WO2018128045A1 - 多層基板 - Google Patents

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WO2018128045A1
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connection conductor
axis direction
pair
notch
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慎也 小栗
優輝 伊藤
雄也 道海
勇 森田
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株式会社村田製作所
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Definitions

  • the present invention relates to a multilayer substrate formed by laminating a plurality of insulator layers.
  • Some multi-layer substrates formed by laminating a plurality of insulator layers are flexible and can be bent.
  • the interlayer connection conductor does not have flexibility, and thus there is a possibility that peeling or the like may occur in the interlayer connection conductor and its periphery.
  • a multilayer board including an interlayer connection conductor in which via conductors are shifted along a bending direction over a plurality of layers has been proposed (for example, see Patent Document 1).
  • the multilayer substrate described in Patent Document 1 can alleviate the concentration of bending stress as compared with a case where an interlayer connection conductor in which via conductors are vertically arranged and connected over a plurality of layers is provided.
  • an interlayer connection conductor in which via conductors are vertically arranged and connected over a plurality of layers is provided.
  • a corresponding length dimension is required. Therefore, it may be difficult to apply to a small multilayer substrate.
  • the object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and it is possible to reduce the bending stress applied to the interlayer connection conductor when a bending force is applied, and to realize high connection reliability in the interlayer connection conductor in a space-saving manner. It is providing the multilayer substrate which has these.
  • One aspect of the present invention is: A plurality of insulator layers, and a flexible base material that is curved along a first direction on a plane orthogonal to the stacking direction; An interlayer connection conductor provided on the flexible substrate; A cutout provided in a symmetrical position in the first direction of the flexible base material with respect to the position of the interlayer connection conductor and extending in a second direction orthogonal to the first direction on the plane A pair of parts, With In a plan view from the stacking direction, a region surrounded by each notch portion constituting the pair of notch portions and a line connecting ends of the notch portions in the second direction.
  • the interlayer connection conductor is disposed inside,
  • the flexible substrate is a multilayer substrate in which a radius of curvature in the first direction of a region between the pair of notches is larger than a radius of curvature of a region outside the pair of notches.
  • the present invention it is possible to provide a multilayer substrate having high connection reliability in an interlayer connection conductor that can realize a reduction in bending stress applied to the interlayer connection conductor when a bending force is applied in a space-saving manner.
  • FIG. 1 is a plan view and a cross-sectional view schematically showing a multilayer substrate 2 according to the first embodiment of the present invention.
  • (A) is a plan view
  • (b) is a cross-sectional view taken along the line GG in (a)
  • (c) is a reference plan view showing the positional relationship between the interlayer connection conductor and the notch.
  • the multilayer substrate 2 includes a flexible substrate 4 configured by laminating a plurality of insulator layers 4a and 4b.
  • the stacking direction is the Z-axis direction, and flexibility is achieved along the X-axis direction (referred to as the “first direction”), which is one direction on a plane orthogonal to the Z-axis direction (stacking direction).
  • the substrate 4 is curved. That is, the X-axis direction (first direction) is the bending direction of the flexible substrate 4.
  • the Y-axis direction (second direction) Is the bending axis direction of the flexible substrate 4.
  • the flexible base material 4 is in the X-axis direction in a side view from the Y-axis direction (second direction). It means having a smooth curved shape extending in the (first direction) and convex in the Z-axis direction (stacking direction) (see FIG. 1B).
  • An interlayer connection conductor 6 is provided on the flexible substrate 4.
  • the interlayer connection conductor 6 is disposed slightly to the left of the center of the flexible substrate 4 in the X-axis direction (first direction).
  • the arrangement is not limited to this, and any arrangement including the case where the interlayer connection conductor 6 is arranged at the center in the X-axis direction (first direction) of the flexible substrate 4 can be adopted.
  • the interlayer connection conductor 6 penetrates the electrode 6a formed on the upper surface side of the insulator layer 4a, the electrode 6c formed on the lower surface side, and the insulator layer 4a in the thickness direction, and electrically connects the electrode 6a and the electrode 6c. It is comprised from the via conductor 6b to connect.
  • the outer shape of the electrodes 6a and 6c is the via conductor 6b.
  • the length of the interlayer connection conductor 6 in the Y-axis direction (second direction) is W1.
  • the electrodes 6a and 6c have a circular planar shape.
  • the present invention is not limited to this, and may have any other planar shape including a square and a rectangle.
  • the flexible base material 4 has a symmetrical position in the X-axis direction (first direction) of the flexible base material 4 in the Y-axis direction (second direction) with respect to the position of the interlayer connection conductor 6.
  • Two extended notches 8a and 8b are provided.
  • the notch can also be referred to as an opening provided in the flexible substrate 4 or a recess provided in the flexible substrate 4.
  • the length (width dimension) in the X-axis direction (first direction) of the notches 8 a and 8 b is preferably smaller than the total length of the flexible substrate 4.
  • the “position of the interlayer connection conductor 6 as a reference symmetrical position” will be described in detail.
  • the Y-axis direction passing through the center of the via conductor 6b in plan view Assuming that the line extending in the (second direction) is the symmetry line SL, the distance L between the symmetry line SL and the notch 8a (specifically, the center of the notch 8a), the symmetry line SL and the notch 8b. It means that the distances L between (in detail, the center of the notch 8b) are equal.
  • the via conductor 6b has the interlayer connection conductor 6 arranged vertically without shifting in the X-axis direction across a plurality of insulator layers in a side view as viewed from the Y-axis direction (second direction) (FIG. (Including the case shown in FIG. 8), the symmetry line SL can be defined in the same manner as described above.
  • the two notches 8a and 8b are openings extending in the Z-axis direction (stacking direction) until they penetrate the insulator layer 4a.
  • the length of the notch 8a in the Y-axis direction (second direction) is W2.
  • the length of the notch 8b in the Y-axis direction (second direction) is W3.
  • neither of the two notches 8a and 8b reaches the end of the flexible base 4 in the Y-axis direction (second direction). From the viewpoint of appropriate relaxation of bending stress, it is preferable that the values of the lengths W2 and W3 are not so different from each other.
  • the two notches 8a and 8b arranged at the symmetrical positions are collectively referred to as a notch pair 8ab.
  • the length W1 in the Y-axis direction (second direction) of the interlayer connection conductor 6 is smaller than the length W2 of the notch 8a and smaller than the length W3 of the notch 8b.
  • FIG. 1C in a plan view from the Z-axis direction (stacking direction), the notch portions 8a and 8b constituting the notch pair 8ab and the notch portion 8a in the Y-axis direction (first (In the direction of 2) and within the region U (see the blackened portion) surrounded by the lines connecting the ends A3 and B3 in the Y-axis direction (second direction) of the notches 8b and the notches 8b.
  • the interlayer connection conductor 6 is disposed.
  • the flexible base material 4 is curved and formed along the X-axis direction (1st direction). More specifically, the curvature radius r1 in the X-axis direction (first direction) of the region P between the notch pair 8ab is equal to the curvature radius r2 of the region Q outside the notch pair 8ab, and It is larger than the radius of curvature r3 of the region R.
  • the positions of the notches 8a and 8b constituting the pair 8ab of notches are provided closer to the interlayer connection conductor 6 than the end of the flexible substrate 4 in the X-axis direction (first direction).
  • the regions Q and R having a high degree of freedom in the radius of curvature can be widened. Therefore, in this case, the degree of freedom of the bending shape in the multilayer substrate 2 can be increased.
  • the plurality of insulator layers 4a and 4b are stacked, and can be curved along the X-axis direction (first direction).
  • the flexible base 4, the interlayer connection conductor 6 provided on the flexible base 4, and the position of the interlayer connection conductor 6 are used as a reference in the X-axis direction (first direction) of the flexible base 4.
  • a pair of notches 8ab provided in a symmetric position and extending in the Y-axis direction (second direction), and constituting the pair of notches 8ab in plan view from the Z-axis direction (stacking direction)
  • the interlayer connection conductor 6 is disposed in the region U, and the flexible substrate 4 is formed between the notch pair 8ab.
  • the radius of curvature r1 in the X-axis direction of the region P (first direction), notches outside the pair 8ab the region Q, is larger than the radius of curvature r2, r3 of R.
  • the notch pair 8ab is provided at a symmetrical position in the X-axis direction (first direction) of the flexible base material 4 with respect to the position of the interlayer connection conductor 6, the flexible base material 4 When a bending force is applied, the bending stress concentrated on the interlayer connection conductor 6 and the surrounding region is dispersed, and the bending stress applied to the interlayer connection conductor 6 and the surrounding region can be reduced.
  • B Since the length in the X-axis direction (first direction) of the pair 8ab of the notch portions is relatively small, the relaxation of the bending stress when the bending force of the flexible base material 4 is applied is saved. Can be realized in space.
  • the radius of curvature r1 of the region P between the notch pair 8ab is larger than the curvature radii r2 and r3 of the regions Q and R outside the notch pair 8ab.
  • the shape along the member can be imparted to the multilayer substrate 2, and for example, the bending force applied to the flexible substrate 4 by bending during mounting can be further reduced.
  • F As described above, in the present embodiment, a multilayer having high connection reliability in the interlayer connection conductor 6 that can realize a reduction in bending stress applied to the interlayer connection conductor when a bending force is applied in a space-saving manner.
  • a substrate 2 can be provided.
  • FIG. 2A is a plan view
  • FIG. 2B is a cross-sectional view schematically showing a multilayer substrate according to the first embodiment of the present invention having an interlayer connection conductor 6 having a mode different from that in FIG.
  • FIG. 2 shows a case where the interlayer connection conductor 6 is disposed across the plurality of layers with the via conductors 6b being shifted along the X-axis direction (first direction).
  • the present embodiment can also be applied to the multilayer substrate 2 having such an interlayer connection conductor 6.
  • the position of the interlayer connection conductor 6 is a reference symmetrical position” is described, it extends along the X-axis direction (first direction) in a side view as viewed from the Y-axis direction (second direction).
  • a line extending in the Y-axis direction (second direction) passing through the center of the interlayer connection conductor 6 can be defined as a symmetry line SL.
  • the interlayer connection conductor 6 having such a configuration requires a certain amount of space in the X-axis direction (first direction) of the flexible base material 4, but if the arrangement is possible, the above effect is achieved. In addition, it is possible to expect a relaxation effect of stress concentration by the interlayer connection conductor 6 itself.
  • FIG. 3 is a schematic view showing an example of a method for manufacturing the multilayer substrate shown in FIG.
  • insulating films in which a copper foil is stretched over the entire surface of one side are prepared.
  • a thermoplastic resin such as liquid crystal polymer (LCP) can be used.
  • LCP liquid crystal polymer
  • the insulator layer 4a in which the pattern including the electrode 6a is formed and the insulator layer 4b in which the pattern including the electrode 6c is formed are formed by a patterning process such as photolithography.
  • a via hole penetrating only the insulating base material is formed by laser processing or the like from the surface side where the copper foil is not stretched, and this via hole is filled with the conductive paste 6b ′.
  • the insulator layers 4a and 4b are joined by a pressure press or the like to form the flexible base material 4.
  • the thermoplastic resin By using the thermoplastic resin, the insulator layers 4a and 4b are firmly bonded and integrated, and delamination when a bending force is applied is more effectively suppressed.
  • the plurality of insulator layers 4a and 4b are directly laminated without interposing different types of resin layers such as adhesive layers, an interface between different insulator layers is not formed, and delamination is further suppressed.
  • the conductive paste 6b ′ filled in the through hole is also heated and cured to become the via conductor 6b.
  • the upper electrode 6a (copper foil) and the lower electrode 6c (copper foil) are joined and integrated to form the interlayer connection conductor 6.
  • the notches 8a and 8b are formed at positions symmetrical to the interlayer connection conductor 6 by laser processing or the like.
  • the front side is basically wide and the back side is slightly narrowed.
  • Step 4 The flexible base material 4 provided with the interlayer connection conductor 6 and the notches 8a and 8b, formed as described above, is heated and bent. Depending on the radius of curvature of the press die used at this time, the radius of curvature of the flexible substrate 4 can be varied depending on the region. As described above, the multilayer substrate 2 as shown in FIG. 1 can be manufactured.
  • the thickness of the insulator layers 4a and 4b is 30 to 80 ⁇ m
  • the outer diameter of the electrode 6a of the interlayer connection conductor 6 is 200 to 400 ⁇ m
  • the outer shape of the via conductor 6b is 120.
  • the width dimension (dimension in the X-axis direction) of the notches 8a and 8b is 30 to 80 ⁇ m can be given.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view and a plan view schematically showing the multilayer substrate 2 according to the second embodiment of the present invention.
  • the bottom surface S in the Z-axis direction (stacking direction) of the notches 8a and 8b is not coincident with the layer interface of the insulator layers 4a and 4b. Stress is easily concentrated on the interface between the insulator layers 4a and 4b, and when a bending force is applied, the layer interface is easily peeled off.
  • the bottom surface S of the notches 8a and 8b does not reach the bottom of the upper insulator layer 4a. That is, the insulator layer 4a remains between the layer interface and the notches 8a and 8b do not straddle the layer interface.
  • the notches 8a and 8b are arranged as described above, peeling of the layer interface caused by the notches 8a and 8b can be effectively suppressed when a bending force is applied.
  • the notches 8a and 8b are allowed as shown in the plan view of FIG. 4 (b). It can also be provided up to the end of the flexible substrate 4 in the Y-axis direction (second direction).
  • the bottom surfaces S of the cutout portions 8a and 8b extend slightly beyond the bottom of the insulator layer 4b beyond the insulator layer 4a. Even when the notches 8a and 8b are arranged in this manner, the bottom surface S of the notches 8a and 8b does not coincide with the layer interface, so that when bending stress is applied, the notches 8a and 8b are caused by the notches 8a and 8b. It is possible to suppress peeling of the layer interface.
  • the bottom surface S in the Z-axis direction (stacking direction) of each of the notch portions 8a and 8b constituting the pair 8ab of notch portions is Since it does not coincide with the layer interface of the insulator layers 4a and 4b, when bending force is applied, peeling at the layer interface caused by the notches 8a and 8b can be made difficult to occur.
  • the connection reliability of the interlayer connection conductor 6 can be further improved.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a multilayer substrate according to the third embodiment of the present invention.
  • a pair of notches 8ab (notches 8a and 8b) and a pair of notches 8cd are provided on the first principal surface 12 side and the second principal surface 14 side of the flexible substrate 4. (Notches 8c and 8d) are provided.
  • the flexible base material 4 is provided with the two insulator layers 4a and 4b is shown, it is not restricted to this, and the flexible base material 4 includes a plurality of three or more. Even when an insulator layer is provided, the same effect as described above can be obtained by providing a pair of notches on the first main surface side and the second main surface side of the upper and lower ends.
  • FIG. 6 is a plan view schematically showing a multilayer substrate according to the fourth embodiment of the present invention.
  • a plurality of notch elements (8a1 to 8a3, 8b1 to 8b3) in which the notch parts 8a and 8b constituting the notch pair 8ab are arranged in the Y-axis direction (second direction). ).
  • the notch portion 8a is composed of three notch portion elements 8a1, 8a2, and 8a3 having a substantially square planar shape arranged in the Y-axis direction (second direction). That is, the end of the notch 8a in the Y-axis direction (second direction) corresponds to the outer ends of the outermost elements 8a1 and 8a3 of the plurality of notch elements 8a1 to 8a3. Therefore, the length W2 in the Y-axis direction (second direction) of the notch 8a is indicated by the distance between the outer end portions of the outermost notch elements 8a1 and 8a3.
  • the notch portion 8b is also composed of three notch portion elements 8b1, 8b2, and 8b3 having a substantially square planar shape arranged in the Y-axis direction (second direction). That is, the end of the notch 8b in the Y-axis direction (second direction) corresponds to the outer end of the outermost notch elements 8b1 and 8b3 of the plurality of notch elements 8b1 to 8b3. Therefore, the length W3 in the Y-axis direction (second direction) of the notch 8b is indicated by the distance between the outer end portions of the outermost notch elements 8b1 and 8b3.
  • the notch element makes it easy to design the position of the notch in consideration of strength calculation, and the notch part is relatively easy to process. Therefore, it is possible to realize the multilayer substrate 2 having both flexibility and mechanical strength. Further, if the notch element is formed in the same shape as the via conductor hole, the design and processing can be performed more efficiently.
  • the notch is configured with three notch elements.
  • the present invention is not limited to this, and the notch may be configured with an arbitrary number of notch elements. it can.
  • the cutout portion has a substantially square planar shape, but is not limited thereto, and may have any other planar shape including a circular shape.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing a multilayer substrate according to the fifth embodiment of the present invention.
  • a plurality of notch pairs 8ab and 10ab are provided at positions where the distance in the X-axis direction (first direction) differs from the position of the interlayer connection conductor 6.
  • FIG. 7A shows a case where a plurality of notch pairs 8ab and 10ab are provided in the insulator layer 4a
  • FIG. 7B shows a plurality of notches in both of the insulator layers 4a and 4b.
  • a case where a pair of parts 8ab, 10ab and 8cd, 10cd is provided is shown.
  • two pairs of cutout portions 8ab and 10ab are provided at symmetrical positions in the X-axis direction (first direction) with reference to the position of the interlayer connection conductor 6. More specifically, the notches 8a and 8b are arranged symmetrically at a distance of L1 from the symmetry line SL passing through the center of the via conductor 6b, and the notches 10a and 10b are symmetrically arranged at a distance of L2 from the symmetry line SL. Is arranged.
  • FIG. 7B is also different from that of FIG. 7A only in that it has two pairs of notches in both of the insulator layers 4a and 4b. However, a mode in which the distance from the symmetry line SL is different between the insulator layers 4a and 4b is also possible.
  • the plurality of notch pairs 8ab and 10ab are provided at positions where the distance in the X-axis direction (first direction) differs from the position of the interlayer connection conductor 6.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing a multilayer substrate according to the sixth embodiment of the present invention.
  • (A) is a plan view
  • (b) is a cross-sectional view taken along the line HH of (a).
  • the interlayer connection conductor 6 includes an interlayer connection conductor element (that is, a via conductor) 6b arranged so as to be shifted along the Y-axis direction (second direction), and a planar conductor element 6d that connects the interlayer connection conductor element 6d.
  • the flexible substrate 4 is twisted when the bending force is applied in the X-axis direction (first direction).
  • the flexible substrate 4 is twisted, bending force is applied not only in the X-axis direction (first direction) but also in the Y-axis direction (second direction).
  • the bending stress in the Y-axis direction (second direction) applied to the flexible substrate 4 can be relaxed by the structure of the interlayer connection conductor 6 as described above.
  • FIG. 9 is a plan view and a cross-sectional view schematically showing a multilayer substrate according to the seventh embodiment of the present invention.
  • (A) is a plan view
  • (b) is a cross-sectional view taken along line G ′′ -G ′′ of (a)
  • (c) is a cross-sectional view taken along line H′-H ′ of (a).
  • a cutout extending in the X-axis direction (first direction) at a symmetrical position in the Y-axis direction (second direction) of the flexible base 4 with respect to the position of the interlayer connection conductor 6.
  • a pair of parts 18ab is further provided. That is, in addition to the pair 8ab of notches provided at the symmetrical position in the X-axis direction (first direction), the pair 18ab of notches provided at the symmetrical position in the Y-axis direction (second direction).
  • the length M1 in the X-axis direction (second direction) of the interlayer connection conductor 6 is smaller than the length M2 of the notch 18a and smaller than the length M3 of the notch 18b.
  • the interlayer connection conductor 6 is disposed in a region surrounded by lines connecting the end portions A5 and B5 in the X-axis direction (first direction) of the notch 18b.
  • the flexible base 4 is shown not to be curved along the Y-axis direction (second direction), but depending on the application, the X-axis direction (first 1) as well as the flexible substrate 4 curved along the Y-axis direction (second direction) can also be used.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view schematically showing a multilayer substrate according to the eighth embodiment of the present invention.
  • a member 20 having an elastic modulus lower than that of the insulator layers 4a and 4b is disposed in each of the notch portions 8a and 8b constituting the notch pair 8ab.
  • the member 20 can be exemplified by silicon resin or elastomer, but any other material can be adopted depending on the elastic modulus on the insulator layer side.
  • the member 20 can be formed by filling the notches 8a and 8b with a predetermined resin material or rubber material and solidifying.
  • the breakage of the notches 8a and 8b when stress is applied is suppressed. can do.
  • Multilayer substrate Flexible base material 4a, 4b Insulator layer 6 Interlayer connection conductor 6a, c Electrode 6b Via conductor (interlayer connection conductor element) 6d Planar conductor elements 8a to d Notch portion 8ab, cd Notch portion pair 8a1 to 8a3, 8b1 to 8b3 Notch portion element 10a to d Notch portion 10ab to cd Notch portion pair 12 First main surface 14 Second main surface

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Abstract

曲げ力が加わったときの層間接続導体にかかる曲げ応力の緩和を省スペースで実現可能な、層間接続導体における高い接続信頼性を有する多層基板を提供するため、複数の絶縁体層4a、4bが積層されて構成され、積層方向と直交する平面上のX軸方向に沿って湾曲した可撓性基材4と、記可撓性基材4に設けられた層間接続導体6と、層間接続導体6の位置を基準に、可撓性基材4のX軸方向における対称位置に設けられ、前記平面上のX軸方向と直交するY軸方向に伸びた切り欠き部の対8abと、を備え、Z軸方向からの平面視において、切り欠き部の対8abを構成する各々の切り欠き部8a、8bと、該各々の切り欠き部8a、8bのY軸方向における端部どうしを結んだ線とで囲まれた領域内に、層間接続導体6が配置され、可撓性基材4において、切り欠き部の対8abの間の領域PのX軸方向における曲率半径r1が、切り欠き部の対8abより外側の領域Q、Rの曲率半径r2、r3よりも大きい多層基板を提供する。

Description

多層基板
 本発明は、複数の絶縁体層が積層されて構成された多層基板に関する。
 複数の絶縁体層が積層されて構成され多層基板の中には、可撓性を有して、曲げることが可能なものがある。このとき、層間接続導体が多層基板に設けられている場合には、層間接続導体は可撓性を有さないので、層間接続導体及びその周辺で剥離等が生じる可能性がある。
 これに対処するため、複数の層にわたって、曲げ方向に沿ってビア導体をずらして配置した層間接続導体を備えた多層基板が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
国際公開第2013/114975号
 特許文献1に記載の多層基板では、複数の層にわたってビア導体を縦に配置して繋げた層間接続導体を備える場合に比べて、曲げ応力の集中を緩和することができる。しかし、曲げ方向に沿ってビア導体をずらして配置するには、それに対応した長さ寸法を要する。よって、小型な多層基板に適用するのには困難な場合もある。
 従って、本発明の目的は、上記の課題を解決するものであり、曲げ力が加わったときの層間接続導体にかかる曲げ応力の緩和を省スペースで実現可能な、層間接続導体における高い接続信頼性を有する多層基板を提供することにある。
  本発明の1つの態様は、
 複数の絶縁体層が積層されて構成され、積層方向と直交する平面上の第1の方向に沿って湾曲した可撓性基材と、
 前記可撓性基材に設けられた層間接続導体と、
 前記層間接続導体の位置を基準に、前記可撓性基材の前記第1の方向における対称位置に設けられ、前記平面上の前記第1の方向と直交する第2の方向に伸びた切り欠き部の対と、
を備え、
 積層方向からの平面視において、前記切り欠き部の対を構成する各々の切り欠き部と、該各々の切り欠き部の前記第2の方向における端部どうしを結んだ線とで囲まれた領域内に、前記層間接続導体が配置され、
 前記可撓性基材において、前記切り欠き部の対の間の領域の前記第1の方向における曲率半径が、前記切り欠き部の対より外側の領域の曲率半径よりも大きい多層基板である。
 本発明によれば、曲げ力が加わったときの層間接続導体にかかる曲げ応力の緩和を省スペースで実現可能な、層間接続導体における高い接続信頼性を有する多層基板を提供することができる。
本発明の第1の実施形態に係る多層基板を模式的に示す平面図及び断面図である。 図1とは異なる態様の層間接続導体を有する場合の本発明の第1の実施形態に係る多層基板を模式的に示す平面図及び断面図である。 図1に示す多層基板の製造方法の一例を示す模式図である。 本発明の第2の実施形態に係る多層基板を模式的に示す断面図及び平面図である。 本発明の第3の実施形態に係る多層基板を模式的に示す断面図である。 本発明の第4の実施形態に係る多層基板を模式的に示す平面図である。 本発明の第5の実施形態に係る多層基板を模式的に示す断面図である。 本発明の第6の実施形態に係る多層基板を模式的に示す平面図及び断面図である。 本発明の第7の実施形態に係る多層基板を模式的に示す平面図及び断面図である。 本発明の第8の実施形態に係る多層基板を模式的に示す断面図である。
 以降、図面を参照しながら、本発明を実施するための様々な実施形態を説明する。各図面中、同一の機能を有する対応する部材には、同一符号を付している。要点の説明または理解の容易性を考慮して、便宜上実施形態を分けて示すが、異なる実施形態で示した構成の部分的な置換または組み合わせは可能である。第2実施形態以降では第1実施形態と共通の事柄についての記述を省略し、異なる点についてのみ説明する。特に、同様の構成による同様の作用効果については実施形態毎には逐次言及しないものとする。
<第1の実施形態>
図1は、本発明の第1の実施形態に係る多層基板2を模式的に示す平面図及び断面図である。(a)は平面図、(b)は、(a)のG-G切断線における断面図、(c)は、層間接続導体及び切欠き部の位置関係を示す参考平面図である。
 本実施形態に係る多層基板2は、複数の絶縁体層4a、4bが積層されて構成された可撓性基材4を備える。全図において、積層方向をZ軸方向とし、Z軸方向(積層方向)と直交する平面上の1つの方向であるX軸方向(「第1の方向」と称する)に沿って、可撓性基材4が湾曲している。つまり、X軸方向(第1の方向)が可撓性基材4の曲げ方向となる。Z軸方向(積層方向)と直交する平面上において、X軸方向(第1の方向)と直交する方向をY軸方向(「第2の方向」と称する)とすると、Y軸方向(第2の方向)が可撓性基材4の曲げ軸方向となる。
 「X軸方向(第1の方向)に沿って湾曲する」ことを更に詳細に述べれば、Y軸方向(第2の方向)からの側面視において、可撓性基材4が、X軸方向(第1の方向)に伸び、かつZ軸方向(積層方向)へ凸となる滑らかな曲線形状を有することを意味する(図1(b)参照)。
 可撓性基材4には、層間接続導体6が設けられている。図1では、層間接続導体6が、可撓性基材4のX軸方向(第1の方向)における中心よりも、やや左側に配置されている。ただし、これに限られるものではなく、層間接続導体6が、可撓性基材4のX軸方向(第1の方向)における中心に配置された場合を含む任意の配置を採用できる。
 層間接続導体6は、絶縁体層4aの上面側に形成された電極6a、下面側に形成された電極6c及び絶縁体層4aを厚み方向に貫通して、電極6a及び電極6cを電気的に繋ぐビア導体6bから構成されている。平面視において、電極6a、6cの外形がビア導体6b
の外形より大きく、層間接続導体6のY軸方向(第2の方向)における長さはW1である。
 なお、図1では、電極6a、6cは円形の平面形状を有するが、これに限られるものではなく、正方形、矩形をはじめとするその他の任意の平面形状を有することができる。
 可撓性基材4には、層間接続導体6の位置を基準に、可撓性基材4のX軸方向(第1の方向)における対称位置に、Y軸方向(第2の方向)に伸びた2つの切り欠き部8a及び8bが設けられている。切り欠き部は、可撓性基材4に設けられた開口ということもできるし、可撓性基材4に設けられた凹部ということもできる。何れの場合も、切り欠き部8a及び8bのX軸方向(第1の方向)における長さ(幅寸法)が、可撓性基材4の全長に比べて小さな値であることが好ましい。これにより、後述するような曲げ応力を分散させる機能を有する切り欠き部8a及び8bを、省スペースで設けることができる。
 “層間接続導体6の位置を基準の対称位置”について詳細に述べれば、絶縁体層を一層だけ貫通したビア導体6bを有する場合には、平面視において、ビア導体6bの中心を通るY軸方向(第2の方向)に伸びる線を対称線SLとすると、対称線SL及び切り欠き部8a(詳細には切り欠き部8aの中心)の間の距離Lと、対称線SL及び切り欠き部8b(詳細には切り欠き部8bの中心)の間の距離Lが等しいことを意味する。
 なお、Y軸方向(第2の方向)から見た側面視において、複数の絶縁体層にわたってビア導体6bが、X軸方向にずれずに縦に配置された層間接続導体6を有する場合(図8に示す場合も含む)にも、上記と同様なやり方で対称線SLを画定することができる。
 2つの切り欠き部8a及び8bは、Z軸方向(積層方向)において、絶縁体層4aを貫通するまで伸びた開口となっている。切り欠き部8aのY軸方向(第2の方向)における長さはW2である。切り欠き部8bのY軸方向(第2の方向)における長さはW3である。本実施形態では、2つの切り欠き部8a及び8bともに、可撓性基材4のY軸方向(第2の方向)における端部までは達していない。適切な曲げ応力の緩和の観点からは、長さW2及びW3の値はあまり大きく異ならない方が好ましい。以下、対称位置に配置された2つの切り欠き部8a及び8bを、まとめて切り欠き部の対8abと記載する。
 層間接続導体6のY軸方向(第2方向)における長さW1は、切り欠き部8aの長さW2より小さく、かつ切り欠き部8bの長さW3よりも小さい。
 図1(c)に示すように、Z軸方向(積層方向)からの平面視において、切り欠き部の対8abを構成する切り欠き部8a及び8bと、切り欠き部8aのY軸方向(第2の方向)における端部A2、B2及び切り欠き部8bのY軸方向(第2の方向)における端部A3、B3をそれぞれ結んだ線とで囲まれた領域U(墨付部分参照)内に、層間接続導体6が配置されている。
 図1(b)に示すように、可撓性基材4はX軸方向(第1の方向)に沿って湾曲して形成されている。更に詳細に述べれば、切り欠き部の対8abの間の領域PのX軸方向(第1の方向)における曲率半径r1は、切り欠き部の対8abより外側の領域Qの曲率半径r2、及び領域Rの曲率半径r3よりも大きくなっている。
 なお、切り欠き部の対8abを構成する切り欠き部8a及び8bの位置は、可撓性基材4のX軸方向(第1の方向)における端部よりも層間接続導体6の近傍に設けることにより、曲率半径の自由度の高い領域Q、Rを広く取ることができる。よって、この場合には、多層基板2における曲げ形状の自由度を高めることができる。
 以上のように、本発明の第1の実施形態に係る多層基板2では、複数の絶縁体層4a、4bが積層されて構成され、X軸方向(第1の方向)に沿って湾曲した可撓性基材4と、可撓性基材4に設けられた層間接続導体6と、層間接続導体6の位置を基準に、可撓性基材4のX軸方向(第1の方向)における対称位置に設けられ、Y軸方向(第2の方向)に伸びた切り欠き部の対8abと、を備え、Z軸方向(積層方向)からの平面視において、切り欠き部の対8abを構成する各々の切り欠き部8a及び8bと、該各々の切り欠き部8a及び8bのY軸方向(第2の方向)における端部どうしを結んだ線(A2-A3、B2-B3)とで囲まれた領域U内に、層間接続導体6が配置され、可撓性基材4において、切り欠き部の対8abの間の領域PのX軸方向(第1の方向)における曲率半径r1が、切り欠き部の対8abより外側の領域Q、Rの曲率半径r2、r3よりも大きくなっている。
 以上のような構成により、例えば以下のような効果が得られる。
(a)層間接続導体6の位置を基準に、可撓性基材4のX軸方向(第1の方向)における対称位置に切り欠き部の対8abが設けられるので、可撓性基材4に曲げ力が加えられたときに、層間接続導体6及び周囲領域に集中する曲げ応力を分散させて、層間接続導体6及び周囲領域にかかる曲げ応力の緩和が実現できる。
(b)切り欠き部の対8abのX軸方向(第1の方向)における長さは相対的に小さいので、可撓性基材4の曲げ力が加えられたときの曲げ応力の緩和を省スペースで実現できる。
(c)平面視において、切り欠き部8a及び8bと、切り欠き部8a及び8bのY軸方向(第2の方向)における端部どうしを結んだ線(A2-A3、B2-B3)とで囲まれた領域U内に、層間接続導体6が配置されるので、全ての層間接続導体6及び周囲領域における曲げ応力の緩和を確実に実現できる。
(d)更に、可撓性基材4には、予めX軸方向(第1の方向)に沿って湾曲して形成されているので、例えば、実装時の曲げ加工で可撓性基材4に加える曲げ力を予め小さくできる。
(e)特に、切り欠き部の対8abの間の領域Pの曲率半径r1が、切り欠き部の対8abより外側の領域Q、Rの曲率半径r2、r3よりも大きくなっているので、取り付ける部材に沿った形状を多層基板2に付与することができ、例えば、実装時の曲げ加工で可撓性基材4に加える曲げ力を更に小さくできる。
(f)以上のように、本実施形態においては、曲げ力が加わったときの層間接続導体にかかる曲げ応力の緩和を省スペースで実現可能な、層間接続導体6における高い接続信頼性を有する多層基板2を提供することができる。
 なお、図1とは異なる態様の層間接続導体6を有する場合であっても、本実施形態に係る多層基板2を適用することができる。図2は、図1とは異なる態様の層間接続導体6を有する場合の本発明の第1の実施形態に係る多層基板を模式的に示す(a)平面図及び(b)断面図である。図2は、複数の層にわたって、X軸方向(第1の方向)に沿ってビア導体6bをずらして配置した層間接続導体6を有する場合を示す。このような層間接続導体6を有する多層基板2についても、本実施形態を適用することがでる。
 この場合、“層間接続導体6の位置を基準の対称位置”について述べれば、Y軸方向(第2の方向)から見た側面視において、X軸方向(第1の方向)に沿って伸びた層間接続導体6の中心を通るY軸方向(第2の方向)に伸びた線を、対称線SLと画定することができる。
 このような態様の層間接続導体6は、可撓性基材4のX軸方向(第1の方向)において、ある程度のスペースを要するが、仮に、配置が可能な場合には、上記の効果に加えて、層間接続導体6自身による応力集中の緩和効果を期待できる。
<多層基板の製造方法>
 次に、図3を参照しながら、本発明の第1の実施形態に係る多層基板2の製造方法を説明する。図3は、図1に示す多層基板の製造方法の一例を示す模式図である。
[工程1]
 はじめに、片面の全面に銅箔が張られた2枚の絶縁性フィルムを準備する。絶縁性フィルムとして、液晶ポリマ(LCP:Liquid Crystal Polymer)のような熱可塑性樹脂を用いることができる。次に、フォトリソ等のパターニング処理により、電極6aを含むパターンが形成された絶縁体層4a、及び電極6cを含むパターンが形成された絶縁体層4bを形成する。
 次に、絶縁体層4aにおいて、銅箔の張られていない面側からのレーザ加工等により、絶縁基材のみ貫通したビアホールを形成し、このビアホールに、導電性ペースト6b’を充填する。
[工程2]
 次に、加圧プレス等により、絶縁体層4a及び4bを接合して可撓性基材4を形成する。熱可塑性樹脂を用いることにより、絶縁体層4a、4bどうしが強固に接着して一体化し、曲げ力が加わった場合の層間剥離がより効果的に抑制される。特に、複数の絶縁体層4a、4bが、接着層等の異なる種類の樹脂層を介在させることなく直接積層されているので、異なる絶縁体層間の界面が形成されず、層間剥離がより抑制される。
 工程2において、貫通穴に充填されていた導電性ペースト6b’も加熱されて硬化し、ビア導体6bとなる。このとき、上側の電極6a(銅箔)及び下側の電極6c(銅箔)と接合されて一体化され、層間接続導体6が形成される。
[工程3]
 次に、層間接続導体6に対して対称な位置に、レーザ加工等により、切り欠き部8a及び8bを形成する。レーザ加工の場合、基本的に手前側が広く、奥側がやや狭まった形状となる。
[工程4]
 以上のようにして形成された、層間接続導体6及び切り欠き部8a、8bが設けられた可撓性基材4を加熱して、曲げ加工を行う。このとき用いるプレス型の曲率半径により、可撓性基材4の曲率半径を領域により異ならせることができる。以上のようにして、図1に示すような多層基板2を製造することができる。
 このようにして製造した多層基板2の寸法の一例として、絶縁体層4a、4bの厚みが30~80μm、層間接続導体6の電極6aの外径が200~400μm、ビア導体6bの外形が120~240μm、切り欠き部8a、8bの幅寸法(X軸方向の寸法)が30~80μmである場合を挙げることができる。
<第2の実施形態>
 図4は、本発明の第2の実施形態に係る多層基板2を模式的に示す断面図及び平面図である。
 本実施形態では、切り欠き部8a、8bのZ軸方向(積層方向)の底面Sが、絶縁体層4a及び4bの層界面と一致しないようになっている。絶縁体層4a及び4bの層界面は応力が集中しやすく、曲げ力が加わったとき、そこから剥離し易くなる。しかし、本実施形態のように、切り欠き部8a、8bの底面Sが、絶縁体層4a及び4bの層界面と一致していないようにすることにより、曲げ力が加わったときに、切り欠き部8a、8bに起因した剥離が生じにくくすることができる。
 図4(a)の断面図では、切り欠き部8a、8bの底面Sが、上側の絶縁体層4aの底部まで達していない場合を示す。つまり、層界面との間に絶縁体層4aが残存しており、切り欠き部8a、8bは層界面を跨がっていない。このように切り欠き部8a、8bを配置することにより、曲げ力が加わったときに、切り欠き部8a、8bに起因した層界面の剥離を効果的に抑制できる。
 なお、図4(a)の場合には、層界面との間に絶縁体層4aが残存しているので、図4(b)の平面図に示すように、切り欠き部8a、8bを可撓性基材4のY軸方向(第2の方向)の端部まで設けることもできる。
 図4(c)の断面図では、切り欠き部8a、8bの底面Sが、絶縁体層4aを超えて、絶縁体層4bの底部の少し手前まで達している。このように切り欠き部8a、8bを配置する場合も、切り欠き部8a、8bの底面Sが層界面と一致していないので、曲げ応力が加わったときに、切り欠き部8a、8bに起因した層界面の剥離を抑制できる。
 以上のように、本発明の第2の実施形態に係る多層基板2では、切り欠き部の対8abを構成する各々の切り欠き部8a及び8bのZ軸方向(積層方向)の底面Sが、絶縁体層4a、4bの層界面と一致していないので、曲げ力が加わったときに、切り欠き部8a、8bに起因した層界面での剥離を生じにくくすることができ、延いては、層間接続導体6の接続信頼性を更に高めることができる。
<第3の実施形態>
 図5は、本発明の第3の実施形態に係る多層基板を模式的に示す断面図である。
 本実施形態では、可撓性基材4の第1の主面12側と第2の主面14側に、切り欠き部の対8ab(切り欠き部8a、8b)及び切り欠き部の対8cd(切り欠き部8c、8d)が設けられている。
 このように、可撓性基材4の上下両面側に切り欠き部の対8ab、8cdを設けることにより、可撓性基材4に曲げ力が加わったときに、層間接続導体6及び周囲領域に集中する曲げ応力を効果的に分散することができる。
 なお、図5では、可撓性基材4が2つの絶縁体層4a及び4bを備える場合を示しているが、これに限られるものではなく、可撓性基材4が3以上の複数の絶縁体層を備える場合であっても、上下端の第1の主面側及び第2の主面側に切り欠き部の対を設けることにより、上記と同様な効果を得ることができる。
<第4の実施形態>
 図6は、本発明の第4の実施形態に係る多層基板を模式的に示す平面図である。
 本実施形態では、切り欠き部の対8abを構成する各々の切り欠き部8a、8bが、Y軸方向(第2の方向)に並んだ複数の切り欠き部要素(8a1~8a3、8b1~8b3)から構成されている。
 切り欠き部8aは、Y軸方向(第2の方向)に並んだ、略正方形の平面形状の3つの切り欠き部要素8a1、8a2、8a3で構成されている。つまり、切り欠き部8aのY軸方向(第2の方向)における端部は、複数の切り欠き部要素8a1~8a3の一番外側の要素8a1及び8a3の外端部が相当する。よって、切り欠き部8aのY軸方向(第2の方向)における長さW2は、一番外側の切り欠き部要素8a1及び8a3の外端部の間の距離で示される。
 同様に、切り欠き部8bも、Y軸方向(第2の方向)に並んだ、略正方形の平面形状の
3つの切り欠き部要素8b1、8b2、8b3で構成されている。つまり、切り欠き部8bのY軸方向(第2の方向)における端部は、複数の切り欠き部要素8b1~8b3の一番外側の切り欠き部要素8b1、8b3の外端部が相当する。よって、切り欠き部8bのY軸方向(第2の方向)における長さW3は、一番外側の切り欠き部要素8b1、8b3の外端部の間の距離で示される。
 切り欠き部要素を用いると、強度計算を考慮した切り欠き部の位置の設計が容易に行え、切り欠き部の加工も比較的容易である。よって、可撓性と機械的強度を両立させた多層基板2を実現することができる。更に切り欠き部要素を、ビア導体用の穴部と同形に形成するようにすれば、設計や加工をより効率的に行うことができる。
 なお、図6では、切り欠き部が、3つの切り欠き部要素で構成されているが、これに限られるものではなく、切り欠き部を、任意の数の切り欠き部要素で構成することができる。図6では、切り欠き部が略正方形の平面形状を有しているが、これに限られるものではなく、円形をはじめとするその他の任意の平面形状を有することができる。
<第5の実施形態>
 図7は、本発明の第5の実施形態に係る多層基板を模式的に示す断面図である。
 本実施形態では、層間接続導体6の位置からX軸方向(第1の方向)における距離が異なる位置に、複数の切り欠き部の対8ab、10abが設けられている。図7(a)では、絶縁体層4aに複数の切り欠き部の対8ab、10abが設けられた場合を示し、図7(b)では、絶縁体層4a及び4bの両方に複数の切り欠き部の対8ab、10ab及び8cd、10cdが設けられた場合を示す。
 図7(a)を用いて説明すると、層間接続導体6の位置を基準に、X軸方向(第1の方向)における対称位置に2組の切り欠き部の対8ab、10abを有する。更に詳細に述べれば、ビア導体6bの中心を通る対称線SLからL1の距離に切り欠き部8a及び8bが対称に配置され、対称線SLからL2の距離に切り欠き部10a及び10bが対称に配置されている。
 図7(b)の場合も、絶縁体層4a及び4bの両方に2組の切り欠き部の対を有する点で異なるだけであり、基本的に図7(a)の場合と同様である。ただし、対称線SLからの距離を、絶縁体層4a及び4bで異ならせる態様も可能である。
 以上のように、本実施形態では、層間接続導体6の位置からX軸方向(第1の方向)における距離が異なる位置に、複数の切り欠き部の対8ab、10abが設けられているので、可撓性基材4に曲げ力が加わったときに、層間接続導体6及び周囲領域に集中する曲げ応力を効果的に分散することができる。
<第6の実施形態>
 図8は、本発明の第6の実施形態に係る多層基板を模式的に示す断面図である。(a)は平面図であり、(b)は、(a)のH-H切断線における断面図である。
 本実施形態では、層間接続導体6が、Y軸方向(第2の方向)に沿ってずらして配置された層間接続導体要素(つまりビア導体)6bと、その間を繋ぐ平面導体要素6dと、を有する。
 Y軸方向(第2の方向)に直接、曲げ力が加わらない場合であっても、X軸方向(第1の方向)に曲げ力が加わった場合、可撓性基材4が捻れるような力が加わる可能性がある。可撓性基材4が捻れる場合には、X軸方向(第1の方向)だけでなく、Y軸方向(第2の方向)にも曲げ力が加わる。
 本実施形態では、上記のような層間接続導体6の構造により、可撓性基材4にかかるY軸方向(第2の方向)の曲げ応力を緩和できる。
 よって、切り欠き部の対8abによるX軸方向(第1の方向)の曲げ応力の緩和機能だけでなく、層間接続導体6自身によるY軸方向(第2の方向)の曲げ応力の緩和機能を有するので、可撓性基材4が捻れた場合であっても、層間接続導体6及び周囲領域にかかる曲げ応力の緩和が実現できる。
<第7の実施形態>
 図9は、本発明の第7の実施形態に係る多層基板を模式的に示す平面図及び断面図である。(a)は平面図、(b)は、(a)のG’’-G’’切断線における断面図、(c)は、(a)のH’-H’切断線における断面図である。
 本実施形態では、層間接続導体6の位置を基準に、可撓性基材4のY軸方向(第2の方向)における対称位置に、X軸方向(第1の方向)に伸びた切り欠き部の対18abが更に設けられている。つまり、X軸方向(第1の方向)における対称位置に設けられた切り欠き部の対8abに加えて、Y軸方向(第2の方向)における対称位置に設けられた切り欠き部の対18abを有する。
 図9(a)、(b)に示すX軸方向(第1の方向)に対称の切り欠き部の対8abについては、上記と同様なので、更なる説明は省略する。
 図9(a)、(c)に示すY軸方向(第2の方向)に対称の切り欠き部の対18abについて説明すると下記のようになる。
 層間接続導体6のX軸方向(第2方向)における長さM1は、切り欠き部18aの長さM2より小さく、かつ切り欠き部18bの長さM3よりも小さい。Z軸方向(積層方向)からの平面視において、切り欠き部の対18abを構成する切り欠き部18a及び18bと、切り欠き部18aのX軸方向(第1の方向)における端部A4、B4及び切り欠き部18bのX軸方向(第1の方向)における端部A5、B5をそれぞれ結んだ線とで囲まれた領域内に、層間接続導体6が配置されている。
 このような構成により、仮に、Y軸方向(第2の方向)に曲げ力が加わった場合であっても、可撓性基材4にかかるY軸方向(第2の方向)の曲げ応力を緩和できる。
 よって、切り欠き部の対8abによるX軸方向(第1の方向)の曲げ応力の緩和機能だけでなく、切り欠き部の対18abによるY軸方向(第2の方向)の曲げ応力の緩和機能を有するので、可撓性基材4が捻れた場合であっても、層間接続導体6及び周囲領域にかかる曲げ応力の緩和が実現できる。更に、可撓性基材4が捻れる場合だけでなく、X軸方向(第1の方向)及びY軸方向(第2の方向)の両方向に曲げ力が加わった場合であっても、十分な曲げ応力の緩和機能を有する。
 なお、図9(c)では、可撓性基材4は、Y軸方向(第2の方向)に沿って湾曲していないように示されているが、用途によっては、X軸方向(第1の方向)だけでなく、Y軸方向(第2の方向)にも沿って湾曲している可撓性基材4を用いることもできる。
<第8の実施形態>
 図10は、本発明の第8の実施形態に係る多層基板を模式的に示す断面図である。
 本実施形態では、切り欠き部の対8abを構成する各々の切り欠き部8a、8bに、絶縁体層4a、4bの弾性率よりも低い弾性率を有する部材20が配置されている。
 部材20としては、シリコン樹脂やエラストマを例示することができるが、絶縁体層側の弾性率に応じて、その他の任意の材料を採用することができる。例えば、切り欠き部8a、8bの中に所定の樹脂材料、ゴム材料を充填して、固化することにより、部材20を形成できる。
 本実施形態のように、切り欠き部8a、8bに、絶縁体層4a、4bより弾性率の低い部材20を配置することにより、応力がかかったときの切り欠き部8a、8bの破損を抑制することができる。
 なお、上述の実施形態の説明は、すべての点で例示であって、制限的なものではない。
 当業者にとって変形および変更が適宜可能である。本発明の範囲は、上述の実施形態ではなく、特許請求の範囲によって示される。さらに、本発明の範囲には、特許請求の範囲内と均等の範囲内での実施形態からの変更が含まれる。
2       多層基板
4       可撓性基材
4a、4b   絶縁体層
6       層間接続導体
6a、c    電極
6b      ビア導体(層間接続導体要素)
6d      平面導体要素
8a~d    切り欠き部
8ab、cd  切り欠き部の対
8a1~8a3、8b1~8b3 切り欠き部要素
10a~d   切り欠き部
10ab~cd 切り欠き部の対
12      第1の主面
14      第2の主面

Claims (8)

  1.  複数の絶縁体層が積層されて構成され、積層方向と直交する平面上の第1の方向に沿って湾曲した可撓性基材と、
     前記可撓性基材に設けられた層間接続導体と、
     前記層間接続導体の位置を基準に、前記可撓性基材の前記第1の方向における対称位置に設けられ、前記平面上の前記第1の方向と直交する第2の方向に伸びた切り欠き部の対と、
    を備え、
     積層方向からの平面視において、前記切り欠き部の対を構成する各々の切り欠き部と、
     該各々の切り欠き部の前記第2の方向における端部どうしを結んだ線とで囲まれた領域内に、前記層間接続導体が配置され、
     前記可撓性基材において、前記切り欠き部の対の間の領域の前記第1の方向における曲率半径が、前記切り欠き部の対より外側の領域の曲率半径よりも大きいことを特徴とする多層基板。
  2.  前記切り欠き部の対を構成する各々の切り欠き部の積層方向の底面が、前記絶縁体層の層界面と一致していないことを特徴とする請求項1に記載の多層基板。
  3.  前記可撓性基材の第1の主面側と第2の主面側に前記切り欠き部の対が設けられていることを特徴とする請求項1または2に記載の多層基板。
  4.  前記切り欠き部の対を構成する各々の切り欠き部が、前記第2の方向に並んだ複数の切り欠き部要素から構成されることを特徴とする請求項1から3の何れか1項に記載の多層基板。
  5.  前記層間接続導体の位置から前記第1の方向における距離が異なる位置に、複数の前記切り欠き部の対が設けられていることを特徴とする請求項1から4の何れか1項に記載の多層基板。
  6.  前記層間接続導体が、前記第2の方向に沿ってずらして配置された層間接続導体要素と、その間を繋ぐ平面導体要素とを含むことを特徴とする請求項1から5の何れか1項に記載の多層基板。
  7.  前記層間接続導体の位置を基準に、前記可撓性基材の前記第2の方向における対称位置に、前記第1の方向に伸びた切り欠き部の対が更に設けられていることを特徴とする請求項1から6の何れか1項に記載の多層基板。
  8.  前記切り欠き部の対を構成する各々の切り欠き部に、前記絶縁体層の弾性率よりも低い弾性率を有する部材が配置されていることを特徴とする請求項1から7の何れか1項に記載の多層基板。
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