WO2022003870A1 - 加工システム及び光学装置 - Google Patents

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WO2022003870A1
WO2022003870A1 PCT/JP2020/025862 JP2020025862W WO2022003870A1 WO 2022003870 A1 WO2022003870 A1 WO 2022003870A1 JP 2020025862 W JP2020025862 W JP 2020025862W WO 2022003870 A1 WO2022003870 A1 WO 2022003870A1
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WO
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optical system
processing
optical
energy beam
processing system
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PCT/JP2020/025862
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English (en)
French (fr)
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俊光 倉見
和樹 上野
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株式会社ニコン
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    • Y02P10/00Technologies related to metal processing
    • Y02P10/25Process efficiency

Definitions

  • the present invention relates to, for example, a processing system capable of forming a modeled object and a technical field of an optical device used in the processing system.
  • Patent Document 1 describes an example of a processing system capable of forming a modeled object.
  • One of the technical problems of such a processing system is to appropriately form a modeled object.
  • a first optical system that concentrates an energy beam at a first irradiation position and a material supply capable of supplying a modeling material to the first irradiation position.
  • the model can be formed by irradiating the model material supplied by the material supply device with the energy beam from the first optical system, and can form the model from the first optical system.
  • a processing system for processing the modeled object by irradiating the surface of the modeled object with the energy beam by a second optical system is provided.
  • a first optical system for irradiating an object with an energy beam a first accommodating member accommodating the first optical system, and modeling at an irradiation position of the energy beam from the first optical system.
  • a processing system comprising a material supply device for supplying materials and a second accommodating member for accommodating a second optical system for condensing an energy beam from the first optical system, which can be attached to the first accommodating member, is provided. The optics.
  • a first optical system for irradiating an object with an energy beam a first accommodating member accommodating the first optical system, and modeling at an irradiation position of the energy beam from the first optical system.
  • the first accommodating member includes a material supply device for supplying the material, and the first accommodating member includes a second accommodating member accommodating a second optical system that collects an energy beam from the first optical system.
  • a machining system is provided in which a mounting portion for mounting is formed.
  • a first optical system for irradiating an object with an energy beam and a first accommodation member for accommodating the first optical system are provided, and the first accommodation member includes the first optical system.
  • a processing system in which an attachment portion for attaching a second accommodating member accommodating a second optical system for condensing an energy beam from the above to the first accommodating member is formed.
  • the first optical system that concentrates the energy beam to the first irradiation position and the material supply device that can supply the modeling material to the first irradiation position are provided, and the modeling is performed by the material supply device.
  • An optical device having a second optical system for irradiating the surface to process the modeled object is provided.
  • FIG. 6 (a) to 6 (c) is a cross-sectional view showing a state of a surface to be machined in the process of performing a melting operation (smoothing operation).
  • 7 (a) to 7 (b) are cross-sectional views showing the relative positional relationship between the condensing surface and the surface to be processed.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view showing the structure of the first head device.
  • FIG. 9 is a cross-sectional view showing an optical path of processing light and a flow path of purge gas in the first head device.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view showing the structure of the second head device.
  • FIG. 11 shows an optical path of processing light in the first head device.
  • FIG. 12 shows the flow path of the purge gas in the second head device.
  • FIG. 13 is a transmission perspective view showing an example of a cylindrical member in which a purge gas supply path is formed.
  • FIG. 14 is a cross-sectional view showing an example of a cylindrical member in which a purge gas supply path is formed.
  • FIG. 15 is a cross-sectional view showing a second head device that emits processing light for processing a three-dimensional structure having a tubular shape, together with the three-dimensional structure.
  • FIG. 16 is a transmission perspective view showing a three-dimensional structure in which a cylindrical void is formed.
  • FIG. 17 is a cross-sectional view showing the processing light emitted to the inner wall surface of the three-dimensional structure in which the tubular void is formed.
  • FIG. 18 is a cross-sectional view showing the processing light emitted to the inner wall surface of the three-dimensional structure in which the tubular void is formed.
  • FIG. 19 is a cross-sectional view showing the structure of a modified example of the second head device.
  • FIG. 20 is a cross-sectional view showing an optical path of processing light in a modified example of the second head device.
  • FIG. 21 is a cross-sectional view showing an optical path of processing light in a modified example of the second head device.
  • FIG. 22 is a cross-sectional view showing the structure of a modified example of the processing system.
  • the processing system SYS of the present embodiment is a processing system capable of forming a three-dimensional structure ST, which is a specific example of a "modeled object", by performing additional processing.
  • the processing system SYS can form a three-dimensional structure ST by performing additional processing based on, for example, a laser overlay welding method (LMD: Laser Metal Deposition).
  • LMD Laser Metal Deposition
  • the laser overlay welding method (LMD) includes direct metal deposition, direct energy deposition, laser cladding, laser engineered net shaping, direct light fabrication, and laser consolidation.
  • Shape Deposition Manufacturing Wire-Feed Laser Deposition, Gas Through Wire, Laser Powder Fusion, Laser Metal Forming, Selective Laser Powder Remelting, Laser Direct It may also be referred to as casting, laser powder deposition, laser additive manufacturing, or laser rapid forming.
  • each of the X-axis direction and the Y-axis direction is a horizontal direction (that is, a predetermined direction in the horizontal plane), and the Z-axis direction is a vertical direction (that is, a direction orthogonal to the horizontal plane). Yes, it is assumed that it is substantially in the vertical direction or the gravity direction).
  • the rotation directions (in other words, the inclination direction) around the X-axis, the Y-axis, and the Z-axis are referred to as the ⁇ X direction, the ⁇ Y direction, and the ⁇ Z direction, respectively.
  • the Z-axis direction may be the direction of gravity.
  • the XY plane may be horizontal.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the structure of the processing system SYS of the present embodiment.
  • FIG. 2 is a system configuration diagram showing an example of the system configuration of the machining system SYS of the present embodiment.
  • the machining system SYS is a three-dimensional structure (that is, a three-dimensional object having a size in any of the three-dimensional directions, and is a three-dimensional object, in other words, in the X-axis direction, the Y-axis direction, and the Z-axis direction. It is possible to perform a modeling operation to form an object with a size) ST.
  • the processing system SYS can form the three-dimensional structure ST on the work W which is the basis (that is, the base material) for forming the three-dimensional structure ST.
  • the processing system SYS can form a three-dimensional structure ST by performing additional processing on the work W.
  • the work W is the stage 31, which will be described later, the machining system SYS can form the three-dimensional structure ST on the stage 31.
  • the machining system SYS forms a three-dimensional structure ST on the existing structure. It may be possible. In this case, the machining system SYS may form a three-dimensional structure ST integrated with the existing structure.
  • the operation of forming the three-dimensional structure ST integrated with the existing structure can be regarded as equivalent to the operation of adding a new structure to the existing structure.
  • the existing structure may be, for example, a repair-required product having a defective portion.
  • the processing system SYS may form a three-dimensional structure ST on the repair-required product so as to fill the defective portion of the repair-required product.
  • the machining system SYS may form a three-dimensional structure ST that is separable from the existing structure.
  • FIG. 1 shows an example in which the work W is an existing structure held by the stage 31. Further, in the following, the description will be advanced by using an example in which the work W is an existing structure held by the stage 31.
  • the processing system SYS processes the modeling material M with the processing optical EL to form the three-dimensional structure ST.
  • the modeling material M is a material that can be melted by irradiation with a processing light EL having a predetermined intensity or higher.
  • a modeling material M for example, at least one of a metallic material and a resinous material can be used.
  • the modeling material M other materials different from the metallic material and the resin material may be used.
  • the modeling material M is a powdery or granular material. That is, the modeling material M is a powder or granular material. However, the modeling material M does not have to be a powder or granular material.
  • the modeling material M at least one of a wire-shaped modeling material and a gaseous modeling material may be used.
  • the processing system SYS further processes the 3D structure ST formed by the modeling operation (that is, by additional processing) in addition to or in place of the modeling operation for forming the 3D structure ST. It is possible to perform processing operations for this purpose.
  • the processing system SYS may process the three-dimensional structure ST by irradiating the three-dimensional structure ST formed by the modeling operation with the processing light EL used for performing the modeling operation.
  • the processing system SYS has a material supply as shown in FIGS. 1 and 2. It includes a source 1, a processing unit 2, a stage unit 3, a light source 4, a gas supply device 5, a housing 6, and a control device 7. At least a part of each of the processing unit 2 and the stage unit 3 is housed in the chamber space 63IN inside the housing 6.
  • the material supply source 1 supplies the modeling material M to the processing unit 2.
  • the material supply source 1 is a desired amount of modeling according to the required amount so that the modeling material M required per unit time for forming the three-dimensional structure ST is supplied to the processing unit 2. Supply material M.
  • the processing unit 2 processes the modeling material M supplied from the material supply source 1 to form the three-dimensional structure ST.
  • the machining unit 2 includes a machining head 21 and a head drive system 22.
  • the processing head 21 includes an irradiation optical system 211, a material nozzle (that is, a supply system for supplying the modeling material M) 212, a return light detector 213, a lens barrel 214, and a head housing 215. ..
  • FIG. 3 which is a cross-sectional view showing the structure of the machining head 21 is also referred to as appropriate.
  • the processing head 21 and the head drive system 22 are housed in the chamber space 63IN. However, at least a part of the processing head 21 and / or the head drive system 22 may be arranged in the external space 64OUT, which is the space outside the housing 6.
  • the external space 64OUT may be a space accessible to the operator of the processing system SYS.
  • the irradiation optical system 211 is an optical system for emitting processed light EL. Specifically, the irradiation optical system 211 is optically connected to a light source 4 that emits processed light EL via an optical transmission member 41 including at least one such as an optical fiber and a light pipe. The irradiation optical system 211 emits processed light EL propagating from the light source 4 via the optical transmission member 41. The irradiation optical system 211 irradiates the processed light EL downward (that is, the ⁇ Z side) from the irradiation optical system 211. Therefore, the optical axis AX of the irradiation optical system 211 may be an axis along the Z axis.
  • a stage 31 is arranged below the irradiation optical system 211.
  • the irradiation optical system 211 irradiates the work W, which is an object, with the processing light EL.
  • the irradiation optical system 211 is processed into a target irradiation area EA set on the work W or in the vicinity of the work W as a region to be irradiated (typically focused) with the processed light EL. It is possible to irradiate optical EL. That is, the irradiation optical system 211 irradiates the processed light EL to the position where the target irradiation region EA is set.
  • the state of the irradiation optical system 211 can be switched between a state in which the target irradiation area EA is irradiated with the processing light EL and a state in which the target irradiation area EA is not irradiated with the processing light EL under the control of the control device 7.
  • the direction of the processed light EL emitted from the irradiation optical system 211 is not limited to directly below (that is, coincides with the ⁇ Z axis direction), and is, for example, a direction tilted by a predetermined angle with respect to the Z axis. May be good.
  • the irradiation optical system 211 may condense the processed light EL emitted toward the work W on the condensing surface 211FP intersecting the optical axis AX. Therefore, the irradiation optical system 211 may be referred to as a condensing optical system.
  • the light collecting surface 211FP is typically set on or near the work W. Therefore, the above-mentioned target irradiation region EA set on the work W or in the vicinity of the work W may be set on the condensing surface 211FP. That is, the target irradiation region EA and the condensing surface 211FP may at least partially overlap.
  • the irradiation optical system 211 may be regarded as irradiating the processed light EL at the position where the condensing surface 211FP is set.
  • the condensing surface 211FP is typically set at the rear focal position of the irradiation optical system 211.
  • the irradiation optical system 211 is housed in the internal space 2141 of the lens barrel 214. That is, the lens barrel 214 is included in the internal space 2141 of the irradiation optical system 211. Therefore, the lens barrel 214 may be referred to as an accommodating member.
  • the lens barrel 214 may hold the irradiation optical system 211 housed in the internal space 2141.
  • the lens barrel 214 is formed with an ejection port 2142 which is an opening into which the processed light EL emitted from the irradiation optical system 211 can be emitted. Therefore, the irradiation optical system 211 emits the processed light EL from the inside of the lens barrel 214 toward the outside of the lens barrel 214 through the ejection port 2142.
  • the lens barrel 214 is further housed in the head housing 215.
  • the irradiation optical system 211 may be considered to be housed in the head housing 215. Therefore, the head housing 215 may also be referred to as an accommodating member.
  • the lens barrel 214 is arranged so that at least the ejection port 2142 is exposed to the outside of the head housing 215. As a result, even if the lens barrel 214 is housed in the head housing 215, the irradiation optical system 211 is directed toward the outside of the lens barrel 214 (further, the outside of the head housing 215) via the ejection port 2142.
  • the processed optical EL can be emitted.
  • the head housing 215 and the lens barrel 214 may be integrated. Alternatively, the processing head 21 does not have to include the head housing 215. In this case, the lens barrel 214 may be used as the head housing 215.
  • the head device 23 (see, for example, FIGS. 8 and 10) described in detail later can be attached to and detached from the lens barrel 214. That is, an external head device 23 can be attached to the lens barrel 214, and the head device 23 attached to the lens barrel 214 can be removed from the lens barrel 214. Since the lens barrel 214 constitutes the processing system SYS, the head device 23 may be considered to be removable from the processing system SYS. However, the head device 23 may be fixed to the lens barrel 214. That is, the head device 23 does not have to be removable from the lens barrel 214.
  • the lens barrel 214 is formed with a mounting portion 2143 that can be used to mount the head device 23 to the lens barrel 214.
  • the mounting portion 2143 may include, for example, a member to which at least a part of the head device 23 is fitted.
  • the mounting portion 2143 may include a protruding member protruding from the periphery (in the example shown in FIG. 3, protruding downward).
  • the projecting member is formed so as to surround the injection port 2142.
  • the mounting portion 2143 may include a member capable of applying a force for mounting the head device 23 to the lens barrel 214 to the head device 23.
  • the mounting portion 2143 may include at least one of a vacuum chuck capable of sucking the head device 23 using negative pressure and an electrostatic chuck capable of sucking the head device 23 using electrostatic force.
  • the head housing 215 includes a mounting portion 2143 for mounting the detachable head device 23 to the head housing 215.
  • the lens barrel 214 includes a mounting portion 2143 to which at least a part of the head device 23 is fitted (that is, an example shown in FIG. 3) will be described.
  • a material nozzle 212 is further attached to the head housing 215.
  • two material nozzles 212 are attached to the head housing 215.
  • one material nozzle 212 may be attached to the head housing 215, or three or more material nozzles 212 may be attached.
  • the material nozzle 212 may be attached to the lens barrel 214 (or any other support member).
  • the material nozzle 212 is formed with a material supply port 2121 which is an opening.
  • the material nozzle 212 supplies the molding material M from the material supply port 2121 (for example, ejecting, injecting, ejecting, or spraying).
  • the material nozzle 212 is physically connected to the material supply source 1 which is the supply source of the modeling material M via the supply pipe 11 and the mixing device 12.
  • the material nozzle 212 supplies the modeling material M supplied from the material supply source 1 via the supply pipe 11 and the mixing device 12.
  • the material nozzle 212 may pump the modeling material M supplied from the material supply source 1 via the supply pipe 11.
  • the modeling material M from the material supply source 1 and the transporting gas (that is, the pumping gas, that is, an inert gas containing at least one such as nitrogen and argon) were mixed by the mixing device 12. It may later be pumped to the material nozzle 212 via the supply pipe 11. As a result, the material nozzle 212 supplies the modeling material M together with the conveying gas.
  • the transporting gas for example, purge gas supplied from the gas supply device 5 is used.
  • a gas supplied from a gas supply device different from the gas supply device 5 may be used.
  • the material nozzle 212 is drawn in a tubular shape in FIGS. 1 and 3, the shape of the material nozzle 212 is not limited to this shape.
  • the material nozzle 212 supplies the modeling material M downward (that is, the ⁇ Z side) from the material nozzle 212.
  • a stage 31 is arranged below the material nozzle 212.
  • the material nozzle 212 supplies the modeling material M toward the work W or the vicinity of the work W.
  • the traveling direction of the modeling material M supplied from the material nozzle 212 is a direction tilted by a predetermined angle (an acute angle as an example) with respect to the Z-axis direction, but even if it is on the ⁇ Z side (that is, directly below). good.
  • the distance between each of the plurality of material supply ports 2121 in the direction along the optical axis AX of the irradiation optical system 211 and the condensing surface 211FP is the same. You may.
  • the material nozzle 212 is positioned with respect to the irradiation optical system 211 so that the modeling material M is supplied toward the position where the irradiation optical system 211 irradiates the processed light EL (that is, the target irradiation region EA). It is matched. That is, the target supply region MA and the target irradiation region EA, which are set on or near the work W as the region where the material nozzle 212 supplies the modeling material M, coincide with (or at least partially overlap). As described above, the material nozzle 212 and the irradiation optical system 211 are aligned with each other.
  • the material nozzle 212 and the irradiation optical system 211 are provided so that the material nozzle 212 supplies the modeling material M to the molten pool MP (see FIG. 4) which will be described later and is formed by the processed light EL emitted from the irradiation optical system 211. May be aligned.
  • the material nozzle 212 does not have to supply the material to the molten pool MP.
  • the modeling material M may be melted by the irradiation optical system 211 before the modeling material M from the material nozzle 212 reaches the work W, and the melted modeling material M may be attached to the work W. ..
  • the return light detector 213 can detect the return light from the work W irradiated with the processing light EL.
  • the return light may include the reflected light of the processing light EL from the work W.
  • the return light may include scattered light of the processed light EL from the work W.
  • the return light may include the transmitted light of the processing light EL from the work W.
  • the detection result of the processed light EL by the return light detector 213 is output from the return light detector 213 to the control device 7. The use of the detection result of the processed light EL by the return light detector 213 will be described in detail later. However, the processing head 21 does not have to include the return light detector 213.
  • the head drive system 22 moves the processing head 21.
  • the head drive system 22 moves the machining head 21 along at least one of the X-axis, the Y-axis, the Z-axis, the ⁇ X direction, the ⁇ Y direction, and the ⁇ Z direction, for example.
  • the head drive system 22 moves the machining head 21
  • the relative position between the machining head 21 and the stage 31 changes.
  • the work W is placed on the stage 31, the relative position between the processing head 21 and the work W changes.
  • the three-dimensional structure ST is formed on the work W placed on the stage 31, the relative position between the machining head 21 and the three-dimensional structure ST changes.
  • the head drive system 22 may function as a position changing device for changing the relative positional relationship between the machining head 21, the stage 31, the work W, and the three-dimensional structure ST. Further, since the processing head 21 includes the irradiation optical system 211, the irradiation optical system 211 moves with the movement of the processing head 21. Therefore, the head drive system 22 may function as a position changing device for changing the relative positional relationship between the irradiation optical system 211 and each of the stage 31, the work W, and the three-dimensional structure ST. Further, as described above, when the head device 23 is attached to the lens barrel 214 of the processing head 21, the head device 23 moves with the movement of the processing head 21. Therefore, the head drive system 22 may function as a position changing device for changing the relative positional relationship between the head device 23 and each of the stage 31, the work W, and the three-dimensional structure ST.
  • the stage unit 3 is equipped with a stage 31.
  • the stage 31 is housed in the chamber space 63IN.
  • the work W can be placed on the stage 31.
  • the stage 31 may be able to hold the work W placed on the stage 31.
  • the stage 31 may include at least one of a mechanical chuck, an electrostatic chuck, a vacuum suction chuck, and the like in order to hold the work W.
  • the stage 31 may not be able to hold the work W placed on the stage 31.
  • the work W may be mounted on the stage 31 without a clamp. Since the stage 31 is housed in the chamber space 63IN, the work W supported by the stage 31 is also housed in the chamber space 63IN.
  • the stage 31 can release the held work W when the work W is held.
  • the irradiation optical system 211 described above irradiates the processed light EL at least a part of the period in which the work W is placed on the stage 31.
  • the material nozzle 212 described above supplies the modeling material M for at least a part of the period in which the work W is placed on the stage 31.
  • the stage drive system 32 moves the stage 31.
  • the stage drive system 32 moves the stage 31 along at least one of the X-axis, the Y-axis, the Z-axis, the ⁇ X direction, the ⁇ Y direction, and the ⁇ Z direction, for example.
  • the stage drive system 32 is a position for changing the relative positional relationship between the processing head 21 and each of the stage 31, the work W, and the three-dimensional structure ST, similarly to the head drive system 22 described above. It may function as a changing device.
  • the stage drive system 32 serves as a position change device for changing the relative positional relationship between the head device 23 and each of the stage 31, the work W, and the three-dimensional structure ST. It may work.
  • the light source 4 emits, for example, at least one of infrared light, visible light, and ultraviolet light as processed light EL.
  • the processed light EL may include a plurality of pulsed lights (that is, a plurality of pulse beams).
  • the processed light EL may include continuous light (CW: Continuous Wave).
  • the processed light EL may be a laser beam.
  • the light source 4 may include a semiconductor laser such as a laser light source (for example, a laser diode (LD)).
  • the laser light source may be a fiber laser, a CO 2 laser, a YAG laser, an excima laser, or the like. At least one of them may be included.
  • the processed light EL does not have to be a laser light.
  • the light source 4 is at least one of any light sources (for example, LED (Light Emitting Diode), discharge lamp, and the like. One) may be included.
  • the gas supply device 5 is a supply source of purge gas for purging the chamber space 63IN.
  • the purge gas contains an inert gas.
  • the inert gas As an example of the inert gas, at least one of nitrogen gas and argon gas can be mentioned.
  • the gas supply device 5 is connected to the chamber space 63IN via a supply port 62 formed in the partition member 61 of the housing 6 and a supply pipe 51 connecting the gas supply device 5 and the supply port 62.
  • the gas supply device 5 supplies purge gas to the chamber space 63IN via the supply pipe 51 and the supply port 62.
  • the chamber space 63IN becomes a space purged by the purge gas.
  • the purge gas supplied to the chamber space 63IN may be discharged from a discharge port (not shown) formed in the partition wall member 61.
  • the gas supply device 5 may be a cylinder in which the inert gas is stored.
  • the gas supply device 5 may be a nitrogen gas generator that generates nitrogen gas from the atmosphere as a raw material.
  • the purge gas from the gas supply device 5 may be supplied to the internal space 2141 of the lens barrel 214. Since the irradiation optical system 211 is housed in the internal space 2141, the gas supply device 5 may supply purge gas to the irradiation optical system 211. The purge gas supplied to the irradiation optical system 211 may be used to cool the irradiation optical system 211. The purge gas supplied to the irradiation optical system 211 may be used to prevent unnecessary substances from adhering to the irradiation optical system 211. The unnecessary substance may contain, for example, a fume generated by irradiation of the work W with the processing light EL.
  • the unnecessary substance may contain, for example, at least a part of the modeling material M supplied from the material nozzle 212 (particularly, the modeling material M not used for forming the three-dimensional structure ST).
  • the purge gas supplied to the irradiation optical system 211 may flow out from the inside of the lens barrel 214 toward the outside of the lens barrel 214 through the injection port 2142 of the lens barrel 214.
  • the gas supply device 5 is supplied to the mixing device 12 to which the modeling material M from the material supply source 1 is supplied in addition to the chamber space 63IN.
  • Purge gas may be supplied.
  • the gas supply device 5 may be connected to the mixing device 12 via a supply pipe 52 connecting the gas supply device 5 and the mixing device 12.
  • the gas supply device 5 supplies the purge gas to the mixing device 12 via the supply pipe 52.
  • the modeling material M from the material supply source 1 is supplied toward the material nozzle 212 through the supply pipe 11 by the purge gas supplied from the gas supply device 5 via the supply pipe 52 (specifically,). , Pumped).
  • the gas supply device 5 may be connected to the material nozzle 212 via the supply pipe 52, the mixing device 12, and the supply pipe 11.
  • the material nozzle 212 supplies the modeling material M together with the purge gas for pumping the modeling material M from the material supply port 2121.
  • the housing 6 is a storage device that accommodates at least a part of each of the processing unit 2 and the stage unit 3 in the chamber space 63IN, which is the internal space of the housing 6.
  • the housing 6 includes a partition member 61 that defines the chamber space 63IN.
  • the partition wall member 61 is a member that separates the chamber space 63IN and the external space 64OUT of the housing 6.
  • the partition member 61 faces the chamber space 63IN via its inner wall surface 611, and faces the outer space 64OUT via its outer wall surface 612. In this case, the space surrounded by the partition wall member 61 (more specifically, the space surrounded by the inner wall surface 611 of the partition wall member 61) becomes the chamber space 63IN.
  • the partition wall member 61 may be provided with a door that can be opened and closed. This door may be opened when the work W is placed on the stage 31. The door may be opened when the work W and / or the three-dimensional structure ST is taken out from the stage 31. The door may be closed during each of the modeling and processing operations.
  • An observation window (not shown) for visually recognizing the chamber space 63IN from the external space 64OUT of the housing 6 may be formed on the partition wall member 61.
  • the control device 7 controls the operation of the machining system SYS.
  • the control device 7 may include, for example, an arithmetic unit and a storage device.
  • the arithmetic unit may include, for example, at least one of a CPU (Central Processing Unit) and a GPU (Graphics Processing Unit).
  • the storage device may include, for example, a memory.
  • the control device 7 functions as a device that controls the operation of the machining system SYS by executing a computer program by the arithmetic unit.
  • This computer program is a computer program for causing the arithmetic unit to perform (that is, execute) the operation described later to be performed by the control device 7.
  • this computer program is a computer program for making the control device 7 function so that the processing system SYS performs the operation described later.
  • the computer program executed by the arithmetic unit may be recorded in a storage device (that is, a recording medium) included in the control device 7, or may be stored in any storage device built in the control device 7 or externally attached to the control device 7. It may be recorded on a medium (for example, a hard disk or a semiconductor memory). Alternatively, the arithmetic unit may download the computer program to be executed from an external device of the control device 7 via the network interface.
  • the control device 7 may control the emission mode of the processed light EL by the irradiation optical system 211.
  • the injection mode may include, for example, at least one of the intensity of the processed light EL and the injection timing of the processed light EL.
  • the emission mode is, for example, the emission time of the pulsed light, the emission cycle of the pulsed light, and the ratio of the emission time of the pulsed light to the emission period of the pulsed light. It may contain at least one (so-called duty ratio).
  • the control device 7 may control the movement mode of the machining head 21 by the head drive system 22.
  • the control device 7 may control the movement mode of the stage 31 by the stage drive system 32.
  • the movement mode may include, for example, at least one of a movement amount, a movement speed, a movement direction, and a movement timing (movement timing). Further, the control device 7 may control the supply mode of the modeling material M by the material nozzle 212.
  • the supply mode may include, for example, at least one of a supply amount (particularly, a supply amount per unit time) and a supply timing (supply timing).
  • the control device 7 does not have to be provided inside the processing system SYS.
  • the control device 7 may be provided as a server or the like outside the processing system SYS.
  • the control device 7 and the processing system SYS may be connected by a wired and / or wireless network (or a data bus and / or a communication line).
  • a wired network for example, a network using a serial bus type interface represented by at least one of IEEE1394, RS-232x, RS-422, RS-423, RS-485 and USB may be used.
  • a network using a parallel bus interface may be used.
  • a network using an Ethernet (registered trademark) compliant interface represented by at least one of 10BASE-T, 100BASE-TX and 1000BASE-T may be used.
  • a network using radio waves may be used.
  • An example of a network using radio waves is a network compliant with IEEE802.1x (for example, at least one of wireless LAN and Bluetooth®).
  • a network using infrared rays may be used.
  • a network using optical communication may be used.
  • the control device 7 and the processing system SYS may be configured so that various types of information can be transmitted and received via the network.
  • control device 7 may be able to transmit information such as commands and control parameters to the machining system SYS via the network.
  • the processing system SYS may include a receiving device that receives information such as commands and control parameters from the control device 7 via the network. Even if the processing system SYS is provided with a transmission device (that is, an output device that outputs information to the control device 7) that transmits information such as commands and control parameters to the control device 7 via the network. good.
  • a transmission device that is, an output device that outputs information to the control device
  • the second control device that performs the other part of the processing performed by the control device 7 is performed.
  • the control device may be provided outside the processing system SYS.
  • each process or function included in the computer program may be realized by a logical processing block realized in the control device 7 by the control device 7 (that is, the computer) executing the computer program. It may be realized by hardware such as a predetermined gate array (FPGA, ASIC) included in the control device 7, or a mixture of logical processing blocks and partial hardware modules that realize some elements of the hardware. It may be realized in the form of.
  • FPGA predetermined gate array
  • ASIC application specific integrated circuit
  • the processing system SYS forms the 3D structure ST on the work W based on the 3D model data (for example, CAD (Computer Aided Design) data) of the 3D structure ST to be formed.
  • the 3D model data for example, CAD (Computer Aided Design) data
  • the processing system SYS forms, for example, a plurality of layered partial structures (hereinafter referred to as "structural layers") SLs arranged along the Z-axis direction in order.
  • the machining system SYS forms a plurality of structural layers SL one by one based on the data of a plurality of layers obtained by slicing the model of the three-dimensional structure ST along the Z-axis direction. ..
  • a three-dimensional structure ST which is a laminated structure in which a plurality of structural layers SL are laminated, is formed.
  • the flow of the operation of forming the three-dimensional structure ST by sequentially forming a plurality of structural layers SL one by one will be described.
  • each structural layer SL will be described with reference to FIGS. 4 (a) to 4 (e).
  • the machining head under the control of the control device 7, the machining head is set so that the target irradiation region EA is set in the desired region on the modeling surface MS corresponding to the surface of the work W or the surface of the formed structural layer SL. Move at least one of 21 and stage 31.
  • the processing system SYS irradiates the target irradiation region EA with the processing light EL from the irradiation optical system 211.
  • the condensing surface 211FP on which the processed light EL is focused in the Z-axis direction may coincide with the modeling surface MS.
  • the condensing surface 211FP may be deviated from the modeling surface MS in the Z-axis direction.
  • a molten pool that is, a pool of metal or the like melted by the processed light EL
  • the processing system SYS supplies the modeling material M from the material nozzle 212 under the control of the control device 7.
  • the target supply region MA to which the modeling material M is supplied coincides with the target irradiation region EA as described above, the target supply region MA includes at least a part of the region where the molten pool MP is formed. .. Therefore, as shown in FIG.
  • the processing system SYS supplies the modeling material M to the molten pool MP from the material nozzle 212.
  • the modeling material M supplied to the molten pool MP is melted.
  • the molding material M melted in the molten pool MP is cooled and solidified (that is, solidified). ..
  • the solidified modeling material M is deposited on the modeling surface MS. That is, a modeled object is formed by the deposit of the solidified modeling material M.
  • the processing system SYS moves the target irradiation region EA along the predetermined movement locus on the modeling surface MS, and creates the processing optical EL at the timing according to the distribution mode of the region where the modeled object is to be formed. Irradiate to.
  • the molten pool MP also moves on the modeling surface MS along the movement locus according to the movement locus of the target irradiation region EA.
  • the molten pool MP is sequentially formed on the modeling surface MS in the region along the movement locus of the target irradiation region EA, which is irradiated with the processing light. As a result, as shown in FIG.
  • the processing system SYS supplies the modeling material M to the target irradiation region EA, and the processing light having an intensity that cannot be formed by the molten pool MP.
  • the EL may be applied to the target irradiation area EA.
  • the structural layer SL # 1 is formed on the modeling surface MS as shown in FIG. 5A.
  • the processing system SYS sets the surface (that is, the upper surface) of the structural layer SL # 1 on the new modeling surface MS, and then forms the second structural layer SL # 2 on the new modeling surface MS. do.
  • the control device 7 first sets at least one of the head drive system 22 and the stage drive system 32 so that the machining head 21 moves along the Z axis with respect to the stage 31. Control.
  • the control device 7 controls at least one of the head drive system 22 and the stage drive system 32 so that the target irradiation region EA and the target supply region MA (further, the condensing surface 211FP as necessary) control the head drive system 22 and the stage drive system 32.
  • the machining head 21 is moved toward the + Z side and / or the stage 31 is moved toward the ⁇ Z side so as to be set on the surface of the structural layer SL # 1 (that is, the new modeling surface MS).
  • the machining system SYS operates on the structural layer SL # 1 based on the slice data corresponding to the structural layer SL # 2 in the same operation as the operation of forming the structural layer SL # 1 under the control of the control device 7.
  • the structural layer SL # 2 is formed on the surface. As a result, the structural layer SL # 2 is formed as shown in FIG. 5 (b). After that, the same operation is repeated until all the structural layers SL constituting the three-dimensional structure ST to be formed on the work W are formed. As a result, as shown in FIG. 5C, the three-dimensional structure ST is formed by the laminated structure in which a plurality of structural layers SL are laminated. It should be noted that FIGS. 5 (a) to 5 (c) show an example in which a cylindrical three-dimensional structure ST is formed.
  • the processing system SYS can form the three-dimensional structure ST by irradiating the modeling material M supplied by the material nozzle 212 with the processing light EL from the irradiation optical system 211. That is, the processing system SYS performs additional processing for forming the three-dimensional structure ST by using the material nozzle 212 and the irradiation optical system 211. Therefore, the material nozzle 212 and the irradiation optical system 211 may be regarded as functioning as a processing device for performing additional processing for forming the three-dimensional structure ST. The material nozzle 212 and the irradiation optical system 211 may be regarded as functioning as a modeling device that performs a modeling operation for forming the three-dimensional structure ST.
  • the processing system SYS may perform a processing operation for processing at least a part of the surface of the three-dimensional structure ST by irradiating at least a part of the surface of the three-dimensional structure ST with the processing light EL.
  • the processing system SYS may perform a processing operation of removing at least a part of the surface of the three-dimensional structure ST by irradiating at least a part of the surface of the three-dimensional structure ST with the processing light EL.
  • the machining operation may be referred to as a removal machining operation.
  • the machining system SYS may perform a machining operation to form a mark on at least a part of the surface of the three-dimensional structure ST by irradiating at least a part of the surface of the three-dimensional structure ST with the machining light EL. good.
  • the machining operation may be referred to as a marking operation.
  • the processing system SYS may perform a processing operation of melting at least a part of the surface of the three-dimensional structure ST by irradiating at least a part of the surface of the three-dimensional structure ST with the processing light EL.
  • the machining operation may be referred to as a melting operation (or a remelting operation).
  • the processing operation that is, the melting operation for melting at least a part of the surface of the three-dimensional structure ST will be described in detail.
  • the processing system SYS may perform a melting operation in order to smooth the processing target surface PS (see FIG. 6 and the like described later) which is at least a part of the surface of the three-dimensional structure ST.
  • the machining operation that is, the melting operation
  • the smoothing operation for smoothing the processing target surface PS is the “smoothing operation of the processing target surface PS, which smoothes the surface of the processing target surface PS as compared with before the smoothing operation.” It may include an operation of increasing the flatness (that is, making it flat) and / or making the surface roughness of the surface PS to be processed finer (that is, making it smaller).
  • the three-dimensional structure ST is formed by melting and then solidifying the powdery or granular modeling material M. Therefore, there is a possibility that the unmelted modeling material M is attached to at least a part of the surface of the three-dimensional structure ST. Furthermore, there is a possibility that the modeling material M that has been resolidified in an unintended shape adheres to at least a part of the surface of the three-dimensional structure ST. In this case, the surface to which at least one of the modeling material M that has not melted and the modeling material M that has solidified in an unintended shape may be set as the processing target surface PS.
  • At least one of the machining head 21 and the stage 31 is along the X-axis and the Y-axis (that is, the XY plane) during the period when each structural layer SL is formed. Move along).
  • the processing head 21 and the stage may be on at least a part of the surface of the structural layer SL along the XY plane (and thus the surface of the three-dimensional structural layer ST). Regular or irregular irregularities may appear depending on at least one of the 31 movement patterns (typically the pitch of movement).
  • the three-dimensional structure ST is formed by laminating a plurality of structural layers SL.
  • a plurality of structural layers SL are laminated on the surface of the three-dimensional structure ST (particularly, a surface that is along or inclined in the stacking direction and faces a direction intersecting the stacking direction of the structural layers SL).
  • Regular or irregular unevenness may appear depending on the pitch of.
  • the surface on which regular or irregular unevenness appears may be set as the processing target surface PS.
  • FIGS. 6 (a) to 6 (c) is a cross-sectional view showing the state of the surface PS to be machined in the process of performing the melting operation (smoothing operation).
  • the three-dimensional structure ST is arranged in a posture different from the posture at the time of modeling.
  • the machining system SYS sets the target irradiation region EA on the machining target surface PS as shown in FIG. 6A under the control of the control device 7.
  • the condensing surface 211FP on which the processed light EL is focused may match the processing target surface PS.
  • the condensing surface 211FP may be deviated from the processing target surface PS.
  • the processing system SYS irradiates the target irradiation region EA with the processing light EL from the irradiation optical system 211.
  • the processing system SYS does not have to supply the modeling material M to the processing target surface PS from the material nozzle 212. Note that FIG.
  • FIG. 6A shows an example in which the surface PS to be machined is a surface on which regular or irregular irregularities appear.
  • the target irradiation region EA is irradiated with the light EL, as shown in FIG. 6B, the solid modeling material M in the processing target surface PS is melted by the processing light EL.
  • the modeling material M solidified so as to form irregularities melts, the surface (that is, the interface) of the molten modeling material M approaches a flat surface due to the action of at least one of the weight of the molten modeling material M and the surface tension. Or it becomes a plane. That is, the smoothness of the surface (that is, the interface) of the molten modeling material M is improved.
  • the molten modeling material M is cooled and solidified (that is, solidified) again.
  • the modeling material M resolidified so as to have a smooth (or improved flatness and / or finer surface roughness) surface.
  • the surface PS to be machined will be configured. In this way, the processing target surface PS (that is, the surface of the three-dimensional structure ST) is smoothed by the smoothing operation.
  • the control device 7 repeats a series of smoothing processes including melting of the modeling material M and solidification of the melted modeling material M by irradiation with the processing light EL while moving at least one of the processing head 21 and the stage 31. conduct. That is, the control device 7 repeatedly performs a series of smoothing processes while changing the relative positional relationship between the machining head 21 and the three-dimensional structure ST supported by the stage 31.
  • the machining system SYSTEM is based on information about at least one of the shape and position of the 3D structure ST (that is, the position on the work W), and is desired among the surfaces of the 3D structure ST.
  • the surface portion may be set as the processing target surface PS, and at least one of the processing head 21 and the stage 31 may be moved so that the processing light EL is irradiated on the set processing target surface PS.
  • the machining system SYS performs the smoothing operation after performing the modeling operation, information regarding at least one of the shape and position of the three-dimensional structure ST that is the target of the smoothing operation is usually given to the machining system SYS.
  • the processing system SYS measures at least one of the position and shape of the three-dimensional structure ST using a measuring device after the three-dimensional structure ST is measured by the modeling operation, and based on the measurement result of the measuring device. At least one of the processing head 21 and the stage 31 may be moved so that the processing light EL is applied to the processing target surface PS.
  • the surface of the 3D structure ST may include a curved surface.
  • the relative positional relationship between the processing head 21 and the three-dimensional structure ST changes, the relative positional relationship between the condensing surface 211FP on which the processing light EL is focused and the processing target surface PS (particularly, processing). It is a positional relationship along the traveling direction of the optical EL, and in the example shown in FIGS. 6 (a) to 6 (c), the positional relationship along the Z-axis direction) may change.
  • FIG. 6 (a) to 6 (c) the positional relationship along the Z-axis direction
  • the first portion p1 of the processing target surface PS is irradiated with the condensing surface 211FP coincident with the first portion p1 of the processing target surface PS which is a curved surface protruding toward the + Z side.
  • the processed optical EL is shown.
  • the first portion p1 of the processing target surface PS is irradiated with the processing light EL focused on the first portion p1.
  • the machining head 21 moves along the direction along the XY plane (for example, the Y-axis direction), as shown in FIG.
  • the second portion p2 of the processing target surface PS deviating from the condensing surface 211FP in the Z-axis direction is irradiated.
  • the second portion p2 is irradiated with the processed light EL that is not focused on the second portion p2. That is, the second portion p2 is irradiated with the processed light EL in the defocused state. Therefore, if the relative positional relationship between the condensing surface 211FP and the processing target surface PS in the traveling direction of the processing light EL changes, the fluence of the processing light EL on the processing target surface PS may change. If the fluence of the processing optical EL on the processing target surface PS changes, the amount of melting of the processing target surface PS may change.
  • the machining system SYS may control the relative positional relationship between the condensing surface 211FP and the machining target surface PS so that the machining target surface PS is appropriately smoothed under the control of the control device 7. good.
  • the processing system SYS controls the control device 7.
  • the light-collecting control optical member may be controlled so that the relative positional relationship between the light-collecting surface 211FP and the processing target surface PS is maintained.
  • the modeling material M is not supplied from the material nozzle 212. Therefore, there is a modeling material M that may shield at least a part of the processed light EL between the irradiation optical system 211 that emits the processed light EL and the processing target surface PS that is irradiated with the processed light EL. not exist. In this case, when the processing light EL is reflected by the processing target surface PS irradiated with the processing light EL, the reflected light of the processing light EL can return to the irradiation optical system 211 while maintaining a constant intensity. There is sex.
  • the machining system SYS under the control of the control device 7 supports the machining head 21 and the three-dimensional structure ST so that the machining light EL is obliquely incident on the machining target surface PS. At least one may be moved, typically rotationally moved.
  • the control device 7 determines the detection result of the processing light EL by the return photodetector 213. Based on this, it may be determined whether or not the processing light EL is obliquely incident on the processing target surface PS. Specifically, when the processing light EL is obliquely incident on the processing target surface PS, the return light is compared with the case where the processing light EL is vertically incident on the processing target surface PS. It is expected that the strength will be low.
  • the control device 7 may determine that the processed light EL is obliquely incident on the processing target surface PS.
  • the control device 7 when the intensity of the return light is higher than a predetermined first intensity threshold value (or a predetermined second intensity threshold value higher than the first intensity), the processed light EL determines the processing target surface PS. It may be determined that the light is incident perpendicular to the light.
  • the control device 7 determines the processing head 21 and the stage so that the processing light EL is obliquely incident on the processing target surface PS. At least one of 31 may be moved.
  • the machining system SYS has the amount of energy of the machining light EL on the surface PS to be machined (specifically, the amount of energy given to the surface PS to be machined by the machining light EL per unit time) and the modeling operation when the smoothing operation is performed.
  • the fluence of the processing light EL may be controlled so as to be smaller than the energy amount of the processing light EL on the processing target surface PS in the case of performing the above.
  • the amount of melting of the modeling material M for example, the amount of melting per unit time
  • the processing system SYS can perform the smoothing operation without melting the modeling material M in an amount larger than necessary.
  • a head device 23 that can be attached to and detached from the processing head 21 (particularly, the lens barrel 214) will be described.
  • the first head device 23 # 1 and the second head device 23 # 2 can be attached to the machining head 21. Therefore, in the following, the structures of the first head device 23 # 1 and the second head device 23 # 2 will be described in order.
  • the internal space 2312 # 1 is a space surrounded by the tubular member 2311 # 1. Therefore, in the example shown in FIG. 8, the internal space 2312 # 1 is a space extending along the longitudinal direction of the tubular member 2311 # 1 (in the example shown in FIG. 8, the Z-axis direction).
  • An opening 2314 # 1 is formed at one end of the tubular member 2311 # 1 along the longitudinal direction. That is, an opening 2314 # 1 is formed in the mounting portion 2313 # 1 of the tubular member 2311 # 1.
  • the openings 2314 # 1 intersect in the longitudinal direction of the tubular member 2311 # 1.
  • An opening 2315 # 1 is formed at the other end of the tubular member 2311 # 1 along the longitudinal direction (that is, the end opposite to the one end).
  • the openings 2315 # 1 intersect in the longitudinal direction of the tubular member 2311 # 1.
  • Each of the openings 2314 # 1 and 2315 # 1 connects the internal space 2312 # 1 and the external space of the tubular member 2311 # 1.
  • the processed light EL emitted from the lens barrel 214 (that is, the processed light EL emitted from the irradiation optical system 211) has the openings 2314 # 1 and 2315 # 1. It may be formed in an appropriate position so that both can pass through. For example, each of the openings 2314 # 1 and 2315 # 1 may be formed on the optical axis AX of the irradiation optical system 211.
  • the processed light EL that has reached the opening 2315 # 1 is ejected from the internal space 2312 # 1 to the outside of the first head device 23 # 1 through the opening 2315 # 1. Therefore, the opening 2315 # 1 may be referred to as an injection port.
  • the purge gas flowing into the internal space 2312 # 1 passes through the internal space 2312 # 1 and reaches the opening 2315 # 1.
  • the purge gas that has reached the opening 2315 # 1 flows out from the internal space 2312 # 1 to the outside of the first head device 23 # 1 through the opening 2315 # 1. Therefore, the opening 2315 # 1 may be referred to as an outlet.
  • the first head device 23 # 1 may be attached to the lens barrel 214, for example, during at least a part of the period during which the processing system SYS is performing the modeling operation for forming the three-dimensional structure ST.
  • the processing system SYS can irradiate the work W with the processing light EL emitted from the irradiation optical system 211 via the first head device 23 # 1.
  • the processing light EL emitted from the irradiation optical system 211 is worked by the material nozzle 212 from the opening 2315 # 1 of the first head device 23 # 1. It is injected toward the modeling material M (or the molten pool MP) supplied to W.
  • the processing system SYS can appropriately form the three-dimensional structure ST even when the first head device 23 # 1 is attached to the lens barrel 214.
  • the first head device 23 # 1 When the first head device 23 # 1 is attached to the lens barrel 214 during at least a part of the period during which the processing system SYS is performing the modeling operation, the first head device 23 # 1 is attached as shown in FIG. May be attached to the lens barrel 214 such that the opening 2315 # 1 of the first head device 23 # 1 is located in the vicinity of the material supply port 2121 of the material nozzle 212.
  • the first head device 23 # 1 has a shape and size that can realize a state in which the opening 2315 # 1 of the first head device 23 # 1 is arranged in the vicinity of the material supply port 2121 of the material nozzle 212. You may have.
  • the state of "the opening 2315 # 1 is arranged in the vicinity of the material supply port 2121” may mean the state of "the opening 2315 # 1 is located within a range of a predetermined distance or less from the material supply port 2121". .. In this case, at least a portion of the purge gas flowing out of opening 2315 # 1 forms a flow of purge gas around the material supply port 2121. Typically, at least a portion of the purge gas flowing out of opening 2315 # 1 is sprayed onto the material supply port 2121.
  • the first head device 23 # 1 may be attached to the lens barrel 214 during at least a part of the period during which the processing system SYS is performing the processing operation for processing the three-dimensional structure ST. That is, the processing system SYS irradiates the surface of the three-dimensional structure ST (particularly, the surface to be processed PS) with the processing light EL emitted from the irradiation optical system 211 via the first head device 23 # 1. May be good. As a result, the processing system SYS can appropriately process the three-dimensional structure ST even when the first head device 23 # 1 is attached to the lens barrel 214.
  • the processing system SYS when the first head device 23 # 1 is attached to the lens barrel 214, the processing system SYS emits processing light EL along the optical axis AX of the irradiation optical system 211. Therefore, the processing system SYS can process the processing target surface PS that intersects the optical axis AX.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view showing the structure of the second head device 23 # 2.
  • the second head device 23 # 2 includes a cylindrical member 2311 # 2.
  • the tubular member 2311 # 2 is a tubular member in which an internal space 2312 # 2 is formed inside.
  • the tubular member 2311 # 2 is a tubular member extending along the longitudinal direction (in the example shown in FIG. 10, the Z-axis direction).
  • the shape of the cross section of 2 is circular, but other shapes (for example, elliptical or polygonal) may be used.
  • the internal space 2312 # 2 is a space surrounded by the tubular member 2311 # 2. Therefore, in the example shown in FIG. 10, the internal space 2312 # 2 is a space extending along the longitudinal direction of the tubular member 2311 # 2 (in the example shown in FIG. 10, the Z-axis direction).
  • the tubular member 2311 # 2 is removable from the lens barrel 214. Therefore, the tubular member 2311 # 2 is formed with a mounting portion 2313 # 2 that can be mounted on the mounting portion 2143 of the lens barrel 214 described above. In the example shown in FIG. 10, the mounting portion 2313 # 2 is formed at one end of the tubular member 2311 # 2 along the longitudinal direction.
  • the mounting portion 2313 # 2 of the second head device 23 # 2 may have the same characteristics as the mounting portion 2313 # 1 of the first head device 23 # 1 described above. Therefore, the description of the mounting portion 2313 # 2 will be omitted.
  • An opening 2314 # 2 is formed at one end of the tubular member 2311 # 2 along the longitudinal direction. That is, an opening 2314 # 2 is formed in the mounting portion 2313 # 2 of the tubular member 2311 # 2. The openings 2314 # 2 intersect in the longitudinal direction of the tubular member 2311 # 2. An opening 2315 # 2 is formed at the other end of the tubular member 2311 # 2 along the longitudinal direction (that is, the end opposite to the one end). The openings 2315 # 2 intersect in the longitudinal direction of the tubular member 231 # 2. Each of the openings 2314 # 2 and 2315 # 2 connects the internal space 2312 # 2 and the external space of the tubular member 2311 # 2.
  • the tubular member 2311 # 2 is attached to the lens barrel 214 via the mounting portions 2143 and 2313 # 2 so that the injection port 2142 of the lens barrel 214 and the opening 2314 # 2 of the tubular member 2311 # 2 are connected to each other. Be done. That is, the tubular member 2311 # 2 is attached so that the internal space 2141 of the lens barrel 214 and the internal space 2312 # 2 of the tubular member 2311 # 2 are connected via the injection port 2142 and the opening 2314 # 2. It is attached to the lens barrel 214 via the portions 2143 and 2313 # 2.
  • the cylindrical member 2311 # 2 attached to the lens barrel 214 is shown in FIGS. 11 and 12.
  • the tubular member 2311 # 1 of the first head device 23 # 1 described above may be used as the tubular member 2311 # 2 of the second head device 23 # 2.
  • the second head device 23 # 2 further includes a cylindrical member 2321 # 2.
  • the tubular member 2321 # 2 is a member separate from the tubular member 2311 # 2. However, the tubular member 2321 # 2 may be integrated with the tubular member 2311 # 2.
  • the tubular member 2321 # 2 is a tubular member in which an internal space 2322 # 2 is formed inside.
  • the cylindrical member 2321 # 2 is a tubular member extending along the longitudinal direction (in the example shown in FIG. 10, in the Z-axis direction), similarly to the tubular member 2311 # 2.
  • Cylindrical member 2321 # including an axis along the lateral direction of the tubular member 2321 # 2 (that is, a direction intersecting the longitudinal direction and, for example, a direction along the XY plane in the example shown in FIG. 10).
  • the shape of the cross section of 2 is circular, but other shapes (for example, elliptical or polygonal) may be used.
  • the internal space 2322 # 2 is a space surrounded by the tubular member 2321 # 2. Therefore, in the example shown in FIG. 10, the internal space 2322 # 2 is a space extending along the longitudinal direction of the tubular member 2321 # 2 (in the example shown in FIG. 10, the Z-axis direction).
  • An opening 2323 # 2 is formed at one end of the tubular member 2321 # 2 along the longitudinal direction.
  • the openings 2323 # 2 intersect in the longitudinal direction of the tubular member 2321 # 2.
  • the tubular member 2321 # 2 has an internal space 2322 # 2 and a cylinder of the tubular member 2321 # 2 via an opening 2323 # 2 of the tubular member 2321 # 2 and an opening 2315 # 2 of the tubular member 2311 # 2. It is attached to the cylindrical member 2311 # 2 so as to be connected to the internal space 2312 # 2 of the shaped member 2311 # 2.
  • the tubular members 2311 # 2 and 2321 # 2 are tubular members.
  • the tubular member 2321 # 2 is inserted into the tubular member 2311 # 2 so that one of the tubular members 2311 # 2 and 2321 # 2 is inserted into the other of the tubular members 2311 # 2 and 2321 # 2. It may be attached.
  • the other end of the tubular member 2311 # 2 (that is, the end on the ⁇ Z side) is the tubular member 2321 # 2 via the opening 2323 # 2 of the tubular member 2321 # 2.
  • the tubular member 2321 # 2 is attached to the tubular member 2311 # 2 so as to be inserted into the internal space 2322 # 2. Therefore, in the example shown in FIG.
  • the size of the opening 2323 # 2 of the tubular member 2321 # 2 is larger than the size of the opening 2315 # 2 of the tubular member 2311 # 2.
  • the tubular members 2311 # 2 and 2321 # 2 are in the longitudinal direction of the tubular members 2311 # 2 and 2321 # 2. (That is, it is the Z-axis direction and is the direction along the optical axis AX of the irradiation optical system 211).
  • the tubular member 2321 # 2 is attached to the tubular member 2311 # 2 so as to be movable with respect to the tubular member 2311 # 2. More specifically, the tubular member 2321 # 2 is around an axis along the longitudinal direction of the tubular member 2321 # 2 (that is, a Z axis and an axis along the optical axis AX of the irradiation optical system 211). It is attached to the tubular member 2311 # 2 so as to be rotatable (that is, to be rotatable).
  • the cylindrical member 2321 # 2 is attached to the tubular member 2311 # 2 via a drive system 233 # 2 capable of moving the cylindrical member 2321 # 2 with respect to the cylindrical member 2311 # 2. You may be.
  • the drive system 233 # 2 is an arbitrary drive system capable of rotating the cylindrical member 2321 # 2 around an axis along the longitudinal direction of the tubular member 2321 # 2.
  • the drive system 233 # 2 may include, for example, a hollow motor.
  • the processed light EL is emitted from the ejection port 2142 of the lens barrel 214. Therefore, as shown in FIG. 11 showing the optical path of the processed light EL in the second head device 23 # 2, the processed light EL emitted from the injection port 2142 passes through the opening 2314 # 2 and is a tubular member 2311. It is incident on the internal space 2312 # 2 of # 2. Therefore, the opening 2314 # 2 may be referred to as an incident port.
  • the processed light EL incident on the internal space 2312 # 2 passes through the internal space 2312 # 2 and reaches the opening 2315 # 2.
  • the processed light EL emitted from the lens barrel 214 (that is, the processed light EL emitted from the irradiation optical system 211) has the openings 2314 # 2 and 2315 # 2, respectively. It may be formed in an appropriate position so that both can pass through. For example, each of the openings 2314 # 2 and 2315 # 2 may be formed on the optical axis AX of the irradiation optical system 211.
  • the processed optical EL that has reached the opening 2315 # 2 is incident on the internal space 2322 # 2 of the tubular member 2321 # 2 via the opening 2231 # 2 and the opening 2323 # 2 connected to the opening 2315 # 2.
  • the second head device 23 # 2 further includes an irradiation optical system 234 # 2.
  • the irradiation optical system 234 # 2 is arranged on the optical path of the processed light EL in at least one of the internal spaces 2312 # 2 and 2322 # 2.
  • the tubular member 2311 # 2 may hold the irradiation optical system 234 # 2 arranged in the internal space 2312 # 2.
  • the tubular member 2321 # 2 may hold the irradiation optical system 234 # 2 arranged in the internal space 2322 # 2.
  • At least one of the tubular members 2311 # 2 and 2321 # 2 may function as an accommodating member accommodating the irradiation optical system 234 # 2 (that is, including the irradiation optical system 234 # 2). Further, since the second head device 23 # 2 includes the irradiation optical system 234 # 2, it may be referred to as an optical device. In the following description, an example in which the irradiation optical system 234 # 2 is arranged in the internal space 2322 # 2 will be described.
  • the processed light EL emitted from the irradiation optical system 211 is incident on the irradiation optical system 234 # 2.
  • the irradiation optical system 234 # 2 has a light-collecting surface 234FP in which the processed light EL emitted from the irradiation optical system 211 is set at a position different from the light-collecting surface 211FP in which the irradiation optical system 211 condenses the processed light EL. Condensate. That is, the irradiation optical system 234 # 2 collects the processed light EL at a position different from the position where the irradiation optical system 211 collects the processed light EL.
  • the condensing surface 234FP is optically conjugated with the condensing surface 211FP. That is, the condensing optical system 2341 # 2 condenses the processed light EL on the condensing surface 234FP which is optically conjugate with the condensing surface 211FP.
  • the optical axis of the condensing optical system 2341 # 2 coincides with the optical axis AX of the irradiation optical system 211, but may be different.
  • the condensing surface 234FP is separated from the condensing surface 211FP along the crossing direction intersecting the optical axis AX (in the example shown in FIG. 11, the direction along the XY plane). That is, the irradiation optical system 234 # 2 sets the processed light EL emitted from the irradiation optical system 211 at a position separated from the light collecting surface 211FP along the crossing direction intersecting the optical axis AX. Focus on. Since the condensing surface 211FP is an optical surface that intersects the optical axis AX, the condensing surface 234FP is a direction that intersects the optical axis AX from the optical axis AX (in the example shown in FIG. 11, the direction along the XY plane).
  • the irradiation optical system 234 # 2 uses the processed light EL emitted from the irradiation optical system 211 on the condensing surface 234FP set at a position separated from the optical axis AX along the crossing direction intersecting the optical axis AX. Condensate.
  • the irradiation optical system 234 # 4 further includes a deflection optical system 2342 # 2 in order to collect the processed light EL on the light collection surface 234FP separated from the light collection surface 211FP along the crossing direction intersecting the optical axis AX. ..
  • the deflection optical system 2342 # 2 deflects the processed light EL emitted from the condensing optical system 2341 # 2 toward the crossing direction intersecting the optical axis AX. That is, the deflection optical system 2342 # 2 deflects the processing light EL so that the traveling direction of the processing light EL changes from the direction along the optical axis AX to the crossing direction intersecting the optical axis AX.
  • the deflection optical system 2342 # 2 may deflect the processing light EL by reflecting the processed light EL emitted from the condensing optical system 2341 # 2 toward the crossing direction intersecting the optical axis AX. good.
  • the tubular member 2321 # 2 accommodating the deflection optical system 2342 # 2 is formed with an opening 2324 # 2 through which the processed light EL deflected by the deflection optical system 2342 # 2 can pass. Therefore, the processed optical EL deflected by the deflection optical system 2342 # 2 passes from the internal space 2322 # 2 to the outside of the tubular member 2321 # 2 (that is, the second head device 23 # 2) through the opening 2324 # 2. Is ejected to the outside of). Therefore, the opening 2324 # 2 may be referred to as an injection port.
  • the processed light EL emitted from the opening 2324 # 2 is focused on the light collecting surface 234FP. Therefore, the light collecting surface 234FP is set outside the second head device 23 # 2.
  • the condensing surface 234FP does not have to be separated from the condensing surface 211FP along the crossing direction intersecting the optical axis AX of the irradiation optical system 211.
  • the condensing surface 234FP and the condensing surface 211FP may be arranged along the optical axis AX.
  • the irradiation optical system 234 # 2 does not have to include the deflection optical system 2342 # 2.
  • the emission direction of the processed light EL emitted from the deflection optical system 2342 # 2 (that is, the traveling direction of the processing light EL emitted from the deflection optical system 2342 # 2) is changed around the optical axis AX.
  • the opening 2324 # 2 injection port
  • the emission direction of the processed light EL from the opening 2324 # 2 is also changed around the optical axis AX.
  • the purge gas supplied from the gas supply device 5 flows out from the injection port 2142 of the lens barrel 214 in addition to or in place of the processed optical EL. Therefore, as shown in FIG. 12, which shows the flow path of the purge gas in the second head device 23 # 2, the purge gas flowing out from the injection port 2142 is inside the tubular member 2311 # 2 through the opening 2314 # 2. It flows into space 2312 # 2. Therefore, the opening 2314 # 2 may be referred to as an inflow port.
  • the processed optical EL that has flowed into the internal space 2312 # 2 passes through the internal space 2312 # 2 and reaches the opening 2315 # 2.
  • the purge gas that has reached the opening 2315 # 2 flows into the internal space 2322 # 2 of the tubular member 2321 # 2 via the openings 2315 # 2 and 2323 # 2.
  • the gas supply device 5 may be considered to supply the purge gas to the internal spaces 2312 # 2 and 2322 # 2 of the second head device 23 # 2.
  • the purge gas flowing into the internal space 2322 # 2 passes through the internal space 2322 # 2 and reaches the opening 2324 # 2.
  • the purge gas that has reached the opening 2324 # 2 flows out from the internal space 2322 # 2 to the outside of the second head device 23 # 2 through the opening 2324 # 2. Therefore, the opening 2324 # 2 may be referred to as an outlet.
  • the irradiation optical system 234 # 2 is arranged in the internal space 2322 # 2.
  • the gas supply device 5 may be considered to supply the purge gas to the irradiation optical system 234 # 2. That is, it may be considered that the gas supply device 5 supplies the purge gas to the irradiation optical system 234 # 2 by supplying the purge gas to the internal space 2322 # 2.
  • the purge gas supplied to the irradiation optical system 234 # 2 may be used to cool the irradiation optical system 234 # 2.
  • the purge gas supplied to the irradiation optical system 234 # 2 may be used to prevent unnecessary substances from adhering to the irradiation optical system 234 # 2.
  • the purge gas flowing into the internal space 2322 # 2 is one of the plurality of optical members closest to the opening 2323 # 2. It is supplied to the optical member.
  • the flow of the purge gas supplied to the one optical member is blocked by the one optical member. As a result, the purge gas is not supplied to the other optical members other than one of the plurality of optical members.
  • the cylindrical member 2321 # 2 may be formed with a supply path for supplying purge gas to each of the plurality of optical members included in the irradiation optical system 234 # 2.
  • FIG. 13 is a transmission perspective view showing an example of a tubular member 2321 # 2 in which a purge gas supply path is formed, and is a cross-sectional view showing an example of a tubular member 2321 # 2 in which a purge gas supply path is formed.
  • a groove 2325 # 2 that can function as a supply path for supplying purge gas is formed on the inner wall surface of the tubular member 2321 # 2 (that is, the surface facing the internal space 2322 # 2). It may have been done.
  • the groove 2325 # 2 extends along the direction in which the plurality of optical members 2343 # 2 included in the irradiation optical system 234 # 2 are arranged (in the example shown in FIGS. 13 and 14, the Z-axis direction).
  • the purge gas is sequentially supplied to the plurality of optical members 2343 # 2 included in the irradiation optical system 234 # 2 via the groove 2325 # 2.
  • the optical member 2343 # 2 may include an optical member constituting the condensing optical system 2341 # 2, or may include an optical member constituting the deflection optical system 2342 # 2.
  • At least one barrier member 2326 # 2 may be formed in the groove 2325 # 2 to block the purge gas flowing through the groove 2325 # 2.
  • the barrier member 2326 # 2 may be formed in a portion of the groove 2325 # 2 located between two adjacent optical members 2343 # 2.
  • the purge gas flowing through the groove 2325 # 2 flows out by the barrier member 2326 # 2 in a direction away from the groove 2325 # 2.
  • the portion of each optical member 2343 # 2 that comes into contact with the purge gas is compared to the case where the purge gas continues to flow through the groove 2325 # 2 (that is, the purge gas does not flow out toward the groove 2325 # 2). More.
  • each optical member 2343 # 2 is cooled more appropriately.
  • the second head device 23 # 2 may be attached to the lens barrel 214, for example, during at least a part of the period during which the processing system SYS is performing the processing operation for processing the three-dimensional structure ST.
  • the processing system SYS sends the processing light EL emitted from the irradiation optical system 211 via the second head device 23 # 2 (that is, by the second head device 23 # 2) to the three-dimensional structure ST. Can be irradiated to.
  • the processing system SYS can appropriately process the three-dimensional structure ST even when the second head device 23 # 2 is attached to the lens barrel 214.
  • the second head device 23 # 2 may be referred to as a processing device because it is used for processing the three-dimensional structure ST.
  • the deflection optical system 2342 # 2 deflects the processed light EL toward the direction intersecting the optical axis AX. Therefore, the machining system SYS irradiates the machining target surface PS along the optical axis AX (for example, the machining target surface PS along the Z axis) with the machining light EL emitted from the second head device 23 # 2. can do. As a result, the processing system SYS can irradiate the processing light EL on the processing target surface PS, which is difficult to irradiate the processing light EL when the deflection optical system 2342 # 2 is not provided. Therefore, the processing system SYS can process the three-dimensional structure ST, which is difficult to process if the deflection optical system 2342 # 2 is not provided.
  • FIG. 15 shows a cross section of a second head device 23 # 2 that emits a processing light EL for processing a three-dimensional structure ST having a tubular shape, together with a cross section of the three-dimensional structure ST.
  • the space STp corresponding to the space at the center of the cylinder is formed in the three-dimensional structure ST.
  • the surface of the three-dimensional structure ST facing the void STp includes not only the bottom surface STb intersecting the optical axis AX but also the inner wall surface STs along the optical axis AX.
  • the processing system SYS can irradiate the inner wall surface STs with the processing light EL by using the second head device 23 # 2.
  • the machining system SYS controls the relative positional relationship between the three-dimensional structure ST and the second head device 23 # 2 by moving the second head device 23 # 2 using the drive system 233 # 2. You may. As a result, the processing system SYS can irradiate the inner wall surface STs with the processing light EL. Therefore, the processing system SYS can appropriately process the inner wall surface STs by using the second head device 23 # 2. If the second head device 23 # 2 is removed from the lens barrel 214, the processing system SYS can irradiate the bottom surface STb with the processing light EL. As a result, the processing system SYS can appropriately process the bottom surface STb as well.
  • the size of the second head device 23 # 2 (specifically, the width in the direction intersecting the optical axis AX) is such that the second head device 23 # 2 can be inserted into the gap STp. It may be set to.
  • the lens barrel 214 to which the second head device 23 # 2 is attached does not have to be inserted into the gap STp. Therefore, the maximum width of the lens barrel 214 (specifically, the maximum value of the width in the direction intersecting the optical axis AX) may be longer than the maximum width of the second head device 23 # 2. In other words, the maximum width of the second head device 23 # 2 may be shorter than the maximum width of the lens barrel 214.
  • the irradiation optical system 234 # 2 sandwiches at least a part of the optical axis AX and the irradiation optical system 234 # 2.
  • the processing light EL is applied to the surrounding inner wall surface STs.
  • the processing system SYS can appropriately process the portion of the inner wall surface STs to be processed (that is, the processing target surface PS).
  • the irradiation optical system 234 # 2 rotates (that is, moves)
  • the relative positional relationship between the irradiation optical system 234 # 2 and the three-dimensional structure ST changes. Therefore, the drive system 233 # 2 capable of rotating the irradiation optical system 234 # 2 functions as a position changing device capable of changing the relative positional relationship between the irradiation optical system 234 # 2 and the three-dimensional structure ST. It is also good.
  • the machining system SYS moves the irradiation optical system 234 # 2 using the drive system 233 # 2 without moving the machining head 21 and the stage 31 using the head drive system 22 and the stage drive system 32 (in this case, rotation). ) May be allowed.
  • the processing system SYS maintains the relative positional relationship between the irradiation optical system 211 included in the processing head 21 and the three-dimensional structure ST mounted on the stage 31, and the irradiation optical system 234 #.
  • the relative positional relationship between the 2 and the 3D structure ST may be changed. For example, if the width of the gap STp (when FIG.
  • the processing system SYS can rotate the irradiation optical system 234 # 2, the processing light EL can be applied to the entire processing target surface PS on the inner wall surface STs. Therefore, when the width of the void STp is relatively small, the processing system SYS can rotate the irradiation optical system 234 # 2 without moving the processing head 21 and the stage 31.
  • the three-dimensional structure ST may be processed.
  • a plurality of second head devices 23 # 2 each comprising a plurality of deflection optical systems 2342 # 2 having different optical characteristics (specifically, optical characteristics relating to the deflection direction, for example, the angle of the reflecting surface) are provided.
  • one deflection optical system 2342 # 2 capable of deflecting the processing light EL so that the processing light EL is obliquely incident on the processing target surface PS is prepared. , May be attached to the lens barrel 214. As a result, even if the relative positional relationship between the machining head 21 and the three-dimensional structure ST is not changed, the machining light EL is obliquely incident on the machining target surface PS.
  • the machining system SYS may perform a welding operation which is an example of a machining operation.
  • the processing system SYS may perform a welding operation even when the second head device 23 # 2 is attached to the lens barrel 214.
  • the processing system SYS may weld the first pipe, which is an example of the tubular three-dimensional structure ST, and the second pipe, which is an example of the tubular three-dimensional structure ST.
  • the second head device 23 # 2 is inserted into the pipelines of the first and second pipes, and the processing light EL is applied to the boundary of the inner wall surface of the first and second pipes. By irradiating, the first and second pipes may be welded.
  • the target supply area MA in which the material nozzle 212 supplies the modeling material M is such that the second head device 23 # 2 collects the processed light EL. It may be set in the vicinity of the condensing surface 234FP or the condensing surface 234FP.
  • the target supply region MA is set from the vicinity of the condensing surface 211FP or the condensing surface 211FP in which the first head device 23 # 1 condenses the processing light EL. , It may be changed to the vicinity of the condensing surface 234FP or the condensing surface 234FP.
  • the second head device 23a # 2 includes a cylindrical member 2321a # 2 in place of the cylindrical member 2321 # 2, as compared with the second head device 23 # 2 described above. It is different in that it is. Further, the second head device 23a # 2 is provided with the irradiation optical system 234a # 2 in place of the irradiation optical system 234 # 2, as compared with the second head device 23 # 2 described above. different. Other features of the second head device 23a # 2 may be the same as other features of the second head device 23 # 2.
  • the parallel optical system 2344a # 2 is an optical system capable of converting the processed light EL emitted as non-parallel light from the irradiation optical system 211 (not shown) into parallel light.
  • the parallel optical system 2344a may include optical members 2345a # 2 and 2346a # 2 arranged along the optical axis AX.
  • FIG. 20 which is a cross-sectional view showing the optical path of the processed light EL
  • the optical member 2345a # 2 converts the processed light EL emitted as non-parallel light from the irradiation optical system 211 into parallel light.
  • the optical member 2345a # 2 is positioned so that its front focal position is on the condensing surface 211FP.
  • the optical member 2346a # 2 converts the processed light EL emitted as parallel light from the optical member 2345a # 2 into non-parallel light.
  • the processed light EL emitted as non-parallel light from the optical member 2346a # 2 is incident on the condensing optical system 2341 # 2.
  • the rear focal position of the optical member 2346a # 2 is located on a surface optically conjugate with the light-collecting surface 234FP of the light-collecting optical system 2341 # 2.
  • the parallel optical system 2344a # 2 may change the distance between the optical members 2345a # 2 and 2346a # 2 (specifically, the distance along the optical axis AX).
  • the distance between the optical members 2345a # 2 and 2346a # 2 changes, the length of the optical path through which the processed light EL travels as parallel light changes.
  • the front focal position of the optical member 2345a # 2 remains located on the condensing surface 211FP, and the rear focal position of the optical member 2345a # 2 remains located on the surface optically conjugated with the condensing surface 234FP. It's fine.
  • Such a second head device 23a # 2 expands and contracts the tubular member 2321a # 2 and changes the distance between the optical members 2345a # 2 and 2346a # 2 according to the expansion and contraction of the tubular member 2321a # 2.
  • the second head device 23a # 2 can move the condensing surface 234FP that collects the processed light EL along the optical axis AX.
  • FIG. 20 shows a short (ie, shrunk) tubular member 2321a # 2
  • FIG. 21 shows a long), that is, an extended) tubular member 2321a # 2.
  • the tubular member 2321a # 2 when the tubular member 2321a # 2 is short, the distance between the optical members 2345a # 2 and 2346a # 2 becomes short.
  • the second head device 23a # 2 can appropriately collect the processed light EL on the light collecting surface 234FP.
  • the condensing surface 234FP moves along the optical axis AX as the tubular member 2321a # 2 expands and contracts, the optical axis vertical direction of the condensing surface 234FP ( The position (in the XY plane) is maintained.
  • the irradiation optical systems 211 # 1 and 211 # 2 may be housed in separate lens barrels 214.
  • the first head device 23 # 1 described above is attached to the lens barrel 214 (hereinafter referred to as “lens barrel 214 # 1”) accommodating the irradiation optical system 211 # 1, but the second head device 23 # 2 may be attached.
  • the second head device 23 # 2 described above is attached to the lens barrel 214 (hereinafter referred to as “lens barrel 214 # 2”) accommodating the irradiation optical system 211 # 2, but the first head device 23 # 1 may be attached.
  • the processing system SYS performs additional processing by the laser overlay welding method.
  • the processing system SYS can form the three-dimensional structure ST from the modeling material M by another method capable of forming the three-dimensional structure ST by irradiating the modeling material M with the processing light EL (or an arbitrary energy beam). It may be formed.
  • the processing system SYS may form the three-dimensional structure ST by an arbitrary method for additional processing, which is different from the method of irradiating the modeling material M with the processing light EL (or an arbitrary energy beam). ..
  • SYSTEM processing system 1 Material supply source 2 Processing unit 21 Processing head 211 Irradiation optical system 212 Material nozzle 213 Return light detector 214 Lens barrel 215 Head housing 22 Head drive system 23, 23 # 1, 23 # 2 Head device 234 # 2 Irradiation optical system 2341 # 2 Condensing optical system 2342 # 2 Deflection optical system 3 Stage unit 31 Stage 32 Stage drive system 7 Control device W work M Modeling material EL processing light

Abstract

加工システムは、造形物を形成する加工システムであって、エネルギービームを第1照射位置に集光する第1光学系と、第1照射位置に造形材料を供給可能な材料供給装置とを有し、材料供給装置により供給された造形材料に、第1光学系からのエネルギービームを照射することにより造形物を形成可能であり、第1光学系からのエネルギービームを第2光学系により造形物の表面に照射して加工する。

Description

加工システム及び光学装置
 本発明は、例えば、造形物を形成可能な加工システム及び加工システムに用いられる光学装置の技術分野に関する。
 造形物を形成可能な加工システムの一例が、特許文献1に記載されている。このような加工システムが有する技術的課題の一つとして、造形物を適切に形成することがあげられる。
米国特許出願公開第2017/0014909号明細書
 第1の態様によれば、造形物を形成する加工システムであって、エネルギービームを第1照射位置に集光する第1光学系と、前記第1照射位置に造形材料を供給可能な材料供給装置とを有し、前記材料供給装置により供給された前記造形材料に、前記第1光学系からの前記エネルギービームを照射することにより前記造形物を形成可能であり、前記第1光学系からの前記エネルギービームを第2光学系により前記造形物の表面に照射して前記造形物を加工する加工システムが提供される。
 第2の態様によれば、エネルギービームを物体に照射する第1光学系と、前記第1光学系を収容する第1収容部材と、前記第1光学系からの前記エネルギービームの照射位置に造形材料を供給する材料供給装置と、第1収容部材に取り付け可能な、前記第1光学系からのエネルギービームを集光する第2光学系を収容する第2収容部材とを備える加工システムが提供される。
 第3の態様によれば、エネルギービームを物体に照射する第1光学系と、前記第1光学系を収容する第1収容部材と、前記第1光学系からの前記エネルギービームの照射位置に造形材料を供給する材料供給装置とを備え、前記第1収容部材には、前記第1光学系からのエネルギービームを集光する第2光学系を収容する第2収容部材を前記第1収容部材に取り付けるための取付部が形成されている加工システムが提供される。
 第4の態様によれば、エネルギービームを物体に照射する第1光学系と、前記第1光学系を収容する第1収容部材とを備え、前記第1収容部材には、前記第1光学系からのエネルギービームを集光する第2光学系を収容する第2収容部材を前記第1収容部材に取り付けるための取付部が形成されている加工システムが提供される。
 第5の態様によれば、エネルギービームを第1照射位置に集光する第1光学系と、前記第1照射位置に造形材料を供給可能な材料供給装置と備え、前記材料供給装置により前記造形材料を供給して、前記第1光学系からの前記エネルギービームにより、造形物を形成する加工システムに取り付け可能な光学装置であって、前記第1光学系からの前記エネルギービームを前記造形物の表面に照射して前記造形物を加工するための第2光学系を有する光学装置が提供される。
 第6の態様によれば、エネルギービームを物体に照射する第1光学系と、前記第1光学系を収容する第1収容部材と、前記第1光学系からの前記エネルギービームの照射位置に造形材料を供給する材料供給装置とを備える加工システムに取り付け可能な光学装置であって、前記第1収容部材に取り付け可能な、前記第1光学系からのエネルギービームを集光する第2光学系を収容する第2収容部材を有する光学装置が提供される。
 第7の態様によれば、造形物を形成する加工システムであって、エネルギービームを第1照射位置に集光する第1光学系と、前記第1照射位置に造形材料を供給可能な材料供給装置とを備え、前記材料供給装置により供給された前記造形材料に、前記第1光学系からのエネルギービームを照射することにより前記造形物を形成可能な第1加工装置と、エネルギービームを第2光学系により前記造形物の表面に照射して前記造形物を加工する第2加工装置とを有する加工システムが提供される。
 本発明の作用及び他の利得は次に説明する実施するための形態から明らかにされる。
図1は、本実施形態の加工システムの構造を示す断面図である。 図2は、本実施形態の加工システムのシステム構成を示すシステム構成図である。 図3は、本実施形態の加工ヘッドの構造を示す断面図である。 図4(a)から図4(e)のそれぞれは、ワーク上のある領域に加工光を照射し且つ造形材料を供給した場合の様子を示す断面図である。 図5(a)から図5(c)のそれぞれは、3次元構造物を形成する過程を示す断面図である。 図6(a)から図6(c)のそれぞれは、溶融動作(平滑化動作)が行われている過程での加工対象面の状態を示す断面図である。 図7(a)から図7(b)のそれぞれは、集光面と加工対象面との相対的な位置関係を示す断面図である。 図8は、第1のヘッド装置の構造を示す断面図である。 図9は、第1のヘッド装置における加工光の光路及びパージガスの流路を示す断面図である。 図10は、第2のヘッド装置の構造を示す断面図である。 図11は、第1のヘッド装置における加工光の光路を示す 図12は、第2のヘッド装置におけるパージガスの流路を示す 図13は、パージガスの供給経路が形成された筒状部材の一例を示す透過斜視図である。 図14は、パージガスの供給経路が形成された筒状部材の一例を示す断面図である。 図15は、筒状の形状を有する3次元構造物を加工するための加工光を射出する第2のヘッド装置を、3次元構造物と共に示す断面図である。 図16は、筒状の空隙が形成された3次元構造物を示す透過斜視図である。 図17は、筒状の空隙が形成された3次元構造物の内壁面に照射される加工光を示す断面図である。 図18は、筒状の空隙が形成された3次元構造物の内壁面に照射される加工光を示す断面図である。 図19は、第2のヘッド装置の変形例の構造を示す断面図である。 図20は、第2のヘッド装置の変形例における加工光の光路を示す断面図である 図21は、第2のヘッド装置の変形例における加工光の光路を示す断面図である 図22は、加工システムの変形例の構造を示す断面図である。
 以下、図面を参照しながら、本発明の加工システムの一実施形態である加工システムSYSについて説明する。本実施形態の加工システムSYSは、付加加工を行うことで、「造形物」の一具体例である3次元構造物STを形成可能な加工システムである。加工システムSYSは、例えば、レーザ肉盛溶接法(LMD:Laser Metal Deposition)に基づく付加加工を行うことで3次元構造物STを形成可能である。尚、レーザ肉盛溶接法(LMD)は、ダイレクト・メタル・デポジション、ダイレクト・エナジー・デポジション、レーザクラッディング、レーザ・エンジニアード・ネット・シェイピング、ダイレクト・ライト・ファブリケーション、レーザ・コンソリデーション、シェイプ・デポジション・マニュファクチャリング、ワイヤ-フィード・レーザ・デポジション、ガス・スルー・ワイヤ、レーザ・パウダー・フージョン、レーザ・メタル・フォーミング、セレクティブ・レーザ・パウダー・リメルティング、レーザ・ダイレクト・キャスティング、レーザ・パウダー・デポジション、レーザ・アディティブ・マニュファクチャリング、レーザ・ラピッド・フォーミングと称してもよい。
 以下の説明では、互いに直交するX軸、Y軸及びZ軸から定義されるXYZ直交座標系を用いて、加工システムSYSを構成する各種構成要素の位置関係について説明する。尚、以下の説明では、説明の便宜上、X軸方向及びY軸方向のそれぞれが水平方向(つまり、水平面内の所定方向)であり、Z軸方向が鉛直方向(つまり、水平面に直交する方向であり、実質的には上下方向或いは重力方向)であるものとする。また、X軸、Y軸及びZ軸周りの回転方向(言い換えれば、傾斜方向)を、それぞれ、θX方向、θY方向及びθZ方向と称する。ここで、Z軸方向を重力方向としてもよい。また、XY平面を水平方向としてもよい。
 (1)加工システムSYSの構造
 初めに、図1及び図2を参照しながら、本実施形態の加工システムSYSの構造について説明する。図1は、本実施形態の加工システムSYSの構造の一例を示す断面図である。図2は、本実施形態の加工システムSYSのシステム構成の一例を示すシステム構成図である。
 加工システムSYSは、3次元構造物(つまり、3次元方向のいずれの方向においても大きさを持つ3次元の物体であり、立体物、言い換えると、X軸方向、Y軸方向及びZ軸方向において大きさを持つ物体)STを形成するための造形動作を行うことが可能である。加工システムSYSは、3次元構造物STを形成するための基礎(つまり、母材)となるワークW上に、3次元構造物STを形成可能である。加工システムSYSは、ワークWに付加加工を行うことで、3次元構造物STを形成可能である。ワークWが後述するステージ31である場合には、加工システムSYSは、ステージ31上に、3次元構造物STを形成可能である。ワークWがステージ31に載置されている(或いは、ステージ31に載置されている)既存構造物である場合には、加工システムSYSは、既存構造物上に、3次元構造物STを形成可能であってもよい。この場合、加工システムSYSは、既存構造物と一体化された3次元構造物STを形成してもよい。既存構造物と一体化された3次元構造物STを形成する動作は、既存構造物に新たな構造物を付加する動作と等価とみなせる。尚、既存構造物は例えば欠損箇所がある要修理品であってもよい。加工システムSYSは、要修理品の欠損箇所を埋めるように、要修理品に3次元構造物STを形成してもよい。或いは、加工システムSYSは、既存構造物と分離可能な3次元構造物STを形成してもよい。尚、図1は、ワークWが、ステージ31によって保持されている既存構造物である例を示している。また、以下でも、ワークWがステージ31によって保持されている既存構造物である例を用いて説明を進める。
 上述したように、加工システムSYSは、レーザ肉盛溶接法により3次元構造物STを形成可能である。つまり、加工システムSYSは、積層造形技術を用いて物体を形成する3Dプリンタであるとも言える。尚、積層造形技術は、ラピッドプロトタイピング(Rapid Prototyping)、ラピッドマニュファクチャリング(Rapid Manufacturing)、又は、アディティブマニュファクチャリング(Additive Manufacturing)とも称されてもよい。
 加工システムSYSは、造形材料Mを加工光ELで加工して3次元構造物STを形成する。造形材料Mは、所定強度以上の加工光ELの照射によって溶融可能な材料である。このような造形材料Mとして、例えば、金属性の材料及び樹脂性の材料の少なくとも一方が使用可能である。但し、造形材料Mとして、金属性の材料及び樹脂性の材料とは異なるその他の材料が用いられてもよい。造形材料Mは、粉状の又は粒状の材料である。つまり、造形材料Mは、粉粒体である。但し、造形材料Mは、粉粒体でなくてもよい。例えば、造形材料Mとして、ワイヤ状の造形材料及びガス状の造形材料の少なくとも一方が用いられてもよい。
 本実施形態では更に、加工システムSYSは、3次元構造物STを形成するための造形動作に加えて又は代えて、造形動作によって(つまり、付加加工によって)形成された3次元構造物STを加工するための加工動作を行うことが可能である。例えば、加工システムSYSは、造形動作を行うために用いる加工光ELを、造形動作によって形成された3次元構造物STに対して照射することで、3次元構造物STを加工してもよい。
 3次元構造物STを形成するための造形動作及び3次元構造物STを加工するための加工動作の少なくとも一方を行うために、加工システムSYSは、図1及び図2に示すように、材料供給源1と、加工ユニット2と、ステージユニット3と、光源4と、気体供給装置5と、筐体6と、制御装置7とを備える。加工ユニット2とステージユニット3とのそれぞれの少なくとも一部は、筐体6の内部のチャンバ空間63IN内に収容されている。
 材料供給源1は、加工ユニット2に造形材料Mを供給する。材料供給源1は、3次元構造物STを形成するために単位時間あたりに必要とする分量の造形材料Mが加工ユニット2に供給されるように、当該必要な分量に応じた所望量の造形材料Mを供給する。
 加工ユニット2は、材料供給源1から供給される造形材料Mを加工して3次元構造物STを形成する。3次元構造物STを形成するために、加工ユニット2は、加工ヘッド21と、ヘッド駆動系22とを備える。更に、加工ヘッド21は、照射光学系211と、材料ノズル(つまり造形材料Mを供給する供給系)212と、戻り光検出器213と、鏡筒214と、ヘッド筐体215とを備えている。尚、以下の加工ヘッド21の説明においては、図1及び図2に加えて、加工ヘッド21の構造を示す断面図である図3も適宜参照する。加工ヘッド21と、ヘッド駆動系22とは、チャンバ空間63IN内に収容されている。但し、加工ヘッド21及び/又はヘッド駆動系22の少なくとも一部が、筐体6の外部の空間である外部空間64OUTに配置されていてもよい。尚、外部空間64OUTは、加工システムSYSのオペレータが立ち入り可能な空間であってもよい。
 照射光学系211は、加工光ELを射出するための光学系である。具体的には、照射光学系211は、加工光ELを発する光源4と、光ファイバ及びライトパイプ等の少なくとも一つを含む光伝送部材41を介して光学的に接続されている。照射光学系211は、光伝送部材41を介して光源4から伝搬してくる加工光ELを射出する。照射光学系211は、照射光学系211から下方(つまり、-Z側)に向けて加工光ELを照射する。このため、照射光学系211の光軸AXは、Z軸に沿った軸であってもよい。照射光学系211の下方には、ステージ31が配置されている。ステージ31にワークWが載置されている場合には、照射光学系211は、物体であるワークWに加工光ELを照射する。具体的には、照射光学系211は、加工光ELが照射される(典型的には、集光される)領域としてワークW上に又はワークWの近傍に設定される目標照射領域EAに加工光ELを照射可能である。つまり、照射光学系211は、目標照射領域EAが設定された位置に加工光ELを照射する。更に、照射光学系211の状態は、制御装置7の制御下で、目標照射領域EAに加工光ELを照射する状態と、目標照射領域EAに加工光ELを照射しない状態との間で切替可能である。尚、照射光学系211から射出される加工光ELの方向は真下(つまり、-Z軸方向と一致)には限定されず、例えば、Z軸に対して所定の角度だけ傾いた方向であってもよい。
 照射光学系211は、ワークWに向けて射出した加工光ELを、光軸AXに交差する集光面211FPに集光してもよい。このため、照射光学系211は、集光光学系と称されてもよい。集光面211FPは、典型的には、ワークW上に又はワークWの近傍に設定される。このため、ワークW上に又はワークWの近傍に設定される上述した目標照射領域EAは、集光面211FPに設定されてもよい。つまり、目標照射領域EAと集光面211FPとは、少なくとも部分的に重複していてもよい。この場合、照射光学系211は、集光面211FPが設定される位置に加工光ELを照射しているとみなしてもよい。尚、このような集光面211FPは、典型的には、照射光学系211の後側焦点位置に設定される。
 照射光学系211は、鏡筒214の内部空間2141に収容される。つまり、鏡筒214は、照射光学系211のその内部空間2141内に含んでいる。このため、鏡筒214は、収容部材と称されてもよい。鏡筒214は、内部空間2141に収容されている照射光学系211を保持してもよい。鏡筒214には、照射光学系211から射出される加工光ELが射出可能な開口である射出口2142が形成されている。このため、照射光学系211は、射出口2142を介して、鏡筒214の内部から鏡筒214の外部に向けて加工光ELを射出する。
 鏡筒214は更に、ヘッド筐体215に収容されている。この場合、照射光学系211は、ヘッド筐体215に収容されているとみなしてもよい。このため、ヘッド筐体215もまた、収容部材と称されてもよい。鏡筒214は、少なくとも射出口2142がヘッド筐体215の外部に露出するように配置されている。その結果、鏡筒214がヘッド筐体215に収容されていたとしても、照射光学系211は、射出口2142を介して鏡筒214の外部(更には、ヘッド筐体215の外部)に向けて加工光ELを射出することができる。尚、ヘッド筐体215と鏡筒214とが一体化されていてもよい。或いは、加工ヘッド21は、ヘッド筐体215を備えていなくてもよい。この場合、鏡筒214がヘッド筐体215として用いられてもよい。
 鏡筒214には、後に詳述するヘッド装置23(例えば、図8及び図10等参照)が脱着可能である。つまり、鏡筒214には、外付けのヘッド装置23を取り付け可能であり、且つ、鏡筒214に取り付けられたヘッド装置23は、鏡筒214から取り外し可能である。鏡筒214が加工システムSYSを構成しているため、ヘッド装置23は、加工システムSYSに対して脱着可能であるとみなしてもよい。但し、ヘッド装置23は、鏡筒214に固定されていてもよい。つまり、ヘッド装置23は、鏡筒214から取り外し可能でなくてもよい。
 鏡筒214には、鏡筒214に対してヘッド装置23を取り付けるために利用可能な取付部2143が形成されている。取付部2143は、例えば、ヘッド装置23の少なくとも一部が嵌め合わせられる部材を含んでいてもよい。一例として、図3に示すように、取付部2143は、周囲から突き出た(図3に示す例では、下方に向かって突き出た)突出部材を含んでいてもよい。図3に示す例では、突出部材は、射出口2142を取り囲むように形成されている。或いは、取付部2143は、ヘッド装置23を鏡筒214に取り付けるための力をヘッド装置23に付与可能な部材を含んでいてもよい。例えば、取付部2143は、負圧を利用してヘッド装置23を吸引可能な真空チャック及び静電力を利用してヘッド装置23を吸引可能な静電チャックの少なくとも一方を含んでいてもよい。或いは、鏡筒214に加えて又は代えて、ヘッド筐体215が、ヘッド筐体215に対して脱着可能なヘッド装置23を取り付けるための取付部2143を備えている。以下では、説明の便宜上、鏡筒214が、ヘッド装置23の少なくとも一部が嵌め合わせられる取付部2143を備える例(つまり、図3に示す例)について説明を進める。
 ヘッド筐体215には更に、材料ノズル212が取り付けられている。図1及び図3に示す例では、ヘッド筐体215には、二つの材料ノズル212が取り付けられている。しかしながら、ヘッド筐体215には、一つの材料ノズル212が取り付けられていてもよいし、三つ以上の材料ノズル212が取り付けられていてもよい。尚、上述したように加工ヘッド21がヘッド筐体215を備えていない場合には、材料ノズル212は、鏡筒214(或いは、その他の任意の支持部材)に取り付けられていてもよい。
 材料ノズル212には、開口である材料供給口2121が形成されている。材料ノズル212は、材料供給口2121から造形材料Mを供給する(例えば、射出する、噴射する、噴出する、又は、吹き付ける)。材料ノズル212は、供給管11及び混合装置12を介して造形材料Mの供給源である材料供給源1と物理的に接続されている。材料ノズル212は、供給管11及び混合装置12を介して材料供給源1から供給される造形材料Mを供給する。材料ノズル212は、供給管11を介して材料供給源1から供給される造形材料Mを圧送してもよい。即ち、材料供給源1からの造形材料Mと搬送用の気体(つまり、圧送ガスであり、例えば、窒素及びアルゴン等の少なくとも一つを含む不活性ガス)とは、混合装置12で混合された後に供給管11を介して材料ノズル212に圧送されてもよい。その結果、材料ノズル212は、搬送用の気体と共に造形材料Mを供給する。搬送用の気体として、例えば、気体供給装置5から供給されるパージガスが用いられる。但し、搬送用の気体として、気体供給装置5とは異なる気体供給装置から供給される気体が用いられてもよい。尚、図1及び図3において材料ノズル212は、チューブ状に描かれているが、材料ノズル212の形状は、この形状に限定されない。材料ノズル212は、材料ノズル212から下方(つまり、-Z側)に向けて造形材料Mを供給する。材料ノズル212の下方には、ステージ31が配置されている。ステージ31にワークWが搭載されている場合には、材料ノズル212は、ワークW又はワークWの近傍に向けて造形材料Mを供給する。尚、材料ノズル212から供給される造形材料Mの進行方向はZ軸方向に対して所定の角度(一例として鋭角)だけ傾いた方向であるが、-Z側(つまり、真下)であってもよい。また、ヘッド筐体214に複数の材料ノズル212が取り付けられる場合、照射光学系211の光軸AXに沿った方向における複数の材料供給口2121のそれぞれと集光面211FPとの距離は同じであってもよい。
 本実施形態では、材料ノズル212は、照射光学系211が加工光ELを照射する位置(つまり、目標照射領域EA)に向けて造形材料Mを供給するように、照射光学系211に対して位置合わせされている。つまり、材料ノズル212が造形材料Mを供給する領域としてワークW上に又はワークWの近傍に設定される目標供給領域MAと目標照射領域EAとが一致する(或いは、少なくとも部分的に重複する)ように、材料ノズル212と照射光学系211とが位置合わせされている。尚、照射光学系211から射出された加工光ELによって形成される後述の溶融池MP(図4参照)に材料ノズル212が造形材料Mを供給するように、材料ノズル212と照射光学系211とが位置合わせされていてもよい。尚、材料ノズル212は、溶融池MPに材料を供給しなくてもよい。例えば、加工システムSYSは、材料ノズル212からの造形材料MがワークWに到達する前に当該造形材料Mを照射光学系211によって溶融させ、溶融した造形材料MをワークWに付着させてもよい。
 戻り光検出器213は、加工光ELが照射されたワークWからの戻り光を検出可能である。戻り光は、ワークWからの加工光ELの反射光を含んでいてもよい。戻り光は、ワークWからの加工光ELの散乱光を含んでいてもよい。戻り光は、ワークWからの加工光ELの透過光を含んでいてもよい。戻り光検出器213による加工光ELの検出結果は、戻り光検出器213から制御装置7に出力される。戻り光検出器213による加工光ELの検出結果の用途は、後に詳述する。但し、加工ヘッド21は、戻り光検出器213を備えていなくてもよい。
 ヘッド駆動系22は、加工ヘッド21を移動させる。ヘッド駆動系22は、例えば、X軸、Y軸、Z軸、θX方向、θY方向及びθZ方向の少なくとも一つに沿って加工ヘッド21を移動させる。ヘッド駆動系22が加工ヘッド21を移動させると、加工ヘッド21とステージ31との相対位置が変わる。更に、ステージ31にワークWが載置されている場合には、加工ヘッド21とワークWとの相対位置が変わる。更に、ステージ31に載置されたワークWに3次元構造物STが形成されている場合には、加工ヘッド21と3次元構造物STとの相対位置が変わる。このため、ヘッド駆動系22は、加工ヘッド21と、ステージ31、ワークW及び3次元構造物STのそれぞれとの相対的な位置関係を変更するための位置変更装置として機能してもよい。また、加工ヘッド21が照射光学系211を備えているがゆえに、加工ヘッド21の移動に伴って照射光学系211が移動する。このため、ヘッド駆動系22は、照射光学系211と、ステージ31、ワークW及び3次元構造物STのそれぞれとの相対的な位置関係を変更するための位置変更装置として機能してもよい。また、上述したように、加工ヘッド21の鏡筒214にヘッド装置23が取り付けられている場合には、加工ヘッド21の移動に伴ってヘッド装置23が移動する。このため、ヘッド駆動系22は、ヘッド装置23と、ステージ31、ワークW及び3次元構造物STのそれぞれとの相対的な位置関係を変更するための位置変更装置として機能してもよい。
 ステージユニット3は、ステージ31を備えている。ステージ31は、チャンバ空間63INに収容される。ステージ31には、ワークWが載置可能である。ステージ31は、ステージ31に載置されたワークWを保持可能であってもよい。この場合、ステージ31は、ワークWを保持するために、機械的なチャック、静電チャック及び真空吸着チャック等の少なくとも一つを備えていてもよい。或いは、ステージ31は、ステージ31に載置されたワークWを保持可能でなくてもよい。この場合、ワークWは、クランプレスでステージ31に載置されていてもよい。ステージ31がチャンバ空間63INに収容されるため、ステージ31が支持するワークWもまた、チャンバ空間63INに収容される。更に、ステージ31は、ワークWが保持されている場合には、保持したワークWをリリース可能である。上述した照射光学系211は、ステージ31にワークWが載置されている期間の少なくとも一部において加工光ELを照射する。更に、上述した材料ノズル212は、ステージ31にワークWが載置されている期間の少なくとも一部において造形材料Mを供給する。
 ステージ駆動系32は、ステージ31を移動させる。ステージ駆動系32は、例えば、X軸、Y軸、Z軸、θX方向、θY方向及びθZ方向の少なくとも一つに沿ってステージ31を移動させる。ステージ駆動系32がステージ31を移動させると、加工ヘッド21とステージ31との相対位置が変わる。このため、ステージ駆動系32は、上述したヘッド駆動系22と同様に、加工ヘッド21と、ステージ31、ワークW及び3次元構造物STのそれぞれとの相対的な位置関係を変更するための位置変更装置として機能してもよい。ステージ駆動系32は、上述したヘッド駆動系22と同様に、ヘッド装置23と、ステージ31、ワークW及び3次元構造物STのそれぞれとの相対的な位置関係を変更するための位置変更装置として機能してもよい。
 光源4は、例えば、赤外光、可視光及び紫外光のうちの少なくとも一つを、加工光ELとして射出する。但し、加工光ELとして、その他の種類の光が用いられてもよい。加工光ELは、複数のパルス光(つまり、複数のパルスビーム)を含んでいてもよい。加工光ELは、連続光(CW:Continuous Wave)を含んでいてもよい。加工光ELは、レーザ光であってもよい。この場合、光源4は、レーザ光源(例えば、レーザダイオード(LD:Laser Diode)等の半導体レーザを含んでいてもよい。レーザ光源は、ファイバ・レーザ、COレーザ、YAGレーザ及びエキシマレーザ等のうちの少なくとも一つを含んでいてもよい。但し、加工光ELは、レーザ光でなくてもよい。光源4は、任意の光源(例えば、LED(Light Emitting Diode)及び放電ランプ等の少なくとも一つ)を含んでいてもよい。
 気体供給装置5は、チャンバ空間63INをパージするためのパージガスの供給源である。パージガスは、不活性ガスを含む。不活性ガスの一例として、窒素ガス及びアルゴンガスの少なくとも一方があげられる。気体供給装置5は、筐体6の隔壁部材61に形成された供給口62及び気体供給装置5と供給口62とを接続する供給管51を介して、チャンバ空間63INに接続されている。気体供給装置5は、供給管51及び供給口62を介して、チャンバ空間63INにパージガスを供給する。その結果、チャンバ空間63INは、パージガスによってパージされた空間となる。チャンバ空間63INに供給されたパージガスは、隔壁部材61に形成された不図示の排出口から排出されてもよい。尚、気体供給装置5は、不活性ガスが格納されたボンベであってもよい。不活性ガスが窒素ガスである場合には、気体供給装置5は、大気を原料として窒素ガスを発生する窒素ガス発生装置であってもよい。
 気体供給装置5からのパージガスは、図3に示すように、鏡筒214の内部空間2141に供給されてもよい。内部空間2141に照射光学系211が収容されているため、気体供給装置5は、照射光学系211にパージガスを供給してもよい。照射光学系211に供給されたパージガスは、照射光学系211を冷却するために用いられてもよい。照射光学系211に供給されたパージガスは、照射光学系211に不要物質が付着するのを防止するために用いられてもよい。不要物質は、例えば、ワークWに対する加工光ELの照射によって発生するヒュームを含んでいてもよい。不要物質は、例えば、材料ノズル212から供給される造形材料Mの少なくとも一部(特に、3次元構造物STの形成に用いられなかった造形材料M)を含んでいてもよい。照射光学系211に供給されたパージガスは、図3に示すように、鏡筒214の射出口2142を介して、鏡筒214の内部から鏡筒214の外部に向けて流出してもよい。
 上述したように、材料ノズル212がパージガスと共に造形材料Mを供給する場合には、気体供給装置5は、チャンバ空間63INに加えて材料供給源1からの造形材料Mが供給される混合装置12にパージガスを供給してもよい。具体的には、気体供給装置5は、気体供給装置5と混合装置12とを接続する供給管52を介して混合装置12と接続されていてもよい。その結果、気体供給装置5は、供給管52を介して、混合装置12にパージガスを供給する。この場合、材料供給源1からの造形材料Mは、供給管52を介して気体供給装置5から供給されたパージガスによって、供給管11内を通って材料ノズル212に向けて供給(具体的には、圧送)されてもよい。つまり、気体供給装置5は、供給管52、混合装置12及び供給管11を介して、材料ノズル212に接続されていてもよい。その場合、材料ノズル212は、材料供給口2121から、造形材料Mを圧送するためのパージガスと共に造形材料Mを供給することになる。
 筐体6は、筐体6の内部空間であるチャンバ空間63INに少なくとも加工ユニット2及びステージユニット3のそれぞれの少なくとも一部を収容する収容装置である。筐体6は、チャンバ空間63INを規定する隔壁部材61を含む。隔壁部材61は、チャンバ空間63INと、筐体6の外部空間64OUTとを隔てる部材である。隔壁部材61は、その内壁面611を介してチャンバ空間63INに面し、その外壁面612を介して外部空間64OUTに面する。この場合、隔壁部材61によって囲まれた空間(より具体的には、隔壁部材61の内壁面611によって囲まれた空間)が、チャンバ空間63INとなる。尚、隔壁部材61には、開閉可能な扉が設けられていてもよい。この扉は、ワークWをステージ31に載置する際に開かれてもよい。扉は、ステージ31からワークW及び/又は3次元構造物STを取り出す際に開かれてもよい。扉は、造形動作及び加工動作の夫々が行われている期間中には閉じられていてもよい。なお、筐体6の外部空間64OUTからチャンバ空間63INを視認するための観察窓(不図示)が、隔壁部材61に形成されていてもよい。
 制御装置7は、加工システムSYSの動作を制御する。制御装置7は、例えば、演算装置と、記憶装置とを備えていてもよい。演算装置は、例えば、CPU(Central Processing Unit)及びGPU(Graphics Processing Unit)の少なくとも一方を含んでいてもよい。記憶装置は、例えば、メモリを含んでいてもよい。制御装置7は、演算装置がコンピュータプログラムを実行することで、加工システムSYSの動作を制御する装置として機能する。このコンピュータプログラムは、制御装置7が行うべき後述する動作を演算装置に行わせる(つまり、実行させる)ためのコンピュータプログラムである。つまり、このコンピュータプログラムは、加工システムSYSに後述する動作を行わせるように制御装置7を機能させるためのコンピュータプログラムである。演算装置が実行するコンピュータプログラムは、制御装置7が備える記憶装置(つまり、記録媒体)に記録されていてもよいし、制御装置7に内蔵された又は制御装置7に外付け可能な任意の記憶媒体(例えば、ハードディスクや半導体メモリ)に記録されていてもよい。或いは、演算装置は、実行するべきコンピュータプログラムを、ネットワークインタフェースを介して、制御装置7の外部の装置からダウンロードしてもよい。
 例えば、制御装置7は、照射光学系211による加工光ELの射出態様を制御してもよい。射出態様は、例えば、加工光ELの強度及び加工光ELの射出タイミングの少なくとも一方を含んでいてもよい。加工光ELが複数のパルス光を含む場合には、射出態様は、例えば、パルス光の発光時間、パルス光の発光周期、及び、パルス光の発光時間の長さとパルス光の発光周期との比(いわゆる、デューティ比)の少なくとも一つを含んでいてもよい。更に、制御装置7は、ヘッド駆動系22による加工ヘッド21の移動態様を制御してもよい。制御装置7は、ステージ駆動系32によるステージ31の移動態様を制御してもよい。移動態様は、例えば、移動量、移動速度、移動方向及び移動タイミング(移動時期)の少なくとも一つを含んでいてもよい。更に、制御装置7は、材料ノズル212による造形材料Mの供給態様を制御してもよい。供給態様は、例えば、供給量(特に、単位時間当たりの供給量)及び供給タイミング(供給時期)の少なくとも一方を含んでいてもよい。
 制御装置7は、加工システムSYSの内部に設けられていなくてもよい。例えば、制御装置7は、加工システムSYS外にサーバ等として設けられていてもよい。この場合、制御装置7と加工システムSYSとは、有線及び/又は無線のネットワーク(或いは、データバス及び/又は通信回線)で接続されていてもよい。有線のネットワークとして、例えばIEEE1394、RS-232x、RS-422、RS-423、RS-485及びUSBの少なくとも一つに代表されるシリアルバス方式のインタフェースを用いるネットワークが用いられてもよい。有線のネットワークとして、パラレルバス方式のインタフェースを用いるネットワークが用いられてもよい。有線のネットワークとして、10BASE-T、100BASE-TX及び1000BASE-Tの少なくとも一つに代表されるイーサネット(登録商標)に準拠したインタフェースを用いるネットワークが用いられてもよい。無線のネットワークとして、電波を用いたネットワークが用いられてもよい。電波を用いたネットワークの一例として、IEEE802.1xに準拠したネットワーク(例えば、無線LAN及びBluetooth(登録商標)の少なくとも一方)があげられる。無線のネットワークとして、赤外線を用いたネットワークが用いられてもよい。無線のネットワークとして、光通信を用いたネットワークが用いられてもよい。この場合、制御装置7と加工システムSYSとはネットワークを介して各種の情報の送受信が可能となるように構成されていてもよい。また、制御装置7は、ネットワークを介して加工システムSYSにコマンドや制御パラメータ等の情報を送信可能であってもよい。加工システムSYSは、制御装置7からのコマンドや制御パラメータ等の情報を、上記ネットワークを介して受信する受信装置を備えていてもよい。加工システムSYSは、制御装置7に対してコマンドや制御パラメータ等の情報を、上記ネットワークを介して送信する送信装置(つまり、制御装置7に対して情報を出力する出力装置)を備えていてもよい。或いは、制御装置7が行う処理のうちの一部を行う第1制御装置が加工システムSYSの内部に設けられている一方で、制御装置7が行う処理のうちの他の一部を行う第2制御装置が加工システムSYSの外部に設けられていてもよい。
 尚、制御装置7が実行するコンピュータプログラムを記録する記録媒体としては、CD-ROM、CD-R、CD-RWやフレキシブルディスク、MO、DVD-ROM、DVD-RAM、DVD-R、DVD+R、DVD-RW、DVD+RW及びBlu-ray(登録商標)等の光ディスク、磁気テープ等の磁気媒体、光磁気ディスク、USBメモリ等の半導体メモリ、及び、その他プログラムを格納可能な任意の媒体の少なくとも一つが用いられてもよい。記録媒体には、コンピュータプログラムを記録可能な機器(例えば、コンピュータプログラムがソフトウェア及びファームウェア等の少なくとも一方の形態で実行可能な状態に実装された汎用機器又は専用機器)が含まれていてもよい。更に、コンピュータプログラムに含まれる各処理や機能は、制御装置7(つまり、コンピュータ)がコンピュータプログラムを実行することで制御装置7内に実現される論理的な処理ブロックによって実現されてもよいし、制御装置7が備える所定のゲートアレイ(FPGA、ASIC)等のハードウェアによって実現されてもよいし、論理的な処理ブロックとハードウェアの一部の要素を実現する部分的ハードウェアモジュールとが混在する形式で実現してもよい。
 (2)加工システムSYSの動作
 続いて、加工システムSYSの動作について説明する。上述したように、加工システムSYSは、ワークWに対して付加加工を行うことで3次元構造物STを形成するための造形動作を行う。更に、加工システムSYSは、形成動作によって形成された3次元構造物STを加工するための加工動作を行う。このため、以下では、造形動作と、加工動作とについて順に説明する。
 (2-1)造形動作
 初めに、造形動作について説明する。上述したように、加工システムSYSは、レーザ肉盛溶接法により3次元構造物STを形成する。このため、加工システムSYSは、レーザ肉盛溶接法に準拠した既存の造形動作を行うことで、3次元構造物STを形成してもよい。以下、レーザ肉盛溶接法を用いて3次元構造物STを形成する造形動作の一例について簡単に説明する。
 加工システムSYSは、形成するべき3次元構造物STの3次元モデルデータ(例えば、CAD(Computer Aided Design)データ)等に基づいて、ワークW上に3次元構造物STを形成する。3次元モデルデータとして、加工システムSYS内に設けられた不図示の計測装置及び加工システムSYSとは別に設けられた3次元形状計測機の少なくとも一方で計測された立体物の計測データが用いられてもよい。加工システムSYSは、3次元構造物STを形成するために、例えば、Z軸方向に沿って並ぶ複数の層状の部分構造物(以下、“構造層”と称する)SLを順に形成していく。例えば、加工システムSYSは、3次元構造物STのモデルをZ軸方向に沿って輪切りにすることで得られる複数の層のデータに基づいて複数の構造層SLを1層ずつ順に形成していく。その結果、複数の構造層SLが積層された積層構造体である3次元構造物STが形成される。以下、複数の構造層SLを1層ずつ順に形成していくことで3次元構造物STを形成する動作の流れについて説明する。
 まず、各構造層SLを形成する動作について図4(a)から図4(e)を参照して説明する。加工システムSYSは、制御装置7の制御下で、ワークWの表面又は形成済みの構造層SLの表面に相当する造形面MS上の所望領域に目標照射領域EAが設定されるように、加工ヘッド21及びステージ31の少なくとも一方を移動させる。その後、加工システムSYSは、目標照射領域EAに対して照射光学系211から加工光ELを照射する。この際、Z軸方向において加工光ELが集光される集光面211FPは、造形面MSに一致していてもよい。或いは、Z軸方向において集光面211FPは、造形面MSから外れていてもよい。その結果、図4(a)に示すように、加工光ELが照射された造形面MS上に溶融池(つまり、加工光ELによって溶融した金属等のプール)MPが形成される。更に、加工システムSYSは、制御装置7の制御下で、材料ノズル212から造形材料Mを供給する。ここで、上述したように造形材料Mが供給される目標供給領域MAが目標照射領域EAと一致しているため、目標供給領域MAは、溶融池MPが形成された領域の少なくとも一部を含む。このため、加工システムSYSは、図4(b)に示すように、溶融池MPに対して、材料ノズル212から造形材料Mを供給する。その結果、溶融池MPに供給された造形材料Mが溶融する。その後、加工ヘッド21及びステージ31の少なくとも一方の移動に伴って溶融池MPに加工光ELが照射されなくなると、溶融池MPにおいて溶融した造形材料Mは、冷却されて固化(つまり、凝固)する。その結果、図4(c)に示すように、固化した造形材料Mが造形面MS上に堆積される。つまり、固化した造形材料Mの堆積物による造形物が形成される。
 加工システムSYSは、このような加工光ELの照射による溶融池MPの形成、溶融池MPへの造形材料Mの供給、供給された造形材料Mの溶融及び溶融した造形材料Mの固化を含む一連の造形処理を、図4(d)に示すように、造形面MSに対して加工ヘッド21をXY平面に沿って移動させながら繰り返す。この際、加工システムSYSは、造形面MS上において造形物を形成したい領域に加工光ELを照射する一方で、造形面MS上において造形物を形成したくない領域に加工光ELを照射しない。つまり、加工システムSYSは、造形面MS上を所定の移動軌跡に沿って目標照射領域EAを移動させながら、造形物を形成したい領域の分布の態様に応じたタイミングで加工光ELを造形面MSに照射する。その結果、溶融池MPもまた、目標照射領域EAの移動軌跡に応じた移動軌跡に沿って造形面MS上を移動することになる。具体的には、溶融池MPは、造形面MS上において、目標照射領域EAの移動軌跡に沿った領域のうち加工光が照射された部分に順次形成される。その結果、図4(e)に示すように、造形面MS上に、溶融した後に固化した造形材料Mによる造形物の集合体に相当する構造層SLが形成される。つまり、溶融池MPの移動軌跡に応じたパターンで造形面MS上に形成された造形物の集合体に相当する構造層SL(つまり、平面視において、溶融池MPの移動軌跡に応じた形状を有する構造層SL)が形成される。尚、造形物を形成したくない領域に目標照射領域EAが設定されている場合、加工システムSYSは、加工光ELを目標照射領域EAに照射するとともに、造形材料Mの供給を停止してもよい。また、造形物を形成したくない領域に目標照射領域EAが設定されている場合に、加工システムSYSは、造形材料Mを目標照射領域EAに供給するとともに、溶融池MPができない強度の加工光ELを目標照射領域EAに照射してもよい。
 加工システムSYSは、このような構造層SLを形成するための動作を、制御装置7の制御下で、3次元モデルデータに基づいて繰り返し行う。具体的には、まず、制御装置7は、3次元モデルデータを積層ピッチでスライス処理してスライスデータを作成する。尚、加工システムSYSの特性に応じてこのスライスデータを一部修正したデータが用いられてもよい。加工システムSYSは、ワークWの表面WSに相当する造形面MS上に1層目の構造層SL#1を形成するための動作を、構造層SL#1に対応する3次元モデルデータ(つまり、構造層SL#1に対応するスライスデータ)に基づいて行う。その結果、造形面MS上には、図5(a)に示すように、構造層SL#1が形成される。その後、加工システムSYSは、構造層SL#1の表面(つまり、上面)を新たな造形面MSに設定した上で、当該新たな造形面MS上に2層目の構造層SL#2を形成する。構造層SL#2を形成するために、制御装置7は、まず、ステージ31に対して加工ヘッド21がZ軸に沿って移動するように、ヘッド駆動系22及びステージ駆動系32の少なくとも一方を制御する。具体的には、制御装置7は、ヘッド駆動系22及びステージ駆動系32の少なくとも一方を制御して、目標照射領域EA及び目標供給領域MA(更には、必要に応じて集光面211FP)が構造層SL#1の表面(つまり、新たな造形面MS)に設定されるように、+Z側に向かって加工ヘッド21を移動させる及び/又は-Z側に向かってステージ31を移動させる。その後、加工システムSYSは、制御装置7の制御下で、構造層SL#1を形成する動作と同様の動作で、構造層SL#2に対応するスライスデータに基づいて、構造層SL#1上に構造層SL#2を形成する。その結果、図5(b)に示すように、構造層SL#2が形成される。以降、同様の動作が、ワークW上に形成するべき3次元構造物STを構成する全ての構造層SLが形成されるまで繰り返される。その結果、図5(c)に示すように、複数の構造層SLが積層された積層構造物によって、3次元構造物STが形成される。尚、図5(a)から図5(c)は、筒状の3次元構造物STが形成される例を示している。
 このように、加工システムSYSは、材料ノズル212により供給された造形材料Mに、照射光学系211からの加工光ELを照射することにより3次元構造物STを形成可能である。つまり、加工システムSYSは、材料ノズル212と照射光学系211とを用いて3次元構造物STを形成するための付加加工を行う。このため、材料ノズル212と照射光学系211とは、3次元構造物STを形成するための付加加工を行う加工装置として機能しているとみなしてもよい。材料ノズル212と照射光学系211とは、3次元構造物STを形成するための造形動作を行う造形装置として機能しているとみなしてもよい。
 (2-2)加工動作
 続いて、上述した造形動作によって形成された3次元構造物STを加工するための加工動作について説明する。
 加工システムSYSは、3次元構造物STの表面の少なくとも一部に加工光ELを照射することで、3次元構造物STの表面の少なくとも一部を加工する加工動作を行ってもよい。例えば、加工システムSYSは、3次元構造物STの表面の少なくとも一部に加工光ELを照射することで、3次元構造物STの表面の少なくとも一部を除去する加工動作を行ってもよい。この場合、加工動作は、除去加工動作と称されてもよい。例えば、加工システムSYSは、3次元構造物STの表面の少なくとも一部に加工光ELを照射することで、3次元構造物STの表面の少なくとも一部にマークを形成する加工動作を行ってもよい。この場合、加工動作は、マーキング動作と称されてもよい。例えば、加工システムSYSは、3次元構造物STの表面の少なくとも一部に加工光ELを照射することで、3次元構造物STの表面の少なくとも一部を溶融する加工動作を行ってもよい。この場合、加工動作は、溶融動作(或いは、リメルト動作)と称されてもよい。以下では、3次元構造物STの表面の少なくとも一部を溶融する加工動作(つまり、溶融動作)について詳細に説明する。
 加工システムSYSは、3次元構造物STの表面の少なくとも一部である加工対象面PS(後述する図6等参照)を滑らかにするために、溶融動作を行ってもよい。この場合、加工動作(つまり、溶融動作)は、平滑化動作と称されてもよい。尚、本実施形態では、「加工対象面PSを滑らかにする平滑化動作」は、「平滑化動作を行う前と比較して、加工対象面PSの表面を滑らかにする、加工対象面PSの平坦度を上げる(つまり、平坦にする)、及び/又は、加工対象面PSの表面粗さを細かくする(つまり、小さくする)動作」を含んでいてもよい。
 具体的には、上述したように、本実施形態では、粉状の又は粒状の造形材料Mを溶融した後に固化させることで3次元構造物STが形成される。このため、3次元構造物STの表面の少なくとも一部には、溶融しなかった造形材料Mが付着している可能性がある。更には、3次元構造物STの表面の少なくとも一部には、意図しなかった形状で再固化してしまった造形材料Mが付着している可能性がある。この場合、溶融しなかった造形材料M及び意図しなかった形状で固化してしまった造形材料Mの少なくとも一方が付着している面は、加工対象面PSに設定されてもよい。
 例えば、上述したように、本実施形態では、各構造層SLが形成される期間中において、加工ヘッド21及びステージ31の少なくとも一方が、X軸及びY軸のそれぞれに沿って(つまり、XY平面に沿って)移動する。この場合、加工ヘッド21及びステージ31の少なくとも一方の移動態様によっては、XY平面に沿った構造層SLの表面(ひいては、3次元構造層STの表面)の少なくとも一部に、加工ヘッド21及びステージ31の少なくとも一方の移動パターン(典型的には、移動のピッチ)に応じた規則的な又は不規則な凹凸が現れる可能性がある。また、上述したように、本実施形態では、複数の構造層SLが積層されることで3次元構造物STが形成される。この場合、3次元構造物STの表面(特に、積層方向に沿った又は傾斜した面である、構造層SLの積層方向に交差する方向を向いた面)には、複数の構造層SLの積層のピッチに応じた規則的な又は不規則な凹凸が現れる可能性がある。この場合、規則的な又は不規則な凹凸が現れる面は、加工対象面PSに設定されてもよい。
 ここで、図6(a)から図6(c)を参照しながら、加工対象面PSの少なくとも一部を溶融させる溶融動作(平滑化動作)を行うことで、加工対象面PSが平滑化される技術的理由について説明する。図6(a)から図6(c)のそれぞれは、溶融動作(平滑化動作)が行われている過程での加工対象面PSの状態を示す断面図である。尚、図6(a)から図6(c)の説明においては、3次元構造物STは、造形時の姿勢とは異なる姿勢で配置されている。
 溶融動作を行うために、加工システムSYSは、制御装置7の制御下で、図6(a)に示すように、加工対象面PSに目標照射領域EAを設定する。この際、加工光ELが集光される集光面211FPは、加工対象面PSに一致していてもよい。或いは、集光面211FPは、加工対象面PSから外れていてもよい。その後、加工システムSYSは、目標照射領域EAに対して照射光学系211から加工光ELを照射する。一方で、加工システムSYSは、加工対象面PSに対して材料ノズル212から造形材料Mを供給しなくてもよい。尚、図6(a)は、加工対象面PSが、規則的な又は不規則な凹凸が現れる面である例を示している。目標照射領域EAに光ELが照射されると、図6(b)に示すように、加工対象面PS内の固体状の造形材料Mが、加工光ELによって溶融する。凹凸を形成するように固化していた造形材料Mが溶融すると、溶融した造形材料Mの自重及び表面張力の少なくとも一方の作用により、溶融した造形材料Mの表面(つまり、界面)が平面に近づく又は平面になる。つまり、溶融した造形材料Mの表面(つまり、界面)の滑らかさが向上する。その後、加工ヘッド21及びステージ31の少なくとも一方の移動に伴って溶融した造形材料Mに加工光ELが照射されなくなると、溶融した造形材料Mは、冷却されて再度固化(つまり、凝固)する。その結果、図6(c)に示すように、滑らかになった(或いは、平坦度が向上した、及び/又は、表面粗さが細かくなった)表面を有するように再固化した造形材料Mが、加工対象面PSを構成することになる。このように、平滑化動作によって加工対象面PS(つまり、3次元構造物STの表面)が平滑化される。
 制御装置7は、このような加工光ELの照射による造形材料Mの溶融及び溶融した造形材料Mの固化を含む一連の平滑化処理を、加工ヘッド21及びステージ31の少なくとも一方を移動させながら繰り返し行う。つまり、制御装置7は、一連の平滑化処理を、加工ヘッド21とステージ31が支持する3次元構造物STとの相対的な位置関係を変更しながら繰り返し行う。具体的には、加工システムSYSは、3次元構造物STの形状及び位置(つまり、ワークW上での位置)の少なくとも一方に関する情報に基づいて、3次元構造物STの表面のうちの所望の面部分を加工対象面PSに設定し、設定した加工対象面PSに加工光ELが照射されるように、加工ヘッド21及びステージ31の少なくとも一方を移動してもよい。尚、加工システムSYSは、造形動作を行なった後に平滑化動作を行うがゆえに、平滑化動作の対象である3次元構造物STの形状及び位置の少なくとも一方に関する情報は、通常、加工システムSYSにとって既知の情報である。但し、加工システムSYSは、造形動作によって3次元構造物STが計測された後に、計測装置を用いて3次元構造物STの位置及び形状の少なくとも一方を計測し、計測装置の計測結果に基づいて、加工対象面PSに加工光ELが照射されるように、加工ヘッド21及びステージ31の少なくとも一方を移動してもよい。
 3次元構造物STの表面は、曲面を含んでいる場合がある。この場合、加工ヘッド21と3次元構造物STの相対的な位置関係が変わると、加工光ELが集光される集光面211FPと加工対象面PSとの相対的な位置関係(特に、加工光ELの進行方向に沿った位置関係であり、図6(a)から図6(c)に示す例では、Z軸方向に沿った位置関係)が変わる可能性がある。例えば、図7(a)は、+Z側に向かって突き出る曲面である加工対象面PSの第1部分p1に集光面211FPが一致する状態で加工対象面PSの第1部分p1に照射される加工光ELを示している。この場合、加工対象面PSの第1部分p1には、当該第1部分p1に集光された加工光ELが照射される。一方で、7(a)に示す状態において、加工ヘッド21がXY平面に沿った方向(例えば、Y軸方向)に沿って移動すると、図7(b)に示すように、加工光ELは、Z軸方向において集光面211FPから外れた加工対象面PSの第2部分p2に照射される。この場合、第2部分p2には、当該第2部分p2に集光されていない加工光ELが照射される。つまり、第2部分p2には、デフォーカス状態にある加工光ELが照射される。このため、加工光ELの進行方向における集光面211FPと加工対象面PSとの相対的な位置関係が変わると、加工対象面PSにおける加工光ELのフルエンスが変わる可能性がある。加工対象面PSにおける加工光ELのフルエンスが変わると、加工対象面PSの溶融量が変わる可能性がある。その結果、加工対象面PSが適切に平滑化されない可能性がある。そこで、加工システムSYSは、制御装置7の制御下で、加工対象面PSが適切に平滑化されるように、集光面211FPと加工対象面PSとの相対的な位置関係を制御してもよい。例えば、集光面211FPの位置(つまり、加工光ELのフォーカス位置)を制御可能な集光制御光学部材を照射光学系211が備えている場合には、加工システムSYSは、制御装置7の制御下で、集光面211FPと加工対象面PSとの相対的な位置関係が維持されるように、集光制御光学部材を制御してもよい。例えば、加工システムSYSは、制御装置7の制御下で、集光面211FPと加工対象面PSとの相対的な位置関係が維持されるように、加工ヘッド21及び3次元構造物STを支持するステージ31の少なくとも一方を移動させてもよい。尚、上述したように、3次元構造物STの形状及び位置の少なくとも一方に関する情報が加工システムSYSにとって既知の情報であるため、加工システムSYSは、当該情報に基づいて、集光面211FPと加工対象面PSとの相対的な位置関係が維持されるように、集光面211FPと加工対象面PSとの相対的な位置関係を制御してもよい。
 上述したように、平滑化動作が行われる場合には、材料ノズル212から造形材料Mが供給されない。このため、加工光ELを射出する照射光学系211と、加工光ELが照射される加工対象面PSとの間には、加工光ELの少なくとも一部を遮光する可能性がある造形材料Mは存在しない。この場合、加工光ELが照射された加工対象面PSによって加工光ELが反射された場合には、加工光ELの反射光は、一定の強度を維持したまま照射光学系211に戻ってくる可能性がある。その結果、照射光学系211に戻ってきた加工光ELの反射光によって、照射光学系211が損傷してしまう可能性がある。特に、加工光ELが加工対象面PSに垂直入射する場合に、加工光ELの反射光は、一定の強度を維持したまま照射光学系211に戻ってくる可能性が高くなる。そこで、加工システムSYSは、制御装置7の制御下で、加工光ELが加工対象面PSに対して斜入射するように、加工ヘッド21と3次元構造物STとの相対的な位置関係を変更してもよい。具体的には、加工システムSYSは、制御装置7の制御下で、加工光ELが加工対象面PSに対して斜入射するように、加工ヘッド21及び3次元構造物STを支持するステージ31の少なくとも一方を移動、典型的には回転移動させてもよい。
 加工光ELが加工対象面PSに対して斜入射するように加工ヘッド21及びステージ31の少なくとも一方を移動させる場合には、制御装置7は、戻り光検出器213による加工光ELの検出結果に基づいて、加工光ELが加工対象面PSに対して斜入射しているか否かを判定してもよい。具体的には、加工光ELが加工対象面PSに対して斜入射している場合には、加工光ELが加工対象面PSに対して垂直入射している場合と比較して、戻り光の強度が低くなると想定される。このため、制御装置7は、戻り光の強度が所定の第1強度閾値よりも低い場合には、加工光ELが加工対象面PSに対して斜入射していると判定してもよい。一方で、制御装置7は、戻り光の強度が所定の第1強度閾値(或いは、第1強度よりも高い所定の第2強度閾値)よりも高い場合には、加工光ELが加工対象面PSに対して垂直入射していると判定してもよい。加工光ELが加工対象面PSに対して垂直入射していると判定された場合には、制御装置7は、加工光ELが加工対象面PSに対して斜入射するように加工ヘッド21及びステージ31の少なくとも一方を移動させてもよい。
 加工システムSYSは、平滑化動作を行う場合における加工対象面PSでの加工光ELのエネルギ量(具体的には、単位時間あたりに加工光ELが加工対象面PSに与えるエネルギ量)、造形動作を行う場合における加工対象面PSでの加工光ELのエネルギ量よりも小さくなるように、加工光ELのフルエンスを制御してもよい。加工光ELのエネルギ量が小さくなるほど、造形材料Mの溶融量(例えば、単位時間当たりの溶融量)が少なくなる。このため、加工システムSYSは、加工光ELのエネルギ量を制御することで、必要以上の分量の造形材料Mを溶融させることなく、平滑化動作を行うことができる。つまり、加工システムSYSは、加工対象面PSを平滑化するために必要な分量の造形材料Mを溶融させることで、平滑化動作を完了することができる。その結果、必要以上の分量の造形材料Mが溶融してしまう場合と比較して、平滑化動作が行われた加工対象面PSがより滑らかになる可能性や、3次元構造物STの寸法精度が悪化しなくなる可能性がある。
 加工システムSYSは、光源4及び/又は照射光学系211に設けられた光量調整部材(不図示)を制御することで、加工光ELのエネルギ量を制御してもよい。加工システムSYSは、集光面211FPと加工対象面PSとの相対的な位置関係を制御することで、加工光ELのエネルギ量を制御してもよい。なぜならば、集光面211FPと加工対象面PSとが離れるほど、加工光ELのエネルギ量が小さくなるからである。加工システムSYSは、加工対象面PSを加工光ELが走査する速度を制御することで、加工光ELのエネルギ量を制御してもよい。なぜならば、加工対象面PSを加工光ELが走査する速度が速くなるほど、加工光ELのエネルギ量が小さくなるからである。
 加工システムSYSは、加工対象面PSの同じ部分に複数回加工光ELを照射してもよい。具体的には、加工システムSYSは、加工対象面PSの一の部分に加工光ELを照射することで当該一の部分の造形材料Mを溶融させ、当該一の部分で溶融した造形材料Mが固化した後に当該一の部分に再度加工光ELを照射してもよい。つまり、加工システムSYSは、加工対象面PSを徐々に平滑化してもよい。その結果、加工対象面PSが一度に平滑化される場合と比較して、平滑化動作が行われた加工対象面PSがより滑らかになる可能性がある。
 尚、加工システムSYSは、3次元構造物STの表面の少なくとも一部を平滑化する目的とは異なる目的で、溶融動作を行ってもよい。例えば、加工システムSYSは、3次元構造物STを他の物体と接続する(典型的には、一体化させる)ために、溶融動作を行ってもよい。溶融物を用いて二つの物体を接続する動作の一例として、溶接動作があげられる。このため、加工システムSYSは、3次元構造物STと他の物体とを溶接するために、溶融動作を行ってもよい。この場合、溶融動作は、溶接動作と称されてもよい。具体的には、上述したように、3次元構造物ST(或いは、他の物体)に加工光ELが照射されると、3次元構造物STを構成していた造形材料M(或いは、他の物体を構成していた材料)が溶融する。加工システムSYSは、当該溶融した造形材料M(或いは、溶融した任意の材料)を溶加材として用いることで、3次元構造物STを他の物体と接続してもよい。
 尚、加工システムSYSが溶融動作を行うときには、加工光ELの照射位置を取り囲む雰囲気を不活性ガスの雰囲気としてもよい。この場合、溶融箇所の酸化を低減させることができる。
 (3)ヘッド装置23の構造
 続いて、加工ヘッド21(特に、鏡筒214)に対して脱着可能なヘッド装置23について説明する。本実施形態では、加工ヘッド21には、第1のヘッド装置23#1及び第2のヘッド装置23#2のうちの少なくとも一つを取り付けることが可能である。このため、以下では、第1のヘッド装置23#1及び第2のヘッド装置23#2の構造について順に説明する。
 (3-1)第1のヘッド装置23#1の構造
 初めに、図8を参照しながら、第1のヘッド装置23#1について説明する。図8は、第1のヘッド装置23#1の構造を示す断面図である。
 図8に示すように、第1のヘッド装置23#1は、筒状部材2311#1を備えている。筒状部材2311#1は、内部に内部空間2312#1が形成された筒状の部材である。図8に示す例では、筒状部材2311#1は、長手方向(図8に示す例では、Z軸方向)に沿って延びる筒状の部材である。筒状部材2311#1の短手方向(つまり、長手方向に交差する方向であって、図8に示す例では、例えば、XY平面に沿った方向)に沿った軸を含む筒状部材2311#1の断面の形状は、円形であるが、その他の形状(例えば、楕円形又は多角形)であってもよい。内部空間2312#1は、筒状部材2311#1によって取り囲まれた空間である。このため、図8に示す例では、内部空間2312#1は、筒状部材2311#1の長手方向(図8に示す例では、Z軸方向)に沿って延びる空間となる。
 筒状部材2311#1は、鏡筒214に対して脱着可能である。このため、筒状部材2311#1には、上述した鏡筒214の取付部2143に取り付け可能な取付部2313#1が形成されている。図8に示す例では、筒状部材2311#1の長手方向に沿った一方の端部に、取付部2313#1が形成されている。取付部2313#1は、例えば、鏡筒214の取付部2143が嵌め合わせられる部材を含んでいてもよい。一例として、図8に示すように、取付部2313#1は、周囲から突き出た(図8に示す例では、上方に向かって突き出た)突出部材を含んでいてもよい。或いは、取付部2313#1は、筒状部材2311#1を鏡筒214に取り付けるための力を鏡筒214に付与可能な部材を含んでいてもよい。例えば、取付部2313#1は、負圧を利用して鏡筒214を吸引可能な真空チャック及び静電力を利用して鏡筒214を吸引可能な静電チャックの少なくとも一方を含んでいてもよい。但し、第1のヘッド装置23#1(特に、筒状部材2311#1)を取付部2143に取り付けるための力を第1のヘッド装置23#1に付与可能な取付部2143が鏡筒214に形成されている場合には、筒状部材2311#1には、取付部2313#1が形成されていなくてもよい。逆に、筒状部材2311#1を鏡筒214に取り付けるための力を鏡筒214に付与可能な取付部2313#1が筒状部材2311#1に形成されている場合には、鏡筒214には、取付部2143が形成されていなくてもよい。以下では、説明の便宜上、鏡筒214の少なくとも一部が嵌め合わせられる取付部2313#1が筒状部材2311#1に形成されている例について説明を進める。
 筒状部材2311#1の長手方向に沿った一方の端部には、開口2314#1が形成されている。つまり、筒状部材2311#1の取付部2313#1には、開口2314#1が形成されている。開口2314#1は、筒状部材2311#1の長手方向に交差する。筒状部材2311#1の長手方向に沿った他方の端部(つまり、一方の端部とは反対側の端部)には、開口2315#1が形成されている。開口2315#1は、筒状部材2311#1の長手方向に交差する。開口2314#1及び2315#1のそれぞれは、内部空間2312#1と筒状部材2311#1の外部の空間とを接続する。
 第1のヘッド装置23#1は、鏡筒214の射出口2142と第1のヘッド装置23#1の開口2314#1とが接続されるように、取付部2143及び2313#1を介して鏡筒214に取り付けられる。つまり、第1のヘッド装置23#1は、射出口2142及び開口2314#1を介して鏡筒214の内部空間2141と第1のヘッド装置23#1の内部空間2312#1とが接続されるように、取付部2143及び2313#1を介して鏡筒214に取り付けられる。尚、鏡筒214に取り付けられた第1のヘッド装置23#1が図9に示されている。
 上述したように、鏡筒214の射出口2142からは、加工光ELが射出される。このため、第1のヘッド装置23#1における加工光の光路を示す断面図である図9に示すように、射出口2142から射出された加工光ELは、開口2314#1を介して、第1のヘッド装置23#1の内部空間2312#1に入射する。このため、開口2314#1は、入射口と称されてもよい。内部空間2312#1に入射した加工光ELは、内部空間2312#1を通過して開口2315#1に到達する。このため、開口2314#1及び2315#1の夫々は、鏡筒214から射出された加工光EL(つまり、照射光学系211から射出された加工光EL)が開口2314#1及び2315#1の双方を通過可能となるように、適切な位置に形成されていてもよい。例えば、開口2314#1及び2315#1のそれぞれは、照射光学系211の光軸AX上に形成されていてもよい。開口2315#1に到達した加工光ELは、開口2315#1を介して内部空間2312#1から第1のヘッド装置23#1の外部へと射出される。このため、開口2315#1は、射出口と称されてもよい。
 上述したように、鏡筒214の射出口2142からは、加工光ELに加えて又は代えて、気体供給装置5から供給されるパージガスが流出する。このため、第1のヘッド装置23#1におけるパージガスの流路を示す断面図である図9に示すように、射出口2142から流出したパージガスは、開口2314#1を介して、第1のヘッド装置23#1の内部空間2312#1に流入する。このため、開口2314#1は、流入口と称されてもよい。この場合、気体供給装置5は、第1のヘッド装置23#1の内部空間2312#1にパージガスを供給しているとみなしてもよい。内部空間2312#1に流入したパージガスは、内部空間2312#1を通過して開口2315#1に到達する。開口2315#1に到達したパージガスは、開口2315#1を介して内部空間2312#1から第1ヘッド装置23#1の外部へと流出する。このため、開口2315#1は、流出口と称されてもよい。
 第1のヘッド装置23#1は、例えば、加工システムSYSが3次元構造物STを形成するための造形動作を行っている期間の少なくとも一部において、鏡筒214に取り付けられてもよい。この場合、加工システムSYSは、照射光学系211から射出された加工光ELを、第1のヘッド装置23#1を介してワークWに照射可能である。具体的には、図9に示すように、加工システムSYSは、照射光学系211から射出された加工光ELを、第1のヘッド装置23#1の開口2315#1から、材料ノズル212がワークWに供給する造形材料M(或いは、溶融池MP)に向けて射出する。その結果、加工システムSYSは、第1のヘッド装置23#1が鏡筒214に取り付けられている場合であっても、3次元構造物STを適切に形成することができる。
 第1のヘッド装置23#1が鏡筒214に取り付けられている場合には、第1のヘッド装置23#1が鏡筒214に取り付けられていない場合と比較して、上述した不要物質(例えば、ヒューム及び不要な造形材料Mの少なくとも一方)が照射光学系211に付着する可能性がより一層低くなる。なぜならば、第1のヘッド装置23#1の筒状部材2311#1が不要物質を遮蔽するカバー部材として機能可能であるからである。更には、第1のヘッド装置23#1の開口2315#1からパージガスが流出しているため、開口2315#1を介して不要物質が第1のヘッド装置23#1の内部空間2312#1に侵入する可能性も低い。この意味においても、第1のヘッド装置23#1の内部空間2312#1を介して不要物質が照射光学系211に到達する可能性が低くなる。
 加工システムSYSが造形動作を行っている期間の少なくとも一部において第1のヘッド装置23#1が鏡筒214に取り付けられる場合には、図9に示すように、第1のヘッド装置23#1は、第1のヘッド装置23#1の開口2315#1が材料ノズル212の材料供給口2121の近傍に配置されるように、鏡筒214に取り付けられてもよい。言い換えれば、第1のヘッド装置23#1は、第1のヘッド装置23#1の開口2315#1が材料ノズル212の材料供給口2121の近傍に配置される状態を実現可能な形状及びサイズを有していてもよい。尚、「開口2315#1が材料供給口2121の近傍に配置される」状態は、「開口2315#1が材料供給口2121から所定距離以下の範囲に位置する」状態を意味していてもよい。この場合、開口2315#1から流出したパージガスの少なくとも一部は、材料供給口2121の周辺でパージガスの流れを形成する。典型的には、開口2315#1から流出したパージガスの少なくとも一部は、材料供給口2121に吹き付けられる。その結果、開口2315#1から流出したパージガスが材料供給口2121の周辺でパージガスの流れを形成しない場合と比較して、ヒューム等の不要物質が材料供給口2121(更には、材料ノズル212)に付着する可能性が低くなる。そして、開口2315#1から流出したパージガスの少なくとも一部は、目標照射領域EAに吹き付けられる。その結果、目標照射領域EAの周囲の雰囲気の酸素濃度が低減する可能性が高くなる。
 尚、第1のヘッド装置23#1は、加工システムSYSが3次元構造物STを加工するための加工動作を行っている期間の少なくとも一部において、鏡筒214に取り付けられてもよい。つまり、加工システムSYSは、照射光学系211から射出された加工光ELを、第1のヘッド装置23#1を介して3次元構造物STの表面(特に、加工対象面PS)に照射してもよい。その結果、加工システムSYSは、第1のヘッド装置23#1が鏡筒214に取り付けられている場合であっても、3次元構造物STを適切に加工することができる。特に、第1のヘッド装置23#1が鏡筒214に取り付けられている場合には、加工システムSYSは、照射光学系211の光軸AXに沿って加工光ELを射出する。このため、加工システムSYSは、光軸AXに交差する加工対象面PSを加工することができる。
 (3-2)第2のヘッド装置23#2の構造
 続いて、図10を参照しながら、第2のヘッド装置23#2について説明する。図10は、第2のヘッド装置23#2の構造を示す断面図である。
 図10に示すように、第2のヘッド装置23#2は、筒状部材2311#2を備えている。筒状部材2311#2は、内部に内部空間2312#2が形成された筒状の部材である。図10に示す例では、筒状部材2311#2は、長手方向(図10に示す例では、Z軸方向)に沿って延びる筒状の部材である。筒状部材2311#2の短手方向(つまり、長手方向に交差する方向であって、図10に示す例では、例えば、XY平面に沿った方向)に沿った軸を含む筒状部材2311#2の断面の形状は、円形であるが、その他の形状(例えば、楕円形又は多角形)であってもよい。内部空間2312#2は、筒状部材2311#2によって取り囲まれた空間である。このため、図10に示す例では、内部空間2312#2は、筒状部材2311#2の長手方向(図10に示す例では、Z軸方向)に沿って延びる空間となる。
 筒状部材2311#2は、鏡筒214に対して脱着可能である。このため、筒状部材2311#2には、上述した鏡筒214の取付部2143に取り付け可能な取付部2313#2が形成されている。図10に示す例では、筒状部材2311#2の長手方向に沿った一方の端部に、取付部2313#2が形成されている。尚、第2のヘッド装置23#2の取付部2313#2は、上述した第1のヘッド装置23#1の取付部2313#1と同一の特徴を有していてもよい。このため、取付部2313#2の説明については省略する。
 筒状部材2311#2の長手方向に沿った一方の端部には、開口2314#2が形成されている。つまり、筒状部材2311#2の取付部2313#2には、開口2314#2が形成されている。開口2314#2は、筒状部材2311#2の長手方向に交差する。筒状部材2311#2の長手方向に沿った他方の端部(つまり、一方の端部とは反対側の端部)には、開口2315#2が形成されている。開口2315#2は、筒状部材231#2の長手方向に交差する。開口2314#2及び2315#2のそれぞれは、内部空間2312#2と筒状部材2311#2の外部の空間とを接続する。
 筒状部材2311#2は、鏡筒214の射出口2142と筒状部材2311#2の開口2314#2とが接続されるように、取付部2143及び2313#2を介して鏡筒214に取り付けられる。つまり、筒状部材2311#2は、射出口2142及び開口2314#2を介して鏡筒214の内部空間2141と筒状部材2311#2の内部空間2312#2とが接続されるように、取付部2143及び2313#2を介して鏡筒214に取り付けられる。尚、鏡筒214に取り付けられた筒状部材2311#2が図11及び図12に示されている。
 尚、上述した第1のヘッド装置23#1の筒状部材2311#1が、第2のヘッド装置23#2の筒状部材2311#2として用いられてもよい。
 第2のヘッド装置23#2は更に、筒状部材2321#2を備えている。筒状部材2321#2は、筒状部材2311#2とは別個の部材である。しかしながら、筒状部材2321#2は、筒状部材2311#2と一体化されていてもよい。筒状部材2321#2は、内部に内部空間2322#2が形成された筒状の部材である。図10に示す例では、筒状部材2321#2は、筒状部材2311#2と同様に、長手方向(図10に示す例では、Z軸方向)に沿って延びる筒状の部材である。筒状部材2321#2の短手方向(つまり、長手方向に交差する方向であって、図10に示す例では、例えば、XY平面に沿った方向)に沿った軸を含む筒状部材2321#2の断面の形状は、円形であるが、その他の形状(例えば、楕円形又は多角形)であってもよい。内部空間2322#2は、筒状部材2321#2によって取り囲まれた空間である。このため、図10に示す例では、内部空間2322#2は、筒状部材2321#2の長手方向(図10に示す例では、Z軸方向)に沿って延びる空間となる。
 筒状部材2321#2の長手方向に沿った一方の端部には、開口2323#2が形成されている。開口2323#2は、筒状部材2321#2の長手方向に交差する。筒状部材2321#2は、筒状部材2321#2の開口2323#2と筒状部材2311#2の開口2315#2とを介して、筒状部材2321#2の内部空間2322#2と筒状部材2311#2の内部空間2312#2とが接続されるように、筒状部材2311#2に取り付けられる。具体的には、筒状部材2311#2及び2321#2は、筒状の部材である。この場合、筒状部材2311#2及び2321#2の一方が、筒状部材2311#2及び2321#2の他方に挿入されるように、筒状部材2321#2が筒状部材2311#2に取り付けられていてもよい。図10に示す例では、筒状部材2311#2の他方の端部(つまり、-Z側の端部)が、筒状部材2321#2の開口2323#2を介して筒状部材2321#2の内部空間2322#2に挿入されるように、筒状部材2321#2が筒状部材2311#2に取り付けられている。このため、図10に示す例では、筒状部材2321#2の開口2323#2のサイズは、筒状部材2311#2の開口2315#2のサイズよりも大きくなる。筒状部材2311#2が筒状部材2321#2の内部空間2322#2に挿入される場合、筒状部材2311#2及び2321#2は、筒状部材2311#2及び2321#2の長手方向(つまり、Z軸方向であり、照射光学系211の光軸AXに沿った方向)に沿って並ぶ。
 筒状部材2321#2は、筒状部材2311#2に対して移動可能となるように筒状部材2311#2に取り付けられる。より具体的には、筒状部材2321#2は、筒状部材2321#2の長手方向に沿った軸(つまり、Z軸であり、照射光学系211の光軸AXに沿った軸)廻りに回転可能となるように、(つまり、回転移動可能となるように)筒状部材2311#2に取り付けられる。例えば、筒状部材2321#2は、筒状部材2311#2に対して筒状部材2321#2を移動させることが可能な駆動系233#2を介して、筒状部材2311#2に取り付けられていてもよい。駆動系233#2は、筒状部材2321#2の長手方向に沿った軸廻りに筒状部材2321#2を回転させることが可能な任意の駆動系である。駆動系233#2は、例えば、中空モータを含んでいてもよい。
 上述したように、鏡筒214の射出口2142からは、加工光ELが射出される。このため、第2のヘッド装置23#2における加工光ELの光路を示す図11に示すように、射出口2142から射出された加工光ELは、開口2314#2を介して、筒状部材2311#2の内部空間2312#2に入射する。このため、開口2314#2は、入射口と称されてもよい。内部空間2312#2に入射した加工光ELは、内部空間2312#2を通過して開口2315#2に到達する。このため、開口2314#2及び2315#2のそれぞれは、鏡筒214から射出された加工光EL(つまり、照射光学系211から射出された加工光EL)が開口2314#2及び2315#2の双方を通過可能となるように、適切な位置に形成されていてもよい。例えば、開口2314#2及び2315#2のそれぞれは、照射光学系211の光軸AX上に形成されていてもよい。開口2315#2に到達した加工光ELは、開口2315#2及び開口2315#2に接続されている開口2323#2を介して、筒状部材2321#2の内部空間2322#2に入射する。
 再び図10において、第2のヘッド装置23#2は、照射光学系234#2を更に備える。照射光学系234#2は、内部空間2312#2及び2322#2の少なくとも一方における加工光ELの光路上に配置される。照射光学系234#2が内部空間2312#2に配置されている場合、筒状部材2311#2は、内部空間2312#2に配置されている照射光学系234#2を保持してもよい。照射光学系234#2が内部空間2322#2に配置されている場合、筒状部材2321#2は、内部空間2322#2に配置されている照射光学系234#2を保持してもよい。筒状部材2311#2及び2321#2の少なくとも一方は、照射光学系234#2を収容する(つまり、照射光学系234#2を含む)収容部材として機能してもよい。また、第2のヘッド装置23#2は、照射光学系234#2を備えているがゆえに、光学装置と称されてもよい。尚、以下の説明では、照射光学系234#2が内部空間2322#2に配置される例について説明する。
 図11に示すように、照射光学系234#2には、照射光学系211から射出された加工光ELが入射する。照射光学系234#2は、照射光学系211から射出された加工光ELを、照射光学系211が加工光ELを集光する集光面211FPとは異なる位置に設定される集光面234FPに集光する。つまり、照射光学系234#2は、照射光学系211が加工光ELを集光する位置とは異なる位置に加工光ELを集光する。
 集光面211FPとは異なる集光面234FPに加工光ELを集光するために、照射光学系234#2は、集光光学系2341#2を備える。集光光学系2341#2は、集光光学系2341#2に入射する加工光ELを、集光面234FPに集光する。集光光学系2341#2は、照射光学系211が集光面211FPに形成した像を、集光面234FPに形成する。このため、集光光学系2341#2は、結像光学系と称されてもよい。この場合、集光面234FPは、集光面211FPと光学的に共役になる。つまり、集光光学系2341#2は、集光面211FPと光学的に共役な集光面234FPに加工光ELを集光する。尚、集光光学系2341#2の光軸は、照射光学系211の光軸AXと一致しているが、異なっていてもよい。
 集光面234FPは、集光面211FPから、光軸AXに交差する交差方向(図11に示す例では、XY平面に沿った方向)に沿って離れている。つまり、照射光学系234#2は、照射光学系211から射出された加工光ELを、集光面211FPから光軸AXに交差する交差方向に沿って離れた位置に設定される集光面234FPに集光する。集光面211FPが光軸AXに交差する光学面であるため、集光面234FPは、光軸AXから、光軸AXに交差する交差方向(図11に示す例では、XY平面に沿った方向)に沿って離れている。つまり、照射光学系234#2は、照射光学系211から射出された加工光ELを、光軸AXから光軸AXに交差する交差方向に沿って離れた位置に設定される集光面234FPに集光する。集光面211FPから光軸AXに交差する交差方向に沿って離れた集光面234FPに加工光ELを集光するために、照射光学系234#4は、偏向光学系2342#2を更に備える。偏向光学系2342#2は、集光光学系2341#2から射出される加工光ELを、光軸AXに交差する交差方向に向けて偏向する。つまり、偏向光学系2342#2は、加工光ELの進行方向が光軸AXに沿った方向から光軸AXに交差する交差方向へと変わるように、加工光ELを偏向する。例えば、偏向光学系2342#2は、集光光学系2341#2から射出される加工光ELを、光軸AXに交差する交差方向に向けて反射することで、加工光ELを偏向してもよい。
 偏向光学系2342#2を収容する筒状部材2321#2には、偏向光学系2342#2が偏向した加工光ELが通過可能な開口2324#2が形成されている。このため、偏向光学系2342#2が偏向した加工光ELは、開口2324#2を介して、内部空間2322#2から筒状部材2321#2の外部(つまり、第2のヘッド装置23#2の外部)へと射出される。このため、開口2324#2は、射出口と称されてもよい。開口2324#2から射出された加工光ELは、集光面234FPに集光される。このため、集光面234FPは、第2のヘッド装置23#2の外部に設定される。
 但し、集光面234FPは、集光面211FPから、照射光学系211の光軸AXに交差する交差方向に沿って離れていなくてもよい。集光面234FPと集光面211FPとは、光軸AXに沿って並んでいてもよい。この場合、照射光学系234#2は、偏向光学系2342#2を備えていなくてもよい。
 上述したように筒状部材2321#1は、駆動系233#2によって光軸AX廻りに回転可能である。このため、筒状部材2321#2の回転に伴い、筒状部材2321#2が保持する照射光学系234#2もまた、光軸AX廻りに回転する。照射光学系234#2が光軸AX廻りに回転すると、偏向光学系2342#2が光軸AX廻りに回転する。その結果、偏向光学系2342#2による加工光ELの偏向方向が、光軸AX廻りに変更される。つまり、偏向光学系2342#2からの加工光ELの射出方向(つまり、偏向光学系2342#2から射出された加工光ELの進行方向)が、光軸AX廻りに変更される。照射光学系234#2が光軸AX廻りに回転すると、加工光ELを射出する開口2324#2(射出口)も光軸AX廻りに回転する。その結果、開口2324#2からの加工光ELの射出方向も光軸AX廻りに変更される。
 上述したように、鏡筒214の射出口2142からは、加工光ELに加えて又は代えて、気体供給装置5から供給されるパージガスが流出する。このため、第2のヘッド装置23#2におけるパージガスの流路を示す図12に示すように、射出口2142から流出したパージガスは、開口2314#2を介して、筒状部材2311#2の内部空間2312#2に流入する。このため、開口2314#2は、流入口と称されてもよい。内部空間2312#2に流入した加工光ELは、内部空間2312#2を通過して開口2315#2に到達する。開口2315#2に到達したパージガスは、開口2315#2及び2323#2を介して、筒状部材2321#2の内部空間2322#2に流入する。この場合、気体供給装置5は、第2のヘッド装置23#2の内部空間2312#2及び2322#2にパージガスを供給しているとみなしてもよい。内部空間2322#2に流入したパージガスは、内部空間2322#2を通過して開口2324#2に到達する。開口2324#2に到達したパージガスは、開口2324#2を介して内部空間2322#2から第2のヘッド装置23#2の外部へと流出する。このため、開口2324#2は、流出口と称されてもよい。
 内部空間2322#2には、照射光学系234#2が配置されている。この場合、気体供給装置5は、照射光学系234#2にパージガスを供給しているとみなしてもよい。つまり、気体供給装置5は、内部空間2322#2にパージガスを供給することで、照射光学系234#2にパージガスを供給しているとみなしてもよい。照射光学系234#2に供給されたパージガスは、照射光学系234#2を冷却するために用いられてもよい。照射光学系234#2に供給されたパージガスは、照射光学系234#2に不要物質が付着するのを防止するために用いられてもよい。
 但し、上述したように筒状部材2321#2が照射光学系234#2を保持している場合には、筒状部材2321#2は、照射光学系234#2を構成する光学部材と筒状部材2321#2とが密着するように照射光学系234#2を保持する可能性がある。この場合には、筒状部材2321#2の内部空間2322#2に流入したパージガスは、内部空間2322#2において局所的に滞留してしまう可能性がある。その結果、照射光学系234#2が適切に冷却されない可能性がある。具体的には、照射光学系234#2が複数の光学部材を備えている場合には、内部空間2322#2に流入したパージガスは、複数の光学部材のうち開口2323#2に最も近い一の光学部材に供給される。一方で、一の光学部材が筒状部材2321#2に密着している場合には、一の光学部材に供給されたパージガスの流れは、一の光学部材によって遮られる。その結果、複数の光学部材のうち一の光学部材以外の他の光学部材には、パージガスが供給されなくなる。
 そこで、筒状部材2321#2には、照射光学系234#2が備える複数の光学部材のそれぞれにパージガスを供給するための供給経路が形成されていてもよい。例えば、パージガスの供給経路が形成された筒状部材2321#2の一例を示す透過斜視図である図13及びパージガスの供給経路が形成された筒状部材2321#2の一例を示す断面図である図14に示すように、筒状部材2321#2の内壁面(つまり、内部空間2322#2に面する面)には、パージガスを供給するための供給経路として機能可能な溝2325#2が形成されていてもよい。溝2325#2は、照射光学系234#2が備える複数の光学部材2343#2が並ぶ方向(図13及び図14に示す例では、Z軸方向)に沿って延びる。この場合、パージガスは、溝2325#2を介して照射光学系234#2が備える複数の光学部材2343#2に順に供給される。尚、光学部材2343#2は、集光光学系2341#2を構成する光学部材を含んでいてもよいし、偏向光学系2342#2を構成する光学部材を含んでいてもよい。
 溝2325#2には、溝2325#2を流れるパージガスを遮る少なくとも一つの障壁部材2326#2が形成されていてもよい。障壁部材2326#2は、溝2325#2のうち隣り合う二つの光学部材2343#2の間に位置する部分に形成されていてもよい。障壁部材2326#2が形成される場合には、溝2325#2を流れるパージガスは、障壁部材2326#2によって溝2325#2から離れる方向に向かって流出する。その結果、パージガスが溝2325#2を流れ続ける(つまり、パージガスが溝2325#2から離れる方向に向かって流出しない)場合と比較して、各光学部材2343#2のうちのパージガスに触れる部分が多くなる。その結果、各光学部材2343#2がより適切に冷却される。
 第2のヘッド装置23#2は、例えば、加工システムSYSが3次元構造物STを加工するための加工動作を行っている期間の少なくとも一部において、鏡筒214に取り付けられてもよい。この場合、加工システムSYSは、照射光学系211から射出された加工光ELを、第2のヘッド装置23#2を介して(つまり、第2のヘッド装置23#2によって)3次元構造物STに照射可能である。その結果、加工システムSYSは、第2のヘッド装置23#2が鏡筒214に取り付けられている場合であっても、3次元構造物STを適切に加工することができる。この場合、第2のヘッド装置23#2は、3次元構造物STを加工するために用いられるがゆえに、加工装置と称されてもよい。
 本実施形態では特に、偏向光学系2342#2によって、光軸AXに交差する方向に向かって加工光ELが偏向される。このため、加工システムSYSは、第2のヘッド装置23#2から射出された加工光ELを、光軸AXに沿った加工対象面PS(例えば、Z軸に沿った加工対象面PS)に照射することができる。その結果、加工システムSYSは、偏向光学系2342#2を備えていない場合には加工光ELを照射することが難しい加工対象面PSに対して、加工光ELを照射することができる。このため、加工システムSYSは、偏向光学系2342#2を備えていない場合には加工することが難しい3次元構造物STを加工することができる。
 例えば、図15は、筒状の形状を有する3次元構造物STを加工するための加工光ELを射出する第2のヘッド装置23#2の断面を、3次元構造物STの断面と共に示している。この場合、3次元構造物STには、筒の中心の空間に相当する空隙STpが形成されている。この空隙STpに面する3次元構造物STの表面は、光軸AXに交差する底面STbのみならず、光軸AXに沿った内壁面STsを含んでいる。加工システムSYSは、第2のヘッド装置23#2を用いることで、内壁面STsに加工光ELを照射することができる。具体的には、加工システムSYSは、内壁面STsに目標照射領域EAが設定される(つまり、集光面234FPの位置に内壁面STsが配置される)ように、3次元構造物STと第2のヘッド装置23#2との相対的な位置関係を制御する。加工システムSYSは、第2のヘッド装置23#2が取り付けられた加工ヘッド21及び3次元構造物STが載置されたステージ31の少なくとも一方を移動させることで、3次元構造物STと第2のヘッド装置23#2との相対的な位置関係を制御してもよい。加工システムSYSは、駆動系233#2を用いて第2のヘッド装置23#2を移動させることで、3次元構造物STと第2のヘッド装置23#2との相対的な位置関係を制御してもよい。その結果、加工システムSYSは、内壁面STsに加工光ELを照射することができる。このため、加工システムSYSは、第2のヘッド装置23#2を用いることで、内壁面STsを適切に加工することができる。尚、第2のヘッド装置23#2が鏡筒214から取り外されれば、加工システムSYSは、底面STbに加工光ELを照射することができる。その結果、加工システムSYSは、底面STbも適切に加工することができる。
 加工システムSYSが内壁面STsを加工する場合には、加工光ELを射出する第2のヘッド装置23#2の少なくとも一部は、内壁面STsに面する空隙STpに挿入されてもよい。このため、第2のヘッド装置23#2のサイズ(具体的には、光軸AXに交差する方向における幅)は、第2のヘッド装置23#2が空隙STpに挿入可能となる程度のサイズに設定されていてもよい。一方で、第2のヘッド装置23#2が取り付けられている鏡筒214は、空隙STpに挿入されなくてもよい。このため、鏡筒214の最大幅(具体的には、光軸AXに交差する方向における幅の最大値)は、第2のヘッド装置23#2の最大幅よりも長くてもよい。言い換えれば、第2のヘッド装置23#2の最大幅は、鏡筒214の最大幅よりも短くてもよい。
 図15に示す例では、内壁面STsは、筒状の面である。このため、空隙STpに第2のヘッド装置23#2の少なくとも一部が挿入されている場合には、内壁面STsは、照射光学系211の光軸AX(つまり、集光光学系2341#2の光軸)を挟み込む又は取り囲むように光軸AX側を向いた面となる。また、第2のヘッド装置23#2の少なくとも一部(特に、照射光学系234#2の少なくとも一部)は、内壁面STsによって挟まれる又は取り囲まれる。従って、空隙STpに第2のヘッド装置23#2の少なくとも一部が挿入されている場合には、照射光学系234#2は、光軸AX及び照射光学系234#2の少なくとも一部を挟む又は取り囲む内壁面STsに加工光ELを照射することになる。
 第2のヘッド装置23#2からは、一方向に向かって加工光ELが射出される。一方で、上述したように、内壁面STsは、第2のヘッド装置23#2の少なくとも一部を挟む又は取り囲む面である。このため、加工システムSYSは、第2のヘッド装置23#2から一方向に向かって加工光ELを射出するだけでは、内壁面STsの一部にしか加工光ELを照射することができない。このため、加工システムSYSは、駆動系233#2を制御して照射光学系234#2(特に、偏向光学系2342#2)を移動させる(具体的には、回転させる)ことで、内壁面STs上での加工光ELの照射位置を変更してもよい。具体的には、上述したように、駆動系233#2は、光軸AX廻りに筒状部材2321#2を回転させる。その結果、筒状部材2321#2の回転に合わせて、筒状部材2321#2が保持する照射光学系234#2(特に、偏向光学系2342#2)もまた、光軸AX廻りに回転する。このため、筒状の空隙STpが形成された3次元構造物STを示す透過斜視図である図16に示すように、加工システムSYSは、加工光ELの照射位置を、光軸AXを取り囲む輪帯状の領域RA内において変更することができる。その結果、筒状の空隙STpが形成された3次元構造物STの内壁面STsに照射される加工光ELを示す断面図である図17に示すように、加工システムSYSは、輪帯状の領域RAを加工光ELで走査するように、輪帯状の領域RAに加工光ELを照射することができる。更に、加工システムSYSは、加工ヘッド21及びステージ31の少なくとも一方を光軸AXに沿った方向に移動させることで、内壁面STs上において、輪帯状の領域RAを光軸AXに沿った方向(図16及び図17に示す例では、Z軸方向)に移動させることができる。その結果、加工システムSYSは、内壁面STsのうち加工するべき部分(つまり、加工対象面PS)を適切に加工することができる。尚、照射光学系234#2が回転する(つまり、移動する)と、照射光学系234#2と3次元構造物STとの相対的な位置関係が変わる。このため、照射光学系234#2を回転可能な駆動系233#2は、照射光学系234#2と3次元構造物STとの相対的な位置関係を変更可能な位置変更装置として機能してもよい。
 加工システムSYSは、ヘッド駆動系22及びステージ駆動系32を用いて加工ヘッド21及びステージ31を移動させることなく、駆動系233#2を用いて照射光学系234#2を移動(この場合、回転)させてもよい。具体的には、加工システムSYSは、加工ヘッド21が備える照射光学系211とステージ31に載置されている3次元構造物STとの相対的な位置関係を維持したまま、照射光学系234#2と3次元構造物STとの相対的な位置関係を変更してもよい。例えば、空隙STpの幅(図16及びが比較的小さい場合には、加工システムSYSは、照射光学系234#2を回転させれば、内壁面STs上の加工対象面PSの全体に加工光ELを照射できる可能性が高い。このため、空隙STpの幅が比較的小さい場合には、加工システムSYSは、加工ヘッド21及びステージ31を移動させることなく照射光学系234#2を回転させることで、3次元構造物STを加工してもよい。
 或いは、加工システムSYSは、ヘッド駆動系22及びステージ駆動系32を用いて加工ヘッド21及びステージ31を移動させ、且つ、駆動系233#2を用いて照射光学系234#2を移動(この場合、回転)させてもよい。つまり、加工システムSYSは、照射光学系211と3次元構造物STとの相対的な位置関係を変更し、且つ、照射光学系234#2と3次元構造物STとの相対的な位置関係を変更してもよい。例えば、空隙STpの幅が比較的大きい場合には、加工システムSYSは、照射光学系234#2を回転させるだけでは、内壁面STs上の加工対象面PSの全体に加工光ELを照射できない可能性がある。このため、空隙STpの幅が比較的大きい場合には、加工システムSYSは、加工ヘッド21及びステージ31を移動させ且つ照射光学系234#2を回転させることで、3次元構造物STを加工してもよい。例えば、筒状の空隙STpが形成された3次元構造物STの内壁面STsに照射される加工光ELを示す断面図である図18に示すように、加工システムSYSは、第2のヘッド装置23#2が内壁面STsに沿った円形の移動軌跡に沿って移動するように加工ヘッド21を移動させ、且つ、第2のヘッド装置23#2が内壁面STsに向かって加工光ELを射出するように照射光学系234#2を回転させてもよい。
 照射光学系234#2と3次元構造物STとの相対的な位置関係が変わると、加工光ELが集光される集光面234FPと加工対象面PSとの相対的な位置関係(特に、加工光ELの進行方向に沿った位置関係)が変わる可能性がある。その結果、集光面211FPと加工対象面PSとの相対的な位置関係が変わる場合と同様に、加工対象面PSが適切に平滑化されない可能性がある。そこで、第2のヘッド装置23#2が鏡筒214に取り付けられている場合においても、加工システムSYSは、加工対象面PSが適切に平滑化されるように、集光面234FPと加工対象面PSとの相対的な位置関係を制御してもよい。つまり、加工システムSYSは、加工対象面PSが適切に平滑化されるように集光面211FPと加工対象面PSとの相対的な位置関係を制御する場合と同様に、加工対象面PSが適切に平滑化されるように集光面234FPと加工対象面PSとの相対的な位置関係を制御してもよい。
 加工光ELが加工対象面PSに対して斜入射するように加工システムSYSが加工ヘッド21と3次元構造物STとの相対的な位置関係を変更してもよいことは上述したとおりである。第2のヘッド装置23#2が鏡筒214に取り付けられている場合においても、加工光ELが加工対象面PSに対して斜入射するように加工システムSYSが加工ヘッド21と3次元構造物STとの相対的な位置関係を変更してもよい。或いは、第2のヘッド装置23#2が鏡筒214に取り付けられる場合には、加工対象面PSに対して斜入射する加工光ELを射出可能な第2のヘッド装置23#2が鏡筒214に取り付けられてもよい。例えば、第2のヘッド装置23#2が鏡筒214に取り付けられる場合には、加工対象面PSに対する加工光ELの入射角度は、偏向光学系2342#2に依存する。例えば、偏向光学系2342#2が反射面で加工光ELを反射することで加工光ELを偏向する場合には、加工対象面PSに対する加工光ELの入射角度は、偏向光学系2342#2の反射面の角度(具体的には、加工光ELの進行方向に対する角度)に依存する。このため、光学特性(具体的には、偏向方向に関する光学特性であり、例えば、反射面の角度)が異なる複数の偏向光学系2342#2をそれぞれ備える複数の第2のヘッド装置23#2を用意しておき、当該複数の第2のヘッド装置23#2のうち加工対象面PSに対して加工光ELが斜入射するように加工光ELを偏向可能な一の偏向光学系2342#2が、鏡筒214に取り付けられてもよい。その結果、加工ヘッド21と3次元構造物STとの相対的な位置関係が変更されなくても、加工光ELが加工対象面PSに対して斜入射することになる。或いは、偏向光学系2342#2の光学特性(例えば、反射面の角度)が変更可能である場合には、加工システムSYSは、加工光ELが加工対象面PSに対して斜入射するように、偏向光学系2342#2の光学特性を変更してもよい。
 尚、加工システムSYSが加工動作の一例である溶接動作を行ってもよいことは上述したとおりである。加工システムSYSは、第2のヘッド装置23#2が鏡筒214に取り付けられている場合においても、溶接動作を行ってもよい。例えば、加工システムSYSは、筒状の3次元構造物STの一例である第1の配管と、筒状の3次元構造物STの一例である第2の配管とを溶接してもよい。具体的には、加工システムSYSは、第1及び第2の配管の管路に第2のヘッド装置23#2を挿入し、第1及び第2の配管の内壁面の境界に加工光ELを照射することで、第1及び第2の配管を溶接してもよい。
 また、第2のヘッド装置23#2は、加工システムSYSが3次元構造物STを形成するための造形動作を行っている期間の少なくとも一部において、鏡筒214に取り付けられてもよい。つまり、加工システムSYSは、照射光学系211から射出された加工光ELを、第2のヘッド装置23#2を介してワークWに照射することで、3次元構造物STに形成してもよい。その結果、加工システムSYSは、第2のヘッド装置23#2が鏡筒214に取り付けられている場合であっても、3次元構造物STを適切に形成することができる。第2のヘッド装置23#2が鏡筒214に取り付けられる場合には、材料ノズル212が造形材料Mを供給する目標供給領域MAは、第2のヘッド装置23#2が加工光ELを集光する集光面234FP又は集光面234FPの近傍に設定されてもよい。例えば、加工システムSYSは、材料ノズル212を移動させることで、目標供給領域MAを、第1のヘッド装置23#1が加工光ELを集光する集光面211FP又は集光面211FPの近傍から、集光面234FP又は集光面234FPの近傍に変更してもよい。
 (4)第2のヘッド装置23#2の変形例
 続いて、図19を参照しながら、第2のヘッド装置23#2の変形例について説明する。図19は、第2のヘッド装置23a#2の変形例の構造を示す断面図である。以下では、第2のヘッド装置23#2の変形例を“第2のヘッド装置23a#2”と称することで、上述した第2のヘッド装置23#2と区別する。
 図19に示すように、第2のヘッド装置23a#2は、上述した第2のヘッド装置23#2と比較して、筒状部材2321#2に代えて、筒状部材2321a#2を備えているという点で異なる。更に、第2のヘッド装置23a#2は、上述した第2のヘッド装置23#2と比較して、照射光学系234#2に代えて、照射光学系234a#2を備えているという点で異なる。第2のヘッド装置23a#2のその他の特徴は、第2のヘッド装置23#2のその他の特徴と同一であってもよい。
 筒状部材2321a#2は、筒状部材2321#2と比較して、テレスコピックな構造(つまり、伸縮自在な入れ子構造)を有しているという点で異なる。つまり、筒状部材2321a#2は、径が異なる複数の筒状部材が組み合わせられた部材である。このため、筒状部材2321a#2は、筒状部材2321a#2の長手方向(図19に示す例では、Z軸方向であり、光軸AXに沿った方向)に沿って伸縮可能である。筒状部材2321a#2のその他の特徴は、筒状部材2321#2のその他の特徴と同一であってもよい。
 照射光学系234a#2は、照射光学系234#2と比較して、平行光学系2344a#2を備えているという点で異なる。照射光学系234a#2のその他の特徴は、照射光学系234#2のその他の特徴と同一であってもよい。
 平行光学系2344a#2は、不図示の照射光学系211から非平行光として射出される加工光ELを平行光に変換可能な光学系である。例えば、図19に示すように、平行光学系2344aは、光軸AXに沿って並ぶ光学部材2345a#2及び2346a#2を備えていてもよい。光学部材2345a#2は、加工光ELの光路を示す断面図である図20に示すように、照射光学系211から非平行光として射出される加工光ELを平行光に変換する。ここで、光学部材2345a#2は、その前側焦点位置が集光面211FP上になるように位置決めされている。光学部材2346a#2は、図20に示すように、光学部材2345a#2から平行光として射出される加工光ELを非平行光に変換する。光学部材2346a#2から非平行光として射出される加工光ELは、集光光学系2341#2に入射する。ここで、集光光学系2341#2による集光面234FPと光学的に共役な面に、光学部材2346a#2の後側焦点位置が位置している。
 平行光学系2344a#2は、光学部材2345a#2及び2346a#2の間の距離(具体的には、光軸AXに沿った距離)を変更してもよい。光学部材2345a#2及び2346a#2の間の距離が変わると、加工光ELが平行光として進行する光路の長さが変わる。このとき、光学部材2345a#2の前側焦点位置が集光面211FPに位置したままで、且つ光学部材2345a#2の後側焦点位置が集光面234FPと光学的に共役な面に位置したままでよい。光学部材2345a#2の前側焦点位置が集光面211FPに位置したままであることから、光学部材2345a#2からの加工光は常に平行光となり、光学部材2345a#2の後側焦点位置が集光面234FPと光学的に共役な面に位置したままであることから、光学部材2345a#2からの加工光は集光面234FPと光学的に共役な面に常に集光される。
 このような第2のヘッド装置23a#2は、筒状部材2321a#2を伸縮させ且つ筒状部材2321a#2の伸縮に合わせて光学部材2345a#2及び2346a#2の間の距離を変更することで、第2のヘッド装置23a#2が加工光ELを集光する集光面234FPを、光軸AXに沿って移動させることができる。例えば、図20は、に短い(つまり、縮んだ)筒状部材2321a#2を示しており、図21は、長い)つまり、伸びた)筒状部材2321a#2を示している。この場合、図20に示すように、筒状部材2321a#2が短い場合には、光学部材2345a#2及び2346a#2の間の距離が短くなる。一方で、図21に示すように、筒状部材2321a#2が長い場合には、光学部材2345a#2及び2346a#2の間の距離が長くなる。その結果、筒状部材2321a#2が伸縮したとしても、第2のヘッド装置23a#2は、集光面234FPに適切に加工光ELを集光することができる。このとき、図20及び図21に示すように、筒状部材2321a#2の伸縮に伴って集光面234FPが光軸AXに沿って移動する際に、集光面234FPの光軸垂直方向(XY平面内の)の位置は維持される。
 (5)その他の変形例
 上述した説明では、加工システムSYSは、同じ照射光学系211から射出される加工光ELを用いて、造形動作及び加工動作の双方を行っている。しかしながら、加工システムSYSの変形例を示す図22に示すように、加工システムSYSは、造形動作を行うための加工光ELを射出する照射光学系211(以降、“照射光学系211#1”と称する)と、加工動作を行うための加工光ELを射出する照射光学系211(以降、“照射光学系211#2”と称する)とを別々に備えていてもよい。この場合、照射光学系211#1及び211#2は、別々の鏡筒214に収容されてもよい。照射光学系211#1を収容する鏡筒214(以降、“鏡筒214#1”と称する)には、上述した第1のヘッド装置23#1が取り付けられるが、第2のヘッド装置23#2が取り付けられてもよい。照射光学系211#2を収容する鏡筒214(以降、“鏡筒214#2”と称する)には、上述した第2のヘッド装置23#2が取り付けられるが、第1のヘッド装置23#1が取り付けられてもよい。
 上述した説明では、加工システムSYSは、造形材料Mに加工光ELを照射することで、造形材料Mを溶融させている。しかしながら、加工システムSYSは、任意のエネルギービームを造形材料Mに照射することで、造形材料Mを溶融させてもよい。この場合、加工システムSYSは、照射光学系211に加えて又は代えて、任意のエネルギービームを照射可能なビーム照射光学系を備えていてもよい。任意のエネルギービームの一例として、荷電粒子ビーム及び電磁波等の少なくとも一方があげられる。荷電粒子ビームの一例として、電子ビーム及びイオンビーム等の少なくとも一方があげられる。
 上述した説明では、加工システムSYSは、レーザ肉盛溶接法により付加加工を行っている。しかしながら、加工システムSYSは、造形材料Mに加工光EL(或いは、任意のエネルギビーム)を照射することで3次元構造物STを形成可能なその他の方式により造形材料Mから3次元構造物STを形成してもよい。或いは、加工システムSYSは、造形材料Mに加工光EL(或いは、任意のエネルギビーム)を照射する方式とは異なる、付加加工のための任意の方式により3次元構造物STを形成してもよい。
 上述の各実施形態の構成要件の少なくとも一部は、上述の各実施形態の構成要件の少なくとも他の一部と適宜組み合わせることができる。上述の各実施形態の構成要件のうちの一部が用いられなくてもよい。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態で引用した全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
 本発明は、上述した実施例に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う加工システム及び光学装置もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
 SYS 加工システム
 1 材料供給源
 2 加工ユニット
 21 加工ヘッド
 211 照射光学系
 212 材料ノズル
 213 戻り光検出器
 214 鏡筒
 215 ヘッド筐体
 22 ヘッド駆動系
 23、23#1、23#2 ヘッド装置
 234#2 照射光学系
 2341#2 集光光学系
 2342#2 偏向光学系
 3 ステージユニット
 31 ステージ
 32 ステージ駆動系
 7 制御装置
 W ワーク
 M 造形材料
 EL 加工光

Claims (35)

  1.  造形物を形成する加工システムであって、
     エネルギービームを第1照射位置に集光する第1光学系と、
     前記第1照射位置に造形材料を供給可能な材料供給装置と
     を有し、
     前記材料供給装置により供給された前記造形材料に、前記第1光学系からの前記エネルギービームを照射することにより前記造形物を形成可能であり、
     前記第1光学系からの前記エネルギービームを第2光学系により前記造形物の表面に照射して前記造形物を加工する
     加工システム。
  2.  前記第2光学系は、前記エネルギービームを前記第1光学系の光軸に交差する交差方向に偏向させる偏向部材を含み、
     前記第1光学系を含む第1収容部材と、
     前記第2光学系を含む第2収容部材と
     を更に有し、
     前記第2収容部材は、前記第1収容部材に対して脱着可能であり、
     前記第1光学系の光軸と交わる方向の前記第2収容部材の最大幅は、前記第1光学系の光軸と交わる方向の前記第1収容部材の最大幅よりも短い
     請求項1に記載の加工システム。
  3.  前記造形物の表面は、前記第2光学系の光軸を挟み込む又は取り囲むように前記光軸側を向いた筒状の内壁面を含み、
     前記造形物の表面に前記エネルギービームが照射される期間の少なくとも一部において、前記第2光学系により前記エネルギービームが集光される第2照射位置に前記内壁面の少なくとも一部が配置される
     請求項1又は2に記載の加工システム。
  4.  前記第2光学系に気体を供給する気体供給装置と、
     前記第2光学系を収容空間に収容する第2収容部材と
     を更に備え、
     前記気体供給装置は、前記収容空間に気体を供給することで、前記第2光学系に気体を供給する
     請求項1から3のいずれか一項に記載の加工システム。
  5.  前記第2光学系は、複数の光学部材を含み、
     前記収容空間に面する前記第2収容部材の内壁には、前記複数の光学部材が並ぶ方向に沿って延びる溝が形成されており、
     前記第2収容部材に供給された気体は、前記溝を介して流れる
     請求項4に記載の加工システム。
  6.  前記第2光学系は結像光学系を含む
     請求項1から5のいずれか一項に記載の加工システム。
  7.  前記結像光学系は、前記第1光学系により前記第1照射位置に形成された前記エネルギービームの像を、第2照射位置に形成する
     請求項6に記載の加工システム。
  8.  前記第2光学系により前記エネルギービームが集光される前記第2照射位置は、前記第1照射位置から前記第1光学系の光軸に交差する交差方向に沿って離れている
     請求項7に記載の加工システム。
  9.  前記第2光学系は、前記エネルギービームを前記第1光学系の光軸に交差する交差方向に偏向させる偏向部材を含む
     請求項1から8のいずれか一項に記載の加工システム。
  10.  前記第1光学系を含む第1収容部材と、
     前記第2光学系を含む第2収容部材と
     を更に有し、
     前記第2収容部材は、前記第1収容部材に対して脱着可能である
     請求項1から9のいずれか一項に記載の加工システム。
  11.  前記第1光学系の光軸と交わる方向の前記第2収容部材の最大幅は、前記第1光学系の光軸と交わる方向の前記第1収容部材の最大幅よりも短い
     請求項10に記載の加工システム。
  12.  前記第2収容部材は、前記第1収容部材の取付部に対して脱着可能な第1部材と、前記第2光学系を保持する第2部材とで構成される
     請求項2、10又は11に記載の加工システム。
  13.  前記取付部には、前記造形材料を遮蔽するためのカバー部材が取り付け可能である
     請求項12に記載の加工システム。
  14.  前記第2収容部材が前記第1収容部材に取り付けられていない場合には、前記材料供給装置により供給された前記造形材料に、前記第1光学系からの前記エネルギービームを照射することにより前記造形物を形成する加工が可能であり、
     前記第2収容部材が前記第1収容部材に取り付けられている場合には、前記第1光学系からの前記エネルギービームを前記第2光学系により前記造形物の表面に照射して、前記造形物の表面を滑らかにするための加工が可能である
     請求項2及び10から13のいずれか一項に記載の加工システム。
  15.  前記第2光学系は、前記造形物の表面に対して前記エネルギービームが斜入射するように、前記エネルギービームを前記造形物の表面に照射する
     請求項1から14のいずれか一項に記載の加工システム。
  16.  前記第2光学系と前記造形物との相対的な位置関係を変更する位置変更装置を更に備える
     請求項1から15のいずれか一項に記載の加工システム。
  17.  前記位置変更装置は、前記第1光学系と前記造形物との相対的な位置関係を維持したまま、前記第2光学系と前記造形物との相対的な位置関係を変更する
     請求項16に記載の加工システム。
  18.  前記第2光学系は、前記第1光学系に対して移動可能となるように前記第1光学系に取り付けられている
     請求項16又は17に記載の加工システム。
  19.  前記位置変更装置は、第1位置変更装置であり、
     前記第1光学系と前記造形物との相対的な位置関係を変更する第2位置変更装置を更に備える
     請求項16から18のいずれか一項に記載の加工システム。
  20.  前記第2位置変更装置は、前記第1光学系と前記第2光学系との相対的な位置関係を維持したまま、前記第1光学系と前記造形物との相対的な位置関係を変更する
     請求項19に記載の加工システム。
  21.  前記造形物の表面は、前記第2光学系の光軸を挟み込む又は取り囲むように前記光軸側を向いた筒状の内壁面を含み、
     前記造形物の表面に前記エネルギービームが照射される期間の少なくとも一部において、前記第2光学系の少なくとも一部が前記内壁面の少なくとも一部によって取り囲まれる
     請求項1から20のいずれか一項に記載の加工システム。
  22.  前記第2光学系は、前記第1光学系からの前記エネルギービームを平行ビームに変換する第3光学系と、前記第3光学系からの前記エネルギービームを第2照射位置に照射する第4光学系とを含む
     請求項1から21のいずれか一項に記載の加工システム。
  23.  前記第3光学系は、前記第2光学系の光軸に沿った方向において間の距離を変更可能な少なくとも二つの光学部材を含む
     請求項22に記載の加工システム。
  24.  前記第2照射位置は、前記第1照射位置から前記第1光学系の光軸に交差する交差方向に沿って離れており、
     前記第4光学系は、前記第3光学系からの前記エネルギービームを前記交差方向に沿って偏向することで、前記第3光学系からの前記エネルギービームを前記第2照射位置に照射する偏向部材を含む
     請求項22又は23に記載の加工システム。
  25.  前記第2光学系に気体を供給する気体供給装置を更に備える
     請求項1から24のいずれか一項に記載の加工システム。
  26.  前記第2光学系を収容空間に収容する第2収容部材を更に備え、
     前記気体供給装置は、前記収容空間に気体を供給することで、前記第2光学系に気体を供給する
     請求項25に記載の加工システム。
  27.  前記第2光学系は、複数の光学部材を含み、
     前記収容空間に面する前記第2収容部材の内壁には、前記複数の光学部材が並ぶ方向に沿って延びる溝が形成されており、
     前記第2収容部材に供給された気体は、前記溝を介して流れる
     請求項26に記載の加工システム。
  28.  前記溝には、隣り合う二つの光学部材の間において前記溝を介して流れる気体を遮る障壁部材が形成されている
     請求項5又は26に記載の加工システム。
  29.  前記気体供給装置は、前記第1光学系を収容する第1収容部材に取り付けられたカバー部材の内部空間に前記気体を供給可能であり、
     前記カバー部材には、前記内部空間に供給された前記気体が前記内部空間から流出する流出口が形成されており、
     前記材料供給装置は、材料供給口から前記第1照射位置に前記造形材料を供給し、
     前記カバー部材は、前記流出口が前記材料供給口から所定距離以下の範囲に位置するように配置される
     請求項4及び26から28のいずれか一項に記載の加工システム。
  30.  エネルギービームを物体に照射する第1光学系と、
     前記第1光学系を収容する第1収容部材と
     前記第1光学系からの前記エネルギービームの照射位置に造形材料を供給する材料供給装置と、
     第1収容部材に取り付け可能な、前記第1光学系からの前記エネルギービームを集光する第2光学系を収容する第2収容部材と
     を備える加工システム。
  31.  エネルギービームを物体に照射する第1光学系と、
     前記第1光学系を収容する第1収容部材と
     前記第1光学系からの前記エネルギービームの照射位置に造形材料を供給する材料供給装置と
     を備え、
     前記第1収容部材には、前記第1光学系からの前記エネルギービームを集光する第2光学系を収容する第2収容部材を前記第1収容部材に取り付けるための取付部が形成されている
     加工システム。
  32.  エネルギービームを物体に照射する第1光学系と、
     前記第1光学系を収容する第1収容部材と
     を備え、
     前記第1収容部材には、前記第1光学系からのエネルギービームを集光する第2光学系を収容する第2収容部材を前記第1収容部材に取り付けるための取付部が形成されている
     加工システム。
  33.  エネルギービームを第1照射位置に集光する第1光学系と、前記第1照射位置に造形材料を供給可能な材料供給装置と備え、前記材料供給装置により前記造形材料を供給して、前記第1光学系からの前記エネルギービームにより、造形物を形成する加工システムに取り付け可能な光学装置であって、
     前記第1光学系からの前記エネルギービームを前記造形物の表面に照射して前記造形物を加工するための第2光学系を有する
     光学装置。
  34.  エネルギービームを物体に照射する第1光学系と、前記第1光学系を収容する第1収容部材と、前記第1光学系からの前記エネルギービームの照射位置に造形材料を供給する材料供給装置とを備える加工システムに取り付け可能な光学装置であって、
     前記第1収容部材に取り付け可能な、前記第1光学系からのエネルギービームを集光する第2光学系を収容する第2収容部材を有する
     光学装置。
  35.  造形物を形成する加工システムであって、
     エネルギービームを第1照射位置に集光する第1光学系と、前記第1照射位置に造形材料を供給可能な材料供給装置とを備え、前記材料供給装置により供給された前記造形材料に、前記第1光学系からのエネルギービームを照射することにより前記造形物を形成可能な第1加工装置と、
     エネルギービームを第2光学系により前記造形物の表面に照射して前記造形物を加工する第2加工装置と
     を有する加工システム。
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