WO2018142959A1 - 光学フィルム、製造方法、及び多層フィルム - Google Patents

光学フィルム、製造方法、及び多層フィルム Download PDF

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壮悟 幸本
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Definitions

  • the present invention relates to an optical film, a method for producing the same, and a multilayer film including the optical film.
  • a resin optical film is widely provided in a display device such as a liquid crystal display device or an organic electroluminescence display device.
  • a touch-sensitive sensor is configured by providing a flexible resin optical film on the surface thereof.
  • Such optical films are required to have characteristics such as heat resistance and flexibility. It has been proposed to use a crystallized resin containing an alicyclic structure-containing polymer as a film having such characteristics (for example, Patent Documents 1 and 2).
  • the optical film incorporated in the display device is required to have adhesiveness, that is, an ability to easily achieve adhesion with other components of the device.
  • adhesiveness that is, an ability to easily achieve adhesion with other components of the device.
  • an optical film constituting a touch sensor is required to be able to adhere to other elements constituting the touch sensor with high peel strength in order to increase the durability of the device itself.
  • the conventional film using a resin containing a crystallized alicyclic structure-containing polymer it is difficult to ensure high adhesiveness as described above, and delamination tends to occur.
  • an object of the present invention is to provide an optical film having high heat resistance, high flexibility and high adhesiveness, and a production method capable of easily producing the optical film, and also having high heat resistance and high flexibility.
  • Another object of the present invention is to provide a multi-layer film having high durability and suppressing occurrence of delamination and having high durability.
  • the present inventor has determined that the crystallinity of the crystallized resin of the optical film mainly composed of the crystallized resin containing the alicyclic structure-containing polymer is 30% or more.
  • the present inventor easily obtains an optical film having the above-described characteristics by plasma-treating a crystallized resin film obtained by crystallizing a crystalline resin film containing an alicyclic structure-containing polymerization. I found out that I can do it.
  • the present invention has been completed based on these findings. According to the present invention, the following is provided.
  • An optical film mainly composed of a crystallized resin containing an alicyclic structure-containing polymer, The crystallinity of the crystallized resin is 30% or more, An optical film having an arithmetic average roughness of at least one surface of 2.5 nm or less.
  • the composition ratio of the oxygen element to the carbon element in the surface layer of at least one surface is 1/10 or more, And the optical film as described in [1] whose composition ratio of the nitrogen element with respect to a carbon element is 1/20 or less.
  • the total surface free energy is 70 mN / m or more, the surface free energy of the dispersion component is 40 mN / m or less, the surface free energy of the polarization component is 25 mN / m or more, and the surface free energy of the hydrogen bonding component is 10 mN / m or more.
  • [4] The method for producing an optical film according to any one of [1] to [3], Crystallization of a crystalline resin film containing an alicyclic structure-containing polymer to obtain a crystallized resin film; A plasma treatment step of performing a plasma treatment of the crystallized resin film.
  • the plasma treatment is performed in a gas atmosphere, The gas contains nitrogen gas, and contains one or more gases selected from oxygen gas and carbon dioxide gas, The method for producing an optical film according to [4] or [5], wherein a weight ratio of oxygen to nitrogen in the gas is 5.50 ⁇ 10 ⁇ 3 or more and 1.30 ⁇ 10 ⁇ 1 or less.
  • the plasma treatment is performed in a gas atmosphere, The gas includes nitrogen gas and oxygen gas, The method for producing an optical film according to any one of [4] to [6], wherein a weight ratio of oxygen to nitrogen in the gas is 5.50 ⁇ 10 ⁇ 3 or more and 3.50 ⁇ 10 ⁇ 2 or less.
  • the plasma treatment is performed in a gas atmosphere,
  • the gas includes nitrogen gas and carbon dioxide gas
  • the optical film of the present invention has high heat resistance, high flexibility, and high adhesiveness. According to the method for producing an optical film of the present invention, such an optical film can be easily produced.
  • the multilayer film of the present invention has high heat resistance, high flexibility, and high adhesiveness, suppresses the occurrence of delamination, and has high durability.
  • the “long” film refers to a film having a length of 5 times or more with respect to the width, preferably a length of 10 times or more, specifically a roll shape.
  • the upper limit of the ratio of the length with respect to the width of a film is not specifically limited, For example, it can be 100,000 times or less.
  • the directions of the elements “parallel”, “vertical”, and “orthogonal” include errors within a range that does not impair the effects of the present invention, for example, ⁇ 5 °, unless otherwise specified. You may go out.
  • the optical film of the present invention is mainly composed of a crystallized resin containing an alicyclic structure-containing polymer, and the crystallinity of the crystallized resin is 30% or more.
  • the arithmetic average roughness of at least one surface is 2.5 nm or less.
  • the “main component” means that the content is 50% by weight or more of the whole (the same applies hereinafter).
  • the optical film of the present invention may contain an optional component other than the crystallized resin, and may be composed of only the crystallized resin. That is, the upper limit of the ratio of the crystallized resin in the optical film can be 100% by weight.
  • the crystallinity of the crystallized resin is 30% or more, preferably 50% or more, more preferably 60% or more.
  • the upper limit of crystallinity is ideally 100%, but can usually be 90% or less, or 80% or less.
  • the degree of crystallinity is an index indicating the proportion of the crystallized alicyclic structure-containing polymer contained in the optical film.
  • the optical film includes a crystalline alicyclic structure-containing polymer in which 30% or more thereof is crystallized.
  • the crystallinity of the alicyclic structure-containing polymer contained in the optical film can be measured by an X-ray diffraction method. Specifically, in accordance with JIS K0131, using a wide angle X-ray diffractometer (for example, RINT 2000, manufactured by Rigaku Corporation), the diffraction X-ray intensity from the crystalline portion is obtained, and the total diffraction X-ray intensity is obtained.
  • the crystallinity can be obtained by the following formula (I).
  • Xc K ⁇ Ic / It (I)
  • Xc represents the crystallinity of the test sample
  • Ic represents the diffraction X-ray intensity from the crystalline portion
  • It represents the total diffraction X-ray intensity
  • K represents the correction term.
  • the crystallized resin can be formed by crystallizing a crystalline resin containing an alicyclic structure-containing polymer.
  • the alicyclic structure-containing polymer refers to a polymer having an alicyclic structure in the molecule, which can be obtained by a polymerization reaction using a cyclic olefin as a monomer, or a hydrogenated product thereof.
  • an alicyclic structure containing polymer may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
  • Examples of the alicyclic structure possessed by the alicyclic structure-containing polymer include a cycloalkane structure and a cycloalkene structure. Among these, a cycloalkane structure is preferable because an optical film excellent in characteristics such as thermal stability is easily obtained.
  • the number of carbon atoms contained in one alicyclic structure is preferably 4 or more, more preferably 5 or more, preferably 30 or less, more preferably 20 or less, and particularly preferably 15 or less. is there. When the number of carbon atoms contained in one alicyclic structure is within the above range, mechanical strength, heat resistance, and moldability are highly balanced.
  • the ratio of the structural unit having an alicyclic structure to all the structural units is preferably 30% by weight or more, more preferably 50% by weight or more, and particularly preferably 70% by weight or more. .
  • the upper limit of the proportion of structural units having an alicyclic structure can be 100% by weight.
  • the remainder other than the structural unit having an alicyclic structure is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose of use.
  • the alicyclic structure-containing polymer contained in the crystalline resin has crystallinity.
  • “crystalline alicyclic structure-containing polymer” means an alicyclic structure-containing polymer having a melting point Tm (that is, a melting point can be observed with a differential scanning calorimeter (DSC)).
  • the melting point Tm of the alicyclic structure-containing polymer is preferably 200 ° C. or higher, more preferably 230 ° C. or higher, and preferably 290 ° C. or lower.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the alicyclic structure-containing polymer is preferably 1,000 or more, more preferably 2,000 or more, preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less. is there.
  • An alicyclic structure-containing polymer having such a weight average molecular weight is excellent in balance between moldability and flexibility.
  • the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the alicyclic structure-containing polymer is preferably 1.0 or more, more preferably 1.5 or more, preferably 4.0 or less, more preferably 3.5 or less.
  • Mn represents a number average molecular weight.
  • An alicyclic structure-containing polymer having such a molecular weight distribution is excellent in moldability.
  • the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the alicyclic structure-containing polymer can be measured as a polystyrene equivalent value by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran as a developing solvent.
  • the glass transition temperature Tg of the alicyclic structure-containing polymer is not particularly limited, but is usually 85 ° C. or higher and usually 170 ° C. or lower.
  • Examples of the alicyclic structure-containing polymer include the following polymer ( ⁇ ) to polymer ( ⁇ ). Among these, the polymer ( ⁇ ) is preferable as the alicyclic structure-containing polymer having crystallinity because an optical film excellent in flexibility is easily obtained.
  • Polymer ( ⁇ ) An addition polymer of a cyclic olefin monomer having crystallinity.
  • Polymer ( ⁇ ) a hydrogenated product of polymer ( ⁇ ), etc., having crystallinity.
  • a ring-opening polymer of dicyclopentadiene having crystallinity and a hydrogenated product of a ring-opening polymer of dicyclopentadiene and crystallizing. More preferred is a hydrogenated product of a ring-opening polymer of dicyclopentadiene, and particularly preferred is a crystalline product having crystallinity.
  • the ring-opening polymer of dicyclopentadiene means that the proportion of structural units derived from dicyclopentadiene relative to all structural units is usually 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more, more preferably 90% by weight or more, Particularly preferred refers to 100% by weight of polymer.
  • the alicyclic structure-containing polymer having crystallinity as described above can be produced, for example, by the method described in International Publication No. 2016/066873.
  • the proportion of the alicyclic structure-containing polymer having crystallinity is preferably 50% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, and particularly preferably 90% by weight or more.
  • the upper limit of the ratio of the alicyclic structure-containing polymer having crystallinity can be 100% by weight.
  • the crystalline resin can contain an arbitrary component in addition to the alicyclic structure-containing polymer having crystallinity.
  • Optional components include, for example, antioxidants such as phenolic antioxidants, phosphorus antioxidants, sulfur antioxidants; light stabilizers such as hindered amine light stabilizers; petroleum waxes, Fischer-Tropsch waxes, Waxes such as polyalkylene wax; sorbitol compounds, metal salts of organic phosphoric acid, metal salts of organic carboxylic acid, nucleating agents such as kaolin and talc; diaminostilbene derivatives, coumarin derivatives, azole derivatives (for example, benzoxazole derivatives, Fluorescent brighteners such as benzotriazole derivatives, benzimidazole derivatives, and benzothiazole derivatives), carbazole derivatives, pyridine derivatives, naphthalic acid derivatives, and imidazolone derivatives; benzophenone UV absorbers, salicylic acid UV absorbers, benzo
  • the arithmetic average roughness of at least one surface is 2.5 nm or less.
  • the arithmetic average roughness of at least one surface of the optical film is preferably 2.0 nm or less, more preferably 1.5 nm or less, still more preferably 1.2 nm or less, and even smaller 0.5 nm or less. It can also be.
  • the effects of the present invention such as high adhesion and suppression of delamination can be easily achieved.
  • the lower limit of the arithmetic average roughness is not particularly limited and can be ideally 0 nm.
  • the optical film may have an arithmetic average roughness of only one surface of 2.5 nm or less, or an arithmetic average roughness of both surfaces of 2.5 nm or less.
  • the arithmetic mean roughness of the two surfaces of the optical film may be the same or different.
  • the arithmetic average roughness of the surface of the optical film can be measured based on JIS B0601: 1994 using a scanning probe microscope.
  • the arithmetic average roughness refers to a contour curve (roughness curve) obtained by cutting a long wavelength component from a measured cross-sectional curve with a high-pass filter having a cutoff value ⁇ c, and a height at a reference length of the curve. It is the average of the absolute values of the distance (distance from the average line to the measurement curve).
  • the composition ratio of oxygen element to carbon element (hereinafter also referred to as “oxygen element composition ratio”) in the surface layer of at least one surface of the optical film of the present invention is preferably 1/10 or more, more preferably It is 1/9 or more, particularly preferably 1/8 or more, and preferably 1/5 or less.
  • oxygen element composition ratio is preferably 1/10 or more, more preferably It is 1/9 or more, particularly preferably 1/8 or more, and preferably 1/5 or less.
  • composition ratio of nitrogen element to carbon element (hereinafter also referred to as “composition ratio of nitrogen element”) in the surface layer of at least one surface of the optical film of the present invention is preferably 1/20 or less, more preferably It is 1/30 or less, particularly preferably 1/40 or less, and more preferably ideally 0.
  • the composition ratio of oxygen element in the surface layer of at least one surface of the optical film is 1/10 or more and the composition ratio of nitrogen element is 1/20 or less.
  • the composition ratio of oxygen element and nitrogen element in the surface layer of at least one surface of the optical film within the above ranges, the arithmetic average roughness of the surface is reduced, and high adhesiveness is achieved.
  • the effects of the present invention, such as suppressing the occurrence of delamination, can be achieved more easily.
  • the arithmetic average roughness of both surfaces of the optical film is 2.5 nm or less, even if the composition ratio of the oxygen element and the composition ratio of the nitrogen element in the surface layer of either surface are within the above ranges,
  • the composition ratio of the oxygen element and the composition ratio of the nitrogen element in the surface layers on both surfaces may be in the above ranges.
  • the composition ratio of the oxygen element and the composition ratio of the nitrogen element in the surface layers of the two surfaces of the optical film may be the same or different.
  • one or both of the surfaces of the optical film satisfy the arithmetic average roughness requirements described above and the compositional ratios of oxygen element and nitrogen element described above. By having a surface that satisfies such a plurality of requirements, a preferable effect of the present invention can be obtained.
  • composition ratio of oxygen element and the composition ratio of nitrogen element in the surface layer of the optical film of the present invention can be measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS).
  • XPS X-ray photoelectron spectroscopy
  • the total surface free energy is preferably 60 mN / m or more, more preferably 65 mN / m or more, and particularly preferably 70 mN / m or more. Since the higher total surface free energy is ideal, the upper limit is not particularly limited, but may be, for example, 145 mN / m or less. In at least one surface of the optical film of the present invention, the surface free energy of the dispersed component is preferably 40 mN / m or less, more preferably 35 mN / m or less.
  • the lower limit is not particularly limited, but may be 15 mN / m or more, for example.
  • the surface free energy of the polarization component is preferably 20 mN / m or more, more preferably 25 mN / m or more, and particularly preferably 30 mN / m or more. Since it is ideal that the surface free energy of the polarization component is high, the upper limit is not particularly limited, but may be, for example, 90 mN / m or less.
  • the surface free energy of the hydrogen bonding component is preferably 5 mN / m or more, more preferably 8 mN / m or more, and particularly preferably 10 mN / m or more. Since it is ideal that the surface free energy of the hydrogen bonding component is higher, the upper limit is not particularly limited, but may be, for example, 40 mN / m or less.
  • the total surface free energy is 70 mN / m or more, the surface free energy of the dispersion component is 40 mN / m or less, the surface free energy of the polarization component is 25 mN / m or more, and
  • the surface free energy of the hydrogen bonding component is preferably 10 mN / m or more.
  • the total surface free energy, the surface free energy of the dispersion component, the surface free energy of the polarization component, and the surface free energy of the hydrogen bond component are within the above ranges, thereby calculating the arithmetic of the surface.
  • the average roughness can be reduced, whereby the effects of the present invention such as high adhesion and suppression of delamination can be easily achieved.
  • the total surface free energy, the surface free energy of the dispersion component, the surface free energy of the polarization component, and the hydrogen bonding component of either surface may be in the above range, and the surface free energy may be in the above range on both sides.
  • each surface free energy of two surfaces of an optical film may be the same, or may differ.
  • one or both surfaces of the optical film meet the arithmetic average roughness requirements described above and the surface free energy requirements described above. More preferably, one or both sides of the optical film meet the arithmetic average roughness requirements described above and meet the oxygen element and nitrogen element composition ratio requirements described above and above. Meet the requirements for surface free energy.
  • the surface free energy r L d of the dispersion component, the surface free energy r L p of the polarization component, and the surface free energy r L h of the hydrogen bond component of the surface of the optical film are the dispersion component, polarization component, and hydrogen of the surface free energy.
  • the contact angle can be measured using a reagent whose binding component is known, and can be determined by the Forkes extended theoretical formula (the following formulas (1) to (3)).
  • r L is the total surface free energy of the optical film
  • r L d is the surface free energy of the dispersion component of the optical film
  • r L p is the surface free energy of the polarization component of the optical film
  • r L h is the surface free energy of the hydrogen bonding component of the optical film
  • r S is the total surface free energy of the reagent
  • r s d is the surface free energy of the dispersed component of the reagent
  • r s p is the surface of the polarization component of the reagent free energy
  • r s h is the surface free energy of the hydrogen bond component of the reagent
  • theta denotes the contact angle of the reagent (the same hereinafter).
  • reagents whose surface free energy components include pure water, diiodomethane, and ethylene glycol.
  • the total surface free energy, the surface free energy of the dispersion component, the surface free energy of the polarization component, and the surface free energy of the hydrogen bonding component of these reagents are as shown in Table 1 (unit: mN / m).
  • the optical film preferably has a small haze. Specifically, it is preferably less than 3.0%, more preferably less than 2%, particularly preferably less than 1%, and ideally 0%. Thus, a film with a small haze can be used suitably as an optical film.
  • the haze can be measured using a haze meter by cutting out the film into a 50 mm ⁇ 50 mm square from the center of the optical film to obtain a sample.
  • the optical film is usually excellent in heat resistance.
  • the heat resistant temperature of the optical film is usually 150 ° C. or higher.
  • Such an optical film having a high heat-resistant temperature can be suitably used in applications requiring heat resistance such as a resin film for vehicles.
  • the heat resistant temperature can be measured by the following method.
  • the optical film is allowed to stand for 10 minutes in an atmosphere at a certain evaluation temperature without applying tension. Then, the surface shape of an optical film is confirmed visually. When irregularities cannot be confirmed in the shape of the surface of the optical film, it can be determined that the heat resistant temperature of the optical film is equal to or higher than the evaluation temperature.
  • the optical film preferably has a high total light transmittance.
  • the total light transmittance of the optical film is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and particularly preferably 88% or more.
  • the total light transmittance can be measured in a wavelength range of 400 nm to 700 nm using an ultraviolet / visible spectrometer.
  • the optical film has excellent bending resistance.
  • the bending resistance of the optical film can be expressed by the bending resistance.
  • the folding resistance is preferably 10,000 times or more, more preferably 50,000 times or more, and particularly preferably 100,000 times or more. Since the higher folding resistance is more preferable, the upper limit of folding resistance is not limited, but may be 1,000,000 times or less, for example.
  • the bending resistance of the optical film can be measured by the following method by a test based on the method presented in the flexible display device durability test standard “IEC-62715-6-1”.
  • a test piece having a width of 15 mm ⁇ 0.1 mm and a length of about 110 mm is cut out from the optical film as a sample. At this time, the test piece is prepared so that the direction in which the film is stretched more strongly is parallel to the side of about 110 mm of the test piece.
  • the test was carried out by the method of a planar unloaded U-shaped expansion / contraction test using a desktop durability tester (DLDMMLH-FS) manufactured by Yuasa System Equipment Co., Ltd.
  • DLDMMLH-FS desktop durability tester
  • the bending conditions were a bending radius of 1 mm, a stretching speed of 80 times / minute, and a maximum number of stretching times of 200,000 times. This bending is continued, and the number of reciprocal bendings until the test piece breaks is measured. Ten test pieces are prepared, and the number of reciprocal bending until the test piece is broken is measured 10 times by the above method. The average of the ten measurement values measured in this way is defined as the folding resistance of the optical film (MIT folding resistance count).
  • Optical films are usually excellent in low water absorption.
  • the low water absorption of the optical film can be represented by a water absorption rate.
  • the water absorption is usually 0.1% or less, preferably 0.08% or less, more preferably 0.05% or less.
  • the water absorption rate of the optical film can be measured by the following method.
  • a test piece is cut out from a film as a sample, and the weight of the test piece is measured. Then, this test piece is immersed in 23 degreeC water for 24 hours, and the weight of the test piece after immersion is measured. And the ratio of the weight of the test piece increased by immersion with respect to the weight of the test piece before immersion can be calculated as water absorption (%).
  • the residual solvent amount of the optical film is 1.0% by weight or less, more preferably 0.5% by weight or less, and particularly preferably 0.1% by weight or less. By setting the residual solvent amount to this desired value, the curl amount of the optical film can be suppressed.
  • the amount of residual solvent can usually be determined by gas chromatography.
  • the thickness of the optical film is preferably 1 ⁇ m or more, more preferably 5 ⁇ m or more, particularly preferably 10 ⁇ m or more, preferably 100 ⁇ m or less, more preferably 75 ⁇ m or less, and particularly preferably 50 ⁇ m or less.
  • the optical film of the present invention can be produced by a production method including the following steps (3) and (4).
  • the method for producing an optical film of the present invention may include one or both of the following steps (1) and (2) in addition to steps (3) and (4).
  • Step (1) A step of forming a crystalline resin containing an alicyclic structure-containing polymer to obtain a crystalline resin film having a crystallinity of less than 3%.
  • Process (2) The process of extending
  • Step (1) can be performed by molding a crystalline resin containing an alicyclic structure-containing polymer by any molding method.
  • molding methods include injection molding methods, melt extrusion molding methods, press molding methods, inflation molding methods, blow molding methods, calendar molding methods, cast molding methods, and compression molding methods.
  • the melt extrusion method is preferable because the thickness can be easily controlled.
  • the extrusion molding conditions are preferably as follows.
  • the cylinder temperature (molten resin temperature) is preferably Tm or higher, more preferably (Tm + 20) ° C. or higher, preferably (Tm + 100) ° C. or lower, more preferably (Tm + 50) ° C. or lower.
  • the cast roll temperature is preferably (Tg-30) ° C. or higher, preferably Tg or lower, more preferably (Tg-15) ° C. or lower.
  • Tm represents the melting point of the alicyclic structure-containing polymer
  • Tg represents the glass transition temperature of the alicyclic structure-containing polymer.
  • the crystallinity of the crystalline resin film obtained in step (1) can be less than 3%.
  • the lower limit is not particularly limited, but may be 0% or more.
  • the crystalline resin film is stretched.
  • stretching methods include uniaxial stretching methods such as a method of uniaxially stretching a crystalline resin film in the longitudinal direction (longitudinal uniaxial stretching method) and a method of uniaxially stretching the crystalline resin film in the width direction (lateral uniaxial stretching method).
  • a simultaneous biaxial stretching method in which the crystalline resin film is stretched in the longitudinal direction and simultaneously in the width direction a sequential biaxial stretching method in which the crystalline resin film is stretched in the longitudinal direction and the width direction, and then stretched in the other direction, etc.
  • a method of stretching the crystalline resin film in an oblique direction that is neither parallel nor perpendicular to the width direction such as more than 0 ° and less than 90 ° with respect to the width direction (an oblique stretching method).
  • Examples of the longitudinal uniaxial stretching method include a stretching method using a difference in peripheral speed between rolls.
  • Examples of the horizontal uniaxial stretching method include a stretching method using a tenter stretching machine.
  • the simultaneous biaxial stretching method for example, using a tenter stretching machine provided with a plurality of clips provided so as to be movable along the guide rail and capable of fixing the crystalline resin film, the interval between the clips is set.
  • Examples include a stretching method in which the crystalline resin film is opened and stretched in the longitudinal direction, and at the same time, the crystalline resin film is stretched in the width direction depending on the spread angle of the guide rail.
  • both ends of the crystalline resin film are gripped with clips.
  • the stretching method include stretching in the width direction by a tenter stretching machine.
  • oblique stretching method for example, a crystalline property is obtained by using a tenter stretching machine capable of adding a feeding force, a pulling force, or a pulling force at different speeds in the longitudinal direction or the width direction to the crystalline resin film. Examples thereof include a stretching method in which the resin film is continuously stretched in an oblique direction.
  • the stretching temperature is preferably (Tg-30) ° C. or higher, more preferably (Tg-10) ° C. or higher, with respect to the glass transition temperature Tg of the alicyclic structure-containing polymer.
  • the temperature is preferably (Tg + 60) ° C. or less, more preferably (Tg + 50) ° C. or less.
  • the stretching ratio in stretching the crystalline resin film can be appropriately selected depending on the desired optical properties, thickness, strength, etc., but is usually more than 1 time, preferably 1.01 times or more, and usually 10 times or less. , Preferably 5 times or less.
  • the stretching ratio is the total stretching ratio represented by the product of the stretching ratios in each stretching direction.
  • An optical film having desired characteristics can be obtained by subjecting the crystalline resin film to the stretching treatment as described above. Moreover, the haze of an optical film can be reduced by performing a extending
  • Step (3) is a step of obtaining a crystallized resin film by crystallizing a crystalline resin film containing the alicyclic structure-containing polymer.
  • the crystalline resin film is crystallized to obtain a crystallized resin film containing a crystallized resin having a crystallinity of 30% or more as a main component. Crystallization can be performed by keeping the at least two ends of the crystalline resin film in a predetermined temperature range in a tensioned state.
  • the state in which the crystalline resin film is tensioned refers to a state in which tension is applied to the crystalline resin film.
  • the state in which the crystalline resin film is tensioned does not include a state in which the crystalline resin film is substantially stretched.
  • being substantially stretched means that the stretch ratio in any direction of the crystalline resin film is usually 1.1 times or more.
  • the holder may be one that can continuously hold the entire length of the edge of the crystalline resin film, or one that can be held intermittently at intervals.
  • the edge of the crystalline resin film may be intermittently held by a holder arranged at a predetermined interval.
  • the crystalline resin film is in a tensioned state while holding at least two ends of the crystalline resin film.
  • transformation by the heat shrink of a crystalline resin film is prevented in the area
  • two opposite sides for example, the long sides or the short sides
  • the two end sides are held.
  • the two end sides that is, the end side on the long side
  • the region between the two end sides is in a tensioned state.
  • transformation can be prevented in the whole surface of the elongate crystalline resin film.
  • the crystalline resin film that is prevented from being deformed in this manner is restrained from being deformed such as wrinkles even if stress is generated in the film due to thermal shrinkage.
  • a stretched film that has been subjected to a stretching treatment as the crystalline resin film it is possible to suppress deformation by holding at least two edges orthogonal to the stretching direction (the direction in which the stretching ratio is large in the case of biaxial stretching). It will be more certain.
  • edges In order to more reliably suppress deformation in the crystallization process, it is preferable to hold more edges. Therefore, for example, in the case of a single crystalline resin film, it is preferable to hold all the edges. As a specific example, it is preferable to hold four edges in a rectangular sheet of crystalline resin film.
  • the holder that can hold the edge of the crystalline resin film is preferably one that does not come into contact with the crystalline resin film at a portion other than the edge of the crystalline resin film. By using such a holder, it is possible to obtain an optical film that is more excellent in smoothness.
  • a holder that can fix the relative position of the holders in the crystallization step is preferable.
  • a holder since the positions of the holders do not move relatively in the crystallization step, it is easy to suppress substantial stretching of the crystalline resin film in the crystallization step.
  • a suitable holder for example, as a holder for a rectangular crystalline resin film, there is a gripper such as a clip which is provided in a mold at a predetermined interval and can grip an edge of the crystalline resin film. Further, for example, as a holder for holding the two end sides at the end in the width direction of the long crystalline resin film, the end side of the crystalline resin film provided in the tenter stretching machine can be gripped. An example is a gripper.
  • an end side that is, an end side on the short side
  • the end side is held.
  • both sides in the longitudinal direction of the region subjected to the crystallization treatment of the crystalline resin film may be held.
  • maintenance apparatus which can hold
  • Examples of such a holding device include a combination of two rolls and a combination of an extruder and a take-up roll.
  • the crystalline resin film is held in a tension state while holding at least two ends of the crystalline resin film as described above, and the crystalline resin film has a glass transition temperature Tg or higher of the alicyclic structure-containing polymer.
  • the temperature is set to the melting point Tm or less of the alicyclic structure-containing polymer.
  • crystallization of the alicyclic structure-containing polymer proceeds. Therefore, a crystallized resin film containing a crystallized alicyclic structure-containing polymer is obtained by this crystallization step. At this time, since it is in a tensioned state while preventing deformation of the crystallized resin film, crystallization can proceed without impairing the smoothness of the crystallized resin film.
  • the temperature range in the crystallization step can be arbitrarily set in the temperature range from the glass transition temperature Tg of the alicyclic structure-containing polymer to the melting point Tm of the alicyclic structure-containing polymer. Among these, it is preferable to set the temperature so that the rate of crystallization is increased.
  • the temperature of the crystalline resin film in the crystallization step is preferably (Tg + 20) ° C. or higher, more preferably (Tg + 30) ° C. or higher, preferably (Tm ⁇ 20) ° C. or lower, more preferably (Tm ⁇ 40) ° C. It is as follows. By setting the temperature in the crystallization step to be equal to or lower than the upper limit of the above range, the white turbidity of the optical film can be suppressed, so that an optical film suitable for the case where an optically transparent film is required is obtained.
  • the crystalline resin film When the crystalline resin film is brought to the above temperature, the crystalline resin film is usually heated.
  • a heating device used in this case a heating device capable of increasing the ambient temperature of the crystalline resin film is preferable because contact between the heating device and the crystalline resin film is unnecessary.
  • suitable heating devices include ovens and furnaces.
  • the treatment time for maintaining the crystalline resin film in the above temperature range is preferably 1 second or more, more preferably 5 seconds or more, preferably 30 minutes or less, more preferably 10 minutes or less.
  • the flexibility of the optical film can be increased by sufficiently progressing the crystallization of the alicyclic structure-containing polymer.
  • the cloudiness of an optical film can be suppressed by making processing time below the upper limit of the said range, the optical film suitable when an optically transparent film is calculated
  • step (4) the crystallized resin film is subjected to plasma treatment (plasma treatment step).
  • plasma treatment step plasma treatment step
  • the fragile layer is scraped and the arithmetic average roughness of the surface can be reduced.
  • the calculated average roughness of at least one surface is reduced.
  • a crystallized resin film of 2.5 nm or less can be easily obtained.
  • the plasma treatment step may be performed under atmospheric pressure or under vacuum, but is preferably performed under atmospheric pressure from the viewpoint of productivity.
  • Plasma treatment under atmospheric pressure can be performed, for example, using an atmospheric pressure plasma surface treatment apparatus (product name “RD640”, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.).
  • the plasma treatment step is preferably performed in one or more gas atmospheres selected from hydrogen gas, helium gas, nitrogen gas, oxygen gas, carbon dioxide gas, and argon gas, and nitrogen gas, oxygen gas, and carbon dioxide It is more preferable to carry out in a gas atmosphere containing one or more gases selected from gases.
  • step (4) nitrogen gas and one or more gases selected from oxygen gas and carbon dioxide gas are used, wherein the weight ratio of oxygen to nitrogen is 5.50 ⁇ 10 ⁇ 3 or more and 1.30 ⁇ 10 ⁇ 1 or less. It is preferable that the crystallized resin film be plasma-treated in a gas atmosphere including the above.
  • plasma is generated in a gas atmosphere containing nitrogen gas and oxygen gas so that the weight ratio of oxygen to nitrogen is 5.50 ⁇ 10 ⁇ 3 or more and 3.50 ⁇ 10 ⁇ 2 or less. It is preferable to perform the treatment, and it is more preferable to perform the plasma treatment in a gas atmosphere including 8.0 ⁇ 10 ⁇ 3 or more and 1.5 ⁇ 10 ⁇ 2 or less.
  • the plasma treatment is preferably performed, and the plasma treatment is more preferably performed in a gas atmosphere including 3.5 ⁇ 10 ⁇ 2 or more and 1.0 ⁇ 10 ⁇ 1 or less.
  • the flow rate of nitrogen gas is preferably 5 to 15 NL / min, and the flow rate of carbon dioxide gas or oxygen gas is preferably 0.025 to 0.15 NL / min.
  • the output of plasma irradiation is preferably 500 to 3000 W.
  • the frequency of the plasma irradiation is preferably a resonance frequency corresponding to the output, and specifically in the range of 25 to 100 KHz.
  • the irradiation rate of plasma irradiation is preferably 50 to 500 cm / min.
  • the distance between the plasma generation source and the surface to be processed is preferably 0.5 to 3 mm.
  • plasma treatment is performed using a low-pressure gas (such as argon gas, oxygen gas, nitrogen gas, or a mixed gas thereof) of 0.001 to 10 kPa (absolute pressure). It is preferable to carry out.
  • a low-pressure gas such as argon gas, oxygen gas, nitrogen gas, or a mixed gas thereof
  • the low-pressure gas it is particularly preferable to use a mixed gas of nitrogen and oxygen.
  • the mixing ratio of nitrogen and oxygen is preferably 10: 1 to 1:10 by volume, and the flow rate of the mixed gas is preferably 0.1 to 10 NL / min.
  • the output of plasma irradiation is preferably 50 to 3000 W.
  • an optional step can be performed in addition to the steps described above.
  • reformation process to the surface of a crystalline resin film after process (1) is mentioned.
  • the modification treatment on the surface of the crystalline resin film include corona discharge treatment, plasma treatment, saponification treatment, and ultraviolet irradiation treatment. Of these, corona discharge treatment and plasma treatment are preferred from the viewpoint of treatment efficiency, and plasma treatment is more preferred.
  • Another example of the optional step includes a relaxation step of removing the residual stress by thermally shrinking the crystallized resin film after the step (3).
  • the optical film of the present invention can comprise any layer.
  • the optional layer include an easy adhesion layer, a conductive layer, an antireflection layer, a hard coat layer, an antistatic layer, an antiglare layer, an antifouling layer, and a separator film.
  • the multilayer film of the present invention includes an optical film, an adherend layer, and an adhesive layer provided between the optical film and the adherend layer.
  • the multilayer film is a laminate in which an optical film and an adherend layer are laminated via an adhesive.
  • the adhesive constituting the adhesive layer various adhesives that can achieve good adhesion to the urethane resin layer can be used.
  • Specific examples include an ultraviolet curable acrylic composition, an ultraviolet curable epoxy composition, or an ultraviolet curable polymerization composition in which an acrylic monomer and an epoxy monomer are mixed.
  • the adherend layer is a member that can be used as a component of the display device, and can be any member that can easily achieve adhesion by the adhesive layer. Specifically, it can be a layer of an inorganic material such as a glass plate or a metal plate, and a layer of a resin.
  • the material constituting the resin layer include a non-crystalline alicyclic structure-containing polymer resin, a resin mainly composed of polyvinyl alcohol constituting a polarizer of a polarizing plate, and a cellulose constituting a polarizing plate protective film. Resin, crystalline alicyclic structure-containing polymer resin, crystalline polyester resin, and the like.
  • the multilayer film of the present invention can be produced by laminating a surface having an arithmetic average roughness of 2.5 nm or less and a layer to be bonded among the surfaces of the optical film of the present invention via an adhesive. Specifically, among the surfaces of the optical film of the present invention, an adhesive is applied to a surface having an arithmetic average roughness of 2.5 nm or less, and is superposed on one surface of the adherend layer, and further bonded as necessary. By curing the agent, production of a multilayer film can be achieved. If both surfaces of the optical film are surfaces with an arithmetic average roughness of 2.5 nm or less, apply an adhesive to one or both surfaces of the optical film, and overlay the adherend layer. A multilayer film can be manufactured by bonding.
  • the multilayer film of the present invention has characteristics such as high heat resistance and flexibility based on an optical film made of a crystallized resin. And according to this invention, it has high adhesiveness with the to-be-adhered layer through an adhesive agent, and high peeling strength by making arithmetic mean roughness of at least one surface of an optical film into 2.5 nm or less. As a result, it is possible to provide a multi-layer film that has a low tendency to delaminate and has high durability.
  • the optical film and multilayer film of the present invention can be used for any application. Taking advantage of less occurrence of delamination, it can be particularly useful as a touch sensor that is a constituent element of a touch panel.
  • ⁇ Evaluation method> Measurement method of thickness
  • the thickness of each layer constituting the optical film and the multilayer film was measured as follows.
  • the refractive index of each layer of the sample film was measured using ellipsometry ("M-2000” manufactured by Woollam). Thereafter, using the measured refractive index, the thickness of the film was measured with an optical interference film thickness meter (“MCPD-9800” manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.).
  • Weight average molecular weight and number average molecular weight The weight average molecular weight and number average molecular weight of the polymer were measured as polystyrene equivalent values using a gel permeation chromatography (GPC) system (“HLC-8320” manufactured by Tosoh Corporation). In the measurement, an H type column (manufactured by Tosoh Corporation) was used as the column, and tetrahydrofuran was used as the solvent. Moreover, the temperature at the time of measurement was 40 degreeC.
  • GPC gel permeation chromatography
  • Glass transition temperature Tg, melting point Tm and crystallization temperature Tpc of crystalline resin Glass transition temperature Tg, melting point Tm and crystallization temperature Tpc of crystalline resin
  • the evaluation temperature was a temperature from 150 ° C. until the unevenness was confirmed on the surface of the optical film, and 10 ° C. increments. Of the evaluation temperatures at which irregularities could not be confirmed on the surface of the optical film, the highest temperature was defined as the heat resistant temperature of the optical film.
  • the bending resistance of the optical film was measured by the following method by a test based on the method presented in the flexible display device durability test standard “IEC 62715-6-1”.
  • a test piece having a width of 15 mm ⁇ 0.1 mm and a length of about 110 mm was cut out from the optical film as a sample. At this time, the test piece was prepared so that the direction in which the film was stretched more strongly was parallel to the side of about 110 mm of the test piece.
  • the test was conducted by a planar body no-load U-shaped expansion / contraction test method using a tabletop durability tester (DLDMMLH-FS) manufactured by Yuasa System Equipment Co., Ltd.
  • DLDMMLH-FS tabletop durability tester
  • the bending conditions were a bending radius of 1 mm, a stretching speed of 80 times / minute, and a maximum number of stretching times of 200,000 times. This bending was continued until the test piece was broken, and the number of reciprocal bendings when the test piece was broken was measured. Ten test pieces were prepared, and the number of reciprocal bendings until the test piece broke was measured 10 times by the above-described method, and the average of the 10 measurements was taken as the bending resistance (MIT resistance) of the optical film. Number of folds).
  • the arithmetic average roughness Ra of the two surfaces of the optical film was measured based on JIS B 0601: 1994 using a scanning probe microscope (Dimension Icon Bruker Ax).
  • composition ratio of the oxygen element and the composition ratio of the nitrogen element in the surface layer of the optical film were measured using an XPS measurement analyzer (“PHI 5000 VersaProbe III”, manufactured by ULVAC-PHI).
  • the optical film was cut into a size of about 10 cm square to obtain a base piece.
  • the contact angle of pure water (H 2 O), the contact angle of diiodomethane (CH 2 I 2 ), and the contact angle of ethylene glycol were measured with an automatic contact angle meter. From the contact angle data measured in this way, the surface free energy of the substrate surface (total surface free energy, surface free energy of dispersion component, surface free energy of polarization component, hydrogen bond component Surface free energy) was calculated.
  • the conditions at the time of measurement are as follows.
  • the number average molecular weight (Mn) and the weight average molecular weight (Mw) of the obtained ring-opening polymer of dicyclopentadiene are 8750 and 28,100, respectively, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) obtained from these is 3 .21.
  • a filter aid (“Radiolite (registered trademark) # 1500” manufactured by Showa Chemical Industry Co., Ltd.) was added, and a PP pleated cartridge filter (“TCP-HX” manufactured by ADVANTEC Toyo Co., Ltd.) was used. The solution was filtered off.
  • a filter aid (“Radiolite (registered trademark) # 1500” manufactured by Showa Chemical Industry Co., Ltd.) was added, and a PP pleated cartridge filter (“TCP-HX” manufactured by ADVANTEC Toyo Co., Ltd.) was used. The solution was filtered off.
  • a hydride of a ring-opening polymer of dicyclopentadiene having crystallinity is obtained by separating the hydride and the solution contained in the reaction solution using a centrifugal separator and drying under reduced pressure at 60 ° C. for 24 hours. 5 parts were obtained.
  • the hydride had a hydrogenation rate of 99% or more, a glass transition temperature Tg of 94 ° C., a melting point (Tm) of 262 ° C., a crystallization temperature Tpc of 170 ° C., and a ratio of racemo dyad of 89%.
  • Example 1 (1-1. Production of crystalline resin film having a crystallinity of less than 3%) To 100 parts of the hydride of the ring-opening polymer of dicyclopentadiene obtained in Production Example 1, an antioxidant (tetrakis [methylene-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl)] was added. Propionate] methane; 0.5 part of “Irganox (registered trademark) 1010” manufactured by BASF Japan Ltd.) was mixed to obtain a crystalline resin as a material for the optical film.
  • this crystalline resin is also referred to as “resin A”.
  • Resin A was put into a twin screw extruder (“TEM-37B” manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd.) having four die holes with an inner diameter of 3 mm ⁇ .
  • the resin was molded into a strand-shaped molded body by hot melt extrusion molding using the above-described twin-screw extruder.
  • the molded body was chopped with a strand cutter to obtain a crystalline resin pellet.
  • the obtained pellets were supplied to a hot melt extrusion film forming machine equipped with a T die.
  • a long film (width 120 mm) made of the resin A was produced by a method of winding it on a roll at a speed of 27 m / min.
  • the operating conditions of the film forming machine are shown below.
  • Cast roll temperature 70 °C
  • the thickness of the obtained film was 20 ⁇ m.
  • the crystallinity of the crystalline resin in this film was 0.7%.
  • the oven temperature of the small stretching machine is set to 130 ° C., and the crystalline resin film is stretched in the direction corresponding to the longitudinal direction of the long crystalline resin film at a stretching temperature of 130 ° C. and a stretching speed of 4.0 mm / min. The film was stretched 1.2 times. Thereby, a stretched crystalline resin film was obtained.
  • Multilayer film A resin film containing a norbornene-based polymer (trade name “Zeonor film ZF16-100”, glass transition temperature 160 ° C., thickness 100 ⁇ m, unstretched, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) was prepared as an adherent layer. One side of the resin film was subjected to corona treatment. A corona treatment apparatus manufactured by Kasuga Electric Co., Ltd. was used for the corona treatment, and the treatment conditions were the discharge amount of 150 W / m 2 / min in the atmosphere.
  • UV-curing adhesive (CRB1352 manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) to the corona-treated surface of the resin film, and use a laminator to bond the plasma-treated surface of the optical film produced in (1-4). did.
  • the bonded product was irradiated with ultraviolet rays using a high-pressure mercury lamp under the conditions of an illuminance of 350 mW / cm 2 and an integrated light quantity of 1000 mJ / cm 2 .
  • the adhesive was crosslinked to form an adhesive layer.
  • the multilayer film provided with the layer of the crystallized resin as an optical film, the contact bonding layer, and the layer (bonded layer) of the resin film in this order was obtained.
  • peel strength was measured.
  • Example 2 (2-4. Production of optical film)
  • An optical film was obtained in the same manner as in (1-1) to (1-4).
  • the arithmetic average roughness (Ra), surface elemental composition ratio, and surface energy of the obtained optical film were measured.
  • Example 1 (2-5. Multilayer film)
  • Example 1 in the same manner as in Example 1 except that the optical film produced in (2-4) was used instead of the optical film produced in (1-4), a multilayer A film was obtained. About the obtained multilayer film, peel strength was measured.
  • Example 3 is the same as Example 1 except that the gas atmosphere of the plasma treatment was changed to a gas atmosphere containing 98.0: 2.0 (% by weight) of nitrogen gas and oxygen gas.
  • An optical film was obtained in the same manner as in (1-1) to (1-4). The arithmetic average roughness (Ra), surface elemental composition ratio, and surface energy of the obtained optical film were measured.
  • Example 1 In Example 1 (1-5), in the same manner as in Example 1 except that the optical film produced in (3-4) was used instead of the optical film produced in (1-4), a multilayer A film was obtained. About the obtained multilayer film, peel strength was measured.
  • Example 4 (4-4. Production of optical film)
  • An optical film was obtained in the same manner as in (1-1) to (1-4).
  • the arithmetic average roughness (Ra), surface elemental composition ratio, and surface energy of the obtained optical film were measured.
  • Example 1 (1-5), in the same manner as in Example 1 except that the optical film produced in (4-4) was used instead of the optical film produced in (1-4), a multilayer A film was obtained. About the obtained multilayer film, peel strength was measured.
  • Example 5> (5-4. Production of optical film)
  • An optical film was obtained in the same manner as in (1-1) to (1-4). The arithmetic average roughness (Ra), surface elemental composition ratio, and surface energy of the obtained optical film were measured.
  • Example 1 In Example 1 (1-5), in the same manner as in Example 1 except that the optical film produced in (5-4) was used instead of the optical film produced in (1-4), a multilayer A film was obtained. About the obtained multilayer film, peel strength was measured.
  • An optical film was obtained in the same manner as in (1-1) to (1-4). The arithmetic average roughness (Ra), surface elemental composition ratio, and surface energy of the obtained optical film were measured.
  • Example 1 (6-5. Multilayer film)
  • Example 1 in the same manner as in Example 1 except that the optical film produced in (6-4) was used instead of the optical film produced in (1-4), a multilayer A film was obtained. About the obtained multilayer film, peel strength was measured.
  • ⁇ Comparative Example 1> Other than using the crystallized resin film (crystallized resin film before plasma treatment) produced in (1-3) instead of the optical film produced in (1-4) in (1-5) of Example 1 Obtained a multilayer film in the same manner as in Example 1. About the obtained multilayer film, peel strength was measured. In Comparative Example 1, since the crystallized resin film of (1-3) of Example 1 was used in the production of the multilayer film, the arithmetic operation was performed on the crystallized resin film produced in (1-3) of Example 1. Average roughness, surface elemental composition ratio, and surface free energy were measured.
  • Example 1 (1-4), except that the gas atmosphere of the plasma treatment was changed to a gas atmosphere containing nitrogen gas and oxygen gas at 99.9: 0.1 (wt%), Example 1 An optical film was obtained in the same manner as in (1-1) to (1-4). The arithmetic average roughness (Ra), surface elemental composition ratio, and surface energy of the obtained optical film were measured.
  • An optical film was obtained in the same manner as in (1-1) to (1-4). The arithmetic average roughness (Ra), surface elemental composition ratio, and surface energy of the obtained optical film were measured.
  • An optical film was obtained in the same manner as in (1-1) to (1-4). The arithmetic average roughness (Ra), surface elemental composition ratio, and surface energy of the obtained optical film were measured.
  • An optical film was obtained in the same manner as in (1-1) to (1-4). The arithmetic average roughness (Ra), surface elemental composition ratio, and surface energy of the obtained optical film were measured.
  • Example 1-1 (1-1), an amorphous norbornene resin (trade name “ZEONOR1600”, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., Tg 163 ° C., refractive index 1.53; B)) was used to obtain a stretched film in the same manner as in (1-1) to (1-2) of Example 1.
  • One side of the obtained film was subjected to plasma treatment under the same conditions as in (5-4) of Example 5 to obtain an optical film.
  • the arithmetic average roughness (Ra), surface elemental composition ratio, and surface energy of the obtained optical film were measured.
  • Example 1 In Example 1 (1-5), in the same manner as in Example 1 except that the optical film produced in (C8-4) was used instead of the optical film produced in (1-4), a multilayer A film was obtained. About the obtained multilayer film, peel strength was measured.
  • Table 2 and Table 3 show the types of resins and the plasma treatment conditions (gas ratio (% by weight) and weight ratio of oxygen to nitrogen) of Examples and Comparative Examples.
  • arithmetic mean roughness of plasma treated surface means “arithmetic mean roughness of two surfaces of the optical film on which plasma treatment has been performed”, and “arithmetic mean roughness of non-treated surface”.
  • Sa means “arithmetic mean roughness of the two surfaces of the optical film not subjected to plasma treatment”.
  • arithmetic mean roughness of the treated surface means “arithmetic mean roughness of the two surfaces of the optical film subjected to plasma treatment or excimer treatment”
  • arithmetic of the untreated surface means “arithmetic average roughness of the two surfaces of the optical film on which neither plasma treatment nor excimer treatment is performed”.
  • both surfaces of the optical film were not subjected to surface treatment, the arithmetic average roughness of the two surfaces was described as the non-treated surface.
  • both sides are 3.0 means that the arithmetic average roughness of both sides of the optical film is 3.0 nm.
  • optical films obtained in Examples 1 to 6 have high peel strength, it is possible to suppress the occurrence of delamination, and since they have high bending resistance, they are excellent in flexibility and heat resistance. It can be usefully used as a touch sensor that is a constituent element of a touch panel.

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Abstract

脂環式構造含有重合体を含む結晶化樹脂を主成分とする光学フィルムであって、前記結晶化樹脂の結晶化度が３０％以上であり、少なくとも一方の面の算術平均粗さが２．５ｎｍ以下である、光学フィルム。好ましくは、少なくとも一方の面の表層における、炭素元素に対する酸素元素の組成比が１／１０以上であり、かつ、炭素元素に対する窒素元素の組成比が１／２０以下である。当該光学フィルムと、被接着層と、前記光学フィルムと前記被接着層との間に設けられた接着層と、を有する多層フィルムも提供される。

Description

光学フィルム、製造方法、及び多層フィルム
　本発明は、光学フィルム、その製造方法、及び当該光学フィルムを含む多層フィルムに関する。
　液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置等の表示装置においては、樹脂製の光学フィルムを設けることが広く行われている。例えば、タッチパネル等の使用者の動作を検出する機能を有する表示装置においては、可撓性を有する樹脂製の光学フィルムをその表面に設け、タッチセンサーを構成することが知られている。
　そのような光学フィルムは、耐熱性、可撓性等の特性が求められる。そのような特性を備えるフィルムとして、結晶化した、脂環式構造含有重合体を含む樹脂を用いることが提案されている（例えば特許文献１及び２）。
特開２０１４－１０５２９１号公報 特開２０１６－００８２８３号公報
　表示装置に組み込まれる光学フィルムは、上述の特性に加えて、接着性、即ち装置の他の構成要素との接着を容易に達成しうる能力が求められる。例えば、タッチセンサーを構成する光学フィルムは、装置自体の耐久性を高いものとするため、タッチセンサーを構成する他の要素と、高い剥離強度で接着しうることが求められている。しかしながら、従来の結晶化した脂環式構造含有重合体を含む樹脂を用いたフィルムでは、上述したような高い接着性を確保するのが困難であり、層間剥離が発生する傾向があった。
　従って、本発明の目的は、高い耐熱性、高い可撓性、及び高い接着性を有する光学フィルムならびに、該光学フィルムを容易に製造しうる製造方法を提供するとともに、高い耐熱性、高い可撓性を有し、且つ、層間剥離の発生を抑制し、耐久性が高い多層フィルムを提供することにある。
　本発明者は、前記課題を解決するために検討した結果、脂環式構造含有重合体を含む結晶化樹脂を主成分とする光学フィルムの、当該結晶化樹脂の結晶化度を３０％以上とし、かつ、光学フィルムの少なくとも一方の面の算術平均粗さを２．５ｎｍ以下とすることにより、高い耐熱性、高い可撓性、及び高い接着性を有し、かつ、層間剥離の発生を抑制することができることを見出した。また、本発明者は、脂環式構造含有重合を含む結晶性樹脂フィルムを結晶化して得られた結晶化樹脂フィルムをプラズマ処理することにより、上述のような特性を有する光学フィルムを容易に得ることができるということを見出した。本発明は、これらの知見に基づき完成されたものである。
　本発明によれば、下記のものが提供される。
　〔１〕　脂環式構造含有重合体を含む結晶化樹脂を主成分とする光学フィルムであって、
　前記結晶化樹脂の結晶化度が３０％以上であり、
　少なくとも一方の面の算術平均粗さが２．５ｎｍ以下である、光学フィルム。
　〔２〕　少なくとも一方の面の表層における、炭素元素に対する酸素元素の組成比が１／１０以上であり、
　かつ、炭素元素に対する窒素元素の組成比が１／２０以下である、〔１〕に記載の光学フィルム。
　〔３〕　少なくとも一方の面において、
　全表面自由エネルギーが７０ｍＮ／ｍ以上、分散成分の表面自由エネルギーが４０ｍＮ／ｍ以下、分極成分の表面自由エネルギーが２５ｍＮ／ｍ以上、かつ、水素結合成分の表面自由エネルギーが１０ｍＮ／ｍ以上である、〔１〕または〔２〕に記載の光学フィルム。
　〔４〕　〔１〕～〔３〕のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法であって、
　脂環式構造含有重合体を含む結晶性樹脂フィルムを結晶化させて結晶化樹脂フィルムを得る工程と、
　結晶化樹脂フィルムのプラズマ処理を行うプラズマ処理工程と、を含む、光学フィルムの製造方法。
　〔５〕　前記プラズマ処理を、大気圧下で行う、〔４〕に記載の光学フィルムの製造方法。
　〔６〕　前記プラズマ処理を、ガス雰囲気下で行い、
　前記ガスは窒素ガスを含み、且つ、酸素ガス及び二酸化炭素ガスから選ばれる一種以上のガスを含み、
　前記ガスにおける窒素に対する酸素の重量比が５．５０×１０-3以上１．３０×１０-1以下である、〔４〕または〔５〕に記載の光学フィルムの製造方法。
　〔７〕　前記プラズマ処理を、ガス雰囲気下で行い、
　前記ガスは窒素ガス及び酸素ガスを含み、
　前記ガスにおける窒素に対する酸素の重量比が５．５０×１０-3以上３．５０×１０-2以下である、〔４〕～〔６〕のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
　〔８〕　前記プラズマ処理を、ガス雰囲気下で行い、
　前記ガスは窒素ガス及び二酸化炭素ガスを含み、
　前記ガスにおける窒素に対する酸素の重量比が２．５０×１０-2以上１．３０×１０-1以下である、〔４〕～〔７〕のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
　〔９〕　〔１〕～〔３〕のいずれか一項に記載の光学フィルムと、
　被接着層と、
　前記光学フィルムと前記被接着層との間に設けられた接着層と、を有する多層フィルム。
　本発明の光学フィルムは、高い耐熱性、高い可撓性、及び高い接着性を有する。本発明の光学フィルムの製造方法によれば、そのような光学フィルムを容易に製造しうる。本発明の多層フィルムは、高い耐熱性、高い可撓性、及び高い接着性を有し、かつ、層間剥離の発生を抑制し、耐久性が高い。
　以下、本発明について実施形態及び例示物を示して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施形態及び例示物に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
　以下の説明において、「長尺」のフィルムとは、幅に対して５倍以上の長さを有するフィルムをいい、好ましくは１０倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するフィルムをいう。フィルムの幅に対する長さの割合の上限は、特に限定されないが、例えば１００，０００倍以下としうる。
　以下の説明において、要素の方向が「平行」、「垂直」及び「直交」とは、別に断らない限り、本発明の効果を損ねない範囲内、例えば±５°の範囲内での誤差を含んでいてもよい。
　〔１．光学フィルム〕
　本発明の光学フィルムは、脂環式構造含有重合体を含む結晶化樹脂を主成分とし、前記結晶化樹脂の結晶化度が３０％以上である。また、本発明の光学フィルムは、少なくとも一方の面の算術平均粗さが２．５ｎｍ以下である。「主成分」とは、その含有量が全体の５０重量％以上のものをいう（以下にて同じ）。本発明の光学フィルムは、結晶化樹脂以外の任意成分を含みうる一方、結晶化樹脂のみからなるものともしうる。即ち、光学フィルムにおける結晶化樹脂の割合の上限は、１００重量％としうる。
　本発明において、結晶化樹脂の結晶化度は、３０％以上であり、好ましくは５０％以上、より好ましくは６０％以上である。結晶化度の上限は、理想的には１００％であるが、通常は９０％以下、又は８０％以下としうる。
　結晶化度は、光学フィルムに含まれる結晶性を有する脂環式構造含有重合体のうち、結晶化したものの割合を示す指標である。本発明において、光学フィルムは、その３０％以上が結晶化している結晶性の脂環式構造含有重合体を含む。光学フィルムに含まれる脂環式構造含有重合体の結晶化度は、Ｘ線回折法によって測定しうる。具体的には、ＪＩＳ　Ｋ０１３１に準じて、広角Ｘ線回折装置（例えばＲＩＮＴ　２０００、株式会社リガク製）を用いて、結晶性部分からの回析Ｘ線強度を求め、全体の回析Ｘ線強度との比から、下記式（Ｉ）によって結晶化度を求めうる。
　Ｘｃ＝Ｋ・Ｉｃ／Ｉｔ　（Ｉ）
　上記式（Ｉ）において、Ｘｃは被検試料の結晶化度、Ｉｃは結晶性部分からの回析Ｘ線強度、Ｉｔは全体の回析Ｘ線強度、Ｋは補正項を、それぞれ表す。
　結晶化樹脂は、脂環式構造含有重合体を含む結晶性樹脂を結晶化させることにより形成しうる。
　脂環式構造含有重合体とは、分子内に脂環式構造を有する重合体であって、環状オレフィンを単量体として用いた重合反応によって得られうる重合体又はその水素添加物をいう。また、脂環式構造含有重合体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
　脂環式構造含有重合体が有する脂環式構造としては、例えば、シクロアルカン構造及びシクロアルケン構造が挙げられる。これらの中でも、熱安定性などの特性に優れる光学フィルムが得られ易いことから、シクロアルカン構造が好ましい。１つの脂環式構造に含まれる炭素原子の数は、好ましくは４個以上、より好ましくは５個以上であり、好ましくは３０個以下、より好ましくは２０個以下、特に好ましくは１５個以下である。１つの脂環式構造に含まれる炭素原子の数が上記範囲内にあることで、機械的強度、耐熱性、及び成形性が高度にバランスされる。
　脂環式構造含有重合体において、全ての構造単位に対する脂環式構造を有する構造単位の割合は、好ましくは３０重量％以上、より好ましくは５０重量％以上、特に好ましくは７０重量％以上である。脂環式構造含有重合体における脂環式構造を有する構造単位の割合を前記のように多くすることにより、高い可撓性等の本発明の効果をより高めることができる。脂環式構造を有する構造単位の割合の上限は、１００重量％としうる。
　また、脂環式構造含有重合体において、脂環式構造を有する構造単位以外の残部は、格別な限定はなく、使用目的に応じて適宜選択しうる。
　結晶性樹脂に含まれる脂環式構造含有重合体は、結晶性を有する。ここで、「結晶性を有する脂環式構造含有重合体」とは、融点Ｔｍを有する（すなわち、示差走査熱量計（ＤＳＣ）で融点を観測することができる）脂環式構造含有重合体をいう。脂環式構造含有重合体の融点Ｔｍは、好ましくは２００℃以上、より好ましくは２３０℃以上であり、好ましくは２９０℃以下である。このような融点Ｔｍを有する脂環式構造含有重合体を用いることによって、本発明における所望の結晶化度を容易に達成しうる。
　脂環式構造含有重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１，０００以上、より好ましくは２，０００以上であり、好ましくは１，０００，０００以下、より好ましくは５００，０００以下である。このような重量平均分子量を有する脂環式構造含有重合体は、成形加工性と可撓性とのバランスに優れる。
　脂環式構造含有重合体の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは１．０以上、より好ましくは１．５以上であり、好ましくは４．０以下、より好ましくは３．５以下である。ここで、Ｍｎは数平均分子量を表す。このような分子量分布を有する脂環式構造含有重合体は、成形加工性に優れる。
　脂環式構造含有重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）及び分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、テトラヒドロフランを展開溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により、ポリスチレン換算値として測定しうる。
　脂環式構造含有重合体のガラス転移温度Ｔｇは、特に限定されないが、通常は８５℃以上、通常１７０℃以下である。
　前記の脂環式構造含有重合体としては、例えば、下記の重合体（α）～重合体（δ）が挙げられる。これらの中でも、可撓性に優れる光学フィルムが得られ易いことから、結晶性を有する脂環式構造含有重合体としては、重合体（β）が好ましい。
　重合体（α）：環状オレフィン単量体の開環重合体であって、結晶性を有するもの。
　重合体（β）：重合体（α）の水素添加物であって、結晶性を有するもの。
　重合体（γ）：環状オレフィン単量体の付加重合体であって、結晶性を有するもの。
　重合体（δ）：重合体（γ）の水素添加物等であって、結晶性を有するもの。
　具体的には、脂環式構造含有重合体としては、ジシクロペンタジエンの開環重合体であって結晶性を有するもの、及び、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素添加物であって結晶性を有するものがより好ましく、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素添加物であって結晶性を有するものが特に好ましい。ここで、ジシクロペンタジエンの開環重合体とは、全構造単位に対するジシクロペンタジエン由来の構造単位の割合が、通常５０重量％以上、好ましくは７０重量％以上、より好ましくは９０重量％以上、特に好ましくは１００重量％の重合体をいう。
　前記のような結晶性を有する脂環式構造含有重合体は、例えば、国際公開第２０１６／０６７８９３号に記載の方法により、製造しうる。
　結晶性樹脂において、結晶性を有する脂環式構造含有重合体の割合は、好ましくは５０重量％以上、より好ましくは７０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上である。結晶性を有する脂環式構造含有重合体の割合を前記範囲の下限値以上にすることにより、光学フィルムの可撓性を高めることができる。結晶性を有する脂環式構造含有重合体の割合の上限は、１００重量％としうる。
　結晶性樹脂は、結晶性を有する脂環式構造含有重合体に加えて、任意の成分を含みうる。任意の成分としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤等の酸化防止剤；ヒンダードアミン系光安定剤等の光安定剤；石油系ワックス、フィッシャートロプシュワックス、ポリアルキレンワックス等のワックス；ソルビトール系化合物、有機リン酸の金属塩、有機カルボン酸の金属塩、カオリン及びタルク等の核剤；ジアミノスチルベン誘導体、クマリン誘導体、アゾール系誘導体（例えば、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、及びベンゾチアソール誘導体）、カルバゾール誘導体、ピリジン誘導体、ナフタル酸誘導体、及びイミダゾロン誘導体等の蛍光増白剤；ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等の紫外線吸収剤；タルク、シリカ、炭酸カルシウム、ガラス繊維等の無機充填材；着色剤；難燃剤；難燃助剤；帯電防止剤；可塑剤；近赤外線吸収剤；滑剤；フィラー、及び、軟質重合体等の、結晶性を有する脂環式構造含有重合体以外の任意の重合体；などが挙げられる。また、任意の成分は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
　本発明の光学フィルムは、少なくとも一方の面の算術平均粗さが２．５ｎｍ以下である。光学フィルムの少なくとも一方の面の算術平均粗さを前記のようにすることにより、高い接着性と、層間剥離の発生を抑制する等の本発明の効果が得られる。
　光学フィルムの少なくとも一方の面の算術平均粗さは、好ましくは２．０ｎｍ以下であり、より好ましくは１．５ｎｍ以下であり、さらにより好ましくは１．２ｎｍ以下であり、さらに小さい０．５ｎｍ以下とすることもできる。光学フィルムの少なくとも一方の面の算術平均粗さを上記のようにすることにより、高い接着性、及び層間剥離の発生を抑制する等の本発明の効果を容易に達成しうる。算術平均粗さの下限は特に限定されず、理想的には０ｎｍとしうる。
　光学フィルムは、いずれか一方の面のみの算術平均粗さが２．５ｎｍ以下であってもよいし、両方の面の算術平均粗さが２．５ｎｍ以下であってもよい。また、光学フィルムの二つの面の算術平均粗さは同一であっても相違していてもよい。
　光学フィルムの面の算術平均粗さは、走査型プローブ顕微鏡を用い、ＪＩＳ　Ｂ０６０１：１９９４に基づき測定しうる。ここで、算術平均粗さとは、測定される断面曲線から、カットオフ値λｃの高域フィルタによって長波長成分を遮断して輪郭曲線（粗さ曲線）を求め、その曲線の基準長さにおける高さ（平均線から測定曲線までの距離）の絶対値の平均値のことである。
　本発明の光学フィルムの、少なくとも一方の面の表層における、炭素元素に対する酸素元素の組成比（以下、「酸素元素の組成比」ともいう）は、好ましくは１／１０以上であり、より好ましくは１／９以上であり、特に好ましくは１／８以上であり、好ましくは１／５以下である。本発明の光学フィルムの、少なくとも一方の面の表層における、酸素元素の組成比を上記範囲とすることにより、高い接着性と、層間剥離の発生を抑制する等の本発明の効果を容易に達成しうる。
　本発明において、「表層」とは、光学フィルムの最表面から５ｎｍの深さの部分をいう。本発明において、元素の組成比とは、原子の数の比である。例えば、「炭素元素に対する酸素元素の組成比が１／１０」とは、炭素原子１０個に対する酸素原子の割合が１個であることをいう。
　本発明の光学フィルムの、少なくとも一方の面の表層における、炭素元素に対する窒素元素の組成比（以下、「窒素元素の組成比」ともいう）は、好ましくは１／２０以下であり、より好ましくは１/３０以下であり、特に好ましくは１／４０以下であり、さらに好ましくは理想的には０である。本発明の光学フィルムの少なくとも一方の面の表層における、窒素元素の組成比を上記範囲とすることにより、高い接着性と、層間剥離の発生を抑制する等の本発明の効果を容易に達成しうる。
　本発明において、好ましくは、光学フィルムの少なくとも一方の面の表層における、酸素元素の組成比が１／１０以上であり、かつ、窒素元素の組成比が１／２０以下である。
　本発明において、光学フィルムの少なくとも一方の面の表層における、酸素元素の組成比及び窒素元素の組成比を上記範囲とすることにより、当該面の算術平均粗さを小さくして、高い接着性と層間剥離の発生を抑制する等の本発明の効果を、より容易に達成しうる。
　光学フィルムの両方の面の算術平均粗さが、いずれも２．５ｎｍ以下である場合、いずれか一方の面の表層における、酸素元素の組成比及び窒素元素の組成比が上記範囲であってもよいし、両方の面の表層における、酸素元素の組成比及び窒素元素の組成比が上記範囲であってもよい。また、光学フィルムの二つの面の表層における酸素元素の組成比及び窒素元素の組成比は同一であっても相違していてもよい。好ましくは、光学フィルムの一方の面、又は両方の面のそれぞれが、上に述べた算術平均粗さの要件を満たし且つ上に述べた酸素元素及び窒素元素の組成比の要件を満たす。かかる複数の要件を満たす面を有することにより、好ましい本発明の効果を得ることができる。
　本発明の光学フィルムの面の表層における、酸素元素の組成比及び窒素元素の組成比は、Ｘ線光電子分光法（X-ray　Photoelectron　Spectroscopy；ＸＰＳ）によって測定しうる。ＸＰＳ法では、一般に、測定試料表面の深さ数ナノメートル（例えば５ｎｍ）における元素の存在比率が測定されることから、光学フィルムの面の表層における、元素の組成比を測定することができる。
　本発明の光学フィルムの、少なくとも一方の面において、全表面自由エネルギーは好ましくは６０ｍＮ／ｍ以上であり、より好ましくは６５ｍＮ／ｍ以上であり、特に好ましくは７０ｍＮ／ｍ以上である。全表面自由エネルギーは高いほうが理想的であるため、上限は特に限定されないが、例えば１４５ｍＮ／ｍ以下としうる。
　本発明の光学フィルムの、少なくとも一方の面において、分散成分の表面自由エネルギーは好ましくは４０ｍＮ／ｍ以下であり、より好ましくは３５ｍＮ／ｍ以下である。分散成分の表面自由エネルギーは低い値ほど理想的であるため、下限は特に限定されないが、例えば１５ｍＮ／ｍ以上としうる。
　本発明の光学フィルムの、少なくとも一方の面において、分極成分の表面自由エネルギーは好ましくは２０ｍＮ／ｍ以上であり、より好ましくは２５ｍＮ／ｍ以上であり、特に好ましくは３０ｍＮ／ｍ以上である。分極成分の表面自由エネルギーは高いほうが理想的であるため、上限は特に限定されないが、例えば９０ｍＮ／ｍ以下としうる。
　本発明の光学フィルムの、少なくとも一方の面において、水素結合成分の表面自由エネルギーは好ましくは５ｍＮ／ｍ以上であり、より好ましくは８ｍＮ／ｍ以上であり、特に好ましくは１０ｍＮ／ｍ以上である。水素結合成分の表面自由エネルギーは高いほうが理想的であるため、上限は特に限定されないが、例えば４０ｍＮ／ｍ以下としうる。
　本発明においては、光学フィルムの少なくとも一方の面において、全表面自由エネルギーが７０ｍＮ／ｍ以上、分散成分の表面自由エネルギーが４０ｍＮ／ｍ以下、分極成分の表面自由エネルギーが２５ｍＮ／ｍ以上、かつ、水素結合成分の表面自由エネルギーが１０ｍＮ／ｍ以上であるのが好ましい。本発明の光学フィルムの少なくとも一方の面において、全表面自由エネルギー、分散成分の表面自由エネルギー、分極成分の表面自由エネルギー及び水素結合成分の表面自由エネルギーを上記範囲とすることにより、該面の算術平均粗さを小さくすることができ、これにより高い接着性と、層間剥離の発生を抑制する等の本発明の効果を、容易に達成しうる。
　光学フィルムの両方の面の算術平均粗さが２．５ｎｍ以下である場合、いずれか一方の面の、全表面自由エネルギー、分散成分の表面自由エネルギー、分極成分の表面自由エネルギー及び水素結合成分の表面自由エネルギーが上記範囲であってもよいし、両方の面において、各表面自由エネルギーが上記範囲であってもよい。また、光学フィルムの二つの面の各表面自由エネルギーは同一であっても相違していてもよい。好ましくは、光学フィルムの一方の面、又は両方の面のそれぞれが、上に述べた算術平均粗さの要件を満たし且つ上に述べた表面自由エネルギーの要件を満たす。より好ましくは、光学フィルムの一方の面、又は両方の面のそれぞれが、上に述べた算術平均粗さの要件を満たし且つ上に述べた酸素元素及び窒素元素の組成比の要件を満たし且つ上に述べた表面自由エネルギーの要件を満たす。かかる複数の要件を満たす面を有することにより、好ましい本発明の効果を得ることができる。
　光学フィルムの面の、分散成分の表面自由エネルギーｒL d、分極成分の表面自由エネルギーｒL p及び水素結合成分の表面自由エネルギーｒL hは、表面自由エネルギーの分散成分、分極成分、及び水素結合成分が既知である試薬を使用して接触角を測定し、Ｆｏｒｋｅｓの拡張理論式（下記（１）～（３）式）により求めることができる。
　ｒL＝ｒL d＋ｒL p＋ｒL h（１）
　ｒs＝ｒs d＋ｒs p＋ｒs h（２）
　ｒL（１＋cosθ）＝２（ｒs d・ｒL d）1/2＋２（ｒs p・ｒL p）1/2＋２（ｒs h・ｒL h)）1/2（３）
　上記式（１）～（３）中、ｒLは光学フィルムの全表面自由エネルギー、ｒL dは光学フィルムの分散成分の表面自由エネルギー、ｒL pは光学フィルムの分極成分の表面自由エネルギー、ｒL hは光学フィルムの水素結合成分の表面自由エネルギーを示し、ｒSは試薬の全表面自由エネルギー、ｒs dは試薬の分散成分の表面自由エネルギー、ｒs pは試薬の分極成分の表面自由エネルギー、ｒs hは試薬の水素結合成分の表面自由エネルギー、θは試薬の接触角を示す（以下において同じ）。
　表面自由エネルギーの各成分が既知である試薬としては、例えば、純水、ジヨードメタン、エチレングリコール等が挙げられる。これらの試薬の全表面自由エネルギー、分散成分の表面自由エネルギー、分極成分の表面自由エネルギー、及び水素結合成分の表面自由エネルギーは表１に記載の通りである（単位はｍＮ／ｍ）。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　本発明において、光学フィルムは、ヘイズが小さいことが好ましい。具体的には、好ましくは３．０％未満、より好ましくは２％未満、特に好ましくは１％未満であり、理想的には０％である。このようにヘイズが小さいフィルムは、光学フィルムとして好適に用いることができる。
　前記ヘイズは、光学フィルムの中央部を中心に、該フィルムを５０ｍｍ×５０ｍｍの正方形に切り出し、サンプルを得て、このサンプルについて、ヘイズメーターを用いて測定しうる。
　本発明において、光学フィルムは、通常、耐熱性に優れる。具体的には、光学フィルムの耐熱温度は、通常１５０℃以上である。このように高い耐熱温度を有する光学フィルムは、例えば車両用の樹脂フィルムなどの耐熱性が要求される用途において、好適に用いうる。
　前記耐熱温度は、下記の方法で測定しうる。光学フィルムに張力を掛けない状態で、ある評価温度の雰囲気下で１０分放置する。その後、目視で光学フィルムの面状を確認する。光学フィルムの表面の形状に凹凸が確認できなかった場合、その光学フィルムの耐熱温度が、前記の評価温度以上であると判定できる。
　本発明において、光学フィルムは、高い全光線透過率を有することが好ましい。具体的には、光学フィルムの全光線透過率は、好ましくは８０％以上、より好ましくは８５％以上、特に好ましくは８８％以上である。前記全光線透過率は、紫外・可視分光計を用いて、波長４００ｎｍ～７００ｎｍの範囲で測定しうる。
　また、光学フィルムは、耐屈曲性に優れることが好ましい。光学フィルムの耐屈曲性は、具体的には、耐屈曲度で表しうる。前記耐折度は、好ましくは１００００回以上、より好ましくは５００００回以上、特に好ましくは１０００００回以上である。耐折度は高いほど好ましいため、耐折度の上限に制限は無いが、例えば１，０００，０００回以下としうる。
　光学フィルムの耐屈曲性は、フレキシブルディスプレイデバイス耐久試験規格「ＩＥＣ－６２７１５－６－１」で提示された方法を元にした試験により、下記の方法で測定しうる。
　試料としての光学フィルムから、幅１５ｍｍ±０．１ｍｍ、長さ約１１０ｍｍの試験片を切り出す。この際、フィルムがより強く延伸された方向が試験片の約１１０ｍｍの辺と平行になるように試験片を作製する。そして試験はユアサシステム機器株式会社製、卓上型耐久試験機（ＤＬＤＭＬＨ－ＦＳ）を用いた、面状体無負荷Ｕ字伸縮試験の方法により行った。屈曲の条件は、曲げ半径１ｍｍ、伸縮速度８０回／分、最大伸縮回数を２０万回とした。この折り曲げを継続し、試験片が破断するまでの往復折り曲げ回数を測定する。
　１０枚の試験片を作製して、前記の方法により、試験片が破断するまでの往復折り曲げ回数を１０回測定する。こうして測定された１０回の測定値の平均を、当該光学フィルムの耐折度（ＭＩＴ耐折回数）とする。
　光学フィルムは、通常、低吸水性に優れる。光学フィルムの低吸水性は、具体的には、吸水率で表しうる。前記吸水率は、通常０．１％以下、好ましくは０．０８％以下、より好ましくは０．０５％以下である。
　光学フィルムの吸水率は、下記の方法で測定しうる。
　試料としてのフィルムから、試験片を切り出し、試験片の重量を測定する。その後、この試験片を、２３℃の水中に２４時間浸漬して、浸漬後の試験片の重量を測定する。そして、浸漬前の試験片の重量に対する、浸漬によって増加した試験片の重量の割合を、吸水率（％）として算出しうる。
　また、光学フィルムの残留溶媒量は、１．０重量％以下、より好ましくは０．５重量％以下、特に好ましくは０．１重量％以下である。残留溶媒量をこの所望の値とすることで光学フィルムのカール量を抑制することができる。残留溶媒量は通常、ガスクロマトグラフィーで求めうる。
　光学フィルムの厚みは、好ましくは１μｍ以上、より好ましくは５μｍ以上、特に好ましくは１０μｍ以上であり、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは７５μｍ以下、特に好ましくは５０μｍ以下である。光学フィルムの厚みを前記下限値以上にすることにより、光学フィルムの機械的強度を高めることができる。光学フィルムの厚みを前記上限値以下にすることにより、光学フィルムの厚みを薄くできる。
　〔２．光学フィルムの製造方法〕
　本発明の光学フィルムは、下記工程（３）及び（４）を含む製造方法により製造しうる。本発明の光学フィルムの製造方法は、工程（３）及び（４）に加えて、下記工程（１）及び（２）のいずれか一方または双方を含んでもよい。
　工程（１）：脂環式構造含有重合体を含む結晶性樹脂を成形し、結晶化度３％未満の結晶性樹脂フィルムを得る工程。
　工程（２）：脂環式構造含有重合体を含む結晶性樹脂フィルムを延伸する工程。
　工程（３）：脂環式構造含有重合体を含む結晶性樹脂フィルムを結晶化させて結晶化樹脂フィルムを得る工程。
　工程（４）：結晶化樹脂フィルムのプラズマ処理を行うプラズマ処理工程。
　〔２．１．工程（１）〕
　工程（１）は、脂環式構造含有重合体を含む結晶性樹脂を、任意の成形方法により成形することにより行いうる。成形方法の例としては、射出成形法、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション成形法、ブロー成形法、カレンダー成形法、注型成形法、及び圧縮成形法が挙げられる。これらの中でも、厚みの制御が容易であることから、溶融押出成形法が好ましい。
　溶融押出成形法によって結晶性樹脂フィルムを製造する場合、押出成形の条件は、好ましくは下記の通りである。シリンダー温度（溶融樹脂温度）は、好ましくはＴｍ以上、より好ましくは（Ｔｍ＋２０）℃以上であり、好ましくは（Ｔｍ＋１００）℃以下、より好ましくは（Ｔｍ＋５０）℃以下である。また、キャストロール温度は、好ましくは（Ｔｇ－３０）℃以上であり、好ましくはＴｇ以下、より好ましくは（Ｔｇ－１５）℃以下である。このような条件で結晶性樹脂フィルムを製造することにより、好ましい厚みの結晶性樹脂フィルムを容易に製造できる。ここで、「Ｔｍ」は脂環式構造含有重合体の融点を表し、「Ｔｇ」は脂環式構造含有重合体のガラス転移温度を表す。工程（１）で得られた結晶性樹脂フィルムの結晶化度は３％未満としうる。下限は特に限定されないが０％以上としうる。
　〔２．２．工程（２）〕
　工程（２）では、結晶性樹脂フィルムの延伸を行う。
　結晶性樹脂フィルムの延伸方法に格別な制限は無く、任意の延伸方法を用いうる。延伸方法の例としては、結晶性樹脂フィルムを長手方向に一軸延伸する方法（縦一軸延伸法）、結晶性樹脂フィルムを幅方向に一軸延伸する方法（横一軸延伸法）等の、一軸延伸法；結晶性樹脂フィルムを長手方向に延伸すると同時に幅方向に延伸する同時二軸延伸法、結晶性樹脂フィルムを長手方向及び幅方向の一方に延伸した後で他方に延伸する逐次二軸延伸法などの二軸延伸法；並びに結晶性樹脂フィルムを幅方向に対し０°超９０°未満といった、幅方向に対し平行でも垂直でもない斜め方向に延伸する方法（斜め延伸法）が挙げられる。
　前記の縦一軸延伸法としては、例えば、ロール間の周速の差を利用した延伸方法などが挙げられる。
　また、前記の横一軸延伸法としては、例えば、テンター延伸機を用いた延伸方法などが挙げられる。
　さらに、前記の同時二軸延伸法としては、例えば、ガイドレールに沿って移動可能に設けられ且つ結晶性樹脂フィルムを固定しうる複数のクリップを備えたテンター延伸機を用いて、クリップの間隔を開いて結晶性樹脂フィルムを長手方向に延伸すると同時に、ガイドレールの広がり角度により結晶性樹脂フィルムを幅方向に延伸する延伸方法などが挙げられる。
　また、前記の逐次二軸延伸法としては、例えば、ロール間の周速の差を利用して結晶性樹脂フィルムを長手方向に延伸した後で、その結晶性樹脂フィルムの両端部をクリップで把持してテンター延伸機により幅方向に延伸する延伸方法などが挙げられる。
　さらに、前記の斜め延伸法としては、例えば、結晶性樹脂フィルムに対して長手方向又は幅方向に左右異なる速度の送り力、引張り力又は引取り力を付加しうるテンター延伸機を用いて結晶性樹脂フィルムを斜め方向に連続的に延伸する延伸方法などが挙げられる。
　結晶性樹脂フィルムを延伸する場合の延伸温度は、脂環式構造含有重合体のガラス転移温度Ｔｇに対し、好ましくは（Ｔｇ－３０）℃以上、より好ましくは（Ｔｇ－１０）℃以上であり、好ましくは（Ｔｇ＋６０）℃以下、より好ましくは（Ｔｇ＋５０）℃以下である。このような温度範囲で延伸を行うことにより、結晶性樹脂フィルムに含まれる重合体分子を適切に配向させることができる。
　結晶性樹脂フィルムを延伸する場合の延伸倍率は、所望の光学特性、厚み、強度などにより適宜選択しうるが、通常は１倍超、好ましくは１．０１倍以上であり、通常は１０倍以下、好ましくは５倍以下である。ここで、例えば二軸延伸法のように異なる複数の方向に延伸を行う場合、延伸倍率は各延伸方向における延伸倍率の積で表される総延伸倍率のことである。延伸倍率を前記範囲の上限値以下にすることにより、フィルムが破断する可能性を小さくできるので、光学フィルムの製造を容易に行うことができる。
　前記のような延伸処理を結晶性樹脂フィルムに施すことにより、所望の特性を有する光学フィルムを得ることができる。また、延伸処理を行うことにより、光学フィルムのヘイズを低減することができる。特定の理論に拘束されるものではないが、かかるヘイズの低減は、結晶性の重合体の分子を配向させることにより、結晶化の工程における結晶化の速度が速くなり、結晶核が小さい結晶化樹脂が得られることによるものと考えられる。
　〔２．３．工程（３）〕
　工程（３）は、脂環式構造含有重合体を含む結晶性樹脂フィルムを結晶化させて結晶化樹脂フィルムを得る工程である。工程（３）では、結晶性樹脂フィルムを結晶化させて、結晶化度が３０％以上の結晶化樹脂を主成分とする結晶化樹脂フィルムを得る。結晶化は、結晶性樹脂フィルムの少なくとも二の端辺を保持して緊張させた状態で所定の温度範囲にすることにより行いうる。
　結晶性樹脂フィルムを緊張させた状態とは、結晶性樹脂フィルムに張力がかかった状態をいう。ただし、この結晶性樹脂フィルムを緊張させた状態には、結晶性樹脂フィルムが実質的に延伸される状態を含まない。また、実質的に延伸されるとは、結晶性樹脂フィルムのいずれかの方向への延伸倍率が通常１．１倍以上になることをいう。
　結晶性樹脂フィルムを保持する場合、適切な保持具によって結晶性樹脂フィルムを保持する。保持具は、結晶性樹脂フィルムの端辺の全長を連続的に保持しうるものでもよく、間隔を空けて間欠的に保持しうるものでもよい。例えば、所定の間隔で配列された保持具によって結晶性樹脂フィルムの端辺を間欠的に保持してもよい。
　結晶化工程において、結晶性樹脂フィルムは、当該結晶性樹脂フィルムの少なくとも二の端辺を保持されて緊張した状態にされる。これにより、保持された端辺の間の領域において結晶性樹脂フィルムの熱収縮による変形が妨げられる。結晶性樹脂フィルムの広い面積において変形を妨げるためには、対向する二の端辺を含む端辺を保持して、その保持された端辺の間の領域を緊張した状態にすることが好ましい。例えば、矩形の枚葉の結晶性樹脂フィルムでは、対向する二の端辺（例えば、長辺側の端辺同士、又は、短辺側の端辺同士）を保持して前記二の端辺の間の領域を緊張した状態にすることで、その枚葉の結晶性樹脂フィルムの全面において変形を妨げることができる。また、長尺の結晶性樹脂フィルムでは、幅方向の端部にある二の端辺（即ち、長辺側の端辺）を保持して前記二の端辺の間の領域を緊張した状態にすることで、その長尺の結晶性樹脂フィルムの全面において変形を妨げることができる。このように変形を妨げられた結晶性樹脂フィルムは、熱収縮によってフィルム内に応力が生じても、シワ等の変形の発生が抑制される。結晶性樹脂フィルムとして延伸処理を施された延伸フィルムを用いる場合は、延伸方向（二軸延伸の場合は延伸倍率が大きい方向）と直交する少なくとも二の端辺を保持することで変形の抑制がより確実なものとなる。
　結晶化工程における変形をより確実に抑制するためには、より多くの端辺を保持することが好ましい。よって、例えば、枚葉の結晶性樹脂フィルムでは、その全ての端辺を保持することが好ましい。具体例を挙げると、矩形の枚葉の結晶性樹脂フィルムでは、四つの端辺を保持することが好ましい。
　結晶性樹脂フィルムの端辺を保持しうる保持具としては、結晶性樹脂フィルムの端辺以外の部分では結晶性樹脂フィルムと接触しないものが好ましい。このような保持具を用いることにより、より平滑性に優れる光学フィルムを得ることができる。
　また、保持具としては、保持具同士の相対的な位置を結晶化工程においては固定しうるものが好ましい。このような保持具は、結晶化工程において保持具同士の位置が相対的に移動しないので、結晶化工程における結晶性樹脂フィルムの実質的な延伸を抑制しやすい。
　好適な保持具としては、例えば、矩形の結晶性樹脂フィルム用の保持具として、型枠に所定間隔で設けられ結晶性樹脂フィルムの端辺を把持しうるクリップ等の把持子が挙げられる。また、例えば、長尺の結晶性樹脂フィルムの幅方向の端部にある二の端辺を保持するための保持具としては、テンター延伸機に設けられ結晶性樹脂フィルムの端辺を把持しうる把持子が挙げられる。
　長尺の結晶性樹脂フィルムを用いる場合、その結晶性樹脂フィルムの長手方向の端部にある端辺（即ち、短辺側の端辺）を保持してもよいが、前記の端辺を保持する代わりに結晶性樹脂フィルムの結晶化処理を施される領域の長手方向の両側を保持してもよい。例えば、結晶性樹脂フィルムの結晶化処理を施される領域の長手方向の両側に、結晶性樹脂フィルムを熱収縮しないように保持して緊張させた状態にしうる保持装置を設けてもよい。このような保持装置としては、例えば、２つのロールの組み合わせ、押出機と引き取りロールとの組み合わせ、などが挙げられる。これらの組み合わせによって結晶性樹脂フィルムに搬送張力等の張力を加えることで、結晶化処理を施される領域において当該結晶性樹脂フィルムの熱収縮を抑制できる。そのため、前記の組み合わせを保持装置として用いれば、結晶性樹脂フィルムを長手方向に搬送しながら当該結晶性樹脂フィルムを保持できるので、光学フィルムの効率的な製造ができる。
　結晶化工程では、前記のように結晶性樹脂フィルムの少なくとも二の端辺を保持して緊張させた状態で、当該結晶性樹脂フィルムを、脂環式構造含有重合体のガラス転移温度Ｔｇ以上、脂環式構造含有重合体の融点Ｔｍ以下の温度にする。前記のような温度にされた結晶性樹脂フィルムにおいては、脂環式構造含有重合体の結晶化が進行する。そのため、この結晶化工程により、結晶化した脂環式構造含有重合体を含む結晶化樹脂フィルムが得られる。この際、結晶化樹脂フィルムの変形を妨げながら緊張した状態にしているので、結晶化樹脂フィルムの平滑性を損なうことなく、結晶化を進めることができる。
　結晶化工程における温度範囲は、前記のように、脂環式構造含有重合体のガラス転移温度Ｔｇ以上、脂環式構造含有重合体の融点Ｔｍ以下の温度範囲において任意に設定しうる。中でも、結晶化の速度が大きくなるような温度に設定することが好ましい。結晶化工程における結晶性樹脂フィルムの温度は、好ましくは（Ｔｇ＋２０）℃以上、より好ましくは（Ｔｇ＋３０）℃以上であり、好ましくは（Ｔｍ－２０）℃以下、より好ましくは（Ｔｍ－４０）℃以下である。結晶化工程における温度を前記範囲の上限以下にすることにより、光学フィルムの白濁を抑制できるので、光学的に透明なフィルムが求められる場合に適した光学フィルムが得られる。
　結晶性樹脂フィルムを前記のような温度にする場合、通常、結晶性樹脂フィルムの加熱を行う。この際に用いる加熱装置としては、加熱装置と結晶性樹脂フィルムとの接触が不要であることから、結晶性樹脂フィルムの雰囲気温度を上昇させうる加熱装置が好ましい。好適な加熱装置の具体例を挙げると、オーブン及び加熱炉が挙げられる。
　結晶化工程において、結晶性樹脂フィルムを前記の温度範囲に維持する処理時間は、好ましくは１秒以上、より好ましくは５秒以上であり、好ましくは３０分以下、より好ましくは１０分以下である。結晶化工程で、脂環式構造含有重合体の結晶化を十分に進行させることにより、光学フィルムの可撓性を高めることができる。また、処理時間を前記範囲の上限以下にすることにより、光学フィルムの白濁を抑制できるので、光学的に透明なフィルムが求められる場合に適した光学フィルムが得られる。
　〔２．４．工程（４）〕
　工程（４）では、結晶化樹脂フィルムを、プラズマ処理する（プラズマ処理工程）。
　従来の結晶化樹脂を用いた光学フィルムにおいて、層間剥離の発生傾向が多かったのは、結晶化樹脂フィルムの表面に脆弱層が形成されていることが一因であると推測された。
　工程（４）において結晶化樹脂フィルムをプラズマ処理することにより、脆弱層が削られるとともに、当該面の算術平均粗さを小さくすることができ、その結果、少なくとも一方の面の算出平均粗さが２．５ｎｍ以下の結晶化樹脂フィルムを容易に得ることができる。
　プラズマ処理工程は大気圧下で行っても真空下で行ってもよいが、生産性の観点から、大気圧下で行うのが好ましい。大気圧下でのプラズマ処理は、例えば、大気圧プラズマ表面処理装置（製品名「ＲＤ６４０」、積水化学工業社製）を用いて行うことができる。
　プラズマ処理工程は、水素ガス、ヘリウムガス、窒素ガス、酸素ガス、二酸化炭素ガス、アルゴンガスから選択される１種以上のガス雰囲気下で行うことが好ましく、窒素ガス、ならびに、酸素ガス及び二酸化炭素ガスから選ばれる一種以上のガスを含む、ガス雰囲気下で行うことが、より好ましい。
　工程（４）においては、窒素ガス、ならびに酸素ガス及び二酸化炭素ガスから選ばれる一種以上のガスを、窒素に対する酸素の重量比が５．５０×１０-3以上１．３０×１０-1以下となるように含むガス雰囲気下で、結晶化樹脂フィルムをプラズマ処理することが好ましい。
　窒素ガス及び酸素ガスを用いる場合、窒素ガス及び酸素ガスを、窒素に対する酸素の重量比が５．５０×１０-3以上３．５０×１０-2以下となるように含むガス雰囲気下で、プラズマ処理を行うのが好ましく、８．０×１０-3以上、１．５×１０-2以下となるように含むガス雰囲気下でプラズマ処理を行うのが、より好ましい。プラズマ処理工程を窒素ガス及び酸素ガスを上記の重量比となるように含むガス雰囲気下で行うことで、結晶化樹脂フィルムの面の算術平均粗さを２．５ｎｍ以下とすることが、より容易となる。
　窒素ガス及び二酸化炭素ガスを用いる場合、窒素ガス及び二酸化炭素ガスを、窒素に対する酸素の重量比が２．５０×１０-2以上１．３０×１０-1以下となるように含むガス雰囲気下で、プラズマ処理を行うのが好ましく、３．５×１０-2以上１．０×１０-1以下となるように含むガス雰囲気下でプラズマ処理を行うのが、より好ましい。プラズマ処理工程を窒素ガス及び二酸化炭素ガスを上記の重量比となるように含むガス雰囲気下で行うことで、結晶化樹脂フィルムの面の算術平均粗さを２．５ｎｍ以下とすることが、より容易となる。
　窒素ガスならびに、酸素ガスまたは二酸化炭素ガスを用いる場合、窒素ガスの流量は好ましくは５～１５ＮＬ／分、二酸化炭素ガスまたは酸素ガスの流量は好ましくは０．０２５～０．１５ＮＬ／分である。プラズマ照射の出力は５００～３０００Ｗであることが好ましい。プラズマ照射の周波数は出力に対応した共振周波数であることが好ましく、具体的には２５～１００ＫＨｚの範囲が好ましい。プラズマ照射の照射速度は５０～５００ｃｍ／分で行うことが好ましい。プラズマ発生源と処理対象の表面との距離は０．５～３ｍｍが好ましい。
　また、プラズマ照射を常圧下ではなく減圧下で行うときは、０．００１～１０ｋＰａ（絶対圧）の低圧ガス（アルゴンガス、酸素ガス、窒素ガス、またはこれらの混合ガスなど）を用いてプラズマ処理を行うことが好ましい。低圧ガスとしては、窒素と酸素との混合ガスを用いることが特に好ましい。窒素と酸素との混合比は体積比で１０：１～１：１０であることが好ましく、混合ガスの流量は０．１～１０ＮＬ／分であることが好ましい。プラズマ照射の出力は好ましくは５０～３０００Ｗである。
　〔２．５．その他の工程〕
　本発明の製造方法では、上に述べた工程の他に、任意の工程を行いうる。
　任意の工程の一例としては、工程（１）の後に、結晶性樹脂フィルムの表面への改質処理を行うことが挙げられる。結晶性樹脂フィルムの表面への改質処理の例としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、ケン化処理、紫外線照射処理などが挙げられる。中でも、処理効率の点などからコロナ放電処理及びプラズマ処理が好ましく、プラズマ処理がより好ましい。
　任意の工程の別の一例としては、工程（３）の後に、結晶化樹脂フィルムを熱収縮させ残留応力を除去する緩和工程が挙げられる。
　〔３．任意の層〕
　本発明の光学フィルムは、任意の層を備えうる。任意の層としては、例えば、易接着層、導電層、反射防止層、ハードコート層、帯電防止層、防眩層、防汚層、セパレーターフィルム等層を挙げることができる。
　〔４．多層フィルム〕
　本発明の多層フィルムは、光学フィルムと、被接着層と、前記光学フィルムと前記被接着層との間に設けられた接着層と、を有する。多層フィルムは、光学フィルムと、被接着層とが、接着剤を介して積層されてなる積層体である。
　接着層を構成する接着剤としては、ウレタン樹脂の層との接着を良好に達成しうる各種の接着剤を用いうる。具体的には、紫外線硬化型アクリル組成物、紫外線硬化型エポキシ組成物、或いはアクリルモノマーとエポキシモノマーが混合された紫外線硬化型重合組成物が挙げられる。
　被接着層は、表示装置の構成要素として用いうる部材であって、接着層による接着を容易に達成しうる任意のものとしうる。具体的には、ガラス板、金属板等の無機材料の層、及び樹脂の層としうる。樹脂の層を構成する材料の例としては、非結晶性の脂環式構造含有重合体樹脂、偏光板の偏光子を構成するポリビニルアルコールを主成分とする樹脂や偏光板保護フィルムを構成するセルロース系樹脂、結晶性の脂環式構造含有重合体樹脂、結晶性のポリエステル系樹脂、等が挙げられる。
　本発明の多層フィルムは、本発明の光学フィルムの面のうち、算術平均粗さが２．５ｎｍ以下の面と、被接着層とを、接着剤を介して貼合することにより製造しうる。具体的には、本発明の光学フィルムの面のうち、算術平均粗さが２．５ｎｍ以下の面に接着剤を塗布し、被接着層の一方の面と重ね合わせ、さらに必要に応じて接着剤を硬化させることにより、多層フィルムの製造を達成しうる。光学フィルムの面の両面が、算術平均粗さが２．５ｎｍ以下の面である場合は、光学フィルムのいずれか一方の面か又は両面に、接着剤を塗布して、被接着層を重ねて貼り合わせることにより、多層フィルムを製造することができる。
　本発明の多層フィルムは、結晶化樹脂からなる光学フィルムに基づく高い耐熱性、可撓性等の特性を有する。そして、本発明によれば、光学フィルムの少なくとも一方の面の算術平均粗さを２．５ｎｍ以下とすることにより、接着剤を介した被接着層との高い接着性及び高い剥離強度を有し、その結果、層間の剥離が発生する傾向が少なく、耐久性が高い多層フィルムを提供することができる。
　〔５．用途〕
　本発明の光学フィルム及び多層フィルムは、任意の用途に用いうる。層間剥離の発生が少ないという利点を生かし、タッチパネルの構成要素であるタッチセンサーとして特に有用に用いうる。
　以下、実施例を示して本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
　以下の説明において、量を表す「％」及び「部」は、別に断らない限り重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。
　＜評価方法＞
　（厚みの測定方法）
　光学フィルム及び多層フィルムを構成する各層の厚みは、次のようにして測定した。サンプルとなるフィルムの各層の屈折率を、エリプソメトリー（ウーラム社製「Ｍ－２０００」）を用いて測定した。その後、測定した屈折率を用いて、フィルムの厚みを、光干渉式膜厚計（大塚電子社製「ＭＣＰＤ－９８００」）で測定した。
　（重量平均分子量及び数平均分子量）
　重合体の重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）システム（東ソー社製「ＨＬＣ－８３２０」）を用いて、ポリスチレン換算値として測定した。測定の際、カラムとしてはＨタイプカラム（東ソー社製）を用い、溶媒としてはテトラヒドロフランを用いた。また、測定時の温度は、４０℃であった。
　（結晶性樹脂の、ガラス転移温度Ｔｇ、融点Ｔｍ及び結晶化温度Ｔｐｃ）
　窒素雰囲気下で３００℃に加熱した試料を液体窒素で急冷し、示差操作熱量計（ＤＳＣ）を用いて、１０℃／分で昇温して試料のガラス転移温度Ｔｇ、融点Ｔｍ及び結晶化温度Ｔｐｃをそれぞれ求めた。
　（重合体の水素化率の測定方法）
　重合体の水素化率は、オルトジクロロベンゼン－ｄ4を溶媒として、１４５℃で、1Ｈ－ＮＭＲ測定により測定した。
　（重合体のラセモ・ダイアッドの割合）
　オルトジクロロベンゼン－ｄ4を溶媒として、２００℃で、ｉｎｖｅｒｓｅ－ｇａｔｅｄ　ｄｅｃｏｕｐｌｉｎｇ法を適用して、重合体の13Ｃ－ＮＭＲ測定を行った。この13Ｃ－ＮＭＲ測定の結果において、オルトジクロロベンゼン－ｄ4の１２７．５ｐｐｍのピークを基準シフトとして、メソ・ダイアッド由来の４３．３５ｐｐｍのシグナルと、ラセモ・ダイアッド由来の４３．４３ｐｐｍのシグナルとを同定した。これらのシグナルの強度比に基づいて、重合体のラセモ・ダイアッドの割合を求めた。
　（結晶化度）
　結晶化度は、ＪＩＳ　Ｋ０１３１に準じて、Ｘ線回折により確認した。具体的には、広角Ｘ線回折装置（ＲＩＮＴ　２０００、株式会社リガク製）を用いて、結晶化部分からの回析Ｘ線強度を求め、全体の回析Ｘ線強度との比から、下記式（Ｉ）によって結晶化度を求めた。
　Ｘｃ＝Ｋ・Ｉｃ／Ｉｔ　（Ｉ）
　上記式（Ｉ）において、Ｘｃは被検試料の結晶化度、Ｉｃは結晶化部分からの回析Ｘ線強度、Ｉｔは全体の回析Ｘ線強度、Ｋは補正項を、それぞれ表す。
　（耐熱温度）
　光学フィルムに張力をかけない状態で、一定の評価温度の雰囲気下で１０分放置した後、目視で光学フィルムの表面の状態を観察した。評価温度は１５０℃から光学フィルムの表面に凸凹が確認されるまでの温度とし、１０℃刻みとした。光学フィルムの表面に凹凸が確認できなかった評価温度のうち、最も高い温度を、その光学フィルムの耐熱温度とした。
　（耐屈曲性）
　光学フィルムの耐屈曲性を、フレキシブルディスプレイデバイス耐久試験規格「ＩＥＣ　６２７１５－６－１」で提示された方法を元にした試験により、下記の方法で測定した。
　試料としての光学フィルムから、幅１５ｍｍ±０．１ｍｍ、長さ約１１０ｍｍの試験片を切り出した。この際、フィルムがより強く延伸された方向が試験片の約１１０ｍｍの辺と平行になるように試験片を作製した。ユアサシステム機器株式会社製、卓上型耐久試験機（ＤＬＤＭＬＨ－ＦＳ）を用いて面状体無負荷Ｕ字伸縮試験法により試験を行った。折り曲げの条件は、曲げ半径１ｍｍ、伸縮速度８０回／分、最大伸縮回数を２０万回とした。この折り曲げを、試験片が破断するまで継続し、試験片が破断したときの往復折り曲げ回数を測定した。
　１０枚の試験片を作製して、前記の方法により、試験片が破断するまでの往復折り曲げ回数を１０回測定し、１０回の測定値の平均を、当該光学フィルムの耐屈曲性（ＭＩＴ耐折回数）とした。
　(算術平均粗さの測定方法)
　光学フィルムの２つの面の算術平均粗さＲａは、走査型プローブ顕微鏡（Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ　Ｉｃｏｎ　ブルカーエイエックス社）を用い、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１：１９９４に基づき測定を行った。
　（表層における元素組成比の測定）
　光学フィルムの面の表層における、酸素元素の組成比及び窒素元素の組成比は、ＸＰＳ測定分析装置（「ＰＨＩ　５０００　ＶｅｒｓａＰｒｏｂｅ　ＩＩＩ」、アルバック・ファイ社製）を用いて測定した。
　（表面自由エネルギーの測定）
　光学フィルムを、１０ｃｍ角程度の大きさに切り出して、基材片を得た。この基材片の面において、純水（Ｈ2Ｏ）の接触角、ジヨードメタン（ＣＨ2Ｉ2）の接触角、及びエチレングリコールの接触角を、自動接触角計によって実測した。こうして測定された接触角のデータから、接触角計付属のソフトウェアによって、基材の面の表面自由エネルギー（全表面自由エネルギー、分散成分の表面自由エネルギー、分極成分の表面自由エネルギー、水素結合成分の表面自由エネルギー）を算出した。測定時の条件は、下記の通りである。
　・接触角測定条件
　システム：ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学製）
　　　ＡｕｔｏＤｉｓｐｅｎｓｅｒ　ＡＤ－３１（協和界面科学製）
　制御解析ソフトウェア：ＦＡＭＡＳ　ｖｅｒ３．１３
　接触角測定法：懸滴法
　視野：ＳＴＤ
　解析法：Ｙｏｕｎｇ－Ｌａｐｌａｃｅ法
　テフロン（登録商標）コート針：１８Ｇ（もしくは２２Ｇ）
　液量：３μＬ～４μＬ
　測定待ち時間：３０００ｍｓ
　測定回数：ｎ＝１０測定　平均値
　・表面自由エネルギーの計算方法
　解析ソフトウェア：ＦＡＭＡＳ　ｖｅｒ３．１３
　解析理論名：Ｏｗｅｎｓ－Ｗｅｎｄｔ
　（剥離強度の測定方法）
　実施例及び比較例で得られた多層フィルムを、２５ｍｍの幅に裁断して、その光学フィルム側の面を、スライドガラスの表面に粘着剤にて貼合した。貼合に際し、粘着剤としては、両面粘着テープ（日東電工社製、品番「ＣＳ９６２１」）を用いた。貼合後、貼合物を１２時間静値した。
　その後、フォースゲージの先端の治具で被接着層の端部を挟み、スライドガラスの表面の法線方向に牽引することにより、９０度剥離試験を実施した。牽引の際の剥離速度は２０ｍｍ／分とした。被接着層が剥れる際に測定された力は、光学フィルムと被接着層とを剥離させるために要する力であるので、この力の大きさを剥離強度として測定した。
　〔製造例１．ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物の製造〕
　金属製の耐圧反応器を、充分に乾燥した後、窒素置換した。この金属製耐圧反応器に、シクロヘキサン１５４．５部、ジシクロペンタジエン（エンド体含有率９９％以上）の濃度７０％シクロヘキサン溶液４２．８部（ジシクロペンタジエンの量として３０部）、及び１－ヘキセン１．９部を加え、５３℃に加温した。
　テトラクロロタングステンフェニルイミド（テトラヒドロフラン）錯体０．０１４部を０．７０部のトルエンに溶解した溶液に、濃度１９％のジエチルアルミニウムエトキシド／ｎ－ヘキサン溶液０．０６１部を加えて１０分間攪拌して、触媒溶液を調製した。
　この触媒溶液を耐圧反応器に加えて、開環重合反応を開始した。その後、５３℃を保ちながら４時間反応させて、ジシクロペンタジエンの開環重合体の溶液を得た。
　得られたジシクロペンタジエンの開環重合体の数平均分子量（Ｍｎ）及び重量平均分子量（Ｍｗ）は、それぞれ、８７５０および２８,１００であり、これらから求められる分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は３．２１であった。
　得られたジシクロペンタジエンの開環重合体の溶液２００部に、停止剤として１，２－エタンジオール０．０３７部を加えて、６０℃に加温し、１時間攪拌して重合反応を停止させた。ここに、ハイドロタルサイト様化合物（協和化学工業社製「キョーワード（登録商標）２０００」）を１部加えて、６０℃に加温し、１時間攪拌した。その後、濾過助剤（昭和化学工業社製「ラヂオライト（登録商標）＃１５００」）を０．４部加え、ＰＰプリーツカートリッジフィルター（ＡＤＶＡＮＴＥＣ東洋社製「ＴＣＰ－ＨＸ」）を用いて吸着剤と溶液を濾別した。
　濾過後のジシクロペンタジエンの開環重合体の溶液２００部（重合体量３０部）に、シクロヘキサン１００部を加え、クロロヒドリドカルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム０．００４３部を添加して、水素圧６ＭＰａ、１８０℃で４時間水素化反応を行った。これにより、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物を含む反応液が得られた。この反応液は、水素化物が析出してスラリー溶液となっていた。
　前記の反応液に含まれる水素化物と溶液とを、遠心分離器を用いて分離し、６０℃で２４時間減圧乾燥して、結晶性を有するジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物２８．５部を得た。この水素化物の水素化率は９９％以上、ガラス転移温度Ｔｇは９４℃、融点（Ｔｍ）は２６２℃、結晶化温度Ｔｐｃは１７０℃、ラセモ・ダイアッドの割合は８９％であった。
　＜実施例１＞
　（１－１．結晶化度３％未満の結晶性樹脂フィルムの製造）
　製造例１で得たジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物１００部に、酸化防止剤（テトラキス〔メチレン－３－（３’，５’－ジ－ｔ－ブチル－４’－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン；ＢＡＳＦジャパン社製「イルガノックス（登録商標）１０１０」）０．５部を混合して、光学フィルムの材料となる結晶性樹脂を得た。この結晶性樹脂を以下において「樹脂Ａ」ともいう。
　樹脂Ａを、内径３ｍｍΦのダイ穴を４つ備えた二軸押出機（東芝機械社製「ＴＥＭ－３７Ｂ」）に投入した。前記の二軸押出機によって、樹脂を熱溶融押出成形によりストランド状の成形体に成形した。この成形体をストランドカッターにて細断して、結晶性樹脂のペレットを得た。
　引き続き、得られたペレットを、Ｔダイを備える熱溶融押出フィルム成形機に供給した。このフィルム成形機を用いて、前記の樹脂Ａからなる長尺のフィルム（幅１２０ｍｍ）を、２７ｍ／分の速度でロールに巻き取る方法にて製造した。前記のフィルム成形機の運転条件を、以下に示す。
　・バレル温度設定：２８０℃～２９０℃
　・ダイ温度：２７０℃
　・スクリュー回転数：３０ｒｐｍ
　・キャストロール温度：７０℃
　これにより、長尺の結晶性樹脂フィルムを得た。得られたフィルムの厚みは２０μｍであった。このフィルムにおける結晶性樹脂の結晶化度は、０．７％であった。
　（１－２．延伸工程）
　（１－１）で得られた長尺の結晶性樹脂フィルムを切り出し、３５０ｍｍ×３５０ｍｍの正方形とした。この切り出しは、切り出された結晶性樹脂フィルムの正方形の各端辺が長尺の結晶性樹脂フィルムの長手方向又は幅方向に平行になるように行った。そして、切り出された結晶性樹脂フィルムを、小型延伸機（東洋精機製作所社製「ＥＸ１０―Ｂタイプ」）に設置した。この小型延伸機は、フィルムの四つの端辺を把持しうる複数のクリップを備え、このクリップを移動させることによってフィルムを延伸できる構造を有している。
　小型延伸機のオーブン温度を１３０℃に設定し、結晶性樹脂フィルムを、延伸温度１３０℃、延伸速度４．０ｍｍ／分で、長尺の結晶性樹脂フィルムの長手方向に対応する方向へ延伸倍率１．２倍で延伸した。これにより、延伸された結晶性樹脂フィルムを得た。
　（１－３．結晶化樹脂フィルムの製造）
　（１－２）で延伸した結晶性樹脂フィルムを小型延伸機に設置した状態で加熱処理した。加熱処理は、結晶性樹脂フィルムの四つの端辺を保持した状態で、小型延伸機に付属する二次加熱板を結晶性樹脂フィルムの上側の面及び下側の面に近接させ、３０秒間保持することによって行った。このとき二次加熱板の温度は１７０℃とし、フィルムとの距離は上下各々８ｍｍとした。これにより、結晶性樹脂フィルム中の結晶性樹脂の結晶化が進行して、結晶化樹脂フィルムが得られた。
　得られた結晶化樹脂フィルムにおける結晶化樹脂の結晶化度は７１％であった。
　（１－４．光学フィルムの製造）
　（１－３）で得られた結晶化樹脂フィルムの一方の面を、大気圧プラズマ表面処理装置（製品名「ＲＤ６４０」、積水化学工業株式会社製）を用いて、窒素ガスと酸素ガスとを９９．５：０．５(重量％)で含むガス雰囲気下、プラズマ処理して光学フィルムを得た。プラズマ処理の条件は、出力１０００ｗ、電圧４５０Ｖ、電流０．６５Ａ、周波数６０ｋＨｚ、照射速度３００ｃｍ／分、照射時間６秒、プラズマ発生源と処理対象の表面との距離は１ｍｍであった。得られた光学フィルムのプラズマ処理面の算術平均粗さ（Ｒａ）、表層の元素組成比、各表面エネルギーを測定し平均値を算出した。
　（１－５．多層フィルム）
　被接着層としてノルボルネン系重合体を含む樹脂フィルム（商品名「ゼオノアフィルム　ＺＦ１６－１００」、ガラス転移温度１６０℃、厚み１００μｍ、延伸処理されていないもの、日本ゼオン株式会社製）を用意した。
　当該樹脂フィルムの一方の面にコロナ処理を施した。コロナ処理には、春日電機社製コロナ処理装置を用い、処理条件は、大気中、放電量１５０Ｗ／ｍ2／分とした。
　樹脂フィルムのコロナ処理した面に紫外線硬化接着剤（ＣＲＢ１３５２　東洋インキ社製）を塗工し、ラミネータを使用して、（１－４）で製造した光学フィルムのプラズマ処理を行った面と貼合した。
　貼合物に、高圧水銀ランプを用いて照度３５０ｍＷ／ｃｍ2、積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ2の条件で紫外線を照射した。これにより、接着剤を架橋させ、接着層とした。
　これにより、光学フィルムとしての結晶化樹脂の層と、接着層と、樹脂フィルムの層（被接着層）とをこの順に備える、多層フィルムを得た。得られた多層フィルムについて、剥離強度を測定した。
　＜実施例２＞
　（２－４．光学フィルムの製造）
　実施例１の（１－４）において、プラズマ処理のガス雰囲気を、窒素ガスと酸素ガスとを９９．０：１．０(重量％)で含むガス雰囲気に変更したこと以外は、実施例１の（１－１）～（１－４）と同様にして、光学フィルムを得た。得られた光学フィルムの算術平均粗さ（Ｒａ）、表層の元素組成比、各表面エネルギーを測定した。
　（２－５．多層フィルム）
　実施例１の（１－５）において、（１－４）で製造した光学フィルムに代えて、（２－４）で製造した光学フィルムを用いたこと以外は実施例１と同様にして、多層フィルムを得た。得られた多層フィルムについて、剥離強度を測定した。
　＜実施例３＞
　（３－４．光学フィルムの製造）
　実施例１の（１－４）において、プラズマ処理のガス雰囲気を、窒素ガスと酸素ガスとを９８．０：２．０(重量％)で含むガス雰囲気に変更したこと以外は、実施例１の（１－１）～（１－４）と同様にして、光学フィルムを得た。得られた光学フィルムの算術平均粗さ（Ｒａ）、表層の元素組成比、各表面エネルギーを測定した。
　（３－５．多層フィルム）
　実施例１の（１－５）において、（１－４）で製造した光学フィルムに代えて、（３－４）で製造した光学フィルムを用いたこと以外は実施例１と同様にして、多層フィルムを得た。得られた多層フィルムについて、剥離強度を測定した。
　＜実施例４＞
　（４－４．光学フィルムの製造）
　実施例１の（１－４）において、プラズマ処理のガス雰囲気を、窒素ガスと二酸化炭素ガスとを９７．０：３．０(重量％)で含むガス雰囲気に変更したこと以外は、実施例１の（１－１）～（１－４）と同様にして、光学フィルムを得た。得られた光学フィルムの算術平均粗さ（Ｒａ）、表層の元素組成比、各表面エネルギーを測定した。
　（４－５．多層フィルム）
　実施例１の（１－５）において、（１－４）で製造した光学フィルムに代えて、（４－４）で製造した光学フィルムを用いたこと以外は実施例１と同様にして、多層フィルムを得た。得られた多層フィルムについて、剥離強度を測定した。
　＜実施例５＞
　（５－４．光学フィルムの製造）
　実施例１の（１－４）において、プラズマ処理のガス雰囲気を、窒素ガスと二酸化炭素ガスとを９５．０：５．０(重量％)で含むガス雰囲気に変更したこと以外は、実施例１の（１－１）～（１－４）と同様にして、光学フィルムを得た。得られた光学フィルムの算術平均粗さ（Ｒａ）、表層の元素組成比、各表面エネルギーを測定した。
　（５－５．多層フィルム）
　実施例１の（１－５）において、（１－４）で製造した光学フィルムに代えて、（５－４）で製造した光学フィルムを用いたこと以外は実施例１と同様にして、多層フィルムを得た。得られた多層フィルムについて、剥離強度を測定した。
　＜実施例６＞
　（６－４．光学フィルムの製造）
　実施例１の（１－４）において、プラズマ処理のガス雰囲気を、窒素ガスと二酸化炭素ガスとを９０．０：１０．０(重量％)で含むガス雰囲気に変更したこと以外は、実施例１の（１－１）～（１－４）と同様にして、光学フィルムを得た。得られた光学フィルムの算術平均粗さ（Ｒａ）、表層の元素組成比、各表面エネルギーを測定した。
　（６－５．多層フィルム）
　実施例１の（１－５）において、（１－４）で製造した光学フィルムに代えて、（６－４）で製造した光学フィルムを用いたこと以外は実施例１と同様にして、多層フィルムを得た。得られた多層フィルムについて、剥離強度を測定した。
　＜比較例１＞
　実施例１の（１－５）において（１－４）で製造した光学フィルムに代えて（１－３）で製造した結晶化樹脂フィルム（プラズマ処理前の結晶化樹脂フィルム）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、多層フィルムを得た。得られた多層フィルムについて、剥離強度を測定した。
　比較例１においては、多層フィルムの製造の際に実施例１の（１－３）の結晶化樹脂フィルムを用いたので、実施例１の（１－３）で製造した結晶化樹脂フィルムについて算術平均粗さ、表層の元素組成比、表面自由エネルギーを測定した。
　＜比較例２＞
　（Ｃ２－４．光学フィルムの製造）
　実施例１の（１－４）において、プラズマ処理のガス雰囲気を、窒素ガス雰囲気（窒素ガス１００％）に変更したこと以外は、実施例１の（１－１）～（１－４）と同様にして、光学フィルムを得た。得られた光学フィルムの算術平均粗さ（Ｒａ）、表層の元素組成比、各表面エネルギーを測定した。
　（Ｃ２－５．多層フィルム）
　実施例１の（１－５）において、（１－４）で製造した光学フィルムに代えて、（Ｃ２－４）で製造した光学フィルムを用いたこと以外は実施例１の（１－５）と同様にして、多層フィルムを得た。得られた多層フィルムについて、剥離強度を測定した。
　＜比較例３＞
　（Ｃ３－４．光学フィルムの製造）
　実施例１の（１－４）において、プラズマ処理のガス雰囲気を、窒素ガスと酸素ガスとを９９．９：０．１(重量％)で含むガス雰囲気に変更したこと以外は、実施例１の（１－１）～（１－４）と同様にして、光学フィルムを得た。得られた光学フィルムの算術平均粗さ（Ｒａ）、表層の元素組成比、各表面エネルギーを測定した。
　（Ｃ３－５．多層フィルム）
　実施例１の（１－５）において、（１－４）で製造した光学フィルムに代えて、（Ｃ３－４）で製造した光学フィルムを用いたこと以外は実施例１の（１－５）と同様にして、多層フィルムを得た。得られた多層フィルムについて、剥離強度を測定した。
　＜比較例４＞
　（Ｃ４－４．光学フィルムの製造）
　実施例１の（１－４）において、プラズマ処理のガス雰囲気を、窒素ガスと酸素ガスとを９７．０：３．０(重量％)で含むガス雰囲気に変更したこと以外は、実施例１の（１－１）～（１－４）と同様にして、光学フィルムを得た。得られた光学フィルムの算術平均粗さ（Ｒａ）、表層の元素組成比、各表面エネルギーを測定した。
　（Ｃ４－５．多層フィルム）
　実施例１の（１－５）において、（１－４）で製造した光学フィルムに代えて、（Ｃ４－４）で製造した光学フィルムを用いたこと以外は実施例１の（１－５）と同様にして、多層フィルムを得た。得られた多層フィルムについて、剥離強度を測定した。
　＜比較例５＞
　（Ｃ５－４．光学フィルムの製造）
　実施例１の（１－４）において、プラズマ処理のガス雰囲気を、窒素ガスと二酸化炭素ガスとを９８．０：３．０(重量％)で含むガス雰囲気に変更したこと以外は、実施例１の（１－１）～（１－４）と同様にして、光学フィルムを得た。得られた光学フィルムの算術平均粗さ（Ｒａ）、表層の元素組成比、各表面エネルギーを測定した。
　（Ｃ５－５．多層フィルム）
　実施例１の（１－５）において、（１－４）で製造した光学フィルムに代えて、（Ｃ５－４）で製造した光学フィルムを用いたこと以外は実施例１の（１－５）と同様にして、多層フィルムを得た。得られた多層フィルムについて、剥離強度を測定した。
　＜比較例６＞
　（Ｃ６－４．光学フィルムの製造）
　実施例１の（１－４）において、プラズマ処理のガス雰囲気を、窒素ガスと二酸化炭素ガスとを８５．０：１５．０(重量％)で含むガス雰囲気に変更したこと以外は、実施例１の（１－１）～（１－４）と同様にして、光学フィルムを得た。得られた光学フィルムの算術平均粗さ（Ｒａ）、表層の元素組成比、各表面エネルギーを測定した。
　（Ｃ６－５．多層フィルム）
　実施例１の（１－５）において、（１－４）で製造した光学フィルムに代えて、（Ｃ６－４）で製造した光学フィルムを用いたこと以外は実施例１の（１－５）と同様にして、多層フィルムを得た。得られた多層フィルムについて、剥離強度を測定した。
　＜比較例７＞
　（Ｃ７－４．光学フィルムの製造）
　実施例１の（１－３）で製造した結晶化フィルムの一方の面に、エキシマランプ（ＥＸ-ｍｉｎｉ　Ｌ１２５３０-０１、浜松フォトニクス社製）を用いて、焦点距離が３ｍｍ、空気下、エキシマ光（波長：１７５ｎｍ）を６秒間照射して光学フィルムを得た。得られた光学フィルムの算術平均粗さ（Ｒａ）、表層の元素組成比、各表面エネルギーを測定した。
　（Ｃ７－５．多層フィルム）
　実施例１の（１－５）において、（１－４）で製造した光学フィルムに代えて、（Ｃ７－４）で製造した光学フィルムを用いたこと以外は実施例１の（１－５）と同様にして、多層フィルムを得た。得られた多層フィルムについて、剥離強度を測定した。
　＜比較例８＞
　（Ｃ８－４．光学フィルムの製造）
　実施例１の（１－１）において、樹脂Ａに代えて、非晶性のノルボルネン系樹脂（商品名「ＺＥＯＮＯＲ１６００」、日本ゼオン社製、Ｔｇ１６３℃、屈折率１．５３；以下において、「樹脂Ｂ」という）のペレットを用い、実施例１の（１－１）～（１－２）と同様にして延伸されたフィルムを得た。得られたフィルムの一方の面に、実施例５の（５－４）と同様の条件でプラズマ処理を行い、光学フィルムを得た。得られた光学フィルムの算術平均粗さ（Ｒａ）、表層の元素組成比、各表面エネルギーを測定した。
　（Ｃ８－５．多層フィルム）
　実施例１の（１－５）において、（１－４）で製造した光学フィルムに代えて、（Ｃ８－４）で製造した光学フィルムを用いたこと以外は実施例１と同様にして、多層フィルムを得た。得られた多層フィルムについて、剥離強度を測定した。
　＜結果＞
　実施例及び比較例の結果を、表２及び表３に示す。
　表２および３には、樹脂の種類、実施例及び比較例のプラズマ処理条件（ガス比率（重量％）及び窒素に対する酸素の重量比）を併せて示した。
　表２中、「プラズマ処理面の算術平均粗さ」とは、「光学フィルムの２つの面のうちプラズマ処理を行った面の算術平均粗さ」を意味し、「非処理面の算術平均粗さ」とは、「光学フィルムの２つの面のうちプラズマ処理を行っていない面の算術平均粗さ」を意味する。
　表３中、「処理面の算術平均粗さ」とは、「光学フィルムの２つの面のうちプラズマ処理又はエキシマ処理を行った面の算術平均粗さ」を意味し、「非処理面の算術平均粗さ」とは、「光学フィルムの２つの面のうちプラズマ処理及びエキシマ処理のいずれも行っていない面の算術平均粗さ」を意味する。比較例１では光学フィルムの両面とも、表面処理を行っていないので非処理面に２つの面の算術平均粗さを記載した。表３中「両面共３．０」とは、光学フィルムの両方の面の算術平均粗さが３．０ｎｍであることを意味する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
　実施例１～６で得られた光学フィルムは、剥離強度が高いので、層間剥離の発生を抑制することができ、耐屈曲性が高いので可撓性に優れ、かつ、耐熱性も高いので、タッチパネルの構成要素であるタッチセンサー等として有用に用い得る。

Claims (9)

  1. 　脂環式構造含有重合体を含む結晶化樹脂を主成分とする光学フィルムであって、
    　前記結晶化樹脂の結晶化度が３０％以上であり、
    　少なくとも一方の面の算術平均粗さが２．５ｎｍ以下である、光学フィルム。
  2. 　少なくとも一方の面の表層における、炭素元素に対する酸素元素の組成比が１／１０以上であり、
    　かつ、炭素元素に対する窒素元素の組成比が１／２０以下である、請求項１に記載の光学フィルム。
  3. 　少なくとも一方の面において、
    　全表面自由エネルギーが７０ｍＮ／ｍ以上、分散成分の表面自由エネルギーが４０ｍＮ／ｍ以下、分極成分の表面自由エネルギーが２５ｍＮ／ｍ以上、かつ、水素結合成分の表面自由エネルギーが１０ｍＮ／ｍ以上である、請求項１または２に記載の光学フィルム。
  4. 　請求項１～３のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法であって、
    　脂環式構造含有重合体を含む結晶性樹脂フィルムを結晶化させて結晶化樹脂フィルムを得る工程と、
    　前記結晶化樹脂フィルムのプラズマ処理を行うプラズマ処理工程と、を含む、光学フィルムの製造方法。
  5. 　前記プラズマ処理を、大気圧下で行う、請求項４に記載の光学フィルムの製造方法。
  6. 　前記プラズマ処理を、ガス雰囲気下で行い、
    　前記ガスは窒素ガスを含み、且つ、酸素ガス及び二酸化炭素ガスから選ばれる一種以上のガスを含み、
    　前記ガスにおける窒素に対する酸素の重量比が５．５０×１０-3以上１．３０×１０-1以下である、請求項４または５に記載の光学フィルムの製造方法。
  7. 　前記プラズマ処理を、ガス雰囲気下で行い、
    　前記ガスは窒素ガス及び酸素ガスを含み、
    　前記ガスにおける窒素に対する酸素の重量比が５．５０×１０-3以上３．５０×１０-2以下である、請求項４～６のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
  8. 　前記プラズマ処理を、ガス雰囲気下で行い、
    　前記ガスは窒素ガス及び二酸化炭素ガスを含み、
    　前記ガスにおける窒素に対する酸素の重量比が２．５０×１０-2以上１．３０×１０-1以下である、請求項４～７のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
  9. 　請求項１～３のいずれか一項に記載の光学フィルムと、
    　被接着層と、
    　前記光学フィルムと前記被接着層との間に設けられた接着層と、を有する多層フィルム。
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