WO2020105707A1

WO2020105707A1 - 接着剤組成物

Info

Publication number: WO2020105707A1
Application number: PCT/JP2019/045654
Authority: WO
Inventors: 大河佐藤; 有希久保; 賢大橋
Original assignee: Ajinomoto Co Inc
Current assignee: Ajinomoto Co Inc
Priority date: 2018-11-22
Filing date: 2019-11-21
Publication date: 2020-05-28
Anticipated expiration: 2021-05-22
Also published as: KR20210094013A; CN112996874B; JPWO2020105707A1; CN112996874A; JP7755930B2; JP2024091938A; KR102740681B1

Abstract

本発明は、以下の成分（Ａ）～（Ｃ）：（Ａ）有機バインダー、（Ｂ）層状粘土鉱物、および（Ｃ）３００～４３０ｎｍの波長域に最大吸収波長を有する化合物を含む接着剤組成物を提供する。

Description

接着剤組成物

　本発明は有機ＥＬ表示装置等の光学デバイス中の接着層を形成するために好適な接着剤組成物に関する。

　有機ＥＬ素子は発光材料に有機物質を使用した発光素子であり、低電圧で高輝度の発光を得ることができるため近年脚光を浴びており、有機ＥＬ素子を利用した表示装置（ディスプレイ）が、携帯電話やテレビ等の各種用途で用いられるようになってきている。一方、有機ＥＬ発光素子は短波長域の光により劣化が生じ、変色や寿命が短くなる等の課題があることが知られている。例えば、特許文献１には、紫外線による有機ＥＬ発光素子の劣化を抑制するため、紫外線吸収剤を含む層を有するディスプレイ用ウィンドウフィルムにより、波長３９０ｎｍ以下の光を遮断する方法が開示されている。また、特許文献２には、有機ＥＬ素子の劣化抑制のために、紫外線に加え、波長３８０～４３０ｎｍの光の透過を抑制することが提案されており、紫外線吸収剤と、吸収スペクトルの最大吸収波長が３８０～４３０ｎｍの波長域に存在する色素化合物を含む層を有機ＥＬ表示装置に設けることにより、有機ＥＬ素子の劣化を抑制する方法が開示されている。短波長域の光による素子の劣化は太陽電池等の他の光学デバイスにおいても課題となる。

特表２０１８－５０４６２２号公報特開２０１８－２８９７４号公報

　３００～４３０ｎｍの波長域に最大吸収波長を有する化合物を有する接着剤により、３００～４３０ｎｍの波長域の光を吸収する能力（以下「短波長域の光吸収能」と略称することがある）を有する接着層を有機ＥＬ表示装置等の光学デバイスに形成することは、光学デバイスの光劣化に対する抑制に有効である。短波長域の光吸収能を増大させるには、接着剤中の前記化合物の含有量を大きくすることが考えられる。

　しかし、接着剤への前記化合物の溶解性にも限界があり、この含有量が大きくなり過ぎると、（１）前記化合物が結晶化する、（２）接着剤から前記化合物が漏出する、（３）接着剤が着色する等の問題が起こる場合がある。そのため、前記化合物の含有量の増大とは異なる、接着層の短波長域の光吸収能の向上手段が求められている。また、このような光学デバイス中の接着層には、透明性も必要となる。

　本発明は上記のような事情に鑑みなされたものであって、その目的は、３００～４３０ｎｍの波長域の光を吸収する能力を有し、且つ透明性が良好な接着層を形成し得る接着剤組成物を提供することにある。

　上記目的を達成し得る本発明は以下の通りである。
　［１］　以下の成分（Ａ）～（Ｃ）：
（Ａ）有機バインダー、
（Ｂ）層状粘土鉱物、および
（Ｃ）３００～４３０ｎｍの波長域に最大吸収波長を有する化合物
を含む接着剤組成物。
　［２］　成分（Ｂ）が、ハイドロタルサイトおよび層状ケイ酸塩鉱物から選ばれる少なくとも一つを含む前記［１］に記載の接着剤組成物。
　［３］　成分（Ｂ）が、ハイドロタルサイトを含む前記［１］に記載の接着剤組成物。
　［４］　成分（Ｂ）が、半焼成ハイドロタルサイトを含む前記［１］に記載の接着剤組成物。
　［５］　成分（Ａ）の含有量が、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、２５～９５質量％である前記［１］～［４］のいずれか一つに記載の接着剤組成物。
　［６］　成分（Ｂ）の含有量が、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、１～６０質量％である前記［１］～［５］のいずれか一つに記載の接着剤組成物。
　［７］　成分（Ｃ）の含有量が、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、０．０５～１５質量％である前記［１］～［６］のいずれか一つに記載の接着剤組成物。
　［８］　成分（Ａ）が、オレフィン系樹脂およびエポキシ樹脂から選ばれる少なくとも一つを含む前記［１］～［７］のいずれか一つに記載の接着剤組成物。
　［９］　光学デバイス中の接着層を形成するために用いられる前記［１］～［８］のいずれか一つに記載の接着剤組成物。
　［１０］　光学デバイスが有機ＥＬ表示装置である、前記［９］に記載の接着剤組成物。

　［１１］　支持体と、前記支持体上に前記［１］～［８］のいずれか一つに記載の接着剤組成物から形成された接着層とを含む接着シート。
　［１２］　光学デバイス中の接着層を形成するために用いられる前記［１１］記載の接着シート。
　［１３］　光学デバイスが、有機ＥＬ表示装置である前記［１２］に記載の接着シート。

　［１４］　前記［１］～［８］のいずれか一項に記載の接着剤組成物から形成された接着層を有する光学デバイス。
　［１５］　前記［１］～［８］のいずれか一つに記載の接着剤組成物から形成された接着層を有する有機ＥＬ表示装置。

　本発明によれば、３００～４３０ｎｍの波長域の光を吸収する能力を有し、且つ透明性が良好な接着層を形成し得る接着剤組成物を得ることができる。

　本発明の接着剤組成物は、以下の成分（Ａ）～（Ｃ）：
（Ａ）有機バインダー、
（Ｂ）層状粘土鉱物、および
（Ｃ）３００～４３０ｎｍの波長域に最大吸収波長を有する化合物
を含み、本発明は、成分（Ｂ）および（Ｃ）を併用することを特徴とする。成分（Ｂ）および（Ｃ）の両方を使用することによって、これら片方を使用する場合に比べて、透明性を維持したまま、接着剤組成物から形成される接着層の短波長域の光吸収能（即ち、３００～４３０ｎｍの波長域の光を吸収する能力）を向上させることができる。
　以下、各成分について、順に説明する。なお、後述の例示、好ましい記載等は、これらが互いに矛盾しない限り、組み合わせることができる。

＜（Ａ）有機バインダー＞
　成分（Ａ）である有機バインダーとは、成分（Ｂ）（即ち、層状粘土鉱物）および成分（Ｃ）（即ち、３００～４３０ｎｍの波長域に最大吸収波長を有する化合物）を固定できる樹脂またはゴムを意味する。成分（Ａ）は、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。また、樹脂およびゴムは、いずれも１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。また、成分（Ａ）として、樹脂およびゴムを併用してもよい。成分（Ａ）としては、公知の有機バインダーである樹脂および／またはゴムを使用することができる。

　樹脂は、熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂のいずれでもよい。また、樹脂として、粘着付与樹脂を使用してもよい。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂および粘着付与樹脂は、いずれも、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。また、樹脂として、これらの混合物（例えば、熱可塑性樹脂および粘着付与樹脂の混合物）を使用してもよい。以下、樹脂およびゴムを順に説明する。

（熱可塑性樹脂）
　熱可塑性樹脂としては、例えば、フェノキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ブチラール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、オレフィン系樹脂（例えば、エチレン系樹脂、プロピレン系樹脂、ブテン系樹脂、イソブチレン系樹脂）等が挙げられる。

　熱可塑性樹脂の数平均分子量は、特に限定はされないが、接着剤組成物ワニスの良好な塗工性と組成物における他の成分との良好な相溶性をもたらすという観点から、１，０００，０００以下が好ましく、７５０，０００以下がより好ましく、５００，０００以下がより一層好ましく、４００，０００以下がさらに好ましい。一方、接着剤組成物ワニスの塗工時のハジキを防止し、形成される接着層の耐透湿性を発現させ、機械強度を向上させるという観点から、５００以上が好ましく、７００以上がより好ましい。なお、この数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法（ポリスチレン換算）で測定される。ＧＰＣ法による数平均分子量は、具体的には、測定装置として島津製作所社製ＬＣ－９Ａ／ＲＩＤ－６Ａを、カラムとして昭和電工社製ＳｈｏｄｅｘＫ－８００Ｐ／Ｋ－８０４Ｌ／Ｋ－８０４Ｌを、移動相としてトルエン等を用いて、カラム温度４０℃にて測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて算出することができる。

　成分（Ａ）として熱可塑性樹脂を使用する場合、熱可塑性樹脂は、好ましくはオレフィン系樹脂を含む。ここで、本発明における「オレフィン系樹脂」とは、オレフィンに由来する構成単位（以下「オレフィン単位」と略称することがある）を含み、オレフィン単位の量が、全構成単位（即ち、各構成単位の合計）１００質量％あたり、５０質量％以上である樹脂を意味する。なお、官能基（例えばエポキシ基、酸無水物基等）を有する変性オレフィン系樹脂も、オレフィン単位の量が全構成単位中５０質量％以上である場合、本発明における「オレフィン系樹脂」に含まれる。また、変性オレフィン樹脂であり、その官能基によって架橋構造を形成し得る樹脂も、それ単独では熱可塑性を有する樹脂は、本発明における「熱可塑性樹脂」に含まれる。

　オレフィン系樹脂は、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。オレフィン系樹脂としては、エチレン系樹脂、プロピレン系樹脂、ブテン系樹脂、イソブチレン系樹脂が好ましい。これらオレフィン系樹脂は、単独重合体でもよく、ランダム共重合体、ブロック共重合体等の共重合体でもよい。共重合体としては、２種以上のオレフィンの共重合体、およびオレフィンと非共役ジエン、スチレン等のオレフィン以外のモノマーとの共重合体が挙げられる。好ましい共重合体の例として、エチレン－非共役ジエン共重合体、エチレン－プロピレン共重合体、エチレン－プロピレン－非共役ジエン共重合体、エチレン－ブテン共重合体、プロピレン－ブテン共重合体、プロピレン－ブテン－非共役ジエン共重合体、スチレン－イソブチレン共重合体、スチレン－イソブチレン－スチレン共重合体等が挙げられる。オレフィン系樹脂としては、例えば、イソブチレン変性樹脂、スチレン－イソブチレン変性樹脂、変性プロピレン－ブテン樹脂等が好ましく用いられる。

　オレフィン系樹脂は、優れた物性（例えば、接着性等）を接着層に付与する観点から、好ましくは酸無水物基（即ち、カルボニルオキシカルボニル基（－ＣＯ－Ｏ－ＣＯ－））を有するオレフィン系樹脂およびエポキシ基を有するオレフィン系樹脂から選ばれる少なくとも一つを含み、より好ましくは酸無水物基を有するオレフィン系樹脂およびエポキシ基を有するオレフィン系樹脂を含む。

　酸無水物基を有するオレフィン系樹脂は、例えば、酸無水物基を有する不飽和化合物で、オレフィン系樹脂をラジカル反応条件下にてグラフト変性することで得られる。また、酸無水物基を有する不飽和化合物を、オレフィン等とともにラジカル共重合するようにしてもよい。酸無水物基を有する不飽和化合物としては、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水グルタル酸等が挙げられる。酸無水物基を有する不飽和化合物は、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

　同様に、エポキシ基を有するオレフィン系樹脂は、例えば、エポキシ基を有する不飽和化合物で、オレフィン系樹脂をラジカル反応条件下にてグラフト変性することで得られる。また、エポキシ基を有する不飽和化合物を、オレフィン等とともにラジカル共重合するようにしてもよい。エポキシ基を有する不飽和化合物としては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル等が挙げられる。エポキシ基を有する不飽和化合物は、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

　酸無水物基を有するオレフィン系樹脂中の酸無水物基の濃度は、０．０５～１０ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、０．１～５ｍｍｏｌ／ｇがより好ましい。酸無水物基の濃度はＪＩＳＫ　２５０１の記載に従い、樹脂１ｇ中に存在する酸を中和するのに必要な水酸化カリウムのｍｇ数として定義される酸価の値より得られる。また、オレフィン系樹脂中の酸無水物基を有するオレフィン系樹脂の量は、好ましくは０～７０質量％、より好ましくは５～５０質量％である。

　エポキシ基を有するオレフィン系樹脂中のエポキシ基の濃度は、０．０５～１０ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、０．１～５ｍｍｏｌ／ｇがより好ましい。エポキシ基濃度はＪＩＳ　Ｋ　７２３６－１９９５に基づいて得られるエポキシ当量から求められる。また、オレフィン系樹脂中のエポキシ基を有するオレフィン系樹脂の量は、好ましくは０～７０質量％、より好ましくは５～５０質量％である。

　オレフィン系樹脂は、防湿性等の優れた物性を付与する観点から、酸無水物基を有するオレフィン系樹脂およびエポキシ基を有するオレフィン系樹脂の両方を含むことが好ましい。このようなオレフィン系樹脂は、酸無水物基とエポキシ基を加熱により反応させ架橋構造を形成し、防湿性等に優れた接着層を形成することができる。接着シートを製造する際に架橋構造を形成しておくのが望ましい。酸無水物基を有するオレフィン系樹脂とエポキシ基を有するオレフィン系樹脂の割合は適切な架橋構造が形成できれば特に限定されないが、エポキシ基と酸無水物基とのモル比（エポキシ基：酸無水物基）は、好ましくは１００：１０～１００：２００、より好ましくは１００：５０～１００：１５０、特に好ましくは１００：９０～１００：１１０である。

　オレフィン系樹脂の数平均分子量は、特に限定はされないが、有機溶剤を含有する接着剤組成物ワニスの良好な塗工性と、接着剤組成物における他の成分との良好な相溶性をもたらすという観点から、１，０００，０００以下が好ましく、７５０，０００以下がより好ましく、５００，０００以下がより一層好ましく、４００，０００以下がさらに好ましく、３００，０００以下がさらに一層好ましく、２００，０００以下が特に好ましく、１５０，０００以下が最も好ましい。一方、接着剤組成物ワニスの塗工時のハジキを防止し、形成される接着層の防湿性を発現させ、機械強度を向上させるという観点から、この数平均分子量は、５００以上が好ましく、７００以上がより好ましい。なお、本発明における数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法（ポリスチレン換算）で測定される。ＧＰＣ法による数平均分子量は、具体的には、測定装置として島津製作所社製ＬＣ－９Ａ／ＲＩＤ－６Ａを、カラムとして昭和電工社製ＳｈｏｄｅｘＫ－８００Ｐ／Ｋ－８０４Ｌ／Ｋ－８０４Ｌを、移動相としてトルエン等を用いて、カラム温度４０℃にて測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて算出することができる。

　オレフィン系樹脂は、有機溶剤を含有する接着剤組成物ワニスの増粘による流動性の低下を抑制する観点から非晶性であるのが好ましい。ここで、非晶性とは、オレフィン系樹脂が明確な融点を有しないことを意味し、例えば、オレフィン系樹脂のＤＳＣ（示差走査熱量測定）で融点を測定した場合に明確なピークが観察されないものを使用することができる。

　次に、オレフィン系樹脂の具体例を説明する。イソブチレン系樹脂の具体例としては、ＢＡＳＦ社製「オパノールＢ１００」（粘度平均分子量：１，１１０，０００）、ＢＡＳＦ社製「Ｂ５０ＳＦ」（粘度平均分子量：４００，０００）が挙げられる。

　ブテン系樹脂の具体例としては、ＪＸＴＧエネルギー社製「ＨＶ－１９００」（ポリブテン、数平均分子量：２，９００）、東邦化学工業社製「ＨＶ－３００Ｍ」（無水マレイン酸変性液状ポリブテン（「ＨＶ－３００」（数平均分子量：１，４００）の変性品）、数平均分子量：２，１００、酸無水物基を構成するカルボキシ基の数：３．２個／１分子、酸価：４３．４ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸無水物基濃度：０．７７ｍｍｏｌ／ｇ）が挙げられる。

　スチレン－イソブチレン共重合体の具体例としては、カネカ社製「ＳＩＢＳＴＡＲ　Ｔ１０２」（スチレン－イソブチレン－スチレンブロック共重合体、数平均分子量：１００，０００、スチレン含量：３０質量％）、星光ＰＭＣ社製「Ｔ－ＹＰ７５７Ｂ」（無水マレイン酸変性スチレン－イソブチレン－スチレンブロック共重合体、酸無水物基濃度：０．４６４ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：１００，０００）、星光ＰＭＣ社製「Ｔ－ＹＰ７６６」（グリシジルメタクリレート変性スチレン－イソブチレン－スチレンブロック共重合体、エポキシ基濃度：０．６３８ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：１００，０００）、星光ＰＭＣ社製「Ｔ－ＹＰ８９２０」（無水マレイン酸変性スチレン－イソブチレン－スチレン共重合体、酸無水物基濃度：０．４６４ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：３５，８００）、星光ＰＭＣ社製「Ｔ－ＹＰ８９３０」（グリシジルメタクリレート変性スチレン－イソブチレン－スチレン共重合体、エポキシ基濃度：０．６３８ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：４８，７００）が挙げられる。

　エチレン系樹脂またはプロピレン系樹脂の具体例としては、三井化学社製「ＥＰＴ　Ｘ－３０１２Ｐ」（エチレン－プロピレン－５－エチリデン－２－ノルボルネン共重合体、三井化学社製「ＥＰＴ１０７０」（エチレン－プロピレン－ジシクロペンタジエン共重合体）、三井化学社製「タフマーＡ４０８５」（エチレン－ブテン共重合体）が挙げられる。

　エチレン－メチルメタクリレート共重合体の具体例としては、星光ＰＭＣ社製「Ｔ－ＹＰ４２９」（無水マレイン酸変性エチレン－メチルメタクリレート共重合体（エチレン単位とメチルメタクリレート単位の合計１００質量％あたりのメチルメタクリレート単位の量：３２質量％、酸無水物基濃度：０．４６ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：２，３００）の２０質量％トルエン溶液）、星光ＰＭＣ社製「Ｔ－ＹＰ４３０」（無水マレイン酸変性エチレン－メチルメタクリレート共重合体、エチレン単位とメチルメタクリレート単位の合計１００質量％あたりのメチルメタクリレート単位の量：３２質量％、酸無水物基濃度：１．１８ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：４，５００）、星光ＰＭＣ社製「Ｔ－ＹＰ４３１」（グリシジルメタクリレート変性エチレン－メチルメタクリレート共重合体（エポキシ基濃度：０．６４ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：２，４００）の２０質量％トルエン溶液）、星光ＰＭＣ社製「Ｔ－ＹＰ４３２」（グリシジルメタクリレート変性エチレン－メチルメタクリレート共重合体、エポキシ基濃度：１．６３ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：３，１００）が挙げられる。

　プロピレン－ブテン共重合体の具体例としては、星光ＰＭＣ社製「Ｔ－ＹＰ３４１」（グリシジルメタクリレート変性プロピレン－ブテンランダム共重合体（プロピレン単位とブテン単位の合計１００質量％あたりのブテン単位の量：２９質量％、エポキシ基濃度：０．６３８ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：１５５，０００）の２０質量％スワゾール溶液）、星光ＰＭＣ社製「Ｔ－ＹＰ２７９」（無水マレイン酸変性プロピレン－ブテンランダム共重合体、プロピレン単位とブテン単位の合計１００質量％あたりのブテン単位の量：３６質量％、酸無水物基濃度：０．４６４ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：３５，０００）、星光ＰＭＣ社製「Ｔ－ＹＰ２７６」（グリシジルメタクリレート変性プロピレン－ブテンランダム共重合体、プロピレン単位とブテン単位の合計１００質量％あたりのブテン単位の量：３６質量％、エポキシ基濃度：０．６３８ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：５７，０００）、星光ＰＭＣ社製「Ｔ－ＹＰ３１２」（無水マレイン酸変性プロピレン－ブテンランダム共重合体（プロピレン単位とブテン単位の合計１００質量％あたりのブテン単位の量：２９質量％、酸無水物基濃度：０．４６４ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：６０，９００）の４０質量％トルエン溶液）、星光ＰＭＣ社製「Ｔ－ＹＰ３１３」（グリシジルメタクリレート変性プロピレン－ブテンランダム共重合体（プロピレン単位とブテン単位の合計１００質量％あたりのブテン単位の量：２９質量％、エポキシ基濃度：０．６３８ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：１５５，０００）の２０質量％トルエン溶液）が挙げられる。

　オレフィン系樹脂がエポキシ基を有するオレフィン系樹脂を含む場合、エポキシ基と反応し得る、酸無水物基以外の官能基を有するオレフィン系樹脂を使用してもよい。前記官能基としては、例えば、水酸基、フェノール性水酸基、アミノ基、カルボキシ基等が挙げられる。

　オレフィン系樹脂が酸無水物基を有するオレフィン系樹脂を含む場合、酸無水物基と反応し得る、エポキシ基以外の官能基を有するオレフィン系樹脂を使用してもよい。前記官能基としては、例えば、水酸基、１級または２級のアミノ基、チオール基、オキセタン基等が挙げられる。

　熱可塑性樹脂（特に、オレフィン系樹脂）の含有量に特に限定はない。接着材組成物ワニスの良好な塗工性等の観点から、熱可塑性樹脂（特に、オレフィン系樹脂）を使用する場合、その含有量は、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、９５質量％以下が好ましく、８５質量％以下がより好ましく、８０質量％以下がさらに好ましい。また、オレフィン系樹脂の含有量は、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、２５質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、３５質量％以上がさらに好ましい。

（熱硬化性樹脂）
　熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール系樹脂、ナフトール系樹脂、ベンゾオキサジン系樹脂、活性エステル系樹脂、シアネートエステル系樹脂、カルボジイミド系樹脂、アミン系樹脂、酸無水物系樹脂等が挙げられる。

　有機バインダーとして熱硬化性樹脂を使用する場合、熱硬化性樹脂は、好ましくはエポキシ樹脂を含む。エポキシ樹脂としては、平均して１分子当り２個以上のエポキシ基を有するものが使用できる。但し、エポキシ基を有する樹脂であっても、上述したように、そのオレフィン単位の量が全構成単位中５０質量％以上である場合、その樹脂は、本発明における「オレフィン系樹脂」に含まれる。エポキシ樹脂としては、例えば、水素添加エポキシ樹脂（水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等）、フッ素含有エポキシ樹脂、鎖状脂肪族型エポキシ樹脂、環状脂肪族型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、リン含有エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、芳香族グリシジルアミン型エポキシ樹脂（例えば、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジル－ｐ－アミノフェノール、ジグリシジルトルイジン、ジグリシジルアニリン等）、脂環式エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、アルキルフェノール型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂、ブタジエン構造を有するエポキシ樹脂、ビスフェノールのジグリシジルエーテル化物、ナフタレンジオールのジグリシジルエーテル化物、フェノール類のジグリシジルエーテル化物、およびアルコール類のジグリシジルエーテル化物、並びにこれらのエポキシ樹脂のアルキル置換体等が挙げられる。

　エポキシ樹脂は、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。エポキシ樹脂のエポキシ当量は、反応性等の観点から、好ましくは５０～５，０００、より好ましくは５０～３，０００、さらに好ましくは８０～２，０００、特に好ましくは１００～１，５００である。なお、「エポキシ当量」とは、１グラム当量のエポキシ基を含む樹脂のグラム数（ｇ／ｅｑ）であり、ＪＩＳＫ７２３６に規定された方法に従って測定される。エポキシ樹脂の重量平均分子量は、好ましくは５，０００以下である。

　エポキシ樹脂は、液状または固形のいずれでもよく、液状エポキシ樹脂と固形エポキシ樹脂とを併用してもよい。ここで、「液状」および「固形」とは、常温（２５℃）および常圧（１ａｔｍ）でのエポキシ樹脂の状態である。塗工性、加工性、接着性の観点から、使用するエポキシ樹脂全体の１０質量％以上が液状エポキシ樹脂であるのが好ましい。ハイドロタルサイトとの混練性およびワニス粘度の観点から、液状エポキシ樹脂と固形エポキシ樹脂とを併用することが特に好ましい。液状エポキシ樹脂と固形エポキシ樹脂の質量比（液状エポキシ樹脂：固形エポキシ樹脂）は、１：２～１：０が好ましく、１：１．５～１：０がより好ましい。

　成分（Ａ）として熱硬化性樹脂を使用する場合、その含有量は、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、２５～９５質量％が好ましく、３０～９５質量％がより好ましく、３５～９５質量％がさらに好ましい。

　成分（Ａ）としてエポキシ樹脂を使用する場合、その含有量は、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、２５～９５質量％が好ましく、３０～９５質量％がより好ましく、３５～９５質量％がさらに好ましい。

　成分（Ａ）としてエポキシ樹脂を使用する場合、成分（Ａ）として、熱可塑性樹脂であるフェノキシ樹脂をさらに使用してもよい。エポキシ樹脂およびフェノキシ樹脂を併用する場合、エポキシ樹脂の含有量は、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、２５～９０質量％が好ましく、３０～９０質量％がより好ましく、４０～９０質量％がさらに好ましく、フェノキシ樹脂の含有量は、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、０．１～６０質量％が好ましく、３～６０質量％がより好ましく、５～５０質量％がさらに好ましい。

　エポキシ樹脂およびフェノキシ樹脂を併用する場合、エポキシ樹脂の重量平均分子量は、好ましくは５，０００以下であり、フェノキシ樹脂の重量平均分子量は、好ましくは１０，０００～５００，０００、より好ましくは２０，０００～３００，０００である。なお、これらの重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法（ポリスチレン換算）で測定される。

（粘着付与樹脂）
　成分（Ａ）として熱可塑性樹脂（特にオレフィン系樹脂）および／またはゴムを使用する場合、接着剤組成物の粘着性を向上させるために粘着付与樹脂を使用することが好ましい。粘着付与樹脂は、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

　粘着付与樹脂としては、例えば、テルペン系樹脂、テルペンフェノール系樹脂、ロジン系粘着付与樹脂、水添テルペン系樹脂、芳香族変性テルペン系樹脂、クマロン樹脂、インデン樹脂、石油樹脂（脂肪族系石油樹脂、芳香族系石油樹脂、脂肪族芳香族共重合系石油樹脂、脂環式石油樹脂、ジシクロペンタジエン系石油樹脂、水添ジシクロペンタジエン系石油樹脂等）、飽和脂肪族炭化水素樹脂、シクロヘキサン環含有飽和炭化水素樹脂等が挙げられる。

　粘着付与樹脂の市販品としては、例えば、以下のものが挙げられる。テルペン系樹脂としては、例えば、ＹＳレジンＰＸ、ＹＳレジンＰＸＮ（いずれもヤスハラケミカル社製）等が挙げられる。芳香族変性テルペン樹脂としては、例えば、ＹＳレジンＴＯ、ＴＲシリーズ（いずれもヤスハラケミカル社製）等が挙げられる。水添テルペン系樹脂としては、例えば、クリアロンＰ、クリアロンＭ、クリアロンＫシリーズ（いずれもヤスハラケミカル社製）等が挙げられる。テルペンフェノール系樹脂としては、例えば、ＹＳポリスター２０００、ポリスターＵ、ポリスターＴ、ポリスターＳ、マイティエースＧ（いずれもヤスハラケミカル社製）等が挙げられる。飽和脂肪族炭化水素樹脂としては、例えば、Ｅｓｃｏｒｅｚ５３００シリーズ、５６００シリーズ（いずれもエクソンモービル社製）、アルコンＰ１００、アルコンＰ１２５、アルコンＰ１４０（いずれも荒川化学社製）等が挙げられる。シクロヘキサン環含有飽和炭化水素樹脂としては、例えば、ＴＦＳ１３－０３０（荒川化学社製）等が挙げられる。芳香族系石油樹脂としては、例えば、ＥＮＤＥＸ１５５（イーストマン社製）等が挙げられる。脂肪族芳香族共重合系石油樹脂としては、例えば、ＱｕｉｎｔｏｎｅＤ１００（日本ゼオン社製）等が挙げられる。脂環式石油樹脂としては、例えば、Ｑｕｉｎｔｏｎｅ１３２５、Ｑｕｉｎｔｏｎｅ１３４５（いずれも日本ゼオン社製）等が挙げられる。

　粘着付与樹脂の軟化点は、接着剤組成物をシート状で使用する場合に、当該接着シートの積層工程でシートが軟化し、かつ所望の耐熱性を持つという観点から、５０～２００℃が好ましく、５０～１８０℃がより好ましく、５０～１５０℃がさらに好ましい。なお、軟化点の測定は、ＪＩＳ　Ｋ２２０７に従い環球法により測定される。

　接着剤組成物中の粘着付与樹脂の含有量は特に制限はない。しかし、接着剤組成物の良好な耐透湿性を維持するという観点から、粘着付与樹脂を使用する場合、その含有量は、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、８０質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましく、６５質量％以下がさらに好ましく、６０質量％以下が特に好ましい。一方、十分な接着性の観点から、粘着付与樹脂を使用する場合、その含有量は、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、１５質量％以上がさらに好ましい。

　組成物の接着性、耐透湿性、相溶性等の観点から、粘着付与樹脂としては、飽和脂肪族炭化水素樹脂、芳香族系石油樹脂、脂肪族芳香族共重合系石油樹脂、脂環式石油樹脂が好ましく、飽和脂肪族炭化水素樹脂（例えば、アルコンＰ１２５）がより好ましい。

　粘着付与樹脂の数平均分子量は、好ましくは５００以上、より好ましくは７００以上であり、好ましくは２，０００以下、より好ましくは１，５００以下、さらに好ましくは１，０００以下である。なお、この数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法（ポリスチレン換算）で測定される。

（ゴム）
　成分（Ａ）としてゴムを使用する場合、ゴムは、ジエン系ゴムおよび非ジエン系ゴムのいずれでもよい。ゴムとしては、例えば、ブチルゴム（ＩＩＲ）、イソプレンゴム（ＩＲ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、カルボキシル化されたスチレンとブタジエンとのゴム状共重合体（ＸＳＢＲ）、塩素化されたイソブチレンとイソプレンとのゴム状共重合体（ＣＩＩＲ）、臭素化されたイソブチレンとイソプレンとのゴム状共重合体（ＢＩＩＲ）等が挙げられる。なかでも、ブチルゴム、イソプレンゴム、ブタジエンゴムが好ましく、ブチルゴムがより好ましい。

　ゴムは、接着剤組成物の接着性、接着湿熱耐性等をより向上させる観点から、酸無水物基（即ち、カルボニルオキシカルボニル基（－ＣＯ－Ｏ－ＣＯ－））を有するゴムおよびエポキシ基を有するゴムから選ばれる少なくとも一つを含み、より好ましくは酸無水物基を有するゴムおよびエポキシ基を有するゴムを含む。

　酸無水物基を有するゴムは、例えば、酸無水物基を有する不飽和化合物で、ゴムをラジカル反応条件下にてグラフト変性することで得られる。また、酸無水物基を有する不飽和化合物を、オレフィン等とともにラジカル共重合するようにしてもよい。酸無水物基を有する不飽和化合物としては、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水グルタル酸等が挙げられる。酸無水物基を有する不飽和化合物は、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

　同様に、エポキシ基を有するゴムは、例えば、エポキシ基を有する不飽和化合物で、ゴムをラジカル反応条件下にてグラフト変性することで得られる。また、エポキシ基を有する不飽和化合物を、オレフィン性二重結合を有するゴムとともにラジカル共重合するようにしてもよい。エポキシ基を有する不飽和化合物としては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル等が挙げられる。エポキシ基を有する不飽和化合物は、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

　酸無水物基を有するゴムとしては、酸無水物基を有するブチルゴム、酸無水物基を有するイソプレンゴム、酸無水物基を有するブタジエンゴムが好ましく、特に好ましくは、酸無水物基を有するブチルゴムである。また、エポキシ基を有するゴムとしては、エポキシ基を有するブチルゴム、エポキシ基を有するイソプレンゴム、エポキシ基を有するブタジエンゴムが好ましく、特に好ましくは、エポキシ基を有するブチルゴムである。

　酸無水物基を有するゴム中の酸無水物基の濃度は、０．０５～１０ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、０．１～５ｍｍｏｌ／ｇがより好ましい。酸無水物基の濃度はＪＩＳ　Ｋ　２５０１の記載に従い、ゴム１ｇ中に存在する酸を中和するのに必要な水酸化カリウムのｍｇ数として定義される酸価の値より得られる。

　エポキシ基を有するゴム中のエポキシ基の濃度は、０．０５～１０ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、０．１～５ｍｍｏｌ／ｇがより好ましい。エポキシ基濃度はＪＩＳ　Ｋ　７２３６－１９９５に基づいて得られるエポキシ当量から求められる。

　接着剤組成物ワニスの良好な塗工性、およびゴムと他の成分との良好な相溶性の観点から、ゴムの数平均分子量は、１，０００，０００以下が好ましく、７５０，０００以下がより好ましく、５００，０００以下がさらに好ましく、４００，０００以下が特に好ましい。一方、封止用組成物ワニスの塗工時のハジキ防止等の観点から、ゴムの数平均分子量は、２,０００以上が好ましく、１０，０００以上がより好ましく、３０,０００以上がさらに好ましく、５０,０００以上が特に好ましい。なお、この数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法（ポリスチレン換算）で測定される。

　ゴムの含有量に特に限定はない。接着材組成物ワニスの良好な塗工性等の観点から、ゴムを使用する場合、その含有量は、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、８０質量％以下が好ましく、７５質量％以下がより好ましく、７０質量％以下がより一層好ましく、６５質量％以下がさらに好ましく、６０質量％以下がさらに一層好ましい。また、ゴムの含有量は、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、１質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上がより一層好ましく、７質量％以上がさらに好ましく、１０質量％以上がさらに一層好ましく、１５質量％以上が特に好ましく、２０質量％以上が最も好ましい。

（好ましい態様）
　以下、成分（Ａ）について、好ましい本発明の態様を順に説明する。
　本発明の一態様として、成分（Ａ）は、好ましくはオレフィン系樹脂を含み、より好ましくはオレフィン系樹脂および粘着付与樹脂を含む。また本発明の一態様として、成分（Ａ）は、好ましくはブチルゴム、イソプレンゴム、ブタジエンゴム等のゴムを含み、より好ましくはブチルゴムを含む。また本発明の一態様として、成分（Ａ）は、好ましくはゴムおよび粘着付与樹脂を含む。

　成分（Ａ）が、酸無水物基を有するオレフィン系樹脂および／または酸無水物基を有するゴムを含む場合、成分（Ａ）全体当たりの酸無水物基を有するオレフィン系樹脂および／または酸無水物基を有するゴムの量は、好ましくは１～７０質量％、より好ましくは１０～５０質量％である。また、成分（Ａ）が、エポキシ基を有するオレフィン系樹脂および／またはエポキシ基を有するゴムを含む態様の場合、成分（Ａ）全体当たりのエポキシ基を有するオレフィン系樹脂および／またはエポキシ基を有するゴムの量は、好ましくは１～７０質量％、より好ましくは１０～５０質量％である。

　接着剤組成物の耐湿性等をより一層向上させる観点から、本発明は、以下の（ａ）～（ｄ）の少なくとも一つを満たす態様であることが好ましい。
　（ａ）成分（Ａ）が、酸無水物基を有するオレフィン系樹脂およびエポキシ基を有するオレフィン系樹脂を含む。
　（ｂ）成分（Ａ）が、酸無水物基を有するゴムおよびエポキシ基を有するゴムを含む。
　（ｃ）成分（Ａ）が、酸無水物基を有するオレフィン系樹脂およびエポキシ基を有するゴムを含む。
　（ｄ）成分（Ａ）が、酸無水物基を有するゴムおよびエポキシ基を有するオレフィン系樹脂を含む。

　上記（ａ）～（ｄ）の態様では、成分（Ａ）は、加熱により酸無水物基とエポキシ基が反応して架橋構造を形成し得る。このため、本発明の接着材組成物から、耐透湿性等が向上した接着層を形成し得る。なお、架橋構造の形成は接着剤組成物による接着層形成時に行うこともできるが、接着シートの製造時に支持体上に形成した接着層に架橋構造を形成しておくのが望ましい。

　なお、酸無水物基を有するオレフィン系樹脂および／または酸無水物基を有するゴムとエポキシ基を有するオレフィン系樹脂および／またはエポキシ基を有するゴムとの割合は適切な架橋構造が形成できれば特に限定されないが、エポキシ基と酸無水物基とのモル比（エポキシ基：酸無水物基）は、好ましくは１００：１０～１００：２００、より好ましくは１００：５０～１００：１５０、特に好ましくは１００：９０～１００：１１０である。

　本発明の一態様において、成分（Ａ）は、好ましくは（ｉ）ブチルゴム、（ｉｉ）酸無水物基を有するブチルゴムおよびエポキシ基を有するブチルゴムの混合物、または（ｉｉｉ）ブチルゴム、酸無水物基を有するブチルゴムおよびエポキシ基を有するブチルゴムの混合物である。

　本発明において、成分（Ａ）として、オレフィン系樹脂とゴムを併用する場合、両者の配合割合（オレフィン系樹脂／ゴム）は、質量比で、１／９９～５０／５０が好ましく、１０／９０～４５／５５がより好ましい。

　本発明の一態様において、成分（Ａ）は、好ましくは、オレフィン系樹脂およびエポキシ樹脂から選ばれる少なくとも一つを含み、より好ましくはオレフィン系樹脂またはエポキシ樹脂を含む。このような成分（Ａ）を使用することによって、接着剤組成物の低透湿性、アウトガスの発生抑制および透明性を、より優れたものとすることができる。

　成分（Ａ）の含有量は、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、好ましくは２５質量％以上、より好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは３５質量％以上であり、好ましくは９５質量％以下、より好ましくは９３質量％以下、さらに好ましくは９０質量％以下である。

＜（Ｂ）層状粘土鉱物＞
　本発明の接着剤組成物は、成分（Ｂ）として、層状粘土鉱物を含むことを特徴の一つとする。層状粘土鉱物を使用することにより、接着剤組成物から得られる接着層の透明性を維持したまま、３００～４３０ｎｍの波長域の光の吸収性を向上させることができる。成分（Ｂ）は、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。また、層状粘土鉱物は、後述するような加工された層状粘土鉱物（例えば、半焼成ハイドロタルサイト、焼成ハイドロタルサイト等）でもよく、人工物でもよい。

　層状粘土鉱物としては、例えば、ハイドロタルサイトおよび層状ケイ酸塩鉱物等が挙げられる。以下、これらを順に説明する。

（ハイドロタルサイト）
　ハイドロタルサイトは、未焼成ハイドロタルサイト、半焼成ハイドロタルサイト、および焼成ハイドロタルサイトに分類することができる。

　未焼成ハイドロタルサイトは、例えば、天然ハイドロタルサイト（Ｍｇ_６Ａｌ_２（ＯＨ）_１６ＣＯ_３・４Ｈ_２Ｏ）に代表されるような層状の結晶構造を有する金属水酸化物であり、例えば、基本骨格となる層［Ｍｇ_１－ＸＡｌ_Ｘ（ＯＨ）_２］^Ｘ＋と中間層［（ＣＯ_３）_Ｘ／２・ｍＨ_２Ｏ］^Ｘ－からなる。本発明における未焼成ハイドロタルサイトは、合成ハイドロタルサイト等のハイドロタルサイト様化合物を含む概念である。ハイドロタルサイト様化合物としては、例えば、下記式（Ｉ）および下記式（ＩＩ）で表されるものが挙げられる。

　［Ｍ^２＋ _１－ｘＭ^３＋ _ｘ（ＯＨ）_２］^ｘ＋・［（Ａ^ｎ－）_ｘ／ｎ・ｍＨ_２Ｏ］^ｘ－　　
　（Ｉ）
（式中、Ｍ^２＋はＭｇ^２＋、Ｚｎ^２＋などの２価の金属イオンを表し、Ｍ^３＋はＡｌ^３＋、Ｆｅ^３＋などの３価の金属イオンを表し、Ａ^ｎ－はＣＯ_３ ^２－、Ｃｌ^－、ＮＯ_３ ^－などのｎ価のアニオンを表し、０＜ｘ＜１であり、０≦ｍ＜１であり、ｎは正の数である。）
　式（Ｉ）中、Ｍ^２＋は、好ましくはＭｇ^２＋であり、Ｍ^３＋は、好ましくはＡｌ^３＋であり、Ａ^ｎ－は、好ましくはＣＯ_３ ^２－である。

　Ｍ^２＋ _ｘＡｌ_２（ＯＨ）_{２ｘ＋６－ｎｚ}（Ａ^ｎ－）_ｚ・ｍＨ_２Ｏ　　　（ＩＩ）
（式中、Ｍ^２＋はＭｇ^２＋、Ｚｎ^２＋などの２価の金属イオンを表し、Ａ^ｎ－はＣＯ_３ ^２－、Ｃｌ^－、ＮＯ_３ ^－などのｎ価のアニオンを表し、ｘは２以上の正の数であり、ｚは２以下の正の数であり、ｍは正の数であり、ｎは正の数である。）
　式（ＩＩ）中、Ｍ^２＋は、好ましくはＭｇ^２＋であり、Ａ^ｎ－は、好ましくはＣＯ_３ ^２－である。

　半焼成ハイドロタルサイトは、未焼成ハイドロタルサイトを焼成して得られる、層間水の量が減少または消失した層状の結晶構造を有する金属水酸化物をいう。「層間水」とは、組成式を用いて説明すれば、上述した未焼成の天然ハイドロタルサイトおよびハイドロタルサイト様化合物の組成式に記載の「Ｈ_２Ｏ」を指す。

　一方、焼成ハイドロタルサイトは、未焼成ハイドロタルサイトまたは半焼成ハイドロタルサイトを焼成して得られ、層間水（Ｈ_２Ｏ）だけでなく、水酸基（ＯＨ）も縮合脱水によって消失した、アモルファス構造を有する金属酸化物をいう。

　未焼成ハイドロタルサイト、半焼成ハイドロタルサイトおよび焼成ハイドロタルサイトは、飽和吸水率により区別することができる。半焼成ハイドロタルサイトの飽和吸水率は、１質量％以上２０質量％未満である。一方、未焼成ハイドロタルサイトの飽和吸水率は、１質量％未満であり、焼成ハイドロタルサイトの飽和吸水率は、２０質量％以上である。

　本発明における「飽和吸水率」とは、未焼成ハイドロタルサイト、半焼成ハイドロタルサイトまたは焼成ハイドロタルサイトを天秤にて１．５ｇ量り取り、初期質量を測定した後、大気圧下、６０℃、９０％ＲＨ（相対湿度）に設定した小型環境試験器（エスペック社製ＳＨ－２２２）に２００時間静置した場合の、初期質量に対する質量増加率を言い、下記式（ｉ）：
　飽和吸水率（質量％）
＝１００×（吸湿後の質量－初期質量）／初期質量　　　（ｉ）
で求めることができる。

　半焼成ハイドロタルサイトの飽和吸水率は、好ましくは３質量％以上２０質量％未満、より好ましくは５質量％以上２０質量％未満である。

　また、未焼成ハイドロタルサイト、半焼成ハイドロタルサイトおよび焼成ハイドロタルサイトは、熱重量分析で測定される熱重量減少率により区別することができる。半焼成ハイドロタルサイトの２８０℃における熱重量減少率は１５質量％未満であり、かつその３８０℃における熱重量減少率は１２質量％以上である。一方、未焼成ハイドロタルサイトの２８０℃における熱重量減少率は、１５質量％以上であり、焼成ハイドロタルサイトの３８０℃における熱重量減少率は、１２質量％未満である。

　熱重量分析は、日立ハイテクサイエンス社製ＴＧ／ＤＴＡＥＸＳＴＡＲ６３００を用いて、アルミニウム製のサンプルパンにハイドロタルサイトを５ｍｇ秤量し、蓋をせずオープンの状態で、窒素流量２００ｍＬ／分の雰囲気下、３０℃から５５０℃まで昇温速度１０℃／分の条件で行うことができる。熱重量減少率は、下記式（ｉｉ）：
　熱重量減少率（質量％）
＝１００×（加熱前の質量－所定温度に達した時の質量）／加熱前の質量　　　（ｉｉ）
で求めることができる。

　また、未焼成ハイドロタルサイト、半焼成ハイドロタルサイトおよび焼成ハイドロタルサイトは、粉末Ｘ線回折で測定されるピークおよび相対強度比により区別することができる。半焼成ハイドロタルサイトは、粉末Ｘ線回折により２θが８～１８°付近に二つにスプリットしたピーク、または二つのピークの合成によりショルダーを有するピークを示し、低角側に現れるピークまたはショルダーの回折強度（＝低角側回折強度）と、高角側に現れるピークまたはショルダーの回折強度（＝高角側回折強度）の相対強度比（低角側回折強度／高角側回折強度）は、０．００１～１，０００である。一方、未焼成ハイドロタルサイトは８～１８°付近で一つのピークしか有しないか、または低角側に現れるピークまたはショルダーと高角側に現れるピークまたはショルダーの回折強度の相対強度比が前述の範囲外となる。焼成ハイドロタルサイトは８°～１８°の領域に特徴的ピークを有さず、４３°に特徴的なピークを有する。粉末Ｘ線回折測定は、粉末Ｘ線回折装置（PANalytical社製、Empyrean）により、対陰極ＣｕＫα（１．５４０５Å）、電圧：４５Ｖ、電流：４０ｍＡ、サンプリング幅：０．０２６０°、走査速度：０．０６５７°／ｓ、測定回折角範囲（２θ）：５．０１３１～７９．９７１１°の条件で行った。ピークサーチは、回折装置付属のソフトウエアのピークサーチ機能を利用し、「最小有意度：０．５０、最小ピークチップ：０．０１°、最大ピークチップ：１．００°、ピークベース幅：２．００°、方法：２次微分の最小値」の条件で行うことができる。

　ハイドロタルサイト（特に、半焼成ハイドロタルサイト）のＢＥＴ比表面積は、１～２５０ｍ^２／ｇが好ましく、５～２００ｍ^２／ｇがより好ましい。ハイドロタルサイトのＢＥＴ比表面積は、ＢＥＴ法に従って、比表面積測定装置（Macsorb HM Model 1210、マウンテック社製）を用いて試料表面に窒素ガスを吸着させ、ＢＥＴ多点法を用いて算出することができる。

　ハイドロタルサイト（特に、半焼成ハイドロタルサイト）の平均粒子径は、１～１，０００ｎｍが好ましく、１０～８００ｎｍがより好ましい。ハイドロタルサイトの平均粒子径は、レーザー回折散乱式粒度分布測定（ＪＩＳ　Ｚ　８８２５）により粒度分布を体積基準で作成したときの該粒度分布のメディアン径である。

　ハイドロタルサイト（特に、半焼成ハイドロタルサイト）は、表面処理剤で表面処理したものを用いることができる。表面処理に使用する表面処理剤としては、例えば、高級脂肪酸、アルキルシラン類、シランカップリング剤等を使用することができ、なかでも、高級脂肪酸、アルキルシラン類が好適である。表面処理剤は、１種または２種以上を使用できる。

　高級脂肪酸としては、例えば、ステアリン酸、モンタン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸などの炭素数１４以上の高級脂肪酸が挙げられ、中でも、ステアリン酸が好ましい。これらは、１種または２種以上を使用できる。

　アルキルシラン類としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ｎ－オクタデシルジメチル（３－（トリメトキシシリル）プロピル）アンモニウムクロライド等が挙げられる。これら、１種または２種以上を使用できる。

　シランカップリング剤としては、例えば、３－グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、３－グリシジルオキシプロピル（ジメトキシ）メチルシランおよび２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどのエポキシ系シランカップリング剤；３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシランおよび１１－メルカプトウンデシルトリメトキシシランなどのメルカプト系シランカップリング剤；３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－アミノプロピルジメトキシメチルシラン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシランおよびＮ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルジメトキシメチルシランなどのアミノ系シランカップリング剤；３－ウレイドプロピルトリエトキシシランなどのウレイド系シランカップリング剤、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランおよびビニルメチルジエトキシシランなどのビニル系シランカップリング剤；ｐ－スチリルトリメトキシシランなどのスチリル系シランカップリング剤；３－アクリルオキシプロピルトリメトキシシランおよび３－メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランなどのアクリレート系シランカップリング剤；３－イソシアネートプロピルトリメトキシシランなどのイソシアネート系シランカップリング剤；ビス（トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィド、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィドなどのスルフィド系シランカップリング剤；フェニルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、イミダゾールシラン、トリアジンシラン等を挙げることができる。これらは、１種または２種以上を使用できる。

　ハイドロタルサイト（特に、半焼成ハイドロタルサイト）の表面処理は、例えば、未処理のハイドロタルサイトを混合機で常温にて攪拌分散させながら、表面処理剤を添加噴霧して５～６０分間攪拌することによって行なうことができる。混合機としては、公知の混合機を使用することができ、例えば、Ｖブレンダー、リボンブレンダー、バブルコーンブレンダー等のブレンダー、ヘンシェルミキサーおよびコンクリートミキサー等のミキサー、ボールミル、カッターミル等が挙げられる。又、ボールミルなどでハイドロタルサイトを粉砕する際に、前記の高級脂肪酸、アルキルシラン類またはシランカップリング剤を添加し、表面処理を行うこともできる。表面処理剤の使用量は、ハイドロタルサイトの種類または表面処理剤の種類等によっても異なるが、表面処理されていないハイドロタルサイト１００質量部に対して１～１０質量部が好ましい。本発明においては、表面処理されたハイドロタルサイトも、本発明における「ハイドロタルサイト」に包含される。

　成分（Ｂ）として焼成ハイドロタルサイトおよび／または半焼成ハイドロタルサイトを使用する場合、これらは吸湿性能に優れるため、得られる接着層の水分遮断性が向上する。

　半焼成ハイドロタルサイトとしては、例えば「ＤＨＴ－４Ｃ」（協和化学工業社製、平均粒子径：４００ｎｍ）、「ＤＨＴ－４Ａ－２」（協和化学工業社製、平均粒子径：４００ｎｍ）等が挙げられる。焼成ハイドロタルサイトとしては、例えば「ＫＷ－２２００」（協和化学工業社製、平均粒子径：４００ｎｍ）等が挙げられる。未焼成ハイドロタルサイトとしては、例えば「ＤＨＴ－４Ａ」（協和化学工業社製、平均粒子径：４００ｎｍ）等が挙げられる。

（層状ケイ酸塩鉱物）
　層状ケイ酸塩鉱物は、一般に、フィロケイ酸塩鉱物とも呼ばれる。層状ケイ酸塩鉱物は、単独または２種以上組み合わせて使用することができる。また、層状ケイ酸塩鉱物としては、天然物を用いてもよく、合成物を用いてもよい。層状ケイ酸塩鉱物の結晶構造としては、ｃ軸方向に規則正しく積み重なった純粋度が高いものを用いることが好ましいが、結晶周期が乱れ、複数種の結晶構造が混じり合った、いわゆる混合層状鉱物を用いてもよい。

　層状ケイ酸塩鉱物としては、例えば、スメクタイト、カオリナイト、ハロイサイト、タルク、マイカなどが挙げられる。これらの中で、マイカが好ましい。

　スメクタイトは、一般式：Ｘ_{０．２～０．６}Ｙ_２～３Ｚ_４Ｏ_１０（ＯＨ）_２・ｎＨ_２Ｏ（ただし、ＸはＫ、Ｎａ、１／２Ｃａ、および１／２Ｍｇから選ばれる少なくとも一つであり、ＹはＭｇ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ａｌ、およびＣｒから選ばれる少なくとも一つであり、ＺはＳｉ、およびＡｌから選ばれる少なくとも一つである。なお、Ｈ_２Ｏは層間イオンと結合している水分子を表す。ｎは整数を表し、層間イオンおよび相対湿度に応じて著しく変動しうる。）で表され、天然または合成されたものである。スメクタイトとしては、例えば、ヘクトライト、モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、鉄サポナイト、ソーコナイト、スチブンサイト、ベントナイト、またはこれらの置換体、誘導体、あるいはこれらの混合物が挙げられる。これらの中でも、ヘクトライト、モンモリロナイトが好ましい。

　層状ケイ酸塩鉱物は市販品を用いることができる。市販品としては、例えば、クニミネ工業社製「スメクトンＳＴＮ」、「スメクトンＳＡＮ」（有機化されたヘクトライト）、白石工業社製「オルベンＭ」（有機化されたモンモリロナイト）、ホージュン社製「エスベン　ＮＸ」（有機化されたモンモリロナイト）、東新化成社製「ベントンシリーズ」（有機化されたモンモリロナイト）等が挙げられる。

　層状ケイ酸塩鉱物の平均粒子径は、好ましくは１ｎｍ～１００μｍ、より好ましくは５ｎｍ～５０μｍ、さらに好ましくは１０ｎｍ～１０μｍである。層状ケイ酸塩鉱物の平均粒子径は、レーザー回折散乱式粒度分布測定（ＪＩＳ　Ｚ　８８２５）により粒度分布を体積基準で作成したときの該粒度分布のメディアン径である。

（好ましい態様）
　以下、成分（Ｂ）について、好ましい本発明の態様を順に説明する。
　成分（Ｂ）は、好ましくはハイドロタルサイトおよび層状ケイ酸塩鉱物から選ばれる少なくとも一つを含み、より好ましくはハイドロタルサイトを含み、さらに好ましくは半焼成ハイドロタルサイトを含み、特に好ましくは半焼成ハイドロタルサイトからなる。前記態様におけるハイドロタルサイトおよび層状ケイ酸塩鉱物の説明は上述の通りである。

　接着層の短波長域の光吸収能の低下を十分に抑制する観点から、成分（Ｂ）の含有量は、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、好ましくは１質量％以上、より好ましくは３質量％以上である。一方、接着層の透明性を良好なものにする観点から、成分（Ｂ）の含有量は、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、好ましくは６０質量％以下、より好ましくは５５質量％以下である。

＜（Ｃ）３００～４３０ｎｍの波長域に最大吸収波長を有する化合物＞
　本発明の接着剤組成物は、成分（Ｃ）として、３００～４３０ｎｍの波長域に最大吸収波長（λｍａｘ）を有する化合物を含むことを特徴の一つとする。成分（Ｃ）は、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

　成分（Ｃ）の最大吸収波長（λｍａｘ）は、光吸収スペクトルにおける最大吸収波長の吸光度が１．０となるような濃度の成分（Ｃ）の溶液を調製し、その溶液の光吸収スペクトルを測定することによって、特定することができる。成分（Ｃ）の溶液を調製するための溶媒としては、例えば、クロロホルム、トルエン等が挙げられる。

　成分（Ｃ）が有する最大吸収波長（λｍａｘ）は、好ましくは３２０～４３０ｎｍ、より好ましくは３５０～４３０ｎｍである。

　成分（Ｃ）は、紫外線吸収剤として取り扱われている場合がある。３００～４３０ｎｍの波長域に最大吸収波長を有する公知の紫外線吸収剤は、本発明の成分（Ｃ）として使用することができる。

　成分（Ｃ）としては、例えば、クルクミノイド系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物、安息香酸エステル系化合物、シアノアクリレート系化合物、サリチル酸エステル系化合物、アゾメチン系化合物、インドール系化合物、桂皮酸系化合物、ピリミジン系化合物、ポルフィリン系化合物、シアノアクリレート系化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、ポリフェノール系化合物等を挙げることができる。成分（Ｃ）は、好ましくはクルクミノイド系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物およびベンゾフェノン系化合から選ばれる少なくとも一つである。

　クルクミノイド系化合物としては、例えば、１，７－ビス（４－ヒドロキシ－３－メトキシフェニル）－１，６－ヘプタジエン－３，５－ジオン（三和ケミカル社製、クルクミン、λｍａｘ＝４２０ｎｍ）、１，７－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－１，６－ヘプタジエン－３，５－ジオン（三和ケミカル社製、ＨＰＨ、λｍａｘ＝４１６ｎｍ）等が挙げられる。

　ベンゾトリアゾール系化合物としては、例えば、２－（２－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール（ＢＡＳＦジャパン社製、Ｔｉｎｕｖｉｎ　Ｐ、λｍａｘ＝３４１ｎｍ）、２－［２－ヒドロキシ－３，５－ビス（α，α－ジメチルベンジル）フェニル］－２Ｈ－ベンゾトリアゾール（ＢＡＳＦジャパン社製、Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４、λｍａｘ＝３４３ｎｍ）、２－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－ヒドロキシフェニル）５－クロロベンゾトリアゾール（ＢＡＳＦジャパン社製、Ｔｉｎｕｖｉｎ３２６、λｍａｘ＝３５３ｎｍ）、２－（２－ヒドロキシ－５－ｔｅｒｔ－オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール（ＢＡＳＦジャパン社製、Ｔｉｎｕｖｉｎ３２９、λｍａｘ＝３４３ｎｍ）、２，２’－メチレンビス［６－（ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－ｔｅｒｔ－オクチルフェノール］（ＢＡＳＦジャパン社製、Ｔｉｎｕｖｉｎ３６０、λｍａｘ＝３４９ｎｍ）、５－クロロ－２－［３－（ｔｅｒｔ－ブチル）－２－ヒドロキシ－５－メチルフェニル］－２Ｈ－ベンゾトリアゾール（ＡＤＥＫＡ社製、アデカスタブ　ＬＡ－３６、λｍａｘ＝３５５ｎｍ）、２－（２－ヒドロキシ－５’－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール（城北化学社製、ＪＦ－７７、λｍａｘ＝３４１ｎｍ）、２－（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔｅｒｔ－ペンチルフェニル）ベンゾトリアゾール（城北化学社製、ＪＦ－８０、λｍａｘ＝３０６ｎｍ）、２－（２’－ヒドロキシ－５’－ｔｅｒｔ－オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール（城北化学社製、ＪＦ－８３、λｍａｘ＝３４３ｎｍ）、２，２’－メチレンビス［６－（２Ｈ－ベンゾトリアゾル－２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール］（城北化学社製、ＪＦ－８３２、λｍａｘ＝３４９ｎｍ）、２－（２，４－ジヒドロキシフェニル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール（大和化成社製、ＤＡＩＮＳＯＲＢ　Ｔ－０、λｍａｘ＝３４５ｎｍ）、２－（２－ヒドロキシ４オクチルオキシフェニル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール（大和化成社製、ＤＡＩＮＳＯＲＢ　Ｔ－７、λｍａｘ＝３４５ｎｍ）、２－（２’－ヒドロキシ－３’－ｔｅｒｔ－ブチル－５’－メチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール（大和化成社製、ＵＶ－３２６、λｍａｘ＝３５３ｎｍ）、２－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－ジヒドロキシ－５－メチルフェニル）－５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール（シプロ化成社製、ＳＥＥＳＯＲＢ７０３、λｍａｘ＝３５４ｎｍ）等が挙げられる。

　ベンゾフェノン系化合物としては、例えば２，２’，４，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノン（大和化成社製、ＤＡＩＮＳＯＲＢ　Ｐ－６、λｍａｘ＝３５４ｎｍ）、２－（３－ｔ－ブチル－２－ジヒドロキシ－５－メチルフェニル）－５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール（シプロ化成社製、ＳＥＥＳＯＲＢ１０６、λｍａｘ＝３５４ｎｍ）、２，２’－ジヒドロキシ－４，４’－ジメトキシベンゾフェノン（シプロ化成社製、ＳＥＥＳＯＲＢ１０７、λｍａｘ＝３５６ｎｍ）等が挙げられる。

　トリアジン系化合物としては、例えば、２－［４－（オクチル－２－メチルエタノエート）オキシ－２－ヒドロキシフェニル］－４，６－［ビス（２，４－ジメチルフェニル）］－１，３，５－トリアジン（ＢＡＳＦジャパン社製、Ｔｉｎｕｖｉｎ４７９、λｍａｘ＝３２２ｎｍ）、２－［４－（２－ヒドロキシ－３－ドデシロキシ－プロピル）オキシ－２－ヒドロキシフェニル］－４，６－［ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン（ＢＡＳＦジャパン社製、Ｔｉｎｕｖｉｎ４００、λｍａｘ＝３３６ｎｍ）、２，４－ビス（２－ヒドロキシ－４－ブトキシフェニル）－６－（２，４－ジブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン（ＢＡＳＦジャパン社製、Ｔｉｎｕｖｉｎ４６０、λｍａｘ＝３４６ｎｍ）等が挙げられる。

　安息香酸エステル系化合物としては、例えば、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸へキシル（ＢＡＳＦジャパン社製、Ｕｖｉｎｕｌ　Ａ　Ｐｌｕｓ、λｍａｘ＝３５４ｎｍ）が挙げられる。

　シアノアクリレート系化合物としては、例えば、エチル－２－シアノ－３，３－ジフェニルアクリレート（ＢＡＳＦジャパン社製、Ｕｖｉｎｕｌ３０３５、λｍａｘ＝３０２ｎｍ）、２－エチルヘキシル－２－シアノ－３，３－ジフェニルアクリレート（ＢＡＳＦジャパン社製、Ｕｖｉｎｕｌ３０３９、λｍａｘ＝３０３ｎｍ）、２，４－ジヒドロキシベンゾフェノン（ＢＡＳＦジャパン社製、Ｕｖｉｎｕｌ３０３０、λｍａｘ＝３０８ｎｍ）等が挙げられる。

　サリチル酸エステル系化合物としては、例えば、サリチル酸フェニル（λｍａｘ＝３１０ｎｍ）、サリチル酸オクチル（λｍａｘ＝３０１ｎｍ）等が挙げられる。
　アゾメチン系化合物としては、例えば、ＢＯＮＡＳＯＲＢ　ＵＡ－３７０１（商品名、λｍａｘ＝３７８ｎｍ、半値幅：６０ｎｍ、オリエント化学工業社製）が挙げられる。

　インドール系化合物としては、例えば、ＢＯＮＡＳＯＲＢ　ＵＡ－３９１１（商品名、λｍａｘ＝３９５ｎｍ、オリエント化学工業社製）、ＢＯＮＡＳＯＲＢ　ＵＡ－３９１２（商品名、λｍａｘ＝３９０ｎｍ、オリエント化学工業社製）等が挙げられる。

　桂皮酸系化合物としては、例えば、メトキシ桂皮酸エチルへキシル（ＢＡＳＦジャパン社製、Ｕｖｉｎｕｌ　ＭＣ８０Ｎ、λｍａｘ＝３１０ｎｍ）、ｐ－メトキシ桂皮酸オクチル（λｍａｘ＝３０８ｎｍ）、ジパラメトキシ桂皮酸モノ－２－エチルヘキサン酸グリセリル（λｍａｘ＝３１２ｎｍ）、パルソールＭＣＸ（商品名、λｍａｘ＝３１１ｎｍ、ＤＳＭニュートリションジャパン社製）、ネオへリオパンＡＶ（商品名、λｍａｘ＝３１１ｎｍ、シムライズ社製）等が挙げられる。

　ピリミジン系化合物としては、例えば、ＦＤＢ－００９（商品名、山田化学工業社製、λｍａｘ＝４０２ｎｍ）が挙げられる。
　ポルフィリン系化合物としては、例えば、ＦＤＢ－００１（商品名、山田化学工業社製、λｍａｘ＝４２０ｎｍ）が挙げられる。

　接着剤組成物から形成される接着層の短波長域の光吸収能を十分なものにする観点から、成分（Ｃ）の含有量は、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、好ましくは０．０５質量％以上、より好ましくは０．１質量％以上、さらに好ましくは０．５質量％以上、特に好ましくは１質量％以上である。一方、接着層の透明性を良好なものにするため、および成分（Ｃ）の結晶化または漏出、接着層の着色等の問題を抑制するために、成分（Ｃ）の含有量は、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、好ましくは１５質量％以下、より好ましくは１３質量％以下、さらに好ましくは１０質量％以下である。

＜他の成分＞
　本発明の接着剤組成物は、本発明の効果を損なわない範囲内で、成分（Ａ）～（Ｃ）とは異なる他の成分を含んでいてもよい。他の成分は、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。他の成分としては、例えば、硬化剤；硬化促進剤；有機溶剤；鉱物油系軟化剤、植物油系軟化剤、サブファクチス、脂肪酸、脂肪酸塩、合成オイル等の軟化剤；ゴム粒子、シリコーンパウダー、ナイロンパウダー、フッ素樹脂パウダー等の有機充填剤；消泡剤またはレベリング剤；密着性付与剤；オルベン、ベントン等の増粘剤；酸化防止剤；熱安定剤；光安定剤等が挙げられる。

　成分（Ａ）として熱硬化性樹脂（例えば、エポキシ樹脂等）、エポキシ基を有する熱可塑性樹脂（例えば、エポキシ基を有するオレフィン系樹脂等）、およびエポキシ基を有するゴムから選ばれる少なくとも一つを使用する場合、本発明の接着材組成物は、好ましくは硬化剤を含む。硬化剤は、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

　硬化剤に特に限定は無く、公知のものを使用することができる。硬化剤としては、例えば、３級アミン系化合物、１級または２級アミン系化合物、イオン液体、酸無水物化合物、イミダゾール化合物、ジメチルウレア化合物、アミンアダクト化合物、有機酸ジヒドラジド化合物、有機ホスフィン化合物、ジシアンジアミド化合物等が挙げられる。硬化剤は、好ましくは３級アミン系化合物である。

　本発明の接着剤組成物は、硬化促進剤を含有してもよい。硬化促進剤は、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。硬化促進剤に特に限定はなく、公知のものを使用することができる。硬化促進剤としては、例えば、３級アミン系化合物、イミダゾール化合物、ジメチルウレア化合物、アミンアダクト化合物、有機ホスフィン化合物等が挙げられる。硬化促進剤は、好ましくは３級アミン系化合物、イミダゾール化合物およびジメチルウレア化合物から選ばれる少なくとも一つである。

　硬化剤または硬化促進剤である３級アミン系化合物としては、例えば、ＤＢＮ（1,5-diazabicyclo[4.3.0]non-5-ene）、ＤＢＵ（1,8-diazabicyclo[5.4.0]undec-7-ene）、ＤＢＵの２－エチルヘキサン酸塩、ＤＢＵのフェノール塩、ＤＢＵのｐ－トルエンスルホン酸塩、Ｕ－ＣＡＴ　ＳＡ　１０２（サンアプロ社製：ＤＢＵのオクチル酸塩）、ＤＢＵのギ酸塩等のＤＢＵ－有機酸塩、２，４，６－トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール（ＴＡＰ）等が挙げられる。

　硬化剤である１級または２級アミン系化合物としては、例えば、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラアミン、テトラエチレンペンタミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、２－メチルペンタメチレンジアミン、１，３－ビスアミノメチルシクロヘキサン、ジプロプレンジアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、ビス（４－アミノシクロヘキシル）メタン、ノルボルネンジアミン、１，２－ジアミノシクロヘキサン等の脂肪族アミン；Ｎ－アミノエチルピベラジン、１，４－ビス（３－アミノプロピル）ピペラジン等の脂環式アミン；ジアミノジフェニルメタン、ｍ－フェニレンジアミン、ｍ－キシレンジアミン、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、ジエチルトルエンジアミン等の芳香族アミンが挙げられる。１級または２級アミン系化合物の市販品としては、例えば、カヤハードＡ－Ａ（日本化薬社製：４，４’－ジアミノ－３，３’－ジメチルジフェニルメタン）等が挙げられる。

　硬化剤であるイオン液体としては、例えば、１－ブチル－３－メチルイミダゾリウムラクテート、テトラブチルホスホニウム－２－ピロリドン－５－カルボキシレート、テトラブチルホスホニウムアセテート、テトラブチルホスホニウムデカノエート、テトラブチルホスホニウムトリフルオロアセテート、テトラブチルホスホニウムα－リポエート、ギ酸テトラブチルホスホニウム塩、テトラブチルホスホニウムラクテート、酒石酸ビス（テトラブチルホスホニウム）塩、馬尿酸テトラブチルホスホニウム塩、Ｎ－メチル馬尿酸テトラブチルホスホニウム塩、ベンゾイル－ＤＬ－アラニンテトラブチルホスホニウム塩、Ｎ－アセチルフェニルアラニンテトラブチルホスホニウム塩、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノールテトラブチルホスホニウム塩、Ｌ－アスパラギン酸モノテトラブチルホスホニウム塩、グリシンテトラブチルホスホニウム塩、１－エチル－３－メチルイミダゾリウムラクテート、１－エチル－３－メチルイミダゾリウムアセテート、ギ酸１－エチル－３－メチルイミダゾリウム塩、馬尿酸１－エチル－３－メチルイミダゾリウム塩、Ｎ－メチル馬尿酸１－エチル－３－メチルイミダゾリウム塩、酒石酸ビス（１－エチル－３－メチルイミダゾリウム）塩、Ｎ－アセチルグリシン１－エチル－３－メチルイミダゾリウム塩が好ましく、テトラブチルホスホニウムデカノエート、Ｎ－アセチルグリシンテトラブチルホスホニウム塩、１－エチル－３－メチルイミダゾリウムアセテート、ギ酸１－エチル－３－メチルイミダゾリウム塩、馬尿酸１－エチル－３－メチルイミダゾリウム塩、Ｎ－メチル馬尿酸１－エチル－３－メチルイミダゾリウム塩等が挙げられる。

　硬化剤である酸無水物化合物としては、例えば、テトラヒドロフタル酸無水物、メチルテトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルナジック酸無水物、ドデセニルコハク酸無水物等が挙げられる。酸無水物化合物の市販品としては、例えば、リカシッドＴＨ、ＴＨ－１Ａ、ＨＨ、ＭＨ、ＭＨ－７００、ＭＨ－７００Ｇ（いずれも新日本理化社製）等が挙げられる。

　硬化剤または硬化促進剤であるイミダゾール化合物としては、例えば、１Ｈ－イミダゾール、２－メチル－イミダゾール、２－フェニル－４－メチルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－エチル－４－メチル－イミダゾール、２－ウンデシルイミダゾール、１－シアノエチル－２－ウンデシルイミダゾール、１－シアノエチル－２－ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、２，４－ジアミノ－６－（２’－ウンデシルイミダゾリル－（１’））－エチル－ｓ－トリアジン、２－フェニル－４，５－ビス（ヒドロキシメチル）－イミダゾール、１－ベンジル－２－メチルイミダゾール、１－ベンジル－２－フェニルイミダゾール、２－フェニル－イミダゾール、２－ドデシル－イミダゾール、２－ヘプタデシルイミダゾール、１，２－ジメチル－イミダゾール、２－フェニル－４－メチル－５－ヒドロキシメチルイミダゾール、２，４－ジアミノ－６－（２’－メチルイミダゾリル－（１’）－エチル－ｓ－トリアジン、２，４－ジアミノ－６－（２’－メチルイミダゾリル－（１’））－エチル－ｓ－トリアジンイソシアヌル酸付加物等が挙げられる。イミダゾール化合物の市販品としては、例えば、キュアゾール２ＭＺ、２Ｐ４ＭＺ、２Ｅ４ＭＺ、２Ｅ４ＭＺ－ＣＮ、Ｃ１１Ｚ、Ｃ１１Ｚ－ＣＮ、Ｃ１１Ｚ－ＣＮＳ、Ｃ１１Ｚ－Ａ、２ＰＨＺ、１Ｂ２ＭＺ、１Ｂ２ＰＺ、２ＰＺ、Ｃ１７Ｚ、１．２ＤＭＺ、２Ｐ４ＭＨＺ－ＰＷ、２ＭＺ－Ａ、２ＭＡ－ＯＫ（いずれも四国化成工業社製）等が挙げられる。

　硬化剤または硬化促進剤であるジメチルウレア化合物としては、例えば、ＤＣＭＵ（３－（３，４－ジクロロフェニル）－１，１－ジメチルウレア）、Ｕ－ＣＡＴ３５１２Ｔ（サンアプロ社製）等の芳香族ジメチルウレア、Ｕ－ＣＡＴ３５０３Ｎ（サンアプロ社製）等の脂肪族ジメチルウレア等が挙げられる。中でも硬化性の点から、芳香族ジメチルウレアが好ましい。

　硬化剤または硬化促進剤であるアミンアダクト化合物としては、例えば、エポキシ樹脂への３級アミンの付加反応を途中で止めることによって得られるエポキシアダクト化合物等が挙げられる。アミンアダクト系化合物の市販品としては、例えば、アミキュアＰＮ－２３、アミキュアＭＹ－２４、アミキュアＰＮ－Ｄ、アミキュアＭＹ－Ｄ、アミキュアＰＮ－Ｈ、アミキュアＭＹ－Ｈ、アミキュアＰＮ－３１、アミキュアＰＮ－４０、アミキュアＰＮ－４０Ｊ（いずれも味の素ファインテクノ社製）等が挙げられる。

　硬化剤である有機酸ジヒドラジド化合物としては、例えば、アミキュアＶＤＨ－Ｊ、アミキュアＵＤＨ、アミキュアＬＤＨ（いずれも味の素ファインテクノ社製）等が挙げられる。

　硬化剤または硬化促進剤である有機ホスフィン化合物としては、例えば、トリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウムテトラ－ｐ－トリルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリ－ｔｅｒｔ－ブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、（４－メチルフェニル）トリフェニルホスホニウムチオシアネート、テトラフェニルホスホニウムチオシアネート、ブチルトリフェニルホスホニウムチオシアネート、トリフェニルホスフィントリフェニルボラン等が挙げられる。有機ホスフィン化合物の市販品としては、例えば、ＴＰＰ、ＴＰＰ－ＭＫ、ＴＰＰ－Ｋ、ＴＴＢｕＰ－Ｋ、ＴＰＰ－ＳＣＮ、ＴＰＰ－Ｓ（北興化学工業社製）等が挙げられる。

　硬化剤であるジシアンジアミド化合物としては、例えば、ジシアンジアミドが挙げられる。ジシアンジアミドの市販品としては、例えば、ジシアンジアミド微粉砕品であるＤＩＣＹ７、ＤＩＣＹ１５（いずれも三菱ケミカル社製）等が挙げられる。

　本発明の接着剤組成物において、成分（Ａ）として熱硬化性樹脂（特に、エポキシ樹脂）を使用する場合、硬化剤の含有量は、硬化性と保存安定性のバランスの観点から、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、０．１～４０質量％が好ましく、０．５～３８質量％がより好ましく、１～２５質量％がさらに好ましい。本発明の粘着性組成物が硬化促進剤を含む場合には、同様の観点からその含有量は、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、０．０５～１０質量％が好ましく、０．１～８質量％がより好ましく、０．５～５質量％がさらに好ましい。熱硬化性樹脂（特に、エポキシ樹脂）を使用する場合、硬化剤と硬化促進剤を組み合わせて使用するのが好ましい。

　本発明の接着剤組成物において、成分（Ａ）としてエポキシ基を有する熱可塑性樹脂（特に、エポキシ基を有するオレフィン系樹脂）および／またはエポキシ基を有するゴムを使用する場合、本発明の接着材組成物は、好ましくは硬化促進剤を含む。硬化促進剤の含有量は、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、０．０１～１０質量％が好ましく、０．０５～５質量％がより好ましい。

　本発明の接着剤組成物は、有機溶剤を含んでいてもよい。有機溶剤は、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン（以下、「ＭＥＫ」とも略称する）、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、カルビトールアセテート等の酢酸エステル類、セロソルブ、ブチルカルビトール等のカルビトール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等が挙げられる。なお、有機溶剤を含有する接着剤組成物を接着剤組成物ワニスと呼ぶことがある。有機溶剤の量は、特に限定されないが、塗工性の観点から、接着剤組成物ワニスの粘度（２５℃）が３００～２０００ｍＰａ・ｓとなる量で、有機溶剤を使用するのが好ましい。

＜接着剤組成物の製造＞
　本発明の接着剤組成物組成物は、上述の成分（Ａ）～（Ｃ）および必要に応じて他の成分を混合することによって製造することができる。この混合手段に特に限定は無く、公知の機器（例えば混練ローラー、回転ミキサー等）を使用して混合を行うことができる。

＜接着剤組成物の用途＞
　本発明の接着剤組成物は、光学デバイス中の接着層を形成するために用いられることが好ましい。本発明における光学デバイスとは、光に関係する電子デバイスを意味し、例えば、有機ＥＬ表示装置、太陽電池等が挙げられる。特に、本発明の接着剤組成物は、有機ＥＬ素子の紫外線等の光による劣化が問題となる有機ＥＬ表示装置において、紫外線等の光を遮断するための接着層を設けるために好適に使用することができる。例えば、接着剤組成物ワニスを光学デバイスの部品に塗布および乾燥することによって、光学デバイス中の接着層を形成することができる。

＜接着シート＞
　本発明は、支持体と、前記支持体上に本発明の接着剤組成物から形成された接着層とを含む接着シートも提供する。本発明の接着シートも、接着剤組成物と同様に、光学デバイス中の接着層を形成するために用いられることが好ましい。例えば、接着シートを光学デバイスの部品に貼り付けた後、接着シートの支持体を剥離することによって、光学デバイス中の接着層を形成することができる。

　本発明の接着シートは、例えば、接着剤組成物ワニスを支持体上に塗布し、得られた塗膜を乾燥して支持体上に接着層を形成することによって、製造することができる。接着シートにおける接着層の厚さは、短波長域の光吸収能および透明性のバランスの観点から、好ましくは１０～２００μｍ、より好ましくは、２０～１８０μｍ、さらに好ましくは３０μｍ～１５０μｍである。

　接着シートに使用する支持体としては、特に限定はなく、公知のものを使用することができる。支持体としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート（以下「ＰＥＴ」と略称することがある。）、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミドなどから形成されるプラスチックフィルムが挙げられる。プラスチックフィルムとしては、特にＰＥＴフィルムが好ましい。また支持体は、アルミ箔、ステンレス箔、銅箔等の金属箔であってもよい。支持体には、マット処理、コロナ処理の他、離型処理が施されていてもよい。離型処理としては、例えば、シリコーン樹脂系離型剤、アルキッド樹脂系離型剤、フッ素樹脂系離型剤等の離型剤による離型処理が挙げられる。本発明において支持体が離型層を有する場合、該離型層も支持体の一部とみなす。支持体の厚さは、特に限定されないが、取扱い性等の観点から、好ましくは２０～２００μｍ、より好ましくは２０～１２５μｍである。

　接着シートにおいて、接着層は、保護フィルムで保護されていてもよい。保護フィルムで保護することにより、接着層表面へのゴミ等の付着やキズを防止することができる。保護フィルムは、支持体と同様のプラスチックフィルムを用いるのが好ましい。また、保護フィルムにも、マット処理、コロナ処理、離型処理等が施されていてもよい。保護フィルムの厚さは、特に制限されないが、通常１～１５０μｍ、好ましくは１０～１００μｍである。

＜透明性＞
　本発明の接着剤組成物から形成される接着層は、透明性を有するものが好ましい。この透明性は、厚さが８０μｍである接着層の可視光領域の６５０ｎｍの全光線透過率で評価できる。本発明の接着剤組成物から形成され、厚さが８０μｍである接着層の６５０ｎｍの全光線透過率は、好ましくは８０～１００％、より好ましくは８５～１００％である。

＜ヘーズ＞
　本発明の接着剤組成物から形成される接着層は、ヘーズが低いものが好ましい。本発明の接着剤組成物から形成され、厚さが８０μｍである接着層のヘーズは、好ましくは３０％以下である。ヘーズは、ＪＩＳ　Ｋ　７１３６に準じた方法で測定することができる。

＜光学デバイス＞
　本発明は、上記接着剤組成物から形成された接着層を有する光学デバイスも提供する。光学デバイスとしては、例えば、有機ＥＬ表示装置、太陽電池等が挙げられ、有機ＥＬ表示装置が好ましい。

　以下に実施例を示して本発明をより詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

＜短波長域の光吸収能および透明性の評価＞
　実施例および比較例で作製した接着シートの接着層（即ち、接着剤組成物から形成された接着層）の短波長域の光吸収能および透明性を評価するため、波長３８０ｎｍおよび４００ｎｍの全光線透過率、並びに波長６５０ｎｍの全光線透過率を測定した。

（１）評価サンプルの作製
　実施例および比較例で作製した接着シート（接着層の厚さ：８０μｍ）を長さ７０ｍｍ×幅２５ｍｍにカットし、カットしたシートをガラス板（長さ７６ｍｍ、幅２６ｍｍおよび厚さ１．２ｍｍのマイクロスライドガラス、松浪ガラス工業社製白スライドグラスＳ１１１２　縁磨Ｎｏ．２）にバッチ式真空ラミネーター（ニチゴー・モートン社製、Ｖ－１６０）を用いてラミネートした。ラミネート条件は、温度８０℃、減圧時間３０秒の後、圧力０．３ＭＰａにて３０秒加圧であった。その後、接着シートのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを剥離し、露出した接着層にさらに上記と同じガラス板をラミネートして、評価サンプル（積層体）を作製した。

（２）短波長域の光吸収能の評価（３８０ｎｍおよび４００ｎｍの全光線透過率の測定）
　φ８０ｍｍ積分球（型名ＳＲＳ－９９－０１０、反射率９９％）を装着したファイバ式分光光度計（ＭＣＰＤ－７７００、形式３１１Ｃ、大塚電子社製、外部光源ユニット：ハロゲンランプＭＣ－２５６４（２４Ｖ、１５０Ｗ仕様））を使用し、積分球と評価サンプルの距離を０ｍｍとし、光源と評価サンプルの距離を４８ｍｍとし、得られた評価サンプルの光透過率スペクトルを測定した。リファレンスは上記と同じガラス板とした。得られた光透過率スペクトルから、３８０ｎｍおよび４００ｎｍの全光線透過率を求めた。

（３）透明性の評価（波長６５０ｎｍの全光線透過率の測定）
　前記の方法により得られた光透過率スペクトルから、波長６５０ｎｍの全光線透過率を求めた。

　実施例および比較例で用いた原料は以下の通りである。
（Ａ）有機バインダー
・Ｔ－ＹＰ３４１（星光ＰＭＣ社製）：グリシジルメタクリレート変性プロピレン－ブテン共重合体（プロピレン単位／ブテン単位：７１質量％／２９質量％、エポキシ基濃度：０．６３８ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：１５５，０００）の２０質量％トルエン溶液
・ＨＶ－１９００（ＪＸＴＧエネルギー社製）：ポリブテン（数平均分子量：２，９００）
・ＨＶ－３００Ｍ（東邦化学工業社製）：無水マレイン酸変性液状ポリブテン（酸無水物基濃度：０．７７ｍｍｏｌ／ｇ、数平均分子量：２，１００）
・アルコンＰ１２５（荒川化学社製）：粘着付与樹脂（飽和脂肪族炭化水素樹脂、軟化点：１２５℃、数平均分子量：７５０）
・ＹＸ８０００（三菱ケミカル社製）：液状水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（エポキシ当量：約２０５、重量平均分子量：４１０）
・ＹＸ８０４０（三菱ケミカル社製）：固形水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（エポキシ当量：約１０００、重量平均分子量：３，０００）
・ＹＸ７２００Ｂ３５（三菱ケミカル社製）：フェノキシ樹脂溶液（溶媒：ＭＥＫ、不揮発分：３５質量％、フェノキシ樹脂の数平均分子量：１０，０００、フェノキシ樹脂の重量平均分子量：３０，０００）

（Ｂ）層状粘土鉱物
・半焼成ハイドロタルサイト（飽和吸水率：１７質量％、２８０℃における熱重量減少率：３．６質量％、３８０℃における熱重量減少率:１４．４質量％、粉末Ｘ線回折における低角側回折強度／高角側回折強度：０．６、平均粒子径：４００ｎｍ、ＢＥＴ比表面積：１５ｍ^２／ｇ、酸化マグネシウム／酸化アルミニウムのモル比：４．１６）

（Ｃ）３００～４３０ｎｍの波長域に最大吸収波長を有する化合物
・ＳＥＥＳＯＲＢ７０３（シプロ化成社製のベンゾトリアゾール系化合物）：２－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－ジヒドロキシ－５－メチルフェニル）－５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール（λｍａｘ＝３５４ｎｍ）
・ＨＰＨ（三和ケミカル社製のクルクミノイド系化合物）：１，７－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－１，６－ヘプタジエン－３，５－ジオン（λｍａｘ＝４１６ｎｍ）
・ＤＡＩＮＳＯＲＢ　Ｔ－０（大和化成社製のベンゾトリアゾール系化合物）：２－（２，４－ジヒドロキシフェニル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール（λｍａｘ＝３４５ｎｍ）
・ＳＥＥＳＯＲＢ１０７（シプロ化成社製のベンゾフェノン系化合物）：２，２－ジヒドロキシ４，４－ジメトキシベンゾフェノン（λｍａｘ＝３５６ｎｍ）

（Ｄ）他の成分
・２，４，６－トリス（ジアミノメチル）フェノール（以下「ＴＡＰ」と略称する。）：硬化促進剤
・トルエン・イプゾール＃１００（出光興産社製）：芳香族系混合溶剤
・メチルエチルケトン（ＭＥＫ）
・アノン（住友化学社製）：シクロヘキサノン
・Ｕ－ＣＡＴ３５１２Ｔ（サンアプロ社製）：硬化促進剤
・Ｎ－アセチルグリシンテトラブチルホスホニウム塩：イオン液体硬化剤

＜実施例１＞
　粘着付与樹脂（荒川化学社製「アルコンＰ１２５」）の６０質量％イプゾール＃１００溶液１３０質量部（不揮発分７８質量部）、無水マレイン酸変性液状ポリブテン（東邦化学工業社製「ＨＶ－３００Ｍ」）３５質量部、ポリブテン（ＪＸＴＧエネルギー社製「ＨＶ－１９００」）６０質量部、および成分（Ｂ）として上記半焼成ハイドロタルサイト１００質量部を３本ロールで混合して、混合物を得た。得られた混合物に、グリシジルメタクリレート変性プロピレン－ブテン共重合体の２０質量％トルエン溶液（星光ＰＭＣ社製「Ｔ－ＹＰ３４１」）２００質量部（不揮発分４０質量部）、ＴＡＰの２０質量％トルエン溶液２．５質量部（不揮発分０．５質量部）およびトルエン１４質量部を配合し、更に成分（Ｃ）としてＳＥＥＳＯＲＢ７０３（シプロ化成社製）３．３質量部を配合し、得られた混合物を高速回転ミキサーで均一に混合して、接着剤組成物ワニスを得た。シリコーン系離型剤で処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムに、得られたワニスをダイコーターにて均一に塗布し、１３０℃で６０分間加熱して乾燥することにより、厚さ８０μｍの接着層を有する接着シートを得た。

　実施例１では、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、成分（Ａ）の含有量は６７．２質量％であり、成分（Ｂ）の含有量は３１．６質量％であり、成分（Ｃ）の含有量は１．０質量％であった。
　下記表１に、上述のようにして測定した全光線透過率の結果を記載する。

＜比較例１ａ＞
　成分（Ｃ）を配合しなかったこと以外は実施例１と同様にして接着シートを得た。

　比較例１ａでは、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、成分（Ａ）の含有量は６７．９質量％であり、成分（Ｂ）の含有量は３１．９質量％であり、成分（Ｃ）の含有量は０質量％であった。
　下記表１に、上述のようにして測定した全光線透過率の結果を記載する。

＜比較例１ｂ＞
　成分（Ｂ）を配合せず、成分（Ｃ）であるＳＥＥＳＯＲＢ７０３の配合量を２．２質量部に変更した以外は実施例１と同様にして接着シートを得た。

　比較例１ｂでは、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、成分（Ａ）の含有量は９８．７質量％であり、成分（Ｂ）の含有量は０質量％であり、成分（Ｃ）の含有量は１．０質量％であった。
　下記表１に、上述のようにして測定した全光線透過率の結果を記載する。

　表１に示す結果から、実施例１で作製した接着シートの接着層は、透明性を維持したまま、短波長域の光吸収能が向上していることが分かる。

＜実施例２＞
　成分（Ｃ）としてＳＥＥＳＯＲＢ７０３（シプロ化成社製）３．３質量部に代えてＨＰＨ（三和ケミカル社製）の９９質量％アノン溶液３３０質量部（不揮発分３．３質量部）を配合した以外は、実施例１と同様にして接着シートを得た。

　実施例２では、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、成分（Ａ）の含有量は６７．２質量％であり、成分（Ｂ）の含有量は３１．６質量％であり、成分（Ｃ）の含有量は１．０質量％であった。
　下記表２に、上述のようにして測定した全光線透過率の結果を記載する。

＜比較例２＞
　成分（Ｂ）を配合せず、成分（Ｃ）であるＨＰＨの９９質量％アノン溶液の配合量を２２０質量部（不揮発分２．２質量部）に変更した以外は実施例２と同様にして接着シートを得た。

　比較例２では、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、成分（Ａ）の含有量は９８．７質量％であり、成分（Ｂ）の含有量は０質量％であり、成分（Ｃ）の含有量は１．０質量％であった。
　下記表２に、上述のようにして測定した全光線透過率の結果を記載する。

　表２に示す結果から、実施例２で作製した接着シートの接着層は、透明性を維持したまま、短波長域の光吸収能が向上していることが分かる。

＜実施例３＞
　成分（Ｃ）としてＳＥＥＳＯＲＢ７０３（シプロ化成社製）３．３質量部に代えてＤＡＩＮＳＯＲＢ　Ｔ－０（大和化成社製）の１５質量％ＭＥＫ溶液２２質量部（不揮発分３．３質量部）を配合した以外は、実施例１と同様にして接着シートを得た。

　実施例３では、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、成分（Ａ）の含有量は６７．２質量％であり、成分（Ｂ）の含有量は３１．６質量％であり、成分（Ｃ）の含有量は１．０質量％であった。
　下記表３に、上述のようにして測定した全光線透過率の結果を記載する。

＜比較例３＞
　成分（Ｂ）を配合せず、成分（Ｃ）であるＤＡＩＮＳＯＲＢ　Ｔ－０の１５質量％ＭＥＫ溶液の配合量を１４．７質量部（不揮発分２．２質量部）に変更した以外は実施例３と同様にして接着シートを得た。

　比較例３では、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、成分（Ａ）の含有量は９８．７質量％であり、成分（Ｂ）の含有量は０質量％であり、成分（Ｃ）の含有量は１．０質量％であった。
　下記表３に、上述のようにして測定した全光線透過率の結果を記載する。

　表３に示す結果から、実施例３で作製した接着シートの接着層は、透明性を維持したまま、短波長域の光吸収能が向上していることが分かる。

＜実施例４＞
　成分（Ｃ）としてＳＥＥＳＯＲＢ７０３（シプロ化成社製）３．３質量部に代えてＳＥＥＳＯＲＢ１０７（シプロ化成社製）の２０質量％トルエン溶液１６．５質量部（不揮発分３．３質量部）を配合した以外は、実施例１と同様にして接着シートを得た。

　実施例４では、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、成分（Ａ）の含有量は６７．２質量％であり、成分（Ｂ）の含有量は３１．６質量％であり、成分（Ｃ）の含有量は１．０質量％であった。
　下記表４に、上述のようにして測定した全光線透過率の結果を記載する。

＜比較例４＞
　成分（Ｂ）を配合せず、成分（Ｃ）であるＳＥＥＳＯＲＢ１０７の２０質量％トルエン溶液１１．０質量部（不揮発分２．２質量部）に変更した以外は実施例４と同様にして接着シートを得た。

　比較例４では、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、成分（Ａ）の含有量は９８．７質量％であり、成分（Ｂ）の含有量は０質量％であり、成分（Ｃ）の含有量は１．０質量％であった。
　下記表４に、上述のようにして測定した全光線透過率の結果を記載する。

　表４に示す結果から、実施例４で作製した接着シートの接着層は、透明性を維持したまま、短波長域の光吸収能が向上していることが分かる。

＜実施例５＞
　液状水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（三菱ケミカル社製「ＹＸ８０００」）６０質量部、および成分（Ｂ）として上記半焼成ハイドロタルサイト４０質量部を３本ロールで混合して、混合物を得た。得られた混合物に、硬化促進剤（サンアプロ社製「Ｕ－ＣＡＴ３５１２Ｔ」）１．５質量部、フェノキシ樹脂溶液（三菱ケミカル社製「ＹＸ７２００Ｂ３５」）５７．２質量部（フェノキシ樹脂２０質量部）、および固形水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（三菱ケミカル社製「ＹＸ８０４０」）の溶液（溶媒：ＭＥＫ、不揮発分：４０質量％）５０質量部（固形水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂２０質量部）の混合物を配合した。得られた混合物に、更にイオン液体硬化剤（Ｎ－アセチルグリシンテトラブチルホスホニウム塩）３質量部、および成分（Ｃ）としてＳＥＥＳＯＲＢ１０７（シプロ化成社製）１．５質量部を配合し、得られた混合物を高速回転ミキサーで均一に分散して、接着剤組成物ワニスを得た。シリコーン系離型剤で処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムに、得られたワニスをダイコーターにて均一に塗布し、８０℃で５分間加熱して乾燥した後、樹脂組成物層の表面に、保護フィルムとして離型ＰＥＴフィルムを載せ、接着シートを得た。

　実施例５では、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、成分（Ａ）の含有量は６８．５質量％であり、成分（Ｂ）の含有量は２７．４質量％であり、成分（Ｃ）の含有量は１．０質量％であった。
　下記表５に、上述のようにして測定した全光線透過率の結果を記載する。

＜比較例５＞
　成分（Ｂ）を配合せず、成分（Ｃ）であるＳＥＥＳＯＲＢ１０７を１．１質量部に変更した以外は実施例５と同様にして接着シートを得た。

　比較例５では、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、成分（Ａ）の含有量は９４．７質量％であり、成分（Ｂ）の含有量は０質量％であり、成分（Ｃ）の含有量は１．０質量％であった。
　下記表５に、上述のようにして測定した全光線透過率の結果を記載する。

　表５に示す結果から、実施例５で作製した接着シートの接着層は、透明性を維持したまま、短波長域の光吸収能が向上していることが分かる。

　本発明の接着剤組成物から３００～４３０ｎｍの波長域の光を吸収する能力を有し、且つ透明性が良好な接着層を形成することができる。このような接着層は、有機ＥＬ素子等の光学デバイスの光劣化を防止することができ、特に有機ＥＬ表示装置のために好適である。

　本願は、日本で出願された特願２０１８－２１９６８２号を基礎としており、その内容は本願明細書に全て包含される。

Claims

　以下の成分（Ａ）～（Ｃ）：
（Ａ）有機バインダー、
（Ｂ）層状粘土鉱物、および
（Ｃ）３００～４３０ｎｍの波長域に最大吸収波長を有する化合物
を含む接着剤組成物。
　成分（Ｂ）が、ハイドロタルサイトおよび層状ケイ酸塩鉱物から選ばれる少なくとも一つを含む請求項１に記載の接着剤組成物。
　成分（Ｂ）が、ハイドロタルサイトを含む請求項１に記載の接着剤組成物。
　成分（Ｂ）が、半焼成ハイドロタルサイトを含む請求項１に記載の接着剤組成物。
　成分（Ａ）の含有量が、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、２５～９５質量％である請求項１～４のいずれか一項に記載の接着剤組成物。
　成分（Ｂ）の含有量が、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、１～６０質量％である請求項１～５のいずれか一項に記載の接着剤組成物。
　成分（Ｃ）の含有量が、接着剤組成物の不揮発分１００質量％に対して、０．０５～１５質量％である請求項１～６のいずれか一項に記載の接着剤組成物。
　成分（Ａ）が、オレフィン系樹脂およびエポキシ樹脂から選ばれる少なくとも一つを含む請求項１～７のいずれか一項に記載の接着剤組成物。
　光学デバイスの接着層を形成するために用いられる請求項１～８のいずれか一項に記載の接着剤組成物。
　光学デバイスが、有機ＥＬ表示装置である請求項９に記載の接着剤組成物。
　支持体と、前記支持体上に請求項１～８のいずれか一項に記載の接着剤組成物から形成された接着層とを含む接着シート。
　光学デバイス中の接着層を形成するために用いられる請求項１１記載の接着シート。
　光学デバイスが、有機ＥＬ表示装置である請求項１２に記載の接着シート。
　請求項１～８のいずれか一項に記載の接着剤組成物から形成された接着層を有する光学デバイス。
　請求項１～８のいずれか一項に記載の接着剤組成物から形成された接着層を有する有機ＥＬ表示装置。