WO2021056743A1 - 显示面板及其制备方法 - Google Patents

显示面板及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2021056743A1
WO2021056743A1 PCT/CN2019/117807 CN2019117807W WO2021056743A1 WO 2021056743 A1 WO2021056743 A1 WO 2021056743A1 CN 2019117807 W CN2019117807 W CN 2019117807W WO 2021056743 A1 WO2021056743 A1 WO 2021056743A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
light
absorbing
shielding
layer
absorbing layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/CN2019/117807
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
王亚楠
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Publication of WO2021056743A1 publication Critical patent/WO2021056743A1/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133502—Antiglare, refractive index matching layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix

Definitions

  • This application relates to the field of display technology, in particular to a display panel and a preparation method thereof.
  • LCD Liquid Crystal Display
  • the screen of the display device easily reflects ambient light, which reduces the contrast of the display device.
  • the main technical problem solved by this application is that when the display device is used outdoors or in a high-brightness environment, the screen of the display device easily reflects ambient light, which reduces the contrast of the display device.
  • this application provides a display panel, including:
  • a light-absorbing layer is arranged on the substrate in a grid shape, and the light-absorbing layer is used to absorb light with a wavelength within a preset range;
  • a light-shielding layer covers the light-absorbing layer in a grid shape.
  • the light-absorbing layer includes a plurality of first light-absorbing strips and a plurality of second light-absorbing strips; a plurality of the first light-absorbing strips are arranged along a first direction, and a plurality of the second light-absorbing strips The bars are arranged along a second direction, and the first direction is perpendicular to the second direction.
  • the display panel further includes a plurality of sub-pixels; a plurality of the first light-absorbing strips and a plurality of the second light-absorbing strips are intersected to form a plurality of sub-pixel regions, each of the sub-pixels Each of the pixel areas is provided with one of the sub-pixels.
  • the light-shielding layer includes a plurality of first light-shielding bars and a plurality of second light-shielding bars, the plurality of first light-shielding bars are arranged along a first direction, and the plurality of second light-shielding bars The strips are arranged along the second direction;
  • the first light-shielding strip covers the first light-absorbing strip; the second light-shielding strip and the second light-absorbing strip in the same row In the light-absorbing strip, the second light-shielding strip covers the second light-absorbing strip.
  • the light-absorbing layer includes a first sub-light-absorbing layer and a second sub-light-absorbing layer;
  • the first sub-light-absorbing layer is arranged on the substrate
  • the second sub-light-absorbing layer is arranged on the first sub-light-absorbing layer
  • the second sub-light-absorbing layer covers the first sub-light-absorbing layer
  • the light-shielding layer is disposed on the second sub-light-absorbing layer, and the light-shielding layer covers the second sub-light-absorbing layer.
  • a plurality of nanoparticles are arranged in the sub-light-absorbing layer, and the nanoparticles are used to absorb light with a wavelength within a preset range.
  • the diameter of the nanoparticles is 10 nm to 20 nm.
  • the present application provides a method for manufacturing a display panel, including:
  • a light-shielding layer is formed on the light-absorbing layer, wherein the light-shielding layer covers the light-absorbing layer.
  • the forming a light-absorbing layer on the substrate includes:
  • a light-absorbing material is coated at the gap between the adjacent photoresist blocks to form a light-absorbing layer.
  • the forming a light-shielding layer on the light-absorbing layer includes:
  • the light-shielding material is cured, and the cured light-shielding material is patterned to form a light-shielding layer on the light-absorbing layer.
  • the beneficial effect of the present application is that the reflection of ambient light can be reduced, so the anti-reflection ability of the display panel can be improved, and the contrast of the display panel can be improved.
  • FIG. 1 is a schematic diagram of the structure of a display panel provided by this application.
  • FIG. 2 is a schematic diagram of the structure of a light-absorbing layer in the display panel shown in FIG. 1;
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the first embodiment of the display panel shown in FIG. 1 along the AA' direction;
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a second embodiment of the display panel shown in FIG. 1 along the A-A' direction;
  • FIG. 5 is a schematic flow chart of the method for manufacturing the display panel provided by this application.
  • FIG. 6 is a schematic diagram of the steps of the manufacturing method of the display panel provided by this application.
  • FIG. 1 is a schematic diagram of the structure of the display panel provided by this application
  • FIG. 2 is a schematic diagram of the structure of the light-absorbing layer in the display panel described in FIG. 1
  • FIG. 3 is the diagram shown in FIG. A schematic cross-sectional view of the first embodiment of the display panel along the AA' direction.
  • the present application provides a display panel 1, which includes a substrate 10, a light-absorbing layer 20 and a light-shielding layer 30.
  • the light absorbing layer 20 is arranged on the substrate 10 in a grid shape, the light absorbing layer 20 is used to absorb light with a wavelength within a preset range, and the light shielding layer 30 covers the light absorbing layer 20 in a grid shape.
  • the substrate 10 may be a flexible substrate, that is, in some embodiments, the material of the substrate 10 is polyimide (PI). Set according to the actual situation.
  • the substrate 10 may be formed with a light absorption layer 20 having a grid structure and a light shielding layer 30 having a grid structure.
  • the light-absorbing layer 20 can be used to absorb visible light, that is, the light-absorbing layer 20 is used to absorb light with a wavelength between 380 nanometers and 780 nanometers.
  • the light-shielding layer 30 can be used to divide adjacent color resists, block color gaps, and prevent light leakage or color mixing.
  • BOA BM On Array
  • COA Color The filter On Array technology is a technology in which the color resists originally prepared on the color filter substrate are prepared on the array substrate.
  • the COA technology can improve the signal delay on the metal line, provide the panel aperture ratio, and improve the display quality of the panel.
  • the material of the light shielding layer 30 may be a black resin material.
  • the light-absorbing layer 20 is provided between the light-shielding layer 30 and the substrate 10, the light-absorbing layer 20 eliminates the reflected light of the substrate 10 and reduces the reflection of ambient light. Therefore, the anti-reflection ability of the display panel 1 can be improved, thereby improving the display The contrast of panel 1.
  • the light-absorbing layer 20 includes a plurality of first light-absorbing strips 201 and a plurality of second light-absorbing strips 202.
  • the plurality of first light-absorbing strips 201 are arranged along a first direction
  • the plurality of second light-absorbing strips 202 are arranged along a second direction. It is perpendicular to the second direction.
  • the first direction is a vertical direction
  • the second direction is a horizontal direction, that is, the first direction is perpendicular to the second direction.
  • the first direction may also be a horizontal direction
  • the second direction may also be a vertical direction, which is specifically set according to actual conditions. In the figure, only the first direction is the vertical direction and the second direction is the horizontal direction.
  • the light-shielding layer 30 includes a plurality of first light-shielding strips 301 and a plurality of second light-shielding strips 302, the plurality of first light-shielding strips 301 are arranged along the first direction, and the plurality of second light-shielding strips 302 are arranged along the second direction.
  • each first light-shielding strip 301 corresponds to a first light-absorbing strip 201
  • each second light-shielding strip 302 corresponds to a second light-absorbing strip 202.
  • the first light-shielding strip 301 covers the first light-absorbing strip 201.
  • the second light-shielding strip 302 and the second light-absorbing strip 202 located in the same row covers the second light-absorbing strip 202.
  • the first light-shielding strip 301 in the nth column covers the first light-absorbing strip 201 in the nth column
  • the second light-shielding strip 302 in the nth row covers the second light-absorbing strip 202 in the nth row
  • n is greater than Or equal to 1.
  • the display panel 1 further includes a plurality of sub-pixels 51, the plurality of first light-absorbing strips 201 and the plurality of second light-absorbing strips 202 are intersected to form a plurality of sub-pixel regions 101, and each sub-pixel region 101 is provided with a sub-pixel 51.
  • the sub-pixels include a red sub-pixel R, a green sub-pixel G, and a blue sub-pixel B.
  • the light-absorbing layer 20 includes a first light-absorbing sublayer 21 and a second light-absorbing sublayer 22.
  • the first sub-light-absorbing layer 21 is disposed on the substrate 10
  • the second sub-light-absorbing layer 22 is disposed on the first sub-light-absorbing layer 21, and the second sub-light-absorbing layer 22 covers the first sub-light-absorbing layer 21.
  • the light-shielding layer 30 is disposed on the second sub-light-absorbing layer 22, and the light-shielding layer 30 covers the second sub-light-absorbing layer 22.
  • a plurality of nanoparticles 50 are arranged in the first sub-light-absorbing layer 21, and the nanoparticles 50 are used to absorb light with a wavelength within a preset range.
  • the diameter of the nanoparticle 50 is 10 to 20 nanometers.
  • a photoresist layer can be formed on the substrate 10, and then a layer of solution with nanoparticles can be coated on the photoresist layer to form a nanoparticle 50 on the substrate 10.
  • the first sub-light-absorbing layer 21 for another example, a mixed solution of nanoparticles 50 and photoresist is prepared in advance, and then the mixed solution is applied to the substrate 10.
  • the substrate 10 is cured to form a first sub-light-absorbing layer 21 with nanoparticles 50 on the substrate 10.
  • the material of the nanoparticles 50 may be indium tin oxide (Indium Tin Oxide). Oxides, ITO).
  • the selection of the photoresist and the nanoparticles 50 to mix is to allow ambient light to enter the substrate 10 for reflection, and the reflected light can pass through the first sub-light-absorbing layer 21 and generate localized surface plasmon resonance with the nanoparticles 50.
  • the material of the second sub-light absorbing layer 22 may be metal, for example, it may be silver. If the reflected light can pass through the first sub-light-absorbing layer 21 without localized surface plasmon resonance with the nanoparticle 50, the second sub-light-absorbent layer 22 can reflect the reflected light again to cause localized surface plasmon resonance with the nanoparticle 50. In order to achieve the purpose of absorbing reflected light.
  • the nanoparticles 50 in the first light-absorbing layer 21 can have local surface plasmon resonance with the reflected light, and
  • the second sub-light-absorbing layer 22 can reflect the reflected light again, causing it to have local surface plasmon resonance with the nanoparticle 50, thereby reducing the reflection of ambient light, and achieving the purpose of absorbing the reflected light, thereby improving the resistance of the display panel 1. Reflectivity, thereby improving the contrast of the display panel 1.
  • FIG. 5 is a schematic flow chart of the method for manufacturing the display panel provided by this application.
  • the present application provides a method for manufacturing a display panel, including:
  • the substrate 10 may be a flexible substrate or a rigid substrate, which is specifically set according to actual conditions.
  • a light-absorbing layer having a grid-like structure may be formed on the substrate. After the ambient light enters the interior of the substrate and is reflected, it can effectively absorb the reflected light of the ambient light while ensuring normal light emission.
  • the step of forming a light-absorbing layer on the substrate may include:
  • the photoresist layer is patterned to form a plurality of photoresist blocks arranged at intervals.
  • a light-absorbing material is coated at the gap between adjacent photoresist blocks to form a light-absorbing layer.
  • a photoresist layer is coated on the substrate, and then the photoresist layer is patterned, for example, an etching process, to form a plurality of photoresist blocks arranged at intervals on the substrate. Wherein, there is a gap between adjacent photoresist blocks. Finally, a light-absorbing material is applied to the gaps between adjacent photoresist blocks to form a light-absorbing layer with a grid-like structure.
  • a layer of light-shielding material is coated on the light-absorbing layer with a grid structure, and the light-shielding material may be a black resin material to prevent light leakage of the display panel. Then, the light-shielding material is cured, and the cured light-shielding material is etched to form a light-shielding layer with a grid structure on the light-absorbing layer.
  • FIG. 6 is a schematic diagram of the steps of the method for manufacturing the display panel provided by this application.
  • a layer of photoresist material is applied on the substrate 10 and the photoresist material is cured to form a photoresist layer 60 on the substrate 10.
  • the photoresist layer 60 may be etched to form a plurality of photoresist blocks 600 arranged at intervals on the substrate 10. Wherein, there is a gap between adjacent photoresist blocks 600.
  • a light-absorbing material is applied to the gap between adjacent photoresist blocks 600, and the light-absorbing material is cured to form a light-absorbing layer 20 having a grid-like structure on the substrate 10.
  • a solution containing nanoparticles may be applied to the gap between adjacent photoresist blocks 600, and the substrate 10 may be cured to form a first substrate 10 on the substrate 10.
  • Sub-light-absorbing layer 21 the substrate on which the first sub-light-absorbing layer 21 is formed is placed in an anion solution, and the second sub-light-absorbing layer 22 is formed on the first sub-light-absorbing layer 21 by an electro-reduction method.
  • a layer of light-shielding material is coated on the light-absorbing layer 20 with a grid structure, and finally, the light-shielding material is cured, and the cured light-shielding material is etched to form a grid-like material on the light-absorbing layer 20. Structure of the light-shielding layer 30.
  • a light-absorbing layer is provided between the substrate and the light-shielding layer.
  • the light-absorbing layer can reduce the reflection of ambient light, so the anti-reflection ability of the display panel can be improved, and the display panel can be improved. Contrast.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

本申请提供的显示面板及其制备方法，所述显示面板包括：基板；吸光层，所述吸光层呈网格状设置在所述基板上；以及遮光层，所述遮光层呈网格状覆盖所述吸光层，所述吸光层用于吸收波长在预设范围内的光线。

Description

显示面板及其制备方法 技术领域
本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法。
 背景技术
随着光电与半导体技术的演进，也带动了平板显示器的蓬勃发展，而在诸多平板显示器中，液晶显示器（Liquid Crystal Display，LCD）因具有高空间利用效率、低消耗功率、无辐射以及低电磁干扰等诸多优越特性，已被应用于生产生活的各个方面。
然而，在户外或者高亮度环境下使用显示装置时，显示装置的屏幕很容易反射环境光，降低了显示装置的对比度。
 技术问题
本申请主要解决的技术问题，在户外或者高亮度环境下使用显示装置时，显示装置的屏幕很容易反射环境光，降低了显示装置的对比度。
 技术解决方案
第一方面，本申请提供了一种显示面板，包括：
基板；
吸光层，所述吸光层呈网格状设置在所述基板上，所述吸光层用于吸收波长在预设范围内的光线；以及
遮光层，所述遮光层呈网格状覆盖所述吸光层。
在本申请所提供的显示面板中，所述吸光层包括多个第一吸光条和多个第二吸光条；多个所述第一吸光条沿第一方向设置，多个所述第二吸光条沿第二方向设置，所述第一方向与第二方向垂直。
在本申请所提供的显示面板中，所述显示面板还包括多个子像素；多个所述第一吸光条与多个所述第二吸光条交叉设置形成多个子像素区，每个所述子像素区上均设有一所述子像素。
在本申请所提供的显示面板中，所述遮光层包括多个第一遮光条和多个第二遮光条，多个所述第一遮光条沿第一方向设置，多个所述第二遮光条沿第二方向设置；
其中，位于同一列的所述第一遮光条与所述第一吸光条中，所述第一遮光条覆盖所述第一吸光条；位于同一行的所述第二遮光条与所述第二吸光条中，所述第二遮光条覆盖所述第二吸光条。
在本申请所提供的显示面板中，所述吸光层包括第一子吸光层和第二子吸光层；
其中，所述第一子吸光层设置在所述基板上，所述第二子吸光层设置在所述第一子吸光层上，且所述第二子吸光层覆盖所述第一子吸光层，所述遮光层设置在所述第二子吸光层上，且所述遮光层覆盖所述第二子吸光层。
在本申请所提供的显示面板中，所述子吸光层内设置有多个纳米颗粒，所述纳米颗粒用于吸收波长在预设范围内的光线。
在本申请所提供的显示面板中，所述纳米颗粒的直径为10纳米到20纳米。
第二方面，本申请提供一种显示面板的制备方法，包括：
提供一基板；
在所述基板形成吸光层；
在所述吸光层上形成遮光层，其中，所述遮光层覆盖所述吸光层。
在本申请所提供的显示面板的制备方法中，所述在所述基板形成吸光层，包括:
在所述基板上涂敷一层光刻胶层；
对所述光刻胶层进行图案化处理，以形成多个间隔排布的光刻胶块，其中，相邻所述光刻胶块之间具有一间隙；
在相邻所述光刻胶块之间的间隙处涂敷吸光材料，以形成吸光层。
在本申请所提供的显示面板的制备方法中，所述在所述吸光层上形成遮光层，包括：
在所述吸光层上涂敷遮光材料；
固化所述遮光材料，并对固化后的所述遮光材料进行图案化处理，以在所述吸光层上形成遮光层。
 有益效果
本申请的有益效果是：能够减少环境光的反射，因此可以提高显示面板的抗反射能力，进而提高显示面板的对比度。
 附图说明
图1为本申请提供的显示面板的结构示意图；
图2为图1所述的显示面板中的吸光层的结构示意图；
图3为图1所述的显示面板沿AA’方向第一种实施方式的截面示意图；
图4为图1所示的显示面板的沿A-A’方向的第二种实施方式的截面示意图；
图5为本申请提供的显示面板的制备方法的流程示意图；
图6为本申请提供的显示面板的制备方法的步骤示意图。
 本发明的实施方式
下面详细描述本申请的实施方式，所述实施方式的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的，仅用于解释本申请，而不能理解为对本申请的限制。
请参阅图1、图2以及图3,，图1为本申请提供的显示面板的结构示意图，图2为图1所述的显示面板中的吸光层的结构示意图，图3为图1所述的显示面板沿AA’方向第一种实施方式的截面示意图。
本申请提供一种显示面板1，该显示面板1包括基板10、吸光层20以及遮光层30。该吸光层20呈网格状设置在基板10上，吸光层20用于吸收波长在预设范围内的光线，遮光层30呈网格状覆盖吸光层20。
具体的，基板10可以是柔性基板，也就是说，在一些实施例中，基板10的材质为聚酰亚胺（Polyimide，PI）。具体根据实际情况进行设定。在基板10可以形成有具有网格状结构的吸光层20以及具有网格状结构的遮光层30。吸光层20可以用于吸收可见光，即，吸光层20用于吸收波长在380纳米至780纳米的光线。遮光层30可以用于分割相邻色阻，遮挡色彩的空隙，防止漏光或者混色。而将黑色矩阵制备在阵列基板的技术叫做BOA(BM On Array)，BOA可以解决上下基板错位导致遮光区域不匹配的问题，这种对曲面显示器尤其有用。COA(Color filter On Array)技术是一种将原本制备于彩膜基板上的色阻制备在阵列基板上的技术，COA技术可以改善金属线上的信号延迟，提供面板开口率，改善面板显示品质。另外，在一些实施例中，遮光层30的材料可以为黑色树脂材料。
例如，环境光进入到显示面板1的内部后，会在基板10内部发生反射。由于在遮光层30和基板10之间设置了吸光层20，因此，吸光层20会消除基板10的反射光，达到减少环境光的反射，因此可以提高显示面板1的抗反射能力，进而提高显示面板1的对比度。
吸光层20包括多个第一吸光条201和多个第二吸光条202，多个第一吸光条201沿第一方向设置，多个第二吸光条202沿第二方向设置，且第一方向与第二方向垂直。比如，第一方向为竖直方向，第二方向为水平方向，也即，第一方向与第二方向垂直。当然，第一方向也可以为水平方向，第二方向也可以为竖直方向，具体根据实际情况进行设置。图中仅仅以第一方向为竖直方向以及第二方向为水平方向示例。
遮光层30包括多个第一遮光条301和多个第二遮光条302，多个第一遮光条301沿第一方向设置，多个第二遮光条302沿第二方向设置。在一些实施例中，每个第一遮光条301均对应一个第一吸光条201，每个第二遮光条302均对应一个第二吸光条202。
位于同一列的第一遮光条301与第一吸光条201中，第一遮光条301覆盖第一吸光条201。位于同一行的第二遮光条302与第二吸光条202中，第二遮光条302覆盖第二吸光条202。也就是说，位于第n列的第一遮光条301覆盖位于第n列的第一吸光条201，位于第n行的第二遮光条302覆盖位于第n行的第二吸光条202，n大于或等于1。
另外，显示面板1还包括多个子像素51，多个第一吸光条201和多个第二吸光条202交叉设置形成多个子像素区101，每个子像素区101上均设有一子像素51。子像素包括红色子像素R、绿色子像素G和蓝色子像素B。
请参阅图4，图4为图1所示的显示面板的沿A-A’方向的第二种实施方式的截面示意图。在一些实施例中，吸光层20包括第一子吸光层21和第二子吸光层22。第一子吸光层21设置在基板10上，第二子吸光层22设置在第一子吸光层21上，且第二子吸光层22覆盖第一子吸光层21。遮光层30设置在第二子吸光层22上，且该遮光层30覆盖第二子吸光层22。
该第一子吸光层21内设置有多个纳米颗粒50，该纳米颗粒50用于吸收波长在预设范围内的光线。在一些实施例中，纳米颗粒50的直径为10纳米到20纳米。
具体的，比如，可以在基板10上形成一层光刻胶层，然后，可以在该光刻胶层上再涂敷一层具有纳米颗粒的溶液，以在基板10上形成具有纳米颗粒50的第一子吸光层21；又比如，预先制备纳米颗粒50与光刻胶的混合溶液，然后将该混合溶液涂敷至基板10上。接着，对该基板10进行固化处理，以基板10上形成具有纳米颗粒50的第一子吸光层21。需要说明的是，该纳米颗粒50的材料可以为氧化铟锡（Indium Tin Oxides，ITO）。还需要说明的是，选取光刻胶与纳米颗粒50混合是为了让环境光进入到基板10内反射后，反射光线能够穿过第一子吸光层21与纳米颗粒50发生局域表面等离子共振，达到吸收反射光的目的。另外，第二子吸光层22的材料可以为金属，比如，可以为银。若反射光线能够穿过第一子吸光层21没有与纳米颗粒50发生局域表面等离子共振，第二子吸光层22可以将反射光线再次反射，使其与纳米颗粒50发生局域表面等离子共振，以达到吸收反射光的目的。
通过基板10和遮光层30之间设置一层吸光层20，当外界的环境光照射在显示面板1时，第一吸光层21中的纳米颗粒50能够与反射光线发生局域表面等离子共振，并且，第二子吸光层22可以将反射光线再次反射，使其与纳米颗粒50发生局域表面等离子共振，从而减少环境光的反射，进而到达吸收反射光的目的，因此可以提高显示面板1的抗反射能力，进而提高显示面板1的对比度。
请参阅图5，图5为本申请提供的显示面板的制备方法的流程示意图。本申请提供一种显示面板的制备方法，包括：
110、提供一基板。
具体的，基板10可以是柔性基板，也可以为刚性基板，具体根据实际情况进行设定。
120、在基板形成吸光层。
为了不影响显示面板的发光，因此，可以在基板上形成具有网格状结构的吸光层。环境光进入到基板内部并反射后，在保证正常发光的情况下，可以有效地吸收环境光的反射光线。
在一些实施例中，在基板形成吸光层的步骤可以包括：
在基板上涂敷一层光刻胶层。
对光刻胶层进行图案化处理，以形成多个间隔排布的光刻胶块。
在相邻光刻胶块之间的间隙处涂敷吸光材料，以形成吸光层。
首先，在基板上涂敷一层光刻胶层，然后对该光刻胶层进行图案化处理，比如，蚀刻处理，以在基板上形成多个间隔排布的光刻胶块。其中，相邻光刻胶块之间具有一间隙。最后，在相邻光刻胶块之间的间隙处涂敷吸光材料，以形成具有网格状结构的吸光层。
130、在吸光层上形成遮光层。
例如，在具有网格状结构的吸光层上涂敷一层遮光材料，该遮光材料可以是黑色树脂材料，用于防止显示面板漏光。然后，对遮光材料进行固化处理，并对固化后的遮光材料进行蚀刻，以在吸光层上形成具有网格状结构的遮光层。
请参阅图6，图6为本申请提供的显示面板的制备方法的步骤示意图。首先，在基板10上涂敷一层光刻胶材料，并固化该光刻胶材料以在基板10上形成光刻胶层60。然后，可对该光刻胶层60进行蚀刻处理，以在基板10上形成多个间隔排布的光刻胶块600。其中，相邻光刻胶块600之间具有一间隙。紧接着，在相邻光刻胶块600之间的间隙处涂敷吸光材料，并对吸光材料进行固化处理，以在基板10上形成具有网格状结构的吸光层20。需要说明的是，在一些实施例中，可在相邻光刻胶块600之间的间隙处涂敷含有纳米颗粒的溶液，并对该基板10进行固化处理，以在基板10上形成第一子吸光层21。然后，将形成有第一子吸光层21的基板放置于阴离子溶液中，利用电还原法在第一子吸光层21上形成第二子吸光层22。然后，在具有网格状结构的吸光层20上涂敷一层遮光材料，最后，对遮光材料进行固化处理，并对固化后的遮光材料进行蚀刻，以在吸光,20上形成具有网格状结构的遮光层30。
本申请通过在基板和遮光层之间设置一层吸光层，当外界的环境光照射在显示面板时，吸光层可以减少环境光的反射，因此可以提高显示面板的抗反射能力，进而提高显示面板的对比度。
以上对本申请实施例提供的显示面板及其制备方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请。同时，对于本领域的技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims (17)

  1. 一种显示面板，其包括：
    基板；
    吸光层，所述吸光层呈网格状设置在所述基板上，所述吸光层用于吸收波长在预设范围内的光线；以及
    遮光层，所述遮光层呈网格状覆盖所述吸光层；
    其中，所述预设范围内的光线为波长在380纳米至780纳米的光线；
    所述遮光层的材料为黑色树脂材料。
  2. 根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述吸光层包括多个第一吸光条和多个第二吸光条；多个所述第一吸光条沿第一方向设置，多个所述第二吸光条沿第二方向设置，所述第一方向与第二方向垂直。
  3. 根据权利要求2所述的显示面板，其中，所述显示面板还包括多个子像素；多个所述第一吸光条与多个所述第二吸光条交叉设置形成多个子像素区，每个所述子像素区上均设有一所述子像素。
  4. 根据权利要求3所述的显示面板，其中，所述遮光层包括多个第一遮光条和多个第二遮光条，多个所述第一遮光条沿第一方向设置，多个所述第二遮光条沿第二方向设置；
    位于同一列的所述第一遮光条与所述第一吸光条中，所述第一遮光条覆盖所述第一吸光条；位于同一行的所述第二遮光条与所述第二吸光条中，所述第二遮光条覆盖所述第二吸光条。
  5. 根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述吸光层包括第一子吸光层和第二子吸光层；
    其中，所述第一子吸光层设置在所述基板上，所述第二子吸光层设置在所述第一子吸光层上，且所述第二子吸光层覆盖所述第一子吸光层，所述遮光层设置在所述第二子吸光层上，且所述遮光层覆盖所述第二子吸光层。
  6. 根据权利要求2所述的显示面板，其中，所述吸光层内设置有多个纳米颗粒，所述纳米颗粒用于吸收波长在预设范围内的光线。
  7. 根据权利要求6所述的显示面板，其中，所述纳米颗粒的直径为10纳米到20纳米。
  8. 一种显示面板，其包括：
    基板；
    吸光层，所述吸光层呈网格状设置在所述基板上，所述吸光层用于吸收波长在预设范围内的光线；以及
    遮光层，所述遮光层呈网格状覆盖所述吸光层。
  9. 根据权利要求8所述的显示面板，其中，所述吸光层包括多个第一吸光条和多个第二吸光条；多个所述第一吸光条沿第一方向设置，多个所述第二吸光条沿第二方向设置，所述第一方向与第二方向垂直。
  10. 根据权利要求9所述的显示面板，其中，所述显示面板还包括多个子像素；多个所述第一吸光条与多个所述第二吸光条交叉设置形成多个子像素区，每个所述子像素区上均设有一所述子像素。
  11. 根据权利要求10所述的显示面板，其中，所述遮光层包括多个第一遮光条和多个第二遮光条，多个所述第一遮光条沿第一方向设置，多个所述第二遮光条沿第二方向设置；
    位于同一列的所述第一遮光条与所述第一吸光条中，所述第一遮光条覆盖所述第一吸光条；位于同一行的所述第二遮光条与所述第二吸光条中，所述第二遮光条覆盖所述第二吸光条。
  12. 根据权利要求8所述的显示面板，其中，所述吸光层包括第一子吸光层和第二子吸光层；
    其中，所述第一子吸光层设置在所述基板上，所述第二子吸光层设置在所述第一子吸光层上，且所述第二子吸光层覆盖所述第一子吸光层，所述遮光层设置在所述第二子吸光层上，且所述遮光层覆盖所述第二子吸光层。
  13. 根据权利要求9所述的显示面板，其中，所述吸光层内设置有多个纳米颗粒，所述纳米颗粒用于吸收波长在预设范围内的光线。
  14. 根据权利要求13所述的显示面板，其中，所述纳米颗粒的直径为10纳米到20纳米。
  15. 一种显示面板的制备方法，其包括：
    提供一基板；
    在所述基板形成吸光层；
    在所述吸光层上形成遮光层，其中，所述遮光层覆盖所述吸光层。
  16. 根据权利要求15所述的制备方法，其中，所述在所述基板形成吸光层，包括:
    在所述基板上涂敷一层光刻胶层；
    对所述光刻胶层进行图案化处理，以形成多个间隔排布的光刻胶块，其中，相邻所述光刻胶块之间具有一间隙；
    在相邻所述光刻胶块之间的间隙处涂敷吸光材料，以形成吸光层。
  17. 根据权利要求16所述的制备方法，其中，所述在所述吸光层上形成遮光层，包括：
    在所述吸光层上涂敷遮光材料；
    固化所述遮光材料，并对固化后的所述遮光材料进行图案化处理，以在所述吸光层上形成遮光层。
PCT/CN2019/117807 2019-09-24 2019-11-13 显示面板及其制备方法 Ceased WO2021056743A1 (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910907286.4A CN110673383A (zh) 2019-09-24 2019-09-24 显示面板及其制备方法
CN201910907286.4 2019-09-24

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2021056743A1 true WO2021056743A1 (zh) 2021-04-01

Family

ID=69078887

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/CN2019/117807 Ceased WO2021056743A1 (zh) 2019-09-24 2019-11-13 显示面板及其制备方法

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN110673383A (zh)
WO (1) WO2021056743A1 (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117278829A (zh) * 2022-06-10 2023-12-22 晋城三赢精密电子有限公司 电路板组件、摄像头模组及电子装置

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1138221A (ja) * 1997-07-17 1999-02-12 S T I Technol Kk タンタル系ブラックマスク、それを用いるカラーフィルター及び液晶ディスプレイ
JP2000284720A (ja) * 1999-03-29 2000-10-13 Canon Inc 表示装置及び表示装置の製造方法
TW416012B (en) * 1997-11-07 2000-12-21 Sumimoto Chemical Industry Co Black mask, color filter and liquid crystal display
CN1532606A (zh) * 2003-03-26 2004-09-29 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 黑色矩阵、彩色滤光片和液晶显示装置
CN1538210A (zh) * 2003-04-17 2004-10-20 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 液晶显示装置
CN1866573A (zh) * 2005-05-20 2006-11-22 Lg.菲利浦Lcd株式会社 具有吸光金属纳米颗粒层的显示器件
CN106707607A (zh) * 2017-03-20 2017-05-24 青岛海信电器股份有限公司 一种量子点彩色滤光片及其制造方法、显示装置
CN108681166A (zh) * 2018-05-16 2018-10-19 京东方科技集团股份有限公司 一种显示用基板的制备方法、显示用基板及显示装置

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8747960B2 (en) * 2005-08-31 2014-06-10 Lam Research Corporation Processes and systems for engineering a silicon-type surface for selective metal deposition to form a metal silicide
CN102522438A (zh) * 2011-12-15 2012-06-27 东南大学 一种利用氧化铟锡纳米颗粒增效的近红外光电探测器
CN103668130A (zh) * 2012-09-25 2014-03-26 海洋王照明科技股份有限公司 一种金属纳米结构的制备方法
CN103367541B (zh) * 2013-06-26 2016-01-20 华南师范大学 一种基于光刻掩膜法和液相法制备太阳能电池银线网格电极的方法
CN103787404B (zh) * 2013-12-31 2015-05-20 浙江大学 一种尺寸可控的单分散氧化铟锡纳米晶的制备方法、产品及应用
CN104460146A (zh) * 2014-11-13 2015-03-25 深圳市华星光电技术有限公司 Boa型液晶面板及其制作方法
CN104638049B (zh) * 2015-02-11 2016-10-19 合肥工业大学 一种p型石墨烯/n型锗纳米锥阵列肖特基结红外光电探测器及其制备方法
CN106158888A (zh) * 2015-04-03 2016-11-23 中航（重庆）微电子有限公司 光吸收夹层结构，光学器件及制备方法
CN108573981B (zh) * 2017-03-10 2021-12-03 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制备方法、显示装置
CN108948418B (zh) * 2017-05-17 2020-04-14 北京大学 一种纳米粒子混合物和透光膜
CN107968108B (zh) * 2017-06-16 2020-03-20 广东聚华印刷显示技术有限公司 像素界定层及其制备方法和应用
CN107677367B (zh) * 2017-10-11 2023-06-23 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 一种具有中性衰减特性的金属滤片及其制备方法
CN109699124B (zh) * 2019-01-28 2021-07-27 青岛九维华盾科技研究院有限公司 一种通过光刻和化学还原法制备透明电磁屏蔽薄膜的方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1138221A (ja) * 1997-07-17 1999-02-12 S T I Technol Kk タンタル系ブラックマスク、それを用いるカラーフィルター及び液晶ディスプレイ
TW416012B (en) * 1997-11-07 2000-12-21 Sumimoto Chemical Industry Co Black mask, color filter and liquid crystal display
JP2000284720A (ja) * 1999-03-29 2000-10-13 Canon Inc 表示装置及び表示装置の製造方法
CN1532606A (zh) * 2003-03-26 2004-09-29 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 黑色矩阵、彩色滤光片和液晶显示装置
CN1538210A (zh) * 2003-04-17 2004-10-20 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 液晶显示装置
CN1866573A (zh) * 2005-05-20 2006-11-22 Lg.菲利浦Lcd株式会社 具有吸光金属纳米颗粒层的显示器件
CN106707607A (zh) * 2017-03-20 2017-05-24 青岛海信电器股份有限公司 一种量子点彩色滤光片及其制造方法、显示装置
CN108681166A (zh) * 2018-05-16 2018-10-19 京东方科技集团股份有限公司 一种显示用基板的制备方法、显示用基板及显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN110673383A (zh) 2020-01-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103529615B (zh) 显示面板及其制造方法、显示装置
CN102169260B (zh) Tft-lcd像素电极层结构、制备方法及其掩膜板
CN101470295B (zh) 滤色器基板和液晶显示器单元
CN109116617B (zh) 挡墙结构、彩膜阵列基板和液晶显示面板
CN107608121B (zh) 基板及其制作方法、阵列基板、反射式显示面板和装置
CN104749817B (zh) 一种显示面板及显示装置
WO2020172955A1 (zh) 一种oled显示面板及其制备方法
CN104459863A (zh) 线栅偏光片及其制备方法、显示面板和显示装置
WO2019223203A1 (zh) 在液晶面板中内置偏光片的方法、液晶显示装置及其制作方法
WO2016187987A1 (zh) 一种显示面板及其制作方法、显示装置
CN109683385B (zh) 一种反射式曲面显示屏及其制备方法和显示装置
CN107037648A (zh) 一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置
WO2020252862A1 (zh) 有机发光显示面板及其制造方法
WO2020124922A1 (zh) 一种显示面板及其制作方法、显示装置
KR102344911B1 (ko) 광루미네선스 장치, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 표시 장치
CN114397784A (zh) 显示面板和3d打印系统
CN104777667A (zh) 一种显示面板和显示装置
WO2014015605A1 (zh) 彩膜基板的制备方法、彩膜基板及半反半透式液晶显示装置
WO2020087777A1 (zh) 一种显示面板及其显示器件
CN102645691B (zh) 一种彩色滤光片及其制造方法
WO2020124896A1 (zh) 液晶显示面板
WO2023035306A1 (zh) 显示面板
CN202003108U (zh) 彩色滤光片、液晶面板及显示设备
WO2021056743A1 (zh) 显示面板及其制备方法
CN103235444A (zh) 一种显示装置、彩膜基板及其制作方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 19947090

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 19947090

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1