WO2018207660A1

WO2018207660A1 - 位置入力機能付き表示装置

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Publication number: WO2018207660A1
Application number: PCT/JP2018/017148
Authority: WO
Inventors: 吉田　昌弘
Original assignee: シャープ株式会社
Priority date: 2017-05-09
Filing date: 2018-04-27
Publication date: 2018-11-15
Also published as: US20240192812A1; CN110582743B; US20200159354A1; US11199934B2; US20220057896A1; CN110582743A; US11947760B2

Abstract

液晶表示装置１０は、画素電極１１ｇと、画素電極１１ｇに対して上層側または下層側にて少なくとも一部が重畳する形で配される共通電極１１ｈと、共通電極１１ｈを仕切開口部１１ｈ２によって分割してなり、位置入力を行う位置入力体との間で静電容量を形成し、位置入力体による入力位置を検出する複数のタッチ電極１４と、共通電極１１ｈに対して上層側または下層側に配されてタッチ電極１４に接続されるタッチ配線１５と、仕切開口部１１ｈ２に並行する形で延在していて画素電極１１ｇに接続されるゲート配線１１ｉと、少なくとも一部が仕切開口部１１ｈ２と重畳する形で延在してタッチ配線１５と同層に配されてタッチ配線１５に接続されるシールド電極２３と、を備える。

Description

位置入力機能付き表示装置

　本発明は、位置入力機能付き表示装置に関する。

　従来、タッチパネル機能をインセル化した液晶表示装置の一例として下記特許文献１に記載されたものが知られている。特許文献１に記載された液晶表示装置は、複数のゲート信号線と、複数のデータ信号線と、複数のセンサ電極線と、複数のグループに分割された複数の画素電極と、１つのグループに含まれる複数の画素電極に対して１つの割合で配置された複数の共通電極と、を含み、前記複数のセンサ電極線は、前記複数のデータ信号線と同層に配置され、前記複数の共通電極のそれぞれには、平面的に見て複数のセンサ電極線が重なるとともに、少なくとも１本のセンサ電極線が電気的に接続され、前記複数のデータ信号線及び前記複数のセンサ電極線の間と、前記複数のセンサ電極線及び前記複数の共通電極の間と、前記複数の共通電極及び前記複数の画素電極の間と、には、それぞれ、少なくとも１層の絶縁膜が形成されている。

国際公開第２０１６－１３６２７２号公報

（発明が解決しようとする課題）
　上記した特許文献１に記載された液晶表示装置では、隣り合うセンサ電極同士の間隙を覆うようにシールド配線が絶縁膜上に配置されており、漏れ電界に起因した画像乱れによる表示品位の低下を防止している。しかしながら、このシールド配線を形成するには、製造工程に、導電膜の成膜と、その導電膜のパターニングと、を行う工程を追加する必要があり、製造コストが高くなる、という問題があった。

　本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、表示品位の低下を抑制しつつ製造コストを低下させることを目的とする。

（課題を解決するための手段）
　本発明の位置入力機能付き表示装置は、画素電極と、前記画素電極に対して上層側または下層側にて少なくとも一部が重畳する形で配される共通電極と、前記共通電極を仕切開口部によって分割してなり、位置入力を行う位置入力体との間で静電容量を形成し、前記位置入力体による入力位置を検出する複数の位置検出電極と、前記共通電極に対して上層側または下層側に配されて前記位置検出電極に接続される位置検出配線と、前記仕切開口部に並行する形で延在していて前記画素電極に接続される画素接続配線と、少なくとも一部が前記仕切開口部と重畳する形で延在して前記位置検出配線と同層に配されて前記位置検出配線に接続されるシールド電極と、を備える。

　このような構成によれば、画素電極と、画素電極に対して上層側または下層側にて少なくとも一部が重畳する共通電極と、の間には、画素電極に供給される電圧に基づいた電位差が生じ得るものとされ、その電位差を利用して表示がなされる。画素電極には、画素接続配線が接続されている。一方、共通電極を仕切開口部によって分割してなる位置検出電極には、共通電極に対して上層側または下層側に配される位置検出配線が接続されている。位置検出電極は、位置入力を行う位置入力体との間で静電容量を形成し、位置検出配線によって供給される信号を利用して位置入力体による入力位置を検出することができる。

　ここで、画素接続配線は、共通電極を分割していて隣り合う位置検出電極の間を仕切る仕切開口部に並行する形で延在しているため、画素接続配線と位置検出電極における仕切開口部側の端部との間に電界が生じると、位置検出電極における仕切開口部側の端部付近の電界に起因して表示品位が劣化するおそれがある。その点、少なくとも一部が仕切開口部と重畳する形で延在して位置検出配線に接続されるシールド電極が備えられているから、シールド電極によって位置検出電極における仕切開口部側の端部付近の電界が弱められる。従って、位置検出電極における仕切開口部側の端部付近の電界に起因する表示品位の劣化が抑制される。その上で、シールド電極は、位置検出配線と同層に配されているから、シールド電極を形成するための専用の製造工程が不要となる。これにより、製造コストの低下を図る上で好適となる。

（発明の効果）
　本発明によれば、表示品位の低下を抑制しつつ製造コストを低下させることができる。

本発明の実施形態１に係る液晶表示装置に備わる液晶パネルの位置検出電極及び位置検出配線の平面配置を示す平面図液晶パネルを構成するアレイ基板及びＣＦ基板の画素配列を示す平面図液晶パネルを構成するＣＦ基板の画素配列を示す平面図図２のＡ－Ａ線断面図アレイ基板及びＣＦ基板におけるシールド電極付近を拡大した平面図図５に示すアレイ基板のＢ－Ｂ線断面図図５に示すアレイ基板のＣ－Ｃ線断面図アレイ基板及びＣＦ基板におけるダミーシールド電極付近を拡大した平面図図８に示すアレイ基板のＤ－Ｄ線断面図本発明の実施形態２に係る液晶パネルを構成するアレイ基板及びＣＦ基板の画素配列を示す平面図アレイ基板及びＣＦ基板における第１ダミーシールド電極付近を拡大した平面図アレイ基板及びＣＦ基板における第２ダミーシールド電極付近を拡大した平面図本発明の実施形態３に係る液晶パネルを構成するアレイ基板及びＣＦ基板の画素配列を示す平面図アレイ基板及びＣＦ基板における第２ダミーシールド電極付近を拡大した平面図図１４に示すアレイ基板のＣ－Ｃ線断面図本発明の実施形態４に係る液晶パネルの概略斜視図液晶パネルの平面図本発明の実施形態５に係る液晶パネルを構成するアレイ基板におけるシールド電極付近の断面図

　＜実施形態１＞
　本発明の実施形態１を図１から図９によって説明する。本実施形態では、タッチパネル機能（位置入力機能）を備えた液晶表示装置（位置入力機能付き表示装置）１０について例示する。なお、各図面の一部にはＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸を示しており、各軸方向が各図面で示した方向となるように描かれている。また、図４，図６，図７及び図９などの上側を表側とし、同図下側を裏側とする。

　液晶表示装置１０は、図１に示すように、画像を表示可能な液晶パネル（表示パネル）１１と、液晶パネル１１に対して表示に利用するための光を照射する外部光源であるバックライト装置（照明装置）と、を少なくとも備える。バックライト装置は、液晶パネル１１に対して裏側（背面側）に配置され、白色の光（白色光）を発する光源（例えばＬＥＤなど）や光源からの光に光学作用を付与することで面状の光に変換する光学部材などを有する。なお、バックライト装置に関しては図示を省略している。

　液晶パネル１１は、図１に示すように、画面の中央側部分が、画像が表示される表示領域（図１において一点鎖線により囲った範囲）ＡＡとされるのに対し、画面における表示領域ＡＡを取り囲む額縁状の外周側部分が、画像が表示されない非表示領域ＮＡＡとされている。液晶パネル１１の非表示領域ＮＡＡには、表示機能やタッチパネル機能に係る各種信号を供給するための部品としてドライバ１２及びフレキシブル基板１３が実装されている。ドライバ１２は、内部に駆動回路を有するＬＳＩチップからなり、液晶パネル１１の非表示領域ＮＡＡに対してＣＯＧ（Chip On Glass）実装されており、フレキシブル基板１３によって伝送される各種信号を処理するためのものである。フレキシブル基板１３は、絶縁性及び可撓性を有する合成樹脂材料（例えばポリイミド系樹脂等）からなる基材上に多数本の配線パターン（図示せず）を形成した構成とされ、その一端側が液晶パネル１１の非表示領域ＮＡＡに、他端側が図示しないコントロール基板（信号供給源）に、それぞれ接続されている。コントロール基板から供給される各種信号は、フレキシブル基板１３を介して液晶パネル１１に伝送され、非表示領域ＮＡＡにおいてドライバ１２による処理を経て表示領域ＡＡへ向けて出力される。

　液晶パネル１１について詳しく説明する。液晶パネル１１は、図４に示すように、一対の基板１１ａ，１１ｂと、両基板１１ａ，１１ｂ間の内部空間に配されて電界印加に伴って光学特性が変化する物質である液晶分子を含む液晶層（媒質層）１１ｃと、を有しており、液晶層１１ｃが両基板１１ａ，１１ｂ間に介在する図示しないシール部によって取り囲まれて封止が図られている。一対の基板１１ａ，１１ｂのうち表側（正面側）がＣＦ基板（対向基板）１１ａとされ、裏側（背面側）がアレイ基板（アクティブマトリクス基板、素子基板）１１ｂとされる。ＣＦ基板１１ａ及びアレイ基板１１ｂは、いずれもガラス製のガラス基板の内面側に各種の膜が積層形成されてなるものとされる。なお、両基板１１ａ，１１ｂの外面側には、それぞれ図示しない偏光板が貼り付けられている。

　アレイ基板１１ｂの表示領域ＡＡにおける内面側（液晶層１１ｃ側、ＣＦ基板１１ａとの対向面側）には、図２に示すように、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ、スイッチング素子）１１ｆ及び画素電極１１ｇが多数個ずつＸ軸方向及びＹ軸方向に沿って並んでマトリクス状（行列状）に設けられるとともに、これらＴＦＴ１１ｆ及び画素電極１１ｇの周りには、略格子状をなすゲート配線（画素接続配線、走査配線）１１ｉ及びソース配線（信号配線、データ配線）１１ｊが取り囲むようにして配設されている。ゲート配線１１ｉは、概ねＸ軸方向に沿って延在しているのに対し、ソース配線１１ｊは、概ねＹ軸方向に沿って延在している。ゲート配線１１ｉとソース配線１１ｊとがそれぞれＴＦＴ１１ｆのゲート電極１１ｆ１とソース電極１１ｆ２とに接続され、画素電極１１ｇがＴＦＴ１１ｆのドレイン電極１１ｆ３に接続されている。そして、ＴＦＴ１１ｆは、ゲート配線１１ｉ及びソース配線１１ｊにそれぞれ供給される各種信号に基づいて駆動され、その駆動に伴って画素電極１１ｇへの電位の供給が制御されるようになっている。画素電極１１ｇは、平面形状が横長の略長方形（長手状）とされており、その短辺方向（Ｙ軸方向）について隣り合う画素電極１１ｇとの間に少なくともゲート配線１１ｉが、長辺方向（Ｘ軸方向）について隣り合う画素電極１１ｇとの間に少なくともソース配線１１ｊが、それぞれ介在している。画素電極１１ｇは、その長辺部がＸ軸方向についてやや傾斜するとともに中央位置にて一度屈曲されており、画素電極１１ｇの長辺部に並行するゲート配線１１ｉも長辺部に倣って屈曲されている。ソース配線１１ｊは、横長形状の画素電極１１ｇの短辺方向に沿って延在し、画素電極１１ｇの長辺方向について間隔を空けて並んで配されており、仮に画素電極を縦長形状とした場合に比べると、Ｘ軸方向についてのソース配線１１ｊの配列間隔が、画素電極１１ｇの短辺寸法を長辺寸法にて除した比率（例えば約１／３）程度となり、それに伴ってＸ軸方向についての単位長さ当たりのソース配線１１ｊの設置数が上記と同様の比率（例えば約１／３）程度となる。これにより、ソース配線１１ｊの設置数を削減することができるので、ソース配線１１ｊに供給される画像信号の数が削減される。

　アレイ基板１１ｂの表示領域ＡＡにおける内面側には、図２及び図４に示すように、全ての画素電極１１ｇと重畳する形で共通電極１１ｈが画素電極１１ｇよりも上層側（液晶層１１ｃに近い側）に形成されている。共通電極１１ｈは、ほぼ一定の基準電位が供給されるものであり、表示領域ＡＡのほぼ全域にわたって延在しており、各画素電極１１ｇと重畳する部分には、横長形状の画素重畳開口部（画素重畳スリット、配向制御スリット）１１ｈ１が複数（図２では７本であるが適宜に変更可能）ずつ開口形成されている。画素重畳開口部１１ｈ１は、画素電極１１ｇの長辺部（ゲート配線１１ｉ）に沿って延在している。画素電極１１ｇが充電されるのに伴って互いに重畳する画素電極１１ｇと共通電極１１ｈとの間に電位差が生じると、画素重畳開口部１１ｈ１の開口縁と画素電極１１ｇとの間には、アレイ基板１１ｂの板面に沿う成分に加えて、アレイ基板１１ｂの板面に対する法線方向の成分を含むフリンジ電界（斜め電界）が生じるので、そのフリンジ電界を利用して液晶層１１ｃに含まれる液晶分子の配向状態を制御することができる。つまり、本実施形態に係る液晶パネル１１は、動作モードがＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードとされている。

　ＣＦ基板１１ａの内面側における表示領域ＡＡには、図３及び図４に示すように、３色のカラーフィルタ１１ｋが設けられている。カラーフィルタ１１ｋは、赤色（Ｒ）を呈する赤色カラーフィルタ（赤色着色部）１１ｋＲと、緑色（Ｇ）を呈する緑色カラーフィルタ（緑色着色部）１１ｋＧと、青色（Ｂ）を呈する青色カラーフィルタ（青色着色部）１１ｋＢと、からなる。カラーフィルタ１１ｋは、互いに異なる色を呈するものがソース配線１１ｊ（Ｙ軸方向）に沿って繰り返し多数並ぶとともに、それらがゲート配線１１ｉ（Ｘ軸方向）に沿って延在することで、全体として略ストライプ状に配列されている。これらのカラーフィルタ１１ｋは、アレイ基板１１ｂ側の各画素電極１１ｇと平面に視て重畳する配置とされている。Ｙ軸方向について隣り合って互いに異なる色を呈するカラーフィルタ１１ｋは、その境界（色境界）がゲート配線１１ｉ及び次述する遮光部１１ｌと重畳する配置とされる。この液晶パネル１１においては、カラーフィルタ１１ｋと、カラーフィルタ１１ｋと対向する画素電極１１ｇと、が画素部ＰＸを構成している。画素部ＰＸには、赤色カラーフィルタ１１ｋＲ及びそれと対向する画素電極１１ｇにより構成される赤色画素部ＲＰＸと、緑色カラーフィルタ１１ｋＧ及びそれと対向する画素電極１１ｇにより構成される緑色画素部ＧＰＸと、青色カラーフィルタ１１ｋＢ及びそれと対向する画素電極１１ｇにより構成される青色画素部ＢＰＸと、が含まれる。そして、この液晶パネル１１においては、Ｙ軸方向に沿って隣り合うＲ，Ｇ，Ｂの３色の画素部ＲＰＸ，ＧＰＸ，ＢＰＸによって所定の階調のカラー表示を可能な表示画素が構成されている。詳しくは後述するが、画素部ＰＸにおけるＹ軸方向についての配列ピッチは、例えば６５μｍ～８０μｍ程度とされる。

　ＣＦ基板１１ａの内面側における表示領域ＡＡには、図３及び図４に示すように、光を遮る遮光部（画素間遮光部、ブラックマトリクス）１１ｌが形成されている。遮光部１１ｌは、隣り合う画素部ＰＸ（画素電極１１ｇ）の間を仕切るよう平面形状が略格子状をなしており、平面に視てアレイ基板１１ｂ側の画素電極１１ｇの大部分と重畳する位置に画素開口部１１ｌ１を有している。画素開口部１１ｌ１は、ＣＦ基板１１ａの板面内においてＸ軸方向及びＹ軸方向に沿って多数個ずつマトリクス状に並んで配されている。画素開口部１１ｌ１は、平面形状が画素電極１１ｇの外形に倣って横長の略長方形とされる。画素開口部１１ｌ１は、光を透過することが可能とされており、それにより画素部ＰＸでの表示が可能となっている。遮光部１１ｌは、隣り合う画素部ＰＸの間を光が行き交うのを防いで各画素部ＰＸの階調の独立性を担保するのに機能しており、特にゲート配線１１ｉに沿って延在する部分は、異なる色を呈する画素部ＰＸ間の混色を防いでいる。遮光部１１ｌは、アレイ基板１１ｂ側のゲート配線１１ｉ及びソース配線１１ｊと平面に視て重畳する配置とされる。また、遮光部１１ｌと重畳する形でスペーサ１１ｄが配されており、このスペーサ１１ｄにより両基板１１ａ，１１ｂ間に空けられた間隔（液晶層１１ｃの厚み）を一定に保持することができる。なお、両基板１１ａ，１１ｂのうち液晶層１１ｃに接する最内面には、液晶層１１ｃに含まれる液晶分子を配向させるための配向膜１１ｅがそれぞれ形成されている。また、配向膜１１ｅとカラーフィルタ１１ｋとの間には、平坦化膜１１ｍが介在する形で形成される。

　本実施形態に係る液晶パネル１１は、画像を表示する表示機能と、表示される画像に基づいて使用者が入力する位置（入力位置）を検出するタッチパネル機能（位置入力機能）と、を併有しており、このうちのタッチパネル機能を発揮するためのタッチパネルパターンを一体化（インセル化）している。このタッチパネルパターンは、いわゆる投影型静電容量方式とされており、その検出方式が自己容量方式とされる。タッチパネルパターンは、図１に示すように、一対の基板１１ａ，１１ｂのうちのアレイ基板１１ｂ側に設けられており、アレイ基板１１ｂの板面内にマトリクス状に並んで配される複数のタッチ電極（位置検出電極）１４から構成されている。タッチ電極１４は、アレイ基板１１ｂの表示領域ＡＡに配されている。従って、液晶パネル１１における表示領域ＡＡは、入力位置を検出可能なタッチ領域（位置入力領域）とほぼ一致しており、非表示領域ＮＡＡが入力位置を検出不能な非タッチ領域（非位置入力領域）とほぼ一致していることになる。そして、使用者が視認する液晶パネル１１の表示領域ＡＡの画像に基づいて位置入力をしようとして液晶パネル１１の表面（表示面）に導電体である図示しない指（位置入力体）を近づけると、その指とタッチ電極１４との間で静電容量が形成されることになる。これにより、指の近くにあるタッチ電極１４にて検出される静電容量には指が近づくのに伴って変化が生じ、指から遠くにあるタッチ電極１４とは異なるものとなるので、それに基づいて入力位置を検出することが可能となる。

　そして、このタッチ電極１４は、図１に示すように、アレイ基板１１ｂに設けられた共通電極１１ｈにより構成されている。共通電極１１ｈは、既述した画素重畳開口部１１ｈ１に加えて、隣り合うタッチ電極１４の間を仕切る仕切開口部（仕切スリット）１１ｈ２を有する。仕切開口部１１ｈ２は、概ねＸ軸方向に沿って共通電極１１ｈの全長にわたって横断する部分と、概ねＹ軸方向に沿って共通電極１１ｈの全長にわたって縦断する部分と、からなり、全体としては平面に視て略格子状をなしている。共通電極１１ｈは、仕切開口部１１ｈ２によって平面に視て略碁盤目状に分割されて相互が電気的に独立した複数のタッチ電極１４からなる。共通電極１１ｈが仕切開口部１１ｈ２によって仕切られてなるタッチ電極１４は、表示領域ＡＡにおいてＸ軸方向及びＹ軸方向に沿って複数ずつがマトリクス状に並んで配されている。タッチ電極１４は、平面に視て方形状をなしており、一辺の寸法が数ｍｍ（例えば約２～４ｍｍ）程度とされている。従って、タッチ電極１４は、平面に視た大きさが画素部ＰＸ（画素電極１１ｇ）よりも遙かに大きくなっており、Ｘ軸方向及びＹ軸方向について複数（例えば数十または数百程度）ずつの画素部ＰＸに跨る範囲に配置されている。複数のタッチ電極１４には、アレイ基板１１ｂに設けられた複数のタッチ配線（位置検出配線）１５が選択的に接続されている。タッチ配線１５は、アレイ基板１１ｂにおいてソース配線１１ｊに並行する形で概ねＹ軸方向に沿って延在しており、Ｙ軸方向に沿って並ぶ複数のタッチ電極１４のうちの特定のタッチ電極１４に対して選択的に接続されている。さらにタッチ配線１５は、図示しない検出回路と接続されている。検出回路は、ドライバ１２に備えられていても構わないが、フレキシブル基板１３を介して液晶パネル１１の外部に備えられていても構わない。タッチ配線１５は、表示機能に係る基準電位信号と、タッチ機能に係るタッチ信号（位置検出信号）と、を異なるタイミングでもってタッチ電極１４に供給する。このうちの基準電位信号は、同じタイミングで全てのタッチ配線１５に伝送されることで、全てのタッチ電極１４が基準電位となって共通電極１１ｈとして機能する。なお、図１は、タッチ電極１４の配列を模式的に表したものであり、タッチ電極１４の具体的な設置数や配置については図示以外にも適宜に変更可能である。

　ここで、アレイ基板１１ｂの内面側に積層形成された各種の膜について説明する。アレイ基板１１ｂには、図６に示すように、下層側から順に第１金属膜（第１導電膜）１６、ゲート絶縁膜１７、半導体膜１８、第１透明電極膜１９、第２金属膜（第２導電膜）２０、層間絶縁膜（絶縁膜）２１、第２透明電極膜２２が積層形成されている。第１金属膜１６は、Ａｌ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｔｉ，Ｗなどから選択される１種類の金属材料からなる単層膜または異なる種類の金属材料からなる積層膜や合金とされることで導電性及び遮光性を有していて、ゲート配線１１ｉやＴＦＴ１１ｆのゲート電極１１ｆ１などを構成する。ゲート絶縁膜１７は、窒化ケイ素（ＳｉＮ_ｘ）、酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）等の無機材料からなり、下層側の第１金属膜１６と、上層側の半導体膜１８、第１透明電極膜１９及び第２金属膜２０と、を絶縁状態に保つ。半導体膜１８は、材料として例えば酸化物半導体、アモルファスシリコン等を用いた薄膜からなり、ＴＦＴ１１ｆにおいてソース電極１１ｆ２とドレイン電極１１ｆ３とに接続されるチャネル部（半導体部）１１ｆ４などを構成する。第１透明電極膜１９は、透明電極材料（例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）やＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）など）からなり、画素電極１１ｇなどを構成する。第２金属膜２０は、第１金属膜１６と同様に、１種類または複数種類の金属材料からなる単層膜または積層膜や合金とされることで導電性及び遮光性を有していて、ソース配線１１ｊ及びタッチ配線１５やＴＦＴ１１ｆのソース電極１１ｆ２及びドレイン電極１１ｆ３などを構成する。層間絶縁膜２１は、ゲート絶縁膜１７と同様に無機材料からなり、下層側の半導体膜１８、第１透明電極膜１９及び第２金属膜２０と、上層側の第２透明電極膜２２と、を絶縁状態に保つ。第２透明電極膜２２は、第１透明電極膜１９と同様に透明電極材料からなり、共通電極１１ｈ（タッチ電極１４）などを構成する。

　ＴＦＴ１１ｆの構成について詳しく説明する。ＴＦＴ１１ｆは、図５及び図６に示すように、ゲート配線１１ｉから分岐してなるゲート電極１１ｆ１を有する。ゲート電極１１ｆ１は、ゲート配線１１ｉのうち、ソース配線１１ｊと交差する部分を、Ｙ軸方向に沿って接続対象となる画素電極１１ｇ側に向けて突出させてなり、平面に視て略方形状をなす。ゲート電極１１ｆ１は、ゲート配線１１ｉに供給される走査信号に基づいてＴＦＴ１１ｆを駆動し、それによりソース電極１１ｆ２とドレイン電極１１ｆ３との間の電流が制御される。ＴＦＴ１１ｆは、ソース配線１１ｊのうち、ゲート電極１１ｆ１と重畳する部分からなるソース電極１１ｆ２を有する。ソース配線１１ｊは、ゲート配線１１ｉとの交差部位が、ゲート電極１１ｆ１における３つの辺に沿って屈曲されて平面に視て画素電極１１ｇ側に向けて開口したチャンネル型をなしており、ここがソース電極１１ｆ２を構成している。ＴＦＴ１１ｆは、ソース電極１１ｆ２との間に間隔を空けた位置に配されるドレイン電極１１ｆ３を有する。ドレイン電極１１ｆ３は、ソース電極１１ｆ２における３つの辺部と対向状をなすとともに、ソース電極１１ｆ２の開口部分からＸ軸方向に沿って延出してその端部が画素電極１１ｇに接続されている。ＴＦＴ１１ｆは、ゲート絶縁膜１７を介してゲート電極１１ｆ１と重畳するとともに、ソース電極１１ｆ２及びドレイン電極１１ｆ３に接続されるチャネル部１１ｆ４を有する。チャネル部１１ｆ４は、ゲート電極１１ｆ１と同様に平面形状が方形とされており、その３つの辺部がソース電極１１ｆ２に、残りの１辺部を含む部分がドレイン電極１１ｆ３に、それぞれ接続されている。そして、ゲート電極１１ｆ１に供給される走査信号に基づいてＴＦＴ１１ｆがオン状態にされると、ソース配線１１ｊに供給される画像信号（信号、データ信号）は、ソース電極１１ｆ２から半導体膜１８からなるチャネル部１１ｆ４を介してドレイン電極１１ｆ３へと供給され、その結果、画素電極１１ｇが充電されるようになっている。

　次に、タッチ配線１５の構成について詳しく説明する。タッチ配線１５は、図５及び図６に示すように、ソース配線１１ｊと同じ第２金属膜２０からなり、第１透明電極膜１９と同様にゲート絶縁膜１７の上層側に積層されている。つまり、タッチ配線１５は、ソース配線１１ｊ及び第１透明電極膜１９からなる画素電極１１ｇと同層に配されているので、これらに対してＸ軸方向についてそれぞれ間隔を空けて配されることで、短絡が避けられている。また、遮光性を持つ第２金属膜２０からなるタッチ配線１５は、画素電極１１ｇとは非重畳となる形で配されており、それにより画素部ＰＸの開口率が徒に低下するのが回避されている。タッチ配線１５は、ソース配線１１ｊに対してそのソース配線１１ｊがＴＦＴ１１ｆを介して電気的に接続される画素電極１１ｇ側とは反対側に間隔を空けて隣り合う形で配されている。タッチ配線１５は、Ｘ軸方向についてソース配線１１ｊとの間に間隔を空けて配されるとともに、ソース配線１１ｊに並行する形で延在している。従って、タッチ配線１５のうち、ソース電極１１ｆ２と隣り合う部分は、平面形状がチャンネル型となるよう屈曲されている。また、タッチ配線１５は、その線幅がソース配線１１ｊの線幅と同等とされる。

　ところで、ＴＦＴ１１ｆを介して画素電極１１ｇに接続されるゲート配線１１ｉは、図２に示すように、共通電極１１ｈを分割していて隣り合うタッチ電極１４の間を仕切る仕切開口部１１ｈ２に並行する形で延在しているため、ゲート配線１１ｉとタッチ電極１４における仕切開口部１１ｈ２側の端部との間に電界が生じると、タッチ電極１４における仕切開口部１１ｈ２側の端部付近の電界に起因して液晶層１１ｃに含まれる液晶分子の配向状態が局所的に乱れてしまい、結果として表示品位が劣化するおそれがある。

　そこで、本実施形態に係るアレイ基板１１ｂには、図５及び図７に示すように、仕切開口部１１ｈ２に対して少なくとも一部が重畳する形で延在するシールド電極２３が設けられている。このシールド電極２３は、アレイ基板１１ｂにおいてタッチ配線１５と同じ第２金属膜２０からなることでタッチ配線１５と同層に配されるとともに、同じ第２金属膜２０からなるタッチ配線１５に連ねられて電気的に接続されている。このようにすれば、シールド電極２３によってタッチ電極１４における仕切開口部１１ｈ２側の端部付近の電界が弱められる。これにより、タッチ電極１４における仕切開口部１１ｈ２側の端部付近の電界に起因して液晶層１１ｃに含まれる液晶分子の配向状態が局所的に乱れ難くなり、もって表示品位の劣化が抑制される。特に、本実施形態では、画素電極１１ｇがＸ軸方向（ゲート配線１１ｉ及びシールド電極２３の延在方向）を長辺方向とした長手状とされているため、仮に画素電極１１ｇがＹ軸方向（ゲート配線１１ｉ及びシールド電極２３の延在方向と直交する方向）を長辺方向とした長手状とされる場合に比べると、タッチ電極１４における仕切開口部１１ｈ２側の端部付近の電界が液晶層１１ｃに含まれる液晶分子の配向状態を広範囲にわたって乱しがちとなって表示品位がより劣化し易い傾向にあるものの、上記のようにシールド電極２３によってタッチ電極１４における仕切開口部１１ｈ２側の端部付近の電界を好適に弱めることで、タッチ電極１４における仕切開口部１１ｈ２側の端部付近の電界に起因する表示品位の劣化を好適に抑制することができる。その上で、シールド電極２３は、タッチ配線１５と同層に配されているから、シールド電極２３を形成するための専用の製造工程が不要となる。これにより、製造コストの低下を図る上で好適となる。また、シールド電極２３は、Ｙ軸方向について画素電極１１ｇとゲート配線１１ｉとの間に介在していてそれらとは非重畳となる形で配されるとともに、画素電極１１ｇの長辺部及びゲート配線１１ｉに並行する形で概ねＸ軸方向に沿って延在しており、その長さ寸法は、画素電極１１ｇの長辺寸法とほぼ一致している。つまり、シールド電極２３は、Ｙ軸方向について隣り合う画素電極１１ｇの長辺部のほぼ全長にわたって隣り合う形で延在している。シールド電極２３は、その延在方向についての一方（図２及び図５に示す右側）の端部がタッチ配線１５に接続されている。

　第２金属膜２０からなるシールド電極２３は、図７に示すように、第１透明電極膜１９からなる画素電極１１ｇと同じくゲート絶縁膜１７の上層側に配されることから、画素電極１１ｇと同層に配されている。これに対し、第１金属膜１６からなるゲート配線１１ｉは、シールド電極２３及び画素電極１１ｇに対してゲート絶縁膜１７を介して下層側に配されている。つまり、第２金属膜２０からなるシールド電極２３は、第２透明電極膜２２からなる共通電極１１ｈの下層側で且つ第１金属膜１６からなるゲート配線１１ｉの上層側に配されている。従って、シールド電極２３とその下層側のゲート配線１１ｉとの間には相対的に強い電界が生じることになり、それによりゲート配線１１ｉとタッチ電極１４における仕切開口部１１ｈ２側の端部との間に生じ得る電界が相対的に弱められる。これにより、タッチ電極１４における仕切開口部１１ｈ２側の端部付近の電界に起因する表示品位の劣化がより好適に抑制される。

　ゲート配線１１ｉと仕切開口部１１ｈ２とは、図５及び図７に示すように、互いに平面に視て非重畳となる（オフセットする）形で配されている。このようにすれば、仮にゲート配線が仕切開口部１１ｈ２と重畳する配置の場合に比べると、ゲート配線１１ｉとタッチ電極１４における仕切開口部１１ｈ２側の端部との間のＹ軸方向（画素電極１１ｇ及びゲート配線１１ｉの並び方向）についての距離が大きくなるので、両者の間に生じ得る電界がより弱められることになる。これにより、タッチ電極１４における仕切開口部１１ｈ２側の端部付近の電界に起因する表示品位の劣化がより好適に抑制される。

　しかも、シールド電極２３は、図５及び図７に示すように、Ｙ軸方向に沿って並ぶ複数のゲート配線１１ｉに含まれる特定のゲート配線１１ｉに対してＹ軸方向についてそのゲート配線１１ｉが接続される画素電極１１ｇ側とは反対側（図５に示す下側）に隣り合う形で選択的に配されている。このようにすれば、シールド電極２３は、Ｙ軸方向についてゲート配線１１ｉとそのゲート配線１１ｉが接続される画素電極１１ｇとの間に介在することがない配置とされる。従って、シールド電極２３に隣り合うゲート配線１１ｉとそのゲート配線１１ｉが接続される画素電極１１ｇとのＹ軸方向についての位置関係を、シールド電極２３とは隣り合うことがないゲート配線１１ｉとそのゲート配線１１ｉが接続される画素電極１１ｇとのＹ軸方向についての位置関係と、同等になっている。これにより、ゲート配線１１ｉとそのゲート配線１１ｉが接続される画素電極１１ｇとの間に生じる寄生容量を均等化することができ、もって表示品位の劣化を抑制する上でより好適とされる。さらには、シールド電極２３は、Ｙ軸方向について隣り合う画素電極１１ｇとの間の距離Ｄ１が、シールド電極２３とは隣り合うことがないゲート配線１１ｉとそのゲート配線１１ｉが接続される画素電極１１ｇとは反対側に隣り合う画素電極１１ｇとの間の距離Ｄ２と等しくなるよう配される。このようにすれば、シールド電極２３とシールド電極２３に対してＹ軸方向について隣り合う画素電極１１ｇとの間に生じる寄生容量が、ゲート配線１１ｉと画素電極１１ｇとの間に生じる寄生容量と均等化される。これにより、表示品位の劣化を抑制する上でさらに好適とされる。

　ここで、画素電極１１ｇ、ゲート配線１１ｉ及びシールド電極２３は、それぞれ異なる製造工程でパターニングされるものとすると、ゲート配線１１ｉとシールド電極２３とは、画素電極１１ｇに対して製造時の誤差（例えばフォトマスクの位置ずれなど）などによって位置関係がばらつき易い傾向にある。その点、本実施形態に係るアレイ基板１１ｂには、図８及び図９に示すように、仕切開口部１１ｈ２とは非重畳となるようゲート配線１１ｉ及び画素電極１１ｇに隣り合う形で配されてシールド電極２３に並行する形で延在するダミーシールド電極２４が設けられている。このダミーシールド電極２４は、アレイ基板１１ｂにおいてタッチ配線１５と同じ第２金属膜２０からなることでタッチ配線１５と同層に配されるとともに、同じ第２金属膜２０からなるタッチ配線１５に接続されている。このようにすれば、仮に製造上の誤差などに起因して画素電極１１ｇに対するシールド電極２３のＹ軸方向についての位置関係にばらつきが生じたとしても、画素電極１１ｇに対するダミーシールド電極２４のＹ軸方向についての位置関係も同様にばらつくことになる。従って、ダミーシールド電極２４に隣り合う画素電極１１ｇに係る寄生容量と、シールド電極２３に隣り合う画素電極１１ｇに係る寄生容量と、が均等化される。これにより、表示品位の劣化を抑制する上でより好適とされる。また、ダミーシールド電極２４は、Ｙ軸方向について画素電極１１ｇとゲート配線１１ｉとの間に介在していてそれらとは非重畳となる形で配されるとともに、画素電極１１ｇの長辺部及びゲート配線１１ｉに並行する形で概ねＸ軸方向に沿って延在しており、その長さ寸法は、画素電極１１ｇの長辺寸法とほぼ一致している。つまり、ダミーシールド電極２４は、Ｙ軸方向について隣り合う画素電極１１ｇの長辺部のほぼ全長にわたって隣り合う形で延在している。ダミーシールド電極２４は、その延在方向についての一方（図２及び図８に示す右側）の端部がタッチ配線１５に接続されている。従って、Ｙ軸方向について間隔を空けて並ぶシールド電極２３及びダミーシールド電極２４は、同じタッチ配線１５に対して接続されている。

　ダミーシールド電極２４は、図８及び図９に示すように、共通電極１１ｈに形成された仕切開口部１１ｈ２とは非重畳の配置とされているので、仕切開口部１１ｈ２に対して隣り合うタッチ電極１４に対しては平面に視て重畳する形で配されている。ダミーシールド電極２４を構成する第２金属膜２０と、タッチ電極１４を構成する第２透明電極膜２２と、の間に介在する層間絶縁膜２１のうち、タッチ電極１４とダミーシールド電極２４とが重畳する位置には、コンタクトホール２５が開口する形で設けられている。コンタクトホール２５は、ダミーシールド電極２４における延在方向についての両端部と重畳する位置に一対が配されている。ダミーシールド電極２４は、このコンタクトホール２５を通してタッチ電極１４に対して電気的に接続されている。ダミーシールド電極２４は、タッチ配線１５に接続されていることから、タッチ電極１４及びタッチ配線１５は、ダミーシールド電極２４を介して電気的に中継接続されている。このように、ダミーシールド電極２４の配置スペースを利用してタッチ配線１５とタッチ電極１４との接続を図ることができるので、仮にタッチ配線をタッチ電極１４に対して直接的に接続した場合には、線幅が限られたタッチ配線を部分的に拡幅するなどしてコンタクトホールの配置スペースを確保する必要が生じるのに比べると、配置効率が良好なものとなる。

　シールド電極２３及びダミーシールド電極２４は、図２に示すように、複数の画素電極１１ｇのうち、特定の色を呈する複数のカラーフィルタ１１ｋと重畳する複数の画素電極１１ｇに対してそれぞれ隣り合う形で選択的に配される。このようにすれば、シールド電極２３及びダミーシールド電極２４は、複数の画素電極１１ｇのうち、特定の色を呈する複数のカラーフィルタ１１ｋと重畳する複数の画素電極１１ｇに対してそれぞれ隣り合う形で選択的に配されているので、シールド電極２３及びダミーシールド電極２４と、特定の色を呈する複数のカラーフィルタ１１ｋと重畳する複数の画素電極１１ｇと、の間に生じる寄生容量が均等化される。これにより、特定の色を呈する複数のカラーフィルタ１１ｋの透過光量が均等化されるので、特定の色を単色表示した時に筋状の色ムラが生じ難いものとなる。また、仮に各色のカラーフィルタ１１ｋと重畳する全ての画素電極１１ｇに対してそれぞれ隣り合う形でシールド電極２３及びダミーシールド電極２４を配した場合に比べると、シールド電極２３及びダミーシールド電極２４の設置数を削減することができるので、開口率の向上を図る上で好適となる。具体的には、シールド電極２３及びダミーシールド電極２４は、複数の画素電極１１ｇのうち、青色を呈する複数の青色カラーフィルタ１１ｋＢと重畳する（青色画素部ＢＰＸを構成する）複数の画素電極１１ｇに対してそれぞれ隣り合う形で配される。このようにすれば、シールド電極２３及びダミーシールド電極２４と、青色を呈する複数の青色カラーフィルタ１１ｋＢと重畳する複数の画素電極１１ｇと、の間に生じる寄生容量が均等化されるので、青色を呈する複数の青色カラーフィルタ１１ｋＢの透過光量が均等化され、もって青色を単色表示したときに青色の筋状の色ムラが生じ難いものとなる。万が一に、僅かながらも青色の筋状の色ムラが生じた場合であっても、青色は、緑色や赤色に比べると視認性が低いことから、色ムラが視認され難いものとされる。

　上記の通り、シールド電極２３及びダミーシールド電極２４は、図２に示すように、複数のゲート配線１１ｉに含まれる特定のゲート配線１１ｉに対してそれぞれ隣り合う形で選択的に配されている。これに対し、複数の画素電極１１ｇは、間にゲート配線１１ｉとシールド電極２３またはダミーシールド電極２４とが介在する画素電極１１ｇ間の距離Ｄ３が、間にシールド電極２３またはダミーシールド電極２４が介在せずにゲート配線１１ｉが介在する画素電極１１ｇ間の距離Ｄ４よりも大きい。このようにすれば、仮に間にシールド電極２３またはダミーシールド電極２４が介在せずにゲート配線１１ｉが介在する画素電極１１ｇ間の距離を、間にゲート配線１１ｉとシールド電極２３またはダミーシールド電極２４が介在する画素電極１１ｇ間の距離と等しくした場合に比べると、間にシールド電極２３またはダミーシールド電極２４が介在せずにゲート配線１１ｉが介在する画素電極１１ｇ間の距離Ｄ４が小さなものとなる。これにより、開口率の向上を図る上で好適となる。なお、本実施形態では、シールド電極２３及びダミーシールド電極２４のいずれに対してもＹ軸方向について隣り合うことがない画素電極１１ｇにおけるＹ軸方向についての配列ピッチは、６５μｍ程度とされるのに対し、シールド電極２３またはダミーシールド電極２４に対してＹ軸方向について隣り合う画素電極１１ｇにおけるＹ軸方向についての配列ピッチは、８０μｍ程度とされて相対的に広くなっている。

　以上説明したように本実施形態の液晶表示装置（位置入力機能付き表示装置）１０は、画素電極１１ｇと、画素電極１１ｇに対して上層側または下層側にて少なくとも一部が重畳する形で配される共通電極１１ｈと、共通電極１１ｈを仕切開口部１１ｈ２によって分割してなり、位置入力を行う位置入力体である指との間で静電容量を形成し、位置入力体である指による入力位置を検出する複数のタッチ電極（位置検出電極）１４と、共通電極１１ｈに対して上層側または下層側に配されてタッチ電極１４に接続されるタッチ配線（位置検出配線）１５と、仕切開口部１１ｈ２に並行する形で延在していて画素電極１１ｇに接続されるＴＦＴ１１ｆのゲート電極１１ｆ１に接続されるゲート配線（画素接続配線）１１ｉと、少なくとも一部が仕切開口部１１ｈ２と重畳する形で延在してタッチ配線１５と同層に配されてタッチ配線１５に接続されるシールド電極２３と、を備える。

　このような構成によれば、画素電極１１ｇと、画素電極１１ｇに対して上層側または下層側にて少なくとも一部が重畳する共通電極１１ｈと、の間には、画素電極１１ｇに供給される電圧に基づいた電位差が生じ得るものとされ、その電位差を利用して表示がなされる。画素電極１１ｇにはＴＦＴ１１ｆが接続されており、ＴＦＴ１１ｆのゲート電極１１ｆ１にはゲート配線１１ｉが接続されている。一方、共通電極１１ｈを仕切開口部１１ｈ２によって分割してなるタッチ電極１４には、共通電極１１ｈに対して上層側または下層側に配されるタッチ配線１５が接続されている。タッチ電極１４は、位置入力を行う位置入力体である指との間で静電容量を形成し、タッチ配線１５によって供給される信号を利用して位置入力体である指による入力位置を検出することができる。

　ここで、ゲート配線１１ｉは、共通電極１１ｈを分割していて隣り合うタッチ電極１４の間を仕切る仕切開口部１１ｈ２に並行する形で延在しているため、ゲート配線１１ｉとタッチ電極１４における仕切開口部１１ｈ２側の端部との間に電界が生じると、タッチ電極１４における仕切開口部１１ｈ２側の端部付近の電界に起因して表示品位が劣化するおそれがある。その点、少なくとも一部が仕切開口部１１ｈ２と重畳する形で延在してタッチ配線１５に接続されるシールド電極２３が備えられているから、シールド電極２３によってタッチ電極１４における仕切開口部１１ｈ２側の端部付近の電界が弱められる。従って、タッチ電極１４における仕切開口部１１ｈ２側の端部付近の電界に起因する表示品位の劣化が抑制される。その上で、シールド電極２３は、タッチ配線１５と同層に配されているから、シールド電極２３を形成するための専用の製造工程が不要となる。これにより、製造コストの低下を図る上で好適となる。

　また、ゲート配線１１ｉは、仕切開口部１１ｈ２とは非重畳となる形で配される。このようにすれば、仮にゲート配線１１ｉが仕切開口部１１ｈ２と重畳する配置の場合に比べると、ゲート配線１１ｉとタッチ電極１４における仕切開口部１１ｈ２側の端部との間の距離が大きくなるので、両者の間に生じ得る電界がより弱められることになる。これにより、タッチ電極１４における仕切開口部１１ｈ２側の端部付近の電界に起因する表示品位の劣化がより好適に抑制される。

　また、画素電極１１ｇ及びゲート配線１１ｉは、複数ずつ備えられていて交互に並ぶ形で配されており、シールド電極２３は、複数のゲート配線１１ｉに含まれるゲート配線１１ｉに対してそのゲート配線１１ｉが接続される画素電極１１ｇ側とは反対側に隣り合う形で選択的に配されている。このようにすれば、シールド電極２３は、ゲート配線１１ｉとそのゲート配線１１ｉが接続される画素電極１１ｇとの間に介在することがない配置とされるので、シールド電極２３に隣り合うゲート配線１１ｉとそのゲート配線１１ｉが接続される画素電極１１ｇとの位置関係を、シールド電極２３とは隣り合うことがないゲート配線１１ｉとそのゲート配線１１ｉが接続される画素電極１１ｇとの位置関係と、同等にすることが可能となる。これにより、ゲート配線１１ｉとそのゲート配線１１ｉが接続される画素電極１１ｇとの間に生じる寄生容量を均等化することができ、もって表示品位の劣化を抑制する上でより好適とされる。

　また、シールド電極２３は、隣り合う画素電極１１ｇとの間の距離が、ゲート配線１１ｉと画素電極１１ｇとの間の距離と等しくなるよう配される。このようにすれば、シールド電極２３とシールド電極２３に隣り合う画素電極１１ｇとの間に生じる寄生容量が、ゲート配線１１ｉと画素電極１１ｇとの間に生じる寄生容量と均等化される。これにより、表示品位の劣化を抑制する上でさらに好適とされる。

　また、画素電極１１ｇ、ゲート配線１１ｉ及びシールド電極２３には、互いに同層に配されるものと、それらに対して上層側または下層側に配されるものと、が含まれ、画素電極１１ｇ及びゲート配線１１ｉは、複数ずつ備えられていて交互に並ぶ形で配されており、仕切開口部１１ｈ２とは非重畳となるようゲート配線１１ｉ及び画素電極１１ｇに隣り合う形で配されてシールド電極２３に並行する形で延在し且つタッチ配線１５と同層に配されてタッチ配線１５に接続されるダミーシールド電極２４を備える。画素電極１１ｇ、ゲート配線１１ｉ及びシールド電極２３は、それぞれ異なる製造工程でパターニングされるものとすると、画素電極１１ｇに対して、ゲート配線１１ｉとシールド電極２３とは製造時の誤差などによって位置関係がばらつき易い傾向にある。その点、上記のように仕切開口部１１ｈ２とは非重畳となるようゲート配線１１ｉ及び画素電極１１ｇに隣り合うダミーシールド電極２４は、シールド電極２３に並行する形で延在し且つタッチ配線１５と同層に配されてタッチ配線１５に接続されているので、仮に製造上の誤差などに起因して、画素電極１１ｇに対するシールド電極２３の位置関係にばらつきが生じたとしても、画素電極１１ｇに対するダミーシールド電極２４の位置関係も同様にばらつくことになる。従って、ダミーシールド電極２４に隣り合う画素電極１１ｇに係る寄生容量と、シールド電極２３に隣り合う画素電極１１ｇに係る寄生容量と、が均等化される。これにより、表示品位の劣化を抑制する上でより好適とされる。

　また、複数備えられる画素電極１１ｇとそれぞれ重畳する形で配されて少なくとも青色、緑色及び赤色を呈する複数のカラーフィルタ１１ｋであって、画素電極１１ｇ及びゲート配線１１ｉの並び方向に沿って並ぶ複数のカラーフィルタ１１ｋを備えており、シールド電極２３及びダミーシールド電極２４は、複数の画素電極１１ｇのうち、特定の色を呈する複数のカラーフィルタ１１ｋと重畳する複数の画素電極１１ｇに対してそれぞれ隣り合う形で選択的に配される。このようにすれば、少なくとも青色、緑色及び赤色を呈する複数のカラーフィルタ１１ｋが複数の画素電極１１ｇと重畳する形で配されているので、複数のゲート配線１１ｉによって複数の画素電極１１ｇに供給される信号に基づいて所定のカラー画像を表示することが可能とされる。シールド電極２３及びダミーシールド電極２４は、複数の画素電極１１ｇのうち、特定の色を呈する複数のカラーフィルタ１１ｋと重畳する複数の画素電極１１ｇに対してそれぞれ隣り合う形で選択的に配されているので、シールド電極２３及びダミーシールド電極２４と、特定の色を呈する複数のカラーフィルタ１１ｋと重畳する複数の画素電極１１ｇと、の間に生じる寄生容量が均等化される。これにより、特定の色を呈する複数のカラーフィルタ１１ｋの透過光量が均等化されるので、特定の色を単色表示した時に筋状の色ムラが生じ難いものとなる。また、仮に各色のカラーフィルタ１１ｋと重畳する全ての画素電極１１ｇに対してそれぞれ隣り合う形でシールド電極２３及びダミーシールド電極２４を配した場合に比べると、シールド電極２３及びダミーシールド電極２４の設置数を削減することができるので、開口率の向上を図る上で好適となる。

　また、シールド電極２３及びダミーシールド電極２４は、複数の画素電極１１ｇのうち、青色を呈する複数の青色カラーフィルタ１１ｋＢと重畳する複数の画素電極１１ｇに対してそれぞれ隣り合う形で配される。このようにすれば、シールド電極２３及びダミーシールド電極２４と、青色を呈する複数の青色カラーフィルタ１１ｋＢと重畳する複数の画素電極１１ｇと、の間に生じる寄生容量が均等化されるので、青色を呈する複数の青色カラーフィルタ１１ｋＢの透過光量が均等化され、もって青色を単色表示したときに青色の筋状の色ムラが生じ難いものとなる。万が一に、僅かながらも青色の筋状の色ムラが生じた場合であっても、青色は、緑色や赤色に比べると視認性が低いことから、色ムラが視認され難いものとされる。

　また、タッチ配線１５、シールド電極２３及びダミーシールド電極２４と、タッチ電極１４と、の間に介在する層間絶縁膜（絶縁膜）２１を備えており、層間絶縁膜２１のうち、タッチ電極１４とダミーシールド電極２４とが重畳する位置には、コンタクトホール２５が開口する形で設けられている。このようにすれば、層間絶縁膜２１のコンタクトホール２５を通してタッチ電極１４とダミーシールド電極２４とが接続され、それによりタッチ配線１５がタッチ電極１４に接続される。ダミーシールド電極２４の配置スペースを利用してタッチ配線１５とタッチ電極１４との接続を図ることができるので、仮にタッチ配線１５とタッチ電極１４とを直接的に接続した場合に比べると、配置効率が良好なものとなる。

　また、画素電極１１ｇ及びゲート配線１１ｉは、複数ずつが備えられていて交互に並ぶ形で配され、シールド電極２３は、複数のゲート配線１１ｉに含まれるゲート配線１１ｉに対して隣り合う形で選択的に配されており、複数の画素電極１１ｇは、間にゲート配線１１ｉ及びシールド電極２３が介在する画素電極１１ｇ間の距離が、間にシールド電極２３が介在せずにゲート配線１１ｉが介在する画素電極１１ｇ間の距離よりも大きい。このようにすれば、仮に間にシールド電極２３が介在せずにゲート配線１１ｉが介在する画素電極１１ｇ間の距離を、間にゲート配線１１ｉ及びシールド電極２３が介在する画素電極１１ｇ間の距離と等しくした場合に比べると、間にシールド電極２３が介在せずにゲート配線１１ｉが介在する画素電極１１ｇ間の距離が小さなものとなる。これにより、開口率の向上を図る上で好適となる。

　また、タッチ配線１５及びシールド電極２３は、共通電極１１ｈの下層側で且つゲート配線１１ｉの上層側に配される。このようにすれば、シールド電極２３とその下層側のゲート配線１１ｉとの間に相対的に強い電界が生じることになるので、ゲート配線１１ｉとタッチ電極１４における仕切開口部１１ｈ２側の端部との間に生じ得る電界が相対的に弱められる。これにより、タッチ電極１４における仕切開口部１１ｈ２側の端部付近の電界が好適に弱められ、もってタッチ電極１４における仕切開口部１１ｈ２側の端部付近の電界に起因する表示品位の劣化が好適に抑制される。

　また、画素電極１１ｇは、ゲート配線１１ｉ及びシールド電極２３の延在方向を長辺方向とした長手状をなす。仮に画素電極１１ｇがゲート配線１１ｉ及びシールド電極２３の延在方向と直交する方向を長辺方向とした長手状とされる場合に比べると、タッチ電極１４における仕切開口部１１ｈ２側の端部付近の電界に起因して表示品位がより劣化し易い傾向にある。その点、少なくとも一部が仕切開口部１１ｈ２と重畳する形で延在してタッチ配線１５に接続されるシールド電極２３が備えられることで、シールド電極２３によってタッチ電極１４における仕切開口部１１ｈ２側の端部付近の電界が弱められ、もってタッチ電極１４における仕切開口部１１ｈ２側の端部付近の電界に起因する表示品位の劣化を好適に抑制することができる。

　＜実施形態２＞
　本発明の実施形態２を図１０から図１２によって説明する。この実施形態２では、ダミーシールド電極１２４の構成を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

　本実施形態に係るダミーシールド電極１２４は、図１０から図１２に示すように、Ｙ軸方向について隣り合うゲート配線１１１ｉとの間の距離Ｄ５が、シールド電極１２３とＹ軸方向について隣り合うゲート配線１１１ｉとの間の距離Ｄ６よりも大きくなるよう配される。その一方で、ダミーシールド電極１２４は、Ｙ軸方向について隣り合う画素電極１１１ｇとの間の距離Ｄ７が、シールド電極１２３とＹ軸方向について隣り合う画素電極１１１ｇとの間の距離Ｄ１と等しくなるよう配される。まず、ダミーシールド電極１２４と画素電極１１１ｇとの間の距離Ｄ７が、シールド電極１２３と画素電極１１１ｇとの間の距離Ｄ１と等しくされることで、ダミーシールド電極１２４と画素電極１１１ｇとの間に生じる寄生容量が、シールド電極１２３と画素電極１１１ｇとの間に生じる寄生容量と均等化される。これにより、表示品位の劣化を抑制する上でより好適とされる。その一方、ダミーシールド電極１２４とゲート配線１１１ｉとの間の距離Ｄ５が、シールド電極１２３とゲート配線１１１ｉとの間の距離Ｄ６よりも大きくされることで、ダミーシールド電極１２４とゲート配線１１１ｉとの間に生じる寄生容量が、シールド電極１２３とゲート配線１１１ｉとの間に生じる寄生容量よりも小さくなる。これにより、ダミーシールド電極１２４と隣り合うゲート配線１１１ｉに信号鈍りが生じ難くなるとともに、ダミーシールド電極１２４が接続されるタッチ電極１１４の位置検出感度が低下し難くなる。

　ここで、図１０には、２本のダミーシールド電極１２４が図示されているが、このうち同図の上側の第１ダミーシールド電極１２４Ａは、コンタクトホール１２５を通してタッチ電極１１４に対して電気的に接続されているものの、同図の下側の第２ダミーシールド電極１２４Ｂは、タッチ電極１１４とは非接続とされる。従って、同じタッチ配線１１５に接続された複数のダミーシールド電極１２４には、コンタクトホール１２５を通してタッチ電極１１４に接続されるもの（第１ダミーシールド電極１２４Ａ）と、いずれのタッチ電極１１４にも接続されることがなく且つ接続対象ではないタッチ電極１１４と平面に視て重畳配置されるもの（第２ダミーシールド電極１２４Ｂ）と、が含まれている。接続対象ではないタッチ電極１１４と平面に視て重畳配置される第２ダミーシールド電極１２４Ｂは、そのタッチ電極１１４との間に寄生容量を生じさせるため、その寄生容量に起因してタッチ感度（位置検出感度）が低下するおそれがある。その点、本実施形態では、ダミーシールド電極１２４は、図１１及び図１２に示すように、シールド電極１２３よりも線幅が狭くされている。このようにすれば、第２ダミーシールド電極１２４Ｂと、その第２ダミーシールド電極１２４Ｂの接続対象ではないタッチ電極１１４と、の間に生じる寄生容量が低下されるので、タッチ感度が低下し難くなる。

　以上説明したように本実施形態によれば、ダミーシールド電極１２４は、ゲート配線１１１ｉとの間の距離がシールド電極１２３における同距離よりも大きいものの、画素電極１１１ｇとの間の距離がシールド電極１２３における同距離と等しくなるよう配される。まず、ダミーシールド電極１２４と画素電極１１１ｇとの間の距離が、シールド電極１２３と画素電極１１１ｇとの間の距離と等しくされることで、ダミーシールド電極１２４と画素電極１１１ｇとの間に生じる寄生容量が、シールド電極１２３と画素電極１１１ｇとの間に生じる寄生容量と均等化される。これにより、表示品位の劣化を抑制する上でより好適とされる。その一方、ダミーシールド電極１２４とゲート配線１１１ｉとの間の距離が、シールド電極１２３とゲート配線１１１ｉとの間の距離よりも大きくされることで、ダミーシールド電極１２４とゲート配線１１１ｉとの間に生じる寄生容量が、シールド電極１２３とゲート配線１１１ｉとの間に生じる寄生容量よりも小さくなる。これにより、ダミーシールド電極１２４と隣り合うゲート配線１１１ｉに信号鈍りが生じ難くなるとともに、ダミーシールド電極１２４が接続されるタッチ電極１１４の位置検出感度が低下し難くなる。

　また、ダミーシールド電極１２４は、シールド電極１２３よりも線幅が狭い。ダミーシールド電極１２４と重畳するタッチ電極１１４がそのダミーシールド電極１２４の接続対象ではない場合、ダミーシールド電極１２４とタッチ電極１１４との間に生じる寄生容量によって位置検出感度が低下させられるおそれがある。その点、上記のようにダミーシールド電極１２４の線幅がシールド電極１２３の線幅よりも狭くされることで、ダミーシールド電極１２４と、そのダミーシールド電極１２４の接続対象ではないタッチ電極１１４との間に生じる寄生容量を低下させることができる。これにより、位置検出感度が低下し難くなる。

　＜実施形態３＞
　本発明の実施形態３を図１３から図１５によって説明する。この実施形態３では、上記した実施形態１からタッチ電極２１４の構成を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

　図１３には、２本のダミーシールド電極２２４が図示されているが、このうち同図の上側の第１ダミーシールド電極２２４Ａは、コンタクトホール２２５を通してタッチ電極２１４に対して電気的に接続されているものの、同図の下側の第２ダミーシールド電極２２４Ｂは、タッチ電極２１４とは非接続とされる。従って、同じタッチ配線２１５に接続された複数のダミーシールド電極２２４には、コンタクトホール２２５を通してタッチ電極２１４に接続されるもの（第１ダミーシールド電極２２４Ａ）と、いずれのタッチ電極２１４にも接続されることがなく且つ接続対象ではないタッチ電極２１４と平面に視て重畳配置されるもの（第２ダミーシールド電極２２４Ｂ）と、が含まれている。接続対象ではないタッチ電極２１４と平面に視て重畳配置される第２ダミーシールド電極２２４Ｂは、そのタッチ電極２１４との間に寄生容量を生じさせるため、その寄生容量に起因してタッチ感度（位置検出感度）が低下するおそれがある。その点、本実施形態では、タッチ電極２１４には、複数のダミーシールド電極２２４のうちコンタクトホール２２５とは非重畳とされる第２ダミーシールド電極２２４Ｂと重畳する形で開口部２６が設けられている。このようにすれば、開口部２６が形成された分だけ、タッチ電極２１４と、そのタッチ電極２１４とは接続されることがない第２ダミーシールド電極２２４Ｂと、の間に生じる寄生容量を低下させることができる。これにより、タッチ感度の低下が抑制される。開口部２６は、ダミーシールド電極２２４に並行する形で概ねＸ軸方向に沿って延在しており、ダミーシールド電極２２４のほぼ全長にわたるものとされる。

　以上説明したように本実施形態によれば、ダミーシールド電極２２４は、複数備えられていてコンタクトホール２２５と重畳するものが選択的に含まれており、タッチ電極２１４には、複数のダミーシールド電極２２４のうちコンタクトホール２２５とは非重畳とされるダミーシールド電極２２４と重畳する形で開口部２６が設けられている。複数のダミーシールド電極２２４のうち、コンタクトホール２２５と重畳するダミーシールド電極２２４は、タッチ電極２１４と接続されるのに対し、コンタクトホール２２５とは非重畳とされるダミーシールド電極２２４は、タッチ電極２１４とは非接続とされる。タッチ電極２１４は、接続対象ではないダミーシールド電極２２４と重畳する形で開口部２６を有しているから、接続対象ではないダミーシールド電極２２４との間に生じる寄生容量を低下させることができる。これにより、位置検出感度の低下が抑制される。

　＜実施形態４＞
　本発明の実施形態４を図１６または図１７によって説明する。この実施形態４では、上記した実施形態１から液晶パネル３１１を湾曲させたものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

　本実施形態に係る液晶パネル３１１は、図１６及び図１７に示すように、長辺方向（Ｘ軸方向）についての中央部が裏側に引っ込み、長辺方向についての両端部が表側に出っ張るような形（内反り形状）で全体として略円弧状に湾曲している。液晶パネル３１１の湾曲軸ＣＡＸは、その軸線方向がＹ軸方向と一致しており、Ｚ軸方向についてアレイ基板３１１ｂ側とは反対側であるＣＦ基板３１１ａ側に配される。つまり、ＣＦ基板３１１ａは、Ｚ軸方向についてアレイ基板３１１ｂよりも湾曲軸ＣＡＸに近い配置とされる。従って、液晶パネル３１１を構成するアレイ基板３１１ｂ及びＣＦ基板３１１ａは、その板面が画素電極の短辺方向に並行する湾曲軸ＣＡＸ周りに湾曲している、と言える。上記のようにアレイ基板３１１ｂ及びＣＦ基板３１１ａが湾曲軸ＣＡＸ周りに湾曲されると、ＣＦ基板３１１ａ側のカラーフィルタとアレイ基板３１１ｂ側の画素電極との位置関係が湾曲方向についてばらつき得るものとされる。その点、アレイ基板３１１ｂ及びＣＦ基板３１１ａは、画素電極の短辺方向、つまり異なる色を呈する複数のカラーフィルタの並び方向（Ｙ軸方向）に並行する湾曲軸ＣＡＸ周りに湾曲しているから、湾曲に伴ってカラーフィルタと画素電極との位置関係が湾曲方向（Ｘ軸方向）についてばらついたとしても、湾曲方向には同色を呈するカラーフィルタが並んでいるので、混色が生じ難いものとされる。なお、カラーフィルタ及び画素電極などの構成については、実施形態１にて説明した図２及び図３などに記載した通りである。また、ドライバ３１２及びフレキシブル基板３１３は、液晶パネル３１１の外周端部のうち、Ｘ軸方向（湾曲方向）についての両端部にそれぞれ対をなす形で実装されている。

　以上説明したように本実施形態によれば、少なくとも共通電極、画素電極、タッチ電極、タッチ配線、ゲート配線及びシールド電極が設けられるアレイ基板３１１ｂと、アレイ基板３１１ｂに対して間に間隔を空けて対向する形で配されて少なくとも複数備えられる画素電極とそれぞれ重畳する形で配されて少なくとも青色、緑色及び赤色を呈する複数のカラーフィルタが画素電極の短辺方向に沿って並ぶ形で設けられるＣＦ基板（対向基板）３１１ａと、を備えており、アレイ基板３１１ｂ及びＣＦ基板３１１ａは、板面が画素電極の短辺方向に並行する湾曲軸ＣＡＸ周りに湾曲する。アレイ基板３１１ｂ及びＣＦ基板３１１ａが湾曲軸ＣＡＸ周りに湾曲されると、カラーフィルタと画素電極との位置関係が湾曲方向についてばらつき得るものとされる。その点、アレイ基板３１１ｂ及びＣＦ基板３１１ａは、画素電極の短辺方向、つまり異なる色を呈する複数のカラーフィルタの並び方向に並行する湾曲軸ＣＡＸ周りに湾曲しているから、湾曲に伴ってカラーフィルタと画素電極との位置関係が湾曲方向についてばらついたとしても、湾曲方向には同色を呈するカラーフィルタが並んでいるので、混色が生じ難いものとされる。

　＜実施形態５＞
　本発明の実施形態５を図１８によって説明する。この実施形態５では、上記した実施形態１からシールド電極４２３の配置を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

　本実施形態に係るシールド電極４２３及び仕切開口部４１１ｈ２は、図１８に示すように、ゲート配線４１１ｉと平面に視て重畳する形で配されている。このような構成であっても、シールド電極４２３によってタッチ電極４１４における仕切開口部４１１ｈ２側の端部付近の電界が少なくとも弱められるので、タッチ電極４１４における仕切開口部４１１ｈ２側の端部付近の電界に起因する表示品位の劣化が抑制される。

　＜他の実施形態＞
　本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
　（１）上記した各実施形態では、シールド電極やタッチ配線などを構成する第２金属膜が、画素電極を構成する第１透明電極膜と同層に配される場合を示したが、第２金属膜が第１透明電極膜に対して絶縁膜を介して異なる層（上層側または下層側）に配されていても構わない。
　（２）上記した各実施形態以外にも、ゲート配線などを構成する第１金属膜やシールド電極やタッチ配線などを構成する第１金属膜は、自身の上層側または下層側に透明電極膜が積層される積層構造とされていても構わない。
　（３）上記した各実施形態では、シールド電極やタッチ配線などを構成する第２金属膜が、共通電極及びタッチ電極を構成する第２透明電極膜に対して下層側に配される場合を示したが、第２金属膜が第２透明電極膜に対して絶縁膜を介して上層側に配されていても構わない。
　（４）上記した各実施形態では、相対的に下層側に配される第１金属膜がゲート配線などを構成し、相対的に上層側に配される第２金属膜がシールド電極やタッチ配線などを構成する場合を示したが、相対的に下層側に配される第１金属膜がシールド電極やタッチ配線などを構成し、相対的に上層側に配される第２金属膜がゲート配線などを構成していても構わない。
　（５）上記した各実施形態では、シールド電極及びダミーシールド電極が、青色を呈するカラーフィルタと重畳する画素電極に対してそれぞれ隣り合う形で選択的に配される場合を示したが、シールド電極及びダミーシールド電極が、緑色または赤色を呈するカラーフィルタと重畳する画素電極に対してそれぞれ隣り合う形で選択的に配されていても構わない。さらには、シールド電極及びダミーシールド電極が特定の色を呈するカラーフィルタと重畳する画素電極に対してそれぞれ隣り合うことがなく、ランダムに配置されていても構わない。
　（６）上記した各実施形態では、１本のダミーシールド電極に対して２つのコンタクトホールが設けられた場合を示したが、１本のダミーシールド電極に対して１つまたは３つ以上のコンタクトホールを設けることも可能である。また、ダミーシールド電極に対するコンタクトホールの具体的な配置は適宜に変更可能である。また、コンタクトホールがダミーシールド電極とは非重畳となり、タッチ配線と重畳する位置に配されていても構わない。
　（７）上記した各実施形態の図面に記載したもの以外にも、画素電極、ゲート配線、ソース配線、ＴＦＴ、シールド電極、ダミーシールド電極などの具体的な平面形状、平面配置、平面に視た形成範囲などは、適宜に変更可能である。
　（８）上記した各実施形態に記載した技術事項を適宜に組み合わせることも勿論可能である。
　（９）上記した各実施形態では、カラーフィルタの色数が３とされた場合を示したが、カラーフィルタの色数を４以上に変更することも可能である。このようにすれば、ソース配線の設置数及びソース配線に供給される画像信号の数をさらに削減することができる。
　（１０）上記した各実施形態では、画素電極、シールド電極及びダミーシールド電極が概ねＸ軸方向に沿って延在しつつ１回屈曲する場合を示したが、画素電極、シールド電極及びダミーシールド電極が２回以上屈曲する構成や画素電極、シールド電極及びダミーシールド電極が延在途中で屈曲されることなくＸ軸方向に沿ってほぼ真っ直ぐに延在する構成などを採ることも可能である。
　（１１）上記した各実施形態以外にも、画素電極の配列ピッチなどの具体的な数値は適宜に変更可能である。
　（１２）上記した各実施形態では、画素電極がゲート配線の延在方向を長辺方向と一致させた横長形状とされる場合を示したが、画素電極がゲート配線の延在方向を短辺方向と一致させた縦長形状とされていても構わない。
　（１３）上記した各実施形態では、タッチパネルパターンが自己容量方式とされる場合を示したが、タッチパネルパターンが相互容量方式であっても構わない。
　（１４）上記した各実施形態では、ドライバが湾曲液晶パネルを構成するアレイ基板に対して直接的にＣＯＧ（Chip On Glass）実装された場合を示したが、ドライバがＣＯＦ（Chip On Film）実装されたフレキシブル基板をアレイ基板に接続するようにしても構わない。
　（１５）上記した各実施形態では、湾曲液晶パネルの平面形状が長方形とされる場合を示したが、湾曲液晶パネルの平面形状は長方形以外にも正方形、円形、半円形、楕円形、半楕円形、台形などであっても構わない。

　１０…液晶表示装置（位置入力機能付き表示装置）、１１，３１１…液晶パネル（表示パネル）、１１ａ，３１１ａ…ＣＦ基板（対向基板）、１１ｂ，３１１ｂ…アレイ基板、１１ｇ，１１１ｇ…画素電極、１１ｈ…共通電極、１１ｈ２，４１１ｈ２…仕切開口部、１１ｉ，１１１ｉ，４１１ｉ…ゲート配線（画素接続配線）、１１ｋ…カラーフィルタ、１１ｋＢ…青色カラーフィルタ（青色を呈するカラーフィルタ）、１４，１１４，２１４，４１４…タッチ電極（位置検出電極）、１５，１１５，２１５…タッチ配線（位置検出配線）、２１…層間絶縁膜（絶縁膜）、２３，１２３，４２３…シールド電極、２４，１２４，２２４…ダミーシールド電極、２５，１２５，２２５…コンタクトホール、２６…開口部、ＣＡＸ…湾曲軸

Claims

　画素電極と、
　前記画素電極に対して上層側または下層側にて少なくとも一部が重畳する形で配される共通電極と、
　前記共通電極を仕切開口部によって分割してなり、位置入力を行う位置入力体との間で静電容量を形成し、前記位置入力体による入力位置を検出する複数の位置検出電極と、
　前記共通電極に対して上層側または下層側に配されて前記位置検出電極に接続される位置検出配線と、
　前記仕切開口部に並行する形で延在していて前記画素電極に接続される画素接続配線と、
　少なくとも一部が前記仕切開口部と重畳する形で延在して前記位置検出配線と同層に配されて前記位置検出配線に接続されるシールド電極と、を備える位置入力機能付き表示装置。
　前記画素接続配線は、前記仕切開口部とは非重畳となる形で配される請求項１記載の位置入力機能付き表示装置。
　前記画素電極及び前記画素接続配線は、複数ずつ備えられていて交互に並ぶ形で配されており、
　前記シールド電極は、複数の前記画素接続配線に含まれる前記画素接続配線に対してその画素接続配線が接続される前記画素電極側とは反対側に隣り合う形で選択的に配されている請求項２記載の位置入力機能付き表示装置。
　前記シールド電極は、隣り合う前記画素電極との間の距離が、前記画素接続配線と前記画素電極との間の距離と等しくなるよう配される請求項３記載の位置入力機能付き表示装置。
　前記画素電極、前記画素接続配線及び前記シールド電極には、互いに同層に配されるものと、それらに対して上層側または下層側に配されるものと、が含まれ、前記画素電極及び前記画素接続配線は、複数ずつ備えられていて交互に並ぶ形で配されており、
　前記仕切開口部とは非重畳となるよう前記画素接続配線及び前記画素電極に隣り合う形で配されて前記シールド電極に並行する形で延在し且つ前記位置検出配線と同層に配されて前記位置検出配線に接続されるダミーシールド電極を備える請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の位置入力機能付き表示装置。
　複数備えられる前記画素電極とそれぞれ重畳する形で配されて少なくとも青色、緑色及び赤色を呈する複数のカラーフィルタであって、前記画素電極及び前記画素接続配線の並び方向に沿って並ぶ複数のカラーフィルタを備えており、
　前記シールド電極及び前記ダミーシールド電極は、複数の前記画素電極のうち、特定の色を呈する複数の前記カラーフィルタと重畳する複数の前記画素電極に対してそれぞれ隣り合う形で選択的に配される請求項５記載の位置入力機能付き表示装置。
　前記シールド電極及び前記ダミーシールド電極は、複数の前記画素電極のうち、青色を呈する複数の前記カラーフィルタと重畳する複数の前記画素電極に対してそれぞれ隣り合う形で配される請求項６記載の位置入力機能付き表示装置。
　前記ダミーシールド電極は、前記画素接続配線との間の距離が前記シールド電極における同距離よりも大きいものの、前記画素電極との間の距離が前記シールド電極における同距離と等しくなるよう配される請求項５から請求項７のいずれか１項に記載の位置入力機能付き表示装置。
　前記ダミーシールド電極は、前記シールド電極よりも線幅が狭い請求項５から請求項８のいずれか１項に記載の位置入力機能付き表示装置。
　前記位置検出配線、前記シールド電極及び前記ダミーシールド電極と、前記位置検出電極と、の間に介在する絶縁膜を備えており、
　前記絶縁膜のうち、前記位置検出電極と前記ダミーシールド電極とが重畳する位置には、コンタクトホールが開口する形で設けられている請求項５から請求項９のいずれか１項に記載の位置入力機能付き表示装置。
　前記ダミーシールド電極は、複数備えられていて前記コンタクトホールと重畳するものが選択的に含まれており、
　前記位置検出電極には、複数の前記ダミーシールド電極のうち前記コンタクトホールとは非重畳とされる前記ダミーシールド電極と重畳する形で開口部が設けられている請求項１０記載の位置入力機能付き表示装置。
　前記画素電極及び前記画素接続配線は、複数ずつが備えられていて交互に並ぶ形で配され、前記シールド電極は、複数の前記画素接続配線に含まれる前記画素接続配線に対して隣り合う形で選択的に配されており、
　複数の前記画素電極は、間に前記画素接続配線及び前記シールド電極が介在する前記画素電極間の距離が、間に前記シールド電極が介在せずに前記画素接続配線が介在する前記画素電極間の距離よりも大きい請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載の位置入力機能付き表示装置。
　前記位置検出配線及び前記シールド電極は、前記共通電極の下層側で且つ前記画素接続配線の上層側に配される請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載の位置入力機能付き表示装置。
　前記画素電極は、前記画素接続配線及び前記シールド電極の延在方向を長辺方向とした長手状をなす請求項１から請求項１３のいずれか１項に記載の位置入力機能付き表示装置。
　少なくとも前記共通電極、前記画素電極、前記位置検出電極、前記位置検出配線、前記画素接続配線及び前記シールド電極が設けられるアレイ基板と、
　前記アレイ基板に対して間に間隔を空けて対向する形で配されて少なくとも複数備えられる前記画素電極とそれぞれ重畳する形で配されて少なくとも青色、緑色及び赤色を呈する複数のカラーフィルタが前記画素電極の短辺方向に沿って並ぶ形で設けられる対向基板と、を備えており、
　前記アレイ基板及び前記対向基板は、板面が画素電極の前記短辺方向に並行する湾曲軸周りに湾曲する請求項１４記載の位置入力機能付き表示装置。