JP7229789B2 - 表示装置、及び、表示装置を組み込んだ電子機器 - Google Patents

Description

本発明の実施形態は、表示装置、及び、表示装置を組み込んだ電子機器に関する。

近年、表示部及びカメラを同一面側に備えたスマートフォン等の電子機器が広く実用化されている。このような電子機器では、カメラが表示部の外側に設けられており、カメラ等を設置するためのスペースを確保する一方で、表示部を拡大する要望が高まっている。
一方で、撮像素子の前段に、液晶絞り部を設ける技術が提案されている。

特開２０１７－４０９０８号公報 特開２０１４－１９７２０３号公報 特開２００７－８６２２１号公報

本実施形態の目的は、表示部を拡大することが可能な表示装置、及び、表示装置を組み込んだ電子機器を提供することにある。

本実施形態によれば、
液晶層と、第１絶縁基板と、前記第１絶縁基板と前記液晶層との間に設けられた画素電極と、前記第１絶縁基板と前記液晶層との間に設けられた第１透明電極と、を備えた第１基板と、第２絶縁基板と、前記画素電極に重畳し前記第２絶縁基板と前記液晶層との間に設けられた第１有機絶縁膜と、前記第１有機絶縁膜と前記液晶層との間に設けられた第２有機絶縁膜と、前記第１透明電極に重畳し前記第２絶縁基板と前記液晶層との間に設けられた第２透明電極と、を備えた第２基板と、を備え、前記第１有機絶縁膜は、凹部を備え、前記第２透明電極は、前記凹部に設けられている、表示装置が提供される。
本実施形態によれば、
液晶層と、第１絶縁基板と、前記第１絶縁基板と前記液晶層との間に設けられた画素電極と、前記第１絶縁基板と前記液晶層との間に設けられた第１透明電極と、を備えた第１基板と、第２絶縁基板と、前記第１透明電極に重畳し前記第２絶縁基板と前記液晶層との間に設けられた第２透明電極と、を備えた第２基板と、前記第１絶縁基板の前記第１透明電極が設けられる領域、及び、前記第２絶縁基板の前記第２透明電極が設けられる領域の少なくとも一方は、凹部を備えている、表示装置が提供される。
本実施形態によれば、
液晶層を備えた液晶パネルと、前記液晶パネルと重畳し、前記液晶パネルを介して受光するカメラと、を備え、前記液晶パネルは、第１絶縁基板と、前記第１絶縁基板と前記液晶層との間に設けられた画素電極と、前記カメラに重畳し前記第１絶縁基板と前記液晶層との間に設けられた第１透明電極と、を備えた第１基板と、第２絶縁基板と、前記画素電極に重畳し前記第２絶縁基板と前記液晶層との間に設けられた第１有機絶縁膜と、前記第１有機絶縁膜と前記液晶層との間に設けられた第２有機絶縁膜と、前記第１透明電極に重畳し前記第２絶縁基板と前記液晶層との間に設けられた第２透明電極と、を備えた第２基板と、を備え、前記第１有機絶縁膜は、凹部を備え、前記第２透明電極は、前記凹部に設けられている、電子機器が提供される。

図１は、本実施形態の表示装置ＤＳＰの一構成例を示す分解斜視図である。 図２は、電子機器１００の一構成例を示す平面図である。 図３は、図２に示した電子機器１００のカメラ１Ｃを含むＡ－Ｂ線に沿った断面図である。 図４は、光学機能領域ＯＡ及び画素ＰＸを含む液晶素子ＬＣＤの第１構成例を示す断面図である。 図５は、第２透明電極ＴＥ２に電圧を印加するための給電構造を示す断面図である。 図６は、第１透明電極ＴＥ１の形状例を示す図である。 図７は、光学機能領域ＯＡの液晶層ＬＣにレンズＬＬを形成する制御例を説明するための図である。 図８は、光学機能領域ＯＡの液晶層ＬＣにレンズＬＬを形成する他の制御例を説明するための図である。 図９は、第１透明電極ＴＥ１の他の形状例を示す図である。 図１０は、光学機能領域ＯＡ及び画素ＰＸを含む液晶素子ＬＣＤの第２構成例を示す断面図である。 図１１は、光学機能領域ＯＡ及び画素ＰＸを含む液晶素子ＬＣＤの第３構成例を示す断面図である。 図１２は、光学機能領域ＯＡ及び画素ＰＸを含む液晶素子ＬＣＤの第４構成例を示す断面図である。 図１３は、光学機能領域ＯＡ及び画素ＰＸを含む液晶素子ＬＣＤの第５構成例を示す断面図である。 図１４は、光学機能領域ＯＡ及び画素ＰＸを含む液晶素子ＬＣＤの第６構成例を示す断面図である。

以下、本実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。

図１は、本実施形態の表示装置ＤＳＰの一構成例を示す分解斜視図である。一例では、第１方向Ｘ、第２方向Ｙ、及び、第３方向Ｚは、互いに直交しているが、９０度以外の角度で交差していてもよい。第１方向Ｘ及び第２方向Ｙは、表示装置ＤＳＰを構成する基板の主面と平行な方向に相当し、第３方向Ｚは、表示装置ＤＳＰの厚さ方向に相当する。

表示装置ＤＳＰは、第１偏光板ＰＬ１及び第２偏光板ＰＬ２と、液晶パネルＰＮＬと、光学シートＯＳと、導光板ＬＧと、光源ＥＭと、反射シートＲＳと、を備えている。反射シートＲＳ、導光板ＬＧ、光学シートＯＳ、第１偏光板ＰＬ１、液晶パネルＰＮＬ、及び、第２偏光板ＰＬ２は、この順に第３方向Ｚに沿って並んでいる。複数の光源ＥＭは、第１方向Ｘに沿って間隔をおいて並んでいる。第１偏光板ＰＬ１、第２偏光板ＰＬ２、及び、液晶パネルＰＮＬは、第３方向Ｚに沿って進行する光に対して、光学的なスイッチ機能を備えた液晶素子ＬＣＤを構成している。このような液晶素子ＬＣＤは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙによって規定されるＸ－Ｙ平面内の領域毎に、透光または遮光する機能を発揮するものである。

液晶パネルＰＮＬは、例えばＸ－Ｙ平面と平行な平板状に形成されている。液晶パネルＰＮＬは、第１偏光板ＰＬ１と第２偏光板ＰＬ２との間に設けられている。液晶パネルＰＮＬは、画像を表示する表示部ＤＡと、表示部ＤＡを囲む額縁状の非表示部ＮＤＡと、を備えている。表示部ＤＡは、ノッチを含まない略四角形の領域であるが、４つの角が丸みを有していてもよい。液晶パネルＰＮＬの詳細な構成について、ここでは説明を省略するが、液晶パネルＰＮＬは、基板主面に沿った横電界を利用する表示モード、基板主面の法線に沿った縦電界を利用する表示モード、基板主面に対して斜め方向に傾斜した傾斜電界を利用する表示モード、さらには、上記の横電界、縦電界、及び、傾斜電界を適宜組み合わせて利用する表示モードに対応したいずれの構成を備えていてもよい。ここでの基板主面とは、Ｘ－Ｙ平面と平行な面である。

第１偏光板ＰＬ１及び第２偏光板ＰＬ２は、液晶パネルＰＮＬに対して、少なくとも表示部ＤＡに重畳している。一例では、第１偏光板ＰＬ１の吸収軸ＡＸ１及び第２偏光板ＰＬ２の吸収軸ＡＸ２は、Ｘ－Ｙ平面において互いに直交している。

照明装置ＩＬは、液晶パネルＰＮＬを背面側から照明する。照明装置ＩＬは、例えば、光源ＥＭ、導光板ＬＧ、光学シートＯＳ、及び、反射シートＲＳによって構成されている。

導光板ＬＧは、光源ＥＭに対向する側面Ｓａと、側面Ｓａの反対側の側面Ｓｂと、液晶パネルＰＮＬに対向する主面Ｓｃと、主面Ｓｃの反対側の主面Ｓｄと、第１開口部ＯＰ１と、を有している。第１開口部ＯＰ１は、側面Ｓａの反対側に設けられているが、特に制限される訳ではなく、側面Ｓａに直交する側面に設けられてもよい。図示した例では、第１開口部ＯＰ１は、側面Ｓｂから側面Ｓａに向かって窪んだ凹部あるいはノッチに相当する。なお、第１開口部ＯＰ１は、導光板ＬＧを第３方向Ｚに貫通した貫通孔であってもよい。

複数の光学シートＯＳは、導光板ＬＧと液晶パネルＰＮＬとの間に設けられ、主面Ｓｃに対向している。光学シートＯＳの各々は、第１開口部ＯＰ１に重畳する第２開口部ＯＰ２を有している。光学シートＯＳは、例えば、プリズムシートや拡散シートである。

反射シートＲＳは、主面Ｓｄに対向している。つまり、導光板ＬＧは、反射シートＲＳと光学シートＯＳとの間に設けられている。反射シートＲＳは、第１開口部ＯＰ１に重畳する第３開口部ＯＰ３を有している。第３開口部ＯＰ３、第１開口部ＯＰ１、及び、第２開口部ＯＰ２は、第３方向Ｚに沿ってこの順に並び、同一直線上に設けられている。反射シートＲＳは、例えばフレームに固定されていてもよい。その場合、フレームにも第１開口部ＯＰ１に重畳する開口部を設けてもよい。

光源ＥＭは、例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）であり、白色の照明光を出射する。光源ＥＭから出射される照明光は、側面Ｓａから入射し、導光板ＬＧの内部を進行する。そして、導光板ＬＧによって導光された照明光は、主面Ｓｃから液晶パネルＰＮＬに向かって出射され、液晶パネルＰＮＬを照明する。液晶パネルＰＮＬ、第１偏光板ＰＬ１、及び、第２偏光板ＰＬ２は、表示部ＤＡにおいて、照明光を選択的に透過することで、画像を表示する。

このような表示装置ＤＳＰを組み込んだ電子機器１００は、投射素子１Ａ、検出素子１Ｂ、可視光用のカメラ１Ｃなどを備えている。例えば、検出素子１Ｂ、カメラ１Ｃ、及び、投射素子１Ａは、第１方向Ｘに沿ってこの順に間隔を置いて並び、第３方向Ｚにおいて第１乃至第３開口部ＯＰ１乃至ＯＰ３に重畳するように設けられている。液晶パネルＰＮＬ、第１偏光板ＰＬ１及び第２偏光板ＰＬ２は、第３方向Ｚにおいて、第１乃至第３開口部ＯＰ１乃至ＯＰ３に重畳し、また、投射素子１Ａ、検出素子１Ｂ、及び、カメラ１Ｃに重畳している。また、投射素子１Ａ、検出素子１Ｂ、及び、カメラ１Ｃは、第３方向Ｚにおいて、液晶パネルＰＮＬの表示部ＤＡと重畳している。

投射素子１Ａは、液晶パネルＰＮＬ、第１偏光板ＰＬ１及び第２偏光板ＰＬ２に向けて赤外線を投射する。投射素子１Ａは、例えば、９００ｎｍ～１０００ｎｍの範囲にピーク波長を有する赤外線を照射する。投射素子１Ａから液晶素子ＬＣＤを介して出射した赤外線は、Ｘ－Ｙ平面に分布した複数のドット状のパターンを形成し、検出対象物に向けて投射される。
検出素子１Ｂは、液晶パネルＰＮＬ、第１偏光板ＰＬ１及び第２偏光板ＰＬ２を介して透過した赤外線（つまり、検出対象物から反射された赤外線のドットパターン）を検出する。検出素子１Ｂによる検出結果は、例えば検出対象物の認証等に利用することができる。

カメラ１Ｃは、液晶パネルＰＮＬ、第１偏光板ＰＬ１及び第２偏光板ＰＬ２を介して受光するイメージセンサ（撮像素子）を備えている。このようなカメラ１Ｃは、液晶パネルＰＮＬ、第１偏光板ＰＬ１及び第２偏光板ＰＬ２を介して透過した可視光（例えば、４００ｎｍ～７００ｎｍの範囲の光）を受光する。第１偏光板ＰＬ１の吸収軸ＡＸ１及び第２偏光板ＰＬ２の吸収軸ＡＸ２が互いに直交している場合、液晶素子ＬＣＤの液晶層ＬＣを透過する光の波長をλとした時、液晶層ＬＣのリタデーションがほぼゼロまたはλに相当する場合、液晶素子ＬＣＤの透過率が最小となる。このため、カメラ１Ｃで撮影する際には、液晶層ＬＣのリタデーションは、ゼロより大きくλより小さく設定される。リタデーションが約λ／２の場合には、液晶素子ＬＣＤの透過率は最大となる。

図２は、電子機器１００の一構成例を示す平面図である。照明装置ＩＬは、開口部ＯＰＡを有している。図１に示した第１乃至第３開口部ＯＰ１乃至ＯＰ３は、開口部ＯＰＡに対応して形成されている。投射素子１Ａ、検出素子１Ｂ、及び、カメラ１Ｃは、開口部ＯＰＡに設けられている。

液晶パネルＰＮＬは、表示部ＤＡにおいて、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙにマトリクス状に配列された画素ＰＸを備えている。各画素ＰＸは、同一の回路構成を有している。図２において拡大して示すように、各画素ＰＸは、スイッチング素子ＳＷ、画素電極ＰＥ、共通電極ＣＥ、液晶層ＬＣ等を備えている。スイッチング素子ＳＷは、例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）によって構成され、走査線Ｇ及び信号線Ｓと電気的に接続されている。画素電極ＰＥは、スイッチング素子ＳＷと電気的に接続されている。画素電極ＰＥの各々は、共通電極ＣＥと対向している。液晶層ＬＣは、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に生じる電界によって駆動される。容量Ｃｓは、例えば、共通電極ＣＥと同電位の電極、及び、画素電極ＰＥと同電位の電極の間に形成される。

液晶パネルＰＮＬは、照明装置ＩＬに重畳している。また、液晶パネルＰＮＬは、投射素子１Ａ、検出素子１Ｂ、及び、カメラ１Ｃに重畳している。平面視において、投射素子１Ａ、検出素子１Ｂ、及び、カメラ１Ｃは、液晶パネルＰＮＬのシールＳＥで囲まれた内側に設けられている。液晶パネルＰＮＬは、カメラ１Ｃと重畳する光学機能領域ＯＡを備えている。この光学機能領域ＯＡについては後に詳述するが、画素ＰＸとは異なる構成を有するものである。なお、液晶パネルＰＮＬにおいて、投射素子１Ａ及び検出素子１Ｂと重畳する領域は、画素ＰＸと同様の構成を有していてもよいし、光学機能領域ＯＡと同様の構成を有していてもよいし、画素ＰＸ及び光学機能領域ＯＡのいずれとも異なる構成を有していてもよい。

カバー部材ＣＭは、透明であり、ガラス基板や樹脂基板である。カバー部材ＣＭは、液晶パネルＰＮＬに重畳している。

図３は、図２に示した電子機器１００のカメラ１Ｃを含むＡ－Ｂ線に沿った断面図である。液晶パネルＰＮＬは、第１基板ＳＵＢ１と、第２基板ＳＵＢ２と、液晶層ＬＣと、シールＳＥと、を備えている。液晶層ＬＣは、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間に設けられている。シールＳＥは、非表示部ＮＤＡに位置し、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とを接着するとともに、液晶層ＬＣを封止している。光学機能領域ＯＡについては、後に詳述する。
第１偏光板ＰＬ１は、第１基板ＳＵＢ１に接着されている。第２偏光板ＰＬ２は、第２基板ＳＵＢ２に接着されている。第１偏光板ＰＬ１及び第２偏光板ＰＬ２は、表示部ＤＡ及び非表示部ＮＤＡに亘って配置されている。なお、第１偏光板ＰＬ１及び第２偏光板ＰＬ２は、必要に応じて位相差板、散乱層、反射防止層などを備えていてもよい。

照明装置ＩＬにおいて、光学シートＯＳ、導光板ＬＧ、反射シートＲＳ、及び、図示しない光源ＥＭは、ケースＣＳに収容されている。このような照明装置ＩＬは、図示しない両面テープなどにより、第１偏光板ＰＬ１に接着されている。
カバー部材ＣＭは、透明な粘着樹脂ＡＤにより、第２偏光板ＰＬ２に接着されている。カバー部材ＣＭは、電子機器１００のフレームＦＲに固定されている。

開口部ＯＰＡは、図示した断面図において、フレームＦＲと照明装置ＩＬのケースＣＳとの間の空間に相当する。このような空間は、液晶パネルＰＮＬの下方に位置している。カメラ１Ｃは、フレームＦＲとケースＣＳとの間に設けられている。図示しない投射素子１Ａ及び検出素子１Ｂも、フレームＦＲとケースＣＳとの間に設けられている。カメラ１Ｃは、配線基板５と電気的に接続されている。投射素子１Ａ及び検出素子１Ｂは、カメラ１Ｃと同一の配線基板５と電気的に接続されていてもよいし、配線基板５とは異なる他の配線基板と電気的に接続されていてもよい。

本実施形態によれば、投射素子１Ａ、検出素子１Ｂ、及び、カメラ１Ｃは、液晶パネルＰＮＬに重畳している。更に、本実施形態によれば、投射素子１Ａ、検出素子１Ｂ、及び、カメラ１Ｃは、液晶パネルＰＮＬの表示部ＤＡに重畳している。したがって、表示部ＤＡを拡大することができる。

また、非表示部ＮＤＡにカメラ１Ｃ等を設置するためのスペースを設ける必要がない。このため、カメラ１Ｃ等が非表示部ＮＤＡに重畳している場合と比較して、非表示部ＮＤＡの額縁幅を縮小することができる。

図４は、光学機能領域ＯＡ及び画素ＰＸを含む液晶素子ＬＣＤの第１構成例を示す断面図である。ここで説明する液晶素子ＬＣＤは、第１偏光板ＰＬ１と第２偏光板ＰＬ２との間に、横電界を利用する表示モードに対応した液晶パネルＰＮＬを備えている。なお、以下の説明において、第１基板ＳＵＢ１から第２基板ＳＵＢ２に向かう方向を上と定義し、第２基板ＳＵＢ２から第１基板ＳＵＢ１に向かう方向を下と定義する。

第１基板ＳＵＢ１は、第１絶縁基板１０と、絶縁膜１１乃至１３と、共通電極ＣＥと、画素電極ＰＥと、第１透明電極ＴＥ１と、配向膜ＡＬ１と、を備えている。なお、図２に示した走査線、信号線、及び、スイッチング素子は、例えば、第１絶縁基板１０と共通電極ＣＥとの間に設けられている。画素電極ＰＥ及び第１透明電極ＴＥ１は、第１絶縁基板１０と液晶層ＬＣとの間に設けられている。絶縁膜１２は、第１絶縁基板１０と画素電極ＰＥとの間に設けられているが、第１絶縁基板１０と第１透明電極ＴＥ１との間には設けられていない。絶縁膜１３は、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に設けられている。第１基板ＳＵＢ１の構造について、以下、より具体的に説明する。

第１絶縁基板１０は、ガラス基板や可撓性の樹脂基板などの透明基板である。絶縁膜１１は、第１絶縁基板１０の上に設けられている。絶縁膜１２は、各画素ＰＸにおいて絶縁膜１１の上に設けられている。共通電極ＣＥは、絶縁膜１２の上に設けられ、絶縁膜１３によって覆われている。画素電極ＰＥは、絶縁膜１３の上に設けられ、配向膜ＡＬ１によって覆われている。画素電極ＰＥは、絶縁膜１３を介して、共通電極ＣＥに重畳している。共通電極ＣＥ及び画素電極ＰＥは、インジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）やインジウム・ジンク・オキサイド（ＩＺＯ）などの透明な導電材料によって形成されている。画素電極ＰＥは、帯電極を備えている。共通電極ＣＥは、複数の画素ＰＸに亘って共通に設けられた平板状の電極である。第１透明電極ＴＥ１は、光学機能領域ＯＡにおいて、絶縁膜１３の上に設けられ、配向膜ＡＬ１によって覆われている。つまり、図示した例では、第１透明電極ＴＥ１は、画素電極ＰＥと同一層に設けられている。また、第１透明電極ＴＥ１は、画素電極ＰＥと同一材料によって形成されている。光学機能領域ＯＡにおいては、絶縁膜１２は設けられていない。つまり、第１透明電極ＴＥ１の直下では、絶縁膜１１及び１２が互いに接している。絶縁膜１１及び１３は、例えば、シリコン酸化物、シリコン窒化物等の透明な無機絶縁膜である。絶縁膜１２は、透明な有機絶縁膜である。配向膜ＡＬ１は、液晶層ＬＣに接している。

第２基板ＳＵＢ２は、第２絶縁基板２０と、絶縁膜２１及び２２と、第２透明電極ＴＥ２と、カラーフィルタ層ＣＦと、遮光層ＢＭと、配向膜ＡＬ２と、を備えている。絶縁膜２１は、画素電極ＰＥに重畳し、第２絶縁基板２０と液晶層ＬＣとの間に設けられている。絶縁膜２２は、絶縁膜２１と液晶層ＬＣとの間に設けられている。第２透明電極ＴＥ２は、第１透明電極ＴＥ１に重畳し、第２絶縁基板２０と液晶層ＬＣとの間に設けられている。絶縁膜２１は、第２透明電極ＴＥ２が設けられる凹部２１Ｃを備えている。第２基板ＳＵＢ２の構造について、以下、より具体的に説明する。

第２絶縁基板２０は、ガラス基板や可撓性の樹脂基板などの透明基板である。絶縁膜２１は、各画素ＰＸにおいて、第２絶縁基板２０の下に設けられている。絶縁膜２２は、各画素ＰＸにおいて、絶縁膜２１と液晶層ＬＣとの間に設けられている。画素電極ＰＥの直上において、絶縁膜２１は膜厚Ｔ２１を有し、絶縁膜２２は膜厚Ｔ２２を有している。膜厚Ｔ２１及びＴ２２は、第３方向Ｚに沿った長さに相当する。膜厚Ｔ２１は、膜厚Ｔ２２より厚く、例えば、膜厚Ｔ２２の１０倍以上、５０倍以下程度に相当する。一例では、膜厚Ｔ２１は、３０μｍ以上、１５０μｍ以下であり、さらには、５０μｍ～１００μｍである。絶縁膜２１及び２２は、透明な有機絶縁膜である。絶縁膜２２は、配向膜ＡＬ２によって覆われている。配向膜ＡＬ１は、液晶層ＬＣに接している。

カラーフィルタ層ＣＦ及び遮光層ＢＭは、絶縁膜２１及び２２の間に設けられている。カラーフィルタ層ＣＦは、詳述しないが、赤画素に配置される赤カラーフィルタ、緑画素に配置される緑カラーフィルタ、及び、青画素に配置される青カラーフィルタを備えている。各カラーフィルタは、画素電極ＰＥと対向している。遮光層ＢＭは、隣接する画素電極ＰＥの間あるいは隣接するカラーフィルタの間に設けられている。

光学機能領域ＯＡにおいては、絶縁膜２１は、膜厚Ｔ２１より薄く形成されており、凹部２１Ｃを形成している。図示した例では、絶縁膜２１は、凹部２１Ｃにおいて貫通している。第２透明電極ＴＥ２は、第２絶縁基板２０に接している。また、図示した例では、遮光層ＢＭ、カラーフィルタ層ＣＦ、及び、絶縁膜２２は、凹部２１Ｃには設けられていない。配向膜ＡＬ２は、第２透明電極ＴＥ２を直接覆っている。絶縁膜２１は、凹部２１Ｃにおいて側壁２１Ｓを有している。側壁２１Ｓは、第２絶縁基板２０に対してほぼ垂直に形成されている。また、側壁２１Ｓの第３方向Ｚに沿った長さは、膜厚Ｔ２１と同等以上である。配向膜ＡＬ２は、側壁２１Ｓには設けられていない。つまり、配向膜ＡＬ２は、側壁２１Ｓにおいて途切れている。なお、配向膜ＡＬ２が側壁２１Ｓの一部を覆う場合がありうる。また、絶縁膜２２、カラーフィルタ層ＣＦ、及び、遮光層ＢＭの少なくとも１つが側壁２１Ｓを覆っている場合もありうる。

このように、光学機能領域ＯＡでは、絶縁膜２１が設けられていないため、液晶層ＬＣの厚さは、画素ＰＸよりも光学機能領域ＯＡの方が厚くなる。加えて、第２基板ＳＵＢでは、絶縁膜２２、カラーフィルタ層ＣＦ、及び、遮光層ＢＭも設けられず、また、第１基板ＳＵＢ１では、絶縁膜１２も設けられていないため、光学機能領域ＯＡにおける液晶層ＬＣがさらに第３方向Ｚに拡大している。

非表示部ＮＤＡにおいては、絶縁膜２１及び２２の間に遮光層ＢＭＡが設けられている。第２透明電極ＴＥ２は、非表示部ＮＤＡに設けられた接続部ＴＥＣと電気的に接続されている。図示した例では、接続部ＴＥＣは、第２透明電極ＴＥ２と一体的に形成されているが、第２透明電極ＴＥ２とは異なる導電材料によって形成されてもよい。

第１偏光板ＰＬ１及び第２偏光板ＰＬ２は、図示した例では、各画素ＰＸ及び光学機能領域ＯＡに亘って設けられている。

液晶層ＬＣに電圧が印加されていないオフ状態の画素ＰＸにおいて、液晶層ＬＣに含まれる液晶分子は、配向膜ＡＬ１及びＡＬ２の間で所定の方向に初期配向している。このようなオフ状態では、図１に示した光源ＥＭから画素ＰＸに導光された光は、第１偏光板ＰＬ１及び第２偏光板ＰＬ２によって吸収される。このため、液晶素子ＬＣＤは、オフ状態の画素ＰＸにおいて、黒を表示する。
液晶層ＬＣに電圧が印加されたオン状態の各画素ＰＸにおいて、液晶分子ＬＭは、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に形成された電界により初期配向方向とは異なる方向に配向し、その配向方向は電界によって制御される。このようなオン状態では、画素ＰＸに導光された光の一部は、第１偏光板ＰＬ１及び第２偏光板ＰＬ２を透過する。このため、液晶素子ＬＣＤは、オン状態の画素ＰＸにおいて、カラーフィルタ層ＣＦに応じた色を表示する。
上記の例は、オフ状態で黒を表示する所謂ノーマリーブラックモードに相当するが、オン状態で黒を表示する（オフ状態で白を表示する）ノーマリーホワイトモードが適用されてもよい。

液晶素子ＬＣＤは、液晶層ＬＣに電圧が印加されたオン状態の光学機能領域ＯＡにおいて、カメラ１Ｃに向かう光を透過する透光状態を形成する。オン状態の光学機能領域ＯＡについては、後に詳述する。液晶素子ＬＣＤは、液晶層ＬＣに電圧が印加されていないオフ状態の光学機能領域ＯＡにおいては、オフ状態の画素ＰＸと同様に、黒を表示する遮光状態を形成してもよいし、オン状態の光学機能領域ＯＡと同様に、透光状態を形成してもよい。また、第１偏光板ＰＬ１及び第２偏光板ＰＬ２の少なくとも一方が、光学機能領域ＯＡと重畳する貫通孔を有していてもよい。

本実施形態において、絶縁膜２１は第１有機絶縁膜に相当し、絶縁膜２２は第２有機絶縁膜に相当し、絶縁膜１２は第３有機絶縁膜に相当し、絶縁膜１３は無機絶縁膜に相当する。

図５は、第２透明電極ＴＥ２に電圧を印加するための給電構造を示す断面図である。第１基板ＳＵＢ１は、給電線ＦＬと、給電線ＦＬと電気的に接続された給電パッドＰＤと、を備えている。給電線ＦＬは、例えば走査線Ｇあるいは信号線Ｓと同一材料によって形成されている。給電パッドＰＤは、例えば画素電極ＰＥと同一材料によって形成されている。給電線ＦＬ及び給電パッドＰＤは、非表示部ＮＤＡに設けられている。給電パッドＰＤは、絶縁膜１３を貫通する貫通孔ＣＨ１において給電線ＦＬに接している。給電パッドＰＤは、配向膜ＡＬ１から露出している。第２基板ＳＵＢ２において、第２透明電極ＴＥ２は、給電パッドＰＤと重畳する接続部ＴＥＣを備えている。

接続部材ＣＤは、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間に設けられ、給電パッドＰＤ及び接続部ＴＥＣにそれぞれ接している。これにより、給電パッドＰＤ及び接続部ＴＥＣは、互いに電気的に接続される。このような接続部材ＣＤは、例えば金メッキなどが施された導電粒子であり、シールＳＥに含まれている。つまり、給電パッドＰＤ及び接続部ＴＥＣは、シールＳＥが設けられる領域に配置され、第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２が接着される際に、接続部材ＣＤによって互いに電気的に接続される。
このような給電構造によれば、給電線ＦＬに所定の電圧が供給された際に、給電パッドＰＤ、接続部材ＣＤ、及び、接続部ＴＥＣを介して第２透明電極ＴＥ２に所定の電圧を印加することができる。

図６は、第１透明電極ＴＥ１の形状例を示す図である。図示した例では、５個の第１透明電極ＴＥ１１乃至ＴＥ１５が設けられている。第１透明電極ＴＥ１１乃至ＴＥ１４は環状に形成され、第１透明電極ＴＥ１５は略円形状に形成されている。第２透明電極ＴＥ２は、平面視において、第１透明電極ＴＥ１１乃至ＴＥ１５に重畳し、略円形状に形成されている。なお、第１透明電極ＴＥ１１乃至ＴＥ１５は、多角形状に形成されてもよい。また、複数の第１透明電極の個数については、図示した例の５個に限定されるものではない。カメラ１Ｃは、図中に点線で示すように、第１透明電極ＴＥ１１乃至ＴＥ１５に重畳している。
第１透明電極ＴＥ１１乃至ＴＥ１５は、それぞれスイッチング素子ＳＷ１１乃至ＳＷ１５を介して駆動部ＤＲに接続されている。第２透明電極ＴＥ２は、スイッチング素子ＳＷ２を介して駆動部ＤＲに接続されている。駆動部ＤＲは、第１透明電極ＴＥ１１乃至ＴＥ１５、及び、第２透明電極ＴＥ２にそれぞれ所定の電圧を印加することができる。なお、スイッチング素子ＳＷ１１乃至ＳＷ１５、及び、スイッチング素子ＳＷ２は、省略されてもよく、この場合、駆動部ＤＲが第１透明電極ＴＥ１１乃至ＴＥ１５、及び、第２透明電極ＴＥ２にそれぞれ所定の電圧を直接印加してもよい。

図７は、光学機能領域ＯＡの液晶層ＬＣにレンズ（液晶レンズ）ＬＬを形成する制御例を説明するための図である。駆動部ＤＲは、第１透明電極ＴＥ１１乃至ＴＥ１５、及び、第２透明電極ＴＥ２に対して、液晶層ＬＣにレンズＬＬを形成するための電圧を印加する。なお、液晶層ＬＣは、正の誘電率異方性を有し、電圧が印加されていないオフ状態で、液晶分子ＬＭが基板主面に沿って水平に初期配向しているものとする。

レンズＬＬが図示したような凸レンズとして機能する場合について、以下にその一例を説明する。第１透明電極ＴＥ１１乃至ＴＥ１５に関して、カメラ１Ｃの光軸ＯＸから離れるにしたがって、より高い電圧が印加される。つまり、第１透明電極ＴＥ１１に印加される電圧は、第１透明電極ＴＥ１５に印加される電圧より高い。一例では、第１透明電極ＴＥ１１に５Ｖの電圧が印加され、第１透明電極ＴＥ１２に４Ｖの電圧が印加され、第１透明電極ＴＥ１３に３Ｖの電圧が印加され、第１透明電極ＴＥ１４に２Ｖの電圧が印加され、第１透明電極ＴＥ１５に１Ｖの電圧が印加される。一方で、第２透明電極ＴＥ２には、例えば０Ｖの電圧が印加される。第１透明電極ＴＥ１１乃至ＴＥ１５の各々と第２透明電極ＴＥ２とが対向する領域には、第３方向Ｚに沿った縦電界、あるいは、基板主面に沿った横電界が形成される。液晶分子ＬＭの配向方向は、これらの電界の相互作用によって制御される。液晶分子ＬＭは、屈折率異方性Δｎを有している。このため、液晶層ＬＣは、液晶分子ＬＭの配向状態に応じた屈折率分布を有する。あるいは、液晶層ＬＣは、液晶層ＬＣの第３方向Ｚに沿った厚さをｄとしたとき、Δｎ・ｄで表されるリタデーションの分布、または、位相分布を有する。図中に示したレンズＬＬは、このような屈折率分布、リタデーションの分布、または、位相分布によって形成されるものである。レンズＬＬは、光軸ＯＸについて等方的に形成される。

カメラ１Ｃに向かって進行する光Ｌ１０のうち、第２偏光板ＰＬ２を透過した直線偏向は、レンズＬＬによって屈折し、カメラ１Ｃに入射する。なお、図示した例では、第１偏光板ＰＬ１は、カメラ１Ｃと第１基板ＳＵＢ１との間に設けられていない。つまり、レンズＬＬは、主として光Ｌ１０に対して集束作用を発揮する。第１構成例においては、比較的厚い膜厚の絶縁膜２１に凹部２１Ｃが形成されたことにより、液晶層ＬＣの厚さｄを拡大することができ、調整可能なリタデーションのマージンを拡大することができる。

図８は、光学機能領域ＯＡの液晶層ＬＣにレンズＬＬを形成する他の制御例を説明するための図である。図８で説明する制御例は、図７で説明した制御例と比較して、レンズＬＬが図示したような凹レンズとして機能する点で相違している。第１透明電極ＴＥ１１乃至ＴＥ１５に関して、カメラ１Ｃの光軸ＯＸから離れるにしたがって、より低い電圧が印加される。つまり、第１透明電極ＴＥ１１に印加される電圧は、第１透明電極ＴＥ１５に印加される電圧より低い。一例では、第１透明電極ＴＥ１１に１Ｖの電圧が印加され、第１透明電極ＴＥ１２に２Ｖの電圧が印加され、第１透明電極ＴＥ１３に３Ｖの電圧が印加され、第１透明電極ＴＥ１４に４Ｖの電圧が印加され、第１透明電極ＴＥ１５に５Ｖの電圧が印加される。一方で、第２透明電極ＴＥ２には、例えば０Ｖの電圧が印加される。図中に示したレンズＬＬは、液晶層ＬＣの屈折率分布、リタデーションの分布、または、位相分布によって形成されるものである。レンズＬＬは、光軸ＯＸについて等方的に形成される。図示したレンズＬＬは、主として光Ｌ１０に対して発散作用を発揮する。

このように、駆動部ＤＲが第１透明電極ＴＥ１１乃至ＴＥ１５、及び、第２透明電極ＴＥ２に印加する電圧を制御することにより、液晶層ＬＣにおいて各種レンズＬＬを形成することができる。上記の例では、光軸ＯＸについて等方的なレンズＬＬを形成する場合について説明したが、駆動部ＤＲは、光軸ＯＸについて非対称なレンズＬＬを形成したり、凸レンズまたは凹レンズの焦点を制御したりすることもできる。

図９は、第１透明電極ＴＥ１の他の形状例を示す図である。図９に示す形状例は、図６に示した形状例と比較して、第１透明電極ＴＥ１１乃至ＴＥ１５の各々が帯状に形成された点で相違している。第１透明電極ＴＥ１１乃至ＴＥ１５は、図示した例では、第１方向Ｘに延出し、第２方向Ｙに間隔を置いて並んでいる。第２透明電極ＴＥ２は、平面視において、第１透明電極ＴＥ１１乃至ＴＥ１５に重畳し、略四角形状に形成されている。なお、複数の第１透明電極の個数については、図示した例の５個に限定されるものではない。また、第１透明電極ＴＥ１１乃至ＴＥ１５は、第２方向Ｙに延出し、第１方向Ｘに間隔を置いて並んでいてもよい。カメラ１Ｃは、図中に点線で示すように、第１透明電極ＴＥ１１乃至ＴＥ１５に重畳している。
駆動部ＤＲは、スイッチング素子ＳＷ１１乃至ＳＷ１５を介して第１透明電極ＴＥ１１乃至ＴＥ１５にそれぞれ所定の電圧を印加することができる。また、駆動部ＤＲは、スイッチング素子ＳＷ２を介して第２透明電極ＴＥ２に所定の電圧を印加することができる。このような形状例においても、液晶層ＬＣにおいて各種レンズＬＬを形成することができる。

図１０は、光学機能領域ＯＡ及び画素ＰＸを含む液晶素子ＬＣＤの第２構成例を示す断面図である。図１０に示す第２構成例は、図４に示した第１構成例と比較して、第１透明電極ＴＥ１が絶縁膜１１の上に設けられている点で相違している。すなわち、第１基板ＳＵＢ１において、第１透明電極ＴＥ１は、絶縁膜１１の上に設けられ、絶縁膜１３によって覆われている。つまり、図示した例では、第１透明電極ＴＥ１は、共通電極ＣＥと同一層に設けられている。また、第１透明電極ＴＥ１は、共通電極ＣＥと同一材料によって形成されている。
このような第２構成例においても、上記したのと同様の効果が得られる。

図１１は、光学機能領域ＯＡ及び画素ＰＸを含む液晶素子ＬＣＤの第３構成例を示す断面図である。図１１に示す第３構成例は、図４に示した第１構成例と比較して、第２基板ＳＵＢ２が共通電極ＣＥを備えた点で相違している。すなわち、第２基板ＳＵＢ２において、共通電極ＣＥは、画素電極ＰＥに重畳し、絶縁膜２２と液晶層ＬＣとの間に設けられている。図示した例では、共通電極ＣＥは、絶縁膜２２と配向膜ＡＬ２との間に設けられている。第２透明電極ＴＥ２は、共通電極ＣＥと同一工程で形成することができ、共通電極ＣＥと同一材料によって形成されている。図示した例では、第２透明電極ＴＥ２は、第２絶縁基板２０と配向膜ＡＬ２との間に設けられている。また、第２透明電極ＴＥ２は、接続部ＴＥＣと電気的に接続されている。図示した例では、接続部ＴＥＣは、非表示部ＮＤＡにおいて、第２絶縁基板２０と絶縁膜２１との間に設けられている。
第１基板ＳＵＢ１においては、画素電極ＰＥと重畳する容量電極１４が設けられている。図示した例では、容量電極１４は、絶縁膜１２の上に設けられ、絶縁膜１３によって覆われている。このような容量電極１４は、例えば共通電極ＣＥと電気的に接続され、共通電極ＣＥと同電位である。
このような第３構成例においても、上記したのと同様の効果が得られる。

以下に、他の構成例について説明する。以下に説明する各構成例では、第１絶縁基板１０の第１透明電極ＴＥ１が設けられる領域、及び、第２絶縁基板２０の第２透明電極ＴＥ２が設けられる領域の少なくとも一方が凹部を備えている。

図１２は、光学機能領域ＯＡ及び画素ＰＸを含む液晶素子ＬＣＤの第４構成例を示す断面図である。
光学機能領域ＯＡにおいて、第１絶縁基板１０は、液晶層ＬＣと向かい合う側（あるいは、カメラ１Ｃと向かい合う側とは反対側）に、凹部１０Ｃを備えている。第１透明電極ＴＥ１は、凹部１０Ｃに設けられている。図示した例では、第１透明電極ＴＥ１は、第１絶縁基板１０に接している。また、配向膜ＡＬ１は、第１透明電極ＴＥ１を直接覆っている。なお、第１絶縁基板１０と第１透明電極ＴＥ１との間に、絶縁膜１１乃至１３が設けられていてもよい。第１透明電極ＴＥ１は、一例では、画素電極ＰＥと同一材料によって形成されるが、共通電極ＣＥと同一材料によって形成されてもよい。第１絶縁基板１０は、凹部１０Ｃにおいて側壁１０Ｓを有している。配向膜ＡＬ１は、側壁１０Ｓには設けられていない。
第２基板ＳＵＢ２は、上記の第１乃至第３構成例で説明した絶縁膜２１を備えていない。カラーフィルタ層ＣＦ、及び、遮光層ＢＭ及びＢＭＡは、第２絶縁基板２０と絶縁膜２２との間に設けられている。光学機能領域ＯＡにおいては、第２透明電極ＴＥ２は、絶縁膜２２と配向膜ＡＬ２との間に設けられている。なお、第２絶縁基板２０と第２透明電極ＴＥ２との間には、カラーフィルタ層ＣＦ、及び、遮光層ＢＭ及びＢＭＡは、設けられていない。
このように、光学機能領域ＯＡでは、第１絶縁基板１０に凹部１０Ｃが設けられているため、液晶層ＬＣの厚さは、画素ＰＸよりも光学機能領域ＯＡの方が厚くなる。このため、第４構成例においても、第１構成例と同様の効果が得られる。

図１３は、光学機能領域ＯＡ及び画素ＰＸを含む液晶素子ＬＣＤの第５構成例を示す断面図である。
光学機能領域ＯＡにおいて、第２絶縁基板２０は、液晶層ＬＣと向かい合う側（あるいは、カメラ１Ｃと向かい合う側）に、凹部２０Ｃを備えている。第２透明電極ＴＥ２は、凹部２０Ｃに設けられている。図示した例では、第２透明電極ＴＥ２は、第２絶縁基板２０に接している。また、配向膜ＡＬ２は、第２透明電極ＴＥ２を直接覆っている。なお、第２絶縁基板２０と第２透明電極ＴＥ２との間に、絶縁膜２２が設けられていてもよい。第２絶縁基板２０は、凹部２０Ｃにおいて側壁２０Ｓを有している。配向膜ＡＬ２は、側壁２０Ｓには設けられていない。
このように、光学機能領域ＯＡでは、第２絶縁基板２０に凹部２０Ｃが設けられているため、液晶層ＬＣの厚さは、画素ＰＸよりも光学機能領域ＯＡの方が厚くなる。このため、第５構成例においても、第１構成例と同様の効果が得られる。

図１４は、光学機能領域ＯＡ及び画素ＰＸを含む液晶素子ＬＣＤの第６構成例を示す断面図である。
光学機能領域ＯＡにおいて、第１絶縁基板１０は、第４構成例と同様に、凹部１０Ｃを備えている。第１透明電極ＴＥ１は、凹部１０Ｃに設けられている。また、第２絶縁基板２０は、第５構成例と同様に、凹部２０Ｃを備えている。第２透明電極ＴＥ２は、凹部２０Ｃに設けられている。
このように、光学機能領域ＯＡでは、第１絶縁基板１０に凹部１０Ｃが設けられ、しかも、第２絶縁基板２０に凹部２０Ｃが設けられているため、液晶層ＬＣの厚さは、画素ＰＸよりも光学機能領域ＯＡの方が厚くなる。このため、第６構成例によれば、第４及び第５構成例よりもさらに液晶層ＬＣの厚さｄを拡大することができ、調整可能なリタデーションのマージンをさらに拡大することができる。

以上説明したように、本実施形態によれば、表示部を拡大することが可能な表示装置、及び、表示装置を組み込んだ電子機器を提供することができる。

なお、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

１００…電子機器 ＤＳＰ…表示装置
１Ａ…投射素子 １Ｂ…検出素子 １Ｃ…（可視光用）カメラ
ＬＣＤ…液晶素子 ＰＮＬ…液晶パネル ＬＣ…液晶層
ＴＥ１…第１透明電極 ＴＥ２…第２透明電極
ＤＲ…駆動部

Claims (13)

1. 液晶層と、
   第１絶縁基板と、前記第１絶縁基板と前記液晶層との間に設けられた画素電極と、前記第１絶縁基板と前記液晶層との間に設けられた第１透明電極と、を備えた第１基板と、
   第２絶縁基板と、前記画素電極に重畳し前記第２絶縁基板と前記液晶層との間に設けられた第１有機絶縁膜と、前記第１有機絶縁膜と前記液晶層との間に設けられた第２有機絶縁膜と、前記第１透明電極に重畳し前記第２絶縁基板と前記液晶層との間に設けられた第２透明電極と、を備えた第２基板と、を備え、
   前記第１有機絶縁膜は、凹部を備え、
   前記第２透明電極は、前記凹部に設けられ、
   前記画素電極は、前記凹部及び前記第２透明電極に重畳しない位置に設けられ、
   前記第１透明電極と前記第２透明電極との間の前記液晶層によって液晶レンズを形成し、
   前記第１有機絶縁膜は、３０μｍ以上、１５０μｍ以下の膜厚を有している、表示装置。
2. 前記第１有機絶縁膜は、前記凹部において貫通しており、
   前記第２透明電極は、前記第２絶縁基板に接している、請求項１に記載の表示装置。
3. 前記第２基板は、さらに、前記第２有機絶縁膜及び前記第２透明電極を覆う配向膜を備え、
   前記第１有機絶縁膜は、前記凹部において側壁を有し、
   前記配向膜は、前記側壁には設けられていない、請求項１または２に記載の表示装置。
4. 前記第２基板は、さらに、前記第１有機絶縁膜と前記第２有機絶縁膜との間に設けられたカラーフィルタ層及び遮光層を備え、
   前記カラーフィルタ層及び前記遮光層は、前記凹部には設けられていない、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の表示装置。
5. 前記第１基板は、さらに、前記第１絶縁基板と前記画素電極との間に設けられた第３有機絶縁膜を備え、
   前記第３有機絶縁膜は、前記第１絶縁基板と前記第１透明電極との間には設けられていない、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の表示装置。
6. 前記第１基板は、さらに、共通電極と、前記画素電極と前記共通電極との間に設けられた無機絶縁膜と、を備え、
   前記第１透明電極は、前記画素電極または前記共通電極と同一材料によって形成されている、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の表示装置。
7. 前記第２基板は、さらに、前記画素電極に重畳し前記第２有機絶縁膜と前記液晶層との間に設けられた共通電極を備え、
   前記第２透明電極は、前記共通電極と同一材料によって形成されている、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の表示装置。
8. さらに、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた接続部材を備え、
   前記第１基板は、さらに、給電パッドを備え、
   前記第２透明電極は、前記給電パッドに重畳する接続部を備え、
   前記接続部材は、前記給電パッドと前記接続部とを電気的に接続している、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の表示装置。
9. 前記第１透明電極は、環状に形成されている、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の表示装置。
10. 前記第１透明電極は、帯状に形成されている、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の表示装置。
11. 液晶層を備えた液晶パネルと、
    前記液晶パネルと重畳し、前記液晶パネルを介して受光するカメラと、を備え、
    前記液晶パネルは、
    第１絶縁基板と、前記第１絶縁基板と前記液晶層との間に設けられた画素電極と、前記カメラに重畳し前記第１絶縁基板と前記液晶層との間に設けられた第１透明電極と、を備えた第１基板と、
    第２絶縁基板と、前記画素電極に重畳し前記第２絶縁基板と前記液晶層との間に設けられた第１有機絶縁膜と、前記第１有機絶縁膜と前記液晶層との間に設けられた第２有機絶縁膜と、前記第１透明電極に重畳し前記第２絶縁基板と前記液晶層との間に設けられた第２透明電極と、を備えた第２基板と、を備え、
    前記第１有機絶縁膜は、凹部を備え、
    前記第２透明電極は、前記凹部に設けられ、
    前記画素電極は、前記凹部及び前記第２透明電極に重畳しない位置に設けられ、
    前記第１透明電極と前記第２透明電極との間の前記液晶層によって液晶レンズを形成し、
    前記第１有機絶縁膜は、３０μｍ以上、１５０μｍ以下の膜厚を有している、電子機器。
12. さらに、前記液晶パネルを照明する照明装置を備え、
    前記照明装置は、前記カメラに重畳する開口部を有している、請求項１１に記載の電子機器。
13. 第１絶縁基板と、前記第１絶縁基板に設けられた画素電極及び第１透明電極と、を備えた第１基板と、
    第２絶縁基板と、前記画素電極に重畳し前記第２絶縁基板に設けられた第１有機絶縁膜と、前記第１有機絶縁膜に設けられた第２有機絶縁膜と、前記第２絶縁基板において前記第１有機絶縁膜及び前記第２有機絶縁膜が設けられていない部分であって前記第１透明電極に重畳する部分に設けられた第２透明電極と、を備えた第２基板と、
    前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた液晶層と、を備え、
    前記第１透明電極と前記第２透明電極との間の前記液晶層によって液晶レンズを形成する、表示装置。

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