CN110191914A - 光学膜、制造方法、以及多层膜 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种光学膜，其为将包含含脂环式结构聚合物的结晶化树脂作为主成分的光学膜，上述结晶化树脂的结晶度为30％以上，至少一个面的算术平均粗糙度为2.5nm以下。优选至少一个面的表层中氧元素与碳元素的组成比为1/10以上，且氮元素与碳元素的组成比为1/20以下。还提供一种多层膜，该多层膜具有上述光学膜、被粘接层、以及设置于上述光学膜与上述被粘接层之间的粘接层。

Description

光学膜、制造方法、以及多层膜
技术领域
本发明涉及光学膜、其制造方法、以及包含该光学膜的多层膜。
背景技术
在液晶显示装置和有机电致发光显示装置等显示装置中，广泛设置了树脂制的光学膜。已知例如在触控面板等具有检测使用者动作的功能的显示装置中，在其表面设置具有可挠性的树脂制的光学膜，构成接触式传感器。
这样的光学膜要求耐热性、可挠性等特性。作为具有这样的特性的膜，提出使用结晶化了的、包含含脂环式结构聚合物的树脂(例如专利文献1和2)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2014-105291号公报；
专利文献2：日本特开2016-008283号公报。
发明内容
发明要解决的问题
就组装于显示装置的光学膜而言，除了要求上述特性以外，还要求粘接性、即能够容易地实现与装置的其它结构要素粘接的能力。例如，就构成接触式传感器的光学膜而言，为了使装置自身的耐久性提高，要求能够以高剥离强度与构成接触式传感器的其它要素进行粘接。然而，在使用现有的结晶化了的、包含含脂环式结构聚合物的树脂的膜中，难以确保上述这样的高粘接性，且会有产生层间剥离的倾向。
因此，本发明的目的在于提供具有高耐热性、高可挠性和高粘接性的光学膜，以及能够容易地制造该光学膜的制造方法，同时提供具有高耐热性、高可挠性并且抑制层间剥离的产生、耐久性高的多层膜。
用于解决问题的方案
本发明人为了解决上述问题进行了研究，结果发现，对于将包含含脂环式结构聚合物的结晶化树脂作为主成分的光学膜，通过将该结晶化树脂的结晶度设为30％以上，并且将光学膜至少一个面的算术平均粗糙度设为2.5nm以下，从而能够具有高耐热性、高可挠性和高粘接性，并且能够抑制层间剥离的产生。此外，本发明人发现，通过将下述结晶化树脂膜进行等离子处理，从而能够容易地得到具有上述那样的特性的光学膜，其中，上述结晶化树脂膜是将包含含脂环式结构聚合物的结晶性树脂膜进行结晶化而得到的。本发明基于这些见解而完成。
根据本发明，提供下述[1]～[6]。
[1]一种光学膜，其为将包含含脂环式结构聚合物的结晶化树脂作为主成分的光学膜，
上述结晶化树脂的结晶度为30％以上，
至少一个面的算术平均粗糙度为2.5nm以下。
[2]根据[1]所述的光学膜，其中，至少一个面的表层中氧元素与碳元素的组成比为1/10以上，
并且氮元素与碳元素的组成比为1/20以下。
[3]根据[1]或[2]所述的光学膜，其中，在至少一个面中，
全表面自由能为70mN/m以上，分散成分的表面自由能为40mN/m以下，极化成分的表面自由能为25mN/m以上，并且氢键成分的表面自由能为10mN/m以上。
[4]一种光学膜的制造方法，为[1]～[3]中任一项所述的光学膜的制造方法，其包含：
使包含含脂环式结构聚合物的结晶性树脂膜结晶化，得到结晶化树脂膜的工序，以及
进行结晶化树脂膜的等离子处理的等离子处理工序。
[5]根据[4]所述的光学膜的制造方法，其中，在大气压下进行上述等离子处理。
[6]根据[4]或[5]所述的光学膜的制造方法，其中，在气体氛围下进行上述等离子处理，
上述气体包含氮气，并且包含选自氧气和二氧化碳气体中的一种以上气体，
上述气体中氧与氮的重量比为5.50×10-3以上且1.30×10-1以下。
[7]根据[4]～[6]中任一项所述的光学膜的制造方法，其中，在气体氛围下进行上述等离子处理，
上述气体包含氮气和氧气，
上述气体中氧与氮的重量比为5.50×10-3以上且3.50×10-2以下。
[8]根据[4]～[7]中任一项所述的光学膜的制造方法，其中，在气体氛围下进行上述等离子处理，
上述气体包含氮气和二氧化碳气体，
上述气体中氧与氮的重量比为2.50×10-2以上且1.30×10-1以下。
[9]一种多层膜，具有：
[1]～[3]中任一项所述的光学膜、
被粘接层、以及
设置在上述光学膜和上述被粘接层之间的粘接层。
发明效果
本发明的光学膜具有高耐热性、高可挠性和高粘接性。根据本发明的光学膜的制造方法，能够容易地制造这样的光学膜。本发明的多层膜具有高耐热性、高可挠性和高粘接性，并且抑制层间剥离的产生，耐久性高。
具体实施方式
以下，对本发明示出实施方式及示例物进行详细说明。但是，本发明并不限定于以下示出的实施方式及示例物，在不脱离本发明的权利要求的范围及与其同等的范围的范围内，能够任意地变更实施。
在以下的说明中，“长条”的膜是指相对于宽具有5倍以上的长度的膜，优选具有10倍或其以上的长度，具体而言，是指具有可卷成辊状而保管或搬运的程度的长度的膜。膜的长度相对于宽度的比例的上限没有特别限定，能够设为例如100000倍以下。
在以下的说明中，只要没有特别限定，要素的方向“平行”、“垂直”以及“正交”可以在不损害本发明的效果的范围内包含例如在±5°的范围内的误差。
[1.光学膜]
本发明的光学膜将包含含脂环式结构聚合物的结晶化树脂作为主成分，上述结晶化树脂的结晶度为30％以上。此外，本发明的光学膜至少一个面的算术平均粗糙度为2.5nm以下。“主成分”是指，其含量为整体的50重量％以上(下同)的成分。本发明的光学膜能够包含除结晶化树脂以外的任意成分，也能够仅包含结晶化树脂。即，得到的光学膜中的中的结晶化树脂的比例的上限能够设为100重量％。
在本发明中，结晶化树脂的结晶度为30％以上，优选为50％以上，更优选为60％以上。结晶度的上限理想为100％，但通常为90％以下，或者也能够设为80％以下。
结晶度为示出光学膜所包含的具有结晶性的含脂环式结构聚合物中结晶化了的聚合物的比例的指标。在本发明中，光学膜包含30％以上结晶化了的结晶性的含脂环式结构聚合物。光学膜所包含的含脂环式结构聚合物的结晶度能够利用X射线衍射法而测定。具体而言，能够依据JIS K0131，使用广角X射线衍射装置(例如RINT 2000、RigakuCorporation制)，求出来自结晶性部分的衍射X射线强度，根据其与整体的衍射X射线强度的比，通过下述式(I)求出结晶度。
Xc＝K·Ic/It (I)
在上述式(I)中，Xc表示被检试样的结晶度，Ic表示来自结晶性部分的衍射X射线强度，It表示整体的衍射X射线强度，K表示修正项。
结晶化树脂能够通过使包含含脂环式结构聚合物的结晶性树脂结晶化，从而形成。
含脂环式结构聚合物是指在分子内具有脂环式结构并且能够通过将环状烯烃用作单体的聚合反应而得到的聚合物或其加氢物。此外，含脂环式结构聚合物可以单独使用1种，也可以以任意比率组合2种以上使用。
作为含脂环式结构聚合物所具有的脂环式结构，能够举出例如环烷烃结构和环烯烃结构。在它们之中，从容易得到热稳定性等特性优异的光学膜的观点出发，优选环烷烃结构。1个脂环式结构所包含的碳原子数优选为4个以上，更优选为5个以上，优选为30个以下，更优选为20个以下，特别优选为15个以下。通过使1个脂环式结构所包含的碳原子数为上述范围内，从而机械强度、耐热性以及成型性能够高度平衡。
在含脂环式结构聚合物中，具有脂环式结构的结构单元相对于全部的结构单元的比例优选为30重量％以上，更优选为50重量％以上，特别优选为70重量％以上。通过使含脂环式结构聚合物中的具有脂环式结构的结构单元的比例如上述那样多，从而能够进一步使高可挠性等本发明的效果进一步提高。具有脂环式结构的结构单元的比例的上限能够设为100重量％。
此外，在含脂环式结构聚合物中，除具有脂环式结构的结构单元以外的剩余部分没有特别限定，能够根据使用目的来适宜地进行选择。
结晶性树脂所包含的含脂环式结构聚合物具有结晶性。在此，“具有结晶性的含脂环式结构聚合物”是指具有熔点Tm(即能够用差示扫描量热仪(DSC)观测熔点)的含脂环式结构聚合物。含脂环式结构聚合物的熔点Tm优选为200℃以上，更优选为230℃以上，优选为290℃以下。通过使用具有这样的熔点Tm的含脂环式结构聚合物，从而能够容易地实现本发明中期望的结晶度。
含脂环式结构聚合物的重均分子量(Mw)优选为1000以上，更优选为2000以上，优选为1000000以下，更优选为500000以下。具有这样的重均分子量的含脂环式结构聚合物的成型加工性与可挠性的平衡优异。
含脂环式结构聚合物的分子量分布(Mw/Mn)优选为1.0以上，更优选为1.5以上，优选为4.0以下，更优选为3.5以下。在此，Mn表示数均分子量。具有这样的分子量分布的含脂环式结构聚合物的成型加工性优异。
含脂环式结构聚合物的重均分子量(Mw)以及分子量分布(Mw/Mn)能够通过将四氢呋喃作为展开溶剂的凝胶渗透色谱法(GPC)作为聚苯乙烯换算值而进行测定。
含脂环式结构聚合物的玻璃化转变温度Tg没有特别限定，通常为85℃以上，通常为170℃以下。
作为上述的含脂环式结构聚合物，能够举出例如下述的聚合物(α)～聚合物(δ)。在它们之中，从容易得到可挠性优异的光学膜的观点出发，作为具有结晶性的含脂环式结构聚合物，优选聚合物(β)。
聚合物(α)：具有结晶性的环状烯烃单体的开环聚合物。
聚合物(β)：具有结晶性的聚合物(α)的加氢物。
聚合物(γ)：具有结晶性的环状烯烃单体的加成聚合物。
聚合物(δ)：具有结晶性的聚合物(γ)的加氢物等。
具体而言，作为含脂环式结构聚合物，更优选具有结晶性的二环戊二烯的开环聚合物，以及具有结晶性的二环戊二烯的开环聚合物的加氢物，特别优选具有结晶性的二环戊二烯的开环聚合物的加氢物。在此，二环戊二烯的开环聚合物是指，来自二环戊二烯的结构单元相对于全部结构单元的比例为通常50重量％以上、优选70重量％以上、更优选90重量％以上、特别优选100重量％的聚合物。
上述那样的具有结晶性的含脂环式结构聚合物能够通过例如国际公开第2016/067893号记载的方法从而制造。
在结晶性树脂中，具有结晶性的含脂环式结构聚合物的比例优选为50重量％以上，更优选为70重量％以上，特别优选为90重量％以上。通过使具有结晶性的含脂环式结构聚合物的比例为上述范围的下限值以上，从而能够提高光学膜的可挠性。具有结晶性的含脂环式结构聚合物的比例的上限能够设为100重量％。
结晶性树脂除了包含具有结晶性的含脂环式结构聚合物以外，还可包含任意的成分。作为任意的成分，能够举出例如：酚系抗氧化剂、磷系抗氧化剂、硫系抗氧化剂等抗氧化剂；受阻胺系光稳定剂等光稳定剂；石油系蜡、费托(Fischer-Tropsch)蜡、聚亚烷基蜡等蜡；山梨糖醇系化合物、有机磷酸的金属盐、有机羧酸的金属盐、高岭土和滑石等成核剂；二氨基二苯乙烯衍生物、香豆素衍生物、唑系衍生物(例如，苯并噁唑衍生物、苯并三唑衍生物、苯并咪唑衍生物、以及苯并噻唑衍生物)、咔唑衍生物、吡啶衍生物、萘二甲酸衍生物、以及咪唑酮衍生物等荧光增白剂；二苯甲酮系紫外线吸收剂、水杨酸系紫外线吸收剂、苯并三唑系紫外线吸收剂等紫外线吸收剂；滑石、二氧化硅、碳酸钙、玻璃纤维等无机填充材料；着色剂；阻燃剂；阻燃助剂；抗静电剂；增塑剂；近红外线吸收剂；滑剂；填料、以及软质聚合物等除具有结晶性的含脂环式结构聚合物以外的任意的聚合物等。此外，任意的成分可以单独使用1种，也可以将2种以上以任意比率组合使用。
本发明的光学膜至少一个面的算术平均粗糙度为2.5nm以下。通过使光学膜至少一个面的算术平均粗糙度如上述那样，从而可以得到高粘接性和抑制层间剥离产生等本发明的效果。
光学膜至少一个面的算术平均粗糙度优选为2.0nm以下，更优选为1.5nm以下，进一步优选为1.2nm以下，进一步也能够设为0.5nm以下。通过使光学膜至少一个面的算术平均粗糙度如上述那样，从而能够容易地实现高粘接性和抑制层间剥离产生等本发明的效果。算术平均粗糙度的下限没有特别限定，理想情况下能够设为0nm。
光学膜可以仅任一个面的算术平均粗糙度为2.5nm以下，也可以两个面的算术平均粗糙度均为2.5nm以下。此外，光学膜的两个面的算术平均粗糙度可以相同，也可以不同。
光学膜的面的算术平均粗糙度能够使用扫描型探针显微镜基于JIS B0601：1994而测定。在此，根据测定的剖面曲线，使用截止值λc的高通滤波器阻挡长波分量而求出轮廓曲线(粗糙度曲线)，算术平均粗糙度是指该曲线的基准长度处的高度(从平均线到测定曲线的距离)的绝对值的平均值。
本发明的光学膜至少一个面的表层中氧元素与碳元素的组成比(以下，也称为“氧元素的组成比”)优选为1/10以上，更优选为1/9以上，特别优选为1/8以上，优选为1/5以下。通过将本发明的光学膜的至少一个面的表层中氧元素的组成比设为上述范围，从而能够容易地实现高粘接性和抑制层间剥离产生等本发明的效果。
在本发明中，“表层”是指，从光学膜的最外表面到5nm深度的部分。在本发明中，元素的组成比为原子数的比。例如，“氧元素与碳元素的组成比为1/10”是指，氧原子与碳原子的比例为1个比10个。
本发明的光学膜至少一个面的表层中氮元素与碳元素的组成比(以下，也称为“氮元素的组成比”)优选为1/20以下，更优选为1/30以下，特别优选为1/40以下，进一步优选理想为0。通过将本发明的光学膜的至少一个面的表层中氮元素的组成比设为上述范围，从而能够容易地实现高粘接性和抑制层间剥离产生等本发明的效果。
在本发明中，优选光学膜至少一个面的表层中氧元素的组成比为1/10以上且氮元素的组成比为1/20以下。
在本发明中，通过将光学膜至少一个面的表层中氧元素的组成比和氮元素的组成比设为上述范围，从而能够减小该面的算术平均粗糙度，更加容易地实现高粘接性和抑制层间剥离产生等本发明的效果。
在光学膜两个面的算术平均粗糙度均为2.5nm以下的情况下，可以是任一个面的表层中氧元素的组成比和氮元素的组成比为上述范围，也可以是两个面的表层中氧元素的组成比和氮元素的组成比为上述范围。此外，光学膜的两个面的表层中氧元素的组成比和氮元素的组成比可以相同，也可以不同。优选光学膜的一个面或两个面分别满足上述算术平均粗糙度的要件以及上述氧元素和氮元素的组成比的要件。通过具有满足这些多个要件的面，从而能够得到优选的本发明的效果。
本发明的光学膜的面的表层中氧元素的组成比和氮元素的组成比能够通过X射线光电子能谱(X-ray Photoelectron Spectroscopy；XPS)而测定。在XPS法中，通常，能够通过测定试样表面的深度数纳米(例如5nm)处的元素的存在比率，从而测定光学膜的面的表层的元素的组成比。
在本发明的光学膜的至少一个面中，全表面自由能优选为60mN/m以上，更优选为65mN/m以上，特别优选为70mN/m以上。全表面自由能越高则越理想，因此上限没有特别限定，例如能够设为145mN/m以下。
在本发明的光学膜的至少一个面中，分散成分的表面自由能优选为40mN/m以下，更优选为35mN/m以下。分散成分的表面自由能越低则越理想，因此下限没有特别限定，例如能够设为15mN/m以上。
在本发明的光学膜的至少一个面中，极化成分的表面自由能优选为20mN/m以上，更优选为25mN/m以上，特别优选为30mN/m以上。极化成分的表面自由能越高则越理想，因此上限没有特别限定，例如能够设为90mN/m以下。
在本发明的光学膜的至少一个面中，氢键成分的表面自由能优选为5mN/m以上，更优选为8mN/m以上，特别优选为10mN/m以上。氢键成分的表面自由能越高则越理想，因此上限没有特别限定，例如能够设为40mN/m以下。
在本发明中，优选在光学膜的至少一个面中，全表面自由能为70mN/m以上，分散成分的表面自由能为40mN/m以下，极化成分的表面自由能为25mN/m以上，并且氢键成分的表面自由能为10mN/m以上。通过在本发明的光学膜的至少一个面中，将全表面自由能、分散成分的表面自由能、极化成分的表面自由能和氢键成分的表面自由能设为上述范围，从而能够减小该面的算术平均粗糙度，由此，能够容易地实现高粘接性和抑制层间剥离产生等本发明的效果。
在光学膜的两个面的算术平均粗糙度为2.5nm以下的情况下，可以是任一个面的全表面自由能、分散成分的表面自由能、极化成分的表面自由能和氢键成分的表面自由能为上述范围，也可以是在两个面中，各表面自由能为上述范围。此外，光学膜的两个面的各表面自由能可以相同，也可以不同。优选光学膜的一个面或两个面分别满足上述算术平均粗糙度的要件且满足上述表面自由能的要件。更优选光学膜的一个面或两个面分别满足上述算术平均粗糙度的要件且满足上述氧元素和氮元素的组成比的要件，并且满足上述表面自由能的要件。通过具有满足这些多个要件的面，从而能够得到优选的本发明的效果。
光学膜的面的分散成分的表面自由能rL d、极化成分的表面自由能rL p和氢键成分的表面自由能rL h能够通过如下方式求出：使用表面自由能的分散成分、极化成分和氢键成分为已知的试剂来测定接触角，根据Forkes的扩张理论公式(下述(1)～(3)式)而求出。
rL＝rL d+rL p+rL h (1)
rS＝rS d+rS p+rS h (2)
rL(1+cosθ)＝2(rS d·rL d)1/2+2(rS p·rL p)1/2+2(rS h·rL h))1/2 (3)
在上述式(1)～(3)中，rL表示光学膜的全表面自由能，rL d表示光学膜的分散成分的表面自由能，rL p表示光学膜的极化成分的表面自由能，rL h表示光学膜的氢键成分的表面自由能，rS表示试剂的全表面自由能、rS d表示试剂的分散成分的表面自由能，rS p表示试剂的极化成分的表面自由能，rS h表示试剂的氢键成分的表面自由能，θ表示试剂的接触角(以下相同)。
作为表面自由能的各成分为已知的试剂，能够举出例如纯水、二碘甲烷、乙二醇等。这些试剂的全表面自由能、分散成分的表面自由能、极化成分的表面自由能和氢键成分的表面自由能为如表1记载的那样(单位为mN/m)。
[表1]
表1
试剂 r<sub>s</sub> r<sub>s</sub><sup>d</sup> r<sub>s</sub><sup>p</sup> r<sub>s</sub><sup>h</sup>
纯水 72.8 29.1 1.3 42.4
二碘甲烷 50.8 46.8 4.0 0.0
乙二醇 47.7 30.1 0.0 17.6
在本发明中，光学膜优选雾度小。具体而言，优选为小于3.0％，更优选为小于2％，特别优选为小于1％，理想为0％。雾度这样小的膜能够优选用作光学膜。
上述雾度能够将光学膜的中央部作为中心，将该膜切成50mm×50mm的正方形，得到样品，使用雾度计对该样品进行测定。
在本发明中，光学膜通常耐热性优异。具体而言，光学膜的耐热温度通常为150℃以上。这样具有高耐热温度的光学膜能够优选用于例如车辆用的树脂膜等要求耐热性的用途中。
上述耐热温度能够以下述的方法进行测定。以不对光学膜施加张力的状态，在某评价温度的氛围下放置10分钟。之后，以目视确认光学膜的面状。在光学膜的表面的形状上不能确认到凹凸的情况下，能够判定该光学膜的耐热温度为上述的评价温度以上。
在本发明中，光学膜优选具有高全光线透过率。具体而言，光学膜的全光线透过率优选为80％以上，更优选为85％以上，特别优选为88％以上。上述全光线透过率能够使用紫外可见分光光度计，在波长400nm～700nm的范围测定。
此外，光学膜优选耐弯曲性优异。光学膜的耐弯曲性具体而言能够用耐弯曲度表示。上述耐折度优选为10000次以上，更优选为50000次以上，特别优选为100000次以上。耐折度越高越优选，因此对耐折度的上限没有限制，例如能够设为1000000次以下。
光学膜的耐弯曲性能够根据以柔性显示装置耐久性测试标准“IEC-62715-6-1”所提出的方法作为基础的试验，按照下述的方法进行测定。
从作为试样的光学膜切出宽15mm±0.1mm、长约110mm的试验片。这时，以膜被更强力拉伸的方向成为与试验片的约110mm的边平行的方式制作试验片。然后，试验使用YUASASYSTEM Co.,Ltd.制的台式耐力试验机(DLDM LH-FS)，根据平面体无负荷U形伸缩试验的方法来进行。弯曲的条件设为弯曲半径1mm、伸缩速度80次/分钟、最大伸缩次数20万次。继续该弯折，测定直到试验片断裂为止的往复弯折次数。
制作10张试验片，按照上述的方法，测定10次直到试验片断裂为止的往复弯折次数。将这样进行所测定的10次的测定值的平均作为该光学膜的耐折度(MIT耐折次数)。
光学膜通常低吸水性优异。光学膜的低吸水性具体能够用吸水率表示。上述吸水率通常为0.1％以下，优选为0.08％以下，更优选为0.05％以下。
光学膜的吸水率能够用下述的方法测定。
从作为试样的膜切出试验片，测定试验片的重量。之后，将该试验片在23℃的水中浸渍24小时，测定浸渍后的试验片的重量。然后，能够将由于浸渍而增加的试验片的重量相对于浸渍前的试验片的重量的比例作为吸水率(％)而算出。
此外，光学膜的残留溶剂量为1.0重量％以下，更优选为0.5重量％以下，特别优选为0.1重量％以下。通过将残留溶剂量设为该期望的值，从而能够抑制光学膜的卷曲量。残留溶剂量通常能够用气相色谱仪而求出。
光学膜的厚度优选为1μm以上，更优选为5μm以上，特别优选为10μm以上，优选为100μm以下，更优选为75μm以下，特别优选为50μm以下。通过将光学膜的厚度设为上述下限值以上，从而能够提高光学膜的机械强度。通过将光学膜的厚度设为上述上限值以下，从而能够使光学膜的厚度薄。
[2.光学膜的制造方法]
本发明的光学膜能够通过包含下述工序(3)和(4)的制造方法而制造。本发明的光学膜的制造方法除工序(3)和(4)之外，还可以包含下述工序(1)和(2)中的任一者或两者。
工序(1)：将包含含脂环式结构聚合物的结晶性树脂成型，得到结晶度小于3％的结晶性树脂膜的工序。
工序(2)：将包含含脂环式结构聚合物的结晶性树脂膜进行拉伸的工序。
工序(3)：使包含含脂环式结构聚合物的结晶性树脂膜结晶化，得到结晶化树脂膜的工序。
工序(4)：进行结晶化树脂膜的等离子处理的等离子处理工序。
[2.1.工序(1)]
工序(1)能够通过使用任意的成型方法将包含含脂环式结构聚合物的结晶性树脂成型从而进行。作为成型方法的例子，能够举出注射成型法、熔融挤出成型法、压制成型法、吹胀成型法、吹塑成型法、压延辊成型法、铸模成型法、以及压缩成型法。在它们之中，从容易控制厚度的观点出发，优选熔融挤出成型法。
在通过熔融挤出成型法制造结晶性树脂膜的情况下，该挤出成型的条件优选为如下所述。料筒温度(熔融树脂温度)优选为Tm以上，更优选为(Tm+20)℃以上，优选为(Tm+100)℃以下，更优选为(Tm+50)℃以下。此外，铸辊温度优选为(Tg-30)℃以上，优选为Tg以下，更优选为(Tg-15)℃以下。通过在这样的条件下制造结晶性树脂膜，从而能够容易地制造优选的厚度的结晶性树脂膜。在此，“Tm”表示含脂环式结构聚合物的熔点，“Tg”表示含脂环式结构聚合物的玻璃化转变温度。在工序(1)中得到的结晶性树脂膜的结晶度能够设为小于3％。下限没有特别限定，能够设为0％以上。
[2.2.工序(2)]
在工序(2)中，进行结晶性树脂膜的拉伸。
对于结晶性树脂膜的拉伸方法没有特别限定，能够使用任意的拉伸方法。作为拉伸方法的例子，能够举出：将结晶性树脂膜沿长度方向进行单轴拉伸的方法(纵向单轴拉伸法)、将结晶性树脂膜沿宽度方向进行单轴拉伸的方法(横向单轴拉伸法)等单轴拉伸法；将结晶性树脂膜沿长度方向进行拉伸的同时沿宽度方向进行拉伸的同时双轴拉伸法、将结晶性树脂膜沿长度方向和宽度方向中的一者进行了拉伸后沿另一者进行拉伸的逐次双轴拉伸法等双轴拉伸法；以及将结晶性树脂膜沿相对于宽度方向超过0°且小于90°这样的与宽度方向既不平行也不垂直的斜向方向进行拉伸的方法(斜向拉伸法)。
作为上述的纵向单轴拉伸法，能够举出例如利用了辊间的圆周速度之差的拉伸方法等。
此外，作为上述的横向单轴拉伸法，能够举出例如使用了扩幅拉伸机的拉伸方法等。
进而，作为上述的同时双轴拉伸法，能够举出例如：使用具有设置成能够沿导轨移动且能够将结晶性树脂膜固定的多个夹具的扩辐拉伸机，扩大夹具的间隔而将结晶性树脂膜沿长度方向进行拉伸的同时，利用导轨的扩张角将结晶性树脂膜沿宽度方向进行拉伸的拉伸方法等。
此外，作为上述的逐次双轴拉伸法，能够举出例如利用辊间的圆周速度之差将结晶性树脂膜沿长度方向进行拉伸后，用夹具把持该结晶性树脂膜的两端部，通过扩幅拉伸机沿宽度方向进行拉伸的拉伸方法等。
进而，作为上述的斜向拉伸法，能够举出例如使用能够对结晶性树脂膜沿长度方向或宽度方向施加左右不同速度的推力、拉力或牵引力的扩幅拉伸机，将结晶性树脂膜沿倾斜方向连续地进行拉伸的拉伸方法等。
在将结晶性树脂膜拉伸的情况下的拉伸温度相对于含脂环式结构聚合物的玻璃化转变温度Tg，优选为(Tg-30)℃以上，更优选为(Tg-10)℃以上，优选为(Tg+60)℃以下，更优选为(Tg+50)℃以下。通过在这样的温度范围进行拉伸，从而能够使结晶性树脂膜所包含的聚合物分子适当地取向。
将结晶性树脂膜拉伸的情况下的拉伸倍率能够根据所期望的光学特性、厚度、强度等适当地进行选择，通常超过1倍，优选为1.01倍以上，通常为10倍以下，优选为5倍以下。在此，在例如像双轴拉伸法那样沿不同的多个方向进行拉伸的情况下，拉伸倍率为用各个拉伸方向上的拉伸倍率之积表示的总拉伸倍率。通过使拉伸倍率为上述范围的上限值以下，从而能够减小膜断裂的可能性，因此，能够容易地进行光学膜的制造。
通过对结晶性树脂膜实施上述那样的拉伸处理，从而能够得到具有所期望的特性的光学膜。此外，通过进行拉伸处理，从而能够降低光学膜的雾度。虽然并不局限于特定的理论，但可以认为该雾度的降低是由于通过使结晶性的聚合物分子取向，从而结晶化的工序中的结晶化的速度变快，得到晶核小的结晶化树脂。
[2.3.工序(3)]
工序(3)是使包含含脂环式结构聚合物的结晶性树脂膜结晶化而得到结晶化树脂膜的工序。在工序(3)中，使结晶性树脂膜结晶化，得到将结晶度为30％以上的结晶化树脂作为主成分的结晶化树脂膜。结晶化能够通过在固定结晶性树脂膜的至少两个端边而使之张紧的状态下设置规定的温度范围，从而进行。
使结晶性树脂膜张紧的状态是指，对结晶性树脂膜施加张力的状态。但是，在使该结晶性树脂膜张紧的状态中，不包含实质上将结晶性树脂膜拉伸的状态。此外，实质上将其拉伸是指，成为在结晶性树脂膜的任一方向上的拉伸倍率通常为1.1倍以上的情况。
在固定结晶性树脂膜的情况下，通过适当的固定件来固定结晶性树脂膜。固定件可以是能够连续地固定结晶性树脂膜的端边的全部长度的固定件，也可以是留有间隔地间歇地进行固定的固定件。例如，也可通过以规定的间隔排列的固定件来间歇地固定结晶性树脂膜的端边。
在结晶化工序中，对于结晶性树脂膜而言，固定该结晶性树脂膜的至少两个端边而使其呈张紧的状态。由此，在所固定的端边之间的区域中防止因结晶性树脂膜的热收缩引起的变形。为了在结晶性树脂膜的宽大的面积中防止变形，优选固定包含相对的两个端边的端边，使该被固定的端边之间的区域呈张紧的状态。例如，对于矩形的单张的结晶性树脂膜而言，通过固定相对的两个端边(例如，长边侧的端边们或短边侧的端边们)而使上述两个端边之间的区域呈张紧的状态，从而能够在该单张的结晶性树脂膜的整个面防止变形。此外，对于长条的结晶性树脂膜而言，通过固定位于宽度方向的端部的两个端边(即，长边侧的端边)而使上述两个端边之间的区域呈张紧的状态，从而能够在该长条的结晶性树脂膜的整个面防止变形。像这样防止了变形的结晶性树脂膜即使由于热收缩而在膜内产生应力，也能够抑制褶皱等变形的发生。在使用实施了拉伸处理的拉伸膜作为结晶性树脂膜的情况下，通过固定与拉伸方向(在双轴拉伸的情况下拉伸倍率大的方向)正交的至少两个端边，从而更加可靠地抑制变形。
为了更可靠地抑制结晶化工序中的变形，优选固定更多端边。因此，例如对于单张的结晶性树脂膜而言，优选固定其全部端边。当举出具体例时，对于矩形的单张的结晶性树脂膜而言，优选固定四个端边。
作为能够固定结晶性树脂膜的端边的固定件，优选在除结晶性树脂膜的端边以外的部分不与结晶性树脂膜接触的固定件。通过使用这样的固定件，从而能够得到平滑性更为优异的光学膜。
此外，作为固定件，优选在结晶化工序中能够将固定件彼此的相对位置固定的固定件。这样的固定件由于在结晶化工序中固定件彼此的位置不会相对移动，因此易于抑制结晶化工序中的结晶性树脂膜的实质上的拉伸。
作为优选的固定件，例如作为矩形的结晶性树脂膜用的固定件，能够举出能够在模框中以规定间隔设置而把持结晶性树脂膜的端边的夹具等把持件。此外，例如，作为用于将位于长条的结晶性树脂膜的宽度方向端部的两个端边固定的固定件，能够举出设置于扩幅拉伸机且能够把持结晶性树脂膜的端边的把持件。
在使用长条的结晶性树脂膜的情况下，可以将位于该结晶性树脂膜长度方向的端部的端边(即，短边侧的端边)固定，也可以代替固定上述端边而固定结晶性树脂膜的实施结晶化处理的区域的长度方向的两侧。例如，可以在结晶性树脂膜的实施结晶化处理的区域的长度方向的两侧设置固定装置，其能够使结晶性树脂膜成为以不会热收缩的方式张紧的状态。作为这样的固定装置，能够举出例如2个辊的组合、挤出机与牵引辊的组合等。通过利用这些组合对结晶性树脂膜施加运送张力等张力，从而能够在实施结晶化处理的区域中抑制该结晶性树脂膜的热收缩。因此，如果使用上述的组合作为固定装置，则能够将结晶性树脂膜沿长度方向运送且固定该结晶性树脂膜，因此能够高效地制造光学膜。
在结晶化工序中，在如上述那样结晶性树脂膜的至少两个端边被固定而张紧的状态下，使该结晶性树脂膜成为含脂环式结构聚合物的玻璃化转变温度Tg以上且含脂环式结构聚合物的熔点Tm以下的温度。在成为上述这样的温度的结晶性树脂膜中，进行含脂环式结构聚合物的结晶化。因此，通过该结晶化工序，从而能够得到结晶化了的包含含脂环式结构聚合物的结晶化树脂膜。此时，由于防止结晶化树脂膜的变形且处于张紧的状态，因此能够在不损害结晶化树脂膜的平滑性的情况下而进行结晶化。
结晶化工序中的温度范围，如上述那样能够在含脂环式结构聚合物的玻璃化转变温度Tg以上且含脂环式结构聚合物的熔点Tm以下的温度范围内任意地设定。其中，优选设定为结晶化的速度变大的这样的温度。结晶化工序中的结晶性树脂膜的温度优选为(Tg+20)℃以上，更优选为(Tg+30)℃以上，优选为(Tm-20)℃以下，更优选为(Tm-40)℃以下。通过将结晶化工序中的温度设为上述范围的上限以下，从而能够抑制光学膜的白浊，因此能够得到适于要求光学上透明的膜的情况的光学膜。
将结晶性树脂膜设为上述那样的温度的情况下，通常进行结晶性树脂膜的加热。作为此时使用的加热装置，从不需要加热装置和结晶性树脂膜接触的方面出发，优选能够使结晶性树脂膜的氛围温度上升的加热装置。当举出合适的加热装置的具体例子时，能够举出烘箱和加热炉。
在结晶化工序中，将结晶性树脂膜维持在上述的温度范围的处理时间优选为1秒以上，更优选为5秒以上，优选为30分钟以下，更优选为10分钟以下。在结晶化工序中，通过使含脂环式结构聚合物的结晶化充分地进行，从而能够提高光学膜的可挠性。此外，通过将处理时间设为上述范围的上限以下，从而能够抑制光学膜的白浊，因此可得到适于要求光学上透明的膜的情况的光学膜。
[2.4.工序(4)]
在工序(4)中，将结晶化树脂膜进行等离子处理(等离子处理工序)。
在使用现有的结晶化树脂的光学膜中，产生层间剥离的倾向多，推测其中的一个原因是在结晶化树脂膜的表面形成了脆弱层。
在工序(4)中，通过将结晶化树脂膜进行等离子处理，从而能够削除脆弱层并且减小该面的算术平均粗糙度，其结果是，能够容易地得到至少一个面的算术平均粗糙度为2.5nm以下的结晶化树脂膜。
等离子处理工序可以在大气压下进行，也可以在真空下进行，从生产率的观点出发，优选在大气压下进行。在大气压下的等离子处理例如能够使用大气压等离子表面处理装置(产品名“RD640”、Sekisui Chemical Co.,Ltd.制)进行。
等离子处理工序优选在选自氢气、氦气、氮气、氧气、二氧化碳气体、氩气中的1种以上的气体氛围下进行，更优选在包含氮气以及选自氧气和二氧化碳气体中的一种以上的气体的气体氛围下进行。
在工序(4)中，优选在以氧与氮的重量比成为5.50×10-3以上且1.30×10-1以下的方式包含氮气以及选自氧气和二氧化碳气中的一种以上的气体的气体氛围下，将结晶化树脂膜进行等离子处理。
在使用氮气和氧气的情况下，优选在以氧与氮的重量比成为5.50×10-3以上且3.50×10-2以下的方式包含氮气和氧气的气体氛围下进行等离子处理，更优选在以氧与氮的重量比成为8.0×10-3以上且1.5×10-2以下的方式包含氮气和氧气的气体氛围下进行等离子处理。通过在以成为上述的重量比的方式包含氮气和氧气的气体氛围下进行等离子处理工序，从而更容易地使结晶化树脂膜的面的算术平均粗糙度成为2.5nm以下。
在使用氮气和二氧化碳气的情况下，优选在以氧与氮的重量比成为2.50×10-2以上且1.30×10-1以下的方式包含氮气和二氧化碳气体的气体氛围下进行等离子处理，更优选在以氧与氮的重量比成为3.5×10-2以上且1.0×10-1以下的方式包含氮气和二氧化碳气体的气体氛围下进行等离子处理。通过在以成为上述的重量比的方式包含氮气和二氧化碳气体的气体氛围下进行等离子处理，从而更容易地使结晶化树脂膜的面的算术平均粗糙度成为2.5nm以下。
在使用氮气、以及氧气或二氧化碳气体的情况下，氮气的流量优选为5～15NL/分钟，二氧化碳气体或氧气的流量优选为0.025～0.15NL/分钟。等离子照射的输出功率优选为500～3000W。等离子照射的频率优选为对应于输出功率的共振频率，具体而言，优选25～100KHz的范围。等离子照射的照射速度优选在50～500cm/分钟进行。等离子产生源与处理对象表面的距离优选为0.5～3mm。
此外，在减压下而非常压下进行等离子照射时，优选使用0.001～10kPa(绝对压强)的低压气体(氩气、氧气、氮气或它们的混合气体等)来进行等离子处理。作为低压气体，特别优选使用氮和氧的混合气体。氮和氧的混合比优选为以体积比计10∶1～1∶10，混合气体的流量优选为0.1～10NL/分钟。等离子照射的输出功率优选为50～3000W。
[2.5.其它工序]
在本发明的制造方法中，在上述工序之外，能够进行任意的工序。
作为任意的工序的一个例子，能够举出在工序(1)之后对结晶性树脂膜的表面进行改性处理的工序。作为对结晶性树脂膜的表面的改性处理的例子，能够举出电晕放电处理、等离子处理、皂化处理、紫外线照射处理等。其中，从处理效率的观点等出发，优选电晕放电处理和等离子处理，更优选等离子处理。
作为任意的工序的其它的一个例子，能够举出在工序(3)之后，使结晶化树脂膜热收缩而除去残留应力的驰豫工序。
[3.任意的层]
此外，本发明的光学膜能够具有任意的层。作为任意的层，能够举出例如易粘接层、导电层、防反射层、硬涂层、抗静电层、防眩层、防污层、间隔膜等层。
[4.多层膜]
本发明的多层膜具有光学膜、被粘接层、以及设置于上述光学膜与上述被粘接层之间的粘接层。多层膜是光学膜与被粘接层经由粘接剂进行层叠而成的层叠体。
作为构成粘接层的粘接剂，能够使用能良好地实现与聚氨酯树脂的层的粘接的各种粘接剂。具体而言，可举出紫外线固化型丙烯酰基组合物、紫外线固化型环氧组合物或者混合了丙烯酰基单体和环氧单体的紫外线固化型聚合组合物。
被粘接层是能够用作显示装置的结构要素的构件，能够制成能容易地实现粘接层的粘接的任意的构件。具体而言，能够制成玻璃板、金属板等无机材料的层以及树脂的层。作为构成树脂的层的材料的例子，能够举出非结晶性的含脂环式结构聚合物树脂、构成偏振片的起偏器的将聚乙烯醇作为主成分的树脂、构成偏振片保护膜的纤维素系树脂、结晶性的含脂环式结构聚合物树脂、结晶性的聚酯系树脂等。
本发明的多层膜能够通过将本发明的光学膜的面中算术平均粗糙度为2.5nm以下的面与被粘接层经由粘接剂贴合从而制造。具体而言，能够在本发明的光学膜的面中算术平均粗糙度为2.5nm以下的面上涂敷粘接剂，使之与被粘接层一个面重叠，进而根据需要使粘接剂固化，从而实现多层膜的制造。在光学膜的面中两面为算术平均粗糙度2.5nm以下的面的情况下，能够通过在光学膜的任一个面上、或两面上涂敷粘接剂，使被粘接层重叠而贴合，从而制造多层膜。
本发明的多层膜具有基于包含结晶化树脂的光学膜的高耐热性、可挠性等特性。而且，根据本发明，通过将光学膜至少一个面的算术平均粗糙度设为2.5nm以下，从而能够提供一种多层膜，该多层膜具有经由粘接剂的与被粘接层的高粘接性和高剥离强度，其结果是产生层间剥离的倾向小、耐久性高。
[5.用途]
本发明的光学膜和多层膜能够用于任意的用途。特别是活用产生层间剥离少的优点，能够特别有用地用作作为触控面板的结构要素的接触式传感器。
实施例
以下，示出实施例对本发明具体地说明。但是，本发明并不限定于以下所示的实施例，在不脱离本发明的请求的范围及其同等的范围的范围可以任意地变更实施。
在以下说明中，表示量的“％”和“份”，只要没有另外说明则为重量基准。此外，以下说明的操作只要没有另外说明，则在常温和常压的条件进行。
<评价方法>
(厚度的测定方法)
以下述的方式，测定光学膜和构成多层膜的各层的厚度。使用椭偏仪(Woollam公司制、“M-2000”)测定作为样品的膜的各层的折射率。之后，使用测定的折射率，以光学干涉型膜厚度计(OTSUKA ELECTRONICS Co.,LTD制、“MCPD-9800”)测定膜的厚度。
(重均分子量和数均分子量)
聚合物的重均分子量和数均分子量使用凝胶渗透色谱(GPC)系统(TosohCorporation制“HLC-8320”)作为聚苯乙烯换算值测定。测定时，使用H型柱(TosohCorporation制)作为柱，使用四氢呋喃作为溶剂。此外，测定时的温度为40℃。
(结晶性树脂的玻璃化转变温度Tg、熔点Tm和结晶化温度Tpc)
将在氮氛围下加热到300℃的试样用液氮骤冷，使用差示扫描量热仪(DSC)，以10℃/分钟进行升温，分别求出试样的玻璃化转变温度Tg、熔点Tm和结晶化温度Tpc。
(聚合物的氢化率的测定方法)
聚合物的氢化率通过将邻二氯苯-d4作为溶剂、在145℃进行1H-NMR测定，从而测定。
(聚合物的外消旋二联单元组的比例)
以邻二氯苯-d4作为溶剂，在200℃应用inverse-gated decoupling法，进行聚合物的13C-NMR测定。在该13C-NMR测定的结果中，将邻二氯苯-d4的127.5ppm的峰作为基准位移，鉴定来自内消旋二单元组的43.35ppm的信号和来自外消旋二联单元组的43.43ppm的信号。基于这些信号的强度比，求出聚合物的外消旋二联单元组的比例。
(结晶度)
结晶度依据JIS K0131，通过X射线衍射来确认。具体而言，使用广角X射线衍射装置(RINT 2000、Rigaku Corporation制)，求出来自结晶化部分的衍射X射线强度，根据其与整体的衍射X射线强度的比，通过下述式(I)求出结晶度。
Xc＝K·Ic/It (I)
在上述式(I)中，Xc表示被检试样的结晶化度、Ic表示来自结晶化部分的衍射X射线强度、It表示整体的衍射X射线强度，K表示修正项。
(耐热温度)
以不对光学膜施加张力的状态，在一定的评价温度的氛围下放置10分钟，之后以目视观察光学膜的表面的状态。评价温度设为从150℃起到能够在光学膜的表面确认到凹凸为止的温度，以10℃为增量。在不能在光学膜的表面确认到凹凸的评价温度中，将最高的温度作为该光学膜的耐热温度。
(耐弯曲性)
能够根据以柔性显示设备耐久性测试标准“IEC 62715-6-1”所出示的方法作为基础的试验，按照下述的方法测定光学膜的耐弯曲性。
从作为试样的光学膜切出宽15mm±0.1mm、长约110mm的试验片。这时，以膜被更强力拉伸的方向成为与试验片的约110mm的边平行的方式制作试验片。使用YUASA SYSTEMCo.,Ltd.制的台式耐久试验机(DLDMLH-FS)，根据平面体无负荷U形伸缩试验法，进行试验。弯折的条件设为弯曲半径1mm、伸缩速度80次/分钟、最大伸缩次数20万次。继续该弯折直至试验片断裂为止，测定试验片断裂时的往复弯折次数。
制作10张试验片，按照上述的方法，测定10次直到试验片断裂为止的往复弯折次数，将10次测定值的平均值作为该光学膜的耐弯曲性(MIT耐折次数)。
(算术平均粗糙度的测定方法)
光学膜的2个面的算术平均粗糙度Ra能够使用扫描型探针显微镜(DimensionIcon、Bruker AXS,Inc.)，基于JIS B 0601：1994而测定。
(表层的元素组成比的测定)
光学膜的面的表层中氧元素的组成比和氮元素的组成比能够通过XPS测定分析装置(“PHI 5000VersaProbe III”、ULVAC-PHI,Inc.制)而测定。
(表面自由能的测定)
将光学膜切成10cm见方左右的大小，得到基材片。在该基材片的面上，使用自动接触角计实际测量纯水(H2O)的接触角、二碘甲烷(CH2I2)的接触角和乙二醇的接触角。根据这样进行所测定的接触角的数据，通过接触角计附带的软件算出基材的面的表面自由能(全表面自由能、分散成分的表面自由能、极化成分的表面自由能、氢键成分的表面自由能)。测定时的条件如下所述。
接触角测定条件
系统：DropMaster 700(协和界面科学制造)
AutoDispenser AD-31(协和界面科学制造)
控制分析软件：FAMAS ver3.13
接触角测定法：悬滴法
视野：STD
分析法：Young-Laplace法
Teflon(注册商标)涂层针：18G(或22G)
液量：3μL～4μL
测定等待时间：3000ms
测定次数：n＝10测定平均值
表面自由能的计算方法
分析软件：FAMAS ver3.13
分析理论名称：Owens-Wendt
(剥离强度的测定方法)
将在实施例和比较例中得到的多层膜裁断为25mm的宽度，用粘合剂使该光学膜侧的面贴合在载玻片的表面。在贴合时，作为粘合剂，使用双面粘合胶带(Nitto DenkoCorporation制、产品编号“CS9621”)。在贴合后，将贴合物静置12小时。
之后，用测力计的顶端的夹具将被粘接层的端部夹住，沿载玻片的表面的法线方向进行牵引，由此，实施90度剥离试验。牵引时的剥离速度设为20mm/分钟。在剥离被粘接层时所测定的力是为了使光学膜与被粘接层剥离所需要的力，因此将该力的大小作为剥离强度进行测定。
[制造例1.二环戊二烯的开环聚合物的氢化物的制造]
将金属制的耐压反应器充分地干燥后，进行氮置换。在该金属制耐压反应器中加入154.5份的环己烷、42.8份(作为二环戊二烯的量为30份)的二环戊二烯(内型体含有率99％以上)的浓度70％环己烷溶液以及1.9份的1-己烯，加热到53℃。
在将0.014份的四氯化钨苯基酰亚胺(四氢呋喃)配位化合物溶于0.70份的甲苯而成的溶液中，加入0.061份的浓度19％的二乙基乙氧基铝/正己烷溶液，搅拌10分钟，制备催化剂溶液。
将该催化剂溶液加入耐压反应器中，引发开环聚合反应。然后，保持53℃并使其反应4小时，得到了二环戊二烯的开环聚合物的溶液。
得到的二环戊二烯的开环聚合物的数均分子量(Mn)和重均分子量(Mw)分别为8750和28100，根据它们求出的分子量分布(Mw/Mn)为3.21。
在200份的得到的二环戊二烯的开环聚合物的溶液中，加入0.037份的1,2-乙二醇作为终止剂，加热到60℃，搅拌1小时，使聚合反应终止。在此，加入1份的类水滑石化合物(协和化学工业公司制“KYOWARD(注册商标)2000”)，加热到60℃，搅拌1小时。然后，加入0.4份的过滤助剂(昭和化学工业公司制、“Radio Light(注册商标)#1500”)，使用PP褶筒式过滤器(ADVANTEC东洋公司制“TCP-HX”)，过滤分离吸附剂和溶液。
在200份(聚合物量30份)的过滤后的二环戊二烯的开环聚合物的溶液中，加入100份的环己烷，添加0.0043份的氯氢羰基三(三苯基膦)钌，在氢压6MPa、180℃进行氢化反应4小时。由此，得到包含二环戊二烯的开环聚合物的氢化物的反应液。在该反应液中，氢化物析出而成为浆料溶液。
使用离心分离机将上述的反应液所包含的氢化物和溶液分离，在60℃减压干燥24小时，得到28.5份的具有结晶性的二环戊二烯的开环聚合物的氢化物。该氢化物的氢化率为99％以上，玻璃化转变温度Tg为94℃，熔点(Tm)为262℃，结晶化温度Tpc为170℃，外消旋二单元组的比例为89％。
<实施例1>
(1-1.结晶度小于3％的结晶性树脂膜的制造)
在100份的制造例1中得到的二环戊二烯的开环聚合物的氢化物中混合0.5份的抗氧化剂(四[亚甲基-3-(3',5'-二叔丁基-4'-羟基苯基)丙酸酯]甲烷；BASF日本公司制“Irganox(注册商标)1010”)，得到成为光学膜的材料的结晶性树脂。以下将该结晶性树脂称为“树脂A”。
将树脂A投入具有4个内径3mmΦ的模孔的双轴挤出机(Toshiba Machine Co.,Ltd.制“TEM-37B”)中。使用上述的双轴挤出机，将树脂通过热熔融挤出成型而成型为线状的成型体。将该成型体使用线切割机切断，得到结晶性树脂的颗粒。
接下来，将得到的颗粒供给至具有T模头的热熔融挤出膜成型机。使用该膜成型机，按照以27m/分钟的速度卷绕在辊上的方法，制造由上述的树脂A形成的长条的膜(宽度120mm)。上述的膜成型机的运行条件如下所示。
料筒温度设定：280℃～290℃
模头温度：270℃
螺杆转速：30rpm
铸辊温度：70℃
由此，得到长条的结晶性树脂膜。得到的膜的厚度为20μm。该膜中的结晶性树脂的结晶度为0.7％。
(1-2.拉伸工序)
将在(1-1)中得到的长条的结晶性树脂膜切出、制成350mm×350mm的正方形。该切出以如下方式进行：所切出的结晶性树脂膜的正方形的各端边与长条的结晶性树脂膜的长度方向或宽度方向平行。然后，将所切出的结晶性树脂膜设置于小型拉伸机(Toyo SeikiSeisakusho Co.,Ltd.制“EX10-B型”)。该小型拉伸机具有如下结构，该结构具备把持膜的四个端边的多个夹具，能够通过使该夹具移动从而拉伸膜。
将小型拉伸机的烘箱温度设为130℃，将结晶性树脂膜以拉伸温度130℃、拉伸速度4.0mm/分钟向与长条的结晶性树脂膜的长度方向对应的方向以拉伸倍率1.2倍进行拉伸。由此，得到拉伸了的结晶性树脂膜。
(1-3.结晶化树脂膜的制造)
将在(1-2)中拉伸了的结晶性树脂膜以设置于小型拉伸机的状态进行加热处理。加热处理通过在固定结晶性树脂膜的四个端边的状态下使小型拉伸机所附带的二次加热板接近结晶性树脂膜的上侧的面和下侧的面，保持30秒钟，由此进行。此时二次加热板的温度设为170℃，与膜的距离设为上下各8mm。由此，进行结晶性树脂膜中的结晶性树脂的结晶化，得到结晶化树脂膜。
得到的结晶化树脂膜中的结晶化树脂的结晶度为71％。
(1-4.光学膜的制造)
使用大气压等离子表面处理装置(产品名“RD640”、Sekisui Chemical Co.,Ltd.制)，在以99.5∶0.5(重量％)包含氮气和氧气的气体氛围下，将在(1-3)中得到的结晶化树脂膜一个面进行等离子处理，得到光学膜。等离子处理的条件为：输出功率1000w、电压450V、电流0.65A、频率60kHz、照射速度300cm/分钟、照射时间6秒、等离子产生源与处理对象表面的距离为1mm。测定得到的光学膜的等离子处理面的算术平均粗糙度(Ra)、表层的元素组成比、各表面能，算出平均值。
(1-5.多层膜)
作为被粘接层，准备包含降冰片烯系聚合物的树脂膜(商品名“ZEONOR FilmZF16-100”、玻璃化转变温度160℃、厚度100μm、未被拉伸处理、日本瑞翁株式会社制)。
在该树脂膜一个面施加电晕处理。对于电晕处理，使用KASUGA DENKI,Inc.制的电晕处理装置，处理条件设为大气中、放电量150W/m2/分钟。
将紫外线固化粘接剂(CRB1352、Toyo Ink Co.,Ltd.制)涂覆于树脂膜的经电晕处理了的面，使用层压机与在(1-4)中制造的光学膜的进行了等离子处理的面进行贴合。
使用高压水银灯，以照度350mW/cm2、累积光量1000mJ/cm2的条件对贴合物照射紫外线。由此，使粘接剂交联，制成粘接层。
由此，得到依次具有作为光学膜的结晶化树脂的层、粘接层、树脂膜的层(被粘接层)的多层膜。对得到的多层膜测定剥离强度。
<实施例2>
(2-4.光学膜的制造)
在实施例1的(1-4)中，将等离子处理的气体氛围变更为以99.0∶1.0(重量％)包含氮气和氧气的气体氛围，除此以外，与实施例1的(1-1)～(1-4)同样地进行，得到光学膜。测定得到的光学膜的算术平均粗糙度(Ra)、表层的元素组成比、各表面能。
(2-5.多层膜)
在实施例1的(1-5)中，代替在(1-4)中制造的光学膜而使用在(2-4)中制造的光学膜，除此以外，与实施例1同样地进行，得到多层膜。对得到的多层膜测定剥离强度。
<实施例3>
(3-4.光学膜的制造)
在实施例1的(1-4)中，将等离子处理的气体氛围变更为以98.0∶2.0(重量％)包含氮气和氧气的气体氛围，除此以外，与实施例1的(1-1)～(1-4)同样地进行，得到光学膜。测定得到的光学膜的算术平均粗糙度(Ra)、表层的元素组成比、各表面能。
(3-5.多层膜)
在实施例1的(1-5)中，代替在(1-4)中制造的光学膜而使用在(3-4)中制造的光学膜，除此以外，与实施例1同样地进行，得到多层膜。对得到的多层膜测定剥离强度。
<实施例4>
(4-4.光学膜的制造)
在实施例1的(1-4)中，将等离子处理的气体氛围变更为以97.0∶3.0(重量％)包含氮气和二氧化碳气体的气体氛围，除此以外，与实施例1的(1-1)～(1-4)同样地进行，得到光学膜。测定得到的光学膜的算术平均粗糙度(Ra)、表层的元素组成比、各表面能。
(4-5.多层膜)
在实施例1的(1-5)中，代替在(1-4)中制造的光学膜而使用在(4-4)中制造的光学膜，除此以外，与实施例1同样地进行，得到多层膜。对得到的多层膜测定剥离强度。
<实施例5>
(5-4.光学膜的制造)
在实施例1的(1-4)中，将等离子处理的气体氛围变更为以95.0∶5.0(重量％)包含氮气和二氧化碳气体的气体氛围，除此以外，与实施例1的(1-1)～(1-4)同样地进行，得到光学膜。测定得到的光学膜的算术平均粗糙度(Ra)、表层的元素组成比、各表面能。
(5-5.多层膜)
在实施例1的(1-5)中，代替在(1-4)中制造的光学膜而使用在(5-4)中制造的光学膜，除此以外，与实施例1同样地进行，得到多层膜。对得到的多层膜测定剥离强度。
<实施例6>
(6-4.光学膜的制造)
在实施例1的(1-4)中，将等离子处理的气体氛围变更为以90.0∶10.0(重量％)包含氮气和二氧化碳气体的气体氛围，除此以外，与实施例1的(1-1)～(1-4)同样地进行，得到光学膜。测定得到的光学膜的算术平均粗糙度(Ra)、表层的元素组成比、各表面能。
(6-5.多层膜)
在实施例1的(1-5)中，代替在(1-4)中制造的光学膜而使用在(6-4)中制造的光学膜，除此以外，与实施例1同样地进行，得到多层膜。对得到的多层膜测定剥离强度。
<比较例1>
在实施例1的(1-5)中，代替在(1-4)中制造的光学膜而使用在(1-3)中制造的结晶化树脂膜(等离子处理前的结晶化树脂膜)，除此以外，与实施例1同样地进行，得到多层膜。对得到的多层膜测定剥离强度。
在比较例1中，在制造多层膜时使用了实施例1的(1-3)的结晶化树脂膜，因此对在实施例1的(1-3)中制造的结晶化树脂膜测定算术平均粗糙度、表层的元素组成比、表面自由能。
<比较例2>
(C2-4.光学膜的制造)
在实施例1的(1-4)中，将等离子处理的气体氛围变更为氮气氛围(氮气100％)，除此以外，与实施例1的(1-1)～(1-4)同样地进行，得到光学膜。测定得到的光学膜的算术平均粗糙度(Ra)、表层的元素组成比、各表面能。
(C2-5.多层膜)
在实施例1的(1-5)中，代替在(1-4)中制造的光学膜而使用在(C2-4)中制造的光学膜，除此以外，与实施例1的(1-5)同样地进行，得到多层膜。对得到的多层膜测定剥离强度。
<比较例3>
(C3-4.光学膜的制造)
在实施例1的(1-4)中，将等离子处理的气体氛围变更为以99.9∶0.1(重量％)包含氮气和氧气的气体氛围，除此以外，与实施例1的(1-1)～(1-4)同样地进行，得到光学膜。测定得到的光学膜的算术平均粗糙度(Ra)、表层的元素组成比、各表面能。
(C3-5.多层膜)
在实施例1的(1-5)中，代替在(1-4)中制造的光学膜而使用在(C3-4)中制造的光学膜，除此以外，与实施例1的(1-5)同样地进行，得到多层膜。对得到的多层膜测定剥离强度。
<比较例4>
(C4-4.光学膜的制造)
在实施例1的(1-4)中，将等离子处理的气体氛围变更为以97.0∶3.0(重量％)包含氮气和氧气的气体氛围，除此以外，与实施例1的(1-1)～(1-4)同样地进行，得到光学膜。测定得到的光学膜的算术平均粗糙度(Ra)、表层的元素组成比、各表面能。
(C4-5.多层膜)
在实施例1的(1-5)中，代替在(1-4)中制造的光学膜而使用在(C4-4)中制造的光学膜，除此以外，与实施例1的(1-5)同样地进行，得到多层膜。对得到的多层膜测定剥离强度。
<比较例5>
(C5-4.光学膜的制造)
在实施例1的(1-4)中，将等离子处理的气体氛围变更为以98.0∶3.0(重量％)包含氮气和二氧化碳气体的气体氛围，除此以外，与实施例1的(1-1)～(1-4)同样地进行，得到光学膜。测定得到的光学膜的算术平均粗糙度(Ra)、表层的元素组成比、各表面能。
(C5-5.多层膜)
在实施例1的(1-5)中，代替在(1-4)中制造的光学膜而使用在(C5-4)中制造的光学膜，除此以外，与实施例1的(1-5)同样地进行，得到多层膜。对得到的多层膜测定剥离强度。
<比较例6>
(C6-4.光学膜的制造)
在实施例1的(1-4)中，将等离子处理的气体氛围变更为以85.0∶15.0(重量％)包含氮气和二氧化碳气体的气体氛围，除此以外，与实施例1的(1-1)～(1-4)同样地进行，得到光学膜。测定得到的光学膜的算术平均粗糙度(Ra)、表层的元素组成比、各表面能。
(C6-5.多层膜)
在实施例1的(1-5)中，代替在(1-4)中制造的光学膜而使用在(C6-4)中制造的光学膜，除此以外，与实施例1的(1-5)同样地进行，得到多层膜。对得到的多层膜测定剥离强度。
<比较例7>
(C7-4.光学膜的制造)
在实施例1的(1-3)中制造的结晶化膜一个面上，使用准分子灯(EX-mini L12530-01、滨松光子学株式会社制)，焦距为3mm，在空气中照射准分子光(波长∶175nm)6秒，得到光学膜。测定得到的光学膜的算术平均粗糙度(Ra)、表层的元素组成比、各表面能。
(C7-5.多层膜)
在实施例1的(1-5)中，代替在(1-4)中制造的光学膜而使用在(C7-4)中制造的光学膜，除此以外，与实施例1的(1-5)同样地进行，得到多层膜。对得到的多层膜测定剥离强度。
<比较例8>
(C8-4.光学膜的制造)
在实施例1的(1-1)中，代替树脂A，使用非晶性的降冰片烯系树脂(商品名“ZEONOR1600”、日本瑞翁株式会社制、Tg163℃、折射率1.53；以下称为“树脂B”)的颗粒，与实施例1的(1-1)～(1-2)同样地进行，得到拉伸了的膜。在得到的膜一个面上，以与实施例5的(5-4)同样的条件进行等离子处理，得到光学膜。测定得到的光学膜的算术平均粗糙度(Ra)、表层的元素组成比、各表面能。
(C8-5.多层膜)
在实施例1的(1-5)中，代替在(1-4)中制造的光学膜而使用在(C8-4)中制造的光学膜，除此以外，与实施例1同样地进行，得到多层膜。对得到的多层膜测定剥离强度。
<结果>
将实施例和比较例的结果示于表2和表3中。
在表2和表3中，一并示出树脂的种类、实施例和比较例的等离子处理条件(气体比率(重量％)和氧与氮的重量比)。
在表2中，“等离子处理面的算术平均粗糙度”是指“光学膜的2个面中进行了等离子处理的面的算术平均粗糙度”，“非处理面的算术平均粗糙度”是指“光学膜的2个面中未进行等离子处理的面的算术平均粗糙度”。
在表3中，“处理面的算术平均粗糙度”是指“光学膜的2个面中进行了等离子处理或准分子处理的面的算术平均粗糙度”，“非处理面的算术平均粗糙度”是指“光学膜的2个面中等离子处理和准分子处理均未进行的面的算术平均粗糙度”。在比较例1中，由于光学膜的两面都未进行表面处理，因此在非处理面中，记载了2个面的算术平均粗糙度。在表3中，“两面均3.0”是指，光学膜的两个面的算术平均粗糙度为3.0nm。
[表2]
表2
[表3]
表3
对于在实施例1～6中得到的光学膜，由于剥离强度高，因此能够抑制层间剥离产生，由于耐弯曲性高，因此可挠性优异，并且由于耐热性高，因此能够有用地用作作为触控面板的结构要素的接触式传感器。

Claims (9)

1.一种光学膜，其为将包含含脂环式结构聚合物的结晶化树脂作为主成分的光学膜，
所述结晶化树脂的结晶度为30％以上，
至少一个面的算术平均粗糙度为2.5nm以下。
2.根据权利要求1所述的光学膜，其中，至少一个面的表层中氧元素与碳元素的组成比为1/10以上，
并且氮元素与碳元素的组成比为1/20以下。
3.根据权利要求1或2所述的光学膜，其中，在至少一个面中，
全表面自由能为70mN/m以上，分散成分的表面自由能为40mN/m以下，极化成分的表面自由能为25mN/m以上，并且氢键成分的表面自由能为10mN/m以上。
4.一种光学膜的制造方法，为权利要求1～3中任一项所述的光学膜的制造方法，其包含：
使包含含脂环式结构聚合物的结晶性树脂膜结晶化，得到结晶化树脂膜的工序，以及
进行所述结晶化树脂膜的等离子处理的等离子处理工序。
5.根据权利要求4所述的光学膜的制造方法，其中，在大气压下进行所述等离子处理。
6.根据权利要求4或5所述的光学膜的制造方法，其中，在气体氛围下进行所述等离子处理，
所述气体包含氮气，并且包含选自氧气和二氧化碳气体中的一种以上气体，
所述气体中氧与氮的重量比为5.50×10-3以上且1.30×10-1以下。
7.根据权利要求4～6中任一项所述的光学膜的制造方法，其中，在气体氛围下进行所述等离子处理，
所述气体包含氮气和氧气，
所述气体中氧与氮的重量比为5.50×10-3以上且3.50×10-2以下。
8.根据权利要求4～7中任一项所述的光学膜的制造方法，其中，在气体氛围下进行所述等离子处理，
所述气体包含氮气和二氧化碳气体，
所述气体中氧与氮的重量比为2.50×10-2以上且1.30×10-1以下。
9.一种多层膜，具有：
权利要求1～3中任一项所述的光学膜、
被粘接层、以及
设置在所述光学膜和所述被粘接层之间的粘接层。
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