレン６５．８０ｇを得た。収率７８％、ＨＰＬＣ純度９１．０％、粘調固体、
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）　δ１．１４－１．４６（ｍ、１２Ｈ）、２．４７（ｔ、４Ｈ）、２．９－３．６（ｍ、８Ｈ）、４．２（ｓ、２Ｈ）、７．５－８．１（ｍ、２０Ｈ）
　実施例２の工程（ｉｖ）において、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（８８．９ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフタレン－１"イル－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（８８．９ｍｍｏｌ）を使用した以外は実施例２の工程（ｉｖ）に記載の操作に従い、目的物３５．１３ｇを得た。収率７８％、ＨＰＬＣ純度９５．４％、粘調固体、
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）　δ２．３　（ｔ、４Ｈ），　２．９　（ｔ、４Ｈ），　４．２　（２，２Ｈ），　７．５－８．２（ｍ、２０Ｈ）
（比較合成例１）
　実施例１において、ナフタレン－２－ボロン酸を１９．１７ｇ（０．１１ｍｏｌ）使用する代わりに、フェニルボロン酸１３．４１ｇ（０．１１ｍｏｌ）を使用した以外は実施例１に記載の操作に従い、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジジフェニル－９Ｈ－フルオレン１９．９ｇを無色の結晶として得た。
２．ポリカーボネート樹脂の製造
（実施例１２）
　実施例１で得られた９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン２０．２６ｇ（４０ｍｍｏｌ）、ジフェニルカーボネート（以下、"ＤＰＣ"と略記することがある）８．５６ｇ（４０ｍｍｏｌ）および０．０２Ｍ－炭酸水素ナトリウム水溶液１５μＬ（３×１０－６モル）を留出装置付きの反応器に装入して、２４０℃、１００ｋＰａで１時間反応させた。その後、減圧度を１９ｋＰａに調整し２０分間反応させた後、同温度同圧力で７０分間反応させた。次に減圧度を１６ｋＰａに調整し、２０分間反応させ、さらに減圧度を１３ｋＰａに調整し２０分間反応させた後、４０分かけて減圧度を１３０Ｐａとし、同圧力で３０分間反応させて所定のトルクになったところで窒素ガスにより真空を放圧して、ポリカーボネート樹脂を抜き出した。
　得られたポリカーボネート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は３２３００であり、Ｔｇは１３５℃であった。
　このポリカーボネート樹脂の屈折率（ｎ６３３）は１．７６０８であった。
（比較例２）
　実施例１２において、実施例１で得られた９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン２０．２６ｇ（４０ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジフェニル－９Ｈ－フルオレン１６．２６ｇ（４０ｍｍｏｌ）を使用した以外は実施例１２に記載の操作にしたが、ポリカーボネート樹脂を得た。
　得られたポリカーボネート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は２８３００であり、Ｔｇは１１２℃であった。
　このポリカーボネート樹脂の屈折率（ｎ６３３）は１．６９５９であった。
（実施例１３）
　実施例２で得られた９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン２０．２６ｇ（４０ｍｍｏｌ）、ジフェニルカーボネート８．５６ｇ（４０ｍｍｏｌ）および０．０２Ｍ－炭酸水素ナトリウム水溶液１５μＬ（３×１０－６モル）を留出装置付きの反応器に装入して、２６０℃、１００ｋＰａで２０分間、２７０℃、１００ｋＰａで３０分間反応させた。その後、減圧度を２２ｋＰａに調整し２０分間反応させた後、同温度同圧力で６０分間反応させた。次に減圧度を１６ｋＰａに調整し、２０分間反応させ、さらに減圧度を１３ｋＰａに調整し２０分間反応させた後、４０分かけて減圧度を１３０Ｐａとし、同圧力で３０分間反応させて所定のトルクになったところで窒素ガスにより真空を放圧して、ポリカーボネート樹脂を抜き出した。
　得られたポリカーボネート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は４２５０であり、Ｔｇは１１５℃、Ｔｍが１７２℃（熱量：１．８７Ｊ／ｇ）の結晶性のポリマーであった。
　このポリカーボネート樹脂の屈折率（ｎ６３３）は１．７７０８であった。
（実施例１４）
　実施例３で得られた９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン２３．４６ｇ（４０ｍｍｏｌ），ＤＰＣ８．５６ｇ（４０ｍｍｏｌ）および０．０２Ｍ－炭酸水素ナトリウム水溶液１５μＬ（３×１０－６モル）を留出装置付きの反応器に装入して、２４０℃、１００ｋＰａで１時間反応させた。その後、減圧度を２２ｋＰａに調製し、２０分間反応させ、さらに減圧度を１３ｋＰａに調製し２０分間反応させた後、４０分間かけて減圧度を１３０Ｐａとし、同圧力で３０分間反応させて所定のトルクになったところで窒素ガスにより真空を放圧して、ポリカーボネート樹脂を抜き出した。
　得られたポリカーボネート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は８４３０であり、Ｔｇは１１８℃であった。
　このポリカーボネート樹脂の屈折率（ｎ６３３）は１．７３０であった。
（実施例１５）
　実施例１４において、実施例３で得られた９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン２３．４６ｇ（４０ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、実施例５で得られた９，９－ビス（２'－ジドロキシエチル）－２，７－ビス〔３－（ナフタレン－２－イル－）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン２６．３５ｇ（４０ｍｍｏｌ）を使用した以外は、実施例１４に記載の操作に従いポリカーボネート樹脂を製造した。
　得られたポリカーボネート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は５２４０であり、Ｔｇは１０５℃であった。
　このポリカーボネート樹脂の屈折率（ｎ６３３）は１．７３５であった。
（実施例１６）
　実施例１４において、実施例３で得られた９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン２３．４６ｇ（４０ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、実施例６で得られた９，９－ビス（２'－ジドロキシエチル）－２，７－ジフェナントレン－９"－イル－９Ｈ－フルオレン２４．２７ｇ（４０ｍｍｏｌ）を使用した以外は、実施例１４に記載の操作に従いポリカーボネート樹脂を製造した。
　得られたポリカーボネート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は５５５０であり、Ｔｇは１２６℃であった。
　このポリカーボネート樹脂の屈折率（ｎ６３３）は１．７１８であった。
（実施例１７）
　実施例１４において、実施例３で得られた９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン２３．４６ｇ（４０ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、実施例８で得られた９，９－ビス（２'－ジドロキシエチル）－２，７－ビス（４"－フェノキシフェニル）－９Ｈ－フルオレン２３．６３ｇ（４０ｍｍｏｌ）を使用した以外は、実施例１４に記載の操作に従いポリカーボネート樹脂を製造した。
　得られたポリカーボネート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は４８７０であり、Ｔｇは６７℃であった。
　このポリカーボネート樹脂の屈折率（ｎ６３３）は１．７１５であった。
（実施例１８）
　実施例１４において、実施例３で得られた９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン２３．４６ｇ（４０ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、実施例９で得られた９，９－ビス（２'－ジドロキシエチル）－２，７－ビス（４"―フェニルナフタレン－１"－イル）－９Ｈ－フルオレン２６．３５ｇ（４０ｍｍｏｌ）を使用した以外は、実施例１４に記載の操作に従いポリカーボネート樹脂を製造した。
　得られたポリカーボネート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は６１７０であり、Ｔｇは１２２℃であり、Ｔｍが２７３℃（熱量：８．８２Ｊ／ｇ）の結晶性のポリマーであった。
　このポリカーボネート樹脂の屈折率（ｎ６３３）は１．７９６であった。
（実施例１９）
　実施例２で得られた９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－２"イル－９Ｈ－フルオレン４．０４ｇ（８ｍｍｏｌ）、９，９－ビス〔４'－（２"－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン１０．５２ｇ（２４ｍｍｏｌ）、ビスフェノールＡ１．３２ｇ（８ｍｍｏｌ）、ＤＰＣ８．５７ｇ（４０ｍｍｏｌ）および０．０２Ｍ－炭酸水素ナトリウム水溶液１５μＬ（３×１０－６モル）を留出装置付きの反応器に装入して、２４０℃、１００ｋＰａで１時間反応させた。その後、減圧度を２２ｋＰａに調製し、２０分間反応させ、さらに減圧度を１３ｋＰａに調製し２０分間反応させた後、４０分間かけて減圧度を１３０Ｐａとし、同圧力で３０分間反応させて所定のトルクになったところで窒素ガスにより真空を放圧して、ポリカーボネート樹脂を抜き出した。
　得られたポリカーボネート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は３２５００であり、Ｔｇは１３９℃であった。
　このポリカーボネート樹脂の屈折率（ｎ６３３）は１．７１３であった。
　また、２５０℃で熱プレスしたポリカーボネート樹脂の５００μｍ厚のシートの全光線透過率は８２％であった。
　（実施例２０）
　実施例４で得られた９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔４－（ナフタレン－２－イル－）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン４．００ｇ（６ｍｍｏｌ）、９，９ビス〔４'－（２"－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン７．９８ｇ（１８ｍｍｏｌ）、ビスフェノールＡ１．３９ｇ（６ｍｍｏｌ）、ＤＰＣ６．５５ｇ（３０ｍｍｏｌ）および０．０２Ｍ－炭酸水素ナトリウム水溶液１０μＬ（２×１０－６ｍｏｌ）を留出装置付きの反応器に装入して、２７０℃、１００ｋＰａで１時間反応させた。その後、減圧度を２２ｋＰａに調製し、２０分間反応させ、さらに減圧度を１３ｋＰａに調製し２０分間反応させた後４０分間かけて減圧度を１３０Ｐａとし、同圧力で７０分間反応させて所定のトルクになったところで窒素ガスにより真空を放圧して、ポリカーボネート樹脂を抜き出した。
　得られたポリカーボネート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は２７８００であり、Ｔｇは１５７℃であった。ポリカーボネート樹脂の外観は無色透明であった。
　（実施例２１）
　実施例２で得られた９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－２"イル－９Ｈ－フルオレン３．０３７５ｇ（６ｍｍｏｌ）、９，９－ビス〔４'－（２"－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン６．１３８０ｇ（１４ｍｍｏｌ）、２，６－ナフタレンジカルボン酸ジメチルエステル４．８８５０ｇ（８ｍｍｏｌ）およびチタンテトライソプロポキシド３．７μｌ（Ｔｉとして５０ｐｐｍ）からなる混合物を留出装置付きの反応器に装入して、２８０℃、１００ｋＰａで１時間反応させた。その後、減圧度を２０ｋＰａに調製し、２０分間反応させ、さらに減圧度を１３ｋＰａに調製し、２０分間反応させた後、３０分間かけて減圧度を１３０Ｐａとし、同圧力で３０分間反応させて、所定のトルクになったところで窒素ガスにより真空を放圧して、ポリエステル樹脂を抜き出した。
　得られたポリエステル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は６３００であり、Ｔｇは１１８℃であった。
　以上より、本実施形態に係る一般式（１）で表される化合物より得られるポリカーボネート樹脂は、高屈折率を有することが理解できる。
　この出願は、２０２０年７月２８日に出願された日本出願特願２０２０－１２７２２１号を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。

Claims (8)

  1. 　一般式（１）で表される化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     （一般式（１）中、Ａｒ１およびＡｒ２は、独立して、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     から選ばれる基を表し、Ｒ１～Ｒ６は、水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、Ａ１～Ａ５およびＢ１～Ｂ５は、水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、Ａ１～Ａ５の少なくとも一つは－Ｙ１－Ａｒ３基であり、Ｂ１～Ｂ５の少なくとも一つは－Ｙ２－Ａｒ４基であり、Ｙ１およびＹ２は単結合または連結基を表し、Ａｒ３およびＡｒ４は芳香族基を表し、Ｘ１～Ｘ４は－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ'－または－Ｃ（Ｍｅ）２－であり、Ｚ１～Ｚ４は水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、Ｒ'は水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、ｏおよびｐは１～４の整数を表す）。
  2. 　前記一般式（１）中のｏおよびｐは、２である、請求項１に記載の化合物。
  3. 　前記一般式（１）中のＡｒ１およびＡｒ２は、独立して、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     から選ばれる基を表し、Ｒ１～Ｒ６は、水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、ｏおよびｐは１～４の整数を表す、
    　請求項１または２に記載の化合物。
  4. 　請求項１～３のいずれか一項に記載の一般式（１）で表される化合物を重合してなる樹脂。
  5. 　請求項１～３のいずれか一項に記載の一般式（１）で表される化合物から誘導されるポリカーボネート樹脂。
  6. 　請求項４または５に記載の樹脂を含む光学成形体。
  7. 　光学レンズである請求項６に記載の光学成形体。
  8. 　光学フィルムである請求項６に記載の光学成形体。
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