WO2017051725A1 - 透明導電性フィルム、及びそれを含むタッチパネル - Google Patents

透明導電性フィルム、及びそれを含むタッチパネル Download PDF

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WO2017051725A1
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conductive film
film
transparent
resin
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圭祐 松本
豪彦 安藤
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日東電工株式会社
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    • H—ELECTRICITY
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    • H01B5/14—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form comprising conductive layers or films on insulating-supports
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means

Definitions

  • the present invention relates to a transparent conductive film having a transparent resin film and a transparent conductive film, and a touch panel including the same.
  • cyclic olefin resins and the like have disadvantages such as weak material strength and expensive materials themselves, and the use of inexpensive and high strength materials is being studied.
  • Patent Document 1 proposes a transparent conductive film using a transparent resin film made of stretched polyester or the like having an in-plane retardation value of 4000 nm or more as a substrate. According to this transparent conductive film, even when viewed through polarized sunglasses, color unevenness hardly occurs.
  • polyester films with large in-plane retardation value have weak material strength for uniaxial stretching and thick films to enhance retardation, so material cost increases and productivity is not good. There is a disadvantage and it is difficult to handle as a general-purpose material.
  • Transparent conductive film, and a touch panel including the same.
  • the present inventors use, as a substrate, a biaxially stretched polyester resin film in which the in-plane retardation value and the thickness direction retardation value fall within a predetermined range. As a result, the inventors have found that the above object can be achieved, resulting in the present invention.
  • the transparent conductive film of the present invention is a transparent conductive film having a transparent resin film and a transparent conductive film, and the transparent resin film is a biaxially stretched polyester resin film, and is in-plane. It is characterized in that the retardation value is 150 nm or less and the thickness direction retardation value is 1000 nm or less.
  • the various physical-property values in this invention are values measured by the method employ
  • a biaxially stretched polyester resin film has sufficient material strength and is inexpensive, but has an in-plane retardation of about 1000 to 2000 nm, which is used as a substrate of a transparent conductive film.
  • the effect of depolarizing polarized light is insufficient due to wavelength dispersion, and rainbow unevenness occurs.
  • a polyester resin film having an in-plane retardation value of 150 nm or less and a thickness direction retardation value of 1000 nm or less as in the present invention as shown in the examples, sufficient rainbows are exhibited. The effect of suppressing unevenness can be obtained.
  • the transparent conductive film of the present invention by using polyester with low retardation as a substrate, it has sufficient material strength, low material cost, good productivity, and sufficient rainbow unevenness. It is possible to provide a transparent conductive film in which the suppression effect of
  • the transparent resin film it is preferable to have at least one optical adjustment layer between the transparent resin film and the transparent conductive film. Since the refractive index can be controlled by the optical adjustment layer, the difference in reflectance between the pattern formation portion and the pattern opening when patterning the transparent conductive film can be reduced, and the transparent conductive film pattern is difficult to see, such as a touch panel The visibility is improved in the display device.
  • the thickness of the transparent resin film is preferably 5 to 50 ⁇ m.
  • a biaxially stretched polyester-based resin film having an in-plane retardation value of 150 nm or less and a thickness direction retardation value of 1000 nm or less can be easily manufactured at low cost.
  • the transparent resin film is preferably a long sheet or a rectangular sheet, and the orientation axis preferably has an angle of 10 to 45 ° with respect to the long side or the short side.
  • a transparent conductive film is often used by being laminated on a rectangular optical display device such as a liquid crystal cell, and light from the optical display device is often polarized parallel or perpendicular to its long side. Therefore, in the present invention, when the orientation axis has an angle of 10 to 45 ° with respect to the long side or the short side, the slow axis can be easily disposed at an angle of 10 to 45 ° with respect to the polarized light.
  • the resin film increases the effect of circularly polarizing polarized light, and a sufficient rainbow unevenness suppressing effect can be easily obtained.
  • the cured resin layer functions as a hard coat layer for preventing damage and the like during transportation, and can also function as an anti-blocking layer by causing unevenness on the surface.
  • the transparent conductive film of the present invention can be made adhesive by configuring the protective film as a separator.
  • the touch panel of the present invention is characterized by being obtained using the transparent conductive film of the present invention.
  • the transparent conductive film of the present invention it is possible to provide a touch panel having sufficient material strength, low material cost, good productivity, and a sufficient rainbow unevenness suppressing effect.
  • the transparent conductive film 20 of the present invention has a transparent resin film 4 and a transparent conductive film 6 as shown in FIGS. 1 to 3, and between the transparent resin film 4 and the transparent conductive film 6 It is preferable to have at least one optical adjustment layer 7. Further, as shown in FIGS. 2 to 3, at least one surface of the transparent resin film 4 may have a cured resin layer such as the antiblocking layer 3 or the hard coat layer 5. Furthermore, as shown in FIGS. 4 to 6, the transparent conductive film 20 has the pressure-sensitive adhesive layer 2 and the protective film 1 in this order on the side of the transparent resin film 4 on which the transparent conductive film 6 is not provided. In this case, the carrier film 10 is composed of the pressure-sensitive adhesive layer 2 and the protective film 1.
  • Transparent resin film As the transparent resin film, a biaxially stretched polyester resin film is used. "Biaxially stretched” indicates that the film is stretched in at least two directions, and the two-direction stretching may be simultaneous or sequential.
  • Polyester-based resins include polyester-based resins selected from polyesters, modified polyesters, and blends thereof.
  • polyester for example, those obtained by condensation polymerization of a carboxylic acid component and a polyol component can be used.
  • Examples of the carboxylic acid component include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids and alicyclic dicarboxylic acids.
  • aromatic dicarboxylic acids include terephthalic acid, isophthalic acid, benzylmalonic acid, 1,4-naphthalic acid, diphenic acid, 4,4'-oxybenzoic acid and 2,5-naphthalenedicarboxylic acid.
  • aliphatic dicarboxylic acids include malonic acid, dimethylmalonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, trimethyladipic acid, pimelic acid, 2,2-dimethylglutaric acid, azelaic acid, zevacic acid, fumaric acid, Maleic acid, itaconic acid, thiodipropionic acid and diglycolic acid can be mentioned.
  • 1,3-cyclopentanedicarboxylic acid 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclopentanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 2,5-norbornanedicarboxylic acid
  • acids and adamantane dicarboxylic acid include acids and adamantane dicarboxylic acid.
  • the carboxylic acid component may be an ester, a chloride, a derivative such as an acid anhydride, for example, dimethyl 1,4-cyclohexanedicarboxylate, dimethyl 2,6-naphthalenedicarboxylate, dimethyl isophthalate, dimethyl terephthalate And diphenyl terephthalate.
  • the carboxylic acid component may be used alone or in combination of two or more.
  • the polyol component typically includes a dihydric alcohol.
  • dihydric alcohols include aliphatic diols, alicyclic diols and aromatic diols.
  • aliphatic diols include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, 1,3-propanediol, 2,4-dimethyl-2-ethylhexane-1,3-diol, 2-Dimethyl-1,3-propanediol (neopentyl glycol), 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-2-isobutyl-1,3-propanediol, 1,3-propanediol Butadiol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentaned
  • aromatic diol for example, 4,4'-thiodiphenol, 4,4'-methylenediphenol, 4,4 '-(2-norbornylidene) diphenol, 4,4'-dihydroxybiphenol, o-, m- and p-dihydroxybenzenes, 4,4'-isopropylidenephenol, 4,4'-isopropylidenebis (2,6-cyclolophenol) 2,5-naphthalenediol and p-xylenediol can be mentioned.
  • the polyol component may be used alone or in combination of two or more.
  • Preferred carboxylic acid components include terephthalic acid, isophthalic acid and 2,5-naphthalenedicarboxylic acid.
  • Preferred polyol components include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,3-cyclohexanedimethanol, and 1,4-cyclohexanedimethanol.
  • polyester resins include, for example, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene naphthalate (PEN), polycyclohexylene terephthalate, and copolymers, blends and modified products thereof.
  • PET polyethylene terephthalate
  • PBT polybutylene terephthalate
  • PEN polyethylene naphthalate
  • copolymers blends and modified products thereof.
  • the polyester resin may be modified PET containing a repeating unit derived from cyclohexane dimethanol.
  • the proportion of cyclohexanedimethanol in the polyol component is preferably more than 0 mol% and 10 mol% or less, more preferably more than 0 mol% and 3 mol% or less.
  • the polyester-based resin may be modified PET including a repeating unit derived from isophthalic acid.
  • the proportion of isophthalic acid in the carboxylic acid component is preferably more than 0 mol% and 20 mol% or less, more preferably more than 0 mol% and 10 mol% or less. Needless to say, these embodiments may be combined.
  • the transparent resin film is manufactured as a biaxially stretched long film (long body).
  • long refers to an elongated shape having a length to width ratio of 10 or more.
  • the ratio of length to width of the transparent resin film is preferably 30 or more, more preferably 100 or more.
  • the transparent resin film is an elongated body wound in a roll, and in another embodiment, the transparent resin film is a rectangular sheet.
  • the orientation axis of the transparent resin film preferably has an angle of 10 to 45 ° to the long side or the short side, an angle of 20 to 45 ° is more preferable, and an angle of 30 to 45 ° is most preferable.
  • the orientation axis of the transparent resin film is preferably disposed at an angle of 10 to 80 ° with respect to the vibration direction of linearly polarized light emitted from the display device, and More preferably, they are arranged at an angle of 70 °, more preferably at an angle of 30 to 60 °.
  • the direction of the slow axis of the elongated film is in the range of 30 ° to 60 °, preferably in the range of 38 ° to 52 °, more preferably 43 ° with respect to the longitudinal direction over the entire area in the width direction of the film. More preferably, the slow axis direction forms an angle of about 45 ° with the long direction.
  • the transparent resin film can obtain the transparent resin film which has a slow axis in the diagonal direction with the outstanding axial precision by applying the manufacturing method containing diagonal stretch.
  • the in-plane retardation R0 of the transparent resin film is 0 to 150 nm, preferably 10 to 130 nm, and more preferably 20 to 110 nm from the viewpoint of enhancing the suppression effect of rainbow unevenness.
  • the in-plane retardation R0 is an in-plane retardation of the film measured with light of wavelength 590 nm at 23 ° C.
  • nx is the refractive index in the direction in which the in-plane refractive index is maximum (ie, the slow axis direction)
  • ny is the refractive index in the in-plane direction orthogonal to the slow axis.
  • the thickness direction retardation Rth of the transparent resin film is 1,000 nm or less, preferably 350 to 950 nm, more preferably 400 to 900 nm from the viewpoint of obtaining sufficient strength while enhancing the rainbow unevenness suppressing effect. .
  • the thickness direction retardation Rth is a thickness direction retardation of the film measured with light of wavelength 590 nm at 23 ° C.
  • nx is the refractive index in the direction in which the in-plane refractive index is maximum (that is, the slow axis direction)
  • nz is the refractive index in the thickness direction.
  • the ratio R0 / Rth of the phase difference is also important, and from the viewpoint of obtaining sufficient strength while enhancing the rainbow unevenness suppressing effect, the ratio R0 / Rth of the phase difference is 0.01 to 0.5. Is preferred, 0.02 to 0.47 is more preferred, and 0.04 to 0.45 is even more preferred.
  • the dimensional shrinkage of the transparent resin film after heating at 80 ° C. for 240 hours is preferably 2.0% or less, more preferably 1.0% or less.
  • the transparent resin film preferably has a crystallinity of 25% or more, more preferably 30% or more, as measured by X-ray diffraction (XRD).
  • the upper limit of the degree of crystallinity is, for example, 70%. If the degree of crystallinity is in such a range, the film does not shrink when the film after stretching is heated, and optical characteristics such as retardation and orientation angle are hardly changed.
  • the thickness of the transparent resin film is preferably 5 to 50 ⁇ m, more preferably 7 ⁇ m to 40 ⁇ m, and still more preferably 10 to 30 ⁇ m from the viewpoint of obtaining the in-plane retardation and the thickness direction retardation as described above and enhancing the handling property. preferable.
  • the glass transition temperature of the polyester resin is preferably 65 ° C. to 80 ° C., more preferably 70 ° C. to 75 ° C. If the glass transition temperature is too low, the desired dimensional shrinkage may not be obtained. When the glass transition temperature is excessively high, the molding stability at the time of film molding may be deteriorated, and the transparency of the film may be impaired.
  • the glass transition temperature is determined in accordance with JIS K 7121 (1987).
  • the weight average molecular weight of the polyester resin is preferably 10,000 to 100,000, and more preferably 15,000 to 50,000. With such a weight average molecular weight, a film can be obtained which is easy to handle at the time of molding and has excellent mechanical strength.
  • the polyester-based resin may be formed into a film by any suitable method.
  • the obtained polyester-based resin film can be a biaxially stretched film by a method of stretching in the longitudinal and transverse biaxial directions.
  • a transparent resin film having an orientation axis in an oblique direction can be suitably obtained by using a manufacturing method including oblique stretching.
  • step A holding step
  • step B Preheating step
  • step C drawing step
  • step D crystallization step
  • step E release step
  • the transparent resin film used by this invention can be suitably manufactured with the manufacturing method containing.
  • the transparent resin film is subjected to an etching treatment such as sputtering, corona discharge, flame, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, chemical formation, oxidation, or undercoating beforehand on the surface to form an optical adjustment layer formed on the transparent resin film, curing Adhesion to a resin layer, a transparent conductive film or the like may be improved.
  • the surface of the transparent resin film may be dusted and cleaned by solvent washing, ultrasonic washing or the like, if necessary.
  • the cured resin layer includes a first cured resin layer provided on one first main surface side of the transparent resin film and a second cured resin layer provided on the opposite second main surface side. Since the transparent resin film is easily scratched in each process such as formation of the transparent conductive film, patterning of the transparent conductive film, or mounting on an electronic device, as described above, the first cured resin is formed on both sides of the transparent resin film. It is preferable to form a layer and a second cured resin layer.
  • the cured resin layer is a layer obtained by curing a curable resin.
  • the resin to be used has sufficient strength as a film after formation of a cured resin layer, and a resin having transparency can be used without particular limitation, but thermosetting resin, ultraviolet curable resin, electron beam curable resin, two-component resin Mixed type resin etc. are mention
  • an ultraviolet curable resin capable of efficiently forming a cured resin layer by a simple processing operation by a curing treatment by ultraviolet irradiation is preferable.
  • UV curable resin examples include polyester resins, acrylic resins, urethane resins, amide resins, silicone resins and epoxy resins, and include UV curable monomers, oligomers, polymers and the like.
  • the ultraviolet curable resin which is preferably used is an acrylic resin or an epoxy resin, more preferably an acrylic resin.
  • the cured resin layer may contain particles. By blending the particles in the cured resin layer, bumps can be formed on the surface of the cured resin layer, and blocking resistance can be suitably imparted to the transparent conductive film.
  • grains what has transparency, such as various metal oxides, glass, a plastics, can be used without a restriction
  • cross-linked or not comprising various polymers such as inorganic particles such as silica, alumina, titania, zirconia and calcium oxide, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyurethane, acrylic resin, acrylic-styrene copolymer, benzoguanamine, melamine and polycarbonate
  • examples thereof include crosslinked organic particles and silicone particles.
  • the particles may be used alone or in combination of two or more, but organic particles are preferred.
  • acrylic resins are preferable from the viewpoint of the refractive index.
  • the most frequent particle diameter of the particles can be appropriately set in consideration of the degree of protrusion of the bumps of the cured resin layer, the relationship with the thickness of the flat region other than the bumps, and the like, and is not particularly limited.
  • the mode diameter of the particles is preferably 0.1 to 3 ⁇ m, and more preferably 0.5 to 2. 5 ⁇ m is more preferred.
  • the "mode particle size” refers to the particle size showing the maximum value of the particle distribution, using a flow-type particle image analyzer (product name "FPTA-3000S" manufactured by Sysmex Corporation).
  • a measurement sample used is one in which particles are diluted to 1.0% by weight with ethyl acetate and uniformly dispersed using an ultrasonic cleaner.
  • the content of the particles is preferably 0.05 to 1.0 parts by weight, and more preferably 0.1 to 0.5 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the solid content of the resin composition. More preferably, it is in the range of 1 to 0.2 parts by weight.
  • the content of particles in the cured resin layer is small, it tends to be difficult to form a protrusion sufficient to impart blocking resistance and slipperiness to the surface of the cured resin layer.
  • the content of the particles is too large, the haze of the transparent conductive film is increased due to the light scattering by the particles, and the visibility tends to be reduced.
  • streaks are generated at the time of formation of a cured resin layer (at the time of application of a solution), the visibility is impaired, or the electrical characteristics of the transparent conductive film become uneven. There is a case.
  • a resin composition containing each curable resin and particles to be added as necessary, a crosslinking agent, an initiator, a sensitizer and the like is applied on a transparent resin film, and the resin composition contains a solvent. Is obtained by drying the solvent and curing it by application of heat, active energy rays or both.
  • the heat may be any known means such as an air circulation oven or an IR heater, but is not limited to these methods.
  • the active energy ray include ultraviolet rays, electron beams, gamma rays and the like, but are not particularly limited.
  • the cured resin layer can be formed into a film by the wet coating method (coating method) etc. using said material.
  • the wet coating method coating method
  • the crystallization time of the transparent conductive film can be shortened if the surface of the cured resin layer which is the base layer is smooth.
  • the cured resin layer is preferably formed by wet coating.
  • the thickness of the cured resin layer is preferably 0.5 ⁇ m to 5 ⁇ m, more preferably 0.7 ⁇ m to 3 ⁇ m, and most preferably 0.8 ⁇ m to 2 ⁇ m.
  • the thickness of the cured resin layer is in the above range, it is possible to prevent damage and prevent film wrinkles in curing shrinkage of the cured resin layer, and to prevent deterioration in visibility of a touch panel or the like.
  • Transparent conductive film Although a transparent conductive film can be provided on a transparent resin film, it is preferable to be provided on the 1st cured resin layer provided in the one 1st main surface side of a transparent resin film.
  • the constituent material of the transparent conductive film is not particularly limited as long as it contains an inorganic substance, and indium, tin, zinc, gallium, antimony, titanium, silicon, zirconium, magnesium, aluminum, gold, silver, copper, palladium, tungsten Metal oxides of at least one selected metal are preferably used.
  • the said metal oxide may contain the metal atom further shown by the said group as needed.
  • ITO indium oxide
  • tin oxide tin oxide
  • ATO tin oxide
  • the content of tin oxide in the transparent conductive film is preferably 1 to 20% by weight, and more preferably 3 to 15% by weight.
  • the thickness of the transparent conductive film is not particularly limited, but the thickness is preferably 10 nm or more in order to make the surface resistance a continuous film having good conductivity of 1 ⁇ 10 3 ⁇ / ⁇ or less. If the film thickness is too large, the transparency may be reduced, and so the thickness is preferably 15 to 35 nm, and more preferably in the range of 20 to 30 nm. When the thickness of the transparent conductive film is less than 10 nm, the electric resistance of the film surface becomes high, and it becomes difficult to form a continuous film. When the thickness of the transparent conductive film exceeds 35 nm, the transparency may be reduced.
  • the formation method of a transparent conductive film is not specifically limited, A conventionally well-known method is employable. Specifically, dry processes, such as a vacuum evaporation method, sputtering method, an ion plating method, can be illustrated, for example. In addition, an appropriate method can be adopted according to the required film thickness.
  • dry processes such as a vacuum evaporation method, sputtering method, an ion plating method
  • an appropriate method can be adopted according to the required film thickness.
  • dry processes such as a vacuum evaporation method, sputtering method, an ion plating method
  • an appropriate method can be adopted according to the required film thickness.
  • the surface of a transparent conductive film will be the 1st hardening which is the base layer. Almost maintain the surface shape of the resin layer. Therefore, when a convex exists in a 1st cured resin layer, blocking resistance and slipperiness can be suitably provided also to the transparent conductive film surface.
  • the transparent conductive film can be crystallized by being subjected to a heat annealing treatment (for example, at 80 to 150 ° C. for about 30 to 90 minutes in an air atmosphere) as necessary.
  • a heat annealing treatment for example, at 80 to 150 ° C. for about 30 to 90 minutes in an air atmosphere.
  • the means for converting the amorphous transparent conductive film into a crystalline material is not particularly limited, but an air circulating oven, an IR heater or the like may be used.
  • the transparent conductive film may be patterned by etching or the like.
  • the patterning of the transparent conductive film can be performed using a conventionally known photolithography technique.
  • An acid is preferably used as the etching solution.
  • the acid include inorganic acids such as hydrogen chloride, hydrogen bromide, sulfuric acid, nitric acid and phosphoric acid, organic acids such as acetic acid, and mixtures thereof, and aqueous solutions thereof.
  • inorganic acids such as hydrogen chloride, hydrogen bromide, sulfuric acid, nitric acid and phosphoric acid
  • organic acids such as acetic acid, and mixtures thereof
  • aqueous solutions thereof for example, in a transparent conductive film used for a capacitive touch panel or a matrix resistive touch panel, it is preferable that the transparent conductive film be patterned in a stripe shape.
  • the transparent conductive film may be amorphous or crystalline when laminating a carrier film described later. For example, after bonding a protective film to a transparent conductive film in a state in which the transparent conductive film is amorphous via an adhesive layer, it is possible to convert it into a crystalline by annealing treatment.
  • the transparent conductive film may include metal nanowires.
  • the metal nanowire refers to a conductive material whose material is metal and whose shape is needle-like or thread-like and whose diameter is nanometer size.
  • the metal nanowires may be linear or curvilinear. If a transparent conductive layer composed of metal nanowires is used, the metal nanowires form a mesh, whereby even a small amount of metal nanowires can form a good electrical conduction path, and a transparent material with low electrical resistance. A conductive film can be obtained. Furthermore, when the metal nanowires are in the shape of a net, an opening can be formed in the interstices of the net, and a transparent conductive film with high light transmittance can be obtained.
  • any appropriate metal can be used as the metal constituting the metal nanowire as long as the metal is a highly conductive metal.
  • a metal which comprises the said metal nanowire silver, gold
  • a material obtained by plating (for example, gold plating) on these metals may be used.
  • silver, copper or gold is preferable, and silver is more preferable.
  • one or more optical adjustment layers can be further included between the transparent resin film or the first cured resin layer and the transparent conductive film.
  • the transmittance of the transparent conductive film is increased, or when the transparent conductive film is patterned, the transmittance difference or the reflectance difference between the pattern portion where the pattern remains and the opening portion where the pattern does not remain It can be used to obtain a transparent conductive film with reduced visibility and excellent visibility.
  • the refractive index of the optical adjustment layer is preferably 1.5 to 1.8, more preferably 1.51 to 1.78, and still more preferably 1.52 to 1.75. Thereby, the transmittance
  • the optical adjustment layer is formed of an inorganic substance, an organic substance, or a mixture of an inorganic substance and an organic substance.
  • the material for forming the optical adjustment layer NaF, Na 3 AlF 6, LiF, MgF 2, CaF 2, SiO 2, LaF 3, CeF 3, Al 2 O 3, TiO 2, Ta 2 O 5, ZrO 2, Examples thereof include inorganic substances such as ZnO, ZnS and SiO x (x is 1.5 or more and less than 2), and organic substances such as acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, melamine resin, alkyd resin, and siloxane-based polymer.
  • thermosetting resin comprising a mixture of a melamine resin, an alkyd resin and an organic silane condensate as the organic substance.
  • the optical adjustment layer can be formed using the above materials by a wet method, a coating method such as a gravure coating method or a bar coating method, a vacuum evaporation method, a sputtering method, an ion plating method, or the like.
  • the optical adjustment layer may have nanoparticles with an average particle size of 1 nm to 500 nm.
  • the content of nanoparticles in the optical adjustment layer is preferably 0.1% by weight to 90% by weight.
  • the average particle diameter of the nanoparticulates used in the optical adjustment layer is preferably in the range of 1 nm to 500 nm, and more preferably 5 nm to 300 nm.
  • the content of the nano particles in the optical adjustment layer is more preferably 10% by weight to 80% by weight, and still more preferably 20% by weight to 70% by weight.
  • Examples of the inorganic oxide forming the nanoparticulates include fine particles of silicon oxide (silica), hollow nanosilica, titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide, niobium oxide and the like.
  • fine particles of silicon oxide (silica), titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide and niobium oxide are preferable.
  • One of these may be used alone, or two or more may be used in combination.
  • the thickness of the optical adjustment layer is preferably 10 nm to 200 nm, more preferably 20 nm to 150 nm, and still more preferably 30 nm to 130 nm. If the thickness of the optical adjustment layer is excessively small, it is difficult to form a continuous film. In addition, when the thickness of the optical adjustment layer is excessively large, the transparency of the transparent conductive film tends to be reduced, or a crack tends to be generated.
  • Metal layer, metal wiring In the present invention, it is also possible to provide a metal layer or metal wiring on the transparent conductive film.
  • the metal wiring can be formed by etching after forming the metal layer on the transparent conductive film, but is preferably formed using a photosensitive metal paste as follows. That is, after a transparent conductive film is patterned, the metal wiring applies the below-mentioned photosensitive conductive paste on the said transparent resin film or on the said transparent conductive film, forms a photosensitive metal paste layer, and is used as a photomask. The photosensitive metal paste layer is exposed through a photomask by laminating or approaching, and then developed, patterned and obtained through a drying process. That is, the pattern formation of metal wiring is possible by the well-known photolithography method etc.
  • the photosensitive conductive paste preferably contains conductive particles such as metal powder and a photosensitive organic component.
  • the material of the conductive particles of the metal powder is preferably one containing at least one selected from the group of Ag, Au, Pd, Ni, Cu, Al and Pt, and more preferably Ag.
  • the volume average particle size of the conductive particles of the metal powder is preferably 0.1 ⁇ m to 2.5 ⁇ m.
  • the conductive particles other than the metal powder may be metal-coated resin particles in which the resin particle surface is coated with metal.
  • a material of the resin particles particles as described above are included, but acrylic resins are preferable.
  • the metal-coated resin particles are obtained by reacting the surface of the resin particles with a silane coupling agent and further coating the surface with metal. By using a silane coupling agent, the dispersion of the resin component can be stabilized to form uniform metal-coated resin particles.
  • the photosensitive conductive paste may further contain a glass frit.
  • the glass frit preferably has a volume average particle size of 0.1 ⁇ m to 1.4 ⁇ m, and preferably has a 90% particle size of 1 to 2 ⁇ m and a top size of 4.5 ⁇ m or less.
  • the composition of the glass frit is not particularly limited, but it is preferable that Bi 2 O 3 be blended in a range of 30% by weight to 70% by weight with respect to the whole.
  • the Bi may oxides contain in addition 2 O 3, may include SiO 2, B 2 O 3, ZrO 2, Al 2 O 3. Na 2 O, K 2 O, Li 2 O is preferably glass frit alkali-free substantially free.
  • the photosensitive organic component preferably comprises a photosensitive polymer and / or a photosensitive monomer.
  • photosensitive polymers include polymers of components selected from compounds having a carbon-carbon double bond such as methyl (meth) acrylate and ethyl (meth) acrylate, and side chains or molecules of acrylic resins comprising these copolymers.
  • a terminal to which a photoreactive group is added is preferably used.
  • Preferred photoreactive groups include ethylenic unsaturated groups such as vinyl, allyl, acryl and methacryl groups.
  • the content of the photosensitive polymer is preferably 1 to 30% by weight and 2 to 30% by weight.
  • photosensitive monomer examples include (meth) acrylate monomers such as methacrylic acrylate and ethyl acrylate, ⁇ -methacryloxypropyltrimethoxysilane, 1-vinyl-2-pyrrolidone and the like, and one or more of them are used. can do.
  • the photosensitive organic component is contained in an amount of 5 to 40% by weight with respect to 100 parts by weight of the metal powder in view of light sensitivity, more preferably 10 to 30 parts by weight.
  • the photosensitive conductive paste of this invention uses a photoinitiator, a sensitizer, a polymerization inhibitor, and an organic solvent as needed.
  • the thickness of the metal layer is not particularly limited.
  • the thickness of the metal layer is appropriately set such that the pattern wiring after formation has a desired resistance value. Therefore, the thickness of the metal layer is preferably 0.01 to 200 ⁇ m, and more preferably 0.05 to 100 ⁇ m.
  • the resistance of the pattern wiring does not become too high, and the power consumption of the device does not increase.
  • the production efficiency of the film formation of the metal layer is increased, the accumulated heat amount at the time of film formation is reduced, and the film is less likely to generate heat wrinkles.
  • the transparent conductive film is a transparent conductive film for a touch panel used in combination with a display
  • a portion corresponding to the display portion is formed of a patterned transparent conductive film, and a metal wiring made from a photosensitive conductive paste Is used for the wiring portion of the non-display portion (for example, the peripheral portion).
  • the transparent conductive film may be used also in the non-display portion, in which case the metal wiring may be formed on the transparent conductive film.
  • the transparent conductive film may have a carrier film.
  • the carrier film has a pressure-sensitive adhesive layer on at least one side of the protective film.
  • the carrier film bonds the transparent conductive film which can be peeled off via the pressure-sensitive adhesive layer to the second main surface side of the transparent conductive film to form a transparent conductive film.
  • an adhesive layer may peel with a protective film, and only a protective film may peel.
  • Protective film As a material which forms a protective film, what is excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, water blocking property, isotropy, etc. is preferable.
  • the protective film a film made of a crystalline resin or an amorphous resin can be used.
  • polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate
  • polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene. Polyester resins are preferable.
  • the non-crystalline resin may, for example, be a cycloolefin resin or a polycarbonate resin, but a polycarbonate resin is preferable from the viewpoint of excellent light transmittance, scratch resistance, water resistance and good mechanical properties.
  • polycarbonate resins include aliphatic polycarbonates, aromatic polycarbonates, and aliphatic-aromatic polycarbonates.
  • the protective film is previously subjected to an etching treatment such as sputtering, corona discharge, flame, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, chemical formation, oxidation or undercoating on the surface, and the pressure-sensitive adhesive layer on the protective film You may make it improve adhesiveness with.
  • an etching treatment such as sputtering, corona discharge, flame, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, chemical formation, oxidation or undercoating on the surface, and the pressure-sensitive adhesive layer on the protective film You may make it improve adhesiveness with.
  • the surface of the protective film may be dusted off and cleaned by solvent cleaning, ultrasonic cleaning, etc., as necessary.
  • the thickness of the protective film is preferably 20 to 150 ⁇ m, more preferably 30 to 100 ⁇ m, and still more preferably 40 to 80 ⁇ m from the viewpoint of improving the workability and the like.
  • Any pressure-sensitive adhesive layer can be used without particular limitation as long as it has transparency.
  • rubber polymers such as acrylic polymers, silicone polymers, polyesters, polyurethanes, polyamides, polyvinyl ethers, vinyl acetate / vinyl chloride copolymers, modified polyolefins, epoxy resins, fluorine resins, natural rubbers, synthetic rubbers, etc.
  • acrylic pressure-sensitive adhesives are preferably used from the viewpoint of excellent optical transparency, adhesion properties such as appropriate wettability, cohesion and adhesiveness, and excellent weather resistance and heat resistance.
  • the method for forming the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, and a method of applying the pressure-sensitive adhesive composition to a release liner, drying and transferring to a substrate film (transfer method), directly applying the pressure-sensitive adhesive composition to a protective film , Drying methods (direct printing method), co-extrusion methods, and the like.
  • a tackifier, a plasticizer, a filler, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a silane coupling agent, and the like can be appropriately used.
  • the preferred thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 5 ⁇ m to 100 ⁇ m, more preferably 10 ⁇ m to 50 ⁇ m, and more preferably 15 ⁇ m to 35 ⁇ m.
  • ⁇ x is preferably 0.15 or less
  • ⁇ y is 0.20 or less
  • ⁇ x is 0.13 or less, as variation in xy color evaluation of evaluation of rainbow unevenness in Examples.
  • ⁇ y is more preferably 0.17 or less.
  • ⁇ x is 0.15 or less, ⁇ y is 0.20 or less, and ⁇ x is 0 as a variation in the xy color specification. More preferably, ⁇ y is 0.17 or less.
  • the transparent conductive film in which the carrier film or the protective film is peeled off from the transparent conductive film can be suitably applied as a transparent electrode of an electronic device such as a touch panel of a capacitive type or resistive film type, for example.
  • a touch panel In the case of formation of a touch panel, other base materials, such as glass and a polymer film, etc. can be bonded together on one or both main surfaces of the transparent conductive film mentioned above via a transparent adhesive layer.
  • a transparent adhesive layer For example, you may form the laminated body in which the transparent substrate was bonded together via the transparent adhesive layer on the surface in which the transparent conductive film of the transparent conductive film is not formed.
  • the transparent substrate may be composed of one base film, or may be a laminate of two or more base films (for example, one laminated via a transparent pressure-sensitive adhesive layer).
  • a hard-coat layer can also be provided in the outer surface of the transparent substrate bonded together to a transparent conductive film.
  • an adhesive layer used for bonding of a transparent conductive film and a base material as mentioned above, as long as it has transparency, it can be used without particular limitation.
  • polyester having a low retardation is used as a substrate to have sufficient material strength, low material cost, good productivity, and sufficient It is possible to provide a touch panel having a transparent conductive film in which the effect of suppressing rainbow rainbow unevenness is obtained. If it is except a touch-panel use, it can be used for the shielding use which shields the electromagnetic waves and noise which are emitted from an electronic device.
  • the in-plane retardation of the transparent resin film was measured at a measurement wavelength of 590 nm under an environment of 23 ° C. using a polarization / retardation measurement system (product name “AxoScan” manufactured by Axometrics). Further, in the same manner, the retardation was measured when the film was inclined by 40 ° with the slow axis direction and the fast axis direction as the rotation center. The order of the measured value of the retardation was determined so as to coincide with the wavelength dispersion of the retardation of the transparent resin film obtained in advance. From these measured values, the in-plane retardation value (R0) and the thickness direction retardation value (Rth) of the transparent resin film were calculated.
  • the transparent conductive film is placed such that the direction of the slow axis (that is, orientation axis) of the substrate is 45 ° with respect to the absorption axis of the first polarizing plate, and the transparent conductive film
  • the second polarizing plate is further placed on the first polarizing plate so that the absorption axis is orthogonal to the absorption axis of the first polarizing plate, and all directions (polar angle 0 ° to 80 °, azimuth angle 0 ° to 360 ° X) and y values were measured with a conoscope, and the variation in xy coloration at that time was evaluated.
  • the smaller the ⁇ x and ⁇ y the more the rainbow unevenness is suppressed, and the ⁇ x is 0.15 or less, and the ⁇ y is 0.20 or less is a standard of the rainbow unevenness suppression.
  • x the hue changes significantly with respect to the angle change
  • ⁇ the angle range in which the hue changes significantly is approximately the polar angle of 40 to 60 °
  • ⁇ The angle range in which the hue changes significantly is approximately the polar angle range of 40 to 50 °, and is narrower than the above 2 :: the hue change with respect to the angle change It was hardly confirmed.
  • Examples 1 to 7 By changing the conditions of biaxial stretching, various polyethylene terephthalates (PET) having in-plane retardation value (R0), thickness direction retardation value (Rth) and thickness as shown in Table 1 as a transparent resin film Got ready.
  • PET polyethylene terephthalates
  • a zirconia particle-containing ultraviolet-curable composition with a refractive index of 1.62 (trade name "Opster Z7412" manufactured by JSR Corporation) was coated as an optical adjustment layer on one side to form a coated layer.
  • the coating layer was irradiated with ultraviolet light from the side on which the coating layer was formed, to form an optical adjustment layer so as to have a thickness of 100 nm.
  • the PET film on which the optical adjustment layer is formed is introduced into a take-up type sputtering apparatus, and an amorphous indium tin oxide layer (composition: SnO 2 : 27 nm thick) is provided on the surface of the optical adjustment layer. 10 wt%) was formed to form a transparent conductive film. Thus, a transparent conductive film was produced.
  • Example 1 In Example 1, except that various polyethylene terephthalates (PET) having in-plane retardation values (R0), thickness direction retardation values (Rth) and thicknesses as shown in Table 1 were used as a substrate, A transparent conductive film was produced under the same conditions as in Example 1.
  • PET polyethylene terephthalates
  • R0 in-plane retardation values
  • Rth thickness direction retardation values
  • Table 1 thicknesses as shown in Table 1
  • Table 1 shows the evaluation results of the above transparent conductive film.
  • the transparent conductive films of Examples 1 to 7 have an in-plane retardation value of 150 nm or less and a thickness direction retardation value of 1000 nm or less, so ⁇ x is 0.15 or less, ⁇ y Was 0.20 or less, and the result was also a good result even in the maze evaluation, and sufficient rainbow unevenness suppression was possible. This means that rainbow unevenness is suppressed when the display is viewed through polarized sunglasses.
  • Example 8 A transparent conductive film was produced under the same conditions as in Example 1 except that a PET film in which a cured resin layer was formed as follows was used in Example 1.
  • acrylic spherical particles (Shonken Chemical Co., Ltd.) having 100 parts by weight of an ultraviolet curable resin composition (trade name "UNIDIC (registered trademark) RS 29-120” manufactured by DIC) and a mode particle diameter of 1.9 ⁇ m.
  • a spherical particle-containing curable resin composition was prepared, containing 0.2 parts by weight of trade name "MX-180TA”).
  • the prepared spherical particle-containing curable resin composition was applied to one surface of a PET substrate with a thickness of 50 ⁇ m to form a coating layer.
  • the coating layer was irradiated with ultraviolet light from the side on which the coating layer was formed, to form a second cured resin layer so as to have a thickness of 1.0 ⁇ m.
  • a first cured resin layer was formed on the other surface of the PET substrate in the same manner as described above except that spherical particles were not added.
  • the formation of the optical adjustment layer and the transparent conductive film was performed on the surface of the first cured resin layer.

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Abstract

本発明の目的は、低位相差のポリエステルを基材として使用することで、十分な材料強度を有し、材料費が安価で生産性も良好で、しかも十分な虹ムラの抑制効果が得られる透明導電性フィルム、及びそれを含むタッチパネルを提供することである。　本発明は、透明樹脂フィルム４と透明導電膜６とを有する透明導電性フィルム２０であって、透明樹脂フィルム４は、二軸延伸されたポリエステル系樹脂フィルムであり、面内位相差値が１５０ｎｍ以下、厚み方向位相差値が１０００ｎｍ以下であることを特徴とする。

Description

透明導電性フィルム、及びそれを含むタッチパネル
　本発明は、透明樹脂フィルムと透明導電膜とを有する透明導電性フィルム、及びそれを含むタッチパネルに関する。
　最近では、タブレット、スマートフォン、タッチパネル付きＰＣの普及により、屋外で電子機器を扱う機会が増えている。屋外にてディスプレイを見る際に偏光サングラスを着用した状態で見ることも多く、その際にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを用いた透明導電性フィルムを使用していると、ＰＥＴフィルム自体の面内位相差（一般的には１０００～２０００ｎｍ）により虹ムラが発生し、ディスプレイの視認性を大きく低下させるという問題があった。
　このため、位相差値の小さい基材（環状オレフィン樹脂など）を用いた透明導電膜の開発が進められてきた。しかし、環状オレフィン樹脂などは、材料強度が弱いこと、材料そのものが高価であるといったデメリットがあり、安価で強度の高い材料の使用が検討されている。
　このような理由から、特許文献１には、面内位相差値が４０００ｎｍ以上の延伸したポリエステル等からなる透明樹脂フィルムを基材とする透明導電性フィルムが提案されている。この透明導電性フィルムによると、偏光サングラスを通じて視認した場合にも、色むらが生じにくくなる。
特開２００４－２１４０６９号公報
　しかしながら、このように面内位相差値の大きいポリエステルフィルム等は、一軸延伸の為に材料強度が弱いこと、位相差を高める為にフィルムが厚いため、材料コストが上昇し生産性も良くないといったデメリットがあり、汎用材料としては扱いづらい一面がある。
　そこで、本発明の目的は、低位相差のポリエステルを基材として使用することで、十分な材料強度を有し、材料費が安価で生産性も良好で、しかも十分な虹ムラの抑制効果が得られる透明導電性フィルム、及びそれを含むタッチパネルを提供することにある。
　本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、面内位相差値と厚み方向位相差値とが所定の範囲である二軸延伸されたポリエステル系樹脂フィルムを基材として使用することにより、上記目的を達成し得ることを見出し、本発明に至った。
　すなわち、本発明の透明導電性フィルムは、透明樹脂フィルムと透明導電膜とを有する透明導電性フィルムであって、前記透明樹脂フィルムは、二軸延伸されたポリエステル系樹脂フィルムであり、面内位相差値が１５０ｎｍ以下、厚み方向位相差値が１０００ｎｍ以下であることを特徴とする。なお、本発明における各種の物性値は、実施例等において採用する方法により測定される値である。
　一般的に、二軸延伸されたポリエステル系樹脂フィルムは、十分な材料強度を有し、安価であるが、面内位相差が１０００～２０００ｎｍ程度であり、これを透明導電性フィルムの基材に用いると、波長分散によって偏光を非偏光化する効果が不十分となり、虹ムラが生じてしまう。これに対して、本発明のように、面内位相差値が１５０ｎｍ以下、厚み方向位相差値が１０００ｎｍ以下であるポリエステル系樹脂フィルムを用いると、実施例の結果が示すように、十分な虹ムラの抑制効果が得られる。
　その理由の詳細は明確でないが、次のように考えられる。つまり、面内位相差値が１５０ｎｍ以下であるポリエステル系樹脂フィルムを用いると、直線偏光を円偏光化（楕円偏光化を含む）する作用が生じるが、これが、厚み方向位相差値が１０００ｎｍ以下であることと相まって、視認方向の広がりに対して色調の変化を抑制できるため、十分な虹ムラの抑制効果が得られると考えられる。
　その結果、本発明の透明導電性フィルムによると、低位相差のポリエステルを基材として使用することで、十分な材料強度を有し、材料費が安価で生産性も良好で、しかも十分な虹ムラの抑制効果が得られる透明導電性フィルムを提供できる。
　上記において、前記透明樹脂フィルムと前記透明導電膜との間には、少なくとも１層の光学調整層を有することが好ましい。光学調整層により屈折率を制御できるため、透明導電膜をパターン化した際のパターン形成部とパターン開口部との反射率差を低減することができ、透明導電膜パターンが見えにくく、タッチパネル等の表示装置において視認性が良好になる。
　また、前記透明樹脂フィルムの厚みが５～５０μｍであることが好ましい。このような範囲の厚みであると、面内位相差値が１５０ｎｍ以下、厚み方向位相差値が１０００ｎｍ以下である、二軸延伸されたポリエステル系樹脂フィルムが、安価に製造し易くなる。
　また、前記透明樹脂フィルムは、長尺体又は矩形状の枚葉体であり、長辺又は短辺に対して配向軸が１０～４５°の角度を有することが好ましい。透明導電性フィルムは、液晶セルなどの矩形の光学表示装置に積層して使用されることが多く、また前記光学表示装置からの光はその長辺に平行又は垂直の偏光であることが多い。このため、本発明では、配向軸が長辺又は短辺に対して１０～４５°の角度を有することで、偏光に対して１０～４５°の角度で遅相軸を配置し易くなり、透明樹脂フィルムにより偏光を円偏光化する作用が大きくなり、十分な虹ムラの抑制効果が得られ易くなる。
　前記透明樹脂フィルムの少なくとも一方の表面に、硬化樹脂層を有することが好ましい。硬化樹脂層は、搬送時の傷付き等を防止するためのハードコート層として機能し、表面に凹凸を生じさせることでアンチブロッキング層としても機能させることができる。
　前記透明樹脂フィルムの前記透明導電膜が設けられていない面側に、粘着剤層と保護フィルムとをこの順で有することが好ましい。保護フィルムにより、ハンドリング性が高まると共に、保護フィルムをセパレータとして構成することにより、本発明の透明導電性フィルムを粘着型にすることができる。
　一方、本発明のタッチパネルは、本発明の透明導電性フィルムを用いて得られることを特徴とする。本発明の透明導電性フィルムを用いることにより、十分な材料強度を有し、材料費が安価で生産性も良好で、しかも十分な虹ムラの抑制効果が得られるタッチパネルを提供することができる。
本発明の一実施形態に係る透明導電性フィルムの模式的断面図である。 本発明の一実施形態に係る透明導電性フィルムの模式的断面図である。 本発明の一実施形態に係る透明導電性フィルムの模式的断面図である。 本発明の一実施形態に係る透明導電性フィルムの模式的断面図である。 本発明の一実施形態に係る透明導電性フィルムの模式的断面図である。 本発明の一実施形態に係る透明導電性フィルムの模式的断面図である。
　＜透明導電性フィルムの積層構造＞
　本発明の透明導電性フィルム２０は、図１～図３に示すように、透明樹脂フィルム４と透明導電膜６とを有するものであり、透明樹脂フィルム４と透明導電膜６との間には、少なくとも１層の光学調整層７を有することが好ましい。また、図２～図３に示すように、透明樹脂フィルム４の少なくとも一方の表面に、アンチブロッキング層３やハードコート層５などの硬化樹脂層を有していてもよい。更に、透明導電性フィルム２０は、図４～６に示すように、透明樹脂フィルム４の透明導電膜６が設けられていない面側に、粘着剤層２と保護フィルム１とをこの順で有していてもよく、その場合、キャリアフィルム１０が、粘着剤層２と保護フィルム１とから構成されている。
　（透明樹脂フィルム）
　透明樹脂フィルムとしては、二軸延伸されたポリエステル系樹脂フィルムが用いられる。「二軸延伸された」とは、少なくとも２方向にフィルムの延伸が行われていることを指し、２方向延伸は同時又は逐次の何れでもよい。
　ポリエステル系樹脂としては、ポリエステル、変性ポリエステル、およびそれらのブレンドから選択されるポリエステル系樹脂が挙げられる。ポリエステルとしては、例えば、カルボン酸成分とポリオール成分との縮合重合により得たものを使用することができる。
　カルボン酸成分としては、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸が挙げられる。芳香族ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、ベンジルマロン酸、１，４－ナフタール酸、ジフェニン酸、４，４′－オキシ安息香酸、２，５－ナフタレンジカルボン酸が挙げられる。脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、マロン酸、ジメチルマロン酸、コハク酸、グルタール酸、アジピン酸、トリメチルアジピン酸、ピメリン酸、２，２－ジメチルグルタール酸、アゼライン酸、ゼバシン酸、フマール酸、マレイン酸、イタコン酸、チオジプロピオン酸、ジグリコール酸が挙げられる。脂環族ジカルボン酸としては、例えば、１，３－シクロペンタンジカルボン酸、１，２－シクロヘキサンジカルボン酸、１，３－シクロペンタンジカルボン酸、１，４－シクロヘキサンジカルボン酸、２，５－ノルボルナンジカルボン酸、アダマンタンジカルボン酸が挙げられる。カルボン酸成分は、エステル、塩化物、酸無水物のような誘導体であってもよく、例えば、１，４－シクロヘキサンジカルボン酸ジメチル、２，６－ナフタレンジカルボン酸ジメチル、イソフタル酸ジメチル、テレフタル酸ジメチルおよびテレフタル酸ジフェニルを含む。カルボン酸成分は、単独で用いてもよく２種以上を併用してもよい。
　ポリオール成分としては、代表的には二価アルコールが挙げられる。二価アルコールとしては、脂肪族ジオール、脂環族ジオール、芳香族ジオールが挙げられる。脂肪族ジオールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，３－プロパンジオール、２，４－ジメチル－２－エチルヘキサン－１，３－ジオール、２，２－ジメチル－１，３－プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２－エチル－２－ブチル－１，３－プロパンジオール、２－エチル－２－イソブチル－１，３－プロパンジオール、１，３－ブタジオール、１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、３－メチル－１，５－ペンタンジオール、２，２，４－トリメチル－１，６－ヘキサンジオールが挙げられる。脂環族ジオールとしては、例えば、１，２－シクロヘキサンジメタノール、１，３－シクロヘキサンジメタノール、１，４－シクロヘキサンジメタノール、スピログリコール、トリシクロデカンジメタノール、アダマンタンジオール、２，２，４，４－テトラメチル－１，３－シクロブタンジオールが挙げられる。芳香族ジオールとしては、例えば、４，４′－チオジフェノール、４，４′－メチレンジフェノール、４，４′－（２－ノルボルニリデン）ジフェノール、４，４′－ジヒドロキシビフェノール、ｏ－，ｍ－およびｐ－ジヒドロキシベンゼン、４，４′－イソプロピリデンフェノール、４，４′－イソプロピリデンビス（２，６－シクロロフェノール）２，５－ナフタレンジオールおよびｐ－キシレンジオールが挙げられる。ポリオール成分は、単独で用いてもよく２種以上を併用してもよい。
　好ましいカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、２，５－ナフタレンジカルボン酸が挙げられる。好ましいポリオール成分としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、１，４－ブタンジオール、１，３－シクロヘキサンジメタノール、１，４－シクロヘキサンジメタノールが挙げられる。
　ポリエステルの構造は、以上のようなモノマーの組合せにより決定される。したがって、好ましいポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ならびに、これらの共重合体、ブレンドおよび変性体が挙げられる。
　このようなポリエステル系樹脂を用い、かつ、斜め延伸を含む製造方法を適用することにより、好ましい面内位相差と配向軸の方向を有し、かつ、より優れた軸精度を有する透明樹脂フィルムを得ることができる。
　本発明では、ポリエステル系樹脂が、シクロヘキサンジメタノール由来の繰り返し単位を含む変性ＰＥＴであってもよい。この場合、ポリオール成分におけるシクロヘキサンジメタノールの割合は、好ましくは０モル％を超えて１０モル％以下であり、より好ましくは０モル％を超えて３モル％以下である。また、ポリエステル系樹脂は、イソフタル酸由来の繰り返し単位を含む変性ＰＥＴであり得る。この場合、カルボン酸成分におけるイソフタル酸の割合は、好ましくは０モル％を超えて２０モル％以下であり、より好ましくは０モル％を超えて１０モル％以下である。なお、これらの実施形態を組み合わせてもよいことは言うまでもない。
　透明樹脂フィルムは、二軸延伸された長尺状のフィルム（長尺体）として製造される。本明細書において「長尺状」とは、幅に対する長さの比が１０以上の細長形状をいう。透明樹脂フィルムの幅に対する長さの比は、好ましくは３０以上であり、より好ましくは１００以上である。１つの実施形態においては、透明樹脂フィルムはロール状に巻回された長尺体であり、また、別の実施形態においては、透明樹脂フィルムは矩形状の枚葉体である。
　透明樹脂フィルムは、その配向軸が、長辺又は短辺に対して１０～４５°の角度を有することが好ましく、２０～４５°の角度がより好ましく、３０～４５°の角度が最も好ましい。なお、本発明の透明導電性フィルムは、透明樹脂フィルムの配向軸が、表示装置から出射される直線偏光の振動方向に対して、１０～８０°の角度で配置されることが好ましく、２０～７０°の角度で配置されることがより好ましく、３０～６０°の角度で配置されることが更に好ましい。
　このため、長尺状のフィルムの遅相軸の方向がフィルムの幅方向の全域にわたって長尺方向に対して３０°～６０°の範囲、好ましくは３８°～５２°の範囲、より好ましくは４３°～４７°の範囲にあり、さらに好ましくは遅相軸方向が長尺方向に対して４５°程度の角度をなしている。透明樹脂フィルムは、斜め延伸を含む製造方法を適用することにより、優れた軸精度で斜め方向に遅相軸を有する透明樹脂フィルムを得ることができる。
　透明樹脂フィルムの面内位相差Ｒ０は、０～１５０ｎｍであり、虹ムラの抑制効果をより高める観点から、好ましくは１０～１３０ｎｍであり、より好ましくは２０～１１０ｎｍである。
　ここで、面内位相差Ｒ０は、２３℃における波長５９０ｎｍの光で測定したフィルムの面内位相差である。Ｒ０は、フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒ０＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄによって求められる。ここで、ｎｘは面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、ｎｙは面内で遅相軸と直交する方向の屈折率である。
　透明樹脂フィルムの厚み方向位相差Ｒｔｈは、１０００ｎｍ以下であり、虹ムラの抑制効果をより高めると共に、十分な強度を得る観点から、好ましくは３５０～９５０ｎｍであり、より好ましくは４００～９００ｎｍである。
　ここで、厚み方向位相差Ｒｔｈは、２３℃における波長５９０ｎｍの光で測定したフィルムの厚み方向位相差である。Ｒｔｈは、フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ＝（ｎｘ－ｎｚ）×ｄによって求められる。ここで、ｎｘは面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、ｎｚは厚み方向の屈折率である。
　本発明では、位相差の比Ｒ０／Ｒｔｈも重要であり、虹ムラの抑制効果をより高めると共に、十分な強度を得る観点から、位相差の比Ｒ０／Ｒｔｈは、０．０１～０．５が好ましく、０．０２～０．４７がより好ましく、０．０４～０．４５が更に好ましい。
　透明樹脂フィルムは、８０℃で２４０時間加熱後の寸法収縮率が好ましくは２．０％以下であり、より好ましくは１．０％以下である。
　透明樹脂フィルムは、Ｘ線回折法（ＸＲＤ）で測定される結晶化度が好ましくは２５％以上であり、より好ましくは３０％以上である。結晶化度の上限は、例えば７０％である。結晶化度がこのような範囲であれば、延伸後のフィルムを加熱した際にフィルムが収縮せず、また、位相差や配向角などの光学特性が変化し難いという利点がある。
　透明樹脂フィルムの厚みは、上記のような面内位相差と厚み方向位相差とを得ると共に、ハンドリング性を高める観点から、５～５０μｍが好ましく、７μｍ～４０μｍがより好ましく、１０～３０μｍが更に好ましい。
　ポリエステル系樹脂のガラス転移温度は、好ましくは６５℃～８０℃であり、より好ましくは７０℃～７５℃である。ガラス転移温度が過度に低いと、所望の寸法収縮率が得られない場合がある。ガラス転移温度が過度に高いと、フィルム成形時の成形安定性が悪くなる場合があり、また、フィルムの透明性を損なう場合がある。なお、ガラス転移温度は、ＪＩＳ　Ｋ　７１２１（１９８７）に準じて求められる。
　ポリエステル系樹脂の重量平均分子量は、好ましくは１００００～１０００００であり、より好ましくは１５０００～５００００である。このような重量平均分子量であれば、成形時の取り扱いが容易であり、かつ、優れた機械的強度を有するフィルムが得られ得る。
　ポリエステル系樹脂は、任意の適切な方法によりフィルムに成形され得る。得られたポリエステル系樹脂フィルムは、縦および横の二軸に延伸する方法で、二軸延伸フィルムとすることができる。その際、特開２０１５－７２３７６号公報に開示されているように、斜め延伸を含む製造方法に供することにより、斜め方向に配向軸を有する透明樹脂フィルムを好適に得ることができる。
　つまり、延伸対象のフィルムの左右端部を、それぞれ、縦方向のクリップピッチが変化する可変ピッチ型の左右のクリップによって把持すること（工程Ａ：把持工程）；該フィルムを予熱すること（工程Ｂ：予熱工程）；該左右のクリップのクリップピッチをそれぞれ独立して変化させて、該フィルムを斜め延伸すること（工程Ｃ：延伸工程）；必要に応じて、該左右のクリップのクリップピッチを一定とした状態で、該フィルムを熱処理して結晶化させること（工程Ｄ：結晶化工程）；および、該フィルムを把持するクリップを解放すること（工程Ｅ：解放工程）；を含む、斜め延伸を含む製造方法により、本発明で使用する透明樹脂フィルムを好適に製造することができる。
　透明樹脂フィルムには、表面に予めスパッタリング、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化などのエッチング処理や下塗り処理を施して、透明樹脂フィルム上に形成される光学調整層、硬化樹脂層、透明導電膜等との密着性を向上させるようにしてもよい。また、光学調整層等を形成する前に、必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄などにより、透明樹脂フィルム表面を除塵、清浄化してもよい。
　（硬化樹脂層）
　硬化樹脂層は、透明樹脂フィルムの一方の第１主面側に設けられた第１の硬化樹脂層と、反対側の第２主面側に設けられた第２の硬化樹脂層とを含む。透明樹脂フィルムは、透明導電膜の形成や透明導電膜のパターン化または電子機器への搭載などの各工程で傷が入りやすいので、上記のように、透明樹脂フィルムの両面に第１の硬化樹脂層と第２の硬化樹脂層とを形成することが好ましい。
　硬化樹脂層は、硬化型樹脂を硬化させることにより得られた層である。用いる樹脂としては、硬化樹脂層形成後の皮膜として十分な強度を持ち、透明性のあるものを特に制限なく使用できるが、熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、二液混合型樹脂などがあげられる。これらのなかでも紫外線照射による硬化処理にて、簡単な加工操作にて効率よく硬化樹脂層を形成することができる紫外線硬化型樹脂が好適である。
　紫外線硬化型樹脂としては、ポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アミド系、シリコーン系、エポキシ系等の各種のものがあげられ、紫外線硬化型のモノマー、オリゴマー、ポリマー等が含まれる。好ましく用いられる紫外線硬化型樹脂は、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂であり、より好ましくはアクリル系樹脂である。
　硬化樹脂層は粒子を含んでいてもよい。硬化樹脂層に粒子を配合することにより、硬化樹脂層の表面に隆起を形成することができ、透明導電性フィルムに耐ブロッキング性を好適に付与することができる。
　上記粒子としては、各種金属酸化物、ガラス、プラスチックなどの透明性を有するものを特に制限なく使用することができる。例えばシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化カルシウム等の無機系粒子、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル系樹脂、アクリル－スチレン共重合体、ベンゾグアナミン、メラミン、ポリカーボネート等の各種ポリマーからなる架橋又は未架橋の有機系粒子やシリコーン系粒子などがあげられる。前記粒子は、１種または２種以上を適宜に選択して用いることができるが、有機系粒子が好ましい。有機系粒子としては、屈折率の観点から、アクリル系樹脂が好ましい。
　粒子の最頻粒子径は、硬化樹脂層の隆起の突出度や隆起以外の平坦領域の厚みとの関係などを考慮して適宜設定することができ、特に限定されない。なお、透明導電性フィルムに耐ブロッキング性を十分に付与し、かつヘイズの上昇を十分に抑制するという観点から、粒子の最頻粒子径は０．１～３μｍが好ましく、０．５～２．５μｍがより好ましい。なお、本明細書において、「最頻粒子径」とは、粒子分布の極大値を示す粒径をいい、フロー式粒子像分析装置（Ｓｙｓｍｅｘ社製、製品名「ＦＰＴＡ－３０００Ｓ」）を用いて、所定条件下（Ｓｈｅａｔｈ液：酢酸エチル、測定モード：ＨＰＦ測定、測定方式：トータルカウント）で測定することによって求められる。測定試料は、粒子を酢酸エチルで１．０重量％に希釈し、超音波洗浄機を用いて均一に分散させたものを用いる。
　粒子の含有量は、樹脂組成物の固形分１００重量部に対して０．０５～１．０重量部であることが好ましく、０．１～０．５重量部であることがより好ましく、０．１～０．２重量部であることがさらに好ましい。硬化樹脂層中の粒子の含有量が小さいと、硬化樹脂層の表面に耐ブロッキング性や易滑性を付与するのに十分な隆起が形成され難くなる傾向がある。一方、粒子の含有量が大きすぎると、粒子による光散乱に起因して透明導電性フィルムのヘイズが高くなり、視認性が低下する傾向がある。また、粒子の含有量が大きすぎると、硬化樹脂層の形成時（溶液の塗布時）に、スジが発生し、視認性が損なわれたり、透明導電膜の電気特性が不均一となったりする場合がある。
　硬化樹脂層は、各硬化型樹脂と必要に応じて加える粒子、架橋剤、開始剤、増感剤などを含む樹脂組成物を透明樹脂フィルム上に塗布し、樹脂組成物が溶剤を含む場合には、溶剤の乾燥を行い、熱、活性エネルギー線またはその両方のいずれかの適用により硬化させることにより得られる。熱は空気循環式オーブンやＩＲヒーターなど公知の手段を用いることができるがこれらの方法に限定されない。活性エネルギー線の例としては紫外線、電子線、ガンマ線などがあるが特に限定されない。
　硬化樹脂層は、上記の材料を用いて、ウェットコーティング法（塗工法）等により製膜できる。例えば、透明導電膜として酸化スズを含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）を形成する場合、下地層である硬化樹脂層の表面が平滑であると、透明導電膜の結晶化時間を短縮することもできる。かかる観点から、硬化樹脂層はウェットコーティング法により製膜されることが好ましい。
　硬化樹脂層の厚みは、好ましくは０．５μｍ～５μｍであり、より好ましくは０．７μｍ～３μｍであり、最も好ましくは０．８μｍ～２μｍである。硬化樹脂層の厚みが前記範囲にあると、傷付防止や硬化樹脂層の硬化収縮におけるフィルムシワを防止でき、タッチパネル等の視認性が悪化することを防ぐことができる。
　（透明導電膜）
　透明導電膜は、透明樹脂フィルム上に設けることができるが、透明樹脂フィルムの一方の第１主面側に設けられた第１の硬化樹脂層上に設けられることが好ましい。透明導電膜の構成材料は、無機物を含む限り特に限定されず、インジウム、スズ、亜鉛、ガリウム、アンチモン、チタン、珪素、ジルコニウム、マグネシウム、アルミニウム、金、銀、銅、パラジウム、タングステンからなる群より選択される少なくとも１種の金属の金属酸化物が好適に用いられる。当該金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子を含んでいてもよい。例えば酸化スズを含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンを含有する酸化スズ（ＡＴＯ）などが好ましく用いられる。酸化スズを含有する酸化インジウムを用いる場合、酸化スズの含有量は、透明導電膜中において１～２０重量％が好ましく、３～１５重量％がより好ましい。
　透明導電膜の厚みは、特に制限されないが、その表面抵抗を１×１０３Ω／□以下の良好な導電性を有する連続被膜とするには、厚みを１０ｎｍ以上とするのが好ましい。膜厚が、厚くなりすぎると透明性の低下などをきたすため、１５～３５ｎｍであることが好ましく、より好ましくは２０～３０ｎｍの範囲内である。透明導電膜の厚みが、１０ｎｍ未満であると膜表面の電気抵抗が高くなり、かつ連続被膜になり難くなる。また、透明導電膜の厚みが、３５ｎｍを超えると透明性の低下などをきたす場合がある。
　透明導電膜の形成方法は、特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスを例示できる。また、必要とする膜厚に応じて適宜の方法を採用することもできる。なお、第１の硬化樹脂層上に透明導電膜を形成する場合、透明導電膜がスパッタリング法等のドライプロセスによって形成されれば、透明導電膜の表面は、その下地層である第１の硬化樹脂層表面形状をほぼ維持する。そのため、第１の硬化樹脂層に隆起が存在する場合には、透明導電膜表面にも耐ブロッキング性及び易滑性を好適に付与することができる。
　透明導電膜は、必要に応じて加熱アニール処理（例えば、大気雰囲気下、８０～１５０℃で３０～９０分間程度）を施して結晶化することができる。透明導電膜を結晶化することで、透明導電膜が低抵抗化されることに加えて、透明性及び耐久性が向上する。非晶質の透明導電膜を結晶質に転化させる手段は、特に限定されないが、空気循環式オーブンやＩＲヒーターなどが用いられる。
　「結晶質」の定義については、透明樹脂フィルム上に透明導電膜が形成された透明導電性フィルムを、２０℃、濃度５重量％の塩酸に１５分間浸漬した後、水洗・乾燥し、１５ｍｍ間の端子間抵抗をテスタにて測定を行い、端子間抵抗が１０ｋΩを超えない場合、ＩＴＯ膜の結晶質への転化が完了したものとする。
　また、透明導電膜は、エッチング等によりパターン化してもよい。透明導電膜のパターン化に関しては、従来公知のフォトリソグラフィの技術を用いて行うことができる。エッチング液としては、酸が好適に用いられる。酸としては、例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、酢酸等の有機酸、およびこれらの混合物、ならびにそれらの水溶液があげられる。例えば、静電容量方式のタッチパネルやマトリックス式の抵抗膜方式のタッチパネルに用いられる透明導電性フィルムにおいては、透明導電膜がストライプ状にパターン化されることが好ましい。なお、エッチングにより透明導電膜をパターン化する場合、先に透明導電膜の結晶化を行うと、エッチングによるパターン化が困難となる場合がある。そのため、透明導電膜のアニール処理は、透明導電膜をパターン化した後に行うことが好ましい。
　透明導電膜は、後述のキャリアフィルムを積層する際に非晶質であっても結晶質であってもよい。例えば、透明導電膜が非晶質の状態の透明導電性フィルムに粘着剤層を介して保護フィルムを貼り合せた後に、アニール処理をして結晶質に転化することが可能である。
　前記透明導電膜は、金属ナノワイヤを含むことができる。金属ナノワイヤとは、材質が金属であり、形状が針状または糸状であり、径がナノメートルサイズの導電性物質をいう。金属ナノワイヤは直線状であってもよく、曲線状であってもよい。金属ナノワイヤで構成された透明導電層を用いれば、金属ナノワイヤが網の目状となることにより、少量の金属ナノワイヤであっても良好な電気伝導経路を形成することができ、電気抵抗の小さい透明導電性フィルムを得ることができる。さらに、金属ナノワイヤが網の目状となることにより、網の目の隙間に開口部を形成して、光透過率の高い透明導電性フィルムを得ることができる。
　前記金属ナノワイヤを構成する金属としては、導電性の高い金属である限り、任意の適切な金属が用いられ得る。前記金属ナノワイヤを構成する金属としては、例えば、銀、金、銅、ニッケル等が挙げられる。また、これらの金属にメッキ処理（例えば、金メッキ処理）を行った材料を用いてもよい。なかでも好ましくは、導電性の観点から、銀、銅または金であり、より好ましくは銀である。
　（光学調整層）
　本発明では、透明樹脂フィルム又は第１の硬化樹脂層と透明導電膜との間に、１層以上の光学調整層をさらに含むことができる。光学調整層は、透明導電性フィルムの透過率の上昇や、透明導電膜がパターン化される場合には、パターンが残るパターン部とパターンが残らない開口部の間で透過率差や反射率差を低減でき、視認性に優れた透明導電性フィルムを得るために用いられる。
　光学調整層の屈折率は、１．５～１．８であることが好ましく、１．５１～１．７８であることがより好ましく、１．５２～１．７５であることが更に好ましい。これにより、透過率差や反射率差を低減でき、視認性に優れた透明導電性フィルムを得ることができる。
　光学調整層は、無機物、有機物、あるいは無機物と有機物との混合物により形成される。光学調整層を形成する材料としては、ＮａＦ、Ｎａ３ＡｌＦ６、ＬｉＦ、ＭｇＦ２、ＣａＦ２、ＳｉＯ２、ＬａＦ３、ＣｅＦ３、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＺｒＯ２、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＳｉＯｘ（ｘは１．５以上２未満）などの無機物や、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマーなどの有機物が挙げられる。特に、有機物として、メラミン樹脂とアルキド樹脂と有機シラン縮合物の混合物からなる熱硬化型樹脂を使用することが好ましい。光学調整層は、上記の材料を用いて、ウエット法、グラビアコート法やバーコート法などの塗工法、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などにより形成できる。
　光学調整層は、平均粒径が１ｎｍ～５００ｎｍのナノ微粒子を有していてもよい。光学調整層中のナノ微粒子の含有量は０．１重量％～９０重量％であることが好ましい。光学調整層に用いられるナノ微粒子の平均粒径は、上述のように１ｎｍ～５００ｎｍの範囲であることが好ましく、５ｎｍ～３００ｎｍであることがより好ましい。また、光学調整層中のナノ微粒子の含有量は１０重量％～８０重量％であることがより好ましく、２０重量％～７０重量％であることがさらに好ましい。光学調整層中にナノ微粒子を含有することによって、光学調整層自体の屈折率の調整を容易に行うことができる。
　ナノ微粒子を形成する無機酸化物としては、例えば、酸化ケイ素（シリカ）、中空ナノシリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ等の微粒子があげられる。これらの中でも、酸化ケイ素（シリカ）、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化ニオブの微粒子が好ましい。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　光学調整層の厚みは、１０ｎｍ～２００ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ～１５０ｎｍであることがより好ましく、３０ｎｍ～１３０ｎｍであることがさらに好ましい。光学調整層の厚みが過度に小さいと連続被膜となりにくい。また、光学調整層の厚みが過度に大きいと、透明導電性フィルムの透明性が低下したり、クラックが生じ易くなったりする傾向がある。
　（金属層、金属配線）
　本発明では、透明導電膜上に金属層又は金属配線を設けることも可能である。金属配線は、金属層を透明導電膜上に形成した後、エッチングにより形成することも可能であるが、以下のように感光性金属ペーストを用いて形成するのが好ましい。即ち、金属配線は、透明導電膜がパターン化された後に、後述の感光性導電ペーストを前記透明樹脂フィルム上または前記透明導電膜上に塗布し、感光性金属ペースト層を形成し、フォトマスクを積層または近接させフォトマスクを介して感光性金属ペースト層に露光を行い、次いで現像を行い、パターン形成した後、乾燥工程を経て得られる。つまり、公知のフォトリソグラフィ法等により、金属配線のパターン形成が可能である。
　前記感光性導電ペーストは、金属粉末などの導電性粒子と感光性有機成分とを含むことが好ましい。金属粉末の導電性粒子の材料としては、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＡｌおよびＰｔの群から選択される少なくとも１種を含むものであることが好ましく、より好ましくはＡｇである。金属粉末の導電性粒子の体積平均粒子径は０．１μｍ～２．５μｍであることが好ましい。
　金属粉末以外の導電性粒子としては、樹脂粒子表面を金属で被覆した金属被覆樹脂粒子でもよい。樹脂粒子の材料としては、前述のような粒子が含まれるが、アクリル系樹脂が好ましい。金属被覆樹脂粒子は樹脂粒子の表面にシランカップリング剤を反応させ、さらにその表面に金属で被覆することにより得られる。シランカップリング剤を用いることにより、樹脂成分の分散が安定化して、均一な金属被覆樹脂粒子を形成することができる。
　感光性導電ペーストはさらにガラスフリットを含んでいてもよい。ガラスフリットは、体積平均粒子径が０．１μｍ～１．４μｍであることが好ましく、９０％粒子径が１～２μｍおよびトップサイズが４．５μｍ以下であることが好ましい。ガラスフリットの組成としては、特に限定されないが、Ｂｉ２Ｏ３が全体に対して３０重量％～７０重量％の範囲で配合されることが好ましい。Ｂｉ２Ｏ３以外に含んでいてよい酸化物としては、ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３を含んでよい。Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、Ｌｉ２Ｏは実質的に含まないアルカリフリーのガラスフリットであることが好ましい。
　感光性有機成分は、感光性ポリマーおよび／または感光性モノマーを含むことが好ましい。感光性ポリマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート等の炭素－炭素二重結合有する化合物から選択された成分の重合体やこれらの共重合体からなるアクリル樹脂の側鎖または分子末端に光反応性基を付加したもの等が好適に用いられる。好ましい光反応性基としてはビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基などのエチレン性不飽和基が挙げられる。感光性ポリマーの含有量は、１～３０重量％、２～３０重量％であることが好ましい。
　感光性モノマーとしては、メタクリルアクリレート、エチルアクリレートなどの（メタ）アクリレート系モノマーや、γ－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１－ビニル－２－ピロリドンなどが挙げられ、１種または２種以上を使用することができる。
　感光性導電ペーストにおいては、感光性有機成分が金属粉末１００重量部に対して、５～４０重量％含むことが光の感度の点で好ましく、より好ましくは１０重量部～３０重量部である。また、本発明の感光性導電ペーストは必要により光重合開始剤、増感剤、重合禁止剤、有機溶媒を用いることが好ましい。
　金属層の厚みは、特に制限されない。例えば、金属層の面内の一部をエッチング等により除去してパターン配線を形成する場合は、形成後のパターン配線が所望の抵抗値を有するように金属層の厚みが適宜に設定される。そのため、金属層の厚みは、０．０１～２００μｍであることが好ましく、０．０５～１００μｍであることがより好ましい。金属層の厚みが上記範囲であると、パターン配線の抵抗が高くなりすぎず、デバイスの消費電力が大きくならない。また、金属層の成膜の生産効率が上がり、成膜時の積算熱量が小さくなり、フィルムに熱シワが生じにくくなる。
　透明導電性フィルムがディスプレイと組合せて使用するタッチパネル用の透明導電性フィルムである場合、表示部分に対応した部分はパターン化された透明導電膜により形成され、感光性導電ペーストから作製された金属配線は非表示部（例えば周縁部）の配線部分に用いられる。透明導電膜は非表示部でも用いられてよく、その場合は金属配線が透明導電膜上に形成されていてもよい。
　＜キャリアフィルム＞
　本発明では、透明導電性フィルムがキャリアフィルムを有していてもよい。キャリアフィルムは、保護フィルムの少なくとも一方の面側に粘着剤層を有する。キャリアフィルムは、粘着剤層を介して剥離可能な透明導電性フィルムと、透明導電性フィルムの第２主面側を貼りあわせて、透明導電性フィルムを形成する。キャリアフィルムを透明導電性フィルムから剥離する際は、粘着剤層は保護フィルムとともに剥離されてもよいし、保護フィルムのみが剥離されてもよい。
　（保護フィルム）
　保護フィルムを形成する材料としては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性などに優れるものが好ましい。保護フィルムとしては、結晶性樹脂又は非晶性樹脂からなるフィルムが使用できる。
　結晶性樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂などが挙げられるが、ポリエステル系樹脂が好ましい。
　非晶性樹脂としては、シクロオレフィン系樹脂やポリカーボネート系樹脂などがあげられるが、優れた光透過性、耐傷性、耐水性を持ち、良好な機械的性質の観点から、ポリカーボネート系樹脂が好ましい。ポリカーボネート系樹脂には、例えば、脂肪族ポリカーボネート、芳香族ポリカーボネート、脂肪族－芳香族ポリカーボネートなどが挙げられる。
　保護フィルムは、透明樹脂フィルムと同様に、表面に予めスパッタリング、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化などのエッチング処理や下塗り処理を施して、保護フィルム上の粘着剤層等との密着性を向上させるようにしてもよい。また、粘着剤層を形成する前に、必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄などにより、保護フィルム表面を除塵、清浄化してもよい。
　保護フィルムの厚みは、作業性等を向上する観点から、２０～１５０μｍが好ましく、３０～１００μｍがより好ましく、４０～８０μｍが更に好ましい。
　（粘着剤層）
　粘着剤層としては、透明性を有するものであれば特に制限なく使用できる。具体的には、例えば、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリビニルエーテル、酢酸ビニル／塩化ビニルコポリマー、変性ポリオレフィン、エポキシ系、フッ素系、天然ゴム、合成ゴム等のゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。特に、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性、凝集性および接着性等の粘着特性を示し、耐候性や耐熱性等にも優れるという点からは、アクリル系粘着剤が好ましく用いられる。
　粘着剤層の形成方法は特に制限されず、剥離ライナーに粘着剤組成物を塗布し、乾燥後、基材フィルムに転写する方法（転写法）、保護フィルムに、直接、粘着剤組成物を塗布、乾燥する方法（直写法）や共押出しによる方法等があげられる。なお粘着剤には、必要に応じて粘着付与剤、可塑剤、充填剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤等を適宜に使用することもできる。粘着剤層の好ましい厚みは５μｍ～１００μｍであり、より好ましくは１０μｍ～５０μｍであり、より好ましくは１５μｍから３５μｍである。
　＜透明導電性フィルムの特性＞
　本発明の透明導電性フィルムは、実施例における虹ムラの評価のｘｙ表色でのバラツキとして、Δｘが０．１５以下、Δｙが０．２０以下であることが好ましく、Δｘが０．１３以下、Δｙが０．１７以下であることがより好ましい。
　また、これを達成する上で、透明樹脂フィルムを単体で用いた場合に、ｘｙ表色でのバラツキとして、Δｘが０．１５以下、Δｙが０．２０以下であることが好ましく、Δｘが０．１３以下、Δｙが０．１７以下であることがより好ましい。
　＜タッチパネル＞
　透明導電性フィルムからキャリアフィルム又は保護フィルムを剥離した透明導電性フィルムは、例えば、静電容量方式、抵抗膜方式などのタッチパネルなどの電子機器の透明電極として好適に適用できる。
　タッチパネルの形成に際しては、前述した透明導電性フィルムの一方または両方の主面に透明な粘着剤層を介して、ガラスや高分子フィルム等の他の基材等を貼り合わせることができる。例えば、透明導電性フィルムの透明導電膜が形成されていない側の面に透明な粘着剤層を介して透明基体が貼り合わせられた積層体を形成してもよい。透明基体は、１枚の基体フィルムからなっていてもよく、２枚以上の基体フィルムの積層体（例えば透明な粘着剤層を介して積層したもの）であってもよい。また、透明導電性フィルムに貼り合わせる透明基体の外表面にハードコート層を設けることもできる。透明導電性フィルムと基材との貼り合わせに用いられる粘着剤層としては、前述の通り、透明性を有するものであれば特に制限なく使用できる。
　本発明の透明導電性フィルムをタッチパネルの形成に用いた場合、低位相差のポリエステルを基材として使用することで、十分な材料強度を有し、材料費が安価で生産性も良好で、しかも十分な虹ムラの抑制効果が得られる透明導電性フィルムを有するタッチパネルを提供できる。タッチパネル用途以外であれば、電子機器から発せられる電磁波やノイズをシールドするシールド用途に用いることができる。
　以下、本発明に関して実施例を用いて詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、実施例等における物性等は次のようにして測定した。
　（位相差）
　偏光・位相差測定システム（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ製　製品名「ＡｘｏＳｃａｎ」）を用い、２３℃の環境下にて、測定波長５９０ｎｍで透明樹脂フィルムの面内位相差の測定を行った。また、同様にして、遅相軸方向および進相軸方向を回転中心としてフィルムを４０°傾斜した際の位相差を測定した。なお、位相差の測定値の次数は、予め求めた透明樹脂フィルムの位相差の波長分散と一致するように決定した。これらの測定値から、透明樹脂フィルムの面内位相差値（Ｒ０）と厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）を算出した。
　（厚みの測定）
　厚みは、１μｍ以上の厚みを有するものに関しては、マイクロゲージ式厚み計（ミツトヨ社製）にて測定を行った。また、１μｍ未満の厚みや光学調整層の厚みは、瞬間マルチ測光システム（大塚電子社製　ＭＣＰＤ２０００）で測定した。ＩＴＯ膜等の厚みのようにナノサイズの厚みは、ＦＢ－２０００Ａ（株式会社日立ハイテクノロジーズ製）にて断面観察用サンプルを作製し、断面ＴＥＭ観察はＨＦ－２０００（株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて膜厚を測定した。評価した結果を表１に示す。
　（虹ムラの評価）
　虹ムラの評価方法としては、ｘｙ表色でのバラツキ評価と黙視による４段階評価（◎～×）とを行った。
　ｘｙ表色でのバラツキ評価は、コノスコープ（Ａｕｔｒｏｎｉｃ－Ｍｅｌｃｈｅｒｓ社製、Ｃｏｎｏｓｃｏｐｅ）を用いて実施し、高輝度バックライトの上に市販の偏光板を配置したものを使用した。この第一の偏光板の吸収軸に対して、基材の遅相軸（即ち、配向軸）の方向が４５°になるように透明導電性フィルムを載置し、さらに前記透明導電性フィルムの上に第一の偏光板の吸収軸に対して、吸収軸が直交するようにさらに第二の偏光板を載置し、全方位（極角０°～８０°、方位角０°～３６０°）からコノスコープでｘ値とｙ値を測定し、その際のｘｙ表色でのバラツキを評価した。Δｘ、Δｙが小さいものほど虹ムラが抑制されていることになり、Δｘが０．１５以下、Δｙが０．２０以下が良好な虹ムラ抑制の目安となる。
　また、黙視による４段階評価は、×：角度変化に対して色相が顕著に変化する、△：色相が顕著に変化する角度範囲が、概ね極角４０～６０°の範囲であり、上記１に比して狭い、○：色相が顕著に変化する角度範囲が、概ね極角４０～５０°の範囲であり、上記２に比してさらに狭い、◎：角度変化に対して、色相の変化がほとんど確認されない、とした。
　［実施例１～７］
　二軸延伸の条件を変えることで、表１に示すような面内位相差値（Ｒ０）と厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）と厚みを有する種々のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を、透明樹脂フィルムとして準備した。
　これを基材として、その片面に、光学調整層として屈折率１．６２のジルコニア粒子含有紫外線硬化型組成物（ＪＳＲ社製、商品名「オプスタ―Ｚ７４１２」を塗布し、塗布層を形成した。次いで、塗布層が形成された側から塗布層に紫外線を照射して、厚みが１００ｎｍとなるように光学調整層を形成した。
　次に、光学調整層が形成されたＰＥＴフィルムを、巻き取り式スパッタ装置に投入し、光学調整層の表面に、厚みが２７ｎｍの非晶質のインジウム・スズ酸化物層（組成：ＳｎＯ２：１０ｗｔ％）を形成して、透明導電膜を形成した。このようにして透明導電性フィルムを作製した。
　［比較例１～１１］
　実施例１において、表１に示すような面内位相差値（Ｒ０）と厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）と厚みを有する種々のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を、基材として使用したこと以外は、実施例１と全く同じ条件で、透明導電性フィルムを作製した。
　以上の透明導電性フィルムの評価結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１の結果が示すように、実施例１～７の透明導電性フィルムは、面内位相差値が１５０ｎｍ以下、厚み方向位相差値が１０００ｎｍ以下であるため、Δｘが０．１５以下、Δｙが０．２０以下となり、また黙視評価でも良好な結果であり、十分な虹ムラ抑制が可能であった。このことは、ディスプレイを偏光サングラスを通してみた時の虹ムラが抑えられることを意味する。これに対して、面内位相差値が１５０ｎｍを超えるか、厚み方向位相差値が１０００ｎｍを超える比較例１～１１では、ΔｘとΔｙの少なくとも一方が大きく、黙視評価でも結果が悪く、虹ムラを抑制する効果が不十分であった。
　［実施例８］
　実施例１において、次のようにしてＰＥＴフィルムに硬化樹脂層を形成したものを用いたこと以外は、実施例１と全く同じ条件で、透明導電性フィルムを作製した。
　まず、紫外線硬化性樹脂組成物（ＤＩＣ社製　商品名「ＵＮＩＤＩＣ（登録商標）ＲＳ２９－１２０」）を１００重量部と、最頻粒子径が１．９μｍであるアクリル系球状粒子（綜研化学社製、商品名「ＭＸ－１８０ＴＡ」）を０．２重量部とを含む、球状粒子入り硬化性樹脂組成物を準備した。
　準備した球状粒子入り硬化性樹脂組成物を厚みが５０μｍでＰＥＴ基材の一方の面に塗布し、塗布層を形成した。次いで、塗布層が形成された側から塗布層に紫外線を照射して、厚みが１．０μｍとなる様に第２の硬化樹脂層を形成した。ＰＥＴ基材の他方の面に、上記とは球状粒子を添加しない以外は同様の方法で、厚みが１．０μｍとなる様に第１の硬化樹脂層を形成した。なお、光学調整層と透明導電膜の形成は、第１の硬化樹脂層の表面に行った。
　得られた透明導電性フィルムの虹ムラの評価を行った結果、実施例１と実質的に同じΔｘとΔｙとを有しており、また黙視評価でも良好な結果であり、十分な虹ムラ抑制が可能であった。
　　１　　保護フィルム
　　２　　粘着剤層
　　３　　第２の硬化樹脂層（アンチブロッキング層）
　　４　　透明樹脂フィルム
　　５　　第１の硬化樹脂層（ハードコート層）
　　６　　透明導電膜
　　７　　光学調整層
　　１０　　キャリアフィルム
　　２０　　透明導電性フィルム

Claims (7)

  1. 　透明樹脂フィルムと透明導電膜とを有する透明導電性フィルムであって、
    　前記透明樹脂フィルムは、二軸延伸されたポリエステル系樹脂フィルムであり、面内位相差値が１５０ｎｍ以下、厚み方向位相差値が１０００ｎｍ以下である透明導電性フィルム。
  2. 　前記透明樹脂フィルムと前記透明導電膜との間には、少なくとも１層の光学調整層を有する請求項１に記載の透明導電性フィルム。
  3. 　前記透明樹脂フィルムの厚みが５～５０μｍである請求項１又は２に記載の透明導電性フィルム。
  4. 　前記透明樹脂フィルムは、長尺体又は矩形状の枚葉体であり、長辺又は短辺に対して配向軸が１０～４５°の角度を有する請求項１～３のいずれか１項に記載の透明導電性フィルム。
  5. 　前記透明樹脂フィルムの少なくとも一方の表面に、硬化樹脂層を有する請求項１～４のいずれか１項に記載の透明導電性フィルム。
  6. 　前記透明樹脂フィルムの前記透明導電膜が設けられていない面側に、粘着剤層と保護フィルムとをこの順で有する請求項１～５いずれか１項に記載の透明導電性フィルム。
  7. 　請求項１～６のいずれか１項に記載の透明導電性フィルムを用いて得られるタッチパネル。
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