WO2018079743A1 - パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 - Google Patents
パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2018079743A1 WO2018079743A1 PCT/JP2017/038990 JP2017038990W WO2018079743A1 WO 2018079743 A1 WO2018079743 A1 WO 2018079743A1 JP 2017038990 W JP2017038990 W JP 2017038990W WO 2018079743 A1 WO2018079743 A1 WO 2018079743A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- group
- integer
- independently
- occurrence
- surface treatment
- Prior art date
Links
- -1 silane compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 182
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 67
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 title claims abstract description 32
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 42
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 41
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 28
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 22
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 19
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 61
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 claims description 51
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 28
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 19
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000003921 oil Substances 0.000 claims description 16
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 16
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 claims description 16
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 13
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 11
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 9
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 claims description 8
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 7
- 239000008188 pellet Substances 0.000 claims description 4
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 77
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 65
- 239000002335 surface treatment layer Substances 0.000 description 57
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 54
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 50
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 46
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 36
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 30
- 239000000463 material Substances 0.000 description 27
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 27
- 239000010408 film Substances 0.000 description 25
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 24
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- 239000002585 base Substances 0.000 description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 16
- 229960004624 perflexane Drugs 0.000 description 16
- ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N perfluorohexane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N (trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1 GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 description 15
- PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N trimethyl orthoformate Chemical compound COC(OC)OC PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 11
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 11
- BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 9
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 8
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 8
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 7
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 7
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 7
- SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 6
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 6
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 6
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 5
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 5
- XXZOEDQFGXTEAD-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1C(F)(F)F XXZOEDQFGXTEAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 4
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 4
- 210000004243 sweat Anatomy 0.000 description 4
- 125000000882 C2-C6 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003601 C2-C6 alkynyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 239000005345 chemically strengthened glass Substances 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 3
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 3
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 3
- 125000006273 (C1-C3) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- IDBYQQQHBYGLEQ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4-heptafluorocyclopentane Chemical compound FC1CC(F)(F)C(F)(F)C1(F)F IDBYQQQHBYGLEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BJDGSGIFQVXSGD-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-1,3,3,3-tetrafluoroprop-1-ene Chemical compound FC(Cl)=C(Cl)C(F)(F)F BJDGSGIFQVXSGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N N-methylformamide Chemical compound CNC=O ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000005358 alkali aluminosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 2
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 2
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical group FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 2
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical class OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N hexafluorobenzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- IJMWREDHKRHWQI-UHFFFAOYSA-M magnesium;ethene;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[CH-]=C IJMWREDHKRHWQI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CYSFUFRXDOAOMP-UHFFFAOYSA-M magnesium;prop-1-ene;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[CH2-]C=C CYSFUFRXDOAOMP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- ISXOBTBCNRIIQO-UHFFFAOYSA-N tetrahydrothiophene 1-oxide Chemical compound O=S1CCCC1 ISXOBTBCNRIIQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QZNNVYOVQUKYSC-JEDNCBNOSA-N (2s)-2-amino-3-(1h-imidazol-5-yl)propanoic acid;hydron;chloride Chemical compound Cl.OC(=O)[C@@H](N)CC1=CN=CN1 QZNNVYOVQUKYSC-JEDNCBNOSA-N 0.000 description 1
- 125000006376 (C3-C10) cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- NLOLSXYRJFEOTA-OWOJBTEDSA-N (e)-1,1,1,4,4,4-hexafluorobut-2-ene Chemical compound FC(F)(F)\C=C\C(F)(F)F NLOLSXYRJFEOTA-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- JXTGICXCHWMCPM-UHFFFAOYSA-N (methylsulfinyl)benzene Chemical compound CS(=O)C1=CC=CC=C1 JXTGICXCHWMCPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZHJBJVPTRJNNIK-UPHRSURJSA-N (z)-1,2-dichloro-3,3,3-trifluoroprop-1-ene Chemical compound FC(F)(F)C(\Cl)=C\Cl ZHJBJVPTRJNNIK-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- BRWBDEIUJSDQGV-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-tridecafluoro-6-methoxyhexane Chemical compound COC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F BRWBDEIUJSDQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKRWRXWNQFQGRU-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-tridecafluorooctane Chemical compound CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F SKRWRXWNQFQGRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSOCRXJMFBYSFA-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,6,6,6-tridecafluoro-5-(1,1,1,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6-tridecafluorohexan-2-yloxy)hexane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(C(F)(F)F)OC(F)(C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F KSOCRXJMFBYSFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGISRKZDCUNMRX-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoro-4-(trifluoromethoxy)butane Chemical compound FC(F)(F)OC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F PGISRKZDCUNMRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOPJRYAFUXTDLX-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3-heptafluoro-3-methoxypropane Chemical compound COC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F NOPJRYAFUXTDLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-ol Chemical compound FC(F)(F)C(O)C(F)(F)F BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZLFPVPRZGTCKP-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3-pentafluorobutane Chemical compound CC(F)(F)CC(F)(F)F WZLFPVPRZGTCKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIROQPWSJUXOJC-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6-undecafluoro-6-(trifluoromethyl)cyclohexane Chemical compound FC(F)(F)C1(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C1(F)F QIROQPWSJUXOJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COWKRCCNQSQUGJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3-pentafluoropropan-1-ol Chemical compound OC(F)(F)C(F)(F)CF COWKRCCNQSQUGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSSVZVNYQIGOJR-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trichloro-3,3,3-trifluoroprop-1-ene Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)=C(Cl)Cl QSSVZVNYQIGOJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGYLHZMNVGBXDQ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-2,3,3,3-tetrafluoroprop-1-ene Chemical compound ClC(Cl)=C(F)C(F)(F)F QGYLHZMNVGBXDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFUYAWQUODQGFF-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane Chemical compound CCOC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F DFUYAWQUODQGFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHMHBGPWCHTMQE-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloro-1,1,1-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)Cl OHMHBGPWCHTMQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFMZSQGESVNRLL-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9-pentadecafluorononan-2-one Chemical compound CC(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F LFMZSQGESVNRLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001313 C5-C10 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JJHHIJFTHRNPIK-UHFFFAOYSA-N Diphenyl sulfoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)C1=CC=CC=C1 JJHHIJFTHRNPIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 241000282575 Gorilla Species 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000282376 Panthera tigris Species 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M Trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N Trifluoroethanol Chemical compound OCC(F)(F)F RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAPKBKUUBUQRGU-UHFFFAOYSA-M [Br-].CCCCC=C[Mg+] Chemical compound [Br-].CCCCC=C[Mg+] GAPKBKUUBUQRGU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 125000005708 carbonyloxy group Chemical group [*:2]OC([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002144 chemical decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000002783 friction material Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- 239000010985 leather Substances 0.000 description 1
- DQEUYIQDSMINEY-UHFFFAOYSA-M magnesium;prop-1-ene;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].[CH2-]C=C DQEUYIQDSMINEY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000012567 medical material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- XZWYZXLIPXDOLR-UHFFFAOYSA-N metformin Chemical compound CN(C)C(=N)NC(N)=N XZWYZXLIPXDOLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIRDBPQYVWXNSJ-UHFFFAOYSA-N methyl trifluoromethansulfonate Chemical compound COS(=O)(=O)C(F)(F)F OIRDBPQYVWXNSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylacetamide Chemical compound CCN(CC)C(C)=O AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000006551 perfluoro alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- LOQGSOTUHASIHI-UHFFFAOYSA-N perfluoro-1,3-dimethylcyclohexane Chemical compound FC(F)(F)C1(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(C(F)(F)F)C1(F)F LOQGSOTUHASIHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003012 phosphoric acid amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003216 poly(methylphenylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000035807 sensation Effects 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/002—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds
- C08G65/005—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens
- C08G65/007—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens containing fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
- C08G65/321—Polymers modified by chemical after-treatment with inorganic compounds
- C08G65/323—Polymers modified by chemical after-treatment with inorganic compounds containing halogens
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
- C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
- C08G65/336—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/14—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/22—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
- C08G77/24—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen halogen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
- C08G77/46—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing polyether sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/10—Block- or graft-copolymers containing polysiloxane sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D171/00—Coating compositions based on polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Coating compositions based on derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D171/00—Coating compositions based on polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D171/02—Polyalkylene oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
- C09D183/08—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen, and oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/10—Block or graft copolymers containing polysiloxane sequences
- C09D183/12—Block or graft copolymers containing polysiloxane sequences containing polyether sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
- C09D5/1606—Antifouling paints; Underwater paints characterised by the anti-fouling agent
- C09D5/1637—Macromolecular compounds
- C09D5/165—Macromolecular compounds containing hydrolysable groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
- C09D5/1687—Use of special additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/20—Diluents or solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/18—Materials not provided for elsewhere for application to surfaces to minimize adherence of ice, mist or water thereto; Thawing or antifreeze materials for application to surfaces
Definitions
- the present invention relates to a perfluoro (poly) ether group-containing silane compound.
- the present invention also relates to a surface treatment agent containing such a perfluoro (poly) ether group-containing silane compound.
- fluorine-containing compounds can provide excellent water repellency, oil repellency, antifouling properties and the like when used for surface treatment of a substrate.
- a fluorine-containing silane compound a perfluoropolyether group-containing silane compound having a perfluoropolyether group in the molecular main chain and a hydrolyzable group bonded to a Si atom at the molecular terminal or terminal part is known. It has been.
- Patent Document 1 describes a perfluoropolyether group-containing silane compound having a hydrolyzable group bonded to a Si atom at the molecular terminal or terminal part.
- a layer (hereinafter also referred to as “surface treatment layer”) obtained from a surface treatment agent containing a fluorine-containing silane compound as described above is applied to glass or the like as a so-called functional thin film.
- the surface treatment layer can exhibit the above-described functions even in a thin film, it is applied to optical members such as glasses, touch panels, and operation screens of portable terminals that require light transmission or transparency.
- the surface treatment layer as described above may further be required to have durability (UV resistance) against ultraviolet rays (UV).
- UV resistance ultraviolet rays
- the surface treatment layer formed using the above-mentioned perfluoropolyether group-containing silane compound may not obtain sufficient UV resistance. .
- Formula (A1) or Formula (A2) [Where: PFPE has the formula: - (OC 6 F 12) a - (OC 5 F 10) b - (OC 4 F 8) c - (OC 3 F 6) d - (OC 2 F 4) e - (OCF 2) f - (A, b, c, d, e and f are each independently an integer of 0 or more and 200 or less, and the sum of a, b, c, d, e and f is at least 1, and a, b
- the order of presence of each repeating unit with parentheses attached with, c, d, e or f is arbitrary in the formula.
- X independently represents a substituted or unsubstituted alkylene group having 2 to 20 carbon
- a surface treatment agent containing at least one perfluoro (poly) ether group-containing silane compound represented by the above formula (A1) and / or the formula (A2). Provided.
- a pellet containing the surface treatment agent is provided.
- an article comprising a base material and a layer formed on the surface of the base material from the above compound or surface treatment agent.
- a perfluoro (poly) ether group-containing silane compound suitable for forming a surface treatment layer having good UV resistance.
- the surface treating agent containing such a compound can be provided.
- an article having such a compound surface treatment agent can be provided.
- divalent organic group means a divalent group containing carbon. Such a divalent organic group is not particularly limited, and examples thereof include a divalent group obtained by further removing one hydrogen atom from a hydrocarbon group.
- hydrocarbon group means a group containing carbon and hydrogen, and a group in which one hydrogen atom has been eliminated from a hydrocarbon.
- Such hydrocarbon group is not particularly limited, but may be a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted by one or more substituents, such as an aliphatic hydrocarbon group, An aromatic hydrocarbon group etc. are mentioned.
- the “aliphatic hydrocarbon group” may be linear, branched or cyclic, and may be either saturated or unsaturated.
- the hydrocarbon group may also contain one or more ring structures.
- Such a hydrocarbon group may have one or more N, O, S, Si, amide, sulfonyl, siloxane, carbonyl, carbonyloxy and the like at its terminal or molecular chain.
- the substituent of the “hydrocarbon group” is not particularly limited, but includes, for example, a halogen atom; C 1-6 alkyl optionally substituted by one or more halogen atoms Group, C 2-6 alkenyl group, C 2-6 alkynyl group, C 3-10 cycloalkyl group, C 3-10 unsaturated cycloalkyl group, 5-10 membered heterocyclyl group, 5-10 membered unsaturated heterocyclyl And one or more groups selected from a group, a C 6-10 aryl group and a 5-10 membered heteroaryl group.
- the present invention provides a perfluoro (poly) ether group (hereinafter also referred to as “PFPE”)-containing silane compound represented by the formula (A1) or (A2) (hereinafter referred to as “PFPE-containing silane compound of the present invention”). ”).
- PFPE perfluoro (poly) ether group
- Rf independently represents an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which may be substituted with one or more fluorine atoms at each occurrence.
- alkyl group having 1 to 16 carbon atoms in the alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which may be substituted with one or more fluorine atoms may be linear or branched. Preferably, it is a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, particularly 1 to 3 carbon atoms, and more preferably a linear alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
- Rf is preferably an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which is substituted with one or more fluorine atoms, more preferably a CF 2 H—C 1-15 perfluoroalkylene group or a C 1 ⁇ It is a 16 perfluoroalkyl group, and more preferably a C 1-16 perfluoroalkyl group.
- the perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms may be linear or branched, and preferably has 1 to 6 carbon atoms, particularly 1 to 6 carbon atoms. 3 perfluoroalkyl group, more preferably a linear perfluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, specifically —CF 3 , —CF 2 CF 3 , or —CF 2 CF 2 CF 3 . .
- PFPE is independently at each occurrence, - (OC 6 F 12) a - (OC 5 F 10) b - (OC 4 F 8) c - (OC 3 F 6) d - (OC 2 F 4) e - (OCF 2) f - It is group represented by these.
- a, b, c, d, e and f are each independently an integer of 0 to 200, and the sum of a, b, c, d, e and f is at least 1.
- a, b, c, d, e and f are each independently an integer of 0 or more and 100 or less.
- the sum of a, b, c, d, e and f is 5 or more, more preferably 10 or more.
- the sum of a, b, c, d, e, and f is 200 or less, more preferably 100 or less, for example, 10 or more and 200 or less, and more specifically 10 or more and 100 or less.
- the order of presence of each repeating unit in parentheses with a, b, c, d, e or f is arbitrary in the formula.
- repeating units may be linear or branched, but are preferably linear.
- -(OC 6 F 12 )- is-(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-,-(OCF (CF 3 ) CF 2 CF 2 CF 2 )-,-(OCF 2 CF (CF 3 ) CF 2 CF 2 CF 2 ) —, — (OCF 2 CF 2 CF (CF 3 ) CF 2 CF 2 ) —, — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF (CF 3 ) CF 2 ) — — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF (CF 3 )) — or the like may be used, but — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) — is preferred.
- -(OC 3 F 6 )- is any of-(OCF 2 CF 2 CF 2 )-,-(OCF (CF 3 ) CF 2 )-and-(OCF 2 CF (CF 3 ))- Preferably, it is — (OCF 2 CF 2 CF 2 ) —.
- — (OC 2 F 4 ) — may be any of — (OCF 2 CF 2 ) — and — (OCF (CF 3 )) —, preferably — (OCF 2 CF 2 ) —. is there.
- the PFPE is — (OC 3 F 6 ) d — (wherein d is an integer of 1 to 200, preferably 5 to 200, more preferably 10 to 200).
- PFPE is — (OCF 2 CF 2 CF 2 ) d — (wherein d is an integer of 1 to 200, preferably 5 to 200, more preferably 10 to 200) or — ( OCF (CF 3 ) CF 2 ) d — (wherein d is an integer of 1 to 200, preferably 5 to 200, more preferably 10 to 200).
- PFPE is — (OCF 2 CF 2 CF 2 ) d — (wherein d is an integer of 1 to 200, preferably 5 to 200, more preferably 10 to 200).
- the PFPE has a — (OC 4 F 8 ) c — (OC 3 F 6 ) d — (OC 2 F 4 ) e — (OCF 2 ) f — (wherein c and d are each independently And e and f are each independently an integer of 1 to 200, preferably 5 to 200, more preferably 10 to 200, c, d, e and The sum of f is at least 5 or more, preferably 10 or more, more preferably an integer of 10 or more and 200 or less, and the presence of each repeating unit enclosed in parentheses with the suffix c, d, e or f The order is arbitrary in the formula).
- the PFPE is — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) c — (OCF 2 CF 2 CF 2 ) d — (OCF 2 CF 2 ) e — (OCF 2 ) f —.
- PFPE is — (OC 2 F 4 ) e — (OCF 2 ) f — (wherein e and f are each independently 1 or more and 200 or less, preferably 5 or more and 200 or less, more preferably Is an integer of 10 or more and 200 or less, and the order of presence of each repeating unit in parentheses with the suffix e or f is optional in the formula).
- PFPE is a group represented by-(R 6 -R 7 ) j- .
- R 6 is OCF 2 or OC 2 F 4 , preferably OC 2 F 4 .
- R 7 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 , or is independently selected from these groups Is a combination of 2 or 3 groups.
- R 7 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 or from OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12.
- the combination of 2 or 3 groups independently selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 is not particularly limited.
- J is 2 or more, preferably 3 or more, more preferably 5 or more, and an integer of 100 or less, preferably 50 or less.
- j is an integer of 2 to 100, specifically an integer of 2 to 50.
- OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 may be either linear or branched, preferably linear.
- the PFPE is preferably — (OC 2 F 4 —OC 3 F 6 ) j — or — (OC 2 F 4 —OC 4 F 8 ) j —.
- the ratio of e to f is 0.1 or more and 10 or less, preferably 0.2 or more and 5.0 or less, more preferably 0.2 or more. 2.0 or less, more preferably 0.2 or more and 1.5 or less, and particularly preferably 0.2 or more and 0.85 or less.
- e / f ratio the slip property, friction durability and chemical resistance (for example, durability against artificial sweat) of the surface treatment layer obtained from this compound are further improved.
- the smaller the e / f ratio the more improved the slipperiness and friction durability of the surface treatment layer.
- the e / f ratio is 0.1 or more, the stability of the compound can be further increased. The greater the e / f ratio, the better the compound stability.
- X represents a substituted or unsubstituted alkylene group having 2 to 20 carbon atoms.
- An alkylene group is a group having a — (C ⁇ H 2 ⁇ ) — structure.
- ⁇ is an integer of 2 to 20.
- the alkylene group may be linear or branched, and is preferably linear.
- the number of carbon atoms is preferably 2 to 10, and more preferably 2 to 5.
- the alkylene group may be substituted with a substituent such as a halogen atom.
- the alkylene group is preferably unsubstituted.
- alkylene group examples include unsubstituted alkylene groups having 2 to 10 carbon atoms (preferably 2 to 5 carbon atoms), and particularly 2 to 10 carbon atoms (preferably 2 to 5 carbon atoms).
- X represents a perfluoropolyether part (Rf-PFPE part or -PFPE-part) that mainly provides water repellency and surface slipperiness in the compounds represented by formulas (A1) and (A2), hydrolysis, is understood as linker connecting silane unit for providing the binding ability between the substrate and (-SiR a k R b l R c m unit) is.
- the binding energy in the linker portion becomes larger than that in the case where the linker portion has an ether bond or an amide bond, and as a result, the UV resistance of the formed surface treatment layer is improved. Presumed to get.
- the PFPE-containing silane compound of the present invention can contribute to the formation of a surface treatment layer having good UV resistance even when UV is repeatedly irradiated.
- the UV resistance can be evaluated, for example, by measuring a change in physical properties (for example, contact angle) before and after UV irradiation of the surface treatment layer to be formed, as will be described later.
- the PFPE-containing silane compound of the present invention has chemical durability by having X as described above (for example, in an acid and / or alkaline environment, more specifically in an environment where sweat can adhere). Can also contribute to the formation of a surface treatment layer.
- the PFPE-containing silane compound of the present invention can contribute to the formation of a surface-treated layer with good friction durability by having X as described above, and is particularly susceptible to exposure to acid and / or alkali environments. Can also contribute to the formation of a surface-treated layer with improved friction resistance.
- R a independently represents —Z—SiR 1 p R 2 q R 3 r at each occurrence.
- Z represents an oxygen atom or a divalent organic group independently at each occurrence.
- Z is preferably a divalent organic group, and forms a siloxane bond with the Si atom (Si atom to which R a is bonded) at the end of the molecular main chain in formula (A1) or formula (A2). Does not include things.
- Z is preferably an alkylene group, — (CH 2 ) g —O— (CH 2 ) h — (wherein g is an integer of 1 to 6, and h is an integer of 1 to 6). ) Or -phenylene- (CH 2 ) i — (wherein i is an integer of 0 to 6). These groups may be substituted with, for example, one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, and a C 2-6 alkynyl group. . From the viewpoint of particularly good UV resistance, Z is more preferably a linear or branched alkylene group, and even more preferably a linear alkylene group. The number of carbon atoms constituting the alkylene group of Z is preferably in the range of 1 to 8, more preferably in the range of 1 to 6, and still more preferably in the range of 1 to 3.
- the alkylene group is as described above.
- Z is preferably an alkylene group, — (CH 2 ) g —O— (CH 2 ) h — (wherein g is an integer of 1 to 6, and h is an integer of 1 to 6). ) Or -phenylene- (CH 2 ) i — (wherein i is an integer of 0 to 6). These groups may be substituted with, for example, one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, and a C 2-6 alkynyl group. . From the viewpoint of particularly good UV resistance, Z is more preferably a linear or branched alkylene group, and even more preferably a linear alkylene group. The number of carbon atoms constituting the alkylene group of Z is preferably in the range of 1 to 6, more preferably in the range of 1 to 3.
- the alkylene group is as described above.
- R 1 represents R a ′ independently at each occurrence.
- R a ′ has the same meaning as R a .
- Si is connected to the linear through the Z group is a five at the maximum. That is, in the above R a , when at least one R 1 is present, there are two or more Si atoms linearly linked through the Z group in the R a. The maximum number of Si atoms connected in a chain is five.
- the "number of Si atoms linearly linked via a Z group in R a" is equal to -Z-Si- repeating number of which is connected to a linear during R a.
- * means a site bonded to Si of the main chain, and ... means that a predetermined group other than ZSi is bonded, that is, all three bonds of Si atoms are ... In this case, it means the end point of ZSi repetition.
- the number on the right shoulder of Si means the number of appearances of Si connected in a straight line through the Z group counted from *. That is, the chain in which ZSi repeat is completed in Si 2 has “the number of Si atoms linearly linked through the Z group in Ra ”, and similarly, Si 3 , Si 4 And the chain in which the ZSi repetition is completed in Si 5 has “number of Si atoms linearly linked through the Z group in R a ” being 3, 4 and 5, respectively.
- R a but ZSi chain there are multiple, they need not be all the same length, each may be of any length.
- the number of Si atoms connected linearly via the Z group in R a is 1 (left formula) or 2 (right) in all chains. Formula).
- the number of Si atoms connected in a straight chain via a Z group in R a is 1 or 2, preferably 1.
- each R 2 independently represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group at each occurrence.
- hydrolyzable group as used herein means a group capable of leaving from the main skeleton of a compound by a hydrolysis reaction.
- hydrolyzable group examples include —OR, —OCOR, —O—N ⁇ CR 2 , —NR 2 , —NHR, halogen (in these formulas, R is a substituted or unsubstituted carbon atom having 1 to 4 carbon atoms). And the like, and —OR (that is, an alkoxy group) is preferable.
- R examples include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group and isobutyl group; substituted alkyl groups such as chloromethyl group.
- an alkyl group, particularly an unsubstituted alkyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable.
- the hydroxyl group is not particularly limited, but may be a group produced by hydrolysis of a hydrolyzable group.
- R 2 is —OR (wherein R represents a substituted or unsubstituted C 1-3 alkyl group, more preferably a methyl group).
- each R 3 independently represents a hydrogen atom or a lower alkyl group at each occurrence.
- the lower alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably a methyl group.
- '(if R a' is absent, R a) terminal of R a in R a in the above q is preferably 2 or more, for example 2 or 3, more preferably 3.
- R a has at least one —Si (—Z—SiR 2 q R 3 r ) 2 or —Si (—Z—SiR 2 q R 3 r ) 3 , preferably —Si at the terminal end. may have a (-Z-SiR 2 q R 3 r) 3. Wherein, (- Z-SiR 2 q R 3 r) units is preferably (-Z-SiR 2 3). In a further preferred embodiment, the terminal portion of R a may be all —Si (—Z—SiR 2 qR 3 r ) 3 , preferably —Si (—Z—SiR 2 3 ) 3 .
- the PFPE-containing silane compound of the present invention can form a surface treatment layer that can be satisfactorily bonded to the substrate surface and the like.
- R b independently represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group at each occurrence.
- R b is preferably a hydroxyl group, —OR, —OCOR, —O—N ⁇ C (R) 2 , —N (R) 2 , —NHR, halogen (in these formulas, R is substituted or unsubstituted)
- An alkyl group having 1 to 4 carbon atoms preferably —OR.
- R includes an unsubstituted alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, and an isobutyl group; and a substituted alkyl group such as a chloromethyl group.
- an alkyl group particularly an unsubstituted alkyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable.
- the hydroxyl group is not particularly limited, but may be a group produced by hydrolysis of a hydrolyzable group. More preferably, R c is —OR (wherein R represents a substituted or unsubstituted C 1-3 alkyl group, more preferably a methyl group).
- R c independently represents a hydrogen atom or a lower alkyl group at each occurrence.
- the lower alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably a methyl group.
- k is independently an integer of 1 to 3 at each occurrence; l is independently an integer of 0 to 2 at each occurrence; m is independently at each occurrence And an integer of 0-2.
- k is preferably 3.
- the average molecular weight of the Rf-PFPE- moiety is not particularly limited, but is 500 to 30,000, preferably 1,500. 30,000 to 30,000, more preferably 2,000 to 10,000.
- the number average molecular weight of the Rf-PFPE moiety is 500 to 30,000, preferably 1,000 to 20,000, more preferably 2,000 to 15,000.
- the number average molecular weight of the Rf-PFPE- moiety or the -PFPE- moiety can be 4,000 to 30,000, preferably 5,000 to 10,000.
- the PFPE-containing silane compound of the present invention represented by the above formula (A1) or (A2) is not particularly limited, but may have an average molecular weight of 5 ⁇ 10 2 to 1 ⁇ 10 5 . Among these ranges, an average molecular weight of 2,000 to 30,000, more preferably 2,500 to 12,000 is preferable from the viewpoint of friction durability.
- “average molecular weight” means number average molecular weight, and “average molecular weight” is a value measured by 19 F-NMR.
- the PFPE-containing silane compound of the present invention represented by the formula (A1) or the formula (A2) is Rf is a perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms; PFPE is represented by the following formula (a), (b) or (c): -(OC 3 F 6 ) d- (a) [Wherein, d is an integer of 1 or more and 200 or less.
- R 6 is OCF 2 or OC 2 F 4 ;
- R 7 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 , or 2 or 3 selected from these groups
- j is an integer of 2 to 100.
- X is an unsubstituted, linear alkylene group having 2 to 10 carbon atoms
- R a independently represents at each occurrence —Z—SiR 1 p R 2 q R 3 r ;
- Z represents, independently at each occurrence, an oxygen atom or a divalent organic group;
- R 2 represents, independently at each occurrence, a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
- q is 3;
- k is 3.
- the compounds represented by the above formulas (A1) and (A2) have, for example, a perfluoropolyether derivative corresponding to the Rf-PFPE- moiety as a raw material, a hydroxyl group introduced at the terminal, and an unsaturated bond at the terminal A group is introduced, the group having an unsaturated bond is reacted with a silyl derivative having a halogen atom, a hydroxyl group is further introduced into the terminal of the silyl group, and the introduced group having an unsaturated bond is reacted with the silyl derivative.
- a perfluoropolyether derivative corresponding to the Rf-PFPE- moiety as a raw material
- a hydroxyl group introduced at the terminal and an unsaturated bond at the terminal A group is introduced
- the group having an unsaturated bond is reacted with a silyl derivative having a halogen atom
- a hydroxyl group is further introduced into the terminal of the silyl group
- the surface treatment agent of the present invention contains at least one PFPE-containing silane compound represented by the formula (A1) and / or the formula (A2).
- the PFPE-containing silane compound is as described above.
- the surface treatment agent of the present invention can impart water repellency, oil repellency, antifouling property, friction durability, and UV resistance to the substrate, and is not particularly limited, but the antifouling coating It can be suitably used as an agent.
- the surface treating agent of the present invention may be diluted with a solvent.
- a solvent is not particularly limited, for example: Perfluorohexane, CF 3 CF 2 CHCl 2 , CF 3 CH 2 CF 2 CH 3 , CF 3 CHFCHFC 2 F 5 , 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6 , 6-Tridecafluorooctane, 1,1,2,2,3,3,4-heptafluorocyclopentane ((Zeorolla H (trade name), etc.), C 4 F 9 OCH 3 , C 4 F 9 OC 2 H 5 , CF 3 CH 2 OCF 2 CHF 2 , C 6 F 13 CH ⁇ CH 2 , xylene hexafluoride, perfluorobenzene, methyl pentadecafluoroheptyl ketone, trifluoroethanol, pentafluoropropanol, hexafluoroisopropanol, HCF 2 CF 2 CH
- the water content contained in the solvent is preferably 20 ppm or less in terms of mass.
- the water content can be measured using the Karl Fischer method. With such a moisture content, the storage stability of the surface treatment agent can be improved.
- the surface treatment agent containing the PFPE-containing silane compound of the present invention may contain other components in addition to the PFPE-containing silane compound.
- Such other components are not particularly limited.
- other surface treatment compounds (non-reactive) fluoropolyether compounds that can be understood as fluorine-containing oils, preferably perfluoro (poly) ethers.
- fluorine-containing oil Compound (hereinafter referred to as “fluorine-containing oil”), (non-reactive) silicone compound (hereinafter referred to as “silicone oil”), alcohol, catalyst, transition metal, halide ion, molecule, which can be understood as silicone oil
- silicone oil examples thereof include compounds containing an atom having an unshared electron pair in the structure.
- PFPE 3 has the formula: -(OC 6 F 12 ) a1- (OC 5 F 10 ) b1- (OC 4 F 8 ) c1- (OC 3 F 6 ) d1- (OC 2 F 4 ) e1- (OCF 2 ) f1- (Wherein, a1, b1, c1, d1, e1 and f1 are each independently an integer of 0 or more and 200 or less, and the sum of a1, b1, c1, d1, e1 and f1 is at least 1, The order of presence of each repeating unit in parentheses attached with a1, b1, c1, d1, e1 or f1 is arbitrary in the formula.)
- Rf 3 independently represents each alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which may be
- Rf 5 represents an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms (preferably a C 1-16 perfluoroalkyl group) optionally substituted by one or more fluorine atoms
- Rf 6 represents Represents an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms (preferably a C 1-16 perfluoroalkyl group) which may be substituted by one or more fluorine atoms, a fluorine atom or a hydrogen atom, wherein Rf 5 and Rf 6 are More preferably, each is independently a C 1-3 perfluoroalkyl group.
- a ′, b ′, c ′ and d ′ each represent the number of four types of repeating units of perfluoro (poly) ether constituting the main skeleton of the polymer, and are each independently an integer of 0 to 300, , A ′, b ′, c ′ and d ′ are at least 1, preferably 1 to 300, more preferably 20 to 300.
- the order of presence of each repeating unit in parentheses with subscripts a ′, b ′, c ′ or d ′ is arbitrary in the formula.
- — (OC 4 F 8 ) — represents — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) —, — (OCF (CF 3 ) CF 2 CF 2 ) —, — (OCF 2 CF (CF 3 ) CF 2 )-,-(OCF 2 CF 2 CF (CF 3 ))-,-(OC (CF 3 ) 2 CF 2 )-,-(OCF 2 C (CF 3 ) 2 )-,-(OCF (CF 3 ) CF (CF 3 ))-,-(OCF (C 2 F 5 ) CF 2 )-and-(OCF 2 CF (C 2 F 5 ))-may be used, but preferably — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) —.
- — (OCF 2 CF 2 ) — is preferable.
- — (OC 2 F 4 ) — may be either — (OCF 2 CF 2 ) — or — (OCF (CF 3 )) —, but is preferably — (OCF 2 CF 2 ) —.
- perfluoro (poly) ether compound represented by the general formula (3) a compound represented by any one of the following general formulas (3a) and (3b) (one kind or a mixture of two or more kinds) may be used. May be included).
- Rf 5 and Rf 6 are as described above; in formula (3a), b ′′ is an integer of 1 to 100; in formula (3b), a ′′ and b ′′ are Each independently represents an integer of 1 to 30, and c ′′ and d ′′ are each independently an integer of 1 to 300.
- the order of existence of each repeating unit with subscripts a ′′, b ′′, c ′′, d ′′ and parentheses is arbitrary in the formula.
- the fluorine-containing oil may have an average molecular weight of 1,000 to 30,000. Thereby, high surface slipperiness can be obtained.
- the fluorine-containing oil is, for example, with respect to 100 parts by mass of the perfluoro (poly) ether group-containing silane compound (in the case of two or more kinds, the total of these, and the same applies below). It may be contained in an amount of 0 to 500 parts by weight, preferably 0 to 400 parts by weight, more preferably 5 to 300 parts by weight.
- the compound represented by the general formula (3a) and the compound represented by the general formula (3b) may be used alone or in combination. It is preferable to use the compound represented by the general formula (3b) rather than the compound represented by the general formula (3a) because higher surface slip properties can be obtained.
- the mass ratio of the compound represented by the general formula (3a) and the compound represented by the general formula (3b) is preferably 1: 1 to 1:30, and preferably 1: 1 to 1 : 10 is more preferable. According to such a mass ratio, a surface treatment layer having an excellent balance between surface slipperiness and friction durability can be obtained.
- the fluorine-containing oil contains one or more compounds represented by the general formula (3b).
- the mass ratio of the sum of the perfluoro (poly) ether group-containing silane compounds in the surface treatment agent to the compound represented by formula (3b) is preferably 10: 1 to 1:10, More preferably, it is 4: 1 to 1: 4.
- the average molecular weight of the compound represented by the formula (3a) is preferably 2,000 to 8,000.
- the average molecular weight of the compound represented by the formula (3b) is preferably 8,000 to 30,000.
- the average molecular weight of the compound represented by formula (3b) is preferably 3,000 to 8,000.
- the average molecular weight of the fluorine-containing oil may be made larger than the average molecular weight of the perfluoro (poly) ether group-containing silane compound.
- the number average molecular weight of the fluorinated oil is 2,000 or more, preferably 3,000 or more, more preferably 5,000 or more than the number average molecular weight of the perfluoro (poly) ether group-containing silane compound. Also good. By setting such an average molecular weight, more excellent friction durability and surface slipperiness can be obtained.
- the fluorine-containing oil may be a compound represented by the general formula Rf′-F (wherein Rf ′ is a C 5-16 perfluoroalkyl group).
- a chlorotrifluoroethylene oligomer may be sufficient.
- the compound represented by Rf′-F and the chlorotrifluoroethylene oligomer are preferable in that high affinity can be obtained with the perfluoro (poly) ether group-containing silane compound in which Rf is a C 1-16 perfluoroalkyl group. .
- Fluorine-containing oil contributes to improving the surface slipperiness of the surface treatment layer.
- the silicone oil for example, a linear or cyclic silicone oil having a siloxane bond of 2,000 or less can be used.
- the linear silicone oil may be so-called straight silicone oil and modified silicone oil.
- the straight silicone oil include dimethyl silicone oil, methylphenyl silicone oil, and methylhydrogen silicone oil.
- modified silicone oil include those obtained by modifying straight silicone oil with alkyl, aralkyl, polyether, higher fatty acid ester, fluoroalkyl, amino, epoxy, carboxyl, alcohol and the like.
- Examples of the cyclic silicone oil include cyclic dimethylsiloxane oil.
- the silicone oil is a total of 100 parts by mass of the perfluoro (poly) ether group-containing silane compound and the carboxylic acid ester compound.
- the perfluoro (poly) ether group-containing silane compound and the carboxylic acid ester compound For example, 0 to 300 parts by mass, preferably 0 to 200 parts by mass.
- Silicone oil contributes to improving the surface slipperiness of the surface treatment layer.
- the catalyst examples include acids (eg, acetic acid, trifluoroacetic acid, etc.), bases (eg, ammonia, triethylamine, diethylamine, etc.), transition metals (eg, Ti, Ni, Sn, etc.), and the like.
- acids eg, acetic acid, trifluoroacetic acid, etc.
- bases eg, ammonia, triethylamine, diethylamine, etc.
- transition metals eg, Ti, Ni, Sn, etc.
- the catalyst promotes the hydrolysis and dehydration condensation of the perfluoro (poly) ether group-containing silane compound and promotes the formation of the surface treatment layer.
- transition metal examples include platinum, ruthenium, and rhodium.
- the compound containing an atom having an unshared electron pair in the molecular structure preferably contains at least one atom selected from the group consisting of a nitrogen atom, an oxygen atom, a phosphorus atom and a sulfur atom, and a sulfur atom or a nitrogen atom It is more preferable to contain.
- the compound containing an atom having an unshared electron pair in the molecular structure is at least selected from the group consisting of an amino group, an amide group, a sulfinyl group, a P ⁇ O group, an S ⁇ O group, and a sulfonyl group in the molecular structure. It preferably contains one functional group, and more preferably contains at least one functional group selected from the group consisting of P ⁇ O groups and S ⁇ O groups.
- the compound containing an atom having an unshared electron pair in the molecular structure is at least one compound selected from the group consisting of an aliphatic amine compound, an aromatic amine compound, a phosphoric acid amide compound, an amide compound, a urea compound, and a sulfoxide compound. And is more preferably at least one compound selected from the group consisting of aliphatic amine compounds, aromatic amines, phosphoric acid amides, urea compounds and sulfoxide compounds, sulfoxide compounds, aliphatic amine compounds and Particularly preferred is at least one compound selected from the group consisting of aromatic amine compounds, and more preferred is a sulfoxide compound.
- Examples of the aliphatic amine compound include diethylamine and triethylamine.
- Examples of the aromatic amine compound include aniline and pyridine.
- Examples of the phosphoric acid amide compound include hexamethylphosphoramide.
- Examples of the amide compound include N, N-diethylacetamide, N, N-diethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone and the like. it can.
- Examples of the urea compound include tetramethylurea.
- sulfoxide compound examples include dimethyl sulfoxide (DMSO), tetramethylene sulfoxide, methylphenyl sulfoxide, diphenyl sulfoxide, and the like. Of these compounds, dimethyl sulfoxide or tetramethylene sulfoxide is preferably used.
- Other components include, for example, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, methyltriacetoxysilane, and the like.
- Other components include, for example, alcohol compounds having 1 to 6 carbon atoms, other than the above.
- the surface treatment agent of the present invention can be made into a pellet by impregnating a porous material such as a porous ceramic material or metal fiber such as steel wool hardened in a cotton form.
- the pellet can be used for, for example, vacuum deposition.
- the surface treatment agent of the present invention can be suitably used as a surface treatment agent because it can impart water repellency, oil repellency, antifouling property, waterproofness, high friction durability and UV resistance to a substrate.
- the Specifically, the surface treatment agent of the present invention is not particularly limited, but can be suitably used as an antifouling coating agent or a waterproof coating agent.
- the article of the present invention is formed from a base material and the surface of the base material from a PFPE-containing silane compound or a surface treatment agent of the present invention (hereinafter simply referred to as “the surface treatment agent of the present invention”).
- Layer surface treatment layer
- This article can be manufactured, for example, as follows.
- the substrate that can be used in the present invention is, for example, glass, resin (natural or synthetic resin, for example, a general plastic material, plate, film, or other forms), metal (aluminum, copper It may be a single metal such as iron or a composite such as an alloy), ceramics, semiconductor (silicon, germanium, etc.), fiber (woven fabric, non-woven fabric, etc.), fur, leather, wood, ceramics, stone, etc., building member, etc. Can be composed of any suitable material.
- glass sapphire glass, soda lime glass, alkali aluminosilicate glass, borosilicate glass, alkali-free glass, crystal glass, quartz glass are preferable, chemically strengthened soda lime glass, chemically strengthened alkali aluminosilicate glass, Particularly preferred are chemically bonded borosilicate glasses.
- resin acrylic resin and polycarbonate are preferable.
- the material constituting the surface of the substrate may be an optical member material such as glass or transparent plastic.
- some layer (or film) such as a hard coat layer or an antireflection layer may be formed on the surface (outermost layer) of the substrate.
- the antireflection layer either a single-layer antireflection layer or a multilayer antireflection layer may be used.
- inorganic materials that can be used for the antireflection layer include SiO 2 , SiO, ZrO 2 , TiO 2 , TiO, Ti 2 O 3 , Ti 2 O 5 , Al 2 O 3 , Ta 2 O 5 , CeO 2 , MgO.
- the article to be manufactured is an optical glass component for a touch panel, a thin film using a transparent electrode such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide is provided on a part of the surface of the substrate (glass). It may be.
- ITO indium tin oxide
- the base material is an insulating layer, an adhesive layer, a protective layer, a decorative frame layer (I-CON), an atomized film layer, a hard coating film layer, a polarizing film, a phase difference film, And a liquid crystal display module or the like.
- the shape of the substrate is not particularly limited.
- the surface region of the base material on which the surface treatment layer is to be formed may be at least part of the surface of the base material, and can be appropriately determined according to the use and specific specifications of the article to be manufactured.
- a base material at least a surface portion thereof may be made of a material originally having a hydroxyl group.
- materials include glass, and metals (particularly base metals) on which a natural oxide film or a thermal oxide film is formed on the surface, ceramics, and semiconductors.
- it can be introduced to the surface of the substrate by applying some pretreatment to the substrate. Or increase it. Examples of such pretreatment include plasma treatment (for example, corona discharge) and ion beam irradiation.
- the plasma treatment can be preferably used for introducing or increasing hydroxyl groups on the surface of the base material and for cleaning the base material surface (removing foreign matter or the like).
- an interfacial adsorbent having a carbon-carbon unsaturated bond group is previously formed on the substrate surface by a monomolecular film by the LB method (Langmuir-Blodgett method) or chemical adsorption method. There is a method of forming in a form and then cleaving the unsaturated bond in an atmosphere containing oxygen, nitrogen or the like.
- the substrate may be made of a material containing at least a surface portion of a silicone compound having one or more other reactive groups, for example, Si—H groups, or an alkoxysilane.
- a film of the above-described surface treatment agent of the present invention is formed on the surface of the substrate, and this film is post-treated as necessary, thereby forming a surface treatment layer from the surface treatment agent of the present invention. To do.
- the film formation of the surface treatment agent of the present invention can be carried out by applying the surface treatment agent of the present invention to the surface of the substrate so as to cover the surface.
- the coating method is not particularly limited. For example, wet coating methods and dry coating methods can be used.
- wet coating methods include dip coating, spin coating, flow coating, spray coating, roll coating, gravure coating and similar methods.
- Examples of dry coating methods include vapor deposition (usually vacuum vapor deposition), sputtering, CVD, and similar methods.
- Specific examples of the vapor deposition method include resistance heating, high-frequency heating using an electron beam, microwave, and the like, an ion beam, and similar methods.
- Specific examples of the CVD method include plasma-CVD, optical CVD, thermal CVD, and similar methods.
- the surface treatment agent of the present invention can be applied to the substrate surface after being diluted with a solvent.
- the following solvents are preferably used: C 5-12 perfluoroaliphatic hydrocarbons (for example, perfluorohexane, perfluoromethylcyclohexane and Perfluoro-1,3-dimethylcyclohexane); polyfluoroaromatic hydrocarbons (eg bis (trifluoromethyl) benzene); polyfluoroaliphatic hydrocarbons (eg C 6 F 13 CH 2 CH 3 (eg Asahi Glass) Asahiclin (registered trademark) AC-6000 manufactured by Co., Ltd.), 1,1,2,2,3,3,4-heptafluorocyclopentane (for example, ZEOLOR (registered trademark) H manufactured by ZEON CORPORATION); Hydrofluorocarbon (HFC) (for example, 1,1,
- alkyl perfluoroalkyl ethers such as perfluoroalkyl groups and the alkyl group may be straight or branched
- CF 3 CH 2 OCF 2 CHF 2 e.g., Asahi Glass ASAHIKLIN Co., Ltd. ( (Registered trademark) AE-3000)
- 1,2-dichloro-1,3,3,3-tetrafluoro-1-propene for example, Bertrell (registered trademark) Scion manufactured by Mitsui DuPont Fluorochemical Co., Ltd.
- These solvents can be used alone or in combination as a mixture of two or more thereof, for example, to adjust the solubility of the perfluoro (poly) ether group-containing silane compound. Can also be mixed.
- the surface treatment agent of the present invention may be directly subjected to the dry coating method, or may be diluted with the above-described solvent and then subjected to the dry coating method.
- the film formation is preferably carried out so that the surface treatment agent of the present invention is present together with a catalyst for hydrolysis and dehydration condensation in the film.
- the catalyst may be added to the diluted solution of the surface treatment agent of the present invention immediately after the surface treatment agent of the present invention is diluted with a solvent and applied to the substrate surface.
- the surface treatment agent of the present invention to which the catalyst is added is directly vapor-deposited (usually vacuum deposition), or the surface treatment agent of the present invention to which a catalyst is added to a metal porous body such as iron or copper. Vapor deposition (usually vacuum deposition) may be performed using a pellet-like material impregnated with.
- any suitable acid or base can be used for the catalyst.
- the acid catalyst for example, acetic acid, formic acid, trifluoroacetic acid and the like can be used.
- a base catalyst ammonia, organic amines, etc. can be used, for example.
- the membrane is post-treated as necessary.
- this post-processing is not specifically limited, For example, a water supply and drying heating may be implemented sequentially, and it may be implemented as follows in detail.
- the surface treatment agent of the present invention is formed on the substrate surface as described above, moisture is supplied to this film (hereinafter also referred to as “precursor film”).
- the method for supplying moisture is not particularly limited, and for example, methods such as dew condensation due to a temperature difference between the precursor film (and the substrate) and the surrounding atmosphere, or spraying of steam (steam) may be used.
- the supply of moisture is, for example, 0 to 250 ° C., preferably 60 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher, preferably 180 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or lower.
- the pressure at this time is not specifically limited, it can be simply a normal pressure.
- the precursor film is heated on the surface of the substrate in a dry atmosphere exceeding 60 ° C.
- the drying heating method is not particularly limited, and the temperature of the precursor film together with the base material is higher than 60 ° C., preferably higher than 100 ° C., for example, 250 ° C. or lower, preferably 180 ° C. or lower. What is necessary is just to arrange
- the above water supply and drying heating may be continuously performed by using superheated steam.
- Post-processing can be performed as described above. It should be noted that such post-treatment can be performed to further improve friction durability, but is not essential for producing the articles of the present invention. For example, after applying the surface treating agent of the present invention to the surface of the substrate, it may be left still as it is.
- the surface treatment layer derived from the film of the surface treatment agent of the present invention is formed on the surface of the substrate, and the article of the present invention is manufactured.
- the surface treatment layer thus obtained has good UV resistance.
- this surface treatment layer has water repellency, oil repellency, and antifouling properties (for example, preventing adhesion of dirt such as fingerprints), depending on the composition of the composition used. It can have surface slipperiness (or lubricity, for example, wiping of dirt such as fingerprints, excellent tactile sensation to fingers), high friction durability, etc., and can be suitably used as a functional thin film.
- the present invention further relates to an optical material having the cured product (surface treatment layer) as an outermost layer.
- optical material in addition to optical materials relating to displays and the like exemplified below, a wide variety of optical materials are preferably mentioned: for example, cathode ray tube (CRT; eg, TV, personal computer monitor), liquid crystal display, plasma display, Organic EL display, inorganic thin-film EL dot matrix display, rear projection display, fluorescent display tube (VFD), field emission display (FED), or a protective plate of those displays, or reflection on the surface thereof Those with a protective film treatment.
- CTR cathode ray tube
- LCD liquid crystal display
- Organic EL display organic EL display
- inorganic thin-film EL dot matrix display rear projection display
- fluorescent display tube (VFD), field emission display (FED) or a protective plate of those displays, or reflection on the surface thereof Those with a protective film treatment.
- the article having the surface treatment layer obtained by the present invention is not particularly limited, but may be an optical member.
- optical members include: lenses such as eyeglasses; front protective plates, antireflection plates, polarizing plates, and antiglare plates for displays such as PDP and LCD; for devices such as mobile phones and portable information terminals.
- the article having the surface treatment layer obtained by the present invention may be a medical device or a medical material.
- the article having the surface treatment layer obtained by the present invention may be a vehicle-mounted component.
- the thickness of the surface treatment layer is not particularly limited.
- the thickness of the surface treatment layer is in the range of 1 to 50 nm, more preferably 1 to 30 nm, and particularly preferably 1 to 15 nm, so that the optical performance, surface slipperiness, friction durability and antifouling can be achieved. From the viewpoint of sex.
- a film of the surface treatment layer obtained by the present invention may be formed on the surface of the layer.
- the articles obtained using the surface treating agent of the present invention have been described in detail.
- the use of the surface treating agent of the present invention, the usage method, the manufacturing method of the article, and the like are not limited to those exemplified above.
- PFPE-containing silane compound of the present invention will be described more specifically through the following examples, but the present invention is not limited to these examples.
- C -Perfluoropolyether group-containing trichlorosilane compound (C): CF 3 CF 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 CF 2 O) 20 CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 2 CH 2 CH 2 SiCl 3 ) 3
- Example 1 The compound (D) obtained in Synthesis Example 4 was dissolved in hydrofluoroether (manufactured by 3M, Novec HFE7200) so as to have a concentration of 20 wt% to prepare a surface treating agent 1.
- the surface treating agent 1 prepared above was vacuum-deposited on chemically strengthened glass (Corning, “Gorilla” glass, thickness 0.7 mm).
- the processing conditions for vacuum deposition were a pressure of 3.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa, first, silicon dioxide was deposited to a thickness of 7 nm on the surface of this chemically strengthened glass to form a silicon dioxide film, followed by chemical 2 mg of surface treatment agent (that is, containing 0.4 mg of compound (D)) was vapor-deposited per one piece of tempered glass (55 mm ⁇ 100 mm). Thereafter, the chemically strengthened glass with a deposited film was allowed to stand for 24 hours in an atmosphere of a temperature of 20 ° C. and a humidity of 65%. Thereby, a vapor deposition film hardened and a surface treatment layer was formed.
- Example 2 A surface treatment agent was prepared and a surface treatment layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the compound (H) was used in place of the compound (D).
- Examples 3 to 4 A surface treatment agent was prepared and a surface treatment layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the compound (K) or the compound (N) was used instead of the compound (D).
- Example 6 A surface treatment agent was prepared and a surface treatment layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the compound (Q) or the compound (T) was used in place of the compound (D).
- Example 7 A surface treatment agent was prepared and a surface treatment layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the compound (X) was used in place of the compound (D).
- Control compound 1 CF 3 CF 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 CF 2 O) 20 CF 2 CF 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 Si [CH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 ] 3
- Control compound 2 CF 3 O (CF 2 CF 2 O) 20 (CF 2 O) 16 CF 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 Si [CH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 ] 3
- UV resistance evaluation About the surface treatment layer formed in said Example and comparative example, the static contact angle of water before and behind UV irradiation was measured, respectively.
- UV irradiation was carried out using a UVB-313 lamp (manufactured by Q-Lab, irradiance of 0.63 W / m 2 at 310 nm) and a distance between the lamp and the surface treatment layer of 5 cm.
- the static contact angle of water was measured with 1 ⁇ L of water using a contact angle measuring device (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.).
- the static contact angle of water was measured before UV irradiation (UV irradiation time 0 hour). Then, the static contact angle of water was measured about the surface treatment layer after irradiating UV for predetermined time, respectively. Evaluation was performed up to a cumulative irradiation time of 96 hours. The results are shown in Table 1.
- the sample article on which the surface treatment layer is formed is horizontally arranged, the following friction elements are brought into contact with the surface of the surface treatment layer (the contact surface is a circle having a diameter of 1 cm), and a load of 5 N is applied thereon, and then The friction element was reciprocated at a speed of 40 mm / sec with the load applied.
- the friction element was reciprocated up to 4000 times, and the static contact angle (degree) of water was measured every 1000 reciprocations (friction times). The test was stopped when the measured static contact angle of water was less than 60 degrees.
- the measuring method of the static contact angle of water was performed similarly to said UV resistance evaluation. The results are shown in Table 2 (in the table, the symbol “-” is not measured).
- the e / f ratio of the compound (H) contained in the surface treatment agent of Example 2 is 1.25, and the e / f ratio of the compound (X) contained in the surface treatment agent of Example 7 is 0.72. is there.
- the formed surface treatment layer is slippery. It is considered that the friction durability was further improved.
- the present invention can be suitably used for forming a surface treatment layer on the surface of a variety of substrates, particularly optical members that require transparency.
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Polyethers (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
-PFPE-X-SiRa
kRb
lRc
mで表される構造を含むパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。例えば、PFPEはパーフルオロ(ポリ)エーテル基、Xは炭素数2~20の置換または非置換のアルキレン基、RaはSiを含む官能基、Rbは水酸基または加水分解可能な基、Rcは水素原子または低級アルキル基を表し、kは1~3の整数であり、lおよびmはそれぞれ0~2の整数であり、-SiRa
kRb
lRc
m毎において、k、lおよびmの和は3である。
Description
本発明は、パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物に関する。また、本発明は、かかるパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤等にも関する。
ある種の含フッ素化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。そのような含フッ素シラン化合物として、パーフルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Si原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている。例えば、特許文献1には、Si原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が記載されている。
上記のような含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層(以下、「表面処理層」とも言う)は、いわゆる機能性薄膜として、ガラス等に施されている。特に、上記表面処理層は、上記のような機能を薄膜でも発揮し得ることから、光透過性ないし透明性が求められるメガネ、タッチパネル、携帯端末の操作画面などの光学部材に適用されている。
上記のような表面処理層には、さらに、紫外線(UV)に対する耐久性(耐UV性)が求められることがある。しかしながら、本発明者らの研究によれば、上記のようなパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を用いて形成される表面処理層では、充分な耐UV性を得られないことがあると分かった。
本発明は、耐UV性を有する表面処理層の形成に適したパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物を提供することを目的とする。本発明の別の目的は、このような化合物を含む表面処理剤を提供することにある。本発明の更に別の目的は、このような表面処理剤を用いて形成された表面処理層を有する物品を提供することにある。
本発明の第1の要旨によれば、
式(A1)または式(A2):
[式中:
PFPEは、各出現においてそれぞれ独立して、式:
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-
(a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は少なくとも1であり、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。)
で表される基であり;
Rfは、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16のアルキル基を表し;
Xは、各出現においてそれぞれ独立して、炭素数2~20の、置換または非置換のアルキレン基を表し;
Raは、各出現においてそれぞれ独立して、-Z-SiR1 pR2 qR3 rを表し;
Zは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または2価の有機基を表し;
R1は、各出現においてそれぞれ独立して、Ra’を表し;
Ra’は、Raと同意義であり;
Ra中、Z基を介して直鎖状に連結されるSiは最大で5個であり;
R2は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
R3は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
pは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
qは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
rは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
ただし、-Z-SiR1 pR2 qR3 r毎において、p、qおよびrの和は3であり、式(A1)および(A2)において、少なくとも1のR2を有するSiが2個以上存在し;
Rbは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
Rcは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
kは、各出現においてそれぞれ独立して、1~3の整数であり;
lは、各出現においてそれぞれ独立して、0~2の整数であり;
mは、各出現においてそれぞれ独立して、0~2の整数であり;
ただし、-SiRa kRb lRc m毎において、k、lおよびmの和は3である]
で表されるパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物が提供される。
式(A1)または式(A2):
PFPEは、各出現においてそれぞれ独立して、式:
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-
(a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は少なくとも1であり、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。)
で表される基であり;
Rfは、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16のアルキル基を表し;
Xは、各出現においてそれぞれ独立して、炭素数2~20の、置換または非置換のアルキレン基を表し;
Raは、各出現においてそれぞれ独立して、-Z-SiR1 pR2 qR3 rを表し;
Zは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または2価の有機基を表し;
R1は、各出現においてそれぞれ独立して、Ra’を表し;
Ra’は、Raと同意義であり;
Ra中、Z基を介して直鎖状に連結されるSiは最大で5個であり;
R2は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
R3は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
pは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
qは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
rは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
ただし、-Z-SiR1 pR2 qR3 r毎において、p、qおよびrの和は3であり、式(A1)および(A2)において、少なくとも1のR2を有するSiが2個以上存在し;
Rbは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
Rcは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
kは、各出現においてそれぞれ独立して、1~3の整数であり;
lは、各出現においてそれぞれ独立して、0~2の整数であり;
mは、各出現においてそれぞれ独立して、0~2の整数であり;
ただし、-SiRa kRb lRc m毎において、k、lおよびmの和は3である]
で表されるパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物が提供される。
本発明の第2の要旨によれば、上記の式(A1)および/または式(A2)で表される少なくとも1種のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物を含有する、表面処理剤が提供される。
本発明の第3の要旨によれば、上記の表面処理剤を含有するペレットが提供される。
本発明の第4の要旨によれば、基材と、該基材の表面に、上記の化合物または表面処理剤より形成された層とを含む物品が提供される。
本発明によれば、耐UV性が良好な表面処理層の形成に適したパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物を提供することができる。また、本発明によれば、このような化合物を含む表面処理剤を提供することができる。更に、本発明によれば、このような化合物な表面処理剤を有する物品を提供することができる。
以下、本発明のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物について説明する。
本明細書において用いられる場合、「2価の有機基」とは、炭素を含有する2価の基を意味する。かかる2価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに1個の水素原子を脱離させた2価の基が挙げられる。
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から1個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、1つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素数1~20の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、1つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。尚、かかる炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、1つまたはそれ以上のN、O、S、Si、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子;1個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、C1-6アルキル基、C2-6アルケニル基、C2-6アルキニル基、C3-10シクロアルキル基、C3-10不飽和シクロアルキル基、5~10員のヘテロシクリル基、5~10員の不飽和ヘテロシクリル基、C6-10アリール基および5~10員のヘテロアリール基から選択される1個またはそれ以上の基が挙げられる。
上記式(A1)および式(A2)中、Rfは、各出現において独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16のアルキル基を表す。
上記1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16のアルキル基における「炭素数1~16のアルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数1~6、特に炭素数1~3のアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数1~3のアルキル基である。
上記Rfは、好ましくは、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されている炭素数1~16のアルキル基であり、より好ましくはCF2H-C1-15パーフルオロアルキレン基またはC1-16パーフルオロアルキル基であり、さらに好ましくはC1-16パーフルオロアルキル基である。
該炭素数1~16のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数1~6、特に炭素数1~3のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数1~3のパーフルオロアルキル基、具体的には-CF3、-CF2CF3、または-CF2CF2CF3である。
上記式中、PFPEは、各出現において独立して、
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-
で表される基である。式中、a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は少なくとも1である。好ましくは、a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して、0以上100以下の整数である。好ましくは、a、b、c、d、eおよびfの和は5以上であり、より好ましくは10以上である。好ましくは、a、b、c、d、eおよびfの和は200以下であり、より好ましくは100以下であり、例えば10以上200以下であり、より具体的には10以上100以下である。また、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-
で表される基である。式中、a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は少なくとも1である。好ましくは、a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して、0以上100以下の整数である。好ましくは、a、b、c、d、eおよびfの和は5以上であり、より好ましくは10以上である。好ましくは、a、b、c、d、eおよびfの和は200以下であり、より好ましくは100以下であり、例えば10以上200以下であり、より具体的には10以上100以下である。また、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、-(OC6F12)-は、-(OCF2CF2CF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2CF2CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF2CF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF2CF2CF(CF3))-等であってもよいが、好ましくは-(OCF2CF2CF2CF2CF2CF2)-である。-(OC5F10)-は、-(OCF2CF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF2CF(CF3))-等であってもよいが、好ましくは-(OCF2CF2CF2CF2CF2)-である。-(OC4F8)-は、-(OCF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3))-、-(OC(CF3)2CF2)-、-(OCF2C(CF3)2)-、-(OCF(CF3)CF(CF3))-、-(OCF(C2F5)CF2)-および-(OCF2CF(C2F5))-のいずれであってもよいが、好ましくは-(OCF2CF2CF2CF2)-である。-(OC3F6)-は、-(OCF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2)-および-(OCF2CF(CF3))-のいずれであってもよいが、好ましくは-(OCF2CF2CF2)-である。また、-(OC2F4)-は、-(OCF2CF2)-および-(OCF(CF3))-のいずれであってもよいが、好ましくは-(OCF2CF2)-である。
一の態様において、上記PFPEは、-(OC3F6)d-(式中、dは1以上200以下、好ましくは5以上200以下、より好ましくは10以上200以下の整数である)である。好ましくは、PFPEは、-(OCF2CF2CF2)d-(式中、dは1以上200以下、好ましくは5以上200以下、より好ましくは10以上200以下の整数である)または-(OCF(CF3)CF2)d-(式中、dは1以上200以下、好ましくは5以上200以下、より好ましくは10以上200以下の整数である)である。より好ましくは、PFPEは、-(OCF2CF2CF2)d-(式中、dは1以上200以下、好ましくは5以上200以下、より好ましくは10以上200以下の整数である)である。
別の態様において、PFPEは、-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-(式中、cおよびdは、それぞれ独立して0以上30以下の整数であり、eおよびfは、それぞれ独立して1以上200以下、好ましくは5以上200以下、より好ましくは10以上200以下の整数であり、c、d、eおよびfの和は、少なくとも5以上、好ましくは10以上であり、より好ましくは10以上200以下の整数であり、添字c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である)である。好ましくは、PFPEは、-(OCF2CF2CF2CF2)c-(OCF2CF2CF2)d-(OCF2CF2)e-(OCF2)f-である。一の態様において、PFPEは、-(OC2F4)e-(OCF2)f-(式中、eおよびfは、それぞれ独立して1以上200以下、好ましくは5以上200以下、より好ましくは10以上200以下の整数であり、添字eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である)であってもよい。
さらに別の態様において、PFPEは、-(R6-R7)j-で表される基である。式中、R6は、OCF2またはOC2F4であり、好ましくはOC2F4である。式中、R7は、OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10およびOC6F12から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される2または3つの基の組み合わせである。好ましくは、R7は、OC2F4、OC3F6およびOC4F8から選択される基であるか、OC3F6、OC4F8、OC5F10およびOC6F12から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される2または3つの基の組み合わせである。OC2F4、OC3F6およびOC4F8から独立して選択される2または3つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば-OC2F4OC3F6-、-OC2F4OC4F8-、-OC3F6OC2F4-、-OC3F6OC3F6-、-OC3F6OC4F8-、-OC4F8OC4F8-、-OC4F8OC3F6-、-OC4F8OC2F4-、-OC2F4OC2F4OC3F6-、-OC2F4OC2F4OC4F8-、-OC2F4OC3F6OC2F4-、-OC2F4OC3F6OC3F6-、-OC2F4OC4F8OC2F4-、-OC3F6OC2F4OC2F4-、-OC3F6OC2F4OC3F6-、-OC3F6OC3F6OC2F4-、および-OC4F8OC2F4OC2F4-等が挙げられる。上記jは、2以上、好ましくは3以上、より好ましくは5以上であり、100以下、好ましくは50以下の整数である。上記jは、例えば2~100の整数、具体的には2~50の整数である。上記式中、OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10およびOC6F12は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、PFPEは、好ましくは、-(OC2F4-OC3F6)j-または-(OC2F4-OC4F8)j-である。
上記PFPEにおいて、fに対するeの比(以下、「e/f比」)は、0.1以上10以下であり、好ましくは0.2以上5.0以下であり、より好ましくは0.2以上2.0以下であり、さらに好ましくは0.2以上1.5以下であり、特に好ましくは0.2以上0.85以下である。e/f比を10以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性(例えば、人工汗に対する耐久性)がより向上する。e/f比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、e/f比を0.1以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。e/f比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。
上記式(A1)および式(A2)中、Xは、炭素数2~20の、置換または非置換のアルキレン基を表す。アルキレン基とは、-(CαH2α)-構造を有する基である。Xにおいて、αは2~20の整数である。上記アルキレン基は、直鎖状または分枝鎖状であってもよく、好ましくは直鎖状である。上記炭素数は2~10であることが好ましく、2~5であることがより好ましい。アルキレン基は、例えばハロゲン原子等の置換基によって置換されていてもよい。アルキレン基は、好ましくは非置換である。上記アルキレン基の具体的な例としては、炭素数2~10(好ましくは炭素数2~5)の、非置換のアルキレン基であり、特に炭素数2~10(好ましくは炭素数2~5)の、非置換の、直鎖状のアルキレン基である。Xは、式(A1)および式(A2)で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性を提供するパーフルオロポリエーテル部(Rf-PFPE部または-PFPE-部)と、加水分解して基材との結合能を提供するシラン部(-SiRa
kRb
lRc
m部)とを連結するリンカーと解される。Xが上記のような構造を有することによって、リンカー部分がエーテル結合やアミド結合を有する場合よりもリンカー部分における結合エネルギーが大きくなり、その結果、形成される表面処理層の耐UV性が向上し得ると推測される。さらに、本発明のPFPE含有シラン化合物は、UVを繰り返し照射する場合であっても、良好な耐UV性を有する表面処理層の形成に寄与し得る。耐UV性は、例えば、後述するように、形成される表面処理層のUV照射前後の物性(例えば接触角)の変化を測定することによって評価できる。
本発明のPFPE含有シラン化合物は、上記のようなXを有することによって、化学的な耐久性を有する(例えば、酸および/またはアルカリ環境下、より具体的には汗の付着し得る環境下においても劣化しにくい)表面処理層の形成に寄与し得る。また、本発明のPFPE含有シラン化合物は、上記のようなXを有することによって、摩擦耐久性の良好な表面処理層の形成に寄与し得、特に、酸および/またはアルカリ環境に曝されやすい環境においても耐摩擦性の向上した表面処理層の形成に寄与し得る。
上記式(A1)および式(A2)中、Raは、各出現においてそれぞれ独立して、-Z-SiR1
pR2
qR3
rを表す。
式中、Zは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または2価の有機基を表す。
上記Zは、好ましくは、2価の有機基であり、式(A1)または式(A2)における分子主鎖の末端のSi原子(Raが結合しているSi原子)とシロキサン結合を形成するものを含まない。
上記Zは、好ましくは、アルキレン基、-(CH2)g-O-(CH2)h-(式中、gは、1~6の整数であり、hは、1~6の整数である)または、-フェニレン-(CH2)i-(式中、iは、0~6の整数である)ある。これらの基は、例えば、フッ素原子、C1-6アルキル基、C2-6アルケニル基、およびC2-6アルキニル基から選択される1個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。耐UV性が特に良好な観点からは、上記Zは、より好ましくは、直鎖状または分枝鎖状のアルキレン基であり、さらに好ましくは直鎖状のアルキレン基である。上記Zのアルキレン基を構成する炭素数は、好ましくは1~8の範囲にあり、より好ましくは1~6の範囲にあり、さらに好ましくは1~3の範囲にある。なお、アルキレン基については上記のとおりである。
上記Zは、好ましくは、アルキレン基、-(CH2)g-O-(CH2)h-(式中、gは、1~6の整数であり、hは、1~6の整数である)または、-フェニレン-(CH2)i-(式中、iは、0~6の整数である)ある。これらの基は、例えば、フッ素原子、C1-6アルキル基、C2-6アルケニル基、およびC2-6アルキニル基から選択される1個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。耐UV性が特に良好な観点からは、上記Zは、より好ましくは、直鎖状または分枝鎖状のアルキレン基であり、さらに好ましくは直鎖状のアルキレン基である。上記Zのアルキレン基を構成する炭素数は、好ましくは1~6の範囲にあり、より好ましくは1~3の範囲にある。なお、アルキレン基については上記のとおりである。
式中、R1は、各出現においてそれぞれ独立して、Ra’を表す。Ra’は、Raと同意義である。
Ra中、Z基を介して直鎖状に連結されるSiは最大で5個である。即ち、上記Raにおいて、R1が少なくとも1つ存在する場合、Ra中にZ基を介して直鎖状に連結されるSi原子が2個以上存在するが、かかるZ基を介して直鎖状に連結されるSi原子の数は最大で5個である。なお、「Ra中のZ基を介して直鎖状に連結されるSi原子の数」とは、Ra中において直鎖状に連結される-Z-Si-の繰り返し数と等しくなる。
上記式において、*は、主鎖のSiに結合する部位を意味し、…は、ZSi以外の所定の基が結合していること、即ち、Si原子の3本の結合手がすべて…である場合、ZSiの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Siの右肩の数字は、*から数えたZ基を介して直鎖状に連結されたSiの出現数を意味する。即ち、Si2でZSi繰り返しが終了している鎖は「Ra中のZ基を介して直鎖状に連結されるSi原子の数」が2個であり、同様に、Si3、Si4およびSi5でZSi繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ra中のZ基を介して直鎖状に連結されるSi原子の数」が3、4および5個である。なお、上記の式から明らかなように、Ra中には、ZSi鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。
一の態様において、Ra中のZ基を介して直鎖状に連結されるSi原子の数は1個または2個、好ましくは1個である。
式中、R2は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。
上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、-OR、-OCOR、-O-N=CR2、-NR2、-NHR、ハロゲン(これら式中、Rは、置換または非置換の炭素数1~4のアルキル基を示す)などが挙げられ、好ましくは-OR(即ち、アルコキシ基)である。Rの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基;クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。
好ましくは、R2は、-OR(式中、Rは、置換または非置換のC1-3アルキル基、より好ましくはメチル基を表す)である。
式中、R3は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数1~20のアルキル基、より好ましくは炭素数1~6のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
式中、pは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;qは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;rは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数である。ただし、-Z-SiR1
pR2
qR3
r毎において、p、qおよびrの和は3である。
好ましい態様において、Ra中の末端のRa’(Ra’が存在しない場合、Ra)において、上記qは、好ましくは2以上、例えば2または3であり、より好ましくは3である。
好ましい態様において、Raは、末端部に、少なくとも1つの、-Si(-Z-SiR2
qR3
r)2または-Si(-Z-SiR2
qR3
r)3、好ましくは-Si(-Z-SiR2
qR3
r)3を有し得る。式中、(-Z-SiR2
qR3
r)の単位は、好ましくは(-Z-SiR2
3)である。さらに好ましい態様において、Raの末端部は、すべて-Si(-Z-SiR2
qR3
r)3、好ましくは-Si(-Z-SiR2
3)3であり得る。
上記式(A1)および(A2)においては、少なくとも1のR2を有するSiが2個以上存在する。このような構成を有することにより、本発明のPFPE含有シラン化合物は、基材表面等に良好に結合可能な表面処理層を形成し得る。
上記式中、Rbは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。
上記Rbは、好ましくは、水酸基、-OR、-OCOR、-O-N=C(R)2、-N(R)2、-NHR、ハロゲン(これら式中、Rは、置換または非置換の炭素数1~4のアルキル基を示す)であり、好ましくは-ORである。Rは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基;クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。より好ましくは、Rcは、-OR(式中、Rは、置換または非置換のC1-3アルキル基、より好ましくはメチル基を表す)である。
上記式中、Rcは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数1~20のアルキル基、より好ましくは炭素数1~6のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
式中、kは、各出現においてそれぞれ独立して、1~3の整数であり;lは、各出現においてそれぞれ独立して、0~2の整数であり;mは、各出現においてそれぞれ独立して、0~2の整数である。ただし、-SiRa
kRb
lRc
m毎において、k、lおよびmの和は、3である。kは、3であることが好ましい。
上記式(A1)または式(A2)で表されるPFPE含有シラン化合物において、Rf-PFPE-部分の平均分子量は、特に限定されるものではないが、500~30,000、好ましくは1,500~30,000、より好ましくは2,000~10,000である。
別の態様において、Rf-PFPE部分の数平均分子量は、500~30,000、好ましくは1,000~20,000、より好ましくは2,000~15,000である。
別の態様において、Rf-PFPE-部分または-PFPE-部分の数平均分子量は、4,000~30,000、好ましくは5,000~10,000であり得る。
上記式(A1)または式(A2)で表される本発明のPFPE含有シラン化合物は、特に限定されるものではないが、5×102~1×105の平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、2,000~30,000、より好ましくは2,500~12,000の平均分子量を有することが、摩擦耐久性の観点から好ましい。なお、本発明において「平均分子量」は数平均分子量を言い、「平均分子量」は、19F-NMRにより測定される値とする。
好ましい態様において、式(A1)または式(A2)で表される本発明のPFPE含有シラン化合物は、
Rfが、炭素数1~16のパーフルオロアルキル基であり;
PFPEが下記式(a)、(b)または(c):
-(OC3F6)d- (a)
[式中、dは1以上200以下の整数である。]
-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (b)
[式中、cおよびdは、それぞれ独立して、0以上30以下の整数であり;
eおよびfは、それぞれ独立して、1以上200以下の整数であり;
c、d、eおよびfの和は、10以上200以下の整数であり;
添字c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。]
-(R6-R7)j- (c)
[式中、R6は、OCF2またはOC2F4であり;
R7は、OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10およびOC6F12から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される2または3つの基の組み合わせであり;
jは、2~100の整数である。]
であり;
Xが、炭素数2~10の、非置換の、直鎖状のアルキレン基であり;
Raは、各出現においてそれぞれ独立して、-Z-SiR1 pR2 qR3 rを表し;
Zは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または2価の有機基を表し;
R2は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
qが3であり;
kが3である。
Rfが、炭素数1~16のパーフルオロアルキル基であり;
PFPEが下記式(a)、(b)または(c):
-(OC3F6)d- (a)
[式中、dは1以上200以下の整数である。]
-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (b)
[式中、cおよびdは、それぞれ独立して、0以上30以下の整数であり;
eおよびfは、それぞれ独立して、1以上200以下の整数であり;
c、d、eおよびfの和は、10以上200以下の整数であり;
添字c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。]
-(R6-R7)j- (c)
[式中、R6は、OCF2またはOC2F4であり;
R7は、OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10およびOC6F12から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される2または3つの基の組み合わせであり;
jは、2~100の整数である。]
であり;
Xが、炭素数2~10の、非置換の、直鎖状のアルキレン基であり;
Raは、各出現においてそれぞれ独立して、-Z-SiR1 pR2 qR3 rを表し;
Zは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または2価の有機基を表し;
R2は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
qが3であり;
kが3である。
上記式(A1)および(A2)で表される化合物は、例えば、Rf-PFPE-部分に対応するパーフルオロポリエーテル誘導体を原料として、末端に水酸基を導入した後、末端に不飽和結合を有する基を導入し、この不飽和結合を有する基とハロゲン原子を有するシリル誘導体とを反応させ、さらにこのシリル基に末端に水酸基を導入し、導入した不飽和結合を有する基とシリル誘導体とを反応させることにより得ることができる。例えば、国際公開第2014/069592号に記載のように合成することができる。
次に、本発明の表面処理剤について説明する。
本発明の表面処理剤は、式(A1)および/または式(A2)で表される少なくとも1種のPFPE含有シラン化合物を含有する。PFPE含有シラン化合物については、上記したとおりである。
本発明の表面処理剤は、撥水性、撥油性、防汚性、摩擦耐久性、耐UV性を基材に対して付与することができ、特に限定されるものではないが、防汚性コーティング剤として好適に使用され得る。
本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されていてもよい。このような溶媒としては、特に限定するものではないが、例えば:
パーフルオロヘキサン、CF3CF2CHCl2、CF3CH2CF2CH3、CF3CHFCHFC2F5、1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-トリデカフルオロオクタン、1,1,2,2,3,3,4-ヘプタフルオロシクロペンタン((ゼオローラH(商品名)等)、C4F9OCH3、C4F9OC2H5、CF3CH2OCF2CHF2、C6F13CH=CH2、キシレンヘキサフルオリド、パーフルオロベンゼン、メチルペンタデカフルオロヘプチルケトン、トリフルオロエタノール、ペンタフルオロプロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、HCF2CF2CH2OH、メチルトリフルオロメタンスルホネート、トリフルオロ酢酸およびCF3O(CF2CF2O)m1(CF2O)n1CF2CF3[式中、m1およびn1は、それぞれ独立して0以上1000以下の整数であり、m1またはn1を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、但しm1およびn1の和は1以上である。]、1,1-ジクロロ-2,3,3,3-テトラフルオロ-1-プロペン、1,2-ジクロロ-1,3,3,3-テトラフルオロ-1-プロペン、1,2-ジクロロ-3,3,3-トリフルオロ-1-プロペン、1,1-ジクロロ-3,3,3-トリフルオロ-1-プロペン、1,1,2-トリクロロ―3,3,3-トリフルオロ-1-プロペン、1,1,1,4,4,4-ヘキサフルオロ-2-ブテンからなる群から選択されるフッ素原子含有溶媒等が挙げられる。
パーフルオロヘキサン、CF3CF2CHCl2、CF3CH2CF2CH3、CF3CHFCHFC2F5、1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-トリデカフルオロオクタン、1,1,2,2,3,3,4-ヘプタフルオロシクロペンタン((ゼオローラH(商品名)等)、C4F9OCH3、C4F9OC2H5、CF3CH2OCF2CHF2、C6F13CH=CH2、キシレンヘキサフルオリド、パーフルオロベンゼン、メチルペンタデカフルオロヘプチルケトン、トリフルオロエタノール、ペンタフルオロプロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、HCF2CF2CH2OH、メチルトリフルオロメタンスルホネート、トリフルオロ酢酸およびCF3O(CF2CF2O)m1(CF2O)n1CF2CF3[式中、m1およびn1は、それぞれ独立して0以上1000以下の整数であり、m1またはn1を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、但しm1およびn1の和は1以上である。]、1,1-ジクロロ-2,3,3,3-テトラフルオロ-1-プロペン、1,2-ジクロロ-1,3,3,3-テトラフルオロ-1-プロペン、1,2-ジクロロ-3,3,3-トリフルオロ-1-プロペン、1,1-ジクロロ-3,3,3-トリフルオロ-1-プロペン、1,1,2-トリクロロ―3,3,3-トリフルオロ-1-プロペン、1,1,1,4,4,4-ヘキサフルオロ-2-ブテンからなる群から選択されるフッ素原子含有溶媒等が挙げられる。
上記溶媒中に含まれる水分含有量は、質量換算で20ppm以下であることが好ましい。上記水分含有量は、カールフィッシャー法を用いて測定することができる。このような水分含有量であることによって、表面処理剤の保存安定性が向上し得る。
本発明のPFPE含有シラン化合物を含む表面処理剤は、PFPE含有シラン化合物に加え、他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、例えば、他の表面処理化合物、含フッ素オイルとして理解され得る(非反応性の)フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ(ポリ)エーテル化合物(以下、「含フッ素オイル」と言う)、シリコーンオイルとして理解され得る(非反応性の)シリコーン化合物(以下、「シリコーンオイル」と言う)、アルコール、触媒、遷移金属、ハロゲン化物イオン、分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物などが挙げられる。
他の表面処理化合物としては、特に限定されないが、例えば、下記一般式(1A)、(2A)、(1B)、(2B)、(1C)、(2C)、(1D)および(2D):
[式中:
PFPE3は、各出現においてそれぞれ独立して、式:
-(OC6F12)a1-(OC5F10)b1-(OC4F8)c1-(OC3F6)d1-(OC2F4)e1-(OCF2)f1-
(式中、a1、b1、c1、d1、e1およびf1は、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、a1、b1、c1、d1、e1およびf1の和は少なくとも1であり、a1、b1、c1、d1、e1またはf1を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。)
で表される基であり;
Rf3は、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16のアルキル基を表し;
R23は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
R24は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数1~22のアルキル基を表し;
R21は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し;
R22は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
n3は、(-SiR23 n3R24 3-n3)単位毎に独立して、0~3の整数であり;
ただし、式(1A)、(2A)、(1B)および(2B)において、少なくとも1つのn3が、1~3の整数であり;
X4は、それぞれ独立して、単結合または2~10価の有機基を表し;
X5は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または2価の有機基を表し;
tは、各出現においてそれぞれ独立して、1~10の整数であり;
α1は、それぞれ独立して、1~9の整数であり;
α1’は、それぞれ独立して、1~9の整数であり;
X6は、それぞれ独立して、単結合または2~10価の有機基を表し;
β1は、それぞれ独立して、1~9の整数であり;
β1’は、それぞれ独立して、1~9の整数であり;
X7は、それぞれ独立して、単結合または2~10価の有機基を表し;
γ1は、それぞれ独立して、1~9の整数であり;
γ1’は、それぞれ独立して、1~9の整数であり;
Ra3は、各出現においてそれぞれ独立して、-Z3-SiR71 p1R72 q1R73 r1を表し;
Z3は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または2価の有機基を表し;
R71は、各出現においてそれぞれ独立して、Ra3’を表し;
Ra3’は、Ra3と同意義であり;
Ra3中、Z3基を介して直鎖状に連結されるSiは最大で5個であり;
R72は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
R73は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
p1は、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
q1は、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
r1は、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
ただし、式(1C)および(2C)において、少なくとも1つのq1が1~3の整数であり;
Rb3は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
Rc3は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
k1は、各出現においてそれぞれ独立して、1~3の整数であり;
l1は、各出現においてそれぞれ独立して、0~2の整数であり;
m1は、各出現においてそれぞれ独立して、0~2の整数であり;
X9は、それぞれ独立して、単結合または2~10価の有機基を表し;
δ1は、それぞれ独立して、1~9の整数であり;
δ1’は、それぞれ独立して、1~9の整数であり;
Rd3は、各出現においてそれぞれ独立して、-Z4-CR81 p2R82 q2R83 r2を表し;
Z4は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または2価の有機基を表し;
R81は、各出現においてそれぞれ独立して、Rd3’を表し;
Rd3’は、Rd3と同意義であり;
Rd3中、Z4基を介して直鎖状に連結されるCは最大で5個であり;
R82は、各出現においてそれぞれ独立して、-Y-SiR85 n2R86 3-n2を表し;
Yは、各出現においてそれぞれ独立して、2価の有機基を表し;
R85は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
R86は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
n2は、(-Y-SiR85 n2R86 3-n2)単位毎に独立して、1~3の整数を表し;
ただし、式(1D)および(2D)において、少なくとも1つのn2は1~3の整数であり;
R83は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
p2は、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
q2は、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
r2は、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
Re3は、各出現においてそれぞれ独立して、-Y-SiR85 n2R86 3-n2を表し;
Rf3は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
k2は、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
l2は、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
m2は、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
ただし、式(1D)および(2D)において、少なくとも1つのq2は2または3であるか、あるいは、少なくとも1つのl2は2または3である。]
のいずれかで表される少なくとも1種のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物が挙げられる。
PFPE3は、各出現においてそれぞれ独立して、式:
-(OC6F12)a1-(OC5F10)b1-(OC4F8)c1-(OC3F6)d1-(OC2F4)e1-(OCF2)f1-
(式中、a1、b1、c1、d1、e1およびf1は、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、a1、b1、c1、d1、e1およびf1の和は少なくとも1であり、a1、b1、c1、d1、e1またはf1を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。)
で表される基であり;
Rf3は、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16のアルキル基を表し;
R23は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
R24は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数1~22のアルキル基を表し;
R21は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し;
R22は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
n3は、(-SiR23 n3R24 3-n3)単位毎に独立して、0~3の整数であり;
ただし、式(1A)、(2A)、(1B)および(2B)において、少なくとも1つのn3が、1~3の整数であり;
X4は、それぞれ独立して、単結合または2~10価の有機基を表し;
X5は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または2価の有機基を表し;
tは、各出現においてそれぞれ独立して、1~10の整数であり;
α1は、それぞれ独立して、1~9の整数であり;
α1’は、それぞれ独立して、1~9の整数であり;
X6は、それぞれ独立して、単結合または2~10価の有機基を表し;
β1は、それぞれ独立して、1~9の整数であり;
β1’は、それぞれ独立して、1~9の整数であり;
X7は、それぞれ独立して、単結合または2~10価の有機基を表し;
γ1は、それぞれ独立して、1~9の整数であり;
γ1’は、それぞれ独立して、1~9の整数であり;
Ra3は、各出現においてそれぞれ独立して、-Z3-SiR71 p1R72 q1R73 r1を表し;
Z3は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または2価の有機基を表し;
R71は、各出現においてそれぞれ独立して、Ra3’を表し;
Ra3’は、Ra3と同意義であり;
Ra3中、Z3基を介して直鎖状に連結されるSiは最大で5個であり;
R72は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
R73は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
p1は、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
q1は、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
r1は、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
ただし、式(1C)および(2C)において、少なくとも1つのq1が1~3の整数であり;
Rb3は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
Rc3は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
k1は、各出現においてそれぞれ独立して、1~3の整数であり;
l1は、各出現においてそれぞれ独立して、0~2の整数であり;
m1は、各出現においてそれぞれ独立して、0~2の整数であり;
X9は、それぞれ独立して、単結合または2~10価の有機基を表し;
δ1は、それぞれ独立して、1~9の整数であり;
δ1’は、それぞれ独立して、1~9の整数であり;
Rd3は、各出現においてそれぞれ独立して、-Z4-CR81 p2R82 q2R83 r2を表し;
Z4は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または2価の有機基を表し;
R81は、各出現においてそれぞれ独立して、Rd3’を表し;
Rd3’は、Rd3と同意義であり;
Rd3中、Z4基を介して直鎖状に連結されるCは最大で5個であり;
R82は、各出現においてそれぞれ独立して、-Y-SiR85 n2R86 3-n2を表し;
Yは、各出現においてそれぞれ独立して、2価の有機基を表し;
R85は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
R86は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
n2は、(-Y-SiR85 n2R86 3-n2)単位毎に独立して、1~3の整数を表し;
ただし、式(1D)および(2D)において、少なくとも1つのn2は1~3の整数であり;
R83は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
p2は、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
q2は、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
r2は、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
Re3は、各出現においてそれぞれ独立して、-Y-SiR85 n2R86 3-n2を表し;
Rf3は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
k2は、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
l2は、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
m2は、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
ただし、式(1D)および(2D)において、少なくとも1つのq2は2または3であるか、あるいは、少なくとも1つのl2は2または3である。]
のいずれかで表される少なくとも1種のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物が挙げられる。
上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式(3)で表される化合物(パーフルオロ(ポリ)エーテル化合物)が挙げられる。
Rf5-(OC4F8)a’-(OC3F6)b’-(OC2F4)c’-(OCF2)d’-Rf6 ・・・(3)
式中、Rf5は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16アルキル基(好ましくは、C1―16のパーフルオロアルキル基)を表し、Rf6は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16アルキル基(好ましくは、C1-16パーフルオロアルキル基)、フッ素原子または水素原子を表し、Rf5およびRf6は、より好ましくは、それぞれ独立して、C1-3パーフルオロアルキル基である。
a’、b’、c’およびd’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ(ポリ)エーテルの4種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して0以上300以下の整数であって、a’、b’、c’およびd’の和は少なくとも1、好ましくは1~300、より好ましくは20~300である。添字a’、b’、c’またはd’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、-(OC4F8)-は、-(OCF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3))-、-(OC(CF3)2CF2)-、-(OCF2C(CF3)2)-、-(OCF(CF3)CF(CF3))-、-(OCF(C2F5)CF2)-および-(OCF2CF(C2F5))-のいずれであってもよいが、好ましくは-(OCF2CF2CF2CF2)-である。-(OC3F6)-は、-(OCF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2)-および-(OCF2CF(CF3))-のいずれであってもよく、好ましくは-(OCF2CF2CF2)-である。-(OC2F4)-は、-(OCF2CF2)-および-(OCF(CF3))-のいずれであってもよいが、好ましくは-(OCF2CF2)-である。
Rf5-(OC4F8)a’-(OC3F6)b’-(OC2F4)c’-(OCF2)d’-Rf6 ・・・(3)
式中、Rf5は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16アルキル基(好ましくは、C1―16のパーフルオロアルキル基)を表し、Rf6は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16アルキル基(好ましくは、C1-16パーフルオロアルキル基)、フッ素原子または水素原子を表し、Rf5およびRf6は、より好ましくは、それぞれ独立して、C1-3パーフルオロアルキル基である。
a’、b’、c’およびd’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ(ポリ)エーテルの4種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して0以上300以下の整数であって、a’、b’、c’およびd’の和は少なくとも1、好ましくは1~300、より好ましくは20~300である。添字a’、b’、c’またはd’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、-(OC4F8)-は、-(OCF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3))-、-(OC(CF3)2CF2)-、-(OCF2C(CF3)2)-、-(OCF(CF3)CF(CF3))-、-(OCF(C2F5)CF2)-および-(OCF2CF(C2F5))-のいずれであってもよいが、好ましくは-(OCF2CF2CF2CF2)-である。-(OC3F6)-は、-(OCF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2)-および-(OCF2CF(CF3))-のいずれであってもよく、好ましくは-(OCF2CF2CF2)-である。-(OC2F4)-は、-(OCF2CF2)-および-(OCF(CF3))-のいずれであってもよいが、好ましくは-(OCF2CF2)-である。
上記一般式(3)で表されるパーフルオロ(ポリ)エーテル化合物の例として、以下の一般式(3a)および(3b)のいずれかで示される化合物(1種または2種以上の混合物であってよい)が挙げられる。
Rf5-(OCF2CF2CF2)b’’-Rf6 ・・・(3a)
Rf5-(OCF2CF2CF2CF2)a’’-(OCF2CF2CF2)b’’-(OCF2CF2)c’’-(OCF2)d’’-Rf6 ・・・(3b)
これら式中、Rf5およびRf6は上記の通りであり;式(3a)において、b’’は1以上100以下の整数であり;式(3b)において、a’’およびb’’は、それぞれ独立して1以上30以下の整数であり、c’’およびd’’はそれぞれ独立して1以上300以下の整数である。添字a’’、b’’、c’’、d’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
Rf5-(OCF2CF2CF2)b’’-Rf6 ・・・(3a)
Rf5-(OCF2CF2CF2CF2)a’’-(OCF2CF2CF2)b’’-(OCF2CF2)c’’-(OCF2)d’’-Rf6 ・・・(3b)
これら式中、Rf5およびRf6は上記の通りであり;式(3a)において、b’’は1以上100以下の整数であり;式(3b)において、a’’およびb’’は、それぞれ独立して1以上30以下の整数であり、c’’およびd’’はそれぞれ独立して1以上300以下の整数である。添字a’’、b’’、c’’、d’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
上記含フッ素オイルは、1,000~30,000の平均分子量を有していてよい。これにより、高い表面滑り性を得ることができる。
本発明の表面処理剤中、含フッ素オイルは、上記パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物100質量部(それぞれ、2種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様)に対して、例えば0~500質量部、好ましくは0~400質量部、より好ましくは5~300質量部で含まれ得る。
一般式(3a)で示される化合物および一般式(3b)で示される化合物は、それぞれ単独で用いても、組み合わせて用いてもよい。一般式(3a)で示される化合物よりも、一般式(3b)で示される化合物を用いるほうが、より高い表面滑り性が得られるので好ましい。これらを組み合わせて用いる場合、一般式(3a)で表される化合物と、一般式(3b)で表される化合物との質量比は、1:1~1:30が好ましく、1:1~1:10がより好ましい。かかる質量比によれば、表面滑り性と摩擦耐久性のバランスに優れた表面処理層を得ることができる。
一の態様において、含フッ素オイルは、一般式(3b)で表される1種またはそれ以上の化合物を含む。かかる態様において、表面処理剤中の上記パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物の合計と、式(3b)で表される化合物との質量比は、10:1~1:10が好ましく、さらに4:1~1:4であることがより好ましい。
一の態様において、式(3a)で表される化合物の平均分子量は、2,000~8,000であることが好ましい。
一の態様において、式(3b)で表される化合物の平均分子量は、8,000~30,000であることが好ましい。
別の態様において、式(3b)で表される化合物の平均分子量は、3,000~8,000であることが好ましい。
好ましい態様において、真空蒸着法により表面処理層を形成する場合には、上記パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。例えば、パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物の数平均分子量よりも、含フッ素オイルの数平均分子量を、2,000以上、好ましくは3,000以上、より好ましくは5,000以上大きくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、より優れた摩擦耐久性と表面滑り性を得ることができる。
また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Rf’-F(式中、Rf’はC5-16パーフルオロアルキル基である。)で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。Rf’-Fで表される化合物およびクロロトリフルオロエチレンオリゴマーは、RfがC1-16パーフルオロアルキル基である上記パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物と高い親和性が得られる点で好ましい。
含フッ素オイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が2,000以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。
本発明の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物および上記カルボン酸エステル化合物の合計100質量部(2種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様)に対して、例えば0~300質量部、好ましくは0~200質量部で含まれ得る。
シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
上記触媒としては、酸(例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等)、塩基(例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等)、遷移金属(例えばTi、Ni、Sn等)等が挙げられる。
触媒は、上記パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、表面処理層の形成を促進する。
上記遷移金属としては、白金、ルテニウム、ロジウム等が挙げられる。
上記ハロゲン化物イオンとしては、塩化物イオン等が挙げられる。
上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物は、窒素原子、酸素原子、リン原子および硫黄原子からなる群より選ばれる少なくとも1つの原子を含むことが好ましく、硫黄原子、または窒素原子を含むことがより好ましい。
上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物は、分子構造内に、アミノ基、アミド基、スルフィニル基、P=O基、S=O基およびスルホニル基からなる群より選ばれる少なくとも1つの官能基を含むことが好ましく、P=O基およびS=O基からなる群より選ばれる少なくとも1つの官能基を含むことがより好ましい。
上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物は、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン化合物、リン酸アミド化合物、アミド化合物、尿素化合物およびスルホキシド化合物からなる群より選ばれる少なくとも1つの化合物であることが好ましく、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン類、リン酸アミド、尿素化合物およびスルホキシド化合物からなる群より選ばれる少なくとも1つの化合物であることがより好ましく、スルホキシド化合物、脂肪族アミン化合物および芳香族アミン化合物からなる群より選ばれる少なくとも1つの化合物であることが特に好ましく、スルホキシド化合物であることがさらに好ましい。
上記脂肪族アミン化合物としては、例えば、ジエチルアミン、トリエチルアミン等を挙げることができる。上記芳香族アミン化合物としては、例えば、アニリン、ピリジン等を挙げることができる。上記リン酸アミド化合物としては、例えば、ヘキサメチルホスホルアミド等を挙げることができる。上記アミド化合物としては、例えば、N,N-ジエチルアセトアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン等を挙げることができる。上記尿素化合物としては、テトラメチル尿素等を挙げることができる。上記スルホキシド化合物としては、ジメチルスルホキシド(DMSO)、テトラメチレンスルホキシド、メチルフェニルスルホキシド、ジフェニルスルホキシド等を挙げることができる。これらの化合物の中で、ジメチルスルホキシド、またはテトラメチレンスルホキシドを用いることが好ましい。
他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。
他の成分としては、上記以外に、例えば、炭素数1~6のアルコール化合物が挙げられる。
本発明の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。
本発明の表面処理剤は、撥水性、撥油性、防汚性、防水性、高い摩擦耐久性および耐UV性を基材に対して付与することができることから、表面処理剤として好適に使用される。具体的には、本発明の表面処理剤は、特に限定されるものではないが、防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として好適に使用され得る。
次に、本発明の物品について説明する。
本発明の物品は、基材と、該基材の表面に本発明のPFPE含有シラン化合物または表面処理剤(以下、これらを代表して単に「本発明の表面処理剤」と言う)より形成された層(表面処理層)とを含む。この物品は、例えば以下のようにして製造できる。
まず、基材を準備する。本発明に使用可能な基材は、例えばガラス、樹脂(天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい)、金属(アルミニウム、銅、鉄等の金属単体または合金等の複合体であってよい)、セラミックス、半導体(シリコン、ゲルマニウム等)、繊維(織物、不織布等)、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。
上記ガラスとしては、サファイアガラス、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、および化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。
樹脂としては、アクリル樹脂、ポリカーボネートが好ましい。
樹脂としては、アクリル樹脂、ポリカーボネートが好ましい。
例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面(最外層)に何らかの層(または膜)、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、SiO2、SiO、ZrO2、TiO2、TiO、Ti2O3、Ti2O5、Al2O3、Ta2O5、CeO2、MgO、Y2O3、SnO2、MgF2、WO3などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの2種以上を組み合わせて(例えば混合物として)使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはSiO2および/またはSiOを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ(ITO)や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材(ガラス)の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層(I-CON)、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。
基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。
かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属(特に卑金属)、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理(例えばコロナ放電)や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する(異物等を除去する)ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素-炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をLB法(ラングミュア-ブロジェット法)や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。
またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばSi-H基を1つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。
次に、かかる基材の表面に、上記の本発明の表面処理剤の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより、本発明の表面処理剤から表面処理層を形成する。
本発明の表面処理剤の膜形成は、本発明の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。
湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。
乾燥被覆法の例としては、蒸着(通常、真空蒸着)、スパッタリング、CVDおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法(通常、真空蒸着法)の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。CVD方法の具体例としては、プラズマ-CVD、光学CVD、熱CVDおよび類似の方法が挙げられる。
更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。
湿潤被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本発明の表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される:C5-12のパーフルオロ脂肪族炭化水素(例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ-1,3-ジメチルシクロヘキサン);ポリフルオロ芳香族炭化水素(例えば、ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン);ポリフルオロ脂肪族炭化水素(例えば、C6F13CH2CH3(例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン(登録商標)AC-6000)、1,1,2,2,3,3,4-ヘプタフルオロシクロペンタン(例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ(登録商標)H);ハイドロフルオロカーボン(HFC)(例えば、1,1,1,3,3-ペンタフルオロブタン(HFC-365mfc));ハイドロクロロフルオロカーボン(例えば、HCFC-225(アサヒクリン(登録商標)AK225));ヒドロフルオロエーテル(HFE)(例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル(C3F7OCH3)(例えば、住友スリーエム株式会社製のNovec(商標名)7000)、パーフルオロブチルメチルエーテル(C4F9OCH3)(例えば、住友スリーエム株式会社製のNovec(商標名)7100)、パーフルオロブチルエチルエーテル(C4F9OC2H5)(例えば、住友スリーエム株式会社製のNovec(商標名)7200)、パーフルオロヘキシルメチルエーテル(C2F5CF(OCH3)C3F7)(例えば、住友スリーエム株式会社製のNovec(商標名)7300)などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル(パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい)、あるいはCF3CH2OCF2CHF2(例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン(登録商標)AE-3000))、1,2-ジクロロ-1,3,3,3-テトラフルオロ-1-プロペン(例えば、三井・デュポンフロロケミカル社製のバートレル(登録商標)サイオン)など。これらの溶媒は、単独で、または、2種以上を組み合わせて混合物として用いることができる。さらに、例えば、パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物の溶解性を調整する等のために、別の溶媒と混合することもできる。
乾燥被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。
膜形成は、膜中で本発明の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本発明の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本発明の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本発明の表面処理剤をそのまま蒸着(通常、真空蒸着)処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本発明の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着(通常、真空蒸着)処理をしてもよい。
触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。
次に、必要に応じて、膜を後処理する。この後処理は、特に限定されないが、例えば、水分供給および乾燥加熱を逐次的に実施するものであってよく、より詳細には、以下のようにして実施してよい。
上記のようにして基材表面に本発明の表面処理剤を膜形成した後、この膜(以下、「前駆体膜」とも言う)に水分を供給する。水分の供給方法は、特に限定されず、例えば、前駆体膜(および基材)と周囲雰囲気との温度差による結露や、水蒸気(スチーム)の吹付けなどの方法を使用してよい。
水分の供給は、例えば0~250℃、好ましくは60℃以上、さらに好ましくは100℃以上とし、好ましくは180℃以下、さらに好ましくは150℃以下の雰囲気下にて実施し得る。このような温度範囲において水分を供給することにより、加水分解を進行させることが可能である。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。
次に、該前駆体膜を該基材の表面で、60℃を超える乾燥雰囲気下にて加熱する。乾燥加熱方法は、特に限定されず、前駆体膜を基材と共に、60℃を超え、好ましくは100℃を超える温度であって、例えば250℃以下、好ましくは180℃以下の温度で、かつ不飽和水蒸気圧の雰囲気下に配置すればよい。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。
このような雰囲気下では、本発明のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物間では、加水分解後のSiに結合した基同士が速やかに脱水縮合する。また、かかる化合物と基材との間では、当該化合物の加水分解後のSiに結合した基と、基材表面に存在する反応性基との間で速やかに反応し、基材表面に存在する反応性基が水酸基である場合には脱水縮合する。その結果、パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物と基材との間で結合が形成される。
上記の水分供給および乾燥加熱は、過熱水蒸気を用いることにより連続的に実施してもよい。
以上のようにして後処理が実施され得る。かかる後処理は、摩擦耐久性を一層向上させるために実施され得るが、本発明の物品を製造するのに必須でないことに留意されたい。例えば、本発明の表面処理剤を基材表面に適用した後、そのまま静置しておくだけでもよい。
上記のようにして、基材の表面に、本発明の表面処理剤の膜に由来する表面処理層が形成され、本発明の物品が製造される。これにより得られる表面処理層は、良好な耐UV性を有する。また、この表面処理層は、良好な耐UV性に加えて、使用する組成物の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性(例えば指紋等の汚れの付着を防止する)、表面滑り性(または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感)、高い摩擦耐久性などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。
すなわち本発明はさらに、前記硬化物(表面処理層)を最外層に有する光学材料にも関する。
光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる:例えば、陰極線管(CRT;例、TV、パソコンモニター)、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ、無機薄膜ELドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管(VFD)、電界放出ディスプレイ(FED;Field Emission Display)などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの保護板、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。
本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる:眼鏡などのレンズ;PDP、LCDなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板;携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート;ブルーレイ(Blu-ray(登録商標))ディスク、DVDディスク、CD-R、MOなどの光ディスクのディスク面;光ファイバーなど。
また、本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。
また、本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、車載用の部品であってもよい。
表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、1~50nm、より好ましくは1~30nm、特に好ましくは1~15nmの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。
別の形態としては、基材の表面に別途層を形成した後、その層の表面に本発明によって得られる表面処理層の膜を形成してもよい。
以上、本発明の表面処理剤を使用して得られる物品について詳述した。なお、本発明の表面処理剤の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。
本発明のPFPE含有シラン化合物について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
(合成例1)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2CH=CH2で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリル体10g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン10g、トリクロロシラン0.7gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.05ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて3時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(A)9gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(A):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2CH2CH2SiCl3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2CH=CH2で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリル体10g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン10g、トリクロロシラン0.7gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.05ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて3時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(A)9gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(A):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2CH2CH2SiCl3
(合成例2)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例1にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(A)9g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン15gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、アリルマグネシウムブロマイドを0.7mol/L含むジエチルエーテル溶液を14ml加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて10時間撹拌した。その後、5℃まで冷却し、メタノールを3ml加えた後、パーフルオロヘキサンを加えて、30分攪拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アリル体(B)10gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル体(B):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH=CH2)3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例1にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(A)9g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン15gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、アリルマグネシウムブロマイドを0.7mol/L含むジエチルエーテル溶液を14ml加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて10時間撹拌した。その後、5℃まで冷却し、メタノールを3ml加えた後、パーフルオロヘキサンを加えて、30分攪拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アリル体(B)10gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル体(B):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH=CH2)3
(合成例3)
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例2にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル体(B)10g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン15g、トリクロロシラン3.15gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.1ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて2時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(C)11gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(C):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2CH2SiCl3)3
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例2にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル体(B)10g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン15g、トリクロロシラン3.15gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.1ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて2時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(C)11gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(C):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2CH2SiCl3)3
(合成例4)
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例3にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(C)11g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン15gを加え、窒素気流下、50℃で30分間撹拌した。続いて、メタノール0.30gとオルソギ酸トリメチル5.4gの混合溶液を加えた後、55℃まで昇温させ、この温度にて2時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(D)11gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(D):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例3にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(C)11g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン15gを加え、窒素気流下、50℃で30分間撹拌した。続いて、メタノール0.30gとオルソギ酸トリメチル5.4gの混合溶液を加えた後、55℃まで昇温させ、この温度にて2時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(D)11gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(D):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
(合成例5)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH=CH2で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリル体10g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン14g、トリクロロシラン1.1gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.08ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて4時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(E)10.1gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(E):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2SiCl3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH=CH2で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリル体10g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン14g、トリクロロシラン1.1gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.08ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて4時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(E)10.1gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(E):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2SiCl3
(合成例6)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例5にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(E)10.1g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン14gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、アリルマグネシウムクロライドを1mol/L含むテトラヒドロフラン溶液を15.7ml加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて12時間撹拌した。その後、5℃まで冷却し、メタノールを4.6ml加えた後、パーフルオロヘキサン20gを加えて、30分撹拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アリル体(F)10.3gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル体(F):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH=CH2)3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例5にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(E)10.1g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン14gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、アリルマグネシウムクロライドを1mol/L含むテトラヒドロフラン溶液を15.7ml加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて12時間撹拌した。その後、5℃まで冷却し、メタノールを4.6ml加えた後、パーフルオロヘキサン20gを加えて、30分撹拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アリル体(F)10.3gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル体(F):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH=CH2)3
(合成例7)
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例6にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル体(F)5.5g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン8g、トリクロロシラン1.2gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.06ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて2時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(G)5.6gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(G):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2CH2SiCl3)3
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例6にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル体(F)5.5g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン8g、トリクロロシラン1.2gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.06ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて2時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(G)5.6gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(G):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2CH2SiCl3)3
(合成例8)
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例7にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(G)5.6g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン9gを加え、窒素気流下、50℃で30分間撹拌した。続いて、メタノール0.2gとオルソギ酸トリメチル5.8gの混合溶液を加えた後、55℃まで昇温させ、この温度にて3時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(H)5.7gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(H):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例7にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(G)5.6g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン9gを加え、窒素気流下、50℃で30分間撹拌した。続いて、メタノール0.2gとオルソギ酸トリメチル5.8gの混合溶液を加えた後、55℃まで昇温させ、この温度にて3時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(H)5.7gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(H):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
(合成例9)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例1にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(A)9g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン15gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、ビニルマグネシウムクロライドを1.6mol/L含むテトラヒドロフラン溶液を10ml加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて10時間撹拌した。その後、5℃まで冷却し、メタノールを5ml加えた後、パーフルオロヘキサンを加えて、30分攪拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にビニル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有ビニル体(I)9.1gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有ビニル体(I):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2CH2CH2Si(CH=CH2)3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例1にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(A)9g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン15gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、ビニルマグネシウムクロライドを1.6mol/L含むテトラヒドロフラン溶液を10ml加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて10時間撹拌した。その後、5℃まで冷却し、メタノールを5ml加えた後、パーフルオロヘキサンを加えて、30分攪拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にビニル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有ビニル体(I)9.1gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有ビニル体(I):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2CH2CH2Si(CH=CH2)3
(合成例10)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例9にて合成した末端にビニル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有ビニル体(I)9.1g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン12g、トリクロロシラン3.0gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.1ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて3時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(J)9.2gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(J):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2SiCl3)3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例9にて合成した末端にビニル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有ビニル体(I)9.1g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン12g、トリクロロシラン3.0gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.1ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて3時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(J)9.2gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(J):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2SiCl3)3
(合成例11)
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例10にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(J)9.2g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン12gを加え、窒素気流下、50℃で30分間撹拌した。続いて、メタノール0.40gとオルソギ酸トリメチル13.2gの混合溶液を加えた後、55℃まで昇温させ、この温度にて3時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(K)9.3gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(K):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2CH2CH2Si[CH2CH2Si(OCH3)3]3
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例10にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(J)9.2g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン12gを加え、窒素気流下、50℃で30分間撹拌した。続いて、メタノール0.40gとオルソギ酸トリメチル13.2gの混合溶液を加えた後、55℃まで昇温させ、この温度にて3時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(K)9.3gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(K):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2CH2CH2Si[CH2CH2Si(OCH3)3]3
(合成例12)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例5にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(E)10.1g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン12gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、ビニルマグネシウムクロライドを1.6mol/L含むテトラヒドロフラン溶液を9.5ml加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて12時間撹拌した。その後、5℃まで冷却し、メタノールを6ml加えた後、パーフルオロヘキサン20gを加えて、30分撹拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にビニル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有ビニル体(L)10.2gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有ビニル体(L):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si(CH=CH2)3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例5にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(E)10.1g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン12gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、ビニルマグネシウムクロライドを1.6mol/L含むテトラヒドロフラン溶液を9.5ml加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて12時間撹拌した。その後、5℃まで冷却し、メタノールを6ml加えた後、パーフルオロヘキサン20gを加えて、30分撹拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にビニル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有ビニル体(L)10.2gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有ビニル体(L):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si(CH=CH2)3
(合成例13)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例12にて合成した末端にビニル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有ビニル体(L)6.0g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン9g、トリクロロシラン1.5gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.06ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて2時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(M)6.1gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(M):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2SiCl3)3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例12にて合成した末端にビニル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有ビニル体(L)6.0g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン9g、トリクロロシラン1.5gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.06ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて2時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(M)6.1gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(M):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2SiCl3)3
(合成例14)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例13にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(M)6.1g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン9gを加え、窒素気流下、50℃で30分間撹拌した。続いて、メタノール0.25gとオルソギ酸トリメチル8.3gの混合溶液を加えた後、55℃まで昇温させ、この温度にて3時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(N)6.2gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(N):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si[CH2CH2Si(OCH3)3]3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例13にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(M)6.1g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン9gを加え、窒素気流下、50℃で30分間撹拌した。続いて、メタノール0.25gとオルソギ酸トリメチル8.3gの混合溶液を加えた後、55℃まで昇温させ、この温度にて3時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(N)6.2gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(N):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si[CH2CH2Si(OCH3)3]3
(合成例15)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例5にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(E)10.0g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン12gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、ブテニルマグネシウムブロマイドを1.0mol/L含むテトラヒドロフラン溶液を16.5ml加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて12時間撹拌した。その後、5℃まで冷却し、メタノールを6ml加えた後、パーフルオロヘキサン20gを加えて、30分撹拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にブテニル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有ブテニル体(O)10.1gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有ブテニル体(O):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2CH=CH2)3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例5にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(E)10.0g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン12gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、ブテニルマグネシウムブロマイドを1.0mol/L含むテトラヒドロフラン溶液を16.5ml加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて12時間撹拌した。その後、5℃まで冷却し、メタノールを6ml加えた後、パーフルオロヘキサン20gを加えて、30分撹拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にブテニル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有ブテニル体(O)10.1gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有ブテニル体(O):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2CH=CH2)3
(合成例16)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例15にて合成した末端にブテニル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有ブテニル体(O)6.0g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン9g、トリクロロシラン1.5gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.06ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて2時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(P)6.1gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(P):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2CH2CH2SiCl3)3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例15にて合成した末端にブテニル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有ブテニル体(O)6.0g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン9g、トリクロロシラン1.5gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.06ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて2時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(P)6.1gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(P):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2CH2CH2SiCl3)3
(合成例17)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例16にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(P)6.1g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン9gを加え、窒素気流下、50℃で30分間撹拌した。続いて、メタノール0.25gとオルソギ酸トリメチル8.3gの混合溶液を加えた後、55℃まで昇温させ、この温度にて3時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(Q)6.2gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(Q):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例16にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(P)6.1g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン9gを加え、窒素気流下、50℃で30分間撹拌した。続いて、メタノール0.25gとオルソギ酸トリメチル8.3gの混合溶液を加えた後、55℃まで昇温させ、この温度にて3時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(Q)6.2gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(Q):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
(合成例18)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例5にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(E)10.0g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン12gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、ヘキセニルマグネシウムブロマイドを1.0mol/L含むテトラヒドロフラン溶液を16.5ml加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて12時間撹拌した。その後、5℃まで冷却し、メタノールを6ml加えた後、パーフルオロヘキサン20gを加えて、30分撹拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にヘキセニル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有ヘキセニル体(R)10.1gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有ヘキセニル体(R):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2CH2CH2CH=CH2)3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例5にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(E)10.0g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン12gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、ヘキセニルマグネシウムブロマイドを1.0mol/L含むテトラヒドロフラン溶液を16.5ml加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて12時間撹拌した。その後、5℃まで冷却し、メタノールを6ml加えた後、パーフルオロヘキサン20gを加えて、30分撹拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にヘキセニル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有ヘキセニル体(R)10.1gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有ヘキセニル体(R):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2CH2CH2CH=CH2)3
(合成例19)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例18にて合成した末端にヘキセニル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有ヘキセニル体(R)6.0g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン9g、トリクロロシラン1.5gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.06ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて2時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(S)6.1gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(S):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2CH2CH2CH2CH2SiCl3)3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例18にて合成した末端にヘキセニル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有ヘキセニル体(R)6.0g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン9g、トリクロロシラン1.5gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.06ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて2時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(S)6.1gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(S):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2CH2CH2CH2CH2SiCl3)3
(合成例20)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例19にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(S)6.1g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン9gを加え、窒素気流下、50℃で30分間撹拌した。続いて、メタノール0.25gとオルソギ酸トリメチル8.3gの混合溶液を加えた後、55℃まで昇温させ、この温度にて3時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(T)6.2gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(T):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例19にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(S)6.1g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン9gを加え、窒素気流下、50℃で30分間撹拌した。続いて、メタノール0.25gとオルソギ酸トリメチル8.3gの混合溶液を加えた後、55℃まで昇温させ、この温度にて3時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(T)6.2gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(T):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
(合成例21)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3O(CF2CF2O)21(CF2O)29CF2CH2CH=CH2で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリル体13g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン15.6g、トリクロロシラン1.3gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.10ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて4時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(U)13.2gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(U):
CF3O(CF2CF2O)21(CF2O)29CF2CH2CH2CH2SiCl3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3O(CF2CF2O)21(CF2O)29CF2CH2CH=CH2で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリル体13g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン15.6g、トリクロロシラン1.3gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.10ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて4時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(U)13.2gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(U):
CF3O(CF2CF2O)21(CF2O)29CF2CH2CH2CH2SiCl3
(合成例22)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例21にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(U)13.2g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン15.6gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、アリルマグネシウムクロライドを1mol/L含むテトラヒドロフラン溶液を17.8ml加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて12時間撹拌した。その後、5℃まで冷却し、メタノールを7.1ml加えた後、パーフルオロヘキサン30gを加えて、30分撹拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アリル体(V)13.0gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル体(V):
CF3O(CF2CF2O)21(CF2O)29CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH=CH2)3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例21にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(U)13.2g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン15.6gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、アリルマグネシウムクロライドを1mol/L含むテトラヒドロフラン溶液を17.8ml加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて12時間撹拌した。その後、5℃まで冷却し、メタノールを7.1ml加えた後、パーフルオロヘキサン30gを加えて、30分撹拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アリル体(V)13.0gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル体(V):
CF3O(CF2CF2O)21(CF2O)29CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH=CH2)3
(合成例23)
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例22にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル体(V)12.5g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン17.3g、トリクロロシラン2.5gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.17ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて2時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(W)12.6gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(W):
CF3O(CF2CF2O)21(CF2O)29CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2CH2SiCl3)3
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例22にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル体(V)12.5g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン17.3g、トリクロロシラン2.5gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.17ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて2時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(W)12.6gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(W):
CF3O(CF2CF2O)21(CF2O)29CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2CH2SiCl3)3
(合成例24)
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例23にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(W)12.6g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン17gを加え、窒素気流下、50℃で30分間撹拌した。続いて、メタノール0.4gとオルソギ酸トリメチル13.3gの混合溶液を加えた後、55℃まで昇温させ、この温度にて3時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(X)12.7gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(X):
CF3O(CF2CF2O)21(CF2O)29CF2CH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、合成例23にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(W)12.6g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン17gを加え、窒素気流下、50℃で30分間撹拌した。続いて、メタノール0.4gとオルソギ酸トリメチル13.3gの混合溶液を加えた後、55℃まで昇温させ、この温度にて3時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(X)12.7gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(X):
CF3O(CF2CF2O)21(CF2O)29CF2CH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
(実施例1)
上記合成例4で得た化合物(D)を、濃度20wt%になるように、ハイドロフルオロエーテル(スリーエム社製、ノベックHFE7200)に溶解させて、表面処理剤1を調製した。
上記合成例4で得た化合物(D)を、濃度20wt%になるように、ハイドロフルオロエーテル(スリーエム社製、ノベックHFE7200)に溶解させて、表面処理剤1を調製した。
上記で調製した表面処理剤1を化学強化ガラス(コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ0.7mm)上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、圧力3.0×10-3Paとし、まず、二酸化ケイ素を7nmの厚さで、この化学強化ガラスの表面に蒸着させて二酸化ケイ素膜を形成し、続いて、化学強化ガラス1枚(55mm×100mm)あたり、表面処理剤2mg(即ち、化合物(D)を0.4mg含有)を蒸着させた。その後、蒸着膜付き化学強化ガラスを、温度20℃および湿度65%の雰囲気下で24時間静置した。これにより、蒸着膜が硬化して、表面処理層が形成された。
(実施例2)
化合物(D)に代えて、化合物(H)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
化合物(D)に代えて、化合物(H)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
(実施例3~4)
化合物(D)に代えて、化合物(K)または化合物(N)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
化合物(D)に代えて、化合物(K)または化合物(N)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
(実施例5~6)
化合物(D)に代えて、化合物(Q)または化合物(T)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
化合物(D)に代えて、化合物(Q)または化合物(T)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
(実施例7)
化合物(D)に代えて、化合物(X)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
化合物(D)に代えて、化合物(X)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
(比較例1)
化合物(D)に代えて、下記対照化合物1を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
・対照化合物1
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2OCH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
化合物(D)に代えて、下記対照化合物1を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
・対照化合物1
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2OCH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
(比較例2)
化合物(D)に代えて、下記対照化合物2を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
・対照化合物2
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2OCH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
化合物(D)に代えて、下記対照化合物2を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
・対照化合物2
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2OCH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
(耐UV性評価)
上記の実施例および比較例にて形成された表面処理層について、UV照射前後の水の静的接触角をそれぞれ測定した。UV照射は、UVB-313ランプ(Q-Lab社製、310nmにおいて放射照度0.63W/m2)を用い、ランプと表面処理層との距離を5cmとして行った。水の静的接触角の測定は、接触角測定装置(協和界面科学社製)を用いて、水1μLにて実施した。
上記の実施例および比較例にて形成された表面処理層について、UV照射前後の水の静的接触角をそれぞれ測定した。UV照射は、UVB-313ランプ(Q-Lab社製、310nmにおいて放射照度0.63W/m2)を用い、ランプと表面処理層との距離を5cmとして行った。水の静的接触角の測定は、接触角測定装置(協和界面科学社製)を用いて、水1μLにて実施した。
まず、初期評価として、表面処理層形成後、UV照射前に水の静的接触角を測定した(UV照射時間0時間)。その後、所定の時間UVを照射した後の表面処理層について、水の静的接触角をそれぞれ測定した。評価は、累積照射時間96時間まで行った。結果を表1に示す。
(摩擦耐久性の評価)
上記の実施例1~7および比較例1~2で形成された表面処理層について、実使用耐久性の評価として、以下に示す摩擦耐久試験を実施した。
上記の実施例1~7および比較例1~2で形成された表面処理層について、実使用耐久性の評価として、以下に示す摩擦耐久試験を実施した。
初期評価として、表面処理層形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、水の静的接触角を測定した(摩擦回数 ゼロ回)。
その後、表面処理層を形成したサンプル物品を水平配置し、以下の摩擦子を表面処理層の表面に接触(接触面は直径1cmの円)させ、その上に5Nの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態で摩擦子を40mm/秒の速度で往復させた。摩擦子を最大4000回往復させ、往復回数(摩擦回数)1000回毎に水の静的接触角(度)を測定した。水の静的接触角の測定値が60度未満となった時点で試験を中止した。なお、水の静的接触角の測定方法は、上記の耐UV性評価と同様に行った。結果を表2に示す(表中、記号「-」は測定せず)。
・摩擦子
下記に示すシリコーンゴム加工品の表面(直径1cm)を、下記に示す組成の人工汗を浸漬したコットンで覆ったものを摩擦子として用いた。
・人工汗の組成
無水リン酸水素二ナトリウム:2g
塩化ナトリウム:20g
85%乳酸:2g
ヒスチジン塩酸塩:5g
蒸留水:1Kg
・シリコーンゴム加工品
タイガースポリマー製、シリコーンゴム栓SR-51を、直径1cm、厚さ1cmの円柱状に加工したもの。
・摩擦子
下記に示すシリコーンゴム加工品の表面(直径1cm)を、下記に示す組成の人工汗を浸漬したコットンで覆ったものを摩擦子として用いた。
・人工汗の組成
無水リン酸水素二ナトリウム:2g
塩化ナトリウム:20g
85%乳酸:2g
ヒスチジン塩酸塩:5g
蒸留水:1Kg
・シリコーンゴム加工品
タイガースポリマー製、シリコーンゴム栓SR-51を、直径1cm、厚さ1cmの円柱状に加工したもの。
表1の結果から理解されるように、実施例1~7の表面処理層では、比較例1および2の表面処理層と比べて、UVの照射に伴う接触角の低下が抑制された。これは、実施例1~7で形成された表面処理層では、UV照射に起因する表面処理層の分解が抑制されているためと思われる。すなわち、アルキレン基のみからなるリンカーを有する本発明のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を用いると、形成される表面処理層の耐UV性が向上することが確認された。
表2の結果から理解されるように、実施例1~7の表面処理層は、接触角の低下が抑制され、優れた摩擦耐久性を有することが確認された。これは、実施例1~7の表面処理層のケミカルによる劣化が抑制されており、更に、表面処理剤がリンカー(すなわち、X)としてアルキレン基を有する影響でPFPE鎖が密に配向され、表面処理層の耐摩擦性が向上したためと思われる。すなわち、アルキレン基のみからなるリンカーを有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を用いると、形成される表面処理層の耐ケミカル性と耐摩耗性とが向上することが確認された。
実施例2の表面処理剤に含まれる化合物(H)のe/f比は1.25であり、実施例7の表面処理剤に含まれる化合物(X)のe/f比は0.72である。実施例7の表面処理剤では、化合物(X)に含まれる(CF2CF2O)ユニットの含有量が(CF2O)ユニットの含有量より少ないため、形成された表面処理層が滑りやすくなり、摩擦耐久性が更に向上したと考えられる。
本発明は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。
Claims (17)
- 式(A1)または式(A2):
PFPEは、各出現においてそれぞれ独立して、式:
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-
(a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は少なくとも1であり、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。)
で表される基であり;
Rfは、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16のアルキル基を表し;
Xは、各出現においてそれぞれ独立して、炭素数2~20の、置換または非置換のアルキレン基を表し;
Raは、各出現においてそれぞれ独立して、-Z-SiR1 pR2 qR3 rを表し;
Zは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または2価の有機基を表し;
R1は、各出現においてそれぞれ独立して、Ra’を表し;
Ra’は、Raと同意義であり;
Ra中、Z基を介して直鎖状に連結されるSiは最大で5個であり;
R2は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
R3は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
pは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
qは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
rは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
ただし、-Z-SiR1 pR2 qR3 r毎において、p、qおよびrの和は3であり、式(A1)および(A2)において、少なくとも1のR2を有するSiが2個以上存在し;
Rbは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
Rcは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
kは、各出現においてそれぞれ独立して、1~3の整数であり;
lは、各出現においてそれぞれ独立して、0~2の整数であり;
mは、各出現においてそれぞれ独立して、0~2の整数であり;
ただし、-SiRa kRb lRc m毎において、k、lおよびmの和は3である]
で表されるパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。 - Xは、炭素数2~10の、非置換のアルキレン基を表す、請求項1に記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。
- kは、3である、請求項1または2に記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。
- Zは、アルキレン基である、請求項1~3のいずれかに記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。
- Ra中、Z基を介して直鎖状に連結されるSiは1個または2個である、請求項1~4のいずれかに記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。
- Ra中、Z基を介して直鎖状に連結されるSiは1個である、請求項1~5のいずれかに記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。
- Rfが、炭素数1~16のパーフルオロアルキル基である、請求項1~6のいずれかに記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。
- PFPEが下記式(a)、(b)または(c):
-(OC3F6)d- (a)
[式中、dは1以上200以下の整数である。]
-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (b)
[式中、cおよびdは、それぞれ独立して、0以上30以下の整数であり;
eおよびfは、それぞれ独立して、1以上200以下の整数であり;
c、d、eおよびfの和は、10以上200以下の整数であり;
添字c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。]
-(R6-R7)j- (c)
[式中、R6は、OCF2またはOC2F4であり;
R7は、OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10およびOC6F12から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される2または3つの基の組み合わせであり;
jは、2~100の整数である。]
である、請求項1~7のいずれかに記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。 - Rfが、炭素数1~16のパーフルオロアルキル基であり、
PFPEが下記式(a)、(b)または(c):
-(OC3F6)d- (a)
[式中、dは1以上200以下の整数である。]
-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (b)
[式中、cおよびdは、それぞれ独立して、0以上30以下の整数であり;
eおよびfは、それぞれ独立して、1以上200以下の整数であり;
c、d、eおよびfの和は、10以上200以下の整数であり;
添字c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。]
-(R6-R7)j- (c)
[式中、R6は、OCF2またはOC2F4であり;
R7は、OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10およびOC6F12から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される2または3つの基の組み合わせであり;
jは、2~100の整数である。]
であり、
Xが、炭素数2~10の、非置換の、直鎖状のアルキレン基であり、
kが3であり、
qが3である、
請求項1~8のいずれかに記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。 - 請求項1~9のいずれかに記載の式(A1)および/または式(A2)で表される少なくとも1種のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物を含有する、表面処理剤。
- 含フッ素オイル、シリコーンオイル、アルコール、触媒、遷移金属、ハロゲン化物イオン、および分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物から選択される1種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項10に記載の表面処理剤。
- さらに溶媒を含有する、請求項11に記載の表面処理剤。
- 防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項10~12のいずれかに記載の表面処理剤。
- 請求項10~13のいずれかに記載の表面処理剤を含有するペレット。
- 基材と、該基材の表面に、請求項1~9のいずれかに記載の化合物または請求項10~13のいずれかに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
- 前記物品が光学部材である、請求項15に記載の物品。
- 前記物品がディスプレイである、請求項15または16に記載の物品。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16/344,670 US20200056067A1 (en) | 2016-10-27 | 2017-10-27 | Perfluoro(poly)ether group-containing silane compound |
EP17865377.0A EP3533818B1 (en) | 2016-10-27 | 2017-10-27 | Perfluoro(poly)ether group-containing silane compound |
CN201780066348.2A CN109890870B (zh) | 2016-10-27 | 2017-10-27 | 含全氟(聚)醚基的硅烷化合物 |
KR1020197007068A KR102159594B1 (ko) | 2016-10-27 | 2017-10-27 | 퍼플루오로(폴리)에테르기 함유 실란 화합물 |
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016210726 | 2016-10-27 | ||
JP2016-210726 | 2016-10-27 | ||
JP2017-019755 | 2017-02-06 | ||
JP2017019755 | 2017-02-06 | ||
JP2017053410 | 2017-03-17 | ||
JP2017-053410 | 2017-03-17 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2018079743A1 true WO2018079743A1 (ja) | 2018-05-03 |
Family
ID=61629076
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2017/038990 WO2018079743A1 (ja) | 2016-10-27 | 2017-10-27 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20200056067A1 (ja) |
EP (1) | EP3533818B1 (ja) |
JP (2) | JP6296200B1 (ja) |
KR (1) | KR102159594B1 (ja) |
CN (1) | CN109890870B (ja) |
WO (1) | WO2018079743A1 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018111816A (ja) * | 2017-01-12 | 2018-07-19 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有化合物を含む表面処理剤 |
WO2020100759A1 (ja) | 2018-11-13 | 2020-05-22 | Agc株式会社 | 撥水撥油層付き基材、蒸着材料および撥水撥油層付き基材の製造方法 |
WO2020137998A1 (ja) | 2018-12-26 | 2020-07-02 | Agc株式会社 | 撥水撥油層付き基材、およびその製造方法 |
WO2020162371A1 (ja) | 2019-02-08 | 2020-08-13 | Agc株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品、物品の製造方法、及び含フッ素化合物の製造方法 |
WO2021054413A1 (ja) | 2019-09-20 | 2021-03-25 | Agc株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、表面処理剤、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品、及び化合物 |
CN113646360A (zh) * | 2019-03-29 | 2021-11-12 | 大金工业株式会社 | 含氟代聚醚基的化合物 |
WO2023074874A1 (ja) | 2021-10-29 | 2023-05-04 | Agc株式会社 | 化合物、組成物、表面処理剤、コーティング液、物品及び物品の製造方法 |
WO2023149340A1 (ja) * | 2022-02-04 | 2023-08-10 | Agc株式会社 | 表面処理剤、物品、物品の製造方法 |
WO2023149339A1 (ja) * | 2022-02-04 | 2023-08-10 | Agc株式会社 | 表面処理剤、物品、物品の製造方法 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6477934B1 (ja) * | 2017-02-03 | 2019-03-06 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有化合物、これを含む表面処理剤、および物品 |
WO2020071330A1 (ja) * | 2018-10-05 | 2020-04-09 | Agc株式会社 | 含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法 |
WO2020171153A1 (ja) * | 2019-02-20 | 2020-08-27 | 株式会社カネカ | 加水分解性シリル基を有する有機重合体の製造方法 |
JP2021095474A (ja) * | 2019-12-16 | 2021-06-24 | 信越化学工業株式会社 | パーフルオロポリエーテル変性ポリシラザン及びその製造方法、表面処理剤、硬化皮膜並びに物品 |
EP4130177A4 (en) * | 2020-08-31 | 2024-04-10 | Daikin Ind Ltd | COMPOSITION WITH FLUORINE OIL |
WO2022097568A1 (ja) * | 2020-11-05 | 2022-05-12 | ダイキン工業株式会社 | 表面処理剤 |
CN113862615A (zh) * | 2021-09-30 | 2021-12-31 | 台州星星光电科技有限公司 | 一种抗uv耐碱玻璃盖板表面的镀膜方法 |
CN113912834B (zh) * | 2021-10-29 | 2022-06-14 | 甘肃华隆芯材料科技有限公司 | 一种全氟聚醚硅氧烷产品的制备方法及其在防指纹涂料和防指纹涂层中的应用 |
CN116715855B (zh) * | 2023-07-06 | 2024-05-03 | 深圳市金斯源电子商务有限公司 | 一种疏油肤感手感剂及其制备方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012072272A (ja) * | 2010-09-28 | 2012-04-12 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー組成物および該組成物を含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品 |
JP2013117012A (ja) | 2011-11-01 | 2013-06-13 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー組成物、該組成物を含む表面処理剤、該表面処理剤で処理された物品及び光学物品 |
JP2014015609A (ja) * | 2012-06-13 | 2014-01-30 | Daikin Ind Ltd | パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および表面処理剤 |
WO2014069592A1 (ja) | 2012-11-05 | 2014-05-08 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
WO2017038305A1 (ja) * | 2015-08-31 | 2017-03-09 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5064012B2 (ja) * | 2005-12-26 | 2012-10-31 | 信越化学工業株式会社 | フッ素含有オルガノポリシロキサン及びこれを含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品 |
JP6274083B2 (ja) * | 2014-11-17 | 2018-02-07 | 信越化学工業株式会社 | 耐熱性を有する撥水撥油処理剤及びその製造方法並びに物品 |
-
2017
- 2017-10-27 EP EP17865377.0A patent/EP3533818B1/en active Active
- 2017-10-27 JP JP2017208087A patent/JP6296200B1/ja active Active
- 2017-10-27 KR KR1020197007068A patent/KR102159594B1/ko active IP Right Grant
- 2017-10-27 CN CN201780066348.2A patent/CN109890870B/zh active Active
- 2017-10-27 US US16/344,670 patent/US20200056067A1/en not_active Abandoned
- 2017-10-27 WO PCT/JP2017/038990 patent/WO2018079743A1/ja unknown
-
2018
- 2018-02-20 JP JP2018027677A patent/JP2018150519A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012072272A (ja) * | 2010-09-28 | 2012-04-12 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー組成物および該組成物を含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品 |
JP2013117012A (ja) | 2011-11-01 | 2013-06-13 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー組成物、該組成物を含む表面処理剤、該表面処理剤で処理された物品及び光学物品 |
JP2014015609A (ja) * | 2012-06-13 | 2014-01-30 | Daikin Ind Ltd | パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および表面処理剤 |
WO2014069592A1 (ja) | 2012-11-05 | 2014-05-08 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
WO2017038305A1 (ja) * | 2015-08-31 | 2017-03-09 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
See also references of EP3533818A4 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018111816A (ja) * | 2017-01-12 | 2018-07-19 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有化合物を含む表面処理剤 |
WO2020100759A1 (ja) | 2018-11-13 | 2020-05-22 | Agc株式会社 | 撥水撥油層付き基材、蒸着材料および撥水撥油層付き基材の製造方法 |
WO2020137998A1 (ja) | 2018-12-26 | 2020-07-02 | Agc株式会社 | 撥水撥油層付き基材、およびその製造方法 |
WO2020162371A1 (ja) | 2019-02-08 | 2020-08-13 | Agc株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品、物品の製造方法、及び含フッ素化合物の製造方法 |
CN113646360A (zh) * | 2019-03-29 | 2021-11-12 | 大金工业株式会社 | 含氟代聚醚基的化合物 |
WO2021054413A1 (ja) | 2019-09-20 | 2021-03-25 | Agc株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、表面処理剤、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品、及び化合物 |
WO2023074874A1 (ja) | 2021-10-29 | 2023-05-04 | Agc株式会社 | 化合物、組成物、表面処理剤、コーティング液、物品及び物品の製造方法 |
WO2023149340A1 (ja) * | 2022-02-04 | 2023-08-10 | Agc株式会社 | 表面処理剤、物品、物品の製造方法 |
WO2023149339A1 (ja) * | 2022-02-04 | 2023-08-10 | Agc株式会社 | 表面処理剤、物品、物品の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2018150508A (ja) | 2018-09-27 |
KR102159594B1 (ko) | 2020-09-25 |
CN109890870A (zh) | 2019-06-14 |
CN109890870B (zh) | 2021-08-24 |
US20200056067A1 (en) | 2020-02-20 |
EP3533818A1 (en) | 2019-09-04 |
JP6296200B1 (ja) | 2018-03-20 |
JP2018150519A (ja) | 2018-09-27 |
EP3533818A4 (en) | 2020-07-08 |
KR20190039995A (ko) | 2019-04-16 |
EP3533818B1 (en) | 2024-01-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6296200B1 (ja) | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 | |
JP6332358B2 (ja) | フルオロオキシメチレン基含有パーフルオロポリエーテル変性体 | |
JP5880769B2 (ja) | パーフルオロ(ポリ)エーテル変性アミドシラン化合物を含む組成物 | |
JP6172410B2 (ja) | 表面処理剤 | |
JP6008037B2 (ja) | 表面処理剤 | |
KR102262121B1 (ko) | 퍼플루오로(폴리)에테르기 함유 실란 화합물 | |
WO2018143433A1 (ja) | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有化合物、これを含む表面処理剤、および物品 | |
JP7339555B2 (ja) | 表面処理組成物 | |
JP6435871B2 (ja) | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤 | |
WO2016190047A1 (ja) | 表面処理層を有する物品の製造方法 | |
WO2018131656A1 (ja) | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有化合物を含む表面処理剤 | |
WO2016035765A1 (ja) | 防汚性物品 | |
JP6631717B2 (ja) | パーフルオロ(ポリ)エーテル変性アミドシラン化合物を含む組成物 | |
JP2016017176A (ja) | 表面処理剤 | |
KR102468998B1 (ko) | 퍼플루오로(폴리)에테르기 함유 실란 화합물을 포함하는 표면 처리제, 그것을 사용한 펠릿 및 물품 | |
WO2018168972A1 (ja) | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤、それを用いたペレットおよび物品 | |
WO2018181141A1 (ja) | パーフルオロポリエーテル基含有化合物を含む表面処理剤 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 17865377 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 20197007068 Country of ref document: KR Kind code of ref document: A |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 2017865377 Country of ref document: EP Effective date: 20190527 |