WO2020162384A1 - マスク検査装置 - Google Patents

マスク検査装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2020162384A1
WO2020162384A1 PCT/JP2020/003881 JP2020003881W WO2020162384A1 WO 2020162384 A1 WO2020162384 A1 WO 2020162384A1 JP 2020003881 W JP2020003881 W JP 2020003881W WO 2020162384 A1 WO2020162384 A1 WO 2020162384A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
rod
frame
shaped member
mask
reflector
Prior art date
Application number
PCT/JP2020/003881
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
米澤　良
Original Assignee
株式会社ブイ・テクノロジー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社ブイ・テクノロジー filed Critical 株式会社ブイ・テクノロジー
Priority to CN202080007200.3A priority Critical patent/CN113227900A/zh
Priority to KR1020217019418A priority patent/KR20210120992A/ko
Publication of WO2020162384A1 publication Critical patent/WO2020162384A1/ja

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
    • G03F1/84—Inspecting
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping

Definitions

  • the present invention relates to a mask inspection device.
  • Patent Document 1 discloses a frame position detection mechanism in a mask inspection apparatus.
  • a column is provided on the surface plate, an irradiation unit is provided on the column, and a reflector is provided on a holding member that projects in the horizontal direction from the side surface of the frame that holds the mask. The position of the frame is detected based on the light emitted from the irradiation unit and reflected by the reflector.
  • the present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to provide a mask inspection apparatus capable of preventing the resonance of the reflector and preventing the generation of pseudo defects.
  • the mask inspection apparatus is, for example, a surface plate, a substantially frame-shaped frame that holds a mask to be inspected, and the frame is horizontal along the upper surface of the surface plate.
  • a moving member a holding member provided on the side surface of the frame, a reflector provided at the tip of the holding member, a column provided on the surface plate, and a light irradiation unit provided on the column.
  • a light irradiating section that is disposed at substantially the same height as the reflector and irradiates light toward the reflector in a substantially horizontal direction, and the holding member is a hollow extending in the horizontal direction.
  • a rod-shaped member a first end of the rod-shaped member, a first mounting portion for mounting the rod-shaped member to the frame, and a second end of the rod-shaped member opposite to the first end.
  • a second mounting portion, and the reflector is provided on the second mounting portion.
  • the holding member provided on the side surface of the substantially frame-shaped frame that holds the mask to be inspected in the substantially vertical direction is a hollow rod-shaped member extending in the horizontal direction.
  • a hollow rod-shaped member is horizontally extended.
  • the column provided on the surface plate is provided with a light irradiation unit that is arranged at substantially the same height as the reflector and irradiates the reflector with light in a substantially horizontal direction.
  • the thickness of the rod-shaped member may be equal to or greater than the thickness of the frame. Thereby, the bending of the rod-shaped member can be prevented.
  • the rod-shaped member may be a hollow round rod, and the wall thickness of the rod-shaped member may be approximately 1/40 to approximately 1/50 of the diameter of the rod-shaped member. As a result, the rod-shaped member can be made light and durable.
  • the rod-shaped member may be formed of fiber reinforced plastic. This makes it possible to reduce the weight of the rod-shaped member and increase its rigidity.
  • the direction of the fibers contained in the rod-shaped member may be inclined with respect to the axis of the rod-shaped member. As a result, expansion and contraction of the rod-shaped member and position change of the reflector can be prevented.
  • the moving unit horizontally moves the moving unit between a loading position for loading the mask onto the frame and an inspection position for inspecting the mask, and a length of the rod-shaped member is equal to the loading position.
  • the distance may be equal to or more than the horizontal distance between the first mounting portion and the light irradiation portion when the frame is positioned at the position. This makes it possible to prevent the reflector from hitting the irradiation unit even when the frame is located at the loading position and when the frame is moved in the horizontal direction.
  • FIG. 6 is a diagram showing a measurement principle of the position detection unit 25.
  • FIG. 6 is a diagram schematically showing a holding member 70 and a method of attaching the holding member 70 to the frame 41.
  • FIG. It is a schematic diagram when producing the rod-shaped member 70a using carbon FRP. It is a schematic diagram of the rod-shaped member 70a' which concerns on a modification.
  • FIG. 3 is a block diagram showing an electrical configuration of the mask inspection device 1.
  • FIG. It is an example of a heavy holding member 710 made of a metal matrix.
  • 7A is a graph showing a vibration of the holding member 710 at 24 Hz, (A) shows vibration of the reflector mounting plate 710a of the holding member 710 provided on the upper end side of the frame 41, and (B) is a lower end side of the frame 41. 7 shows vibration of the reflector mounting plate 710a of the holding member 710.
  • This is an example of a holding member 720 in which three bar members having a diameter of about 10 mm formed of Super Invar are lined up and reinforced by a plate member.
  • 7A is a graph showing 180 Hz vibration of a holding member 720
  • (A) shows vibration of a reflector mounting plate 720a of the holding member 720 provided on the upper end side of the frame 41
  • (B) is provided on the lower end side of the frame 41.
  • 7 shows vibration of the reflector mounting plate 720a of the holding member 720. It is a graph which shows the vibration of 12.5 Hz when the holding member 70 of this Embodiment is used
  • (A) shows the vibration of the plate-shaped part 70e in the holding member 70 provided in the upper end side of the frame 41
  • ( B) shows the vibration of the plate-shaped portion 70e in the holding member 70 provided on the lower end side of the frame 41.
  • the inspection apparatus of the present invention holds a mask M to be inspected in a substantially vertical direction and moves a camera or the like in the substantially vertical direction to inspect a defect of a pattern formed on the mask M.
  • the mask M to be inspected in this embodiment is, for example, an exposure mask used for manufacturing a substrate for a display device of an organic EL or liquid crystal display device.
  • the mask M is one in which one or a plurality of image device transfer patterns are formed on a large, substantially rectangular substrate having a side of about 1 m.
  • the present embodiment is suitable for the inspection of the mask M for an organic EL display in which a high-density pattern is formed and a highly sensitive inspection is required.
  • FIG. 1 is a perspective view showing the outline of a mask inspection apparatus 1 according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a front view showing the outline of the mask inspection apparatus 1.
  • a direction substantially along the longitudinal direction of the surface plate 10 (described later in detail) is defined as an x direction
  • a vertical direction is defined as ay direction
  • a direction orthogonal to the x direction and the y direction is defined as az direction. To do. Note that, in FIGS. 1 and 2, for convenience of explanation, a part of the configuration is not shown.
  • the mask inspection apparatus 1 mainly includes a surface plate 10, an imaging unit 20, a column 21, a position detection unit 25, a moving unit 30, a mask holding unit 40, and vibration isolation tables 51 and 52.
  • the surface plate 10 is configured as a stage, and is supported on vibration isolation tables 51 and 52 installed at a plurality of locations (six locations) on the installation surface F.
  • the surface plate 10 is a substantially rectangular parallelepiped (thick plate) stone member having a width W of about 4500 mm, a depth D of about 1200 mm, and a thickness T of about 400 mm.
  • the surface plate 10 has a lower surface 10a and an upper surface 10e parallel to the lower surface 10a.
  • a pillar 21 is provided on the upper surface 10e of the surface plate 10 so as to project upward (in the +y direction) from the upper surface 10e.
  • the pillar 21 is made of ceramic or the like.
  • the column 21 is preferably hollow.
  • Approximately cubic recesses 10b and 10c are formed on the lower surface 10a of the surface plate 10.
  • the recess 10b is formed in each of the four corners of the lower surface 10a.
  • the recesses 10c are formed at two positions, one at each position along the long side of the lower surface 10a.
  • the depth D1 of the recesses 10b and 10c is set to 0.3 to 0.5 times the thickness T of the surface plate 10 in order to maintain the strength of the surface plate 10. Further, the depth D1 of the recesses 10b and 10c, that is, the height of the supporting surface 10d, is as small as possible when the angle ⁇ (see FIG. 2) looking up the center of gravity G of the mask inspection apparatus 1 from the supporting surface 10d is 60 degrees or less ( For example, it is set to about 30 degrees).
  • a vibration isolation table 51 placed on the installation surface F is provided inside the recess 10b.
  • a vibration isolation table 52 mounted on the installation surface F is provided inside the recess 10c.
  • the vibration isolation table 51 is an active vibration isolation table, and the vibration isolation table 52 is a passive vibration isolation table that supports the weight. Since the anti-vibration tables 51 and 52 are already known, a description thereof will be omitted.
  • the height of the vibration isolation tables 51, 52 is higher than the depth D1 of the recesses 10b, 10c. Therefore, since the vibration isolation tables 51 and 52 support the support surface 10d, the surface plate 10 is placed on the installation surface F via the vibration isolation tables 51 and 52. This makes it possible to lower the center of gravity G of the mask inspection apparatus 1 when the support surface 10d is used as a reference.
  • a groove 10f is formed on the upper surface 10e of the surface plate 10 (the upper surface 10e includes the groove 10f).
  • the groove 10f is a guide for moving the moving unit 30.
  • the groove 10f is arranged along the longitudinal direction (x direction) of the surface plate 10 at a position that does not overlap the recesses 10b and 10c in a plan view (when viewed from the +y direction). It is formed.
  • the depth D2 of the groove 10f is sufficiently smaller than the thickness T of the surface plate 10. Further, the depth D2 of the groove 10f is such that the optical axis ax (see FIG. 2) of the camera 22a (see FIG. 2) when the camera 22a (detailed later) abuts the upper surface 10e so that the center of gravity G becomes the lowest. It is set to match the lower end of the mask M supported by 30 (described later). In the present embodiment, the depth D2 of the groove 10f is about 60 mm. Therefore, even if the groove 10f is formed, the rigidity of the surface plate 10 can be made sufficiently high.
  • the image pickup unit 20 mainly has a camera 22 (see FIG. 2) provided on the pillar 21.
  • the camera 22 is, for example, a CCD camera or a TDI camera which is a special CCD camera, and has two cameras 22a and 22b.
  • the cameras 22a and 22b respectively include an objective lens that converts the g-line and the e-line into parallel light, and an optical member that separates the g-line and the e-line that have passed through the objective lens (for example, a polarization beam splitter and a dichroic filter).
  • a member having both functions two sets of imaging lenses for forming images of g-line and e-line separated by the optical member, and images of g-line and e-line formed by the two sets of imaging lenses, respectively.
  • an image sensor for converting the transmitted light and the reflected light into images at the same time. Note that since the cameras 22a and 22b can use a known technique, detailed description thereof will be omitted.
  • Two cameras 22a and 22b are provided adjacent to each other along the y direction.
  • a moving mechanism (not shown) including an air pad 23 (see FIG. 5) is provided between the camera 22 and the column 21.
  • the moving mechanism is provided with a camera 22 so that the optical axis ax is parallel to the z axis.
  • the camera 22 moves in the vertical direction (y direction) by moving the moving mechanism (not shown) in the vertical direction (y direction).
  • the moving mechanism includes two cameras 22a and 22b at an initial position where the camera 22a abuts on the upper surface 10e of the surface plate 10 and an upper end position where the camera 22b is located near the upper end of the column 21 (see a chain double-dashed line in FIG. 2). ), and are moved along the column 21.
  • the image pickup unit 20 has a transmission illumination light source and a reflection illumination light source, which are not shown.
  • the transmissive illumination light source is provided on the back side ( ⁇ z side) of the mask M and irradiates so-called g-line (for example, light having a wavelength of 435.84 [nm]).
  • the reflective illumination light source is provided on the surface side (+z side) of the mask M and irradiates so-called e-line (for example, light having a wavelength of 546.07 [nm]).
  • the camera 22 simultaneously receives the g-line emitted from the transmissive illumination light source and the e-line emitted from the reflective illumination light source to form an image.
  • the mask M is inspected by comparing the image thus obtained by the camera 22 with the pattern information (described in detail later).
  • the camera 22 has two cameras 22a and 22b.
  • the number of cameras 22 is not limited to two and may be one (one of the cameras 22a and 22b).
  • the position detection unit 25 is a laser interference displacement meter (for example, linear interference), and mainly includes irradiation units 26a and 26b provided on the column 21, and reflectors 71a and 71b provided on a holding member 70 (described later in detail). With.
  • a laser interference displacement meter for example, linear interference
  • the position detection unit 25 mainly includes irradiation units 26a and 26b provided on the column 21, and reflectors 71a and 71b provided on a holding member 70 (described later in detail).
  • the irradiation units 26a and 26b are provided on the pillar 21. Light emitted from the light source 53 (see FIG. 1) is guided to the irradiation units 26a and 26b via the light guide member 54 (see FIG. 1) and the like.
  • the irradiation parts 26a and 26b are arranged at substantially the same height as the reflectors 71a and 71b.
  • the irradiation unit 26a irradiates the guided light toward the reflector 71a in a substantially horizontal direction. Further, the irradiation unit 26b irradiates the guided light toward the reflector 71b in a substantially horizontal direction.
  • the reflectors 71a and 71b are reflecting mirrors that return light to the incident direction (fold back a light beam), and are, for example, retro reflectors.
  • the reflectors 71a and 71b are used to detect the position of the frame 41 (described in detail later) in the x direction.
  • the reflectors 71a and 71b are provided at the tip of the holding member 70, respectively.
  • the reflector 71 a is provided near the lower end of the frame 41, and the reflector 71 b is provided near the upper end of the frame 41.
  • FIG. 3 is a schematic diagram of the moving unit 30.
  • the moving unit 30 mainly includes a moving member main body 31, side surface air pads 32 and 33, lower surface air pads 34 (341 and 342), and a convex portion 35.
  • the moving member body 31 is a rod-shaped member on which the mask holding unit 40 is provided.
  • the moving member body 31 is made of aluminum in order to reduce its weight.
  • Side surface air pads 32 and 33 are provided on the side surface of the moving member body 31.
  • the tip surface of the side air pad 32 faces the side surface 10g of the groove 10f, and the tip surface of the side air pad 33 faces the side surface 10h of the groove 10f.
  • a thin air layer is formed between the side surface 10g and the tip surface of the side air pad 32 and between the side surface 10h and the tip surface of the side air pad 33, and the side surface air pads 32 and 33 form the groove 10f through this air layer. Try to spread the sides of. Since the surface plate 10 is made of stone and the dimension of the groove 10f does not change, the side air pads 32, 33, that is, the moving portion 30 is guided by the groove 10f.
  • a lower surface air pad 34 is provided below the moving member main body 31.
  • the lower surface air pad 34 is a member having a substantially rectangular shape in a plan view (as viewed from above (+y direction)), and the lower surface air pad 341 provided at the +x side end of the moving member body 31 and the ⁇ side of the moving member body 31. And a lower surface air pad 342 provided at the end.
  • a convex portion 35 is provided on the upper side of the moving member body 31.
  • the convex portion 35 is a plate-shaped member, and the first bearing 439A or the second bearing 439B (not shown in FIG. 3, see FIG. 4) is provided inside.
  • the mask inspection apparatus 1 has a lower linear motor that moves the moving unit 30 along the groove 10f (may be the upper surface 10e) of the surface plate 10, and an upper linear motor that is driven following the lower linear motor.
  • the mover 61a (see FIG. 2) of the lower linear motor is provided on the moving member body 31, and the mover 62a (see FIGS. 1 and 2) of the upper linear motor is provided on the upper side of the frame 41.
  • a lower linear motor stator (not shown) is provided on the surface plate 10, and an upper linear motor stator 62b (see FIG. 2) is provided on a frame 65 (see FIG. 2).
  • the mover 62a is provided with a moving mechanism (not shown) that moves the position in the horizontal direction (x direction) and the vertical direction (y direction). This moving mechanism prevents the phase of the upper linear motor from shifting due to the position of the mover 62a in the horizontal direction (x direction) changing with the rotation of the frame 41 (described in detail later).
  • the mask holding unit 40 mainly includes a frame 41, an adjusting mechanism 42 (not shown in FIG. 2) that changes the position of the lower side of the mask M in the height direction (y direction), and a rotating mechanism 43 that rotates the frame 41.
  • the frame 41 is formed in a substantially frame shape so as to surround the outer periphery of the mask M held vertically. In the present embodiment, a plurality of square bars are combined to form a substantially frame-shaped frame 41.
  • the frame 41 is a reference frame that serves as a reference for position detection and the like.
  • the frame 41 holds the mask M so that the surface (the surface on which the pattern is formed) of the mask M is parallel to the xy plane.
  • the frame 41 is provided with a plurality of claw portions 41a (not shown in FIG. 2) for holding the mask M.
  • a holding portion 41f is provided on the upper side of the frame 41.
  • the holding portion 41f is, for example, an air pad, and holds a thin plate-shaped plate portion 66 (see FIG. 2) provided on the frame 65 (see FIG. 2). As a result, the frame 41 is supported so that the frame 41 does not tilt around the x axis.
  • a holding member 70 is provided on the side surface of the frame 41 so as to project in the lateral direction (x direction).
  • One of the holding members 70 is provided at a high position on the upper end side of the frame 41, and the other holding member 70 is provided at a low position on the lower end side of the frame 41.
  • the holding member 70 will be described in detail later.
  • An adjustment mechanism 42 and a rotation mechanism 43 are provided below the frame 41.
  • a plurality of adjusting mechanisms 42 are formed along the x direction.
  • the adjustment mechanism 42 has a first block 42a whose upper surface is inclined with respect to the xz plane and a second block 42b whose lower surface is inclined with respect to the xz plane, and includes a first block 42a and a second block 42b.
  • the height is adjusted by changing the relative positional relationship of. Since the adjusting mechanism 42 is already known, detailed description thereof will be omitted.
  • FIG. 4 is a schematic view of the mask holding unit 40, particularly the frame 41 and the rotation mechanism 43. In FIG. 4, the claw portion 41a and the adjusting mechanism 42 are not shown.
  • the rotation mechanism 43 mainly includes a rotation drive unit 431, a first screw member 432A and a second screw member 432B, a first nut member 433A and a second nut member 433B, and sprockets 434, 434a, 435. 436, the power transmission part 437 (437a, 437b), the 1st pin 438A and the 2nd pin 438B, and the 1st bearing 439A and the 2nd bearing 439B.
  • the first nut member 433A and the second nut member 433B are provided near both ends of the lower frame portion 41d, and are embedded in the bottom surface portion of the lower frame portion 41d located below the frame 41.
  • the first screw member 432A is screwed with the first nut member 433A, and the central axis thereof substantially coincides with the central axes of the first pin 438A and the first bearing 439A.
  • the second screw member 432B is screwed with the second nut member 433B, and the central axis thereof substantially coincides with the central axes of the second pin 438B and the second bearing 439B.
  • the first pin 438A and the second pin 438B are rod-shaped members having a substantially hemispherical surface below, are supported by the lower surface air pads 341, 342, and can swing with respect to the lower surface air pads 341, 342. ..
  • a first bearing 439A and a second bearing 439B are provided on the upper surface side of the moving member main body 31 at positions where the center axes of the first pin 438A and the second pin 438B substantially coincide with each other.
  • the lower end of the first screw member 432A is pivotally supported by the first bearing 439A, and the lower end of the second screw member 432B is pivotally supported by the second bearing 439B.
  • the load of the mask holding portion 40 and the mask M is supported by the highly rigid surface plate 10 via the first pin 438A and the second pin 438B having the highest rigidity and the lower surface air pads 341 and 342. Further, since the lower surface air pads 341 and 342 are provided near both ends of the moving member main body 31, it is possible to stably support the load of the mask holding portion 40 and the like.
  • the rotation drive unit 431 is an actuator such as an electric motor and has an output shaft 431a.
  • the sprocket 434 is integrated with the output shaft 431a. Further, the sprocket 434a and the sprocket 435 are integrated with the first screw member 432A, and the sprocket 436 is integrated with the second screw member 432B by press fitting or the like.
  • the sprocket 434 and the sprocket 434a are connected by a power transmission unit 437a, and the sprocket 435 and the sprocket 436 are connected by a power transmission unit 437b.
  • a distance (distance in the x direction) in a plan view between the reflector 71a and the second screw member 432B is defined as a distance A
  • a distance (distance in the x direction) in a plan view between the reflector 71a and the first screw member 432A is a distance B.
  • the rotation drive unit 431 When the rotation drive unit 431 is driven, the output shaft 431a and the sprocket 434 rotate, the power transmission unit 437a rotates the sprocket 435, and the power transmission unit 437b rotates the sprocket 436.
  • the first screw member 432A rotates as the sprocket 435 rotates
  • the second screw member 432B rotates as the sprocket 436 rotates. Since the number of teeth ⁇ of the sprocket 436 is larger than the number of teeth ⁇ of the sprocket 435, the first screw member 432A in which the sprocket 435 is press-fitted rotates more than the second screw member 432B in which the sprocket 436 is press-fitted. Therefore, the amount of movement of the first screw member 432A in the y direction is larger than the amount of movement of the second screw member 432B in the y direction. As a result, the frame 41 rotates.
  • the number of teeth ⁇ :the number of teeth ⁇ distance A:distance B, so that the frame 41 draws an arc so that the position O does not move with reference to the position O of the reflector 71a in the x direction.
  • the position O is a position where a substantially parallel line connecting the sprockets 435 and 436 intersects a substantially vertical line including the reflector 71a.
  • the amount of movement in the y direction at the position of the first screw member 432A when the frame 41 is rotated to the maximum is about ⁇ 3 mm.
  • the position detector 25 and the holding member 70 of the frame 41 will be described.
  • the reflector 71a is irradiated with light from the irradiation unit 26a
  • the reflector 71b is irradiated with light from the irradiation unit 26b.
  • the position detection of the frame 41 is mainly performed by using the irradiation unit 26a and the reflector 71a.
  • the irradiation unit 26b and the reflector 71b are used auxiliary to correct an error due to the pitching caused by the warp of the surface plate 10 during the movement of the frame 41.
  • FIG. 5 is a plan view showing the outline of the mask inspection apparatus 1.
  • the frame 41 and the holding member 70 have a loading position (see the dotted line in FIG. 5) for loading the mask M near the end of the surface plate 10 in the +x direction on the frame 41 and an inspection position for inspecting the mask M (see the solid line in FIG. 5). It is provided so as to be movable between.
  • the loading position is near the +x end of the surface plate 10 so that the column 21 and the imaging unit 20 are not hit by the mask M during loading.
  • the light emitted from the irradiation units 26a and 26b is reflected by the reflectors 71a and 71b and returns to the irradiation units 26a and 26b, so that the position detection unit 25 performs position measurement h.
  • the length of the holding member 70 (here, the rod-shaped member 70a (detailed later)) is the same as the length of the first mounting portion 70b (detailed later) when the frame 41 is located at the loading position (see the dotted line in FIG. 5).
  • the distance L1 (see FIG. 5) in the horizontal direction from the irradiation units 26a and 26b needs to be set.
  • FIG. 6 is a diagram showing the measurement principle of the position detector 25.
  • the irradiation units 26a and 26b mainly include a light source 231, a beam splitter 232, a reflector 233, and a detector 234.
  • the laser light waves of orthogonal two frequencies (light waves of frequency f1 and frequency f2) are emitted from the light source 231, the light of the wavelength f1 is reflected by the beam splitter 232 and reflected by the reflector 233, and the light of the wavelength f2 is emitted by the beam splitter 232.
  • the light is transmitted and reflected by the reflectors 71a and 71b. These lights are incident on the detector 234.
  • the distance between the irradiation units 26a and 26b and the reflectors 71a and 71b, that is, the positions of the frame 41 and the mask in the x direction are calculated from the phase change amount of the optical beat (major signal) received by the detector 234. This calculation is performed by comparing the phase of the reference signal (f1-f2) before entering the beam splitter 232 with the phase of the major signal.
  • FIG. 7 is a diagram schematically showing the holding member 70 and how to attach the holding member 70 to the frame 41.
  • the holding member 70 mainly has a rod-shaped member 70a, a first mounting portion 70b, and a second mounting portion 70c.
  • the rod-shaped member 70a is a hollow rod-shaped member extending in the horizontal direction.
  • a first mounting portion 70b for mounting the rod-shaped member 70a on the frame 41 is provided at one end of the rod-shaped member 70a.
  • the first mounting portion 70b is made of the same material as the frame 41 (for example, metal such as iron).
  • the first attachment portion 70b is fixed to the rod-shaped member 70a by inserting a part of a round rod-shaped member into the hollow portion of the rod-shaped member 70a and adhering the same.
  • the amount by which the first mounting portion 70b is inserted into the rod-shaped member 70a may be about 20 mm.
  • a flat surface portion 701 that contacts the frame 41 is formed on the first mounting portion 70b.
  • the flat surface portion 701 is brought into contact with the back surface of the frame 41, and the frame 41 and the first mounting portion 70b are cap screwed through the hole 41c formed in the frame 41 and the screw hole 702 formed in the first mounting portion 70b.
  • the holding member 70 is attached to the frame 41 by screwing with the above.
  • a second mounting portion 70c is provided at the end of the rod-shaped member 70a where the first mounting portion 70b is not provided.
  • the second attachment portion 70c has a plate-shaped portion 70d attached to the rod-shaped member 70a and a plate-shaped portion 70e attached to the plate-shaped portion 70d.
  • the plate-shaped portions 70d and 70e are formed using the same material (here, carbon FRP) as that of the rod-shaped member 70a.
  • a round hole 703 is formed in the plate portion 70d.
  • the plate-shaped portion 70d is fixed to the rod-shaped member 70a.
  • the plate-shaped portion 70d is made as light as possible.
  • the plate-shaped portion 70d and the plate-shaped portion 70e are brought into contact with each other, and the plate-shaped portion 70d and the plate-shaped portion 70e are inserted through the screw holes 704 formed in the plate-shaped portion 70d and the elongated holes 705 formed in the plate-shaped portion 70e.
  • the plate-shaped portion 70d and the plate-shaped portion 70e are fixed by screwing and with a cap screw or the like.
  • the reflectors 71a and 71b (not shown in FIG. 7) are provided on the plate-shaped portion 70e.
  • the reflectors 71a and 71b are fixed to the back surface 707 of the plate-shaped portion 70e so as to cover the holes 706. Since the long hole 705 is formed in the plate-shaped portion 70e, the relative positional relationship between the plate-shaped portion 70d and the plate-shaped portion 70e, that is, the relative positional relationship between the frame 41 and the reflectors 71a and 71b can be changed. Is.
  • Corner cube reflectors are used as the reflectors 71a and 71b.
  • the incident light and the reflected light are located in point symmetry with respect to the center of the corner cube reflector. Therefore, in order to reflect the light from the irradiation units 26a and 26b arranged in front of the reflectors 71a and 71b toward the front by the reflectors 71a and 71b, it is necessary to accurately position the center positions of the reflectors 71a and 71b. is there.
  • the relative positional relationship between the plate-shaped portion 70d and the plate-shaped portion 70e can be changed, so that the reflectors 71a and 71b can be accurately positioned.
  • the length of the rod-shaped member 70a is the horizontal distance L1 between the first mounting portion 70b and the irradiation portions 26a and 26b (see FIG. 3) when the frame 41 is located at the loading position (see the dotted line in FIG. 5) (see FIG. 3). 5)) or more. Further, the thickness of the rod-shaped member 70a is not less than the thickness t1 of the frame 41. By thickening the rod-shaped member 70a, the bending of the rod-shaped member 70a is prevented. In the present embodiment, the rod-shaped member 70a has a thickness (diameter) of about 40 mm to about 50 mm, and the rod-shaped member 70a has a length of about 400 mm to about 500 mm.
  • the material of the rod-shaped member 70a will be described.
  • a metal, an inorganic material (glass, ceramics, etc.), or a resin material can be used for the rod-shaped member 70a.
  • a composite material can be used for the rod-shaped member 70a. Examples of the composite material include a material obtained by impregnating fibers or paper with a resin, or a material obtained by dispersing fibers or fine particles in a resin.
  • the rod-shaped member 70a may be a member formed by bonding parts made of a single material or a composite material.
  • Examples of metals include iron, aluminum, titanium, stainless alloys, invar (invariant steel), etc., but high-performance metal materials (super invar) with a very small coefficient of thermal expansion at around room temperature are most desirable.
  • Examples of the glass material include quartz glass and low expansion glass.
  • ceramic materials include aluminum oxide, zirconium dioxide, silicon carbide (SiC), aluminum nitride (AlN), and low thermal expansion ceramic materials.
  • Examples of the fibers include carbon fibers (including carbon nanotubes), glass fibers, aluminum oxide fibers, steel fibers and the like.
  • Examples of the fine particles include carbon black fine particles and mica fine particles.
  • the resin material examples include polyethylene (PE), polypropylene (PP), polystyrene (PS), epoxy resin, polycarbonate (PC), cellulose resin, polyetherimide (PEI), liquid crystal polymer (LCP), polyethylene terephthalate ( Examples thereof include PET), polyvinyl chloride (PVC), ethylene/vinyl acetate copolymer resin (EVA resin), polyimide, polymethylmethacrylate (PMMA) polyester, polyurethane, and phenol.
  • the bonded material examples include a metal plate (thin plate) which is a core material and one or both surfaces of which rubber, resin or the like (preferably a material that highly dampens vibration) is bonded.
  • rod-shaped member 70a it is desirable to form the rod-shaped member 70a using a lightweight and highly rigid composite material, particularly fiber reinforced plastic. Above all, it is desirable to form the rod-shaped member 70a using carbon fiber reinforced plastic (carbon FRP) having a low coefficient of thermal expansion and good dimensional stability. It is desirable to use an epoxy resin, an acrylic resin, or a polyimide, which is a thermosetting resin and has high rigidity, as the resin to impregnate the fibers.
  • carbon FRP carbon fiber reinforced plastic
  • FIG. 8 is a schematic diagram when the rod-shaped member 70a is produced using carbon FRP. Note that FIG. 8 schematically illustrates a part of the fibers included in the rod-shaped member 70a.
  • the rod-shaped member 70a is obtained by winding, for example, a sheet-shaped member obtained by impregnating a resin in which carbon fibers are lined up in a round rod-shaped mold a plurality of times, and curing (thermal polymerization) this at a high temperature (approximately 200° C. or higher). Generated by. Examples of the weave of the fibers in the sheet form include unidirectional (UD) material, plain weave, and twill weave.
  • UD unidirectional
  • the present embodiment is characterized by the orientation of the fibers contained in the rod-shaped member 70a.
  • the direction of the carbon fiber is inclined with respect to the axis of the rod-shaped member 70a.
  • the inclination of the carbon fiber with respect to the axis ax of the rod-shaped member 70a can be any angle, but is, for example, about 45 degrees.
  • the wall thickness t of the rod member 70a is approximately 1/100 to 1/40 of the diameter d of the rod member 70a.
  • the diameter d of the rod-shaped member 70a is approximately 40 mm to approximately 50 mm
  • the wall thickness t of the rod-shaped member 70a is approximately 0.5 mm to approximately 1 mm.
  • FIG. 9 is a schematic diagram of a rod-shaped member 70a' according to a modification.
  • a part of the fibers included in the rod-shaped member 70a' is schematically illustrated.
  • the rod-shaped member 70a is less likely to be compressed and deformed.
  • the direction of the fibers contained in the rod-shaped member 70a may be two or more.
  • a fiber in a direction substantially parallel to the axis of the rod-shaped member 70a′ and a fiber in a direction substantially orthogonal to the axis of the rod-shaped member 70a′ are inclined with respect to the axis of the rod-shaped member 70a.
  • the fibers may be included in one rod-shaped member.
  • FIG. 10 is a block diagram showing the electrical configuration of the mask inspection apparatus 1.
  • the mask inspection apparatus 1 includes a CPU (Central Processing Unit) 151, a RAM (Random Access Memory) 152, a ROM (Read Only Memory) 153, an input/output interface (I/F) 154, and a communication interface (I/F). ) 155 and a media interface (I/F) 156.
  • CPU Central Processing Unit
  • RAM Random Access Memory
  • ROM Read Only Memory
  • I/F input/output interface
  • I/F input/output interface
  • I/F communication interface
  • 155 and a media interface (I/F) 156.
  • the CPU 151 operates based on a program stored in the RAM 152 and the ROM 153, and has a function of a control unit 151 a that controls each unit of the mask inspection apparatus 1.
  • the RAM 152 is a volatile memory.
  • the ROM 153 is a non-volatile memory that stores various control programs and the like.
  • the CPU 151 operates based on programs stored in the RAM 152 and the ROM 153, and controls each part.
  • the RAM 152 stores programs executed by the CPU 151, data used by the CPU 151, and the like.
  • the ROM 153 stores a boot program executed by the CPU 151 when the mask inspection apparatus 1 is activated, a program dependent on the hardware of the mask inspection apparatus 1, and the like.
  • the program is read from the storage medium 143, installed in the mask inspection apparatus 1 via the RAM 152, and executed by the CPU 151, for example.
  • the CPU 151 controls the input/output device 141 such as a keyboard and a mouse via the input/output interface 154.
  • the communication interface 155 receives data from another device via the network 142 and transmits the data to the CPU 151, and also transmits the data generated by the CPU 151 to another device via the network 142.
  • the media interface 156 reads the program or data stored in the storage medium 143 and stores it in the RAM 152.
  • the storage medium 143 is, for example, an IC card, an SD card, a DVD, or the like.
  • the configuration of the mask inspection apparatus 1 shown in FIG. 10 is the main configuration in describing the features of the present embodiment, and does not exclude, for example, the configuration included in a general information processing apparatus.
  • the constituent elements of the mask inspection apparatus 1 may be classified into more constituent elements according to the processing content, or one constituent element may execute the processing of a plurality of constituent elements.
  • control unit 151a places the frame 41 at the loading position (see FIG. 5), controls the claws 41a and the like, and holds the mask M on the frame 41. Further, the control unit 151a adjusts the position of the lower side of the mask M in the height direction (y direction) by the adjustment mechanism 42.
  • control unit 151a moves the moving unit 30 in the ⁇ x direction along the groove 10f, and moves the mask M from the loading position to the inspection position.
  • the control unit 151a controls the light source 53 and the like to emit light from the irradiation unit 26a. Further, the control unit 151a acquires information about the time until the light emitted from the irradiation unit 26a is reflected by the reflector 71a and received by the irradiation unit 26a from the irradiation unit 26a, and the information is stored in the position information (ROM 153).
  • the position of the frame 41 in the x direction is detected by making a comparison with (stored).
  • the control unit 151a moves the frame 41 to a predetermined position determined in advance while detecting the position of the frame 41 in this manner.
  • control unit 151a controls the light source 53 and the like to emit light from the irradiation unit 26b. Then, the position of the frame 41 in the x direction is detected in the same manner as the process performed on the irradiation unit 26a.
  • the control unit 151a controls the imaging unit 20 to detect the pattern formed on the mask M. Then, the control unit 151a acquires the pattern information and detects how much of the pattern along the x direction (hereinafter referred to as the pattern x) is inclined with respect to the x direction. After detecting the inclination of the pattern x, the control unit 151a controls the rotation driving unit 431 to rotate the frame 41 based on the rotation information (stored in the ROM 153) and the detection result of the position detection unit 25. , The horizontal component of the pattern is made substantially horizontal (correction of inclination).
  • the control unit 151a moves the frame 41 (mask M) to the inspection position again. Then, the control unit 151a causes the imaging unit 20 to inspect the mask M.
  • the g-line is emitted from the transmissive illumination light source and the e-line is emitted from the reflective illumination light source at the same time, and these are simultaneously received by the cameras 22a and 22b to form an image. Then, by comparing each of the image captured by the camera 22a and the image captured by the camera 22b with the image generated based on the pattern information (stored in the ROM 153), pattern defects and the like are detected. Discover.
  • the method of inspecting the mask M a well-known technique can be used, and thus detailed description thereof will be omitted.
  • the holding member 70 Since the holding member 70 is lightweight, the holding member 70 does not resonate at frequencies below 400 Hz. Since various vibrations in the factory (vibration of the enclosure covering the mask inspection device 1, vibration when driving the linear motor, pressure vibration of the fan filter unit, etc.) are almost 400 Hz or less, the holding member 70 resonates during the inspection. In addition, the reflectors 71a and 71b also do not vibrate. As a result, pseudo defects are less likely to occur during inspection.
  • control unit 151a moves the frame 41 (mask M) to the loading position again. Then, the mask M is exchanged, and the inspection of the next mask M is started.
  • the holding member 70 since the holding member 70 is formed using the hollow rod-shaped member 70a, the holding member 70 can be made light and durable. As a result, it is possible to prevent the holding member 70 from resonating due to various vibrations in the factory, and prevent the reflectors 71a and 71b from vibrating from causing pseudo defects during inspection.
  • FIG. 11 is an example of a heavy holding member 710 made of a metal matrix
  • FIG. 12 is a graph showing vibration of the holding member 710 at 24 Hz
  • (A) is a holding provided on the upper end side (high position) of the frame 41.
  • the vibration of the reflector mounting plate 710a of the member 710 is shown, and (B) shows the vibration of the reflector mounting plate 710a of the holding member 710 provided on the lower end side (lower position) of the frame 41.
  • the vertical axis represents amplitude ( ⁇ m) and the horizontal axis represents time (msec).
  • the reflector mounting plate 710a of the holding member 710 provided on the upper end side of the frame 41 vibrates with an amplitude of 40 to 50 nm at a low frequency of 24 Hz. Since the low-frequency vibration of about 24 Hz is particularly large among the vibrations in the factory, the vibration of the reflector at the low frequency has a great influence on the occurrence of pseudo defects.
  • FIG. 13 is an example of a holding member 720 in which three rods having a diameter of about 10 mm formed of Super Invar are arranged side by side and reinforced with a plate-like member
  • FIG. 14 is a graph showing a vibration of the holding member 720 at 180 Hz.
  • (A) shows the vibration of the reflector mounting plate 720a of the holding member 720 provided on the upper end side of the frame 41
  • (B) shows the vibration of the reflector mounting plate 720a of the holding member 720 provided on the lower end side of the frame 41.
  • the vertical axis represents amplitude ( ⁇ m) and the horizontal axis represents time (msec).
  • the reflector mounting plate 720a of the holding member 720 provided on the upper end side of the frame 41 generates vibration with an amplitude of a little over 30 nm at 180 Hz. Although 180 Hz vibration is less than low frequency vibration in the factory, it is a vibration that occurs regularly and causes pseudo defects.
  • FIG. 15 is a graph showing vibration at 12.5 Hz when the holding member 70 of the present embodiment is used, and (A) shows the plate-shaped portion of the holding member 70 provided on the upper end side of the frame 41. 70B shows the vibration of the plate-shaped portion 70e of the holding member 70 provided on the lower end side of the frame 41.
  • the vertical axis represents amplitude ( ⁇ m) and the horizontal axis represents time (msec).
  • the vibration of 12.5 Hz is a vibration generated when the moving unit 30 moves along the groove 10f, and is not a vibration due to resonance.
  • the amplitude of vibration at 12.5 Hz is also small, about 8 nm.
  • the plate-shaped portion 70e does not vibrate significantly at a frequency of 400 Hz or less.
  • the light and strong holding member 70 it is possible to prevent the vibrations of the reflectors 71a and 71b due to the resonance of the holding member 70, and to prevent the occurrence of pseudo defects.
  • the rod-shaped member 70a is a hollow round rod, but the end surface (cross-section) shape of the rod-shaped member 70a is not limited to this.
  • the rod-shaped member may be a rod-shaped member whose end face (cross section) is substantially polygonal, or may be a rod-shaped member whose end face is substantially elliptical. Further, the rod-shaped member may be a rod-shaped member obtained by combining and joining a plurality of plate-shaped members so that the end faces have a substantially polygonal shape.
  • a hollow tubular member for example, a hollow round bar or a hollow square bar having no joint on the side surface as the rod-shaped member 70a.
  • the rod-shaped member 70a is a hollow round bar.
  • one rod-shaped member 70a without a connecting portion is used, but the form of the rod-shaped member 70a is not limited to this.
  • a hollow round bar may be formed by bending and joining plate-shaped materials.
  • a rod-shaped member may be formed by using a plurality of members having a hollow structure.
  • a rod-shaped member may be formed by providing a hollow bar member with a reinforcing structure such as a rib structure on the outer peripheral surface or the hollow portion.
  • holes or the like may be provided on the side surface of the hollow bar.
  • first mounting portion 70b and the second mounting portion 70c are provided at both ends of the rod-shaped member 70a, but the shapes of the first mounting portion 70b and the second mounting portion 70c are not limited to the illustrated shape. Absent.
  • the present invention can also be applied to an apparatus for holding and inspecting the mask M in a substantially horizontal direction.
  • the present invention is particularly effective when the substantially frame-shaped frame 41 holds the mask to be inspected in the substantially vertical direction and the holding member 70 is provided at a high position of the frame 41.
  • substantially is a concept including not only the case where they are exactly the same, but also an error and a deformation that do not lose the sameness.
  • the substantially cubic shape is not limited to a strictly cubic shape.
  • the surface plate 10 is formed with a recess 10b and the like, the surface plate 10 as a whole has a substantially cubic shape.
  • it includes not only strictly vertical, matching, etc. but also substantially vertical, substantially matching, etc.
  • the “neighborhood” is a concept that, for example, when it is near A, it is near A and may or may not include A.
  • Mask inspection device 10 Surface plate 10a: Lower surface 10b, 10c: Recessed portion 10d: Support surface 10e: Upper surface 10f: Groove 10g, 10h, 10i: Side surface 20: Imaging unit 21: Pillar 22, 22a, 22b: Camera 23: Air pad 25: Position detecting parts 26a and 26b: Irradiating part 30: Moving part 31: Moving member main body 32, 33: Side air pad 34: Lower surface air pad 35: Convex part 40: Mask holding part 41: Frame 41a: Claw part 41c: Hole 41d: Lower frame part 41f: Holding part 42: Adjustment mechanism 42a: 1st block 42b: 2nd block 43: Rotation mechanism 51, 52: Vibration isolation table 53: Light source 54: Light guide member 61a, 62a: Movable element 62b: Stator 65: Frame 66: Plate part 70: Holding members 70a, 70a': Bar-shaped member 70b: First mounting part 70c: Second mounting parts 70d, 70e: Plate-shaped parts 71

Landscapes

  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

リフレクタの共振を防止し、疑似欠陥の発生を防ぐことができる。　被検査対象のマスクを略鉛直方向に保持する略枠状のフレームの側面に設けられた保持部材は、水平方向に延設された中空の棒状部材と、棒状部材をフレームに取り付ける第１取付部と、リフレクタが設けられた第２取付部と、を有する。フレームを定盤の上面に沿って水平に移動させるため、中空の棒状部材を水平方向に延設する。定盤に設けられた柱には、リフレクタと略同じ高さに配置され、リフレクタに向けて略水平方向に光を照射する光照射部が設けられている。

Description

マスク検査装置
　本発明は、マスク検査装置に関する。
　特許文献１には、マスク検査装置におけるフレーム位置検出機構が開示されている。このマスク検査装置では、定盤に柱が設けられており、柱に照射部が設けられており、マスクを保持するフレームの側面から水平方向に突出する保持部材にリフレクタが設けられている。照射部から照射され、リフレクタで反射された光に基づいてフレームの位置を検出する。
特開２０１８－２６４０４号公報
　マスク検査装置では、フレームが移動するため、リフレクタを保持する保持部材をフレームの側面から水平方向に突出させる必要がある。しかしながら、特許文献１に記載された保持部材は共振周波数が低いため、工場内の各種振動により保持部材が共振してしまう。その結果、リフレクタが振動し、検査時に疑似欠陥が発生してしまう。
　本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、リフレクタの共振を防止し、疑似欠陥の発生を防ぐことができるマスク検査装置を提供することを目的とする。
　上記課題を解決するために、本発明に係るマスク検査装置は、例えば、定盤と、被検査対象のマスクを保持する略枠状のフレームと、前記フレームを前記定盤の上面に沿って水平に移動させる移動部と、前記フレームの側面に設けられた保持部材と、前記保持部材の先端に設けられたリフレクタと、前記定盤に設けられた柱と、前記柱に設けられた光照射部であって、前記リフレクタと略同じ高さに配置され、前記リフレクタに向けて略水平方向に光を照射する光照射部と、を備え、前記保持部材は、水平方向に延設された中空の棒状部材と、前記棒状部材の第１端に設けられ、前記棒状部材を前記フレームに取り付ける第１取付部と、前記棒状部材の前記第１端の反対側の端である第２端に設けられた第２取付部と、を有し、前記リフレクタは、前記第２取付部に設けられていることを特徴とする。
　本発明に係るマスク検査装置によれば、被検査対象のマスクを略鉛直方向に保持する略枠状のフレームの側面に設けられた保持部材は、水平方向に延設された中空の棒状部材と、棒状部材をフレームに取り付ける第１取付部と、リフレクタが設けられた第２取付部と、を有する。フレームを定盤の上面に沿って水平に移動させるため、中空の棒状部材を水平方向に延設する。定盤に設けられた柱には、リフレクタと略同じ高さに配置され、リフレクタに向けて略水平方向に光を照射する光照射部が設けられている。リフレクタが設けられる保持部材に中空の棒状部材を用いることで、保持部材を軽くしてリフレクタの共振を防止し、これによる疑似欠陥の発生を防ぐことができる。
　ここで、前記棒状部材の太さは、前記フレームの厚さ以上であってもよい。これにより、棒状部材の曲がりを防止することができる。
　ここで、前記棒状部材は中空丸棒であり、前記棒状部材の肉厚は、前記棒状部材の直径の略１／４０～略１／５０であってもよい。これにより、棒状部材を軽く、丈夫にすることができる。
　ここで、前記棒状部材は、繊維強化プラスチックで形成されていてもよい。これにより、棒状部材を軽量にし、かつ剛性を高くすることができる。
　ここで、前記棒状部材が含有する繊維の向きは、前記棒状部材の軸に対して傾いていてもよい。これにより、棒状部材の伸縮及びリフレクタの位置変化を防止することができる。
　ここで、前記移動部は、前記マスクを前記フレームにローディングするローディング位置と、前記マスクを検査する検査位置との間で前記移動部を水平に移動させ、前記棒状部材の長さは、前記ローディング位置に前記フレームが位置するときにおける前記第１取付部と、前記光照射部との水平方向の距離以上であってもよい。これにより、ローディング位置にフレームが位置するとき及びフレームを水平方向に移動させたときにも、リフレクタが照射部と当たらないようにすることができる。
　本発明によれば、リフレクタの共振を防止し、疑似欠陥の発生を防ぐことができる。
第１の実施の形態に係るマスク検査装置１の概略を示す斜視図である。 マスク検査装置１の概略を示す正面図である。 移動部３０の概略を示す図である。 マスク保持部４０、特にフレーム４１及び回転機構４３の概略を示す図である。 マスク検査装置１の概略を示す平面図である。 位置検出部２５の測定原理を示す図である。 保持部材７０及び保持部材７０のフレーム４１への取り付け方を模式的に示す図である。 カーボンＦＲＰを用いて棒状部材７０ａを生成したときの模式図である。 変形例に係る棒状部材７０ａ’の模式図である。 マスク検査装置１の電気的な構成を示すブロック図である。 メタルマトリックス製の重い保持部材７１０の一例である。 保持部材７１０の２４Ｈｚの振動を示すグラフであり、（Ａ）はフレーム４１の上端側に設けた保持部材７１０におけるリフレクタ取付板７１０ａの振動を示し、（Ｂ）はフレーム４１の下端側に設けた保持部材７１０におけるリフレクタ取付板７１０ａの振動を示す。 スーパーインバーで形成された直径１０ｍｍ程度の棒材を３本並べて板状部材で補強した保持部材７２０の一例である。 保持部材７２０の１８０Ｈｚの振動を示すグラフであり、（Ａ）はフレーム４１の上端側に設けた保持部材７２０におけるリフレクタ取付板７２０ａの振動を示し、（Ｂ）はフレーム４１の下端側に設けた保持部材７２０におけるリフレクタ取付板７２０ａの振動を示す。 本実施の形態の保持部材７０を用いたときの１２．５Ｈｚの振動を示すグラフであり、（Ａ）はフレーム４１の上端側に設けた保持部材７０における板状部７０ｅの振動を示し、（Ｂ）はフレーム４１の下端側に設けた保持部材７０における板状部７０ｅの振動を示す。
　以下、本発明の実施形態を、図面を参照して詳細に説明する。本発明の検査装置は、略鉛直方向に被検査対象のマスクＭを保持し、カメラ等を略鉛直方向に移動させてマスクＭに形成されたパターンの欠陥を検査するものである。
　本実施形態において検査対象とされるマスクＭは、例えば有機ＥＬや液晶表示装置の表示装置用の基板を製造するために用いられる露光用マスクである。マスクＭは、一辺が１ｍ程度の大型な略矩形形状の基板上に、１個または複数個のイメージデバイス用転写パターンが形成されたものである。特に、本実施形態は、高密度のパターンが形成され、高感度の検査が必要な有機ＥＬディスプレイ用のマスクＭの検査に適している。
　図１は、第１の実施の形態に係るマスク検査装置１の概略を示す斜視図である。図２は、マスク検査装置１の概略を示す正面図である。本明細書においては、定盤１０（後に詳述）の長手方向に略沿った方向をｘ方向と定義し、鉛直方向をｙ方向とし、ｘ方向及びｙ方向と直交する方向をｚ方向と定義する。なお、図１、２においては、説明のため、一部の構成について図示を省略している。
　マスク検査装置１は、主として、定盤１０と、撮像部２０と、柱２１と、位置検出部２５と、移動部３０と、マスク保持部４０と、除振台５１、５２と、を有する。
　定盤１０は、ステージとして構成されており、設置面Ｆ上の複数箇所（６箇所）に設置されている除振台５１、５２の上に支持される。
　定盤１０は、横幅Ｗが４５００ｍｍ程度、奥行きＤが１２００ｍｍ程度、厚さＴが４００ｍｍ程度の略直方体形状（厚板状）の石製の部材である。定盤１０は、下面１０ａと、下面１０ａと平行な上面１０ｅと、を有する。
　定盤１０の上面１０ｅには、上面１０ｅから上方（＋ｙ方向）突出するように柱２１が設けられている。柱２１は、セラミック等により形成される。重心Ｇを低くするため、柱２１は中空とすることが好ましい。
　定盤１０の下面１０ａには、略立方体形状の凹部１０ｂ、１０ｃが形成される。凹部１０ｂは、下面１０ａの４つの隅のそれぞれに一箇所ずつ形成される。凹部１０ｃは、下面１０ａの長辺に沿ってそれぞれ一箇所ずつ、合計２箇所形成される。凹部１０ｂ、１０ｃの深さＤ１は、定盤１０の強度を保つため、定盤１０の厚さＴの０．３～０．５倍とする。また、凹部１０ｂ、１０ｃの深さＤ１、すなわち支持面１０ｄの高さは、支持面１０ｄからマスク検査装置１全体の重心Ｇを見上げる角度θ（図２参照）が６０度以下のできるだけ小さい角度（例えば、略３０度）になるように設定される。
　凹部１０ｂの内部には、設置面Ｆ上に載置された除振台５１が設けられる。凹部１０ｃの内部には、設置面Ｆ上に載置された除振台５２が設けられる。除振台５１はアクティブ除振台であり、除振台５２は重さを支えるパッシブ除振台である。除振台５１、５２はすでに公知であるため、説明を省略する。
　除振台５１、５２の高さは、凹部１０ｂ、１０ｃの深さＤ１より高い。したがって、除振台５１、５２が支持面１０ｄを支持することで、定盤１０が除振台５１、５２を介して設置面Ｆ上に載置される。これにより、支持面１０ｄを基準とした時のマスク検査装置１の重心Ｇを低くすることができる。
　定盤１０の上面１０ｅには、溝１０ｆが形成される（上面１０ｅは溝１０ｆを含む）。溝１０ｆは、移動部３０を移動させる時のガイドである。定盤１０の強度を高くするために、溝１０ｆは、平面視（＋ｙ方向から見た場合）において、凹部１０ｂ、１０ｃと重ならない位置に、定盤１０の長手方向（ｘ方向）に沿って形成される。
　溝１０ｆの深さＤ２は、定盤１０の厚さＴに比べて十分に小さい。また、溝１０ｆの深さＤ２は、最も重心Ｇが低くなるように、カメラ２２ａ（後に詳述）が上面１０ｅに当接した時のカメラ２２の光軸ａｘ（図２参照）が、移動部３０（後に詳述）に支持されたマスクＭの下端と一致するように設定される。本実施の形態では、溝１０ｆの深さＤ２は６０ｍｍ程度である。したがって、溝１０ｆを形成したとしても、定盤１０の剛性を十分に高い状態とすることができる。
　撮像部２０は、主として、柱２１に設けられたカメラ２２（図２参照）を有する。カメラ２２は、例えばＣＣＤカメラや特殊なＣＣＤカメラであるＴＤＩカメラであり、２個のカメラ２２ａ、２２ｂを有する。カメラ２２ａ、２２ｂは、それぞれ、ｇ線及びｅ線を平行光に変換する対物レンズと、対物レンズを通過したｇ線とｅ線とを分離する光学部材（例えば、偏光ビームスプリッタとダイクロイックフィルタとの機能を併せ持つ部材）と、光学部材で分離されたｇ線及びｅ線をそれぞれ結像する２組の結像レンズと、２組の結像レンズで結像されたｇ線及びｅ線をそれぞれ画像化する撮像素子と、を有し、透過光と反射光とを同時に画像化する。なお、カメラ２２ａ、２２ｂは、すでに公知の技術を用いることができるため、詳細な説明を省略する。
　カメラ２２ａ、２２ｂは、ｙ方向に沿って２個隣接して設けられる。カメラ２２と柱２１との間にはエアパッド２３（図５参照）を含む移動機構（図示せず）が設けられる。この移動機構には、光軸ａｘがｚ軸と平行となるようにカメラ２２が設けられる。
　図示しない移動機構が上下方向（ｙ方向）に移動することにより、カメラ２２が上下方向（ｙ方向）に移動する。移動機構は、２個のカメラ２２ａ、２２ｂを、カメラ２２ａが定盤１０の上面１０ｅに当接する初期位置と、カメラ２２ｂが柱２１の上端近傍の位置する上端位置（図２の２点鎖線参照）との間を、柱２１に沿って移動させる。
　また、撮像部２０は、図示しない透過照明光源と、反射照明光源と、を有する。透過照明光源は、マスクＭの背面側（－ｚ側）に設けられ、いわゆるｇ線（例えば波長が４３５．８４［ｎｍ］の光）を照射する。反射照明光源は、マスクＭの表面側（＋ｚ側）に設けられ、いわゆるｅ線（例えば波長が５４６．０７［ｎｍ］の光）を照射する。カメラ２２は、透過照明光源から照射されたｇ線と、反射照明光源から照射されたｅ線とを同時に受光し、画像化する。このようにしてカメラ２２により得られた画像と、パターン情報（後に詳述）とを比較することで、マスクＭの検査が行なわれる。
　２個のカメラ２２ａ、２２ｂを用いる場合には、マスクＭの検査領域の下半分と上半分とをそれぞれカメラ２２ａ、２２ｂで撮像し、それぞれの撮像データとパターン情報とを比較することで、１個のカメラを用いる場合に比べて２倍の能率を得ることができる。したがって、カメラ２２が２個のカメラ２２ａ、２２ｂを有することが望ましい。ただし、カメラ２２の数は、２個に限らず、１個（カメラ２２ａ、２２ｂの一方）でもよい。
　位置検出部２５は、レーザ干渉変位計（例えばリニア干渉）であり、主として、柱２１に設けられた照射部２６ａ、２６ｂと、保持部材７０（後に詳述）に設けられたリフレクタ７１ａ、７１ｂと、を有する。
　照射部２６ａ、２６ｂは、柱２１に設けられる。照射部２６ａ、２６ｂへは、光源５３（図１参照）から照射された光が、導光部材５４（図１参照）等を介して導かれる。照射部２６ａ、２６ｂは、それぞれリフレクタ７１ａ、７１ｂと略同じ高さに配置されている。照射部２６ａは、導かれた光を、リフレクタ７１ａへ向けて略水平方向へ照射する。また、照射部２６ｂは、導かれた光を、リフレクタ７１ｂへ向けて略水平方向へ照射する。
　リフレクタ７１ａ、７１ｂは、光を入射方向に戻す（光ビームを折り返す）反射鏡であり、例えば、レトロリフレクタである。リフレクタ７１ａ、７１ｂは、フレーム４１（後に詳述）のｘ方向の位置を検出するのに用いられる。リフレクタ７１ａ、７１ｂは、それぞれ保持部材７０の先端に設けられている。また、リフレクタ７１ａは、フレーム４１の下端近傍に設けられ、リフレクタ７１ｂは、フレーム４１の上端近傍に設けられる。
　移動部３０は、定盤１０に載置されるとともに、マスクＭを保持するフレーム４１を含むマスク保持部４０が載置される。図３は、移動部３０の概略を示す図である。移動部３０は、主として、移動部材本体３１と、側面エアパッド３２、３３と、下面エアパッド３４（３４１、３４２）と、凸部３５と、を有する。
　移動部材本体３１は、上方にマスク保持部４０が設けられる棒状の部材である。移動部材本体３１は、軽量化するため、アルミニウムにより形成される。移動部材本体３１の側面には、側面エアパッド３２、３３が設けられる。側面エアパッド３２の先端面は溝１０ｆの側面１０ｇと対向し、側面エアパッド３３の先端面は溝１０ｆの側面１０ｈと対向する。
　側面１０ｇと側面エアパッド３２の先端面との間及び側面１０ｈと側面エアパッド３３の先端面との間に薄い空気の層が形成され、この空気の層を介して、側面エアパッド３２、３３が溝１０ｆの側面をおし広げるようにする。定盤１０は石製であり溝１０ｆの寸法が変化しないため、側面エアパッド３２、３３、すなわち移動部３０は、溝１０ｆによりガイドされる。
　移動部材本体３１の下側には、下面エアパッド３４が設けられる。下面エアパッド３４は、平面視（上（＋ｙ方向）から見て）略矩形形状の部材であり、移動部材本体３１の＋ｘ側の端に設けられる下面エアパッド３４１と、移動部材本体３１の－側の端に設けられる下面エアパッド３４２と、を有する。
　下面エアパッド３４１、３４２の下面側の開口部から底面１０ｉに向けて吐出されると、吐出された空気により、底面１０ｉと下面エアパッド３４１、３４２との間に薄い空気の層が形成され、下面エアパッド３４１、３４２が溝１０ｆの底面から浮き上がる。
　移動部材本体３１の上側には、凸部３５が設けられる。凸部３５は、板状の部材であり、内部に第１の軸受４３９Ａ又は第２の軸受４３９Ｂ（図３では図示省略、図４参照）が設けられる。
　図１、２の説明に戻る。マスク検査装置１は、移動部３０を定盤１０の溝１０ｆ（上面１０ｅでもよい）に沿って移動させる下部リニアモータと、下部リニアモータに追随して駆動される上部リニアモータと、を有する。下部リニアモータの可動子６１ａ（図２参照）は移動部材本体３１に設けられ、上部リニアモータの可動子６２ａ（図１、２参照）はフレーム４１の上側に設けられる。下部リニアモータの固定子（図示せず）は定盤１０に設けられ、上部リニアモータの固定子６２ｂ（図２参照）は枠６５（図２参照）に設けられる。
　可動子６２ａには、水平方向（ｘ方向）及び垂直方向（ｙ方向）の位置を移動させる移動機構（図示せず）が設けられる。この移動機構は、フレーム４１の回転（後に詳述）に伴って可動子６２ａの水平方向（ｘ方向）の位置が変わることによって、上部リニアモータの位相がずれることを防止する。
　マスク保持部４０は、主として、フレーム４１と、マスクＭの下辺の高さ方向（ｙ方向）の位置を変更する調整機構４２（図２では図示省略）と、フレーム４１を回転させる回転機構４３と、を有する。
　フレーム４１は、鉛直に保持されるマスクＭの外周を囲むように、略枠状に形成される。本実施の形態では、複数の角棒を組み合わせて略枠状のフレーム４１を形成する。フレーム４１は、位置検出等の基準となる基準枠である。フレーム４１は、マスクＭの表面（パターンが形成された面）がｘｙ平面と平行となるようにマスクＭを保持する。フレーム４１には、マスクＭを把持する爪部４１ａ（図２では図示省略）が複数設けられる。
　フレーム４１の上側には、保持部４１ｆが設けられる。保持部４１ｆは、例えばエアパッドであり、枠６５（図２参照）に設けられた薄板状の板部６６（図２参照）を挟持する。これにより、フレーム４１がｘ軸を中心に傾かないようにフレーム４１が支持される。
　フレーム４１の側面には、保持部材７０が横方向（ｘ方向）に突出するように設けられている。保持部材７０のうちの１つは、フレーム４１の上端側の高い位置に設けられ、他の保持部材７０は、フレーム４１の下端側の低い位置に設けられている。保持部材７０については後に詳述する。
　フレーム４１の下方には、調整機構４２及び回転機構４３が設けられる。調整機構４２は、ｘ方向に沿って複数個形成される。調整機構４２は、上面がｘｚ平面に対して傾いている第１ブロック４２ａと、下面がｘｚ平面に対して傾いている第２ブロック４２ｂとを有し、第１ブロック４２ａと第２ブロック４２ｂとの相対的な位置関係を変えることで高さの調整を行なう。調整機構４２はすでに公知であるため、詳細な説明は省略する。
　回転機構４３は、フレーム４１の下側に位置する枠部分の両端近傍に設けられる。図４は、マスク保持部４０、特にフレーム４１及び回転機構４３の概略を示す図である。図４では、爪部４１ａ及び調整機構４２の図示を省略している。
　回転機構４３は、主として、回転駆動部４３１と、第１のネジ部材４３２Ａ及び第２のネジ部材４３２Ｂと、第１のナット部材４３３Ａ及び第２のナット部材４３３Ｂと、スプロケット４３４、４３４ａ、４３５、４３６と、動力伝達部４３７（４３７ａ、４３７ｂ）と、第１のピン４３８Ａ及び第２のピン４３８Ｂと、第１の軸受４３９Ａ及び第２の軸受４３９Ｂと、を有する。
　第１のナット部材４３３Ａ及び第２のナット部材４３３Ｂは、下枠部分４１ｄの両端近傍に設けられており、フレーム４１の下側に位置する下枠部分４１ｄの底面部分に埋め込まれている。第１のネジ部材４３２Ａは、第１のナット部材４３３Ａと螺合し、中心軸が第１のピン４３８Ａ及び第１の軸受４３９Ａの中心軸と略一致する。第２のネジ部材４３２Ｂは第２のナット部材４３３Ｂと螺合し、中心軸が第２のピン４３８Ｂ及び第２の軸受４３９Ｂの中心軸と略一致する。
　第１のピン４３８Ａ及び第２のピン４３８Ｂは、下に略半球面を持つ棒状の部材であり、下面エアパッド３４１、３４２により支持されており、下面エアパッド３４１、３４２に対して揺動可能である。移動部材本体３１の上面側には、第１のピン４３８Ａ及び第２のピン４３８Ｂと中心軸が略一致する位置に、それぞれ第１の軸受４３９Ａ及び第２の軸受４３９Ｂが設けられる。第１のネジ部材４３２Ａの下端は、第１の軸受４３９Ａに軸支され、第２のネジ部材４３２Ｂの下端は、第２の軸受４３９Ｂに軸支される。
　マスク保持部４０やマスクＭの荷重は、一番剛性の高い第１のピン４３８Ａ及び第２のピン４３８Ｂや下面エアパッド３４１、３４２を介して、剛性の高い定盤１０で支えられる。また、下面エアパッド３４１、３４２は、移動部材本体３１の両端近傍に設けられるため、マスク保持部４０等の荷重を安定して支えることができる。
　回転駆動部４３１は、電動モータ等のアクチュエータであり、出力軸４３１ａを有する。出力軸４３１ａには、スプロケット４３４が一体化される。また、第１のネジ部材４３２Ａにはスプロケット４３４ａ及びスプロケット４３５が一体化され、第２のネジ部材４３２Ｂにはスプロケット４３６が圧入等により一体化される。スプロケット４３４とスプロケット４３４ａとは動力伝達部４３７ａにより連結され、スプロケット４３５とスプロケット４３６とは動力伝達部４３７ｂより連結される。
　リフレクタ７１ａと第２のネジ部材４３２Ｂとの平面視における距離（ｘ方向の距離）を距離Ａとし、リフレクタ７１ａと第１のネジ部材４３２Ａとの平面視における距離（ｘ方向の距離）を距離Ｂとすると、スプロケット４３５の歯数αと、スプロケット４３６の歯数βとは、歯数α：歯数β＝距離Ａ：距離Ｂの関係を有する。つまり、第１のネジ部材４３２Ａのｙ方向の移動量と、第２のネジ部材４３２Ｂのｙ方向の移動量との比は、リフレクタ７１ａからの距離の逆比となる。
　回転駆動部４３１を駆動させると、出力軸４３１ａ及びスプロケット４３４が回転し、動力伝達部４３７ａによりスプロケット４３５が回転すると共に、動力伝達部４３７ｂによりスプロケット４３６が回転する。スプロケット４３５の回転と共に第１のネジ部材４３２Ａが回転し、スプロケット４３６の回転と共に第２のネジ部材４３２Ｂが回転する。スプロケット４３６の歯数βはスプロケット４３５の歯数αより多いため、スプロケット４３５が圧入等された第１のネジ部材４３２Ａは、スプロケット４３６が圧入等された第２のネジ部材４３２Ｂより多く回転する。したがって、第１のネジ部材４３２Ａのｙ方向の移動量は、第２のネジ部材４３２Ｂのｙ方向の移動量より大きい。これにより、フレーム４１が回転する。
　特に、本実施の形態では、歯数α：歯数β＝距離Ａ：距離Ｂであるため、リフレクタ７１ａのｘ方向の位置Ｏを基準として、位置Ｏが動かないようにフレーム４１が弧を描くように回転する（図４矢印参照）。ここで、位置Ｏは、スプロケット４３５、４３６を結ぶ略平行な線と、リフレクタ７１ａを含む略鉛直方向の線と、が交差する位置である。なお、フレーム４１が最大限回転したときの、第１のネジ部材４３２Ａの位置におけるｙ方向の移動量は±３ｍｍ程度である。
　フレーム４１の回転角度をψとすると、リフレクタ７１ａ、７１ｂは高さ方向（ｙ方向）にＨ１×ｃｏｓΨだけ移動する。しかしながら、角度Ψは微小であるため、ｃｏｓΨは略１であり、リフレクタ７１ａ、７１ｂの高さ方向の位置はほとんど変化しない。したがって、リフレクタ７１ａ、７１ｂを用いたフレーム４１の位置検出には不具合は生じない。
　次に、フレーム４１の位置検出部２５及び保持部材７０について説明する。図１、２に示すように、リフレクタ７１ａへは照射部２６ａから光を照射し、リフレクタ７１ｂへは照射部２６ｂから光を照射する。フレーム４１の位置検出は、主として照射部２６ａ及びリフレクタ７１ａを用いて行われる。照射部２６ｂ及びリフレクタ７１ｂは、フレーム４１の移動中に定盤１０の反り等によって発生するピッチングにより誤差を補正するために補助的に用いる。
　図５は、マスク検査装置１の概略を示す平面図である。フレーム４１及び保持部材７０は、定盤１０の＋ｘ方向の端近傍のマスクＭをフレーム４１にローディングするローディング位置（図５点線参照）と、マスクＭを検査する検査位置（図５実線参照）との間で移動可能に設けられている。ローディング位置は、定盤１０の＋ｘ端近傍であり、ローディング時に柱２１及び撮像部２０にマスクＭが当たらないようにしている。
　照射部２６ａ、２６ｂから照射された光が、リフレクタ７１ａ、７１ｂで反射し、照射部２６ａ、２６ｂに戻ることで、位置検出部２５が位置測定を行うｈ。検査処理を行うためには、ローディング位置にフレーム４１（マスクＭ）が位置するときのマスクＭの位置測定が必要である。したがって、ローディング位置にフレーム４１が位置するときに、リフレクタ７１ａ、７１ｂが柱２１、すなわち照射部２６ａ、２６ｂよりも－ｘ方向に位置するように、保持部材７０を水平方向に延設する必要がある。そして、保持部材７０（ここでは、棒状部材７０ａ（後に詳述））の長さは、ローディング位置（図５点線参照）にフレーム４１が位置するときにおける第１取付部７０ｂ（後に詳述）と、照射部２６ａ、２６ｂとの水平方向の距離Ｌ１（図５参照）以上とする必要がある。
　図６は、位置検出部２５の測定原理を示す図である。照射部２６ａ、２６ｂは、主として、光源２３１と、ビームスプリッタ２３２と、リフレクタ２３３と、検出器２３４と、を有する。光源２３１から直交２周波の各レーザ光波（周波数ｆ１及び周波数ｆ２の光波）が照射され、波長ｆ１の光はビームスプリッタ２３２で反射されてリフレクタ２３３で反射し、波長ｆ２の光はビームスプリッタ２３２を透過してリフレクタ７１ａ、７１ｂで反射する。これらの光が検出器２３４に入射する。検出器２３４で受光した光ビート（メジャー信号）の位相変化量から照射部２６ａ、２６ｂとリフレクタ７１ａ、７１ｂとの距離、すなわちフレーム４１及びマスクのｘ方向の位置が演算される。この演算は、ビームスプリッタ２３２に入射する前のリファレンス信号（ｆ１－ｆ２）の位相と、メジャー信号の位相とを比較することで行われる。
　図７は、保持部材７０及び保持部材７０のフレーム４１への取り付け方を模式的に示す図である。保持部材７０は、主として、棒状部材７０ａと、第１取付部７０ｂと、第２取付部７０ｃと、を有する。
　棒状部材７０ａは、水平方向に延設された中空の棒状部材である。棒状部材７０ａの一方の端には、棒状部材７０ａをフレーム４１に取り付ける第１取付部７０ｂが設けられている。第１取付部７０ｂは、フレーム４１と同じ材料（例えば、鉄等の金属）で生成される。第１取付部７０ｂは、丸棒状の部材の一部が棒状部材７０ａの中空部に挿入されて接着されることで、棒状部材７０ａに固定される。第１取付部７０ｂを棒状部材７０ａに挿入する量は略２０ｍｍ程度であればよい。
　第１取付部７０ｂは、フレーム４１に当接する平面部７０１が形成される。平面部７０１をフレーム４１の裏面に当接させ、フレーム４１に形成された孔４１ｃと第１取付部７０ｂに形成されたネジ穴７０２を介して、フレーム４１と第１取付部７０ｂとをキャップスクリュー等によりねじ止めすることで、保持部材７０がフレーム４１に取り付けられる。
　棒状部材７０ａの第１取付部７０ｂが設けられていない方の端には、第２取付部７０ｃが設けられている。第２取付部７０ｃは、棒状部材７０ａに取り付けられる板状部７０ｄと、板状部７０ｄに取り付けられる板状部７０ｅと、を有する。板状部７０ｄ、７０ｅは、棒状部材７０ａと同じ材料（ここでは、カーボンＦＲＰ）を用いて形成されている。
　板状部７０ｄには丸孔７０３が形成されている。棒状部材７０ａが丸孔７０３に挿入されて接着されることで、板状部７０ｄが棒状部材７０ａに固定される。板状部７０ｄに孔を空けて板状部７０ｄを挿入することで、板状部７０ｄをできるだけ軽くする。板状部７０ｄと板状部７０ｅと当接させ、板状部７０ｄに形成されたネジ穴７０４と板状部７０ｅに形成された長孔７０５を介して、板状部７０ｄと板状部７０ｅとをキャップスクリュー等によりねじ止めすることで、板状部７０ｄと板状部７０ｅとを固定する。
　リフレクタ７１ａ、７１ｂ（図７では図示省略）は、板状部７０ｅに設けられている。リフレクタ７１ａ、７１ｂは、孔７０６を覆うように、板状部７０ｅの裏面７０７に固定される。板状部７０ｅに長孔７０５が形成されているため、板状部７０ｄと板状部７０ｅとの相対的な位置関係、すなわちフレーム４１とリフレクタ７１ａ、７１ｂとの相対的な位置関係が変更可能である。
　リフレクタ７１ａ、７１ｂとしてコーナーキューブリフレクタを用いるが、コーナーキューブリフレクタは、入射した光と反射した光とがコーナーキューブリフレクタの中心に対して点対称に位置する。したがって、リフレクタ７１ａ、７１ｂの正面に配置された照射部２６ａ、２６ｂからの光をリフレクタ７１ａ、７１ｂで正面に向けて反射させるためには、リフレクタ７１ａ、７１ｂの中心位置を正確に位置決めする必要がある。本実施の形態では、板状部７０ｄと板状部７０ｅとの相対的な位置関係を変更可能とすることで、リフレクタ７１ａ、７１ｂの正確な位置決めが可能である。
　棒状部材７０ａの長さは、ローディング位置（図５点線参照）にフレーム４１が位置するときにおける第１取付部７０ｂと、照射部２６ａ、２６ｂ（図３参照）との水平方向の距離Ｌ１（図５参照）以上である。また、棒状部材７０ａの太さは、フレーム４１の厚さｔ１以上である。棒状部材７０ａを太くすることで、棒状部材７０ａの曲がりを防止する。本実施の形態では、棒状部材７０ａの太さ（直径）は略４０ｍｍ～略５０ｍｍであり、棒状部材７０ａの長さは略４００ｍｍ～略５００ｍｍである。
　棒状部材７０ａの材料について説明する。棒状部材７０ａには、金属、無機材料（ガラス、セラミックス等）、樹脂材料を用いることができる。また、棒状部材７０ａには、複合材料を用いることができる。複合材料の例としては、繊維や紙に樹脂を含侵させた材料、繊維や微粒子を樹脂中に分散させた材料が挙げられる。さらに、棒状部材７０ａには、単独材料や複合材料からなる部品を貼り合わせたものを用いることもできる。
　金属としては、例えば、鉄、アルミニウム、チタン、ステンレス合金、インバー（不変鋼）等が挙げられるが、常温付近での熱膨張率が非常に小さい高性能金属材料（スーパーインバー）が最も望ましい。ガラス材料としては、石英ガラス、低膨張ガラス等があげられる。セラミックス材料としては、例えば、酸化アルミニウム、二酸化ジルコニウム、シリコンカーバイド（ＳｉＣ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、低熱膨張セラミックス材料等があげられる。繊維としては、例えば、炭素繊維（カーボンナノチューブ等を含む）、ガラス繊維、酸化アルミニウム繊維、スチール繊維等が挙げられる。微粒子として、例えば、カーボンブラック微粒子、マイカ微粒子等が挙げられる。樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、エポキシ樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、セルロース系樹脂、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、液晶ポリマー（ＬＣＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、エチレン・酢酸ビニル共重合樹脂（ＥＶＡ樹脂）、ポリイミド、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）ポリエステル、ポリウレタン、フェノール等が挙げられる。貼り合わせた材料としては、例えば、芯材である金属板（薄板）の片面または両面にゴム、樹脂等（振動を高減衰するものが望ましい）を貼り合わせたものが挙げられる。
　これらの材料のうち、軽量かつ剛性の高い複合材料、特に繊維強化プラスチックを用いて棒状部材７０ａを形成することが望ましい。なかでも、熱膨張率が低く寸度安定性がよい炭素繊維強化プラスチック（カーボンＦＲＰ）を用いて棒状部材７０ａを形成することが望ましい。繊維に含侵させる樹脂には、熱硬化性樹脂で剛性が高いエポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミドを用いることが望ましい。
　図８は、カーボンＦＲＰを用いて棒状部材７０ａを生成したときの模式図である。なお、図８では、棒状部材７０ａに含まれる繊維の一部を模式的に示している。棒状部材７０ａは、例えばカーボン繊維を並べたものに樹脂を含浸させたシート状のものを丸棒状の型に複数回巻き、これを高温化（略２００℃以上）で硬化（熱重合）させることにより生成する。シート状のものにおける繊維の織り方の例としては、一方向（ＵＤ）材、平織り、綾織りが挙げられる。
　本実施の形態では、棒状部材７０ａが含有する繊維の向きに特徴がある。本実施の形態では、カーボン繊維の向きは、棒状部材７０ａの軸に対して傾いている。カーボン繊維の向きは、２通りあり、棒状部材７０ａの軸ａｘと略直交する方向からみて軸ａｘに対して線対称である。カーボン繊維の棒状部材７０ａの軸ａｘに対する傾きは、任意の角度を取りうるが、例えば略４５度である。このように、繊維の向きを棒状部材７０ａの軸ａｘに対して傾けることで、棒状部材７０ａの温度変化による伸縮を防止し、これによりリフレクタ７１ａ、７１ｂの位置変化を防止することができる。
　棒状部材７０ａの肉厚ｔは、棒状部材７０ａの直径ｄの略１／１００～略１／４０である。ここでは、棒状部材７０ａの直径ｄは略４０ｍｍ～略５０ｍｍであり、棒状部材７０ａの肉厚ｔは略０．５ｍｍ～略１ｍｍである。これにより、棒状部材７０ａの強度が保たれる。
　なお、図８に示す棒状部材７０ａが含有する繊維の向きは一例である。図９は、変形例に係る棒状部材７０ａ’の模式図である。なお、図９では、棒状部材７０ａ’に含まれる繊維の一部を模式的に示している。カーボン繊維の向きは、棒状部材７０ａ’の軸ａｘに対して略平行な方向と、棒状部材７０ａ’の軸ａｘに対して略直交する方向との２通りである。ただし、図８に示すように、カーボン繊維の向きが棒状部材７０ａの軸ａｘに対して傾けることで、棒状部材７０ａが圧縮変形しにくくなる。
　また、棒状部材７０ａが含有する繊維の向きは２通り以上であってもよい。例えば、棒状部材７０ａ’の軸に対して略平行な方向の繊維及び棒状部材７０ａ’の軸に対して略直交する方向の繊維（図９参照）と、棒状部材７０ａの軸に対して傾いている繊維（図８参照）とを１本の棒状部材が含んでいてもよい。
　図１０は、マスク検査装置１の電気的な構成を示すブロック図である。マスク検査装置１は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）１５１と、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）１５２と、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）１５３と、入出力インターフェース（Ｉ／Ｆ）１５４と、通信インターフェース（Ｉ／Ｆ）１５５と、メディアインターフェース（Ｉ／Ｆ）１５６と、を有する。
　ＣＰＵ１５１は、ＲＡＭ１５２、ＲＯＭ１５３に格納されたプログラムに基づいて動作し、マスク検査装置１の各部の制御を行う制御部１５１ａの機能を有する。ＲＡＭ１５２は、揮発性メモリである。ＲＯＭ１５３は、各種制御プログラム等が記憶されている不揮発性メモリである。ＣＰＵ１５１は、ＲＡＭ１５２、ＲＯＭ１５３に格納されたプログラムに基づいて動作し、各部の制御を行う。ＲＡＭ１５２は、ＣＰＵ１５１が実行するプログラム及びＣＰＵ１５１が使用するデータなどを格納する。ＲＯＭ１５３は、マスク検査装置１の起動時にＣＰＵ１５１が行うブートプログラムや、マスク検査装置１のハードウェアに依存するプログラムなどを格納する。プログラムは、例えば、記憶媒体１４３から読み出されて、ＲＡＭ１５２を介してマスク検査装置１にインストールされ、ＣＰＵ１５１によって実行される。
　ＣＰＵ１５１は、入出力インターフェース１５４を介して、キーボードやマウス等の入出力装置１４１を制御する。通信インターフェース１５５は、ネットワーク１４２を介して他の機器からデータを受信してＣＰＵ１５１に送信すると共に、ＣＰＵ１５１が生成したデータを、ネットワーク１４２を介して他の機器に送信する。メディアインターフェース１５６は、記憶媒体１４３に格納されたプログラム又はデータを読み取り、ＲＡＭ１５２に格納する。なお、記憶媒体１４３は、例えば、ＩＣカード、ＳＤカード、ＤＶＤ等である。
　なお、図１０に示すマスク検査装置１の構成は、本実施形態の特徴を説明するにあたって主要構成を説明したのであって、例えば一般的な情報処理装置が備える構成を排除するものではない。マスク検査装置１の構成要素は、処理内容に応じてさらに多くの構成要素に分類されてもよいし、１つの構成要素が複数の構成要素の処理を実行してもよい。
　次に、マスク検査装置１の動作について、図１を用いて説明する。まず、制御部１５１ａは、フレーム４１をローディング位置（図５参照）に配置させて、爪部４１ａ等を制御してフレーム４１にマスクＭを保持する。また、制御部１５１ａは、調整機構４２によりマスクＭの下辺の高さ方向（ｙ方向）の位置を調整する。
　次に、制御部１５１ａは、移動部３０を溝１０ｆに沿って－ｘ方向に移動させ、マスクＭをローディング位置から検査位置に移動させる。制御部１５１ａは、光源５３等を制御して、照射部２６ａから光を照射する。また、制御部１５１ａは、照射部２６ａから照射された光が、リフレクタ７１ａで反射され、照射部２６ａで受光するまでの時間についての情報を照射部２６ａから取得し、これを位置情報（ＲＯＭ１５３に格納されている）と比較等することにより、フレーム４１のｘ方向の位置を検出する。制御部１５１ａは、このようにしてフレーム４１の位置を検出しながら、フレーム４１を予め定められた所定の位置へ移動させる。
　また、制御部１５１ａは、光源５３等を制御して、照射部２６ｂから光を照射する。そして、照射部２６ａに対して行なう処理と同様にしてフレーム４１のｘ方向の位置を検出する。
　マスクＭが検査位置に移動したら、制御部１５１ａは、撮像部２０を制御してマスクＭに形成されたパターンを検出する。そして、制御部１５１ａは、パターンの情報を取得し、パターンのうちのｘ方向に沿ったパターン（以下、パターンｘという）が、ｘ方向に対してどの程度傾いているかを検出する。制御部１５１ａは、パターンｘの傾きを検出したら、回転情報（ＲＯＭ１５３に格納されている）及び位置検出部２５での検出結果に基づいて、回転駆動部４３１を制御してフレーム４１を回転させて、パターンのうちの水平方向の成分を略水平とする（傾きを補正）。
　制御部１５１ａは、フレーム４１を回転させたら、フレーム４１（マスクＭ）を再度検査位置に移動させる。そして、制御部１５１ａは、撮像部２０によりマスクＭの検査を行う。本実施の形態では、透過照明光源からｇ線を、反射照明光源からｅ線を同時に照射し、これらをカメラ２２ａ、２２ｂで同時に受光して画像化する。そして、カメラ２２ａで撮像された画像と、カメラ２２ｂで撮像された画像とのそれぞれをパターン情報（ＲＯＭ１５３に格納されている）に基づいて生成された画像と比較することで、パターンの欠陥等を発見する。マスクＭの検査方法は、既に公知の技術を用いることができるため、詳細な説明を省略する。
　保持部材７０は軽量であるため、４００Ｈｚ以下の周波数では保持部材７０が共振しない。工場内の各種振動（マスク検査装置１を覆うエンクロージャーの振動、リニアモータ駆動時の振動、ファンフィルタユニットの圧力振動等）は４００Ｈｚ以下の周波数がほとんどであるため、検査時に保持部材７０が共振せず、リフレクタ７１ａ、７１ｂも振動しない。その結果、検査時に疑似欠陥が発生しにくい。
　マスクＭ全面の検査が終了したら、制御部１５１ａは、フレーム４１（マスクＭ）を再度ローディング位置に移動させる。そして、マスクＭを交換して、次のマスクＭの検査へと移る。
　本実施の形態によれば、中空の棒状部材７０ａを用いて保持部材７０を作成するため、保持部材７０を軽く、丈夫にすることができる。これにより、工場内の各種振動による保持部材７０の共振を防ぎ、リフレクタ７１ａ、７１ｂが振動することによって検査時の疑似欠陥が発生しないようにすることができる。
　例えば、従来使用されていた保持部材、例えば、金属を基材としてセラミックス等の強化材を加えたメタルマトリックス製の重い保持部材や、複数の金属棒材を並べて生成した保持部材を用いる場合には、４００Ｈｚ以下の周波数では共振してしまう。図１１は、メタルマトリックス製の重い保持部材７１０の一例であり、図１２は保持部材７１０の２４Ｈｚの振動を示すグラフであり、（Ａ）はフレーム４１の上端側（高い位置）に設けた保持部材７１０におけるリフレクタ取付板７１０ａの振動を示し、（Ｂ）はフレーム４１の下端側（低い位置）に設けた保持部材７１０におけるリフレクタ取付板７１０ａの振動を示す。図１２の縦軸は振幅（μｍ）、横軸は時間（ｍｓｅｃ）である。フレーム４１の上端側に設けた保持部材７１０のリフレクタ取付板７１０ａは、２４Ｈｚという低周波で４０～５０ｎｍの振幅の振動が発生してしまう。２４Ｈｚ程度の低周波の振動は、工場内の振動の内でも特に多く存在するため、低周波でのリフレクタの振動は疑似欠陥の発生に大きな影響を及ぼす。
　また、図１３は、スーパーインバーで形成された直径１０ｍｍ程度の棒材を３本並べて板状部材で補強した保持部材７２０の一例であり、図１４は保持部材７２０の１８０Ｈｚの振動を示すグラフであり、（Ａ）はフレーム４１の上端側に設けた保持部材７２０におけるリフレクタ取付板７２０ａの振動を示し、（Ｂ）はフレーム４１の下端側に設けた保持部材７２０におけるリフレクタ取付板７２０ａの振動を示す。図１４の縦軸は振幅（μｍ）、横軸は時間（ｍｓｅｃ）である。フレーム４１の上端側に設けた保持部材７２０のリフレクタ取付板７２０ａは、１８０Ｈｚで３０ｎｍ強の振幅の振動が発生してしまう。工場内において、１８０Ｈｚの振動は、低周波の振動よりは少ないものの、定期的に発生する振動であり、疑似欠陥の原因となる。
　それに対し、図１５は、本実施の形態の保持部材７０を用いたときの１２．５Ｈｚの振動を示すグラフであり、（Ａ）はフレーム４１の上端側に設けた保持部材７０における板状部７０ｅの振動を示し、（Ｂ）はフレーム４１の下端側に設けた保持部材７０における板状部７０ｅの振動を示す。図１５の縦軸は振幅（μｍ）、横軸は時間（ｍｓｅｃ）である。この１２．５Ｈｚの振動は、移動部３０が溝１０ｆに沿って移動するとき等に発生する振動であり、共振による振動ではない。また、１２．５Ｈｚの振動の振幅も８ｎｍ程度と小さい。つまり、保持部材７０を用いた場合には、４００Ｈｚ以下の周波数で板状部７０ｅが大きく振動することはない。このように、軽くて丈夫な保持部材７０を用いることで、保持部材７０の共振によるリフレクタ７１ａ、７１ｂの振動を防ぎ、これによる疑似欠陥の発生を防ぐことができる。
　なお、本実施の形態では、棒状部材７０ａは中空丸棒であるが、棒状部材７０ａの端面（断面）形状はこれに限られない。棒状部材は、端面（断面）が略多角形状の棒状部材でもよいし、端面が略楕円形状の棒状部材でもよい。また、棒状部材は、複数の板状部材を、端面が略多角形状になるように組み合わせて結合した棒状部材としてもよい。ただし、強度の観点から、側面につなぎ目が無い中空の管状部材（例えば、中空丸棒や中空角棒）を棒状部材７０ａとすることが望ましい。また、共振の方向依存性を低減する観点から、棒状部材７０ａを１本とすることが望ましい。さらに、断面方向の強度の方向依存性がなくなり、剛性が均一になるため、棒状部材７０ａを中空丸棒とすることが好ましい。
　また、本実施の形態では、連結部のない１本の棒状部材７０ａを用いたが、棒状部材７０ａの形態はこれに限られない。例えば、板状材を曲げて結合等することで中空丸棒としてもよい。また、中空構造の部材を複数用いて棒状部材としてもよい。また、中空の棒材の外周面や中空部にリブ構造のような補強構造を設けたものを棒状部材としてもよい。さらに、中空の棒材の側面に孔等を設けてもよい。
　また、本実施の形態では、棒状部材７０ａの両端に第１取付部７０ｂ、第２取付部７０ｃを設けたが、第１取付部７０ｂ、第２取付部７０ｃの形態は図示した形態に限られない。
　以上、この発明の実施形態を、図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
　本発明は、マスクＭを略水平方向に保持し、検査する装置にも適用可能である。ただし、本発明は、略枠状のフレーム４１が被検査対象のマスクを略鉛直方向に保持し、保持部材７０がフレーム４１の高い位置に設けられている場合に特に有効である。
　また、本発明において、「略」とは、厳密に同一である場合のみでなく、同一性を失わない程度の誤差や変形を含む概念である。例えば、略立方体形状とは、厳密に立方体形状の場合に限られない。例えば、定盤１０には凹部１０ｂ等が形成されているが、定盤１０を全体としてみれば略立方体形状である。また、例えば、単に鉛直、一致等と表現する場合において、厳密に鉛直、一致等の場合のみでなく、略鉛直、略一致等の場合を含むものとする。
　また、本発明において「近傍」とは、例えばＡの近傍であるときに、Ａの近くであって、Ａを含んでもいても含んでいなくてもよいことを示す概念である。
１　　　　：マスク検査装置
１０　　　：定盤
１０ａ　　：下面
１０ｂ、１０ｃ：凹部
１０ｄ　　：支持面
１０ｅ　　：上面
１０ｆ　　：溝
１０ｇ、１０ｈ、１０ｉ：側面
２０　　　：撮像部
２１　　　：柱
２２、２２ａ、２２ｂ：カメラ
２３　　　：エアパッド
２５　　　：位置検出部
２６ａ、２６ｂ：照射部
３０　　　：移動部
３１　　　：移動部材本体
３２、３３：側面エアパッド
３４　　　：下面エアパッド
３５　　　：凸部
４０　　　：マスク保持部
４１　　　：フレーム
４１ａ　　：爪部
４１ｃ　　：孔
４１ｄ　　：下枠部分
４１ｆ　　：保持部
４２　　　：調整機構
４２ａ　　：第１ブロック
４２ｂ　　：第２ブロック
４３　　　：回転機構
５１、５２：除振台
５３　　　：光源
５４　　　：導光部材
６１ａ、６２ａ：可動子
６２ｂ　　：固定子
６５　　　：枠
６６　　　：板部
７０　　　：保持部材
７０ａ、７０ａ’：棒状部材
７０ｂ　　：第１取付部
７０ｃ　　：第２取付部
７０ｄ、７０ｅ：板状部
７１ａ、７１ｂ：リフレクタ
７３　　　：板部
１４１　　：入出力装置
１４２　　：ネットワーク
１４３　　：記憶媒体
１５１　　：ＣＰＵ
１５１ａ　：制御部
１５２　　：ＲＡＭ
１５３　　：ＲＯＭ
１５４　　：入出力インターフェース
１５５　　：通信インターフェース
１５６　　：メディアインターフェース
２３１　　：光源
２３２　　：ビームスプリッタ
２３３　　：リフレクタ
２３４　　：検出器
３４１　　：下面エアパッド
３４２　　：下面エアパッド
４３１　　：回転駆動部
４３１ａ　：出力軸
４３２Ａ　：第１のネジ部材
４３２Ｂ　：第２のネジ部材
４３３Ａ　：第１のナット部材
４３３Ｂ　：第２のナット部材
４３４、４３４ａ、４３５、４３６：スプロケット
４３７、４３７ａ、４３７ｂ：動力伝達部
４３８Ａ　：第１のピン
４３８Ｂ　：第２のピン
４３９Ａ　：第１の軸受
４３９Ｂ　：第２の軸受
７０１　　：平面部
７０２　　：ネジ穴
７０３　　：丸孔
７０４　　：ネジ穴
７０５　　：長孔
７０６　　：孔
７０７　　：裏面
７１０、７２０：保持部材
７１０ａ、７２０ａ：リフレクタ取付板

Claims (6)

  1. 　定盤と、
    　被検査対象のマスクを保持する略枠状のフレームと、
    　前記フレームを前記定盤の上面に沿って水平に移動させる移動部と、
    　前記フレームの側面に設けられた保持部材と、
    　前記保持部材の先端に設けられたリフレクタと、
    　前記定盤に設けられた柱と、
    　前記柱に設けられた光照射部であって、前記リフレクタと略同じ高さに配置され、前記リフレクタに向けて略水平方向に光を照射する光照射部と、
    　を備え、
    　前記保持部材は、水平方向に延設された中空の棒状部材と、前記棒状部材の第１端に設けられ、前記棒状部材を前記フレームに取り付ける第１取付部と、前記棒状部材の前記第１端の反対側の端である第２端に設けられた第２取付部と、を有し、
    　前記リフレクタは、前記第２取付部に設けられている
    　ことを特徴とするマスク検査装置。
  2. 　前記棒状部材の太さは、前記フレームの厚さ以上である
    　ことを特徴とする請求項１に記載のマスク検査装置。
  3. 　前記棒状部材は中空丸棒であり、
    　前記棒状部材の肉厚は、前記棒状部材の直径の略１／４０～略１／５０である
    　ことを特徴とする請求項１又は２に記載のマスク検査装置。
  4. 　前記棒状部材は、繊維強化プラスチックで形成されている
    　ことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載のマスク検査装置。
  5. 　前記棒状部材が含有する繊維の向きは、前記棒状部材の軸に対して傾いている
    　ことを特徴とする請求項４に記載のマスク検査装置。
  6. 　前記移動部は、前記マスクを前記フレームにローディングするローディング位置と、前記マスクを検査する検査位置との間で前記移動部を水平に移動させ、
    　前記棒状部材の長さは、前記ローディング位置に前記フレームが位置するときにおける前記第１取付部と、前記光照射部との水平方向の距離以上である
    　ことを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載のマスク検査装置。
PCT/JP2020/003881 2019-02-06 2020-02-03 マスク検査装置 WO2020162384A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202080007200.3A CN113227900A (zh) 2019-02-06 2020-02-03 掩模检查装置
KR1020217019418A KR20210120992A (ko) 2019-02-06 2020-02-03 마스크 검사 장치

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019-020040 2019-02-06
JP2019020040A JP7231205B2 (ja) 2019-02-06 2019-02-06 マスク検査装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2020162384A1 true WO2020162384A1 (ja) 2020-08-13

Family

ID=71947347

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2020/003881 WO2020162384A1 (ja) 2019-02-06 2020-02-03 マスク検査装置

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP7231205B2 (ja)
KR (1) KR20210120992A (ja)
CN (1) CN113227900A (ja)
TW (1) TWI807162B (ja)
WO (1) WO2020162384A1 (ja)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0359830U (ja) * 1989-10-18 1991-06-12
JP2009160685A (ja) * 2008-01-04 2009-07-23 Nippon Oil Corp Ｃｆｒｐ製搬送用部材及びそれを用いたロボットハンド
JP2011026111A (ja) * 2009-07-03 2011-02-10 Tokyo Electron Ltd 位置ずれ防止装置、これを備えた基板保持具、基板搬送装置および基板搬送方法
JP2016186570A (ja) * 2015-03-27 2016-10-27 株式会社ニコン 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
JP2018026404A (ja) * 2016-08-08 2018-02-15 株式会社ブイ・テクノロジー マスク保持装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3560093A (en) * 1968-07-16 1971-02-02 Western Electric Co Superimposed common carrier mask inspection system
KR100875230B1 (ko) * 2000-06-27 2008-12-19 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 하전입자선에 의한 검사장치 및 그 검사장치를 사용한장치제조방법
JP4939235B2 (ja) * 2000-07-27 2012-05-23 株式会社荏原製作所 シートビーム式検査装置
JP2014503843A (ja) * 2010-12-06 2014-02-13 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． 物品の検査方法および検査装置、ｅｕｖリソグラフィレチクル、リソグラフィ装置、ならびにデバイス製造方法
DE102014222271B4 (de) * 2014-10-31 2017-02-02 Carl Zeiss Smt Gmbh Maskeninspektionssystem zur Inspektion von Lithographiemasken
KR102501357B1 (ko) * 2015-02-19 2023-02-17 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디 펠리클 프레임 파지 장치 및 펠리클 프레임 파지 방법
JP6669481B2 (ja) * 2015-12-04 2020-03-18 株式会社ブイ・テクノロジー 検査装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0359830U (ja) * 1989-10-18 1991-06-12
JP2009160685A (ja) * 2008-01-04 2009-07-23 Nippon Oil Corp Ｃｆｒｐ製搬送用部材及びそれを用いたロボットハンド
JP2011026111A (ja) * 2009-07-03 2011-02-10 Tokyo Electron Ltd 位置ずれ防止装置、これを備えた基板保持具、基板搬送装置および基板搬送方法
JP2016186570A (ja) * 2015-03-27 2016-10-27 株式会社ニコン 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
JP2018026404A (ja) * 2016-08-08 2018-02-15 株式会社ブイ・テクノロジー マスク保持装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2020126984A (ja) 2020-08-20
TWI807162B (zh) 2023-07-01
KR20210120992A (ko) 2021-10-07
TW202103255A (zh) 2021-01-16
CN113227900A (zh) 2021-08-06
JP7231205B2 (ja) 2023-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101346957B1 (ko) 광학 결상 장치
TWI408413B (zh) 二維掃描反射裝置
US20160282383A1 (en) Scanning probe microscope
WO2020162384A1 (ja) マスク検査装置
WO2000064018A1 (fr) Module laser a semi-conducteur
JP5070869B2 (ja) 光走査装置及びそれを備えた網膜走査型画像表示装置
US8499360B2 (en) Atomic force microscopes and methods of measuring specimens using the same
CN101359092B (zh) 振荡器件、光偏转器以及使用光偏转器的成像装置
US11409199B2 (en) Pattern drawing device
JP2009116082A (ja) 光走査ユニット及び観察装置
CN1959336A (zh) 光学干涉仪
JP2013020124A (ja) 光偏向装置、光走査装置、画像形成装置及び画像投影装置
CN101659390A (zh) 硅加工方法、微振荡器制造方法、光学设备和硅基片
JP2007078722A (ja) 光走査装置
JP2006503337A (ja) ビームスプリッタ部材用保持装置
JP2018205369A (ja) 光走査装置
JP2013195479A (ja) 光偏向器、光走査装置、画像形成装置及び画像投影装置
US20210191000A1 (en) Tunable acoustic gradient lens system with reflective configuration and increased power
JP3162779B2 (ja) 光レーダシステムの光学ヘッド
JP3375195B2 (ja) 光走査装置
JP7444754B2 (ja) プローブ顕微鏡およびプローブ顕微鏡の光軸調整方法
JPH10267950A (ja) 横励振摩擦力顕微鏡
JP2015068862A (ja) 光走査装置および画像形成装置
JP2010048971A (ja) レーザ走査光学装置
US8537476B2 (en) Support system for vibrating optical assembly

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 20752098

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 20752098

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1