WO2020232702A1 - 显示屏模组及其制作方法及电子设备 - Google Patents
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Abstract
本申请实施例提供一种显示屏模组 100，显示屏模组 100包括层叠设置的薄膜晶体管层 10、像素限定层 20、发光单元 30和封装层 40，像素限定层 20包括开口区 21以及非开口区 22，像素限定层 20在非开口区 22设置有凹槽 23，发光单元 30与开口区 21对应，并电连接薄膜晶体管层 10，封装层 40包括有机层 41，部分有机层 41嵌入非开口区 22的凹槽 23内。像素限定层 20和有机层 41均为有机材材质，有机层 41作为封装层 40的一部分，利用部分有机层 41嵌入非开口区 22的凹槽 23内，可有效增强封装层 40与像素限定层 20的附着力，从而稳固封装发光单元30，增加整体结构强度和抗冲击能力，从而保证显示屏模组 100的使用寿命与使用稳定性。
Description
本申请涉及显示屏技术领域，具体涉及一种显示屏模组及其制作方法及电子设备。
随着科技的发展，显示屏被应用在更多的场景中，对显示屏模组的显示性能、抗冲击性能和可弯曲性能提出了更高的要求。但由于材料及结构限制，显示屏模组的发光单元的层结构的抗冲击性能较差，显示屏模组受到外力冲击时，被击中的区域容易出现黑斑、亮斑、彩斑等显示不良的情况，从而严重影响了显示屏模组的使用寿命与使用稳定性。
发明内容
本申请实施例提供一种显示屏模组，所述显示屏模组包括层叠设置的薄膜晶体管层、像素限定层、发光单元和封装层，所述像素限定层包括开口区以及非开口区，所述像素限定层在非开口区设置有凹槽，所述发光单元与所述开口区对应，并电连接所述薄膜晶体管层，所述封装层包括有机层，部分所述有机层嵌入所述非开口区的凹槽内。
本申请实施例还提供一种电子设备，所述电子设备包括如上所述的显示屏模组。
本申请实施例还提供一种显示屏模组的制作方法，所述显示屏模组的制作方法包括：
提供待加工件，所述待加工件包括薄膜晶体管层以及覆盖所述薄膜晶体管层的待加工有机层；
加工所述待加工有机层，以获得具有开口区以及非开口区的像素限定层，其中，所述像素限定层在所述非开口区形成有凹槽；
形成对应所述开口区设置并电连接所述薄膜晶体管层的发光单元；
形成覆盖所述发光单元的有机层，部分所述有机层嵌入所述非开口区的凹槽内。
本申请实施例提供的显示屏模组及其制作方法及电子设备，通过所述像素限定层在非开口区设置有凹槽，以及所述封装层包括有机层，所述像素限定层和所述有机层均为有机材材质，所述有机层作为封装层的一部分，利用部分所述有机层嵌入所述非开口区的凹槽内，可有效增强所述封装层与所述像素限定层的附着力，从而稳固封装所述发光单元，增加整体结构强度和抗冲击能力，从而保证显示屏模组的使用寿命与使用稳定性。。
为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请实施例提供的显示屏模组的结构示意图一；
图2是图1中A处的放大示意图一；
图3是本申请实施例提供的显示屏模组的结构示意图二；
图4是图1中B处的放大示意图；
图5是本申请实施例提供的显示屏模组的结构示意图三；
图6是本申请实施例提供的显示屏模组的结构示意图四；
图7是本申请实施例提供的显示屏模组的结构示意图五；
图8是本申请实施例提供的显示屏模组的结构示意图六；
图9是图1中A处的放大示意图二；
图10是图5中C处的放大示意图一；
图11是图5中C处的放大示意图二；
图12是本申请实施例提供的显示屏模组的结构示意图七；
图13是本申请实施例提供的显示屏模组的结构示意图八；
图14是本申请实施例提供的显示屏模组的制作流程图一；
图15是本申请实施例提供的显示屏模组的制作示意图；
图16是本申请实施例提供的显示屏模组的制作示意图；
图17是本申请实施例提供的显示屏模组的制作流程图二；
图18是本申请实施例提供的显示屏模组的制作流程图三；
图19是本申请实施例提供的显示屏模组的制作流程图四；
图20是本申请实施例提供的显示屏模组的制作流程图五；
图21是本申请实施例提供的显示屏模组的制作流程图六；
图22是本申请实施例提供的显示屏模组的制作流程图七；
图23是本申请实施例提供的电子设备的结构示意图。
请参阅图1，本申请实施例提供一种显示屏模组100，所述显示屏模组100包括层叠设置的薄膜晶体管层10、像素限定层20、发光单元30和封装层40。所述像素限定层20包括开口区21以及非开口区22，所述像素限定层20在非开口区22设置有凹槽23。所述发光单元30与所述开口区21对应，并电连接所述薄膜晶体管层10，所述封装层40包括有机层41，部分所述有机层41嵌入所述非开口区22的凹槽23内。其中，所述发光单元30包括依次层叠设置的第一电极层31、有机电致发光层32和第二电极层33，所述第一电极层31相对所述第二电极层33靠近所述薄膜晶体管层10。可以通过所述第一电极层31和所述第二电极层33驱动所述有机电致发光层32发光。
通过所述像素限定层20在非开口区22设置有凹槽23，以及所述封装层40包括有机层41，所述像素限定层20和所述有机层41均为有机材材质，所述有机层41作为封装层40的一部分，利用部分所述有机层41嵌入所述非开口区22的凹槽23内，可有效增强所述封装层40与所述像素限定层20的附着力，从而稳固封装所述发光单元30，增加整体结构强度和抗冲击能力，从而保证显示屏模组100的使用寿命与使用稳定性。
本实施方式中，所述像素限定层20在所述开口区21设有通孔25，所述发光单元30经所述通孔25电连接所述薄膜晶体管层10。所述显示屏模组100包括层叠于所述像素限定层20和所述有机层41之间的阴极层50。所述阴极层50正对所述通孔25的部分形成所述发光单元30的第二电极层33。部分所述有机层41嵌入所述非开口区22的凹槽23内，从而有效增加所述有机层41与所述像素限定层20的接触面积和附着力，从而可以限制所述阴极层50与所述有机电致发光层32相剥离。其中，所述有机层41设有凸出部411，所述凸出部411嵌设于所述凹槽23内，并与所述凹槽23的内壁相接触。
请参阅图1和图2，第一实施方式中，所述阴极层50覆盖所述像素限定层20除所述凹槽23之外的部分，所述阴极层50正对所述凹槽23处设有镂空孔451，所述凸出部411穿过所述镂空孔451以嵌入所述凹槽23。本实施方式中，通过所述阴极层50正对所述凹槽23处形成镂空孔451，可避免所述阴极层50下沉至所述凹槽23内而限制所述凸出部411与所述凹槽23内壁的接触面积，所述凸出部411可以与所述凹槽23的侧壁或底壁完全接触，有利于增加所述像素限定层20与所述有机层41的接触面积和附着力。
请参阅图3和图4，第二实施方式中，所述阴极层50包括覆盖所述像素限定层20中除所述凹槽23之外的第一部分51，以及下沉至所述凹槽23底部的第二部分52。本实施方式中，所述阴极层50的第一部分51以及第二部分52在所述凹槽23侧壁处形成断缝53，从而避免所述阴极层50覆盖所述凹槽23侧壁，所述凸出部411可以经所述断缝53接触所述凹槽23侧壁，从而增加所述凸出部411与所述凹槽23侧壁的接触面积和附着力。
本实施方式中，所述显示屏模组100为有机发光屏(OLED屏)模组，所述显示屏模组100具有自发光性、广视角、对比度高等特性，所述显示屏模组100无需设置背光结构。所述像素限定层20设有呈阵列排布的多个所述开口区21。所述显示屏模组100包括多个所述发光单元30，多个所述发光单元30呈阵列排布。多个所述发光单元30分别与多个所述开口区21一一对应。多个所述发光单元30通过不同的发光组合方式形成图像。
请参阅图5，所述发光单元30嵌设于所述通孔25内。所述薄膜晶体管层10设有薄膜晶体管11。所述薄膜晶体管11电连接所述发光单元30。可通过所述薄膜晶体管11驱动所述发光单元30发光，实现主动发光方式。
所述像素限定层20将多个所述发光单元30分隔开。所述像素限定层20为有机材质，所述像素限定层20的材质可以包括聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯类或有机硅烷等中的任意一种或几种的组合。所述封装层40与所述像素限定层20相层叠，所述封装层40可对所述发光单元30进行封装。所述有机层41的材质可以是聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯类或有机硅烷等中的任意一种或几种的组合。所述有机层41和所述像素限定层20均为有机材质，从而所述有机层41和所述像素限定层20的界面相容性良好，使得所述凸出部411与所述像素限定层20牢固结合，进而增强所述封装层40对所述发光单元30的封装效果，避免发光单元30的电极层与有机电致发光层32受到冲击而分离。在其他实施方式中，所述像素限定层20和所述有机层41的材质可以根据实际需要设置，并不局限于上述举例。
所述凹槽23贯穿所述像素限定层20，则所述凸出部411可以穿过所述凹槽23并抵触于所述薄膜晶体管层10，且所述凸出部411与所述凹槽23的内壁的接触面积增大，有利于提高所述有机层41与所述像素限定层20的附着力。当然，在其他实施方式中，所述凹槽23未贯穿所述像素限定层20。
请参阅图1和图6，所述像素限定层20设有多个所述凹槽23。多个所述凹槽23呈阵列排布。每一所述凹槽23位于相邻的两个所述通孔25之间。所述有机层41设有多个所述凸出部411，多个所述凸出部411分别与多个所述凹槽23一一对应，多个所述凸出部411分别嵌入多个所述凹槽23内，从而明显增加所述有机层41与所述像素限定层20的结合强度，提高所述显示屏模组100的抗冲击能力和使用可靠性。
请参阅图7，一种实施方式中，所述有机层41贴合所述发光单元30。本实施方式中，所述有机层41贴合所述发光单元30的第二电极层33，以限制所述第二电极层33与所述有机电致发光层32剥离，从而提高显示屏模组100的使用可靠性。所述封装层40还包括第一无机层42、有机过渡层43和第二无机层44。所述第一无机层42、所述有机过渡层43、所述第二无机层44和所述有机层41依次层叠，形成有机-无机复合薄膜封装结构，上述薄膜封装结构可以对所述发光单元30进行保护，阻挡外部的水汽、氧气或灰尘侵袭所述发光单元30。所述第一无机层42和所述第二无机层44的材质可以是SiNx或SiON或SiO，当然也可以是其他无机材质，可根据实际需要进行设置。
请参阅图8，另一种实施方式中，所述有机层41与所述发光单元30相隔离，所述封装层40还包括层叠于所述有机层41和所述发光单元30之间的无机层45。本实施方式中，所述无机层45的材质可以是SiNx或SiON或SiO。所述无机层45覆盖所述发光单元30，并将所述发光单元30与所述有机层41分隔开。所述第一无机层42、所述有机过渡层43、所述第二无机层44、所述有机层41和所述无机层45依次层叠，形成有机-无机复合薄膜封装结构。与所述有机层41相比，所述无机层45具有更好的水氧阻隔性能。所述无机层45可以阻挡进入所述有机层41的水汽侵袭所述发光单元30。
所述无机层45覆盖所述像素限定层20除所述凹槽23之外的部分，所述无机层45正对所述凹槽23处设有镂空孔451，所述凸出部411穿过所述镂空孔451以嵌入所述凹槽23，可避免所述无机层45与所述凹槽23侧壁接触而减少所述凸出部411与所述凹槽23侧壁的接触面积，从而保证所述凸出部411与所述凹槽23侧壁的接触。
请参阅图9，进一步地，所述凹槽23具有第一倾斜侧壁231，所述第一倾斜侧壁231与所述发光单元30的法线方向呈夹角设置，所述凸出部411抵触所述第一倾斜侧壁231。
本实施方式中，所述像素限定层20具有邻近所述薄膜晶体管层10的底面24。所述底面24与发光单元30的法线方向大致相垂直。所述凹槽23贯穿所述像素限定层20，所述第一倾斜侧壁231连接于所述底面24。所述第一倾斜侧壁231与所述底面24呈锐角设置。所述凸出部411与所述凹槽23相适配，通过所述凸出部411与所述第一倾斜侧壁231相接触，增加所述有机层41和所述像素限定层20的接触面积，从而增大所述有机层41和所述像素限定层20之间的附着力，更好地稳固所述发光单元30，避免所述发光单元30受到冲击而出现剥离现象。
请参阅图10，所述通孔25具有第二倾斜侧壁251，所述第二倾斜侧壁251与所述发光单元30的法线方向呈夹角设置。所述通孔25贯穿所述像素限定层20，所述第二倾斜侧臂连接于所述底面24。所述第二倾斜侧壁251与所述底面24呈锐角设置。所述发光单元30与所述通孔25相适配，通过所述发光单元30与所述第二倾斜侧壁251相接触，以增加所述发光单元30与所述像素限定层20的接触面积，从而增大所述发光单元30与所述像素限定层20之间的附着力，更好地稳固所述发光单元30。
请参阅图11，在其他实施方式中，所述第一倾斜侧壁231与所述底面24呈钝角设置。所述第一倾斜侧壁231与所述底面24的夹角大于90°，以使得所述凹槽23形成燕尾槽结构，通过所述凸出部411与所述凹槽23相适配，所述凹槽23可以对所述凸出部411起到卡固作用，从而限制所述凸出部411脱离所述凹槽23。
进一步地，所述第一倾斜侧壁231与所述底面24的夹角大于所述第二倾斜侧壁251与所述底面24的夹角。
本实施方式中，所述第一倾斜侧壁231与所述底面24的夹角大于60°，并小于90°；所述第二倾斜侧壁251与所述底面24的夹角为30°～60°，使得所述第一倾斜侧壁231相对所述第二倾斜侧壁251靠近所述发光单元30的法线方向。
所述第二倾斜侧壁251与所述底面24的夹角为30°～60°，可以防止部分所述阴极层50对应所述通孔25侧壁处断裂，从而保证所述第一部分51的连续性。
请参阅图12，由于所述第一倾斜侧壁231与所述底面24的夹角大于60°，并小于90°，使得所述阴极层50的第一部分51以及第二部分52在所述凹槽23侧壁处形成断缝53，从而避免所述阴极层50覆盖所述凹槽23侧壁，所述凸出部411可以经所述断缝53接触所述第一倾斜侧壁231，从而增加所述凸出部411与所述第一倾斜侧壁231的接触面积和附着力。
请参阅图1和图13，进一步地，所述显示屏模组100包括相对设置的两个显示部60和固定连接两个所述显示部60的弯折部70，一所述显示部60经所述弯折部70可相对另一所述显示部60折叠或展开，两个所述显示部60和所述弯折部70均设有所述薄膜晶体管层10、所述像素限定层20、所述发光单元30和所述封装层40。
本实施方式中，所述显示屏模组100为柔性显示屏模组100，即所述显示屏模组100为可折叠结构。所述弯折部70可弯曲变形，使得一所述显示部60可经所述弯折部70相对另一所述显示部60折叠或展开。每一所述显示部60设有第一显示区61，所述弯折部70设有第二显示区71。所述第二显示区71连接在两个所述第一显示区61之间，使得所述第一显示区61和两个所述第二显示区71形成连续的显示区，从而所述显示屏模组100可以提供大面积的显示区域。
所述有机层41设有多个所述凸出部411，所述像素限定层20设有与多个所述凸出部411配合的多个所述凹槽23。多个所述凸出部411构成第一凸起阵列和第二凸起阵列。多个凹槽23构成第一凹槽阵列91和第二凹槽阵列92。所述第一凹槽阵列91和所述第二凹槽阵列92均呈矩形阵列。两个所述第一凹槽阵列91分别设置于两个所述显示部60上，所述第二凹槽阵列92设置于所述弯折部70上。每一所述显示部60的第一凹槽阵列91与所述有机层41的第一凸起阵列相适配，所述弯折部70的第二凹槽阵列92与所述有机层41的第二凸起阵列相适配。
请参阅图13，进一步地，所述第二凹槽阵列92的阵列密度大于所述第一凹槽阵列91的阵列密度。
本实施方式中，所述弯折部70为过渡连接两个所述显示部60的过渡连接部分，所述显示屏模组100通过所述弯折部70弯曲变形来实现折叠功能。与所述显示部60相比，所述弯折部70需要承受较大的弯折应力。通过所述第二凹槽阵列92的阵列密度大于所述第一凹槽阵列91的阵列密度，使得所述弯折部70的凹槽23数量增加，通过部分所述有机层41嵌入所述弯折部70的凹槽23内，增加弯折部70中有机层41与像素限定层20的接触面积，从而增加所述弯折部70的有机发光结构的稳固性，提高耐弯折性能。在其他实施方式中，所述第二凹槽阵列92中的凹槽开口尺寸大于所述第一凹槽阵列91中凹槽开口尺寸，从而也可以增加弯折部70中有机层41与像素限定层20的接触面积。
请参阅图14，本申请实施例还提供一种显示屏模组的制作方法，所述显示屏模组的制作方法用于上述显示屏模组的制作。所述显示屏模组的制作方法包括步骤101至步骤104：
101：请参阅图15，提供待加工件300，所述待加工件300包括薄膜晶体管层10以及覆盖所述薄膜晶体管层10的待加工有机层41。
在步骤101中，所述待加工件300包括基板81。所述基板81设有阵列排布的多个像素区域。所述薄膜晶体管层10形成于所述基板81上。所述薄膜晶体管层10包括多个薄膜晶体管11和绝缘层82。多个所述薄膜晶体管11分别设置于所述基板81的多个所述像素区域内。多个所述薄膜晶体管11可在后续步骤中电连接多个发光单元30，以分别驱动多个所述发光单元30发光形成图像。所述绝缘层82覆 盖多个所述薄膜晶体管11。所述待加工件300还包括形成于所述绝缘层82上的平坦化层83。所述平坦化层83覆盖所述绝缘层82，所述平坦化层83可提供平坦的表面，以便于在所述平坦化层83上形成像素限定层20和发光单元30等结构。所述待加工有机层41形成于所述平坦化层83上。所述待加工有机层41用于在后续步骤中加工形成像素限定层20。所述待加工有机层41为有机材质，所述待加工有机层41的材质可以是聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯类或有机硅烷等中的任意一种或几种的组合。
102：请参阅图16，加工所述待加工有机层41，以获得具有开口区21以及非开口区22的像素限定层20，其中，所述像素限定层20在所述非开口区22形成有凹槽23。
在步骤102中，所述像素限定层20具有呈阵列排布的多个所述开口区21。所述像素限定层20在所述开口区21形成有通孔25，则所述像素限定层20形成有呈阵列排布的多个所述通孔25。所述非开口区22为所述像素限定层20除所述开口区21之外的部分。所述凹槽23形成于所述像素限定层20背离所述薄膜晶体管11一侧。所述像素限定层20形成有多个所述凹槽23。多个所述凹槽23呈阵列排布。所述凹槽23可以贯穿所述像素限定层20。在其他实施方式中，所述凹槽23未贯穿所述像素限定层20。
103：形成对应所述开口区21设置并电连接所述薄膜晶体管层10的发光单元30。
在步骤103中，可以通过蒸镀工艺在像素限定层20上形成第一电极层31、有机电致发光层32和第二电极层33，所述第一电极层31、所述有机电致发光层32和所述第二电极层33依次层叠设置，所述第一电极层31、所述有机电致发光层32和所述第二电极层33构成发光单元30。所述发光单元30嵌设于所述通孔25内，并经所述通孔25电连接所述薄膜晶体管11。所述发光单元30的数目为多个，多个所述发光单元30分别嵌设于多个所述通孔25内。本实施方式中，所述第一电极层31为阳极，所述第一电极层31电连接所述薄膜晶体管11；所述第二电极层33为阴极。在其他实施方式中，所述第一电极层31为阴极，所述第二电极层33为阳极。
104：形成覆盖所述发光单元30的有机层41，部分所述有机层41嵌入所述非开口区22的凹槽23内。
在步骤104中，请参阅图1，所述像素限定层20和所述有机层41均为有机材材质，所述有机层41作为封装层40的一部分，利用部分所述有机层41嵌入所述非开口区22的凹槽23内，可有效增强所述封装层40与所述像素限定层20的附着力，从而稳固封装所述发光单元30，增加整体结构强度和抗冲击能力，从而保证显示屏模组100的使用寿命与使用稳定性。
请参阅图17，所述步骤104包括步骤1041至步骤1042：
1041：提供有机材料。
在步骤1041中，所述有机材料用于在后续步骤中加工形成有机层41。所述有机材料可以是聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯类或有机硅烷等中的任意一种或几种的组合。
1042：所述有机材料沉积形成所述有机层41，部分所述有机材料沉积在所述凹槽23内，以形成接触所述凹槽23内壁的凸出部411。
在步骤1042中，可以通过蒸镀方式将所述有机材料沉积于所述像素限定层20上形成所述有机层41。所述有机层41的凸出部411嵌入所述像素限定层20的凹槽23内，并与所述凹槽23内壁相接触，从而增加所述有机层41和所述像素限定层20的接触面积，进一步增强所述有机层41与所述像素限定层20的附着力，以限制所述发光单元30的层结构发生分离。一种实施方式中，所述有机层41可以与所述像素限定层20和所述发光单元30相接触。另一种实施方式中，所述有机层41与所述像素限定层20及所述发光单元30相隔离。
请参阅图18，第一实施方式中，“形成对应所述开口区21设置并电连接所述薄膜晶体管层10的发光单元30”包括步骤1031至步骤1033：
1031：提供阴极材料和第一掩模，所述第一掩模具有遮蔽部。
1032：利用所述第一掩模覆盖所述像素限定层20，所述遮蔽部遮蔽所述凹槽23。
1033：所述阴极材料沉积形成层叠于所述像素限定层20的阴极层50，所述遮蔽部阻挡所述阴极材料沉积至所述凹槽23内，以使所述阴极层50覆盖所述像素限定层20除所述凹槽23之外的部分。
本实施方式中，可以通过蒸镀方式将会所述阴极材料沉积于所述像素限定层20上。所述遮蔽部可以对所述凹槽23起到遮蔽作用，进而阻挡所述阴极材料沉积至所述凹槽23内，从而避免所述阴极材料 占用所述凹槽23侧壁的空间，从而所述凹槽23侧壁可以与部分所述有机层41完全接触，有利于增加所述像素限定层20与所述有机层41的接触面积。
请参阅图19，进一步地，“加工所述待加工有机层41”包括步骤1021至步骤1024：
1021：提供第二掩模。
1022：所述第二掩模具有并排设置第一开孔和第二开孔。
1023：利用所述第二掩模覆盖所述待加工有机层41。
1024：加工所述待加工有机层41对应所述第一开孔及所述第二开孔的部分，以获得通孔25和凹槽23，其中所述通孔25形成于所述像素限定层20的开口区21。
本实施方式中，由于所述阴极材料未沉积在所述凹槽23内，不必考虑所述阴极层50是否需要在所述凹槽23侧壁上形成断缝53，从而可以降低对所述凹槽23的结构要求。所述凹槽23可以与所述通孔25形状大致相同，所述第一开孔和所述第二开孔的形状大致相同，所述第一开孔和所述第二开孔均呈漏斗状开孔。所述第一开孔和所述第二开孔为预设配置的图案，可以通过激光刻蚀技术将所述第一开孔及所述第二开孔的图案刻蚀在所述待加工有机层41上，以获得所述通孔25和所述凹槽23，其中所述通孔25的形状与所述第一开孔的形状大致相同，所述凹槽23的形状与所述第二开孔的形状大致相同。所述通孔25和所述凹槽23可以通过同一掩模加工完成，可以避免多道掩模制程，有利于减少加工工序，提高加工效率。当然，在其他实施方式中，所述第一开孔和所述第二开孔呈其他形状。
请参阅图20，第二实施方式中，“形成对应所述开口区21设置并电连接所述薄膜晶体管层10的发光单元30”包括步骤1035至步骤1036：
1035：提供阴极材料。
1036：所述阴极材料沉积形成层叠于所述像素限定层20的阴极层50，所述阴极层50包括覆盖所述像素限定层20除所述凹槽23之外第一部分51，以及下沉至所述凹槽23底部的第二部分52，所述第一部分51对应所述开口区21的部分构成所述发光单元30的一部分。
本实施方式中，所述阴极层50包括多个所述第二部分52。多个所述第二部分52分别设置于多个所述凹槽23内。
请参阅图21，“加工所述待加工有机层41”包括步骤1025至步骤1027：
1025：提供第一掩模，所述第一掩模具有第一开孔，所述第一开孔为漏斗形开孔。
1026：利用所述第一掩模覆盖所述待加工有机层41。
1027：加工所述待加工有机层41对应所述第一开孔的部分，以获得凹槽23，所述凹槽23具有第一倾斜侧壁231，所述第一倾斜侧壁231与所述待加工有机层41的法线方向呈夹角设置。
在步骤1027中，所述第一开孔为预设配置的图案，可以通过激光刻蚀技术将所述第一开孔的图案刻蚀在所述待加工有机层41上，形成具有与所述第一开孔具有相同形状的凹槽23。所述第一倾斜侧壁231与所述底面24的夹角大于60°，并小于90°。在步骤1036中，所述阴极层50的第一部分51以及第二部分52在所述凹槽23的第一倾斜侧壁231处形成断缝53，从而实现所述阴极层50在所述第一倾斜侧壁231处不连续，从而避免所述阴极层50覆盖所述凹槽23侧壁，所述凸出部411可以经所述断缝53接触所述第一倾斜侧壁231，从而增加所述凸出部411与所述第一倾斜侧壁231的接触面积和附着力。
请参阅图22，“加工所述待加工有机层41”还包括步骤1028至步骤1030：
1028：还提供第二掩模，所述第二掩模具有第二开孔，所述第二开孔为漏斗形开孔。
1029：还利用所述第二掩模覆盖所述待加工有机层41；
1030：加工所述待加工有机层41对应所述第二开孔的部分，以获得具有与所述凹槽23并排的通孔25，所述通孔25具有第二倾斜侧壁251，所述第二倾斜侧壁251与所述待加工有机层41的法线方向呈夹角设置，且所述第二倾斜侧壁251与所述待加工有机层41的法线方向的夹角大于所述第一倾斜侧壁231与所述待加工有机层41的法线方向的夹角。
在步骤1028中，所述第二开孔为预设配置的图案，可以通过激光刻蚀技术将所述第二开孔的图案刻蚀在所述待加工有机层41上，形成具有与所述第二开孔具有相同形状的通孔25。所述第二倾斜侧壁251与所述底面24的夹角为30°～60°，可以防止部分所述阴极层50对应所述通孔25侧壁处断裂，从而保证所述阴极层50的连续性。
请参阅图23，本申请实施例还提供一种电子设备400，所述电子设备400包括如上所述的显示屏模组100。所述电子设备可以是智能手机、智能手表、平板电脑、笔记本电脑或可穿戴智能设备等。
本申请实施例提供的显示屏模组及其制作方法及电子设备，通过所述像素限定层在非开口区设置有凹槽，以及所述封装层包括有机层，所述像素限定层和所述有机层均为有机材材质，所述有机层作为封装层的一部分，利用部分所述有机层嵌入所述非开口区的凹槽内，可有效增强所述封装层与所述像素限定层的附着力，从而稳固封装所述发光单元，增加整体结构强度和抗冲击能力，从而保证显示屏模组的使用寿命与使用稳定性。
综上所述，虽然本申请已以较佳实施例揭露如上，但该较佳实施例并非用以限制本申请，该领域的普通技术人员，在不脱离本申请的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本申请的防护范围以权利要求界定的范围为准。
Claims (22)
- 一种显示屏模组，其特征在于，所述显示屏模组包括层叠设置的薄膜晶体管层、像素限定层、发光单元和封装层，所述像素限定层包括开口区以及非开口区，所述像素限定层在非开口区设置有凹槽，所述发光单元与所述开口区对应，并电连接所述薄膜晶体管层，所述封装层包括有机层，部分所述有机层嵌入所述非开口区的凹槽内。
- 如权利要求1所述的显示屏模组，其特征在于，所述有机层设有嵌入至所述非开口区的凹槽内的凸出部，所述凸出部与所述凹槽的内壁相接触。
- 如权利要求2所述的显示屏模组，其特征在于，所述凹槽具有第一倾斜侧壁，所述第一倾斜侧壁与所述发光单元的法线方向呈夹角设置，所述凸出部抵触所述第一倾斜侧壁。
- 如权利要求1所述的显示屏模组，其特征在于，所述凹槽贯穿所述像素限定层。
- 如权利要求1所述的显示屏模组，其特征在于，所述像素限定层覆盖所述薄膜晶体管层，所述像素限定层在所述开口区设有通孔，所述发光单元通过所述通孔电连接所述薄膜晶体管层。
- 如权利要求5所述的显示屏模组，其特征在于，所述通孔具有第二倾斜侧壁，所述第二倾斜侧壁与所述发光单元的法线方向呈夹角设置，所述发光单元与所述第二倾斜侧壁相接触。
- 如权利要求1所述的显示屏模组，其特征在于，所述显示屏模组包括层叠于所述像素限定层和所述有机层之间的阴极层，所述阴极层包括覆盖所述像素限定层中除所述凹槽之外的第一部分。
- 如权利要求7所述的显示屏模组，其特征在于，所述阴极层还包括下沉至所述凹槽底部的第二部分，所述阴极层的第一部分以及第二部分在所述凹槽侧壁处形成断缝。
- 如权利要求2～8任意一项所述的显示屏模组，其特征在于，所述有机层与所述发光单元相隔离，所述封装层还包括层叠于所述有机层和所述发光单元之间的无机层。
- 如权利要求9所述的显示屏模组，其特征在于，所述无机层覆盖所述像素限定层除所述凹槽之外的部分，所述无机层正对所述凹槽处设有镂空孔，所述凸出部穿过所述镂空孔以嵌入所述凹槽。
- 如权利要求2～8任意一项所述的显示屏模组，其特征在于，所述显示屏模组包括相对设置的两个显示部和固定连接两个所述显示部的弯折部，一所述显示部经所述弯折部可相对另一所述显示部折叠或展开，两个所述显示部和所述弯折部均设有所述薄膜晶体管层、所述像素限定层、所述发光单元和所述封装层。
- 如权利要求11所述的显示屏模组，其特征在于，所述有机层设有多个所述凸出部，所述像素限定层设有与多个所述凸出部配合的多个所述凹槽，多个凹槽构成第一凹槽阵列和第二凹槽阵列，所述第一凹槽阵列设置于所述显示部上，所述第二凹槽阵列设置于所述弯折部上。
- 如权利要求12所述的显示屏模组，其特征在于，所述第二凹槽阵列的阵列密度大于所述第一凹槽阵列的阵列密度。
- 如权利要求1～8任意一项所述的显示屏模组，其特征在于，所述像素限定层设有呈阵列排布的多个所述通孔，所述显示屏模组包括分别对应多个所述通孔设置的多个所述发光单元，所述凹槽设置于相邻的两个所述通孔之间。
- 一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括如权利要求1～14任意一项所述的显示屏模组。
- 一种显示屏模组的制作方法，其特征在于，所述显示屏模组的制作方法包括：提供待加工件，所述待加工件包括薄膜晶体管层以及覆盖所述薄膜晶体管层的待加工有机层；加工所述待加工有机层，以获得具有开口区以及非开口区的像素限定层，其中，所述像素限定层在所述非开口区形成有凹槽；形成对应所述开口区设置并电连接所述薄膜晶体管层的发光单元；形成覆盖所述发光单元的有机层，部分所述有机层嵌入所述非开口区的凹槽内。
- 如权利要求16所述的显示屏模组的制作方法，其特征在于，“形成对应所述开口区设置并电连接所述薄膜晶体管层的发光单元”包括：提供第一掩模，所述第一掩模具有遮蔽部；利用所述第一掩模覆盖所述像素限定层，所述遮蔽部遮蔽所述凹槽；提供阴极材料；所述阴极材料沉积形成层叠于所述像素限定层的阴极层，所述遮蔽部阻挡所述阴极材料沉积至所述凹槽内，以使所述阴极层覆盖所述像素限定层除所述凹槽之外的部分。
- 如权利要求17所述的显示屏模组的制作方法，其特征在于，“加工所述待加工有机层”包括：提供第二掩模；所述第二掩模具有并排设置第一开孔和第二开孔；利用所述第二掩模覆盖所述待加工有机层；加工所述待加工有机层对应所述第一开孔及所述第二开孔的部分，以获得通孔和凹槽，其中所述通孔形成于所述像素限定层的开口区。
- 如权利要求16所述的显示屏模组的制作方法，其特征在于，“形成对应所述开口区设置并电连接所述薄膜晶体管层的发光单元”包括：提供阴极材料；所述阴极材料沉积形成层叠于所述像素限定层的阴极层，所述阴极层包括覆盖所述像素限定层除所述凹槽之外第一部分，以及下沉至所述凹槽底部的第二部分，所述第一部分对应所述开口区的部分构成所述发光单元的一部分。
- 如权利要求19所述的显示屏模组的制作方法，其特征在于，“加工所述待加工有机层”包括：提供第一掩模，所述第一掩模具有第一开孔，所述第一开孔为漏斗形开孔；利用所述第一掩模覆盖所述待加工有机层；加工所述待加工有机层对应所述第一开孔的部分，以获得凹槽，所述凹槽具有第一倾斜侧壁，所述第一倾斜侧壁与所述待加工有机层的法线方向呈夹角设置，“所述阴极材料沉积形成层叠于所述像素限定层的阴极层”中，所述阴极层的第一部分以及第二部分在所述凹槽侧壁处形成断缝。
- 如权利要求20所述的显示屏模组的制作方法，其特征在于，“加工所述待加工有机层”还包括：还提供第二掩模，所述第二掩模具有第二开孔，所述第二开孔为漏斗形开孔；还利用所述第二掩模覆盖所述待加工有机层；加工所述待加工有机层对应所述第二开孔的部分，以获得具有与所述凹槽并排的通孔，所述通孔具有第二倾斜侧壁，所述第二倾斜侧壁与所述待加工有机层的法线方向呈夹角设置，且所述第二倾斜侧壁与所述待加工有机层的法线方向的夹角大于所述第一倾斜侧壁与所述待加工有机层的法线方向的夹角。
- 如权利要求16所述的显示屏模组的制作方法，其特征在于，“形成覆盖所述发光单元的有机层”包括：提供有机材料；所述有机材料沉积形成所述有机层，部分所述有机材料沉积在所述凹槽内，以形成接触所述凹槽内壁的凸出部。
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