WO2018079525A1 - 機能性膜 - Google Patents

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WO2018079525A1
WO2018079525A1 PCT/JP2017/038287 JP2017038287W WO2018079525A1 WO 2018079525 A1 WO2018079525 A1 WO 2018079525A1 JP 2017038287 W JP2017038287 W JP 2017038287W WO 2018079525 A1 WO2018079525 A1 WO 2018079525A1
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ocf
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恒雄 山下
英司 阪本
沙弥 新居
淳史 坂倉
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ダイキン工業株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a functional membrane.
  • Patent Document 1 as a method for producing an optical film having excellent antireflection properties and antifouling properties and scratch resistance, a plurality of projections and depressions provided with a pitch below the wavelength of visible light A method for producing an optical film having a structure on a surface, wherein the lower layer resin and the upper layer resin are laminated in the step (1) of applying a lower layer resin and an upper layer resin, and the applied lower layer resin and the upper layer resin are laminated.
  • the present invention has a fine concavo-convex pattern structure in view of the above-mentioned present situation, the characteristics of a resin as a main material for imparting a function to a functional film are sufficiently exhibited, and excellent antifouling properties
  • An object of the present invention is to provide a functional film having water repellency and oil repellency.
  • the present invention is a functional film including a layer (A) containing a resin and a layer (B) containing a compound having a perfluoropolyether group, the layer (B) being opposite to the layer (A)
  • the relational expression (1) is satisfied.
  • Relational expression (1) D1 ⁇ 2 ⁇ X1 (In the formula, X1 represents the film thickness (nm) of the layer (B), and D1 represents the depth (nm) at which the fluorine atom concentration is 1 atom% or less.)
  • the layer (B) is provided on the layer (A).
  • the substrate (S) is preferably included, the layer (A) is provided on the substrate (S), and the layer (B) is preferably provided on the layer (A).
  • the perfluoropolyether group is Formula :-( OC 6 F 12) m11 - (OC 5 F 10) m12 - (OC 4 F 8) m13 - (OC 3 X 10 6) m14 - (OC 2 F 4) m15 - (OCF 2) m16 - (Wherein, m11, m12, m13, m14, m15 and m16 are independently 0 or an integer of 1 or more, X 10 are independently H, F or Cl, and the order of the repeating units is arbitrary) It is preferable that it is a polyether chain
  • the compound contained in the layer (B) is a compound obtained by curing the compound (F) having a perfluoropolyether group and a curable site, a compound having a perfluoropolyether group and a hydrolyzable group ( G) and Formula: R 111 -PFPE-R 113 (Wherein PFPE is a perfluoropolyether group, R 111 and R 113 are independently F, an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 16 carbon atoms, and a fluorinated group having 1 to 16 carbon atoms.
  • the resin contained in the layer (A) is a resin obtained by curing a curable resin, a resin obtained by curing a curable monomer, and a polysiloxane structure formed using a silicon-containing compound. It is preferable that it is at least 1 sort (s) selected from the group which consists of resin to contain.
  • the functional film of the present invention has a fine concavo-convex pattern structure, sufficiently exhibits the characteristics of a resin as a main material for imparting a function to the functional film, and has excellent antifouling properties and repellent properties. Has water and oil repellency.
  • FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a laminate produced in Test Example 4.
  • FIG. 6 is a spectrum of a functional film produced in Test Example 4.
  • (A) is a 1s spectrum of carbon
  • (b) is a graph showing the relationship between sputtering time and atomic concentration. Further, the time (minutes) in (a) represents the sputtering time.
  • 7 is a spectrum of a functional film produced in Test Example 5.
  • (A) is a 1s spectrum of carbon
  • (b) is a graph showing the relationship between sputtering time and atomic concentration. Further, the time (minutes) in (a) represents the sputtering time.
  • the functional film of the present invention is a film having various functions, for example, water repellency, oil repellency, antifouling properties, hydrophilicity, refractive index variation function, ultraviolet absorptivity, light stability, biological properties, flame retardancy. It is a film having properties, antistatic properties, antireflection properties and the like.
  • the layer (B) contains a compound having a perfluoropolyether group, it has antifouling properties, water repellency and oil repellency.
  • it since it has a fine concavo-convex pattern structure, it has antireflection properties.
  • the functional film of the present invention includes a layer (A) and a layer (B), and has a fine concavo-convex pattern structure on the surface of the layer (B) opposite to the layer (A).
  • fine preferably means nanometer size, and more preferably means that the pattern pitch is equal to or less than the wavelength of visible light.
  • the wavelength of the visible light is about 780 nm.
  • a pattern having a pattern pitch of 1000 to 1 nm is preferable, a pattern of 780 to 2 nm is more preferable, and a pattern of 500 to 2 nm is more preferable.
  • the pattern pitch is a distance between the tops of adjacent convex portions. The pattern pitch can be measured by observation with an electron microscope.
  • corrugated pattern is not specifically limited, It is preferable that it is a nanometer size, and it is more preferable that it is below the wavelength of visible light.
  • the functional film can be used as an optical film.
  • a pattern having a pattern depth of 3000 to 3 nm is preferable, and a pattern having a pattern depth of 1000 to 3 nm is more preferable.
  • the pattern depth is a difference between the height of the top of the convex portion and the height of the bottom of the concave portion.
  • the pattern depth can be measured by observation with an electron microscope.
  • Relational expression (1) D1 ⁇ 2 ⁇ X1 (In the formula, X1 represents the film thickness (nm) of the layer (B), and D1 represents the depth (nm) at which the fluorine atom concentration is 1 atom% or less.)
  • the functional film of the present invention since the desired effect of the present invention can be further obtained, it is preferable that 0.8 ⁇ X1 ⁇ D1 is further satisfied in the relational expression (1). That is, the functional film of the present invention preferably satisfies the relationship of 0.8 ⁇ X1 ⁇ D1 ⁇ 2 ⁇ X1.
  • the functional film of the present invention is further obtained when the 1s spectrum of carbon is measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) while etching from the layer (B) side using an argon gas cluster ion beam (Ar-GCIB). Satisfy relational expression (2).
  • the peaks detected in the range of 290 to 300 eV include bonds contained in the perfluoropolyether group, such as —OC 4 F 8 O—, —OC 3 F 6 O—, —OC 2 F 4 O—, Peaks derived from CF 2 bonds and OCF 2 bonds contained in —OCF 2 O—, —OCF (CF 3 ) CF 2 O—, and the like are included. Therefore, the fact that no peak is detected within the range of the binding energy of 290 to 300 eV means that a compound having a perfluoropolyether group is not included at that depth.
  • the functional film of the present invention since the desired effect of the present invention can be further obtained, it is preferable that 0.8 ⁇ X1 ⁇ D2 is further satisfied in the relational expression (2). That is, the functional film of the present invention preferably satisfies the relationship of 0.8 ⁇ X1 ⁇ D2 ⁇ 2 ⁇ X1.
  • the functional film of the present invention satisfies the relational expression (1) and the relational expression (2), and preferably, the interface between the layer (A) and the layer (B) is clearly present. With this structure, the function inherent to the resin contained in the layer (A) is sufficiently exhibited. At the same time, since the compound having a perfluoropolyether group contained in the layer (B) is present at a high concentration near the surface of the fine concavo-convex pattern structure, it has excellent antifouling properties, water repellency and oil repellency.
  • D1 and D2 can be measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) performed under the following conditions.
  • XPS X-ray photoelectron spectroscopy
  • the fluorine atom concentration can be determined by quantifying the fluorine atom.
  • the fluorine atom concentration is a ratio of the amount of fluorine atoms when the total of quantitative values of all atoms measured by XPS is 100 atom%.
  • the waveform analysis can be performed by a conventional method. For example, the obtained spectrum is curve-fitted and the peaks are separated.
  • depth means the distance in the depth direction from the surface of the layer (B) of the functional film.
  • a polystyrene layer whose film thickness is specified in advance by an atomic force microscope (AFM) is etched by Ar-GCIB, and an etching rate is obtained.
  • the above-mentioned D1 and D2 can be determined by measuring the etching time when fluorine atoms are no longer observed and the etching time when a peak within the range of 290 to 300 eV is not detected, and converting each into a depth in terms of polystyrene. .
  • the film thickness is measured by a spectroscopic ellipsometer, and the film thickness X1 (nm) of the layer (B) can be set based on the determined conditions.
  • the functional film of the present invention is subjected to elemental analysis by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) while etching from a layer (B) side to a depth of 0.5 ⁇ X1 with an argon gas cluster ion beam (Ar-GCIB)
  • XPS X-ray photoelectron spectroscopy
  • Ar-GCIB argon gas cluster ion beam
  • the fluorine atom concentration is preferably 75 to 30 atm%.
  • the functional film of the present invention is obtained by etching the carbon 1s by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) while etching from the layer (B) side to a depth of 0.5 ⁇ X1 with an argon gas cluster ion beam (Ar-GCIB).
  • XPS X-ray photoelectron spectroscopy
  • Ar-GCIB argon gas cluster ion beam
  • the film thickness of the layer (B), that is, X1 is preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less, preferably 1 nm or more, and more preferably 5 nm or more.
  • the layer (B) can be provided as thin as described above, and in this case, the fine uneven pattern structure is not easily damaged.
  • the layer (B) preferably has a uniform film thickness because it can realize a clearer fine uneven pattern structure.
  • the film thickness uniformity can be measured with a spectroscopic ellipsometer. For example, for any region, when the film thickness was measured by spectroscopic ellipsometer, the ratio between the maximum thickness (d max) and the minimum thickness (d min) (d max / d min) is 2.0 or less It is preferable that it is 1.5 or less.
  • a film thickness of a layer (A) 20 micrometers or less are preferable, 10 micrometers or less are more preferable, 100 nm or more is preferable and 1000 nm or more is more preferable.
  • the layer (A) can be provided as thick as described above. In this case, the function inherent to the resin contained in the layer (A) is further exhibited.
  • the layer (B) is preferably provided on the layer (A).
  • the layer (B) may be provided directly on the layer (A) or via another layer, but is preferably provided directly on the layer (A).
  • the functional film of the present invention further includes a substrate (S).
  • the thickness of the base material (S) is preferably 20 ⁇ m or more and 200 ⁇ m or less, and more preferably 40 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less, from the viewpoint of ensuring transparency and workability.
  • the layer (A) is provided on the substrate (S), and the layer (B) is provided on the layer (A). It is preferable.
  • the layer (A) is provided directly on the substrate (S) or via another layer, and the layer (B) is directly or on the layer (A).
  • the layer (A) is preferably provided directly on the substrate (S), and the layer (B) is preferably provided directly on the layer (A).
  • FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of one embodiment of the functional film of the present invention.
  • the functional film 10 in FIG. 1 includes a base material 11, a layer 12 provided directly on the base material 11, and a layer 13 provided directly on the layer 12.
  • the layer 12 contains the resin
  • the layer 13 contains the compound having the perfluoropolyether group.
  • the layer 12 and the layer 13 are partitioned by a clear interface. With this configuration, the characteristics of the material constituting each layer are sufficiently exhibited.
  • the layer 13 is formed of a thin film having a substantially uniform film thickness, the layer 12 and the layer 13 have substantially the same fine unevenness pattern. That is, the functional film 10 in FIG. 1 has a fine uneven pattern structure on the surface of the layer 13 opposite to the layer 12.
  • the layer 23 is a thick film with a non-uniform thickness, or a fine uneven pattern structure is not formed on the surface of the layer 23 opposite to the layer 22. In other words, even if the layer 22 has a fine concavo-convex pattern structure, the effect due to the structure is not sufficiently exhibited.
  • the functional film 10 in FIG. 1 has a fine concavo-convex pattern structure on the surface of the layer 13 opposite to the layer 12, so that the effects of the fine concavo-convex pattern structure such as antireflection can be sufficiently obtained. .
  • Examples of the material constituting the substrate (S) include silicon, synthetic resin, glass, metal, and ceramic.
  • the synthetic resin examples include cellulose resins such as triacetyl cellulose (TAC), polyolefins such as polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, and ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), cyclic polyolefin, and modified polyolefin.
  • TAC triacetyl cellulose
  • EVA ethylene-vinyl acetate copolymer
  • cyclic polyolefin cyclic polyolefin
  • modified polyolefin modified polyolefin.
  • Polyolefin polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polystyrene, polyamide, polyimide, polyamideimide, polycarbonate, poly- (4-methylpentene-1), ionomer, acrylic resin, polymethyl methacrylate, acrylic-styrene copolymer (AS Resin), butadiene-styrene copolymer, ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH), polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polycyclohexane terephthalate Polyester such as PCT, polyether, polyetherketone (PEK), polyetheretherketone (PEEK), polyetherimide, polyacetal (POM), polyphenylene oxide, modified polyphenylene oxide, polyarylate, aromatic polyester (liquid crystal Polymer), polytetrafluoroethylene, polyvinylidene fluoride, other fluororesins, styrene, polyolefin
  • the layer (B) contains a compound having a perfluoropolyether group.
  • PFPE perfluoropolyether group
  • Formula :-( OC 6 F 12) m11 - (OC 5 F 10) m12 - (OC 4 F 8) m13 - (OC 3 X 10 6) m14 - (OC 2 F 4) m15 - (OCF 2) m16 - (Wherein, m11, m12, m13, m14, m15 and m16 are independently 0 or an integer of 1 or more, X 10 are independently H, F or Cl, and the order of the repeating units is arbitrary) in The represented polyether chain is preferred.
  • m11 to m16 are each preferably an integer of 0 to 200, and more preferably an integer of 0 to 100. m11 to m16 are preferably an integer of 1 or more in total, more preferably an integer of 5 or more, and still more preferably an integer of 10 or more. m11 to m16 are preferably an integer of 200 or less in total, and more preferably an integer of 100 or less. m11 to m16 are preferably an integer of 10 to 200 in total, and more preferably an integer of 10 to 100.
  • each repeating unit may be linear or branched, but is preferably linear.
  • -(OC 6 F 12 )- is-(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-,-(OCF (CF 3 ) CF 2 CF 2 CF 2 )-,-(OCF 2 CF (CF 3 ) CF 2 CF 2 CF 2 ) —, — (OCF 2 CF 2 CF (CF 3 ) CF 2 CF 2 ) —, — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF (CF 3 ) CF 2 ) — — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF (CF 3 )) — or the like may be used, but — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) — is preferred.
  • -(OC 3 F 6 )- is any of-(OCF 2 CF 2 CF 2 )-,-(OCF (CF 3 ) CF 2 )-and-(OCF 2 CF (CF 3 ))- Preferably, it is — (OCF 2 CF 2 CF 2 ) —.
  • — (OC 2 F 4 ) — may be any of — (OCF 2 CF 2 ) — and — (OCF (CF 3 )) —, preferably — (OCF 2 CF 2 ) —. is there.
  • the polyether chain - (OC 4 F 8) m13 - (OC 3 F 6) m14 - (OC 2 F 4) m15 - (OCF 2) m16 - ( wherein, the m13 and m14 , M is an integer from 0 to 30, and m15 and m16 are each an integer from 1 to 200.
  • m13 to m16 are a total of 5 or more integers. It is a chain represented by m15 and m16 are each preferably an integer of 5 to 200, and more preferably an integer of 10 to 200. m13 to m16 are preferably integers of 10 or more in total.
  • the polyether chain is preferably — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) m13 — (OCF 2 CF 2 CF 2 ) m14 — (OCF 2 CF 2 ) m15 — (OCF 2 ) m16 —.
  • the polyether chain is — (OC 2 F 4 ) m15 — (OCF 2 ) m16 — (wherein m15 and m16 are each an integer of 1 to 200. Presence of each repeating unit The order may be arbitrary).
  • m15 and m16 are each preferably an integer of 5 to 200, and more preferably an integer of 10 to 200.
  • R m1 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 , or from OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 A selected group or a combination of two or three groups independently selected from these groups.
  • the combination of 2 or 3 groups independently selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 is not particularly limited.
  • M17 is an integer of 2 or more, preferably an integer of 3 or more, more preferably an integer of 5 or more, an integer of 100 or less, and preferably an integer of 50 or less.
  • OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 may be either linear or branched, preferably linear.
  • the polyether chain is preferably — (OC 2 F 4 —OC 3 F 6 ) m17 — or — (OC 2 F 4 —OC 4 F 8 ) m17 —.
  • the ratio of m15 to m16 (hereinafter referred to as “m15 / m16 ratio”) is 0.1 to 10, preferably 0.2 to 5, and more preferably 0.2 to 2. More preferably, it is 0.2 to 1.5, and still more preferably 0.2 to 0.85.
  • m15 / m16 ratio is 10 or less, the slipperiness, friction durability and chemical resistance (for example, durability against artificial sweat) of the surface treatment layer are further improved.
  • the smaller the m15 / m16 ratio the more the slipperiness and friction durability of the surface treatment layer are improved.
  • the m15 / m16 ratio is 0.1 or more, the stability of the compound can be further increased. The greater the m15 / m16 ratio, the better the stability of the compound.
  • the polyether chain is Formula: — (OCF 2 CF 2 CX 11 2 ) n11 (OCF 2 CF (CF 3 )) n12 (OCF 2 CF 2 ) n13 (OCF 2 ) n14 (OC 4 F 8 ) n15 ⁇ (Wherein, n11, n12, n13, n14 and n15 are independently 0 or an integer of 1 or more, X 11 is independently H, F or Cl, and the order of the repeating units is arbitrary) is represented by Chain and Formula:-(OC 2 F 4 -R 21 ) f- (Wherein R 21 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 , and f is an integer of 2 to 100). It may be at least one selected chain.
  • X 11 is preferably F.
  • n11 to n15 are each preferably an integer of 0 to 200.
  • n11 to n15 are preferably an integer of 2 or more in total, more preferably an integer of 5 to 300, still more preferably an integer of 10 to 200, and an integer of 10 to 100. Is particularly preferred.
  • R 21 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 , or a combination of 2 or 3 groups independently selected from these groups.
  • the combination of 2 or 3 groups independently selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 is not particularly limited.
  • OC 2 F is an integer of 2 to 100, preferably an integer of 2 to 50.
  • OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 may be either linear or branched, preferably linear.
  • the formula: — (OC 2 F 4 —R 21 ) f — preferably represents the formula: — (OC 2 F 4 —OC 3 F 6 ) f — or the formula: — (OC 2 F 4 —OC 4 F 8 ) f ⁇ .
  • the number average molecular weight of the polyether chain moiety is not particularly limited, but for example, 500 to 30,000, preferably 1,500 to 30,000, more preferably 2,000 to 10 , 000.
  • the number average molecular weight is a value measured by 19 F-NMR.
  • the polyether chain moiety has a number average molecular weight of 500 to 30,000, preferably 1,000 to 20,000, more preferably 2,000 to 15,000, and even more preferably 2,000 to 2,000. It can be 10,000, for example 3,000 to 6,000.
  • the number average molecular weight of the polyether chain moiety can be 4,000 to 30,000, preferably 5,000 to 10,000, more preferably 6,000 to 10,000.
  • Compound (H) It is preferably at least one selected from the group consisting of
  • at least one selected from the group consisting of the compound (G) is more preferable, and a compound obtained by curing the compound (F) having a perfluoropolyether group and a curable site is more preferable.
  • the compound (F) has a perfluoropolyether group and a curable site.
  • part For example, an allyl group, a cinnamic acid group, a sorbic acid group, an acryloyl group, a methacryloyl group etc. are mentioned.
  • Compound (F) is a carbon-carbon double compound which is a reaction product of component (A): a polyisocyanate that is a trimer of diisocyanate and component (B): a compound having active hydrogen and a perfluoropolyether group. Bond-containing compounds (perfluoropolyether compounds) are preferred.
  • active hydrogen means a hydrogen atom that can be donated as a proton to an isocyanate group.
  • Component (B) can have an active hydrogen-containing group.
  • the “active hydrogen-containing group” refers to a group containing the active hydrogen, for example, —OH group, —C ( ⁇ O) H group, —SH group, —SO 3 H group, — SO 2 H group, —SOH group, —NH 2 group, —NH— group, —SiH group and the like can be mentioned.
  • Component (A) is a polyisocyanate that can be obtained by trimerizing diisocyanate.
  • the polyisocyanate which is a trimer of diisocyanate may exist as a polymer obtained by polymerizing these.
  • the polyisocyanate which is a trimer of the diisocyanate of component (A) can preferably be an isocyanurate type polyisocyanate.
  • the isocyanurate type polyisocyanate may exist as a polymer obtained by polymerizing these. That is, the isocyanurate type polyisocyanate may be a monocyclic compound having only one isocyanurate ring, or may be a polycyclic compound obtained by polymerizing this monocyclic compound. It may be a mixture. Examples of known isocyanurate-type polyisocyanates include “Sumijour (registered trademark) N3300” manufactured by Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.
  • the diisocyanate used to obtain the polyisocyanate which is a trimer of the diisocyanate of component (A) is not particularly limited, but is a diisocyanate in which an isocyanate group is bonded to an aliphatic group, such as hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene.
  • these polyisocyanates may exist as polymers.
  • these polyisocyanates may exist as a polymer having the following structure.
  • Component (B) includes component (B1): a perfluoropolyether having active hydrogen, and component (B2): a group having a carbon-carbon double bond and a monomer having active hydrogen.
  • Component (B1) is at least one compound represented by one of the following formulas (B1-i) and (B1-ii).
  • Rf has 1 to 16 carbon atoms (for example, linear or branched) optionally substituted by one or more fluorine atoms
  • An alkyl group preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 3 carbon atoms which may be substituted with one or more fluorine atoms.
  • Rf is preferably linear.
  • the terminal carbon atom is preferably CF 2 H— and all other carbon atoms are fully substituted with fluorine atoms.
  • PFPE is the above-mentioned perfluoropolyether group, and has the formula: — (OC 6 F 12 ) m11 — (OC 5 F 10 ) m12 — (OC 4 F 8 ) m13 — (OC 3 X 10 6 ) m14 — (OC 2 F 4 ) m15 — (OCF 2 ) m16 —.
  • Z each independently represents a divalent organic group.
  • Z is preferably R 1 .
  • Each R 1 independently represents the following formula: -(Y) f- (CR 3 2 ) j- It is group represented by these.
  • the “divalent organic group” means a divalent group containing carbon.
  • the divalent organic group is not particularly limited, and examples thereof include a divalent group obtained by further removing one hydrogen atom from a hydrocarbon group.
  • the hydrocarbon group means a group containing carbon and hydrogen.
  • the hydrocarbon group is not particularly limited, but may be a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted by one or more substituents, such as an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic carbon group. A hydrogen group etc. are mentioned.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be linear, branched, or cyclic, and may be either saturated or unsaturated.
  • the hydrocarbon group may contain one or more ring structures.
  • the hydrocarbon group may have one or more N, O, S, Si, amide, sulfonyl, siloxane, carbonyl, carbonyloxy and the like at the terminal or molecular chain.
  • the substituent of the hydrocarbon group is not particularly limited, but for example, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted with one or more halogen atoms, An alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, an unsaturated cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a 5 to 10-membered heterocyclyl group, and a 5 to 10-membered group An unsaturated heterocyclyl group, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, a 5- to 10-membered heteroaryl group, and the like.
  • Y is preferably a divalent polar group.
  • the divalent polar group is not particularly limited. For example, —COO—, —OCO—, —CONH—, —OCH 2 CH (OH) CH 2 —, —CH 2 CH (OH) CH 2 O—, —COS—, —SCO—, —O— and the like are mentioned, and —COO—, —CONH—, —CH 2 CH (OH) CH 2 O— or —O— is preferable.
  • f is an integer of 0 to 50, preferably an integer of 0 to 20 (for example, an integer of 1 to 20).
  • j is an integer of 0 to 100, preferably an integer of 0 to 40 (for example, an integer of 1 to 40).
  • the sum of f and j is 1 or more.
  • the order of presence of each repeating unit with f and j in parentheses is arbitrary in the above formula.
  • R 1 represented by the above formula is preferably each independently a group represented by the following formula. - (Y) f - (CF 2) g - (CH 2) h -
  • Y and f are as described above.
  • g and h are each independently an integer of 0 to 50, preferably an integer of 0 to 20 (eg, an integer of 1 to 20).
  • the sum of f, g and h is 1 or more, preferably 1 to 10.
  • the order of existence of each repeating unit with parentheses attached with f, g, and h is arbitrary in the above formula.
  • X is an active hydrogen-containing group.
  • X is preferably each independently an —OH group, —C ( ⁇ O) H group, —SH group, —SO 3 H group, —SO 2 H group, —SOH group, —NH 2 group, — An NH— group or —SiH group, more preferably an —OH group or —NH 2 group, and still more preferably an —OH group.
  • the component (B1) is preferably at least one compound represented by one of the following formulas (B1-i ′) and (B1-ii ′), more preferably the following formula (B1-i At least one compound represented by ').
  • PFPE is preferably a group represented by the following formula (D1). Rf-PFPE-R—CH 2 OH (B1-i ′) HOCH 2 —R 1 —PFPE—R 1 —CH 2 OH (B1-ii ′)
  • Rf, PFPE, and R 1 are as described above.
  • the perfluoropolyether having active hydrogen of component (B1) has one active hydrogen-containing group (for example, a hydroxyl group) at one molecular end in addition to the perfluoropolyether group, Each compound has one active hydrogen-containing group hydroxyl group.
  • the number average molecular weight of the perfluoropolyether having active hydrogen as the component (B1) is not particularly limited, but is preferably 500 to 12000, more preferably 1000 to 10,000, and further preferably 1500 to 8000.
  • the number average molecular weight is measured by 19 F-NMR.
  • the monomer having a carbon-carbon double bond and an active hydrogen of component (B2) has at least one (preferably one) active hydrogen-containing group (preferably a hydroxyl group) at the molecular end.
  • the group having a carbon-carbon double bond and a monomer having active hydrogen as the component (B2) preferably have a group represented by the following formula as a group having a carbon-carbon double bond. —OC (O) —CR 2 ⁇ CH 2
  • R 2 is a hydrogen atom, a chlorine atom, a fluorine atom, or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom, preferably a hydrogen atom or 1 to 3 carbon atoms.
  • An alkyl group more preferably a hydrogen atom or a methyl group.
  • a group in which R 2 is a hydrogen atom or a methyl group, that is, —OC (O) —CH ⁇ CH 2 or —OC (O) —CCH 3 ⁇ CH 2 is collectively referred to as “(meth) Also referred to as “acrylate group”.
  • R is a hydrogen atom, a chlorine atom, a fluorine atom, or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted by a fluorine atom.
  • I is an integer of 2 to 10).
  • N is an integer of 1 to 30.
  • poly (ethylene glycol) acrylate H (OCH (CH 3 ) CH 2 ) n OCO (R) C ⁇ CH 2
  • R is a hydrogen atom, a chlorine atom, a fluorine atom, or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted by a fluorine atom.
  • N is an integer of 1 to 30.
  • component (B) may consist of component (B1) and component (B2).
  • the carbon-carbon double bond-containing compound contained in compound (F) may have a group derived from a different kind of component (B1) in one molecule of triisocyanate. Further, one molecule of triisocyanate may have a group derived from a component (B2) of a different type (for example, having a different number of carbon-carbon double bonds).
  • Compound (F) may contain one or more carbon-carbon double bond-containing compounds.
  • the compound (F) includes a component (A), a compound obtained by reacting the compound B1 as the component (B1) and the compound B2 as the component (B2), and the component (A) and the component (B1). It may be a mixture of a compound obtained by reacting compound B1 ′ as a compound and compound B2 ′ as a component (B2). These compounds may be synthesized simultaneously, synthesized separately and then mixed.
  • Known compounds (F) include, for example, “OPTOOL (registered trademark) DAC” and “OPTOOL DAC-HP” manufactured by Daikin Industries, Ltd., “KY-1203” and “KNS5300” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • the compound (G) has a perfluoropolyether group and a hydrolyzable group.
  • hydrolyzable group as used herein means a group capable of leaving from the main skeleton of a compound by a hydrolysis reaction.
  • hydrolyzable group examples include —OR, —OCOR, —O—N ⁇ CR 2 , —NR 2 , —NHR, halogen (in these formulas, R is a substituted or unsubstituted carbon atom having 1 to 4 carbon atoms). And the like, and —OR (that is, an alkoxy group) is preferable.
  • R examples include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group and isobutyl group; substituted alkyl groups such as chloromethyl group.
  • an alkyl group, particularly an unsubstituted alkyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable.
  • Compound (G) has the following formula: -SiR 1 n1 R 2 3-n1 Wherein R 1 represents a hydrolyzable group; R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms; n1 is an integer of 1 to 3. ) It preferably has a group represented by:
  • Compound (G) has the following formulas (A1), (A2), (B1), (B2), (C1), (C2), (D1) and (D2):
  • PFPE has the formula: - (OC 6 F 12) m11 - (OC 5 F 10) m12 - (OC 4 F 8) m13 - (OC 3 X 10 6) m14 - (OC 2 F 4) m15 - (OCF 2) m16 - (Wherein, m11, m12, m13, m14, m15 and m16 are independently 0 or an integer of 1 or more, X 10 are independently H, F or Cl, and the order of the repeating units is arbitrary)
  • Rf independently represents each alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which may be substituted with one or more fluorine atoms at each occurrence
  • R 1 represents, independently at each occurrence, a hydrolyzable group
  • R 2 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms at each occurrence
  • R 11 independently represents a hydrogen atom or a halogen atom at each occurrence
  • R 12 independently represents
  • perfluoropolyether group-containing silane compounds represented by the above formulas (A1), (A2), (B1), (B2), (C1), (C2), (D1) and (D2) will be described below. .
  • PFPE represents — (OC 6 F 12 ) m11 — (OC 5 F 10 ) m12 — (OC 4 F 8 ) m13 — (OC 3 X 10 6 ) m14 — (OC 2 F 4 ) m15 — ( OCF 2 ) m16 ⁇
  • X 10, F is preferred.
  • m11 to m16 are each preferably an integer of 0 to 200, and more preferably an integer of 0 to 100.
  • m11 to m16 are preferably an integer of 1 or more in total, more preferably an integer of 5 or more, and still more preferably an integer of 10 or more.
  • m11 to m16 are preferably an integer of 200 or less in total, and more preferably an integer of 100 or less. m11 to m16 are preferably an integer of 10 to 200 in total, and more preferably an integer of 10 to 100. Each repeating unit may be linear or branched, but is preferably linear.
  • -(OC 6 F 12 )- is-(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-,-(OCF (CF 3 ) CF 2 CF 2 CF 2 )-,-(OCF 2 CF (CF 3 ) CF 2 CF 2 CF 2 ) —, — (OCF 2 CF 2 CF (CF 3 ) CF 2 CF 2 ) —, — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF (CF 3 ) CF 2 ) —, — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF (CF 3 ) — or the like may be used, but — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) — is preferred.
  • -(OC 3 F 6 )- is any of-(OCF 2 CF 2 CF 2 )-,-(OCF (CF 3 ) CF 2 )-and-(OCF 2 CF (CF 3 ))- Preferably, it is — (OCF 2 CF 2 CF 2 ) —.
  • — (OC 2 F 4 ) — may be any of — (OCF 2 CF 2 ) — and — (OCF (CF 3 )) —, preferably — (OCF 2 CF 2 ) —. is there.
  • the polyether chain is a chain represented by — (OC 3 F 6 ) m14 — (wherein m14 is an integer of 1 to 200).
  • the polyether chain is preferably a chain represented by — (OCF 2 CF 2 CF 2 ) m14 — (where m14 is an integer of 1 to 200) or — (OCF (CF 3 ) CF 2 ).
  • m14 ⁇ (wherein m14 is an integer of 1 to 200), more preferably — (OCF 2 CF 2 CF 2 ) m14 — (wherein m14 is an integer of 1 to 200)
  • It is a chain represented by m14 is preferably an integer of 5 to 200, more preferably an integer of 10 to 200.
  • the polyether chain - (OC 4 F 8) m13 - (OC 3 F 6) m14 - (OC 2 F 4) m15 - (OCF 2) m16 - ( wherein, the m13 and m14 , M is an integer from 0 to 30, and m15 and m16 are each an integer from 1 to 200.
  • m13 to m16 are a total of 5 or more integers. It is a chain represented by m15 and m16 are each preferably an integer of 5 to 200, and more preferably an integer of 10 to 200. m13 to m16 are preferably integers of 10 or more in total.
  • the polyether chain is preferably — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) m13 — (OCF 2 CF 2 CF 2 ) m14 — (OCF 2 CF 2 ) m15 — (OCF 2 ) m16 —.
  • the polyether chain is — (OC 2 F 4 ) m15 — (OCF 2 ) m16 — (wherein m15 and m16 are each an integer of 1 to 200. Presence of each repeating unit The order may be arbitrary).
  • m15 and m16 are each preferably an integer of 5 to 200, and more preferably an integer of 10 to 200.
  • the polyether chain is a group represented by — (R m1 —R m2 ) m17 —.
  • R m1 is OCF 2 or OC 2 F 4 , preferably OC 2 F 4 .
  • R m2 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 , or is independently selected from these groups Is a combination of 2 or 3 groups.
  • R m1 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 , or from OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 A selected group or a combination of two or three groups independently selected from these groups.
  • the combination of 2 or 3 groups independently selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 is not particularly limited.
  • M17 is an integer of 2 or more, preferably an integer of 3 or more, more preferably an integer of 5 or more, an integer of 100 or less, and preferably an integer of 50 or less.
  • OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 may be either linear or branched, preferably linear.
  • the polyether chain is preferably — (OC 2 F 4 —OC 3 F 6 ) m17 — or — (OC 2 F 4 —OC 4 F 8 ) m17 —.
  • Rf represents an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which may be substituted with one or more fluorine atoms.
  • alkyl group having 1 to 16 carbon atoms in the alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which may be substituted with one or more fluorine atoms may be linear or branched. Preferably, it is a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, particularly 1 to 3 carbon atoms, and more preferably a linear alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
  • Rf is preferably an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms substituted by one or more fluorine atoms, more preferably a CF 2 H—C 1-15 fluoroalkylene group, and still more preferably Is a perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms.
  • the perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms may be linear or branched, and preferably has 1 to 6 carbon atoms, particularly 1 to 6 carbon atoms. 3 perfluoroalkyl group, more preferably a linear perfluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, specifically —CF 3 , —CF 2 CF 3 , or —CF 2 CF 2 CF 3 . .
  • R 1 is independently at each occurrence, represents a hydrolyzable group.
  • each R 2 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • hydrolyzable group as used herein means a group capable of leaving from the main skeleton of a compound by a hydrolysis reaction.
  • hydrolyzable group examples include —OR, —OCOR, —O—N ⁇ CR 2 , —NR 2 , —NHR, halogen (in these formulas, R is a substituted or unsubstituted carbon atom having 1 to 4 carbon atoms). And the like, and —OR (that is, an alkoxy group) is preferable.
  • R examples include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group and isobutyl group; substituted alkyl groups such as chloromethyl group.
  • an alkyl group, particularly an unsubstituted alkyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable.
  • R 11 independently represents a hydrogen atom or a halogen atom at each occurrence.
  • the halogen atom is preferably an iodine atom, a chlorine atom or a fluorine atom, more preferably a fluorine atom.
  • R 12 each independently represents a hydrogen atom or a lower alkyl group.
  • the lower alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group.
  • n1 is an integer of 0 to 3, preferably 1 to 3, more preferably 3, independently for each (-SiR 1 n1 R 2 3-n1 ) unit. However, in the formula, all n1 are not 0 at the same time. In other words, at least one R 1 is present in the formula.
  • each X 1 independently represents a single bond or a divalent to 10-valent organic group.
  • the X 1 is a perfluoropolyether part (ie, Rf-PFPE part or -PFPE-part) mainly providing water repellency and surface slipperiness in the compounds represented by the formulas (A1) and (A2).
  • a silane moiety that is, a group parenthesized with ⁇ that provides the binding ability to the base material. Therefore, X 1 may be any organic group as long as the compounds represented by formulas (A1) and (A2) can exist stably.
  • ⁇ is an integer of 1 to 9
  • ⁇ ′ is an integer of 1 to 9.
  • These ⁇ and ⁇ ′ can vary depending on the valence of X 1 .
  • the sum of ⁇ and ⁇ ′ is the same as the valence of X 1 .
  • X 1 is a 10-valent organic group
  • the sum of ⁇ and ⁇ ′ is 10, for example, ⁇ is 9 and ⁇ ′ is 1, ⁇ is 5 and ⁇ ′ is 5, or ⁇ is 1 and ⁇ 'Can be nine.
  • ⁇ and ⁇ ′ are 1.
  • alpha is a value obtained by subtracting 1 from the valence of X 1.
  • X 1 is preferably 2 to 7 valent, more preferably 2 to 4 valent, and still more preferably a divalent organic group.
  • X 1 is a divalent to tetravalent organic group
  • ⁇ is 1 to 3
  • ⁇ ′ is 1.
  • X 1 is a divalent organic group
  • ⁇ is 1
  • ⁇ ′ is 1.
  • the formulas (A1) and (A2) are represented by the following formulas (A1 ′) and (A2 ′).
  • Examples of X 1 are not particularly limited, but for example, the following formula: -(R 31 ) p ' -(X a ) q'- [Where: R 31 represents a single bond, — (CH 2 ) s ′ — or o-, m- or p-phenylene group, preferably — (CH 2 ) s ′ — s ′ is an integer of 1 to 20, preferably an integer of 1 to 6, more preferably an integer of 1 to 3, and even more preferably 1 or 2.
  • X a represents-(X b ) l ' - X b is independently at each occurrence —O—, —S—, o—, m- or p-phenylene, —C (O) O—, —Si (R 33 ) 2 —, — ( Si (R 33 ) 2 O) m ′ —Si (R 33 ) 2 —, —CONR 34 —, —O—CONR 34 —, —NR 34 — and — (CH 2 ) n ′ —
  • R 33 each independently represents a phenyl group, a C 1-6 alkyl group or a C 1-6 alkoxy group, preferably a phenyl group or a C 1-6 alkyl group, and more preferably a methyl group.
  • R 34 each independently represents a hydrogen atom, a phenyl group or a C 1-6 alkyl group (preferably a methyl group) at each occurrence;
  • m ′ is independently an integer of 1 to 100, preferably an integer of 1 to 20, at each occurrence,
  • n ′ is independently an integer of 1 to 20, preferably an integer of 1 to 6, more preferably an integer of 1 to 3, at each occurrence.
  • R 31 and X a are one or more selected from a fluorine atom, a C 1-3 alkyl group, and a C 1-3 fluoroalkyl group It may be substituted with a substituent.
  • X 1 is — (R 31 ) p ′ — (X a ) q ′ —R 32 —.
  • R 32 represents a single bond, — (CH 2 ) t ′ — or o-, m- or p-phenylene group, and preferably — (CH 2 ) t ′ —.
  • t ′ is an integer of 1 to 20, preferably an integer of 2 to 6, more preferably an integer of 2 to 3.
  • R 32 (typically a hydrogen atom of R 32 ) is substituted with one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-3 alkyl group and a C 1-3 fluoroalkyl group. It may be.
  • X 1 is A C 1-20 alkylene group, -R 31 -X c -R 32- , or -X d -R 32- [Wherein, R 31 and R 32 are as defined above. ] It can be.
  • said X 1 is A C 1-20 alkylene group, -(CH 2 ) s' -X c- , -(CH 2 ) s ' -X c- (CH 2 ) t'- -X d- , or -X d- (CH 2 ) t ' - [Wherein, s ′ and t ′ are as defined above]. ] It is.
  • X c is -O-, -S-, -C (O) O-, -CONR 34 -, -O-CONR 34 -, -Si (R 33 ) 2- , -(Si (R 33 ) 2 O) m ' -Si (R 33 ) 2- , —O— (CH 2 ) u ′ — (Si (R 33 ) 2 O) m ′ —Si (R 33 ) 2 —, —O— (CH 2 ) u ′ —Si (R 33 ) 2 —O—Si (R 33 ) 2 —CH 2 CH 2 —Si (R 33 ) 2 —O—Si (R 33 ) 2 —, —O— (CH 2 ) u ′ —Si (OCH 3 ) 2 OSi (OCH 3 ) 2 —, —CONR 34 — (CH 2 ) u ′ — (Si (Si (OC
  • X d is -S-, -C (O) O-, -CONR 34 -, —CONR 34 — (CH 2 ) u ′ — (Si (R 33 ) 2 O) m ′ —Si (R 33 ) 2 —, —CONR 34 — (CH 2 ) u ′ —N (R 34 ) —, or —CONR 34 — (o-, m- or p-phenylene) -Si (R 33 ) 2 — [Wherein each symbol is as defined above. ] Represents.
  • said X 1 is A C 1-20 alkylene group, — (CH 2 ) s ′ —X c — (CH 2 ) t ′ —, or —X d — (CH 2 ) t ′ — [Wherein each symbol is as defined above. ] It can be.
  • said X 1 is A C 1-20 alkylene group, — (CH 2 ) s ′ —O— (CH 2 ) t ′ —, - (CH 2) s' - (Si (R 33) 2 O) m '-Si (R 33) 2 - (CH 2) t' -, — (CH 2 ) s ′ —O— (CH 2 ) u ′ — (Si (R 33 ) 2 O) m ′ —Si (R 33 ) 2 — (CH 2 ) t ′ —, or — (CH 2 ) s′— O— (CH 2 ) t ′ —Si (R 33 ) 2 — (CH 2 ) u ′ —Si (R 33 ) 2 — (C v H 2v ) —
  • R 33 , m ′, s ′, t ′ and u ′ are as defined above, and v is
  • — (C v H 2v ) — may be linear or branched.
  • the X 1 group is substituted with one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-3 alkyl group, and a C 1-3 fluoroalkyl group (preferably a C 1-3 perfluoroalkyl group). May be.
  • examples of X 1 groups include the following groups:
  • each R 41 independently represents a hydrogen atom, a phenyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a C 1-6 alkoxy group, preferably a methyl group;
  • D is —CH 2 O (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 —, —CF 2 O (CH 2 ) 3 —, -(CH 2 ) 2- , -(CH 2 ) 3- , - (CH 2) 4 -, -CONH- (CH 2 ) 3- , -CON (CH 3 )-(CH 2 ) 3- , —CON (Ph) — (CH 2 ) 3 — (wherein Ph represents phenyl), and
  • each R 42 independently represents a hydrogen atom, a C 1-6 alkyl group or a C 1-6 alkoxy group, preferably a methyl group or a methoxy group, more preferably a methyl group.
  • a group selected from E is — (CH 2 ) n — (n is an integer of 2 to 6)); D binds to PFPE of the molecular backbone, and E binds to the opposite group of PFPE.
  • X 1 include, for example: —CH 2 O (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 —, —CH 2 O (CH 2 ) 6 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —, -CH 2 O (CH 2) 3 Si (CH 3) 2 OSi (CH 3) 2 OSi (CH 3) 2 (CH 2) 2 -, -CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 2 Si (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2- , —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 3 Si (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 3 Si (CH 3 ) 2 (CH
  • X 1 is a group represented by the formula: — (R 16 ) x — (CFR 17 ) y — (CH 2 ) z —.
  • x, y and z are each independently an integer of 0 to 10, the sum of x, y and z is 1 or more, and the order in which each repeating unit enclosed in parentheses is in the formula Is optional.
  • R 16 is independently an oxygen atom, phenylene, carbazolylene, —NR 26 — (wherein R 26 represents a hydrogen atom or an organic group) or a divalent organic group at each occurrence. is there.
  • R 16 is an oxygen atom or a divalent polar group.
  • the “divalent polar group” is not particularly limited, but —C (O) —, —C ( ⁇ NR 27 ) —, and —C (O) NR 27 — (in these formulas, R 27 is Represents a hydrogen atom or a lower alkyl group).
  • the “lower alkyl group” is, for example, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, for example, methyl, ethyl, n-propyl, and these may be substituted with one or more fluorine atoms.
  • R 17 is each independently a hydrogen atom, a fluorine atom or a lower fluoroalkyl group, preferably a fluorine atom, at each occurrence.
  • the “lower fluoroalkyl group” is, for example, a fluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms, preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, more preferably a trifluoromethyl group, A pentafluoroethyl group, more preferably a trifluoromethyl group.
  • X 1 is preferably of the formula: — (O) x — (CF 2 ) y — (CH 2 ) z —, wherein x, y and z are as defined above
  • x, y and z are as defined above
  • the order in which each repeating unit is included is arbitrary in the formula).
  • Examples of the group represented by the above formula: — (O) x — (CF 2 ) y — (CH 2 ) z — include, for example, — (O) x ′ — (CH 2 ) z ′′ —O — [(CH 2) z '''-O-] z "", and - (O) x' - ( CF 2) y "- (CH 2) z” -O - [(CH 2) z '''-O- Z ′′ ′′ (wherein x ′ is 0 or 1, y ′′, z ′′ and z ′ ′′ are each independently an integer of 1 to 10, and z ′′ ′′ is 0 or 1) These groups are bonded at the left end to the PFPE side.
  • X 1 is —O—CFR 13 — (CF 2 ) e —.
  • Each R 13 independently represents a fluorine atom or a lower fluoroalkyl group.
  • the lower fluoroalkyl group is, for example, a fluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, more preferably a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, still more preferably a trifluoromethyl group. It is.
  • Each e is independently 0 or 1.
  • R 13 is a fluorine atom and e is 1.
  • examples of X 1 groups include the following groups:
  • Each R 41 is independently a hydrogen atom, a phenyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a C 1-6 alkoxy group, preferably a methyl group;
  • any some of T are attached to the PFPE of the molecular backbone: —CH 2 O (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 —, —CF 2 O (CH 2 ) 3 —, -(CH 2 ) 2- , -(CH 2 ) 3- , - (CH 2) 4 -, -CONH- (CH 2 ) 3- , -CON (CH 3 )-(CH 2 ) 3- , —CON (Ph) — (CH 2 ) 3 — (wherein Ph represents phenyl), or
  • each R 42 independently represents a hydrogen atom, a C 1-6 alkyl group or a C 1-6 alkoxy group, preferably a methyl group or a methoxy group, more preferably a methyl group.
  • T is a group opposite to PFPE of the molecular main chain (that is, a carbon atom in the formulas (A1), (A2), (D1) and (D2)), and a formula ( B1), (B2), (C1) and (C2) are bonded to Si atoms)-(CH 2 ) n " -(n" is an integer of 2 to 6).
  • Each may independently be a methyl group, a phenyl group, a C 1-6 alkoxy group, or a radical scavenging group or an ultraviolet absorbing group.
  • the radical scavenging group is not particularly limited as long as it can capture radicals generated by light irradiation.
  • benzophenones benzotriazoles, benzoates, phenyl salicylates, crotonic acids, malonic esters, organoacrylates , Hindered amines, hindered phenols, or triazine residues.
  • the ultraviolet absorbing group is not particularly limited as long as it can absorb ultraviolet rays.
  • benzotriazoles, hydroxybenzophenones, esters of substituted and unsubstituted benzoic acid or salicylic acid compounds, acrylates or alkoxycinnamates, oxamides examples include residues of oxanilides, benzoxazinones, and benzoxazoles.
  • preferred radical scavenging groups or ultraviolet absorbing groups include Is mentioned.
  • X 1 can be each independently a trivalent to 10 valent organic group.
  • t is each independently an integer of 1 to 10. In a preferred embodiment, t is an integer from 1-6. In another preferred embodiment, t is an integer from 2 to 10, preferably an integer from 2 to 6.
  • X 2 independently represents a single bond or a divalent organic group at each occurrence.
  • X 2 is preferably an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably — (CH 2 ) u — (wherein u is an integer of 0 to 2).
  • Preferred compounds represented by formulas (A1) and (A2) are represented by the following formulas (A1 ′) and (A2 ′):
  • Each PFPE is independently of the formula: - (OC 6 F 12) m11 - (OC 5 F 10) m12 - (OC 4 F 8) m13 - (OC 3 X 10 6) m14 - (OC 2 F 4) m15 - (OCF 2) m16 - (Wherein, m11, m12, m13, m14, m15 and m16 are independently 0 or an integer of 1 or more, X 10 are independently H, F or Cl, and the order of the repeating units is arbitrary)
  • Rf independently represents each alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which may be substituted with one or more fluorine atoms at each occurrence
  • R 1 represents, independently at each occurrence, a hydrolyzable group
  • R 2 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms at each occurrence
  • R 11 independently represents a hydrogen atom or a halogen atom at each occurrence
  • the compounds represented by the above formulas (A1) and (A2) are obtained by introducing, for example, —CH 2 CR 12 (X It can be obtained by reacting a vinyl monomer corresponding to 2- SiR 1 n1 R 2 3-n1 ) —.
  • Rf, PFPE, R 1 , R 2 and n1 are the same as those described for the above formulas (A1) and (A2).
  • X 5 each independently represents a single bond or a divalent to 10-valent organic group.
  • the X 5 are the formula (B1) and in the compounds represented by (B2), mainly perfluoropolyether unit for providing water repellency and surface slipperiness, etc. (Rf-PFPE unit or -PFPE- parts) It is understood as a linker that connects a silane moiety (specifically, —SiR 1 n1 R 2 3-n1 ) that provides the binding ability to the substrate. Therefore, X 5 may be any organic group as long as the compounds represented by formulas (B1) and (B2) can exist stably.
  • ⁇ is an integer of 1 to 9
  • ⁇ ′ is an integer of 1 to 9.
  • ⁇ and ⁇ ′ are determined according to the valence of X 3
  • the sum of ⁇ and ⁇ ′ is the same as the valence of X 5 .
  • X 5 is a 10-valent organic group
  • the sum of ⁇ and ⁇ ′ is 10, for example, ⁇ is 9 and ⁇ ′ is 1, ⁇ is 5 and ⁇ ′ is 5, or ⁇ is 1 and ⁇ 'Can be nine.
  • ⁇ and ⁇ ′ are 1.
  • beta is a value obtained by subtracting 1 from the valence of the value of X 5.
  • X 5 is preferably a divalent organic group having 2 to 7 valences, more preferably 2 to 4 valences, and even more preferably a divalent organic group.
  • X 5 is a divalent to tetravalent organic group
  • ⁇ is 1 to 3
  • ⁇ ′ is 1.
  • X 5 is a divalent organic group
  • ⁇ is 1
  • ⁇ ′ is 1.
  • the formulas (B1) and (B2) are represented by the following formulas (B1 ′) and (B2 ′).
  • Examples of X 5 are not particularly limited, and examples thereof include those similar to those described for X 1 .
  • preferable specific X 5 is —CH 2 O (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 —, —CH 2 O (CH 2 ) 6 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —, -CH 2 O (CH 2) 3 Si (CH 3) 2 OSi (CH 3) 2 OSi (CH 3) 2 (CH 2) 2 -, -CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 2 Si (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2- , —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 3 Si (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 3 Si (CH 3 ) 2 (CH 2
  • Preferred compounds represented by formulas (B1) and (B2) are represented by the following formulas (B1 ′) and (B2 ′):
  • Each PFPE is independently of the formula: - (OC 6 F 12) m11 - (OC 5 F 10) m12 - (OC 4 F 8) m13 - (OC 3 X 10 6) m14 - (OC 2 F 4) m15 - (OCF 2) m16 - (Wherein, m11, m12, m13, m14, m15 and m16 are independently 0 or an integer of 1 or more, X 10 are independently H, F or Cl, and the order of the repeating units is arbitrary)
  • Rf independently represents each alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which may be substituted with one or more fluorine atoms at each occurrence
  • R 1 represents, independently at each occurrence, a hydrolyzable group
  • R 2 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms at each occurrence
  • n1 is an integer from 1 to 3, preferably 3
  • X 5 is —CH 2 O (
  • the compounds represented by the above formulas (B1) and (B2) can be produced by a known method, for example, the method described in Patent Document 1 or an improved method thereof.
  • the compounds represented by the formulas (B1) and (B2) are represented by the following formulas (B1-4) or (B2-4):
  • Each PFPE is independently of the formula: - (OC 6 F 12) m11 - (OC 5 F 10) m12 - (OC 4 F 8) m13 - (OC 3 X 10 6) m14 - (OC 2 F 4) m15 - (OCF 2) m16 - (Wherein, m11, m12, m13, m14, m15 and m16 are independently 0 or an integer of 1 or more, X 10 are independently H, F or Cl, and the order of the repeating units is arbitrary)
  • Rf independently represents each alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which may be substituted with one or more fluorine atoms at each occurrence;
  • Each X 5 ′ independently represents a single bond or a divalent to 10-valent organic group; each ⁇ is independently an integer from 1 to 9; each ⁇ ′ is independently an integer from 1 to 9; R 92 is a single bond or a divalent organic group.
  • R 1 is each independently a halogen atom
  • R 1 is each independently a hydrolyzable group at each occurrence
  • R 2 is independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms at each occurrence, and the halogen atom is converted to R 1 or R 2 as necessary.
  • PFPE, Rf, X 5 ′ , ⁇ , ⁇ ′ and R 92 are as defined above; n1 is an integer of 0 to 3. ] It can obtain as a compound represented by these.
  • Rf and PFPE are the same as those described for the above formulas (A1) and (A2).
  • X 7 each independently represents a single bond or a divalent to 10-valent organic group.
  • the X 7 is a formula (C1) and in the compounds represented by (C2), mainly perfluoropolyether unit for providing water repellency and surface slipperiness, etc. (Rf-PFPE unit or -PFPE- parts) It is understood as a linker that connects a silane moiety (specifically, —SiR a k1 R b 11 R c m1 group) that provides the binding ability to the substrate. Therefore, X 7 may be any organic group as long as the compounds represented by formulas (C1) and (C2) can exist stably.
  • ⁇ is an integer of 1 to 9
  • ⁇ ′ is an integer of 1 to 9.
  • ⁇ and ⁇ ′ are determined according to the valence of X 7
  • the sum of ⁇ and ⁇ ′ is the same as the valence of X 7 .
  • X 7 is a 10-valent organic group
  • the sum of ⁇ and ⁇ ′ is 10, for example, ⁇ is 9 and ⁇ ′ is 1, ⁇ is 5 and ⁇ ′ is 5, or ⁇ is 1 and ⁇ .
  • gamma is a value obtained by subtracting 1 from the valence of the values of X 7.
  • X 7 is preferably a divalent organic group having 2 to 7 valences, more preferably 2 to 4 valences, and even more preferably a divalent organic group.
  • X 7 is a divalent to tetravalent organic group, ⁇ is 1 to 3, and ⁇ ′ is 1.
  • X 7 is a divalent organic group, ⁇ is 1 and ⁇ ′ is 1.
  • the formulas (C1) and (C2) are represented by the following formulas (C1 ′) and (C2 ′).
  • Examples of X 7 are not particularly limited, and examples thereof include those similar to those described for X 1 .
  • preferable specific X 7 is —CH 2 O (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 —, —CH 2 O (CH 2 ) 6 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —, -CH 2 O (CH 2) 3 Si (CH 3) 2 OSi (CH 3) 2 OSi (CH 3) 2 (CH 2) 2 -, -CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 2 Si (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2- , —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 3 Si (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 3 Si (CH 3 ) 2 (CH 2
  • R a independently represents —Z 1 —SiR 71 p1 R 72 q1 R 73 r1 at each occurrence.
  • Z 1 represents an oxygen atom or a divalent organic group independently at each occurrence.
  • Z 1 is preferably a divalent organic group, and forms a siloxane bond with the Si atom (Si atom to which R a is bonded) at the end of the molecular main chain in formula (C1) or formula (C2). Does not include what to do.
  • Z 1 is preferably a C 1-6 alkylene group, — (CH 2 ) g —O— (CH 2 ) h — (wherein g is an integer of 1 to 6, and h is 1 to 6 is an integer of 6) or -phenylene- (CH 2 ) i- (wherein i is an integer of 0 to 6), and more preferably a C 1-3 alkylene group.
  • These groups may be substituted with, for example, one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, and a C 2-6 alkynyl group. .
  • R 71 represents R a ′ independently at each occurrence.
  • R a ′ has the same meaning as R a .
  • R a the maximum number of Si linked in a straight chain via the Z 1 group is 5. That is, in the above R a , when at least one R 71 is present, there are two or more Si atoms linearly linked through the Z 1 group in R a , but through the Z 1 group, The maximum number of Si atoms connected in a straight line is five.
  • the phrase "through the Z 1 group in R a number of Si atoms linearly linked" is equal to the repetition number of -Z 1 -Si- being linearly linked in a R a Become.
  • Z Z 1 group
  • * means a site bonded to Si of the main chain, and ... means that a predetermined group other than ZSi is bonded, that is, all three bonds of Si atoms are ... In this case, it means the end point of ZSi repetition.
  • the number on the right shoulder of Si means the number of appearances of Si connected in a straight line through the Z group counted from *.
  • the chain in which ZSi repetition is completed in Si 2 has “the number of Si atoms linearly linked through Z 1 group in R a ”, and similarly, Si 3 , Si
  • the chains in which the ZSi repetition is terminated with 4 and Si 5 have “number of Si atoms connected in a straight chain via the Z 1 group in R a ” being 3, 4 and 5, respectively.
  • the number of Si atoms connected linearly via the Z 1 group in R a is 1 (left formula) or 2 (Right type).
  • the number of Si atoms connected in a straight chain via the Z 1 group in R a is 1 or 2, preferably 1.
  • R 72 represents a hydrolyzable group independently at each occurrence.
  • hydrolyzable group as used herein means a group capable of undergoing a hydrolysis reaction.
  • hydrolyzable groups include —OR, —OCOR, —O—N ⁇ C (R) 2 , —N (R) 2 , —NHR, halogen (wherein R is substituted or unsubstituted Represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), preferably —OR (alkoxy group).
  • R include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group and isobutyl group; substituted alkyl groups such as chloromethyl group.
  • an alkyl group, particularly an unsubstituted alkyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable.
  • R 72 is —OR (wherein R represents a substituted or unsubstituted C 1-3 alkyl group, more preferably a methyl group).
  • R 73 independently represents a hydrogen atom or a lower alkyl group at each occurrence.
  • the lower alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably a methyl group.
  • '(if R a' is absent, R a) terminal of R a in R a in the above q1 is preferably 2 or more, for example 2 or 3, more preferably 3.
  • At least one of the terminal portions of R a is —Si (—Z 1 —SiR 72 q R 73 r ) 2 or —Si (—Z 1 —SiR 72 q R 73 r ) 3 , preferably — Si (—Z 1 —SiR 72 q R 73 r ) 3
  • - the unit of (Z 1 -SiR 72 q R 73 r) is preferably (-Z 1 -SiR 72 3).
  • the terminal portions of R a may be all —Si (—Z 1 —SiR 72 q R 73 r ) 3 , preferably —Si (—Z 1 —SiR 72 3 ) 3 .
  • R b represents a hydrolyzable group independently at each occurrence.
  • R b is preferably —OR, —OCOR, —O—N ⁇ C (R) 2 , —N (R) 2 , —NHR, halogen (in these formulas, R is a substituted or unsubstituted carbon) Represents an alkyl group of 1 to 4, and is preferably —OR.
  • R includes an unsubstituted alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, and an isobutyl group; and a substituted alkyl group such as a chloromethyl group.
  • R b is —OR (wherein R represents a substituted or unsubstituted C 1-3 alkyl group, more preferably a methyl group).
  • R c independently represents a hydrogen atom or a lower alkyl group at each occurrence.
  • the lower alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably a methyl group.
  • the compounds represented by the above formulas (C1) and (C2) have, for example, a perfluoropolyether derivative corresponding to the Rf-PFPE- moiety as a raw material, a hydroxyl group introduced at the terminal, and then an unsaturated bond at the terminal A group is introduced, the group having an unsaturated bond is reacted with a silyl derivative having a halogen atom, a hydroxyl group is further introduced into the terminal of the silyl group, and the introduced group having an unsaturated bond is reacted with the silyl derivative.
  • Preferred compounds represented by the formulas (C1) and (C2) are represented by the following formulas (C1 ′′) and (C2 ′′):
  • Each PFPE is independently of the formula: - (OC 6 F 12) m11 - (OC 5 F 10) m12 - (OC 4 F 8) m13 - (OC 3 X 10 6) m14 - (OC 2 F 4) m15 - (OCF 2) m16 - (Wherein, m11, m12, m13, m14, m15 and m16 are independently 0 or an integer of 1 or more, X 10 are independently H, F or Cl, and the order of the repeating units is arbitrary)
  • Rf independently represents each alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which may be substituted with one or more fluorine atoms at each occurrence;
  • X 7 represents —CH 2 O (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 — or —CH 2 O (CH 2 ) 6 —;
  • R a independently represents at each occurrence —Z 1 —SiR 71 p1 R
  • the compounds represented by the above formulas (C1) and (C2) can be produced, for example, as follows.
  • Each PFPE is independently of the formula: - (OC 6 F 12) m11 - (OC 5 F 10) m12 - (OC 4 F 8) m13 - (OC 3 X 10 6) m14 - (OC 2 F 4) m15 - (OCF 2) m16 - (Wherein, m11, m12, m13, m14, m15 and m16 are independently 0 or an integer of 1 or more, X 10 are independently H, F or Cl, and the order of the repeating units is arbitrary)
  • Rf independently represents each alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which may be substituted with one or more fluorine atoms at each occurrence;
  • Each X 7 ′ independently represents a single bond or a divalent to 10-valent organic group; each ⁇ is independently an integer from 1 to 9; each ⁇ ′ is independently an integer from 1 to 9; R 92 is a single bond or a divalent organic group.
  • the obtained compound represented by the formula (C1-6) or (C2-6) is converted into HSiM 3 (wherein M is independently a halogen atom, R 72 or R 73 , and R 72 is Each independently at each occurrence represents a hydrolyzable group, and R 73 each independently at each occurrence represents a hydrogen atom or a lower alkyl group).
  • the halogen atom is converted to R 72 or R 73 to give the formula (C1 ′ ′′) or (C2 ′ ′′):
  • Rf, PFPE, R 72 , R 73 , R 92 , R 94 , R b , R c , ⁇ , ⁇ ′, X 7 ′ , k1, l1 and m1 are as defined above; q1 is independently an integer of 1 to 3 at each occurrence; r1 is an integer of 0 to 2 independently at each occurrence. ] Can be obtained.
  • Rf and PFPE are the same as those described for the above formulas (A1) and (A2).
  • X 9 each independently represents a single bond or a divalent to 10-valent organic group.
  • the X 9 is a perfluoropolyether part (ie, Rf-PFPE part or -PFPE-part) mainly providing water repellency and surface slipperiness in the compounds represented by the formulas (D1) and (D2). It is understood that this is a linker that connects a moiety that provides a binding ability to the substrate (that is, a group that is bracketed with ⁇ ). Therefore, X 9 may be any organic group as long as the compounds represented by formulas (D1) and (D2) can exist stably.
  • ⁇ is an integer of 1 to 9
  • ⁇ ′ is an integer of 1 to 9.
  • [delta] and [delta] ' may vary depending on the valence of X 9.
  • the sum of [delta] and [delta] ' is the same as the valence of X 9.
  • X 9 is a 10-valent organic group
  • the sum of ⁇ and ⁇ ′ is 10, for example, ⁇ is 9 and ⁇ ′ is 1, ⁇ is 5 and ⁇ ′ is 5, or ⁇ is 1 and ⁇ .
  • ⁇ can be nine.
  • ⁇ and ⁇ ′ are 1.
  • [delta] is a value obtained by subtracting 1 from the valence of X 9.
  • X 9 is preferably divalent to 7-valent, more preferably 2- to 4-valent, and still more preferably a divalent organic group.
  • X 9 is a divalent to tetravalent organic group, ⁇ is 1 to 3, and ⁇ ′ is 1.
  • X 9 is a divalent organic group, ⁇ is 1 and ⁇ ′ is 1.
  • the formulas (D1) and (D2) are represented by the following formulas (D1 ′) and (D2 ′).
  • Examples of X 9 are not particularly limited, and examples thereof include those similar to those described with respect to X 1 .
  • preferable specific X 9 is —CH 2 O (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 —, —CH 2 O (CH 2 ) 6 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —, -CH 2 O (CH 2) 3 Si (CH 3) 2 OSi (CH 3) 2 OSi (CH 3) 2 (CH 2) 2 -, -CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 2 Si (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2- , —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 3 Si (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 3 Si (CH 3 ) 2 (CH 2
  • R d independently represents —Z 2 —CR 81 p2 R 82 q2 R 83 r2 at each occurrence.
  • Z 2 independently represents an oxygen atom or a divalent organic group at each occurrence.
  • Z 2 is preferably a C 1-6 alkylene group, — (CH 2 ) g —O— (CH 2 ) h — (wherein g is an integer of 0 to 6, for example, an integer of 1 to 6). And h is an integer from 0 to 6, for example an integer from 1 to 6, or -phenylene- (CH 2 ) i- (where i is an integer from 0 to 6), and more A C 1-3 alkylene group is preferred. These groups may be substituted with, for example, one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, and a C 2-6 alkynyl group. .
  • R 81 independently represents R d ′ at each occurrence.
  • R d ′ has the same meaning as R d .
  • R d the maximum number of C linked in a straight chain via the Z 2 group is 5. That is, the in R d, when R 81 is present at least one, but Si atoms linked in R d in Z 2 group via a linear there are two or more, via such Z 2 group The maximum number of C atoms connected in a straight line is five.
  • the phrase "through the Z 2 group in R d number of C atoms linearly linked" is equal to the number of repetitions of -Z 2 -C- being linearly linked in a R d Become. This is the same as the description regarding R a in the formulas (C1) and (C2).
  • the “number of C atoms connected in a straight chain via a Z 2 group in R d ” is 1 (left formula) or 2 (right formula) in all chains.
  • the number of C atoms linked in a straight chain via a Z 2 group in R d is 1 or 2, preferably 1.
  • R 82 represents —Y—SiR 85 n2 R 86 3-n2 .
  • Y represents a divalent organic group independently at each occurrence.
  • Y is a C 1-6 alkylene group, — (CH 2 ) g ′ —O— (CH 2 ) h ′ — (wherein g ′ is an integer from 0 to 6, for example from 1 to 6 Is an integer, h ′ is an integer from 0 to 6, for example, an integer from 1 to 6, or —phenylene- (CH 2 ) i ′ — (where i ′ is an integer from 0 to 6) ).
  • These groups may be substituted with, for example, one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, and a C 2-6 alkynyl group. .
  • Y can be a C 1-6 alkylene group, —O— (CH 2 ) h ′ — or —phenylene- (CH 2 ) i ′ —.
  • Y is a group as described above, light resistance, particularly ultraviolet light resistance can be further increased.
  • R 85 represents a hydrolyzable group independently at each occurrence.
  • hydrolyzable group as used herein means a group capable of undergoing a hydrolysis reaction.
  • hydrolyzable groups include —OR, —OCOR, —O—N ⁇ C (R) 2 , —N (R) 2 , —NHR, halogen (wherein R is substituted or unsubstituted Represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), preferably —OR (alkoxy group).
  • R include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group and isobutyl group; substituted alkyl groups such as chloromethyl group.
  • an alkyl group, particularly an unsubstituted alkyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable.
  • R 85 is —OR (wherein R represents a substituted or unsubstituted C 1-3 alkyl group, more preferably an ethyl group or a methyl group, particularly a methyl group).
  • R 86 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group independently at each occurrence.
  • the lower alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably a methyl group.
  • n2 independently represents an integer of 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3, for each (-Y-SiR 85 n2 R 86 3-n2 ) unit.
  • R 83 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group independently at each occurrence.
  • the lower alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably a methyl group.
  • p2 is independently an integer from 0 to 3 at each occurrence; q2 is independently an integer from 0 to 3 at each occurrence; and r2 is independently at each occurrence. And an integer from 0 to 3. However, the sum of p2, q2 and r2 is 3.
  • '(if R d' is absent, R d) end of R d in R d in the above q2 is preferably 2 or more, for example 2 or 3, more preferably 3.
  • At least one of the terminal ends of R d is —C (—Y—SiR 85 q2 R 86 r2 ) 2 or —C (—Y—SiR 85 q2 R 86 r2 ) 3 , preferably —C ( may be -Y-SiR 85 q2 R 86 r2 ) 3.
  • (- Y-SiR 85 q2 R 86 r2) units is preferably (-Y-SiR 85 3).
  • the terminal portions of R d may be all —C (—Y—SiR 85 q2 R 86 r2 ) 3 , preferably —C (—Y—SiR 85 3 ) 3 .
  • R e independently represents —Y—SiR 85 n2 R 86 3-n2 at each occurrence.
  • Y, R 85 , R 86 and n2 are as defined in R 82 above.
  • R f independently represents a hydrogen atom or a lower alkyl group at each occurrence.
  • the lower alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably a methyl group.
  • k2 is independently an integer of 0 to 3 at each occurrence; l2 is independently an integer of 0 to 3 at each occurrence; and m2 is independently at each occurrence. And an integer from 0 to 3. However, the sum of k2, l2, and m2 is 3.
  • At least one k2 is 2 or 3, preferably 3.
  • k2 is 2 or 3, preferably 3.
  • l2 is 2 or 3, preferably 3.
  • At least one q2 is 2 or 3, or at least one l2 is 2 or 3. That is, there are at least two —Y—SiR 85 n2 R 86 3-n2 groups in the formula.
  • the perfluoropolyether group-containing silane compound represented by the formula (D1) or the formula (D2) can be produced by combining known methods.
  • the compound represented by the formula (D1 ′) in which X is divalent is not limited, but can be produced as follows.
  • a group containing a double bond preferably a polyhydric alcohol represented by HO—X—C (YOH) 3 (wherein X and Y are each independently a divalent organic group)) Is allyl), and halogen (preferably bromo), and Hal—X—C (Y—O—R—CH ⁇ CH 2 ) 3 (where Hal is halogen, eg Br, R is A double bond-containing halide represented by a valent organic group such as an alkylene group.
  • R PFPE —OH a perfluoropolyether group-containing alcohol represented by R PFPE —OH (wherein R PFPE is a perfluoropolyether group-containing group), and R PFPE ⁇ O—X—C (Y—O—R—CH ⁇ CH 2 ) 3 is obtained.
  • the terminal —CH ⁇ CH 2 is then reacted with HSiCl 3 and alcohol or HSiR 85 3 to give R PFPE —O—X—C (Y—O—R—CH 2 —CH 2 —SiR 85 3 ) 3 Can be obtained.
  • the perfluoropolyether group-containing silane compounds represented by the above formulas (A1), (A2), (B1), (B2), (C1), (C2), (D1) and (D2) are particularly limited. Although not intended, it may have a number average molecular weight of 5 ⁇ 10 2 to 1 ⁇ 10 5 .
  • the number average molecular weight is preferably 2,000 to 30,000, more preferably 3,000 to 10,000, and still more preferably 3,000 to 8,000.
  • the number average molecular weight is measured by GPC (gel permeation chromatography) analysis.
  • the number average molecular weight of the PFPE moiety in the perfluoropolyether group-containing silane compound is not particularly limited, but is preferably 1,500 to 30,000, more preferably 2,500 to 10,000, and still more preferably Can be between 3,000 and 8,000.
  • Compound (H) has the formula: R 111 -PFPE-R 113 (Wherein PFPE is a perfluoropolyether group, R 111 and R 113 are independently F, an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 16 carbon atoms, and a fluorinated group having 1 to 16 carbon atoms.
  • the divalent organic group include an alkylene group, a fluorinated alkylene group, or a group having an oxygen atom bonded to the terminal thereof.
  • the number of carbon atoms of the divalent organic group is not particularly limited, but may be 1 to 16, for example.
  • R 111 and R 113 are independently F, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a fluorinated alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or —R 114 —X 111 (where R 114 and X 111 are as described above). F, a fully fluorinated alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or —R 114 —X 111 (R 114 and X 111 are as described above) is more preferable.
  • n an integer of 300 or less is preferable, and an integer of 100 or less is more preferable.
  • N111, n112, n113, n114 and n115 are independently 0 or an integer of 1 or more
  • X 112 is H, F or Cl
  • the order of the repeating units is arbitrary in a) those represented by, Formula:-(OC 2 F 4 -R 118 ) f- (R 118 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 , and f is an integer of 2 to 100).
  • n111 to n115 are each preferably an integer of 0 to 200. n111 to n115 are preferably 1 or more in total, more preferably from 5 to 300, still more preferably from 10 to 200, and particularly preferably from 10 to 100.
  • R 118 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 , or a combination of 2 or 3 groups independently selected from these groups.
  • the combination of 2 or 3 groups independently selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 is not particularly limited.
  • OC 2 F is an integer of 2 to 100, preferably an integer of 2 to 50.
  • OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 may be either linear or branched, preferably linear.
  • the formula: — (OC 2 F 4 —R 118 ) f — preferably represents the formula: — (OC 2 F 4 —OC 3 F 6 ) f — or the formula: — (OC 2 F 4 —OC 4 F 8 ) f ⁇ .
  • the compound (H) preferably has a weight average molecular weight of 500 to 100,000, more preferably 50,000 or less, still more preferably 10,000 or less, and particularly preferably 6,000 or less.
  • the weight average molecular weight can be measured by gel permeation chromatography (GPC).
  • the layer (A) contains a resin.
  • the resin is a resin as a main material for imparting a function to the functional film, and the function of the functional film is determined depending on the type of the resin.
  • the resin examples include a resin obtained by curing a curable resin, a resin obtained by curing a curable monomer, and a resin including a polysiloxane structure formed using a silicon-containing compound. At least one selected is preferred.
  • the curable resin preferably does not contain a fluorine atom.
  • the curable monomer preferably does not contain a fluorine atom.
  • the curable resin may be either a photocurable resin or a thermosetting resin, and is not particularly limited as long as it has heat resistance and strength, but a photocurable resin is preferable, and an ultraviolet curable resin is preferable. More preferred.
  • curable resin examples include acrylic polymers, polycarbonate polymers, polyester polymers, polyamide polymers, polyimide polymers, polyethersulfone polymers, cyclic polyolefin polymers, fluorine-containing polyolefin polymers (PTFE, etc.), Fluorine-containing cyclic amorphous polymer (Cytop (registered trademark), Teflon (registered trademark) AF, etc.) and the like.
  • a resin having transparency is preferable.
  • curable resin or the monomer constituting the curable resin include alkyl vinyl ethers such as cyclohexyl methyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, and ethyl vinyl ether, glycidyl vinyl ether, vinyl acetate, vinyl pivalate, and various types (meth).
  • alkyl vinyl ethers such as cyclohexyl methyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, and ethyl vinyl ether, glycidyl vinyl ether, vinyl acetate, vinyl pivalate, and various types (meth).
  • Acrylates Phenoxyethyl acrylate, benzyl acrylate, stearyl acrylate, lauryl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, allyl acrylate, 1,3-butanediol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate , Trimethylol, propane triacrylate, pentaaerythritol triacrylate, dipentaerythritol Hexahexaacrylate, ethoxyethyl acrylate, methoxyethyl acrylate, glycidyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, diethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, polyoxyethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl
  • the curable monomer may be either a photocurable monomer or a thermosetting monomer, but an ultraviolet curable monomer is preferable.
  • the curable monomer include (a) urethane (meth) acrylate, (b) epoxy (meth) acrylate, (c) polyester (meth) acrylate, (d) polyether (meth) acrylate, and (e) silicon. (Meth) acrylate, (f) (meth) acrylate monomer, etc. are mentioned.
  • curable monomer examples include the following.
  • urethane (meth) acrylate examples include poly [(meth) acryloyloxyalkyl] isocyanurate represented by tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate diacrylate and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate.
  • B Epoxy (meth) acrylate is obtained by adding a (meth) acryloyl group to an epoxy group, and generally uses bisphenol A, bisphenol F, phenol novolak, and an alicyclic compound as starting materials.
  • Polyesters constituting the polyester part of the polyester (meth) acrylate include ethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, diethylene glycol, trimethylolpropane, dipropylene glycol, polyethylene glycol,
  • Examples of the polybasic acid include phthalic acid, adipic acid, maleic acid, trimellitic acid, itaconic acid, succinic acid, terephthalic acid, and alkenyl succinic acid.
  • Examples of the (d) polyether (meth) acrylate include polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol-polypropylene glycol di (meth) acrylate and the like.
  • (E) Silicon (meth) acrylate is obtained by modifying one end of dimethylpolysiloxane having a molecular weight of 1,000 to 10,000, or both ends with a (meth) acryloyl group. Illustrated.
  • (F) (Meth) acrylate monomers include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate , Sec-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, n-pentyl (meth) acrylate, 3-methylbutyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, 2-ethyl-n-hexyl (meth) ) Acrylate, n-octyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-
  • curable resins and curable monomers the following are preferable examples that can be obtained from the market.
  • curable resin examples include silicon resins, PAK-01, PAK-02 (manufactured by Toyo Gosei Chemical), nanoimprint resin NIF series (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), nanoimprint resin OCNL series (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.), NIAC2310 (Manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), epoxy acrylate resins EH-1001, ES-4004, EX-C101, EX-C106, EX-C300, EX-C501, EX-0202, EX-0205, EX-5000, etc.
  • silicone acrylate resins include Silaplane FM-0611, Silaplane FM-0621, Silaplane FM-0625, Dual-end (meth) acrylic Silaplane FM-7711, Silaplane.
  • Polyfunctional acrylates include A-9300, A-9300-1CL, A-GLY-9E, A-GLY-20E, A-TMM-3, A-TMM-3L, A-TMM-3LM-N, A -TMPT, A-TMMT (manufactured by Shin-Nakamura Kogyo Co., Ltd.) and the like.
  • Examples of polyfunctional methacrylates include TMPT (manufactured by Shin-Nakamura Kogyo Co., Ltd.).
  • alkoxysilane group-containing (meth) acrylates include 3- (meth) acryloyloxypropyltrichlorosilane, 3- (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloyloxypropyltriethoxysilane, 3- ( (Meth) acryloyloxypropyl triisopropoxysilane (also known as (triisopropoxysilyl) propyl methacrylate (abbreviation: TISMA) and (triisopropoxysilyl) propyl acrylate), 3- (meth) acryloxyisobutyltrichlorosilane, 3- (meta ) Acryloxyisobutyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloxyisobutyltriisopropoxy 3- (meth) acryloxyisobutyltrimethoxysilane silane and the like.
  • TISMA triisopropoxysi
  • the resin contained in the layer (A) is a resin as a main material for imparting a function to the functional film. Since the functional film of the present invention has the above-described configuration, the characteristics inherent to the resin contained in the layer (A) are sufficiently exhibited. Examples of the characteristics include transparency, low scattering, low reflectivity, scratch resistance, flexibility, and the like. Among these, transparency and scratch resistance are preferable. Resins having these characteristics include resins obtained by curing resins such as acrylic polymers, polycarbonate polymers, polyimide polymers, polyethersulfone polymers, cyclic polyolefin polymers, and polyfunctional (meth) acrylates. And resins obtained by curing curable monomers such as silicon (meth) acrylates, epoxy (meth) acrylates, and urethane (meth) acrylates.
  • resins having these characteristics include resins obtained by curing resins such as acrylic polymers, polycarbonate polymers, polyimide polymers, polyethersulfone polymers, cyclic poly
  • the resin is selected from the group consisting of a resin obtained by curing a composition containing a curable resin and a crosslinking catalyst, and a resin obtained by curing a composition containing a curable monomer and a crosslinking catalyst.
  • the crosslinking catalyst include radical polymerization initiators and acid generators.
  • the radical polymerization initiator is a compound that generates radicals by heat or light, and examples thereof include a radical thermal polymerization initiator and a radical photopolymerization initiator. In the present invention, the radical photopolymerization initiator is preferable.
  • radical thermal polymerization initiator examples include diacyl peroxides such as benzoyl peroxide and lauroyl peroxide, dialkyl peroxides such as dicumyl peroxide and di-t-butyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, Peroxycarbonates such as bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, peroxide compounds such as alkyl peresters such as t-butylperoxyoctoate and t-butylperoxybenzoate, and azobisiso Examples include radical-generating azo compounds such as butyronitrile.
  • radical photopolymerization initiator examples include -diketones such as benzyl and diacetyl, acyloins such as benzoin, acyloin ethers such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether, thioxanthone, 2,4- Thioxanthones such as diethylthioxanthone and thioxanthone-4-sulfonic acid, benzophenones, benzophenones such as 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, acetophenone, 2- (4- Toluenesulfonyloxy) -2-phenylacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, 2,2′-dimethoxy-2-phenylacetophenone, p-methoxyacetophenone, 2-methyl [
  • IRGACURE 651 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one
  • IRGACURE 184 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone
  • IRGACURE 2959 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one
  • IRGACURE 127 2-Hydroxy-1- ⁇ 4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl ⁇ -2-methyl-propan-1-one
  • IRGACURE 907 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one
  • IRGACURE 369 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1
  • IRGACURE 379 2- (dimethylamino) -2-[(4
  • a radical photopolymerization initiator When a radical photopolymerization initiator is used as the crosslinking catalyst, diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, or the like can be used in combination as a sensitizer, and DAROCUR EDB (ethyl-4-dimethylaminobenzoate) can be used as a polymerization accelerator. ), DAROCUR EHA (2-ethylhexyl-4-dimethylaminobenzoate) or the like may be used in combination.
  • the amount of the sensitizer is preferably 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the curable resin or the curable monomer. More preferably, it is 0.1 to 2 parts by mass.
  • the blending amount of the polymerization accelerator is preferably 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the curable resin or the curable monomer. More preferably, it is 0.1 to 2 parts by mass.
  • the acid generator is a material that generates an acid by applying heat or light, and examples thereof include a thermal acid generator and a photoacid generator.
  • a photoacid generator is preferred.
  • the thermal acid generator include benzoin tosylate, nitrobenzyl tosylate (particularly 4-nitrobenzyl tosylate), and other organic sulfonic acid alkyl esters.
  • the photoacid generator is composed of a chromophore that absorbs light and an acid precursor that becomes an acid after decomposition. By irradiating the photoacid generator having such a structure with light of a specific wavelength, The acid generator is excited and acid is generated from the acid precursor portion.
  • the photoacid generator include diazonium salts, phosphonium salts, sulfonium salts, iodonium salts, CF 3 SO 3 , p-CH 3 PhSO 3 , and p-NO 2 PhSO 3 (where Ph is a phenyl group). Examples thereof include salts, organic halogen compounds, orthoquinone-diazide sulfonyl chloride, and sulfonic acid esters.
  • photoacid generators include 2-halomethyl-5-vinyl-1,3,4-oxadiazole compounds, 2-trihalomethyl-5-aryl-1,3,4-oxadiazole compounds, 2-trihalo Also included are methyl-5-hydroxyphenyl-1,3,4-oxadiazole compounds.
  • the organic halogen compound is a compound that forms hydrohalic acid (for example, hydrogen chloride).
  • WPAG-145 bis (cyclohexylsulfonyl) diazomethane
  • WPAG-170 bis (t-butylsulfonyl) diazomethane
  • WPAG-199 bis (p-toluenesulfonyl) diazomethane
  • WPAG-281 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.
  • TME-triazine [2- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (tri-chloromethyl) -s-triazine] MP-triazine [2- (Methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-to Azine, dimethoxy [2- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -4,6-bis (tri - chloromethyl) -s-triazine.
  • the blending amount of the crosslinking catalyst is preferably 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the curable resin or the curable monomer. In such a range, a sufficient cured product can be obtained.
  • the blending amount of the crosslinking catalyst is more preferably 0.3 to 5 parts by mass, still more preferably 0.5 to 2 parts by mass.
  • the acid scavenger is not particularly limited, but a basic compound such as an amine (particularly an organic amine), a basic ammonium salt, or a basic sulfonium salt is preferable. Among these acid scavengers, organic amines are more preferable because of excellent image performance.
  • the acid scavenger examples include 1,5-diazabicyclo [4.3.0] -5-nonene, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene, 1,4- Diazabicyclo [2.2.2] octane, 4-dimethylaminopyridine, 1-naphthylamine, piperidine, hexamethylenetetramine, imidazoles, hydroxypyridines, pyridines, 4,4'-diaminodiphenyl ether, pyridinium p-toluenesulfonate 2,4,6-trimethylpyridinium p-toluenesulfonate, tetramethylammonium p-toluenesulfonate, tetrabutylammonium lactate, triethylamine, tributylamine and the like.
  • Organic amines such as octane, 4-dimethylaminopyridine, 1-naphthylamine, piperidine, hexamethylenetetramine, imidazoles, hydroxypyridines, pyridines, 4,4′-diaminodiphenyl ether, triethylamine, and tributylamine are preferred.
  • the amount of the acid scavenger is preferably 20 parts by mass or less, more preferably 0.1 to 10 parts by mass, and still more preferably 0.5 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acid generator. 5 parts by mass.
  • the silicon-containing compound is preferably a silicon-containing compound capable of forming a polysiloxane structure by reaction, preferably by sol-gel reaction.
  • the silicon-containing compound can be an organosilicon compound containing carbon and silicon.
  • organosilicon compounds examples include Si—H compounds having Si—H bonds; Si—N compounds having Si—N bonds such as aminosilane compounds, silazanes, silylacetamides, and silylimidazoles; monoalkoxysilanes, dialkoxysilanes, Si—O compounds having Si—O bonds such as alkoxysilanes, tetraalkoxysilanes, siloxanes, silyl esters, silanols; Si—Cl compounds having Si—Cl bonds such as monochlorosilanes, dichlorosilanes, trichlorosilanes, tetrachlorosilanes, etc.
  • the organosilicon compound is at least one selected from the group consisting of Si—H compounds, Si—N compounds, halogenosilanes, Si— (C) 4 compounds, Si—Si compounds, vinyl silanes, allyl silanes, and ethynyl silanes. It is preferable that it is a compound of these.
  • the organosilicon compound is more preferably a compound in which at least one atom selected from the group consisting of hydrogen, oxygen and halogen is bonded to Si.
  • Halogenosilanes other than Si-Cl compounds are Halogenosilanes other than Si-Cl compounds:
  • the organosilicon compound has the following formula (2): ⁇ Si (R a1 ) s (R b1 ) t (R c1 ) u (R d1 ) v (R e1 ) w ⁇ x (2)
  • R a1 , R b1 , R c1 and R d1 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxyl group having 1 to 10 carbon atoms, an amino group having 1 to 10 carbon atoms, or 1 to An alkyl group having 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an allyl group having 3 to 10 carbon atoms, or a glycidyl group having 3 to 10 carbon atoms.
  • Each R e1 is independently —O—, —NH—, —C ⁇ C—, or a silane bond.
  • s, t, u and v are each independently 0 or 1
  • w is an integer of 0 to 4
  • x is 1 to 20.
  • s + t + u + v is 4 and w is 0.
  • x is 2 to 20
  • s + t + u + v is each independently 0 to 4
  • w is independently 0 to 4
  • R a1 , R b1 , R c1 , and R d1 are monovalent groups bonded to Si.
  • R e1 is a divalent group bonded to two Si atoms.
  • R a1 , R b1 , R c1 and R d1 each independently represent at least one of a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a carbon number of 1 to 10 Other than that, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an allyl group having 3 to 10 carbon atoms, or a glycidyl group having 3 to 10 carbon atoms is preferable.
  • x is 2 to 20
  • s + t + u + v is independently 1 to 3
  • w is preferably 1 to 3.
  • R a1 , R b1 , R c1 and R d1 each independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. Or an amino group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms.
  • the alkyl group preferably has 1 to 5 carbon atoms.
  • the alkyl group may be linear, cyclic or branched.
  • the hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom or the like.
  • the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and a pentyl group.
  • the R a1 , R b1 , R c1, and R d1 include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group, respectively. It is preferably a group or an isopropyl group.
  • the aryl group is preferably, for example, a phenyl group, a naphthyl group, a methylphenyl group, an ethylphenyl group, or a dimethylphenyl group.
  • halogen atom fluorine, chlorine, bromine or iodine is preferable, and chlorine is particularly preferable.
  • the alkoxy group preferably has 1 to 5 carbon atoms.
  • the alkoxy group may be chained, cyclic or branched.
  • the hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom or the like.
  • a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, or a butoxy group is preferable, and a methoxy group or an ethoxy group is more preferable.
  • Each R e1 is independently —O—, —NH—, —C ⁇ C—, or a silane bond.
  • R e1 is preferably —O—, —NH—, or —C ⁇ C—.
  • R e1 is a divalent group which is bonded to two Si, that the R e1 is 2 or more silicon atoms via the R e1, it binds to a linear, ladder-type, cyclic or multiple cyclic, Can do. When x is an integer of 2 or more, silicon atoms may be bonded to each other.
  • preferable silicon-containing compounds include one Si such as the Si—H compound, Si—N compound, halogenosilane, Si— (C) 4 compound, Si—Si compound, vinylsilane, allylsilane, and ethynylsilane. Or the compound containing 2 or more is mentioned.
  • the silicon-containing compound has the formula (3): SiR 5 4 (3) Or formula (4): Si y O z R 6 4y-2z (4) It is a compound represented by these.
  • R 5 each independently represents a halogen atom or a hydrolyzable group.
  • each R 6 independently represents a halogen atom or a hydrolyzable group.
  • y is 2 or more, z is 1 or more, and 4y-2z is larger than 0.
  • the functional membrane of the present invention is, for example, A step (1) of preparing a composition containing a resin and a solvent contained in the layer (A); Step (2) of obtaining a laminate (a) in which a layer (A) is provided on a base material (S) by applying the above composition on the base material (S) and drying the composition.
  • the resin contained in the layer (A) includes a resin obtained by curing a curable resin, a resin obtained by curing a curable monomer, or a polysiloxane structure formed using a silicon-containing compound.
  • the composition prepared in the step (1) includes at least one selected from the group consisting of the curable resin described above, the curable monomer described above, and the silicon-containing compound.
  • the composition includes a solvent. Since the composition contains a solvent, the application of the composition to the substrate (S) is easy in the step (2).
  • the solvent include perfluoroaliphatic hydrocarbons having 5 to 12 carbon atoms (for example, perfluorohexane, perfluoromethylcyclohexane and perfluoro-1,3-dimethylcyclohexane); polyfluoroaromatic hydrocarbons (for example, bis (Trifluoromethyl) benzene); polyfluoroaliphatic hydrocarbons; hydrofluoroether (HFE) (eg, perfluoropropyl methyl ether (C 3 F 7 OCH 3 ), perfluorobutyl methyl ether (C 4 F 9 OCH 3) ), Perfluorobutyl ether (C 4 F 9 OC 2 H 5 ), perfluorohexyl methyl ether (C 2 F 5 CF (OCH 3 ) C 3 F 7 ) and other alkyl perfluoroal
  • solvents can be used alone or as a mixture of two or more.
  • hydrofluoroether, glycol solvent, ester solvent, ketone solvent, and alcohol solvent are preferable, and perfluorobutyl methyl ether (C 4 F 9 OCH 3 ) and / or perfluorobutyl ethyl ether (C 4 F). 9 OC 2 H 5 ), propylene glycol monomethyl ether, ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diacetone alcohol are particularly preferred.
  • composition may also contain the above-described crosslinking catalyst, the above-described sensitizer, the above-described acid scavenger, and the like.
  • the composition may be applied by dip coating, spin coating, flow coating, spray coating, slit coating, roll coating, gravure coating, micro gravure coating, bar coating, die coating, screen printing and A similar method can be mentioned.
  • step (2) drying the composition applied to the substrate (S) is a characteristic of the resin (resin contained in the layer (A)) as a main material for imparting a function to the functional film. Is extremely important for obtaining a functional film having sufficient antifouling properties, water repellency and oil repellency.
  • a functional film satisfying the relational expressions (1) and (2) can be produced, and a clear interface between the layer (A) and the layer (B) can be formed.
  • the drying is preferably carried out under conditions that allow the solvent to be removed until it is 5% by mass or less, and more preferably under conditions that allow the solvent to be completely removed.
  • the drying can be performed, for example, at 20 to 50 ° C. for 1 to 10 minutes. You may reduce pressure at the time of drying.
  • the layer (B) having the layer (B) provided on the mold is obtained by forming the layer (B) on the mold having the fine concavo-convex pattern on the surface.
  • the material of the mold can be appropriately selected according to the purpose and necessity.
  • a metal resin, a metal oxide, a polymer resin such as quartz or silicone, a semiconductor, an insulator, or a composite thereof. can be mentioned.
  • the shape of the mold is not particularly limited, and may be a roll shape or a flat plate shape.
  • the layer (B) can be formed by applying a composition containing at least one of the compound (F), the compound (G) and the compound (H) and a solvent.
  • Methods for applying the composition include dip coating, spin coating, flow coating, spray coating, slit coating, roll coating, gravure coating, micro gravure coating, bar coating, die coating, screen printing and similar methods. . You may dry after applying the said composition.
  • Even a very thin layer (B) can be formed by using a composition containing a solvent.
  • the solvent include those exemplified as the solvent for the composition prepared in the step (1).
  • step (4) the laminates (a) and (b) are overlapped so that the layer (A) surface of the laminate (a) and the layer (B) surface of the laminate (b) are in contact with each other.
  • the above uneven pan turn is transferred.
  • the laminates (a) and ( The layer (A) and the layer (B) can be cured in a state where the b) is superposed.
  • the said hardening can be implemented by heating the laminated body (a) and (b) which overlap
  • the light include active energy rays, for example, electromagnetic waves having a wavelength region of 350 nm or less, that is, ultraviolet rays, electron beams, X rays, ⁇ rays, and the like.
  • step (5) the mold is released from the layer (B) to obtain a functional film having a fine concavo-convex pattern.
  • the functional film has a transfer pattern obtained by inverting the fine concavo-convex pattern of the mold. . Since the layer (B) contains a compound having a perfluoropolyether group, it is very easy to release the mold from the layer (B).
  • the functional film includes a wide range of applications such as electronics, optics, medicine, chemical analysis, building materials, and automobile interior and exterior.
  • an electronic device it can be used for an integrated circuit such as an SOC, a CMOS, a CCD, a NAND flash memory, a DRAM, a light emitting diode (LED), a laser, a solar cell, a fuel cell, a lithium ion battery, or a livestock power generation system.
  • a film having a regular uneven structure such as a sunlight collecting film, a liquid crystal polarizing plate, and a wire grid polarizing plate can be manufactured. From these devices, solar panels, smartphones, flexible displays, wireless tags, wearable computers, infrared sensors, automatic driving assist systems, car navigation systems, and the like are manufactured.
  • optical devices include display pixels such as color filters for liquid crystal displays and organic EL, optical memories, light modulation elements, optical shutters, second harmonic (SHG) elements, polarizing elements, photonic crystals, lens arrays, Used for electrowetting, etc. for next-generation hard disk drives (discrete tracks) and next-generation hard disk drives (patterned media) as magnetic devices, and biochips such as bactericidal films, DNA arrays, and protein arrays as medical devices it can.
  • the chemical analysis device can be used for a microchemical chip such as a microchemical plant or a microchemical analysis system.
  • the building materials can be used for light-shielding windows, self-cleaning films, anti-fogging films, anti-frost films, and automobile interiors and exteriors as installation panels, console panels, anti-fogging glass, self-cleaning glass, and super-water-repellent coatings.
  • the film thickness was determined by obtaining reflection spectrum data using a spectroscopic ellipsometer (VASE ellipsometer manufactured by JA Woollam).
  • Measurement of D1 and D2 Measurement was performed using X-ray photoelectron spectroscopy (VersaProbe II manufactured by ULVAC-PHI) under the conditions of an X-ray beam diameter of 100 ⁇ m, a measurement range of 1000 ⁇ m ⁇ 300 ⁇ m, and a photoelectron extraction angle of 45 degrees.
  • Sputtering was performed using an argon gas cluster ion beam (Ar-GCIB), and elemental analysis was performed using the X-ray photoelectron spectroscopy. Moreover, the 1s spectrum of carbon was measured.
  • the sputtering conditions were VersaProbe II manufactured by ULVAC-PHI, using an argon gas cluster ion beam as an ion source, the sputtering conditions being an acceleration voltage of 5 kV, a sample current of 20 nA, a raster area of 2 mm ⁇ 2 mm, and a sputtering time of 8 minutes.
  • Test example 1 When the film thickness of the polystyrene film cast-molded on the silicon substrate was measured by AFM, it was 81 nm. When this polystyrene film was sputtered under the above sputtering conditions, a decrease in the carbon 1s spectrum was observed. It reached the base silicon substrate in a sputtering time of 7 minutes, and the outermost SiO 2 layer was detected. The sputtering rate determined from the thickness of the polystyrene film and the sputtering time was 11.6 nm / min.
  • Test example 2 Optool DAC-HP (manufactured by Daikin Industries, Ltd.) is diluted with a solvent to a solid content concentration of 0.025% by mass to obtain sample solution A. 2.0% by mass of a photopolymerization initiator with respect to the solid content was added to the sample liquid A, and an amount of a solid content having a film thickness of 25 nm was applied onto a glass plate that had been subjected to a release treatment in advance by spin coating. After drying at room temperature for 10 minutes, a cured film A was obtained by irradiation with 365 nm ultraviolet light. Table 1 shows the results of measuring the film thickness of five cured films A using an ellipsometer.
  • Test example 3 Sample solution B was prepared in the same manner except that the solid content concentration of the above-mentioned OPTOOL DAC-HP (manufactured by Daikin Industries) was 0.05% by mass. A cured film B was obtained in the same manner as in Test Example 2, except that the solid content was 50 nm. Table 1 shows the results of measuring the film thickness of five cured films B using an ellipsometer.
  • Test example 4 The laminated body 30 shown in FIG. 3 was produced.
  • the sample solution A was applied by spin coating on a glass plate 31 that had been subjected to a mold release treatment in advance so that the solid content was 25 nm.
  • the coating film 32 was formed by drying at room temperature for 10 minutes.
  • PAK-02 manufactured by Toyo Gosei Chemical Co., Ltd.
  • 2.0% by mass of a photopolymerization initiator was added to PAK-02, and the mixture was stirred with a rotating mixer under light shielding.
  • This was applied to a quartz substrate 34 having a thickness of 2 mm by bar coating so as to have a film thickness of 10 ⁇ m to form a coating film 33.
  • the coating film 32 and the coating film 33 were overlapped, and a light beam containing 365 nm UV light was irradiated with an intensity of 600 mJ / cm 2 on the upper surface of the quartz substrate 34 in a nitrogen atmosphere to cure the coating film 32 and the coating film 33.
  • the functional film A having the cured film 32, the cured film 33, and the quartz substrate 34 was produced by peeling off the glass plate 31.
  • the spectrum of the functional film A obtained by X-ray photoelectron spectroscopy is shown in FIG. D1 was 23.2 nm in terms of polystyrene, and D2 was 34.8 nm in terms of polystyrene.
  • Test Example 5 A functional film B was obtained by performing the same operation as in Test Example 4 except that the sample solution B was applied in an amount that would give a solid film thickness of 50 nm.
  • the spectrum of the functional film B by X-ray photoelectron spectroscopy is shown in FIG. D1 was 46.4 nm in terms of polystyrene, and D2 was 58.0 nm in terms of polystyrene.

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Abstract

所望の微細凹凸パターン構造を有しており、機能性膜に機能を付与するための主材としての樹脂が有する特性が充分に発揮され、しかも、優れた防汚性、撥水性及び撥油性を有する機能性膜を提供する。樹脂を含む層（Ａ）、及び、パーフルオロポリエーテル基を有する化合物を含む層（Ｂ）を含む機能性膜であって、層（Ｂ）の層（Ａ）とは反対側の面に微細凹凸パターン構造を有しており、アルゴンガスクラスターイオンビームにより層（Ｂ）側からエッチングしながら、Ｘ線光電子分光法により元素分析した場合に、関係式（１）を充足し、かつ、アルゴンガスクラスターイオンビームにより層（Ｂ）側からエッチングしながら、Ｘ線光電子分光法により炭素の１ｓスペクトルを測定した場合に、関係式（２）を充足することを特徴とする機能性膜である。 関係式（１）：Ｄ１＜２×Ｘ１ （式中、Ｘ１は層（Ｂ）の膜厚（ｎｍ）を表し、Ｄ１はフッ素原子濃度が１ａｔｏｍ％以下になる深さ（ｎｍ）を表す。） 関係式（２）：Ｄ２＜２×Ｘ１ （式中、Ｘ１は層（Ｂ）の膜厚（ｎｍ）を表し、Ｄ２は結合エネルギー２９０～３００ｅＶの範囲内にピークが検出されなくなる深さ（ｎｍ）を表す。）

Description

機能性膜
本発明は、機能性膜に関する。
微細凹凸パターン構造を有するフィルムは、反射防止フィルムとして利用されることが知られている。
特許文献１には、優れた反射防止性を有しつつ、防汚性及び耐擦傷性に優れた光学フィルムの製造方法として、複数の凸部が可視光の波長以下のピッチで設けられた凹凸構造を表面に有する光学フィルムの製造方法であって、下層樹脂及び上層樹脂を塗布する工程（１）と、塗布された前記下層樹脂及び前記上層樹脂が積層された状態で、前記下層樹脂及び前記上層樹脂に金型を前記上層樹脂側から押し付け、前記凹凸構造を表面に有する樹脂層を形成する工程（２）と、前記樹脂層を硬化する工程（３）とを含み、前記下層樹脂は、フッ素原子を含有しない少なくとも一種の第一のモノマーを含み、前記上層樹脂は、フッ素原子を含有しない少なくとも一種の第二のモノマー、及び、フッ素含有モノマーを含み、前記第一のモノマー及び前記第二のモノマーの少なくとも一方は、前記フッ素含有モノマーと相溶する相溶性モノマーを含み、かつ、前記下層樹脂及び前記上層樹脂中に溶解することを特徴とする光学フィルムの製造方法が記載されている。
特許第５９５１１６５号公報
しかし、特許文献１に記載の製造方法により得られる光学フィルムでは、「下層樹脂及び上層樹脂が一体化し、両者の界面が存在しない」ことから、表面付近にフッ素原子が充分に存在せず、防汚性が充分とはいえなかった。また、下層樹脂及び上層樹脂が一体化することから、下層樹脂に期待される特性が充分に発揮されない問題もあった。
微細凹凸パターン構造を損なわず、しかも当該構造を設ける樹脂の特性を維持したまま、フィルムに優れた防汚性を付与する技術が求められる。
本発明は、上記現状に鑑み、微細凹凸パターン構造を有しており、機能性膜に機能を付与するための主材としての樹脂が有する特性が充分に発揮され、しかも、優れた防汚性、撥水性及び撥油性を有する機能性膜を提供することを目的とする。
本発明は、樹脂を含む層（Ａ）、及び、パーフルオロポリエーテル基を有する化合物を含む層（Ｂ）を含む機能性膜であって、層（Ｂ）の層（Ａ）とは反対側の面に微細凹凸パターン構造を有しており、アルゴンガスクラスターイオンビームにより層（Ｂ）側からエッチングしながら、Ｘ線光電子分光法により元素分析した場合に、関係式（１）を充足し、かつ、アルゴンガスクラスターイオンビームにより層（Ｂ）側からエッチングしながら、Ｘ線光電子分光法により炭素の１ｓスペクトルを測定した場合に、関係式（２）を充足することを特徴とする機能性膜である。
関係式（１）：Ｄ１＜２×Ｘ１
（式中、Ｘ１は層（Ｂ）の膜厚（ｎｍ）を表し、Ｄ１はフッ素原子濃度が１ａｔｏｍ％以下になる深さ（ｎｍ）を表す。）
関係式（２）：Ｄ２＜２×Ｘ１
（式中、Ｘ１は層（Ｂ）の膜厚（ｎｍ）を表し、Ｄ２は結合エネルギー２９０～３００ｅＶの範囲内にピークが検出されなくなる深さ（ｎｍ）を表す。）
関係式（１）において、更に、０．８×Ｘ１＜Ｄ１を充足することが好ましい。
関係式（２）において、更に、０．８×Ｘ１＜Ｄ２を充足することが好ましい。
層（Ａ）上に、層（Ｂ）が設けられていることが好ましい。
更に、基材（Ｓ）を含み、基材（Ｓ）上に、層（Ａ）が設けられており、層（Ａ）上に、層（Ｂ）が設けられていることが好ましい。
上記パーフルオロポリエーテル基は、
式：－（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２－（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３－（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｍ１４－（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５－（ＯＣＦ２）ｍ１６－
（式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５およびｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）
で表されるポリエーテル鎖であることが好ましい。
層（Ｂ）に含まれる上記化合物が、パーフルオロポリエーテル基及び硬化性部位を有する化合物（Ｆ）を硬化させることにより得られる化合物、パーフルオロポリエーテル基及び加水分解可能な基を有する化合物（Ｇ）、及び、
式：Ｒ１１１－ＰＦＰＥ－Ｒ１１３
（式中、ＰＦＰＥはパーフルオロポリエーテル基、Ｒ１１１及びＲ１１３は、独立に、Ｆ、炭素数１～１６のアルキル基、炭素数１～１６のアルコキシ基、炭素数１～１６のフッ素化アルキル基、炭素数１～１６のフッ素化アルコキシ基、－Ｒ１１４－Ｘ１１１（Ｒ１１４は単結合又は二価の有機基、Ｘ１１１は－ＮＨ２、－ＯＨ、－ＣＯＯＨ、－ＣＨ＝ＣＨ２、－ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、ハロゲン、リン酸、リン酸エステル、カルボン酸エステル、チオール、チオエーテル、アルキルエーテル（フッ素で置換されていてもよい）、アリール、アリールエーテル又はアミド））で表される化合物（Ｈ）からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
層（Ａ）に含まれる上記樹脂が、硬化性樹脂を硬化させることにより得られる樹脂、硬化性モノマーを硬化させることにより得られる樹脂、及び、含ケイ素化合物を用いて形成されたポリシロキサン構造を含む樹脂からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
本発明の機能性膜は、微細凹凸パターン構造を有しており、機能性膜に機能を付与するための主材としての樹脂の特性が充分に発揮され、しかも、優れた防汚性、撥水性及び撥油性を有する。
本発明の機能性膜の一実施態様の模式的断面図である。 機能性膜（比較）の一実施態様の模式的断面図である。 試験例４で作製した積層体の模式的断面図である。 試験例４で作製した機能性膜のスペクトルである。（ａ）は炭素の１ｓスペクトル、（ｂ）はスパッタ時間と原子濃度との関係を示すグラフである。また、（ａ）における時間（分）は、スパッタ時間を表す。 試験例５で作製した機能性膜のスペクトルである。（ａ）は炭素の１ｓスペクトル、（ｂ）はスパッタ時間と原子濃度との関係を示すグラフである。また、（ａ）における時間（分）は、スパッタ時間を表す。
以下、本発明を具体的に説明する。
本発明の機能性膜は、各種の機能を有する膜であり、例えば、撥水性、撥油性、防汚性、親水性、屈折率変動機能、紫外線吸収性、光安定性、生物特性、難燃性、帯電防止性、反射防止性等を有する膜である。特に、層（Ｂ）がパーフルオロポリエーテル基を有する化合物を含むことから、防汚性、撥水性及び撥油性を有する。また、微細凹凸パターン構造を有していることから、反射防止性を有する。
本発明の機能性膜は、層（Ａ）及び層（Ｂ）を含み、層（Ｂ）の層（Ａ）とは反対側の面に微細凹凸パターン構造を有している。
上記「微細」という用語は、ナノメートルサイズを意味することが好ましく、パターンピッチが可視光の波長以下であることを意味することがより好ましい。上記可視光の波長は約７８０ｎｍである。このような微細な構造を有する場合、上記機能性膜を光学フィルムとして使用することが可能となる。
上記微細凹凸パターンとしては、パターンピッチが１０００～１ｎｍであるパターンが好ましく、７８０～２ｎｍであるパターンがより好ましく、５００～２ｎｍであるパターンが更に好ましい。上記パターンピッチとは、隣接する凸部の頂部間の距離である。上記パターンピッチは、電子顕微鏡観察により測定できる。
上記微細凹凸パターンの深さは特に限定されないが、ナノメートルサイズであることが好ましく、可視光の波長以下であることがより好ましい。このような微細な構造を有する場合、上記機能性膜を光学フィルムとして使用することが可能となる。
上記微細凹凸パターンとしては、パターン深さが３０００～３ｎｍであるパターンが好ましく、１０００～３ｎｍであるパターンがより好ましい。上記パターン深さとは、凸部の頂部の高さと凹部の底部の高さとの差である。上記パターン深さは、電子顕微鏡観察により測定できる。
本発明の機能性膜は、アルゴンガスクラスターイオンビーム（Ａｒ－ＧＣＩＢ）により層（Ｂ）側からエッチングしながら、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により元素分析した場合に、関係式（１）を充足することを特徴とする。
関係式（１）：Ｄ１＜２×Ｘ１
（式中、Ｘ１は層（Ｂ）の膜厚（ｎｍ）を表し、Ｄ１はフッ素原子濃度が１ａｔｏｍ％以下になる深さ（ｎｍ）を表す。）
１ａｔｏｍ％以下の濃度のフッ素原子しか観測されないことは、その深さにおいて、パーフルオロポリエーテル基を有する化合物等の含フッ素化合物が含まれないことを意味する。
本発明の機能性膜は、本発明の所望の効果がより一層得られることから、関係式（１）において、更に、０．８×Ｘ１＜Ｄ１を充足することが好ましい。すなわち、本発明の機能性膜は、０．８×Ｘ１＜Ｄ１＜２×Ｘ１の関係を充足することが好ましい。
本発明の機能性膜は、更に、アルゴンガスクラスターイオンビーム（Ａｒ－ＧＣＩＢ）により層（Ｂ）側からエッチングしながら、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により、炭素の１ｓスペクトルを測定した場合に、関係式（２）を充足する。
関係式（２）：Ｄ２＜２×Ｘ１
（式中、Ｘ１は層（Ｂ）の膜厚（ｎｍ）を表し、Ｄ２は結合エネルギー２９０～３００ｅＶの範囲内にピークが検出されなくなる深さ（ｎｍ）を表す。）
２９０～３００ｅＶの範囲内に検出されるピークには、パーフルオロポリエーテル基に含まれる結合、例えば、－ＯＣ４Ｆ８Ｏ－、－ＯＣ３Ｆ６Ｏ－、－ＯＣ２Ｆ４Ｏ－、－ＯＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ－等に含まれるＣＦ２結合やＯＣＦ２結合に由来するピークが含まれる。従って、結合エネルギー２９０～３００ｅＶの範囲内にピークが検出されないことは、その深さにおいて、パーフルオロポリエーテル基を有する化合物が含まれないことを意味する。
本発明の機能性膜は、本発明の所望の効果がより一層得られることから、関係式（２）において、更に、０．８×Ｘ１＜Ｄ２を充足することが好ましい。すなわち、本発明の機能性膜は、０．８×Ｘ１＜Ｄ２＜２×Ｘ１の関係を充足することが好ましい。
本発明の機能性膜は、関係式（１）及び関係式（２）を充足するものであり、好適には、層（Ａ）及び層（Ｂ）の界面が明確に存在する。この構造によって、層（Ａ）に含まれる樹脂が本来有する機能が充分に発揮される。同時に、層（Ｂ）に含まれるパーフルオロポリエーテル基を有する化合物が微細凹凸パターン構造の表面近傍に高濃度に存在するので、優れた防汚性、撥水性及び撥油性を有する。
Ｄ１及びＤ２は次の条件で実施するＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）により測定できる。
アルバック・ファイ社製ＶｅｒｓａＰｒｏｂｅＩＩ
アルゴンガスクラスターイオンビーム
スパッタ条件５ｋＶ２０ｎＡ
Ｘ線ビーム径１００μｍ
測定範囲１０００μｍ×３００μｍ
光電子の取り出し角度４５度
上記ＸＰＳによる元素分析で得られた光電子スペクトルの強度から、フッ素原子を定量してフッ素原子濃度を求めることができる。上記フッ素原子濃度は、ＸＰＳにより測定されるすべての原子の定量値の合計を１００ａｔｏｍ％としたときの、フッ素原子の量の比率である。
また、上記ＸＰＳにより測定される炭素の１ｓスペクトルを波形解析することにより、２９０～２９５ｅＶの範囲内のピークの有無を確認できる。上記波形解析は常法で実施でき、例えば、得られたスぺクトルをカーブフィッティングして、上記ピークについてピーク分離する。
本明細書において、「深さ」とは、上記機能性膜の層（Ｂ）の表面からの深さ方向の距離を意味する。予め、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により膜厚を特定したポリスチレンの層をＡｒ－ＧＣＩＢによりエッチングし、エッチング速度を求める。上述したＤ１及びＤ２は、フッ素原子が観測されなくなったエッチング時間及び２９０～３００ｅＶの範囲内のピークが検出されなくなったエッチング時間を測定し、それぞれ、ポリスチレン換算で深さに換算することにより決定できる。
予め塗布した層（Ｂ）を乾燥し、硬化させた後、分光エリプソメーターにより膜厚を測定して、決定した条件を基準として、層（Ｂ）の膜厚Ｘ１（ｎｍ）を設定できる。
本発明の機能性膜は、アルゴンガスクラスターイオンビーム（Ａｒ－ＧＣＩＢ）により層（Ｂ）側から深さ０．５×Ｘ１までエッチングしながら、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により元素分析した場合に、フッ素原子濃度が７５～３０ａｔｍ％であることが好ましい。層（Ｂ）にフッ素原子が高濃度で含まれることにより、より一層優れた防汚性、撥水性及び撥油性が得られる。
本発明の機能性膜は、アルゴンガスクラスターイオンビーム（Ａｒ－ＧＣＩＢ）により層（Ｂ）側から深さ０．５×Ｘ１までエッチングしながら、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により、炭素の１ｓスペクトルを測定した場合に、結合エネルギー２９０～３００ｅＶの範囲内にピークが検出されることが好ましく、面積がＳ／Ｎ比３以上のピークが検出されることがより好ましい。層（Ｂ）にパーフルオロポリエーテル基を有する化合物が高濃度に含まれることにより、より一層優れた防汚性、撥水性及び撥油性が得られる。
層（Ｂ）の膜厚、すなわちＸ１としては、１００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、１ｎｍ以上が好ましく、５ｎｍ以上がより好ましい。本発明によれば、層（Ｂ）をこのように薄く設けることができ、この場合、微細凹凸パターン構造が更に損なわれにくい。
層（Ｂ）は、更に明確な微細凹凸パターン構造を実現できることから、均一な膜厚を有していることが好ましい。膜厚の均一性は分光エリプソメーターにより測定できる。例えば、任意の領域について、分光エリプソメーターにより膜厚を測定した場合に、最大膜厚（ｄｍａｘ）と最小膜厚（ｄｍｉｎ）との比（ｄｍａｘ／ｄｍｉｎ）が２．０以下であることが好ましく、１．５以下であることがより好ましい。
層（Ａ）の膜厚としては、２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以上が好ましく、１０００ｎｍ以上がより好ましい。本発明によれば、層（Ａ）をこのように厚く設けることができ、この場合、層（Ａ）に含まれる樹脂が本来有する機能がより一層発揮される。
本発明の機能性膜において、層（Ａ）上に、層（Ｂ）が設けられていることが好ましい。本発明の機能性膜において、層（Ｂ）が層（Ａ）上に直接又は他の層を介して設けられていてよいが、層（Ａ）上に直接設けられていることが好ましい。
本発明の機能性膜は、更に、基材（Ｓ）を含むことが好ましい。
基材（Ｓ）の厚みは、透明性及び加工性を確保する観点から、２０μｍ以上、２００μｍ以下であることが好ましく、４０μｍ以上、１００μｍ以下であることがより好ましい。
本発明の機能性膜が基材（Ｓ）を含む場合、基材（Ｓ）上に、層（Ａ）が設けられており、層（Ａ）上に、層（Ｂ）が設けられていることが好ましい。本発明の機能性膜において、層（Ａ）が基材（Ｓ）上に直接又は他の層を介して設けられており、層（Ｂ）が層（Ａ）上に直接又は他の層を介して設けられていてよいが、層（Ａ）が基材（Ｓ）上に直接設けられており、層（Ｂ）が層（Ａ）上に直接設けられていることが好ましい。
図１に、本発明の機能性膜の一実施態様の模式的断面図を示す。図１の機能性膜１０は、基材１１と、基材１１上に直接設けられた層１２と、層１２上に直接設けられた層１３と、を備えている。層１２は上記樹脂を含み、層１３は上記パーフルオロポリエーテル基を有する化合物を含む。層１２と層１３とは明確な界面により仕切られており、この構成によって、各層を構成する材料の特性が充分に発揮される。
また、層１３がほぼ均一な膜厚を有する薄膜から形成されていることから、層１２及び層１３はほぼ同一の微細凹凸パターンを有している。すなわち、図１の機能性膜１０は、層１３の層１２とは反対側の面に微細凹凸パターン構造を有している。図２に比較態様として示す機能性膜２０のように、層２３が厚みが不均一な厚膜であったり、層２３の層２２とは反対側の面に微細凹凸パターン構造が形成されていなかったりすると、層２２が微細凹凸パターン構造を有していても、該構造に起因する効果が充分に発揮されない。図１の機能性膜１０は、層１３の層１２とは反対側の面に微細凹凸パターン構造を有していることから、反射防止性等の微細凹凸パターン構造による作用効果が充分に得られる。
基材（Ｓ）を構成する材料としては、シリコン、合成樹脂、ガラス、金属、セラミック等が挙げられる。
上記合成樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などのセルロース系樹脂、ポリエチレン、ポロプロピレン、エチレン－プロピレン共重合体、エチレン－酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリ－（４－メチルペンテン－１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、ポリメチルメタクリレート、アクリル－スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン－スチレン共重合体、エチレン－ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エボキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン樹脂、ポリウレタン等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば２層以上の積層体として）用いることができる。
層（Ｂ）は、パーフルオロポリエーテル基を有する化合物を含む。
上記パーフルオロポリエーテル基（ＰＦＰＥ）としては、
式：－（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２－（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３－（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｍ１４－（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５－（ＯＣＦ２）ｍ１６－
（式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５およびｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表されるポリエーテル鎖であることが好ましい。
Ｘ１０としては、Ｆが好ましい。
ｍ１１～ｍ１６は、それぞれ、０～２００の整数であることが好ましく、０～１００の整数であることがより好ましい。ｍ１１～ｍ１６は、合計で、１以上の整数であることが好ましく、５以上の整数であることがより好ましく、１０以上の整数であることが更に好ましい。ｍ１１～ｍ１６は、合計で、２００以下の整数であることが好ましく、１００以下の整数であることがより好ましい。ｍ１１～ｍ１６は、合計で、１０～２００の整数であることが好ましく、１０～１００の整数であることがより好ましい。
上記ポリエーテル鎖において、各繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、－（ＯＣ６Ｆ１２）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－等であってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ５Ｆ１０）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－等であってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ４Ｆ８）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ３Ｆ６）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。また、－（ＯＣ２Ｆ４）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－である。
一の態様において、上記ポリエーテル鎖は、－（ＯＣ３Ｆ６）ｍ１４－（式中、ｍ１４は１～２００の整数である）で表される鎖である。上記ポリエーテル鎖は、好ましくは、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ１４－（式中、ｍ１４は１～２００の整数である）で表される鎖または－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｍ１４－（式中、ｍ１４は１～２００の整数である）で表される鎖であり、より好ましくは、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ１４－（式中、ｍ１４は１～２００の整数である）で表される鎖である。ｍ１４は、５～２００の整数であることが好ましく、１０～２００の整数であることがより好ましい。
別の態様において、上記ポリエーテル鎖は、－（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３－（ＯＣ３Ｆ６）ｍ１４－（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５－（ＯＣＦ２）ｍ１６－（式中、ｍ１３およびｍ１４は、それぞれ、０～３０の整数であり、ｍ１５およびｍ１６は、それぞれ、１～２００の整数である。ｍ１３～ｍ１６は、合計で、５以上の整数である。各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表される鎖である。ｍ１５およびｍ１６は、それぞれ、５～２００の整数であることが好ましく、１０～２００の整数であることがより好ましい。ｍ１３～ｍ１６は、合計で、１０以上の整数であることが好ましい。上記ポリエーテル鎖は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ１３－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ１４－（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１５－（ＯＣＦ２）ｍ１６－であることが好ましい。一の態様において、上記ポリエーテル鎖は、－（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５－（ＯＣＦ２）ｍ１６－（式中、ｍ１５およびｍ１６は、それぞれ、１～２００の整数である。各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表される鎖であってもよい。ｍ１５およびｍ１６は、それぞれ、５～２００の整数であることが好ましく、１０～２００の整数であることがより好ましい。
さらに別の態様において、上記ポリエーテル鎖は、－（Ｒｍ１－Ｒｍ２）ｍ１７－で表される基である。式中、Ｒｍ１は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり、好ましくはＯＣ２Ｆ４である。式中、Ｒｍ２は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。好ましくは、Ｒｍ１は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、および－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－等が挙げられる。上記ｍ１７は、２以上の整数であり、好ましくは３以上の整数であり、より好ましくは５以上の整数であり、１００以下の整数であり、好ましくは５０以下の整数である。上記式中、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、ポリエーテル鎖は、好ましくは、－（ＯＣ２Ｆ４－ＯＣ３Ｆ６）ｍ１７－または－（ＯＣ２Ｆ４－ＯＣ４Ｆ８）ｍ１７－である。
上記ポリエーテル鎖において、ｍ１６に対するｍ１５の比（以下、「ｍ１５／ｍ１６比」という）は、０．１～１０であり、好ましくは０．２～５であり、より好ましくは０．２～２であり、さらに好ましくは０．２～１．５であり、さらにより好ましくは０．２～０．８５である。ｍ１５／ｍ１６比を１０以下にすることにより、表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｍ１５／ｍ１６比がより小さいほど、上記表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｍ１５／ｍ１６比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｍ１５／ｍ１６比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。
上記ポリエーテル鎖は、
式：－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＸ１１ ２）ｎ１１（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｎ１２（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｎ１３（ＯＣＦ２）ｎ１４（ＯＣ４Ｆ８）ｎ１５－
（式中、ｎ１１、ｎ１２、ｎ１３、ｎ１４及びｎ１５は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ１１は独立にＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表される鎖、及び、
式：－（ＯＣ２Ｆ４－Ｒ２１）ｆ－
（式中、Ｒ２１は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であり、ｆは、２～１００の整数である）で表される鎖
からなる群より選択される少なくとも１種の鎖であってもよい。
Ｘ１１としては、Ｆが好ましい。
ｎ１１～ｎ１５は、それぞれ、０～２００の整数であることが好ましい。ｎ１１～ｎ１５は、合計で、２以上の整数であることが好ましく、５～３００の整数であることがより好ましく、１０～２００の整数であることが更に好ましく、１０～１００の整数であることが特に好ましい。
Ｒ２１は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、および－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－等が挙げられる。上記ｆは、２～１００の整数、好ましくは２～５０の整数である。上記式中、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、式：－（ＯＣ２Ｆ４－Ｒ２１）ｆ－は、好ましくは、式：－（ＯＣ２Ｆ４－ＯＣ３Ｆ６）ｆ－または式：－（ＯＣ２Ｆ４－ＯＣ４Ｆ８）ｆ－である。
本発明の化合物において、ポリエーテル鎖部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００～３０，０００、好ましくは１，５００～３０，０００、より好ましくは２，０００～１０，０００である。上記数平均分子量は、１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。
別の態様において、ポリエーテル鎖部分の数平均分子量は、５００～３０，０００、好ましくは１，０００～２０，０００、より好ましくは２，０００～１５，０００、さらにより好ましくは２，０００～１０，０００、例えば３，０００～６，０００であり得る。
別の態様において、ポリエーテル鎖部分の数平均分子量は、４，０００～３０，０００、好ましくは５，０００～１０，０００、より好ましくは６，０００～１０，０００であり得る。
上記化合物としては、
パーフルオロポリエーテル基及び硬化性部位を有する化合物（Ｆ）を硬化させることにより得られる化合物、
パーフルオロポリエーテル基及び加水分解可能な基を有する化合物（Ｇ）、及び、
式：Ｒ１１１－ＰＦＰＥ－Ｒ１１３
（式中、ＰＦＰＥはパーフルオロポリエーテル基、Ｒ１１１及びＲ１１３は、独立に、Ｆ、炭素数１～１６のアルキル基、炭素数１～１６のアルコキシ基、炭素数１～１６のフッ素化アルキル基、炭素数１～１６のフッ素化アルコキシ基、－Ｒ１１４－Ｘ１１１（Ｒ１１４は単結合又は二価の有機基、Ｘ１１１は－ＮＨ２、－ＯＨ、－ＣＯＯＨ、－ＣＨ＝ＣＨ２、－ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、ハロゲン、リン酸、リン酸エステル、カルボン酸エステル、チオール、チオエーテル、アルキルエーテル（フッ素で置換されていてもよい）、アリール、アリールエーテル又はアミド））で表される化合物（Ｈ）
からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
上記化合物としては、なかでも、層（Ａ）と層（Ｂ）とが強固に接着し、優れた耐久性を有する機能性膜が実現できることから、化合物（Ｆ）を硬化させることにより得られる化合物及び化合物（Ｇ）からなる群より選択される少なくとも１種がより好ましく、パーフルオロポリエーテル基及び硬化性部位を有する化合物（Ｆ）を硬化させることにより得られる化合物が更に好ましい。
化合物（Ｆ）は、パーフルオロポリエーテル基及び硬化性部位を有する。
上記硬化性部位としては、特に限定されるものではないが、例えば、アリル基、ケイヒ酸基、ソルビン酸基、アクリロイル基、メタクリロイル基等が挙げられる。
化合物（Ｆ）としては、成分（Ａ）：ジイソシアネートの三量体であるポリイソシアネートと、成分（Ｂ）：活性水素及びパーフルオロポリエーテル基を有する化合物との反応物である炭素－炭素二重結合含有化合物（パーフルオロポリエーテル系化合物）が好ましい。
本明細書において、「活性水素」とは、イソシアネート基にプロトンとして供与され得る水素原子を意味する。
成分（Ｂ）は、活性水素含有基を有することができる。本明細書中、「活性水素含有基」とは、上記活性水素を含有する基を指し、例えば、－ＯＨ基、－Ｃ（＝Ｏ）Ｈ基、－ＳＨ基、－ＳＯ３Ｈ基、－ＳＯ２Ｈ基、－ＳＯＨ基、－ＮＨ２基、－ＮＨ－基、－ＳｉＨ基等が挙げられる。
成分（Ａ）は、ジイソシアネートを三量体化することにより得ることができるポリイソシアネートである。ジイソシアネートの三量体であるポリイソシアネートは、これらが重合した重合体として存在していてもよい。
成分（Ａ）のジイソシアネートの三量体であるポリイソシアネートは、好ましくは、イソシアヌレート型ポリイソシアネートであり得る。イソシアヌレート型ポリイソシアネートは、これらが重合した重合体として存在していてもよい。すなわち、イソシアヌレート型ポリイソシアネートは、イソシアヌレート環を１つのみ有する単環式化合物であってもよく、この単環式化合物が重合して得られる多環式化合物であってもよく、これらの混合物であってもよい。イソシアヌレート型ポリイソシアネートのうち公知のものとしては、例えば、住友バイエルウレタン社製の「スミジュール（登録商標）Ｎ３３００」が挙げられる。
成分（Ａ）のジイソシアネートの三量体であるポリイソシアネートを得るために用いられるジイソシアネートとしては、特に限定されないが、イソシアネート基が脂肪族基に結合したジイソシアネート、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート；イソシアネート基が芳香族基に結合したジイソシアネート、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート、トリジンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートが挙げられる。
成分（Ａ）ジイソシアネートの三量体であるポリイソシアネートとしては、特に限定されるものではないが、下記の構造を有する化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
上述したように、これらのポリイソシアネートは重合体として存在していてもよく、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート型ポリイソシアネートである場合、下記構造を有する重合体として存在していてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
成分（Ｂ）は、成分（Ｂ１）：活性水素を有するパーフルオロポリエーテルと、成分（Ｂ２）：炭素－炭素二重結合を有する基及び活性水素を有するモノマーとを含む。
成分（Ｂ１）は、下記式（Ｂ１－ｉ）及び（Ｂ１－ｉｉ）のうちの一方で表される少なくとも１種の化合物である。
Ｒｆ－ＰＦＰＥ－Ｚ－Ｘ　　（Ｂ１－ｉ）
Ｘ－Ｚ－ＰＦＰＥ－Ｚ－Ｘ　（Ｂ１－ｉｉ）
上記式（Ｂ１－ｉ）及び（Ｂ１－ｉｉ）中、Ｒｆは、１つ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６の（例えば、直鎖状又は分枝鎖状の）アルキル基であり、好ましくは、１つ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～３の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基である。Ｒｆは、直鎖状であることが好ましい。また、１つ以上のフッ素原子により置換されていてもよいアルキル基は、好ましくは、末端炭素原子がＣＦ２Ｈ－であり、かつ、他のすべての炭素原子がフッ素原子により全置換されているフルオロアルキル基又はパーフルオロアルキル基であり、より好ましくはパーフルオロアルキル基であり、具体的には、－ＣＦ３、－ＣＦ２ＣＦ３、又は、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３である。
上記式（Ｂ１－ｉ）及び（Ｂ１－ｉｉ）中、ＰＦＰＥは、上記したパーフルオロポリエーテル基であり、式：－（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２－（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３－（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｍ１４－（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５－（ＯＣＦ２）ｍ１６－で表される基である。
上記式（Ｂ１－ｉ）及び（Ｂ１－ｉｉ）中、Ｚは、各々独立して、二価の有機基である。Ｚは、好ましくはＲ１である。Ｒ１は、各々独立して、下記式：
－（Ｙ）ｆ－（ＣＲ３ ２）ｊ－
で表される基である。
本明細書において、「二価の有機基」は、炭素を含有する二価の基を意味する。二価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基から更に１つの水素原子を脱離させた二価の基が挙げられる。
本明細書中、炭化水素基は、炭素及び水素を含む基を意味する。炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素数１～２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分枝鎖状、及び、環状のうちのいずれであってもよく、飽和及び不飽和のうちのいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つ以上の環構造を含んでいてもよい。なお、炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。
本明細書中、炭化水素基の置換基としては、特に限定されるものではないが、例えば、１つ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、炭素数１～６のアルキル基、炭素数２～６のアルケニル基、炭素数２～６のアルキニル基、炭素数３～１０のシクロアルキル基、炭素数３～１０の不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、炭素数６～１０のアリール基、５～１０員のヘテロアリール基等が挙げられる。
上記式中、Ｙは、二価の極性基であることが好ましい。二価の極性基としては、特に限定されないが、例えば、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ－、－ＣＯＳ－、－ＳＣＯ－、－Ｏ－等が挙げられ、好ましくは、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ－、又は、－Ｏ－である。
上記式中、Ｒ３は、各出現において、各々独立して、水素原子又はフッ素原子である。
上記式中、ｆは、０～５０の整数であり、好ましくは０～２０の整数（例えば、１～２０の整数）である。ｊは、０～１００の整数であり、好ましくは０～４０の整数（例えば、１～４０の整数）である。ｆ及びｊの和は、１以上である。ｆ及びｊを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、上記式中において任意である。
上記式で表されるＲ１は、好ましくは、各々独立して、下記式で表される基である。
－（Ｙ）ｆ－（ＣＦ２）ｇ－（ＣＨ２）ｈ－
上記式中、Ｙ及びｆは、上記のとおりである。ｇ及びｈは、各々独立して、０～５０の整数であり、好ましくは０～２０の整数（例えば、１～２０の整数）である。ｆ、ｇ、及び、ｈの和は、１以上であり、好ましくは１～１０である。ｆ、ｇ、及び、ｈは、０～２の整数であることがより好ましく、ｆ＝０又は１、ｇ＝２、ｈ＝０又は１であることが更に好ましい。また、ｆ、ｇ、及び、ｈを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、上記式中において任意である。
上記式（Ｂ１－ｉ）及び（Ｂ１－ｉｉ）中、Ｘは、活性水素含有基である。Ｘは、好ましくは、各々独立して、－ＯＨ基、－Ｃ（＝Ｏ）Ｈ基、－ＳＨ基、－ＳＯ３Ｈ基、－ＳＯ２Ｈ基、－ＳＯＨ基、－ＮＨ２基、－ＮＨ－基、又は、－ＳｉＨ基であり、より好ましくは、－ＯＨ基、又は、－ＮＨ２基であり、更に好ましくは、－ＯＨ基である。
成分（Ｂ１）は、好ましくは、下記式（Ｂ１－ｉ’）及び（Ｂ１－ｉｉ’）のうちの一方で表される少なくとも１種の化合物であり、より好ましくは、下記式（Ｂ１－ｉ’）で表される少なくとも１種の化合物である。成分（Ｂ１）が下記式（Ｂ１－ｉ’）で表される少なくとも１種の化合物である場合、ＰＦＰＥは、好ましくは、下記式（Ｄ１）で表される基である。
Ｒｆ－ＰＦＰＥ－Ｒ－ＣＨ２ＯＨ　　　　　　（Ｂ１－ｉ’）
ＨＯＣＨ２－Ｒ１－ＰＦＰＥ－Ｒ１－ＣＨ２ＯＨ　（Ｂ１－ｉｉ’）
上記式中、Ｒｆ、ＰＦＰＥ、及び、Ｒ１は、上記のとおりである。
成分（Ｂ１）の活性水素を有するパーフルオロポリエーテルは、パーフルオロポリエーテル基に加えて、１つの分子末端に１つの活性水素含有基（例えば、水酸基）を有する、又は、２つの分子末端の各々に１つの活性水素含有基水酸基を有する化合物である。
成分（Ｂ１）の活性水素を有するパーフルオロポリエーテルの数平均分子量は、特に限定されないが、好ましくは５００～１２０００であり、より好ましくは１０００～１００００であり、更に好ましくは１５００～８０００である。
上記数平均分子量は、１９Ｆ－ＮＭＲにより測定する。
成分（Ｂ２）の炭素－炭素二重結合を有する基及び活性水素を有するモノマーは、その分子末端に少なくとも１つ（好ましくは１つ）の活性水素含有基（好ましくは水酸基）を有する。
成分（Ｂ２）の炭素－炭素二重結合を有する基及び活性水素を有するモノマーは、好ましくは、炭素－炭素二重結合を有する基として、下記式で表される基を有する。
－ＯＣ（Ｏ）－ＣＲ２＝ＣＨ２
上記式中、Ｒ２は、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１０のアルキル基であり、好ましくは水素原子又は炭素数１～３のアルキル基であり、より好ましくは水素原子又はメチル基である。ここで、Ｒ２が水素原子又はメチル基である基、すなわち、－ＯＣ（Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ２、又は、－ＯＣ（Ｏ）－ＣＣＨ３＝ＣＨ２は、総称して「（メタ）アクリレート基」とも称される。
成分（Ｂ２）としては、特に限定されるものではないが、例えば、下記の化合物：
ＨＯ（ＣＨ２ＣＨ２）ｉＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ２
（上記式中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１０のアルキル基である。ｉは、２～１０の整数である。）、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート；
ＣＨ３ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ２
（上記式中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１０のアルキル基である。）、例えば、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート；
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ２
（上記式中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１０のアルキル基である。）、例えば、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート；
Ｃ６Ｈ５ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ２
（上記式中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１０のアルキル基である。）、例えば、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピル（メタ）アクリレート；
ＨＯＣＨ２Ｃ（ＣＨ２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ２）３
（上記式中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１０のアルキル基である。）、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート；
Ｃ（ＣＨ２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ２）３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｃ（ＣＨ２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ２）２ＣＨ２ＯＨ
（上記式中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１０のアルキル基である。）、例えば、ジペンタエリスリトールポリアクリレート；
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣ６Ｈ５ＯＣＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ２
（上記式中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１０のアルキル基である。）、例えば、２－アクリロイロキシエチル－２－ヒドロキシエチルフタル酸；
Ｈ（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｎＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ２
（上記式中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１０のアルキル基である。ｎは、１～３０の整数である。）、例えば、ポリ（エチレングリコール）アクリレート；
Ｈ（ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２）ｎＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ２
（上記式中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１０のアルキル基である。ｎは、１～３０の整数である。）、例えば、ポリ（プロピレングリコール）アクリレート；
アリルアルコール；
ＨＯ（ＣＨ２）ｋＣＨ＝ＣＨ２
（上記式中、ｋは２～２０の整数である。）；
（ＣＨ３）３ＳｉＣＨ（ＯＨ）ＣＨ＝ＣＨ２；及び、
スチリルフェノール
が挙げられる。
一態様において、成分（Ｂ）は、成分（Ｂ１）及び成分（Ｂ２）からなっていてもよい。
化合物（Ｆ）に含まれる炭素－炭素二重結合含有化合物は、一分子のトリイソシアネートに、異なる種類の成分（Ｂ１）由来の基を有していてもよい。また、一分子のトリイソシアネートに、異なる種類の（例えば、異なる数の炭素－炭素二重結合を有する）成分（Ｂ２）由来の基を有していてもよい。
化合物（Ｆ）は、１種以上の炭素－炭素二重結合含有化合物を含んでいてもよい。例えば、化合物（Ｆ）は、成分（Ａ）と、成分（Ｂ１）としての化合物Ｂ１及び成分（Ｂ２）としての化合物Ｂ２とを反応させた化合物、並びに、成分（Ａ）と、成分（Ｂ１）としての化合物Ｂ１’及び成分（Ｂ２）としての化合物Ｂ２’とを反応させた化合物の混合物であってもよい。これらの化合物は同時に合成されてもよく、別個に合成され、その後混合してもよい。
化合物（Ｆ）のうち公知のものとしては、例えば、ダイキン工業社製の「オプツール（登録商標）ＤＡＣ」及び「オプツールＤＡＣ－ＨＰ」、信越化学工業社製の「ＫＹ－１２０３」及び「ＫＮＳ５３００」、ＤＩＣ社製の「メガファック（登録商標）ＲＳ－７５」、「メガファックＲＳ－７２－Ｋ」、「メガファックＲＳ－７６－Ｅ」、「メガファックＲＳ－７６－ＮＳ」、「メガファックＲＳ－９０」、「ディフェンサ（登録商標）ＴＦ３０２８」、「ディフェンサＴＦ３００１」、及び、「ディフェンサＴＦ３０００」、新中村化学工業社製の「ＳＵＡ１９００Ｌ１０」及び「ＳＵＡ１９００Ｌ６」、ソルベイ社製の「フルオロリンク（登録商標）Ｐ５６」、「フルオロリンクＰ５４」、「フルオロリンクＦ１０」、「フルオロリンクＡ１０Ｐ」、「フルオロリンクＡＤ１７００」、「フルオロリンクＭＤ７００」、及び、「フルオロリンクＥ１０Ｈ」等が挙げられる。
化合物（Ｇ）は、パーフルオロポリエーテル基及び加水分解可能な基を有する。
上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、－ＯＲ、－ＯＣＯＲ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ２、－ＮＲ２、－ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１～４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは－ＯＲ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。
化合物（Ｇ）は、下記式：
－ＳｉＲ１ ｎ１Ｒ２ ３－ｎ１
（式中、Ｒ１は、加水分解可能な基を表し；
Ｒ２は、水素原子または炭素数１～２２のアルキル基を表し；
ｎ１は、１～３の整数である。）
で表される基を有することが好ましい。
化合物（Ｇ）は、下記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）および（Ｄ２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
［式中：
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２－（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３－（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｍ１４－（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５－（ＯＣＦ２）ｍ１６－
（式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５およびｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）
で表される基であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６のアルキル基を表し；
Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表し；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１～２２のアルキル基を表し；
Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎ１は、（－ＳｉＲ１ ｎ１Ｒ２ ３－ｎ１）単位毎に独立して、０～３の整数であり；
ただし、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）において、少なくとも１つのｎ１が、１～３の整数であり；
Ｘ１は、それぞれ独立して、単結合または２～１０価の有機基を表し；
Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表し；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、１～１０の整数であり；
αは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
α’は、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
Ｘ５は、それぞれ独立して、単結合または２～１０価の有機基を表し；
βは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
β’は、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
Ｘ７は、それぞれ独立して、単結合または２～１０価の有機基を表し；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
γ’は、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ１－ＳｉＲ７１ ｐ１Ｒ７２ ｑ１Ｒ７３ ｒ１を表し；
Ｚ１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’を表し；
Ｒａ’は、Ｒａと同意義であり；
Ｒａ中、Ｚ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表し；
Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ただし、式（Ｃ１）および（Ｃ２）において、少なくとも１つのｑ１が１～３の整数であり；
Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表し；
Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１～３の整数であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～２の整数であり；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～２の整数であり；
ただし、γを付して括弧でくくられた単位において、ｋ１、ｌ１およびｍ１の和は３であり；
Ｘ９は、それぞれ独立して、単結合または２～１０価の有機基を表し；
δは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
δ’は、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
Ｒｄは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ２－ＣＲ８１ ｐ２Ｒ８２ ｑ２Ｒ８３ ｒ２を表し；
Ｚ２は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ８１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｄ’を表し；
Ｒｄ’は、Ｒｄと同意義であり；
Ｒｄ中、Ｚ２基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり；
Ｒ８２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｙ－ＳｉＲ８５ ｎ２Ｒ８６ ３－ｎ２を表し；
Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表し；
Ｒ８５は、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表し；
Ｒ８６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎ２は、（－Ｙ－ＳｉＲ８５ ｎ２Ｒ８６ ３－ｎ２）単位毎に独立して、１～３の整数を表し；
ただし、式（Ｃ１）および（Ｃ２）において、少なくとも１つのｎ２は１～３の整数であり；
Ｒ８３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｒｅは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｙ－ＳｉＲ８５ ｎ２Ｒ８６ ３－ｎ２を表し；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ただし、式（Ｄ１）および（Ｄ２）において、少なくとも１つのｑ２は２または３であるか、あるいは、少なくとも１つのｌ２は２または３である。ただし、ｋ２、ｌ２およびｍ２の和は３である。］
のいずれかで表される少なくとも１種のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が好ましい。
以下、上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）および（Ｄ２）で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物について説明する。
式（Ａ１）および（Ａ２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
上記式中、ＰＦＰＥは、－（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２－（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３－（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｍ１４－（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５－（ＯＣＦ２）ｍ１６－
で表されるポリエーテル鎖である。Ｘ１０としては、Ｆが好ましい。ｍ１１～ｍ１６は、それぞれ、０～２００の整数であることが好ましく、０～１００の整数であることがより好ましい。ｍ１１～ｍ１６は、合計で、１以上の整数であることが好ましく、５以上の整数であることがより好ましく、１０以上の整数であることが更に好ましい。ｍ１１～ｍ１６は、合計で、２００以下の整数であることが好ましく、１００以下の整数であることがより好ましい。ｍ１１～ｍ１６は、合計で、１０～２００の整数であることが好ましく、１０～１００の整数であることがより好ましい。各繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、－（ＯＣ６Ｆ１２）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－等であってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ５Ｆ１０）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－等であってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ４Ｆ８）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ３Ｆ６）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。また、－（ＯＣ２Ｆ４）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－である。
一の態様において、上記ポリエーテル鎖は、－（ＯＣ３Ｆ６）ｍ１４－（式中、ｍ１４は１～２００の整数である）で表される鎖である。上記ポリエーテル鎖は、好ましくは、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ１４－（式中、ｍ１４は１～２００の整数である）で表される鎖または－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｍ１４－（式中、ｍ１４は１～２００の整数である）で表される鎖であり、より好ましくは、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ１４－（式中、ｍ１４は１～２００の整数である）で表される鎖である。ｍ１４は、５～２００の整数であることが好ましく、１０～２００の整数であることがより好ましい。
別の態様において、上記ポリエーテル鎖は、－（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３－（ＯＣ３Ｆ６）ｍ１４－（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５－（ＯＣＦ２）ｍ１６－（式中、ｍ１３およびｍ１４は、それぞれ、０～３０の整数であり、ｍ１５およびｍ１６は、それぞれ、１～２００の整数である。ｍ１３～ｍ１６は、合計で、５以上の整数である。各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表される鎖である。ｍ１５およびｍ１６は、それぞれ、５～２００の整数であることが好ましく、１０～２００の整数であることがより好ましい。ｍ１３～ｍ１６は、合計で、１０以上の整数であることが好ましい。上記ポリエーテル鎖は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ１３－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ１４－（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１５－（ＯＣＦ２）ｍ１６－であることが好ましい。一の態様において、上記ポリエーテル鎖は、－（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５－（ＯＣＦ２）ｍ１６－（式中、ｍ１５およびｍ１６は、それぞれ、１～２００の整数である。各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表される鎖であってもよい。ｍ１５およびｍ１６は、それぞれ、５～２００の整数であることが好ましく、１０～２００の整数であることがより好ましい。
さらに別の態様において、上記ポリエーテル鎖は、－（Ｒｍ１－Ｒｍ２）ｍ１７－で表される基である。式中、Ｒｍ１は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり、好ましくはＯＣ２Ｆ４である。式中、Ｒｍ２は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。好ましくは、Ｒｍ１は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、および－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－等が挙げられる。上記ｍ１７は、２以上の整数であり、好ましくは３以上の整数であり、より好ましくは５以上の整数であり、１００以下の整数であり、好ましくは５０以下の整数である。上記式中、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、ポリエーテル鎖は、好ましくは、－（ＯＣ２Ｆ４－ＯＣ３Ｆ６）ｍ１７－または－（ＯＣ２Ｆ４－ＯＣ４Ｆ８）ｍ１７－である。
上記式中、Ｒｆは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６のアルキル基を表す。
上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６のアルキル基における「炭素数１～１６のアルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１～６、特に炭素数１～３のアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１～３のアルキル基である。
上記Ｒｆは、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されている炭素数１～１６のアルキル基であり、より好ましくはＣＦ２Ｈ－Ｃ１－１５フルオロアルキレン基であり、さらに好ましくは炭素数１～１６のパーフルオロアルキル基である。
該炭素数１～１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１～６、特に炭素数１～３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１～３のパーフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ３、－ＣＦ２ＣＦ３、または－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３である。
上記式中、Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表す。
上記式中、Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１～２２のアルキル基、好ましくは炭素数１～４のアルキル基を表す。
上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、－ＯＲ、－ＯＣＯＲ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ２、－ＮＲ２、－ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１～４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは－ＯＲ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。
上記式中、Ｒ１１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表す。ハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。
上記式中、Ｒ１２は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。低級アルキル基は、好ましくは炭素数１～２０のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１～６のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
上記式中、ｎ１は、（－ＳｉＲ１ ｎ１Ｒ２ ３－ｎ１）単位毎に独立して、０～３の整数であり、好ましくは１～３であり、より好ましくは３である。ただし、式中、すべてのｎ１が同時に０になることはない。換言すれば、式中、少なくとも１つはＲ１が存在する。
上記式中、Ｘ１は、それぞれ独立して、単結合または２～１０価の有機基を表す。当該Ｘ１は、式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ－ＰＦＰＥ部または－ＰＦＰＥ－部）と、基材との結合能を提供するシラン部（即ち、αを付して括弧でくくられた基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ１は、式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。
上記式中、αは１～９の整数であり、α’は１～９の整数である。これらαおよびα’は、Ｘ１の価数に応じて変化し得る。式（Ａ１）においては、αおよびα’の和は、Ｘ１の価数と同じである。例えば、Ｘ１が１０価の有機基である場合、αおよびα’の和は１０であり、例えばαが９かつα’が１、αが５かつα’が５、またはαが１かつα’が９となり得る。また、Ｘ１が２価の有機基である場合、αおよびα’は１である。式（Ａ２）においては、αはＸ１の価数から１を引いた値である。
上記Ｘ１は、好ましくは２～７価であり、より好ましくは２～４価であり、さらに好ましくは２価の有機基である。
一の態様において、Ｘ１は２～４価の有機基であり、αは１～３であり、α’は１である。
別の態様において、Ｘ１は２価の有機基であり、αは１であり、α’は１である。この場合、式（Ａ１）および（Ａ２）は、下記式（Ａ１’）および（Ａ２’）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
上記Ｘ１の例としては、特に限定するものではないが、例えば、下記式：
　　－（Ｒ３１）ｐ’－（Ｘａ）ｑ’－
［式中：
Ｒ３１は、単結合、－（ＣＨ２）ｓ’－またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、好ましくは－（ＣＨ２）ｓ’－であり、
ｓ’は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
Ｘａは、－（Ｘｂ）ｌ’－を表し、
Ｘｂは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒ３３）２－、－（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’－Ｓｉ（Ｒ３３）２－、－ＣＯＮＲ３４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ３４－、－ＮＲ３４－および－（ＣＨ２）ｎ’－からなる群から選択される基を表し、
Ｒ３３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１－６アルキル基またはＣ１－６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはＣ１－６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ１－６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍ’は、各出現において、それぞれ独立して、１～１００の整数、好ましくは１～２０の整数であり、
ｎ’は、各出現において、それぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
ｌ’は、１～１０の整数、好ましくは１～５の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
ｐ’は、０、１または２であり、
ｑ’は、０または１であり、
ここに、ｐ’およびｑ’の少なくとも一方は１であり、ｐ’またはｑ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の基が挙げられる。ここに、Ｒ３１およびＸａ（典型的にはＲ３１およびＸａの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基およびＣ１－３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
好ましくは、上記Ｘ１は、－（Ｒ３１）ｐ’－（Ｘａ）ｑ’－Ｒ３２－である。Ｒ３２は、単結合、－（ＣＨ２）ｔ’－またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、好ましくは－（ＣＨ２）ｔ’－である。ｔ’は、１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。ここに、Ｒ３２（典型的にはＲ３２の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基およびＣ１－３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
好ましくは、上記Ｘ１は、
Ｃ１－２０アルキレン基、
－Ｒ３１－Ｘｃ－Ｒ３２－、または
－Ｘｄ－Ｒ３２－
［式中、Ｒ３１およびＲ３２は、上記と同意義である。］
であり得る。
より好ましくは、上記Ｘ１は、
Ｃ１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ２）ｓ’－Ｘｃ－、
－（ＣＨ２）ｓ’－Ｘｃ－（ＣＨ２）ｔ’－
－Ｘｄ－、または
－Ｘｄ－（ＣＨ２）ｔ’－
［式中、ｓ’およびｔ’は、上記と同意義である。］
である。
上記式中、Ｘｃは、
－Ｏ－、
－Ｓ－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、
－ＣＯＮＲ３４－、
－Ｏ－ＣＯＮＲ３４－、
－Ｓｉ（Ｒ３３）２－、
－（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’－Ｓｉ（Ｒ３３）２－、
－Ｏ－（ＣＨ２）ｕ’－（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’－Ｓｉ（Ｒ３３）２－、
－Ｏ－（ＣＨ２）ｕ’－Ｓｉ（Ｒ３３）２－Ｏ－Ｓｉ（Ｒ３３）２－ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（Ｒ３３）２－Ｏ－Ｓｉ（Ｒ３３）２－、
－Ｏ－（ＣＨ２）ｕ’－Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２－、
－ＣＯＮＲ３４－（ＣＨ２）ｕ’－（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’－Ｓｉ（Ｒ３３）２－、
－ＣＯＮＲ３４－（ＣＨ２）ｕ’－Ｎ（Ｒ３４）－、または
－ＣＯＮＲ３４－（ｏ－、ｍ－またはｐ－フェニレン）－Ｓｉ（Ｒ３３）２－
［式中、Ｒ３３、Ｒ３４およびｍ’は、上記と同意義であり、
ｕ’は１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。］を表す。Ｘｃは、好ましくは－Ｏ－である。
上記式中、Ｘｄは、
－Ｓ－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、
－ＣＯＮＲ３４－、
－ＣＯＮＲ３４－（ＣＨ２）ｕ’－（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’－Ｓｉ（Ｒ３３）２－、
－ＣＯＮＲ３４－（ＣＨ２）ｕ’－Ｎ（Ｒ３４）－、または
－ＣＯＮＲ３４－（ｏ－、ｍ－またはｐ－フェニレン）－Ｓｉ（Ｒ３３）２－
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
を表す。
より好ましくは、上記Ｘ１は、
Ｃ１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ２）ｓ’－Ｘｃ－（ＣＨ２）ｔ’－、または
－Ｘｄ－（ＣＨ２）ｔ’－
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。
さらにより好ましくは、上記Ｘ１は、
Ｃ１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ２）ｓ’－Ｏ－（ＣＨ２）ｔ’－、
－（ＣＨ２）ｓ’－（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’－Ｓｉ（Ｒ３３）２－（ＣＨ２）ｔ’－、
－（ＣＨ２）ｓ’－Ｏ－（ＣＨ２）ｕ’－（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’－Ｓｉ（Ｒ３３）２－（ＣＨ２）ｔ’－、または
－（ＣＨ２）ｓ’－Ｏ－（ＣＨ２）ｔ’－Ｓｉ（Ｒ３３）２　－（ＣＨ２）ｕ’－Ｓｉ（Ｒ３３）２－（ＣｖＨ２ｖ）－
［式中、Ｒ３３、ｍ’、ｓ’、ｔ’およびｕ’は、上記と同意義であり、ｖは１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。］
である。
上記式中、－（ＣｖＨ２ｖ）－は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－であり得る。
上記Ｘ１基は、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基およびＣ１－３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ１－３パーフルオロアルキル基）から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
別の態様において、Ｘ１基としては、例えば下記の基が挙げられる：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
［式中、Ｒ４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１～６のアルキル基、またはＣ１－６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
Ｄは、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）４－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、および
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
（式中、Ｒ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１－６のアルキル基またはＣ１－６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。）
から選択される基であり、
Ｅは、－（ＣＨ２）ｎ－（ｎは２～６の整数）であり、
Ｄは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合し、Ｅは、ＰＦＰＥと反対の基に結合する。］
上記Ｘ１の具体的な例としては、例えば：
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）４－、
－（ＣＨ２）５－、
－（ＣＨ２）６－、
－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）６－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６－、
－Ｓ－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ２）３－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ２）６－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－ＣＨ（ＣＨ３）－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２－、
－ＯＣＨ２－、
－Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＯＣＦＨＣＦ２－、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 などが挙げられる。
さらに別の態様において、Ｘ１は、式：－（Ｒ１６）ｘ－（ＣＦＲ１７）ｙ－（ＣＨ２）ｚ－で表される基である。式中、ｘ、ｙおよびｚは、それぞれ独立して、０～１０の整数であり、ｘ、ｙおよびｚの和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
上記式中、Ｒ１６は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、－ＮＲ２６－（式中、Ｒ２６は、水素原子または有機基を表す）または２価の有機基である。好ましくは、Ｒ１６は、酸素原子または２価の極性基である。
上記「２価の極性基」としては、特に限定されないが、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（＝ＮＲ２７）－、および－Ｃ（Ｏ）ＮＲ２７－（これらの式中、Ｒ２７は、水素原子または低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１～６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ－プロピルであり、これらは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。
上記式中、Ｒ１７は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１～６、好ましくは炭素数１～３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１～３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。
この態様において、Ｘ１は、好ましくは、式：－（Ｏ）ｘ－（ＣＦ２）ｙ－（ＣＨ２）ｚ－（式中、ｘ、ｙおよびｚは、上記と同意義であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である）で表される基である。
上記式：－（Ｏ）ｘ－（ＣＦ２）ｙ－（ＣＨ２）ｚ－で表される基としては、例えば、－（Ｏ）ｘ’－（ＣＨ２）ｚ”－Ｏ－［（ＣＨ２）ｚ’’’－Ｏ－］ｚ””、および－（Ｏ）ｘ’－（ＣＦ２）ｙ”－（ＣＨ２）ｚ”－Ｏ－［（ＣＨ２）ｚ’’’－Ｏ－］ｚ””（式中、ｘ’は０または１であり、ｙ”、ｚ”およびｚ’’’は、それぞれ独立して、１～１０の整数であり、ｚ””は、０または１である）で表される基が挙げられる。なお、これらの基は左端がＰＦＰＥ側に結合する。
別の好ましい態様において、Ｘ１は、－Ｏ－ＣＦＲ１３－（ＣＦ２）ｅ－である。
上記Ｒ１３は、それぞれ独立して、フッ素原子または低級フルオロアルキル基を表す。低級フルオロアルキル基は、例えば炭素数１～３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１～３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、更に好ましくはトリフルオロメチル基である。
上記ｅは、それぞれ独立して、０または１である。
一の具体例において、Ｒ１３はフッ素原子であり、ｅは１である。
さらに別の態様において、Ｘ１基の例として、下記の基が挙げられる：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
［式中、
Ｒ４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１～６のアルキル基、またはＣ１－６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
各Ｘ１基において、Ｔのうち任意のいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合する以下の基：
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）４－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、または
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
［式中、Ｒ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１－６のアルキル基またはＣ１－６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。］
であり、別のＴのいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥと反対の基（即ち、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｄ１）および（Ｄ２）においては炭素原子、また、下記する式（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）においてはＳｉ原子）に結合する－（ＣＨ２）ｎ”－（ｎ”は２～６の整数）であり、存在する場合、残りは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、Ｃ１－６アルコキシ基またはラジカル捕捉基もしくは紫外線吸収基であり得る。
ラジカル捕捉基は、光照射で生じるラジカルを捕捉できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、安息香酸エステル類、サリチル酸フェニル類、クロトン酸類、マロン酸エステル類、オルガノアクリレート類、ヒンダードアミン類、ヒンダードフェノール類、またはトリアジン類の残基が挙げられる。
紫外線吸収基は、紫外線を吸収できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾトリアゾール類、ヒドロキシベンゾフェノン類、置換および未置換安息香酸もしくはサリチル酸化合物のエステル類、アクリレートまたはアルコキシシンナメート類、オキサミド類、オキサニリド類、ベンゾキサジノン類、ベンゾキサゾール類の残基が挙げられる。
好ましい態様において、好ましいラジカル捕捉基または紫外線吸収基としては、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 が挙げられる。
この態様において、Ｘ１は、それぞれ独立して、３～１０価の有機基であり得る。
上記式中、ｔは、それぞれ独立して、１～１０の整数である。好ましい態様において、ｔは１～６の整数である。別の好ましい態様において、ｔは２～１０の整数であり、好ましくは２～６の整数である。
上記式中、Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表す。Ｘ２は、好ましくは、炭素数１～２０のアルキレン基であり、より好ましくは、－（ＣＨ２）ｕ－（式中、ｕは、０～２の整数である）である。
好ましい式（Ａ１）および（Ａ２）で示される化合物は、下記式（Ａ１’）および（Ａ２’）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
［式中：
ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２－（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３－（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｍ１４－（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５－（ＯＣＦ２）ｍ１６－
（式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５およびｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）
で表される基であり；　
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６のアルキル基を表し；
Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表し；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１～２２のアルキル基を表し；
Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎ１は、１～３の整数であり、好ましくは３であり；
Ｘ１は、－Ｏ－ＣＦＲ１３－（ＣＦ２）ｅ－であり；　
Ｒ１３は、フッ素原子または低級フルオロアルキル基であり；
ｅは、０または１であり；
Ｘ２は、－（ＣＨ２）ｕ－であり；
ｕは、０～２の整数であり（ｕが０の場合Ｘ２は単結合である）；
ｔは、１～１０の整数である。］
で表される化合物である。
上記式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物は、例えば、Ｒｆ－ＰＦＰＥ－部分に対応するパーフルオロポリエーテル誘導体を原料として、末端にヨウ素を導入した後、－ＣＨ２ＣＲ１２（Ｘ２－ＳｉＲ１ ｎ１Ｒ２ ３－ｎ１）－に対応するビニルモノマーを反応させることにより得ることができる。
式（Ｂ１）および（Ｂ２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）中、Ｒｆ、ＰＦＰＥ、Ｒ１、Ｒ２およびｎ１は、上記式（Ａ１）および（Ａ２）に関する記載と同意義である。
上記式中、Ｘ５は、それぞれ独立して、単結合または２～１０価の有機基を表す。当該Ｘ５は、式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（Ｒｆ－ＰＦＰＥ部または－ＰＦＰＥ－部）と、基材との結合能を提供するシラン部（具体的には、－ＳｉＲ１ ｎ１Ｒ２ ３－ｎ１）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ５は、式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。
上記式中のβは、１～９の整数であり、β’は、１～９の整数である。これらβおよびβ’は、Ｘ３の価数に応じて決定され、式（Ｂ１）において、βおよびβ’の和は、Ｘ５の価数と同じである。例えば、Ｘ５が１０価の有機基である場合、βおよびβ’の和は１０であり、例えばβが９かつβ’が１、βが５かつβ’が５、またはβが１かつβ’が９となり得る。また、Ｘ５が２価の有機基である場合、βおよびβ’は１である。式（Ｂ２）において、βはＸ５の価数の値から１を引いた値である。
上記Ｘ５は、好ましくは２～７価、より好ましくは２～４価、さらに好ましくは２価の有機基である。
一の態様において、Ｘ５は２～４価の有機基であり、βは１～３であり、β’は１である。
別の態様において、Ｘ５は２価の有機基であり、βは１であり、β’は１である。この場合、式（Ｂ１）および（Ｂ２）は、下記式（Ｂ１’）および（Ｂ２’）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
上記Ｘ５の例としては、特に限定するものではないが、例えば、Ｘ１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。
中でも、好ましい具体的なＸ５は、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）４－、
－（ＣＨ２）５－、
－（ＣＨ２）６－、
－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）６－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６－、
－Ｓ－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ２）３－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ２）６－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－ＣＨ（ＣＨ３）－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２－、
－ＯＣＨ２－、
－Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＯＣＦＨＣＦ２－、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 などが挙げられる。
好ましい式（Ｂ１）および（Ｂ２）で示される化合物は、下記式（Ｂ１’）および（Ｂ２’）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
［式中：
ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２－（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３－（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｍ１４－（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５－（ＯＣＦ２）ｍ１６－
（式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５およびｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）
で表される基であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６のアルキル基を表し；
Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表し；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１～２２のアルキル基を表し；
ｎ１は、１～３の整数であり、好ましくは３であり；
Ｘ５は、－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２－、－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３－または－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６－である］
で表される化合物である。
上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物は、公知の方法、例えば特許文献１に記載の方法またはその改良方法により製造することができる。例えば、式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物は、下記式（Ｂ１－４）または（Ｂ２－４）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
［式中：
ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２－（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３－（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｍ１４－（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５－（ＯＣＦ２）ｍ１６－
（式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５およびｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）
で表される基であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６のアルキル基を表し；
Ｘ５’は、それぞれ独立して、単結合または２～１０価の有機基を表し；
βは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
β’は、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
Ｒ９２は、単結合または２価の有機基である。］
で表される化合物を、ＨＳｉＭ３（式中、Ｍは、それぞれ独立して、ハロゲン原子、Ｒ１またはＲ２であり、Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基であり、Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１～２２のアルキル基である）と反応させて、必要に応じて、上記ハロゲン原子を、Ｒ１またはＲ２に変換して、式（Ｂ１”）または（Ｂ２”）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
［式中、ＰＦＰＥ、Ｒｆ、Ｘ５’、β、β’およびＲ９２は、上記と同意義であり；
ｎ１は、０～３の整数である。］
で表される化合物として得ることができる。
式（Ｂ１”）または（Ｂ２”）において、Ｘ５’からＲ９２－ＣＨ２ＣＨ２－までの部分が、式（Ｂ１）または（Ｂ２）におけるＸ５に対応する。
式（Ｃ１）および（Ｃ２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）中、ＲｆおよびＰＦＰＥは、上記式（Ａ１）および（Ａ２）に関する記載と同意義である。
上記式中、Ｘ７は、それぞれ独立して、単結合または２～１０価の有機基を表す。当該Ｘ７は、式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（Ｒｆ－ＰＦＰＥ部または－ＰＦＰＥ－部）と、基材との結合能を提供するシラン部（具体的には、－ＳｉＲａ ｋ１Ｒｂ ｌ１Ｒｃ ｍ１基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ７は、式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。
上記式中のγは、１～９の整数であり、γ’は、１～９の整数である。これらγおよびγ’は、Ｘ７の価数に応じて決定され、式（Ｃ１）において、γおよびγ’の和は、Ｘ７の価数と同じである。例えば、Ｘ７が１０価の有機基である場合、γおよびγ’の和は１０であり、例えばγが９かつγ’が１、γが５かつγ’が５、またはγが１かつγ’が９となり得る。また、Ｘ７が２価の有機基である場合、γおよびγ’は１である。式（Ｃ１）において、γはＸ７の価数の値から１を引いた値である。
上記Ｘ７は、好ましくは２～７価、より好ましくは２～４価、さらに好ましくは２価の有機基である。
一の態様において、Ｘ７は２～４価の有機基であり、γは１～３であり、γ’は１である。
別の態様において、Ｘ７は２価の有機基であり、γは１であり、γ’は１である。この場合、式（Ｃ１）および（Ｃ２）は、下記式（Ｃ１’）および（Ｃ２’）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
上記Ｘ７の例としては、特に限定するものではないが、例えば、Ｘ１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。
中でも、好ましい具体的なＸ７は、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）４－、
－（ＣＨ２）５－、
－（ＣＨ２）６－、
－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）６－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６－、
－Ｓ－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ２）３－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ２）６－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－ＣＨ（ＣＨ３）－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２－、
－ＯＣＨ２－、
－Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＯＣＦＨＣＦ２－、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 などが挙げられる。
上記式中、Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ１－ＳｉＲ７１ ｐ１Ｒ７２ ｑ１Ｒ７３ ｒ１を表す。
式中、Ｚ１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。
上記Ｚ１は、好ましくは、２価の有機基であり、式（Ｃ１）または式（Ｃ２）における分子主鎖の末端のＳｉ原子（Ｒａが結合しているＳｉ原子）とシロキサン結合を形成するものを含まない。
上記Ｚ１は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｇ－Ｏ－（ＣＨ２）ｈ－（式中、ｇは、１～６の整数であり、ｈは、１～６の整数である）または、－フェニレン－（ＣＨ２）ｉ－（式中、ｉは、０～６の整数である）であり、より好ましくはＣ１－３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、およびＣ２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
式中、Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’を表す。Ｒａ’は、Ｒａと同意義である。
Ｒａ中、Ｚ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。即ち、上記Ｒａにおいて、Ｒ７１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒａ中にＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒａ中のＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒａ中において直鎖状に連結される－Ｚ１－Ｓｉ－の繰り返し数と等しくなる。
例えば、下記にＲａ中においてＺ１基（下記では単に「Ｚ」と示す）を介してＳｉ原子が連結された一例を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
上記式において、＊は、主鎖のＳｉに結合する部位を意味し、…は、ＺＳｉ以外の所定の基が結合していること、即ち、Ｓｉ原子の３本の結合手がすべて…である場合、ＺＳｉの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Ｓｉの右肩の数字は、＊から数えたＺ基を介して直鎖状に連結されたＳｉの出現数を意味する。即ち、Ｓｉ２でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は「Ｒａ中のＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が２個であり、同様に、Ｓｉ３、Ｓｉ４およびＳｉ５でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ｒａ中のＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が３、４および５個である。なお、上記の式から明らかなように、Ｒａ中には、ＺＳｉ鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。
好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒａ中のＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
一の態様において、Ｒａ中のＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。
式中、Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表す。
上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、－ＯＲ、－ＯＣＯＲ、－Ｏ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ）２、－Ｎ（Ｒ）２、－ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１～４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは－ＯＲ（アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。
好ましくは、Ｒ７２は、－ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ１－３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。
式中、Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１～２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１～６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
式中、ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、ｐ１、ｑ１およびｒ１の和は３である。
好ましい態様において、Ｒａ中の末端のＲａ’（Ｒａ’が存在しない場合、Ｒａ）において、上記ｑ１は、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。
好ましい態様において、Ｒａの末端部の少なくとも１つは、－Ｓｉ（－Ｚ１－ＳｉＲ７２ ｑＲ７３ ｒ）２または－Ｓｉ（－Ｚ１－ＳｉＲ７２ ｑＲ７３ ｒ）３、好ましくは－Ｓｉ（－Ｚ１－ＳｉＲ７２ ｑＲ７３ ｒ）３であり得る。式中、（－Ｚ１－ＳｉＲ７２ ｑＲ７３ ｒ）の単位は、好ましくは（－Ｚ１－ＳｉＲ７２ ３）である。さらに好ましい態様において、Ｒａの末端部は、すべて－Ｓｉ（－Ｚ１－ＳｉＲ７２ ｑＲ７３ ｒ）３、好ましくは－Ｓｉ（－Ｚ１－ＳｉＲ７２ ３）３であり得る。
上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）においては、少なくとも１つのＲ７２が存在する。
上記式中、Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表す。
上記Ｒｂは、好ましくは、－ＯＲ、－ＯＣＯＲ、－Ｏ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ）２、－Ｎ（Ｒ）２、－ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１～４のアルキル基を示す）であり、好ましくは－ＯＲである。Ｒは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。より好ましくは、Ｒｂは、－ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ１－３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。
上記式中、Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１～２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１～６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
式中、ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１～３の整数であり；ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～２の整数であり；ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～２の整数である。ただし、ｋ１、ｌ１およびｍ１の和は、３である。
上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物は、例えば、Ｒｆ－ＰＦＰＥ－部分に対応するパーフルオロポリエーテル誘導体を原料として、末端に水酸基を導入した後、末端に不飽和結合を有する基を導入し、この不飽和結合を有する基とハロゲン原子を有するシリル誘導体とを反応させ、さらにこのシリル基に末端に水酸基を導入し、導入した不飽和結合を有する基とシリル誘導体とを反応させることにより得ることができる。例えば、以下のようにして得ることができる。
好ましい式（Ｃ１）および（Ｃ２）で示される化合物は、下記式（Ｃ１”）および（Ｃ２”）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
［式中：
ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２－（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３－（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｍ１４－（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５－（ＯＣＦ２）ｍ１６－
（式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５およびｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）
で表される基であり；　
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６のアルキル基を表し；
Ｘ７は、－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２－、－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３－または－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６－を表し；
Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ１－ＳｉＲ７１ ｐ１Ｒ７２ ｑ１Ｒ７３ ｒ１を表し；
Ｚ１は、Ｃ１－６アルキレン基を表し；
Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’を表し；
Ｒａ’は、Ｒａと同意義であり；
Ｒａ中、Ｚ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表し；
Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～２の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１～３の整数、好ましくは３であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～２の整数であり；
ただし、一のＲａにおいて、ｐ１、ｑ１およびｒ１の和は３である。］
で表される化合物である。
上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物は、例えば以下のようにして製造することができる。下記式（Ｃ１－４）または（Ｃ２－４）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
［式中：
ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２－（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３－（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｍ１４－（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５－（ＯＣＦ２）ｍ１６－
（式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５およびｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）
で表される基であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６のアルキル基を表し；
Ｘ７’は、それぞれ独立して、単結合または２～１０価の有機基を表し；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
γ’は、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
Ｒ９２は、単結合または２価の有機基である。］
で表される化合物を、ＨＳｉＲ９３ ｋ１Ｒｂ ｌ１Ｒｃ ｍ１（式中、Ｒ９３はハロゲン原子、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子、好ましくは塩素原子であり、Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表し、Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し、ｋ１は１～３の整数であり、ｌ１およびｍ１は、それぞれ独立して、０～２の整数であり、ｋ１、ｌ１およびｍ１の和は３である。）で表される化合物と反応させて、式（Ｃ１－５）または（Ｃ２－５）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 ［式中、Ｒｆ、ＰＦＰＥ、Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒｂ、Ｒｃ、γ、γ’、Ｘ７’、ｋ１、ｌ１およびｍ１は、上記と同意義である。］
で表される化合物を得る。
得られた式（Ｃ１－５）または（Ｃ２－５）で表される化合物を、Ｈａｌ－Ｊ－Ｒ９４－ＣＨ＝ＣＨ２（式中、Ｈａｌはハロゲン原子（例えば、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｆ等）を表し、Ｊは、Ｍｇ、Ｃｕ、ＰｄまたはＺｎを表し、Ｒ９４は単結合または２価の有機基を表す。）で表される化合物と反応させて、式（Ｃ１－６）または（Ｃ２－６）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
 ［式中、Ｒｆ、ＰＦＰＥ、Ｒ９２、Ｒ９４、Ｒｂ、Ｒｃ、γ、γ’、Ｘ７’、ｋ１、ｌ１およびｍ１は、上記と同意義である。］
で表される化合物を得る。
得られた式（Ｃ１－６）または（Ｃ２－６）で表される化合物を、ＨＳｉＭ３（式中、Ｍは、それぞれ独立して、ハロゲン原子、Ｒ７２またはＲ７３であり、Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表し、Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。）と反応させて、必要に応じて、上記ハロゲン原子を、Ｒ７２またはＲ７３に変換して、式（Ｃ１’’’）または（Ｃ２’’’）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
［式中、Ｒｆ、ＰＦＰＥ、Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ９２、Ｒ９４、Ｒｂ、Ｒｃ、γ、γ’、Ｘ７’、ｋ１、ｌ１およびｍ１は、上記と同意義であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１～３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～２の整数である。］
で表される化合物を得ることができる。
式（Ｃ１’’’）または（Ｃ２’’’）において、Ｘ７’からＲ９２－ＣＨ２ＣＨ２－までの部分が、式（Ｃ１）または（Ｃ２）におけるＸ７に対応し、－Ｒ９４－ＣＨ２ＣＨ２－が式（Ｃ１）または（Ｃ２）におけるＺに対応する。
式（Ｄ１）および（Ｄ２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
上記式（Ｄ１）および（Ｄ２）中、ＲｆおよびＰＦＰＥは、上記式（Ａ１）および（Ａ２）に関する記載と同意義である。
上記式中、Ｘ９は、それぞれ独立して、単結合または２～１０価の有機基を表す。当該Ｘ９は、式（Ｄ１）および（Ｄ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ－ＰＦＰＥ部または－ＰＦＰＥ－部）と、基材との結合能を提供する部（即ち、δを付して括弧でくくられた基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ９は、式（Ｄ１）および（Ｄ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。
上記式中、δは１～９の整数であり、δ’は１～９の整数である。これらδおよびδ’は、Ｘ９の価数に応じて変化し得る。式（Ｄ１）においては、δおよびδ’の和は、Ｘ９の価数と同じである。例えば、Ｘ９が１０価の有機基である場合、δおよびδ’の和は１０であり、例えばδが９かつδ’が１、δが５かつδ’が５、またはδが１かつδ’が９となり得る。また、Ｘ９が２価の有機基である場合、δおよびδ’は１である。式（Ｄ２）においては、δはＸ９の価数から１を引いた値である。
上記Ｘ９は、好ましくは２～７価であり、より好ましくは２～４価であり、さらに好ましくは２価の有機基である。
一の態様において、Ｘ９は２～４価の有機基であり、δは１～３であり、δ’は１である。
別の態様において、Ｘ９は２価の有機基であり、δは１であり、δ’は１である。この場合、式（Ｄ１）および（Ｄ２）は、下記式（Ｄ１’）および（Ｄ２’）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
上記Ｘ９の例としては、特に限定するものではないが、例えば、Ｘ１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。
中でも、好ましい具体的なＸ９は、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）４－、
－（ＣＨ２）５－、
－（ＣＨ２）６－、
－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）６－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６－、
－Ｓ－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ２）３－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ２）６－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－ＣＨ（ＣＨ３）－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２－、
－ＯＣＨ２－、
－Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＯＣＦＨＣＦ２－、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
 などが挙げられる。
上記式中、Ｒｄは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ２－ＣＲ８１ ｐ２Ｒ８２ ｑ２Ｒ８３ ｒ２を表す。
式中、Ｚ２は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。
上記Ｚ２は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｇ－Ｏ－（ＣＨ２）ｈ－（式中、ｇは、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｈは、０～６の整数、例えば１～６の整数である）または、－フェニレン－（ＣＨ２）ｉ－（式中、ｉは、０～６の整数である）であり、より好ましくはＣ１－３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、およびＣ２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
式中、Ｒ８１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｄ’を表す。Ｒｄ’は、Ｒｄと同意義である。
Ｒｄ中、Ｚ２基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個である。即ち、上記Ｒｄにおいて、Ｒ８１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒｄ中にＺ２基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒｄ中のＺ２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」とは、Ｒｄ中において直鎖状に連結される－Ｚ２－Ｃ－の繰り返し数と等しくなる。これは、式（Ｃ１）および（Ｃ２）におけるＲａに関する記載と同様である。
好ましい態様において、「Ｒｄ中のＺ２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。
一の態様において、Ｒｄ中のＺ２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。
式中、Ｒ８２は、－Ｙ－ＳｉＲ８５ ｎ２Ｒ８６ ３－ｎ２を表す。
Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表す。
好ましい態様において、Ｙは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｇ’－Ｏ－（ＣＨ２）ｈ’－（式中、ｇ’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｈ’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、または－フェニレン－（ＣＨ２）ｉ’－（式中、ｉ’は、０～６の整数である）である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、およびＣ２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
一の態様において、Ｙは、Ｃ１－６アルキレン基、－Ｏ－（ＣＨ２）ｈ’－または－フェニレン－（ＣＨ２）ｉ’－であり得る。Ｙが上記の基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。
上記Ｒ８５は、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基を表す。
上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、－ＯＲ、－ＯＣＯＲ、－Ｏ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ）２、－Ｎ（Ｒ）２、－ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１～４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは－ＯＲ（アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。
好ましくは、Ｒ８５は、－ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ１－３アルキル基、より好ましくはエチル基またはメチル基、特にメチル基を表す）である。
上記Ｒ８６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１～２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１～６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
ｎ２は、（－Ｙ－ＳｉＲ８５ ｎ２Ｒ８６ ３－ｎ２）単位毎に独立して、１～３の整数を表し、好ましくは２または３、より好ましくは３である。
上記Ｒ８３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１～２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１～６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
式中、ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、ｐ２、ｑ２およびｒ２の和は３である。
好ましい態様において、Ｒｄ中の末端のＲｄ’（Ｒｄ’が存在しない場合、Ｒｄ）において、上記ｑ２は、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。
好ましい態様において、Ｒｄの末端部の少なくとも１つは、－Ｃ（－Ｙ－ＳｉＲ８５ ｑ２Ｒ８６ ｒ２）２または－Ｃ（－Ｙ－ＳｉＲ８５ ｑ２Ｒ８６ ｒ２）３、好ましくは－Ｃ（－Ｙ－ＳｉＲ８５ ｑ２Ｒ８６ ｒ２）３であり得る。式中、（－Ｙ－ＳｉＲ８５ ｑ２Ｒ８６ ｒ２）の単位は、好ましくは（－Ｙ－ＳｉＲ８５ ３）である。さらに好ましい態様において、Ｒｄの末端部は、すべて－Ｃ（－Ｙ－ＳｉＲ８５ ｑ２Ｒ８６ ｒ２）３、好ましくは－Ｃ（－Ｙ－ＳｉＲ８５ ３）３であり得る。
上記式中、Ｒｅは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｙ－ＳｉＲ８５ ｎ２Ｒ８６ ３－ｎ２を表す。ここに、Ｙ、Ｒ８５、Ｒ８６およびｎ２は、上記Ｒ８２における記載と同意義である。
上記式中、Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１～２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１～６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
式中、ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、ｋ２、ｌ２およびｍ２の和は３である。
一の態様において、少なくとも１つのｋ２は２または３であり、好ましくは３である。
一の態様において、ｋ２は２または３であり、好ましくは３である。
一の態様において、ｌ２は２または３であり、好ましくは３である。
上記式（Ｄ１）および（Ｄ２）中、少なくとも１つのｑ２は２または３であるか、あるいは、少なくとも１つのｌ２は２または３である。即ち、式中、少なくとも２つの－Ｙ－ＳｉＲ８５ ｎ２Ｒ８６ ３－ｎ２基が存在する。
式（Ｄ１）または式（Ｄ２）で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、公知の方法を組み合わせることにより製造することができる。例えば、Ｘが２価である式（Ｄ１’）で表される化合物は、限定するものではないが、以下のようにして製造することができる。
ＨＯ－Ｘ－Ｃ（ＹＯＨ）３（式中、ＸおよびＹは、それぞれ独立して、２価の有機基である。）で表される多価アルコールに、二重結合を含有する基（好ましくはアリル）、およびハロゲン（好ましくはブロモ）を導入して、Ｈａｌ－Ｘ－Ｃ（Ｙ－Ｏ－Ｒ－ＣＨ＝ＣＨ２）３（式中、Ｈａｌはハロゲン、例えばＢｒであり、Ｒは二価の有機基、例えばアルキレン基である。）で表される二重結合含有ハロゲン化物を得る。次いで、末端のハロゲンと、ＲＰＦＰＥ－ＯＨ（式中、ＲＰＦＰＥは、パーフルオロポリエーテル基含有基である。）で表されるパーフルオロポリエーテル基含有アルコールとを反応させて、ＲＰＦＰＥ－Ｏ－Ｘ－Ｃ（Ｙ－Ｏ－Ｒ－ＣＨ＝ＣＨ２）３を得る。次いで、末端の－ＣＨ＝ＣＨ２と、ＨＳｉＣｌ３およびアルコールまたはＨＳｉＲ８５ ３と反応させて、ＲＰＦＰＥ－Ｏ－Ｘ－Ｃ（Ｙ－Ｏ－Ｒ－ＣＨ２－ＣＨ２－ＳｉＲ８５ ３）３を得ることができる。
上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）および（Ｄ２）で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０２～１×１０５の数平均分子量を有し得る。上記数平均分子量は、好ましくは２，０００～３０，０００、より好ましくは３，０００～１０，０００、さらに好ましくは３，０００～８，０００であり得る。
上記数平均分子量は、ＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー）分析により測定する。
上記パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物におけるＰＦＰＥ部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、好ましくは１，５００～３０，０００、より好ましくは２，５００～１０，０００、さらに好ましくは３，０００～８，０００であり得る。
化合物（Ｈ）は、式：Ｒ１１１－ＰＦＰＥ－Ｒ１１３
（式中、ＰＦＰＥはパーフルオロポリエーテル基、Ｒ１１１及びＲ１１３は、独立に、Ｆ、炭素数１～１６のアルキル基、炭素数１～１６のアルコキシ基、炭素数１～１６のフッ素化アルキル基、炭素数１～１６のフッ素化アルコキシ基、－Ｒ１１４－Ｘ１１１（Ｒ１１４は単結合又は二価の有機基、Ｘ１１１は－ＮＨ２、－ＯＨ、－ＣＯＯＨ、－ＣＨ＝ＣＨ２、－ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、ハロゲン、リン酸、リン酸エステル、カルボン酸エステル、チオール、チオエーテル、アルキルエーテル（フッ素で置換されていてもよい）、アリール、アリールエーテル又はアミド））で表される。
Ｘ１１１としては、－ＯＨ、－ＣＯＯＨ、チオール（－ＳＨ）、－ＣＨ＝ＣＨ２及び－ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。上記二価の有機基としては、アルキレン基、フッ素化アルキレン基、又は、それらの末端に酸素原子が結合した基等が挙げられる。上記二価の有機基の炭素数は特に限定されないが、例えば、１～１６であってよい。
Ｒ１１１及びＲ１１３としては、独立に、Ｆ、炭素数１～３のアルキル基、炭素数１～３のフッ素化アルキル基又は－Ｒ１１４－Ｘ１１１（Ｒ１１４及びＸ１１１は上述のとおり）が好ましく、Ｆ、炭素数１～３の完全フッ素化アルキル基又は－Ｒ１１４－Ｘ１１１（Ｒ１１４及びＸ１１１は上述のとおり）がより好ましい。
ｍとしては、３００以下の整数が好ましく、１００以下の整数がより好ましい。
ＰＦＰＥとしては、例えば、
式：－（ＣＸ１１２ ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ１１１（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｎ１１２（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ１１３（ＣＦ２Ｏ）ｎ１１４（Ｃ４Ｆ８Ｏ）ｎ１１５－
（ｎ１１１、ｎ１１２、ｎ１１３、ｎ１１４及びｎ１１５は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ１１２はＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表されるもの、
式：－（ＯＣ２Ｆ４－Ｒ１１８）ｆ－
（Ｒ１１８は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であり、ｆは、２～１００の整数である）で表されるもの
等が挙げられる。
ｎ１１１～ｎ１１５は、それぞれ、０～２００の整数であることが好ましい。ｎ１１１～ｎ１１５は、合計で、１以上であることが好ましく、５～３００であることがより好ましく、１０～２００であることが更に好ましく、１０～１００であることが特に好ましい。
Ｒ１１８は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、および－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－等が挙げられる。上記ｆは、２～１００の整数、好ましくは２～５０の整数である。上記式中、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、式：－（ＯＣ２Ｆ４－Ｒ１１８）ｆ－は、好ましくは、式：－（ＯＣ２Ｆ４－ＯＣ３Ｆ６）ｆ－または式：－（ＯＣ２Ｆ４－ＯＣ４Ｆ８）ｆ－である。
化合物（Ｈ）は、重量平均分子量が５００～１０００００であることが好ましく、５００００以下がより好ましく、１００００以下が更に好ましく、６０００以下が特に好ましい。上記重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により、測定することができる。
市販されている化合物（Ｈ）としては、商品名デムナム（ダイキン工業社製）、フォンブリン（ソルベイスペシャルティポリマーズジャパン社製）、バリエルタ（ＮＯＫクリューバー社製）、クライトックス（デュポン社製）などが挙げられる。
層（Ａ）は、樹脂を含む。上記樹脂は、上記機能性膜に機能を付与するための主材としての樹脂であり、上記樹脂の種類によって、上記機能性膜の機能が決まる。
上記樹脂としては、硬化性樹脂を硬化させることにより得られる樹脂、硬化性モノマーを硬化させることにより得られる樹脂、及び、含ケイ素化合物を用いて形成されたポリシロキサン構造を含む樹脂からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。
上記硬化性樹脂は、フッ素原子を含有しないことが好ましい。上記硬化性モノマーは、フッ素原子を含有しないことが好ましい。
上記硬化性樹脂は、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂のいずれであってもよく、耐熱性、強度を有する樹脂であれば特に制限されないが、光硬化性樹脂が好ましく、紫外線硬化性樹脂がより好ましい。
上記硬化性樹脂としては、例えば、アクリル系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエステル系ポリマー、ポリアミド系ポリマー、ポリイミド系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、環状ポリオレフィン系ポリマー、含フッ素ポリオレフィン系ポリマー（ＰＴＦＥ等）、含フッ素環状非結晶性ポリマー（サイトップ（登録商標）、テフロン（登録商標）ＡＦ等）などが挙げられる。工程（２）を実施した後に紫外線硬化等の操作を行う場合には、透明性を有する樹脂が好ましい。
上記硬化性樹脂又は上記硬化性樹脂を構成するモノマーとして具体的には、例えば、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、酢酸ビニル、ビニルピバレート、各種（メタ）アクリレート類：フェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、ステアリルアクリレート、ラウリルアクリレート、２－エチルヘキシルアクリレート、アリルアクリレート、１，３－ブタンジオールジアクリレート、１，４－ブタンジオールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロール、プロパントリアクリレート、ペンタアエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、エトキシエチルアクリレート、メトキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、テトラヒドロフルフリールアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリオキシエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレート、４－ヒドロキシブチルビニルエーテル、Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ－ビニルピロリドン、ジメチルアミノエチルメタクリレートシリコン系のアクリレート、無水マレイン酸、ビニレンカーボネート、鎖状側鎖ポリアクリレート、環状側鎖ポリアクリレートポリノルボルネン、ポリノルボルナジエン、ポリカーボネート、ポリスルホン酸アミド、含フッ素環状非結晶性ポリマー（サイトップ（登録商標）、テフロン（登録商標）ＡＦ等）等が挙げられる。
上記硬化性モノマーは、光硬化性モノマー、熱硬化性モノマーのいずれであってもよいが、紫外線硬化性モノマーが好ましい。
上記硬化性モノマーとしては、例えば、（ａ）ウレタン（メタ）アクリレート、（ｂ）エポキシ（メタ）アクリレート、（ｃ）ポリエステル（メタ）アクリレート、（ｄ）ポリエーテル（メタ）アクリレート、（ｅ）シリコン（メタ）アクリレート、（ｆ）（メタ）アクリレートモノマーなどが挙げられる。
上記硬化性モノマーとして具体的には、以下の例が挙げられる。
（ａ）ウレタン（メタ）アクリレートとしては、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジアクリレート、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレートに代表されるポリ〔（メタ）アクリロイルオキシアルキル〕イソシアヌレートが挙げられる。
（ｂ）エポキシ（メタ）アクリレートはエポキシ基に（メタ）アクリロイル基を付加したものであり、出発原料としてビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、フェノールノボラック、脂環化合物を用いたものが一般的である。
（ｃ）ポリエステル（メタ）アクリレートのポリエステル部を構成する多価アルコールとしては、エチレングリコール、１，４－ブタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどが挙げられ、多塩基酸としては、フタル酸、アジピン酸、マレイン酸、トリメリット酸、イタコン酸、コハク酸、テレフタル酸、アルケニルコハク酸などが挙げられる。
（ｄ）ポリエーテル（メタ）アクリレートとしては、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール－ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
（ｅ）シリコン（メタ）アクリレートは、分子量１，０００～１０，０００のジメチルポリシロキサンの片末端、あるいは、両末端を（メタ）アクリロイル基で変性したものであり、例えば、以下の化合物などが例示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
（ｆ）（メタ）アクリレートモノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、ｎ－ペンチル（メタ）アクリレート、３－メチルブチル（メタ）アクリレート、ｎ－ヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチル－ｎ－ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、５－ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、６－ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３－クロロ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、（１，１－ジメチル－３－オキソブチル）（メタ）アクリルレート、２－アセトアセトキシエチル（メタ）アクリレート、２－メトキシエチル（メタ）アクリレート、２－エトキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３－クロロ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、１，９－ノナンジオールジアクリレート、１，１０－デカンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートなどが例示される。
上記硬化性樹脂及び硬化性モノマーの内、市場から入手可能で好ましいものとしては以下のものが挙げられる。
上記硬化性樹脂としては、シリコン樹脂類、ＰＡＫ－０１、ＰＡＫ－０２（東洋合成化学社製）、ナノインプリント樹脂ＮＩＦシリーズ（旭硝子社製）、ナノインプリント樹脂ＯＣＮＬシリーズ（東京応化工業社製）、ＮＩＡＣ２３１０（ダイセル化学工業社製）、エポキシアクリレート樹脂類ＥＨ－１００１、ＥＳ－４００４、ＥＸ－Ｃ１０１、ＥＸ－Ｃ１０６、ＥＸ－Ｃ３００、ＥＸ－Ｃ５０１、ＥＸ－０２０２、ＥＸ－０２０５、ＥＸ－５０００など（共栄社化学社製）、ヘキサメチレンジイソシアネート系ポリイソシアネート類、スミジュールＮ－７５、スミジュールＮ３２００、スミジュールＨＴ、スミジュールＮ３３００、スミジュールＮ３５００（住友バイエルンウレタン社製）などが挙げられる。
上記硬化性モノマーの内、シリコンアクリレート系樹脂類としては、サイラプレーンＦＭ－０６１１、サイラプレーンＦＭ－０６２１、サイラプレーンＦＭ－０６２５、両末端型（メタ）アクリル系のサイラプレーンＦＭ－７７１１、サイラプレーンＦＭ－７７２１及びサイラプレーンＦＭ－７７２５等、サイラプレーンＦＭ－０４１１、サイラプレーンＦＭ－０４２１、サイラプレーンＦＭ－０４２８、サイラプレーンＦＭ－ＤＡ１１、サイラプレーンＦＭ－ＤＡ２１、サイラプレーン－ＤＡ２５、片末端型（メタ）アクリル系のサイラプレーンＦＭ－０７１１、サイラプレーンＦＭ－０７２１、サイラプレーンＦＭ－０７２５、サイラプレーンＴＭ－０７０１及びサイラプレーンＴＭ－０７０１Ｔ（ＪＣＮ社製）等が挙げられる。
多官能アクリレート類としては、Ａ－９３００、Ａ－９３００－１ＣＬ、Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、Ａ－ＴＭＭ－３、Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ、Ａ－ＴＭＭ－３ＬＭ－Ｎ、Ａ－ＴＭＰＴ、Ａ－ＴＭＭＴ（新中村工業社製）等が挙げられる。
多官能メタクリレート類としてＴＭＰＴ（新中村工業社製）等が挙げられる。
アルコキシシラン基含有（メタ）アクリレートとしては、３－（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリクロロシシラン、３－（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３－（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３－（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリイソプロポキシシラン（別名（トリイソプロポキシシリル）プロピルメタクリレート（略称：ＴＩＳＭＡ）および（トリイソプロポキシシリル）プロピルアクリレート）、３－（メタ）アクリルオキシイソブチルトリクロロシラン、３－（メタ）アクリルオキシイソブチルトリエトキシシラン、３－（メタ）アクリルオキシイソブチルトリイソプロポキ３－（メタ）アクリルオキシイソブチルトリメトキシシランシシラン等が挙げられる。
上述したとおり、本発明の機能性膜では、層（Ａ）に含まれる樹脂が機能性膜に機能を付与するための主材としての樹脂である。本発明の機能性膜は上述した構成を備えることから、層（Ａ）に含まれる樹脂が本来有する特性が充分に発揮される。上記特性とは、透明性、低散乱性、低反射性、耐擦傷性、可撓性等が挙げられ、なかでも、透明性、耐擦傷性であることが好ましい。これらの特性を有する樹脂としては、アクリル系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリイミド系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、環状ポリオレフィン系ポリマー等の樹脂を硬化させることにより得られる樹脂、多官能（メタ）アクリレート類、シリコン（メタ）アクリレート類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類等の硬化性モノマーを硬化させることにより得られる樹脂等が挙げられる。
上記樹脂は、硬化性樹脂及び架橋触媒を含む組成物を硬化させることにより得られる樹脂、並びに、硬化性モノマー及び架橋触媒を含む組成物を硬化させることにより得られる樹脂からなる群より選択される少なくとも１種であってもよい。
上記架橋触媒としては、ラジカル重合開始剤、酸発生剤等が例示される。
上記ラジカル重合開始剤は、熱や光によりラジカルを発生する化合物であり、ラジカル熱重合開始剤、ラジカル光重合開始剤が挙げられる。本発明においては、上記ラジカル光重合開始剤が好ましい。
上記ラジカル熱重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド類、ジクミルパーオキシド、ジ－ｔ－ブチルパーオキシド等のジアルキルパーオキシド類、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ビス（４－ｔ－ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート等のパーオキシカーボネート類、ｔ－ブチルパーオキシオクトエート、ｔ－ブチルパーオキシベンゾエート等のアルキルパーエステル類等のパーオキシド化合物、並びに、アゾビスイソブチロニトリルのようなラジカル発生性アゾ化合物等が挙げられる。
上記ラジカル光重合開始剤としては、例えば、ベンジル、ジアセチル等の－ジケトン類、ベンゾイン等のアシロイン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル類、チオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、チオキサントン－４－スルホン酸等のチオキサントン類、ベンゾフェノン、４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、アセトフェノン、２－（４－トルエンスルホニルオキシ）－２－フェニルアセトフェノン、ｐ－ジメチルアミノアセトフェノン、２，２’－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、ｐ－メトキシアセトフェノン、２－メチル［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノ－１－プロパノン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタン－１－オン等のアセトフェノン類、アントラキノン、１，４－ナフトキノン等のキノン類、２－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸（ｎ－ブトキシ）エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４－ジメチルアミノ安息香酸２－エチルヘキシル等のアミノ安息香酸類、フェナシルクロライド、トリハロメチルフェニルスルホン等のハロゲン化合物、アシルホスフィンオキシド類、ジ－ｔ－ブチルパーオキサイド等の過酸化物等が挙げられる。
上記ラジカル光重合開始剤の市販品としては、以下のものが例示される。
ＩＲＧＡＣＵＲＥ　６５１：２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４：１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ　２９５９：１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１２７：２－ヒロドキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ　９０７：２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ　３６９：２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン－１、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ　３７９：２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ　８１９：ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ　７８４：ビス（η５－２，４－シクロペンタジエン－１－イル）－ビス（２，６－ジフルオロ－３－（１Ｈ－ピロール－１－イル）－フェニル）チタニウム、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ　０１：１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ　０２：エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（０－アセチルオキシム）、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ２６１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ５００、
ＤＡＲＯＣＵＲ　１１７３：２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン、
ＤＡＲＯＣＵＲ　ＴＰＯ：２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－フォスフィンオキサイド、
ＤＡＲＯＣＵＲ１１１６、ＤＡＲＯＣＵＲ２９５９、ＤＡＲＯＣＵＲ１６６４、ＤＡＲＯＣＵＲ４０４３、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ　７５４　オキシフェニル酢酸：２－［２－オキソ－２－フェニルアセトキシエトキシ］エチルエステルとオキシフェニル酢酸、２－（２－ヒドロキシエトキシ）エチルエステルの混合物、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ　５００：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４とベンゾフェノンとの混合物（１：１）、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１３００：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　３６９とＩＲＧＡＣＵＲＥ　６５１との混合物（３：７）、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８００：ＣＧＩ４０３とＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４との混合物（１：３）、
ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８７０：ＣＧＩ４０３とＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４との混合物（７：３）、
ＤＡＲＯＣＵＲ　４２６５：ＤＡＲＯＣＵＲ　ＴＰＯとＤＡＲＯＣＵＲ　１１７３との混合物（１：１）。
なお、ＩＲＧＡＣＵＲＥはチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製であり、ＤＡＲＯＣＵＲはメルクジャパン社製である。
また、上記架橋触媒としてラジカル光重合開始剤を用いる場合には、増感剤として、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントンなどを併用することもでき、重合促進剤として、ＤＡＲＯＣＵＲ　ＥＤＢ（エチル－４－ジメチルアミノベンゾエート）、ＤＡＲＯＣＵＲ　ＥＨＡ（２－エチルヘキシル－４－ジメチルアミノベンゾエート）などを併用しても良い。
上記増感剤を用いる場合の増感剤の配合量としては、上記硬化性樹脂若しくは上記硬化性モノマー１００質量部に対して、０．１～５質量部であることが好ましい。より好ましくは、０．１～２質量部である。
また、上記重合促進剤を用いる場合の重合促進剤の配合量としては、上記硬化性樹脂若しくは上記硬化性モノマー１００質量部に対して、０．１～５質量部であることが好ましい。より好ましくは、０．１～２質量部である。
上記酸発生剤は、熱や光を加えることによって酸を発生する材料であり、熱酸発生剤、光酸発生剤が挙げられる。本発明においては、光酸発生剤が好ましい。
上記熱酸発生剤としては、例えば、ベンゾイントシレート、ニトロベンジルトシレート（特に、４－ニトロベンジルトシレート）、他の有機スルホン酸のアルキルエステル等が挙げられる。
上記光酸発生剤は、光を吸収する発色団と分解後に酸となる酸前駆体とにより構成されており、このような構造の光酸発生剤に特定波長の光を照射することで、光酸発生剤が励起し酸前駆体部分から酸が発生する。
上記光酸発生剤としては、例えば、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ＣＦ３ＳＯ３、ｐ－ＣＨ３ＰｈＳＯ３、ｐ－ＮＯ２ＰｈＳＯ３（ただし、Ｐｈはフェニル基）等の塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノン－ジアジドスルホニルクロリド、またはスルホン酸エステル等が挙げられる。その他、光酸発生剤として、２－ハロメチル－５－ビニル－１，３，４－オキサジアゾール化合物、２－トリハロメチル－５－アリール－１，３，４－オキサジアゾール化合物、２－トリハロメチル－５－ヒドロキシフェニル－１，３，４－オキサジアゾール化合物なども挙げられる。
なお、上記有機ハロゲン化合物は、ハロゲン化水素酸（例えば、塩化水素）を形成する化合物である。
上記光酸発生剤の市販品として以下のものが例示される。
和光純薬工業社製のＷＰＡＧ－１４５［ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン］、ＷＰＡＧ－１７０［ビス（ｔ－ブチルスルホニル）ジアゾメタン］、ＷＰＡＧ－１９９［ビス（ｐ－トルエンスルホニル）ジアゾメタン］、ＷＰＡＧ－２８１［トリフェニルスルホニウム　トリフルオロメタンスルホネート］、ＷＰＡＧ－３３６［ジフェニル－４－メチルフェニルスルホニウム　トリフルオロメタンスルホネート］、ＷＰＡＧ－３６７［ジフェニル－２，４，６－トリメチルフェニルスルホニウム　ｐ－トルエンスルホネート］、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＰＡＧ１０３［（５－プロピルスルホニルオキシミノ－５Ｈ－チオフェン－２－イリデン）－（２－メチルフェニル）アセトニトリル］、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＰＡＧ１０８［（５－オクチルスルホニルオキシミノ－５Ｈ－チオフェン－２－イリデン）－（２－メチルフェニル）アセトニトリル）］、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＰＡＧ１２１［（５－ｐ－トルエンスルホニルオキシミノ－５Ｈ－チオフェン－２－イリデン）－（２－メチルフェニル）アセトニトリル］、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＰＡＧ２０３、ＣＧＩ７２５、三和ケミカル社製のＴＦＥ－トリアジン［２－［２－（フラン－２－イル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン］、ＴＭＥ－トリアジン［２－［２－（５－メチルフラン－２－イル）エテニル］－４，６－ビス（トリ－クロロメチル）－ｓ－トリアジン］ＭＰ－トリアジン［２－（メトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン］、ジメトキシ［２－［２－（３，４－ジメトキシフェニル）エテニル］－４，６－ビス（トリ－クロロメチル）－ｓ－トリアジン］。
上記架橋触媒の配合量としては、上記硬化性樹脂若しくは上記硬化性モノマー１００質量部に対して、０．１～１０質量部であることが好ましい。このような範囲であると、充分な硬化体が得られる。上記架橋触媒の配合量としてより好ましくは、０．３～５質量部であり、更に好ましくは、０．５～２質量部である。
また、上記架橋触媒として上記酸発生剤を用いる場合には、必要に応じて酸捕捉剤を添加することにより、上記酸発生剤から発生する酸の拡散を制御してもよい。
上記酸捕捉剤としては、特に制限されないが、アミン（特に、有機アミン）、塩基性のアンモニウム塩、塩基性のスルホニウム塩などの塩基性化合物が好ましい。これらの酸捕捉剤の中でも、有機アミンが、画像性能が優れる点でより好ましい。
上記酸捕捉剤としては、具体的には、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］－５－ノネン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、４－ジメチルアミノピリジン、１－ナフチルアミン、ピペリジン、ヘキサメチレンテトラミン、イミダゾール類、ヒドロキシピリジン類、ピリジン類、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル、ピリジニウムｐ－トルエンスルホナート、２，４，６－トリメチルピリジニウムｐ－トルエンスルホナート、テトラメチルアンモニウムｐ－トルエンスルホナート、及びテトラブチルアンモニウムラクテート、トリエチルアミン、トリブチルアミン等が挙げられる。これらの中でも、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］－５－ノネン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、４－ジメチルアミノピリジン、１－ナフチルアミン、ピペリジン、ヘキサメチレンテトラミン、イミダゾール類、ヒドロキシピリジン類、ピリジン類、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル、トリエチルアミン、トリブチルアミン等の有機アミンが好ましい。
上記酸捕捉剤の配合量は、上記酸発生剤１００質量部に対して、２０質量部以下であることが好ましく、より好ましくは０．１～１０質量部であり、更に好ましくは０．５～５質量部である。
上記含ケイ素化合物としては、反応により、好ましくはゾル－ゲル反応により、ポリシロキサン構造を形成することができる含ケイ素化合物が好ましい。
一の態様において、上記含ケイ素化合物は、炭素とケイ素を含む有機ケイ素化合物であり得る。
上記有機ケイ素化合物としては、Ｓｉ－Ｈ結合を有するＳｉ－Ｈ化合物；アミノシラン化合物、シラザン、シリルアセトアミド、シリルイミダゾール等のＳｉ－Ｎ結合を有するＳｉ－Ｎ化合物；モノアルコキシシラン、ジアルコキシシラン、トリアルコキシシラン、テトラアルコキシシラン、シロキサン、シリルエステル、シラノール等のＳｉ－Ｏ結合を有するＳｉ－Ｏ化合物；モノクロロシラン、ジクロロシラン、トリクロロシラン、テトラクロロシラン等のＳｉ－Ｃｌ結合を有するＳｉ－Ｃｌ化合物等のハロゲノシラン、Ｓｉ－（Ｃ）４化合物、Ｓｉ－Ｓｉ結合を有するＳｉ－Ｓｉ化合物、ビニルシラン、アリルシラン、エチニルシラン等が挙げられる。すなわち、有機ケイ素化合物は、Ｓｉ－Ｈ化合物、Ｓｉ－Ｎ化合物、ハロゲノシラン、Ｓｉ－（Ｃ）４化合物、Ｓｉ－Ｓｉ化合物、ビニルシラン、アリルシラン、およびエチニルシランからなる群より選択される少なくとも１種の化合物であることが好ましい。上記有機ケイ素化合物としては、Ｓｉに、水素、酸素およびハロゲンからなる群より選択される少なくとも１種の原子が結合した化合物がより好ましい。
以下に、上記有機ケイ素化合物の具体例を示す。
〔Ｓｉ－Ｈ化合物〕
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
〔Ｓｉ－Ｎ化合物〕
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
〔Ｓｉ－Ｏ化合物〕
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
〔ハロゲノシラン〕
Ｓｉ－Ｃｌ化合物：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
Ｓｉ－Ｃｌ化合物以外のハロゲノシラン：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
〔Ｓｉ－（Ｃ）４化合物〕
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
〔Ｓｉ－Ｓｉ化合物〕
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
〔ビニルシラン、アリルシラン、およびエチニルシラン〕
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
上記有機ケイ素化合物は、下記式（２）：
｛Ｓｉ（Ｒａ１）ｓ（Ｒｂ１）ｔ（Ｒｃ１）ｕ（Ｒｄ１）ｖ（Ｒｅ１）ｗ｝ｘ　　　（２）
［式中、Ｒａ１、Ｒｂ１、Ｒｃ１およびＲｄ１は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルコキシル基、炭素数１～１０のアミノ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数６～１０のアリール基、炭素数３～１０のアリル基、または炭素数３～１０のグリシジル基である。Ｒｅ１は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－ＮＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、または、シラン結合である。ｓ、ｔ、ｕおよびｖは、それぞれ独立して、０または１であり、ｗは０～４の整数であり、ｘは１～２０である。ｘが１である場合、ｓ＋ｔ＋ｕ＋ｖは４であり、ｗは０である。ｘが２～２０である場合、ｓ＋ｔ＋ｕ＋ｖは、それぞれ独立して、０～４であり、ｗは、それぞれ独立して、０～４であり、ｗが１以上の整数である場合、少なくとも２個のＳｉはＲｅ１を介して、直鎖、梯子型、環状、または複環状に結合している。）で表される化合物であることがより好ましい。Ｒａ１、Ｒｂ１、Ｒｃ１、およびＲｄ１は、Ｓｉに結合している１価の基である。Ｒｅ１は、２個のＳｉに結合している２価の基である。
式（２）中、Ｒａ１、Ｒｂ１、Ｒｃ１およびＲｄ１は、それぞれ独立して、少なくとも１つは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルコキシ基、または炭素数１～１０のアミノ基であり、それ以外は炭素数１～１０のアルキル基、炭素数６～１０のアリール基、炭素数３～１０のアリル基、または炭素数３～１０のグリシジル基であることが好ましい。ｘが２～２０である場合、ｓ＋ｔ＋ｕ＋ｖは、それぞれ独立して、１～３であり、ｗは１～３であることが好ましい。
式（２）中、Ｒａ１、Ｒｂ１、Ｒｃ１およびＲｄ１は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキル基、炭素数６～８のアリール基、炭素数１～６のアルコキシ基、または、炭素数１～６のアミノ基であることが好ましく、さらに好ましくは、炭素数１～４のアルコキシ基である。
上記Ｒａ１、Ｒｂ１、Ｒｃ１およびＲｄ１において、アルキル基の炭素数は、１～５であることが好ましい。上記アルキル基は鎖状でも、環状でも、分岐していてもよい。また、水素原子がフッ素原子等に置換されていてもよい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基等が挙げられるが、例えば、Ｒａ１、Ｒｂ１、Ｒｃ１またはＲｄ１としては、それぞれ、メチル基、エチル基、プロピル基、またはイソプロピル基であることが好ましい。より好ましくは、メチル基、エチル基であり得る。アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、またはジメチルフェニル基であることが好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素が好ましく、特に塩素が好ましい。
上記Ｒａ１、Ｒｂ１、Ｒｃ１およびＲｄ１において、アルコキシ基の炭素数は、１～５であることが好ましい。上記アルコキシ基は鎖状でも、環状でも、分岐していてもよい。また、水素原子がフッ素原子等に置換されていてもよい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピロキシ基、またはブトキシ基が好ましく、より好ましくは、メトキシ基、またはエトキシ基である。
Ｒｅ１は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－ＮＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、または、シラン結合である。Ｒｅ１としては、－Ｏ－、－ＮＨ－、または、－Ｃ≡Ｃ－が好ましい。Ｒｅ１は、２個のＳｉに結合している２価の基であり、Ｒｅ１によって２以上のケイ素原子がＲｅ１を介して、直鎖、梯子型、環状、または複環状に結合することができる。ｘが２以上の整数である場合、ケイ素原子同士で結合していてもよい。好ましい含ケイ素化合物の具体例としては、上述したＳｉ－Ｈ化合物、Ｓｉ－Ｎ化合物、ハロゲノシラン、Ｓｉ－（Ｃ）４化合物、Ｓｉ－Ｓｉ化合物、ビニルシラン、アリルシラン、エチニルシラン等のＳｉを１個または２個以上含む化合物が挙げられる。
一の態様において、上記含ケイ素化合物は、式（３）：
ＳｉＲ５ ４　　　　（３）
または式（４）：
ＳｉｙＯｚＲ６ ４ｙ－２ｚ　　　（４）
で表される化合物である。
上記式（３）中、Ｒ５は、それぞれ独立して、ハロゲン原子または加水分解可能な基を表す。
上記式（４）中、Ｒ６は、それぞれ独立して、ハロゲン原子または加水分解可能な基を表す。ｙは２以上であり、ｚは１以上であり、４ｙ－２ｚは０より大きい。
本発明の機能性膜は、例えば、
層（Ａ）に含まれる樹脂及び溶剤を含む組成物を調製する工程（１）、
基材（Ｓ）上に、上記組成物を適用し、乾燥させることにより、基材（Ｓ）上に層（Ａ）が設けられた積層体（ａ）を得る工程（２）、
微細凹凸パターンを表面に有するモールド上に、層（Ｂ）を形成することにより、上記モールド上に層（Ｂ）が設けられた積層体（ｂ）を得る工程（３）、
積層体（ａ）の層（Ａ）面と、積層体（ｂ）の層（Ｂ）面とが接するように、積層体（ａ）及び（ｂ）を重ね合わせる工程（４）、及び、
上記モールドを層（Ｂ）から離型する工程（５）
を含む製造方法により、製造することができる。
層（Ａ）に含まれる樹脂が、硬化性樹脂を硬化させることにより得られる樹脂、硬化性モノマーを硬化させることにより得られる樹脂、又は、含ケイ素化合物を用いて形成されたポリシロキサン構造を含む樹脂である場合は、工程（１）で調製する組成物は、上述した硬化性樹脂、上述した硬化性モノマー及び含ケイ素化合物からなる群より選択される少なくとも１種を含む。
上記組成物は、溶剤を含む。上記組成物が溶剤を含むことから、工程（２）において、上記組成物の基材（Ｓ）への適用が容易である。上記溶剤としては、炭素数５～１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ－１，３－ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ３Ｆ７ＯＣＨ３）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい））、ハイドロクロロフルオロカーボン（アサヒクリンＡＫ－２２５（商品名）等）、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのセロソルブ系溶剤；ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチルなどのエステル系溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテルなどのプロピレングリコール系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２－ヘプタノンなどのケトン系溶剤；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール系溶剤；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテル、グリコール系溶剤、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤が好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）および／またはパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）、プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコールが特に好ましい。
上記組成物は、上述した架橋触媒、上述した増感剤、上述した酸補足剤等を含むこともできる。
工程（２）において、上記組成物を適用する方法としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、スリットコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、マイクログラビアコーティング、バーコーティング、ダイコーティング、スクリーン印刷および類似の方法が挙げられる。
工程（２）において、基材（Ｓ）に適用された組成物を乾燥させることが、機能性膜に機能を付与するための主材としての樹脂（層（Ａ）に含まれる樹脂）の特性を充分に発揮させ、優れた防汚性、撥水性及び撥油性を有する機能性膜を得るために、極めて重要である。上記組成物を乾燥させることにより、関係式（１）及び（２）を充足する機能性膜を製造でき、層（Ａ）と層（Ｂ）との明確な界面を形成できる。上記乾燥は、上記溶剤が５質量％以下になるまで除去できる条件で実施することが好ましく、上記溶剤を完全に除去できる条件実施することがより好ましい。上記乾燥は、例えば、２０～５０℃で、１分～１０分実施できる。乾燥時に減圧してもよい。
工程（３）では、微細凹凸パターンを表面に有するモールド上に、層（Ｂ）を形成することにより、上記モールド上に層（Ｂ）が設けられた積層体（ｂ）を得る。
上記モールドの材質としては、目的、必要に応じて適宜選択することができるが、例えば、金属、金属酸化物、石英、シリコーン等の高分子樹脂、半導体、絶縁体、又はこれらの複合体などが挙げられる。
上記モールドの形状は、特に限定されず、ロール状又は平板状であってよい。
層（Ｂ）は、化合物（Ｆ）、化合物（Ｇ）及び化合物（Ｈ）のうち、少なくとも１つの化合物並びに溶剤を含む組成物を適用することにより、形成できる。上記組成物を適用する方法としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、スリットコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、マイクログラビアコーティング、バーコーティング、ダイコーティング、スクリーン印刷および類似の方法が挙げられる。上記組成物を適用した後、乾燥させてもよい。
溶剤を含む組成物を使用することにより、非常に薄い層（Ｂ）であっても形成可能である。上記溶剤としては、工程（１）で調製する組成物のための溶剤として例示したものが挙げられる。
工程（４）では、積層体（ａ）の層（Ａ）面と、積層体（ｂ）の層（Ｂ）面とが接するように、積層体（ａ）及び（ｂ）を重ね合わせることにより、上記凹凸パンターンを転写する。
層（Ｂ）が化合物（Ｆ）を硬化させることにより得られる化合物を含み、層（Ａ）の構成材料と硬化方法が同一である場合は、工程（３）において、積層体（ａ）及び（ｂ）を重ね合わせた状態で、層（Ａ）及び層（Ｂ）を硬化させることができる。上記硬化は、重ね合わせた積層体（ａ）及び（ｂ）を加熱するか、光を照射することにより、実施できる。上記光としては、活性エネルギー線、例えば、３５０ｎｍ以下の波長領域の電磁波、つまり紫外光線、電子線、Ｘ線、γ線等が挙げられる。上記モールドを層（Ｂ）から離型する工程（５）を実施した後、層（Ａ）及び層（Ｂ）を硬化させてもよい。
工程（５）では、上記モールドを層（Ｂ）から離型して、微細凹凸パターンを有する機能性膜を得る、上記機能性膜は、上記モールドが有する微細凹凸パターンが反転した転写パターンを有する。層（Ｂ）がパーフルオロポリエーテル基を有する化合物を含むことから、層（Ｂ）からの上記モールドの離型は極めて容易である。
上記機能性膜の用途としては、電子、光学、医療、化学分析、建材、自動車内外装などの幅広い用途が挙げられる。例えば、電子デバイスとしては、ＳＯＣ、ＣＭＯＳ、ＣＣＤ、ＮＡＮＤ型フラッシュメモリ、ＤＲＡＭ、発光ダイオード（ＬＥＤ）、レーザー、太陽電池、燃料電池、リチウムイオンバッテリーなどの集積回路や発畜電システムに利用できる。また、太陽光集光フィルム、液晶偏光板、ワイヤーグリッド偏光板など規則的な凹凸構造を持ったフィルムが製造できる。これらのデバイスから太陽光パネル、スマートフォン、フレキシブルディスプレイ、無線タグ、ウエアラブルなコンピュータ、赤外線センサー、自動運転アシストシステム、カーナビゲーションシステムなどが製造される。
また、光学デバイスとしては、液晶ディスプレイのカラーフィルタや有機ＥＬなどのディスプレイ用画素、光メモリ、光変調素子、光シャッター、第二次高調波（ＳＨＧ）素子、偏光素子、フォトニッククリスタル、レンズアレイ、エレクトロウエッティングなどに、磁気デバイスとしては次世代ハードディスクドライブ（ディスクリートトラック）、次次世代ハードディスクドライブ（パターンドメディア）、医療デバイスとしては、殺菌フィルム、ＤＮＡアレイ、タンパク質アレイなどのバイオチップなどに利用できる。化学分析デバイスとしては、微小化学プラント、微小化学分析システムなどのマイクロ化学チップに利用できる。建材としては遮光窓、セルフクリーニングフィルム、防曇フィルム、防霜フィルム、自動車内外装としてはインストールパネル、コンソールパネル、防曇ガラス、セルフクリーニングガラス、超撥水コーティングなどに利用できる。
つぎに本発明を試験例をあげて説明するが、本発明はかかる試験例のみに限定されるものではない。
試験例の各数値は以下の方法により測定した。
（膜厚の決定）
分光エリプソメーター（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製のＶＡＳＥ　ｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｅｒ）を用いて、反射スペクトルデータを得ることにより、膜厚を求めた。
（Ｄ１及びＤ２の測定）
Ｘ線光電子分光法（アルバック・ファイ社製ＶｅｒｓａＰｒｏｂｅＩＩ）を用いて、Ｘ線ビーム径１００μｍ、測定範囲１０００μｍ×３００μｍ、光電子の取り出し角度４５度の条件で測定した。
アルゴンガスクラスターイオンビーム（Ａｒ－ＧＣＩＢ）によりスパッタリングし上記Ｘ線光電子分光法により元素分析を行った。また、炭素の１ｓスペクトルを測定した。スパッタ条件はアルバック・ファイ社製ＶｅｒｓａＰｒｏｂｅＩＩを用い、イオン源としてアルゴンガスクラスターイオンビーム、スパッタリング条件は加速電圧５ｋＶ、試料電流２０ｎＡ、ラスター領域２ｍｍ×２ｍｍ、スパッタリング時間８分で行った。
試験例１
シリコン基板上にキャスト成形したポリスチレン膜の膜厚をＡＦＭにより測定したところ８１ｎｍであった。本ポリスチレン膜を上記スパッタ条件によりスパッタリングしたところ、炭素１ｓスペクトルの減少が観測された。スパッタリング時間７分で基材のシリコン基板に到達し最表面のＳｉＯ２層を検出した。ポリスチレン膜の膜厚とスパッタリング時間から求めたスパッタリング速度は１１．６ｎｍ／分であった。
試験例２
オプツールＤＡＣ－ＨＰ（ダイキン工業社製）を固形分濃度０．０２５質量％となるように溶剤で希釈し試料液Ａとする。試料液Ａに固形分に対して２．０質量％の光重合開始剤を加えて、予め離型処理したガラス板上に、固形分が２５ｎｍの膜厚となる量をスピンコートにより塗布した。室温で１０分乾燥した後、３６５ｎｍの紫外光を照射して硬化膜Ａを得た。硬化膜Ａの５枚をエリプソメーターにより膜厚を測定した結果を表１に示す。
試験例３
上記のオプツールＤＡＣ－ＨＰ（ダイキン工業社製）の固形分濃度を０．０５質量％とした以外は同様に調製したものを試料液Ｂとする。固形分の膜厚が５０ｎｍの膜厚とした以外は試験例２と同様の操作を行い、硬化膜Ｂを得た。硬化膜Ｂの５枚をエリプソメーターにより膜厚を測定した結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000068
試験例４
図３に示す積層体３０を作製した。まず、試料液Ａを、予め離型処理したガラス板３１上に、固形分が２５ｎｍの膜厚となる量をスピンコートにより塗布した。室温で１０分乾燥し、塗布膜３２を形成した。ＰＡＫ－０２（東洋合成化学社製）にＰＡＫ－０２に対して２．０質量％の光重合開始剤を加え遮光下回転ミキサーにて攪拌した。これを厚さ２ｍｍの石英基板３４にバーコートにて膜厚が１０μｍとなるよう塗布し、塗布膜３３を形成した。塗布膜３２と塗布膜３３とを重ね、窒素雰囲気下３６５ｎｍのＵＶ光を含む光線を６００ｍＪ／ｃｍ2の強度で石英基板３４を上面として照射し、塗布膜３２及び塗布膜３３を硬化させた。ガラス板３１を剥がすことにより、硬化膜３２、硬化膜３３及び石英基板３４を有する機能性膜Ａを作製した。Ｘ線光電子分光法による機能性膜Ａのスペクトルを図４に示す。Ｄ１はポリスチレン換算で２３．２ｎｍであり、Ｄ２はポリスチレン換算で３４．８ｎｍであった。
試験例５
試料液Ｂを固形分が５０ｎｍの膜厚となる量を塗布した以外は試験例４と同様の操作を行い、機能性膜Ｂを得た。Ｘ線光電子分光法による機能性膜Ｂのスペクトルを図５に示す。Ｄ１はポリスチレン換算で４６．４ｎｍであり、Ｄ２はポリスチレン換算で５８．０ｎｍであった。
１０　機能性膜
１１　基材
１２　樹脂を含む層
１３　パーフルオロポリエーテル基を有する化合物を含む層
２０　機能性膜（比較）
２１　基材
２２　樹脂を含む層
２３　パーフルオロポリエーテル基を有する化合物を含む層
３０　積層体
３１　ガラス板
３２　塗布膜、硬化膜
３３　塗布膜、硬化膜
３４　石英基板

Claims (8)

  1. 樹脂を含む層（Ａ）、及び、パーフルオロポリエーテル基を有する化合物を含む層（Ｂ）を含む機能性膜であって、
    層（Ｂ）の層（Ａ）とは反対側の面に微細凹凸パターン構造を有しており、
    アルゴンガスクラスターイオンビームにより層（Ｂ）側からエッチングしながら、Ｘ線光電子分光法により元素分析した場合に、関係式（１）を充足し、かつ、
    アルゴンガスクラスターイオンビームにより層（Ｂ）側からエッチングしながら、Ｘ線光電子分光法により炭素の１ｓスペクトルを測定した場合に、関係式（２）を充足する
    ことを特徴とする機能性膜。
    関係式（１）：Ｄ１＜２×Ｘ１
    （式中、Ｘ１は層（Ｂ）の膜厚（ｎｍ）を表し、Ｄ１はフッ素原子濃度が１ａｔｏｍ％以下になる深さ（ｎｍ）を表す。）
    関係式（２）：Ｄ２＜２×Ｘ１
    （式中、Ｘ１は層（Ｂ）の膜厚（ｎｍ）を表し、Ｄ２は結合エネルギー２９０～３００ｅＶの範囲内にピークが検出されなくなる深さ（ｎｍ）を表す。）
  2. 関係式（１）において、更に、０．８×Ｘ１＜Ｄ１を充足する請求項１記載の機能性膜。
  3. 関係式（２）において、更に、０．８×Ｘ１＜Ｄ２を充足する請求項１又は２記載の機能性膜。
  4. 層（Ａ）上に、層（Ｂ）が設けられている
    請求項１、２又は３記載の機能性膜。
  5. 更に、基材（Ｓ）を含み、
    基材（Ｓ）上に、層（Ａ）が設けられており、
    層（Ａ）上に、層（Ｂ）が設けられている
    請求項１、２、３又は４記載の機能性膜。
  6. 前記パーフルオロポリエーテル基は、
    式：－（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２－（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３－（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｍ１４－（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５－（ＯＣＦ２）ｍ１６－
    （式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５およびｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）
    で表されるポリエーテル鎖である請求項１、２、３、４又は５記載の機能性膜。
  7. 層（Ｂ）に含まれる前記化合物が、
    パーフルオロポリエーテル基及び硬化性部位を有する化合物（Ｆ）を硬化させることにより得られる化合物、
    パーフルオロポリエーテル基及び加水分解可能な基を有する化合物（Ｇ）、及び、
    式：Ｒ１１１－ＰＦＰＥ－Ｒ１１３
    （式中、ＰＦＰＥはパーフルオロポリエーテル基、Ｒ１１１及びＲ１１３は、独立に、Ｆ、炭素数１～１６のアルキル基、炭素数１～１６のアルコキシ基、炭素数１～１６のフッ素化アルキル基、炭素数１～１６のフッ素化アルコキシ基、－Ｒ１１４－Ｘ１１１（Ｒ１１４は単結合又は二価の有機基、Ｘ１１１は－ＮＨ２、－ＯＨ、－ＣＯＯＨ、－ＣＨ＝ＣＨ２、－ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、ハロゲン、リン酸、リン酸エステル、カルボン酸エステル、チオール、チオエーテル、アルキルエーテル（フッ素で置換されていてもよい）、アリール、アリールエーテル又はアミド））で表される化合物（Ｈ）
    からなる群より選択される少なくとも１種である請求項１、２、３、４、５又は６記載の機能性膜。
  8. 層（Ａ）に含まれる前記樹脂が、硬化性樹脂を硬化させることにより得られる樹脂、硬化性モノマーを硬化させることにより得られる樹脂、及び、含ケイ素化合物を用いて形成されたポリシロキサン構造を含む樹脂からなる群より選択される少なくとも１種である請求項１、２、３、４、５、６又は７記載の機能性膜。
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