WO2021251403A1 - 硬化性組成物 - Google Patents

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WO2021251403A1
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meth
saturated
acrylate monomer
curable composition
block copolymer
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PCT/JP2021/021829
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Inventor
大介 平山
弘文 藤井
Original Assignee
日東シンコー株式会社
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/44Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F287/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to block polymers

Definitions

  • the present invention relates to a curable composition that is cured by, for example, light irradiation.
  • curable compositions that are cured by light irradiation include, for example, urethane acrylate (A) synthesized from hydrogenated polybutadiene diol or hydrogenated polyisoprene diol and having a number average molecular weight of 1,000 to 20,000.
  • a curable composition comprising a monofunctional (meth) acrylate monomer (B) and an initiator (C) having an absorption band at a wavelength of 380 nm or more, wherein the components (A) and (B) are 100 in total.
  • a curable composition in which the content of the component (C) is 10 to 15 parts by mass with respect to parts by mass is known (for example, Patent Document 1).
  • the curable composition described in Patent Document 1 is applied onto an electronic circuit and then cured by irradiation with light, and is used in electronic circuit coating applications.
  • the curable composition described in Patent Document 1 can be cured even with light from an LED light source, and can have good moisture resistance, electrical insulation, and the like.
  • the cured product obtained by curing the curable composition described in Patent Document 1 does not necessarily have sufficient flexibility, for example, the cured product formed as a cured film may crack. Therefore, there is a demand for a curable composition that can improve the flexibility of the cured product after curing.
  • the curable composition according to the present embodiment is A block copolymer having a polyolefin block structure and a polystyrene block structure in the molecule, A saturated cycloalkyl (meth) acrylate monomer having a saturated cyclic hydrocarbon structure and a (meth) acryloyl group in the molecule, and A saturated chain alkyl (meth) acrylate monomer having a saturated chain hydrocarbon structure and a (meth) acryloyl group in the molecule, and It is characterized by including.
  • the block copolymer may have a hydroxy group at the end of the molecular chain.
  • the curable composition of the present embodiment comprises a block copolymer having a polyolefin block structure and a polystyrene block structure in the molecule, and a block copolymer having a polyolefin block structure and a polystyrene block structure in the molecule.
  • a saturated cycloalkyl (meth) acrylate monomer having a saturated cyclic hydrocarbon structure and a (meth) acryloyl group in the molecule and It contains a saturated chain alkyl (meth) acrylate monomer having a saturated chain hydrocarbon structure and a (meth) acryloyl group in the molecule.
  • the cured product after curing may have good flexibility.
  • the above block copolymer has a polyolefin block structure and a polystyrene block structure in the molecule.
  • the block copolymer described above has a polystyrene block structure at both ends of the molecular chain, and has a polyolefin block structure between these polystyrene block structures.
  • the polyolefin block structure does not contain polar groups such as ether groups or ester groups, and is composed only of hydrocarbon groups.
  • a hydrocarbon group may be a saturated hydrocarbon group or an unsaturated hydrocarbon group.
  • Such hydrocarbon groups may contain both saturated and unsaturated hydrocarbon groups.
  • Most of the polyolefin block structures are preferably composed of saturated hydrocarbons.
  • the polyolefin block structure may contain unsaturated hydrocarbon groups in terms of more sufficiently curing the curable composition of the present embodiment.
  • it is preferable that the proportion of unsaturated hydrocarbon groups in the polyolefin block structure is small in that the cured product of the curable composition of the present embodiment can have better heat resistance and weather resistance.
  • the ratio of unsaturated hydrocarbon groups in the polyolefin block structure to the total mass of the curable composition may be 10% by mass or less, or 5% by mass or less.
  • the polyolefin block structure has a structural unit such as ethylene, propylene, 1,3-butadiene (and its hydrogenated body), and isoprene (and its hydrogenated body) as a structural unit.
  • the polyolefin block structure is usually composed of saturated bonds, but may have unsaturated bonds in part.
  • ethylene, propylene, butylene -CH 2 CH (CH 2 CH 3 )-
  • the polyolefin block structure preferably contains at least one of ethylene, propylene, and butylene as a constituent unit.
  • each structural unit may be randomly arranged.
  • each structural unit may be one in which a plurality of different types of monomers are incorporated into the molecular chain by random polymerization.
  • the polyolefin block structure may include a random sequence structure of ethylene constituent units and propylene constituent units.
  • the degree of polymerization in the polyolefin block structure is, for example, 100 or more and 1,000 or less.
  • Each polystyrene block structure has styrene, ⁇ -methylstyrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, t-butylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, and 2,4-diethylstyrene as constituent units. It has a structural unit such as. The constituent unit includes one or more of these. As the structural unit, a structural unit of styrene or ⁇ -methylstyrene is preferable. In other words, each polystyrene block structure preferably has at least one of styrene or ⁇ -methylstyrene as a constituent unit.
  • the degree of polymerization of each polystyrene block structure is, for example, 50 or more and 100 or less.
  • block copolymer examples include styrene-butadiene-styrene block copolymer (SBS), styrene-isoprene-styrene block copolymer (SIS), and styrene-ethylene / butene-styrene block copolymer (SEBS). ), Styrene-ethylene / propylene-styrene block copolymer (SEPS), styrene-ethylene / ethylene / propylene-styrene block copolymer (SEEPS) and the like.
  • SEPS Styrene-ethylene / propylene-styrene block copolymer
  • SEEPS styrene-ethylene / ethylene / propylene-styrene block copolymer
  • SEEPS styrene-ethylene / ethylene / propylene-styrene block copolymer
  • SEEPS styrene-ethylene
  • the proportion of the polystyrene block structure in the above block copolymer may be 10% by mass or more and 50% by mass or less, and preferably 20% by mass or more and 40% by mass or less.
  • the block copolymer described above preferably has a hydroxy group at the end of the molecular chain.
  • the above block copolymer may have a hydroxy group at both ends of the molecular chain, or may have a hydroxy group at either end (one end).
  • the compatibility between the above-mentioned block copolymer and the above-mentioned saturated cycloalkyl (meth) acrylate monomer and saturated chain-like alkyl (meth) acrylate monomer is improved. Therefore, the cured product after the curable composition is cured has better flexibility and low moisture permeability.
  • the other end may be a residue of a polymerization initiator or the like.
  • the above-mentioned block copolymer preferably does not contain a reactive group such as an isocyanate group or a glycidyl group in the molecule.
  • the main chain of the block copolymer is preferably free of nitrogen (N) constituting a urethane bond or an amide bond, and sulfur (S) constituting a sulfonyl group or the like.
  • the block copolymers described above usually do not have a crosslinked structure and are not modified.
  • Formula (1) represents a structure having a hydroxy group at one end of SEEPS.
  • p is 50 or more and 100 or less
  • q is 100 or more and 500 or less
  • r is 400 or more and 1,000 or less
  • s is 50 or more and 100 or less
  • m is 500 or more and 1, It may be 500 or less.
  • the block copolymer may have, for example, a number average molecular weight of 10,000 or more and 100,000 or less.
  • the curable composition of the present embodiment contains a saturated cycloalkyl (meth) acrylate monomer and a saturated chain alkyl (meth) acrylate monomer.
  • the saturated cycloalkyl (meth) acrylate monomer is preferably a compound in which a monohydric alcohol containing a saturated cyclic hydrocarbon structure (a structure of a cyclic portion formed only of carbon atoms) and (meth) acrylic acid are esterified. ..
  • the number of carbon atoms of the monohydric alcohol containing the saturated cyclic hydrocarbon structure is preferably 8 or more and 15 or less.
  • the saturated cycloalkyl (meth) acrylate monomer shall contain neither a benzene ring nor a polar group such as an ether bond (-CH 2- O-CH 2- ), -OH group, and -COOH group in the molecule. Is preferable.
  • the saturated cycloalkyl (meth) acrylate monomer is preferably a monofunctional monomer having one (meth) acrylate group in the molecule.
  • the saturated cyclic hydrocarbon structure may be a structure in which each carbon ring is formed by carbon atoms of 4 or more and 8 or less without containing a heteroatom.
  • the saturated cycloalkyl (meth) acrylate monomer may be monocyclic, bicyclic or polycyclic. Bicyclic or polycyclic saturated cyclic hydrocarbon structures may share two or more carbon atoms.
  • At least one ring structure may be a saturated alkyl structure, and for example, all ring structures may be a saturated alkyl structure.
  • a methyl group or an ethyl group may be further bonded to the carbon having a saturated cyclic hydrocarbon structure.
  • Saturated cycloalkyl (meth) acrylate monomers include isobornyl (meth) acrylate (containing norbornane structure), dicyclopentadieneoxyethyl (meth) acrylate (containing norbornane structure), and dicyclopentanyl (meth) acrylate (norbornane structure). ), Dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate (containing norbornane structure), adamantyl (meth) acrylate and the like.
  • saturated cycloalkyl (meth) acrylate monomer among the above-mentioned monomers, a monomer containing a norbornane structure is preferable, and at least one of isobornyl (meth) acrylate or dicyclopentanyloxyethyl (meth) acrylate is more preferable.
  • the saturated cycloalkyl (meth) acrylate monomer can dissolve the block copolymer more sufficiently in the curable composition. can.
  • the saturated chain alkyl (meth) acrylate monomer is preferably a (meth) acrylate monomer having a saturated chain hydrocarbon having 8 or more and 15 or less carbon atoms in the molecule, and the saturated chain having 8 or more and 12 or less carbon atoms. It is preferably a (meth) acrylate monomer having a state hydrocarbon in the molecule.
  • Saturated chain alkyl (meth) acrylate monomer, a benzene ring, and an ether bond (-CH 2 -O-CH 2 - ), - none of the polar groups such as OH groups and -COOH groups, do not contain in the molecule Is preferable.
  • the saturated chain alkyl (meth) acrylate monomer is preferably a monofunctional monomer having one (meth) acrylate group in the molecule.
  • the saturated chain hydrocarbon structure does not contain atoms other than C and H, and even if it is a saturated chain hydrocarbon structure composed of 7 or more and 11 or less carbon atoms. good. Since the curable composition contains a saturated chain alkyl (meth) acrylate monomer, the curable composition can improve the flexibility of the cured product.
  • the saturated chain hydrocarbon structure may be linear or branched.
  • the saturated chain hydrocarbon structure may be a saturated linear hydrocarbon structure or a saturated branched chain hydrocarbon structure.
  • the saturated chain alkyl (meth) acrylate monomer may be a saturated linear alkyl (meth) acrylate monomer or a saturated branched chain alkyl (meth) acrylate monomer.
  • a saturated branched chain-like alkyl (meth) acrylate monomer is preferable in that the above-mentioned block copolymer can be more sufficiently dissolved in the curable composition. As a result, a more uniform cured product film can be obtained without being affected by the substrate on which the cured product is supported, the thickness of the cured product, or the curing reaction conditions.
  • the ratio of the saturated cycloalkyl (meth) acrylate monomer to 100 parts by mass of the saturated cycloalkyl (meth) acrylate monomer and the saturated chain alkyl (meth) acrylate monomer is preferable. Is 30 parts by mass or more and 95 parts by mass or less. As a result, it is possible to obtain a cured product having a better balance between electrical insulation performance and flexibility (elongation performance).
  • the hydrocarbon structure of the saturated linear alkyl (meth) acrylate monomer may be any saturated linear alkyl structure.
  • examples of the saturated linear alkyl (meth) acrylate monomer include n-heptyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, n-nonyl (meth) acrylate, and n-decyl (meth) acrylate. Can be mentioned.
  • the hydrocarbon structure of the saturated branched alkyl (meth) acrylate monomer may be a saturated branched chain alkyl structure, and may be an iso structure, a sec structure, a neo structure, or a tert structure.
  • examples of the saturated branched chain alkyl (meth) acrylate monomer include isoheptyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meth) acrylate. Can be mentioned.
  • isononyl (meth) acrylate has better solubility with block copolymers and is easy to obtain a more uniform cured film.
  • isodecyl (meth) acrylates is preferred.
  • one kind of saturated cycloalkyl (meth) acrylate monomer may be blended alone or two or more kinds may be blended.
  • the saturated cycloalkyl (meth) acrylate monomer and the saturated chain alkyl (meth) acrylate monomer commercially available products can be used.
  • the block copolymer is based on 100 parts by mass of the above block copolymer, saturated cycloalkyl (meth) acrylate monomer, and saturated chain alkyl (meth) acrylate monomer in total.
  • the mass ratio of is preferably 10 parts by mass or more and 25 parts by mass or less.
  • the curable composition of the present embodiment contains a photopolymerization initiator that initiates a polymerization reaction by light irradiation.
  • the photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it is a compound that generates radicals by irradiated light (ultraviolet rays or the like).
  • Examples of the photopolymerization initiator include an acetophenone-based photoinitiator, a benzoin-based photoinitiator, a benzophenone-based photoinitiator, a thioxanthone-based photoinitiator, and an acylphosphine oxide-based photoinitiator.
  • the photopolymerization initiator a commercially available product can be used.
  • the curable composition of the present embodiment may contain a photosensitizer, a polymerization inhibitor, an antioxidant, a dye, a pigment, a phosphor and the like, if necessary.
  • the curable composition of the present embodiment preferably does not contain a powder such as an inorganic powder or a resin powder.
  • the above curable composition can be produced by a general method. For example, it can be produced by mixing and stirring the above block copolymer, a saturated cycloalkyl (meth) acrylate monomer, a saturated chain-like alkyl (meth) acrylate monomer, and a photopolymerization initiator.
  • the curable composition of the present embodiment is used as a cured product cured by irradiation with light such as ultraviolet rays.
  • the composition is cured by irradiating it with light such as ultraviolet rays to form a coating film of the cured product.
  • Ultraviolet rays can be used as the light to be irradiated to proceed with the curing reaction.
  • a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp, an LED lamp and the like can be used.
  • the irradiation intensity for example, 10 to 10,000 mW / cm 2 can be adopted.
  • Objects to which the above curable composition is coated and coated include, for example, electronic circuits or terminals on a mounting substrate used for precision equipment, mounting on automobiles, bicycles, railways, aircraft, ships, and the like.
  • the curable composition of the present embodiment is as illustrated above, but the present invention is not limited to the above-exemplified curable composition. That is, various forms used in a general curable composition can be adopted as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • the matters disclosed herein include: (1) A block copolymer having a polyolefin block structure and a polystyrene block structure in the molecule, A saturated cycloalkyl (meth) acrylate monomer having a saturated cyclic hydrocarbon structure and a (meth) acryloyl group in the molecule, and A saturated chain alkyl (meth) acrylate monomer having a saturated chain hydrocarbon structure and a (meth) acryloyl group in the molecule, and A curable composition comprising.
  • the saturated cycloalkyl (meth) acrylate monomer contains a saturated cycloalkyl (meth) acrylate monomer containing a norbornane structure in the molecule.
  • the ratio of the saturated cycloalkyl (meth) acrylate monomer to a total of 100 parts by mass of the saturated cycloalkyl (meth) acrylate monomer and the saturated chain alkyl (meth) acrylate monomer is 30 parts by mass or more and 95 parts by mass or less.
  • the ratio of the block copolymer to 100 parts by mass of the total of the block copolymer, the saturated cycloalkyl (meth) acrylate monomer, and the saturated chain-like alkyl (meth) acrylate monomer is 10 parts by mass or more.
  • the curable composition was produced by mixing each compounding raw material as follows.
  • Examples 1 to 4 comparative example
  • the above raw materials were stirred at 80 ° C. for 3 hours at the blending amounts shown in Table 1 to produce a curable composition.
  • each curable composition produced in Examples and Comparative Examples was evaluated. Specifically, the viscosity of each curable composition produced, the tensile modulus, tensile elastic modulus, moisture permeability, and volume resistivity of the cured product were investigated. In general, the higher the volume resistivity, the more sufficiently the curing progresses.
  • Each composition was applied to a tin plate having a size of 0.3 ⁇ 130 ⁇ 180 mm so that the thickness of the cured product after curing was 100 ⁇ m.
  • the sample to be cured by light was irradiated with ultraviolet rays by a 500 W UV lamp so that the integrated light intensity had a light intensity of 1,000 mJ / cm 2.
  • ⁇ Volume resistivity of cured product (cured coating film)> A paste-like silver conductive paint was applied in a circular shape (diameter 30 mm) on each cured product (cured coating film) cured on the tin plate as described above. The upper electrode was formed by drying at 60 ° C. for 30 minutes. On the other hand, the tin plate used as the base material was used as the lower electrode. A voltage of 100 V DC was applied and the resistance value after 60 seconds was obtained. Then, the electrode area was multiplied by the resistance value and divided by the thickness of the cured product (cured film) to obtain the volume resistivity.
  • the curable composition of each example had a sufficiently high tensile elongation rate of the cured product and good flexibility after curing.
  • the cured product obtained by curing the curable composition of each example it is considered that the block copolymer exists in a state where it does not react with the acrylate monomer, although the acrylate monomers are polymerized and polymerized. As a result, the cured product is considered to have good flexibility.
  • the curable composition of the present invention is preferably used as a cured product, for example, in order to coat the electronic circuit with a cured product, after being applied to the electronic circuit and then irradiated with light to be cured.
  • the curable composition of the present invention is suitably used as, for example, a curable composition for an insulating coating.

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Abstract

ポリオレフィンブロック構造とポリスチレンブロック構造とを分子中に有するブロック共重合体と、 飽和環状炭化水素構造と(メタ)アクリロイル基とを分子中に有する飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマーと、 飽和鎖状炭化水素構造と(メタ)アクリロイル基とを分子中に有する飽和鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーと、 を含む、硬化性組成物を提供する。

Description

硬化性組成物 関連出願の相互参照
 本願は、日本国特願2020―101174号の優先権を主張し、該出願が引用によって本願明細書の記載に組み込まれる。
 本発明は、例えば光照射によって硬化する硬化性組成物に関する。
 従来、光照射によって硬化する硬化性組成物としては、例えば、水添ポリブタジエンジオールまたは水添ポリイソプレンジオールから合成され且つ数平均分子量が1,000~20,000であるウレタンアクリレート(A)と、単官能(メタ)アクリレートモノマー(B)と、380nm以上の波長で吸収帯域を持つ開始剤(C)と、を含む硬化性組成物であって、(A)成分と(B)成分の合計100質量部に対して(C)成分の含有量が10~15質量部である硬化性組成物が知られている(例えば、特許文献1)。
 特許文献1に記載の硬化性組成物は、電子回路上に塗布されたうえで、光の照射によって硬化され、電子回路被覆用途において使用される。
 特許文献1に記載の硬化性組成物は、LED光源からの光であっても硬化され、良好な防湿性及び電気絶縁性などを有し得る。
日本国特開2018-024761号公報
 しかしながら、特許文献1に記載の硬化性組成物が硬化した硬化物は、必ずしも十分な柔軟性を有しないことから、例えば硬化被膜となった硬化物が割れなどを生じる場合がある。従って、硬化後の硬化物の柔軟性が良好となり得る硬化性組成物が要望されている。
 上記の問題点等に鑑み、本発明は、硬化後の硬化物が良好な柔軟性を有することができる硬化性組成物を提供することを課題とする。
 上記課題を解決すべく、本実施形態に係る硬化性組成物は、
 ポリオレフィンブロック構造とポリスチレンブロック構造とを分子中に有するブロック共重合体と、
 飽和環状炭化水素構造と(メタ)アクリロイル基とを分子中に有する飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマーと、
 飽和鎖状炭化水素構造と(メタ)アクリロイル基とを分子中に有する飽和鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーと、
 を含むことを特徴とする。
 本実施形態に係る硬化性組成物において、前記ブロック共重合体が、分子鎖の末端にヒドロキシ基を有してもよい。
 以下、本発明に係る硬化性組成物の一実施形態について説明する。
 本実施形態の硬化性組成物は、ポリオレフィンブロック構造とポリスチレンブロック構造とを分子中に有するブロック共重合体と、
 飽和環状炭化水素構造と(メタ)アクリロイル基とを分子中に有する飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマーと、
 飽和鎖状炭化水素構造と(メタ)アクリロイル基とを分子中に有する飽和鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーと、を含む。
 上記の硬化性組成物によれば、硬化した後の硬化物が良好な柔軟性を有し得る。
 上記のブロック共重合体は、ポリオレフィンブロック構造とポリスチレンブロック構造とを分子中に有する。上記のブロック共重合体は、分子鎖の両末端部にポリスチレンブロック構造をそれぞれ有し、これらポリスチレンブロック構造の間にポリオレフィンブロック構造を有する。
 ポリオレフィンブロック構造は、エーテル基又はエステル基などの極性基を含まず、炭化水素基のみで構成される。斯かる炭化水素基は、飽和炭化水素基であってもよく、不飽和炭化水素基であってもよい。斯かる炭化水素基は、飽和炭化水素基及び不飽和炭化水素基の両方を含んでいてもよい。ポリオレフィンブロック構造の大半は、飽和炭化水素で構成されていることが好ましい。
 なお、本実施形態の硬化性組成物をより十分に硬化させるという点では、ポリオレフィンブロック構造が不飽和炭化水素基を含んでもよい。一方、本実施形態の硬化性組成物の硬化物がより良好な耐熱性及び耐候性を有することができるという点では、ポリオレフィンブロック構造における不飽和炭化水素基の割合は少ない方が好ましい。例えば、硬化性組成物の総質量に対して、ポリオレフィンブロック構造の不飽和炭化水素基の割合は、10質量%以下であってもよく、5質量%以下であってもよい。
 ポリオレフィンブロック構造は、構成単位として、エチレン、プロピレン、1,3-ブタジエン(及びその水素添加体)、イソプレン(及びその水素添加体)などの構成単位を有する。ポリオレフィンブロック構造は、通常、飽和結合で構成されているが、不飽和結合を一部に有してもよい。構成単位としては、エチレン、プロピレン、ブチレン(-CHCH(CHCH)-)が好ましい。換言すると、ポリオレフィンブロック構造は、エチレン、プロピレン、及び、ブチレンのうち少なくとも1種を構成単位として有することが好ましい。
 ポリオレフィンブロック構造において、各構成単位は、ランダムに配列していてもよい。換言すると、各構成単位は、異なる複数種のモノマーがランダム重合によって分子鎖に組み込まれたものであってもよい。
 例えば、ポリオレフィンブロック構造は、エチレン構成単位及びプロピレン構成単位のランダム配列構造を含んでもよい。
 ポリオレフィンブロック構造における重合度は、例えば、100以上1,000以下である。
 各ポリスチレンブロック構造は、構成単位として、スチレン、α-メチルスチレン、o-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、t-ブチルスチレン、2,4-ジメチルスチレン、2,4-ジエチルスチレンなどの構成単位を有する。構成単位としては、これらのうち1種又は複数種を含む。構成単位としては、スチレン、α-メチルスチレンの構成単位が好ましい。換言すると、各ポリスチレンブロック構造は、スチレン又はα-メチルスチレンの少なくとも一方を構成単位として有することが好ましい。
 各ポリスチレンブロック構造の重合度は、例えば、50以上100以下である。
 上記のブロック共重合体としては、例えば、スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体(SBS)、スチレン-イソプレン-スチレンブロック共重合体(SIS)、スチレン-エチレン・ブテン-スチレンブロック共重合体(SEBS)、スチレン-エチレン・プロピレン-スチレンブロック共重合体(SEPS)、スチレン-エチレン・エチレン・プロピレン-スチレンブロック共重合体(SEEPS)などが挙げられる。上記のブロック共重合体としては、スチレン-エチレン・エチレン・プロピレン-スチレンブロック共重合体(SEEPS)が好ましい。
 上記のブロック共重合体におけるポリスチレンブロック構造の割合は、10質量%以上50質量%以下であってもよく、20質量%以上40質量%以下であることが好ましい。
 上記のブロック共重合体は、分子鎖の末端にヒドロキシ基を有することが好ましい。上記のブロック共重合体は、分子鎖の両末端にそれぞれヒドロキシ基を有してもよく、いずれか一方の末端(片末端)にヒドロキシ基を有してもよい。
 分子鎖の末端にヒドロキシ基を有することにより、上記のブロック共重合体と、上記の飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマー及び飽和鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーとの相溶性が向上する。よって、硬化性組成物が硬化した後の硬化物が、より良好な柔軟性及び低透湿性を有する。
 なお、他方の末端は、重合開始剤の残基などであってもよい。
 なお、上記のブロック共重合体は、好ましくは、イソシアネート基又はグリシジル基といった反応性基を分子中に含まない。また、上記のブロック共重合体の主鎖中には、好ましくは、ウレタン結合又はアミド結合などを構成する窒素(N)、及び、スルホニル基などを構成する硫黄(S)が含まれていない。
 上記のブロック共重合体は、通常、架橋構造を有さず、また、変性されていない。
 上記のごとく分子鎖の片末端にヒドロキシ基を有するブロック共重合体の好ましい分子構造を模式的に示すと、下記の式(1)で表される。式(1)は、SEEPSの片末端にヒドロキシ基を有する構造を表す。なお、下記式(1)において、pは、50以上100以下、qは、100以上500以下、rは、400以上1,000以下、sは、50以上100以下、mは、500以上1,500以下であってもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 上記のブロック共重合体は、例えば10,000以上100,000以下の数平均分子量を有してもよい。
 上記のブロック共重合体としては、市販製品を使用できる。例えば、製品名「クレイトン G1650」(クレイトン社製)、製品名「セプトン HG252」(クラレ社製 分子鎖の片末端に-OH基を有する)などを使用できる。
 本実施形態の硬化性組成物は、上述したように、飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマーと、飽和鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーとを含む。
 飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマーは、飽和環状炭化水素構造(炭素原子のみで形成された環状部分の構造)を含む1価アルコールと(メタ)アクリル酸とがエステル化した化合物であることが好ましい。
 飽和環状炭化水素構造を含む1価アルコールの炭素数は、8以上15以下であることが好ましい。飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマーは、ベンゼン環、並びに、エーテル結合(-CH-O-CH-)、-OH基、及び-COOH基などの極性基のいずれも分子中に含まないことが好ましい。
 飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマーは、分子中に(メタ)アクリレート基を1つ有する単官能モノマーであることが好ましい。飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマーにおいて、飽和環状炭化水素構造は、ヘテロ原子を含まず、4以上8以下の炭素原子で各炭素環が形成された構造であってもよい。飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマーは、単環式、二環式、多環式であってもよい。二環式又は多環式の飽和環状炭化水素構造が、2以上の炭素原子を共有していてもよい。なお、二環式又は多環式の飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマーでは、少なくとも1つの環構造が飽和アルキル構造であればよく、例えばすべての環構造が飽和アルキル構造であってもよい。飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマーにおいて、飽和環状炭化水素構造の炭素には、メチル基又はエチル基がさらに結合していてもよい。
 飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマーとしては、イソボルニル(メタ)アクリレート(ノルボルナン構造を含有)、ジシクロペンタジエンオキシエチル(メタ)アクリレート(ノルボルナン構造を含有)、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート(ノルボルナン構造を含有)、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート(ノルボルナン構造を含有)、アダマンチル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
 飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマーとしては、上記のモノマーのうち、ノルボルナン構造を含むモノマーが好ましく、イソボルニル(メタ)アクリレート又はジシクロペンタニルオキシエチル(メタ)アクリレートの少なくとも一方が、より好ましい。
 上記の硬化性組成物が飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマーを含むことによって、斯かる飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマーが上記のブロック共重合体を硬化性組成物においてより十分に溶解させることができる。
 飽和鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーは、炭素数が8以上15以下の飽和鎖状炭化水素を分子中に有する(メタ)アクリレートモノマーであることが好ましく、炭素数が8以上12以下の飽和鎖状炭化水素を分子中に有する(メタ)アクリレートモノマーであることが好ましい。
 飽和鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーは、ベンゼン環、並びに、エーテル結合(-CH-O-CH-)、-OH基、及び-COOH基などの極性基のいずれも分子中に含まないことが好ましい。
 飽和鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーは、分子中に(メタ)アクリレート基を1つ有する単官能モノマーであることが好ましい。飽和鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーにおいて、飽和鎖状炭化水素構造は、C及びH以外の原子を含まず、7以上11以下の炭素原子で構成された飽和鎖状炭化水素構造であってもよい。
 上記の硬化性組成物が飽和鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーを含むことから、硬化性組成物が硬化した硬化物の柔軟性を向上させることができる。
 飽和鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーにおいて、飽和鎖状炭化水素構造は、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。換言すると、飽和鎖状炭化水素構造は、飽和直鎖状炭化水素構造であってもよく、飽和分岐鎖状炭化水素構造であってもよい。さらに換言すると、飽和鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーは、飽和直鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーであってもよく、飽和分岐鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーであってもよい。
 飽和鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーとしては、硬化性組成物において上記のブロック共重合体をより十分に溶解させ得るという点で、飽和分岐鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーが好ましい。これにより、硬化物を担持する基材、硬化物の厚さ、又は、硬化反応条件などの影響をあまり受けずに、より均一に近い硬化物被膜を得ることができる。
 本実施形態の硬化性組成物において、飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマーと、飽和鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーとの合計100質量部に対する、飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマーの割合は、好ましくは30質量部以上95質量部以下である。
 これにより、電気絶縁性能と柔軟性(伸び性能)とをよりバランス良く兼ね備えた硬化物を得ることができる。
 飽和直鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーの炭化水素構造は、飽和直鎖状アルキル構造であればよい。
 具体的には、飽和直鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーとしては、n-ヘプチル(メタ)アクリレート、n-オクチル(メタ)アクリレート、n-ノニル(メタ)アクリレート、n-デシル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
 飽和分岐鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーの炭化水素構造は、飽和分岐鎖状アルキル構造であればよく、iso構造、sec構造、neo構造、又は、tert構造であり得る。
 具体的には、飽和分岐鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーとしては、イソヘプチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
 上記飽和分岐鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーとしては、ブロック共重合体との溶解性がより良好である点、また、より均一に近い硬化被膜を得られやすいという点で、イソノニル(メタ)アクリレート、又は、イソデシル(メタ)アクリレートの少なくとも一方が、好ましい。
 上述した硬化性組成物には、飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマーの1種が単独で、又は2種以上が組み合わされて配合されてもよい。飽和鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーも同様である。
 なお、飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマー、及び、飽和鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーとしては、市販されている製品を使用できる。
 本実施形態の硬化性組成物において、上記のブロック共重合体、飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマー、及び、飽和鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーの合計100質量部に対して、ブロック共重合体の質量比は、10質量部以上25質量部以下であることが好ましい。
 本実施形態の硬化性組成物は、重合反応を光照射によって開始させる光重合開始剤を含む。
 光重合開始剤は、照射された光(紫外線等)によってラジカルを発生する化合物であれば、特に制限されない。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン系光開始剤、ベンゾイン系光開始剤、ベンゾフェノン系光開始剤、チオキサントン系光開始剤、アシルホスフィンオキサイド系光開始剤等が挙げられる。
 光重合開始剤としては、市販品を使用することができる。
 なお、本実施形態の硬化性組成物は、必要に応じて、光増感剤、重合禁止剤、酸化防止剤、染料、顔料、蛍光体などを含み得る。
 本実施形態の硬化性組成物は、好ましくは、無機粉体又は樹脂粉体といった粉体を含まない。
 上記の硬化性組成物は、一般的な方法によって製造できる。例えば、上記のブロック共重合体と、飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマーと、飽和鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーと、光重合開始剤とを、混合して撹拌することによって製造できる。
 本実施形態の硬化性組成物は、紫外線などの光の照射によって硬化された硬化物となって使用される。例えば、被覆されることとなる電子回路に、上記の硬化性組成物を塗工した後、紫外線などの光を照射して組成物を硬化させ、硬化物の被覆膜を形成する。
 硬化反応を進めるために照射する光としては、紫外線を使用できる。光源としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、LEDランプなどを使用できる。照射強度としては、例えば、10~10,000mW/cmを採用できる。
 上記の硬化性組成物が塗工されて被覆される対象物としては、例えば、精密機器に使用される実装基板上の電子回路若しくは端子、自動車、自転車、鉄道、航空機、船舶などに搭載する実装基板上の電子回路若しくは端子、モバイル機器(携帯電話、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ等)に使われる実装基板上の電子回路若しくは端子、屋外機器(給湯器、エアコン室外機等)に利用される基板の電子回路若しくは端子、又は、洗濯機、温水洗浄便座、食器洗い乾燥器等の水周り機器に使用される実装基板上の電子回路若しくは端子等が挙げられる。
 本実施形態の硬化性組成物は上記例示の通りであるが、本発明は、上記例示の硬化性組成物に限定されるものではない。
 即ち、一般的な硬化性組成物において用いられる種々の形態が、本発明の効果を損ねない範囲において、採用され得る。
 本明細書によって開示される事項は、以下のものを含む。
(1)
 ポリオレフィンブロック構造とポリスチレンブロック構造とを分子中に有するブロック共重合体と、
 飽和環状炭化水素構造と(メタ)アクリロイル基とを分子中に有する飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマーと、
 飽和鎖状炭化水素構造と(メタ)アクリロイル基とを分子中に有する飽和鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーと、
 を含む、硬化性組成物。
(2)
 前記ブロック共重合体が、分子鎖の末端にヒドロキシ基を有する、上記(1)に記載の硬化性組成物。
(3)
 前記飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマーが、ノルボルナン構造を分子中に含む飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマーを含み、
 前記飽和鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーが、飽和分岐鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーを含む、上記(1)又は(2)に記載の硬化性組成物。
(4)
 前記飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマーと、前記飽和鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーとの合計100質量部に対する、前記飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマーの割合は、30質量部以上95質量部以下である、上記(1)~(3)のいずれかに記載の硬化性組成物。
(5)
 前記ブロック共重合体、前記飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマー、及び、前記飽和鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーの合計100質量部に対して、前記ブロック共重合体の割合が、10質量部以上25質量部以下である、上記(1)~(4)のいずれかに記載の硬化性組成物。
 次に実験例によって本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
 以下のようにして、各配合原料を混合して硬化性組成物を製造した。
<原料>
(A)ブロック共重合体
・(A-1)スチレン-エチレン・ブチレン-スチレンブロック共重合体
      (SEBS)
  製品名「クレイトン G1650」(クレイトン社製)(スチレン30質量%含有、数平均分子量67,000)
・(A-2)スチレン-エチレン・エチレン・プロピレン-スチレンブロック共重合体
      (SEEPS)
  製品名「セプトン HG252」(クラレ社製)(スチレン28質量%含有、数平均分子量55,000):分子鎖の片末端に-OH基を有する(SEEPS-OH と表記)
(B)飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマー
・(B-1)イソボルニルアクリレート(IBXA 市販製品)
・(B-2)ジシクロペンタニルアクリレート
      製品名「ファンクリルFA-513AS」日立化成工業社製
(C)飽和鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマー
・(C-1)イソノニルアクリレート(INAA 市販製品)分岐鎖状
・(C-2)イソデシルアクリレート(IDAA 市販製品)分岐鎖状
(その他)
・光重合開始剤 製品名「IRGACURE 907」 IGM Resins社製
・光増感剤(2,4-ジエチルチオキサントン)
  製品名「KAYACURE DETX-S」日本化薬社製
(実施例1~4、比較例)
 表1に示す配合量で、上記の原料を80℃で3時間撹拌して、硬化性組成物を製造した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 以下に示すようにして、実施例及び比較例で製造した各硬化性組成物を評価した。詳しくは、製造した各硬化性組成物の粘度、硬化物の引張伸び率、引張弾性率、透湿度、体積抵抗率を調べた。
 なお、一般的には、体積抵抗率が高いほど、硬化がより十分に進行したことを示す。
<組成物の粘度>
 東機産業社製E型回転粘度計:RE-85Rを用いて以下条件で測定した。
 測定温度:25℃、ロータ:1.34°、R24
<硬化>
 硬化後の硬化物の厚さが100μmとなるように、0.3×130×180mmのブリキ板に各組成物を塗工した。光によって硬化させる試料については、500WのUVランプによって積算光量が1,000mJ/cmの光強度となるように紫外線を照射した。
<硬化物(硬化塗膜)の引張伸び率>
 離型処理されたPETフィルム上に、上記の硬化処理と同様にして硬化物(硬化塗膜)を形成した。次に、硬化塗膜からPETフィルムを剥離して、硬化塗膜をJISダンベル2号形状に切断した。そして、チャック間距離:20mm、クロスヘッド速度:300mm/分の測定条件で引張伸び率を測定した。
 なお、伸び率(%)を下記式によって算出した。
    伸び率(%)=(破断伸び量(mm)-20)/20 ×100
<硬化物(硬化塗膜)の引張弾性率>
 上記のごとき硬化処理によって形成した硬化物(硬化塗膜)について、引張強度(N)/変異伸び量(mm)が最大となる傾きSをもとめ、以下の式によって引張弾性率を算出した。
 引張弾性率(MPa)=
   S(引張強度(N)/変異伸び量(mm))/(厚み(mm)×幅(mm)×20
<硬化物(硬化塗膜)の透湿度>
 JIS K8123に従って、吸湿条件40℃でカップ法にて測定をおこなった。
<硬化物(硬化塗膜)の体積抵抗率>
 上記のようにしてブリキ板上で硬化させた各硬化物(硬化塗膜)上に、ペースト状の銀の導電性塗料を円状(直径30mm)に塗布した。60℃で30分間乾燥して上側電極を形成した。一方、基材として使ったブリキ板を下側電極とした。DC100Vの電圧を印加して60秒後の抵抗値を求めた。そして、電極面積に抵抗値を乗じ、硬化物(硬化膜)の厚さで除して、体積抵抗率を求めた。
 上記の試験によって評価した結果を表1に示す。
 表1に示された評価結果から把握されるように、各実施例の硬化性組成物は、硬化物の引張伸び率が十分に高く、硬化後の柔軟性が良好であった。
 各実施例の硬化性組成物が硬化された硬化物では、アクリレートモノマー同士が重合して高分子化されているものの、ブロック共重合体はアクリレートモノマーと反応しない状態で存在すると考えられる。これにより、硬化物は良好な柔軟性を有すると考えられる。
 本発明の硬化性組成物は、例えば、電子回路を硬化物で被覆するために、電子回路に塗布された後、光照射されて硬化され、硬化物となって好適に使用される。本発明の硬化性組成物は、例えば、絶縁被膜用硬化性組成物として好適に使用される。
 
 

Claims (2)

  1.  ポリオレフィンブロック構造とポリスチレンブロック構造とを分子中に有するブロック共重合体と、
     飽和環状炭化水素構造と(メタ)アクリロイル基とを分子中に有する飽和シクロアルキル(メタ)アクリレートモノマーと、
     飽和鎖状炭化水素構造と(メタ)アクリロイル基とを分子中に有する飽和鎖状アルキル(メタ)アクリレートモノマーと、
     を含む、硬化性組成物。
  2.  前記ブロック共重合体が、分子鎖の末端にヒドロキシ基を有する、請求項1に記載の硬化性組成物。
     
     
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