WO2019224930A1 - 支持部材配置決定装置、支持部材配置決定方法 - Google Patents

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WO2019224930A1
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support member
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substrate
condition
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猛志 藤本
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ヤマハ発動機株式会社
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    • H05K2203/15Position of the PCB during processing
    • H05K2203/1509Horizontally held PCB

Definitions

  • the present invention relates to a technique for determining the arrangement of a support member that supports a substrate.
  • Patent Documents 1 and 2 show a technique for determining the arrangement of support members for supporting a substrate in a component mounter by designating images indicating components mounted on the upper and lower surfaces of the substrate.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide a technique that makes it possible to determine the arrangement of support members that appropriately satisfy each of a plurality of arrangement conditions for obtaining different arrangement forms of support members.
  • the support member arrangement determination device includes a calculation unit that sets a virtual space that virtually represents a real space in which a support member that supports a substrate is arranged, and a plurality of arrangement conditions for obtaining different arrangement modes of the support members And a calculation unit that generates placement condition potential information in which potential is set for the virtual space according to the placement condition for each placement condition and combines the placement condition potential information. Information is generated, and a position where the support member is arranged is determined based on the combined potential information.
  • the support member arrangement determination method includes a step of setting a virtual space that virtually represents a real space in which a support member that supports a substrate is arranged, and a plurality of arrangement conditions for obtaining different arrangement forms of support members. For each, a step of generating placement condition potential information in which a potential is set according to the placement condition for the virtual space, a step of generating composite potential information by combining the placement condition potential information, and support based on the composite potential information Determining a position where the member is to be disposed.
  • each of the plurality of arrangement conditions for obtaining different arrangement forms of the support members is in accordance with the arrangement conditions for the virtual space.
  • Arrangement condition potential information in which the potential is set is generated.
  • positions a support member is determined based on the synthetic
  • the calculation unit may configure the support member arrangement determination device so that the attractive condition that causes the arrangement condition to attract the support member to a position where the arrangement condition requires the arrangement of the support member is set. This makes it possible to place the support member in the vicinity of the place where the placement condition requires the placement.
  • the calculation unit may configure the support member arrangement determination device so as to set a repulsive potential that acts to move the support member away from the position where the arrangement condition prohibits the arrangement of the support member. As a result, it is possible to place the support member by removing the place where the placement condition prohibits the placement.
  • the calculation unit may configure the support member arrangement determination device so as to generate the combined potential information by attaching a weighting coefficient to a plurality of arrangement condition potential information. Accordingly, it is possible to determine the arrangement of the support members that appropriately satisfies these according to the priority (weighting coefficient) of the plurality of arrangement conditions.
  • an operation unit that receives an input operation by the operator may be further provided, and the calculation unit may configure the support member arrangement determination device so as to generate the composite potential information with a weighting factor according to the input operation.
  • the calculation unit determines whether there is interference between an obstacle provided on the surface of the substrate that is in contact with the support member and the support member arranged at a position determined based on the composite potential information, and interference occurs.
  • the support member arrangement determining device may be configured to adjust the position where the support member is arranged. Thereby, the arrangement of the support member can be determined while avoiding interference between the support member and the obstacle.
  • the support member arrangement determining apparatus may be configured to determine the arrangement of the support member that supports the substrate on which the solder is printed via the mask in the printing machine. In such a configuration, it is possible to print solder on the substrate while supporting the substrate by the appropriately arranged support member.
  • the support member arrangement determining device may be configured to determine the arrangement of the support members that support the substrate on which the component is mounted in the component mounter. In such a configuration, it is possible to mount components on the board while supporting the board with the support member appropriately arranged.
  • the present invention it is possible to determine the arrangement of the support members that appropriately satisfies each of a plurality of arrangement conditions for obtaining different arrangement modes of the support members.
  • FIG. 2 is a block diagram showing an electrical configuration provided in the printing machine of FIG. 1.
  • the perspective view which shows typically the example of arrangement
  • the block diagram which shows an example of the electrical constitution of the server computer which determines arrangement
  • the flowchart which shows an example of backup pin arrangement
  • the contour map which shows an example of the potential field set according to a pattern direct condition.
  • the contour map which shows an example of the potential field set according to components avoidance conditions.
  • the contour map which shows an example of the potential field set according to a bending suppression condition The contour map which shows an example of the potential field set according to arrangement
  • the figure which shows an example of the position adjustment of a backup pin typically.
  • the partial front view which shows an example of a component mounting machine typically.
  • FIG. 1 is a front view schematically showing the printing press
  • FIG. 2 is a block diagram showing an electrical configuration of the printing press shown in FIG.
  • the printing machine 1 includes a mask holding unit 2 that holds a mask M, a substrate holding unit 4 that is disposed below the mask M, and a squeegee unit 6 that is disposed above the mask M.
  • the printing machine 1 includes a main control unit 10 composed of a CPU (Central Processing Unit) and a RAM (Random Access Memory), and a storage unit 11 composed of an HDD (Hard Disk Drive).
  • a main control unit 10 composed of a CPU (Central Processing Unit) and a RAM (Random Access Memory)
  • HDD Hard Disk Drive
  • the main control unit 10 controls the units 4 and 6 according to the printing program stored in the storage unit 11, so that the substrate holding unit 4 causes the substrate B to face the mask M from below and the squeegee 61 of the squeegee unit 6. Is slid on the upper surface of the mask M in the X direction. As a result, the solder D supplied to the upper surface of the mask M is printed on the upper surface Bu of the substrate B through a pattern penetrating the mask M.
  • the printing press 1 includes a drive control unit 12 and a valve control unit 13 that control the operation of each movable unit.
  • the main control unit 10 includes the movable units of the units 4 and 6 by the drive control unit 12 and the valve control unit 13.
  • the printing machine 1 includes a display unit 14 configured by, for example, a liquid crystal display and an input unit 15 configured by input devices such as a keyboard and a mouse. Therefore, the operator can confirm the operation status of the printing press 1 by confirming the display content of the display unit 14, and can input a command to the printing press 1 by operating the input unit 15.
  • the display unit 14 and the input unit 15 may be integrally configured by a touch panel.
  • the mask holding unit 2 has a clamp member 21, and the mask M is detachably attached to the clamp member 21 through a frame 22 provided on the peripheral edge thereof. Accordingly, the mask M having a flat plate shape is held horizontally by the mask holding unit 2.
  • This mask M has a rectangular shape in plan view, and has a through-hole (mask pattern) having a shape corresponding to the print pattern on the substrate B.
  • the substrate holding unit 4 is disposed below the mask M held by the mask holding unit 2 and has a function of aligning the position of the substrate B with respect to the mask M.
  • the substrate holding unit 4 includes a pair of conveyors 41 that convey the substrate B, a substrate holding unit 42 that holds the substrate B received from the conveyor 41, and a flat plate-shaped movable table 43 that supports the conveyor 41 and the substrate holding unit 42. And have.
  • the pair of conveyors 41 are arranged in parallel to the Y direction with an interval in the X direction, and support both ends of the substrate B in the X direction from below on their upper surfaces.
  • the substrate holding unit 4 is provided with a conveyor driving unit M41 that drives the conveyors 41. Then, when the conveyor drive unit M41 that has received a command from the drive control unit 12 drives each conveyor 41, each conveyor 41 transports the substrate B in the Y direction, and carries the substrate B into or out of the printing press 1. To do.
  • the substrate holding unit 42 includes a flat plate-shaped lifting table 421 and a slide column 422 that can slide in the Z direction with respect to the movable table 43, and the lifting table 421 is supported on the upper end of the slide column 422.
  • a plurality of backup pins P standing in the Z direction are arranged at intervals in the X and Y directions.
  • the substrate holding unit 42 is provided with a backup drive unit M423, and the backup drive unit M423 that has received a command from the drive control unit 12 moves the slide column 422 up and down, so that the backup pin P is installed together with the lift table 421. Move up and down.
  • the backup drive unit M423 positions the upper end of each backup pin P below the upper surface of the conveyor 41. Then, when the conveyor 41 carries the substrate B immediately above the backup pin P, the backup drive unit M423 raises the backup pin P so that the upper end of the backup pin P protrudes above the upper surface of the conveyor 41. Accordingly, the substrate B is pushed up while the upper end of the backup pin P is in contact with the lower surface Bd of the substrate B, and the substrate B is transferred from the upper surface of the conveyor 41 to the upper end of each backup pin P.
  • the substrate holding unit 42 includes a pair of clamp plates 424 disposed above the pair of conveyors 41 at an interval in the X direction, and a plate driving unit M424 that drives at least one of the clamp plates 424 in the X direction.
  • the upper surface of each clamp plate 424 is a plane parallel to the X direction and the Y direction, and is located at the same height.
  • the plate driving unit M424 adjusts the air supplied to the clamp plate 424 by opening and closing the valve in accordance with a command from the valve control unit 13. As a result, the clamp plate 424 is driven in the X direction.
  • the drive control unit 12 raises the substrate B on the backup pin P to between the pair of clamp plates 424, and the valve in response to a command from the valve control unit 13 operates to narrow the interval between the clamp plates 424.
  • the substrate B is clamped by the clamp plate 424 from the X direction (horizontal direction).
  • substrate height data indicating the drive amount of the backup drive unit M423 that matches the height of the upper surface of the substrate B with the height of the upper surface of the clamp plate 424 is stored in the storage unit 11.
  • the backup drive unit M423 raises the substrate B by the increase width indicated by the substrate height data.
  • the plate drive unit M424 makes the distance between the pair of clamp plates 424 wider than the width of the substrate B in the X direction.
  • the plate drive unit M424 narrows the distance between the pair of clamp plates 424 and sandwiches the substrate B from the X direction by the clamp plates 424. In this way, the substrate B is clamped by the clamp plate 424.
  • the substrate holding unit 4 has a table driving mechanism 44 that drives the movable table 43.
  • the table driving mechanism 44 includes an X-axis table 441, a Y-axis table 442 attached to the upper surface of the X-axis table 441, an R-axis table 443 attached to the upper surface of the Y-axis table 442, and an R-axis table 443.
  • a ball screw 444 that moves the movable table 43 up and down is provided.
  • the table drive mechanism 44 moves the X-axis table 441 in the X direction, the X-axis drive unit M441, the Y-axis table 442 in the Y direction, the Y-axis drive unit M442, and the R-axis table 443 in the R direction ( An R-axis drive unit M443 that drives in a rotation direction centered on an axis parallel to the Z direction), and a Z-axis drive unit M444 that drives the movable table 43 in the Z direction by rotating the ball screw 444. Therefore, the drive control unit 12 can drive the conveyor 41 and the substrate holding unit 42 arranged on the movable table 43 in the X, Y, Z, and R directions by controlling the drive units M441 to M444.
  • the drive control unit 12 determines the position of the substrate B clamped on the clamp plate 424 by the X / Y / R axis driving units M441 to M443. -Adjust in the Y direction and adjust in the Z direction by the Z-axis drive unit M444. As a result, the upper surfaces of the clamp plate 424 and the substrate B are in contact with the lower surface of the mask M.
  • FIG. 3 is a perspective view schematically showing an arrangement example of the backup pins with respect to the lifting table.
  • the pin arrangement unit 7 will be described with reference to FIGS.
  • the pin placement unit 7 includes a placement head 71, an X-axis drive unit M711 that drives the placement head 71 in the X direction, and a Y-axis drive unit M712 that drives the placement head 71 in the Y direction. Moves the arrangement head 71 two-dimensionally in the XY direction by the X-axis drive unit M711 and the Y-axis drive unit M712.
  • the arrangement head 71 has a plurality of suction nozzles 72 arranged in parallel in the Y direction with an interval L, and the pin arrangement unit 7 is a Z-axis drive unit that individually drives the suction nozzles 72 in the Z direction. M713.
  • the drive control part 12 raises / lowers each suction nozzle 72 by the Z-axis drive part M713.
  • the number of suction nozzles 72 is not limited to the two illustrated in FIG. Further, the interval L between adjacent suction nozzles 72 can be obtained as a distance between the centers of these suction nozzles 72.
  • the pin arrangement unit 7 has a pin stocker 75 arranged on the side of the elevating table 421 in the X direction, and stocks a large number of backup pins P in this pin stocker 75.
  • the backup pins P stand up parallel to the Z direction and are arranged at intervals L in parallel to the Y direction.
  • the main control unit 10 moves the placement head 71 between the pin stocker 75 and the lifting table 421 to transfer the backup pin P from the pin stocker 75 to the lifting table 421, or from the lifting table 421 to the pin stocker 75.
  • the backup pin P can be stored.
  • the drive control unit 12 causes the two suction nozzles 72 to face the two backup pins P from above by positioning the arrangement head 71 above the pin stocker 75 by the X-axis drive unit M711 and the Y-axis drive unit M712. .
  • the valve control unit 13 applies a negative pressure to the suction nozzles 72.
  • the drive control unit 12 raises the suction nozzles 72.
  • the drive control unit 12 moves the arrangement head 71 to the lifting table 421 by the X-axis drive unit M 711 and the Y-axis drive unit M 712. By moving upward, the backup pin P is opposed to the target position of the lifting table 421 from above.
  • the drive control unit 12 lowers the suction nozzle 72 by the Z-axis drive unit M713 to bring the backup pin P into contact with the target position of the lifting table 421, the valve control unit 13 releases the negative pressure of the suction nozzle 72.
  • the drive control unit 12 raises the suction nozzle 72.
  • the arrangement head 71 simultaneously transfers the two backup pins P onto the lifting table 421. Otherwise, the placement head 71 transfers one backup pin P of the two backup pins P to the lift table 421 and then transfers the other backup pin P to the lift table 421. .
  • the backup pin P placed on the lifting table 421 is held on the lifting table 421 by a magnetic force. According to such a holding mode, unlike the configuration in which the backup pin P is held by engaging the backup pin P with a plurality of engagement holes arranged in a matrix, the backup pin P can be arbitrarily placed on the lifting table 421. It is possible to realize a free location that can be placed at the position of.
  • the backup pin P is transferred from the pin stocker 75 to the lifting table 421. Further, when the backup pin P is stored in the lift table 421 from the pin stocker 75, an operation reverse to the above is executed.
  • the arrangement of the backup pins P on the lifting table 421 is determined by the server computer that manages the printing machine 1.
  • FIG. 4 is a block diagram showing an example of the electrical configuration of the server computer that determines the arrangement of the backup pins.
  • the server computer 9 includes a calculation unit 91, a storage unit 92, a UI 93, and a communication unit 94.
  • the arithmetic unit 91 is a processor composed of a CPU and a RAM, and executes arithmetic processing for determining the arrangement of the backup pins P.
  • the storage unit 92 includes an HDD, and stores various data necessary for determining the arrangement of the backup pins P.
  • the UI 93 accepts an operator's input operation and displays various information to the operator.
  • the communication unit 94 executes communication with an external device such as the printing machine 1.
  • the storage unit 92 stores a plurality of arrangement conditions C that require the backup pins P to be arranged in different arrangement modes.
  • FIG. 5 is a diagram showing a plurality of arrangement conditions for obtaining different arrangement modes for the backup pins in a tabular form.
  • the arrangement condition C with the identification number I 1, that is, the condition directly under the pattern, requires an arrangement mode in which the backup pin P is arranged at a position immediately below the pattern of the mask M. This is because the substrate B is supported by the backup pin P immediately below the pattern of the mask M, thereby suppressing the gap between the mask M and the substrate B at the periphery of the pattern, and forming a good solder D pattern. It is intended to print on the substrate B.
  • the purpose of this is to suppress the generation of a gap between the mask M and the substrate B by suppressing the bending of the substrate B, and to print a good solder D pattern on the substrate B.
  • FIG. 6 is a flowchart showing an example of backup pin arrangement determination executed by the server computer.
  • This backup pin arrangement determination is executed by the calculation unit 91 using a so-called potential method. That is, the calculation unit 91 sets a virtual space Sv (FIGS. 7 to 10, and 12) that virtually indicates the real space Sr (FIG. 3) in which the backup pin P is arranged. Then, the calculation unit 91 sets the attractive potential Fa that acts to attract the backup pin P to a position where the arrangement of the backup pin P is required, while the repulsive potential Fb that acts to keep the backup pin P away is the backup pin.
  • the potential field F is generated in the virtual space Sv by setting the position where the arrangement of P is prohibited. Then, the calculation unit 91 determines the arrangement of the backup pins P while virtually arranging the backup pins P in the potential field F of the virtual space Sv.
  • step S101 it is determined whether the arrangement of the predetermined number of backup pins P has been completed.
  • the predetermined number is set, for example, by an operator input operation on the UI 93. If the arrangement of the predetermined number of backup pins P is not completed (in the case of “NO” in step S101), the identification number I of the arrangement condition C is reset to zero (step S102), and the identification number I is Incremented (step S103).
  • FIG. 7 is a contour diagram showing an example of a potential field set according to the conditions immediately below the pattern.
  • the X axis and the Y axis indicate the position in the X direction and the position in the Y direction, respectively, and the Z axis indicates the height of the potential.
  • the computing unit 91 sets the attractive potential Fa (potentially convex potential function) at the position (X / Y coordinate) of each pattern of the mask M in response to a request for the condition immediately below the pattern.
  • the attractive potential Fa gradually decreases toward the pattern position of the mask M, and has a certain minimum value at the position of the pattern.
  • the potential field F (1) shown in FIG. 7 is set.
  • the identification number I 1, “NO” is determined in step S105, and the identification number I is incremented in step S103.
  • FIG. 8 is a contour diagram showing an example of a potential field set according to the component avoidance condition.
  • the notation of FIG. 8 is the same as that of FIG.
  • the computing unit 91 sets a repulsive potential Fb (potentially convex potential function) at the position (X / Y coordinate) of each component E mounted on the lower surface Bd of the substrate B in response to a request for the component avoidance condition.
  • This repulsive potential Fb increases vertically at the end of the existence range of the part E, and has a constant value in the existence range of the part E.
  • the height of the potential in the existence range of the part E differs depending on the height of the part E, and is higher as the part E is higher.
  • the potential field F (2) shown in FIG. 8 is set.
  • the identification number I 2
  • “NO” is determined in step S105, and the identification number I is incremented in step S103.
  • FIG. 9 is a contour diagram showing an example of a potential field set in accordance with the deflection suppression condition. The notation of FIG. 9 is the same as that of FIG.
  • the calculation unit 91 sets the attractive potential Fa (a downwardly convex potential function) at a position where the deflection of the substrate B is maximized in a state before the backup pin P to be arranged is arranged, in response to a request for the bending suppression condition. To do.
  • the attractive potential Fa corresponds to a result of predicting the bending of the substrate B before the backup pin P is arranged, and the position where the bending of the substrate B is larger has a lower potential.
  • the potential field F (3) shown in FIG. 9 is set.
  • the potential field F (3) since the backup pin P is not disposed at all, the potential field F (3) has a potential that gradually decreases as the distance from the clamp member 21 that supports the substrate B increases. Has the lowest value at the center position.
  • the identification number I 3
  • “NO” is determined in the step S105, and the identification number I is incremented in the step S103.
  • FIG. 10 is a contour diagram showing an example of a potential field set according to the placement efficiency condition. The notation of FIG. 10 is the same as that of FIG.
  • the calculation unit 91 generates an attractive potential Fa (a downwardly convex potential function) that gradually decreases toward the bottom in accordance with a request for the arrangement efficiency condition in the X direction and the Y direction while leaving an interval L in parallel with the X direction. A plurality is arranged in a matrix. As a result, the potential field F (4) shown in FIG. 10 is set.
  • FIG. 11 is a diagram showing an example of the weighting coefficient used in synthesizing the potential field in a tabular form. As shown in FIG. 11, priority is given to the print quality of the solder D on the substrate B, priority is given to shortening the time for placing the backup pins P on the lift table 421, and balance is not biased to any of these.
  • the weighting factor W suitable for each mode is stored in the storage unit 92.
  • the weighting factors W of the potential fields F (1) to F (4) are all 5 and are equal to each other.
  • step S106 The operator can select one mode from the modes shown in FIG. 11 by operating the UI 93.
  • FIG. 12 is a contour map showing an example of the synthetic potential field.
  • the notation of FIG. 12 is the same as that of FIG.
  • step S108 it is determined whether or not there is a position having a potential equal to or lower than the threshold in the synthetic potential field F (C).
  • This threshold is set, for example, by an operator input operation on the UI 93. If there is no position having a potential equal to or lower than the threshold (in the case of “NO” in step S108), the flowchart of FIG.
  • the backup pin P is virtually arranged at the position having the lowest potential among these positions (step S109). At this time, when there are a plurality of positions having the lowest potential, the backup pin P is virtually arranged at each of these positions.
  • step S110 it is confirmed whether there is interference between the backup pin P virtually arranged in step S109 and the component E existing on the lower surface Bd of the substrate B. If there is no interference (if “NO” in step S110), the process returns to step S101. On the other hand, when there is interference, the position of the backup pin P is adjusted (step S111).
  • FIG. 13 is a diagram schematically showing an example of the position adjustment of the backup pin.
  • the “before adjustment” column of FIG. 13 the state in which the backup pin P is virtually arranged in step S109 is shown.
  • the position of the backup pin P is adjusted.
  • step S110 since the flange of the backup pin P interferes with the part E, it is determined that there is interference in step S110. Therefore, in step S111, the position of the backup pin P is moved in the direction away from the component E by the distance ⁇ .
  • the interference between the backup pin P and the component E is eliminated.
  • step S111 When the position of the backup pin P is adjusted in step S111, the process returns to step S110 and it is confirmed whether or not the interference between the backup pin P and the part E has been eliminated. And if step S110 and S111 are repeated until interference is eliminated, it will return to step S101. Then, when steps S101 to S111 are repeated until the virtual arrangement of the predetermined number of backup pins P is completed (until “YES” in step S101), the flowchart of FIG. 6 ends.
  • step S104 for each of the plurality of arrangement conditions C for obtaining different arrangement forms of the backup pins P, potential fields F (1) to F (1) to which potentials corresponding to the arrangement conditions C are set for the virtual space Sv. F (4) is generated (step S104). Based on the combined potential F (C) obtained by synthesizing the potential fields F (1) to F (4) of each of the plurality of arrangement conditions C, the position where the backup pin P is arranged is determined. Therefore, it is possible to determine the arrangement of the backup pins P that appropriately satisfies each of the plurality of arrangement conditions C.
  • a potential field F (1) in which a potential corresponding to the condition C (1) immediately below the pattern is set is generated. Therefore, the substrate B can be supported by the backup pins P in the vicinity of the pattern of the mask M. As a result, it is possible to suppress the generation of a gap between the mask M and the substrate B at the periphery of the pattern and to print a good solder D pattern on the substrate B.
  • a potential field F (2) in which a potential corresponding to the part avoidance condition C (2) is set is generated. Therefore, it is possible to prevent the interference between the backup pin P and the component E.
  • a potential field F (3) in which a potential corresponding to the bending suppression condition C (3) is set is generated. Therefore, the substrate B can be supported by the backup pins P and the bending of the substrate B can be suppressed. As a result, it is possible to suppress the generation of a gap between the mask M and the substrate B and print a good solder D pattern on the substrate B.
  • a potential field F (4) in which a potential corresponding to the placement efficiency condition C (4) is set is generated. Therefore, the backup pin P that the placement head 71 sucks with each of the plurality of suction nozzles 72 can be quickly placed on the lifting table 421.
  • the calculation unit 91 sets the attractive potential Fa at a position where the arrangement condition C obtains the arrangement of the backup pin P.
  • the backup pin P can be arranged near the place where the arrangement condition C requires the arrangement.
  • the arithmetic unit 91 sets the repulsive potential Fb at a position where the arrangement condition C prohibits the arrangement of the backup pin P. As a result, it is possible to place the backup pin P by removing the place where the placement condition C prohibits the placement.
  • the calculation unit 91 adds the weighting factor W to the potential fields F (1) to F (4) of each of the plurality of arrangement conditions C to generate synthetic potential information (steps S106 and S107). Accordingly, it is possible to determine the arrangement of the backup pins P that appropriately satisfies these according to the priorities of the plurality of arrangement conditions C.
  • a UI 93 that accepts an input operation by the operator is provided, and the calculation unit 91 generates a composite potential field F (C) with a weighting factor W according to the input operation to the UI 93.
  • the arrangement of the backup pins P that appropriately satisfies the plurality of arrangement conditions C can be determined according to the priority indicated by the operator.
  • the calculation unit 91 is located at a position determined based on the component E (obstacle) provided on the lower surface Bd with which the backup pin P contacts and the composite potential field F (C), out of both surfaces Bu and Bd of the substrate B.
  • the presence / absence of interference with the arranged backup pin P is determined (step S110), and when the interference occurs, the position where the backup pin P is arranged is adjusted (step S111).
  • the arrangement of the backup pins P can be determined while avoiding interference between the backup pins P and the parts E.
  • the server computer 9 determines the arrangement of the backup pins P that support the substrate B on which the solder D is printed via the mask M in the printing machine 1. In such a configuration, it is possible to print the solder D on the substrate B while supporting the substrate B with the backup pins P appropriately arranged.
  • the server computer 9 corresponds to an example of the “support member arrangement determination device” of the present invention
  • the calculation unit 91 corresponds to an example of the “calculation unit” of the present invention
  • the storage unit 92 The substrate B corresponds to an example of the “substrate” of the present invention
  • the backup pin P corresponds to an example of the “support member” of the present invention
  • the real space Sr corresponds to the present invention.
  • the virtual space Sv corresponds to an example of the “virtual space” of the present invention
  • the arrangement condition C corresponds to an example of the “arrangement condition” of the present invention
  • the potential field F (1 ) To F (4) correspond to an example of the “configuration condition potential information” of the present invention
  • the composite potential field F (C) corresponds to an example of the “composition potential information” of the present invention
  • the weight coefficient W is It corresponds to an example of the “weight coefficient” of the present invention
  • UI 93 is the present invention.
  • the lower surface Bd of the substrate B corresponds to an example of the “surface with which the support member contacts” in the present invention
  • the part E corresponds to an example of the “obstacle” in the present invention.
  • the machine 1 corresponds to an example of the “printing machine” of the present invention
  • the mask M corresponds to an example of the “mask” of the present invention
  • the solder D corresponds to an example of the “solder” of the present invention.
  • the potential field F may be generated using an arrangement condition C different from the arrangement condition C illustrated in FIG.
  • an arrangement condition C for obtaining an arrangement mode in which the backup pins P are arranged preferentially at positions where both of the two types of substrates B can be supported may be used.
  • weighting factor W for obtaining the composite potential field F (C) is not limited to the example of FIG. 11 and can be variously changed.
  • the number of suction nozzles 72 provided in the arrangement head 71 is not limited to the above two, and may be one or three or more.
  • the server computer 9 can execute the backup pin arrangement determination of FIG. 6 in order to determine the arrangement of the backup pins P that support the substrate B in an apparatus different from the printing press 1.
  • the backup pin arrangement determination can be executed. In such a configuration, it is possible to mount the component E on the board B while supporting the board B with the backup pins P arranged appropriately.
  • FIG. 14 is a partial front view schematically showing an example of a component mounting machine.
  • the board B carried in from the outside of the apparatus is stopped at a predetermined work position L (the position of the board B shown in FIG. 14), and is fixed and held by a fixing means (not shown).
  • a predetermined work position L the position of the board B shown in FIG. 14
  • a fixing means not shown.
  • the component mounter 8 includes a backup unit 83 that supports the board B fixed at the work position from below.
  • the backup unit 83 supports the substrate B by abutting a plurality of backup pins P, which are detachably disposed on the upper surface of a flat backup plate 831 (push-up plate), against the substrate B from below. This makes it possible to mount the component E on the board B while firmly supporting the board B with the backup pins P.

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Abstract

互いに異なるバックアップピンPの配置態様を求める複数の配置条件Cのそれぞれについて、仮想空間Svに対して配置条件Cに応じたポテンシャルを設定したポテンシャル場F(1)~F(4)が生成される(ステップS104)。そして、複数の配置条件Cそれぞれのポテンシャル場F(1)~F(4)を合成した合成ポテンシャルF(C)に基づき、バックアップピンPを配置する位置が決定される。したがって、複数の配置条件Cのそれぞれを適度に満足するバックアップピンPの配置を決定することが可能となっている。

Description

支持部材配置決定装置、支持部材配置決定方法
 この発明は、基板を支持する支持部材の配置を決定する技術に関する。
 印刷機あるいは部品実装機等では、作業(印刷/部品実装)の対象となる基板を支持するためにバックアップピン等の支持部材が用いられる。この際、基板に対して作業を適切に実行するためには、支持部材の配置が重要となる。そこで、特許文献1、2では、部品実装機において基板を支持する支持部材の配置を、基板の上面および下面に実装された部品を示す画像から指定することで決定する技術が示されている。
特許第4452686号公報 特許第4572262号公報
 ただし、支持部材の配置には、互いに異なる種々の条件が求められる。例えば、マスクを介して基板に半田を印刷する印刷機では、マスクのパターンに応じた位置で基板を支持できるように支持部材を配置することが求められる。一方で、基板の両面のうち、支持部材が接触する面に部品等の障害物が存在する場合には、これを避けて支持部材を配置することが求められる。そして、これらのような配置条件は必ずしも同時かつ完全に満たすことができないため、各配置条件を勘案しつつ適当な支持部材の配置を決定する必要があった。
 この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、互いに異なる支持部材の配置態様を求める複数の配置条件のそれぞれを適度に満足する支持部材の配置を決定することを可能とする技術の提供を目的とする。
 本発明に係る支持部材配置決定装置は、基板を支持する支持部材が配置される実空間を仮想的に表す仮想空間を設定する演算部と、互いに異なる支持部材の配置態様を求める複数の配置条件を記憶する記憶部とを備え、演算部は、仮想空間に対して配置条件に応じてポテンシャルを設定した配置条件ポテンシャル情報を各配置条件について生成するとともに、各配置条件ポテンシャル情報を合成した合成ポテンシャル情報を生成し、合成ポテンシャル情報に基づき支持部材を配置する位置を決定する。
 本発明に係る支持部材配置決定方法は、基板を支持する支持部材が配置される実空間を仮想的に表す仮想空間を設定する工程と、互いに異なる支持部材の配置態様を求める複数の配置条件のそれぞれについて、仮想空間に対して配置条件に応じてポテンシャルを設定した配置条件ポテンシャル情報を生成する工程と、各配置条件ポテンシャル情報を合成した合成ポテンシャル情報を生成する工程と、合成ポテンシャル情報に基づき支持部材を配置する位置を決定する工程とを備える。
 このように構成された本発明(支持部材配置決定装置、支持部材配置決定方法)では、互いに異なる支持部材の配置態様を求める複数の配置条件のそれぞれについて、仮想空間に対して配置条件に応じたポテンシャルを設定した配置条件ポテンシャル情報が生成される。そして、複数の配置条件ポテンシャル情報を合成した合成ポテンシャル情報に基づき、支持部材を配置する位置が決定される。したがって、複数の配置条件のそれぞれを適度に満足する支持部材の配置を決定することが可能となっている。
 また、演算部は、配置条件が支持部材の配置を求める位置に支持部材を引き付けるように作用する引力ポテンシャルを設定するように、支持部材配置決定装置を構成しても良い。これによって、配置条件が配置を求める場所の近傍に支持部材を配置することが可能となる。
 また、演算部は、配置条件が支持部材の配置を禁止する位置に支持部材を遠ざけるように作用する斥力ポテンシャルを設定するように、支持部材配置決定装置を構成しても良い。これによって、配置条件が配置を禁止する場所を外して支持部材を配置することが可能となる。
 また、演算部は、複数の配置条件ポテンシャル情報に対して重み係数を付けて合成ポテンシャル情報を生成するように、支持部材配置決定装置を構成しても良い。これによって、複数の配置条件の優先度(重み係数)に応じてこれらを適度に満足する支持部材の配置を決定することができる。
 また、オペレータによる入力操作を受け付ける操作部をさらに備え、演算部は、入力操作に応じた重み係数を付けて合成ポテンシャル情報を生成するように、支持部材配置決定装置を構成しても良い。これによって、オペレータが示す優先度に応じて、複数の配置条件を適度に満足する支持部材の配置を決定することができる。
 また、演算部は、基板の両面のうち支持部材が接触する面に設けられた障害物と、合成ポテンシャル情報に基づき決定した位置に配置した支持部材との干渉の有無を判断し、干渉が生じる場合には支持部材を配置する位置を調整するように、支持部材配置決定装置を構成しても良い。これによって、支持部材と障害物との干渉を回避しつつ、支持部材の配置を決定することができる。
 また、印刷機においてマスクを介して半田が印刷される基板を支持する支持部材の配置を決定するように、支持部材配置決定装置を構成しても良い。かかる構成では、適切に配置された支持部材によって基板を支持しつつ、基板に対して半田を印刷することが可能となる。
 また、部品実装機において部品が実装される基板を支持する支持部材の配置を決定するように、支持部材配置決定装置を構成しても良い。かかる構成では、適切に配置された支持部材によって基板を支持しつつ、基板に対して部品を実装することが可能となる。
 本発明によれば、互いに異なる支持部材の配置態様を求める複数の配置条件のそれぞれを適度に満足する支持部材の配置を決定することが可能となる。
印刷機を模式的に示す正面図。 図1の印刷機が備える電気的構成を示すブロック図。 昇降テーブルに対するバックアップピンの配置例を模式的に示す斜視図。 バックアップピンの配置を決定するサーバコンピュータの電気的構成の一例を示すブロック図。 互いに異なる配置態様をバックアップピンに求める複数の配置条件を表形式で示す図。 サーバコンピュータによって実行されるバックアップピン配置決定の一例を示すフローチャート。 パターン直下条件に応じて設定されるポテンシャル場の一例を示す等高線図。 部品回避条件に応じて設定されるポテンシャル場の一例を示す等高線図。 撓み抑制条件に応じて設定されるポテンシャル場の一例を示す等高線図。 配置効率条件に応じて設定されるポテンシャル場の一例を示す等高線図。 ポテンシャル場を合成する際に用いられる重み係数の一例を表形式で示す図。 合成ポテンシャル場の一例を示す等高線図。 バックアップピンの位置調整の一例を模式的に示す図。 部品実装機の一例を模式的に示す部分正面図。
 図1は印刷機を模式的に示す正面図であり、図2は図1の印刷機が備える電気的構成を示すブロック図である。図1および以下の図では、Z方向を鉛直方向とし、X方向およびY方向を水平方向とするXYZ直交座標軸を適宜示す。この印刷機1は、マスクMを保持するマスク保持ユニット2と、マスクMの下方に配置された基板保持ユニット4と、マスクMの上方に配置されたスキージユニット6とを備える。さらに、印刷機1は、CPU(Central Processing Unit)およびRAM(Random Access Memory)等で構成された主制御部10と、HDD(Hard Disk Drive)等で構成された記憶部11とを備える。そして、主制御部10が記憶部11に記憶される印刷プログラムに従って各ユニット4、6を制御することで、基板保持ユニット4により基板BをマスクMに下方から対向させつつスキージユニット6のスキージ61の先端をマスクMの上面にX方向へ摺動させる。これによって、マスクMの上面に供給された半田Dが、マスクMを貫通するパターンを介して基板Bの上面Buに印刷される。
 また、印刷機1は、各可動部の動作を制御する駆動制御部12およびバルブ制御部13を備え、主制御部10は、駆動制御部12およびバルブ制御部13によりユニット4、6の可動部を制御する。さらに、印刷機1は、例えば液晶ディスプレイ等で構成された表示ユニット14と、キーボードやマウスといった入力機器で構成された入力ユニット15とを備える。したがって、オペレータは、表示ユニット14の表示内容を確認することで印刷機1の稼働状況を確認したり、入力ユニット15を操作することで印刷機1に指令を入力したりできる。なお、表示ユニット14および入力ユニット15はタッチパネルにより一体的に構成しても構わない。
 マスク保持ユニット2はクランプ部材21を有し、マスクMはその周縁部に設けられたフレーム22を介してクランプ部材21に着脱可能に取り付けられる。これによって、平板形状を有するマスクMがマスク保持ユニット2により水平に保持される。このマスクMは、平面視において矩形状を有し、基板Bへの印刷パターンに応じた形状の貫通孔(マスクパターン)を有する。
 基板保持ユニット4は、マスク保持ユニット2に保持されたマスクMの下方に配置され、マスクMに対して基板Bの位置を合わせる機能を担う。この基板保持ユニット4は、基板Bを搬送する一対のコンベア41と、コンベア41から受け取った基板Bを保持する基板保持部42と、コンベア41および基板保持部42を支持する平板形状の可動テーブル43とを有する。
 一対のコンベア41はX方向に間隔を空けつつY方向に平行に配置されており、それぞれの上面で基板BのX方向の両端を下方から支持する。また、基板保持ユニット4には、これらコンベア41を駆動するコンベア駆動部M41が設けられている。そして、駆動制御部12からの指令を受けたコンベア駆動部M41が各コンベア41を駆動すると、各コンベア41がY方向に基板Bを搬送して、印刷機1に対する基板Bの搬入あるいは搬出を実行する。
 基板保持部42は、平板形状の昇降テーブル421と、可動テーブル43に対してZ方向にスライド可能なスライド支柱422とを有し、昇降テーブル421がスライド支柱422の上端に支持されている。この昇降テーブル421の上面にはZ方向に立設された複数のバックアップピンPがX方向およびY方向に間隔を空けて並ぶ。さらに、基板保持部42にはバックアップ駆動部M423が設けられており、駆動制御部12からの指令を受けたバックアップ駆動部M423がスライド支柱422を昇降させることで、昇降テーブル421とともにバックアップピンPを昇降させる。例えばコンベア41の基板Bの搬入時は、バックアップ駆動部M423は、各バックアップピンPの上端をコンベア41の上面より下方に位置させる。そして、コンベア41がバックアップピンPの直上に基板Bを搬入すると、バックアップ駆動部M423はバックアップピンPを上昇させることで、バックアップピンPの上端をコンベア41の上面より上方へ突出させる。これによって、バックアップピンPの上端が基板Bの下面Bdに接触しつつ基板Bを押し上げて、コンベア41の上面から各バックアップピンPの上端へ基板Bが受け渡される。
 また、基板保持部42は、一対のコンベア41の上方でX方向に間隔を空けて配置された一対のクランププレート424と、これらクランププレート424の少なくとも一方をX方向に駆動するプレート駆動部M424とを有する。各クランププレート424の上面はX方向およびY方向に平行な平面であり、同じ高さに位置する。プレート駆動部M424は、バルブ制御部13からの指令に応じてバルブを開閉することで、クランププレート424へ供給するエアを調整する。これによって、クランププレート424がX方向に駆動される。
 そして、駆動制御部12がバックアップピンP上の基板Bを一対のクランププレート424の間にまで上昇させ、バルブ制御部13からの指令を受けたバルブが動作してこれらクランププレート424の間隔を狭めることで、基板Bがこれらクランププレート424によりX方向(水平方向)からクランプされる。具体的には、基板Bの上面の高さをクランププレート424の上面の高さに一致させるバックアップ駆動部M423の駆動量を示す基板高さデータが記憶部11に格納されている。そして、バックアップ駆動部M423は基板高さデータが示す上昇幅だけ基板Bを上昇させる。この際、バックアップ駆動部M423による基板Bの上昇中は、プレート駆動部M424は一対のクランププレート424の間隔を基板BのX方向の幅より広くする。そして、バックアップ駆動部M423による基板Bの上昇が完了すると、プレート駆動部M424は一対のクランププレート424の間隔を狭めて、これらクランププレート424により基板BをX方向から挟む。こうして、基板Bがクランププレート424によりクランプされる。
 さらに、基板保持ユニット4は、可動テーブル43を駆動するテーブル駆動機構44を有する。このテーブル駆動機構44は、X軸テーブル441と、X軸テーブル441の上面に取り付けられたY軸テーブル442と、Y軸テーブル442の上面に取り付けられたR軸テーブル443と、R軸テーブル443に対して可動テーブル43を昇降させるボールネジ444とを有する。さらに、テーブル駆動機構44は、X軸テーブル441をX方向に駆動するX軸駆動部M441と、Y軸テーブル442をY方向へ駆動するY軸駆動部M442と、R軸テーブル443をR方向(Z方向に平行な軸を中心とする回転方向)に駆動するR軸駆動部M443と、ボールネジ444を回転させることで可動テーブル43をZ方向に駆動するZ軸駆動部M444とを有する。したがって、駆動制御部12は、各駆動部M441~M444を制御することで、可動テーブル43に配置されたコンベア41および基板保持部42をX、Y、Z、R方向に駆動することができる。例えば搬入された基板BをマスクMに対して位置決めする際には、駆動制御部12は、クランププレート424にクランプされた基板Bの位置を、X・Y・R軸駆動部M441~M443によりX・Y方向に調整するとともに、Z軸駆動部M444によりZ方向に調整する。これによって、クランププレート424および基板Bそれぞれの上面がマスクMの下面に接触する。
 さらに、印刷機1は、例えば図3に例示するように、昇降テーブル421上にバックアップピンPを配置するピン配置ユニット7を有する。ここで、図3は昇降テーブルに対するバックアップピンの配置例を模式的に示す斜視図である。図1~図3を用いて、このピン配置ユニット7について説明する。
 ピン配置ユニット7は、配置ヘッド71と、配置ヘッド71をX方向に駆動するX軸駆動部M711と、配置ヘッド71をY方向に駆動するY軸駆動部M712とを有し、駆動制御部12は、X軸駆動部M711およびY軸駆動部M712によって配置ヘッド71をXY方向に二次元的に移動させる。この配置ヘッド71は、間隔Lを空けてY方向に平行に配列された複数の吸着ノズル72を有し、ピン配置ユニット7は、これら吸着ノズル72を個別にZ方向に駆動するZ軸駆動部M713を有する。そして、駆動制御部12は、Z軸駆動部M713によって、各吸着ノズル72を昇降させる。なお、吸着ノズル72の個数は、図3に例示する2個に限られない。また、隣接する吸着ノズル72の間隔Lは、これら吸着ノズル72の中心の間の距離として求めることができる。
 さらに、ピン配置ユニット7は、昇降テーブル421のX方向の側方に配置されたピンストッカ75を有し、このピンストッカ75に多数のバックアップピンPをストックする。このピンストッカ75では、各バックアップピンPはZ方向に平行に起立しており、Y方向に平行に間隔Lで並ぶ。そして、主制御部10は、ピンストッカ75と昇降テーブル421との間で配置ヘッド71を移動させることで、ピンストッカ75から昇降テーブル421にバックアップピンPを移載したり、昇降テーブル421からピンストッカ75にバックアップピンPを収納したりすることができる。
 例えば、前者の動作は次のようにして実行される。駆動制御部12は、X軸駆動部M711およびY軸駆動部M712によって配置ヘッド71をピンストッカ75の上方に位置させることで、2個の吸着ノズル72を2本のバックアップピンPに上方から対向させる。そして、駆動制御部12がZ軸駆動部M713によってこれら吸着ノズル72を同時に下降させてバックアップピンPに接触させると、バルブ制御部13がこれら吸着ノズル72に負圧を与える。これによって2個の吸着ノズル72によって2本のバックアップピンPが吸着されると、駆動制御部12はこれら吸着ノズル72を上昇させる。
 こうして、2個の吸着ノズル72によってピンストッカ75から2本のバックアップピンPがピックアップされると、駆動制御部12は、X軸駆動部M711およびY軸駆動部M712によって配置ヘッド71を昇降テーブル421の上方へ移動させることで、バックアップピンPを昇降テーブル421の対象位置に上方から対向させる。そして、駆動制御部12がZ軸駆動部M713によって吸着ノズル72を下降させてバックアップピンPを昇降テーブル421の対象位置に接触させると、バルブ制御部13が吸着ノズル72の負圧を解除する。これによって、バックアップピンPが昇降テーブル421の対象位置に載置されると、駆動制御部12は吸着ノズル72を上昇させる。
 この際、2個のバックアップピンPを配置する対象位置がY方向に平行に間隔Lで並ぶ場合には、配置ヘッド71は、2個のバックアップピンPを同時に昇降テーブル421に移載する。また、そうでない場合には、配置ヘッド71は、2個のバックアップピンPのうち一方のバックアップピンPを昇降テーブル421に移載してから、他方のバックアップピンPを昇降テーブル421に移載する。
 なお、昇降テーブル421に載置されたバックアップピンPは、磁力によって昇降テーブル421に保持される。このような保持態様によれば、マトリックス状に配列された複数の係合孔にバックアップピンPを係合させることでバックアップピンPを保持する構成と異なり、バックアップピンPを昇降テーブル421上の任意の位置に配置できるといったフリーロケーションを実現することができる。
 以上のようにして、ピンストッカ75から昇降テーブル421にバックアップピンPが移載される。また、ピンストッカ75から昇降テーブル421にバックアップピンPを収納する場合には、上記と逆の動作が実行される。そして、本実施形態では、印刷機1を管理するサーバコンピュータによって、昇降テーブル421へのバックアップピンPの配置が決定される。
 図4はバックアップピンの配置を決定するサーバコンピュータの電気的構成の一例を示すブロック図である。サーバコンピュータ9は、演算部91、記憶部92、UI93および通信部94を備える。演算部91はCPUやRAMで構成されたプロセッサであり、バックアップピンPの配置を決定するための演算処理を実行する。記憶部92はHDDで構成され、バックアップピンPの配置を決定するために必要となる各種データを記憶する。UI93は、オペレータの入力操作を受け付けたり、オペレータに各種情報を表示したりする。また、通信部94は、印刷機1等の外部装置との通信を実行する。
 特に、記憶部92は、互いに異なる配置態様でバックアップピンPを配置することを求める複数の配置条件Cを記憶する。図5は互いに異なる配置態様をバックアップピンに求める複数の配置条件を表形式で示す図である。同図では、複数の配置条件Cとして、パターン直下条件、部品回避条件、撓み抑制条件および配置効率条件が示され、これら配置条件Cは識別番号I(=1、2、3、4)によって識別される。
 識別番号I=1の配置条件C、すなわちパターン直下条件は、マスクMのパターンの直下の位置にバックアップピンPを配置する配置態様を要求する。これは、マスクMのパターンの直下で基板BをバックアップピンPにより支持することで、パターンの周縁でマスクMと基板Bとの間に隙間が生じるのを抑制し、良好な半田Dのパターンを基板Bに印刷することを目的とする。
 識別番号I=2の配置条件C、すなわち部品回避条件は、基板Bの下面Bdに実装された部品Eを回避してバックアップピンPを配置する配置態様を要求する。これは、バックアップピンPと部品Eとの干渉が生じるのを防止することを目的とする。
 識別番号I=3の配置条件C、すなわち撓み抑制条件は、配置予定のバックアップピンPを配置する前の状態において基板Bの撓みが最大となる位置にバックアップピンPを配置する配置態様を要求する。これは、基板Bの撓みを抑制することで、マスクMと基板Bとの間に隙間が生じるのを抑制し、良好な半田Dのパターンを基板Bに印刷することを目的とする。
 識別番号I=4の配置条件C、すなわち配置効率条件は、配置ヘッド71において複数の吸着ノズル72がY方向に並ぶ間隔Lで、複数のバックアップピンPをY方向に平行に配置する配置態様を要求する。これは、配置ヘッド71が複数の吸着ノズル72のそれぞれで吸着するバックアップピンPを昇降テーブル421に速やかに載置することを目的とする。
 図6はサーバコンピュータによって実行されるバックアップピン配置決定の一例を示すフローチャートである。このバックアップピン配置決定は、いわゆるポテンシャル法を用いて、演算部91によって実行される。つまり、演算部91は、バックアップピンPが配置される実空間Sr(図3)を仮想的に示す仮想空間Sv(図7~図10、図12)を設定する。そして、演算部91は、バックアップピンPを引き付けるように作用する引力ポテンシャルFaをバックアップピンPの配置が要求される位置に設定する一方、バックアップピンPを遠ざけるように作用する斥力ポテンシャルFbをバックアップピンPの配置が禁止される位置に設定することで、仮想空間Svにポテンシャル場Fを生成する。そして、演算部91は、仮想空間Svのポテンシャル場FにバックアップピンPを仮想的に配置しつつ、バックアップピンPの配置を決定する。
 ステップS101では、所定数のバックアップピンPの配置が完了したかが判断される。この所定数は、例えばUI93に対するオペレータの入力操作によって設定される。そして、所定数のバックアップピンPの配置が完了していない場合(ステップS101で「NO」の場合)には、配置条件Cの識別番号Iがゼロにリセットされ(ステップS102)、識別番号Iがインクリメントされる(ステップS103)。
 ステップS104では、識別番号I=1の配置条件C、すなわちパターン直下条件に応じたポテンシャル場F(1)(図7)が仮想空間Svに対して設定される。図7はパターン直下条件に応じて設定されるポテンシャル場の一例を示す等高線図である。図7において、X軸およびY軸はX方向の位置およびY方向の位置をそれぞれ示し、Z軸はポテンシャルの高さを示す。演算部91は、パターン直下条件の要求に応じて、マスクMの各パターンの位置(X・Y座標)に引力ポテンシャルFa(下に凸のポテンシャル関数)を設定する。この引力ポテンシャルFaは、マスクMのパターンの位置に向かって漸減し、当該パターンの位置において一定の最低値を有する。その結果、図7に示すポテンシャル場F(1)が設定される。
 ステップS105では、識別番号Iが最大値Ix(=4)に一致するか否かが判断される。ここでは、識別番号I=1であるため、ステップS105で「NO」と判断され、ステップS103で識別番号Iがインクリメントされる。
 ステップS104では、識別番号I=2の配置条件C、すなわち部品回避条件に応じたポテンシャル場F(2)(図8)が仮想空間Svに対して設定される。図8は部品回避条件に応じて設定されるポテンシャル場の一例を示す等高線図である。図8の表記は図7のそれと同様である。演算部91は、部品回避条件の要求に応じて、基板Bの下面Bdに実装された各部品Eの位置(X・Y座標)に斥力ポテンシャルFb(上に凸のポテンシャル関数)を設定する。この斥力ポテンシャルFbは、部品Eの存在範囲の端で垂直に増大し、部品Eの存在範囲において一定値を有する。なお、部品Eの存在範囲でのポテンシャルの高さは、当該部品Eの高さに応じて異なり、部品Eが高いほど高い。その結果、図8に示すポテンシャル場F(2)が設定される。
 ステップS105では、識別番号Iが最大値Ix(=4)に一致するか否かが判断される。ここでは、識別番号I=2であるため、ステップS105で「NO」と判断され、ステップS103で識別番号Iがインクリメントされる。
 ステップS104では、識別番号I=3の配置条件C、すなわち撓み抑制条件に応じたポテンシャル場F(3)(図9)が仮想空間Svに対して設定される。図9は撓み抑制条件に応じて設定されるポテンシャル場の一例を示す等高線図である。図9の表記は図7のそれと同様である。演算部91は、撓み抑制条件の要求に応じて、配置予定のバックアップピンPを配置する前の状態で基板Bの撓みが最大となる位置に引力ポテンシャルFa(下に凸のポテンシャル関数)を設定する。この引力ポテンシャルFaは、バックアップピンPを配置する前の基板Bの撓みを予測した結果に対応し、基板Bの撓みが大きい位置ほど低いポテンシャルを有する。その結果、図9に示すポテンシャル場F(3)が設定される。なお、図9では、バックアップピンPが全く配置されていない状態であるため、ポテンシャル場F(3)は、基板Bを支持するクランプ部材21から離れるに伴って漸減するポテンシャルを有し、基板Bの中心の位置で最低値を有する。
 ステップS105では、識別番号Iが最大値Ix(=4)に一致するか否かが判断される。ここでは、識別番号I=3であるため、ステップS105で「NO」と判断され、ステップS103で識別番号Iがインクリメントされる。
 ステップS104では、識別番号I=4の配置条件C、すなわち配置効率条件に応じたポテンシャル場F(4)(図10)が仮想空間Svに対して設定される。図10は配置効率条件に応じて設定されるポテンシャル場の一例を示す等高線図である。図10の表記は図7のそれと同様である。演算部91は、配置効率条件の要求に応じて、底に向かって漸減する引力ポテンシャルFa(下に凸のポテンシャル関数を)をX方向に平行に間隔Lを空けつつ、X方向およびY方向にマトリックス状に複数配列する。その結果、図10に示すポテンシャル場F(4)が設定される。
 ステップS105では、識別番号Iが最大値Ix(=4)に一致するか否かが判断される。ここでは、識別番号I=4であるため、ステップS105で「YES」と判断される。そのため、ステップS106に進んで、ポテンシャル場F(1)~F(4)に対する重み係数Wが取得される。そして、この重み係数でポテンシャル場F(1)~F(4)を合成することで、合成ポテンシャル場F(C)が算出される(ステップS107)。
 図11はポテンシャル場を合成する際に用いられる重み係数の一例を表形式で示す図である。図11に示すように、基板Bへの半田Dの印刷品質を優先した品質優先、昇降テーブル421へバックアップピンPを配置する時間の短縮を優先した時間優先、およびこれらの何れかに偏らないバランスの各モードに適した重み係数Wが、記憶部92に記憶されている。
 部品回避条件および撓み抑制条件に基づき生成されるポテンシャル場F(2)、F(3)に対しては、各モードに共通して同一の重み係数W(=5)が設定されている。品質優先のモードでは、パターン直下条件に対応するポテンシャル場F(1)の重み係数W(=10)が、配置効率条件に対応するポテンシャル場F(4)の重み係数Wより大きく、ポテンシャル場F(2)、F(3)の重み係数W(=5)はこれらの間の値(2より大きく、10より小さい値)となっている。時間優先のモードでは、配置効率条件に対応するポテンシャル場F(4)の重み係数W(=10)が、パターン直下条件に対応するポテンシャル場F(1)の重み係数W(=2)より大きく、ポテンシャル場F(2)、F(3)の重み係数W(=5)はこれらの間の値(2より大きく、10より小さい値)となっている。バランスのモードでは、各ポテンシャル場F(1)~F(4)の重み係数Wはいすれも5であり、互いに等しい。
 オペレータは、UI93を操作することで、図11に示す各モードのうちから1つのモードを選択できる。そして、ステップS106では、オペレータにより選択されたモードの重み係数Wが取得される。したがって、例えば品質優先のモードが選択されている場合には、ステップS107において、次式
 F(C)=10×F(1)+5×F(2)+5×F(3)+2×F(4)
に基づき、合成ポテンシャル場F(C)が算出される。こうして、ポテンシャル場F(1)~F(4)に対して重み係数Wに応じた重み付けを行ってポテンシャル場F(1)~F(4)を合成した合成ポテンシャル場F(C)が求められる。
 図12は合成ポテンシャル場の一例を示す等高線図である。図12の表記は図7のそれと同様である。ステップS108では、合成ポテンシャル場F(C)において、閾値以下のポテンシャルを有する位置が存在するか否かを判断する。この閾値は、例えばUI93に対するオペレータの入力操作によって設定される。閾値以下のポテンシャルを有する位置が存在しない場合(ステップS108で「NO」の場合)には図6のフローチャートを終了する。一方、閾値以下のポテンシャルを有する位置が存在する場合には、これらの位置のうち最低のポテンシャルを有する位置にバックアップピンPが仮想的に配置される(ステップS109)。この際、ポテンシャルが最低となる位置が複数存在する場合には、これらの位置のそれぞれにバックアップピンPが仮想的に配置される。
 そして、ステップS110では、ステップS109で仮想的に配置されたバックアップピンPと、基板Bの下面Bdに存在する部品Eとの干渉の有無が確認される。干渉が無い場合(ステップS110で「NO」の場合)には、ステップS101に戻る。一方、干渉が有る場合には、バックアップピンPの位置が調整される(ステップS111)。
 図13はバックアップピンの位置調整の一例を模式的に示す図であり、同図の「調整前」の欄では、ステップS109でバックアップピンPが仮想的に配置された状態が示され、同図の「調整後」の欄では、バックアップピンPの位置が調整された状態が示されている。「調整前」の欄に示す状態では、バックアップピンPのフランジが部品Eと干渉しているため、ステップS110で干渉有りと判断される。そこで、ステップS111でバックアップピンPの位置が部品Eから離れる方向に距離Δだけ移動される。その結果、「調整後」の欄に示す例では、バックアップピンPと部品Eとの干渉が解消される。
 ステップS111でバックアップピンPの位置が調整されると、ステップS110に戻って、バックアップピンPと部品Eとの干渉が解消されているか否かが確認される。そして、干渉が解消するまでステップS110、S111が繰り返されると、ステップS101に戻る。そして、所定数のバックアップピンPの仮想配置が完了するまで(ステップS101で「YES」となるまで)、ステップS101~S111が繰り返されると、図6のフローチャートが終了する。
 以上に説明した実施形態では、互いに異なるバックアップピンPの配置態様を求める複数の配置条件Cのそれぞれについて、仮想空間Svに対して配置条件Cに応じたポテンシャルを設定したポテンシャル場F(1)~F(4)が生成される(ステップS104)。そして、複数の配置条件Cそれぞれのポテンシャル場F(1)~F(4)を合成した合成ポテンシャルF(C)に基づき、バックアップピンPを配置する位置が決定される。したがって、複数の配置条件Cのそれぞれを適度に満足するバックアップピンPの配置を決定することが可能となっている。
 また、パターン直下条件C(1)に応じたポテンシャルを設定したポテンシャル場F(1)が生成される。したがって、マスクMのパターンの近傍で基板BをバックアップピンPにより支持することができる。その結果、パターンの周縁でマスクMと基板Bとの間に隙間が生じるのを抑制し、良好な半田Dのパターンを基板Bに印刷することが可能となる。
 また、部品回避条件C(2)に応じたポテンシャルを設定したポテンシャル場F(2)が生成される。したがって、バックアップピンPと部品Eとの干渉が生じるのを防止することが可能となっている。
 また、撓み抑制条件C(3)に応じたポテンシャルを設定したポテンシャル場F(3)が生成される。したがって、バックアップピンPによって基板Bを支持して、基板Bの撓みを抑制することができる。その結果、マスクMと基板Bとの間に隙間が生じるのを抑制し、良好な半田Dのパターンを基板Bに印刷することが可能となる。
 また、配置効率条件C(4)に応じたポテンシャルを設定したポテンシャル場F(4)が生成される。したがって、配置ヘッド71が複数の吸着ノズル72のそれぞれで吸着するバックアップピンPを昇降テーブル421に速やかに載置することが可能となる。
 また、演算部91は、配置条件CがバックアップピンPの配置を求める位置に引力ポテンシャルFaを設定する。これによって、配置条件Cが配置を求める場所の近傍にバックアップピンPを配置することが可能となっている。
 また、演算部91は、配置条件CがバックアップピンPの配置を禁止する位置に斥力ポテンシャルFbを設定する。これによって、配置条件Cが配置を禁止する場所を外してバックアップピンPを配置することが可能となっている。
 また、演算部91は、複数の配置条件Cそれぞれのポテンシャル場F(1)~F(4)に対して重み係数Wを付けて合成ポテンシャル情報を生成する(ステップS106、S107)。これによって、複数の配置条件Cの優先度に応じてこれらを適度に満足するバックアップピンPの配置を決定することが可能となっている。
 また、オペレータによる入力操作を受け付けるUI93が具備されており、演算部91は、UI93への入力操作に応じた重み係数Wを付けて合成ポテンシャル場F(C)を生成する。これによって、オペレータが示す優先度に応じて、複数の配置条件Cを適度に満足するバックアップピンPの配置を決定することができる。
 また、演算部91は、基板Bの両面Bu、Bdのうち、バックアップピンPが接触する下面Bdに設けられた部品E(障害物)と、合成ポテンシャル場F(C)に基づき決定した位置に配置したバックアップピンPとの干渉の有無を判断し(ステップS110)、干渉が生じる場合にはバックアップピンPを配置する位置を調整する(ステップS111)。これによって、バックアップピンPと部品Eとの干渉を回避しつつ、バックアップピンPの配置を決定することができる。
 また、サーバコンピュータ9は、印刷機1においてマスクMを介して半田Dが印刷される基板Bを支持するバックアップピンPの配置を決定する。かかる構成では、適切に配置されたバックアップピンPによって基板Bを支持しつつ、基板Bに対して半田Dを印刷することが可能となる。
 このように本実施形態では、サーバコンピュータ9が本発明の「支持部材配置決定装置」の一例に相当し、演算部91が本発明の「演算部」の一例に相当し、記憶部92が本発明の「記憶部」の一例に相当し、基板Bが本発明の「基板」の一例に相当し、バックアップピンPが本発明の「支持部材」の一例に相当し、実空間Srが本発明の「実空間」の一例に相当し、仮想空間Svが本発明の「仮想空間」の一例に相当し、配置条件Cが本発明の「配置条件」の一例に相当し、ポテンシャル場F(1)~F(4)のそれぞれが本発明の「配置条件ポテンシャル情報」の一例に相当し、合成ポテンシャル場F(C)が本発明の「合成ポテンシャル情報」の一例に相当し、重み係数Wが本発明の「重み係数」の一例に相当し、UI93が本発明の「操作部」の一例に相当し、基板Bの下面Bdが本発明の「支持部材が接触する面」の一例に相当し、部品Eが本発明の「障害物」の一例に相当し、印刷機1が本発明の「印刷機」の一例に相当し、マスクMが本発明の「マスク」の一例に相当し、半田Dが本発明の「半田」の一例に相当する。
 なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したものに対して種々の変更を加えることが可能である。例えば、図5に例示した4個の配置条件Cの全てを用いる必要は無く、これらの配置条件Cうちから2個以上を選択して用いてもよい。
 また、図5に例示した配置条件Cとは異なる配置条件Cを用いて、ポテンシャル場Fを生成しても良い。例えば、印刷対象となる基板Bの種類を変更する際に、2種類の基板Bの両方を支持できる位置に優先的にバックアップピンPを配置するといった配置態様を求める配置条件Cを用いても良い。
 また、合成ポテンシャル場F(C)を求める際の重み係数Wは、図11の例に限られず、種々の変更が可能である。
 また、配置ヘッド71が備える吸着ノズル72の個数は、上記の2個に限られず、1個あるいは3以上であっても良い。
 また、サーバコンピュータ9は、印刷機1とは異なる装置において、基板Bを支持するバックアップピンPの配置を決定するために、図6のバックアップピン配置決定を実行することもできる。例えば、図14に示す部品実装機でのバックアップピンPの配置を決定するために、バックアップピン配置決定を実行できる。かかる構成では、適切に配置されたバックアップピンPによって基板Bを支持しつつ、基板Bに対して部品Eを実装することが可能となる。
 図14は部品実装機の一例を模式的に示す部分正面図である。部品実装機8では、装置外部より搬入した基板Bを、所定の作業位置L(図14に示す基板Bの位置)で停止させ、図略の固定手段により固定して保持する。そして、ヘッドユニット81が作業位置に固定された基板Bへの部品E(リード部品)の取り付けを完了すると、基板Bが装置外部へ搬出される。
 この部品実装機8は、作業位置に固定された基板Bを下方から支持するバックアップ部83を備える。このバックアップ部83は、平板状のバックアッププレート831(プッシュアッププレート)の上面に着脱自在に配置された複数のバックアップピンPを下方から基板Bに突き当てることで、基板Bを支持する。これによって、バックアップピンPにより基板Bをしっかりと支持しつつ、基板Bに部品Eを実装することが可能となる。
 1…印刷機
 8…部品実装機
 9…サーバコンピュータ(支持部材配置決定装置)
 91…演算部
 92…記憶部
 93…UI(操作部)
 B…基板
 Bu…上面(基板Bの両面の一方)
 Bd…下面(基板Bの両面の他方、支持部材が接触する面)
 C…配置条件
 D…半田
 E…部品(障害物)
 F(1)~F(4)…ポテンシャル場(配置条件ポテンシャル情報)
 F(C)…合成ポテンシャル場(合成ポテンシャル情報)
 Fa…引力ポテンシャル
 Fb…斥力ポテンシャル
 M…マスク
 P…バックアップピン(支持部材)
 Sr…実空間
 Sv…仮想空間
 W…重み係数

Claims (9)

  1.  基板を支持する支持部材が配置される実空間を仮想的に表す仮想空間を設定する演算部と、
     互いに異なる前記支持部材の配置態様を求める複数の配置条件を記憶する記憶部と
    を備え、
     前記演算部は、前記仮想空間に対して前記配置条件に応じてポテンシャルを設定した配置条件ポテンシャル情報を前記各配置条件について生成するとともに、前記各配置条件ポテンシャル情報を合成した合成ポテンシャル情報を生成し、前記合成ポテンシャル情報に基づき前記支持部材を配置する位置を決定する支持部材配置決定装置。
  2.  前記演算部は、前記配置条件が前記支持部材の配置を求める位置に前記支持部材を引き付けるように作用する引力ポテンシャルを設定する請求項1に記載の支持部材配置決定装置。
  3.  前記演算部は、前記配置条件が前記支持部材の配置を禁止する位置に前記支持部材を遠ざけるように作用する斥力ポテンシャルを設定する請求項1または2に記載の支持部材配置決定装置。
  4.  前記演算部は、前記各配置条件ポテンシャル情報に対して重み係数を付けて前記合成ポテンシャル情報を生成する請求項1ないし3のいずれか一項に記載の支持部材配置決定装置。
  5.  オペレータによる入力操作を受け付ける操作部をさらに備え、
     前記演算部は、前記入力操作に応じた前記重み係数を付けて前記合成ポテンシャル情報を生成する請求項4に記載の支持部材配置決定装置。
  6.  前記演算部は、前記基板の両面のうち前記支持部材が接触する面に設けられた障害物と、前記合成ポテンシャル情報に基づき決定した位置に配置した前記支持部材との干渉の有無を判断し、干渉が生じる場合には前記支持部材を配置する位置を調整する請求項1ないし5のいずれか一項に記載の支持部材配置決定装置。
  7.  印刷機においてマスクを介して半田が印刷される前記基板を支持する前記支持部材の配置を決定する請求項1ないし6のいずれか一項に記載の支持部材配置決定装置。
  8.  部品実装機において部品が実装される前記基板を支持する前記支持部材の配置を決定する請求項1ないし6のいずれか一項に記載の支持部材配置決定装置。
  9.  基板を支持する支持部材が配置される実空間を仮想的に表す仮想空間を設定する工程と、
     互いに異なる前記支持部材の配置態様を求める複数の配置条件のそれぞれについて、前記仮想空間に対して前記配置条件に応じてポテンシャルを設定した配置条件ポテンシャル情報を生成する工程と、
     前記各配置条件ポテンシャル情報を合成した合成ポテンシャル情報を生成する工程と、
     前記合成ポテンシャル情報に基づき前記支持部材を配置する位置を決定する工程と
    を備える支持部材配置決定方法。
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