WO2020065932A1

WO2020065932A1 - 表示装置

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Publication number: WO2020065932A1
Application number: PCT/JP2018/036348
Authority: WO
Inventors: 庄治岡崎
Original assignee: シャープ株式会社
Priority date: 2018-09-28
Filing date: 2018-09-28
Publication date: 2020-04-02
Also published as: US20210343812A1

Abstract

樹脂層（１２）と、薄膜トランジスタ層（４）と、発光素子層（５）と、封止層（６）とを備え、表示領域（ＤＡ）と、額縁領域（ＮＡ）とを備える表示装置（１）であって、第１無機絶縁膜（７）には第１スリット（Ｓ１）が形成されており、第１無機絶縁膜（７）より上層の第２無機絶縁膜（８）には第２スリット（Ｓ２）が形成されており、第１スリット（Ｓ１）と、第２スリット（Ｓ２）とは重畳しないように形成されている表示装置（１）。

Description

表示装置

　本発明は、表示装置に関する。

　種々のディスプレイ用途に用いられる表示装置では、近年、薄型化、軽量化、フレキシブル化等を実現すべく、支持基材を従来のガラス基板から樹脂に置換した表示装置の開発が進められている。表示装置は、支持基材上に、薄膜トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」と称する）層、発光素子層、封止層等が積層された積層構造を有する（例えば、下記特許文献１参照）。

日本国公開特許公報「特開２０１８－１３２７６８号（２０１８年８月２３日公開）」

　従来から、積層構造に生じるクラックが問題となっている。積層構造にクラックが生じると、これを起点として、積層構造を構成する複数の膜の内部を、膜ごとに独立して進行してゆく場合がある。図６は、従来の表示装置１００の額縁領域が備える二層の無機絶縁膜１０１，１０２からなる積層構造において発生したクラックの進行状況を示す模式図である。図中、ＤＡは表示領域である。図中に矢印で示すように、クラックは、図６に示す起点から、無機絶縁膜１０１、１０２の内部を、それぞれ独立して進行している。

　このようなクラックの進行は、表示領域においてダークスポットを発現させ、表示不良を発生させてしまうため、抑制する必要がある。

　本発明は前記の問題点に鑑みてなされたものであり、表示装置の積層構造を構成する膜におけるクラックの進行を膜ごとに抑制し、信頼性を向上させた表示装置を提供することを目的とする。

　本発明の一実施形態に係る表示装置は、前記の課題を解決するために、樹脂層と、前記樹脂層上に形成され、第１無機絶縁膜及び第２無機絶縁膜を有する薄膜トランジスタ層と、発光素子層と、封止層とを備え、表示領域と、前記表示領域の周囲の額縁領域とを備える表示装置であって、前記第１無機絶縁膜および前記第２無機絶縁膜は、それぞれ、１種の無機絶縁膜または積層された２種以上の無機絶縁膜から形成されており、前記第２無機絶縁膜は、前記第１無機絶縁膜よりも上層に存在し、前記額縁領域において、前記第１無機絶縁膜には第１スリットが形成されており、前記第２無機絶縁膜には第２スリットが形成されており、前記第１スリットと、前記第２スリットとは重畳しないように形成されていることを特徴とする。

　本発明の一態様によれば、表示装置の積層構造を構成する異なる膜におけるクラックの進行を膜ごとに抑制し、信頼性を向上させた表示装置を提供することができる。

（ａ）は、実施形態１の表示装置の平面図であり、（ｂ）は、（ａ）に図示したＬ１－Ｌ２線の断面図である。（ｃ）は、（ａ）のＬ３－Ｌ４線近傍の平面図であり、（ｄ）は、（ａ）のＬ３－Ｌ４線の断面図のうち、第１無機絶縁膜、第２無機絶縁膜、第１スリット、および第２スリットのみを示した図である。（ｅ）は、（ｄ）に示す第２無機絶縁膜、第１スリット、および第２スリットを被覆するように平坦化膜を形成した様子を示す図である。合流スリットの構成をより詳細に説明するための図であり、第１スリットが第２スリットよりも表示装置の端部に近い位置に存在する表示装置の一部分を拡大して示す図である。（ａ）は図２の断面Ａを示す断面図である。（ｂ）は図２の断面Ｂを示す断面図である。（ｃ）は、図２の断面Ｃを示す断面図である。実施形態２の表示装置の断面図のうち、第１無機絶縁膜、第２無機絶縁膜、平坦化膜、第１スリット、第２スリット、第３スリット、第４スリット、樹脂層のみを示した図である。（ａ）は、実施形態３の表示装置の平面図である。（ｂ）は、実施形態３の表示装置の断面図のうち、第１無機絶縁膜、第２無機絶縁膜、有機層、第１スリット、第２スリット、第５スリット、樹脂層のみを示した図である。（ｃ）は、（ｂ）に示す第２無機絶縁膜、有機層、第２スリット、および第５スリットを被覆するように平坦化膜を形成した様子を示す図である。従来の表示装置の額縁領域が備える二層の無機絶縁膜からなる積層構造において発生したクラックの進行状況を示す模式図である。

　本発明の実施の形態について図１から図５に基づいて説明すれば、次の通りである。以下、説明の便宜上、特定の実施形態にて説明した構成と同一の機能を有する構成については、同一の符号を付記し、その説明を省略する場合がある。

　なお、以下の各実施形態においては、表示装置の一例として、ＯＬＥＤ（Organic Light Emitting Diode：有機発光ダイオード）を備えた場合を挙げて説明するが、これに限定されることはなく、表示装置としては、無機発光ダイオードまたはＱＬＥＤ（Quantum dot Light Emitting Diode：量子ドット発光ダイオード）を備えていてもよい。

　〔実施形態１〕
　本発明の一実施形態に係る表示装置は、樹脂層と、前記樹脂層上に形成され、第１無機絶縁膜及び第２無機絶縁膜を有する薄膜トランジスタ層と、発光素子層と、封止層とを備え、表示領域と、前記表示領域の周囲の額縁領域とを備える表示装置であって、前記第１無機絶縁膜および前記第２無機絶縁膜は、それぞれ、１種の無機絶縁膜または積層された２種以上の無機絶縁膜から形成されており、前記第２無機絶縁膜は、前記第１無機絶縁膜よりも上層に存在し、前記額縁領域において、前記第１無機絶縁膜には第１スリットが形成されており、前記第２無機絶縁膜には第２スリットが形成されており、前記第１スリットと、前記第２スリットとは重畳しないように形成されている。

　以下、図１～３に基づき、本発明の実施形態１に係る表示装置１について説明する。図１の（ａ）は、表示装置１の平面図であり、図１の（ｂ）は、図１の（ａ）に図示したＬ１－Ｌ２線の断面図である。ただし、図１の（ｂ）では、第１スリットおよび第２スリットの図示は省略している。図１の（ｃ）は、図１の（ａ）のＬ３－Ｌ４線近傍の平面図であり、図１の（ｄ）は、図１の（ａ）に図示したＬ３－Ｌ４線の断面図のうち、第１無機絶縁膜、第２無機絶縁膜、第１スリット、および第２スリットのみを示した図であり、図１の（ｅ）は、図１の（ｄ）に示す第２無機絶縁膜、第１スリット、および第２スリットを被覆するように平坦化膜を形成した様子を示す図である。

　（１．表示装置１におけるスリット以外の構成）
　図１の（ａ）に示すように、表示装置１は、表示領域ＤＡと、表示領域ＤＡの周囲の額縁領域ＮＡとを備えている。表示領域ＤＡは、異形部であるコーナー部Ｒ’および切り欠き部Ｋ２を有し、額縁領域ＮＡは、異形部であるコーナー部Ｒおよび切り欠き部Ｋ１を有している。額縁領域ＮＡには、端子部ＴＭ１～ＴＭｍと電気的に接続された引き回し配線ＴＷ１～ＴＷｎが備えられている。

　図１の（ｂ）に示すように、表示領域ＤＡにおいては、樹脂層１２の下面に接着剤層１１を介してベース基板１０が貼り付けられている。一方、樹脂層１２の上面には、ＴＦＴ層４と、発光素子層（有機ＥＬ素子層）５と、封止層６とが形成されている。

　ベース基板１０の材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等を挙げることができるが、これに限定されることはない。

　接着剤層１１としては、例えば、ＯＣＡ（Optical Clear Adhesive）またはＯＣＲ（Optical Clear Resin）を挙げることができるが、これに限定されることはない。

　樹脂層１２の材料としては、例えば、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂等を挙げることができるが、これに限定されることはない。

　ＴＦＴ層４は、樹脂層１２の上層に設けられている。ＴＦＴ層４は、無機膜であるベースコート膜（バリア層）３と、半導体膜１５と、半導体膜１５よりも上層の無機絶縁膜であるゲート絶縁膜１６と、ゲート絶縁膜１６よりも上層のゲート電極ＧＥと、ゲート電極ＧＥよりも上層の無機絶縁膜である第１層間絶縁膜１８と、第１層間絶縁膜１８よりも上層の容量配線ＣＥと、容量配線ＣＥよりも上層の無機絶縁膜である第２層間絶縁膜２０と、第２層間絶縁膜２０よりも上層の、ソース電極及びドレイン電極ＳＨと、ソース電極及びドレイン電極ＳＨよりも上層の層間絶縁膜２１と、を含む。

　なお、ゲート電極ＧＥ、容量配線ＣＥ、ソース電極及びドレイン電極ＳＨ等は、スパッタ等の方法によって形成することができる。

　ベースコート膜３は、水分や不純物が、ＴＦＴ層４や発光素子層５に到達することを防ぐ層であり、例えば、ＣＶＤにより形成される、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、あるいは酸窒化シリコン膜、またはこれらの積層膜で構成することができる。

　なお、容量素子は、第１層間絶縁膜１８の直上に形成された容量配線ＣＥに含まれる容量電極と、第１層間絶縁膜１８と、第１層間絶縁膜１８の直下に形成され、ゲート電極ＧＥを形成する層と同一層で、容量電極と重畳するように形成された容量対向電極と、で構成される。

　半導体膜１５、ゲート絶縁膜１６、ゲート電極ＧＥ、第１層間絶縁膜１８、第２層間絶縁膜２０及びソース電極及びドレイン電極ＳＨを含むように、アクティブ素子としての薄膜トランジスタ素子（ＴＦＴ）Ｔｒが構成される。

　半導体膜１５は、例えば低温ポリシリコン（ＬＴＰＳ）あるいは酸化物半導体で構成される。

　ゲート電極ＧＥ、容量配線ＣＥ、ソース電極及びドレイン電極ＳＨは、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）の少なくとも１つを含む金属の単層膜あるいは積層膜によって構成される。

　ゲート絶縁膜１６、第１層間絶縁膜１８、第２層間絶縁膜２０は、例えば、ＣＶＤ法によって形成された、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）膜、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）膜あるいは酸窒化シリコン膜またはこれらの積層膜によって構成することができる。

　層間絶縁膜２１は、例えば、ポリイミド樹脂やアクリル樹脂等の塗布可能な感光性有機材料によって構成することができる。

　表示領域ＤＡにはソース電極及びドレイン電極ＳＨと同層で形成される複数のデータ信号線Ｓ（ｍ）と、データ信号線と交差するように、ゲート電極ＧＥと同層で形成される複数の走査信号線Ｇ（ｎ）及び複数の発光制御線Ｅｍ（ｎ）が設けられる。図１（ａ）において、端子部ＴＭ１～ＴＭｍから表示領域ＤＡへ延びる方向へデータ信号線が設けられる。さらに、複数のデータ信号線Ｓ（ｍ）と複数の走査信号線Ｇ（ｎ）との交差点に対応するように、マトリクス状に画素回路が設けられている。

　走査信号線Ｇ（ｎ）と発光制御線Ｅｍ（ｎ）と交差する額縁領域ＮＡ（図１（ａ）の左右の辺）には、表示領域ＤＡに近い側の第１スリットＳ１又は第２スリットＳ２と、表示領域ＤＡとの間に、走査信号線Ｇ（ｎ）に信号を入力する走査制御回路及び発光制御線Ｅｍ（ｎ）に信号を入力する発光制御回路の制御回路が設けられる。

　発光素子層５は、層間絶縁膜２１よりも上層のアノード２２と、アノード２２のエッジを覆うバンク２３と、アノード２２よりも上層のＥＬ（エレクトロルミネッセンス）層２４と、ＥＬ層２４よりも上層のカソード２５とを含み、サブピクセルＳＰごとに、島状のアノード２２、ＥＬ層２４、及びカソード２５を含む。バンク（アノードエッジカバー）２３は、例えば、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂等の塗布可能な感光性有機材料によって構成することができる。発光素子層５は、表示領域ＤＡを形成し、ＴＦＴ層４の上層に設けられている。

　ＥＬ層２４は、例えば、下層側から順に、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層を積層することで構成される。発光層は、蒸着法あるいはインクジェット法によって、サブピクセルごとに島状に形成されるが、その他の層はベタ状の共通層とすることもできる。また、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層のうち１以上の層を形成しない構成も可能である。

　アノード（陽極）２２は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）とＡｇを含む合金との積層によって構成され、光反射性を有する。カソード２５は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）等の透光性の導電材で構成することができる。

　発光素子層５においては、アノード２２及びカソード２５間の駆動電流によって正孔と電子がＥＬ層２４内で再結合し、これによって生じたエキシトンが基底状態に落ちることによって、光が放出される。カソード２５が透光性であり、アノード２２が光反射性であるため、ＥＬ層２４から放出された光は上方に向かい、トップエミッションとなる。

　封止層６は透光性であり、カソード２５を覆う第１無機封止膜２６と、第１無機封止膜２６よりも上側に形成される有機封止膜２７と、有機封止膜２７を覆う第２無機封止膜２８とを含む。

　第１無機封止膜２６及び第２無機封止膜２８はそれぞれ、例えば、ＣＶＤにより形成される、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、あるいは酸窒化シリコン膜、またはこれらの積層膜で構成することができる。有機封止膜２７は、第１無機封止膜２６及び第２無機封止膜２８よりも厚い、透光性有機膜であり、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂等の塗布可能な感光性有機材料によって構成することができる。

　額縁領域ＮＡにおいては、第２層間絶縁膜２０上に、表示領域ＤＡを枠状に囲む第１枠状バンク（第１突起部）９ａと、第１枠状バンク９ａを枠状に囲む第２枠状バンク（第２突起部）９ｂとが備えられている。有機封止膜２７は、図１の（ｂ）に図示する表示装置１の場合においては、第２枠状バンク９ｂの左側の傾斜側面まで形成されているので、第２枠状バンク９ｂの左側の傾斜側面より外側においては、無機膜である第１無機封止膜２６と第２無機封止膜２８とが直接接して、封止層を形成している。

　第１枠状バンク９ａ及び第２枠状バンク９ｂは、例えば、ポリイミド、アクリル等の塗布可能な感光性有機材料によって構成することができる。また、第１枠状バンク９ａ及び第２枠状バンク９ｂは、バンク（アノードエッジカバー）２３と同じ材料を用いて形成してもよい。

　（２．表示装置１が備える無機絶縁膜）
　ＴＦＴ層４は、第１無機絶縁膜７及び第２無機絶縁膜８を有する。第１無機絶縁膜７と、第２無機絶縁膜とは、それぞれ、ＴＦＴ層４に含まれる無機絶縁膜から形成される。

　第１無機絶縁膜７は、ＴＦＴ層４の無機絶縁膜のうち、１種の無機絶縁膜または積層された２種以上の無機絶縁膜から形成されている。また、第２無機絶縁膜８は、ＴＦＴ層４の無機絶縁膜のうち、第１無機絶縁膜７よりも上層であって、１種の無機絶縁膜または積層された２種以上の無機絶縁膜から形成される。

　よって、第１無機絶縁膜７は、第２無機絶縁膜８の最下層の無機絶縁膜が、第１無機絶縁膜７の最上層の無機絶縁膜よりも上層に存在していれば、１種の無機絶縁膜から形成されていてもよいし、積層された２種以上の無機絶縁膜から形成されていてもよい。

　図１の（ｂ）に示すように、ＴＦＴ層４に含まれる無機絶縁膜としては、下層から上層へ向かって、ベースコート膜３、半導体膜１５、ゲート絶縁膜１６、第１層間絶縁膜１８および第２層間絶縁膜２０が存在する。

　よって、例えば、第１無機絶縁膜７がベースコート膜３から形成されている場合は、第２無機絶縁膜８は、ベースコート膜３よりも上層に位置する半導体膜１５を最下層とし、半導体膜１５、ゲート絶縁膜１６、第１層間絶縁膜１８および第２層間絶縁膜２０の積層膜から形成されていてもよい。また、図１の（ｂ）の額縁領域では、第１無機絶縁膜７がベースコート膜３から形成され、第２無機絶縁膜８は、ベースコート膜３よりも上層に位置するゲート絶縁膜１６を最下層として、ゲート絶縁膜１６、第１層間絶縁膜１８および第２層間絶縁膜２０から形成されていてもよい。

　別の例では、第１無機絶縁膜７がベースコート膜３、半導体膜１５およびゲート絶縁膜１６から形成されており、第２無機絶縁膜８が、ゲート絶縁膜１６よりも上層に位置する第１層間絶縁膜１８を最下層として、第１層間絶縁膜１８および第２層間絶縁膜２０から形成されていてもよい。また、例えば、第１無機絶縁膜７がベースコート膜３、半導体膜１５およびゲート絶縁膜１６および第１層間絶縁膜１８から形成されており、第２無機絶縁膜８が１種の無機絶縁膜である第２層間絶縁膜２０から形成されていてもよい。

　このように、前記要件を満たす態様にて、第１無機絶縁膜７および第２無機絶縁膜８を構成することができる。

　（３．表示装置１が備える第１スリットおよび第２スリット）
　図１の（ａ）に示すように、表示装置１の額縁領域ＮＡにおいて、第１無機絶縁膜７には第１スリットＳ１が形成されており、第２無機絶縁膜８には第２スリットＳ２が形成されており、第１スリットＳ１と、第２スリットＳ２とは重畳しないように形成されている。また、第１スリットＳ１および第２スリットＳ２は、表示領域ＤＡを囲むように形成されており、表示領域ＤＡと、端子部ＴＭ１～ＴＭｍとの間に存在する折り曲げ部ＣＬを終端部としている。

　折り曲げ部ＣＬにおいては、ベースコート膜３、半導体膜１５、ゲート絶縁膜１６、第１層間絶縁膜１８および第２層間絶縁膜２０にスリットが形成され、ポリイミドなどの樹脂材料でスリットを樹脂膜が充填する。樹脂膜の上層には、端子部の端子と表示領域の配線とを電気的に接続する配線が設けられる。

　図１の（ｃ）および（ｄ）に示すように、第１スリットＳ１は、額縁領域ＮＡにおいて、第１無機絶縁膜７の一部分を抜き取ることによって形成することができ、第２スリットＳ２は、額縁領域ＮＡにおいて、第２無機絶縁膜８の一部分を抜き取ることによって形成することができる。第１無機絶縁膜７および第２無機絶縁膜８の一部分を抜き取るための方法としては、パターニング（例えば、フォトリソグラフィ）等の方法を用いることができる。

　第１スリットＳ１と、第２スリットＳ２とは、重畳しないように形成されている。すなわち、第１スリットＳ１と、第２スリットＳ２とは、額縁領域ＮＡにおいて異なる位置に形成されており、図１の（ｃ）および（ｄ）に示すように、互いに重なり合うことなく存在する。

　図１の（ｃ）および（ｄ）に示すように、第１スリットＳ１と、第２スリットＳ２とが重畳しないように形成されていることによって、図１の（ｃ）および（ｄ）に示す起点から、第１無機絶縁膜７および第２無機絶縁膜８において、表示領域ＤＡに向かってそれぞれ伸長するクラック（図中、太線で表示）の進行を、第１スリットＳ１および第２スリットＳ２を形成した部分によって抑制することができる。

　また、第１スリットＳ１および第２スリットＳ２が、表示領域ＤＡを囲むように形成されていることによって、表示領域ＤＡへのクラックの進行を抑制することができ、表示領域ＤＡにおけるダークスポットの発生および表示不良を効果的に抑制することができる。

　なお、図１の（ａ）に示す表示装置１では、表示装置１の一部分において、第１スリットＳ１と、第２スリットＳ２とが重畳した合流スリットＧＳ１～ＧＳ６が形成されている。後述するように、この態様は本発明の好ましい一態様であるが、これに限定されるものではない。つまり、合流スリットが形成されておらず、第１スリットＳ１と、第２スリットＳ２とが、表示装置１の全体において重畳しないように形成されている態様も、前述したクラックの進行を抑制するという効果を奏することができるため好ましい。

　第１スリットＳ１と第２スリットＳ２とは、どちらが表示領域ＤＡに近い側に存在していても構わないが（図１では、第２スリットＳ２が、第１スリットＳ１よりも表示装置１の端部に近い側に位置する）、第１スリットＳ１は、第２スリットＳ２よりも表示装置１の端部に近い位置に存在することが好ましい。図２および図３は、第１スリットＳ１が、第２スリットＳ２よりも表示装置１の端部に近い位置に存在する態様の一例を示している。

　この場合、例えば、図３の（ｂ）に示す第１無機絶縁膜７の内部にクラックが進行し、第１スリットＳ１に形成されている第２無機絶縁膜８にクラックが伝わってしまった場合でも、第２スリットＳ２によって、クラックの更なる進行を抑制することができる。

　（４．合流スリット）
　本発明の一実施形態に係る表示装置は、表示領域が少なくとも一部に異形部を有し、異形部と表示装置の端部との間の額縁領域において、第１スリットの一部分と、第２スリットの一部分とが重畳して合流スリットを形成していることが好ましい。

　本明細書において「異形部」とは、表示装置を鉛直上方から見た平面図において、表示領域に設けられたコーナー部及び切り欠き部と、この表示領域のコーナー部及び切り欠き部にそれぞれ対応して額縁領域に設けられた（各々相似形の）コーナー部及び切り欠き部とをいい、曲線部分を有する部分を示している。

　例えば、図１の（ａ）に示す表示領域ＤＡのコーナー部Ｒ’、切り欠き部Ｋ２、額縁領域ＮＡのコーナー部Ｒ、切り欠き部Ｋ１が異形部に該当する。切り欠き部Ｋ１，Ｋ２は、図１の（ａ）に示す凹部全体を指す。

　一方、例えば図１の（ａ）に示す額縁領域のコーナー部Ｒよりも下方の領域であるＬ３－Ｌ４線近傍の領域等は、表示領域ＤＡおよび額縁領域ＮＡが曲線部分を有していないため、異形部には該当せず、通常部であると言える。表示装置は、表示領域ＤＡが少なくとも一部に異形部を有していればよいため、少なくとも一か所の異形部を有していればよい。なお、折り曲げ部ＣＬ側の表示領域ＤＡのコーナー部についても曲線部分を有する異形部が設けられていてもよい。

　「表示装置の端部」とは、表示装置を鉛直上方から見た平面図において、表示装置の最も外側の線を形成する部分を言う。例えば図１の（ａ）では、最も外側の線が表示装置１の端部に該当する。

　また、「異形部と表示装置の端部との間の額縁領域」（以下、「領域ＩＫ」と称する）とは、前記平面図において、表示領域が有する異形部と、表示装置の端部であって当該異形部と対向する部分とに挟まれた額縁領域である。例えば、図１の（ａ）に示す額縁領域ＮＡのコーナー部Ｒと対向する、表示領域ＤＡのコーナー部Ｒ’とに挟まれた額縁領域ＮＡの部分（例えば、図中、合流スリットＧＳ１、ＧＳ６が形成されている部分）、および、切り欠き部Ｋ１と、切り欠き部Ｋ１と対向する表示領域Ｄ１の切り欠き部Ｋ２とに挟まれた額縁領域ＮＡの部分（例えば、図中、合流スリットＧＳ２～５が形成されている部分）が、領域ＩＫに該当する。

　「第１スリットの一部分と、第２スリットの一部分とが重畳して合流スリットを形成している」とは、領域ＩＫ以外では重畳しないように形成されている第１スリットと、第２スリットとが、領域ＩＫにおいて重畳することによって、一つのスリットを形成していることを言う。図１の（ａ）において、表示装置１には、領域ＩＫに、ＧＳ１～ＧＳ６で示す合流スリットが形成されている。

　図２は、合流スリットの構成をより詳細に説明するための平面図である。図２は、図１とは異なり、第１スリットＳ１が第２スリットＳ２よりも表示装置の端部に近い位置に存在する表示装置１’の一部分を拡大して示している。すなわち、コーナー部Ｒと、コーナー部Ｒと対向する、表示領域ＤＡのコーナー部Ｒ’とに挟まれた額縁領域ＮＡ（領域ＩＫ）およびその近傍の通常部ＴＵを示している。通常部ＴＵは、表示装置１’を鉛直上方から見た平面図において、曲線部分を有さない表示領域ＤＡの端部と、表示装置１’の端部との間の額縁領域である。図３の（ａ）は、図２の断面Ａを示す断面図であり、図３の（ｂ）は、図２の断面Ｂを示す断面図であり、図３の（ｃ）は、図２の断面Ｃを示す断面図である。

　図２および図３の（ｂ）に示すように、第１スリットＳ１と第２スリットＳ２とは、図中、断面Ｂと記載した領域の近傍（通常部ＴＵ）では、重畳しないように形成されている。なお、第１スリットＳ１は第１無機絶縁膜７に形成されており、第１スリットＳ１には、第２無機絶縁膜８が形成されており、第２無機絶縁膜８の下層に金属膜２９が形成されている。第２スリットＳ２は第２無機絶縁膜８に形成されており、第２スリットＳ２には平坦化膜３１が形成されている。

　第１スリットＳ１および第２スリットＳ２は、領域ＩＫの近傍にて徐々に近接するように形成されており、図２において、領域ＩＫにおけるＧＳ６’と示した位置にて合流するように形成されている。図３の（ａ）に示すように、図２の「断面Ａ」で示す領域のうち、ＧＳ６’で示す領域には、第１スリットＳ１と第２スリットＳ２とが合流した合流スリットＧＳ６’が形成されている。また、図２および図３の（ｃ）においてＧＳ６’で示す領域に、合流スリットＧＳ６’が形成されている。

　このように、合流スリットを設けることによって、図２および図３の（ｂ）にＡ１で示す第１スリットＳ１の端面と第２スリットＳ２の端面との幅が、図２および図３の（ｃ）にＡ２で示す合流スリットＧＳ６’の幅よりも大きくなる。

　すなわち、表示装置１’を鉛直上方から見た場合に、第１スリットＳ１と第２スリットＳ２とが合流スリットＧＳ６を形成していない額縁領域ＮＡにおいて、第１スリットＳ１の辺であって、第２スリットＳ２の辺と対向していない側の辺から、第２スリットＳ２の辺であって、第１スリットＳ１の辺と対向していない側の辺まで下した第一垂線の長さ（Ａ１）と、表示装置１を鉛直上方から見た場合に、第１スリットＳ１と第２スリットＳ２とが合流スリットＧＳ６を形成している額縁領域ＮＡにおいて、合流スリットＧＳ６の一方の辺から、対向する他方の辺まで下した第二垂線の長さ（Ａ２）とが、以下の式（１）を満たすことが好ましい。
第一垂線の長さ（Ａ１）＞第二垂線の長さ（Ａ２）・・式（１）
　額縁領域において、領域ＩＫは、通常部と比較してクラックが発生しやすい。式（１）を満たす構成を備えることによって、額縁領域をできるだけ狭くした上で、図２においてＢ２で示した領域の幅を確保することができる。それゆえ、領域ＩＫにおけるクラックの発生を抑制することができる。

　図１の（ａ）には、表示装置１の上部２か所に存在するコーナー部Ｒ（表示装置１の端部）と、表示領域ＤＡの異形部であるコーナー部Ｒ’との間の額縁領域ＮＡ（領域ＩＫ）に合流スリットＧＳ１、ＧＳ６を設け、切り欠き部Ｋ１（表示装置１の端部）と、表示領域ＤＡの異形部である切り欠き部Ｋ２との間の額縁領域ＮＡ（領域ＩＫ）にＧＳ２～ＧＳ５で示す４か所の合流スリットを設けている。合流スリットの位置および数は、もちろんこれに限定されるものではない。例えば、図１の（ａ）に示す領域ＩＫにおいて、ＧＳ１～ＧＳ６とは異なる位置に合流スリットを設けてもよい。また、表示装置１に図１の（ａ）に示す異形部とは異なるその他の異形部が存在する場合、それぞれの領域ＩＫに合流スリットを形成することによって、前述したように、領域ＩＫにおけるクラックの発生を効果的に抑制することができる。

　合流スリットは、第１無機絶縁膜および第２絶縁膜の一部分を抜き取るための方法として前述したフォトリソグラフィ等の方法を用い、合流スリットを形成したい領域ＩＫにおいて第１スリットと第２スリットとが合流して一つのスリットを形成するように、第１スリットおよび第２スリットの位置を調整することにより、形成することができる。

　表示装置１’は、図２および図３の（ｂ）にＡ３で示す第１スリットＳ１の幅が、図２および図３の（ｃ）にＡ２で示す合流スリットＧＳ６’の幅よりも小さく、かつ、図２および図３の（ｂ）にＡ４で示す第２スリットＳ２の幅が、合流スリットＧＳ６’の幅よりも小さいことが好ましい。

　すなわち、表示装置１’を鉛直上方から見た場合に、第１スリットＳ１と第２スリットＳ２とが合流スリットＧＳ６’を形成していない額縁領域ＮＡにおいて、第１スリットＳ１の一方の辺から対向する他方の辺まで下した第三垂線の長さ（Ａ３）が、第二垂線の長さ（Ａ２）よりも短く、かつ、第２スリットＳ２の一方の辺から対向する他方の辺まで下した第四垂線（Ａ４）の長さが、第二垂線の長さ（Ａ２）よりも短いことが好ましい。なお、第三垂線の長さ（Ａ３）には、金属膜２９の長さは含まない。

　当該構成を備えることにより、クラックが発生しやすい領域ＩＫにおいて、第１スリットＳ１と第２スリットＳ２とが占めるスペースを小さくし、図２においてＢ２で示した領域の幅を確保することができる。それゆえ、領域ＩＫにおけるクラックの発生を抑制することができる。

　表示装置１’は、図２にＢ１で示す、表示装置１’の端部と第１スリットＳ１の端部との幅（Ｂ１）が、図２にＢ２で示す、表示装置１’の端部と合流スリットＧＳ６’の端部との幅（Ｂ２）よりも小さいことが好ましい。

　すなわち、表示装置１’を鉛直上方から見た場合に、第１スリットＳ１と第２スリットＳ２とが合流スリットＧＳ６’を形成していない額縁領域ＮＡにおいて、表示装置１’の端部から、第１スリットＳ１および第２スリットＳ２のうち、表示装置１’の端部に対向しているスリットの、表示装置１’の端部に対向している辺に下した第五垂線の長さ（Ｂ１）と、表示装置１’を鉛直上方から見た場合に、第１スリットＳ１と第２スリットＳ２とが合流スリットＧＳ６’を形成している額縁領域ＮＡにおいて、表示装置１’の端部から、合流スリットＧＳ６’の辺のうち、表示装置１’の端部に対向している辺に下した第六垂線の長さ（Ｂ２）とが、以下の式（２）を満たすことが好ましい。
第五垂線の長さ（Ｂ１）＜第六垂線の長さ（Ｂ２）・・式（２）
　額縁領域において、領域ＩＫは、通常部と比較してクラックが発生しやすい。式（２）を満たす構成を備えることによって、額縁領域をできるだけ狭くした上で、図２においてＢ２で示した領域の幅を確保することができる。それゆえ、領域ＩＫにおけるクラックの発生を抑制することができる。

　表示装置１’は、式（２）を満たす構成の代わりに、図２においてＤ１で示す、第２スリットＳ２と表示領域ＤＡの端部との幅が、図２においてＤ２で示す、合流スリットＧＳ６’と表示領域ＤＡの端部との幅よりも小さい構成を取ることも好ましい。

　すなわち、表示装置１’を鉛直上方から見た場合に、第１スリットＳ１と第２スリットＳ２とが合流スリットＧＳ６’を形成していない額縁領域ＮＡにおいて、表示領域ＤＡの端部から、第１スリットＳ１および第２スリットＳ２のうち、表示領域ＤＡの端部に対向しているスリットの、表示領域ＤＡの端部に対向している辺に下した第七垂線の長さ（Ｄ１）と、表示装置１’を鉛直上方から見た場合に、第１スリットＳ１と第２スリットＳ２とが合流スリットＧＳ６を形成している額縁領域ＮＡにおいて、表示領域ＤＡの端部から、合流スリットＧＳ６の辺のうち、表示領域ＤＡの端部に対向している辺に下した第八垂線の長さ（Ｄ２）とが、以下の式（３）を満たすことが好ましい。
第七垂線の長さ（Ｄ１）＜第八垂線の長さ（Ｄ２）・・式（３）
　なお、「表示領域ＤＡの端部」とは、表示装置１’を鉛直上方から見た平面図において、表示領域ＤＡの最も外側の線を形成する部分を言う。例えば図２のＤＡにおいて点線で示す部分である。

　式（３）を満たす構成を備えることによって、額縁領域をできるだけ狭くした上で、領域ＩＫにおいて、合流スリットＧＳ６’と表示領域ＤＡとの間に、制御回路を設けることができる。

　以上、図２に示すコーナー部Ｒ（表示装置１’の端部）と、表示領域ＤＡの異形部であるコーナー部Ｒ’とに挟まれた額縁領域ＮＡの部分に形成された合流スリットＧＳ６’を例に取って、第１スリットＳ１と第２スリットＳ２との位置関係等について説明したが、これに限られるものではない。例えば、図１の（ａ）において、切り欠き部Ｋ１（表示装置１の端部）と、表示領域ＤＡの異形部である切り欠き部Ｋ２とに挟まれた額縁領域ＮＡに形成された合流スリットＧＳ２～ＧＳ５、図１の（ａ）に示す合流スリットＧＳ１、ＧＳ６についても、前記の説明と同様のことが言える。

　（５．金属膜）
　例えば図１の（ｄ）に示すように、第１スリットＳ１が第２無機絶縁膜８によって被覆されている場合、第１スリットＳ１は、第１スリットＳ１と重畳するように、第２無機絶縁膜８の下層に金属膜２９が形成されていることが好ましい。

　前記構成によれば、圧力波は金属膜を介して伝播するものの、金属膜には延性があるため、無機絶縁膜よりもクラックが発生しにくい。それゆえ、第1無機絶縁膜７からのクラックが第２無機絶縁膜８に形成されにくいという利点を有する。金属膜としては、例えば、ゲート電極ＧＥ、容量配線ＣＥ、ソース電極及びドレイン電極ＳＨ等によって形成された層を用いることができる。

　金属膜２９は、図２、図３の（ａ）および図３の（ｂ）に示すように、第１スリットＳ１を覆うように形成されるが、図２、図３の（ａ）に示すように、合流スリットＧＳ６’に重畳するように形成されないことが好ましい。これは、金属膜２９を合流スリットＧＳ６’に重畳するように形成した場合、圧力波が金属膜２９を通って合流スリットＧＳ６’に伝播し、領域ＩＫにおけるクラック発生の原因となり得るためである。ただし、合流スリットＧＳ６’において、金属膜２９が千鳥状の開口を形成して設けられてもいてもよい。

　（６．スリットへの膜の形成）
　図１の（ｄ）では、第１スリットＳ１に第２無機絶縁膜８が形成されている。つまり、第１スリットＳ１は第２無機絶縁膜８によって被覆されており、かつ、第２スリットＳ２は第１無機絶縁膜７を露出している。当該構成によって、クラックの進行を抑制することができると共に、水分および酸素の侵入に対する信頼性も確保することができるため好ましい。この場合、第１スリットＳ１において、第１無機絶縁膜７と第２無機絶縁膜８との界面があるため、第１無機絶縁膜７の内部を進行してきたクラックの第２無機絶縁膜８への伝達を抑えることができる。

　第１スリットＳ１および第２スリットＳ２は、樹脂層によって被覆されていてもよい。例えば、図１の（ｄ）において、第１スリットＳ１に形成されている第２無機絶縁膜８の代わりに、平坦化膜３１が形成されていてもよいし（つまり、第１スリットに第２無機絶縁膜８のスリットも形成されている）、図１の（ｅ）のように、第１スリットＳ１に形成されている第２無機絶縁膜８の上に、平坦化膜３１が積層されていてもよい。あるいは、図１の（ｄ）において、第２スリットＳ２の上に、平坦化膜３１が積層されていてもよい。

　これらの場合、第１無機絶縁膜７の内部を進行してきたクラックおよび第２無機絶縁膜８の内部を進行してきたクラックは、ポリイミド樹脂などの樹脂材料で形成された平坦化膜３１に伝達されにくい。

　また、図１の（ｅ）に示すように、第１スリットＳ１および第２スリットＳ２に平坦化膜３１が形成され、かつ、平坦化膜３１が第２無機絶縁膜８の上面全体を覆うように形成されていてもよい。平坦化膜３１の材料としては、例えば、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂等を挙げることができるが、これに限定されることはない。平坦化膜３１は、樹脂層に該当する。

　〔実施形態２〕
　実施形態２に係る表示装置１ａは、第２スリットＳ２に重畳するように、第１無機絶縁膜７に第３スリットＳ３が形成されており、第１スリットＳ１に重畳するように、第２無機絶縁膜８に第４スリットＳ４が形成されている。

　第１スリットＳ１、第２スリットＳ２、第３スリットＳ３および第４スリットＳ４は、樹脂層によって被覆されていることが好ましい。

　図４は、表示装置１ａを、図１の（ａ）に示すＬ３－Ｌ４線に対応する位置で切断した断面図のうち、第１無機絶縁膜７、第２無機絶縁膜８、平坦化膜３１、第１スリットＳ１、第２スリットＳ２、第３スリットＳ３、第４スリットＳ４、樹脂層１２のみを示した図である。平坦化膜３１は、前述した、第１スリットＳ１～第４スリットＳ４を被覆する樹脂層に該当する。

　第２スリットＳ２は、第２無機絶縁膜８の一部分を、図４の点線部まで抜き取って形成したスリットである。第３スリットＳ３は、第２スリットＳ２の下層である第１無機絶縁膜７をも抜き取ることによって形成したスリットであり、第１無機絶縁膜７の底面から、図４の「Ｓ３」と表示した箇所における点線部までの領域に形成したスリットである。

　第１スリットＳ１は、第１無機絶縁膜７の底面から図４の「Ｓ１」と表示した箇所における点線部まで抜き取ることによって形成したスリットである。第４スリットＳ４は、「Ｓ１」と表示した箇所において形成されていた第２無機絶縁膜８を抜き取ることによって形成したスリットである。第３スリットＳ３および第４スリットＳ４を形成する方法としては、第１スリットＳ１および第２スリットＳ２を形成する方法と同じ方法を用いることができる。

　このように、表示装置１ａは、第１無機絶縁膜７および第２無機絶縁膜８がともに抜き取られて形成されたスリットを有する。そのため、図４に×印で示した起点から第１無機絶縁膜７および第２無機絶縁膜８の内部に進行したクラックを、同じ位置で抑制することができる。それゆえ、クラックの進行を狭い範囲で効果的に抑制することができる。

　表示装置１ａは、第３スリットＳ３および第４スリットＳ４が形成されていること以外は、実施の形態１に係る表示装置１と同様の構成を有する。したがって、表示装置１について説明した合流スリット等を有することができる。

　なお、第１スリットＳ１と第４スリットＳ４、及び第２スリットＳ２と第３スリットＳ３は、図４のようにスリットの端部が一致している場合に限られず、少なくとも互いが重畳していれば、クラックの進行を抑制することができる。

　〔実施形態３〕
　実施形態３に係る表示装置１ｂは、第１無機絶縁膜７と第２無機絶縁膜８との間に有機層３０を備え、有機層３０に第５スリットＳ５が形成されている。図５の（ａ）は、図１の（ａ）に示すＬ３－Ｌ４線に対応する位置の近傍における、表示装置１ｂの平面図である。図５の（ｂ）は、表示装置１ｂを、図１の（ａ）に図示したＬ３－Ｌ４線に対応する位置で切断した断面図のうち、第１無機絶縁膜７、第２無機絶縁膜８、有機層３０、第１スリットＳ１、第２スリットＳ２、第５スリットＳ５、樹脂層１２のみを示した図である。図５の（ｃ）は、平坦化膜３１を形成した表示装置１ｂを示す。

　有機層３０の材料としては、例えば、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂等を挙げることができるが、これに限定されることはない。

　有機層３０は樹脂材料であるが、まれにクラックが発生して表示に影響を及ぼすことがある。表示装置１ｂは、有機層３０において第５スリットＳ５が形成されているため、図５の（ｂ）および（ｃ）に示すように、×印で表される起点から有機層３０の内部を進行するクラックを、第５スリットＳ５によって抑制することができる。また、水分の浸透を防止することができる。つまり、表示装置１ｂは、有機層が第１無機絶縁膜と第２無機絶縁膜の間に形成されている場合であっても、クラックの進行および水分の浸透を防止することができるため有用である。

　本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。

　本発明は表示装置に利用することができる。

　１、１’、１ａ、１ｂ　表示装置
　３　ベースコート膜
　４　ＴＦＴ層
　７　第１無機絶縁膜
　８　第２無機絶縁膜
　１５　半導体膜
　１６　ゲート絶縁膜
　１８　第１層間絶縁膜
　２０　第２層間絶縁膜
　２１　層間絶縁膜
　２９　金属膜
　３０　有機層
　Ｓ１～Ｓ５　第１スリット～第５スリット
　ＮＡ　額縁領域
　ＤＡ　表示領域
　Ｋ１、Ｋ２　切り欠き部（異形部）
　Ｒ、Ｒ’　コーナー部（異形部）
　ＧＳ１～ＧＳ６、ＧＳ６’　合流スリット
　Ａ１～Ａ４　第一垂線～第四垂線
　Ｂ１、Ｂ２　第五垂線、第六垂線
　Ｄ１、Ｄ２　第七垂線、第八垂線

Claims

　樹脂層と、前記樹脂層上に形成され、第１無機絶縁膜及び第２無機絶縁膜を有する薄膜トランジスタ層と、発光素子層と、封止層とを備え、表示領域と、前記表示領域の周囲の額縁領域とを備える表示装置であって、
　前記第１無機絶縁膜および前記第２無機絶縁膜は、それぞれ、１種の無機絶縁膜または積層された２種以上の無機絶縁膜から形成されており、前記第２無機絶縁膜は、前記第１無機絶縁膜よりも上層に存在し、
　前記額縁領域において、前記第１無機絶縁膜には第１スリットが形成されており、前記第２無機絶縁膜には第２スリットが形成されており、前記第１スリットと、前記第２スリットとは重畳しないように形成されていることを特徴とする表示装置。
　前記第１スリットおよび前記第２スリットは、前記表示領域を囲むように形成されていることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
　前記表示領域は少なくとも一部に異形部を有し、前記異形部と前記表示装置の端部との間の額縁領域において、前記第１スリットの一部分と、前記第２スリットの一部分とが重畳して合流スリットを形成していることを特徴とする請求項１または２に記載の表示装置。
　前記表示装置を鉛直上方から見た場合に、前記第１スリットと前記第２スリットとが前記合流スリットを形成していない額縁領域において、前記第１スリットの辺であって、前記第２スリットの辺と対向していない側の辺から、前記第２スリットの辺であって、前記第１スリットの辺と対向していない側の辺まで下した第一垂線の長さと、
　前記表示装置を鉛直上方から見た場合に、前記第１スリットと前記第２スリットとが前記合流スリットを形成している額縁領域において、前記合流スリットの一方の辺から、対向する他方の辺まで下した第二垂線の長さとが、以下の式（１）を満たすことを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
第一垂線の長さ＞第二垂線の長さ・・式（１）
　前記表示装置を鉛直上方から見た場合に、前記第１スリットと前記第２スリットとが前記合流スリットを形成していない額縁領域において、前記第１スリットの一方の辺から対向する他方の辺まで下した第三垂線の長さが、前記第二垂線の長さよりも短く、かつ、前記第２スリットの一方の辺から対向する他方の辺まで下した第四垂線の長さが、前記第二垂線の長さよりも短いことを特徴とする請求項４に記載の表示装置。
　前記表示装置を鉛直上方から見た場合に、前記第１スリットと前記第２スリットとが前記合流スリットを形成していない額縁領域において、前記表示装置の端部から、前記第１スリットおよび前記第２スリットのうち、前記端部に対向しているスリットの、前記端部に対向している辺に下した第五垂線の長さと、
　前記表示装置を鉛直上方から見た場合に、前記第１スリットと前記第２スリットとが前記合流スリットを形成している額縁領域において、前記表示装置の端部から、前記合流スリットの辺のうち、前記端部に対向している辺に下した第六垂線の長さとが、以下の式（２）を満たすことを特徴とする請求項３から５のいずれか１項に記載の表示装置。
第五垂線の長さ＜第六垂線の長さ・・式（２）
　前記表示装置を鉛直上方から見た場合に、前記第１スリットと前記第２スリットとが前記合流スリットを形成していない額縁領域において、前記表示領域の端部から、前記第１スリットおよび前記第２スリットのうち、前記端部に対向しているスリットの、前記端部に対向している辺に下した第七垂線の長さと、
　前記表示装置を鉛直上方から見た場合に、前記第１スリットと前記第２スリットとが前記合流スリットを形成している額縁領域において、前記表示領域の端部から、前記合流スリットの辺のうち、前記端部に対向している辺に下した第八垂線の長さとが、以下の式（３）を満たすことを特徴とする請求項３から５のいずれか１項に記載の表示装置。
第七垂線の長さ＜第八垂線の長さ・・式（３）
　前記第１スリットは前記第２無機絶縁膜によって被覆されており、かつ、前記第２スリットは前記第１無機絶縁膜を露出していることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の表示装置。
　前記第１スリットおよび前記第２スリットが、前記樹脂層によって被覆されていることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の表示装置。
　前記第１スリットと重畳するように、前記第２無機絶縁膜の下層に金属膜が形成されていることを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の表示装置。
　前記第２スリットに重畳するように、前記第１無機絶縁膜に第３スリットが形成されており、前記第１スリットに重畳するように、前記第２無機絶縁膜に第４スリットが形成されていることを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の表示装置。
　前記第１スリット、前記第２スリット、前記第３スリットおよび前記第４スリットが、前記樹脂層によって被覆されていることを特徴とする請求項１１に記載の表示装置。
　前記第１スリットが、前記額縁領域において、前記第２スリットよりも、前記表示装置の端部に近い位置に存在することを特徴とする請求項１から１２のいずれか１項に記載の表示装置。
　前記第１無機絶縁膜は、ベースコート膜、ゲート絶縁膜、第１層間絶縁膜、第２層間絶縁膜、および半導体膜からなる群より選ばれる１種の無機絶縁膜または積層された２種以上の無機絶縁膜であることを特徴とする請求項１から１３のいずれか１項に記載の表示装置。
　前記第２無機絶縁膜は、ゲート絶縁膜、第１層間絶縁膜、第２層間絶縁膜、および半導体膜からなる群より選ばれる１種の無機絶縁膜または積層された２種以上の無機絶縁膜であることを特徴とする請求項１から１４のいずれか１項に記載の表示装置。
　前記第１無機絶縁膜と前記第２無機絶縁膜との間に有機層を備え、前記有機層に第５スリットが形成されていることを特徴とする請求項１から１５のいずれか１項に記載の表示装置。