WO2020133686A1 - Dispositif de source linéaire et évaporateur à delo - Google Patents

Dispositif de source linéaire et évaporateur à delo Download PDF

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Abstract

L'invention concerne un dispositif de source linéaire (100), comprenant : un mécanisme de source linéaire (10) utilisé pour pulvériser un matériau organique gazeux sur un substrat de TFT, le mécanisme de source linéaire (10) comprenant une cavité de source linéaire (11) ; et au moins deux mécanismes de creuset (20) utilisés pour fournir le matériau organique gazeux, chaque mécanisme de creuset (20) étant disposé sur le côté externe du mécanisme de source linéaire (10), et chaque mécanisme de creuset (20) comprenant une cavité de creuset (21) et une valve de raccordement (22) ; les valves de raccordement (22) sont disposées entre les cavités de creuset (21) et la cavité de source linéaire (11) et utilisées pour permettre aux cavités de creuset (21) et à la cavité de source linéaire (11) de se séparer ou de communiquer l'une avec l'autre ; le mécanisme de source linéaire (10) comprend une pluralité de buses (12), la pluralité de buses (12) communique avec la cavité de source linéaire (11), et est située sur un côté de la cavité de source linéaire (11), l'autre côté de la cavité de source linéaire (11) est pourvu d'au moins deux ouvertures (13), les ouvertures (13) correspondent une à une avec les mécanismes de creuset (20), et chaque mécanisme de creuset (20) est disposé de manière fixe et pour correspondre à l'ouverture correspondante (13) ; chaque mécanisme de creuset (20) comprend en outre un second dispositif de chauffage (23), un creuset (24) et une pompe à vide (25) ; et les seconds dispositifs de chauffage (23) sont disposés sur les cavités de creuset (21), les creusets (24) sont disposés dans les cavités de creuset (21), les pompes à vide (25) sont disposées sur les côtés externes des cavités de creuset (21), et les pompes à vide (25) sont utilisées pour mettre sous vide les cavités de creuset (21) ou gonfler les cavités de creuset (21). L'invention concerne également un dispositif de source linéaire (100) et un évaporateur à DELO.
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109898059A (zh) * 2019-04-15 2019-06-18 湖畔光电科技(江苏)有限公司 一种新型蒸镀坩埚装置
CN112553578B (zh) * 2019-09-26 2022-01-14 宝山钢铁股份有限公司 一种具有抑流式喷嘴的真空镀膜装置
CN112553577A (zh) * 2019-09-26 2021-03-26 宝山钢铁股份有限公司 一种提高真空镀膜收得率的真空镀膜装置
CN111471967A (zh) * 2020-05-22 2020-07-31 Tcl华星光电技术有限公司 蒸镀坩埚、蒸镀设备以及蒸镀方法
CN113957390B (zh) * 2020-07-21 2024-03-08 宝山钢铁股份有限公司 一种具有气垫缓冲腔的真空镀膜装置
CN113957389B (zh) * 2020-07-21 2023-08-11 宝山钢铁股份有限公司 一种具有多孔降噪及均匀化分配金属蒸汽的真空镀膜装置
CN113957388B (zh) * 2020-07-21 2022-08-16 宝山钢铁股份有限公司 一种采用导流板式结构均匀分配金属蒸汽的真空镀膜装置
CN113957391B (zh) * 2020-07-21 2023-09-12 宝山钢铁股份有限公司 一种采用芯棒加热结构均匀分配金属蒸汽的真空镀膜装置
CN113957392B (zh) * 2020-07-21 2022-09-20 宝山钢铁股份有限公司 一种采用混匀缓冲结构均匀分配金属蒸汽的真空镀膜装置
CN112030111A (zh) * 2020-08-04 2020-12-04 福建华佳彩有限公司 一种真空腔体结构
CN114318241A (zh) * 2022-02-15 2022-04-12 福建华佳彩有限公司 一种可视化的线源坩埚装置及其材料监控方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201678729U (zh) * 2010-05-06 2010-12-22 东莞宏威数码机械有限公司 循环蒸镀机构
CN101956174A (zh) * 2010-05-06 2011-01-26 东莞宏威数码机械有限公司 循环蒸镀装置
WO2011074551A1 (fr) * 2009-12-18 2011-06-23 平田機工株式会社 Procédé de dépôt sous vide et appareil de dépôt sous vide
CN103361607A (zh) * 2012-03-28 2013-10-23 日立造船株式会社 真空蒸镀装置和真空蒸镀装置的坩锅更换方法
CN207596942U (zh) * 2017-11-08 2018-07-10 深圳市柔宇科技有限公司 蒸镀装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101422533B1 (ko) * 2012-12-04 2014-07-24 주식회사 선익시스템 믹싱 영역이 포함된 선형 증발원
CN104099571A (zh) * 2013-04-01 2014-10-15 上海和辉光电有限公司 蒸发源组件和薄膜沉积装置和薄膜沉积方法
CN108660420A (zh) * 2018-07-25 2018-10-16 华夏易能(广东)新能源科技有限公司 真空蒸镀设备及蒸发源装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011074551A1 (fr) * 2009-12-18 2011-06-23 平田機工株式会社 Procédé de dépôt sous vide et appareil de dépôt sous vide
CN201678729U (zh) * 2010-05-06 2010-12-22 东莞宏威数码机械有限公司 循环蒸镀机构
CN101956174A (zh) * 2010-05-06 2011-01-26 东莞宏威数码机械有限公司 循环蒸镀装置
CN103361607A (zh) * 2012-03-28 2013-10-23 日立造船株式会社 真空蒸镀装置和真空蒸镀装置的坩锅更换方法
CN207596942U (zh) * 2017-11-08 2018-07-10 深圳市柔宇科技有限公司 蒸镀装置

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