WO2017008340A1 - 显示面板及其制作方法 - Google Patents

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WO2017008340A1
WO2017008340A1 PCT/CN2015/085541 CN2015085541W WO2017008340A1 WO 2017008340 A1 WO2017008340 A1 WO 2017008340A1 CN 2015085541 W CN2015085541 W CN 2015085541W WO 2017008340 A1 WO2017008340 A1 WO 2017008340A1
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display area
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light
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叶岩溪
林永伦
邓竹明
张君恺
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深圳市华星光电技术有限公司
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    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136222—Colour filters incorporated in the active matrix substrate

Definitions

  • the present invention relates to the field of display technologies, and in particular, to a display panel and a method of fabricating the same.
  • BM black matrix
  • Matrix layer which is used to prevent light leakage.
  • the light leakage phenomenon is generally caused by the fact that the liquid crystal molecules cannot be deflected normally in a region where the electric field generated by the pixel electrode cannot be covered, or because different electric fields are formed due to loading different signals at the boundary of the two pixels, resulting in liquid crystal molecules.
  • the direction of deflection is caused by confusion.
  • the black matrix layer is provided, the effect of preventing light leakage in the conventional display panel is still not satisfactory.
  • a display panel includes a first display area, a second display area, and a non-display area, wherein the non-display area is disposed between the first display area and the second display area; wherein
  • the display panel includes: a first panel, the first panel includes: a first substrate; a device array layer, the device array layer is disposed on the first substrate, and the device array layer includes a thin film transistor switch, a data line, a scan line and a pixel electrode; a color film layer disposed on the device array layer, the color film layer including a first color block and a second color block, where the first color block is located a position corresponding to the first display area, where the second color block is located corresponding to the second display area; and a first light block layer, the first light block layer is disposed on the device array
  • the first light shielding block layer includes a first light shielding block, the first light shielding block is located at a position corresponding to the non-display area
  • the second panel includes: a second substrate; Two light
  • the second light shielding block is in contact with the first light shielding block; wherein the second light shielding block and the first light shielding block are used to collectively space the first panel and the second panel, and For co-occlusion of the cross-region light, wherein the cross-ray light is light from the first display area to the second display area or from the second display area to the first display area a liquid crystal layer, wherein the liquid crystal layer is disposed between the first substrate and the second substrate; the first color block is a red color block, a green color block, and a blue color block In one of the second color block, the other one of the red color block, the green color block, and the blue color block; the first color block has a first extension The second color block has a second extension, and the first extension and the second extension are both provided In the non-display area; the first light shielding block is formed by stacking the first extending portion and the second extending portion made.
  • the thickness of the first extension portion is smaller than the thickness of the first color resist block, and the first extension portion is formed by performing a first mask process on the first color resist material layer,
  • the first color resist material layer corresponds to the first color resist block at a portion of the first display region; and/or the second extension portion has a thickness smaller than a thickness of the second color resist block.
  • the second extending portion is formed by performing a second mask process on the second color resist material layer, and the second color resist material layer corresponds to the second color resist block at a portion of the second display region .
  • the mask corresponding to the first mask process and the second mask process is a first mask or a second mask;
  • the first mask includes a first region and a second a region, the first region corresponding to the first display region or the second display region, the second region corresponding to the non-display region, the first region having a first light transmittance,
  • the second region has a second light transmittance;
  • the second mask includes a third region and a fourth region, the third region corresponding to the first display region or the second display region, the fourth The area corresponds to the non-display area, the third area has a third light transmittance, and the fourth area has a fourth light transmittance.
  • the first color block is a red color block
  • the second color block is a blue color block
  • a display panel the display panel includes a first display area, a second display area, and a non-display area, the non-display area being disposed between the first display area and the second display area;
  • the display panel includes: a first panel, the first panel includes: a first substrate; a device array layer, the device array layer is disposed on the first substrate, and the device array layer includes a thin film transistor switch and a data line a scan film and a pixel electrode; a color film layer disposed on the device array layer, the color film layer including a first color block and a second color block, the first color block Corresponding to the first display area, where the second color block is located corresponding to the second display area; and a first light block layer, the first light block layer is disposed on the device On the array layer, the first light blocking block layer includes a first light blocking block, the first light blocking block is located at a position corresponding to the non-display area; and the second panel includes: a second substrate; a second light shielding layer, the second
  • the first color block is one of a red color block, a green color block, and a blue color block
  • the second color block is the red color block, a green color block, the other of the blue color block
  • the first color block has a first extension
  • the second color block has a second extension
  • the first extension and The second extensions are all disposed in the non-display area
  • the first light shielding block is formed by stacking the first extension portion and the second extension portion.
  • the thickness of the first extension portion is smaller than the thickness of the first color resist block, and the first extension portion is formed by performing a first mask process on the first color resist material layer,
  • the first color resist material layer corresponds to the first color resist block at a portion of the first display region; and/or the second extension portion has a thickness smaller than a thickness of the second color resist block.
  • the second extending portion is formed by performing a second mask process on the second color resist material layer, and the second color resist material layer corresponds to the second color resist block at a portion of the second display region .
  • the mask corresponding to the first mask process and the second mask process is a first mask or a second mask;
  • the first mask includes a first region and a second a region, the first region corresponding to the first display region or the second display region, the second region corresponding to the non-display region, the first region having a first light transmittance,
  • the second region has a second light transmittance;
  • the second mask includes a third region and a fourth region, the third region corresponding to the first display region or the second display region, the fourth The area corresponds to the non-display area, the third area has a third light transmittance, and the fourth area has a fourth light transmittance.
  • the fourth region is formed by staggering a light-transmitting region and a light-shielding region, and the fourth light transmittance corresponds to a ratio of an area of the light-transmitting region and the light-shielding region.
  • the first mask and the second mask are one of a halftone mask and a gray tone mask.
  • the second light blocking block is a black spacer, the second light blocking block is in contact with the first light blocking block; the second light blocking block and the first light blocking block are used in common
  • the first panel and the second panel are spaced apart, and configured to collectively block the cross-ray light, wherein the cross-ray light is a light or a light from the first display area to the second display area
  • the second display area is directed to the light of the first display area.
  • the first display area and the second display area respectively correspond to an area where the pixel unit in the display panel is located, where the non-display area and the signal line in the display panel are located The area corresponds.
  • a method of fabricating the above display panel comprising the steps of: forming the first panel and the second panel, wherein the first panel comprises the first substrate, the device array layer The color film layer and the first light shielding layer, the color film layer including the first color block and the second color block, where the first color block is located Corresponding to the first display area, where the position of the second color block corresponds to the second display area, the first light block layer includes the first light block, and the position of the first light block is Corresponding to the non-display area, the second panel includes the second substrate and the second light shielding block layer, and the second light shielding block layer includes the second light shielding block, where the second light shielding block is located a position corresponding to the non-display area; B, the first panel and the second panel are superimposed and integrated, and the liquid crystal layer is disposed between the first panel and the second panel, wherein The first light shielding block is in contact with the second light shielding block, and the second light shielding Intersecting the first panel and the second panel together with
  • the step A includes the following steps: a1, forming the device array layer on the first substrate, wherein the device array layer includes a thin film transistor switch, a data line, and a scan line. And the pixel electrode; a2, forming the color film layer and the first light blocking layer on the device array layer, wherein the first color block is a red color block, a green color block, and a blue color One of the blocks, the second color block is the other of the red color block, the green color block, and the blue color block, the first color block has An extension portion, the second color block has a second extension portion, the first extension portion and the second extension portion are both disposed in the non-display area, and the first light shielding block is The first extension portion and the second extension portion are stacked.
  • the thickness of the first extending portion is smaller than the thickness of the first color blocking block; and/or the thickness of the second extending portion is smaller than the thickness of the second color blocking block;
  • the step a2 includes the following steps: a21, forming a first color resist material layer on the device array layer, and performing a first mask process on a portion of the first color resist material layer located in the non-display area, Forming the first extension portion, wherein the first color resist material layer covers the first display region and the non-display region, and the first color resist material layer is located at a portion of the first display region Corresponding to the first color resist block; and/or a22, forming a second color resist material layer on the device array layer, and performing the second photo resist material layer on the non-display area a second mask process to form the second extension, wherein the second material layer covers the second display area and the non-display area, and the second color resist material layer is located in the second display The portion of the region corresponds to the second color
  • the mask corresponding to the first mask process and the second mask process is a first mask or a second mask;
  • the first mask includes a first region And a second area corresponding to the first display area or the second display area, the second area corresponding to the non-display area, the first area having a first transmittance
  • the second region has a second light transmittance;
  • the second mask includes a third region and a fourth region, the third region corresponding to the first display region or the second display region, The fourth region corresponds to the non-display region, the third region has a third light transmittance, and the fourth region has a fourth light transmittance.
  • the fourth region is formed by staggering the light-transmitting region and the light-shielding region, and the ratio of the fourth light transmittance to the area of the light-transmitting region and the light-shielding region corresponds to .
  • the first mask and the second mask are one of a halftone mask and a gray tone mask.
  • the step A further includes the steps of: a3, forming the second light shielding block layer on the second substrate, the second light shielding block layer comprising at least two second light shielding blocks The position of the second light shielding block corresponds to the non-display area; wherein the second light shielding block is a black spacer.
  • the first display area and the second display area respectively correspond to an area where the pixel unit in the display panel is located, and the non-display area and the signal in the display panel The area where the line is located corresponds.
  • the present invention can effectively prevent the display panel from leaking.
  • FIG. 1 is a schematic view of a display panel of the present invention
  • FIGS. 2 to 8 are schematic views showing a method of fabricating a first panel in a display panel of the present invention
  • Figure 9 is a schematic view of a first mask
  • Figure 10 is a schematic view of a second mask
  • FIG. 11 is a flow chart of a first embodiment of a method of fabricating a display panel of the present invention.
  • FIG. 12 is a flow chart of a second embodiment of a method of fabricating a display panel of the present invention.
  • Figure 13 is a flow chart showing a third embodiment of the method of fabricating the display panel of the present invention.
  • the display panel of the present invention may be a TFT-LCD (Thin Film Transistor Liquid) Crystal Display, thin film transistor liquid crystal display panel).
  • TFT-LCD Thin Film Transistor Liquid
  • LCD Thin Film Transistor Liquid
  • FIG. 1 is a schematic diagram of a display panel according to the present invention
  • FIGS. 2 to 8 are schematic diagrams showing a method of fabricating the first panel 101 in the display panel of the present invention.
  • the display panel of the present invention includes a first display area 105, a second display area 104, and a non-display area 106, and the non-display area 106 is disposed between the first display area 105 and the second display area 104.
  • the first display area 105 and the second display area 104 respectively correspond to the area where the pixel unit (pixel electrode) in the display panel is located, and the non-display area 106 and the signal in the display panel
  • the area where the line (scan line, data line) is located corresponds.
  • the display panel includes a first panel 101, a second panel 102, and a liquid crystal layer 103.
  • the first panel 101 and the second panel 102 are superimposed and integrated to form a liquid crystal cell.
  • the liquid crystal layer 103 is disposed in the liquid crystal cell, that is, the liquid crystal layer 103 is disposed on the first substrate 1011. And the second substrate 1021.
  • the first panel 101 includes a first substrate 1011, a device array layer 1012, a color filter layer, and a first light shielding layer.
  • the device array layer 1012 is disposed on the first substrate 1011, and the device array layer 1012 includes a thin film transistor switch, a data line, a scan line, and a pixel electrode.
  • the color film layer is disposed on the device array layer 1012, and the color film layer includes a first color block 1013 and a second color block 1015, where the first color block 1013 is located and the first A display area 105 corresponds to a position where the second color block 1015 is located corresponding to the second display area 104.
  • the first light blocking block layer is disposed on the device array layer 1012, and the first light blocking block layer includes a first light blocking block 1017, and the first light blocking block 1017 is located at a position corresponding to the non-display area 106.
  • the second panel 102 includes a second substrate 1021 and a second light blocking block layer.
  • the second light blocking block layer is disposed on the second substrate 1021 , and the second light blocking block layer includes a second light blocking block 1022 , and the second light blocking block 1022 is located at a position corresponding to the non-display area 106 .
  • the first color block 1013 is one of a red color block, a green color block, and a blue color block
  • the second color block 1015 is the red color block. The other of the green color block and the blue color block.
  • the first color block 1013 has a first extension 1014
  • the second color block 1015 has a second extension 1016
  • the first extension 1014 and the second extension 1016 are both disposed in the In the non-display area 106.
  • the first light blocking block 1017 is formed by stacking the first extending portion 1014 and the second extending portion 1016.
  • the first light shielding block 1017 has three thicknesses. Correspondingly, the first light shielding block 1017 is formed in three ways.
  • the thickness of the first extending portion 1014 is smaller than the thickness of the first color resist block 1013, and the first extending portion 1014 is formed by performing a first mask process on the first color resist material layer 301,
  • the first color resist material layer 301 corresponds to the first color block 1013 at a portion of the first display region 105.
  • the thickness of the second extending portion 1016 is not subjected to the thickness reduction (reduction) process, that is, the thickness of the second extending portion 1016 is the second color resist material layer 601 in the non-display area 106.
  • the thickness of the first light blocking block 1017 is equal to the sum of the thickness of the first extending portion 1014 and the thickness of the second color resist material layer 601 at the non-display area 106.
  • the thickness of the second extending portion 1016 is smaller than the thickness of the second color resist block 1015, and the second extending portion 1016 is formed by performing a second mask process on the second color resist material layer 601.
  • the second color resist material layer 601 corresponds to the second color block 1015 at a portion of the second display region 104.
  • the thickness of the first extending portion 1014 is not subjected to a thickness reduction (reduction) process, that is, the thickness of the first extending portion 1014 is the first color resist material layer 301 in the non-display area 106.
  • the thickness of the first light blocking block 1017 is equal to the sum of the thickness of the second extending portion 1016 and the thickness of the first color resist material layer 301 at the non-display area 106.
  • the third type is the third type.
  • the thickness of the first extension portion 1014 is smaller than the thickness of the first color block 1013, and the thickness of the second extension portion 1016 is smaller than the thickness of the second color block 1015.
  • the first extending portion 1014 is formed by performing a first mask process on the first color resist material layer 301.
  • the first color resist material layer 301 is at the portion of the first display region 105 and the first portion
  • the one color block 1013 corresponds.
  • the second extending portion 1016 is formed by performing a second mask process on the second color resist material layer 601.
  • the second color resist material layer 601 is at the portion of the second display region 104 and the first portion
  • the two-color block 1015 corresponds to each other.
  • the thickness of the first light blocking block 1017 is equal to the sum of the thickness of the first extending portion 1014 and the thickness of the second extending portion 1016, as shown in FIG.
  • the mask (401, 701) corresponding to the first mask process and the second mask process is the first mask 901 or the second mask 1001.
  • the first mask 901 includes a first area 9011 and a second area 9012.
  • the first area 9011 corresponds to the first display area 105 or the second display area 104, as shown in FIG.
  • the second region 9012 corresponds to the non-display region 106, the first region 9011 has a first light transmittance, and the second region 9012 has a second light transmittance.
  • the second mask 1001 includes a third region 10011 and a fourth region 10012. As shown in FIG. 10, the third region 10011 corresponds to the first display region 105 or the second display region 104.
  • the fourth region 10012 corresponds to the non-display region 106, the third region 10011 has a third light transmittance, and the fourth region 10012 has a fourth light transmittance.
  • the fourth region 10012 is formed by staggering the light-transmitting regions 10016 and the light-shielding regions 10015.
  • the fourth light transmittance corresponds to a ratio of the areas of the light-transmitting regions 10016 and the light-shielding regions 10015.
  • the first mask 901 and the second mask 1001 are one of a halftone mask and a gray tone mask.
  • the second light blocking block 1022 is a black spacer (BPS, Black Photo The second light blocking block 1022 is in contact with the first light blocking block 1017.
  • BPS black spacer
  • the second light blocking block 1022 and the first light blocking block 1017 are used to collectively space the first panel 101 and the second panel 102, and are used for jointly blocking the cross-region light, wherein the crossing
  • the light is light that is directed from the first display area 105 toward the second display area 104 or light that is directed from the second display area 104 toward the first display area 105.
  • the first light blocking block 1017 is stacked by the first extending portion 1014 of the first color blocking block 1013 and the second extending portion 1016 of the second color blocking block 1015 Formed, and the first color block 1013 and the second color block 1015 are respectively any one of a red color block, a green color block, and a blue color block, and thus the first light block 1017 can block the light, and further, the thickness of the first color block 1013 and the second color block 1015 at the non-display area 106 is reduced, that is, the first extension 1014 The thickness and/or the thickness of the second extension 1016 is reduced, so that the total thickness of the first extension 1014 and the second extension 1016 after stacking is also greater than the first color resist material layer 301 and The total thickness of the second color resist material layer 601 after stacking is small, that is, the thickness of the first light blocking block 1017 is reduced, and the gap between the first panel 101 and the second panel 102 is fixed.
  • the thickness of the second light blocking block 1022 can be increased and can be omitted.
  • the cannized layer, that is, the liquid crystal cell has a corresponding space for accommodating the second light blocking block 1022 having a higher thickness, which is advantageous for improving the first light blocking block 1017 in the display panel and the
  • the overall shading effect of the second light blocking block 1022 (because the light shielding effect is significantly deteriorated in the case where the thickness of the second light blocking block 1022 is too low), that is, the above technical solution can effectively prevent the display panel from leaking light. phenomenon.
  • the principle that the first light blocking block 1017 can occlude light is as follows:
  • the first color block 1013 is a red color block
  • the second color block 1015 is a blue color block
  • the first extending portion 1014 is made of a red color resist material.
  • the second extension portion 1016 is composed of the blue color resist material.
  • the first extension portion 1014 red color resist material
  • the second extension portion 1016 blue color resist material
  • the red light emitted from the first extension portion 1014 will be
  • the second extension portion 1016 is absorbed, that is, the combination of the first extension portion 1014 and the second extension portion 1016 is for absorbing light (blocking light), that is, the display panel can be effectively prevented from leaking light.
  • FIG. 11 is a flowchart of a first embodiment of a method of fabricating a display panel of the present invention.
  • the manufacturing method of the display panel of the present invention comprises the following steps:
  • step 1101 forming the first panel 101 and the second panel 102, wherein the first panel 101 includes the first substrate 1011, the device array layer 1012, the color film layer, and The first light blocking layer, the color film layer includes the first color blocking block 1013 and the second color blocking block 1015, where the first color blocking block 1013 is located and the first display area Corresponding to, the position of the second color block 1015 is corresponding to the second display area 104, the first light block layer includes the first light block 1017, and the position of the first light block 1017 Corresponding to the non-display area 106, the second panel 102 includes the second substrate 1021 and the second light blocking block layer, and the second light blocking block layer includes the second light blocking block 1022, the first The position where the two light blocking blocks 1022 are located corresponds to the non-display area 106.
  • the first panel 101 and the second panel 102 are superimposed and integrated, and the liquid crystal layer 103 is disposed between the first panel 101 and the second panel 102, wherein
  • the first light blocking block 1017 is in contact with the second light blocking block 1022, and the second light blocking block 1022 and the first light blocking block 1017 are used to jointly face the first panel 101 and the second panel.
  • 102 is configured to perform a common occlusion of the ray of the region, wherein the ray of the region is light from the first display region 105 toward the second display region 104 or from the second display region 104 Light rays to the first display area 105.
  • FIG. 12 is a flowchart of a second embodiment of a method for fabricating a display panel according to the present invention
  • FIGS. 2 to 8 illustrate a method for fabricating a first panel 101 in a display panel of the present invention.
  • Schematic diagram. This embodiment is similar to the first embodiment described above, except that:
  • the step A includes the step of forming the first panel 101, wherein the step of forming the first panel 101 comprises the following steps:
  • step 1201 forming the device array layer 1012 on the first substrate 1011, wherein the device array layer 1012 includes a thin film transistor switch, a data line, a scan line, and a pixel electrode.
  • A2 (step 1202), forming the color film layer and the first light shielding layer on the device array layer 1012, wherein the first color blocking block 1013 is a red color blocking block, a green color blocking block, One of the blue color blocking blocks, the second color blocking block 1015 is the other of the red color blocking block, the green color blocking block, and the blue color blocking block, the first color resistance
  • the block 1013 has a first extension 1014, and the second color block 1015 has a second extension 1016, and the first extension 1014 and the second extension 1016 are both disposed in the non-display area 106.
  • the first light blocking block 1017 is formed by stacking the first extending portion 1014 and the second extending portion 1016.
  • the step A further includes the step of forming the second panel 102, wherein the step of forming the second panel 102 comprises the following steps:
  • step 1203 forming the second light blocking block layer on the second substrate 1021, the second light blocking block layer includes at least two second light blocking blocks 1022, and the position of the second light blocking block 1022 is The non-display area 106 corresponds.
  • the second light blocking block 1022 is a black spacer.
  • FIG. 13 is a flowchart of a third embodiment of a method of fabricating a display panel of the present invention. This embodiment is similar to the second embodiment described above, except that:
  • the first light shielding block 1017 has three thicknesses. Correspondingly, the first light shielding block 1017 is formed in three ways.
  • the thickness of the first extension portion 1014 is smaller than the thickness of the first color block 1013.
  • step a2 includes the following steps:
  • step 1301, step 1302) forming a first color resist material layer 301 on the device array layer 1012, and performing first light on a portion of the first color resist material layer 301 located in the non-display area 106 a mask process to form the first extension portion 1014, wherein the first color resist material layer 301 covers the first display region 105 and the non-display region 106, and the first color resist material layer 301 is located
  • the portion of the first display area 105 corresponds to the first color block 1013.
  • the thickness of the second extending portion 1016 is not subjected to the thickness reduction (reduction) process, that is, the thickness of the second extending portion 1016 is the second color resist material layer 601 in the non-display area 106.
  • the thickness of the first light blocking block 1017 is equal to the sum of the thickness of the first extending portion 1014 and the thickness of the second color resist material layer 601 at the non-display area 106.
  • the thickness of the second extension portion 1016 is smaller than the thickness of the second color block 1015.
  • step a2 includes the following steps:
  • step 1303, step 1304) forming a second color resist material layer 601 on the device array layer 1012, and performing second light on a portion of the second color resist material layer 601 located in the non-display area 106 a mask process to form the second extension portion 1016, wherein the second material layer covers the second display region 104 and the non-display region 106, and the second color resist material layer 601 is located at the The portion of the second display area 104 corresponds to the second color block 1015.
  • the thickness of the first extending portion 1014 is not subjected to a thickness reduction (reduction) process, that is, the thickness of the first extending portion 1014 is the first color resist material layer 301 in the non-display area 106.
  • the thickness of the first light blocking block 1017 is equal to the sum of the thickness of the second extending portion 1016 and the thickness of the first color resist material layer 301 at the non-display area 106.
  • the third type is the third type.
  • the thickness of the first extension portion 1014 is smaller than the thickness of the first color block 1013, and the thickness of the second extension portion 1016 is smaller than the thickness of the second color block 1015.
  • step a2 includes the following steps:
  • step 1301, step 1302) forming a first color resist material layer 301 on the device array layer 1012, and performing first light on a portion of the first color resist material layer 301 located in the non-display area 106 a mask process to form the first extension portion 1014, wherein the first color resist material layer 301 covers the first display region 105 and the non-display region 106, and the first color resist material layer 301 is located
  • the portion of the first display area 105 corresponds to the first color block 1013.
  • step 1303, step 1304) forming a second color resist material layer 601 on the device array layer 1012, and performing second light on a portion of the second color resist material layer 601 located in the non-display area 106 a mask process to form the second extension portion 1016, wherein the second material layer covers the second display region 104 and the non-display region 106, and the second color resist material layer 601 is located at the The portion of the second display area 104 corresponds to the second color block 1015.
  • the thickness of the first light blocking block 1017 is equal to the sum of the thickness of the first extending portion 1014 and the thickness of the second extending portion 1016, as shown in FIG.
  • the mask (401, 701) corresponding to the first mask process and the second mask process is the first mask 901 or the second mask 1001.
  • the first mask 901 includes a first area 9011 and a second area 9012.
  • the first area 9011 corresponds to the first display area 105 or the second display area 104, as shown in FIG.
  • the second region 9012 corresponds to the non-display region 106, the first region 9011 has a first light transmittance, and the second region 9012 has a second light transmittance.
  • the second mask 1001 includes a third region 10011 and a fourth region 10012. As shown in FIG. 10, the third region 10011 corresponds to the first display region 105 or the second display region 104.
  • the fourth region 10012 corresponds to the non-display region 106, the third region 10011 has a third light transmittance, and the fourth region 10012 has a fourth light transmittance.
  • the first mask 901 and the second mask 1001 are one of a halftone mask and a gray tone mask.
  • the first light blocking block 1017 is stacked by the first extending portion 1014 of the first color blocking block 1013 and the second extending portion 1016 of the second color blocking block 1015 Formed, and the first color block 1013 and the second color block 1015 are respectively any one of a red color block, a green color block, and a blue color block, and thus the first light block 1017 can block the light, and further, the thickness of the first color block 1013 and the second color block 1015 at the non-display area 106 is reduced, that is, the first extension 1014 The thickness and/or the thickness of the second extension 1016 is reduced, so that the total thickness of the first extension 1014 and the second extension 1016 after stacking is also greater than the first color block 1013 and the The total thickness of the second color block 1015 after stacking is small, that is, the thickness of the first light blocking block 1017 is reduced, in the case where the gap between the first panel 101 and the second panel 102 is fixed.
  • the thickness of the second light blocking block 1022 can be increased, and the planarization layer can be omitted. That is, the liquid crystal cell has a corresponding space for accommodating the second light blocking block 1022 having a higher thickness, which is advantageous for improving the first light blocking block 1017 and the second light shielding in the display panel.
  • the overall shading effect of the block 1022 (because the shading effect is significantly deteriorated in the case where the thickness of the second shading block 1022 is too low).
  • the principle that the first light blocking block 1017 can occlude light is as follows:
  • the first color block 1013 is a red color block
  • the second color block 1015 is a blue color block
  • the first extending portion 1014 is made of a red color resist material.
  • the second extension portion 1016 is composed of the blue color resist material.
  • the first extension portion 1014 red color resist material
  • the second extension portion 1016 blue color resist material
  • the red light emitted from the first extension portion 1014 will be
  • the second extension portion 1016 is absorbed, that is, the combination of the first extension portion 1014 and the second extension portion 1016 is for absorbing light (blocking light), that is, the display panel can be effectively prevented from leaking light.

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Abstract

一种显示面板及其制作方法。显示面板包括第一显示区（105）、第二显示区（104）和非显示区（106）。显示面板的第一面板（101）中的彩膜层包括第一色阻块（1013）和第二色阻块（1015）。第一色阻块（1013）和第二色阻块（1015）分别位于第一显示区（105）和第二显示区（104）。显示面板的第一面板（101）中的第一遮光块（1017）位于非显示区（104）。显示面板的第二面板（102）中的第二遮光块（1022）也位于非显示区。以及基于该显示面板的制作方法。该显示面板能有效防止漏光现象的出现。

Description

显示面板及其制作方法 技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示面板及其制作方法。
 背景技术
传统的显示面板中一般都包括黑色矩阵（BM，Black Matrix）层，该黑色矩阵层用于防止出现漏光现象。
该漏光现象一般是由于在像素电极所产生的电场无法覆盖的区域，液晶分子无法正常偏转而造成的，或者是由于两个像素的交界处由于加载不同的信号而形成不同的电场，导致液晶分子的偏转方向混乱而造成的。
在实践中，发明人发现现有技术至少存在以下问题：
尽管设置了黑色矩阵层，传统的显示面板中防漏光的效果仍然不理想。
故，有必要提出一种新的技术方案，以解决上述技术问题。
 技术问题
本发明的目的在于提供一种显示面板及其制作方法，其能有效防止所述显示面板出现漏光的现象。
 技术解决方案
一种显示面板，所述显示面板包括第一显示区、第二显示区和非显示区，所述非显示区设置所述第一显示区和所述第二显示区之间；其中，所述显示面板包括：第一面板，所述第一面板包括：第一基板；器件阵列层，所述器件阵列层设置在所述第一基板上，所述器件阵列层包括薄膜晶体管开关、数据线、扫描线以及像素电极；彩膜层，所述彩膜层设置在所述器件阵列层上，所述彩膜层包括第一色阻块和第二色阻块，所述第一色阻块所在的位置与所述第一显示区对应，所述第二色阻块所在的位置与所述第二显示区对应；以及第一遮光块层，所述第一遮光块层设置在所述器件阵列层上，所述第一遮光块层包括第一遮光块，所述第一遮光块所在的位置与所述非显示区对应；第二面板，所述第二面板包括：第二基板；以及第二遮光块层，所述第二遮光块层设置在所述第二基板上，所述第二遮光块层包括第二遮光块，所述第二遮光块所在的位置与所述非显示区对应，所述第二遮光块为黑色间隔件，所述第二遮光块与所述第一遮光块相接触；其中，所述第二遮光块与所述第一遮光块用于共同对所述第一面板和所述第二面板进行间隔，以及用于共同遮挡越区光线，其中，所述越区光线为从所述第一显示区射向所述第二显示区的光线或从所述第二显示区射向所述第一显示区的光线；液晶层，其中，所述液晶层设置于所述第一基板和所述第二基板之间；所述第一色阻块为红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中的一者，所述第二色阻块为所述红色色阻块、所述绿色色阻块、所述蓝色色阻块中的另一者；所述第一色阻块具有第一延伸部，所述第二色阻块具有第二延伸部，所述第一延伸部和所述第二延伸部均设置在所述非显示区中；所述第一遮光块是由所述第一延伸部和所述第二延伸部堆叠而成的。
在上述显示面板中，所述第一延伸部的厚度小于所述第一色阻块的厚度，所述第一延伸部是通过对第一色阻材料层实施第一光罩制程来形成的，所述第一色阻材料层在所述第一显示区的部位与所述第一色阻块对应；和/或所述第二延伸部的厚度小于所述第二色阻块的厚度，所述第二延伸部是通过对第二色阻材料层实施第二光罩制程来形成的，所述第二色阻材料层在所述第二显示区的部位与所述第二色阻块对应。
在上述显示面板中，所述第一光罩制程和所述第二光罩制程所对应的掩模为第一掩模或第二掩模；所述第一掩模包括第一区域和第二区域，所述第一区域与所述第一显示区或所述第二显示区对应，所述第二区域与所述非显示区对应，所述第一区域具有第一透光率，所述第二区域具有第二透光率；所述第二掩模包括第三区域和第四区域，所述第三区域与所述第一显示区或所述第二显示区对应，所述第四区域与所述非显示区对应，所述第三区域具有第三透光率，所述第四区域具有第四透光率。
在上述显示面板中，所述第一色阻块为红色色阻块，所述第二色阻块为蓝色色阻块。
一种显示面板，所述显示面板包括第一显示区、第二显示区和非显示区，所述非显示区设置在所述第一显示区和所述第二显示区之间；其中，所述显示面板包括：第一面板，所述第一面板包括：第一基板；器件阵列层，所述器件阵列层设置在所述第一基板上，所述器件阵列层包括薄膜晶体管开关、数据线、扫描线以及像素电极；彩膜层，所述彩膜层设置在所述器件阵列层上，所述彩膜层包括第一色阻块和第二色阻块，所述第一色阻块所在的位置与所述第一显示区对应，所述第二色阻块所在的位置与所述第二显示区对应；以及第一遮光块层，所述第一遮光块层设置在所述器件阵列层上，所述第一遮光块层包括第一遮光块，所述第一遮光块所在的位置与所述非显示区对应；第二面板，所述第二面板包括：第二基板；以及第二遮光块层，所述第二遮光块层设置在所述第二基板上，所述第二遮光块层包括第二遮光块，所述第二遮光块所在的位置与所述非显示区对应；液晶层，其中，所述液晶层设置于所述第一基板和所述第二基板之间。
在上述显示面板中，所述第一色阻块为红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中的一者，所述第二色阻块为所述红色色阻块、所述绿色色阻块、所述蓝色色阻块中的另一者；所述第一色阻块具有第一延伸部，所述第二色阻块具有第二延伸部，所述第一延伸部和所述第二延伸部均设置在所述非显示区中；所述第一遮光块是由所述第一延伸部和所述第二延伸部堆叠而成的。
在上述显示面板中，所述第一延伸部的厚度小于所述第一色阻块的厚度，所述第一延伸部是通过对第一色阻材料层实施第一光罩制程来形成的，所述第一色阻材料层在所述第一显示区的部位与所述第一色阻块对应；和/或所述第二延伸部的厚度小于所述第二色阻块的厚度，所述第二延伸部是通过对第二色阻材料层实施第二光罩制程来形成的，所述第二色阻材料层在所述第二显示区的部位与所述第二色阻块对应。
在上述显示面板中，所述第一光罩制程和所述第二光罩制程所对应的掩模为第一掩模或第二掩模；所述第一掩模包括第一区域和第二区域，所述第一区域与所述第一显示区或所述第二显示区对应，所述第二区域与所述非显示区对应，所述第一区域具有第一透光率，所述第二区域具有第二透光率；所述第二掩模包括第三区域和第四区域，所述第三区域与所述第一显示区或所述第二显示区对应，所述第四区域与所述非显示区对应，所述第三区域具有第三透光率，所述第四区域具有第四透光率。
在上述显示面板中，所述第四区域是由透光区与遮光区交错排列形成的，所述第四透光率与所述透光区及所述遮光区的面积之比对应。
在上述显示面板中，所述第一掩模、所述第二掩模为半色调掩模、灰色调掩模中的一种。
在上述显示面板中，所述第二遮光块为黑色间隔件，所述第二遮光块与所述第一遮光块相接触；所述第二遮光块与所述第一遮光块用于共同对所述第一面板和所述第二面板进行间隔，以及用于共同遮挡越区光线，其中，所述越区光线为从所述第一显示区射向所述第二显示区的光线或从所述第二显示区射向所述第一显示区的光线。
在上述显示面板中，所述第一显示区和所述第二显示区均与所述显示面板内的像素单元所在的区域对应，所述非显示区与所述显示面板内的信号线所在的区域对应。
一种上述显示面板的制作方法，所述方法包括以下步骤：A、形成所述第一面板和所述第二面板，其中，所述第一面板包括所述第一基板、所述器件阵列层、所述彩膜层和所述第一遮光块层，所述彩膜层包括所述第一色阻块和所述第二色阻块，所述第一色阻块所在的位置与所述第一显示区对应，所述第二色阻块所在的位置与所述第二显示区对应，所述第一遮光块层包括所述第一遮光块，所述第一遮光块所在的位置与所述非显示区对应，所述第二面板包括所述第二基板和所述第二遮光块层，所述第二遮光块层包括所述第二遮光块，所述第二遮光块所在的位置与所述非显示区对应；B、将所述第一面板和所述第二面板叠加组合为一体，并在所述第一面板和所述第二面板之间设置所述液晶层，其中，所述第一遮光块与所述第二遮光块相接触，所述第二遮光块与所述第一遮光块用于共同对所述第一面板和所述第二面板进行间隔，以及用于共同遮挡越区光线，其中，所述越区光线为从所述第一显示区射向所述第二显示区的光线或从所述第二显示区射向所述第一显示区的光线。
在上述显示面板的制作方法中，所述步骤A包括以下步骤：a1、在所述第一基板上形成所述器件阵列层，其中，所述器件阵列层包括薄膜晶体管开关、数据线、扫描线以及像素电极；a2、在所述器件阵列层上形成所述彩膜层和所述第一遮光块层，其中，所述第一色阻块为红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中的一者，所述第二色阻块为所述红色色阻块、所述绿色色阻块、所述蓝色色阻块中的另一者，所述第一色阻块具有第一延伸部，所述第二色阻块具有第二延伸部，所述第一延伸部和所述第二延伸部均设置在所述非显示区中，所述第一遮光块是由所述第一延伸部和所述第二延伸部堆叠而成的。
在上述显示面板的制作方法中，所述第一延伸部的厚度小于所述第一色阻块的厚度；和/或所述第二延伸部的厚度小于所述第二色阻块的厚度；所述步骤a2包括以下步骤：a21、在所述器件阵列层上形成第一色阻材料层，并对所述第一色阻材料层位于所述非显示区的部位实施第一光罩制程，以形成所述第一延伸部，其中，所述第一色阻材料层覆盖所述第一显示区和所述非显示区，所述第一色阻材料层位于所述第一显示区的部位与所述第一色阻块对应；和/或a22、在所述器件阵列层上形成第二色阻材料层，并对所述第二色阻材料层位于所述非显示区的部位实施第二光罩制程，以形成所述第二延伸部，其中，所述第二材料层覆盖所述第二显示区和所述非显示区，所述第二色阻材料层位于所述第二显示区的部位与所述第二色阻块对应。
在上述显示面板的制作方法中，所述第一光罩制程和所述第二光罩制程所对应的掩模为第一掩模或第二掩模；所述第一掩模包括第一区域和第二区域，所述第一区域与所述第一显示区或所述第二显示区对应，所述第二区域与所述非显示区对应，所述第一区域具有第一透光率，所述第二区域具有第二透光率；所述第二掩模包括第三区域和第四区域，所述第三区域与所述第一显示区或所述第二显示区对应，所述第四区域与所述非显示区对应，所述第三区域具有第三透光率，所述第四区域具有第四透光率。
在上述显示面板的制作方法中，所述第四区域是由透光区与遮光区交错排列形成的，所述第四透光率与所述透光区及所述遮光区的面积之比对应。
在上述显示面板的制作方法中，所述第一掩模、所述第二掩模为半色调掩模、灰色调掩模中的一种。
在上述显示面板的制作方法中，所述步骤A还包括以下步骤：a3、在所述第二基板上形成所述第二遮光块层，所述第二遮光块层包括至少两第二遮光块，所述第二遮光块所在的位置与所述非显示区对应；其中，所述第二遮光块为黑色间隔件。
在上述显示面板的制作方法中，所述第一显示区和所述第二显示区均与所述显示面板内的像素单元所在的区域对应，所述非显示区与所述显示面板内的信号线所在的区域对应。
 有益效果
相对现有技术，本发明能有效防止所述显示面板出现漏光的现象。
 附图说明
图1为本发明的显示面板的示意图；
图2至图8为本发明的显示面板中的第一面板的制作方法的示意图；
图9为第一掩模的示意图；
图10为第二掩模的示意图；
图11为本发明的显示面板的制作方法的第一实施例的流程图；
图12为本发明的显示面板的制作方法的第二实施例的流程图；
图13为本发明的显示面板的制作方法的第三实施例的流程图。
 本发明的最佳实施方式
本说明书所使用的词语“实施例”意指实例、示例或例证。此外，本说明书和所附权利要求中所使用的冠词“一”一般地可以被解释为“一个或多个”，除非另外指定或从上下文可以清楚确定单数形式。
本发明的显示面板可以是TFT-LCD（Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显示面板）。
参考图1至图8，图1为本发明的显示面板的示意图，图2至图8为本发明的显示面板中的第一面板101的制作方法的示意图。
本发明的显示面板包括第一显示区105、第二显示区104和非显示区106，所述非显示区106设置在所述第一显示区105和所述第二显示区104之间。其中，所述第一显示区105和所述第二显示区104均与所述显示面板内的像素单元（像素电极）所在的区域对应，所述非显示区106与所述显示面板内的信号线（扫描线、数据线）所在的区域对应。
其中，所述显示面板包括第一面板101、第二面板102和液晶层103。所述第一面板101和所述第二面板102叠加组合为一体，形成液晶盒，所述液晶层103设置于所述液晶盒内，即，所述液晶层103设置于所述第一基板1011和所述第二基板1021之间。
所述第一面板101包括第一基板1011、器件阵列层1012、彩膜层和第一遮光块层。所述器件阵列层1012设置在所述第一基板1011上，所述器件阵列层1012包括薄膜晶体管开关、数据线、扫描线以及像素电极。所述彩膜层设置在所述器件阵列层1012上，所述彩膜层包括第一色阻块1013和第二色阻块1015，所述第一色阻块1013所在的位置与所述第一显示区105对应，所述第二色阻块1015所在的位置与所述第二显示区104对应。所述第一遮光块层设置在所述器件阵列层1012上，所述第一遮光块层包括第一遮光块1017，所述第一遮光块1017所在的位置与所述非显示区106对应。
所述第二面板102包括第二基板1021和第二遮光块层。所述第二遮光块层设置在所述第二基板1021上，所述第二遮光块层包括第二遮光块1022，所述第二遮光块1022所在的位置与所述非显示区106对应。
在本实施例中，所述第一色阻块1013为红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中的一者，所述第二色阻块1015为所述红色色阻块、所述绿色色阻块、所述蓝色色阻块中的另一者。
所述第一色阻块1013具有第一延伸部1014，所述第二色阻块1015具有第二延伸部1016，所述第一延伸部1014和所述第二延伸部1016均设置在所述非显示区106中。
所述第一遮光块1017是由所述第一延伸部1014和所述第二延伸部1016堆叠而成的。
在本实施例中，所述第一遮光块1017的厚度有三种，相对应地，所述第一遮光块1017的形成方式也有三种。
第一种：
所述第一延伸部1014的厚度小于所述第一色阻块1013的厚度，所述第一延伸部1014是通过对第一色阻材料层301实施第一光罩制程来形成的，所述第一色阻材料层301在所述第一显示区105的部位与所述第一色阻块1013对应。
此时，所述第二延伸部1016的厚度没经过厚度削减（降低）处理，即，所述第二延伸部1016的厚度即为所述第二色阻材料层601在所述非显示区106的厚度，即，所述第一遮光块1017的厚度等于所述第一延伸部1014的厚度与所述第二色阻材料层601在所述非显示区106的厚度之和。
第二种：
所述第二延伸部1016的厚度小于所述第二色阻块1015的厚度，所述第二延伸部1016是通过对第二色阻材料层601实施第二光罩制程来形成的，所述第二色阻材料层601在所述第二显示区104的部位与所述第二色阻块1015对应。
此时，所述第一延伸部1014的厚度没经过厚度削减（降低）处理，即，所述第一延伸部1014的厚度即为所述第一色阻材料层301在所述非显示区106的厚度，即，所述第一遮光块1017的厚度等于所述第二延伸部1016的厚度与所述第一色阻材料层301在所述非显示区106的厚度之和。
第三种：
所述第一延伸部1014的厚度小于所述第一色阻块1013的厚度，所述第二延伸部1016的厚度小于所述第二色阻块1015的厚度。
所述第一延伸部1014是通过对第一色阻材料层301实施第一光罩制程来形成的，所述第一色阻材料层301在所述第一显示区105的部位与所述第一色阻块1013对应。
所述第二延伸部1016是通过对第二色阻材料层601实施第二光罩制程来形成的，所述第二色阻材料层601在所述第二显示区104的部位与所述第二色阻块1015对应。
此时，所述第一遮光块1017的厚度等于所述第一延伸部1014的厚度与所述第二延伸部1016的厚度之和，如图8所示。
在本实施例中，所述第一光罩制程和所述第二光罩制程所对应的掩模（401、701）为第一掩模901或第二掩模1001。
所述第一掩模901包括第一区域9011和第二区域9012，如图9所示，所述第一区域9011与所述第一显示区105或所述第二显示区104对应，所述第二区域9012与所述非显示区106对应，所述第一区域9011具有第一透光率，所述第二区域9012具有第二透光率。
所述第二掩模1001包括第三区域10011和第四区域10012，如图10所示，所述第三区域10011与所述第一显示区105或所述第二显示区104对应，所述第四区域10012与所述非显示区106对应，所述第三区域10011具有第三透光率，所述第四区域10012具有第四透光率。所述第四区域10012是由透光区10016与遮光区10015交错排列形成的，所述第四透光率与所述透光区10016及所述遮光区10015的面积之比对应。
优选地，所述第一掩模901、所述第二掩模1001为半色调掩模、灰色调掩模中的一种。
在本实施例中，所述第二遮光块1022为黑色间隔件（BPS，Black Photo Spacer），所述第二遮光块1022与所述第一遮光块1017相接触。
所述第二遮光块1022与所述第一遮光块1017用于共同对所述第一面板101和所述第二面板102进行间隔，以及用于共同遮挡越区光线，其中，所述越区光线为从所述第一显示区105射向所述第二显示区104的光线或从所述第二显示区104射向所述第一显示区105的光线。
在上述技术方案中，由于所述第一遮光块1017是由所述第一色阻块1013的所述第一延伸部1014和所述第二色阻块1015的所述第二延伸部1016堆叠形成的，而所述第一色阻块1013和所述第二色阻块1015分别是红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中的任意两者，因此所述第一遮光块1017能够对光线进行遮挡，此外，由于将所述第一色阻块1013、所述第二色阻块1015在所述非显示区106处的厚度降低，即，所述第一延伸部1014的厚度和/或所述第二延伸部1016的厚度降低了，因此所述第一延伸部1014和所述第二延伸部1016堆叠后的总厚度也比所述第一色阻材料层301和所述第二色阻材料层601堆叠后的总厚度要小，即，所述第一遮光块1017的厚度得到降低，在所述第一面板101和所述第二面板102之间的间隙固定的情况下，可以使得所述第二遮光块1022的厚度得到增加，并且可以不使用平坦化层，也就是说，所述液晶盒内具有相应的空间容纳具有较高厚度的所述第二遮光块1022，这样有利于提高所述显示面板中所述第一遮光块1017与所述第二遮光块1022的整体遮光效果（因为在所述第二遮光块1022的厚度太低的情况下，遮光效果会显著变差），即，上述技术方案能够有效防止所述显示面板出现漏光的现象。
所述第一遮光块1017能够实现对光线进行遮挡的原理说明如下：
假设所述第一色阻块1013为红色色阻块，所述第二色阻块1015为蓝色色阻块，即，所述第一延伸部1014是由红色色阻材料构成的，所述第二延伸部1016是由所述蓝色色阻材料构成的。当光线照向所述第一延伸部1014时，所述第一延伸部1014（红色色阻材料）将会透过红色的光线，并吸收蓝色和绿色的光线，此时，从所述第一延伸部1014透出的红色的光线将会照向所述第二延伸部1016（蓝色色阻材料），此时，从所述第一延伸部1014透出的红色的光线将会被所述第二延伸部1016吸收，也就是说，所述第一延伸部1014和所述第二延伸部1016的结合用于吸收光线（遮挡光线），即，能够有效防止所述显示面板出现漏光的现象。
参考图11，图11为本发明的显示面板的制作方法的第一实施例的流程图。
本发明的显示面板的制作方法包括以下步骤：
A（步骤1101）、形成所述第一面板101和所述第二面板102，其中，所述第一面板101包括所述第一基板1011、所述器件阵列层1012、所述彩膜层和所述第一遮光块层，所述彩膜层包括所述第一色阻块1013和所述第二色阻块1015，所述第一色阻块1013所在的位置与所述第一显示区105对应，所述第二色阻块1015所在的位置与所述第二显示区104对应，所述第一遮光块层包括所述第一遮光块1017，所述第一遮光块1017所在的位置与所述非显示区106对应，所述第二面板102包括所述第二基板1021和所述第二遮光块层，所述第二遮光块层包括所述第二遮光块1022，所述第二遮光块1022所在的位置与所述非显示区106对应。
B（步骤1102）、将所述第一面板101和所述第二面板102叠加组合为一体，并在所述第一面板101和所述第二面板102之间设置所述液晶层103，其中，所述第一遮光块1017与所述第二遮光块1022相接触，所述第二遮光块1022与所述第一遮光块1017用于共同对所述第一面板101和所述第二面板102进行间隔，以及用于共同遮挡越区光线，其中，所述越区光线为从所述第一显示区105射向所述第二显示区104的光线或从所述第二显示区104射向所述第一显示区105的光线。
参考图12以及图2至图8，图12为本发明的显示面板的制作方法的第二实施例的流程图，图2至图8为本发明的显示面板中的第一面板101的制作方法的示意图。本实施例与上述第一实施例相似，不同之处在于：
在本实施例中，所述步骤A包括形成所述第一面板101的步骤，其中，所述形成所述第一面板101的步骤包括以下步骤：
a1（步骤1201）、在所述第一基板1011上形成所述器件阵列层1012，其中，所述器件阵列层1012包括薄膜晶体管开关、数据线、扫描线以及像素电极。
a2（步骤1202）、在所述器件阵列层1012上形成所述彩膜层和所述第一遮光块层，其中，所述第一色阻块1013为红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中的一者，所述第二色阻块1015为所述红色色阻块、所述绿色色阻块、所述蓝色色阻块中的另一者，所述第一色阻块1013具有第一延伸部1014，所述第二色阻块1015具有第二延伸部1016，所述第一延伸部1014和所述第二延伸部1016均设置在所述非显示区106中，所述第一遮光块1017是由所述第一延伸部1014和所述第二延伸部1016堆叠而成的。
在本实施例中，所述步骤A还包括形成所述第二面板102的步骤，其中，所述形成所述第二面板102的步骤包括以下步骤：
a3（步骤1203）、在所述第二基板1021上形成所述第二遮光块层，所述第二遮光块层包括至少两第二遮光块1022，所述第二遮光块1022所在的位置与所述非显示区106对应。
其中，所述第二遮光块1022为黑色间隔件。
参考图13，图13为本发明的显示面板的制作方法的第三实施例的流程图。本实施例与上述第二实施例相似，不同之处在于：
在本实施例中，所述第一遮光块1017的厚度有三种，相对应地，所述第一遮光块1017的形成方式也有三种。
第一种：
所述第一延伸部1014的厚度小于所述第一色阻块1013的厚度。
在这种情况下，所述步骤a2包括以下步骤：
a21（步骤1301、步骤1302）、在所述器件阵列层1012上形成第一色阻材料层301，并对所述第一色阻材料层301位于所述非显示区106的部位实施第一光罩制程，以形成所述第一延伸部1014，其中，所述第一色阻材料层301覆盖所述第一显示区105和所述非显示区106，所述第一色阻材料层301位于所述第一显示区105的部位与所述第一色阻块1013对应。
此时，所述第二延伸部1016的厚度没经过厚度削减（降低）处理，即，所述第二延伸部1016的厚度即为所述第二色阻材料层601在所述非显示区106的厚度，即，所述第一遮光块1017的厚度等于所述第一延伸部1014的厚度与所述第二色阻材料层601在所述非显示区106的厚度之和。
第二种：
所述第二延伸部1016的厚度小于所述第二色阻块1015的厚度。
在这种情况下，所述步骤a2包括以下步骤：
a22（步骤1303、步骤1304）、在所述器件阵列层1012上形成第二色阻材料层601，并对所述第二色阻材料层601位于所述非显示区106的部位实施第二光罩制程，以形成所述第二延伸部1016，其中，所述第二材料层覆盖所述第二显示区104和所述非显示区106，所述第二色阻材料层601位于所述第二显示区104的部位与所述第二色阻块1015对应。
此时，所述第一延伸部1014的厚度没经过厚度削减（降低）处理，即，所述第一延伸部1014的厚度即为所述第一色阻材料层301在所述非显示区106的厚度，即，所述第一遮光块1017的厚度等于所述第二延伸部1016的厚度与所述第一色阻材料层301在所述非显示区106的厚度之和。
第三种：
所述第一延伸部1014的厚度小于所述第一色阻块1013的厚度，所述第二延伸部1016的厚度小于所述第二色阻块1015的厚度。
在这种情况下，所述步骤a2包括以下步骤：
a21（步骤1301、步骤1302）、在所述器件阵列层1012上形成第一色阻材料层301，并对所述第一色阻材料层301位于所述非显示区106的部位实施第一光罩制程，以形成所述第一延伸部1014，其中，所述第一色阻材料层301覆盖所述第一显示区105和所述非显示区106，所述第一色阻材料层301位于所述第一显示区105的部位与所述第一色阻块1013对应。
a22（步骤1303、步骤1304）、在所述器件阵列层1012上形成第二色阻材料层601，并对所述第二色阻材料层601位于所述非显示区106的部位实施第二光罩制程，以形成所述第二延伸部1016，其中，所述第二材料层覆盖所述第二显示区104和所述非显示区106，所述第二色阻材料层601位于所述第二显示区104的部位与所述第二色阻块1015对应。
此时，所述第一遮光块1017的厚度等于所述第一延伸部1014的厚度与所述第二延伸部1016的厚度之和，如图8所示。
在本实施例中，所述第一光罩制程和所述第二光罩制程所对应的掩模（401、701）为第一掩模901或第二掩模1001。
所述第一掩模901包括第一区域9011和第二区域9012，如图9所示，所述第一区域9011与所述第一显示区105或所述第二显示区104对应，所述第二区域9012与所述非显示区106对应，所述第一区域9011具有第一透光率，所述第二区域9012具有第二透光率。
所述第二掩模1001包括第三区域10011和第四区域10012，如图10所示，所述第三区域10011与所述第一显示区105或所述第二显示区104对应，所述第四区域10012与所述非显示区106对应，所述第三区域10011具有第三透光率，所述第四区域10012具有第四透光率。
优选地，所述第一掩模901、所述第二掩模1001为半色调掩模、灰色调掩模中的一种。
在上述技术方案中，由于所述第一遮光块1017是由所述第一色阻块1013的所述第一延伸部1014和所述第二色阻块1015的所述第二延伸部1016堆叠形成的，而所述第一色阻块1013和所述第二色阻块1015分别是红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中的任意两者，因此所述第一遮光块1017能够对光线进行遮挡，此外，由于将所述第一色阻块1013、所述第二色阻块1015在所述非显示区106处的厚度降低，即，所述第一延伸部1014的厚度和/或所述第二延伸部1016的厚度降低了，因此所述第一延伸部1014和所述第二延伸部1016堆叠后的总厚度也比所述第一色阻块1013和所述第二色阻块1015堆叠后的总厚度要小，即，所述第一遮光块1017的厚度得到降低，在所述第一面板101和所述第二面板102之间的间隙固定的情况下，可以使得所述第二遮光块1022的厚度得到增加，并且可以不使用平坦化层，也就是说，所述液晶盒内具有相应的空间容纳具有较高厚度的所述第二遮光块1022，这样有利于提高所述显示面板中所述第一遮光块1017与所述第二遮光块1022的整体遮光效果（因为在所述第二遮光块1022的厚度太低的情况下，遮光效果会显著变差）。
所述第一遮光块1017能够实现对光线进行遮挡的原理说明如下：
假设所述第一色阻块1013为红色色阻块，所述第二色阻块1015为蓝色色阻块，即，所述第一延伸部1014是由红色色阻材料构成的，所述第二延伸部1016是由所述蓝色色阻材料构成的。当光线照向所述第一延伸部1014时，所述第一延伸部1014（红色色阻材料）将会透过红色的光线，并吸收蓝色和绿色的光线，此时，从所述第一延伸部1014透出的红色的光线将会照向所述第二延伸部1016（蓝色色阻材料），此时，从所述第一延伸部1014透出的红色的光线将会被所述第二延伸部1016吸收，也就是说，所述第一延伸部1014和所述第二延伸部1016的结合用于吸收光线（遮挡光线），即，能够有效防止所述显示面板出现漏光的现象。
尽管已经相对于一个或多个实现方式示出并描述了本发明，但是本领域技术人员基于对本说明书和附图的阅读和理解将会想到等价变型和修改。本发明包括所有这样的修改和变型，并且仅由所附权利要求的范围限制。特别地关于由上述组件执行的各种功能，用于描述这样的组件的术语旨在对应于执行所述组件的指定功能（例如其在功能上是等价的）的任意组件（除非另外指示），即使在结构上与执行本文所示的本说明书的示范性实现方式中的功能的公开结构不等同。此外，尽管本说明书的特定特征已经相对于若干实现方式中的仅一个被公开，但是这种特征可以与如可以对给定或特定应用而言是期望和有利的其他实现方式的一个或多个其他特征组合。而且，就术语“包括”、“具有”、“含有”或其变形被用在具体实施方式或权利要求中而言，这样的术语旨在以与术语“包含”相似的方式包括。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (20)

  1. 一种显示面板，其中，所述显示面板包括第一显示区、第二显示区和非显示区，所述非显示区设置所述第一显示区和所述第二显示区之间；
    其中，所述显示面板包括：
    第一面板，所述第一面板包括：
    第一基板；
    器件阵列层，所述器件阵列层设置在所述第一基板上，所述器件阵列层包括薄膜晶体管开关、数据线、扫描线以及像素电极；
    彩膜层，所述彩膜层设置在所述器件阵列层上，所述彩膜层包括第一色阻块和第二色阻块，所述第一色阻块所在的位置与所述第一显示区对应，所述第二色阻块所在的位置与所述第二显示区对应；以及
    第一遮光块层，所述第一遮光块层设置在所述器件阵列层上，所述第一遮光块层包括第一遮光块，所述第一遮光块所在的位置与所述非显示区对应；
    第二面板，所述第二面板包括：
    第二基板；以及
    第二遮光块层，所述第二遮光块层设置在所述第二基板上，所述第二遮光块层包括第二遮光块，所述第二遮光块所在的位置与所述非显示区对应，所述第二遮光块为黑色间隔件，所述第二遮光块与所述第一遮光块相接触；
    其中，所述第二遮光块与所述第一遮光块用于共同对所述第一面板和所述第二面板进行间隔，以及用于共同遮挡越区光线，其中，所述越区光线为从所述第一显示区射向所述第二显示区的光线或从所述第二显示区射向所述第一显示区的光线；
    液晶层，其中，所述液晶层设置于所述第一基板和所述第二基板之间；
    所述第一色阻块为红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中的一者，所述第二色阻块为所述红色色阻块、所述绿色色阻块、所述蓝色色阻块中的另一者；
    所述第一色阻块具有第一延伸部，所述第二色阻块具有第二延伸部，所述第一延伸部和所述第二延伸部均设置在所述非显示区中；
    所述第一遮光块是由所述第一延伸部和所述第二延伸部堆叠而成的。
  2. 根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述第一延伸部的厚度小于所述第一色阻块的厚度，所述第一延伸部是通过对第一色阻材料层实施第一光罩制程来形成的，所述第一色阻材料层在所述第一显示区的部位与所述第一色阻块对应；和/或
    所述第二延伸部的厚度小于所述第二色阻块的厚度，所述第二延伸部是通过对第二色阻材料层实施第二光罩制程来形成的，所述第二色阻材料层在所述第二显示区的部位与所述第二色阻块对应。
  3. 根据权利要求2所述的显示面板，其中，所述第一光罩制程和所述第二光罩制程所对应的掩模为第一掩模或第二掩模；
    所述第一掩模包括第一区域和第二区域，所述第一区域与所述第一显示区或所述第二显示区对应，所述第二区域与所述非显示区对应，所述第一区域具有第一透光率，所述第二区域具有第二透光率；
    所述第二掩模包括第三区域和第四区域，所述第三区域与所述第一显示区或所述第二显示区对应，所述第四区域与所述非显示区对应，所述第三区域具有第三透光率，所述第四区域具有第四透光率。
  4. 根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述第一色阻块为红色色阻块，所述第二色阻块为蓝色色阻块。
  5. 一种显示面板，其中，所述显示面板包括第一显示区、第二显示区和非显示区，所述非显示区设置在所述第一显示区和所述第二显示区之间；
    其中，所述显示面板包括：
    第一面板，所述第一面板包括：
    第一基板；
    器件阵列层，所述器件阵列层设置在所述第一基板上，所述器件阵列层包括薄膜晶体管开关、数据线、扫描线以及像素电极；
    彩膜层，所述彩膜层设置在所述器件阵列层上，所述彩膜层包括第一色阻块和第二色阻块，所述第一色阻块所在的位置与所述第一显示区对应，所述第二色阻块所在的位置与所述第二显示区对应；以及
    第一遮光块层，所述第一遮光块层设置在所述器件阵列层上，所述第一遮光块层包括第一遮光块，所述第一遮光块所在的位置与所述非显示区对应；
    第二面板，所述第二面板包括：
    第二基板；以及
    第二遮光块层，所述第二遮光块层设置在所述第二基板上，所述第二遮光块层包括第二遮光块，所述第二遮光块所在的位置与所述非显示区对应；
    液晶层，其中，所述液晶层设置于所述第一基板和所述第二基板之间。
  6. 根据权利要求5所述的显示面板，其中，所述第一色阻块为红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中的一者，所述第二色阻块为所述红色色阻块、所述绿色色阻块、所述蓝色色阻块中的另一者；
    所述第一色阻块具有第一延伸部，所述第二色阻块具有第二延伸部，所述第一延伸部和所述第二延伸部均设置在所述非显示区中；
    所述第一遮光块是由所述第一延伸部和所述第二延伸部堆叠而成的。
  7. 根据权利要求6所述的显示面板，其中，所述第一延伸部的厚度小于所述第一色阻块的厚度，所述第一延伸部是通过对第一色阻材料层实施第一光罩制程来形成的，所述第一色阻材料层在所述第一显示区的部位与所述第一色阻块对应；和/或
    所述第二延伸部的厚度小于所述第二色阻块的厚度，所述第二延伸部是通过对第二色阻材料层实施第二光罩制程来形成的，所述第二色阻材料层在所述第二显示区的部位与所述第二色阻块对应。
  8. 根据权利要求7所述的显示面板，其中，所述第一光罩制程和所述第二光罩制程所对应的掩模为第一掩模或第二掩模；
    所述第一掩模包括第一区域和第二区域，所述第一区域与所述第一显示区或所述第二显示区对应，所述第二区域与所述非显示区对应，所述第一区域具有第一透光率，所述第二区域具有第二透光率；
    所述第二掩模包括第三区域和第四区域，所述第三区域与所述第一显示区或所述第二显示区对应，所述第四区域与所述非显示区对应，所述第三区域具有第三透光率，所述第四区域具有第四透光率。
  9. 根据权利要求8所述的显示面板，其中，所述第四区域是由透光区与遮光区交错排列形成的，所述第四透光率与所述透光区及所述遮光区的面积之比对应。
  10. 根据权利要求8所述的显示面板，其中，所述第一掩模、所述第二掩模为半色调掩模、灰色调掩模中的一种。
  11. 根据权利要求5所述的显示面板，其中，所述第二遮光块为黑色间隔件，所述第二遮光块与所述第一遮光块相接触；
    所述第二遮光块与所述第一遮光块用于共同对所述第一面板和所述第二面板进行间隔，以及用于共同遮挡越区光线，其中，所述越区光线为从所述第一显示区射向所述第二显示区的光线或从所述第二显示区射向所述第一显示区的光线。
  12. 根据权利要求5所述的显示面板，其中，所述第一显示区和所述第二显示区均与所述显示面板内的像素单元所在的区域对应，所述非显示区与所述显示面板内的信号线所在的区域对应。
  13. 一种如权利要求5所述的显示面板的制作方法，其中，所述方法包括以下步骤：
    A、形成所述第一面板和所述第二面板，其中，所述第一面板包括所述第一基板、所述器件阵列层、所述彩膜层和所述第一遮光块层，所述彩膜层包括所述第一色阻块和所述第二色阻块，所述第一色阻块所在的位置与所述第一显示区对应，所述第二色阻块所在的位置与所述第二显示区对应，所述第一遮光块层包括所述第一遮光块，所述第一遮光块所在的位置与所述非显示区对应，所述第二面板包括所述第二基板和所述第二遮光块层，所述第二遮光块层包括所述第二遮光块，所述第二遮光块所在的位置与所述非显示区对应；
    B、将所述第一面板和所述第二面板叠加组合为一体，并在所述第一面板和所述第二面板之间设置所述液晶层，其中，所述第一遮光块与所述第二遮光块相接触，所述第二遮光块与所述第一遮光块用于共同对所述第一面板和所述第二面板进行间隔，以及用于共同遮挡越区光线，其中，所述越区光线为从所述第一显示区射向所述第二显示区的光线或从所述第二显示区射向所述第一显示区的光线。
  14. 根据权利要求13所述的显示面板的制作方法，其中，所述步骤A包括以下步骤：
    a1、在所述第一基板上形成所述器件阵列层，其中，所述器件阵列层包括薄膜晶体管开关、数据线、扫描线以及像素电极；
    a2、在所述器件阵列层上形成所述彩膜层和所述第一遮光块层，其中，所述第一色阻块为红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中的一者，所述第二色阻块为所述红色色阻块、所述绿色色阻块、所述蓝色色阻块中的另一者，所述第一色阻块具有第一延伸部，所述第二色阻块具有第二延伸部，所述第一延伸部和所述第二延伸部均设置在所述非显示区中，所述第一遮光块是由所述第一延伸部和所述第二延伸部堆叠而成的。
  15. 根据权利要求14所述的显示面板的制作方法，其中，所述第一延伸部的厚度小于所述第一色阻块的厚度；和/或
    所述第二延伸部的厚度小于所述第二色阻块的厚度；
    所述步骤a2包括以下步骤：
    a21、在所述器件阵列层上形成第一色阻材料层，并对所述第一色阻材料层位于所述非显示区的部位实施第一光罩制程，以形成所述第一延伸部，其中，所述第一色阻材料层覆盖所述第一显示区和所述非显示区，所述第一色阻材料层位于所述第一显示区的部位与所述第一色阻块对应；和/或
    a22、在所述器件阵列层上形成第二色阻材料层，并对所述第二色阻材料层位于所述非显示区的部位实施第二光罩制程，以形成所述第二延伸部，其中，所述第二材料层覆盖所述第二显示区和所述非显示区，所述第二色阻材料层位于所述第二显示区的部位与所述第二色阻块对应。
  16. 根据权利要求15所述的显示面板的制作方法，其中，所述第一光罩制程和所述第二光罩制程所对应的掩模为第一掩模或第二掩模；
    所述第一掩模包括第一区域和第二区域，所述第一区域与所述第一显示区或所述第二显示区对应，所述第二区域与所述非显示区对应，所述第一区域具有第一透光率，所述第二区域具有第二透光率；
    所述第二掩模包括第三区域和第四区域，所述第三区域与所述第一显示区或所述第二显示区对应，所述第四区域与所述非显示区对应，所述第三区域具有第三透光率，所述第四区域具有第四透光率。
  17. 根据权利要求16所述的显示面板的制作方法，其中，所述第四区域是由透光区与遮光区交错排列形成的，所述第四透光率与所述透光区及所述遮光区的面积之比对应。
  18. 根据权利要求16所述的显示面板的制作方法，其中，所述第一掩模、所述第二掩模为半色调掩模、灰色调掩模中的一种。
  19. 根据权利要求13所述的显示面板的制作方法，其中，所述步骤A还包括以下步骤：
    a3、在所述第二基板上形成所述第二遮光块层，所述第二遮光块层包括至少两第二遮光块，所述第二遮光块所在的位置与所述非显示区对应；
    其中，所述第二遮光块为黑色间隔件。
  20. 根据权利要求13所述的显示面板的制作方法，其中，所述第一显示区和所述第二显示区均与所述显示面板内的像素单元所在的区域对应，所述非显示区与所述显示面板内的信号线所在的区域对应。
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