WO2021256891A1 - 임플란트 보관 용기의 제조방법 및 임플란트 보관 용기의 플라즈마 처리 방법 - Google Patents

임플란트 보관 용기의 제조방법 및 임플란트 보관 용기의 플라즈마 처리 방법 Download PDF

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임유봉
이승헌
김준영
이동근
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주식회사 플라즈맵
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    • H05H2245/40—Surface treatments

Definitions

  • the present invention relates to a method of manufacturing an implant storage container in which an implant body is packaged and accommodated, and a plasma processing method of the implant storage container for plasma-treating the implant storage container.
  • An implant means a substitute that restores human tissue when human tissue is lost, and in dentistry, it means an artificially made tooth structure.
  • an artificial root made of a material that does not react against the human body eg, titanium, etc.
  • the artificial tooth root is adhered to the alveolar bone, and the prosthesis is fixed to form an artificial tooth structure.
  • a fixture corresponding to an implant is planted in the alveolar bone from which the tooth has escaped, and is fixed to restore the function of the tooth.
  • the primary procedure for placing the fixture in the alveolar bone and the secondary procedure for fixing the final prosthesis, the crown are included after waiting 3 months or more for the fixture to osseointegrate into the alveolar bone.
  • the manufactured implant body undergoes a cleaning process, and then is packaged in an implant storage container, sterilized and transported.
  • the stored aqueous solution has a problem requiring strict quality control.
  • Patent Document 1 Korean Patent Publication No. 2014-0101261
  • Patent Document 2 Korean Patent Publication No. 2018-0015057
  • Patent Document 3 Korean Patent Publication No. 2018-0015054
  • Patent Document 4 Korean Patent Publication No. 10-1439344
  • Patent Document 5 Korean Patent Publication No. 10-1693335
  • the present invention has been devised to solve the above problems, and a method for manufacturing an implant storage container that guarantees transport convenience and cleanliness of the implant body, and an implant storage container in which the implant body is accommodated for sterilization and surface treatment of the implant body
  • An object of the present invention is to provide a plasma treatment method of an implant storage container for plasma treatment.
  • the packaging step by filling the discharge gas inside the implant storage container can create a gas environment inside the implant storage container.
  • a gas environment inside the implant storage container can be created by creating a packaging environment with the discharge gas so that the discharge gas is filled in the implant storage container.
  • the discharge gas may be filled.
  • the display step of displaying the gas environment inside the implant storage container through the display unit of the implant storage container may further include.
  • the display unit may be formed of at least one of a QR code, a barcode, RFID, and NFC.
  • the receiving step by fixing the implant body to the fixing portion of the implant storage container can be accommodated in the implant storage container.
  • Plasma treatment method of the implant storage container after accommodating the cleaned implant body in the implant storage container, creates a gaseous environment inside the implant storage container, and seals the implant storage container with a sealing member and packaging the implant storage container manufacturing step; and a plasma treatment step of generating plasma inside the packaged implant storage container through a plasma processing device to perform sterilization and surface treatment of the implant body accommodated in the implant storage container.
  • the plasma processing apparatus may perform the plasma processing by varying the voltage condition according to the gas environment information inside the implant storage container displayed on the display unit.
  • the inspection step of inspecting whether the composition of the gas environment inside the implant storage container is properly made through the voltage value at the point in time when the plasma discharge is generated when the implant body is plasma-treated; may further include.
  • gas environment information inside the implant storage container is displayed through the display unit of the implant storage container, and the plasma processing device is displayed in the implant storage container on the display unit
  • the plasma processing device is displayed in the implant storage container on the display unit
  • the inspection step of inspecting whether the composition of the gas environment inside the implant storage container is properly made through the current monitoring of the plasma processing device when the implant body is plasma-treated may further include.
  • the plasma treatment can be easily performed without a separate exhaust treatment when the implant storage container is plasma-treated.
  • the discharge gas helps to generate plasma, when the discharge gas is filled in the internal space of the implant storage container, more effective plasma treatment is possible.
  • Sterilization through plasma treatment can prevent impurities such as hydrocarbons from occurring on the surface of the implant body compared to conventional gamma sterilization.
  • the surface treatment and sterilization of the implant body can be made more effectively.
  • Figure 2 is an exploded perspective view of Figure 1;
  • Figure 3 is a configuration diagram showing the connection of an external exhaust device or an external filling device to the implant storage container of the present invention.
  • the implant storage container 10 of the present invention As shown in Figures 1 to 3, the implant storage container 10 of the present invention, the outer case 11, the inner case 12 disposed inside the outer case 11, and the inner case 12 A seal coupled to the outer case 11 and the inner case 12 to seal the fixing part 15 for fixing the implant body (IM) from the inside, and to seal the implant storage container 10 when the implant body (IM) is accommodated.
  • the member 17 may be included.
  • the implant body IM is fixed to the fixing unit 15 and accommodated in the implant storage container 10 , specifically, the inner case 12 .
  • the sealing member 17 is coupled to the lower portions of the outer case 11 and the inner case 12 so as to block and seal the implant storage container 10 from the outside.
  • the sealing member 17 is coupled to the lower portion of the inner case 12 so as to be sealed by blocking the flow of air between the inside of the inner case 12 and the inside of the outer case 11 .
  • the sealing member provided with the hole 18 is made of an elastic material. Therefore, the hall is not usually formed with a space.
  • the display unit 14 may be in the shape of the implant storage container 10 .
  • it includes a method of allowing the information of the formed gas environment to be confirmed from the outside by changing the size, shape, and color for each gas environment.
  • the plasma processing apparatus 100 is connected to the receiving unit 120 accommodating the implant storage container 10 in which the implant body IM is accommodated, and the receiving unit 120 .
  • the implant storage container ( 10) may be configured to include processing units 140 , 141 , 142 , and 143 .
  • the driving unit 133 moves the implant storage container 10 to the implant storage container 10 side by moving the needle 131 to the implant storage container 10 in response to the request of the implant storage container 10 being mounted on the plasma processing apparatus 100 or plasma processing. It functions to drive the needle 131 so that a path through which air is circulated is made.
  • the filter 137 functions to filter or purify contaminants included in the outside air.
  • the filter 137 may be a high efficiency particulate air (HEPA) filter.
  • the filter valve 136 is closed when the interior of the implant storage container 10 is exhausted, and operates to be opened when the interior of the implant storage container 10 is vented.
  • the electrical connection unit 19 may be an electrical terminal exposed on the outer surface of the implant storage container 10 as the same material as the implant body IM while being a metal material capable of electrical connection. Thereby, the implant body IM functions as a high voltage part in plasma generation through dielectric barrier discharge.
  • the second electrode unit 142 is configured adjacent to the outer surface of the implant storage container 10 accommodated in the receiving unit 120, and is grounded.
  • the second electrode part 142 is a ground electrode to which no voltage is applied, and maintains the ground OV.
  • the processing units 140 , 141 , 142 143 may include a dielectric unit 143 .
  • the dielectric part 143 is in contact with the second electrode part 142 and is configured to be adjacent to the implant storage container 10 rather than the second electrode part 142 .
  • the dielectric part 143 may be configured in the accommodating part 120, and as the implant storage container 10 is accommodated in the accommodating part 120, a part of the outer surface of the implant storage container 10 is adjacent to it. can
  • the manufacturing method of the implant storage container 10 of the present invention the cleaning step (S10) for cleaning the implant body (IM), and the implant body cleaned in the cleaning step (S10)
  • the process of receiving the implant body (IM) cleaned in the cleaning step (S10) in the implant storage container (10) is performed.
  • the storage in the implant storage container 10 is facilitated by fixing the implant body (IM) with a fixing part (15) provided inside the inner case (12), so that the implant body (IM) is easily moved into the implant storage container (10). can be stored comfortably.
  • a robot arm or the like in order to prevent contamination of the cleaned implant body IM, it may be accommodated by a robot arm or the like.
  • the cap 13 is coupled to the upper portion of the inner case (12). Thereafter, the inner case 12 is placed in the outer case 11 and the sealing member 17 is coupled to the lower portion of the inner case 12 and the outer case 11 to seal the implant storage container 10 . do.
  • a gas environment inside the implant storage container 10 may be created by evacuating the inside of the implant storage container so that the inside of the implant storage container 10 is in a vacuum state.
  • the implant storage container 10 in a vacuum state can create a gaseous environment of
  • the discharge gas is helium gas, neon gas, argon gas, krypton gas, xenon gas, radon gas, xenon gas, nitrogen gas, hydrogen selenide gas, deuterium gas, fluorine gas, chlorine gas, bromine gas, iodine gas, hydrogen gas , mercury gas, or a combination of the above gases.
  • the internal space (S) of the implant storage container 10 is composed of a specific gas environment, when plasma processing the implant storage container 10, it is possible to easily perform the plasma treatment without a separate exhaust treatment.
  • the discharge gas helps to generate plasma, when the discharge gas is filled in the internal space (S) of the implant storage container 10, more effective plasma treatment is possible.
  • the display unit 14 may be formed of at least one of a QR code, a barcode, RFID, and NFC.
  • the plasma processing method of the implant storage container 10 of the present invention after accommodating the cleaned implant body (IM) in the implant storage container 10, the implant storage container 10 inside An implant storage container manufacturing step (S100) of creating a gaseous environment and sealing and packaging the implant storage container 10 with a sealing member 17, and the implant storage container 10 packaged through the plasma processing device 100
  • the plasma processing apparatus 100 may exhaust the interior of the implant storage container 10 through the exhaust unit 130 to make the internal gaseous environment of the implant storage container 10 into a low pressure or vacuum state. have.
  • the inside of the implant storage container 10 is not sealed with an internal gas environment filled with the discharge gas used for plasma discharge according to a preset composition ratio, plasma generation due to voltage conditions is not made or the plasma discharge intensity is different according to the Partition law. because it will lose
  • pump valve 135 pump

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Abstract

본 발명은 임플란트 몸체가 패키징하여 수납하고, 운반의 편의성 및 임플란트 몸체의 청정도가 보장되는 임플란트 보관 용기의 제조방법과, 임플란트 몸체의 살균 및 표면처리를 위해 임플란트 몸체가 수납된 임플란트 보관 용기를 플라즈마 처리하는 임플란트 보관 용기의 플라즈마 처리 방법에 관한 것이다.

Description

임플란트 보관 용기의 제조방법 및 임플란트 보관 용기의 플라즈마 처리 방법
본 발명은 임플란트 몸체가 패키징되어 수납된 임플란트 보관 용기의 제조방법과, 이러한 임플란트 보관 용기를 플라즈마 처리하는 임플란트 보관 용기의 플라즈마 처리 방법에 관한 것이다.
임플란트는 인체조직이 상실되었을 때 인체조직을 회복시켜 주는 대체물을 의미하며 치과에서는 인공으로 만든 치아 구조물을 의미한다.
이러한 임플란트는 충치 또는 기타 사유에 의해 치아를 발치한 후, 치아를 대체하여 이식하기 위한 치료에 사용된다.
임플란트 시술 과정에서는 상실된 치아의 치근을 대신할 수 있도록 인체에 거부반응이 없는 재질(예컨대, 티타늄 등)로 만든 인공 치근을 뼈에 심는다. 그 뒤, 인공 치근을 치조골에 유착시키고, 보철물을 고정하여 인공 치아 구조를 형성한다.
일반적으로 치과용 임플란트는 티타늄으로 구성되어 치조골에 식립되는 픽스쳐(fixture), 픽스쳐 상에 고정되어 보철물을 지지하는 어버트먼트 (abutment), 어버트먼트를 픽스쳐에 고정하는 어버트먼트 스크류(abutment screw) 및 어버트먼트에 고정되는 인공치아로서의 보철물(prosthesis)로 구성된다.
인공 치아로 사용되는 임플란트는 인체에 거부반응이 없는 재질로 제작되며, 뼈와 잇몸이 없는 부분에 대해서 미용뿐만 아니라 기능까지 회복시키는 치료를 하게 된다.
이러한 치료에 있어서, 임플란트에 해당하는 픽스쳐(fixture)는 치아가 빠져나간 치조골에 심어지고, 고정되어 치아의 기능을 회복하도록 한다.
여기서 픽스쳐를 치조골에 식립하는 1차 시술과 픽스쳐가 치조골에 골융합되는 시간이 3개월 이상 기다린 후 최종보철물인 크라운(crown)을 고정시키는 2차 시술을 포함한다.
치과용 임플란트의 구성들은 인체의 조직 내에 삽입되는 구성인 만큼 멸균상태 및 표면 활성화 상태가 유지되어야 하므로, 포장과 운반, 그리고 포장의 개봉 시에 오염이나 손상되지 않도록 하는 것이 무엇보다도 중요한 과제가 되고 있다.
종래의 경우, 제조된 임플란트 몸체는 클리닝 공정을 거친 후, 임플란트 보관 용기에 패키징하고, 이를 살균 처리하여 운반되었다.
그러나, 운반 과정에서 임플란트 몸체에 오염이 발생되는 등의 문제가 발생하였다.
이러한 문제를 해결하기 위해, 종래에는 임플란트 몸체를 HCl 용액에 침지하여 패키징하여 운반하거나, 쿼츠로 패키징한 후 운반하여 의료 현장에서 UV로 살균처리하는 방법들이 사용되었다.
그러나, HCl 용액으로 패키징하게 되면, 임플란트 보관 용기의 제조 단가가 상승되고, 운반과정에서 파손 염려가 있으며, 쿼츠로 패키징하는 경우, 제조 단가가 크게 상승되는 문제점이 있다.
또한, 보관되는 수용액은 까다로운 품질관리가 요구되는 문제점 있다.
또한, 수용액에 함유된 분자에 의한 임플란트 몸체의 경시변화를 일으켜 품질이 낮아지는 문제점이 있다.
[선행기술문헌]
[특허문헌]
(특허문헌 1) 한국 공개특허공보 제2014-0101261호
(특허문헌 2) 한국 공개특허공보 제2018-0015057호
(특허문헌 3) 한국 공개특허공보 제2018-0015054호
(특허문헌 4) 한국 등록특허공보 제10-1439344호
(특허문헌 5) 한국 등록특허공보 제10-1693335호
본 발명은 전술한 문제를 해결하기 위해 안출된 것으로서, 운반의 편의성 및 임플란트 몸체의 청정도가 보장되는 임플란트 보관 용기의 제조 방법과, 임플란트 몸체의 살균 및 표면처리를 위해 임플란트 몸체가 수납된 임플란트 보관 용기를 플라즈마 처리하는 임플란트 보관 용기의 플라즈마 처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 일 특징에 따른 임플란트 보관 용기의 제조 방법은, 임플란트 몸체를 임플란트 보관 용기에 수납하는 수납 단계; 및 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경을 조성하고, 밀봉부재로 상기 임플란트 보관 용기를 밀봉하여 패키징하는 패키징 단계;를 포함할 수 있다.
또한, 상기 패키징 단계는, 상기 임플란트 보관 용기의 내부가 저압 상태가 되도록 상기 임플란트 보관 용기의 내부를 배기하여 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경을 조성할 수 있다.
또한, 상기 패키징 단계는, 상기 임플란트 보관 용기의 내부가 진공 상태가 되도록 상기 임플란트 보관 용기의 내부를 배기하여 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경을 조성할 수 있다.
또한, 상기 패키징 단계는, 상기 임플란트 보관 용기의 내부에 방전 기체를 충진하여 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경을 조성할 수 있다.
또한, 상기 패키징 단계는, 패키징 환경을 상기 방전 기체로 조성하여 상기 임플란트 보관 용기의 내부에 방전 기체가 충진되도록 하여 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경을 조성할 수 있다.
또한, 상기 패키징 단계는, 상기 방전 기체를 충진하기 전에 상기 임플란트 보관 용기의 내부를 배기한 후, 상기 방전 기체를 충진할 수 있다.
또한, 상기 패키징 단계는, 상기 방전 기체를 충진하기 전 또는 상기 방전 기체를 충진한 후에 상기 임플란트 보관 용기의 내부를 배기하여 상기 임플란트 보관 용기의 내부가 저압 상태가 되도록 할 수 있다.
또한, 상기 방전 기체는, 헬륨 기체, 네온 기체, 아르곤 기체, 크립톤 기체, 제논 기체, 라돈 기체, 크세논 기체, 질소 기체, 셀렌화 수소 기체, 중수소 기체, 불소 기체, 염소 기체, 브롬 기체, 요오드 기체, 수소 기체, 수은 기체, 또는 상기 기체들의 조합으로 구성될 수 있다.
또한, 상기 임플란트 보관 용기의 표시부를 통해 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경을 표시하는 표시 단계;를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 표시부는, QR코드, 바코드, RFID 및 NFC 중 적어도 어느 하나로 이루어질 수 있다.
또한, 상기 수납 단계는, 상기 임플란트 보관 용기의 고정부로 상기 임플란트 몸체를 고정시켜 상기 임플란트 보관 용기에 수납할 수 있다.
본 발명의 일 특징에 따른 임플란트 보관 용기의 플라즈마 처리 방법은, 클리닝된 임플란트 몸체를 임플란트 보관 용기에 수납한 후, 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경을 조성하고, 밀봉부재로 상기 임플란트 보관 용기를 밀봉하여 패키징하는 임플란트 보관 용기 제조 단계; 및 플라즈마 처리 장치를 통해 상기 패키징된 임플란트 보관 용기 내부에 플라즈마를 발생시켜 상기 임플란트 보관 용기 내부에 수납된 임플란트 몸체의 살균 및 표면처리를 수행하는 플라즈마 처리 단계;를 포함할 수 있다.
또한, 상기 플라즈마 처리 단계는, 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경에 따라 전압 조건을 달리하여 플라즈마 처리를 수행할 수 있다.
또한, 상기 임플란트 보관 용기 제조 단계에서, 상기 임플란트 보관 용기의 표시부를 통해 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경 정보를 표시하고,
상기 플라즈마 처리 단계에서, 상기 플라즈마 처리 장치가 상기 표시부에 표시된 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경 정보에 따라 전압 조건을 달리하여 플라즈마 처리를 수행할 수 있다.
또한, 상기 임플란트 몸체를 플라즈마 처리시 플라즈마 방전이 발생되는 시점의 전압 값을 통해 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경 조성이 제대로 이루어졌는지 검수하는 검수 단계;를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 플라즈마 처리 단계는, 상기 임플란트 보관 용기 제조 단계에서, 상기 임플란트 보관 용기의 표시부를 통해 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경 정보를 표시하고, 상기 플라즈마 처리 장치가 상기 표시부에 표시된 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경 정보에 따라 결정된 전압을 인가하였을 때 발생되는 플라즈마 방전세기와 상기 결정된 전압보다 낮거나 높은 전압을 인가하였을 때 발생되는 플라즈마 방전세기를 비교하여 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경 조성이 제대로 이루어졌는지 검수하는 검수 단계;를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 임플란트 몸체를 플라즈마 처리시 상기 플라즈마 처리 장치의 전류 모니터링을 통해 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경 조성이 제대로 이루어졌는지 검수하는 검수 단계;를 더 포함할 수 있다.
이상에서 살펴본 바와 같은 본 발명의 임플란트 보관 용기의 제조방법 및 임플란트 보관 용기의 플라즈마 처리 방법에 따르면 다음과 같은 효과가 있다.
임플란트 보관 용기의 내부에 내부 기체 환경을 조성함에 따라, 클리닝된 임플란트 몸체에 오염이 발생하는 것을 미연에 방지할 수 있다.
임플란트 보관 용기의 내부에 기체 환경을 조성함으로써, 제조 단가를 낮출 수 있고, 유통과정에서의 품질 변화를 최소화할 수 있다.
임플란트 보관 용기의 내부 공간이 저압 또는 진공 상태일 경우, 임플란트 보관 용기를 플라즈마 처리시, 별도의 배기 처리가 없어도 플라즈마 처리를 용이하게 수행할 수 있다.
방전 기체가 플라즈마 발생을 도와주므로, 임플란트 보관 용기의 내부 공간에 방전 기체가 충진될 경우, 더욱 효과적인 플라즈마 처리가 가능하다.
임플란트 보관 용기의 표시부를 통해, 임플란트 보관 용기의 내부에 충진된 방전 기체의 종류, 압력 등을 쉽게 파악할 수 있다.
플라즈마 처리를 통한 살균처리는 종래의 감마 멸균에 비해 임플란트 몸체의 표면에 탄화수소 등의 불순물이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경에 따라 전압 조건을 달리하여 플라즈마 처리를 함으로써, 임플란트 몸체의 표면처리 및 살균이 더욱 효과적으로 이루어질 수 있다.
플라즈마 방전이 발생되는 시점의 전압 값을 통해, 임플란트 보관 용기의 불량이 발생했는지 여부를 쉽게 검수할 수 있으며, 이를 통해, 임플란트 보관 용기의 제조 과정에서의 불량 또는 유통 과정에서의 파손 등을 손쉽게 파악할 수 있다.
도 1은 본 발명의 임플란트 보관 용기의 사시도.
도 2는 도 1의 분해 사시도.
도 3은 본 발명의 임플란트 보관 용기에 외부 배기장치 또는 외부 충진장치를 연결한 것을 도시한 구성도.
도 4는 본 발명의 플라즈마 처리 장치의 수납부에 임플란트 보관 용기가 수납된 상태를 도시한 사시도.
도 5는 본 발명의 플라즈마 처리 장치와 이에 수납된 임플란트 보관 용기를 개략적으로 나타낸 구성도
도 6은 본 발명의 임플란트 보관 용기의 제조 방법의 순서도.
도 7은 본 발명의 임플란트 보관 용기의 플라즈마 처리 방법의 순서도.
본 명세서에 개시되어 있는 본 발명의 개념에 따른 실시 예들에 대해서 특정한 구조적 또는 기능적 설명은 단지 본 발명의 개념에 따른 실시 예들을 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로서, 본 발명의 개념에 따른 실시 예들은 다양한 형태들로 실시될 수 있으며 본 명세서에 설명된 실시 예들에 한정되지 않는다.
본 발명의 개념에 따른 실시 예들은 다양한 변경들을 가할 수 있고 여러 가지 형태들을 가질 수 있으므로 실시 예들을 도면에 예시하고 본 명세서에서 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명의 개념에 따른 실시 예들을 특정한 개시 형태들에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물, 또는 대체물을 포함한다.
본 명세서에서 사용한 기술적 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로서, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "구비하다" 등의 용어는 본 명세서에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
임플란트 보관 용기(10)
이하, 도 1 내지 도 3을 참고하여 본 발명의 임플란트 보관 용기(10)에 대해 설명한다.
도 1은 본 발명의 임플란트 보관 용기의 사시도이고, 도 2는 도 1의 분해 사시도이고, 도 3은 본 발명의 임플란트 보관 용기에 외부 배기장치 또는 외부 충진장치를 연결한 것을 도시한 구성도이다.
도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 임플란트 보관 용기(10)는, 외부 케이스(11)와, 외부 케이스(11) 내부에 배치되는 내부 케이스(12)와, 내부 케이스(12) 내부에서 임플란트 몸체(IM)를 고정시키는 고정부(15)와, 임플란트 몸체(IM)를 수납시 임플란트 보관 용기(10)를 밀봉시키도록 외부 케이스(11) 및 내부 케이스(12)와 결합되는 밀봉부재(17)를 포함하여 구성될 수 있다.
임플란트 몸체(IM)는 치과용 임플란트 픽스쳐일 수 있다.
임플란트 몸체(IM)는 정형외과용 임플란트일 수 있다.
임플란트 몸체(IM)는 고정부(15)에 고정되어 임플란트 보관 용기(10)의 내부, 상세하게는 내부 케이스(12)의 내부에 수납된다.
내부 케이스(12)의 상부에는 캡(13)이 결합되고, 내부 케이스(12)의 하부에는 밀봉부재(17)가 결합된다. 따라서, 내부 케이스(12)의 상부는 내부 케이스(12)와 캡(13)의 결합에 의해 밀봉되고, 내부 케이스(12)의 하부는 내부 케이스(12)와 밀봉부재(17)의 결합에 의해 밀봉된다.
밀봉부재(17)는 임플란트 보관 용기(10)를 외부와 차단시켜 밀봉되도록 외부 케이스(11) 및 내부 케이스(12)의 하부에 결합된다.
밀봉부재(17)는 내부 케이스(12)의 내부와 외부 케이스(11)의 내부 사이의 공기의 유통을 차단시켜 밀봉되도록 내부 케이스(12)의 하부에 결합된다.
내부 케이스(12)의 내부에는 캡(13)과 밀봉부재(17)로 이루어진 내부 공간(S)이 형성된다.
내부 공간(S)에는 방전 기체가 충진되거나, 공기가 거의 없는 저압 상태 또는 공기가 없는 진공 상태일 수 있다.
밀봉부재(17)는 탄성력을 갖는 재질로 이루어질 수 있다.
밀봉부재(17)에는 홀(18)이 구비된다.
홀(18)은 평상시에는 닫혀 있어 외부 공기가 임플란트 보관 용기(10)의 내부로 유입되는 것이 차단되다.
홀(18)이 구비된 밀봉부재는 탄성재질로 이루어진다. 따라서, 홀은 평소에 공간이 형성되지 않는다.
홀(18)은 외부 배기장치(20)의 배기관(21) 또는 외부 충진장치(30)의 주입관(31)이 삽입되면, 개방될 수 있다. 따라서, 홀(18)에는 외부 배기장치(20)의 배기관(21)이 삽입되어 임플란트 보관 용기(10)의 내부 공간(S)을 저압 상태 또는 진공상태가 될 때까지 배기할 수 있다.
또한, 홀(18)에는 외부 충진장치(30)의 주입관(31)이 삽입되어 임플란트 보관 용기(10)의 내부 공간(S)에 방전기체를 충진시킬 수 있다.
홀(18)에는 플라즈마 처리 장치(100)의 수납부(120)에 구비된 탄성을 가진 돌출부가 삽입됨으로써, 임플란트 보관 용기(10)가 플라즈마 처리 장치(100)의 수납부(120)에 안정적으로 고정되어 수납될 수 있다. 이 경우, 임플란트 보관 용기(10)는 수납부(120)에 삽입되어 수납된다.
밀봉부재(17)에는 표시부(14)가 구비될 수 있다.
표시부(14)는 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경에 대한 정보, 임플란트 보관 용기(10)를 플라즈마 처리 장치(100)의 수납부(120)에 수납할 때의 임플란트 보관 용기의 위치 정보, 임플란트 보관 용기(10)의 고유코드 정보, 임플란트 보관 용기(10)에 수납된 임플란트 몸체(IM)의 정보 등을 포함하는 정보를 담고 있을 수 있다.
이러한 표시부(14)는, QR코드, 바코드, RFID 및 NFC 중 적어도 어느 하나로 이루어져 구현될 수 있다.
표시부(14)는, 임플란트 보관 용기(10)의 형상일 수 있다. 예를 들어, 조성된 기체 환경마다 크기, 형상, 색상을 다르게 함으로써 조성된 기체환경의 정보를 외부에서 확인할 수 있도록 하는 방식을 포함한다.
플라즈마 처리 장치(100)
이하, 도 4 및 도 5를 참조하여 본 발명의 플라즈마 처리 장치(100)에 대해 설명한다.
도 4는 본 발명의 플라즈마 처리 장치의 수납부에 임플란트 보관 용기가 수납된 상태를 도시한 사시도이고, 도 5는 본 발명의 플라즈마 처리 장치와 이에 수납된 임플란트 보관 용기를 개략적으로 나타낸 구성도이다.
도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 플라즈마 처리 장치(100)는, 임플란트 몸체(IM)가 수납된 임플란트 보관 용기(10)를 수납하는 수납부(120)와, 수납부(120)에 연결되어 임플란트 보관 용기(10)의 내부 공기를 배기하는 배기부(130)와, 배기부(130)에 의해 내부 공기가 배기된 임플란트 보관 용기(10)에 플라즈마를 생성하기 위한 전력을 임플란트 보관 용기(10)에 인가하는 처리부(140, 141, 142, 143)를 포함하여 구성될 수 있다.
수납부(120)는 홀 구조로 형성되어 임플란트 보관 용기(10)의 하부가 삽입되어 끼워진다.
수납부(120)는 임플란트 보관 용기(10)가 수납된 후 고정되도록 하는 결착부가 구비될 수 있다.
배기부(130)는 임플란트 보관 용기(10)의 내부를 배기하는 기능을 한다.
배기부(130)는, 임플란트 보관 용기(10)의 일면을 찔러 경로를 생성하는 니들(131)과, 임플란트 보관 용기(10)의 내부와 연통되는 경로의 배기를 제어하는 배기밸브(132)와, 니들(131)을 구동시키는 구동부(133)와, 펌프(135)에 인접한 펌프밸브(134)와, 필터(137)에 인접한 필터밸브(136)를 포함하여 구성될 nt 있다.
구동부(133)는 임플란트 보관 용기(10)가 플라즈마 처리 장치(100)에 장착되거나 플라즈마 처리의 요청에 대응하여 니들(131)을 임플란트 보관 용기(10) 측으로 이동시켜 임플란트 보관 용기(10)의 일면에 공기가 유통되는 경로가 만들어지도록 니들(131)을 구동시키는 기능을 한다.
니들(131)은 날카로운 끝단을 가지나, 내부에 공기가 유통되도록 관통 홀을 갖춰 니들(131)이 임플란트 보관 용기(10)의 일면을 일부 관통하여 임플란트 보관 용기(10)의 내부 공기를 니들(131)의 관통 홀을 통해 배기할 수 있다.
바람직하게는, 니들(131)은 플라즈마 처리하기 전 임플란트 보관 용기(10)의 일면을 일부 관통하여 공기가 유통되는 경로를 형성한 후 플라즈마 처리하는 동작 동안 관통을 유지하며, 플라즈마 처리가 완료된 후 임플란트 보관 용기(10)의 내부를 벤팅하기 위한 공기 주입 통로가 된다.
니들(131)은 플라즈마 처리가 완료되어 벤팅된 후, 복귀한다. 이 때, 임플란트 보관 용기(10)는 니들(131)이 이탈되면 니들(131)에 의해 관통된 경로를 회복할 수 있는 탄성을 가진 구성을 가진다. 하나의 예로써, 니들(131)은 밀봉부재(17)를 관통하고, 밀봉부재(17)는 탄성회복력을 갖는 고무, 실리콘 재질 등으로 이루어질 수 있다.
배기밸브(132)는 임플란트 보관 용기(10)의 내부를 배기하거나 멈추는 것을 조정하기 위해 제어신호를 받아 개방되거나 폐쇄될 수 있다.
배기밸브(132)는 임플란트 보관 용기(10)의 결착 상태 또는 플라즈마 처리 동작에서 오류가 발생하였을 때 폐쇄되도록 제어되어, 임플란트 보관 용기(10) 또는 임플란트 몸체(IM)의 손상을 방지할 수 있다.
펌프밸브(134)는 임플란트 보관 용기(10)의 내부를 배기할 때 개방되며, 임플란트 보관 용기(10)의 내부를 벤팅할 때 폐쇄되도록 동작한다.
배기부(130)는 임플란트 보관 용기(10)의 내부를 벤팅하기 위해 외부 공기가 유입되는 경로에 필터(137)와 필터(137)에 인접한 필터밸브(136)를 구비할 수 있다.
이 때, 외부 공기는 임플란트 보관 용기(10)의 특정 기체 환경을 조성하기 위한 방전기체일 수 있다.
필터(137)는 외부 공기에 포함되는 오염물질을 거르거나 정화하는 기능을 한다. 필터(137)는 헤파(HEPA, high efficiency particulate air) 필터(filter)일 수 있다.
필터밸브(136)는 임플란트 보관 용기(10)의 내부를 배기할 때 폐쇄되며, 임플란트 보관 용기(10)의 내부를 벤팅할 때 개방되도록 동작한다.
플라즈마 처리 장치(100)는 임플란트 보관 용기(10)의 내부를 벤팅한 이후, 다시 임플란트 보관 용기(10)의 내부를 배기하여 플라즈마 처리가 완료된 임플란트 보관 용기(10)의 내부가 진공이 되도록 할 수 있다.
처리부(140, 141, 142, 143)는 배기부(130)에 의해 내부 공기가 배기된 임플란트 보관 용기(10)에 플라즈마를 생성하기 위한 전력을 임플란트 보관 용기(10)에 인가한다.
처리부(140, 141, 142, 143)는 임플란트 보관 용기(10)에 수납되는 임플란트 몸체(IM)에 대한 플라즈마 표면처리를 위한 구성이다.
처리부(140, 141, 142, 143)는 임플란트 보관 용기(10)에 수납된 임플란트 몸체(IM)에 전압을 인가하는 전원부(140)를 포함하여 구성될 수 있다.
전원부(140)는 임플란트 몸체(IM)와 전기적으로 연결된 임플란트 보관 용기(10)의 전기연결부(19)와 접촉한 제1전극부(141)에 연결되어 임플란트 몸체(IM)에 전압을 인가한다.
제1전극부(141)는 전원 단자로서, 임플란트 보관 용기(10)가 수납부(120)에 수납될 때, 임플란트 보관 용기(10)의 전기연결부(19)와 전기적으로 연결되도록 접촉한다.
제1전극부(141)는 임플란트 몸체(IM)과 전기가 유통되도록 노출된 임플란트 보관 용기(10)의 일면과 접하여 임플란트 몸체(IM)에 전압을 인가한다.
전기연결부(19)는 전기적 연결이 가능한 금속 소재이면서 임플란트 몸체(IM)와 동일한 소재로서, 임플란트 보관 용기(10)의 외면에 노출된 전기 단자일 수 있다. 이를 통해, 임플란트 몸체(IM)는 유전체 장벽 방전을 통한 플라즈마 발생에서 고전압부로서 기능한다.
제1전극부(141)는 접지전극일 수 있다.
제1전극부(141)는 임플란트 보관 용기(10)의 내부와 연통되는 경로를 생성하는 경로 생성부일 수 있으며, 특히 임플란트 보관 용기(10)의 일면을 찔러 상기 경로를 생성하는 니들(131)일 수 있다.
제1전극부(141)는 수납부(120)에 수납된 임플란트 보관 용기(10)의 외면에 인접하여 구성될 수 있다.
처리부(140, 141, 142, 143)는 제2전극부(142)를 포함하여 구성될 수 있다.
제2전극부(142)는 수납부(120)에 수납된 임플란트 보관 용기(10)의 외면에 인접하여 구성되며, 접지된다.
제2전극부(142)는 전압이 인가되지 않은 접지전극으로, 접지(OV)를 유지한다.
제2전극부(142)는 수납부(120)에 구성되며, 수납부(120)에 임플란트 보관 용기(10)가 수납됨에 따라 임플란트 보관 용기(10)의 외면 일부가 인접하게 되는 면에 구성될 수 있다.
제2전극부(142)는 임플란트 보관 용기(10)가 수납부(120)에 수납되어 임플란트 보관 용기(10)에 수납된 임플란트 몸체(IM)에 전압이 인가되어 고전압부가 된 것에 대응한 접지전극으로, 임플란트 몸체(IM)와 상호 작용하여 전자기장을 형성할 수 있다.
처리부(140, 141, 142 143)는 유전체부(143)를 포함하여 구성될 수 있다.
유전체부(143)는 제2전극부(142)와 접하며, 제2전극부(142)보다 임플란트 보관 용기(10)에 인접하도록 구성된다.
유전체부(143)는 수납부(120)에 구성될 수 있으며, 수납부(120)에 임플란트 보관 용기(10)가 수납됨에 따라 임플란트 보관 용기(10)의 외면 일부가 인접하게 되는 면에 구성될 수 있다.
유전체부(143)는 임플란트 보관 용기(10)에 구성되며, 임플란트 보관 용기(10)의 내통 또는 외통일 수 있다.
바람직하게는, 유전체부(143)는 임플란트 보관 용기(10)의 내부 공간일 수 있다.
본 발명의 임플란트 보관 용기(10)의 제조 방법
이하, 도 1 내지 도 6을 참조하여 본 발명의 임플란트 보관 용기(10)의 제조 방법에 대해 설명한다.
도 6은 본 발명의 임플란트 보관 용기의 제조 방법의 순서도이다.
도 1 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 임플란트 보관 용기(10)의 제조 방법은, 임플란트 몸체(IM)를 클리닝하는 클리닝 단계(S10)와, 클리닝 단계(S10)에서 클리닝된 임플란트 몸체(IM)를 임플란트 보관 용기(10)에 수납하는 수납 단계(S20)와, 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경을 조성하고, 밀봉부재(17)로 임플란트 보관 용기(10)를 밀봉하여 패키징하는 패키징 단계(S30)와, 임플란트 보관 용기(10)의 표시부(14)를 통해 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경 정보를 표시하는 표시 단계(S40)를 포함하여 구성될 수 있다.
클리닝 단계(S10)에서는, 제조된 임플란트 몸체(IM)를 클리닝하는 과정이 수행된다.
수납 단계(S20)에서는, 클리닝 단계(S10)에서 클리닝된 임플란트 몸체(IM)를 임플란트 보관 용기(10)에 수납하는 과정이 수행된다.
임플란트 보관 용기(10)로의 수납은 내부 케이스(12)의 내부에 구비된 고정부(15)로 임플란트 몸체(IM)를 고정시킴으로써, 임플란트 몸체(IM)를 임플란트 보관 용기(10)의 내부로 용이하게 수납시킬 수 있다. 이 경우, 클리닝된 임플란트 몸체(IM)의 오염을 방지하기 위해, 로봇 암 등으로 수납이 이루어질 수 있다.
수납 단계(S20)에서, 고정부(15)에 의해 임플란트 몸체(IM)가 고정되면, 내부 케이스(12)의 상부에 캡(13)을 결합시킨다. 이 후, 내부 케이스(12)를 외부 케이스(11) 내에 위치시키고, 밀봉부재(17)를 내부 케이스(12) 및 외부 케이스(11)의 하부에 결합시켜, 임플란트 보관 용기(10)를 밀봉하게 된다.
패키징 단계(S30)에서는, 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경을 조성하고, 밀봉부재(17)로 임플란트 보관 용기(10)를 밀봉하여 패키징하는 과정이 수행된다.
패키징 단계(S30)에서, 임플란트 보관 용기(10)의 내부가 저압 상태가 되도록 상기 임플란트 보관 용기의 내부를 배기하여 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경을 조성할 수 있다. 이 경우, 밀봉부재(17)의 홀(18)에 외부 배기장치(20)의 배기관(21)을 삽입하여 임플란트 보관 용기(10)의 내부를 배기하여 원하고자 하는 압력 값까지 저압상태로 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경을 조성할 수 있다.
패키징 단계(S30)에서, 임플란트 보관 용기(10)의 내부가 진공 상태가 되도록 상기 임플란트 보관 용기의 내부를 배기하여 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경을 조성할 수 있다. 이 경우, 밀봉부재(17)의 홀(18)에 외부 배기장치의 배기관을 삽입하여 임플란트 보관 용기(10)의 내부에 공기가 모두 배기될 때까지 배기하여 진공상태로 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경을 조성할 수 있다.
패키징 단계(S30)에서, 임플란트 보관 용기(10)의 내부에 방전 기체를 충진하여 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경을 조성할 수 있다. 이 경우, 밀봉부재(17)의 홀(18)에 외부 충진장치(30)의 주입관(31)을 삽입하여 임플란트 보관 용기(10)의 내부 공간(S)에 방전기체를 충진시킴으로써, 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경을 조성할 수 있다.
패키징 단계(S30)에서, 임플란트 보관 용기(10)를 밀봉하는 환경을 방전 기체로 조성하여 별도의 주입없이 임플란트 보관 용기(10)의 내부 공간(S)에 방전기체를 충진시킬 수 있다.
방전 기체는, 헬륨 기체, 네온 기체, 아르곤 기체, 크립톤 기체, 제논 기체, 라돈 기체, 크세논 기체, 질소 기체, 셀렌화 수소 기체, 중수소 기체, 불소 기체, 염소 기체, 브롬 기체, 요오드 기체, 수소 기체, 수은 기체, 또는 상기 기체들의 조합으로 구성될 수 있다.
또한, 방전 기체를 충진하기 전에 임플란트 보관 용기의 내부 공간(S)를 배기한 후, 방전 기체를 충진할 수 있다. 따라서, 더욱 쉽게 임플란트 보관 용기(10) 내부에 원하고자 하는 방전 기체만을 충진시킬 수 있다.
하나의 예로써, 임플란트 보관 용기(10)의 내부를 완전히 배기한 후, 방전 기체를 아르곤 기체 70%, 헬륨 기체 30%로 구성하여 임플란트 보관 용기(10)의 내부에 충진시킴으로써, 임플란트 보관 용기(10)의 내부 압력이 0.5기압을 유지하도록 임플란트 보관 용기(10)의 내부의 내부 기체 환경을 조성할 수 있다.
또한, 하나의 예로써, 방전기체를 아르곤 기체만으로 구성하여 충진함으로써, 임플란트 보관 용기(10)의 내부를 아르곤 기체 50%, 공기 50%로 구성하여, 임플란트 보관 용기(10)의 내부 압력이 1기압을 유지하도록 할 수 있다.
또한, 하나의 예로써, 방전기체를 아르곤 기체만으로 구성하여 충진한 후에 임플란트 보관 용기의 내부 공간(S)를 배기하여 임플란트 보관 용기(10)의 내부 압력이 저압이 되도록 할 수도 있다.
이러한 방전 기체의 충진은 저압 또는 진공으로 형성하는 것보다 임플란트 보관 용기(10)의 내부 환경 변화가 적고, 변화되더라도 플라즈마 처리가 되기 때문에 보다 긴 보존기한을 가질 수 있다.
위와 같이, 임플란트 보관 용기(10)의 내부에 내부 기체 환경을 조성함에 따라, 클리닝된 임플란트 몸체(IM)에 오염이 발생하는 것을 미연에 방지할 수 있다.
상세하게 설명하면, 종래의 경우, 클리닝된 임플란트 몸체를 HCl 등 용액에 침지시킨 채로 패키징을 하였다. 이러한 패키징은 제조 비용의 상승과 유통과정에서 용액의 경시변화에 따라 임플란트 몸체가 오염되는 문제점이 발생하였다.
본 발명의 경우, 임플란트 보관 용기(10)의 내부를 저압 또는 진공 상태로 만들거나, 방전 기체를 충진하여 클리닝된 임플란트 몸체(IM)가 오염되는 것을 방지함으로써, 제조 단가를 낮추고, 유통과정에서 경시변화에도 임플란트 몸체가 오염되는 문제점을 줄일 수 있다.
또한, 임플란트 보관 용기(10)의 내부 공간(S)이 특정 기체 환경으로 조성될 경우, 임플란트 보관 용기(10)를 플라즈마 처리시, 별도의 배기 처리가 없어도 플라즈마 처리를 용이하게 수행할 수 있다.
또한, 방전 기체가 플라즈마 발생을 도와주므로, 임플란트 보관 용기(10)의 내부 공간(S)에 방전 기체가 충진될 경우, 더욱 효과적인 플라즈마 처리가 가능하다.
표시 단계(S40)에서는 임플란트 보관 용기(10)의 표시부(14)를 통해 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경 정보를 표시하는 과정이 수행된다.
표시부(14)는 QR코드, 바코드, RFID 및 NFC 중 적어도 어느 하나로 이루어질 수 있다.
따라서, 패키징 단계(S30)에서 충진된 방전 기체의 종류 또는 압력을 표시부(14)를 통해, 표시함으로써, 플라즈마 처리 장치(100)가 임플란트 보관 용기(10)의 내부 공간(S)에 충진된 방전 기체의 종류, 압력 등을 파악할 수 있다.
임플란트 보관 용기(10)의 플라즈마 처리 방법
이하, 도 1 내지 도 5 및 도 7을 참고하여, 본 발명의 임플란트 보관 용기(10)의 플라즈마 처리 방법에 대해 설명한다.
도 7은 본 발명의 임플란트 보관 용기의 플라즈마 처리 방법의 순서도이다.
도 7에 도시된 바와 같이, 본 발명의 임플란트 보관 용기(10)의 플라즈마 처리 방법은, 클리닝된 임플란트 몸체(IM)를 임플란트 보관 용기(10)에 수납한 후, 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경을 조성하고, 밀봉부재(17)로 임플란트 보관 용기(10)를 밀봉하여 패키징하는 임플란트 보관 용기 제조 단계(S100)와, 플라즈마 처리 장치(100)를 통해 패키징된 임플란트 보관 용기(10) 내부에 플라즈마 처리를 하여 임플란트 보관 용기(10) 내부에 수납된 임플란트 몸체(IM)의 살균 및 표면처리를 수행하는 플라즈마 처리 단계(S200)와, 임플란트 몸체(IM)를 플라즈마 처리시 플라즈마 방전이 발생되는 시점의 전압 값을 통해 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경 조성이 제대로 이루어졌는지 검수하는 검수 단계(S300)를 포함하여 구성될 수 있다.
임플란트 보관 용기 제조 단계(S100)에서는, 클리닝된 임플란트 몸체(IM)를 임플란트 보관 용기(10)에 수납한 후, 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경을 조성하고, 밀봉부재(17)로 임플란트 보관 용기(10)를 밀봉하여 패키징하는 과정이 수행된다.
임플란트 보관 용기 제조 단계(S100)는, 임플란트 보관 용기(10)의 내부가 진공 상태가 되도록 상기 임플란트 보관 용기의 내부를 배기하여 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경을 조성할 수 있다. 이 경우, 밀봉부재(17)의 홀(18)에 외부 배기장치(20)의 배기관(21)을 삽입하여 임플란트 보관 용기(10)의 내부에 공기가 모두 배기될 때까지 배기하여 진공상태로 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경을 조성할 수 있다.
임플란트 보관 용기 제조 단계(S100)는, 임플란트 보관 용기(10)의 내부가 진공 상태가 되도록 상기 임플란트 보관 용기의 내부를 배기하여 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경을 조성할 수 있다. 이 경우, 밀봉부재(17)의 홀(18)에 외부 배기장치(20)의 배기관(21)을 삽입하여 임플란트 보관 용기(10)의 내부에 공기가 모두 배기될 때까지 배기하여 진공상태로 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경을 조성할 수 있다.
임플란트 보관 용기 제조 단계(S100)는, 임플란트 보관 용기(10)의 내부에 방전 기체를 충진하여 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경을 조성할 수 있다. 이 경우, 밀봉부재(17)의 홀(18)에 외부 충진장치(30)의 주입관(31)을 삽입하여 임플란트 보관 용기(10)의 내부 공간(S)에 방전기체를 충진시킴으로써, 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경을 조성할 수 있다.
또한, 방전 기체를 충진하기 전에 임플란트 보관 용기(10)의 내부를 배기한 후, 방전 기체를 충진할 수 있다. 따라서, 더욱 쉽게 임플란트 보관 용기(10) 내부에 원하고자 하는 방전 기체만을 충진시킬 수 있다.
플라즈마 처리 단계(S200)에서는, 플라즈마 처리 장치(100)를 통해 패키징된 임플란트 보관 용기(10) 내부에 플라즈마 처리를 하여 임플란트 보관 용기(10) 내부에 수납된 임플란트 몸체(IM)의 살균 및 표면처리를 수행하는 과정이 수행된다.
임플란트 보관 용기(10)는 패키징된 채로, 플라즈마 처리 장치(100)의 수납부(120)에 삽입되어 수납된다. 이후, 전원부(140)가 제1전극부(141) 및 제2전극부(142)에 전원을 공급하게 되면, 제1전극부(141), 제2전극부(142) 및 유전체부(143)에 의해 임플란트 보관 용기(10) 내부에 플라즈마가 발생한다. 따라서, 임플란트 보관 용기(10) 내부에 수납된 임플란트 몸체(IM)에 플라즈마에 의한 살균 및 표면처리가 이루어진다.
플라즈마 처리를 통한 살균처리는 종래의 감마 멸균에 비해 임플란트 몸체(IM)의 표면에 탄화수소 등의 불순물이 발생하는 것을 방지할 수 있는 이점이 있다.
임플란트 보관 용기(10)의 내부 공간(S)이 저압 상태 또는 진공 상태 또는 방전 기체가 충진된 상태일 경우, 플라즈마 방전이 더욱 잘 일어나게 되어, 효과적인 플라즈마 처리가 행해지게 된다.
경우에 따라, 플라즈마 처리 장치(100)는 임플란트 보관 용기(10)의 내부 기체 환경을 저압 또는 진공 상태로 만들기 위해, 배기부(130)를 통해, 임플란트 보관 용기(10)의 내부를 배기할 수도 있다.
플라즈마 처리 단계(S200)는, 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경에 따라 전압 조건을 달리하여 플라즈마 처리를 수행할 수 있다.
또한, 임플란트 보관 용기 제조 단계(S100)에서, 임플란트 보관 용기(10)의 표시부(14)를 통해 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경 정보을 표시하고, 플라즈마 처리 단계(S200)에서, 플라즈마 처리 장치(100)가 표시부(14)에 표시된 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경 정보를 읽어들인 후, 플라즈마 처리 장치(100)에 기설정된 전압 조건과 읽어들인 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경 정보를 매칭하여 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경에 따라 전압 조건을 달리하여 플라즈마 처리를 수행할 수 있다.
이처럼, 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경에 따라 전압 조건을 달리하여 플라즈마 처리를 함으로써, 임플란트 몸체(IM)의 표면처리 및 살균이 더욱 효과적으로 이루어질 수 있다.
검수 단계(S300)에서는, 임플란트 몸체(IM)를 플라즈마 처리시 플라즈마 방전이 발생되는 시점의 전압 값을 통해 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경 조성이 제대로 이루어졌는지 검수하는 과정이 수행된다.
임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경은 각각 다르게 조성될 수 있으며, 이러한 임플란트 보관 용기(10) 내부의 기체 환경 정보는 임플란트 보관 용기(10)의 표시부(14)에 입력되어 표시되며, 플라즈마 처리 장치(100)는 이를 읽어들일 수 있다.
플라즈마 처리 장치(100)의 제어부에는 각각의 기체 환경에 알맞는 플라즈마 전압조건이 기설정되어 있다.
검수 단계(S300)에서는, 플라즈마 방전이 발생되는 시점의 전압 값과 기설정된 전압 조건을 매칭하여, 상기 전압 값과 전압 조건의 차이가 기설정된 오차 값보다 클 경우, 임플란트 보관 용기(10)의 패키징에 불량이 발생했다고 판단하는 과정을 수행하게 된다.
이는, 임플란트 보관 용기(10) 내부가 파손되어 저압 또는 진공이 제대로 이루어지지 않거나 방전 기체가 유출되어 전술한 전압 조건에서의 플라즈마 방전이 발생되지 않기 때문이다.
또는, 임플란트 보관 용기(10) 내부는 기설정된 조성비에 따라 플라즈마 방전에 이용되는 방전 기체가 채워진 내부 기체 환경으로 밀폐되지 않으면, 파션 법칙에 따라 전압 조건에 의한 플라즈마 발생이 이뤄지지 않거나 플라즈마 방전세기가 달라지게 되기 때문이다.
플라즈마 방전이 발생되는 시점의 전압 값은, 플라즈마 방전이 이뤄지는 동안의 전압 값을 모니터링(current monitoring)을 통해 측정할 수 있다.
또한, 플라즈마 방전이 이뤄지는 동안의 전압 값을 모니터링(current monitoring)하여 플라즈마 방전세기를 측정할 수 있다.
이처럼, 검수 단계(S300)에서는 플라즈마 방전이 발생되는 시점의 전압 값을 통해, 임플란트 보관 용기(10)의 불량이 발생했는지 여부를 쉽게 검수할 수 있으며, 이를 통해, 임플란트 보관 용기(10)의 제조 과정에서의 불량 또는 유통 과정에서의 파손 등을 손쉽게 파악할 수 있다.
본 발명은 도면에 도시된 실시 예들을 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시 예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 등록청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.
[부호의 설명]
10: 임플란트 보관 용기 11: 외부 케이스
12: 내부 케이스 13: 캡
14: 표시부 15: 고정부
17: 밀봉부재 18: 홀
19: 전기연결부
20: 외부 배기장치 21: 배기관
30: 외부 충진장치 31: 주입관
100: 플라즈마 처리 장치 120: 수납부
130: 배기부 131: 니들
132: 배기밸브 133: 구동부
134: 펌프밸브 135: 펌프
136: 필터밸브 137: 필터
140: 전원부 141: 제1전극부
142: 제2전극부 143: 유전체부
S10: 클리닝 단계 S20: 수납 단계
S30: 패키징 단계 S40: 표시 단계
S100: 임플란트 보관용기 제조 단계 S200: 플라즈마 처리 단계
S300: 검수 단계

Claims (17)

  1. 임플란트 몸체를 임플란트 보관 용기에 수납하는 수납 단계; 및
    상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경을 조성하고, 밀봉부재로 상기 임플란트 보관 용기를 밀봉하여 패키징하는 패키징 단계;를 포함하는, 임플란트 보관 용기의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 패키징 단계는,
    상기 임플란트 보관 용기의 내부가 저압 상태가 되도록 상기 임플란트 보관 용기의 내부를 배기하여 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경을 조성하는, 임플란트 보관 용기의 제조 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 패키징 단계는,
    상기 임플란트 보관 용기의 내부가 진공 상태가 되도록 상기 임플란트 보관 용기의 내부를 배기하여 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경을 조성하는, 임플란트 보관 용기의 제조 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 패키징 단계는,
    상기 임플란트 보관 용기의 내부에 방전 기체를 충진하여 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경을 조성하는, 임플란트 보관 용기의 제조 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 패키징 단계는,
    패키징 환경을 상기 방전 기체로 조성하여 상기 임플란트 보관 용기의 내부에 방전 기체가 충진되도록 하여 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경을 조성하는, 임플란트 보관 용기의 제조 방법.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 패키징 단계는,
    상기 방전 기체를 충진하기 전에 상기 임플란트 보관 용기의 내부를 배기한 후, 상기 방전 기체를 충진하는, 임플란트 보관 용기의 제조 방법.
  7. 제4항에 있어서,
    상기 패키징 단계는,
    상기 방전 기체를 충진하기 전 또는 상기 방전 기체를 충진한 후에 상기 임플란트 보관 용기의 내부를 배기하여 상기 임플란트 보관 용기의 내부가 저압 상태가 되도록 하는, 임플란트 보관 용기의 제조 방법.
  8. 제4항에 있어서,
    상기 방전 기체는,
    헬륨 기체, 네온 기체, 아르곤 기체, 크립톤 기체, 제논 기체, 라돈 기체, 크세논 기체, 질소 기체, 셀렌화 수소 기체, 중수소 기체, 불소 기체, 염소 기체, 브롬 기체, 요오드 기체, 수소 기체, 수은 기체, 또는 상기 기체들의 조합으로 구성되는, 임플란트 보관 용기의 제조 방법.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 임플란트 보관 용기의 표시부를 통해 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경을 표시하는 표시 단계;를 더 포함하는, 임플란트 보관 용기의 제조 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 표시부는, QR코드, 바코드, RFID 및 NFC 중 적어도 어느 하나로 이루어진, 임플란트 보관 용기의 제조 방법.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 수납 단계는,
    상기 임플란트 보관 용기의 고정부로 상기 임플란트 몸체를 고정시켜 상기 임플란트 보관 용기에 수납하는, 임플란트 보관 용기의 제조 방법.
  12. 클리닝된 임플란트 몸체를 임플란트 보관 용기에 수납한 후, 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경을 조성하고, 밀봉부재로 상기 임플란트 보관 용기를 밀봉하여 패키징하는 임플란트 보관 용기 제조 단계; 및
    플라즈마 처리 장치를 통해 상기 패키징된 임플란트 보관 용기 내부에 플라즈마를 발생시켜 상기 임플란트 보관 용기 내부에 수납된 임플란트 몸체의 살균 및 표면처리를 수행하는 플라즈마 처리 단계;를 포함하는, 임플란트의 제조 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 플라즈마 처리 단계는,
    상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경에 따라 전압 조건을 달리하여 플라즈마 처리를 수행하는, 임플란트 보관 용기의 플라즈마 처리 방법.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 임플란트 보관 용기 제조 단계에서, 상기 임플란트 보관 용기의 표시부를 통해 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경 정보를 표시하고,
    상기 플라즈마 처리 단계에서, 상기 플라즈마 처리 장치가 상기 표시부에 표시된 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경 정보에 따라 전압 조건을 달리하여 플라즈마 처리를 수행하는, 임플란트 보관 용기의 플라즈마 처리 방법.
  15. 제12항에 있어서,
    상기 임플란트 몸체를 플라즈마 처리시 플라즈마 방전이 발생되는 시점의 전압 값을 통해 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경 조성이 제대로 이루어졌는지 검수하는 검수 단계;를 더 포함하는 임플란트 보관 용기의 플라즈마 처리 방법.
  16. 제12항에 있어서,
    상기 임플란트 보관 용기 제조 단계에서, 상기 임플란트 보관 용기의 표시부를 통해 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경 정보를 표시하고,
    상기 플라즈마 처리 장치가 상기 표시부에 표시된 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경 정보에 따라 결정된 전압을 인가하였을 때 발생되는 플라즈마 방전세기와 상기 결정된 전압보다 낮거나 높은 전압을 인가하였을 때 발생되는 플라즈마 방전세기를 비교하여 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경 조성이 제대로 이루어졌는지 검수하는 검수 단계;를 더 포함하는 임플란트 보관 용기의 플라즈마 처리 방법.
  17. 제12항에 있어서,
    상기 임플란트 몸체를 플라즈마 처리시 상기 플라즈마 처리 장치의 전류 모니터링을 통해 상기 임플란트 보관 용기 내부의 기체 환경 조성이 제대로 이루어졌는지 검수하는 검수 단계;를 더 포함하는 임플란트 보관 용기의 플라즈마 처리 방법.
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