JP2015203755A - 液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】アレイ基板と対向基板とが互いにずれた場合でも、各画素の内部でアレイ基板にスペーサ部が近接することを防止または抑制する。
【解決手段】液晶表示装置１００は、アレイ基板１の表面から対向基板側に突出して設けられた補助配線６と、対向基板の表面からアレイ基板１側に突出して設けられたスペーサ部７と、を有する。補助配線６は、平面視において、遮光部５の延在部５１が設けられた領域内に配置され、かつ、Ｘ軸方向に延在し、スペーサ部７のＹ軸方向の長さＬＮ１は、スペーサ部７のＸ軸方向の幅ＷＤ１よりも長い。また、スペーサ部７は、平面視において、延在部５１と延在部５２とが交差する交差領域ＣＲ１で、補助配線６と交差する。
【選択図】図２

Description

本発明は液晶表示装置に関し、特に、複数の画素を備えた液晶表示装置に関する。

液晶表示装置は、例えば、アレイ基板と、アレイ基板と対向配置された対向基板と、アレイ基板と対向基板との間に挟まれた液晶層と、を有する。アレイ基板または対向基板には、平面視において格子形状を有する遮光部が設けられており、この遮光部により複数の画素が区画されている。アレイ基板には、例えばスイッチング素子としての薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor；ＴＦＴ）が形成されている。

このような液晶表示装置では、例えば、複数の画素の各々において、各画素に設けられた画素電極と、複数の画素に対して共通に設けられた共通電極との間に、電圧が印加されることにより、液晶層に電界が形成される。これにより、各画素において、画像データに基づいた表示が行われ、例えば、対向基板の外側に、画像が表示される。

このような液晶表示装置では、アレイ基板と対向基板との間隔を維持し、液晶層の厚さを一定の厚さに維持するため、アレイ基板と対向基板との間にスペーサ部が形成されている。スペーサ部は、例えば、対向基板側に固定されている。また、スペーサ部は、平面視において、遮光部と重なるように配置されている。

例えば、特開２０１３−１８６１４８号公報（特許文献１）および特開２０１０−１８１７８６号公報（特許文献２）には、アレイ基板と対向基板との間に形成されたスペーサ部が、平面視において、遮光部と重なるように配置された液晶表示装置が記載されている。

特開２０１３−１８６１４８号公報 特開２０１０−１８１７８６号公報

このような液晶表示装置では、外部から力が加わることなどによりアレイ基板または対向基板が撓み、アレイ基板と対向基板とが、互いに横方向、すなわちアレイ基板の表面または対向基板の表面に平行な方向に、ずれることがある。このような場合、平面視において各画素の内部に配置される部分のアレイ基板の表面にスペーサ部が近接し、平面視において各画素の内部に配置される部分のアレイ基板の表面に形成された配向膜などに損傷が与えられるおそれがある。その結果、損傷が与えられた部分の配向膜などから光漏れが発生するおそれがある。

本発明は、上述のような従来技術の問題点を解決すべくなされたものであって、アレイ基板と対向基板とが互いに横方向にずれた場合でも、各画素の内部に配置される部分のアレイ基板の表面に、スペーサ部が近接することを、防止または抑制することができる液晶表示装置を提供することを目的とする。

本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。

本発明の一態様としての液晶表示装置は、第１主面を有する第１基板と、第２主面を有し、第２主面と、第１基板の第１主面とが対向するように、第１基板と対向配置された第２基板と、第１基板の第１主面と第２基板の第２主面との間に挟まれた液晶層と、を有する。また、当該液晶表示装置は、平面視において、第１基板および第２基板と重なるように設けられ、かつ、平面視において、第１方向にそれぞれ延在する複数の第１延在部と、第１方向と交差する第２方向にそれぞれ延在する複数の第２延在部と、を含む遮光部を有する。また、当該液晶表示装置は、平面視において、複数の第１延在部と複数の第２延在部とにより区画された複数の画素を有する。さらに、当該液晶表示装置は、第１基板の第１主面から第２基板側に突出して設けられた第１配線と、第２基板の第２主面から第１基板側に突出して設けられたスペーサ部と、を有する。第１配線は、平面視において、複数の第１延在部のうちいずれかの第１延在部が設けられた領域内に配置され、かつ、第１方向に延在し、第２方向におけるスペーサ部の長さは、第１方向におけるスペーサ部の幅よりも長い。また、スペーサ部は、平面視において、複数の第２延在部のいずれかの第２延在部と、いずれかの第１延在部とが交差する交差領域で、第１配線と交差するように、配置されている。

また、他の一態様として、スペーサ部は、平面視において、いずれかの第２延在部が設けられた領域内に配置されていてもよい。また、他の一態様として、遮光部は、スペーサ部を遮光するスペーサ部用遮光部を含み、スペーサ部は、平面視において、スペーサ部用遮光部が設けられた領域内に配置されていてもよい。あるいは、当該液晶表示装置は、第１基板の第１主面から第２基板側に突出して設けられた第２配線を有し、第２配線は、平面視において、交差領域で、第１配線と交差するように、配置され、かつ、第２方向に延在してもよい。

また、他の一態様として、当該液晶表示装置は、複数の画素のうち、第１方向に配列された複数の画素の各々の内部で、第１基板の第１主面側にそれぞれ設けられた複数の第１電極と、平面視において、複数の第１電極の各々と重なるように、第１基板の第１主面側に設けられた第２電極と、を有してもよい。このとき、第１配線は、第２電極と電気的に接続されており、複数の第１電極の各々と、第２電極との間に電界が形成されることにより、画像が表示されてもよい。

また、他の一態様として、当該液晶表示装置は、第１基板の第１主面側に設けられ、平面視において、第１方向にそれぞれ延在する複数のゲート配線と、第１基板の第１主面側に設けられ、平面視において、第２方向にそれぞれ延在する複数のソース配線と、複数のゲート配線と複数のソース配線とが交差する複数の交差部の各々に、それぞれ配置された複数のトランジスタと、を有してもよい。このとき、遮光部は、第２基板に設けられていてもよい。

また、他の一態様として、当該液晶表示装置は、第１基板の第１主面側に設けられ、平面視において、第２方向にそれぞれ延在する複数のゲート配線と、第１基板の第１主面側に設けられ、平面視において、第１方向にそれぞれ延在する複数のソース配線と、複数のゲート配線と複数のソース配線とが交差する複数の交差部の各々に、それぞれ配置された複数のトランジスタと、を有してもよい。このとき、遮光部は、第２基板に設けられていてもよい。

また、他の一態様として、当該液晶表示装置は、平面視において、第２方向に延在する第３電極を有し、第３電極と第１配線との間の静電容量に基づいて、入力位置が検出されてもよい。

また、他の一態様として、当該液晶表示装置は、第１基板の第１主面側に設けられ、平面視において、第２方向にそれぞれ延在する複数のゲート配線と、第１基板の第１主面側で、複数のゲート配線を覆うように設けられた第１絶縁膜と、を有してよい。また、当該液晶表示装置は、第１絶縁膜上に設けられ、平面視において、第１方向にそれぞれ延在する複数のソース配線と、を有してもよい。このとき、複数のゲート配線は、平面視において、複数の第２延在部の各々が設けられた領域内に、それぞれ配置され、複数のソース配線は、平面視において、複数の第１延在部の各々が設けられた領域内に、それぞれ配置されてもよい。また、当該液晶表示装置は、さらに、平面視において、複数の画素の各々と重なる部分の第１絶縁膜をそれぞれ貫通して設けられた複数の開口部と、複数の開口部の各々の内部を埋め込むように、かつ、第１絶縁膜および複数のソース配線を覆うように設けられた第２絶縁膜と、を有してもよい。さらに、当該液晶表示装置は、平面視において、複数の開口部の各々と重なる部分の第２絶縁膜の上面にそれぞれ形成された複数の凹部を有してもよい。

また、他の一態様として、当該液晶表示装置は、複数の画素のうち、第１方向に配列された複数の画素の各々の内部で、第１基板の第１主面側にそれぞれ設けられた複数の第１電極と、平面視において、第１方向に配列された複数の画素の各々と重なるように、第１基板の第１主面側に設けられた第２電極と、を有してもよい。このとき、第２電極は、平面視において、複数の第１電極の各々と離れて設けられ、第１配線は、第２電極と電気的に接続されており、複数の第１電極の各々と、第２電極との間に電界が形成されることにより、画像が表示されてもよい。

実施の形態１の液晶表示装置の一例を示す平面図である。 実施の形態１の液晶表示装置の一例を示す平面図である。 実施の形態１の液晶表示装置の一例を示す断面図である。 実施の形態１の液晶表示装置の他の例を示す断面図である。 実施の形態１の液晶表示装置の第１変形例を示す平面図である。 実施の形態１の液晶表示装置の第２変形例を示す平面図である。 実施の形態１の液晶表示装置の第３変形例を示す平面図である。 タッチパネルに指が接触および近接した状態を表す説明図である。 タッチパネルに指が接触および近接した状態の等価回路の例を示す説明図である。 駆動電極および検出電極の一例を示す斜視図である。 実施の形態２の液晶表示装置の一例を示す平面図である。 実施の形態２の液晶表示装置の一例を示す平面図である。 実施の形態２の液晶表示装置の一例を示す断面図である。 実施の形態２の液晶表示装置の他の例を示す断面図である。 実施の形態３の液晶表示装置の一例を示す平面図である。 実施の形態３の液晶表示装置の一例を示す平面図である。 実施の形態３の液晶表示装置の一例を示す断面図である。 実施の形態３の液晶表示装置の他の例を示す断面図である。 実施の形態３の液晶表示装置の第１変形例を示す平面図である。 実施の形態３の液晶表示装置の第１変形例を示す平面図である。 実施の形態３の液晶表示装置の第１変形例を示す断面図である。 実施の形態４の液晶表示装置の一例を示す平面図である。 実施の形態４の液晶表示装置の一例を示す平面図である。 実施の形態４の液晶表示装置の一例を示す断面図である。

以下に、本発明の各実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。

なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っても適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実施の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。

また本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。

さらに、実施の形態で用いる図面においては、断面図であっても図面を見やすくするためにハッチングを省略する場合もある。また、平面図であっても図面を見やすくするためにハッチングを付す場合もある。

（実施の形態１）
＜液晶表示装置＞
本発明の一実施の形態である実施の形態１の液晶表示装置１００を、図面を参照して説明する。以下では、液晶表示装置として、カラー表示の横電界方式としてのＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードの液晶表示装置を例示して説明する。横電界方式とは、アレイ基板および対向基板のうちのいずれか一方の液晶層側に一対の電極を互いに絶縁して設け、概ね横方向の電界が液晶層に形成される方式である。また、ＦＦＳモードとは、横電界方式のうちの一方式であり、上記した一対の電極が、平面視において、重なるように配置されているものである。

はじめに、図１〜図４を参照し、本実施の形態１の液晶表示装置１００の概略の構成について説明する。

図１および図２は、実施の形態１の液晶表示装置の一例を示す平面図である。図３は、実施の形態１の液晶表示装置の一例を示す断面図である。図４は、実施の形態１の液晶表示装置の他の例を示す断面図である。図３および図４は、図１のＡ−Ａ線に沿った断面図である。なお、図１および図２では、理解を簡単にするために、対向基板３のうち、遮光部５およびスペーサ部７以外の部分、ならびに、液晶層４を除去して透視した状態を示している。また、図１および図２では、理解を簡単にするために、アレイ基板１のうち一部の図示を省略している。

図１〜図３に示すように、本実施の形態１の液晶表示装置１００は、アレイ基板１と、対向基板３と、液晶層４と、を有する。アレイ基板１は、主面としての表面１ａを有し、対向基板３は、主面としての表面３ａを有する。対向基板３は、対向基板３の表面３ａとアレイ基板１の表面１ａとが対向するように、アレイ基板１と対向配置されている。液晶層４は、アレイ基板１の表面１ａと対向基板３の表面３ａとの間に挟まれている。

本実施の形態１の液晶表示装置１００は、遮光部５を有する。遮光部５は、平面視において、アレイ基板１および対向基板３と重なるように設けられており、光を遮光する遮光性を備えている。すなわち、遮光部５は、例えば光源から液晶層４に入射される入射光が液晶層４に到達しないように、入射光を遮光する。または、遮光部５は、例えば光源から液晶層４に入射され、液晶層４に入射された入射光が液晶層４を透過した透過光が、観察者に到達しないように、透過光を遮光する。このような遮光部５として、例えばアレイ基板１または対向基板３に設けられた、ブラックマトリクスと称される遮光膜を用いることができる。あるいは、遮光部５として、例えばアレイ基板１に設けられた、後述するゲート配線１１またはソース配線１３等の遮光性を備えた配線パターンを用いることができる。

なお、本願明細書では、平面視において、とは、アレイ基板１の表面１ａに垂直な方向、または、対向基板３の表面３ａに垂直な方向から視た場合を意味する。

以下では、遮光部５が、対向基板３に設けられた遮光膜からなる場合を例示して、説明する。また、図１に示すように、平面視において、互いに交差、好適には直交する２つの方向を、Ｘ軸方向およびＹ軸方向とする。このとき、遮光部５は、平面視において、Ｘ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｙ軸方向に間隔を空けて配列された複数の延在部５１と、Ｙ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｘ軸方向に間隔を空けて配列された複数の延在部５２と、を含む。

本実施の形態１の液晶表示装置１００は、複数のサブ画素ＳＰｉｘを有する。複数のサブ画素ＳＰｉｘは、遮光部５に含まれる複数の延在部５１と、遮光部５に含まれる複数の延在部５２とにより区画されている。すなわち、複数のサブ画素ＳＰｉｘは、遮光部５に含まれる複数の延在部５１と、遮光部５に含まれる複数の延在部５２とにより区画された複数の開口領域５３の各々に、それぞれ設けられている。この場合、開口領域５３は、遮光部５に形成された開口領域である。したがって、複数のサブ画素ＳＰｉｘは、Ｘ軸方向およびＹ軸方向にマトリクス状に配列されており、複数の開口領域５３は、Ｘ軸方向およびＹ軸方向にマトリクス状に配列されている。

複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々は、例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）の３色のいずれかを表示する。このとき、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）をそれぞれ表示する３つのサブ画素ＳＰｉｘにより、１つの画素が形成される。

なお、本願明細書では、遮光部５が対向基板３に設けられている場合のサブ画素ＳＰｉｘおよび開口領域５３とは、アレイ基板１と対向基板３とが互いにずれていないときに、複数の延在部５１と、複数の延在部５２とにより区画された領域を意味する。

また、液晶表示装置１００は、３色表示に限られない。例えば２色以下のサブ画素ＳＰｉｘにより１画素を構成することもでき、あるいは、４色以上のサブ画素ＳＰｉｘにより１画素を構成することもできる（以下の各実施の形態においても同様）。

アレイ基板１は、基体として、透明基板１０を有する。透明基板１０は、一方の主面としての表面１０ａと、表面１０ａと反対側の面であって、他方の主面としての裏面１０ｂと、を有する。透明基板１０は、透明な絶縁性を有するガラス、石英またはプラスチック等からなる。

透明基板１０の表面１０ａ上には、複数のゲート配線１１が設けられている。すなわち、複数のゲート配線１１は、アレイ基板１の表面１ａ側に設けられている。複数のゲート配線１１は、平面視において、複数の延在部５１の各々が設けられた領域内に、それぞれ配置されており、Ｘ軸方向にそれぞれ延在する。複数のゲート配線１１の各々は、例えばアルミニウム（Ａｌ）またはモリブデン（Ｍｏ）等の不透明な金属からなる。後述するソース配線１３とゲート配線１１との交差部において、ゲート配線１１からは、ゲート電極１１ａが延設されている。

なお、本願明細書において、アレイ基板１の表面１ａ側に設けられた、とは、透明基板１０の表面１０ａ上に表面１０ａと直接接して設けられた場合、および、透明基板１０の表面１０ａの上方に表面１０ａから離れて設けられた場合を含むものとする。

ゲート配線１１およびゲート電極１１ａを覆うように、ゲート絶縁膜としての絶縁膜１２が設けられている。すなわち、絶縁膜１２は、アレイ基板１の表面１ａ側に設けられている。絶縁膜１２は、例えば窒化ケイ素または酸化ケイ素等からなる透明な絶縁膜である。

絶縁膜１２上には、複数のソース配線１３が設けられている。すなわち、複数のソース配線１３は、アレイ基板１の表面１ａ側に設けられている。複数のソース配線１３は、平面視において、複数の延在部５２の各々が設けられた領域内に、それぞれ配置されており、Ｙ軸方向にそれぞれ延在する。複数のソース配線１３の各々は、例えばアルミニウム（Ａｌ）またはモリブデン（Ｍｏ）等の不透明な金属からなる。ソース配線１３とゲート配線１１との交差部において、ソース配線１３からは、ソース電極１３ａが延設されている。

平面視においてゲート電極１１ａと重なる部分の絶縁膜１２上には、半導体層１４が設けられている。半導体層１４は、例えば非晶質シリコンまたは多結晶シリコン等からなる。前述したソース電極１３ａは、半導体層１４の一部と接触している。

また、絶縁膜１２上には、ソース配線１３およびソース電極１３ａと同一の材料からなるドレイン電極１５が設けられている。ドレイン電極１５は、ソース電極１３ａと近接配置されており、半導体層１４と部分的に接触している。

好適には、ドレイン電極１５は、ソース配線１３に含まれる導体膜と同層に形成された導体膜からなる。これにより、ドレイン電極１５を、ソース配線１３を形成する工程と同一の工程により形成することができる。

このようにして、複数のゲート配線１１と、複数のソース配線１３とが交差する複数の交差部の各々に、それぞれＴＦＴ１６が配置されることにより、複数のＴＦＴ１６が設けられている。複数のＴＦＴ１６の各々は、ゲート電極１１ａ、絶縁膜１２、ソース電極１３ａ、半導体層１４およびドレイン電極１５により、形成されたスイッチング素子である。複数のＴＦＴ１６は、アレイ基板１の表面１ａ側に設けられている。

さらに、複数のソース配線１３、複数のＴＦＴ１６、および、絶縁膜１２の露出した部分を覆うように、層間樹脂膜１７が設けられている。層間樹脂膜１７は、平坦化膜であり、複数のソース配線１３、複数のＴＦＴ１６、および、絶縁膜１２の露出した部分を覆うとともに、複数のソース配線１３、複数のＴＦＴ１６および絶縁膜１２の各々の上面からなる凹凸面を平坦化する。層間樹脂膜１７は、例えばフォトレジスト等の透明樹脂材料からなる。

層間樹脂膜１７上には、共通電極１８が設けられている。すなわち、共通電極１８は、アレイ基板１の表面１ａ側に設けられている。共通電極１８は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）またはＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）等の透明導電性材料からなる。共通電極１８は、平面視において、複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々と重なるように、連続して一体に設けられている。図２に示す例では、共通電極１８は、Ｘ軸方向に配列された複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々と重なるように、連続して一体に設けられている。図２に示す例では、共通電極１８は、平面視において、Ｘ軸方向に配列された、後述する複数の画素電極２０の各々と重なるように、設けられており、Ｘ軸方向に延在する。

なお、共通電極１８は、Ｘ軸方向に配列された複数のサブ画素ＳＰｉｘをサブ画素群とするとき、Ｙ軸方向に配列された複数個のサブ画素群の各々と重なるように、連続して一体に設けられてもよい。あるいは、Ｘ軸方向およびＹ軸方向にマトリクス状に配列された複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々と重なるように、単一の共通電極１８が設けられてもよい。

また、層間樹脂膜１７上には、複数の補助配線６が設けられている。すなわち、複数の補助配線６は、アレイ基板１の表面１ａ側に設けられている。複数の補助配線６の各々は、金属膜からなり、この金属膜は、例えばアルミニウム（Ａｌ）またはモリブデン（Ｍｏ）等の不透明な金属からなる。

複数の補助配線６は、平面視において、複数の延在部５１の各々が設けられた領域内に、それぞれ配置され、かつ、Ｘ軸方向にそれぞれ延在する。また、複数の補助配線６は、アレイ基板１の表面１ａから対向基板３側にそれぞれ突出して設けられている。アレイ基板１の表面１ａとは、補助配線６が設けられていない部分の透明基板１０の表面１０ａ側に設けられた配向膜２１の表面を意味する。

なお、補助配線６は、複数の延在部５１の各々が設けられた領域全ての内部に設けられていなくてもよく、１個おきまたは複数個おきに設けられていてもよい。すなわち、補助配線６は、複数の延在部５１のいずれかの延在部５１が設けられた領域内に配置されていればよい。

図２に一例を示すように、共通電極１８は、平面視において、共通電極１８の周縁部が複数の延在部５１のいずれかの延在部５１と重なるように、設けられている。そして、図３に示すように、複数の補助配線６のいずれかの補助配線６は、平面視において、当該いずれかの延在部５１と重なる部分の共通電極１８上に設けられている。そのため、当該いずれかの補助配線６は、共通電極１８と電気的に接続されている。

補助配線６は、共通電極１８に含まれる例えばＩＴＯまたはＩＺＯ等の透明導電性材料の電気抵抗率よりも小さい電気抵抗率を有する。したがって、補助配線６を共通電極１８と電気的に接続することにより、共通電極１８の電気抵抗を低減することができ、例えば時定数を短くすることができるなど、液晶表示装置の性能を向上させることができる。

共通電極１８を覆うように、電極間絶縁膜１９が設けられている。すなわち、電極間絶縁膜１９は、アレイ基板１の表面１ａ側に設けられている。電極間絶縁膜１９は、例えば窒化ケイ素または酸化ケイ素等からなる透明な絶縁膜である。

電極間絶縁膜１９上には、複数の画素電極２０が設けられている。複数の画素電極２０の各々は、例えばＩＴＯまたはＩＺＯ等の透明導電性材料からなる。複数の画素電極２０は、平面視において、複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々の内部で、アレイ基板１の表面１ａ側にそれぞれ設けられている。したがって、共通電極１８は、平面視において、例えばＸ軸方向に配列された複数の画素電極２０の各々と重なるように、設けられている。そして、複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々の内部で、共通電極１８と画素電極２０とは、電極間絶縁膜１９を介して対向している。

また、電極間絶縁膜１９は、平面視において、延在部５１が設けられた領域内では、共通電極１８上に設けられた補助配線６を覆うように、設けられている。

なお、図示は省略するが、平面視において、電極間絶縁膜１９および層間樹脂膜１７を貫通してドレイン電極１５に達するコンタクトホールが形成され、画素電極２０は、コンタクトホールの底部に露出したドレイン電極１５と、電気的に接続されている。

また、図３に示す例では、共通電極１８の上方に画素電極２０が設けられているが、画素電極２０の上方に共通電極１８が設けられていてもよい。このような例を、図４に示す。図４に示す例では、共通電極１８には開口部１８ａが形成されている。また、図４に示す例では、共通電極１８は、補助配線６上に設けられている。すなわち、補助配線６は、共通電極１８の下に設けられていてもよい。

なお、理解を簡単にするために、図１および図２では、画素電極２０の図示を省略し、図３および図４では、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に設けられた画素電極２０は、例えばＹ軸方向に延在する延在部を１本だけ含むものとして図示されている。しかし、本実施の形態１の液晶表示装置は、ＦＦＳモードの液晶表示装置であるため、画素電極２０は、平面視において、例えばＹ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｘ軸方向に配列された複数の延在部、すなわち櫛歯を含むなど、櫛歯形状を有していてもよい（以下、実施の形態２および実施の形態３でも同様）。このとき、互いに隣り合う２つの延在部、すなわち櫛歯の間に設けられたスリットを通じて、画素電極２０と共通電極１８との間でフリンジ電界が形成されることにより、液晶層４における液晶の配向状態が変化する（以下、実施の形態２および実施の形態３でも同様）。

画素電極２０、および、電極間絶縁膜１９の露出した部分を覆うように、配向膜２１が設けられている。すなわち、配向膜２１は、アレイ基板１の表面１ａ側に設けられている。配向膜２１は、例えばポリイミドからなる。配向膜２１は、例えば図１のＹ軸方向の正の方向にラビング処理が施されている。

対向基板３は、基体として、透明基板３０を有する。透明基板３０は、一方の主面としての表面３０ａと、表面３０ａと反対側の面であって、他方の主面としての裏面３０ｂと、を有する。透明基板３０は、透明な絶縁性を有するガラス、石英またはプラスチック等からなる。透明基板３０は、透明基板１０の表面１０ａと透明基板３０の表面３０ａとが互いに対向するように、透明基板１０と対向配置されている。

透明基板３０の表面３０ａ上には、遮光部５が設けられている。すなわち、遮光部５は、対向基板３の表面３ａ側に設けられている。遮光部５は、平面視において、複数のゲート配線１１および複数のソース配線１３の各々と重なるように、設けられている。遮光部５は、光を遮光する遮光性を有し、例えば樹脂または金属からなり、ブラックマトリクスと称される。前述したように、遮光部５は、平面視において、Ｘ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｙ軸方向に間隔を空けて配列された複数の延在部５１と、Ｙ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｘ軸方向に間隔を空けて配列された複数の延在部５２と、を含む。前述したように、複数の延在部５１は、平面視において、複数の延在部５１の各々が設けられた領域内にそれぞれゲート配線１１が配置されるように、設けられる。また、複数の延在部５２は、平面視において、複数の延在部５２の各々が設けられた領域内にそれぞれソース配線１３が配置されるように、設けられる。

なお、本願明細書において、対向基板３の表面３ａ側に設けられた、とは、透明基板３０の表面３０ａと直接接して設けられた場合、および、透明基板３０の表面３０ａから離れて設けられた場合を含むものとする。

Ｙ軸方向における延在部５１の幅は、Ｘ軸方向における延在部５２の幅よりも広い。このとき、ゲート配線１１とソース配線１３との交差部に設けられるＴＦＴ１６を、延在部５１が設けられた領域内に配置することができる。

また、透明基板３０の表面３０ａ上には、複数のカラーフィルタ層３２が設けられている。すなわち、複数のカラーフィルタ層３２は、対向基板３の表面３ａ側に設けられている。複数のカラーフィルタ層３２は、平面視において、複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々の内部に、それぞれ配置されている。また、複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々では、サブ画素ＳＰｉｘごとに異なる色の光を透過するカラーフィルタ層３２が配置されている。図３には、例えば赤（Ｒ）色の光を透過するカラーフィルタ層３２としてのカラーフィルタ層３２ａと、例えば青（Ｂ）色の光を透過するカラーフィルタ層３２としてのカラーフィルタ層３２ｃとを、示している。

遮光部５および複数のカラーフィルタ層３２を覆うように、オーバーコート層３３が設けられている。すなわち、オーバーコート層３３は、対向基板３の表面３ａ側に設けられている。オーバーコート層３３は、例えばフォトレジスト等の透明樹脂材料からなる。オーバーコート層３３は、複数のカラーフィルタ層３２の各々に起因する段差を平坦化する。あるいは、オーバーコート層３３は、遮光部５または複数のカラーフィルタ層３２のいずれかから流出する不純物が液晶層４内に入らないようにする。

オーバーコート層３３上には、スペーサ部７が設けられている。すなわち、スペーサ部７は、対向基板３の表面３ａ側に設けられている。スペーサ部７は、アレイ基板１と対向基板３との間隔を一定の間隔に維持し、液晶層４の厚さを一定の厚さに維持する。スペーサ部７は、例えばフォトレジスト等の透明樹脂材料からなるフォトスペーサである。

スペーサ部７は、対向基板３の表面３ａからアレイ基板１側に突出して設けられている。対向基板３の表面３ａとは、スペーサ部７が設けられていない部分の透明基板３０の表面３０ａ側に設けられた配向膜３５の表面を意味する。

なお、図１および図２に示すように、スペーサ部７は、複数のサブ画素ＳＰｉｘ全ての周辺に設けられていなくてもよい。すなわち、例えば、Ｘ軸方向に配列された複数のサブ画素ＳＰｉｘごとに１つのスペーサ部７が設けられていてもよい。また、Ｙ軸方向に配列された複数のサブ画素ＳＰｉｘごとに１つのスペーサ部７が設けられていてもよい。

スペーサ部７およびオーバーコート層３３を覆うように、配向膜３５が設けられている。すなわち、配向膜３５は、対向基板３の表面３ａ側に設けられている。配向膜３５は、例えばポリイミドからなる。配向膜３５には、アレイ基板１に設けられた配向膜２１とは逆方向のラビング処理が施されている。

このようなアレイ基板１と対向基板３とは、補助配線６およびスペーサ部７を介して、互いに対向するように配置、すなわち対向配置されている。また、図示は省略するが、アレイ基板１の外周部と、対向基板３の外周部との間には、シール材が設けられている。そして、対向配置されたアレイ基板１と対向基板３との間には、液晶層４が充填されている。

上述の構成により、各サブ画素ＳＰｉｘでは、ＴＦＴ１６がオン状態になると、複数の画素電極２０の各々に電圧が印加されることにより、共通電極１８と各画素電極２０との間に電界が形成され、当該形成された電界によって、液晶層４における液晶の配向が変化する。これにより、液晶層４における光の透過率が変化して画像が表示される。また、共通電極１８と複数の画素電極２０の各々とが電極間絶縁膜１９を介して対向する領域は、補助容量を形成し、ＴＦＴ１６がオフ状態になったときに、共通電極１８と複数の画素電極２０の各々との間の電界を所定時間保持する。

＜補助配線およびスペーサ部の配置＞
次に、図１〜図３を参照し、本実施の形態１の液晶表示装置における補助配線およびスペーサ部の配置、ならびに、その効果について説明する。以下では、複数の補助配線６のうち、スペーサ部７と交差する補助配線６について説明する。

前述したように、補助配線６は、平面視において、複数の延在部５１のいずれかの延在部５１が設けられた領域内に配置されており、Ｘ軸方向に延在する。補助配線６は、共通電極１８と電気的に接続されている。また、補助配線６は、アレイ基板１の表面１ａから対向基板３側に突出して設けられている。

一方、スペーサ部７は、平面視において、Ｙ軸方向に長手を有する形状、例えば楕円形状または長方形状を有する。すなわち、平面視において、Ｙ軸方向におけるスペーサ部７の長さＬＮ１が、Ｘ軸方向におけるスペーサ部７の幅ＷＤ１よりも長い。そして、スペーサ部７は、平面視において、当該いずれかの延在部５１と、複数の延在部５２のいずれかの延在部５２とが交差する交差領域ＣＲ１で、補助配線６と交差するように、配置されている。したがって、Ｙ軸方向におけるスペーサ部７の長さＬＮ１は、Ｙ軸方向における補助配線６の幅ＷＤ２よりも長い。

また、前述したように、スペーサ部７は、対向基板３の表面３ａからアレイ基板１側に突出して設けられている。

このような補助配線６が設けられていない場合、例えば液晶表示装置の製造工程時または使用時に、外部から力が加わることなどによりアレイ基板１または対向基板３が撓み、アレイ基板１と対向基板３とが、互いに横方向、すなわちアレイ基板１の表面１ａまたは対向基板３の表面３ａに平行な方向に、ずれることがある。このような場合、平面視において各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａにスペーサ部７が近接し、平面視において各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａに形成された配向膜２１などに損傷が与えられるおそれがある。その結果、損傷が与えられた部分の配向膜２１などから光漏れが発生するおそれがある。

なお、本願明細書では、アレイ基板１の表面１ａにスペーサ部７が近接する、とは、アレイ基板１の表面１ａにスペーサ部７が近づくことの他、アレイ基板１の表面１ａにスペーサ部７が接触すること、または、アレイ基板１の表面１ａにスペーサ部７が配向膜３５を介して接触することを意味する。

一方、本実施の形態１では、図２に示すように、補助配線６が設けられている。図２には、アレイ基板１と対向基板３とが、互いに横方向にずれることにより、例えば、スペーサ部７が、本来の位置から斜め方向ＤＲ１にずれた場合が、図示されている。このような場合、スペーサ部７の中央部は、平面視において、開口領域５３としての開口領域５３ａ内に配置される部分のアレイ基板１に、重なるものの、スペーサ部７の端部７１が、平面視において、補助配線６と重なっている。したがって、スペーサ部７が補助配線６により支持されるため、平面視において、開口領域５３ａ内に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａとスペーサ部７との間には、依然として間隔が設けられるものとなって両者は接触しない。

また、図２には、アレイ基板１と対向基板３とが、互いに横方向にずれることにより、例えば、スペーサ部７が、本来の位置から斜め方向ＤＲ２にずれた場合が、図示されている。このような場合、スペーサ部７の中央部は、平面視において、開口領域５３としての開口領域５３ｂ内に配置される部分のアレイ基板１に、重なるものの、スペーサ部７の端部７２が、平面視において、補助配線６と重なっている。したがって、スペーサ部７が補助配線６により支持されるため、平面視において、開口領域５３ｂ内に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａとスペーサ部７との間には、依然として間隔が設けられるものとなって両者は接触しない。

そのため、外部から力が加わることなどによりアレイ基板１または対向基板３が撓み、アレイ基板１と対向基板３とが、互いに横方向にずれた場合でも、平面視において、補助配線６とスペーサ部７とが重なった状態が維持される。これにより、平面視において、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａにスペーサ部７が近接することを防止または抑制し、表面１ａに形成された配向膜２１などに損傷が与えられることを防止または抑制することができる。

ここで、アレイ基板１に対して対向基板３がＹ軸方向における片側に最もずれたときの最大ずれ量を最大ずれ量ＳＨ１とするとき、好適には、Ｙ軸方向におけるスペーサ部７の長さＬＮ１は、下記式（１）
ＬＮ１＞ＳＨ１＋ＷＤ２ （１）
を満たす。また、より好適には、長さＬＮ１は、最大ずれ量ＳＨ１の２倍よりも長い。さらに好適には、延在部５１の幅をＷＤ３とするとき、長さＬＮ１は、下記式（２）
ＬＮ１＞２ＳＨ１＋ＷＤ３ （２）
を満たす。これらの場合、アレイ基板１に対して対向基板３がＹ軸方向にずれた場合に、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａにスペーサ部７が近接することを、長さＬＮ１が長くなるほど、より確実に防止することができる。

すなわち、本実施の形態１では、製造工程時または使用時に、アレイ基板１と対向基板３とが互いに横方向にずれることを予め想定した上で、アレイ基板１と対向基板３とが互いに横方向にずれた場合でも、アレイ基板１の表面１ａにスペーサ部７が近接することを防止または抑制するものである（以下、各実施の形態においても同様）。

上記特許文献１に記載された技術では、液晶表示装置は、アレイ基板の表面から突出して設けられた凸部を有する。また、アレイ基板と対向基板とが、対向基板に設けられたスペーサ部と、アレイ基板に設けられた凸部とを介して対向配置されている。

しかし、上記特許文献１に記載された技術では、アレイ基板の表面に凸部を形成するために、ソース線を覆うように形成された有機絶縁膜をハーフ露光した後、現像を行うことにより、凸部となる部分を残して有機絶縁膜をハーフエッチングする必要がある。そのため、凸部を設けるための露光回数が増加するなどして、製造工程数が増大する。

あるいは、上記特許文献１に記載された技術では、アレイ基板の表面に凸部を形成するために、ソース線を覆うように形成された有機絶縁膜上に、有機絶縁膜とは別の膜を凸部として形成する必要がある。そのため、凸部を設けるための膜を形成する回数が増加するなどして、製造工程数が増大する。

一方、本実施の形態１では、共通電極１８と電気的に接続される補助配線６が、アレイ基板１の表面１ａから突出して設けられる。すなわち、補助配線６が、対向基板３に設けられたスペーサ部７を支持する凸部として兼用される。したがって、凸部を設けるための工程を個別に行う必要がないので、上記特許文献１に記載された技術に比べ、液晶表示装置の製造工程数を削減することができる（以下、本実施の形態１の各変形例においても同様）。

また、補助配線６は、金属膜からなるため、上記特許文献１に記載された技術において、アレイ基板１の表面１ａに設けられる凸部が有機膜からなる場合に比べ、凸部の厚さや幅の精度が向上し、凸部の硬さも増加する。そのため、上記特許文献１に記載された技術に比べ、アレイ基板１の表面１ａと対向基板３の表面３ａとの間隔をより正確に維持することができる（以下、本実施の形態１の各変形例においても同様）。

また、上記特許文献２に記載された技術では、ＴＦＴ基板または対向基板が外部から押し圧力を受けた場合に、対向基板に設けられた柱状スペーサの先端が、ＴＦＴ基板に設けられたバス電極および突起用ＩＴＯからなるストッパーに食い込むことにより、柱状スペーサの横方向への動きを防止する。

すなわち、上記特許文献２に記載された技術では、柱状スペーサにバス電極および突起用ＩＴＯからなるストッパーが食い込むものとなるので、基板間のずれを許容するものではない。したがって、ＴＦＴ基板と対向基板とが互いに横方向にずれてしまうような外力が作用する場合、当該ずれを許容しないためにストッパーと柱状スペーサ間との間に大きな応力が作用し、それによって当該ストッパーと柱状スペーサの当接部及びその周囲が損傷し、それによって当該箇所の透過率が大幅に低下してしまう恐れがある。

一方、本実施の形態１では、補助配線６とスペーサ部７とは、外力等によりスペーサ部７がわずかに横方向へ動くことを許容し、そのように動いた場合でも、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａに、スペーサ部７が近接することを、防止するためのものである。そのため、スペーサ部７は、補助配線６が延在するＸ軸方向と交差するＹ軸方向に長手を有する形状を有する。すなわちＹ軸方向におけるスペーサ部７の長さＬＮ１は、Ｘ軸方向におけるスペーサ部７の幅ＷＤ１よりも長い。

これにより、アレイ基板１に対して対向基板３がＸ軸方向にずれた場合には、Ｘ軸方向におけるスペーサ部７の幅ＷＤ１が細い場合でも、補助配線６のうち、本来スペーサ部７を支持する部分とＸ軸方向で異なる位置に位置する部分により、スペーサ部７の中央部が支持される。また、アレイ基板１に対して対向基板３がＹ軸方向にずれた場合には、Ｙ軸方向における補助配線６の幅ＷＤ２が細い場合でも、スペーサ部７のＹ軸方向における端部が、補助配線６のうち、本来スペーサ部７を支持する部分により、支持される。

したがって、アレイ基板１と対向基板３とが互いに横方向にずれた場合でも、スペーサ部７の幅ＷＤ１、および、補助配線の幅ＷＤ２を広くすることなく、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａに、スペーサ部７が近接することを、防止または抑制することができる。したがって、上記特許文献２に記載された技術に比べ、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａにスペーサ部７が近接することを防止または抑制する効果を、増加させることができる（以下、本実施の形態１の各変形例においても同様）。

また、スペーサ部７に補助配線６が食い込まないため、外力が除去されたのちは、アレイ基板１に対して対向基板３とは、アレイ基板１と対向基板３とが互いに横方向にずれる前の状態に戻る。すなわち、例えばスペーサ部７の中央部が、補助配線６のうち、本来スペーサ部７を支持する部分により、支持される状態に戻る。

なお、前述したように、ゲート配線１１とソース配線１３とが交差する交差部に設けられるＴＦＴ１６などを覆うため、Ｙ軸方向における延在部５１の幅は、Ｘ軸方向における延在部５２の幅よりも広い。言い換えれば、Ｘ軸方向における延在部５２の幅は、Ｙ軸方向における延在部５１の幅よりも狭い。したがって、Ｘ軸方向におけるスペーサ部７の幅ＷＤ１が、Ｘ軸方向における延在部５２の幅と、略同程度の広さになることがある。

このような場合、好適には、遮光部５は、図１および図２に示すように、スペーサ部７を遮光するスペーサ部用遮光部５４を含む。また、スペーサ部７は、平面視において、スペーサ部用遮光部５４が設けられた領域内に配置されている。具体的には、Ｘ軸方向におけるスペーサ部用遮光部５４の幅は、Ｘ軸方向における延在部５２の幅、および、Ｘ軸方向におけるスペーサ部７の幅ＷＤ１のいずれよりも広い。これにより、平面視において、スペーサ部用遮光部５４により、スペーサ部７全体を覆うことができる。

また、液晶表示装置においては、複数の画素がマトリクス状に配置され、画像を表示する表示領域のうち、遮光部に形成された開口領域の面積比率、すなわち開口率を向上させることが、表示される画像の輝度を向上させる観点で、重要である。特に、スマートフォンまたはタブレット端末などの電子機器で用いられる中小型の液晶表示装置においては、画素が高精細化されることにより高い開口率を確保することが困難になる傾向があるため、上記した開口率を向上させることが、重要である。

本実施の形態１の液晶表示装置１００では、延在部５１の幅または延在部５２の幅を広げることなく、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａにスペーサ部７が近接することを防止または抑制することができ、かつ、液晶表示装置１００により表示される画像の輝度を容易に向上させることができる。そして、画素が高精細化されることにより高い開口率を確保することがより困難な中小型の液晶表示装置に本実施の形態１の液晶表示装置１００を適用した場合、液晶表示装置により表示される画像の輝度を容易に向上させる効果がさらに大きくなる（以下、各実施の形態においても同様）。

＜補助配線およびスペーサ部の配置の第１変形例＞
次に、図５を参照し、本実施の形態１の液晶表示装置の補助配線およびスペーサ部の配置の第１変形例について説明する。

図５は、実施の形態１の液晶表示装置の第１変形例を示す平面図である。なお、図５では、対向基板３のうち、遮光部５およびスペーサ部７ａ以外の部分、ならびに、液晶層４を除去して透視した状態を示し、アレイ基板１のうち一部の図示を省略している。

本第１変形例の液晶表示装置１１０でも、実施の形態１の液晶表示装置１００と同様に、共通電極１８は、平面視において、例えばＸ軸方向に配列された複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々と重なるように、連続して一体に設けられている。したがって、本第１変形例でも、実施の形態１と同様に、共通電極１８は、平面視において、例えばＸ軸方向に配列された複数の画素電極２０の各々と重なるように、設けられており、Ｘ軸方向に延在する。

また、本第１変形例では、複数の補助配線６としての複数の補助配線６ａが、平面視において、複数の延在部５１の各々が設けられた領域とそれぞれ重なるように、設けられている。複数の補助配線６ａは、例えば複数の共通電極１８の各々とそれぞれ電気的に接続されている。

本第１変形例では、複数の補助配線６ａの各々は、補助配線６１ａと、複数の補助配線６２ａとを含む。以下では、複数の補助配線６ａのうち、平面視においてスペーサ部７ａと交差するように配置された補助配線６ａについて説明する。

補助配線６１ａは、実施の形態１の補助配線６と同様に、平面視において、複数の延在部５１のいずれかの延在部５１が設けられた領域内に配置されており、Ｘ軸方向に延在する。また、図３に示した補助配線６と同様に、補助配線６１ａは、アレイ基板１の表面１ａから対向基板３側に突出して設けられている。

一方、複数の補助配線６２ａは、平面視において、複数の延在部５２の各々が設けられた領域内に、それぞれ配置されており、Ｙ軸方向に延在する。図３に示した補助配線６と同様に、複数の補助配線６２ａは、アレイ基板１の表面１ａから対向基板３側にそれぞれ突出して設けられている。また、複数の補助配線６２ａは、平面視において、当該いずれかの延在部５１と複数の延在部５２の各々とが交差する交差領域で、補助配線６１ａとそれぞれ交差するように配置されている。

一方、本第１変形例では、スペーサ部７としてのスペーサ部７ａが設けられている。本第１変形例では、実施の形態１と異なり、スペーサ部７ａは、平面視において、Ｘ軸方向に長手を有する形状、例えば楕円形状または長方形状を有する。すなわち、平面視において、Ｘ軸方向におけるスペーサ部７ａの長さＬＮ１が、Ｙ軸方向におけるスペーサ部７ａの幅ＷＤ１よりも長い。補助配線６１ａは、平面視において、当該いずれかの延在部５１と、複数の延在部５２のいずれかの延在部５２とが交差する交差領域ＣＲ１で、複数の補助配線６２ａのいずれかの補助配線６２ａと交差するように、配置され、かつ、Ｘ軸方向に延在する。そして、スペーサ部７ａは、平面視において、交差領域ＣＲ１で、当該いずれかの補助配線６２ａと交差するように、配置されている。したがって、Ｘ軸方向におけるスペーサ部７ａの長さＬＮ１は、Ｘ軸方向における補助配線６２ａの幅ＷＤ２よりも長い。

なお、スペーサ部７ａは、図３に示したスペーサ部７と同様に、対向基板３の表面３ａからアレイ基板１側に突出して設けられている。また、スペーサ部７ａは、平面視において、当該いずれかの延在部５１が設けられた領域内に配置されている。

図５に示すように、例えば、スペーサ部７ａが、本来の位置から斜め方向ＤＲ１にずれた場合でも、平面視において、スペーサ部７ａの端部７１が、補助配線６２ａと重なっているため、平面視において、開口領域５３ａ内に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａには、スペーサ部７ａは近接しない。また、例えば、スペーサ部７ａが、本来の位置から斜め方向ＤＲ２にずれた場合でも、平面視において、スペーサ部７ａの端部７２が、補助配線６２ａと重なっているため、平面視において、開口領域５３ｂ内に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａには、スペーサ部７ａは近接しない。

そのため、外部から力が加わることなどによりアレイ基板１または対向基板３が撓み、アレイ基板１と対向基板３とが、互いに横方向にずれた場合でも、平面視において、補助配線６２ａとスペーサ部７ａとが重なった状態が維持される。これにより、平面視において、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａにスペーサ部７ａが近接することを防止または抑制し、表面１ａに形成された配向膜２１などに損傷が与えられることを防止または抑制することができる。

また、本第１変形例では、実施の形態１と異なり、スペーサ部７ａが、Ｘ軸方向に延在する。また、本第１変形例では、実施の形態１と異なり、延在部５２の幅よりも広い幅を有する延在部５１が設けられた領域内に、スペーサ部７ａが配置される。したがって、実施の形態１に比べ、延在部５１の幅と、Ｙ軸方向におけるスペーサ部７ａの幅ＷＤ１との差が大きいので、スペーサ部７ａを形成するための露光方法などの製造条件により、幅ＷＤ１の形状精度が得られない場合に、スペーサ部用遮光部を設ける必要がない。したがって、実施の形態１に比べ、表示領域における開口率を向上させることができる（以下、実施の形態１の各変形例、および、実施の形態２以降の各実施の形態においても同様）。

＜補助配線およびスペーサ部の配置の第２変形例＞
次に、図６を参照し、本実施の形態１の液晶表示装置の補助配線およびスペーサ部の配置の第２変形例について説明する。

図６は、実施の形態１の液晶表示装置の第２変形例を示す平面図である。なお、図６では、対向基板３のうち、遮光部５およびスペーサ部７ｂ以外の部分、ならびに、液晶層４を除去して透視した状態を示し、アレイ基板１のうち一部の図示を省略している。

本第２変形例の液晶表示装置１２０では、共通電極１８は、平面視において、例えばＸ軸方向およびＹ軸方向にマトリクス状に配列された複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々と重なるように、連続して一体に設けられている。したがって、共通電極１８は、平面視において、例えばＸ軸方向およびＹ軸方向にマトリクス状に配列された複数の画素電極２０の各々と重なるように、設けられている。

本第２変形例では、平面視において、複数の延在部５１の各々が設けられた領域内に、それぞれ補助配線６１ｂが配置されており、複数の延在部５２の各々が設けられた領域内に、補助配線６としての補助配線６ｂが、それぞれ配置されている。すなわち、複数の補助配線６１ｂは、Ｘ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｙ軸方向に間隔を空けて配置されている。また、複数の補助配線６ｂは、Ｙ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｘ軸方向に間隔を空けて配置されている。そして、複数の補助配線６１ｂおよび複数の補助配線６ｂは、共通電極１８とそれぞれ電気的に接続されている。

図３に示した補助配線６と同様に、複数の補助配線６１ｂは、アレイ基板１の表面１ａから対向基板３側にそれぞれ突出して設けられている。また、図３に示した補助配線６と同様に、複数の補助配線６ｂは、アレイ基板１の表面１ａから対向基板３側にそれぞれ突出して設けられている。また、複数の補助配線６１ｂの各々は、平面視において、複数の延在部５１と複数の延在部５２とが交差する複数の交差領域の各々で、複数の補助配線６ｂの各々とそれぞれ交差するように配置されている。

一方、本第２変形例では、スペーサ部７としてのスペーサ部７ｂが設けられている。実施の形態１の第１変形例と同様に、スペーサ部７ｂは、平面視において、Ｘ軸方向に長手を有する形状、例えば楕円形状または長方形状を有する。すなわち、平面視において、Ｘ軸方向におけるスペーサ部７ｂの長さＬＮ１が、Ｙ軸方向におけるスペーサ部７ｂの幅ＷＤ１よりも長い。複数の補助配線６１ｂのいずれかの補助配線６１ｂは、平面視において、複数の延在部５１のいずれかの延在部５１と、複数の延在部５２のいずれかの延在部５２とが交差する交差領域ＣＲ１で、複数の補助配線６ｂのいずれかの補助配線６ｂと交差するように、配置され、かつ、Ｘ軸方向に延在する。そして、スペーサ部７ｂは、平面視において、交差領域ＣＲ１で、当該いずれかの補助配線６ｂと交差するように、配置されている。したがって、Ｘ軸方向におけるスペーサ部７ｂの長さＬＮ１は、Ｘ軸方向における補助配線６ｂの幅ＷＤ２よりも長い。

なお、スペーサ部７ｂは、図３に示したスペーサ部７と同様に、対向基板３の表面３ａからアレイ基板１側に突出して設けられている。また、スペーサ部７ｂは、平面視において、当該いずれかの延在部５１が設けられた領域内に配置されている。

図６に示すように、例えば、スペーサ部７ｂが、本来の位置から斜め方向ＤＲ１にずれた場合でも、平面視において、スペーサ部７ｂの端部７１が、補助配線６ｂと重なっているため、平面視において、開口領域５３ａ内に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａには、スペーサ部７ｂは近接しない。また、例えば、スペーサ部７ｂが、斜め方向ＤＲ２にずれた場合でも、平面視において、スペーサ部７ｂの端部７２が、補助配線６ｂと重なっているため、平面視において、開口領域５３ｂ内に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａには、スペーサ部７ｂは近接しない。

そのため、外部から力が加わることなどによりアレイ基板１または対向基板３が撓み、アレイ基板１と対向基板３とが、互いに横方向にずれた場合でも、平面視において、補助配線６ｂとスペーサ部７ｂとが重なった状態が維持される。これにより、平面視において、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａにスペーサ部７ｂが近接することを防止または抑制し、表面１ａに形成された配向膜２１などに損傷が与えられることを防止または抑制することができる。

なお、本第２変形例では、実施の形態１および実施の形態１の第１変形例と異なり、各開口領域５３すなわち各サブ画素ＳＰｉｘが、全周に亘って、補助配線６１ｂおよび補助配線６ｂにより囲まれる場合がある。すなわち、本第２変形例では、隣り合う２つのサブ画素ＳＰｉｘの間に位置する部分のアレイ基板１の表面１ａに必ず凸部が形成される場合がある。このような場合、配向膜２１を例えば塗布法により形成する際に、各サブ画素ＳＰｉｘの内部で、配向膜２１の原料としての塗布液を均一に塗布できないおそれがある。または、各サブ画素ＳＰｉｘの内部で、配向膜２１のラビング処理を均一に行うことができないおそれがある。

したがって、本第２変形例では、Ｙ軸方向に配列された複数の延在部５１のうち、１個おき、または、複数個おきに、補助配線６１ｂが設けられてもよい。あるいは、本第２変形例では、Ｘ軸方向に配列された複数の延在部５２のうち、１個おき、または、複数個おきに、補助配線６ｂが設けられてもよい。

＜補助配線およびスペーサ部の配置の第３変形例＞
次に、図７を参照し、本実施の形態１の液晶表示装置の補助配線およびスペーサ部の配置の第３変形例について説明する。

図７は、実施の形態１の液晶表示装置の第３変形例を示す平面図である。なお、図７では、対向基板３のうち、遮光部５およびスペーサ部７ｃ以外の部分、ならびに、液晶層４を除去して透視した状態を示し、アレイ基板１のうち一部の図示を省略している。

本第３変形例の液晶表示装置１３０では、共通電極１８は、平面視において、例えばＹ軸方向に配列された複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々と重なるように、連続して一体に設けられている。したがって、本第３変形例では、実施の形態１と異なり、共通電極１８は、平面視において、例えばＹ軸方向に配列された複数の画素電極２０の各々と重なるように、設けられており、Ｙ軸方向に延在する。

本第３変形例では、平面視において、複数の延在部５２の各々が設けられた領域内に、補助配線６としての補助配線６ｃが、それぞれ配置されている。すなわち、複数の補助配線６ｃは、Ｙ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｘ軸方向に間隔を空けて配置されている。複数の補助配線６ｃは、例えば複数の共通電極１８のいずれかとそれぞれ電気的に接続されている。また、図３に示した補助配線６と同様に、複数の補助配線６ｃは、アレイ基板１の表面１ａから対向基板３側にそれぞれ突出して設けられている。

本第３変形例では、スペーサ部７としてのスペーサ部７ｃが設けられている。実施の形態１の第１変形例と同様に、スペーサ部７ｃは、平面視において、Ｘ軸方向に長手を有する形状、例えば楕円形状または長方形状を有する。すなわち、平面視において、Ｘ軸方向におけるスペーサ部７ｃの長さＬＮ１が、Ｙ軸方向におけるスペーサ部７ｃの幅ＷＤ１よりも長い。そして、スペーサ部７ｃは、平面視において、複数の延在部５１のいずれかの延在部５１と、複数の延在部５２のいずれかの延在部５２とが交差する交差領域ＣＲ１で、複数の補助配線６ｃのいずれかの補助配線６ｃと交差するように、配置されている。したがって、Ｘ軸方向におけるスペーサ部７ｃの長さＬＮ１は、Ｘ軸方向における補助配線６ｃの幅ＷＤ２よりも長い。

なお、スペーサ部７ｃは、図３に示したスペーサ部７と同様に、対向基板３の表面３ａからアレイ基板１側に突出して設けられている。また、スペーサ部７ｃは、平面視において、当該いずれかの延在部５１が設けられた領域内に配置されている。

図７に示すように、例えば、スペーサ部７ｃが、本来の位置から斜め方向ＤＲ１にずれた場合でも、平面視において、スペーサ部７ｃの端部７１が、補助配線６ｃと重なっているため、平面視において、開口領域５３ａ内に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａには、スペーサ部７ｃは近接しない。また、例えば、スペーサ部７ｃが、斜め方向ＤＲ２にずれた場合でも、平面視において、スペーサ部７ｃの端部７２が、補助配線６ｃと重なっているため、平面視において、開口領域５３ｂ内に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａには、スペーサ部７ｃは近接しない。

そのため、外部から力が加わることなどによりアレイ基板１または対向基板３が撓み、アレイ基板１と対向基板３とが、互いに横方向にずれた場合でも、平面視において、補助配線６ｃとスペーサ部７ｃとが重なった状態が維持される。これにより、平面視において、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａにスペーサ部７ｃが近接することを防止または抑制し、表面１ａに形成された配向膜２１などに損傷が与えられることを防止または抑制することができる。

本第３変形例における補助配線６ｃとスペーサ部７ｃとの配置は、入力装置としてのタッチパネルを備えた液晶表示装置、すなわち駆動電極と検出電極とを備えたタッチ検出機能付き液晶表示装置にも適用可能である。以下では、本第３変形例における補助配線６ｃとスペーサ部７ｃとの配置を、タッチパネルを内蔵した液晶表示装置、すなわちインセルタイプのタッチ検出機能付き液晶表示装置に適用した例について説明する。

まず、図８および図９を参照し、タッチ検出の原理について説明する。図８は、タッチパネルに指が接触および近接した状態を表す説明図である。図９は、タッチパネルに指が接触および近接した状態の等価回路の例を示す説明図である。

図８に示すように、静電容量型タッチ検出においては、入力装置としてのタッチパネルは、誘電体Ｄを挟んで互いに対向配置された駆動電極Ｅ１および検出電極Ｅ２を有する。これらの駆動電極Ｅ１および検出電極Ｅ２により容量素子Ｃ１が形成されている。図９に示すように、容量素子Ｃ１の一端は、駆動信号源である交流信号源Ｓに接続され、容量素子Ｃ１の他端は、電圧検出器ＤＥＴに接続される。電圧検出器ＤＥＴは、例えば積分回路からなる。

交流信号源Ｓから容量素子Ｃ１の一端、すなわち駆動電極Ｅ１に、例えば数ｋＨｚ〜数百ｋＨｚ程度の周波数を有する交流矩形波Ｓｇが印加されると、容量素子Ｃ１の他端、すなわち検出電極Ｅ２側に接続された電圧検出器ＤＥＴを介して、出力波形である検出信号Ｖｄｅｔが発生する。

指が接触および近接していない状態、すなわち非接触状態では、図９に示すように、容量素子Ｃ１に対する充放電に伴って、容量素子Ｃ１の容量値に応じた電流Ｉ_１が流れる。電圧検出器ＤＥＴは、交流矩形波Ｓｇに応じた電流Ｉ_１の変動を、電圧の変動に変換する。

一方、指が接触または近接した状態、すなわち接触状態では、指によって形成される静電容量Ｃ２の影響を受け、駆動電極Ｅ１および検出電極Ｅ２により形成される容量素子Ｃ１の容量値が小さくなる。そのため、図９に示す容量素子Ｃ１に流れる電流Ｉ_１が変動する。前述したように、電圧検出器ＤＥＴは、交流矩形波Ｓｇに応じた電流Ｉ_１の変動を、電圧の変動に変換する。この電圧の変動分の絶対値が、例えばあらかじめ定められた基準値よりも大きいか否かを判定することにより、タッチ検出デバイスに指が接触または近接したか否かを判定する。

図１０は、駆動電極および検出電極の一例を示す斜視図である。図１０に示すように、本第３変形例の液晶表示装置１３０をタッチ検出機能付き液晶表示装置に適用した場合、液晶表示装置１３０は、複数の駆動電極２２と複数の検出電極２３とを有する。

なお、駆動電極２２は、図８に示した駆動電極Ｅ１に対応するものであり、図７に示した共通電極１８に対応するものである。検出電極２３は、図８に示した検出電極Ｅ２に対応するものであり、図７では二点鎖線により図示されている。

図１０に示すように、複数の検出電極２３は、平面視において、複数の駆動電極２２の各々が延在する方向と交差する方向にそれぞれ延在する。複数の検出電極２３の各々は、アレイ基板１の表面１ａに垂直な方向において、駆動電極２２と対向している。複数の駆動電極２２と複数の検出電極２３とが交差する複数の交差部の各々には、静電容量が発生する。そして、複数の駆動電極２２の各々と複数の検出電極２３の各々との間の静電容量に基づいて、入力位置が検出される。

本第３変形例の液晶表示装置１３０では、共通電極１８が画像表示にもタッチ検出にも用いられるため、１フレーム期間が、表示期間とタッチ検出期間とに分割されている。表示期間においては、画素電極２０に電圧が印加されることにより、共通電極１８と画素電極２０との間に電界が形成され、当該形成された電界によって、液晶層４における液晶の配向が変化する。これにより、液晶層４における光の透過率が変化して画像が表示される。

一方、タッチ検出期間においては、駆動電極２２としての共通電極１８にタッチ検出信号としての交流矩形波Ｓｇ（図８参照）が印加され、駆動電極２２としての共通電極１８と、検出電極２３との間の静電容量の変化により、タッチ検出デバイスに指が接触または近接したか否かを検出する。具体的には、例えば、タッチ検出期間においてタッチ検出動作を行う際、駆動電極ドライバ（図示は省略）により、スキャン方向Ｓｃａｎに１つの検出ブロックが順次選択される。そして、選択された検出ブロックにおいて、駆動電極２２には、駆動電極２２と検出電極２３との間の静電容量を測定するための駆動信号Ｖｃｏｍが入力され、検出電極２３から、入力位置を検出するための検出信号Ｖｄｅｔが出力される。

本第３変形例において、液晶表示装置１３０を、上記したようなタッチ検出機能付き液晶表示装置に適用した場合、当該タッチ検出機能付き液晶表示装置は、Ｙ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｘ軸方向に配列された複数の共通電極１８を有する。この場合、共通電極１８は、駆動電極２２であり、Ｙ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｘ軸方向に間隔を空けて配置された複数の補助配線６ｃは、いずれかの駆動電極２２と電気的に接続される。

また、当該タッチ検出機能付き液晶表示装置は、図７に示すように、複数の共通電極１８の各々が延在する方向であるＹ軸方向と交差するＸ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｙ軸方向に間隔を空けて配置された複数の検出電極２３を有する。隣り合う２つの検出電極２３の間には、スリット２３ａが形成されている。検出電極２３は、例えば対向基板３の表面１ａと反対側、すなわち透明基板３０の裏面３０ｂ（図３参照）上に設けられている。複数の検出電極２３の各々は、例えばＩＴＯまたはＩＺＯ等の透明導電性材料からなるものでもよい。あるいは、複数の検出電極２３の各々は、例えばアルミニウム（Ａｌ）またはモリブデン（Ｍｏ）等の不透明な金属からなるものでもよい。

（実施の形態２）
実施の形態１の液晶表示装置では、アレイ基板と対向基板とが、共通電極と電気的に接続された補助配線と、スペーサ部とを介して、互いに対向配置されていた。一方、実施の形態２の液晶表示装置では、アレイ基板と対向基板とが、入力位置を検出する検出電極と、スペーサ部とを介して、互いに対向配置されている。すなわち、実施の形態２の液晶表示装置は、入力装置としてのタッチパネルを備えた液晶表示装置である。

なお、実施の形態２では、入力装置としてのタッチパネルを備えた液晶表示装置を、タッチパネルを内蔵した液晶表示装置、すなわちインセルタイプのタッチ検出機能付き液晶表示装置に適用した例について説明する。

なお、本実施の形態２の液晶表示装置におけるタッチ検出の原理については、実施の形態１の第３変形例において、図８および図９を用いて説明したタッチ検出の原理と同様である。

＜液晶表示装置＞
次に、図１１〜図１４を参照し、本実施の形態２の液晶表示装置１４０の概略の構成について説明する。

図１１および図１２は、実施の形態２の液晶表示装置の一例を示す平面図である。図１３は、実施の形態２の液晶表示装置の一例を示す断面図である。図１４は、実施の形態２の液晶表示装置の他の例を示す断面図である。図１３および図１４は、図１１のＡ−Ａ線に沿った断面図である。なお、図１１および図１２では、対向基板３のうち、遮光部５およびスペーサ部７ｄ以外の部分、ならびに、液晶層４を除去して透視した状態を示し、アレイ基板１のうち一部の図示を省略している。

図１１〜図１３に示すように、本実施の形態２の液晶表示装置１４０は、実施の形態１の液晶表示装置１００と同様に、アレイ基板１と、対向基板３と、液晶層４と、を有する。また、本実施の形態２の液晶表示装置１４０は、遮光部５を有する。遮光部５は、実施の形態１における遮光部５と同様に、複数の延在部５１と複数の延在部５２とを含む。また、本実施の形態２の液晶表示装置１４０は、複数のサブ画素ＳＰｉｘを有する。複数のサブ画素ＳＰｉｘは、実施の形態１における複数のサブ画素ＳＰｉｘと同様に、複数の延在部５１と複数の延在部５２とにより区画された複数の開口領域５３の各々に、それぞれ設けられている。

アレイ基板１は、基体として、透明基板１０を有する。本実施の形態２における透明基板１０は、実施の形態１における透明基板１０と同様に、表面１０ａおよび裏面１０ｂを有する。

透明基板１０の表面１０ａ上には、実施の形態１と同様に、複数のゲート配線１１が設けられている。複数のゲート配線１１は、平面視において、複数の延在部５１の各々が設けられた領域内に、それぞれ配置されており、Ｘ軸方向にそれぞれ延在する。ゲート配線１１からは、ゲート電極１１ａが延設されている。

本実施の形態２では、実施の形態１と異なり、透明基板１０の表面１０ａ上には、複数の駆動電極２２が設けられている。複数の駆動電極２２は、平面視において、複数の延在部５１の各々が設けられた領域内に、それぞれ配置されており、Ｘ軸方向にそれぞれ延在する。複数の駆動電極２２の各々は、例えばアルミニウム（Ａｌ）またはモリブデン（Ｍｏ）等の不透明な金属からなる。

なお、図１１および図１２に示すように、駆動電極２２は、複数の延在部５１の各々が設けられた領域全ての内部に設けられていなくてもよく、１個おきまたは複数個おきに設けられていてもよい。すなわち、駆動電極２２は、複数の延在部５１のいずれかの延在部５１が設けられた領域内に設けられていればよい。

ゲート配線１１およびゲート電極１１ａを覆うように、実施の形態１と同様に、ゲート絶縁膜としての絶縁膜１２が設けられている。ただし、本実施の形態２では、絶縁膜１２は、ゲート配線１１およびゲート電極１１ａに加え、駆動電極２２も覆うように、設けられている。

絶縁膜１２上には、実施の形態１と同様に、複数のソース配線１３が設けられている。複数のソース配線１３は、平面視において、複数の延在部５２の各々が設けられた領域内に、それぞれ配置されており、Ｙ軸方向にそれぞれ延在する。ソース配線１３からは、ソース電極１３ａが延設されている。

平面視において、ゲート電極１１ａと重なる部分の絶縁膜１２上には、実施の形態１と同様に、半導体層１４が設けられている。前述したソース電極１３ａは、半導体層１４の一部と接触している。また、絶縁膜１２上には、実施の形態１と同様に、ソース配線１３およびソース電極１３ａと同一の材料からなるドレイン電極１５が設けられている。ドレイン電極１５は、ソース電極１３ａと近接配置されており、半導体層１４と部分的に接触している。

このようにして、実施の形態１と同様に、複数のゲート配線１１と、複数のソース配線１３とが交差する複数の交差部の各々に、それぞれＴＦＴ１６が配置されることにより、複数のＴＦＴ１６が設けられている。さらに、実施の形態１と同様に、複数のソース配線１３、複数のＴＦＴ１６、および、絶縁膜１２の露出した部分を覆うように、層間樹脂膜１７が設けられている。

層間樹脂膜１７上には、実施の形態１と同様に、共通電極１８が設けられている。共通電極１８は、平面視において、複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々と重なるように、連続して一体に設けられている。図１２では図示は省略するが、共通電極１８は、平面視において、例えばＹ軸方向に配列された複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々と重なるように、連続して一体に設けられていてもよい。このとき、共通電極１８は、平面視において、例えばＹ軸方向に配列された複数の画素電極２０の各々と重なるように、設けられており、Ｙ軸方向に延在する。

また、層間樹脂膜１７上には、複数の検出電極２３が設けられている。すなわち、複数の検出電極２３は、アレイ基板１の表面１ａ側に設けられている。複数の検出電極２３の各々は、金属膜からなり、この金属膜は、例えばアルミニウム（Ａｌ）またはモリブデン（Ｍｏ）等の不透明な金属からなる。

複数の検出電極２３は、平面視において、複数の延在部５２の各々が設けられた領域内に、それぞれ配置され、かつ、Ｙ軸方向にそれぞれ延在する。また、複数の検出電極２３は、アレイ基板１の表面１ａから対向基板３側にそれぞれ突出して設けられている。アレイ基板１の表面１ａとは、補助配線６ｄが設けられていない部分の透明基板１０の表面１０ａ側に設けられた配向膜２１の表面を意味する。

なお、検出電極２３は、複数の延在部５２の各々が設けられた領域全ての内部に設けられていなくてもよく、図１１および図１２に示すように、１個おきまたは複数個おきに設けられていてもよい。すなわち、検出電極２３は、複数の延在部５２のいずれかの延在部５２が設けられた領域内に設けられていればよい。

図１３に示す例では、共通電極１８は、検出電極２３上に設けられている。そのため、検出電極２３は、共通電極１８と電気的に接続されている。検出電極２３は、共通電極１８に含まれる例えばＩＴＯまたはＩＺＯ等の透明導電性材料の電気抵抗率よりも小さい電気抵抗率を有する。したがって、検出電極２３を共通電極１８と電気的に接続することにより、共通電極１８の電気抵抗を低減することができ、例えば時定数を短くすることができるなど、液晶表示装置の性能を向上させることができる。

共通電極１８を覆うように、実施の形態１と同様に、電極間絶縁膜１９が設けられている。

電極間絶縁膜１９上には、実施の形態１と同様に、複数の画素電極２０が設けられている。複数の画素電極２０の各々は、例えばＩＴＯまたはＩＺＯ等の透明導電性材料からなる。複数の画素電極２０は、平面視において、複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々の内部で、アレイ基板１の表面１ａ側にそれぞれ設けられている。したがって、共通電極１８は、平面視において、例えばＸ軸方向に配列された複数の画素電極２０の各々と重なるように、設けられている。そして、複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々の内部で、共通電極１８と画素電極２０とは、電極間絶縁膜１９を介して対向している。

また、電極間絶縁膜１９は、平面視において、複数の延在部５２の各々が設けられた領域内では、共通電極１８を介して検出電極２３を覆うように、設けられている。

なお、図１３に示す例では、共通電極１８の上方に画素電極２０が設けられているが、画素電極２０の上方に共通電極１８が設けられていてもよい。このような例を、図１４に示す。図１４に示す例では、共通電極１８には開口部１８ａが形成されている。また、図１４に示す例では、検出電極２３は、共通電極１８上に設けられている。すなわち、共通電極１８は、検出電極２３の下に設けられていてもよい。

また、画素電極２０、および、電極間絶縁膜１９の露出した部分を覆うように、実施の形態１と同様に、配向膜２１が設けられている。

一方、対向基板３は、例えば実施の形態１における対向基板３と同様にすることができる。すなわち、対向基板３は、基体として、透明基板３０を有する。透明基板３０は、表面３０ａおよび裏面３０ｂを有する。透明基板３０の表面３０ａ上には、遮光部５およびカラーフィルタ層３２が設けられている。遮光部５およびカラーフィルタ層３２を覆うように、オーバーコート層３３が設けられている。オーバーコート層３３上には、スペーサ部７としてのスペーサ部７ｄが、設けられている。スペーサ部７ｄおよびオーバーコート層３３を覆うように、配向膜３５が設けられている。

このようなアレイ基板１と対向基板３とは、検出電極２３およびスペーサ部７ｄを介して、互いに対向するように配置、すなわち対向配置されている。また、実施の形態１と同様に、対向配置されたアレイ基板１と対向基板３との間には、液晶層４が充填されている。

上述の構成により、実施の形態１と同様に、各サブ画素ＳＰｉｘでは、ＴＦＴ１６がオン状態になると、複数の画素電極２０の各々に電圧が印加されることにより、共通電極１８と各画素電極２０との間に電界が形成され、当該形成された電界によって、液晶層４における液晶の配向が変化する。これにより、液晶層４における光の透過率が変化して画像が表示される。

一方、実施の形態１の第３変形例で図１０に示したのと同様に、本実施の形態２の液晶表示装置１４０は、複数の駆動電極２２と複数の検出電極２３とを有する。複数の検出電極２３は、平面視において、複数の駆動電極２２の各々が延在する方向と交差する方向にそれぞれ延在する。複数の検出電極２３の各々は、アレイ基板１の表面１ａに垂直な方向において、駆動電極２２と対向している。複数の駆動電極２２と複数の検出電極２３とが交差する複数の交差部の各々には、静電容量が発生する。そして、複数の駆動電極２２の各々と複数の検出電極２３の各々との間の静電容量に基づいて、入力位置が検出される。

なお、本実施の形態２では、図１２に示すように、平面視において、複数の延在部５１の各々が設けられた領域内に、補助配線６としての補助配線６ｄが、それぞれ配置されていてもよい。複数の補助配線６ｄは、例えば複数の共通電極１８の各々と電気的にそれぞれ接続されている。補助配線６ｄは、共通電極１８に含まれる例えばＩＴＯまたはＩＺＯ等の透明導電性材料の電気抵抗率よりも小さい電気抵抗率を有する。したがって、補助配線６ｄを共通電極１８と電気的に接続することにより、共通電極１８の電気抵抗を低減することができ、例えば時定数を短くすることができるなど、液晶表示装置の性能を向上させることができる。

このような場合、好適には、補助配線６ｄは、検出電極２３に含まれる導体膜と同層に形成された導体膜からなる。これにより、補助配線６ｄを、検出電極２３を形成する工程と同一の工程により形成することができるので、液晶表示装置の製造工程数を削減することができる。

あるいは、駆動電極２２がゲート配線１１と別個に設けられず、ゲート配線１１のみが設けられ、ゲート配線１１が接続される回路を、表示用の回路と検出用の回路との間で切り替えることにより、ゲート配線１１が駆動電極２２として兼用されることもできる。このとき、ゲート配線１１と検出電極２３との間の静電容量に基づいて、入力位置が検出される。

＜検出電極およびスペーサ部の配置＞
次に、図１１〜図１３を参照し、本実施の形態２の液晶表示装置における検出電極およびスペーサ部の配置、ならびに、その効果について説明する。

前述したように、検出電極２３は、平面視において、複数の延在部５２のいずれかの延在部５２が設けられた領域内に配置されており、Ｙ軸方向に延在する。検出電極２３は、共通電極１８と電気的に接続されている。また、検出電極２３は、アレイ基板１の表面１ａから対向基板３側に突出して設けられている。

一方、スペーサ部７ｄは、平面視において、Ｘ軸方向に長手を有する形状、例えば楕円形状または長方形状を有する。すなわち、平面視において、Ｘ軸方向におけるスペーサ部７ｄの長さＬＮ１が、Ｙ軸方向におけるスペーサ部７ｄの幅ＷＤ１よりも長い。そして、スペーサ部７ｄは、平面視において、当該いずれかの延在部５２と、複数の延在部５１のいずれかの延在部５１とが交差する交差領域ＣＲ１で、検出電極２３と交差するように、配置されている。したがって、Ｘ軸方向におけるスペーサ部７ｄの長さＬＮ１は、Ｘ軸方向における検出電極２３の幅ＷＤ２よりも長い。

なお、本実施の形態２でも、実施の形態１と同様に、スペーサ部７ｄは、対向基板３の表面３ａからアレイ基板１側に突出して設けられている。また、スペーサ部７ｄは、平面視において、当該いずれかの延在部５１が設けられた領域内に配置されている。

図１２に示すように、例えば、スペーサ部７ｄが、本来の位置から斜め方向ＤＲ１にずれた場合でも、平面視において、スペーサ部７ｄの端部７１が、検出電極２３と重なっているため、平面視において、開口領域５３ａ内に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａには、スペーサ部７ｄは近接しない。また、例えば、スペーサ部７ｄが、本来の位置から斜め方向ＤＲ２にずれた場合でも、平面視において、スペーサ部７ｄの端部７２が、検出電極２３と重なっているため、平面視において、開口領域５３ｂ内に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａには、スペーサ部７ｄは近接しない。

そのため、外部から力が加わることなどによりアレイ基板１または対向基板３が撓み、アレイ基板１と対向基板３とが、互いに横方向にずれた場合でも、平面視において、検出電極２３とスペーサ部７ｄとが重なった状態が維持される。これにより、平面視において、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａにスペーサ部７ｄが近接することを防止または抑制し、表面１ａに形成された配向膜２１などに損傷が与えられることを防止または抑制することができる。

本実施の形態２では、実施の形態１と同様に、アレイ基板１の表面１ａに凸部を設けるための工程を個別に行う必要がないので、上記特許文献１に記載された技術に比べ、液晶表示装置の製造工程数を削減することができる。また、検出電極２３は、金属膜からなるため、実施の形態１と同様に、上記特許文献１に記載された技術において、アレイ基板の表面に設けられる凸部が有機膜からなる場合に比べ、アレイ基板１の表面１ａと対向基板３の表面３ａとの間隔をより正確に維持することができる。

また、本実施の形態２では、実施の形態１と同様に、検出電極２３とスペーサ部７ｄとは、スペーサ部７ｄが横方向へ動いた場合でも、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａに、スペーサ部７ｄが近接することを、防止するためのものである。そのため、Ｘ軸方向におけるスペーサ部７ｄの長さＬＮ１は、Ｙ軸方向におけるスペーサ部７ｄの幅ＷＤ１よりも長い。したがって、上記特許文献２に記載された技術に比べ、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａにスペーサ部７ｄが近接することを防止または抑制する効果を、増加させることができる。

（実施の形態３）
実施の形態１の液晶表示装置では、サブ画素が設けられた領域内で、ゲート絶縁膜としての絶縁膜が設けられていた。一方、実施の形態３の液晶表示装置では、平面視において、サブ画素と重なる部分の絶縁膜に開口部が形成され、サブ画素と重なる部分の層間樹脂膜の上面に凹部が形成されている。

＜液晶表示装置＞
次に、図１５〜図１８を参照し、本実施の形態３の液晶表示装置の概略の構成について説明する。

図１５および図１６は、実施の形態３の液晶表示装置の一例を示す平面図である。図１７は、実施の形態３の液晶表示装置の一例を示す断面図である。図１８は、実施の形態３の液晶表示装置の他の例を示す断面図である。図１７および図１８は、図１５のＡ−Ａ線に沿った断面図である。なお、図１５および図１６では、対向基板３のうち、遮光部５およびスペーサ部７ｅ以外の部分、ならびに、液晶層４を除去して透視した状態を示し、アレイ基板１のうち一部の図示を省略している。

図１５〜図１７に示すように、本実施の形態３の液晶表示装置１５０は、実施の形態１の液晶表示装置１００と同様に、アレイ基板１と、対向基板３と、液晶層４と、を有する。また、本実施の形態３の液晶表示装置１５０は、遮光部５を有する。遮光部５は、実施の形態１における遮光部５と同様に、複数の延在部５１と複数の延在部５２とを含む。また、本実施の形態３の液晶表示装置１５０は、複数のサブ画素ＳＰｉｘを有する。複数のサブ画素ＳＰｉｘは、実施の形態１における複数のサブ画素ＳＰｉｘと同様に、複数の延在部５１と複数の延在部５２とにより区画された複数の開口領域５３の各々に、それぞれ設けられている。

アレイ基板１は、基体として、透明基板１０を有する。本実施の形態３における透明基板１０は、実施の形態１における透明基板１０と同様に、表面１０ａおよび裏面１０ｂを有する。

透明基板１０の表面１０ａ上には、実施の形態１と同様に、複数のゲート配線１１が設けられている。複数のゲート配線１１は、平面視において、複数の延在部５１の各々が設けられた領域内に、それぞれ配置されており、Ｘ軸方向にそれぞれ延在する。ゲート配線１１からは、ゲート電極１１ａが延設されている。ゲート配線１１およびゲート電極１１ａを覆うように、実施の形態１と同様に、ゲート絶縁膜としての絶縁膜１２が設けられている。

絶縁膜１２上には、実施の形態１と同様に、複数のソース配線１３が設けられている。複数のソース配線１３は、平面視において、複数の延在部５２の各々が設けられた領域内に、それぞれ配置されており、Ｙ軸方向にそれぞれ延在する。ソース配線１３からは、ソース電極１３ａが延設されている。

平面視において、ゲート電極１１ａと重なる部分の絶縁膜１２上には、実施の形態１と同様に、半導体層１４が設けられている。前述したソース電極１３ａは、半導体層１４の一部と接触している。また、絶縁膜１２上には、実施の形態１と同様に、ソース配線１３およびソース電極１３ａと同一の材料からなるドレイン電極１５が設けられている。ドレイン電極１５は、ソース電極１３ａと近接配置されており、半導体層１４と部分的に接触している。このようにして、実施の形態１と同様に、複数のゲート配線１１と、複数のソース配線１３とが交差する複数の交差部の各々に、それぞれＴＦＴ１６が配置されることにより、複数のＴＦＴ１６が設けられている。

本実施の形態３では、平面視において、複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々と重なる部分の絶縁膜１２に、複数の開口部１２ａがそれぞれ設けられている。複数の開口部１２ａは、平面視において、複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々と重なる部分の絶縁膜１２をそれぞれ貫通して、透明基板１０の表面１０ａにそれぞれ達する。絶縁膜１２の膜厚を例えば１μｍ程度とすることができ、この場合、開口部１２ａの深さを例えば１μｍ程度とすることができる。

さらに、複数の開口部１２ａの各々の内部を埋め込むように、かつ、複数のソース配線１３、複数のＴＦＴ１６、および、絶縁膜１２の露出した部分を覆うように、層間樹脂膜１７が設けられている。層間樹脂膜１７は、平坦化膜であり、複数の開口部１２ａの各々の内部を埋め込み、複数のソース配線１３、複数のＴＦＴ１６、および、絶縁膜１２の露出した部分を覆うとともに、複数のソース配線１３、複数のＴＦＴ１６および絶縁膜１２の各々の上面からなる凹凸面を平坦化する。層間樹脂膜１７は、例えばフォトレジスト等の透明樹脂材料からなる。

一方、本実施の形態３では、開口部１２ａによる絶縁膜１２の凹凸面は、層間樹脂膜１７により完全には平坦化されない。したがって、複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々と重なる部分の層間樹脂膜１７の上面には、それぞれ凹部１７ａが形成される。

前述したように、開口部１２ａの深さを例えば１μｍ程度とすることができ、この場合、凹部１７ａの深さを例えば０．２〜０．３μｍ程度とすることができる。

層間樹脂膜１７上には、実施の形態１と同様に、共通電極１８が設けられている。共通電極１８は、平面視において、複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々と重なるように、連続して一体に設けられている。図１６では図示は省略するが、共通電極１８は、図７に示したように、平面視において、例えばＹ軸方向に配列された複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々と重なるように、連続して一体に設けられていてもよい。このとき、共通電極１８は、平面視において、例えばＹ軸方向に配列された複数の画素電極２０の各々と重なるように、設けられており、Ｙ軸方向に延在する。なお、複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々の内部では、共通電極１８は、凹部１７ａの底部に設けられている。

また、層間樹脂膜１７上には、複数の補助配線６としての複数の補助配線６ｅが設けられている。複数の補助配線６ｅの各々は、金属膜からなり、この金属膜は、例えばアルミニウム（Ａｌ）またはモリブデン（Ｍｏ）等の不透明な金属からなる。

複数の補助配線６ｅは、平面視において、複数の延在部５２の各々が設けられた領域内に、それぞれ配置され、かつ、Ｙ軸方向にそれぞれ延在する。また、複数の補助配線６ｅは、アレイ基板１の表面１ａから対向基板３側にそれぞれ突出して設けられている。

なお、図１５および図１６に示すように、補助配線６ｅは、複数の延在部５２の各々が設けられた領域全ての内部に設けられていなくてもよく、１個おきまたは複数個おきに設けられていてもよい。すなわち、補助配線６ｅは、複数の延在部５２のいずれかの延在部５２が設けられた領域内に設けられていればよい。

図１７に示すように、複数の補助配線６ｅの各々は、平面視において、複数の延在部５２のいずれかと重なる部分の共通電極１８上に設けられている。そのため、例えば複数の補助配線６ｅの各々は、共通電極１８と電気的に接続されている。補助配線６ｅは、共通電極１８に含まれる例えばＩＴＯまたはＩＺＯ等の透明導電性材料の電気抵抗率よりも小さい電気抵抗率を有する。したがって、補助配線６ｅを共通電極１８と電気的に接続することにより、共通電極１８の電気抵抗を低減することができ、例えば時定数を短くすることができるなど、液晶表示装置の性能を向上させることができる。

共通電極１８を覆うように、実施の形態１と同様に、電極間絶縁膜１９が設けられている。

電極間絶縁膜１９上には、実施の形態１と同様に、複数の画素電極２０が設けられている。複数の画素電極２０は、平面視において、複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々の内部で、アレイ基板１の表面１ａ側にそれぞれ設けられている。したがって、共通電極１８は、平面視において、例えばＸ軸方向に配列された複数の画素電極２０の各々と重なるように、設けられている。そして、複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々の内部では、凹部１７ａの底部で、共通電極１８と画素電極２０とは、電極間絶縁膜１９を介して対向している。

また、電極間絶縁膜１９は、平面視において、複数の延在部５２の各々が設けられた領域内では、共通電極１８上に設けられた補助配線６ｅを覆うように、設けられている。

なお、図１７に示す例では、共通電極１８の上方に画素電極２０が形成されているが、画素電極２０の上方に共通電極１８が設けられていてもよい。このような例を、図１８に示す。図１８に示す例では、共通電極１８には開口部１８ａが形成されている。また、図１８に示す例では、共通電極１８は、補助配線６ｅ上に設けられている。すなわち、補助配線６ｅは、共通電極１８の下に設けられていてもよい。

また、画素電極２０、および、電極間絶縁膜１９の露出した部分を覆うように、実施の形態１と同様に、配向膜２１が設けられている。

なお、複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々の内部では、配向膜２１は、凹部１７ａの底部で、電極間絶縁膜１９および画素電極２０を覆うように設けられている。そして、配向膜２１の上面として定義されたアレイ基板１の表面１ａのうち、平面視において複数の開口部１２ａの各々と重なる部分には、凹部１ｃがそれぞれ形成されている。

一方、対向基板３は、例えば実施の形態１における対向基板３と同様にすることができる。すなわち、対向基板３は、基体として、透明基板３０を有する。透明基板３０は、表面３０ａおよび裏面３０ｂを有する。透明基板３０の表面３０ａ上には、遮光部５およびカラーフィルタ層３２が設けられている。遮光部５およびカラーフィルタ層３２を覆うように、オーバーコート層３３が設けられている。オーバーコート層３３上には、スペーサ部７としてのスペーサ部７ｅが、設けられている。スペーサ部７ｅおよびオーバーコート層３３を覆うように、配向膜３５が設けられている。

このようなアレイ基板１と対向基板３とは、補助配線６ｅおよびスペーサ部７ｅを介して、互いに対向するように配置、すなわち対向配置されている。また、実施の形態１と同様に、対向配置されたアレイ基板１と対向基板３との間には、液晶層４が充填されている。

上述の構成により、実施の形態１と同様に、各サブ画素ＳＰｉｘでは、ＴＦＴ１６がオン状態になると、複数の画素電極２０の各々に電圧が印加されることにより、共通電極１８と各画素電極２０との間に電界が形成され、当該形成された電界によって、液晶層４における液晶の配向が変化する。これにより、液晶層４における光の透過率が変化して画像が表示される。

＜補助配線およびスペーサ部の配置＞
次に、図１５〜図１７を参照し、本実施の形態３の液晶表示装置における補助配線およびスペーサ部の配置、ならびに、その効果について説明する。

前述したように、複数の補助配線６ｅは、平面視において、複数の延在部５２の各々が設けられた領域内にそれぞれ配置されており、Ｙ軸方向にそれぞれ延在する。複数の補助配線６ｅの各々は、共通電極１８と電気的に接続されている。また、複数の補助配線６ｅは、アレイ基板１の表面１ａから対向基板３側にそれぞれ突出して設けられている。

一方、スペーサ部７ｅは、平面視において、Ｘ軸方向に長手を有する形状、例えば楕円形状または長方形状を有する。すなわち、平面視において、Ｘ軸方向におけるスペーサ部７ｅの長さＬＮ１が、Ｙ軸方向におけるスペーサ部７ｅの幅ＷＤ１よりも長い。そして、スペーサ部７ｅは、平面視において、複数の延在部５２のいずれかの延在部５２と、複数の延在部５１のいずれかの延在部５１とが交差する交差領域ＣＲ１で、複数の補助配線６ｅのいずれかの補助配線６ｅと交差するように、配置されている。したがって、Ｘ軸方向におけるスペーサ部７ｅの長さＬＮ１が、Ｘ軸方向における補助配線６ｅの幅ＷＤ２よりも長い。

なお、本実施の形態３でも、実施の形態１と同様に、スペーサ部７ｅは、対向基板３の表面３ａからアレイ基板１側に突出して設けられている。また、スペーサ部７ｅは、平面視において、当該いずれかの延在部５１が設けられた領域内に配置されている。

このような補助配線６ｅが設けられていない場合、例えば液晶表示装置の製造工程時または使用時に、外部から力が加わることなどによりアレイ基板１または対向基板３が撓み、アレイ基板１と対向基板３とが、互いに横方向にずれることがある。このような場合、平面視において各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａにスペーサ部７ｅが近接し、平面視において各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａに形成された配向膜２１などに損傷が与えられるおそれがある。その結果、損傷が与えられた部分の配向膜２１などから光漏れが発生するおそれがある。

一方、本実施の形態３では、図１６に示すように、補助配線６ｅが設けられている。例えば、スペーサ部７ｅが、本来の位置から斜め方向ＤＲ１にずれた場合でも、平面視において、スペーサ部７ｅの端部７１が、補助配線６ｅと重なっているため、平面視において、開口領域５３ａ内に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａ側には、スペーサ部７ｅは近接しない。また、例えば、スペーサ部７ｅが、本来の位置から斜め方向ＤＲ２にずれた場合でも、平面視において、スペーサ部７ｅの端部７２が、補助配線６ｅと重なっているため、平面視において、開口領域５３ｂ内に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａには、スペーサ部７ｅは近接しない。

そのため、外部から力が加わることなどによりアレイ基板１または対向基板３が撓み、アレイ基板１と対向基板３とが、互いに横方向にずれた場合でも、平面視において、補助配線６ｅとスペーサ部７ｅとが重なった状態が維持される。これにより、平面視において、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａにスペーサ部７ｅが近接することを防止または抑制し、表面１ａに形成された配向膜２１などに損傷が与えられることを防止または抑制することができる。

さらに、本実施の形態３では、実施の形態１と異なり、アレイ基板１の表面１ａのうち、平面視において複数の開口部１２ａの各々と重なる部分には、それぞれ凹部１ｃが形成されている。したがって、アレイ基板１と対向基板３とが、横方向にずれた場合に、平面視において、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａにスペーサ部７ｅが近接することを、さらに確実に防止または抑制することができる。

本実施の形態３では、実施の形態１と同様に、アレイ基板１の表面１ａに凸部を設けるための工程を個別に行う必要がないので、上記特許文献１に記載された技術に比べ、液晶表示装置の製造工程数を削減することができる。また、補助配線６ｅは、金属膜からなるため、実施の形態１と同様に、上記特許文献１に記載された技術において、アレイ基板の表面に設けられる凸部が有機膜からなる場合に比べ、アレイ基板１の表面１ａと対向基板３の表面３ａとの間隔をより正確に維持することができる。

また、本実施の形態３では、実施の形態１と同様に、補助配線６ｅとスペーサ部７ｅとは、スペーサ部７ｅが横方向へ動いた場合でも、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａに、スペーサ部７ｅが近接することを、防止するためのものである。そのため、Ｘ軸方向におけるスペーサ部７ｅの長さＬＮ１は、Ｙ軸方向におけるスペーサ部７ｅの幅ＷＤ１よりも長い。したがって、上記特許文献２に記載された技術に比べ、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａにスペーサ部７ｅが近接することを防止または抑制する効果を、増加させることができる。

また、本実施の形態３では、実施の形態１と異なり、平面視において、各サブ画素ＳＰｉｘの内部で、ゲート絶縁膜としての絶縁膜１２に、開口部１２ａが形成されている。これにより、各サブ画素ＳＰｉｘにおいて、多層膜中の隣り合う２つの層の間で特定の波長を有する光が干渉することにより、透過光または反射光に色が着色されること、または、多層膜を透過することにより光の透過率が低下することを、防止または抑制することができる。

なお、図示は省略するが、本実施の形態３と、実施の形態２とを組み合わせることができる。すなわち、実施の形態２において図１１〜図１３を用いて説明した、入力装置としてのタッチパネルを備えた液晶表示装置において、平面視において、複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々と重なる部分の絶縁膜１２に、開口部１２ａ（図１７参照）がそれぞれ形成されていてもよい。これにより、実施の形態３と同様の効果が得られる。

＜補助配線およびスペーサ部の配置の第１変形例＞
次に、図１９〜図２１を参照し、本実施の形態３の液晶表示装置における補助配線およびスペーサ部の配置の第１変形例について説明する。

図１９および図２０は、実施の形態３の液晶表示装置の第１変形例を示す平面図である。図２１は、実施の形態３の液晶表示装置の第１変形例を示す断面図である。図２１は、図１９のＡ−Ａ線に沿った断面図である。なお、図１９および図２０では、対向基板３のうち、遮光部５およびスペーサ部７ｅ以外の部分、ならびに、液晶層４を除去して透視した状態を示し、アレイ基板１のうち一部の図示を省略している。

本第１変形例の液晶表示装置１６０でも、実施の形態３の液晶表示装置１５０と同様に、複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々と重なる部分の絶縁膜１２に、それぞれ開口部１２ａが形成されている。したがって、複数の開口部１２ａの各々と重なる部分の層間樹脂膜１７の上面には、それぞれ凹部１７ａが形成されている。

一方、本第１変形例では、実施の形態３と異なり、複数の補助配線６ｅに代え、複数の凸部１７ｂが設けられている。複数の凸部１７ｂは、平面視において、複数の延在部５２の各々が設けられた領域内で、層間樹脂膜１７上にそれぞれ設けられている。したがって、複数の凸部１７ｂは、Ｙ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｘ軸方向に間隔を空けて配置されている。また、複数の凸部１７ｂは、アレイ基板１の表面１ａから対向基板３側にそれぞれ突出して設けられている。

複数のソース配線１３、複数のＴＦＴ１６、および、絶縁膜１２の露出した部分を覆うように、例えばフォトレジストからなる層間樹脂膜１７を形成した後、複数の延在部５２の各々が設けられた領域以外の領域で、層間樹脂膜１７に対してハーフエッチングを行うことにより、複数の凸部１７ｂを形成することができる。具体的には、複数の延在部５２の各々が設けられた領域以外の領域で、層間樹脂膜１７に対して、ハーフ露光を行った後、現像を行うことにより、層間樹脂膜１７からなる凸部１７ｂを複数個形成することができる。

あるいは、例えばフォトレジストからなる層間樹脂膜１７を形成した後、複数の延在部５２の各々が設けられた領域内で、層間樹脂膜１７上に、例えばアクリル樹脂からなる樹脂膜を形成することにより、樹脂膜からなる凸部１７ｂを複数個形成することができる。

本第１変形例でも、実施の形態３と同様に、スペーサ部７としてのスペーサ部７ｅは、平面視において、Ｘ軸方向に長手を有する形状、例えば楕円形状または長方形状を有する。すなわち、平面視において、Ｘ軸方向におけるスペーサ部７ｅの長さＬＮ１が、Ｙ軸方向におけるスペーサ部７ｅの幅ＷＤ１よりも長い。そして、スペーサ部７ｅは、平面視において、複数の延在部５２のいずれかの延在部５２と、複数の延在部５１のいずれかの延在部５１とが交差する交差領域ＣＲ１で、複数の凸部１７ｂのいずれかの凸部１７ｂと交差するように、配置されている。したがって、Ｘ軸方向におけるスペーサ部７ｅの長さＬＮ１が、Ｘ軸方向における凸部１７ｂの幅ＷＤ２よりも長い。

なお、本第１変形例でも、実施の形態３と同様に、スペーサ部７ｅは、対向基板３の表面３ａからアレイ基板１側に突出して設けられている。また、スペーサ部７ｅは、平面視において、当該いずれかの延在部５１が設けられた領域内に配置されている。

このような凸部１７ｂが設けられていない場合、実施の形態３において補助配線６ｅが設けられていない場合と同様に、アレイ基板１と対向基板３とが、互いに横方向にずれることがある。このような場合、平面視において各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａにスペーサ部７ｅが近接し、平面視において各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａに形成された配向膜２１などに損傷が与えられるおそれがある。

一方、本第１変形例では、図２０に示すように、凸部１７ｂが設けられている。例えば、スペーサ部７ｅが、本来の位置から斜め方向ＤＲ１にずれた場合でも、平面視において、スペーサ部７ｅの端部７１が、凸部１７ｂと重なっているため、平面視において、開口領域５３ａ内に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａ側には、スペーサ部７ｅは近接しない。また、例えば、スペーサ部７ｅが、本来の位置から斜め方向ＤＲ２にずれた場合でも、平面視において、スペーサ部７ｅの端部７２が、凸部１７ｂと重なっているため、平面視において、開口領域５３ｂ内に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａ側には、スペーサ部７ｅは近接しない。

そのため、アレイ基板１と対向基板３とが、互いに横方向にずれた場合でも、平面視において、凸部１７ｂとスペーサ部７ｅとが重なった状態が維持される。これにより、平面視において、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａにスペーサ部７ｅが近接することを防止または抑制し、表面１ａに形成された配向膜２１などに損傷が与えられることを防止または抑制することができる。

さらに、本第１変形例では、実施の形態３と同様に、アレイ基板１の表面１ａのうち、平面視において複数の開口部１２ａの各々と重なる部分には、それぞれ凹部１ｃが形成されている。したがって、アレイ基板１と対向基板３とが、横方向にずれた場合に、平面視において、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａにスペーサ部７ｅが近接することを、さらに確実に防止または抑制することができる。

本第１変形例では、上記特許文献１に記載された技術と同様に、アレイ基板の表面に凸部を形成するために、ソース配線を覆うように形成された層間樹脂膜をハーフ露光した後、現像を行うことにより、凸部となる部分を残して層間樹脂膜をハーフエッチングする。あるいは、本第１変形例では、アレイ基板の表面に凸部を形成するために、ソース配線を覆うように形成された層間樹脂膜上に、層間樹脂膜上とは別の膜を凸部として形成する。したがって、実施の形態３に比べ、液晶表示装置の製造工程数を削減する効果は小さくなる。

しかし、本第１変形例において、アレイ基板１の表面１ａに形成されている凹部１ｃは、上記特許文献１には記載されていない。したがって、アレイ基板１と対向基板３とが、横方向にずれた場合に、平面視において、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａにスペーサ部７ｅが近接することを防止または抑制する効果は、上記特許文献１に記載された技術に比べ、大きくなる。

また、本第１変形例では、凸部１７ｂとスペーサ部７ｅとは、スペーサ部７ｅが横方向へ動いた場合でも、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａに、スペーサ部７ｅが近接することを、防止するためのものである。そのため、Ｘ軸方向におけるスペーサ部７ｅの長さＬＮ１は、Ｙ軸方向におけるスペーサ部７ｅの幅ＷＤ１よりも長い。したがって、上記特許文献２に記載された技術に比べ、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａにスペーサ部７ｅが近接することを防止または抑制する効果を、増加させることができる。

また、本第１変形例では、実施の形態３と同様に、平面視において、各サブ画素ＳＰｉｘの内部で、ゲート絶縁膜としての絶縁膜１２に、開口部１２ａが形成されている。これにより、各サブ画素ＳＰｉｘにおいて、多層膜中の隣り合う２つの層の間で特定の波長を有する光が干渉することにより、透過光または反射光に色が着色されること、または、多層膜を透過することにより光の透過率が低下することを、防止または抑制することができる。

（実施の形態４）
実施の形態１では、アレイ基板と対向基板とが、補助配線とスペーサ部とを介して対向配置された液晶表示装置を、横電界方式としてのＦＦＳモードの液晶表示装置に適用した例について説明した。一方、実施の形態４では、アレイ基板と対向基板とが、補助配線とスペーサ部とを介して対向配置された液晶表示装置を、横電界方式としてのＩＰＳ（In-Plane Switching）モードの液晶表示装置に適用した例について説明する。前述したように、横電界方式とは、アレイ基板および対向基板のうちのいずれか一方の液晶層側に一対の電極を互いに絶縁して設け、概ね横方向の電界が液晶層に形成される方式である。また、ＩＰＳモードとは、横電界方式のうちの他の方式であり、上記した一対の電極が、平面視において、重ならないように配置されているものである。

＜液晶表示装置＞
次に、図２２〜図２４を参照し、本実施の形態４の液晶表示装置の概略の構成について説明する。

図２２および図２３は、実施の形態４の液晶表示装置の一例を示す平面図である。図２４は、実施の形態４の液晶表示装置の一例を示す断面図である。図２４は、図２２および図２３のＡ−Ａ線に沿った断面図である。なお、図２２および図２３では、対向基板３のうち、遮光部５およびスペーサ部７ｆ以外の部分、ならびに、液晶層４を除去して透視した状態を示し、アレイ基板１のうち一部の図示を省略している。

図２２〜図２４に示すように、本実施の形態４の液晶表示装置１７０は、実施の形態１の液晶表示装置１００と同様に、アレイ基板１と、対向基板３と、液晶層４と、を有する。また、本実施の形態４の液晶表示装置１７０は、遮光部５を有する。遮光部５は、実施の形態１における遮光部５と同様に、複数の延在部５１と複数の延在部５２とを含む。また、本実施の形態４の液晶表示装置１７０は、複数のサブ画素ＳＰｉｘを有する。複数のサブ画素ＳＰｉｘは、実施の形態１における複数のサブ画素ＳＰｉｘと同様に、複数の延在部５１と複数の延在部５２とにより区画された複数の開口領域５３の各々に、それぞれ設けられている。

アレイ基板１は、基体として、透明基板１０を有する。本実施の形態４における透明基板１０は、実施の形態１における透明基板１０と同様に、表面１０ａおよび裏面１０ｂを有する。

透明基板１０の表面１０ａ上には、実施の形態１と同様に、複数のゲート配線１１が設けられている。複数のゲート配線１１は、平面視において、複数の延在部５１の各々が設けられた領域内に、それぞれ配置されており、Ｘ軸方向にそれぞれ延在する。ゲート配線１１からは、ゲート電極１１ａが延設されている。

本実施の形態４では、実施の形態１と異なり、透明基板１０の表面１０ａ上には、複数の補助容量線２４が設けられている。複数の補助容量線２４は、平面視において、複数の延在部５１の各々が設けられた領域内に、それぞれ配置されており、Ｘ軸方向にそれぞれ延在する。複数の補助容量線２４の各々は、例えばアルミニウム（Ａｌ）またはモリブデン（Ｍｏ）等の不透明な金属からなる。複数の補助容量線２４の各々は、複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々の画素電極２０に接続されるキャパシタと電気的に接続される配線層である。

ゲート配線１１およびゲート電極１１ａを覆うように、実施の形態１と同様に、ゲート絶縁膜としての絶縁膜１２が設けられている。ただし、本実施の形態４では、絶縁膜１２は、ゲート配線１１およびゲート電極１１ａに加え、補助容量線２４も覆うように、設けられている。

絶縁膜１２上には、実施の形態１と同様に、複数のソース配線１３が設けられている。複数のソース配線１３は、平面視において、複数の延在部５２の各々が設けられた領域内に、それぞれ配置されており、Ｙ軸方向にそれぞれ延在する。ソース配線１３からは、ソース電極１３ａが延設されている。

平面視において、ゲート電極１１ａと重なる部分の絶縁膜１２上には、実施の形態１と同様に、半導体層１４が設けられている。前述したソース電極１３ａは、半導体層１４の一部と接触している。また、絶縁膜１２上には、実施の形態１と同様に、ソース配線１３およびソース電極１３ａと同一の材料からなるドレイン電極１５が設けられている。ドレイン電極１５は、ソース電極１３ａと近接配置されており、半導体層１４と部分的に接触している。このようにして、実施の形態１と同様に、複数のゲート配線１１と、複数のソース配線１３とが交差する複数の交差部の各々に、それぞれＴＦＴ１６が配置されることにより、複数のＴＦＴ１６が設けられている。

さらに、複数のソース配線１３、複数のＴＦＴ１６、および、絶縁膜１２の露出した部分を覆うように、層間樹脂膜１７が設けられている。層間樹脂膜１７は、平坦化膜であり、複数の開口部１２ａの各々の内部を埋め込み、複数のソース配線１３、複数のＴＦＴ１６、および、絶縁膜１２の露出した部分を覆うとともに、複数のソース配線１３、複数のＴＦＴ１６および絶縁膜１２の各々の上面からなる凹凸面を平坦化する。層間樹脂膜１７は、例えばフォトレジスト等の透明樹脂材料からなる。

層間樹脂膜１７上には、実施の形態１と同様に、共通電極１８が設けられている。共通電極１８は、平面視において、複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々と重なるように、連続して一体に設けられている。図２３に示す例では、共通電極１８は、平面視において、Ｘ軸方向およびＹ軸方向にマトリクス状に配列された複数のサブ画素ＳＰｉｘの各々と重なるように、連続して一体に設けられている。また、各サブ画素ＳＰｉｘが設けられた領域内で、共通電極１８には、共通電極１８を貫通して層間樹脂膜１７に達する開口部１８ｂが形成されている。したがって、共通電極１８は、平面視において、格子形状を有する。

また、層間樹脂膜１７上には、複数の補助配線６としての複数の補助配線６ｆが設けられている。また、層間樹脂膜１７上には、複数の補助配線６１ｆが設けられている。複数の補助配線６ｆおよび複数の補助配線６１ｆの各々は、金属膜からなり、この金属膜は、例えばアルミニウム（Ａｌ）またはモリブデン（Ｍｏ）等の不透明な金属からなる。

平面視において、複数の延在部５２の各々が設けられた領域内に、それぞれ補助配線６ｆが配置されている。また、平面視において、複数の延在部５１の各々が設けられた領域内に、それぞれ補助配線６１ｆが配置されている。したがって、複数の補助配線６ｆおよび複数の補助配線６１ｆは、平面視において、全体として格子形状を有する。

なお、補助配線６ｆは、複数の延在部５２の各々が設けられた領域全ての内部に設けられていなくてもよく、１個おきまたは複数個おきに設けられていてもよい。また、補助配線６１ｆは、複数の延在部５１の各々が設けられた領域全ての内部に設けられていなくてもよく、１個おきまたは複数個おきに設けられていてもよい。

図２４に示すように、共通電極１８は、複数の補助配線６ｆの各々の上に設けられており、図２４には示されないが、共通電極１８は、複数の補助配線６１ｆの各々の上に設けられている。そのため、複数の補助配線６ｆおよび複数の補助配線６１ｆは、共通電極１８とそれぞれ電気的に接続されている。補助配線６ｆおよび補助配線６１ｆは、共通電極１８に含まれる例えばＩＴＯまたはＩＺＯ等の透明導電性材料の電気抵抗率よりも小さい電気抵抗率を有する。したがって、補助配線６ｆおよび補助配線６１ｆを共通電極１８と電気的に接続することにより、共通電極１８の電気抵抗を低減することができ、例えば時定数を短くすることができるなど、液晶表示装置の性能を向上させることができる。

なお、図２４に示す例では、共通電極１８が、複数の補助配線６ｆの各々の上に設けられているが、複数の補助配線６ｆの各々が、共通電極１８上に設けられていてもよい。また、同様に、複数の補助配線６１ｆの各々が、共通電極１８上に設けられていてもよい。

また、層間樹脂膜１７上には、複数の画素電極２０が設けられている。複数の画素電極２０の各々は、例えばＩＴＯまたはＩＺＯ等の透明導電性材料からなる。複数の画素電極２０は、平面視において、共通電極１８の開口部１８ｂが形成された領域内で、層間樹脂膜１７上に、共通電極１８とそれぞれ離れて設けられている。したがって、複数の画素電極２０は、平面視において、各サブ画素ＳＰｉｘの内部で、共通電極１８と重ならない位置に、それぞれ配置されている。言い換えれば、共通電極１８は、平面視において、複数の画素電極２０の各々と離れて設けられている。これにより、ＩＰＳモードの液晶表示装置が構成される。

サブ画素ＳＰｉｘの周辺では、平面視において、ドレイン電極１５と重なる位置に、電極間絶縁膜１９および層間樹脂膜１７を貫通してＴＦＴ１６のドレイン電極１５に達するコンタクトホール２５が形成されている。画素電極２０は、コンタクトホール２５の底部に露出したドレイン電極１５と、電気的に接続されている。

なお、理解を簡単にするために、図２２では、画素電極２０の図示を省略し、図２３および図２４では、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に設けられた画素電極２０は、例えばＹ軸方向に延在する延在部を１本だけ含むものとして図示されている。しかし、本実施の形態４では、画素電極２０は、平面視において、例えばＹ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｘ軸方向に配列された複数の延在部、すなわち櫛歯を含むなど、櫛歯形状を有していてもよい。また、本実施の形態４では、共通電極１８も、平面視において、例えばＹ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｘ軸方向に配列された複数の延在部、すなわち櫛歯を含むなど、櫛歯形状を有していてもよく、画素電極２０の櫛歯と、共通電極１８の櫛歯とが互いに噛み合うように配置されていてもよい。このとき、互いに隣り合う画素電極２０の櫛歯と、共通電極１８の櫛歯との間に設けられたスリットにおいて、画素電極２０と共通電極１８との間で電界が形成されることにより、液晶層４における液晶の配向状態が変化する。

また、画素電極２０、共通電極１８、および、層間樹脂膜１７の露出した部分を覆うように、実施の形態１と同様に、配向膜２１が設けられている。

一方、対向基板３は、例えば実施の形態１における対向基板３と同様にすることができる。すなわち、対向基板３は、基体として、透明基板３０を有する。透明基板３０は、表面３０ａおよび裏面３０ｂを有する。透明基板３０の表面３０ａ上には、遮光部５およびカラーフィルタ層３２（図３参照）が設けられている。遮光部５およびカラーフィルタ層３２を覆うように、オーバーコート層３３が設けられている。オーバーコート層３３上には、スペーサ部７としてのスペーサ部７ｆが、設けられている。スペーサ部７ｆおよびオーバーコート層３３を覆うように、配向膜３５が設けられている。

このようなアレイ基板１と対向基板３とは、補助配線６ｆおよびスペーサ部７ｆを介して、互いに対向するように配置、すなわち対向配置されている。また、実施の形態１と同様に、対向配置されたアレイ基板１と対向基板３との間には、液晶層４が充填されている。

上述の構成により、実施の形態１と同様に、各サブ画素ＳＰｉｘでは、ＴＦＴ１６がオン状態になると、共通電極１８と複数の画素電極２０の各々との間に電界が形成され、液晶層４の液晶分子の配向が変化する。これにより、液晶層４における光の透過率が変化して画像が表示される。

＜補助配線およびスペーサ部の配置＞
次に、図２２〜図２４を参照し、本実施の形態４の液晶表示装置における補助配線およびスペーサ部の配置、ならびに、その効果について説明する。

前述したように、補助配線６ｆは、平面視において、延在部５２が設けられた領域内に配置されており、Ｙ軸方向に延在する。補助配線６ｆは、共通電極１８と電気的に接続されている。また、補助配線６ｆは、アレイ基板１の表面１ａから対向基板３側に突出して設けられている。

一方、スペーサ部７ｆは、平面視において、Ｘ軸方向に長手を有する形状、例えば楕円形状または長方形状を有する。すなわち、平面視において、Ｘ軸方向におけるスペーサ部７ｆの長さが、Ｙ軸方向におけるスペーサ部７ｆの幅よりも長い。そして、スペーサ部７ｆは、平面視において、延在部５１と延在部５２とが交差する交差領域ＣＲ１で、補助配線６ｆと交差するように、配置されている。したがって、Ｘ軸方向におけるスペーサ部７ｆの長さが、Ｘ軸方向における補助配線６ｆの幅よりも長い。

なお、本実施の形態４でも、実施の形態１と同様に、スペーサ部７ｆは、対向基板３の表面３ａからアレイ基板１側に突出して設けられている。また、スペーサ部７ｆは、平面視において、延在部５１が設けられた領域内に配置されている。

そのため、外部から力が加わることなどによりアレイ基板１または対向基板３が撓み、アレイ基板１と対向基板３とが、互いに横方向にずれた場合でも、平面視において、補助配線６ｆとスペーサ部７ｆとが重なった状態が維持される。これにより、平面視において、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａにスペーサ部７ｆが近接することを防止または抑制し、表面１ａに形成された配向膜２１などに損傷が与えられることを防止または抑制することができる。

本実施の形態４では、実施の形態１と同様に、アレイ基板１の表面１ａに凸部を設けるための工程を個別に行う必要がないので、上記特許文献１に記載された技術に比べ、液晶表示装置の製造工程数を削減することができる。また、補助配線６ｆは、金属膜からなるため、実施の形態１と同様に、上記特許文献１に記載された技術において、アレイ基板の表面に設けられる凸部が有機膜からなる場合に比べ、アレイ基板１の表面１ａと対向基板３の表面３ａとの間隔をより正確に維持することができる。

また、本実施の形態４では、実施の形態１と同様に、補助配線６ｆとスペーサ部７ｆとは、スペーサ部７ｆが横方向へ動いた場合でも、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａに、スペーサ部７ｆが近接することを、防止するためのものである。そのため、上記特許文献２に記載された技術に比べ、各サブ画素ＳＰｉｘの内部に配置される部分のアレイ基板１の表面１ａに、スペーサ部７ｆが近接することを、防止または抑制する効果を増加させることができる。

以上、本発明者によってなされた発明をその実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。また、中小型の液晶表示装置から大型の液晶表示装置まで、特に限定することなく適用が可能であることはいうまでもない。

本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例および修正例に想到し得るものであり、それら変更例および修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。

例えば、前述の各実施の形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除もしくは設計変更を行ったもの、または、工程の追加、省略もしくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。

本発明は、液晶表示装置に適用して有効である。

１ アレイ基板
１ａ 表面
１ｃ 凹部
３ 対向基板
３ａ 表面
４ 液晶層
５ 遮光部
６、６ａ〜６ｆ 補助配線
７、７ａ〜７ｆ スペーサ部
１０ 透明基板
１０ａ 表面
１０ｂ 裏面
１１ ゲート配線
１１ａ ゲート電極
１２ 絶縁膜
１２ａ 開口部
１３ ソース配線
１３ａ ソース電極
１４ 半導体層
１５ ドレイン電極
１６ ＴＦＴ
１７ 層間樹脂膜
１７ａ 凹部
１７ｂ 凸部
１８ 共通電極
１８ａ、１８ｂ 開口部
１９ 電極間絶縁膜
２０ 画素電極
２１ 配向膜
２２ 駆動電極
２３ 検出電極
２３ａ スリット
２４ 補助容量線
２５ コンタクトホール
３０ 透明基板
３０ａ 表面
３０ｂ 裏面
３２、３２ａ、３２ｃ カラーフィルタ層
３３ オーバーコート層
３５ 配向膜
５１、５２ 延在部
５３、５３ａ、５３ｂ 開口領域
５４ スペーサ部用遮光部
６１ａ、６１ｂ、６１ｆ、６２ａ 補助配線
７１、７２ 端部
１００、１１０、１２０、１３０、１４０、１５０、１６０、１７０ 液晶表示装置
Ｃ１ 容量素子
Ｃ２ 静電容量
ＣＲ１ 交差領域
Ｄ 誘電体
ＤＥＴ 電圧検出器
ＤＲ１、ＤＲ２ 斜め方向
Ｅ１ 駆動電極
Ｅ２ 検出電極
ＬＮ１ 長さ
Ｓ 交流信号源
Ｓｃａｎ スキャン方向
Ｓｇ 交流矩形波
ＳＨ１ 最大ずれ量
ＳＰｉｘ サブ画素
Ｖｃｏｍ 駆動信号
Ｖｄｅｔ 検出信号
ＷＤ１〜ＷＤ３ 幅

Claims (10)

1. 第１主面を有する第１基板と、
   第２主面を有し、前記第２主面と、前記第１基板の前記第１主面とが対向するように、前記第１基板と対向配置された第２基板と、
   前記第１基板の前記第１主面と前記第２基板の前記第２主面との間に挟まれた液晶層と、
   平面視において、前記第１基板および前記第２基板と重なるように設けられ、かつ、平面視において、第１方向にそれぞれ延在する複数の第１延在部と、前記第１方向と交差する第２方向にそれぞれ延在する複数の第２延在部と、を含む遮光部と、
   平面視において、前記複数の第１延在部と前記複数の第２延在部とにより区画された複数の画素と、
   前記第１基板の前記第１主面から前記第２基板側に突出して設けられた第１配線と、
   前記第２基板の前記第２主面から前記第１基板側に突出して設けられたスペーサ部と、
   を有し、
   前記第１配線は、平面視において、前記複数の第１延在部のうちいずれかの第１延在部が設けられた領域内に配置され、かつ、前記第１方向に延在し、
   前記第２方向における前記スペーサ部の長さは、前記第１方向における前記スペーサ部の幅よりも長く、
   前記スペーサ部は、平面視において、前記複数の第２延在部のいずれかの第２延在部と、前記いずれかの第１延在部とが交差する交差領域で、前記第１配線と交差するように、配置されている、液晶表示装置。
2. 請求項１記載の液晶表示装置において、
   前記スペーサ部は、平面視において、前記いずれかの第２延在部が設けられた領域内に配置されている、液晶表示装置。
3. 請求項１記載の液晶表示装置において、
   前記遮光部は、前記スペーサ部を遮光するスペーサ部用遮光部を含み、
   前記スペーサ部は、平面視において、前記スペーサ部用遮光部が設けられた領域内に配置されている、液晶表示装置。
4. 請求項１記載の液晶表示装置において、
   前記第１基板の前記第１主面から前記第２基板側に突出して設けられた第２配線を有し、
   前記第２配線は、平面視において、前記交差領域で、前記第１配線と交差するように、配置され、かつ、前記第２方向に延在する、液晶表示装置。
5. 請求項１記載の液晶表示装置において、
   前記複数の画素のうち、前記第１方向に配列された複数の画素の各々の内部で、前記第１基板の前記第１主面側にそれぞれ設けられた複数の第１電極と、
   平面視において、前記複数の第１電極の各々と重なるように、前記第１基板の前記第１主面側に設けられた第２電極と、
   を有し、
   前記第１配線は、前記第２電極と電気的に接続されており、
   前記複数の第１電極の各々と、前記第２電極との間に電界が形成されることにより、画像が表示される、液晶表示装置。
6. 請求項５記載の液晶表示装置において、
   前記第１基板の前記第１主面側に設けられ、平面視において、前記第１方向にそれぞれ延在する複数のゲート配線と、
   前記第１基板の前記第１主面側に設けられ、平面視において、前記第２方向にそれぞれ延在する複数のソース配線と、
   前記複数のゲート配線と前記複数のソース配線とが交差する複数の交差部の各々に、それぞれ配置された複数のトランジスタと、
   を有し、
   前記遮光部は、前記第２基板に設けられている、液晶表示装置。
7. 請求項５記載の液晶表示装置において、
   前記第１基板の前記第１主面側に設けられ、平面視において、前記第２方向にそれぞれ延在する複数のゲート配線と、
   前記第１基板の前記第１主面側に設けられ、平面視において、前記第１方向にそれぞれ延在する複数のソース配線と、
   前記複数のゲート配線と前記複数のソース配線とが交差する複数の交差部の各々に、それぞれ配置された複数のトランジスタと、
   を有し、
   前記遮光部は、前記第２基板に設けられている、液晶表示装置。
8. 請求項５記載の液晶表示装置において、
   平面視において、前記第２方向に延在する第３電極を有し、
   前記第３電極と前記第１配線との間の静電容量に基づいて、入力位置が検出される、液晶表示装置。
9. 請求項１記載の液晶表示装置において、
   前記第１基板の前記第１主面側に設けられ、平面視において、前記第２方向にそれぞれ延在する複数のゲート配線と、
   前記第１基板の前記第１主面側で、前記複数のゲート配線を覆うように設けられた第１絶縁膜と、
   前記第１絶縁膜上に設けられ、平面視において、前記第１方向にそれぞれ延在する複数のソース配線と、
   を有し、
   前記複数のゲート配線は、平面視において、前記複数の第２延在部の各々が設けられた領域内に、それぞれ配置され、
   前記複数のソース配線は、平面視において、前記複数の第１延在部の各々が設けられた領域内に、それぞれ配置され、
   前記液晶表示装置は、さらに、
   平面視において、前記複数の画素の各々と重なる部分の前記第１絶縁膜をそれぞれ貫通して設けられた複数の開口部と、
   前記複数の開口部の各々の内部を埋め込むように、かつ、前記第１絶縁膜および前記複数のソース配線を覆うように設けられた第２絶縁膜と、
   平面視において、前記複数の開口部の各々と重なる部分の前記第２絶縁膜の上面にそれぞれ形成された複数の凹部と、
   を有する、液晶表示装置。
10. 請求項１記載の液晶表示装置において、
    前記複数の画素のうち、前記第１方向に配列された複数の画素の各々の内部で、前記第１基板の前記第１主面側にそれぞれ設けられた複数の第１電極と、
    平面視において、前記第１方向に配列された複数の画素の各々と重なるように、前記第１基板の前記第１主面側に設けられた第２電極と、
    を有し、
    前記第２電極は、平面視において、前記複数の第１電極の各々と離れて設けられ、
    前記第１配線は、前記第２電極と電気的に接続されており、
    前記複数の第１電極の各々と、前記第２電極との間に電界が形成されることにより、画像が表示される、液晶表示装置。

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