JP2005105391A - 金属酸化物の成膜方法および成膜装置、有機el素子の製造方法および製造装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 スパッタリングにおけるスパッタ粒子(薄膜構成原子)の持つ運動エネルギーを軽減することにより、通常のスパッタリングによる優れた膜構造の特徴を活かしつつ有機層上に特性の良い成膜を可能にする、金属酸化物の成膜方法および成膜装置、有機EL素子の製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】 スパッタ法により基板1に金属酸化物の薄膜を形成する方法であって、薄膜構成原子が前記基板1に向かう際にプラズマガスの原子との衝突回数を増大させ、またその衝突により薄膜構成原子の基板方向成分の飛行速度を効率的に減速させる。
【選択図】 図1
【解決手段】 スパッタ法により基板1に金属酸化物の薄膜を形成する方法であって、薄膜構成原子が前記基板1に向かう際にプラズマガスの原子との衝突回数を増大させ、またその衝突により薄膜構成原子の基板方向成分の飛行速度を効率的に減速させる。
【選択図】 図1
Description
本発明は、金属酸化物の成膜方法およびその成膜装置に関し、特に有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、「有機EL素子」と記す)の製造に有用な製造方法および製造装置に関する。
現在、導電性酸化物薄膜などの透明電極の成膜方法は、真空中でプラズマにより活性化された原子による弾性衝突を用いたスパッタリングやイオンプレーティングが主流となっている。スパッタリングやイオンプレーティングではガラス基板を250〜400℃に加熱したり、基板に飛来するスパッタ粒子の運動エネルギーを増加させることで、特性の良い透明導電酸化物薄膜を作製している。この成膜方法は、緻密な膜が早いレートで作製できるところがメリットである。
しかし、上面出射方式表示素子(Top Emission素子)では透明電極は有機層上に成膜しなくてはならない。下地となる有機膜はガラス基板などとは異なり、物理的にも化学的にも外部からの影響を受けやすい物質である。したがって、従来方式のスパッタリングによりTop Emission素子の作製を行うと、物理衝撃や熱などが加わり、有機層が劣化するため特性が大幅に低下してしまうことがあった。
しかし、上面出射方式表示素子(Top Emission素子)では透明電極は有機層上に成膜しなくてはならない。下地となる有機膜はガラス基板などとは異なり、物理的にも化学的にも外部からの影響を受けやすい物質である。したがって、従来方式のスパッタリングによりTop Emission素子の作製を行うと、物理衝撃や熱などが加わり、有機層が劣化するため特性が大幅に低下してしまうことがあった。
そこで、上記のような問題を解決するため、マグネトロンスパッタリング法により有機層上に金属酸化物を成膜する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
この成膜方法は、基板とこれに対向して配置されるターゲットを特定の角度に傾けて配置し、ターゲットからたたき出されたスパッタ粒子の基板入射角度を75゜以下となるように制限を加える方法である。また、基板温度は100℃以下でスパッタリングすることとしている。
特開2002−129319号公報
この成膜方法は、基板とこれに対向して配置されるターゲットを特定の角度に傾けて配置し、ターゲットからたたき出されたスパッタ粒子の基板入射角度を75゜以下となるように制限を加える方法である。また、基板温度は100℃以下でスパッタリングすることとしている。
普通のマグネトロンスパッタ法では、陰極成膜時に基板に飛来する粒子の運動エネルギーが大きいために下地層の有機物を劣化させてしまう問題があった。(そのため、Top Emission素子の特性が低下してしまうという問題がある。)
また、上記のような成膜方法では、基板とターゲットを特定の角度に傾けて配置しているため、基板温度は上がらないとしても、スパッタ粒子の斜め入射成分の割合が多くなる。斜め入射成分の割合が多くなると、膜の柱状構造が粗くなり、その結果膜の密度が小さくなる。また、斜め入射成分の方向に偏りがある場合にも、膜の柱状構造が粗くなり、結果として膜の密度が小さくなる。さらに、結晶性を有する膜を成膜した場合に、斜め入射成分の方向に偏りがあると、柱状構造は基板面法線に対して斜めに成長するため、成膜された膜の結晶配向性はこの柱状構造の傾斜した成長方向に依存したものとなる。そのため、電気的特性、磁気的特性、光学的特性等の機能的な特性は特に膜の構造に大きく影響されるため、特性の良い膜の成膜が難しいという問題がある。
また、上記のような成膜方法では、基板とターゲットを特定の角度に傾けて配置しているため、基板温度は上がらないとしても、スパッタ粒子の斜め入射成分の割合が多くなる。斜め入射成分の割合が多くなると、膜の柱状構造が粗くなり、その結果膜の密度が小さくなる。また、斜め入射成分の方向に偏りがある場合にも、膜の柱状構造が粗くなり、結果として膜の密度が小さくなる。さらに、結晶性を有する膜を成膜した場合に、斜め入射成分の方向に偏りがあると、柱状構造は基板面法線に対して斜めに成長するため、成膜された膜の結晶配向性はこの柱状構造の傾斜した成長方向に依存したものとなる。そのため、電気的特性、磁気的特性、光学的特性等の機能的な特性は特に膜の構造に大きく影響されるため、特性の良い膜の成膜が難しいという問題がある。
本発明は、上記成膜方法とは別の観点からスパッタリングにおけるスパッタ粒子(薄膜構成原子)の持つ運動エネルギーを軽減することに着目してなされたものであり、通常のスパッタリングによる優れた膜構造の特徴を活かしつつ有機層上に特性の良い成膜を可能にする、金属酸化物の成膜方法および成膜装置、有機EL素子の製造方法および製造装置を提供することを目的とする。
本発明に係る金属酸化物の成膜方法は、スパッタ法により基板に金属酸化物の薄膜を形成する方法であって、薄膜構成原子が前記基板に向かう際にプラズマガスの原子との衝突回数を増大させ、またその衝突により薄膜構成原子の基板方向成分の飛行速度を効率的に減速させることを特徴とする。
本発明では、スパッタリングによりターゲットよりたたき出された薄膜構成原子に積極的にプラズマガスの原子を衝突させ衝突回数を多くして、またその衝突により薄膜構成原子の基板方向成分の飛行速度を効率的に減速させてから基板に堆積させるものである。したがって、プラズマガスの原子との衝突により薄膜構成原子は様々な方向から基板に入射することになり、そのため成膜された膜の構造は、密度の大きい、配向性の良い、緻密な構造となる。さらに、基板に到達する薄膜構成原子の運動エネルギーが軽減されているため、基板温度はほとんど上昇せず、常温すなわち無加熱でスパッタリングを行うことができる。よって、有機層の劣化を生じることなく電気的・磁気的・光学的特性等に優れた金属酸化物の薄膜を成膜することができる。
本発明の金属酸化物の成膜方法においては、薄膜構成原子の放出方向とほぼ反対方向にプラズマガスを噴出させることが好ましい。
この方法によれば、薄膜構成原子とプラズマガスの原子との衝突回数が多くなり、またその衝突により薄膜構成原子の基板方向成分の飛行速度を効率的に減速させるため上記の作用効果を効率よく達成することができる。
この方法によれば、薄膜構成原子とプラズマガスの原子との衝突回数が多くなり、またその衝突により薄膜構成原子の基板方向成分の飛行速度を効率的に減速させるため上記の作用効果を効率よく達成することができる。
本発明の金属酸化物の成膜方法においては、薄膜構成原子の放出方向とほぼ垂直方向に一部の薄膜構成ガスを導入することもできる。
例えば、酸素ガスはターゲットとは別に、薄膜構成原子の放出方向とほぼ垂直方向に真空チャンバ内に導入することによって目的の成分を持つ薄膜を成膜することができる。
例えば、酸素ガスはターゲットとは別に、薄膜構成原子の放出方向とほぼ垂直方向に真空チャンバ内に導入することによって目的の成分を持つ薄膜を成膜することができる。
本発明の金属酸化物の成膜方法においては、導入ガスの排気は基板と反対のターゲット側より行う。
この方法によって、プラズマガスのターゲットへ向かう流れを均一かつ高密度にすることができ、薄膜構成原子とプラズマガスの原子との衝突回数を多くすることができるとともに、成膜された膜の膜厚分布を均一にすることができる。また、シート抵抗値が均一な分布を有するものとなる。
この方法によって、プラズマガスのターゲットへ向かう流れを均一かつ高密度にすることができ、薄膜構成原子とプラズマガスの原子との衝突回数を多くすることができるとともに、成膜された膜の膜厚分布を均一にすることができる。また、シート抵抗値が均一な分布を有するものとなる。
また、本発明の金属酸化物の成膜装置は、基板と、薄膜構成元素の一部または全部を含むターゲットとを平行に対向配置したスパッタ装置において、プラズマガスの噴出口を前記ターゲットを指向するように基板側に設けたことを特徴とする。
本成膜装置の構成によれば、プラズマガスはターゲットに向けて噴出されることになるため、薄膜構成原子とプラズマガスの原子との衝突回数が多くなり、またその衝突により薄膜構成原子の基板方向成分の飛行速度を効率的に減速させるため、上述した特性の良い膜を成膜することができる。
本成膜装置の構成によれば、プラズマガスはターゲットに向けて噴出されることになるため、薄膜構成原子とプラズマガスの原子との衝突回数が多くなり、またその衝突により薄膜構成原子の基板方向成分の飛行速度を効率的に減速させるため、上述した特性の良い膜を成膜することができる。
また、プラズマガスの噴出口は、口径をガス配管径よりも小さくするのがよい。これによって、プラズマガスに初速度を与えることができるので、衝突により薄膜構成原子の運動エネルギーを軽減するのに効果がある。
また、導入ガスの排気手段は、前記ターゲット側に配設された複数の排気口を有するものとするのがよい。
この構成により、導入ガスを均一に排気することができ、プラズマガスのターゲットへ向かう流れを均一にすることができる。そのため、膜厚分布の均一化、シート抵抗値分布の均一化が可能となる。
この構成により、導入ガスを均一に排気することができ、プラズマガスのターゲットへ向かう流れを均一にすることができる。そのため、膜厚分布の均一化、シート抵抗値分布の均一化が可能となる。
また、前記ターゲットは、中央部に排気口を有する構成とすることもできる。ターゲットの周辺部のみならず中央部からも排気を行うことにより、プラズマガスのターゲットへ向かう流れをより均一にすることができる。
本発明の有機EL素子の製造方法は、請求項1乃至4のいずれかに記載の金属酸化物の成膜方法または請求項5乃至8のいずれかに記載の金属酸化物の成膜装置を用いて、基板の有機層上に透明電極を成膜することを特徴とする。
また、本発明の有機EL素子の製造装置は、請求項9記載の有機EL素子の製造方法に使用することを特徴とする。
したがって、上述した本発明の成膜方法または成膜装置を用いることにより、基板の有機層上に性能の良い透明電極を成膜することができ、有機EL素子の製造に効果がある。
したがって、上述した本発明の成膜方法または成膜装置を用いることにより、基板の有機層上に性能の良い透明電極を成膜することができ、有機EL素子の製造に効果がある。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図1は本発明の成膜方法の原理を示す説明図、図2はより具体的な成膜装置の構成図である。
基板1とターゲット2は、真空チャンバ3内において所定の間隔(例えば、基板−ターゲット間距離120mm)を隔てて平行に対向配置される。基板1は基板ホルダー4により保持され、ターゲット2はターゲットホルダー5により保持されている。成膜される基板1は、目的物質の金属酸化物薄膜を形成するために用いられる基板であり、下地基板の材質、あるいは下地基板の有無は問わないが、少なくとも膜形成面が有機層を有し、あるいは全体が有機物からなる基板である。例えば、図3に示すようなTop Emission素子の有機EL素子の場合、下地基板のガラス基板21上に順次形成された陽極22、有機層からなる正孔注入層23、発光層24、および電子注入層25を有する有機層成膜済みのものが成膜の対象となる基板1である。この有機層の電子注入層25の上に、例えばITOからなる透明な陰極26が本発明により成膜される。
基板1とターゲット2は、真空チャンバ3内において所定の間隔(例えば、基板−ターゲット間距離120mm)を隔てて平行に対向配置される。基板1は基板ホルダー4により保持され、ターゲット2はターゲットホルダー5により保持されている。成膜される基板1は、目的物質の金属酸化物薄膜を形成するために用いられる基板であり、下地基板の材質、あるいは下地基板の有無は問わないが、少なくとも膜形成面が有機層を有し、あるいは全体が有機物からなる基板である。例えば、図3に示すようなTop Emission素子の有機EL素子の場合、下地基板のガラス基板21上に順次形成された陽極22、有機層からなる正孔注入層23、発光層24、および電子注入層25を有する有機層成膜済みのものが成膜の対象となる基板1である。この有機層の電子注入層25の上に、例えばITOからなる透明な陰極26が本発明により成膜される。
ターゲット2は、例えばITO(インジウムと錫の金属酸化物、In2O3:95%、SnO2:5%)により構成される。もちろんターゲット2は、合金製でなくてもよく、膜構成元素のそれぞれを含む純金属製のターゲットを用いてもよい。この場合、酸素は酸素ガスとして別途導入する。すなわち、ターゲット2は、薄膜構成元素の一部または全部を含むものである。ターゲット2の個数、配置、構造等には特に制限はない。
基板1の周囲にはプラズマガス供給管6が配設される。プラズマガスはターゲット2より放出する原子の放出方向と反対の方向(すなわち基板側)より供給するようになっており、プラズマガスのイオンによりたたき出されたターゲット2の構成原子が基板2に向かう際にプラズマガスの原子との衝突回数を増大させることにより、ターゲット2の構成原子の飛行速度を減速させ運動エネルギーを減少させることにしている。プラズマガスには、ここではArガスを用いているが、特にArに限定されるものではない。また、衝突によりターゲット構成原子の運動エネルギーを軽減させるために、プラズマガスには噴出圧力をかけ、初速度を与えた状態で真空チャンバ3内へ導入することが好ましい。そのため、プラズマガスの噴出口7は供給管6の配管口径より小さい口径となっている。また、ガス噴出口7はターゲット2を指向するように基板1の周囲にほぼ等間隔に複数配設されている。これにより、基板1とターゲット2間に、より均一かつ高密度にプラズマガスを満たすことができる。
導入ガスの排気手段8は、ガスの流れが基板1側からターゲット2側へ向かうように真空チャンバ3の下部(ターゲット側)に設置されている。この排気手段8は、例えば図2に示すように、仕切り板9に複数設けられた排気口10と、真空チャンバ3の底部に設けられ真空ポンプ(図示せず)に接続される少なくとも1つの吸引口11とから構成されている。また、ターゲット2の中央部からも排気できるように排気口12をターゲット2およびターゲットホルダー5に設けてもよい。仕切り板9に設けられる排気口10はターゲット2の周辺部にほぼ均等に配設され、これによって均一にガスを排気することができる。また、膜厚分布の均一化、シート抵抗値分布の均一化が可能となる。
基板1上に成膜される薄膜の構成元素の一部として酸素ガスを真空チャンバ3内に導入する場合は、酸素ガス導入口13を真空チャンバ3の側面に設け、ターゲット2の構成原子の放出方向とほぼ垂直方向に酸素ガスを導入する。
本発明の成膜方法によれば、衝突後の薄膜構成原子(スパッタ粒子)の運動エネルギーは次のようになるものと考えられる。例えば、Ar(原子量約40)とIn(原子量約115)が衝突(弾性衝突)する場合、真空圧8×10-4Paの場合、従来のスパッタ法ではスパッタ粒子(In)の運動エネルギーは10eV程度である。速度は129m/s程度である。したがって、このような高い運動エネルギーでもって有機層上に成膜すると、有機層がダメージを受けることになる。これに対して、本発明ではスパッタガスのArに初速度を与えているため、衝突後のスパッタ粒子(In)の運動エネルギーは4eV程度、速度は81m/s程度となる。有機層を構成するC−C、C−H、H−C6H5などの結合エネルギーは4〜5eV付近にあるので、これらの有機分子の結合が外れることはなく、したがって有機層にダメージを与えることなく成膜することができる。しかも、基板温度は常温で、すなわち基板を加熱することなく無加熱でスパッタリングを行うことができる。さらに、衝突によりスパッタ粒子はあらゆる方向から基板1に入射するので、従来法と同様に緻密で特性の良い構造の膜を作製することができる。
次に、本発明の実施例について説明する。比較の対象は図3に示した有機EL素子とした。また、本実施例は図1の方法により成膜し、従来例は図7に示すように従来通りのスパッタ法により成膜した。すなわち、基板1とターゲット2を上下に平行に配置し、横方向からArガスを導入し、反対側の横方向へ導入ガスを吸引排気することとした。
成膜条件は次のとおりとした。
Arガス流量:20sccm
印加電圧:200V
電流値:1A
到達真空圧:8×10-4Pa
成膜圧力:5〜8Pa
温度:無加熱
基板−ターゲット間距離:120mm
成膜条件は次のとおりとした。
Arガス流量:20sccm
印加電圧:200V
電流値:1A
到達真空圧:8×10-4Pa
成膜圧力:5〜8Pa
温度:無加熱
基板−ターゲット間距離:120mm
評価は、有機EL素子のI−V−L特性と膜厚分布で行った。図4は有機EL素子の電流密度(I)−電圧(V)特性を示し、図5は有機EL素子の輝度(L)−電流密度(I)特性を示す。また、図6はITO陰極の膜厚分布を示す。
これらの図にみられるように、実施例の有機EL素子は、従来例と比較して、より低電圧での駆動が可能で、高輝度を有し、かつ膜厚分布がより平坦化されている。
これらの図にみられるように、実施例の有機EL素子は、従来例と比較して、より低電圧での駆動が可能で、高輝度を有し、かつ膜厚分布がより平坦化されている。
なお、本発明は、DCスパッタ法、RFスパッタ法のいずれにも適用できるものである。また、スパッタ装置はバッチ式に限らず、連続式でもよいものであり、搬送型、あるいは回転型のスパッタ装置にも適用できるものである。
また、本発明における金属酸化物は、導電性を有するものに限らず、絶縁性を有するものでもよい。
また、本発明は、フレキシブル基板や半導体素子など、基板が物理的化学的影響を受けやすいもの全般に利用することができる。
また、本発明における金属酸化物は、導電性を有するものに限らず、絶縁性を有するものでもよい。
また、本発明は、フレキシブル基板や半導体素子など、基板が物理的化学的影響を受けやすいもの全般に利用することができる。
1 基板、2 ターゲット、3 真空チャンバ、4 基板ホルダー、5 ターゲットホルダー、6 プラズマガス供給管、7 ガス噴出口、8 排気手段、9 仕切り板、10 排気口、11 吸引口、12 排気口、13 酸素ガス導入口、21 ガラス基板、22 陽極、23 正孔注入層、24 発光層、25 電子注入層、26 陰極
Claims (10)
- スパッタ法により基板に金属酸化物の薄膜を形成する方法であって、薄膜構成原子が前記基板に向かう際にプラズマガスの原子との衝突回数を増大させ、またその衝突により薄膜構成原子の基板方向成分の飛行速度を効率的に減速させることを特徴とする金属酸化物の成膜方法。
- 薄膜構成原子の放出方向とほぼ反対方向にプラズマガスを噴出させることを特徴とする請求項1記載の金属酸化物の成膜方法。
- 薄膜構成原子の放出方向とほぼ垂直方向に一部の薄膜構成ガスを導入することを特徴とする請求項1または2記載の金属酸化物の成膜方法。
- 導入ガスの排気は基板と反対のターゲット側より行うことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の金属酸化物の成膜方法。
- 基板と、薄膜構成元素の一部または全部を含むターゲットとを平行に対向配置したスパッタ装置において、プラズマガスの噴出口を前記ターゲットを指向するように基板側に設けたことを特徴とする金属酸化物の成膜装置。
- プラズマガスの噴出口は、口径がガス配管径よりも小さいことを特徴とする請求項5記載の金属酸化物の成膜装置。
- 導入ガスの排気手段は、前記ターゲット側に配設された複数の排気口を有することを特徴とする請求項5または6記載の金属酸化物の成膜装置。
- 前記ターゲットは、中央部に排気口を有することを特徴とする請求項7記載の金属酸化物の成膜装置。
- 請求項1乃至4のいずれかに記載の金属酸化物の成膜方法または請求項5乃至8のいずれかに記載の金属酸化物の成膜装置を用いて、基板の有機層上に透明電極を成膜することを特徴とする有機EL素子の製造方法。
- 請求項9記載の有機EL素子の製造方法に使用することを特徴とする有機EL素子の製造装置。
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---|---|---|---|---|
JP2006134738A (ja) * | 2004-11-08 | 2006-05-25 | Toppan Printing Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法および製造装置並びに、それを用いて製造した有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP2010198659A (ja) * | 2009-02-23 | 2010-09-09 | Showa Denko Kk | 処理装置、インライン式成膜装置、磁気記録媒体の製造方法 |
JP2014077166A (ja) * | 2012-10-10 | 2014-05-01 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 薄膜超電導線材用の中間層付基板とその製造方法、および薄膜超電導線材 |
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