WO2018181634A1

WO2018181634A1 - 有機ｅｌ画像表示装置

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Publication number: WO2018181634A1
Application number: PCT/JP2018/013070
Authority: WO
Inventors: 彩子村松; 大助柏木; 吉成　伸一; 亮司後藤
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2017-03-30
Filing date: 2018-03-29
Publication date: 2018-10-04
Also published as: CN110521282B; JP6808021B2; CN110521282A; US10998528B2; US20200020889A1; JPWO2018181634A1

Abstract

本発明は、発光素子基板および円偏光板を含む有機ＥＬ画像表示装置であって、上記発光素子基板は反射層および上記反射層上にマトリクス状の有機電界発光層群を含み、上記反射層、上記有機電界発光層群、および上記円偏光板はこの順で配置されており、上記有機電界発光層群と上記円偏光板との間に偏光分離層を含み、上記偏光分離層は上記有機電界発光層群に対応してマトリクス状に配置されている偏光分離部位を含み、上記偏光分離部位は、対応する有機電界発光層が発光した光のうち、１つの偏光状態の光を反射し、他方の偏光状態の光を透過し、上記偏光分離層において上記偏光分離部位が可視光透過領域により区分されている有機ＥＬ画像表示装置を提供する。本発明の有機ＥＬ画像表示装置は輝度が高く、にじみが少ない。

Description

有機ＥＬ画像表示装置

　本発明は、有機ＥＬ画像表示装置に関する。

　有機電界発光層の発光に基づき画像を形成する有機ＥＬ画像表示装置（「有機電界発光画像表示装置」、以下、単に「画像表示装置」ということがある。）においては、外光の映り込みの低減およびコントラスト向上のために位相差層と偏光層とからなる円偏光板を配置することが一般的である。しかし、この構成では、有機電界発光層で発光した光の半分以上が円偏光板で吸収されてしまう。

　上記問題に鑑み、特許文献１では、有機電界発光層と円偏光板との間に、偏光分離手段を設けることが提案されている。偏光分離手段で、円偏光板を透過する光は透過させ、円偏光板で吸収される偏光は反射して発光素子基板中の反射層で鏡面反射させることに基づき、光利用効率が高められ輝度が向上する。特許文献１においては、有機電界発光層の配置に対応してブラックマトリクスで区分されたそれぞれの領域に、対応する有機電界発光層の発光波長に対応する波長選択反射性を有するコレステリック液晶層を形成して得られる偏光分離手段が具体的に開示されている。

　特許文献２においても同様に、有機電界発光層と円偏光板との間にコレステリック液晶層を設けた有機ＥＬ画像表示装置が開示されている。特許文献２においては、青色、緑色、赤色の選択反射を有するコレステリック液晶層を積層して得られる円偏光分離層にさらに遮光層および着色層を積層したものを有機電界発光層と円偏光板との間に設けている。

特許第４０１１２９２号公報特開２００９－２８３２４６号公報

　特許文献１および特許文献２に記載の有機ＥＬ画像表示装置のいずれにおいても有機電界発光層と円偏光板との間に有機電界発光層に対応する区分を設けるための可視光遮断性層が設けられている。可視光遮断性層により有機電界発光層から円偏光板側に透過する光の量は低下するため、有機ＥＬ画像表示装置の輝度は低下する。一方、遮光層を設けずにコレステリック液晶層を配置すると、画像ににじみが見られるという問題があった。

　本発明は、上記問題の解決のためになされたものであって、輝度が高く、画像のにじみの少ない有機ＥＬ画像表示装置を提供することを課題とする。

　本発明者らは、上記にじみが、有機電界発光層の内部から斜めに円偏光板方向に進む光に基づいて生じていると考え、上記課題の解決のために鋭意検討し、有機電界発光層の間に対応する領域を可視光透過性とすることにより、にじみが低減することを見出し、この知見に基づいて、本発明を完成させた。

　すなわち、本発明は以下の［１］～［７］を提供するものである。
［１］発光素子基板および円偏光板を含む有機ＥＬ画像表示装置であって、
上記発光素子基板は反射層および上記反射層上にマトリクス状の有機電界発光層群を含み、
上記反射層、上記有機電界発光層群、および上記円偏光板はこの順で配置されており、
上記有機電界発光層群と上記円偏光板との間に偏光分離層を含み、
上記偏光分離層は上記有機電界発光層群に対応してマトリクス状に配置されている偏光分離部位を含み、
上記偏光分離部位は、対応する有機電界発光層が発光した光のうち、１つの偏光状態の光を反射し、かつ他方の偏光状態の光を透過し、
上記偏光分離層は可視光透過領域により区分されて上記偏光分離部位を形成している有機ＥＬ画像表示装置。

［２］上記偏光分離部位がコレステリック液晶相を固定して形成された層を含む［１］に記載の有機ＥＬ画像表示装置。
［３］上記可視光透過領域が上記偏光分離部位と同一の組成物を硬化した層を含み、上記可視光透過領域が光学的に等方性である［２］に記載の有機ＥＬ画像表示装置。
［４］上記可視光透過領域が上記偏光分離部位と同一の組成物を硬化した層を含み、上記可視光透過領域が紫外光波長域または赤外光波長域に選択反射の中心波長を有する［２］に記載の有機ＥＬ画像表示装置。
［５］上記可視光透過領域が上記偏光分離部位と同一の組成物を硬化した層を含まない［２］に記載の有機ＥＬ画像表示装置。

［６］上記マトリクスの任意の座標ｘｙの偏光分離部位を通り、かつ上記反射層に垂直な任意の平面Ｚにおいて、下記式（１）が満たされている［１］～［５］のいずれかに記載の有機ＥＬ画像表示装置。
　　　Ｌ　≦　（Ｍ＋Ｎ）／２　　（１）
　　　Ｌ：座標ｘｙの偏光分離部位と平面Ｚの交線の長さ
　　　Ｍ：座標ｘｙの偏光分離部位に対応する座標ｘｙの有機電界発光層と平面Ｚの交線の長さ
　Ｎ：座標ｘｙの有機電界発光層および平面Ｚの交線の中心と、座標ｘｙの有機電界発光層と同じ波長の光を発光する有機電界発光層であって平面Ｚに交点を有する最も近い有機電界発光層および平面Ｚの交線の中心との距離
［７］上記マトリクスの任意の座標ｘｙの偏光分離部位において、下記式（２）が満たされている［１］～［６］のいずれかに記載の有機ＥＬ画像表示装置。
　　　Ｌ　≧　１．２５×Ｄ　＋　Ｍ　（２）
　　　Ｄ：座標ｘｙの偏光分離部位と座標ｘｙの有機電界発光層との距離

　本発明により、輝度が高く画像のにじみもない有機ＥＬ画像表示装置を提供することができる。

本発明の画像表示装置の例の概略断面図を示す図である。偏光分離層を法線方向において画像表示側から見た平面図において、式（１）および式（２）中の、Ｌ、Ｍ、Ｎを示す図である。実施例で用いたフォトマスクＡの透過部（白）および遮蔽部（黒）を示す図である。ＳＣ－０４Ｅの発光素子基板における、青色有機電界発光層（Blue）、緑色有機電界発光層（Green）、および赤色有機電界発光層（Red）の配置を示す図である。実施例で用いたフォトマスクＥの透過部（白）および遮蔽部（黒）を示す図である。実施例で用いたフォトマスクＧの透過部（白）および遮蔽部（黒）を示す図である。 Apple Watchの発光素子基板における、青色有機電界発光層（Blue）、緑色有機電界発光層（Green）、および赤色有機電界発光層（Red）の配置を示す図である。実施例で用いたフォトマスクＨの透過部（白）および遮蔽部（黒）を示す図、およびその一部の拡大図である。実施例で用いたハーフトーンフォトマスクＩの透過部（白）、遮蔽部（黒）、およびハーフトーン部を示す図である。図８のフォトマスクＨに対応するＡ～Ｄ部を示すための図である。

　以下、本発明を詳細に説明する。
　本明細書において「～」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
　本明細書において、数値、数値範囲、及び定性的な表現（例えば、「同一」、「同じ」等の表現）については、画像表示装置やそれに用いられる部材について一般的に許容される誤差を含む数値、数値範囲及び性質を示していると解釈されるものとする。

　本明細書において、例えば、「４５°」、「平行」、「垂直」あるいは「直交」等の角度は、特に記載がなければ、厳密な角度との差異が５°未満の範囲内であることを意味する。厳密な角度との差異は、４°未満であることが好ましく、３°未満であることがより好ましい。
　本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレートおよびメタクリレートのいずれか一方または双方」の意味で使用される。

　本明細書において、円偏光につき「センス」というときは、右円偏光であるか、または左円偏光であるかを意味する。円偏光のセンスは、光が手前に向かって進んでくるように眺めた場合に電場ベクトルの先端が時間の経過に従って時計回りに回る場合が右円偏光であり、反時計回りに回る場合が左円偏光であるとして定義される。

　本明細書においては、コレステリック液晶の螺旋の捩れ方向について「センス」との用語を用いることもある。コレステリック液晶の螺旋の捩れ方向（センス）が右の場合は右円偏光を反射し、左円偏光を透過し、センスが左の場合は左円偏光を反射し、右円偏光を透過する。
　可視光線は電磁波のうち、ヒトの目で見える波長の光であり、３８０ｎｍ～７８０ｎｍの波長域の光を示す。

　本明細書において、可視光透過率はＪＩＳ　Ａ　５７５９：２００８に準拠して測定したものであればよい。可視光透過率の測定は、例えば、紫外可視近赤外分光機（日本分光（株）製、Ｖ－６７０、積分球ユニットＩＳＮ－７２３使用）を用いて行うことができる。

　また、本明細書において、可視光反射率は、ＪＩＳ　Ａ５７５９に記載の計算方法に基づき算出した数値を意味する。すなわち、分光光度計にて波長　３８０ｎｍ～７８０ｎｍの反射率を測定し、ＣＩＥ（国際照明委員会）昼光　Ｄ６５の分光分布、ＣＩＥ　明順応標準比視感度の波長分布および波長間隔から得られる重価係数を乗じて加重平均することによって光反射率を求める。
　可視光反射率を得る際には、例えば、日本分光（株）製分光光度計「Ｖ－６７０」を用いることができる。

＜有機ＥＬ画像表示装置＞
　本発明の画像表示装置は、有機電界発光層の発光に基づいて画像表示を行う有機ＥＬ画像表示装置である。有機ＥＬ画像表示装置は、自発光型の表示装置であり、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）型の表示装置や液晶表示装置と比較して視認性が高い、視野角依存性がないなどの表示性能の利点を有し、また、軽量化、薄型化できるといった利点もある。

　有機ＥＬ画像表示装置は、有機電界発光層群が設けられた発光素子基板により画像表示を行う。また、有機ＥＬ画像表示装置は、一般的に外光の映り込みの低減およびコントラスト向上のために有機電界発光層群の画像表示側に円偏光板を含む。本発明の画像表示装置は、発光素子基板および円偏光板との間に、偏光分離層を含む。本発明の画像表示装置においては、反射層、有機電界発光層群、偏光分離層、および円偏光板がこの順に配置される。

　本発明の画像表示装置における偏光分離層には、有機電界発光層群の複数の有機電界発光層に対応する複数の偏光分離部位が含まれる。本明細書において、対応するとは、画像表示側から画像表示装置を見たときに、有機電界発光層と偏光分離部位とが同じ位置または少なくとも互いに一部が重なる位置にある状態であることを意味する。対応している有機電界発光層と偏光分離部位とにおいては、有機電界発光層からの発光（好ましくは５０％以上、より好ましくは６０％以上、さらに好ましくは７０％以上）が偏光分離部位で反射または透過されている状態であればよい。

　画像表示側から画像表示装置を見たときの対応している有機電界発光層と偏光分離部位とはサイズが同じであってもよく、有機電界発光層のサイズが大きくてもよく、偏光分離部位のサイズが大きくてもよい。そのうち、偏光分離部位のサイズが大きいことが好ましい。本発明の画像表示装置は画像表示側から見たときに有機電界発光層が対応する偏光分離部位に覆われるようなサイズであることが好ましい。

　有機電界発光層群において、複数の有機電界発光層は反射層上にマトリクス状に含まれていればよい。

　単色発光の画像表示装置においては、有機電界発光層群に含まれる有機電界発光層はいずれも同じ波長の光を発光していればよい。一方、通常は、有機電界発光層群は、互いに異なる波長の光を発光する有機電界発光層を含むことが好ましく、２種以上の有機電界発光層、特に３種以上の有機電界発光層を含むことがより好ましい。有機電界発光層群は、赤色発光の有機電界発光層、緑色発光の有機電界発光層、および青色発光の有機電界発光層を含むことが好ましい。

［偏光分離層、偏光分離部位、偏光分離領域］
　偏光分離層は偏光分離部位を含む層である。本発明の画像表示装置を画像表示側から見たとき、偏光分離層において偏光分離部位はマトリクス状に配置されている。本明細書において、複数の偏光分離部位が形成する領域をまとめて偏光分離領域ということがある。本発明の画像表示装置において、偏光分離層は偏光分離領域以外の領域を含む。偏光分離領域以外の領域は可視光透過領域であればよい。

　本明細書において、偏光分離部位は、対応する有機電界発光層の発光の波長域において、偏光分離を行う部位をいう。偏光分離とは、１つの偏光状態の光を反射し、かつ他方の偏光状態の光を透過することをいう。本発明の画像表示装置において、偏光分離は、一方のセンスの円偏光を反射し、かつ他方のセンスの円偏光を透過することであればよい。

　偏光分離部位は、対応する有機電界発光層の発光の波長域において選択的に偏光分離を行うことができる部位であってもよく、上記波長域以外の波長域でも偏光分離を行うことができる部位であってもよい。
　「選択的な偏光分離」は、可視光領域のうち、偏光分離部位が対応する有機電界発光層の発光の波長域に対応する波長域のみにおける偏光分離をいう。したがって、偏光分離部位は、可視光領域のうち、偏光分離部位が対応する有機電界発光層の発光の波長域に対応する波長域のみにおいて偏光分離するものであってもよく、実質的に可視光の全波長域において偏光分離するものであってもよく、赤色波長域、緑色波長域、および青色波長域などの複数の波長域で偏光分離するものであってもよい。
　偏光分離部位は、対応する有機電界発光層の発光の波長域において選択的に偏光分離を行うことができる部位であることが好ましい。

　本発明の画像表示装置においては、有機電界発光層の発光のうち、円偏光板を透過しない偏光状態の光が、偏光分離部位で反射されて反射層に向かうように偏光分離部位が配置される。

　本発明の画像表示装置の偏光分離層は可視光透過領域により区分されて偏光分離部位を形成している。偏光分離部位を可視光遮断層等ではなく可視光透過領域を用いて区分することにより、有機電界発光層から画像表示側に到達する光の量を増加させて輝度を向上させることができる。また、偏光分離部位を連続的に設けず、可視光透過領域により区分することによって、有機電界発光層の内部から斜めに円偏光板方向に進む光に由来する画像のにじみを低減させることができる。画像のにじみは、有機電界発光層の内部から斜めに円偏光板方向に向かった光が偏光分離部位で反射し、その反射光が反射層で反射されて画像表示側に出射する過程で、偏光解消した成分が多重反射した結果、生じていると考えられる。可視光透過領域を用いて区分することにより、有機電界発光層の内部から斜めに円偏光板方向に向かった光はそのまま透過して画像表示側に出やすくなるため、にじみ（画像表示装置の白色表示時に斜め方向から観察したときの色にじみなど）を低減することができる。

　可視光透過領域は可視光透過率が８０％～１００％であればよく、９０％～１００％であることが好ましい。可視光透過領域は少なくとも有機電界発光層側の面において非光反射性であることが好ましい。特に、有機電界発光層群の各発光波長域において非光反射性であることが好ましい。可視光波長域全体で非光反射性であることも好ましい。可視光透過領域の有機電界発光層側の面における可視光反射率は０％～５％であることが好ましく、０％～２％であることがより好ましい。

　可視光透過領域は、例えば、光学的に等方性の領域、紫外光波長域または赤外光波長域に選択反射の中心波長を有する領域などであればよい。これらはいずれも、例えば後述するようにいずれも偏光分離部位作製のための組成物と同一の組成物を用いて作製することができる。可視光透過領域は上記偏光分離部位作製の際に形成された塗布膜や硬化膜などをエッチングにより除去した後の部位であって発光素子基板との接着のための接着剤となっている部位であってもよい。

　本発明の画像表示装置の例の概略断面図を図１に示す。
　図１（ａ）～（ｃ）は、いずれも反射層３、有機電界発光層２、偏光分離部位１、円偏光板７をこの順に有する構成を示す。図１（ａ）に示す構成は、偏光分離部位と同じ組成物から形成された光学的に等方性の可視光透過領域８を有する。図１（ｂ）に示す構成では、可視光透過領域が接着層１０からなる。図１（ｃ）に示す構成では、可視光透過領域が紫外光波長域に選択反射の中心波長を有する領域９として構成されている。

　本発明の画像表示装置においては、偏光分離層のマトリクスの任意の座標ｘｙの偏光分離部位を通り、かつ反射層に垂直な任意の平面Ｚにおいて、下記式（１）が満たされていることが好ましい。下記式（１）を満たすように可視光透過領域で区分を設け偏光分離部位を形成することにより、上述のような多重反射と偏光解消に由来するにじみを効率良く低減することができる。
　　　Ｌ　≦　（Ｍ＋Ｎ）／２　　（１）
　　　Ｌ：座標ｘｙの偏光分離部位と平面Ｚの交線の長さ
　　　Ｍ：座標ｘｙの偏光分離部位に対応する座標ｘｙの有機電界発光層と平面Ｚの交線の長さ
　　　Ｎ：座標ｘｙの有機電界発光層および平面Ｚの交線の中心と、座標ｘｙの有機電界発光層と同じ波長の光を発光する有機電界発光層であって平面Ｚに交点を有する最も近い有機電界発光層および平面Ｚの交線の中心との距離

　Ｌ、Ｍ、Ｎは、本発明の画像表示装置を発光素子基板の法線方向において画像表示側から偏光分離層を見た平面図において、決定すればよく、例えば、図２に示すように規定できる。

　本発明の画像表示装置においては、また、偏光分離層の任意の座標ｘｙの偏光分離部位において、下記式（２）が満たされていることが好ましい。下記式（２）を満たすように可視光透過領域で区分を設け偏光分離部位を形成することにより、偏光分離部位が、偏光分離部位と有機電界発光層との距離に見合ったサイズとなるため、光利用効率を高め輝度を向上させることができる。
　　　Ｌ　≧　１．２５×Ｄ　＋　Ｍ　（２）
　　Ｄ：座標ｘｙの偏光分離部位と座標ｘｙの有機電界発光層との距離

　本発明の画像表示装置においては、偏光分離部位の上記の反射の波長域（対応する有機電界発光層の発光の波長域における反射）が有機電界発光層の上記発光の波長域よりも広いことが好ましい。有機電界発光層群として異なる発光波長の有機電界発光層を含む画像表示装置においては、それぞれの有機電界発光層の発光スペクトルの半値幅は異なり得るが、対応している有機電界発光層と偏光分離部位とにおいて、上記関係が満たされていればよい。

　偏光分離部位の反射の波長域が有機電界発光層の発光の波長域よりも広い有機ＥＬ画像表示装置においては、輝度が正面だけでなく、斜め方向においても向上する。
　後述するように、例えば、偏光分離部位に、コレステリック液晶層を使用したときなどにおいて、斜め方向から入射する光に対しては、偏光分離部位の反射波長が短波長にシフトする。そのため、有機電界発光層から法線方向で入射する光を反射する偏光分離部位であっても、斜め方向からの光を反射できないことがある。斜め方向における輝度向上の効果は、偏光分離部位の反射の波長域を広帯域化することにより、反射できなかった光が反射されるようになったことによると考えられる。

　偏光分離部位の反射の波長域とは、偏光分離部位の透過スペクトルの半値幅(半値全幅)を意味する。また、有機電界発光層の発光の波長域とは、有機電界発光層の発光スペクトルの半値幅を意味する。

　公知の有機電界発光層の発光スペクトルの半値幅は、通常、４０～５５ｎｍであり、偏光分離部位の透過スペクトルの半値幅はこれより広い範囲で適宜設定すればよい。典型的には、７０～１３０ｎｍが好ましく、８０～１２０ｎｍがより好ましく、９０～１１０ｎｍが最も好ましい。反射帯域を７０ｎｍ以上とすることにより上記の効果が得られ、１３０ｎｍ以下とすることにより、偏光分離部位に由来する消灯時の画像面からの反射率の上昇を抑えることができる。

　偏光分離層中の複数の偏光分離部位は、有機電界発光層群に対応してマトリクス状に配置されていればよい。偏光分離層は、異なる波長において、１つの偏光状態の光を反射し、かつ他方の偏光状態の光を透過する、複数種、好ましくは３種、の偏光分離部位で形成されてもよい。複数種の偏光分離部位の反射波長は、有機電界発光層群に含まれる有機電界発光層の発光波長に対応させる。

　偏光分離部位および偏光分離層は、それぞれ単層であってもよく、複数の層からなっていてもよい。偏光分離部位および偏光分離層は、コレステリック液晶層を含むことが好ましい。偏光分離部位および偏光分離層は、コレステリック液晶層に加えて、配向層、保護層（添加剤層）などを含んでいてもよい。偏光分離部位および偏光分離層は、コレステリック液晶層形成のために用いられる組成物を液晶化合物が配向していない状態で硬化して形成された光学的に等方性の層を含んでいてもよい。

　偏光分離部位は、有機電界発光層が発光した光のうち、１つの偏光状態の光を反射し、かつ他方の偏光状態の光を透過する上記性質を達成している限り特に限定されないが、コレステリック液晶層を含む部位であることが好ましい。
　コレステリック液晶層を含む偏光分離部位は、コレステリック液晶層のみからなっていてもよく、配向層や保護層（添加剤層）などの他の層を含んでいてもよい。

（コレステリック液晶層）
　本明細書において、コレステリック液晶層は、コレステリック液晶相を固定した層を意味する。
　コレステリック液晶相は、特定の波長域において右円偏光または左円偏光のいずれか一方のセンスの円偏光を選択的に反射させるとともに他方のセンスの円偏光を透過する円偏光選択反射を示すことが知られている。本明細書において、円偏光選択反射を単に選択反射ということもある。
　円偏光選択反射性を示すコレステリック液晶相を固定した層を含むフィルムとして、重合性液晶化合物を含む組成物から形成されたフィルムは従来から数多く知られており、コレステリック液晶層については、それらの従来技術を参照することができる。

　コレステリック液晶層は、コレステリック液晶相となっている液晶化合物の配向が保持されている層であればよく、典型的には、重合性液晶化合物をコレステリック液晶相の配向状態としたうえで、紫外線照射、加熱等によって重合、硬化し、流動性が無い層を形成して、同時に、また外場や外力によって配向形態に変化を生じさせることのない状態に変化した層であればよい。なお、コレステリック液晶層においては、コレステリック液晶相の光学的性質が層中において保持されていれば十分であり、層中の液晶化合物はもはや液晶性を示していなくてもよい。例えば、重合性液晶化合物は、硬化反応により高分子量化して、もはや液晶性を失っていてもよい。

　コレステリック液晶層の選択反射の中心波長λは、コレステリック液晶相における螺旋構造のピッチＰ（＝螺旋の周期）に依存し、コレステリック液晶層の平均屈折率ｎとλ＝ｎ×Ｐの関係に従う。なお、本明細書において、コレステリック液晶層が有する選択反射の中心波長λは、コレステリック液晶層の法線方向から測定した円偏光反射スペクトルの反射ピークの重心位置にある波長を意味する。また、本明細書において、選択反射の中心波長はコレステリック液晶層の法線方向から測定した時の中心波長を意味する。

　コレステリック液晶層の選択反射中心波長と半値幅は下記のように求めることができる。
　分光光度計ＵＶ３１５０（島津製作所）を用いてコレステリック液晶層の透過スペクトル（コレステリック液晶層の法線方向から測定したもの）を測定すると、選択反射帯域に透過率の低下ピークがみられる。このピークの極小透過率と低下前の透過率との中間（平均）の透過率となる２つの波長のうち、短波長側の波長の値をλ_ｌ（ｎｍ）、長波長側の波長の値をλ_ｈ（ｎｍ）とすると、選択反射の中心波長λと半値幅Δλは下記式で表すことができる。
λ＝（λ_ｌ＋λ_ｈ）／２
Δλ＝（λ_ｈ－λ_ｌ）
　上記のように求められる選択反射中心波長はコレステリック液晶層の法線方向から測定した円偏光反射スペクトルの反射ピークの重心位置にある波長と略一致する。

　上記λ＝ｎ×Ｐの式から分かるように、螺旋構造のピッチを調節することによって、選択反射の中心波長を調整できる。偏光分離部位に用いられるコレステリック液晶層においては対応する有機電界発光層から入射する光（例えば、法線方向で入射する光）の反射のために必要とされる選択反射の波長において右円偏光または左円偏光のいずれか一方を選択的に反射するようにｎ値とＰ値を調節して、中心波長λを調節することができる。

　すなわち、本発明の画像表示装置においては、用いられる有機電界発光層の発光スペクトルのピーク（極大値）が対応する偏光分離部位のコレステリック液晶層が有する選択反射の中心波長と略同一となるように調整すればよい。選択反射の中心波長と画像表示装置の画像表示のための有機電界発光層の発光ピークの波長を合わせることにより、有機電界発光層が発光した光のうち、１つの偏光状態の光を反射し、かつ他方の偏光状態の光を透過することができる。

　なお、コレステリック液晶層に対して斜めに入射する光に対しては、選択反射の中心波長は短波長側にシフトする。屈折率ｎ_２のコレステリック液晶層中でコレステリック液晶層の法線方向（コレステリック液晶層の螺旋軸方向）に対して光線がθ_２の角度で通過するときの選択反射の中心波長をλ_ｄとするとき、λ_ｄは以下の式で表される。
λ_ｄ＝ｎ_２×Ｐ×ｃｏｓθ_２

　コレステリック液晶層の平均屈折率ｎは重合性液晶化合物の種類などにより調整することができる。
　コレステリック液晶相のピッチ（Ｐ値）は重合性液晶化合物とともに用いるキラル剤の種類、またはその添加濃度に依存するため、これらを調整することによって所望のピッチを得ることができる。なお、螺旋のセンスやピッチの測定法については「液晶化学実験入門」日本液晶学会編　シグマ出版２００７年出版、４６頁、および「液晶便覧」液晶便覧編集委員会　丸善　１９６頁に記載の方法を用いることができる。

　本発明の画像表示装置において、偏光分離部位としては、有機電界発光層群における各有機電界発光層の発光の波長に対応した選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層を用いればよい。例えば、有機電界発光層群は、赤色発光の有機電界発光層、緑色発光の有機電界発光層、および青色発光の有機電界発光層を含むときは、それぞれに対応した配置で赤色光の波長域（例えば５８０ｎｍ～７００ｎｍ）に選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層と、緑色光の波長域（例えば５００ｎｍ～５８０ｎｍ）に選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層と、青色光の波長域（例えば４００ｎｍ～５００ｎｍ）に選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層とを含んでいればよい。

　また、本発明の画像表示装置においては偏光分離層の可視光透過領域として紫外光の波長域（例えば１０～３８０ｎｍ）に選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層または赤外光の波長域（例えば７８０ｎｍ～２５００ｎｍ）に選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層を用いてもよい。

　各コレステリック液晶層としては、本発明の画像表示装置の円偏光板が透過する円偏光のセンスに合わせて螺旋のセンスが右または左のいずれかであるコレステリック液晶層が用いられる。具体的には円偏光板が透過する円偏光のセンスと同じセンスの円偏光を透過するコレステリック液晶相が用いられる。
　コレステリック液晶層の反射円偏光のセンスは螺旋のセンスに一致する。偏光分離層に複数種のコレステリック液晶層が含まれるとき、それらの螺旋のセンスは通常全て同じであればよい。

　上述のように、偏光分離部位の反射の波長域は対応する有機電界発光層の発光の波長域よりも広い。これは、偏光分離部位に含まれるコレステリック液晶層の選択反射の半値幅が有機電界発光層の発光スペクトルの半値幅より広いことにより達成されていればよい。

　コレステリック液晶層の選択反射の半値幅Δλ（ｎｍ）は液晶化合物の複屈折Δｎと上記ピッチＰに依存し、Δλ＝Δｎ×Ｐの関係に従う。そのため、選択反射の半値幅の制御は、Δｎを調整して行うことができる。Δｎの調整は重合性液晶化合物の種類やその混合比率を調整したり、配向固定時の温度を制御したりすることで行うことができる。対応する有機電界発光層の発光の波長域よりも広い波長域の反射を示す偏光分離部位の形成のために、本発明の画像表示装置においては、後述する重合性液晶化合物または重合性液晶化合物の組み合わせを用いることも好ましい。

　選択反射の中心波長が同一の１種のコレステリック液晶層の形成のために、周期Ｐが同じで、同じ螺旋のセンスのコレステリック液晶層を複数積層してもよい。周期Ｐが同じで、同じ螺旋のセンスのコレステリック液晶層を積層することによって特定の波長で円偏光選択性を高くすることができる。

（コレステリック液晶層の作製方法）
　以下、コレステリック液晶層の作製方法について説明する。
　コレステリック液晶層の形成には重合性液晶化合物を含む液晶組成物が用いられる。液晶組成物は、さらにキラル剤（光学活性化合物）を含んでいてもよい。必要に応じてさらに界面活性剤や重合開始剤などと混合して溶剤などに溶解した上記液晶組成物を、支持体、配向膜、下層となるコレステリック液晶層などに塗布し、配向熟成後、液晶組成物の硬化により固定化してコレステリック液晶層を形成することができる。

（重合性液晶化合物）
　重合性液晶化合物としては、棒状液晶化合物であっても、円盤状液晶化合物であってもよいが、棒状液晶化合物が好ましい。
　棒状の重合性液晶化合物の例としては、棒状ネマチック液晶化合物が挙げられる。棒状ネマチック液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。かかる棒状液晶化合物は、低分子液晶化合物だけではなく、高分子液晶化合物も用いることができる。

　重合性液晶化合物は、重合性基を液晶化合物に導入することで得られる。重合性基の例には、不飽和重合性基、エポキシ基、オキセタニル基、およびアジリジニル基が含まれ、不飽和重合性基が好ましく、エチレン性不飽和重合性基が特に好ましい。重合性基は種々の方法で、液晶化合物の分子中に導入できる。重合性液晶化合物が有する重合性基の個数は、好ましくは１～６個、より好ましくは１～３個である。重合性液晶化合物の例は、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ　５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、同５６２２６４８号明細書、同５７７０１０７号明細書、国際公開ＷＯ９５／２２５８６、ＷＯ９５／２４４５５、ＷＯ９７／００６００号公報、ＷＯ９８／２３５８０、ＷＯ９８／５２９０５、特開平１－２７２５５１号公報、同６－１６６１６号公報、同７－１１０４６９号公報、同１１－８００８１号公報、および特開２００１－３２８９７３号公報、特開２００９－６９７９３号公報、特開２０１０－１１３２４９号公報、および特開２０１１－２０３６３６号公報などに記載の化合物が含まれる。

　また、上記以外の重合性液晶化合物として、特開昭５７－１６５４８０号公報に開示されているようなコレステリック液晶相を有する環式オルガノポリシロキサン化合物等を用いることができる。さらに、前述の高分子液晶化合物としては、液晶を呈するメソゲン基を主鎖もしくは側鎖、または主鎖及び側鎖の両方の位置に導入した高分子、コレステリル基を側鎖に導入した高分子コレステリック液晶、特開平９－１３３８１０号公報に開示されているような液晶性高分子、特開平１１－２９３２５２号公報に開示されているような液晶性高分子等を用いることができる。

　重合性液晶化合物としては、重合条件の異なる２種類以上の反応性基を同一分子内に有する液晶化合物を用いることも好ましい。重合条件の異なる反応性基の組み合わせとしてはラジカル光重合性反応性基およびカチオン光重合性反応性基の組み合わせが挙げられる。

　上述したように、偏光分離部位の反射の波長域が有機電界発光層の発光の波長域よりも広くなるようにするためには、高い屈折率異方性Δｎを示す液晶化合物を用いることが好ましい。上記の式（Δλ＝Δｎ×Ｐ）からわかるように、高い屈折率異方性Δｎを示す液晶化合物を用いることによって広い半値幅Δλを得ることができるからである。具体的には、液晶化合物の３０℃におけるΔｎは０．２５以上が好ましく、０．３以上がより好ましく、０．３５以上がさらに好ましい。上限は特に制限されないが、０．６以下の場合が多い。

　屈折率異方性Δｎの測定方法としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善株式会社刊）２０２頁に記載の楔形液晶セルを用いた方法が一般的であり、結晶化しやすい化合物の場合は、他の液晶との混合物による評価を行い、その外挿値から屈折率異方性Δｎを見積もることもできる。

　高い屈折率異方性Δｎを示す液晶化合物としては、例えば、米国特許６５１４５７８号公報、特許３９９９４００号公報、特許４１１７８３２号公報、特許４５１７４１６号公報、特許４８３６３３５号公報、特許５４１１７７０号公報、特許５４１１７７１号公報、特許５５１０３２１号公報、特許５７０５４６５号公報、特許５７２１４８４号公報、および、特許５７２３６４１号公報等に記載の化合物が挙げられる。

　本発明において用いられる好ましい重合性液晶化合物として以下の一般式（Ｉ）または（ＩＩ）で表される化合物が挙げられる。一般式（Ｉ）または（ＩＩ）で表される化合物は高い屈折率異方性Δｎを示す。

式中、
Ａは、置換基を有していてもよい２価の芳香環基を示し、
Ｌは単結合、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、および－ＯＣ（＝Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ－からなる群から選択される連結基を示し、
ｍは２～１２の整数を示し、
Ｓｐ^１およびＳｐ^２はそれぞれ独立に、単結合、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、および炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において１つまたは２つ以上の－ＣＨ_２－が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（ＣＨ_３）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、または－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－で置換された基からなる群から選択される連結基を示し、
Ｑ^１およびＱ^２はそれぞれ独立に、重合性基を示す。

　Ａは、置換基を有していてもよい２価の芳香環基である。２価の芳香環基は芳香環から２つの水素原子を除いて形成される基であり、芳香環としては、ベンゼン、ナフタレン、フラン、チオフェン、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジンなどが挙げられる。２価の芳香環基としてはフェニレン基が好ましく、１，４－フェニレン基が特に好ましい。
　ｍ個のＡおよびｍ－１個のＬはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。

　２価の芳香環基において、「置換基を有していてもよい」というときの置換基は、特に限定されず、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルキルエーテル基、アミド基、アミノ基、およびハロゲン原子ならびに、上記の置換基を２つ以上組み合わせて構成される基からなる群から選択される置換基が挙げられる。また、置換基の例としては、－Ｃ（＝Ｏ)－Ｘ^３－Ｓｐ^３－Ｑ^３で表される置換基が挙げられる。ここで、Ｘ^３は単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、もしくは－Ｎ（ＣＨ_３)－を示し、Ｓｐ^３はＳｐ^１と同義であり、Ｑ^３は重合性基を示す。２価の芳香環基は、置換基を１～４個有していてもよい。２個以上の置換基を有するとき、２個以上の置換基は互いに同一であっても異なっていてもよい。

　本明細書において、アルキル基は直鎖状または分岐鎖状のいずれでもよい。アルキル基の炭素数は１～３０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～６が特に好ましい。アルキル基の例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，１－ジメチルプロピル基、ｎ－ヘキシル基、イソヘキシル基、直鎖状または分岐鎖状のヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、またはドデシル基を挙げることができる。アルキル基に関する上記説明はアルキル基を含むアルコキシ基においても同様である。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。

　本明細書において、シクロアルキル基の炭素数は、３～２０が好ましく、５～１０以下がより好ましい。シクロアルキル基の例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基を挙げることができる。

　Ｌは単結合、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、および－ＯＣ（＝Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ－からなる群から選択される連結基を示す。Ｌは、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－、または－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－であることが好ましい。ｍ個のＬはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。

　ｍは２～１２の整数を示し、３～７であることが好ましく、３～５であることがより好ましい。

　Ｓｐ^１、Ｓｐ^２はそれぞれ独立に、単結合、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、および炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において１つまたは２つ以上の－ＣＨ_２－が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（ＣＨ_３）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、または－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－で置換された基からなる群から選択される連結基を示す。Ｓｐ^１およびＳｐ^２はそれぞれ独立に、両末端にそれぞれ－Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、および－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－からなる群から選択される連結基が結合した炭素数１から１０の直鎖のアルキレン基、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－、および炭素数１から１０の直鎖のアルキレン基からなる群から選択される基を１または２以上組み合わせて構成される連結基であることが好ましく、両方の末端に－Ｏ－－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－－ＯＣ（＝Ｏ）－、および－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－からなる群から選択される連結基からなる群から選択される連結基がそれぞれ結合した炭素数１から１０の直鎖のアルキレン基であることがより好ましい。

　Ｑ^１およびＱ^２はそれぞれ独立に、重合性基を示し、以下の式（Ｑ－１）～式（Ｑ－５）で表される基からなる群から選択される重合性基を示すことが好ましい。

　重合性基としては、アクリロイル基（式（Ｑ－１））、メタアクリロイル基（式（Ｑ－２））、オキセタニル基（式（Ｑ－５））が好ましい。Ｑ^１およびＱ^２の双方がアクリロイル基またはメタアクリロイル基である化合物、およびＱ^１およびＱ^２の何れか一方がアクリロイル基またはメタアクリロイル基であり他方がオキセタニル基である化合物がより好ましい。
　一般式（Ｉ）で表される化合物は、特表平１１－５１３０１９号公報（ＷＯ９７／００６００）に記載の方法等で合成することができる。
　以下に式（Ｉ）で示される重合性化合物の例を示すが、これらの例に限定されるものではない。

　Ａ^１１～Ａ^１４は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭素基または２価の複素環基を表す。２価の芳香族炭素基は芳香族炭素環から２つの水素原子を除いて形成される基であり、２価の複素環基は複素環から２つの水素原子を除いて形成される基である。芳香族炭素環としては、ベンゼン環およびナフタレン環が挙げられる。複素環としては、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピロリン環、ピロリジン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、ピラゾール環、ピラゾリン環、ピラゾリジン環、トリアゾール環、フラザン環、テトラゾール環、ピラン環、チイン環、ピリジン環、ピペリジン環、オキサジン環、モルホリン環、チアジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピペラジン環、および、トリアジン環が挙げられる。なかでも、Ａ^１１～Ａ^１４は、２価の芳香族炭素基であることが好ましく、フェニレン基であることがより好ましく、１，４－フェニレン基であることがさらに好ましい。

　芳香族炭素環基または複素環基に置換してもよい置換基の種類は特に制限されず、例えば、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキル置換カルバモイル基、および、炭素数が２～６のアシルアミノ基が挙げられる。

　Ｘ^１１およびＸ^１２は、それぞれ独立に、単結合、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＨ₂ＣＨ₂－、－ＯＣＨ₂－、－ＣＨ₂Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－を表す。なかでも、単結合、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯ－または、－Ｃ≡Ｃ－が好ましい。
　Ｙ^１１およびＹ^１２は、それぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、または、－Ｃ≡Ｃ－を表す。なかでも、－Ｏ－が好ましい。
　Ｓｐ^１１およびＳｐ^１２は、それぞれ独立に、単結合、または、炭素数１～２５のアルキレン基を表す。アルキレン基は、直鎖状、分岐鎖状、および、環状のいずれでもよい。なかでも、炭素数１～１０のアルキレン基がより好ましい。

　Ｑ^１１およびＱ^１２は、それぞれ独立に、水素原子または重合性基を表し、Ｑ^１１およびＱ^１２の少なくとも一方は重合性基を表す。重合性基としては、式（Ｑ－１）～式（Ｑ－５）で表される基からなる群から選択される重合性基が例示される。Ｑ^１１またはＱ^１２で表される重合性基としては、アクリロイル基（式（Ｑ－１））、メタアクリロイル基（式（Ｑ－２））が好ましい。
　ｎ^１１およびｎ^１２はそれぞれ独立に０～２の整数を表し、ｎ^１１またはｎ^１２が２の場合、複数あるＡ^１１、Ａ^１２、Ｘ^１１およびＸ^１２は同じであっても異なっていてもよい。

　一般式（ＩＩ）で表される化合物の具体例としては、下記式（２－１）～（２－３０）に示す化合物が挙げられる。

　２種類以上の重合性液晶化合物を併用してもよい。２種類以上の重合性液晶化合物を併用すると、配向温度を低下させることができる。
　また、重合条件の異なる２種類以上の反応性基を同一分子内に有する液晶化合物と、重合条件が同一である反応性基を同一分子内に２つ以上有する液晶化合物を併用すると、選択反射の反射帯域を広げることができ、より好ましい。具体的には、（メタ）アクリロイル基とオキセタニル基とを含む液晶化合物と（メタ）アクリロイル基を２つ含む液晶化合物との組み合わせが挙げられる。

　液晶組成物中の重合性液晶化合物の添加量は、液晶組成物の固形分質量（溶媒を除いた質量）に対して、８０～９９．９質量％であることが好ましく、８５～９９．５質量％であることがより好ましく、９０～９９質量％であることが特に好ましい。

（キラル剤：光学活性化合物）
　コレステリック液晶層の形成に用いる材料はキラル剤を含んでいることが好ましい。キラル剤はコレステリック液晶相の螺旋構造を誘起する機能を有する。キラル化合物は、化合物によって誘起する螺旋のセンスまたは螺旋ピッチが異なるため、目的に応じて選択すればよい。
　キラル剤としては、特に制限はなく、公知の化合物を用いることができる。キラル剤の例としては、液晶デバイスハンドブック（第３章４－３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９）、特開２００３－２８７６２３号、特開２００２－３０２４８７号、特開２００２－８０４７８号、特開２００２－８０８５１号、特開２０１０－１８１８５２号または特開２０１４－０３４５８１号の各公報に記載の化合物が挙げられる。

　キラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物あるいは面性不斉化合物もキラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファンおよびこれらの誘導体が含まれる。キラル剤は、重合性基を有していてもよい。キラル剤と液晶化合物とがいずれも重合性基を有する場合は、重合性キラル剤と重合性液晶化合物との重合反応により、重合性液晶化合物から誘導される繰り返し単位と、キラル剤から誘導される繰り返し単位とを有するポリマーを形成することができる。この態様では、重合性キラル剤が有する重合性基は、重合性液晶化合物が有する重合性基と同種の基であることが好ましい。従って、キラル剤の重合性基も、不飽和重合性基、エポキシ基またはアジリジニル基であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基であることが特に好ましい。
　また、キラル剤は、液晶化合物であってもよい。

　キラル剤としては、イソソルビド誘導体、イソマンニド誘導体、またはビナフチル誘導体を好ましく用いることができる。イソソルビド誘導体としては、ＢＡＳＦ社製のＬＣ－７５６等の市販品を用いてもよい。
　液晶組成物における、キラル剤の含有量は、重合性液晶化合物の総モル量に対しての０．０１モル％～２００モル％が好ましく、１モル％～３０モル％がより好ましい。

（重合開始剤）
　液晶組成物は、重合開始剤を含有していることが好ましい。紫外線照射により重合反応を進行させる態様では、使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であることが好ましい。光重合開始剤の例としては、ラジカル重合開始剤およびカチオン重合開始剤が挙げられる。

　ラジカル重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報、特開平１０－２９９９７号公報、特開２００１－２３３８４２号公報、特開２０００－８００６８号公報、特開２００６－３４２１６６号公報、特開２０１３－１１４２４９号公報、特開２０１４－１３７４６６号公報、特許４２２３０７１号公報、特開２０１０－２６２０２８号公報、特表２０１４－５００８５２号公報記載）、オキシム化合物（特開２０００－６６３８５号公報、特許第４４５４０６７号明細書記載）、およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）等が挙げられる。例えば、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落０５００～０５４７の記載も参酌できる。

　ラジカル重合開始剤としては、アシルフォスフィンオキシド化合物またはオキシム化合物を用いることが好ましい。
　アシルフォスフィンオキシド化合物としては、例えば、市販品のＢＡＳＦジャパン（株）製のＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（化合物名：ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド）を用いることができる。オキシム化合物としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカアークルズＮＣＩ－８３１、アデカアークルズＮＣＩ－９３０（ＡＤＥＫＡ社製）、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（ＡＤＥＫＡ社製）等の市販品を用いることができる。

　カチオン重合開始剤としては、有機スルフォニウム塩系、ヨードニウム塩系、フォスフォニウム塩系等を例示することができ、有機スルフォニウム塩系が好ましく、トリフェニルスルフォニウム塩が特に好ましい。これら化合物の対イオンとしては、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロフォスフェートなどが好ましく用いられる。

　重合開始剤は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　液晶組成物中の光重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物の含有量に対して０．１～２０質量％であることが好ましく、０．５質量％～５質量％であることがさらに好ましい。

（架橋剤）
　液晶組成物は、硬化後の膜強度向上、耐久性向上のため、任意に架橋剤を含有していてもよい。架橋剤としては、紫外線、熱、湿気等で硬化するものが好適に使用できる。
　架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等の多官能アクリレート化合物；グリシジル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテル等のエポキシ化合物；２，２－ビスヒドロキシメチルブタノール－トリス［３－（１－アジリジニル）プロピオネート］、４，４－ビス（エチレンイミノカルボニルアミノ）ジフェニルメタン等のアジリジン化合物；ヘキサメチレンジイソシアネート、ビウレット型イソシアネート等のイソシアネート化合物；オキサゾリン基を側鎖に有するポリオキサゾリン化合物；ビニルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）３－アミノプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン化合物などが挙げられる。これらのうち、多官能アクリレート化合物が好ましい。多官能アクリレート化合物としては、３～６官能アクリレート化合物が好ましく、４～６官能アクリレート化合物がより好ましい。また、架橋剤の反応性に応じて公知の触媒を用いることができ、膜強度および耐久性向上に加えて生産性を向上させることができる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

　液晶組成物中の架橋剤の含有量は、液晶組成物中の重合性液晶化合物１００質量部に対し、０質量部～８．０質量部が好ましく、０．１質量部～７．０質量部がより好ましく、０．２質量部～５．５質量部がさらに好ましい。

（配向制御剤）
　液晶組成物中には、安定的にまたは迅速にプレーナー配向するために寄与する配向制御剤を添加してもよい。配向制御剤の例としては特開２００７－２７２１８５号公報の段落〔００１８〕～〔００４３〕等に記載のフッ素（メタ）アクリレート系ポリマー、特開２０１２－２０３２３７号公報の段落〔００３１〕～〔００３４〕等に記載の式（Ｉ）～（ＩＶ）で表される化合物などが挙げられる。
　なお、配向制御剤としては１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

　液晶組成物中における、配向制御剤の添加量は、重合性液晶化合物の全質量に対して０．０１質量％～１０質量％が好ましく、０．０１質量％～５．０質量％がより好ましく、０．０２質量％～１．０質量％が特に好ましい。

（その他の添加剤）
　その他、液晶組成物は、塗膜の表面張力を調整し厚みを均一にするための界面活性剤、および重合性モノマー等の種々の添加剤から選ばれる少なくとも１種を含有していてもよい。また、液晶組成物中には、必要に応じて、さらに重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、色材、金属酸化物微粒子等を、光学的性能を低下させない範囲で添加することができる。

（溶媒）
　液晶組成物の調製に使用する溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、有機溶媒が好ましく用いられる。
　有機溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばケトン類、アルキルハライド類、アミド類、スルホキシド類、ヘテロ環化合物、炭化水素類、エステル類、エーテル類などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、環境への負荷を考慮した場合にはケトン類が特に好ましい。

（塗布、配向、重合）
　支持体、配向膜、１／４波長板、下層となるコレステリック液晶層などへの液晶組成物の塗布方法は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ワイヤーバーコーティング法、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法などが挙げられる。また、別途支持体上に塗設した液晶組成物を転写することによっても実施できる。塗布した液晶組成物を加熱することにより、液晶分子を配向させる。コレステリック液晶層形成の際はコレステリック配向させればよく、１／４波長板形成の際は、ネマチック配向させることが好ましい。コレステリック配向の際、加熱温度は２００℃以下が好ましく、１３０℃以下がより好ましい。この配向処理により、重合性液晶化合物がフィルム面に対して実質的に垂直な方向に螺旋軸を有するようにねじれ配向している光学薄膜が得られる。ネマチック配向の際、加熱温度は５０℃～１２０℃が好ましく、６０℃～１００℃がより好ましい。

　配向させた液晶化合物は、更に重合させ、液晶組成物を硬化することができる。重合は、熱重合、光照射を利用する光重合のいずれでもよいが、光重合が好ましい。光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ^２～５０Ｊ／ｃｍ^２が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ^２～１，５００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下または窒素雰囲気下で光照射を実施してもよい。照射紫外線波長は３５０ｎｍ～４３０ｎｍが好ましい。重合反応率は安定性の観点から高いことが好ましく、７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましい。重合反応率は、重合性の官能基の消費割合をＩＲ吸収スペクトルを用いて測定することにより、決定することができる。

　個々のコレステリック液晶層の厚みは、上記特性を示す範囲であれば、特に限定はされないが、好ましくは１．０μｍ以上２０μｍ以下の範囲、より好ましくは２．０μｍ以上１０μｍ以下の範囲である。

（支持体）
　液晶組成物は、支持体または支持体表面に形成された配向層の表面に塗布され層形成されていてもよい。支持体または支持体および配向層は、層形成後に剥離してもよい。例えば、層を発光素子基板に接着後に剥離してもよい。支持体の例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などのポリエステル、ポリカーボネート、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリオレフィン、セルロース誘導体、シリコーン、またはガラス板などが挙げられる。
　支持体の厚みは５μｍ～１０００μｍ程度であればよく、好ましくは１０μｍ～２５０μｍ、より好ましくは１５μｍ～１２０μｍであればよい。

（配向層）
　コレステリック液晶層を形成する際、支持体上に直接もしくはその上に設けた配向層で液晶組成物の配向状態を規制することが好ましい。配向層は、光学異方性層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよい。配向層の好ましい例としては、ポリマーなどの有機化合物（ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミド、変性ポリアミドなどの樹脂）のラビング処理された層、アゾベンゼンポリマーやシンナメートポリマーに代表される偏光照射により液晶の配向性を発現する光配向層、無機化合物の斜方蒸着層、およびマイクログルーブを有する層、さらにω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライドおよびステアリル酸メチル等のラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）により形成される累積膜、あるいは電場あるいは磁場の付与により誘電体を配向させた層を挙げることができる。配向層としてはラビングの態様ではポリビニルアルコールを含むことが好ましく、配向層の上または下の少なくともいずれか１層と架橋できることが特に好ましい。具体的には、特開２００９－６９７９３号公報、特開２０１０－１１３２４９号公報、および特開２０１１－２０３６３６号公報に記載の配向層を利用することができる。また、光配向層も、好適に用いることができる。光配向層を用いると、微小異物による配向欠陥の発生が抑えられ、微細な形状であっても高い光学的性能でコレステリック液晶層を形成することができるからである。例えば、特開２０１５－２６０５０号公報に記載の液晶配向剤(例えば、エポキシ含有ポリオルガノシロキサンを含む液晶配向剤)を用いることができる。配向層の配向規制力を十分に発揮させるために、塗布した液晶組成物の温度を制御して、所望の相を発現させる処理（配向処理）を行ってもよい。
　配向層の厚みは０．０１μｍ～５．０μｍであることが好ましく、０．０５μｍ～２．０μｍであることがさらに好ましい。

（パターニング方法）
　異なる波長において偏光分離を示す複数種の偏光分離部位を含む偏光分離層の形成のために、コレステリック液晶層をパターニングにより形成することができる。発光素子基板の各有機電界発光層の発光波長に対応して、選択反射波長を調整したパターン状のコレステリック液晶層を用いることで、光利用効率をより高めることができる。パターニング方法によってコレステリック液晶層を形成することにより、偏光分離層における偏光分離部位および可視光透過領域の形成、およびマトリクス状に配置された偏光分離部位の形成も行なうことができる。

　パターニング方法としては、溶剤現像による方法や光異性化キラル剤を用いる方法（特開２００１－１５９７０６号公報）、予め配向固定し、コレステリック液晶層をレーザーやサーマルヘッドを用いて転写する方法（特開２００１－４８２２号公報、特開２００１－４８２４公報）、インクジェット法（特開２００１－１５９７０９号公報）、コレステリックの螺旋ピッチの温度依存性を利用する方法（特開２００１－１５９７０８号公報）、領域間で液晶組成物の硬化の際の紫外線照射量を段階的に変化させる方法などが挙げられる。

　一例として、光異性化キラル剤を用いる方法は以下のように行なうことができる。光異性化キラル剤を含む液晶組成物を用いて、まず、紫外線波長域に選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層を全面形成する。その後、パターン露光（紫外線照射）により、コレステリック液晶層の一部を、紫外線波長域または赤外光波長域に選択反射の中心波長を有する状態で固定化し、可視光透過領域を形成する。続いて形成したい選択反射の中心波長を有する領域それぞれに応じて適切な光量でキラル剤の吸収波長の光を各領域に選択的に照射する。これにより、キラル剤を異性化し、それぞれの領域に応じた螺旋構造のピッチを得る。最後に全面に紫外線照射することにより、各領域の配向を固定化し、ひとつの層内に可視光透過領域と、所望の波長域に選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層のパターンを有する偏光分離層を形成することができる。

　パターニング方法においては、上述のようにパターン露光を行なうことができる。
　パターン露光の手法としてはマスクを用いたコンタクト露光、プロキシ露光、投影露光などが挙げられる。上記露光の光源の照射波長としては２５０～４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３００～４１０ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、青色レーザー等が挙げられる。好ましい露光量としては通常３～２０００ｍＪ／ｃｍ^２程度であり、より好ましくは５～１０００ｍＪ／ｃｍ^２程度、さらに好ましくは１０～５００ｍＪ／ｃｍ^２程度、最も好ましくは１０～１００ｍＪ／ｃｍ^２程度である。
　用いる材料に応じて、パターン露光の代わりにまたはパターン加熱を行なってもよい。パターン加熱の手法としては加温したパターニングプレートを用いたコンタクト加熱、赤外レーザーによる加熱などを用いることができる。
　また、この両方を組み合わせてもよい。

　パターン露光を用い、以下のように複数層で構成される偏光分離層を形成することもできる。
　すなわち、第一の液晶組成物から形成された層にパターン露光を行った後、その上に新たな第二の液晶組成物から形成された層を形成または転写し、その後に別のパターン露光を行うことができる。さらに、その上に新たな第三の液晶組成物から形成された層を形成または転写し、その後に別のパターン露光を行うことができる。

　第一の液晶組成物、第二の液晶組成物、および第三の液晶組成物は同一の組成物に由来するものであってもよいし、異なる組成物に由来するものであってもよい。キラル剤の濃度のみが異なる３種の液晶組成物を用いることも好ましい。

　パターン露光された液晶組成物の層に対して５０℃以上４００℃以下、好ましくは８０℃以上２００℃以下で加熱を行うことにより未露光部を光学的に等方性にすることができる。このようにすることによりパターン状にコレステリック液晶層を有する層を形成することができる。光学的に等方性となる領域を偏光分離部位を区分するように形成し、可視光透過領域としてもよい。赤色光の波長域に選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層と、緑色光の波長域に選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層と、青色光の波長域に選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層とにつき、発光素子基板の有機電界発光層の発色の色に応じた波長域となるように、それぞれパターン状にコレステリック液晶層を有する層を形成し、それらを複数積層することにより、偏光分離層を形成することができる。

　パターン露光、およびパターン状のコレステリック液晶層（光学異方性層）の形成については、特開２００９－６９７９３号公報、特開２０１０－１１３２４９号公報、および特開２０１１－２０３６３６号公報の記載を参照することができる。

（保護層（添加剤層））
　特に、液晶組成物を用いてパターン状に偏光分離部位を有する偏光分離層を形成する場合などにおいて、保護層を用いてもよい。保護層は液晶組成物を仮硬化した後に残る未反応の反応性基による重合反応を開始させる機能を有する重合開始剤を少なくとも一種以上含んでいればよい。コレステリック液晶層と保護層は直接接していることが好ましい。重合開始剤を含む保護層の構成としては特に限定は無いが、重合開始剤以外に少なくとも１種のポリマーを含むことが好ましい。

　ポリマー（本発明においては別名として「バインダ」と呼ぶことがある。）としては、特に限定は無いがポリメチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸とその各種エステルの共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸あるいは各種（メタ）アクリル酸エステルの共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸あるいは各種（メタ）アクリル酸エステルの共重合体、スチレン／ビニルトルエン共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、酢酸ビニル／エチレン共重合体、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、ポリエステル、ポリイミド、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレンおよびポリカーボネート等を挙げることができる。好ましい例としてはメチル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸との共重合体、アリル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸の共重合体、ベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体などを挙げることができる。これらのポリマーは単独で用いてもよく、複数種を組み合わせて使用してもよい。全固形分に対するポリマーの含有量は２０～９９質量％が一般的であり、４０～９９質量％が好ましく、６０～９８質量％がより好ましい。

（偏光分離層の作製方法）
　コレステリック液晶層を含む偏光分離層は有機電界発光層上で形成してもよく、別途形成した偏光分離層または偏光分離層を含む積層体を有機電界発光層上に積層してもよい。典型的には、有機電界発光層群を含む発光素子基板上に偏光分離層を形成し、さらにその上に円偏光板を形成するか、または、上記偏光分離層および円偏光板の積層体を作製し、その後この積層体を有機電界発光層群を含む発光素子基板上に設けることが好ましく、後者がより好ましい。

［円偏光板］
　円偏光板は、有機ＥＬ画像表示装置における、外光の映り込みの低減およびコントラスト向上のために有機電界発光層の画像表示側に設けられるものである。円偏光板としては、有機ＥＬ画像表示装置において用いられる円偏光板として公知の円偏光板を用いることができる。

　円偏光板は、位相差層と偏光層を含む。円偏光板は、接着層、表面保護層などの他の層を有していてもよい。本発明の画像表示装置において、円偏光板は、偏光分離層、位相差層および偏光層がこの順となるように配置される。円偏光板は、位相差層と偏光層からなっていてもよい。位相差層は、１／４波長板からなることが好ましく、偏光層は直線偏光板からなることが好ましい。

　直線偏光板はこれを通過する光のうち特定の直線偏光は透過し、これと直交する直線偏光は吸収するものである。直線偏光板としては、例えばポリビニルアルコールにヨウ素を吸収させて延伸させ、偏光機能を付与した膜の両面にトリアセチルセルロースの保護層を施したもの、あるいは、ポリビニルアルコールにＡｇ等の金属ナノロッドを添加し、延伸させたものなどを用いることができる。

　１／４波長板は可視光領域において１／４波長板として機能する位相差層であればよい。１／４波長板の例としては、一層型の１／４波長板、１／４波長板と１／２波長位相差板とを積層した広帯域１／４波長板などが挙げられ、好適に用いることができる。
　本明細書において、位相差は正面レターデーションを意味する。位相差はＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製の偏光位相差解析装置ＡｘｏＳｃａｎを用いて測定することができる。

　１／４波長板としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、石英板、延伸されたポリカーボネートフィルム、延伸されたノルボルネン系ポリマーフィルム、炭酸ストロンチウムのような複屈折を示す無機粒子を含有して配向させた透明フィルム、支持体上に無機誘電体を斜め蒸着した薄膜、あるいは、支持体、または配向膜に液晶組成物を塗布し、そこで液晶組成物中の重合性液晶化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、光架橋や熱架橋によって固定化して形成したもの、などが挙げられる。これらを複数組合せたものを用いてもよい。

［有機電界発光層］
　有機電界発光層は、少なくとも発光層を有し、さらに発光層以外の機能層として、正孔輸送層、電子輸送層、正孔ブロック層、電子ブロック層、正孔注入層、電子注入層等の各層を含んでいてもよい層を意味する。
　有機電界発光層は特開２０１６－１３９３７２号公報に記載のマイクロキャビティ構造の有機電界発光層を用いてもよい。

［発光素子基板］
　発光素子基板は少なくとも、反射層および有機電界発光層を含む。通常、発光素子基板は、ガラスなどの表面に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）などにより形成された画素構造を有するＴＦＴ基板上に反射層および有機電界発光層を含むものであればよい。有機電界発光層は通常ＴＦＴ基板上にマトリクス状に配置された有機電界発光層群として含まれることが好ましい。

　発光素子基板において、ＴＦＴ基板、反射層および有機電界発光層がこの順に配置されているとき、画像表示装置はトップエミッション方式で光を取り出して画像表示できる。発光素子基板において、ＴＦＴ基板、有機電界発光層および反射層がこの順に配置されているとき、画像表示装置はボトムエミッション方式で光を取り出して画像表示できる。本発明の画像表示装置はトップエミッション方式でもボトムエミッション方式でもよいがトップエミッション方式であることが好ましい。

　反射層は例えば反射電極であればよい。反射電極としては、有機電界発光装置に一般的に用いられているアルミニウム電極を用いることができる。発光素子基板はさらにＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ）電極などの透明電極を含む。発光素子基板における層構成の例としては、以下が挙げられる。
ＴＦＴ基板／反射電極／有機電界発光層／透明電極
ＴＦＴ基板／透明電極／有機電界発光層／反射電極

　発光素子基板はさらに有機電界発光層の封止のためのバリア層、光取り出し層などを含んでいてもよい。

　有機電界発光層、有機電界発光層中の各層、透明電極と反射電極の作製材料や構成、積層順、および発光素子基板の構成については、特開２０１２－１５５１７７号公報の段落００８１～０１２２の記載、特許第４０１１２９２号公報、特開２０１６－１３９３７２号公報を参照することができる。

［接着層］
　本発明の画像表示装置は、各層の接着のための接着層を含んでいてもよい。接着層形成に用いられる接着剤としては硬化方式の観点からホットメルトタイプ、熱硬化タイプ、光硬化タイプ、反応硬化タイプ、硬化の不要な感圧接着タイプがあり、それぞれ素材としてアクリレート系、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、エポキシ系、エポキシアクリレート系、ポリオレフィン系、変性オレフィン系、ポリプロピレン系、エチレンビニルアルコール系、塩化ビニル系、クロロプレンゴム系、シアノアクリレート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリスチレン系、ポリビニルブチラール系などの化合物を使用することができる。作業性、生産性の観点から、硬化方式として光硬化タイプ、特に紫外線硬化タイプが好ましく、光学的な透明性、耐熱性の観点から、素材はアクリレート系、ウレタンアクリレート系、エポキシアクリレート系などを使用することが好ましい。

　接着層は、高透明性接着剤転写テープ（ＯＣＡテープ）であってもよい。特に有機電界発光素子基板とその上に設けられるフィルム（偏光分離層を含む積層体など）との接着には、ＯＣＡテープを用いることが好ましい。高透明性接着剤転写テープとしては、画像表示装置用の市販品、特に画像表示装置の画像表示部表面用の市販品を用いればよい。市販品の例としては、パナック株式会社製の粘着シート（ＰＤ－Ｓ１など）、日栄化工株式会社のＭＨＭシリーズの粘着シートなどが挙げられる。

　接着層の厚みは、０．１μｍ～１０μｍであることが好ましく、０．５μｍ～５．０μｍであることがより好ましい。

＜有機ＥＬ画像表示装置の作製方法＞
　有機ＥＬ画像表示装置は、発光素子基板上に偏光分離層を設け、その後別途形成した円偏光板を偏光分離層上に円偏光板の位相差層が接するように接着するか、または、円偏光板上の位相差層側に偏光分離層を形成し、発光素子基板に接着することにより、作製することができる。発光素子基板として反射層上に有機電界発光層がマトリクス状に配置された有機電界発光層群を含むものを用いるとき、偏光分離部位が有機電界発光層に対応して配置され、マトリクス状の偏光分離領域を形成している偏光分離層を用いることが好ましい。有機電界発光層群および偏光分離領域は、各有機電界発光層および偏光分離部位が対応するように位置合わせを行なって、積層、接着等されていればよい。

　有機電界発光層群が２種以上の波長の光を発光する有機電界発光層を含むとき、各有機電界発光層に対応する偏光分離部位が、それぞれ対応する位置に配置されている有機電界発光層が発光する波長域で１つの偏光状態の光を反射するように、偏光分離部位を配置した偏光分離層を用意して接着すればよい。

　以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の実施例に限定されるものではない。

　なお、実施例において反射帯域を数値で示すとき、コレステリック液晶層の透過スペクトルから上述のように得られる半値幅を意味し、有機電界発光層の発光帯域を数値で示すとき、有機電界発光層の発光スペクトルピークの半値幅を意味する。
　また、実施例において、粘着剤としては、ＳＫ－２０５７（綜研化学株式会社製）を用いた。

(配向膜組成物Ａの調製)
　下記に示す各成分の混合物を、８０℃に保温された容器中にて攪拌、溶解させ、配向膜組成物Ａを調製した。
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配向膜組成物Ａ（質量部）
－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－
純水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９７．２
ＰＶＡ－２０５（クラレ製）　　　　　　　　　　　　　　　　　　２．８
－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－

(液晶組成物ＬＣ－１の調製)
　下記の各成分を混合した後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、液晶組成物ＬＣ－１を調製した。
－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－
液晶組成物ＬＣ－１（質量部）
－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－
棒状液晶（Ｌ－１）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１９．５７
水平配向剤（Ｌ－２）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０１５
キラル剤（Ｃ－１）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．４９
ラジカル重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、ＢＡＳＦ製）０．５８７
光増感剤（ＫＡＹＡＣＵＲＥＤＥＴＸ－Ｓ、日本化薬製）　　０．９１６
重合制御剤（ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６、ＢＡＳＦ製）　　　　　０．０７８
メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８０．０
－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－

(液晶組成物ＬＣ－２の調製)
　液晶組成物ＬＣ－１と同様の手法、材料を用い、添加するキラル剤（Ｃ－１）を１．２２質量部に変更して、ＬＣ－２を調製した。

(液晶組成物ＬＣ－３の調製)
　液晶組成物ＬＣ－１と同様の手法、材料を用い、添加するキラル剤（Ｃ－１）を１．０４質量部に変更して、ＬＣ－３を調製した。

（実施例１）
　配向膜組成物Ａを、ガラス基板上にスリットコーターを用いて均一塗布した後、１００℃のオーブン内で２分乾燥し、膜厚０．５μｍの配向膜付きガラス基板を得た。この配向膜に塗布方向と平行方向にラビング処理を施した。ラビング処理面上に上記液晶組成物ＬＣ－１を塗布した。次いで、膜面温度９５℃で６０秒間加熱熟成し、その後ただちに、２５℃空気下にて、キヤノン（株）製ＰＬＡ－５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）を用い、１００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で、図３（ｂの値：５７．７μｍ：ｂの値は式（１）のＬに該当する）に示すフォトマスクＡを介し露光した。図３において、白は透過部、黒は遮蔽部である。その後、基板全体を２００℃に加熱しながら５００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）にて窒素下露光することにより、反射中心波長４５０ｎｍ、反射帯域８９ｎｍの選択反射を持つ領域と、光学的に等方な領域とに分画されたコレステリック液晶層パターンを有する層を得た。

　有機ＥＬ画像表示装置ＳＣ－０４Ｅ(サムソン電子社製)から、偏光板および光学フィルムを剥離し、発光素子を保護するバリア層の表面を露出させ発光素子基板とした。なお、この発光素子基板の青色有機電界発光層のスペクトルは、中心波長４５０ｎｍ、発光帯域４０ｎｍ、緑色有機電界発光層のスペクトルは、中心波長５５０ｎｍ、発光帯域４５ｎｍ、赤色有機電界発光層のスペクトルは、中心波長６５０ｎｍ、発光帯域５０ｎｍである。この発光素子基板のバリア層面と上記で得られたコレステリック液晶層パターンを有する層とを、粘着剤を用いて図４に示す青色有機電界発光層の中央とコレステリック液晶層の中央が一致するようにそれぞれ対応させて貼り合わせた。その後、ガラス基板表面にＷＯ２０１６／１９４８０１の実施例１に示された手順により作製した偏光子（偏光層）、光学異方性層Ａ（λ／２板）、および、光学異方性層Ｂ（λ／４板）からなる円偏光板ＣＰ１を、粘着剤にて貼り合わせ、評価用画像表示装置を作製した。なお、円偏光板ＣＰ１は、偏光子、光学異方性層Ａ（λ／２板）、および、光学異方性層Ｂ（λ／４板）がこの順に配置され、偏光子側から観察して、偏光子の透過軸を基準（０°）に反時計回りを正の値で表したとき、λ／２板の遅相軸の角度を－７２．５°、λ／４板の遅相軸の角度は－１２．５°とした。また、貼り合せは光学異方性層Ｂとガラス基板とが接するように行なった。
　発光素子基板のバリア層の厚みと、粘着剤の厚みの合計は１３μｍであり、青色有機電界発光層とコレステリック液晶層との距離は、１３μｍであった。

（実施例２）
　パターン形成時に、図３のｂの値を３０.００μｍにしたフォトマスクＢを使用した以外は、実施例１と同様の手順により、コレステリック液晶層パターンを有する層を作製した。さらに、実施例１と同様に用意した発光素子基板のバリア層面に、コレステリック液晶層パターンを有する層、円偏光板ＣＰ１を、実施例１と同様の手順により貼り合わせ、評価用画像表示装置を作製した。

（実施例３）
　パターン形成時に、図３のｂの値を２０.００μｍにしたフォトマスクＣを使用した以外は、実施例１と同様の手順により、コレステリック液晶層パターンを有する層を作製した。さらに、実施例１と同様に用意した発光素子基板のバリア層面に、コレステリック液晶層パターンを有する層、円偏光板ＣＰ１を、実施例１と同様の手順により貼り合わせ、評価用画像表示装置を作製した。

（実施例４）
　パターン形成時に、図３のｂの値を７５.００μｍにしたフォトマスクＤを使用した以外は、実施例１と同様の手順により、コレステリック液晶層パターンを有する層を作製した。さらに、実施例１と同様に用意した発光素子基板のバリア層面に、コレステリック液晶層パターンを有する層、円偏光板ＣＰ１を、実施例１と同様の手順により貼り合わせ、評価用画像表示装置を作製した。

（比較例１）
　実施例１で用いたものと同様の円偏光板ＣＰ１の光学異方性層Ｂの面を実施例１と同様に用意した発光素子基板のバリア層面に、実施例１と同様の手順により貼り合わせ、コレステリック液晶層パターンを有する層を含まない評価用画像表示装置を作製した。
（比較例２）
　パターン形成時に使用するマスクを用いなかった以外は実施例１と同様の手順でコレステリック液晶層を作製し、光学的に等方な領域のない全面コレステリック液晶層とした。さらに、実施例１と同様に用意した発光素子基板のバリア層面に、得られた全面コレステリック液晶層、円偏光板ＣＰ１を、実施例１と同様の手順により貼り合わせ、評価用画像表示装置を作製した。

（実施例５）
　液晶組成物ＬＣ－１を液晶組成物ＬＣ－２に変更し、パターン形成時に、図５に示すフォトマスクＥを使用した以外は、実施例１と同様の手順により、反射中心波長５５０ｎｍの選択反射を持つ領域と、光学的に等方な領域とに分画されたコレステリック液晶層パターンを有する層を得た。

　実施例１と同様に用意した発光素子基板のバリア層面と、上記で得られたコレステリック液晶層パターンを有する層とを、粘着剤を用いて図４の緑色有機電界発光層の中央とコレステリック液晶層の中央が一致するようにそれぞれ対応させて貼り合わせた。その後、実施例１と同様の手順によりガラス基板表面に円偏光板ＣＰ１の光学異方性層Ｂの面を粘着剤にて貼り合わせ、評価用画像表示装置を作製した。

（実施例６）
　液晶組成物ＬＣ－１を液晶組成物ＬＣ－３に変更した以外は、実施例１と同様の手順により、反射中心波長６５０ｎｍの選択反射を持つ領域と、光学的に等方な領域とに分画されたコレステリック液晶層パターンを有する層を得た。
　実施例１と同様に用意した発光素子基板のバリア層面と、上記で得られたコレステリック液晶層パターンを有する層とを、粘着剤を用いて図４の赤色有機電界発光層の中央とコレステリック液晶層の中央が一致するようにそれぞれ対応させて貼り合わせた。その後、ガラス基板表面に円偏光板ＣＰ１の光学異方性層Ｂの面を貼り合わせ、評価用画像表示装置を作製した。

（実施例７）
　実施例１と同様の手順で作製したラビング済み配向膜の、ラビング処理面上に上記液晶組成物ＬＣ－１を塗布した。次いで、膜面温度９５℃で６０秒間加熱熟成し、その後ただちに、２５℃空気下にて、キヤノン（株）製ＰＬＡ－５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）を用い、１００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で、フォトマスクＡを介し露光した。その後、未露光の塗布層をメチルエチルケトンで洗い流すことにより、反射中心波長４５０ｎｍ、反射帯域８９ｎｍの選択反射を持つ領域と、液晶組成物を硬化した層の存在しない領域を有するコレステリック液晶層パターンを有する層を得た。

　実施例１と同様に用意した発光素子基板のバリア層面と上記で得られたコレステリック液晶層パターンを有する層とを、粘着剤を用いて図４に示す青色有機電界発光層の中央とコレステリック液晶層の中央が一致するようにそれぞれ対応させて貼り合わせた。その後、ガラス基板表面に円偏光板ＣＰ１の光学異方性層Ｂの面を粘着剤にて貼り合わせ、評価用画像表示装置を作製した。
　発光素子基板のバリア層の厚みと、粘着剤の厚みの合計は１３μｍであり、有機電界発光層とコレステリック液晶層の距離は、１３μｍであった。

（比較例３）
　比較例２と同様の手順で、全面コレステリック液晶層を得た。続いて、特許４２２０７９６号に記載の実施例１の方法で平均粒子径２００ｎｍの銀粒子を含む感光性樹脂組成物を作製し、全面コレステリック液晶層の表面に、スピンコートにより乾燥厚み０．５μｍの塗布層を形成したのち、図３に示すマスクの透過部と遮蔽部を反転させたフォトマスクＦを介して、超高圧水銀灯を用いて感光性遮光層に５００ｍＪ／ｃｍ^２の露光を行った。その後水洗処理（現像処理）を行って未露光部を除去し、コレステリック液晶層上にブラックマトリクスを作製した。

　実施例１と同様に用意した発光素子基板のバリア層面と、上記で得られたコレステリック液晶層とを、粘着剤を用いて図４に示す青色有機電界発光層の中央とコレステリック領域の中央が一致するようにそれぞれ対応させて貼り合わせた。その後、ガラス基板表面に円偏光板ＣＰ１の光学異方性層Ｂの面を粘着剤にて貼り合わせ、評価用画像表示装置を作製した。

（実施例８）
　支持体として、市販されている厚さ４０μｍのトリアセチルセルロースフィルム「Ｚ－ＴＡＣ」（富士フイルム社製）を用いた。Ｚ－ＴＡＣを温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ^２で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ^２塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したアセチルセルロース透明支持体を作製した。
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アルカリ溶液の組成（質量部）
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　水酸化カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４．７
　水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１５．８
　イソプロパノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６３．７
　界面活性剤
　ＳＦ－１：Ｃ_１４Ｈ_２９Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_２０Ｈ　　　　　　　１．０
　プロピレングリコール　　　　　　　　　　　　　　　　　１４．８
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　配向膜組成物Ａを、鹸化処理された厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルム上にバーコーターを用いて均一塗布した後、１００℃のオーブン内で２分乾燥し、膜厚０．５μｍの配向膜付き支持体を得た。この配向膜に塗布方向と平行方向にラビング処理を施した。ラビング処理面上に上記液晶組成物ＬＣ－１を塗布した。次いで、膜面温度９５℃で６０秒間加熱熟成し、その後ただちに、２５℃空気下にて、キヤノン（株）製ＰＬＡ－５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）を用い、１００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で、フォトマスクＡを介し露光した。その後、基板全体を１５０℃に加熱しながら５００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）にて窒素下露光することにより、反射中心波長４５０ｎｍ、反射帯域８９ｎｍの選択反射を持つ領域と、光学的に等方な領域とに分画されたコレステリック液晶層パターンを有する層を得た。実施例１と同様に用意した発光素子基板のバリア層面と上記、トリアセチルセルロースフィルム面とを粘着剤を用いて図４に示す青色有機電界発光層の中央とコレステリック液晶層の中央が一致するようにそれぞれ対応させて貼り合わせた。その後、コレステリック液晶層パターンを有する層表面に円偏光板ＣＰ１の光学異方性層Ｂの面を貼り合わせ、評価用画像表示装置を作製した。
　発光素子基板のバリア層の厚みと、粘着剤の厚みとタックフィルムの合計は５３μｍであり、有機電界発光層とコレステリック液晶層の距離は、５３μｍであった。

（実施例９）
　パターン形成時に使用するマスクについて、図３のｂの値を９５μｍにした以外は、実施例８と同様の手順により、コレステリック液晶層パターンを有する層を作製し、実施例８と同様の手順によりコレステリック液晶層パターンを有する層、円偏光板ＣＰ１を、実施例１と同様に用意した発光素子基板のバリア層面に貼り合わせ、評価用画像表示装置を作製した。

（実施例１０）
　パターン形成時に、図６に示すフォトマスクＧを使用した以外は、実施例１と同様の手順で、反射中心波長４５０ｎｍ、反射帯域８９ｎｍの選択反射を持つ領域と、光学的に等方な領域とに分画されたコレステリック液晶層パターンを有する層を得た。なお、図６において、白は透過部、黒は遮蔽部である。
　Ａｐｐｌｅ　Ｗａｔｃｈ(アップル社製)より、偏光板および光学フィルムを剥離し、有機電界発光層を保護するバリア層の表面を露出させ、発光素子基板とした。上記で得られたコレステリック液晶層パターンを有する層を、発光素子基板のバリア層面に、粘着剤を用いて、図７に示す青色有機電界発光層の中央とコレステリック液晶層の中央が一致するようにそれぞれ対応させて貼り合わせた。その後、ガラス基板表面に円偏光板ＣＰ１の光学異方性層Ｂの面を粘着剤にて貼り合わせ、評価用画像表示装置を作製した。
　発光素子基板のバリア層の厚みと、粘着剤の厚みの合計は１５μｍであり、有機電界発光層とコレステリック液晶層の距離は、１５μｍであった。

（比較例４）
　円偏光板ＣＰ１の光学異方性層Ｂの面を実施例１０と同様に用意した発光素子基板のバリア層面に貼り合わせ、コレステリック液晶層パターンを有していない評価用画像表示装置を作製した。
（比較例５）
　比較例２と同様に、パターン形成時に使用するマスクを用いないで光学的に等方な領域のない全面コレステリック液晶層を作製した。さらに、実施例１０と同様に用意した発光素子基板のバリア層面に得られた全面コレステリック液晶層、円偏光板ＣＰ１を、実施例１０と同様の手順により貼り合わせ、評価用画像表示装置を作製した。

(液晶組成物ＬＣ－４の調製)
　下記の各成分を混合した後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、液晶組成物ＬＣ－４を調製した。
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液晶組成物ＬＣ－４（質量部）
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棒状液晶（Ｌ－１）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００
光反応性右旋回性キラル剤（Ｃ－２）　　　　　　　　　　　　６．００
水平配向剤（Ｌ－２）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１
重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）　　　　　　　　４
重合禁止剤ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０（ＢＡＳＦ社製）　　　　　　　　１
溶剤（クロロホルム）　　　　　　　　　　　　　　　　　　３３０．３
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（実施例１１）
　実施例１と同様の手順で作製したラビング済み配向膜上に、塗布液ＬＣ－４をスピンコート塗布し、膜厚５μｍとなるように塗布膜を形成した。塗布膜が配置された配向膜付きガラス基板を８０℃のホットプレート上で１分間加熱し、溶媒を乾燥除去するとともにコレステリック配向状態を形成した後、ＨＯＹＡ－ＳＣＨＯＴＴ社製ＥＸＥＣＵＲＥ３０００－Ｗを用いて、室温、窒素雰囲気下フォトマスクＦを介して、照度３０ｍＷ／ｃｍ^２のＵＶ（ultraviolet）光を１０秒間照射し、露光部（Ａ）の配向を固定化した。次いで、フォトマスクを除去し、空気下で照度３ｍＷ／ｃｍ^２のＵＶ光を８秒間照射した後、８０℃のホットプレート上で１分間加熱することで、固定化されていない部分の反射波長を長波長側に変換した後に、再度、室温、窒素雰囲気下で、照度３０ｍＷ／ｃｍ^２のＵＶ光を１０秒間照射し、残りの部分（Ｂ）の配向を固定化することで、コレステリック液晶層パターンを有する層を作製した。Ａの部分における反射中心波長は３５０ｎｍ、Ｂの部分における反射中心波長は４５０ｎｍであった。

　実施例１と同様に用意した発光素子基板のバリア層と、上記で得られたコレステリック液晶層パターンを有する層とを、粘着剤を用いて図４に示す青色有機電界発光層の中央と領域（Ｂ）の中央が一致するように対応させて貼り合わせた。その後、ガラス基板表面に円偏光板ＣＰ1の光学異方性層Ｂの面を粘着剤にて貼り合わせ、評価用画像表示装置を作製した。
　発光素子基板のバリア層の厚みと、粘着剤の厚みの合計は１３μｍであり、発光層とコレステリック液晶層パターンを有する層の距離は、１３μｍであった。

（実施例１２）
　実施例１と同様の手順で作製したラビング済み配向膜上に、塗布液ＬＣ－４をスピンコート塗布し、膜厚５μｍとなるように塗布膜を形成した。塗布膜が配置された配向膜付きガラス基板を８０℃のホットプレート上で１分間加熱し、溶媒を乾燥除去するとともにコレステリック配向状態を形成した後、ＨＯＹＡ－ＳＣＨＯＴＴ社製ＥＸＥＣＵＲＥ３０００－Ｗを用いて、室温、窒素雰囲気下で図８に示すフォトマスクＨを介して、照度３０ｍＷ／ｃｍ^２のＵＶ（ultraviolet）光を１０秒間照射し、露光部（図１０に示す（Ａ））の配向を固定化した。次いで、フォトマスクＨを除去し、図９に示すハーフトーンフォトマスクＩを、上記フォトマスクＨとマーキング部が重なるように位置を併せて設置した。ハーフトーンフォトマスクＩはハーフトーン部として光透過率６７％の部分および光透過率３３％の部分を有する。このハーフトーンフォトマスクＩを介して空気下で照度３ｍＷ／ｃｍ^２のＵＶ光を２５秒間照射した後、８０℃のホットプレート上で１分間加熱することで、固定化されていない部分の反射波長を長波長側に変換した後に、再度、室温、窒素雰囲気下で、照度３０ｍＷ／ｃｍ^２のＵＶ光を１０秒間照射し、図１０に示す（Ｂ）～（Ｄ）の領域を固定化し、コレステリック液晶層パターンを有する層を作製した。Ａの部分における反射中心波長は３５０ｎｍ、Ｂの部分における反射中心波長は４５０ｎｍ、Ｃの部分における反射中心波長は５５０ｎｍ、Ｄの部分における反射中心波長は６５０ｎｍであった。

　実施例１と同様に用意した発光素子基板のバリア層と、上記で得られたコレステリック液晶層パターンを有する層とを、粘着剤を用いて図４に示す青色有機電界発光層の中央と領域（Ｂ）の中央が一致するように対応させて貼り合わせた。その後、ガラス基板表面に円偏光板ＣＰ1の光学異方性層Ｂの面を粘着剤にて貼り合わせ、評価用画像表示装置を作製した。

　以上の実施例および比較例について下記評価を行い、評価結果を以下の表１にまとめて示す。なお、Ｌ、Ｍ、Ｎの値は、面内全ての点の、全ての方向に関して定義できるため、表には代表値（式（１）、式（２）を最も満たしにくい点、および方向での値）を示す。この際、実施例１０については長軸と短軸の両方での評価を行った。

（画像表示装置発光輝度、にじみ評価）
　評価用画像表示装置を点灯し、全面に単色（表１における有機電界発光層の各色、ただし、実施例１２のみは白色）を表示させた後、架台に設置し、２ｍ先に分光放射計ＳＲ－３((株)トプコン製)を配置して輝度評価を行った。輝度評価は、対応するコレステリック材料がない画像表示装置の輝度に対して、以下の基準で輝度の向上率を評価することにより行なった。すなわち、実施例１～４、７～９、１１および比較例２、３については比較例１の輝度からの輝度向上率、実施例５、６、１２については比較例１の画像表示装置を用いそれぞれ全面に単色の緑色、全面に単色の赤色、全面に白色を表示させたものの輝度からの輝度向上率、実施例１０および比較例５については比較例４の輝度からの輝度向上率を求めた。
　　Ａ：輝度向上率が４０％以上
　　Ｂ：輝度向上率が４０％より小さく、２０％以上
　　Ｃ：輝度向上率が２０％より小さく、５％以上
　　Ｄ：輝度向上率が５％より小さい

　続いて、各実施例および比較例での有機電界発光層の色（青、緑および赤）が２ピクセル、黒が５ピクセルの繰り返しで、各色と黒のストライプを表示させ、にじみの有無を目視評価した。ただし、実施例１２のみは青あるいは緑、赤を２ピクセル、黒が５ピクセルの繰り返しで、青あるいは緑、赤のストライプを表示させ、それぞれにおいてにじみの有無を目視評価した。
　Ａ：にじみがない
　Ｂ：ルーペを用いて拡大するとにじみが見えるが、目視では見えず、実用上問題ない
　Ｄ：目視でにじみが見える

　比較例１および２から分かるように、比較例２においてコレステリック液晶層を挿入することで、輝度が向上するが、光学的に等方な領域のない全面コレステリック液晶層を用いているためににじみが発生する。有機電界発光層より発光した極角の小さい光が、コレステリック液晶層と反射層の間で、偏光解消と多重反射を繰り返すことにより、光が素子のサイズよりも広がり、にじみとして視認されると推察される。
　実施例１～４より、可視光透過領域により区分された偏光分離領域を有する偏光分離層を有し、かつ偏光分離層の長さＬを小さくすることで、多重反射が抑制され、にじみが改善することがわかる。特に、式（１）および式（２）を満たす実施例１のときに、輝度向上率とにじみの評価がいずれもＡとなった。

　比較例３においては、ブラックマトリクスにより、極角の小さい光が吸収されるため、にじみが抑制される。しかし一方でブラックマトリクスの吸収により輝度が下がるため、十分な輝度向上効果が得られず、可視光透過領域を有する場合のように輝度向上とにじみの両立ができないことがわかる。

　また、実施例１と実施例８、９の比較から、実施例１のように偏光分離層は、有機電界発光層に近い位置に配置したほうが輝度およびにじみの両立の点で好ましいことが分かる。

　１　偏光分離部位
　２　有機電界発光層
　３　反射層
　４　発光素子基板
　５　位相差層
　６　偏光層
　７　円偏光板
　８　光学的に等方性である可視光透過領域
　９　紫外光波長域に選択反射の中心波長を有する可視光透過領域
１０　接着層
１１　バリア層

Claims

発光素子基板および円偏光板を含む有機ＥＬ画像表示装置であって、
前記発光素子基板は反射層および前記反射層上にマトリクス状の有機電界発光層群を含み、
前記反射層、前記有機電界発光層群、および前記円偏光板はこの順で配置されており、
前記有機電界発光層群と前記円偏光板との間に偏光分離層を含み、
前記偏光分離層は前記有機電界発光層群に対応してマトリクス状に配置されている偏光分離部位を含み、
前記偏光分離部位は、対応する有機電界発光層が発光した光のうち、１つの偏光状態の光を反射し、かつ他方の偏光状態の光を透過し、
前記偏光分離層は可視光透過領域により区分されて前記偏光分離部位を形成している有機ＥＬ画像表示装置。
前記偏光分離部位がコレステリック液晶相を固定して形成された層を含む請求項１に記載の有機ＥＬ画像表示装置。
前記可視光透過領域が前記偏光分離部位と同一の組成物を硬化した層を含み、前記可視光透過領域が光学的に等方性である請求項２に記載の有機ＥＬ画像表示装置。
前記可視光透過領域が前記偏光分離部位と同一の組成物を硬化した層を含み、前記可視光透過領域が紫外光波長域または赤外光波長域に選択反射の中心波長を有する請求項２に記載の有機ＥＬ画像表示装置。
前記可視光透過領域が前記偏光分離部位と同一の組成物を硬化した層を含まない請求項２に記載の有機ＥＬ画像表示装置。
前記マトリクスの任意の座標ｘｙの偏光分離部位を通り、かつ前記反射層に垂直な任意の平面Ｚにおいて、下記式（１）が満たされている請求項１～５のいずれか一項に記載の有機ＥＬ画像表示装置。
　　　Ｌ　≦　（Ｍ＋Ｎ）／２　　（１）
　　　Ｌ：座標ｘｙの偏光分離部位と平面Ｚの交線の長さ
　　　Ｍ：座標ｘｙの偏光分離部位に対応する座標ｘｙの有機電界発光層と平面Ｚの交線の長さ
　　　Ｎ：座標ｘｙの有機電界発光層および平面Ｚの交線の中心と、座標ｘｙの有機電界発光層と同じ波長の光を発光する有機電界発光層であって平面Ｚに交点を有する最も近い有機電界発光層および平面Ｚの交線の中心との距離
前記マトリクスの任意の座標ｘｙの偏光分離部位において、下記式（２）が満たされている請求項１～６のいずれか一項に記載の有機ＥＬ画像表示装置。
　　　Ｌ　≧　１．２５×Ｄ　＋　Ｍ　（２）
　　　Ｄ：座標ｘｙの偏光分離部位と座標ｘｙの有機電界発光層との距離