WO2020213253A1 - 表示装置 - Google Patents

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WO2020213253A1
WO2020213253A1 PCT/JP2020/006898 JP2020006898W WO2020213253A1 WO 2020213253 A1 WO2020213253 A1 WO 2020213253A1 JP 2020006898 W JP2020006898 W JP 2020006898W WO 2020213253 A1 WO2020213253 A1 WO 2020213253A1
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pixel electrode
electrode
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pixel
substrate
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PCT/JP2020/006898
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Inventor
奥山　健太郎
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株式会社ジャパンディスプレイ
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Definitions

  • An embodiment of the present invention relates to a display device.
  • the light modulation element includes a polymer dispersed liquid crystal layer as the light modulation layer.
  • the light modulation element is arranged behind the light guide plate and scatters the light incident from the side surface of the light guide plate.
  • An object of the present embodiment is to provide a display device capable of suppressing deterioration of display quality.
  • the light emitting element, the first transparent substrate, the first switching element and the second switching element, the first pixel electrode electrically connected to the first switching element, and the second switching element are electrically connected to each other.
  • a second substrate and a liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate and containing a polymer and a liquid crystal molecule are provided, and the first pixel electrode is the light emitting element and the second pixel.
  • a display device provided between the electrodes and the electrode area of the first pixel electrode is smaller than the electrode area of the second pixel electrode.
  • the light emitting element, the first transparent substrate, the first switching element and the second switching element, the first pixel electrode electrically connected to the first switching element, and the second switching element are electrically connected to each other.
  • a second transparent resin superimposing on the second pixel electrode is provided, the first pixel electrode is provided between the light emitting element and the second pixel electrode, and the electrode area of the first pixel electrode is the said.
  • the area is equivalent to the electrode area of the second pixel electrode, and the first transparent resin and the second transparent resin are formed of a material different from the polymer and the liquid crystal molecule, and the first pixel electrode and the first transparent resin are formed.
  • a display device is provided in which the overlapping area of the two is larger than the overlapping area of the second pixel electrode and the second transparent resin.
  • the present embodiment it is possible to provide a display device capable of suppressing deterioration of display quality.
  • FIG. 1 is a plan view showing a configuration example of the display device DSP of the present embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing a first configuration example of the display panel PNL shown in FIG.
  • FIG. 3 is a plan view showing an example of the pixel PX shown in FIG.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of the display device DSP of the present embodiment.
  • FIG. 5 is a diagram for explaining the luminance distribution of the comparative example.
  • FIG. 6 is a diagram for explaining the luminance distribution of the first embodiment.
  • FIG. 7 is a diagram for explaining the luminance distribution of the second embodiment.
  • FIG. 8 is a plan view showing an example of the first substrate SUB1.
  • FIG. 1 is a plan view showing a configuration example of the display device DSP of the present embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing a first configuration example of the display panel PNL shown in FIG.
  • FIG. 3 is a plan view showing an example of the pixel
  • FIG. 9 is a plan view showing an example of the second substrate SUB2 superimposed on the first substrate SUB1 shown in FIG.
  • FIG. 10 is a plan view showing an example of the first substrate SUB1.
  • FIG. 11 is a plan view showing an example of the second substrate SUB2 superimposed on the first substrate SUB1 shown in FIG.
  • FIG. 12 is a cross-sectional view taken along the line AB shown in FIGS. 9 and 11.
  • FIG. 13 is a plan view showing an example of the capacitive electrode 13.
  • FIG. 14 is a plan view showing an example of the first substrate SUB1.
  • FIG. 15 is a cross-sectional view taken along the line CD shown in FIG.
  • FIG. 16 is another cross-sectional view taken along the line CD shown in FIG. FIG.
  • FIG. 17 is a diagram for explaining the distribution of the scattering area in the fourth configuration example.
  • FIG. 18 is a plan view showing an example of the first substrate SUB1.
  • FIG. 19 is a plan view showing another example of the first substrate SUB1.
  • FIG. 20 is a plan view showing an example of the first substrate SUB1.
  • FIG. 21 is a plan view showing another example of the first substrate SUB1.
  • FIG. 1 is a plan view showing a configuration example of the display device DSP of the present embodiment.
  • the first direction X, the second direction Y, and the third direction Z are orthogonal to each other, but may intersect at an angle other than 90 degrees.
  • the first direction X and the second direction Y correspond to the directions parallel to the main surface of the substrate constituting the display device DSP
  • the third direction Z corresponds to the thickness direction of the display device DSP. It is assumed that there is an observation position for observing the display device DSP on the tip side of the arrow indicating the third direction Z, and the observation position is viewed toward the XY plane defined by the first direction X and the second direction Y. This is called plan view.
  • the display device DSP includes a display panel PNL, a wiring board 1, an IC chip 2, and a light emitting element LD.
  • the display panel PNL includes a first substrate SUB1, a second substrate SUB2, a liquid crystal layer LC, and a seal SE.
  • the first substrate SUB1 and the second substrate SUB2 are formed in a flat plate shape parallel to the XY plane.
  • the first substrate SUB1 and the second substrate SUB2 are superimposed in a plan view.
  • the first substrate SUB1 and the second substrate SUB2 are adhered by a seal SE.
  • the liquid crystal layer LC is held between the first substrate SUB1 and the second substrate SUB2, and is sealed by the seal SE.
  • the liquid crystal layer LC and the seal SE are shown by different diagonal lines.
  • the liquid crystal layer LC includes a polymer-dispersed liquid crystal containing a polymer 31 and liquid crystal molecules 32.
  • the polymer 31 is a liquid crystal polymer.
  • the polymer 31 is formed in a streak extending along the first direction X.
  • the liquid crystal molecules 32 are dispersed in the gaps of the polymer 31, and the long axis thereof is oriented along the first direction X.
  • Each of the polymer 31 and the liquid crystal molecule 32 has optical anisotropy or refractive index anisotropy.
  • the responsiveness of the polymer 31 to the electric field is lower than the responsiveness of the liquid crystal molecule 32 to the electric field.
  • the orientation direction of the polymer 31 hardly changes regardless of the presence or absence of an electric field.
  • the orientation direction of the liquid crystal molecules 32 changes according to the electric field when a voltage higher than the threshold value is applied to the liquid crystal layer LC.
  • the optical axes of the polymer 31 and the liquid crystal molecules 32 are parallel to each other, and the light incident on the liquid crystal layer LC is hardly scattered in the liquid crystal layer LC.
  • Transparent transparent state.
  • the optical axes of the polymer 31 and the liquid crystal molecule 32 intersect each other, and the light incident on the liquid crystal layer LC is scattered in the liquid crystal layer LC (scattered state).
  • the display panel PNL includes a display unit DA for displaying an image and a frame-shaped non-display unit NDA that surrounds the display unit DA.
  • the seal SE is located on the non-display portion NDA.
  • the display unit DA includes pixels PX arranged in a matrix in the first direction X and the second direction Y. As shown enlarged in FIG. 1, each pixel PX includes a switching element SW, a pixel electrode PE, a common electrode CE, a liquid crystal layer LC, and the like.
  • the switching element SW is composed of, for example, a thin film transistor (TFT), and is electrically connected to the scanning line G and the signal line S.
  • the scanning line G is electrically connected to the switching element SW in each of the pixels PX arranged in the first direction X.
  • the signal line S is electrically connected to the switching element SW in each of the pixels PX arranged in the second direction Y.
  • the pixel electrode PE is electrically connected to the switching element SW.
  • the common electrode CE is commonly provided for a plurality of pixel electrode PEs. Each of the pixel electrode PEs faces the common electrode CE in the third direction Z.
  • the liquid crystal layer LC (particularly, the liquid crystal molecule 32) is driven by an electric field generated between the pixel electrode PE and the common electrode CE.
  • the capacitance CS is formed, for example, between an electrode having the same potential as the common electrode CE and an electrode having the same potential as the pixel electrode PE.
  • the scanning line G, the signal line S, the switching element SW, and the pixel electrode PE are provided on the first substrate SUB1, and the common electrode CE is provided on the second substrate SUB2.
  • the scanning line G and the signal line S are electrically connected to the wiring board 1 or the IC chip 2.
  • the wiring board 1 is electrically connected to the extending portion Ex of the first board SUB1.
  • the wiring board 1 is a bendable flexible printed circuit board.
  • the IC chip 2 is electrically connected to the wiring board 1.
  • the IC chip 2 has, for example, a built-in display driver that outputs a signal necessary for displaying an image.
  • the IC chip 2 may be electrically connected to the extension portion Ex.
  • the light emitting element LD is superimposed on the extension portion Ex in a plan view.
  • the plurality of light emitting elements LD are arranged at intervals along the first direction X.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing a first configuration example of the display panel PNL shown in FIG.
  • the liquid crystal layer LC is provided between the first substrate SUB1 and the second substrate SUB2.
  • the first substrate SUB1 includes a transparent substrate 10, insulating films 11 and 12, a capacitance electrode 13, a switching element SW, a pixel electrode PE, and an alignment film AL1.
  • the transparent substrate 10 includes a main surface (lower surface) 10A and a main surface (upper surface) 10B on the opposite side of the main surface 10A.
  • the switching element SW is provided on the main surface 10B side.
  • the insulating film 11 covers the switching element SW.
  • the scanning line G and the signal line S shown in FIG. 1 are provided between the transparent substrate 10 and the insulating film 11, but are not shown here.
  • the capacitance electrode 13 is provided between the insulating films 11 and 12.
  • the pixel electrode PE is provided for each pixel PX between the insulating film 12 and the alignment film AL1. That is, the capacitance electrode 13 is provided between the transparent substrate 10 and the pixel electrode PE.
  • the pixel electrode PE is electrically connected to the switching element SW via the opening OP of the capacitance electrode 13.
  • the pixel electrode PE sandwiches the insulating film 12 and is superimposed on the capacitance electrode 13 to form the capacitance CS of the pixel PX.
  • the alignment film AL1 covers the pixel electrode PE.
  • the alignment film AL1 is in contact with the liquid crystal layer LC.
  • the second substrate SUB2 includes a transparent substrate 20, a light-shielding layer BM, a common electrode CE, an insulating film 21, and an alignment film AL2.
  • the transparent substrate 20 includes a main surface (lower surface) 20A and a main surface (upper surface) 20B on the opposite side of the main surface 20A.
  • the main surface 20A of the transparent substrate 20 faces the main surface 10B of the first transparent substrate 10.
  • the light-shielding layer BM and the common electrode CE are provided on the main surface 20A side.
  • the light-shielding layer BM is provided, for example, directly above the switching element SW, and directly above the scanning line G and the signal line S (not shown), respectively.
  • the common electrode CE is arranged over the plurality of pixel PXs and faces the plurality of pixel electrodes PE in the third direction Z. Further, the common electrode CE covers the light-shielding layer BM. The common electrode CE is electrically connected to the capacitance electrode 13 and has the same potential as the capacitance electrode 13.
  • the insulating film 21 covers the common electrode CE.
  • the alignment film AL2 covers the insulating film 21. The alignment film AL2 is in contact with the liquid crystal layer LC.
  • the transparent substrates 10 and 20 are insulating substrates such as a glass substrate and a plastic substrate.
  • the insulating film 11 includes, for example, a transparent inorganic insulating film such as silicon oxide, silicon nitride, and silicon oxynitride, and a transparent organic insulating film such as acrylic resin.
  • the insulating film 12 is a transparent inorganic insulating film such as silicon nitride.
  • the insulating film 21 is a transparent organic insulating film such as an acrylic resin.
  • the capacitive electrode 13, the pixel electrode PE, and the common electrode CE are transparent electrodes formed of a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO).
  • the light-shielding layer BM may be an insulating layer or a conductive layer having a lower resistance than the common electrode CE.
  • the common electrode CE is electrically connected to the light-shielding layer BM to reduce the resistance of the common electrode CE.
  • the alignment films AL1 and AL2 are horizontal alignment films having an orientation regulating force substantially parallel to the XY plane. In one example, the alignment films AL1 and AL2 are oriented along the first direction X.
  • the alignment treatment may be a rubbing treatment or a photoalignment treatment.
  • FIG. 3 is a plan view showing an example of the pixel PX shown in FIG.
  • the scanning line G extends in the first direction X
  • the signal line S extends in the second direction Y.
  • the switching element SW is provided at the intersection of the scanning line G and the signal line S.
  • the switching element SW includes a semiconductor layer SC.
  • the semiconductor layer SC is superimposed on the gate electrode SWG integrated with the scanning line G.
  • the source electrode SWS integrated with the signal line S and the drain electrode SWD are each electrically connected to the semiconductor layer SC.
  • the pixel electrode PE is provided between the adjacent scanning lines G and between the adjacent signal lines S.
  • the pixel electrode PE is superimposed on the drain electrode SWD and is electrically connected to the switching element SW via the contact hole CH.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of the display device DSP of the present embodiment.
  • the display device DSP includes a transparent substrate 30.
  • the transparent substrate 30 is adhered to the transparent substrate 20 by the transparent adhesive layer AD.
  • the transparent substrate 20 is located between the liquid crystal layer LC and the transparent substrate 30 in the third direction Z.
  • the transparent substrate 30 is an insulating substrate such as a glass substrate or a plastic substrate, and has a refractive index equivalent to that of the transparent substrates 10 and 20.
  • the transparent substrate 30 includes a main surface (lower surface) 30A, a main surface (upper surface) 30B on the opposite side of the main surface 30A, and a side surface 30C.
  • the adhesive layer AD is interposed between the main surface 20B of the transparent substrate 20 and the main surface 30A of the transparent substrate 30.
  • the adhesive layer AD has a refractive index equivalent to that of the transparent substrates 20 and 30.
  • the term "equivalent” here includes not only the case where the refractive index difference is zero but also the case where the refractive index difference is 0.03 or less.
  • the transparent substrate 10 has a side surface 10C, and the transparent substrate 20 has a side surface 20C.
  • the extending portion Ex corresponds to a region between the side surface 10C and the side surface 20C along the second direction Y.
  • the side surface 30C is located directly above the side surface 20C.
  • the light emitting element LD faces the side surface 20C and the side surface 30C in the second direction Y.
  • the light emitting element LD is electrically connected to the wiring board F.
  • the light emitting element LD is, for example, a light emitting diode, and includes a red light emitting unit, a green light emitting unit, and a blue light emitting unit, although not described in detail.
  • a transparent light guide may be arranged between the light emitting element LD and the side surfaces 20C and 30C.
  • the light emitting element LD emits light L1 toward the side surfaces 20C and 30C.
  • the light L1 emitted from the light emitting element LD travels along the direction of the arrow indicating the second direction Y, is incident on the transparent substrate 20 from the side surface 20C, and is incident on the transparent substrate 30 from the side surface 30C.
  • the light L1 incident on the transparent substrates 20 and 30 travels inside the display panel PNL while being repeatedly reflected.
  • the light L1 incident on the liquid crystal layer LC to which no voltage is applied passes through the liquid crystal layer LC with almost no scattering.
  • the display device DSP can be observed from the main surface 10A side as well as from the main surface 30B side. Further, the background of the display device DSP can be observed through the display device DSP regardless of whether the display device DSP is observed from the main surface 10A side or the main surface 30B side. is there.
  • the display panel PNL includes pixels PX1 and PX2.
  • the pixel PX1 is provided between the light emitting element LD and the pixel PX2 in the second direction Y. That is, the pixel PX1 is provided on the side close to the light emitting element LD, and the pixel PX2 is provided on the side away from the light emitting element LD.
  • the horizontal axis represents the distance from the light emitting element LD along the second direction Y
  • the vertical axis represents the scattering area of each pixel PX.
  • the scattering area is the area where the refractive index of the polymer 31 and the refractive index of the liquid crystal molecules 32 do not match when a voltage is applied to the liquid crystal layer LC (or the region where the liquid crystal molecules 32 are driven by an electric field). Equivalent to. Alternatively, the scattering area can be defined as the electrode area on which the pixel electrode PE and the common electrode CE are superimposed in a plan view. In each (B) of FIGS.
  • the horizontal axis represents the distance from the light emitting element LD along the second direction Y
  • the vertical axis represents the brightness of each pixel PX.
  • the pixel close to the light emitting element LD described below corresponds to the pixel PX1 of FIG. 4, and the pixel separated from the light emitting element LD corresponds to the pixel PX2 of FIG.
  • FIG. 5 is a diagram for explaining the luminance distribution of the comparative example.
  • the scattering area of each pixel is constant regardless of the distance from the light emitting element LD.
  • the light traveling inside the display panel PNL is attenuated as the distance from the light emitting element LD increases.
  • the amount of light reaching the pixel PX1 close to the light emitting element LD is larger than the amount of light reaching the pixel PX2 separated from the light emitting element LD. Therefore, in the comparative example, the amount of light scattered by the pixel PX1 is smaller than the amount of light scattered by the pixel PX2. Therefore, as shown in FIG. 5B, in the comparative example, the brightness decreases as the distance from the light emitting element LD increases.
  • FIG. 6 is a diagram for explaining the luminance distribution of the first embodiment.
  • the scattering area of each pixel increases as the distance from the light emitting element LD increases. That is, the scattering area of the pixel PX1 close to the light emitting element LD is smaller than the scattering area of the pixel PX2 separated from the light emitting element LD. Therefore, the amount of light scattered by the pixel PX1 is smaller than that in the comparative example. On the other hand, the amount of light scattered by the pixel PX2 is larger than that of the comparative example. Therefore, the attenuation of light traveling inside the display panel PNL is compensated.
  • the brightness can be made uniform regardless of the distance from the light emitting element LD.
  • FIG. 7 is a diagram for explaining the luminance distribution of the second embodiment.
  • the light emitting element LD1, the display panel PNL, and the light emitting element LD2 are arranged in this order along the second direction Y.
  • the display panel PNL has the largest scattering area in the approximately intermediate region MA along the second direction Y. That is, the scattering area of each pixel increases from the light emitting element LD1 toward the region MA. On the other hand, the scattering area of each pixel decreases from the region MA toward the light emitting element LD2.
  • the scattering areas of the pixels equidistant from the light emitting elements LD1 and LD2 are substantially the same.
  • the pixels close to the light emitting element LD1 and the pixels close to the light emitting element LD2 correspond to the pixels PX1 shown in FIG. 4, and the pixels in the region MA correspond to the pixels PX2 shown in FIG. Corresponds to.
  • the amount of light scattered in the pixel PX1 close to the light emitting element LD1 or the pixel PX1 close to the light emitting element LD2 is smaller than the amount of light scattered in the pixel PX2 in the region MA. Therefore, as in the first embodiment, the attenuation of the light traveling inside the display panel PNL is compensated. Therefore, as shown in FIG. 7B, in the second embodiment, the brightness can be made uniform regardless of the distance from the light emitting element LD. Therefore, it is possible to suppress a decrease in display quality due to a decrease in brightness.
  • first to fourth configuration examples correspond to the configuration examples of the first embodiment
  • fifth configuration example corresponds to the configuration example of the second embodiment.
  • FIG. 8 is a plan view showing an example of the first substrate SUB1.
  • the scanning lines G1 to G4 extend in the first direction X and are arranged in the second direction Y, respectively.
  • the scanning lines G1 and G2 are adjacent to the second direction Y, and the scanning lines G3 and G4 are also adjacent to the second direction Y.
  • a plurality of scanning lines (or pixels) are arranged between the scanning lines G2 and the scanning lines G3.
  • the spacing DY1 along the second direction Y of the scanning lines G1 and G2 is equivalent to the spacing DY2 along the second direction Y of the scanning lines G3 and G4.
  • the interval DY3 along the second direction Y of the scanning lines G2 and G3 is larger than the interval DY1.
  • the signal lines S1 to S3 each extend in the second direction Y and are lined up in the first direction X.
  • the signal lines S1 to S3 intersect the scanning lines G1 to G4.
  • the signal lines S1 and S2 are adjacent to the first direction X, and the signal lines S2 and S3 are also adjacent to the first direction X.
  • the interval DX1 along the first direction X of the signal lines S1 and S2 is equivalent to the interval DX2 along the first direction X of the signal lines S2 and S3.
  • the pixel PX11 corresponds to a region surrounded by scanning lines G1 and G2 and signal lines S1 and S2.
  • the pixel PX21 corresponds to a region surrounded by scanning lines G3 and G4 and signal lines S1 and S2. As described above, since the interval DY1 is equivalent to the interval DY2, the area of the pixel PX11 is equivalent to the area of the pixel PX21.
  • the switching element SW11 is electrically connected to the scanning line G1 and the signal line S1.
  • the pixel electrode PE 11 is provided on the pixel PX 11 and is electrically connected to the switching element SW 11.
  • the pixel electrode PE 11 includes an opening OP 11.
  • the switching element SW21 is electrically connected to the scanning line G3 and the signal line S1.
  • the pixel electrode PE21 is provided on the pixel PX21 and is electrically connected to the switching element SW21.
  • the pixel electrode PE 21 includes an opening OP21.
  • the pixel electrode PE 11 is provided between the light emitting element LD provided in the extending portion Ex and the pixel electrode PE 21 in the second direction Y.
  • the transparent substrate 10 includes a side surface 10D opposite to the side surface 10C, and the pixel electrode PE 21 is provided between the pixel electrode PE 11 and the side surface 10D.
  • the electrode area of the pixel electrode PE 11 is smaller than the electrode area of the pixel electrode PE 21.
  • the electrode area of the pixel electrode PE 11 is the area of the electrode body excluding the opening OP11, and the electrode area of the pixel electrode PE 21 is the area of the electrode body excluding the opening OP21. Further, the total area of the opening OP11 is larger than the total area of the opening OP21.
  • the total length of the outer peripheral edge EG11 of the pixel electrode PE11 is equivalent to the total length of the outer peripheral edge EG21 of the pixel electrode PE21. That is, the outer shape of the pixel electrode PE 11 is the same as the outer shape of the pixel electrode PE 21.
  • the shapes of the openings OP11 and OP21 are not limited to the circular shape shown in FIG. 8, but may be other shapes such as an ellipse and a polygon.
  • the areas of the openings OP11 and OP21 in the example shown in FIG. 8, the areas of each of the openings OP11 and OP21 are the same, but even if the area of the openings OP11 is larger than the area of the openings OP21.
  • the area of the opening OP11 may be smaller than the area of the opening OP21.
  • the number of openings OP11 and OP21 in the example shown in FIG.
  • the number of openings OP11 (9) is larger than the number of openings OP21 (2), but the number is not limited to this example.
  • the number of openings OP11 may be smaller than the number of openings OP21, or the number of openings OP11 may be equal to the number of openings OP21. It is possible.
  • the electrode areas of the pixel electrodes arranged in the first direction X are the same, and the total area of the openings is also the same.
  • the pixel electrode PE11 provided on the pixel PX11 and the pixel electrode PE12 provided on the pixel PX12 are arranged in the first direction X.
  • the electrode area of the pixel electrode PE12 is equivalent to the electrode area of the pixel electrode PE11.
  • the total area of the opening OP12 included in the pixel electrode PE12 is equivalent to the total area of the opening OP11 included in the pixel electrode PE11.
  • the shape of the opening OP12 is the same as the shape of the opening OP11, the area of the opening OP12 is the same as the area of the opening OP11, and the number of the openings OP12 is the same as that of the opening OP11. Equivalent to the number.
  • the pixel electrode PE12 is electrically connected to the switching element SW12, and the switching element SW12 is electrically connected to the scanning line G1 and the signal line S2.
  • the pixel electrode PE21 provided on the pixel PX21 and the pixel electrode PE22 provided on the pixel PX22 are arranged in the first direction X.
  • the electrode area of the pixel electrode PE 22 is equivalent to the electrode area of the pixel electrode PE 21.
  • the total area of the opening OP22 included in the pixel electrode PE22 is equivalent to the total area of the opening OP21 included in the pixel electrode PE21.
  • the pixel electrode PE22 is electrically connected to the switching element SW22, and the switching element SW22 is electrically connected to the scanning line G3 and the signal line S2.
  • FIG. 9 is a plan view showing an example of the second substrate SUB2 superimposed on the first substrate SUB1 shown in FIG.
  • the scanning lines G1 to G4, the signal lines S1 to S3, and the pixel electrodes PE11, PE12, PE21, and PE22 are indicated by dotted lines.
  • the transparent substrate 20 includes a side surface 20D opposite to the side surface 20C. As described above, the side surface 20C faces the light emitting element LD in the second direction Y.
  • the common electrode CE is superimposed on the scanning lines G1 to G4, the signal lines S1 to S3, and the pixel electrodes PE11, PE12, PE21, and PE22.
  • the common electrode CE includes an opening OP31 superimposing on the opening OP11 and an opening OP41 superimposing on the opening OP21. The total area of the opening OP31 is larger than the total area of the opening OP41.
  • the total area of the opening OP31 is equivalent to the total area of the opening OP11.
  • the shape of the opening OP31 is the same as the shape of the opening OP11, the area of the opening OP31 is the same as the area of the opening OP11, and the number of the openings OP31 is the same as the number of the openings OP11.
  • the electrode body of the pixel electrode PE11 is superimposed on the electrode body of the common electrode CE, and the opening OP31 is placed on the electrode body of the pixel electrode PE11. It does not overlap, and the opening OP11 does not overlap with the electrode body of the common electrode CE.
  • the total area of the opening OP41 is equivalent to the total area of the opening OP21.
  • the total area of the openings superimposed on the pixel electrodes arranged in the first direction X is the same.
  • the total area of the opening OP32 superimposed on the pixel electrode PE12 is equivalent to the total area of the opening OP31 superimposed on the pixel electrode PE11.
  • the opening OP32 is superimposed on the opening OP12.
  • the total area of the opening OP42 superimposed on the pixel electrode PE22 is equivalent to the total area of the opening OP41 superimposed on the pixel electrode PE21.
  • the opening OP42 is superimposed on the opening OP22.
  • the electrode area of the pixel electrode PE 11 is smaller than the electrode area of the pixel electrode PE 21. That is, the area of the region where the voltage can be applied to the liquid crystal layer LC in the pixel PX11 (or the area of the region where the liquid crystal molecules are driven) is smaller than the area of the region where the voltage can be applied to the liquid crystal layer LC in the pixel PX21. Therefore, the scattering area in the pixel PX 11 is smaller than the scattering area in the pixel PX 21. Therefore, as described with reference to FIG. 6, the brightness can be made uniform. Alternatively, the difference in brightness between the pixel PX 11 and the pixel PX 21 can be reduced.
  • both the pixel electrode PE and the common electrode CE are provided with openings, the total area of the transparent electrode can be reduced. Therefore, even if the transparent electrode has light absorption, the light absorption in the transparent electrode can be suppressed as compared with the case where the transparent electrode does not have an opening.
  • FIG. 10 is a plan view showing an example of the first substrate SUB1.
  • the second configuration example is different from the first configuration example in that the openings OP11, OP12, OP21, and OP22 all extend in the same direction.
  • these openings OP11, OP12, OP21, and OP22 all extend in the first direction X.
  • the extending direction of the openings OP11, OP12, OP21, and OP22 is substantially parallel to the extending direction of the polymer 31 in the liquid crystal layer LC. That is, the polymer 31 is formed in a streak shape extending in the first direction X, as described with reference to FIG.
  • FIG. 11 is a plan view showing an example of the second substrate SUB2 superimposed on the first substrate SUB1 shown in FIG.
  • the openings OP31, OP32, OP41, and OP42 all extend in the first direction X. Further, as in the first configuration example, the opening OP31 is superimposed on the opening OP11, the opening OP32 is superimposed on the opening OP12, the opening OP41 is superimposed on the opening OP21, and the opening OP42 is superimposed on the opening OP22. It is superimposed on.
  • the same effect as that of the above first configuration example can be obtained.
  • the opening OPs of the pixel electrode PE and the common electrode CE extend in the first direction X, the formation of an undesired electric field can be suppressed. That is, the liquid crystal molecule 32 is initially oriented in the first direction X. An electric field that promotes the driving of the liquid crystal molecules 32 is likely to be formed in the portion of the edge of the opening OP that extends in the direction intersecting the first direction X. In the region where such an electric field is formed, an undesired scattering state is formed by driving the liquid crystal molecules 32.
  • FIG. 12 is a cross-sectional view taken along the line AB shown in FIGS. 9 and 11.
  • the opening OP31 is located directly above the opening OP11.
  • the liquid crystal layer LC has a thickness TLC along the third direction Z between the pixel electrode PE 11 and the common electrode CE.
  • the width WPE along the second direction Y of the opening OP11 is larger than the thickness TLC.
  • the width of the opening OP31 along the second direction Y is the same as the width WPE.
  • the width WPE corresponds to the diameter of the openings OP11 and OP31.
  • the openings OP11 and OP31 of the second configuration example shown in FIG. 11 extend in the first direction X, and the width WPE extends in a direction (first direction X) orthogonal to the extending direction (first direction X) of the openings OP11 and OP31. It corresponds to the length in two directions Y).
  • the width WPE is larger than the thickness TLC, undesired electric fields such as an oblique electric field and a lateral electric field are less likely to be formed in the openings OP11 and OP31, and undesired scattering in the liquid crystal layer LC can be suppressed. It is desirable that the width of the other openings is larger than the thickness TLC.
  • FIG. 13 is a plan view showing an example of the capacitive electrode 13.
  • the capacitive electrodes 13 are formed in a grid pattern by being superimposed on, for example, scanning lines G1 to G4, signal lines S1 to S3, and switching elements SW11, SW12, SW21, and SW22. That is, the capacitance electrode 13 has a substantially square opening 13OP in each pixel.
  • the capacitance electrode 13 is superimposed on the pixel electrodes PE11, PE12, PE21, and PE22 to form a capacitance in each pixel.
  • the capacitive electrode 13 is not superimposed on the openings OP11, OP12, OP21, and OP22 in each pixel electrode PE.
  • the opening OP of each pixel electrode PE is superimposed on the opening 13 OP of the capacitance electrode 13.
  • the overlapping area of the pixel electrode PE 11 and the capacitance electrode 13 is equivalent to the overlapping area of the pixel electrode PE 21 and the capacitance electrode 13.
  • the overlapping area of the pixel electrode PE 11 and the capacitance electrode 13 is equivalent to the overlapping area of the pixel electrode PE 12 and the capacitance electrode 13.
  • the overlapping area of the pixel electrode PE 21 and the capacitance electrode 13 is equivalent to the overlapping area of the pixel electrode PE 22 and the capacitance electrode 13. That is, the capacities of each pixel can be made uniform regardless of the distance from the light emitting element. Further, since the opening OP of each pixel electrode PE does not overlap with the capacitive electrode 13, the formation of an undesired fringe electric field can be suppressed.
  • the present invention is not limited to this.
  • the common electrode CE may not have an opening, and the pixel electrode PE may have an opening.
  • the pixel electrode PE may not have an opening and the common electrode CE may have an opening.
  • the vicinity of the opening is compared with the case where both the pixel electrode PE and the common electrode CE do not have the opening.
  • the electric field weakens. Therefore, the scattering state is less likely to be formed in the vicinity of the opening, and the scattering area can be substantially reduced. As a result, it is possible to form a luminance distribution similar to that in the case where both the pixel electrode PE and the common electrode CE have openings.
  • FIG. 14 is a plan view showing an example of the first substrate SUB1.
  • the third configuration example differs from the first configuration example in that each pixel electrode PE is formed in a flat plate shape without an opening, and the transparent resin TR is superimposed on each pixel electrode PE. There is.
  • the common electrode (not shown) is also formed in a flat plate shape without an opening.
  • the pixel electrode PE 11 is provided between the light emitting element LD and the pixel electrode PE 21 in the second direction Y.
  • the electrode area of the pixel electrode PE 11 is equivalent to the electrode area of the pixel electrode PE 21.
  • the transparent resin TR11 is superimposed on the pixel electrode PE11, the transparent resin TR12 is superimposed on the pixel electrode PE12, the transparent resin TR21 is superimposed on the pixel electrode PE21, and the transparent resin TR22 is superimposed on the pixel electrode PE22.
  • the transparent resin TR is formed of a material different from the polymer 31 of the liquid crystal layer LC and the liquid crystal molecules 32. In one example, the transparent resin TR is made of a material that has a higher transparency than the polymer 31.
  • the transparent resin TR does not have refractive index anisotropy.
  • the refractive index of the transparent resin TR is different from the abnormal light refractive index ne of the polymer 31, and is equivalent to the ordinary light refractive index no of the polymer 31, which is about 1.5.
  • the overlapping area of the pixel electrode PE 11 and the transparent resin TR 11 is larger than the overlapping area of the pixel electrode PE 21 and the transparent resin TR 21.
  • the overlapping area of the pixel electrode PE 11 and the transparent resin TR 11 is equivalent to the overlapping area of the pixel electrode PE 12 and the transparent resin TR 12.
  • the overlapping area of the pixel electrode PE 21 and the transparent resin TR 21 is equivalent to the overlapping area of the pixel electrode PE 22 and the transparent resin TR 22.
  • the shape of the transparent resin TR in a plan view is not limited to the circular shape shown in FIG. 14, but may be another shape such as an elliptical shape or a polygonal shape. Further, as described in the second configuration example, the transparent resin TR may extend in the first direction X. Regarding the area of the transparent resin TR in a plan view, in the example shown in FIG. 14, the area per one of all the transparent resins is the same, but may be different.
  • the number of transparent resin TRs superimposed on each pixel electrode PE is not limited to the example shown in FIG.
  • FIG. 15 is a cross-sectional view taken along the line CD shown in FIG.
  • the pixel electrode PE11, the alignment film AL1, the common electrode CE, the alignment film AL2, the transparent resin TR11, and the liquid crystal layer LC are shown.
  • the example shown in FIG. 15 corresponds to an example in which the transparent resin TR11 is provided on the second substrate SUB2.
  • the transparent resin TR11 is formed in a columnar shape. Although the transparent resin TR11 is illustrated and described here, the transparent resin TR21 and the like are also formed in the same manner as the transparent resin TR11.
  • the transparent resin TR11 is in contact with the common electrode CE and the alignment film AL2, and is separated from the alignment film AL1 (or the first substrate SUB1).
  • the liquid crystal layer LC is interposed between the alignment film AL1 and the transparent resin TR11.
  • the thickness TTR of the transparent resin TR11 along the third direction Z is 1 ⁇ 2 or more of the thickness TLC of the liquid crystal layer LC.
  • Such a transparent resin TR11 comes into contact with the alignment film AL1 when an impact such as pressing in the third direction Z is applied. As a result, excessive deformation of the display panel PNL can be suppressed.
  • the transparent resin TR11 is in contact with the common electrode CE and the alignment film AL2, and is also in contact with the alignment film AL1 (or the first substrate SUB1). That is, the transparent resin TR11 functions as a spacer that forms a cell gap between the alignment film AL1 and the alignment film AL2.
  • FIG. 16 is another cross-sectional view taken along the line CD shown in FIG.
  • the example shown in FIG. 16 is different from the example shown in FIG. 15 in that the transparent resin TR11 is provided on the first substrate SUB1.
  • the transparent resin TR11 is in contact with the pixel electrode PE11 and the alignment film AL1 and is separated from the alignment film AL2 (or the second substrate SUB2). That is, the liquid crystal layer LC is interposed between the transparent resin TR11 and the alignment film AL2.
  • the transparent resin TR11 is in contact with the pixel electrode PE11 and the alignment film AL1, and is also in contact with the alignment film AL2 (or the second substrate SUB2). That is, the transparent resin TR11 functions as a spacer that forms a cell gap between the alignment film AL1 and the alignment film AL2.
  • the overlapping area of the pixel electrode PE 11 and the transparent resin TR 11 is larger than the overlapping area of the pixel electrode PE 21 and the transparent resin TR 21. Since the region where the transparent resin TR exists does not contain the polymer 31 and the liquid crystal molecules 32, it does not contribute to scattering. That is, the scattering area in the pixel PX 11 is smaller than the scattering area in the pixel PX 21. Therefore, as described with reference to FIG. 6, the brightness can be made uniform.
  • the above first to third configuration examples can be combined as appropriate.
  • FIG. 17 is a diagram for explaining the distribution of the scattering area in the fourth configuration example.
  • the display panel PNL has a plurality of display blocks B1 to B4 arranged in the second direction Y.
  • Each of the display blocks B1 to B4 is configured so that the scattering area of each pixel increases as the distance from the light emitting element LD increases, as described with reference to FIG. 6A. Therefore, in each of the display blocks B1 to B4, the amount of light scattered by the pixels close to the light emitting element LD is reduced, and the amount of light scattered by the pixels separated from the light emitting element LD is increased. As a result, the brightness can be made uniform in each of the display blocks B1 to B4.
  • the number of display blocks included in the display panel PNL is not limited to the example shown in FIG. Further, the length of each of the display blocks B1 to B4 along the second direction Y can be arbitrarily set. For example, the display block B2 located at the center of the display panel PNL may be extended so as to be longer than the display block B1 along the second direction Y. Further, the minimum scattering areas of the display blocks B1 to B4 may all be the same or different. Further, the maximum scattering areas of the display blocks B1 to B4 may all be the same or different.
  • FIG. 18 is a plan view showing an example of the first substrate SUB1.
  • each pixel electrode PE has an opening OP, and the distribution of the scattering area is formed by the electrode area of the pixel electrode PE.
  • the display block B1 close to the light emitting element LD is the same as the first configuration example shown in FIG.
  • the display block B4 close to the side surface 10D is also configured in the same manner as the display block B1.
  • the switching element SW31 is electrically connected to the scanning line G11 and the signal line S1.
  • the pixel electrode PE31 is provided on the pixel PX31 and is electrically connected to the switching element SW31.
  • the pixel electrode PE 31 includes an opening OP3.
  • the switching element SW41 is electrically connected to the scanning line G13 and the signal line S1.
  • the pixel electrode PE41 is provided on the pixel PX41 and is electrically connected to the switching element SW41.
  • the pixel electrode PE41 includes an opening OP4.
  • the area of the pixel PX 31 is equivalent to the area of the pixel PX 41. Further, the area of the pixel PX31 is also the same as the area of the pixels PX11 and PX21.
  • FIG. 19 is a plan view showing another example of the first substrate SUB1.
  • the distribution of the scattering area is formed by the overlapping area of each pixel electrode PE and the transparent resin TR.
  • the display block B1 is the same as the third configuration example shown in FIG.
  • the display block B4 is also configured in the same manner as the display block B1.
  • the transparent resin TR31 provided on the pixel PX31 is superimposed on the pixel electrode PE31.
  • the transparent resin TR41 provided on the pixel PX41 is superimposed on the pixel electrode PE41.
  • the overlapping area of the pixel electrode PE 31 and the transparent resin TR 31 is larger than the overlapping area of the pixel electrode PE 21 and the transparent resin TR 21.
  • the overlapping area of the pixel electrode PE41 and the transparent resin TR41 is smaller than the overlapping area of the pixel electrode PE31 and the transparent resin TR31.
  • the total area of the transparent resin TR31 is larger than the total area of the transparent resin TR21.
  • the total area of the transparent resin TR41 is smaller than the total area of the transparent resin TR31. Therefore, the brightness can be made uniform in each of the display blocks B1 and B4.
  • FIG. 20 is a plan view showing an example of the first substrate SUB1.
  • each pixel electrode PE has an opening OP, and the distribution of the scattering area is formed by the electrode area of the pixel electrode PE.
  • the light emitting element LD1 faces the side surface 20C of the transparent substrate 20 shown by the dotted line.
  • the light emitting element LD2 faces the side surface 10D of the transparent substrate 10 and the side surface 20D of the transparent substrate 20.
  • the switching element SW51 is electrically connected to the scanning line G21 and the signal line S1.
  • the pixel electrode PE51 is provided on the pixel PX51 and is electrically connected to the switching element SW51.
  • the pixel electrode PE51 includes an opening OP51.
  • the area of the pixel PX51 is equivalent to the area of the pixels PX11 and PX21.
  • the pixel PX21 is located in the area MA of the display panel PNL described with reference to FIG.
  • the pixel electrode PE 11 is provided between the light emitting element LD1 and the pixel electrode PE 21 in the second direction Y.
  • the pixel electrode PE 51 is provided between the pixel electrode PE 21 and the light emitting element LD 2 in the second direction Y.
  • the electrode area of the pixel electrode PE 21 is larger than the electrode area of the pixel electrode PE 11 and the electrode area of the pixel electrode PE 51.
  • the total area of the opening OP21 is smaller than the total area of the opening OP11 and smaller than the total area of the opening OP51.
  • FIG. 21 is a plan view showing another example of the first substrate SUB1.
  • the distribution of the scattering area is formed by the overlapping area of each pixel electrode PE and the transparent resin TR.
  • the transparent resin TR51 provided on the pixel PX51 is superimposed on the pixel electrode PE51.
  • the overlapping area of the pixel electrode PE 21 and the transparent resin TR21 is smaller than the overlapping area of the pixel electrode PE 11 and the transparent resin TR11.
  • the overlapping area of the pixel electrode PE 21 and the transparent resin TR21 is smaller than the overlapping area of the pixel electrode PE 51 and the transparent resin TR51.
  • the total area of the transparent resin TR21 is smaller than the total area of the transparent resin TR11 and smaller than the total area of the transparent resin TR51.
  • the brightness can be made uniform as described with reference to FIG. 7.
  • the transparent substrate 10 corresponds to the first transparent substrate
  • the transparent substrate 20 corresponds to the second transparent substrate.
  • the switching element SW11 corresponds to the first switching element
  • the switching element SW21 corresponds to the second switching element
  • the switching element SW31 corresponds to the third switching element
  • the switching element SW41 corresponds to the fourth switching element
  • SW51 corresponds to the fifth switching element.
  • the pixel electrode PE11 corresponds to the first pixel electrode
  • the opening OP11 corresponds to the first opening.
  • the pixel electrode PE21 corresponds to the second pixel electrode
  • the opening OP21 corresponds to the second opening.
  • the pixel electrode PE31 corresponds to the third pixel electrode
  • the pixel electrode PE41 corresponds to the fourth pixel electrode
  • the pixel electrode PE51 corresponds to the fifth pixel electrode.
  • the opening OP31 corresponds to the third opening
  • the opening OP41 corresponds to the fourth opening.
  • the scanning line G1 corresponds to the first scanning line
  • the scanning line G2 corresponds to the second scanning line
  • the scanning line G3 corresponds to the third scanning line
  • the scanning line G4 corresponds to the fourth scanning line.
  • the signal line S1 corresponds to the first signal line
  • the signal line S2 corresponds to the second signal line.
  • the pixel PX11 corresponds to the first pixel
  • the pixel PX21 corresponds to the second pixel.
  • the transparent resin TR11 corresponds to the first transparent resin
  • the transparent resin TR21 corresponds to the second transparent resin
  • the transparent resin TR31 corresponds to the third transparent resin
  • the transparent resin TR41 corresponds to the fourth transparent resin.
  • a display device obtained from the configuration disclosed in the present specification is added below.
  • a liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate and containing a polymer and liquid crystal molecules is provided.
  • the first pixel electrode is provided between the light emitting element and the second pixel electrode.
  • the first substrate includes first to fourth scanning lines and first and second signal lines intersecting the first to fourth scanning lines.
  • the first pixel electrode is provided on the first pixel surrounded by the first scanning line and the second scanning line, and the first signal line and the second signal line.
  • the second pixel electrode is provided in the second pixel surrounded by the third scanning line and the fourth scanning line, and the first signal line and the second signal line.
  • the display device wherein the distance between the first scanning line and the second scanning line is equivalent to the distance between the third scanning line and the fourth scanning line.
  • the first pixel electrode includes a first opening.
  • the second pixel electrode includes a second opening.
  • the display device according to any one of (1) to (3), wherein the total area of the first opening is larger than the total area of the second opening.
  • the display device according to (4), wherein the common electrode includes a third opening that overlaps the first opening and a fourth opening that overlaps the second opening. (6)
  • Each of the first opening and the second opening extends in the same direction.
  • the display device according to (4) or (5), wherein the polymer is formed in a streak shape extending in the extending direction of the first opening and the second opening.
  • Each of the first opening and the second opening has a width orthogonal to the extending direction.
  • the first substrate includes a first pixel electrode and a capacitive electrode that superimposes on the second pixel electrode.
  • the first substrate includes a third switching element, a third switching element, a third pixel electrode electrically connected to the third switching element, and a fourth pixel electrically connected to the fourth switching element.
  • the third pixel electrode is provided between the second pixel electrode and the fourth pixel electrode.
  • the electrode area of the third pixel electrode is smaller than the electrode area of the second pixel electrode.
  • the display device according to any one of (1) to (8), wherein the electrode area of the fourth pixel electrode is larger than the electrode area of the third pixel electrode.
  • (10) Light emitting element and A first transparent substrate, a first switching element, a second switching element, a first pixel electrode electrically connected to the first switching element, and a second pixel electrically connected to the second switching element.
  • a liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate and containing a streaky polymer and liquid crystal molecules, The first transparent resin superimposed on the first pixel electrode and A second transparent resin superimposing on the second pixel electrode is provided.
  • the first pixel electrode is provided between the light emitting element and the second pixel electrode.
  • the electrode area of the first pixel electrode is equivalent to the electrode area of the second pixel electrode.
  • the first transparent resin and the second transparent resin are formed of a material different from the polymer and the liquid crystal molecule.
  • a display device in which the overlapping area of the first pixel electrode and the first transparent resin is larger than the overlapping area of the second pixel electrode and the second transparent resin.
  • the first substrate includes a third switching element, a third switching element, a third pixel electrode electrically connected to the third switching element, and a fourth pixel electrically connected to the fourth switching element.
  • the third transparent resin superimposed on the third pixel electrode and A fourth transparent resin superimposing on the fourth pixel electrode is provided.
  • the third pixel electrode is provided between the second pixel electrode and the fourth pixel electrode.
  • the overlapping area of the third pixel electrode and the third transparent resin is larger than the overlapping area of the second pixel electrode and the second transparent resin.
  • the display device according to (10) wherein the superposed area of the fourth pixel electrode and the fourth transparent resin is smaller than the superposed area of the third pixel electrode and the third transparent resin.
  • DSP ... Display device PNL ... Display panel LD ... Light emitting element SUB1 ... First substrate SUB2 ... Second substrate LC ... Liquid crystal layer 31 ... Polymer 32 ... Liquid crystal molecule SW ... Switching element PE ... Pixel electrode CE ... Common electrode OP ... Opening 10 ... Transparent substrate 20... Transparent substrate

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Abstract

本実施形態の目的は、表示品位の低下を抑制することが可能な表示装置を提供することにある。　本実施形態の表示装置は、発光素子と、第１透明基板と、第１スイッチング素子及び第２スイッチング素子と、前記第１スイッチング素子と電気的に接続された第１画素電極と、前記第２スイッチング素子と電気的に接続された第２画素電極と、を備えた第１基板と、前記発光素子と向かい合う側面を備えた第２透明基板と、前記第１画素電極及び前記第２画素電極に重畳する共通電極と、を備えた第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられ、ポリマー及び液晶分子を含む液晶層と、を備え、前記第１画素電極は、前記発光素子と前記第２画素電極との間に設けられ、前記第１画素電極の電極面積は、前記第２画素電極の電極面積より小さい。

Description

表示装置
　本発明の実施形態は、表示装置に関する。
　近年、光に対して散乱性あるいは透明性を呈する光変調素子を備えた照明装置が種々提案されている。一例では、光変調素子は、光変調層として高分子分散液晶層を備えている。光変調素子は、導光板の背後に配置され、導光板の側面から入射した光を散乱するものである。
特開２０１０－１５６８１１号公報 特開２０１１－１４２０６５号公報 国際公開第２０１３／１６８６３８号
　本実施形態の目的は、表示品位の低下を抑制することが可能な表示装置を提供することにある。
　本実施形態によれば、
　発光素子と、第１透明基板と、第１スイッチング素子及び第２スイッチング素子と、前記第１スイッチング素子と電気的に接続された第１画素電極と、前記第２スイッチング素子と電気的に接続された第２画素電極と、を備えた第１基板と、前記発光素子と向かい合う側面を備えた第２透明基板と、前記第１画素電極及び前記第２画素電極に重畳する共通電極と、を備えた第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられ、ポリマー及び液晶分子を含む液晶層と、を備え、前記第１画素電極は、前記発光素子と前記第２画素電極との間に設けられ、前記第１画素電極の電極面積は、前記第２画素電極の電極面積より小さい、表示装置が提供される。　
　本実施形態によれば、
　発光素子と、第１透明基板と、第１スイッチング素子及び第２スイッチング素子と、前記第１スイッチング素子と電気的に接続された第１画素電極と、前記第２スイッチング素子と電気的に接続された第２画素電極と、を備えた第１基板と、前記発光素子と向かい合う側面を備えた第２透明基板と、前記第１画素電極及び前記第２画素電極に重畳する共通電極と、を備えた第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられ、筋状のポリマー及び液晶分子を含む液晶層と、前記第１画素電極に重畳する第１透明樹脂と、前記第２画素電極に重畳する第２透明樹脂と、を備え、前記第１画素電極は、前記発光素子と前記第２画素電極との間に設けられ、前記第１画素電極の電極面積は、前記第２画素電極の電極面積と同等であり、前記第１透明樹脂及び前記第２透明樹脂は、前記ポリマー及び前記液晶分子とは異なる材料によって形成され、前記第１画素電極と前記第１透明樹脂との重畳面積は、前記第２画素電極と前記第２透明樹脂との重畳面積より大きい、表示装置が提供される。
　本実施形態によれば、表示品位の低下を抑制することが可能な表示装置を提供することができる。
図１は、本実施形態の表示装置ＤＳＰの一構成例を示す平面図である。 図２は、図１に示した表示パネルＰＮＬの第１構成例を示す断面図である。 図３は、図２に示した画素ＰＸの一例を示す平面図である。 図４は、本実施形態の表示装置ＤＳＰの一例を示す断面図である。 図５は、比較例の輝度分布を説明するための図である。 図６は、第１実施形態の輝度分布を説明するための図である。 図７は、第２実施形態の輝度分布を説明するための図である。 図８は、第１基板ＳＵＢ１の一例を示す平面図である。 図９は、図８に示した第１基板ＳＵＢ１に重畳する第２基板ＳＵＢ２の一例を示す平面図である。 図１０は、第１基板ＳＵＢ１の一例を示す平面図である。 図１１は、図１０に示した第１基板ＳＵＢ１に重畳する第２基板ＳＵＢ２の一例を示す平面図である。 図１２は、図９及び図１１に示したＡ－Ｂ線に沿った断面図である。 図１３は、容量電極１３の一例を示す平面図である。 図１４は、第１基板ＳＵＢ１の一例を示す平面図である。 図１５は、図１４に示したＣ－Ｄ線に沿った断面図である。 図１６は、図１４に示したＣ－Ｄ線に沿った他の断面図である。 図１７は、第４構成例における散乱面積の分布を説明するための図である。 図１８は、第１基板ＳＵＢ１の一例を示す平面図である。 図１９は、第１基板ＳＵＢ１の他の例を示す平面図である。 図２０は、第１基板ＳＵＢ１の一例を示す平面図である。 図２１は、第１基板ＳＵＢ１の他の例を示す平面図である。
　以下、本実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。
　図１は、本実施形態の表示装置ＤＳＰの一構成例を示す平面図である。一例では、第１方向Ｘ、第２方向Ｙ、及び、第３方向Ｚは、互いに直交しているが、９０度以外の角度で交差していてもよい。第１方向Ｘ及び第２方向Ｙは、表示装置ＤＳＰを構成する基板の主面と平行な方向に相当し、第３方向Ｚは、表示装置ＤＳＰの厚さ方向に相当する。第３方向Ｚを示す矢印の先端側に表示装置ＤＳＰを観察する観察位置があるものとし、この観察位置から、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙで規定されるＸ－Ｙ平面に向かって見ることを平面視という。
　本実施形態においては、表示装置ＤＳＰの一例として、高分子分散型液晶を適用した液晶表示装置について説明する。表示装置ＤＳＰは、表示パネルＰＮＬと、配線基板１と、ＩＣチップ２と、発光素子ＬＤと、を備えている。
　表示パネルＰＮＬは、第１基板ＳＵＢ１と、第２基板ＳＵＢ２と、液晶層ＬＣと、シールＳＥと、を備えている。第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２は、Ｘ－Ｙ平面と平行な平板状に形成されている。第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２は、平面視で、重畳している。第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２は、シールＳＥによって接着されている。液晶層ＬＣは、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間に保持され、シールＳＥによって封止されている。図１において、液晶層ＬＣ及びシールＳＥは、異なる斜線で示している。
　図１において拡大して模式的に示すように、液晶層ＬＣは、ポリマー３１と、液晶分子３２と、を含む高分子分散型液晶を備えている。一例では、ポリマー３１は、液晶性ポリマーである。ポリマー３１は、第１方向Ｘに沿って延出した筋状に形成されている。液晶分子３２は、ポリマー３１の隙間に分散され、その長軸が第１方向Ｘに沿うように配向される。ポリマー３１及び液晶分子３２の各々は、光学異方性あるいは屈折率異方性を有している。ポリマー３１の電界に対する応答性は、液晶分子３２の電界に対する応答性より低い。
　一例では、ポリマー３１の配向方向は、電界の有無にかかわらずほとんど変化しない。一方、液晶分子３２の配向方向は、液晶層ＬＣにしきい値以上の高い電圧が印加された状態では、電界に応じて変化する。液晶層ＬＣに電圧が印加されていない状態では、ポリマー３１及び液晶分子３２のそれぞれの光軸は互いに平行であり、液晶層ＬＣに入射した光は、液晶層ＬＣ内でほとんど散乱されることなく透過する（透明状態）。液晶層ＬＣに電圧が印加された状態では、ポリマー３１及び液晶分子３２のそれぞれの光軸は互いに交差し、液晶層ＬＣに入射した光は、液晶層ＬＣ内で散乱される（散乱状態）。
　表示パネルＰＮＬは、画像を表示する表示部ＤＡと、表示部ＤＡを囲む額縁状の非表示部ＮＤＡと、を備えている。シールＳＥは、非表示部ＮＤＡに位置している。表示部ＤＡは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙにマトリクス状に配列された画素ＰＸを備えている。　
　図１において拡大して示すように、各画素ＰＸは、スイッチング素子ＳＷ、画素電極ＰＥ、共通電極ＣＥ、液晶層ＬＣ等を備えている。スイッチング素子ＳＷは、例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）によって構成され、走査線Ｇ及び信号線Ｓと電気的に接続されている。　
　走査線Ｇは、第１方向Ｘに並んだ画素ＰＸの各々におけるスイッチング素子ＳＷと電気的に接続されている。信号線Ｓは、第２方向Ｙに並んだ画素ＰＸの各々におけるスイッチング素子ＳＷと電気的に接続されている。画素電極ＰＥは、スイッチング素子ＳＷと電気的に接続されている。共通電極ＣＥは、複数の画素電極ＰＥに対して共通に設けられている。画素電極ＰＥの各々は、第３方向Ｚにおいて共通電極ＣＥと対向している。液晶層ＬＣ（特に、液晶分子３２）は、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に生じる電界によって駆動される。容量ＣＳは、例えば、共通電極ＣＥと同電位の電極、及び、画素電極ＰＥと同電位の電極の間に形成される。
　後に説明するが、走査線Ｇ、信号線Ｓ、スイッチング素子ＳＷ、及び、画素電極ＰＥは、第１基板ＳＵＢ１に設けられ、共通電極ＣＥは、第２基板ＳＵＢ２に設けられている。第１基板ＳＵＢ１において、走査線Ｇ及び信号線Ｓは、配線基板１あるいはＩＣチップ２と電気的に接続されている。
　配線基板１は、第１基板ＳＵＢ１の延出部Ｅｘに電気的に接続されている。配線基板１は、折り曲げ可能なフレキシブルプリント回路基板である。ＩＣチップ２は、配線基板１に電気的に接続されている。ＩＣチップ２は、例えば、画像表示に必要な信号を出力するディスプレイドライバなどを内蔵している。なお、ＩＣチップ２は、延出部Ｅｘに電気的に接続されてもよい。
　発光素子ＬＤは、平面視で延出部Ｅｘに重畳している。複数の発光素子ＬＤは、第１方向Ｘに沿って間隔をおいて並んでいる。
　図２は、図１に示した表示パネルＰＮＬの第１構成例を示す断面図である。液晶層ＬＣは、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間に設けられている。　
　第１基板ＳＵＢ１は、透明基板１０と、絶縁膜１１及び１２と、容量電極１３と、スイッチング素子ＳＷと、画素電極ＰＥと、配向膜ＡＬ１と、を備えている。透明基板１０は、主面（下面）１０Ａと、主面１０Ａの反対側の主面（上面）１０Ｂと、を備えている。スイッチング素子ＳＷは、主面１０Ｂ側に設けられている。絶縁膜１１は、スイッチング素子ＳＷを覆っている。なお、図１に示した走査線Ｇ及び信号線Ｓは、透明基板１０と絶縁膜１１との間に設けられているが、ここでは図示を省略している。容量電極１３は、絶縁膜１１及び１２の間に設けられている。画素電極ＰＥは、絶縁膜１２と配向膜ＡＬ１との間において、画素ＰＸ毎に設けられている。つまり、容量電極１３は、透明基板１０と画素電極ＰＥとの間に設けられている。画素電極ＰＥは、容量電極１３の開口部ＯＰを介してスイッチング素子ＳＷと電気的に接続されている。画素電極ＰＥは、絶縁膜１２を挟んで、容量電極１３と重畳し、画素ＰＸの容量ＣＳを形成している。配向膜ＡＬ１は、画素電極ＰＥを覆っている。配向膜ＡＬ１は、液晶層ＬＣに接している。
　第２基板ＳＵＢ２は、透明基板２０と、遮光層ＢＭと、共通電極ＣＥと、絶縁膜２１と、配向膜ＡＬ２と、を備えている。透明基板２０は、主面（下面）２０Ａと、主面２０Ａの反対側の主面（上面）２０Ｂと、を備えている。透明基板２０の主面２０Ａは、第１透明基板１０の主面１０Ｂと向かい合っている。遮光層ＢＭ及び共通電極ＣＥは、主面２０Ａ側に設けられている。遮光層ＢＭは、例えば、スイッチング素子ＳＷの直上、及び、図示しない走査線Ｇ及び信号線Ｓの直上にそれぞれ設けられている。共通電極ＣＥは、複数の画素ＰＸに亘って配置され、第３方向Ｚにおいて、複数の画素電極ＰＥと対向している。また、共通電極ＣＥは、遮光層ＢＭを覆っている。共通電極ＣＥは、容量電極１３と電気的に接続されており、容量電極１３とは同電位である。絶縁膜２１は、共通電極ＣＥを覆っている。配向膜ＡＬ２は、絶縁膜２１を覆っている。配向膜ＡＬ２は、液晶層ＬＣに接している。
　透明基板１０及び２０は、ガラス基板やプラスチック基板などの絶縁基板である。絶縁膜１１は、例えば、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物などの透明な無機絶縁膜、及び、アクリル樹脂などの透明な有機絶縁膜を含んでいる。絶縁膜１２は、シリコン窒化物などの透明な無機絶縁膜である。絶縁膜２１は、アクリル樹脂などの透明な有機絶縁膜である。容量電極１３、画素電極ＰＥ、及び、共通電極ＣＥは、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）やインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）などの透明導電材料によって形成された透明電極である。遮光層ＢＭは、絶縁層であってもよいし、共通電極ＣＥよりも低抵抗な導電層であってもよい。遮光層ＢＭが導電層である場合には、共通電極ＣＥが遮光層ＢＭと電気的に接続されることにより、共通電極ＣＥが低抵抗化される。配向膜ＡＬ１及びＡＬ２は、Ｘ－Ｙ平面に略平行な配向規制力を有する水平配向膜である。一例では、配向膜ＡＬ１及びＡＬ２は、第１方向Ｘに沿って配向処理されている。なお、配向処理とは、ラビング処理であってもよいし、光配向処理であってもよい。
　図３は、図２に示した画素ＰＸの一例を示す平面図である。走査線Ｇは第１方向Ｘに延出し、信号線Ｓは第２方向Ｙに延出している。スイッチング素子ＳＷは、走査線Ｇ及び信号線Ｓの交差部に設けられている。スイッチング素子ＳＷは、半導体層ＳＣを備えている。半導体層ＳＣは、走査線Ｇと一体のゲート電極ＳＷＧに重畳している。信号線Ｓと一体のソース電極ＳＷＳ、及び、ドレイン電極ＳＷＤは、それぞれ半導体層ＳＣと電気的に接続されている。画素電極ＰＥは、隣接する走査線Ｇの間、及び、隣接する信号線Ｓの間に設けられている。画素電極ＰＥは、ドレイン電極ＳＷＤに重畳し、コンタクトホールＣＨを介してスイッチング素子ＳＷと電気的に接続されている。
　図４は、本実施形態の表示装置ＤＳＰの一例を示す断面図である。なお、表示パネルＰＮＬについては、主要部のみを図示している。　
　表示装置ＤＳＰは、透明基板３０を備えている。透明基板３０は、透明な接着層ＡＤにより透明基板２０に接着されている。透明基板２０は、第３方向Ｚにおいて、液晶層ＬＣと透明基板３０との間に位置している。透明基板３０は、ガラス基板やプラスチック基板などの絶縁基板であり、透明基板１０及び２０と同等の屈折率を有している。透明基板３０は、主面（下面）３０Ａと、主面３０Ａの反対側の主面（上面）３０Ｂと、側面３０Ｃと、を備えている。接着層ＡＤは、透明基板２０の主面２０Ｂと透明基板３０の主面３０Ａとの間に介在している。接着層ＡＤは、透明基板２０及び３０と同等の屈折率を有している。なお、ここでの「同等」とは、屈折率差がゼロの場合に限らず、屈折率差が０．０３以下の場合を含む。
　透明基板１０は側面１０Ｃを備え、透明基板２０は側面２０Ｃを備えている。延出部Ｅｘは、第２方向Ｙに沿って側面１０Ｃと側面２０Ｃとの間の領域に相当する。側面３０Ｃは、側面２０Ｃの直上に位置している。　
　発光素子ＬＤは、第２方向Ｙにおいて、側面２０Ｃ及び側面３０Ｃと向かい合っている。発光素子ＬＤは、配線基板Ｆに電気的に接続されている。発光素子ＬＤは、例えば、発光ダイオードであり、詳述しないが、赤発光部、緑発光部、及び、青発光部を備えている。なお、発光素子ＬＤと、側面２０Ｃ及び３０Ｃとの間に、透明な導光体が配置されてもよい。
　次に、図４を参照しながら、発光素子ＬＤから出射される光Ｌ１について説明する。　
　発光素子ＬＤは、側面２０Ｃ及び３０Ｃに向けて光Ｌ１を出射する。発光素子ＬＤから出射された光Ｌ１は、第２方向Ｙを示す矢印の向きに沿って進行し、側面２０Ｃから透明基板２０に入射するとともに、側面３０Ｃから透明基板３０に入射する。透明基板２０及び３０に入射した光Ｌ１は、繰り返し反射されながら、表示パネルＰＮＬの内部を進行する。電圧が印加されていない液晶層ＬＣに入射した光Ｌ１は、ほとんど散乱されることなく液晶層ＬＣを透過する。また、電圧が印加された液晶層ＬＣに入射した光Ｌ１は、液晶層ＬＣで散乱される。表示装置ＤＳＰは、主面１０Ａ側から観察可能であるとともに、主面３０Ｂ側からも観察可能である。また、表示装置ＤＳＰが主面１０Ａ側から観察された場合であっても、主面３０Ｂ側から観察された場合であっても、表示装置ＤＳＰを介して、表示装置ＤＳＰの背景を観察可能である。
　図４に示すように、表示パネルＰＮＬは、画素ＰＸ１及びＰＸ２を備えている。画素ＰＸ１は、第２方向Ｙにおいて、発光素子ＬＤと画素ＰＸ２との間に設けられている。つまり、画素ＰＸ１は発光素子ＬＤに近接する側に設けられ、画素ＰＸ２は発光素子ＬＤから離間する側に設けられている。
　　〔基本コンセプト〕　
　まず、図５乃至図７を参照しながら、本実施形態の基本コンセプトを説明する。なお、図５乃至図７の各々の（Ａ）においては、横軸は発光素子ＬＤから第２方向Ｙに沿った距離を示し、縦軸は各画素ＰＸの散乱面積を示している。散乱面積とは、液晶層ＬＣに電圧が印加された際にポリマー３１の屈折率と液晶分子３２の屈折率とがミスマッチする領域（あるいは、液晶分子３２が電界によって駆動される領域）の面積に相当する。あるいは、散乱面積は、平面視で画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥが重畳する電極面積と定義することもできる。図５乃至図７の各々の（Ｂ）においては、横軸は発光素子ＬＤから第２方向Ｙに沿った距離を示し、縦軸は各画素ＰＸの輝度を示している。　
　以下で述べる発光素子ＬＤに近接した画素とは図４の画素ＰＸ１に相当し、発光素子ＬＤから離間した画素とは図４の画素ＰＸ２に相当する。
　図５は、比較例の輝度分布を説明するための図である。　
　図５の(Ａ)に示すように、比較例では、発光素子ＬＤからの距離に関係なく、各画素の散乱面積が一定である。表示パネルＰＮＬの内部を進行する光は、発光素子ＬＤから離れるにしたがって減衰する。また、発光素子ＬＤに近接した画素ＰＸ１に到達する光の量は、発光素子ＬＤから離間した画素ＰＸ２に到達する光の量より多い。このため、比較例では、画素ＰＸ１で散乱される光量は、画素ＰＸ２で散乱される光量より少ない。したがって、図５の（Ｂ）に示すように、比較例では、発光素子ＬＤから離れるにしたがって輝度が低下する。
　図６は、第１実施形態の輝度分布を説明するための図である。　
　図６の(Ａ)に示すように、第１実施形態では、発光素子ＬＤから離れるにしたがって、各画素の散乱面積が増加する。つまり、発光素子ＬＤに近接した画素ＰＸ１の散乱面積は、発光素子ＬＤから離間した画素ＰＸ２の散乱面積より小さい。このため、画素ＰＸ１で散乱される光の量は、比較例よりも減少する。一方で、画素ＰＸ２で散乱される光の量は、比較例よりも増加する。したがって、表示パネルＰＮＬの内部を進行する光の減衰が補償される。つまり、画素ＰＸ１に到達する光の量は多いが散乱面積が小さいため、比較例よりも輝度が低下する。一方で、画素ＰＸ２に到達する光の量は少ないが散乱面積が大きいため、比較例よりも輝度が増加する。このため、図６の（Ｂ）に示すように、第１実施形態では、発光素子ＬＤからの距離に関係なく、輝度を均一化することができる。あるいは、発光素子ＬＤに近接した画素と、発光素子ＬＤから離間した画素とでの輝度差を低減することができる。したがって、輝度の低下に伴う表示品位の低下を抑制することができる。
　図７は、第２実施形態の輝度分布を説明するための図である。　
　図７の(Ａ)に示すように、第２実施形態では、発光素子ＬＤ１、表示パネルＰＮＬ、及び、発光素子ＬＤ２がこの順に第２方向Ｙに沿って並んでいる。表示パネルＰＮＬは、第２方向Ｙに沿ったほぼ中間の領域ＭＡで最大の散乱面積を有している。つまり、発光素子ＬＤ１から領域ＭＡに向かうにしたがって各画素の散乱面積が増加する。一方で、領域ＭＡから発光素子ＬＤ２に向かうにしたがって各画素の散乱面積が減少する。発光素子ＬＤ１及びＬＤ２から等距離の画素では、散乱面積がほぼ同等である。このような第２実施形態では、発光素子ＬＤ１に近接した画素、及び、発光素子ＬＤ２に近接した画素が図４に示した画素ＰＸ１に相当し、領域ＭＡの画素が図４に示した画素ＰＸ２に相当する。
　発光素子ＬＤ１に近接した画素ＰＸ１、あるいは、発光素子ＬＤ２に近接した画素ＰＸ１において散乱される光の量は、領域ＭＡの画素ＰＸ２で散乱される光の量よりも減少する。したがって、第１実施形態と同様に、表示パネルＰＮＬの内部を進行する光の減衰が補償される。このため、図７の（Ｂ）に示すように、第２実施形態では、発光素子ＬＤからの距離に関係なく、輝度を均一化することができる。したがって、輝度の低下に伴う表示品位の低下を抑制することができる。
　以下、各構成例を説明する。以下の第１乃至第４構成例は第１実施形態の構成例に相当し、第５構成例は第２実施形態の構成例に相当する。
　　〔第１構成例〕　
　図８は、第１基板ＳＵＢ１の一例を示す平面図である。第１基板ＳＵＢ１において、走査線Ｇ１乃至Ｇ４は、それぞれ第１方向Ｘに延出し、第２方向Ｙに並んでいる。走査線Ｇ１及びＧ２は第２方向Ｙに隣接し、また、走査線Ｇ３及びＧ４も第２方向Ｙに隣接している。走査線Ｇ２と走査線Ｇ３との間には、図示しない複数の走査線（あるいは画素）が配置されている。走査線Ｇ１及びＧ２の第２方向Ｙに沿った間隔ＤＹ１は、走査線Ｇ３及びＧ４の第２方向Ｙに沿った間隔ＤＹ２と同等である。走査線Ｇ２及びＧ３の第２方向Ｙに沿った間隔ＤＹ３は、間隔ＤＹ１よりも大きい。　
　信号線Ｓ１乃至Ｓ３は、それぞれ第２方向Ｙに延出し、第１方向Ｘに並んでいる。信号線Ｓ１乃至Ｓ３は、走査線Ｇ１乃至Ｇ４と交差している。信号線Ｓ１及びＳ２は第１方向Ｘに隣接し、また、信号線Ｓ２及びＳ３も第１方向Ｘに隣接している。信号線Ｓ１及びＳ２の第１方向Ｘに沿った間隔ＤＸ１は、信号線Ｓ２及びＳ３の第１方向Ｘに沿った間隔ＤＸ２と同等である。
　画素ＰＸ１１は、走査線Ｇ１及びＧ２と、信号線Ｓ１及びＳ２とで囲まれた領域に相当する。画素ＰＸ２１は、走査線Ｇ３及びＧ４と、信号線Ｓ１及びＳ２とで囲まれた領域に相当する。上記の通り、間隔ＤＹ１は間隔ＤＹ２と同等であるため、画素ＰＸ１１の面積は、画素ＰＸ２１の面積と同等である。
　スイッチング素子ＳＷ１１は、走査線Ｇ１及び信号線Ｓ１と電気的に接続されている。画素電極ＰＥ１１は、画素ＰＸ１１に設けられ、スイッチング素子ＳＷ１１と電気的に接続されている。画素電極ＰＥ１１は、開口部ＯＰ１１を備えている。　
　スイッチング素子ＳＷ２１は、走査線Ｇ３及び信号線Ｓ１と電気的に接続されている。画素電極ＰＥ２１は、画素ＰＸ２１に設けられ、スイッチング素子ＳＷ２１と電気的に接続されている。画素電極ＰＥ２１は、開口部ＯＰ２１を備えている。　
　画素電極ＰＥ１１は、第２方向Ｙにおいて、延出部Ｅｘに設けられた発光素子ＬＤと、画素電極ＰＥ２１との間に設けられている。あるいは、透明基板１０は側面１０Ｃの反対側の側面１０Ｄを備え、画素電極ＰＥ２１は画素電極ＰＥ１１と側面１０Ｄとの間に設けられている。　
　画素電極ＰＥ１１の電極面積は、画素電極ＰＥ２１の電極面積より小さい。画素電極ＰＥ１１の電極面積は開口部ＯＰ１１を除いた電極本体の面積であり、画素電極ＰＥ２１の電極面積は開口部ＯＰ２１を除いた電極本体の面積である。また、開口部ＯＰ１１の総面積は、開口部ＯＰ２１の総面積より大きい。
　画素電極ＰＥ１１の外周エッジＥＧ１１の全長は、画素電極ＰＥ２１の外周エッジＥＧ２１の全長と同等である。つまり、画素電極ＰＥ１１の外形は、画素電極ＰＥ２１の外形と同等である。
　開口部ＯＰ１１及びＯＰ２１の形状について、図８に示した例の円形に限定されるものではなく、楕円形、多角形などの他の形状であってもよい。　
　開口部ＯＰ１１及びＯＰ２１の面積について、図８に示した例では、開口部ＯＰ１１及びＯＰ２１のそれぞれ１個当たりの面積が同等であるが、開口部ＯＰ１１の面積が開口部ＯＰ２１の面積より大きくてもよいし、開口部ＯＰ１１の面積が開口部ＯＰ２１の面積より小さくてもよい。　
　開口部ＯＰ１１及びＯＰ２１の個数について、図８に示した例では、開口部ＯＰ１１の個数（９個）が開口部ＯＰ２１の個数（２個）より多いが、この例に限定されるものではない。開口部ＯＰ１１の面積が開口部ＯＰ２１の面積より大きい場合には、開口部ＯＰ１１の個数が開口部ＯＰ２１の個数より少ない場合も有り得るし、開口部ＯＰ１１の個数が開口部ＯＰ２１の個数と等しい場合も有り得る。
　このような第１基板ＳＵＢ１において、第１方向Ｘに並んだ画素電極の電極面積は同等であり、また、開口部の総面積も同等である。　
　例えば、画素ＰＸ１１に設けられた画素電極ＰＥ１１、及び、画素ＰＸ１２に設けられた画素電極ＰＥ１２は、第１方向Ｘに並んでいる。画素電極ＰＥ１２の電極面積は、画素電極ＰＥ１１の電極面積と同等である。また、画素電極ＰＥ１２が備える開口部ＯＰ１２の総面積は、画素電極ＰＥ１１が備える開口部ＯＰ１１の総面積と同等である。図８に示した例では、開口部ＯＰ１２の形状は開口部ＯＰ１１の形状と同等であり、開口部ＯＰ１２の面積は開口部ＯＰ１１の面積と同等であり、開口部ＯＰ１２の個数は開口部ＯＰ１１の個数と同等である。なお、画素電極ＰＥ１２はスイッチング素子ＳＷ１２と電気的に接続され、スイッチング素子ＳＷ１２は走査線Ｇ１及び信号線Ｓ２と電気的に接続されている。
　同様に、画素ＰＸ２１に設けられた画素電極ＰＥ２１、及び、画素ＰＸ２２に設けられた画素電極ＰＥ２２は、第１方向Ｘに並んでいる。画素電極ＰＥ２２の電極面積は、画素電極ＰＥ２１の電極面積と同等である。また、画素電極ＰＥ２２が備える開口部ＯＰ２２の総面積は、画素電極ＰＥ２１が備える開口部ＯＰ２１の総面積と同等である。なお、画素電極ＰＥ２２はスイッチング素子ＳＷ２２と電気的に接続され、スイッチング素子ＳＷ２２は走査線Ｇ３及び信号線Ｓ２と電気的に接続されている。
　図９は、図８に示した第１基板ＳＵＢ１に重畳する第２基板ＳＵＢ２の一例を示す平面図である。なお、走査線Ｇ１乃至Ｇ４、信号線Ｓ１乃至Ｓ３、及び、画素電極ＰＥ１１、ＰＥ１２、ＰＥ２１、ＰＥ２２は、点線で示している。
　第２基板ＳＵＢ２において、透明基板２０は、側面２０Ｃの反対側の側面２０Ｄを備えている。側面２０Ｃは、上記の通り、第２方向Ｙにおいて発光素子ＬＤと向かい合っている。共通電極ＣＥは、走査線Ｇ１乃至Ｇ４と、信号線Ｓ１乃至Ｓ３と、画素電極ＰＥ１１、ＰＥ１２、ＰＥ２１、ＰＥ２２と、に重畳している。　
　共通電極ＣＥは、開口部ＯＰ１１に重畳する開口部ＯＰ３１と、開口部ＯＰ２１に重畳する開口部ＯＰ４１と、を備えている。開口部ＯＰ３１の総面積は、開口部ＯＰ４１の総面積より大きい。
　開口部ＯＰ３１の総面積は、開口部ＯＰ１１の総面積と同等である。開口部ＯＰ３１の形状は開口部ＯＰ１１の形状と同等であり、開口部ＯＰ３１の面積は開口部ＯＰ１１の面積と同等であり、開口部ＯＰ３１の個数は開口部ＯＰ１１の個数と同等である。第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とを接着する際のズレがないと仮定すると、画素電極ＰＥ１１の電極本体は共通電極ＣＥの電極本体に重畳し、開口部ＯＰ３１は画素電極ＰＥ１１の電極本体に重畳せず、また、開口部ＯＰ１１は共通電極ＣＥの電極本体に重畳しない。同様に、開口部ＯＰ４１の総面積は、開口部ＯＰ２１の総面積と同等である。
　このような第２基板ＳＵＢ２において、第１方向Ｘに並んだ画素電極に重畳する開口部の総面積は同等である。　
　例えば、画素電極ＰＥ１２に重畳する開口部ＯＰ３２の総面積は、画素電極ＰＥ１１に重畳する開口部ＯＰ３１の総面積と同等である。なお、開口部ＯＰ３２は、開口部ＯＰ１２に重畳している。同様に、画素電極ＰＥ２２に重畳する開口部ＯＰ４２の総面積は、画素電極ＰＥ２１に重畳する開口部ＯＰ４１の総面積と同等である。なお、開口部ＯＰ４２は、開口部ＯＰ２２に重畳している。
　このような第１構成例によれば、画素電極ＰＥ１１の電極面積は、画素電極ＰＥ２１の電極面積より小さい。つまり、画素ＰＸ１１において液晶層ＬＣに電圧が印加可能な領域の面積（あるいは液晶分子が駆動される領域の面積）は、画素ＰＸ２１において液晶層ＬＣに電圧が印加可能な領域の面積より小さい。このため、画素ＰＸ１１における散乱面積は、画素ＰＸ２１における散乱面積より小さい。したがって、図６を参照して説明したように、輝度を均一化することができる。あるいは、画素ＰＸ１１と画素ＰＸ２１とでの輝度差を低減することができる。
　また、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの双方が開口部を備えたことにより、透明電極の総面積を低減することができる。このため、透明電極が光吸収性を有する場合であったとしても、開口部を備えていない場合と比較して、透明電極における光吸収を抑制することができる。
　　〔第２構成例〕　
　図１０は、第１基板ＳＵＢ１の一例を示す平面図である。第２構成例は、上記の第１構成例と比較して、開口部ＯＰ１１、ＯＰ１２、ＯＰ２１、ＯＰ２２がいずれも同一方向に延出している点で相違している。図１０に示した例では、これらの開口部ＯＰ１１、ＯＰ１２、ＯＰ２１、ＯＰ２２は、いずれも第１方向Ｘに延出している。開口部ＯＰ１１、ＯＰ１２、ＯＰ２１、ＯＰ２２の延出方向は、液晶層ＬＣにおけるポリマー３１の延出方向とほぼ平行である。すなわち、ポリマー３１は、図１を参照して説明したように、第１方向Ｘに延出した筋状に形成されている。
　図１１は、図１０に示した第１基板ＳＵＢ１に重畳する第２基板ＳＵＢ２の一例を示す平面図である。開口部ＯＰ３１、ＯＰ３２、ＯＰ４１、ＯＰ４２は、いずれも第１方向Ｘに延出している。また、第１構成例と同様に、開口部ＯＰ３１は開口部ＯＰ１１に重畳し、開口部ＯＰ３２は開口部ＯＰ１２に重畳し、開口部ＯＰ４１は開口部ＯＰ２１に重畳し、開口部ＯＰ４２は開口部ＯＰ２２に重畳している。
　このような第２構成例においても、上記の第１構成例と同様の効果が得られる。加えて、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの各々の開口部ＯＰが第１方向Ｘに延出しているため、不所望な電界の形成を抑制することができる。すなわち、液晶分子３２は、第１方向Ｘに初期配向されている。開口部ＯＰの縁のうち、第１方向Ｘと交差する方向に延びる部分には、液晶分子３２の駆動を促進する電界が形成されやすい。このような電界が形成された領域では、液晶分子３２が駆動されることで不所望な散乱状態が形成される。本来、発光素子ＬＤに近接した画素ＰＸでは、散乱面積を低減する目的で多くの開口部ＯＰが形成されたにもかかわらず、開口部ＯＰの個数が多いほど、不所望な散乱を招く領域が増加してしまう。第２構成例では、開口部ＯＰが第１方向Ｘに延出しているため、不所望な散乱を招く領域を低減することができる。このため、電極面積と、散乱面積とがほぼ一致するようになる。
　　〔開口部断面〕　
　図１２は、図９及び図１１に示したＡ－Ｂ線に沿った断面図である。ここでは、開口部ＯＰ１１を含む画素電極ＰＥ１１、開口部ＯＰ３１を含む共通電極ＣＥ、及び、液晶層ＬＣのみを図示している。　
　開口部ＯＰ３１は、開口部ＯＰ１１の直上に位置している。液晶層ＬＣは、画素電極ＰＥ１１と共通電極ＣＥとの間において、第３方向Ｚに沿った厚さＴＬＣを有している。画素電極ＰＥ１１において、開口部ＯＰ１１の第２方向Ｙに沿った幅ＷＰＥは、厚さＴＬＣより大きい。なお、開口部ＯＰ３１の第２方向Ｙに沿った幅については、幅ＷＰＥと同等である。図９に示した第１構成例の開口部ＯＰ１１及びＯＰ３１は円形であり、幅ＷＰＥは開口部ＯＰ１１及びＯＰ３１の直径に相当する。図１１に示した第２構成例の開口部ＯＰ１１及びＯＰ３１は第１方向Ｘに延出しており、幅ＷＰＥは開口部ＯＰ１１及びＯＰ３１の延出方向（第１方向Ｘ）と直交する方向（第２方向Ｙ）の長さに相当する。
　幅ＷＰＥが厚さＴＬＣより大きいため、開口部ＯＰ１１及びＯＰ３１において、斜め電界や横電界等の不所望な電界が形成されにくくなり、液晶層ＬＣにおける不所望な散乱を抑制することができる。なお、他の開口部についてもその幅は厚さＴＬＣより大きいことが望ましい。
　　〔容量電極形状〕　
　図１３は、容量電極１３の一例を示す平面図である。容量電極１３は、例えば、走査線Ｇ１乃至Ｇ４と、信号線Ｓ１乃至Ｓ３と、スイッチング素子ＳＷ１１、ＳＷ１２、ＳＷ２１、ＳＷ２２と、に重畳し、格子状に形成されている。つまり、容量電極１３は、各画素において、略四角形状の開口１３ＯＰを備えている。容量電極１３は、図１３において斜線で示すように、画素電極ＰＥ１１、ＰＥ１２、ＰＥ２１、ＰＥ２２に重畳し、各画素における容量を形成している。なお、容量電極１３は、各画素電極ＰＥにおいて、開口部ＯＰ１１、ＯＰ１２、ＯＰ２１、ＯＰ２２には重畳していない。あるいは、各画素電極ＰＥの開口部ＯＰは、容量電極１３の開口１３ＯＰに重畳している。画素電極ＰＥ１１と容量電極１３との重畳面積は、画素電極ＰＥ２１と容量電極１３との重畳面積と同等である。また、画素電極ＰＥ１１と容量電極１３との重畳面積は、画素電極ＰＥ１２と容量電極１３との重畳面積と同等である。画素電極ＰＥ２１と容量電極１３との重畳面積は、画素電極ＰＥ２２と容量電極１３との重畳面積と同等である。つまり、発光素子からの距離にかかわらず、各画素の容量を揃えることができる。また、各画素電極ＰＥの開口部ＯＰが容量電極１３と重畳していないため、不所望なフリンジ電界の形成を抑制することができる。
　なお、上記の第１及び第２構成例において、共通電極ＣＥの開口部が画素電極ＰＥの開口部に重畳する場合について説明したが、これに限らない。例えば、共通電極ＣＥが開口部を備えず、画素電極ＰＥが開口部を備えていてもよい。あるいは、画素電極ＰＥが開口部を備えず、共通電極ＣＥが開口部を備えていてもよい。これらの場合であっても、画素電極ＰＥまたは共通電極ＣＥが開口部を備えたことにより、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの双方が開口部を備えていない場合と比較して、開口部付近の電界が弱まる。このため、開口部付近で散乱状態が形成されにくくなり、実質的に散乱面積を低減することができる。これにより、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの双方が開口部を備えている場合と同様の輝度分布を形成することが可能となる。
　　〔第３構成例〕　
　図１４は、第１基板ＳＵＢ１の一例を示す平面図である。第３構成例は、第１構成例と比較して、各画素電極ＰＥが開口部を備えていない平板状に形成され、各画素電極ＰＥに透明樹脂ＴＲが重畳している点で相違している。なお、図示しない共通電極についても、開口部を備えていない平板状に形成されている。
　画素電極ＰＥ１１は、第２方向Ｙにおいて、発光素子ＬＤと画素電極ＰＥ２１との間に設けられている。画素電極ＰＥ１１の電極面積は、画素電極ＰＥ２１の電極面積と同等である。　
　透明樹脂ＴＲ１１は画素電極ＰＥ１１に重畳し、透明樹脂ＴＲ１２は画素電極ＰＥ１２に重畳し、透明樹脂ＴＲ２１は画素電極ＰＥ２１に重畳し、透明樹脂ＴＲ２２は画素電極ＰＥ２２に重畳している。透明樹脂ＴＲは、液晶層ＬＣのポリマー３１及び液晶分子３２とは異なる材料によって形成されている。一例では、透明樹脂ＴＲは、ポリマー３１よりも高い透明度を有する材料によって形成されている。また、透明樹脂ＴＲは、ポリマー３１とは異なり、屈折率異方性を有していない。なお、透明樹脂ＴＲの屈折率は、ポリマー３１の異常光屈折率ｎｅとは異なり、ポリマー３１の常光屈折率ｎｏと同等であり、約１．５である。　
　画素電極ＰＥ１１と透明樹脂ＴＲ１１との重畳面積は、画素電極ＰＥ２１と透明樹脂ＴＲ２１との重畳面積より大きい。なお、画素電極ＰＥ１１と透明樹脂ＴＲ１１との重畳面積は、画素電極ＰＥ１２と透明樹脂ＴＲ１２との重畳面積と同等である。また、画素電極ＰＥ２１と透明樹脂ＴＲ２１との重畳面積は、画素電極ＰＥ２２と透明樹脂ＴＲ２２との重畳面積と同等である。
　平面視における透明樹脂ＴＲの形状について、図１４に示した例の円形に限定されるものではなく、楕円形、多角形など他の形状であってもよい。また、第２構成例で説明したように、透明樹脂ＴＲは、第１方向Ｘに延出していてもよい。　
　平面視における透明樹脂ＴＲの面積について、図１４に示した例では、すべての透明樹脂の１個当たりの面積が同等であるが、異なっていてもよい。　
　各画素電極ＰＥに重畳する透明樹脂ＴＲの個数について、図１４に示した例に限定されるものではない。
　図１５は、図１４に示したＣ－Ｄ線に沿った断面図である。ここでは、画素電極ＰＥ１１、配向膜ＡＬ１、共通電極ＣＥ、配向膜ＡＬ２、透明樹脂ＴＲ１１、及び、液晶層ＬＣのみを図示している。図１５に示した例は、透明樹脂ＴＲ１１が第２基板ＳＵＢ２に設けられた例に相当する。透明樹脂ＴＲ１１は、柱状に形成されている。なお、ここでは、透明樹脂ＴＲ１１を図示して説明するが、透明樹脂ＴＲ２１等も透明樹脂ＴＲ１１と同様に形成されている。　
　図１５の（Ａ）では、透明樹脂ＴＲ１１は、共通電極ＣＥ及び配向膜ＡＬ２に接し、配向膜ＡＬ１（あるいは第１基板ＳＵＢ１）から離間している。つまり、配向膜ＡＬ１と透明樹脂ＴＲ１１との間には液晶層ＬＣが介在している。このとき、透明樹脂ＴＲ１１の第３方向Ｚに沿った厚さＴＴＲは、液晶層ＬＣの厚さＴＬＣの１／２以上であることが望ましい。このような透明樹脂ＴＲ１１は、第３方向Ｚに押圧するような衝撃が加わった際に、配向膜ＡＬ１に接触する。これにより、表示パネルＰＮＬの過度の変形を抑制することができる。　
　図１５の（Ｂ）では、透明樹脂ＴＲ１１は、共通電極ＣＥ及び配向膜ＡＬ２に接し、また、配向膜ＡＬ１（あるいは第１基板ＳＵＢ１）に接している。つまり、透明樹脂ＴＲ１１は、配向膜ＡＬ１と配向膜ＡＬ２との間のセルギャップを形成するスペーサとして機能する。
　図１６は、図１４に示したＣ－Ｄ線に沿った他の断面図である。図１６に示した例は、図１５に示した例と比較して、透明樹脂ＴＲ１１が第１基板ＳＵＢ１に設けられた点で相違している。図１６の（Ａ）では、透明樹脂ＴＲ１１は、画素電極ＰＥ１１及び配向膜ＡＬ１に接し、配向膜ＡＬ２（あるいは第２基板ＳＵＢ２）から離間している。つまり、透明樹脂ＴＲ１１と配向膜ＡＬ２との間には液晶層ＬＣが介在している。図１６の（Ｂ）では、透明樹脂ＴＲ１１は、画素電極ＰＥ１１及び配向膜ＡＬ１に接し、また、配向膜ＡＬ２（あるいは第２基板ＳＵＢ２）に接している。つまり、透明樹脂ＴＲ１１は、配向膜ＡＬ１と配向膜ＡＬ２との間のセルギャップを形成するスペーサとして機能する。
　このような第３構成例によれば、画素電極ＰＥ１１と透明樹脂ＴＲ１１との重畳面積は、画素電極ＰＥ２１と透明樹脂ＴＲ２１との重畳面積より大きい。透明樹脂ＴＲが存在する領域は、ポリマー３１及び液晶分子３２を含まないため、散乱に寄与しない。つまり、画素ＰＸ１１における散乱面積は、画素ＰＸ２１における散乱面積より小さい。したがって、図６を参照して説明したように、輝度を均一化することができる。　
　なお、上記の第１乃至第３構成例は、適宜組み合わせることが可能である。
　　〔第４構成例〕　
　図１７は、第４構成例における散乱面積の分布を説明するための図である。表示パネルＰＮＬは、第２方向Ｙに並んだ複数の表示ブロックＢ１乃至Ｂ４を有している。表示ブロックＢ１乃至Ｂ４の各々は、図６の(Ａ)を参照して説明したように、発光素子ＬＤから離れるにしたがって各画素の散乱面積が増加するように構成されている。このため、表示ブロックＢ１乃至Ｂ４の各々において、発光素子ＬＤに近接した画素で散乱される光量が低減し、発光素子ＬＤから離間した画素で散乱される光量が増加する。これにより、表示ブロックＢ１乃至Ｂ４の各々において、輝度を均一化することができる。
　表示パネルＰＮＬが有する表示ブロックの個数は、図１７に示した例に限らない。また、表示ブロックＢ１乃至Ｂ４の各々の第２方向Ｙに沿った長さは、任意に設定することができる。例えば、表示パネルＰＮＬの中央部に位置する表示ブロックＢ２が表示ブロックＢ１よりも第２方向Ｙに沿って長くなるように拡張されていてもよい。また、表示ブロックＢ１乃至Ｂ４の各々の最小散乱面積がすべて同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、表示ブロックＢ１乃至Ｂ４の各々の最大散乱面積がすべて同一であってもよいし、異なっていてもよい。
　図１８は、第１基板ＳＵＢ１の一例を示す平面図である。図１８に示す例は、各画素電極ＰＥが開口部ＯＰを備え、画素電極ＰＥの電極面積によって散乱面積の分布を形成するものである。
　第１基板ＳＵＢ１において、発光素子ＬＤに近接した表示ブロックＢ１は、図８に示した第１構成例と同様である。側面１０Ｄに近接した表示ブロックＢ４も表示ブロックＢ１と同様に構成されている。表示ブロックＢ４について簡単に説明すると、スイッチング素子ＳＷ３１は、走査線Ｇ１１及び信号線Ｓ１と電気的に接続されている。画素電極ＰＥ３１は、画素ＰＸ３１に設けられ、スイッチング素子ＳＷ３１と電気的に接続されている。画素電極ＰＥ３１は、開口部ＯＰ３を備えている。スイッチング素子ＳＷ４１は、走査線Ｇ１３及び信号線Ｓ１と電気的に接続されている。画素電極ＰＥ４１は、画素ＰＸ４１に設けられ、スイッチング素子ＳＷ４１と電気的に接続されている。画素電極ＰＥ４１は、開口部ＯＰ４を備えている。画素ＰＸ３１の面積は、画素ＰＸ４１の面積と同等である。また、画素ＰＸ３１の面積は、画素ＰＸ１１及びＰＸ２１の面積とも同等である。
　画素電極ＰＥ３１は、第２方向Ｙにおいて、画素電極ＰＥ２１と画素電極ＰＥ４１との間に設けられている。画素電極ＰＥ３１の電極面積は、画素電極ＰＥ２１の電極面積より小さい。画素電極ＰＥ４１の電極面積は、画素電極ＰＥ３１の電極面積より大きい。また、開口部ＯＰ３の総面積は、開口部ＯＰ２１の総面積より大きい。開口部ＯＰ４の総面積は、開口部ＯＰ３の総面積より小さい。　
　したがって、表示ブロックＢ１及びＢ４において、それぞれ輝度を均一化することができる。
　図１９は、第１基板ＳＵＢ１の他の例を示す平面図である。図１９に示す例は、各画素電極ＰＥと透明樹脂ＴＲとの重畳面積によって散乱面積の分布を形成するものである。
　第１基板ＳＵＢ１において、表示ブロックＢ１は、図１４に示した第３構成例と同様である。表示ブロックＢ４も表示ブロックＢ１と同様に構成されている。表示ブロックＢ４について簡単に説明すると、画素ＰＸ３１に設けられた透明樹脂ＴＲ３１は、画素電極ＰＥ３１に重畳している。画素ＰＸ４１に設けられた透明樹脂ＴＲ４１は、画素電極ＰＥ４１に重畳している。画素電極ＰＥ３１と透明樹脂ＴＲ３１との重畳面積は、画素電極ＰＥ２１と透明樹脂ＴＲ２１との重畳面積より大きい。画素電極ＰＥ４１と透明樹脂ＴＲ４１との重畳面積は、画素電極ＰＥ３１と透明樹脂ＴＲ３１との重畳面積より小さい。また、透明樹脂ＴＲ３１の総面積は、透明樹脂ＴＲ２１の総面積より大きい。透明樹脂ＴＲ４１の総面積は、透明樹脂ＴＲ３１の総面積より小さい。　
　したがって、表示ブロックＢ１及びＢ４において、それぞれ輝度を均一化することができる。
　　〔第５構成例〕　
　図２０は、第１基板ＳＵＢ１の一例を示す平面図である。図２０に示す例は、各画素電極ＰＥが開口部ＯＰを備え、画素電極ＰＥの電極面積によって散乱面積の分布を形成するものである。
　発光素子ＬＤ１は、点線で示した透明基板２０の側面２０Ｃと向かい合っている。発光素子ＬＤ２は、透明基板１０の側面１０Ｄ及び透明基板２０の側面２０Ｄと向かい合っている。
　第１基板ＳＵＢ１において、スイッチング素子ＳＷ５１は、走査線Ｇ２１及び信号線Ｓ１と電気的に接続されている。画素電極ＰＥ５１は、画素ＰＸ５１に設けられ、スイッチング素子ＳＷ５１と電気的に接続されている。画素電極ＰＥ５１は、開口部ＯＰ５１を備えている。画素ＰＸ５１の面積は、画素ＰＸ１１及びＰＸ２１の面積と同等である。
　画素ＰＸ２１は、図７を参照して説明した表示パネルＰＮＬの領域ＭＡに位置している。画素電極ＰＥ１１は、第２方向Ｙにおいて、発光素子ＬＤ１と画素電極ＰＥ２１との間に設けられている。画素電極ＰＥ５１は、第２方向Ｙにおいて、画素電極ＰＥ２１と発光素子ＬＤ２との間に設けられている。画素電極ＰＥ２１の電極面積は、画素電極ＰＥ１１の電極面積及び画素電極ＰＥ５１の電極面積より大きい。また、開口部ＯＰ２１の総面積は、開口部ＯＰ１１の総面積より小さく、また、開口部ＯＰ５１の総面積より小さい。
　図２１は、第１基板ＳＵＢ１の他の例を示す平面図である。図２１に示す例は、各画素電極ＰＥと透明樹脂ＴＲとの重畳面積によって散乱面積の分布を形成するものである。
　第１基板ＳＵＢ１において、画素ＰＸ５１に設けられた透明樹脂ＴＲ５１は、画素電極ＰＥ５１に重畳している。画素電極ＰＥ２１と透明樹脂ＴＲ２１との重畳面積は、画素電極ＰＥ１１と透明樹脂ＴＲ１１との重畳面積より小さい。画素電極ＰＥ２１と透明樹脂ＴＲ２１との重畳面積は、画素電極ＰＥ５１と透明樹脂ＴＲ５１との重畳面積より小さい。また、透明樹脂ＴＲ２１の総面積は、透明樹脂ＴＲ１１の総面積より小さく、また、透明樹脂ＴＲ５１の総面積より小さい。
　このような第５構成例によれば、図７を参照して説明したように、輝度を均一化することができる。
　本明細書において、例えば、透明基板１０は第１透明基板に相当し、透明基板２０は第２透明基板に相当する。スイッチング素子ＳＷ１１は第１スイッチング素子に相当し、スイッチング素子ＳＷ２１は第２スイッチング素子に相当し、スイッチング素子ＳＷ３１は第３スイッチング素子に相当し、スイッチング素子ＳＷ４１は第４スイッチング素子に相当し、スイッチング素子ＳＷ５１は第５スイッチング素子に相当する。　
　画素電極ＰＥ１１は第１画素電極に相当し、開口部ＯＰ１１は第１開口部に相当する。画素電極ＰＥ２１は第２画素電極に相当し、開口部ＯＰ２１は第２開口部に相当する。画素電極ＰＥ３１は第３画素電極に相当し、画素電極ＰＥ４１は第４画素電極に相当し、画素電極ＰＥ５１は第５画素電極に相当する。共通電極ＣＥにおいて、開口部ＯＰ３１は第３開口部に相当し、開口部ＯＰ４１は第４開口部に相当する。　
　走査線Ｇ１は第１走査線に相当し、走査線Ｇ２は第２走査線に相当し、走査線Ｇ３は第３走査線に相当し、走査線Ｇ４は第４走査線に相当する。信号線Ｓ１は第１信号線に相当し、信号線Ｓ２は第２信号線に相当する。画素ＰＸ１１は第１画素に相当し、画素ＰＸ２１は第２画素に相当する。　
　透明樹脂ＴＲ１１は第１透明樹脂に相当し、透明樹脂ＴＲ２１は第２透明樹脂に相当し、透明樹脂ＴＲ３１は第３透明樹脂に相当し、透明樹脂ＴＲ４１は第４透明樹脂に相当する。
　以上説明したように、本実施形態によれば、表示品位の低下を抑制することが可能な表示装置を提供することができる。
　なお、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
　本明細書にて開示した構成から得られる表示装置の一例を以下に付記する。　
（１）
　発光素子と、
　第１透明基板と、第１スイッチング素子及び第２スイッチング素子と、前記第１スイッチング素子と電気的に接続された第１画素電極と、前記第２スイッチング素子と電気的に接続された第２画素電極と、を備えた第１基板と、
　前記発光素子と向かい合う側面を備えた第２透明基板と、前記第１画素電極及び前記第２画素電極に重畳する共通電極と、を備えた第２基板と、
　前記第１基板と前記第２基板との間に設けられ、ポリマー及び液晶分子を含む液晶層と、を備え、
　前記第１画素電極は、前記発光素子と前記第２画素電極との間に設けられ、
　前記第１画素電極の電極面積は、前記第２画素電極の電極面積より小さい、表示装置。
（２）
　前記第１画素電極の外周エッジの全長は、前記第２画素電極の外周エッジの全長と同等である、（１）に記載の表示装置。
（３）
　前記第１基板は、第１乃至第４走査線と、前記第１乃至第４走査線と交差する第１信号線及び第２信号線と、を備え、
　前記第１画素電極は、前記第１走査線及び前記第２走査線と、前記第１信号線及び前記第２信号線とで囲まれた第１画素に設けられ、
　前記第２画素電極は、前記第３走査線及び前記第４走査線と、前記第１信号線及び前記第２信号線とで囲まれた第２画素に設けられ、
　前記第１走査線及び前記第２走査線の間隔は、前記第３走査線及び前記第４走査線の間隔と同等である、（２）に記載の表示装置。
（４）
　前記第１画素電極は、第１開口部を備え、
　前記第２画素電極は、第２開口部を備え、
　前記第１開口部の総面積は、前記第２開口部の総面積より大きい、（１）乃至（３）のいずれか１項に記載の表示装置。
（５）
　前記共通電極は、前記第１開口部に重畳する第３開口部と、前記第２開口部に重畳する第４開口部と、を備えている、（４）に記載の表示装置。
（６）
　前記第１開口部及び前記第２開口部の各々は、同一方向に延出し、
　前記ポリマーは、前記第１開口部及び前記第２開口部の延出方向に延出した筋状に形成されている、（４）または（５）に記載の表示装置。
（７）
　前記第１開口部及び前記第２開口部の各々は、前記延出方向に直交する幅を有し、
　前記幅は、前記液晶層の厚さより大きい、（６）に記載の表示装置。
（８）
　前記第１基板は、前記第１画素電極及び前記第２画素電極に重畳する容量電極を備え、
　前記第１画素電極と前記容量電極との重畳面積は、前記第２画素電極と前記容量電極との重畳面積と同等である、（１）乃至（７）のいずれか１項に記載の表示装置。
（９）
　前記第１基板は、第３スイッチング素子及び第４スイッチング素子と、前記第３スイッチング素子と電気的に接続された第３画素電極と、前記第４スイッチング素子と電気的に接続された第４画素電極と、を備え、
　前記第３画素電極は、前記第２画素電極と前記第４画素電極との間に設けられ、
　前記第３画素電極の電極面積は、前記第２画素電極の電極面積より小さく、
　前記第４画素電極の電極面積は、前記第３画素電極の電極面積より大きい、（１）乃至（８）のいずれか１項に記載の表示装置。
（１０）
　発光素子と、
　第１透明基板と、第１スイッチング素子及び第２スイッチング素子と、前記第１スイッチング素子と電気的に接続された第１画素電極と、前記第２スイッチング素子と電気的に接続された第２画素電極と、を備えた第１基板と、
　前記発光素子と向かい合う側面を備えた第２透明基板と、前記第１画素電極及び前記第２画素電極に重畳する共通電極と、を備えた第２基板と、
　前記第１基板と前記第２基板との間に設けられ、筋状のポリマー及び液晶分子を含む液晶層と、
　前記第１画素電極に重畳する第１透明樹脂と、
　前記第２画素電極に重畳する第２透明樹脂と、を備え、
　前記第１画素電極は、前記発光素子と前記第２画素電極との間に設けられ、
　前記第１画素電極の電極面積は、前記第２画素電極の電極面積と同等であり、
　前記第１透明樹脂及び前記第２透明樹脂は、前記ポリマー及び前記液晶分子とは異なる材料によって形成され、
　前記第１画素電極と前記第１透明樹脂との重畳面積は、前記第２画素電極と前記第２透明樹脂との重畳面積より大きい、表示装置。
（１１）
　前記第１基板は、第３スイッチング素子及び第４スイッチング素子と、前記第３スイッチング素子と電気的に接続された第３画素電極と、前記第４スイッチング素子と電気的に接続された第４画素電極と、を備え、
　前記第３画素電極に重畳する第３透明樹脂と、
　前記第４画素電極に重畳する第４透明樹脂と、を備え、
　前記第３画素電極は、前記第２画素電極と前記第４画素電極との間に設けられ、
　前記第３画素電極と前記第３透明樹脂との重畳面積は、前記第２画素電極と前記第２透明樹脂との重畳面積より大きく、
　前記第４画素電極と前記第４透明樹脂との重畳面積は、前記第３画素電極と前記第３透明樹脂との重畳面積より小さい、（１０）に記載の表示装置。
　ＤＳＰ…表示装置　ＰＮＬ…表示パネル　ＬＤ…発光素子
　ＳＵＢ１…第１基板　ＳＵＢ２…第２基板
　ＬＣ…液晶層　３１…ポリマー　３２…液晶分子
　ＳＷ…スイッチング素子　ＰＥ…画素電極　ＣＥ…共通電極　ＯＰ…開口部
　１０…透明基板　２０…透明基板

Claims (17)

  1. 　発光素子と、
    　第１透明基板と、第１スイッチング素子及び第２スイッチング素子と、前記第１スイッチング素子と電気的に接続された第１画素電極と、前記第２スイッチング素子と電気的に接続された第２画素電極と、を備えた第１基板と、
    　前記発光素子と向かい合う側面を備えた第２透明基板と、前記第１画素電極及び前記第２画素電極に重畳する共通電極と、を備えた第２基板と、
    　前記第１基板と前記第２基板との間に設けられ、ポリマー及び液晶分子を含む液晶層と、を備え、
    　前記第１画素電極は、前記発光素子と前記第２画素電極との間に設けられ、
    　前記第１画素電極の電極面積は、前記第２画素電極の電極面積より小さい、表示装置。
  2. 　前記第１画素電極の外周エッジの全長は、前記第２画素電極の外周エッジの全長と同等である、請求項１に記載の表示装置。
  3. 　前記第１基板は、第１乃至第４走査線と、前記第１乃至第４走査線と交差する第１信号線及び第２信号線と、を備え、
    　前記第１画素電極は、前記第１走査線及び前記第２走査線と、前記第１信号線及び前記第２信号線とで囲まれた第１画素に設けられ、
    　前記第２画素電極は、前記第３走査線及び前記第４走査線と、前記第１信号線及び前記第２信号線とで囲まれた第２画素に設けられ、
    　前記第１走査線及び前記第２走査線の間隔は、前記第３走査線及び前記第４走査線の間隔と同等である、請求項２に記載の表示装置。
  4. 　前記第１画素電極は、第１開口部を備え、
    　前記第２画素電極は、第２開口部を備え、
    　前記第１開口部の総面積は、前記第２開口部の総面積より大きい、請求項１に記載の表示装置。
  5. 　前記共通電極は、前記第１開口部に重畳する第３開口部と、前記第２開口部に重畳する第４開口部と、を備えている、請求項４に記載の表示装置。
  6. 　前記第１開口部及び前記第２開口部の各々は、同一方向に延出し、
    　前記ポリマーは、前記第１開口部及び前記第２開口部の延出方向に延出した筋状に形成されている、請求項４に記載の表示装置。
  7. 　前記第１開口部及び前記第２開口部の各々は、前記延出方向に直交する幅を有し、
    　前記幅は、前記液晶層の厚さより大きい、請求項６に記載の表示装置。
  8. 　前記第１基板は、前記第１画素電極及び前記第２画素電極に重畳する容量電極を備え、
    　前記第１画素電極と前記容量電極との重畳面積は、前記第２画素電極と前記容量電極との重畳面積と同等である、請求項１に記載の表示装置。
  9. 　前記第１基板は、前記第１画素電極及び前記第２画素電極に重畳する容量電極を備え、
    　前記第１画素電極は、第１開口部を備え、
    　前記第２画素電極は、第２開口部を備え、
    　前記容量電極は、前記第１開口部及び前記第２開口部の各々に重畳する開口を備えている、請求項１に記載の表示装置。
  10. 　前記第１基板は、複数の走査線と、前記複数の走査線と交差する複数の信号線と、を備え、
    　前記容量電極は、前記複数の走査線、及び、前記複数の信号線に重畳し、格子状に形成されている、請求項９に記載の表示装置。
  11. 　前記第１基板は、第３スイッチング素子及び第４スイッチング素子と、前記第３スイッチング素子と電気的に接続された第３画素電極と、前記第４スイッチング素子と電気的に接続された第４画素電極と、を備え、
    　前記第３画素電極は、前記第２画素電極と前記第４画素電極との間に設けられ、
    　前記第３画素電極の電極面積は、前記第２画素電極の電極面積より小さく、
    　前記第４画素電極の電極面積は、前記第３画素電極の電極面積より大きい、請求項１に記載の表示装置。
  12. 　前記第１基板は、第５スイッチング素子と、前記第５スイッチング素子と電気的に接続された第５画素電極と、を備え、
    　前記第２画素電極は、前記第１画素電極と前記第５画素電極との間に設けられ、
    　前記第２画素電極の電極面積は、前記第５画素電極の電極面積より大きい、請求項１に記載の表示装置。
  13. 　発光素子と、
    　第１透明基板と、第１スイッチング素子及び第２スイッチング素子と、前記第１スイッチング素子と電気的に接続された第１画素電極と、前記第２スイッチング素子と電気的に接続された第２画素電極と、を備えた第１基板と、
    　前記発光素子と向かい合う側面を備えた第２透明基板と、前記第１画素電極及び前記第２画素電極に重畳する共通電極と、を備えた第２基板と、
    　前記第１基板と前記第２基板との間に設けられ、筋状のポリマー及び液晶分子を含む液晶層と、
    　前記第１画素電極に重畳する第１透明樹脂と、
    　前記第２画素電極に重畳する第２透明樹脂と、を備え、
    　前記第１画素電極は、前記発光素子と前記第２画素電極との間に設けられ、
    　前記第１画素電極の電極面積は、前記第２画素電極の電極面積と同等であり、
    　前記第１透明樹脂及び前記第２透明樹脂は、前記ポリマー及び前記液晶分子とは異なる材料によって形成され、
    　前記第１画素電極と前記第１透明樹脂との重畳面積は、前記第２画素電極と前記第２透明樹脂との重畳面積より大きい、表示装置。
  14. 　前記第１透明樹脂及び前記第２透明樹脂の透明度は、前記ポリマーの透明度より高い、請求項１３に記載の表示装置。
  15. 　前記第１透明樹脂及び前記第２透明樹脂の屈折率は、前記ポリマーの常光屈折と同等である、請求項１３に記載の表示装置。
  16. 　前記第１透明樹脂は、柱状に形成され、前記第１基板または前記第２基板から離間している、請求項１３に記載の表示装置。
  17. 　前記第１基板は、第３スイッチング素子及び第４スイッチング素子と、前記第３スイッチング素子と電気的に接続された第３画素電極と、前記第４スイッチング素子と電気的に接続された第４画素電極と、を備え、
    　前記第３画素電極に重畳する第３透明樹脂と、
    　前記第４画素電極に重畳する第４透明樹脂と、を備え、
    　前記第３画素電極は、前記第２画素電極と前記第４画素電極との間に設けられ、
    　前記第３画素電極と前記第３透明樹脂との重畳面積は、前記第２画素電極と前記第２透明樹脂との重畳面積より大きく、
    　前記第４画素電極と前記第４透明樹脂との重畳面積は、前記第３画素電極と前記第３透明樹脂との重畳面積より小さい、請求項１３に記載の表示装置。
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