WO2018179807A1 - 感放射線樹脂組成物および電子部品 - Google Patents
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Abstract
Description
例えば、特許文献1では、環状オレフィン重合体等の樹脂成分と、所定のエポキシ系架橋剤と、感放射線化合物とを含む感放射線樹脂組成物を用いることで、露光領域の現像液に対する溶解性を高めると共に、金属に対する密着性および低吸湿性に優れる樹脂膜を形成することができるとの報告がされている。
なお、本発明において、「重量平均分子量」および「数平均分子量」は、テトラヒドロフラン等の溶媒を溶離液としたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)により、ポリスチレン換算値として求められる値である。
また、本発明によれば、高性能な電子部品を提供することができる。
本発明の感放射線樹脂組成物は、プロトン性極性基を有する環状オレフィン重合体(A)、2官能エポキシ化合物(B)、および感放射線化合物(C)を含有し、任意に、溶剤や、その他の配合剤を含有する。ここで、本発明の感放射線樹脂組成物では、環状オレフィン重合体(A)として、重量平均分子量が1000以上10000未満の環状オレフィン重合体(A-1)と、重量平均分子量が10000以上100000以下の環状オレフィン重合体(A-2)とを、所定の量比で含有する。
上述したように、本発明の感放射線樹脂組成物は、プロトン性極性基を有する環状オレフィン重合体(A)として、重量平均分子量が相異なる環状オレフィン重合体(A-1)と(A-2)を含む。
なお、本明細書において、「環状オレフィン重合体(A)」のある性状についての記載は、特に断らない限り、「環状オレフィン重合体(A-1)」と「環状オレフィン重合体(A-2)」の双方についての当該ある性状についての記載であるものとする。
環状オレフィン重合体(A)は、プロトン性極性基を有する。プロトン性極性基を有することにより、環状オレフィン重合体(A)は、現像液(特には、後述するアルカリ現像液)に対する溶解性を有すると共に、2官能エポキシ化合物(B)により架橋されて所望の樹脂膜を形成することができる。
なお、環状オレフィン重合体(A)は、プロトン性極性基を1種のみ有していてもよく、2種以上有していてもよい。
そして、環状オレフィン重合体(A)に上述したプロトン性極性基を導入する方法は特に限定されない。すなわち、環状オレフィン重合体(A)は、例えば、プロトン性極性基を有する環状オレフィン単量体(a)に由来する繰り返し単位を含み、任意に、その他の単量体(b)に由来する繰り返し単位を含む重合体であってもよいし、プロトン性極性基を有しない環状オレフィン重合体に変性剤を用いてプロトン性極性基が導入されてなる重合体であってもよいが、前者が好ましい。
プロトン性極性基を有する環状オレフィン単量体(a)としては、上述したプロトン性極性基、および環状オレフィン構造を有する単量体であれば特に限定されないが、例えば、カルボキシル基を有する環状オレフィン単量体、水酸基を有する環状オレフィン単量体が好適に挙げられる。
カルボキシル基を有する環状オレフィン単量体としては、例えば、2-ヒドロキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-メチル-2-ヒドロキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-カルボキシメチル-2-ヒドロキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニル-2-メトキシカルボニルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニル-2-エトキシカルボニルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニル-2-プロポキシカルボニルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニル-2-ブトキシカルボニルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニル-2-ペンチルオキシカルボニルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニル-2-ヘキシルオキシカルボニルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニル-2-シクロヘキシルオキシカルボニルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニル-2-フェノキシカルボニルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニル-2-ナフチルオキシカルボニルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニル-2-ビフェニルオキシカルボニルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニル-2-ベンジルオキシカルボニルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニル-2-ヒドロキシエトキシカルボニルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2,3-ジヒドロキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニル-3-メトキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニル-3-エトキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニル-3-プロポキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニル-3-ブトキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニル-3-ペンチルオキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニル-3-ヘキシルオキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニル-3-シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニル-3-フェノキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニル-3-ナフチルオキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニル-3-ビフェニルオキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニル-3-ベンジルオキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニル-3-ヒドロキシエトキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニル-3-ヒドロキシカルボニルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、3-メチル-2-ヒドロキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、3-ヒドロキシメチル-2-ヒドロキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシカルボニルトリシクロ[5.2.1.02,6]デカ-3,8-ジエン、4-ヒドロキシカルボニルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-9-エン、4-メチル-4-ヒドロキシカルボニルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-9-エン、4,5-ジヒドロキシカルボニルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-9-エン、4-カルボキシメチル-4-ヒドロキシカルボニルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-9-エン、N-(ヒドロキシカルボニルメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-(ヒドロキシカルボニルエチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-(ヒドロキシカルボニルペンチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-(ジヒドロキシカルボニルエチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-(ジヒドロキシカルボニルプロピル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-(ヒドロキシカルボニルフェネチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-(2-(4-ヒドロキシフェニル)-1-(ヒドロキシカルボニル)エチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-(ヒドロキシカルボニルフェニル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドが挙げられる。
水酸基を有する環状オレフィン単量体としては、例えば、2-(4-ヒドロキシフェニル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-メチル-2-(4-ヒドロキシフェニル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、4-(4-ヒドロキシフェニル)テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-9-エン、4-メチル-4-(4-ヒドロキシフェニル)テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-9-エン、2-ヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-ヒドロキシエチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-メチル-2-ヒドロキシメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2,3-ジヒドロキシメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-(ヒドロキシエトキシカルボニル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-メチル-2-(ヒドロキシエトキシカルボニル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-(1-ヒドロキシ-1-トリフルオロメチル-2,2,2-トリフルオロエチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、2-(2-ヒドロキシ-2-トリフルオロメチル-3,3,3-トリフルオロプロピル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン、3-ヒドロキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカ-4,8-ジエン、3-ヒドロキシメチルトリシクロ[5.2.1.02,6]デカ-4,8-ジエン、4-ヒドロキシテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-9-エン、4-ヒドロキシメチルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-9-エン、4,5-ジヒドロキシメチルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-9-エン、4-(ヒドロキシエトキシカルボニル)テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-9-エン、4-メチル-4-(ヒドロキシエトキシカルボニル)テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-9-エン、N-(ヒドロキシエチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-(ヒドロキシフェニル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドが挙げられる。
そして、環状オレフィン重合体(A)中における環状オレフィン単量体(a)に由来する繰り返し単位の含有割合は、全繰り返し単位を100モル%として、10モル%以上であることが好ましく、20モル%以上であることがより好ましく、30モル%以上であることが更に好ましく、90モル%以下であることが好ましく、80モル%以下であることがより好ましく、70モル%以下であることが更に好ましい。環状オレフィン単量体(a)に由来する繰り返し単位の割合が10モル%以上であれば、現像残渣の発生を一層抑制することができ、90モル%以下であれば、環状オレフィン重合体(A)の溶剤への溶解性を十分に確保することができる。
その他の単量体(b)としては、上述した環状オレフィン単量体(a)と共重合可能な単量体であれば特に限定されない。環状オレフィン単量体(a)と共重合可能な単量体としては、プロトン性極性基以外の極性基を有する環状オレフィン単量体(b1)、極性基を有さない環状オレフィン単量体(b2)、および環状オレフィン以外の単量体(b3)が挙げられる。
プロトン性極性基以外の極性基を有する環状オレフィン単量体(b1)としては、例えば、N-置換イミド基、エステル基、シアノ基、酸無水物基、またはハロゲン原子を有する環状オレフィン単量体が挙げられる。
式(2)中、R2のアリール基としては、例えば、ベンジル基が挙げられる。
これらの中でも、環状オレフィン重合体(A)の溶剤への溶解性を向上させると共に、樹脂膜の耐熱性を十分に確保して、パターン化した際に熱による溶融でパターンが消失してしまうことを抑制する観点から、炭素原子数4以上14以下のアルキル基およびアリール基が好ましく、炭素原子数6以上10以下のアルキル基およびアリール基がより好ましい。
式(3)中、R4の炭素原子数1以上10以下の1価のハロゲン化アルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基およびパーフルオロペンチル基が挙げられる。
これら中でも、環状オレフィン重合体(A)の溶剤への溶解性を向上させる観点から、R4としては、メチル基およびエチル基が好ましい。
極性基を有さない環状オレフィン単量体(b2)としては、例えば、ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン(「ノルボルネン」ともいう。)、5-エチル-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-ブチル-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-エチリデン-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-メチリデン-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-ビニル-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカ-3,8-ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)、テトラシクロ[10.2.1.02,11.04,9]ペンタデカ-4,6,8,13-テトラエン、テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-4-エン(「テトラシクロドデセン」ともいう。)、9-メチル-テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-4-エン、9-エチル-テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-4-エン、9-メチリデン-テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-4-エン、9-エチリデン-テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-4-エン、9-ビニル-テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-4-エン、9-プロペニル-テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-4-エン、ペンタシクロ[9.2.1.13,9.02,10.04,8]ペンタデカ-5,12-ジエン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロペンタジエン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロオクタジエン、インデン、3a,5,6,7a-テトラヒドロ-4,7-メタノ-1H-インデン、9-フェニル-テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-4-エン、テトラシクロ[9.2.1.02,10.03,8]テトラデカ-3,5,7,12-テトラエン、ペンタシクロ[9.2.1.13,9.02,10.04,8]ペンタデカ-12-エンが挙げられる。
環状オレフィン以外の単量体(b3)としては、例えば、エチレン;プロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、3-メチル-1-ブテン、3-メチル-1-ペンテン、3-エチル-1-ペンテン、4-メチル-1-ペンテン、4-メチル-1-ヘキセン、4,4-ジメチル-1-ヘキセン、4,4-ジメチル-1-ペンテン、4-エチル-1-ヘキセン、3-エチル-1-ヘキセン、1-オクテン、1-デセン、1-ドデセン、1-テトラデセン、1-ヘキサデセン、1-オクタデセン、1-エイコセン等の炭素原子数3以上20以下のα-オレフィン;1,4-ヘキサジエン、1,5-ヘキサジエン、4-メチル-1,4-ヘキサジエン、5-メチル-1,4-ヘキサジエン、1,7-オクタジエン等の非共役ジエン、およびこれらの誘導体;が挙げられる。
そして、環状オレフィン重合体(A)中におけるその他の単量体(b)に由来する繰り返し単位の含有割合は、全繰り返し単位を100モル%として、10モル%以上であることが好ましく、20モル%以上であることがより好ましく、30モル%以上であることが更に好ましく、90モル%以下であることが好ましく、80モル%以下であることがより好ましく、70モル%以下であることが更に好ましい。その他の単量体(b)に由来する繰り返し単位の割合が10モル%以上であれば、環状オレフィン重合体(A)の溶剤への溶解性を十分に確保することができ、90モル%以下であれば、現像残渣の発生を一層抑制することができる。
プロトン性極性基を有する環状オレフィン重合体(A)を調製する方法は特に限定されず、例えば、以下の(i)および(ii)の方法:
(i)プロトン性極性基を有する環状オレフィン単量体(a)と、任意に使用されるその他の単量体(b)を含む単量体組成物を重合し、任意に、水素添加反応を行う方法、または
(ii)プロトン性極性基を有しない環状オレフィン重合体を、プロトン性極性基を有する変性剤を用いて変性する方法、
挙げられる。これらの中でも(i)の方法が好ましい。
環状オレフィン単量体(a)と、任意にその他の単量体(b)を含む単量体組成物を重合する方法は特に限定されず、既知の方法を用いることができる。具体的な重合方法としては、例えば、開環重合、付加重合が挙げられるが、開環重合が好ましい。すなわち、環状オレフィン重合体(a)は、開環重合体または付加重合体であることが好ましく、開環重合体であることがより好ましい。
なお、本発明において、「水素添加率」は、1H-NMRスペクトルを用いて測定することができる。
プロトン性極性基を有しない環状オレフィン重合体を調製する方法は特に限定されない。プロトン性極性基を有しない環状オレフィン重合体は、例えば、上述した単量体(b1)および(b2)のうち少なくとも一種と、必要に応じて単量体(b3)とを任意に組み合わせて、既知の方法で重合することによって得ることができる。そして、得られた重合体を、プロトン性極性基を有する変性剤を用いて変性する方法は、常法に従えばよく、通常、ラジカル発生剤の存在下で行われる。
なお、プロトン性極性基を有する変性剤としては、プロトン性極性基と反応性の炭素-炭素不飽和結合の双方を有する化合物を用いることができ、具体的には、国際公開第2015/141717号に記載されたものを用いることができる。
上述したように、本発明の感放射線樹脂組成物は、重量平均分子量の相異なる環状オレフィン重合体(A-1)と(A-2)を所定の量比で併用する。比較的低分子量である環状オレフィン重合体(A-1)と、比較的高分子量である環状オレフィン重合体(A-2)を後述する所定の量比で併用することで、それぞれを単独で使用した場合に比して樹脂膜の伸長性を向上させることができ、また、現像残渣の発生を十分に抑制することができる。なお、環状オレフィン重合体(A-1)と(A-2)を所定の量比で併用することにより樹脂膜の伸長性が向上する理由は明らかではないが、高分子量と低分子量の環状オレフィン重合体が所定の量比で混在して架橋されることで、伸長時に分子鎖の絡まりが解け難い架橋構造が形成されるためと推察される。
また、環状オレフィン重合体(A-2)の重量平均分子量は、10000以上100000以下であることが必要であり、13000以上であることが好ましく、15000以上であることがより好ましく、18000以上であることが更に好ましく、95000以下であることが好ましく、90000以下であることがより好ましく、70000以下であることが更に好ましく、50000以下であることが特に好ましい。環状オレフィン重合体(A-2)の重量平均分子量が10000未満であると樹脂膜の伸長性を確保できず、100000超であると、現像残渣の発生を十分に抑制することができない。
なお、環状オレフィン重合体(A)の重量平均分子量は、合成条件(例えば、分子量調節剤の量)を調整することにより、所望の範囲に制御することができる。
また、環状オレフィン重合体(A-1)および(A-2)の分子量分布(重量平均分子量/数平均分子量)は、それぞれ、4以下であることが好ましく、3以下であることがより好ましく、2.5以下であることが更に好ましい。環状オレフィン重合体(A-1)および(A-2)の分子量分布がそれぞれ4以下であれば、重量平均分子量の相異なる二種の環状オレフィン重合体(A)を併用した効果が十分に発揮され、現像残渣の発生を十分に抑制すると共に、樹脂膜の伸長性を更に向上させることができる。
なお、環状オレフィン重合体(A)の分子量分布は、例えば、特開2006-307155号公報に記載された方法により、低下させることができる。
そして、環状オレフィン重合体(A-2)の含有量は、環状オレフィン重合体(A-1)と環状オレフィン重合体(A-2)の合計含有量の5質量%以上55質量%以下であることが必要であり、7質量%以上であることが好ましく、10質量%以上であることがより好ましく、12質量%以上であることが更に好ましく、15質量%以上であることが特に好ましく、45質量%以下であることが好ましく、40質量%以上であることがより好ましく、35質量%以下であることが更に好ましい。環状オレフィン重合体(A-1)と(A-2)の合計含有量中に占める環状オレフィン重合体(A-2)の含有量の割合が5質量%未満であると樹脂膜の伸長性を確保できず、55質量%超であると、現像残渣の発生を十分に抑制することができず、また樹脂膜の伸長性が低下する。
2官能エポキシ化合物(B)は、一分子中に2つのエポキシ基を有する化合物である。2官能エポキシ化合物(B)は、本発明の感放射線樹脂組成物において、環状オレフィン重合体(A)を架橋する架橋剤として作用する。そして、2官能エポキシ化合物(B)を架橋剤として使用することで、例えば、架橋剤として3官能以上のエポキシ化合物のみを使用した場合に比して、得られる架橋構造中で環状オレフィン重合体(A)が比較的高い自由度を保持し、結果として得られる樹脂膜の伸長性の向上に寄与しうる。
なお、2官能エポキシ化合物(B)は、1種を単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
そして、2官能エポキシ化合物(B)としては、特に限定されないが、樹脂膜の伸長性を更に向上させる共に、当該樹脂膜の引張弾性率を低下させて樹脂膜を備える基板の反りを抑制する観点からは、下記式(1)で示される2官能エポキシ官能物が好ましい。
2官能エポキシ化合物(B)は、樹脂膜の伸長性を更に向上させつつ引張弾性率を一層低下させる観点から、エポキシ当量が、100以上1000以下であることが好ましく、200以上800以下であることがより好ましく、300以上600以下であることが更に好ましい。なお、「エポキシ当量」は、例えば、JIS K 7236「エポキシ樹脂のエポキシ当量の求め方」に従って測定することができる。
本発明の感放射線樹脂組成物中における2官能エポキシ化合物(B)の含有量は、環状オレフィン重合体(A)(すなわち、環状オレフィン重合体(A-1)と(A-2)の合計)100質量部当たり、8質量部以上であることが好ましく、15質量部以上であることがより好ましく、25質量部以上であることが更に好ましく、150質量部以下であることが好ましく、100質量部以下であることがより好ましく、80質量部以下であることが更に好ましい。環状オレフィン重合体(A)100質量部当たりの2官能エポキシ化合物(B)の含有量が8質量部以上であれば、樹脂膜の伸長性を更に向上させることができ、150質量部以下であれば、樹脂膜の耐熱性が十分に確保され、パターン化した際に、熱による溶融でパターンが消失してしまうことを抑制できる。
感放射線化合物(C)は、活性放射線の照射により、化学反応を引き起こすことのできる化合物である。具体的に、現像液としてアルカリ現像液を使用する場合は、露光膜のアルカリ現像液に対する溶解性を向上させるべく、感放射線化合物(C)として、光酸発生剤を使用することが好ましい。なお、感放射線化合物(C)は、1種を単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
光酸発生剤としては、例えば、アジド化合物(キノンジアジド化合物など)、オニウム塩化合物、ハロゲン化有機化合物、α,α’-ビス(スルホニル)ジアゾメタン系化合物、α-カルボニル-α’-スルホニルジアゾメタン系化合物、スルホン化合物、有機酸エステル化合物、有機酸アミド化合物、有機酸イミド化合物、アセトフェノン化合物、トリアリールスルホニウム塩が挙げられるが、アジド化合物が好ましく、キノンジアジド化合物がより好ましい。
上記エステル化合物の調製に用いるキノンジアジドスルホン酸ハライドとしては、例えば、1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸クロライド、1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸クロライド、1,2-ベンゾキノンジアジド-5-スルホン酸クロライドが挙げられる。
上記エステル化合物の調製に用いるフェノール性水酸基を有する化合物としては、例えば、1,1,3-トリス(2,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)-3-フェニルプロパン、4,4’-[1-[4-[1-[4-ヒドロキシフェニル]-1-メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール、2,3,4-トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン、トリス(4-ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,1-トリス(4-ヒドロキシ-3-メチルフェニル)エタン、1,1,2,2-テトラキス(4-ヒドロキシフェニル)エタン、ノボラック樹脂のオリゴマー、フェノール性水酸基を1つ以上有する化合物とジシクロペンタジエンとを共重合して得られるオリゴマーが挙げられる。
本発明の感放射線樹脂組成物中における感放射線化合物(C)の含有量は、環状オレフィン重合体(A)(すなわち、環状オレフィン重合体(A-1)と(A-2)の合計)100質量部当たり、10質量部以上であることが好ましく、15質量部以上であることがより好ましく、25質量部以上であることが更に好ましく、100質量部以下であることが好ましく、70質量部以下であることがより好ましく、50質量部以下であることが更に好ましい。感放射線化合物(C)の含有量が環状オレフィン重合体(A)100質量部当たり10質量部以上であれば、活性放射線の照射により露光領域中の環状オレフィン重合体(A)の現像液に対する溶解性が十分に高まり、現像残渣の発生を一層抑制することができる。一方、環状オレフィン重合体(A)100質量部当たりの感放射線化合物(C)の含有量が100質量部以下であれば、意に反して未露光領域中の環状オレフィン重合体(A)の現像液に対する溶解性が高まることもなく、解像度に優れるパターン形状を形成することができる。
本発明の感放射線樹脂組成物は、溶剤を含有していてもよい。即ち、本発明の感放射線樹脂組成物は、溶剤中に、環状オレフィン重合体(A-1)、環状オレフィン重合体(A-2)、2官能エポキシ化合物(B)、感放射線化合物(C)、および任意に添加されるその他の配合剤が、溶解および/または分散してなる、感放射線樹脂液であってもよい。
溶剤としては、特に限定されず、樹脂組成物の溶剤として既知のもの、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、2-ヘキサノン、3-ヘキサノン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン、4-ヘプタノン、2-オクタノン、3-オクタノン、4-オクタノンなどの直鎖のケトン類;n-プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n-ブチルアルコール、シクロヘキサノールなどのアルコール類;エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのアルコールエーテル類;ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチルなどのエステル類;セロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテートなどのセロソルブエステル類;プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルなどのプロピレングリコール類;ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルなどのジエチレングリコール類;γ-ブチロラクトン、γ-バレロラクトン、γ-カプロラクトン、γ-カプリロラクトンなどの飽和γ-ラクトン類;トリクロロエチレンなどのハロゲン化炭化水素類;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチルアセトアミドなどのその他の極性溶媒;が挙げられる。
溶剤は、1種を単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。なお、本発明の感放射線樹脂組成物中における溶剤の含有量は、環状オレフィン重合体(A)(すなわち、環状オレフィン重合体(A-1)と(A-2)の合計)100質量部当たり、好ましくは10質量部以上10000質量部以下、より好ましくは50質量部以上5000質量部以下、更に好ましくは100質量部以上1000質量部以下の範囲である。
本発明の感放射線樹脂組成物は、上述した成分以外の配合剤を含有していてもよい。その他の配合剤としては、例えば、2官能エポキシ化合物(B)以外の架橋剤(その他の架橋剤)、シランカップリング剤、アラルキルフェノール樹脂、酸性基または熱潜在性酸性基を有する化合物、界面活性剤、酸化防止剤、増感剤、光安定剤、消泡剤、顔料、染料、フィラーが挙げられる。そしてこれらの中でも、本発明の感放射線樹脂組成物は、その他の架橋剤、シランカップリング剤、アラルキルフェノール樹脂を含むことが好ましい。なお、その他の配合剤は、1種を単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
2官能エポキシ化合物(B)以外の架橋剤としては、3官能以上の(即ち、一分子中にエポキシ基を3つ以上有する)エポキシ基含有架橋剤、オキセタン基含有架橋剤、イソシアネート基含有架橋剤、ブロックイソシアネート基含有架橋剤、オキサゾリン基含有架橋剤、マレイミド基含有架橋剤、(メタ)アクリレート基含有架橋剤、アルコキシメチル基を2つ以上有する化合物(アルコキシメチル基含有架橋剤)、メチロール基を2つ以上有する化合物(メチロール基含有架橋剤)が挙げられる。これらの中でも、樹脂膜の低吸湿性および耐薬品性を向上させる観点から、アルコキシメチル基を2つ以上有する化合物、メチロール基を2つ以上有する化合物が好ましい。
なお、本発明において、「(メタ)アクリレート」とは、アクリレートおよび/またはメタクリレートを意味する。
アルコキシメチル基を2つ以上有する化合物としては、例えば、2つ以上のアルコキシメチル基が芳香環に直接結合してなるフェノール化合物、アミノ基が2つ以上のアルコキシメチル基で置換されてなるメラミン化合物、2つ以上のアルコキシメチル基で置換されてなるウレア化合物が挙げられる。
メチロール基を2つ以上有する化合物としては、例えば、2つ以上のメチロール基が芳香環に直接結合してなるフェノール化合物が挙げられる。
そして、2つ以上のメチロール基が芳香環に直接結合してなるフェノール化合物としては、2,4-2,4-ジヒドロキシメチル-6-メチルフェノール、2,6-ビス(ヒドロキシメチル)-p-クレゾール、4-ターシャリー-2,6-ビス(ヒドロキシメチル)フェノール、ビス(2-ヒドロキシ-3-ヒドロキシメチル-5-メチルフェニル)メタン(商品名「DM-BIPC-F」、旭有機材社製)、ビス(4-ヒドロキシ-3-ヒドロキシメチル-5-メチルフェニル)メタン(商品名「DM-BIOC-F」、旭有機材社製)、2,2-ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジヒドロキシメチルフェニル)プロパン(商品名「TM-BIP-A」、旭有機材社製)などが挙げられる。
本発明の感放射線樹脂組成物中における、2官能エポキシ化合物(B)以外の架橋剤の含有量は、環状オレフィン重合体(A)(すなわち、環状オレフィン重合体(A-1)と(A-2)の合計)100質量部当たり、好ましくは1質量部以上80質量部以下、より好ましくは5質量部以上75質量部以下、更に好ましくは10質量部以上70質量部以下である。2官能エポキシ化合物(B)以外の架橋剤の含有量を上述した範囲内とすることにより、樹脂膜の低吸湿性および耐薬品性を向上させることができる。
本発明の感放射線樹脂組成物にシランカップリング剤を配合することで、樹脂膜の金属に対する密着性を向上させることができる。シランカップリング剤としては、特に限定されないが、例えば、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基などの反応性の官能基を有するシラン化合物が挙げられる。
本発明の感放射線樹脂組成物中における、シランカップリング剤の含有量は、環状オレフィン重合体(A)(すなわち、環状オレフィン重合体(A-1)と(A-2)の合計)100質量部当たり、好ましくは0.01質量部以上100質量部以下、より好ましくは0.1質量部以上50質量部以下、更に好ましくは0.5質量部以上20質量部以下である。シランカップリング剤の含有量を上述した範囲内とすることにより、樹脂膜の金属に対する密着性を更に向上させることができる。
本発明の感放射線樹脂組成物にアラルキルフェノール樹脂を配合することで、樹脂膜の金属に対する密着性を向上させることができる。アラルキルフェノール樹脂をとしては、特に限定されないが、例えば国際公開第2015/141717号に記載のものを用いることができる。
本発明の感放射線樹脂組成物の調製方法は、特に限定されず、感放射線樹脂組成物を構成する各成分を混合すればよい。
具体的には、本発明の感放射線樹脂組成物は、上述したプロトン性極性基を有する環状オレフィン重合体(A-1)と、プロトン性極性基を有する環状オレフィン重合体(A-2)と、2官能エポキシ化合物(B)と、感放射線化合物(C)と、任意に用いられるその他の配合剤とを、上述した溶剤中で混合することで、溶剤に溶解または分散して得ることが好ましい。この操作により、感放射線樹脂組成物は、溶液または分散液の形態で(即ち、感放射線樹脂液として)得られる。
上記混合は、特に限定されず、既知の混合機を用いて行う。また、混合後に既知の方法でろ過をおこなってもよい。
そして、本発明の感放射線樹脂組成物である感放射線樹脂液の固形分濃度は、通常、1質量%以上70質量%以下、好ましくは5質量%以上60質量%以下、より好ましくは10質量%以上50質量%以下である。固形分濃度が上述した範囲内であれば、感放射線樹脂液の溶解安定性および塗布性、並びに形成される樹脂膜の膜厚均一性および平坦性等が高度にバランスされ得る。
本発明の電子部品は、上述した本発明の感放射線樹脂組成物からなる樹脂膜を備える。そして、本発明の電子部品は、本発明の感放射線樹脂組成物から形成された現像残渣が十分に少なく且つ伸長性に優れた樹脂膜を備えているため、高性能である。
本発明の電子部品としては、特に限定されないが、本発明の感放射線樹脂組成物からなる樹脂膜が、現像残渣が十分に少なく且つ伸長性に優れたものであることから、ウェハレベルパッケージ技術によって製造される電子部品が好適である。特に、本発明の感放射線樹脂組成物からなる樹脂膜が、ウェハレベルパッケージ技術によって製造される電子部品において、層状に配置される配線の間を絶縁するための層間絶縁膜(再配線用層間絶縁膜など)を形成するものとして用いられたものであることがより好適である。
樹脂膜を備える電子部品を製造する方法は特に限定されない。例えば、半導体素子が実装されたシリコンウェハ等の基板上に樹脂膜を形成し、当該樹脂膜が形成された基板を、電子部品として用いることで、または電子部品に組み込むことで、樹脂膜を備える電子部品を製造することができる。
そして、基板上に樹脂膜を形成する方法は、特に限定されない。樹脂膜は、例えば、溶剤を含む感放射線樹脂組成物(即ち、感放射線樹脂液)を用いて、基板上に感放射線性膜を形成する工程(感放射線性膜形成工程)と、感放射線性膜に活性放射線を照射して露光膜を得る工程(露光工程)と、露光膜を現像して現像膜を得る工程(現像工程)と、現像膜を架橋して樹脂膜を得る工程(架橋工程)とを経て製造することができる。
感放射線樹脂液を用いて基板上に感放射線性膜を形成する方法は、特に限定されず、例えば、塗布法やフィルム積層法等の方法を用いることができる。
塗布法は、感放射線樹脂液を基板上に塗布した後、加熱乾燥により溶剤を除去して感放射線性膜を形成する方法である。感放射線樹脂液を塗布する方法としては、例えば、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法、ダイコート法、ドクターブレード法、回転塗布法、スリットコート法、バー塗布法、スクリーン印刷法、インクジェット法等の各種の方法を採用することができる。加熱乾燥条件は、各成分の種類や配合割合に応じて異なるが、加熱温度は、通常、30~150℃、好ましくは60~130℃であり、加熱時間は、通常、0.5~90分間、好ましくは1~60分間、より好ましくは1~30分間である。
フィルム積層法は、感放射線樹脂液を感放射線性膜形成用基材(樹脂フィルムや金属フィルム等)上に塗布した後、加熱乾燥により溶剤を除去して感放射線性膜を得、次いで、得られた感放射線性膜を基板上に積層する方法である。加熱乾燥条件は、各成分の種類や配合割合に応じて適宜選択することができるが、加熱温度は、通常、30~150℃であり、加熱時間は、通常、0.5~90分間である。感放射線性膜の基板上への積層は、加圧ラミネータ、プレス、真空ラミネータ、真空プレス、ロールラミネータ等の圧着機を用いて行なうことができる。
次いで、上述の感放射線性膜形成工程で形成した感放射線性膜に活性放射線を照射して、潜像パターンを有する露光膜を得る。
活性放射線としては、感放射線性膜に含有される感放射線化合物(C)を活性化させて、露光領域における環状オレフィン重合体(A)の現像液に対する溶解性(特には、アルカリ現像液に対する溶解性)を向上させうるものであれば特に限定されない。具体的には、紫外線(g線やi線等の単一波長の紫外線を含む)、KrFエキシマレーザー光、およびArFエキシマレーザー光に例示される光線;電子線に例示される粒子線;等を用いることができる。
なお、活性放射線として光線を用いる場合は、単一波長光であっても、混合波長光であってもよい。
上述した活性放射線を、選択的にパターン状に照射して潜像パターンを形成する方法としては、常法に従えばよく、例えば、縮小投影露光装置等により、紫外線、KrFエキシマレーザー光、およびArFエキシマレーザー光等の光線を所望のマスクパターンを介して照射する方法、または、電子線等の粒子線により描画する方法を用いることができる。
照射条件は、使用する活性放射線に応じて適宜選択されるが、例えば、波長200~450nmの光線を使用する場合、照射量は、通常10~5,000mJ/cm2、好ましくは50~1,500mJ/cm2の範囲であり、照射時間と照度に応じて決まる。
なお、活性放射線を照射した後、得られた露光膜に対して、必要に応じて、60~150℃程度の温度で1~10分間程度、加熱処理を施してもよい。
次に、上述の露光工程において露光膜に形成された潜像パターンを、現像液により現像して顕在化し、現像膜を得る。
現像液としては、アルカリ現像液を用いることができる。アルカリ現像液は、アルカリ性化合物を水性媒体に溶解させて得ることができる。
アルカリ現像液の水性媒体としては、水;メタノール、エタノール等の水溶性有機溶剤を使用することができる。
またアルカリ現像液は、界面活性剤等を適当量添加したものであってもよい。
潜像パターンを有する露光膜に現像液を接触させる方法としては、例えば、パドル法、スプレー法、ディッピング法等の方法が用いられる。また、現像温度は、通常、0~100℃、好ましくは5~55℃、より好ましくは10~30℃の範囲で適宜選択され、現像時間は、通常、30~180秒間の範囲で適宜選択される。
更に、必要に応じて、現像膜中に残存する感放射線化合物(C)を失活させるために、現像膜に活性放射線を照射することもできる。活性放射線の照射には、「露光工程」で上述した方法を使用することができる。なお、活性放射線の照射と同時に、または活性放射線の照射後に現像膜を加熱してもよい。加熱方法としては、例えば、電子部品をホットプレートやオーブン内で加熱する方法が挙げられる。加熱温度は、通常、80~300℃、好ましくは100~200℃の範囲である。
そして、上述の現像工程でパターン化された現像膜を架橋して、パターン化された樹脂膜を得る。
架橋の方法は、感放射線樹脂液に含有させた2官能エポキシ化合物(B)等の架橋剤の種類に応じて適宜方法を選択すればよいが、通常、加熱により行なう。
加熱方法は、例えば、ホットプレート、オーブン等を用いて行なうことができる。加熱温度は、通常、150~250℃であり、加熱時間は、現像膜の面積や厚さ、使用機器等により適宜選択され、例えばホットプレートを用いる場合は、通常、5~120分間、オーブンを用いる場合は、通常、30~150分間の範囲である。また、加熱は、必要に応じて不活性ガス雰囲気下で行ってもよい。不活性ガスとしては、酸素を含まず、かつ、現像膜を酸化させないものであればよく、例えば、窒素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、キセノン、クリプトン等が挙げられる。これらの中でも窒素とアルゴンが好ましく、特に窒素が好ましい。特に、酸素含有量が0.1体積%以下、好ましくは0.01体積%以下の不活性ガス、特に窒素が好適である。これらの不活性ガスは、1種を単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
実施例および比較例において、引張伸び率および引張弾性率、並びに現像残渣抑制の項目は、以下のようにして評価した。
スパッタリング装置を用いて、アルミニウム薄膜が100nmの膜厚で形成されたシリコンウェハ上に、各実施例および各比較例において作製した感放射線樹脂液をスピンコートした後、ホットプレートを用いて120℃で2分間加熱した。次いで、窒素雰囲気下、180℃で60分間の条件で硬化させることで、膜厚10μmの硬化膜を片面に備える積層体を得た。
得られた積層体を0.5mol/Lの塩酸水溶液に浸漬し、シリコンウェハと硬化膜の間に位置するアルミニウム薄膜を塩酸水溶液にて溶解させることで硬化膜をシリコンウェハから剥離した。次いで剥離した硬化膜を水洗し、乾燥した。乾燥後の硬化膜を5mm×50mmを切り出して試験片とし、この試験片について引張試験を行うことで、引張伸び率と引張弾性率を測定した。具体的には、オートグラフ(島津製作所社製、「AGS-5kNG」)を用いて、チャック間距離20mm、引張速度2mm/分、測定温度23℃の条件にて引張試験を行うことで、試験片の引張伸び率(%)と引張弾性率(GPa)を測定した。上記硬化膜からそれぞれ5つの試験片を切り出し、各試験片について測定した値の平均値をそれぞれ以下の基準で評価した。なお、感放射線樹脂液から形成される硬化膜の引張伸び率が高いほど、当該感放射線樹脂液から形成される樹脂膜が、温度サイクル試験や落下衝撃試験の際にクラックや剥離を生じ難いため、好ましい。また、感放射線樹脂液から形成される硬化膜の引張弾性率が低いほど、当該感放射線樹脂液から形成される樹脂膜を備える基板の反りの発生が抑制できるため、好ましい。
[引張伸び率]
A:引張伸び率が20%以上
B:引張伸び率が10%以上20%未満
C:引張伸び率が10%未満
[引張弾性率]
A:引張弾性率が2GPa未満
B:引張弾性率が2GPa以上、2.2GPa未満
C:引張弾性率が2.2GPa以上
<現像残渣抑制>
シリコンウェハ上に、各実施例および各比較例において作製した感放射線樹脂液をスピンコートした後、ホットプレートを用いて120℃で2分間プリベークして、厚さ10μmの感放射線性膜を形成した。次いで、g線(436nm)、h線(405nm)、およびi線(365nm)の波長の光を発する高圧水銀ランプを用い、400mJ/cm2にて露光を行った。そして、露光膜を23℃の2.38%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(アルカリ現像液)にて3分間浸漬して現像し、次いで超純水で30秒間リンスを行った後、露光膜の状況を目視にて観察し、以下の基準で評価した。現像により不溶解または膨潤が発生しないものが、現像残渣の発生が有効に抑えられるため、好ましい。
A:露光膜が完全に溶解した。
B:露光膜が一部溶解したが、一部が不溶解または膨潤により残存した。
C:露光膜全体が不溶解または膨潤して残存した。
<環状オレフィン重合体(A-1)の調製>
N-フェニル-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド(NBPI)40モル%および4-ヒドロキシカルボニルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-9-エン(TCDC)60モル%からなる単量体混合物100質量部、1,5-ヘキサジエン2.0質量部、(1,3-ジメシチルイミダゾリン-2-イリデン)(トリシクロヘキシルホスフィン)ベンジリデンルテニウムジクロリド(「Org.Lett.,第1巻,953頁,1999年」に記載された方法で合成した)0.02質量部、並びにジエチレングリコールエチルメチルエーテル200質量部を、窒素置換したガラス製耐圧反応器に仕込み、攪拌しつつ80℃にて4時間反応させて重合反応液を得た。
そして、得られた重合反応液をオートクレーブに入れて、150℃、水素圧4MPaで、5時間攪拌して水素化反応を行い、環状オレフィン重合体(A-1)を含む重合体溶液を得た。得られた環状オレフィン重合体(A-1)の重合転化率は99.7質量%、ポリスチレン換算重量平均分子量は7150、数平均分子量は4690、分子量分布は1.52、水素添加率は、99.7モル%であった。また、得られた環状オレフィン重合体(A-1)の重合体溶液の固形分濃度は34.4質量%であった。
<環状オレフィン重合体(A-2)の調製>
N-フェニル-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド(NBPI)16モル%、N-(2-エチルヘキシル)-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド(NEHI)16モル%、および4-ヒドロキシカルボニルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-9-エン(TCDC)68モル%からなる単量体混合物100質量部、1-ヘキセン1.0質量部、(1,3-ジメシチルイミダゾリン-2-イリデン)(トリシクロヘキシルホスフィン)ベンジリデンルテニウムジクロリド(「Org.Lett.,第1巻,953頁,1999年」に記載された方法で合成した)0.06質量部、並びにジエチレングリコールエチルメチルエーテル300質量部を、窒素置換したガラス製耐圧反応器に仕込み、攪拌しつつ80℃にて4時間反応させて重合反応液を得た。
そして、得られた重合反応液をオートクレーブに入れて、150℃、水素圧4MPaで、5時間攪拌して水素化反応を行い、環状オレフィン重合体(A-2)を含む重合体溶液を得た。得られた環状オレフィン重合体(A-2)の重合転化率は99.3質量%、ポリスチレン換算重量平均分子量は20600、数平均分子量は11500、分子量分布は1.79、水素添加率は、99.8モル%であった。また、得られた環状オレフィン重合体(A-2)の重合体溶液の固形分濃度は25.3質量%であった。
<感放射性樹脂液の調製>
環状オレフィン重合体(A)としての環状オレフィン重合体(A-1)の重合体溶液を固形分相当で90部および環状オレフィン重合体(A-2)の重合体溶液を固形分相当で10部、2官能エポキシ化合物(B)としての2官能直鎖エポキシ化合物(商品名「jER YX7400」、三菱化学社製、エポキシ当量:440、軟化点:25℃以下(常温で液体)、式(1)において、R1=-C4H8-、k=約10である化合物)45部、感放射線化合物(C)としての4,4’-[1-[4-[1-[4-ヒドロキシフェニル]-1-メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール(1.0モル部)と1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸クロライド(2.0モル部)との縮合物(商品名「TS200」、東洋合成社製、キノンジアジド化合物)40部、その他の架橋剤としての脂肪族環状4官能エポキシ樹脂(商品名「エポリード GT401」、ダイセル社製、ブタンテトラカルボン酸テトラ(3,4-エポキシシクロヘキシルメチル)修飾ε-カプロラクトン)7.5部およびアルコキシメチル基を2つ以上有する化合物(商品名「ニカラックMW-100LM」、N,N,N’,N’,N’’,N’’-ヘキサメトキシメチルメラミン)10部、硬化剤としてのアラルキルフェノール樹脂(商品名「KAYAHARD GPH-65」、日本化薬社製、軟化点:65℃、水酸基当量:198g/eq)25部、シランカップリング剤としてのN-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン(商品名「KBM-573」、信越シリコーン社製)1部およびγ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(商品名「Z6040」、東レ・ダウコーニング社製)4部、並びに溶剤としてのジエチレングリコールエチルメチルエーテル160部を混合した後、孔径0.45μmのポリテトラフルオロエチレン製フィルターでろ過して感放射線樹脂組成物としての感放射性樹脂液を調製した。得られた感放射性樹脂液を用いて各種評価を行った。結果を表1に示す。
環状オレフィン重合体(A-1)および環状オレフィン重合体(A-2)の配合量を表1のように変更した以外は、実施例1と同様にして、感放射線樹脂組成物としての感放射性樹脂液を調製した。得られた感放射性樹脂液を用いて各種評価を行った。結果を表1に示す。
環状オレフィン重合体(A-1)および環状オレフィン重合体(A-2)の配合量を表1のように変更した以外は、実施例1と同様にして、感放射線樹脂組成物としての感放射性樹脂液を調製した。得られた感放射性樹脂液を用いて各種評価を行った。結果を表1に示す。
環状オレフィン重合体(A-1)および環状オレフィン重合体(A-2)の配合量を表1のように変更すると共に、2官能直鎖エポキシ化合物および脂肪族環状4官能エポキシ樹脂の配合量を表1のように変更した以外は、実施例1と同様にして、感放射線樹脂組成物としての感放射性樹脂液を調製した。得られた感放射性樹脂液を用いて各種評価を行った。結果を表1に示す。
一方、環状オレフィン重合体(A)として低分子量である環状オレフィン重合体(A-1)を単独で用いた比較例1の感放射線樹脂組成物では、樹脂膜の優れた伸長性を確保できないことが分かる。
また、実施例1~4に比して、低分子量である環状オレフィン重合体(A-1)が少なく、高分子量である環状オレフィン重合体(A-2)が多い比較例2の感放射線樹脂組成物では、樹脂膜の優れた伸長性を確保できず、また現像残渣の生成を十分に抑制することができないことが分かる。
そして、環状オレフィン重合体(A)として高分子量である環状オレフィン重合体(A-2)を単独で用いた比較例3の感放射線樹脂組成物では、現像残渣の生成を十分に抑制することができないことが分かる。
更に、環状オレフィン重合体(A)として高分子量である環状オレフィン重合体(A-2)を単独で用いると共に、実施例1~4に比して、2官能エポキシ化合物(B)を増量した比較例4の感放射線樹脂組成物では、2官能エポキシ化合物(B)の増量により樹脂膜の伸長性をある程度確保できることが分かる。しかしながら、比較例4の感放射線樹脂組成物を用いても、樹脂膜の現像残渣の生成を十分に抑制することができないことが分かる。
また、本発明によれば、高性能な電子部品を提供することができる。
Claims (7)
- プロトン性極性基を有する環状オレフィン重合体(A-1)、プロトン性極性基を有する環状オレフィン重合体(A-2)、2官能エポキシ化合物(B)、および感放射線化合物(C)を含有する感放射線樹脂組成物であって、
前記環状オレフィン重合体(A-1)の重量平均分子量が1000以上10000未満であり、前記環状オレフィン重合体(A-2)の重量平均分子量が10000以上100000以下であり、
そして、前記環状オレフィン重合体(A-2)の含有量が、前記環状オレフィン重合体(A-1)と前記環状オレフィン重合体(A-2)の合計含有量の5質量%以上55質量%以下である、感放射線樹脂組成物。 - 前記2官能エポキシ化合物(B)の含有量が、前記環状オレフィン重合体(A-2)100質量部当たり150質量部以上である、請求項1または2に記載の感放射線樹脂組成物。
- アルコキシメチル基を2つ以上有する化合物とメチロール基を2つ以上有する化合物の少なくとも一方を更に含有する、請求項1~3の何れかに記載の感放射線樹脂組成物。
- シランカップリング剤を更に含有する、請求項1~4の何れかに記載の感放射線樹脂組成物。
- アラルキルフェノール樹脂を更に含有する、請求項1~5の何れかに記載の感放射線樹脂組成物。
- 請求項1~6の何れかに記載の感放射線樹脂組成物からなる樹脂膜を備える、電子部品。
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