WO2018079202A1 - 反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、及び反射防止物品 - Google Patents

反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、及び反射防止物品 Download PDF

Info

Publication number
WO2018079202A1
WO2018079202A1 PCT/JP2017/035834 JP2017035834W WO2018079202A1 WO 2018079202 A1 WO2018079202 A1 WO 2018079202A1 JP 2017035834 W JP2017035834 W JP 2017035834W WO 2018079202 A1 WO2018079202 A1 WO 2018079202A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
antireflection film
refractive index
inorganic particles
index layer
low refractive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2017/035834
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
高康 山崎
伊吹　俊太郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to CN201780066161.2A priority Critical patent/CN109891271B/zh
Priority to JP2018547507A priority patent/JP6745348B2/ja
Priority to KR1020197011663A priority patent/KR102194501B1/ko
Publication of WO2018079202A1 publication Critical patent/WO2018079202A1/ja
Priority to US16/386,711 priority patent/US20190243030A1/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/18—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
    • B32B27/20—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives using fillers, pigments, thixotroping agents
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133502—Antiglare, refractive index matching layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528—Polarisers

Definitions

  • the present invention relates to an antireflection film, a polarizing plate, an image display device, and an antireflection article.
  • an antireflection film may be provided.
  • an antireflection function may be provided by an antireflection film.
  • Patent Documents 1 and 2 disclose hollow particles such as hollow silica. And an antireflective film in which a low refractive index layer containing a binder resin is laminated on a substrate.
  • An object of the present invention is to provide an antireflection film that is excellent in antireflection properties and resistance to repeated bending and has little decrease in antireflection properties after repeated bending, a polarizing plate having the antireflection film, an image display device, and an antireflection article. Is to provide.
  • An antireflection film having a base material and a low refractive index layer,
  • the low refractive index layer contains inorganic particles and a binder resin,
  • the average primary particle diameter of the inorganic particles is R and the particle interval is K
  • the average particle interval Ka satisfies the following equation (1)
  • the full width at half maximum Kh in the distribution curve of the particle interval K is the following equation (2).
  • the antireflective film whose surface roughness of the surface on the opposite side to the said base material of the said low-refractive-index layer is 20 nm or less.
  • Ka ⁇ 1.1R (1) Kh ⁇ 0.25R (2) ⁇ 2> The antireflection film as described in ⁇ 1>, wherein the number of breaks and folds measured with an MIT tester in accordance with JIS P 8115: 2001 is 10,000 or more.
  • ⁇ 3> The antireflective film as described in ⁇ 1> or ⁇ 2> whose average primary particle diameter R of the said inorganic particle is 200 nm or less.
  • ⁇ 4> The antireflection film according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>, wherein the inorganic particles are inorganic particles having a hollow structure.
  • ⁇ 5> The antireflection film according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein a hard coat layer is provided between the substrate and the low refractive index layer.
  • ⁇ 6> The antireflection film according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, wherein the pencil hardness under a load of 500 g measured according to JIS K 5600-5-4: 1999 is 2H or more.
  • ⁇ 7> The antireflection film according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, wherein an average reflectance in a wavelength region of 450 to 650 nm is 2% or less.
  • ⁇ 8> The antireflection film according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>, wherein the base material contains an aromatic polyamide.
  • ⁇ 9> The antireflection film according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 8>, wherein the Kh is 0.20R or less.
  • a polarizing plate comprising the antireflection film according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 9>.
  • ⁇ 11> ⁇ 1>- ⁇ 9> The image display apparatus which has an antireflection film as described in any one of ⁇ 1>, or the polarizing plate as described in ⁇ 10>.
  • ⁇ 12> An antireflective article comprising the antireflective film according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 9>.
  • an antireflection film excellent in antireflection properties and resistance to repeated bending and having little decrease in antireflection properties after repeated bending a polarizing plate having the antireflection film, an image display device, and an antireflection article are provided. Can be provided.
  • the antireflection film of the present invention is An antireflection film having a base material and a low refractive index layer,
  • the low refractive index layer contains inorganic particles and a binder resin,
  • the average primary particle diameter of the inorganic particles is R and the particle interval is K
  • the average particle interval Ka satisfies the following equation (1)
  • the full width at half maximum Kh in the distribution curve of the particle interval K is the following equation (2).
  • Meet It is an antireflection film whose surface roughness of the surface on the opposite side to the substrate of the low refractive index layer is 20 nm or less.
  • the antireflection film of the present invention has a low refractive index layer directly on the substrate or via another layer.
  • the average primary particle diameter of the inorganic particles contained in the low refractive index layer of the antireflection film of the present invention is R and the particle interval is K
  • the full width at half maximum Kh in the distribution curve of the average particle interval Ka and the particle interval K is:
  • the particle interval K represents the distance between the centers of two particles present at the closest positions.
  • the above K, Ka, and Kh were calculated as follows.
  • the antireflection film was cut in the thickness direction (perpendicular to the film surface) to obtain a cross section, and the cross section was observed with a transmission electron microscope (JEM-1200EX II, manufactured by JEOL Ltd.).
  • the particle interval K was obtained for each particle, and the number average value of the obtained K was calculated as Ka.
  • a frequency distribution curve of the obtained particle interval K is drawn, and a particle interval (K 1 and K 2 , where K 2 > K 1) that is 1/2 the particle interval indicating the maximum frequency from the obtained distribution curve. )
  • Kh was calculated from the following formula (3).
  • Kh (K 2 ⁇ K 1 ) / R (3)
  • R is the particle size obtained as an equivalent circle diameter for 500 inorganic particles by cutting the antireflection film in the thickness direction and observing the cross section with a transmission electron microscope in the same manner as the method for obtaining the particle spacing K.
  • the inorganic particles in the low refractive index layer of the antireflection film of the present invention have an average particle spacing of a certain ratio or more with respect to the average primary particle diameter (R). (Ka) and the distribution of the particle spacing is also controlled. Thereby, the elasticity of the whole low refractive index layer becomes high, and the micro crack of the film by repeated bending is suppressed. Therefore, the present inventors presume that a decrease in antireflection properties after repeated bending (hereinafter also referred to as “repetitive folding antireflection durability”) is suppressed.
  • Ka is 1.1 times or more of R, preferably 1.15 times or more, and more preferably 1.20 times or more from the viewpoint of durability against repeated bending antireflection. Further, from the viewpoint of antireflection properties, it is preferably 1.50 times or less of R, and more preferably 1.40 times or less.
  • Kh is 0.25 times or less of R, and preferably 0.20 times or less.
  • the low refractive index layer preferably has a refractive index at a wavelength of 550 nm of 1.30 to 1.51, more preferably 1.30 to 1.46, and preferably 1.32 to 1.38. Further preferred. By making the refractive index within the above range, the reflectance can be suppressed and the film strength can be maintained, which is preferable.
  • the surface roughness (Ra) of the surface of the low refractive index layer opposite to the substrate is 20 nm or less.
  • Ra can be measured by a general surface roughness meter in accordance with Japanese Industrial Standard (JIS) B 0601: 1994.
  • JIS Japanese Industrial Standard
  • a stylus type surface roughness meter “Surfcoder SE3500” ⁇ manufactured by Kosaka Laboratory Ltd. ⁇ It is also suitable to use.
  • Ra is more preferably 10 nm or less, still more preferably 7 nm or less, and particularly preferably 5 nm or less.
  • the inorganic particles contained in the low-refractive index layer of the present invention are not particularly limited as long as the refractive index of the low-refractive index layer is within the above-mentioned preferable range, and include inorganic particles such as magnesium fluoride or silica.
  • the inorganic particles may be crystalline or amorphous.
  • the inorganic particles are preferably monodisperse particles.
  • the shape of the inorganic particles is most preferably a spherical diameter, but may be indefinite.
  • inorganic particles having a porous or hollow structure are silica having a hollow structure (silicon oxide). Particles.
  • the surface of the inorganic particles may be treated with at least one of hydrolyzate of organosilane and partial condensate thereof.
  • hydrolyzate of organosilane and partial condensate thereof examples include those described in JP-A 2007-298974, paragraphs [0136] to [0145].
  • the inorganic particles include inorganic fine particles described in JP-A-2007-298974, hollow particles described in JP-A-2002-317152, JP-A-2003-202406, and JP-A-2003-292831. Silica fine particles can be suitably used.
  • the average primary particle diameter of the inorganic particles is preferably 200 nm or less, more preferably 10 nm to 200 nm, and still more preferably 50 to 120 nm. It is preferable that the average primary particle diameter of the inorganic particles be 200 nm or less because both the antireflection effect and the blackened appearance can be achieved. In particular, when the average primary particle diameter of the inorganic particles is 50 nm or more, the scratch resistance when used as the uppermost layer is improved, which is preferable.
  • the refractive index of the inorganic particles is preferably 1.46 or less, more preferably 1.15 to 1.46, still more preferably 1.17 to 1.35, and particularly preferably 1.17 to 1. 30.
  • the content of the inorganic particles in the low refractive index layer is preferably adjusted so that the average particle spacing Ka of the inorganic particles satisfies the above formula (1).
  • the filling rate of the inorganic particles in the low refractive index layer is preferably 39% by volume or less, more preferably 19 to 39% by volume, and even more preferably 25 to 35% by volume. .
  • Binder resin The binder resin contained in the low refractive index layer is not particularly limited as long as the refractive index of the low refractive index layer is within the above-mentioned preferable range.
  • JP 2007-298974 A, JP 2002-317152 A Known binder resins described in JP-A Nos. 2003-202406 and 2003-292831 can be used.
  • Binder resin may use only 1 type or may use 2 or more types together.
  • the binder resin is preferably a monomer or oligomer (polymerizable compound) polymer.
  • the monomer (a) used for formation of the hard-coat layer mentioned later is mentioned, for example.
  • Monomers may be used alone or in combination of two or more.
  • the binder resin a monomer having a high elongation rate, in particular, a binder resin having an elongation rate of 200% or more can be used in combination.
  • the elongation rate is obtained by dividing the amount of elongation until the material in the form of a film breaks from the initial stage (distance obtained by subtracting the original distance between the marked lines from the distance between the broken marked lines) by the original distance between the marked lines.
  • the ratio is indicated by the following formula (4).
  • E is the elongation percentage
  • E 2 is the distance between the broken marked lines
  • E 1 the original distance between the marked lines.
  • E (%) 100 ⁇ (E 2 ⁇ E 1 ) / E 1 (4)
  • the elongation percentage was calculated using the distance between fractured marked lines measured according to JIS K 6251: 1993.
  • binder resins with an elongation of 200% or more examples include: Byron series (trade name): manufactured by Toyobo Co., Ltd., Samprene series and Sunletan series (both trade names): manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd. Specific examples include Byron UR-1510, Byron UR-2300, Byron UR-3200, Byron UR-3260, Byron UR-8300, Samprene LQ-3300, Samprene LQ-3358, Sunletan TIM-2011A, etc. Can be preferably used. Moreover, the compound which introduce
  • the low refractive index layer is preferably formed by coating using a coating composition for forming a low refractive index layer.
  • the coating composition for forming a low refractive index layer preferably contains the inorganic particles, a polymerizable compound that forms the binder resin, and a solvent.
  • the solid content concentration of the coating composition for forming a low refractive index layer is appropriately selected depending on the application, but is generally about 0.01 to 60% by mass, preferably 0.5 to 50%.
  • the mass is preferably about 1% by mass, particularly preferably about 1 to 20% by mass.
  • -Polymerization initiator- It does not specifically limit as a polymerization initiator, A well-known polymerization initiator can be used. As a polymerization initiator, the polymerization initiator which can be used in formation of the hard-coat layer mentioned later is mentioned, for example.
  • the addition amount of the polymerization initiator is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 15% by mass, and preferably 0.5 to 10% by mass with respect to the total solid content in the low refractive index layer forming composition. Is more preferably 1 to 5% by mass.
  • the solvent contained in the coating solution composition for the low refractive index layer is not particularly limited as long as the polymerizable compound forming the binder resin is uniformly dissolved or dispersed without causing precipitation. Two or more kinds of solvents can be used in combination.
  • ketones acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, etc.
  • esters ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, etc.
  • ethers tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, etc.
  • alcohols Methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, ethylene glycol, etc.
  • aromatic hydrocarbons toluene, xylene, etc.
  • silicone-based or fluorine-based antifouling agents for the purpose of imparting properties such as antifouling properties, water resistance, chemical resistance, and slipping properties
  • known silicone-based or fluorine-based antifouling agents, slipping agents, and the like can be appropriately added.
  • these additives it is preferably added in the range of 0 to 20% by mass of the total solid content of the low refractive index layer, more preferably in the range of 0 to 10% by mass. Particularly preferred is 0 to 5% by mass.
  • the low refractive index layer is irradiated with ionizing radiation at the same time as coating, or after coating and drying a coating composition in which inorganic particles, a polymerizable compound that forms a binder resin, and other optional components are dissolved or dispersed. And light irradiation, electron beam irradiation, etc.), or it is preferably formed by being cured by a crosslinking reaction or a polymerization reaction by heating.
  • the coating method of the coating composition for forming a low refractive index layer is not particularly limited, and a known method can be used. Examples include dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, die coating, wire bar coating, and gravure coating.
  • the coating composition for forming a low refractive index layer on the base material or a layer (for example, a hard coat layer) that may be provided between the base material and the low refractive index layer as described above heat and light are applied. It is preferable to perform a curing treatment by at least one means of irradiation.
  • the film thickness of the low refractive index layer is preferably 200 nm or less, more preferably 50 nm to 120 nm, and still more preferably 80 to 120 nm.
  • the substrate of the antireflection film of the present invention preferably has a visible light region transmittance of 70% or more, more preferably 80% or more.
  • the substrate preferably contains a polymer resin.
  • Polymer resin As the polymer resin, a polymer excellent in optical transparency, mechanical strength, thermal stability, and the like is preferable.
  • polycarbonate polymers such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), acrylic polymers such as polymethyl methacrylate (PMMA), polystyrene, acrylonitrile / styrene copolymer (AS resin), etc.
  • PET polyethylene terephthalate
  • PEN polyethylene naphthalate
  • acrylic polymers such as polymethyl methacrylate (PMMA)
  • PMMA polymethyl methacrylate
  • polystyrene polystyrene
  • AS resin acrylonitrile / styrene copolymer
  • Polyolefins such as polyethylene and polypropylene, norbornene resins, polyolefin polymers such as ethylene / propylene copolymers, amide polymers such as vinyl chloride polymers, nylon and aromatic polyamides, imide polymers, sulfone polymers, poly Ether sulfone polymer, polyether ether ketone polymer, polyphenylene sulfide polymer, vinylidene chloride polymer, vinyl alcohol polymer, vinyl butyral polymer, arylate polymer, polyoxymethylene polymer, epoxy polymer, triacetyl cellulose Examples include a cellulose-based polymer, a copolymer of the above polymers, and a polymer obtained by mixing the above polymers.
  • an amide polymer such as aromatic polyamide can be preferably used as a base material because it has a large number of breaks and times measured by an MIT tester according to JIS P 8115: 2001 and has a relatively high hardness.
  • an aromatic polyamide as in Example 1 of Japanese Patent No. 5699454 can be preferably used as the base material.
  • the base material can also be formed as a cured layer of an ultraviolet-curable or thermosetting resin such as acrylic, urethane, acrylic urethane, epoxy, or silicone.
  • an ultraviolet-curable or thermosetting resin such as acrylic, urethane, acrylic urethane, epoxy, or silicone.
  • the base material may contain a material that further softens the polymer resin.
  • the softening material refers to a compound that improves the number of breaks and folds.
  • a rubber elastic body, a brittleness improving agent, a plasticizer, a slide ring polymer, or the like can be used.
  • the softening material the softening materials described in paragraph numbers [0051] to [0114] in JP-A No. 2016-170443 can be suitably used.
  • the softening material may be mixed with the polymer resin alone, or a plurality of softening materials may be used in combination as appropriate, or only the softening material may be used alone or in combination without mixing with the resin. It may be used as a base material.
  • the amount of the softening material to be mixed can be, for example, 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer resin, but is not particularly limited. That is, the base material only needs to have a sufficient number of breaks and folds, and may be composed of a polymer resin alone, may be mixed with a softening material, or all of the softening material (100%) It is also good.
  • additives for example, an ultraviolet absorber, a matting agent, an antioxidant, a peeling accelerator, a retardation (optical anisotropy) adjusting agent, etc.
  • additives for example, an ultraviolet absorber, a matting agent, an antioxidant, a peeling accelerator, a retardation (optical anisotropy) adjusting agent, etc.
  • They may be solid or oily. That is, the melting point or boiling point is not particularly limited.
  • the timing of adding the additive may be added at any time in the step of producing the base material, or may be performed by adding the step of adding the additive to the material preparation step.
  • the amount of each material added is not particularly limited as long as the function is manifested.
  • the additives described in paragraph numbers [0117] to [0122] in JP-A No. 2016-167043 can be suitably used.
  • the above additives may be used alone or in combination of two or more.
  • the base material preferably has a small difference in refractive index between the flexible resin and various additives used for the base material and the polymer resin from the viewpoint of transparency.
  • the base material may be formed by thermally melting a thermoplastic polymer resin, or may be formed by solution film formation (solvent casting method) from a solution in which the polymer is uniformly dissolved.
  • solvent casting method solution film formation
  • the above-mentioned softening material and various additives can be added at the time of hot melting.
  • the substrate is produced by a solution casting method
  • the above-described softening material and various additives can be added to the polymer solution (hereinafter also referred to as a dope) in each preparation step. Further, the addition may be performed at any time in the dope preparation process, but may be performed by adding an additive to the final preparation process of the dope preparation process.
  • the thickness of the substrate is more preferably 100 ⁇ m or less, further preferably 60 ⁇ m or less, and most preferably 50 ⁇ m or less. If the thickness of the base material is reduced, the difference in curvature between the front surface and the back surface at the time of bending is reduced, and cracks and the like are less likely to occur. On the other hand, from the viewpoint of easy handling of the substrate, the thickness of the substrate is preferably 10 ⁇ m or more, and more preferably 15 ⁇ m or more. From the viewpoint of reducing the thickness of the image display device in which the antireflection film is incorporated, the total thickness of the antireflection film is preferably 70 ⁇ m or less, and more preferably 50 ⁇ m or less.
  • the antireflection film of the present invention may have other layers between the substrate and the low refractive index layer.
  • the other layer preferably has a hard coat layer, and the base material and the hard coat layer may be in contact with each other, or another layer may be provided between the base material and the hard coat layer.
  • the antireflection film of the present invention can be provided with a hard coat layer in order to impart the physical strength of the film.
  • a hard coat layer Preferably, it is preferable to provide a low refractive index layer on the hard coat layer because the scratch resistance surface such as a pencil scratch test becomes strong.
  • the hard coat layer may be composed of two or more layers.
  • the refractive index of the hard coat layer at a wavelength of 550 nm is preferably 1.56 or more, preferably 1.68 or more and 1.84 or less, and more preferably 1.71 or more and 1.81 or less.
  • the hard coat layer preferably contains a resin, and the resin is preferably a polymer of a monomer (polymerizable compound). Monomers may be used alone or in combination of two or more.
  • the monomer preferably has an unsaturated polymerizable functional group such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, or an allyl group, and particularly preferably has a (meth) acryloyl group.
  • Monomer (a) It is also preferable to use a monomer (also referred to as “monomer (a)”) as a monomer for forming the resin of the hard coat layer.
  • monomers include (meth) acrylic acid diesters of alkylene glycols such as neopentyl glycol acrylate, 1,6-hexanediol (meth) acrylate, and propylene glycol di (meth) acrylate; (Meth) acrylic acid diesters of polyoxyalkylene glycols such as triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate; (Meth) acrylic acid diesters of polyhydric alcohols such as pentaerythritol di (meth) acrylate; (Meth) acrylic acid diesters of ethylene oxide or propylene oxide adducts such as 2,
  • epoxy (meth) acrylates urethane (meth) acrylates, and polyester (meth) acrylates can also be used.
  • esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid are preferable. More preferably, a polyfunctional monomer having 3 or more (meth) acryloyl groups in one molecule is preferable. That is, the hard coat layer preferably contains a cured product of a polyfunctional monomer having three or more (meth) acryloyl groups in one molecule.
  • pentaerythritol tetra (meth) acrylate pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide (EO) modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propylene oxide (PO) modified trimethylol Propane tri (meth) acrylate, EO-modified phosphate tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) ) Acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-chlorohexa Tetrame
  • Monomer (b) As monomers, fluorene skeleton, dinaphthothiophene skeleton, naphthalene skeleton, anthracene skeleton, benzotriazole skeleton, triazine skeleton, benzophenone skeleton, merocyanine skeleton, benzoxazole skeleton, benzothiol skeleton, triphenylene skeleton, cinnamoyl skeleton, bisphenol S skeleton, and tolan It is also preferable to include a compound having at least one skeleton selected from skeletons (also referred to as “monomer (b)”).
  • the refractive index of the hard coat layer can be adjusted high.
  • Specific examples of the monomer (b) include compounds represented by general formulas (I) to (VI) described in paragraphs 0029 to 0046 of JP-A-2007-91876, and paragraph 0113 of JP-A-2014-34596.
  • a compound having at least one skeleton selected from a fluorene skeleton, a dinaphthothiophene skeleton, a naphthalene skeleton, and an anthracene skeleton is particularly preferable, and a compound having a fluorene skeleton is most preferable.
  • the hard coat layer may contain inorganic particles.
  • the inorganic particles are preferably metal oxide particles (for example, Ti, Zr, In, Zn, Sn, Sb, and Al).
  • metal oxide particles for example, Ti, Zr, In, Zn, Sn, Sb, and Al.
  • zirconium oxide particles or titanium oxide particles are preferable. More preferably, zirconium oxide particles (zirconia particles) are most preferable from the viewpoint that when the titanium oxide particles have an average primary particle diameter of less than 10 nm, the photoactivity increases and the surrounding organic substances can be easily decomposed.
  • the refractive index can be adjusted by changing the content of the inorganic particles in the hard coat layer.
  • the content of the inorganic particles in the hard coat layer is preferably 5 to 80% by volume, more preferably 10 to 60% by volume, and 20 to 50% by volume with respect to the entire hard coat layer. More preferably. If the content of inorganic particles is 5% by volume or more, the refractive index of the hard coat layer can be increased, and if it is 80% by volume or less, a film is easily formed.
  • the preferred content of the inorganic particles in the hard coat layer when converted to mass% varies depending on the specific gravity of the inorganic particles. For example, the content when using zirconium oxide particles as the inorganic particles is based on the entire hard coat layer.
  • the content is preferably 21 to 95% by mass, more preferably 36 to 88% by mass, and still more preferably 56 to 83% by mass.
  • the average primary particle diameter of the inorganic particles is preferably 1 to 80 nm, more preferably 1 to 40 nm, and even more preferably 2 to 20 nm.
  • the inorganic particles are preferably contained in the hard coat layer as a binder component, which will be described later, and modified with a compound having a polymerizable group in order to improve adhesion with the binder component in the hard coat layer. Thus, it is preferable to impart a polymerizable group to the surface of the inorganic particles.
  • the film thickness of the hard coat layer is not particularly limited, but is preferably 1 to 10 ⁇ m, more preferably 1.5 to 8 ⁇ m, and still more preferably 2 to 5 ⁇ m.
  • the hard coat layer is preferably produced by a production method including a step of applying a composition for forming a hard coat layer on a substrate and a step of polymerizing a monomer.
  • the composition for forming a hard coat layer preferably contains an organic solvent in addition to the aforementioned monomer or inorganic particles.
  • the solvent whose boiling point in a normal pressure is 200 degrees C or less
  • the solvent whose boiling point in a normal pressure is 200 degrees C or less
  • alcohols, ketones, ethers, esters, hydrocarbons, and amides are used, and these can be used alone or in combination of two or more.
  • alcohols, ketones, ethers and esters are preferred.
  • examples of alcohols include methanol, ethanol, isopropyl alcohol, isobutanol, n-butanol, tert-butanol, ethoxyethanol, butoxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, benzyl alcohol, phenethyl alcohol, and the like. .
  • ketones include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone.
  • ethers include dibutyl ether and propylene glycol monoethyl ether acetate.
  • esters include ethyl acetate, butyl acetate, and ethyl lactate.
  • hydrocarbons include toluene and xylene.
  • amides include formamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like.
  • isopropyl alcohol, ethoxyethanol, butoxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, propylene glycol monoethyl ether acetate, butyl acetate, and ethyl lactate are preferable.
  • the composition for forming a hard coat layer may contain a polymerization initiator.
  • a photopolymerization initiator As photopolymerization initiators, acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds, Examples include fluoroamine compounds, aromatic sulfoniums, lophine dimers, onium salts, borate salts, active esters, active halogens, inorganic complexes, and coumarins.
  • the content of the polymerization initiator in the hard coat layer forming composition is preferably 0.5 to 8% by mass, more preferably 1 to 5% by mass, based on the total solid content in the hard coat layer forming composition. preferable.
  • composition for forming a hard coat layer may contain components other than those described above, and examples thereof include a leveling agent or a dispersing agent.
  • the method for applying the composition for forming a hard coat layer is not particularly limited, and a known method can be used. Examples include dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, and die coating.
  • a step of heating after applying the composition for forming a hard coat layer on a substrate may be provided.
  • a solvent that swells the base material is used, a part of the monomer can effectively penetrate into the base material by heating.
  • the temperature in heating is preferably lower than the glass transition temperature of the substrate, specifically, preferably 60 to 180 ° C, more preferably 80 to 130 ° C.
  • the polymerization of the monomer can be performed by irradiating with ionizing radiation.
  • ionizing radiation There is no restriction
  • the irradiation amount is not particularly limited, but is preferably 10 mJ / cm 2 to 1000 mJ / cm 2 .
  • the above-mentioned energy may be applied at once, or irradiation may be performed in divided portions.
  • the ultraviolet lamp type a metal halide lamp, a high-pressure mercury lamp, or the like is preferably used.
  • the number of breaks and folds measured by an MIT tester according to JIS P 8115: 2001 is preferably 10,000 or more.
  • the number of breaks and folds was measured by bending so that the base material of the antireflection film was inside.
  • the average reflectance in the wavelength region of 450 to 650 nm is preferably 2% or less, and more preferably 1.5% or less.
  • the antireflection film of the present invention preferably has a pencil hardness of 500 g load measured according to JIS K 5600-5-4: 1999, 2H or more, more preferably 3H or more.
  • the antireflection film of the present invention can be suitably used as a polarizing plate protective film.
  • a polarizing plate protective film using the antireflection film of the present invention can be bonded to a polarizer to form a polarizing plate, and can be suitably used for a liquid crystal display device or the like.
  • the polarizing plate is a polarizing plate having a polarizer and at least one protective film for protecting the polarizer, and at least one of the protective films is preferably the antireflection film of the present invention.
  • Polarizers include iodine-based polarizing films, dye-based polarizing films using dichroic dyes, and polyene-based polarizing films.
  • the iodine-based polarizing film and the dye-based polarizing film can be generally produced using a polyvinyl alcohol film.
  • the antireflection film or polarizing plate of the present invention can also be applied to an image display device.
  • the image display device include a display device using a cathode ray tube, a plasma display panel, an electroluminescence display, a fluorescent display, a field emission display, and a liquid crystal display device, and a liquid crystal display device is particularly preferable.
  • a liquid crystal display device has a liquid crystal cell and two polarizing plates arranged on both sides thereof, and the liquid crystal cell carries a liquid crystal between two electrode substrates.
  • one optically anisotropic layer may be disposed between the liquid crystal cell and one polarizing plate, or two optically anisotropic layers may be disposed between the liquid crystal cell and both polarizing plates.
  • liquid crystal cells of various driving methods such as a TN (Twisted Nematic) mode, a VA (Vertically Aligned) mode, an OCB (Optically Compensatory Bend) mode, and an IPS (In-Plane Switching) mode can be applied.
  • TN Transmission Nematic
  • VA Very Aligned
  • OCB Optically Compensatory Bend
  • IPS In-Plane Switching
  • the antireflection film of the present invention can be applied to devices other than image display devices.
  • an antireflection article having an antireflection function is provided. Can do.
  • a hard coat layer is formed on a base material using a hard coat layer forming composition (coating solution), and then a low refractive index layer is formed on the hard coat layer to produce an antireflection film.
  • a hard coat layer forming composition coating solution
  • a low refractive index layer is formed on the hard coat layer to produce an antireflection film.
  • composition for forming hard coat layer Each component having the following composition was put into a mixing tank, stirred, and filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 ⁇ m to prepare a hard coat layer forming composition HT-1.
  • composition of hard coat layer forming composition HT-1 Curable compound A1 1.59 parts by mass Curable compound A2: 1.59 parts by mass Zirconia dispersion ZB: 84.42 parts by mass
  • Photopolymerization initiator J1 1. 50 parts by mass Toluene: 10.91 parts by mass
  • Curable compound A1 Mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (trade name: KAYARAD DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
  • Curable compound A2 A mixture of pentaerythritol tetraacrylate and pentaerythritol triacrylate (trade name KAYARAD PET30, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
  • Zirconia dispersion ZB Dispersion containing zirconia particles having an average primary particle size of 20 nm, 30% by weight toluene solution (manufactured by CIK Nanotech Co., Ltd.)
  • Photopolymerization initiator J1 IRGACURE (registered trademark) 184 (manufactured by BASF Corporation)
  • silica particle dispersion R-1 Silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: trade name: Sururia 1420, average primary particle size 60 nm, concentration 20.5% by mass, dispersion medium: isopropanol) is added to 500 parts by mass of ⁇ -acryloyloxypropyltrimethoxy. After adding and mixing 33.5 parts by mass of silane, 1.51 parts by mass of diisopropoxyaluminum ethyl acetate, and 500 parts by mass of methyl ethyl ketone, 9 parts by mass of ion-exchanged water was added.
  • a hollow silica particle dispersion R-1 whose surface was modified with an organosilicon compound having the following structure was prepared.
  • silica particle dispersion R-3 Silica-based hollow fine particle dispersion sol (trade name: Sururia 1420) in the preparation of silica particle dispersion R-1 was manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: Trade name: Surria 1420-120 (average primary particle size 120 nm, concentration 20.5 mass) %, Dispersion medium: isopropanol), a hollow silica particle dispersion R-3 having a solid content concentration of 17.9% by mass was prepared in the same manner.
  • composition for low refractive index layer Each component is put into a mixing tank so as to have the composition (parts by mass) shown in Table 1 below, stirred, and filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 ⁇ m to form a composition for a low refractive index layer.
  • L1 to L9 were prepared.
  • Curing Compound A3 Urethane Acrylate Polymer Product name Sunletan TIM-2011A methacryloyl group-introducing compound (manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd., elongation rate 300%)
  • Silica dispersion R-2 Silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name: Sururia 1420, average primary particle size 60 nm)
  • Sliding agent M1 acryloyl-modified silicone-based sliding agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name X-22-164A)
  • PGMEA Propylene glycol monomethyl ether acetate
  • the above-mentioned composition HT-1 for forming a hard coat layer was applied using a gravure coater while adjusting the thickness of the hard coat layer to 3 ⁇ m.
  • the applied composition is dried at 120 ° C., and then irradiated with a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen so that the atmosphere has an oxygen concentration of 100 ppm or less. It hardened
  • the composition L1 for low refractive index layer was applied using a gravure coater.
  • the applied composition is dried at 60 ° C., and then irradiated with a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen so that the atmosphere has an oxygen concentration of 100 ppm or less.
  • Curing was performed by irradiation with 300 mJ / cm 2 of ultraviolet rays to prepare an antireflection film F-1.
  • the film thickness of the low refractive index layer was 100 nm.
  • the antireflection films F-2 to F-9 were similarly prepared except that the film thickness was changed to the composition for the low refractive index layer and the low refractive index layer shown in Table 2. Was made.
  • the back surface of the antireflection film (the surface opposite to the low refractive index layer side interface of the base film) is roughened with sandpaper and then treated with black ink to eliminate back surface reflection.
  • -550 manufactured by JASCO Corporation
  • the specular reflectance at an incident angle of 5 ° was measured in the wavelength region of 450 to 650 nm, the average reflectance was calculated, and the antireflection property was evaluated according to the following criteria.
  • C Specular reflectance is 1.5% or more and 2% or less
  • Table 2 The results are shown in Table 2.
  • Table 2 the filling rate of the inorganic particles in the low refractive index layer is also shown.
  • the filling rate of the inorganic particles is determined by calculating the projected area of the inorganic particles in the low refractive index layer with respect to the transmission electron microscope image of the cross section obtained by cutting the antireflection film in the thickness direction. It was calculated by calculating the value divided by.
  • the antireflection films of the examples of the present invention are excellent in repeated folding resistance, excellent in antireflection properties, and the decrease in antireflection properties after repeated folding is suppressed (for repeated bending antireflection durability). It is understood that it is excellent. Moreover, it turned out that it is excellent also in pencil hardness.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

反射防止性及び反復折り曲げ耐性に優れ、かつ反復折り曲げ後の反射防止性の低下が少ない反射防止フィルム、上記反射防止フィルムを有する偏光板、画像表示装置、及び反射防止物品を提供する。反射防止フィルムは、基材と、低屈折率層とを有し、低屈折率層は無機粒子とバインダー樹脂とを含有し、無機粒子の平均一次粒子径をＲ、粒子間隔をＫとした場合、平均粒子間隔ＫａがＫａ≧１．１Ｒ、粒子間隔Ｋの分布曲線における半値全幅ＫｈがＫｈ≦０．２５Ｒを満たし、低屈折率層の基材とは反対側の面の表面粗さが２０ｎｍ以下である。偏光板、画像表示装置、及び反射防止物品は、上記反射防止フィルムを有する。

Description

反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、及び反射防止物品
　本発明は、反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、及び反射防止物品に関する。
　陰極管表示装置、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、蛍光表示ディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、及び液晶表示装置のような画像表示装置では、表示面での外光の反射によるコントラスト低下、及び像の映り込みを防止するために反射防止フィルムを設けることがある。また、画像表示装置以外でも反射防止フィルムにより反射防止機能を付与する場合がある。
　反射防止フィルムとしては、基材上に、無機粒子とバインダー樹脂とを有する低屈折率層が積層されたフィルムが知られており、例えば、特許文献１及び２には、中空シリカ等の中空粒子とバインダー樹脂とを含む低屈折率層が基材上に積層された反射防止フィルムが記載されている。
特開２０１６－０７５８６９号公報 特開２００３－３４４６０３号公報
　近年、フレキシブルなディスプレイの需要が高まり、反復折り曲げ耐性に優れる表面フィルムが強く求められているが、従来の低屈折率層を用いた反射防止フィルムは、反復折り曲げ耐性が十分ではないという問題があった。
　本発明の課題は、反射防止性及び反復折り曲げ耐性に優れ、かつ反復折り曲げ後の反射防止性の低下が少ない反射防止フィルム、上記反射防止フィルムを有する偏光板、画像表示装置、及び反射防止物品を提供することである。
　本発明者らは、上記課題を解消すべく鋭意検討した結果、下記手段により達成することができることを見出した。
＜１＞
　基材と、低屈折率層とを有する反射防止フィルムであって、
　上記低屈折率層は、無機粒子とバインダー樹脂とを含有し、
　上記無機粒子の平均一次粒子径をＲとし、粒子間隔をＫとした場合、平均粒子間隔Ｋａが下記式（１）を満たし、粒子間隔Ｋの分布曲線における半値全幅Ｋｈが下記式（２）を満たし、
　上記低屈折率層の上記基材とは反対側の面の表面粗さが２０ｎｍ以下である、反射防止フィルム。
　Ｋａ≧１．１Ｒ　　…　（１）
　Ｋｈ≦０．２５Ｒ　…　（２）
＜２＞
　ＪＩＳ　Ｐ　８１１５：２００１に従いＭＩＴ試験機によって測定した破断折り曲げ回数が１００００回以上である＜１＞に記載の反射防止フィルム。
＜３＞
　上記無機粒子の平均一次粒子径Ｒが２００ｎｍ以下である＜１＞又は＜２＞に記載の反射防止フィルム。
＜４＞
　上記無機粒子が中空構造を有する無機粒子である＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の反射防止フィルム。
＜５＞
　上記基材と上記低屈折率層の間にハードコート層を有する＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の反射防止フィルム。
＜６＞
　ＪＩＳ　Ｋ　５６００－５－４：１９９９に従って測定した、５００ｇ荷重の鉛筆硬度が２Ｈ以上である＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の反射防止フィルム。
＜７＞
　４５０～６５０ｎｍの波長領域における平均反射率が２％以下である＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の反射防止フィルム。
＜８＞
　上記基材が芳香族ポリアミドを含有する＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の反射防止フィルム。
＜９＞
　上記Ｋｈが０．２０Ｒ以下である＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の反射防止フィルム。
＜１０＞
　＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の反射防止フィルムを有する偏光板。
＜１１＞
　＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の反射防止フィルム又は＜１０＞に記載の偏光板を有する画像表示装置。
＜１２＞
　＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の反射防止フィルムを有する反射防止物品。
　本発明によれば、反射防止性及び反復折り曲げ耐性に優れ、かつ反復折り曲げ後の反射防止性の低下が少ない反射防止フィルム、上記反射防止フィルムを有する偏光板、画像表示装置、及び反射防止物品を提供することができる。
　以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）～（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。
［反射防止フィルム］
　本発明の反射防止フィルムは、
　基材と、低屈折率層とを有する反射防止フィルムであって、
　上記低屈折率層は、無機粒子とバインダー樹脂とを含有し、
　上記無機粒子の平均一次粒子径をＲとし、粒子間隔をＫとした場合、平均粒子間隔Ｋａが下記式（１）を満たし、粒子間隔Ｋの分布曲線における半値全幅Ｋｈが下記式（２）を満たし、
　上記低屈折率層の上記基材とは反対側の面の表面粗さが２０ｎｍ以下である、反射防止フィルムである。
　Ｋａ≧１．１Ｒ　　…　（１）
　Ｋｈ≦０．２５Ｒ　…　（２）
＜低屈折率層＞
　本発明の反射防止フィルムは、基材上に直接又は他の層を介して低屈折率層を有する。
（Ｋ、Ｋａ、及びＫｈ）
　本発明の反射防止フィルムの低屈折率層に含まれる無機粒子の平均一次粒子径をＲとし、粒子間隔をＫとした場合、平均粒子間隔Ｋａ及び粒子間隔Ｋの分布曲線における半値全幅Ｋｈは、それぞれ上記式（１）及び式（２）を満たす。ここで、粒子間隔Ｋは、最近接位置に存在する２つの粒子の中心間距離を表す。
　本発明において、上記Ｋ、Ｋａ、及びＫｈは以下のように算出した。
　反射防止フィルムを厚み方向に（フィルム表面に対して垂直に）切削して断面を得て、その断面を透過型電子顕微鏡（日本電子株式会社製、ＪＥＭ－１２００ＥＸ　ＩＩ）で観察し、無機粒子５００個に対して、粒子間隔Ｋを求め、得られたＫの数平均値をＫａとして算出した。
　次に、求めた粒子間隔Ｋの頻度分布曲線を描き、得られた分布曲線から最大頻度を示す粒子間隔の１／２頻度の粒子間隔（Ｋ１及びＫ２、ただしＫ２＞Ｋ１とする）を求め、下記式（３）よりＫｈを算出した。
　Ｋｈ＝（Ｋ２－Ｋ１）／Ｒ　…　（３）
　Ｒは、上記粒子間隔Ｋを求める方法と同様に、反射防止フィルムを厚み方向に切削し、断面を透過型電子顕微鏡で観察し、無機粒子５００個に対して、円相当径として得られる粒子サイズの平均値を平均一次粒子径Ｒとした。
　上記式（１）及び（２）で表されるように、本発明の反射防止フィルムの低屈折率層における無機粒子は、その平均一次粒子径（Ｒ）に対して一定割合以上の平均粒子間隔（Ｋａ）を有し、粒子間隔の分布についても制御されたものである。これにより、低屈折率層全体の伸縮性が高くなり、反復折り曲げによるフィルムの微小割れが抑制される。したがって、反復折り曲げ後の反射防止性（以下、「反復折り曲げ反射防止耐久性」ともいう。）の低下が抑制されると本発明者らは推定している。
　ＫａはＲの１．１倍以上であり、反復折り曲げ反射防止耐久性の観点から、１．１５倍以上であることが好ましく、１．２０倍以上であることがより好ましい。また、反射防止性の観点から、Ｒの１．５０倍以下であることが好ましく、１．４０倍以下であることがより好ましい。
　ＫｈはＲの０．２５倍以下であり、０．２０倍以下であることが好ましい。
（屈折率）
　低屈折率層は、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３０～１．５１であることが好ましく、１．３０～１．４６であることがより好ましく、１．３２～１．３８であることが更に好ましい。屈折率を上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。
（表面粗さ）
　低屈折率層の基材とは反対側の面の表面粗さ（Ｒａ）は２０ｎｍ以下である。Ｒａが２０ｎｍ以下であることで、表面の凹凸に起因する視認性悪化を抑制できる。Ｒａは、日本工業規格（ＪＩＳ）　Ｂ　０６０１：１９９４に従って、一般的な表面粗さ計により測定でき、例えば、触針式表面粗さ計「サーフコーダ　ＳＥ３５００」｛（株）小坂研究所製｝を用いることも好適である。Ｒａは１０ｎｍ以下であることがより好ましく、７ｎｍ以下であることが更に好ましく、５ｎｍ以下であることが特に好ましい。
（無機粒子）
　本発明の低屈折率層に含有される無機粒子としては、低屈折率層の屈折率が上述の好ましい範囲となる限りは特に限定されず、フッ化マグネシウム又はシリカ等の無機粒子が挙げられる。
　無機粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良い。また無機粒子は単分散粒子が好ましい。無機粒子の形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても良い。
　低屈折率化を図るには、無機粒子として、多孔質又は中空構造を有する無機粒子を使用することが好ましく、低屈折率化剤として好適な無機粒子は、中空構造を有するシリカ（酸化珪素）粒子である。
　また、低屈折率層形成用バインダーへの分散性を改良するために、無機粒子の表面はオルガノシランの加水分解物及びその部分縮合物の少なくとも１種により処理がされていても良く、具体的な化合物としては、特開２００７－２９８９７４号公報の段落番号［０１３６］～［０１４５］に記載の化合物が挙げられる。
　無機粒子としては、具体的には特開２００７－２９８９７４号公報に記載の無機微粒子、特開２００２－３１７１５２号公報、特開２００３－２０２４０６号公報、及び特開２００３－２９２８３１号公報に記載の中空シリカ微粒子を好適に用いることができる。
　無機粒子の平均一次粒子径は、２００ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ～２００ｎｍであることがより好ましく、５０～１２０ｎｍであることが更に好ましい。無機粒子の平均一次粒子径を２００ｎｍ以下とすることで、反射防止効果と黒締まり外観を両立できるため好ましい。また、特に無機粒子の平均一次粒子径を５０ｎｍ以上とすることで最上層として使用する際の耐擦傷性が良好となり好ましい。
　無機粒子の屈折率は好ましくは１．４６以下であり、より好ましくは１．１５～１．４６であり、更に好ましくは１．１７～１．３５であり、特に好ましくは１．１７～１．３０である。
　低屈折率層中の無機粒子の含有量は、無機粒子の平均粒子間隔Ｋａが上記式（１）を満たすように調整されることが望ましい。具体的には、低屈折率層中の無機粒子の充填率が３９体積％以下であることが好ましく、１９～３９体積％であることがより好ましく、２５～３５体積％であることが更に好ましい。
（バインダー樹脂）
　低屈折率層に含有されるバインダー樹脂は、低屈折率層の屈折率が上述の好ましい範囲となる限りは特に限定されず、例えば、特開２００７－２９８９７４号公報、特開２００２－３１７１５２号公報、特開２００３－２０２４０６号公報、特開２００３－２９２８３１号公報等に記載の公知のバインダー樹脂を用いることができる。バインダー樹脂は、１種のみを用いても、２種以上を併用してもよい。バインダー樹脂は、モノマーまたはオリゴマー（重合性化合物）の重合体であることが好ましい。重合性化合物としては、例えば後述するハードコート層の形成に用いるモノマー（ａ）が挙げられる。モノマーは１種でも２種以上を併用してもよい。
　バインダー樹脂は、伸び率が高いモノマー、中でも、伸び率が２００％以上のバインダー樹脂を併用することもできる。
　ここで、伸び率とは、フィルム形態の物質が初期から破断されるまでの伸び量（破断標線間距離から元の標線間距離を差し引いた距離）を元の標線間距離で除した割合を指し、下記式（４）で表される。下記式（４）中、Ｅは伸び率、Ｅ２は破断標線間距離、Ｅ１は元の標線間距離を示す。
　Ｅ（％）＝１００×（Ｅ２－Ｅ１）／Ｅ１　…　（４）
　本発明においては、ＪＩＳ　Ｋ　６２５１：１９９３に従って測定した破断標線間距離値を用いて伸び率を算出した。
　伸び率が２００％以上であるバインダー樹脂の市販品の例としては、バイロンシリーズ（商品名）：東洋紡（株）製、サンプレンシリーズ及びサンレタンシリーズ（ともに商品名）：三洋化成（株）製などが挙げられ、具体例としては、バイロンＵＲ－１５１０、バイロンＵＲ－２３００、バイロンＵＲ－３２００、バイロンＵＲ－３２６０、バイロンＵＲ－８３００、サンプレンＬＱ－３３００、サンプレンＬＱ－３３５８、サンレタンＴＩＭ－２０１１Ａなどを好ましく用いることができる。また、これらのバインダー樹脂に対し、伸び率を損なわない程度に重合性基を導入した化合物も好適に用いることができる。
（低屈折率層形成用塗布組成物）
　低屈折率層は、低屈折率層形成用塗布組成物を用いて、塗布により形成されることが好ましい。
　低屈折率層形成用塗布組成物は、好ましくは上記無機粒子、上記バインダー樹脂を形成する重合性化合物及び溶剤を含有する。この際、低屈折率層形成用塗布組成物の固形分濃度は、用途に応じて適宜選択されるが、一般的には０．０１～６０質量％程度であり、好ましくは０．５～５０質量％、特に好ましくは１～２０質量％程度とするのが良い。
－重合開始剤－
　重合開始剤としては特に限定されず、公知の重合開始剤を用いることができる。
　重合開始剤としては、たとえば、後述するハードコート層の形成において用いることができる重合開始剤が挙げられる。
　重合開始剤の添加量としては、特に限定はないが、低屈折率層形成組成物中の全固形分に対して０．１～１５質量％が好ましく、０．５～１０質量％であることがより好ましく、１～５質量％であることが特に好ましい。
－溶媒－
　低屈折率層用塗布液組成物に含まれる溶媒としては、バインダー樹脂を形成する重合性化合物が沈殿を生じることなく、均一に溶解または分散されるものであれば特に制限はなく、１種でも、２種類以上の溶媒を併用することもできる。好ましい例としては、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン等）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール、等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）などを挙げることができる。
－その他の化合物－
　また、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系あるいはフッ素系の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することもできる。これらの添加剤を添加する場合には低屈折率層全固形分の０～２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０～１０質量％の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０～５質量％の場合である。
（低屈折率層の作製方法）
　低屈折率層は、無機粒子、バインダー樹脂を形成する重合性化合物、その他所望により含有される任意成分を溶解あるいは分散させた塗布組成物を塗布と同時、または塗布、乾燥後に電離放射線照射（例えば光照射、電子線ビーム照射等が挙げられる。）、又は加熱することによる架橋反応、又は重合反応により硬化して、形成することが好ましい。
　低屈折率層形成用塗布組成物の塗布方法としては、特に限定されず公知の方法を用いることができる。例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ダイコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法等が挙げられる。
　上記のようにして基材、又は基材と低屈折率層との間に有し得る層（例えばハードコート層）上に、低屈折率層形成用塗布組成物を塗布した後、熱及び光照射の少なくともいずれかの手段による硬化処理を行うことが好ましい。
（膜厚）
　低屈折率層の膜厚は、２００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ～１２０ｎｍであることがより好ましく、８０～１２０ｎｍであることが更に好ましい。
＜基材＞
　本発明の反射防止フィルムの基材は、可視光領域の透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。
　基材はポリマー樹脂を含むことが好ましい。
（ポリマー樹脂）
　ポリマー樹脂としては、光学的な透明性、機械的強度、熱安定性、などに優れるポリマーが好ましい。
　例えば、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等のアクリル系ポリマー、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマーなどが挙げられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂、エチレン・プロピレン共重合体などのポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、トリアセチルセルロースに代表されるセルロース系ポリマー、又は上記ポリマー同士の共重合体や上記ポリマー同士を混合したポリマーも例として挙げられる。
　特に、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマーは、ＪＩＳ　Ｐ　８１１５：２００１に従いＭＩＴ試験機によって測定した破断折り曲げ回数が大きく、硬度も比較的高いことから、基材として好ましく用いることができる。例えば、特許第５６９９４５４号公報の実施例１にあるような芳香族ポリアミドを基材として好ましく用いることができる。
　また、基材は、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の紫外線硬化型、熱硬化型の樹脂の硬化層として形成することもできる。
（柔軟化素材）
　基材は、上記のポリマー樹脂を更に柔軟化する素材を含有しても良い。柔軟化素材とは、破断折り曲げ回数を向上させる化合物を指し、柔軟化素材としては、ゴム質弾性体、脆性改良剤、可塑剤、スライドリングポリマー等を用いることが出来る。
　柔軟化素材として具体的には、特開２０１６－１６７０４３号公報における段落番号［００５１］～［０１１４］に記載の柔軟化素材を好適に用いることができる。
　柔軟化素材は、ポリマー樹脂に単独で混合しても良いし、複数を適宜併用して混合しても良いし、また、樹脂と混合せずに、柔軟化素材のみを単独又は複数併用で用いて基材としても良い。
　これらの柔軟化素材を混合する量は、例えば、ポリマー樹脂１００質量部に対して１０質量部とすることができるが、とくに制限はない。すなわち、基材は、十分な破断折り曲げ回数を有していれば良く、ポリマー樹脂単独で構成されても良いし、柔軟化素材を混合しても良いし、すべてを柔軟化素材（１００％）としても良い。
（その他の添加剤）
　基材には、用途に応じた種々の添加剤（例えば、紫外線吸収剤、マット剤、酸化防止剤、剥離促進剤、レターデーション（光学異方性）調節剤、など）を添加できる。それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点又は沸点において特に限定されるものではない。また添加剤を添加する時期は基材を作製する工程において何れの時点で添加しても良く、素材調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。
　その他の添加剤としては、特開２０１６－１６７０４３号公報における段落番号［０１１７］～［０１２２］に記載の添加剤を好適に用いることができる。
　以上の添加剤は、１種類を単独で使用してもよいし、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
　基材は、透明性の観点から、基材に用いる柔軟性素材及び各種添加剤と、ポリマー樹脂との屈折率の差が小さいことが好ましい。
（基材の作製方法）
　基材は、熱可塑性のポリマー樹脂を熱溶融して製膜しても良いし、ポリマーを均一に溶解した溶液から溶液製膜（ソルベントキャスト法）によって製膜しても良い。熱溶融製膜の場合は、上述の柔軟化素材及び種々の添加剤を、熱溶融時に加えることができる。一方、基材を溶液製膜法で作製する場合は、ポリマー溶液（以下、ドープともいう）には、各調製工程において上述の柔軟化素材及び種々の添加剤を加えることができる。またその添加する時期はドープ作製工程において何れでも添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。
（基材の厚み）
　基材の厚みは、１００μｍ以下であることがより好ましく、６０μｍ以下であることが更に好ましく、５０μｍ以下が最も好ましい。基材の厚みが薄くなれば、折れ曲げ時の表面と裏面の曲率差が小さくなり、クラック等が発生し難くなり、複数回の折れ曲げでも、基材の破断が生じなくなる。一方、基材取り扱いの容易さの観点から基材の厚みは１０μｍ以上であることが好ましく、１５μｍ以上であることがより好ましい。反射防止フィルムが組み込まれる画像表示装置の薄型化の観点からは、反射防止フィルムの総厚は、７０μｍ以下であることが好ましく、５０μｍ以下であることが更に好ましい。
＜その他の層＞
　本発明の反射防止フィルムは、上記基材と上記低屈折率層の間に、その他の層を有していてもよい。その他の層としては、ハードコート層を有することが好ましく、基材とハードコート層は接していてもよいし、基材とハードコート層の間に別層を有していてもよい。
（ハードコート層）
　本発明の反射防止フィルムには、フィルムの物理的強度を付与するために、ハードコート層を設けることができる。好ましくは、ハードコート層上に低屈折率層が設けられると、鉛筆引掻き試験などの耐擦傷性面が強くなり、好ましい。ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。
　ハードコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率は１．５６以上であることが好ましく、１．６８以上１．８４以下であることが好ましく、１．７１以上１．８１以下であることがより更に好ましい。
－樹脂－
　ハードコート層は樹脂を含有することが好ましく、上記樹脂はモノマー（重合性化合物）の重合体であることが好ましい。
　モノマーは１種でも２種以上を併用してもよい。
　モノマーは（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基を有することが好ましく、中でも、（メタ）アクリロイル基を有することが好ましい。
・モノマー（ａ）
　ハードコート層の樹脂を形成するためのモノマーとして、モノマー（「モノマー（ａ）」とも呼ぶ。）を用いることも好ましい。このようなモノマーの具体例としては、ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６－ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
　トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
　ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
　２，２－ビス｛４－（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン、２－２－ビス｛４－（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；等を挙げることができる。
　さらにはエポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類も用いることができる。
　中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。さらに好ましくは、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。すなわち、ハードコート層は、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーの硬化物を含有することが好ましい。
　例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド（ＥＯ）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド（ＰＯ）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３－クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
・モノマー（ｂ）
　モノマーとして、フルオレン骨格、ジナフトチオフェン骨格、ナフタレン骨格、アントラセン骨格、ベンゾトリアゾール骨格、トリアジン骨格、ベンゾフェノン骨格、メロシアニン骨格、ベンゾオキサゾール骨格、ベンゾチオール骨格、トリフェニレン骨格、シンナモイル骨格、ビスフェノールＳ骨格、及びトラン骨格から選ばれる少なくとも１種の骨格を有する化合物（「モノマー（ｂ）」とも呼ぶ。）を含むことも好ましい。
　モノマー（ｂ）を用いることで、ハードコート層の屈折率を高く調整することができる。モノマー（ｂ）の具体例としては、特開２００７－９１８７６号公報の段落００２９～００４６に記載の一般式（Ｉ）～（ＶＩ）で表される化合物、特開２０１４－３４５９６号公報の段落０１１３～０１１５に記載のフルオレン化合物、特開２０１４－８０５７２号公報の一般式（１）で表される縮合環含有化合物（好ましくは同公報の一般式（３）で表される縮合環含有化合物）、特開２０１３－２５３１６１号公報の段落００１６に記載の化合物、特開２００６－３０１６１４号公報の段落００２５～０１５３に記載の化合物、特開２００７－１０８７３２号公報の段落００２０～０１２２に記載の化合物、特開２０１０－２４４０３８号公報の段落００１２～０１０８に記載の化合物等が挙げられる。
　モノマー（ｂ）としては、特に、フルオレン骨格、ジナフトチオフェン骨格、ナフタレン骨格、及びアントラセン骨格から選ばれる少なくとも１種の骨格を有する化合物が好ましく、フルオレン骨格を有する化合物が最も好ましい。
－無機粒子－
　ハードコート層は無機粒子を含有してもよい。
　無機粒子としては、金属（たとえば、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、及びＡｌなど）の酸化物の粒子であることが好ましく、屈折率の観点から、酸化ジルコニウム粒子又は酸化チタン粒子であることがより好ましく、酸化チタン粒子を平均一次粒子径１０ｎｍ未満にすると光活性が強まり、周囲の有機物を分解し易くなり得る観点から、酸化ジルコニウム粒子（ジルコニア粒子）が最も好ましい。
　ハードコート層中の無機粒子の含有率を変化させることで屈折率を調整することができる。
　ハードコート層中の無機粒子の含有率は、ハードコート層全体に対して、５～８０体積％であることが好ましく、１０～６０体積％であることがより好ましく、２０～５０体積％であることが更に好ましい。無機粒子の含有率が５体積％以上であれば、ハードコート層の屈折率を高くすることができ、８０体積％以下であれば膜を形成しやすい。
　ハードコート層中の無機粒子の、質量％に換算したときの好適含有率は、無機粒子の比重によって変わり、例えば無機粒子として酸化ジルコニウム粒子を用いる場合の含有率は、ハードコート層全体に対して、２１～９５質量％であることが好ましく、３６～８８質量％であることがより好ましく、５６～８３質量％であることが更に好ましい。
　無機粒子の平均一次粒子径は、１～８０ｎｍであることが好ましく、１～４０ｎｍであることがより好ましく、２～２０ｎｍであることが更に好ましい。
　また、無機粒子は後述する樹脂をバインダー成分としてハードコート層中に含有されることが好ましく、ハードコート層中のバインダー成分との密着性を向上させるために、重合性基を有する化合物で修飾して、無機粒子の表面に重合性基を付与することが好ましい。
　ハードコート層の膜厚は特に限定されないが、１～１０μｍであることが好ましく、１．５～８μｍであることがより好ましく、２～５μｍであることが更に好ましい。
（ハードコート層の作製方法）
　ハードコート層は、基材上に、ハードコート層形成用組成物を塗布する工程、及びモノマーを重合させる工程を含む製造方法により作製されることが好ましい。ハードコート層形成用組成物は、前述のモノマー又は無機粒子に加えて、有機溶剤を含有することが好ましい。
　このようなハードコート層を作製する際に使用する有機溶媒としては、例えば、常圧での沸点が２００℃以下の溶媒を挙げることができる。具体的には、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、炭化水素類、アミド類が用いられ、これらは、１種単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類が好ましい。
　ここで、アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、イソブタノール、ｎ―ブタノール、ｔｅｒｔ―ブタノール、エトキシエタノール、ブトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等を挙げることができる。ケトン類としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等を挙げることができる。エーテル類としては、例えば、ジブチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等を挙げることができる。エステル類としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル等を挙げることができる。炭化水素類としては、例えば、トルエン、キシレン等を挙げることができる。アミド類としては、例えば、ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ―メチルピロリドン等を挙げることができる。中でも、イソプロピルアルコール、エトキシエタノール、ブトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、酢酸ブチル、乳酸エチル等が好ましい。
－重合開始剤－
　ハードコート層形成用組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。
　モノマーが光重合性化合物である場合は、光重合開始剤を含むことが好ましい。
　光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３－ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９－０９８６５８号公報の段落［０１３３］～［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
　「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５～１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
　ハードコート層形成用組成物中の重合開始剤の含有率は、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、０．５～８質量％が好ましく、１～５質量％がより好ましい。
　ハードコート層形成用組成物は上記以外の成分を含有していてもよく、たとえばレベリング剤、又は分散剤などが挙げられる。
　ハードコート層形成用組成物の塗布方法としては、特に限定されず公知の方法を用いることができる。例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等が挙げられる。
　ハードコート層形成用組成物を基材上に塗布した後、加熱する工程を設けてもよい。基材を膨潤させる溶剤を用いている場合は、加熱することによって、効果的にモノマーの一部を基材に浸透させることができる。加熱における温度は、基材のガラス転移温度より小さいことが好ましく、具体的には、６０～１８０℃であることが好ましく、８０～１３０℃であることがより好ましい。
　モノマーが光重合性モノマーである場合、モノマーの重合は電離放射線を照射することで行うことができる。電離放射線の種類については、特に制限はなく、Ｘ線、電子線、紫外線、可視光、赤外線などが挙げられるが、紫外線が広く用いられる。照射量は特に限定されないが、１０ｍＪ／ｃｍ２～１０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。照射の際には、上記エネルギーを一度に当ててもよいし、分割して照射することもできる。紫外線ランプ種としては、メタルハライドランプや高圧水銀ランプ等が好適に用いられる。
＜反射防止フィルムの物性＞
（破断折り曲げ回数）
　本発明の反射防止フィルムは、ＪＩＳ　Ｐ　８１１５：２００１に従いＭＩＴ試験機によって測定した破断折り曲げ回数が１００００回以上であることが好ましい。なお、本発明において、破断折り曲げ回数の測定は、反射防止フィルムの基材が内側となるように折り曲げて行った。
（平均反射率）
　本発明の反射防止フィルムは、反射防止性の観点から、４５０～６５０ｎｍの波長領域における平均反射率が２％以下であることが好ましく、１．５％以下であることがより好ましい。
（鉛筆硬度）
　本発明の反射防止フィルムは、膜強度の観点から、ＪＩＳ　Ｋ　５６００－５－４：１９９９に従って測定した５００ｇ荷重の鉛筆硬度が２Ｈ以上であることが好ましく、３Ｈ以上であることがより好ましい。
　本発明の反射防止フィルムは、偏光板保護フィルムとして好適に用いることができる。
　本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板保護フィルムは、偏光子と貼り合せて偏光板とすることができ、液晶表示装置などに好適に用いることができる。
［偏光板］
　偏光板は、偏光子と、偏光子を保護する少なくとも１枚の保護フィルムとを有する偏光板であって、保護フィルムの少なくとも１枚が本発明の反射防止フィルムであることが好ましい。
　偏光子には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。
［画像表示装置］
　本発明の反射防止フィルム又は偏光板を画像表示装置に適用することもできる。
　画像表示装置としては、陰極線管を利用した表示装置、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、蛍光表示ディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、及び液晶表示装置を挙げることができ、特に液晶表示装置が好ましい。
　一般的に、液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有し、液晶セルは、２枚の電極基板の間に液晶を担持している。更に、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に２枚配置されることもある。液晶セルは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ　Ａｌｉｇｎｅｄ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ　Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ　Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ　Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードなど様々な駆動方式の液晶セルが適用できる。
［反射防止物品］
　本発明の反射防止フィルムは、画像表示装置以外にも適用することができ、たとえば各種の物品に本発明の反射防止フィルムを貼合することで、反射防止機能を付与した反射防止物品とすることができる。
　以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲はこれによって限定して解釈されるものではない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
〔反射防止フィルムの作製〕
　下記に示す通りに、基材上に、ハードコート層形成用組成物（塗布液）を用いてハードコート層を形成し、次にハードコート層上に低屈折率層を形成して反射防止フィルムを作製した。
（芳香族ポリアミドの合成）
　攪拌機を備えた重合槽にＮ－メチル－２－ピロリドン６７４．７ｋｇ、無水臭化リチウム１０．６ｇ（シグマアルドリッチジャパン社製）、２，２’－ジトリフルオロメチル－４，４’－ジアミノビフェニル（東レファインケミカル社製「ＴＦＭＢ」）３３．３ｇ、４，４’－ジアミノジフェニルスルフォン（和歌山精化株式会社製「４４ＤＤＳ」）２．９ｇを入れ窒素雰囲気下、１５℃に冷却、攪拌しながら３００分かけてテレフタル酸ジクロライド（東京化成社製）１８．５ｇ、４，４’－ビフェニルジカルボニルクロライド（東レファインケミカル社製「４ＢＰＡＣ」）６．４ｇを４回に分けて添加した。６０分間攪拌した後、反応で発生した塩化水素を炭酸リチウムで中和してポリマー溶液を得た。
（基材フィルムＳ－１の作製）
　上記で得られたポリマー溶液の一部を最終のフィルム厚みが２５μｍになるようにＴダイを用いて１２０℃のエンドレスベルト上に流延し、ポリマー濃度が４０質量％になる様に乾燥してエンドレスベルトから剥離した。次に溶媒を含んだフィルムを４０℃の大気中でＭＤ（Ｍａｃｈｉｎｅ　Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）方向に１．１倍延伸し、５０℃の水で水洗して溶媒を除去した。さらに３４０℃の乾燥炉でＴＤ（Ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ　Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）方向に１．２倍延伸し、芳香族ポリアミドからなる、厚み２５μｍの基材フィルムＳ－１を得た。基材フィルムＳ－１のＪＩＳ　Ｐ　８１１５：２００１に従いＭＩＴ試験機によって測定した破断折り曲げ回数は２．５万回であった。
（ハードコート層形成用組成物の調製）
　下記組成で、各々の成分をミキシングタンクに投入し、攪拌して、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、ハードコート層形成用組成物ＨＴ－１を調製した。
ハードコート層形成用組成物ＨＴ－１の組成
　硬化性化合物Ａ１：１．５９質量部
　硬化性化合物Ａ２：１．５９質量部
　ジルコニア分散物ＺＢ：８４．４２質量部
　光重合開始剤Ｊ１：１．５０質量部
　トルエン：１０．９１質量部
　硬化性化合物Ａ１：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（商品名ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）
　硬化性化合物Ａ２：ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物（商品名ＫＡＹＡＲＡＤ　ＰＥＴ３０、日本化薬（株）製）
　ジルコニア分散物ＺＢ：平均一次粒子径２０ｎｍのジルコニア粒子含有分散物、トルエン３０質量％溶液（ＣＩＫナノテック（株）製）
　光重合開始剤Ｊ１：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）１８４（ＢＡＳＦ（株）製）
（シリカ粒子分散物Ｒ－１の調製）
　シリカ系中空微粒子分散ゾル（触媒化成工業（株）製：商品名スルーリア１４２０、平均一次粒子径６０ｎｍ、濃度２０．５質量％、分散媒：イソプロパノール）５００質量部に、γ－アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン３３．５質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５１質量部、およびメチルエチルケトン５００質量部を加えて混合した後に、イオン交換水９質量部を加えた。この混合液を６０℃で１０時間反応させた後に室温（２３℃）まで冷却し、アセチルアセトン１．８質量部を添加して分散物を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力１３３．２３２Ｐａで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度１８．３質量％の重合性官能基を有する有機珪素化合物で表面修飾した中空シリカ粒子分散物Ｒ－１を作製した。
（シリカ粒子分散物Ｒ－３の調製）
　シリカ粒子分散物Ｒ－１の調製におけるシリカ系中空微粒子分散ゾル（商品名スルーリア１４２０）を、触媒化成工業（株）製：商品名スルーリア１４２０－１２０（平均一次粒子径１２０ｎｍ、濃度２０．５質量％、分散媒：イソプロパノール）に変更したこと以外は同様にして、固形分濃度１７．９質量％の中空シリカ粒子分散物Ｒ－３を作製した。
（低屈折率層用組成物の調製）
　下記表１に記載の組成（質量部）となるように、各々の成分をミキシングタンクに投入し、攪拌して、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用組成物Ｌ１～Ｌ９を調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　硬化性化合物Ａ３：ウレタンアクリレートポリマー　商品名サンレタン　ＴＩＭ－２０１１Ａのメタクリロイル基導入化合物（三洋化成（株）製、伸び率３００％）
　シリカ分散物Ｒ－２：シリカ系中空微粒子分散ゾル（触媒化成工業（株）製、商品名スルーリア１４２０、平均一次粒子径６０ｎｍ）
　滑り剤Ｍ１：アクリロイル変性シリコーン系滑り剤（信越化学工業(株)製、商品名Ｘ－２２－１６４Ａ）
　ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
［反射防止フィルムＦ－１の作製］
　得られた基材Ｓ－１上に、上述のハードコート層形成用組成物ＨＴ－１を、グラビアコーターを用い、ハードコート層厚みが３μｍとなるように調整して塗布した。塗布した組成物を、１２０℃で乾燥した後、酸素濃度が１００ｐｐｍ以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量３０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線照射により硬化させ、ハードコートフィルムを作製した。
　得られたハードコートフィルムのハードコート層上に、低屈折率層用組成物Ｌ１を、グラビアコーターを用いて塗布した。塗布した組成物を、６０℃で乾燥した後、酸素濃度が１００ｐｐｍ以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線照射により硬化させ、反射防止フィルムＦ－１を作製した。低屈折率層の膜厚は１００ｎｍであった。
　反射防止フィルムＦ－１の作製において、表２に記載の低屈折率層用組成物及び低屈折率層の膜厚に変更したこと以外は同様にして、反射防止フィルムＦ－２～Ｆ－９を作製した。
［反射防止フィルムの評価］
（反復折り曲げ耐性）
　耐折度試験機（テスター産業（株）製、ＭＩＴ、ＢＥ－２０１型、折り曲げ半径０．４ｍｍ）を用いて、２５℃、相対湿度６５％の状態に１時間静置させた、幅１５ｍｍ、長さ８０ｍｍの反射防止フィルム試料を準備し、基材が内側になるように折り曲げ、荷重５００ｇの条件で、ＪＩＳ　Ｐ　８１１５：２００１に準拠して測定し、破断するまでの回数（破断折り曲げ回数）で評価した。
（平均反射率）
　反射防止フィルムの裏面（基材フィルムの低屈折率層側界面とは反対の表面）を、サンドペーパーで粗面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態で、分光光度計Ｖ－５５０（日本分光（株）製）を用いて４５０～６５０ｎｍの波長領域で、入射角５°における鏡面反射率を測定し、平均反射率を算出して下記基準で反射防止性を評価した。
　Ａ：鏡面反射率が１．０％未満
　Ｂ：鏡面反射率が１．０％以上１．５％未満
　Ｃ：鏡面反射率が１．５％以上２％以下
（反復折り曲げ反射防止耐久性）
　上述の反復折り曲げ耐性の折り曲げ試験における１００００回折り曲げ後の各反射防止フィルム試料について、上述の方法で折り曲げ部の平均反射率を測定した。そして、折り曲げ部の平均反射率と、折り曲げ前の平均反射率との差を算出し、反復折り曲げ反射防止耐久性を評価した。
　Ａ：反射率差が０．１％以内（折り曲げ部と非折り曲げ部に見た目の差が無い）
　Ｂ：反射率差が０．１％より大きく、０．３％以内（僅かに見た目の差があるが気にならない）
　Ｃ：反射率差が０．３％超（明らかに見た目に差があり気になる）
（鉛筆硬度試験）
　各試料に対し、ＪＩＳ　Ｋ　５６００－５－４：１９９９に記載の鉛筆硬度評価を荷重５００ｇの条件で行い、その後消しゴムにて鉛筆跡を除去した。各試料を温度２５℃、相対湿度６０％で３時間調湿した後、ＪＩＳ　Ｓ　６００６：２００７に規定する試験用鉛筆を用いて硬度評価を実施し、更に温度２５℃、相対湿度６０％の環境下で、試験後３時間放置後に下記の基準で評価した。
　Ａ：２Ｈ試験後に引っかき傷跡または色味変化が観察されない。
　Ｂ：２Ｈ試験後に引っかき傷跡は観察されないが、色味変化が観察される。
　Ｃ：２Ｈ試験後に引っかき傷跡及び色味変化が観察される。
（屈折率）
　多波長アッベ屈折計ＤＲ－Ｍ４（株式会社アタゴ製、製品名）を用い、反射防止フィルムの低屈折率層の波長５５０ｎｍに対する屈折率を測定した。
　結果を表２に示す。
　なお、表２には、低屈折率層における無機粒子の充填率についても併記する。無機粒子の充填率は、反射防止フィルムを厚み方向に切削して得られた断面の透過型電子顕微鏡画像に対し、低屈折率層内の無機粒子の投影面積を求め、低屈折率層全面積で除した値を算出することで求めた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　上記の結果から、本発明の実施例の反射防止フィルムは反復折り曲げ耐性に優れ、反射防止性に優れ、かつ反復折り曲げ後の反射防止性の低下が抑制されている（反復折り曲げ反射防止耐久性に優れる）ことが分かる。また、鉛筆硬度にも優れていることが分かった。

Claims (12)

  1. 　基材と、低屈折率層とを有する反射防止フィルムであって、
    　前記低屈折率層は、無機粒子とバインダー樹脂とを含有し、
    　前記無機粒子の平均一次粒子径をＲとし、粒子間隔をＫとした場合、平均粒子間隔Ｋａが下記式（１）を満たし、粒子間隔Ｋの分布曲線における半値全幅Ｋｈが下記式（２）を満たし、
    　前記低屈折率層の前記基材とは反対側の面の表面粗さが２０ｎｍ以下である、反射防止フィルム。
    　Ｋａ≧１．１Ｒ　　…　（１）
    　Ｋｈ≦０．２５Ｒ　…　（２）
  2. 　ＪＩＳ　Ｐ　８１１５：２００１に従いＭＩＴ試験機によって測定した破断折り曲げ回数が１００００回以上である請求項１に記載の反射防止フィルム。
  3. 　前記無機粒子の平均一次粒子径Ｒが２００ｎｍ以下である請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
  4. 　前記無機粒子が中空構造を有する無機粒子である請求項１～３のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
  5. 　前記基材と前記低屈折率層の間にハードコート層を有する請求項１～４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
  6. 　ＪＩＳ　Ｋ　５６００－５－４：１９９９に従って測定した、５００ｇ荷重の鉛筆硬度が２Ｈ以上である請求項１～５のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
  7. 　４５０～６５０ｎｍの波長領域における平均反射率が２％以下である請求項１～６のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
  8. 　前記基材が芳香族ポリアミドを含有する請求項１～７のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
  9. 　前記Ｋｈが０．２０Ｒ以下である請求項１～８のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
  10. 　請求項１～９のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを有する偏光板。
  11. 　請求項１～９のいずれか１項に記載の反射防止フィルム又は請求項１０に記載の偏光板を有する画像表示装置。
  12. 　請求項１～９のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを有する反射防止物品。
PCT/JP2017/035834 2016-10-25 2017-10-02 反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、及び反射防止物品 Ceased WO2018079202A1 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201780066161.2A CN109891271B (zh) 2016-10-25 2017-10-02 防反射膜、偏振片、图像显示装置及防反射物品
JP2018547507A JP6745348B2 (ja) 2016-10-25 2017-10-02 反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、及び反射防止物品
KR1020197011663A KR102194501B1 (ko) 2016-10-25 2017-10-02 반사 방지 필름, 편광판, 화상 표시 장치, 및 반사 방지 물품
US16/386,711 US20190243030A1 (en) 2016-10-25 2019-04-17 Antireflection film, polarizing plate, image display device, and antireflection product

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016-209058 2016-10-25
JP2016209058 2016-10-25

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US16/386,711 Continuation US20190243030A1 (en) 2016-10-25 2019-04-17 Antireflection film, polarizing plate, image display device, and antireflection product

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2018079202A1 true WO2018079202A1 (ja) 2018-05-03

Family

ID=62023366

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2017/035834 Ceased WO2018079202A1 (ja) 2016-10-25 2017-10-02 反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、及び反射防止物品

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20190243030A1 (ja)
JP (1) JP6745348B2 (ja)
KR (1) KR102194501B1 (ja)
CN (1) CN109891271B (ja)
WO (1) WO2018079202A1 (ja)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4778634B2 (ja) * 2001-07-04 2011-09-21 ナトコ株式会社 反射防止フィルム
JP2014056066A (ja) * 2012-09-12 2014-03-27 Toppan Printing Co Ltd 反射防止フィルムおよびその製造方法
JP2015004937A (ja) * 2013-06-24 2015-01-08 凸版印刷株式会社 反射防止フィルム
JP2016071264A (ja) * 2014-09-30 2016-05-09 富士フイルム株式会社 光学フィルム、偏光板保護フィルム、偏光板、及び液晶表示装置
JP2016167043A (ja) * 2015-03-04 2016-09-15 富士フイルム株式会社 反射防止物品、偏光板、カバーガラス、及び画像表示装置、並びに反射防止物品の製造方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003344603A (ja) 2002-05-23 2003-12-03 Sony Corp 反射防止膜
JP2007017946A (ja) * 2005-06-10 2007-01-25 Konica Minolta Opto Inc 反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、偏光板及び液晶表示装置
KR20100112740A (ko) * 2009-04-10 2010-10-20 도레이첨단소재 주식회사 저반사 필름
US20150064405A1 (en) * 2011-04-20 2015-03-05 Corning Incorporated Low reflectivity articles and methods thereof
JP6186294B2 (ja) * 2014-03-07 2017-08-23 富士フイルム株式会社 反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、及び反射防止フィルムの製造方法
WO2015152308A1 (ja) * 2014-03-31 2015-10-08 富士フイルム株式会社 反射防止フィルム、偏光板、カバーガラス、及び画像表示装置、並びに反射防止フィルムの製造方法
CN106164713B (zh) * 2014-03-31 2018-01-09 富士胶片株式会社 防反射膜、偏振片、护罩玻璃、图像显示装置及防反射膜的制造方法
JP2016075869A (ja) 2014-10-09 2016-05-12 エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド フレキシブル表示装置
US9903982B2 (en) * 2015-03-04 2018-02-27 Fujifilm Corporation Antireflection article, polarizing plate, cover glass and image display device, and manufacturing method of antireflection article
JP6460471B2 (ja) * 2015-03-16 2019-01-30 大日本印刷株式会社 積層体、偏光板、および画像表示装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4778634B2 (ja) * 2001-07-04 2011-09-21 ナトコ株式会社 反射防止フィルム
JP2014056066A (ja) * 2012-09-12 2014-03-27 Toppan Printing Co Ltd 反射防止フィルムおよびその製造方法
JP2015004937A (ja) * 2013-06-24 2015-01-08 凸版印刷株式会社 反射防止フィルム
JP2016071264A (ja) * 2014-09-30 2016-05-09 富士フイルム株式会社 光学フィルム、偏光板保護フィルム、偏光板、及び液晶表示装置
JP2016167043A (ja) * 2015-03-04 2016-09-15 富士フイルム株式会社 反射防止物品、偏光板、カバーガラス、及び画像表示装置、並びに反射防止物品の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR102194501B1 (ko) 2020-12-23
JPWO2018079202A1 (ja) 2019-08-08
KR20190052124A (ko) 2019-05-15
US20190243030A1 (en) 2019-08-08
JP6745348B2 (ja) 2020-08-26
CN109891271B (zh) 2021-04-20
CN109891271A (zh) 2019-06-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5750231B2 (ja) 塗布組成物、光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置
JP5983410B2 (ja) 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
JP5529320B2 (ja) ハードコート層形成用組成物、ハードコートフィルム、光学素子および画像表示装置
KR100775728B1 (ko) 반사 방지 재료 및 그것을 이용한 편광 필름
US20080026182A1 (en) Hard-coated film, polarizing plate and image display including the same, and method of manufacturing hard-coated film
JP2006058574A (ja) ハードコートフィルム
KR101971011B1 (ko) 하드 코트 필름, 화상 표시 소자의 전면판, 저항막식 터치 패널, 정전 용량식 터치 패널 및 화상 표시 장치
JP2021515273A (ja) 反射防止フィルム、偏光板、およびディスプレイ装置
JP2020536288A (ja) 反射防止フィルム、偏光板およびディスプレイ装置
US20120194907A1 (en) Antiglare film, polarizing plate, image display, and method for producing the antiglare film
JP7198946B2 (ja) 光学積層体、偏光板、画像表示装置、抵抗膜式タッチパネル及び静電容量式タッチパネル
JP2009258214A (ja) 表示装置
KR20160037117A (ko) 광학 필름 및 그것을 구비한 편광판, 액정 표시 장치, 및 광학 필름의 제조 방법
JP5490487B2 (ja) 光学積層体
JP5753285B2 (ja) 光学積層体
US11644604B2 (en) Optical film, polarizing plate, and image display device
JP2008107432A (ja) 偏光板およびそれを用いた画像表示装置
JP2020535462A (ja) 反射防止フィルム、偏光板およびディスプレイ装置
JPWO2014208748A1 (ja) 紫外線硬化型ハードコート樹脂組成物
JPWO2014208749A1 (ja) 紫外線硬化型ハードコート樹脂組成物
JP2009091477A (ja) 透明架橋フィルム
JP2002006109A (ja) 反射防止材料およびそれを用いた偏光フィルム
JP5426329B2 (ja) 光学積層体
JP4524150B2 (ja) 反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、および反射防止フィルムの製造方法
JP6745348B2 (ja) 反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、及び反射防止物品

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 17865953

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2018547507

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20197011663

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 17865953

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1