WO2017170530A1 - 中性子グリッド、中性子グリッド積層体、中性子グリッド装置、および中性子グリッドの製造方法 - Google Patents
中性子グリッド、中性子グリッド積層体、中性子グリッド装置、および中性子グリッドの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2017170530A1 WO2017170530A1 PCT/JP2017/012604 JP2017012604W WO2017170530A1 WO 2017170530 A1 WO2017170530 A1 WO 2017170530A1 JP 2017012604 W JP2017012604 W JP 2017012604W WO 2017170530 A1 WO2017170530 A1 WO 2017170530A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- neutron
- grid
- neutrons
- spacer
- absorber
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/02—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
- G21K1/025—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators using multiple collimators, e.g. Bucky screens; other devices for eliminating undesired or dispersed radiation
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
- G01N23/04—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material
- G01N23/05—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material using neutrons
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
- G01N23/06—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and measuring the absorption
- G01N23/09—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and measuring the absorption the radiation being neutrons
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
- G01T1/29—Measurement performed on radiation beams, e.g. position or section of the beam; Measurement of spatial distribution of radiation
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T3/00—Measuring neutron radiation
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T7/00—Details of radiation-measuring instruments
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/10—Different kinds of radiation or particles
- G01N2223/106—Different kinds of radiation or particles neutrons
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
Description
<中性子グリッドの構成>
図1は、中性子ラジオグラフィ測定系の構成例を示す模式図である。図1は、中性子イメージインテンシファイア(中性子I.I.)を用いた受像体と、原子炉を用いた中性子発生源と、を用いる例を図示する。図2は、測定系を用いて被検体等の対象物の透過画像を得る方法を説明するための模式図である。図3および図4は、測定系に用いられる中性子グリッドの構造例を示す断面模式図である。
次に、中性子グリッド15を構成する材料について述べる。図5は、横軸を元素の原子番号、縦軸に熱中性子質量減衰係数を示している。参考のために100kVのX線での吸収係数を実線にて図中に示している。
上述した中性子グリッド15は単独で用いることもできるが、少なくとも2以上組み合わせ、各中性子グリッド15を構成するスペーサ151および中性子吸収体152が交差するようにして積層してグリッド積層体を構成してもよい。この場合、一方向における散乱熱中性子nsの吸収除去のみならず、他方向における散乱熱中性子nsの吸収除去も行うことができる。例えば、2つの中性子グリッド15を各中性子グリッド15を構成するスペーサ151および中性子吸収体152が互いに直交するようにすれば、X方向およびY方向の2方向において二次元的な散乱熱中性子nsの吸収除去を行うことができる。
次に、上述した中性子グリッド15の製造方法について説明する。
中性子グリッド15の第1の製造方法は、スペーサ151の表面に蒸着法を用いて中性子吸収体152に適用可能な材料を含む中性子吸収体152の膜体を形成する工程をスペーサ151毎に繰り返す工程と、スペーサ151および中性子吸収体152を第1の方向に沿って配列してグリッド部を形成する工程と、第3の方向に沿ってカバー材153およびカバー材154によりグリッド部を挟持する工程と、を具備する。
上述した中性子グリッド15の第2の製造方法は、粒径が10μm以下の酸化ガドリニウム(Gd2O3)および酸硫化ガドリニウム(Gd2O2S)、Gdの少なくとも1種の材料あるいはこの内の元素を含む粉末、または粒径が10μm以下の濃縮ボロンを含む炭化ボロン(10B4C)および窒化ボロン(10BN)、Bの少なくとも1種の材料あるいはこの内の元素を含む粉末とバインダとを混合し、混合物を用いてスペーサ151上に沈降法によって中性子吸収体152の膜体を形成する工程をスペーサ151毎に繰り返す工程と、スペーサ151および中性子吸収体152を第1の方向に沿って配列してグリッド部を形成する工程と、第3の方向に沿ってカバー材153およびカバー材154によりグリッド部を挟持する工程と、を具備する。なお、中性子吸収体152に適用可能な材料であれば他の材料を用いて沈降法により中性子吸収体152の膜体を形成してもよい。
上述した中性子グリッド15を製造する第3の製造方法としては、粒径が10μm以下の酸化ガドリニウム(Gd2O3)および酸硫化ガドリニウム(Gd2O2S)、Gdの少なくとも1種の材料あるいはこの内の元素を含む粉末、または粒径が10μm以下の濃縮ボロンを含む炭化ボロン(10B4C)および窒化ボロン(10BN)、Bの少なくとも1種の材料あるいはこの内の元素を含む粉末とバインダとを混合し、混合物を用いてスペーサ151上に印刷法によって中性子吸収体152の膜体を形成する工程をスペーサ151毎に繰り返す工程と、スペーサ151および中性子吸収体152を第1の方向に沿って配列してグリッド部を形成する工程と、第3の方向に沿ってカバー材153およびカバー材154によりグリッド部を挟持する工程と、を具備する。なお、中性子吸収体152に適用可能な材料であれば他の材料を用いて印刷法により中性子吸収体152の膜体を形成してもよい。
図8は、測定系を用いて被検体等の対象物の透過画像を得る他の方法を説明するための模式図である。図8に示すように、中性子発生源11(本例では点線源Oとしている)から照射された熱中性子n1の照射方向と中性子グリッド15の集束方向とがずれているような場合、熱中性子n1は、スペーサ151および中性子吸収体152の延在方向と略平行に入射せずに、所定の角度で延在方法と交差して入射する。この状態では、熱中性子n1が中性子グリッド15を透過することができず、受像体16において被検体14(図8では図示せず)の透過画像を得ることができない。
Claims (15)
- 対象物を透過する第1の中性子の少なくとも一部を透過する複数のスペーサと、前記対象物により散乱された第2の中性子の少なくとも一部を吸収する複数の吸収体と、を有し、前記スペーサおよび前記吸収体が第1の方向に沿って交互に配列され且つ前記第1の方向と交差する第2の方向に沿って延在するグリッド部と、
前記第1の方向および前記第2の方向と交差する第3の方向に沿って前記グリッド部を挟持し且つ前記第1の中性子の少なくとも一部および前記第2の中性子の少なくとも一部を透過する一対のカバー材と、
を具備し、
前記スペーサと前記吸収体との間の熱膨張係数差は±9×10-6/℃以内である、または前記スペーサのヤング率は100GPa以上である、中性子グリッド。 - 前記熱膨張係数差は±9×10-6/℃以内であり、且つ前記スペーサのヤング率は100GPa以上である、請求項1に記載の中性子グリッド。
- 前記第1および第2の中性子は、熱中性子を含む、請求項1に記載の中性子グリッド。
- 前記吸収体の熱中性子質量減衰係数は、前記スペーサの熱中性子質量減衰係数の100倍以上である、請求項3に記載の中性子グリッド。
- 前記スペーサは、Si、W、Al2O3、AlN、SiC、およびY2O3から選ばれる少なくとも1つを含む、請求項1に記載の中性子グリッド。
- 前記吸収体は、B、Gd、Sm、Li、Cd、Ta、Gd2O3、および10B4Cから選ばれる少なくとも1つを含む、請求項1に記載の中性子グリッド。
- 前記第1の方向における前記吸収体の幅は、0.01μm以上30μm以下である、請求項6に記載の中性子グリッド。
- 前記第1の方向における前記吸収体の幅は、100μm以上500μm以下である、請求項6に記載の中性子グリッド。
- 前記カバー材は、Al、W、Pb、およびBiから選ばれる少なくとも1つを含む、請求項1に記載の中性子グリッド。
- 前記複数のスペーサおよび前記複数の吸収体の少なくとも一つは、前記第1の中性子の入射方向に沿って延在する、請求項1に記載の中性子グリッド。
- 前記複数のスペーサおよび前記複数の吸収体の少なくとも一つは、前記一対のカバー材の一方から他方に向かって互いに平行に延在する、請求項1に記載の中性子グリッド。
- 前記複数のスペーサおよび前記複数の吸収体の少なくとも一つは、前記一対のカバー材の一方から他方に向かって互いの間隔が広がるように延在する、請求項1に記載の中性子グリッド。
- 請求項1に記載の中性子グリッドからなる第1の中性子グリッドと、
請求項1に記載の中性子グリッドからなり且つ前記第1の中性子グリッドに積層された第2の中性子グリッドと、
を具備する、中性子グリッド積層体。 - 請求項1に記載の中性子グリッドと、
前記中性子グリッドの中心軸の軸方向を前記第1の中性子の入射方向と一致させるための制御装置と、
を具備する、中性子グリッド装置。 - 請求項1に記載の中性子グリッドの製造方法であって、
蒸着法、沈降法、または印刷法により前記スペーサの表面に前記吸収体を形成する工程と、
前記スペーサおよび前記吸収体を前記第1の方向に沿って配列して前記グリッド部を形成する工程と、
前記第3の方向に沿って前記一対のカバー材により前記グリッド部を挟持する工程と、を具備する、中性子グリッドの製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP17775067.6A EP3438707B1 (en) | 2016-03-29 | 2017-03-28 | Neutron grid, neutron grid layered body, neutron grid device, and method for manufacturing neutron grid |
CN201780020012.2A CN109073770B (zh) | 2016-03-29 | 2017-03-28 | 中子栅格、中子栅格层叠体、中子栅格装置及中子栅格的制造方法 |
JP2018508064A JP6856624B2 (ja) | 2016-03-29 | 2017-03-28 | 中性子グリッド、中性子グリッド積層体、中性子グリッド装置、および中性子グリッドの製造方法 |
US16/139,281 US10473597B2 (en) | 2016-03-29 | 2018-09-24 | Neutron grid, neutron grid stack, neutron grid device, and method of manufacturing neutron grid |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016065758 | 2016-03-29 | ||
JP2016-065758 | 2016-03-29 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
US16/139,281 Continuation US10473597B2 (en) | 2016-03-29 | 2018-09-24 | Neutron grid, neutron grid stack, neutron grid device, and method of manufacturing neutron grid |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2017170530A1 true WO2017170530A1 (ja) | 2017-10-05 |
Family
ID=59964642
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2017/012604 WO2017170530A1 (ja) | 2016-03-29 | 2017-03-28 | 中性子グリッド、中性子グリッド積層体、中性子グリッド装置、および中性子グリッドの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10473597B2 (ja) |
EP (1) | EP3438707B1 (ja) |
JP (1) | JP6856624B2 (ja) |
CN (1) | CN109073770B (ja) |
WO (1) | WO2017170530A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110643859A (zh) * | 2019-08-30 | 2020-01-03 | 厦门大学 | 一种含钆钨元素的铝基复合材料及其应用 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010230328A (ja) * | 2009-03-25 | 2010-10-14 | Toshiba Corp | 中性子グリッド及びその製造方法 |
JP2013181916A (ja) * | 2012-03-02 | 2013-09-12 | Fujifilm Corp | 放射線画像撮影用吸収型グリッド及びその製造方法、並びに放射線画像撮影システム |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH201101A (de) * | 1936-11-28 | 1938-11-15 | Georg Schoenander Nils | Sekundärstrahlenblende, insbesondere für Zwecke der Röntgentechnik und Verfahren zur Herstellung derartiger Blenden. |
JPS5724504B2 (ja) * | 1974-02-28 | 1982-05-25 | ||
DE10136946A1 (de) * | 2001-07-28 | 2003-02-06 | Philips Corp Intellectual Pty | Streustrahlenraster für eine Röntgeneinrichtung |
DE102005052992A1 (de) | 2005-11-07 | 2007-05-16 | Siemens Ag | Streustrahlenraster zur Reduktion einer Streustrahlung in einem Röntgengerät und Röntgengerät mit einem Streustrahlenraster |
JP2008232731A (ja) | 2007-03-19 | 2008-10-02 | Shimadzu Corp | 散乱x線除去用グリッド及びその製造方法 |
WO2010133920A1 (en) * | 2009-05-20 | 2010-11-25 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Anti-scatter arrangement for a radiation detector |
JP2010023032A (ja) * | 2009-08-19 | 2010-02-04 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 旋回型サイクロン |
JP2012112882A (ja) * | 2010-11-26 | 2012-06-14 | Fujifilm Corp | 放射線画像撮影用グリッド及びその製造方法、並びに放射線画像撮影システム |
JP2012161412A (ja) * | 2011-02-04 | 2012-08-30 | Fujifilm Corp | 放射線画像撮影用グリッド及びその製造方法、並びに放射線画像撮影システム |
-
2017
- 2017-03-28 WO PCT/JP2017/012604 patent/WO2017170530A1/ja active Application Filing
- 2017-03-28 EP EP17775067.6A patent/EP3438707B1/en active Active
- 2017-03-28 CN CN201780020012.2A patent/CN109073770B/zh active Active
- 2017-03-28 JP JP2018508064A patent/JP6856624B2/ja active Active
-
2018
- 2018-09-24 US US16/139,281 patent/US10473597B2/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010230328A (ja) * | 2009-03-25 | 2010-10-14 | Toshiba Corp | 中性子グリッド及びその製造方法 |
JP2013181916A (ja) * | 2012-03-02 | 2013-09-12 | Fujifilm Corp | 放射線画像撮影用吸収型グリッド及びその製造方法、並びに放射線画像撮影システム |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
See also references of EP3438707A4 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20190025230A1 (en) | 2019-01-24 |
CN109073770A (zh) | 2018-12-21 |
EP3438707B1 (en) | 2021-03-17 |
EP3438707A1 (en) | 2019-02-06 |
JPWO2017170530A1 (ja) | 2019-02-07 |
CN109073770B (zh) | 2022-07-12 |
US10473597B2 (en) | 2019-11-12 |
EP3438707A4 (en) | 2019-12-11 |
JP6856624B2 (ja) | 2021-04-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4746245B2 (ja) | 散乱線除去格子 | |
JP5491753B2 (ja) | 中性子グリッド及びその製造方法 | |
US8842809B2 (en) | Method and apparatus for X-ray radiographic imaging | |
US20040251420A1 (en) | X-ray detectors with a grid structured scintillators | |
JP6694890B2 (ja) | 散乱線グリッド、層板及び層板の製造方法 | |
JP6762949B2 (ja) | 中性子検出用シンチレータアレイおよび中性子の検出方法 | |
JP2008510131A (ja) | シンチレータおよび抗散乱グリッドの配置 | |
WO2017170530A1 (ja) | 中性子グリッド、中性子グリッド積層体、中性子グリッド装置、および中性子グリッドの製造方法 | |
JP2017227520A (ja) | 積層型シンチレータパネル | |
Miller et al. | High-Resolution Thermal Neutron Imaging With ¹⁰Boron/CsI: Tl Scintillator Screen | |
JP6629153B2 (ja) | 核燃料の非破壊検査装置及び方法 | |
EP3261092B1 (en) | Laminated scintillator panel | |
JP4653442B2 (ja) | 放射線シンチレータおよび放射線画像検出器 | |
US9885791B2 (en) | Scintillator and radiation detector | |
JP6862427B2 (ja) | シンチレータアレイ | |
MacGillivray | Neutron radiography collimator design | |
JP2005164585A (ja) | 検出器アレイ前での散乱線遮蔽方法 | |
JP2019190870A (ja) | シンチレータパネル | |
CN102736099A (zh) | 数字x射线探测器 | |
Camattari et al. | Quasi-mosaic crystals for high-resolution focusing of hard x-rays through a Laue lens | |
Merkle | Energy Dependence of Fission‐Fragment Damage in Gold Films | |
WO2008023431A1 (fr) | Grille et son procédé de fabrication | |
Parks et al. | Antiscatter grids for low-energy neutron radiography | |
JP2018146254A (ja) | シンチレータパネル | |
JP6734035B2 (ja) | シンチレータパネルおよびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 2018508064 Country of ref document: JP |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 2017775067 Country of ref document: EP |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 2017775067 Country of ref document: EP Effective date: 20181029 |
|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 17775067 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |