WO2021019644A1 - 加工システム、加工方法、制御装置、コンピュータプログラム、記録媒体及び加工装置 - Google Patents

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WO2021019644A1
WO2021019644A1 PCT/JP2019/029670 JP2019029670W WO2021019644A1 WO 2021019644 A1 WO2021019644 A1 WO 2021019644A1 JP 2019029670 W JP2019029670 W JP 2019029670W WO 2021019644 A1 WO2021019644 A1 WO 2021019644A1
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WO
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processing
irradiation
energy beam
processing system
supply
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PCT/JP2019/029670
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English (en)
French (fr)
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浩一 安葉
和樹 上野
長坂 博之
岳洋 山本
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株式会社ニコン
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Publication date
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/20Bonding
    • B23K26/21Bonding by welding
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
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    • B23K26/20Bonding
    • B23K26/21Bonding by welding
    • B23K26/211Bonding by welding with interposition of special material to facilitate connection of the parts
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • B23K26/34Laser welding for purposes other than joining
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    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • B23K26/346Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring in combination with welding or cutting covered by groups B23K5/00 - B23K25/00, e.g. in combination with resistance welding
    • B23K26/348Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring in combination with welding or cutting covered by groups B23K5/00 - B23K25/00, e.g. in combination with resistance welding in combination with arc heating, e.g. TIG [tungsten inert gas], MIG [metal inert gas] or plasma welding

Definitions

  • a processing system for processing an object for example, a processing system for processing an object, a processing method and a processing device, a control device and a computer program for controlling the processing device, and a computer program for controlling the processing device are recorded.
  • a control device and a computer program for controlling the processing device for example, a computer program for controlling the processing device are recorded.
  • Patent Document 1 describes a processing system for processing an object by irradiating the object with an energy beam. In such a processing system, it is a technical problem to appropriately process an object.
  • a processing device including an irradiation optical system that irradiates an energy beam, a powder supply member that supplies powder to an irradiation position of the energy beam, and a control device that controls the processing device.
  • the processing by the processing apparatus includes the joining of the first object and the second object, and the control device irradiates at least one of the first object and the second object with the energy beam and the irradiation.
  • the first operation including the supply of the powder to the position and the irradiation of the energy beam to at least one of the first object and the second object and the supply of the powder to the irradiation position.
  • a machining system is provided in which the machining apparatus is made to perform the joining by one of the second operations not included.
  • the processing method is a processing method using an irradiation optical system for irradiating an energy beam and a processing apparatus including a powder supply member for supplying powder to the irradiation position of the energy beam.
  • Processing by the apparatus includes joining the first object and the second object, irradiating at least one of the first object and the second object with the energy beam and supplying the powder to the irradiation position.
  • the processing apparatus is made to perform the joining by the first operation including, and the energy beam is irradiated to at least one of the first object and the second object, and the powder is supplied to the irradiation position.
  • a processing method including having the processing apparatus perform the joining by a second operation not including the above is provided.
  • the control device controls a processing device including an irradiation optical system that irradiates an energy beam and a powder supply member that supplies powder to an irradiation position of the energy beam.
  • Processing by the apparatus includes joining the first object and the second object, irradiating at least one of the first object and the second object with the energy beam and supplying the powder to the irradiation position.
  • the process of causing the processing apparatus to perform the joining by the first operation including, and irradiation of the energy beam to at least one of the first object and the second object, and supply of the powder to the irradiation position.
  • a control device that executes a process of causing the processing device to perform the joining by a second operation that does not include the above.
  • the processing by the processing apparatus includes the joining of the first object and the second object, and irradiation of at least one of the first object and the second object with the energy beam and the powder to the irradiation position.
  • the process of causing the processing apparatus to perform the joining by the first operation including the supply of the body, and the irradiation of the energy beam to at least one of the first object and the second object and to the irradiation position.
  • a computer program is provided that causes the computer to perform a process of causing the processing apparatus to perform the joining by a second operation that does not include the supply of the powder.
  • the irradiation optical system for irradiating at least one of the first object and the second object with an energy beam and a powder supply member for supplying powder to the irradiation position of the energy beam are included.
  • a processing device for joining the first object and the second object, a gas supply device for supplying gas to the space in which the first object and the second object are housed, and the gas supplied from the gas supply device.
  • the processing device includes a control device that controls the gas supply device so as to change the supply amount of the above-mentioned powder supply member, while irradiating the third object with an energy beam using the irradiation optical system.
  • Powder is supplied to the irradiation position of the energy beam to form a modeled object on the third object, and the control device is placed in the space when the first and second objects are joined by the processing device.
  • the space in which the third object is accommodated is larger than the first supply amount.
  • a processing system for controlling the gas supply device so as to supply the gas in two supply amounts is provided.
  • an irradiation optical system that irradiates an object with an energy beam to process the object, a position changing device that changes the relative position between the object and the irradiation position of the energy beam, and the irradiation.
  • the positional relationship between the irradiation position and the object based on the irradiation position visual recognition device that allows the user to visually recognize the positional relationship between the irradiation position of the energy beam and the object by the optical system and the information used for processing the object.
  • a processing system including the position changing device and a control device for controlling the irradiation position visualizing device is provided so that the user can visually recognize the change in the above.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing the structure of the processing system of the first embodiment.
  • FIG. 2 is a system configuration diagram showing a system configuration of the processing system of the first embodiment.
  • FIGS. 3 (a) to 3 (e) is a cross-sectional view showing a state in which a certain region on the work is irradiated with processing light and a modeling material is supplied.
  • FIGS. 4 (a) to 4 (c) is a cross-sectional view showing a process of forming a three-dimensional structure.
  • 5 (a) to 5 (f) are cross-sectional views or plan views showing the state of a plurality of workpieces in one step of the joining process.
  • FIGS. 10 (a) to 10 (c) are cross-sectional views or plan views showing the state of a plurality of workpieces in one step of the joining process.
  • FIG. 7 is a flowchart showing the flow of the joining processing operation.
  • 8 (a) and 8 (b) are cross-sectional views and plan views showing the positional relationship between the plurality of workpieces supported by the stage and the plurality of guide lights, respectively.
  • FIG. 9 is a plan view showing an example of a GUI used for designating a junction.
  • FIGS. 10 (a) to 10 (c) is a plan view showing one step of a joining path setting example.
  • FIGS. 11 (a) to 11 (c) is a plan view showing one step of a joining path setting example.
  • FIGS. 12 (a) to 12 (c) is a plan view showing one step of a joining path setting example.
  • Each of FIGS. 13 (a) to 13 (c) is a plan view showing one step of a joining path setting example.
  • Each of FIGS. 14 (a) to 14 (c) is a plan view showing one step of a joining path setting example.
  • Each of FIGS. 15 (a) to 15 (b) is a plan view showing an example of a joining path having a shape different from the shape of the boundary of the upper surface of a plurality of workpieces.
  • Each of FIGS. 16 (a) to 16 (c) is a plan view showing one step of a joining path setting example.
  • FIG. 17 (a) to 17 (b) is a plan view showing a setting example of a joining path associated with a period in which processing light is emitted and / or a period in which processing light is not emitted.
  • FIG. 18 is a perspective view showing a processing head and a plurality of workpieces during the confirmation process.
  • FIG. 19 is a graph showing an example of the relationship between the supply amount of purge gas during the addition processing and the supply amount of the purge gas during the joining process.
  • FIG. 20A is a plan view showing a joining mark in which a plurality of workpieces are joined
  • FIG. 20B is a graph showing the relationship between the size of the joining mark and the supply amount of purge gas.
  • FIG. 21 is a cross-sectional view showing the structure of the processing system of the second embodiment.
  • FIG. 22 is a system configuration diagram showing a system configuration of the processing system of the second embodiment.
  • FIG. 23 is a perspective view showing an example of the work.
  • FIG. 24 is a plan view showing the state of a plurality of workpieces in one step of the joining process.
  • FIG. 25 is a perspective view showing an example of a state of a plurality of workpieces.
  • processing system that processes a work W
  • the processing system SYS may perform additional processing for forming a modeled object on the work W, for example.
  • the processing system SYS may perform joining processing for joining a plurality of workpieces W in addition to or in place of, for example, additional processing.
  • a processing system SYS a processing system, a processing method, and a control device are used by using a processing system SYS that processes a work W using a laser overlay welding method (LMD: Laser Metal Deposition).
  • LMD Laser Metal Deposition
  • a processing system SYS that processes a work W using a laser overlay welding method
  • the modeling material M supplied to the work W is melted by the processing light EL to form a three-dimensional structure ST integrated with or separable from the work W. It is an additional processing to be performed.
  • the joining process is a joining process in which a plurality of works W are joined (that is, a plurality of works W are integrated) without supplying the modeling material M to the boundary of the plurality of works W. May include.
  • the laser overlay welding method includes direct metal deposition, directed energy deposition, laser cladding, laser engineered net shaping, direct light fabrication, and laser consolidation.
  • Foundation, Shape Deposition Manufacturing, Wire-Feed Laser Deposition, Gas Through Wire, Laser Powder Fusion, Laser Metal Forming, Selective Laser Powder Remelting, Laser Direct -It may also be called casting, laser powder deposition, laser additive manufacturing, or laser rapid forming.
  • each of the X-axis direction and the Y-axis direction is a horizontal direction (that is, a predetermined direction in the horizontal plane), and the Z-axis direction is a vertical direction (that is, a direction orthogonal to the horizontal plane). Yes, in effect, in the vertical direction).
  • the rotation directions (in other words, the inclination direction) around the X-axis, the Y-axis, and the Z-axis are referred to as the ⁇ X direction, the ⁇ Y direction, and the ⁇ Z direction, respectively.
  • the Z-axis direction may be the direction of gravity.
  • the XY plane may be horizontal.
  • machining system SYSa Processing system SYS of the first embodiment
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the structure of the processing system SYSA of the first embodiment.
  • FIG. 2 is a system configuration diagram showing an example of the system configuration of the processing system SYSa of the first embodiment.
  • the processing system SYSa may be capable of forming a three-dimensional structure ST (a three-dimensional object (three-dimensional object) having a size in any of the three-dimensional directions) by performing additional processing.
  • the processing system SYSA may be able to form the three-dimensional structure ST on the work W that is the basis for forming the three-dimensional structure ST.
  • This work W may be referred to as a base member or a pedestal.
  • the processing system SYSA may be able to form a three-dimensional structure ST on the work W by performing additional processing on the work W.
  • the processing system SYSA may be able to form the three-dimensional structure ST on the stage 31.
  • the processing system SYSa can form the three-dimensional structure ST on the existing structure. It may be.
  • the processing system SYSa may form a three-dimensional structure ST integrated with the existing structure.
  • the operation of forming the three-dimensional structure ST integrated with the existing structure can be regarded as equivalent to the operation of adding a new structure to the existing structure.
  • the existing structure may be, for example, a repair-required product having a defective portion.
  • the processing system SYSa may form a three-dimensional structure in the repair-required product so as to fill the defective portion of the repair-required product.
  • the processing system SYSA may form a three-dimensional structure ST that is separable from the existing structure.
  • FIG. 1 shows an example in which the work W is an existing structure held by the stage 31. Further, in the following, the description will proceed with reference to an example in which the work W is an existing structure held by the stage 31.
  • the processing system SYSA may be capable of joining a plurality of work Ws by performing joining processing.
  • the joining process may include a welding process in which a plurality of works W are joined (that is, welded) by melting at least a part of the plurality of works W.
  • the joining process includes a brazing process in which a plurality of work Ws are joined (that is, brazed) through a hard brazing formed between the plurality of work Ws without melting the plurality of work Ws. May be good.
  • a three-dimensional structure in which a plurality of work Ws are joined is formed.
  • the work W in the joining process is different from the work W in the additional processing (that is, a member that is the basis for forming the three-dimensional structure ST) in that it is a member to be joined.
  • the members subject to at least one of the addition processing and the joining processing will be collectively referred to as a work W and the description will proceed.
  • the work W on which the additional processing is performed and at least one of the plurality of work Ws on which the joining processing is performed may be the same work W.
  • the work W on which the additional processing is performed and the work W on which the joining processing is performed may be different from each other.
  • the processing system SYSa performs processing based on the laser overlay welding method.
  • the processing system SYSa that performs additional processing is a 3D printer that forms an object by using a laminated modeling technique.
  • the laminated modeling technique is also referred to as rapid prototyping, rapid manufacturing, or additive manufacturing.
  • the processing system SYSA has a material supply device 1, a processing device 2, a stage device 3, a light source 4, and a gas supply as shown in FIGS. 1 and 2. It includes a device 5, a housing 6, a control device 7, a display 91, and an input device 92. At least a part of each of the processing device 2 and the stage device 3 is housed in the chamber space 63IN inside the housing 6.
  • the material supply device 1 supplies the modeling material M to the processing device 2. Specifically, the material supply device 1 and the processing device 2 (particularly, the material nozzle 212, which will be described later) are connected via a supply pipe 11. The material supply device 1 supplies the modeling material M to the processing device 2 via the supply pipe 11. At this time, the material supply device 1 is desired according to the required amount so that the modeling material M in the amount required per unit time for the processing device 2 to perform the additional processing is supplied to the processing device 2. A quantity of modeling material M may be supplied. The material supply device 1 is used to form a desired amount according to the required amount so that the amount of the modeling material M required per unit time for the processing device 2 to perform the joining process is supplied to the processing device 2. Material M may be supplied.
  • the modeling material M is a material that can be melted by irradiation with processing light EL having a predetermined intensity or higher.
  • a modeling material M for example, at least one of a metal material and a resin material can be used.
  • the modeling material M other materials different from the metal material and the resin material may be used.
  • the modeling material M is a powdery material. That is, the modeling material M is a powder.
  • the powder may contain a granular material in addition to the powdery material.
  • the modeling material M may contain, for example, a powder having a particle size within the range of 90 micrometers ⁇ 40 micrometers.
  • the average particle size of the powder constituting the modeling material M may be, for example, 75 micrometers or any other size.
  • the modeling material M does not have to be powder, and for example, a wire-shaped modeling material or a gaseous modeling material may be used.
  • the processing device 2 may perform additional processing for forming the three-dimensional structure ST by using the modeling material M supplied from the material supply device 1. Further, the processing device 2 may perform a joining process for joining a plurality of works W by using the modeling material M supplied from the material supply device 1.
  • the modeling material M may be used as a joining material (for example, filler metal, hard brazing or soft brazing) for joining a plurality of works W.
  • the melting point of the bonding material may be higher, lower, or the same as the melting point of at least one of the plurality of work Ws.
  • the processing device 2 includes a processing head 21, a head drive system 22, a position measuring device 23, and a plurality of (for example, two) guides.
  • the light emitting device 24 and the imaging device 25 are provided.
  • the processing head 21 includes an irradiation optical system 211 and a material nozzle (that is, a supply system for supplying the modeling material M) 212.
  • the processing apparatus 2 is housed in the chamber space 63IN. However, at least a part of the processing apparatus 2 may be arranged in the external space 64OUT, which is the space outside the housing 6.
  • the external space 64OUT may be a space that can be accessed by the operator of the processing system SYS.
  • the irradiation optical system 211 is an optical system (for example, a condensing optical system) for emitting the processed light EL from the injection unit 213. Specifically, the irradiation optical system 211 is optically connected to the light source 4 that emits the processed light EL via an optical transmission member 41 such as an optical fiber or a light pipe. The irradiation optical system 211 emits processed light EL propagating from the light source 4 via the optical transmission member 41. The irradiation optical system 211 emits the processing light EL so that the processing light EL advances in the chamber space 63IN.
  • an optical transmission member 41 such as an optical fiber or a light pipe.
  • the irradiation optical system 211 emits processed light EL propagating from the light source 4 via the optical transmission member 41.
  • the irradiation optical system 211 emits the processing light EL so that the processing light EL advances in the chamber space 63IN.
  • the irradiation optical system 211 irradiates the processed light EL downward (that is, the ⁇ Z side) from the irradiation optical system 211.
  • a stage 31 is arranged below the irradiation optical system 211.
  • the irradiation optical system 211 irradiates the work W with the processing light EL.
  • the irradiation optical system 211 has the processing light in the irradiation region EA set on the work W or in the vicinity of the work W as the region where the processing light EL is irradiated (typically, the light is focused). It is possible to irradiate EL.
  • the state of the irradiation optical system 211 can be switched between a state in which the irradiation area EA is irradiated with the processing light EL and a state in which the irradiation area EA is not irradiated with the processing light EL under the control of the control device 7. ..
  • the direction of the processed light EL emitted from the irradiation optical system 211 is not limited to directly below (that is, coincident with the ⁇ Z axis direction), and is, for example, a direction tilted by a predetermined angle with respect to the Z axis. May be good.
  • a supply outlet 214 is formed in the material nozzle 212.
  • the supply outlet 214 may be referred to as a supply port for supplying the modeling material M.
  • the material nozzle 212 supplies the molding material M from the supply outlet 214 (eg, ejects, ejects, ejects, or sprays).
  • the material nozzle 212 is physically connected to the material supply device 1 which is the supply source of the modeling material M via the supply pipe 11 and the mixing device 12.
  • the material nozzle 212 supplies the modeling material M supplied from the material supply device 1 via the supply pipe 11 and the mixing device 12.
  • the material nozzle 212 may pump the modeling material M supplied from the material supply device 1 via the supply pipe 11.
  • the modeling material M from the material supply device 1 and the gas for transportation (that is, the pumping gas, that is, an inert gas such as nitrogen or argon) are mixed by the mixing device 12 and the material is passed through the supply pipe 11. It may be pumped to the nozzle 212.
  • the material nozzle 212 supplies the modeling material together with the conveying gas.
  • the transporting gas for example, purge gas supplied from the gas supply device 5 is used, but a gas supplied from a gas supply device different from the gas supply device 5 may be used.
  • the material nozzle 212 is drawn in a tubular shape in FIG. 1, the shape of the material nozzle 212 is not limited to this shape.
  • the material nozzle 212 supplies the modeling material M toward the chamber space 63IN.
  • the material nozzle 212 supplies the modeling material M downward (that is, the ⁇ Z side) from the material nozzle 212.
  • a stage 31 is arranged below the material nozzle 212.
  • the material nozzle 212 supplies the modeling material M toward the work W or the vicinity of the work W.
  • the traveling direction of the modeling material M supplied from the material nozzle 212 is a direction inclined by a predetermined angle (an acute angle as an example) with respect to the Z-axis direction, but even if it is on the ⁇ Z side (that is, directly below). Good.
  • the material nozzle 212 is aligned with the irradiation optical system 211 so that the irradiation optical system 211 supplies the modeling material M toward the irradiation region EA on which the processing light EL is irradiated. That is, the material nozzle 212 and the irradiation area are irradiated so that the supply area MA and the irradiation area EA set on the work W as the area where the material nozzle 212 supplies the modeling material M coincide with (or at least partially overlap)
  • the optical system 211 is aligned.
  • the material nozzle 212 and the irradiation optical system 211 are aligned so that the material nozzle 212 supplies the modeling material M to the molten pool MP (described later) formed by the processing light EL emitted from the irradiation optical system 211. It may have been.
  • the material nozzle 212 When the material nozzle 212 supplies the modeling material M together with the purge gas as described above, the material nozzle 212 is aligned with the irradiation optical system 211 so as to supply the purge gas toward the irradiation region EA. May be good. That is, the material nozzle 212 and the irradiation optical system 211 may be aligned so that the region where the material nozzle 212 supplies the purge gas and the irradiation region EA coincide with (or at least partially overlap). The material nozzle 212 and the irradiation optical system 211 may be aligned so that the material nozzle 212 supplies purge gas to the molten pool MP formed by the processing light EL emitted from the irradiation optical system 211. ..
  • the purge gas supplied to at least one of the irradiation region EA and the molten pool MP in this way may be used as a so-called assist gas or shield gas.
  • the purge gas is used as an assist gas or a shield gas for removing (blowing) unnecessary substances (for example, unnecessary substances (for example, fume) generated from the irradiation region EA by irradiation with the processing light EL from the irradiation region EA). It may also be used as an assist gas or a shield gas for adjusting the processing state by the processing light EL.
  • the head drive system 22 moves the processing head 21.
  • the head drive system 22 moves the processing head 21 within the chamber space 63IN, for example.
  • the head drive system 22 moves the machining head 21 along at least one of the X-axis, the Y-axis, and the Z-axis.
  • the irradiation region EA and the supply region MA each move at any position on the work W or in the chamber space 63IN at least one of the X-axis and the Y-axis. Move along.
  • the head drive system 22 may move the machining head 21 along at least one rotation direction in the ⁇ X direction, the ⁇ Y direction, and the ⁇ Z direction in addition to at least one of the X-axis, the Y-axis, and the Z-axis. .. In other words, the head drive system 22 may rotate the machining head 21 around at least one of the X-axis, Y-axis, and Z-axis. The head drive system 22 may change the posture of the machining head 21 around at least one of the X-axis, the Y-axis, and the Z-axis.
  • the head drive system 22 includes an actuator such as a motor, for example.
  • the head drive system 22 moves the machining head 21, the relative positions of the machining head 21 and the stage 31 and the work W supported by the stage 31 change. That is, the relative positions of the irradiation optical system 211 and the material nozzle 212 (supply outlet 214) and the stage 31 and the work W are changed. Therefore, the head drive system 22 may function as a position changing device for changing the relative positional relationship between each of the irradiation optical system 211 and the material nozzle 212 (supply outlet 214) and each of the stage 31 and the work W. Good.
  • the head drive system 22 may function as a position changing device for changing the relative positional relationship between the irradiation region EA and each of the stage 31 and the work W.
  • the processing system SYSa in addition to moving the processing head 21, at least a part of the irradiation optical system 211 is moved so that the relative positions of the irradiation region EA and the stage 31 and the work W are changed.
  • the processing system SYSA may change the relative positional relationship between the irradiation region EA and each of the stage 31 and the work W by moving the entire irradiation optical system 211.
  • the processing system SYSa may change the relative positions of the irradiation region EA and the stage 31 and the work W by moving some of the optical elements of the irradiation optical system 211.
  • the moving optical element may include a terminal optical element (eg, an objective lens).
  • moving the optical element may include changing the posture of the optical element (moving the optical element in the rotational direction).
  • the processing system SYSa moves the galvano mirror provided in the irradiation optical system 211 and deflects the processing light EL (changes the tilt angle of the galvano mirror) so that the irradiation region EA and the stage 31 and the work W are respectively.
  • the relative position may be changed.
  • the irradiation optical system 211 and the material nozzle 212 may be moved separately.
  • the head drive system 22 includes the position of the injection unit 213, the orientation (posture) of the injection unit 213, the position of the supply outlet 214, and the orientation of the supply outlet 214 (of the molding material injected from the supply outlet 214). At least one of the injection directions) may be adjustable.
  • the irradiation region EA where the irradiation optical system 211 irradiates the processing light EL and the supply region MA where the material nozzle 212 supplies the modeling material M can be controlled separately.
  • the position measuring device 23 can measure the position of the processing head 21.
  • the position measuring device 23 may include, for example, at least one of an encoder and a laser interferometer. Further, when the actuator of the head drive system 22 for driving the machining head 21 is open-loop controlled, the machining device 2 does not have to have the position measuring device 23.
  • the guide light emitting device 24 emits the guide light GL.
  • the guide light emitting device 24 emits the guide light GL so that the guide light GL travels in the chamber space 63IN.
  • the plurality of guide light emitting devices 24 are aligned with each other so that the plurality of guide light GLs emitted from the plurality of guide light emitting devices 24 intersect with each other at a certain position below the processing head 21.
  • a work W is typically arranged below the processing head 21. Therefore, the guide light emitting device 24 may be referred to as a light irradiating device that irradiates the guide light GL toward the work W.
  • the guide light emitting device 24 is arranged on the processing head 21. Therefore, the relative position between the guide light emitting device 24 and the processing head 21 (particularly, the irradiation optical system 211) is fixed (that is, does not change). However, as long as the relative position between the guide light emitting device 24 and the processing head 21 (particularly, the irradiation optical system 211) is fixed, the guide light emitting device 24 is covered with a member different from the processing head 21 (for example, the head drive system 22). It may be arranged in the driving portion (moving portion)).
  • the guide light emitting device 24 itself and the processing head 21 (particularly, the irradiation optical system 211) itself are in a fixed state. Not only the relative position between the two is fixed, but also the irradiation position of the processing light EL from the processing head 21 (particularly, the irradiation optical system 211) and the irradiation position of the guide light GL from the guide light emitting device 24. It also includes the state where the relative position between them is fixed.
  • the plurality of guide light emitting devices 24 may be aligned so that the plurality of guide light GLs intersect each other at the focus position of the processing light EL.
  • the processed light EL is typically positioned so that its focus position is on the surface of the work W (or a surface having the same height as the surface) (that is, it coincides with the irradiation region EA). It can be said that the plurality of guide light emitting devices 24 are aligned so that the plurality of guide light GLs intersect each other in the irradiation region EA of the processing light EL.
  • the processing device 2 mainly processes the object at the focus position of the processing light EL
  • the plurality of guide light emitting devices 24 intersect each other at the processing position where the plurality of guide light GLs are processed by the processing device 2. It can be said that they are aligned with each other.
  • the plurality of guide light emitting devices 24 may be aligned so that the plurality of guide light GLs intersect each other at a position (defocus position) deviated from the focus position of the processing light EL.
  • the number of guide light emitting devices 24 does not have to be plural.
  • a single guide light emitting device 24 may emit a plurality of guide lights having different emission directions from each other.
  • the image pickup device 25 is a device (for example, a camera) capable of taking an image of an object to be imaged.
  • the image pickup object includes, for example, an object supported by the stage 31 described later (that is, an object supported by the mounting surface 311). Therefore, the imaging range of the imaging device 25 is set to a desired range so that an object supported by the mounting surface 311 can be imaged.
  • a work W is an example of an object supported by the mounting surface 311.
  • the stage device 3 includes a stage 31.
  • the stage 31 is housed in the chamber space 63IN.
  • the stage 31 can support the work W.
  • the state of "the stage 31 supporting the work W" here may mean a state in which the work W is directly or indirectly supported by the stage 31.
  • the stage 31 may be able to hold the work W. That is, the stage 31 may support the work W by holding the work W. Alternatively, the stage 31 does not have to be able to hold the work W.
  • the work W may be placed on the stage 31. That is, the stage 31 may support the work W placed on the stage 31. At this time, the work W may be mounted on the stage 31 without being clamped.
  • the state in which the "stage 31 supports the work W" in the first embodiment may include a state in which the stage 31 holds the work W and a state in which the work W is placed on the stage 31.
  • the stage 31 may be referred to as a support device for supporting the work W, a mounting device on which the work W is placed, a holding device for holding the work W, or a table. Since the stage 31 is housed in the chamber space 63IN, the work W supported by the stage 31 is also housed in the chamber space 63IN. Further, the stage 31 can release the held work W when the work W is held.
  • the irradiation optical system 211 described above irradiates the processing light EL at least a part of the period during which the stage 31 supports the work W.
  • the material nozzle 212 described above supplies the modeling material M during at least a part of the period in which the stage 31 supports the work W.
  • the stage 31 may be provided with a mechanical chuck, a vacuum suction chuck, or the like in order to hold the work W.
  • the light source 4 emits, for example, at least one of infrared light and ultraviolet light as processed light EL.
  • the processed light EL light of another wavelength, for example, light having a wavelength in the visible region may be used.
  • the processing light EL includes laser light.
  • the light source 4 may include a laser light source such as a semiconductor laser.
  • the laser light source at least one of a laser diode (LD: Laser Diode), a fiber laser, a CO 2 laser, a YAG laser, an excimer laser and the like can be mentioned.
  • the processing light EL does not have to be a laser light
  • the light source 4 may include an arbitrary light source (for example, at least one such as an LED (Light Emitting Diode) and a discharge lamp).
  • the gas supply device 5 is a supply source of purge gas for purging the chamber space 63IN.
  • the purge gas contains an inert gas.
  • An example of the inert gas is nitrogen gas or argon gas.
  • the gas supply device 5 is connected to the chamber space 63IN via a supply port 62 formed in the partition member 61 of the housing 6 and a supply pipe 51 connecting the gas supply device 5 and the supply port 62.
  • the gas supply device 5 supplies purge gas to the chamber space 63IN via the supply pipe 51 and the supply port 62.
  • the chamber space 63IN becomes a space purged by the purge gas.
  • the gas supply device 5 may be a cylinder in which an inert gas such as nitrogen gas or argon gas is stored.
  • the inert gas is nitrogen gas
  • the gas supply device 5 may be a nitrogen gas generator that generates nitrogen gas from the atmosphere as a raw material.
  • the gas supply device 5 supplies the mixing device 12 to which the modeling material M from the material supply device 1 is supplied in addition to the chamber space 63IN.
  • Purge gas may be supplied.
  • the gas supply device 5 may be connected to the mixing device 12 via a supply pipe 52 that connects the gas supply device 5 and the mixing device 12.
  • the gas supply device 5 supplies the purge gas to the mixing device 12 via the supply pipe 52.
  • the modeling material M from the material supply device 1 is supplied to the material nozzle 212 through the supply pipe 11 by the purge gas supplied from the gas supply device 5 via the supply pipe 52 (specifically,). , Pumped).
  • the gas supply device 5 may be connected to the material nozzle 212 via the supply pipe 52, the mixing device 12, and the supply pipe 11.
  • the material nozzle 212 supplies the modeling material M together with the purge gas for pumping the modeling material M from the supply outlet 214.
  • the housing 6 is a storage device that accommodates at least a part of each of the processing device 2 and the stage device 3 in the chamber space 63IN, which is the internal space of the housing 6.
  • the housing 6 includes a partition member 61 that defines a chamber space 63IN.
  • the partition member 61 is a member that separates the chamber space 63IN from the external space 64OUT of the housing 6.
  • the partition member 61 faces the chamber space 63IN via its inner wall 611, and faces the outer space 64OUT via its outer wall 612. In this case, the space surrounded by the partition member 61 (more specifically, the space surrounded by the inner wall 611 of the partition member 61) becomes the chamber space 63IN.
  • the partition member 61 may be provided with a door that can be opened and closed.
  • This door may be opened when the work W is placed on the stage 31.
  • the door may be opened when the work W and / or the modeled object is taken out from the stage 31.
  • the door may be closed during processing (ie, during additional processing or joining processing).
  • the partition member 61 may be provided with an observation window (not shown) for visually recognizing the chamber space 63IN from the external space 64OUT of the housing 6.
  • the control device 7 controls the operation of the processing system SYS.
  • the control device 7 may include, for example, an arithmetic unit including at least one of a CPU (Central Processing Unit) and a GPU (Graphics Processing Unit), and a storage device such as a memory.
  • the control device 7 functions as a device that controls the operation of the processing system SYS by executing a computer program by the arithmetic unit.
  • This computer program is a computer program for causing the arithmetic unit to perform (that is, execute) the operation described later to be performed by the control device 7. That is, this computer program is a computer program for causing the control device 7 to function so that the processing system SYSa performs an operation described later.
  • the computer program executed by the arithmetic unit may be recorded in a storage device (that is, a recording medium) included in the control device 7, or any storage built in the control device 7 or externally attached to the control device 7. It may be recorded on a medium (for example, a hard disk or a semiconductor memory). Alternatively, the arithmetic unit may download the computer program to be executed from an external device of the control device 7 via the network interface.
  • a storage device that is, a recording medium included in the control device 7, or any storage built in the control device 7 or externally attached to the control device 7. It may be recorded on a medium (for example, a hard disk or a semiconductor memory).
  • the arithmetic unit may download the computer program to be executed from an external device of the control device 7 via the network interface.
  • the control device 7 may control the injection mode of the processed light EL by the irradiation optical system 211.
  • the injection mode may include, for example, at least one of the intensity of the processing light EL and the injection timing of the processing light EL.
  • the emission mode is, for example, the emission time of pulsed light, the emission cycle of pulsed light, and the ratio of the emission time of pulsed light to the emission period of pulsed light (so-called). , Duty ratio) may be included.
  • the control device 7 may control the movement mode of the processing head 21 by the head drive system 22.
  • the movement mode may include, for example, at least one of a movement amount, a movement speed, a movement direction, and a movement timing.
  • control device 7 may control the supply mode of the modeling material M by the material nozzle 212.
  • the supply mode of the modeling material M by the material nozzle 212 is mainly determined by the supply mode of the modeling material M by the material supply device 1. Therefore, controlling the supply mode of the modeling material M by the material supply device 1 may be regarded as equivalent to controlling the supply mode of the modeling material M by the material nozzle 212.
  • the supply mode may include, for example, at least one of a supply amount (particularly, a supply amount per unit time) and a supply timing.
  • the control device 7 does not have to be provided inside the processing system SYS.
  • the control device 7 may be provided as a server or the like outside the processing system SYSa.
  • the control device 7 and the processing system SYSA may be connected by a wired and / or wireless network (or a data bus and / or a communication line).
  • a wired network for example, a network using a serial bus type interface represented by at least one of IEEE1394, RS-232x, RS-422, RS-423, RS-485 and USB may be used.
  • a network using a parallel bus interface may be used.
  • a network using an Ethernet (registered trademark) compliant interface represented by at least one of 10BASE-T, 100BASE-TX and 1000BASE-T may be used.
  • a network using radio waves may be used.
  • An example of a network using radio waves is a network conforming to IEEE802.1x (for example, at least one of wireless LAN and Bluetooth®).
  • a network using infrared rays may be used.
  • a network using optical communication may be used.
  • the control device 7 and the processing system SYSA may be configured so that various types of information can be transmitted and received via the network.
  • control device 7 may be able to transmit information such as commands and control parameters to the processing system SYSA via the network.
  • the processing system SYSa may include a receiving device that receives information such as commands and control parameters from the control device 7 via the network. Even if the processing system SYSa is provided with a transmission device (that is, an output device that outputs information to the control device 7) that transmits information such as commands and control parameters to the control device 7 via the network. Good.
  • a transmission device that is, an output device that outputs information to the control device 7
  • the second control device that performs the other part of the processing performed by the control device 7 is performed.
  • the control device may be provided outside the processing system SYS.
  • the recording medium for recording the computer program executed by the control device 7 includes CD-ROM, CD-R, CD-RW, flexible disc, MO, DVD-ROM, DVD-RAM, DVD-R, DVD + R, and DVD. -Used by at least one of optical disks such as RW, DVD + RW and Blu-ray (registered trademark), magnetic media such as magnetic tape, magneto-optical disks, semiconductor memories such as USB memory, and other media capable of storing programs. May be done.
  • the recording medium may include a device capable of recording a computer program (for example, a general-purpose device or a dedicated device in which the computer program is implemented in at least one form such as software and firmware).
  • each process or function included in the computer program may be realized by a logical processing block realized in the control device 7 by the control device 7 (that is, a computer) executing the computer program. It may be realized by hardware such as a predetermined gate array (FPGA, ASIC) included in the control device 7, or a logical processing block and a partial hardware module that realizes a part of the hardware are mixed. It may be realized in the form of.
  • FPGA predetermined gate array
  • the display 91 is a display device capable of displaying a desired image under the control of the control device 7.
  • the display 91 may display information about the processing system SYS.
  • the display 91 may display information about a three-dimensional structure ST (a three-dimensional object (three-dimensional object) having a size in any direction in the three-dimensional direction).
  • the display 91 may display information about the work W.
  • the display 91 may display information regarding the result of imaging by the imaging device 25.
  • the display 91 does not have to be provided inside the processing system SYS.
  • the display 91 may be provided as an external display outside the processing system SYS.
  • the display 91 and the processing system SYSA may be connected by a wired and / or wireless network (or a cable, a data bus and / or a communication line).
  • the control device 7 may be configured so that various types of information can be transmitted / received (that is, input / output) to / from the display 91 via the network.
  • the display 91 is a transmission / reception unit (that is, input / output) that transmits / receives information to / from the control device 7 (furthermore, to / from other devices included in the processing system SYSa with or without the control device 7).
  • a unit) and a display unit for displaying an image may be provided.
  • the input device 92 is a device that accepts input of information from the outside of the processing system SYS.
  • the input device 92 may accept input of information from a user of the processing system SYS.
  • the input device 92 may accept input of information from a device external to the processing system SYS.
  • the input device 92 may accept input of information from a recording medium that can be attached to the processing system SYS.
  • An example of the input device 92 is an operating device that can be operated by the user.
  • the operating device at least one of a keyboard, a mouse, a touch pad, a touch panel (for example, a touch panel integrated with the display 91) and a pointing device can be mentioned.
  • an interface device for connecting to an external device of the processing system SYSA can be mentioned.
  • a reading device capable of reading a recording medium that can be attached to the processing system SYS.
  • the information received by the input device 92 (that is, the information input to the input device 92) is output to, for example, the control device 7.
  • the input device 92 may accept input of information via the display screen of the display 91.
  • the input device 92 may accept input of information via a GUI (Graphical User Interface) displayed on the display screen of the display 91.
  • the input device 92 may accept input of information regarding the user's operation to the GUI displayed on the display screen of the display 91.
  • the display 91 may display an image (for example, the GUI described above) for receiving the input of information via the input device 92 under the control of the control device 7. In this way, the display 91 may also be used as the input device 92.
  • the input device 92 does not have to be provided inside the processing system SYS.
  • the input device 92 may be provided as an external input device outside the processing system SYS.
  • the input device 92 and the processing system SYSA may be connected by a wired and / or wireless network (or a cable, a data bus and / or a communication line).
  • the control device 7 may be configured to acquire the information input to the input device 92 via the network.
  • the control device 7 may be configured to function as a receiving device that receives the information input to the input device 92 via the network.
  • the input device 92 is a transmission / reception unit (that is, an input / output unit) that transmits / receives information to / from the control device 7 (and further to / from other devices included in the processing system SYSa via or without the control device 7).
  • An output unit) and an input receiving unit that receives input from the outside of the processing system SYSA may be provided.
  • the processing system SYSa forms the three-dimensional structure ST on the work W based on the three-dimensional model data (for example, CAD (Computer Aided Design) data) of the three-dimensional structure ST to be formed.
  • the three-dimensional model data for example, CAD (Computer Aided Design) data
  • the processing system SYSa forms, for example, a plurality of layered partial structures (hereinafter, referred to as “structural layers”) SLs arranged along the Z-axis direction in order.
  • the processing system SYSa sequentially forms a plurality of structural layers SL obtained by cutting the three-dimensional structure ST into round slices along the Z-axis direction.
  • a three-dimensional structure ST which is a laminated structure in which a plurality of structural layers SL are laminated, is formed.
  • the flow of the operation of forming the three-dimensional structure ST by forming the plurality of structural layers SL one by one in order will be described.
  • each structural layer SL Under the control of the control device 7, the processing system SYSa sets an irradiation region EA in a desired region on the modeling surface MS corresponding to the surface of the work W or the surface of the formed structural layer SL, and sets the irradiation region EA for the irradiation region EA.
  • the processing light EL is irradiated from the irradiation optical system 211.
  • the region occupied by the processed light EL emitted from the irradiation optical system 211 on the modeling surface MS may be referred to as an irradiation region EA.
  • the focus position (that is, the condensing position) of the processed light EL coincides with the modeling surface MS.
  • a molten pool (that is, a pool of metal melted by the processing light EL) MP is formed in a desired region on the modeling surface MS by the processing light EL emitted from the irradiation optical system 211. It is formed.
  • the processing system SYSA sets a supply region MA in a desired region on the modeling surface MS under the control of the control device 7, and supplies the modeling material M to the supply region MA from the material nozzle 212.
  • the processing system SYSa supplies the modeling material M to the molten pool MP from the material nozzle 212.
  • the modeling material M supplied to the molten pool MP is melted.
  • the processing light EL is not irradiated to the molten pool MP as the processing head 21 moves, the molding material M melted in the molten pool MP is cooled and solidified (that is, solidified).
  • the solidified modeling material M is deposited on the modeling surface MS. That is, a modeled object is formed by the deposit of the solidified modeling material M.
  • a series of modeling processes including formation of the molten pool MP by irradiation with such processing light EL, supply of the modeling material M to the molten pool MP, melting of the supplied modeling material M, and solidification of the molten modeling material M can be performed.
  • the processing head 21 is repeatedly moved relative to the modeling surface MS along the XY plane. That is, when the processing head 21 moves relative to the modeling surface MS, the irradiation region EA also moves relative to the modeling surface MS. Therefore, a series of modeling processes is repeated while moving the irradiation region EA relative to the modeling surface MS along the XY plane (that is, in the two-dimensional plane).
  • the processed light EL is selectively irradiated to the irradiation region EA set in the region where the modeled object is to be formed on the modeled surface MS, but it is not desired to form the modeled object on the modeled surface MS.
  • the irradiation area EA set in the area is not selectively irradiated. It can be said that the irradiation region EA is not set in the region where the modeled object is not desired to be formed. That is, the processing system SYSa moves the irradiation region EA along the predetermined movement locus on the modeling surface MS, and transfers the processing light EL to the modeling surface MS at a timing according to the distribution mode of the region where the modeled object is to be formed. Irradiate.
  • the molten pool MP also moves on the modeling surface MS along the movement locus according to the movement locus of the irradiation region EA.
  • the molten pool MP is sequentially formed on the modeling surface MS in the portion of the region along the movement locus of the irradiation region EA that is irradiated with the processing light EL.
  • the supply region MA also moves on the modeling surface MS along the movement locus according to the movement locus of the irradiation region EA. Become. As a result, as shown in FIG.
  • a structural layer SL corresponding to an aggregate of the modeled objects made of the modeling material M solidified after melting is formed on the modeling surface MS. That is, the structural layer SL corresponding to the aggregate of the shaped objects formed on the modeling surface MS in the pattern corresponding to the moving locus of the molten pool MP (that is, the shape corresponding to the moving locus of the molten pool MP in a plan view).
  • the structural layer SL) to have is formed.
  • the processing system SYSa supplies the modeling material M to the irradiation region EA and provides a processing light EL having a strength that does not allow the molten pool MP.
  • the irradiation area EA may be irradiated.
  • the processing system SYSa moves the irradiation region EA with respect to the modeling surface MS by moving the processing head 21 with respect to the modeling surface MS.
  • the machining system SYSa moves the stage 31 with respect to the machining head 21 (that is, moves the modeling surface MS).
  • the irradiation area EA may be moved with respect to the modeling surface MS.
  • the stage 31 may include a stage drive system for moving the stage 31.
  • the processing system SYSa moves a part of the processing head 21 (for example, the entire optical element of the irradiation optical system 211 or a part of the optical element of the irradiation optical system 211) with respect to the modeling surface MS.
  • the irradiation area EA may be moved with respect to the modeling surface MS.
  • the processing system SYSA may move the irradiation region EA with respect to the modeling surface MS by driving the galvano mirror provided in the irradiation optical system 211.
  • the processing system SYSa repeatedly performs the operation for forming such a structural layer SL under the control of the control device 7 based on the three-dimensional model data. Specifically, first, the control device 7 slices the three-dimensional model data at a stacking pitch to create slice data. Note that data obtained by partially modifying this slice data according to the characteristics of the processing system SYSA may be used.
  • the processing system SYSa performs an operation for forming the first structural layer SL # 1 on the modeling surface MS corresponding to the surface of the work W with three-dimensional model data (that is, a structure) corresponding to the structural layer SL # 1. It is performed based on the slice data corresponding to the layer SL # 1.
  • the structural layer SL # 1 is formed on the modeling surface MS as shown in FIG. 4A.
  • the processing system SYSa sets the surface (that is, the upper surface) of the structural layer SL # 1 on the new modeling surface MS, and then forms the second structural layer SL # 2 on the new modeling surface MS.
  • the control device 7 first controls the head drive system 22 so that the machining head 21 moves along the Z axis. Specifically, the control device 7 controls the head drive system 22 so that the irradiation region EA and the supply region MA are set on the surface of the structural layer SL # 1 (that is, the new modeling surface MS). The machining head 21 is moved toward the + Z side.
  • the focus position of the processing light EL coincides with the new modeling surface MS.
  • the processing system SYSa operates on the structural layer SL # 1 based on the slice data corresponding to the structural layer SL # 2 in the same operation as the operation of forming the structural layer SL # 1 under the control of the control device 7.
  • the structural layer SL # 2 is formed on the surface.
  • the structural layer SL # 2 is formed as shown in FIG. 4 (b).
  • the same operation is repeated until all the structural layers SL constituting the three-dimensional structure ST to be formed on the work W are formed.
  • the three-dimensional structure ST is formed by the laminated structure in which a plurality of structural layers SL are laminated.
  • FIGS. 5 (a) to 5 (f) are cross-sectional views or a plan view showing a state of a plurality of workpieces W in one step of joining processing.
  • 5 (a) and 5 (b) are a cross-sectional view and a plan view showing the work W1 and the work W2, which are examples of the work W, respectively.
  • the joining process for joining the work W1 and the work W2 will be described. That is, the joining process for joining the two workpieces W will be described. However, three or more work Ws can also be joined by the same joining process.
  • the work W1 is arranged so that at least a part of the surface of the work W1 faces the work W2.
  • the work W2 is arranged so that at least a part of the surface of the work W2 faces the work W1.
  • the works W1 and W2 may be fixed by jigs, respectively (the positional relationship between the works W1 and W2 may be fixed).
  • the surface of the work W1 facing the work W2 is referred to as an end face WS1
  • the surface of the surface of the work W2 facing the work W1 is referred to as an end face WS2.
  • FIGS. 5A and 5B show an example in which a gap is secured between the end face WS1 and the end face WS2, the end face WS1 and the end face WS2 may be in contact with each other. ..
  • the joining process is a process for joining the workpieces W1 and W2 via the end faces WS1 and WS2.
  • the joining process includes at least one of welding and brazing.
  • the welding process may include, for example, a process for integrating the works W1 and W2 via the end faces WS1 and WS2 by melting at least a part of each of the end faces WS1 and WS2 with a machining light EL.
  • the modeling material M supplied from the material nozzle 212 may be used as a joining material (in other words, a filler material) for joining the works W1 and W2.
  • the end faces WS1 and WS2 are not melted by the machining light EL, but are melted by the machining light EL between the end face WS1 and the end face WS2 and then solidified via the molding material M. It may include processing for integrating the works W1 and W2. That is, the modeling material M supplied from the material nozzle 212 may be used as a joining material (for example, hard brazing or soft brazing) for joining the works W1 and W2.
  • end face WS1 of the work W1 and / or the end face WS2 of the work W2 may be subjected to pre-processing (pre-processing) such as groove processing.
  • the irradiation optical system 211 irradiates the workpieces W1 and W2 with the processed light EL.
  • the irradiation region EA is set to include at least a part of the boundary between the upper surface of the work W1 and the upper surface of the work W2.
  • the material nozzle 212 supplies the modeling material M to the supply region MA corresponding to the irradiation region EA. That is, under the control of the control device 7, the material supply device 1 supplies the modeling material M to the material nozzle 212, and the material nozzle 212 supplies the modeling material M supplied from the material supply device 1 to the supply region MA.
  • the irradiation region EA When the irradiation region EA is irradiated with the processing light EL and the modeling material M is supplied to the supply region MA, at least a part of the supplied modeling material M is melted by the energy of the processing light EL. Further, in some cases, at least a part of the work W1 and / or at least a part of the work W2 may be melted by the energy of the processing light EL. In particular, at least a part of the end face WS1 and / or at least a part of the end face WS2 may be melted by the energy of the processing light EL. However, the work W1 and / or the work W2 does not have to be melted by the energy of the processing light EL.
  • the irradiation optical system 211 may irradiate one of the workpieces W1 and W2 with the processing light EL.
  • At least a part of the modeling material M is formed at the position where the irradiation region EA is set (that is, the position where the processing light EL is irradiated)).
  • a molten pool MP in which at least a part of the work W1 and / or at least a part of the work W2) is melted is formed.
  • a series of joining processes including the formation of the molten pool MP and the solidification of the molten pool MP by the irradiation of the processing light EL and the supply of the modeling material M are performed on the upper surface of the work W1.
  • This is repeated while moving the machining head 21 along the boundary with the upper surface of the work W2. That is, a series of joining processes is repeated while moving the machining head 21 so that the machining light EL is applied to the joining region WA where the work W1 and the work W2 are joined.
  • the joint region WA is typically a region extending along the boundary between the upper surface of the work W1 and the upper surface of the work W2. As a result, the work W1 and the work W2 are joined.
  • the portion formed by the solidification of the molten pool MP may be referred to as a welding mark, a welding mark, or a welding bead.
  • the welding marks, welding marks or welding beads may be raised from the upper surfaces of the workpieces W1 and W2.
  • the modeling material M is supplied from the material nozzle 212 during the joining process, but the modeling material M may not be supplied from the material nozzle 212 during the joining process. That is, under the control of the control device 7, the material supply device 1 does not have to supply the modeling material M to the material nozzle 212. Even in this case, as long as at least a part of the work W1 and / or at least a part of the work W2 is melted by the energy of the processing light EL to form the molten pool MP, the solidified portion of the molten pool MP is formed. The work W1 and the work W2 are joined via the work W1.
  • the workpieces W1 and W2 are arranged so that the end faces WS1 and WS2 face each other.
  • the end face WS1 and the end face WS2 typically come into contact with each other, as shown in FIGS. 6 (a) and 6 (b).
  • a gap may be secured between the end face WS1 and the end face WS2.
  • a gap is secured between the end face WS1 and the end face WS2 during the period of irradiation with the processing light EL, and the work is made so that the end face WS1 and the end face WS2 come into contact with each other after the machining light EL is no longer irradiated. At least one of W1 and W2 may move.
  • the irradiation optical system 211 irradiates at least one of the workpieces W1 and W2 with the processing light EL. At least a part of the work W1 and / or at least a part of the work W2 is melted by the energy of the processing light EL.
  • the material nozzle 212 does not supply the modeling material M to the supply region MA that coincides with the irradiation region EA. At this time, the material nozzle 212 may supply the purge gas without supplying the modeling material M. In this case, the material supply device 1 may also supply the purge gas to the material nozzle 212 through the supply pipe 11 without supplying the modeling material M.
  • the gas supply device 5 may supply the purge gas to the material nozzle 212 via the supply pipes 11 and 52. As a result, even when the modeling material M is not supplied from the material nozzle 212, the purge gas used as the assist gas can be supplied from the material nozzle 212. However, the material nozzle 212 does not have to supply the purge gas.
  • At least a part of the work W1 and / or at least the work W2 is located at the position where the irradiation region EA is set (that is, the position where the processing light EL is irradiated).
  • a molten pool MP that is partially melted is formed.
  • the work W1 and the work W2 are partially joined via the solidified molten pool MP.
  • a series of joining processes including formation of the molten pool MP and solidification of the molten pool MP by irradiation with the processing light EL is a boundary between the upper surface of the work W1 and the upper surface of the work W2. It is repeated while moving the processing head 21 along the above. As a result, the work W1 and the work W2 are joined.
  • a portion where at least a part of the work W1 and / or at least a part of the work W2 melted in the molten pool MP is cooled and solidified may be referred to as a weld mark or a weld bead.
  • the weld marks or weld beads may be raised from the upper surfaces of the works W1 and W2, may be recessed with respect to the upper surfaces of the works W1 and W2, and may be flush with the upper surfaces of the works W1 and W2. .
  • the processing system SYSa (particularly, the processing apparatus 2) joins the plurality of works W while supplying the modeling material M, and joins the plurality of works W without supplying the first joining process and the modeling material M. It may be configured to perform at least one of the second joining processes.
  • the processing system SYSa joins the plurality of work Ws by performing a first operation including irradiation of at least one of the plurality of work Ws with the processing light EL and supply of the modeling material M to the molten pool MP.
  • a plurality of second operations including the first joining process and irradiation of at least one of the plurality of workpieces W with the processing light EL, but not including the supply of the modeling material M to the molten pool MP.
  • It may be configured to perform at least one of the second joining process for joining the work W. That is, the processing system SYSa may be configured to perform at least one of the first and second joining processes using the same processing apparatus 2 (particularly, the same processing head 21).
  • the control device 7 switches the operation mode of the processing device 2 between the first mode for performing the first joining process and the second mode for performing the second joining process according to a predetermined operating condition. You may. For example, the control device 7 may set the operation mode of the processing device 2 to the first mode for performing the first joining process when the first operating condition is satisfied. For example, the control device 7 may set the operation mode of the processing device 2 to the second mode in which the second joining process is performed when the second operating condition is satisfied.
  • the first operating condition may include a condition that the work W1 and the work W2 are not brought into contact with each other at least partially through the boundary.
  • the first operating condition may include a condition that a gap is formed between the end surface WS1 of the work W1 and the end surface WS2 of the work W2.
  • the first operating condition may include a condition that the shape of the end face WS1 and the shape of the end face WS2 are not at least partially complementary to each other.
  • the first operating condition may include the condition that the materials of the workpieces W1 and W2 and the material of the modeling material M are the same.
  • the first operating condition may include the condition that the type of the material constituting the works W1 and W2 and the type of the material constituting the modeling material M are the same.
  • the first operating condition may include a condition that the bonding force between the works W1 and W2 and the modeling material M is relatively strong. In this case, even if the modeling material M is supplied, the works W1 and W2 are appropriately joined via a member in which a mixture of the melt of the work W1 and the work W2 and the melt of the modeling material M is solidified.
  • the second operating condition may include a condition that no gap is formed between the end face WS1 and the end face WS2 or only a gap that is negligibly small is formed.
  • the second operating condition may include a condition that the shape of the end face WS1 and the shape of the end face WS2 are in a complementary relationship.
  • the second operating condition may include a condition that the materials of the workpieces W1 and W2 and the material of the modeling material M are different (particularly significantly different).
  • the second operating condition may include a condition that the types of materials constituting the works W1 and W2 and the types of materials constituting the modeling material M are different (particularly significantly different).
  • the second operating condition may include a condition that the bonding force between the works W1 and W2 and the modeling material M is relatively weak. In this case, when the modeling material M is supplied, the melts of the works W1 and W2 and the melt of the modeling material M are separated, so that the melts of the works W1 and W2 and the melt of the modeling material M are solidified. There is a possibility that the joint strength of the workpieces W1 and W2 via the formed member will decrease. Therefore, when such a condition is satisfied, the modeling material may not be supplied.
  • the second operating condition may include a condition that the remaining amount of the modeling material M in the material supply device 1 is less than a predetermined amount. In this case, since the modeling material M is not used for the joining process, the consumption of the modeling material M is reduced.
  • the processing system SYSa does not have to be provided with devices and members related to the supply of the modeling material M.
  • the processing system SYSa may not include the material nozzle 212 and the material supply device 1.
  • FIG. 7 is a flowchart showing the entire flow of the joining processing operation.
  • a plurality of workpieces W to be joined are placed on the mounting surface 311 of the stage 31 (step S11). For example, when the work W1 and the work W2 are joined, the works W1 and W2 are placed on the mounting surface 311.
  • the processing system SYSa sets (in other words, specifies) the bonding path PA corresponding to the moving path (that is, the moving trajectory) of the irradiation region EA during the bonding process (steps S211 to S215). Since the irradiation region EA is irradiated with the processing light EL, the bonding path PA indicates a position where the processing light EL should be irradiated during the bonding process (hereinafter, this position is appropriately referred to as a “target irradiation position”). It can be said that it is.
  • the bonding path PA indicates the position of the target irradiation region or the region itself (which is appropriately referred to as a “target irradiation region”) after the region to be irradiated with the processing light EL during the bonding processing. Further, since the molten pool MP is formed when the irradiation region EA is irradiated with the processing light EL, the junction path PA indicates the movement path of the molten pool MP (that is, the region where the molten pool MP is formed). It can be said that there is.
  • the joining path PA indicates the position of the joining region WA where the work W1 and the work W2 are joined. It can be said that. Therefore, the process of setting the junction path PA is equivalent to the process of setting at least one of the target irradiation region, the movement path of the molten pool MP (that is, the region where the molten pool MP is formed), and the position of the junction region WA. It may be considered to be.
  • the junction path PA is a route that passes through the junction point P specified by the user.
  • the junction path PA is a region that passes through the junction point P specified by the user. Therefore, the information about the designated junction P corresponds to the information about the junction path PA. More specifically, the information about the designated junction P is used as information for setting (that is, specifying) the junction path PA.
  • each of the plurality of guide light emitting devices 24 emits the guide light GL (step S211).
  • the stage 31 supports the work W (for example, the work W1 and W2)
  • each of the plurality of guide light emitting devices 24 emits the guide light GL toward the work W. That is, each of the plurality of guide light emitting devices 24 irradiates the work W with the guide light GL.
  • the head drive system 22 moves the processing head 21 based on the instruction of the user of the processing system SYS (step S212). ..
  • the processing head 21 moves, the irradiation positions of the plurality of guide lights GL also move (that is, change). Then, as a result of the movement of the processing head 21, at the timing when a plurality of guide light GLs are irradiated to the portion desired to be designated as the junction point P by the user, the user sets the portion irradiated with the plurality of guide lights GL as the junction point P.
  • the instruction for designating to is input to the machining system SYSA (step S213).
  • FIGS. 8 (a) and 8 (b) are cross-sectional views and plan views showing the positional relationship between the workpieces W1 and W2 supported by the stage 31 and the plurality of guide light GLs, a plurality of pieces.
  • the guide light GLs of the above intersect each other at a certain position below the processing head 21.
  • the plurality of guide light GLs intersect each other at a position where the relative position with the processing head 21 is fixed below the processing head 21. Therefore, the user inputs an instruction for designating the portion irradiated with the plurality of guide lights GL as the junction point P at the timing when the intersection of the plurality of guide light GLs is located at the portion desired to be designated as the junction point P. To do.
  • the plurality of works W are joined via the boundary of the upper surface of the plurality of works W.
  • the user typically designates a junction P at the boundary of the upper surfaces of the plurality of works W and in the vicinity of the boundary. That is, the user typically joins the portions irradiated with the plurality of guide light GLs at the timing when the intersections of the plurality of guide light GLs are located at the boundary of the upper surfaces of the plurality of work Ws and the vicinity of the boundary. Enter the instruction to specify at point P.
  • the position measuring device 23 measures the position of the machining head 21 at the time when the user inputs the instruction for designating the junction point P, triggered by the user inputting the instruction for designating the junction point P. ..
  • the position measuring device 23 measures the position of the processing head 21 when a plurality of guide light GLs are applied to the portion desired to be designated as the junction point P by the user.
  • the plurality of guide light GLs intersect at a position where the relative position with the processing head 21 is fixed. Therefore, the operation of measuring the position of the processing head 21 can be regarded as equivalent to the operation of indirectly measuring the irradiation positions of the plurality of guide light GLs whose relative positions with respect to the processing head 21 are fixed.
  • the operation of measuring the position of the processing head 21 can be regarded as equivalent to the operation of indirectly measuring the position of the junction point P specified by the user. Therefore, the measurement result of the position measuring device 23 includes information regarding the position of the junction point P designated by the user. Therefore, the measurement result of the position measuring device 23 (that is, the information regarding the position of the joining point P measured based on the user's instruction) is output to the control device 7 as information for setting the joining path PA. As a result, the control device 7 can calculate the position of the junction point P based on the measurement result of the position measurement apparatus 23, and set the junction path PA based on the calculated position of the junction point P.
  • the position of the machining head 21 by the position measuring device 23 does not have to be triggered by the user inputting an instruction for designating the joint point P.
  • the machining head 21 by the position measuring device 23 does not have to be triggered.
  • the position may be measured at all times.
  • the processing light EL is irradiated to at least one or a part of the plurality of work Ws. Therefore, the user may specify the joint point P at a position on the work W. However, the user may specify the joint point P at a position corresponding to the gap between the plurality of work Ws.
  • the user may use the input device 92 to input an instruction for designating the joint point P into the processing system SYS.
  • the instruction for designating the junction point P may include, for example, at least one of an instruction for moving the processing head 21 and an instruction for designating a portion irradiated with a plurality of guide lights GL as the junction point P. Good.
  • the user may input an instruction for designating the junction point P into the processing system SYSa by using the GUI (graphical user interface) displayed on the display 91.
  • GUI 920 which is an example of GUI used for designating the junction point P, will be described with reference to FIG.
  • the GUI 920 may include a GUI 921 for displaying the imaging result of the imaging device 25. That is, the GUI 920 may include the GUI 921 for displaying the image captured by the image pickup device 25.
  • the GUI 920 may include the GUI 921 for displaying the image captured by the image pickup device 25.
  • the user when the user specifies the junction point P, the image pickup apparatus 25 and the plurality of workpieces W supported by the stage 31 (particularly, the boundary of their upper surfaces) under the control of the control apparatus 7. , The state of a plurality of guide lights GL is imaged.
  • the user inputs an instruction for designating the junction point P while visually recognizing the image displayed on the GUI 921 (that is, the image showing the positional relationship between the plurality of work Ws and the plurality of guide light GLs). You may.
  • the user can appropriately specify the junction point P.
  • the user may visually recognize the states of the plurality of work Ws and the plurality of guide light GLs without going through the GUI 921.
  • the observation window is formed in the housing 6, the user may visually recognize the state of the plurality of work Ws and the plurality of guide light GLs through the observation window.
  • the wavelength of the guide light GL may be different from the wavelength of the processed light EL.
  • a filter that reflects the processing light EL and transmits the guide light GL may be arranged on the most work W side of the optical system of the image pickup apparatus 25.
  • the processed light EL is light having a wavelength included in the wavelength band of infrared light
  • an infrared reflection filter may be used as the filter.
  • the observation window may be one that reflects the light of the wavelength of the processing light EL and transmits the light of the wavelength of the guide light GL. ..
  • the GUI 920 may include, in addition to or in place of the GUI 921, a GUI 922 operated by the user to move the machining head 21.
  • the GUI 922 includes six move buttons selected by the user to move the machining head 21 to the + X side, the ⁇ X side, the + Y side, the ⁇ Y side, the + Z side, and the ⁇ Z side, respectively. You may be.
  • the GUI 922 may include a radio button selected by the user to specify the amount of movement that the machining head 21 moves with a single selection of the move button. In FIG.
  • FIG. 9 shows an example in which a radio button labeled “Speed” is displayed, which allows the user to select one movement speed from two types of movement speeds “10 mm / s” and “50 mm / s”. ing.
  • the GUI 920 may include, in addition to or in place of at least one of the GUI 921 to 922, a GUI 923 operated by the user to designate a portion irradiated with a plurality of guide lights GL as a junction point P.
  • FIG. 9 shows an example in which the GUI 923 includes an operation button labeled “add” that the user presses when inputting an instruction for designating the junction point P. Therefore, the position measuring device 23 measures the position of the machining head 21 (that is, indirectly measures the position of the joint point P) triggered by the user operating the GUI 923.
  • the GUI 920 may include, in addition to or in place of at least one of the GUIs 921 to 923, a GUI 924 indicating a list of junction points P specified by the user.
  • the list may include, for example, the position (that is, the position coordinates) of the junction point P calculated by the control device 7 based on the measurement result of the position measuring device 23.
  • the GUI 920 may include, in addition to or in place of at least one of the GUIs 921 to 924, a GUI 925 operated by the user to remove at least one user-specified junction P from the list.
  • FIG. 9 shows an example in which the GUI 925 includes an operation button labeled "Delete" that the user presses when deleting at least one junction P from the list.
  • the deleted junction P may not be referenced when setting the junction path PA.
  • the GUI 920 may include, in addition to or in place of at least one of the GUI 921 to 925, a GUI 926 operated by the user to set parameters that define the mode of joining.
  • the GUI 926 may include a GUI (for example, a text box labeled “Speed”) for designating the moving speed of the machining head 21 during the joining process.
  • the GUI 926 may include a GUI (for example, a text box labeled "Power”) for designating the intensity of the processing light EL during the joining process.
  • the GUI 926 may include a GUI (eg, a drop-down list labeled "Type”) for specifying the type of junction path PA.
  • the types of junction path PA will be described in detail later with reference to FIGS. 10 to 15.
  • the GUI 926 may include a GUI (for example, a radio button labeled "Power") for designating whether or not to supply the modeling material M from the material nozzle 212 during the joining process.
  • the GUI for designating whether or not to supply the modeling material M substantially switches the operation mode of the processing device 2 between the first mode and the second mode (operation of the processing device 2). Corresponds to the GUI (to switch between the first operation and the second operation).
  • the GUI 920 may include, in addition to or in place of at least one of the GUI 921 to 926, a GUI 927 operated by the user to initiate the joining process.
  • FIG. 9 shows an example in which the GUI 927 includes an operation button labeled “execute” that the user presses when starting the joining process.
  • the processing apparatus 2 irradiates the set bonding path PA with the processing light EL to start the bonding process for joining the plurality of workpieces W.
  • the GUI 920 in addition to or in place of at least one of the GUI 921 to 927, comprises a GUI 928 operated by the user to initiate a confirmation process of moving the machining head 21 based on the junction path PA without irradiating the machining light EL. It may be included.
  • the confirmation process mainly causes the user to confirm how the irradiation position (that is, the irradiation region EA) of the processing light EL moves when the bonding process is performed based on the set bonding path PA (specifically). Is a process performed for the purpose of making it visible.
  • the confirmation process mainly causes the user to confirm the change in the relative position between the irradiation region EA and the work W when the joining process is performed based on the set joining path PA (specifically, visually). This is a process performed for the purpose of doing so.
  • FIG. 9 shows an example in which the GUI 928 includes an operation button labeled “confirmation” that the user presses when starting the confirmation process.
  • the processing apparatus 2 moves according to the set joining path PA without irradiating the processing light EL.
  • the confirmation process will be described in detail later.
  • the user may specify the junction point P by a method different from the method described above.
  • the user may specify the junction P using a contact probe.
  • the contact type probe is arranged on the processing head 21
  • the user may specify the junction point P by bringing the probe into contact with the portion desired to be designated as the junction point P.
  • the processing light EL is in the visible wavelength band
  • the processing light EL set to an intensity that does not affect the work W is used instead of the guide light GL to specify the junction point P. You may.
  • the process for designating the joint points P described above is repeated until a desired number of joint points P required for setting the joint path PA are specified (step S214).
  • the desired number is typically 2 or more. However, the desired number may be 1.
  • the junction path PA may be preset. The desired number may be set by the user. The desired number may be set automatically by the control device 7. The default fixed value may be used as the desired number. Whether or not a desired number of junction points P have been designated may be determined by the user. Whether or not a desired number of junction points P have been designated may be determined by the control device 7.
  • step S214: No If a desired number of junction points P have not yet been specified (step S214: No), the processing of steps S212 to S213 described above is performed to create a new junction point P (that is, another junction point P). ) Is specified.
  • step S214: Yes when a desired number of junction points P are specified (step S214: Yes), the control device 7 sets the junction path PA based on the specified desired number of junction points P (step S215). ). Specifically, the control device 7 sets the joint path PA based on the positions of the designated desired number of joint points P (step S215). At this time, the control device 7 may set, for example, the joining path PA of the type set via the GUI 920 described above.
  • the control device 7 sets the junction path PA based on one or more junction points P specified by the user.
  • FIG. 10A is a plan view showing two workpieces W101 and W102. As shown in FIG. 10 (a), the two workpieces W101 and W102 face each other (sandwiched) via a linear boundary B10 extending along the X-axis direction.
  • the boundary B10 is a boundary between the upper surface of the work W101 and the upper surface of the work W102. It is assumed that these two workpieces W101 and W102 are joined by, for example, irradiating the long-shaped joining region WA extending along the X-axis direction so as to include the boundary B10 with the processing light EL.
  • these two works W101 and W102 are joined by being irradiated with the processing light EL so that the irradiation region EA moves from one end of the boundary B10 toward the other end of the boundary B10, for example.
  • the user may specify, for example, a junction P on and / or in the vicinity of the boundary B10.
  • the user may specify the junction point P as the feature point of the boundary B10.
  • the user may specify the junction P at at least two feature points of the boundary B10, for example.
  • the feature point of the boundary B10 may include the end of the boundary B10 in the extending direction of the boundary B10. In the example shown in FIG.
  • the user specifies a junction P101 at or near one end of the boundary B10 (eg, the end on the ⁇ X side) and the other end of the boundary B10 (eg,). , + X side end) or near it, the junction point P102 is specified.
  • the control device 7 has the two junction points P.
  • the line segment connecting the two may be specified in the joining path PA.
  • the control device 7 designates a line segment extending along the X axis so as to connect the junction point P101 and the junction point P102 as the junction path PA.
  • the processing head 21 moves so that the irradiation region EA moves along such a linear junction path PA, so that the junction region WA shown in FIG. 10A is irradiated with the processing light EL. .. That is, the processing light EL is irradiated so that the irradiation region EA moves from the junction point P101 toward the junction point P102.
  • the two workpieces W101 and W102 are joined via the boundary B10.
  • the joining path PA shown in FIG. 10C is referred to as a joining path PA for linear joining because the joining region WA corresponding to the joining path PA has a shape extending substantially linearly. You may.
  • the user may specify the joining path PA for linear joining as the type of joining path PA to be set by using the GUI 926 of FIG. 9 described above.
  • the operation of specifying the type of the joining path PA may be an operation of specifying the type of the locus of the joining path PA.
  • FIG. 11A is a plan view showing the three workpieces W111, W112 and W113.
  • the two workpieces W111 and W112 face each other via a linear boundary B111 extending along the X-axis direction.
  • the boundary B111 is a boundary between the upper surface of the work W111 and the upper surface of the work W112.
  • the two workpieces W112 and W113 face each other via a linear boundary B112 extending along the Y-axis direction.
  • the boundary B112 is a boundary between the upper surface of the work W112 and the upper surface of the work W113.
  • These three workpieces W111 to W113 are, for example, a long-shaped joining region WA # 1 extending along the X-axis direction so as to include the boundary B111 and a long-shaped joining extending along the Y-axis direction so as to include the boundary B112. It is assumed that the joining region WA including the region WA # 2 is joined by irradiating the processing light EL. That is, these three works W111 to W113 irradiate, for example, from one end of the boundary B111 toward the other end of the boundary B112 through the other end of the boundary B111 and one end of the boundary B112. It is assumed that they are joined by irradiating the processing light EL so that the region EA moves. Also in this case, as shown in FIG.
  • the user may specify the junction P in the vicinity of at least one of the boundaries B111 and B112 and / or at least one of the boundaries B111 and B112.
  • the user specifies a junction P111 at or near one end of boundary B111 (eg, the end on the ⁇ X side) and the other end of boundary B111 (eg, end). , + X side end) or near the junction point P112, and the other end of the boundary B112 (for example, the ⁇ Y side end) or near the junction point P113.
  • junction point P112 Since one end of the boundary B112 (for example, the end on the + Y side) is substantially the same as the other end of the boundary B111, the junction point P112 is the one end of the boundary B112 or its own. It may also be regarded as a junction point P designated in the vicinity.
  • the control device 7 When at least three or more junction points P (in FIG. 11B, junction points P111 to P113) are set, the control device 7 has three junction points P as shown in FIG. 11C. A line segment connecting the above joint points P in order may be specified in the joint path PA. In the example shown in FIG.
  • the control device 7 has a line segment extending along the X axis so as to connect the junction point P111 and the junction point P112, and a Y axis so as to connect the junction point P112 and the junction point P113.
  • a line segment including a line segment extending along the line segment is specified in the joint path PA.
  • the processing head 21 moves so that the irradiation region EA moves along the joint path PA having such a bent shape, so that the joint region WA shown in FIG. 11A is irradiated with the processing light EL.
  • the processing light EL is irradiated so that the irradiation region EA moves from the junction point P111 to the junction point P113 via the junction point P112.
  • the three workpieces W111 to W113 are joined via the boundaries B111 and B112.
  • the joint path PA shown in FIG. 11 (c) has a shape in which the joint region WA corresponding to the joint path PA is substantially bent (that is, a shape including at least a part of the outer shape of the polygon). Therefore, it may be referred to as a joining path PA for polygonal joining.
  • the user may specify the joining path PA for polygonal joining as the type of joining path PA to be set by using the GUI 926 of FIG. 9 described above.
  • FIG. 12A is a plan view showing two workpieces W121 and W122. As shown in FIG. 12A, the two workpieces W121 and W122 face each other via a curved boundary B12 in the XY plane. In the example shown in FIG. 12A, the two workpieces W121 and W122 face each other via a boundary B12 having an arc shape in the XY plane.
  • the boundary B12 is a boundary between the upper surface of the work W121 and the upper surface of the work W122. It is assumed that these two workpieces W121 and W122 are joined by irradiating the joining region WA extending in a curved line in the XY plane so as to include the boundary B12 with the processing light EL.
  • these two workpieces W121 and W122 are joined by being irradiated with the processing light EL so that the irradiation region EA moves from one end of the boundary B12 to the other end of the boundary B12, for example. Shall be.
  • the user may specify the junction point P on or near the boundary B12, for example.
  • the user specifies a junction P121 at or near one end of the boundary B12 (eg, the end on the ⁇ X side) and the other end of the boundary B12 (eg,). , + X side end) or near it, the junction point P122 is specified.
  • junction points P121 and P122 are set, as shown in FIG. 12C, the control device 7 controls the two junction points P.
  • the curve connecting the two may be specified as the joining path PA.
  • the control device 7 designates a curve (that is, an arc) extending in an arc shape in the XY plane so as to connect the junction point P121 and the junction point P122 as the junction path PA.
  • the processing head 21 moves so that the irradiation region EA moves along the joint path PA having such a curved shape (specifically, an arc shape), so that the joint shown in FIG. 12 (a) is joined.
  • the region WA is irradiated with the processing light EL. That is, the processing light EL is irradiated so that the irradiation region EA moves from the junction point P121 toward the junction point P122.
  • the two workpieces W121 and W122 are joined via the boundary B12.
  • the joining path PA shown in FIG. 12C has a shape (partial circular shape) in which the joining region WA corresponding to the joining path PA extends substantially in an arc shape, the joining for arc joining is performed. It may be called a pass PA.
  • the user may specify the joining path PA for arc joining as the type of joining path PA to be set by using the GUI 926 of FIG. 9 described above.
  • the user may specify arc parameters (for example, radius).
  • the user may also specify the arc parameter when designating the joint point P.
  • the control device 7 may set a curve other than the arc connecting the two joint points P in the joint path PA. In this case, the user may specify the type of curve. Alternatively, the control device 7 may automatically set the type of the curve.
  • the joining path PA for arc joining may be used to set the joining path PA for the entire circle.
  • FIG. 13A is a plan view showing two workpieces W131 and W132, each of which has a cylindrical shape.
  • the two workpieces W131 and W132 face each other via a circular boundary B13 in the XZ plane.
  • the boundary B13 is a boundary between the surface of the work W131 and the surface of the work W132. It is assumed that these two workpieces W131 and W132 are joined by, for example, irradiating the joining region WA extending in an annular shape so as to include the boundary B13 with the processing light EL.
  • the user may specify the junction point P on the boundary B13 or in the vicinity of the boundary B13, for example. In the example shown in FIG.
  • the user designates a junction P131 at the first portion on the boundary B13 (for example, the + X side end of the boundary B13) and the second portion on the boundary B13 (for example, the end).
  • the junction point P132 is designated at the end of the boundary B13 on the ⁇ X side).
  • the control device 7 has the two junction points P.
  • the curve connecting the two may be specified as the joining path PA. In the example shown in FIG.
  • the control device 7 extends in an arc shape in the XZ plane so as to connect the joint point P131 and the joint point P132, and has a curve (typically, an arc) having a convex shape on the + Z side. ) Is specified in the junction path PA.
  • the processing head 21 moves so that the irradiation region EA moves along the arc-shaped junction path PA, so that the region portion on the + Z side of the junction region WA shown in FIG. 12A is formed. (That is, the region portion facing the processing head 21 side) is irradiated with the processing light EL.
  • the processing light EL is irradiated so that the irradiation region EA moves from the junction point P131 toward the junction point P132.
  • the joint path PA is set again after the postures of the workpieces W131 and W132 are changed so that the region portion on the ⁇ Z side of the joint region WA, which has not been irradiated with the machining light EL, faces the machining head 21 side.
  • the processing light EL may be irradiated to the region portion of the bonding region WA that has not yet been irradiated with the processing light EL.
  • the joining path PA shown in FIG. 13C is also referred to as a joining path PA for arc joining because the joining region WA corresponding to the joining path PA has a shape extending substantially in an arc shape. May be done.
  • the joint path PA shown in FIG. 13 (c) and the joint path PA shown in FIG. 12 (c) are different in that the plane in which the joint path PA draws an arc is different. Specifically, the junction path PA shown in FIG. 13 (c) draws an arc in the XZ plane, while the junction path PA shown in FIG. 12 (c) draws an arc in the XY plane. Furthermore, the joint path PA shown in FIG. 13 (c) and the joint path PA shown in FIG. 12 (c) are different in that the convex direction of the arc is different. Specifically, the junction path PA shown in FIG. 13 (c) draws an arc that is convex toward the + Z side, while the junction path PA shown in FIG.
  • the user may use the input device 92 to specify the direction of the plane drawing the arc and the convex direction of the arc (or the direction of the plane drawing the curve and the convex direction of the curve, not limited to the arc).
  • specifying the plane on which the arc is drawn and the convex direction of the arc is substantially the rotation direction of the plane on which the arc is drawn and the arc in the plane (that is, the rotation direction is clockwise or counterclockwise. It may be regarded as substantially equivalent to specifying (?). Therefore, the user may specify the plane on which the arc is drawn and the rotation direction of the arc in the plane by using the input device 92.
  • FIG. 14A is a plan view showing two workpieces W141 and W142.
  • the two workpieces W141 and W142 face each other in the XY plane via a boundary B14 having an arbitrary curved shape.
  • the boundary B14 is a boundary between the upper surface of the work W141 and the upper surface of the work W142. It is assumed that these two workpieces W141 and W142 are joined by irradiating the joining region WA extending in an arbitrary curved shape in the XY plane so as to include the boundary B14 with the processing light EL.
  • the user may specify the junction point P on or near the boundary B14, for example.
  • the feature point of the boundary B14 may include, for example, an inflection point of the boundary B14.
  • the user specifies six junction points P141 to P146 at both ends and the inflection point of the boundary B14.
  • the control device 7 has three or more junction points P.
  • a curve connecting the junction points P in order may be designated as the junction path PA. At this time, the curve may be an approximate curve obtained by using three or more junction points P.
  • the control device 7 designates a curve extending in the XY plane from the junction point P141 to the junction point P146 as the junction path PA.
  • the processing head 21 moves so that the irradiation region EA moves along such a curved junction path PA, so that the junction region WA shown in FIG. 14A is irradiated with the processing light EL. ..
  • the processing light EL is irradiated so that the irradiation region EA moves from the junction point P142 to the junction point P146 via the junction point P145 starting from the junction point P141.
  • the two workpieces W141 and W142 are joined via the boundary B12.
  • the joint path PA shown in FIG. 14C is referred to as a joint path PA for curved joint because the joint region WA corresponding to the joint path PA has a shape extending in an arbitrary curved shape. May be good.
  • the user may specify the joining path PA for curved joining as the type of joining path PA to be set by using the GUI 926 of FIG. 9 described above.
  • the type of curve interpolation method at the time of curve fitting
  • the junction path PA is typically set.
  • FIG. 10 (c) shows an example of a junction path PA having the same shape as the shape of the boundary B10 extending along the X-axis direction (that is, extending linearly along the boundary B10).
  • FIG. 12 (c) shows an example of a junction path PA having the same shape as the shape of the boundary B12 extending in an arc shape in the XY plane (that is, extending in an arc shape along the boundary B12). Therefore, considering that the joint path PA is set from the joint point P specified by the user, the user can specify the joint point P that can specify the shape of the boundary of the upper surface of the plurality of works W. Good.
  • the control device 7 may set a joining path PA having a shape different from the shape of the boundary of the upper surfaces of the plurality of workpieces W to be joined.
  • the control device 7 may set a joining path PA including a line segment and / or a curve extending along a direction intersecting the boundary of the upper surfaces of a plurality of works W to be joined. That is, the control device 7 sets the irradiation region EA along each of the first direction along the boundary of the upper surfaces of the plurality of workpieces W to be joined and the second direction intersecting the first direction. It may be set to a joint path PA that can be moved.
  • FIGS. 15 (a) to 15 (b) An example of the joint path PA having a shape different from the shape of the boundary of the upper surface of the plurality of workpieces W is shown in FIGS. 15 (a) to 15 (b).
  • Each of FIGS. 15 (a) and 15 (b) shows a boundary B10 (see FIG. 10 (a)) extending along the X-axis direction.
  • FIG. 15A even if the control device 7 sets a junction path PA including a curve extending along the direction intersecting the boundary B10 (that is, the direction intersecting the X-axis direction). Good.
  • FIG. 15A even if the control device 7 sets a junction path PA including a curve extending along the direction intersecting the boundary B10 (that is, the direction intersecting the X-axis direction). Good.
  • FIG. 15A even if the control device 7 sets a junction path PA including a curve extending along the direction intersecting the boundary B10 (that is, the direction intersecting the X-axis direction).
  • the control device 7 may set a junction path PA including a line segment extending along a direction intersecting the boundary B10 (that is, a direction intersecting the X-axis direction). Although not shown for the sake of brevity, even when the boundary is a curved line, the control device 7 is along a direction intersecting the curved boundary (for example, the boundary B12 shown in FIG. 12A).
  • a junction path PA may be set that includes extending lines and / or curves. In this case, the user may use the input device 92 to specify the relationship between the shape of the boundary of the upper surfaces of the plurality of works W and the joining path PA.
  • the user may specify whether or not to use the input device 92 to set a joint path PA including line segments and / or curves that intersect the boundaries of the upper surfaces of the plurality of work Ws.
  • a joint path PA including a line segment and / or a curve extending along the direction intersecting the boundary is set in this way, a joint not including the line segment and / or the curve extending along the direction intersecting the boundary is set.
  • the processing light EL is applied to both of the two workpieces W that sandwich the boundary.
  • FIGS. 15 (a) and 15 (b) there was only one junction path PA, but the junction paths PA in FIGS. 15 (a) and 15 (b) are used as a plurality of junction paths. It may be divided into PAs. For example, a plurality of line segments taking along the direction intersecting the boundary B10 may be set as the joining path PA.
  • the control device 7 may set each junction P itself as the junction path PA instead of the line segment and / curve connecting the junction P. That is, the control device 7 may set each junction point P itself as the target irradiation region.
  • FIG. 16A is a plan view showing two workpieces W101 and W102, as in FIG. 10A.
  • FIG. 16B is a plan view showing a joint point P designated on the boundary B10 and / or in the vicinity of the boundary B10, similarly to FIG. 10B.
  • the control device 7 sets the junction points P101 and P102.
  • junction path PA that is, the target irradiation region
  • control device 7 may set the same number of junction path PAs (that is, the target irradiation region) as the number of junction points P.
  • junction path PA shown in FIG. 16C may be referred to as a junction path PA for point junction because it is substantially distributed in a dot pattern.
  • the user may specify the joining path PA for point joining as the type of joining path PA to be set by using the GUI 926 of FIG. 9 described above.
  • the control device 7 may set a junction path PA associated with the emission mode of the processed light EL by the irradiation optical system 211.
  • the control device 7 may set a junction path PA associated with the injection timing of the processed light EL by the irradiation optical system 211. That is, the control device 7 may set the joining path PA associated with the period during which the processing light EL is emitted and / or the period during which the processing light EL is not emitted.
  • the joining path PA associated with the period in which the processing light EL is emitted and / or the period in which the processing light EL is not emitted will be described with reference to FIGS. 17 (a) to 17 (c).
  • FIG. 17A is a plan view showing three workpieces W171, W172 and W173.
  • the two workpieces W171 and W172 face each other via a linear boundary B171 extending along the X-axis direction.
  • the boundary B171 is a boundary between the upper surface of the work W171 and the upper surface of the work W172.
  • the two workpieces W171 and W173 face each other via a linear boundary B172 extending along the X-axis direction.
  • the boundary B172 is a boundary between the upper surface of the work W171 and the upper surface of the work W173.
  • the two workpieces W172 and W173 face each other via a linear boundary B173 extending along the Y-axis direction.
  • the boundary B173 is a boundary between the upper surface of the work W172 and the upper surface of the work W173.
  • the three workpieces W171 to W173 are arranged so that the + X side end of the boundary B171, the ⁇ X side end of the boundary B172, and the ⁇ Y side end of the boundary B173 are located at the same position.
  • These three workpieces W171 to W173 are, for example, a longitudinal joint region WA # 1 extending along the X-axis direction so as to include the boundary B171, and a longitudinal joint extending along the X-axis direction so as to include the boundary B172.
  • the joining region WA including the longitudinal joining region WA # 3 extending along the Y-axis direction so as to include the region WA # 2 and the boundary B173 is joined by irradiating the joining region WA with the processing light EL.
  • the user specifies a junction P171 at or near one end of the boundary B171 (for example, the end on the ⁇ X side), and the other end of the boundary B171.
  • a junction P172 is specified at or near the portion (for example, the end on the + X side), and a junction P173 is specified at or near the other end of the boundary B172 (for example, the end on the + X side), and the boundary B173 is specified.
  • the control device 7 sets a line segment connecting the junction points P171 to P174 in order in the junction path PA. That is, the control device 7 connects the joining path PA # 1 connecting the joining point P171 and the joining point P172, the joining path PA # 2 connecting the joining point P172 and the joining point P173, and the joining point P173 and the joining point P174.
  • a joining path PA including the joining path PA # 3 to be connected is set. However, as can be seen from FIG. 17 (c), a part of the junction path PA # 3 overlaps with the junction path PA # 2.
  • the junction path PA # 3 includes a junction path PA # 31 that overlaps with the junction path PA # 2 and a junction path PA # 32 that does not overlap with other junction paths PA.
  • the bonding light EL is irradiated to the bonding path PA # 2 and then the processing light EL is further irradiated to the bonding path PA # 31, the boundary B172 is irradiated with the processing light EL in an overlapping manner. Will be done. Therefore, when the control device 7 sets the junction path PA, the control device 7 may associate the information that the processing light EL is not applied to the junction path PA # 31 with the junction path PA.
  • the control device 7 when the control device 7 sets the bonding path PA, the control device 7 transmits information that the processing light EL is not emitted from the irradiation optical system 211 located at a position where the processing light EL can be irradiated to the bonding path PA # 31. It may be associated with PA.
  • the control device 7 When setting the junction path PA, the control device 7 irradiates the junction path PA # 1, the junction path PA # 2, and the junction path PA # 32 with the processing light EL (that is, the irradiation optical system 211 processes the junction path PA # 32).
  • the information injecting optical EL
  • control device 7 is an irradiation optical system located at a position where the processing light EL can be applied to each of the junction path PA # 1, the junction path PA # 2, and the junction path PA # 32 when the junction path PA is set.
  • Information that the processing light EL is emitted from 211 may be associated with the junction path PA. As a result, even when a joining path PA including partially overlapping paths is set, appropriate joining processing is performed.
  • the control device 7 performs a confirmation process before the processing device 2 actually starts the joining process (step S31). That is, the control device 7 performs a confirmation process before being irradiated with the processing light EL for actually joining the plurality of work Ws (step S31).
  • the confirmation process informs the user of the change in the relative position between the irradiation position (that is, the irradiation region EA) of the processing light EL and the work W when the bonding process is performed based on the set bonding path PA. This is a process performed for the purpose of confirming (specifically, visualizing).
  • the control device 7 sets the state of the processing light EL to a non-processing state in which at least a part of the plurality of works W is not processed by the processing light EL.
  • the non-processed state may be referred to as a non-irradiated state.
  • control device 7 may set the state of the processing light EL to the non-processing state by controlling the irradiation optical system 211 so that the processing light EL is not emitted from the irradiation optical system 211.
  • control device 7 may set the state of the processing light EL to the non-processing state by controlling the light source 4 so that the processing light EL is not emitted from the light source 4.
  • control device 7 may set the state of the processed light EL to the non-processed state by light-shielding the processed light EL emitted from the irradiation optical system 211 at least partially by using a light-shielding member or the like.
  • control device 7 may set the state of the processed light EL to the non-processed state by attenuating the processed light EL emitted from the irradiation optical system 211 using an attenuation member or the like.
  • control device 7 may set the state of the processing light EL to the non-processing state by controlling the intensity of the processing light EL emitted by the light source 4.
  • the processing system SYSa indirectly makes the user visually recognize the irradiation position of the processing light EL by using the irradiation positions of the plurality of guide lights GL.
  • FIG. 18 which is a perspective view showing the processing head 21 and the plurality of workpieces W during the confirmation process
  • the control device 7 emits a plurality of guide light GLs during the confirmation process.
  • a plurality of guide light emitting devices 24 may be controlled.
  • control device 7 may control the plurality of guide light emitting devices 24 so that the irradiation optical system 211 emits a plurality of guide light GLs at the timing when the processing light EL is emitted during the joining process.
  • the control device 7 may control the plurality of guide light emitting devices 24 so that the irradiation optical system 211 does not emit the plurality of guide light GLs at the timing when the processing light EL is not emitted during the joining process.
  • the control device 7 may control the plurality of guide light emitting devices 24 so as to emit the plurality of guide light GLs at the timing when the processing light EL is irradiated on the junction path PA.
  • the control device 7 may control the plurality of guide light emitting devices 24 so that the plurality of guide light GLs are not emitted at the timing when the processing light EL is not irradiated on the junction path PA.
  • the control device 7 moves the processing head 21 so as to irradiate the processing light EL based on the junction path PA in the same movement mode as the processing head 21. To move. That is, the control device 7 moves the processing head 21 in the same movement mode as when the processing head 21 is moved so as to irradiate the bonding region WA with the processing light EL based on the bonding path PA.
  • the user can estimate the state of irradiation of the processing light EL during the joining process from the state of irradiation of the plurality of guide lights GL during the confirmation process.
  • the user can check the change in the relative position between the work W and the irradiation position of the processing light EL during the joining process, and the relative position of the work W and the irradiation positions of the plurality of guide lights GL during the confirmation process. It can be estimated from the change.
  • the guide light emitting device 24 can function as an irradiation position visual recognition device that allows the user to visually recognize the positional relationship between the irradiation position of the processed light EL and the work W.
  • a plurality of guide light GLs may intersect each other at the focus position of the processing light EL.
  • the irradiation positions of the plurality of guide lights GL during the confirmation process coincide with the irradiation positions (specifically, the focus positions) of the processing light EL during the joining process. Therefore, controlling the guide light emitting device 24 so as to emit a plurality of guide light GLs substantially means that a plurality of guide light emitting devices are emitted so as to irradiate the positions of the junction path PA with the plurality of guide light GLs. It can be regarded as equivalent to controlling the device 24.
  • the user can confirm whether or not the processing light EL is appropriately irradiated to the boundary of the plurality of work Ws during the joining process based on the irradiation positions of the plurality of guide light GLs during the confirmation process. it can. If it is confirmed by the confirmation process that the processing light EL is not properly irradiated to the boundaries of the plurality of workpieces W during the bonding process, the set bonding path PA is not appropriate as the target irradiation area of the processing light EL. there is a possibility. Therefore, in this case, the process for setting the joining path PA described above may be performed again.
  • the processing system SYSa is a relative position between the work W and the irradiation position of the processing light EL (that is, the irradiation area EA) by another method. Can be changed as described above. In this case, simply moving the processing head 21 during the confirmation process does not make the irradiation positions of the plurality of guide lights GL correspond to the irradiation positions of the processing light EL (for example, a plurality of guides at the focus positions of the processing light EL). There is a possibility that the optical GLs will not intersect).
  • the plurality of guide light emitting devices 24 may change the irradiation positions of the plurality of guide lights GL in accordance with the change of the relative positions of the work W and the irradiation region EA. That is, in the confirmation process, in the processing system SYSa, as long as the irradiation positions of the plurality of guide lights GL follow the irradiation positions of the processing light EL, the irradiation positions of the plurality of guide lights GL and the work W are combined by any method. The relative position may be changed.
  • the moving speed of the guide light GL in the confirmation process may be slower than the relative moving speed between the irradiation position (irradiation area EA) of the processing light EL and the work W during processing.
  • the confirmation process by the user is easy.
  • the moving speed of the guide light GL in the confirmation process may be faster than the relative moving speed between the irradiation position (irradiation region EA) of the processing light EL and the work W during processing.
  • the confirmation processing time by the user can be shortened.
  • the moving speed of the guide light GL in the confirmation process may be the same as the relative moving speed of the processing light EL irradiation position (irradiation area EA) and the work W during processing.
  • the processing light EL is actually irradiated to the work W before the additional processing is actually performed on the work W.
  • a confirmation process may be performed so that the user can visually recognize the change in the relative position between the work W and the irradiation position of the processing light EL without irradiating the processing light EL.
  • the control device 7 controls the processing device 2 so as to start the joining process (step S41).
  • the processing apparatus 2 performs a joining process to join the plurality of workpieces W (step S41). That is, under the control of the control device 7, the processing device 2 emits the processing light EL while moving the processing head 21 so that the processing light EL is irradiated to the position of the joining path PA.
  • the processing system SYSa adjusts the supply amount of purge gas supplied to the chamber space 63IN of the housing 6.
  • the gas supply amount adjusting operation for the purpose may be performed.
  • the supply amount means the supply amount per unit time unless otherwise specified.
  • the purge gas is supplied from the gas supply device 5 to the chamber space 63IN. Further, the purge gas is supplied from the processing device 2 (particularly, the material nozzle 212) to the chamber space 63IN in addition to or in place of the gas supply device 5. Therefore, the control device 7 may adjust the supply amount of the purge gas supplied to the chamber space 63IN by controlling the gas supply device 5 and / or the processing device 2 (particularly, the material nozzle 212).
  • the control device 7 may adjust the supply amount of the purge gas supplied to the chamber space 63IN so that the supply amount of the purge gas during the addition processing and the supply amount of the purge gas during the joining processing are different.
  • FIG. 19 is a graph showing an example of the relationship between the supply amount of purge gas during the addition processing and the supply amount of the purge gas during the joining process.
  • the control device 7 adjusts the supply amount of the purge gas supplied to the chamber space 63IN so that the supply amount of the purge gas during the addition processing is larger than the supply amount of the purge gas during the joining processing.
  • the supply amount of the purge gas supplied to the chamber space 63IN may be adjusted. The larger the supply amount of the purge gas, the smaller the amount of oxygen gas in the chamber space 63IN. The smaller the amount of oxygen gas in the chamber space 63IN, the higher the accuracy of the three-dimensional structure ST formed by the additional processing.
  • the processing system SYSa can form a more suitable three-dimensional structure ST.
  • the processing system SYSa may adjust the supply amount of the purge gas supplied to the chamber space 63IN so that the supply amount of the purge gas during the additional processing is smaller than the first predetermined amount.
  • the first predetermined amount deteriorates the supply amount of purge gas that can improve the accuracy and / or aesthetics of the three-dimensional structure ST and the accuracy and / or aesthetics of the three-dimensional structure ST. It may be set as the supply amount of purge gas that can be distinguished from the supply amount of purge gas that may be possible. It can be said that the supply amount of purge gas during the joining process is an example of the first predetermined amount.
  • the control device 7 adjusts the supply amount of the purge gas supplied to the chamber space 63IN so that the supply amount of the purge gas during the joining process is smaller than the supply amount of the purge gas during the additional process.
  • the control device 7 is supplied with the purge gas at a third supply amount during the addition processing, and is supplied with the purge gas at a fourth supply amount smaller than the third supply amount during the joining processing.
  • the supply amount of the purge gas supplied to the chamber space 63IN may be adjusted. The smaller the supply amount of purge gas, the larger the amount of oxygen gas in the chamber space 63IN.
  • the processing system SYSA may adjust the supply amount of the purge gas supplied to the chamber space 63IN so that the supply amount of the purge gas during the joining process is smaller than the second predetermined amount.
  • the second predetermined amount is a supply amount of purge gas that can distinguish between the supply amount of purge gas that can improve the efficiency of joining processing and the supply amount of purge gas that may deteriorate the efficiency of joining processing. It may be set. It can be said that the supply amount of purge gas during the additional processing is an example of the second predetermined amount.
  • the control device 7 is an oxygen concentration meter (not shown) arranged in the chamber space 63IN when controlling the supply amount of purge gas during additional processing and / or controlling the supply amount of purge gas during joining processing. You may refer to the output from.
  • a joining mark corresponding to a solidified molten pool MP is often formed at or near the boundary of the plurality of works W.
  • a joining mark is often formed at or near the boundary between the work W1 and the work W2.
  • the size S of the joint mark increases as the amount of melt of the work W and / or the modeling material M increases.
  • the "size" referred to here may include a size (for example, a width) in a direction in which the joint traces intersect in the extending direction.
  • the "size” is the size in the direction intersecting the moving direction of the irradiation position of the processing light EL (that is, the moving direction of the irradiation region EA) (that is, the moving direction of the irradiation area EA).
  • width may be included. Since the joint mark is formed between the two work Ws joined through the joint mark, the "size” is the size in the direction in which the two work Ws joined through the joint mark intersect in the line-up direction. (For example, width) may be included.
  • the melt amount of the work W and / or the modeling material M during the joining process depends on the supply amount of the purge gas during the joining process. Therefore, as shown in FIG. 20B, a relationship is established between the size S of the joint trace and the supply amount of the purge gas that the size S of the joint trace becomes smaller as the supply amount of the purge gas increases. To do. Therefore, the control device 7 may adjust the melt amount of the work W and / or the modeling material M by adjusting the supply amount of the purge gas during the joining process, and as a result, adjust the size S of the joining mark.
  • control device 7 may change the melt amount of the work W and / or the modeling material M by changing the supply amount of the purge gas during the joining process, and as a result, change the size S of the joining mark.
  • control device 7 may adjust the supply amount of purge gas during the joining process so that the size S of the joining mark becomes a desired size.
  • the machining system SYS Sa can appropriately machine a plurality of work Ws by performing the joining process.
  • the processing system SYSa uses the same processing apparatus 2 (that is, the same processing head 21) to perform the first joining process using the modeling material M and the second joining process using the modeling material M. Can be done. Therefore, the processing system SYSa can perform appropriate bonding processing according to the work W to be bonded.
  • the processing light EL based on the bonding path PA is used without irradiating the processing light EL. It is possible to perform a confirmation process for the user to visually recognize the irradiation position of. Therefore, the user can confirm whether or not the processing light EL is appropriately irradiated to the boundary of the plurality of works W during the joining process before actually irradiating the processing light EL. As a result, when it is confirmed by the confirmation process that the processing light EL is not properly applied to the boundaries of the plurality of work Ws during the joining process, the processing system SYSa can reset the joining path PA. Therefore, the machining system SYSa can set a more appropriate joining path PA.
  • the processing system SYSa can adjust the supply amount of the purge gas supplied to the chamber space 63IN by performing the gas supply amount adjustment operation. Therefore, the processing system SYSa can supply the purge gas to the chamber space 63IN in an appropriate supply amount according to the processing content performed by the processing system SYSa. For example, when the processing system SYSA is performing additional processing, the supply amount is appropriate for the additional processing (for example, the supply amount capable of improving the accuracy and / or aesthetics of the three-dimensional structure ST). , Purge gas can be supplied to the chamber space 63IN.
  • the machining system SYSa when performing the joining process, appropriately adjusts the supply amount suitable for the joining process (for example, it is possible to improve the efficiency of the joining process and / or the size of the joining mark is appropriately adjusted.
  • the purge gas can be supplied to the chamber space 63IN with a possible supply amount).
  • FIG. 21 is a cross-sectional view showing an example of the structure of the processing system SYSb of the second embodiment.
  • FIG. 22 is a system configuration diagram showing an example of the system configuration of the processing system SYSb of the second embodiment.
  • the constituent requirements already explained will be designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
  • the processing system SYSb of the second embodiment is different from the processing system SYSa of the first embodiment in that it further includes a measuring device 8b.
  • Other features of the machining system SYSb may be the same as the other features of the machining system SYS.
  • the measuring device 8b is a device capable of measuring an object to be measured under the control of the control device 7.
  • the measurement object includes, for example, an object supported by the stage 31 (that is, an object supported by the mounting surface 311). Therefore, the measurement range of the measuring device 8b is set to a desired range so that the object supported by the mounting surface 311 can be imaged.
  • the object supported by the mounting surface 311 is the work W as described above.
  • the measurement may include the measurement of the state of the object to be measured.
  • the measurement of the state of the object to be measured may include the measurement of the shape of the object to be measured (for example, a three-dimensional shape).
  • the measurement of the shape of the object to be measured may include the position of each portion (that is, each part) of the surface of the object to be measured in at least one of the X-axis direction, the Y-axis direction, and the Z-axis direction. ..
  • the measurement of the shape of the object to be measured is the orientation of each part of the surface of the object to be measured (for example, the direction of the normal of each part, and each part with respect to at least one of the X-axis, Y-axis, and Z-axis. It may include the measurement of the amount of inclination (that is, substantially equivalent to the posture of each part).
  • the measuring device 8b may have any structure as long as the object to be measured can be measured.
  • the measuring device 8b may be any kind of measuring device as long as it can measure the object to be measured.
  • 21 and 22 show an example in which the measuring device 8b is a 3D scanner. That is, FIGS. 21 and 22 show an example in which the measuring device 8b optically measures the object to be measured. 21 and 22 show an example in which the measuring device 8b measures the measurement target without contacting the measurement target.
  • the measuring device 8b may measure the object to be measured by using a method different from the optical method (for example, a non-contact measurement method using at least one of electromagnetic waves, sound waves, and pneumatic pressure).
  • the measuring device 8b may come into contact with the measurement target and measure the measurement target.
  • a measuring device that contacts a measurement target and measures the measurement target there is a measuring device that measures the measurement target while pressing a sensor such as a probe against the measurement target.
  • the measuring device 8b may include, for example, a projection device 81b and an imaging device 82b, as shown in FIG. 22.
  • the measuring device 8b includes a plurality of imaging devices 82b.
  • the measuring device 8b may include a single imaging device 82b.
  • the projection device 81b irradiates the mounting surface 311 with the measurement light DL.
  • the measurement light DL is light for projecting a desired projection pattern on the mounting surface 311.
  • the measurement light DL is light for projecting a desired projection pattern on the measurement object placed on the mounting surface 311.
  • the desired projection pattern may include a one-dimensional projection pattern.
  • the desired projection pattern may include a two-dimensional projection pattern.
  • the image pickup device 82b captures a projection pattern projected on the object to be measured.
  • the control device 7 generates state information regarding the state of the measurement object measured by the measuring device 8b based on the imaging result of the imaging device 82b (particularly, information regarding the captured projection pattern).
  • the state information may include the shape information regarding the shape of the measurement target measured by the measuring device 8b.
  • the above-mentioned measuring device was a pattern projection type 3D measuring machine, but an optical cutting type 3D measuring machine, a stereo camera type 3D measuring machine, and a time of flight type 3D measuring machine.
  • the state information may be used for a desired purpose in the process of additional processing operation and / or joining processing operation. That is, the control device 7 may use the state information in order to perform a desired process in the process of the addition processing operation and / or the joining processing operation.
  • the control device 7 may use the state information to generate the display contents of the display 91. That is, the control device 7 may control the display 91 so as to display an image based on the state information. For example, the control device 7 may generate a three-dimensional model of the work W based on the state information, and control the display 91 so as to display the three-dimensional model of the generated work W.
  • the display 91 is the 3 of the work W generated based on the measurement result of the measuring device 8b in addition to or in place of the imaging result of the imaging device 25 (that is, the image of the work W captured by the imaging device 25).
  • a dimensional model may be displayed.
  • the control device 7 displays the change in the relative position between the three-dimensional model of the work W and the irradiation position of the processing light EL when performing the confirmation process.
  • the display 91 may be controlled so as to do so.
  • the control device 7 does not have to control the plurality of guide light emitting devices 24 so as to irradiate the plurality of guide light GLs when performing the confirmation process, and the head 21 is moved so as to move the processing head 21. It is not necessary to control the drive system 22.
  • the control device 7 may use the state information to set the junction path PA.
  • the state information includes the shape information
  • the control device 7 may specify the state of the boundary of a plurality of work Ws to be joined based on the state information.
  • the state of the boundary may include, for example, at least one of the position of the boundary, the direction in which the boundary extends, and the size of the boundary.
  • the control device 7 may set the junction path PA based on the state of the specified boundary.
  • the control device 7 may set a line segment and / or a curve extending along the specified boundary in the junction path PA. In this case, the control device 7 may set the junction path PA without using the junction point P specified by the user. When the junction point P is not used, the user does not necessarily have to specify the junction point P.
  • the image pickup device 25 described above can also image the work W, which is an image pickup target. Therefore, the imaging result of the imaging device 25 also includes information regarding the state of the work W. Therefore, the control device 7 may set the junction path PA based on the image pickup result of the image pickup device 25 in addition to or instead of the measurement result (that is, state information) of the measurement device 8b. For example, the control device 7 may specify the state of the boundary of a plurality of work Ws to be joined based on the imaging result of the image pickup device 25, and set the joining path PA based on the state of the specified boundary.
  • the processing system SYS joins a plurality of physically separated work Ws by joining.
  • the processing system SYS may join a plurality of parts in the same work W by joining.
  • FIG. 23 when a crack CR is generated in the work W, the machining system SYS is on one side of the work W as viewed from the crack CR (-Y side in the example shown in FIG. 23).
  • the portion W1'located in the work W and the portion W2'located on the other side (+ Y side in the example shown in FIG. 23) of the work W as viewed from the crack CR may be joined by joining.
  • the joining process in the present embodiment includes not only a process of joining a plurality of physically separated objects but also a process of joining a plurality of objects that are not physically separated but are partially separated. You may. That is, it may include a process of joining a plurality of objects that are partially integrated but partially separated.
  • the portions W1'and W2' correspond to an example of a plurality of objects that are partially integrated but partially separated.
  • the joint point P is set at or near the end of the boundary of the plurality of works W.
  • the junction point P may be set at a position away from the end of the boundary of the number of works W.
  • the joint points P241 and P242 may be set at positions away from the end of the boundary between the plurality of workpieces W241 and W242, typically at positions inside from the ends.
  • the control device 7 designates a junction path PA extending along the boundary between the plurality of workpieces W241 and W242 from the junction point P241 to the junction point P242, and the irradiation region EA of the processing light EL is set to the junction path PA. Move along.
  • the boundaries of the plurality of work Ws are joined (for example, welded) in a state where the plurality of work Ws are arranged so as to face each other.
  • the welding (joining) for forming such a butt joint is not limited, and as shown in FIG. 25, welding (joining) for forming a lap joint may be performed.
  • a plurality of works W (work W251 and W252 in the example shown in FIG. 25) are arranged so that some of them overlap each other, a joint path PA is specified at the overlapped portion, and the joint path PA is specified along the joint path PA.
  • the processing light EL may be moved so that the irradiation region EA moves.
  • the welding is not limited to at least one of the butt joint and the lap joint described above, and welding (joining) may be performed to form at least one of the T joint, the cross joint, the square joint, the pad joint and the edge joint.
  • the welding type is not limited to the groove welding described above, and may be at least one of fillet welding, seam welding, lead welding and slot welding.
  • the processing apparatus 2 melts the modeling material M by irradiating the modeling material M with the processing light EL.
  • the processing apparatus 2 may melt the modeling material M by irradiating the modeling material M with an arbitrary energy beam.
  • the processing device 2 may include a beam irradiation device capable of irradiating an arbitrary energy beam in addition to or in place of the irradiation optical system 211.
  • Any energy beam may include, but is not limited to, a charged particle beam such as an electron beam or an ion beam, or an electromagnetic wave.
  • the processing system SYS performs additional processing and / or joining processing by the laser overlay welding method.
  • the processing system SYS is another method capable of forming a three-dimensional structure ST by irradiating the modeling material M with processing light EL (or an arbitrary energy beam) and / or joining a plurality of work Ws.
  • the three-dimensional structure ST may be formed from the modeling material M.
  • the processing system SYS performs the three-dimensional structure ST by an arbitrary method for additional processing and / or joining processing, which is different from the method of irradiating the modeling material M with the processing light EL (or an arbitrary energy beam). It may be formed.
  • the processing system SYS performs additional processing and / or joining processing by supplying the modeling material M from the material nozzle 212 toward the irradiation region EA where the irradiation optical system 211 irradiates the processing light EL.
  • the processing system SYS may perform additional processing and / or joining processing by supplying the modeling material M from the material nozzle 212 without irradiating the processing light EL from the irradiation optical system 211.
  • the processing system SYS sprays the modeling material M onto the modeling surface MS and / or the bonding region WA (that is, the bonding path PA) from the material nozzle 212, thereby modeling the modeling surface MS and / or the bonding region WA.
  • Addition processing and / or joining processing may be performed by melting the material M and solidifying the molten modeling material M.
  • the processing system SYS blows a gas containing the modeling material M onto the modeling surface MS and / or the bonding region WA from the material nozzle 212 at an ultra-high speed, whereby the modeling material M is sprayed on the modeling surface MS and / or the bonding region WA.
  • / or joining may be performed by solidifying the melted modeling material M.
  • the processing system SYS melts the modeling material M on the modeling surface MS and / or the bonding region WA by spraying the heated modeling material M onto the modeling surface MS and / or the bonding region WA from the material nozzle 212.
  • Addition processing and / or joining processing may be performed by solidifying the molten modeling material M.
  • the processing system SYS (particularly, the processing head 21) does not include the irradiation optical system 211. May be good.
  • the processing system SYS can remove at least a part of the object by irradiating an object such as a work W with processing light EL (or an arbitrary energy beam) in addition to or in place of additional processing and / or joining processing.
  • the removal process may be performed.
  • the processing system SYS irradiates an object such as a work W with processing light EL (or an arbitrary energy beam) in addition to or in place of addition processing, joining processing and / or removal processing, and at least a part of the object.
  • Marking processing that can form a mark (for example, a letter, a number, or a figure) may be performed on the surface. Even in this case, the above-mentioned effects can be enjoyed.
  • the processing system SYS may supply a gas such as purge gas to the irradiation region EA (that is, the position where the marking process is performed) of the processing light EL.
  • the processing system SYS may spray a gas such as purge gas onto the irradiation area EA.
  • the processing system SYS may supply a gas such as purge gas from the material nozzle 212 to the irradiation region EA as described above.
  • the processing system SYS may supply a gas such as purge gas to the irradiation region EA from a device different from the material nozzle 212.
  • the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be appropriately modified within the scope of claims and within a range not contrary to the gist or idea of the invention that can be read from the entire specification, and a processing system accompanied by such modification. Processing methods, control devices, computer programs, recording media and processing devices are also included in the technical scope of the present invention.
  • SYSTEM processing system 1 Material supply device 2 Processing device 21 Processing head 22 Head drive system 24 Guide light emission device 25 Imaging device 3 Stage device 31 Stage 311 Mounting surface 7 Control device 8b Measuring device 81b Projection device 82b Imaging device 91 Display 92 Input Equipment W Work M Modeling Material SL Structural Layer MS Modeling Surface EA Irradiation Area MA Supply Area MP Melting Pond EL Processing Light DL Measurement Light GL Guide Light

Landscapes

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Abstract

加工システムは、エネルギビームを照射する照射光学系と、エネルギビームの照射位置に粉体を供給する粉体供給部材とを含む加工装置と、加工装置を制御する制御装置とを備え、加工装置による加工は、第1物体と第2物体との接合を含み、制御装置は、第1及び第2物体の少なくとも一方へのエネルギビームの照射と照射位置への粉体の供給とを含む第1の動作と、第1及び第2物体の少なくとも一方へのエネルギビームの照射を含み且つ照射位置への粉体の供給を含まない第2の動作とのうちの一方により加工装置に接合を行わせる。

Description

加工システム、加工方法、制御装置、コンピュータプログラム、記録媒体及び加工装置
 本発明は、例えば、物体を加工するための加工システム、加工方法及び加工装置、加工装置を制御するための制御装置及びコンピュータプログラム、並びに、加工装置を制御するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体の技術分野に関する。
 特許文献1には、物体にエネルギビームを照射することで物体を加工する加工システムが記載されている。このような加工システムでは、物体を適切に加工することが技術的課題となる。
米国特許出願公開第2017/014909号明細書
 第1の態様によれば、エネルギビームを照射する照射光学系と、前記エネルギビームの照射位置に粉体を供給する粉体供給部材とを含む加工装置と、前記加工装置を制御する制御装置とを備え、前記加工装置による加工は、第1物体と第2物体との接合を含み、前記制御装置は、前記第1物体及び前記第2物体の少なくとも一方への前記エネルギビームの照射と前記照射位置への前記粉体の供給とを含む第1の動作と、前記第1物体及び前記第2物体の少なくとも一方への前記エネルギビームの照射を含み且つ前記照射位置への前記粉体の供給を含まない第2の動作とのうちの一方により前記加工装置に前記接合を行わせる加工システムが提供される。
 第2の態様によれば、エネルギビームを照射する照射光学系と、前記エネルギビームの照射位置に粉体を供給する粉体供給部材とを含む加工装置を用いた加工方法であって、前記加工装置による加工は、第1物体と第2物体との接合を含み、前記第1物体及び前記第2物体の少なくとも一方への前記エネルギビームの照射と前記照射位置への前記粉体の供給とを含む第1の動作により前記加工装置に前記接合を行わせることと、前記第1物体及び前記第2物体の少なくとも一方への前記エネルギビームの照射を含み且つ前記照射位置への前記粉体の供給を含まない第2の動作により前記加工装置に前記接合を行わせることとを含む加工方法が提供される。
 第3の態様によれば、エネルギビームを照射する照射光学系と、前記エネルギビームの照射位置に粉体を供給する粉体供給部材とを含む加工装置を制御する制御装置であって、前記加工装置による加工は、第1物体と第2物体との接合を含み、前記第1物体及び前記第2物体の少なくとも一方への前記エネルギビームの照射と前記照射位置への前記粉体の供給とを含む第1の動作により前記加工装置に前記接合を行わせる処理と、前記第1物体及び前記第2物体の少なくとも一方への前記エネルギビームの照射を含み且つ前記照射位置への前記粉体の供給を含まない第2の動作により前記加工装置に前記接合を行わせる処理とを実行する制御装置が提供される。
 第4の態様によれば、エネルギビームを照射する照射光学系と、前記エネルギビームの照射位置に粉体を供給する粉体供給部材とを含む加工装置を制御するコンピュータによって実行されるコンピュータプログラムであって、前記加工装置による加工は、第1物体と第2物体との接合を含み、前記第1物体及び前記第2物体の少なくとも一方への前記エネルギビームの照射と前記照射位置への前記粉体の供給とを含む第1の動作により前記加工装置に前記接合を行わせる処理と、前記第1物体及び前記第2物体の少なくとも一方への前記エネルギビームの照射を含み且つ前記照射位置への前記粉体の供給を含まない第2の動作により前記加工装置に前記接合を行わせる処理とを前記コンピュータに実行させるコンピュータプログラムが提供される。
 第5の態様によれば、第1物体及び第2物体の少なくとも一方にエネルギビームを照射する照射光学系と、前記エネルギビームの照射位置に粉体を供給する粉体供給部材とを含み、前記第1物体と前記第2物体とを接合する加工装置と、前記第1物体及び前記第2物体が収容される空間に気体を供給する気体供給装置と、前記気体供給装置から供給される前記気体の供給量を変更するように前記気体供給装置を制御する制御装置とを備え、前記加工装置は、前記照射光学系を用いて第3物体にエネルギビームを照射しつつ前記粉体供給部材から前記エネルギビームの照射位置に粉体を供給して前記第3物体に造形物を造形し、前記制御装置は、前記加工装置によって前記第1及び第2物体が接合される場合には、前記空間に第1供給量で前記気体を供給し、前記加工装置によって前記第3物体に前記造形物が造形される場合には、前記第3物体が収容される空間に前記第1供給量よりも多い第2供給量で前記気体を供給するように前記気体供給装置を制御する加工システムが提供される。
 第6の態様によれば、物体にエネルギビームを照射して、前記物体を加工する照射光学系と、前記物体と前記エネルギビームの照射位置との相対位置を変更する位置変更装置と、前記照射光学系による前記エネルギビームの照射位置と前記物体との位置関係を、ユーザに視認させる照射位置視認装置と、前記物体の加工に用いられる情報に基づいて、前記照射位置と前記物体との位置関係の変化を前記ユーザに視認させるように、前記位置変更装置及び前記照射位置視認装置を制御する制御装置とを備える加工システムが提供される。
 本発明の作用及び他の利得は次に説明する実施するための形態から明らかにされる。
図1は、第1実施形態の加工システムの構造を示す断面図である。 図2は、第1実施形態の加工システムのシステム構成を示すシステム構成図である。 図3(a)から図3(e)のそれぞれは、ワーク上のある領域に加工光を照射し且つ造形材料を供給した場合の様子を示す断面図である。 図4(a)から図4(c)のそれぞれは、3次元構造物を形成する過程を示す断面図である。 図5(a)から図5(f)のそれぞれは、接合加工の一工程での複数のワークの様子を示す断面図又は平面図である。 図6(a)から図6(f)のそれぞれは、接合加工の一工程での複数のワークの様子を示す断面図又は平面図である。 図7は、接合加工動作の流れを示すフローチャートである。 図8(a)及び図8(b)は、それぞれ、ステージが支持している複数のワークと複数のガイド光との位置関係を示す断面図及び平面図である。 図9は、接合点を指定するために用いられるGUIの一例を示す平面図である。 図10(a)から図10(c)のそれぞれは、接合パスの設定例の一工程を示す平面図である。 図11(a)から図11(c)のそれぞれは、接合パスの設定例の一工程を示す平面図である。 図12(a)から図12(c)のそれぞれは、接合パスの設定例の一工程を示す平面図である。 図13(a)から図13(c)のそれぞれは、接合パスの設定例の一工程を示す平面図である。 図14(a)から図14(c)のそれぞれは、接合パスの設定例の一工程を示す平面図である。 図15(a)から図15(b)のそれぞれは、複数のワークの上面の境界の形状と異なる形状を有する接合パスの一例を示す平面図である。 図16(a)から図16(c)のそれぞれは、接合パスの設定例の一工程を示す平面図である。 図17(a)から図17(b)のそれぞれは、加工光を射出する期間及び/又は加工光を射出しない期間と関連付けられた接合パスの設定例を示す平面図である。 図18は、確認処理中の加工ヘッドと複数のワークとを示す斜視図である。 図19は、付加加工中におけるパージガスの供給量と接合加工中におけるパージガスの供給量との関係の一例を示すグラフである。 図20(a)は、複数のワークが接合された接合跡を示す平面図であり、図20(b)は、接合跡のサイズとパージガスの供給量との関係を示すグラフである。 図21は、第2実施形態の加工システムの構造を示す断面図である。 図22は、第2実施形態の加工システムのシステム構成を示すシステム構成図である。 図23は、ワークの一例を示す斜視図である。 図24は、接合加工の一工程での複数のワークの様子を示す平面図である。 図25は、複数のワークの様子の一例を示す斜視図である。
 以下、図面を参照しながら、加工システム、加工方法、制御装置、コンピュータプログラム、記録媒体及び加工装置の実施形態について説明する。以下では、物体の一例であるワークWを加工する加工システムSYSを用いて、加工システム、加工方法、制御装置、コンピュータプログラム、記録媒体及び加工装置の実施形態を説明する。加工システムSYSは、例えば、ワークWに造形物を形成するための付加加工を行ってもよい。加工システムSYSは、例えば、付加加工に加えて又は代えて、複数のワークWを接合する接合加工を行ってもよい。本実施形態では、このような加工システムSYSの一例として、レーザ肉盛溶接法(LMD:Laser Metal Deposition)を用いてワークWを加工する加工システムSYSを用いて、加工システム、加工方法、制御装置、コンピュータプログラム、記録媒体及び加工装置の実施形態を説明する。レーザ肉盛溶接法に基づく付加加工は、ワークWに供給した造形材料Mを加工光ELで溶融することで、ワークWと一体化された又はワークWから分離可能な3次元構造物STを形成する付加加工である。レーザ肉盛溶接法に基づく接合加工は、複数のワークWの境界に供給した造形材料Mを加工光ELで溶融することで、複数のワークWを接合する(つまり、複数のワークWを一体化する)接合加工である。但し、後に詳述するように、接合加工は、複数のワークWの境界に造形材料Mを供給することなく、複数のワークWを接合する(つまり、複数のワークWを一体化する)接合加工を含んでいてもよい。
 尚、レーザ肉盛溶接法(LMD)は、ダイレクト・メタル・デポジション、ディレクテッド・エナジー・デポジション、レーザクラッディング、レーザ・エンジニアード・ネット・シェイピング、ダイレクト・ライト・ファブリケーション、レーザ・コンソリデーション、シェイプ・デポジション・マニュファクチャリング、ワイヤ-フィード・レーザ・デポジション、ガス・スルー・ワイヤ、レーザ・パウダー・フージョン、レーザ・メタル・フォーミング、セレクティブ・レーザ・パウダー・リメルティング、レーザ・ダイレクト・キャスティング、レーザ・パウダー・デポジション、レーザ・アディティブ・マニュファクチャリング、レーザ・ラピッド・フォーミングと称してもよい。
 また、以下の説明では、互いに直交するX軸、Y軸及びZ軸から定義されるXYZ直交座標系を用いて、加工システムSYSを構成する各種構成要素の位置関係について説明する。尚、以下の説明では、説明の便宜上、X軸方向及びY軸方向のそれぞれが水平方向(つまり、水平面内の所定方向)であり、Z軸方向が鉛直方向(つまり、水平面に直交する方向であり、実質的には上下方向)であるものとする。また、X軸、Y軸及びZ軸周りの回転方向(言い換えれば、傾斜方向)を、それぞれ、θX方向、θY方向及びθZ方向と称する。ここで、Z軸方向を重力方向としてもよい。また、XY平面を水平方向としてもよい。
 (1)第1実施形態の加工システムSYS
 初めに、第1実施形態の加工システムSYS(以降、第1実施形態の加工システムSYSを、“加工システムSYSa”と称する)について説明する。
 (1-1)第1実施形態の加工システムSYSaの構造
 初めに、図1及び図2を参照しながら、第1実施形態の加工システムSYSaの構造について説明する。図1は、第1実施形態の加工システムSYSaの構造の一例を示す断面図である。図2は、第1実施形態の加工システムSYSaのシステム構成の一例を示すシステム構成図である。
 加工システムSYSaは、付加加工を行うことで、3次元構造物ST(3次元方向のいずれの方向においても大きさを持つ3次元の物体(立体物))を形成可能であってもよい。具体的には、加工システムSYSaは、3次元構造物STを形成するための基礎となるワークW上に、3次元構造物STを形成可能であってもよい。このワークWをベース部材又は台座と称してもよい。加工システムSYSaは、ワークWに付加加工を行うことで、ワークW上に3次元構造物STを形成可能であってもよい。ワークWが後述するステージ31である場合には、加工システムSYSaは、ステージ31上に、3次元構造物STを形成可能であってもよい。ワークWがステージ31によって保持されている(或いは、ステージ31に載置されている)既存構造物である場合には、加工システムSYSaは、既存構造物上に、3次元構造物STを形成可能であってもよい。この場合、加工システムSYSaは、既存構造物と一体化された3次元構造物STを形成してもよい。既存構造物と一体化された3次元構造物STを形成する動作は、既存構造物に新たな構造物を付加する動作と等価とみなせる。尚、既存構造物は例えば欠損箇所がある要修理品であってもよい。加工システムSYSaは、要修理品の欠損箇所を埋めるように、要修理品に3次元構造物を形成してもよい。或いは、加工システムSYSaは、既存構造物と分離可能な3次元構造物STを形成してもよい。尚、図1は、ワークWが、ステージ31によって保持されている既存構造物である例を示している。また、以下でも、ワークWがステージ31によって保持されている既存構造物である例を用いて説明を進める。
 更に、加工システムSYSaは、接合加工を行うことで、複数のワークWを接合可能であってもよい。接合加工は、複数のワークWの少なくとも一部を溶融させることで複数のワークWを接合する(つまり、溶接する)溶接加工を含んでいてもよい。接合加工は、複数のワークWを溶融させることなく、複数のワークWの間に形成される硬ろうを介して複数のワークWを接合する(つまり、ろう付けする)ろう付け加工を含んでいてもよい。その結果、複数のワークWが接合された(言い換えれば、一体化された)3次元構造物が形成される。
 尚、接合加工におけるワークWは、接合対象となる部材である点で、付加加工におけるワークW(つまり、3次元構造物STを形成するための基礎となる部材)とは異なる。但し、以下では、説明の簡略化のために、付加加工及び接合加工の少なくとも一方の対象となる部材を、まとめてワークWと称して説明を進める。付加加工が行われるワークWと、接合加工が行われる複数のワークWのうちの少なくとも一つとが同じワークWであってもよい。或いは、付加加工が行われるワークWと、接合加工が行われる複数のワークWのそれぞれとが異なるワークWであってもよい。
 上述したように、加工システムSYSaは、レーザ肉盛溶接法に基づく加工を行う。この場合、付加加工を行う加工システムSYSaは、積層造形技術を用いて物体を形成する3Dプリンタであるとも言える。尚、積層造形技術は、ラピッドプロトタイピング(Rapid Prototyping)、ラピッドマニュファクチャリング(Rapid Manufacturing)、又は、アディティブマニュファクチャリング(Additive Manufacturing)とも称される。
 付加加工及び接合加工の少なくとも一方を行うために、加工システムSYSaは、図1及び図2に示すように、材料供給装置1と、加工装置2と、ステージ装置3と、光源4と、気体供給装置5と、筐体6と、制御装置7と、ディスプレイ91と、入力装置92とを備える。加工装置2とステージ装置3とのそれぞれの少なくとも一部は、筐体6の内部のチャンバ空間63IN内に収容されている。
 材料供給装置1は、加工装置2に造形材料Mを供給する。具体的には、材料供給装置1と加工装置2(特に、後述する材料ノズル212)とは、供給管11を介して接続されている。材料供給装置1は、供給管11を介して、加工装置2に造形材料Mを供給する。この際、材料供給装置1は、加工装置2が付加加工を行うために単位時間あたりに必要とする分量の造形材料Mが加工装置2に供給されるように、当該必要な分量に応じた所望量の造形材料Mを供給してもよい。材料供給装置1は、加工装置2が接合加工を行うために単位時間あたりに必要とする分量の造形材料Mが加工装置2に供給されるように、当該必要な分量に応じた所望量の造形材料Mを供給してもよい。
 造形材料Mは、所定強度以上の加工光ELの照射によって溶融可能な材料である。このような造形材料Mとして、例えば、金属材料及び樹脂材料の少なくとも一方が使用可能である。但し、造形材料Mとして、金属材料及び樹脂材料とは異なるその他の材料が用いられてもよい。造形材料Mは、粉状の材料である。つまり、造形材料Mは、粉体である。粉体は、粉状の材料に加えて、粒状の材料を含んでいてもよい。造形材料Mは、例えば、90マイクロメートル±40マイクロメートルの範囲に収まる粒径の粉体を含んでいてもよい。造形材料Mを構成する粉体の平均粒径は、例えば、75マイクロメートルであってもよいし、その他のサイズであってもよい。但し、造形材料Mは、粉体でなくてもよく、例えばワイヤ状の造形材料やガス状の造形材料が用いられてもよい。
 加工装置2は、材料供給装置1から供給される造形材料Mを用いて、3次元構造物STを形成するための付加加工を行ってもよい。また、加工装置2は、材料供給装置1から供給される造形材料Mを用いて、複数のワークWを接合するための接合加工を行ってもよい。この場合には、造形材料Mは、複数のワークWを接合するための接合材(例えば、溶加材、硬ろう又は軟ろう)として用いられてもよい。接合材の融点は、複数のワークWのうちの少なくとも一つの融点よりも高くてもよく、低くてもよく、同じであってもよい。造形材料Mを用いて付加加工及び接合加工の少なくとも一方を行うために、加工装置2は、加工ヘッド21と、ヘッド駆動系22と、位置計測装置23と、複数の(例えば、2つの)ガイド光射出装置24と、撮像装置25とを備える。更に、加工ヘッド21は、照射光学系211と、材料ノズル(つまり造形材料Mを供給する供給系)212とを備えている。加工装置2は、チャンバ空間63IN内に収容されている。但し、加工装置2の少なくとも一部が、筐体6の外部の空間である外部空間64OUTに配置されていてもよい。尚、外部空間64OUTは、加工システムSYSaのオペレータが立ち入り可能な空間であってもよい。
 照射光学系211は、射出部213から加工光ELを射出するための光学系(例えば、集光光学系)である。具体的には、照射光学系211は、加工光ELを発する光源4と、光ファイバやライトパイプ等の光伝送部材41を介して光学的に接続されている。照射光学系211は、光伝送部材41を介して光源4から伝搬してくる加工光ELを射出する。照射光学系211は、加工光ELがチャンバ空間63INを進むように加工光ELを射出する。照射光学系211は、照射光学系211から下方(つまり、-Z側)に向けて加工光ELを照射する。照射光学系211の下方には、ステージ31が配置されている。ステージ31にワークWが載置されている場合には、照射光学系211は、ワークWに向けて加工光ELを照射する。具体的には、照射光学系211は、加工光ELが照射される(典型的には、集光される)領域としてワークW上に又はワークWの近傍に設定される照射領域EAに加工光ELを照射可能である。更に、照射光学系211の状態は、制御装置7の制御下で、照射領域EAに加工光ELを照射する状態と、照射領域EAに加工光ELを照射しない状態との間で切替可能である。尚、照射光学系211から射出される加工光ELの方向は真下(つまり、-Z軸方向と一致)には限定されず、例えば、Z軸に対して所定の角度だけ傾いた方向であってもよい。
 材料ノズル212には、供給アウトレット214が形成されている。供給アウトレット214は、造形材料Mを供給する供給口と称されてもよい。材料ノズル212は、供給アウトレット214から造形材料Mを供給する(例えば、射出する、噴射する、噴出する、又は、吹き付ける)。材料ノズル212は、供給管11及び混合装置12を介して造形材料Mの供給源である材料供給装置1と物理的に接続されている。材料ノズル212は、供給管11及び混合装置12を介して材料供給装置1から供給される造形材料Mを供給する。材料ノズル212は、供給管11を介して材料供給装置1から供給される造形材料Mを圧送してもよい。即ち、材料供給装置1からの造形材料Mと搬送用の気体(つまり、圧送ガスであり、例えば、窒素やアルゴン等の不活性ガス)とを混合装置12で混合し供給管11を介して材料ノズル212に圧送してもよい。その結果、材料ノズル212は、搬送用の気体と共に造形材料を供給する。搬送用の気体として、例えば、気体供給装置5から供給されるパージガスが用いられるが、気体供給装置5とは異なる気体供給装置から供給される気体が用いられてもよい。尚、図1において材料ノズル212は、チューブ状に描かれているが、材料ノズル212の形状は、この形状に限定されない。材料ノズル212は、チャンバ空間63INに向けて造形材料Mを供給する。材料ノズル212は、材料ノズル212から下方(つまり、-Z側)に向けて造形材料Mを供給する。材料ノズル212の下方には、ステージ31が配置されている。ステージ31にワークWが搭載されている場合には、材料ノズル212は、ワークW又はワークWの近傍に向けて造形材料Mを供給する。尚、材料ノズル212から供給される造形材料Mの進行方向はZ軸方向に対して所定の角度(一例として鋭角)だけ傾いた方向であるが、-Z側(つまり、真下)であってもよい。
 第1実施形態では、材料ノズル212は、照射光学系211が加工光ELを照射する照射領域EAに向けて造形材料Mを供給するように、照射光学系211に対して位置合わせされている。つまり、材料ノズル212が造形材料Mを供給する領域としてワークW上に設定される供給領域MAと照射領域EAとが一致する(或いは、少なくとも部分的に重複する)ように、材料ノズル212と照射光学系211とが位置合わせされている。尚、照射光学系211から射出された加工光ELによって形成される溶融池MP(後述)に、材料ノズル212が造形材料Mを供給するように、材料ノズル212と照射光学系211とが位置合わせされていてもよい。
 上述したように材料ノズル212がパージガスと共に造形材料Mを供給する場合には、材料ノズル212は、照射領域EAに向けてパージガスを供給するように、照射光学系211に対して位置合わせされていてもよい。つまり、材料ノズル212がパージガスを供給する領域と照射領域EAとが一致する(或いは、少なくとも部分的に重複する)ように、材料ノズル212と照射光学系211とが位置合わせされていてもよい。尚、照射光学系211から射出された加工光ELによって形成される溶融池MPに、材料ノズル212がパージガスを供給するように、材料ノズル212と照射光学系211とが位置合わせされていてもよい。このように照射領域EA及び溶融池MPの少なくとも一方に供給されるパージガスは、いわゆるアシストガス又はシールドガスとして用いられてもよい。例えば、パージガスは、不要物質(一例として加工光ELの照射によって照射領域EAから発生する不要物質(例えば、ヒューム)を照射領域EAから除去する(吹き飛ばす)ためのアシストガス又はシールドガスとして用いられてもよく、加工光ELによる加工の状態を調整するためのアシストガス又はシールドガスとして用いられてもよい。
 ヘッド駆動系22は、加工ヘッド21を移動させる。ヘッド駆動系22は、例えば、チャンバ空間63IN内で加工ヘッド21を移動させる。ヘッド駆動系22は、X軸、Y軸及びZ軸の少なくとも一つに沿って加工ヘッド21を移動させる。加工ヘッド21がX軸及びY軸の少なくとも一方に沿って移動すると、照射領域EA及び供給領域MAのそれぞれは、ワークW上又はチャンバ空間63IN内の任意の位置をX軸及びY軸の少なくとも一方に沿って移動する。更に、ヘッド駆動系22は、X軸、Y軸及びZ軸の少なくとも一つに加えて、θX方向、θY方向及びθZ方向の少なくとも一つの回転方向に沿って加工ヘッド21を移動させてもよい。言い換えると、ヘッド駆動系22は、X軸、Y軸及びZ軸の少なくとも一つの軸回りに加工ヘッド21を回転させてもよい。ヘッド駆動系22は、X軸、Y軸及びZ軸の少なくとも一つの軸回りに加工ヘッド21の姿勢を変えてもよい。ヘッド駆動系22は、例えば、モータ等のアクチュエータを含む。
 ヘッド駆動系22が加工ヘッド21を移動させると、加工ヘッド21とステージ31及びステージ31に支持されたワークWのそれぞれとの相対位置が変わる。つまり、照射光学系211及び材料ノズル212(供給アウトレット214)のそれぞれとステージ31及びワークWのそれぞれとの相対位置が変わる。このため、ヘッド駆動系22は、照射光学系211及び材料ノズル212(供給アウトレット214)のそれぞれとステージ31及びワークWのそれぞれとの相対位置関係を変更するための位置変更装置として機能してもよい。更に、加工ヘッド21とステージ31及びワークWのそれぞれとの相対位置が変わると、加工ヘッド21から照射される加工光ELの照射領域EAとステージ31及びワークWのそれぞれとの相対位置が変わる。このため、ヘッド駆動系22は、照射領域EAとステージ31及びワークWのそれぞれとの相対位置関係を変更するための位置変更装置として機能してもよい。
 加工システムSYSaは、加工ヘッド21を移動させることに加えて、照射光学系211の少なくとも一部を移動させることで、照射領域EAとステージ31及びワークWのそれぞれとの相対位置を変更してもよい。例えば、加工システムSYSaは、照射光学系211の全体を移動させることで、照射領域EAとステージ31及びワークWのそれぞれとの相対位置関係を変更してもよい。例えば、加工システムSYSaは、照射光学系211のうちの一部の光学素子を移動させることで、照射領域EAとステージ31及びワークWのそれぞれとの相対位置を変更してもよい。移動する光学素子は、終端光学素子(例えば、対物レンズ)を含んでいてもよい。また、光学素子を移動させることは、光学素子の姿勢を変更すること(光学素子を回転方向に移動させること)を含んでいてもよい。例えば、加工システムSYSaは、照射光学系211が備え且つ加工光ELを偏向するガルバノミラーを動かす(ガルバノミラーの傾斜角を変更する)ことで、照射領域EAとステージ31及びワークWのそれぞれとの相対位置を変更してもよい。
 ヘッド駆動系22は、照射光学系211と材料ノズル212とを別々に移動させてもよい。具体的には、例えば、ヘッド駆動系22は、射出部213の位置、射出部213の向き(姿勢)、供給アウトレット214の位置及び供給アウトレット214の向き(供給アウトレット214から射出される造形材料の射出方向)の少なくとも一つを調整可能であってもよい。この場合、照射光学系211が加工光ELを照射する照射領域EAと、材料ノズル212が造形材料Mを供給する供給領域MAとが別々に制御可能となる。
 位置計測装置23は、加工ヘッド21の位置を計測可能である。位置計測装置23は、例えば、エンコーダ及びレーザ干渉計のうちの少なくとも一方を含んでいてもよい。また、加工ヘッド21を駆動するヘッド駆動系22のアクチュエータをオープンループ制御する場合には、加工装置2は位置計測装置23を有していなくてもよい。
 ガイド光射出装置24は、ガイド光GLを射出する。ガイド光射出装置24は、ガイド光GLがチャンバ空間63IN内を進むようにガイド光GLを射出する。複数のガイド光射出装置24は、複数のガイド光射出装置24からそれぞれ射出される複数のガイド光GLが、加工ヘッド21の下方のある位置において互いに交差するように、互いに位置合わせされている。加工ヘッド21の下方には、典型的には、ワークWが配置される。このため、ガイド光射出装置24は、ワークWに向けてガイド光GLを照射する光照射装置と称されてもよい。
 ガイド光射出装置24は、加工ヘッド21に配置されている。このため、ガイド光射出装置24と加工ヘッド21(特に、照射光学系211)との間の相対位置は固定されている(つまり、変わらない)。但し、ガイド光射出装置24は、加工ヘッド21(特に、照射光学系211)との間の相対位置が固定されている限りは、加工ヘッド21とは異なる部材(例えば、ヘッド駆動系22における被駆動部分(移動部分))に配置されていてもよい。ガイド光射出装置24と加工ヘッド21(特に、照射光学系211)との間の相対位置が固定されている状態は、ガイド光射出装置24そのものと加工ヘッド21(特に、照射光学系211)そのものとの間の相対位置が固定されている状態のみならず、加工ヘッド21(特に、照射光学系211)からの加工光ELの照射位置とガイド光射出装置24からのガイド光GLの照射位置との間の相対位置が固定されている状態をも含む。
 第1実施形態では、複数のガイド光射出装置24は、複数のガイド光GLが加工光ELのフォーカス位置において互いに交差するように、位置合わせされていてもよい。尚、加工光ELは、典型的には、そのフォーカス位置がワークWの表面(或いは、当該表面と同じ高さの面)上に位置する(つまり、照射領域EAに一致する)ようにワークWに照射されることから、複数のガイド光射出装置24は、複数のガイド光GLが加工光ELの照射領域EAにおいて互いに交差するように、位置合わせされているとも言える。また、加工装置2は主として加工光ELのフォーカス位置において物体を加工することから、複数のガイド光射出装置24は、複数のガイド光GLが加工装置2による加工が行われる加工位置において互いに交差するように、互いに位置合わせされているとも言える。但し、複数のガイド光GLが加工光ELのフォーカス位置から外れた位置(デフォーカス位置)において互いに交差するように、複数のガイド光射出装置24が位置合わせされていてもよい。尚、ガイド光射出装置24は複数でなくてもよい。単一のガイド光射出装置24から互いに射出方向が異なる複数のガイド光が射出されてもよい。
 撮像装置25は、撮像対象物を撮像可能な装置(例えば、カメラ)である。第1実施形態では、撮像対象物は、例えば、後述するステージ31が支持する物体(つまり、載置面311が支持する物体)を含む。このため、撮像装置25の撮像範囲は、載置面311が支持する物体を撮像することができるように所望の範囲に設定されている。載置面311が支持する物体の一例として、ワークWがあげられる。
 ステージ装置3は、ステージ31を備えている。ステージ31は、チャンバ空間63INに収容される。ステージ31は、ワークWを支持可能である。尚、ここで言う「ステージ31がワークWを支持する」状態は、ワークWがステージ31によって直接的に又は間接的に支えられている状態を意味していてもよい。ステージ31は、ワークWを保持可能であってもよい。つまり、ステージ31は、ワークWを保持することでワークWを支持してもよい。或いは、ステージ31は、ワークWを保持可能でなくてもよい。この場合、ワークWは、ステージ31に載置されていてもよい。つまり、ステージ31は、ステージ31に載置されたワークWを支持してもよい。このとき、ワークWは、クランプレスでステージ31に載置されていてもよい。従って、第1実施形態における「ステージ31がワークWを支持する」状態は、ステージ31がワークWを保持する状態及びワークWがステージ31に載置される状態をも含んでいてもよい。ステージ31を、ワークWを支持する支持装置、ワークWが載置される載置装置、ワークWを保持する保持装置又はテーブルと称してもよい。ステージ31がチャンバ空間63INに収容されるため、ステージ31が支持するワークWもまた、チャンバ空間63INに収容される。更に、ステージ31は、ワークWが保持されている場合には、保持したワークWをリリース可能である。上述した照射光学系211は、ステージ31がワークWを支持している期間の少なくとも一部において加工光ELを照射する。更に、上述した材料ノズル212は、ステージ31がワークWを支持している期間の少なくとも一部において造形材料Mを供給する。尚、ステージ31は、ワークWを保持するために、機械的なチャックや真空吸着チャック等を備えていてもよい。
 光源4は、例えば、赤外光及び紫外光のうちの少なくとも一つを、加工光ELとして射出する。但し、加工光ELとして、その他の波長の光、例えば可視域の波長の光が用いられてもよい。加工光ELは、レーザ光を含む。この場合、光源4は、半導体レーザ等のレーザ光源を含んでいてもよい。レーザ光源の一例としては、レーザダイオード(LD:Laser Diode)、ファイバ・レーザ、COレーザ、YAGレーザ及びエキシマレーザ等の少なくとも一つがあげられる。但し、加工光ELはレーザ光でなくてもよいし、光源4は任意の光源(例えば、LED(Light Emitting Diode)及び放電ランプ等の少なくとも一つ)を含んでいてもよい。
 気体供給装置5は、チャンバ空間63INをパージするためのパージガスの供給源である。パージガスは、不活性ガスを含む。不活性ガスの一例として、窒素ガス又はアルゴンガスがあげられる。気体供給装置5は、筐体6の隔壁部材61に形成された供給口62及び気体供給装置5と供給口62とを接続する供給管51を介して、チャンバ空間63INに接続されている。気体供給装置5は、供給管51及び供給口62を介して、チャンバ空間63INにパージガスを供給する。その結果、チャンバ空間63INは、パージガスによってパージされた空間となる。尚、気体供給装置5は、窒素ガスやアルゴンガス等の不活性ガスが格納されたボンベであってもよい。不活性ガスが窒素ガスである場合には、気体供給装置5は、大気を原料として窒素ガスを発生する窒素ガス発生装置であってもよい。
 上述したように、材料ノズル212がパージガスと共に造形材料Mを供給する場合には、気体供給装置5は、チャンバ空間63INに加えて材料供給装置1からの造形材料Mが供給される混合装置12にパージガスを供給してもよい。具体的には、気体供給装置5は、気体供給装置5と混合装置12とを接続する供給管52を介して混合装置12と接続されていてもよい。その結果、気体供給装置5は、供給管52を介して、混合装置12にパージガスを供給する。この場合、材料供給装置1からの造形材料Mは、供給管52を介して気体供給装置5から供給されたパージガスによって、供給管11内を通って材料ノズル212に向けて供給(具体的には、圧送)されてもよい。つまり、気体供給装置5は、供給管52、混合装置12及び供給管11を介して、材料ノズル212に接続されていてもよい。その場合、材料ノズル212は、供給アウトレット214から、造形材料Mを圧送するためのパージガスと共に造形材料Mを供給することになる。
 筐体6は、筐体6の内部空間であるチャンバ空間63INに少なくとも加工装置2及びステージ装置3のそれぞれの少なくとも一部を収容する収容装置である。筐体6は、チャンバ空間63INを規定する隔壁部材61を含む。隔壁部材61は、チャンバ空間63INと、筐体6の外部空間64OUTとを隔てる部材である。隔壁部材61は、その内壁611を介してチャンバ空間63INに面し、その外壁612を介して外部空間64OUTに面する。この場合、隔壁部材61によって囲まれた空間(より具体的には、隔壁部材61の内壁611によって囲まれた空間)が、チャンバ空間63INとなる。尚、隔壁部材61には、開閉可能な扉が設けられていてもよい。この扉は、ワークWをステージ31に載置する際に開かれてもよい。扉は、ステージ31からワークW及び/又は造形物を取り出す際に開かれてもよい。扉は、加工中(つまり、付加加工中又は接合加工中)には閉じられていてもよい。なお、筐体6の外部空間64OUTからチャンバ空間63INを視認するための観察窓(不図示)を隔壁部材61に設けてもよい。
 制御装置7は、加工システムSYSaの動作を制御する。制御装置7は、例えば、CPU(Central Processing Unit)及びGPU(Graphics Processing Unit)の少なくとも一方を含む演算装置と、メモリ等の記憶装置とを含んでいてもよい。制御装置7は、演算装置がコンピュータプログラムを実行することで、加工システムSYSaの動作を制御する装置として機能する。このコンピュータプログラムは、制御装置7が行うべき後述する動作を演算装置に行わせる(つまり、実行させる)ためのコンピュータプログラムである。つまり、このコンピュータプログラムは、加工システムSYSaに後述する動作を行わせるように制御装置7を機能させるためのコンピュータプログラムである。演算装置が実行するコンピュータプログラムは、制御装置7が備える記憶装置(つまり、記録媒体)に記録されていてもよいし、制御装置7に内蔵された又は制御装置7に外付け可能な任意の記憶媒体(例えば、ハードディスクや半導体メモリ)に記録されていてもよい。或いは、演算装置は、実行するべきコンピュータプログラムを、ネットワークインタフェースを介して、制御装置7の外部の装置からダウンロードしてもよい。
 例えば、制御装置7は、照射光学系211による加工光ELの射出態様を制御してもよい。射出態様は、例えば、加工光ELの強度及び加工光ELの射出タイミングの少なくとも一方を含んでいてもよい。加工光ELがパルス光である場合には、射出態様は、例えば、パルス光の発光時間、パルス光の発光周期、及び、パルス光の発光時間の長さとパルス光の発光周期との比(いわゆる、デューティ比)の少なくとも一つを含んでいてもよい。更に、制御装置7は、ヘッド駆動系22による加工ヘッド21の移動態様を制御してもよい。移動態様は、例えば、移動量、移動速度、移動方向及び移動タイミングの少なくとも一つを含んでいてもよい。更に、制御装置7は、材料ノズル212による造形材料Mの供給態様を制御してもよい。材料ノズル212による造形材料Mの供給態様は、主として、材料供給装置1による造形材料Mの供給態様によって定まる。このため、材料供給装置1による造形材料Mの供給態様を制御することは、材料ノズル212による造形材料Mの供給態様を制御することと等価とみなせしてもよい。供給態様は、例えば、供給量(特に、単位時間当たりの供給量)及び供給タイミングの少なくとも一方を含んでいてもよい。
 制御装置7は、加工システムSYSaの内部に設けられていなくてもよい。例えば、制御装置7は、加工システムSYSa外にサーバ等として設けられていてもよい。この場合、制御装置7と加工システムSYSaとは、有線及び/又は無線のネットワーク(或いは、データバス及び/又は通信回線)で接続されていてもよい。有線のネットワークとして、例えばIEEE1394、RS-232x、RS-422、RS-423、RS-485及びUSBの少なくとも一つに代表されるシリアルバス方式のインタフェースを用いるネットワークが用いられてもよい。有線のネットワークとして、パラレルバス方式のインタフェースを用いるネットワークが用いられてもよい。有線のネットワークとして、10BASE-T、100BASE-TX及び1000BASE-Tの少なくとも一つに代表されるイーサネット(登録商標)に準拠したインタフェースを用いるネットワークが用いられてもよい。無線のネットワークとして、電波を用いたネットワークが用いられてもよい。電波を用いたネットワークの一例として、IEEE802.1xに準拠したネットワーク(例えば、無線LAN及びBluetooth(登録商標)の少なくとも一方)があげられる。無線のネットワークとして、赤外線を用いたネットワークが用いられてもよい。無線のネットワークとして、光通信を用いたネットワークが用いられてもよい。この場合、制御装置7と加工システムSYSaとはネットワークを介して各種の情報の送受信が可能となるように構成されていてもよい。また、制御装置7は、ネットワークを介して加工システムSYSaにコマンドや制御パラメータ等の情報を送信可能であってもよい。加工システムSYSaは、制御装置7からのコマンドや制御パラメータ等の情報を、上記ネットワークを介して受信する受信装置を備えていてもよい。加工システムSYSaは、制御装置7に対してコマンドや制御パラメータ等の情報を、上記ネットワークを介して送信する送信装置(つまり、制御装置7に対して情報を出力する出力装置)を備えていてもよい。或いは、制御装置7が行う処理のうちの一部を行う第1制御装置が加工システムSYSaの内部に設けられている一方で、制御装置7が行う処理のうちの他の一部を行う第2制御装置が加工システムSYSaの外部に設けられていてもよい。
 尚、制御装置7が実行するコンピュータプログラムを記録する記録媒体としては、CD-ROM、CD-R、CD-RWやフレキシブルディスク、MO、DVD-ROM、DVD-RAM、DVD-R、DVD+R、DVD-RW、DVD+RW及びBlu-ray(登録商標)等の光ディスク、磁気テープ等の磁気媒体、光磁気ディスク、USBメモリ等の半導体メモリ、及び、その他プログラムを格納可能な任意の媒体の少なくとも一つが用いられてもよい。記録媒体には、コンピュータプログラムを記録可能な機器(例えば、コンピュータプログラムがソフトウェア及びファームウェア等の少なくとも一方の形態で実行可能な状態に実装された汎用機器又は専用機器)が含まれていてもよい。更に、コンピュータプログラムに含まれる各処理や機能は、制御装置7(つまり、コンピュータ)がコンピュータプログラムを実行することで制御装置7内に実現される論理的な処理ブロックによって実現されてもよいし、制御装置7が備える所定のゲートアレイ(FPGA、ASIC)等のハードウェアによって実現されてもよいし、論理的な処理ブロックとハードウェアの一部の要素を実現する部分的ハードウェアモジュールとが混在する形式で実現してもよい。
 ディスプレイ91は、制御装置7の制御下で所望の画像を表示可能な表示装置である。例えば、ディスプレイ91は、加工システムSYSaに関する情報を表示してもよい。例えば、ディスプレイ91は、3次元構造物ST(3次元方向のいずれの方向においても大きさを持つ3次元の物体(立体物))に関する情報を表示してもよい。例えば、ディスプレイ91は、ワークWに関する情報を表示してもよい。例えば、ディスプレイ91は、撮像装置25による撮像結果に関する情報を表示してもよい。
 尚、ディスプレイ91は、加工システムSYSaの内部に設けられていなくてもよい。例えば、ディスプレイ91は、加工システムSYSaの外部に、外部ディスプレイとして設けられていてもよい。この場合、ディスプレイ91と加工システムSYSaとは、有線及び/又は無線のネットワーク(或いは、ケーブル、データバス及び/又は通信回線)で接続されていてもよい。この場合、制御装置7は、ネットワークを介して、ディスプレイ91との間で各種の情報の送受信(つまり、入出力)が可能となるように構成されていてもよい。ディスプレイ91は、制御装置7との間で(更には、制御装置7を介して又は介することなく加工システムSYSaが備えるその他の装置との間で)情報の送受信を行う送受信部(つまり、入出力部)と、画像を表示する表示部とを備えていてもよい。
 入力装置92は、加工システムSYSaの外部からの情報の入力を受け付ける装置である。例えば、入力装置92は、加工システムSYSaのユーザからの情報の入力を受け付けてもよい。例えば、入力装置92は、加工システムSYSaの外部の装置からの情報の入力を受け付けてもよい。例えば、入力装置92は、加工システムSYSaに対して装着可能な記録媒体からの情報の入力を受け付けてもよい。入力装置92の一例として、ユーザが操作可能な操作装置があげられる。操作装置の一例として、キーボード、マウス、タッチパッド、タッチパネル(例えば、ディスプレイ91と一体化されたタッチパネル)及びポインティングデバイスの少なくとも一つがあげられる。入力装置92の他の一例として、加工システムSYSaの外部の装置と接続するためのインタフェース装置があげられる。入力装置92の他の一例として、加工システムSYSaに対して装着可能な記録媒体を読み取り可能な読取装置があげられる。入力装置92が入力を受け付けた情報(つまり、入力装置92に入力された情報)は、例えば、制御装置7に出力される。
 入力装置92は、ディスプレイ91の表示画面を介して、情報の入力を受け付けてもよい。例えば、入力装置92は、ディスプレイ91の表示画面上に表示されたGUI(Graphical User Interface)を介して、情報の入力を受け付けてもよい。例えば、入力装置92は、ディスプレイ91の表示画面上に表示されたGUIに対するユーザの操作に関する情報の入力を受け付けてもよい。この場合、ディスプレイ91は、制御装置7の制御下で、入力装置92を介した情報の入力を受け付けるための画像(例えば、上述したGUI)を表示してもよい。このように、ディスプレイ91は入力装置92と兼用されていてもよい。
 尚、入力装置92は、加工システムSYSaの内部に設けられていなくてもよい。例えば、入力装置92は、加工システムSYSaの外部に、外部入力装置として設けられていてもよい。この場合、入力装置92と加工システムSYSaとは、有線及び/又は無線のネットワーク(或いは、ケーブル、データバス及び/又は通信回線)で接続されていてもよい。この場合、制御装置7は、入力装置92に入力される情報を、ネットワークを介して取得するように構成されていてもよい。言い換えれば、制御装置7は、入力装置92に入力される情報を、ネットワークを介して受信する受信装置として機能するように構成されていてもよい。入力装置92は、制御装置7との間で(更には、制御装置7を介して又は介することなく加工システムSYSaが備えるその他の装置との間で)情報の送受信を行う送受信部(つまり、入出力部)と、加工システムSYSaの外部からの入力を受け付ける入力受付部とを備えていてもよい。
 (1-2)第1実施形態の加工システムSYSaの動作
 続いて、加工システムSYSaの動作について説明する。上述したように、加工システムSYSaは、付加加工及び接合加工の少なくとも一方を行う。このため、以下では、加工システムSYSaの動作として、付加加工を行うための付加加工動作及び接合加工を行うための接合加工動作について順に説明する。
 (1-2-1)付加加工動作
 初めに、付加加工動作(ワークWに対して付加加工を行って3次元構造物STを形成するための動作)について説明する。上述したように、加工システムSYSaは、レーザ肉盛溶接法により3次元構造物STを形成する。このため、加工システムSYSaは、レーザ肉盛溶接法に準拠した既存の付加加工動作(この場合、造形動作)を行うことで、3次元構造物STを形成してもよい。以下、レーザ肉盛溶接法を用いて3次元構造物STを形成する付加加工動作の一例について簡単に説明する。
 加工システムSYSaは、形成するべき3次元構造物STの3次元モデルデータ(例えば、CAD(Computer Aided Design)データ)等に基づいて、ワークW上に3次元構造物STを形成する。3次元モデルデータとして、加工システムSYSa内に設けられた不図示の計測装置及び加工システムSYSaとは別に設けられた3次元形状計測機の少なくとも一方で計測された立体物の計測データが用いられてもよい。加工システムSYSaは、3次元構造物STを形成するために、例えば、Z軸方向に沿って並ぶ複数の層状の部分構造物(以下、“構造層”と称する)SLを順に形成していく。例えば、加工システムSYSaは、3次元構造物STをZ軸方向に沿って輪切りにすることで得られる複数の構造層SLを1層ずつ順に形成していく。その結果、複数の構造層SLが積層された積層構造体である3次元構造物STが形成される。以下、複数の構造層SLを1層ずつ順に形成していくことで3次元構造物STを形成する動作の流れについて説明する。
 まず、各構造層SLを形成する動作について図3(a)から図3(e)を参照して説明する。加工システムSYSaは、制御装置7の制御下で、ワークWの表面又は形成済みの構造層SLの表面に相当する造形面MS上の所望領域に照射領域EAを設定し、当該照射領域EAに対して照射光学系211から加工光ELを照射する。尚、照射光学系211から照射される加工光ELが造形面MS上に占める領域を照射領域EAと称してもよい。第1実施形態においては、加工光ELのフォーカス位置(つまり、集光位置)が造形面MSに一致している。その結果、図3(a)に示すように、照射光学系211から射出された加工光ELによって造形面MS上の所望領域に溶融池(つまり、加工光ELによって溶融した金属のプール)MPが形成される。更に、加工システムSYSaは、制御装置7の制御下で、造形面MS上の所望領域に供給領域MAを設定し、当該供給領域MAに対して材料ノズル212から造形材料Mを供給する。ここで、上述したように照射領域EAと供給領域MAとが一致しているため、供給領域MAは、溶融池MPが形成された領域に設定されている。このため、加工システムSYSaは、図3(b)に示すように、溶融池MPに対して、材料ノズル212から造形材料Mを供給する。その結果、溶融池MPに供給された造形材料Mが溶融する。加工ヘッド21の移動に伴って溶融池MPに加工光ELが照射されなくなると、溶融池MPにおいて溶融した造形材料Mは、冷却されて固化(つまり、凝固)する。その結果、図3(c)に示すように、固化した造形材料Mが造形面MS上に堆積される。つまり、固化した造形材料Mの堆積物による造形物が形成される。
 このような加工光ELの照射による溶融池MPの形成、溶融池MPへの造形材料Mの供給、供給された造形材料Mの溶融及び溶融した造形材料Mの固化を含む一連の造形処理が、図3(d)に示すように、造形面MSに対して加工ヘッド21をXY平面に沿って相対的に移動させながら繰り返される。つまり、造形面MSに対して加工ヘッド21が相対的に移動すると、造形面MSに対して照射領域EAもまた相対的に移動する。従って、一連の造形処理が、造形面MSに対して照射領域EAをXY平面に沿って(つまり、二次元平面内において)相対的に移動させながら繰り返される。この際、加工光ELは、造形面MS上において造形物を形成したい領域に設定された照射領域EAに対して選択的に照射される一方で、造形面MS上において造形物を形成したくない領域に設定された照射領域EAに対して選択的に照射されない。尚、造形物を形成したくない領域には照射領域EAが設定されないとも言える。つまり、加工システムSYSaは、造形面MS上を所定の移動軌跡に沿って照射領域EAを移動させながら、造形物を形成したい領域の分布の態様に応じたタイミングで加工光ELを造形面MSに照射する。その結果、溶融池MPもまた、照射領域EAの移動軌跡に応じた移動軌跡に沿って造形面MS上を移動することになる。具体的には、溶融池MPは、造形面MS上において、照射領域EAの移動軌跡に沿った領域のうち加工光ELが照射された部分に順次形成される。更に、上述したように照射領域EAと供給領域MAとが一致しているため、供給領域MAもまた、照射領域EAの移動軌跡に応じた移動軌跡に沿って造形面MS上を移動することになる。その結果、図3(e)に示すように、造形面MS上に、溶融した後に固化した造形材料Mによる造形物の集合体に相当する構造層SLが形成される。つまり、溶融池MPの移動軌跡に応じたパターンで造形面MS上に形成された造形物の集合体に相当する構造層SL(つまり、平面視において、溶融池MPの移動軌跡に応じた形状を有する構造層SL)が形成される。尚、造形物を形成したくない領域に照射領域EAが設定されている場合、加工システムSYSaは、加工光ELを照射領域EAに照射するとともに、造形材料Mの供給を停止してもよい。また、造形物を形成したくない領域に照射領域EAが設定されている場合に、加工システムSYSaは、造形材料Mを照射領域EAに供給するとともに、溶融池MPができない強度の加工光ELを照射領域EAに照射してもよい。
 尚、上述した説明では、加工システムSYSaは、造形面MSに対して加工ヘッド21を移動させることにより、造形面MSに対して照射領域EAを移動させている。しかしながら、加工システムSYSaは、造形面MSに対して加工ヘッド21を移動させることに加えて又は代えて、加工ヘッド21に対してステージ31を移動させる(即ち、造形面MSを移動させる)ことで、造形面MSに対して照射領域EAを移動させてもよい。この場合、ステージ31は、ステージ31を移動させるためのステージ駆動系を備えていてもよい。また、上述したように、加工システムSYSaは、造形面MSに対して加工ヘッド21の一部(例えば、照射光学系211の全体又は照射光学系211の一部の光学素子)を移動させることにより、造形面MSに対して照射領域EAを移動させてもよい。また、加工システムSYSaは、上述したように、照射光学系211が備えるガルバノミラーを駆動することにより、造形面MSに対して照射領域EAを移動させてもよい。
 加工システムSYSaは、このような構造層SLを形成するための動作を、制御装置7の制御下で、3次元モデルデータに基づいて繰り返し行う。具体的には、まず、制御装置7は、3次元モデルデータを積層ピッチでスライス処理してスライスデータを作成する。尚、加工システムSYSaの特性に応じてこのスライスデータを一部修正したデータが用いられてもよい。加工システムSYSaは、ワークWの表面に相当する造形面MS上に1層目の構造層SL#1を形成するための動作を、構造層SL#1に対応する3次元モデルデータ(つまり、構造層SL#1に対応するスライスデータ)に基づいて行う。その結果、造形面MS上には、図4(a)に示すように、構造層SL#1が形成される。その後、加工システムSYSaは、構造層SL#1の表面(つまり、上面)を新たな造形面MSに設定した上で、当該新たな造形面MS上に2層目の構造層SL#2を形成する。構造層SL#2を形成するために、制御装置7は、まず、加工ヘッド21がZ軸に沿って移動するようにヘッド駆動系22を制御する。具体的には、制御装置7は、ヘッド駆動系22を制御して、照射領域EA及び供給領域MAが構造層SL#1の表面(つまり、新たな造形面MS)に設定されるように、+Z側に向かって加工ヘッド21を移動させる。これにより、加工光ELのフォーカス位置が新たな造形面MSに一致する。その後、加工システムSYSaは、制御装置7の制御下で、構造層SL#1を形成する動作と同様の動作で、構造層SL#2に対応するスライスデータに基づいて、構造層SL#1上に構造層SL#2を形成する。その結果、図4(b)に示すように、構造層SL#2が形成される。以降、同様の動作が、ワークW上に形成するべき3次元構造物STを構成する全ての構造層SLが形成されるまで繰り返される。その結果、図4(c)に示すように、複数の構造層SLが積層された積層構造物によって、3次元構造物STが形成される。
 (1-2-2)接合加工動作
 続いて、接合加工動作(つまり、複数のワークWに対して接合加工を行って複数のワークWを接合するための動作)について説明する。
 (1-2-2-1)接合加工の概要
 初めに、図5(a)から図5(f)を参照しながら、接合加工の概要について説明する。つまり、接合加工がどのような加工であるかについて説明する。図5(a)から図5(f)のそれぞれは、接合加工の一工程での複数のワークWの様子を示す断面図又は平面図である。
 図5(a)及び図5(b)は、それぞれ、ワークWの一例であるワークW1及びワークW2を示す断面図及び平面図である。以下では、ワークW1とワークW2とを接合する接合加工について説明する。つまり、二つのワークWを接合する接合加工について説明する。但し、三つ以上のワークWもまた、同様の接合加工によって接合可能である。
 図5(a)及び図5(b)に示すように、ワークW1及びW2が接合される場合には、ワークW1は、ワークW1の表面の少なくとも一部がワークW2に対向するように配置される。同様に、ワークW2は、ワークW2の表面の少なくとも一部がワークW1に対向するように配置される。尚、ワークW1及びW2は治具によってそれぞれ固定されていてもよい(ワークW1及びW2の位置関係が固定されていてもよい)。以下、ワークW1の表面のうちワークW2に対向する面を、端面WS1と称し、ワークW2の表面のうちワークW1に対向する面を、端面WS2と称する。図5(a)及び図5(b)に示す例では、ワークW1の+Y側を向いた面の少なくとも一部が端面WS1となり、ワークW2の-Y側を向いた面の少なくとも一部が端面WS2となる。尚、図5(a)及び図5(b)は、端面WS1と端面WS2との間に空隙が確保されている例を示しているが、端面WS1と端面WS2とが接触していてもよい。
 接合加工は、端面WS1及びWS2を介してワークW1及びW2を接合するための加工である。上述したように、接合加工は、溶接加工及びろう付け加工の少なくとも一方を含む。溶接加工は、例えば、端面WS1及びWS2のそれぞれの少なくとも一部を加工光ELで溶融することで端面WS1及びWS2を介してワークW1及びW2を一体化するための加工を含んでいてもよい。この際、上述したように、材料ノズル212から供給される造形材料Mが、ワークW1及びW2を接合するための接合材(言い換えれば、溶加材)として用いられてもよい。一方で、ろう付け加工は、例えば、端面WS1及びWS2のそれぞれを加工光ELで溶融することなく、端面WS1と端面WS2との間において加工光ELで溶融した後に固化した造形材料Mを介してワークW1及びW2を一体化するための加工を含んでいてもよい。つまり、材料ノズル212から供給される造形材料Mが、ワークW1及びW2を接合するための接合材(一例として、硬ろう又は軟ろう)として用いられてもよい。
 また、ワークW1の端面WS1及び/又はワークW2の端面WS2には、開先加工等の事前加工(事前処理)を施しておいてもよい。
 具体的には、図5(c)に示すように、照射光学系211は、ワークW1及びW2に加工光ELを照射する。この際、照射領域EAは、ワークW1の上面とワークW2の上面との境界の少なくとも一部を含むように設定される。更に、材料ノズル212は、照射領域EAと一致する供給領域MAに造形材料Mを供給する。つまり、制御装置7の制御下で、材料供給装置1が材料ノズル212に造形材料Mを供給し、材料ノズル212が材料供給装置1から供給された造形材料Mを供給領域MAに供給する。照射領域EAに加工光ELが照射され且つ供給領域MAに造形材料Mが供給されると、加工光ELのエネルギによって、供給された造形材料Mの少なくとも一部が溶融する。更に、場合によっては、加工光ELのエネルギによって、ワークW1の少なくとも一部及び/又はワークW2の少なくとも一部が溶融してもよい。特に、加工光ELのエネルギによって、端面WS1の少なくとも一部及び/又は端面WS2の少なくとも一部が溶融してもよい。但し、加工光ELのエネルギによって、ワークW1及び/又はワークW2が溶融しなくてもよい。尚、照射光学系211は、ワークW1及びW2の一方に加工光ELを照射してもよい。
 その結果、図5(d)に示すように、照射領域EAが設定された位置(つまり、加工光ELが照射されている位置)には、造形材料Mの少なくとも一部(更には、場合によっては、ワークW1の少なくとも一部及び/又はワークW2の少なくとも一部)が溶融した溶融池MPが形成される。
 その後、加工ヘッド21の移動に伴って溶融池MPに加工光ELが照射されなくなると、溶融池MPにおいて溶融した造形材料Mの少なくとも一部(更には、場合によっては、ワークW1の少なくとも一部及び/又はワークW2の少なくとも一部)は、冷却されて固化(つまり、凝固)する。つまり、溶融池MPが固化する。その結果、図5(e)に示すように、固化した溶融池MPを介して、ワークW1とワークW2とが部分的に接合される。つまり、溶融池MPが固化することで形成される部分を介して、ワークW1とワークW2とが部分的に接合される。
 このような加工光ELの照射と造形材料Mの供給とによる溶融池MPの形成及び溶融池MPの固化を含む一連の接合処理が、図5(f)に示すように、ワークW1の上面とワークW2の上面との境界に沿って加工ヘッド21を移動させながら繰り返される。つまり、一連の接合処理が、ワークW1とワークW2とが接合される接合領域WAに加工光ELが照射されるように加工ヘッド21を移動させながら繰り返される。尚、接合領域WAは、典型的には、ワークW1の上面とワークW2の上面との境界に沿って延びる領域となる。その結果、ワークW1とワークW2とが接合される。尚、溶融池MPが固化することで形成される部分を溶接痕、溶接跡又は溶接ビードと称してもよい。この溶接痕、溶接跡又は溶接ビードは、ワークW1及びW2の上面から盛り上がっていてもよい。
 上述した説明では、接合加工中に材料ノズル212から造形材料Mが供給されているが、接合加工中に材料ノズル212から造形材料Mが供給されなくてもよい。つまり、制御装置7の制御下で、材料供給装置1が材料ノズル212に造形材料Mを供給しなくてもよい。この場合であっても、加工光ELのエネルギによってワークW1の少なくとも一部及び/又はワークW2の少なくとも一部が溶融して溶融池MPが形成される限りは、溶融池MPが固化した部分を介してワークW1とワークW2とが接合される。
 具体的には、材料ノズル212から造形材料Mを供給することなく行われる接合加工の一工程でのワークW1及びW2の様子が、図6(a)から図6(f)に示されている。図6(a)及び図6(b)に示すように、ワークW1及びW2は、端面WS1及びWS2が互いに対向するように配置される。接合加工中に材料ノズル212から造形材料Mが供給されない場合には、図6(a)及び図6(b)に示すように、典型的には、端面WS1と端面WS2とが接触することが好ましいが、端面WS1と端面WS2との間に空隙が確保されていてもよい。或いは、加工光ELが照射されている期間中は端面WS1と端面WS2との間に空隙が確保されており、加工光ELが照射されなくなった後に端面WS1と端面WS2とが接触するようにワークW1及びW2の少なくとも一方が移動してもよい。
 この状態において、図6(c)に示すように、照射光学系211は、ワークW1及びW2の少なくとも一方に加工光ELを照射する。加工光ELのエネルギによって、ワークW1の少なくとも一部及び/又はワークW2の少なくとも一部が溶融する。一方で、材料ノズル212は、照射領域EAと一致する供給領域MAに造形材料Mを供給しない。この際、材料ノズル212は、造形材料Mを供給することなく、パージガスを供給してもよい。この場合、材料供給装置1もまた、材料ノズル212に対して、供給管11を介して、造形材料Mを供給することなく、パージガスを供給してもよい。つまり、材料ノズル212が造形材料Mを供給しない場合であっても、気体供給装置5は、供給管11及び52を介して、材料ノズル212にパージガスを供給してもよい。その結果、材料ノズル212から造形材料Mが供給されない場合であっても、アシストガスとして用いられるパージガスを材料ノズル212から供給可能となる。但し、材料ノズル212は、パージガスを供給しなくてもよい。
 その結果、図6(d)に示すように、照射領域EAが設定された位置(つまり、加工光ELが照射されている位置)には、ワークW1の少なくとも一部及び/又はワークW2の少なくとも一部が溶融した溶融池MPが形成される。その後、加工ヘッド21の移動に伴って溶融池MPに加工光ELが照射されなくなると、溶融池MPにおいて溶融したワークW1の少なくとも一部及び/又はワークW2の少なくとも一部は、冷却されて固化(つまり、凝固)する。その結果、図6(e)に示すように、固化した溶融池MPを介して、ワークW1とワークW2とが部分的に接合される。このような加工光ELの照射による溶融池MPの形成及び溶融池MPの固化を含む一連の接合処理が、図6(f)に示すように、ワークW1の上面とワークW2の上面との境界に沿って加工ヘッド21を移動させながら繰り返される。その結果、ワークW1とワークW2とが接合される。尚、溶融池MPにおいて溶融したワークW1の少なくとも一部及び/又はワークW2の少なくとも一部が冷却されて固化した部分を溶接痕又は溶接ビードと称してもよい。この溶接痕又は溶接ビードは、ワークW1及びW2の上面から盛り上がっていてもよく、ワークW1及びW2の上面に対してくぼんでいてもよく、ワークW1及びW2の上面と面一であってもよい。
 このように、加工システムSYSa(特に、加工装置2)は、造形材料Mを供給しながら複数のワークWを接合する第1の接合加工及び造形材料Mを供給することなく複数のワークWを接合する第2の接合加工の少なくとも一方を行うように構成されていてもよい。言い換えれば、加工システムSYSaは、複数のワークWの少なくとも一つへの加工光ELの照射と溶融池MPへの造形材料Mの供給とを含む第1の動作を行って複数のワークWを接合する第1の接合加工、及び、複数のワークWの少なくとも一つへの加工光ELの照射を含む一方で溶融池MPへの造形材料Mの供給を含まない第2の動作を行って複数のワークWを接合する第2の接合加工との少なくとも一方を行うように構成されていてもよい。つまり、加工システムSYSaは、同じ加工装置2(特に、同じ加工ヘッド21)を用いて、第1及び第2の接合加工の少なくとも一方を行うように構成されていてもよい。
 この場合、制御装置7は、所定の動作条件に従って、加工装置2の動作モードを、第1の接合加工を行う第1のモードと第2の接合加工を行う第2のモードとの間で切り替えてもよい。例えば、制御装置7は、第1の動作条件が満たされる場合には、加工装置2の動作モードを、第1の接合加工を行う第1のモードに設定してもよい。例えば、制御装置7は、第2の動作条件が満たされる場合には、加工装置2の動作モードを、第2の接合加工を行う第2のモードに設定してもよい。
 第1の動作条件は、ワークW1とワークW2とをその境界を介して少なくとも部分的に接触させないという条件を含んでいてもよい。第1の動作条件は、ワークW1の端面WS1とワークW2の端面WS2との間に空隙が形成されるという条件を含んでいてもよい。第1の動作条件は、端面WS1の形状と端面WS2の形状とが少なくとも部分的に相補の関係にないという条件を含んでいてもよい。このような条件が満たされる状況下で造形材料Mが供給されない場合には、ワークW1及びW2が接合された状態でワークW1の端面WS1とワークW2の端面WS2との間に空隙が少なくとも部分的に残存してしまう可能性がある。そこで、当該空隙を埋めるために、材料ノズル212から供給される造形材料Mが用いられてもよい。
 第1の動作条件は、ワークW1及びW2の材質と造形材料Mの材質とが同じであるという条件を含んでいてもよい。第1の動作条件は、ワークW1及びW2を構成する材料の種類と造形材料Mを構成する材料の種類とが同じであるという条件を含んでいてもよい。第1の動作条件は、ワークW1及びW2と造形材料Mとの結合力が相対的に強いという条件を含んでいてもよい。この場合、造形材料Mが供給されたとしても、ワークW1及びワークW2の溶融物と造形材料Mの溶融物との混合物が固化した部材を介してワークW1及びW2が適切に接合される。
 第2の動作条件は、端面WS1と端面WS2との間に空隙が形成されない又は無視できる程度に小さい空隙しか形成されないという条件を含んでいてもよい。第2の動作条件は、端面WS1の形状と端面WS2の形状とが相補の関係にあるという条件を含んでいてもよい。このような条件が満たされる場合には、端面WS1と端面WS2との間に空隙が形成されない又は無視できる程度に小さい空隙しか形成されないがゆえに、空隙を埋めるために造形材料Mが用いられなくてもよくなる。従って、このような条件が満たされる場合には、造形材料Mが供給されなくてもよい。
 第2の動作条件は、ワークW1及びW2の材質と造形材料Mの材質とが異なる(特に、大きく異なる)であるという条件を含んでいてもよい。第2の動作条件は、ワークW1及びW2を構成する材料の種類と造形材料Mを構成する材料の種類とが異なる(特に、大きく異なる)という条件を含んでいてもよい。第2の動作条件は、ワークW1及びW2と造形材料Mとの結合力が相対的に弱いという条件を含んでいてもよい。この場合、造形材料Mが供給されると、ワークW1及びW2の溶融物と造形材料Mの溶融物とが分離するがゆえに、ワークW1及びW2の溶融物と造形材料Mの溶融物とが固化した部材を介したワークW1及びW2の接合強度が低下する可能性がある。このため、このような条件が満たされる場合には、造形材料が供給されなくてもよい。
 第2の動作条件は、材料供給装置1における造形材料Mの残量が所定量未満であるという条件を含んでいてもよい。この場合、接合加工のために造形材料Mが用いられないがゆえに、造形材料Mの消費量が低減される。
 尚、加工システムSYSaが付加加工及び造形材料Mを用いる接合加工を行わない場合には、加工システムSYSaは、造形材料Mの供給に関する装置及び部材を備えていなくてもよい。例えば、加工システムSYSaは、材料ノズル212及び材料供給装置1を備えていなくてもよい。
 (1-2-2-2)接合加工動作の流れ
 続いて、図7を参照しながら、接合加工動作の全体の流れについて説明する。図7は、接合加工動作の全体の流れを示すフローチャートである。
 図7に示すように、まずは、ステージ31の載置面311に、接合対象となる複数のワークWが載置される(ステップS11)。例えば、ワークW1とワークW2とが接合される場合には、ワークW1及びW2が載置面311に載置される。
 その後、加工システムSYSaは、接合加工中の照射領域EAの移動経路(つまり、移動軌跡)に相当する接合パスPAを設定(言い換えれば、指定)する(ステップS211からステップS215)。照射領域EAに加工光ELが照射されるがゆえに、接合パスPAは、接合加工中に加工光ELを照射するべき位置(以降、この位置を、適宜、“目標照射位置”と称する)を示しているとも言える。つまり、接合パスPAは、接合加工中に加工光ELを照射するべき領域以降、この領域を、適宜“目標照射領域”と称する)そのもの又は目標照射領域の位置を示しているとも言える。また、照射領域EAに加工光ELが照射されると溶融池MPが形成されることから、接合パスPAは、溶融池MPの移動経路(つまり、溶融池MPが形成される領域)を示しているとも言える。また、加工光ELが照射された部分を介してワークW1とワークW2とが接合されるがゆえに、接合パスPAは、ワークW1とワークW2とが接合される接合領域WAの位置を示しているとも言える。従って、接合パスPAを設定する処理は、目標照射領域、溶融池MPの移動経路(つまり、溶融池MPが形成される領域)及び接合領域WAの位置の少なくとも一つを設定する処理と等価であるとみなしてもよい。
 接合パスPAを設定するために、まずは、接合パスPAに含まれる少なくとも一つの接合点Pが、加工システムSYSaのユーザによって指定される(ステップS211からステップS214)。この場合、接合パスPAは、ユーザによって指定された接合点Pを通過する経路となる。接合パスPAは、ユーザによって指定された接合点Pを通過する領域となる。従って、指定された接合点Pに関する情報は、接合パスPAに関する情報に相当する。より具体的には、指定された接合点Pに関する情報は、接合パスPAを設定するための(つまり、指定するための)情報として用いられる。
 接合点Pを指定するために、まず、複数のガイド光射出装置24のそれぞれがガイド光GLを射出する(ステップS211)。特に、ステージ31がワークW(例えば、ワークW1及びW2)を支持しているため、複数のガイド光射出装置24のそれぞれは、ワークWに向けてガイド光GLを射出する。つまり、複数のガイド光射出装置24のそれぞれは、ワークWにガイド光GLを照射する。このように複数のガイド光射出装置24のそれぞれがガイド光GLを射出している状態で、ヘッド駆動系22は、加工システムSYSaのユーザの指示に基づいて加工ヘッド21を移動させる(ステップS212)。加工ヘッド21が移動すると、複数のガイド光GLの照射位置もまた移動する(つまり、変わる)。そして、加工ヘッド21が移動した結果、ユーザが接合点Pとして指定したい部分に複数のガイド光GLが照射されたタイミングで、ユーザは、複数のガイド光GLが照射されている部分を接合点Pに指定するための指示を加工システムSYSaに入力する(ステップS213)。
 ここで、ステージ31が支持しているワークW1及びW2と複数のガイド光GLとの位置関係を示す断面図及び平面図である図8(a)及び図8(b)に示すように、複数のガイド光GLは、加工ヘッド21の下方のある位置において互いに交差する。特に、複数のガイド光GLは、加工ヘッド21の下方において加工ヘッド21との相対位置が固定された位置において互いに交差する。このため、ユーザは、接合点Pとして指定したい部分に複数のガイド光GLの交点が位置したタイミングで、複数のガイド光GLが照射されている部分を接合点Pに指定するための指示を入力する。上述したように、複数のワークWは、複数のワークWの上面の境界を介して接合される。このため、ユーザは、典型的には、複数のワークWの上面の境界及び当該境界の近傍に接合点Pを指定する。つまり、ユーザは、典型的には、複数のワークWの上面の境界及び当該境界の近傍に複数のガイド光GLの交点が位置したタイミングで、複数のガイド光GLが照射されている部分を接合点Pに指定するための指示を入力する。
 ユーザが接合点Pを指定するための指示を入力したことをきっかけに、位置計測装置23は、ユーザが接合点Pを指定するための指示を入力した時点での加工ヘッド21の位置を計測する。上述した例で言えば、位置計測装置23は、ユーザが接合点Pとして指定したい部分に複数のガイド光GLが照射されているときの加工ヘッド21の位置を計測する。上述したように、複数のガイド光GLは、加工ヘッド21との相対位置が固定された位置において交差する。このため、加工ヘッド21の位置を計測する動作は、加工ヘッド21との相対位置が固定された複数のガイド光GLの照射位置を間接的に計測する動作と等価とみなせる。つまり、加工ヘッド21の位置を計測する動作は、ユーザが指定した接合点Pの位置を間接的に計測する動作と等価とみなせる。従って、位置計測装置23の計測結果は、ユーザが指定した接合点Pの位置に関する情報を含んでいる。このため、位置計測装置23の計測結果(つまり、ユーザの指示に基づいて計測された接合点Pの位置に関する情報)は、接合パスPAを設定するための情報として制御装置7に出力される。その結果、制御装置7は、位置計測装置23の計測結果に基づいて、接合点Pの位置を算出し、算出した接合点Pの位置に基づいて接合パスPAを設定することができる。尚、位置計測装置23による加工ヘッド21の位置の計測は、ユーザが接合点Pを指定するための指示を入力したことをきっかけとしなくてもよく、例えば、位置計測装置23による加工ヘッド21の位置を常時計測してもよい。
 上述したように接合加工が行われる場合には、加工光ELが複数のワークWのうち少なくとも一つの少なくとも一部に照射される。このため、ユーザは、ワークW上の位置に接合点Pを指定してもよい。但し、ユーザは、複数のワークWの間の空隙に対応する位置に接合点Pを指定してもよい。
 ユーザは、入力装置92を用いて、接合点Pを指定するための指示を加工システムSYSaに入力してもよい。接合点Pを指定するための指示は、例えば、加工ヘッド21を移動させる指示、及び、複数のガイド光GLが照射されている部分を接合点Pに指定する指示の少なくとも一方を含んでいてもよい。一例として、ユーザは、ディスプレイ91に表示されるGUI(グラフィカルユーザーインターフェース)を用いて、接合点Pを指定するための指示を加工システムSYSaに入力してもよい。ここで、接合点Pを指定するために用いられるGUIの一例であるGUI920について、図9を参照しながら説明する。
 図9に示すように、GUI920は、撮像装置25の撮像結果を表示するためのGUI921を含んでいてもよい。つまり、GUI920は、撮像装置25が撮像した画像を表示するためのGUI921を含んでいてもよい。第1実施形態では、ユーザが接合点Pを指定する場合には、撮像装置25は、制御装置7の制御下で、ステージ31が支持する複数のワークW(特に、それらの上面の境界)と、複数のガイド光GLの状態とを撮像する。この場合、ユーザは、GUI921に表示された画像(つまり、複数のワークWと複数のガイド光GLとの位置関係を示す画像)を視認しながら、接合点Pを指定するための指示を入力してもよい。その結果、ユーザは、接合点Pを適切に指定することができる。但し、ユーザは、GUI921を介することなく、複数のワークWと複数のガイド光GLの状態とを視認してもよい。例えば、筐体6に観察窓が形成されている場合は、ユーザは、観察窓を介して、複数のワークWと複数のガイド光GLの状態とを視認してもよい。
 尚、ガイド光GLの波長は、加工光ELの波長と異なっていてもよい。ガイド光GLの波長が加工光ELの波長と異なる場合、撮像装置25の光学系の最もワークW側に、加工光ELを反射し且つガイド光GLを透過するフィルタが配置されていてもよい。例えば、加工光ELが赤外光の波長帯域に含まれる波長の光であるときには、フィルタとして赤外反射フィルタが用いられてもよい。また、上述のように筐体6に観察窓が形成されている場合、観察窓は、加工光ELの波長の光を反射し且つガイド光GLの波長の光を透過させるものであってもよい。
 GUI920は、GUI921に加えて又は代えて、加工ヘッド21を移動させるためにユーザが操作するGUI922を含んでいてもよい。図9に示すように、GUI922は、加工ヘッド21を+X側、-X側、+Y側、-Y側、+Z側及び-Z側にそれぞれ移動させるためにユーザが選択する6つの移動ボタンを含んでいてもよい。GUI922は、移動ボタンの1回の選択で加工ヘッド21が移動する移動量を指定するためにユーザが選択するラジオボタンを含んでいてもよい。図9は、「0.01mm」、「0.1mm」、「1mm」、「10mm」及び「100mm」という5種類の移動量から一つの移動量をユーザに選択させる、「Feed」というラベルが付与されたラジオボタンが表示される例を示している。GUI922は、移動ボタンが選択された場合の加工ヘッド21の移動速度を指定するためにユーザが選択するラジオボタンを含んでいてもよい。図9は、「10mm/s」及び「50mm/s」という2種類の移動速度から一つの移動速度をユーザに選択させる、「Speed」というラベルが付与されたラジオボタンが表示される例を示している。
 GUI920は、GUI921から922の少なくとも一つに加えて又は代えて、複数のガイド光GLが照射されている部分を接合点Pとして指定するためにユーザが操作するGUI923を含んでいてもよい。図9は、GUI923が、ユーザが接合点Pを指定するための指示を入力する際に押下する、「追加」というラベルが付与された操作ボタンを含む例を示している。従って、ユーザがGUI923を操作したことをトリガに、位置計測装置23は、加工ヘッド21の位置を計測する(つまり、接合点Pの位置を間接的に計測する)。
 GUI920は、GUI921から923の少なくとも一つに加えて又は代えて、ユーザが指定した接合点Pのリストを示すGUI924を含んでいてもよい。リストには、例えば、位置計測装置23の計測結果に基づいて制御装置7によって算出される接合点Pの位置(つまり、位置座標)が含まれていてもよい。
 GUI920は、GUI921から924の少なくとも一つに加えて又は代えて、ユーザが指定した少なくとも一つの接合点Pをリストから削除するためにユーザが操作するGUI925を含んでいてもよい。図9は、GUI925が、少なくとも一つの接合点Pをリストから削除する際にユーザが押下する、「削除」というラベルが付与された操作ボタンを含む例を示している。削除された接合点Pは、接合パスPAを設定する際に参照されなくてもよい。
 GUI920は、GUI921から925の少なくとも一つに加えて又は代えて、接合加工の態様を規定するパラメータを設定するためにユーザが操作するGUI926を含んでいてもよい。図9に示すように、GUI926は、接合加工中の加工ヘッド21の移動速度を指定するためのGUI(例えば、「Speed」というラベルが付与されたテキストボックス)を含んでいてもよい。GUI926は、接合加工中の加工光ELの強度を指定するためのGUI(例えば、「Power」というラベルが付与されたテキストボックス)を含んでいてもよい。GUI926は、接合パスPAの種類を指定するためのGUI(例えば、「Type」というラベルが付与されたドロップダウンリスト)を含んでいてもよい。尚、接合パスPAの種類については、図10から図15を参照しながら後に詳述する。GUI926は、接合加工中に材料ノズル212から造形材料Mを供給するか否かを指定するためのGUI(例えば、「Powder」というラベルが付与されたラジオボタン)を含んでいてもよい。造形材料Mを供給するか否かを指定するためのGUIは、実質的には、加工装置2の動作モードを第1のモードと第2のモードとの間で切り替えるため(加工装置2の動作を第1の動作と第2の動作との間で切り替えるため)のGUIに相当する。
 GUI920は、GUI921から926の少なくとも一つに加えて又は代えて、接合加工を開始するためにユーザが操作するGUI927を含んでいてもよい。図9は、GUI927が、接合加工を開始する際にユーザが押下する、「実行」というラベルが付与された操作ボタンを含む例を示している。ユーザがGUI927を操作した場合には、加工装置2は、設定された接合パスPAに加工光ELを照射して複数のワークWを接合するための接合加工を開始する。
 GUI920は、GUI921から927の少なくとも一つに加えて又は代えて、加工光ELを照射させることなく接合パスPAに基づいて加工ヘッド21を移動させる確認処理を開始するためにユーザが操作するGUI928を含んでいてもよい。確認処理は、主として、設定された接合パスPAに基づいて接合加工が行われる場合に加工光ELの照射位置(つまり、照射領域EA)がどのように移動するかをユーザに確認させる(具体的には、視認させる)ことを目的に行われる処理である。つまり、確認処理は、主として、設定された接合パスPAに基づいて接合加工が行われる場合に照射領域EAとワークWとの相対位置の変化をユーザに確認させる(具体的には、視認させる)ことを目的に行われる処理である。図9は、GUI928が、確認処理を開始する際にユーザが押下する、「確認」というラベルが付与された操作ボタンを含む例を示している。ユーザがGUI928を操作した場合には、加工装置2は、加工光ELを照射することなく、設定された接合パスPAに従って移動する。尚、確認処理については、後に詳述する。
 尚、上述した接合点Pの指定方法はあくまで一例である。このため、ユーザは、上述した方法とは異なる方法で接合点Pを指定してもよい。例えば、ユーザは、接触式のプローブを用いて、接合点Pを指定してもよい。具体的には、加工ヘッド21に接触式のプローブが配置されている場合には、ユーザは、接合点Pに指定したい部分にプローブを接触させることで、接合点Pを指定してもよい。また、加工光ELの波長が可視域の波長帯である場合には、ワークWに影響を及ぼさない程度の強度に設定された加工光ELをガイド光GLの代わりに用いて接合点Pを指定してもよい。
 再び図7において、上述した接合点Pを指定するための処理が、接合パスPAを設定するために必要な所望数の接合点Pが指定されるまで繰り返される(ステップS214)。所望数は、典型的には、2以上である。但し、所望数は1であってもよい。所望数が1である場合、接合パスPAが予め設定されていてもよい。所望数は、ユーザによって設定されてもよい。所望数は、制御装置7によって自動的に設定されてもよい。所望数として、デフォルトの固定値が用いられてもよい。所望数の接合点Pが指定されたか否かは、ユーザによって判定されてもよい。所望数の接合点Pが指定されたか否かは、制御装置7によって判定されてもよい。
 所望数の接合点Pがまだ指定されていない場合には(ステップS214:No)、上述したステップS212からステップS213の処理が行われることで、新たな接合点P(つまり、別の接合点P)が指定される。他方で、所望数の接合点Pが指定された場合には(ステップS214:Yes)、制御装置7は、指定された所望数の接合点Pに基づいて、接合パスPAを設定する(ステップS215)。具体的には、制御装置7は、指定された所望数の接合点Pの位置に基づいて、接合パスPAを設定する(ステップS215)。この際、制御装置7は、例えば、上述したGUI920を介して設定された種類の接合パスPAを設定してもよい。
 尚、接合点Pをユーザによって指定する際に、ユーザはその接合点Pが最後に指定する接合点Pであるか否かを指定してもよい。この場合、制御装置7は、ユーザによって指定された1以上の接合点Pに基づいて、接合パスPAを設定する。
 以下、接合パスPAの設定例について、接合パスPAの種類毎に、図10(a)から図15(c)を参照しながら順に説明する。
 図10(a)は、二つのワークW101及びW102を示す平面図である。図10(a)に示すように、二つのワークW101及びW102は、X軸方向に沿って延びる直線状の境界B10を介して(挟んで)対向している。尚、境界B10は、ワークW101の上面とワークW102の上面との間の境界である。これら二つのワークW101及びW102は、例えば、境界B10を含むようにX軸方向に沿って延びる長手形状の接合領域WAに加工光ELが照射されることで接合されるものとする。つまり、これら二つのワークW101及びW102は、例えば、境界B10の一方の端部から境界B10の他方の端部に向けて照射領域EAが移動するように加工光ELが照射されることで接合されるものとする。この場合には、図10(b)に示すように、ユーザは、例えば、境界B10上に及び/又は境界B10の近傍に接合点Pを指定してもよい。一例として、ユーザは、境界B10の特徴点に接合点Pを指定してもよい。特に、ユーザは、例えば、境界B10の少なくとも二つの特徴点に接合点Pを指定してもよい。例えば、境界B10の特徴点は、境界B10の延びる方向における境界B10の端部を含んでいてもよい。図10(b)に示す例では、ユーザは、境界B10の一方の端部(例えば、-X側の端部)又はその近傍に接合点P101を指定し、境界B10の他方の端部(例えば、+X側の端部)又はその近傍に接合点P102を指定している。このような二つの接合点P(図10(b)では、接合点P101及びP102)が設定された場合には、図10(c)に示すように、制御装置7は、二つの接合点Pを結ぶ線分を、接合パスPAに指定してもよい。図10(c)に示す例では、制御装置7は、接合点P101と接合点P102とを結ぶようにX軸に沿って延びる線分を、接合パスPAに指定している。その結果、このような直線状の接合パスPAに沿って照射領域EAが移動するように加工ヘッド21が移動することで、図10(a)に示す接合領域WAに加工光ELが照射される。つまり、接合点P101から接合点P102に向かって照射領域EAが移動するように加工光ELが照射される。その結果、二つのワークW101及びW102は、境界B10を介して接合される。
 尚、図10(c)に示す接合パスPAは、接合パスPAに対応する接合領域WAが実質的に直線状に延びる形状を有しているがゆえに、直線接合用の接合パスPAと称されてもよい。ユーザは、上述した図9のGUI926を用いて、設定する接合パスPAの種類として、直線接合用の接合パスPAを指定してもよい。尚、接合パスPAの種類を指定する動作は、接合パスPAの軌跡の種類を指定する動作であってもよい。
 図11(a)は、三つのワークW111、W112及びW113を示す平面図である。図11(a)に示すように、二つのワークW111及びW112は、X軸方向に沿って延びる直線状の境界B111を介して対向している。尚、境界B111は、ワークW111の上面とワークW112の上面との間の境界である。また、二つのワークW112及びW113は、Y軸方向に沿って延びる直線状の境界B112を介して対向している。尚、境界B112は、ワークW112の上面とワークW113の上面との間の境界である。これら三つのワークW111からW113は、例えば、境界B111を含むようにX軸方向に沿って延びる長手形状の接合領域WA#1及び境界B112を含むようにY軸方向に沿って延びる長手形状の接合領域WA#2を含む接合領域WAに加工光ELが照射されることで接合されるものとする。つまり、これら三つのワークW111からW113は、例えば、境界B111の一方の端部から境界B111の他方の端部及び境界B112の一方の端部を介して境界B112の他方の端部に向けて照射領域EAが移動するように加工光ELが照射されることで接合されるものとする。この場合にも、図11(b)に示すように、ユーザは、境界B111及びB112の少なくとも一方並びに/又は境界B111及びB112の少なくとも一方の近傍に接合点Pを指定してもよい。図11(b)に示す例では、ユーザは、境界B111の一方の端部(例えば、-X側の端部)又はその近傍に接合点P111を指定し、境界B111の他方の端部(例えば、+X側の端部)又はその近傍に接合点P112を指定し、境界B112の他方の端部(例えば、-Y側の端部)又はその近傍に接合点P113を指定している。尚、境界B112の一方の端部(例えば、+Y側の端部)は、境界B111の他方の端部と実質的に同一であるため、接合点P112は、境界B112の一方の端部又はその近傍に指定された接合点Pであるともみなしてもよい。このような少なくとも三つ以上の接合点P(図11(b)では、接合点P111からP113)が設定された場合には、制御装置7は、図11(c)に示すように、三つ以上の接合点Pを順に結ぶ線分を、接合パスPAに指定してもよい。図11(c)に示す例では、制御装置7は、接合点P111と接合点P112とを結ぶようにX軸に沿って延びる線分及び接合点P112と接合点P113とを結ぶようにY軸に沿って延びる線分を含む線分を、接合パスPAに指定している。その結果、このような折れ曲がる形状を有する接合パスPAに沿って照射領域EAが移動するように加工ヘッド21が移動することで、図11(a)に示す接合領域WAに加工光ELが照射される。つまり、接合点P111から接合点P112を介して接合点P113に向かって照射領域EAが移動するように加工光ELが照射される。その結果、三つのワークW111からW113は、境界B111及びB112を介して接合される。
 尚、図11(c)に示す接合パスPAは、接合パスPAに対応する接合領域WAが実質的に折れ曲がる形状(つまり、多角形の外形の少なくとも一部を含む形状)を有しているがゆえに、多角接合用の接合パスPAと称されてもよい。ユーザは、上述した図9のGUI926を用いて、設定する接合パスPAの種類として、多角接合用の接合パスPAを指定してもよい。
 図12(a)は、二つのワークW121及びW122を示す平面図である。図12(a)に示すように、二つのワークW121及びW122は、XY平面内において曲線を描く境界B12を介して対向している。図12(a)に示す例では、二つのワークW121及びW122は、XY平面内において円弧形状を有する境界B12を介して対向している。尚、境界B12は、ワークW121の上面とワークW122の上面との間の境界である。これら二つのワークW121及びW122は、例えば、境界B12を含むようにXY平面内において曲線状に延びる接合領域WAに加工光ELが照射されることで接合されるものとする。つまり、これら二つのワークW121及びW122は、例えば、境界B12の一方の端部から境界B12の他方の端部に向けて照射領域EAが移動するように加工光ELが照射されることで接合されるものとする。この場合にも、図12(b)に示すように、ユーザは、例えば、境界B12上に又は境界B12の近傍に接合点Pを指定してもよい。図12(b)に示す例では、ユーザは、境界B12の一方の端部(例えば、-X側の端部)又はその近傍に接合点P121を指定し、境界B12の他方の端部(例えば、+X側の端部)又はその近傍に接合点P122を指定している。このような二つの接合点P(図12(b)では、接合点P121及びP122)が設定された場合には、図12(c)に示すように、制御装置7は、二つの接合点Pを結ぶ曲線を、接合パスPAに指定してもよい。図12(c)に示す例では、制御装置7は、接合点P121と接合点P122とを結ぶようにXY平面内において円弧状に延びる曲線(つまり、円弧)を、接合パスPAに指定している。その結果、このような曲線形状の(具体的には、円弧状の)接合パスPAに沿って照射領域EAが移動するように加工ヘッド21が移動することで、図12(a)に示す接合領域WAに加工光ELが照射される。つまり、接合点P121から接合点P122に向かって照射領域EAが移動するように加工光ELが照射される。その結果、二つのワークW121及びW122は、境界B12を介して接合される。
 尚、図12(c)に示す接合パスPAは、接合パスPAに対応する接合領域WAが実質的に円弧状に延びる形状(部分円形状)を有しているがゆえに、円弧接合用の接合パスPAと称されてもよい。ユーザは、上述した図9のGUI926を用いて、設定する接合パスPAの種類として、円弧接合用の接合パスPAを指定してもよい。
 円弧接合用の接合パスPAが設定される場合には、ユーザは、円弧のパラメータ(例えば、半径)を指定してもよい。例えば、ユーザは、接合点Pを指定する際に、円弧のパラメータを合わせて指定してもよい。或いは、複数のワークWの上面の境界の形状によっては、制御装置7は、二つの接合点Pを結ぶ円弧以外の曲線を、接合パスPAに設定してもよい。この場合、ユーザは、曲線の種類を指定してもよい。或いは、制御装置7は、曲線の種類を自動的に設定してもよい。尚、円弧接合用の接合パスPAを用いて、全円の接合パスPAを設定してもよい。
 図13(a)は、それぞれが円柱形状を有する二つのワークW131及びW132を示す平面図である。図13(a)に示すように、二つのワークW131及びW132は、XZ平面内において円形状を有する境界B13を介して対向している。尚、境界B13は、ワークW131の表面とワークW132の表面との間の境界である。これら二つのワークW131及びW132は、例えば、境界B13を含むように環状に延びる接合領域WAに加工光ELが照射されることで接合されるものとする。この場合にも、図13(b)に示すように、ユーザは、例えば、境界B13上に又は境界B13の近傍に接合点Pを指定してもよい。図13(b)に示す例では、ユーザは、境界B13上の第1部分(例えば、境界B13の+X側の端部)に接合点P131を指定し、境界B13上の第2部分(例えば、境界B13の-X側の端部)に接合点P132を指定している。このような二つの接合点P(図13(b)では、接合点P131及びP132)が設定された場合には、図13(c)に示すように、制御装置7は、二つの接合点Pを結ぶ曲線を、接合パスPAに指定してもよい。図13(c)に示す例では、制御装置7は、接合点P131と接合点P132とを結ぶようにXZ平面内において円弧状に延びる+Z側に凸形状となる曲線(典型的には、円弧)を、接合パスPAに指定している。その結果、このような円弧状の接合パスPAに沿って照射領域EAが移動するように加工ヘッド21が移動することで、図12(a)に示す接合領域WAのうちの+Z側の領域部分(つまり、加工ヘッド21側を向いた領域部分)に加工光ELが照射される。つまり、接合点P131から接合点P132に向かって照射領域EAが移動するように加工光ELが照射される。その後、接合領域WAのうちの加工光ELが未だ照射されていない-Z側の領域部分が加工ヘッド21側を向くようにワークW131及びW132の姿勢が変えられた後に、再度接合パスPAが設定され、その後、接合領域WAのうちの加工光ELが未だ照射されていない領域部分に加工光ELが照射されてもよい。その結果、二つのワークW131及びW132は、境界B13を介して接合される。尚、図13(c)に示す接合パスPAもまた、接合パスPAに対応する接合領域WAが実質的に円弧状に延びる形状を有しているがゆえに、円弧接合用の接合パスPAと称されてもよい。
 但し、図13(c)に示す接合パスPAと図12(c)に示す接合パスPAとは、接合パスPAが円弧を描く平面が異なるという点で異なっている。具体的には、図13(c)に示す接合パスPAは、XZ平面内において円弧を描く一方で、図12(c)に示す接合パスPAは、XY平面内において円弧を描く。更には、図13(c)に示す接合パスPAと図12(c)に示す接合パスPAとは、円弧の凸方向が異なるという点で異なっている。具体的には、図13(c)に示す接合パスPAは、+Z側に向かって凸となる円弧を描く一方で、図12(c)に示す接合パスPAは、+Y側に向かって凸となる円弧を描く。このため、ユーザは、入力装置92を用いて、円弧を描く平面及び円弧の凸の方向(或いは、円弧に限らず、曲線を描く平面及び曲線の凸の方向)を指定してもよい。尚、円弧を描く平面及び円弧の凸の方向を指定することは、実質的には、円弧を描く平面及びその平面内での円弧の回転方向(つまり、回転方向が時計回りか又は反時計回りか)を指定することと実質的には等価であるとみなしてもよい。このため、ユーザは、入力装置92を用いて、円弧を描く平面及びその平面内での円弧の回転方向を指定してもよい。
 図14(a)は、二つのワークW141及びW142を示す平面図である。図14(a)に示すように、二つのワークW141及びW142は、XY平面内において任意の曲線形状を有する境界B14を介して対向している。尚、境界B14は、ワークW141の上面とワークW142の上面との間の境界である。これら二つのワークW141及びW142は、例えば、境界B14を含むようにXY平面内において任意の曲線状に延びる接合領域WAに加工光ELが照射されることで接合されるものとする。この場合にも、図14(b)に示すように、ユーザは、例えば、境界B14上に又は境界B14の近傍に接合点Pを指定してもよい。境界B14が任意の曲線状に延びる境界を含む場合には、境界B14の特徴点は、例えば、境界B14の変曲点を含んでいてもよい。図14(b)に示す例では、ユーザは、境界B14の両端部及び変曲点に、六つの接合点P141からP146を指定している。このような三つ以上の接合点P(図14(b)では、接合点P141からP146)が設定された場合には、図14(c)に示すように、制御装置7は、三つ以上の接合点Pを順に結ぶ曲線を、接合パスPAに指定してもよい。このとき、当該曲線は、三つ以上の接合点Pを用いて得られる近似曲線であってもよい。一例として、三つ以上の接合点Pを制御点としたスプライン曲線、ベジエ曲線、エルミート曲線及び多項式曲線の少なくとも一つを接合パスPAに指定してもよい。図14(c)に示す例では、制御装置7は、接合点P141から接合点P146を結ぶようにXY平面内において延びる曲線を、接合パスPAに指定している。その結果、このような曲線状の接合パスPAに沿って照射領域EAが移動するように加工ヘッド21が移動することで、図14(a)に示す接合領域WAに加工光ELが照射される。つまり、接合点P141を起点に接合点P142から接合点P145を介して接合点P146に向かって照射領域EAが移動するように加工光ELが照射される。その結果、二つのワークW141及びW142は、境界B12を介して接合される。
 尚、図14(c)に示す接合パスPAは、接合パスPAに対応する接合領域WAが任意の曲線状に延びる形状を有しているがゆえに、曲線接合用の接合パスPAと称されてもよい。ユーザは、上述した図9のGUI926を用いて、設定する接合パスPAの種類として、曲線接合用の接合パスPAを指定してもよい。尚、曲線接合用の接合パスPAを指定する際に、曲線の種類(曲線あてはめ時の補間方法)を指定してもよい。
 図10(a)から図14(c)に示したように、複数の接合点Pを結ぶ線分及び/又は曲線が接合パスPAに設定される場合には、接合パスPAは、典型的には、接合対象となっている複数のワークWの上面の境界の形状と平面視において同一の形状を有している。つまり、接合パスPAは、典型的には、接合対象となっている複数のワークWの上面の境界に沿って延びる形状を有している。例えば、図10(c)は、X軸方向に沿って延びる境界B10の形状と同一の形状を有する(つまり、境界B10に沿って直線状に延びる)接合パスPAの一例を示している。例えば、図12(c)は、XY平面内において円弧状に延びる境界B12の形状と同一の形状を有する(つまり、境界B12に沿って円弧状に延びる)接合パスPAの一例を示している。このため、接合パスPAがユーザによって指定された接合点Pから設定されることを考慮すれば、ユーザは、複数のワークWの上面の境界の形状を特定可能な接合点Pを指定してもよい。
 但し、制御装置7は、接合対象となっている複数のワークWの上面の境界の形状と異なる形状を有する接合パスPAを設定してもよい。例えば、制御装置7は、接合対象となっている複数のワークWの上面の境界に交差する方向に沿って延びる線分及び/又は曲線を含む接合パスPAを設定してもよい。つまり、制御装置7は、接合対象となっている複数のワークWの上面の境界に沿った第1の方向及び当該第1の方向に交差する第2の方向のそれぞれに沿って照射領域EAを移動させることが可能な接合パスPAに設定してもよい。このような複数のワークWの上面の境界の形状と異なる形状を有する接合パスPAの一例が、図15(a)から図15(b)に示されている。図15(a)及び図15(b)のそれぞれは、X軸方向に沿って延びる境界B10(図10(a)参照)を示している。この場合、図15(a)に示すように、制御装置7は、境界B10に交差する方向(つまり、X軸方向に交差する方向)に沿って延びる曲線を含む接合パスPAを設定してもよい。図15(b)に示すように、制御装置7は、境界B10に交差する方向(つまり、X軸方向に交差する方向)に沿って延びる線分を含む接合パスPAを設定してもよい。説明の簡略化のために図示しないものの、境界が曲線である場合においても、制御装置7は、曲線状に延びる境界(例えば、図12(a)に示す境界B12)に交差する方向に沿って延びる線分及び/又は曲線を含む接合パスPAを設定してもよい。この場合、ユーザは、入力装置92を用いて、複数のワークWの上面の境界の形状と接合パスPAとの関係を指定してもよい。つまり、ユーザは、入力装置92を用いて、複数のワークWの上面の境界に対して交差する線分及び/又は曲線を含む接合パスPAを設定するか否かを指定してもよい。このように境界に交差する方向に沿って延びる線分及び/又は曲線を含む接合パスPAが設定される場合には、境界に交差する方向に沿って延びる線分及び/又は曲線を含まない接合パスPAが設定される場合と比較して、境界を挟み込む二つのワークWの双方に加工光ELが照射される可能性が高くなる。その結果、境界を挟み込む二つのワークWの双方の少なくとも一部が溶融する可能性が高くなり、結果として、当該二つのワークWが適切に接合される可能性が高くなる。尚、図15(a)及び図15(b)に示した例では、接合パスPAは1本であったが、図15(a)及び図15(b)の接合パスPAを複数の接合パスPAに分割してもよい。例えば、境界B10に交差する方向に沿っての帯びる複数の線分を接合パスPAとして設定してもよい。
 或いは、制御装置7は、接合点Pを結ぶ線分及び/曲線に代えて、各接合点Pそのものを接合パスPAに設定してもよい。つまり、制御装置7は、各接合点Pそのものを、目標照射領域に設定してもよい。例えば、図16(a)は、図10(a)と同様に、二つのワークW101及びW102を示す平面図である。更に、図16(b)は、図10(b)と同様に、境界B10上に及び/又は境界B10の近傍に指定された接合点Pを示す平面図である。このような少なくとも一つの接合点P(図16(b)では、接合点P101及びP102)が設定された場合において、図16(c)に示すように、制御装置7は、接合点P101及びP102のそれぞれを、接合パスPA(つまり、目標照射領域)に設定してもよい。この場合、制御装置7は、接合点Pの数と同じ数の接合パスPA(つまり、目標照射領域)を設定してもよい。
 尚、図16(c)に示す接合パスPAは、実質的に点状に分布するがゆえに、点接合用の接合パスPAと称されてもよい。ユーザは、上述した図9のGUI926を用いて、設定する接合パスPAの種類として、点接合用の接合パスPAを指定してもよい。
 制御装置7は、照射光学系211による加工光ELの射出態様と関連付けられた接合パスPAを設定してもよい。一例として、制御装置7は、照射光学系211による加工光ELの射出タイミングと関連付けられた接合パスPAを設定してもよい。つまり、制御装置7は、加工光ELを射出する期間及び/又は加工光ELを射出しない期間と関連付けられた接合パスPAを設定してもよい。以下、図17(a)から図17(c)を参照しながら、加工光ELを射出する期間及び/又は加工光ELを射出しない期間と関連付けられた接合パスPAの一例について説明する。
 図17(a)は、三つのワークW171、W172及びW173を示す平面図である。図17(a)に示すように、二つのワークW171及びW172は、X軸方向に沿って延びる直線状の境界B171を介して対向している。尚、境界B171は、ワークW171の上面とワークW172の上面との間の境界である。また、二つのワークW171及びW173は、X軸方向に沿って延びる直線状の境界B172を介して対向している。尚、境界B172は、ワークW171の上面とワークW173の上面との間の境界である。また、二つのワークW172及びW173は、Y軸方向に沿って延びる直線状の境界B173を介して対向している。尚、境界B173は、ワークW172の上面とワークW173の上面との間の境界である。三つのワークW171からW173は、境界B171の+X側の端部と境界B172の-X側の端部と境界B173の-Y側の端部とが同じ位置に位置するように配列されている。これら三つのワークW171からW173は、例えば、境界B171を含むようにX軸方向に沿って延びる長手形状の接合領域WA#1、境界B172を含むようにX軸方向に沿って延びる長手形状の接合領域WA#2及び境界B173を含むようにY軸方向に沿って延びる長手形状の接合領域WA#3を含む接合領域WAに加工光ELが照射されることで接合されるものとする。ここで、図17(b)に示すように、ユーザは、境界B171の一方の端部(例えば、-X側の端部)又はその近傍に接合点P171を指定し、境界B171の他方の端部(例えば、+X側の端部)又はその近傍に接合点P172を指定し、境界B172の他方の端部(例えば、+X側の端部)又はその近傍に接合点P173を指定し、境界B173の一方の端部(例えば、+Y側の端部)又はその近傍に接合点P174を指定するものとする。この場合、図17(c)に示すように、制御装置7は、接合点P171からP174を順に結ぶ線分を、接合パスPAに設定する。つまり、制御装置7は、接合点P171と接合点P172とを結ぶ接合パスPA#1と、接合点P172と接合点P173とを結ぶ接合パスPA#2と、接合点P173と接合点P174とを結ぶ接合パスPA#3とを含む接合パスPAを設定する。しかしながら、図17(c)から分かるように、接合パスPA#3のうちの一部は、接合パスPA#2と重複する。つまり、接合パスPA#3は、接合パスPA#2と重複する接合パスPA#31と、他の接合パスPAと重複しない接合パスPA#32とを含んでいる。このような状況下で接合パスPA#2に加工光ELが照射された後に更に接合パスPA#31にも加工光ELが照射されると、境界B172には、加工光ELが重複して照射されてしまう。そこで、制御装置7は、接合パスPAを設定する際に、接合パスPA#31に対しては加工光ELを照射しないという情報を接合パスPAに関連付けてもよい。つまり、制御装置7は、接合パスPAを設定する際に、接合パスPA#31に加工光ELを照射可能な位置に位置する照射光学系211からは加工光ELを射出しないという情報を接合パスPAに関連付けてもよい。制御装置7は、接合パスPAを設定する際に、接合パスPA#1、接合パスPA#2及び接合パスPA#32に対しては加工光ELを照射する(つまり、照射光学系211が加工光ELを射出する)という情報を接合パスPAに関連付けてもよい。つまり、制御装置7は、接合パスPAを設定する際に、接合パスPA#1、接合パスPA#2及び接合パスPA#32のそれぞれに加工光ELを照射可能な位置に位置する照射光学系211からは加工光ELを射出するという情報を接合パスPAに関連付けてもよい。その結果、部分的に重複するパスを含む接合パスPAが設定される場合であっても、適切な接合加工が行われる。
 再び図7において、その後、制御装置7は、加工装置2が実際に接合加工を開始する前に、確認処理を行う(ステップS31)。つまり、制御装置7は、複数のワークWを実際に接合するための加工光ELが照射される前に、確認処理を行う(ステップS31)。確認処理は、上述したように、設定された接合パスPAに基づいて接合加工が行われる場合における加工光ELの照射位置(つまり、照射領域EA)とワークWとの相対位置の変化をユーザに確認させる(具体的には、視認させる)ことを目的に行われる処理である。
 但し、確認処理中に加工光ELが接合パスPAに実際に照射される(つまり、ワークWに実際に照射される)と、複数のワークWが意図せず接合されてしまう可能性がある。このため、制御装置7は、確認処理を行う場合には、加工光ELの状態を、加工光ELによって複数のワークWの少なくとも一部が加工されない非加工状態に設定する。尚、非加工状態は、非照射状態と称されてもよい。例えば、制御装置7は、照射光学系211から加工光ELが射出されないように照射光学系211を制御することで、加工光ELの状態を非加工状態に設定してもよい。例えば、制御装置7は、光源4から加工光ELが射出されないように光源4を制御することで、加工光ELの状態を非加工状態に設定してもよい。例えば、制御装置7は、照射光学系211から射出された加工光ELを遮光部材等を用いて少なくとも部分的に遮光することで、加工光ELの状態を非加工状態に設定してもよい。例えば、制御装置7は、照射光学系211から射出された加工光ELを減衰部材等を用いて減衰させることで、加工光ELの状態を非加工状態に設定してもよい。例えば、制御装置7は、光源4が射出する加工光ELの強度を制御することで、加工光ELの状態を非加工状態に設定してもよい。
 一方で、加工光ELが照射されないと、ユーザは、加工光ELの照射位置を視認することができない。そこで、第1実施形態では、加工システムSYSaは、複数のガイド光GLの照射位置を用いて、加工光ELの照射位置をユーザに間接的に視認させる。具体的には、確認処理中の加工ヘッド21と複数のワークWとを示す斜視図である図18に示すように、制御装置7は、確認処理中に複数のガイド光GLを射出するように、複数のガイド光射出装置24を制御してもよい。特に、制御装置7は、接合加工中に照射光学系211が加工光ELを射出するタイミングで複数のガイド光GLを射出するように、複数のガイド光射出装置24を制御してもよい。制御装置7は、接合加工中に照射光学系211が加工光ELを射出しないタイミングで複数のガイド光GLを射出しないように、複数のガイド光射出装置24を制御してもよい。制御装置7は、接合パスPAに加工光ELが照射されるタイミングで複数のガイド光GLを射出するように、複数のガイド光射出装置24を制御してもよい。制御装置7は、接合パスPAに加工光ELが照射されないタイミングで複数のガイド光GLを射出しないように、複数のガイド光射出装置24を制御してもよい。
 このようなガイド光GLの照射と並行して、制御装置7は、接合パスPAに基づいて加工光ELを照射するように加工ヘッド21を移動させた場合と同様の移動態様で、加工ヘッド21を移動させる。つまり、制御装置7は、接合パスPAに基づいて加工光ELを接合領域WAに照射するように加工ヘッド21を移動させた場合と同様の移動態様で、加工ヘッド21を移動させる。その結果、ユーザは、接合加工中における加工光ELの照射の様子を、確認処理中における複数のガイド光GLの照射の様子から推定することができる。より具体的には、ユーザは、接合加工中におけるワークWと加工光ELの照射位置との相対位置の変化を、確認処理中におけるワークWと複数のガイド光GLの照射位置との相対位置の変化から推定することができる。この場合、ガイド光射出装置24は、加工光ELの照射位置とワークWとの位置関係をユーザに視認させる照射位置視認装置として機能可能である。
 ここで、複数のガイド光GLが加工光ELのフォーカス位置において互いに交差してもよいことは上述したとおりである。この場合、確認処理中における複数のガイド光GLの照射位置は、接合加工中における加工光ELの照射位置(具体的には、フォーカス位置)と一致する。このため、複数のガイド光GLを射出するようにガイド光射出装置24を制御することは、実質的には、接合パスPAの位置に複数のガイド光GLを照射するように複数のガイド光射出装置24を制御することと等価であるとみなせる。その結果、ユーザは、確認処理中における複数のガイド光GLの照射位置に基づいて、接合加工中に加工光ELが複数のワークWの境界に適切に照射されるか否かを確認することができる。仮に接合加工中に加工光ELが複数のワークWの境界に適切に照射されないことが確認処理によって確認された場合には、設定された接合パスPAが、加工光ELの目標照射領域として適切でない可能性がある。従って、この場合には、上述した接合パスPAを設定するための処理が再度行われてもよい。
 尚、加工システムSYSaは、接合加工中に、加工ヘッド21を移動させることに加えて又は代えて、その他の方法でワークWと加工光ELの照射位置(つまり、照射領域EA)との相対位置を変更可能であることは上述したとおりである。この場合には、確認処理中に加工ヘッド21を移動させるだけでは、複数のガイド光GLの照射位置が加工光ELの照射位置に対応しなくなる(例えば、加工光ELのフォーカス位置において複数のガイド光GLが交差しなくなる)可能性がある。このため、この場合には、複数のガイド光射出装置24は、ワークWと照射領域EAとの相対位置の変更に合わせて複数のガイド光GLの照射位置を変更してもよい。つまり、確認処理では、加工システムSYSaは、複数のガイド光GLの照射位置が加工光ELの照射位置を追従する限りは、どのような方法で複数のガイド光GLの照射位置とワークWとの相対位置を変更してもよい。
 また、確認処理におけるガイド光GLの移動速度を、加工時における加工光ELの照射位置(照射領域EA)とワークWとの相対移動速度よりも遅くしてもよい。この場合、ユーザによる確認処理がし易い利点がある。一方、確認処理におけるガイド光GLの移動速度を、加工時における加工光ELの照射位置(照射領域EA)とワークWとの相対移動速度よりも早くしてもよい。この場合、ユーザによる確認処理時間を短縮できる利点がある。尚、確認処理におけるガイド光GLの移動速度と、加工時における加工光ELの照射位置(照射領域EA)とワークWとの相対移動速度とを同じ速度にしてもよい。
 尚、接合加工動作が行われる場合に限らず、付加加工動作が行われる場合においても、加工光ELが実際にワークWに照射されることでワークWに対して付加加工が実際に行われる前に、加工光ELを照射させることなくワークWと加工光ELの照射位置との相対位置の変化をユーザに視認させる確認処理が行われてもよい。
 上述した確認処理が行われた後に、制御装置7は、接合加工を開始するように加工装置2を制御する(ステップS41)。その結果、加工装置2は、接合加工を行って複数のワークWを接合する(ステップS41)。つまり、加工装置2は、制御装置7の制御下で、接合パスPAの位置に加工光ELが照射されるように、加工ヘッド21を移動しながら加工光ELを射出する。
 (1-2-3)ガス供給量調整動作
 上述した付加加工動作及び/接合加工動作と並行して、加工システムSYSaは、筐体6のチャンバ空間63INに供給されるパージガスの供給量を調整するためのガス供給量調整動作を行ってもよい。尚、以下では、供給量は、特段の説明がない場合には、単位時間当たりの供給量を意味するものとする。上述したように、パージガスは、気体供給装置5からチャンバ空間63INに対して供給される。更に、パージガスは、気体供給装置5に加えて又は代えて、加工装置2から(特に、材料ノズル212)からチャンバ空間63INに対して供給される。従って、制御装置7は、気体供給装置5及び/又は加工装置2(特に、材料ノズル212)を制御することで、チャンバ空間63INに供給されるパージガスの供給量を調整してもよい。
 制御装置7は、付加加工中におけるパージガスの供給量と接合加工中におけるパージガスの供給量とが異なるものとなるように、チャンバ空間63INに供給されるパージガスの供給量を調整してもよい。以下、図19を参照しながら、付加加工中におけるパージガスの供給量と接合加工中におけるパージガスの供給量との関係の一例について説明する。図19は、付加加工中におけるパージガスの供給量と接合加工中におけるパージガスの供給量との関係の一例を示すグラフである。
 図19に示すように、制御装置7は、付加加工中におけるパージガスの供給量が接合加工中におけるパージガスの供給量よりも多くなるように、チャンバ空間63INに供給されるパージガスの供給量を調整してもよい。つまり、制御装置7は、接合加工中には第1の供給量でパージガスが供給され、付加加工中には第1の供給量よりも多い第2の供給量でパージガスが供給されるように、チャンバ空間63INに供給されるパージガスの供給量を調整してもよい。パージガスの供給量が多くなればなるほど、チャンバ空間63INにおける酸素ガスの量が少なくなる。チャンバ空間63INにおける酸素ガスの量が少なくなればなるほど、付加加工によって形成される3次元構造物STの精度が向上する。チャンバ空間63INにおける酸素ガスの量が少なくなればなるほど、付加加工によって形成される3次元構造物STの外観の美観性が向上する。このため、付加加工中におけるパージガスの供給量が接合加工中におけるパージガスの供給量よりも多くなる場合には、加工システムSYSaは、より適切な3次元構造物STを形成することができる。
 尚、加工システムSYSaは、付加加工中におけるパージガスの供給量が第1所定量よりも少なくなるように、チャンバ空間63INに供給されるパージガスの供給量を調整してもよい。この場合、第1所定量は、3次元構造物STの精度及び/又は美観性を向上させることができるパージガスの供給量と、3次元構造物STの精度及び/又は美観性を悪化させてしまいかねないパージガスの供給量とを区別可能なパージガスの供給量として設定されていてもよい。尚、接合加工中におけるパージガスの供給量は、第1所定量の一例であるとも言える。
 図19に示すように、制御装置7は、接合加工中におけるパージガスの供給量が付加加工中におけるパージガスの供給量よりも少なくなるように、チャンバ空間63INに供給されるパージガスの供給量を調整してもよい。つまり、制御装置7は、付加加工中には第3の供給量でパージガスが供給され、接合加工中には第3の供給量よりも少ない第4の供給量でパージガスが供給されるように、チャンバ空間63INに供給されるパージガスの供給量を調整してもよい。パージガスの供給量が少なくなればなるほど、チャンバ空間63INにおける酸素ガスの量が多くなる。チャンバ空間63INにおける酸素ガスの量が多くなればなるほど、加工光ELのエネルギのワークW及び/又は造形材料Mへの伝達効率が高くなる。加工光ELのエネルギのワークW及び/又は造形材料Mへの伝達効率が高くなればなるほど、ワークW及び/又は造形材料Mが溶融しやすくなる。つまり、ワークW及び/又は造形材料Mの溶融量が多くなる。ワークW及び/又は造形材料Mの溶融量が多くなればなるほど、溶融した溶融池MPが固化することで形成される部分を介して複数のワークWを接合しやすくなる。このため、接合加工中におけるパージガスの供給量が付加加工中におけるパージガスの供給量よりも少なくなる場合には、加工システムSYSaは、より効率的に接合加工を行うことができる。
 尚、加工システムSYSaは、接合加工中におけるパージガスの供給量が第2所定量よりも少なくなるように、チャンバ空間63INに供給されるパージガスの供給量を調整してもよい。この場合、第2所定量は、接合加工の効率性を向上させることができるパージガスの供給量と、接合加工の効率性を悪化させかねないパージガスの供給量とを区別可能なパージガスの供給量として設定されていてもよい。尚、付加加工中におけるパージガスの供給量は、第2所定量の一例であるとも言える。
 尚、制御装置7は、付加加工中のパージガスの供給量の制御及び/又は接合加工中のパージガスの供給量の制御を行うときに、チャンバ空間63IN内に配置される酸素濃度計(不図示)からの出力を参照してもよい。
 また、通常、複数のワークWが接合される場合には、複数のワークWの境界又はその近傍には、固化した溶融池MPに相当する接合跡が形成されることが多い。例えば、図20(a)に示すように、ワークW1とワークW2とが接合される場合には、ワークW1とワークW2との境界又はその近傍に接合跡が形成されることが多い。この接合跡のサイズSは、ワークW及び/又は造形材料Mの溶融量が多くなればなるほど大きくなる。尚、ここで言う「サイズ」は、接合跡が延びる方向に交差する方向におけるサイズ(例えば、幅)を含んでいてもよい。接合跡が加工光ELの照射位置の移動方向に沿って延びることから、「サイズ」は、加工光ELの照射位置の移動方向(つまり、照射領域EAの移動方向)に交差する方向におけるサイズ(例えば、幅)を含んでいてもよい。接合跡を介して接合された二つのワークWの間に接合跡が形成されることから、「サイズ」は、接合跡を介して接合された二つのワークWが並ぶ方向に交差する方向におけるサイズ(例えば、幅)を含んでいてもよい。ここで、接合加工中におけるワークW及び/又は造形材料Mの溶融量は、接合加工中におけるパージガスの供給量に依存することは上述したとおりである。このため、図20(b)に示すように、接合跡のサイズSとパージガスの供給量との間には、パージガスの供給量が多くなればなるほど接合跡のサイズSが小さくなるという関係が成立する。従って、制御装置7は、接合加工中におけるパージガスの供給量を調整することでワークW及び/又は造形材料Mの溶融量を調整し、その結果、接合跡のサイズSを調整してもよい。つまり、制御装置7は、接合加工中におけるパージガスの供給量を変更することでワークW及び/又は造形材料Mの溶融量を変更し、その結果、接合跡のサイズSを変更してもよい。例えば、制御装置7は、接合跡のサイズSが所望サイズとなるように、接合加工中におけるパージガスの供給量を調整してもよい。
 (1-3)第1実施形態の加工システムSYSaの技術的効果
 以上説明したように、加工システムSYSaは、接合加工を行うことで、複数のワークWを適切に加工することができる。特に、加工システムSYSaは、造形材料Mを用いた第1の接合加工と、造形材料Mを用いない第2の接合加工とを、同じ加工装置2を用いて(つまり、同じ加工ヘッド21を用いて)行うことができる。従って、加工システムSYSaは、接合対象となるワークWに応じて適切な接合加工を行うことができる。
 また、加工システムSYSaは、接合パスPAを設定した後に、実際に加工光ELを照射して複数のワークWを接合する前に、加工光ELを照射させることなく接合パスPAに基づく加工光ELの照射位置をユーザに視認させる確認処理を行うことができる。このため、ユーザは、接合加工中に加工光ELが複数のワークWの境界に適切に照射されるか否かを、加工光ELを実際に照射する前に確認することができる。その結果、接合加工中に加工光ELが複数のワークWの境界に適切に照射されないことが確認処理によって確認された場合には、加工システムSYSaは、接合パスPAを再設定することができる。このため、加工システムSYSaは、より適切な接合パスPAを設定することができる。
 また、加工システムSYSaは、ガス供給量調整動作を行うことで、チャンバ空間63INに供給されるパージガスの供給量を調整することができる。このため、加工システムSYSaは、加工システムSYSaが行っている加工内容に応じた適切な供給量で、チャンバ空間63INにパージガスを供給することができる。例えば、加工システムSYSaは、付加加工を行っている場合には、付加加工にとって適切な供給量(例えば、3次元構造物STの精度及び/又は美観性を向上させることが可能な供給量)で、チャンバ空間63INにパージガスを供給することができる。例えば、加工システムSYSaは、接合加工を行っている場合には、接合加工にとって適切な供給量(例えば、接合加工の効率性を向上させることが可能な及び/又は接合跡のサイズを適切に調整可能な供給量)で、チャンバ空間63INにパージガスを供給することができる。
 (2)第2実施形態の加工システムSYS
 続いて、図21及び図22を参照しながら、第2実施形態の加工システムSYS(以降、第2実施形態の加工システムSYSを、“加工システムSYSb”と称する)について説明する。図21は、第2実施形態の加工システムSYSbの構造の一例を示す断面図である。図22は、第2実施形態の加工システムSYSbのシステム構成の一例を示すシステム構成図である。尚、以降の説明では、既に説明済みの構成要件については、同一の参照符号を付してその詳細な説明については省略する。
 図21及び図22に示すように、第2実施形態の加工システムSYSbは、第1実施形態の加工システムSYSaと比較して、計測装置8bを更に備えているという点で異なっている。加工システムSYSbのその他の特徴は、加工システムSYSaのその他の特徴と同一であってもよい。
 計測装置8bは、制御装置7の制御下で、計測対象物を計測可能な装置である。第2実施形態では、計測対象物は、例えば、ステージ31が支持する物体(つまり、載置面311が支持する物体)を含む。このため、計測装置8bの計測範囲は、載置面311が支持する物体を撮像することができるように所望の範囲に設定されている。載置面311が支持する物体の一例として、上述したように、ワークWがあげられる。
 計測は、計測対象物の状態の計測を含んでいてもよい。計測対象物の状態の計測は、計測対象物の形状(例えば、3次元形状)の計測を含んでいてもよい。計測対象物の形状の計測は、計測対象物の表面を細分化した各部分(つまり、各部位)のX軸方向、Y軸方向及びZ軸方向の少なくとも一つにおける位置を含んでいてもよい。計測対象物の形状の計測は、計測対象物の表面を細分化した各部分の向き(例えば、各部分の法線の向きであり、X軸、Y軸及びZ軸の少なくとも一つに対する各部分の傾斜量(つまり、各部分の姿勢)と実質的に等価)の計測を含んでいてもよい。
 計測装置8bは、計測対象物を計測可能である限りはどのような構造を有していてもよい。計測装置8bは、計測対象物を計測可能である限りはどのような種類の計測装置であってもよい。図21及び図22は、計測装置8bが3Dスキャナである例を示している。つまり、図21及び図22は、計測装置8bが光学的に計測対象物を計測する例を示している。図21及び図22は、計測装置8bが計測対象物に接触することなく計測対象物を計測する例を示している。しかしながら、計測装置8bは、光学的手法とは異なる手法(例えば、電磁波、音波及び空圧のうちの少なくとも一つを用いた非接触計測手法)を用いて計測対象物を計測してもよい。計測装置8bは、計測対象物に接触して計測対象物を計測してもよい。計測対象物に接触して計測対象物を計測する計測装置の一例として、計測対象物に対してプローブ等のセンサを押し当てながら計測対象物を計測する計測装置があげられる。
 計測装置8bが3Dスキャナである場合、計測装置8bは、例えば、図22に示すように、投影装置81bと、撮像装置82bとを備えていてもよい。図22に示す例では、計測装置8bは、複数の撮像装置82bを備えている。但し、計測装置8bは、単一の撮像装置82bを備えていてもよい。
 投影装置81bは、載置面311に対して計測光DLを照射する。計測光DLは、載置面311に所望の投影パターンを投影するための光である。計測光DLは、載置面311に載置された計測対象物に所望の投影パターンを投影するための光である。所望の投影パターンは、1次元の投影パターンを含んでいてもよい。所望の投影パターンは、2次元の投影パターンを含んでいてもよい。
 撮像装置82bは、計測対象物に投影された投影パターンを撮像する。制御装置7は、撮像装置82bの撮像結果(特に、撮像された投影パターンに関する情報)に基づいて、計測装置8bが計測した計測対象物の状態に関する状態情報を生成する。計測対象物の計測が計測対象物の形状の計測を含んでいる場合には、状態情報は、計測装置8bが計測した計測対象物の形状に関する形状情報を含んでいてもよい。
 尚、上述した計測装置はパターン投影方式の3次元計測機であったが、光切断方式の3次元計測機、ステレオカメラ方式の3次元計測機、タイム・オブ・フライト方式の3次元計測機、モアレトポグラフィ方式の3次元計測機、ホログラフィック干渉方式の3次元計測機、CT(Computed Tomography)方式の3次元計測機、及び、MRI(Magnetic Resonance Imaging)方式の3次元計測機等んの少なくとも一つを用いてもよい。
 状態情報は、付加加工動作及び/又は接合加工動作の過程で所望の用途で用いられてもよい。つまり、制御装置7は、付加加工動作及び/又は接合加工動作の過程で所望の処理を行うために、状態情報を用いてもよい。
 例えば、制御装置7は、ディスプレイ91の表示内容を生成するために状態情報を用いてもよい。つまり、制御装置7は、状態情報に基づく画像を表示するようにディスプレイ91を制御してもよい。例えば、制御装置7は、状態情報に基づいて、ワークWの3次元モデルを生成し、生成したワークWの3次元モデルを表示するようにディスプレイ91を制御してもよい。この場合、ディスプレイ91は、撮像装置25の撮像結果(つまり、撮像装置25が撮像したワークWの画像)に加えて又は代えて、計測装置8bの計測結果に基づいて生成されるワークWの3次元モデルを表示してもよい。
 ディスプレイ91にワークWの3次元モデルが表示される場合には、制御装置7は、確認処理を行う際に、ワークWの3次元モデルと加工光ELの照射位置との相対位置の変化を表示するように、ディスプレイ91を制御してもよい。この場合、制御装置7は、確認処理を行う際に、複数のガイド光GLを照射するように複数のガイド光射出装置24を制御しなくてもよいし、加工ヘッド21を移動させるようにヘッド駆動系22を制御しなくてもよい。
 例えば、制御装置7は、接合パスPAを設定するために状態情報を用いてもよい。具体的には、状態情報が形状情報を含んでいる場合には、制御装置7は、状態情報に基づいて、接合対象となる複数のワークWの境界の状態を特定してもよい。境界の状態は、例えば、境界の位置、境界の延びる方向及び境界のサイズのうちの少なくとも一つを含んでいてもよい。その後、制御装置7は、特定した境界の状態に基づいて、接合パスPAを設定してもよい。例えば、制御装置7は、特定した境界に沿って延びる線分及び/又は曲線を、接合パスPAに設定してもよい。この場合、制御装置7は、ユーザが指定する接合点Pを用いることなく、接合パスPAを設定してもよい。接合点Pが用いられない場合には、ユーザは、必ずしも接合点Pを指定しなくてもよい。
 尚、上述した撮像装置25もまた撮像対象物たるワークWを撮像可能である。従って、撮像装置25の撮像結果もまた、ワークWの状態に関する情報を含んでいる。このため、制御装置7は、計測装置8bの計測結果(つまり、状態情報)に加えて又は代えて、撮像装置25の撮像結果に基づいて、接合パスPAを設定してもよい。例えば、制御装置7は、撮像装置25の撮像結果に基づいて接合対象となる複数のワークWの境界の状態を特定し、特定した境界の状態に基づいて接合パスPAを設定してもよい。
 (3)その他の変形例
 上述した説明では、加工システムSYSは、物理的に分離した複数のワークWを接合加工によって接合している。しかしながら、加工システムSYSは、同一ワークW内の複数の部分を接合加工によって接合してもよい。例えば、図23に示すように、ワークWに亀裂CRが生じている場合には、加工システムSYSは、ワークWのうち亀裂CRから見て一方側(図23に示す例では、-Y側)に位置する部分W1’とワークWのうち亀裂CRから見て他方側(図23に示す例では、+Y側)に位置する部分W2’とを接合加工によって接合加工によって接合してもよい。つまり、本実施形態における接合加工は、物理的に分離した複数の物体を接合する加工のみならず、物理的に分離していないものの部分的に離れている複数の物体を接合する加工も含んでいてもよい。つまり、部分的に一体化している一方で部分的に離れている複数の物体を接合する加工も含んでいてもよい。図23に示す例では、部分W1’及びW2’が、部分的に一体化している一方で部分的に離れている複数の物体の一例に相当する。
 上述した説明では、複数のワークWの境界の端部又はその近傍に接合点Pが設定されている。しかしながら、数のワークWの境界の端部から離れた位置に接合点Pが設定されてもよい。例えば、図24に示すように、複数のワークW241及びW242の境界の端部から離れた位置、典型的には端部から内側の位置に接合点P241及びP242が設定されてもよい。この場合、制御装置7は、接合点P241から接合点P242へ向けて複数のワークW241及びW242の境界に沿って延びる接合パスPAを指定し、加工光ELの照射領域EAは当該接合パスPAに沿って移動する。
 上述した説明では、複数のワークWが互いに対向するように配置された状態で、複数のワークWの境界が接合(例えば、溶接)されている。しかしながら、このような突合せ継手を形成する溶接(接合)には限られず、図25に示すように、重ね継手を形成する溶接(接合)が行われてもよい。この場合、複数のワークW(図25に示す例では、ワークW251及びW252)をそれらの一部が重なるように配置して重なった部分に接合パスPAを指定し、この接合パスPAに沿って照射領域EAが移動するように加工光ELを移動させればよい。
 尚、上述した突合せ継手及び重ね継手の少なくとも一方には限られず、T継手、十字継手、角継手、当て金継手及びへり継手の少なくとも一つを形成する溶接(接合)が行われてもよい。また、溶接種類は、上述した開先溶接には限られず、すみ肉溶接、シーム溶接、せん溶接及びスロット溶接の少なくとも一つであってもよい。
 上述した説明では、加工装置2は、造形材料Mに加工光ELを照射することで、造形材料Mを溶融させている。しかしながら、加工装置2は、任意のエネルギビームを造形材料Mに照射することで、造形材料Mを溶融させてもよい。この場合、加工装置2は、照射光学系211に加えて又は代えて、任意のエネルギビームを照射可能なビーム照射装置を備えていてもよい。任意のエネルギビームは、限定されないが、電子ビーム、イオンビーム等の荷電粒子ビーム又は電磁波を含んでいてもよい。
 上述した説明では、加工システムSYSは、レーザ肉盛溶接法により付加加工及び/又は接合加工を行っている。しかしながら、加工システムSYSは、造形材料Mに加工光EL(或いは、任意のエネルギビーム)を照射することで3次元構造物STを形成可能な及び/又は複数のワークWを接合可能なその他の方式により造形材料Mから3次元構造物STを形成してもよい。或いは、加工システムSYSは、造形材料Mに加工光EL(或いは、任意のエネルギビーム)を照射する方式とは異なる、付加加工及び/又は接合加工のための任意の方式により3次元構造物STを形成してもよい。
 上述した説明では、加工システムSYSは、照射光学系211が加工光ELを照射する照射領域EAに向けて材料ノズル212から造形材料Mを供給することで、付加加工及び/又は接合加工を行っている。しかしながら、加工システムSYSは、照射光学系211から加工光ELを照射することなく、材料ノズル212から造形材料Mを供給することで付加加工及び/又は接合加工を行ってもよい。例えば、加工システムSYSは、材料ノズル212から、造形面MS及び/又は接合領域WA(つまり、接合パスPA)に対して造形材料Mを吹き付けることで、造形面MS及び/又は接合領域WAにおいて造形材料Mを溶融させると共に、溶融した造形材料Mを固化させることで、付加加工及び/又は接合加工を行ってもよい。例えば、加工システムSYSは、材料ノズル212から造形面MS及び/又は接合領域WAに対して造形材料Mを含む気体を超高速で吹き付けることで、造形面MS及び/又は接合領域WAにおいて造形材料Mを溶融させると共に、溶融した造形材料Mを固化させることで、付加加工及び/又は接合加工を行ってもよい。例えば、加工システムSYSは、材料ノズル212から造形面MS及び/又は接合領域WAに対して加熱した造形材料Mを吹き付けることで、造形面MS及び/又は接合領域WAにおいて造形材料Mを溶融させると共に、溶融した造形材料Mを固化させることで、付加加工及び/又は接合加工を行ってもよい。このように照射光学系211から加工光ELを照射することなく付加加工及び/又は接合加工を行う場合には、加工システムSYS(特に、加工ヘッド21)は、照射光学系211を備えていなくてもよい。
 或いは、加工システムSYSは、付加加工及び/又は接合加工に加えて又は代えて、ワークW等の物体に加工光EL(或いは、任意のエネルギビーム)を照射して物体の少なくとも一部を除去可能な除去加工を行ってもよい。或いは、加工システムSYSは、付加加工、接合加工及び/又は除去加工に加えて又は代えて、ワークW等の物体に加工光EL(或いは、任意のエネルギビーム)を照射して物体の少なくとも一部にマーク(例えば、文字、数字又は図形)を形成可能なマーキング加工を行ってもよい。この場合であっても、上述した効果が享受可能である。
 マーキング加工を行う場合には、加工システムSYSは、加工光ELの照射領域EA(つまり、マーキング加工が行われている位置)に対して、パージガス等の気体を供給してもよい。典型的には、加工システムSYSは、照射領域EAに対して、パージガス等の気体を吹き付けてもよい。例えば、加工システムSYSは、上述したように材料ノズル212からパージガス等の気体を照射領域EAに供給してもよい。加工システムSYSは、材料ノズル212とは異なる装置からパージガス等の気体を照射領域EAに供給してもよい。その結果、照射領域EAに気体が吹き付けられない場合と比較して、マーキング加工によって形成されるマークの発色性が向上する。
 上述の各実施形態の構成要件の少なくとも一部は、上述の各実施形態の構成要件の少なくとも他の一部と適宜組み合わせることができる。上述の各実施形態の構成要件のうちの一部が用いられなくてもよい。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態で引用した全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
 本発明は、上述した実施例に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う加工システム、加工方法、制御装置、コンピュータプログラム、記録媒体及び加工装置もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
 SYS 加工システム
 1 材料供給装置
 2 加工装置
 21 加工ヘッド
 22 ヘッド駆動系
 24 ガイド光射出装置
 25 撮像装置
 3 ステージ装置
 31 ステージ
 311 載置面
 7 制御装置
 8b 計測装置
 81b 投影装置
 82b 撮像装置
 91 ディスプレイ
 92 入力装置
 W ワーク
 M 造形材料
 SL 構造層
 MS 造形面
 EA 照射領域
 MA 供給領域
 MP 溶融池
 EL 加工光
 DL 計測光
 GL ガイド光

Claims (58)

  1.  エネルギビームを照射する照射光学系と、前記エネルギビームの照射位置に粉体を供給する粉体供給部材とを含む加工装置と、
     前記加工装置を制御する制御装置と
     を備え、
     前記加工装置による加工は、第1物体と第2物体との接合を含み、
     前記制御装置は、前記第1物体及び前記第2物体の少なくとも一方への前記エネルギビームの照射と前記照射位置への前記粉体の供給とを含む第1の動作と、前記第1物体及び前記第2物体の少なくとも一方への前記エネルギビームの照射を含み且つ前記照射位置への前記粉体の供給を含まない第2の動作とのうちの一方により前記加工装置に前記接合を行わせる
     加工システム。
  2.  前記粉体供給部材に接続され、前記粉体を前記粉体供給部材に供給する粉体供給装置と、
     前記粉体供給部材に接続され、気体を前記粉体供給部材に供給する気体供給部と
     を備える請求項1に記載の加工システム。
  3.  前記制御装置は、
     前記第1の動作において、前記粉体供給部材に前記粉体を供給するように前記粉体供給装置を制御し、
     前記第2の動作において、前記粉体供給部材に前記粉体を供給しないように前記粉体供給装置を制御する
     請求項2に記載の加工システム。
  4.  前記制御装置は、前記気体の単位時間当たりの供給量を変更するように前記気体供給部を制御する
     請求項2又は3に記載の加工システム。
  5.  前記加工装置は、前記粉体供給部材に形成された供給口から気体と共に前記粉体を供給する
     請求項1から4のいずれか一項に記載の加工システム。
  6.  前記加工装置は、前記供給口から前記照射位置に前記気体を供給する
     請求項5に記載の加工システム。
  7.  前記第1の動作において、前記加工装置は、前記供給口から前記気体と共に前記粉体を供給し、
     前記第2の動作において、前記加工装置は、前記供給口から前記気体及び前記粉体を供給しない
     請求項5又は6に記載の加工システム。
  8.  前記第1の動作において、前記加工装置は、前記供給口から前記気体と共に前記粉体を供給し、
     前記第2の動作において、前記加工装置は、前記供給口から前記粉体を供給することなく前記気体を供給する
     請求項5又は6に記載の加工システム。
  9.  前記制御装置は、前記供給口から供給される前記気体の供給量を変更する
     請求項5から8のいずれか一項に記載の加工システム。
  10.  前記第1及び第2物体が収容される空間に、前記供給口とは異なる供給口から気体を供給する気体供給装置を更に備え、
     前記制御装置は、前記気体供給装置から供給される前記気体の供給量を変更する
     請求項5から9のいずれか一項に記載の加工システム。
  11.  前記第1及び第2物体が収容される空間に気体を供給する気体供給装置を更に備え、
     前記制御装置は、前記気体供給装置から供給される前記気体の供給量を変更する
     請求項1から4のいずれか一項に記載の加工システム。
  12.  前記加工装置による加工は、物体上に造形物を造形する付加加工を含み、
     前記制御装置は、前記物体への前記エネルギビームの照射と、前記エネルギビームの照射位置への前記粉体の供給とを含む動作を前記加工装置に行わせ、前記付加加工を行い、
     前記制御装置は、前記加工装置が前記第1及び第2物体を接合する場合には、前記加工装置が前記物体に前記付加加工を行う場合と比較して、前記供給量が少なくなるように前記供給量を変更する
     請求項9から11のいずれか一項に記載の加工システム。
  13.  前記加工装置は、前記第1及び第2物体の少なくとも一方の少なくとも一部を前記エネルギビームで溶融して前記第1物体と前記第2物体とを接合し、
     前記制御装置は、前記供給量を変更して、前記第1及び第2物体の少なくとも一方の少なくとも一部の溶融量を変更する
     請求項9から12のいずれか一項に記載の加工システム。
  14.  前記制御装置は、前記供給量を変更して、溶融した前記第1及び第2物体の少なくとも一方の少なくとも一部が固化することで形成される接合跡のサイズを変更する
     請求項13に記載の加工システム。
  15.  前記気体は、不活性ガスを含む
     請求項2から14のいずれか一項に記載の加工システム。
  16.  前記加工装置による加工は、物体上に造形物を造形する付加加工を含み、
     前記制御装置は、前記物体への前記エネルギビームの照射と、前記エネルギビームの照射位置への前記粉体の供給とを含む動作を前記加工装置に行わせ、前記付加加工を行う
     請求項1から15のいずれか一項に記載の加工システム。
  17.  前記第1の動作において、前記加工装置は、前記照射位置に供給された前記粉体と前記第1及び第2物体の少なくとも一方の少なくとも一部とを前記エネルギビームで溶融し、溶融した前記粉体が固化することで形成される部分を介して前記第1物体と前記第2物体とを接合し、
     前記第2の動作において前記加工装置は、前記第1及び第2物体の少なくとも一方の少なくとも一部を前記エネルギビームで溶融して前記第1物体と前記第2物体とを接合する
     請求項1から16のいずれか一項に記載の加工システム。
  18.  前記加工装置で加工される物体と前記照射位置との相対位置を変更する位置変更装置と、
     前記照射位置と前記物体との位置関係を、ユーザに視認させる照射位置視認装置と
     を更に備え、
     前記物体の加工に用いられる情報に基づいて、前記照射位置と前記物体との位置関係の変化を前記ユーザに視認させるように、前記位置変更装置及び前記照射位置視認装置を制御する
     請求項1から17のいずれか一項に記載の加工システム。
  19.  前記制御装置は、前記照射光学系が前記エネルギビームを前記物体に照射して前記物体を実際に加工する前に前記照射位置と前記物体との位置関係の変化を前記ユーザに視認させるように、前記位置変更装置及び前記照射位置視認装置を制御する
     請求項18に記載の加工システム。
  20.  前記制御装置は、前記エネルギビームの非照射状態において、前記照射位置と前記物体との位置関係の変化を前記ユーザに視認させるように、前記位置変更装置及び前記照射位置視認装置を制御する
     請求項18又は19に記載の加工システム。
  21.  前記照射位置視認装置は、前記照射光学系との間の相対位置が固定されており且つ前記物体にガイド光を照射する光照射装置を備え、
     前記制御装置は、前記光照射装置に前記ガイド光を照射させた状態で、前記情報に基づいて、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更するように前記位置変更装置を制御する
     請求項18から20のいずれか一項に記載の加工システム。
  22.  前記ガイド光の照射位置は、前記エネルギビームの照射位置に対応する
     請求項21に記載の加工システム。
  23.  前記情報は、前記エネルギビームを照射するべき位置に関する情報を含み、
     前記制御装置は、前記位置に関する情報に基づいて、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更して前記ガイド光が前記エネルギビームを照射するべき位置に照射されるように、前記位置変更装置を制御する
     請求項21又は22に記載の加工システム。
  24.  前記情報は、前記エネルギビームを照射するべき位置に関する情報を含み、
     前記制御装置は、前記位置に関する情報に基づいて、前記照射光学系が前記エネルギビームを前記物体に照射して前記物体を実際に加工する場合と同様に前記物体と前記照射位置との相対位置を変更するように前記位置変更装置を制御する
     請求項18から23のいずれか一項に記載の加工システム。
  25.  前記制御装置には、前記第1物体と前記第2物体とを接合する際に前記エネルギビームを照射するべき位置を指定するための指定情報が入力される
     請求項1から24のいずれか一項に記載の加工システム。
  26.  前記指定情報を前記制御装置に入力する入力装置を更に備える
     請求項25に記載の加工システム。
  27.  前記エネルギビームの照射位置との間の相対位置が固定されており且つ前記第1及び第2物体の少なくとも一方の少なくとも一部にガイド光を照射する光照射装置と、
     前記第1及び第2物体と前記エネルギビームの照射位置及び前記ガイド光の照射位置との相対位置を変更する位置変更装置と
     を更に備え、
     前記指定情報は、前記エネルギビームを照射するべき位置として指定したい位置に前記ガイド光が照射された時点での前記ガイド光の照射位置に関する情報を含む
     請求項25又は26に記載の加工システム。
  28.  前記第1及び第2物体の少なくとも一方の少なくとも一部と前記第1及び第2物体の少なくとも一方の少なくとも一部に照射された前記ガイド光とを撮像する撮像装置と、
     前記撮像装置が撮像した画像を表示する表示装置と
     を更に備える請求項27に記載の加工システム。
  29.  前記制御装置は、前記指定情報に基づいて、前記エネルギビームを照射するべき位置を設定する
     請求項25から28のいずれか一項に記載の加工システム。
  30.  前記指定情報は、前記エネルギビームを照射するべき位置に含まれる少なくとも二つの指定位置に関する情報を含み、
     前記制御装置は、前記少なくとも二つの指定位置の間を結ぶ直線及び/又は曲線を含む領域の位置を前記エネルギビームを照射するべき位置に設定する
     請求項29に記載の加工システム。
  31.  前記指定情報は、前記エネルギビームを照射するべき位置に含まれる少なくとも一つの指定位置に関する情報を含み、
     前記制御装置は、前記少なくとも一つの指定位置を含む領域の位置を前記エネルビビームを照射するべき位置に設定する
     請求項29又は30に記載の加工システム。
  32.  前記指定情報は、前記第1及び第2物体の少なくとも一方の少なくとも一部の状態に関する状態情報を含む
     請求項25から31のいずれか一項に記載の加工システム。
  33.  前記状態情報は、前記第1及び第2物体の少なくとも一方の少なくとも一部の形状に関する形状情報を含む
     請求項32に記載の加工システム。
  34.  前記第1及び第2物体の少なくとも一方の少なくとも一部を撮像する撮像装置を更に備え、
     前記制御装置には、前記撮像装置から、前記撮像装置が撮像した画像が前記状態情報として入力される
     請求項32又は33に記載の加工システム。
  35.  前記第1及び第2物体の少なくとも一方の少なくとも一部の形状を計測する計測装置を更に備え、
     前記制御装置には、前記計測装置から、前記形状情報が前記状態情報として入力される
     請求項32から34のいずれか一項に記載の加工システム。
  36.  前記照射光学系は、第1の方向に沿って前記エネルギビームの照射位置を変更しながら、前記第1及び第2物体の少なくとも一方の少なくとも一部に前記エネルギビームを照射する
     請求項1から35のいずれか一項に記載の加工システム。
  37.  前記照射光学系は、前記第1の方向及び前記第1の方向に交差する第2の方向のそれぞれに沿って前記エネルギビームの照射位置を変更しながら、前記第1及び第2物体の少なくとも一方の少なくとも一部に前記エネルギビームを照射する
     請求項36に記載の加工システム。
  38.  エネルギビームを照射する照射光学系と、前記エネルギビームの照射位置に粉体を供給する粉体供給部材とを含む加工装置を用いた加工方法であって、
     前記加工装置による加工は、第1物体と第2物体との接合を含み、
     前記第1物体及び前記第2物体の少なくとも一方への前記エネルギビームの照射と前記照射位置への前記粉体の供給とを含む第1の動作により前記加工装置に前記接合を行わせることと、
     前記第1物体及び前記第2物体の少なくとも一方への前記エネルギビームの照射を含み且つ前記照射位置への前記粉体の供給を含まない第2の動作により前記加工装置に前記接合を行わせることと
     を含む加工方法。
  39.  エネルギビームを照射する照射光学系と、前記エネルギビームの照射位置に粉体を供給する粉体供給部材とを含む加工装置を制御する制御装置であって、
     前記加工装置による加工は、第1物体と第2物体との接合を含み、
     前記第1物体及び前記第2物体の少なくとも一方への前記エネルギビームの照射と前記照射位置への前記粉体の供給とを含む第1の動作により前記加工装置に前記接合を行わせる処理と、
     前記第1物体及び前記第2物体の少なくとも一方への前記エネルギビームの照射を含み且つ前記照射位置への前記粉体の供給を含まない第2の動作により前記加工装置に前記接合を行わせる処理と
     を実行する制御装置。
  40.  エネルギビームを照射する照射光学系と、前記エネルギビームの照射位置に粉体を供給する粉体供給部材とを含む加工装置を制御するコンピュータによって実行されるコンピュータプログラムであって、
     前記加工装置による加工は、第1物体と第2物体との接合を含み、
     前記第1物体及び前記第2物体の少なくとも一方への前記エネルギビームの照射と前記照射位置への前記粉体の供給とを含む第1の動作により前記加工装置に前記接合を行わせる処理と、
     前記第1物体及び前記第2物体の少なくとも一方への前記エネルギビームの照射を含み且つ前記照射位置への前記粉体の供給を含まない第2の動作により前記加工装置に前記接合を行わせる処理と
     を前記コンピュータに実行させるコンピュータプログラム。
  41.  請求項40に記載のコンピュータプログラムが記録された記録媒体。
  42.  エネルギビームを照射する照射光学系と、
     前記エネルギビームの照射位置に粉体を供給する粉体供給部材と
     を備える加工装置であって、
     前記加工装置による加工は、第1物体と第2物体との接合を含み、
     前記第1物体及び前記第2物体の少なくとも一方への前記エネルギビームの照射と前記照射位置への前記粉体の供給とを含む第1の動作と、前記第1物体及び前記第2物体の少なくとも一方への前記エネルギビームの照射を含み且つ前記照射位置への前記粉体の供給を含まない第2の動作とのうちの一方により前記加工装置に前記接合を行わせるための制御信号を受信する受信装置を更に備える
     加工装置。
  43.  第1物体及び第2物体の少なくとも一方にエネルギビームを照射する照射光学系と、前記エネルギビームの照射位置に粉体を供給する粉体供給部材とを含み、前記第1物体と前記第2物体とを接合する加工装置と、
     前記第1物体及び前記第2物体が収容される空間に気体を供給する気体供給装置と、
     前記気体供給装置から供給される前記気体の供給量を変更するように前記気体供給装置を制御する制御装置と
     を備え、
     前記加工装置は、前記照射光学系を用いて第3物体にエネルギビームを照射しつつ前記粉体供給部材から前記エネルギビームの照射位置に粉体を供給して前記第3物体に造形物を造形し、
     前記制御装置は、前記加工装置によって前記第1及び第2物体が接合される場合には、前記空間に第1供給量で前記気体を供給し、前記加工装置によって前記第3物体に前記造形物が造形される場合には、前記第3物体が収容される空間に前記第1供給量よりも多い第2供給量で前記気体を供給するように前記気体供給装置を制御する加工システム。
  44.  前記粉体供給部材に前記粉体を供給する粉体供給装置を備え、
     前記気体供給装置は前記粉体供給部材に接続され、
     前記粉体供給部材は、前記粉体供給部材に形成された供給口から前記気体と共に前記粉体を供給する
     請求項43に記載の加工システム。
  45.  前記照射光学系は、前記第1物体と前記第2物体の少なくとも一方の少なくとも一部を前記エネルギビームで溶融して前記第1物体と前記第2物体とを接合し、
     前記制御装置は、前記供給量を変更して、前記第1及び第2物体の少なくとも一方の少なくとも一部の溶融量を変更する
     請求項43又は44に記載の加工システム。
  46.  前記制御装置は、前記供給量を変更して、溶融した前記第1及び第2物体の少なくとも一方の少なくとも一部が固化することで形成される接合跡のサイズを変更する
     請求項45に記載の加工システム。
  47.  前記気体は、不活性ガスを含む
     請求項43から46のいずれか一項に記載の加工システム。
  48.  前記第3物体は前記第1及び第2物体とは異なる
     請求項43から49のいずれか一項に記載の加工システム。
  49.  物体にエネルギビームを照射して、前記物体を加工する照射光学系と、
     前記物体と前記エネルギビームの照射位置との相対位置を変更する位置変更装置と、
     前記照射位置と前記物体との位置関係を、ユーザに視認させる照射位置視認装置と、
     前記物体の加工に用いられる情報に基づいて、前記照射位置と前記物体との位置関係の変化を前記ユーザに視認させるように、前記位置変更装置及び前記照射位置視認装置を制御する制御装置と
     を備える加工システム。
  50.  前記制御装置は、前記照射光学系が前記エネルギビームを前記物体に照射して前記物体を実際に加工する前に前記照射位置と前記物体との位置関係の変化を前記ユーザに視認させるように、前記位置変更装置及び前記照射位置視認装置を制御する
     請求項49に記載の加工システム。
  51.  前記制御装置は、前記エネルギビームの非照射状態で、前記照射位置と前記物体との位置関係の変化を前記ユーザに視認させるように、前記位置変更装置及び前記照射位置視認装置を制御する
     請求項49又は50に記載の加工システム。
  52.  前記照射位置視認装置は、前記照射光学系との間の相対位置が固定されており且つ前記物体にガイド光を照射する光照射装置を備え、
     前記制御装置は、前記光照射装置に前記ガイド光を照射させた状態で、前記情報に基づいて、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更するように前記位置変更装置を制御する
     請求項49から51のいずれか一項に記載の加工システム。
  53.  前記ガイド光の照射位置は、前記エネルギビームの照射位置に対応する
     請求項52に記載の加工システム。
  54.  前記情報は、前記エネルギビームを照射するべき位置に関する情報を含み、
     前記制御装置は、前記位置に関する情報に基づいて、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更して前記ガイド光が前記エネルギビームを照射するべき位置に照射されるように、前記位置変更装置を制御する
     請求項52又は53に記載の加工システム。
  55.  前記情報は、前記エネルギビームを照射するべき位置に関する情報を含み、
     前記制御装置は、前記位置に関する情報に基づいて、前記照射光学系が前記エネルギビームを前記物体に照射して前記物体を実際に加工する場合と同様に前記物体と前記照射位置との相対位置を変更するように前記位置変更装置を制御する
     請求項49から54のいずれか一項に記載の加工システム。
  56.  前記エネルギビームを照射するべき位置に関する情報を入力する入力装置を更に備える
     請求項49から55のいずれか一項に記載の加工システム。
  57.  前記物体を実際に加工する場合には、前記物体上の第1位置から前記第1位置と異なる第2位置に向けて前記照射位置が移動し、
     前記位置に関する情報は、前記第1位置と前記第2位置とに関する情報を含む
     請求項56に記載の加工システム。
  58.  前記第1位置と前記第2位置とに関する前記情報と、前記照射位置が移動する軌跡に関する情報とを入力する入力装置を更に含む
     請求項57に記載の加工システム。
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